JP2688991B2 - Narrow-band oscillation excimer laser - Google Patents
Narrow-band oscillation excimer laserInfo
- Publication number
- JP2688991B2 JP2688991B2 JP1181680A JP18168089A JP2688991B2 JP 2688991 B2 JP2688991 B2 JP 2688991B2 JP 1181680 A JP1181680 A JP 1181680A JP 18168089 A JP18168089 A JP 18168089A JP 2688991 B2 JP2688991 B2 JP 2688991B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beam expander
- laser
- grating
- prism beam
- prism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はステッパー用の光源として使用される狭帯域
発振エキシマレーザに関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a narrow-band oscillation excimer laser used as a light source for a stepper.
半導体装置製造用の縮小投影露光装置（以下、ステッ
パーという）の光源としてエキシマレーザの利用が注目
されている。これはエキシマレーザの波長が短い（KrF
の波長は約248.4nm）ことから光露光の限界を0.5μｍ以
下に延ばせる可能性があること、同じ解像度なら従来用
いていた水銀ランプのｇ線やｉ線に比較して焦点深度が
深いこと、レンズの開口数（NA）が小さくて済み、露光
領域を大きくできること、大きなパワーが得られること
等の多くの優れた利点が期待できるからである。Attention has been paid to the use of excimer lasers as light sources for reduction projection exposure apparatuses (hereinafter, referred to as steppers) for manufacturing semiconductor devices. This is due to the short wavelength of the excimer laser (KrF
Wavelength is about 248.4 nm), so that the limit of light exposure can be extended to 0.5 μm or less, and the depth of focus is deeper than the conventional mercury lamp g-line and i-line at the same resolution. This is because a number of excellent advantages such as a large numerical aperture (NA) of the lens, a large exposure area, and a large power can be expected.
ところで、ステッパーの光源として利用されるエキシ
マレーザとしては線幅3pm以下の狭帯化が要求され、し
かも大きな出力パワーが要求される。By the way, as an excimer laser used as a light source of a stepper, a narrow band having a line width of 3 pm or less is required, and a large output power is required.
エキシマレーザの狭帯域化の技術としては従来インジ
ェンクションロック方式と呼ばれるものがある。このイ
ンジェンクションロック方式は、オシレータ段のキャビ
ティ内に波長選択素子（エタロン，回折格子，プリズム
等）を配置し、ピンホールによって空間モードを制限し
て単一モード発振させ、このレーザ光を増幅段によって
注入同期する。この方式によると比較的大きな出力パワ
ーが得られるが、ミスショットがあったり、ロッキング
効率を100％とすることが困難であったり、スペクトル
純度が悪くなるという欠点がある。また、この方式の場
合その出力光はコヒーレンス性が高く、これを縮小露光
装置の光源に用いた場合はスペックル・パターンが発生
する。一般にスペックル・パターンの発生はレーザ光に
含まれる空間横モードの数に依存すると考えられてい
る。すなわち、レーザ光に含まれる空間横モードの数が
少ないというスペックル・パターンが発生し易くなり、
逆に空間モードの数が多くなるとスペックル・パターン
は発生しにくくなることが知られている。上述したイン
ジェクションロック方式は本質的には空間横モードの数
を著しく減らすことによって狭帯域化を行う技術であ
り、スペックル・パターンの発生が大きな問題となるた
め縮小投影露光装置には採用できない。As a technique for narrowing the band of an excimer laser, there is a technique conventionally called an injection lock method. In this injection lock system, a wavelength selection element (etalon, diffraction grating, prism, etc.) is placed in the cavity of the oscillator stage, the spatial mode is limited by a pinhole, and single mode oscillation is performed, and this laser light is amplified. Injection synchronized by. According to this method, a relatively large output power can be obtained, but there are disadvantages in that there are misshots, it is difficult to set the locking efficiency to 100%, and the spectral purity deteriorates. In this method, the output light has high coherence. When this light is used as a light source of a reduction exposure apparatus, a speckle pattern is generated. It is generally considered that the generation of a speckle pattern depends on the number of spatial transverse modes included in a laser beam. That is, a speckle pattern that the number of spatial transverse modes included in the laser light is small is likely to occur,
On the contrary, it is known that the speckle pattern is less likely to occur as the number of spatial modes increases. The above-described injection lock method is essentially a technique for narrowing the bandwidth by remarkably reducing the number of spatial transverse modes. Since the occurrence of a speckle pattern becomes a serious problem, it cannot be used in a reduced projection exposure apparatus.
エキシマレーザの狭帯域化の技術として他に有望なも
のは波長選択素子であるエアーギャップエタロンを用い
たものがある。このエアーギャップエタロンを用いた従
来技術としてはAT＆Ｔベル研究所によるエキシマレーザ
のフロントミラーとレーザチャンバとの間にエアーギャ
ップエタロンを配置し、エキシマレーザの狭帯域化を図
ろうとする技術が提案されている。しかし、この方式は
スペクトル線幅をあまり狭くせず、かつ、エアーギャッ
プエタロン挿入によるパワーロスが大きいという問題が
あり、さらに空間横モードの数もあまり多くすることが
できないという欠点がある。またエアーギャップエタロ
ンは耐久性に問題がある。Another promising technique for narrowing the band of an excimer laser is an air gap etalon that is a wavelength selection element. As a conventional technology using this air gap etalon, a technology has been proposed by AT & T Bell Laboratories in which an air gap etalon is arranged between a front mirror of an excimer laser and a laser chamber to narrow the band of the excimer laser. I have. However, this method has the problems that the spectral line width is not made too narrow, the power loss due to the insertion of the air gap etalon is large, and the number of spatial transverse modes cannot be made too large. The air gap etalon has a problem in durability.
そこで、比較的耐久性に優れたグレーティングを波長
選択素子として採用し、このグレーティングの角度を変
化させることにより、レーザ光の波長を狭帯域化するよ
うに構成したエキシマレーザが提案されている。Therefore, an excimer laser has been proposed in which a grating having relatively excellent durability is adopted as a wavelength selection element and the wavelength of the laser light is narrowed by changing the angle of the grating.
このグレーティングを波長選択素子として採用したエ
キシマレーザにおいてはグレーティングにおけるビーム
広がり角を小さくするために共振器内にピンホールを位
置するか、またはグレーティングに入射するレーザ光を
ビームエキスパンダにより拡大する構成をとっている。
そしてこのビームエキスパンダとしてはプリズムを用い
て構成したプリズムビームエキスパンダを用いたものが
ある。In an excimer laser that uses this grating as a wavelength selection element, a pinhole is placed in the resonator to reduce the beam divergence angle in the grating, or the laser light incident on the grating is expanded by a beam expander. I am taking it.
As this beam expander, there is one using a prism beam expander configured by using a prism.
ところで、ステッパに使用されるような狭帯域発振エ
キシマレーザは前述したように線幅3pm以下に狭帯域化
し、しかも大きな出力を必要とする。By the way, the narrow band oscillation excimer laser used for the stepper needs to have a narrow band with a line width of 3 pm or less as described above, and needs a large output.
しかしながら共振器内にピホールを配置した構成をと
ると出力が非常に小さくなるばかりでなく、スペックル
パターンの発生を防止するために必要な空間横モードの
数も減少するので採用できない。However, if the structure is such that the pinholes are arranged in the resonator, not only the output becomes very small, but also the number of spatial transverse modes required to prevent the generation of speckle patterns is reduced, and therefore it cannot be adopted.
また、プリズムビームエキスパンダを用いる場合は線
幅を狭くするためにプリズムビームエキスパンダの拡大
率大きくする必要がある。When using a prism beam expander, it is necessary to increase the expansion rate of the prism beam expander in order to narrow the line width.
しかしながら、プリズムビームエキスパンダの拡大率
を大きくすると、プリズムビームエキスパンダを構成す
るプリズムへのレーザ光の入射角が大きくなったり、プ
リズムの数を多くしたりする必要があり、これにより損
失が大きくなって、大きな出力が得られないという問題
がある。However, if the enlargement ratio of the prism beam expander is increased, it is necessary to increase the incident angle of the laser light to the prisms that form the prism beam expander, and it is necessary to increase the number of prisms. Then, there is a problem that a large output cannot be obtained.
そこで、この発明の目的は狭帯域化素子としてプリズ
ムビームエキスパンダとグレーティングを用いたエキシ
マレーザにおいて、プリズムビームエキスパンダの拡大
率を大きくしても損失が大きくならない狭帯域発振エキ
シマレーザを提供することを目的とする。Accordingly, an object of the present invention is to provide an excimer laser using a prism beam expander and a grating as a narrow band element, and a narrow band oscillation excimer laser in which loss does not increase even if the expansion rate of the prism beam expander is increased. With the goal.
上記目的を達成するため、請求項１の発明は、 レーザガスが充填されるレーザチャンバと、 波長選択素子であるグレーティングと、 前記レーザチャンバからの出力レーザ光を拡大して前
記グレーティングに照射するプリズムビームエキスパン
ダと を光共振器内に配置し、 前記グレーティングは、その溝の形成方向が前記プリ
ズムビームエキスパンダの拡大方向と略直角になるよう
に配置される狭帯域化エキシマレーザにおいて、 前記レーザチャンバと前記プリズムビームエキスパン
ダとの間に、前記レーザチャンバから出力されたレーザ
光を前記プリズムビームエキスパンダの拡大方向と略平
行な直線偏光波に変換する偏光素子 を配置したことを特徴とする。In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is: a laser chamber filled with a laser gas; a grating that is a wavelength selection element; and a prism beam that expands an output laser beam from the laser chamber and irradiates the grating. An expander and an optical resonator are arranged in an optical resonator, and the grating is arranged so that a groove forming direction thereof is substantially perpendicular to an expanding direction of the prism beam expander. And a prism element for expanding the laser beam output from the laser chamber into a linearly polarized wave substantially parallel to the expanding direction of the prism beam expander.
また、請求項２の発明は、 レーザガスが充填されるレーザチャンバと、 波長選択素子であるグレーティングと、 前記レーザチャンバからの出力レーザ光を拡大して前
記グレーティングに照射するプリズムビームエキスパン
ダと を光共振器内に配置し、 前記グレーティングは、その溝の形成方向が前記プリ
ズムビームエキスパンダの拡大方向と略直角になるよう
に配置される狭帯域化エキシマレーザにおいて、 前記プリズムビームエキスパンダを構成する複数のプ
リズムの少なくとも１面に、前記プリズムビームエキス
パンダの拡大方向と略平行な直線偏光波の反射を選択的
に防止する反射防止膜 を形成したことを特徴とする。The invention of claim 2 further comprises: a laser chamber filled with a laser gas; a grating that is a wavelength selection element; and a prism beam expander that expands the output laser light from the laser chamber and irradiates the grating with the light. The prism beam expander is arranged in a resonator, and the grating is arranged in a narrow band excimer laser arranged such that a groove forming direction thereof is substantially perpendicular to an expanding direction of the prism beam expander. An antireflection film for selectively preventing reflection of linearly polarized waves substantially parallel to the expanding direction of the prism beam expander is formed on at least one surface of the plurality of prisms.
請求項１の発明においては、レーザチャンバとプリズ
ムビームエキスパンダとの間に配置された偏光素子によ
り、レーザチャンバから出力されるレーザ光をプリズム
ビームエキスパンダの拡大方向と略平行な直線偏光波に
変換する。According to the first aspect of the invention, the laser light output from the laser chamber is converted into a linearly polarized wave substantially parallel to the expansion direction of the prism beam expander by the polarization element arranged between the laser chamber and the prism beam expander. Convert.
このような構成によると、上記偏光素子による変換に
より、プリズムビームエキスパンダの拡大方向と略平行
な直線偏光波成分が多くなり、プリズムビームエキスパ
ンダによる拡大率を大きくしてもプリズムビームエキス
パンダにおける損失を小さく抑えることができ、出力レ
ーザ光の狭帯域化を可能にするとともに、大きな出力を
得ることができる。According to such a configuration, the conversion by the polarizing element increases the number of linearly polarized wave components substantially parallel to the expansion direction of the prism beam expander, and even if the expansion ratio by the prism beam expander is increased, the prism beam expander The loss can be suppressed to be small, the output laser beam can be narrowed, and a large output can be obtained.
また、請求項２の発明においては、プリズムビームエ
キスパンダを構成する複数のプリズムの少なくとも１面
に形成された反射防止膜により、プリズムビームエキス
パンダの拡大方向と略平行な直線偏光波の反射を選択的
に防止する。Further, in the invention of claim 2, the antireflection film formed on at least one surface of the plurality of prisms forming the prism beam expander prevents reflection of a linearly polarized wave substantially parallel to the expanding direction of the prism beam expander. Prevent selectively.
このような構成によると、上記反射防止膜による選択
的反射防止により、プリズムビームエキスパンダの拡大
方向と略平行な直線偏光波成分が多くなり、プリズムビ
ームエキスパンダによる拡大率を大きくしてもプリズム
ビームエキスパンダにおける損失を小さく抑えることが
でき、出力レーザ光の狭帯域化を可能にするとともに、
大きな出力を得ることができる。With such a configuration, the selective reflection prevention by the antireflection film increases the linearly polarized wave component substantially parallel to the expansion direction of the prism beam expander, and even if the expansion ratio by the prism beam expander is increased, the prism The loss in the beam expander can be suppressed to a small level, and the output laser light can be narrowed.
Large output can be obtained.
以下、この発明の実施例を添付図面を参照して詳細に
説明する。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
第１図（ａ）（ｂ）はこの発明の狭帯域発振エキシマ
レーザの一実施例を示したもので、第１図（ａ）はその
平面図、第１図（ｂ）はその側面図を示す。この実施例
の狭帯域発振エキシマレーザは、フロントミラー１と、
リアミラーと波長選択素子の機能を有するグレーティン
グ６との間に、レーザチャンバ３、偏光素子４、ビーム
エキスパンダ（プリズムビームエキスパンダ）を構成す
る２つのプリズム5a,5bが配設される。ここでフロント
ミラー１とグレーティング６との間に光共振器が構成さ
れている。1 (a) and 1 (b) show an embodiment of a narrow band oscillation excimer laser of the present invention. FIG. 1 (a) is a plan view thereof and FIG. 1 (b) is a side view thereof. Show. The narrow band oscillation excimer laser of this embodiment includes a front mirror 1,
A laser chamber 3, a polarizing element 4, and two prisms 5a and 5b forming a beam expander (prism beam expander) are arranged between the rear mirror and the grating 6 having the function of the wavelength selection element. Here, an optical resonator is formed between the front mirror 1 and the grating 6.
レーザチャンバ３はその内にKrF等を含むレーザガス
が循環可能に充填され、またレーザガスを励起させるた
めの図示しない放電電極が配置されている。更にレーザ
チャンバ３の両端には所定の角で配置されたウィンドウ
2a,2bが設けられている。The laser chamber 3 is filled with a laser gas containing KrF or the like in a circulatory manner, and a discharge electrode (not shown) for exciting the laser gas is arranged. Further, windows arranged at predetermined corners are provided at both ends of the laser chamber 3.
2a and 2b are provided.
グレーティング６は、光の回折を利用して特定波長の
光を選択するもので、一定方向に配列された多数の溝が
形成されている。この明細書ではこの多数の溝と直角の
方向を線引方向と称している。グレーティング６は、こ
の線引方向を含む平面内で、入射光に対するグレーティ
ング６の角度を可変させることにより、特定の波長の光
を選択することができる。すなわち、グレーティング６
は入射光に対するグレーティングの角度に対応する特定
の光のみを所定の方向（この場合入射光の方向）に反射
させ、、これによって特定の波長の光に対する選択動作
を行なう。The grating 6 selects light of a specific wavelength using light diffraction, and has a large number of grooves arranged in a certain direction. In this specification, a direction perpendicular to the plurality of grooves is referred to as a drawing direction. The grating 6 can select light of a specific wavelength by changing the angle of the grating 6 with respect to the incident light within a plane including the drawing direction. That is, the grating 6
Reflects only the specific light corresponding to the angle of the grating with respect to the incident light in a predetermined direction (in this case, the direction of the incident light), thereby performing the selecting operation for the light with the specific wavelength.
プリズム5a,5bからなるプリズムビームエキスパンダ
は、そのビーム拡大方向がグレーティング６の線引方向
とほぼ一致するように配置されている。このプリズムビ
ームエキスパンダによって拡大されたレーザ光によって
グレーティング６は照射される。偏光素子４は、プリズ
ム5a,5bからなるプリズムビームエキスパンダのビーム
拡大方向にほぼ平行な偏光波のみを選択的に透過させ
る。この偏光素子４としては、例えば複屈折材料（水
晶、カルサイト等）を用いた偏光プリズム、プリュース
タ分散プリズム、ガラス基板（石英、CaF2またはMgF2）
をブリュースタ角で配置するかまたはガラス基板に所定
の偏光線分を透過するようなコーティングをしたもの等
から構成することができる。The prism beam expander including the prisms 5a and 5b is arranged so that the beam expanding direction thereof substantially coincides with the drawing direction of the grating 6. The grating 6 is irradiated with the laser light expanded by the prism beam expander. The polarizing element 4 selectively transmits only polarized waves that are substantially parallel to the beam expanding direction of the prism beam expander including the prisms 5a and 5b. Examples of the polarizing element 4 include a polarizing prism using a birefringent material (quartz, calcite, etc.), a Brewster dispersion prism, and a glass substrate (quartz, CaF 2 or MgF 2 ).
Can be arranged at Brewster's angle, or can be composed of a glass substrate coated with a material for transmitting a predetermined polarization line segment.
このような構成によると第１図（ａ）（ｂ）に示した
装置は、プリズム5a,5bから構成されるプリズムビーム
エキスパンダのビーム拡大方向にほぼ平行な直線偏光波
によって選択的に発振される。ここで、プリズムビーム
エキスパンダのビーム拡大方向に平行な直線偏光波は、
プリズムへの入射角が大きくても透過率は大きいのでス
ペクトル線幅を細くするためにビームエキスパンダの拡
大率を大きくしても、損失はそれほど大きくならない。
すなわち、損失の小さい狭帯域発振エキシマレーザを構
成することができる。With such a configuration, the device shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b) is selectively oscillated by a linearly polarized wave substantially parallel to the beam expanding direction of the prism beam expander composed of the prisms 5a and 5b. It Here, the linearly polarized wave parallel to the beam expansion direction of the prism beam expander is
Since the transmittance is large even if the angle of incidence on the prism is large, even if the expansion ratio of the beam expander is increased to narrow the spectral line width, the loss does not become so large.
That is, a narrow-band oscillation excimer laser with small loss can be configured.
第２図（ａ）（ｂ）は、この発明の他の実施例を示し
たものである。ここで、第２図（ａ）はその平面図、第
２図（ｂ）はその側面図を側面図を示す。この実施例
は、プリズムビームエキスパンダを構成するプリズム5
a,5bにプリズムビームエキスパンダの拡大方向と平行な
偏光成分のみを選択的に反射防止する反射防止膜をコー
ティングすることにより構成さる。第２図（ｂ）におい
て点線で示した部分5c,5bがこのコーティング部を示し
ている。2 (a) and 2 (b) show another embodiment of the present invention. Here, FIG. 2 (a) is a plan view thereof, and FIG. 2 (b) is a side view thereof. In this embodiment, the prism 5 forming the prism beam expander is used.
It is configured by coating a and 5b with an antireflection film that selectively reflects only the polarization component parallel to the expansion direction of the prism beam expander. Portions 5c and 5b indicated by dotted lines in FIG. 2 (b) indicate this coating portion.
なお、この場合、コーティングは少なくとも１つのプ
リズムの、光を透過する一面に対して行なえばよい。こ
の場合、プリズムに対する入射角が大きくなっても、Ｐ
波の偏光成分については99％以上の透過率を維持するこ
とができる。In this case, the coating may be performed on one surface of at least one prism that transmits light. In this case, even if the incident angle to the prism becomes large, P
It is possible to maintain a transmittance of 99% or more for the polarized component of the wave.
以上説明したように請求項１の発明によれば、レーザ
チャンバとプリズムビームエキスパンダとの間に配置さ
れた偏光素子によりレーザチャンバから出力されるレー
ザ光をプリズムビームエキスパンダの拡大方向と略平行
な直線偏光波に変換するように構成したので、プリズム
ビームエキスパンダの拡大方向と略平行な直線偏光波成
分を有効的に優勢にすることができ、これによりプリズ
ムビームエキスパンダによる拡大率を大きくしてもプリ
ズムビームエキスパンダにおける損失を小さく抑えるこ
とができるので、出力レーザ光の狭帯域化を可能にする
とともに、大きな出力を得ることが可能になる。As described above, according to the first aspect of the invention, the laser light output from the laser chamber is substantially parallel to the expansion direction of the prism beam expander by the polarizing element arranged between the laser chamber and the prism beam expander. Since it is configured to convert the linearly polarized wave into a linearly polarized wave, the linearly polarized wave component that is substantially parallel to the expansion direction of the prism beam expander can be effectively predominant, thereby increasing the expansion rate of the prism beam expander. However, since the loss in the prism beam expander can be suppressed to be small, it is possible to narrow the band of the output laser light and obtain a large output.
また、請求項２の発明によれば、プリズムビームエキ
スパンダを構成する複数のプリズムの少なくとも１面に
形成された反射防止膜によりプリズムビームエキスパン
ダの拡大方向と略平行な直線偏光波の反射を選択的に防
止するように構成したので、これによってもプリズムビ
ームエキスパンダの拡大方向と略平行な直線偏光波成分
を有効に優勢にすることができ、プリズムビームエキス
パンダによる拡大率を大きくしてもプリズムビームエキ
スパンダにおける損失を小さく抑えることができるの
で、出力レーザ光の狭帯域化を可能にするとともに、大
きな出力を得ることが可能になる。According to the invention of claim 2, the antireflection film formed on at least one surface of the plurality of prisms forming the prism beam expander reflects the linearly polarized wave substantially parallel to the expanding direction of the prism beam expander. Since it is configured to selectively prevent, the linearly polarized wave component substantially parallel to the expansion direction of the prism beam expander can be effectively predominant also by this, and the expansion ratio by the prism beam expander can be increased. Since the loss in the prism beam expander can be suppressed to be small, it is possible to narrow the band of the output laser light and obtain a large output.
第１図（ａ）（ｂ）はこの発明の一実施例を示す平面図
および側面図、第２図（ａ）（ｂ）はこの発明の他の実
施例を示す平面図および側面図である。 １…フロントミラー、2a,2b…ウィンドウ、３…レーザ
チャンバ、４…偏光素子、5a,5b…プリズム、６…グレ
ーティング、5c,5d…反射防止膜。1 (a) and (b) are a plan view and a side view showing an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 (a) and (b) are a plan view and a side view showing another embodiment of the present invention. . 1 ... Front mirror, 2a, 2b ... Window, 3 ... Laser chamber, 4 ... Polarizing element, 5a, 5b ... Prism, 6 ... Grating, 5c, 5d ... Antireflection film.
Claims (2)
と、 波長選択素子であるグレーティングと、 前記レーザチャンバからの出力レーザ光を拡大して前記
グレーティングに照射するプリズムビームエキスパンダ
と を光共振器内に配置し、 前記グレーティングは、その溝の形成方向が前記プリズ
ムビームエキスパンダの拡大方向と略直角になるように
配置される狭帯域化エキシマレーザにおいて、 前記レーザチャンバと前記プリズムビームエキスパンダ
との間に、前記レーザチャンバから出力されたレーザ光
を前記プリズムビームエキスパンダの拡大方向と略平行
な直線偏光波に変換する偏光素子 を配置したことを特徴とする狭帯域化エキシマレーザ。1. A laser chamber filled with a laser gas, a grating that is a wavelength selection element, and a prism beam expander that expands the output laser light from the laser chamber and irradiates the grating in an optical resonator. In the narrow band excimer laser, the grating is arranged such that a groove forming direction thereof is substantially perpendicular to an expanding direction of the prism beam expander, wherein the grating is between the laser chamber and the prism beam expander. In the narrow band excimer laser, a polarizing element for converting the laser light output from the laser chamber into a linearly polarized wave substantially parallel to the expanding direction of the prism beam expander is disposed.
と、 波長選択素子であるグレーティングと、 前記レーザチャンバからの出力レーザ光を拡大して前記
グレーティングに照射するプリズムビームエキスパンダ
と を光共振器内に配置し、 前記グレーティングは、その溝の形成方向が前記プリズ
ムビームエキスパンダの拡大方向と略直角になるように
配置される狭帯域化エキシマレーザにおいて、 前記プリズムビームエキスパンダを構成する複数のプリ
ズムの少なくとも１面に、前記プリズムビームエキスパ
ンダの拡大方向と略平行な直線偏光波の反射を選択的に
防止する反射防止膜 を形成したことを特徴とする狭帯域化エキシマレーザ。2. A laser chamber filled with a laser gas, a grating that is a wavelength selection element, and a prism beam expander that expands output laser light from the laser chamber and irradiates the grating in an optical resonator. In the narrow band excimer laser in which the grating is arranged such that the groove forming direction is substantially perpendicular to the expanding direction of the prism beam expander, the plurality of prisms forming the prism beam expander are arranged. A narrow band excimer laser characterized in that an antireflection film for selectively preventing reflection of a linearly polarized wave substantially parallel to the expanding direction of the prism beam expander is formed on at least one surface.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1181680A JP2688991B2 (en) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | Narrow-band oscillation excimer laser |
| CA 2063600 CA2063600A1 (en) | 1989-07-14 | 1990-07-12 | Narrow band excimer laser and wavelength detecting apparatus |
| PCT/JP1990/000900 WO1991001579A1 (en) | 1989-07-14 | 1990-07-12 | Narrow-band oscillation excimer laser and wavelength detector |
| DE19904091247 DE4091247T1 (en) | 1989-07-14 | 1990-07-12 | |
| US08/194,803 US5404366A (en) | 1989-07-14 | 1994-02-14 | Narrow band excimer laser and wavelength detecting apparatus |
| US08/833,251 USRE38372E1 (en) | 1989-07-14 | 1997-04-04 | Narrow band excimer laser and wavelength detecting apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1181680A JP2688991B2 (en) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | Narrow-band oscillation excimer laser |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0346285A JPH0346285A (en) | 1991-02-27 |
| JP2688991B2 true JP2688991B2 (en) | 1997-12-10 |
Family
ID=16104997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1181680A Expired - Lifetime JP2688991B2 (en) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | Narrow-band oscillation excimer laser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2688991B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4907865B2 (en) * | 2004-11-09 | 2012-04-04 | 株式会社小松製作所 | Multistage amplification laser system |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52126192A (en) * | 1976-04-12 | 1977-10-22 | Molectron Corp | Dye laser |
| JPS6373577A (en) * | 1986-09-16 | 1988-04-04 | Japan Atom Energy Res Inst | Metal vapor laser resonator for single-wavelength oscillation |
| JPS63228782A (en) * | 1987-03-18 | 1988-09-22 | Toshiba Corp | Laser device |
| JPH01143372A (en) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Toshiba Corp | Narrow band laser device |
-
1989
- 1989-07-14 JP JP1181680A patent/JP2688991B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52126192A (en) * | 1976-04-12 | 1977-10-22 | Molectron Corp | Dye laser |
| JPS6373577A (en) * | 1986-09-16 | 1988-04-04 | Japan Atom Energy Res Inst | Metal vapor laser resonator for single-wavelength oscillation |
| JPS63228782A (en) * | 1987-03-18 | 1988-09-22 | Toshiba Corp | Laser device |
| JPH01143372A (en) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Toshiba Corp | Narrow band laser device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0346285A (en) | 1991-02-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5596596A (en) | Narrow band excimer laser | |
| US5838709A (en) | Ultraviolet laser source | |
| JP3514073B2 (en) | Ultraviolet laser device and semiconductor exposure device | |
| EP0273058A1 (en) | Multi-mode narrow-band oscillation excimer laser | |
| JP2000114635A (en) | Band-narrowing apparatus with high-transmittance prism beam expander | |
| JP2000223408A (en) | Semiconductor manufacturing device, and manufacture of semiconductor device | |
| JP2631554B2 (en) | Laser wavelength controller | |
| JP2631567B2 (en) | Narrow-band oscillation excimer laser | |
| JP4907865B2 (en) | Multistage amplification laser system | |
| JP2006073921A (en) | Optical element for ultraviolet ray gas laser, and ultraviolet ray gas laser equipment | |
| JP2688991B2 (en) | Narrow-band oscillation excimer laser | |
| JPH0437181A (en) | Narrowed excimer laser apparatus | |
| JP5393725B2 (en) | Multistage amplification laser system | |
| JPH09246648A (en) | Laser beam source and illuminating optical device | |
| JPH11174365A (en) | Illumination optical device, exposure device provided therewith and exposure method | |
| JPH1167623A (en) | Exposure light source and exposure device and manufacture of semiconductor device | |
| JP3360078B2 (en) | Narrow band oscillation laser | |
| JP2000357836A (en) | Super narrow frequency band fluorine laser device | |
| US11870209B2 (en) | Laser system and electronic device manufacturing method | |
| JPH03250777A (en) | Narrow-band oscillation excimer laser | |
| US20230378713A1 (en) | Ultraviolet laser apparatus and electronic device manufacturing method | |
| JP7475433B2 (en) | Laser device and method for manufacturing electronic device | |
| JP2001291921A (en) | Ultranarrow band width laser device | |
| WO2023089673A1 (en) | Laser apparatus and electronic device manufacturing method | |
| JP2715608B2 (en) | Narrow band laser device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070829 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080829 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090829 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |