JP2586042B2 - Dynamic semiconductor memory device - Google Patents

Dynamic semiconductor memory device

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JP2586042B2
JP2586042B2 JP62114518A JP11451887A JP2586042B2 JP 2586042 B2 JP2586042 B2 JP 2586042B2 JP 62114518 A JP62114518 A JP 62114518A JP 11451887 A JP11451887 A JP 11451887A JP 2586042 B2 JP2586042 B2 JP 2586042B2
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【発明の詳細な説明】 A.産業上の利用分野 本発明はダイナミックRAM等のメモリ装置に関する。The present invention relates to a memory device such as a dynamic RAM.

B.発明の概要 本発明は、各ワード線とビット線の交差部にそれぞれ
メモリセルが配置されてなるメモリ装置において、ビッ
ト線一対毎に第1センスアンプ及び第2センスアンプを
配置し、さらに各ビット線を分割するスィッチング手段
とを設け、そのスィッチング手段の制御によって、第1
センスアンプを用いて選択される一対のメモリセルの一
方の信号を増幅し、第2センスアンプを用いてメモリセ
ルの他方の信号を増幅することにより、高集積化を容易
に実現すると共に差動ノイズ等の低減も実現するもので
ある。
B. SUMMARY OF THE INVENTION In the present invention, in a memory device in which memory cells are arranged at intersections of word lines and bit lines, a first sense amplifier and a second sense amplifier are arranged for each pair of bit lines. Switching means for dividing each bit line is provided, and the first means is controlled by the switching means.
By amplifying one signal of a pair of memory cells selected using a sense amplifier and amplifying the other signal of the memory cell using a second sense amplifier, high integration can be easily realized and differential Noise and the like can be reduced.

C.従来の技術 例えばDRAM等のメモリ装置においては、ビット線のレ
イアウトによって、いわゆるオープンビットライン構成
のメモリ装置と、いわゆるフォールディドビットライン
構成のメモリ装置が知られている。
C. Prior Art In a memory device such as a DRAM, for example, a memory device having a so-called open bit line configuration and a memory device having a so-called folded bit line configuration are known depending on a bit line layout.

まず、オープンビットライン構成のメモリ装置は、読
み出しや再書き込みのために用いられるセンスアンプを
間に挟んでビット線の方向で対称的に左右にセルアレイ
が配列され、そのセルアレイの各メモリセルは各ワード
線と各ビット線の交差部に配されている。1つのセンス
アンプに接続する一対のビット線は一直線上に存在し、
その間に挟まれたセンスアンプからみて、一方のビット
線がデータの読み出しにかかるビット線であるときは、
他方のビット線はセンスアンプの動作のための参照用に
用いられる。
First, in a memory device having an open bit line configuration, cell arrays are arranged symmetrically in the bit line direction with a sense amplifier used for reading and rewriting interposed therebetween, and each memory cell of the cell array is It is arranged at the intersection of a word line and each bit line. A pair of bit lines connected to one sense amplifier exist on a straight line,
When one of the bit lines is a bit line for reading data, as viewed from the sense amplifier sandwiched therebetween,
The other bit line is used as a reference for the operation of the sense amplifier.

また、フォールディドビットライン構成のメモリ装置
は、折り返しビット線構成のメモリ装置とも称されてお
り、隣接する一対のビット線がその端部に配置された1
つのセンスアンプに接続し、一方のビット線がデータの
読み出しにかかるときには他方のビット線が参照用とし
て用いられる。各ビット線は一本おきのワード線との間
の交差部でメモリセルを有する形とされ、一対の隣接す
るビット線に各々接続するメモリセルのうち、ある1つ
のワード線により選択されるメモリセルは1つである。
すなわち、ある1つのワード線が選択される場合、セル
アレイ全体では、1つおきのビット線に接続するメモリ
セルのアクセストランジスタがオン状態となる。
A memory device having a folded bit line configuration is also referred to as a memory device having a folded bit line configuration. A memory device having a folded bit line configuration includes a pair of adjacent bit lines arranged at an end thereof.
Connected to one sense amplifier, and when one bit line is used for reading data, the other bit line is used for reference. Each bit line has a memory cell at an intersection with every other word line, and a memory selected by one of the memory cells connected to a pair of adjacent bit lines. There is one cell.
That is, when one certain word line is selected, the access transistors of the memory cells connected to every other bit line are turned on in the entire cell array.

D.発明が解決しようとする問題点 従来のメモリ装置としては、上述のようなオープンビ
ットライン構成のメモリ装置とフォールディドビットラ
イン構成のメモリ装置が周知であるが、それぞれ次のよ
うな技術的な課題を有している。
D. Problems to be Solved by the Invention As a conventional memory device, a memory device having an open bit line configuration and a memory device having a folded bit line configuration as described above are well known. Problems.

まず、オープンビットライン構成のメモリ装置は、各
ビット線と各ワード線との交差部には必ずメモリセルが
配設され、その配列に無駄がないことから、メモリセル
を高密度に配設することが可能である。しかしながら、
オープンビットライン構成のメモリ装置では、センスア
ンプを挟んで左右に対称的に配されたビット線を対とし
て動作させている。このため、例えば片側のメモリセル
にかかるビット線にのみノイズが加わることがあり、S/
Nの劣化という問題につながる。さらに、高集積化が進
みビット線同士の間隔(ピッチ)が挟くなったときで
は、そのビット線と同じ間隔で配列する必要のあるセン
スアンプのレイアウトが苦しいものとなる。
First, in a memory device having an open bit line configuration, memory cells are always arranged at intersections of each bit line and each word line, and the memory cells are arranged at high density because there is no waste in the arrangement. It is possible. However,
In a memory device having an open bit line configuration, bit lines arranged symmetrically to the left and right across a sense amplifier are operated as a pair. For this reason, for example, noise may be added only to the bit line related to one memory cell, and S /
This leads to the problem of deterioration of N. Furthermore, when the integration (advance) progresses and the interval (pitch) between bit lines is narrowed, the layout of sense amplifiers that need to be arranged at the same interval as the bit lines becomes difficult.

一方、フォールディドビットライン構成のメモリ装置
は、隣接した一対のビット線の一方をデータの読み出し
用に用い、他方を参照用に用いていることから、ノイズ
が加わった場合であっても、隣接しているためにビット
線自体は同様な挙動を示し、このためノイズの低減を実
現し誤動作等を有効に防止することができる。しかし、
隣接した一対のビット線をセンスアンプの動作に用いる
ことから、メモリセルに対するワード線の数は二倍にも
増大し、その高集積化に限界が生ずることになる。
On the other hand, in a memory device having a folded bit line configuration, one of a pair of adjacent bit lines is used for reading data, and the other is used for reference. As a result, the bit line itself behaves in a similar manner, thereby reducing noise and effectively preventing malfunctions and the like. But,
Since a pair of adjacent bit lines is used for the operation of the sense amplifier, the number of word lines for the memory cell is doubled, which limits the high integration.

そこで、本発明は上述の問題点に鑑み、高集積化を実
現し且つノイズ等の低減も実現するメモリ装置の提供を
目的とする。
In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a memory device that realizes high integration and also reduces noise and the like.

E.問題点を解決するための手段 本発明は、平行に配置され、第1及び第2の制御信号
によりそれぞれ独立に電気的に接続及び解放の制御がさ
れる第1及び第2のスイッチング手段により分割された
第1及び第2の相補ビット線対と、上記第1及び第2の
相補ビット線対と直交して配置されたワード線と、上記
第1の相補ビット線対の一方及び他方のビット線とワー
ド線の交点のそれぞれに、容量素子とアドレス選択ゲー
ドからなるメモリセルが格子状に配置された第1のメモ
リセルアレイと、上記第2の相補ビット線対の一方及び
他方のビット線とワード線の交点のそれぞれに、容量素
子とアドレス選択ゲートからなるメモリセルが格子状に
配置された第2のメモリセルアレイと、第3及び第4の
制御信号によりそれぞれ独立に電気的に接続及び解放の
制御がされる第3及び第4のスィッチング手段を介し
て、上記第1の相補ビット線対に相補入力信号端子対が
接続された第1のセンスアンプと、第5及び第6の制御
信号によりそれぞれ独立に電気的に接続及び解放の制御
がされる第5及び第6のスイッチング手段を介して、上
記第2の相補ビット線対に相補入力信号端子対が接続さ
れた第2のセンスアンプとを有したダイナミック半導体
記憶装置により上述の問題点を解決する。
E. Means for Solving the Problems The present invention is directed to first and second switching means which are arranged in parallel, and are electrically connected and disconnected independently by first and second control signals. , A word line disposed orthogonal to the first and second complementary bit line pairs, and one and the other of the first complementary bit line pair A first memory cell array in which memory cells each including a capacitive element and an address selection gate are arranged in a grid at each intersection of a bit line and a word line, and one and the other bits of the second complementary bit line pair. At each intersection of a line and a word line, a second memory cell array in which memory cells each including a capacitor and an address selection gate are arranged in a grid pattern is electrically connected to each other independently by third and fourth control signals. A first sense amplifier in which a complementary input signal terminal pair is connected to the first complementary bit line pair via third and fourth switching means for controlling release and release, and fifth and sixth switching means. The second pair of complementary input signal terminals connected to the second pair of complementary bit lines via fifth and sixth switching means, each of which is electrically connected and disconnected independently by a control signal. The above problem is solved by a dynamic semiconductor memory device having a sense amplifier.

F.作用 高集積化を実現するためには、上述のオープンビット
ライン構成のものが有利であるが、センスアンプの配置
や差動ノイス等が問題となる。そこで、まず、メモリセ
ルの配列はビット線とワード線の交差部にメモリセルが
配列されるオープンビットライン構成とし、ワード線方
向に隣接する一対のビット線の同じワード線に接続する
2つのメモリセルにおいて互いに他のメモリセルを参照
用として用いるために、第1センスアンプと第2センス
アンプをスィッチング手段でビット線を分割しながら動
作させる。すなわち、ビット線を分割すれば分割した長
さに応じて信号電位差を大きくすることができ、上記ス
ィッチング手段を用い、一対のビット線を互いに異なる
長さとなるように分割することで信号電位差は異なって
くることになる。そして、ワード線方向で隣接するメモ
リセルが同時にビット線と導通したとしても、その信号
電位差の違いを利用して、例えば第2センスアンプでデ
ータ側のメモリセルのセンシング動作を行うことがで
き、同時に、第1センスアンプで参照側のメモリセルの
センシング動作を行うことができる。そして、この時、
それぞれセンシングされるのは隣接する一対のビット線
間の電位であることから、フォールディドビットライン
構成のメモリ装置と同様に差動ノイズは有効に低減され
ることになる。また、センスアンプはワード線方向で隣
接する一対のビット線に接続するものであり、ビット線
のピッチを狭くしたときであっても、従来のオープンビ
ットライン構成のメモリ装置に比較してセンスアンプの
レイアウトには余裕があることになる。
F. Function In order to achieve high integration, the above-described open bit line configuration is advantageous, but the arrangement of sense amplifiers, differential noise, and the like pose problems. Therefore, first, the memory cells are arranged in an open bit line configuration in which memory cells are arranged at intersections of bit lines and word lines, and two memory cells connected to the same word line of a pair of bit lines adjacent in the word line direction. In order to use other memory cells for reference in the cell, the first sense amplifier and the second sense amplifier are operated while dividing bit lines by switching means. That is, if the bit line is divided, the signal potential difference can be increased in accordance with the divided length. The signal potential difference differs by dividing the pair of bit lines to have different lengths by using the switching means. Will come. Then, even if adjacent memory cells in the word line direction are simultaneously conductive with the bit line, the sensing operation of the memory cell on the data side can be performed by, for example, the second sense amplifier using the difference in the signal potential difference, At the same time, the sensing operation of the memory cell on the reference side can be performed by the first sense amplifier. And at this time,
Since what is sensed is the potential between a pair of adjacent bit lines, differential noise is effectively reduced as in the memory device having the folded bit line configuration. Further, the sense amplifier is connected to a pair of bit lines adjacent in the word line direction. Even when the pitch of the bit lines is narrowed, the sense amplifier is compared with a memory device having a conventional open bit line configuration. Will have room for the layout.

G.実施例 本発明の好適な実施例を図面を参照しながら説明す
る。
G. Embodiment A preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

本実施例のメモリ装置は、2つのセルアレイを有する
ものであり、ワード線とビット線の交差部にメモリセル
を配設しながら、同時に差動ノイズ等を低減して、メモ
リセルの高集積化を実現するものである。
The memory device according to the present embodiment has two cell arrays, and at the same time, the memory cells are arranged at the intersections of the word lines and the bit lines, and at the same time, the differential noise and the like are reduced, thereby increasing the integration of the memory cells. Is realized.

まず、そのビット線の一対の構成は、第1図に示すよ
うに、それぞれ列選択トランジスタ13,14を介してDB
線,▲▼線に接続する一対の第1ビット線BL1と第
2ビット線BL2を有しており、複数のメモリセルを配列
させてなるセルアレイ1,2が第1および第2ビット線BL
1,BL2にそれぞれ接続されている。これら第1ビット線B
L1および第2ビット線BL2の間には、セルアレイ1に隣
接して第1センスアンプ3が設けられており、セルアレ
イ2に隣接して第2センスアンプ4が設けらている。そ
して、本実施例のメモリ装置は、さらにビット線を分割
して用いるためのスィッチング手段が設けらており、こ
のスィッチング手段は、スィッチングトランジスタST1
〜ST6により構成されている。
First, as shown in FIG. 1, the configuration of the pair of bit lines is such that the DBs are connected via column select transistors 13 and 14, respectively.
And a pair of first and second bit lines BL1 and BL2 connected to the first and second bit lines BL1 and BL2.
1 and BL2 respectively. These first bit lines B
Between the L1 and the second bit line BL2, a first sense amplifier 3 is provided adjacent to the cell array 1, and a second sense amplifier 4 is provided adjacent to the cell array 2. The memory device of the present embodiment is further provided with switching means for dividing and using the bit line, and the switching means is provided with a switching transistor ST1.
~ ST6.

上記セルアレイ1,2は、複数のメモリセルを配列して
なるものであって、特に図示を省略したが、高集積化が
容易な各ワード線と各ビット線の交差部にメモリセルが
配設されるいわゆるオープンビットライン構成のセルア
レイである。すなわち、第1ビット線BL1との間でメモ
リセルを設けたワード線は、そのまま第2ビット線BL2
でもメモリセルを設ける構成とされ、セルアレイ2に一
対だけ図示したように、ワード線方向に隣接するメモリ
セルのアクセストランジスタ5,6のワード線WLは共通で
ある。したがって、ワード線WLに供給される信号ΦWLが
例えば“H"レベルとなったきには、上記アクセストラン
ジスタ5,6が共にオン状態(導通状態)となって、それ
それ容量7,8に蓄積されていた電荷が各ビット線BL1,BL2
にそれぞれ現れて行くことになるが、後述するようなス
ィッチング手段の動作によって、それぞれデータの読み
出し用と参照用とに分けられて増幅されることになる。
なお、メモリセルの構造については限定されるものでは
ない。
The cell arrays 1 and 2 are formed by arranging a plurality of memory cells. Although not particularly shown, memory cells are arranged at intersections of each word line and each bit line, which facilitates high integration. This is a cell array having a so-called open bit line configuration. That is, the word line provided with the memory cell between the first bit line BL1 and the second bit line BL2
However, the memory cells are provided, and as shown in the cell array 2, only one pair of the access transistors 5 and 6 of the memory cells adjacent to each other in the word line direction has a common word line WL. Therefore, when the signal ΦWL supplied to the word line WL becomes, for example, “H” level, both the access transistors 5 and 6 are turned on (conducting state), and are stored in the capacitors 7 and 8 respectively. The charge that was stored in each bit line BL1, BL2
However, by the operation of the switching means, which will be described later, the data is separately amplified for reading and for reference.
Note that the structure of the memory cell is not limited.

上記第1センスアンプ3および第2センスアンプ4
は、それぞれメモリセルのデータをセンシングし且つリ
ストアするための回路である。第1センスアンプ3は、
フリップフロップ回路をそれぞれ構成するPMOSトランジ
スタ21,22およびNMOSトランジスタ23,24により構成さ
れ、上記PMOSトランジスタ21,22は信号ΦPにより駆動
され、上記NMOSトランジスタ23,24は信号ΦNにより駆
動される。第2センスアンプ4は、同様に、フリップフ
ロップ回路をそれぞれ構成するPMOSトランジスタ25,26
およびNMOSトランジスタ27,28により構成され、上記PMO
Sトランジスタ25,26は信号ΦPにより駆動され、上記NM
OSトランジスタ27,28は信号ΦNにより駆動される。第
1センスアンプ3は、上記セルアレイ1にビット線方向
で隣接し、そのセルアレイ1と、それぞれイコライズ信
号ΦEQが供給されるMOSトランジスタ11,12,11により構
成されるイコライズ回路との間に配設されている。ま
た、第2センスアンプ4は、上記セルアレイ2に隣接
し、そのセルアレイ2と、カラムデコーダー15からの列
選択信号ΦYが供給される列選択トランジスタ13,14と
の間に配設されている。これら各センスアンプ3,4は、
その一方が読み出しにかかるメモリセルの増幅のために
用いられ、同時に他方が参照用にかかるメモリセルの増
幅のために用いられる。例えば読み出しにかかるセンス
アンプを後述する動作例のように第2センスアンプとし
た時では、常に第1センスアンプ3が参照用のメモリセ
ルの増幅を行うことになる。
The first sense amplifier 3 and the second sense amplifier 4
Are circuits for sensing and restoring the data of the memory cells, respectively. The first sense amplifier 3
Each of the flip-flop circuits includes PMOS transistors 21 and 22 and NMOS transistors 23 and 24. The PMOS transistors 21 and 22 are driven by a signal φP, and the NMOS transistors 23 and 24 are driven by a signal φN. Similarly, the second sense amplifier 4 includes PMOS transistors 25 and 26 constituting flip-flop circuits, respectively.
And NMOS transistors 27 and 28, and the PMO
The S transistors 25 and 26 are driven by the signal ΦP,
The OS transistors 27 and 28 are driven by the signal ΦN. The first sense amplifier 3 is adjacent to the cell array 1 in the bit line direction, and is disposed between the cell array 1 and an equalizing circuit constituted by MOS transistors 11, 12, 11 to which the equalizing signal ΦEQ is supplied. Have been. The second sense amplifier 4 is disposed adjacent to the cell array 2 and between the cell array 2 and the column selection transistors 13 and 14 to which the column selection signal ΦY from the column decoder 15 is supplied. Each of these sense amplifiers 3, 4
One of them is used for amplification of a memory cell for reading, and the other is used for amplification of a memory cell for reference. For example, when the sense amplifier for reading is a second sense amplifier as in an operation example described later, the first sense amplifier 3 always amplifies the reference memory cell.

上記スィッチング手段は、スィッチングトランジスタ
ST1〜ST6により構成され、第1及び第2ビット線BL1,BL
2を分割し、その信号電位差を異ならせる機能を有して
いる。また、これらスィッチングトランジスタST1〜ST6
は、センスアンプ3,4のセンシング動作時やリストア動
作時にもビット線を分割する動作を行い、容量分を小さ
くして電圧の遷移を高速化させる機能も有している。こ
こで、スィッチングトランジスタST1は、第1ビット線B
L1をセルアレイ1とセルアレイ2との間で分割するもの
であり、該ビット線BL1はその容量が等分されることに
なる。このスィッチングトランジスタST1は、信号ΦAT1
により制御される。スィッチングトランジスタST2は、
第2ビット線BL2をセルアレイ1とセルアレイ2との間
で分割するものであり、同様にビット線BL2はその容量
が等分され、上記スィッチングトランジスタST1とは対
向した位置に配置される。このスィッチングトランジス
タST2は、信号ΦT2により制御される。スィッチングト
ランジスタST3は、上記セルアレイ2と第2センスアン
プ4との間の第1ビット線BL1上に配設され、信号ΦT3
により断続が制御される。スィッチングトランジスタST
4は、上記セルアレイ2と第2センスアンプ4との間の
第2ビット線BL2上に配設され、信号Φ4により断続が
制御される。スィッチングトランジスタST5は上記セル
アレイ1と上記第1センスアンプ3との間の第1ビット
線BL1上に配設され、信号ΦT5により断続が制御され
る。最後に、スィッチングトランジスタST6は、上記セ
ルアレイ1と第1センスアンプ3との間の第2ビット線
BL2上に配設され、信号ΦT6により断続が制御される。
The switching means is a switching transistor
ST1 to ST6, the first and second bit lines BL1, BL
2 has a function of dividing the signal potential difference. These switching transistors ST1 to ST6
Has a function of performing the operation of dividing the bit line also at the time of the sensing operation and the restore operation of the sense amplifiers 3 and 4 to reduce the capacitance and speed up the voltage transition. Here, the switching transistor ST1 is connected to the first bit line B
L1 is divided between the cell array 1 and the cell array 2, and the capacity of the bit line BL1 is equally divided. This switching transistor ST1 outputs the signal ΦAT1
Is controlled by The switching transistor ST2 is
The second bit line BL2 is divided between the cell array 1 and the cell array 2. Similarly, the bit line BL2 is equally divided in capacity, and is arranged at a position facing the switching transistor ST1. The switching transistor ST2 is controlled by a signal ΦT2. The switching transistor ST3 is provided on the first bit line BL1 between the cell array 2 and the second sense amplifier 4, and receives a signal ΦT3
Controls the interruption. Switching transistor ST
4 is provided on the second bit line BL2 between the cell array 2 and the second sense amplifier 4, and the intermittent is controlled by the signal Φ4. The switching transistor ST5 is provided on the first bit line BL1 between the cell array 1 and the first sense amplifier 3, and the switching is controlled by a signal ΦT5. Finally, the switching transistor ST6 is connected to the second bit line between the cell array 1 and the first sense amplifier 3.
It is arranged on BL2, and the interruption is controlled by the signal ΦT6.

次に、以上のような基本的構成を有する本実施例のメ
モリ装置の動作の一例について、第2図を参照しながら
説明する。この動作例は、上記セルアレイ2の第2ビッ
ト線BL2と接続するメモリセルのデータを読み出す場合
の動作例である。
Next, an example of the operation of the memory device of the present embodiment having the above basic configuration will be described with reference to FIG. This operation example is an operation example when data of a memory cell connected to the second bit line BL2 of the cell array 2 is read.

まず、当初、イコライズ信号ΦEQが“H"レベル(ハイ
レベル)とされ、上記MOSトランジスタ11,12,11がオン
状態となって、第1ビット線BL1および第2ビット線BL2
の全域の電位は例えば電源電圧Vccの2分の1とされ
る。なお、この時、スィッチングトランジスタST1〜ST6
は全てオン状態であり、ワード線WLも選択信号ΦWLが
“L"レベル(ローレベル)である。
First, the equalizing signal ΦEQ is initially set to the “H” level (high level), and the MOS transistors 11, 12, 11 are turned on, and the first bit line BL1 and the second bit line BL2 are turned on.
Is set to, for example, one half of the power supply voltage Vcc. At this time, the switching transistors ST1 to ST6
Are all in the ON state, and the selection signal ΦWL of the word line WL is also at the “L” level (low level).

次に、時刻t0でイコライズ信号ΦEQが“H"レベルから
“L"レベルへと変化し、上記MOSトランジスタ11,12,11
がオフ状態となる。続いて時刻t1で信号ΦT1およびΦT2
が“H"レベルから“L"レベルへと変化して、スィッチン
グトランジスタST1およびスィッチングトランジスタST2
がオン状態からオフ状態になる。すると、上記第1ビッ
ト線BL1および第2ビット線BL2は、両方ともその容量が
略2分の1に分割されたものとなり、セルアレイ1とセ
ルアレイ2とは電気的に非接続な状態となる。
Then, equalizing signal ΦEQ at time t 0 is changed to "L" level from "H" level, the MOS transistors 11,12,11
Is turned off. Then the signal at time t 1 ΦT1 and ΦT2
Changes from the “H” level to the “L” level, and the switching transistor ST1 and the switching transistor ST2
Changes from the on state to the off state. Then, both the first bit line BL1 and the second bit line BL2 have their capacitances substantially halved, and the cell array 1 and the cell array 2 are electrically disconnected.

次に、時刻t2で信号ΦT1が“L"レベルから“H"レベル
と変化して、上記スィッチングトランジスタST1がオフ
状態からオン状態へと変化する。すると、上記第1ビッ
ト線BL1は、セルアレイ1とセルアレイ2との間が導通
することになる。したがって、この状態で、セルアレイ
2に接続する部分にかかる2つのビット線BL1,BL2の各
ビット線容量は異なることになる。そして同時に、ワー
ド線が信号ΦWLにより“H"レベルとされ、所定のアドレ
スに応じた選択動作が行われる。ここで、例えば図示し
たワード線WLが選択されたものとすると、2つのメモリ
セルのアクセストランジスタ5,6が共にオン状態とな
り、容量7に蓄積されていた電荷がアクセストランジス
タ5を介して第1ビット線BL1に現れ、同様に容量8に
蓄積されていた電荷がアクセストランジスタ6を介して
第2ビット線BL2に現れる。なお、セルアレイ2に接続
する他の図示しないワード線は全て“L"レベル(非選択
状態)である。
Then, the signal ΦT1 at time t 2 from the "L" level is changed to "H" level, the switch ring transistor ST1 is changed from the off state to the on state. Then, the first bit line BL1 conducts between the cell array 1 and the cell array 2. Therefore, in this state, the bit line capacities of the two bit lines BL1 and BL2 related to the portion connected to the cell array 2 are different. At the same time, the word line is set to the “H” level by the signal ΦWL, and a selecting operation corresponding to a predetermined address is performed. Here, for example, assuming that the illustrated word line WL is selected, the access transistors 5 and 6 of the two memory cells are both turned on, and the charge stored in the capacitor 7 is transferred to the first transistor via the access transistor 5. The charges appearing on the bit line BL1 and similarly stored on the capacitor 8 appear on the second bit line BL2 via the access transistor 6. All other word lines (not shown) connected to the cell array 2 are at "L" level (non-selected state).

そして、上記各ビット線BL1,BL2に信号電位差が現れ
ることになるが、本実施例のメモリ装置では、特にセル
アレイ2に接続する2つのビット線BL1,BL2の各ビット
線容量は異なることから、そのビット線容量に応じた信
号電位差が各ビット線BL1,BL2に現れる。すなわち、第
1ビット線BL1は、信号ΦT1が“H"レベルであることか
らビット線の全長にわたった容量分を有し、このためそ
の信号電位差Δ(Δは正負両方の値をデータに応じてと
るものとする。)は通常の差電圧程度であるが、一方、
第2ビット線BL2は、信号ΦT2が“L"レベルとされて当
該第2ビット線BL2が分割されており、このためビット
線容量は2分の1となって、信号電位差は略2倍の2Δ
程度のものとなる。また、同時にスィッチングトランジ
スタST2からセルアレイ1側のビット線BL2には、信号電
位差が現れないことから、その部分の第2ビット線BL2
の電位は、イコライズされた電圧Vcc/2のままであっ
て、信号電位差は0Vとなる。ここで、各ビット線に現れ
た信号電位差におけるノイズについては、後述するよう
に、そのビット線の構成がオープンビットライン構成で
あるにも拘わらず、後述するように、フォールディドビ
ットライン構成の如きノイズ低減が可能となる。
Then, a signal potential difference appears on each of the bit lines BL1 and BL2. In the memory device of the present embodiment, in particular, since the bit line capacities of the two bit lines BL1 and BL2 connected to the cell array 2 are different, A signal potential difference corresponding to the bit line capacitance appears on each bit line BL1, BL2. That is, the first bit line BL1 has a capacitance corresponding to the entire length of the bit line because the signal ΦT1 is at the “H” level, and therefore, the signal potential difference Δ Is about the normal difference voltage,
In the second bit line BL2, the signal .phi.T2 is set to "L" level to divide the second bit line BL2, so that the bit line capacity is reduced to one half and the signal potential difference is substantially doubled. 2Δ
Of the order. At the same time, since no signal potential difference appears from the switching transistor ST2 to the bit line BL2 on the cell array 1 side, the second bit line BL2
Remains at the equalized voltage Vcc / 2, and the signal potential difference becomes 0V. Here, regarding the noise in the signal potential difference appearing on each bit line, as will be described later, although the configuration of the bit line is an open bit line configuration, as described later, such as a folded bit line configuration, Noise can be reduced.

次に、事項t3で信号ΦT3〜T6が“H"レベルから“L"レ
ベルへと変化して、スィッチングトランジスタST3〜ST6
がオン状態からオフ状態へと変化する。すると、各ビッ
ト線BL1,BL2に上述の信号電位差2Δ,Δ,0が現れたま
ま、各センスアンプ3,4がそれぞれセルアレイ1,2から電
気的に非接続となり、各センスアンプ3,4で高速度のセ
ンシング動作が行われている。
Then, the signal ΦT3~T6 in matters t 3 is changed to "L" level from "H" level, switch ing transistor ST3~ST6
Changes from the on state to the off state. Then, the sense amplifiers 3 and 4 are electrically disconnected from the cell arrays 1 and 2, respectively, while the signal potential differences 2Δ, Δ, and 0 appear on the bit lines BL1 and BL2. High-speed sensing operation is being performed.

そのセンシング動作は、時刻t4でそれぞれセンスアン
プ3,4の駆動用の信号ΦP,ΦNがVcc/2からそれぞれ変化
して開始される。まず、第1センスアンプ3は、スィッ
チングトランジスタST5から当該センスアンプ3側の信
号電位差Δが現れてなる第1ビット線BL1の一部と、ス
ィッチングトランジスタST6から当該センスアンプ3側
の信号電位差0とされた第2ビット線BL2の一部を用い
てセンシング動作が行われる。また、第2センスアンプ
4は、スィッチングトランジスタST3から当該センスア
ンプ4側の信号電位差Δが現れてなる第1ビット線BL1
の一部と、スィッチングトランジスタST4から当該セン
スアンプ4側の信号電位差2Δとされた第2ビット線BL
2の一部を用いてセンシング動作が行われる。ここで、
第1センスアンプ3の増幅する信号は、信号電位差0を
有するビット線BL2を参照用に用いており、第1センス
アンプ3は、必ず当該ビット線BL1の信号電位差Δを増
幅してラッチする。この信号電位差Δは、セルアレイ2
のワード線WLにより選択されたアクセストランジスタ5
および容量7よりなるメモリセルのデータであり、第1
センスアンプ3は、参照用のメモリセルのセンシングお
よびリストア動作のために用いられる。また、第2セン
スアンプ4の増幅する信号は、信号電位差2Δ信号電位
差Δとの間でセンシングされることから、上記参照用メ
モリセルに起因するデータを有する信号電位差Δ側が当
該第2センスアンプ4の参照用となり、第2センスアン
プ4は分割された第2ビット線BL2に現れた本来のデー
タを含んでなる信号電位差2Δを増幅して出力データを
確定することになる。すなわち、これが所定のアドレス
(セルアレイ2のアクセストランジスタ6を有するメモ
リセル)に対する出力データとなり、列選択トランジス
タ13,14を介してそれぞれDB線,▲▼線に出力され
る。
Its sensing operation, the signal for driving each at time t 4 sense amplifiers 3, 4 .PHI.P, .PHI.N is initiated changes respectively from Vcc / 2. First, the first sense amplifier 3 includes a part of the first bit line BL1 in which the signal potential difference Δ on the sense amplifier 3 side appears from the switching transistor ST5, and a signal potential difference 0 on the sense amplifier 3 side from the switching transistor ST6. The sensing operation is performed using a part of the second bit line BL2. The second sense amplifier 4 is connected to the first bit line BL1 in which a signal potential difference Δ on the sense amplifier 4 side appears from the switching transistor ST3.
And a second bit line BL having a signal potential difference 2Δ on the sense amplifier 4 side from the switching transistor ST4.
The sensing operation is performed using a part of 2. here,
The signal amplified by the first sense amplifier 3 uses the bit line BL2 having the signal potential difference 0 for reference, and the first sense amplifier 3 always amplifies and latches the signal potential difference Δ of the bit line BL1. This signal potential difference Δ
Access transistor 5 selected by the word line WL
And data of a memory cell having a capacity of 7
The sense amplifier 3 is used for sensing and restoring operations of a reference memory cell. Further, since the signal amplified by the second sense amplifier 4 is sensed between the signal potential difference 2Δ and the signal potential difference Δ, the signal potential difference Δ side having the data resulting from the reference memory cell is the second sense amplifier 4. The second sense amplifier 4 amplifies the signal potential difference 2Δ including the original data appearing on the divided second bit line BL2 to determine the output data. That is, this becomes output data for a predetermined address (memory cell having access transistor 6 of cell array 2), and is output to DB line and ▲ ▼ line via column selection transistors 13 and 14, respectively.

このようなセンシング動作においては、各センスアン
プ3,4は必ず隣接するメモリセルのデータ若しくは参照
用電圧Vcc/2を基準として動作しており、その動作はフ
ォールディドビットライン構成の如く差動ノイズを低減
できることになる。また、第2センスアンプ4の動作の
場合、参照用のメモリセルのデータが読み出しにかかる
メモリセルのデータと異なる場合には、差電圧がΔ+2
Δ=3Δとなり、その感度は十分に高くなることにな
る。
In such a sensing operation, each of the sense amplifiers 3 and 4 always operates with reference to the data of the adjacent memory cell or the reference voltage Vcc / 2, and the operation is performed by the differential noise as in the folded bit line configuration. Can be reduced. In the case of the operation of the second sense amplifier 4, if the data of the reference memory cell is different from the data of the memory cell to be read, the difference voltage is Δ + 2.
Δ = 3Δ, and the sensitivity is sufficiently high.

時刻t5では、再書き込み動作が行われる。この再書き
込み動作は、信号ΦT4,信号ΦT5を“Lレベル”から
“H"レベルへ変化させて行われ、セルアレイ2の第1ビ
ット線BL1側のメモリセル(参照用メモリセル)と第1
センスアンプ3とが第1ビット線BL1を介して接続さ
れ、セルアレイ2の第2ビット線BL2側のメモリセル
(読み出し用メモリセル)と第2センスアンプ4とが第
2ビット線BL2を介して接続される。このとき、第1ビ
ット線BL1は第2センスアンプ4とは非接続であり、第
2ビット線BL2は第1センスアンプ3とは非接続であ
る。そして、このようなスィッチング手段の制御によ
り、第1センスアンプ3のデタを以てセルアレイ2の第
1ビット線BL1側のメモリセル(参照用メモリセル)の
再書き込みが行われ、第2センスアンプ4のデータを以
てセルアレイ2の第2のビット線BL2側のメモリセル
(読み出し用メモリセル)の再書き込みが行われる。
At time t 5, re-write operation is performed. This rewrite operation is performed by changing the signal ΦT4 and the signal ΦT5 from “L” level to “H” level, and the memory cell (reference memory cell) on the first bit line BL1 side of the cell array 2 and the first
The sense amplifier 3 is connected via the first bit line BL1, and the memory cell (reading memory cell) on the second bit line BL2 side of the cell array 2 and the second sense amplifier 4 are connected via the second bit line BL2. Connected. At this time, the first bit line BL1 is not connected to the second sense amplifier 4, and the second bit line BL2 is not connected to the first sense amplifier 3. Under the control of the switching means, the memory cell (reference memory cell) on the first bit line BL1 side of the cell array 2 is rewritten by the data of the first sense amplifier 3, and the second sense amplifier 4 With the data, the memory cell (reading memory cell) on the second bit line BL2 side of the cell array 2 is rewritten.

次に、時刻t6でワード線WLに供給される信号ΦWLが
“H"レベルから“L"レベルへと変化して、セルアレイ2
の選択されていた2つのアクセストランジスタ5,6は、
オン状態からオフ状態へと変化する。続いて時刻t7で信
号ΦP,信号ΦNがVcc/2とされ、時刻t8でイコライス信
号ΦEQが“H"レベルへ、時刻t9で信号ΦT2,信号ΦT3,信
号ΦT6が“H"レベルとされてビット線BL1,BL2のプリチ
ャージがなされる。
Then, the signal ΦWL supplied to the word line WL at time t 6 is changed to "L" level from "H" level, the cell array 2
The two selected access transistors 5, 6 are
The state changes from the on state to the off state. Then the time t 7 the signal .PHI.P, signal ΦN is the Vcc / 2, at time t 8 to Ikoraisu signal ΦEQ "H" level, the time t 9 in signal .phi.T2, signal Faiti3, signal ΦT6 "H" level and Then, the bit lines BL1 and BL2 are precharged.

以上は、セルアレイ2の第2ビット線BL2側のメモリ
セルを選択する場合の動作であるが、セルアレイ1の第
1ビット線BL1側のメモリセルを選択する場合には、時
刻t2で信号ΦT1を“H"レベルとし、時刻t5では信号ΦT
3,信号ΦT6が“H"レベルとなるような制御を行えば良
い。また、セルアレイ1の第2ビット線BL2側のメモリ
セルを選択する場合には、時刻t2で信号ΦT2を“H"レベ
ルとし、時刻t5では信号ΦT4,信号ΦT5が“H"レベルと
なるような制御を行えば良い。また、セルアレイ2の第
1ビット線BL1側のメモリセルを選択する場合には、時
刻t2で信号ΦT2を“H"レベルとし、時刻t5では信号ΦT
3,信号ΦT6が“H"レベルとなるような制御を行えば良
い。
Above is the operation for selecting the second bit line BL2 side of the memory cell of the cell array 2, when selecting the first bit line BL1 side of the memory cell of the cell array 1, the signal at time t 2 .phi.t1 It was used as a "H" level, at time t 5 signal ΦT
3. The control may be performed such that the signal ΦT6 becomes the “H” level. Further, in the case of selecting the second bit line BL2 side of the memory cell of the cell array 1, a signal ΦT2 at time t 2 is set to "H" time t 5 the signal Faiti4, signal ΦT5 becomes "H" level Such control may be performed. Further, when selecting the first bit line BL1 side of the memory cell of the cell array 2, a signal ΦT2 at time t 2 is set to "H" time t 5 the signal ΦT
3. The control may be performed such that the signal ΦT6 becomes the “H” level.

また、以上は読み出しの動作についてであるが、書き
込みのサイクルについても同様なクロック動作を行わせ
ることができる。
Although the above is about the read operation, a similar clock operation can be performed in the write cycle.

なお、本実施例のメモリ装置は、特にデータの増幅を
行うセンスアンプを第2センスアンプ4に限定しなけれ
ば、DB線の位置を変え或いは複数設け、さらにスィッチ
ングトランジスタST1,ST2の制御を変えて、分割されて
信号電位差が2Δ(或いはΔ)となる側を常にデータの
読み出し用に用いることもできる。さらに、ブロック分
割等の組合せや一対のビット線にさらに多くのセルアレ
イを配設するようにすることもできる。センスアンプCM
OS構成のものに限定されない。
In the memory device of the present embodiment, if the sense amplifier for amplifying data is not particularly limited to the second sense amplifier 4, the position of the DB line is changed or a plurality of DB lines are provided and the control of the switching transistors ST1 and ST2 is changed. Thus, the side on which the signal potential difference becomes 2Δ (or Δ) can be always used for data reading. Furthermore, it is also possible to arrange more cell arrays on a combination such as block division or a pair of bit lines. Sense amplifier CM
It is not limited to the OS configuration.

以上のような動作を行う本実施例のメモリ装置は、ま
ず、そのビット線の構成がビット線とワード線の交差部
にメモリセルが形成されるオープンビットライン構成で
あり、1つおきのワード線とビット線の交差部にメモリ
セルを設けるフォールディドビットライン構成のメモリ
装置よりも高集積化が可能である。そして、特に本実施
例のメモリ装置は、一対のビット線BL1,BL2をスィッチ
ングトランジスタで分割しながら2つのセンスアンプを
用いて増幅させているため、2本のビット線のピッチ
(ワード線方向)の間に、セルアレイに余裕を以てセン
スアンプを習えることができ、そのビット線のピッチが
狭くなったときでもレイアウト上有利であり、メモリ装
置の高集積化が容易である。
In the memory device of the present embodiment that performs the above-described operation, first, the bit line configuration is an open bit line configuration in which a memory cell is formed at the intersection of a bit line and a word line. It is possible to achieve higher integration than a memory device having a folded bit line configuration in which memory cells are provided at intersections of lines and bit lines. Particularly, in the memory device of the present embodiment, the pair of bit lines BL1 and BL2 are amplified by using two sense amplifiers while being divided by the switching transistors, so that the pitch of the two bit lines (in the word line direction). In the meantime, the sense amplifier can be learned with a margin in the cell array, which is advantageous in the layout even when the pitch of the bit line is narrow, and the high integration of the memory device is easy.

また、その動作の上では、上述のようにオープンビッ
トライン構成でありながらも、スィッチング手段によっ
て、ノイズをフォールディドビットライン構成のように
低減させることができ、また、信号電位差を大きくして
高感度化を図ることができる。
In addition, in the operation, noise can be reduced as in the folded bit line configuration by the switching means, even though the configuration is the open bit line configuration as described above, and the signal potential difference is increased to increase the signal potential. Sensitivity can be improved.

H.発明の効果 本発明のメモリ装置は、上述のような構成からオープ
ンビットライン構成のような高集積化を図ることがで
き、同時にセンスアンプをビット線の2本分のピッチで
配すれば良いためにレイアウト上有利である。また、オ
ープンビットライン構成の如き高集積化を実現するにも
拘わらず、一対のビット線で互いに参照しながらセンシ
ング動作を行うことから、フォールディドビットライン
構成の如き差動ノイズの低減化を実現することができ
る。
H. Effects of the Invention The memory device of the present invention can achieve high integration such as an open bit line configuration from the above configuration, and at the same time, if the sense amplifiers are arranged at a pitch of two bit lines. Good for layout. Also, despite high integration like open bit line configuration, sensing operation is performed while referring to each other with a pair of bit lines, thus reducing differential noise like folded bit line configuration. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明のメモリ装置の一例を示す回路図であ
る。第2図はその動作の一例を説明するためのタイムチ
ャートである。 1,2……セルアレイ 3,4……センスアンプ ST1〜ST6……スィッチングトランジスタ(スィッチング
手段) BL1,BL2……ビット線 WL……ワード線
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of the memory device of the present invention. FIG. 2 is a time chart for explaining an example of the operation. 1,2: Cell array 3,4: Sense amplifiers ST1 to ST6: Switching transistors (switching means) BL1, BL2: Bit lines WL: Word lines

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】平行に配置され、第1及び第2の制御信号
によりそれぞれ独立に電気的に接続及び解放の制御がさ
れる第1及び第2のスイッチング手段により分割された
第1及び第2の相補ビット線対と、 上記第1及び第2の相補ビット線対と直交して配置され
たワード線と、 上記第1の相補ビット線対の一方及び他方のビット線と
ワード線の交点のそれぞれに、容量素子とアドレス選択
ゲートからなるメモリセルが格子状に配置された第1の
メモリセルアレイと、 上記第2の相補ビット線対の一方及び他方のビット線と
ワード線の交点のそれぞれに、容量素子とアドレス選択
ゲートからなるメモリセルが格子状に配置された第2の
メモリセルアレイと、 第3及び第4の制御信号によりそれぞれ独立に電気的に
接続及び解放の制御がされる第3及び第4のスイッチン
グ手段を介して、上記第1の相補ビット線対に相補入力
信号端子対が接続された第1のセンスアンプと、 第5及び第6の制御信号によりそれぞれ独立に電気的に
接続及び解放の制御がされる第5及び第6のスイッチン
グ手段を介して、上記第2の相補ビット線対に相補入力
信号端子対が接続された第2のセンスアンプと を有したダイナミック半導体記憶装置。
A first and a second switching means which are arranged in parallel and divided by first and second switching means which are electrically controlled to be connected and disconnected independently by first and second control signals, respectively. A pair of complementary bit lines, a word line arranged orthogonally to the first and second complementary bit line pairs, and an intersection of one and the other bit lines of the first complementary bit line pair with the word line. A first memory cell array in which memory cells each composed of a capacitive element and an address selection gate are arranged in a lattice pattern, and an intersection of one of the second complementary bit line pairs and the other bit line and a word line, respectively. A second memory cell array in which memory cells each composed of a capacitive element and an address selection gate are arranged in a grid, and a third memory cell array in which connection and release are electrically controlled independently by third and fourth control signals. A first sense amplifier in which a complementary input signal terminal pair is connected to the first complementary bit line pair via third and fourth switching means; and a fifth and sixth control signal, which are electrically independent of each other. And a second sense amplifier in which a complementary input signal terminal pair is connected to the second complementary bit line pair via fifth and sixth switching means for controlling connection and disconnection. Storage device.
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