JP2508255B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2508255B2 JP8594889A JP8594889A JP2508255B2 JP 2508255 B2 JP2508255 B2 JP 2508255B2 JP 8594889 A JP8594889 A JP 8594889A JP 8594889 A JP8594889 A JP 8594889A JP 2508255 B2 JP2508255 B2 JP 2508255B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、誤書き込み防止を図つたNAND型EPROMに
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of use] The present invention relates to a NAND type EPROM designed to prevent erroneous writing.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来技術の説明に当り、まずNAND型EPROMを説明す
る。NAND型EPROMは高集積化を図つたEPROMであり、第3
図(a)は1つのビツトラインにメモリトランジスタが
直列に複数個接続された構成を持つ従来のNAND型EPROM
の回路図、第3図(b)は第3図(a)に対応するパタ
ーン図である。この例では、4段のメモリトランジスタ
(T1)〜(T4)が直列接続されており、(W1)〜(W4)
はメモリトランジスタ(T1)〜(T4)の各々のコントロ
ールゲートに接続されたワードラインである。第4図
(a)はNAND型ではない従来のEPROMの回路図、第4図
(b)は第4図(a)に対応するパターン図である。ビ
ツトライン(B1)に対し、メモリトランジスタ(T1)は
直列に1個しか接続されていない構成で、ワードライン
(W1)も一つである。次に動作について説明する。
Before describing the conventional technology, a NAND EPROM will be described first. NAND type EPROM is a highly integrated EPROM.
Figure (a) shows a conventional NAND-type EPROM having a structure in which a plurality of memory transistors are connected in series to one bit line.
FIG. 3 (b) is a pattern diagram corresponding to FIG. 3 (a). In this example, four stages of memory transistors (T1) to (T4) are connected in series, and (W1) to (W4)
Is a word line connected to the control gate of each of the memory transistors (T1) to (T4). FIG. 4 (a) is a circuit diagram of a conventional EPROM which is not a NAND type, and FIG. 4 (b) is a pattern diagram corresponding to FIG. 4 (a). Only one memory transistor (T1) is connected in series to the bit line (B1), and the number of word lines (W1) is also one. Next, the operation will be described.

第3図に示すNAND型EPROMはビツトライン(B1)を接
続するためのコンタクトホール(C1)の個数が第4図に
示すNAND型でないEPROMに比べて減少するため、高集積
化に有利という特長を持つているが、その反面、書き込
み時に特殊な高電圧の組合せが必要とされる。第5図は
メモリトランジスタのドレイン電圧が9Vのときのコント
ロールゲート電圧VcGに対する書き込み後のしきい値電
圧VTHの関係を示すメモリトランジスタ書き込み特性を
示すグラフである。このメモリトランジスタ特性を利用
して第3図に示すメモリトランジスタ(T2)を選択的に
書き込む場合を考える。選択されたビツトライン(B1)
には9Vの高電圧を印加し、選択されたワードライン(W
2)には10Vの高電圧を、そして非選択のワードライン
(W1),(W3),(W4)には20Vの高電圧をそれぞれ印
加する必要がある。
The NAND type EPROM shown in FIG. 3 has a feature that it is advantageous for high integration because the number of contact holes (C1) for connecting the bit line (B1) is smaller than that of the non-NAND type EPROM shown in FIG. However, on the other hand, a special combination of high voltage is required for writing. FIG. 5 is a graph showing memory transistor write characteristics showing the relationship between the control gate voltage Vc G and the threshold voltage V TH after writing when the drain voltage of the memory transistor is 9V. Consider a case where the memory transistor (T2) shown in FIG. 3 is selectively written by utilizing this memory transistor characteristic. Selected bit line (B1)
A high voltage of 9V is applied to the selected word line (W
It is necessary to apply a high voltage of 10 V to 2) and a high voltage of 20 V to the unselected word lines (W1), (W3) and (W4).

さて、このワードラインの選択(10V)/非選択(20
V)の高電圧レベルが誤書き込みを生じやすい電圧レベ
ルの組合せになつている。その理由としてまず第1点目
は、非選択のワードライン(W1),(W3),(W4)の高
電圧レベル(以下“非選択レベル”と呼ぶ)20Vが選択
されたワードライン(W2)の高電圧レベル(以下“選択
レベル”と呼ぶ)10Vより高いために、非選択レベルの
立上り途中に選択レベル10Vを一瞬であるが通過するこ
とが挙げられる。このわずかな期間に非選択のワードラ
イン(W1),(W3),(W4)の接続されたメモリトラン
ジスタ(T1),(T3),(T4)に誤書き込みが起こる恐
れがある。第2点目として、高電圧に対するメモリトラ
ンジスタ(T1)〜(T4)の耐圧特性等を考慮すると、耐
圧不良あるいはリーク不良などに起因する非選択レベル
20Vからの電圧レベルダウンが生じることが考えられ
る。そのために非選択レベル20Vに達しないが、10V程度
の電圧レベルに落ち着くと選択レベルに相当するため誤
書き込みが起こる可能性がある。
Now, select (10V) / unselect (20V) this word line
The high voltage level of (V) is a combination of voltage levels that easily cause erroneous writing. The first reason is that the word line (W2) in which the high voltage level (hereinafter referred to as "non-selection level") 20V of the non-selected word lines (W1), (W3), (W4) is selected. Since it is higher than the high voltage level (hereinafter referred to as “selection level”) of 10V, the selection level of 10V may be momentarily passed during the rising of the non-selection level. During this slight period, erroneous writing may occur in the memory transistors (T1), (T3), (T4) to which the non-selected word lines (W1), (W3), (W4) are connected. Secondly, considering the breakdown voltage characteristics of the memory transistors (T1) to (T4) against high voltage, the non-selection level caused by breakdown voltage failure or leak failure, etc.
It is possible that the voltage level will drop from 20V. Therefore, the non-selection level of 20V is not reached, but when the voltage level of about 10V is settled down, it corresponds to the selection level, and erroneous writing may occur.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

従来のNAND型EPROMは以上のように構成されているの
で、EPROM書き込み時の選択されたビツトラインにおい
て、非選択のワードライン高電圧が選択されたワードラ
イン高電圧より高いために誤書き込みが生じ易いという
問題点があつた。
Since the conventional NAND type EPROM is configured as described above, erroneous writing is likely to occur because the unselected word line high voltage is higher than the selected word line high voltage at the selected bit line when writing the EPROM. There was a problem.

この発明は上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、非選択のワードラインの高電圧レベルが確
認されるまで、書き込みに関係する複数のワードライン
の各高電圧レベルが、メモリトランジスタのコントロー
ルゲートに印加されないようにして、誤書き込み防止を
図つた半導体集積回路を得ることを目的としている。
The present invention has been made to solve the above problems, and until the high voltage level of a non-selected word line is confirmed, each high voltage level of a plurality of word lines related to writing is stored in the memory. The purpose is to obtain a semiconductor integrated circuit in which erroneous writing is prevented by preventing application to the control gate of a transistor.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

この発明に係るNAND型EPROMは、メモリトランジスタ
のコントロールゲートに接続されたワードラインに、書
き込み動作時の非選択レベルを検知する回路を設けて、
同じくワードライン上に設けた書き込みコントロール回
路を制御する信号を発生させることにより、メモリトラ
ンジスタのコントロールゲートに印加される高電圧印加
時間をコントロールし、書き込み時の各非選択レベルが
所定のレベルに達しない期間には、メモリトランジスタ
への書込みが行われないようにしたものである。
A NAND type EPROM according to the present invention is provided with a circuit for detecting a non-selection level at the time of a write operation in a word line connected to a control gate of a memory transistor,
Similarly, by generating a signal for controlling the write control circuit provided on the word line, the application time of the high voltage applied to the control gate of the memory transistor is controlled, and each non-selection level during writing reaches a predetermined level. It is so arranged that writing to the memory transistor is not performed during the period in which it is not performed.

〔作用〕[Action]

この発明によるNAND型EPROMは、書き込み時に非選択
レベルの立ち上がり期間、あるいは非選択レベルの電圧
ダウンに起因する非選択のメモリトランジスタへの誤書
き込みを防止することができ、不良を起こり難くするこ
とができる。
The NAND type EPROM according to the present invention can prevent erroneous writing to a non-selected memory transistor due to a rising period of the non-selected level or a voltage drop of the non-selected level at the time of writing, thus making it difficult to cause a defect. it can.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第
1図は4段積みのNAND型EPROMの回路図、第2図はNAND
型EPROMのメモリ構成を示す回路図である。図において
(B1)(C1)(T1)〜(T4),(W1)〜(W4)は第3
図の従来例に示したものと同様であるので説明を省略す
る。まず第1図によつて説明する。ワードライン(W1)
〜(W4)に印加される電圧レベルはダイオードの役割を
果すトランジスタ(D1)〜(D4)を経由して配線(L1)
〜(L4)に接続され、高電圧検知回路(1)に入力され
る。高電圧検知回路(1)の例として、ここではCMOS型
インバータ2段で回路を構成したが、この回路のトラン
ジスタはそのチヤネル幅及びチヤネル長のサイズをそれ
ぞれ調整して、ワードラインからの入力信号が例えば15
V以上になつて始めて2段目のインバータ出力が“H"に
なるように設定する必要がある。なお、この15V以上と
いう値は、第5図に示すメモリトランジスタ書き込み特
性において書き込みができなくなる電圧を意味してい
る。次に高電圧検知回路(1)の出力(H1)〜(H4)
は、4入力NOR回路(2)に入力される。4入力NOR回路
(2)の各トランジスタサイズについても以下の内容の
調整が必要である。すなわち、4つの入力のうち3つの
入力が“H"レベルのときのみ出力が“L"となるようにし
てある。なお、この場合4入力NOR回路(2)一段だけ
で“H"または“L"レベルの電圧レベルが出難い場合に
は、更にインバータ2段を挿入するなどして出力レベル
の調整をする必要がある。続いて、4入力NOR回路
(2)の出力はEPROM用の高電圧電源インバータ(3)
に入力され、その出力(4)はワードライン(W1)〜
(W4)の電圧レベルをメモリトランジスタ(T1)〜(T
4)へ伝達する期間を制御するために挿入された、トラ
ンスフアゲート(TF1)〜(TF4)の各ゲートに入力され
る。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Figure 1 is a circuit diagram of a 4-stage stacked NAND EPROM, and Figure 2 is a NAND.
3 is a circuit diagram showing a memory configuration of a type EPROM. FIG. In the figure, (B1) 1 (C1) (T1) to (T4), (W1) to (W4) are the third
The description is omitted because it is similar to that shown in the conventional example of the figure. First, description will be made with reference to FIG. Word line (W1)
The voltage level applied to ~ (W4) goes through the transistor (D1) ~ (D4) that plays the role of diode, and the wiring (L1)
~ (L4) and input to the high voltage detection circuit (1). As an example of the high-voltage detection circuit (1), the circuit is composed of two stages of CMOS type inverters here. The transistors of this circuit adjust the channel width and channel length, respectively, to obtain the input signal from the word line. Is, for example, 15
It is necessary to set the inverter output of the second stage to become "H" only after it becomes V or more. The value of 15 V or higher means a voltage at which writing is impossible in the memory transistor writing characteristics shown in FIG. Next, the output (H1) to (H4) of the high voltage detection circuit (1)
Is input to the 4-input NOR circuit (2). It is necessary to adjust the following contents for each transistor size of the 4-input NOR circuit (2). That is, the output is set to "L" only when three of the four inputs are at "H" level. In this case, if it is difficult to obtain the "H" or "L" level voltage level with only one stage of the 4-input NOR circuit (2), it is necessary to adjust the output level by further inserting two stages of inverters. is there. Next, the output of the 4-input NOR circuit (2) is the high voltage power inverter (3) for EPROM.
Input to the word line (W1) ~
Set the voltage level of (W4) to memory transistors (T1) to (T
4) Input to each gate of transfer gates (TF1) to (TF4) inserted to control the period of transmission.

以下、動作について説明する。いま、書き込み時にビ
ツトライン(B1)が選択されワードライン(W2)が選択
されたとする。残るワードライン(W1),(W3),(W
4)は非選択レベル20Vになり、ワードライン(W2)が選
択レベル10Vになる。これらにより高電圧検知回路
(1)の出力(H1),(H3),(H4)がそれぞれ“H"レ
ベルになり、高電圧検知回路(1)の出力(H2)のみが
“L"レベルになるため、4入力NOR回路(2)の出力は
上記の回路構成にしたがい“L"レベルとなり、高電圧電
源インバータ(3)の出力(4)として高電圧が得ら
れ、トランスフアゲート(TF1)〜(TF4)をONさせる。
若しここで、ワードライン(W2)以外のワードライン
(W1),(W3),(W4)のうち、たとえ1本だけでも15
V以上にならない場合には、高電圧電源インバータ
(3)の出力(4)は“L"レベルとなり、トランスフア
ゲート(TF1)〜(TF4)はOFFのままなので、メモリト
ランジスタ(T1)〜(T4)のコントロールゲートには高
電圧が印加されず誤書き込みが生じない。
The operation will be described below. Now, assume that the bit line (B1) and the word line (W2) are selected during writing. Remaining word lines (W1), (W3), (W
4) becomes the non-selection level 20V and the word line (W2) becomes the selection level 10V. As a result, the output (H1), (H3), (H4) of the high voltage detection circuit (1) becomes "H" level, and only the output (H2) of the high voltage detection circuit (1) becomes "L" level. Therefore, the output of the 4-input NOR circuit (2) becomes "L" level according to the above circuit configuration, and a high voltage is obtained as the output (4) of the high voltage power supply inverter (3), and the transfer gate (TF1) ~ Turn on (TF4).
If only one of the word lines (W1), (W3), (W4) other than the word line (W2) is 15 here.
If the voltage does not exceed V, the output (4) of the high-voltage power supply inverter (3) goes to "L" level and the transfer gates (TF1) to (TF4) remain off, so the memory transistors (T1) to (T4). No high voltage is applied to the control gate of), and erroneous writing does not occur.

なお、実際のメモリアレイは第2図に示したような構
成をとつているので、選択されたビツトライン(B1)以
外の非選択のビツトライン(B2)〜(BN)などのメモリ
トランジスタの中には、コントロールゲートに書き込み
用の高電圧(10V又は20V)レベルが印加されるものがあ
る。しかし、ビツトライン(B2)〜(BN)は非選択のた
め書き込みは行われない。また一方、選択されたビツト
ライン(B1)に接続されている他のメモリトランジスタ
のコントロールゲートに接続されている非選択のワード
ライン、例えば(W5)〜(W8)は“L"レベルとなつてお
り、これもダイオードの役割を果すトランジスタ例えば
(D5)〜(D8)を経由して配線(L1)〜(L4)に接続さ
れているので、選択されている他のワードラインに影響
を与えることは無い。
Since the actual memory array has the configuration shown in FIG. 2, some memory transistors such as unselected bit lines (B2) to (BN) other than the selected bit line (B1) may be included. In some cases, a high voltage (10V or 20V) level for writing is applied to the control gate. However, since the bit lines (B2) to (BN) are not selected, writing is not performed. On the other hand, non-selected word lines connected to the control gates of other memory transistors connected to the selected bit line (B1), eg (W5) to (W8), are set to "L" level. , This is also connected to wirings (L1) to (L4) via transistors (D5) to (D8) that also play the role of diodes, so it is possible to affect other selected word lines. There is no.

なお第1図の実施例では、ワードラインに(W1)〜
(W4)トランスフアゲートのトランジスタ(TF1)〜(T
F4)を設けたが、第1図に示した回路の例に限らず他の
回路であつても構わない。
In the embodiment shown in FIG. 1, (W1)-
(W4) Transfer gate transistors (TF1) to (T
Although F4) is provided, it is not limited to the example of the circuit shown in FIG. 1 and may be another circuit.

また、高電圧検知回路(1)及び4入力NOR回路
(2)についても一例を示したのみであり、特にこの回
路に限る必要はなく他の回路によつても所望の機能を実
現させることができる。
Further, the high-voltage detection circuit (1) and the 4-input NOR circuit (2) are only shown as an example, and it is not particularly limited to this circuit, and other circuits can realize desired functions. it can.

更に、8段又は16段などのNAND型EPROMについても、
第1図の基本的な構造を拡張することによりこの発明の
効果を示す回路を実現することができる。
Furthermore, for NAND EPROMs with 8 or 16 stages,
A circuit showing the effect of the present invention can be realized by expanding the basic structure of FIG.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように、この発明によればNAND型EPROMの書き
込みにおいて、選択ビツトラインに直列に接続された複
数個のメモリトランジスタのコントロールゲートに接続
されるワードラインの中で、選択ワードラインより高い
高電圧を必要とする非選択ワードラインの高電圧が所定
のレベルにならなければ、メモリトランジスタのコント
ロールゲートに高電圧が印加されず、非選択のメモリト
ランジスタへの誤書き込みが生じないという効果があ
る。
As described above, according to the present invention, in the writing of the NAND type EPROM, among the word lines connected to the control gates of the plurality of memory transistors connected in series to the selected bit line, the high voltage higher than that of the selected word line is used. If the high voltage of the non-selected word line requiring the memory cell does not reach the predetermined level, the high voltage is not applied to the control gate of the memory transistor, and the erroneous writing to the non-selected memory transistor does not occur.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明に係る半導体集積回路の一実施例によ
るNAND型EPROMの回路図、第2図はこの発明の一実施例
によるNAND型EPROMのメモリ構成を示す回路図、第3図
(a),(b)は1ビツトライン当り複数のメモリトラ
ンジスタを持つ従来のNAND型EPROMを示す回路図及びパ
ターン図、第4図(a),(b)は従来の非NAND型EPRO
Mを示す回路図及びパターン図、第5図はメモリトラン
ジスタの書き込み特性を示すグラフである。 図において、(1)は高電圧検知回路、(2)は4入力
NOR回路、(3)は高電圧電源インバータ、(4)は出
力、(B1)〜(BN)はビツトライン、(D1)〜(D8)は
ダイオードの役割を果すトランジスタ、(H1)〜(H4)
は高電圧検知回路の出力、(L1)〜(L4)は配線、(T
1)〜(T8)はメモリトランジスタ、(TF1)〜(TF8)
はトランスフアゲート、(W1)〜(W8)はワードライン
である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a circuit diagram of a NAND type EPROM according to an embodiment of a semiconductor integrated circuit according to the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing a memory configuration of a NAND type EPROM according to an embodiment of the present invention, and FIG. ) And (b) are circuit diagrams and pattern diagrams showing a conventional NAND type EPROM having a plurality of memory transistors per bit line, and FIGS. 4 (a) and 4 (b) are conventional non-NAND type EPROs.
A circuit diagram and a pattern diagram showing M, and FIG. 5 are graphs showing write characteristics of the memory transistor. In the figure, (1) is a high voltage detection circuit, (2) is 4 inputs
NOR circuit, (3) high-voltage power inverter, (4) output, (B1) to (BN) bit lines, (D1) to (D8) transistors functioning as diodes, (H1) to (H4)
Is the output of the high voltage detection circuit, (L1) to (L4) are the wiring, and (T
1) to (T8) are memory transistors, (TF1) to (TF8)
Is a transfer gate, and (W1) to (W8) are word lines. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】NAND型EPROMにおいて、メモリトランジス
タのコントロールゲートに接続されたワードラインに高
電圧検知回路を設け、高電圧検知回路はEPROM書き込み
時の選択されたビツトラインにつながる複数個の直列メ
モリトランジスタの中で選択されたワードラインの書き
込みに必要な高電圧より更に高い非選択ワードラインの
高電圧を検知し、この高電圧検知信号により選択された
メモリトランジスタのワードラインの書き込み高電圧印
加時間をコントロールし、またそのコントロールを実現
するための回路を備え持ち、上記非選択高電圧が印加さ
れていない期間はメモリトランジスタのワードラインに
書き込み高電圧が印加されないようにしたことを特徴と
する半導体集積回路。
1. In a NAND type EPROM, a high voltage detection circuit is provided in a word line connected to a control gate of a memory transistor, and the high voltage detection circuit is composed of a plurality of serial memory transistors connected to a selected bit line during EPROM writing. The high voltage of the non-selected word line, which is higher than the high voltage required to write the selected word line among the above, is detected, and the write high voltage application time of the word line of the memory transistor selected by this high voltage detection signal is detected. A semiconductor integrated circuit having a control circuit and a circuit for realizing the control, wherein the write high voltage is not applied to the word line of the memory transistor while the non-selection high voltage is not applied. circuit.
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