JP2549514B2 - Photoelectric encoder reference point signal generation mechanism - Google Patents

Photoelectric encoder reference point signal generation mechanism

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JP2549514B2
JP2549514B2 JP61268597A JP26859786A JP2549514B2 JP 2549514 B2 JP2549514 B2 JP 2549514B2 JP 61268597 A JP61268597 A JP 61268597A JP 26859786 A JP26859786 A JP 26859786A JP 2549514 B2 JP2549514 B2 JP 2549514B2
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scale
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【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、回転角検出、直線位置検出等に用いられる
光学式エンコーダ、特に光電式エンコーダの基準点信号
発生機構に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a reference point signal generation mechanism of an optical encoder used for rotation angle detection, linear position detection, and the like, and particularly for a photoelectric encoder.

(従来の技術) 従来、インクリメンタルエンコーダでは絶対位置が不
可能であるため、スケールに基準点を設け、初期設定の
際に該基準点まで回転若しくは移動させることで回転角
若しくは移動位置を検出している。光学式エンコーダで
は、該基準点として1乃至複数個のスリットをメインス
ケール及びインデックススケールにそれぞれ設け、両ス
ケールのスリットが一致した時出力信号が最大になるこ
とを利用し、該出力信号を基準点信号とする機構が用い
られている。
(Prior Art) Conventionally, an absolute position is not possible with an incremental encoder, so a reference point is provided on the scale, and the rotation angle or moving position is detected by rotating or moving to the reference point at the time of initial setting. There is. In the optical encoder, one or a plurality of slits are provided as the reference point on the main scale and the index scale, respectively, and the fact that the output signal becomes maximum when the slits on both scales coincide is used as the reference point. A signal mechanism is used.

基準点用のスリットが各1本では、メインスケールに
設けられたスリットとインデックススケールに設けられ
たスリットが一致していない時の出力信号は、第6図示
のように零となるので、S/N比は無限となり、理想的で
ある。しかし出力信号レベルはスリットを通過した光量
に比例するため、該スリットから得られる出力信号レベ
ルは非常に微弱で、実用的でない。
With each one slit for the reference point, the output signal when the slit provided in the main scale and the slit provided in the index scale do not match is zero as shown in the sixth figure, so S / The N ratio is infinite, which is ideal. However, since the output signal level is proportional to the amount of light passing through the slit, the output signal level obtained from the slit is very weak and not practical.

そこで、一般的には、第7図示のように、メインスケ
ール及びインデックススケールの各基準点信号発生部
(1)及び(2)上には、基準点信号の巾、S/N比及び
レベルを考慮した巾の異なった複数本のスリット(6)
(7)が不規則に形成されている。ここでメインスケー
ル及びインデックススケールの各基準点信号発生部
(1)及び(2)に形成されているスリット群のスリッ
ト(6)及び(7)の幅ls及び隣接スリット間距離lmは
メインスケールに設けられている主信号用のスリット群
(図示しない)のスリットの幅及び隣接スリット間距離
を基本単位としてこれ等の整数倍とされ、かつメインス
ケール及びインデックススケール上に設けられた基準点
用のスリット(6)及び(7)の配置は対称となってい
る。
Therefore, generally, as shown in FIG. 7, the width of the reference point signal, the S / N ratio, and the level are set on the reference point signal generators (1) and (2) of the main scale and the index scale, respectively. Multiple slits with different width (6)
(7) is irregularly formed. Here, the width ls of the slits (6) and (7) of the slit groups formed in the reference point signal generators (1) and (2) of the main scale and the index scale and the distance lm between adjacent slits are set to the main scale. The width of the slits of the main signal slit group (not shown) provided and the distance between adjacent slits are basic multiples of these and are an integral multiple of these, and for the reference points provided on the main scale and the index scale. The slits (6) and (7) are arranged symmetrically.

尚、第7図において、(3)はコリメーションレン
ズ、(4)は光源、(5)は光電変換素子である。
In FIG. 7, (3) is a collimation lens, (4) is a light source, and (5) is a photoelectric conversion element.

基準点発生機構において得られる出力信号は、模式的
に示すと第8図示のようになり、本来必要とする信号レ
ベルVsと不必要なノズルレベルVNの部分が生ずる。スリ
ット(6)(7)の巾lsの総和が隣接スリット間距離lm
の総和に等しく、かつスリット(6)(7)の配置が不
規則である時、信号レベルVsとノイズレベルVNとの比は
良くても2:1すなわちS/N比は6dBとなる。基準点信号の
幅Wは、予め設定されている参照光もしくは電気信号の
レベルVpを用いて矩形波にすることで決定される。ここ
で基準点信号の幅Wは主信号の2周期未満であることが
必要で、一般的には主信号の1周期の幅に設定されるこ
とが多い。
The output signal obtained in the reference point generation mechanism is as schematically shown in FIG. 8, and the originally required signal level Vs and the unnecessary nozzle level V N occur. The sum of the widths ls of the slits (6) and (7) is the distance lm between adjacent slits.
When the slits (6) and (7) are arranged irregularly, the ratio between the signal level Vs and the noise level V N is 2: 1 at best, that is, the S / N ratio is 6 dB. The width W of the reference point signal is determined by making a rectangular wave using the level Vp of the reference light or electric signal which is set in advance. Here, the width W of the reference point signal needs to be less than two cycles of the main signal, and is generally set to the width of one cycle of the main signal.

(発明が解決しようとする問題点) 上述した従来の光学式エンコーダにおいて高分解能の
ものを得ようとすると主信号の周期は小さくなり、従っ
て基準点信号用のスリット(6)(7)の幅lsの基準単
位も小さくなり、光源(4)からの光の回折、干渉の影
響を無視できなくなる。
(Problems to be Solved by the Invention) When trying to obtain a high-resolution optical encoder in the above-mentioned conventional optical encoder, the period of the main signal becomes short, and therefore the width of the slits (6) (7) for the reference point signal is reduced. The reference unit of ls also becomes small, and the influence of diffraction and interference of light from the light source (4) cannot be ignored.

従ってメインスケールに設けられた基準点信号用のス
リット(6)を透過した光の距離Lだけ離れたインデッ
クススケールに設けられた基準点信号用のスリット
(7)の面における光の強度分布は、その回折、干渉の
影響のために、幾何学的に算出した第9図示のような分
布と大きく異なり第10図示のようになる。
Therefore, the light intensity distribution on the surface of the reference point signal slit (7) provided on the index scale, which is separated by the distance L of the light transmitted through the reference point signal slit (6) provided on the main scale, is Due to the influence of the diffraction and interference, the distribution is greatly different from the distribution calculated geometrically as shown in FIG. 9 and becomes as shown in FIG.

インデックススケールの基準点信号発生部(2)にお
ける光強度分布が第9図示の通りであれば、これをメイ
ンスケールの基準点信号発生部(1)を走査して得られ
る出力は、模式的に第8図示のようになるが、上述のよ
うに第10図示のようになるので、この光強度分布をメイ
ンスケールの基準点信号発生部(1)を走査することに
より得られる出力は第11図示のようになる。
If the light intensity distribution in the reference point signal generator (2) of the index scale is as shown in FIG. 9, the output obtained by scanning this with the reference point signal generator (1) of the main scale is schematically shown. Although it is as shown in FIG. 8, as shown in FIG. 10 as described above, the output obtained by scanning the reference point signal generator (1) of the main scale with this light intensity distribution is the output shown in FIG. become that way.

この出力から、予め設定されている電気信号もしくは
参照光のレベルVp1を用いて矩形波に変換して基準点信
号を得た時、この信号の幅W1は、第8図示の信号の幅W
に較べて広がり、また、基準点信号のレベルVs1とノズ
ルレベルVN1の比、すなわちS/N比も劣化するという欠点
があった。
When a reference point signal is obtained by converting from this output to a rectangular wave using a preset electric signal or reference light level Vp 1 , the width W 1 of this signal is the width of the signal shown in FIG. W
However, there is a drawback in that the ratio between the level Vs 1 of the reference point signal and the nozzle level V N1 , that is, the S / N ratio, deteriorates.

本発明は、従来のこのような欠点を、特別な付加機構
を用いずに無くすことができる光電式エンコーダの基準
点信号発生機構を提供することをその目的としたもので
ある。
It is an object of the present invention to provide a reference point signal generating mechanism for a photoelectric encoder, which can eliminate such conventional drawbacks without using a special additional mechanism.

(問題点を解決するための手段) 本発明は、上述の目的を達成するために、主面に基準
信号発生用スリット群が形成されたメインスケールと、
前記メインスケールと相対的に移動可能に対向配置さ
れ、前記基準点信号発生用スリット群と対向する位置に
基準点信号透過用スリット群が形成されたインデックス
スケールと、前記メインスケール上の基準信号発生用ス
リット群を照射する光源と、前記インデックススケール
に対向配置され、前記基準点信号透過用スリット群を透
過した光を受光する光電変換素子とを有する光電式エン
コーダの基準点信号発生機構において、前記基準点信号
発生用スリット群を構成する各スリットは不規則に配置
され、前記基準点信号透過用スリット群を構成する各ス
リットが配置された位置は、前記基準点信号発生用スリ
ット群を透過し、回折、干渉の影響を受けた透過光が前
記インデックススケール上に形成する強度分布のピーク
に対応する位置であり、前記基準点信号透過用スリット
群を構成する各スリットの幅は、前記強度分布の大きさ
に対応する幅であることを特徴とする。
(Means for Solving Problems) The present invention, in order to achieve the above-mentioned object, a main scale having a reference signal generating slit group formed on a main surface,
An index scale that is movably opposed to the main scale and has a reference point signal transmission slit group formed at a position facing the reference point signal generation slit group, and a reference signal generation on the main scale. In the reference point signal generating mechanism of a photoelectric encoder having a light source for irradiating a slit group for use, and a photoelectric conversion element that is arranged to face the index scale and receives light transmitted through the slit group for transmitting a reference point signal, Each slit constituting the reference point signal generating slit group is arranged irregularly, the position where each slit constituting the reference point signal transmitting slit group is arranged is transmitted through the reference point signal generating slit group. , At a position corresponding to the peak of the intensity distribution formed on the index scale by the transmitted light affected by diffraction and interference. The width of each slit constituting the reference point signal transmissive slit group is characterized by a width corresponding to the magnitude of the intensity distribution.

(作 用) メインスケールに形成された基準点信号発生用スリッ
ト群を透過した透過光は、光の回折、干渉の影響を受け
るため、該透過光のインデックススケールに照射された
場合の光強度分布のパターンは、前記メインスケール上
の基準点信号発生用スリット群の各スリットの分布パタ
ーンとは一致しない。
(Operation) Since the transmitted light transmitted through the reference point signal generation slit group formed on the main scale is affected by light diffraction and interference, the light intensity distribution when the transmitted light is irradiated on the index scale Pattern does not match the distribution pattern of each slit of the reference point signal generating slit group on the main scale.

従って、前記基準点信号発生用スリット群を透過し、
回折、干渉の影響を受けた透過光が前記インデックスス
ケール上に形成する強度分布のピークに対応する位置に
前記基準点信号透過用スリット群を構成する各スリット
を配置すると共に、その幅を前記強度分布の大きさに対
応するように構成しておけば、光電変換素子の出力する
信号のS/N比を大きくすることができる。
Therefore, passing through the reference point signal generating slit group,
Diffraction, each slit constituting the reference point signal transmission slit group is arranged at a position corresponding to the peak of the intensity distribution formed on the index scale by the transmitted light affected by interference, and the width thereof is set to the intensity. If it is configured to correspond to the size of the distribution, the S / N ratio of the signal output by the photoelectric conversion element can be increased.

(実施例) 次に本発明の実施例を図面につき説明する。(Example) Next, the Example of this invention is described with reference to drawings.

第1図は本発明の1実施例の線図を示す。同図におい
て、(1)は主信号用のスリット(図示しない)が設け
られた、長手方向に移動自在のメインスケールの基準点
信号発生部で、該メインスケールに距離Lを隔ててイン
デックススケールの基準点信号発生部(2)が固設され
ており、該インデックススケールとは反対側のコリメー
ションレンズ(3)を介して光源(4)が配設されてい
る。また、インデックスの基準点信号発生部(2)に対
向して光源変換素子(5)が配設されている。
FIG. 1 shows a diagram of one embodiment of the present invention. In the figure, (1) is a reference point signal generator of the main scale, which is provided with a main signal slit (not shown), and is movable in the longitudinal direction. A reference point signal generator (2) is fixedly installed, and a light source (4) is arranged via a collimation lens (3) on the side opposite to the index scale. Further, a light source conversion element (5) is arranged so as to face the index reference point signal generator (2).

メインスケールの基準点信号発生部(1)の基準点信
号発生用スリット群を構成する各スリット(61)(62
……(66)は、第1図及び第2図(B)に示すように、
従来例と同様、不規則に配設されており、各スリット
(61)〜(66)及びスリット間の距離は主信号用スリッ
ト(図示せず)の巾を基準にしてその整数倍に形成され
ている。
Each slit (6 1 ) (6 2 ) that constitutes the reference point signal generation slit group of the main scale reference point signal generation unit (1)
(6 6 ) is, as shown in FIG. 1 and FIG. 2 (B),
Like the conventional example, they are arranged irregularly, and the distance between each slit (6 1 ) to (6 6 ) and the slit is an integral multiple of the width of the main signal slit (not shown). Has been formed.

インデックススケールの基準点信号発生部(2)の基
準点信号透過用スリット群を構成する各スリット(71
(72)……(76)は、インデックススケールの基準点信
号発生部(2)における、第2図(A)に示すようなメ
インスケールの基準点信号発生部(1)の透過光の強度
分布に基づいて決定され、メインスケールと同様、主信
号用スリットの巾を基準にしてその整数倍に形成されて
いる。これを更に詳細に説明すると、該透過光の強度分
布は、基準点信号発生部(1)に配設されている基準点
信号発生用スリット群を構成する各スリット(61
(62)……(66)、隣接スリット間距離、光源(4)の
波長及びコヒーレンシーに基づき、フルネル回折と言わ
れる公知の計算法によって各スリットにおける光源度を
求め、これを合成することで得られる。このようにして
得られた第2図(A)に示すような強度分布に基づい
て、すなわちそのピーク(81)(82)(83)……(86
の位置及び大きさにほぼ対応させて基準点信号透過用ス
リット群を構成する各スリット(71)(72)……(76
の位置及び大きさが決定される。ここで、上述の基準点
信号発生部(1)及び(2)のスリットは、例えばガラ
ス板等の透光性基板の上にクロム等の遮光性薄膜を形成
することにより作製される。
Each slit constituting the reference point signal generator of the index scale reference point signal transmission slit group (2) (7 1)
(7 2 ) ... (7 6 ) is the transmitted light of the reference point signal generator (1) of the main scale as shown in FIG. 2 (A) in the reference point signal generator (2) of the index scale. It is determined based on the intensity distribution and, like the main scale, is formed to be an integral multiple of the width of the main signal slit. Explaining this in more detail, the intensity distribution of the transmitted light is such that each slit (6 1 ) forming a reference point signal generating slit group arranged in the reference point signal generating section ( 1 ).
(6 2 ) ... (6 6 ) Based on the distance between adjacent slits, the wavelength of the light source (4) and the coherency, the light source degree at each slit is obtained by a known calculation method called Fresnel diffraction, and these are combined. Can be obtained at. Based on the intensity distribution as shown in FIG. 2 (A) thus obtained, that is, its peaks (8 1 ) (8 2 ) (8 3 ) ... (8 6 )
Slits (7 1 ) (7 2 ) …… (7 6 ) that make up the slit group for transmitting the reference point signal almost corresponding to the position and size of
The position and size of is determined. Here, the slits of the reference point signal generators (1) and (2) described above are manufactured by forming a light-shielding thin film such as chrome on a transparent substrate such as a glass plate.

かくてメインスケールの基準点信号発生部(1)を走
査すると第3図示のような出力が得られ、予め設定され
たレベルVpの電気信号又は参照光を用いることによりこ
の出力から幅Wが小さくS/N比の大きな規準点信号が得
られる。
Thus, when the reference point signal generator (1) of the main scale is scanned, an output as shown in FIG. 3 is obtained, and the width W is reduced from this output by using the electric signal or the reference light of the preset level Vp. A reference point signal with a large S / N ratio can be obtained.

以上の実施例では、メインスケールとインデックスス
ケールの基準点信号発生部(1)及び(2)のスリット
(61)(62)……(66)、(71)(72)……(76)の巾
は主信号用スリットの巾の整数倍に形成されているが、
整数倍でなく、第2図(D)に示すように、第2図
(A)の強度分布に良く一致するように設定すれば、基
準点信号の巾、S/N比を更に改善することが可能とな
る。また、該実施例では、メインスケールに対向して光
源(4)が、インデックススケールに対向して光電変換
素子(5)がそれぞれに配設されているが、この関係を
逆にしてもよく、この場合には、インデックススケール
の透過光のメインスケール上における強度分布のピーク
にそれぞれ対応するメインスケールの位置に該ピークの
大きさに対向する巾のスリットが形成される。
In the above embodiment, the reference point signal generator of the main scale and the index scale (1) and the slit (2) (6 1) (6 2) (6 6), (7 1) (7 2) ... The width of (7 6 ) is formed as an integral multiple of the width of the main signal slit,
If it is set not to be an integral multiple but to match the intensity distribution of FIG. 2 (A) as shown in FIG. 2 (D), the width of the reference point signal and the S / N ratio can be further improved. Is possible. Further, in this embodiment, the light source (4) is arranged so as to face the main scale and the photoelectric conversion element (5) is arranged so as to face the index scale, but this relationship may be reversed. In this case, a slit having a width facing the size of the peak is formed at the position of the main scale that corresponds to the peak of the intensity distribution of the transmitted light of the index scale on the main scale.

第4図(D)は本発明による基準点信号発生機構の1
例の出力特性の測定結果を示す。該出力特性は、第4図
(B)に示すメインスケールの基準点信号発生部(1)
の透過光の第4図(C)に示すインデックススケールの
基準点信号発生部(2)上の強度分布(第4図(A))
を、該基準点信号発生部(1)を走査することにより得
られたものである。第5図(C)は、従来例の出力特性
の測定結果を示す。該出力特性は、第5図(A)すなわ
ち、第4図(B)と同じ構成を有するメインスケールの
基準点信号発生部(1)の透過光の、第5図(B)に示
すインデックススケールの基準点信号発生部(2)上の
強度分布(第4図(A))を、該基準点信号発生部
(1)を走査することにより得られたものである。
FIG. 4D shows a reference point signal generating mechanism 1 according to the present invention.
The measurement result of the output characteristic of an example is shown. The output characteristic is shown in FIG. 4 (B), which is a main scale reference point signal generator (1).
Intensity distribution on the reference point signal generator (2) of the index scale shown in FIG. 4 (C) of the transmitted light of FIG. 4 (A).
Are obtained by scanning the reference point signal generator (1). FIG. 5C shows the measurement result of the output characteristics of the conventional example. The output characteristic is the index scale shown in FIG. 5 (B) of the transmitted light of the reference point signal generator (1) of the main scale having the same configuration as in FIG. 5 (A), that is, FIG. 4 (B). The intensity distribution (FIG. 4 (A)) on the reference point signal generator (2) is obtained by scanning the reference point signal generator (1).

尚、第4図及び第5図に示す本発明と従来例のメイン
スケールとインデックススケール間の距離は、120μ
m、光源の光の波長は880nmである。第4図(D)と第
5図(C)の出力特性を対比して明らかなように、本発
明の基準点信号の巾及びS/N比は従来例に比べて優れて
いる。
The distance between the main scale and index scale of the present invention shown in FIGS. 4 and 5 and the conventional example is 120 μm.
m, the wavelength of the light from the light source is 880 nm. As is clear by comparing the output characteristics of FIG. 4 (D) and FIG. 5 (C), the width and S / N ratio of the reference point signal of the present invention are superior to those of the conventional example.

(発明の効果) 以上説明したように、本発明によるときは特別な付加
機構を用いずに基準点信号の巾を狭くすることができ、
精度の高い基準点を得ることができると共にS/N比を向
上することができる効果を有する。
(Effect of the Invention) As described above, according to the present invention, the width of the reference point signal can be narrowed without using a special additional mechanism,
It is possible to obtain a highly accurate reference point and to improve the S / N ratio.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、本発明の1実施例の構成を示す模式図、第2
図(A)は第1図示のものの光強度分布図、第2図
(B)及び(C)は第2図(A)の光強度分布に対応す
る基準点信号発生部(1)(2)の模式図、第2図
(D)は第2図(C)に示す基準点信号発生部(2)の
変形側の模式図、第3図は第1図示のものの出力特性
図、第4図(A)は本発明の光強度分布図、第4図
(B)及び(C)はその基準点信号発生部(1)及び
(2)の模式図、第4図(D)はその出力特性図、第5
図(A)及び(B)は第4図(B)及び(C)に示す本
発明に対応する従来例の基準点信号発生部(1)及び
(2)の模式図、第5図(C)はその出力特性図、第6
図は従来例の出力特性図、第7図は従来例の模式図、第
8図は第7図示のものの出力特性図、第9図は第7図示
のものの光強度分布図、第10図は光の回折、干渉を受け
た光強度分布図、第11図は第10図示の光強度分布のとき
の出力特性図である。 (1)……メインスケールの基準点信号発生部 (2)……インデックススケールの基準点信号発生部 (3)……光源 (5)……光電変換素子 (61)(62)〜(66)……基準点信号発生用スリット群
を構成する各スリット (71)(72)〜(76)……基準点信号透過用スリット群
を構成する各スリット
FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of one embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 1A is a light intensity distribution chart of the one shown in FIG. 1, and FIGS. 2B and 2C are reference point signal generators (1) and (2) corresponding to the light intensity distribution of FIG. 2A. 2D is a schematic diagram of the modified side of the reference point signal generator (2) shown in FIG. 2C, and FIG. 3 is an output characteristic diagram of the one shown in FIG. (A) is a light intensity distribution chart of the present invention, FIGS. 4 (B) and (C) are schematic diagrams of the reference point signal generators (1) and (2), and FIG. 4 (D) is its output characteristic. Figure, fifth
FIGS. 4A and 4B are schematic diagrams of the reference point signal generators 1 and 2 of the conventional example corresponding to the present invention shown in FIGS. 4B and 4C, and FIG. 5C. ) Is the output characteristic diagram, No. 6
FIG. 7 is an output characteristic diagram of the conventional example, FIG. 7 is a schematic diagram of the conventional example, FIG. 8 is an output characteristic diagram of the one shown in FIG. 7, FIG. 9 is a light intensity distribution diagram of the one shown in FIG. 7, and FIG. FIG. 11 is a light intensity distribution chart in which light is diffracted and interfered, and FIG. 11 is an output characteristic chart in the light intensity distribution shown in FIG. (1) …… Main scale reference point signal generator (2) …… Index scale reference point signal generator (3) …… Light source (5) …… Photoelectric conversion element (6 1 ) (6 2 ) to ( 6 6) slits constituting the ...... reference point signal generating slit group (71) (7 2) each of the slits constituting the ~ (7 6) ...... a reference point signal transmissive slit group

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】主面に基準信号発生用スリット群が形成さ
れたメインスケールと、 前記メインスケールと相対的に移動可能に対向配置さ
れ、前記基準点信号発生用スリット群と対向する位置に
基準点信号透過用スリット群が形成されたインデックス
スケールと、 前記メインスケール上の基準信号発生用スリット群を照
射する光源と、 前記インデックススケールに対向配置され、前記基準点
信号透過用スリット群を透過した光を受光する光電変換
素子とを有する光電式エンコーダの基準点信号発生機構
において、 前記基準点信号発生用スリット群を構成する各スリット
は不規則に配置され、 前記基準点信号透過用スリット群を構成する各スリット
が配置された位置は、前記基準点信号発生用スリット群
を透過し、回折、干渉の影響を受けた透過光が前記イン
デックススケール上に形成する強度分布のピークに対応
する位置であり、 前記基準点信号透過用スリット群を構成する各スリット
の幅は、前記強度分布の大きさに対応する幅であること
を特徴とする光電式エンコーダの基準点信号発生機構。
1. A main scale having a reference signal generating slit group formed on a main surface thereof, and a main scale which is disposed so as to be movable relative to the main scale so as to be opposed to the reference point signal generating slit group. An index scale formed with a slit group for transmitting a point signal, a light source for irradiating a slit group for generating a reference signal on the main scale, and a light source that is arranged so as to face the index scale and transmits through the slit group for transmitting a reference point signal. In a reference point signal generating mechanism of a photoelectric encoder having a photoelectric conversion element that receives light, each slit constituting the reference point signal generating slit group is arranged irregularly, and the reference point signal transmitting slit group is The position where each of the constituent slits is arranged is transmitted through the reference point signal generating slit group and is transmitted through the influence of diffraction and interference. The light is at a position corresponding to the peak of the intensity distribution formed on the index scale, and the width of each slit constituting the reference point signal transmission slit group is a width corresponding to the size of the intensity distribution. A reference point signal generation mechanism for a photoelectric encoder, characterized by:
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