JP3058921B2 - Plasma X-ray generator - Google Patents
Plasma X-ray generatorInfo
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Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、微小試料を照明するた
めのプラズマＸ線発生装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma X-ray generator for illuminating a small sample.
【０００２】[0002]
【従来の技術】第４図は、従来のプラズマＸ線発生装置
の一例を示した図である。2. Description of the Related Art FIG. 4 shows an example of a conventional plasma X-ray generator.
【０００３】プラズマ発生室は、高圧電極１２を有する
電極部材１５と、低圧電極１４を有する電極部材１６
と、真空シール兼用の絶縁部材１３とから構成される。
電極部材１５、１６にはプラズマ発生用高圧電源１７が
接続される。電極部材１６はＸ線取出し窓２２を備え
る。プラズマ発生室内は、電極部材１６に備え付けられ
た排気ポンプ１９により、常時真空状態に保持されてい
る。電極部材１５に固定されたガス供給室容器３２は圧
電セラミック弁３３を収容する。圧電セラミック弁３３
の一端はマイクロメータ３４に取り付けられ、その他端
は可動弁３６を備える。可動弁３６はバルブ用電源３９
から圧電セラミック弁３３に供給される電圧に応じて開
閉する。[0003] The plasma generation chamber includes an electrode member 15 having a high voltage electrode 12 and an electrode member 16 having a low voltage electrode 14.
And an insulating member 13 also serving as a vacuum seal.
A high-voltage power supply 17 for plasma generation is connected to the electrode members 15 and 16. The electrode member 16 has an X-ray extraction window 22. The plasma generating chamber is always kept in a vacuum state by an exhaust pump 19 provided on the electrode member 16. The gas supply chamber container 32 fixed to the electrode member 15 houses a piezoelectric ceramic valve 33. Piezoelectric ceramic valve 33
Is attached to a micrometer 34 at one end and a movable valve 36 at the other end. The movable valve 36 has a power supply 39 for the valve.
Opens and closes according to the voltage supplied to the piezoelectric ceramic valve 33 from.
【０００４】圧電セラミックス弁３３に数百Ｖの電圧が
印加されている状態では、可動弁３６が下方に移動して
ガス供給室容器３２からプラズマ発生室内へのガス供給
が停止される。圧電セラミックス弁３３への印加電圧を
所定時間０とすると、可動弁３６が所定時間だけ上方に
移動し、プラズマ発生室に所定量のガスが導入される。
このガスの導入にタイミングを合わせてプラズマ発生用
高圧電源１７から高圧を印加することにより、ガスプラ
ズマが形成される。このガスプラズマから発生したＸ線
はＸ線取出し窓２２から取り出される。When a voltage of several hundred volts is applied to the piezoelectric ceramic valve 33, the movable valve 36 moves downward, and the gas supply from the gas supply chamber container 32 to the plasma generation chamber is stopped. Assuming that the voltage applied to the piezoelectric ceramics valve 33 is 0 for a predetermined time, the movable valve 36 moves upward for a predetermined time, and a predetermined amount of gas is introduced into the plasma generation chamber.
By applying a high voltage from the high voltage power supply 17 for plasma generation at the same timing as the introduction of the gas, a gas plasma is formed. X-rays generated from this gas plasma are extracted from the X-ray extraction window 22.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のプラズ
マＸ線発生装置おいては、プラズマ発生室で放射状に発
生したＸ線をそのまま装置外に取出していたため、微小
領域に絞ったＸ線ビームを得ることができなかった。つ
まり、Ｘ線源となるガスプラズマからのＸ線は、発散し
たままで収束することなく使用されていた。このため、
ガスプラズマからのＸ線を光源として使用するＸ線顕微
鏡やＸ線リソグラフィ装置では十分な照明量を確保する
ことができなかった。However, in the above-described plasma X-ray generation apparatus, since the X-rays radially generated in the plasma generation chamber are taken out of the apparatus as it is, an X-ray beam focused on a minute area is emitted. I couldn't get it. That is, the X-rays from the gas plasma serving as the X-ray source are used without being converged while being diverged. For this reason,
An X-ray microscope or X-ray lithography apparatus using X-rays from gas plasma as a light source cannot secure a sufficient illumination amount.
【０００６】そこで、上述の事情に鑑み、本発明は、微
小領域を効率よく照明することができるプラズマＸ線発
生装置を提供することを目的としている。[0006] In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a plasma X-ray generator capable of efficiently illuminating a minute area.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明によるプラズマＸ線発生装置においては、 （ａ）真空容器内のプラズマ発生室へのガスの注入を制
御するガス注入手段と、 （ｂ）プラズマ発生室に注入されたガスに放電を生じさ
せ、これをプラズマ化するＸ線発生手段と、（ｃ）真空
容器内に設けられるとともに、プラズマ化されたガスの
一部分からのＸ線を真空容器外の所定の点に集光させる
集光手段と、（ｄ）集光手段の位置を調整するマニピュ
レータとを備える構成となっている。In order to achieve the above object, the present invention provides a plasma X-ray generator comprising: (a) gas injection means for controlling the injection of gas into a plasma generation chamber in a vacuum vessel; (B) X-ray generation means for generating a discharge in the gas injected into the plasma generation chamber and converting the gas into plasma, and (c) X-rays provided in a vacuum vessel and from a part of the gasified gas. It is configured to include a light condensing means for condensing the line at a predetermined point outside the vacuum vessel, and (d) a manipulator for adjusting the position of the light condensing means.
【０００８】また、上記のプラズマＸ線発生装置の好適
な実施態様おいては、集光手段として斜入射反射鏡を使
用することとする。In a preferred embodiment of the above-mentioned plasma X-ray generator, an oblique incidence reflecting mirror is used as a focusing means.
【０００９】さらに、上記のプラズマＸ線発生装置の別
の好適な実施態様においては、集光手段としてフレネル
ゾーンプレートを用いることとする。Further, in another preferred embodiment of the above-mentioned plasma X-ray generator, a Fresnel zone plate is used as the light condensing means.
【００１０】[0010]
【作用】本発明のプラズマＸ線発生装置において、Ｘ線
発生手段は、プラズマ発生室に注入されたガスに放電を
生じさせ、これをプラズマ化する。プラズマ化されたガ
スからは放射状にＸ線が発生する。発生したＸ線は、マ
ニピュレータにより位置を調整された集光手段によって
真空容器外の所定の点に集光される。この集光されたＸ
線は、前述の所定の点に配置した試料等を局所的に効率
よく照明する。In the plasma X-ray generator according to the present invention, the X-ray generation means generates a discharge in the gas injected into the plasma generation chamber, and converts the gas into plasma. X-rays are radially generated from the plasma gas. The generated X-rays are focused on a predetermined point outside the vacuum vessel by the focusing means whose position is adjusted by the manipulator. This collected X
The line illuminates the sample or the like arranged at the above-mentioned predetermined point locally and efficiently.
【００１１】[0011]
【実施例】以下、本発明の第１実施例について第１図を
参照しつつ、説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
【００１２】第１実施例のプラズマＸ線発生装置は、Ｘ
線源となるプラズマ発生室２と、プラズマ発生室で発生
したＸ線を装置外に集光させる縮小像形成室４とを備え
る。プラズマ発生室２と縮小像形成室４との間は鏡筒部
分６によってつながれていて、これら全体が真空容器を
形成している。The plasma X-ray generator of the first embodiment has an X
The apparatus includes a plasma generation chamber 2 serving as a radiation source and a reduced image forming chamber 4 for condensing X-rays generated in the plasma generation chamber outside the apparatus. The plasma generating chamber 2 and the reduced image forming chamber 4 are connected by a lens barrel 6, and the whole forms a vacuum container.
【００１３】プラズマ発生室２内部にはプラズマを発生
させるためのアノード電極２１とカソード電極２２とが
設けられている。カソード電極２２の内部にはプラズマ
のもととなるガスを噴出するガス噴出口２４が設けられ
ており、このガス噴出口２４は高速ガスバルブ２３に接
続されている。この高速ガスバルブ２３はＨｅ、Ｎｅ、
Ａｒ等の定圧ガス源に接続されている。アノード電極２
１は高圧を発生するプラズマ発生用電源８に接続され
る。このプラズマ発生用電源８は、高速ガスバルブ２３
の開閉に同期して、アノード電極２１とカソード電極２
２との間に存するガスに高電界を印加する。なお、プラ
ズマ発生室２の開口（図面左端）は排気ポンプに接続さ
れており、この排気ポンプはプラズマ発生室２を常時真
空状態に保っている。An anode electrode 21 and a cathode electrode 22 for generating plasma are provided inside the plasma generation chamber 2. Inside the cathode electrode 22, there is provided a gas ejection port 24 for ejecting a gas serving as a source of plasma. The gas ejection port 24 is connected to a high-speed gas valve 23. This high-speed gas valve 23 includes He, Ne,
It is connected to a constant pressure gas source such as Ar. Anode electrode 2
1 is connected to a plasma generating power supply 8 for generating a high voltage. The power supply 8 for generating plasma is provided with a high-speed gas valve 23.
In synchronization with the opening and closing of the anode electrode 21 and the cathode electrode 2
A high electric field is applied to the gas existing between the two. The opening (left end in the drawing) of the plasma generation chamber 2 is connected to an exhaust pump, and the exhaust pump keeps the plasma generation chamber 2 in a vacuum state at all times.
【００１４】縮小像形成室４の内部にはＸ線集光用の斜
入射反射鏡４１が配置されている。この斜入射反射鏡４
１の位置はマニピュレータ４４によって真空容器の外部
から調節することができる。つまり、Ｘ線の光軸に垂直
な平面内（ｘ軸、ｙ軸を含む面内）の位置、光軸方向
（ｚ軸）の位置、あおり角、回転等をパラメータとし
て、斜入射反射鏡４１の位置を微調整することができ
る。斜入射反射鏡４１の入射口側（左端）には遮蔽板４
３が設けられている。この遮蔽板４３は、プラズマ発生
室２からのＸ線のうち斜入射反射鏡４１の筒内部を通過
するＸ線を遮蔽し、不要なＸ線が真空容器外に出射する
ことを防止する。一方、斜入射反射鏡４１の内面で反射
されたＸ線は、縮小像形成室４の斜入射反射鏡４１の出
射口側の端面（図面右端）に設けられたＸ線取出し窓４
２を通過し、真空容器外に出射する。An oblique incidence reflecting mirror 41 for converging X-rays is disposed inside the reduced image forming chamber 4. This oblique incidence reflection mirror 4
The position of 1 can be adjusted from outside the vacuum vessel by the manipulator 44. In other words, the oblique incidence reflecting mirror 41 uses the position in a plane perpendicular to the optical axis of the X-ray (in the plane including the x axis and the y axis), the position in the optical axis direction (z axis), the tilt angle, the rotation, and the like as parameters. Can be fine-tuned. A shielding plate 4 is provided on the entrance side (left end) of the oblique incidence reflection mirror 41.
3 are provided. The shielding plate 43 shields X-rays from the plasma generation chamber 2 that pass through the inside of the cylinder of the oblique incidence reflection mirror 41 and prevents unnecessary X-rays from being emitted outside the vacuum vessel. On the other hand, the X-rays reflected on the inner surface of the oblique incidence reflecting mirror 41 are transmitted to an X-ray extraction window 4 provided on the end face (right end in the drawing) of the oblique incidence reflecting mirror 41 in the reduced image forming chamber 4.
2 and exits the vacuum vessel.
【００１５】第２図は、斜入射反射鏡４１の断面構造を
示した図である。なお、第２図に示した斜入射反射鏡は
説明のため第１図のものと異なる縦横の倍率で示してあ
る。図示の斜入射反射鏡４１自体は公知のＸ線結像系
で、Woltertype I と呼ばれるものである。斜入射反射
鏡４１の入射口側に設けられた第１面４１ａは、点
ｆ1 、ｆ3 を焦点とする回転楕円面の一部と一致する。
また、斜入射反射鏡４１の出射口側に設けられた第２面
４１ｂは、点ｆ2 、ｆ3 を焦点とする回転双曲面の一部
と一致する。つまり、点ｆ1 に存在するＸ線放射源から
のＸ線は第１面に入射して点ｆ3 の方向に反射され、第
２面に入射して点ｆ2 の方向に反射される。この結果、
点ｆ1 に存在するＸ線放射源の縮小像が点ｆ3 に形成さ
れる。具体的には、プラズマ発生室２内のプラズマの中
心部を点ｆ1 に一致させ、Ｘ線取出し窓４２の外部の試
料セット位置等の微小スポットを点ｆ3 に一致させてあ
る。FIG. 2 is a diagram showing a sectional structure of the oblique incidence reflection mirror 41. As shown in FIG. The oblique incidence reflecting mirror shown in FIG. 2 is shown at a different vertical and horizontal magnification from that of FIG. 1 for explanation. The illustrated oblique incidence reflection mirror 41 itself is a known X-ray imaging system and is called Woltertype I. The first surface 41a provided on the entrance side of the oblique incidence reflection mirror 41 coincides with a part of a spheroid having the points f 1 and f 3 as focal points.
The second surface 41b provided on the exit port side of the grazing incidence reflector 41 coincides with part of a hyperboloid of revolution to a point f 2, f 3 the focal. That, X-rays from the X-ray radiation sources present in the point f 1 is reflected in the direction of the point f 3 and incident on the first surface, is reflected in the direction of the point f 2 incident on the second surface. As a result,
A reduced image of the X-ray radiation source present at point f 1 is formed at point f 3 . Specifically, the center of the plasma in the plasma generation chamber 2 is made to coincide with the point f 1, and the minute spot such as the sample setting position outside the X-ray extraction window 42 is made to coincide with the point f 3 .
【００１６】以下に、第１図に示すプラズマＸ線発生装
置の動作について説明する。Hereinafter, the operation of the plasma X-ray generator shown in FIG. 1 will be described.
【００１７】まず、一定時間高速ガスバルブ２３を開く
ことにより、一定量のガスをガス噴出口２４からプラズ
マ発生室２内に流入させる。こうしてガスを供給したの
ち、これにタイミングを合わせてプラズマ発生用電源８
からコンデンサ放電等による急俊な高電圧を発生させ
る。この結果、高圧がアノード電極２１及びカソード電
極２２に印加され、数百ＫＡの電流が流れるとともに、
流入したガスが電離してプラズマが発生する。このプラ
ズマは大電流の周囲に発生した磁場により強い圧縮を受
けて絞られ、円筒状または回転楕円体状のピンチプラズ
マ２５となる。このような状態のピンチプラズマ２５か
らは高強度、かつ、高効率のＸ線が放射される。つま
り、ピンチプラズマ２５の発生する領域はＸ線源となっ
ている。この場合、ピンチプラズマ２５はその両端部の
密度が低くなっているので、ピンチプラズマ２５の両端
部からのＸ線強度は小さくなっている。したがって、本
実施例の場合、ピンチプラズマ２５の中心部からの高強
度のＸ線のみを使用する。First, by opening the high-speed gas valve 23 for a certain time, a certain amount of gas flows into the plasma generation chamber 2 from the gas ejection port 24. After supplying the gas in this manner, the plasma generating power
A sudden high voltage is generated by capacitor discharge or the like. As a result, a high voltage is applied to the anode electrode 21 and the cathode electrode 22, and a current of several hundred KA flows,
The inflowing gas is ionized to generate plasma. This plasma is strongly compressed by the magnetic field generated around the large current and is squeezed to form a cylindrical or spheroidal pinch plasma 25. X-rays of high intensity and high efficiency are emitted from the pinch plasma 25 in such a state. That is, the region where the pinch plasma 25 is generated is an X-ray source. In this case, since the pinch plasma 25 has a low density at both ends, the X-ray intensity from both ends of the pinch plasma 25 is low. Therefore, in the case of the present embodiment, only high-intensity X-rays from the center of the pinch plasma 25 are used.
【００１８】ピンチプラズマ２５の中心部から発生した
高強度のＸ線は鏡筒部分６を通過して斜入射反射鏡４１
の内面に入射する。斜入射反射鏡４１の内面で反射され
た環状のＸ線はＸ線取出し窓４２を透過して真空容器外
の微小スポットに集光する。この場合、ピンチプラズマ
２５の中心部は斜入射反射鏡４１の焦点ｆ1 に一致し、
微小スポットは焦点ｆ3 に一致する。したがって、微小
スポットに投影されたＸ線像はピンチプラズマ２５の縮
小像になっている。つまり、この微小スポットに被検物
等を配置すれば、被検物等の微小スポットを十分なＸ線
量で効率よく照明することができる。被検物等の微小ス
ポット（一般に数百μｍ以下）をＸ線顕微鏡等で観察す
るならば、明瞭なＸ線像が得られることとなる。また、
これをＸ線リソグラフィの光源として使用するならば、
ピンチプラズマ２５の軸に垂直な方向のＸ線成分を取り
出して利用できる。High-intensity X-rays generated from the center of the pinch plasma 25 pass through the lens barrel 6 and are incident on the grazing incidence mirror 41.
Incident on the inner surface of. The annular X-rays reflected on the inner surface of the oblique incidence reflection mirror 41 pass through the X-ray extraction window 42 and are focused on a minute spot outside the vacuum vessel. In this case, the center of the pinch plasma 25 coincides with the focal point f 1 of the oblique incidence reflector 41,
Fine spot coincides with the focal point f 3. Therefore, the X-ray image projected on the minute spot is a reduced image of the pinch plasma 25. In other words, if a test object or the like is arranged on the minute spot, the minute spot on the test object or the like can be efficiently illuminated with a sufficient X-ray dose. Observing a minute spot (generally, several hundred μm or less) of a test object or the like with an X-ray microscope or the like can provide a clear X-ray image. Also,
If this is used as a light source for X-ray lithography,
An X-ray component in a direction perpendicular to the axis of the pinch plasma 25 can be extracted and used.
【００１９】ピンチプラズマ２５から発生したＸ線のう
ち斜入射反射鏡４１の開口領域の内側に入射するＸ線は
遮蔽板４３に遮られる。このため、Ｘ線取出し窓４２の
外部に不要なＸ線が出射することはない。また、この遮
蔽板４３の存在により、Ｘ線発生時における飛散物がＸ
線取出し窓４２の材料内面に付着することを防止でき
る。更に、Ｘ線の取出し窓４２のＸ線透過材料の面積を
小さくできるので、真空容器内外の気圧差によるＸ線透
過材料の破損を防止することができる。Among the X-rays generated from the pinch plasma 25, the X-rays incident on the inside of the opening area of the oblique incidence reflecting mirror 41 are blocked by a shielding plate 43. For this reason, unnecessary X-rays are not emitted outside the X-ray extraction window 42. In addition, due to the presence of the shielding plate 43, the scattered matter when X-rays are generated
The wire can be prevented from adhering to the inner surface of the material of the window 42. Furthermore, since the area of the X-ray transmitting material of the X-ray extraction window 42 can be reduced, the X-ray transmitting material can be prevented from being damaged due to a pressure difference between the inside and outside of the vacuum vessel.
【００２０】Ｘ線の集光する微小スポットの位置を調節
するには、マニピュレータ４４を操作して斜入射反射鏡
４１を微動させる。ただし、斜入射反射鏡４１の焦点ｆ
1 とピンチプラズマ２５の中心とを一致させることが望
ましい。微小スポットを一様に照明するためである。な
お、このマニピュレータ４４を適当に操作して、Ｘ線の
微小スポットを斜入射反射鏡の光軸に垂直な面内で走査
することも可能である。In order to adjust the position of the minute spot where X-rays converge, the manipulator 44 is operated to slightly move the oblique incidence reflecting mirror 41. However, the focal point f of the oblique incidence reflection mirror 41
It is desirable to make 1 coincide with the center of the pinch plasma 25. This is for uniformly illuminating the minute spot. It is also possible to scan the minute spot of X-rays in a plane perpendicular to the optical axis of the oblique incidence mirror by operating the manipulator 44 appropriately.
【００２１】第３図は、本発明の第２実施例を説明する
ための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a second embodiment of the present invention.
【００２２】第２実施例のプラズマＸ線発生装置の場
合、集光手段のみが第１実施例のプラズマＸ線発生装置
と異なる。したがって、第３図では縮小像形成室４のみ
を示した。この場合、斜入射反射鏡の位置にフレネルゾ
ーンプレート１４１が配置される。In the case of the plasma X-ray generator of the second embodiment, only the condensing means differs from the plasma X-ray generator of the first embodiment. Therefore, only the reduced image forming chamber 4 is shown in FIG. In this case, the Fresnel zone plate 141 is arranged at the position of the oblique incidence reflecting mirror.
【００２３】集光手段としてフレネルゾーンプレート１
４１を使用した場合、Ｘ線の波長により焦点位置が異な
るので、可変波長のＸ線放射源を得ることができる。具
体的には、微小スポットを形成すべき位置のフレネルゾ
ーンプレート１４１側の近傍に小さな開口を有するピン
ホールスリットを設ける。所望の波長のＸ線以外はピン
ホールスリットに遮られて微小スポットに到達しない。
この場合、短波長側の高次のＸ線が入射する可能性があ
るが、Ｘ線放射源の波長帯域をある程度制限すれば実際
上の問題は生じない。Fresnel zone plate 1 as light collecting means
In the case where 41 is used, since the focal position differs depending on the wavelength of the X-ray, an X-ray radiation source having a variable wavelength can be obtained. Specifically, a pinhole slit having a small opening is provided near the Fresnel zone plate 141 at a position where a minute spot is to be formed. The X-rays other than the desired wavelength are blocked by the pinhole slit and do not reach the minute spot.
In this case, high-order X-rays on the short wavelength side may enter, but practical problems do not arise if the wavelength band of the X-ray radiation source is limited to some extent.
【００２４】[0024]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
集光手段がプラズマ化された前記ガスからのＸ線を真空
容器外の所定の点に集光させるので、簡易なＸ線放射源
で、真空容器外の所定の点を局所的に効率よく照明する
ことができる。As described above, according to the present invention,
Since the condensing means condenses X-rays from the gasified plasma to a predetermined point outside the vacuum vessel, a simple X-ray radiation source locally and efficiently illuminates a predetermined point outside the vacuum vessel. can do.
【図１】本発明によるプラズマＸ線発生装置の第１実施
例を示した図である。FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a plasma X-ray generator according to the present invention.
【図２】Ｘ線を集光するための斜入射反射鏡の断面図で
ある。FIG. 2 is a cross-sectional view of an oblique incidence reflecting mirror for collecting X-rays.
【図３】第２実施例のプラズマＸ線発生装置を示した図
である。FIG. 3 is a diagram showing a plasma X-ray generator according to a second embodiment.
【図４】従来のプラズマＸ線発生装置を示した図であ
る。FIG. 4 is a diagram showing a conventional plasma X-ray generator.
２１、２２…Ｘ線発生手段 ２３、２４…ガス注入手段 ４１、１４１…集光手段。 21, 22 X-ray generation means 23, 24 Gas injection means 41, 141 Light collection means.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横山 豪樹 静岡県浜松市市野町1126番地の１ 浜松 ホトニクス株式会社内 (72)発明者 石田 昇 静岡県浜松市市野町1126番地の１ 浜松 ホトニクス株式会社内 (72)発明者 中野 知康 静岡県浜松市市野町1126番地の１ 浜松 ホトニクス株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−5334（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−21850（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−11391（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 35/22 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takeki Yokoyama 1126, Nomachi, Hamamatsu-shi, Shizuoka Prefecture Inside Hamamatsu Photonics K.K. In-company (72) Inventor Tomoyasu Nakano 1126-1, Nomachi, Hamamatsu-shi, Shizuoka Pref. Hamamatsu Photonics Co., Ltd. (56) References JP-A-2-5334 (JP, A) JP-A-64-21850 (JP, A) JP-A-51-11391 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01J 35/22
Claims (3)
注入を制御するガス注入手段と、 前記プラズマ発生室に注入された前記ガスに放電を生じ
させ、これをプラズマ化するＸ線発生手段と、 前記真空容器内に設けられるとともに、プラズマ化され
た前記ガスの一部分のＸ線像を前記真空容器外の所定の
点に集光させる集光手段と、 前記集光手段の位置を調整するマニピュレータとを有す
ることを特徴とするプラズマＸ線発生装置。1. A gas injection means for controlling injection of a gas into a plasma generation chamber in a vacuum vessel, and an X-ray generation means for generating a discharge in the gas injected into the plasma generation chamber and converting the gas into a plasma. A light condensing means provided in the vacuum vessel and condensing an X-ray image of a part of the gasified plasma at a predetermined point outside the vacuum vessel; and adjusting a position of the light condensing means. A plasma X-ray generator, comprising: a manipulator.
求項１記載のプラズマＸ線発生装置。2. The plasma X-ray generating apparatus according to claim 1, wherein said focusing means is a grazing incidence reflecting mirror.
トである請求項１記載のプラズマＸ線発生装置。3. The plasma X-ray generating apparatus according to claim 1, wherein said condensing means is a Fresnel zone plate.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2402246A JP3058921B2 (en) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | Plasma X-ray generator |
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| JP2402246A JP3058921B2 (en) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | Plasma X-ray generator |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH04218249A JPH04218249A (en) | 1992-08-07 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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|---|---|---|---|---|
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-
1990
- 1990-12-14 JP JP2402246A patent/JP3058921B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
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| US8727206B2 (en) | 2008-01-21 | 2014-05-20 | Ptm Packaging Tools Machinery Pte. Ltd. | Cup made of a paper material |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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