JP2521752B2 - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display

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JP2521752B2
JP2521752B2 JP11258887A JP11258887A JP2521752B2 JP 2521752 B2 JP2521752 B2 JP 2521752B2 JP 11258887 A JP11258887 A JP 11258887A JP 11258887 A JP11258887 A JP 11258887A JP 2521752 B2 JP2521752 B2 JP 2521752B2
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electrodes
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は液晶表示装置に関するもので、特に液晶の
配向の不具合によて生ずる表示品質の悪化を防止するこ
とが可能な液晶表示装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device capable of preventing deterioration of display quality caused by a defect in alignment of liquid crystals. Is.

(従来の技術) 液晶表示装置はCRTに代るフラットパネルディスプレ
イの一つとして期待されている。さらに、液晶表示装置
は、発光を利用した他の種類の表示装置に比し消費電力
が極端に少ないため、電池駆動の小型の表示装置例えば
超小型テレビ等に適していることから、この分野におい
ても研究が盛んに行なわれている。又、液晶パネルと、
カラーフィルターとを組み合わせることによって鮮やか
なカラー表示が可能になることから、カラー表示化の研
究がなされ一部は実用化されている。
(Prior Art) A liquid crystal display device is expected as one of flat panel displays that replaces a CRT. In addition, since the liquid crystal display device consumes extremely less power than other types of display devices that utilize light emission, it is suitable for a battery-powered small display device such as an ultra-small television and the like. Is being actively researched. Also, with a liquid crystal panel,
Since it is possible to display vivid colors by combining with a color filter, research on color display has been made and some of them have been put to practical use.

このような液晶表示装置を駆動する方法としては種々
のものが考えられるが、近年主に行なわれている方法は
アクティブマトリクス駆動法であるといえる。
Although various methods can be considered for driving such a liquid crystal display device, it can be said that the method mainly performed in recent years is an active matrix driving method.

このようなアクティブマトリクス駆動法に適した型の
液晶表示装置は良く知られているが、以下、第3図〜第
5図を参照して従来のこの種の液晶表示装置の一般的な
構造につき簡単に説明する。
Although a liquid crystal display device of a type suitable for such an active matrix driving method is well known, a general structure of a conventional liquid crystal display device of this type will be described below with reference to FIGS. 3 to 5. Briefly explained.

第3図は従来のアティブマトリクス型の液晶表示装置
の、スイッチング素子が設けられた側の基板(画素電極
基板と称することもある。)上の各構成成分の配置関係
につき主に示す部分的平面図である。尚、この場合、ス
イッチング素子を薄膜トランジスタ(TFT)とした例で
示してある。
FIG. 3 is a partial plan view mainly showing an arrangement relationship of each constituent component on a substrate (also referred to as a pixel electrode substrate) on a side where a switching element is provided in a conventional active matrix type liquid crystal display device. It is a figure. In this case, an example in which the switching element is a thin film transistor (TFT) is shown.

第3図において、11はデータ電極としてのソース電極
を示し、13は走査電極としてのゲート電極を示す。これ
ら電極は例えばガラス基板等の好適な基板上にマトリク
ス状に形成されている。又、これら両電極が交差する領
域にはTFT15が形成されていて、図中、17で示すものは
このTFT15のドレイン電極になる。このドレイン電極17
には画素電極19(図中、斜線を付して示してある)が接
続されている。
In FIG. 3, 11 indicates a source electrode as a data electrode, and 13 indicates a gate electrode as a scanning electrode. These electrodes are formed in a matrix on a suitable substrate such as a glass substrate. Further, a TFT 15 is formed in a region where these two electrodes intersect, and the one shown by 17 in the drawing is the drain electrode of this TFT 15. This drain electrode 17
A pixel electrode 19 (indicated by hatching in the figure) is connected to.

又、第4図は、第3図に示した画素電極基板を第3図
に示すI−I線に沿って切って概略的に示した断面図で
ある。尚、図面が複雑化することを回避するため、断面
を示すハッチングを一部省略して示してある。
4 is a sectional view schematically showing the pixel electrode substrate shown in FIG. 3 taken along the line I-I shown in FIG. In order to avoid complication of the drawing, hatching showing a cross section is partially omitted.

第4図において、21は基板としての例えばガラス基板
を示す。23はゲート絶縁膜を、25はアモルファスSi膜
を、27保護膜をそれぞれ示す。
In FIG. 4, reference numeral 21 designates, for example, a glass substrate as a substrate. Reference numeral 23 is a gate insulating film, 25 is an amorphous Si film, and 27 is a protective film.

又、第5図は第3図及び第4図を用いて説明した画素
電極基板と、共通電極を有する別途用意された他方の基
板(共通電極基板と称することもある)とを用いて構成
された従来の液晶表示装置を概略的に示す断面図であ
る。尚、第5図に示した液晶表示装置はカラー表示用の
ものの例である。又、この図も図面が複雑化することを
回避するため、断面を示すハッチングを一部省略して示
してある。
Further, FIG. 5 is configured using the pixel electrode substrate described with reference to FIGS. 3 and 4 and the other substrate (also referred to as a common electrode substrate) prepared separately having a common electrode. FIG. 11 is a sectional view schematically showing a conventional liquid crystal display device. The liquid crystal display device shown in FIG. 5 is an example for a color display. Also, in order to avoid complication of the drawing, hatching showing a cross section is partially omitted in this drawing.

第5図において、31は第二の基板を示す。この基板31
上には基板側からカラー表示用カラーフィルター33と、
共通電極35とが順次に設けられている。又、図中37で示
すものは配向膜であり、画素電極基板21及び共通電極基
板31の互いの対向面にそれぞれ形成されている。これら
基板21及び31間には、液晶39が封入されている。
In FIG. 5, 31 indicates a second substrate. This board 31
On the top, from the substrate side, a color filter 33 for color display,
The common electrode 35 is sequentially provided. In addition, reference numeral 37 in the drawing denotes an alignment film, which is formed on the mutually opposing surfaces of the pixel electrode substrate 21 and the common electrode substrate 31, respectively. A liquid crystal 39 is sealed between the substrates 21 and 31.

従来の液晶表示装置では、TFT15、走査電極(ゲート
電極)13、又データ電極(ソース電極)15が形成された
領域は基板表面から突出しこのため凸部41が生じてしま
う。又、モノカラー表示の液晶表示装置の共通電極では
問題とはならないが、第5図に示したように共通電極基
板の液晶注入側にカラーフィルター33を用いた場合に
は、隣り合うカラーフィルター間に凹部43が生じてしま
う。このように従来の液晶表示装置においては、対向さ
せた両基板のいずれか一方又は双方の液晶封入領域側表
面には、1〜2μm程度の段差が連続的にかつ周期的に
存在していた。
In the conventional liquid crystal display device, the area where the TFT 15, the scanning electrode (gate electrode) 13, and the data electrode (source electrode) 15 are formed protrudes from the surface of the substrate, so that the convex portion 41 is formed. Further, although there is no problem in the common electrode of the liquid crystal display device of the mono-color display, when the color filter 33 is used on the liquid crystal injection side of the common electrode substrate as shown in FIG. A recess 43 is formed in the. As described above, in the conventional liquid crystal display device, a level difference of about 1 to 2 μm is continuously and periodically present on the liquid crystal enclosing region side surface of either or both of the opposed substrates.

又、第3図からも明らかなように、従来の液晶表示装
置では、画素電極19がソース電極11やゲート電極13と短
絡しないように、画素電極とこれら電極とを離間させる
必要があった。
Further, as is clear from FIG. 3, in the conventional liquid crystal display device, it is necessary to separate the pixel electrode and these electrodes so that the pixel electrode 19 does not short-circuit with the source electrode 11 and the gate electrode 13.

ところで、上述したようなアティブマトリクス型の従
来の液晶表示装置においては、液晶分子の一部の分子
が、後述するような理由で所望の配向方向でない方向に
配向すること(以下、これをドメイン現象と称すること
にする。)が起こり、これがため、表示品質が悪化する
ことが生じていた。
By the way, in the conventional active matrix type liquid crystal display device as described above, some molecules of the liquid crystal molecules are oriented in a direction other than the desired orientation direction for the reason described below (hereinafter, this is referred to as a domain phenomenon). Therefore, the display quality is deteriorated.

このようなドメイン現象を生じさせる原因の一つは基
板上に存在する上述したような段差と云える。例えば、
TFT部分が基板表面から2μm程度突出して段差を構成
しているとする。液晶表示装置の種類によっても異なる
が、対向する基板間の距離は広くとも10μm程度でしか
ないから、基板上に上述の如く2μm程度の段差がある
と、段差が有る部分と無い部分とにおける液晶封入用の
空隙の寸法は結果的に異なったものになってしまう。こ
のような両部分のそれぞれの液晶分子の配向具合は互い
に異なったものになると思われ、これがため、ドメイン
現象が生じてしまう。
It can be said that one of the causes of causing such a domain phenomenon is the above-described step existing on the substrate. For example,
It is assumed that the TFT portion projects from the substrate surface by about 2 μm to form a step. Although it varies depending on the type of liquid crystal display device, the distance between the opposing substrates is only about 10 μm at the widest. Therefore, if there is a step of about 2 μm on the substrate as described above, the liquid crystal in the part with the step and the part without the step The size of the encapsulating voids will eventually be different. It is considered that the liquid crystal molecules in the two portions have different alignments from each other, which causes a domain phenomenon.

ドメイン現象を生じさせる他の原因としては電気力線
の曲りが考えられる。このことにつき第6図を参照して
説明する。
Another cause of the domain phenomenon may be bending of lines of electric force. This will be described with reference to FIG.

アテイブマトリクス型の液晶表示装置においては、多
数のゲート電極を順次に選択し、選択されたゲート電極
に所属する多数の画素のソース電極にデータ信号がそれ
ぞれ印加される。今、あるゲート電極に所属する多数の
画素を一つおきにオンさせ残りの画素をオフさせる場合
を考える。第6図は従来の液晶表示装置をこのように駆
動した場合の電気力線の様子を模式的に示した図であ
り、共通電極37に対し画素電極19が正電位となるように
この画素電極19に電圧を印加した場合を示している。駆
動されているTFTの画素電極と、共通電極との間には本
来は画素電極19から共通電極37に向う電気力線が生じる
はずであるが、駆動されているTFTと、駆動されていな
いTFTの画素電極との間にも不用な電気力線(第6図
中、41で示す電気力線の曲り)が生ずるものと思われ
る。この不用な電気力線が生じている領域の液晶分子の
配向方向は、正常な電気力線が生じている領域での配向
方向とは異なるものになるから、これによってもドメイ
ン現象が生じるものと思われる。このような不用な電気
力線はオン信号が印加されているデータ電極に沿って並
ぶオフ状態の画素電極の端部領域でも生じる。
In an active matrix type liquid crystal display device, a large number of gate electrodes are sequentially selected, and data signals are applied to the source electrodes of a large number of pixels belonging to the selected gate electrodes. Now, let us consider a case where every other many pixels belonging to a certain gate electrode are turned on and the remaining pixels are turned off. FIG. 6 is a diagram schematically showing a state of lines of electric force when the conventional liquid crystal display device is driven in this manner. This pixel electrode 19 is set to have a positive potential with respect to the common electrode 37. The case where a voltage is applied to 19 is shown. Originally, an electric force line from the pixel electrode 19 to the common electrode 37 should be generated between the pixel electrode of the TFT being driven and the common electrode, but the TFT being driven and the TFT not being driven. It is considered that an unnecessary electric force line (bending of the electric force line 41 in FIG. 6) is also generated between the pixel electrode and the pixel electrode. Since the orientation direction of the liquid crystal molecules in the region where the unnecessary electric force lines are generated is different from the orientation direction in the region where the normal electric force lines are generated, it is considered that the domain phenomenon is caused also by this. Seem. Such unnecessary electric force lines are also generated in the end regions of the pixel electrodes in the off state, which are arranged along the data electrodes to which the on signal is applied.

このようなドメイン現象を問題視しこれを解決するべ
く研究を行ない、その成果が示された文献としては例え
ば特開昭60−243633号公報がある。この公報によれば、
ドメイン現象が生じた後これを速く消滅させるため、TF
Tのソース電極と、画素電極の辺との間の隙間が可能な
限り直線状になるようにしている。さらに、カラー表示
用の液晶表示装置の場合であれば、隣り合うカラーフィ
ルタ間に生じる隙間を上述のソース電極及びこのソース
電極に近接するこのソース電極では駆動されない側の画
素電極間の隙間に対向するように位置あわせすることを
行なっている。
As a document showing such a result, the research is conducted to solve such a domain phenomenon as a problem, and there is, for example, JP-A-60-243633. According to this publication,
After the domain phenomenon occurs, it disappears quickly, so TF
The gap between the source electrode of T and the side of the pixel electrode is made as linear as possible. Further, in the case of a liquid crystal display device for color display, the gap formed between the adjacent color filters faces the gap between the above-mentioned source electrode and the pixel electrode on the side which is not driven by this source electrode and is adjacent to this source electrode. The position is adjusted so that

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、上述したように、ソース電極と画素電
極との隙間を可能な限り直線状にすることは、液晶表示
装置の画素配列の自由度を損ねることになる。又、隙間
同士が正確に対向するように位置合せさせるにはより正
確なアライメントが必要になるから製造工程上好ましい
ことではない。又、電気力線が曲った部分(第6図に41
で示した部分)でのドメイン現象に対しては何等の対策
もなされないことになり、この部分の液晶分子の配向の
不具合によって表示品質が損ねられることになる。
(Problems to be Solved by the Invention) However, as described above, making the gap between the source electrode and the pixel electrode as linear as possible impairs the degree of freedom in the pixel arrangement of the liquid crystal display device. . Moreover, more accurate alignment is required to align the gaps so that they are exactly opposite to each other, which is not preferable in the manufacturing process. In addition, the part where the lines of electric force are bent (Fig.
No measures will be taken against the domain phenomenon in the portion (1), and the display quality will be impaired by the defective alignment of the liquid crystal molecules in this portion.

この発明は上述したような点に鑑みなされたものであ
り、従ってこの発明の目的は、ドメイン現象が発生しに
くく、又ドメイン現象が発生しても視認されにくい液晶
表示装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which a domain phenomenon is unlikely to occur, and which is difficult to be visually recognized even if the domain phenomenon occurs. .

(問題点を解決するための手段) この目的の達成を図るために、この発明によれば、並
置配列された複数のストライプ状の走査電極と、前記各
走査電極と交差するように並置配列された複数のストラ
イプ状のデータ電極と、前記各走査電極および前記各デ
ータ電極の交差部にそれぞれ設けられたスイッチング素
子と、各スイッチング素子ごとに各々接続された画素電
極とを有した画素電極基板、並びに、該画素電極基板に
対向していて対向面に共通電極を有した共通電極基板を
具備する液晶表示装置において、 前記画素電極基板面上にスイッチング素子、走査電極
およびデータ電極に起因する段差をなくすように平坦化
された平坦表面を有する絶縁層を設け、該絶縁層の前記
平坦表面上に、かつ該絶縁層に設けられたコンタクトホ
ールを介して前記スイッチング素子に接続するように前
記画素電極を設けると共に、 前記データ電極を遮光性の金属で構成し、然も、 隣接する画素電極間の、前記データ電極のストライプ
方向と平行方向の電気的分離領域を、前記データ電極の
上方の領域としてあることを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve this object, according to the present invention, a plurality of stripe-shaped scanning electrodes arranged in parallel are arranged, and the scanning electrodes are arranged in parallel so as to intersect with each scanning electrode. A pixel electrode substrate having a plurality of stripe-shaped data electrodes, switching elements respectively provided at the intersections of the scanning electrodes and the data electrodes, and pixel electrodes connected to each switching element, In addition, in a liquid crystal display device including a common electrode substrate facing the pixel electrode substrate and having a common electrode on a facing surface, a step due to a switching element, a scanning electrode and a data electrode is formed on the pixel electrode substrate surface. An insulating layer having a flat surface that is flattened so as to be lost is provided, and a contact hole is provided on the flat surface of the insulating layer and in the insulating layer. The pixel electrode is provided so as to be connected to the switching element, and the data electrode is made of a light-shielding metal. In addition, electrical conductivity between adjacent pixel electrodes in a direction parallel to the stripe direction of the data electrode is also provided. The isolation region is a region above the data electrode.

尚、液晶表示装置がカラー表示可能なものであって、
共通電極基板上にカラフィルターを有するものである場
合には、共通電極基板のカラフィルタ上に、カラーフィ
ルターと基板表面との間に構成される凹凸を平坦化する
絶縁層を設け、この絶縁層上に共通電極を設けるのが好
適である。
In addition, the liquid crystal display device is capable of color display,
When the common electrode substrate has a color filter, the color filter of the common electrode substrate is provided with an insulating layer for flattening the unevenness formed between the color filter and the substrate surface. It is preferable to provide a common electrode on top.

(作用) このような構成によれば、スイッチング素子、スイッ
チング素子の走査電極、このスイッチング素子のデータ
電極及び画素電極基板表面で主に構成される凹凸を平坦
表面を有する絶縁層で覆うようにすることが出来る。従
って、画素電極基板及び共通電極基板間の液晶封入用の
空隙は両基板間のどの部分においても実質的に均一寸法
になるから、液晶分子を配向させるための種々の条件も
均一なものになる。従って、段差に起因するドメイン現
象の発生を防止することが出来る。
(Function) According to such a configuration, the unevenness mainly formed by the switching element, the scanning electrode of the switching element, the data electrode of the switching element, and the surface of the pixel electrode substrate is covered with the insulating layer having the flat surface. You can Therefore, the space for liquid crystal encapsulation between the pixel electrode substrate and the common electrode substrate has a substantially uniform size in any portion between the both substrates, so that various conditions for aligning liquid crystal molecules are also uniform. . Therefore, it is possible to prevent the occurrence of the domain phenomenon due to the step.

又、スイッチング素子やこれの走査及びデータ電極が
絶縁層で覆われているから、この絶縁層上に設ける画素
電極をこのスイッチング素子や両電極が形成されている
領域上方に至るまで形成することが出来るようになる。
従って、隣接する画素電極を電気的に分離するための分
離領域を走査電極上方の領域やデータ電極上方の領域に
設けることが出来るようになる。
Further, since the switching element and the scanning and data electrodes thereof are covered with the insulating layer, the pixel electrode provided on this insulating layer can be formed up to a region above the switching element and both electrodes. become able to do.
Therefore, a separation region for electrically separating adjacent pixel electrodes can be provided in a region above the scan electrodes or a region above the data electrodes.

そしてこの発明においては、隣接する画素電極間の、
スイッチング素子のデータ電極のストライプ方向と平行
方向の電気的分離領域をこのデータ電極上方の絶縁層部
分上の領域内に設けている。データ電極や走査電極は一
般に遮光性の金属薄膜で形成されている。この発明では
少なくともデータ電極を遮光性の金属薄膜で構成してい
る。このようにすれば、電気力線の曲りに起因するドメ
イン現象が発生し易いデータ電極と平行な画素電極間の
電気的分離領域の下方に遮光性金属(データ電極)が位
置するようになるから、このドメイン現象は表示装置を
みる者には認められないようになる。
And in this invention, between the adjacent pixel electrodes,
An electrical isolation region parallel to the stripe direction of the data electrode of the switching element is provided in the region above the data electrode on the insulating layer portion. The data electrodes and scan electrodes are generally formed of a light-shielding metal thin film. In the present invention, at least the data electrode is made of a light-shielding metal thin film. With this configuration, the light-shielding metal (data electrode) is positioned below the electrical isolation region between the pixel electrode and the data electrode, which is likely to cause the domain phenomenon due to the bending of the lines of electric force. , This domain phenomenon will not be recognized by those who look at the display device.

(実施例) 以下、第1図及び第2図を参照してこの発明のアティ
ブマトリクス型の液晶表示装置の実施例につき説明す
る。尚、以下の説明に用いる各図はこの発明が理解出来
る程度に概略的に示してあるにすぎず、従って、この発
明がこれら図示例にのみ限定されるものでないことは理
解されたい。又、各図において、共通の構成部分につい
ては同一の符号を付して示してある。さらに、従来と同
様な構成部分については従来の符号と同一の符号を付し
て示してある。
(Embodiment) An embodiment of the active matrix type liquid crystal display device of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. It should be understood that the drawings used in the following description are only schematically shown so that the present invention can be understood, and therefore the present invention is not limited to these illustrated examples. Further, in each of the drawings, common components are designated by the same reference numerals. Further, the same components as those of the related art are denoted by the same reference numerals.

液晶表示装置の構成 第1図(A)はこの発明のアティブマトリクス型の液
晶表示装置の、スイッチング素子が設けられた側の基板
(画素電極基板)上の各構成成分の配置関係につき主に
示す部分的平面図である。尚、この場合、スイッチング
素子を薄膜トランジスタ(TFT)とした例で説明する。
Configuration of Liquid Crystal Display Device FIG. 1 (A) mainly shows an arrangement relationship of respective constituent components on a substrate (pixel electrode substrate) on a side where a switching element is provided in an active matrix type liquid crystal display device of the present invention. It is a partial top view. In this case, an example in which the switching element is a thin film transistor (TFT) will be described.

第1図(A)において、11はデータ電極としてのソー
ス電極を示し、13は走査電極としてのゲート電極を示
す。これら電極は例えばガラス基板等の好適な基板上に
マトリクス状に形成されている。又、これら両電極が交
差する領域にはTFT15が形成されていて、図中、17で示
すものはこのTFT15のドレイン電極になる。
In FIG. 1A, 11 indicates a source electrode as a data electrode, and 13 indicates a gate electrode as a scanning electrode. These electrodes are formed in a matrix on a suitable substrate such as a glass substrate. Further, a TFT 15 is formed in a region where these two electrodes intersect, and the one shown by 17 in the drawing is the drain electrode of this TFT 15.

又、第1図(A)においては図示を省略してあるが
(第1図(B)を用いて後に説明する)、この発明の液
晶表示装置は、画素電極基板上に、ソース電極11、ゲー
ト電極13、TFT15及び基板表面で主に構成される凹凸を
覆い表面が平坦な絶縁層を具えると共に、この絶縁層上
に画素電極51(第1図(A)中、斜線を付して示す)を
具えている。そして、この画素電極は51は絶縁層に設け
られているコンタクトホール53を介してこの絶縁層下の
ドレイン電極17に接続してある。又、このような絶縁層
を具えていることを利用して、この実施例の場合の画素
電極51は次のように形成してある。
Although not shown in FIG. 1A (which will be described later with reference to FIG. 1B), the liquid crystal display device of the present invention has a source electrode 11 The gate electrode 13, the TFT 15 and the substrate surface are provided with an insulating layer which covers the irregularities mainly formed and has a flat surface, and the pixel electrode 51 (in FIG. 1 (A), hatched lines are provided on the insulating layer. (Shown). The pixel electrode 51 is connected to the drain electrode 17 under the insulating layer via a contact hole 53 provided in the insulating layer. Further, by utilizing the fact that such an insulating layer is provided, the pixel electrode 51 in this embodiment is formed as follows.

ゲート電極13のストライプ方向に沿って直線的に並ん
でいる各画素電極51のうちの隣接する画素電極51間の、
ソース電極のストライプ方向と平行方向の電気的分離領
域55をソース電極11上方の領域にこのソース電極の形成
領域内に納るように形成してある。従って、この場合の
画素電極はTFT15が形成されている領域の上方にも存在
するようになる。
Between adjacent pixel electrodes 51 of the pixel electrodes 51 linearly arranged along the stripe direction of the gate electrode 13,
An electric isolation region 55 parallel to the stripe direction of the source electrode is formed in a region above the source electrode 11 so as to fit within the formation region of the source electrode. Therefore, the pixel electrode in this case also exists above the region where the TFT 15 is formed.

第1図(B)は、第1図(A)に示した画素電極基板
を第1図(A)に示すII−II線に沿って切って概略的に
示した断面図である。尚、図面が複雑化することを回避
するため、断面を示すハッチングを一部省略して示して
ある。
FIG. 1 (B) is a cross-sectional view schematically showing the pixel electrode substrate shown in FIG. 1 (A) by cutting along the line II-II shown in FIG. 1 (A). In order to avoid complication of the drawing, hatching showing a cross section is partially omitted.

第1図(B)において、21は基板としての例えばガラ
ス基板を示す。23はゲート絶縁膜を、25はアモルファス
Si膜をそれぞれ示す。又、57はソース電極11、ゲート電
極13、TFT15及び基板表面で主に構成される凹凸を平坦
化するための既に説明した絶縁層を示し、この絶縁層57
のドレイン電極17上に該当する領域にはコンタクトホー
ル53を形成してある。
In FIG. 1 (B), reference numeral 21 indicates, for example, a glass substrate as a substrate. 23 is a gate insulating film, 25 is amorphous
The respective Si films are shown. Reference numeral 57 denotes the insulating layer which has been already described for flattening the unevenness mainly composed of the source electrode 11, the gate electrode 13, the TFT 15 and the substrate surface.
A contact hole 53 is formed in a region corresponding to the drain electrode 17 of the.

第1図(B)からも理解できるように、絶縁層57を有
しているため、画素電極間の電気的分離領域55をソース
電極上方に形成することが出来る。これがため、常に表
示データが書き込まれる多数のソース電極(データ電
極)の中のあるデータ電極の表示データが連続的にハイ
レベルを示す信号になって、このようなデータ電極と、
このデータ電極に沿うオフ状態の画素電極との間にドメ
イン現象が長時間生じても、このドメイン現象はソース
電極で遮蔽され液晶表示装置を見る者には認められない
ようにすることが出来る。
As can be understood from FIG. 1B, since the insulating layer 57 is provided, the electric isolation region 55 between the pixel electrodes can be formed above the source electrode. For this reason, the display data of a certain data electrode among a large number of source electrodes (data electrodes) to which the display data is always written becomes a signal that continuously indicates a high level, and such a data electrode,
Even if a domain phenomenon occurs between the pixel electrode in the off state along the data electrode for a long time, the domain phenomenon is shielded by the source electrode and can be prevented from being recognized by a viewer of the liquid crystal display device.

このようなこの発明の画素電極用基板と、従来の共通
電極基板とを用いて、液晶表示装置を構成すれば、液晶
表示装置がモノカラー表示のものであれば段差に起因す
るドメイン現象は全く生じることがなくなる。さらに、
カラー表示、モノカラー表示を問わず、電気力線の曲り
に起因して生じるドメイン現象はデータ電極(ソース電
極)によって遮蔽されるから、液晶表示装置を見る者が
このドメイン現象を認めることはなくなる。
When a liquid crystal display device is constructed using such a pixel electrode substrate of the present invention and a conventional common electrode substrate, if the liquid crystal display device is a mono-color display device, a domain phenomenon due to a step is completely eliminated. It will never happen. further,
Regardless of color display or mono-color display, the domain phenomenon caused by the bending of the lines of electric force is shielded by the data electrode (source electrode), so that the viewer of the liquid crystal display device does not recognize this domain phenomenon. .

又、液晶表示装置がカラー表示のものの場合であって
第5図に示したようにカラーフィルタが設けられた従来
の共通電極基板と、この発明の画素電極基板とを用いた
ものは、画素電極基板側の段差がなくなることから、従
来のものと比し表示品質が優れたものになる。尚、この
ような構成のカラー表示液晶表示装置で、さらに優れた
表示を得ようとする場合は、共通電極基板を第2図に断
面図で示すような構造のものにするのが好適である。
Further, in the case where the liquid crystal display device is a color display device and the conventional common electrode substrate provided with a color filter as shown in FIG. 5 and the pixel electrode substrate of the present invention are used, Since there is no step on the substrate side, the display quality is superior to the conventional one. In order to obtain a more excellent display in the color display liquid crystal display device having such a configuration, it is preferable that the common electrode substrate has a structure shown in a sectional view in FIG. .

第2図において、31はガラス基板を示す。このガラス
基板31上にはカラーフィルター33が設けられている。
又、この発明に係る共通電極基板は、カラーフィルター
33を含むガラス基板31上に、カラーフィルタ33及び基板
31表面で主に構成される段差を平坦化するためこの段差
を覆い平坦表面を有する絶縁層61と、この絶縁層61上に
設けられた共通電極37とを具えている。
In FIG. 2, 31 indicates a glass substrate. A color filter 33 is provided on the glass substrate 31.
Also, the common electrode substrate according to the present invention is a color filter.
On the glass substrate 31 including 33, the color filter 33 and the substrate
31 includes an insulating layer 61 having a flat surface for covering the step, which is mainly formed on the surface, and a common electrode 37 provided on the insulating layer 61.

第1図(A)及び(B)に示したような画素電極基板
と、第2図に示したような共通電極基板との間に液晶を
封入して形成されたこの発明のカラー表示の液晶表示装
置は、段差に起因して生ずるドメイン現象は全く起こら
ず、然も、コンタクトホール53部分の段差や、画素電極
間の電気的分離領域55における電気力線の曲りによって
ドメイン現象が生じても、これはソース及びドレイン電
極によって遮蔽されるから、この液晶表示装置を見る者
がこのドメイン現象を認めることはない。
Liquid crystal for color display of the present invention formed by enclosing a liquid crystal between a pixel electrode substrate as shown in FIGS. 1A and 1B and a common electrode substrate as shown in FIG. In the display device, the domain phenomenon caused by the step does not occur at all, and even if the domain phenomenon occurs due to the step of the contact hole 53 portion or the bending of the electric force line in the electric isolation region 55 between the pixel electrodes. However, since this is shielded by the source and drain electrodes, a viewer of this liquid crystal display device does not recognize this domain phenomenon.

液晶表示装置の製造方法 次に、この発明の液晶表示装置の理解を深めるため、
第1図(B)及び第2図を参照してこの発明の実施例の
液晶表示装置の製造方法の一例につき説明する。尚、以
下に説明する材料、形成方法及び数値的条件等は単なる
例示にすぎず、この発明がこれら材料、形成方法及び数
値的条件に限定されるものでないことは理解されたい。
Method for manufacturing liquid crystal display device Next, in order to deepen the understanding of the liquid crystal display device of the present invention,
An example of a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 (B) and 2. It should be understood that the materials, forming methods, numerical conditions, and the like described below are merely examples, and the present invention is not limited to these materials, forming methods, and numerical conditions.

通常の薄膜形成技術を用い、ガラス基板21上にスイッ
チング素子としてのTFT15、これの走査電極13及びデー
タ電極11を形成する。この工程は従来のアティブマトリ
クス型の液晶表示装置の製造方法を用いることが出来
る。
A TFT 15 as a switching element, a scan electrode 13 and a data electrode 11 of the TFT 15 are formed on a glass substrate 21 by using a normal thin film forming technique. In this step, a conventional method of manufacturing an active matrix type liquid crystal display device can be used.

次に、TFT15及び両電極13,11が形成されたガラス基板
21上に平坦表面を有する絶縁層57の形成を行なう。この
実施例の場合、この絶縁層57の形成を以下のように行な
った。
Next, the glass substrate on which the TFT 15 and both electrodes 13 and 11 are formed
An insulating layer 57 having a flat surface is formed on 21. In the case of this example, the insulating layer 57 was formed as follows.

TFT15及び両電極13,11が形成されたガラス基板21上
に、ポリイミドワニス(日産化学社製のサンエバー120
と称されるものを用いた)をスピンコーティング法によ
って塗布し、これを約170℃の温度で約1時間乾燥させ
た。尚、スピンコーティングの条件は、ポリイミドワニ
スのガラス基板21の平坦部分のものの乾燥後の膜厚が4
μmになるように設定した。基板表面から2μm程度突
出していたTFT15に起因する段差上に、上述のような成
膜条件でポイリミドワニスを塗布した時、この段差はポ
リイミドワニス表面では0.3μmに緩和されて、その突
出具合も滑らかなものになった。尚、上述のポリイミド
ワニスの成膜条件は、TFT等の形状、用いるワニスの粘
度等を考慮して決定されるべきもので、この実施例の条
件に限定されるものではない。さらに、絶縁層57を構成
する材料についても、実施例のポリイミドワニスに限定
されるものではなく、他の好適な材料を用いることが出
来る。
On the glass substrate 21 on which the TFT 15 and both electrodes 13 and 11 are formed, a polyimide varnish (San Ever 120 manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.
Was used) and was dried at a temperature of about 170 ° C. for about 1 hour. In addition, the conditions for spin coating are that the film thickness after drying of the flat part of the glass substrate 21 of polyimide varnish is 4
It was set to be μm. When the polyimide varnish was applied under the above-mentioned film forming conditions on the step due to the TFT 15 protruding from the substrate surface by about 2 μm, this step was mitigated to 0.3 μm on the surface of the polyimide varnish and the protruding condition was also smooth. It became a thing. The film forming conditions for the above-mentioned polyimide varnish should be determined in consideration of the shape of the TFT and the viscosity of the varnish used, and are not limited to the conditions of this embodiment. Further, the material forming the insulating layer 57 is not limited to the polyimide varnish of the embodiment, and other suitable materials can be used.

次に、上述の如く形成した絶縁層57に対し加工を行な
う。この実施例の場合の加工は、TFT15のドレイン電極
に対応する領域にコンタクトホール53を形成すること、
及び別途用意された駆動素子に走査及びデータ電極を接
続するためこれら電極の一部を絶縁層57から露出させる
こと等である。これら加工は通常のフォトエッチング技
術を用いてレジストマスクを形成し、日産化学社製サン
エバー専用のエッチング液及びリンス液を用いて絶縁層
57の不用部分を除去することで行なった。
Next, the insulating layer 57 formed as described above is processed. The processing in the case of this embodiment is to form a contact hole 53 in a region corresponding to the drain electrode of the TFT 15,
Also, in order to connect the scanning and data electrodes to a separately prepared driving element, a part of these electrodes is exposed from the insulating layer 57. For these processes, a resist mask is formed by using a normal photo-etching technique, and an insulating layer is prepared by using an etching solution and a rinsing solution for exclusive use of Nissan Chemical Co.
This was done by removing 57 unnecessary parts.

次に、この絶縁層57上に例えばRFスパッタ法等の好適
な方法によって、ITO膜を約1000Åの膜厚に形成し、次
に、このITO膜をフォトエッチング技術によって所定形
状(第1図(A)参照)に加工して画素電極51を形成
し、第1図(A)及び(B)に示すようなこの発明に係
る画素電極基板を得た。
Next, an ITO film is formed on the insulating layer 57 by a suitable method such as RF sputtering to have a film thickness of about 1000 Å, and then this ITO film is formed into a predetermined shape by a photoetching technique (see FIG. (See A)) to form the pixel electrode 51 to obtain a pixel electrode substrate according to the present invention as shown in FIGS. 1 (A) and 1 (B).

一方、第2図を用いて既に説明した共通電極基板を次
のように形成した。
On the other hand, the common electrode substrate already described with reference to FIG. 2 was formed as follows.

ガラス基板31上に従来公知の方法でカラーフィルタ33
を形成する。この場合も、カラーフィルタ33表面と、基
板表面との間には約2μmの段差が構成される。画素電
極基板を形成したときと同様にサンエバー120を用い同
様な成膜条件で平坦化を行ない、サンエバー120の不用
部分を画素電極基板形成時と同様に除去して、絶縁層69
を形成した。この絶縁層69上に従来公知の方法で共通電
極37を形成した。
A color filter 33 is formed on the glass substrate 31 by a conventionally known method.
To form. Also in this case, a step of about 2 μm is formed between the surface of the color filter 33 and the surface of the substrate. As in the case of forming the pixel electrode substrate, flattening is performed under the same film forming conditions using the sun ever 120, and the unnecessary portion of the sun ever 120 is removed as in the case of forming the pixel electrode substrate, and the insulating layer 69 is formed.
Was formed. The common electrode 37 was formed on the insulating layer 69 by a conventionally known method.

上述の如く形成した画素電極基板と、共通電極基板と
に対し配向処理を行ない、その後、これら基板をスペー
サを介して貼り合わせる。基板間の空隙に液晶を封入し
た後、封入口を封止して、この発明に係る液晶表示装置
を得た。
The pixel electrode substrate formed as described above and the common electrode substrate are subjected to alignment treatment, and then these substrates are bonded together via a spacer. After the liquid crystal was sealed in the space between the substrates, the sealing port was sealed to obtain the liquid crystal display device according to the present invention.

尚、この発明は上述した実施例に限定されるものでは
ない。
The present invention is not limited to the above embodiment.

上述した実施例では、データ(ソース)電極のストラ
イプ方向と直交する方向で画素電極51間を電気的に分離
する領域については、この領域を走査(ゲート)電極上
方に特に形成することはせず、従来の通りとしている。
これは、データ電極と異なり走査電極は線順次に一本ず
つそれも液晶表示装置を見る者からすればかなり高速度
で駆動されるから、液晶表示装置を見る者が走査電極側
で生じるドメイン現象を認めることはあまり考えられな
いからである。しかしながら、データ電極のストライプ
方向と直交する方向この分離領域を走査(ゲート)電極
上方に設け、この部分で生ずるドメイン現象をゲート電
極によって遮蔽するようにしても勿論良い。
In the above-described embodiment, the region for electrically separating the pixel electrodes 51 in the direction orthogonal to the stripe direction of the data (source) electrode is not particularly formed above the scan (gate) electrode. , As before.
This is because, unlike the data electrodes, the scan electrodes are driven line-sequentially one by one at a very high speed from the viewpoint of the liquid crystal display device, so that the domain phenomenon that occurs on the scan electrode side by the viewer of the liquid crystal display device. This is because admitting is unlikely. However, it is of course possible to provide this separation region in the direction orthogonal to the stripe direction of the data electrode above the scanning (gate) electrode so that the domain phenomenon occurring at this portion is blocked by the gate electrode.

又、上述の実施例においては、スイッチング素子をTF
Tとした例で説明している。しかし、スイッチング素子
をダイオード或はMIM(Metal Insulator Metal)等の他
の非線形スイッチング素子として構成した液晶表示装置
に対してもこの発明を適用出来ることは明らかである。
Also, in the above embodiment, the switching element is
This is explained using the example of T. However, it is obvious that the present invention can be applied to a liquid crystal display device in which the switching element is configured as a diode or another non-linear switching element such as MIM (Metal Insulator Metal).

(発明の効果) 上述した説明からも明らかなように、この発明の液晶
表示装置は、スイッチング素子等に起因する段差を平坦
化する絶縁層を具え、この絶縁層上に画素電極を具えて
いる。このため、ドメイン現象が生じにくく、かつ、液
晶の封入時に気泡が発生しにくい。さらに、画素電極と
ソース電極との間の隙間を直線的にするようなことをせ
ずともドメイン現象の発生を防止することが出来るか
ら、画素配列の自由度が損なわれることもない。
(Effects of the Invention) As is clear from the above description, the liquid crystal display device of the present invention includes an insulating layer for flattening a step due to a switching element or the like, and a pixel electrode on the insulating layer. . Therefore, the domain phenomenon is unlikely to occur, and bubbles are less likely to occur when the liquid crystal is sealed. Furthermore, since the occurrence of the domain phenomenon can be prevented without linearly forming the gap between the pixel electrode and the source electrode, the degree of freedom of the pixel arrangement is not impaired.

さらに、データ電極を遮光性の金属で構成し、然も、
隣接する画素電極間の、前記データ電極のストライプ方
向と平行方向の電気的分離領域を、このデータ電極の上
方の領域としてある。このため、電気力線の曲がりによ
って生じ易いドメイン現象については、データ電極を構
成している遮光性金属によって遮蔽することが出来る。
In addition, the data electrodes are made of light-shielding metal,
An electrical isolation region between adjacent pixel electrodes in a direction parallel to the stripe direction of the data electrode is defined as a region above the data electrode. Therefore, the domain phenomenon that is likely to occur due to the bending of the lines of electric force can be shielded by the light-shielding metal forming the data electrodes.

これがため、ドメイン現象が発生しにくく、又ドメイ
ン現象が発生しても視認されにくい液晶表示装置を提供
することが出来、よって、この発明の液晶表示装置は従
来のものよりもコントラスト特性、視野各特性が向上す
る。
For this reason, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the domain phenomenon is unlikely to occur and which is difficult to be visually recognized even if the domain phenomenon occurs. Therefore, the liquid crystal display device of the present invention has contrast characteristics and visual field The characteristics are improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図(A)及び(B)は、この発明の液晶表示装置の
説明に供する要部平面図及び断面図であって、画素電極
基板の一部を示す平面図及び断面図、 第2図は、この発明の液晶表示装置の説明に供する要部
断面図であって、共通電極基板の一部を示す断面図、 第3図〜第5図は従来の液晶表示装置の説明に供する図
であって、第3図及び第4図は画素電極基板の一部を示
す平面図及び断面図、第5図は液晶表示装置の一部を示
す断面図、 第6図は従来及びこの発明の説明に供する図である。 11……データ電極(ソース電極) 13……走査電極(ゲート電極) 15……スイッチング素子 17……ドレイン電極、23……ゲート絶縁膜 25……アモルファスSi、51、51a,51b……画素電極 53……コンタクトホール 55……画素電極間の電気的分離領域 57、61……平坦表面を有する絶縁層。
1 (A) and 1 (B) are a plan view and a cross-sectional view of an essential part for explaining a liquid crystal display device of the present invention, showing a plan view and a cross-sectional view showing a part of a pixel electrode substrate, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of an essential part for explaining a liquid crystal display device of the present invention, showing a part of a common electrode substrate, and FIGS. 3 to 5 are views for explaining a conventional liquid crystal display device. FIG. 3 and FIG. 4 are plan views and sectional views showing a part of the pixel electrode substrate, FIG. 5 is a sectional view showing a part of the liquid crystal display device, and FIG. FIG. 11 …… Data electrode (source electrode) 13 …… Scan electrode (gate electrode) 15 …… Switching element 17 …… Drain electrode, 23 …… Gate insulating film 25 …… Amorphous Si, 51, 51a, 51b …… Pixel electrode 53 ... Contact hole 55 ... Electrical isolation region between pixel electrodes 57, 61 ... Insulating layer with flat surface.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】並置配列された複数のストライプ状の走査
電極と、前記各走査電極と交差するように並置配列され
た複数のストライプ状のデータ電極と、前記各走査電極
および前記各データ電極の交差部にそれぞれ設けられた
スイッチング素子と、各スイッチング素子ごとに各々接
続された画素電極とを有した画素電極基板、並びに、該
画素電極基板に対向していて対向面に共通電極を有した
共通電極基板を具備する液晶表示装置において、 前記画素電極基板面上にスイッチング素子、走査電極お
よびデータ電極に起因する段差をなくすように平坦化さ
れた平坦表面を有する絶縁層を設け、該絶縁層の前記平
坦表面上に、かつ該絶縁層に設けられたコンタクトホー
ルを介して前記スイッチング素子に接続するように前記
画素電極を設けると共に、 前記データ電極を遮光性の金属で構成し、然も、 隣接する画素電極間の、前記データ電極のストライプ方
向と平行方向の電気的分離領域を、前記データ電極の上
方の領域としてあること を特徴とする液晶表示装置。
1. A plurality of stripe-shaped scanning electrodes arranged side by side, a plurality of stripe-shaped data electrodes arranged side by side so as to intersect each of the scanning electrodes, and each of the scanning electrodes and each of the data electrodes. A pixel electrode substrate having a switching element provided at each intersection and a pixel electrode connected to each switching element, and a common electrode having a common electrode on the opposite surface facing the pixel electrode substrate. In a liquid crystal display device including an electrode substrate, an insulating layer having a flat surface that is flattened so as to eliminate steps caused by switching elements, scanning electrodes and data electrodes is provided on the pixel electrode substrate surface, and the insulating layer The pixel electrode is provided on the flat surface so as to be connected to the switching element through a contact hole provided in the insulating layer. The data electrode is made of a light-shielding metal, and the electrical isolation region between adjacent pixel electrodes in the direction parallel to the stripe direction of the data electrode is a region above the data electrode. Characteristic liquid crystal display device.
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