JP2985584B2 - Bend mounting type TAB film carrier and method of manufacturing the same - Google Patents

Bend mounting type TAB film carrier and method of manufacturing the same

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、TAB(Tape Automat
ed Bonding)技術による素子実装に適用して好適なフィ
ルムキャリア、特に折曲実装用フィルムキャリアの構造
及びその製造方法に関する。
The present invention relates to a TAB (Tape Automat).
The present invention relates to a structure of a film carrier suitable for application to element mounting by an ed bonding technique, particularly to a structure of a film carrier for bending mounting and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】TAB技術は、回路パッケージの薄型化
や多ピン化、組立自動化などの要求に対応する優れた実
装方法であり、半導体集積回路装置などの生産現場にお
いて広く利用されている。TAB技術では、例えば図1
に示す構造のフィルムキャリアを使用する。同図におい
て、1は、例えばポリイミド製の可撓性絶縁フィルム材
をもって構成したベースフィルム1であり、スプロケッ
トホール2、デバイスホール3、アウターリードホール
4等、素子の実装に必要とする開口が穿孔されている。
インナーリード6、アウターリード7等の導電リード群
は、詳細図示せざるも、接着剤層8を介して金属箔(通
常は電解銅箔)をベースフィルム1の必要な表面に貼り
付けた後、パターンエッチングを施すことによって形成
する。各導電リードの表面には、ボンディング作業を容
易かつ確実にするため、必要な箇所に金、錫又は半田め
っきを施すのが普通である。
2. Description of the Related Art The TAB technique is an excellent mounting method that meets the demands for thinning, multi-pin, and automated assembly of circuit packages, and is widely used in production sites of semiconductor integrated circuit devices and the like. In TAB technology, for example, FIG.
A film carrier having the structure shown in FIG. In the figure, reference numeral 1 denotes a base film 1 made of, for example, a flexible insulating film material made of polyimide. Openings required for mounting elements, such as sprocket holes 2, device holes 3, and outer lead holes 4, are perforated. Have been.
The conductive leads such as the inner leads 6 and the outer leads 7 are not shown in detail, but after a metal foil (usually an electrolytic copper foil) is attached to the required surface of the base film 1 via an adhesive layer 8, It is formed by performing pattern etching. The surface of each conductive lead is usually plated with gold, tin, or solder at a necessary portion to make the bonding operation easy and reliable.

【0003】図1のフィルムキャリアは、液晶駆動用半
導体集積回路素子の実装用として設計されたものであっ
て、ベースフィルム1の上半分に出力信号用アウターリ
ード7aが、下半分に入力信号用アウターリード7bが
夫々形成されている。詳細図示せざるも、被実装回路素
子は、デバイスホール3内においてインナーリード6に
ボンディングする。また、被実装回路素子を搭載したフ
ィルムキャリアは、出力信号用アウターリード7aを液
晶回路基板周縁部の電極端子群に対向させ、例えば異方
性導電接着剤を用いて同電極端子に接続することによっ
て実装する。入力信号用アウターリード7bは、例えば
半田付けの手法により、所定の入力回路基板の電極端子
群と接続する。
The film carrier shown in FIG. 1 is designed for mounting a semiconductor integrated circuit element for driving a liquid crystal. The output signal outer leads 7a are provided on the upper half of the base film 1, and the input signals are provided on the lower half. Outer leads 7b are respectively formed. Although not shown in detail, the mounted circuit element is bonded to the inner lead 6 in the device hole 3. In the film carrier on which the mounted circuit element is mounted, the output signal outer lead 7a faces the electrode terminal group on the periphery of the liquid crystal circuit board, and is connected to the electrode terminal using, for example, an anisotropic conductive adhesive. Implement by The input signal outer leads 7b are connected to electrode groups on a predetermined input circuit board by, for example, a soldering technique.

【0004】近年、液晶駆動用半導体集積回路素子の実
装は、装置の小型化、高密度化に伴い、実装体積を更に
縮小するため、例えば図4に示す如く、フィルムキャリ
アを液晶回路基板10の端部で直角に折り曲げて取り付
ける方法(折曲実装)が主流になりつつある。図4にお
いて、9は、フィルムキャリアに搭載した被実装回路素
子、11は、フィルムキャリアを液晶回路基板10に接
続するための異方性導電接着剤層を夫々示す。
In recent years, the mounting of a semiconductor integrated circuit element for driving a liquid crystal has been required to further reduce the mounting volume with the miniaturization and high density of the device. For example, as shown in FIG. The method of bending and mounting at a right angle at the end (bending mounting) is becoming mainstream. 4, reference numeral 9 denotes a mounted circuit element mounted on a film carrier, and reference numeral 11 denotes an anisotropic conductive adhesive layer for connecting the film carrier to the liquid crystal circuit board 10.

【0005】折曲実装型フィルムキャリアでは、極小半
径での出力信号用アウターリード7aの折り曲げを可能
とするため、図1及び図2に示す如く、ベースフィルム
1に対する銅箔の貼り合わせに先立ち、同フィルムの一
部(折曲予定部)を接着剤層8と共に穿孔して除去する
ことにより、所定幅の折曲実装用スリット5を設けるの
が普通であるが、このようなスリットを形成した場合
は、アウターリード7aの補強部材として機能するもの
が存在しなくなるため、実装時の機械的応力や熱サイク
ルによる応力が折曲実装用スリット5の部分のアウター
リード7aに集中して亀裂や破断の原因となる。このた
め、例えば特開平4−91450号公報に記載されてい
るように、折曲予定部のベースフィルムを加工して薄く
残しておくことによってアウターリードに対する応力集
中を防止する方法が提案されているが、この方法は、ベ
ースフィルムの加工にケミカルエッチングを使用しなけ
ればならないため、製造原価が大幅に上昇するという点
で別の問題がある。
In the bent mounting type film carrier, in order to enable the output signal outer leads 7a to be bent at a very small radius, as shown in FIGS. 1 and 2, prior to the bonding of the copper foil to the base film 1, It is usual to provide a slit 5 for bending mounting of a predetermined width by piercing and removing a part (scheduled portion to be bent) of the film together with the adhesive layer 8, but such a slit is formed. In this case, since there is no longer a member functioning as a reinforcing member for the outer lead 7a, mechanical stress during mounting and stress due to thermal cycling concentrate on the outer lead 7a in the bent mounting slit 5 and cracks or breaks. Cause. For this reason, as described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-91450, there has been proposed a method of preventing stress concentration on outer leads by processing a base film at a portion to be bent and leaving the base film thin. However, this method has another problem in that the production cost is significantly increased because chemical etching must be used for processing the base film.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、アウ
ターリード等の導電リードの耐折曲特性を改善した新規
構造の折曲実装用TAB用フィルムキャリアを提案する
こと及びそのようなフィルムキャリアを製造するための
方法を提案することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a novel structure of a TAB film carrier for bending mounting which has improved bending resistance of conductive leads such as outer leads, and such a film carrier. It is to propose a method for manufacturing a.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明にあっては、折曲実装用スリットを予め形成
してあるベースフィルムを使用し、同スリットを橋絡す
る形でベースフィルム表面に接着剤層を形成した後、当
該接着剤層付きベースフィルムを穿孔することによって
デバイスホール、アウターリードホール等、素子実装に
必要とするその他の開口を形成し、その後、従来と同
様、ベースフィルム表面に形成した接着剤層を介して金
属箔を貼り付け、当該金属箔に所定のパターンエッチン
グ処理を施すことにより、インナーリード、アウターリ
ード等の導電リード群を形成する。折曲実装用スリット
部分の接着剤層は、そのまま残しておき、当該スリット
を跨ぐ部分の導電リード群に対する裏打ち補強部材とし
て利用する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention uses a base film in which a slit for bending mounting is formed in advance, and bridges the slit with the base film. After forming an adhesive layer on the surface, by punching the base film with the adhesive layer, other openings required for element mounting, such as device holes and outer lead holes, are formed. A metal foil is attached via an adhesive layer formed on the film surface, and a predetermined pattern etching process is performed on the metal foil to form a group of conductive leads such as inner leads and outer leads. The adhesive layer in the bent mounting slit portion is left as it is, and is used as a backing reinforcing member for the conductive lead group in a portion straddling the slit.

【0008】上記接着剤層は、この種のフィルムキャリ
アを製造するために一般的に用いられている接着剤、例
えばエポキシ系接着剤を用いて形成することが出来る。
しかし、本発明の場合は、金属箔(導電リード)をベー
スフィルムに密着させるための接着剤層を導電リードの
裏打ち補強部材として兼用するものであるから、当該接
着剤層は、破断伸び率が少なくとも50%以上である可
撓性の熱硬化膜膜を形成する接着剤をもって構成するこ
とが望ましい。本発明者等の試作実験の結果によれば、
ポリイミド系接着剤は、この目的に合致する極めて好ま
しい接着剤である。
The above-mentioned adhesive layer can be formed by using an adhesive generally used for producing this kind of film carrier, for example, an epoxy-based adhesive.
However, in the case of the present invention, since the adhesive layer for adhering the metal foil (conductive lead) to the base film is also used as a backing reinforcing member for the conductive lead, the adhesive layer has a breaking elongation rate. It is desirable to use an adhesive that forms a flexible thermosetting film that is at least 50% or more. According to the results of the prototype experiment of the present inventors,
Polyimide adhesives are highly preferred adhesives for this purpose.

【0009】[0009]

【実施例】厚さ75μmの東レ・デュポン社製ポリイミ
ドフィルム材(商品名:カプトンV)からなるベースフ
ィルムを用意し、当該フィルムにプレス加工を施すこと
により、スプロケットホール及び折曲実装用スリットを
先ず穿孔した。一方、ポリエステル樹脂からなる離型フ
ィルムを別に用意し、当該フィルム上に熱硬化性接着剤
の溶液を塗布して乾燥させた後、当該接着剤面を前記ベ
ースフィルム(折曲実装用スリット部分を含む)に当て
て熱ロールを掛けることにより、厚さ20μmの接着剤
層を中間に備えた二重構造のフィルムを形成した。
EXAMPLE A base film composed of a polyimide film material (trade name: Kapton V) manufactured by Toray Dupont and having a thickness of 75 μm was prepared, and the film was subjected to press working to form sprocket holes and slits for bending mounting. First, it was perforated. On the other hand, a release film made of a polyester resin is separately prepared, and a solution of a thermosetting adhesive is applied on the film and dried, and then the adhesive surface is attached to the base film (the slit portion for bending mounting is removed). ) To form a double-layered film having an adhesive layer having a thickness of 20 μm in the middle.

【0010】次に、このようにして形成した二重構造フ
ィルムに対してプレス加工を施すことにより、デバイス
ホール及びアウターリードホールを穿孔した後、離型フ
ィルムを剥離しながら、接着剤層の表面に厚さ35μm
の電解銅箔を貼り付け、更に全体を加熱して接着剤層を
硬化させることにより、電解銅箔をベースフィルム上に
完全に接着させた。最後に、電解銅箔に対してパターン
エッチング加工を施すことにより、図1に示した外観構
造の折曲実装型TAB用フィルムキャリアを得た。この
フィルムキャリアは、インナーリード6やアウターリー
ド7が接着剤層8を介してベースフィルム1上に設けら
れている点で従来のフィルムキャリアと同様であるが、
図3に示す如く、折曲実装用スリット5を跨ぐ部分の出
力信号用アウターリード7aが同スリットを橋絡する接
着剤層8によって裏打ち補強されている点で従来のフィ
ルムキャリアと相違する。なお、折曲用スリット5を跨
ぐ部分における出力信号用アウターリード7aの幅及び
ピッチは、それぞれ100μm及び200μmとした。
[0010] Next, by pressing the double-structured film thus formed, the device hole and the outer lead hole are pierced, and the surface of the adhesive layer is peeled off while releasing the release film. 35 μm thick
The electrolytic copper foil was completely adhered on the base film by sticking the electrolytic copper foil and heating the whole to cure the adhesive layer. Finally, the electrolytic copper foil was subjected to a pattern etching process to obtain a folded mounting type TAB film carrier having the appearance structure shown in FIG. This film carrier is similar to the conventional film carrier in that the inner leads 6 and the outer leads 7 are provided on the base film 1 via the adhesive layer 8,
As shown in FIG. 3, it differs from the conventional film carrier in that the output signal outer lead 7a at the portion straddling the bent mounting slit 5 is reinforced with an adhesive layer 8 bridging the slit. The width and the pitch of the output signal outer lead 7a at the portion straddling the bending slit 5 were set to 100 μm and 200 μm, respectively.

【0011】本発明者等は、接着剤層8を形成するため
の熱硬化性接着剤としてエポキシ系接着剤及びポリイミ
ド系接着剤を使用し、前記方法を用いて製造した2種類
の折曲実装型フィルムキャリアについて折り曲げ試験を
行なった。なお、性能比較のため、図2に示した従来構
造の折曲実装型フィルムキャリアを別に製造し、同様の
折り曲げ試験を行なった。折り曲げ試験は、図5に示す
ように、フィルムキャリアを一対のクランプ支持具12
(角部の曲率半径:0.5mm)によって挾持し、アウ
ターリード7a側及びベースフィルム1側に交互に90
°往復して折り曲げ、1往復の折曲を1回としてアウタ
ーリード7aの破断に至るまでの回数を調べた。試験結
果を表1に示す。
The present inventors have used two types of bent mountings manufactured by using the above-mentioned method by using an epoxy-based adhesive and a polyimide-based adhesive as a thermosetting adhesive for forming the adhesive layer 8. A bending test was performed on the mold film carrier. For performance comparison, a folded mounting type film carrier having the conventional structure shown in FIG. 2 was separately manufactured and subjected to the same bending test. In the bending test, as shown in FIG.
(Curvature radius of the corner: 0.5 mm), and alternately 90 degrees on the outer lead 7a side and the base film 1 side.
The number of times until the outer lead 7a was broken was examined with one reciprocal bending and one reciprocal bending. Table 1 shows the test results.

【0012】[0012]

【表1】 [Table 1]

【0013】表1から明らかなように、折曲実装用スリ
ット部分の接着剤層を裏打ち補強部材として残した本発
明のフィルムキャリアは、同スリット部分に接着剤層が
ない従来構造のフィルムキャリアに比較して耐折曲特性
が格段に向上した。特にポリイミド系接着剤を用いて接
着剤層を形成した試料2は、接着剤層自体の破断も発生
せず、極めて良好な耐折曲特性を有することが判明し
た。
As is clear from Table 1, the film carrier of the present invention in which the adhesive layer at the slit portion for bending mounting is left as a backing reinforcing member is a film carrier having a conventional structure without an adhesive layer at the slit portion. The bending resistance was significantly improved in comparison. In particular, it was found that Sample 2 in which the adhesive layer was formed using a polyimide-based adhesive did not break the adhesive layer itself, and had extremely good bending resistance.

【0014】[0014]

【発明の効果】本発明によれば、極めて簡単な構造又は
製造方法により、折曲実装型TAB用フィルムキャリア
の耐折曲特性を格段に改善することが出来る。
According to the present invention, the bending resistance of the folded mounting type TAB film carrier can be remarkably improved by a very simple structure or manufacturing method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】折曲実装型TAB用テープキャリアの一般的な
外観構造を示す平面図。
FIG. 1 is a plan view showing a general external structure of a bent mounting type TAB tape carrier.

【図2】従来の折曲実装型TAB用テープキャリアの構
造を説明するための断面図(但し、a図は図1のA−A
線に沿って示した断面図、b図は図1のB−B線に沿っ
て示した断面図)。
FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the structure of a conventional bent mounting type TAB tape carrier (however, FIG. 2A is AA of FIG. 1).
(B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 1).

【図3】本発明に係る折曲実装型TAB用テープキャリ
アの一実施例を説明するための断面図(但し、a図は図
1のA−A線に沿って示した断面図、b図は図1のB−
B線に沿って示した断面図)。
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining an embodiment of the bent mounting type TAB tape carrier according to the present invention (however, FIG. 3A is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 1; FIG. Is B- in FIG.
Sectional view shown along line B).

【図4】折曲実装型TAB用テープキャリアの実装態様
を説明するための断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining a mounting mode of the bent mounting type TAB tape carrier.

【図5】本発明者等が実施した折り曲げ試験を説明する
ための断面図。
FIG. 5 is a sectional view for explaining a bending test performed by the present inventors.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ベースフィルム、 2…スプロケットホール、 3…デバイスホール、 4…アウターリードホール、 5…折曲実装用スリット、 6…インナーリード、 7…アウターリード、 8…接着剤層、 9…被実装回路素子、 10…液晶回路基板、 11…導電性接着剤層、 12…クランプ支持具。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base film, 2 ... Sprocket hole, 3 ... Device hole, 4 ... Outer lead hole, 5 ... Bending mounting slit, 6 ... Inner lead, 7 ... Outer lead, 8 ... Adhesive layer, 9 ... Circuit to be mounted Element: 10: liquid crystal circuit board, 11: conductive adhesive layer, 12: clamp support

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/60 311 Continuation of front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 21/60 311

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】スプロケットホールを有する可撓性絶縁フ
ィルムにデバイスホール、アウターリードホール等の素
子実装に必要とする開口を配設したベースフィルムと、
当該ベースフィルムの必要な表面を覆って形成した接着
剤層と、当該接着剤層を介してベースフィルムに貼り付
けた金属箔にパターンエッチング処理を施すことによっ
て形成したインナーリード、アウターリード等の導電リ
ード群とからなり、かつ、導電リード群の折曲による実
装を可能にするためのスリット(以下「折曲実装用スリ
ット」という)を特定の一連の導電リード群を横切って
ベースフィルムに設けたTAB用フィルムキャリアにお
いて、前記接着剤層が折曲実装用スリットを橋絡する形
でベースフィルム上に形成され、かつ、当該スリットを
跨ぐ部分の導電リード群が同スリットを橋絡する接着剤
層によって裏打ち補強されていることを特徴とする折曲
実装型TAB用フィルムキャリア。
1. A base film in which openings required for mounting elements such as device holes and outer lead holes are provided in a flexible insulating film having sprocket holes.
An adhesive layer formed to cover the required surface of the base film, and a conductive material such as an inner lead and an outer lead formed by performing pattern etching on a metal foil attached to the base film via the adhesive layer. The base film is provided with a slit (hereinafter, referred to as a "bending mounting slit") that is formed of a lead group and that enables the conductive lead group to be mounted by bending (hereinafter, referred to as "bending mounting slit"). In the TAB film carrier, the adhesive layer is formed on the base film in such a manner as to bridge the slit for bending mounting, and a conductive lead group in a portion straddling the slit bridges the slit. A foldable mounting type TAB film carrier characterized by being reinforced by backing.
【請求項2】前記接着剤層は、破断伸び率が少なくとも
50%以上である可撓性の熱硬化膜を構成する接着剤を
もって構成されていることを特徴とする請求項1に記載
の折曲実装型TAB用フィルムキャリア。
2. The fold according to claim 1, wherein the adhesive layer is made of an adhesive constituting a flexible thermosetting film having a breaking elongation of at least 50% or more. Curved mounting type TAB film carrier.
【請求項3】前記接着剤としてポリイミド系接着剤を用
いたことを特徴とする請求項2に記載の折曲実装型TA
B用フィルムキャリア。
3. The folded mounting type TA according to claim 2, wherein a polyimide adhesive is used as the adhesive.
Film carrier for B.
【請求項4】スプロケットホールを有する可撓性絶縁フ
ィルムからなるベースフィルムに折曲実装用スリットを
形成し、当該スリットを橋絡する形でベースフィルム上
に接着剤層を形成した後、当該接着剤層付きベースフィ
ルムにデバイスホール、アウターリードホール等の素子
実装に必要とするその他の開口を配設し、その後、前記
接着剤層を介してベースフィルム上に金属箔を貼り合わ
せ、当該金属箔にパターンエッチング処理を施すことに
よってインナーリード、アウターリード等の導電リード
群を形成することを特徴とする折曲実装型TAB用フィ
ルムキャリアの製造方法。
4. A bent film mounting slit is formed in a base film made of a flexible insulating film having sprocket holes, and an adhesive layer is formed on the base film in such a manner as to bridge the slit. In the base film with the agent layer, other openings required for element mounting such as device holes and outer lead holes are provided, and then, a metal foil is attached to the base film via the adhesive layer, Forming a conductive lead group such as an inner lead and an outer lead by performing a pattern etching process on the TAB film carrier.
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