JP2624985B2 - Manufacturing method of high refractive index difference micro core base material - Google Patents

Manufacturing method of high refractive index difference micro core base material

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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、コアとクラッドの屈折率差が高く、コア径
の微小な光ファイバ母材を作製する方法に関し、高効率
なファイバラマンレーザ等非線形効果の大きなファイバ
用母材を作製できるものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a method for producing an optical fiber preform having a small core diameter and a high refractive index difference between a core and a clad, and relates to a highly efficient fiber Raman laser or the like. A fiber preform having a large nonlinear effect can be produced.

<従来の技術> 従来、石英系ガラスファイバは、コア材料としてGeO2
ガラスを2〜10mol%添加した石英ガラスを、クラッド
材料として純シリカガラスを用いて石英管を出発管とし
たMCVD法あるいはVAD法により作製されている。ここ
で、光をとじ込めて伝播させるコアに添加されるGeO2
ラスのラマン散乱係数はSiO2ガラスのそれより9.2倍大
きい(F.L.Galeener et al.,Appl.phys.Lett.,Vol,32,
P.34,1978)が、通常の光ファイバではほとんどSiO2
ラス材料に依存したラマン特性あるいは非線形効果が支
配的であり、このためラマン散乱定数等の非線形効果は
非常に小さい。従って、通常の光ファイバを用いて誘導
ラマン散乱光を発生させるには、大きな光パワーをファ
イバに入射させるか、あるいは1〜10kmの長い低損失な
光ファイバを用いて励起光と発生する誘導ラマン散乱光
との相互作用長を長くする必要があった。
<Prior Art> Conventionally, silica glass fiber, GeO 2 as the core material
A quartz glass to which glass is added in an amount of 2 to 10 mol% is produced by a MCVD method or a VAD method using a pure silica glass as a cladding material and a quartz tube as a starting tube. Here, the Raman scattering coefficient of GeO 2 glass added to the core that transmits and traps light is 9.2 times larger than that of SiO 2 glass (FLGaleener et al., Appl. Phys. Lett., Vol. 32,
P.34,1978), however, in ordinary optical fibers, the Raman characteristics or nonlinear effects that depend almost on the SiO 2 glass material are dominant, and therefore the nonlinear effects such as the Raman scattering constant are very small. Therefore, in order to generate stimulated Raman scattered light using a normal optical fiber, a large optical power is incident on the fiber, or stimulated Raman generated with pump light using a low-loss optical fiber of 1 to 10 km is used. It was necessary to lengthen the interaction length with the scattered light.

また、SiO2系ガラス以外のGeO2系ガラスをコア材料と
し、SiO2添加GeO2ガラスをクラッド材料としたVAD法に
よる光ファイバは、通常の光ファイバよりも低い励起入
射パワーで誘導ラマン散乱光が発生することが判明して
いる(K.Nakamura,et,al.,12thEuropean Conference on
Optical Communication Ecoc′86−11−14)。しか
し、この光ファイバはコア径が26μmと大きく、屈折率
差が0.56%と小さいため、半導体レーザのような低出力
レーザでの誘導ラマン光の発生が困難であり、他の非線
形性効率も小さかった。
In addition, an optical fiber by the VAD method using a GeO 2 glass other than the SiO 2 glass as a core material and a SiO 2 doped GeO 2 glass as a cladding material has a stimulated Raman scattered light with a lower pump incident power than a normal optical fiber. (K. Nakamura, et, al., 12thEuropean Conference on
Optical Communication Ecoc'86-11-14). However, since this optical fiber has a large core diameter of 26 μm and a small difference in refractive index of 0.56%, it is difficult to generate stimulated Raman light with a low-power laser such as a semiconductor laser, and other nonlinear efficiency is also small. Was.

一方、純GeO2ガラスをコアとする高屈折率差微小コア
ファイバの作製方法としては、コア材料となるGeO2ガラ
スおよびクラッド材料となるP2O5を20ωt%添加したSi
O2ガラスロッドをそれぞれVAD法によって作製し、クラ
ッド材料の中心を穿孔して管状とし、この管状クラッド
材料にコアに挿入し、更に最外周に第2クラッドとして
パイレックス(コーニング社の登録商標)管を装着した
ロッドチューブ法により作製した例がある(保坂,他昭
和62年度電子情報通信学会半導体材料部門全国大会講演
論文集P.2−207)。しかし、この方法はロッドインチュ
ーブ法を用いるため、ファイバが長さ方向に不均一であ
り、低損失化が困難であるという欠点があった。
Meanwhile, as a method for manufacturing a high refractive index difference small core fiber to pure GeO 2 glass core, and the P 2 O 5 serving as GeO 2 glass and the cladding material as a core material was added 20ωt% Si
O 2 glass rods were prepared by the VAD method, and the center of the clad material was perforated to form a tube. The tube was inserted into the core, and a Pyrex (registered trademark of Corning) tube was formed on the outermost periphery as a second clad. (Hosaka et al., Proceedings of the 1987 IEICE National Conference on Semiconductor Materials, P.2-207). However, since this method uses the rod-in-tube method, there is a disadvantage that the fibers are not uniform in the length direction and it is difficult to reduce the loss.

<発明が解決しようとする課題> 本発明は、誘導ラマン散乱等の非線形効果を生じさせ
るために大きな入射パワー及び長尺なファイバを必要と
することなく、特に半導体レーザのように小型で使い勝
手のよい比較的低出力レーザで誘導ラマン散乱光を発生
あるいは高効率非線効果(カー効果等)を生じさせるこ
とができ、長さ方向に均一であり低損失な光ファイバ用
母材を作製することのできる方法を提供することを目的
とする。
<Problems to be Solved by the Invention> The present invention does not require a large incident power and a long fiber to generate a nonlinear effect such as stimulated Raman scattering, and is particularly small and easy to use like a semiconductor laser. To produce a preform for optical fiber that is uniform in the length direction and low in loss, which can generate stimulated Raman scattered light or generate high-efficiency nonlinear effects (such as the Kerr effect) with a relatively low-power laser. The purpose is to provide a method that can

<課題を解決するための手段> 斯かる目的を達成するための本発明の構成は、出発管
を水平に保持して回転させると共に該ガラス管内に光フ
ァイバ用ガラス原料ガス及び酸素を導入し、該ガラス管
を外側あるいは内側から加熱することによって酸化反応
を生ぜしめ、該ガラス管内壁にクラッドガラス及びコア
ガラスの層を順に堆積した後、該ガラス管を中実化する
MCVD法あるいはPCVD法による光ファイバ用母材の作製方
法において、前記出発管としてホウケイ酸ガラス管ある
いはアルミナ酸ガラス管を用い、前記クラッドガラスと
してP2O5及びB2O3を含有するSiO2ガラス,P2O5を含有す
るSiO2ガラス又はB2O3を含有するSiO2ガラスあるいはこ
れらのガラスにフッ素を添加したガラスを堆積させ、前
記コアガラスとして純GeO2ガラス、SiO2ガラスを添加し
たGeO2ガラス,又はフッ素およびSiO2ガラスを添加した
GeO2ガラスを堆積させることを特徴とする。
<Means for Solving the Problems> The configuration of the present invention for achieving the object is to hold and rotate the starting tube horizontally and to introduce a glass raw material gas and oxygen for an optical fiber into the glass tube, An oxidation reaction is caused by heating the glass tube from the outside or the inside, and a layer of a clad glass and a core glass is sequentially deposited on the inner wall of the glass tube, and then the glass tube is solidified.
In the method for producing an optical fiber preform by an MCVD method or a PCVD method, a borosilicate glass tube or an aluminate glass tube is used as the starting tube, and SiO 2 containing P 2 O 5 and B 2 O 3 is used as the cladding glass. glass, depositing a glass doped with fluorine in SiO 2 glass or the glasses containing SiO 2 glass or B 2 O 3 containing P 2 O 5, pure GeO 2 glass as the core glass, the SiO 2 glass GeO 2 glass added, or fluorine and SiO 2 glass added
GeO 2 glass is deposited.

<実 施 例> 以下、本発明の一実施例について図面を参照して詳細
に説明する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図に本発明方法を実施する装置の1例を示す。同
図に示すように、ホウケイ酸ガラスの1例としてパイレ
ックス管3はの両端部を支持部であるチャック4に回転
自在かつ水平に保持されており、その内径は17mm,外径
は20mm,長さは1500mmである。このパイレックス管3の
一端にはパイプ2を介して原料ガス供給部1が接続され
ている。この原料ガス供給部1には、SiCl4,GeCl4,PC
l4,BBr3の液体が各容器に貯留され、Arガスを液体中に
供給することにより蒸発させて輸送することができる。
また、他にO2ガス及びSF6ガスが保管され、温度制御及
び流量制御が可能となっている。これら原料ガス等はパ
イプ2を介してパイレックス管3内へ供給される。一
方、パイレックス管3の他端には回転コネクタ7を介し
てトラップ8に回転可能に接続され、パイレックス管3
を通過した気体はトラップ8を経由して電磁弁9,ノズル
10から排気されることとなる。更に、パイレックス管3
の下方に酸水素炎バーナ等の加熱源5が配設されると共
にこの加熱源5に隣接して管径測定部6が併設されてお
り、これら加熱源5及び管径測定部6はパイレックス管
3に沿って移動可能となっている。この管径測定部6の
信号に基づいて排気量制御部11は電磁弁9の開閉を制御
する。
FIG. 1 shows an example of an apparatus for implementing the method of the present invention. As shown in FIG. 1, as an example of borosilicate glass, both ends of a Pyrex tube 3 are rotatably and horizontally held by a chuck 4 as a support, and have an inner diameter of 17 mm, an outer diameter of 20 mm, and a length. The height is 1500mm. A source gas supply unit 1 is connected to one end of the Pyrex pipe 3 via a pipe 2. The source gas supply unit 1 includes SiCl 4 , GeCl 4 , PC
Liquids of l 4 and BBr 3 are stored in each container, and can be transported by evaporating by supplying Ar gas into the liquid.
In addition, O 2 gas and SF 6 gas are stored, and temperature control and flow rate control are possible. These source gases and the like are supplied into the Pyrex pipe 3 via the pipe 2. On the other hand, the other end of the Pyrex tube 3 is rotatably connected to a trap 8 via a rotary connector 7.
The gas that has passed through the trap 8 passes through the solenoid valve 9 and the nozzle
It will be exhausted from 10. Furthermore, Pyrex tube 3
A heating source 5 such as an oxyhydrogen flame burner is disposed below the tube, and a pipe diameter measuring unit 6 is provided adjacent to the heating source 5. The heating source 5 and the tube diameter measuring unit 6 are Pyrex tubes. 3 can be moved. The displacement control unit 11 controls the opening and closing of the solenoid valve 9 based on the signal from the pipe diameter measuring unit 6.

上記構成の装置を利用して本発明方法は次の様に実施
される。
The method of the present invention is implemented as follows using the apparatus having the above configuration.

まず、チャック4で支持されたパイレックス管3を60
rpm程度の回転数で回転させると共に原料ガス供給部1
からパイプ2を介してO2ガスのみを500cc/分の割合で流
す。この状態で加熱源5を数回往復(約5〜10cm/分)
させてパイレックス管3を約800℃の温度まで加熱し空
焼きを行う。空焼きを行うのは、管内壁を非常になめら
かにするためである。パイレックス管は軟化点以上に加
熱されると、同心円状に収縮して管径が細くなる。この
管径は管径測定部6で測定され、予め排気量制御部11に
設定された下限管径と比較される。この下限管径に比べ
てパイレックス3の管径が大きい場合には、排気量制御
部11が電磁弁9を開放して管内を流れる気体を抵抗なく
排出する。
First, the Pyrex tube 3 supported by the chuck 4 is
Rotate at about rpm and feed gas 1
And only O 2 gas is flowed at a rate of 500 cc / min. In this state, the heating source 5 is reciprocated several times (about 5 to 10 cm / min).
Then, the Pyrex tube 3 is heated to a temperature of about 800 ° C. and baked. The baking is performed to make the inner wall of the pipe very smooth. When a Pyrex tube is heated above its softening point, it shrinks concentrically and becomes thinner. This pipe diameter is measured by the pipe diameter measuring unit 6 and compared with the lower limit pipe diameter set in the displacement control unit 11 in advance. When the pipe diameter of the Pyrex 3 is larger than the lower limit pipe diameter, the displacement control unit 11 opens the solenoid valve 9 and discharges the gas flowing through the pipe without resistance.

一方、管径が下限管径よりも小さい場合には、排気量
制御部11が電磁弁9を閉じてしまうため、管内の気体の
出口はノズル10の僅かの間隙だけとなる。パイレックス
管3内へは原料ガス供給部1から常時O2ガスが供給され
ているため、管内の圧力が高まり、パイレックス管3の
加熱部分は収納しようとする表面張力に打ち勝ち膨張す
る。この膨張した管径が設定値に一致するか、あるいは
大きくなると、排気量制御部11が電磁弁9を開放して、
管内の圧力を大気圧まで下げる。このような動作を加熱
原料5の移動と共にパイレックス管3の長手方向へ行う
ことにより、設定値に合うよう整形される。
On the other hand, when the pipe diameter is smaller than the lower limit pipe diameter, the exhaust amount control unit 11 closes the solenoid valve 9, so that the gas outlet in the pipe is only a small gap of the nozzle 10. Since the O 2 gas is constantly supplied into the Pyrex tube 3 from the raw material gas supply unit 1, the pressure in the tube increases, and the heated portion of the Pyrex tube 3 expands to overcome the surface tension to be stored. When the expanded pipe diameter matches or becomes larger than the set value, the displacement control unit 11 opens the solenoid valve 9 and
Reduce the pressure in the tube to atmospheric pressure. By performing such an operation in the longitudinal direction of the Pyrex tube 3 together with the movement of the heating raw material 5, the shape is adjusted to match the set value.

次に、原料ガス供給部1から500cc/分のO2ガスと共に
Arガスでバブリングされた12℃,200cc/分のSiCl4,12℃,
200cc/分のPCl3,12℃,200cc/分のBBr3をパイレックス管
3内へ流し、加熱源5によってこれら原料ガスを約1000
℃に加熱し、酸化反応を起こさせ、クラッドとなるガラ
スつまりクラッドガラスとしてP2O5及びB2O3を含有する
SiO2(以下、P2O4/B2O3/SiO2のように略記する)ガラス
層をパイレックス管内壁(約17mm)に堆積させる。加熱
源5を20回程度往復させることにより上記ガラス層は約
36μmの厚さとなる。
Next, from the raw material gas supply unit 1 together with 500 cc / min of O 2 gas
12 ℃, 200cc / min SiCl 4 bubbled with Ar gas, 12 ℃,
PCl 3 at 200 cc / min, BBr 3 at 12 ° C. and 200 cc / min are flowed into the Pyrex tube 3,
Heat to ℃ to cause an oxidation reaction, containing P 2 O 5 and B 2 O 3 as glass to be clad, that is, clad glass
A glass layer of SiO 2 (hereinafter abbreviated as P 2 O 4 / B 2 O 3 / SiO 2 ) is deposited on the inner wall (about 17 mm) of the Pyrex tube. By reciprocating the heating source 5 about 20 times, the above glass layer becomes approximately
The thickness is 36 μm.

引き続き、12℃,50cc/分のGeCl4をO2ガスと共にパイ
レックス管中へ流し、加熱源5によって約1000℃に加熱
し、酸化反応を起させ、コアとなるガラスつまりコアガ
ラスとしてGeO2ガラス層を更に堆積させる。加熱源5を
約5回往復させることによって、GeO2ガラス層の厚さは
約0.4μmとなる。
Subsequently, GeCl 4 at 12 ° C. and 50 cc / min is flowed into the Pyrex tube together with O 2 gas, heated to about 1000 ° C. by the heating source 5 to cause an oxidation reaction, and a glass serving as a core, that is, GeO 2 glass as a core glass Further layers are deposited. By reciprocating the heating source 5 about five times, the thickness of the GeO 2 glass layer becomes about 0.4 μm.

その後、加熱源5をゆっくり移動させると共に排気量
制御部11からの流入を停止して約1000〜1100℃に加熱
し、加熱源5を3回程度往復させることによって中実化
し、円柱母材(直径約11mm,長さ500mm)とした。本発明
では、出発管として従来の石英管に代えてパイレックス
管を用い、このパイレックスガラスに軟化点温度の近い
P2O5/B2O2/SiO2ガラス、純GeO2ガラスをそれぞれクラッ
ド材料、コア材料としている。このため、低い温度で中
実化することができた。もし、仮に従来の石英管を出発
管として用いると、中実化時(約1900℃)に石英管内に
堆積した純GeO2ガラスが昇華し、コアを形成することが
できないこととなる。
Thereafter, the heating source 5 is slowly moved, the inflow from the displacement control unit 11 is stopped, the heating source 5 is heated to about 1000 to 1100 ° C., and the heating source 5 is reciprocated about three times to be solidified, and the cylindrical base material ( The diameter was about 11 mm and the length was 500 mm). In the present invention, a Pyrex tube is used as a starting tube instead of a conventional quartz tube, and the Pyrex glass has a softening point close to that of the Pyrex glass.
P 2 O 5 / B 2 O 2 / SiO 2 glass and pure GeO 2 glass are used as a cladding material and a core material, respectively. For this reason, solidification could be achieved at a low temperature. If a conventional quartz tube is used as a starting tube, pure GeO 2 glass deposited in the quartz tube at the time of solidification (about 1900 ° C.) sublimates, and a core cannot be formed.

製作された母材の両端は高温から室温に冷える際に、
パイレックスガラス、P2O5/B2O2/SiO2ガラス及び純GeO2
ガラスの線膨張係数の差に依存する熱応力によって亀裂
が生じやすい部分である。そこで、第2図に示すように
母材の両端を引き伸ばした。第3図に母材の断面を示す
ようにコア12の直径は約0.5mm,クラッド13の直径は約5m
mであった。また第4図に屈折率分布を示すようにコア1
2,クラッド13,パイレックスガラスの屈折率nはそれぞ
れ1.61,1.458,1.474であった。従って、屈折率差Δ=
(n1−n2)/n1(n1:コアの屈折率,n2:クラッドの屈折
率)としては9.44%となり高い値となった。
As both ends of the manufactured base material cool from high temperature to room temperature,
Pyrex glass, P 2 O 5 / B 2 O 2 / SiO 2 glass and pure GeO 2
This is a portion where cracks are likely to occur due to thermal stress depending on the difference in linear expansion coefficient of glass. Therefore, both ends of the base material were stretched as shown in FIG. As shown in FIG. 3, the diameter of the core 12 is about 0.5 mm, and the diameter of the clad 13 is about 5 m.
m. In addition, as shown in FIG.
The refractive indices n of 2, clad 13, and Pyrex glass were 1.61, 1.458, and 1.474, respectively. Therefore, the refractive index difference Δ =
(N 1 −n 2 ) / n 1 (n 1 : refractive index of the core, n 2 : refractive index of the clad) was as high as 9.44%.

本発明の母材と同様の組成を有する母材をVAD法によ
り作成するのは困難である。その理由は、純GeO2ガラス
とP2O5/B2O2/SiO2ガラスの線膨張差に基づく熱応力によ
る亀裂は、コアの直径が小さいほど発生する確率が小さ
いから、母材のコア直径を1mm以下にすることが困難なV
AD法では、加熱して透明ガラス化した後、冷却時に熱応
力による亀裂が生じるからである。また、純GeO2ガラス
とP2O5/B2O2/SiO2ガラスの軟化温度及び線膨張係数を合
せることが困難であるからである。
It is difficult to prepare a base material having the same composition as the base material of the present invention by the VAD method. The reason is that cracks due to thermal stress based on the difference in linear expansion between pure GeO 2 glass and P 2 O 5 / B 2 O 2 / SiO 2 glass are less likely to occur as the core diameter is smaller. V that makes it difficult to reduce the core diameter to 1 mm or less
This is because in the AD method, after being heated to be transparent vitrified, a crack is generated by thermal stress at the time of cooling. Also, it is difficult to match the softening temperature and the linear expansion coefficient of pure GeO 2 glass and P 2 O 5 / B 2 O 2 / SiO 2 glass.

尚、上記実施例ではクラッドガラスとしてP2O5/B2O2/
SiO2ガラスが用いられていたが、これに代えてP2O5/SiO
2,B2O2/SiO2あるいはこれにフッ素を微量添加したガラ
スも用いることができる。また、コアガラスとしても上
記実施例の純GeO2ガラスに代えて、SiO2のみあるいはSi
O2及びフッ素が微量添加されたGeO2ガラスを用いること
もできる。製作方法も上記手順と変わらない。更に、上
記実施例では加熱源5として酸水素バーナを使用したMC
VD法により実施していたが、これに代えてPCVD(プラズ
マCVD)法を用いることもできる。例えば、パイレック
ス管内を10-7Torrに減圧し、加熱源5としてマイクロ波
キャビディを用い、2.45GHzのマイクロ波発生器を用い
て、200〜1500ワットの出力でパイレックス管を加熱
し、発生するプラズマにより管内面を重点的に加熱しな
がら、コア層及びクラッド層を堆積するようにしても良
い。このようにすると、パイレックス管の外側の温度が
高くならないため、管の収縮が抑えられる(Fredy Weli
ng J.Appl,Phys Vol.57,no.99,PP.4441−4446,1985)。
In the above embodiment, P 2 O 5 / B 2 O 2 /
SiO 2 glass was used, but instead of P 2 O 5 / SiO
2 , B 2 O 2 / SiO 2 or glass obtained by adding a small amount of fluorine thereto can also be used. Further, as the core glass, instead of the pure GeO 2 glass of the above embodiment, only SiO 2 or Si
GeO 2 glass to which trace amounts of O 2 and fluorine are added can also be used. The manufacturing method is the same as the above procedure. Further, in the above embodiment, the MC using the oxyhydrogen burner as the heating source 5 was used.
Although the VD method has been used, a PCVD (plasma CVD) method can be used instead. For example, the pressure inside the Pyrex tube is reduced to 10 -7 Torr, the microwave generated at a power of 200 to 1500 watts is used to heat the Pyrex tube using a microwave cabidi as a heating source 5 and a microwave generator of 2.45 GHz to generate plasma. The core layer and the clad layer may be deposited while the inner surface of the tube is heated by the method. In this way, the outside temperature of the Pyrex tube does not rise, thus reducing tube shrinkage (Fredy Weli
ng J. Appl, Phys Vol. 57, no. 99, PP. 4441-4446, 1985).

<発明の効果> 以上、実施例に基づいて具体的に説明したように本発
明方法では母材のコア径を0.5mm程度にできるため、コ
アガラスとクラッドガラスの線膨張係数の差に起因する
熱応力が小さく、亀裂を生じることがない。また、MCVD
法は閉管系であるため、低損失化が可能となる利点があ
る。
<Effect of the Invention> As described above in detail with reference to the examples, the method of the present invention can reduce the core diameter of the base material to about 0.5 mm, which is caused by the difference in linear expansion coefficient between the core glass and the clad glass. Low thermal stress and no cracks. Also, MCVD
Since the method is a closed tube system, there is an advantage that the loss can be reduced.

更に、本発明方法による母材から光ファイバを作製す
ると、屈折率差を8〜9%,使用波長を0.5〜1.2μmと
したときに、コア径0.6〜1μm程度で単一モード動作
が可能となり、同一光源から従来の石英系単一モード光
ファイバの100倍程度のパワー密度を達成できる。従っ
て、ラマン散乱に代表される非線形効果の増大の他に、
レーザ加工、レーザメス、イメージガイドおよび熱影像
ガイドの分解能の向上に利点がある。
Furthermore, when an optical fiber is manufactured from the preform according to the method of the present invention, when the refractive index difference is 8 to 9% and the wavelength used is 0.5 to 1.2 μm, single mode operation becomes possible with a core diameter of about 0.6 to 1 μm. A power density about 100 times higher than that of a conventional silica single mode optical fiber can be achieved from the same light source. Therefore, in addition to the increase in nonlinear effects represented by Raman scattering,
There is an advantage in improving the resolution of laser processing, a laser scalpel, an image guide, and a thermal image guide.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明方法を実施する装置の1例を示す説明
図、第2図,第3図は各々作製された母材の縦断面図,
横断面図、第4図は屈折率分布を示すグラフである。 図面中、 1は原料ガス供給部、 2はパイプ、 3はパイレックス管、 4はチャック、 5は加熱源、 6は管径測定部、 7は回転コネクタ、 8はトラップ、 9は電磁弁、 10はノズル、 11は排気量制御部、 12はコア、 13はクラッド、 14はパイレックスガラスである。
FIG. 1 is an explanatory view showing one example of an apparatus for carrying out the method of the present invention, FIG. 2 and FIG. 3 are longitudinal sectional views of the prepared base materials,
FIG. 4 is a graph showing a refractive index distribution. In the drawing, 1 is a raw material gas supply section, 2 is a pipe, 3 is a Pyrex pipe, 4 is a chuck, 5 is a heating source, 6 is a pipe diameter measuring section, 7 is a rotary connector, 8 is a trap, 9 is a solenoid valve, 10 Is a nozzle, 11 is a displacement control unit, 12 is a core, 13 is a clad, and 14 is Pyrex glass.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】出発管を水平に保持して回転させると共に
該ガラス管内に光ファイバ用ガラス原料ガス及び酸素を
導入し、該ガラス管を外側あるいは内側から加熱するこ
とによって酸化反応を生ぜしめ、該ガラス管内壁にクラ
ッドガラス及びコアガラスの層を順に堆積した後、該ガ
ラス管を中実化するMCVD法あるいはPCVD法による光ファ
イバ用母材の作製方法において、前記出発管としてホウ
ケイ酸ガラス管あるいはアルミナケイ酸ガラス管を用
い、前記クラッドガラスとしてP2O5及びB2O3を含有する
SiO2ガラス,P2O5を含有するSiO2ガラス又はB2O3を含有
するSiO2ガラスあるいはこれらのガラスにフッ素を添加
したガラスを堆積させ、前記コアガラスとして純GeO2
ラス、SiO2ガラスを添加したGeO2ガラス,又はフッ素お
よびSiO2ガラスを添加したGeO2ガラスを堆積させること
を特徴とする光屈折率差微小コア母材の作製方法。
An oxidizing reaction is generated by rotating a starting tube while keeping the starting tube horizontal, introducing a glass raw material gas for optical fiber and oxygen into the glass tube, and heating the glass tube from the outside or the inside. After sequentially depositing a layer of a clad glass and a core glass on the inner wall of the glass tube, and solidifying the glass tube, in a method of producing an optical fiber preform by an MCVD method or a PCVD method, a borosilicate glass tube is used as the starting tube. Or using an alumina silicate glass tube, containing P 2 O 5 and B 2 O 3 as the cladding glass
SiO 2 glass, depositing a glass doped with fluorine in SiO 2 glass or the glasses containing SiO 2 glass or B 2 O 3 containing P 2 O 5, pure GeO 2 glass as the core glass, SiO 2 A method for producing a small core material with a small difference in refractive index, comprising depositing GeO 2 glass to which glass is added or GeO 2 glass to which fluorine and SiO 2 glass are added.
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