JP2525170B2 - Method for producing 2-oxaisocephem derivative - Google Patents

Method for producing 2-oxaisocephem derivative

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JP2525170B2
JP2525170B2 JP62053871A JP5387187A JP2525170B2 JP 2525170 B2 JP2525170 B2 JP 2525170B2 JP 62053871 A JP62053871 A JP 62053871A JP 5387187 A JP5387187 A JP 5387187A JP 2525170 B2 JP2525170 B2 JP 2525170B2
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は2−オキサイソセフェム誘導体の製造方法に
関する。さらに詳しくは、本発明は、2−オキサイソセ
フェム系抗菌剤を製造する際の合成中間体として有用な
2−オキサイソセフェム誘導体の製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a 2-oxaisosephem derivative. More specifically, the present invention relates to a method for producing a 2-oxaisocephem derivative useful as a synthetic intermediate for producing a 2-oxaisocephem antibacterial agent.

〈発明の開示〉 2−オキサイソセフェム系抗菌剤は強い抗菌作用を有
しており、例えば、特開昭57-192387号公報等に記載の
化合物が知られている。この2−オキサイソセフェム系
抗菌剤の基本骨格である2−オキサイソセフェム骨格の
合成中間体であるアゼチジノン誘導体としては、例え
ば、特開昭51-41385号公報、Can.J.Chem.56 pp1335(19
87)等に記載の化合物が知られているが、本発明は文献
未記載の新規化合物であるアゼチジノン誘導体を用い
て、2−オキサイソセフェム系抗菌剤を製造する際の合
成中間体として有用な2−オキサイソセフェム誘導体の
新規な製造方法を提供するものである。
<Disclosure of the Invention> The 2-oxaisocephem antibacterial agent has a strong antibacterial action, and for example, compounds described in JP-A-57-192387 and the like are known. Examples of the azetidinone derivative that is a synthetic intermediate of the 2-oxaisocephem skeleton, which is the basic skeleton of the 2-oxaisocephem antibacterial agent, include, for example, JP-A-51-41385 and Can. J. Chem. 56 pp1335. (19
87) and the like are known, but the present invention is useful as a synthetic intermediate in the production of a 2-oxaisocephem antibacterial agent using an azetidinone derivative which is a novel compound not described in the literature. The present invention provides a novel method for producing a 2-oxaisocephem derivative.

すなわち、本発明の2−オキサイソセフェム誘導体の
製造方法は、一般式 [式中、R1はハロゲン原子、ハロゲン原子で置換され
ていてもよい低級アルカンスルホニルオキシ基または低
級アルキル基、ハロゲン原子もしくはニトロ基で置換さ
れていてもよいアリールスルホニルオキシ基、X1はハ
ロゲン原子、R4はエステル化されたカルボキシ基、R3
はアジド基、フタルイミド基または基: −NH−R5 (式中、R5はアミノ保護基を示す。)] で表されるアゼチジノン誘導体に、 一般式 HS−R6 (4) (式中、R6は窒素原子および硫黄原子からなる群より
選ばれたヘテロ原子を1〜4個有する不飽和ヘテロ環基
を示し、該ヘテロ環基は、低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、
フェニル基を1〜3個有するフェニル低級アルコキシカ
ルボニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、
ヒドロキシ低級アルキル基、水酸基、オキソ基、アミノ
基、カルバモイル基、シアノ基、低級アルキル置換アミ
ノ低級アルキル基、ピペリジニル低級アルキル基、ピロ
リジニル低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基
およびシアノ低級アルキル基からなる群より選ばれた置
換基を1〜3個または4−低級アルキル−1−ピペラジ
ニル低級アルキル基を有していてもよい。) で表されるチオール化合物を塩基性化合物の存在下に反
応させて、 一般式 (式中、R3、R4およびR6は前記と同じである。) で表される2−オキサイソセフェム誘導体を得ることを
特徴とする。
That is, the method for producing a 2-oxaisocephem derivative of the present invention has the general formula [Wherein R 1 is a halogen atom, a lower alkanesulfonyloxy group or a lower alkyl group optionally substituted with a halogen atom, an arylsulfonyloxy group optionally substituted with a halogen atom or a nitro group, and X 1 is a halogen Atom, R 4 is an esterified carboxy group, R 3
Is an azido group, a phthalimido group or a group: —NH—R 5 (wherein, R 5 represents an amino protecting group)], and an azetidinone derivative represented by the general formula HS-R 6 (4) (wherein R 6 represents an unsaturated heterocyclic group having 1 to 4 heteroatoms selected from the group consisting of a nitrogen atom and a sulfur atom, and the heterocyclic group is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkoxycarbonyl group, Carboxy group,
A phenyl lower alkoxycarbonyl lower alkyl group having 1 to 3 phenyl groups, a carboxy lower alkyl group,
From the group consisting of hydroxy lower alkyl group, hydroxyl group, oxo group, amino group, carbamoyl group, cyano group, lower alkyl-substituted amino lower alkyl group, piperidinyl lower alkyl group, pyrrolidinyl lower alkyl group, carbamoyl lower alkyl group and cyano lower alkyl group. It may have 1 to 3 selected substituents or a 4-lower alkyl-1-piperazinyl lower alkyl group. ) The thiol compound represented by (In the formula, R 3 , R 4 and R 6 are the same as the above.) A 2-oxaisocephem derivative represented by the following formula is obtained.

また、本発明の他の製造方法は、一般式 (式中、R1、R3、R4およびX1は前記と同じであ
る。) で表されるアゼチジノン誘導体に塩基性化合物を反応さ
せて、 一般式 (式中、R3、R4およびX1は前記と同じである。) で表される化合物を得る工程と、 得られた前記一般式(3)で表される化合物に、 一般式 HS−R6 (4) (式中、R6は前記と同じである。) で表されるチオール化合物を塩基性化合物の存在下に反
応させて、 一般式 (式中、R3、R4およびR6は前記と同じである。) で表される2−オキサイソセフェム誘導体を得る工程と
を含むことを特徴とする。
In addition, another manufacturing method of the present invention is a general formula (In the formula, R 1 , R 3 , R 4 and X 1 are the same as the above.) The basic compound is reacted with the azetidinone derivative represented by the general formula (In the formula, R 3 , R 4 and X 1 are the same as the above.) The step of obtaining the compound represented by the formula (3) and the compound represented by the general formula HS- R 6 (4) (In the formula, R 6 is the same as above.) The thiol compound represented by the formula is reacted in the presence of a basic compound to give a compound represented by the general formula: (In the formula, R 3 , R 4 and R 6 are the same as the above.), And a step of obtaining a 2-oxaisocephem derivative represented by the following formula.

なお、上記一般式(1−b)で表される化合物は、一
般式 (式中、R1、R3およびR4は前記と同じ、X2はハロゲ
ン原子である。) で表される化合物を酸性化合物の存在下で加熱処理して
得ることができる。
The compound represented by the general formula (1-b) has the general formula (In the formula, R 1 , R 3 and R 4 are the same as the above, and X 2 is a halogen atom.) The compound represented by the formula can be obtained by heat treatment in the presence of an acidic compound.

また、上記一般式(1−b)で表される化合物におい
て、基: は、ケト−エノール互変異性をとりかえることが広く知
られており、一例を挙げれば下記式で示される。
In the compound represented by the general formula (1-b), the group: Is widely known to replace keto-enol tautomerism, and is represented by the following formula, for example.

本明細書においては、このようなケト−エノール互変
異体性を、便宜上、前記一般式(1−b)で表すものと
する。
In the present specification, such keto-enol tautomerism is represented by the general formula (1-b) for convenience.

本発明の製造方法は、上記一般式(1−b)で示され
るアゼチジノン誘導体を出発原料として、簡便な方法に
て収率よく一般式(5)で示される2−オキサイソセフ
ェム骨格に変換でき、さらに得られた2−オキサイソセ
フェム骨格は7位および/または3位を適宜修飾するこ
とにおり、有用な2−オキサイソセフェム系抗菌剤に導
くことができる。
In the production method of the present invention, the azetidinone derivative represented by the general formula (1-b) can be used as a starting material to convert the 2-oxaisocephem skeleton represented by the general formula (5) in good yield by a simple method. Further, the 2-oxaisocephem skeleton thus obtained is to be modified at the 7-position and / or the 3-position as appropriate, which can lead to a useful 2-oxaisocephem antibacterial agent.

上記の各一般式において示される各基は、より具体的
にはそれぞれ次のとおりである。
More specifically, each group shown in each of the above general formulas is as follows.

ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素およびフ
ッ素を例示できる。
Examples of the halogen atom include chlorine, bromine, iodine and fluorine.

ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルカンス
ルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオキシ、
エタンスルホニルオキシ、プロパンスルホニルオキシ、
トリフルオロメタンスルホニルオキシ等が挙げられる。
As the lower alkanesulfonyloxy group which may be substituted with a halogen atom, methanesulfonyloxy,
Ethanesulfonyloxy, propanesulfonyloxy,
Trifluoromethanesulfonyloxy etc. are mentioned.

低級アルキル基、ハロゲン原子もしくはニトロ基で置
換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基として
は、ベンゼンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオ
キシ、p−クロロベンゼンスルホニルオキシ、p−ニト
ロベンゼンスルホニルオキシ等が挙げられる。エステル
化されたカルボキシ基におけるエステル残基としては、
通常のエステル残基、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数1〜6のアルキル
基;ベンジル、ベンズヒドリル、α−フェネチル、β−
フェネチル、α,β−ジフェニルエチル、3−フェニル
プロピル、4−フェニルブチル、5−フェニルペンチ
ル、6−フェニルヘキシル等のアルキル部分の炭素数が
1〜6の(モノまたはジ)フェニル低級アルキル基等が
例示できる。
Examples of the arylsulfonyloxy group which may be substituted with a lower alkyl group, a halogen atom or a nitro group include benzenesulfonyloxy, toluenesulfonyloxy, p-chlorobenzenesulfonyloxy and p-nitrobenzenesulfonyloxy. As the ester residue in the esterified carboxy group,
Ordinary ester residues such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl, hexyl, and other alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms; benzyl, benzhydryl, α-phenethyl, β-
Phenethyl, α, β-diphenylethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl, 5-phenylpentyl, 6-phenylhexyl, etc. (mono or di) phenyl lower alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl moiety Can be illustrated.

前記のエステル残基の(モノまたはジ)フェニル低級
アルキル基におけるフェニル部分には、置換基として、
例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子
等のハロゲン原子;メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル等の炭素数1〜6の低級アルキル基;メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、第三級ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ
等の炭素数1〜6の低級アルコキシ基;ニトロ基を有し
ていてもよい。
The phenyl moiety in the (mono or di) phenyl lower alkyl group of the ester residue is, as a substituent,
For example, a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom and an iodine atom; a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl and hexyl; It may have a lower alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, tertiary butoxy, pentyloxy, hexyloxy; and a nitro group.

アミノ保護基としては、例えば、ベンジル、α−フェ
ネチル、β−フェネチル、3−フェニルプロピル、ベン
ズヒドリル、トリチル等のフェニル基を1〜3個有し、
かつアルキル部分の炭素数が1〜6のフェニル(低級)
アルキル基;ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、ヘキ
サノイル等の炭素数1〜6の低級アルカノイル基;モノ
クロロアセチル、モノフルオロアセチル、モノブロモア
セチル、モノヨードアセチル、ジクロロアセチル、トリ
クロロアセチル、トリブロモアセチル、3−クロロプロ
ピオニル、2,3−ジクロロプロピオニル、3,3,3−トリク
ロロプロピオニル、4−クロロブチリル、5−クロロペ
ンタノイル、6−クロロヘキサノイル、3−フルオロプ
ロピオニル、4−フルオロブチリル等の、ハロゲン原子
が1〜3個置換した炭素数2〜6の低級アルカノイル
基;1−フェニルエトキシカルボニル、2−フェニルエト
キシカルボニル、3−フェニルプロポキシカルボニル、
4−フェニルブトキシカルボニル、5−フェニルペンチ
ルオキシカルボニル、6−フェニルヘキシルオキシカル
ボニル等のアルコキシ部分の炭素数が1〜6のフェニル
(低級)アルコキシカルボニル基;メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、第3級ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニル等のアルコキシ部分の炭素数が1〜
6の低級アルコキシカルボニル基;フェニルアセチル、
3−フェニルプロピオニル、4−フェニルブチリル、5
−フェニルペンタノイル、6−フェニルヘキサノイル、
3−フェニル−2−メチルプロピオニル、4−ニトロフ
ェニルアセチル、4−メチルフェニルアセチル、4−ク
ロロフェニルアセチル、3−ニトロアセチル、3,4−ジ
メチルフェニルアセチル、2−メチルフェニルアセチル
等の、フェニル環上の置換基としてニトロ、低級アルキ
ル基およびハロゲン原子からなる群より選ばれた置換基
を1〜3個有することのあるフェニル(低級)アルカノ
イル基などを例示できる。
The amino protecting group has, for example, 1 to 3 phenyl groups such as benzyl, α-phenethyl, β-phenethyl, 3-phenylpropyl, benzhydryl and trityl,
And phenyl having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl part (lower)
Alkyl group; lower alkanoyl group having 1 to 6 carbon atoms such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl, pivaloyl, hexanoyl; monochloroacetyl, monofluoroacetyl, monobromoacetyl, monoiodoacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl. , Tribromoacetyl, 3-chloropropionyl, 2,3-dichloropropionyl, 3,3,3-trichloropropionyl, 4-chlorobutyryl, 5-chloropentanoyl, 6-chlorohexanoyl, 3-fluoropropionyl, 4-fluoro Lower alkanoyl group having 2 to 6 carbon atoms, such as butyryl, substituted with 1 to 3 halogen atoms; 1-phenylethoxycarbonyl, 2-phenylethoxycarbonyl, 3-phenylpropoxycarbonyl,
4-phenylbutoxycarbonyl, 5-phenylpentyloxycarbonyl, 6-phenylhexyloxycarbonyl, and other phenyl (lower) alkoxycarbonyl groups having 1 to 6 carbon atoms in the alkoxy moiety; methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxy. Carbon number of the alkoxy moiety such as carbonyl, butoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl and hexyloxycarbonyl is 1 to
A lower alkoxycarbonyl group of 6; phenylacetyl,
3-phenylpropionyl, 4-phenylbutyryl, 5
-Phenylpentanoyl, 6-phenylhexanoyl,
On phenyl ring such as 3-phenyl-2-methylpropionyl, 4-nitrophenylacetyl, 4-methylphenylacetyl, 4-chlorophenylacetyl, 3-nitroacetyl, 3,4-dimethylphenylacetyl, 2-methylphenylacetyl Examples of the substituent include a phenyl (lower) alkanoyl group which may have 1 to 3 substituents selected from the group consisting of nitro, lower alkyl groups and halogen atoms.

前記アゼチジノン誘導体(1−b)は、種々の方法で
製造することができるが、例えば、下記反応式−1に示
す方法で得られる。
The azetidinone derivative (1-b) can be produced by various methods, for example, it can be obtained by the method shown in the following reaction formula-1.

[式中、R1、R3、R4、X1およびX2は前記と同じで
ある。] 上記反応式において、一般式(2)の化合物から一般
式(1−a)の化合物を製造する反応(a)は、一般式
(2)の化合物に、溶媒の存在下または非存在下に、ハ
ロゲン化剤を反応させることにより行われる。使用され
るハロゲン化剤としては、塩素、臭素、ヨウ素等のハロ
ゲン、N−クロロスクシンイミド、N−ヨードスクシン
イミド、N−ブロモスクシンイミド等のN−ハロゲン化
スクシンイミド、スルフリルクロリド、スルフリルブロ
ミド等のスルフリルハライド、ピリジン、ハイドロブロ
ミド パーブロミド、ピリジン ハイドロクロリド パ
ークロリド等のピリジン ハイドロハライド パーハラ
イド、次亜塩素酸、t−ブチルハイポクロリド、クロラ
ミンB、クロラミンT等が挙げられる。また使用される
溶媒としては、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル
類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコ
ール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
等の非プロトン性極性溶媒、アセトニトリル等、および
これらの混合溶媒が挙げられる。該反応は、好ましくは
塩基性化合物の存在下に行われ、塩基性化合物として
は、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられる。
[In the formula, R 1 , R 3 , R 4 , X 1 and X 2 are the same as defined above. In the above reaction scheme, the reaction (a) for producing the compound of the general formula (1-a) from the compound of the general formula (2) is performed by reacting the compound of the general formula (2) in the presence or absence of a solvent. , A halogenating agent is reacted. Examples of the halogenating agent used include halogen such as chlorine, bromine and iodine, N-chlorosuccinimide, N-iodosuccinimide, N-halogenated succinimide such as N-bromosuccinimide, sulfuryl chloride and sulfuryl halide such as sulfuryl bromide, Pyridine, hydrobromide perbromide, pyridine hydrochloride, pyridine hydrohalide perhalide such as perchloride, hypochlorous acid, t-butyl hypochloride, chloramine B, chloramine T and the like. As the solvent used, methylene chloride, 1,2-dichloroethane,
Halogenated hydrocarbons such as chloroform, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and diethyl ether, alcohols such as methanol, ethanol and propanol, aprotic polar solvents such as dimethylformamide and dimethylsulfoxide, acetonitrile and the like, and mixtures thereof. Solvents may be mentioned. The reaction is preferably carried out in the presence of a basic compound, and examples of the basic compound include sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like.

一般式(2)の化合物に対するハロゲン化剤の使用割
合は、少なくとも等モル量、好ましく1〜2倍モル量用
いるのがよい。また、ハロゲン化剤に対する塩基性化合
物の使用割合は、少なくとも等モル量、好ましくは1〜
3倍モル量用いるのがよい。該反応は、通常0〜50℃、
好ましくは室温にて行われ、一般に30分〜10時間程度で
終了する。
The use ratio of the halogenating agent to the compound of the general formula (2) is at least an equimolar amount, preferably 1 to 2 times the molar amount. The ratio of the basic compound to the halogenating agent used is at least an equimolar amount, preferably 1 to
It is preferable to use a 3-fold molar amount. The reaction is usually 0 to 50 ℃,
It is preferably carried out at room temperature and is generally completed in about 30 minutes to 10 hours.

一般式(2)の化合物から一般式(1−b)の化合物
を製造する反応(b)は、一般式(2)の化合物に、溶
媒の存在下または非存在下に、ハロゲン化剤を加熱条件
下で反応させることにより行われる。この反応に使用さ
れるハロゲン化剤および溶媒としては、前記反応工程
(a)で例示されたハロゲン化剤および溶媒が挙げられ
る。また、この反応は塩基性化合物の存在下に行なうの
が好ましく、塩基性化合物としては、前記反応工程
(a)で挙げられた塩基性化合物を用いることができ
る。該反応は、通常50〜100℃、好ましくは60〜80℃に
て行われ、一般的に1〜10時間程度で終了する。
The reaction (b) for producing the compound of the general formula (1-b) from the compound of the general formula (2) includes heating the halogenating agent to the compound of the general formula (2) in the presence or absence of a solvent. It is carried out by reacting under the conditions. Examples of the halogenating agent and solvent used in this reaction include the halogenating agent and solvent exemplified in the reaction step (a). Further, this reaction is preferably carried out in the presence of a basic compound, and as the basic compound, the basic compound mentioned in the reaction step (a) can be used. The reaction is usually carried out at 50 to 100 ° C, preferably 60 to 80 ° C, and is generally completed in about 1 to 10 hours.

一般式(1−a)の化合物から一般式(1−b)の化
合物を製造する反応(c)は、酸性化合物の存在下、一
般式(1−a)の化合物を、加熱処理することにより行
われる。この反応に使用される酸性化合物としては、例
えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸等のハロゲン化
水素酸、硫酸、リン酸等の鉱酸、p−トルエンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸
を例示することができる。ハロゲン化水素酸を使用する
場合には、一般式(1−a)の化合物のX2と同種のハ
ロゲンからなるハロゲン化水素酸を用いるのが好まし
い。該反応は溶媒の存在下に行なうのが好ましく、溶媒
としては前記反応工程(a)で挙げられた溶媒を用いる
ことができる。また、反応は、必要に応じて、塩基性化
合物を反応系に添加してもよく、この塩基性化合物とし
ては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基、ピリジン、トリ
エチルアミン、N−メチルモルホリン等の有機塩基等が
挙げられる。一般式(1−a)の化合物に対する酸性化
合物の使用割合は、少なくとも等モル量、好ましくは1
〜2倍モル量程度用いられる。該反応は、通常50〜100
℃、好ましくは60〜80℃にて行われ、一般に30分〜6時
間程度で終了する。
The reaction (c) for producing the compound of general formula (1-b) from the compound of general formula (1-a) is carried out by heating the compound of general formula (1-a) in the presence of an acidic compound. Done. Examples of the acidic compound used in this reaction include hydrohalic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and hydroiodic acid, mineral acids such as sulfuric acid and phosphoric acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and the like. An organic acid such as trifluoroacetic acid can be exemplified. When a hydrohalic acid is used, it is preferable to use a hydrohalic acid composed of the same halogen as X 2 of the compound of formula (1-a). The reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, and as the solvent, the solvent mentioned in the reaction step (a) can be used. In the reaction, if necessary, a basic compound may be added to the reaction system. Examples of the basic compound include sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, an inorganic base such as potassium hydrogencarbonate, pyridine, Examples include organic bases such as triethylamine and N-methylmorpholine. The ratio of the acidic compound used to the compound of the general formula (1-a) is at least an equimolar amount, preferably 1
Approximately 2 times the molar amount is used. The reaction is usually 50-100
C., preferably 60 to 80.degree. C., and is generally completed in about 30 minutes to 6 hours.

上記反応式−1で得られた一般式(1−b)の化合物
は、下記反応式−2で示される工程により、容易に2−
オキサ−イソセフェム誘導体に導くことができる。
The compound of the general formula (1-b) obtained in the above Reaction scheme-1 can be easily converted into 2- by the process shown in the following Reaction scheme-2.
It can lead to oxa-isocephem derivatives.

(式中、R1、R3、R4、R6およびX1は前記と同じ
である。) 一般式(1−b)の化合物から一般式(3)の化合物
を製造する反応(a)は、溶媒の存在下または非存在下
に、一般式(1−b)の化合物に塩基性化合物を反応さ
せることにより行なわれる。この反応で使用される溶媒
としては、例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等の
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶
媒、アセトニトリルなどが挙げられる。また、使用され
る塩基性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸
塩または炭酸水素塩などの無機塩基、トリエチルアミ
ン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、1,5−ジアザビ
シクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)、1,4−ジアザビシ
クロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−ジアザビシク
ロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)等の有機塩基が挙げ
られ、有機塩基が好ましい。一般式(1−b)で表され
る化合物に対する上記の塩基性化合物の使用割合は、少
なくとも等モル量、通常はやや過剰量用いられる。該反
応は、0〜100℃、好ましくは20〜80℃程度で行なわ
れ、1〜20時間、好ましくは1〜10時間程度で終了す
る。
(In the formula, R 1 , R 3 , R 4 , R 6 and X 1 are the same as above.) Reaction (a) for producing a compound of the general formula (3) from a compound of the general formula (1-b) Is carried out by reacting the compound of general formula (1-b) with a basic compound in the presence or absence of a solvent. Examples of the solvent used in this reaction include aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, ethers such as ethyl ether and tetrahydrofuran, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane, and methanol and ethanol. Alcohols, acetone, ketones such as methyl ethyl ketone, dimethylformamide, dimethylsulfoxide,
Aprotic polar solvents such as hexamethylphosphoric triamide, acetonitrile and the like can be mentioned. As the basic compound used, sodium hydroxide, an alkali metal hydroxide such as potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, an inorganic base such as an alkali metal carbonate or hydrogen carbonate such as sodium hydrogen carbonate, Triethylamine, pyridine, N, N-dimethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4] .0] Organic bases such as undecene-7 (DBU) are preferred, with organic bases being preferred. The basic compound is used in an amount of at least an equimolar amount, usually a slight excess amount, with respect to the compound represented by the general formula (1-b). The reaction is carried out at 0 to 100 ° C, preferably about 20 to 80 ° C, and is completed in 1 to 20 hours, preferably 1 to 10 hours.

一般式(3)の化合物から一般式(5)の2−オキサ
イソセフェム誘導体を製造する反応(b)は、適当な不
活性溶媒中、一般式(3)の化合物と一般式(4)のチ
オール化合物とを塩基性化合物の存在下に反応させるこ
とにより行われる。上記の反応で用いられる塩基性化合
物としては、トリエチルアミン、ピリジン等の第3級ア
ミン類などの有機塩基性化合物、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどの無機塩基性化合物を例示できる。不活性
溶媒としては、この反応に悪影響を与えない溶媒であれ
ば、いずれの溶媒も使用でき、例えば、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピペリ
ジン、トリエチルアミン等のアミン類、ヘキサン、ヘプ
タン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール類、ジメチルホルムアミド
(DMF)、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)、ジ
メチルスルホキシド(DMSO)等の非プロトン性極性溶
媒、二硫化炭素等が例示できる。
The reaction (b) for producing the 2-oxaisosephem derivative of the general formula (5) from the compound of the general formula (3) is carried out in a suitable inert solvent with the compound of the general formula (3) and the general formula (4). It is carried out by reacting a thiol compound in the presence of a basic compound. Examples of the basic compound used in the above reaction include organic basic compounds such as tertiary amines such as triethylamine and pyridine, and inorganic basic compounds such as sodium carbonate and potassium carbonate. As the inert solvent, any solvent can be used as long as it does not adversely affect this reaction, for example, diethyl ether, tetrahydrofuran, ethers such as dioxane,
Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, amines such as pyridine, piperidine and triethylamine, and aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane. , Methanol, ethanol,
Examples thereof include alcohols such as propanol, aprotic polar solvents such as dimethylformamide (DMF), hexamethylphosphoric triamide (HMPA) and dimethylsulfoxide (DMSO), carbon disulfide and the like.

一般式(3)の化合物に対する一般式(4)の化合物
の使用割合は、少なくとも等モル量、好ましくは1〜2
倍モル量とするのがよく、一般式(4)の化合物に対す
る塩基性化合物の使用割合は、少なくとも等モル量、好
ましくは等モル〜2倍モル量とするのがよい。反応温度
は−10℃〜100℃、好ましくは0〜50℃で行われ、一般
に30分〜10時間程度で終了する。
The ratio of the compound of the general formula (4) to the compound of the general formula (3) is at least equimolar amount, preferably 1 to 2
The molar ratio is preferably double, and the ratio of the basic compound to the compound of the general formula (4) is at least equimolar, preferably equimolar to 2-fold molar. The reaction temperature is -10 ° C to 100 ° C, preferably 0 to 50 ° C, and is generally completed in about 30 minutes to 10 hours.

一般式(1−b)の化合物から一般式(5)の2−オ
キサイソセフェム誘導体を製造する反応(c)は、適当
な不活性溶媒中、一般式(1−b)の化合物と一般式
(4)で表されるチオール化合物とを塩基性化合物の存
在下に反応させることにより行われる。この反応で使用
される不活性溶媒、塩基性化合物およびチオール化合物
(4)としては、前記反応工程(a)および(b)で例
示されたのが挙げられる。また、一般式(1−b)の化
合物に対する塩基性化合物およびチオール化合物(4)
の使用割合も前記反応工程(a)および(b)の説明を
参照することができる。該反応は、通常0℃〜100℃、
好ましくは室温〜80℃にて行われ、一般に30分〜10時間
程度で終了する。
The reaction (c) for producing the 2-oxaisosephem derivative of the general formula (5) from the compound of the general formula (1-b) is carried out by reacting the compound of the general formula (1-b) with the general formula (1-b) in a suitable inert solvent. It is carried out by reacting the thiol compound represented by (4) in the presence of a basic compound. Examples of the inert solvent, the basic compound and the thiol compound (4) used in this reaction include those exemplified in the above reaction steps (a) and (b). Further, a basic compound and a thiol compound (4) for the compound of the general formula (1-b)
Regarding the usage ratio of the above, the description of the reaction steps (a) and (b) can be referred to. The reaction is usually 0 ° C to 100 ° C,
It is preferably carried out at room temperature to 80 ° C. and is generally completed in about 30 minutes to 10 hours.

{R3、R4、R6は前記と同じ、R7は基: 〔式中、R8は水素原子、アミノ基、低級アルカノイル
アミノ基、ハロゲン置換低級アルカノイルアミノ基、フ
ェニル基を1〜3個有するフェニル低級アルキルアミノ
基、フェニル低級アルコキシカルボニルアミノ基または
低級アルコキシカルボニルアミノ基;R9は水素原子、低
級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、
シクロアルキル基、テトラヒドロピラニル基または基: −A−R10 (式中、Aは低級アルキレン基、R10はシアノ基、カル
ボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン置換
低級アルキル基、低級アルキルチオ基、チアゾリル基、
イミダゾリル基、シクロアルキル基、フェニル基、テト
ラヒドロフラニル基、オキサゾリル基、4−低級アルキ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジニルカルボニル基、
トリチル基を有することあるピラゾリル基、または低級
アルキル基を有することあるピリジル基を示す)]をそ
れぞれ示す。} 一般式(5)の化合物から一般式(6)の化合物を製
造する反応(d)は、一般式(5)の化合物を、その置
換基であるR3の種類に応じて、還元反応、加水分解反
応またはヒドラジン分解反応に付すことにより行われ
る。
{R 3 , R 4 and R 6 are the same as above, R 7 is a group: [Wherein R 8 is a hydrogen atom, an amino group, a lower alkanoylamino group, a halogen-substituted lower alkanoylamino group, a phenyl lower alkylamino group having 1 to 3 phenyl groups, a phenyl lower alkoxycarbonylamino group or a lower alkoxycarbonylamino group] Group; R 9 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group,
Cycloalkyl group, a tetrahydropyranyl group or a group: -A-R 10 (wherein, A represents a lower alkylene group, R 10 is a cyano group, a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, a halogen-substituted lower alkyl group, a lower alkylthio group, Thiazolyl group,
Imidazolyl group, cycloalkyl group, phenyl group, tetrahydrofuranyl group, oxazolyl group, 4-lower alkyl-2,3-dioxo-1-piperazinylcarbonyl group,
A pyrazolyl group which may have a trityl group or a pyridyl group which may have a lower alkyl group)]. } The reaction (d) for producing the compound of the general formula (6) from the compound of the general formula (5) is a reduction reaction of the compound of the general formula (5) depending on the kind of R 3 which is the substituent, It is carried out by subjecting it to a hydrolysis reaction or a hydrazine decomposition reaction.

上記の反応工程において、基R3がアジド基の場合、
一般式(6)の化合物は一般式(5)の化合物を無溶媒
または適当な不活性溶媒の存在下に還元剤を作用させ
て、一般式(6)のアミン化合物を得ることができる。
In the above reaction step, when the group R 3 is an azido group,
The compound of general formula (6) can be obtained by reacting the compound of general formula (5) with a reducing agent in the absence of solvent or in the presence of a suitable inert solvent to obtain the amine compound of general formula (6).

この反応において用いられる溶媒としては、例えば、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
トリエチルアミン、ピリジン等のアミン類を例示でき
る。
As the solvent used in this reaction, for example,
Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane;
Examples include amines such as triethylamine and pyridine.

還元剤としては、硫化水素等が例示できる。硫化水素
等を使用する場合には、トリエチルアミン、ピリジン等
のアミン類を添加するとよい。
Examples of the reducing agent include hydrogen sulfide. When hydrogen sulfide or the like is used, amines such as triethylamine and pyridine may be added.

一般式(5)の化合物に対する還元剤の使用割合は等
モル〜100倍モル量、好ましくは3〜50倍モル量とする
のがよく、また該反応は通常−30℃〜50℃、好ましくは
−10℃〜10℃にて行なわれ、30分〜10時間程度で終了す
る。
The reducing agent may be used in an equimolar to 100-fold molar amount, preferably 3 to 50-fold molar amount relative to the compound of the general formula (5), and the reaction is usually -30 ° C to 50 ° C, preferably It is carried out at -10 ℃ to 10 ℃ and finishes in about 30 minutes to 10 hours.

また、基R3が基:−NH−R5(式中、R5は前記と同
じ)の場合には、無溶媒または不活性溶媒中、一般式
(5)の化合物をR5のアミノ保護基基脱離反応に付す
ことにより一般式(6)のアミン化合物が得られる。該
反応は、一般式(5)の化合物に酸性化合物または塩基
性化合物を反応させる方法、一般式(5)の化合物を接
触還元反応に付す寸法などにより行なわれる。
When the group R 3 is a group: —NH—R 5 (wherein R 5 is the same as above), the compound of the general formula (5) is protected with an amino group of R 5 in a solvent-free or inert solvent. The amine compound of the general formula (6) is obtained by subjecting it to a radical elimination reaction. The reaction is carried out by a method of reacting the compound of general formula (5) with an acidic compound or a basic compound, the size of the compound of general formula (5) subjected to a catalytic reduction reaction, and the like.

上記反応に用いられる不活性溶媒としては、例えば、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルエーテル、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
アニソール等のエーテル類、ニトロメタン、ニトロベン
ゼン等のニトロ化合物、メタノール、エタノール等のア
ルコール類、酢酸エチル、酢酸メチル等の酢酸エステル
類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ピリジン、ピペリジン等のアミン類、ジメチルホル
ムアミド(DMF)、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMP
A)、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の非プロトン性
極性溶媒、二硫化炭素、水または水と上記の有機溶媒と
の混合溶媒などを例示できる。
Examples of the inert solvent used in the above reaction include:
Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, dimethyl ether,
Diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane,
Ethers such as anisole, nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene, alcohols such as methanol and ethanol, acetic acid esters such as ethyl acetate and methyl acetate, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, benzene and toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene, amines such as pyridine and piperidine, dimethylformamide (DMF), hexamethylphosphoric triamide (HMP
A), an aprotic polar solvent such as dimethylsulfoxide (DMSO), carbon disulfide, water, or a mixed solvent of water and the above organic solvent can be exemplified.

使用される酸性化合物としては、無水塩化アルミニウ
ム、塩化第2スズ、四塩化チタン、三塩化ホウ素、三フ
ッ化ホウ素−エチルエーテル錯体、塩化亜鉛等のルイス
酸、塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸、トリクロロ酢酸、ト
リフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、酢酸等の有機酸、
酸型イオン交換樹脂などの酸類が挙げられ、また塩基性
化合物としてはトリエチルアミン、トリブチルアミン等
のトリアルキルアミン、ピリジン、ピコリン、DBU、DB
N、DABCOなどの有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等の
無機塩基などの塩基類が例示できる。
Examples of the acidic compound used include anhydrous aluminum chloride, stannic chloride, titanium tetrachloride, boron trichloride, boron trifluoride-ethyl ether complex, Lewis acids such as zinc chloride, inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid and sulfuric acid. , Trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, acetic acid and other organic acids,
Acids such as acid type ion exchange resins can be mentioned, and basic compounds include trialkylamines such as triethylamine and tributylamine, pyridine, picoline, DBU, DB.
Organic bases such as N and DABCO, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate, etc. Examples thereof include inorganic bases and the like.

上記の反応を接触還元法で行なう場合、用いられる接
触還元触媒としては、例えば、プラチナ触媒(例えば、
酸化白金、白金黒、白金線、白金板、スポンジ状白金、
コロイド状白金等)、パラジウム触媒(例えば、パラジ
ウム黒、塩化パラジウム、酸化パラジウム、パラジウム
−炭素、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸
バリウム、スポンジ状パラジウム等)、ニッケル触媒
(例えば、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケ
ル等)、コバルト触媒(例えば、還元コバルト、ラネー
コバルト等)、鉄触媒(例えば、還元鉄、ラネー鉄
等)、銅触媒(例えば、還元銅、ラネー銅等)などを例
示できる。
When the above reaction is carried out by the catalytic reduction method, examples of the catalytic reduction catalyst used include platinum catalysts (for example,
Platinum oxide, platinum black, platinum wire, platinum plate, sponge-like platinum,
Colloidal platinum etc.), Palladium catalyst (eg palladium black, palladium chloride, palladium oxide, palladium-carbon, palladium-barium sulfate, palladium-barium carbonate, sponge palladium etc.), nickel catalyst (eg reduced nickel, nickel oxide) , Raney nickel, etc.), a cobalt catalyst (eg, reduced cobalt, Raney cobalt, etc.), an iron catalyst (eg, reduced iron, Raney iron, etc.), a copper catalyst (eg, reduced copper, Raney copper, etc.), and the like.

上記の反応で、酸性化合物または塩基性化合物を使用
する場合には、一般式(5)の化合物に対する酸性化合
物または塩基性化合物の使用割合は、1〜100倍モル
量、好ましくは1〜20倍モル量とするのがよい。また、
該反応は、−20℃〜80℃、好ましくは−10℃〜50℃の温
度条件下で行なわれ、30分〜48時間、好ましくは1〜24
時間程度で終了する。
When an acidic compound or a basic compound is used in the above reaction, the ratio of the acidic compound or the basic compound to the compound of the general formula (5) is 1 to 100 times the molar amount, preferably 1 to 20 times. It is preferable to use a molar amount. Also,
The reaction is carried out under temperature conditions of -20 ° C to 80 ° C, preferably -10 ° C to 50 ° C, for 30 minutes to 48 hours, preferably 1 to 24 hours.
It will finish in about time.

また、接触還元法を適用する場合には、一般式(5)
の化合物に対する接触還元触媒の使用割合は、0.1〜10
倍モル量、好ましくは0.1〜1倍モル量とするのがよ
い。また、該反応は0〜200℃、好ましくは0〜100℃の
温度条件下で行なわれ、30分〜48時間、好ましくは30分
〜6時間程度で終了する。
When the catalytic reduction method is applied, the general formula (5)
The ratio of the catalytic reduction catalyst to the compound of
It is preferable that the molar amount is double, preferably 0.1 to 1 times. The reaction is carried out under the temperature condition of 0 to 200 ° C., preferably 0 to 100 ° C., and is completed in about 30 minutes to 48 hours, preferably about 30 minutes to 6 hours.

基R3がフタルイミド基の場合には、無溶媒または不
活性溶媒中、一般式(5)の化合物をヒドラジンまたは
ヒドラジン誘導体と反応させるヒドラジン分解反応に付
すことにより一般式(6)のアミン化合物が得られる。
When the group R 3 is a phthalimido group, the amine compound of the general formula (6) is obtained by subjecting the compound of the general formula (5) to a hydrazine decomposition reaction in which the compound of the general formula (5) is reacted with hydrazine or a hydrazine derivative in a solvent-free or inert solvent. can get.

この反応に用いられる不活性溶媒としては、例えば、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類、メタルール、エタノ
ール等のアルコール流量などが挙げられる。また、ヒド
ラジン誘導体としては、メチルヒドラジン、エチルヒド
ラジン等の低級アルキル置換ヒドラジン、フェニルヒド
ラジン等のアリール置換ヒドラジンなどを例示できる。
As the inert solvent used in this reaction, for example,
Examples thereof include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, etc., metal rule, and alcohol flow rates such as ethanol. Examples of the hydrazine derivative include lower alkyl-substituted hydrazines such as methylhydrazine and ethylhydrazine, and aryl-substituted hydrazines such as phenylhydrazine.

一般式(5)の化合物に対するヒドラジンまたはヒド
ラジン誘導体の使用割合は、少なくとも等モル量、好ま
しくは1〜2倍モル量用いられ、また該反応は通常0〜
100℃、好ましくは0〜80℃にて行なわれ、1〜40時間
程度で反応は終了する。
The ratio of hydrazine or hydrazine derivative to the compound of the general formula (5) is at least an equimolar amount, preferably 1 to 2 times, and the reaction is usually 0 to
The reaction is carried out at 100 ° C, preferably 0 to 80 ° C, and the reaction is completed in about 1 to 40 hours.

一般式(6)の化合物から一般式(8)の化合物を製
造する反応(e)は、一般式(6)のアミン化合物と、
一般式(7)のカルボン酸化合物またはそのカルボキシ
基が活性化された化合物とを通常のアミド結合生成反応
にて反応させることにより製造することができる。
The reaction (e) for producing the compound of the general formula (8) from the compound of the general formula (6) includes the amine compound of the general formula (6),
It can be produced by reacting the carboxylic acid compound of the general formula (7) or a compound in which its carboxy group is activated in a usual amide bond forming reaction.

アミド結合生成反応としては、公知のアミド結合生成
反応の条件がいずれも適用でき、例えば以下のような方
法が挙げられる。
As the amide bond formation reaction, any of the known conditions for the amide bond formation reaction can be applied, and examples thereof include the following methods.

a)縮合剤を用いる方法:カルボン酸化合物(7)とア
ミン化合物(6)とを縮合剤の存在下に反応させる方
法; b)混合酸無水物法:カルボン酸化合物(7)にアルキ
ルハロカルボン酸を反応させて混合酸無水物とし、これ
にアミン化合物(6)を反応させる方法; c)活性エステル化法:カルボン酸化合物(7)をp−
ニトロフェニルエステル、N−ヒドロキシコハク酸イミ
ドエステル、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステ
ル等の活性エステルとし、これにアミン化合物(6)を
反応させる方法; d)カルボン酸化合物(7)を無水酢酸等の脱水剤によ
りカルボン酸無水物とし、これにアミン化合物(6)を
反応させる方法; e)カルボン酸化合物(7)の低級アルコールエステル
とアミン化合物(6)とを高温、高圧下に反応させる方
法; f)カルボン酸化合物(7)を酸ハロゲン化物、すなわ
ちカルボン酸ハライドとし、これにアミン化合物(6)
を反応させる方法などが例示できる。
a) Method using a condensing agent: a method of reacting a carboxylic acid compound (7) and an amine compound (6) in the presence of a condensing agent; b) a mixed acid anhydride method: a carboxylic acid compound (7) and an alkylhalocarboxylic acid. A method of reacting an acid to form a mixed acid anhydride, and reacting this with an amine compound (6); c) Active esterification method: p-carboxylic acid compound (7)
A method of reacting an amine compound (6) with an active ester such as nitrophenyl ester, N-hydroxysuccinimide ester, 1-hydroxybenzotriazole ester; d) dehydration of carboxylic acid compound (7) such as acetic anhydride A carboxylic acid anhydride with an agent and reacting it with an amine compound (6); e) a method of reacting a lower alcohol ester of a carboxylic acid compound (7) with an amine compound (6) under high temperature and high pressure; f ) The carboxylic acid compound (7) is used as an acid halide, that is, a carboxylic acid halide, and the amine compound (6)
Can be exemplified.

次に、アミド結合生成反応の一例をより具体的に説明
する。
Next, an example of the amide bond forming reaction will be described more specifically.

一般式(8)の化合物は、縮合剤の存在下、一般式
(6)のアミン化合物に一般式(7)のカルボン酸化合
物を、無溶媒または不活性溶媒の存在下に反応させるこ
とにより得られる。
The compound of the general formula (8) is obtained by reacting the amine compound of the general formula (6) with the carboxylic acid compound of the general formula (7) in the presence of a condensing agent, in the absence of a solvent or in the presence of an inert solvent. To be

該反応において用いられる縮合剤としては、チオニル
クロリド、オキシ塩化リン、五塩化リン、例えばジメチ
ルホルムアミドと塩化チオニル、オキシ塩化リン、ホス
ゲン等との反応により合成される(クロロメチレン)ジ
メチルアンモニウムクロライド等のビルスマイヤー(Vl
ismeier)試薬、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DC
C)、2,2′−ピリジニルジスルフィド−トリフェニルホ
スフィン等の縮合剤が例示される。
Examples of the condensing agent used in the reaction include thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, such as (chloromethylene) dimethylammonium chloride synthesized by the reaction of dimethylformamide with thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosgene and the like. Billsmeier (Vl
ismeier) reagent, dicyclohexylcarbodiimide (DC
Examples of the condensing agent include C) and 2,2'-pyridinyl disulfide-triphenylphosphine.

溶媒としては、この反応に悪影響を与えない溶媒であ
れば、いずれの溶媒も使用でき、例えばジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピペリ
ジン、トリエチルアミン等のアミン類、ヘキサン、ヘプ
タン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール類、ジメチルホルムアミド
(DMF)、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)、ジ
メチルスルホキシド(DMSO)等の非プロトン性極性溶
媒、二硫化炭素等が例示できる。
As the solvent, any solvent can be used as long as it does not adversely affect this reaction, for example, diethyl ether, tetrahydrofuran, ethers such as dioxane,
Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, amines such as pyridine, piperidine and triethylamine, and aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane. , Methanol, ethanol,
Examples thereof include alcohols such as propanol, aprotic polar solvents such as dimethylformamide (DMF), hexamethylphosphoric triamide (HMPA) and dimethylsulfoxide (DMSO), carbon disulfide and the like.

上記の反応は、塩基性化合物の存在下に行なうのがよ
り好ましい。該塩基性化合物としては、例えば、トリエ
チルアミン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミ
ン、ピリジン、ピコリン、DBU、DBN、DABCOなどの有機
塩基、モノトリメチルシリルアセトアミド、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金
属炭酸水素塩などの無機塩基が例示できる。
The above reaction is more preferably performed in the presence of a basic compound. Examples of the basic compound include trialkylamines such as triethylamine and tributylamine, organic bases such as pyridine, picoline, DBU, DBN and DABCO, alkali metal hydroxides such as monotrimethylsilylacetamide, sodium hydroxide and potassium hydroxide. Substances, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate,
Examples thereof include inorganic bases such as alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate.

また、上記の反応において、一般式(6)のアミン化
合物に対する一般式(7)のカルボン酸化合物の使用割
合は、1〜10倍モル量、好ましくは1〜3倍モル量とす
るのがよい。一般式(6)のアミン化合物に対する塩基
性化合物の使用割合は、等モル〜40倍モル量、好ましく
は5〜20倍モル量とするのがよい。
Further, in the above reaction, the use ratio of the carboxylic acid compound of the general formula (7) to the amine compound of the general formula (6) is 1 to 10 times the molar amount, preferably 1 to 3 times the molar amount. . The basic compound may be used in an equimolar to 40-fold molar amount, preferably 5 to 20-fold molar amount with respect to the amine compound of the general formula (6).

上記の反応は、−20℃〜100℃、好ましくは−20℃〜5
0℃の温度条件下に30分〜24時間、好ましくは30分〜10
時間程度で行なわれる。
The above reaction is carried out at -20 ° C to 100 ° C, preferably -20 ° C to 5 ° C.
30 minutes to 24 hours under a temperature condition of 0 ° C., preferably 30 minutes to 10 hours
It is done in about an hour.

上記で得られた一般式(8)の化合物は、さらに、酸
性化合物もしくは塩基性化合物を用いる加水分解反応ま
たは接触還元反応に付すことにより、R4のエステル化
されたカルボキシ基を脱エステル化し、一般式(8)の
化合物において、2−オキサイソセフェム環の4位がカ
ルボキシ基の化合物に導くことができる。またR7のチ
アゾリル基の2位が保護されたアミノ基の場合、該アミ
ノ保護基の脱離反応に付すことにより、チアゾリル基の
2位がアミノ基の化合物に導くことができる。上記加水
分解反応、接触還元反応および脱保護基反応は、前記反
応式−3の(d)工程と実質的に同様に行なうことがで
き、反応条件、反応試薬等は該反応工程の説明を参照す
ることができる。
The compound of the general formula (8) obtained above is further subjected to hydrolysis reaction or catalytic reduction reaction using an acidic compound or a basic compound to deesterify the esterified carboxy group of R 4 , In the compound of the general formula (8), the 4-position of the 2-oxaisocephem ring can be introduced into a compound having a carboxy group. Further, in the case where the 2-position of the thiazolyl group of R 7 is a protected amino group, a compound having the 2-position of the thiazolyl group as an amino group can be introduced by subjecting the amino-protecting group to elimination reaction. The above hydrolysis reaction, catalytic reduction reaction and deprotection group reaction can be carried out in substantially the same manner as in the step (d) of the reaction formula-3, and the reaction conditions, reaction reagents and the like are referred to the description of the reaction step. can do.

このようにして得られた一般式(8)の化合物、その
4位の脱エステル化合物およびアミノ保護基の脱離した
化合物は、優れた抗菌作用を有する。以下に、その抗菌
作用の一例を示す。
The compound of the general formula (8) thus obtained, the deester compound at the 4-position thereof and the compound from which the amino-protecting group has been removed have an excellent antibacterial action. Below, an example of the antibacterial action is shown.

[抗菌試験] 試験方法 下記の供試化合物について、種々の菌に対する抗菌作
用を調べるため、寒天希釈平板法により最小増殖阻止濃
度(MIC)を求めた。
[Antibacterial Test] Test Method The minimum inhibitory concentration (MIC) was determined by the agar dilution plate method in order to investigate the antibacterial activity against various bacteria for the following test compounds.

[CHEMOTHERAPY,22,1126〜1128(1974)参照] なお、各種菌は1×106菌数/ml(O.D.600mμ,0.07〜
0.16)に調整した。
[See CHEMOTHERAPY, 22, 1126 ~ 1128 (1974)] Various bacteria are 1 x 10 6 bacteria count / ml (OD600mμ, 0.07 ~
0.16).

試験結果を下記表に示す。 The test results are shown in the table below.

供試化合物 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−シアノメトキシイミノアセトアミド]−3−[(1,
3,4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル]−Δ3
O−2−イソセフェム−4−カルボン酸 トリフルオロ
酢酸塩(シン異性体) 試験結果 〈実施例〉 以下、参考例および実施例に基づいて本発明を詳細に
説明する。
Test compound 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl)-
2-Cyanomethoxyiminoacetamide] -3-[(1,
3,4-Thiadiazol-2-yl) thiomethyl] -Δ 3
O-2-Isosephem-4-carboxylic acid trifluoroacetate (syn isomer) test results <Example> Hereinafter, the present invention will be described in detail based on Reference Examples and Examples.

参考例1 ベンジル 2−(2′−S−メシルオキシメチル−
3′−S−フタルイミド−4′−オキソ)アゼチジニル
−3−オキソブチレート2.00gをジオキサン20mlに溶解
後、炭酸水素ナトリウム1.00gを加えた。上記混液に臭
素0.3mlを添加し、室温にて1時間攪拌を行なった。酢
酸エチル20mlで希釈後、水洗(20ml×4回)し、有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、ベ
ンジル 2−(2′−S−メシルオキシメチル−3′−
S−フタルイミド−4′−オキソ)アゼチジニル−2−
ブロモ−3−オキソブチレート2.44gを黄色無定形物を
得た。
Reference Example 1 benzyl 2- (2'-S-mesyloxymethyl-
After 2.00 g of 3'-S-phthalimido-4'-oxo) azetidinyl-3-oxobutyrate was dissolved in 20 ml of dioxane, 1.00 g of sodium hydrogen carbonate was added. 0.3 ml of bromine was added to the above mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After diluting with 20 ml of ethyl acetate, washing with water (4 times with 20 ml), the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off to give benzyl 2- (2'-S-mesyloxymethyl-3'-).
S-phthalimido-4'-oxo) azetidinyl-2-
2.44 g of bromo-3-oxobutyrate was obtained as a yellow amorphous substance.

NMR(CDCl3)δ: 2.42(1.8H,s)、2.54(1.2H,s)、2,86(1.2H,s)、2.
87(1.8H,s)、4.46〜4.95(3H,m)、5.30(1.2H,s)、
5.34(0.8H,s)、5.51(0.4H,d,J=5Hz)、5.56(0.6H,
d,J=5Hz)、7.38(5H)、7.84(4H,m) 参考例2 ベンジル 2−(2′−S−メシルオキシメチル−
3′−S−フタルイミド−4′−オキソ)アゼチジニル
−3−オキソブチレート20.0gをジオキサン200mlに溶解
後、炭酸水素ナトリウム3.6gを加えて60℃にて攪拌す
る。この溶液に臭素2.2mlを添加し、同温度にて2.5時間
攪拌した。冷却後酢酸エチル200mlで希釈し、水洗(200
ml×3回)した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を留去して、ベンジル 2−(2′−S−メ
シルオキシメチル−3′−S−フタルイミド−4′−オ
キソ)アゼチジニル−3−オキソ−4−ブロモブチレー
ト23.11gを黄色無定形物として得た。
NMR (CDCl 3 ) δ: 2.42 (1.8H, s), 2.54 (1.2H, s), 2,86 (1.2H, s), 2.
87 (1.8H, s), 4.46 ~ 4.95 (3H, m), 5.30 (1.2H, s),
5.34 (0.8H, s), 5.51 (0.4H, d, J = 5Hz), 5.56 (0.6H, s)
d, J = 5 Hz), 7.38 (5H), 7.84 (4H, m) Reference Example 2 Benzyl 2- (2'-S-mesyloxymethyl-
20.0 g of 3'-S-phthalimido-4'-oxo) azetidinyl-3-oxobutyrate was dissolved in 200 ml of dioxane, 3.6 g of sodium hydrogen carbonate was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. 2.2 ml of bromine was added to this solution, and the mixture was stirred at the same temperature for 2.5 hours. After cooling, dilute with 200 ml of ethyl acetate and wash with water (200
(ml × 3 times), the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off to give benzyl 2- (2′-S-mesyloxymethyl-3′-S-phthalimido-4′-oxo). 23.11 g of azetidinyl-3-oxo-4-bromobutyrate were obtained as a yellow amorphous substance.

NMR(CDCl3)δ: 2.85(3H,s)、4.12および4.52(2H,q,J=8Hz)、4.65
〜4.70(3H,m)、5.29および5.39(2H,q,J=14Hz)、5.
55(1H,d,J=6.7Hz)、7.41(5H,brs)、7.85(4H,
m)、12.2(1H,brs) 参考例3 ベンジル 2−(2′−S−メシルオキシメチル−
3′−S−フタルイミド−4′−オキソ)アゼチジニル
−2−ブロモ−3−オキソブチレート0.58gをジオキサ
ン10mlに溶解後、炭酸水素ナトリウム100mgを加えて60
℃に加熱する。この溶液に臭化水素酸の酢酸溶液(30
%)0.26mlを加えて1.5時間攪拌した。酢酸エチルにて
希釈後水洗を行ない、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶
媒を留去して、ベンジル 2−(2′−S−メシルオキ
シメチル−3′−S−フタルイミド−4′−オキソ)ア
ゼチジニル−3−オキソ−4−ブロモブチレート0.4gを
得た。
NMR (CDCl 3 ) δ: 2.85 (3H, s), 4.12 and 4.52 (2H, q, J = 8Hz), 4.65
~ 4.70 (3H, m), 5.29 and 5.39 (2H, q, J = 14Hz), 5.
55 (1H, d, J = 6.7Hz), 7.41 (5H, brs), 7.85 (4H,
m), 12.2 (1H, brs) Reference Example 3 Benzyl 2- (2'-S-mesyloxymethyl-
After dissolving 0.58 g of 3'-S-phthalimido-4'-oxo) azetidinyl-2-bromo-3-oxobutyrate in 10 ml of dioxane, 100 mg of sodium hydrogencarbonate was added to obtain 60%.
Heat to ° C. To this solution, add hydrobromic acid in acetic acid (30
%) 0.26 ml was added and stirred for 1.5 hours. The mixture was diluted with ethyl acetate, washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate and the solvent was distilled off to give benzyl 2- (2'-S-mesyloxymethyl-3'-S-phthalimido-4'-oxo) azetidinyl-. 0.4 g of 3-oxo-4-bromobutyrate was obtained.

実施例1 ベンジル 2−(2′−S−メシルオキシメチル−
3′−S−フタルイミド−4′−オキソ)アゼチジニル
−3−オキソ−4−ブロモブチレート23.11gをジメチル
ホルムアミド200mlに溶解後、トルエチルアミン5.4mlを
加え室温にて30分攪拌した。酢酸エチル200mlと水200ml
にて希釈後、有機層を分離し、さらに水層より酢酸エチ
ル50mlにて抽出する。有機層を合わせて水洗(200ml×
3回)を行ない、無水硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭
で脱色後、溶媒を留去すると結晶化し、酢酸エチルで洗
浄することにより、ベンジル 7β−フタルイミド−3
−ブロモメチル−Δ3−O−2−イソセフェム−4−カ
ルボキシレートの白色結晶11.6gを得た。
Example 1 Benzyl 2- (2'-S-mesyloxymethyl-
After dissolving 23.11 g of 3'-S-phthalimido-4'-oxo) azetidinyl-3-oxo-4-bromobutyrate in 200 ml of dimethylformamide, 5.4 ml of toluethylamine was added and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. 200 ml of ethyl acetate and 200 ml of water
After diluting with, the organic layer is separated, and the aqueous layer is extracted with 50 ml of ethyl acetate. Wash the combined organic layers with water (200 ml x
(3 times), dried over anhydrous magnesium sulfate, decolorized with activated carbon, and then distilled off the solvent to crystallize and wash with ethyl acetate to give benzyl 7β-phthalimido-3.
- white crystals 11.6g of bromomethyl -Δ 3 -O-2- Isosefemu-4-carboxylate.

さらに、母液を濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで処理した後、結晶化させ、ベンジル 7β−フ
タルイミド−3−ブロモメチル−Δ3−O−2−イソセ
フェム−4−カルボキシレート1.2gを得た。
Further, the mother liquor was concentrated and treated by silica gel column chromatography, and then crystallized to obtain 1.2 g of benzyl 7β-phthalimido-3-bromomethyl-Δ 3 -O-2-isocephem-4-carboxylate.

NMR(CDCl3)δ: 3.91〜4.00(1H,m)、4.37〜4.55(2H,m)、4.42および
4.64(2H,q,J=44Hz)、5.30および5.34(2H,q,J=6.5H
z)、5.89(1H,d,J=5.4Hz)、7.29〜7.54(5H,m)、7.
84(4H,m) mp:173〜174℃(褐色発泡分解) 質量分析:M+=498、M-=496 旋光度:〔α〕D 20=−40.675° (クロロホルム、C=1.008) 元素分析 H% C% N% 計算値 3.45 55.55 5.63 実測値 3.38 55.29 5.25 上記で得られたベンジル 7β−フタルイミド−3−
ブロモメチル−Δ3−O−2−イソセフェム−4−カル
ボキシレート1gに4−メルカプトピリジン240mgおよび
塩化メチレン10mlを混合した混合物にトリエチルアミン
0.3mlを加え、室温にて1時間攪拌した。反応液を水洗
(200ml×20回)後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィで精製し、エチルアルコールより結晶化すると、ベ
ンジル 7β−フタルイミド−3−(4−ピリジルチオ
メチル)−Δ3−O−2−イソセフェム−4−カルボキ
シレート0.83gを得た。
NMR (CDCl 3 ) δ: 3.91 to 4.00 (1H, m), 4.37 to 4.55 (2H, m), 4.42 and
4.64 (2H, q, J = 44Hz), 5.30 and 5.34 (2H, q, J = 6.5H
z), 5.89 (1H, d, J = 5.4Hz), 7.29 to 7.54 (5H, m), 7.
84 (4H, m) mp: 173~174 ℃ ( brown foam decomposition) Mass spectrometry: M + = 498, M - = 496 optical rotation: [α] D 20 = -40.675 ° (chloroform, C = 1.008) Elemental analysis H% C% N% Calculated 3.45 55.55 5.63 Found 3.38 55.29 5.25 Benzyl 7β-phthalimido-3-obtained above
To a mixture of 1 g of bromomethyl-Δ 3 -O-2-isocephem-4-carboxylate, 240 mg of 4-mercaptopyridine and 10 ml of methylene chloride was added triethylamine.
0.3 ml was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction solution was washed with water (200 ml x 20 times) and then dried over anhydrous magnesium sulfate,
The solvent is distilled off. The residue was purified by silica gel column chromatography and crystallized from ethyl alcohol to obtain 0.83 g of benzyl 7β-phthalimido-3- (4-pyridylthiomethyl) -Δ 3 -O-2-isocephem-4-carboxylate.

NMR(CDCl3)δ: 3.86〜3.95(1H,m)、4.19および4.44(2H,q,J=4.9H
z)、4.34〜4.51(2H,m)、5.29および5.31(2H,q,J=
5.4Hz)、5.87(1H,d,J=5.2Hz)、7.19(2H,dd,J=1.4
Hz,4.8Hz)、7.30〜7.52(5H,m)、7.83(4H,m)、8.36
(2H,dd,J=1.4Hz,4.8Hz) mp:119〜120℃ 質量分析:M=527 旋光度:〔α〕D 20=−92.157° (クロロホルム、C=1.020) 元素分析 H% C% N% 計算値 4.01 63.75 7.97 実測値 4.01 63.91 7.83 実施例2 ベンジル 2−(2′−S−メシルオキシメチル−
3′−S−フタルイミド−4′−オキソ)アゼチジニル
−3−オキソ−4−ブロモブチレート1.71gをジメチル
ホルムアミド20mlに溶解する。別途に4−メルカプトピ
リジン0.32gとトリエチルアミン0.4mlのジメチルホルム
アミド5ml溶液を調製し、上記混液に加え、室温にて1.5
時間攪拌後、さらにトリエチルアミン0.4mlを加え30分
攪拌を行なう。反応液を酢酸エチル20mlと水20ml中に注
ぎ有機層を分離する。水層はさらに酢酸エチル10mlにて
抽出する。有機層を合わせ水洗(200ml×3回)を行な
う。無水硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭で脱色し、溶
媒を留去しエタノールより結晶化すると、ベンジル 7
β−フタルイミド−3−(4−ピリジルチオメチル)−
Δ3−O−2−イソセフェム−4−カルボキレート0.84g
を得た。母液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで処理しエチルアルコールより結晶化して、2次
晶0.15gを得た。
NMR (CDCl 3 ) δ: 3.86-3.95 (1H, m), 4.19 and 4.44 (2H, q, J = 4.9H
z), 4.34 to 4.51 (2H, m), 5.29 and 5.31 (2H, q, J =
5.4Hz), 5.87 (1H, d, J = 5.2Hz), 7.19 (2H, dd, J = 1.4)
Hz, 4.8Hz), 7.30 ~ 7.52 (5H, m), 7.83 (4H, m), 8.36
(2H, dd, J = 1.4Hz, 4.8Hz) mp: 119-120 ℃ Mass spectrometry: M = 527 Optical rotation: [α] D 20 = -92.157 ° (chloroform, C = 1.020) Elemental analysis H% C% Calculated N% 4.01 63.75 7.97 Found 4.01 63.91 7.83 Example 2 benzyl 2- (2'-S-mesyloxymethyl-)
1.71 g of 3'-S-phthalimido-4'-oxo) azetidinyl-3-oxo-4-bromobutyrate are dissolved in 20 ml of dimethylformamide. Separately, a solution of 4-mercaptopyridine (0.32 g) and triethylamine (0.4 ml) in dimethylformamide (5 ml) was added to the above mixture, and the mixture was added at room temperature to 1.5
After stirring for an hour, 0.4 ml of triethylamine is added and the mixture is stirred for 30 minutes. The reaction solution is poured into 20 ml of ethyl acetate and 20 ml of water, and the organic layer is separated. The aqueous layer is further extracted with 10 ml of ethyl acetate. The organic layers are combined and washed with water (200 ml x 3 times). After drying over anhydrous magnesium sulfate, decolorizing with activated carbon, distilling off the solvent and crystallization from ethanol, benzyl 7
β-phthalimido-3- (4-pyridylthiomethyl)-
Δ 3 -O-2-Isosephem-4-carbochelate 0.84g
I got The mother liquor was concentrated, treated with silica gel column chromatography, and crystallized from ethyl alcohol to obtain 0.15 g of secondary crystals.

mp119〜120℃ 実施例3 ベンジル 2−(2′−S−メシルオキシメチル−
3′−S−フタルイミド−4′−オキソ)アゼチジニル
−3−オキソブチレート50gをジオキサン500mlに溶解
し、炭酸水素ナトリウム9gを加え60℃に加熱する。同温
度にて臭素5.5mlを添加し、2.5時間攪拌する。酢酸エチ
ル500mlにて希釈後、水洗(500ml×3回)し、無水硫酸
マグネシウム10gにて乾燥を行ない、溶媒を留去し、ベ
ンジル 2−(2′−S−メシルオキシメチル−3′−
S−フタルイミド−4′−オキソ)アゼチジニル−3−
オキソ−4−ブロムブチレート62.14gを油状物として得
た。
mp119-120 ° C Example 3 Benzyl 2- (2'-S-mesyloxymethyl-
50 g of 3'-S-phthalimido-4'-oxo) azetidinyl-3-oxobutyrate are dissolved in 500 ml of dioxane, 9 g of sodium hydrogencarbonate is added and the mixture is heated to 60 ° C. Add 5.5 ml of bromine at the same temperature and stir for 2.5 hours. After diluting with 500 ml of ethyl acetate, washing with water (500 ml x 3 times) and drying with 10 g of anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off, and benzyl 2- (2'-S-mesyloxymethyl-3'-
S-phthalimido-4'-oxo) azetidinyl-3-
62.14 g of oxo-4-bromobutyrate was obtained as an oil.

得られたベンジル 2−(2′−S−メシルオキシメ
チル−3′−S−フタルイミド−4′−オキソ)アゼチ
ジニル−3−オキソ−4−ブロモブチレートをジメチル
ホルムアミド400mlに溶解する。別に4−メルカプトピ
リジン10.81gを、トリエチルアミン13.6ml、ジメチルホ
ルムアミド溶液100mlを調整し、上記溶液に加えて室温
にて1.5時間攪拌後さらにトリエチルアミン13.6mlを加
え30分間攪拌した。酢酸エチル(400ml×1回、100ml×
2回)にて抽出を行ない、有機層を合わせ、水洗および
ブライン(300ml)で洗浄を行ない、無水硫酸マグネシ
ウム(10g)で乾燥、活性炭(2.5g)で脱色し、溶媒留
去後、エタノール(500ml)より結晶化すると、ベンジ
ル 7β−フタルイミド−3−(4−ピリジルチオメチ
ル)−Δ3−O−2−イソセフェム−4−カルボキシレ
ート25.05gを得た。さらに母液を濃縮後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで処理し、エタノール(300m
l)より結晶化して、2次晶9.97gを得た。
The benzyl 2- (2'-S-mesyloxymethyl-3'-S-phthalimido-4'-oxo) azetidinyl-3-oxo-4-bromobutyrate obtained is dissolved in 400 ml of dimethylformamide. Separately, 10.81 g of 4-mercaptopyridine was adjusted to 13.6 ml of triethylamine and 100 ml of a dimethylformamide solution, and the mixture was added to the above solution and stirred at room temperature for 1.5 hours, and 13.6 ml of triethylamine was further added and stirred for 30 minutes. Ethyl acetate (400ml x 1 time, 100ml x
(2 times), the organic layers are combined, washed with water and brine (300 ml), dried over anhydrous magnesium sulfate (10 g), decolorized with activated carbon (2.5 g), evaporated to remove ethanol ( Crystallization from 500 ml) yielded 25.05 g of benzyl 7β-phthalimido-3- (4-pyridylthiomethyl) -Δ 3 -O-2-isocephem-4-carboxylate. After the mother liquor was further concentrated, it was treated with silica gel column chromatography, and ethanol (300m
Crystallization from l) gave 9.97 g of secondary crystals.

mp:119〜120℃ 参考例4 ベンジル 7β−アジド−3−クロロホルム−Δ3
O−2−イソセフェム−4−カルボキシレート4.5gを塩
化メチレン100mlに溶解し、これに1,3,4−チアジアゾー
ル−2−チオール1.35g、トリエチルアミン1.6mlを加
え、室温で1時間半撹拌する。反応液を5%炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄後、水で2回洗浄する。さらに減
圧下で溶媒を除去し、赤茶色の油状物質を得る。これを
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;酢酸エ
チル:ヘキサン=1:1)で精製し、ベンジル 7β−ア
ジド−3−[(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チ
オメチル]−Δ3−O−2−イソセフェム−4−カルボ
キシレート3.03gを淡褐色の粉末として得る。
mp: 119-120 ° C. Reference Example 4 Benzyl 7β-azido-3-chloroform-Δ 3
4.5 g of O-2-isocephem-4-carboxylate is dissolved in 100 ml of methylene chloride, to which 1.35 g of 1,3,4-thiadiazole-2-thiol and 1.6 ml of triethylamine are added, and the mixture is stirred at room temperature for 1 hour and a half. The reaction solution is washed with a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then twice with water. Further, the solvent is removed under reduced pressure to obtain a reddish brown oily substance. This was purified by silica gel column chromatography (eluent; ethyl acetate: hexane = 1: 1), and benzyl 7β-azido-3-[(1,3,4-thiadiazol-2-yl) thiomethyl] -Δ 3 −. 3.02 g of O-2-isocephem-4-carboxylate is obtained as a light brown powder.

[α〕D 20=−147.68°(C=1,クロロホルム) NMR(CDCl3)δ: 3.53〜4.08(2H,m)、4.40(1H,d,J=14Hz)、4.55
(1H,dd,J=11Hz,3Hz)、4.77(1H,d,J=14Hz)、5.17
(1H,d,J=5Hz)、5.24(2H,s)、6.88〜7.53(5H,
m)、8.92(1H,s) 参考例5 a) ベンジル 7β−アジド−3−[(1,3,4−チア
ジアゾール−2−イル)チオメチル]−Δ3−O−2−
イソセフェム−4−カルボキシレート0.8g、トリエチル
アミン0.34mlおよび塩化メチレン10mlの混合溶液に氷冷
下で硫化水素ガスを導入する。1時間後、薄層クロマト
グラフィーで原料スポットの消失を確認し、反応液を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を濃縮し、残渣
を塩化メチレン100mlに溶解する。2−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)−2−シアノメトキシイ
ミノ酢酸(シン異性体)1.04gを加え氷冷下撹拌し、こ
れにジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)0.46gを加
えて一夜反応させる。析出物を濾去し、濾液を水、希塩
酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
液:クロロホルム)で分離精製し、ベンジル 7β−
[2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−シアノメトキシイミノアセトアミド]−3−[(1,
3,4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル]−Δ3
2−イソセフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)0.85gを得る。
[Α] D 20 = −147.68 ° (C = 1, chloroform) NMR (CDCl 3 ) δ: 3.53 to 4.08 (2H, m), 4.40 (1H, d, J = 14Hz), 4.55
(1H, dd, J = 11Hz, 3Hz), 4.77 (1H, d, J = 14Hz), 5.17
(1H, d, J = 5Hz), 5.24 (2H, s), 6.88 ~ 7.53 (5H,
m), 8.92 (1H, s) Reference Example 5 a) Benzyl 7β-azido-3-[(1,3,4-thiadiazol-2-yl) thiomethyl] -Δ 3 -O-2-
Hydrogen sulfide gas was introduced into a mixed solution of 0.8 g of isocephem-4-carboxylate, 0.34 ml of triethylamine and 10 ml of methylene chloride under ice cooling. After 1 hour, the disappearance of the raw material spots was confirmed by thin layer chromatography, and the reaction solution was washed with a saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and saturated brine in this order,
Dry over anhydrous magnesium sulfate. The solvent is concentrated and the residue is dissolved in 100 ml methylene chloride. 2- (2-Tritylaminothiazol-4-yl) -2-cyanomethoxyiminoacetic acid (syn isomer) (1.04 g) was added and the mixture was stirred under ice-cooling, and then dicyclohexylcarbodiimide (DCC) (0.46 g) was added and the mixture was reacted overnight. . The precipitate is filtered off, and the filtrate is washed with water, diluted hydrochloric acid, aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine in this order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was evaporated under reduced pressure, the residue was separated and purified by silica gel column chromatography (eluent: chloroform), and benzyl 7β-
[2- (2-tritylaminothiazol-4-yl)-
2-Cyanomethoxyiminoacetamide] -3-[(1,
3,4-Thiadiazol-2-yl) thiomethyl] -Δ 3
0.85 g of 2-isocephem-4-carboxylate (syn isomer) is obtained.

b) 上記で得られたトリチル体0.40gおよびアニソー
ル0.4mlの混合物に、氷冷下でトリフルオロ酢酸5mlを加
え10分間反応させる。次いでジエチルエーテルを加える
と結晶が析出するので、これを濾取し、ジエチルエーテ
ルで洗浄、減圧乾燥して、7β−[2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2−シアノメトキシイミノアセ
トアミド]−3−[(1,3,4−チアジアゾール−2−イ
ル)チオメチル]−Δ3−2−イソセフェム−4−カル
ボン酸 トリフルオロ酢酸塩(シン異性体)0.2gを得
る。
b) To a mixture of 0.40 g of the trityl compound obtained above and 0.4 ml of anisole, 5 ml of trifluoroacetic acid is added under ice cooling and the reaction is carried out for 10 minutes. Then, when diethyl ether is added, crystals are precipitated, which are collected by filtration, washed with diethyl ether and dried under reduced pressure to give 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2-cyanomethoxyiminoacetamide. ] -3 - [(1,3,4-thiadiazol-2-yl) thiomethyl] - [delta 3 -2 Isosefemu 4-carboxylic acid trifluoroacetate (syn isomer) is obtained 0.2 g.

淡黄色粉末 mp:113℃より変色 [α〕D 22=+111°(C=1,メタノール) NMR(DMSO-d6)δ: 3.57〜4.20(2H,m)、4.32〜4.84(1H,m)、4.56(2
H,s)、5.05(2H,s)、5.75(1H,dd)、6.95(1H,s)、
9.44(1H,d)、9.56(1H,s)
Light yellow powder mp: Color change from 113 ° C. [α] D 22 = + 111 ° (C = 1, methanol) NMR (DMSO-d6) δ: 3.57 to 4.20 (2H, m), 4.32 to 4.84 (1H, m), 4.56 (2
H, s), 5.05 (2H, s), 5.75 (1H, dd), 6.95 (1H, s),
9.44 (1H, d), 9.56 (1H, s)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式 [式中、R1はハロゲン原子、ハロゲン原子で置換され
ていてもよい低級アルカンスルホニルオキシ基または低
級アルキル基、ハロゲン原子もしくはニトロ基で置換さ
れていてもよいアリールスルホニルオキシ基、X1はハ
ロゲン原子、R4はエステル化されたカルボキシ基、R3
はアジド基、フタルイミド基または基: −NH−R5 (式中、R5はアミノ保護基を示す。)] で表されるアゼチジノン誘導体に、 一般式 HS−R6 (4) (式中、R6は窒素原子および硫黄原子からなる群より
選ばれたヘテロ原子を1〜4個有する不飽和ヘテロ環基
を示し、該ヘテロ環基は、低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、
フェニル基を1〜3個有するフェニル低級アルコキシカ
ルボニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、
ヒドロキシ低級アルキル基、水酸基、オキソ基、アミノ
基、カルバモイル基、シアノ基、低級アルキル置換アミ
ノ低級アルキル基、ピペリジニル低級アルキル基、ピロ
リジニル低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基
およびシアノ低級アルキル基からなる群より選ばれた置
換基を1〜3個または4−低級アルキル−1−ピペラジ
ニル低級アルキル基を有していてもよい。) で表されるチオール化合物を塩基性化合物の存在下に反
応させて、 一般式 (式中、R3、R4およびR6は前記と同じである。) で表される2−オキサイソセフェム誘導体を得ることを
特徴とする2−オキサイソセフェム誘導体の製造方法。
1. A general formula [Wherein R 1 is a halogen atom, a lower alkanesulfonyloxy group or a lower alkyl group optionally substituted with a halogen atom, an arylsulfonyloxy group optionally substituted with a halogen atom or a nitro group, and X 1 is a halogen Atom, R 4 is an esterified carboxy group, R 3
Is an azido group, a phthalimido group or a group: —NH—R 5 (wherein, R 5 represents an amino protecting group)], and an azetidinone derivative represented by the general formula HS-R 6 (4) (wherein R 6 represents an unsaturated heterocyclic group having 1 to 4 heteroatoms selected from the group consisting of a nitrogen atom and a sulfur atom, and the heterocyclic group is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkoxycarbonyl group, Carboxy group,
A phenyl lower alkoxycarbonyl lower alkyl group having 1 to 3 phenyl groups, a carboxy lower alkyl group,
From the group consisting of hydroxy lower alkyl group, hydroxyl group, oxo group, amino group, carbamoyl group, cyano group, lower alkyl-substituted amino lower alkyl group, piperidinyl lower alkyl group, pyrrolidinyl lower alkyl group, carbamoyl lower alkyl group and cyano lower alkyl group. It may have 1 to 3 selected substituents or a 4-lower alkyl-1-piperazinyl lower alkyl group. ) The thiol compound represented by (In formula, R < 3 >, R < 4 > and R < 6 > are the same as the above.) The 2-oxaisocephem derivative represented by these is obtained, The manufacturing method of the 2-oxaisocephem derivative characterized by the above-mentioned.
【請求項2】一般式 [式中、R1はハロゲン原子、ハロゲン原子で置換され
ていてもよい低級アルカンスルホニルオキシ基または低
級アルキル基、ハロゲン原子もしくはニトロ基で置換さ
れていてもよいアリールスルホニルオキシ基、X1はハ
ロゲン原子、R4はエステル化されたカルボキシ基、R3
はアジド基、フタルイミド基または基: −NH−R5 (式中、R5はアミノ保護基を示す。)] で表されるアゼチジノン誘導体に塩基性化合物を反応さ
せて、 一般式 (式中、R3、R4およびX1は前記と同じである。) で表される化合物を得る工程と、 得られた前記一般式(3)で表される化合物に、 一般式 HS−R6 (4) (式中、R6は窒素原子および硫黄原子からなる群より
選ばれたヘテロ原子を1〜4個有する不飽和ヘテロ環基
を示し、該ヘテロ環基は、低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、
フェニル基を1〜3個有するフェニル低級アルコキシカ
ルボニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、
ヒドロキシ低級アルキル基、水酸基、オキソ基、アミノ
基、カルバモイル基、シアノ基、低級アルキル置換アミ
ノ低級アルキル基、ピペリジニル低級アルキル基、ピロ
リジニル低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基
およびシアノ低級アルキル基からなる群より選ばれた置
換基を1〜3個または4−低級アルキル−1−ピペラジ
ニル低級アルキル基を有していてもよい。) で表されるチオール化合物を塩基性化合物の存在下に反
応させて、 一般式 (式中、R3、R4およびR6は前記と同じである。) で表される2−オキサイソセフェム誘導体を得る工程と
を含むことを特徴とする2−オキサイソセフェム誘導体
の製造方法。
2. General formula [Wherein R 1 is a halogen atom, a lower alkanesulfonyloxy group or a lower alkyl group optionally substituted with a halogen atom, an arylsulfonyloxy group optionally substituted with a halogen atom or a nitro group, and X 1 is a halogen Atom, R 4 is an esterified carboxy group, R 3
Is an azido group, a phthalimido group or a group: —NH—R 5 (wherein R 5 represents an amino-protecting group)] and a basic compound is reacted to give a compound of the general formula (In the formula, R 3 , R 4 and X 1 are the same as the above.) The step of obtaining the compound represented by the formula (3) and the compound represented by the general formula HS- R 6 (4) (In the formula, R 6 represents an unsaturated heterocyclic group having 1 to 4 heteroatoms selected from the group consisting of a nitrogen atom and a sulfur atom, and the heterocyclic group is a lower alkyl group, Lower alkenyl group, lower alkoxycarbonyl group, carboxy group,
A phenyl lower alkoxycarbonyl lower alkyl group having 1 to 3 phenyl groups, a carboxy lower alkyl group,
From the group consisting of hydroxy lower alkyl group, hydroxyl group, oxo group, amino group, carbamoyl group, cyano group, lower alkyl-substituted amino lower alkyl group, piperidinyl lower alkyl group, pyrrolidinyl lower alkyl group, carbamoyl lower alkyl group and cyano lower alkyl group. It may have 1 to 3 selected substituents or a 4-lower alkyl-1-piperazinyl lower alkyl group. ) The thiol compound represented by (In the formula, R 3 , R 4 and R 6 are the same as the above.) The method for producing a 2-oxaisocephem derivative, characterized in that .
【請求項3】前記一般式(1−b)で表されるアゼチジ
ノン誘導体が、 一般式 (式中、R1、R3およびR4は前記と同じ、X2はハロゲ
ン原子である。) で表される化合物を酸性化合物の存在下で加熱処理して
得られる特許請求の範囲第1項または第2項に記載の2
−オキサイソセフェム誘導体の製造方法。
3. The azetidinone derivative represented by the general formula (1-b) has a general formula: (Wherein R 1 , R 3 and R 4 are the same as above, and X 2 is a halogen atom.) A compound obtained by heat treatment in the presence of an acidic compound. Item 2 or Item 2
-A method for producing an oxaisocephem derivative.
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