JP2884665B2 - Aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer composition - Google Patents

Aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer composition

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JP2884665B2 JP3484590A JP3484590A JP2884665B2 JP 2884665 B2 JP2884665 B2 JP 2884665B2 JP 3484590 A JP3484590 A JP 3484590A JP 3484590 A JP3484590 A JP 3484590A JP 2884665 B2 JP2884665 B2 JP 2884665B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、芳香族ポリカーボネートと芳香族ポリアミ
ドの両者の特性を兼ね備えた、耐熱性、湿度特性の優れ
た芳香族ポリカーボネート/芳香族ポリアミドブロック
共重合体組成物に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block having both the characteristics of an aromatic polycarbonate and an aromatic polyamide, and having excellent heat resistance and humidity characteristics. It relates to a polymer composition.

[従来の技術] ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルイ
ミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフィドスルフ
ォンなどに代表される非晶性フィルムは、優れた光学的
性質、電気的性質、熱的性質から、液晶用透明導電フィ
ルム、プリンターインクリボン、コンデンサー、プリン
ト基板、電気絶縁材料など幅広い用途展開が行なわれて
いる。しかしながら、比較的安価で、かつ湿度特性が良
好なこれら非晶性フィルムの大きな欠点としては、ガラ
ス転移点以上の温度でフィルムが急激に軟化流動してし
まい、市場の要求する高耐熱性材料としては不満が残
る。また機械特性が結晶性のフィルムに較べて悪いこと
も大きな欠点である。
[Prior art] Amorphous films typified by polycarbonate, polysulfone, polyetherimide, polyethersulfone, polysulfidesulfone, etc. are known for their excellent optical properties, electrical properties, and thermal properties. A wide range of applications such as films, printer ink ribbons, capacitors, printed circuit boards, and electrical insulating materials are being developed. However, one of the major drawbacks of these amorphous films, which are relatively inexpensive and have good humidity characteristics, is that the film rapidly softens and flows at a temperature higher than the glass transition point, and as a high heat-resistant material required by the market. Complains. Another major drawback is that the mechanical properties are poor compared to crystalline films.

一方、耐熱フィルムとしては芳香族ポリアミド、芳香
族ポリイミドから成るフィルムが知られているが、耐熱
性・機械特性は良好であるが、生産性が悪いためコスト
が高かったり、湿度特性も非晶性フィルムに較べると悪
い。
On the other hand, as the heat-resistant film, a film made of an aromatic polyamide or an aromatic polyimide is known, but the heat resistance and mechanical properties are good, but the productivity is poor, so the cost is high, and the humidity property is also amorphous. Bad compared to film.

これらの樹脂の欠点を補なう一般的な方法として、2
種のポリマをブレンドすることが知られている。また、
特開平1−252640では、2種のポリマをブロック化した
共重合体が開示されている。
As a general method to make up for the disadvantages of these resins, 2
It is known to blend seed polymers. Also,
JP-A-1-252640 discloses a copolymer obtained by blocking two kinds of polymers.

[発明が解決しようとする課題] しかし、一般に2種のポリマを完全相溶させることは
難しく、極く限られた組み合わせのみが知られているだ
けである。ポリカーボネートと芳香族ポリアミドの組み
合わせは、N−メチル−2−ピロリドンのような共通溶
媒に溶解するので、溶液中では完全相溶状態を形成し、
このブレンド溶液を溶液製膜することでかなり均一なフ
ィルムを作製することができるが、それでもサブミクロ
ンのオーダーで相分離を起こしており、今一歩機械特性
が向上しない原因となっている。また、高温で長時間経
過すると相分離がさらに進み、機械特性が悪化するとい
う欠点がある。特開平1−252640では、上記2種のポリ
マのブロック共重合体を作製しているが、一方のポリマ
が脂肪族ポリカーボネートで耐熱性が著しく悪く、芳香
族ポリアミドがブロックされていても、耐熱性の向上は
さほど見られない。
[Problems to be Solved by the Invention] However, it is generally difficult to completely dissolve two kinds of polymers, and only a very limited combination is known. Since the combination of polycarbonate and aromatic polyamide is dissolved in a common solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone, a completely compatible state is formed in the solution,
Although a fairly uniform film can be produced by forming a solution from this blend solution, phase separation still occurs on the order of submicrons, which is one of the causes that mechanical properties are not improved. Further, there is a drawback that after a long time at a high temperature, phase separation further progresses and mechanical properties are deteriorated. In JP-A-1-252640, a block copolymer of the above two types of polymers is prepared. However, even if one of the polymers is an aliphatic polycarbonate and has extremely poor heat resistance, even if an aromatic polyamide is blocked, the heat resistance is low. There is not much improvement.

本発明は、かかる課題を改善し、機械的特性、化学的
特性(主に吸湿特性)、経済性(コスト)、さらに高温
での安定性に優れた耐熱性フィルムに特に好ましい樹脂
組成物を提供することを目的とする。
The present invention solves this problem and provides a resin composition which is particularly preferable for a heat-resistant film excellent in mechanical properties, chemical properties (mainly, moisture absorption properties), economy (cost), and stability at high temperatures. The purpose is to do.

[課題を解決するための手段] 本発明は、芳香族ポリカーボネートセグメントと芳香
族ポリアミドセグメントからなる芳香族ポリカーボネー
ト/芳香族ポリアミドブロック共重合体を、10重量%以
上100重量%以下の範囲で含むことを特徴とする芳香族
ポリカーボネート/芳香族ポリアミドブロック共重合体
組成物に関するものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention includes an aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer comprising an aromatic polycarbonate segment and an aromatic polyamide segment in a range of 10% by weight or more and 100% by weight or less. The present invention relates to an aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer composition characterized by the following.

本発明の芳香族ポリカーボネートセグメントとは下式
(I)で示される繰り返し単位を50モル%以上含むもの
が好ましく、70モル%以上からから成るものがより好ま
しい。また、芳香族ポリアミドセグメントとは下式(I
I)で示される繰り返し単位を50モル%以上含むものが
好ましく、70モル%以上から成るものがより好ましい。
The aromatic polycarbonate segment of the present invention preferably contains at least 50 mol% of a repeating unit represented by the following formula (I), more preferably at least 70 mol%. The aromatic polyamide segment is represented by the following formula (I
Those containing 50 mol% or more of the repeating unit represented by I) are preferable, and those containing 70 mol% or more are more preferable.

ここでAr1、Ar2、Ar3は少なくとも一個の芳香環を含
む一種以上の構造からなり、同一組成でも異なっていて
もよく、これらの代表例としては次のものが挙げられ
る。
Here, Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 have one or more structures containing at least one aromatic ring, and may have the same composition or different structures. Representative examples of these are as follows.

また、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲ
ン基(特に塩素、臭素)、ニトロ基、C1〜C3のアルキル
基(特にメチル基)、C1〜C3のアルコキシ基などの置換
基で置換されているものも含む。また、Xは、−O−,
−CH2−,−C(CH3)2−,−SO2−,−S−,−CO−など
である。これらは単独または共重合の形で含まれる。
In addition, some of the hydrogens on these aromatic rings are halogen groups (especially chlorine and bromine), nitro groups, C 1 to C 3 alkyl groups (especially methyl groups), and C 1 to C 3 alkoxy groups. And those substituted with a substituent such as X is -O-,
—CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —SO 2 —, —S—, —CO— and the like. These are included in the form of homopolymer or copolymer.

芳香族ポリカーボネートセグメントとしては、芳香族
ポリアミドとの相溶性がよいいう点で、 の基本骨格AとC=Oの構造の両者を有するものが好
ましい。また、上記基本骨格Aには置換基があってもよ
く、例えばハロゲン基などが挙げられる。
As the aromatic polycarbonate segment, in terms of good compatibility with the aromatic polyamide, Having both the basic skeleton A and the structure of C = O are preferable. The basic skeleton A may have a substituent, for example, a halogen group.

また、芳香族ポリアミドセグメントとしては、本発明
の目的のひとつである耐熱性向上という観点から、A
r2,Ar3は主としてパラ配向で剛直な構造が好ましく、
また、芳香環にハロゲン基やアルキル基などの置換基を
有するものは、溶媒に対する溶解性、ポリカーボネー
ト、可溶性樹脂との相溶性が高くより好ましい。さら
に、ハロゲン基は得られるフィルムの湿度特性を向上さ
せるので好ましい。また、溶媒に対する溶解性、可溶性
樹脂との相溶性が高くなる点では、 −O−,−CH2−,−SO2−,−S−,−CO− などを介して2個の芳香環が結合している構造が共重合
されているのも好ましいが、多過ぎると逆に熱特性、機
械特性、湿度特性を悪化させることになる。
Further, as the aromatic polyamide segment, from the viewpoint of improving heat resistance, which is one of the objects of the present invention, A
r 2 and Ar 3 are preferably mainly para-oriented and rigid structures,
Further, those having a substituent such as a halogen group or an alkyl group on the aromatic ring are more preferable because of high solubility in a solvent and compatibility with a polycarbonate and a soluble resin. Further, a halogen group is preferable because it improves the humidity characteristics of the obtained film. Further, solubility in solvents, from the viewpoint of compatibility with the soluble resin is high, -O -, - CH 2 - , - SO 2 -, - S -, - CO- is two aromatic rings via a It is also preferable that the bonded structure is copolymerized, but if it is too large, the thermal characteristics, mechanical characteristics, and humidity characteristics are adversely affected.

すなわち、 Ar2:(Ar4)a(Ar5)b(Ar6)c Ar3:(Ar7)d(Ar8)e ただし、 a+b+d+e≧0.5 b+e≧0.5 c<0.4 Ar4、Ar7Ar5、Ar8:Ar4、Ar7が核置換(ハロゲンなど)された基 Ar6を満たす芳香族ポリアミドが好ましい。なお、Ar2、Ar3
を構成する、Ar4、Ar5、Ar6、Ar7、Ar8以外の基は、上
式を満足していれば特に制限はない。
Ar 2 : (Ar 4 ) a (Ar 5 ) b (Ar 6 ) c Ar 3 : (Ar 7 ) d (Ar 8 ) e where a + b + d + e ≧ 0.5 b + e ≧ 0.5 c <0.4 Ar 4 , Ar 7 : Ar 5 , Ar 8 : A group in which Ar 4 and Ar 7 are substituted with a nucleus (eg, halogen). Ar 6 : Is preferable. Ar 2 , Ar 3
The groups other than Ar 4 , Ar 5 , Ar 6 , Ar 7 , and Ar 8 constituting the above are not particularly limited as long as the above formula is satisfied.

例えば、 (ここでp,qは1〜4の整数、p+q≧1) (ここでq=0〜4の整数) などで表わされる一種以上の芳香族ポリアミドセグメン
トを有する芳香族ポリアミド/芳香族ポリカーボネート
ブロック共重合体と、芳香族ポリアミドセあるいは可溶
性樹脂の少なくともどちらか一方との溶液は、長時間保
存してもは極めて安定であり、得られるフィルムも強靱
で耐熱性、湿度特性の良好なものとなる。
For example, (Where p and q are integers from 1 to 4, p + q ≧ 1) (Where q is an integer of 0 to 4) and an aromatic polyamide / aromatic polycarbonate block copolymer having one or more aromatic polyamide segments represented by, for example, an aromatic polyamidese or a soluble resin. Is extremely stable even when stored for a long time, and the resulting film is tough and has excellent heat resistance and humidity characteristics.

本発明の芳香族ポリカーボネート/芳香族ポリアミド
ブロック共重合体組成物を構成する芳香族ポリカーボネ
ート/芳香族ポリアミドブロック共重合体の割合は該組
成物に対して10重量%以上、好ましくは20重量%以上、
より好ましくは30重量%以上、さらに好ましくは50重量
%以上であって、100重量%以下の範囲であることが必
要である。10重量%未満であると、芳香族ポリカーボネ
ート/芳香族ポリアミドブロック共重合体の相溶化剤的
な効果が十分に発揮されず、存在しない場合に比べて機
械特性の向上などがほとんど見られなくなる。
The proportion of the aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer constituting the aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer composition of the present invention is at least 10% by weight, preferably at least 20% by weight, based on the composition. ,
It is more preferably at least 30% by weight, even more preferably at least 50% by weight, and needs to be at most 100% by weight. If the amount is less than 10% by weight, the effect of the aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer as a compatibilizer is not sufficiently exhibited, and almost no improvement in mechanical properties is observed as compared with the case where it is not present.

また、本発明の上記ブロック共重合体と組成物を構成
するものとしては、限定はされないが、2種以上のポリ
マを用いる場合により効果が顕著となり、特に、本発明
のブロック共重合体を構成している芳香族ポリアミドと
可溶性樹脂からなる場合に最も効果が現われる。ここで
いう芳香族ポリアミドとは、上記芳香族ポリアミドセグ
メントと同様な組成でも異なった組成でもよいが、同様
な組成の方がポリマ同士の相溶性が高く機械強度なども
向上しやすいので好ましい。また、可溶性樹脂とは、前
述したブロック共重合体を単独で、あるいは芳香族ポリ
アミドとの両者を溶解する溶媒に、1重量%以上溶解す
る樹脂一種以上を意味し、特に限定されるものではな
い。芳香族ポリアミドとブロック共重合体と可溶性樹脂
の3者を溶解する共通溶媒としては、取り扱いやすさな
どを考慮すると有機系の溶媒が好ましく、N−メチル−
2−ピロリドン、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチレ
ンホスホルアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルイ
ミダゾリジノンなどのアミド系極性溶媒やジメチルスル
ホンなどが挙げられるが、特にN−メチル−2−ピロリ
ドンおよびN−メチル−2−ピロリドンと他のアミド系
極性溶媒の混合物が好ましい。これらの溶媒を用いた場
合、特に、ポリカーボネート、ポリフッ化ビニリデン、
ポリメチルメタアクリレート、ポリスチレン、ポリビニ
ルアルコール、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、
ポリアリレート、ポリスルフィドスルホン、ポリエーテ
ルイミドなどが好ましく、高温での機械特性の改良が顕
著で湿度特性の優れている非晶性樹脂、例えば、ポリカ
ーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポ
リアリレート、ポリスルフィドスルホンがより好まし
い。特に、 の基本骨格AとC=Oの構造を両方有する樹脂は、該
ブロック共重合体や芳香族ポリアミドとの相溶性が非常
にいいために、ブロック共重合体と、可溶性樹脂あるい
は芳香族ポリアミドの少なくともどちらか一方とを上記
溶媒に溶解して得られるブレンド溶液の長期保存安定性
に優れ、また、機械特性や透明性に優れたフィルムが得
られるなどの理由で、より好ましい。例えばポリカーボ
ネート、ポリアリレートなどが挙げられ、経済性の点か
らポリカーボネートがさらに好ましい。なお、上記基本
骨格Aには置換基があってもよく、例えばハロゲン基な
どが挙げられる。また、ブロック共重合体、芳香族ポリ
アミド、可溶性樹脂との組成物にさらに、第4成分とし
て別の樹脂がブロック共重合体の好ましくは30重量%以
下、より好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは15
重量%以下添加されていてもよく、例えば、可溶性樹脂
としてポリカーボネートを用いた場合、これにポリエー
テルスルホン、ポリスルホンなどを添加すると、機械特
性が向上する。また、上記溶媒の他に、可溶性樹脂の良
溶媒、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、塩化メ
チレン、クロロホルム、1,1,2−トリクロロエタン、ト
リクレン、アセトン、トルエンなどを、可溶性樹脂と芳
香族ポリアミドが相溶するのを妨げない範囲内、すなわ
ち全溶媒量の20重量%以内、好ましくは15重量%以内で
なら使用してもさし支えない。
The constituents of the block copolymer and the composition of the present invention are not limited, but the effect is more remarkable when two or more kinds of polymers are used. The best effect is obtained when the resin is made of an aromatic polyamide and a soluble resin. The aromatic polyamide herein may have the same composition as or a different composition from the aromatic polyamide segment, but the same composition is preferable because the compatibility between the polymers is high and the mechanical strength is easily improved. In addition, the soluble resin means one or more resins that dissolve 1% by weight or more in a solvent that dissolves the above-described block copolymer alone or in both of the aromatic polyamide and is not particularly limited. . As a common solvent for dissolving the aromatic polyamide, the block copolymer and the soluble resin, an organic solvent is preferable in consideration of ease of handling and the like, and N-methyl-
Examples include amide polar solvents such as 2-pyrrolidone, dimethylacetamide, hexamethylenephosphoramide, dimethylformamide, and dimethylimidazolidinone, and dimethyl sulfone. Particularly, N-methyl-2-pyrrolidone and N-methyl-2- Mixtures of pyrrolidone and other amide polar solvents are preferred. When using these solvents, in particular, polycarbonate, polyvinylidene fluoride,
Polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl alcohol, polyether sulfone, polysulfone,
Polyarylate, polysulfide sulfone, polyether imide and the like are preferable, and an amorphous resin excellent in improvement in mechanical properties at high temperature and excellent in humidity properties, for example, polycarbonate, polyether sulfone, polysulfone, polyarylate, polysulfide sulfone is preferred. More preferred. In particular, The resin having both the basic skeleton A and the structure of C = O is very good in compatibility with the block copolymer or the aromatic polyamide. Therefore, the resin having at least one of the block copolymer and the soluble resin or the aromatic polyamide is preferred. It is more preferable because a blend solution obtained by dissolving either of them in the above-mentioned solvent is excellent in long-term storage stability, and a film excellent in mechanical properties and transparency is obtained. For example, polycarbonate, polyarylate and the like can be mentioned, and polycarbonate is more preferred from the viewpoint of economy. The basic skeleton A may have a substituent, for example, a halogen group. Further, in the composition of the block copolymer, the aromatic polyamide, and the soluble resin, another resin as the fourth component is preferably 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less of the block copolymer, and still more preferably. Is 15
% By weight. For example, when polycarbonate is used as a soluble resin, adding polyethersulfone, polysulfone, or the like thereto improves mechanical properties. In addition, in addition to the above solvents, good solvents for the soluble resin, for example, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, 1,1,2-trichloroethane, tricrene, acetone, toluene, and the like, the soluble resin and the aromatic polyamide are compatible. If it is within a range that does not hinder the reaction, that is, within 20% by weight of the total solvent amount, preferably within 15% by weight, it may be used.

本発明の芳香族ポリアミドセグメントの量は、ブロッ
ク共重合体の5重量%以上90重量%以下の範囲であるこ
とが好ましい。芳香族ポリアミドセグメントの量がこの
範囲より少ない場合、耐熱性向上の効果がなくなる場合
が生じ、高温での機械特性が極端に悪化することがあ
る。好ましくは7重量%以上、より好ましくは10重量%
以上である。また、芳香族ポリアミドの量がこの範囲よ
り多い場合は経済的メリットがなくなり、また、湿度特
性が悪化する。好ましくは70重量%以下、より好ましく
は50重量%以下である。
The amount of the aromatic polyamide segment of the present invention is preferably in the range of 5% by weight to 90% by weight of the block copolymer. If the amount of the aromatic polyamide segment is less than this range, the effect of improving the heat resistance may be lost, and the mechanical properties at high temperatures may be extremely deteriorated. Preferably 7% by weight or more, more preferably 10% by weight
That is all. On the other hand, if the amount of the aromatic polyamide is larger than this range, there is no economic merit and the humidity characteristics are deteriorated. It is preferably at most 70% by weight, more preferably at most 50% by weight.

上述したような、ブロック共重合体の溶液あるいは、
芳香族ポリアミドと可溶性樹脂のどちらか少なくとも一
方とブロック共重合体とからなる組成物の溶液を、溶液
製膜すればフィルムを得ることができる。
As described above, or a block copolymer solution,
A film can be obtained by forming a solution of a composition comprising at least one of the aromatic polyamide and the soluble resin and the block copolymer into a solution.

本発明のブロック共重合体組成物からなるフィルムの
少なくとも一方向の荷重下(0.5kg/mm2)の250℃の熱寸
法変化率は50%以下であるのが好ましい。50%より大き
いと、感熱転写用途などに代表される高温で張力がかか
るような場合使用に耐えない。好ましくは40%以下、よ
り好ましくは20%以下である。
The thermal dimensional change at 250 ° C. under a load (0.5 kg / mm 2 ) in at least one direction of the film made of the block copolymer composition of the present invention is preferably 50% or less. If it is larger than 50%, it cannot be used in a case where tension is applied at a high temperature represented by thermal transfer applications. It is preferably at most 40%, more preferably at most 20%.

本発明のブロック共重合体組成物からなるフィルムの
少なくとも一方向の250℃の熱収縮率は20%以下が好ま
しい。より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%
以下である。20%より大きくなると、寸法安定性が悪
く、例えば感熱転写用途、フレキシブル回路基板、コン
デンサー用途の分野では実用に耐えない。また、少なく
とも一方向の200℃での熱収縮率は10%以下が好まし
く、5%以下がより好ましい。少なくとも一方向の300
℃の熱収縮率は30%以下が好ましく、20%以下がより好
ましい。さらに、少なくとも一方向の熱膨張係数は、5
×10-5/℃以下が好ましく、4×10-5/℃以下がより好
ましい。5×10-5/℃を超えると、フレキシブル回路基
板用途での使用に耐えない。
The heat shrinkage at 250 ° C. in at least one direction of the film comprising the block copolymer composition of the present invention is preferably 20% or less. More preferably 10% or less, further preferably 5%
It is as follows. If it is larger than 20%, the dimensional stability is poor, and for example, it cannot be put to practical use in the fields of thermal transfer applications, flexible circuit boards, and capacitors. The heat shrinkage at 200 ° C. in at least one direction is preferably 10% or less, more preferably 5% or less. 300 in at least one direction
The heat shrinkage at 30 ° C. is preferably 30% or less, more preferably 20% or less. Further, the coefficient of thermal expansion in at least one direction is 5
It is preferably at most 10 × 10 −5 / ° C., more preferably at most 4 × 10 −5 / ° C. If it exceeds 5 × 10 -5 / ° C, it cannot be used for flexible circuit boards.

本発明のブロック共重合体組成物からなるフィルムの
吸湿率は5%以下が好ましい。より好ましくは3%以
下、さらに好ましくは1%以下である。5%より大きい
と吸湿による寸法変化が大きくなり実用に耐えない。ま
た、少なくとも一方向の湿度膨張係数は、5×10-5/%
RH以下が好ましい。4×10-5/%RH以下がより好まし
い。
The moisture absorption of the film comprising the block copolymer composition of the present invention is preferably 5% or less. It is more preferably at most 3%, further preferably at most 1%. If it is more than 5%, the dimensional change due to moisture absorption becomes large, and it is not practical. The coefficient of humidity expansion in at least one direction is 5 × 10 −5 /%
RH or less is preferred. It is more preferably 4 × 10 −5 /% RH or less.

本発明のブロック共重合体組成物からなるフィルムは
少なくとも一方向の破断伸度が10%以上が好ましい。よ
り好ましくは15%以上、さらに好ましくは20%以上であ
る。10%未満ではフィルムのハンドリング時や加工時に
フィルム破れを起こし実用に耐えない。また、少なくと
も一方向の強度は5kg/mm2以上が好ましく、より好まし
くは7kg/mm2以上、さらに好ましくは9kg/mm2以上であ
る。少なくとも一方向のヤング率は150kg/mm2以上が好
ましく、より好ましくは200kg/mm/以上である。さらに
フィルムの少なくとも一方向のF−5値(伸度5%の時
の強度)は4kg/mm2以上が好ましく、6kg/mm2以上がより
好ましい。
The film comprising the block copolymer composition of the present invention preferably has an elongation at break in at least one direction of 10% or more. It is more preferably at least 15%, further preferably at least 20%. If it is less than 10%, the film will be broken during handling and processing of the film, which is not practical. The strength in at least one direction is preferably 5 kg / mm 2 or more, more preferably 7 kg / mm 2 or more, and further preferably 9 kg / mm 2 or more. At least one direction of the Young's modulus is preferably 150 kg / mm 2 or more, more preferably 200 kg / mm / or. Further, the F-5 value (strength at an elongation of 5%) in at least one direction of the film is preferably 4 kg / mm 2 or more, more preferably 6 kg / mm 2 or more.

本発明のブロック共重合体組成物からなるフィルムの
厚みは1〜500μmが好ましく、2〜200μmがより好ま
しい。また、該フィルムの密度は1.2〜1.5g/cm3が好ま
しく、1.2〜1.4g/cm3がより好ましい。
The thickness of the film comprising the block copolymer composition of the present invention is preferably from 1 to 500 μm, more preferably from 2 to 200 μm. The density of the film is preferably 1.2~1.5g / cm 3, more preferably 1.2~1.4g / cm 3.

本発明のブロック共重合体組成物からなるフィルムの
誘電率(1kHz)は,3〜7が好ましい。また、誘電正接
(1kHz)は、3%以下が好ましい。より好ましくは2.5
%以下である。
The dielectric constant (1 kHz) of the film comprising the block copolymer composition of the present invention is preferably from 3 to 7. The dielectric loss tangent (1 kHz) is preferably 3% or less. More preferably 2.5
% Or less.

本発明のブロック共重合体組成物からなるフィルムの
光線透過率は、50%以上が好ましい。より好ましくは、
60%以上である。
The light transmittance of the film comprising the block copolymer composition of the present invention is preferably 50% or more. More preferably,
60% or more.

本発明のブロック共重合体組成物からなるフィルムの
平均表面粗さ(Ra)は、10〜500nmが好ましく、より好
ましくは30〜300nmである。この範囲であると加工時の
作業性や使用時の走行性が一層よくなり特に望ましい。
なおこの表面粗さを達成するには、無機、有機の微粒子
を添加することが有効である。
The average surface roughness (Ra) of the film comprising the block copolymer composition of the present invention is preferably from 10 to 500 nm, more preferably from 30 to 300 nm. Within this range, workability during processing and traveling performance during use are further improved, which is particularly desirable.
In order to achieve this surface roughness, it is effective to add inorganic and organic fine particles.

また、本発明のブロック共重合体組成物からなるフィ
ルムの少なくとも一方向の端裂抵抗は、0.01kg/μm以
上が好ましい。これ未満であるとフィルムのハンドリン
グ時や加工時にフィルム破れを起こし実用に耐えない。
より好ましくは、0.1kg/μm以上、さらに好ましくは0.
3kg/μm以上である。
In addition, the film made of the block copolymer composition of the present invention preferably has a tear resistance in at least one direction of 0.01 kg / μm or more. If it is less than this, the film will be broken during handling and processing of the film, which is not practical.
More preferably, it is 0.1 kg / μm or more, and still more preferably 0.1 kg / μm.
3 kg / μm or more.

次に、本発明のブロック共重合体組成物の製造方法に
ついて説明するが、これに限定されるものではない。
Next, a method for producing the block copolymer composition of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.

本発明のブロック共重合体は、両末端にフェノール性
水酸基を有する芳香族ポリカーボネートと両末端にイソ
シアネート基を有する芳香族ポリアミドとの反応、両末
端にカルボン酸を有する芳香族ポリカーボネートと両末
端にアミノ基を有する芳香族ポリアミドとの反応などか
ら合成される。両末端にイソシアネート基を有する芳香
族ポリアミドはジイソシアネートとジカルボン酸との反
応で、両末端にアミノ基を有する芳香族ポリアミドはジ
酸クロリドとジアミンまたはジカルボン酸ジアミンとの
反応で得られる。ジイソシアネートとジカルボン酸との
反応は、アミド系極性溶媒中、触媒の存在下、通常は高
温下(50〜200℃)で行なわれる。また、ジ酸クロリド
とジアミンとからの場合は、N−メチル−2−ピロリド
ン、ジメチルアセトアミドなどのアミド系極性溶媒中
で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合など
で合成される。ジ酸クロリドとジアミンを低水分のアミ
ド系極性溶媒中で低温下(通常50℃以下、好ましくは30
℃以下)で1〜2時間撹拌し重合される。モノマの添加
順序は特に限定されるものではない。重合後発生した塩
酸を無機アルカリあるいは有機系の中和剤で中和する。
ジルボン酸とジアミンの反応は、アミド系極性溶媒中で
活性リン酸エステルなどを用いたいわゆる直接重合法で
行なわれる。これら反応で得られたポリマ溶液はそのま
ま次のブロック反応用原液にしてもよく、また両末端に
アミノ基を有する芳香族ポリアミドの場合はポリマを一
度単離してから溶媒に再溶解してブレンド用原液を調製
してもよい。単離した場合、次のブロック反応に使用す
る前に十分に精製、乾燥をしておく必要がある。なお、
上記芳香族ポリアミドの固有粘度は、最終的に得られる
フィルムの機械特性を考慮すると、1.0以上が好まし
く、1.5以上がより好ましく、さらに好ましくは2.0以上
である。上限は特に規定しないが、10.0以下が好まし
い。
The block copolymer of the present invention is a reaction between an aromatic polycarbonate having a phenolic hydroxyl group at both ends and an aromatic polyamide having an isocyanate group at both ends, an aromatic polycarbonate having a carboxylic acid at both ends and an amino at both ends. It is synthesized from a reaction with an aromatic polyamide having a group. Aromatic polyamide having isocyanate groups at both ends is obtained by reaction of diisocyanate with dicarboxylic acid, and aromatic polyamide having amino groups at both ends is obtained by reaction of diacid chloride with diamine or dicarboxylic diamine. The reaction between the diisocyanate and the dicarboxylic acid is carried out in an amide-based polar solvent in the presence of a catalyst, usually at a high temperature (50 to 200 ° C). In the case of using diacid chloride and diamine, it is synthesized by solution polymerization in an amide-based polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone or dimethylacetamide, or by interfacial polymerization using an aqueous medium. Diacid chloride and diamine are mixed at low temperature (usually 50 ° C. or lower, preferably 30 ° C.) in a low moisture amide polar solvent.
℃ or less) and polymerized with stirring for 1 to 2 hours. The order of adding the monomers is not particularly limited. Hydrochloric acid generated after the polymerization is neutralized with an inorganic alkali or an organic neutralizing agent.
The reaction between the zirconic acid and the diamine is performed by a so-called direct polymerization method using an active phosphoric acid ester or the like in an amide-based polar solvent. The polymer solution obtained by these reactions may be used as it is as a stock solution for the next block reaction.For aromatic polyamides having amino groups at both ends, the polymer is isolated once and then redissolved in a solvent for blending. A stock solution may be prepared. When isolated, it is necessary to sufficiently purify and dry it before use in the next block reaction. In addition,
The intrinsic viscosity of the aromatic polyamide is preferably 1.0 or more, more preferably 1.5 or more, and even more preferably 2.0 or more in consideration of the mechanical properties of the finally obtained film. The upper limit is not particularly defined, but is preferably 10.0 or less.

得られるフィルムなどの機械的特性を向上させるため
にはポリマの分子量を一定以上にしておく必要があり、
上記(I)、(II)の平均の重合度m、nは3以上が好
ましく、より好ましくは10以上である。しかし、分子量
が高過ぎると溶液粘度も高くなり実用的でなく、m、n
は400以下が好ましく、より好ましくは200以下である。
In order to improve the mechanical properties of the resulting film, it is necessary to keep the molecular weight of the polymer above a certain level,
The average degree of polymerization m and n of (I) and (II) is preferably 3 or more, more preferably 10 or more. However, if the molecular weight is too high, the viscosity of the solution increases, which is not practical.
Is preferably 400 or less, more preferably 200 or less.

以上のようにして得られた両末端反応性芳香族ポリア
ミドと両末端にフェノール性水酸基あるいはカルボン酸
を有する芳香族ポリカーボネートを、アミド系溶媒中、
それぞれの反応に応じた触媒を用いて反応させ、目的と
するブロック共重合体を得る。この反応溶液をそのまま
下記するブレンド用や製膜用の原液に用いても、あるい
は一旦再沈などで単離してもよい。これらの原液には、
溶解助剤として無機塩、例えば塩化カルシウム、塩化マ
グネシウムなどを添加する場合もある。このブロック化
の反応は、ポリマ同士の反応であり、100%は起こりに
くいため、ブロック共重合体のみが必要な場合には、成
書「高分子溶液」(共立出版)3章に記載されているよ
うな方法で分離、分別することもできる。また、下記す
るように、そのままで使用してもよい。
A two-terminal reactive aromatic polyamide obtained as described above and an aromatic polycarbonate having a phenolic hydroxyl group or a carboxylic acid at both terminals, in an amide solvent,
The reaction is carried out using a catalyst corresponding to each reaction to obtain a target block copolymer. This reaction solution may be used as it is in the following stock solution for blending or film formation, or may be once isolated by reprecipitation or the like. These stock solutions include
In some cases, an inorganic salt such as calcium chloride or magnesium chloride is added as a dissolution aid. This blocking reaction is a reaction between polymers, and 100% is unlikely to occur. Therefore, when only a block copolymer is required, it is described in Chapter 3 of the book “Polymer Solution” (Kyoritsu Shuppan). Separation and separation can be performed by any method. Moreover, you may use it as it is as mentioned below.

芳香族ポリアミドと可溶性樹脂のどちらか少なくとも
一方と、ブロック共重合体とからなるブロック共重合体
組成物の製造方法としては、上記ブロック共重合体のア
ミド系溶媒の溶液に芳香族ポリアミドや可溶性樹脂を溶
解したり、あらかじめ芳香族ポリアミドや可溶性樹脂を
溶解した溶液とブレンドする、あるいは、芳香族ポリア
ミドと可溶性樹脂が、それぞれブレンド原液を別個に調
製しその原液同士をブレンドしたり可溶性樹脂を溶解し
たアミド系極性溶媒を調整しその中で前述した芳香族ポ
リアミドの重合を行ない重合とブレンドを同時に行なう
ことで、ブレンドされた溶液とブロック共重合体溶液と
さらにブレンドすることで得られる溶液からフィルムな
どに成形することで得られる。また、上記ブロック共重
合体を合成する際、ブロック化しないホモポリマを分離
しないで用いてもよい。なお、こうして得られた製膜用
原液から得られる見かけの固有粘度は0.1〜8.0が好まし
く、より好ましくは0.2〜5.0である。溶液粘度は、自由
に選べるが流延性の点から5〜50000ポイズ/30℃が望ま
しく、10〜20000ポイズが更に望ましい。ポリマ濃度は
1〜50%が望ましく、5〜30%が更に望ましい。
As a method for producing a block copolymer composition comprising at least one of an aromatic polyamide and a soluble resin and a block copolymer, an aromatic polyamide or a soluble resin is added to a solution of the amide solvent of the block copolymer. Is dissolved, or blended with a solution in which aromatic polyamide or soluble resin is dissolved in advance, or aromatic polyamide and soluble resin are separately prepared as raw stock solutions, and the stock solutions are blended with each other or the soluble resin is dissolved. By adjusting the amide-based polar solvent and performing the above-mentioned polymerization of the aromatic polyamide in the polymerization and simultaneously performing the polymerization and the blending, the film from the solution obtained by further blending with the blended solution and the block copolymer solution can be used. It is obtained by molding into. When synthesizing the block copolymer, a homopolymer which is not blocked may be used without separation. The apparent intrinsic viscosity obtained from the stock solution for film formation thus obtained is preferably 0.1 to 8.0, more preferably 0.2 to 5.0. The solution viscosity can be freely selected, but is preferably 5 to 50,000 poise / 30 ° C., more preferably 10 to 20,000 poise from the viewpoint of castability. The polymer concentration is preferably 1 to 50%, more preferably 5 to 30%.

この製膜用原液は以下の方法でフィルムにする。ま
ず、乾湿式法だが、ドクターナイフ、口金などによりフ
ィルム状として支持体上に流延され、通常50〜250℃の
範囲、より好ましくは60〜200℃で一定時間乾燥され
る。50℃未満では溶媒の蒸発速度が遅く、250℃を越え
ると溶媒の突沸が起こりフィルムの品質の低下をきた
す。乾燥されたフィルムは支持体より剥離され、水系の
媒体中へ浸漬または媒体を噴霧せられて無機塩および溶
媒が抽出される。水系の媒体とは、水を主成分とする液
体であり、ポリマに対しては貧溶媒であるが、無機塩や
アミド系極性溶媒には親和性のある液体のことである。
例えば、水単独、水と原液を構成しているアミド系極性
溶媒との混合物、水とエチレングリコール、アセトン、
低級アルコールとの混合物が挙げられるが、水の比率と
して少なくとも50%以上が脱塩・脱溶媒速度や溶媒回収
を考慮すると望ましい。また、湿式浴の温度は通常5〜
90℃が適当である。該湿式工程では溶解助剤となる無機
塩とアミド系極性溶媒が抽出される訳であるが、該湿式
工程終了直後のフィルム中で無機塩残存量はポリマ当り
3%以下、より好ましくは1%以下がよい。アミド系極
性溶媒の残存率は特に規定されないが溶媒回収を考慮す
れば出来るだけ抽出した方が有利である。該湿式工程中
のフィルムは水系媒体で膨潤した状態にあるため湿式温
度範囲での延伸が行いやすく最終フィルムの機械特性向
上のた、一般的に工程中で1.01〜5.0倍に縦方向に延伸
される。湿式工程を終了したフィルムは、水系媒体の蒸
発、アミド系極性溶媒の蒸発のため熱処理が行われる。
この加熱工程では最終的に100℃以上、好ましくは200℃
以上500℃以下の処理が行なわれるが、50〜100℃で一旦
水分を乾燥した後(水分量がフィルム重量に対して20重
量%以下まで)、上記温度での熱処理を行なうと、前記
の好ましい特性を有するフィルムが得られやすく好まし
い。また、該加熱工程では横方向に1.01〜5.0倍延伸さ
れる。また必要に応じてリラックスなども行なわれても
何ら問題はない。
This stock solution for forming a film is formed into a film by the following method. First, a dry-wet method is used. The film is cast on a support in the form of a film using a doctor knife, a mouthpiece, or the like, and dried at a temperature usually in the range of 50 to 250 ° C, more preferably 60 to 200 ° C, for a certain time. If the temperature is lower than 50 ° C., the evaporation rate of the solvent is slow, and if it exceeds 250 ° C., bumping of the solvent occurs, resulting in deterioration of the film quality. The dried film is peeled from the support, and immersed in or sprayed with an aqueous medium to extract the inorganic salt and the solvent. The aqueous medium is a liquid containing water as a main component and is a poor solvent for polymers, but a liquid having an affinity for inorganic salts and amide polar solvents.
For example, water alone, a mixture of water and an amide-based polar solvent constituting a stock solution, water and ethylene glycol, acetone,
A mixture with a lower alcohol may be mentioned, but at least 50% or more of water is desirable in consideration of the desalting / desolvation rate and solvent recovery. The temperature of the wet bath is usually 5 to 5.
90 ° C is appropriate. In the wet process, an inorganic salt serving as a dissolution aid and an amide-based polar solvent are extracted. In the film immediately after the completion of the wet process, the residual amount of the inorganic salt is 3% or less per polymer, more preferably 1%. The following is good. The residual ratio of the amide polar solvent is not particularly limited, but it is advantageous to extract as much as possible in consideration of solvent recovery. Since the film in the wet process is in a state of swelling with an aqueous medium, it can be easily stretched in the wet temperature range, and the mechanical properties of the final film have been improved.In general, the film is stretched in the longitudinal direction 1.01 to 5.0 times in the process. You. The film after the wet process is subjected to a heat treatment for evaporating the aqueous medium and evaporating the amide polar solvent.
In this heating step, finally 100 ℃ or more, preferably 200 ℃
The treatment is carried out at a temperature of at least 500 ° C., but once the moisture is dried at 50 to 100 ° C. (the amount of moisture is up to 20% by weight or less based on the weight of the film), and then the heat treatment is carried out at the above temperature. This is preferable because a film having characteristics can be easily obtained. In the heating step, the film is stretched 1.01 to 5.0 times in the transverse direction. Also, there is no problem if relaxing is performed as needed.

次に、湿式法は、乾湿式法における乾式工程がなく口
金から直接水系(メタノール、エタノールなどのアルコ
ール0〜100重量%を含んでいてもよい)の媒体中に押
し出す方法である。多量のアミド系極性溶媒などを含む
ため、水系の媒体中で急激な無機塩やアミド系極性溶媒
の置換が行われ最終フィルムにボイドの発生あるいはフ
ィルムの面荒れが起こりやすくなるために、前述の水系
の媒体中に必要に応じて置換速度を制御するため無機
塩、例えば、塩化カルシウム、塩化リチウム、臭化リチ
ウムなとが含有されたり、水槽を多段にして、水とアミ
ド系極性溶媒・無機塩の混合物などに濃度勾配を持たせ
たりする。乾湿式法同様に本工程で縦方向に1.01〜5倍
延伸してもよい。湿式工程を終了したフィルムは乾湿式
法と同様に熱処理(200〜500℃)と横方向の延伸(1.01
〜5.0倍)が行われる。この加熱前に一旦50〜100℃で水
分を乾燥するのが好ましく、熱ロールや熱風によって行
なわれ、場合により1.01〜5倍の縦延伸も行なわれる。
Next, the wet method is a method of directly extruding from a die into an aqueous medium (which may contain 0 to 100% by weight of an alcohol such as methanol or ethanol) without a dry step in the dry-wet method. Because it contains a large amount of amide-based polar solvents, etc., the rapid replacement of inorganic salts and amide-based polar solvents in aqueous media is likely to cause the generation of voids or roughening of the film in the final film. An inorganic salt such as calcium chloride, lithium chloride, or lithium bromide is contained in the aqueous medium to control the substitution rate as necessary, or the water tank is multi-staged, and water and an amide polar solvent / inorganic are used. For example, a mixture of salts has a concentration gradient. Like the dry-wet method, the film may be stretched 1.01 to 5 times in the machine direction in this step. The film after the wet process is subjected to heat treatment (200-500 ° C) and transverse stretching (1.01
~ 5.0 times). Before the heating, it is preferable to dry the water once at 50 to 100 ° C., and the drying is performed by a hot roll or hot air, and in some cases, the longitudinal stretching of 1.01 to 5 times is also performed.

次に、乾式法である。この方法は湿式法とは逆に抽出
工程を省いたプロセスであり、有機系溶媒を使用し製膜
原液中に溶解助剤である無機塩を含まないものに限って
可能となる方法である。ドクターナイフや口金より支持
体上へ流延された原液は乾湿式法同様に乾燥されて支持
体から剥離され、支持体と熱処理工程の間で縦方向に1.
01〜5.0倍延伸される。乾式工程を終了したフィルムは
乾湿式法と同じ熱処理と延伸が行われる。以上のように
して耐熱フィルムを得ることができる。
Next, a dry method is used. This method is a process in which the extraction step is omitted, contrary to the wet method, and is a method that can be performed only by using an organic solvent and not containing an inorganic salt as a dissolution aid in a stock solution for film formation. The undiluted solution cast on the support from a doctor knife or mouthpiece is dried and peeled off from the support in the same manner as the wet-wet method, and 1.
Stretched 01 to 5.0 times. The film subjected to the dry process is subjected to the same heat treatment and stretching as in the dry-wet process. As described above, a heat-resistant film can be obtained.

かくして得られた本発明の組成物からなるフィルム
は、感熱転写用リボン、プリント基板、コンデンサー、
電気絶縁材料用途などがあるが、特に感熱転写リボン、
プリント基板、コンデンサー用途が望ましい。
A film comprising the composition of the present invention thus obtained is a thermal transfer ribbon, a printed circuit board, a capacitor,
There are applications such as electrical insulation materials, especially thermal transfer ribbons,
Printed circuit boards and capacitor applications are desirable.

[実施例] 次に実施例に基づいて本発明の実施態様を説明する
が、これに限定されるものではない。なお、実施例中の
特性の測定法は以下の通りである。
[Examples] Next, embodiments of the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, the measuring method of the characteristic in an Example is as follows.

固有粘度(ηinh) 下式により、N−メチル−2−ピロリドンを溶媒とし
て0.5g/100ml、30℃の条件下にウベローデ型粘度計を用
いて測定した。
Intrinsic viscosity (ηinh) The intrinsic viscosity was measured using an Ubbelohde viscometer under the conditions of 0.5 g / 100 ml and 30 ° C. using N-methyl-2-pyrrolidone as a solvent according to the following equation.

溶液粘度(ポイズ) 回転式B型粘度計(東京計器)を用い、温度30℃で測
定した。
Solution Viscosity (Poise) Measured at a temperature of 30 ° C. using a rotary B-type viscometer (Tokyo Keiki).

引張り伸度、ヤング率、F−5値 TRS型引張り試験器で幅10mm、長さ50mm、引張り速度3
00mm/分の条件で測定した。
Tensile elongation, Young's modulus, F-5 value 10mm width, 50mm length, pulling speed 3 with TRS type tensile tester
It was measured under the condition of 00 mm / min.

熱収縮率(%) 無荷重で所定の温度で10分間、オーブン中に入れ、室
温にもどして寸法を測り、下式の計算式より算出した。
Heat shrinkage (%) The sample was placed in an oven without load at a predetermined temperature for 10 minutes, returned to room temperature, measured for dimensions, and calculated by the following formula.

吸湿率(%) 150℃、60分絶乾後と、75%RH中に48時間放置後のフ
ィルム重量を測定し、下記の計算式により算出した。
Moisture absorption (%) The film weight was measured after absolute drying at 150 ° C. for 60 minutes and after standing in 75% RH for 48 hours, and was calculated by the following formula.

吸湿率=(75%RH、48時間放置後のフィルム重量−絶乾
時のフィルム重量)/絶乾時のフィルム重量×100
(%) 熱膨張係数(α) 熱収縮を吸脱湿の影響を除くためフィルムを一旦150
℃まで加熱し、徐々に冷却していった時の80〜150℃の
領域における寸法変化から計算した。寸法変化量は、熱
機械分析計(TMA)によって測定した。
Moisture absorption = (75% RH, film weight after standing for 48 hours−film weight when absolutely dry) / film weight when absolutely dry × 100
(%) Coefficient of thermal expansion (α) To eliminate the effect of moisture absorption and desorption on thermal shrinkage,
It calculated from the dimensional change in the 80-150 degreeC area | region at the time of heating to ℃ and gradually cooling. The dimensional change was measured by a thermomechanical analyzer (TMA).

湿度膨張係数(β) 恒温恒湿槽中で、脱湿時(約30%RH)と加湿時(約80
%RH)でそれぞれ平衡になった時のフィルム長を読み取
りその差(伸び量)を使い下式より求めた。
Humidity expansion coefficient (β) Dehumidification (about 30% RH) and humidification (about 80%)
% RH), the film length at the time of equilibrium was read, and the difference (elongation) was obtained from the following equation.

ΔH:加湿時と脱湿時の湿度差(%RH) 荷重下の熱寸法変化率 荷重0.5kg/mm2を掛けて温度250℃で10分間、オーブン
中に入れ、室温にもどして寸法を測り、下式の計算式よ
り算出した。
[Delta] H: humidification time and humidity difference when dehumidification (% RH) 10 minutes at a temperature 250 ° C. over a thermal dimensional change rate load 0.5 kg / mm 2 under load, placed in an oven, measure the dimensions returned to room temperature , Calculated by the following formula.

誘電率、tanδ ASTM−D−150−81に準拠して測定した。 Dielectric constant, tan δ Measured according to ASTM-D-150-81.

光線透過率 ASTM D−1003に準拠して測定した。Light transmittance was measured according to ASTM D-1003.

端裂抵抗 JIS−C−2318に準拠して測定し、厚み1μmあたり
に換算した。
Tear resistance was measured according to JIS-C-2318, and was converted per 1 μm thickness.

分子量、分子量分布、重合度 NMPを溶媒(0.01MのLiClを含む)とするGPC−LALLS法
より絶対分子量分布を測定し、数平均分子量を求め、こ
れを用いたモノマユニットの分子量で割って重合度を求
めた。
Molecular weight, molecular weight distribution, degree of polymerization Measure the absolute molecular weight distribution by GPC-LALLS method using NMP as a solvent (including 0.01M LiCl), find the number average molecular weight, and divide by the molecular weight of the monomer unit using this to polymerize I asked for degrees.

平均表面粗さ(Ra) 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−10を用いて
測定した。条件は下記の通りであり、20回の平均値をも
って値とした。
Average surface roughness (Ra) It was measured using a high-precision thin film step measuring device ET-10 manufactured by Kosaka Laboratory. The conditions are as follows, and the value was determined by averaging 20 times.

・触針先端半径:0.5μm ・触針荷重 :5mg ・測定長 :1mm ・カットオフ値:0.08mm なお、Raの定義は、例えば、奈良治郎著「表面粗さの
測定・評価法」(総合技術センター、1983)に示されて
いるものである。
・ Stylus tip radius: 0.5 μm ・ Stylus load: 5 mg ・ Measurement length: 1 mm ・ Cutoff value: 0.08 mm The definition of Ra can be found, for example, in Jiro Nara, “Method of measuring and evaluating surface roughness” (General Technology Center, 1983).

なお、以下の実施例で用いた部は全て重量部を表わ
す。
All parts used in the following examples are parts by weight.

実施例1 75mol%の2−クロロパラフェニレンジアミン(以下C
PAと略す)と25mol%の4,4′−ジアミノジフェニルエー
テル(以下4,4′−DAEと略す)を、97mol%の2−クロ
ロテレフタル酸クロリド(以下CTPCと略す)とN−メチ
ル−2−ピロリドン(以下NMPと略す)中で20℃以下で
反応させ、数平均分子量15,000(重合度約50)の芳香族
ポリアミドのNMP溶液を得た。この溶液を多量の水に投
入し、再沈後精製し十分乾燥して粉体状のポリマを得
た。固有粘度は2.4であった。このポリマ20部と両末端
にカルボン酸を有するポリカーボネート(数平均分子量
20000、ビスフェノールAタイプ)20部をNMP200部に溶
解し、亜リン酸トリフェニル1.0部、ピリジン0.5部、塩
化セチルトリメチルアンモニウム0.17部加え、110℃で
3時間反応した。反応後多量のメタノール中に再沈精製
し、乾燥後GPCを測定した結果、ピークが高分子量側に
シフトしているのが観察され、若干のショルダーはあっ
たため、塩化メチレンで抽出したところ、0.8部のポリ
カーボネートが抽出された。抽出後再度GPCを測定した
が、まだ低分子量側に未反応の芳香族ポリアミドに基ず
くショルダーがあるため、大容量GPCを用いて分別しほ
ぼ純粋なブロック共重合体を得た。
Example 1 75 mol% of 2-chloroparaphenylenediamine (hereinafter C
PA) and 25 mol% of 4,4'-diaminodiphenyl ether (hereinafter abbreviated as 4,4'-DAE), 97 mol% of 2-chloroterephthalic chloride (hereinafter abbreviated as CTPC) and N-methyl-2- The reaction was carried out at 20 ° C. or lower in pyrrolidone (hereinafter abbreviated as NMP) to obtain an NMP solution of an aromatic polyamide having a number average molecular weight of 15,000 (degree of polymerization: about 50). This solution was poured into a large amount of water, purified after reprecipitation, and dried sufficiently to obtain a powdery polymer. The intrinsic viscosity was 2.4. 20 parts of this polymer and a polycarbonate having a carboxylic acid at both ends (number average molecular weight
20 parts of 20000, bisphenol A type) were dissolved in 200 parts of NMP, and 1.0 part of triphenyl phosphite, 0.5 part of pyridine and 0.17 part of cetyltrimethylammonium chloride were added, and reacted at 110 ° C. for 3 hours. After the reaction, the precipitate was purified by reprecipitation in a large amount of methanol, and the GPC was measured after drying.As a result, it was observed that the peak was shifted to the high molecular weight side, and there were some shoulders. Part of the polycarbonate was extracted. After extraction, GPC was measured again. However, since there was still a shoulder based on the unreacted aromatic polyamide on the low molecular weight side, fractionation was performed using large-capacity GPC to obtain an almost pure block copolymer.

このブロック共重合体10部をNMP70部に溶解し、アプ
リケータを用いてガラス板上に均一に流延し、130℃の
オーブン中で7分間乾燥後、1分間300℃で熱処理して
厚み10μmの最終フィルムを得た。得られたフィルムの
引張り伸度は32%、引張り強度14kg/mm2、ヤング率435k
g/mm2、F−5値12kg/mm2、端裂抵抗は0.58kg/μmであ
り、250℃、10分間の熱収縮率は0.5%、250℃の荷重下
(0.5kg/mm2)の熱寸法変化は17%、熱膨張係数(α)
は1.9×10-5/℃、吸湿率は0.9%、と強靱で湿度特性、
耐熱性に優れたフィルムであった。
10 parts of this block copolymer was dissolved in 70 parts of NMP, uniformly cast on a glass plate using an applicator, dried in an oven at 130 ° C. for 7 minutes, and then heat-treated at 300 ° C. for 1 minute to a thickness of 10 μm. The final film was obtained. The obtained film has a tensile elongation of 32%, a tensile strength of 14 kg / mm 2 , and a Young's modulus of 435 k.
g / mm 2 , F-5 value 12 kg / mm 2 , end crack resistance 0.58 kg / μm, heat shrinkage at 250 ° C. for 10 minutes 0.5%, load under 250 ° C. (0.5 kg / mm 2 ) 17% thermal dimensional change, thermal expansion coefficient (α)
Is 1.9 × 10 -5 / ° C, the moisture absorption is 0.9%, and it is tough and has humidity characteristics.
The film had excellent heat resistance.

実施例2 3,4′−ジフェニルエーテルジイソシアネート100mol
%とテレフタル酸98mol%をNMPに溶解し、テレフタル酸
モノナトリウム塩を触媒として120℃、2時間反応し、
両末端にイソシアネート基を有する芳香族ポリアミドを
得た。重合終了後、GPC測定用サンプルを少量採取した
後、両末端にフェノール性水酸基を有し数平均分子量25
000のポリカーボネート(ビスフェノールAタイプ)を
芳香族ポリアミド10部に対して20部添加し、さらに120
℃で2時間反応させた。反応終了後、多量のメタノール
へ再沈し乾燥した。GPCより、ポリカーボネートを添加
する前の芳香族ポリアミドの数平均分子量は、17000で
あった。また、GPCより最終的に得られたポリマは、ブ
ロック共重合体と芳香族ポリアミド、ポリカーボネート
からなる組成物であることがわかり、塩化メチレンでの
抽出量とからそれらの重量比は、40:15:45であった。
Example 2 100 mol of 3,4'-diphenyl ether diisocyanate
% And terephthalic acid 98 mol% are dissolved in NMP and reacted at 120 ° C. for 2 hours using terephthalic acid monosodium salt as a catalyst.
An aromatic polyamide having isocyanate groups at both ends was obtained. After the polymerization is completed, a small amount of a sample for GPC measurement is collected, and has a phenolic hydroxyl group at both ends and a number average molecular weight of 25.
000 polycarbonate (bisphenol A type) was added in an amount of 20 parts to 10 parts of the aromatic polyamide.
The reaction was carried out at 2 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the precipitate was reprecipitated in a large amount of methanol and dried. According to GPC, the number average molecular weight of the aromatic polyamide before adding the polycarbonate was 17,000. Also, the polymer finally obtained from GPC was found to be a composition consisting of a block copolymer, an aromatic polyamide and a polycarbonate, and their weight ratio from the amount extracted with methylene chloride was 40:15. : 45.

この製膜用原液を、アプリケータを用いてガラス板上
に均一に流延し、120℃のオーブン中で8分間乾燥後、
ガラス板より剥離して流水中に10分間浸漬した。緊張下
に100℃のオーブン中で一旦水分を乾燥した後、1分間3
00℃で熱処理して厚み9μmの最終フィルムを得た。得
られたフィルムの引張り伸度は28%、引張り強度22kg/m
m2、ヤング率380kg/mm2、F−5値18kg/mm2、端裂抵抗
は0.44kg/μmであり、250℃、10分間の熱収縮率は2.3
%、250℃の荷重下(0.5kg/mm2)の熱寸法変化は15%、
湿度膨張係数(β)は1.6×10-5/℃、吸湿率は1.0%、
平均表面粗さは75nmと強靱で湿度特性、耐熱性、作業性
に優れたフィルムであった。
The undiluted solution for film formation was uniformly cast on a glass plate using an applicator, and dried in an oven at 120 ° C. for 8 minutes.
It was peeled off from the glass plate and immersed in running water for 10 minutes. Once dried in an oven at 100 ° C under tension,
Heat treatment was performed at 00 ° C. to obtain a final film having a thickness of 9 μm. The resulting film has a tensile elongation of 28% and a tensile strength of 22 kg / m.
m 2 , Young's modulus 380 kg / mm 2 , F-5 value 18 kg / mm 2 , end crack resistance 0.44 kg / μm, heat shrinkage at 250 ° C. for 10 minutes is 2.3
%, Thermal dimensional change under load of 250 ℃ (0.5kg / mm 2 ) is 15%,
The coefficient of humidity expansion (β) is 1.6 × 10 -5 / ° C, the moisture absorption is 1.0%,
The average surface roughness was 75 nm, which was tough and excellent in humidity characteristics, heat resistance and workability.

実施例3 実施例1と同様にして得られたブロック共重合体10部
と、4,4′−DAE100mol%とCTPC100mol%から得られた芳
香族ポリアミド25部とポリエーテルスルホン65部からな
る組成物から、実施例1と同様な方法でフィルムを作製
した。得られたフィルムの破断伸度は25%、強度10kg/m
m2、ヤング率285kg/mm2、端裂抵抗は0.51kg/μmであ
り、250℃、10分間の熱収縮率は1.2%、250℃の荷重下
(0.5kg/mm2)の熱寸法変化は18%、吸湿率は0.8%、と
強靱で湿度特性、耐熱性に優れたフィルムであった。
Example 3 A composition comprising 10 parts of a block copolymer obtained in the same manner as in Example 1, 25 parts of an aromatic polyamide obtained from 100 mol% of 4,4'-DAE and 100 mol% of CTPC, and 65 parts of polyether sulfone Thus, a film was produced in the same manner as in Example 1. Elongation at break of the obtained film is 25% and strength is 10 kg / m.
m 2 , Young's modulus 285 kg / mm 2 , end crack resistance 0.51 kg / μm, thermal shrinkage at 250 ° C for 10 minutes 1.2%, thermal dimensional change under load at 250 ° C (0.5 kg / mm 2 ) Was 18% and the moisture absorption was 0.8%, which was tough and excellent in humidity characteristics and heat resistance.

[発明の効果] 本発明は特定の芳香族ポリカーボネート/芳香族ポリ
アミドブロック共重合体を所定量含有する組成物とした
ことにより、例えば該組成物からなるフィルムは、芳香
族ポリカーボネート樹脂の軟化流動点以上の温度でも流
動せず、高温での熱収縮率も小さく寸法安定性に優れて
おり、また、芳香族ポリカーボネート樹脂の単体フィル
ムや芳香族ポリアミドと芳香族ポリカーボネート樹脂と
のブレンド樹脂からなるフィルムに比較して機械特性、
特に破断伸度や強度が優れており、ハンドリング、加工
時の取り扱いが容易となる。さらに、芳香族ポリアミド
の最大の欠点と言われている湿度特性(特に吸湿性)が
改良される。
[Effects of the Invention] The present invention provides a composition containing a predetermined amount of a specific aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer, so that, for example, a film made of the composition has a softening pour point of an aromatic polycarbonate resin. It does not flow even at the above temperature, it has a small heat shrinkage at high temperature and has excellent dimensional stability, and it is suitable for a single film of aromatic polycarbonate resin or a film made of a blend resin of aromatic polyamide and aromatic polycarbonate resin. Mechanical properties,
In particular, it is excellent in elongation at break and strength, which facilitates handling and handling during processing. Furthermore, the humidity characteristics (particularly, hygroscopicity), which is said to be the greatest drawback of the aromatic polyamide, are improved.

また、本発明の芳香族ポリカーボネート/芳香族ポリ
アミドブロック共重合体と、芳香族ポリアミドや芳香族
ポリカーボネート樹脂は、相溶性が非常に良いためにそ
の組成物の溶液の長期安定性に優れ、また、ブロック共
重合体が相溶化剤として働くため、得られるフィルム中
でも2種のポリマが微分散しやすく界面でのミクロボイ
ドの発生が抑えられるため機械特性や透明性に優れてい
る。
In addition, the aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer of the present invention and the aromatic polyamide or the aromatic polycarbonate resin have very good compatibility, so that the solution of the composition has excellent long-term stability, and Since the block copolymer functions as a compatibilizer, two types of polymers are easily finely dispersed in the obtained film, and the generation of microvoids at the interface is suppressed, so that the film is excellent in mechanical properties and transparency.

さらに、比較的安価な芳香族ポリカーボネート樹脂が
芳香族ポリアミドにブロック共重合されておりフィルム
の製造コストを下げることが可能となる。
Furthermore, a relatively inexpensive aromatic polycarbonate resin is block-copolymerized with an aromatic polyamide, so that the production cost of the film can be reduced.

また、本発明の組成物はフィルムのみならず、繊維や
成形体として用いた場合にも機械強度、耐衝撃性などに
優れたものが得られる。
In addition, when the composition of the present invention is used not only as a film but also as a fiber or a molded article, a composition excellent in mechanical strength, impact resistance and the like can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 81/00 C08L 69/00 C08L 77/10 C08G 64/18 C08G 69/00 - 69/42 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) C08G 81/00 C08L 69/00 C08L 77/10 C08G 64/18 C08G 69/00-69/42

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】芳香族ポリカーボネートセグメントと芳香
族ポリアミドセグメントからなる芳香族ポリカーボネー
ト/芳香族ポリアミドブロック共重合体を、10重量%以
上100重量%以下の範囲で含むことを特徴とする芳香族
ポリカーボネート/芳香族ポリアミドブロック共重合体
組成物。
1. An aromatic polycarbonate comprising an aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer comprising an aromatic polycarbonate segment and an aromatic polyamide segment in a range of 10% by weight or more and 100% by weight or less. Aromatic polyamide block copolymer composition.
【請求項2】芳香族ポリアミドと可溶性樹脂のどちらか
少なくとも一方と、芳香族ポリカーボネートセグメント
と芳香族ポリアミドセグメントからなる芳香族ポリカー
ボネート/芳香族ポリアミドブロック共重合体とからな
ることを特徴とする請求項(1)に記載の芳香族ポリカ
ーボネート/芳香族ポリアミドブロック共重合体組成
物。
2. An aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer comprising at least one of an aromatic polyamide and a soluble resin, and an aromatic polycarbonate segment and an aromatic polyamide segment. The aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer composition according to (1).
【請求項3】可溶性樹脂が芳香族ポリカーボネートであ
ることを特徴とする請求項(2)に記載の芳香族ポリカ
ーボネート/芳香族ポリアミドブロック共重合体組成
物。
3. The aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer composition according to claim 2, wherein the soluble resin is an aromatic polycarbonate.
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