JP2021153176A - Die bonding device, peeling jig and manufacturing method of semiconductor device - Google Patents

Die bonding device, peeling jig and manufacturing method of semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP2021153176A
JP2021153176A JP2021008082A JP2021008082A JP2021153176A JP 2021153176 A JP2021153176 A JP 2021153176A JP 2021008082 A JP2021008082 A JP 2021008082A JP 2021008082 A JP2021008082 A JP 2021008082A JP 2021153176 A JP2021153176 A JP 2021153176A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
die
block
dicing tape
die bonding
peeled
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021008082A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
航大 田代
Kodai Tashiro
航大 田代
勇輝 名久井
Yuki Nakui
勇輝 名久井
明 齊藤
Akira Saito
明 齊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fasford Technology Co Ltd
Original Assignee
Fasford Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fasford Technology Co Ltd filed Critical Fasford Technology Co Ltd
Priority to TW110104165A priority Critical patent/TWI810522B/en
Priority to TW112127685A priority patent/TW202347464A/en
Priority to CN202110296227.5A priority patent/CN113436988A/en
Publication of JP2021153176A publication Critical patent/JP2021153176A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Die Bonding (AREA)

Abstract

To provide a die bonding device capable of reducing cracking and chipping of a die during picking up.SOLUTION: A die bonding device includes a peeling unit for peeling a die D attached to a dicing tape 16 formed of a temperature-sensitive adhesive sheet. In the peeling unit, a peeling jig 101 includes a block 102 that comes into contact with the part to which the die to be peeled is attached in the dicing tape, a dome plate 109 that comes into contact with the part to which the die to be peeled is not attached in the dicing tape, and a heat treatment device 103 for setting the block to a temperature at which the dicing tape peels from the die to be peeled, in a cylindrical dome 108.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本開示はダイボンディング装置に関し、例えば加熱型剥離シートに貼付されたダイをピックアップするダイボンディング装置に適用可能である。 The present disclosure relates to a die bonding apparatus, and is applicable to, for example, a die bonding apparatus that picks up a die attached to a heating type release sheet.

半導体チップ(以下、ダイという。)を、例えば、配線基板やリードフレームなど(以下、総称して基板という。)の表面に搭載するダイボンダにおいては、コレット等の吸着ノズルを用いてダイを基板上に搬送し、押付力を付与すると共に、接合材を加熱することによりボンディングを行うという動作(作業)が繰り返して行われる。 In a die bonder in which a semiconductor chip (hereinafter referred to as a die) is mounted on the surface of a wiring board, a lead frame, or the like (hereinafter, collectively referred to as a substrate), the die is placed on the substrate by using an adsorption nozzle such as a collet. The operation (work) of bonding the bonding material by heating the bonding material is repeated while the pressing force is applied to the bonding material.

ダイボンダ等のダイボンディング装置によるダイボンディング工程の中には、粘着テープであるダイシングテープを貼り付けた半導体ウェハ(以下、ウェハという。)から分割されたダイを剥離する剥離工程がある。剥離工程では、ダイシングテープ裏面から突上げピンやブロックによってダイを突き上げて、ダイ供給部に保持されたダイシングテープから、1個ずつ剥離し、コレット等の吸着ノズルを使って基板上に搬送する。 Among the die bonding steps by a die bonding device such as a die bonder, there is a peeling step of peeling a divided die from a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) to which a dicing tape which is an adhesive tape is attached. In the peeling step, the die is pushed up from the back surface of the dicing tape by a push-up pin or a block, peeled one by one from the dicing tape held in the die supply unit, and conveyed onto the substrate using a suction nozzle such as a collet.

近年、半導体装置の高密度実装を推進する目的で、配線基板上に複数枚のダイを三次元的に実装する積層パッケージが実用化されているが、このような積層パッケージを組み立てるに際しては、厚さが数十μm程度まで薄く加工されたダイが使用される。 In recent years, for the purpose of promoting high-density mounting of semiconductor devices, a laminated package in which a plurality of dies are three-dimensionally mounted on a wiring board has been put into practical use. A die that has been thinned to a thickness of several tens of μm is used.

特開2012−4393号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-4393

ところで、ダイが薄くなると、ダイシングテープの粘着力に比べてダイの剛性が極めて低くなる。したがって、薄いダイを使用するパッケージの組み立て工程では、ダイシングによって分割されたダイを粘着テープから剥離、ピックアップする際に、ダイに割れや欠けが生じ易い。 By the way, when the die becomes thin, the rigidity of the die becomes extremely low as compared with the adhesive force of the dicing tape. Therefore, in the package assembly process using a thin die, the die is likely to be cracked or chipped when the die divided by dicing is peeled off from the adhesive tape and picked up.

本開示の課題は、ピックアップする際に、ダイの割れや欠けを低減することが可能なダイボンディング装置を提供することにある。 An object of the present disclosure is to provide a die bonding apparatus capable of reducing cracking or chipping of a die when picking up.

本開示のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち、ダイボンディング装置は、加熱剥離型粘着シートで形成されたダイシングテープに貼付されたダイを剥離する剥離ユニットを備える。剥離ユニットは、ダイシングテープのうち剥離対象のダイが貼付された部位と当接するブロックと、ダイシングテープのうち剥離対象のダイが貼付されていない部位と当接するドームプレートと、ブロックをダイシングテープが剥離対象のダイから剥離する温度に加熱する加熱装置と、加熱装置の温度を測定する温度センサと、ドームプレートを冷却する冷却部と、を円筒状のドーム内に備える。
The following is a brief overview of the representative ones of the present disclosure.
That is, the die bonding apparatus includes a peeling unit that peels the die attached to the dicing tape formed of the heat peeling type adhesive sheet. The peeling unit consists of a block that comes into contact with the part of the dicing tape to which the die to be peeled is attached, a dome plate that comes into contact with the part of the dicing tape to which the die to be peeled is not attached, and the dicing tape that peels the block. A heating device that heats to a temperature at which it peels off from the target die, a temperature sensor that measures the temperature of the heating device, and a cooling unit that cools the dome plate are provided in the cylindrical dome.

本開示によれば、ダイの割れや欠けを低減することが可能である。 According to the present disclosure, it is possible to reduce cracking and chipping of the die.

実施形態におけるダイボンダの概略を示す上面図である。It is a top view which shows the outline of the die bonder in an embodiment. 図1において矢印A方向から見たときにピックアップヘッドおよびボンディングヘッドの動作を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the operation of the pickup head and the bonding head when viewed from the direction of arrow A in FIG. 図1のダイ供給部の主要部を示す概略断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the main part of the die supply part of FIG. 図3の剥離治具を説明する上面図である。It is a top view explaining the peeling jig of FIG. 図4の剥離治具のA−A断面図である。It is a cross-sectional view of AA of the peeling jig of FIG. 剥離シーケンスを示すタイミング図である。It is a timing diagram which shows the peeling sequence. 図1のダイボンダを用いた半導体装置の製造方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the manufacturing method of the semiconductor device using the die bonder of FIG. 第一変形例における剥離治具の断面図である。It is sectional drawing of the peeling jig in the 1st modification. 第二変形例における剥離治具の断面図である。It is sectional drawing of the peeling jig in the 2nd modification. 第三変形例における剥離治具の断面図である。It is sectional drawing of the peeling jig in the 3rd modification. 第四変形例から第七変形例における剥離治具を説明する図である。It is a figure explaining the peeling jig in the 4th modification to the 7th modification.

以下、実施形態について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明を省略することがある。なお、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。 Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings. However, in the following description, the same components may be designated by the same reference numerals and repeated description may be omitted. In addition, in order to clarify the explanation, the drawings may schematically represent the width, thickness, shape, etc. of each part as compared with the actual embodiment, but this is just an example, and the interpretation of the present invention is used. It is not limited.

図1は実施形態におけるダイボンダの概略を示す上面図である。図2は図1において矢印A方向から見たときに、ピックアップヘッド及びボンディングヘッドの動作を説明する図である。 FIG. 1 is a top view showing an outline of a die bonder in the embodiment. FIG. 2 is a diagram illustrating the operation of the pickup head and the bonding head when viewed from the direction of arrow A in FIG.

ダイボンダ10は、大別して、基板Sに実装するダイDを供給するダイ供給部1と、ピックアップ部2、中間ステージ部3と、ボンディング部4と、搬送部5、基板供給部6と、基板搬出部7と、各部の動作を監視し制御する制御部8と、を有する。Y軸方向がダイボンダ10の前後方向であり、X軸方向が左右方向である。ダイ供給部1がダイボンダ10の手前側に配置され、ボンディング部4が奥側に配置される。ここで、基板Sには最終1パッケージとなる、一つ又は複数の製品エリア(以下、パッケージエリアPという。)がプリントされている。 The die bonder 10 is roughly divided into a die supply unit 1 for supplying a die D to be mounted on the substrate S, a pickup unit 2, an intermediate stage unit 3, a bonding unit 4, a transport unit 5, a substrate supply unit 6, and a substrate unloading unit. It has a unit 7 and a control unit 8 that monitors and controls the operation of each unit. The Y-axis direction is the front-rear direction of the die bonder 10, and the X-axis direction is the left-right direction. The die supply unit 1 is arranged on the front side of the die bonder 10, and the bonding unit 4 is arranged on the back side. Here, one or a plurality of product areas (hereinafter, referred to as package areas P), which is the final package, are printed on the substrate S.

まず、ダイ供給部1は基板SのパッケージエリアPに実装するダイDを供給する。ダイ供給部1は、ウェハ11を保持するウェハ保持台12と、ウェハ11からダイDを剥離する点線で示す剥離ユニット13と、を有する。ダイ供給部1は図示しない駆動手段によってXY軸方向に移動し、ピックアップするダイDを剥離ユニット13の位置に移動させる。 First, the die supply unit 1 supplies the die D to be mounted on the package area P of the substrate S. The die supply unit 1 has a wafer holding table 12 for holding the wafer 11 and a peeling unit 13 shown by a dotted line for peeling the die D from the wafer 11. The die supply unit 1 is moved in the XY axis direction by a driving means (not shown), and the die D to be picked up is moved to the position of the peeling unit 13.

ピックアップ部2は、ダイDをピックアップするピックアップヘッド21と、ピックアップヘッド21をY軸方向に移動させるピックアップヘッドのY駆動部23と、コレット22を昇降、回転及びX軸方向移動させる図示しない各駆動部と、を有する。ピックアップヘッド21は、剥離されたダイDを先端に吸着保持するコレット22(図2も参照)を有し、ダイ供給部1からダイDをピックアップし、中間ステージ31に載置する。ピックアップヘッド21は、コレット22を昇降、回転及びX軸方向移動させる図示しない各駆動部を有する。 The pickup unit 2 includes a pickup head 21 that picks up the die D, a Y drive unit 23 of the pickup head that moves the pickup head 21 in the Y-axis direction, and each drive (not shown) that moves the collet 22 up / down, rotates, and moves in the X-axis direction. It has a part and. The pickup head 21 has a collet 22 (see also FIG. 2) that attracts and holds the peeled die D to the tip, picks up the die D from the die supply unit 1, and places it on the intermediate stage 31. The pickup head 21 has drive units (not shown) that move the collet 22 up / down, rotate, and move in the X-axis direction.

中間ステージ部3は、ダイDを一時的に載置する中間ステージ31と、中間ステージ31上のダイDを認識する為のステージ認識カメラ32を有する。 The intermediate stage unit 3 has an intermediate stage 31 on which the die D is temporarily placed, and a stage recognition camera 32 for recognizing the die D on the intermediate stage 31.

ボンディング部4は、中間ステージ31からダイDをピックアップし、搬送されてくる基板SのパッケージエリアP上にボンディングし、又は既に基板SのパッケージエリアPの上にボンディングされたダイの上に積層する形でボンディングする。ボンディング部4は、ピックアップヘッド21と同様にダイDを先端に吸着保持するコレット42(図2も参照)を備えるボンディングヘッド41と、ボンディングヘッド41をY軸方向に移動させるY駆動部43と、基板SのパッケージエリアPの位置認識マーク(図示せず)を撮像し、ボンディング位置を認識する基板認識カメラ44とを有する。このような構成によって、ボンディングヘッド41は、ステージ認識カメラ32の撮像データに基づいてピックアップ位置・姿勢を補正し、中間ステージ31からダイDをピックアップし、基板認識カメラ44の撮像データに基づいて基板にダイDをボンディングする。 The bonding unit 4 picks up the die D from the intermediate stage 31 and bonds it on the package area P of the substrate S to be conveyed, or stacks it on the die already bonded on the package area P of the substrate S. Bond in shape. The bonding unit 4 includes a bonding head 41 having a collet 42 (see also FIG. 2) that attracts and holds the die D to the tip like the pickup head 21, and a Y drive unit 43 that moves the bonding head 41 in the Y-axis direction. It has a substrate recognition camera 44 that captures a position recognition mark (not shown) of the package area P of the substrate S and recognizes the bonding position. With such a configuration, the bonding head 41 corrects the pickup position / orientation based on the image data of the stage recognition camera 32, picks up the die D from the intermediate stage 31, and bases the board based on the image data of the board recognition camera 44. Bond the die D to.

搬送部5は、基板Sを掴み搬送する基板搬送爪51と、基板Sが移動する搬送レーン52と、を有する。基板Sは、搬送レーン52に設けられた基板搬送爪51の図示しないナットを搬送レーン52に沿って設けられた図示しないボールネジで駆動することによって移動する。このような構成によって、基板Sは、基板供給部6から搬送レーン52に沿ってボンディング位置まで移動し、ボンディング後、基板搬出部7まで移動して、基板搬出部7に基板Sを渡す。 The transport unit 5 has a substrate transport claw 51 that grips and transports the substrate S, and a transport lane 52 to which the substrate S moves. The substrate S moves by driving a nut (not shown) of the substrate transport claw 51 provided in the transport lane 52 with a ball screw (not shown) provided along the transport lane 52. With such a configuration, the substrate S moves from the substrate supply unit 6 to the bonding position along the transport lane 52, and after bonding, moves to the substrate unloading unit 7 and passes the substrate S to the substrate unloading unit 7.

制御部8は、ダイボンダ10の各部の動作を監視し制御するプログラム(ソフトウェア)を格納するメモリと、メモリに格納されたプログラムを実行する中央処理装置(CPU)と、を備える。 The control unit 8 includes a memory for storing a program (software) for monitoring and controlling the operation of each unit of the die bonder 10, and a central processing unit (CPU) for executing the program stored in the memory.

次に、ダイ供給部1の構成について図3を用いて説明する。図3は図1のダイ供給部の主要部を示す概略断面図である。 Next, the configuration of the die supply unit 1 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a main part of the die supply part of FIG.

ダイ供給部1は、水平方向(XY軸方向)に移動するウェハ保持台12と、上下方向に移動する剥離ユニット13と、を備える。ウェハ保持台12は、ウェハリング14を保持するエキスパンドリング15と、ウェハリング14に保持され複数のダイDが接着されたダイシングテープ16を水平に位置決めする支持リング17と、を有する。剥離ユニット13は支持リング17の内側に配置される。 The die supply unit 1 includes a wafer holding base 12 that moves in the horizontal direction (XY axis direction) and a peeling unit 13 that moves in the vertical direction. The wafer holding table 12 has an expanding ring 15 that holds the wafer ring 14, and a support ring 17 that horizontally positions the dicing tape 16 held by the wafer ring 14 to which a plurality of dies D are adhered. The peeling unit 13 is arranged inside the support ring 17.

ダイ供給部1は、ダイDの突き上げ時に、ウェハリング14を保持しているエキスパンドリング15を下降させる。その結果、ウェハリング14に保持されているダイシングテープ16が引き伸ばされダイDの間隔が広がり、剥離ユニット13によりダイシングテープ16からダイDを剥離し、ダイDのピックアップ性を向上させている。なお、ダイを基板に接着する接着剤は、液状からフィルム状となり、ウェハ11とダイシングテープ16との間にダイアタッチフィルム(DAF)18と呼ばれるフィルム状の接着材料を貼り付けている。ダイアタッチフィルム18を有するウェハ11では、ダイシングは、ウェハ11とダイアタッチフィルム18に対して行なわれる。従って、剥離工程では、ウェハ11とダイアタッチフィルム18をダイシングテープ16から剥離する。なお、以降では、ダイアタッチフィルム18の存在を無視して、剥離工程を説明する。 The die supply unit 1 lowers the expanding ring 15 holding the wafer ring 14 when the die D is pushed up. As a result, the dicing tape 16 held by the wafer ring 14 is stretched to widen the interval between the dies D, and the die D is peeled from the dicing tape 16 by the peeling unit 13 to improve the pick-up property of the die D. The adhesive for adhering the die to the substrate changes from a liquid to a film, and a film-like adhesive material called a die attach film (DAF) 18 is attached between the wafer 11 and the dicing tape 16. In the wafer 11 having the die attach film 18, dicing is performed on the wafer 11 and the die attach film 18. Therefore, in the peeling step, the wafer 11 and the die attach film 18 are peeled from the dicing tape 16. In the following, the peeling step will be described ignoring the presence of the die attach film 18.

ダイシングテープ16として、設定温度以上で粘着力がなくなる高温剥離性粘着シート、または設定温度以下で粘着力がなくなる低温剥離性粘着シートを使用する。ここで、高温剥離性粘着シートおよび低温剥離性粘着シートを感温性粘着シートという。ダイシングテープ16として、例えば、常温では粘着力があり、加熱すると剥がれる熱剥離シート(高温剥離性粘着シート)を使用する。熱剥離シートとしては、例えば、熱膨張性微小球等の発泡剤を含有する熱膨張性層を備えた加熱剥離型粘着シート(商品名「リバアルファ」(登録商標)、「リバクリーン」;以上、日東電工(株)製)を使用する。例えば、「リバアルファ」の90℃タイプは、ホットプレート(熱板)で100〜120℃に1分加熱することで基板などから剥離する。すなわち、熱板で加熱する場合、高温剥離性粘着シートの表面温度(ダイアタッチフィルム18との界面の温度)を剥離温度にするためには、熱板温度を剥離温度よりやや高く設定する必要がある。なお、高温剥離性粘着シートを使用する場合は、ダイアタッチフィルム18の硬化温度(通常150℃)よりも低い温度で剥離するものが好ましい。また、ダイアタッチフィルム18の硬化は、指定温度を長い時間(1時間程度)掛けるものであり、高温剥離性粘着シートの加熱時間が短い場合、高温剥離性粘着シートの剥離温度はダイアタッチフィルム18の硬化温度と同程度であってもよい。ダイシングテープ16は、通常の厚さ(100μm程度)よりも薄い基材を用いるのが好ましい。ダイシングテープ16の厚さは、例えば、50〜80μmである。これにより、吸着時のブロックへの追従性を増加させることができる。 As the dicing tape 16, a high-temperature peelable adhesive sheet that loses its adhesive strength at a set temperature or higher or a low-temperature peelable adhesive sheet that loses its adhesive strength at a set temperature or lower is used. Here, the high-temperature peelable adhesive sheet and the low-temperature peelable adhesive sheet are referred to as temperature-sensitive adhesive sheets. As the dicing tape 16, for example, a heat release sheet (high temperature release adhesive sheet) that has adhesive strength at room temperature and peels off when heated is used. Examples of the heat-release sheet include heat-release adhesive sheets having a heat-expandable layer containing a foaming agent such as heat-expandable microspheres (trade names "Riva Alpha" (registered trademark), "Riva Clean"; , Nitto Denko Co., Ltd.) is used. For example, the 90 ° C. type of "Riva Alpha" is peeled off from a substrate or the like by heating it to 100 to 120 ° C. for 1 minute on a hot plate (hot plate). That is, when heating with a hot plate, it is necessary to set the hot plate temperature slightly higher than the peeling temperature in order to set the surface temperature of the high-temperature peelable adhesive sheet (the temperature at the interface with the die attach film 18) to the peeling temperature. be. When a high-temperature peelable adhesive sheet is used, it is preferably peeled at a temperature lower than the curing temperature (usually 150 ° C.) of the die attach film 18. Further, the curing of the die attach film 18 is carried out by applying a designated temperature for a long time (about 1 hour), and when the heating time of the high temperature peelable adhesive sheet is short, the peeling temperature of the high temperature peelable adhesive sheet is the die attach film 18. It may be about the same as the curing temperature of. As the dicing tape 16, it is preferable to use a base material thinner than the usual thickness (about 100 μm). The thickness of the dicing tape 16 is, for example, 50 to 80 μm. As a result, it is possible to increase the followability to the block at the time of adsorption.

次に、剥離治具の構成について図4および図5を用いて説明する。図4は図3の剥離治具の上面図である。図5は図4の剥離治具のA−A断面図である。 Next, the configuration of the peeling jig will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 4 is a top view of the peeling jig of FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA of the peeling jig of FIG.

剥離ユニット13は、大別して、剥離治具101と剥離治具101を昇降する駆動機構(不図示)とを有する。図4に示すように、剥離治具101は、ダイシングテープ16を加熱するブロック102と、ブロック102を加熱するヒータ103と、ヒータ103の温度を測定する温度センサ104と、冷却部105と、第一吸引部106と、第二吸引部107と、ブロック102を昇降する駆動部(不図示)と、それらを保持する円筒状のドーム108と、ドーム108に蓋をするドームプレート109と、を有する。剥離治具101は、例えば、高さ83mm程度、径は32mm程度の大きさである。 The peeling unit 13 is roughly classified into a peeling jig 101 and a drive mechanism (not shown) for raising and lowering the peeling jig 101. As shown in FIG. 4, the peeling jig 101 includes a block 102 for heating the dicing tape 16, a heater 103 for heating the block 102, a temperature sensor 104 for measuring the temperature of the heater 103, a cooling unit 105, and a second. It has one suction unit 106, a second suction unit 107, a drive unit (not shown) that raises and lowers the block 102, a cylindrical dome 108 that holds them, and a dome plate 109 that covers the dome 108. .. The peeling jig 101 has, for example, a height of about 83 mm and a diameter of about 32 mm.

ブロック102は、剥離治具101の上部の中心部に組み込まれている。ブロック102は平面視で矩形状であり、ダイDの平面形状とほぼ同じであり同程度の大きさに構成される。また、ブロック102は、例えば、窒化アルミニウム等の熱伝導率が良い材料で形成されている。ブロック102は上下方向に貫通する複数の吸引口102aを備え、吸引口102aは下方に設けられる第一吸引部106の空洞106aと連通している。空洞106aはパイプ106bと連通し、図示しない減圧装置としての真空ポンプに接続されている。吸引口102aのそれぞれの内部は、剥離治具101を上昇させてその上面をダイシングテープ16の裏面に接触させた際、真空ポンプによって減圧され、ピックアップ対象ダイの部位のダイシングテープ16の裏面がブロック102の上面に密着するように構成されている。吸引口102a、第一吸引部106(空洞106a、パイプ106b)は第一真空経路を構成している。 The block 102 is incorporated in the central portion of the upper part of the peeling jig 101. The block 102 has a rectangular shape in a plan view, is substantially the same as the plan shape of the die D, and is configured to have the same size. Further, the block 102 is made of a material having good thermal conductivity, such as aluminum nitride. The block 102 includes a plurality of suction ports 102a penetrating in the vertical direction, and the suction ports 102a communicate with the cavity 106a of the first suction portion 106 provided below. The cavity 106a communicates with the pipe 106b and is connected to a vacuum pump as a decompression device (not shown). When the peeling jig 101 is raised to bring the upper surface of the suction port 102a into contact with the back surface of the dicing tape 16, the pressure is reduced by the vacuum pump, and the back surface of the dicing tape 16 at the portion of the die to be picked up is blocked. It is configured to be in close contact with the upper surface of the 102. The suction port 102a and the first suction portion 106 (cavity 106a, pipe 106b) form a first vacuum path.

ブロック102の下面に当接して、熱処理装置としてのヒータ103が設けられている。また、ヒータ103には温度センサ104が設けられ、ヒータ103延いてはブロック102の温度制御が可能であり、ブロック102を任意の温度に加熱することができる。 A heater 103 as a heat treatment apparatus is provided in contact with the lower surface of the block 102. Further, the heater 103 is provided with a temperature sensor 104, the temperature of the heater 103 and the block 102 can be controlled, and the block 102 can be heated to an arbitrary temperature.

ドームプレート109はブロック102の上下動を可能にする開口を有し、その周辺部には、複数の吸引口109aおよび複数の吸引口109aを連結する複数の溝109bが設けられている。吸引口109aは下方に設けられる第二吸引部107の空洞107aと連通している。空洞107aはブロック102の周りに環状に構成されている。空洞107aはパイプ107bと連通し、上記真空ポンプに接続されている。吸引口109aおよび溝109bのそれぞれの内部は、剥離治具101を上昇させてその上面をダイシングテープ16の裏面に接触させた際、上記真空ポンプによって減圧され、ピックアップ対象ダイ以外の部位のダイシングテープ16の裏面がドームプレート109の上面に密着するように構成されている。吸引口109a、第二吸引部107(空洞107a、パイプ107b)は第二真空経路を構成している。第二真空経路は第一真空経路とは独立して構成されている。すなわち、第二真空経路は第一真空経路と異なるタイミングにより真空吸引したり、同じタイミングにより真空吸引したりすることが可能である。 The dome plate 109 has an opening that allows the block 102 to move up and down, and a plurality of suction ports 109a and a plurality of grooves 109b that connect the plurality of suction ports 109a are provided in the peripheral portion thereof. The suction port 109a communicates with the cavity 107a of the second suction portion 107 provided below. The cavity 107a is formed in an annular shape around the block 102. The cavity 107a communicates with the pipe 107b and is connected to the vacuum pump. When the peeling jig 101 is raised to bring the upper surface of the suction port 109a and the groove 109b into contact with the back surface of the dicing tape 16, the pressure is reduced by the vacuum pump, and the dicing tape at a portion other than the die to be picked up is decompressed. The back surface of the 16 is configured to be in close contact with the upper surface of the dome plate 109. The suction port 109a and the second suction portion 107 (cavity 107a, pipe 107b) form a second vacuum path. The second vacuum path is configured independently of the first vacuum path. That is, the second vacuum path can be evacuated at a timing different from that of the first vacuum path, or can be evacuated at the same timing.

冷却部105は、空洞107aの下方に壁を隔て設けられ、ブロック102の周りに環状に設けられた空洞105aと、空洞105aと連通しているパイプ105bと、により構成されている。パイプ105bは、図示しない冷却気体供給装置に接続されている。空洞105aに供給された冷却気体は、空洞105aを形成する壁に設けられた排気孔(不図示)から冷却部105の外に排出されるようになっている。これにより、ブロック102からの熱によるドームプレート109の温度上昇に伴う周辺ダイの加熱を防止することができる。パイプ105b,106b,107bの外径は、例えば、2.5mm程度である。 The cooling unit 105 is provided below the cavity 107a with a wall separated from the cavity 105a, and is composed of a cavity 105a provided in an annular shape around the block 102 and a pipe 105b communicating with the cavity 105a. The pipe 105b is connected to a cooling gas supply device (not shown). The cooling gas supplied to the cavity 105a is discharged to the outside of the cooling unit 105 through an exhaust hole (not shown) provided in the wall forming the cavity 105a. As a result, it is possible to prevent the peripheral die from being heated due to the temperature rise of the dome plate 109 due to the heat from the block 102. The outer diameters of the pipes 105b, 106b, 107b are, for example, about 2.5 mm.

ブロック102からの熱によるドームプレート109の温度上昇に伴う周辺ダイの加熱を防止するため、ブロック102とドームプレート109との間に間隙Gを設け、空気断熱している。間隙Gの幅は、例えば、0.5mm程度である。 In order to prevent the peripheral die from being heated due to the temperature rise of the dome plate 109 due to the heat from the block 102, a gap G is provided between the block 102 and the dome plate 109 to insulate the air. The width of the gap G is, for example, about 0.5 mm.

ブロック102の上面の高さは、初期状態(ブロック102の非動作時)においては剥離治具101の上面周辺部(ドームプレート109)の上面の高さよりも低くなるよう構成されている。 The height of the upper surface of the block 102 is configured to be lower than the height of the upper surface of the upper surface peripheral portion (dome plate 109) of the peeling jig 101 in the initial state (when the block 102 is not operating).

次に、上記のようなブロック102を備えた剥離治具101を使って、ダイDをダイシングテープ16から剥離する方法について図6を用いて説明する。図6は剥離シーケンスを示すタイミング図である。 Next, a method of peeling the die D from the dicing tape 16 by using the peeling jig 101 provided with the block 102 as described above will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a timing diagram showing a peeling sequence.

(ステップ1)
まず、制御部8は、ウェハ保持台12のエキスパンドリング15を下降させることによって、ダイシングテープ16の周辺部に接着されたウェハリング14を下方に押し下げる。このようにすると、ダイシングテープ16が、その中心部から周辺部に向かう強い張力を受けて水平方向に弛みなく引き伸ばされ、ダイDの間隔が広がる。
(Step 1)
First, the control unit 8 lowers the expanding ring 15 of the wafer holding table 12 to push down the wafer ring 14 adhered to the peripheral portion of the dicing tape 16. In this way, the dicing tape 16 receives a strong tension from the central portion to the peripheral portion and is stretched in the horizontal direction without slack, and the interval between the dicing tapes D is widened.

(ステップ2)
次に、制御部8は、図3に示すように、剥離の対象となる一個のダイD(同図の中央部に位置するダイD)の真下に剥離治具101の中心部(ブロック102)が位置するようにウェハ保持台12を移動させると共に、このダイDの上方にコレット22を移動させる。ピックアップヘッド21に支持されたコレット22の底面には、内部が減圧される吸着口(不図示)が設けられており、剥離の対象となる一個のダイDのみを選択的に吸着、保持できるように構成されている。
(Step 2)
Next, as shown in FIG. 3, the control unit 8 has a central portion (block 102) of the peeling jig 101 directly below one die D (die D located in the central portion of the figure) to be peeled. The wafer holding table 12 is moved so that is positioned, and the collet 22 is moved above the die D. The bottom surface of the collet 22 supported by the pickup head 21 is provided with a suction port (not shown) for decompressing the inside so that only one die D to be peeled can be selectively sucked and held. It is configured in.

(ステップ3:STP3)
次に、制御部8は、ブロック102の上面をドームプレート109の上面よりも僅かに下げた状態(初期状態)にして、剥離治具101を上昇させてその上面をダイシングテープ16の裏面に接触させると共に、ドームプレート109の吸引口109a、溝109bの内部を減圧する。これにより、剥離の対象となるダイDに隣接する他のダイDの下方のダイシングテープ16がドームプレート109に密着する。これに並行して、制御部8は、ピックアップヘッド21を徐々に下降させて、コレット22がダイDより所定の高さまで達すると下降を停止する。また、制御部8は、ヒータ103によりブロック102の表面温度をプリヒート温度に加熱している。プリヒート温度(T)は、ダイシングテープ16がダイDから剥離しない温度であって、加熱が行われていない常温よりも高い温度であり、例えば、60℃である。その後、ヒータ103は、ブロック102の表面温度が加熱目標温度(T)になるよう加熱を開始する。加熱目標温度(T)は、例えば、120℃である。温度センサ104を用いて加熱上限温度(T)を越えないようフィードバック制御される。加熱上限温度(T)は、例えば、130℃である。加熱上限温度(T)、加熱目標温度(T)、プリヒート温度(T)はダイシングテープの特性で変更されるものである。
(Step 3: STP3)
Next, the control unit 8 sets the upper surface of the block 102 slightly lower than the upper surface of the dome plate 109 (initial state), raises the peeling jig 101, and brings the upper surface into contact with the back surface of the dicing tape 16. At the same time, the pressure inside the suction port 109a and the groove 109b of the dome plate 109 is reduced. As a result, the dicing tape 16 below the other die D adjacent to the die D to be peeled is brought into close contact with the dome plate 109. In parallel with this, the control unit 8 gradually lowers the pickup head 21 and stops the lowering when the collet 22 reaches a predetermined height from the die D. Further, the control unit 8 heats the surface temperature of the block 102 to the preheat temperature by the heater 103. The preheat temperature (T p ) is a temperature at which the dicing tape 16 does not peel off from the die D, which is higher than the room temperature at which heating is not performed, and is, for example, 60 ° C. After that, the heater 103 starts heating so that the surface temperature of the block 102 reaches the heating target temperature ( Th). The heating target temperature ( Th ) is, for example, 120 ° C. Feedback control is performed using the temperature sensor 104 so as not to exceed the heating upper limit temperature (TH). The upper heating temperature ( TH ) is, for example, 130 ° C. Heating upper limit temperature (T H), the heating target temperature (T h), preheating temperature (T p) of which are modified by the characteristics of the dicing tape.

(ステップ4:STP4)
加熱時間(th)後である、ブロック102の表面温度が加熱目標温度まで上昇したとき、制御部8は、ブロック102をドームプレート109の上面と同じ高さまで上昇させると共に、ブロック102の吸引口102aの内部を減圧する。これにより、剥離の対象となるダイDの下方のダイシングテープ16がブロック102の上面に密着すると共に、ダイシングテープ16が加熱される。ブロック102が所定高さまで上昇した後から所定時間経過後に、制御部8は、ピックアップヘッド21を徐々に下降させて、コレット22がダイDの高さまで達すると下降を停止する。制御部8は、ヒータ103によりブロック102が所定温度で所定時間加熱する。
(Step 4: STP4)
When the surface temperature of the block 102 rises to the heating target temperature after the heating time (th), the control unit 8 raises the block 102 to the same height as the upper surface of the dome plate 109 and the suction port 102a of the block 102. Depressurize the inside of. As a result, the dicing tape 16 below the die D to be peeled is brought into close contact with the upper surface of the block 102, and the dicing tape 16 is heated. After a predetermined time has elapsed after the block 102 has risen to a predetermined height, the control unit 8 gradually lowers the pickup head 21 and stops the lowering when the collet 22 reaches the height of the die D. The control unit 8 heats the block 102 at a predetermined temperature for a predetermined time by the heater 103.

(ステップ5:STP5)
その後、制御部8は、ヒータ103によるブロック102の加熱を停止すると共に、コレット22の吸引口によりダイDを吸着してピックアップヘッド21を徐々に上昇させる。制御部8は、コレット22がドームプレート109の上面から所定の高さまで上昇すると、上昇速度を高速に切り替えて上昇させる。
(Step 5: STP5)
After that, the control unit 8 stops the heating of the block 102 by the heater 103, and sucks the die D by the suction port of the collet 22 to gradually raise the pickup head 21. When the collet 22 rises from the upper surface of the dome plate 109 to a predetermined height, the control unit 8 switches the climbing speed to a high speed and raises the collet 22.

(ステップ6:STP6)
ピックアップヘッド21のコレット22がドームプレート109の上面から所定の高さ(下降許可高さ)に到達すると、制御部8は、ブロック102を下降させると共に、ブロック102の吸引口102aによる吸着およびドームプレート109の吸引口109aによる吸着を停止する。
(Step 6: STP6)
When the collet 22 of the pickup head 21 reaches a predetermined height (lowering permitted height) from the upper surface of the dome plate 109, the control unit 8 lowers the block 102 and sucks the block 102 by the suction port 102a and the dome plate. The suction by the suction port 109a of 109 is stopped.

次に、実施形態に係るダイボンダを用いた半導体装置の製造方法について図7を用いて説明する。図7は図1のダイボンディングを用いた半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。 Next, a method of manufacturing a semiconductor device using the die bonder according to the embodiment will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is a flowchart showing a method of manufacturing a semiconductor device using the die bonding of FIG.

(ウェハ・基板搬入工程:ステップS11)
ウェハ11から分割されたダイDが貼付されたダイシングテープ16を保持したウェハリング14をウェハカセット(不図示)に格納し、ダイボンダ10に搬入する。制御部8はウェハリング14が充填されたウェハカセットからウェハリング14をダイ供給部1に供給する。また、基板Sを準備し、ダイボンダ10に搬入する。制御部8は基板供給部6で基板Sを基板搬送爪51に取り付ける。
(Wafer / substrate loading process: step S11)
The wafer ring 14 holding the dicing tape 16 to which the die D separated from the wafer 11 is attached is stored in a wafer cassette (not shown) and carried into the die bonder 10. The control unit 8 supplies the wafer ring 14 to the die supply unit 1 from the wafer cassette filled with the wafer ring 14. Further, the substrate S is prepared and carried into the die bonder 10. The control unit 8 attaches the substrate S to the substrate transfer claw 51 by the substrate supply unit 6.

(ピックアップ工程:ステップS12)
制御部8は上述したようにダイDを剥離し、剥離したダイDをウェハ11からピックアップする。このようにして、ダイアタッチフィルム18と共にダイシングテープ16から剥離されたダイDは、コレット22に吸着、保持されて次工程(ステップS13)に搬送される。そして、ダイDを次工程に搬送したコレット22がダイ供給部1に戻ってくると、上記した手順に従って、次のダイDがダイシングテープ16から剥離され、以後同様の手順に従ってダイシングテープ16から1個ずつダイDが剥離される。
(Pickup process: step S12)
The control unit 8 peels off the die D as described above, and picks up the peeled die D from the wafer 11. In this way, the die D peeled from the dicing tape 16 together with the die attach film 18 is adsorbed and held by the collet 22 and conveyed to the next step (step S13). Then, when the collet 22 that has conveyed the die D to the next step returns to the die supply unit 1, the next die D is peeled off from the dicing tape 16 according to the above procedure, and thereafter, the dicing tape 16 to 1 is followed by the same procedure. The die D is peeled off one by one.

(ボンディング工程:ステップS13)
制御部8はピックアップしたダイを基板S上に搭載又は既にボンディングしたダイの上に積層する。制御部8はウェハ11からピックアップしたダイDを中間ステージ31に載置し、ボンディングヘッド41で中間ステージ31から再度ダイDをピックアップし、搬送されてきた基板Sにボンディングする。
(Bonding step: Step S13)
The control unit 8 mounts the picked-up die on the substrate S or stacks the picked-up die on the die that has already been bonded. The control unit 8 places the die D picked up from the wafer 11 on the intermediate stage 31, picks up the die D again from the intermediate stage 31 with the bonding head 41, and bonds the die D to the conveyed substrate S.

(基板搬出工程:ステップS14)
制御部8は基板搬出部7で基板搬送爪51からダイDがボンディングされた基板Sを取り出す。ダイボンダ10から基板Sを搬出する。
(Substrate unloading process: step S14)
The control unit 8 takes out the substrate S to which the die D is bonded from the substrate transfer claw 51 at the substrate carry-out unit 7. The substrate S is carried out from the die bonder 10.

上述したように、ダイDは、ダイアタッチフィルム18を介して基板S上に実装され、ダイボンダから搬出される。その後、ワイヤボンディング工程でAuワイヤを介して基板Sの電極と電気的に接続される。続いて、ダイDが実装された基板Sがダイボンダに搬入されて基板S上に実装されたダイDの上にダイアタッチフィルム18を介して第2のダイDが積層され、ダイボンダから搬出された後、ワイヤボンディング工程でAuワイヤを介して基板Sの電極と電気的に接続される。第2のダイDは、前述した方法でダイシングテープ16から剥離された後、ペレット付け工程に搬送されてダイDの上に積層される。上記工程が所定回数繰り返された後、基板Sをモールド工程に搬送し、複数個のダイDとAuワイヤとをモールド樹脂(図示せず)で封止することによって、積層パッケージが完成する。 As described above, the die D is mounted on the substrate S via the die attach film 18 and carried out from the die bonder. After that, it is electrically connected to the electrode of the substrate S via the Au wire in the wire bonding step. Subsequently, the substrate S on which the die D was mounted was carried into the die bonder, and the second die D was laminated on the die D mounted on the substrate S via the die-attach film 18 and carried out from the die bonder. After that, it is electrically connected to the electrode of the substrate S via the Au wire in the wire bonding step. The second die D is peeled from the dicing tape 16 by the method described above, and then conveyed to the pelleting step and laminated on the die D. After the above steps are repeated a predetermined number of times, the substrate S is conveyed to the molding step, and the plurality of dies D and Au wires are sealed with a molding resin (not shown) to complete the laminated package.

実施形態によれば、下記の一つまたは複数の効果を有する。
(1)ダイサイズに外形を合わせたブロックで加熱することで、ピックアップするダイ(剥離対象ダイ)の周辺に位置するダイ(周辺ダイ)および周辺ダイ下のダイシングテープへの熱の伝導を低減することが可能である。これにより、周辺ダイの剥がれ易くなることが抑制され、破損の恐れを低減することが可能となる。
(2)ドームプレートを冷却することで、周辺ダイおよび周辺ダイ下のダイシングテープへの熱の伝導をさらに低減することが可能となる。
(3)ダイシングテープを挟み、ダイとは反対側から加熱するのでダイ表面に余計な熱が伝わらないようにすることが可能である。
(4)ドームプレートとブロックが独立駆動することで剥離対象ダイを加熱せずに剥離対象ダイの外周を保持できるため正確に剥離対象ダイをアライメントすることが可能である。
(5)ブロックがダイプレートよりも高く突上げられないので、低ストレスでピックアップすることが可能である。これにより、ダイの割れや欠けを低減することが可能となる。
According to the embodiment, it has one or more of the following effects.
(1) By heating with a block whose outer shape matches the die size, heat conduction to the die (peripheral die) located around the die to be picked up (die to be peeled off) and the dicing tape under the peripheral die is reduced. It is possible. As a result, it is possible to prevent the peripheral dies from easily peeling off and reduce the risk of damage.
(2) By cooling the dome plate, it is possible to further reduce the conduction of heat to the peripheral die and the dicing tape under the peripheral die.
(3) Since the dicing tape is sandwiched and heated from the side opposite to the die, it is possible to prevent unnecessary heat from being transferred to the surface of the die.
(4) Since the dome plate and the block are driven independently, the outer circumference of the die to be peeled can be held without heating the die to be peeled, so that the die to be peeled can be accurately aligned.
(5) Since the block cannot be pushed up higher than the die plate, it can be picked up with low stress. This makes it possible to reduce cracking and chipping of the die.

上述したように、基板上に複数個のダイを三次元的に実装する積層パッケージを組み立てに際しては、パッケージ厚の増加を防ぐために、ダイの厚さを20μm以下まで薄くすることが要求される。一方、ダイシングテープの厚さは100μm程度であるから、ダイシングテープの厚みは、ダイの厚みの4〜5倍にもなっている。ダイが薄くなると、ダイシングテープの粘着力に比べてダイの剛性が極めて低くなる。そのため、例えば、20μm以下の薄ダイをピックアップするにはダイに掛かるストレスを軽減させること(低ストレス化)が必要である。このような薄いダイをダイシングテープから剥離させようとすると、ダイシングテープの変形に追従したダイの変形がより顕著に発生しやすくなるが、本実施形態のダイボンダではダイシングテープからダイをピックアップする際のダイの損傷を低減することができる。 As described above, when assembling a laminated package in which a plurality of dies are three-dimensionally mounted on a substrate, it is required to reduce the die thickness to 20 μm or less in order to prevent an increase in the package thickness. On the other hand, since the thickness of the dicing tape is about 100 μm, the thickness of the dicing tape is 4 to 5 times the thickness of the die. When the die becomes thin, the rigidity of the die becomes extremely low compared to the adhesive strength of the dicing tape. Therefore, for example, in order to pick up a thin die having a thickness of 20 μm or less, it is necessary to reduce the stress applied to the die (reduce the stress). When an attempt is made to peel off such a thin die from the dicing tape, the deformation of the die following the deformation of the dicing tape is more likely to occur. However, in the die bonder of the present embodiment, when the die is picked up from the dicing tape. Damage to the die can be reduced.

<変形例>
以下、実施形態の代表的な変形例について、幾つか例示する。以下の変形例の説明において、上述の実施形態にて説明されているものと同様の構成および機能を有する部分に対しては、上述の実施形態と同様の符号が用いられ得るものとする。そして、かかる部分の説明については、技術的に矛盾しない範囲内において、上述の実施形態における説明が適宜援用され得るものとする。また、上述の実施形態の一部、および、複数の変形例の全部または一部が、技術的に矛盾しない範囲内において、適宜、複合的に適用され得る。
<Modification example>
Hereinafter, some typical modifications of the embodiment will be illustrated. In the following description of the modified example, the same reference numerals as those in the above-described embodiment may be used for the portions having the same configurations and functions as those described in the above-described embodiment. As for the explanation of such a part, the explanation in the above-described embodiment can be appropriately incorporated within a range that is not technically inconsistent. In addition, a part of the above-described embodiment and all or a part of the plurality of modifications can be applied in combination as appropriate within a technically consistent range.

(第一変形例)
第一変形例における剥離治具について図8を用いて説明する。図8は第一変形例における剥離治具の断面図である。
(First modification)
The peeling jig in the first modification will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view of the peeling jig in the first modification.

第一変形例における剥離治具201は、実施形態のヒータ103および冷却部105に代えて、ブロック102とドームプレート109との間に、環状に設けられた電流を流すことで温度差を生じる半導体冷熱素子としてのペルチェ素子210を備える。ここで、ペルチェ素子210は熱処理装置であり、冷却部でもある。ペルチェ素子210の冷却面としての上面をドームプレート109に当接させて、放熱面としての下面をブロック102に当接させる。ここで、ペルチェ素子210の下面を第二吸引部107の空洞107aの下方に位置するブロック102の平坦面の上に固定し、ブロック102を上昇させることによりペルチェ素子210の上面が第二吸引部107の空洞107aを構成する壁の下面と当接するように構成するのが好ましい。これにより、ブロック102がダイシングテープ106と当接する前に、ブロック102を加熱することが可能である。 The peeling jig 201 in the first modification is a semiconductor that causes a temperature difference by passing a current provided in an annular shape between the block 102 and the dome plate 109 instead of the heater 103 and the cooling unit 105 of the embodiment. A Perche element 210 as a cooling element is provided. Here, the Perche element 210 is a heat treatment device and also a cooling unit. The upper surface of the Pelche element 210 as a cooling surface is brought into contact with the dome plate 109, and the lower surface as a heat radiating surface is brought into contact with the block 102. Here, the lower surface of the perche element 210 is fixed on the flat surface of the block 102 located below the cavity 107a of the second suction portion 107, and the upper surface of the perche element 210 is raised by raising the block 102 so that the upper surface of the perche element 210 becomes the second suction portion. It is preferable that the cavity 107a of 107 is configured to be in contact with the lower surface of the wall constituting the cavity 107a. This makes it possible to heat the block 102 before the block 102 comes into contact with the dicing tape 106.

上記構成により、ペルチェ素子210はドームプレート109を冷却すると共に、ブロック102を加熱することが可能である。また、冷却気体供給装置等が不要となり、突上げブロックの加熱にはペルチェ素子210の放熱を利用できるため、コンパクトでエネルギー効率も高くすることが可能である。 With the above configuration, the Perche element 210 can cool the dome plate 109 and heat the block 102. Further, since a cooling gas supply device or the like is not required and the heat dissipation of the Pelche element 210 can be used for heating the push-up block, it is possible to improve the compactness and energy efficiency.

なお、ブロック102の温度をより高温にする必要があり、ペルチェ素子210の放熱では加熱温度が不足する場合、実施形態で設けたヒータ103を併用しブロック102を処理温度まで加熱するようにしてもよい。また、低温剥離性ダイシングテープを使用する場合は、ペルチェ素子210の配線210a,210bの供給電流の極性を逆に制御することにより、ブロック102の冷却およびドームプレート109の加熱も同様に実施することが可能である。 If it is necessary to raise the temperature of the block 102 to a higher temperature and the heating temperature is insufficient for heat dissipation of the Pelche element 210, the heater 103 provided in the embodiment may be used in combination to heat the block 102 to the processing temperature. good. When a low-temperature peelable dicing tape is used, the block 102 is cooled and the dome plate 109 is heated in the same manner by controlling the polarities of the supply currents of the wirings 210a and 210b of the Pelche element 210 in reverse. Is possible.

(第二変形例)
第二変形例における剥離治具について図9を用いて説明する。図9は第二変形例における剥離治具の断面図である。
(Second modification)
The peeling jig in the second modification will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view of the peeling jig in the second modification.

第二変形例における剥離治具301は、実施形態のヒータ103に代えて、ブロック302内に熱処理装置としての赤外線ランプ320を備える。また、剥離治具301は実施形態の冷却部105および第一吸引部106を備えていない。また、ブロック302は、ダイDに対応する形状の開口302aを有し、赤外線ランプ320はブロック302を介さずにダイシングテープ16を直接加熱する。これにより、ダイシングテープ16のうちピックアップするダイDの下に位置する部分に選択的に加熱することができ、実施形態と同様にダイDをダイシングテープ16から剥離することが可能となる。 The peeling jig 301 in the second modification includes an infrared lamp 320 as a heat treatment device in the block 302 instead of the heater 103 of the embodiment. Further, the peeling jig 301 does not include the cooling unit 105 and the first suction unit 106 of the embodiment. Further, the block 302 has an opening 302a having a shape corresponding to the die D, and the infrared lamp 320 directly heats the dicing tape 16 without passing through the block 302. As a result, the portion of the dicing tape 16 located below the pick-up die D can be selectively heated, and the die D can be peeled off from the dicing tape 16 as in the embodiment.

赤外線ランプ320が内蔵されたブロック302の内面は、赤外線に対し反射率の高い金メッキやアルミ蒸着により反射材302bをコーティングしてもよい。これにより、ダイシングテープ16のうち剥離するダイの下の部分に赤外線をより効率的に導くことが可能となる。 The inner surface of the block 302 in which the infrared lamp 320 is built may be coated with a reflective material 302b by gold plating or aluminum vapor deposition having a high reflectance with respect to infrared rays. This makes it possible to more efficiently guide infrared rays to the lower portion of the dicing tape 16 to be peeled off.

また、ブロック302の開口302aに石英ガラス等の赤外線に透過率の高い材質で形成されるプレート302cを設けてもよい。これにより、ダイDの平坦度が保たれて、コレット22でのピックアップがより容易になる。 Further, a plate 302c formed of a material having a high transmittance for infrared rays such as quartz glass may be provided in the opening 302a of the block 302. As a result, the flatness of the die D is maintained, and pickup by the collet 22 becomes easier.

(第三変形例)
第三変形例における剥離治具について図10を用いて説明する。図10は第三変形例における剥離治具の断面図である。
(Third modification example)
The peeling jig in the third modification will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view of the peeling jig in the third modification.

第三変形例は、第二変形例の赤外線ランプに代えて、照射するエリアやサイズを任意に変更できるレーザ照射ユニット430を備える。熱処理装置としてのレーザ照射ユニット430は集光レンズユニット430aを有し、第二変形例における赤外線ランプ320と同様に、ブロック402を介さずにダイシングテープ16を直接加熱する。ここで、レーザ照射ユニット430はブロック402の内部に設けられるが、図示しないレーザ光源は外部に設置して、光ファイバー430b等によりレーザ照射ユニット430まで導入する。これにより、ダイシングテープ16のうちピックアップするダイDの下に位置する部分にレーザ光を選択的に照射することができ、実施形態と同様にダイDをダイシングテープ16から剥離することが可能となる。 The third modification includes a laser irradiation unit 430 that can arbitrarily change the irradiation area and size in place of the infrared lamp of the second modification. The laser irradiation unit 430 as a heat treatment apparatus has a condensing lens unit 430a, and directly heats the dicing tape 16 without passing through the block 402, similarly to the infrared lamp 320 in the second modification. Here, the laser irradiation unit 430 is provided inside the block 402, but a laser light source (not shown) is installed outside and introduced to the laser irradiation unit 430 by an optical fiber 430b or the like. As a result, the portion of the dicing tape 16 located below the pick-up die D can be selectively irradiated with the laser beam, and the die D can be peeled off from the dicing tape 16 as in the embodiment. ..

上述レーザ光源およびレーザ照射ユニット430は、レーザ光のサイズや照射時間を任意に変更することができるため、半導体製品としてのダイのサイズまたは処理温度の処理条件の変更に際し、プログラムにより自由に変更することができ、剥離治具の交換を最小限に留めることが可能となる。また、レーザ光ではそのエネルギーを照射エリアにのみ集中的に照射できるため、照射エリア外のドームプレート109などの温度上昇を最小限に抑えることができる。 Since the size of the laser beam and the irradiation time of the laser light source and the laser irradiation unit 430 can be arbitrarily changed, the size of the die as a semiconductor product or the processing conditions of the processing temperature can be freely changed by a program. This makes it possible to minimize the replacement of the peeling jig. Further, since the laser light can intensively irradiate the energy only to the irradiation area, it is possible to minimize the temperature rise of the dome plate 109 or the like outside the irradiation area.

また、第二変形例と同様に、ブロック402の開口402aに石英ガラス等の使用するレーザ光に透過率の高い材質で形成されるプレート402cを設けてもよい。これにより、ダイDの平坦度が保たれて、コレット22でのピックアップがより容易になる。 Further, as in the second modification, the opening 402a of the block 402 may be provided with a plate 402c made of a material having high transmittance for the laser light used such as quartz glass. As a result, the flatness of the die D is maintained, and pickup by the collet 22 becomes easier.

(第四変形例から第七変形例)
実施形態では、ブロック102に設けられる吸引口102aは平面視において中央部に配置されている。第四変形例から第七変形例では、中央部の他に、ブロック102aの上面が形成する四角形の少なくとも四隅にも、すなわち、上記四角形の四辺に内接する仮想円または仮想楕円よりも外側の領域にも吸引口を設ける。
(4th modified example to 7th modified example)
In the embodiment, the suction port 102a provided in the block 102 is arranged at the center in a plan view. In the fourth to seventh modifications, in addition to the central portion, at least four corners of the quadrangle formed by the upper surface of the block 102a, that is, a region outside the virtual circle or virtual ellipse inscribed in the four sides of the quadrangle. Also has a suction port.

第四変形例から第七変形例における剥離治具について図11を用いて説明する。図11は第四変形例から第七変形例における剥離治具を説明する図である。図11(a)は第四変形例における剥離治具のブロックの上面図である。図11(b)は第五変形例における剥離治具のブロックの上面図である。図11(c)は第六変形例における剥離治具のブロックの上面図である。図11(d)は第七変形例における剥離治具のブロックの上面図である。 The peeling jigs in the fourth to seventh modifications will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a diagram illustrating a peeling jig in the fourth modified example to the seventh modified example. FIG. 11A is a top view of the block of the peeling jig in the fourth modification. FIG. 11B is a top view of the block of the peeling jig in the fifth modification. FIG. 11C is a top view of the block of the peeling jig in the sixth modification. FIG. 11D is a top view of the block of the peeling jig in the seventh modification.

第四変形例から第七変形例は、実施形態におけるブロック102は上下方向に貫通する複数の吸引口102aの個数、配置または径を変えて、ダイDの下面のダイシングテープ16をより均一に吸着し、より均一に加熱するようにする。 In the fourth to seventh modifications, the block 102 in the embodiment changes the number, arrangement, or diameter of the plurality of suction ports 102a penetrating in the vertical direction to more uniformly adsorb the dicing tape 16 on the lower surface of the die D. And try to heat more evenly.

図11(a)に示すように、第四変形例では、ブロック102の中央部に吸引口102aを四個と四隅に吸引口102aを一個ずつ設ける。実施形態のように吸引口102aが中央だけに設けるものに対して外周部の吸着効果も見込める。ここで、吸引口102aの径は、例えば、0.8mmである。 As shown in FIG. 11A, in the fourth modification, four suction ports 102a are provided at the center of the block 102, and one suction port 102a is provided at each of the four corners. As in the embodiment, the suction port 102a is provided only in the center, and the suction effect on the outer peripheral portion can be expected. Here, the diameter of the suction port 102a is, for example, 0.8 mm.

図11(b)に示すように、第五変形例では、吸引口102aをブロック102の全面に配置する。ダイDの全体をむらなく吸着することで均一に加熱できる。ここで、吸引口102aのピッチ(PT)は、例えば、2mmである。また、最外周の吸引口102aの径は、例えば、0.6〜0.8mmであり、内側の吸引口102aの径は、例えば、0.8mmである。また、最外周の吸引口102aとブロック102の端部までの距離(肉厚、W)は、例えば、0.5mm程度である。 As shown in FIG. 11B, in the fifth modification, the suction port 102a is arranged on the entire surface of the block 102. By evenly adsorbing the entire die D, it can be heated uniformly. Here, the pitch (PT) of the suction port 102a is, for example, 2 mm. The diameter of the outermost suction port 102a is, for example, 0.6 to 0.8 mm, and the diameter of the inner suction port 102a is, for example, 0.8 mm. The distance (thickness, W) between the outermost suction port 102a and the end of the block 102 is, for example, about 0.5 mm.

図11(c)に示すように、第六変形例では、ブロック102に複数の引口102aと、複数の引口102aを連結する複数の溝102cと、を設ける。溝102cを設けることにより、吸引口102a間のすき間を補うことができる。 As shown in FIG. 11C, in the sixth modification, the block 102 is provided with a plurality of pulling ports 102a and a plurality of grooves 102c connecting the plurality of pulling ports 102a. By providing the groove 102c, the gap between the suction ports 102a can be supplemented.

図11(d)に示すように、第七変形例では、ブロック102を多孔質金属により形成される中央部102dと中央部102dの外周を取り囲む枠部102eとにより構成する。中央部102dに形成される気孔102fから吸引を行う。枠部102eは中央部102dの横からのリークを防止する。ダイとの接着面積を確保しつつ、全面吸着できる。 As shown in FIG. 11D, in the seventh modification, the block 102 is composed of a central portion 102d formed of a porous metal and a frame portion 102e surrounding the outer periphery of the central portion 102d. Suction is performed from the pores 102f formed in the central portion 102d. The frame portion 102e prevents leakage from the side of the central portion 102d. The entire surface can be adsorbed while securing the adhesion area with the die.

以上、本開示者らによってなされた開示を実施形態および変形例に基づき具体的に説明したが、本開示は、上記実施形態および変形例に限定されるものではなく、種々変更可能であることはいうまでもない。 The disclosure made by the present disclosers has been specifically described based on the embodiments and modifications, but the present disclosure is not limited to the above embodiments and modifications, and various modifications can be made. Needless to say.

例えば、実施形態では、コレットがダイをピックアップする高さはダイ表面高さとしたが、ダイシングテープ発泡後のダイ表面高さで待ってもよいし、発泡によるダイ高さの上昇に合わせてコレットを上昇してもよい。ピックアップヘッドにセンサを設け、センサを用いて押し込み荷重を一定に保つようにリアルタイムで制御するようにしてもよい。 For example, in the embodiment, the height at which the collet picks up the die is the die surface height, but the die surface height after the dicing tape foaming may be waited for, or the collet may be raised according to the increase in the die height due to the foaming. It may rise. A sensor may be provided in the pickup head, and the sensor may be used to control the pushing load in real time so as to keep it constant.

また、実施形態では、予めブロックをプリヒート温度(T)で加熱しておく例を説明したが、プリヒートは行わず、ブロックは加熱目標温度(T)に加熱したままでも良い。 Further, in the embodiment, an example in which the block is preheated at the preheat temperature (T p ) has been described, but the block may be kept heated to the heating target temperature (Th) without preheating.

また、実施形態では、ブロックの温度をブロックのヒータに設けた温度センサにより測定しているが、これに限定されるものではなく、赤外線放射温度センサなどを設けて、加熱するダイや加熱剥離型粘着シートで形成されたダイシングテープを直接測定するようにしてもよい。 Further, in the embodiment, the temperature of the block is measured by a temperature sensor provided in the heater of the block, but the present invention is not limited to this, and an infrared radiation temperature sensor or the like is provided to heat a die or a heat peeling type. The dicing tape formed of the adhesive sheet may be directly measured.

また、実施形態では、冷却部の空洞に冷却気体を供給する例を説明したが、冷却液体を供給してよい。この場合、冷却液体はパイプ等により回収する。 Further, in the embodiment, the example of supplying the cooling gas to the cavity of the cooling unit has been described, but the cooling liquid may be supplied. In this case, the cooling liquid is collected by a pipe or the like.

また、実施形態では、ダイシングテープとして高温剥離性粘着テープを使用する例を説明したが、低温剥離性粘着テープを使用してもよい。この場合、ヒータ103と冷却部105の熱処理を入れ替え、ブロック102に下方に冷却部を設け、ドームプレートの下方に加熱部を設ける。 Further, in the embodiment, an example in which a high temperature peelable adhesive tape is used as the dicing tape has been described, but a low temperature peelable adhesive tape may be used. In this case, the heat treatments of the heater 103 and the cooling unit 105 are exchanged, a cooling unit is provided below the block 102, and a heating unit is provided below the dome plate.

また、実施形態では、ブロックを加熱中にコレットをダイに接触させる例を説明したが、ブロックを加熱中はコレットをダイに接触させないようにしてもよい。これにより、ダイからの熱伝達によりコレットへ熱が逃げることを防止することができる。 Further, in the embodiment, the example in which the collet is brought into contact with the die while the block is being heated has been described, but the collet may not be brought into contact with the die while the block is being heated. This makes it possible to prevent heat from escaping to the collet due to heat transfer from the die.

また、第三変形例では、ブロック402の開口402aにレーザ光に透過率の高い材質で形成されるプレート402cを設ける例を説明したが、レーザ光を吸収することにより発熱する材料で形成されたプレートによりブロック402の開口402aを覆い、レーザ光を照射してプレートを加熱して間接的にダイシングテープを加熱するようにしてもよい。この場合、プレートに実施形態の吸引口102aと同様な吸引口を設け、当該吸引口の下方に実施形態の第一吸引部106と同様な吸引部を設けるのが好ましい。 Further, in the third modification, an example in which a plate 402c made of a material having a high transmittance for laser light is provided in the opening 402a of the block 402 has been described, but it is made of a material that generates heat by absorbing the laser light. A plate may cover the opening 402a of the block 402 and irradiate a laser beam to heat the plate to indirectly heat the dicing tape. In this case, it is preferable that the plate is provided with a suction port similar to the suction port 102a of the embodiment, and a suction portion similar to the first suction portion 106 of the embodiment is provided below the suction port.

また、実施形態では、ブロック102に設けられた吸引口によりダイシングテープ16上のダイDを真空(減圧)吸着し固定しているが、これに限定されるものではなく、例えば、ヒータ機能を持たせた静電吸着チャックを用いてブロックを構成し、ダイDの下面のダイシングテープ16を吸着してもよい。これにより、ブロックには真空吸着のための吸引口や溝が不要となり、より均一に加熱することができる。 Further, in the embodiment, the die D on the dicing tape 16 is vacuum (decompressed) and fixed by the suction port provided in the block 102, but the present invention is not limited to this, and for example, it has a heater function. The block may be formed by using the electrostatic suction chuck, and the dicing tape 16 on the lower surface of the die D may be sucked. As a result, the block does not require a suction port or groove for vacuum suction, and can be heated more uniformly.

また、実施形態では、ダイアタッチフィルムを用いる例を説明したが、基板に接着剤を塗布するプリフォーム部を設けてダイアタッチフィルムを用いなくてもよい。 Further, in the embodiment, the example of using the die attach film has been described, but it is not necessary to provide the preform portion for applying the adhesive to the substrate and not use the die attach film.

また、実施形態では、ダイ供給部からダイをピックアップヘッドでピックアップして中間ステージに載置し、中間ステージに載置されたダイをボンディングヘッドで基板にボンディングするダイボンダについて説明したが、これに限定されるものではなく、ダイ供給部からダイをピックアップする半導体製造装置に適用可能である。 Further, in the embodiment, a die bonder in which a die is picked up from a die supply unit by a pickup head and placed on an intermediate stage, and a die placed on the intermediate stage is bonded to a substrate by a bonding head has been described, but the present invention is limited to this. It is not applicable to semiconductor manufacturing equipment that picks up dies from the die supply unit.

例えば、中間ステージとピックアップヘッドがなく、ダイ供給部のダイをボンディングヘッドで基板にボンディングするダイボンダにも適用可能である。この場合、コレットとダイの位置ずれが生じた際にはアンダービジョンカメラ等によりダイの位置ずれを認識してボンディング補正を行うようにしてもよい。 For example, it can be applied to a die bonder that does not have an intermediate stage and a pickup head and bonds a die of a die supply unit to a substrate with a bonding head. In this case, when the collet and the die are misaligned, the undervision camera or the like may recognize the misalignment of the die and perform bonding correction.

また、中間ステージがなく、ダイ供給部からダイをピックアップしダイピックアップヘッドを上に回転してダイをボンディングヘッドに受け渡しボンディングヘッドで基板にボンディングするフリップチップボンダに適用可能である。 Further, there is no intermediate stage, and the die can be applied to a flip-chip bonder that picks up a die from a die supply unit, rotates the die pickup head upward, delivers the die to the bonding head, and bonds the die to the substrate by the bonding head.

また、中間ステージとボンディングヘッドがなく、ダイ供給部からピックアップヘッドでピックアップしたダイをトレイ等に載置するダイソータに適用可能である。 In addition, it does not have an intermediate stage and a bonding head, and can be applied to a die sorter in which a die picked up by a pickup head from a die supply unit is placed on a tray or the like.

10:ダイボンダ
12:ウェハ保持台
13:剥離ユニット
101:剥離治具
102:ブロック
103:ヒータ(熱処理装置)
108:ドーム
109:ドームプレート
16:ダイシングテープ
21:ピックアップヘッド
D:ダイ
10: Die bonder 12: Wafer holder 13: Peeling unit 101: Peeling jig 102: Block 103: Heat treatment device
108: Dome 109: Dome plate 16: Dicing tape 21: Pickup head D: Die

Claims (29)

感温性粘着シートで形成されたダイシングテープを保持するウェハ保持台と、
前記ダイシングテープに貼付されたダイを剥離する剥離ユニットと、
前記ダイシングテープから剥離されたダイをピックアップするヘッドと、
を備え、
前記剥離ユニットは、
前記ダイシングテープのうち剥離対象のダイが貼付された部位と当接するブロックと、
前記ブロックから離れた外周に位置し、前記ダイシングテープのうち前記剥離対象のダイが貼付されていない部位と当接するドームプレートと、
前記ダイシングテープを前記剥離対象のダイから剥離する温度に設定する熱処理装置と、
を円筒状のドーム内に備えるダイボンディング装置。
A wafer holding table that holds a dicing tape formed of a temperature-sensitive adhesive sheet,
A peeling unit that peels off the die attached to the dicing tape,
A head that picks up the die peeled from the dicing tape and
With
The peeling unit is
A block of the dicing tape that comes into contact with the part to which the die to be peeled is attached,
A dome plate located on the outer periphery away from the block and in contact with a portion of the dicing tape to which the die to be peeled is not attached.
A heat treatment apparatus that sets the temperature at which the dicing tape is peeled from the die to be peeled off, and
Is a die bonding device provided in a cylindrical dome.
請求項1のダイボンディング装置において、
さらに、前記ドームプレートを冷却する冷却部を備え、
前記熱処理装置は前記ブロックを加熱するヒータであり、
前記冷却部は、
前記ドームプレートの下方に設けられる空洞と、
冷却気体が供給され、前記空洞に連通されたパイプと、
を備えるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 1,
Further, a cooling unit for cooling the dome plate is provided.
The heat treatment device is a heater that heats the block.
The cooling unit
The cavity provided below the dome plate and
A pipe to which a cooling gas is supplied and communicates with the cavity,
A die bonding device equipped with.
請求項1のダイボンディング装置において、
さらに、前記ドームプレートの下方に設けられる半導体冷熱素子を有する冷却部を備え、
前記半導体冷熱素子の冷却面により前記ドームプレートを冷却するよう構成されるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 1,
Further, a cooling unit having a semiconductor cooling element provided below the dome plate is provided.
A die bonding apparatus configured to cool the dome plate by the cooling surface of the semiconductor cooling element.
請求項3のダイボンディング装置において、
前記半導体冷熱素子の放熱面により前記ブロックを加熱するよう構成されるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 3,
A die bonding device configured to heat the block by the heat radiating surface of the semiconductor cooling element.
請求項1のダイボンディング装置において、
前記熱処理装置は、前記ブロックの内部に備える赤外線ランプであり、前記赤外線ランプは前記ブロックに設けられた開口を通して前記ダイシングテープに熱を照射するよう構成されるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 1,
The heat treatment apparatus is an infrared lamp provided inside the block, and the infrared lamp is a die bonding apparatus configured to irradiate the dicing tape with heat through an opening provided in the block.
請求項5のダイボンディング装置において、
前記ブロックの前記開口は赤外線を透過する材料で形成された表面プレートで覆われているダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 5,
A die bonding device in which the opening of the block is covered with a surface plate made of a material that transmits infrared rays.
請求項1のダイボンディング装置において、
前記熱処理装置は、前記ブロックの内部に備えるレーザ光を照射するユニットであり、前記ユニットは前記ブロックに設けられた開口を通してダイシングテープにレーザ光を照射するよう構成されるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 1,
The heat treatment device is a unit that irradiates a laser beam provided inside the block, and the unit is a die bonding device configured to irradiate a dicing tape with a laser beam through an opening provided in the block.
請求項7のダイボンディング装置において、
前記ブロックの前記開口は前記レーザ光を透過する材料で形成された表面プレートで覆われているダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 7,
A die bonding apparatus in which the opening of the block is covered with a surface plate made of a material that transmits the laser beam.
請求項7のダイボンディング装置において、
前記ブロックの前記開口は前記レーザ光を吸収することにより発熱する材料で形成された表面プレートで覆われ、前記レーザ光を照射して前記表面プレートを加熱して間接的に前記ダイシングテープに加熱するダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 7,
The opening of the block is covered with a surface plate formed of a material that generates heat by absorbing the laser beam, and the surface plate is heated by irradiating the laser beam to indirectly heat the dicing tape. Die bonding equipment.
請求項1乃至4の何れか一つのダイボンディング装置において、
前記剥離ユニットは、さらに、
前記ブロックの吸引口を減圧する第一真空経路と、
前記第一真空経路と独立し、前記ドームプレートの吸引口を減圧する第二真空経路と、
を備えるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus according to any one of claims 1 to 4,
The peeling unit further
A first vacuum path for depressurizing the suction port of the block,
A second vacuum path that is independent of the first vacuum path and depressurizes the suction port of the dome plate.
A die bonding device equipped with.
請求項1乃至9の何れか一つのダイボンディング装置において、
さらに、制御部を備え、
前記制御部は、前記ブロックを前記熱処理装置により第一所定温度に加熱すると共に、前記ブロックの上面を前記ドームプレートの上面よりも低くする状態で、前記ダイシングテープを前記ドームプレートの吸引口により吸着するよう構成されるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus according to any one of claims 1 to 9.
In addition, it has a control unit
The control unit heats the block to a first predetermined temperature by the heat treatment apparatus and sucks the dicing tape by the suction port of the dome plate in a state where the upper surface of the block is lower than the upper surface of the dome plate. A die bonding device configured to do so.
請求項11のダイボンディング装置において、
前記制御部は、前記ブロックを前記熱処理装置により第二所定温度に加熱すると共に、前記ブロックの上面を前記ダイシングテープに当接して前記ブロックの吸引口により吸着するよう構成されるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 11,
The control unit is a die bonding device configured to heat the block to a second predetermined temperature by the heat treatment device and to bring the upper surface of the block into contact with the dicing tape and suck it by the suction port of the block.
請求項12のダイボンディング装置において、
前記制御部は、前記第二所定温度を前記第一所定温度よりも高い温度に設定するよう構成されるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 12,
The control unit is a die bonding device configured to set the second predetermined temperature to a temperature higher than the first predetermined temperature.
請求項12のダイボンディング装置において、
前記制御部は、前記第二所定温度を前記第一所定温度と同じ温度に設定するよう構成されるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 12,
The control unit is a die bonding device configured to set the second predetermined temperature to the same temperature as the first predetermined temperature.
請求項13のダイボンディング装置において、
前記制御部は、前記加熱されたダイシングテープから前記剥離対象のダイを前記ヘッドによりピックアップするよう構成されるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 13,
The control unit is a die bonding device configured to pick up the die to be peeled from the heated dicing tape by the head.
請求項1のダイボンディング装置において、
前記ブロックの平面視の形状は、前記ダイの平面視の形状に合わせた形状であるダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 1,
A die bonding device in which the shape of the block in a plan view is a shape that matches the shape of the die in a plan view.
感温性粘着シートで形成されたダイシングテープに貼付されたダイを剥離する剥離治具であって、
前記ダイシングテープのうち剥離対象のダイが貼付された部位と当接するブロックと、
前記ブロックから離れた外周に位置し、前記ダイシングテープのうち前記剥離対象のダイが貼付されていない部位と当接するドームプレートと、
前記ブロックを前記ダイシングテープが前記剥離対象のダイから剥離する温度に設定する熱処理装置と、
を円筒状のドーム内に備える剥離治具。
A peeling jig that peels off the die attached to the dicing tape formed of the temperature-sensitive adhesive sheet.
A block of the dicing tape that comes into contact with the part to which the die to be peeled is attached,
A dome plate located on the outer periphery away from the block and in contact with a portion of the dicing tape to which the die to be peeled is not attached.
A heat treatment apparatus that sets the block at a temperature at which the dicing tape peels from the die to be peeled.
A peeling jig provided in a cylindrical dome.
請求項17の剥離治具において、
さらに、前記ドームプレートを冷却する冷却部を備え、
前記熱処理装置は前記ブロックを加熱するヒータであり、
前記冷却部は、
前記ドームプレートの下方に設けられる空洞と、
冷却気体が供給され、前記空洞に連通されたパイプと、
を備える剥離治具。
In the peeling jig of claim 17,
Further, a cooling unit for cooling the dome plate is provided.
The heat treatment device is a heater that heats the block.
The cooling unit
The cavity provided below the dome plate and
A pipe to which a cooling gas is supplied and communicates with the cavity,
A peeling jig equipped with.
請求項18の剥離治具において、さらに、
前記ブロックの吸引口を減圧する第一真空経路と、
前記第一真空経路と独立し、前記ドームプレートの吸引口を減圧する第二真空経路と、
を備える剥離治具。
In the peeling jig of claim 18, further
A first vacuum path for depressurizing the suction port of the block,
A second vacuum path that is independent of the first vacuum path and depressurizes the suction port of the dome plate.
A peeling jig equipped with.
(a)感温性粘着シートで形成されたダイシングテープに貼付されたダイを剥離する剥離ユニットを備え、前記剥離ユニットは、前記ダイシングテープのうち剥離対象のダイが貼付された部位と当接するブロックと、前記ブロックから離れた外周に位置し、前記ダイシングテープのうち前記剥離対象のダイが貼付されていない部位と当接するドームプレートと、前記ブロックを前記ダイシングテープが前記剥離対象のダイから剥離する温度に設定する熱処理装置と、を円筒状のドーム内に備えるダイボンディング装置に、前記ダイシングテープを保持するウェハリングを搬入する工程と、
(b)基板を搬入する工程と、
(c)前記剥離ユニットで前記ダイを剥離して、剥離したダイをピックアップする工程と、
を有し、
前記(c)工程は、前記ブロックを前記ダイシングテープが前記剥離対象のダイから剥離する第二所定温度に加熱する半導体装置の製造方法。
(A) A peeling unit for peeling a die attached to a dicing tape formed of a temperature-sensitive adhesive sheet is provided, and the peeling unit is a block of the dicing tape that comes into contact with a portion of the dicing tape to which the die to be peeled is attached. A dome plate located on the outer periphery away from the block and in contact with a portion of the dicing tape to which the die to be peeled is not attached, and the block being peeled from the die to be peeled by the dicing tape. A step of carrying a wafer ring holding the dicing tape into a die bonding device having a heat treatment device set to a temperature and a die bonding device provided in a cylindrical dome.
(B) The process of bringing in the substrate and
(C) A step of peeling the die with the peeling unit and picking up the peeled die.
Have,
The step (c) is a method for manufacturing a semiconductor device that heats the block to a second predetermined temperature at which the dicing tape peels from the die to be peeled.
請求項20の半導体装置の製造方法において、
前記(c)工程は、前記ドームプレートを冷却する半導体装置の製造方法。
In the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 20,
The step (c) is a method for manufacturing a semiconductor device for cooling the dome plate.
請求項21の半導体装置の製造方法において、
前記(c)工程は、前記ブロックを第一所定温度に加熱すると共に、前記ブロックの上面を前記ドームプレートの上面よりも低くする状態で、前記ダイシングテープを前記ドームプレートの吸引口により吸着する半導体装置の製造方法。
In the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 21,
In the step (c), a semiconductor that heats the block to a first predetermined temperature and sucks the dicing tape by a suction port of the dome plate in a state where the upper surface of the block is lower than the upper surface of the dome plate. Manufacturing method of the device.
請求項22の半導体装置の製造方法において、
前記(c)工程は、前記ブロックを前記第二所定温度に加熱すると共に、前記ブロックの上面を前記ダイシングテープに当接して前記ブロックの吸引口により吸着する半導体装置の製造方法。
In the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 22,
The step (c) is a method for manufacturing a semiconductor device in which the block is heated to the second predetermined temperature, and the upper surface of the block is brought into contact with the dicing tape and sucked by the suction port of the block.
請求項22の半導体装置の製造方法において、
前記第一所定温度は前記第二所定温度よりも低い温度に設定される半導体装置の製造方法。
In the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 22,
A method for manufacturing a semiconductor device, in which the first predetermined temperature is set to a temperature lower than the second predetermined temperature.
請求項23の半導体装置の製造方法において、
前記第一所定温度は前記第二所定温度と同じ温度に設定される半導体装置の製造方法。
In the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 23,
A method for manufacturing a semiconductor device in which the first predetermined temperature is set to the same temperature as the second predetermined temperature.
請求項24または25の半導体装置の製造方法において、
前記(c)工程は、前記加熱されたダイシングテープから前記剥離対象のダイをピックアップする半導体装置の製造方法。
In the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 24 or 25,
The step (c) is a method for manufacturing a semiconductor device that picks up the die to be peeled from the heated dicing tape.
請求項26の半導体装置の製造方法において、さらに、
(d)前記ピックアップしたダイを前記基板または既にボンディングされているダイの上にボンディングする工程を備える半導体装置の製造方法。
In the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 26, further
(D) A method for manufacturing a semiconductor device, comprising a step of bonding the picked-up die onto the substrate or a die that has already been bonded.
請求項26の半導体装置の製造方法において、
前記(c)工程はさらに前記ピックアップしたダイを中間ステージに載置する工程を有し、
前記(d)工程はさらに前記中間ステージから前記ダイをピックアップする工程を有する半導体装置の製造方法。
In the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 26,
The step (c) further includes a step of placing the picked-up die on an intermediate stage.
The step (d) is a method for manufacturing a semiconductor device, further comprising a step of picking up the die from the intermediate stage.
請求項10のダイボンディング装置において、
前記ブロックの吸引口は、平面視において、前記ブロックの四辺に内接する仮想円または仮想楕円の内側に複数および外側に複数設けられているダイボンディング装置。
In the die bonding apparatus of claim 10,
In a plan view, the suction ports of the block are a plurality of die bonding devices provided inside and outside a virtual circle or a virtual ellipse inscribed on the four sides of the block.
JP2021008082A 2020-03-23 2021-01-21 Die bonding device, peeling jig and manufacturing method of semiconductor device Pending JP2021153176A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW110104165A TWI810522B (en) 2020-03-23 2021-02-04 Wafer bonding apparatus, peeling jig, and manufacturing method of semiconductor device
TW112127685A TW202347464A (en) 2020-03-23 2021-02-04 Die bonding device, peeling jig and manufacturing method of semiconductor device
CN202110296227.5A CN113436988A (en) 2020-03-23 2021-03-19 Chip mounting device, peeling jig, and method for manufacturing semiconductor device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020051133 2020-03-23
JP2020051133 2020-03-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2021153176A true JP2021153176A (en) 2021-09-30

Family

ID=77886714

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021008082A Pending JP2021153176A (en) 2020-03-23 2021-01-21 Die bonding device, peeling jig and manufacturing method of semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2021153176A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024053146A1 (en) * 2022-09-05 2024-03-14 株式会社新川 Semiconductor device manufacturing device and manufacturing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024053146A1 (en) * 2022-09-05 2024-03-14 株式会社新川 Semiconductor device manufacturing device and manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5253996B2 (en) Work dividing method and tape expansion device
JP2009064905A (en) Extension method and extension apparatus
JP2007158122A (en) Bonding means, apparatus, and bonding method of support plate
US20180366433A1 (en) Apparatus for bonding semiconductor chip and method for bonding semiconductor chip
JP2011077138A (en) Method and apparatus for separating protective tape
JP2005303180A (en) Device and method for mounting electronic component
JPH05335405A (en) Wafer mounting stand and manufacturing equipment of semiconductor device
JP2021153176A (en) Die bonding device, peeling jig and manufacturing method of semiconductor device
JP3303832B2 (en) Flip chip bonder
US11373888B2 (en) Protective member forming method and protective member forming apparatus
TWI810522B (en) Wafer bonding apparatus, peeling jig, and manufacturing method of semiconductor device
JP7139048B2 (en) Wafer processing method
JP7143023B2 (en) Wafer processing method
JP2004186482A (en) Method and apparatus for pasting heat adhesive film
WO2014167948A1 (en) Method for attaching sealing sheet and apparatus for attaching sealing sheet
JP2020202260A (en) Wafer processing method
JP2020202261A (en) Wafer processing method
JP2024045793A (en) Semiconductor manufacturing apparatus, peeling unit, and method for manufacturing semiconductor device
US11135828B2 (en) Protective member forming apparatus
TW202416394A (en) Semiconductor manufacturing device, peeling unit and method for manufacturing semiconductor device
JP7305261B2 (en) Wafer processing method
US20230321752A1 (en) Workpiece separation device and workpiece separation method
JP7134562B2 (en) Wafer processing method
KR102284943B1 (en) Bonding device and bonding method
JP2004281660A (en) Method and system for manufacturing semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20231122