JP2744341B2 - Access method, information processing method and information processing apparatus using the same - Google Patents

Access method, information processing method and information processing apparatus using the same

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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はアクセス方法及びこれを利用した情報の記録
/再生/消去を含めた情報処理方法及び情報処理装置に
関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an access method and an information processing method and an information processing apparatus including recording / reproducing / erasing of information using the same.

更に詳しくは、走査型トンネル顕微鏡(STM)の原理
を利用した情報の記録・再生・消去を含めた処理におい
て、複数の記録領域あるいは再生領域へのプローブ電極
の高速アクセスを可能にしたアクセス方法及びこれを利
用した情報処理方法及び情報処理装置に関する。
More specifically, in a process including recording, reproduction, and erasure of information using the principle of a scanning tunneling microscope (STM), an access method that enables high-speed access of a probe electrode to a plurality of recording areas or reproduction areas. The present invention relates to an information processing method and an information processing device using the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、メモリ材料の用途は、コンピユータおよびその
関連機器、ビデオデイスク、デジタルオーデイオデイス
ク等のエレクトロニクス産業の中核をなすものであり、
その材料開発も極めて活発に進んでいる。メモリ材料に
要求される性能は用途により異なるが、一般的には、 高密度で記録容量が大きい、 記録再生の応答速度が早い、 消費電力が少ない、 生産性が高く、価格が安い、 等が挙げられる。
In recent years, the use of memory materials has become the core of the electronics industry such as computers and related equipment, video discs, digital audio discs,
The development of the material is also very active. The performance required for memory materials varies depending on the application, but in general, high density, large recording capacity, fast response time for recording and reproduction, low power consumption, high productivity, low price, etc. No.

従来までは磁性体や半導体を素材とした半導体メモリ
や磁気メモリが主であったが、近年レーザー技術の進展
にともない、有機色素、フオトポリマーなどの有機薄膜
を用いた光メモリによる安価で高密度な記録媒体が登場
してきた。
Until now, semiconductor memories and magnetic memories using magnetic materials and semiconductors as the main material were mainly used.However, with the development of laser technology in recent years, inexpensive and high-density optical memories using organic thin films such as organic dyes and photopolymers have been developed. Recording media has appeared.

一方、最近、導体の表面原子の電子構造を直接観察で
きる走査型トンネル顕微鏡(以後、STMと略す)が開発
され〔G.Binnig et al.Phys.Rev.Lett,49,57(198
2)〕、単結晶、非質晶を問わず実空間像の高い分解能
の測定ができるようになり、しかも媒体に電流による損
傷を与えずに低電力で観測できる利点をも有し、さらに
大気中でも動作し、種々の材料に対して用いることがで
きるため広範囲な応用が期待されている。
On the other hand, recently, a scanning tunneling microscope (hereinafter abbreviated as STM) capable of directly observing the electronic structure of surface atoms of a conductor has been developed [G. Binnig et al. Phys. Rev. Lett, 49, 57 (198
2)], it is possible to measure real space images with high resolution irrespective of single crystal or non-crystalline crystal, and has the advantage that it can be observed with low power without damaging the medium due to electric current. Above all, it operates and can be used for various materials, so that a wide range of applications is expected.

STMは金属の深針(プローブ電極)と導電性物質の間
に加えて1nm程度の距離まで近づけるとトンネル電流が
流れることを利用している。この電流は両者の距離変化
に非常に敏感である、トンネル電流を一定に保つように
深針を走査することにより実空間の表面構造を描くこと
ができると同時に表面電子の全電子雲に関する種々の情
報をも読み取ることができる。この際、面内方向の分解
能は0.1nm程度である。
STM utilizes the fact that a tunnel current flows when the distance between the deep needle (probe electrode) of a metal and a conductive substance is reduced to about 1 nm. This current is very sensitive to changes in the distance between the two.By scanning the deep needle to keep the tunnel current constant, it is possible to draw the surface structure in real space, and at the same time, various types of surface electron clouds related to the total electron cloud Information can also be read. At this time, the resolution in the in-plane direction is about 0.1 nm.

従って、STMの原理を応用すれば十分に原子オーダー
(サブ・ナノメートル)での高密度記録再生を行うこと
が可能である。この際の記録再生方法としては、粒子線
(電子線、イオン線)或いはX線等の高エネルギー電磁
波及び可視・紫外光等のエネルギー線を用いて適当な記
録層の表面状態を変化させて記録を行い、STMで再生す
る方法や、記録層として電圧電流のスイツチング特性に
対してメモリ効果をもつ材料、例えばπ電子系有機化合
物やカルコゲン化物類の薄膜層を用いて、記録・再生を
STMを用いて行う方法等が提案されている〔特開昭63−1
61552号公報、特開昭63−161553号公報〕。例えば、こ
の方法によれば、記録のビツトサイズを10nmとすれば、
1012bit/cm2もの大容量記録再生が可能である。
Therefore, if the principle of STM is applied, it is possible to perform high-density recording / reproduction sufficiently in the atomic order (sub-nanometer). As a recording / reproducing method at this time, recording is performed by changing the surface state of an appropriate recording layer using a high-energy electromagnetic wave such as a particle beam (electron beam, ion beam) or X-ray or an energy beam such as visible or ultraviolet light. Recording / reproducing using a method of reproducing by STM, or a material having a memory effect on the switching characteristics of voltage and current as a recording layer, for example, a thin film layer of a π-electron organic compound or chalcogenide.
A method using STM has been proposed [Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 61552, JP-A-63-161553]. For example, according to this method, if the recording bit size is 10 nm,
Large capacity recording and reproduction of 10 12 bit / cm 2 is possible.

上記従来例の実現にあたっては、プローブ電極と記録
媒体の相対位置決めにナノ・メートル以下の精度を要
し、かつ、装置の高剛性(共振周波数の高い構造)及
び、記録・再生時の高速性も合わせ持つことが要求され
る。
In order to realize the above conventional example, the positioning of the probe electrode and the recording medium relative to each other requires accuracy of nanometers or less, and the device has high rigidity (a structure having a high resonance frequency) and high speed during recording / reproducing. It is required to have together.

現状でこれらの性能を満足する駆動素子は、ピエゾ電
歪素子であるが、耐圧からくるストロークの実用限界は
10μm程度であるため、プローブ電極と記録媒体の相対
位置決めの駆動機構にピエゾ電歪素子を単独に用いたの
では、記録領域が10μm□と小さくなり、記録容量は10
6bit/cm2と小さくなってしまう。したがって、大容量化
のためには駆動機構に粗動を組み合わせる必要が生じ、
粗動領域からピエゾ電歪素子による微動領域への引き込
みの際に、粗動精度より大きな構造を持つ、微動用位置
基準パターンを設ける必要があった。
At present, the driving element that satisfies these performances is a piezo-electrostrictive element.
Since the piezoelectric element is used alone for the drive mechanism of the relative positioning between the probe electrode and the recording medium, the recording area becomes as small as 10 μm and the recording capacity becomes 10 μm.
It becomes as small as 6 bit / cm 2 . Therefore, in order to increase the capacity, it is necessary to combine the drive mechanism with the coarse movement.
When pulling in from the coarse movement region to the fine movement region by the piezo-electrostrictive element, it is necessary to provide a fine movement position reference pattern having a structure larger than the coarse movement accuracy.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

ところが、かかる方法では、微動用位置基準パターン
を2次元走査して、その2次元像から微動領域の位置決
めを行うため、プローブ電極の記録領域へのアクセスの
際、プローブ電極の2次元走査、2次元画像データ処理
に長時間を要するという欠点がある。
However, in this method, since the fine movement position reference pattern is two-dimensionally scanned and the fine movement area is positioned based on the two-dimensional image, the two-dimensional scanning of the probe electrode is performed when accessing the recording area of the probe electrode. There is a disadvantage that it takes a long time to process the dimensional image data.

そこで本発明の目的は、かかる欠点を解消し、複数の
記録領域もしくは再生領域へのプローブ電極のアクセス
を高精度及び高速で行い、且つ大容量の記録を行うこと
が可能なアクセス方法及びこれを利用した情報処理方
法、情報処理装置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to solve such a drawback, and to provide an access method capable of performing access of a probe electrode to a plurality of recording areas or reproduction areas with high accuracy and high speed and performing large-capacity recording, and an access method capable of performing large-capacity recording. An object of the present invention is to provide an information processing method and an information processing apparatus that are used.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

上記の目的は、以下の本発明によって達成される。 The above object is achieved by the present invention described below.

即ち本発明は、基準点をもつフオーマツトパターンを
有する媒体に対してプローブ電極をフオーマツトパター
ンの基準点にアクセスする方法であって、プローブ電極
がフオーマツトパターン上を横切るように該プローブ電
極を走査し、かかる走査により生じる電流の変化を検出
する工程、検出された電流の変化に基づいてフオーマツ
トパターンの基準点を検知し、検知した基準点にプロー
ブ電極を移動させる工程とを含むことを特徴とするアク
セス方法である。
That is, the present invention relates to a method of accessing a probe electrode to a reference point of a format pattern for a medium having a format pattern having a reference point, wherein the probe electrode is moved so that the probe electrode crosses the format pattern. Scanning, detecting a change in current caused by such scanning, detecting a reference point of the format pattern based on the detected change in current, and moving the probe electrode to the detected reference point. This is a characteristic access method.

又、本発明は、基準点をもつフオーマツトパターンを
有する媒体に対してプローブ電極をフオーマツトパター
ン上を横切るように該プローブ電極を走査し、かかる走
査により生じる電流の変化を検出する工程、検出された
電流の変化に基づいてフオーマツトパターンの基準点を
検知し、検知した基準点にプローブ電極を移動させる工
程、該プローブ電極をフオーマツトパターンに沿って走
査させてフオーマツトパターンに沿って情報の記録を行
う工程を含むことを特徴とする情報処理方法である。
The present invention also provides a method of scanning a probe electrode across a medium having a format pattern having a reference point so as to cross the probe electrode on the format pattern, and detecting a change in current caused by the scanning. Detecting a reference point of the format pattern based on the change in the detected current, and moving the probe electrode to the detected reference point; scanning the probe electrode along the format pattern to obtain information along the format pattern. An information processing method characterized by including a step of recording information.

更に本発明は、基準点をもつフオーマツトパターンに
沿って情報が記録された媒体に対して、プローブ電極が
フオーマツトパターン上を横切るようにプローブ電極を
走査し、かかる走査により生じる電流の変化を検出する
工程、検出された電流の変化に基づいてフオーマツトパ
ターンの基準点を検知し、検知した基準点にプローブ電
極を移動させる工程、該プローブ電極をフオーマツトパ
ターンに沿って走査させて、記録されている情報を電流
を検知して読み出す工程を含むことを特徴とする情報処
理方法である。
Further, according to the present invention, the probe electrode scans the medium on which information is recorded along the format pattern having the reference point so that the probe electrode crosses the format pattern, and a change in current caused by the scanning is detected. Detecting, detecting a reference point of the format pattern based on a change in the detected current, moving the probe electrode to the detected reference point, scanning the probe electrode along the format pattern, and recording. An information processing method characterized by including a step of detecting and reading current information that has been read.

本発明は、基準点をもつフオーマツトパターンに沿っ
て情報が記録された媒体に対して、プローブ電極がフオ
ーマツトパターン上を横切るようにプローブ電極を走査
し、かかる走査により生じる電流の変化を検出する工
程、検出された電流の変化に基づいてフオーマツトパタ
ーンの基準点を検知し、検知した基準点にプローブ電極
を移動させる工程、該プローブ電極をフオーマツトパタ
ーンに沿って走査させて、記録されている情報を消去す
る工程を含むことを特徴とする情報処理方法である。
The present invention scans a probe electrode on a medium on which information is recorded along a format pattern having a reference point so that the probe electrode crosses the format pattern, and detects a change in current caused by the scanning. Detecting the reference point of the format pattern based on the detected change in the current, moving the probe electrode to the detected reference point, scanning the probe electrode along the format pattern, and recording An information processing method characterized by including a step of erasing existing information.

本発明は、基準点をもつフオーマツトパターンを有す
る記録媒体、該記録媒体に近接して配置されたプローブ
電極及び該プローブ電極を円走査させるための円走査駆
動機構を備えたことを特徴とする情報処理装置である。
The present invention is characterized by comprising a recording medium having a format pattern having a reference point, a probe electrode arranged close to the recording medium, and a circular scanning drive mechanism for making the probe electrode circularly scan. It is an information processing device.

〔好ましい態様〕(Preferred embodiment)

本発明の好ましい態様によれば、記録・再生用のプロ
ーブ電極を円走査しながら記録媒体に電圧を印加して記
録・再生を行なう際、あらかじめ記録領域の中心部分に
円周状のフオーマツト・パターンを記録し、プローブ電
極を円周状に走査して、走査パターンとフオーマツト・
パターンの位置関係を検知し、記録領域へのプローブ電
極のアクセスを行なうことにより、簡単でかつ高精度、
高速のアクセスが可能な大容量の情報処理装置を実現す
るものである。
According to a preferred aspect of the present invention, when applying a voltage to a recording medium while circularly scanning a recording / reproducing probe electrode to perform recording / reproducing, a circumferential format pattern is preliminarily formed at a central portion of a recording area. Is recorded, and the probe electrode is scanned in the circumferential direction, and the scanning pattern and the format
By detecting the positional relationship of the pattern and accessing the probe area to the recording area,
A large-capacity information processing device capable of high-speed access is realized.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の好ましい態様を示す図である。同図
において、基板電極101としてガラスや雲母などの平坦
な基板上の金のエピタキシヤル成長面やグラフアイトへ
き開面を用いる。記録層102としてスクアリリユウム−
ビス−6−オクチルアズレン(以下SOAZと略す)を用
い、ラングミユア・プロジエツト法によって、単分子膜
2層の累積膜を基板電極101表面上に形成する。次に縦
方向駆動機構103によって、プローブ電極104を記録層10
2の所望の位置に対して、サブ・ナノメートル程度の距
離まで近接させる。ここでプローブ電極104には、タン
グステン線等を電解研磨したものや、白金線等を機械的
切断したもので、先端が尖鋭(曲率半径<1μm)で導
電性のあるものを用いる。縦方向駆動機構103には、PZT
素子等を用い、バイアス電源105によって基板電極101と
プロープ電極104の間に0.1〜1V程度の電圧(バイアス電
圧)を印加し、両者の間に流れるプローブ電流をプロー
ブ電極検出器106によって検出し、プローブ電流値Ipが1
0-10AIp10-8Aの間でほぼ一定になるようにサーボ回
路107により、プローブ電極104と基板電極101の間の距
離を調節する。
FIG. 1 shows a preferred embodiment of the present invention. In this figure, a substrate growth surface of gold or a cleavage surface of graphite is used as a substrate electrode 101 on a flat substrate such as glass or mica. Squarylium- as the recording layer 102
Using bis-6-octylazulene (hereinafter abbreviated as SOAZ), a two-layer monomolecular film is formed on the surface of the substrate electrode 101 by a Langmuir project method. Next, the probe electrode 104 is moved to the recording layer 10 by the vertical driving mechanism 103.
2. Close the desired position to a distance of about sub-nanometer. Here, as the probe electrode 104, a tungsten wire or the like which is electrolytically polished, or a platinum wire or the like which is mechanically cut, which has a sharp tip (curvature radius <1 μm) and has conductivity is used. The vertical drive mechanism 103 has PZT
Using a device or the like, a voltage (bias voltage) of about 0.1 to 1 V is applied between the substrate electrode 101 and the probe electrode 104 by a bias power supply 105, and a probe current flowing between the two is detected by a probe electrode detector 106, Probe current value Ip is 1
The distance between the probe electrode 104 and the substrate electrode 101 is adjusted by the servo circuit 107 so as to be substantially constant between 0 -10 AIp10 -8 A.

情報の記録/消去は次のように行なう。記録/消去信
号発生器108からの信号を基板電極101とプローブ電極10
4の間に加え、プローブ電極104先端に近接した記録層10
2の所望の位置で情報の記録/消去を行なう。情報の再
生についても同様に、バイアス電源105によって読み取
り用バイアス電圧を基板電極101とプローブ電極104の間
に加え、プローブ電極104先端に近接した記録層102の所
望の位置で情報の再生を行なう。具体的には、プローブ
電極104と基板電極101との間に電気メモリー効果を生じ
る閾値電圧を越えなていない電圧である1.5Vの読み取り
用電圧を印加して電流値を測定したところ、μA以下で
OFF状態を示した。次にON状態を生じる閾値電圧Vth-ON
以上の電圧である第5図に示した波形をもつ三角波パル
ス電圧を印加したのち、再生のため再び1.5Vの電圧を電
極間に印加して電流を測定したところ0.7mA程度の電流
が流れON状態となっていたことを示した。すなわちON状
態が記録された。次にON状態からOFF状態へ変化する閾
値電圧Vth-OFF以上の電圧であるピーク電圧5V、パルス
巾1μsの三角波パルス電圧を印加したのち、再生のた
め再び1.5Vを印加したところ、この時の電流値はμA以
下でOFF状態に戻ることが確認された。
Recording / erasing of information is performed as follows. The signal from the recording / erasing signal generator 108 is applied to the substrate electrode 101 and the probe electrode 10.
4 and the recording layer 10 close to the tip of the probe electrode 104.
2. Recording / erasing of information at a desired position. Similarly, in reproducing information, a bias voltage for reading is applied between the substrate electrode 101 and the probe electrode 104 by the bias power supply 105, and the information is reproduced at a desired position of the recording layer 102 close to the tip of the probe electrode 104. Specifically, a current value was measured by applying a reading voltage of 1.5 V, which is a voltage not exceeding a threshold voltage that causes an electric memory effect, between the probe electrode 104 and the substrate electrode 101, and the current value was μA or less. so
OFF state was shown. Next, the threshold voltage V th-ON that causes the ON state
After applying the triangular pulse voltage having the waveform shown in FIG. 5 as the above voltage, a voltage of 1.5 V was applied again between the electrodes for reproduction, and a current of about 0.7 mA flowed. The state was shown. That is, the ON state was recorded. Next, after applying a triangular wave pulse voltage having a peak voltage of 5 V which is a voltage equal to or higher than the threshold voltage V th-OFF which changes from an ON state to an OFF state and a pulse width of 1 μs, 1.5 V is again applied for reproduction. It was confirmed that the current value returned to the OFF state at μA or less.

尚、本発明で言う電気メモリー効果とは、電圧印加に
対応して少なくとも2つ以上の異なる抵抗状態を示し、
各状態間は、記録層の導電率を変化させる閾値を越えた
電圧又は電流を印加することにより自由に遷移し、又得
られた各抵抗状態は閾値を越えない電圧又は電流を印加
する限りに於いてその状態を保持し得ることを言う。
Note that the electric memory effect referred to in the present invention indicates at least two or more different resistance states in response to voltage application,
The transition between the states can be freely made by applying a voltage or current exceeding a threshold value that changes the conductivity of the recording layer, and the obtained resistance states can be changed as long as a voltage or current that does not exceed the threshold value is applied. In that state can be maintained.

又、記録層を構成する材料の具体例としては、例えば (1)酸化物ガラスやホウ酸塩ガラスあるいは周期律表
III、IV、V、VI族元素と化合したSe、Te、Asを含んだ
カルコゲン化物ガラス等のアモルフアス半導体が挙げら
れる。それらは光学的バンドギヤツプEgが0.6〜1.4eVあ
るいは電気的活性化エネルギーΔEが0.7〜1.6eV程度の
真性半導体である。カルコゲン化物ガラスの具体例とし
ては、As−Se−Te系、Ge−As−Se系、Si−Ge−As−Te
系、例えばSi16Ge14As5Te65(添字は原子%)、あるい
はGe−Te−X系、Si−Te−X系(X=少量のV、IV族元
素)例えばGe15Te81Sb2S2が挙げられる。更にはGe−Sb
−Se系カルコゲン化物ガラスを用いることができる。
Further, specific examples of the material constituting the recording layer include, for example, (1) oxide glass, borate glass, or a periodic table.
Amorphous semiconductors such as chalcogenide glasses containing Se, Te, and As combined with Group III, IV, V, and VI elements are included. They are intrinsic semiconductors having an optical band gap Eg of 0.6 to 1.4 eV or an electric activation energy ΔE of about 0.7 to 1.6 eV. Specific examples of chalcogenide glasses include As-Se-Te, Ge-As-Se, and Si-Ge-As-Te.
System, for example, Si 16 Ge 14 As 5 Te 65 (subscript is atomic%), or Ge-Te-X system, Si-Te-X system (X = a small amount of V, group IV element) such as Ge 15 Te 81 Sb 2 S 2, and the like. Furthermore, Ge-Sb
-Se-based chalcogenide glass can be used.

(2)更にはテトラシアノキノジメタン(TCNQ)、TCNQ
誘導体、例えばテトラフルオロテトラシアノキノジメタ
ン(TCNQF4)、テトラシアノエチレン(TCNE)およびテ
トラシアノナフトキノジメタン(TNAP)などの電子受容
性化合物と銅や銀などの還元電位が比較的低い金属との
塩を電極上に堆積した有機半導体層も挙げることができ
る。
(2) Further, tetracyanoquinodimethane (TCNQ), TCNQ
Derivatives, for example, electron-accepting compounds such as tetrafluorotetracyanoquinodimethane (TCNQF 4 ), tetracyanoethylene (TCNE) and tetracyanonaphthoquinodimethane (TNAP), and metals having relatively low reduction potential such as copper and silver. And an organic semiconductor layer having a salt deposited on an electrode.

係る有機半導体層の形成法としては、銅あるいは銀の
電極上に前記電子受容性化合物を真空蒸着する方法が用
いられる。
As a method of forming such an organic semiconductor layer, a method of vacuum-depositing the electron-accepting compound on a copper or silver electrode is used.

(3)また更にはπ電子準位をもつ群とσ電子準位のみ
を有する群を併有する分子を電極上に積層した記録媒体
を挙げることができる。
(3) Further, a recording medium in which a molecule having both a group having a π-electron level and a group having only a σ-electron level is laminated on an electrode can be given.

本発明に好適なπ電子系を有する色素の構造としては
例えば、フタロシアニン、テトラフエニルポルフイリン
等のポルフイリン骨格を有する色素、スクアリリウム基
及びクロコニツクメチン基を結合鎖としてもつアズレン
系色素及びキノリン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサ
ゾール等の2ケの含窒素複素環をスクアリリウム基及び
クロコニツクメチン基により結合したシアニン系類似の
色素、またはシアニン色素、アントラセン及びピレン等
の縮合多環芳香族、及び芳香族及び複素環化合物が重合
した鎖状化合物及びジアセチレン基の重合体、さらには
テトラシアノキノジメタンまたはテトラチアフルバレン
の誘導体およびその類縁体およびその電荷移動錯体また
は更にはフエロセン、トリスビピリジンルテニウム錯体
等の金属錯体化合物が挙げられる。
Examples of the structure of the dye having a π-electron system suitable for the present invention include, for example, phthalocyanine, a dye having a porphyrin skeleton such as tetraphenylporphyrin, an azulene-based dye having a squarylium group and a croconite methine group as a bonding chain, and quinoline. Cyanine-like dyes in which two nitrogen-containing heterocycles such as benzothiazole and benzoxazole are bonded by a squarylium group and a croconite methine group, or cyanine dyes, condensed polycyclic aromatics such as anthracene and pyrene, and aromatic and A chain compound in which a heterocyclic compound is polymerized and a polymer of a diacetylene group, furthermore, a derivative of tetracyanoquinodimethane or tetrathiafulvalene and an analog thereof and a charge transfer complex thereof, or even a ferrocene or trisbipyridine ruthenium complex. Metal complex compound And the like.

以上の如き低分子材料に加えて、各種の高分子材料を
利用することも可能である。
In addition to the above low-molecular materials, various high-molecular materials can be used.

例えばポリアクリル酸誘導体等の付加重合体、ポリイ
ミド又はポリフエニン、ポリチオフエン等の縮合重合
体、ナイロン等の開環重合体、あるいはポリペプチドや
バクテリオロドプシン等の生体高分子材料を挙げること
ができる。
Examples thereof include addition polymers such as polyacrylic acid derivatives, condensation polymers such as polyimide or polyphenine and polythiophene, ring-opening polymers such as nylon, and biopolymer materials such as polypeptides and bacteriorhodopsin.

次に、情報の記録/再生におけるプローブ電極に位置
制御について、第2図〜第4図を用いて説明する。プロ
ーブ電極104の円走査駆動機構109として、例えば第2図
に示すような分割電極パターンを持つ円筒型ピエゾ素子
を用い、円走査駆動回路110により、各分割電極201〜20
4にそれぞれ次のような電圧 但し、 ω :角速度 V(t) :電圧の振幅 A、B :定数 Vos、Vos′ :プローブ位置微調用DCオフセツ
ト電圧(後述) を、印加することによって、プローブ電極104をら旋状
に動作させながら前述した方法で、プローブ電極104を
基板電極101との間に三角波パルス電圧を印加して、0.0
01μm〜0.1μmの間の種々のピツチでON状態を書き込
み連続したデータを記録層102上のある記録領域にら旋
状に記録した。なお、ここで各分割電極201〜204に印加
する電圧の振幅を V(t)=C・Int(ωt/2π)+D 但し、C、D:定数、Int(x)はxの整数部とする
と、同心円状の記録を行なうことができる。次に、記録
時とまったく同等にプローブ電極104をら旋状に動作さ
せながらプローブ電極104と基板電極101との間に1.5Vの
電圧を印加して再生を行ったところ、0.01μm以下の分
解能で、かつ一定の速度で連続データ信号を読み出すこ
とができた。
Next, position control of the probe electrode in recording / reproducing of information will be described with reference to FIGS. As the circular scanning drive mechanism 109 of the probe electrode 104, for example, a cylindrical piezo element having a divided electrode pattern as shown in FIG.
4 Each voltage as follows Here, ω: angular velocity V (t): voltage amplitude A, B: constant Vos, Vos ′: probe offset fine adjustment DC offset voltage (described later) is applied to operate the probe electrode 104 spirally. While applying the triangular pulse voltage between the probe electrode 104 and the substrate electrode 101 in the manner described above,
The ON state was written by various pitches between 01 μm and 0.1 μm, and continuous data was spirally recorded in a certain recording area on the recording layer 102. Here, the amplitude of the voltage applied to each of the divided electrodes 201 to 204 is V (t) = C · Int (ωt / 2π) + D where C and D are constants, and Int (x) is an integer part of x. And concentric recording can be performed. Next, reproduction was performed by applying a voltage of 1.5 V between the probe electrode 104 and the substrate electrode 101 while operating the probe electrode 104 in a helical manner exactly as in recording, and a resolution of 0.01 μm or less was obtained. And a continuous data signal could be read at a constant speed.

さて複数の記録領域へのプローブ電極104のアクセス
の方法について説明する。第3図に示すように、初期媒
体(第3図(a))にあらかじめフオーマツトを行な
う。すなわち、各記録領域a−1、a−2、…、b−
1、b−2、…のほぼ中心部分に前述の記録方法で、基
準点をもつ(本例では中心をもつ)フオーマツト・パタ
ーン301の記録ビツトを第3図(b)のように記録す
る。このとき各記録領域の中心へのプローブ電極104の
位置決めは、マイクロコンピユータ111の設定値に従
い、粗動駆動回路112、粗動機構113によって行い、円状
のフオーマツト・パターン301の記録の際のプローブ電
極104の駆動はマイクロコンピユータ111の設定値に従
い、円走査駆動回路110、円走査駆動機構109によって行
う。ここで各領域の番地情報データを各フオーマツト・
パターン中に記録しておく。フオーマツト後の記録媒体
102に対して、所望の記録領域へのプローブ電極104のア
クセスの方法は、第4図に示すようにまず該記録領域の
フオーマツト・パターンの内側にプローブ電極先端を位
置決めする(第4図(a))。
Now, a method of accessing the probe electrode 104 to a plurality of recording areas will be described. As shown in FIG. 3, the initial medium (FIG. 3 (a)) is pre-formatted. That is, each recording area a-1, a-2,.
The recording bit of the format pattern 301 having a reference point (having the center in this example) is recorded at substantially the center of 1, b-2,... As shown in FIG. 3 (b). At this time, the positioning of the probe electrode 104 at the center of each recording area is performed by the coarse movement driving circuit 112 and the coarse movement mechanism 113 in accordance with the set value of the micro computer 111, and the probe for recording the circular format pattern 301 is formed. The driving of the electrode 104 is performed by the circular scanning driving circuit 110 and the circular scanning driving mechanism 109 according to the set value of the microcomputer 111. Here, the address information data of each area is
Record it in the pattern. Recording medium after format
In the method of accessing the probe electrode 104 to a desired recording area with respect to 102, as shown in FIG. 4, first, the tip of the probe electrode is positioned inside the format pattern of the recording area (FIG. )).

この位置決めは、粗動機能113によって行なうが、フ
オーマツト・パターンの内側にプローブ電極先端が必ず
入ることが保障されているために、フオーマツト・パタ
ーンの半径は、粗動機構の位置決め精度より大きいこと
が必要である。次いで、第4図(b)のようにプローブ
電極先端の円走査(円走査の半径は、フオーマツト・パ
ターンの半径よりやや小さめにとる)を行なう。このと
き、記録領域の中心と円走査の中心とが一致していなけ
れば、プローブ電極は円走査中に第4図(b′)のよう
にフオーマツト・パターン・ビツトを検出し、検出位置
(間隔Δθと中点の位置θ)から、中心の位置ずれ方
向及びずれ量(図中では、記録領域中心に対して2時の
方向に円走査中心がずれている)を検知することができ
る。ここで、円走査駆動機構109に印加する駆動電圧V+X
〜V-Yに前述したようなDCオフセツト電圧Vos、Vos′を
加え、円走査の中心を記録領域の中心に一致させる(第
4図(c))。このときプローブ電極の値は第4図
(c′)のようになる。
This positioning is performed by the coarse movement function 113, but since the tip of the probe electrode is guaranteed to be always inside the format pattern, the radius of the format pattern may be larger than the positioning accuracy of the coarse movement mechanism. is necessary. Next, as shown in FIG. 4 (b), a circular scan of the tip of the probe electrode is performed (the radius of the circular scan is slightly smaller than the radius of the format pattern). At this time, if the center of the recording area does not coincide with the center of the circular scanning, the probe electrode detects the format pattern bit during the circular scanning as shown in FIG. from Δθ position theta 0 of the midpoint), positional deviation direction and the deviation amount of the center (in the figure, can be detected are offset circle scanning center) in the direction of 2 o'clock with respect to the recording region center. Here, the driving voltage V + X applied to the circular scanning driving mechanism 109
DC offset voltages Vos and Vos' as described above are added to .about.V- Y so that the center of the circular scanning coincides with the center of the recording area (FIG. 4 (c)). At this time, the values of the probe electrodes are as shown in FIG. 4 (c ').

以上のようにして、所望の記録領域へのプローブ電極
104のアクセス終了後、第3図(c)に示すように(こ
こではb−2の記録領域の)フオーマツト・パターンの
周囲にプローブ電極の円走査により、記録を行なう。所
望の記録領域への記録終了後、他の記録領域へ記録を行
なうときは、前述のアクセス方法で、所望の記録領域の
中心に、プローブ電極の円走査の中心を一致させた後、
同様に記録を行なう。
As described above, the probe electrode to the desired recording area
After the access at 104, as shown in FIG. 3 (c), recording is performed by circular scanning of the probe electrode around the format pattern (here, in the recording area b-2). After the recording to the desired recording area is completed, when recording to another recording area, the center of the desired scanning area is made to coincide with the center of the circular scanning of the probe electrode by the above-described access method.
Recording is performed in the same manner.

再生時のアクセス方法についても同様に、所望の記録
領域のフオーマツト・パターンの内側にプローブ電極先
端位置決めし、円走査を行なって記録領域の中心と円走
査の中心を一致させる。その後、第3図(d)に示すよ
うに、プローブ電極の円走査により(ここではa−2の
記録領域の)フオーマツト・パターンの周囲に記録され
ているデータの再生を行なう。
Similarly, with respect to the access method at the time of reproduction, the tip of the probe electrode is positioned inside the format pattern of the desired recording area, and a circular scan is performed to make the center of the recording area coincide with the center of the circular scan. Thereafter, as shown in FIG. 3D, the data recorded around the format pattern (here, in the recording area a-2) is reproduced by circular scanning of the probe electrode.

さて、以上に述べたアクセス法を用いて実際に情報の
記録再生を行なったとき、典型的には記録ビツトの径〜
10nm、フオーマツト・パターンの径〜100nm、一記録領
域の径〜10μm、全記録領域の大きさ〜10mm□、円走査
駆動機構の位置決め精度〜0.1nm、粗動機構の位置決め
精度〜10nmとなり、高密度大容量(〜1012bit/cm2)、
高速アクセス(10ms以下)の記録再生が可能となった。
By the way, when information is actually recorded / reproduced using the access method described above, typically, the diameter of the recording bit
10 nm, diameter of the format pattern ~ 100 nm, diameter of one recording area ~ 10 μm, size of the entire recording area ~ 10 mm, positioning accuracy of the circular scanning drive mechanism ~ 0.1 nm, positioning accuracy of the coarse movement mechanism ~ 10 nm, high High density capacity (~ 10 12 bit / cm 2 ),
High-speed access (10 ms or less) recording / reproduction is now possible.

前述の如く、本発明の好ましい態様としてフオーマツ
ト・パターンを円周状とし、プローブ電極の先端を円走
査させて所望の記録領域あるいは再生領域へアクセスさ
せる例を挙げたが、フオーマツト・パターンの形状、プ
ローブ電極先端の走査方法は本発明の概念に包含される
ものであれば、特に限定されるものではない。
As described above, as a preferred embodiment of the present invention, the example in which the format pattern is made to be circumferential and the tip of the probe electrode is circularly scanned to access a desired recording area or reproduction area has been described. The scanning method of the probe electrode tip is not particularly limited as long as it is included in the concept of the present invention.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、記録領域の中心部分に円周状の
フオーマツト・パターンを記録し、プローブ電極を円周
状に走査して、走査パターンとフオーマツト・パターン
の位置関係を検知し、記録領域へのプローブ電極のアク
セスを行なうことにより、2次元データ処理等の複雑な
処理を行なうことなく、簡単な構成で1ナノ・メートル
以下の位置決め精度を持った高速のアクセスが可能な大
容量の情報処理装置を実現できる。また、位置基準パタ
ーンとしてのフオーマツト・パターンに特殊な(記録ビ
ツト及び記録ビツトの並び形状とは別の)形状のパター
ンを設ける必要なく、記録ビツトの並び形状と同じパタ
ーンがそのまま位置基準パターンとして用いることが可
能となる。
As described above, the circumferential format pattern is recorded at the center of the recording area, the probe electrode is scanned in the circumferential direction, the positional relationship between the scanning pattern and the format pattern is detected, and the recording area is recorded. Large-capacity information processing with a simple configuration and high-speed access with a positioning accuracy of 1 nanometer or less without performing complicated processing such as two-dimensional data processing by accessing the probe electrodes The device can be realized. Also, it is not necessary to provide a special pattern (different from the recording bit and the arrangement of the recording bits) in the format pattern as the position reference pattern, and the same pattern as the arrangement of the recording bits is used as it is as the position reference pattern. It becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明を実施した情報処理装置の図、 第2図はプローブ電極の円走査駆動機構を示した図、 第3図は本発明における記録領域の配置を示した図、 第4図は本発明における記録領域へのアクセス法の説明
図、 第5図は記録信号波形を示す図である。 101……基板電極 102……記録媒体 103……縦方向駆動機構 104……プローブ電極 105……バイアス電源 106……プローブ電流検出器 107……サーボ回路 108……記録/消去信号発生器 109……円走査駆動機構 110……円走査駆動回路 111……マイクロコンピユータ 112……粗動駆動回路 113……粗動機構 201〜204……電極 301……フオーマツトパターン
FIG. 1 is a diagram of an information processing apparatus embodying the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a circular scanning drive mechanism of a probe electrode, FIG. 3 is a diagram showing an arrangement of recording areas in the present invention, FIG. FIG. 5 is an explanatory diagram of a method for accessing a recording area in the present invention, and FIG. 5 is a diagram showing a recording signal waveform. 101 substrate electrode 102 recording medium 103 vertical driving mechanism 104 probe electrode 105 bias power supply 106 probe current detector 107 servo circuit 108 recording / erasing signal generator 109 … Circular scanning drive mechanism 110… Circular scanning drive circuit 111… Microcomputer 112… Coarse movement drive circuit 113… Coarse movement mechanism 201-204… Electrode 301… Form pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小口 高弘 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 酒井 邦裕 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−53364(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Takahiro Oguchi 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Kunihiro Sakai 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Co., Ltd. (56) References JP-A-64-53364 (JP, A)

Claims (20)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基準点をもつフォーマットパターンを有す
る媒体に対してプローブ電極をフォーマットパターンの
基準点にアクセスする方法であって、プローブ電極がフ
ォーマットパターン上を横切るように該プローブ電極を
走査し、かかる走査により生じる電流の変化を検出する
工程、検出された電流の変化に基づいてフォーマットパ
ターンの基準点を検知し、検知した基準点にプローブ電
極を移動させる工程とを含むことを特徴とするアクセス
方法。
1. A method for accessing a reference point of a format pattern with a probe electrode for a medium having a format pattern having a reference point, wherein the probe electrode scans the probe electrode so as to cross over the format pattern, Detecting a change in current caused by the scanning, detecting a reference point of the format pattern based on the detected change in current, and moving a probe electrode to the detected reference point. Method.
【請求項2】基準点がフォーマットパターンの中心であ
る請求項1に記載のアクセス方法。
2. The access method according to claim 1, wherein the reference point is a center of the format pattern.
【請求項3】フォーマットパターンが円形パターンであ
る請求項1に記載のアクセス方法。
3. The access method according to claim 1, wherein the format pattern is a circular pattern.
【請求項4】プローブ電極を円走査して電流の変化を検
出する請求項1に記載のアクセス方法。
4. The access method according to claim 1, wherein a change in current is detected by circularly scanning the probe electrode.
【請求項5】基準点をもつフォーマットパターンを有す
る媒体に対してプローブ電極がフォーマットパターン上
を横切るように該プローブ電極を走査し、かかる走査に
より生じる電流の変化を検出する工程、検出された電流
の変化に基づいてフォーマットパターンの基準点を検知
し、検知した基準点にプローブ電極を移動させる工程、
該プローブ電極をフォーマットパターンに沿って情報の
記録を行う工程を含むことを特徴とする情報処理方法。
5. A step of scanning a probe electrode with respect to a medium having a format pattern having a reference point so that the probe electrode crosses the format pattern, and detecting a change in current caused by such scanning. Detecting the reference point of the format pattern based on the change of the, and moving the probe electrode to the detected reference point,
An information processing method comprising a step of recording information on the probe electrode along a format pattern.
【請求項6】情報の記録を、プローブ電極と媒体との間
に電気メモリー効果を生じる閾値電圧を越えた電圧を印
加することにより行う請求項5に記載の情報処理方法。
6. The information processing method according to claim 5, wherein the recording of information is performed by applying a voltage exceeding a threshold voltage causing an electric memory effect between the probe electrode and the medium.
【請求項7】基準点をもつフォーマットパターンに沿っ
て情報が記録された媒体に対して、プローブ電極がフォ
ーマットパターン上を横切るように該プローブ電極を走
査し、かかる走査により生じる電流の変化を検出する工
程、検出された電流の変化に基づいてフォーマットパタ
ーンの基準点を検知し、検知した基準点にプローブ電極
を移動させる工程、該プローブ電極をフォーマットパタ
ーンに沿って走査させて記録されている情報を電流を検
知して読み出す工程を含むことを特徴とする情報処理方
法。
7. A probe in which information is recorded along a format pattern having a reference point is scanned by the probe electrode so as to cross the format pattern, and a change in current caused by the scanning is detected. A step of detecting a reference point of the format pattern based on a change in the detected current, a step of moving the probe electrode to the detected reference point, and information recorded by scanning the probe electrode along the format pattern. An information processing method including a step of detecting and reading a current.
【請求項8】情報の読み出しを、プローブ電極と媒体と
の間に電気メモリー効果を生じる閾値電圧を越えない電
圧を印加することにより行う請求項7に記載の情報処理
方法。
8. The information processing method according to claim 7, wherein the reading of information is performed by applying a voltage between the probe electrode and the medium that does not exceed a threshold voltage causing an electric memory effect.
【請求項9】印加される電圧が、バイアス電圧である請
求項7に記載の情報処理方法。
9. The information processing method according to claim 7, wherein the applied voltage is a bias voltage.
【請求項10】基準点をもつフォーマットパターンに沿
って情報が記録された媒体に対して、プローブ電極がフ
ォーマットパターン上を横切るように該プローブ電極を
走査し、かかる走査により生じる電流の変化を検出する
工程、検出された電流の変化に基づいてフォーマットパ
ターンの基準点を検知し、検知した基準点にプローブ電
極を移動させる工程、該プローブ電極をフォーマットパ
ターンに沿って走査させて記録されている情報を消去す
る工程を含むことを特徴とする情報処理方法。
10. A probe on a medium on which information is recorded along a format pattern having a reference point so that the probe electrode crosses the format pattern, and a change in current caused by the scanning is detected. A step of detecting a reference point of the format pattern based on a change in the detected current, a step of moving the probe electrode to the detected reference point, and information recorded by scanning the probe electrode along the format pattern. An information processing method, comprising the step of erasing information.
【請求項11】情報の消去を、プローブ電極と媒体との
間に電気メモリー効果を生じる閾値電圧を越えた電圧を
印加することにより行う請求項10に記載の情報処理方
法。
11. The information processing method according to claim 10, wherein the information is erased by applying a voltage exceeding a threshold voltage causing an electric memory effect between the probe electrode and the medium.
【請求項12】基準点がフォーマットパターンの中心で
ある請求項5、7あるいは10のいずれかに記載の情報処
理方法。
12. The information processing method according to claim 5, wherein the reference point is the center of the format pattern.
【請求項13】フォーマットパターンが円形パターンで
ある請求項5、7あるいは10のいずれかに記載の情報処
理方法。
13. The information processing method according to claim 5, wherein the format pattern is a circular pattern.
【請求項14】プローブ電極を円走査して電流の変化を
検出する請求項5、7あるいは10のいずれかに記載の情
報処理方法。
14. The information processing method according to claim 5, wherein a change in current is detected by circularly scanning the probe electrode.
【請求項15】媒体が電気メモリー効果を有する請求項
5、7あるいは10のいずれかに記載の情報処理方法。
15. The information processing method according to claim 5, wherein the medium has an electric memory effect.
【請求項16】基準点をもつフォーマットパターンを有
する記録媒体、該記録媒体に近接して配置されたプロー
ブ電極及び該プローブ電極を円走査するための円走査駆
動機構を備えたことを特徴とする情報処理装置。
16. A recording medium having a format pattern having a reference point, a probe electrode arranged close to the recording medium, and a circular scanning drive mechanism for circularly scanning the probe electrode. Information processing device.
【請求項17】基準点がフォーマットパターンの中心で
ある請求項16に記載の情報処理装置。
17. The information processing apparatus according to claim 16, wherein the reference point is a center of the format pattern.
【請求項18】フォーマットパターンが円形パターンで
ある請求項16に記載の情報処理装置。
18. The information processing apparatus according to claim 16, wherein the format pattern is a circular pattern.
【請求項19】記録媒体が電気メモリー効果を有する請
求項16に記載の情報処理装置。
19. The information processing apparatus according to claim 16, wherein the recording medium has an electric memory effect.
【請求項20】記録/消去信号発生手段を備えた請求項
16に記載の情報処理装置。
20. A recording / erasing signal generating means.
16. The information processing device according to item 16.
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