JP2020185700A - Manufacturing method of flow path device - Google Patents

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Abstract

To provide a method capable of manufacturing a flow path device capable of maintaining a hydrophilicity of a flow path surface for a long period of time, in a method of manufacturing the flow path device having a flow path for flowing a liquid inside by crimping two or more members.SOLUTION: In at least one of two or more members constituting a flow path device, a process liquid containing a hydrophilic agent is used to form a hydrophilic coating that covers a surface of the member to be joined to the other members, and then in the member provided with the hydrophilic coating, plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas is applied only to a joint surface of the hydrophilic coating, and for members that do not have a hydrophilic coating, at least the joint surface is irradiated with plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas, and two or more members that have undergone such treatment are crimped to manufacture the flow path device.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、内部に液体を流通させる流路を備える流路デバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a flow path device including a flow path for flowing a liquid inside.

近年、生化学分析の分野等において、少量の試料を用いて精密な分析を行う目的等で微細な流路を備えるマイクロ流路チップのような、内部に液体を流通させる流路を備える流路デバイスの使用が広がっている。このような流路デバイスには、水を含む液状の試料が流されることが多い。このため、微細な流路にスムーズに試料を流すために、流路デバイスの流路の表面には高度な親水性が望まれる。 In recent years, in the field of biochemical analysis and the like, a flow path having a flow path for flowing a liquid inside, such as a micro flow path chip having a fine flow path for the purpose of performing precise analysis using a small amount of sample, etc. The use of devices is widespread. A liquid sample containing water is often flowed through such a flow path device. Therefore, in order to allow the sample to flow smoothly through the fine flow path, a high degree of hydrophilicity is desired on the surface of the flow path of the flow path device.

流路の表面が親水化された流路デバイスの製造方法としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、シクロオレフィンポリマー、及びポリエーテルエーテルケトン等の樹脂からなる流路デバイスのパーツに真空紫外線を照射し、パーツの表面を親水化及び活性化させた後に、真空紫外線を照射されたパーツ同士を圧着して流路デバイスを製造する方法が知られている。(特許文献1) As a method for manufacturing a channel device having a hydrophilic surface of the channel, for example, a part of the channel device made of a resin such as polymethylmethacrylate, cycloolefin polymer, and polyetheretherketone is irradiated with vacuum ultraviolet rays. A method is known in which a flow path device is manufactured by crimping parts irradiated with vacuum ultraviolet rays after hydrophilizing and activating the surface of the parts. (Patent Document 1)

特許第4993243号公報Japanese Patent No. 4993243

しかしながら、特許文献1に記載されるような真空紫外線を照射されたパーツを圧着する方法では、パーツ同士の圧着には問題が無くても、流路表面の親水性が経時的に低下しやすい問題がある。 However, in the method of crimping parts irradiated with vacuum ultraviolet rays as described in Patent Document 1, there is a problem that the hydrophilicity of the flow path surface tends to decrease with time even if there is no problem in crimping the parts. There is.

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、2以上の部材を圧着させて内部に液体を流通させる流路を備える流路デバイスを製造方法であって、長期間にわたって流路の表面の親水性を維持できる流路デバイスを製造できる方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and is a method for manufacturing a flow path device provided with a flow path for crimping two or more members to allow a liquid to flow inside, and is a method for manufacturing a flow path device for a long period of time. It is an object of the present invention to provide a method capable of manufacturing a flow path device capable of maintaining the hydrophilicity of a surface.

本発明者らは、流路デバイスを構成する2以上の部材の少なくとも1つにおいて、親水化剤を含む処理液を用いて親水化被膜を形成し、次いで、親水化被膜を備える部材において、親水化被膜の接合面(接合部分)に対してのみ、紫外線又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射した後に、2以上の部材を圧着させて流路デバイスを製造することにより上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors form a hydrophilic film using a treatment liquid containing a hydrophilic agent on at least one of two or more members constituting the flow path device, and then, in the member provided with the hydrophilic film, hydrophilicity. The above problem can be solved by irradiating the joint surface (joint portion) of the chemical coating with plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas and then crimping two or more members to manufacture a flow path device. The present invention has been completed.

具体的には、本発明は、内部に液体を流通させる流路を備える流路デバイスの製造方法であって、
流路デバイスを構成する部材として2以上の部材を準備し、部材の少なくとも1つにおいて、親水化剤を含む処理液を用いて、部材の他の部材と接合される側の表面を被覆する親水化被膜を形成する、被膜形成工程と、
親水化被膜を備える部材においては、親水化被膜の接合面に対してのみ、選択的に紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射し、親水化被膜を備えない部材については、少なくとも接合面に対して、紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射する、照射工程と、
紫外線又は前記プラズマにより処理された2以上の前記部材が備える接合面が互いに対向するように、あらかじめ定められた位置に配置された2以上の前記部材に外力を加え、接合面同士を圧着させる、圧着工程と、
を含む、製造方法である。
Specifically, the present invention is a method for manufacturing a flow path device including a flow path for flowing a liquid inside.
Two or more members are prepared as members constituting the flow path device, and at least one of the members is made hydrophilic by using a treatment liquid containing a hydrophilic agent to coat the surface of the member on the side to be joined with the other members. The film forming process and the film forming process to form a chemical film,
In the member provided with the hydrophilic film, only the joint surface of the hydrophilic film is selectively irradiated with plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas, and for the member not provided with the hydrophilic film, at least the joint surface is irradiated. In contrast to the irradiation step of irradiating plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas,
An external force is applied to the two or more members arranged at predetermined positions so that the joint surfaces of the two or more members treated with ultraviolet rays or the plasma face each other, and the joint surfaces are crimped to each other. Crimping process and
It is a manufacturing method including.

本発明によれば、2以上の部材を圧着させて内部に液体を流通させる流路を備える流路デバイスを製造方法であって、長期間にわたって流路の表面の親水性を維持できる流路デバイスを製造できる方法を提供することができる。 According to the present invention, there is a method for manufacturing a flow path device including a flow path in which two or more members are crimped to allow a liquid to flow inside, and a flow path device capable of maintaining hydrophilicity on the surface of the flow path for a long period of time. Can be provided with a method capable of manufacturing.

本発明の好ましい一実施形態を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically one preferable embodiment of this invention.

≪流路デバイスの製造方法≫
内部に液体を流通させる流路を備える流路デバイスの製造方法は、
流路デバイスを構成する部材として2以上の部材を準備し、部材の少なくとも1つにおいて、親水化剤を含む処理液を用いて、部材の他の部材と接合される側の表面を被覆する親水化被膜を形成する、被膜形成工程と、
親水化被膜を備える部材においては、親水化被膜の接合面に対してのみ、選択的に紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射し、親水化被膜を備えない部材については、少なくとも接合面に対して、紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射する、照射工程と、
紫外線又は前記プラズマにより処理された2以上の前記部材が備える接合面が互いに対向するように、あらかじめ定められた位置に配置された2以上の前記部材に外力を加え、接合面同士を圧着させる、圧着工程と、
を含む。
≪Manufacturing method of flow path device≫
A method for manufacturing a flow path device having a flow path for flowing a liquid inside is
Two or more members are prepared as members constituting the flow path device, and at least one of the members is made hydrophilic by using a treatment liquid containing a hydrophilic agent to coat the surface of the member on the side to be joined with the other members. The film forming process and the film forming process to form a chemical film,
In the member provided with the hydrophilic film, only the joint surface of the hydrophilic film is selectively irradiated with plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas, and for the member not provided with the hydrophilic film, at least the joint surface is irradiated. In contrast to the irradiation step of irradiating plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas,
An external force is applied to the two or more members arranged at predetermined positions so that the joint surfaces of the two or more members treated with ultraviolet rays or the plasma face each other, and the joint surfaces are crimped to each other. Crimping process and
including.

流路デバイスの形状は特に限定されない。流路デバイスの形状の例としては、板状や、円盤状や、円柱状や、三角柱状、四角柱状、及び六角柱状等の角柱状等が挙げられる。 The shape of the flow path device is not particularly limited. Examples of the shape of the flow path device include a plate shape, a disk shape, a columnar shape, a triangular columnar shape, a triangular columnar shape, a prismatic shape such as a hexagonal columnar shape, and the like.

流路デバイスが備える流路は、分岐の無い線状であってもよく、1以上の分岐点を有する分岐状であってもよい。流路デバイスは、1本の流路のみを備えていてもよく、2本以上の複数の流路を備えていてもよい。 The flow path included in the flow path device may be linear without branching, or may be branched with one or more branching points. The flow path device may include only one flow path, or may include a plurality of flow paths of two or more.

流路の断面形状は特に限定されない。例えば、フォトリソグラフィー法や、インプリント法等による流路の形成が容易である点からは、流路の断面形状が正方形や長方形等の四角形であるのが好ましい。他方、流体をスムーズに流しやすいことや、流路に流される流体が固形分を含む場合に、固形分が流路内にたまりにくいこと等からは、流路の断面形状は円形又は略円形であるのが好ましい。 The cross-sectional shape of the flow path is not particularly limited. For example, from the viewpoint that the flow path can be easily formed by a photolithography method, an imprint method, or the like, the cross-sectional shape of the flow path is preferably a quadrangle such as a square or a rectangle. On the other hand, the cross-sectional shape of the flow path is circular or substantially circular because it is easy for the fluid to flow smoothly and when the fluid flowing in the flow path contains solid content, the solid content is unlikely to accumulate in the flow path. It is preferable to have it.

流路の断面積は、特に限定されず、流路デバイスの用途に応じて適宜設定される。流路の断面積は、流路デバイス内において一定であっても、一定でなくてもよい。
また、流路の断面の寸法も特に限定されない。流路の断面の寸法としては、フェレ系のうちの短径の長さとして、1mm以下が好ましく、500μm以下がより好ましく、100μm以下がさらにより好ましく、50μm以下が特に好ましい。フェレ系のうちの短径の長さの下限は特に限定されず、例えば、1μm以上であってよく、5μm以上であってよく、10μm以上であってよい。
フェレ径とは、流路の断面の外周に外接する長方形又は正方形のうち、面積が最小である長方形又は正方形の辺の長さである。断面形状が円である場合、円の直径の値となり、断面形状が正方形である場合、正方形の一辺の長さとなる。
The cross-sectional area of the flow path is not particularly limited, and is appropriately set according to the application of the flow path device. The cross-sectional area of the flow path may or may not be constant within the flow path device.
Further, the size of the cross section of the flow path is not particularly limited. As for the size of the cross section of the flow path, the length of the minor axis in the ferret system is preferably 1 mm or less, more preferably 500 μm or less, even more preferably 100 μm or less, and particularly preferably 50 μm or less. The lower limit of the length of the minor axis in the Ferret system is not particularly limited, and may be, for example, 1 μm or more, 5 μm or more, or 10 μm or more.
The ferret diameter is the length of the side of the rectangle or square having the smallest area among the rectangles or squares circumscribing the outer circumference of the cross section of the flow path. When the cross-sectional shape is a circle, it is the value of the diameter of the circle, and when the cross-sectional shape is a square, it is the length of one side of the square.

例えば、幅10μm、長さ50μmの長方形を、両端が重なるように、端部からの長さが25μmの位置で折り曲げた形状の線状の断面について考える。この場合、フェレ径は、概ね、20μm(=幅10μm+幅10μm)と、25μm(=長さ50μm÷2)とである。従って、フェレ径のうちの短径は、約20μmである。
よって、この場合には、フェレ径のうちの短径として20μmが採用される。
For example, consider a linear cross section in which a rectangle having a width of 10 μm and a length of 50 μm is bent at a position where the length from the end is 25 μm so that both ends overlap. In this case, the ferret diameter is approximately 20 μm (= width 10 μm + width 10 μm) and 25 μm (= length 50 μm ÷ 2). Therefore, the minor axis of the ferret diameter is about 20 μm.
Therefore, in this case, 20 μm is adopted as the minor diameter of the ferret diameter.

以下各工程について説明する。 Each step will be described below.

<被膜形成工程>
被膜形成工程では、流路デバイスを構成する部材として2以上の部材を準備し、部材の少なくとも1つにおいて、親水化剤を含む処理液を用いて、部材の他の部材と接合される側の表面を被覆する親水化被膜を形成する。
<Film formation process>
In the film forming step, two or more members are prepared as members constituting the flow path device, and at least one of the members is on the side to be joined to the other members of the member by using a treatment liquid containing a hydrophilic agent. A hydrophilic film is formed to cover the surface.

上記の製造方法において、2以上の部材の接合される面の表面を、紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマの照射によって活性させた後に、2以上の部材を圧着させることにより流路デバイスが製造される。 In the above manufacturing method, the surface of the surface to which two or more members are joined is activated by irradiation with plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas, and then the two or more members are crimped to form a flow path device. Manufactured.

部材の材質は、紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマの照射による活性化により圧着可能である材質であれば特に限定されない。部材材質は、無機材料であっても、樹脂に代表される有機材料であってもよい。
部材について、それぞれ他の部材と接合される側の表面の材質は、親水化被膜の密着のさせやすさや、紫外線又はプラズマの照射による活性化のされやすさから、シリコン、ガラス、シリコーン樹脂、環状オレフィンポリマー、環状オレフィンコポリマー、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、及びポリカーボネート樹脂からなる群より選択される1種以上が好ましい。
The material of the member is not particularly limited as long as it is a material that can be crimped by activation by irradiation with plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas. The member material may be an inorganic material or an organic material typified by a resin.
Regarding the members, the surface material on the side to be joined to each other member is silicon, glass, silicone resin, or annular because of the ease of adhesion of the hydrophilic coating and the ease of activation by irradiation with ultraviolet rays or plasma. One or more selected from the group consisting of olefin polymers, cyclic olefin copolymers, acrylic resins, polyester resins, and polycarbonate resins is preferable.

上記の製造方法において、通常、2以上の部材のうちの少なくとも2つが、流路を構成する面を備える。そして、流路を構成する面に対して親水化被膜の形成が行われる。
流路表面が親水化された流路デバイスを製造することが目的であるため、この場合、親水化被膜の、紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射しない部分が、流路デバイスの流路表面となる。親水化被膜に対して紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマが照射された箇所では、親水化被膜の少なくとも一部、又は全部が除去されるためである。
In the above manufacturing method, at least two of the two or more members usually include surfaces that form a flow path. Then, a hydrophilic film is formed on the surface forming the flow path.
Since the purpose is to manufacture a channel device having a hydrophilic surface, in this case, the portion of the hydrophilic film that is not irradiated with plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas is the flow of the channel device. It becomes the road surface. This is because at least a part or all of the hydrophilic film is removed at the place where the hydrophilic film is irradiated with ultraviolet rays or plasma derived from an oxygen-containing gas.

また、流路デバイスを構成する2以上の部材の全てにおいて、親水化被膜が形成されるのが好ましい。流路デバイスを構成する2以上の部材の全てにおいて、親水化被膜が形成されることにより、流路の内面の全面が良好に親水化される。 Further, it is preferable that a hydrophilic film is formed on all of the two or more members constituting the flow path device. By forming a hydrophilic coating on all of the two or more members constituting the flow path device, the entire inner surface of the flow path is satisfactorily hydrophilized.

被膜形成工程において、部材の材質によっては、親水化被膜を形成する前には、流路デバイスを構成する部材の親水化被膜が形成される面に対して、紫外線又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射する処理か、酸化剤に接触させる処理を行ってもよい。このような処理を行った後に、親水化被膜を形成することにより、親水化被膜を部材の表面に強固に密着させることができる。 In the film forming step, depending on the material of the member, before forming the hydrophilic film, plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas is applied to the surface of the member constituting the flow path device on which the hydrophilic film is formed. Or a treatment of contacting with an oxidizing agent may be performed. By forming a hydrophilic film after such treatment, the hydrophilic film can be firmly adhered to the surface of the member.

被膜形成工程の前に行われる上記処理において酸化剤を用いる場合、酸化剤としては、硫酸、硝酸、クロム酸、過マンガン酸、過硫酸、及び混酸からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。 When an oxidizing agent is used in the above treatment performed before the film forming step, the oxidizing agent is preferably at least one selected from the group consisting of sulfuric acid, nitric acid, chromic acid, permanganate, persulfuric acid, and mixed acid. ..

親水化剤は、有機化合物であっても、無機化合物であってもよい。親水化被膜が形成された面に紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射した場合に、紫外線又はプラズマが照射された面の圧着が容易であることから、親水化剤は有機化合物であるのが好ましい。親水化被膜が有機化合物を主体とする場合、紫外線又はプラズマの照射によって、親水化被膜の除去と、紫外線又はプラズマの照射による部材の表面の活性とが、同時に良好に進行しやすいためである。 The hydrophilizing agent may be an organic compound or an inorganic compound. When the surface on which the hydrophilic film is formed is irradiated with ultraviolet rays or plasma derived from an oxygen-containing gas, the surface irradiated with ultraviolet rays or plasma can be easily crimped, so that the hydrophilic agent is an organic compound. Is preferable. This is because when the hydrophilic film is mainly composed of an organic compound, the removal of the hydrophilic film and the activity of the surface of the member by irradiation with ultraviolet rays or plasma are likely to proceed satisfactorily at the same time by irradiation with ultraviolet rays or plasma.

部材の表面に処理液を塗布する方法は特に限定されない。塗布方法の具体例としては、スピンコート法、スプレー法、ローラーコート法、浸漬法等が挙げられる。部材が板状である場合、処理液を均一に塗布しやすいことから、塗布方法としてスピンコート法が好ましい。 The method of applying the treatment liquid to the surface of the member is not particularly limited. Specific examples of the coating method include a spin coating method, a spray method, a roller coating method, a dipping method and the like. When the member is plate-shaped, the spin coating method is preferable as the coating method because it is easy to uniformly apply the treatment liquid.

親水化被膜を薄くする目的で、処理液を塗布して形成された塗布膜に対してリンスを行ってもよい。リンス液としては、所望の膜厚の被膜を形成できる限り特に限定されない。リンス液としては、水、有機溶剤、及び有機溶剤の水溶液を用いることがでる。リンス液としては水が好ましい。
塗布膜をリンスする方法としては、特に限定されない。典型的には、前述の塗布方法と同様の方法によって、リンス液を塗布膜に接触させることにより、塗布膜のリンスが行われる。
For the purpose of thinning the hydrophilized film, the coating film formed by applying the treatment liquid may be rinsed. The rinsing solution is not particularly limited as long as a film having a desired film thickness can be formed. As the rinsing solution, water, an organic solvent, and an aqueous solution of an organic solvent can be used. Water is preferable as the rinsing solution.
The method for rinsing the coating film is not particularly limited. Typically, the coating film is rinsed by bringing the rinsing solution into contact with the coating film by the same method as the above-mentioned coating method.

親水化被膜の膜厚は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。親水化被膜の膜厚としては、例えば、100nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましく、0.1nm以上が好ましい。親水化被膜の膜厚の下限としては、0.5nm以上がさらに好ましい。上記の膜厚の範囲の中でも、0.5nm以上5nm以下が特に好ましく、0.5nm以上3nm以下が最も好ましい。 The film thickness of the hydrophilized coating is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. The film thickness of the hydrophilized coating is, for example, preferably 100 nm or less, more preferably 10 nm or less, and preferably 0.1 nm or more. The lower limit of the film thickness of the hydrophilized coating is more preferably 0.5 nm or more. Within the above film thickness range, 0.5 nm or more and 5 nm or less is particularly preferable, and 0.5 nm or more and 3 nm or less is most preferable.

親水化被膜12の膜厚が上記の範囲内であると、十分な親水化の効果を得やすく、且つ、親水化被膜12が形成された面に紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射した場合に、紫外線又はプラズマが照射された面の圧着が容易である。
親水化被膜12の厚さは、処理液の固形分濃度、処理液を塗布する際の塗布膜の膜厚、リンス液の使用量、リンス液の種類、及びリンス液の温度等を調整することにより調整可能である。
When the thickness of the hydrophilic coating 12 is within the above range, it is easy to obtain a sufficient hydrophilic effect, and the surface on which the hydrophilic coating 12 is formed is irradiated with ultraviolet rays or plasma derived from an oxygen-containing gas. When this is done, it is easy to crimp the surface irradiated with ultraviolet rays or plasma.
The thickness of the hydrophilized coating film 12 is adjusted by adjusting the solid content concentration of the treatment liquid, the film thickness of the coating film when applying the treatment liquid, the amount of the rinse liquid used, the type of the rinse liquid, the temperature of the rinse liquid, and the like. It can be adjusted by.

親水化被膜の形成に用いられる処理液は、部材の表面を親水化させる被膜を形成できる限り特に限定されない。 The treatment liquid used for forming the hydrophilic film is not particularly limited as long as it can form a film that hydrophilizes the surface of the member.

親水化被膜の形成に用いられる処理液としては、親水性基を有する樹脂の溶液が好ましく用いられる。かかる処理液に含まれる溶媒としては、樹脂が溶解する限り特に限定されない。好ましい溶媒としては、後述する第1の処理液に含まれる(B)溶媒について説明する溶媒が挙げられる。
親水性機を有する樹脂を含む処理液中の樹脂の濃度は特に限定されない。処理液中の樹脂の濃度は、親水化被膜の膜厚や、処理液の塗布性を勘案して適宜決定される。
親水性基を有する樹脂としては、特に限定されない。親水性基を有する樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアルキレンイミン樹脂(例えば、ポリエチレンイミン樹脂)、及びシリコーン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂の中では、官能基の導入や、官能基を有する単位の含有比率の調整が容易である事から(メタ)アクリル樹脂が好ましい。
親水性基の具体例としては、ポリオキシアルキレン基(例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、オキシエチレン基とオキシプロピレン基がブロック又はランダム結合したポリオキシアルキレン基等)、アミノ基、カルボキシ基、水酸基、スルホン酸基等が挙げられる。また、これらの基を含む有機基も親水性基として好ましい。
さらに、アニオン部と、樹脂に結合するカチオン部とからなるカチオン性基も親水性基として好ましい。カチオン性基を構成するカチオン部としては、含窒素カチオン部、含イオウカチオン部、含ヨウ素カチオン部、及び含リンカチオン部等が挙げられる。アニオン部を構成するアニオンとしては特に限定されない。アニオンの価数は特に限定されず、1価アニオン又は2価アニオンが好ましく、1価アニオンがより好ましい。
アニオン部としての1価アニオンの好適な例としては、ハロゲン化物イオン、水酸化物イオン、硝酸イオン、種々の有機カルボン酸又は有機スルホン酸に由来する有機酸イオン等が挙げられる。これらの中では、ハロゲン化物イオンが好ましく、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ化物イオンがより好ましく、塩化物イオン、及び臭化物イオンがさらにより好ましく、塩化物イオンが特に好ましい。
カチオン性基の好ましい例としては、4級アンモニウム塩基を含む基、含窒素芳香族複素環基の塩を含む基、スルホニウム塩基を含む基、ヨードニウム塩基を含む基、ホスホニウム塩基を含む基等が挙げられる。
これらのカチオン性基の中では、樹脂への導入が容易であることや、親水化の効果が高いこと等から、4級アンモニウム塩基を含む基が好ましい。
また、親水化被膜に部材への密着性や剥離への耐久性を付与する目的で、樹脂は、グリシジル基等のエポキシ基含有基や、オキセタニル基含有基や、トリメトキシシリル基及びトリエトキシシリル基等の加水分解縮合性の反応性シリル基等を有していてもよい。
As the treatment liquid used for forming the hydrophilic film, a solution of a resin having a hydrophilic group is preferably used. The solvent contained in the treatment liquid is not particularly limited as long as the resin is dissolved. Preferred solvents include the solvent described for (B) solvent contained in the first treatment liquid described later.
The concentration of the resin in the treatment liquid containing the resin having a hydrophilic machine is not particularly limited. The concentration of the resin in the treatment liquid is appropriately determined in consideration of the film thickness of the hydrophilized coating and the coatability of the treatment liquid.
The resin having a hydrophilic group is not particularly limited. Examples of the resin having a hydrophilic group include (meth) acrylic resin, novolak resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyalkyleneimine resin (for example, polyethyleneimine resin), and silicone resin. Can be mentioned. Among these resins, (meth) acrylic resin is preferable because it is easy to introduce a functional group and adjust the content ratio of a unit having a functional group.
Specific examples of the hydrophilic group include a polyoxyalkylene group (for example, a polyoxyethylene group, a polyoxypropylene group, a polyoxyalkylene group in which an oxyethylene group and an oxypropylene group are blocked or randomly bonded), an amino group, and a carboxy group. Examples include groups, hydroxyl groups, sulfonic acid groups and the like. Further, an organic group containing these groups is also preferable as a hydrophilic group.
Further, a cationic group composed of an anion portion and a cation portion bonded to the resin is also preferable as the hydrophilic group. Examples of the cation portion constituting the cationic group include a nitrogen-containing cation portion, a sulfur-containing cation portion, an iodine-containing cation portion, and a phosphorus-containing cation portion. The anion constituting the anion portion is not particularly limited. The valence of the anion is not particularly limited, and a monovalent anion or a divalent anion is preferable, and a monovalent anion is more preferable.
Preferable examples of the monovalent anion as the anion portion include halide ions, hydroxide ions, nitrate ions, organic acid ions derived from various organic carboxylic acids and organic sulfonic acids, and the like. Among these, halide ions are preferable, chloride ions, bromide ions, iodide ions, and fluoride ions are more preferable, chloride ions and bromide ions are even more preferable, and chloride ions are particularly preferable.
Preferred examples of the cationic group include a group containing a quaternary ammonium base, a group containing a salt of a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group, a group containing a sulfonium base, a group containing an iodonium base, a group containing a phosphonium base and the like. Be done.
Among these cationic groups, a group containing a quaternary ammonium base is preferable because it can be easily introduced into a resin and has a high hydrophilicity effect.
Further, for the purpose of imparting adhesion to the member and durability to peeling to the hydrophilic film, the resin contains an epoxy group-containing group such as a glycidyl group, an oxetanyl group-containing group, a trimethoxysilyl group and a triethoxysilyl group. It may have a hydrolysis-condensable reactive silyl group such as a group.

親水化被膜の形成に用いられる好ましい処理液の一例としては、特開2018−159039号公報に記載の処理液が挙げられる。
特開2018−159039号に記載の処理液は、樹脂と、溶媒とを含む。樹脂は、水酸基、シアノ基、及びカルボキシ基からなる群より選択される1以上の基である官能基Iと、前記官能基I以外の親水性基である官能基IIとを有し、ただし、官能基IIが水酸基、シアノ基、及びカルボキシ基から選択される1以上の基を含む場合、樹脂は官能基Iを有していなくてもよい。特開2018−159039号公報に記載の処理液において、樹脂の重量平均分子量は、100,000以上である。
As an example of a preferable treatment liquid used for forming a hydrophilized film, there is a treatment liquid described in JP-A-2018-159039.
The treatment liquid described in JP-A-2018-159039 contains a resin and a solvent. The resin has a functional group I, which is one or more groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, a cyano group, and a carboxy group, and a functional group II, which is a hydrophilic group other than the functional group I. When the functional group II contains one or more groups selected from a hydroxyl group, a cyano group, and a carboxy group, the resin does not have to have the functional group I. In the treatment liquid described in JP-A-2018-159039, the weight average molecular weight of the resin is 100,000 or more.

特開2018−095756号公報に記載の処理液も、親水化被膜の形成に好適に使用できる。
特開2018−095756号公報に記載の処理液は、樹脂と、イオン性化合物と、含水溶媒とを含む。樹脂は、アニオン性基及び/又はカチオン性基を有する水溶性の樹脂である。イオン性化合物は、水溶性の非重合体化合物である。
The treatment liquid described in JP-A-2018-095756 can also be suitably used for forming a hydrophilized film.
The treatment liquid described in JP-A-2018-095756 contains a resin, an ionic compound, and a water-containing solvent. The resin is a water-soluble resin having an anionic group and / or a cationic group. The ionic compound is a water-soluble non-polymer compound.

特開2018−094516号公報に記載の第1液と第2液とからなる2液型の処理液も、親水化被膜の形成に好適に使用できる。
特開2018−094516号公報に記載の処理液について、第1液は、樹脂と含水溶媒とを含む。第1液に含まれる樹脂は、アニオン性基及び/又はカチオン性基を有する水溶性の樹脂である。
第2液は、イオン性化合物と、含水溶媒とを含む。第2液に含まれるイオン性化合物は、水溶性の非重合体化合物である。
特開2018−094516号公報に記載の第1液と第2液とからなる2液型の処理液を用いて、親水化被膜を形成する場合、第1液の塗布を行った後に、第1液を塗布した個所に第2液を接触させる。
A two-component treatment solution composed of a first solution and a second solution described in JP-A-2018-094516 can also be suitably used for forming a hydrophilic film.
Regarding the treatment liquid described in JP-A-2018-094516, the first liquid contains a resin and a water-containing solvent. The resin contained in the first liquid is a water-soluble resin having an anionic group and / or a cationic group.
The second liquid contains an ionic compound and a water-containing solvent. The ionic compound contained in the second liquid is a water-soluble non-polymer compound.
In the case of forming a hydrophilized film using a two-component treatment solution composed of a first solution and a second solution described in JP-A-2018-094516, the first solution is applied after the first solution is applied. The second liquid is brought into contact with the place where the liquid is applied.

特開2017−061682号公報に記載の処理液も、親水化被膜の形成に好適に使用できる。
特開2017−061682号公報に記載の処理液は、樹脂と、強酸と、溶媒とを含む。樹脂は、水酸基、シアノ基、及びカルボキシ基からなる群より選択される1以上の基である官能基Iと、官能基I以外の親水性基である官能基IIとを有する。ただし、官能基IIが、水酸基、シアノ基、及びカルボキシ基からなる群より選択される1以上の基を含む場合、樹脂は、前述の官能基Iを有していなくてもよい。特開2017−061682号公報に記載の処理液に含まれる強酸のpKaは1以下である。
The treatment liquid described in JP-A-2017-061682 can also be suitably used for forming a hydrophilized film.
The treatment liquid described in JP-A-2017-061682 contains a resin, a strong acid, and a solvent. The resin has a functional group I, which is one or more groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, a cyano group, and a carboxy group, and a functional group II, which is a hydrophilic group other than the functional group I. However, when the functional group II contains one or more groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, a cyano group, and a carboxy group, the resin does not have to have the above-mentioned functional group I. The pKa of the strong acid contained in the treatment liquid described in JP-A-2017-061682 is 1 or less.

特に好ましい処理液の具体例としては、(A)樹脂と、(B)溶媒とを含み、
(A)樹脂の全構造単位における、アニオン性基を有する構造単位の比率が5モル%以下であり、
(A)樹脂が、水酸基、及び/又はシアノ基である官能基Iと、官能基I以外の親水性基である官能基IIとを有し、ただし、官能基IIが水酸基、及び/又はシアノ基を含む場合、(A)樹脂は官能基Iを有していなくてもよい、処理液が挙げられる。
この処理液について、「第1の処理液」として説明する。
Specific examples of a particularly preferable treatment liquid include (A) resin and (B) solvent.
(A) The ratio of structural units having anionic groups to all structural units of the resin is 5 mol% or less.
The resin (A) has a functional group I which is a hydroxyl group and / or a cyano group and a functional group II which is a hydrophilic group other than the functional group I, except that the functional group II is a hydroxyl group and / or cyano. When containing a group, the resin (A) does not have to have a functional group I, and examples thereof include a treatment liquid.
This treatment liquid will be described as a "first treatment liquid".

第1の処理液は、種々の基材の表面処理に用いることが可能である。第1の処理液は、特に、ポリオルガノシロキサンを表面の少なくとも一部に含む部材上での親水化被膜の形成に好ましく用いられる。上記の所定の要件を満たす第1の処理液を用いる場合、ポリオルガノシロキサンを表面の少なくとも一部に含む基材を、長期間にわたって高度に親水化することが容易である。 The first treatment liquid can be used for surface treatment of various base materials. The first treatment liquid is particularly preferably used for forming a hydrophilized film on a member containing polyorganosiloxane in at least a part of the surface. When the first treatment liquid satisfying the above-mentioned predetermined requirements is used, it is easy to make the base material containing polyorganosiloxane in at least a part of the surface highly hydrophilic over a long period of time.

ポリオルガノシロキサンとしては特に限定されない。ポリオルガノシロキサンの具体例としては、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルエチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルプロピルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、及びポリメチルブチルシロキサン等が挙げられる。
これらの中では、入手が容易であること等からポリジメチルシロキサンが好ましい。
The polyorganosiloxane is not particularly limited. Specific examples of polyorganosiloxane include polydimethylsiloxane, polymethylethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, polymethylpropylsiloxane, polydiphenylsiloxane, and polymethylbutylsiloxane.
Among these, polydimethylsiloxane is preferable because it is easily available.

以下、第1の処理液に含まれる成分について説明する。 Hereinafter, the components contained in the first treatment liquid will be described.

((A)樹脂)
(A)樹脂は、水酸基、及び/又はシアノ基である官能基Iを有する。また、(A)樹脂は、官能基I以外の親水性基である官能基IIを有する。親水性基を有する(A)樹脂を含む処理液を用いることにより親水化処理できる。
親水性基は、従来から、当業者に親水性基であると認識されている官能基であれば特に限定されず、その中から適宜選択できる。
((A) resin)
The resin (A) has a functional group I which is a hydroxyl group and / or a cyano group. Further, the resin (A) has a functional group II which is a hydrophilic group other than the functional group I. The hydrophilic treatment can be performed by using a treatment liquid containing the resin (A) having a hydrophilic group.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it is a functional group conventionally recognized as a hydrophilic group by those skilled in the art, and can be appropriately selected from among them.

(A)樹脂の種類は、(A)樹脂が、所定の官能基を有し、且つ(B)溶媒に可溶である限り特に限定されない。(A)樹脂の例としては、(メタ)アクリル樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、及びシリコーン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂の中では、官能基の導入や、官能基を有する単位の含有比率の調整が容易である事から(メタ)アクリル樹脂が好ましい。 The type of the resin (A) is not particularly limited as long as the resin (A) has a predetermined functional group and is soluble in the solvent (B). Examples of the resin (A) include (meth) acrylic resin, novolak resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, silicone resin and the like. Among these resins, (meth) acrylic resin is preferable because it is easy to introduce a functional group and adjust the content ratio of a unit having a functional group.

親水性基の具体例としては、ポリオキシアルキレン基(例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、オキシエチレン基とオキシプロピレン基がブロック又はランダム結合したポリオキシアルキレン基等)、アミノ基、カルボキシ基、水酸基、スルホン酸基等があげられる。また、これらの基を含む有機基も親水性基として好ましい。 Specific examples of the hydrophilic group include a polyoxyalkylene group (for example, a polyoxyethylene group, a polyoxypropylene group, a polyoxyalkylene group in which an oxyethylene group and an oxypropylene group are blocked or randomly bonded), an amino group, and a carboxy group. Examples include groups, hydroxyl groups and sulfonic acid groups. Further, an organic group containing these groups is also preferable as a hydrophilic group.

さらに、アニオン部と、(A)樹脂に結合するカチオン部とからなるカチオン性基も親水性基として好ましい。カチオン性基を構成するカチオン部としては、含窒素カチオン部、含イオウカチオン部、含ヨウ素カチオン部、及び含リンカチオン部等が挙げられる。 Further, a cationic group composed of an anion portion and a cation portion bonded to the resin (A) is also preferable as the hydrophilic group. Examples of the cation portion constituting the cationic group include a nitrogen-containing cation portion, a sulfur-containing cation portion, an iodine-containing cation portion, and a phosphorus-containing cation portion.

アニオン部を構成するアニオンとしては特に限定されない。アニオンの価数は特に限定されず、1価アニオン又は2価アニオンが好ましく、1価アニオンがより好ましい。
アニオン部としての1価アニオンの好適な例としては、ハロゲン化物イオン、水酸化物イオン、硝酸イオン、種々の有機カルボン酸又は有機スルホン酸に由来する有機酸イオン等が挙げられる。これらの中では、ハロゲン化物イオンが好ましく、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ化物イオンがより好ましく、塩化物イオン、及び臭化物イオンがさらにより好ましく、塩化物イオンが特に好ましい。
The anion constituting the anion portion is not particularly limited. The valence of the anion is not particularly limited, and a monovalent anion or a divalent anion is preferable, and a monovalent anion is more preferable.
Preferable examples of the monovalent anion as the anion portion include halide ions, hydroxide ions, nitrate ions, organic acid ions derived from various organic carboxylic acids and organic sulfonic acids, and the like. Among these, halide ions are preferable, chloride ions, bromide ions, iodide ions, and fluoride ions are more preferable, chloride ions and bromide ions are even more preferable, and chloride ions are particularly preferable.

カチオン性基の好ましい例としては、4級アンモニウム塩基を含む基、含窒素芳香族複素環基の塩を含む基、スルホニウム塩基を含む基、ヨードニウム塩基を含む基、ホスホニウム塩基を含む基等が挙げられる。
これらのカチオン性基の中では、(A)樹脂への導入が容易であることや、親水化の効果が高いこと等から、4級アンモニウム塩基を含む基が好ましい。
Preferred examples of the cationic group include a group containing a quaternary ammonium base, a group containing a salt of a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group, a group containing a sulfonium base, a group containing an iodonium base, a group containing a phosphonium base and the like. Be done.
Among these cationic groups, a group containing a quaternary ammonium base is preferable because it can be easily introduced into the resin (A) and has a high hydrophilicity effect.

カチオン性基としての4級アンモニウム塩基としては、下記式(A−I):
−R4a−N1a2a3a・X・・・(A−I)
(式(A−I)中、R1a、R2a、及びR3aは、それぞれ独立にNに結合する炭素原子数1以上4以下のアルキル基であり、R1a、R2a、及びR3aのうちの2つは互いに結合して環を形成してもよく、R4aは炭素原子数1以上4以下のアルキレン基であり、Xは1価のアニオンである。)
で表される基が好ましい。
The quaternary ammonium base as a cationic group includes the following formula (AI):
−R 4a −N + R 1a R 2a R 3a・ X ・ ・ ・ (AI)
(In the formula (AI), R 1a , R 2a , and R 3a are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms independently bonded to N + , respectively, and R 1a , R 2a , and R 3a. Two of them may be bonded to each other to form a ring, R 4a is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and X is a monovalent anion.)
The group represented by is preferable.

1a、R2a、及びR3aとしての炭素原子数1以上4以下のアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、直鎖状であるのが好ましい。R1a、R2a、及びR3aの好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、及びn−ブチル基が挙げられる。 The alkyl groups having 1 or more and 4 or less carbon atoms as R 1a , R 2a , and R 3a may be linear or branched chain, and are preferably linear. Preferable specific examples of R 1a , R 2a , and R 3a include methyl group, ethyl group, n-propyl group, and n-butyl group.

4aとしての炭素原子数1以上4以下のアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、直鎖状であるのが好ましい。R4aの好適な具体例としては、メチレン基、エタン−1,2−ジイル基、プロパン−1,3−ジイル基、及びブタン−1,4−ジイル基が挙げられる。 The alkylene group having 1 or more and 4 or less carbon atoms as R 4a may be linear or branched chain, and is preferably linear. Preferable specific examples of R4a include a methylene group, an ethane-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, and a butane-1,4-diyl group.

の好適な例は、前述のアニオン部を構成するアニオンの好適な例と同様である。 Preferable examples of X are the same as the preferred examples of anions constituting the anion portion described above.

なお、(A)樹脂が、親水性基として、カルボキシ基、スルホン酸基等のアニオン性基を有する場合、(A)樹脂の全構造単位における、アニオン性基を有する構造単位の比率が5モル%以下である。 When the resin (A) has an anionic group such as a carboxy group or a sulfonic acid group as a hydrophilic group, the ratio of the structural unit having an anionic group to all the structural units of the resin (A) is 5 mol. % Or less.

(A)樹脂が、官能基IIとして、水酸基、及び/又はシアノ基を含む親水性基を有する場合、当該親水性基に含まれる水酸基、及び/又はシアノ基は、官能基Iとしての役割も果たす。
このため、(A)樹脂が、官能基IIとして、水酸基、及び/又はシアノ基を含む親水性基を有する場合、(A)樹脂は、官能基Iを有していなくてもよい。
なお、水酸基を含む親水性基には、水酸基そのものが含まれる。
When the resin (A) has a hydrophilic group containing a hydroxyl group and / or a cyano group as the functional group II, the hydroxyl group and / or the cyano group contained in the hydrophilic group also serves as a functional group I. Fulfill.
Therefore, when the resin (A) has a hydrophilic group containing a hydroxyl group and / or a cyano group as the functional group II, the resin (A) does not have to have the functional group I.
The hydrophilic group containing a hydroxyl group includes the hydroxyl group itself.

処理液の親水化効果が優れる点で、親水性基としては、下記式(A1):
−NH−R・・・(A1)
(式(A1)中、Rは、アミノ基、スルホン酸基、及び水酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1以上4以下のアルキル基、前述の式(A−I)で表される4級アンモニウム塩基、又は水素原子である。)
で表される基が好ましい。
In that the treatment liquid has an excellent hydrophilic effect, the hydrophilic group includes the following formula (A1):
-NH-R 1 ... (A1)
(In the formula (A1), R 1 is an alkyl group having 1 or more and 4 or less carbon atoms substituted with one or more groups selected from the group consisting of an amino group, a sulfonic acid group, and a hydroxyl group, and the above-mentioned formula ( It is a quaternary ammonium base represented by AI) or a hydrogen atom.)
The group represented by is preferable.

式(A1)で表される親水性基の具体例としては、アミノ基と、下記式で表されるRを有する基と、が挙げられる。

Figure 2020185700
Specific examples of the hydrophilic group represented by the formula (A1) include an amino group and a group having R 1 represented by the following formula.
Figure 2020185700

Figure 2020185700
Figure 2020185700

Figure 2020185700
Figure 2020185700

上記の式(A1)で表される親水性基の具体例のうち、より好ましい基としては、下記式で表されるRを有する基が挙げられる。

Figure 2020185700
Among the specific examples of the hydrophilic group represented by the above formula (A1), a more preferable group includes a group having R 1 represented by the following formula.
Figure 2020185700

上記の式(A1)で表される親水性基の具体例のうち、特に好ましい基としては、下記式で表されるRを有する基が挙げられる。

Figure 2020185700
Among the specific examples of the hydrophilic group represented by the above formula (A1), a particularly preferable group includes a group having R 1 represented by the following formula.
Figure 2020185700

(A)樹脂としては、種々の官能基を導入しやすく、官能基量の調整が容易である事から、不飽和結合を有する単量体の重合体であるのが好ましい。かかる重合体は、ホモポリマーであっても、コポリマーであってもよい。 The resin (A) is preferably a polymer of a monomer having an unsaturated bond because it is easy to introduce various functional groups and it is easy to adjust the amount of functional groups. Such a polymer may be a homopolymer or a copolymer.

この場合、(A)樹脂が有する官能基Iは、下式(A2):
CH=CR−(R−CO−R・・・(A2)
(式(A2)中、Rは水素原子又はメチル基であり、Rは2価の炭化水素基であり、aは0又は1であり、Rは、−OH、−O−R、又は−NH−Rであり、Rは、水酸基、及び/又はシアノ基で置換された炭化水素基である。)
で表される単量体に由来する基であるのが好ましい。
In this case, the functional group I contained in the resin (A) is the following formula (A2):
CH 2 = CR 2- (R 3 ) a- CO-R 4 ... (A2)
(In the formula (A2), R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, R 3 is a divalent hydrocarbon group, a is 0 or 1, and R 4 is -OH, -O-R 5. , Or -NH-R 5 , where R 5 is a hydrocarbon group substituted with a hydroxyl group and / or a cyano group.)
It is preferably a group derived from the monomer represented by.

上記式(A2)中、Rは2価の炭化水素基である。2価の炭化水素基の炭素原子数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。(A)樹脂の入手や調製が容易である事から、Rとしての2価の炭化水素基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上12以下がより好ましく、1以上10以下が特に好ましく、1以上6以下が最も好ましい。 In the above formula (A2), R 3 is a divalent hydrocarbon group. The number of carbon atoms of the divalent hydrocarbon group is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. (A) from that resin to obtain and of ease of preparation, the number of carbon atoms of the divalent hydrocarbon group as R 3 is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, 1 to 10 Is particularly preferable, and 1 or more and 6 or less are most preferable.

としての2価の炭化水素基は、脂肪族基でも、芳香族基でも、脂肪族部分と芳香族部分とを含む炭化水素基であってもよい。2価の炭化水素基が、脂肪族基である場合、当該脂肪族基は、飽和脂肪族基でも不飽和脂肪族基でもよい。また、当該脂肪族基の構造は、直鎖状でも、分岐鎖状でも、環状でも、これらの構造の組み合わせであってもよい。 The divalent hydrocarbon group as R 3 may be an aliphatic group, an aromatic group, or a hydrocarbon group containing an aliphatic portion and an aromatic portion. When the divalent hydrocarbon group is an aliphatic group, the aliphatic group may be a saturated aliphatic group or an unsaturated aliphatic group. Further, the structure of the aliphatic group may be linear, branched, cyclic, or a combination of these structures.

の好適な具体例としては、メチレン基、エタン−1,2−ジイル基、エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、n−ブタン−1,4−ジイル基、n−ペンタン−1,5−ジイル基、n−ヘキサン−1,6−ジイル基、n−ヘプタン−1,7−ジイル基、n−オクタン−1,8−ジイル基、n−ノナン−1,9−ジイル基、n−デカン−1,10−ジイル基、o−フェニレン基、m−フェニレン基、p−フェニレン基、ナフタレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−2,7−ジイル基、ナフタレン−1,4−ジイル基、ビフェニル−4,4’−ジイル基等が挙げられる。 Suitable specific examples of R 3 include methylene group, ethane-1,2-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,3-diyl group, propane-1,1-diyl group and propane. -2,2-diyl group, n-butane-1,4-diyl group, n-pentane-1,5-diyl group, n-hexane-1,6-diyl group, n-heptan-1,7-diyl group Group, n-octane-1,8-diyl group, n-nonan-1,9-diyl group, n-decane-1,10-diyl group, o-phenylene group, m-phenylene group, p-phenylene group, Examples thereof include naphthalene-2,6-diyl group, naphthalene-2,7-diyl group, naphthalene-1,4-diyl group, biphenyl-4,4'-diyl group and the like.

は、−OH、−O−R、又は−NH−Rであり、Rは、水酸基、及び/又はシアノ基で置換された炭化水素基である。
の基の主骨格を構成する炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の脂肪族基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。
直鎖状、分岐鎖状、又は環状の脂肪族基の炭素原子数は1以上20以下が好ましく、1以上12以下がより好ましい。
直鎖状、又は分岐鎖状の脂肪族基の好適な例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。
環状の脂肪族基の好適な例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等のシクロアルキル基や、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、及びテトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから1個の水素原子を除いた基や、これらのポリシクロアルカンのC1−C4アルキル置換体から1個の水素原子を除いた基が挙げられる。
芳香族炭化水素基の好適な例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントレニル基、及びビフェニリル基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、メチル基、エチル基等のC1−C4アルキル基で置換されていてもよい。
R 4 is -OH, -OR 5 or -NH-R 5 , and R 5 is a hydrocarbon group substituted with a hydroxyl group and / or a cyano group.
Hydrocarbon group constituting the main skeleton of group R 5 is a linear, branched, or may be a cyclic aliphatic group may be an aromatic hydrocarbon group.
The number of carbon atoms of the linear, branched, or cyclic aliphatic group is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 12 or less.
Preferable examples of linear or branched aliphatic groups are methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group and tert-butyl group. , N-Pentyl group, Isopentyl group, Neopentyl group, sec-Pentyl group, tert-Pentyl group, n-Hexyl group, n-Heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like. ..
Preferable examples of the cyclic aliphatic group include cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group, and adamantan, norbornan, isobornane, tricyclodecane, Examples thereof include a group obtained by removing one hydrogen atom from a polycycloalkane such as tetracyclododecane, and a group obtained by removing one hydrogen atom from a C1-C4 alkyl substituent of these polycycloalkanes.
Preferable examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthranyl group, a phenanthrenyl group, a biphenylyl group and the like. The aromatic hydrocarbon group may be substituted with a C1-C4 alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.

式(A2)で表される単量体に由来する単位の特に好ましい具体例としては、下記a2−1〜a2−8の単位が挙げられる。下記a2−1〜a2−8の単位の中では、a2−1〜a2−3の単位がより好ましい。

Figure 2020185700
Particularly preferable specific examples of the unit derived from the monomer represented by the formula (A2) include the units a2-1 to a2-8 below. Among the units a2-1 to a2-8 below, the unit a2-1 to a2-3 is more preferable.
Figure 2020185700

また、(A)樹脂における、親水性基である官能基IIは下式(A3):
CH=CR−CO−NH−R・・・(A3)
(式(A3)中、Rは、アミノ基、スルホン酸基、及び水酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1以上4以下のアルキル基、前述の式(A−I)で表される4級アンモニウム塩基、又は水素原子であり、Rは水素原子又はメチル基である。)
で表される単量体に由来するのが好ましい。
Further, the functional group II, which is a hydrophilic group in the resin (A), has the following formula (A3):
CH 2 = CR 2- CO-NH-R 1 ... (A3)
(In the formula (A3), R 1 is an alkyl group having 1 or more and 4 or less carbon atoms substituted with one or more groups selected from the group consisting of an amino group, a sulfonic acid group, and a hydroxyl group, as described above. It is a quaternary ammonium base or a hydrogen atom represented by AI), and R 2 is a hydrogen atom or a methyl group.)
It is preferably derived from the monomer represented by.

式(A3)中、Rについては、前述した通りである。Rとしては、前述の式(A−I)で表される4級アンモニウム塩基が好ましい。 In the formula (A3), R 1 is as described above. As R 1 , a quaternary ammonium base represented by the above formula (AI) is preferable.

つまり、(A)樹脂が、上記の式(A3)で表される単量体に由来する単位として、下記式(A4):
CH=CR−CO−NH−R4a−N1a2a3a・X・・・(A4)
(式(A5)中、Rは、水素原子又はメチル基であり、R1a、R2a、R3a、R4a、及びXは前述の式(A−I)と同様である。)
で表される単量体に由来する構造単位を有するのが好ましい。
That is, the resin (A) is a unit derived from the monomer represented by the above formula (A3) as the following formula (A4):
CH 2 = CR 2 -CO-NH -R 4a -N + R 1a R 2a R 3a · X - ··· (A4)
(In the formula (A5), R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 1a , R 2a , R 3a , R 4a , and X are the same as those in the above formula (AI).)
It is preferable to have a structural unit derived from the monomer represented by.

式(A3)で表される単量体に由来する、親水性基を有する単位の特に好ましい具体例としては、下記a3−1〜a3−5の単位が挙げられる。

Figure 2020185700
Particularly preferable specific examples of the unit having a hydrophilic group derived from the monomer represented by the formula (A3) include the units a3-1 to a3-5 below.
Figure 2020185700

(A)樹脂が不飽和結合を有する単量体の重合体である場合、かかる重合体は、本発明の目的を阻害しない範囲で、前述の式(A2)で表される単量体に由来する単位、及び式(A3)で表される単量体に由来する単位以外のその他の構成単位を含んでいてもよい。 When the resin (A) is a polymer of a monomer having an unsaturated bond, the polymer is derived from the monomer represented by the above formula (A2) as long as the object of the present invention is not impaired. It may contain other structural units other than the unit to be used and the unit derived from the monomer represented by the formula (A3).

その他の構成単位としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸−n−プロピル、(メタ)アクリル酸−n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸−tert−ブチル、(メタ)アクリル酸−n−ペンチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸フェニル、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−n−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−n−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−n−ペンチル(メタ)アクリルアミド、N−イソペンチル(メタ)アクリルアミド、N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ−n−プロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ−n−ブチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ−n−ペンチル(メタ)アクリルアミド、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、及びクロルスチレン等の単量体に由来する構成単位が挙げられる。 Other constituent units include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, -n-propyl (meth) acrylate, -n-butyl (meth) acrylate, and the like. Isobutyl (meth) acrylate, -tert-butyl (meth) acrylate, -n-pentyl (meth) acrylate, isopentyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, N-methyl (meth) acrylamide, N -Ethyl (meth) acrylamide, Nn-propyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, Nn-butyl (meth) acrylamide, Nn-pentyl (meth) acrylamide, N-isopentyl (meth) ) Acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, N-di-n-propyl (meth) acrylamide, N, N-di -N-butyl (meth) acrylamide, N, N-di-n-pentyl (meth) acrylamide, styrene, α-methylstyrene, β-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, And structural units derived from monomers such as chlorostyrene.

(A)樹脂が不飽和結合を有する単量体の重合体である場合、かかる重合体に含まれる全構成単位中の式(A2)で表される単量体に由来する構成単位の比率は、0.1モル%以上50モル%以下が好ましく、1モル%以上20モル%以下がより好ましく、1モル%以上15モル%以下が特に好ましい。 When the resin (A) is a polymer of a monomer having an unsaturated bond, the ratio of the structural units derived from the monomer represented by the formula (A2) in all the structural units contained in the polymer is , 0.1 mol% or more and 50 mol% or less is preferable, 1 mol% or more and 20 mol% or less is more preferable, and 1 mol% or more and 15 mol% or less is particularly preferable.

(A)樹脂が不飽和結合を有する単量体の重合体である場合、かかる重合体に含まれる全構成単位中の(A3)で表される単量体に由来する構成単位のモル比率は、50モル%以上99.9モル%以下が好ましく、60モル%以上99モル%以下がより好ましく、70モル%以上99モル%以下が特に好ましい。
ただし、式(A3)で表される単量体に由来する構成単位が水酸基、及び/又はシアノ基を含む場合、重合体に含まれる全構成単位中の式(A3)で表される単量体に由来する構成単位の比率は100%であってもよい。
When the resin (A) is a polymer of a monomer having an unsaturated bond, the molar ratio of the structural unit derived from the monomer represented by (A3) in all the structural units contained in the polymer is , 50 mol% or more and 99.9 mol% or less is preferable, 60 mol% or more and 99 mol% or less is more preferable, and 70 mol% or more and 99 mol% or less is particularly preferable.
However, when the structural unit derived from the monomer represented by the formula (A3) contains a hydroxyl group and / or a cyano group, the single amount represented by the formula (A3) in all the structural units contained in the polymer. The proportion of structural units derived from the body may be 100%.

(A)樹脂の重量平均分子量は、100,000以上であるのが好ましい。かかる分子量を有する(A)樹脂を用いる場合、処理液による処理時に、官能基Iと非処理体表面との反応又は相互作用に起因して、(A)樹脂が第1部材10及び/又は第2部材11に結合ないし付着しやすい。
(A)樹脂の重量平均分子量は、表面処理効果が良好である点から、200,000以上が好ましく、300,000以上がより好ましい。(A)樹脂が、後述する(B)溶媒に可溶である限りにおいて、(A)樹脂の重量平均分子量は1,000,000以上であってもよい。
(A)樹脂の重量平均分子量の上限は、(A)樹脂が(B)溶媒に可溶である限りにおいて特に限定されない。(A)樹脂の重量平均分子量は、例えば、250万以下であってよく、400万以下であってよい。
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 100,000 or more. When the (A) resin having such a molecular weight is used, the (A) resin is the first member 10 and / or the first member 10 and / or the first member 10 and / or the second due to the reaction or interaction between the functional group I and the surface of the untreated body during the treatment with the treatment liquid. 2 Easy to bond or adhere to member 11.
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 200,000 or more, more preferably 300,000 or more, from the viewpoint of good surface treatment effect. As long as the resin (A) is soluble in the solvent (B) described later, the weight average molecular weight of the resin (A) may be 1,000,000 or more.
The upper limit of the weight average molecular weight of the resin (A) is not particularly limited as long as the resin (A) is soluble in the solvent (B). The weight average molecular weight of the resin (A) may be, for example, 2.5 million or less, or 4 million or less.

処理液に含まれる(A)樹脂の量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、処理液の塗布性等を勘案して適宜定められる。典型的には、処理液中の(A)樹脂の量は、処理液中の(A)樹脂の量と、後述する(B)溶媒の量との関係は、以下の関係である量が好ましい。
処理液中の(A)樹脂の質量を100質量部とする場合に、後述する(B)溶媒の量が100質量部以上10000質量部以下であるのが好ましく、500質量部以上8000質量部以下であるのがより好ましく、1000質量部以上6000質量部以下であるのが特に好ましい。
The amount of the resin (A) contained in the treatment liquid is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and is appropriately determined in consideration of the coatability of the treatment liquid and the like. Typically, the amount of the (A) resin in the treatment liquid is preferably the amount having the following relationship between the amount of the (A) resin in the treatment liquid and the amount of the solvent (B) described later. ..
When the mass of the resin (A) in the treatment liquid is 100 parts by mass, the amount of the solvent (B) described later is preferably 100 parts by mass or more and 10,000 parts by mass or less, and 500 parts by mass or more and 8000 parts by mass or less. It is more preferable that the amount is 1000 parts by mass or more and 6000 parts by mass or less.

((B)溶媒)
(B)溶媒は、(A)樹脂が可溶である溶媒であれば特に限定されない。処理液中に、(A)樹脂が、所定量溶解していれば、処理液は、溶解していない状態の(A)樹脂と、(B)溶媒とを含んでいてもよい。(A)樹脂は、処理液に完全に溶解しているのが好ましい。
処理液が、不溶物を含む場合、親水化被膜12の形成時に、第1部材10及び/又は第2部材11の表面に不溶物が付着する場合がある。この場合、第1部材10及び/又は第2部材11の表面を、後述するような方法でリンスすることにより、第1部材10及び/又は第2部材11の表面に付着する不溶物を除去することができる。
((B) Solvent)
The solvent (B) is not particularly limited as long as it is a solvent in which the resin (A) is soluble. If a predetermined amount of the resin (A) is dissolved in the treatment liquid, the treatment liquid may contain the resin (A) in an undissolved state and the solvent (B). The resin (A) is preferably completely dissolved in the treatment liquid.
When the treatment liquid contains an insoluble matter, the insoluble matter may adhere to the surface of the first member 10 and / or the second member 11 when the hydrophilic coating 12 is formed. In this case, the surface of the first member 10 and / or the second member 11 is rinsed by a method as described later to remove insoluble matter adhering to the surface of the first member 10 and / or the second member 11. be able to.

(B)溶媒は、水であっても、有機溶媒であっても、有機溶媒の水溶液であってもよい。 The solvent (B) may be water, an organic solvent, or an aqueous solution of an organic solvent.

(B)溶媒として使用される有機溶媒の具体例としては、
ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;
ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエチル)スルホン、テトラメチレンスルホン等のスルホン類;
N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド等のアミド類;
N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−プロピル−2−ピロリドン、N−ヒドロキシメチル−2−ピロリドン、N−ヒドロキシエチル−2−ピロリドン等のラクタム類;
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジエチル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジイソプロピル−2−イミダゾリジノン等のイミダゾリジノン類;
ジメチルグリコール、ジメチルジグリコール、ジメチルトリグリコール、メチルエチルジグリコール、ジエチルグリコール、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル等のジアルキルグリコールエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;
2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸−i−プロピル、酢酸−n−ブチル、酢酸−i−ブチル、ぎ酸−n−ペンチル、酢酸−i−ペンチル、プロピオン酸−n−ブチル、酪酸エチル、酪酸−n−プロピル、酪酸−i−プロピル、酪酸−n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸−n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;
β−プロピロラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−ペンチロラクトン等のラクトン類;
n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、メチルオクタン、n−デカン、n−ウンデカン、n−ドデカン、2,2,4,6,6−ペンタメチルヘプタン、2,2,4,4,6,8,8−ヘプタメチルノナン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の直鎖状、分岐鎖状、又は環状の脂肪族炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、1,3,5−トリメチルベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素類;
p−メンタン、ジフェニルメンタン、リモネン、テルピネン、ボルナン、ノルボルナン、ピナン等のテルペン類;等が挙げられる。
(B) Specific examples of the organic solvent used as the solvent include
Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide;
Sulfones such as dimethyl sulfone, diethyl sulfone, bis (2-hydroxyethyl) sulfone, tetramethylene sulfone;
Amides such as N, N-dimethylformamide, N-methylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylacetamide, N, N-diethylacetamide;
Lactams such as N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, N-propyl-2-pyrrolidone, N-hydroxymethyl-2-pyrrolidone, N-hydroxyethyl-2-pyrrolidone;
Imidazoridinones such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-diethyl-2-imidazolidinone, 1,3-diisopropyl-2-imidazolidinone;
Dialkyl glycol ethers such as dimethyl glycol, dimethyl diglycol, dimethyl triglycol, methyl ethyl diglycol, diethyl glycol, triethylene glycol butyl methyl ether;
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n- Butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, di (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether;
(Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate;
Other ethers such as dimethyl ether, diethyl ether, methyl ethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, diisoamyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran;
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone;
Lactic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-ethoxypropionic acid Methyl, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, acetic acid Ethyl, acetic acid-n-propyl, acetate-i-propyl, acetate-n-butyl, acetate-i-butyl, formate-n-pentyl, acetate-i-pentyl, propionate-n-butyl, ethyl butyrate, butyric acid Other esters such as -n-propyl, -i-propyl butyrate, -n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, -n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate, etc. Kind;
Lactones such as β-propyrolactone, γ-butyrolactone, and δ-pentilolactone;
n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, methyloctane, n-decane, n-undecane, n-dodecane, 2,2,4,6,6-pentamethylheptan, 2,2,4 , 4,6,8,8-Heptamethylnonane, cyclohexane, methylcyclohexane and other linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbons;
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, 1,3,5-trimethylbenzene, naphthalene;
Examples thereof include p-menthane, diphenylmenthane, limonene, terpinene, bornane, norbornane, terpenes such as pinan; and the like.

(B)溶媒が、水と有機溶媒との混合溶媒である場合、(B)溶媒中の有機溶媒の含有量は10質量%以上が好ましく、20質量%以上がより好ましい。 When the solvent (B) is a mixed solvent of water and an organic solvent, the content of the organic solvent in the solvent (B) is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more.

(その他の成分)
処理液は、本発明の目的を阻害しない範囲で、上記した(A)樹脂、及び(B)溶媒以外に、種々の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、例えば、pH調整剤、着色剤、界面活性剤、消泡剤、粘度調整剤等が挙げられる。
(Other ingredients)
The treatment liquid may contain various components in addition to the above-mentioned (A) resin and (B) solvent as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of other components include pH adjusters, colorants, surfactants, defoamers, viscosity adjusters and the like.

pH調整剤としては、特に限定されず、種々の酸、又は塩基を使用することができる。親水化の効果が良好であることから、処理液のpHは、5以上14以下に調整されるのが好ましく、5以上12以下に調整されるのがより好ましく、5以上10以下に調整されるのが特に好ましい。 The pH adjusting agent is not particularly limited, and various acids or bases can be used. Since the effect of hydrophilization is good, the pH of the treatment liquid is preferably adjusted to 5 or more and 14 or less, more preferably 5 or more and 12 or less, and adjusted to 5 or more and 10 or less. Is particularly preferable.

(処理液の調製方法)
処理液を調製する方法は特に限定されない。処理液は、典型的には、それぞれ所定量の(A)樹脂と、(B)溶媒と、必要に応じてその他の成分を、均一に混合することにより調製される。
(Preparation method of treatment liquid)
The method for preparing the treatment liquid is not particularly limited. The treatment liquid is typically prepared by uniformly mixing a predetermined amount of the resin (A), the solvent (B), and if necessary, other components.

〔第2の処理液〕
第1の処理液以外の特に好ましい処理液の具体例としては、以下に説明する「第2の処理液」が挙げられる。
第2の処理液は、(A)樹脂と、(B)溶媒とを含み、
(A)樹脂の全構造単位における、アニオン性基を有する構造単位の比率が5モル%以下であり、
(A)樹脂が、水酸基、及び/又はシアノ基である官能基Iと、親水性基である官能基IIとを有し、ただし、官能基IIが水酸基、及び/又はシアノ基を含む場合、(A)樹脂は前記官能基Iを有していなくてもよく、
(A)樹脂が、アニオン部と、(A)樹脂に結合するカチオン部とからなるカチオン性基を有する。
第2の処理液のpHは、5以上14以下である。
[Second treatment liquid]
Specific examples of a particularly preferable treatment liquid other than the first treatment liquid include the “second treatment liquid” described below.
The second treatment liquid contains (A) resin and (B) solvent.
(A) The ratio of structural units having anionic groups to all structural units of the resin is 5 mol% or less.
(A) When the resin has a functional group I which is a hydroxyl group and / or a cyano group and a functional group II which is a hydrophilic group, except that the functional group II contains a hydroxyl group and / or a cyano group. The resin (A) does not have to have the functional group I.
The resin (A) has a cationic group consisting of an anion portion and a cation portion bonded to the resin (A).
The pH of the second treatment liquid is 5 or more and 14 or less.

第2の処理液について、pHが5以上14以下であることが必須である点を除き、第1の処理液と同様である。pHの調整方法についても、第1の処理液について説明した通りである。 The second treatment liquid is the same as the first treatment liquid except that it is essential that the pH is 5 or more and 14 or less. The pH adjustment method is also as described for the first treatment liquid.

第2の処理液は、種々の材質の親水化に好適に用いられるが、第1の処理液と同様、ポリオルガノシロキサンを表面の少なくとも一部に含む部材の親水化に特に好ましく用いられる。 The second treatment liquid is preferably used for hydrophilization of various materials, but like the first treatment liquid, it is particularly preferably used for hydrophilization of a member containing polyorganosiloxane in at least a part of the surface.

以上説明した処理液を用いて、部材の表面に親水化被膜が形成される。 A hydrophilic film is formed on the surface of the member by using the treatment liquid described above.

<照射工程>
上記の通り、照射工程では、親水化被膜を備える部材において、親水化被膜の接合面に対してのみ、選択的に紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射される。また、親水化被膜を備えない部材については、少なくとも接合面に対して、紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマが照射される。
<Irradiation process>
As described above, in the irradiation step, in the member provided with the hydrophilic coating, only the joint surface of the hydrophilic coating is selectively irradiated with ultraviolet rays or plasma derived from an oxygen-containing gas. Further, for the member not provided with the hydrophilized coating, at least the joint surface is irradiated with ultraviolet rays or plasma derived from an oxygen-containing gas.

紫外線照射を行う場合、紫外線の波長と、露光量とは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。親水化被膜の除去と、紫外線又はプラズマの照射による部材の表面の活性とを、同時に良好に進行させやすい点から、紫外線の波長は254nm以下が好ましく、172nm以下がより好ましい。同じ観点から、露光量としては、400mJ/cm以上5000mJ/cm以下が好ましく、500mJ/cm以上2000mJ/cm以下がより好ましい。 When irradiating with ultraviolet rays, the wavelength of ultraviolet rays and the amount of exposure are not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The wavelength of ultraviolet rays is preferably 254 nm or less, and more preferably 172 nm or less, from the viewpoint that the removal of the hydrophilized coating and the activity of the surface of the member by irradiation with ultraviolet rays or plasma can easily proceed at the same time. From the same viewpoint, the exposure amount is preferably 400 mJ / cm 2 or more 5000 mJ / cm 2 or less, 500 mJ / cm 2 or more 2000 mJ / cm 2 or less being more preferred.

プラズマ照射を行う場合、酸素含有気体としては、酸素ガス、空気、及びオゾンが挙げられる。また、酸素ガス、空気、又はオゾンを、窒素、ヘリウム、及びアルゴン等の不活性気体と混合した気体も酸素含有気体として用いることができる。 When performing plasma irradiation, examples of the oxygen-containing gas include oxygen gas, air, and ozone. Further, a gas obtained by mixing oxygen gas, air, or ozone with an inert gas such as nitrogen, helium, or argon can also be used as the oxygen-containing gas.

以上のように、親水化被膜が形成された面のうちの圧着される領域である接合面に対して、紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射することによって、親水化被膜が除去されつつ、接合面の表面が圧着可能であるように活性化される。 As described above, the hydrophilic film is removed by irradiating the joint surface, which is the region to be pressure-bonded, in the surface on which the hydrophilic film is formed, with ultraviolet rays or plasma derived from an oxygen-containing gas. At the same time, the surface of the joint surface is activated so that it can be crimped.

<圧着工程>
圧着工程では、紫外線又はプラズマにより処理された2以上の部材が備える接合面が互いに対向するように、あらかじめ定められた位置に配置された2以上の部材に外力を加え、接合面同士を圧着させる。
<Crimping process>
In the crimping step, an external force is applied to two or more members arranged at predetermined positions so that the joint surfaces of the two or more members treated by ultraviolet rays or plasma face each other, and the joint surfaces are crimped to each other. ..

圧着時に2以上の部材に加えられる荷重は、部材が破壊されず、且つ2以上の部材が良好に圧着される限り特に限定されない。荷重の範囲は、例えば0.05kgf以上5kgf以下が好ましく、0.1kgf以上3kgf以下がより好ましく、0.2kgf以上2kgf以下がさらに好ましい。 The load applied to the two or more members at the time of crimping is not particularly limited as long as the members are not destroyed and the two or more members are satisfactorily crimped. The range of the load is, for example, preferably 0.05 kgf or more and 5 kgf or less, more preferably 0.1 kgf or more and 3 kgf or less, and further preferably 0.2 kgf or more and 2 kgf or less.

荷重を印加する時間は、特に限定されず、例えば、5秒以上が好ましく、10秒以上がより好ましく、30秒以上が特に好ましい。荷重を印加する時間の上限は特に限定されず、流路デバイスの生産性を考慮のうえ適宜決定される。荷重を印加する時間は、例えば、60時間以下でもよく、10時間以下でもよく、1時間以下でもよく、10分以下でもよい。 The time for applying the load is not particularly limited, and for example, 5 seconds or more is preferable, 10 seconds or more is more preferable, and 30 seconds or more is particularly preferable. The upper limit of the time for applying the load is not particularly limited, and is appropriately determined in consideration of the productivity of the flow path device. The time for applying the load may be, for example, 60 hours or less, 10 hours or less, 1 hour or less, or 10 minutes or less.

荷重の印加後には、圧着をより確実にするために、必要に応じて圧着により形成された流路デバイスを静置するのも好ましい。
静置時間は特に限定されず、10分以上が好ましく、20分以上がより好ましく、30分以上がさらに好ましい。静置時間の上限は特に限定されず、流路デバイスの生産性を考慮のうえ適宜決定される。静置時間は、例えば、100時間以下でもよく、50時間以下でもよく、10時間以下でもよく、5時間以下でもよく、1時間以下でもよい。
After applying the load, it is also preferable to allow the flow path device formed by the crimping to stand still, if necessary, in order to make the crimping more reliable.
The standing time is not particularly limited, and is preferably 10 minutes or more, more preferably 20 minutes or more, and even more preferably 30 minutes or more. The upper limit of the standing time is not particularly limited, and is appropriately determined in consideration of the productivity of the flow path device. The standing time may be, for example, 100 hours or less, 50 hours or less, 10 hours or less, 5 hours or less, or 1 hour or less.

以上説明した、被膜形成工程、照射工程、及び圧着工程を経る方法によれば、長期間にわたって流路の表面の親水性を維持できる流路デバイスを、容易に製造することができる。 According to the method through the film forming step, the irradiation step, and the crimping step described above, a flow path device capable of maintaining the hydrophilicity of the surface of the flow path for a long period of time can be easily manufactured.

以上説明した方法としては、
2以上の部材として、第1の部材と、第2の部材との2つの部材を用いる方法であって、
第1の部材が、流路に相当する溝を備える板状の部材であり、
第2の部材が、第1部材と接合される側の面として、流路表面と接合面とからなる段差のない面を有する板状の部材であり、
第2の部材における流路表面が、第1の部材が備える溝の開口を封鎖して流路を形成する、方法が好ましい。
かかる方法であれば、第2の部材の、第1の部材と接合される側の面が段差の内面であるため、第1の部材と第2の部材とを圧着する際に、2つの部材の精密な位置決めを行うことなく、所望する形状の流路デバイスを容易に製造することができる。
As the method explained above,
It is a method of using two members, a first member and a second member, as two or more members.
The first member is a plate-shaped member having a groove corresponding to the flow path.
The second member is a plate-shaped member having a non-stepped surface composed of a flow path surface and a joint surface as a surface on the side to be joined to the first member.
A method is preferred in which the flow path surface of the second member closes the opening of the groove provided in the first member to form the flow path.
In such a method, since the surface of the second member on the side to be joined to the first member is the inner surface of the step, the two members are used when the first member and the second member are crimped. It is possible to easily manufacture a flow path device having a desired shape without performing precise positioning.

以下、上記製造方法の代表的な例について、図1(図1(a1)、図1(a2)、図1(b1)、図1(b2)、図1(c1)、図1(c2)、及び図1(d))を参照しつつ説明する。なお、流路デバイスを構成する部材の数や形状、流路デバイスの形状等について図1に示される態様には何ら限定されない。 Hereinafter, typical examples of the above manufacturing method will be described in FIG. 1 (FIG. 1 (a1), FIG. 1 (a2), FIG. 1 (b1), FIG. 1 (b2), FIG. 1 (c1), FIG. 1 (c2). , And FIG. 1 (d)). The number and shape of the members constituting the flow path device, the shape of the flow path device, and the like are not limited to the modes shown in FIG.

(被膜形成工程)
被膜形成工程では、まず、流路デバイス1を構成する部材として、2以上の部材を準備する。2以上の部材の形状及びサイズは、全ての部材を組み合わせて流路デバイスを製造可能であれば特に限定されない。
図1では、流路に相当する凹部が形成されている第1部材10と、平板状の第2部材11とからなる2つの部材を用いて流路デバイス1を製造する方法について説明する。図1(a1)に第1部材10を示し、図1(a2)に第2部材11を示す。
(Film formation process)
In the film forming step, first, two or more members are prepared as the members constituting the flow path device 1. The shape and size of the two or more members are not particularly limited as long as the flow path device can be manufactured by combining all the members.
FIG. 1 describes a method of manufacturing a flow path device 1 by using two members including a first member 10 having a recess corresponding to a flow path and a flat plate-shaped second member 11. FIG. 1 (a1) shows the first member 10, and FIG. 1 (a2) shows the second member 11.

第1部材10及び第2部材11の材質については、前述した通りである。 The materials of the first member 10 and the second member 11 are as described above.

被膜形成工程では、第1部材10及び第2部材11の少なくとも1つにおいて、親水化剤を含む処理液を用いて、部材の他の部材と接合される側の表面を被覆する親水化被膜12を形成する。 In the film forming step, at least one of the first member 10 and the second member 11 uses a treatment liquid containing a hydrophilizing agent to coat the surface of the member to be joined to the other members of the member. To form.

図1(b1)、及び図1(b2)では、第1部材10の接合される側の表面と、第2部材11の接合される側の表面との双方に親水化被膜12が形成されている。
親水化被膜12は、接合される表面以外の表面に形成されてもよい。しかし、親水化被膜12を形成するプロセスが煩雑になるため、親水化被膜12は、部材の接合される側の表面においてのみ形成されるのが好ましい。
In FIGS. 1 (b1) and 1 (b2), the hydrophilic coating 12 is formed on both the surface of the first member 10 on the bonded side and the surface of the second member 11 on the bonded side. There is.
The hydrophilized coating 12 may be formed on a surface other than the surface to be joined. However, since the process of forming the hydrophilic coating 12 becomes complicated, it is preferable that the hydrophilic coating 12 is formed only on the surface of the member to be joined.

親水化被膜12の厚さは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。親水化被膜12の好ましい厚さの範囲は前述の通りである。 The thickness of the hydrophilized coating 12 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. The preferred thickness range of the hydrophilized coating 12 is as described above.

(照射工程)
照射工程では、図1(c1)、及び図1(c2)に示されるように、親水化被膜12を備える部材(第1部材10及び/又は第2部材11)において、親水化被膜12の接合面に対してのみ、選択的に紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射する。
図1中では、第1部材10及び第2部材11の双方が親水化被膜12を備えるが、親水化被膜12を備えない部材については、少なくとも接合面に対して、紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射する。
(Irradiation process)
In the irradiation step, as shown in FIGS. 1 (c1) and 1 (c2), the hydrophilic coating 12 is joined in the member (first member 10 and / or second member 11) provided with the hydrophilic coating 12. Only the surface is selectively irradiated with ultraviolet rays or plasma derived from an oxygen-containing gas.
In FIG. 1, both the first member 10 and the second member 11 are provided with the hydrophilic coating 12, but the member without the hydrophilic coating 12 is exposed to ultraviolet rays or oxygen-containing gas at least with respect to the joint surface. Irradiate the resulting plasma.

紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射する条件は前述の通りである。 The conditions for irradiating plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas are as described above.

(圧着工程)
圧着工程では、紫外線又はプラズマにより処理された第1部材10、及び第2部材11について、図1(d)に示されるように、それぞれの接合面が互いに対向するように、両者をあらかじめ定められた位置に配置する。そして所定の位置に配置された第1部材10、及び第2部材11に外力を加え、接合面同士を圧着させる。
(Crimping process)
In the crimping step, both the first member 10 and the second member 11 treated by ultraviolet rays or plasma are predetermined so that their joint surfaces face each other as shown in FIG. 1 (d). Place it in the correct position. Then, an external force is applied to the first member 10 and the second member 11 arranged at predetermined positions to crimp the joint surfaces to each other.

圧着に関する条件は前述の通りである。 The conditions for crimping are as described above.

以上説明した方法によれば、長期間にわたって流路の表面の親水性を維持できる流路デバイスを、容易に製造することができる。 According to the method described above, a channel device capable of maintaining the hydrophilicity of the surface of the channel for a long period of time can be easily manufactured.

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明する。本発明の範囲は、これらの実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. The scope of the present invention is not limited to these examples.

〔実施例1〕
実施例1では、2枚の平坦なポリジメチルシロキサンシートを前述の方法によって圧着することによって、親水化被膜による親水化の効果と、容易且つ強固な圧着の効果とについて模擬的に確認した。
[Example 1]
In Example 1, by crimping two flat polydimethylsiloxane sheets by the above-mentioned method, the effect of hydrophilization by the hydrophilic film and the effect of easy and strong crimping were simulated.

シリコンウエハ上に、Sylgard184(信越化学工業株式会社製)を塗布した後、塗布膜を150℃で30分間加熱して、ポリジメチルシロキサンシートを2枚作製した。
得られたポリジメチルシロキサンシートの一方の面に、真空紫外線照射装置(EX−400、浜松ホトニクス社製)により、波長172nmの紫外線を、364mJ/cmの露光量で照射して、親水化被膜形成のための前処理を行った。
次いで、下記のResin 1の濃度1質量%の水溶液を処理液として用いて、親水化被膜を形成した。下記式中、括弧の右下に記載のn、m、及びlは、樹脂中の全構造単位における各構造単位のモル%を表す。nは70モル%以上90モル%以下であり、mは5モル%以上20モル%以下であり、lは5モル%以上10モル%以下である。
After applying Cylgard 184 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) on a silicon wafer, the coating film was heated at 150 ° C. for 30 minutes to prepare two polydimethylsiloxane sheets.
One surface of the obtained polydimethylsiloxane sheet was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 172 nm by a vacuum ultraviolet irradiation device (EX-400, manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) at an exposure amount of 364 mJ / cm 2 , and a hydrophilic film was formed. Pretreatment for formation was performed.
Next, a hydrophilic film was formed using the following aqueous solution of Resin 1 having a concentration of 1% by mass as a treatment solution. In the following formula, n, m, and l described in the lower right of the parentheses represent the mol% of each structural unit in all the structural units in the resin. n is 70 mol% or more and 90 mol% or less, m is 5 mol% or more and 20 mol% or less, and l is 5 mol% or more and 10 mol% or less.

Figure 2020185700
Figure 2020185700

より具体的には、上記の処理液をポリジメチルシロキサンシートの、紫外線照射処理された面にスポイトで滴下して塗り広げた後、80℃5分の条件で塗布膜を乾燥させ、次いで、塗布膜の表面を流水でリンスして、親水化被膜を形成した。形成された親水化被膜のエリプソメトリーにより測定した膜厚は2nmであった。 More specifically, the above treatment liquid is dropped on the surface of the polydimethylsiloxane sheet that has been irradiated with ultraviolet rays with a dropper and spread, and then the coating film is dried under the condition of 80 ° C. for 5 minutes, and then coated. The surface of the membrane was rinsed with running water to form a hydrophilic film. The film thickness measured by ellipsometry of the formed hydrophilic film was 2 nm.

親水化被膜形成から、1時間後、3時間後、12時間後、及び1週間後の、親水化被膜を備える面の水の接触角を測定し、親水化効果の経時変化を評価した。
水の接触角の測定は、Dropmaster700(協和界面科学株式会社製)を用い表面処理された基板の表面に純水液滴(2.0μL)を滴下して、滴下10秒後における接触角として測定した。
上記の評価の結果、ポリジメチルシロキサンシート上の親水化被膜を備える面の水の接触角は、1時間後、3時間後、及び12時間後の測定では、いずれの測定時間においても10°未満で安定していた。また、1週間後の測定でも、水の接触角は20℃以下の低い値であった。
なお、親水化被膜を備えないポリジメチルシロキサンシートの表面の水の接触角は110°である。
The contact angle of water on the surface containing the hydrophilic film was measured 1 hour, 3 hours, 12 hours, and 1 week after the formation of the hydrophilic film, and the change over time of the hydrophilic effect was evaluated.
The contact angle of water is measured by dropping a pure water droplet (2.0 μL) on the surface of a substrate surface-treated using Dropmaster700 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) and measuring it as the contact angle 10 seconds after the drop. did.
As a result of the above evaluation, the contact angle of water on the surface of the polydimethylsiloxane sheet having the hydrophilized coating was less than 10 ° at any of the measurement times after 1 hour, 3 hours, and 12 hours. It was stable. Moreover, even in the measurement after one week, the contact angle of water was a low value of 20 ° C. or less.
The contact angle of water on the surface of the polydimethylsiloxane sheet without the hydrophilic film is 110 °.

上記の親水化被膜を一方の面に備える2枚のポリジメチルシロキサンシートの親水化被膜が形成された面のうち、他方のシートと接合させる領域に対してのみ、真空紫外線照射装置(EX−400、浜松ホトニクス社製)により、波長171nmの紫外線を、728mJ/cmの露光量で照射して、表面の活性化を行った。
紫外線照射により活性化された面が対向するように、2枚のポリジメチルシロキサンシートを配した後、荷重1kgfを1分間かけて、2枚のポリジメチルシロキサンシートを圧着した。圧着された2枚のポリジメチルシロキサンシートを、48時間室温で静置した後、2枚のシートの圧着状態を確認したが、強固に圧着されており剥離されなかった。
Of the surfaces on which the hydrophilic coatings of the two polydimethylsiloxane sheets having the above hydrophilic coatings are formed, only the region to be bonded to the other sheet is a vacuum ultraviolet irradiation device (EX-400). , Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) irradiated ultraviolet rays having a wavelength of 171 nm at an exposure amount of 728 mJ / cm 2 to activate the surface.
After arranging the two polydimethylsiloxane sheets so that the surfaces activated by the ultraviolet irradiation face each other, the two polydimethylsiloxane sheets were pressure-bonded under a load of 1 kgf for 1 minute. The two crimped polydimethylsiloxane sheets were allowed to stand at room temperature for 48 hours, and then the crimped state of the two sheets was confirmed, but they were firmly crimped and were not peeled off.

〔実施例2〕
親水化被膜形成のための前処理として、真空紫外線照射装置による紫外線の照射に変えて、酸素プラズマ装置(TCA−3822、東京応化工業株式会社製)を用いて、酸素100%、RF Power:50W、10秒の条件での酸素プラズマの照射を行うことの他は、実施例1と同様に、親水化被膜の形成、親水化被膜が形成された面への紫外線照射、及び2枚のポリジメチルシロキサンシートの圧着を行った。圧着された2枚のポリジメチルシロキサンシートを、6時間室温で静置した後、2枚のシートの圧着状態を確認したが、強固に圧着されており剥離されなかった。
[Example 2]
As a pretreatment for forming a hydrophilic film, instead of irradiating ultraviolet rays with a vacuum ultraviolet irradiation device, an oxygen plasma device (TCA-3822, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is used, 100% oxygen, RF Power: 50W. Except for the irradiation of oxygen plasma under the condition of 10 seconds, the formation of a hydrophilic film, the irradiation of ultraviolet rays on the surface on which the hydrophilic film was formed, and two polydimethyls were performed as in Example 1. The siloxane sheet was crimped. The two crimped polydimethylsiloxane sheets were allowed to stand at room temperature for 6 hours, and then the crimped state of the two sheets was confirmed, but they were firmly crimped and were not peeled off.

〔実施例3〕
親水化被膜が形成された面への表面活性化のための紫外線照射時の露光量を、728mJ/cmから1092mJ/cmに変えることの他は、実施例2と同様にして、親水化被膜の形成、親水化被膜が形成された面への紫外線照射、及び2枚のポリジメチルシロキサンシートの圧着を行った。圧着された2枚のポリジメチルシロキサンシートを、6時間室温で静置した後、2枚のシートの圧着状態を確認したが、強固に圧着されており剥離されなかった。
[Example 3]
Hydrophilization in the same manner as in Example 2 except that the exposure amount during ultraviolet irradiation for surface activation on the surface on which the hydrophilic film was formed was changed from 728 mJ / cm 2 to 1092 mJ / cm 2 . The film was formed, the surface on which the hydrophilic film was formed was irradiated with ultraviolet rays, and the two polydimethylsiloxane sheets were pressure-bonded. The two crimped polydimethylsiloxane sheets were allowed to stand at room temperature for 6 hours, and then the crimped state of the two sheets was confirmed, but they were firmly crimped and were not peeled off.

〔実施例4〕
親水化被膜が形成された面への表面活性化のための紫外線照射時の露光量を、728mJ/cmから546mJ/cmに変えることの他は、実施例2と同様にして、親水化被膜の形成、親水化被膜が形成された面への紫外線照射、及び2枚のポリジメチルシロキサンシートの圧着を行った。圧着された2枚のポリジメチルシロキサンシートを、6時間室温で静置した後、2枚のシートの圧着状態を確認したが、強固に圧着されており剥離されなかった。
[Example 4]
Hydrophilization in the same manner as in Example 2 except that the exposure amount during ultraviolet irradiation for surface activation on the surface on which the hydrophilic film was formed was changed from 728 mJ / cm 2 to 546 mJ / cm 2 . The film was formed, the surface on which the hydrophilic film was formed was irradiated with ultraviolet rays, and the two polydimethylsiloxane sheets were pressure-bonded. The two crimped polydimethylsiloxane sheets were allowed to stand at room temperature for 6 hours, and then the crimped state of the two sheets was confirmed, but they were firmly crimped and were not peeled off.

〔比較例1〕
親水化被膜が形成された面への表面活性化のための紫外線照射を行わないことの他は、実施例2と同様にして、親水化被膜の形成、及び2枚のポリジメチルシロキサンシートの圧着を行った。圧着された2枚のポリジメチルシロキサンシートを、13時間室温で静置した後、2枚のシートの圧着状態を確認したが、2枚のポリジメチルシロキサンシートは、圧着された界面から容易に剥離した。
[Comparative Example 1]
The formation of the hydrophilic film and the pressure bonding of the two polydimethylsiloxane sheets were carried out in the same manner as in Example 2, except that the surface on which the hydrophilic film was formed was not irradiated with ultraviolet rays for surface activation. Was done. After allowing the two crimped polydimethylsiloxane sheets to stand at room temperature for 13 hours, the crimped state of the two sheets was confirmed, but the two polydimethylsiloxane sheets were easily peeled off from the crimped interface. did.

1 流路デバイス
10 第1部材
11 第2部材
12 親水化被膜
1 Flow path device 10 1st member 11 2nd member 12 Hydrophilized coating

Claims (10)

内部に液体を流通させる流路を備える流路デバイスの製造方法であって、
前記流路デバイスを構成する部材として2以上の部材を準備し、前記部材の少なくとも1つにおいて、親水化剤を含む処理液を用いて、前記部材の他の部材と接合される側の表面を被覆する親水化被膜を形成する、被膜形成工程と、
前記親水化被膜を備える部材においては、前記親水化被膜の接合面に対してのみ、選択的に紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射し、前記親水化被膜を備えない部材については、少なくとも前記接合面に対して、紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射する、照射工程と、
前記紫外線又は前記プラズマにより処理された2以上の前記部材が備える前記接合面が互いに対向するように、あらかじめ定められた位置に配置された2以上の前記部材に外力を加え、前記接合面同士を圧着させる、圧着工程と、
を含む、製造方法。
A method for manufacturing a flow path device having a flow path for flowing a liquid inside.
Two or more members are prepared as members constituting the flow path device, and at least one of the members uses a treatment liquid containing a hydrophilic agent to form a surface on the side to be joined to the other members of the member. A film forming process that forms a hydrophilic film to be coated,
In the member provided with the hydrophilized coating, only the joint surface of the hydrophilized coating is selectively irradiated with plasma derived from ultraviolet rays or an oxygen-containing gas, and the member not provided with the hydrophilic coating is provided. An irradiation step of irradiating at least the joint surface with plasma derived from ultraviolet rays or an oxygen-containing gas.
An external force is applied to the two or more members arranged at predetermined positions so that the joint surfaces of the two or more members treated by the ultraviolet rays or the plasma face each other, and the joint surfaces are brought together. Crimping process and crimping process
Manufacturing method, including.
前記親水化被膜の、紫外線、又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射しない部分が、前記流路デバイスの流路表面となる、請求項1に記載の流路デバイスの製造方法。 The method for manufacturing a flow path device according to claim 1, wherein the portion of the hydrophilic coating that is not irradiated with plasma derived from ultraviolet rays or oxygen-containing gas is the flow path surface of the flow path device. 2以上の前記部材の全てにおいて、前記親水化被膜を形成する、請求項1又は2に記載の流路デバイスの製造方法。 The method for manufacturing a flow path device according to claim 1 or 2, wherein the hydrophilized coating is formed on all of the two or more members. 前記親水化被膜を形成する前に、前記親水化被膜が形成される面に対して、紫外線又は酸素含有気体に由来するプラズマを照射する処理か、酸化剤に接触させる処理が行われる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の流路デバイスの製造方法。 Claim that before forming the hydrophilic film, a treatment of irradiating the surface on which the hydrophilic film is formed with plasma derived from ultraviolet rays or an oxygen-containing gas or a treatment of contacting the surface with an oxidizing agent is performed. The method for manufacturing a flow path device according to any one of 1 to 3. 前記酸化剤が、硫酸、硝酸、クロム酸、過マンガン酸、過硫酸、及び混酸からなる群より選択される少なくとも1種である請求項4に記載の流路デバイスの製造方法。 The method for producing a flow path device according to claim 4, wherein the oxidizing agent is at least one selected from the group consisting of sulfuric acid, nitric acid, chromic acid, permanganic acid, persulfuric acid, and mixed acid. 前記親水化剤が有機化合物であり、前記親水化被膜の膜厚が100nm以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の流路デバイスの製造方法。 The method for manufacturing a flow path device according to any one of claims 1 to 5, wherein the hydrophilic agent is an organic compound and the film thickness of the hydrophilic film is 100 nm or less. 前記照射工程において、前記紫外線の照射を行い、前記紫外線の波長が254nm以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の流路デバイスの製造方法。 The method for manufacturing a flow path device according to any one of claims 1 to 6, wherein in the irradiation step, the ultraviolet rays are irradiated and the wavelength of the ultraviolet rays is 254 nm or less. 前記紫外線の波長が172nm以下である、請求項7に記載の流路デバイスの製造方法。 The method for manufacturing a flow path device according to claim 7, wherein the wavelength of the ultraviolet rays is 172 nm or less. 前記部材の他の部材と接合される側の表面の材質が、シリコン、ガラス、シリコーン樹脂、環状オレフィンポリマー、環状オレフィンコポリマー、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、及びポリカーボネート樹脂からなる群より選択される1種以上である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の流路デバイスの製造方法。 One type selected from the group consisting of silicon, glass, silicone resin, cyclic olefin polymer, cyclic olefin copolymer, acrylic resin, polyester resin, and polycarbonate resin as the material of the surface of the member to be joined to other members. The method for manufacturing a flow path device according to any one of claims 1 to 6, which is the above. 2以上の前記部材が、第1の部材と、第2の部材との2つの部材からなり、
前記第1の部材が、前記流路に相当する溝を備える板状の部材であり、
前記第2の部材が、前記第1部材と接合される側の面として、流路表面と接合面とからなる段差のない面を有する板状の部材であり、
前記第2の部材における前記流路表面が、前記第1の部材が備える前記溝の開口を封鎖して前記流路を形成する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の流路デバイスの製造方法。
The two or more members are composed of two members, a first member and a second member.
The first member is a plate-shaped member having a groove corresponding to the flow path.
The second member is a plate-shaped member having a non-stepped surface composed of a flow path surface and a joint surface as a surface on the side to be joined to the first member.
The flow path device according to any one of claims 1 to 9, wherein the flow path surface of the second member closes the opening of the groove provided in the first member to form the flow path. Manufacturing method.
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