JP2862720B2 - Narrowly dispersible polyhydroxystyrene partially esterified with t-butoxycarbonyl group and method for producing the same - Google Patents

Narrowly dispersible polyhydroxystyrene partially esterified with t-butoxycarbonyl group and method for producing the same

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JP2862720B2
JP2862720B2 JP32147091A JP32147091A JP2862720B2 JP 2862720 B2 JP2862720 B2 JP 2862720B2 JP 32147091 A JP32147091 A JP 32147091A JP 32147091 A JP32147091 A JP 32147091A JP 2862720 B2 JP2862720 B2 JP 2862720B2
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polymer
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はLSI用のレジスト材料
等として好適に用いられる狭分散性ポリヒドロキシスチ
レン誘導体に関し、特にその水酸基がt−ブトキシカル
ボニル基で部分エステル化された狭分散性ポリヒドロキ
シスチレン及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a narrowly dispersible polyhydroxystyrene derivative preferably used as a resist material for LSIs, and more particularly to a narrowly dispersible polyhydroxystyrene having a hydroxyl group partially esterified with a t-butoxycarbonyl group. The present invention relates to styrene and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、高解像度のリソグラフィー用
として、或いはLSI用として使用するレジスト材料用
ベースポリマーとして機能性高分子が多用されており、
特に近年のLSIにおける高密度化の進展に伴い、レジ
スト材料について益々高解像度及び高現像性が要求され
るようになっている。係る要求に答えるために、従来、
ノボラック樹脂が使用されているが、最近においては、
これに代わるものとして化学増幅タイプのレジスト材料
が種々検討されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, functional polymers have been frequently used as base polymers for resist materials used for high resolution lithography or LSI.
In particular, with the recent progress of high density in LSI, resist materials are required to have higher resolution and higher developability. Conventionally, to answer such a request,
Novolak resin is used, but recently,
As a substitute for this, various chemically amplified resist materials have been studied.

【0003】上記化学増幅タイプのレジスト材料におい
ては、特に作業性の観点から酸によって容易に脱離する
官能基を有すると共に、その官能基の脱離前後で溶解性
の異なるものが賞用されている。係るレジスト材料とし
ては、耐プラズマ性に優れているポリスチレン誘導体
が、特に好適なものとして知られている。
Among the chemically amplified resist materials, those having a functional group which is easily removed by an acid from the viewpoint of workability and having different solubility before and after the removal of the functional group have been awarded. I have. As such a resist material, a polystyrene derivative having excellent plasma resistance is known as a particularly suitable material.

【0004】所で、これらのポリマーをレジスト用ベー
スポリマーとして使用する場合には、その分子量や分子
量分布がレジストの現像特性及び解像度に大きな影響を
与える。しかしながら、これらのポリマーは通常のラジ
カル重合法や縮重合法により得られる多分散ポリマーで
あって、はじめから分子量や分子量分布を制御するとい
うことが配慮されていないので、レジストの解像度及び
現像性を高めるために、分別という手法を用いて分子量
の制御を行っている。
When these polymers are used as a base polymer for a resist, their molecular weight and molecular weight distribution greatly affect the development characteristics and resolution of the resist. However, these polymers are polydisperse polymers obtained by a usual radical polymerization method or polycondensation method, and consideration is not given to controlling the molecular weight and molecular weight distribution from the beginning. In order to increase the molecular weight, the molecular weight is controlled using a method called fractionation.

【0005】しかしながら、分別という手法は操作が複
雑であるのみならず時間がかかるという欠点がある上、
厳しくなる要求性能に対して十分に追随することが困難
であるので、問題解決の本質的手段にはなり得ない。
[0005] However, the separation method has a disadvantage that not only the operation is complicated but also it takes time.
Since it is difficult to sufficiently keep up with the demanding performance, it cannot be an essential means for solving the problem.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】そこで、近年製造当初
から狭分散性を有するポリヒドロキシスチレンが注目さ
れている(特開昭59−199705号及び高分子学会
予稿集、31巻、1149頁)。しかしながら、この高
分子は酸によって脱離し得る基を有していないために、
このままではレジスト材料として使用することができな
い。そこで本発明者等は、レジスト材料として使用し得
る狭分散性のポリスチレン誘導体について鋭意検討した
結果、狭分散性であると共に、t−ブトキシカルボニル
基で部分エステル化したポリヒドロキシスチレンが、機
能性高分子として極めて有望であること見出し本発明に
到達した。
In view of the above, polyhydroxystyrene having narrow dispersibility has been attracting attention from the beginning of production in recent years (JP-A-59-199705 and Preprints of the Society of Polymer Science, vol. 31, p. 1149). However, since this polymer does not have a group that can be removed by an acid,
As it is, it cannot be used as a resist material. Thus, the present inventors have conducted intensive studies on narrowly dispersible polystyrene derivatives that can be used as resist materials. As a result, polyhydroxystyrene having narrow dispersibility and partially esterified with a t-butoxycarbonyl group has high functionality. The present inventors have found that the present invention is extremely promising as a molecule, and have reached the present invention.

【0007】因みに、t−ブトキシカルボニル基で部分
エステル化したポリヒドロキシスチレンをレジスト用の
ベースポリマーとして使用する技術は、ジャーナル オ
ブフォトポリマー サイエンス アンド テクノロジー
第4巻、第3号、469頁〜472頁(1991年)
に掲載されているが、この中では分子量や分子量分布は
考慮されておらず、前記した多分散に係わる問題は解決
されていない。又、t−ブトキシカルボニル基で部分エ
ステル化した狭分散性のポリヒドロキシスチレンの合成
例については全く知られていない。
Incidentally, the technique of using polyhydroxystyrene partially esterified with a t-butoxycarbonyl group as a base polymer for a resist is described in Journal of Photopolymer Science and Technology, Vol. 4, No. 3, pp. 469-472. (1991)
In this publication, the molecular weight and the molecular weight distribution are not taken into consideration, and the above-mentioned problems relating to polydispersion have not been solved. Further, there is no known synthesis example of narrow-dispersion polyhydroxystyrene partially esterified with a t-butoxycarbonyl group.

【0008】従って、本発明の第1の目的は酸で現像す
ることができると共に高解像度を有する、レジスト材料
として有望な、狭分散性のポリヒドロキシスチレン誘導
体を提供することにある。本発明の第2の目的は、狭分
散性のポリヒドロキシスチレン誘導体の新規な製造方法
を提供することにある。
Accordingly, a first object of the present invention is to provide a narrowly dispersible polyhydroxystyrene derivative which can be developed with an acid and has high resolution and is promising as a resist material. A second object of the present invention is to provide a novel method for producing a narrowly dispersible polyhydroxystyrene derivative.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の上記の諸目的
は、下記構造式(化3)及び(化4)で表される繰り返
し単位を有するt−ブトキシカルボニル基で部分エステ
ル化した狭分散性ポリヒドロキシスチレン及びその製造
方法によって達成された。
SUMMARY OF THE INVENTION The above objects of the present invention are attained by providing a narrow dispersion partially esterified with a t-butoxycarbonyl group having a repeating unit represented by the following structural formulas (Formula 3) and (Formula 4). The present invention has been achieved by a hydrophilic polyhydroxystyrene and a method for producing the same.

【0010】[0010]

【化3】 Embedded image

【化4】 Embedded image

【0011】本発明において、狭分散性とは、分子量分
布が狭分散(Mw /Mn =1.03〜1.50)である
ことを意味する。但し、Mw は高分子の重量平均分子量
であり、Mn は数平均分子量である。ここで重量平均分
子量は光散乱法により、又、数平均分子量は膜浸透圧計
を用いて測定することができる。
In the present invention, the term "narrow dispersibility" means that the molecular weight distribution is narrow ( Mw / Mn = 1.03 to 1.50). Here, Mw is the weight average molecular weight of the polymer, and Mn is the number average molecular weight. Here, the weight average molecular weight can be measured by a light scattering method, and the number average molecular weight can be measured by a membrane osmometer.

【0012】本発明のt−ブトキシカルボニル基で部分
エステル化した狭分散性ポリヒドロキシスチレン(以
下、単位「部分エステル化狭分散性ポリヒドロキシスチ
レン」とする。)の分子量分布は1.03〜1.50の
狭分散性であることが必要である。これは分子量分布が
1.50を越えると、レジスト材料としての高解像度及
び高現像度が達成されず、又、1.03以下とすること
は技術的困難性が大きいからである。
The molecular weight distribution of the narrow-dispersion polyhydroxystyrene partially esterified with a t-butoxycarbonyl group of the present invention (hereinafter referred to as "partially esterified narrow-dispersion polyhydroxystyrene") is 1.03-1. It must have a narrow dispersion of .50. This is because if the molecular weight distribution exceeds 1.50, high resolution and high degree of development cannot be achieved as a resist material, and if the molecular weight distribution is 1.03 or less, there is great technical difficulty.

【0013】上記分子量分布の評価はゲルパーミェーシ
ョンクロマトグラフィー(GPC)によって行うことが
でき、分子構造は1 H−NMRスペクトルによって容易
に確認することができる。本発明の部分エステル化狭分
散性ポリヒドロキシスチレンの平均分子量は特に制限さ
れるものではないが、レジスト材料として使用する場合
は、一般に10,000〜50,000の範囲とするこ
とが好ましい。
The above molecular weight distribution can be evaluated by gel permeation chromatography (GPC), and the molecular structure can be easily confirmed by 1 H-NMR spectrum. Although the average molecular weight of the partially esterified narrow-dispersion polyhydroxystyrene of the present invention is not particularly limited, when it is used as a resist material, it is generally preferably in the range of 10,000 to 50,000.

【0014】本発明の部分エステル化狭分散性ポリヒド
ロキシスチレンは、以下に示す如く狭分散性ポリヒドロ
キシスチレンの水酸基を、t−ブトキシカルボニル基に
よって部分的にエステル化して容易に得ることができ
る。
The partially esterified narrow-dispersion polyhydroxystyrene of the present invention can be easily obtained by partially esterifying the hydroxyl group of the narrow-dispersion polyhydroxystyrene with a t-butoxycarbonyl group as shown below.

【0015】本発明に用いる狭分散性ポリヒドロキシス
チレンは、例えば(化5)又は(化6)示されるモノマ
ーをリビング重合した後、前者の場合にはジメチルフェ
ニルカルビニルシリル基を脱離することにより、又後者
の場合にはt−ブチル基を脱離することにより得られ
る。
The narrowly dispersible polyhydroxystyrene used in the present invention is obtained, for example, by subjecting a monomer represented by the following formula (5) or (6) to living polymerization, and then removing the dimethylphenylcarbinylsilyl group in the former case. And in the latter case, by removing the t-butyl group.

【0016】[0016]

【化5】 Embedded image

【化6】 Embedded image

【0017】上記のモノマーのリビング重合に際して
は、重合開始剤として有機金属化合物が用いられる。係
る有機金属化合物としては、例えばn−ブチルリチウ
ム、sec−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、ナ
トリウムナフタレン、アントラセンナトリウム、α−メ
チルスチレンテトラマージナトリウム、クミルカリウ
ム、クミルセシウム等の有機アルカリ金属等が挙げられ
る。
In the living polymerization of the above monomers, an organometallic compound is used as a polymerization initiator. Examples of such organometallic compounds include organic alkali metals such as n-butyllithium, sec-butyllithium, t-butyllithium, sodium naphthalene, sodium anthracene, sodium α-methylstyrene tetramer, cumyl potassium, and cumyl cesium.

【0018】上記モノマーのリビング重合は、一般に、
有機溶媒中で行われる。この場合に用いられる有機溶媒
は芳香族炭化水素、環状エーテル、脂肪族炭化水素溶媒
等であり、これらの具体例としては、例えばベンゼン、
トルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒ
ドロピラン、ジメトキシエタン、n−ヘキサン、シクロ
ヘキサン等が挙げられる。これらの有機溶媒は夫々単独
で使用しても2種以上を組み合わせて使用しても良い。
The living polymerization of the above monomers generally comprises
Performed in an organic solvent. The organic solvent used in this case is an aromatic hydrocarbon, a cyclic ether, an aliphatic hydrocarbon solvent or the like, and specific examples thereof include, for example, benzene,
Examples include toluene, tetrahydrofuran, dioxane, tetrahydropyran, dimethoxyethane, n-hexane, cyclohexane and the like. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

【0019】重合に際するモノマーの濃度は1〜50重
量%であることが好ましく、特に1〜30重量%である
ことが好ましい。又、反応は高真空下若しくはアルゴ
ン、窒素等の不活性ガス雰囲気下で攪拌して行う。反応
温度は、−100℃から使用した有機溶媒の沸点温度ま
での間で自由に選択することができるが、特にテトラヒ
ドロフラン溶媒では−78℃〜0℃、ベンゼン溶媒では
室温で反応させることが好ましい。
The concentration of the monomer in the polymerization is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 1 to 30% by weight. The reaction is carried out with stirring under a high vacuum or in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen. The reaction temperature can be freely selected from −100 ° C. to the boiling point of the organic solvent used, but it is particularly preferable to react at −78 ° C. to 0 ° C. for a tetrahydrofuran solvent and room temperature for a benzene solvent.

【0020】上記重合反応は、通常、約10分〜7時間
行う。これによって、前記(化5)又は(化6)の化合
物中のビニル基のみが選択的に反応して重合し、前者の
場合には下記(化7)の構造式で表されるポリマーが、
後者の場合には下記(化8)で表されるポリマーが得ら
れる。
The above polymerization reaction is usually carried out for about 10 minutes to 7 hours. As a result, only the vinyl group in the compound of the above (Chemical Formula 5) or (Chemical Formula 6) selectively reacts and polymerizes, and in the former case, the polymer represented by the following structural formula (Chemical Formula 7)
In the latter case, a polymer represented by the following (Formula 8) is obtained.

【0021】[0021]

【化7】 Embedded image

【化8】 Embedded image

【0022】反応の停止は、例えば、メタノール、水、
メチルブロマイド等の停止剤を反応系に添加することに
よって行う。次いで、得られた反応混合溶液を適当な溶
剤、例えばメタノール中に沈澱せしめ、洗浄、乾燥する
ことにより、重合反応によって生成したポリマーを精
製、単離することができる。
The termination of the reaction can be carried out, for example, with methanol, water,
The reaction is performed by adding a terminator such as methyl bromide to the reaction system. Next, the polymer produced by the polymerization reaction can be purified and isolated by precipitating the obtained reaction mixture solution in a suitable solvent, for example, methanol, washing and drying.

【0023】このようにして得られるポリマーの分子量
分布は狭分散(M/M=1.03〜150)であ
る。尚、上記反応におけるポリマーの収率は、ほぼ10
0%であるので、得られたポリマーの分子量は、使用し
たモノマーの重量と重合開始剤のモル数(分子数)から
容易に算出することができる。
[0023] The molecular weight distribution of the polymer thus obtained is narrow dispersion (M w / M n = 1.03~1 . 50). Incidentally, the yield of the polymer in the above reaction is approximately 10%.
Since it is 0%, the molecular weight of the obtained polymer can be easily calculated from the weight of the monomer used and the number of moles (number of molecules) of the polymerization initiator.

【0024】次に、前記(化7)で表されるポリマー中
のジメチルフェニルカルビニルシリル基、あるいは(化
8)で表されるポリマー中のt−ブチル基を脱離させ、
下記(化9)で表されるフェノール残基構造単位を有す
るポリヒドロキシスチレンを得る。
Next, the dimethylphenylcarbinylsilyl group in the polymer represented by the above formula (7) or the t-butyl group in the polymer represented by the formula (8) is eliminated,
Polyhydroxystyrene having a phenol residue structural unit represented by the following (Formula 9) is obtained.

【0025】[0025]

【化9】 Embedded image

【0026】上記の脱離反応におけるエーテル結合の切
断反応は、ジオキサン、アセトン、アセトニトリル、ベ
ンゼン等の単独又は混合溶媒中で塩酸、臭化水素酸等の
酸を滴下することによって容易に行うことができる。こ
れらの反応においては、高分子の主鎖が切断されたり、
分子間に架橋反応が起こるということがないので、前駆
体である例えばt−ブトキシポリスチレンの分子量分布
がそのまま維持されて、分子量分布の狭い狭分散のポリ
ヒドロキシスチレンを得ることができる。
The cleavage of the ether bond in the above elimination reaction can be easily carried out by adding an acid such as hydrochloric acid, hydrobromic acid or the like in a single or mixed solvent of dioxane, acetone, acetonitrile, benzene or the like. it can. In these reactions, the main chain of the polymer is cut,
Since no cross-linking reaction occurs between the molecules, the molecular weight distribution of the precursor, for example, t-butoxypolystyrene, is maintained as it is, and narrow-dispersion polyhydroxystyrene having a narrow molecular weight distribution can be obtained.

【0027】本発明における狭分散のポリヒドロキシス
チレンの水酸基を部分的にt−ブトキシカルボニルオキ
シ化する反応は、通常のt−ブトキシカルボニルオキシ
化反応によって容易に行うことができる。
In the present invention, the reaction for partially converting hydroxyl groups of narrowly dispersed polyhydroxystyrene to t-butoxycarbonyloxy can be easily carried out by a usual t-butoxycarbonyloxylation reaction.

【0028】これを具体的に説明すると、例えば、t−
ブトキシカルボニルオキシ化試薬として、クロロギ酸−
t−ブチル、ジ−t−ブチルカーボネート、t−ブトキ
シカルボニルチオ−(4,6−ジメチルピリジン)、t
−ブチルペンタクロロフェニルカーボネート、2−(t
−ブトキシカルボニルオキシイミノ)−2−フェニルア
セトニトリル等を使用し、酸トラップ溶媒としてピリジ
ン、テトラエチルアミン等を用いて、狭分散のポリヒド
ロキシスチレンの水酸基を部分的にt−ブトキシカルボ
ニルオキシ化する。この場合、必要に応じてジメチルア
ミン、4−N,Nジメチルアミノピリジン等を、t−ブ
トキシカルボニルオキシ化触媒として反応系に添加して
も良い。
To explain this concretely, for example, t-
As a butoxycarbonyloxylating reagent, chloroformic acid-
t-butyl, di-t-butyl carbonate, t-butoxycarbonylthio- (4,6-dimethylpyridine), t-butyl
-Butylpentachlorophenyl carbonate, 2- (t
-Butoxycarbonyloxyimino) -2-phenylacetonitrile and the like, and using pyridine, tetraethylamine and the like as an acid trapping solvent, the hydroxyl groups of narrowly dispersed polyhydroxystyrene are partially t-butoxycarbonyloxylated. In this case, if necessary, dimethylamine, 4-N, N-dimethylaminopyridine or the like may be added to the reaction system as a t-butoxycarbonyloxylation catalyst.

【0029】又、カリウム−t−ブトキシドを用いて、
ポリヒドロキシスチレンをカリウム塩にし、これをジ−
t−ブチルジカボーネートと反応させる方法によって
も、狭分散のポリヒドロキシスチレンの水酸基を部分的
にt−ブトキシカルボニルオキシ化することができる。
しかしながら、本発明におけるt−ブトキシカルボニル
オキシ化反応は上記反応に限定されるものではない。
Further, using potassium-t-butoxide,
Polyhydroxystyrene is converted to a potassium salt, which is
The hydroxyl group of narrowly dispersed polyhydroxystyrene can also be partially t-butoxycarbonyloxylated by a method of reacting with t-butyl dicarbonate.
However, the t-butoxycarbonyloxylation reaction in the present invention is not limited to the above reaction.

【0030】t−ブトキシカルボニルオキシ化率は、レ
ジストの現像時における溶解性の差及び架橋反応制御の
観点から1〜60%の範囲であることがが好ましく、特
に5〜45%の範囲であることが好ましい。このように
して得られる本発明の部分エステル化狭分散性ポリヒド
ロキシスチレンのt−ブトキシカルボニルオキシ化率
は、 1H−NMRスペクトルによって容易に確認するこ
とができる。
The t-butoxycarbonyloxylation rate is preferably in the range of 1 to 60%, particularly preferably in the range of 5 to 45%, from the viewpoint of the difference in solubility during development of the resist and the control of the crosslinking reaction. Is preferred. The t-butoxycarbonyloxylation rate of the partially esterified narrowly dispersible polyhydroxystyrene of the present invention thus obtained can be easily confirmed by a 1 H-NMR spectrum.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明の部分エステル化狭分散性ポリヒ
ドロキシスチレンは分子量分布が狭い上、任意の分子量
に制御することができるので、高解像度のレジスト材料
等、感光性高分子材料として好適である。又、酸現像で
きる上、製造も容易であるので本発明は極めて有意義で
ある。
The partially esterified narrowly dispersible polyhydroxystyrene of the present invention has a narrow molecular weight distribution and can be controlled to an arbitrary molecular weight, so that it is suitable as a photosensitive polymer material such as a high-resolution resist material. is there. Further, the present invention is extremely significant because acid development can be performed and production is easy.

【0032】[0032]

【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳述する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto.

【0033】合成例1:狭分散性ポリヒドロキシスチレンの合成 反応器に、p−ビニルフェノール及びそれに対して等モ
ルのジメチルフェニルカルビニルジメチルクロロシラン
を入れ、イミダゾールの存在下、ジメチルホルムアミド
溶媒中、室温下で6時間反応させた。
Synthesis Example 1 Synthesis of Narrowly Dispersible Polyhydroxystyrene In a reactor, p-vinylphenol and dimethylphenylcarbinyldimethylchlorosilane in an equimolar amount were added, and in the presence of imidazole in a dimethylformamide solvent at room temperature. The reaction was carried out for 6 hours.

【0034】生成物を減圧蒸留してp−ビニルフェノキ
シジメチルフェニルカルビニルジメチルシランを70%
の収率で得た。得られたp−ビニルフェノキシジメチル
フェニルカルビニルジメチルシランの沸点は130℃/
0.1mmHgの沸点であった。上記モノマーから水分
等の不純物を取り除くためにCaH2、ベンゾフェノン
ナトリウム等の精製剤を用いて精製し、蒸留を行った。
The product was distilled under reduced pressure to give 70% of p-vinylphenoxydimethylphenylcarbinyldimethylsilane.
In a yield of The boiling point of the obtained p-vinylphenoxydimethylphenylcarbinyldimethylsilane was 130 ° C /
The boiling point was 0.1 mmHg. Purification was performed using a purifying agent such as CaH 2 and sodium benzophenone in order to remove impurities such as moisture from the monomer, and distillation was performed.

【0035】次に1リットルのフラスコに、溶媒として
テトラヒドロフラン550ml及び重合開始剤としてn
−ブチルリチウム8.5×10-4モルを仕込んだ後、こ
の混合溶液に、50mlのテトラヒドロフランで希釈し
たp−ビニルフェノキシジメチルフェニルカルビニルジ
メチルシラン30gを−78℃で添加して1時間重合さ
せたところ、溶液は赤色を呈した。重合の終了は反応溶
液にメタノールを添加して行った。
Next, 550 ml of tetrahydrofuran as a solvent and n as a polymerization initiator are placed in a 1-liter flask.
After charging 8.5 × 10 -4 mol of -butyllithium, 30 g of p-vinylphenoxydimethylphenylcarbinyldimethylsilane diluted with 50 ml of tetrahydrofuran was added to this mixed solution at -78 ° C., followed by polymerization for 1 hour. The solution turned red. The polymerization was terminated by adding methanol to the reaction solution.

【0036】反応混合物をメタノール中に注ぎ、得られ
た重合体を沈澱させた後分離し、乾燥して24.5gの
白色重合体を得た。得られたポリ(p−ビニルフェノキ
シジメチルフェニルカルビニルジメチルシラン)20g
をアセトン250mlに溶解し、60℃で少量の濃塩酸
を加えて6時間攪拌した後水中に注ぎ、ポリマーを沈澱
させて洗浄・乾燥し、8gのポリマーを得た。得られた
ポリマーの数平均分子量は14,000であり、又、G
PC溶出曲線から非常に狭分散性の高い重合体であるこ
とが確認された。分子量分布は1.1であった。
The reaction mixture was poured into methanol, and the resulting polymer was precipitated, separated and dried to obtain 24.5 g of a white polymer. 20 g of the obtained poly (p-vinylphenoxydimethylphenylcarbinyldimethylsilane)
Was dissolved in 250 ml of acetone, a small amount of concentrated hydrochloric acid was added at 60 ° C., and the mixture was stirred for 6 hours, then poured into water, and the polymer was precipitated, washed and dried to obtain 8 g of a polymer. The number average molecular weight of the obtained polymer is 14,000,
From the PC elution curve, it was confirmed that the polymer had a very narrow dispersibility. The molecular weight distribution was 1.1.

【0037】合成例2:狭分散のポリヒドロキシスチレンの合成 原料のp−t−ブトキシスチレンモノマーを、合成例1
と同様の方法で脱水、精製処理した後、2リットルのフ
ラスコに、溶媒としてテトラヒドロフランを1,500
ml及び開始剤としてn−ブチルリチウムを8×10-3
モル仕込んだ。この混合溶液に50mlのテトラヒドロ
フランで希釈したp−t−ブトキシスチレンを−78℃
で100g添加して2時間重合したところ、この溶液は
赤色を呈した。
Synthesis Example 2 Synthesis Example 1 of narrowly dispersed polyhydroxystyrene was prepared by using pt-butoxystyrene monomer as a raw material.
After dehydration and purification in the same manner as described above, 1,500 tetrahydrofuran was added as a solvent to a 2 liter flask.
ml and n × butyl lithium as an initiator at 8 × 10 −3.
Mole charged. To this mixed solution was added pt-butoxystyrene diluted with 50 ml of tetrahydrofuran at -78 ° C.
When 100 g was added and polymerization was carried out for 2 hours, the solution turned red.

【0038】所望の重合度に達したことを確認した後、
反応溶液にメタノールを添加して重合反応を終了させ、
次いで反応混合物をメタノール中に注いで得られた重合
体を沈澱させた後、分離・乾燥して80gの白色重合体
を得た。
After confirming that the desired degree of polymerization has been reached,
The polymerization reaction was terminated by adding methanol to the reaction solution,
Then, the reaction mixture was poured into methanol to precipitate the obtained polymer, which was separated and dried to obtain 80 g of a white polymer.

【0039】次に、得られたポリ(p−t−ブトキシス
チレン)20gをアセトン250mlに溶解し、60℃
で少量の濃塩酸を加えて6時間攪拌した後、水中に注い
でポリマーを沈澱させ、洗浄・乾燥して13gのポリマ
ーを得た。得られたポリマーの数平均分子量は9,00
0であった。又、GPC溶出曲線から、非常に狭分散性
の高い重合体であることが確認された。分子量分布は
1.1であった。
Next, 20 g of the obtained poly (pt-butoxystyrene) was dissolved in 250 ml of acetone.
Then, a small amount of concentrated hydrochloric acid was added thereto, and the mixture was stirred for 6 hours, then poured into water to precipitate a polymer, and washed and dried to obtain 13 g of a polymer. The number average molecular weight of the obtained polymer is 9,00
It was 0. From the GPC elution curve, it was confirmed that the polymer was very narrow in dispersibility. The molecular weight distribution was 1.1.

【0040】実施例1.合成例1で得られたポリヒドロ
キシスチレン(分子量14,000、分子量分布1.
1)10gをピリジン90mlに溶解し、45℃で攪拌
しながら二炭酸ジ−t−ブチルを2g(約20モル%)
添加した。添加と同時にガスが発生したが、そのまま窒
素気流中で1時間反応させた後、反応液を濃塩酸40g
を含む水1.5リットル中に滴下し、白色の沈澱物を得
た。
Embodiment 1 Polyhydroxystyrene obtained in Synthesis Example 1 (molecular weight 14,000, molecular weight distribution 1.
1) 10 g was dissolved in 90 ml of pyridine, and 2 g (about 20 mol%) of di-t-butyl dicarbonate was stirred at 45 ° C.
Was added. A gas was generated at the same time as the addition, but the reaction was allowed to proceed for 1 hour in a nitrogen stream.
Was added dropwise to 1.5 liters of water containing, to obtain a white precipitate.

【0041】沈澱物を濾過した後、アセトン50mlに
溶解し、1.5リットルの水中に滴下した。沈澱物を濾
過した後、40℃以下で真空乾燥した。このようにして
得られたt−ブトキシカルボニル基で部分エステル化し
た狭分散性ポリヒドロキシスチレンの分子量分布は図1
に示すように非常に狭分散であり、Mw /Mn は1.1
0であった。
After the precipitate was filtered, the precipitate was dissolved in 50 ml of acetone and added dropwise to 1.5 l of water. After the precipitate was filtered, the precipitate was vacuum dried at 40 ° C. or lower. The molecular weight distribution of the narrow-dispersion polyhydroxystyrene partially esterified with the t-butoxycarbonyl group thus obtained is shown in FIG.
, The dispersion is very narrow, and M w / M n is 1.1
It was 0.

【0042】又、 1H−NMRスペクトル(表1)か
ら、ポリヒドロキシスチレンの水酸基が部分的に、t−
ブトキシカルボニルオキシ化されていることが確認さ
れ、積分比から、t−ブトキシカルボニル基の導入率が
19%であることが判明した。
From the 1 H-NMR spectrum (Table 1), the hydroxyl groups of the polyhydroxystyrene were partially changed to t-
Butoxycarbonyloxylation was confirmed, and the integration ratio revealed that the introduction ratio of t-butoxycarbonyl group was 19%.

【表1】 [Table 1]

【0043】実施例2.合成例2で得られたポリヒドロ
キシスチレン(分子量9,000、分子量分布1.4)
10gをピリジン90mlに溶解させ、45℃で攪拌し
ながら二炭化ジ−t−ブチルを4g(約40モル%)添
加した。添加と同時にガスが発生したが、そのまま窒素
気流中で1時間反応させた後、濃塩酸40gを含む水
1.5リットル中に反応液を滴下して白色の沈澱を得、
濾過した。
Embodiment 2 FIG. Polyhydroxystyrene obtained in Synthesis Example 2 (molecular weight 9,000, molecular weight distribution 1.4)
10 g was dissolved in 90 ml of pyridine, and 4 g (about 40 mol%) of di-t-butyl dicarbide was added while stirring at 45 ° C. A gas was generated at the same time as the addition. After reacting for 1 hour in a nitrogen stream, the reaction solution was dropped into 1.5 liter of water containing 40 g of concentrated hydrochloric acid to obtain a white precipitate.
Filtered.

【0044】次いでアセトン100mlに溶解させ、
1.5リットルの水中に滴下し、沈澱物を濾過した後、
40℃以下で真空乾燥した。このようにして得られたt
−ブトキシカルボニル基で部分エステル化した狭分散性
ポリヒドロキシスチレンの分子量分布は図2に示すよう
に非常に狭分散であり、Mw /Mn は1.12であっ
た。
Then, it is dissolved in 100 ml of acetone,
After dripping into 1.5 liters of water and filtering the precipitate,
Vacuum dried at 40 ° C. or less. The t thus obtained
The molecular weight distribution of the narrow-dispersion polyhydroxystyrene partially esterified with -butoxycarbonyl group was very narrow-dispersion as shown in FIG. 2, and M w / M n was 1.12.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1で得られたt−ブトキシカルボニル基
で部分エステル化した狭分散ポリヒドロキシスチレンの
GPCによる分子量分布曲線である。
FIG. 1 is a GPC molecular weight distribution curve of a narrowly dispersed polyhydroxystyrene partially esterified with a t-butoxycarbonyl group obtained in Example 1.

【図2】実施例2で得られたt−ブトキシカルボニル基
で部分エステル化した狭分散ポリヒドロキシスチレンの
GPCによる分子量分布曲線である。
FIG. 2 is a GPC molecular weight distribution curve of the narrow-dispersion polyhydroxystyrene partially esterified with a t-butoxycarbonyl group obtained in Example 2.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 素行 神奈川県川崎市高津区坂戸100−1 か ながわサイエンスパーク アールアンド デービル エー12エフ 信越化学工業株 式会社コーポレートリサーチセンター内 (72)発明者 田中 啓順 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (72)発明者 伴 弘司 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (72)発明者 河合 義夫 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08F 8/14 C08F 12/00 - 12/24 C08F 212/00 - 212/14──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Motoyuki Yamada 100-1 Sakado, Takatsu-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Kanagawa Science Park R & D Building A12F Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Corporate Research Center (72) Invention Person Keijun Tanaka 1-1-6 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Koji Ban 1-6-6 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Yoshio Kawai 1-6, Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) C08F 8/14 C08F 12/00-12/24 C08F 212 / 00-212/14

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 下記構造式(化1)及び(化2)で表さ
れる繰り返し単位を有、t−ブトキシカルボニル基で
部分エステル化されていると共に、数平均分子量M
対する重量平均分子量M の比M /M が1.03〜
1.50であることを特徴とする狭分散性ポリヒドロキ
シスチレン。 【化1】 【化2】
[Claim 1] have a repeating unit represented by the following structural formula (Formula 1) and (Formula 2), along with being partially esterified with t- butoxycarbonyl group, the number average molecular weight M n
The ratio M w / M n of the weight average molecular weight M w to the weight average molecular weight M w is 1.03 to
1. A narrowly dispersible polyhydroxystyrene having a ratio of 1.50 . Embedded image Embedded image
【請求項2】 数平均分子量M に対する重量平均分子
量M の比M /M が1.03〜1.50である狭分
散性ポリヒドロキシスチレンを、t−ブトキシカルボニ
ル基で部分エステル化することを特徴とする、t−ブト
キシカルボニル基で部分エステル化された狭分散性ポリ
ヒドロキシスチレンの製造方法。
Wherein the weight average molecular to number average molecular weight M n
Narrowly dispersible polyhydroxystyrene having a ratio Mw / Mn of 1.03 to 1.50 in an amount Mw is partially esterified with a t-butoxycarbonyl group. A method for producing a partially esterified narrowly dispersible polyhydroxystyrene.
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