JP2681299B2 - Recording medium substrate texture processing device - Google Patents

Recording medium substrate texture processing device

Info

Publication number
JP2681299B2
JP2681299B2 JP1113507A JP11350789A JP2681299B2 JP 2681299 B2 JP2681299 B2 JP 2681299B2 JP 1113507 A JP1113507 A JP 1113507A JP 11350789 A JP11350789 A JP 11350789A JP 2681299 B2 JP2681299 B2 JP 2681299B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
magnetic
texture processing
recording medium
rubber roller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1113507A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH02292724A (en
Inventor
正弘 大塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP1113507A priority Critical patent/JP2681299B2/en
Publication of JPH02292724A publication Critical patent/JPH02292724A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2681299B2 publication Critical patent/JP2681299B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 薄膜型の磁気記録媒体を製造するための非磁性基板に
テクスチャー加工を行なう装置に関し、 基板の内周側から外周側にわたり、自由にテクスチャ
ー加工の条件を設定できるテクスチャー加工装置を実現
することを目的とし、 加圧ローラによって、研摩テープを非磁性の基板の表
面に押圧し、該基板を回転させることでテクスチャー加
工を行なう装置において、 該加工ローラを、空気圧により弾力を与えるように内
部に空気が封入された中空の弾性体で構成し、また該中
空の弾性体の表面にトレッドパターンを設けた構成とす
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Outline] An apparatus for performing texture processing on a non-magnetic substrate for manufacturing a thin film magnetic recording medium, wherein the texture processing conditions can be freely set from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the substrate. In order to realize a texture processing device capable of performing the above, a polishing roller is pressed against the surface of a non-magnetic substrate by a pressure roller, and the substrate is rotated to perform texture processing. The hollow elastic body is filled with air to give elasticity, and a tread pattern is provided on the surface of the hollow elastic body.

〔産業上の利用分野〕[Industrial applications]

磁気ディスク装置における記録媒体である磁気記録媒
体には、非磁性の円板に磁性塗料を塗布してなる塗膜型
と、Co−NiやCo−Pt、酸化鉄などの磁性金属を成膜して
成る薄膜型とがある。本発明は、後者の薄膜型の磁気記
録媒体を製造するための非磁性基板にテクスチャー加工
を行なう装置に関する。
A magnetic recording medium, which is a recording medium in a magnetic disk device, has a coating film type in which a magnetic coating is applied to a non-magnetic disk, and a magnetic metal such as Co-Ni, Co-Pt, or iron oxide is formed into a film. There is a thin film type. The present invention relates to an apparatus for texturing a non-magnetic substrate for producing the latter thin film type magnetic recording medium.

〔テクスチャー加工〕[Texture processing]

第5図は従来の薄膜磁気記録媒体の全容を示す断面図
である。1は例えばアルミニウムなどのような非磁性体
からなる基板(円板)であり、その上に下地層2、磁性
膜3、保護膜4の順に積層されている。
FIG. 5 is a sectional view showing the whole of a conventional thin film magnetic recording medium. Reference numeral 1 denotes a substrate (disk) made of a non-magnetic material such as aluminum, on which a base layer 2, a magnetic film 3 and a protective film 4 are laminated in this order.

第6図は従来の薄膜磁気記録媒体の断面構造を示す図
であり、磁性膜3が酸化鉄(γ−Fe2O3)によって形成
されている。基板1はアルミニウムからなっており、そ
の表面を酸化させてアルマイト(Al2O3)層を形成する
ことで下地層2としている。磁性膜3は、γ−Fe2O3
スパッタ法で形成される。保護膜4は、カーボンやSiO2
をスパッタすることで形成される。
FIG. 6 is a view showing a sectional structure of a conventional thin film magnetic recording medium, in which the magnetic film 3 is formed of iron oxide (γ-Fe 2 O 3 ). The substrate 1 is made of aluminum, and the surface thereof is oxidized to form an alumite (Al 2 O 3 ) layer, which is used as the underlayer 2. The magnetic film 3 is formed by a γ-Fe 2 O 3 sputtering method. The protective film 4 is made of carbon or SiO 2.
Is formed by sputtering.

磁性膜3としては、酸化鉄(γ−Fe2O3)のほかに、C
oNi、CoNiCrなどが使用される。
As the magnetic film 3, in addition to iron oxide (γ-Fe 2 O 3 ), C
oNi, CoNiCr, etc. are used.

この磁性膜3を形成するには、第7図〜第9図に示す
ような方法が採られている。第7図は“静止対向型”と
呼ばれる方法であり、基板1の両側にリング状のターゲ
ット51、52が配置され、かつ基板1とリング状ターゲッ
ト51、52との中心が一致している。そのため、基板1は
中心から半径方向に、同一条件でスパッタが行なわれる
ので、磁性膜の磁気特性が円周方向の全周において均一
となり、情報の記録/再生が正確に行なわれる。
In order to form this magnetic film 3, the method shown in FIGS. 7 to 9 is adopted. FIG. 7 shows a method called “stationary facing type”, in which ring-shaped targets 51 and 52 are arranged on both sides of the substrate 1, and the centers of the substrate 1 and the ring-shaped targets 51 and 52 are aligned. Therefore, since the substrate 1 is sputtered from the center in the radial direction under the same condition, the magnetic characteristics of the magnetic film are uniform over the entire circumference in the circumferential direction, and the recording / reproducing of information is accurately performed.

第8図は、静止型のうち基板を回転させる方式であ
り、基板1の両側にターゲット61、62が配設されてい
る。この方式は、ターゲット61、62が基板1の中心に対
して点対称になっていないため、基板1の円周方向に均
一な磁気特性が得られない。そのため、基板1を回転さ
せることで、被着条件を均一化し、磁気特性の均一化を
図っている。しかしながら、基板1を回転可能に支持す
る摺動部からの発塵のために欠陥を引き起こす恐れがあ
り、実用性に欠ける。
FIG. 8 shows a stationary type in which the substrate is rotated, and targets 61 and 62 are provided on both sides of the substrate 1. In this method, since the targets 61 and 62 are not point-symmetric with respect to the center of the substrate 1, uniform magnetic characteristics cannot be obtained in the circumferential direction of the substrate 1. Therefore, by rotating the substrate 1, the deposition conditions are made uniform and the magnetic characteristics are made uniform. However, dust may be generated from a sliding portion that rotatably supports the substrate 1, which may cause a defect, which is not practical.

第9図は、同時に多数の基板1…にスパッタを行なう
方法であり、通過型ないしインライン方式と呼ばれてい
る。7は支持板であり、その各円形孔に基板1…が挿入
支持されている。そして支持板7が、ターゲット61、62
の間を移動する。この方法は、同時に多数の基板に磁性
膜のスパッタを行なうことができるが、各基板1…にお
いて、その中心に対し点対称の条件でスパッタが行なわ
れないため、円周方向において、磁気特性が均一となら
ず、情報の記録/再生に支障を来している。
FIG. 9 shows a method in which a large number of substrates 1 are simultaneously sputtered, which is called a passage type or in-line type. Reference numeral 7 denotes a support plate into which the substrates 1 ... Are inserted and supported in respective circular holes. And the support plate 7 is the target 61, 62.
Move between. This method can sputter magnetic films on a large number of substrates at the same time, but in each substrate 1, ... Sputtering is not performed under the condition of point symmetry with respect to the center of the substrates, so that the magnetic characteristics in the circumferential direction are It is not uniform and hinders the recording / reproduction of information.

第10図は、この通過型のスパッタ方法における被着模
様を示す図であり、(a)は平面図、(b)は基板の側
面図である。ターゲット61、62からは四方八方に分子が
飛散するため、基板1がターゲット61と62との間を通過
する際に、基板1がターゲット61、62間に進入する最初
の時点においては、矢印a1で示すように、基板1に対し
斜め方向から分子が飛来し被着される。つまり(b)に
示すように、基板1の前後の領域1a、1bにおいては、基
板1に対し径方向に分子が飛来し、被着される。
FIG. 10 is a diagram showing a deposition pattern in this passage type sputtering method, (a) is a plan view and (b) is a side view of a substrate. Since molecules are scattered in all directions from the targets 61 and 62, when the substrate 1 passes between the targets 61 and 62, at the first time when the substrate 1 enters between the targets 61 and 62, the arrow a1 As shown by, the molecules come onto the substrate 1 from an oblique direction and are deposited. That is, as shown in (b), in the regions 1a and 1b before and after the substrate 1, molecules fly radially to the substrate 1 and are attached thereto.

ところが基板1の上下の領域1c、1dにおいては、基板
1に対し円周方向に分子が飛来し、被着される。このよ
うに基板1において、ほぼ90度おきに被着条件が変化す
るために、基板1の円周方向において、磁気特性が変化
するという問題がある。
However, in the upper and lower regions 1c and 1d of the substrate 1, molecules fly in the circumferential direction with respect to the substrate 1 and are attached thereto. As described above, since the deposition conditions change on the substrate 1 approximately every 90 degrees, there is a problem that the magnetic characteristics change in the circumferential direction of the substrate 1.

そのためテクスチャーと称して、基板1の下地層2の
成膜前に、基板1の表面に円周方向の微細な傷をつけ、
その上に下地層2、磁性膜3を成膜することで、磁気特
性の改善を図ることが行なわれている。なお下地層2の
上にテクスチャー加工することもできる。このようにテ
クスチャー処理を行なうことで、磁性膜中の磁性体の磁
化容易軸がテクスチャー方向に配向され、形状異方性に
よる磁気特性が増加し、また媒体表面と磁気ヘッドとの
接触面積の減少による潤滑性の向上および吸着の防止が
可能となる。
Therefore, it is called a texture, and before the formation of the underlayer 2 of the substrate 1, fine scratches in the circumferential direction are formed on the surface of the substrate 1,
By forming the underlayer 2 and the magnetic film 3 on it, the magnetic characteristics are improved. Note that the underlayer 2 can also be textured. By performing the texture treatment in this way, the easy axis of magnetization of the magnetic substance in the magnetic film is oriented in the texture direction, the magnetic characteristics due to the shape anisotropy increase, and the contact area between the medium surface and the magnetic head decreases. It becomes possible to improve the lubricity and prevent adsorption.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第11図は従来のテクスチャー加工装置を示す斜視図で
ある。1は鏡面仕上げされた基板であり、200〜300rpm
で回転している基板1上に、ノズル8によって研摩剤や
冷却・潤滑剤を供給しながら、研摩テープ9を押しつけ
ることで、基板1の表面に、円周方向の傷をつける。こ
のとき、研摩テープ9としては、アルミナ等の硬質粉末
を接着したテープを使用したり、あるいは幾つかの研摩
剤との併用により行なっている。
FIG. 11 is a perspective view showing a conventional texture processing device. 1 is a mirror-finished substrate, 200 to 300 rpm
While the abrasive 8 and the cooling / lubricant are being supplied by the nozzle 8 onto the substrate 1 rotated by, the polishing tape 9 is pressed to scratch the surface of the substrate 1 in the circumferential direction. At this time, as the polishing tape 9, a tape to which a hard powder such as alumina is adhered is used, or a combination with some polishing agents is used.

なお、研摩テープ9は、繰り出しロール10から繰り出
され、ガイドロール11、加圧ローラ12、ガイドロール1
3、キャプスタン14・ピンチローラ15を経由して、巻取
りロール16で巻き取られることで、常時新たな面が基板
1側に供給される。
The polishing tape 9 is fed from the feeding roll 10, and the guide roll 11, the pressure roller 12, and the guide roll 1 are fed.
3. By being wound by the winding roll 16 via the capstan 14 and the pinch roller 15, a new surface is constantly supplied to the substrate 1 side.

このようにテクスチャー処理を行なった後、第5図、
第6図の下地層2、磁性膜3、保護膜4を形成する。こ
のとき、下地層2および磁性膜3の両方の膜厚を合わせ
ても、2000〜3000Å程度と薄いため、磁性膜3はテクス
チャー処理による凹凸に沿った薄い凹凸膜となり、磁性
体の配向が行なわれる。
After performing the texture processing in this way, FIG.
The underlayer 2, magnetic film 3 and protective film 4 shown in FIG. 6 are formed. At this time, even if the film thicknesses of both the underlayer 2 and the magnetic film 3 are combined, it is as thin as about 2000 to 3000Å, so the magnetic film 3 becomes a thin uneven film along the unevenness due to the texture treatment, and the orientation of the magnetic substance is performed. Be done.

このような従来のテクスチャー処理装置では、研摩テ
ープによる場合も遊離砥粒によるテープ加工の場合も、
テープを加工面に加圧するローラー12は、第12図のよう
に硬度40〜50度のゴム17を金属ローラー18にライニング
したものを使用し、第13図に示す加圧バランス制御機構
を用いて、研摩テープ9を加工面に圧着している。
With such a conventional texture processing device, both with an abrasive tape and with free abrasive grains,
As the roller 12 for pressing the tape to the processed surface, a rubber roller 18 having a hardness of 40 to 50 degrees is lined on the metal roller 18 as shown in FIG. 12, and the pressure balance control mechanism shown in FIG. 13 is used. The polishing tape 9 is pressure-bonded to the processed surface.

第13図において、加圧ローラ12の支軸19を支持してい
るフレーム20は、加圧バランス中心軸21の回りに回動可
能に、装置本体26に支持されている。そして、フレーム
20の内端20iは、先端にインナーロードセル22を有する
インナー側加圧調整マイクロメータヘッド23iを介し
て、テクスチャー装置本体26に支持され、フレーム20の
外端20oは、先端にアクターロードセル24を有するアウ
ター側加圧調整マイクロメータヘッド23oを介して、テ
クスチャー装置本体26に支持されている。そして、スピ
ンドル27によって非磁性基板1を回転させながら、加圧
ローラ12を、研摩テープ9の上から基板表面に押しつけ
ると、基板表面に周方向の微細傷が形成され、テクスチ
ャー加工が行なわれる。
In FIG. 13, the frame 20 supporting the support shaft 19 of the pressure roller 12 is supported by the device body 26 so as to be rotatable around the pressure balance center shaft 21. And the frame
An inner end 20i of 20 is supported by the texture device main body 26 via an inner pressure adjusting micrometer head 23i having an inner load cell 22 at the tip, and an outer end 20o of the frame 20 has an actor load cell 24 at the tip. It is supported by the texture device main body 26 via the outer pressure adjusting micrometer head 23o. Then, when the pressure roller 12 is pressed against the substrate surface from above the polishing tape 9 while the non-magnetic substrate 1 is rotated by the spindle 27, fine scratches in the circumferential direction are formed on the substrate surface, and texture processing is performed.

この加圧バランス調整機構で、ロードセル22、24の表
示圧力および基板1を固定し、研摩テープ9を走行させ
て加圧ローラ12で押しつけると、第14図に示すように、
基板1にフットプリント28が形成される。両マイクロメ
ータヘッド23i、23oで加圧バネ25i,25oを調節して、ロ
ードセル22、24の値をいろいろ調整し、内周側〜外周側
の形状および寸法、表面粗さが最適のフットプリントを
形成しておき、以後このフットプリントと同等のパター
ンが形成されるように、ロードセル22、24で加圧バラン
スを調整することで、テクスチャー加工を行なう。
With this pressure balance adjusting mechanism, the display pressures of the load cells 22 and 24 and the substrate 1 are fixed, and the polishing tape 9 is run and pressed by the pressure roller 12, as shown in FIG.
A footprint 28 is formed on the substrate 1. Adjust the pressure springs 25i and 25o with both micrometer heads 23i and 23o to adjust the values of the load cells 22 and 24 in various ways to obtain the optimum footprint for the shape and dimensions of the inner and outer circumferences and the surface roughness. After being formed, texture processing is performed by adjusting the pressure balance with the load cells 22 and 24 so that a pattern equivalent to this footprint will be formed thereafter.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、このような制御機構では制御に限界が
あり、特に大径の基板では、内周側と外周側とでは加工
時の周速が異なるために、面内すべてを均一な条件で加
工することが困難である。また加圧ローラ12の表面のゴ
マ硬度や表面精度、加工テープの品質などのバラツキの
影響を受けやすい。さらに、動的な加圧力も、制御装置
の精度や剛性、振動などの影響を受けやすい。
However, such a control mechanism has a limit in control, and especially for a large-diameter substrate, since the peripheral speed during processing is different between the inner peripheral side and the outer peripheral side, it is necessary to process all in-plane under uniform conditions. Is difficult. Further, the surface of the pressure roller 12 is susceptible to variations such as sesame hardness, surface accuracy, and quality of processed tape. Further, the dynamic pressing force is also easily affected by the accuracy, rigidity, vibration, etc. of the control device.

本発明の技術的課題は、このような問題を解消し、基
板の内周側から外周側にわたり、自由にテクスチャー加
工の条件を設定できるテクスチャー加工装置を実現する
ことにある。
A technical object of the present invention is to solve such a problem and to realize a texture processing apparatus capable of freely setting conditions of texture processing from the inner peripheral side to the outer peripheral side of a substrate.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

第1図は本発明による磁気記録媒体用基板のテクスチ
ャー加工装置の基本原理を説明する断面図である。29は
中空ゴムローラ、すなわち空気圧により弾力を与えるよ
うに内部に空気が封入された中空の弾性体から成るるロ
ーラであり、中心に設けられた支軸30を介して支持フレ
ーム20に支持されている。支持フレーム20は、矢印W1
W2で示すように、被加工基板1側に押圧されている。そ
して、テクスチャー加工に際しては、基板1と中空ゴム
ローラ29との間に研摩テープ9を配置し、中空ゴムロー
ラ29で研摩テープ9を基板1の表面に押圧し、かつ基板
1を回転させると共に、研摩テープ9を移送する。
FIG. 1 is a sectional view for explaining the basic principle of a texture processing apparatus for a magnetic recording medium substrate according to the present invention. Reference numeral 29 denotes a hollow rubber roller, that is, a roller made of a hollow elastic body in which air is enclosed so as to give elasticity by air pressure, and is supported by the support frame 20 via a support shaft 30 provided at the center. . The support frame 20 has an arrow W 1 ,
As indicated by W 2 , it is pressed against the substrate 1 side. Then, at the time of texturing, the polishing tape 9 is arranged between the substrate 1 and the hollow rubber roller 29, the hollow rubber roller 29 presses the polishing tape 9 against the surface of the substrate 1, and the substrate 1 is rotated and the polishing tape 9 is rotated. 9 is transferred.

〔作用〕[Action]

このように、中空ゴムローラ29で、回転している基板
面に研摩テープ9を押圧し、研摩テープ9を移送して、
中空ゴムローラ29を回転させることで、テクスチャー加
工するので、中空ゴムローラ29中の空気圧による弾力
で、研摩テープ9はその全幅にわたって均一に基板面に
弾圧される。そのため、従来の装置のように、加圧ロー
ラ12の表面のゴム硬度や表面精度のバラツキの影響を受
けることなく、全面均一にテクスチャー加工できる。ま
た、中空ゴムローラ29中の空気圧による弾性によって、
加圧バランス制御装置の精度や剛性、振動などの影響も
吸収、緩和される。
In this way, the hollow rubber roller 29 presses the polishing tape 9 against the surface of the substrate that is rotating, and the polishing tape 9 is transferred,
Since the texture is processed by rotating the hollow rubber roller 29, the polishing tape 9 is uniformly elastically pressed onto the substrate surface over the entire width thereof by the elasticity of the air pressure in the hollow rubber roller 29. Therefore, unlike the conventional apparatus, the entire surface can be uniformly textured without being affected by the variations in the rubber hardness and the surface accuracy of the surface of the pressure roller 12. Also, due to the elasticity of the air inside the hollow rubber roller 29,
The effects of precision, rigidity, vibration, etc. of the pressure balance control device are also absorbed and mitigated.

支持フレーム20に加える内周側および外周側の加圧力
W1、W2や中空ゴムローラ29中の内圧を調節し、加工面お
よびテープ接着面積を制御することで、自由にフットプ
リントを選択でき、全面にわたって最適な加工条件を得
ることができる。
Internal and external pressure applied to the support frame 20
By adjusting W 1 and W 2 and the internal pressure in the hollow rubber roller 29 to control the processing surface and the tape bonding area, the footprint can be freely selected and the optimum processing conditions can be obtained over the entire surface.

さらに、中空ゴムローラ29の表面に、トレッドパター
ン31を設けることにより、トレッドパターン31のエッジ
で、研摩テープ9が確実に基板面に弾圧され、短時間な
確実にテクスチャー加工が行なわれる。トレッドパター
ン31の配置や角度、ピッチなどを選択することで、テク
スチャー加工の領域や条件を自由に設定できる。
Furthermore, by providing the tread pattern 31 on the surface of the hollow rubber roller 29, the polishing tape 9 is reliably pressed against the substrate surface at the edge of the tread pattern 31, and the texture processing is performed in a short time. By selecting the arrangement, angle, pitch, etc. of the tread pattern 31, the texture processing area and conditions can be set freely.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明による記録媒体用基板のテクスチャー加工
装置が実際上どのように具体化されるかを実施例で説明
する。第2図は中空ゴムローラから成る加圧ローラの実
施例を示す断面図である。29aは中空ゴムローラ部であ
り、自動車のタイヤ状を呈している。そして、両側の周
縁が、Oリング32、32などのシール部材を介して、金属
製のハブ部33に、ベアリングハウジング34およびナット
35で取り付けられている。ベアリングハウジング34に
は、逆止弁を有する給気弁36を備えており、中空ゴムロ
ーラ部29a中に、圧縮空気を供給するようになってい
る。また、中空ゴムローラ部29aの表面には、例えば螺
旋状などのトレッドパターン31が形成されている。
Next, practical examples of how the apparatus for texturing a recording medium substrate according to the present invention is embodied will be described. FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of a pressure roller composed of a hollow rubber roller. 29a is a hollow rubber roller portion, which has the shape of an automobile tire. Then, the peripheral edges on both sides are connected to the metal hub portion 33 through the O-rings 32, 32 and other sealing members, the bearing housing 34 and the nut.
Installed at 35. The bearing housing 34 is provided with an air supply valve 36 having a check valve to supply compressed air into the hollow rubber roller portion 29a. In addition, a tread pattern 31 having, for example, a spiral shape is formed on the surface of the hollow rubber roller portion 29a.

ハブ部33に、第13図における制御機構の支軸19を挿通
することで、中空ゴムローラ29は、加圧バランス制御機
構に取り付けられる。そして、中空ゴムローラ部29a中
に圧縮空気を供給することで、所望の空気圧を得るとと
もに、支軸21の両側の加圧力W1、W2を設定することで、
所望のテクスチャー加工条件を得ることができる。
The hollow rubber roller 29 is attached to the pressure balance control mechanism by inserting the support shaft 19 of the control mechanism in FIG. 13 into the hub portion 33. Then, by supplying compressed air into the hollow rubber roller portion 29a, while obtaining a desired air pressure, by setting the pressurizing forces W 1 and W 2 on both sides of the support shaft 21,
The desired texturing conditions can be obtained.

第3図はテクスチャー加工条件を変えることで得られ
たフットプリントの各種例である。(a)は、本発明の
中空ゴムローラ29により、内部空気圧を低圧にしてテク
スチャー加工した例であり、全体にわたって幅広のフッ
トプリント37aが得られる。また、本発明の中空ゴムロ
ーラ29の内圧を低圧にし、かつ外周側の強く加圧してテ
クスチャー加工すると、(b)のようなフットプリント
37bが得られる。内圧を高圧にして、外周側を強く加圧
すると、(c)のように中間が膨らんだフットプリント
37cが得られる。中空ゴムローラ29の内圧を高圧にし
て、内外均一に加圧すると、(d)のように細いフット
プリント37dが得られる。
FIG. 3 shows various examples of footprints obtained by changing the texture processing conditions. (A) is an example in which the hollow rubber roller 29 of the present invention is used to perform texture processing while reducing the internal air pressure to a low value, and a wide footprint 37a is obtained over the entire surface. In addition, when the internal pressure of the hollow rubber roller 29 of the present invention is set to a low pressure and the outer peripheral side is strongly pressed for texture processing, a footprint as shown in (b) is obtained.
You get 37b. When the inner pressure is made high and the outer peripheral side is strongly pressed, the footprint in which the middle bulges as shown in (c)
You get 37c. When the inner pressure of the hollow rubber roller 29 is made high and the inner and outer pressures are uniformly applied, a thin footprint 37d as shown in (d) is obtained.

なお、(a)〜(c)のようなフットプリントは、中
空ゴムローラ29のゴム質を軟質にすることによって容易
に得ることができ、ゴム質を硬質にすると(d)のよう
な細いフットプリント37dとなる。
The footprints (a) to (c) can be easily obtained by making the rubber material of the hollow rubber roller 29 soft, and when the rubber material is hard, a thin footprint as shown in (d). 37d.

このように、中空ゴムローラ29の内圧と、内外の加圧
力、あるいは中空ゴムローラ29のゴム質によって、種々
のフットプリントを得ることができ、テクスチャー加工
条件を自由に選択できる。
As described above, various footprints can be obtained depending on the internal pressure of the hollow rubber roller 29, the pressure applied inside and outside, or the rubber quality of the hollow rubber roller 29, and the texture processing conditions can be freely selected.

従来の加圧ローラによるテクスチャー加工では、特に
大径の基板を加工した場合は、同一面内および表裏面
差、多重加工でのバラツキを含めると、表面粗さRa:20
〜30Åのバラツキが発生するが、本発明の中空ゴムロー
ラ29で加工した場合は、半分以下のバラツキとすること
ができた。また加工速度の向上により、加工時間が短縮
され、かつ加工中のスクラッチの発生割合が低下する。
In the conventional texture processing with a pressure roller, especially when processing a large-diameter substrate, the surface roughness Ra: 20
A variation of up to 30 Å occurs, but when processed with the hollow rubber roller 29 of the present invention, the variation could be less than half. Further, due to the improvement of the processing speed, the processing time is shortened and the occurrence rate of scratches during processing is reduced.

第4図は、トレッドパターン31の各種実施例である。
(a)は中空ゴムローラ29の全面に、均一に斜めのトレ
ッドパターンを形成した例であり、基板の全面に均一条
件でテクスチャー加工する場合に適する。
FIG. 4 shows various embodiments of the tread pattern 31.
(A) is an example in which a slanted tread pattern is uniformly formed on the entire surface of the hollow rubber roller 29, which is suitable when texture processing is performed on the entire surface of the substrate under uniform conditions.

また、(b)のように、中空ゴムローラ29の内周側に
多めにトレッドパターンを形成し、外周側を少なめにす
ることで、基板の内周寄りを重点的にテクスチャー加工
できる。
Further, as shown in (b), by forming a large number of tread patterns on the inner peripheral side of the hollow rubber roller 29 and reducing the outer peripheral side thereof, it is possible to perform texture processing mainly on the inner peripheral side of the substrate.

(c)のように、特定の場所に、所定幅にわたって、
トレッドパターンの本数を増やして密にすると、その領
域のみ、テクスチャー加工を重点的に行なうことができ
る。したがって、CSSゾーンのみを重点的にテクスチャ
ー加工するような場合に適している。
As shown in (c), at a specific place, over a predetermined width,
If the number of tread patterns is increased and the tread patterns are made denser, the texture processing can be intensively performed only in that area. Therefore, it is suitable for the case where only the CSS zone is textured intensively.

このように中空ゴムローラ29の表面にトレッドパター
ン31を設け、トレッドパターン31の配置やピッチ、角
度、中空ゴムローラ29の硬度や材質、内圧などを選定す
ることで、第14図に示す従来のフットプリント28と異な
り、自由にフットプリント形状を選択できる。
In this way, by providing the tread pattern 31 on the surface of the hollow rubber roller 29 and selecting the arrangement, pitch, angle of the tread pattern 31, hardness and material of the hollow rubber roller 29, internal pressure, etc., the conventional footprint shown in FIG. Unlike 28, you can freely select the footprint shape.

なお、本発明において、研摩テープ9は、研摩テープ
自体に研摩剤が付着しているものや、遊離砥粒を供給し
ながらテープで擦るテープ研摩テクスチャーナなど、テ
ープを加圧ローラで押圧するものを総て含むものとす
る。
In the present invention, the polishing tape 9 is one in which an abrasive is attached to the polishing tape itself, or a tape polishing texturer that rubs the tape while supplying loose abrasive grains, such as a tape that is pressed by a pressure roller. Are all included.

中空ゴムローラ29は、図においては、加圧部と中空体
が一体になっているが、自動車におけるタイヤのよう
に、トレッドパターンを有するゴム体の中に機密なチュ
ーブを配設したものを用いてもよい。
In the figure, the hollow rubber roller 29 has a pressurizing portion and a hollow body integrated with each other.However, like a tire in an automobile, a rubber body having a tread pattern in which a confidential tube is arranged is used. Good.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように本発明によれば、空気圧により弾力を与
えるように内部に空気が封入された中空の弾性体からな
る加工ローラで、研磨テープを非磁性の基板に押圧し、
該基板を回転させることで、テクスチャー加工するよう
にしたので、中空の弾性体内の圧縮空気による弾性によ
って、中空の弾性体の表面や硬度や表面精度、研磨テー
プ品質の影響を受けにくくすることができて、研磨テー
プを均一かつ安定して基板面に弾圧させることができ
る。また、中空の弾性体の硬度や内圧、中空の弾性体の
表面に形成するトレッドパターンの配置やピッチ、角度
などを選定することで、自由にフットプリント形状を選
択し、テクスチャー加工条件を設定できる。
As described above, according to the present invention, with a processing roller formed of a hollow elastic body in which air is enclosed so as to give elasticity by air pressure, the polishing tape is pressed against the non-magnetic substrate,
Since the texture is processed by rotating the substrate, the elasticity of compressed air in the hollow elastic body can reduce the influence of the surface, hardness, surface precision, and polishing tape quality of the hollow elastic body. As a result, the polishing tape can be uniformly and stably pressed against the substrate surface. In addition, by selecting the hardness and internal pressure of the hollow elastic body, and the arrangement, pitch, and angle of the tread pattern formed on the surface of the hollow elastic body, you can freely select the footprint shape and set the texture processing conditions. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明による記録媒体用基板のテクスチャー加
工装置の基本原理を説明する断面図、 第2図は本発明による中空ゴムローラの実施例を示す断
面図、 第3図は本発明の装置で得られる各種のフットプリント
を示す図、 第4図は中空ゴムローラのトレッドパターンの実施例を
示す図である。 第5図は薄膜磁気記録媒体の全容を示す断面図、 第6図は薄膜磁気記録媒体の層構成を示す断面図、 第7図〜第9図は薄膜磁気記録媒体の各種スパッタ方法
を示す斜視図、 第10図は通過型のスパッタ方法における被着模様を示す
図、 第11図は従来の記録媒体用基板のテクスチャー加工装置
を示す斜視図、 第12図は従来の加圧ローラの断面図、 第13図は従来の加圧バランス制御機構を示す断面図、 第14図は従来のテクスチャー加工装置によるフットプリ
ントを示す図である。 図において、1は非磁性の基板、9は研摩テープ、12は
加圧ローラ、29は中空ゴムローラ、29aは中空ゴムロー
ラ部、30は支軸、31はトレッドパターン、28、37a〜37d
はフットプリントをそれぞれ示す。
1 is a sectional view for explaining the basic principle of a texture processing apparatus for a recording medium substrate according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view for showing an embodiment of a hollow rubber roller according to the present invention, and FIG. 3 is an apparatus for the present invention. FIG. 4 is a diagram showing various obtained footprints, and FIG. 4 is a diagram showing an example of a tread pattern of a hollow rubber roller. FIG. 5 is a sectional view showing the whole of the thin film magnetic recording medium, FIG. 6 is a sectional view showing the layer structure of the thin film magnetic recording medium, and FIGS. 7 to 9 are perspective views showing various sputtering methods of the thin film magnetic recording medium. Fig. 10, Fig. 10 is a diagram showing a deposition pattern in a passage type sputtering method, Fig. 11 is a perspective view showing a conventional texture processing apparatus for a recording medium substrate, and Fig. 12 is a sectional view of a conventional pressure roller. FIG. 13 is a cross-sectional view showing a conventional pressure balance control mechanism, and FIG. 14 is a view showing a footprint by a conventional texture processing device. In the figure, 1 is a non-magnetic substrate, 9 is a polishing tape, 12 is a pressure roller, 29 is a hollow rubber roller, 29a is a hollow rubber roller portion, 30 is a spindle, 31 is a tread pattern, 28, 37a to 37d.
Indicate footprints, respectively.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】加工ローラによって、研磨テープ(9)を
非磁性の基板(1)の表面に押圧し、該基板(1)を回
転させることでテクスチャー加工を行う装置において、 該加工ローラを、空気圧により弾力を与えるように内部
に空気が封入された中空の弾性体(29)で構成してなる
ことを特徴とする記録媒体用基板のテクスチャー加工装
置。
1. An apparatus for performing texture processing by pressing a polishing tape (9) against the surface of a non-magnetic substrate (1) by a processing roller and rotating the substrate (1), wherein the processing roller is An apparatus for texturing a recording medium substrate, comprising a hollow elastic body (29) in which air is enclosed so as to give elasticity by air pressure.
【請求項2】加工ローラによって、研磨テープ(9)を
非磁性の基板(1)の表面に押圧し、該基板(1)を回
転させることでテクスチャー加工を行う装置において、 該加工ローラを、空気圧により弾力を与えるように内部
に空気が封入された中空の弾性体(29)で構成し、かつ
該中空の弾性体(29)の表面にトレッドパターン(31)
を設けてなることを特徴とする記録媒体用基板のテクス
チャー加工装置。
2. An apparatus for performing texture processing by pressing a polishing tape (9) against the surface of a non-magnetic substrate (1) by a processing roller and rotating the substrate (1), wherein the processing roller is It is composed of a hollow elastic body (29) in which air is enclosed so as to give elasticity by air pressure, and a tread pattern (31) is formed on the surface of the hollow elastic body (29).
An apparatus for texturing a substrate for a recording medium, comprising:
JP1113507A 1989-05-02 1989-05-02 Recording medium substrate texture processing device Expired - Lifetime JP2681299B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1113507A JP2681299B2 (en) 1989-05-02 1989-05-02 Recording medium substrate texture processing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1113507A JP2681299B2 (en) 1989-05-02 1989-05-02 Recording medium substrate texture processing device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02292724A JPH02292724A (en) 1990-12-04
JP2681299B2 true JP2681299B2 (en) 1997-11-26

Family

ID=14614082

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1113507A Expired - Lifetime JP2681299B2 (en) 1989-05-02 1989-05-02 Recording medium substrate texture processing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2681299B2 (en)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH045051Y2 (en) * 1987-09-08 1992-02-13

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02292724A (en) 1990-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7009790B2 (en) Magnetic transfer apparatus
JP2681299B2 (en) Recording medium substrate texture processing device
JPH077508B2 (en) Magnetic disk manufacturing method
JP2613947B2 (en) Magnetic recording media
JP3564707B2 (en) Magnetic recording media
JP2681300B2 (en) Method of texturing a substrate for a magnetic recording medium
JP2874385B2 (en) Magnetic recording medium and method of manufacturing the same
JP2777499B2 (en) Magnetic disk
JPH04113515A (en) Magnetic disk
JPH06103554A (en) Perpendicular magnetic recording medium
JPH0668462A (en) Magnetic disk
JP2605846B2 (en) Polishing method for magnetic recording media
JPH07296539A (en) Magnetic disk medium
JP2969361B2 (en) Method of manufacturing magnetic disk substrate
JPH06215344A (en) Magnetic recording medium
JP3565103B2 (en) Magnetic recording device
JP3051851B2 (en) Substrate for magnetic disk
JPH0554360A (en) Substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium and production of this substrate
JPH05334665A (en) Magnetic disk
JPH0325725A (en) Magnetic recording medium and production thereof
JPH07147068A (en) Magnetic recording medium
JPH11306541A (en) Magnetic recording medium
JP2000132830A (en) Magnetic recording medium and its production
JPH08329453A (en) Magnetic recording medium and its production
JPH05296901A (en) Abrasion testing device