JP2546225B2 - Magnetic recording media - Google Patents

Magnetic recording media

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JP2546225B2
JP2546225B2 JP58079322A JP7932283A JP2546225B2 JP 2546225 B2 JP2546225 B2 JP 2546225B2 JP 58079322 A JP58079322 A JP 58079322A JP 7932283 A JP7932283 A JP 7932283A JP 2546225 B2 JP2546225 B2 JP 2546225B2
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base film
disk
magnetic recording
magnetic
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弘明 小林
敏之 朝倉
雄吉 出口
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Toray Industries Inc
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    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73923Organic polymer substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/30Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
    • C08G2261/31Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating aromatic structural elements in the main chain
    • C08G2261/312Non-condensed aromatic systems, e.g. benzene

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は磁気記録媒体,さらに詳しくはフレキシブル
な磁気デイスクに関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetic recording medium, and more particularly to a flexible magnetic disk.

〔従来技術〕[Prior art]

オフイスコンピユーターやマイクロコンピユーターの
普及により通称フロツピーデイスクと呼ばれるフレキシ
ブルな磁気デイスクが多く用いられるようになつてきた
が,これは従来のハード磁気デイスクに比べ安価である
こと,交換などが極めて手軽であることなどの大きな長
所がある反面,記録容量が小さく,またベースフイルム
がプラスチツクのシートであるためカール,折れ曲りな
ど形状安定性にやや信頼性の乏しいことなどの欠点を有
している。
Due to the popularization of office computers and micro computers, flexible magnetic discs, commonly known as floppy discs, have come into wide use, but they are cheaper than conventional hard magnetic discs, and replacement is extremely easy. However, it has drawbacks such as a small recording capacity, and the base film being a plastic sheet, which is slightly unreliable in shape stability such as curling and bending.

フロツピーデイスクの記録容量はトラツク(同心円状
に配置された細い円環状の記録域)内の線記録密度とト
ラツク密度(フロツピーデイスクの半径方向の単位長さ
当りのトラツク数で一般にTPI=トラツク/インチで表
わされる)の積で表わされる。線記録密度の増加は磁性
層の改良や磁気記録方式の改良によつて達成され、また
トラツク密度の増加は温湿度の変化によるデイスクの半
径方向の可逆的・不可逆的寸法変化ができるだけ小さい
ことと,それら寸法変化が各方向に対し等方向的に起こ
ることがポイントである。
The recording capacity of the floppy disk is the linear recording density and the track density (the number of tracks per unit length in the radial direction of the floppy disk, which is generally TPI = track) in a track (a thin annular recording area arranged concentrically). / Inches). The increase in the linear recording density is achieved by improving the magnetic layer and the magnetic recording method, and the increase in the track density is that the reversible and irreversible dimensional change of the disk due to the change of temperature and humidity is as small as possible. The point is that these dimensional changes occur in the same direction in each direction.

一方,デイスクが完全にフラツトで平面性に優れてい
ることが最も重要な事項であることは言うまでもない。
カールしていたり,凹凸があつたりすると記録・再生ヘ
ツドと磁性層との当りが不安定になり,記録・再生の信
頼性を大幅に低下させる。フロツピーデイスク自体は一
般に紙またはプラスチツクシート製の一般に「ジヤケツ
ト」と呼ばれるカバーによつて保護されており,わずか
のカールであればカバーの剛性によつて実質的な不都合
が起こらないように工夫されているが,少しでもカール
の少ないことが好ましく,特に記録密度が高くなつた
り,小型化されたりする場合はこの要求はさらに強くな
る。
On the other hand, it goes without saying that the disk is completely flat and has excellent flatness.
If it is curled or has irregularities, the contact between the recording / reproducing head and the magnetic layer becomes unstable and the reliability of recording / reproducing is greatly reduced. The floppy disc itself is protected by a cover, which is generally called a "jacket" made of paper or plastic sheet. However, it is preferable that the curl is as small as possible, and this requirement is further strengthened especially when the recording density is increased or the size is reduced.

従来,フロツピーデイスクのベースフイルムとして二
軸配向のポリエチレンテレフタレートフイルムが最も広
く使われているが,これはその優れた機械的特性や表面
の平滑性によるところが大きい。しかしこのベースフイ
ルムを使用する限り湿度膨張係数が約10×10-6/RH%と
大きいため,デイスク使用時の湿度環境変化が80から90
RH%と広い範囲にわたつて正確なトラツク追跡性を要求
されるため,そのトラツク密度は自動的にある一定の限
界が存在せざるを得ない。このためポリエチレンテレフ
タレートを改質したり,他の低吸湿率素材と複合したり
して実質的な湿度膨張係数を下げる工夫も種々なされて
いるが、他の熱的性質や力学的性質が悪化するため,好
ましい結果は得られるに至つていない。そこで特開昭55
−38613において提案されているような本質的に湿度特
性の優れた二軸配向ポリpフエニレンスルフイドフイル
ムをベースフイルムとしたフロツピーデイスクが高記録
密度化の可能性を有しているが,従来の二軸配向ポリp
フエニレンスルフイドフイルムで作成されたデイスクは
前述のカールなどフラツトな形状を作るという観点から
いくつかの問題を包含していた。特に高密度化のため強
磁性体薄膜層を蒸着などにより直接ベースフイルムの上
に形成する場合にはデイスクの形状は不満足なことが多
い。
Conventionally, biaxially oriented polyethylene terephthalate film has been most widely used as the base film of the floppy disc, but this is largely due to its excellent mechanical properties and surface smoothness. However, as long as this base film is used, the humidity expansion coefficient is as large as about 10 × 10 -6 / RH%, so the humidity environment changes from 80 to 90 when the disk is used.
Since accurate track traceability over a wide range of RH% is required, the track density must automatically have a certain limit. For this reason, various measures have been taken to modify the polyethylene terephthalate, or to combine it with other low moisture absorption materials to reduce the substantial coefficient of hygroscopic expansion, but other thermal properties and mechanical properties deteriorate. Therefore, favorable results have not been obtained yet. Therefore, JP-A-55
-38613 has a possibility of high recording density in a floppy disc using a biaxially oriented poly-p-phenylene sulfide film as a base film, which is essentially excellent in humidity characteristics. , Conventional biaxially oriented poly-p
The disk made of Feniren Surufuido film included some problems from the viewpoint of making a flat shape such as the above-mentioned curl. Particularly when the ferromagnetic thin film layer is formed directly on the base film by vapor deposition or the like for higher density, the disk shape is often unsatisfactory.

これらの真空薄膜形成プロセスにおいてはベースフイ
ルムに次のような多くの熱的・機械的負荷がかかるため
作成される磁気デイスクの形状を十分に良好な平面性に
維持することが一般には困難である。
In these vacuum thin film forming processes, it is generally difficult to maintain the shape of the magnetic disk to be formed into a sufficiently good flatness because the base film is subjected to many thermal and mechanical loads as follows. .

(1)金属薄膜の堆積による凝集力の発生 (2)金属原子自体が有するエネルギーのベースフイル
ムへの移行 (3)金属溶融時の熱の軸射熱,あるいはプラズマ等に
より発生する熱の影響 (4)高温下でフイルムと金属薄膜と同一寸法になつた
後,常温に戻つた時の両者の熱膨張係数の差によるバイ
メタル効果 このような負荷によつて得られた磁気デイスクがカール
をはじめとする多くの平面性の欠陥により,記録再生時
にヘツドとの安定した接触,走行などに支障をきたし不
満足な結果が得られる場合が多い。
(1) Generation of cohesive force due to deposition of metal thin film (2) Transfer of energy possessed by metal atoms to the base film (3) Effect of axial heat of heat when melting metal or heat generated by plasma etc. ( 4) Bimetal effect due to the difference in thermal expansion coefficient between the film and metal thin film when they have the same dimensions at high temperature and then returns to normal temperature. Due to the many defects in the flatness, stable contact with the head during recording and reproduction, running, etc. are often hindered and unsatisfactory results are often obtained.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明の目的は,二軸配向ポリフエニレンスルフイド
フイルムをベースフイルムの主体とし,実質的にカール
のない平面性に優れたフロツピーデイスクとすることに
より,高い記録密度で安定に記録し得る磁気記録媒体,
好ましくは磁気デイスク(フロツピーデイスク)を提供
せんとするものである。
An object of the present invention is to enable stable recording at a high recording density by using a biaxially oriented polyphenylene sulfide film as a main component of a base film and using a floppy disc having excellent curl and substantially flatness. Magnetic recording medium,
Preferably, a magnetic disk (floppy disk) is provided.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

本発明は,上記目的を達成するため,構造式 を繰り返し単位の90モル%以上含む二軸配向pフエニレ
ンポリスルフイドフイルムをベースフイルムの主構成層
とし,該ベースフイルムの少なくとも片面に強磁性層を
有する磁気記録媒体において,該ベースフイルムの特性
が面内のすべての方向に関し下記特性を満足するフレキ
シブルな磁気記録媒体を特徴とするものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a structural formula In a magnetic recording medium having a biaxially oriented p-phenylene polysulfide film containing 90 mol% or more of repeating units as the main constituent layer of the base film and having a ferromagnetic layer on at least one side of the base film, the characteristics of the base film Is characterized by a flexible magnetic recording medium satisfying the following characteristics in all in-plane directions.

2×10-7A×C5×10-5 ここでA:120℃における熱膨張係数(℃-1) C:120℃における熱収縮率(%) 本発明に用いるポリpフエニレンスルフイド(以下PP
Sと言う)は構造式 で示される繰り返し単位を90モル%以上,好ましくは95
モル%以上含むことが必要である。係る繰り返し単位が
90モル%未満ではポリマの結晶性が低下するためフイル
ムの機械的特性が貧弱でフロツピーデイスクのベースフ
イルムとしては脆かつたり,著しい場合には二軸配向を
与えるための二軸延伸すら不可能であつたり,またガラ
ス転移点が65℃以下に低下しデイスクの高温寸法安定性
に重大な欠陥を与えるため好ましくない。該ポリマの繰
り返し単位の残りの10モル%以下についてはメタフエニ
レンスルフイド エーテル ビフエニル 核置換フエニルスルフイド (ここにRは炭素数1から10のアルキル基,アルコキシ
基またはニトロ基,フエニル基,スルホン酸基,から選
ばれる),三官能フエニルスルフイド などから構成することができ,これらがブロツク共重合
的に入つていても,ランダム共重合の状態で入つていて
もよい。またポリマの末端または末端近傍に該ポリマの
主構成単位である 以外の構成単位が連らなつていることは本発明の本質を
変えるものではない。さらに該PPSと他の成分,例えば
別の目的のために混入したポリマ,無機フイラー等が本
発明の目的に重大な影響を及ぼさない限りベースフイル
ム中に共存することは構わない。
2 × 10 −7 A × C 5 × 10 −5 where A: thermal expansion coefficient at 120 ° C. (° C. −1 ) C: thermal shrinkage ratio at 120 ° C. (%) Polypphenylene sulfide ( Below PP
(S) is a structural formula 90 mole% or more, preferably 95
It is necessary to contain more than mol%. The repeating unit
If it is less than 90 mol%, the crystallinity of the polymer will be deteriorated and the mechanical properties of the film will be poor, making it brittle as a base film for floppy discs, and in extreme cases even biaxial stretching to give biaxial orientation is impossible. However, the glass transition temperature is lowered to 65 ° C or lower, which causes a serious defect in the high temperature dimensional stability of the disk, which is not preferable. For the remaining 10 mol% or less of the repeating units of the polymer, metaphenylene sulfide ether Biphenyl Nuclear-substituted phenyl sulfide (Wherein R is selected from an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group or a nitro group, a phenyl group, a sulfonic acid group), a trifunctional phenyl sulfide Etc., and these may be included in the form of block copolymer or may be included in the state of random copolymerization. It is the main constitutional unit of the polymer at or near the end of the polymer. The fact that the constituent units other than the above are connected does not change the essence of the present invention. Further, the PPS and other components, for example, a polymer mixed for another purpose, an inorganic filler and the like may coexist in the base film as long as they do not seriously affect the purpose of the present invention.

本発明に用いるPPSの溶融粘度は温度300℃,みかけの
せん断速度200sec-1の条件下で200から20,000ポイズ,
より好ましくは500から12,000ポイズであることがフイ
ルムの製膜性,および機械特性などから望ましい。
The melt viscosity of PPS used in the present invention is 200 to 20,000 poise at a temperature of 300 ° C. and an apparent shear rate of 200 sec −1 .
More preferably, it is from 500 to 12,000 poise from the viewpoint of film forming properties and mechanical properties of the film.

PPS二軸配向フイルムとは,上記PPSを溶融成形してシ
ート状とし,二軸延伸,熱処理してなるフイルムであつ
て,その厚さは5〜100μmの範囲が好ましい。
The PPS biaxially oriented film is a film obtained by melt-molding the above PPS into a sheet, biaxially stretching and heat treating, and its thickness is preferably in the range of 5 to 100 μm.

ベースフイルムとは,磁気記録層をその上に設けるた
めのフレキシブルな支持体であつて,その厚さの少なく
とも50%以上が上記のPPS二軸配向フイルムからなるも
のである。
The base film is a flexible support on which a magnetic recording layer is provided, and at least 50% or more of the thickness of the base film is the PPS biaxially oriented film described above.

ベースフイルムの厚さは10〜100μm(より好ましく
は20〜80μm)の範囲が,フロツピーデイスクとしての
形態保持性,ヘツドタツチなどの点で好ましい。
The thickness of the base film is preferably in the range of 10 to 100 μm (more preferably 20 to 80 μm) from the viewpoint of shape retention as a floppy disc and head touch.

ベースフイルムの厚さの50%以下の部分は,PPS二軸配
向フイルム以外の可撓性シートからなることができる。
その例としては,ポリエチレンテレフタレートフイル
ム,ポリエチレン2,6ナフタレートフイルム,ポリエチ
レンα,βビス(2−クロルフエノキシ)エタン4,4′
ジカルボキシレートフイルム,ポリプロピレンフイル
ム,芳香族ポリアミドフイルム,芳香族ポリイミドフイ
ルム,アルミニウム箔等を挙げることができるが,これ
に限定されるものではない。
Less than 50% of the thickness of the base film can be made of a flexible sheet other than the PPS biaxially oriented film.
Examples are polyethylene terephthalate film, polyethylene 2,6 naphthalate film, polyethylene α, β bis (2-chlorophenoxy) ethane 4,4 ′.
Examples thereof include, but are not limited to, dicarboxylate film, polypropylene film, aromatic polyamide film, aromatic polyimide film, and aluminum foil.

また特に該PPSフイルムの表面平滑性を改良するため
に有機ポリマの塗布層を設けることもある。これは磁気
記録密度の高い磁性層になるほど磁性層の厚さが薄くな
る傾向にありベースフイルムの表面粗度,表面突起など
の改良が要求されるため極く薄い表面スムージング層を
設けるものであり,該PPSフイルムがベースフイルムの
主構成層であることは変らない。ここで表面粗度の要
求,特に許容最大突起高さは磁性層の種類によつて異な
るが一般の塗布型で0.1〜2μ,磁性金属を直接蒸着す
る薄膜金属型で0.01〜0.2μであるためスムージング層
の厚さもこれより多少厚い領域である。
Further, in particular, a coating layer of an organic polymer may be provided in order to improve the surface smoothness of the PPS film. This is because a magnetic layer with a higher magnetic recording density tends to have a smaller thickness, and it is necessary to improve the surface roughness and surface protrusion of the base film, so an extremely thin surface smoothing layer is provided. The PPS film remains the main constituent layer of the base film. Here, the surface roughness requirement, especially the maximum allowable projection height varies depending on the type of magnetic layer, but is 0.1 to 2μ for general coating type and 0.01 to 0.2μ for thin film metal type for direct deposition of magnetic metal. The thickness of the smoothing layer is also slightly thicker than this.

本発明はベースフイルムの片面または両面に磁性層を
設けることにより構成されるが,この磁性層とベースフ
イルムの接着性を向上するためにベースフイルムに種々
の処理が施される。これは接着性が弱いとヘツドとの繰
り返しの接触により磁性層に傷がついたり,著しいとき
は剥離したりするためである。処理として最も代表的な
ものはコロナ処理である。これは一般に空気中または窒
素,二酸化炭素ガスの雰囲気下でコロナ放電により処理
されるもので,該PPSフイルムも未処理の場合の表面張
力約32dyn/cmが空気中のコロナ放電処理により35〜60dy
n/cmに上昇することからも類推されるように磁性層を安
定して設けるための処理として有効である。また後述す
るように特に強磁性体金属層を設ける場合は易接着処理
としてグロー放電処理(プラズマ放電処理)が有効であ
る。グロー放電処理は10-5から10Torr程度の真空下で直
流から高周波まで広範囲な周波数の電源を用いて0.1か
ら100秒の間処理されるものであり,ガスとしては酸
素,窒素,水素,アルゴン,ヘリウム,二酸化炭素,一
酸化炭素,アンモニア,亜硫酸ガス,硫化水素,および
それらの混合ガスなどが用いられる。
The present invention is constructed by providing a magnetic layer on one side or both sides of the base film, and various treatments are applied to the base film in order to improve the adhesiveness between the magnetic layer and the base film. This is because if the adhesiveness is weak, the magnetic layer may be scratched by repeated contact with the head, or if it is significantly peeled off. The most typical treatment is corona treatment. This is generally processed by corona discharge in air or in an atmosphere of nitrogen or carbon dioxide gas, and the surface tension of the PPS film when untreated is about 32 dyn / cm and is 35 to 60 dy due to corona discharge treatment in air.
As can be inferred from the increase to n / cm, it is effective as a treatment for stably providing the magnetic layer. Further, as will be described later, glow discharge treatment (plasma discharge treatment) is effective as the easy adhesion treatment particularly when a ferromagnetic metal layer is provided. The glow discharge treatment is performed under a vacuum of about 10 -5 to 10 Torr for 0.1 to 100 seconds using a power supply with a wide range of frequencies from direct current to high frequency. Gases such as oxygen, nitrogen, hydrogen and argon are used. Helium, carbon dioxide, carbon monoxide, ammonia, sulfurous acid gas, hydrogen sulfide, and a mixed gas thereof are used.

本発明における磁性層はFe2O3,Fe3O4,CrO2,Fe,Co,N
i等の強磁性体微粉末を有機バインダーとともにベース
フイルム上に塗布した,いわゆる「塗布型」と,強磁性
体金属を真空蒸着,スパツタリング,メツキなどの方法
によりベースフイルム上に堆積させた,いわゆる「金属
薄膜型」とある。
The magnetic layer in the present invention is made of Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , CrO 2 , Fe, Co, N.
A so-called "coating type" in which a fine ferromagnetic powder such as i is applied on a base film together with an organic binder, and a so-called "coating type" in which a ferromagnetic metal is deposited on the base film by a method such as vacuum deposition, sputtering, and plating. It is called "metal thin film type".

係る磁性層は塗布型の場合0.3から5μm,金属薄膜型
の場合0.05から2μmの範囲内の厚さを有しており,後
者の方が一般に磁気記録の線密度は大きい。金属薄膜の
場合はヘツドとの直接の接触による磁性層の機械的劣化
を妨げるため極く薄い保護層を設けることが多い。保護
層としてはシリコーン系の有機超薄層(厚さ数十から数
百オングストローム)が一例として挙げられるが,もち
ろん本発明においてはこれに限るものではない。また磁
性層の磁化形態としては水平磁化と垂直磁化があり,本
発明はこの両者に適用されるものである。
The magnetic layer has a thickness in the range of 0.3 to 5 μm in the case of the coating type and 0.05 to 2 μm in the case of the metal thin film type, and the latter generally has a higher linear density in magnetic recording. In the case of a metal thin film, an extremely thin protective layer is often provided in order to prevent mechanical deterioration of the magnetic layer due to direct contact with the head. An example of the protective layer is a silicone-based organic ultra-thin layer (thickness of tens to hundreds of angstroms), but the present invention is not limited to this. Further, the magnetization forms of the magnetic layer include horizontal magnetization and vertical magnetization, and the present invention is applied to both of them.

本発明の磁気記録媒体は,テープやフロツピーデイス
クなど各種の用途に適用できるが,特にフロツピーデイ
スク(磁気デイスク)に用いるのが好ましい。
The magnetic recording medium of the present invention can be applied to various applications such as a tape and a floppy disc, but it is particularly preferably used for a floppy disc (magnetic disc).

次に本発明の磁気記録媒体,特に磁気デイスクの製造
方法について述べる。
Next, a method of manufacturing the magnetic recording medium of the present invention, particularly a magnetic disk will be described.

まず本発明に使用されるPPSは基本的にN−メチルピ
ロリドンを溶媒としてp−ジクロルベンゼンに代表され
るジハロゲン化芳香族化合物と実質的にそれと同モルの
硫化ソーダまたは水硫化ソーダとカセイソーダの混合物
によつて代表される含硫黄化合物の高温反応によつて得
られる。重合反応を開始する前にまずN−メチルピロリ
ドン中に硫化ソーダ(または硫化ソーダを合成すること
のできる化合物)を添加し,さらに硫化ソーダに対し10
から100モル%の重合助剤を加え100℃以上に加熱して脱
水する。重合助剤としては安息香酸リチウムなどのカル
ボン酸アルカリ金属塩を使用する。次いでモノマとして
硫化ソーダに対し98から105モル%のジハロゲン化芳香
族化合物(そのうち90モル%以上はp−ジクロルベンゼ
ン)を添加し,窒素シールした後反応系を密封し,230〜
280℃の間で約2〜6時間重合する。反応終了後冷却さ
れた系は十分量の水で希釈され洗浄される。ポリマは粉
状または粒状で得られ,数回の水洗の後乾燥されて本発
明に使用されるポリマとして供せられる。
First, the PPS used in the present invention is basically composed of a dihalogenated aromatic compound represented by p-dichlorobenzene using N-methylpyrrolidone as a solvent and substantially the same moles of sodium sulfide or sodium hydrosulfide and caustic soda. It is obtained by a high temperature reaction of a sulfur-containing compound represented by a mixture. Before starting the polymerization reaction, first add sodium sulfide (or a compound capable of synthesizing sodium sulfide) into N-methylpyrrolidone, and then add 10% to sodium sulfide.
To 100 mol% of a polymerization aid, and heated to 100 ° C or higher for dehydration. As the polymerization aid, an alkali metal carboxylic acid salt such as lithium benzoate is used. Next, 98 to 105 mol% of dihalogenated aromatic compound (of which 90 mol% or more is p-dichlorobenzene) is added to sodium sulfide as a monomer, and after nitrogen sealing, the reaction system is hermetically sealed.
Polymerize at 280 ° C for about 2-6 hours. After completion of the reaction, the cooled system is diluted with a sufficient amount of water and washed. The polymer is obtained in the form of powder or granules, washed with water several times and then dried to be used as the polymer used in the present invention.

このポリマを二軸配向フイルムに形成するには周知の
方法による。すなわち押出機により溶融された樹脂を,
口金から定量的に冷却ドラムの上にキヤステイングし,
急速冷却することにより無配向,非晶状態のシートを形
成する。次にこのシートを逐次二軸または同時二軸延伸
するが,一般的には逐次二軸として長手方向の延伸(縦
延伸)を周速の異なるロール間で行ない,次いでテンタ
ー内で横延伸を行なう。次いで同一のテンター内でこの
得られた二軸延伸配向フイルムを定長熱処理した後,必
要に応じてリラツクスを実施する。リラツクスは横方向
はテンター後部でレールの間隔を一定比率小さくするこ
とにより,また縦方向はテンターを出た後に適当な装置
でロール周速を一定比率下げることによつて行なわれ
る。いずれの場合もこの比率は数パーセントの範囲内で
ある。
The polymer is formed into a biaxially oriented film by known methods. That is, the resin melted by the extruder is
Quantitatively cast on the cooling drum from the base,
A non-oriented, amorphous sheet is formed by rapid cooling. Next, this sheet is sequentially biaxially or simultaneously biaxially stretched. Generally, sequential biaxial stretching is performed in the longitudinal direction between rolls having different peripheral speeds, and then transverse stretching is performed in a tenter. . Then, the biaxially stretched oriented film thus obtained is subjected to a constant length heat treatment in the same tenter, and then relaxed if necessary. The relax is performed by reducing the rail spacing at the rear part of the tenter in the horizontal direction by a fixed ratio, and by decreasing the roll peripheral speed by a fixed ratio in the vertical direction after exiting the tenter. In each case this ratio is in the range of a few percent.

このような二軸配向フイルムを製造するプロセスで本
発明に使用されるフイルムを作成するためには縦横の延
伸条件,熱処理条件それにリラツクス条件が特に重要で
ある。すなわち縦延伸工程では延伸後,横延伸直前の光
学的配向度が0.135から0.165の範囲になるように条件を
選ばねばならない。実際の延伸温度,延伸倍率はポリマ
によつて差があるが一般には95〜105℃の範囲内で3.9〜
4.9倍の範囲内である。次に横延伸工程では延伸後の光
学的配向度が縦方向に0.05以下,もしくは横方向に0.05
以下であるように条件を選定することが望ましい。
In order to produce the film used in the present invention in the process of producing such a biaxially oriented film, the longitudinal and transverse stretching conditions, heat treatment conditions and relax conditions are particularly important. That is, in the longitudinal stretching step, the conditions must be selected so that the optical orientation degree after stretching and immediately before transverse stretching is in the range of 0.135 to 0.165. The actual stretching temperature and stretching ratio differ depending on the polymer, but generally within the range of 95-105 ℃, 3.9-
It is within the range of 4.9 times. Next, in the transverse stretching process, the degree of optical orientation after stretching is 0.05 or less in the longitudinal direction or 0.05 in the transverse direction.
It is desirable to select the conditions as follows.

実際の条件はおおよそ延伸温度95〜110℃で,延伸倍
率は3.5〜4.0である。また熱処理温度は200℃から270℃
の間で,またリラツクスは縦横とも0〜5%の範囲が一
般的である。これらの条件の適当な組み合わせによつて
本発明のフイルムが作成されるものであるが,前述のよ
うにポリマによる差違が大きく,この条件範囲内から本
発明の熱膨張係数と熱収縮率の積を有している条件を選
定する。
The actual conditions are a stretching temperature of 95 to 110 ° C and a stretching ratio of 3.5 to 4.0. Also, the heat treatment temperature is from 200 ℃ to 270 ℃
In general, the relax is 0 to 5% in both vertical and horizontal directions. The film of the present invention is produced by an appropriate combination of these conditions, but as described above, the difference due to the polymer is large, and the product of the thermal expansion coefficient and the thermal contraction rate of the present invention is within this range of conditions. Select the condition that has.

すでに述べたとおり本発明においては上記プロセスに
より得られた二軸配向PPSフイルム上に磁性層を形成さ
せるプロセスが必要であるが,これには塗布型と金属薄
膜型がある。本発明の効果が特に顕著に表われるのは後
者であり,ここでは後者について説明する。
As described above, the present invention requires a process of forming a magnetic layer on the biaxially oriented PPS film obtained by the above process, which includes a coating type and a metal thin film type. It is the latter that the effects of the present invention are particularly remarkable, and the latter will be described here.

Co,Ni,Feなどで代表される強磁性金属,さらにはCo−
Ni,Co−Cr,Co−Fe,Co−V,Co−Rh,Co−Ru,Co−W,Co−Sn,
Ni−Fe,Co−Ni−Alなどの強磁性金属合金,酸化鉄,Coド
ープ酸化鉄,酸化クロム,バリウムフエライトなどの強
磁性金属酸化物などの成分,さらにはこれらに20重量%
以下の範囲で含まれる非強磁性金属,低融点金属などを
金属薄膜層としてフイルム上に形成させるためには次の
ような方法がある。
Ferromagnetic metals typified by Co, Ni, Fe, and Co-
Ni, Co-Cr, Co-Fe, Co-V, Co-Rh, Co-Ru, Co-W, Co-Sn,
Ferromagnetic metal alloys such as Ni-Fe and Co-Ni-Al, components such as iron oxide, Co-doped iron oxide, chromium oxide, and ferromagnetic metal oxides such as barium ferrite.
There are the following methods for forming a non-ferromagnetic metal, a low-melting point metal, or the like included in the following range as a metal thin film layer on the film.

すなわち,抵抗加熱,電子ビーム加熱,誘導加熱,レ
ーザービーム加熱などによる真空蒸着法,さらには,直
流二極法,高周波二極法,直流マグネトロン,高周波マ
グネトロン,対向二極法などによるスパツタリング法,
また陰極加熱法,高周波励起法,クラスターイオンビー
ム法などによるイオンプレーテイング法,などである。
That is, vacuum deposition methods such as resistance heating, electron beam heating, induction heating, laser beam heating, etc., and further sputtering methods such as direct current bipolar method, high frequency bipolar method, direct current magnetron, high frequency magnetron, opposed bipolar method, etc.
Moreover, the cathode heating method, the high frequency excitation method, the ion plating method by the cluster ion beam method, etc.

次に,本発明の記述において使用した,ポリマ,フイ
ルム,およびフロツピーデイスクの特性値の定義,測定
法,および評価法について説明する。
Next, the definition, measurement method, and evaluation method of the characteristic values of the polymer, film, and floppy disk used in the description of the present invention will be described.

(1)特性溶融粘度(μ) 長さL,半径Rの毛管状ダイを有する高化式フロテスタ
ーを用いて,温度Tのもとで圧力Pでポリマを押し出し
たときの容積吐出量をQとするとき,みかけのせん断応
力τ,みかけのせん断速度および,みかけの粘度μを
次のように定義する。
(1) Characteristic Melt Viscosity (μ) The volumetric discharge rate when the polymer is extruded at pressure P under temperature T using a high-performance flotator having a capillary die of length L and radius R is Q Then, the apparent shear stress τ, the apparent shear rate, and the apparent viscosity μ are defined as follows.

γ=(RP)/(2L) =(4Q)/(πR3) μ=τ/ このとき,種々のに対してそのときのμをプロツト
して得られる曲線μ=f()の,=200(秒)-1
おける値をもつて特性溶融粘度μ0を定義する。
γ = (RP) / (2L) = (4Q) / (πR 3 ) μ = τ / At this time, the curve μ = f () obtained by plotting μ at various times is = 200 Define the characteristic melt viscosity μ 0 with the value at (sec) −1 .

本発明においては、L=10mm,R=0.5mmのダイを用い,
T=300℃で測定した値を用いた。
In the present invention, a die of L = 10 mm and R = 0.5 mm is used,
The value measured at T = 300 ° C. was used.

(2)光学的配向度(nγ−nβ) 直交ニコルを備えた偏光顕微鏡に,フイルム面が光軸
に垂直になるように試料フイルムをセツトし,さらに試
料,アナライザ軸に対し45°の方位角を有するように挿
入する。続いて,試料を光軸のまわりに回転し,消光位
からプラスまたはマイナス45°方向にある相減位(試料
によつて生じた位相差がコンペンセータによつて減少し
ていく側の位置)に置き,このとき試料の複屈折によつ
て生じた光路差Γ0をコンペンセータの補償値から求
め,Γ0/d0をもつて光学的配向度nγ−nβを定義す
る(ここにd0は試料の厚さを表わす)。なおこのとき,
試料上,コンペンセータの回転軸に垂直な方位が試料の
γ方向であり,平行な方位がβ方向である。
(2) optical orientation degree (n gamma -n beta) polarizing microscope equipped with crossed Nicols, and excisional the sample film so that the film surface is perpendicular to the optical axis, further sample, 45 ° to the analyzer axis Insert to have azimuth. Then, the sample is rotated around the optical axis to the phase reduction in the plus or minus 45 ° direction from the extinction position (the position on the side where the phase difference caused by the sample decreases by the compensator). Then, the optical path difference Γ 0 caused by the birefringence of the sample at this time is obtained from the compensation value of the compensator, and the optical orientation degree n γ −n β is defined with Γ 0 / d 0 (here, d 0 Represents the thickness of the sample). At this time,
On the sample, the direction perpendicular to the rotation axis of the compensator is the sample's γ direction, and the parallel direction is the β direction.

本発明においては, 日本光学製偏光顕微鏡POH型 Leitz製ユニバーサルステージ Leitz製コンペンセータ を用い,ナトリウムD線(波長0.5893μm)の単色光で
測定した。
In the present invention, a polarization microscope POH type Leitz universal stage made by Nippon Kogaku, a universal stage made by Leitz, and a compensator made by Leitz were used to measure with monochromatic light of sodium D line (wavelength 0.5893 μm).

(3)フイルムの密度(ρ) 臭化リチウム水溶液による密度勾配管を用いて20℃に
おいて測定した。
(3) Density of film (ρ) It was measured at 20 ° C. using a density gradient tube with an aqueous solution of lithium bromide.

(4)ポリマのガラス転移点(Tg)・融点(Tm)および
二軸延伸後のフイルムの融点(Tmf)DSC法により測定し
た。
(4) was measured by the glass transition point of the polymer (T g) · the thermal melting point (T m) and the film after biaxial stretching melting point (T mf) DSC method.

(5)120℃における熱膨張係数(A) ベースフイルムから,長さ30mm,幅5mmの切片を切り出
し,熱機械特性分析器:TMA(真空理工(株)製TM−300
0)にセツトし,10g/mm2の定引張応力下に,次のような
熱履歴を加えたときの試料の伸縮を記録する。
(5) Coefficient of thermal expansion (A) at 120 ° C A 30 mm long and 5 mm wide section was cut out from the base film, and a thermomechanical property analyzer: TMA (TM-300 manufactured by Vacuum Riko Co., Ltd.)
Set to 0) and record the expansion and contraction of the sample when the following thermal history is applied under a constant tensile stress of 10 g / mm 2 .

a.25℃から120℃まで1℃/minで昇温 b.120℃で5分保持 c.130℃まで1℃/minで昇温 d.直ちに110℃まで1℃/minで降温 このとき,dの過程(130℃から110℃への降温)における
寸法変化をΔLとしA=(ΔL/(20×L0) (ただしL0は試料をTMAにセツトしたときの長さ) をもつて,試料の長さ方向の120℃における熱膨張係数
Aを定義する。
a. Temperature increase from 25 ℃ to 120 ℃ at 1 ℃ / min b. Hold at 120 ℃ for 5 minutes c. Temperature increase to 130 ℃ at 1 ℃ / min d. Immediately decrease to 110 ℃ at 1 ℃ / min At this time, Let ΔL be the dimensional change in the process of d (falling temperature from 130 ° C to 110 ° C) and have A = (ΔL / (20 × L 0 ) (where L 0 is the length when the sample is set in TMA), The coefficient of thermal expansion A at 120 ° C. in the length direction of the sample is defined.

(6)120℃における熱収縮率(C) 試料を23℃・50%RH下に24時間置いたのち、その雰囲
気下で,あらかじめマークした2点間の距離を測定し,
l0とする。
(6) Thermal shrinkage at 120 ° C (C) After placing the sample at 23 ° C and 50% RH for 24 hours, measure the distance between two pre-marked points in that atmosphere,
l 0 .

続いて,120℃にセツトした熱風オーブン中に30分置い
たのち,再び23℃・50%RH下に24時間置いたのち,その
雰囲気下で先に測定した2点間の距離を再び測定し,l1
とする。
Then, after placing in a hot air oven set at 120 ° C for 30 minutes and then again at 23 ° C / 50% RH for 24 hours, the distance between the two points previously measured under that atmosphere was measured again. , L 1
And

このとき,C=100×(l0−l1)/l0をもつて,120℃に
おける熱収縮率Cを定義する。
At this time, C = 100 × (l 0 −l 1 ) / l 0 is defined and the heat shrinkage rate C at 120 ° C. is defined.

(7)A×Cの方向性 上記のAおよびCの測定を,ベースフイルムの面内の
22.5°間隔の8方向(0°〜157.5°で,残りの180°〜
337.5°の8方向は,円の対称性から先の8方向と同一
とみなせる)について,各々行ない,各方向ごとにA×
Cを計算する。これら8方向についてのA×Cの値のす
べてが,前述の2×10-7〜5×10-5の範囲にあるとき,
面内のすべての方向についてA×Cが本発明の範囲にあ
るとみなし,そうでないときは,本発明の範囲外とみな
す。
(7) Directionality of A × C The measurement of A and C described above is carried out in the plane of the base film.
8 directions at 22.5 ° intervals (0 ° to 157.5 °, remaining 180 ° to
The 8 directions of 337.5 ° can be regarded as the same as the previous 8 directions due to the symmetry of the circle), and A × for each direction.
Calculate C. When all the values of A × C in these 8 directions are in the range of 2 × 10 -7 to 5 × 10 -5 ,
It is considered that A × C is within the scope of the present invention in all directions in the plane, and is otherwise outside the scope of the present invention.

(8)フロツピーデイスクの再生特性 市販の8インチ標準デイスクドライブ(日本電気
(株)製)を用いて行なつた。
(8) Reproduction characteristics of floppy disk A commercially available 8-inch standard disk drive (manufactured by NEC Corporation) was used.

◎テストA…湿度変化に対する特性 テストするフロツピーデイスクを恒温恒湿槽内に入れ
たドライブに挿入し24時間放置した後,最外周トラツク
(トラツク00)に,25℃・20%RH下に,125KHzの正弦波信
号を記録し,直ちに再生したときの最小信号振幅をR0
する。その後,雰囲気を25℃・70%に変更し,24時間後
に再び再生したときの最小信号振幅をA1とし,A1/A0
求め,耐湿度変化特性の指標とする。
◎ Test A… Characteristics against changes in humidity After inserting the floppy disc to be tested into the drive placed in a thermo-hygrostat and leaving it for 24 hours, put it on the outermost track (Track 00) at 25 ℃ ・ 20% RH. The minimum signal amplitude when a 125 KHz sine wave signal is recorded and immediately reproduced is R 0 . After that, the atmosphere was changed to 25 ° C and 70%, and the minimum signal amplitude when reproduced again after 24 hours was A 1, and A 1 / A 0 was obtained and used as an index of the humidity resistance change characteristics.

◎テストB…高温高湿下の永久変形 テストするフロツピーデイスクをドライブに挿入し,2
3℃・50%RH下で,最外周トラツクに125KHzの正弦信号
を記録し,直ちに再生したときの最小信号振幅をB0とす
る。次に,デイスクのみ取り出し,70℃・90%RH下に2
時間置いた後,再び23℃・50%RH下のドライブに挿入
し,24時間後に再生したときの最小信号振幅をS1とす
る。B1/B0をもつて永久変形特性の指標とする。
◎ Test B… Insert the floppy disk to be tested for permanent deformation under high temperature and high humidity into the drive, 2
Record a 125 KHz sine signal on the outermost track at 3 ° C and 50% RH, and let B 0 be the minimum signal amplitude when it is immediately played back. Next, take out only the disk, and place it at 70 ° C / 90% RH for 2
After waiting for a period of time, insert it again into the drive at 23 ° C and 50% RH, and let it be S 1 as the minimum signal amplitude when playing back 24 hours later. An indicator of the permanent deformation characteristics with B 1 / B 0.

(9)カール ベースフイルム上に磁性層を形成する工程の後,ジヤ
ケツトに収納すべく,5.25インチの円盤状に切り出され
たデイスクを,そのまま,水平かつ平担な台の上に一方
の面を下にして自然に置き,デイスクの最大高さを測定
する。これを他方の面についても行ない,大きい方の値
をもつてカール(単位:mm)とする。
(9) After the step of forming the magnetic layer on the curl base film, the disk cut into a 5.25-inch disk shape is stored as it is on the horizontal and flat table with one surface thereof stored in a jacket. Place it face down on its own and measure the maximum height of the disc. Do this for the other surface as well, and set the curl (unit: mm) with the larger value.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上述べたように,本発明は,主構成層として特定の
特性を有する二軸配向ポリpフエニレンスルフイドフイ
ルムを用いたので,カールがなく,平面性に優れ,高い
記録密度のとれる磁気記録媒体,特にフロツピーデイス
クを得ることができたものである。
As described above, according to the present invention, since the biaxially oriented poly-p-phenylene sulfide film having specific characteristics is used as the main constituent layer, there is no curl, the flatness is excellent, and the magnetic recording density is high. It was possible to obtain a recording medium, especially a floppy disc.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明の実施例を挙げて,さらに詳細に説明す
る。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

実施例1 (1)PPSポリマの準備 オートクレーブに,硫化ナトリウム32.6kg(250モ
ル,結晶水40wt%を含む),水酸化ナトリウム100g,安
息香酸ナトリウム36.1kg(250モル),およびN−メチ
ル−2−ピロリドン(以下NMPと略称する)79.2kgを仕
込み攪拌しながら徐々に205℃まで昇温し,水6.9kgを含
む留出液7.0lを除去した。残留混合物に,1,4−ジクロル
ベンゼン(以下DCBと略称する)37.5kg(255モル),お
よびNMP20.0kgを加え,265℃で4時間加熱した。反応生
成物を熱湯で8回洗浄し,真空乾燥機を用いて80℃で24
時間乾燥して,μ02900ポイズ,N1.17,Tg91℃,Tm285℃
を有する高重合度PPS21.1kg(収率78%)を得た。(PPS
−Uとする)。
Example 1 (1) Preparation of PPS polymer In an autoclave, 32.6 kg of sodium sulfide (250 mol, containing 40 wt% of water of crystallization), 100 g of sodium hydroxide, 36.1 kg (250 mol) of sodium benzoate, and N-methyl-2. -Preparing 79.2 kg of pyrrolidone (hereinafter abbreviated as NMP) and gradually raising the temperature to 205 ° C with stirring to remove 7.0 l of distillate containing 6.9 kg of water. To the residual mixture, 37.5 kg (255 mol) of 1,4-dichlorobenzene (hereinafter referred to as DCB) and 20.0 kg of NMP were added, and the mixture was heated at 265 ° C for 4 hours. The reaction product was washed 8 times with boiling water and then dried at 80 ° C for 24 hours using a vacuum dryer.
After drying for an hour, μ 0 2900 poise, N1.17, T g 91 ℃, T m 285 ℃
21.1 kg (yield 78%) of PPS having a high degree of polymerization was obtained. (PPS
-U).

(2)溶融成形 上記(1)で得られた組成物に,滑剤としてステアリ
ン酸カルシウム粉末を0.1wt%添加し,ミキサーで攪拌
し混合した後,40mmφのエクストルーダのホツパに投入
し,該ホツパ内の空気を窒素ガスで置換する。310℃で
溶融された該組成物をエクストルーダ先端にとり付けた
フイルタ(金属繊維材使用,最大孔径10μmφ)によ
つて過し,長さ250mm,間隙0.8mmの直線状リツプを有
するTダイから押し出し,表面温度を30℃に保つた金属
ドラム上にキヤストして冷却固化した。このとき,押し
出された融体がドラムに接触する点からドラム半径方向
に約5mm離れた位置に,ドラム軸に平行に,太さ0.1mmφ
のステンレス製のワイヤを張り,該ワイヤとドラムとの
間に,約5kvの直流電圧を印加しながらキヤスト(静電
印加キヤスト)した。得られたフイルムは,幅230mm,厚
さ800μm,密度1.3201の未延伸フイルムであつた(フイ
ルムUとする)。
(2) Melt molding To the composition obtained in (1) above, 0.1 wt% of calcium stearate powder was added as a lubricant, and after stirring and mixing with a mixer, the mixture was put into a hopper of an extruder having a diameter of 40 mm and the inside of the hopper The air is replaced with nitrogen gas. The composition melted at 310 ° C was passed through a filter (using metal fiber material, maximum pore size 10 μmφ) attached to the tip of the extruder, and extruded from a T-die having a linear lip with a length of 250 mm and a gap of 0.8 mm, It was cast on a metal drum whose surface temperature was kept at 30 ° C. to be cooled and solidified. At this time, at a position about 5 mm away from the point where the extruded melt comes into contact with the drum in the radial direction of the drum, in parallel with the drum axis and with a thickness of 0.1 mmφ
The stainless steel wire of No. 3 was stretched, and cast (electrostatic cast) while applying a DC voltage of about 5 kv between the wire and the drum. The obtained film was an unstretched film having a width of 230 mm, a thickness of 800 μm and a density of 1.3201 (referred to as a film U).

(3)二軸延伸,熱処理 フイルムUをロール群からなる縦延伸装置によつて,
フイルム長手方向に,延伸温度96℃,延伸速度30,000%
/minで4.1倍延伸した。
(3) Biaxial stretching, heat treatment The film U is set by a longitudinal stretching device composed of rolls,
Stretching temperature 96 ℃, stretching speed 30,000% in the longitudinal direction of the film
The film was stretched 4.1 times at a speed of / min.

続いて,該フイルムをテンターに供給し,延伸温度99
℃,延伸速度1000%/minで幅方向に3.75倍延伸した。こ
のとき延伸直前の光学的配向度は0.155であつた。さら
に同一テンター内の後続する熱処理室で,220℃で10秒間
熱処理した後,徐冷しながら幅方向に2%リラツクスし
た。続いてロール群からなる縦リラツクス装置によつ
て,フイルム長手方向に,200℃で2%リラツクスして,
厚さ50μmのPPS二軸延伸フイルムを得た(ベースフイ
ルムUとする)。
Then, the film was fed to a tenter and the stretching temperature was set to 99.
The film was stretched 3.75 times in the width direction at a stretching temperature of 1000% / min at ℃. At this time, the degree of optical orientation immediately before stretching was 0.155. In the subsequent heat treatment chamber in the same tenter, heat treatment was performed at 220 ° C for 10 seconds, and then 2% relax in the width direction while gradually cooling. Then, using a vertical relax device consisting of rolls, the film was subjected to 2% relax at 200 ° C in the longitudinal direction of the film,
A PPS biaxially stretched film having a thickness of 50 μm was obtained (referred to as base film U).

(4)ベースフイルムの特性 このようにして得られたベースフイルムの特性を測定
したところ,A×Cは, 最小値:7.2×10-6 (A=6.5×10-5,C=0.11) 最大値:8.5×10-6 (A=6.1×10-5,C=0.14) であり,本発明に用いるベースフイルムに必要な特性を
満たしていた。
(4) Characteristics of base film When the characteristics of the base film thus obtained were measured, A × C was found to have a minimum value of 7.2 × 10 -6 (A = 6.5 × 10 -5 , C = 0.11) The value was 8.5 × 10 −6 (A = 6.1 × 10 −5 , C = 0.14), which satisfied the properties required for the base film used in the present invention.

(5)磁性層の形成 まずベースフイルムの片面に,空気中でコロナ放電処
理を施し,表面張力を50dyne/cmまで高めた。続いて,Co
80重量%,Ni20重量%からなるターゲツトを作成し,こ
のターゲツトによつて,RFスパツタ法で,上記ベースフ
イルムのコロナ処理面に,約3000Åの厚さのCo−Ni系の
磁性薄膜を形成した。
(5) Formation of magnetic layer First, one surface of the base film was subjected to corona discharge treatment in air to increase the surface tension to 50 dyne / cm. Then, Co
A target consisting of 80% by weight and 20% by weight of Ni was prepared, and by this target, a Co-Ni magnetic thin film with a thickness of about 3000 Å was formed on the corona-treated surface of the base film by the RF sputtering method. .

このとき,ターゲツトとフイルムの間の距離は60mm,
プレート電圧2kV,プレート電流150mA,アルゴン圧1.2×1
0-1mmHgであつた。
At this time, the distance between the target and the film is 60mm,
Plate voltage 2kV, Plate current 150mA, Argon pressure 1.2 × 1
It was 0 -1 mmHg.

次いでこれを,5.25インチミニフロツピーデイスク規
格の外径を有する円盤に打ち抜き,さらに同規格のセン
トラルホールを打ち抜いて磁気デイスクを作成した(デ
イスクUとする)。
Next, this was punched into a disk having an outer diameter of the 5.25-inch mini Flotpie disk standard, and a central hole of the same standard was further punched to create a magnetic disk (referred to as disk U).

一方,比較のため,厚さ50μmのポリエチレンテレフ
タレートフイルム上に上記と同一条件で約3000ÅのCo−
Ni磁性層を形成し,これも同様にミニフロツピーデイス
クサイズの磁気デイスクとした(デイスクVとする)。
On the other hand, for comparison, on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm, under the same conditions as above, about 3000 Å of Co-
A Ni magnetic layer was formed, and this was also used as a mini-floppy disk size magnetic disk (referred to as disk V).

(6)評価 第1表に,作成したデイスクを市販のミニフロツピー
デイスクのジヤケツトに挿入して評価したときの結果を
示す。
(6) Evaluation Table 1 shows the results when the prepared disk was inserted into a commercially available mini floppy diskette and evaluated.

第1表から,本発明の磁気デイスクは,湿度が変化し
たり,高温高湿にさらされた場合の再生特性に優れ,高
トラツク密度記録に適していることがわかる。
It can be seen from Table 1 that the magnetic disk of the present invention has excellent reproduction characteristics when the humidity changes and is exposed to high temperature and high humidity, and is suitable for high track density recording.

実施例2 (1)PPSポリマの準備 実施例1と同様にして,μ03500ポイズ,N1.25,Tg91
℃,Tm285℃を有する高重合度PPSを得た(PPS−Wとす
る)。
Example 2 (1) Preparation of PPS Polymer In the same manner as in Example 1, μ 0 3500 poise, N1.25, T g 91
A high polymerization degree PPS having a temperature of ℃ and T m of 285 ℃ was obtained (referred to as PPS-W).

(2)溶融成形 実施例1と同様にして,幅240mm,厚さ1200μmの未延
伸フイルムを得た(フイルム−Wとする)。
(2) Melt molding In the same manner as in Example 1, an unstretched film having a width of 240 mm and a thickness of 1200 μm was obtained (referred to as film-W).

(3)二軸延伸,熱処理 実施例1の(3)と同様にして,縦横の延伸倍率,熱
処理温度,リラツクス率を調節して,120℃における熱膨
張係数および熱収の異なる5種類の二軸延伸PPSフイル
ム(厚さ約75μm)を得た(ベースフイルムW−1〜W
−5とする)。
(3) Biaxial stretching, heat treatment In the same manner as in (3) of Example 1, the longitudinal and transverse stretching ratios, heat treatment temperatures, and relax rates were adjusted to obtain five types of two types of thermal expansion coefficients and heat fluxes at 120 ° C. Axial stretched PPS film (thickness: about 75 μm) was obtained (base film W-1 to W).
-5).

(4)ベースフイルムの特性 得られたベースフイルムの特性を,第2表に示す。(4) Characteristics of base film Table 2 shows the characteristics of the obtained base film.

(5)フロツピーデイスクの作成 実施例1と全く同様にして作成した(デイスクW−1
〜W−5とする)。
(5) Preparation of Floppy Disk A disk was prepared in exactly the same manner as in Example 1 (disk W-1).
~ W-5).

(6)評価結果 第2表に作成したデイスクの評価結果を示す。(6) Evaluation results Table 2 shows the evaluation results of the prepared disks.

この結果から,同じくPPS二軸延伸フイルムであつて
も,本発明品は,カールが小さく,安定した記録が期待
できるのに対し,ベースフイルムの熱膨張係数および熱
収が本発明の範囲外のものでは,カールが大きく,記録
が不安定になることがわかる。
From this result, even with the PPS biaxially stretched film, the product of the present invention has a small curl and stable recording can be expected, while the thermal expansion coefficient and heat yield of the base film are out of the range of the present invention. It can be seen that in the case of the object, the curl is large and the recording becomes unstable.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】構造式 を繰り返し単位の90モル%以上含む二軸配向ポリpフエ
ニレンスルフイドフイルムをベースフイルムの主構成層
とし,該ベースフイルムの少なくとも片面に強磁性層を
有する磁気記録媒体において,該ベースフイルムの特性
が面内のすべての方向に関し下記の式を満足するフレキ
シブルな磁気記録媒体。 2×10-7A×C5×10-5 ここでA:120℃における熱膨張係数(℃-1) C:120℃における熱収縮率(%)
1. Structural formula In a magnetic recording medium having a biaxially oriented poly (p-phenylene sulfide film) containing 90 mol% or more of repeating units as a main constituent layer of the base film and having a ferromagnetic layer on at least one surface of the base film. A flexible magnetic recording medium whose characteristics satisfy the following expressions in all in-plane directions. 2 × 10 -7 A × C 5 × 10 -5 where A: thermal expansion coefficient at 120 ° C (° C -1 ) C: thermal shrinkage at 120 ° C (%)
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