JP2921092B2 - Waterless lithographic plate processing solution - Google Patents

Waterless lithographic plate processing solution

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JP2921092B2
JP2921092B2 JP28467490A JP28467490A JP2921092B2 JP 2921092 B2 JP2921092 B2 JP 2921092B2 JP 28467490 A JP28467490 A JP 28467490A JP 28467490 A JP28467490 A JP 28467490A JP 2921092 B2 JP2921092 B2 JP 2921092B2
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は水なし平版製版用処理液に関するものであ
り、更に詳しくは処理効果に優れ、かつ使用寿命の長い
水なし平版用処理液に関するものである。
Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a processing solution for lithographic plate making without water, and more particularly, to a processing solution for waterless lithographic plate having an excellent processing effect and a long service life. It is.

[従来の技術] 感光層、シリコーンゴム層からなる水なし平版印刷版
としては、種々のものが知られている。なかでも、支持
体上にキノンジアジド構造を含む物質を構成成分とする
感光層およびシリコーンゴム層をこの順に設けてなる画
像形成用積層体をアミン処理することによって、ネガ、
ポジ両性タイプの水なし平版印刷版を得る方法は、特開
昭59−17552に開示されているように、水なし平版印刷
版の画像再現性、耐溶剤性、現像性などを含めた現像ラ
チチュードを広げ、かつネガ型とポジ型の版が同一の版
材からできること等の優れた特徴を有している。これら
の特許に記載されている塩基処理方法はアミンを単独あ
るいは混合して、気相あるいは液状で用い、液状の場合
には水または公知の有機溶剤を溶媒として用いるもので
ある。
[Prior Art] Various waterless lithographic printing plates comprising a photosensitive layer and a silicone rubber layer are known. Above all, by subjecting an image forming laminate having a photosensitive layer and a silicone rubber layer having a quinonediazide structure as constituents on a support in this order to an amine treatment, a negative,
As disclosed in JP-A-59-17552, a method for obtaining a water-free lithographic printing plate of a positive amphoteric type is a development latitude including image reproducibility, solvent resistance, developability and the like of a waterless lithographic printing plate. And that the negative and positive plates can be made from the same plate material. The base treatment methods described in these patents use amines alone or as a mixture and are used in a gas phase or in a liquid state. In the case of a liquid state, water or a known organic solvent is used as a solvent.

このように従来技術による水なし平版用処理液におい
ては、特にアミンが用いられてきたが、アミンはその揮
発性および空気中の二酸化炭素との炭酸塩形成に起因す
ると考えられるアミン濃度の低下ないし処理効果の低下
という問題があり、これらの欠点がなく、しかも処理効
果の優れた他の処理液の開発が望まれていた。
As described above, amines have been particularly used in the waterless lithographic processing solution according to the prior art, but the amine does not reduce the amine concentration which is considered to be caused by its volatility and carbonate formation with carbon dioxide in the air. There is a problem that the treatment effect is reduced, and there has been a demand for the development of another treatment solution which does not have these disadvantages and is excellent in treatment effect.

[発明が解決しようとする課題] 本発明者らは、かかる従来技術の問題点を改良すべく
鋭意検討した結果、1,3−ジアルキル−2−イミダゾリ
ドンを含有する処理液を用いた場合には、前述のごとき
アミンを使用した場合と同等レベル以上の処理効果を有
しながら、上記問題点が良好に解決できることを見出
し、本発明に到達したものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present inventors have conducted intensive studies in order to improve the problems of the related art, and as a result, when a processing solution containing 1,3-dialkyl-2-imidazolidone was used, The present inventors have found that the above problems can be satisfactorily solved while having a treatment effect at a level equal to or higher than the case where an amine is used as described above, and have reached the present invention.

したがって、本発明の目的は画像再現性、耐溶剤性お
よび現像性などの処理効果に優れ、かつ処理効果の低下
などのない処理液寿命の長い水なし平板製版用処理液を
提供することにある。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a processing liquid for flat plate making without water, which has excellent processing effects such as image reproducibility, solvent resistance and developability, and has a long processing liquid life without a reduction in processing effects. .

[課題を解決するための手段] すなわち、本発明は、支持体上にキノンジアジド構造
を含む物質を構成成分とする感光層およびシリコーンゴ
ム層をこの順に塗設してなる水なし平版製版用処理液に
おいて、該処理液が溶媒と下記一般式[I]で表わされ
る1,3−ジアルキル−2−イミダゾリドンとから主とし
てなることを特徴とする水なし平版製版用処理液であ
る。
[Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides a processing solution for waterless lithographic plate-making in which a photosensitive layer and a silicone rubber layer each having a quinonediazide structure-containing substance as constituents are coated on a support in this order. Wherein the treatment liquid is mainly composed of a solvent and 1,3-dialkyl-2-imidazolidone represented by the following general formula [I].

(ここでR1、R2は炭素数1〜10のアルキル基で同一であ
っても異なっていてもよい。R3、R4は水素原子または炭
素数1〜10のアルキル基であり、同一であっても異なっ
ていてもよい。) 本発明の処理液において使用される溶剤としては、
水、アルコール類(メタノール、エタノール、1−プロ
パノール、2−プロパノール、3−メトキシブチルアル
コール、2−メチルペンタノール−1、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、
ポリプロピレングリコールなど)、エステル類(酢酸エ
チル、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブ
アセテート、カルビトールアセテートなど)、エーテル
類(エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテルジエチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノブチルエーテル、ポリエチレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル
エーテル、フロピレングリコールモノエチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレン
グリコールモノメチルエーテルなど)、ケトン類(シク
ロヘキサノン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコ
ールなど)などが挙げられ、これらは単独または混合し
て使用される。また適当な乳化剤、界面活性剤でエマル
ジョンとしたものも使用できる。
(Where R 1 and R 2 may be the same or different and may be the same or different alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms. R 3 and R 4 may be a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and Or a different solvent.) Examples of the solvent used in the treatment liquid of the present invention include:
Water, alcohols (methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 3-methoxybutyl alcohol, 2-methylpentanol-1, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol,
Dipropylene glycol, tripropylene glycol,
Polypropylene, etc.), esters (ethyl acetate, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, carbitol acetate, etc.), ethers (ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether) , Triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether,
Examples thereof include dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol monomethyl ether, and ketones (cyclohexanone, acetonylacetone, diacetone alcohol, and the like), and these are used alone or in combination. Emulsions with appropriate emulsifiers and surfactants can also be used.

本発明において用いられる1,3−ジアルキル−2−イ
ミダゾリドンは、一般式(I)で表わされるものであ
る。
The 1,3-dialkyl-2-imidazolidone used in the present invention is represented by the general formula (I).

(ここでR1、R2は炭素数1〜10のアルキル基で同一であ
っても異なっていてもよい。R3、R4は水素原子または炭
素数1〜10のアルキル基であり、同一であっても異なっ
ていてもよい。) 上記一般式(I)で表わされる1,3−ジアルキル−2
−イミダゾリドンは、処理溶媒と相溶性が良く、かつ安
定性に優れ、しかも毒性の小さいものである。
(Where R 1 and R 2 may be the same or different and may be the same or different alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms. R 3 and R 4 may be a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and Or a different one.) 1,3-Dialkyl-2 represented by the above general formula (I)
-Imidazolidone has good compatibility with the processing solvent, excellent stability, and low toxicity.

本発明において使用可能な1,3−ジアルキル−2−イ
ミダゾリドンの具体例としては、例えば次のようなもの
が挙げられるが、これらに限定されない。
Specific examples of the 1,3-dialkyl-2-imidazolidone that can be used in the present invention include, for example, the following, but are not limited thereto.

1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン、1,3−ジエチル
−2−イミダゾリドン、1,3−ジプロピル−2−イミダ
ゾリドン、1,3−ジブチル−2−イミダゾリドン、1,3−
ジオクリル−2−イミダゾリドン、1,3,4−トリメチル
−2−イミダゾリトン、1,3−ジメチル−4−エチル−
2−イミダゾリドン、1,3,4,5−テトラメチル−2−イ
ミダゾリドン、1,3,4,5−テトラエチル−2−イミダゾ
リドン。
1,3-dimethyl-2-imidazolidone, 1,3-diethyl-2-imidazolidone, 1,3-dipropyl-2-imidazolidone, 1,3-dibutyl-2-imidazolidone, 1,3-
Diacryl-2-imidazolidone, 1,3,4-trimethyl-2-imidazoliton, 1,3-dimethyl-4-ethyl-
2-imidazolidone, 1,3,4,5-tetramethyl-2-imidazolidone, 1,3,4,5-tetraethyl-2-imidazolidone.

本発明の処理液は、上記した処理液用溶媒またはそれ
らの混合溶媒に、1,3−ジアルキル−2−イミダゾリド
ンの少なくとも一種を添加することにより調製できる。
The treatment liquid of the present invention can be prepared by adding at least one kind of 1,3-dialkyl-2-imidazolidone to the above-mentioned treatment liquid solvent or a mixed solvent thereof.

処理液中に配合される1,3−ジアルキル−2−イミダ
ゾリドンの量は、特に限定されないが、処理効果および
経済性の点から、処理液総量に対して0.1〜70重量%の
範囲で添加するのが好ましく、より好ましくは0.3〜45
重量%である。
The amount of 1,3-dialkyl-2-imidazolidone incorporated in the treatment liquid is not particularly limited, but is added in the range of 0.1 to 70% by weight based on the total amount of the treatment liquid from the viewpoint of treatment effect and economy. Preferably, more preferably 0.3 to 45
% By weight.

処理液として用いる場合、処理液中に、ぬれ性向上の
ために界面活性剤を添加することもできる。また処理液
でそのまま現像する場合は、検版性向上のため、例えば
ネプチュンブルーベース627(BASF社製)、アイゼンビ
クトリアブルーBH、アイゼンマリーンRNX(保土谷化学
(株)製)などの染料等を処理液中に加えることもでき
る。
When used as a treatment liquid, a surfactant may be added to the treatment liquid for improving wettability. When developing directly with a processing solution, dyes such as Neptune Blue Base 627 (manufactured by BASF), Aizen Victoria Blue BH, Aizen Marine RNX (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), etc. are used to improve plate inspection. Can be added to the processing solution.

また処理液中には脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプ
タン、ガソリン、灯油、“アイソパー”(エクソン化学
(株)製)など)を添加してもよい。
Further, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, gasoline, kerosene, "Isoper" (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.), etc.) may be added to the treatment liquid.

本発明で用いられる支持体は通常の水なし平版印刷版
で用いられるもの、あるいは提案されているものなら
ば、いずれでもよく、例えば、アルミ、鉄、亜鉛のよう
な金属板およびポリエステル、ポリオレフィン、ポリス
チレンのような透明または不透明なプラスチックフィル
ム、あるいは両者の複合体などが挙げられる。これらの
シート上にハレーション防止その他の目的でさらに樹脂
層などをコーティングして支持体とすることも可能であ
る。
The support used in the present invention may be any of those used in ordinary waterless lithographic printing plates, or any proposed ones, for example, aluminum, iron, metal plates such as zinc and polyester, polyolefin, Examples include a transparent or opaque plastic film such as polystyrene, or a composite of both. These sheets can be further coated with a resin layer or the like for the purpose of preventing halation or for other purposes, and used as a support.

本発明にいう感光層とは、公知のキノンジアジド構造
を含む物質から構成されているものであり、キノンジア
ジド構造を含む物質とは、通常ポジ型PS版、ワイポン
版、フオトレジストなどに用いられているキノンジアジ
ド類である。
The photosensitive layer according to the invention is composed of a material containing a known quinonediazide structure, and the material containing a quinonediazide structure is usually used for a positive PS plate, a wipe-on plate, a photoresist, and the like. Quinonediazides.

かかるキノンジアジド類としては、例えばベンゾキノ
ン−1,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とポ
リヒドロキシフェニルとのエステル、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とピロガロ
ールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−1,2−
ジアジド−4−または−5−スルホン酸とフェノールホ
ルムアルデヒドノボラック樹脂またはカシュ変性ノボラ
ック樹脂とのエステルが挙げられる。また低分量のキノ
ンジアジド化合物(例えば、ナフトキノン−1,2−ジア
ジド−5−スルホン酸と、フェノール、クレゾール、キ
シレノール、カテコール、ピロガロールおよびビスフェ
ノールAなどとのエステル化物など)または上記のキノ
ンジアジド基を含む樹脂に感光性基を含まないノボラッ
ク樹脂(例えば、フェノール、クレゾール、キシレノー
ル、カテコールおよびピロガロールなどのフェノール類
とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存在下に縮合させて
得られる可溶可融性樹脂など)を単に混合してもよい。
さらに特開昭56−80046号公報で提案されているような
キノンジアジド類を多官能化合物で架橋せしめた光剥離
性感光層が挙げられる。
Such quinonediazides include, for example, esters of benzoquinone-1,2-diazide-4- or -5-sulfonic acid with polyhydroxyphenyl, naphthoquinone-1,
Esters of 2-diazide-4- or -5-sulfonic acid with pyrogallol acetone resin, naphthoquinone-1,2-
Esters of diazide-4- or -5-sulfonic acid with phenol formaldehyde novolak resin or cash-modified novolak resin. In addition, a small amount of a quinonediazide compound (for example, an esterified product of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol, cresol, xylenol, catechol, pyrogallol, bisphenol A, or the like) or a resin containing the above quinonediazide group Novolak resin containing no photosensitive group (for example, a soluble fusible resin obtained by condensing phenols such as phenol, cresol, xylenol, catechol and pyrogallol with formaldehyde in the presence of an acidic catalyst). You may mix.
Further, a photo-peelable photosensitive layer in which quinonediazides are crosslinked with a polyfunctional compound as proposed in JP-A-56-80046 is exemplified.

架橋剤としては、多官能性イソシアナート類、例え
ば、パラフェニレンジイソシアナート、2,4−または2,6
−トリレンジイソシアナート、4,4′−ジフェニルメタ
ンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、イソホロンジイソシアナートもしくはこれらのアダ
クト体など、あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテルなどがある。これらの熱硬
化は感光性物質の感光性を失わせない範囲、通常130℃
以下で行なうことが好ましく、このため通常触媒等が併
用される。
As the crosslinking agent, polyfunctional isocyanates, for example, paraphenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6
-Tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate or an adduct thereof, or a polyfunctional epoxy compound, for example,
Examples include polyethylene glycol diglycidyl ethers, polypropylene glycol diglycidyl ethers, bisphenol A diglycidyl ether, and trimethylolpropane triglycidyl ether. These thermosettings do not lose the photosensitivity of the photosensitive material, usually 130 ° C
Preferably, the reaction is performed in the following manner. For this reason, a catalyst or the like is usually used in combination.

またキノンジアジド類に単官能化合物を反応させて変
性し、現像液に難溶もしくは不溶にする方法としては、
同様に該キノンジアジド類の活性な基を例えばエステル
化、アミド化、ウレタン化することなどが挙げられる。
キノンジアジド類の活性な基と反応させる化合物として
は、低分子であっても比較的高分子であってもよいし、
キノンジアジド類にモノマをグラフト重合させてもよ
い。
Also, as a method of reacting a quinonediazide with a monofunctional compound to denature it and make it hardly soluble or insoluble in a developer,
Similarly, active groups of the quinonediazides can be esterified, amidated, urethanized, and the like.
The compound to be reacted with an active group of quinonediazides may be a low molecular weight or a relatively high molecular weight,
Monomers may be graft-polymerized to quinonediazides.

本発明で用いられる感光層として特に好ましいもの
は、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸と
フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エス
テル化物を多官能もしくは単官能イソシアナートで架橋
もしくは変性して得られたものである。
Particularly preferred as the photosensitive layer used in the present invention is obtained by crosslinking or modifying a partially esterified product of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin with a polyfunctional or monofunctional isocyanate. It is a thing.

感光層の厚さは約0.1〜100μ、好ましくは約0.5〜10
μが適当である。薄すぎると塗工時にピンホール等の欠
陥が生じ易くなり、一方厚すぎると経済的見地から不利
である。また感光層中には本発明の効果を損わない範囲
で塗膜形成性の向上や支持体との接着性向上などの目的
で他の成分を加えたりすることは可能である。
The thickness of the photosensitive layer is about 0.1-100 μm, preferably about 0.5-10 μm.
μ is appropriate. If it is too thin, defects such as pinholes are likely to occur during coating, while if it is too thick, it is disadvantageous from an economic viewpoint. Further, other components can be added to the photosensitive layer for the purpose of improving the coating film forming property and the adhesiveness to the support as long as the effects of the present invention are not impaired.

本発明に用いられるシリコーンゴム層は、次のような
繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポ
リシロキサンを主成分とするものが好ましく使用され
る。
As the silicone rubber layer used in the present invention, a layer mainly composed of a linear organic polysiloxane having a molecular weight of several thousand to several hundred thousand having the following repeating units is preferably used.

ここでnは2以上の整数、R1、R2は炭素数1〜10のア
ルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基であり、
R1、R2の総和の60%以上がメチル基であるものが好まし
い。
Here, n is an integer of 2 or more, and R 1 and R 2 are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group or a phenyl group,
It is preferable that 60% or more of the total of R 1 and R 2 is a methyl group.

この線状有機ポリシロキサンは通常架橋剤が添加され
る。架橋剤としては、いわゆる室温(低温)硬化型のシ
リコーンゴムに使われるものとして、アセトキシシラ
ン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシ
ラン、アミドシランなどがあり、通常線状有機ポリシロ
キサンとして末端が水酸基であるものと組合せて、各々
脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これらのシリ
コーンゴムには、更に触媒として少量の有機スズ化合物
等を添加してもよい。
A crosslinking agent is usually added to the linear organic polysiloxane. As the cross-linking agent, there are acetoxy silane, ketoxime silane, alkoxy silane, amino silane, amido silane and the like used for so-called room temperature (low temperature) curable silicone rubber, and the terminal is usually a hydroxyl group as a linear organic polysiloxane. In combination with these, it becomes a deacetic acid type, a deoxime type, a dealcohol type, a deamine type, and a deamide type silicone rubber, respectively. A small amount of an organotin compound or the like may be further added to these silicone rubbers as a catalyst.

シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好ましく
は約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合は耐刷力の
点で問題を生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済
的に不利であるばかりでなく現像時シリコーンゴム層を
除去するのが困難となり、画像再現性の低下をもたら
す。
The thickness of the silicone rubber layer is suitably about 0.5-100 μm, preferably about 0.5-10 μm.If it is too thin, it may cause a problem in terms of printing durability, while if it is too thick, it is economically disadvantageous. In addition, it becomes difficult to remove the silicone rubber layer at the time of development, and the image reproducibility is lowered.

本発明に用いられる印刷版において、支持体と感光
層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像再現
性、耐刷力などの基本的な版性能にとり非常に重要であ
るので、必要に応じて各層間に接着剤層を設けたり、各
層に接着改良性成分を添加したりすることが可能であ
る。特に感光層とシリコーンゴム層間の接着力のため
に、層間に公知のシリコーンプライマやシランカップリ
ング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層
にシリコーンプライマやシランカップリング剤を添加す
ると効果的である。
In the printing plate used in the present invention, the adhesion between the support and the photosensitive layer, and between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, is very important for basic plate performance such as image reproducibility and printing durability, so it is not necessary. Accordingly, it is possible to provide an adhesive layer between each layer or to add an adhesion improving component to each layer. In particular, for the adhesive force between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, it is effective to provide a known silicone primer or silane coupling agent layer between the layers or to add a silicone primer or silane coupling agent to the silicone rubber layer or the photosensitive layer. is there.

以上説明したようにして構成された水なし平版印刷原
版の表面に薄い保護フィルムをラミネートすることもで
きる。
A thin protective film can be laminated on the surface of the waterless planographic printing plate precursor configured as described above.

本発明で用いられる水なし平版印刷用原版は、例えば
次のようにして製造される。まず支持体上に、リバース
ロールコータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータな
どの通常のコータ、あるいはホエラのような回転塗布装
置を用い、プライマー層を構成すべき組成物を塗布、乾
燥および必要に応じて熱硬化させてプライマ層とする。
該プライマ層上に、感光層を形成する感光層組成物を塗
布、乾燥および必要に応じて熱硬化させて感光層とす
る。該感光層上に、必要に応じて接着層を設けたのち、
シリコーンゴムの未硬化組成物を塗布し、通常50〜130
℃の温度で数分間熱処理して、十分に硬化せしめてシリ
コーンゴム層を形成する。必要ならば、保護フィルムを
該シリコーンゴム層上にラミレーター等を用いカバーす
る。
The waterless planographic printing plate precursor used in the present invention is manufactured, for example, as follows. First, on a support, using a normal coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, or a Meyer bar coater, or a spin coater such as a wooler, apply a composition to constitute a primer layer, and then dry and coat as necessary. Heat cured to form a primer layer.
On the primer layer, a photosensitive layer composition for forming a photosensitive layer is applied, dried and, if necessary, thermally cured to form a photosensitive layer. After providing an adhesive layer on the photosensitive layer if necessary,
Apply an uncured composition of silicone rubber, usually 50-130
Heat treatment for several minutes at a temperature of ° C. to cure sufficiently to form a silicone rubber layer. If necessary, a protective film is covered on the silicone rubber layer using a laminator or the like.

このようにして得られた水なし平版印刷原版にポジフ
イルムまたはポジ原画、あるいはネガフイルムまたはネ
ガ原画を用いて画像露光を与えて現像を行なうと水なし
平版印刷版が得られる。
The thus obtained waterless planographic printing original plate is subjected to image exposure using a positive film or positive original, or a negative film or negative original, and then developed to obtain a waterless planographic printing plate.

かかる水なし平版印刷原版の製版方法としては次のよ
うなものが挙げられる。例えば、ポジ型の水なし平版印
刷原版として用いる場合、真空密着されたポジフイルム
またはポジ原画を通して、活性光線で感光層中のキノン
ジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位の5〜60
モル%が光分解するように画像露光を与えて、溶媒と1,
3−ジアルキル−2−インダゾリドンを含む処理液で処
理すると同時に現像を行なうと、水なし平版印刷版が得
られる。
The plate making method of such a lithographic printing plate precursor without water includes the following. For example, when used as a positive type waterless lithographic printing original plate, through a vacuum-contacted positive film or positive original, 5 to 60 of quinonediazide units of a substance containing a quinonediazide structure in the photosensitive layer with actinic rays are used.
The image exposure was given so that mole% was photodegraded,
When processing is performed simultaneously with a processing solution containing 3-dialkyl-2-indazolidone and development is performed, a waterless planographic printing plate is obtained.

一方、ネガ型の水なし平版印刷原版として用いる場
合、真空密着されたネガフイルムまたはネガ原画を通し
て、活性光線で通常の画像露光(感光層中のキノンジア
ジド構造を含む物質のキノンジアジド単位の60モル%を
越える量が光分解するように画像露光)を与えてから、
溶媒と1,3−ジアルキル−2−インダゾリドンを含む処
理液で処理した後、現像するか、溶媒と1,3−ジアルキ
ル−2−イミダゾリドンを含む処理液で処理すると同時
に現像するか、あるいは現像した後に溶媒と1,3−ジア
ルキル−2−イミダゾリドンを含む処理液で処理すると
水なし平版印刷版が得られる。
On the other hand, when used as a negative type waterless lithographic printing original plate, through a negative film or negative original which is vacuum-contacted, normal image exposure with actinic rays (60 mol% of the quinone diazide unit of the substance containing a quinone diazide structure in the photosensitive layer is performed. Image exposure so that the excess amount is photolyzed)
After processing with a processing solution containing a solvent and 1,3-dialkyl-2-indazolidone, developing, or simultaneously developing with a processing solution containing a solvent and 1,3-dialkyl-2-imidazolidone, or developing Later, when treated with a processing solution containing a solvent and 1,3-dialkyl-2-imidazolidone, a waterless planographic printing plate is obtained.

この露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊富に発
生するものであり、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノ
ンランプ、メタルハライドランプ、螢光灯などを使うこ
とができる。さらに紫外線以外にもレーザー光等が用い
られる。
The light source used in this exposure step generates abundant ultraviolet rays, and a mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp and the like can be used. Further, a laser beam or the like is used in addition to ultraviolet rays.

本発明の処理液による処理方法としては、次のようは
方法が挙げられる。
Examples of the processing method using the processing liquid of the present invention include the following methods.

A.ネガ型 (1)全面露光→画像露光→溶媒と1,3−ジアルキル−
2−イミダゾリドンを含む処理液による処理→現像 (2)画像露光→全面露光→溶媒と1,3−ジアルキル−
2−イミダゾリドンを含む処理液による処理→現像 (3)全面露光→画像露光→現像と同時に溶媒と1,3−
ジアルキル−2−イミダゾリドンを含む処理液による処
理 (4)画像露光→全面露光→現像と同時に溶媒と1,3−
ジアルキル−2−イミダゾリドンを含む処理液による処
理 (5)全面露光→画像露光→現像→溶媒と1,3−ジアル
キル−2−イミダゾリドンを含む処理液による処理 (6)画像露光→全面露光→現像→溶媒と1,3−ジアル
キル−2−イミダゾリドンを含む処理液による処理 (7)画像露光→現像→全面露光→溶媒と1,3−ジアル
キル−2−イミダゾリドンを含む処理液による処理 (8)画像露光→現像→溶媒と1,3−ジアルキル−2−
イミダゾリドンを含む処理液による処理 (9)画像露光→溶媒と1,3−ジアルキル−2−イミダ
ゾリドンを含む処理液による処理→現像 (10)画像露光→現像と同時に溶媒と1,3−ジアルキル
−2−イミダゾリドンを含む処理液による処理 B.ポジ型 (1)画像露光→溶媒と1,3−ジアルキル−2−イミダ
ゾリドンを含む処理液による処理→現像 (2)画像露光→現像と同時に溶媒と1,3−ジアルキル
−2−イミダゾリドンを含む処理液による処理 処理方法としては、本発明の処理液で、例えばブラシ
やパッドを用いて均一に版面をぬらせばよい。
A. Negative type (1) Overall exposure → image exposure → solvent and 1,3-dialkyl-
Processing with a processing solution containing 2-imidazolidone → development (2) Image exposure → overall exposure → solvent and 1,3-dialkyl-
Processing with processing solution containing 2-imidazolidone → development (3) Overall exposure → image exposure → development and simultaneous use of solvent and 1,3-
Processing with a processing solution containing dialkyl-2-imidazolidone (4) Image exposure → overall exposure → solvent and 1,3-
Treatment with a treatment solution containing dialkyl-2-imidazolidone (5) Overall exposure → image exposure → development → treatment with a treatment solution containing a solvent and 1,3-dialkyl-2-imidazolidone (6) Image exposure → entire exposure → development → Processing with a processing solution containing a solvent and 1,3-dialkyl-2-imidazolidone (7) Image exposure → development → full exposure → Processing with a processing solution containing a solvent and 1,3-dialkyl-2-imidazolidone (8) Image exposure → Development → Solvent and 1,3-dialkyl-2-
Processing with a processing solution containing imidazolidone (9) Image exposure → processing with a solvent and 1,3-dialkyl-2-processing solution containing imidazolidone → development (10) Image exposure → solvent and 1,3-dialkyl-2 simultaneously with development -Processing with a processing solution containing imidazolidone B. Positive type (1) Image exposure → Processing with a solvent and processing solution containing 1,3-dialkyl-2-imidazolidone → Development (2) Image exposure → Simultaneous development with solvent and 1, As a treatment method using a treatment solution containing 3-dialkyl-2-imidazolidone, the plate surface may be uniformly wetted with the treatment solution of the present invention using, for example, a brush or a pad.

処理時間は特に限定されず、1,3−ジアルキル−2−
イミダゾリドン化合物の強さと濃度および処理液の温度
によって適宜選択できるが、通常処理液に触れると即時
に効果が現われ、かつ長時間接触させても何ら効果に変
化はない。通常10秒〜15分程度でよい。
The treatment time is not particularly limited, and 1,3-dialkyl-2-
It can be appropriately selected depending on the strength and concentration of the imidazolidone compound and the temperature of the processing solution. However, usually, the effect appears immediately upon contact with the processing solution, and there is no change in the effect even if the treatment is performed for a long time. Usually, it may be about 10 seconds to 15 minutes.

本発明において用いられる現像液としては、水なし平
版印刷版において通常提案されているものが使用でき
る。例えば、水、水に下記の極性溶剤を添加したものが
好適である。
As the developer used in the present invention, those which are usually proposed for a waterless planographic printing plate can be used. For example, water or a mixture of water and the following polar solvent is preferable.

アルコール(メタノール、エタノールなど) エーテル類(ジオキサン、エチルセロソルブ、メチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、
エチルカルビトール、ブチルカルビトールなど) エステル類(酢酸エチル、エチルセロソルブアセテー
ト、メチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテ
ートなど) また本発明の処理液でそのまま現像することも可能で
ある。
Alcohols (methanol, ethanol, etc.) ethers (dioxane, ethyl cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol,
(Ethyl carbitol, butyl carbitol, etc.) Esters (ethyl acetate, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, carbitol acetate, etc.) Alternatively, development can be carried out directly with the processing solution of the present invention.

[実施例] 以下に実施例によって本発明をさらに詳しく説明する
ガ、本発明はこれらに限定されない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1、2、比較例1 厚さ0.3mmのアルミ板(住友軽金属(株)製)に下記
のプライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱処理して
5μのプライマ層を設けた。
Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 The following primer composition was applied to a 0.3 mm-thick aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.) and heat-treated at 200 ° C. for 2 minutes to provide a 5 μm primer layer.

ポリウレタン樹脂(“サンプレン"LQ−T1331、三洋化
成工業(株)製) 100重量部 ブロックイソシアネート(“タケネート"B830、武田
薬品(株)製) 20重量部 エポキシ・フェノール・尿素樹脂(SJ9372、関西ペイ
ント(株)製) 8重量部 ジメチルホルムアミド 725重量部 続いてこの上に下記の感光層組成物をバーコータを用
いて塗布し、110℃の熱風中で1分間乾燥して厚さ2μ
の感光層を設けた。
Polyurethane resin (“SAMPLEN” LQ-T1331, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 100 parts by weight Blocked isocyanate (“Takenate” B830, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) 20 parts by weight Epoxy phenol urea resin (SJ9372, Kansai Paint) 8 parts by weight dimethylformamide 725 parts by weight Subsequently, the following photosensitive layer composition was applied using a bar coater, dried in hot air at 110 ° C. for 1 minute, and dried to a thickness of 2 μm.
Was provided.

ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフ
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレ
ズ製:“スリライトレジン"PR50622)の部分エステル
(元素分析法によるエステル化度25%) 100重量部 4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート 40重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン 5重量部 P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 次いでこの感光層の上に次の組成を有するシリコーン
ゴム組成物を回転塗布後、115℃、露点30℃、3.5分間湿
熱硬化させて2.3μのシリコーンゴム層を設けた。
100 parts by weight of partial ester of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin (manufactured by Sumitomo Durez: "Thrillite Resin" PR50622) (degree of esterification by elemental analysis 25%) 4,4 ' -Diphenylmethane diisocyanate 40 parts by weight Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight 4,4'-diethylaminobenzophenone 5 parts by weight P-toluenesulfonic acid 0.8 parts by weight Tetrahydrofuran 800 parts by weight Next, a silicone rubber composition having the following composition on the photosensitive layer After spin coating, the product was cured by wet heat at 115 ° C. and a dew point of 30 ° C. for 3.5 minutes to provide a 2.3 μm silicone rubber layer.

ポリジメチルシロキサン(数平均分子量約20,000、末
端OH基) 100重量部 ビニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン 8重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 γ−アミノプロピルトリメトキシシラン 0.5重量部 “アイソパー"E(エクソン化学(株)製) 1400重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μのポリ
プロピレンフィルム“トレファン”(東レ(株)製)を
カレンダーローラーを用いてラミネートし、水なし平版
印刷原版を得た。
Polydimethylsiloxane (number average molecular weight about 20,000, terminal OH group) 100 parts by weight Vinyl tris (methylethyl ketoxime) silane 8 parts by weight Dibutyltin diacetate 0.1 part by weight γ-aminopropyltrimethoxysilane 0.5 part by weight “ISOPAR” E (Exxon Chemical) 1400 parts by weight Laminated sheet obtained above was laminated with a 10μ thick polypropylene film “Trefane” (manufactured by Toray Industries, Inc.) using a calendar roller, and waterless lithographic printing. I got the original.

かかる印刷原版にメタルハライドランプ(岩崎電気
(株)製“アイドルフィン"2000)を用い、UVメーター
(オーク製作所製、ライトメジャータイプUV402A)で11
mw/cm2の照度で6秒間全面露光を施した。
A metal halide lamp ("Idol Fin" 2000, manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) was used for the printing plate, and a UV meter (Light Measure Type UV402A, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) was used.
The entire surface was exposed for 6 seconds at an illuminance of mw / cm 2 .

上記のようにして得られた印刷原版に150線/インチ
の網点画像を持つネガフィルムを真空密着し、上記のメ
タルハライドランプを用い、1mの距離から60秒間画像露
光した。
A negative film having a halftone dot image of 150 lines / inch was vacuum-contacted to the printing original plate obtained as described above, and image exposure was performed for 60 seconds from a distance of 1 m using the above-mentioned metal halide lamp.

次いで上記の露光済版の“トレファン”を剥離して、
表1に挙げた各種組成の処理液を満たした平型バット
に、25℃の液温条件で、1分間浸漬する。浸漬後ゴムス
キージで版面および裏面に付着した処理液を除去し、次
いで版面と現像パッドに現像液(水/ブチルカルビトー
ル/2−エチル酪酸/クリスタルバイオレット=70/30/20
/0.2(重量比)を注ぎ、現像パッドで版面を 軽くこすると、画像露光された部分のシリコーンゴム層
が除去され、感光層表面が露出した。一方、全面露光の
みがなされた部分はシリコーンゴム層が強固に残存して
おり、ネガフィルムを忠実に再現した画像が得られた。
この印刷版をオフセット印刷機に取り付け、東洋インキ
(株)製“東洋キングウルトラTKUアクワレスGアイPL"
を用いて印刷を行ない、網点再現性を評価した。表1に
網点再現性を示す。
Next, peel off the “Trefan” of the exposed plate,
Immerse in a flat vat filled with treatment liquids of various compositions listed in Table 1 at 25 ° C. for 1 minute. After immersion, the processing solution adhering to the plate surface and the back surface is removed with a rubber squeegee, and then a developing solution (water / butyl carbitol / 2-ethylbutyric acid / crystal violet = 70/30/20) is applied to the plate surface and the developing pad.
/0.2 (weight ratio) When lightly rubbed, the silicone rubber layer in the image-exposed portion was removed, exposing the surface of the photosensitive layer. On the other hand, in the portion where only the entire surface was exposed, the silicone rubber layer remained firmly, and an image faithfully reproducing the negative film was obtained.
This printing plate was attached to an offset printing press, and Toyo Ink Co., Ltd. “Toyo King Ultra TKU Aquares G Eye PL”
Was used for printing, and the dot reproducibility was evaluated. Table 1 shows the dot reproducibility.

表1から明らかのごとく、本発明に基く実施例1〜2
の場合、良好な網点再現性を示す。
As is clear from Table 1, Examples 1-2 based on the present invention
Shows good dot reproducibility.

一方、比較例1で用いた処理液では、網点再現性が著
しく悪く、処理不足のために印刷物の非画線部(白ベタ
部)に点状およびスリ傷状の欠点が発生した。
On the other hand, in the processing solution used in Comparative Example 1, the dot reproducibility was remarkably poor, and due to insufficient processing, defects such as spots and scratches occurred in the non-image area (solid white area) of the printed matter.

実施例3、比較例2 表2に挙げた処理液を水なし平版自動現像機(TWL−1
160東レ(株)製)の前処理槽に18リットル入れ、現像
槽には40リットルの水を入れた。前処理液温度45℃、現
像水温25℃、搬送スピード40cm/分に設定し、実施例1
で得られた水なし平版印刷原版に、実施例1と同様に全
面露光および画像露光を行い、露光済版の“トレファ
ン”を剥離し、自動現像機に通版して、現像を行った。
菊全版の通版が250枚目、500枚目および1000枚目にそれ
ぞれ処理液のサンプリングを行い、アミンおよび1,3−
ジアルキル−2−イミダゾリドンの濃度を判定し、また
網点再現性の評価も実施例1と同様な方法で行った。表
2にこの結果を示す。
Example 3, Comparative Example 2 The processing solutions listed in Table 2 were applied to a waterless lithographic automatic developing machine (TWL-1).
160 Toray Co., Ltd.) and 18 liters of water in the pretreatment tank and 40 liters of water in the developing tank. Example 1 The pretreatment liquid temperature was set to 45 ° C, the developing water temperature was set to 25 ° C, and the transport speed was set to 40 cm / min.
The waterless planographic printing plate precursor obtained in the above was subjected to overall exposure and image exposure in the same manner as in Example 1, the exposed plate "Trefane" was peeled off, and the plate was passed through an automatic developing machine to perform development. .
On the 250th, 500th, and 1000th sheets of the Kikuzen plate, the processing solution was sampled, and amine and 1,3-
The concentration of dialkyl-2-imidazolidone was determined, and the dot reproducibility was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

表2から明らかなように、本発明に基く実施例3の場
合、菊全版を1000枚通版しても網点再現性は低下せず、
しかも1,3−ジアルキル−2−イミダゾリドンの濃度変
化も少なく、処理液の長期使用が可能であることがわか
る。
As is evident from Table 2, in the case of Example 3 based on the present invention, the halftone dot reproducibility did not decrease even when 1,000 copies of the chrysanthemum plate were passed.
In addition, the change in the concentration of 1,3-dialkyl-2-imidazolidone was small, indicating that the treatment solution could be used for a long time.

一方、比較例2の場合には菊全版の250枚通版では良
好な網点再現性を示すが、500枚通版すると網点再現性
が低下する。また塩基成分であるモノエタノールアミン
の濃度が急激に低下するため塩基処理効果が著しく低下
したものと考えら れ、本発明の処理液を使用した場合と比較して1/3程度
しか使用できず、処理液の寿命が極めて短いものであっ
た。
On the other hand, in the case of Comparative Example 2, good halftone dot reproducibility is exhibited in the 250-sheet version of the chrysanthemum plate, but when 500 copies are passed, the dot reproducibility is reduced. Also, the concentration of monoethanolamine, which is a base component, suddenly decreased, and the base treatment effect was considered to have decreased significantly. As a result, only about 1/3 of the processing liquid of the present invention was used, and the life of the processing liquid was extremely short.

実施例4 化成処理アルミ板(住友軽金属(株)製)にエステル
化度44%のフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂
(住友デユレズ(株):“スミライトレジン"PR50235)
のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テル(エタノール可溶性成分9.7重量%、エステル化度
はIRスペクトルから定量)の3重量%ジオキサン溶液を
塗布後、60℃で3分間乾燥させて厚さ1.2μの感光層を
得た。この感光層の上に次の組成を有するシリコーンゴ
ム組成物の7%“アイソパー"E溶液に、シリコーン組成
物に対し4重量%のγ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン(UCC(株)製:A0800)を添加し、均一に撹拌後塗
布した。乾燥後120℃、露点25℃、4分間加熱硬化し厚
さ2,2μのシリコーンゴム層を得た。
Example 4 A phenol formaldehyde novolak resin having a degree of esterification of 44% was applied to a chemical conversion-treated aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.) (Sumitomo Duyres Ltd .: "Sumilite Resin" PR50235)
A 3% by weight dioxane solution of naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonic acid ester (9.7% by weight of an ethanol-soluble component, the degree of esterification is determined from an IR spectrum) was applied, and dried at 60 ° C. for 3 minutes to obtain a thick layer. A photosensitive layer having a thickness of 1.2 μm was obtained. On this photosensitive layer, a 7% "ISOPAR" E solution of a silicone rubber composition having the following composition was added to a 4% by weight of the silicone composition of γ-aminopropyltriethoxysilane (A0800, manufactured by UCC Corporation). Was added and uniformly applied after stirring. After drying, the mixture was cured by heating at 120 ° C. and a dew point of 25 ° C. for 4 minutes to obtain a silicone rubber layer having a thickness of 2.2 μm.

ポリジメチルシロキサン (分子量約80,000、両末端OH基) 100重量部 エチルトリアセトキシシラン 5重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 上記のようにして得られた水なし平版印刷原版を150
線/インチの2%から98%の網点を有するグランデーシ
ョンネガフィルムを常法にしたがって真空密着し、実施
例1で用いたメタルハライドランプで、1mの距離で実施
例1で用いたUVメーターで11mw/cm2の照度で60秒間画像
露光した。さらにグランデーションネガフィルムを除き
10秒間全面露光(感光層中のキノンジアジドの25モル%
が光分解してカルボン酸成分を生成する光量)を施し
た。
Polydimethylsiloxane (molecular weight about 80,000, both terminal OH groups) 100 parts by weight Ethyltriacetoxysilane 5 parts by weight Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight The waterless lithographic printing plate precursor obtained as described above is used for 150 parts.
A gradation negative film having 2 to 98% of dots per line / inch is vacuum adhered according to a conventional method, and the metal halide lamp used in Example 1 and the UV meter used in Example 1 at a distance of 1 m are used. Image exposure was performed at an illuminance of 11 mw / cm 2 for 60 seconds. Except for the negative film
Exposure for 10 seconds (25 mol% of quinonediazide in photosensitive layer
Was photodecomposed to generate a carboxylic acid component).

次いで、25℃の液温条件で実施例1の処理液に、1分
間浸漬する。浸漬後ゴムスキージで版面および裏面に付
着した処理液を除去し、エタノール/“アイソパー"E=
80/20(重量比)からなる現像液を含ませた現像パッド
で擦ると、5%から95%の網点を再現し、非画線部のシ
リコーンゴム層は全く損傷を受けず、1,3−ジアルキル
−2−イミダゾリドン処理による定着効果は十分であっ
た。
Next, it is immersed in the treatment liquid of Example 1 for 1 minute at a liquid temperature of 25 ° C. After immersion, remove the treatment liquid adhering to the plate surface and the back surface with a rubber squeegee.
When rubbed with a developing pad containing an 80/20 (weight ratio) developer, halftone dots of 5% to 95% were reproduced, and the silicone rubber layer in the non-image area was not damaged at all. The fixing effect by the 3-dialkyl-2-imidazolidone treatment was sufficient.

[発明の効果] 本発明の水なし平版製版用処理液は、上述のごとく1,
3−ジアルキル−2−イミダゾリドンを含有するもので
あるため、画像再現性、耐溶剤性および現像性など処理
効果が極めて優れているうえ、アミンのように処理液中
の有効成分が低下することがないので、処理液の寿命が
大幅に長くなり、処理液交換回数の減少、使用量の節減
など顕著な実用効果を要するものである。
[Effects of the Invention] As described above, the waterless lithographic plate-making treatment solution of the present invention comprises 1,
Since it contains 3-dialkyl-2-imidazolidone, the processing effects such as image reproducibility, solvent resistance and developability are extremely excellent, and the effective component in the processing solution such as amine may be reduced. Therefore, the service life of the processing solution is greatly prolonged, and a remarkable practical effect such as a reduction in the number of replacements of the processing solution and a reduction in the amount of use is required.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−155141(JP,A) 特開 昭62−179563(JP,A) 特開 昭58−66940(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03F 7/32,7/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-63-155141 (JP, A) JP-A-62-179563 (JP, A) JP-A-58-66940 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 6 , DB name) G03F 7 / 32,7 / 00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】支持体上にキノンジアジド構造を含む物質
を構成成分とする感光層およびシリコーンゴム層をこの
順に塗設してなる水なし平版製版用処理液において、該
処理液が溶媒と下記一般式[I]で表わされる1,3−ジ
アルキル−2−イミダゾリドンから主としてなることを
特徴とする水なし平版製版用処理液。 (ここでR1、R2は炭素数1〜10のアルキル基で同一であ
っても異なっていてもよい。R3、R4は水素原子または炭
素数1〜10のアルキル基であり、同一であっても異なっ
ていてもよい。)
1. A waterless lithographic plate-making treatment solution comprising a support and a photosensitive layer and a silicone rubber layer each comprising a substance having a quinonediazide structure as a constituent, the treatment solution comprising a solvent and A waterless lithographic plate-making treatment solution mainly comprising 1,3-dialkyl-2-imidazolidone represented by the formula [I]. (Where R 1 and R 2 may be the same or different and may be the same or different alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms. R 3 and R 4 may be a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and Or may be different.)
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