JP3048608B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP3048608B2
JP3048608B2 JP2201764A JP20176490A JP3048608B2 JP 3048608 B2 JP3048608 B2 JP 3048608B2 JP 2201764 A JP2201764 A JP 2201764A JP 20176490 A JP20176490 A JP 20176490A JP 3048608 B2 JP3048608 B2 JP 3048608B2
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稔史 小林
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は半導体記憶装置に関し、特にビット照合機
能を有する内容にアドレス可能なメモリ(Content Addr
essable Memory)のメモリセル(以下、CAMセルと呼
ぶ)に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a content addressable memory (Content Addr) having a bit collating function.
essable memory) (hereinafter, referred to as a CAM cell).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第3図は、アイーイーイーイー ジャーナル オブ
ソリッドステイト サーキット sc−7巻366頁(IEEE
Journal of Solid−State Cjrcit,vol.sc−7 pp.366)
および米国特許3701980号に開示されている従来のCAMセ
ルの回路図である。
Figure 3 shows the IEE Journal of
Solid State Circuit sc-7 page 366 (IEEE
Journal of Solid-State Cjrcit, vol.sc-7 pp.366)
1 is a circuit diagram of a conventional CAM cell disclosed in US Pat. No. 3,701,980.

第3図に示すように、このCAMセルは、5個のnチャ
ネルMOSトランジスタ1〜5からなる。トランジスタ1
はビット線6と記憶ノード20との間に接続され、トラン
ジスタ2は反転ビット線7と反転記憶ノード21との間に
接続され、これらのトランジスタ1,2のそれぞれのゲー
トはともにワード線8に接続されている。トランジスタ
3はビット線6と制御端子9との間に接続され、トラン
ジスタ4は反転ビット線7と制御端子9との間に接続さ
れている。トランジスタ3のゲートは記憶ノード20に接
続され、トランジスタ4のゲートは反転記憶ノード21に
接続されている。また、トランジスタ5は一致線10と制
御端子9との間に接続され、このトランジスタ5のゲー
トも一致線10に接続されている。
As shown in FIG. 3, the CAM cell includes five n-channel MOS transistors 1 to 5. Transistor 1
Is connected between the bit line 6 and the storage node 20, the transistor 2 is connected between the inverted bit line 7 and the inverted storage node 21, and the respective gates of these transistors 1 and 2 are both connected to the word line 8. It is connected. The transistor 3 is connected between the bit line 6 and the control terminal 9, and the transistor 4 is connected between the inverted bit line 7 and the control terminal 9. The gate of transistor 3 is connected to storage node 20, and the gate of transistor 4 is connected to inverted storage node 21. The transistor 5 is connected between the match line 10 and the control terminal 9, and the gate of the transistor 5 is also connected to the match line 10.

次に、第3図のCAMセルの書込み動作、一致検索動
作、読出し動作およびリフレッシュ動作を順に説明す
る。以下の説明において、「H」とは電源電位Vccある
いはその近傍の電位を示し、「L」とはグランド電位Vs
sあるいはその近傍の電位を示す。但し、Vcc>Vssであ
る。また、ビット線対6,7のデータが“0"であるとは、
ビット線6の電位が「L」でありかつ反転ビット線7の
電位「H」であることと等しく、ビット線体6,7のデー
タが“1"であるとは、ビット線6の電位が「H」であ
り、かつ反転ビット線7の電位が「L」であることと等
しい。
Next, the write operation, match search operation, read operation and refresh operation of the CAM cell of FIG. 3 will be described in order. In the following description, “H” indicates the power supply potential Vcc or a potential in the vicinity thereof, and “L” indicates the ground potential Vs
Indicates the potential at or near s. However, Vcc> Vss. Also, that the data of the bit line pair 6, 7 is "0",
When the potential of the bit line 6 is “L” and the potential of the inverted bit line 7 is “H”, and the data of the bit line bodies 6 and 7 are “1”, the potential of the bit line 6 is This is equivalent to “H” and the potential of the inversion bit line 7 being “L”.

(書込み動作) 書込み動作では、ワード線8の電位が「H」にされ、
書込むべきデータがビット線対6,7に与えられ、一定時
間の後、ワード線8の電位が「L」にされる。
(Write Operation) In the write operation, the potential of the word line 8 is set to “H”,
Data to be written is supplied to the bit line pair 6, 7, and after a certain time, the potential of the word line 8 is set to "L".

たとえば、書込むべきデータが“1"であり、すなわ
ち、ビット線6に「H」が与えられ、かつ反転ビット線
7に「L」が与えられる。この場合、ワード線8から
「H」のゲート入力を受けてオン状態となるトランジス
タ1を介して、ビット線6の電位「H」がトランジスタ
3のゲート容量に与えられる。また、同様に、ワード線
8から「H」のゲート入力を受けてオン状態となるトラ
ンジスタ2を介して、反転ビット線7の電位「L」がト
ランジスタ4のゲート容量に与えられる。一定時間の
後、ワード線8から「L」のゲート入力を受けて、トラ
ンジスタ1および2がオフする。
For example, the data to be written is "1", that is, "H" is applied to bit line 6 and "L" is applied to inverted bit line 7. In this case, the potential “H” of the bit line 6 is supplied to the gate capacitance of the transistor 3 via the transistor 1 which is turned on in response to the gate input of “H” from the word line 8. Similarly, the potential “L” of the inversion bit line 7 is applied to the gate capacitance of the transistor 4 via the transistor 2 which is turned on in response to the “H” gate input from the word line 8. After a certain period of time, transistors 1 and 2 are turned off in response to a gate input of "L" from word line 8.

以上の動作の結果、トランジスタ3のゲート電位すな
わち記憶ノード20の電位はVcc−Vthに保たれ、トランジ
スタ4のゲート電位すなわち反転記憶ノード21の電位は
Vssに保たれる。なお、Vthは、トランジスタ1〜5のし
きい値電圧である。
As a result of the above operation, the gate potential of the transistor 3, that is, the potential of the storage node 20 is kept at Vcc-Vth, and the gate potential of the transistor 4, that is, the potential of the inversion storage node 21, becomes
Kept at Vss. Note that Vth is a threshold voltage of the transistors 1 to 5.

(一致検索動作) 一致検索動作では、一致線10が「H」にプリチャージ
されてフローティング状態にされた後、検索データがビ
ット線対6,7に与えられる。記憶データと検索データの
が不一致の場合には、一致線10が「L」にディスチャー
ジされる。一方、記憶データと検索データとが一致する
場合には、一致線10はディスチャージされずに「H」に
保たれる。
(Match Search Operation) In the match search operation, after the match line 10 is precharged to “H” to be in a floating state, search data is supplied to the bit line pair 6 and 7. If the stored data and the search data do not match, the match line 10 is discharged to "L". On the other hand, when the stored data matches the search data, the match line 10 is maintained at "H" without being discharged.

たとえば、記憶データが“1"であり、すなわちトラン
ジスタ3のゲート容量に「H」が蓄えられ、かつトラン
ジスタ4のゲート容量に「L」が蓄えられているものと
する。この場合、トランジスタ3がオン状態、トランジ
スタ4がオフ状態になる。検索データとして“1"が与え
られて、ビット線6の電位が「H」となりかつ反転ビッ
ト線7の電位が「L」となると、制御端子9の電位は
「H」となる。そのため、一致線10はディスチャージさ
れずに「H」に保たれる(一致)。
For example, it is assumed that the storage data is “1”, that is, “H” is stored in the gate capacitance of transistor 3 and “L” is stored in the gate capacitance of transistor 4. In this case, the transistor 3 is turned on and the transistor 4 is turned off. When "1" is given as the search data and the potential of the bit line 6 becomes "H" and the potential of the inverted bit line 7 becomes "L", the potential of the control terminal 9 becomes "H". Therefore, the match line 10 is maintained at "H" without being discharged (match).

一方、記憶データが同様に“1"のとき、検索データと
して“0"が与えられて、ビット線6の電位が「L」とな
りかつ反転ビット線7の電位が「H」となるとする。こ
の場合、トランジスタ3はオン状態にあり、トランジス
タ4はオフ状態にあるので、制御端子9の電位は「L」
となる。そのため、一致線10のトランジスタ5,3および
ビット線6により構成される放電経路を介してディスチ
ャージされる(不一致)。
On the other hand, when the stored data is similarly “1”, it is assumed that “0” is given as the search data, the potential of the bit line 6 becomes “L”, and the potential of the inverted bit line 7 becomes “H”. In this case, since the transistor 3 is on and the transistor 4 is off, the potential of the control terminal 9 is “L”.
Becomes Therefore, the discharge is performed via a discharge path including the transistors 5 and 3 of the match line 10 and the bit line 6 (mismatch).

同様に、記憶データが“0"のときは、検索データが
“1"ならば制御端子9の電位が「L」となる。そのた
め、一致線10はトランジスタ5,4および反転ビット線7
からなる放電経路を介してディスチャージされる(不一
致)。もし、検索データが“0"ならば、制御端子9の電
位は「H」となる。そのため、一致線10はディスチャー
ジされずに「H」に保たれる(一致)。
Similarly, when the stored data is “0”, if the search data is “1”, the potential of the control terminal 9 becomes “L”. Therefore, the match line 10 is connected to the transistors 5 and 4 and the inverted bit line 7.
(Disagreement) through a discharge path consisting of If the search data is “0”, the potential of the control terminal 9 becomes “H”. Therefore, the match line 10 is maintained at "H" without being discharged (match).

また、ビット線6および反転ビット線7にともに
「H」が与えられると、記憶データの値に関係なく制御
端子9の電位は「H」となる。この状態は、当該ビット
線において一致検索動作が行われない状態、すなわちマ
スクされた状態であることを意味する。
When "H" is applied to both the bit line 6 and the inverted bit line 7, the potential of the control terminal 9 becomes "H" regardless of the value of the stored data. This state means that no match search operation is performed on the bit line, that is, a masked state.

上記のように、一致検索動作においては、記憶データ
と検索データとが不一致のとき一致線10がディスチャー
ジされる一方、それらが一致したときまたはマスクされ
たとき一致線はディスチャージされずに「H」に保たれ
る。
As described above, in the match search operation, the match line 10 is discharged when the storage data and the search data do not match, while the match line is not discharged when they match or when the match data is masked. Is kept.

(読出し動作) 読出し動作では、一致線10、ビット線6および反転ビ
ット線7が「L」にディスチャージされ、さらにビット
線6および反転ビット線7がフローティング状態にされ
た後、一致線10の電位が「H」にされる。
(Read Operation) In the read operation, the match line 10, the bit line 6 and the inverted bit line 7 are discharged to "L", and after the bit line 6 and the inverted bit line 7 are brought into a floating state, the potential of the match line 10 is set. Is set to “H”.

たとえば、記憶データが“1"であるものとする。この
場合、トランジスタ3がオン状態になるので、一致線10
の電位が「H」にされるとトランジスタ5,3を通じてビ
ット線6の電位が上昇し、これにより記憶データ“1"が
読出される。
For example, it is assumed that the stored data is “1”. In this case, the transistor 3 is turned on.
Is set to "H", the potential of the bit line 6 rises through the transistors 5 and 3, whereby the stored data "1" is read.

逆に、記憶データが“0"であるものとする。この場
合、トランジスタ4がオン状態にあるので、一致線10の
電位が「H」にされるトランジスタ5,4を通じて反転ビ
ット線7の電位が上昇し、これにより記憶データ“0"が
読出される。
Conversely, it is assumed that the stored data is “0”. In this case, since the transistor 4 is in the ON state, the potential of the inverted bit line 7 rises through the transistors 5 and 4 in which the potential of the match line 10 is set to "H", whereby the stored data "0" is read. .

(リフレッシュ動作) 上記のCAMセルはダイナミック型であり、記憶データ
はトランジスタ3,4のゲート容量に電荷として保存され
ている。したがって、この電荷がリークすることによっ
て記憶データが破壊されるおそれがある。そのため、所
定時間ごとにリフレッシュ動作を行う必要がある。
(Refresh Operation) The above CAM cell is of a dynamic type, and stored data is stored as charges in the gate capacitances of the transistors 3 and 4. Therefore, the stored data may be destroyed due to the leakage of the charge. Therefore, it is necessary to perform the refresh operation every predetermined time.

リフレッシュ動作では、上記の読出し動作の後、ビッ
ト線6および反転ビット線7に読出されたデータが増幅
され、引き続いて上記の書込み動作が行われる。
In the refresh operation, after the above-described read operation, the data read to the bit line 6 and the inverted bit line 7 are amplified, and subsequently the above-described write operation is performed.

すなわち、一致線10、ビット線6および反転ビット線
7が「L」にディスチャージされ、ビット線6および反
転ビット線7が「L」のフローティング状態にされた
後、一致線10の電位が「H」にされる。これにより、ビ
ット線6および反転ビット線7に記憶データが読出され
る。続いて、その読出されたデータが増幅される。ワー
ド線8の電位を「H」にすることによりトランジスタ3,
4のゲート容量に増幅したデータが書込まれ、一定の時
間の後、ワード線8の電位が「L」にされる。
That is, after the match line 10, the bit line 6 and the inverted bit line 7 are discharged to "L" and the bit line 6 and the inverted bit line 7 are set to the "L" floating state, the potential of the match line 10 becomes "H". Is made. Thereby, stored data is read out to bit line 6 and inverted bit line 7. Subsequently, the read data is amplified. By setting the potential of the word line 8 to "H", the transistor 3,
The amplified data is written to the gate capacitance of No. 4, and after a certain time, the potential of the word line 8 is set to "L".

以上のような動作を行う複数のCAMセルにより、第4
図に示すようにワードが構成される。ここで、ワードと
は共通のワード線および共通の一致線に接続された複数
のCAMセルからなるブロックのことをいう。
By the plurality of CAM cells performing the above operations, the fourth
Words are configured as shown in the figure. Here, the word means a block including a plurality of CAM cells connected to a common word line and a common match line.

第4図は4個のCAMセルからなるワードを示す。第4
図において、4本のビット線6a〜6d、4本の反転ビット
線7a〜7d、ワード線8、一致線10、4個のCAMセル11a〜
11d、ワード線ドライバ12、一致線ドライバ13および一
致線センスアンプ14が設けられている。
FIG. 4 shows a word consisting of four CAM cells. 4th
In the figure, four bit lines 6a to 6d, four inverted bit lines 7a to 7d, a word line 8, a match line 10, and four CAM cells 11a to
11d, a word line driver 12, a match line driver 13, and a match line sense amplifier 14 are provided.

上述の書込み動作、読出し動作およびリフレッシュ動
作はすべてワード単位で行われる。また、上述の一致検
索動作は複数のワードあるいは後述するアレイ単位で行
われるが、一致および不一致の判定はワード単位で行わ
れる。すなわち、上述の各動作では、ワード線ドライバ
12によって、ワード線8の「H」への駆動および「L」
への駆動が制御され、一致線ドライバ13によって一致線
10の「H」への駆動および「L」への駆動ならびにフロ
ーティング状態が制御される。また、一致線センスアン
プ14によって一致検索動作特に一致線10に出力された電
圧が検知され、一致および不一致の判定動作が行われ
る。
The above-described write operation, read operation and refresh operation are all performed in word units. In addition, the above-described match search operation is performed in units of a plurality of words or in an array described later, but determination of match or mismatch is performed in units of words. That is, in each of the above operations, the word line driver
12 drives the word line 8 to “H” and “L”.
Is controlled and the match line driver 13
The drive to "H" and the drive to "L" and the floating state of 10 are controlled. The match line sense amplifier 14 detects a match search operation, particularly the voltage output to the match line 10, and performs a match / mismatch determination operation.

次に、ワード線単位の一致検索動作、リフレッシュ動
作および部分書込み動作の特徴を説明する。なお、各CA
Mセル内部の動作は、既に述べた対応するCAMセルの各動
作と同様である。
Next, the features of the match search operation, the refresh operation, and the partial write operation in units of word lines will be described. Each CA
The operation inside the M cell is the same as each operation of the corresponding CAM cell already described.

(一致検索動作) 上記ワード内の4個のCAMセル11a〜11dにおいて、上
述した一致検索動作が同時に行われる。その一致検索動
作の結果、“一致”を示したCAMセルあるいはマスクさ
れたCAMセルは一致線10をディスチャージしないが、
“不一致”を示したCAMセルは一致線10をディスチャー
ジする。
(Match Search Operation) The above-described match search operation is performed simultaneously in the four CAM cells 11a to 11d in the word. As a result of the match search operation, the CAM cell indicating "match" or the masked CAM cell does not discharge the match line 10, but
The CAM cell indicating "mismatch" discharges the match line 10.

したがって、ワード内の4個のCAMセルのうち1個で
も“不一致”を示すと、そのワードに対応する一致線10
はディスチャージされる。そのため、その一致線10の電
位が一致線センスアンプ14により検知されると、そのワ
ードにおける“不一致”が検出される。
Therefore, if even one of the four CAM cells in a word indicates "mismatch", the match line 10 corresponding to that word
Is discharged. Therefore, when the potential of the match line 10 is detected by the match line sense amplifier 14, "mismatch" in that word is detected.

逆に、4個のCAMセルのうちマスクされていないCAMセ
ルがすべて“一致”を示すと、そのワードに対応する一
致線10の電位は「H」を保つ。その一致線10の電位が一
致線センスアンプ14により検知されると、そのワード線
における“一致”が検出される。
Conversely, when all the unmasked CAM cells among the four CAM cells indicate "match", the potential of the match line 10 corresponding to the word remains "H". When the potential of the match line 10 is detected by the match line sense amplifier 14, "match" in the word line is detected.

(リフレッシュ動作) ワード内の4個のCAMセル11a〜11dにおいて、上述し
たリフレッシュ動作が同時に行われる。すなわち、4個
のCAMセル11a〜11dに共通の一致線10、ビット線6a〜6d
および反転ビット線7a〜7dが「L」にディスチャージさ
れ、ビット線6a〜6dおよび反転ビット線7a〜7dがフロー
ティング状態とされた後、一致線10の電位が「H」にさ
れる。それにより、ビット線6a〜6dおよび反転ビット線
7a〜7dにCAMセル11a〜11d内の記憶データがそれぞれ読
出される。続いて、その読出されたデータが増幅され
る。4個のCAMセルに共通のワード線8の電位が「H」
にされると、4個のCAMセル11a〜11dにそれぞれ増幅さ
れたデータが書込まれる。一定時間の後、ワード線8の
電位が「L」にされることにより、ワード線単位のリフ
レッシュ動作が完了する。
(Refresh Operation) In the four CAM cells 11a to 11d in a word, the above-described refresh operation is performed simultaneously. That is, the match line 10 and the bit lines 6a to 6d common to the four CAM cells 11a to 11d
After the inversion bit lines 7a to 7d are discharged to "L" and the bit lines 6a to 6d and the inversion bit lines 7a to 7d are set to the floating state, the potential of the match line 10 is set to "H". Thereby, the bit lines 6a to 6d and the inverted bit line
The stored data in the CAM cells 11a to 11d are read out to 7a to 7d, respectively. Subsequently, the read data is amplified. The potential of the word line 8 common to the four CAM cells is "H"
, The amplified data is written to the four CAM cells 11a to 11d. After a certain time, the potential of the word line 8 is set to “L”, whereby the refresh operation in word line units is completed.

(部分書込み動作) 部分書込み動作とは、ワード内の全CAMセルのうち任
意に指定されたCAMセルには新たなデータの書込み動作
が行われ、残りのCAMセルは前の記憶データを保持し続
ける動作である。
(Partial Write Operation) A partial write operation is a process in which new data is written to arbitrarily designated CAM cells of all CAM cells in a word, and the remaining CAM cells hold previous storage data. This is a continuous operation.

ここでは、4個のCAMセルのうちCAMセル11aおよび11c
のみに新たなデータが書込まれるものとする。まず、4
個のCAMセル11a〜11dに共通の一致線10、ビット線6a〜6
dおよび反転ット線7a〜7dが「L」にディスチャージさ
れ、さらにビット線6a〜6dおよび反転ビット線7a〜7dが
「L」のフローティング状態とされた後、一致線10の電
位が「H」にされる。これにより、それぞれのCAMセル1
1a〜11dの記憶データがビット線6a〜6dおよび反転ビッ
ト線7a〜7dに読出され、続いて、その読出されたデータ
が増幅される。
Here, CAM cells 11a and 11c of the four CAM cells
Only new data shall be written. First, 4
Match line 10, bit lines 6a-6 common to the CAM cells 11a-11d
d and the inverted lines 7a to 7d are discharged to "L", and the bit lines 6a to 6d and the inverted bit lines 7a to 7d are set to the "L" floating state. Is made. Thereby, each CAM cell 1
The stored data of 1a to 11d is read to bit lines 6a to 6d and inverted bit lines 7a to 7d, and subsequently, the read data is amplified.

次に、ビット線6a,6cおよび反転ビット線7a,7cに書込
むべきデータが与えられる。この状態で、ビット線6a,6
cおよび反転ビット線7a,7cにはCAMセル11a,11cに書込む
べき新たなデータが与えられており、ビット線6b,6dお
よび反転ビット線7b,7dにはCAMセル11b,11dにより記憶
されているデータが増幅されて与えられている。次に、
4個のCAMセルに共通のワード線8の電位が「H」にさ
れると、4個のCAMセルの各々に、対応するビット線お
よび反転ビット線に与えられているデータが書込まれ
る。一定時間の後、ワード線8の電位が「L」にされる
と、部分書込動作が完了する。
Next, data to be written is applied to bit lines 6a and 6c and inverted bit lines 7a and 7c. In this state, the bit lines 6a, 6
c and inverted bit lines 7a and 7c are given new data to be written to the CAM cells 11a and 11c, and the bit lines 6b and 6d and the inverted bit lines 7b and 7d are stored by the CAM cells 11b and 11d. That data is amplified and given. next,
When the potential of the word line 8 common to the four CAM cells is set to “H”, data applied to the corresponding bit line and the inverted bit line is written to each of the four CAM cells. After a certain time, when the potential of word line 8 is set to "L", the partial write operation is completed.

以上の動作により、そのワード線においてCAMセル11
a,11cには新たなデータが書込まれ、CAMセル11b,11dに
おいてはその記憶データがリフレッシュされる。
By the above operation, the CAM cell 11 is
New data is written to a and 11c, and the stored data is refreshed in the CAM cells 11b and 11d.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

実際のCAMにおいては、第5図に示すように、複数の
ワードが並んでアレイを構成する。第5図においては、
4個のワード15A〜15Dが1つのアレイを構成している。
ワード15Aは、4個のCAMセル11a〜11d、ワード線8、一
致線10、ワード線ドライバ12、一致線ドライバ13、およ
び一致線センスアンプ14からなり、ワード15B、ワード1
5Cおよびワード15Dも同様に構成されている。
In an actual CAM, as shown in FIG. 5, a plurality of words are arranged side by side to form an array. In FIG.
Four words 15A to 15D constitute one array.
Word 15A is composed of four CAM cells 11a to 11d, word line 8, match line 10, word line driver 12, match line driver 13, and match line sense amplifier 14, and word 15B, word 1
5C and word 15D are similarly configured.

上述の一致検索動作はアレイ全体において同時に行わ
れ、上述の書込み動作、読出し動作、リフレッシュ動
作、および、部分書込み動作は、ワードごとに逐次行わ
れるのが通常であるが、システムのアプリケーションに
よっては、書込み動作および部分書込み動作を複数のワ
ードに対して同時に実行する方が効率的な場合が多い。
The above-described match search operation is performed simultaneously in the entire array, and the above-described write operation, read operation, refresh operation, and partial write operation are usually performed sequentially word by word. However, depending on the application of the system, It is often more efficient to perform a write operation and a partial write operation on a plurality of words simultaneously.

第5図のアレイでは、複数のワードに対する同時書込
みは、上述した書込み動作において所望のワード線すべ
て「H」にすることによって実行可能であるが、複数ワ
ードに対する同時部分書込みは、CAMセルデータの読出
し段階で複数のワードのデータがビット線および反転ビ
ット線上で衝突するため実行できない。
In the array of FIG. 5, simultaneous writing to a plurality of words can be performed by setting all desired word lines to "H" in the above-described writing operation, but simultaneous partial writing to a plurality of words can be performed by simultaneously writing CAM cell data. In the read stage, it cannot be executed because the data of a plurality of words collide on the bit line and the inverted bit line.

第6図は、アイ・イー・イー・イー・ ジャーナル
オブ ソリッドステイト サーキット sc24巻,107頁
(IEEE Journal of Solid−State Circuit,vol.sc−24,
p.1017)に開示されている複数ワードに対する同時部分
書込み可能な従来のCAMセルである。
Fig. 6 shows the IEE journal
Of Solid State Circuit sc24, p.107 (IEEE Journal of Solid-State Circuit, vol.sc-24,
This is a conventional CAM cell capable of simultaneous partial writing to a plurality of words disclosed in p. 1017).

第6図に示すように、このCAMセルは9個のnチャネ
ルMOSトランジスタ1〜4,32〜36、および2個の抵抗30,
31からなる。トランジスタ32,33と抵抗30,31はフリップ
フロップを形成している。フリップフロップの記憶ノー
ド20および反転記憶ノード21は、それぞれ直列接続され
たトランジスタ1,35および2,36を介してビット線6およ
び反転ビット線7に接続され、トランジスタ1,2のゲー
トはワード線8に、トランジスタ35,36のゲートは、ビ
ット線および反転ビット線と対になった部分書込み制御
線37にそれぞれ接続されている。また、トランジスタ3
は反転検索データ線41と制御端子9との間に、トランジ
スタ4は検索データ線40と制御端子9との間に接続さ
れ、トランジスタ3のゲートは記憶ノード20に、トラン
ジスタ4のゲートは反転記憶ノード21にそれぞれ接続さ
れている。トランジスタ34は一致線10とグランドの間に
接続され、そのゲートは制御端子9に接続されている。
As shown in FIG. 6, this CAM cell has nine n-channel MOS transistors 1-4, 32-36, and two resistors 30,
Consists of 31. The transistors 32 and 33 and the resistors 30 and 31 form a flip-flop. The storage node 20 and the inverted storage node 21 of the flip-flop are connected to the bit line 6 and the inverted bit line 7 via transistors 1, 35 and 2, 36 connected in series, respectively. 8, the gates of the transistors 35 and 36 are respectively connected to a partial write control line 37 paired with a bit line and an inverted bit line. Transistor 3
Is connected between the inverted search data line 41 and the control terminal 9, the transistor 4 is connected between the search data line 40 and the control terminal 9, the gate of the transistor 3 is connected to the storage node 20, and the gate of the transistor 4 is connected to the inverted storage. Each is connected to the node 21. Transistor 34 is connected between match line 10 and ground, and its gate is connected to control terminal 9.

次に、第6図のCAMセルが第5図に示すようなアレイ
を構成している場合の、書込みおよび部分書込み動作、
一致検索動作、読出し動作を順に説明する。なお、第6
図のCAMセルはスタティック型フリップフロップで構成
されているのでリフレッシュ動作は必要ない。
Next, when the CAM cells of FIG. 6 constitute an array as shown in FIG.
The match search operation and the read operation will be described in order. The sixth
Since the CAM cell in the figure is constituted by a static flip-flop, a refresh operation is not required.

(書込みおよび部分書込み動作) 書込み動作では、書込みデータをビット線6および反
転ビット線7に与え、ワード線8、部分書込み制御線37
を「H」にして記憶ノードを書込みデータに一致する状
態に設定した後、ワード線を「L」にする。部分書込み
は、上述の書込み動作を行う際に書込みを禁止したいビ
ットに対応した部分書込み制御線37を「L」に設定して
おくことによって実行される。第6図のCAMセルでは、
部分書込み時にデータを一端読出す必要がないので、複
数のワードに対する同時書込みおよび同時部分書込み
は、上述の動作において所望のワード線をすべて「H」
にすることによって可能である。
(Write and Partial Write Operation) In the write operation, write data is supplied to the bit line 6 and the inverted bit line 7, and the word line 8, the partial write control line 37
Is set to “H” to set the storage node to a state that matches the write data, and then the word line is set to “L”. The partial write is executed by setting the partial write control line 37 corresponding to the bit whose write is to be inhibited at the time of performing the above-described write operation to “L”. In the CAM cell of FIG.
Since it is not necessary to read data once at the time of partial writing, simultaneous writing and simultaneous partial writing to a plurality of words are performed by setting all desired word lines to “H” in the above operation.
Is possible.

(一致検索動作) 一致検索動作では、一致線10が「H」にプリシャージ
されてフローディング状態にされた後、検索データが検
索データ線40,反転検索データ線41に与えられる。記憶
データと検索データが不一致の場合には、制御端子9が
「H」になってトランジスタ34がオン状態になり、一致
線10がディスチャージされる。一方、記憶データと検索
データが一致している場合には、制御端子9は「L」に
なってトランジスタ34はオフ状態になり、一致線10は
「H」を保つ。また、検索データ線40および反転検索デ
ータ線41をともに「L」にすると、記憶データに係わら
ず制御端子9は「L」になって一致線10は「H」を保つ
ので一致検索のマスクも可能である。
(Match Search Operation) In the match search operation, the search data is given to the search data line 40 and the inverted search data line 41 after the match line 10 is pre-sharded to “H” to be in the floating state. If the stored data and the search data do not match, the control terminal 9 goes "H", the transistor 34 is turned on, and the match line 10 is discharged. On the other hand, when the stored data and the search data match, the control terminal 9 is set to "L", the transistor 34 is turned off, and the match line 10 maintains "H". When both the search data line 40 and the inverted search data line 41 are set to "L", the control terminal 9 is set to "L" and the match line 10 is maintained at "H" regardless of the stored data. It is possible.

(読出し動作) 読出し動作は、ワード線8および部分書込み制御線37
を「H」にして記憶データをビット線6および反転ビッ
ト線7に出力し、これを増幅する。
(Read Operation) The read operation is performed by the word line 8 and the partial write control line 37.
Is set to "H", and the stored data is output to the bit line 6 and the inverted bit line 7, and is amplified.

以上のように、第6図のCAMセルでは複数のワードに
対する同時部分書込みが可能であるが、第6図のCAMセ
ルは第3図のCAMセルに比べて構成素子数が多いため高
集積化しにくいという問題がある。
As described above, the CAM cell of FIG. 6 allows simultaneous partial writing to a plurality of words, but the CAM cell of FIG. 6 has a larger number of constituent elements than the CAM cell of FIG. There is a problem that it is difficult.

一方、第7図は、第3図のCAMセルに対して第6図のC
AMセルと同様に、ワード線によって制御されるトランジ
スタと直列に、部分書込み制御線によって制御されるト
ランジスタを接続したCAMセルである。
On the other hand, FIG. 7 shows the CAM cell of FIG.
Similar to the AM cell, this is a CAM cell in which a transistor controlled by a partial write control line is connected in series with a transistor controlled by a word line.

第7図において、トランジスタ35および36が部分書込
み線37によって制御され、ワード線によって制御される
トランジスタ1および2とそれぞれ直列に接続されてい
る。他の部分については第3図のCAMセルと同じであ
る。このような構成にすると、第6図のCAMセルの場合
と同様に複数のワードに対する同時部分書込みが可能に
なるが、次に説明するようにワード線と部分書込み制御
線のタイミングによってデータが破壊されるという問題
が生じる。
In FIG. 7, transistors 35 and 36 are controlled by a partial write line 37 and are connected in series with transistors 1 and 2, respectively, controlled by a word line. The other parts are the same as the CAM cell of FIG. With this configuration, simultaneous partial writing to a plurality of words is possible as in the case of the CAM cell in FIG. 6, but data is destroyed by the timing of the word line and the partial writing control line as described below. The problem arises.

第8図は、第7図のCAMセルの一部に着目した等価回
路であり、24は記憶ノード20の蓄積容量、25はノード22
の浮遊容量である。以下、第8図の等価回路と第9図の
タイミング図を用いてデータ破壊の問題について説明す
る。
FIG. 8 is an equivalent circuit focusing on a part of the CAM cell of FIG. 7, in which 24 is the storage capacitance of the storage node 20, and 25 is the node 22.
Stray capacitance. Hereinafter, the problem of data destruction will be described with reference to the equivalent circuit of FIG. 8 and the timing chart of FIG.

第9図において、ワード線8、部分書込み制御線37、
およびビット線6を「H」にしてトランジスタ1,35をオ
ン状態にした後、時刻t0においてワード線8を「L」に
してトランジスタ1をオフ状態にする。このとき、記憶
ノード20には「H」が書込まれ、その電位をVH0とす
る。次に、時刻t1においてビット線6が「L」になると
ノード22はトランジスタ35を介してディスチャージさ
れ、電位は0になる。時刻t2において部分書込み制御線
37が「L」になってトランジスタ35がオフ状態にした
後、時刻t3においてワード線8が「H」になると、トラ
ンジスタ1がオン状態になり、記憶ノード20に蓄積され
ている電荷の一部がノード22に転送され、蓄積ノード20
およびノード22の電位はVH1になる。いま、記憶ノード2
0の蓄積容量2をCs、ノード22の浮遊容量25をCfにする
と、 となる。
In FIG. 9, the word line 8, the partial write control line 37,
After the bit line 6 is set to "H" to turn on the transistors 1 and 35, the word line 8 is set to "L" at time t0 to turn off the transistor 1. At this time, "H" is written to the storage node 20, and the potential is set to VH0. Next, when the bit line 6 becomes "L" at time t1, the node 22 is discharged via the transistor 35, and the potential becomes zero. At time t2, the partial write control line
After the transistor 37 is turned off and the transistor 35 is turned off, when the word line 8 is turned on at time t3, the transistor 1 is turned on and a part of the charge stored in the storage node 20 is turned on. Is transferred to the node 22 and the storage node 20
And the potential of the node 22 becomes VH1. Now, storage node 2
If the storage capacitance 2 of 0 is Cs and the stray capacitance 25 of the node 22 is Cf, Becomes

以後、時刻t4,t5,…において部分書込み制御線37とワ
ード線8が交互に「H」となることを繰り返すと、上述
したような浮遊容量25によるチャージポンプ作用によっ
て記憶ノード20の電位が下がり、最終的にデータが破壊
される。
Thereafter, at times t4, t5,..., The partial write control line 37 and the word line 8 alternately change to “H”, and the potential of the storage node 20 decreases due to the charge pumping action of the stray capacitance 25 as described above. , Eventually destroying the data.

この発明は上記のような種々の問題点を解消するため
になされたもので、複数のワードに対する同時部分書込
みが可能で、しかも、構成素子数が少ない半導体記憶装
置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described various problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of simultaneously performing partial writing on a plurality of words and having a small number of constituent elements. .

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

この発明に係わる半導体記憶装置は、ビット線,ワー
ド線ならびにビット線と対をなし互いに相補関係にある
第1および第2の制御信号線に接続されたメモリセルを
含む半導体記憶装置であって、メモリセルは、情報を記
憶する記憶ノード,第1および第2のスイッチ手段を備
えたものであり、第1のスイッチ手段はビット線と記憶
ノードとの間に接続され、第2のスイッチ手段は第1の
スイッチ手段の制御端子とワード線との間に接続され、
これらは第1および第2の制御信号線により制御され、
第1の制御信号線が活性状態,第2の制御信号線が非活
性状態であれば、第2のスイッチ手段が導通状態になり
第1のスイッチ手段はワード線によって制御され、か
つ、第1の制御信号線が非活性状態,第2の制御信号線
が活性状態であれば、第1および第2のスイッチ手段は
ともに非導通となるように制御されるよう構成したもの
である。
A semiconductor memory device according to the present invention includes a memory cell connected to first and second control signal lines which are paired with a bit line, a word line and a bit line and which are complementary to each other. The memory cell includes a storage node for storing information, and first and second switch means. The first switch means is connected between the bit line and the storage node, and the second switch means Connected between the control terminal of the first switch means and the word line;
These are controlled by first and second control signal lines,
When the first control signal line is in an active state and the second control signal line is in an inactive state, the second switch is turned on, the first switch is controlled by the word line, and the first switch is controlled by the word line. When the second control signal line is inactive and the second control signal line is active, both the first and second switch means are controlled to be non-conductive.

〔作用〕[Action]

この発明に係わる半導体記憶装置においては、情報の
書込み時に、第1の制御信号線が活性状態で、第2の制
御信号線が非活性状態であれば、第2のスイッチ手段が
導通状態になる。そのため、第1のスイッチ手段はワー
ド線によって制御されて、ワード線が活性状態になれば
第1のスイッチ手段が導通状態になってビット線の情報
が記憶ノードに書込まれる。一方、情報の書込み時に、
第1の制御信号線が非活性状態で、第2の制御信号線が
活性状態であれば、第1および第2のスイッチ手段はと
もに非導通になり、ワード線およびビット線の状態に係
わらず記憶ノードへの書込みが禁止される。
In the semiconductor memory device according to the present invention, at the time of writing information, if the first control signal line is active and the second control signal line is inactive, the second switch means becomes conductive. . Therefore, the first switch is controlled by the word line, and when the word line is activated, the first switch is turned on and the information of the bit line is written to the storage node. On the other hand, when writing information,
If the first control signal line is in an inactive state and the second control signal line is in an active state, both the first and second switch means become non-conductive, regardless of the state of the word line and the bit line. Writing to the storage node is prohibited.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の実施例を図面を参照しながら説明す
る。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は、この発明の第1の実施例による半導体記憶
装置を示す回路図である。第1のCAMセルは、7個のn
チャネルMOSトランジスタ1〜5,50,51からなる。トラン
ジスタ1はビット線6と記憶ノード20との間に接続さ
れ、トランジスタ2は反転ビット線7と反転記憶ノード
21との間に接続されている。トランジスタ50はワード線
8とトランジスタ1および2のゲートとの間に接続さ
れ、その導通状態は部分書込み制御線37によって制御さ
れる。トランジスタ51は部分書込み制御線(第1の制御
信号線)37とトランジスタ1および2のゲートとの間に
接続され、その導通状態は反転部分書込み制御線(第2
の制御信号線)38によって制御される。他の部分につい
ては第3図のCAMセルと同じである。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. The first CAM cell contains seven n
It comprises channel MOS transistors 1 to 5, 50 and 51. Transistor 1 is connected between bit line 6 and storage node 20, and transistor 2 is inverted bit line 7 and inverted storage node.
Connected between 21 and. Transistor 50 is connected between word line 8 and the gates of transistors 1 and 2, the conduction of which is controlled by partial write control line 37. Transistor 51 is connected between partial write control line (first control signal line) 37 and the gates of transistors 1 and 2, and its conduction state is inverted partial write control line (second control signal line).
Control signal line) 38. The other parts are the same as the CAM cell of FIG.

次に、第1図のCAMセルの動作について説明する。 Next, the operation of the CAM cell of FIG. 1 will be described.

部分書込み制御線37が「H」、反転部分書込み制御線
38が「L」のとき、トランジスタ50はオン、トランジス
タ51はオフであり、トランジスタ1および2のゲートは
トランジスタ50を介してワード線8に接続されるので、
その動作は第3図のCAMセルと等価である。
Partial write control line 37 is "H", inverted partial write control line
When 38 is "L", transistor 50 is on and transistor 51 is off, and the gates of transistors 1 and 2 are connected to word line 8 via transistor 50.
The operation is equivalent to that of the CAM cell in FIG.

一方、部分書込み制御線37が「L」、反転部分書込み
制御線38が「H」のとき、トランジスタ50はオフ、トラ
ンジスタ51はオンであり、トランジスタ1および2のゲ
ートはトランジスタ51を介して部分書込み制御線37に接
続されるので「L」となり、ワード線8の状態に係わら
ずトランジスタ1および2はオフ状態となる。
On the other hand, when the partial write control line 37 is "L" and the inversion partial write control line 38 is "H", the transistor 50 is off and the transistor 51 is on, and the gates of the transistors 1 and 2 are partially connected via the transistor 51. Since it is connected to the write control line 37, it becomes "L", and the transistors 1 and 2 are turned off regardless of the state of the word line 8.

従って、部分書込み動作のときに書込みを禁止したい
ビットに対応する部分書込み制御線37を「L」、反転部
分書込み制御線38を「H」にし、その以外のときは、部
分書込み制御線37を「H」、反転部分書込み制御線38を
「L」にすれば、第3図のCAMセルと同等の機能に加え
て、少ない素子数で複数ワードに対する同時書込みが可
能になる。
Therefore, during the partial write operation, the partial write control line 37 corresponding to the bit whose writing is to be inhibited is set to “L”, the inverted partial write control line 38 is set to “H”, and in other cases, the partial write control line 37 is set to “H”. If the "H" and the inverted partial write control line 38 are set to "L", simultaneous writing to a plurality of words can be performed with a small number of elements in addition to the function equivalent to the CAM cell of FIG.

また、第2図は、この発明の第2の実施例による半導
体記憶装置の回路図である。本実施例では、トランジス
タ50のゲートを並列接続されたトランジスタ52,53を介
して部分書込み制御線37に接続し、トランジスタ52のゲ
ートを部分書込み制御線37に、トランジスタ53のゲート
を反転部分書込み制御線38に接続している。
FIG. 2 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. In the present embodiment, the gate of the transistor 50 is connected to the partial write control line 37 via the transistors 52 and 53 connected in parallel, the gate of the transistor 52 is connected to the partial write control line 37, and the gate of the transistor 53 is inverted partial write. Connected to control line 38.

第1図のCAMセルでは、記憶ノード20に「H」を書込
む場合、部分書込み制御線37,ワード線8およびビット
線6の「H」のレベルが電源電圧Vccに等しいとする
と、トランジスタ1,2のゲート電圧はVcc−Vth(Vthはト
ランジスタのしきい値電圧)になり、記憶ノード20には
Vcc−2Vthの電圧しか書込まれない。第2図のCAMセルで
は、部分書込み制御線37をVccにすると、ダイオード接
続されたトランジスタ52を介してトランジスタ50のゲー
ト(ノード60)はVcc−Vthに充電される。この後、ワー
ド線8をVccに昇圧すると、トランジスタ50のゲート容
量によるセルフブースト効果によってノード60はVcc以
上に昇圧され、トランジスタ1,2のゲート電圧はワード
線8の電圧に等しくなる。従って、記憶ノード20には第
3図のCAMセルと同様にVcc−Vthの電圧が書込まれる。
部分書込み制御線37を「L」、反転部分書込み制御線38
を「H」にすると、トランジスタ51,53がオンになり、
トランジスタ1,2,50のゲートを「L」にディスチャージ
する。
In the CAM cell of FIG. 1, when writing "H" to the storage node 20, assuming that the "H" levels of the partial write control line 37, the word line 8 and the bit line 6 are equal to the power supply voltage Vcc, the transistor 1 , 2 becomes Vcc−Vth (Vth is the threshold voltage of the transistor).
Only the voltage of Vcc-2Vth is written. In the CAM cell of FIG. 2, when the partial write control line 37 is set to Vcc, the gate (node 60) of the transistor 50 is charged to Vcc-Vth via the diode-connected transistor 52. Thereafter, when the word line 8 is boosted to Vcc, the node 60 is boosted to Vcc or more by a self-boost effect due to the gate capacitance of the transistor 50, and the gate voltages of the transistors 1 and 2 become equal to the voltage of the word line 8. Therefore, the voltage of Vcc-Vth is written to the storage node 20 as in the CAM cell of FIG.
The partial write control line 37 is set to “L”, and the inverted partial write control line 38
To “H”, the transistors 51 and 53 are turned on,
The gates of the transistors 1, 2, 50 are discharged to "L".

従って、本実施例では、上記第1の実施例と同様に少
ない素子数で複数ワードに対する同時書込みが可能とな
るとともに、さらにこれに加えて記憶ノード20にVcc−V
thの電圧を書込むことができる。
Therefore, in this embodiment, simultaneous writing to a plurality of words can be performed with a small number of elements in the same manner as in the first embodiment, and in addition, Vcc-V
th voltage can be written.

なお、上記の第1および第2の実施例におけるスイッ
チ素子はすべてnチャネルMOSトランジスタにより構成
されているが、他のスイッチ素子を用いてもよく、この
場合においても同様の機能を有するCAMセルを構成する
ことができる。
Although the switch elements in the first and second embodiments are all constituted by n-channel MOS transistors, other switch elements may be used. In this case, a CAM cell having the same function is used. Can be configured.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のようにこの発明によれば、情報を記憶する記憶
ノード,記憶ノードとビット線との間に接続された第1
のスイッチ手段,第1のスイッチ手段の制御端子とワー
ド線との間に接続された第2のスイッチ手段,ビット線
と対をなし互いに相補関係にある第1および第2の制御
信号線とを含むようにメモリセルを構成し、第1の制御
信号線が活性状態,第2の制御信号線が非活性状態のと
き、第2のスイッチ手段を導通状態として第1のスイッ
チ手段をワード線の状態によって制御し、一方、第1の
制御信号線が非活性状態,第2の制御信号線が活性状態
のとき、第1および第2のスイッチ手段を非導通状態と
するようにしたので、部分書込み動作のときに書込みを
禁止したいビットに対応する第1の制御信号線を非活性
状態,第2の制御信号線を活性状態にし、その以外のと
きは、第1の制御信号線を活性状態,第2の制御信号線
を非活性状態とすることにより、複数のワードに対する
同時部分書込み機能を有するCAMセルを少ない素子数で
構成できる効果がある。
As described above, according to the present invention, the storage node for storing information, and the first node connected between the storage node and the bit line.
Switch means, second switch means connected between the control terminal of the first switch means and the word line, and first and second control signal lines which form a pair with the bit line and are complementary to each other. When the first control signal line is in an active state and the second control signal line is in an inactive state, the second switch means is turned on and the first switch means is connected to the word line. The first and second switch means are turned off when the first control signal line is inactive and the second control signal line is in active state. In a write operation, the first control signal line corresponding to the bit whose writing is to be inhibited is inactivated, the second control signal line is activated, and otherwise, the first control signal line is activated. , Deactivate the second control signal line It leads to an effect that can be configured with a small number of elements the CAM cell with simultaneous partial write function for a plurality of words.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図はこの発明の第1の実施例による半導体記憶装置
の構成を示す回路図、第2図はこの発明の第2の実施例
による半導体記憶装置の構成を示すを示す回路図、第3
図は従来のCAMセルを示す回路図、第4図は4個のCAMセ
ルからなるワードを示す図、第5図は4個のワードから
なるアレイを示す図、第6図ないし第8図は複数ワード
に対して同時部分書込み可能な従来技術によるCAMセル
を示す回路図、第9図は従来のCAMセルの動作を説明す
るタイミング図である。 図において、1〜5,32〜36,50〜53はnチャネルMOSトラ
ンジスタ、6はビット線、7は反転ビット線、8はワー
ド線、10は一致線、20は記憶ノード、21は反転記憶ノー
ド、37は部分書込み制御信号線(第1の制御信号線)、
38は反転部分書込み制御信号線(第2の制御信号線)を
示す。 なお図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a circuit diagram showing a conventional CAM cell, FIG. 4 is a diagram showing a word composed of four CAM cells, FIG. 5 is a diagram showing an array composed of four words, and FIGS. FIG. 9 is a circuit diagram showing a CAM cell according to the prior art that can simultaneously and partially write to a plurality of words. FIG. 9 is a timing chart for explaining the operation of the conventional CAM cell. In the figure, 1 to 5, 32 to 36, and 50 to 53 are n-channel MOS transistors, 6 is a bit line, 7 is an inverted bit line, 8 is a word line, 10 is a match line, 20 is a storage node, and 21 is inverted storage. A node 37 is a partial write control signal line (first control signal line);
Reference numeral 38 denotes an inverted partial write control signal line (second control signal line). In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】情報を記憶する記憶ノードと、 該記憶ノードとビット線との間に接続された第1のスイ
ッチ手段と、 該第1のスイッチ手段の制御端子とワード線との間に接
続された第2のスイッチ手段と、 前記ビット線と対をなし、互いに相補関係にある第1お
よび第2の制御信号線とを備え、 前記第1の制御信号線が活性状態,前記第2の制御信号
線が非活性状態の時、前記第2のスイッチ手段が導通状
態となり、前記第1のスイッチ手段は前記ワード線の状
態によって制御され、 かつ、前記第1の制御信号線が非活性状態,前記第2の
制御信号線が活性状態の時は、前記第1および第2のス
イッチ手段とも非導通状態のなるよう構成されたメモリ
セルを含むことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A storage node for storing information, a first switch connected between the storage node and a bit line, and a connection between a control terminal of the first switch and a word line. A second switch means, and first and second control signal lines paired with the bit line and complementary to each other, wherein the first control signal line is in an active state and the second When the control signal line is in an inactive state, the second switch means is conductive, the first switch means is controlled by the state of the word line, and the first control signal line is in an inactive state A semiconductor memory device including a memory cell configured such that when the second control signal line is in an active state, both the first and second switch means are in a non-conductive state.
JP2201764A 1990-07-30 1990-07-30 Semiconductor storage device Expired - Fee Related JP3048608B2 (en)

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