JP2020155608A - Wiring board and manufacturing method of the wiring board - Google Patents

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Abstract

To adjust an elongation of a wiring board in accordance with a location.SOLUTION: A wiring board 10 comprises a wiring 52 which contains a first region 31 and a second region 32 which are opposite while having a gap in a first direction D1; an intermediate region 33 containing a first end 331 connected to the first region 31 and a second end 332 connected to the second region 32, and contains: a base material 20 having an elastic property; a first part 61 positioned in the first region 31; a second part 62 positioned at the second region 32; and an intermediate part 63 positioned in the intermediate region 33, and connected to the first part 61 and the second part 62. The intermediate region 33 of the base material 20 includes a plurality of telescopic structure parts 34 arranged between the first region 31 and the second region 32. Each of the telescopic structure parts 34 contains a first element and a second element which are extended to a direction crossed to the first direction and is opposite to the first direction D1; and a connection element connecting the first and second elements.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示の実施形態は、伸縮性を有する基材と、配線とを備える配線基板及びその製造方法に関する。 An embodiment of the present disclosure relates to a wiring board including a stretchable base material and wiring, and a method for manufacturing the same.

近年、伸縮性などの変形性を有する配線基板の研究がおこなわれている。例えば、伸縮性を有する基材に伸縮性を有する銀配線を形成したものや、伸縮性を有する基材に馬蹄形の配線を形成したものが知られている(例えば特許文献1参照)。しかしながら、これらのタイプの配線基板は、基材の伸縮に伴って配線の抵抗値が変化し易いという課題を有する。 In recent years, research has been conducted on wiring boards having deformability such as elasticity. For example, there are known ones in which elastic silver wiring is formed on an elastic base material and one in which horseshoe-shaped wiring is formed on an elastic base material (see, for example, Patent Document 1). However, these types of wiring boards have a problem that the resistance value of the wiring easily changes as the base material expands and contracts.

その他のタイプの配線基板として、例えば特許文献2は、基材と、基材に設けられた配線と、を備え、伸縮性を有する配線基板を開示している。特許文献2においては、予め伸長させた状態の基材に回路を設け、回路を形成した後に基材を弛緩させる、という製造方法を採用している。特許文献2は、基材の伸長状態及び弛緩状態のいずれにおいても基材上の薄膜トランジスタを良好に動作させることを意図している。 As another type of wiring board, for example, Patent Document 2 discloses a wiring board having a base material and wiring provided on the base material and having elasticity. Patent Document 2 employs a manufacturing method in which a circuit is provided on a pre-stretched base material, and the base material is relaxed after the circuit is formed. Patent Document 2 intends to operate the thin film transistor on the substrate satisfactorily in both the extended state and the relaxed state of the substrate.

特開2013−187308号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-187308 特開2007−281406号公報JP-A-2007-281406

基材が弛緩状態にある場合、基材に設けられている配線は、山部及び谷部が基材の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状部を有する。この場合、基材を伸長させると、配線は、蛇腹形状部を面内方向に広げることによって基材の伸長に追従することができる。このため、蛇腹形状部を有するタイプの配線基板によれば、基材の伸縮に伴って配線の抵抗値が変化することを抑制することができる。 When the base material is in a relaxed state, the wiring provided on the base material has a bellows-shaped portion in which peaks and valleys repeatedly appear along the in-plane direction of the base material. In this case, when the base material is stretched, the wiring can follow the stretch of the base material by expanding the bellows-shaped portion in the in-plane direction. Therefore, according to the type of wiring board having the bellows-shaped portion, it is possible to suppress the change in the resistance value of the wiring as the base material expands and contracts.

ところで、配線基板に求められる伸長性は、場所によって異なる場合がある。例えば、配線基板の一部には第1伸長性が求められるが、配線基板のその他の部分には、第1伸長性よりも低い第2伸長性しか求められない場合がある。一例を挙げると、配線基板が人の腕に貼り付けられる場合、配線基板のうち肘に重なる部分には、その他の部分に比べて高い伸長性が求められる。一方、蛇腹形状部を有するタイプの配線基板において、配線基板の伸長性は主に、配線基板の製造工程における基材の伸長率に基づいて定まる。この場合、配線基板の一部に第1伸長性を持たせようとすると、配線基板の製造工程において、基材の全体を、第1伸長性に対応する伸長率で伸長させることになる。この結果、配線基板のうち第2伸長性しか求められない部分にも、第1伸長性が付与されてしまう。 By the way, the extensibility required for a wiring board may differ depending on the location. For example, a part of the wiring board is required to have a first extensibility, but another part of the wiring board may be required to have a second extensibility lower than the first extensibility. For example, when the wiring board is attached to a human arm, the portion of the wiring board that overlaps the elbow is required to have higher extensibility than the other portions. On the other hand, in a type of wiring board having a bellows-shaped portion, the extensibility of the wiring board is mainly determined based on the elongation rate of the base material in the manufacturing process of the wiring board. In this case, if a part of the wiring board is to have the first extensibility, the entire base material is elongated at an elongation rate corresponding to the first extensibility in the manufacturing process of the wiring board. As a result, the first extensibility is imparted to the portion of the wiring board where only the second extensibility is required.

本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得る配線基板及び配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present disclosure is to provide a wiring board and a method for manufacturing a wiring board that can effectively solve such a problem.

本開示の一実施形態は、第1方向において間隔を空けて対向する第1領域及び第2領域と、前記第1領域に接続されている第1端及び前記第2領域に接続されている第2端を含む中間領域と、を含み、伸縮性を有する基材と、前記第1領域に位置する第1部分と、前記第2領域に位置する第2部分と、前記中間領域に位置し、前記第1部分及び前記第2部分に接続されている中間部分と、を含む配線と、を備え、前記基材の前記中間領域は、前記第1領域と前記第2領域との間に並ぶ複数の伸縮構造部を有し、前記伸縮構造部は、前記第1方向に交差する方向に延びるとともに前記第1方向において対向する第1要素及び第2要素と、前記第1要素と前記第2要素とを接続する接続要素と、を含む、配線基板である。 In one embodiment of the present disclosure, a first region and a second region facing each other at intervals in the first direction, and a first end connected to the first region and a second region connected to the second region are connected. An intermediate region including two ends, a stretchable substrate, a first portion located in the first region, a second portion located in the second region, and an intermediate region located in the intermediate region. A plurality of wirings including the first portion and an intermediate portion connected to the second portion are provided, and the intermediate region of the base material is arranged between the first region and the second region. The telescopic structure portion extends in a direction intersecting the first direction and faces the first element and the second element in the first direction, and the first element and the second element. A wiring board that includes a connecting element that connects to and.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1要素と前記第2要素との間の間隔の最小値は、複数の前記伸縮構造部の配列周期の0.4倍よりも小さくてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the minimum value of the distance between the first element and the second element may be smaller than 0.4 times the arrangement period of the plurality of the telescopic structure portions. ..

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1要素と前記第2要素との間の間隔の最小値は、複数の前記伸縮構造部の配列周期の0.3倍よりも小さくてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the minimum value of the distance between the first element and the second element may be smaller than 0.3 times the arrangement period of the plurality of the telescopic structure portions. ..

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1要素と前記第2要素との間の間隔の最大値は、複数の前記伸縮構造部の配列周期の0.3倍よりも大きくてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the maximum value of the distance between the first element and the second element may be larger than 0.3 times the arrangement period of the plurality of the telescopic structure portions. ..

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線は、前記配線が延びる方向に並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the wiring may have a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys arranged in a direction in which the wiring extends.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線は、前記基材の第1面側に位置し、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅が、前記基材の前記第1面の反対側に位置する第2面の側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅よりも大きくてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the wiring is located on the first surface side of the base material, and the bellows shape of the wiring among the surfaces of the wiring board on the first surface side of the base material. The amplitude of the peaks and valleys appearing in the overlapping portions is applied to the bellows-shaped portion of the wiring among the surfaces of the wiring board on the side of the second surface located on the opposite side of the first surface of the base material. It may be larger than the amplitude of the peaks and valleys appearing in the overlapping portions.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線は、前記基材の第1面側に位置し、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期が、前記基材の前記第1面の反対側に位置する第2面の側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期よりも小さくてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the wiring is located on the first surface side of the base material, and the bellows shape of the wiring among the surfaces of the wiring board on the first surface side of the base material. The period of the peaks and valleys appearing in the overlapping portions is formed on the bellows-shaped portion of the wiring among the surfaces of the wiring board on the side of the second surface located on the opposite side of the first surface of the base material. It may be smaller than the period of the peaks and valleys appearing in the overlapping portion.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線は、前記基材の第1面側に位置し、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の位置が、前記基材の前記第1面の反対側に位置する第2面の側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の位置からずれていてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the wiring is located on the first surface side of the base material, and the bellows shape of the wiring among the surfaces of the wiring board on the first surface side of the base material. The positions of the peaks and valleys appearing in the overlapping portions are located on the bellows-shaped portion of the wiring among the surfaces of the wiring board on the side of the second surface located on the opposite side of the first surface of the base material. It may deviate from the positions of the peaks and valleys that appear in the overlapping portions.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線は、前記基材の第1面側に位置し、前記配線基板は、前記基材の第1面側に位置し、前記配線よりも低い弾性係数を有する調整層を備えていてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the wiring is located on the first surface side of the base material, the wiring board is located on the first surface side of the base material, and has a lower elastic modulus than the wiring. An adjustment layer having a coefficient may be provided.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記基材は、熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル又はシリコンゲルを含んでいてもよい。 In the wiring substrate according to the embodiment of the present disclosure, the base material may contain a thermoplastic elastomer, silicone rubber, urethane gel or silicon gel.

本開示の一実施形態による配線基板は、支持基板を更に備えていてもよい。 The wiring board according to the embodiment of the present disclosure may further include a support board.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記支持基板は、前記基材よりも高い弾性係数を有し、前記配線を支持していてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the support substrate may have a higher elastic modulus than the base material and may support the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記支持基板は、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタラートを含んでいてもよい。 In the wiring board according to the embodiment of the present disclosure, the support board may contain polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin, or polyethylene terephthalate.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記基材の前記第1領域又は前記第2領域の少なくともいずれか一方において前記配線に電気的に接続される電子部品を更に備えていてもよい。 The wiring board according to one embodiment of the present disclosure may further include electronic components that are electrically connected to the wiring in at least one of the first region and the second region of the base material.

本開示の一実施形態は、配線基板の製造方法であって、伸縮性を有する基材に、少なくとも前記基材の第1面の面内方向の1つである第1方向において、張力を加えて、前記基材を伸長させる伸長工程と、前記伸長工程によって伸長した状態の前記基材の第1面側に配線を設ける配線形成工程と、前記基材を部分的に切断して、前記基材を、前記第1方向において間隔を空けて対向する第1領域及び第2領域と、前記第1領域に接続されている第1端及び前記第2領域に接続されている第2端を含む中間領域と、に区画する切断工程と、を備え、前記配線は、前記基材の前記第1領域から前記中間領域を通って前記第2領域に至っており、前記基材の前記中間領域は、前記第1領域と前記第2領域との間に並ぶ複数の伸縮構造部を有し、前記伸縮構造部は、前記第1方向に交差する方向に延びるとともに前記第1方向において対向する第1要素及び第2要素と、前記第1要素と前記第2要素とを接続する接続要素と、を含む、配線基板の製造方法である。 One embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing a wiring substrate, in which tension is applied to a stretchable base material in at least one of the in-plane directions of the first surface of the base material. A stretching step of extending the base material, a wiring forming step of providing wiring on the first surface side of the base material stretched by the stretching step, and a partial cutting of the base material to form the base. The material includes a first region and a second region facing each other at intervals in the first direction, a first end connected to the first region, and a second end connected to the second region. The wiring comprises an intermediate region and a cutting step for partitioning into, and the wiring reaches the second region from the first region of the base material through the intermediate region, and the intermediate region of the base material is: It has a plurality of telescopic structure portions arranged between the first region and the second region, and the telescopic structure portion extends in a direction intersecting the first direction and faces the first element in the first direction. A method for manufacturing a wiring board, which includes a second element and a connecting element that connects the first element and the second element.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、前記切断工程の後、前記基材から前記張力を取り除く収縮工程を備えていてもよい。 The method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure may include a shrinkage step of removing the tension from the base material after the cutting step.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法において、前記配線形成工程は、支持基板に配線を形成する工程と、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基板を取り付ける工程と、を有していてもよい。 In the method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the wiring forming step includes a step of forming wiring on the support board and a step of attaching the support board to the first surface side of the stretched base material. , May have.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、前記配線形成工程の後であって、前記切断工程の前に、前記基材から前記張力を取り除く収縮工程を備えていてもよい。 The method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure may include a shrinkage step of removing the tension from the base material after the wiring formation step and before the cutting step.

本開示の実施形態によれば、配線基板の伸長性を場所に応じて調整することができる。 According to the embodiment of the present disclosure, the extensibility of the wiring board can be adjusted according to the location.

一実施の形態に係る配線基板を示す平面図である。It is a top view which shows the wiring board which concerns on one Embodiment. 図1の配線基板のA−A線に沿った断面図の一例である。This is an example of a cross-sectional view taken along the line AA of the wiring board of FIG. 図1の配線基板のA−A線に沿った断面図のその他の例である。It is another example of the cross-sectional view along the line AA of the wiring board of FIG. 基材の中間領域の一例を拡大して示す平面図である。It is a top view which shows the example of the intermediate region of a base material enlarged. 基材の中間領域のその他の例を拡大して示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the intermediate region of a base material enlarged. 基材の中間領域のその他の例を拡大して示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the intermediate region of a base material enlarged. 基材の中間領域のその他の例を拡大して示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the intermediate region of a base material enlarged. 配線基板に生じる蛇腹形状部の一例を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of the bellows-shaped part generated in the wiring board enlarged. 配線基板に生じる蛇腹形状部の一例を拡大して示す平面図である。It is an enlarged plan view which shows an example of the bellows-shaped part generated in a wiring board. 配線基板に生じる蛇腹形状部のその他の例を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the bellows-shaped part generated in the wiring board enlarged. 配線基板に生じる蛇腹形状部のその他の例を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the bellows-shaped part generated in the wiring board enlarged. 配線基板の製造方法の一例を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating an example of the manufacturing method of a wiring board. 配線基板の製造方法の一例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating an example of the manufacturing method of a wiring board. 対象物に貼り付けられた状態の配線基板の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of the wiring board in the state which is attached to the object. 対象物に貼り付けられた状態の配線基板の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of the wiring board in the state which is attached to the object. 第1の変形例に係る配線基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the wiring board which concerns on 1st modification. 配線基板に生じる蛇腹形状部の一例を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of the bellows-shaped part generated in the wiring board enlarged. 第2の変形例に係る配線基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the wiring board which concerns on the 2nd modification. 図17の配線基板を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which shows the wiring board of FIG. 17 enlarged. 第2の変形例に係る配線基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the wiring board which concerns on the 2nd modification.

以下、本開示の実施形態に係る配線基板の構成及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態に限定して解釈されるものではない。また、本明細書において、「基板」、「基材」、「シート」や「フィルム」など用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基板」は、基材、シートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。更に、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。また、本実施形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。 Hereinafter, the configuration of the wiring board and the manufacturing method thereof according to the embodiment of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments shown below are examples of the embodiments of the present disclosure, and the present disclosure is not construed as being limited to these embodiments. Further, in the present specification, terms such as "board", "base material", "sheet" and "film" are not distinguished from each other based only on the difference in names. For example, "substrate" is a concept that includes a base material, a member that can be called a sheet or a film. Furthermore, as used herein, terms such as "parallel" and "orthogonal" and values of length and angle that specify the shape and geometric conditions and their degrees are bound by strict meaning. Instead, the interpretation will include the range in which similar functions can be expected. Further, in the drawings referred to in the present embodiment, the same parts or parts having similar functions are designated by the same reference numerals or similar reference numerals, and the repeated description thereof may be omitted. In addition, the dimensional ratio of the drawing may differ from the actual ratio for convenience of explanation, or a part of the configuration may be omitted from the drawing.

以下、図1乃至図14を参照して、本開示の一実施の形態について説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present disclosure will be described with reference to FIGS. 1 to 14.

(配線基板)
まず、本実施の形態に係る配線基板10について説明する。図1は、配線基板10を示す平面図である。図2は、図1の配線基板のA−A線に沿った断面図の一例である。配線基板10は、基材20及び配線52を少なくとも備える。配線基板10は、電子部品51を備えていてもよい。以下、配線基板10の各構成要素について説明する。
(Wiring board)
First, the wiring board 10 according to the present embodiment will be described. FIG. 1 is a plan view showing the wiring board 10. FIG. 2 is an example of a cross-sectional view taken along the line AA of the wiring board of FIG. The wiring board 10 includes at least a base material 20 and a wiring 52. The wiring board 10 may include an electronic component 51. Hereinafter, each component of the wiring board 10 will be described.

〔基材〕
基材20は、少なくとも1つの方向において伸縮性を有するよう構成された部材である。基材20は、配線52側に位置する第1面21と、第1面21の反対側に位置する第2面22と、を含む。また、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合、基材20は、第1方向D1において間隔を空けて対向する第1領域31及び第2領域32と、第1領域31と第2領域32との間に位置する中間領域33と、を含む。第1領域31、第2領域32及び中間領域33は、一体的に構成されていてもよい。例えば、第1領域31、第2領域32及び中間領域33は、単一の基材を、レーザー等を用いて切断加工することによって形成されていてもよい。第1方向D1は、基材20の第1面21の面内方向における一方向である。以下の説明において、第1面21の法線方向に沿って配線基板10又は配線基板10の構成要素を見ることを、単に「平面視」とも称する。
〔Base material〕
The base material 20 is a member configured to have elasticity in at least one direction. The base material 20 includes a first surface 21 located on the wiring 52 side and a second surface 22 located on the opposite side of the first surface 21. Further, when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the base material 20, the base material 20 has the first region 31 and the second region 32 facing each other at intervals in the first direction D1 and the first Includes an intermediate region 33 located between the region 31 and the second region 32. The first region 31, the second region 32, and the intermediate region 33 may be integrally configured. For example, the first region 31, the second region 32, and the intermediate region 33 may be formed by cutting a single base material with a laser or the like. The first direction D1 is one direction in the in-plane direction of the first surface 21 of the base material 20. In the following description, viewing the wiring board 10 or the components of the wiring board 10 along the normal direction of the first surface 21 is also simply referred to as "planar view".

本実施の形態において、基材20は、少なくとも第1方向D1において伸縮性を有する。基材20は第1方向D1以外の方向においても伸縮性を有していてもよい。例えば、基材20は、第1方向D1、及び第2方向D2に直交する第2方向D2において、伸縮性を有していてもよい。 In the present embodiment, the base material 20 has elasticity at least in the first direction D1. The base material 20 may have elasticity in a direction other than the first direction D1. For example, the base material 20 may have elasticity in the first direction D1 and the second direction D2 orthogonal to the second direction D2.

基材20の厚みは、例えば10μm以上10mm以下であり、より好ましくは20μm以上3mm以下である。基材20の厚みを10μm以上にすることにより、基材20の耐久性を確保することができる。また、基材20の厚みを10mm以下にすることにより、配線基板10の装着快適性を確保することができる。なお、基材20の厚みを小さくしすぎると、基材20の伸縮性が損なわれる場合がある。 The thickness of the base material 20 is, for example, 10 μm or more and 10 mm or less, and more preferably 20 μm or more and 3 mm or less. By setting the thickness of the base material 20 to 10 μm or more, the durability of the base material 20 can be ensured. Further, by reducing the thickness of the base material 20 to 10 mm or less, the mounting comfort of the wiring board 10 can be ensured. If the thickness of the base material 20 is made too small, the elasticity of the base material 20 may be impaired.

なお、基材20の伸縮性とは、基材20が伸び縮みすることができる性質、すなわち、常態である非伸長状態から伸長することができ、この伸長状態から解放したときに復元することができる性質をいう。非伸長状態とは、引張応力が加えられていない時の基材20の状態である。本実施形態において、伸縮可能な基材は、好ましくは、破壊されることなく非伸長状態から1%以上伸長することができ、より好ましくは20%以上伸長することができ、更に好ましくは75%以上伸長することができる。このような能力を有する基材20を用いることにより、配線基板10が全体に伸縮性を有することができる。さらに、人の腕などの身体の一部に取り付けるという、高い伸縮が必要な製品や用途において、配線基板10を使用することができる。一般に、人の脇の下に取り付ける製品には、垂直方向において72%、水平方向において27%の伸縮性が必要であると言われている。また、人の膝、肘、臀部、足首、脇部に取り付ける製品には、垂直方向において26%以上42%以下の伸縮性が必要であると言われている。また、人のその他の部位に取り付ける製品には、20%未満の伸縮性が必要であると言われている。 The elasticity of the base material 20 means that the base material 20 can expand and contract, that is, it can be expanded from a normal non-extended state and can be restored when released from this extended state. The property that can be done. The non-extended state is the state of the base material 20 when no tensile stress is applied. In the present embodiment, the stretchable substrate can preferably be stretched by 1% or more from the non-stretched state without being destroyed, more preferably 20% or more, and further preferably 75%. It can be extended as described above. By using the base material 20 having such an ability, the wiring board 10 can have elasticity as a whole. Further, the wiring board 10 can be used in products and applications that require high expansion and contraction, such as being attached to a part of the body such as a human arm. It is generally said that a product mounted under the armpit of a person needs to have an elasticity of 72% in the vertical direction and 27% in the horizontal direction. In addition, it is said that products attached to human knees, elbows, buttocks, ankles, and armpits need to have elasticity of 26% or more and 42% or less in the vertical direction. It is also said that products that are attached to other parts of the human body need to have less than 20% elasticity.

また、非伸長状態にある基材20の形状と、非伸長状態から伸長された後に再び非伸長状態に戻ったときの基材20の形状との差が小さいことが好ましい。この差のことを、以下の説明において形状変化とも称する。基材20の形状変化は、例えば面積比で20%以下、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下である。形状変化の小さい基材20を用いることにより、後述する山部や谷部の形成が容易になる。 Further, it is preferable that the difference between the shape of the base material 20 in the non-stretched state and the shape of the base material 20 when the base material 20 is stretched from the non-stretched state and then returned to the non-stretched state is small. This difference is also referred to as a shape change in the following description. The shape change of the base material 20 is, for example, 20% or less, more preferably 10% or less, still more preferably 5% or less in terms of area ratio. By using the base material 20 having a small shape change, it becomes easy to form peaks and valleys, which will be described later.

基材20の伸縮性を表すパラメータの例として、基材20の弾性係数を挙げることができる。基材20の弾性係数は、例えば10MPa以下であり、より好ましくは1MPa以下である。このような弾性係数を有する基材20を用いることにより、配線基板10全体に伸縮性を持たせることができる。以下の説明において、基材20の弾性係数のことを、第1の弾性係数とも称する。基材20の第1の弾性係数は、1kPa以上であってもよい。 An example of a parameter representing the elasticity of the base material 20 is the elastic modulus of the base material 20. The elastic modulus of the base material 20 is, for example, 10 MPa or less, more preferably 1 MPa or less. By using the base material 20 having such an elastic modulus, the entire wiring board 10 can be made elastic. In the following description, the elastic modulus of the base material 20 is also referred to as a first elastic modulus. The first elastic modulus of the base material 20 may be 1 kPa or more.

基材20の第1の弾性係数を算出する方法としては、基材20のサンプルを用いて、JIS K6251に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。また、基材20のサンプルの弾性係数を、ISO14577に準拠してナノインデンテーション法によって測定するという方法を採用することもできる。ナノインデンテーション法において用いる測定器としては、ナノインデンターを用いることができる。基材20のサンプルを準備する方法としては、配線基板10から基材20の一部をサンプルとして取り出す方法や、配線基板10を構成する前の基材20の一部をサンプルとして取り出す方法が考えられる。その他にも、基材20の第1の弾性係数を算出する方法として、基材20を構成する材料を分析し、材料の既存のデータベースに基づいて基材20の第1の弾性係数を算出するという方法を採用することもできる。なお、本願における弾性係数は、25℃の環境下における弾性係数である。 As a method for calculating the first elastic modulus of the base material 20, a method of carrying out a tensile test in accordance with JIS K6251 using a sample of the base material 20 can be adopted. It is also possible to adopt a method in which the elastic modulus of the sample of the base material 20 is measured by the nanoindentation method in accordance with ISO14577. A nanoindenter can be used as the measuring instrument used in the nanoindentation method. As a method of preparing a sample of the base material 20, a method of taking out a part of the base material 20 from the wiring board 10 as a sample and a method of taking out a part of the base material 20 before forming the wiring board 10 as a sample can be considered. Be done. In addition, as a method of calculating the first elastic modulus of the base material 20, the materials constituting the base material 20 are analyzed, and the first elastic modulus of the base material 20 is calculated based on the existing database of the materials. It is also possible to adopt the method. The elastic modulus in the present application is an elastic modulus in an environment of 25 ° C.

基材20の伸縮性を表すパラメータのその他の例として、基材20の曲げ剛性を挙げることができる。曲げ剛性は、対象となる部材の断面二次モーメントと、対象となる部材を構成する材料の弾性係数との積であり、単位はN・m又はPa・mである。基材20の断面二次モーメントは、配線基板10の伸縮方向に直交する平面によって、基材20のうち配線52と重なっている部分を切断した場合の断面に基づいて算出される。 Another example of a parameter representing the elasticity of the base material 20 is the flexural rigidity of the base material 20. The flexural rigidity is the product of the moment of inertia of area of the target member and the elastic modulus of the material constituting the target member, and the unit is N · m 2 or Pa · m 4 . The moment of inertia of area of the base material 20 is calculated based on the cross section when the portion of the base material 20 that overlaps with the wiring 52 is cut by a plane orthogonal to the expansion / contraction direction of the wiring board 10.

基材20を構成する材料の例としては、例えば、エラストマーを挙げることができる。また、基材20の材料として、例えば、織物、編物、不織布などの布を用いることもできる。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、具体的には、ポリウレタン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ニトリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、塩ビ系エラストマー、エステル系エラストマー、アミド系エラストマー、1,2−BR系エラストマー、フッ素系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。機械的強度や耐磨耗性を考慮すると、ウレタン系エラストマーを用いることが好ましい。また、基材20が、ポリジメチルシロキサンなどのシリコーンを含んでいてもよい。シリコーンは、耐熱性・耐薬品性・難燃性に優れており、基材20の材料として好ましい。 Examples of the material constituting the base material 20 include an elastomer. Further, as the material of the base material 20, for example, a cloth such as a woven fabric, a knitted fabric, or a non-woven fabric can be used. As the elastomer, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used, and specifically, polyurethane-based elastomers, styrene-based elastomers, nitrile-based elastomers, olefin-based elastomers, vinyl chloride-based elastomers, ester-based elastomers, etc. Amid-based elastomers, 1,2-BR-based elastomers, fluoroelastomers, silicone rubbers, urethane rubbers, fluororubbers, polybutadienes, polyisobutylenes, polystyrene butadienes, polychloroprenes and the like can be used. Considering mechanical strength and abrasion resistance, it is preferable to use a urethane-based elastomer. Further, the base material 20 may contain silicone such as polydimethylsiloxane. Silicone is excellent in heat resistance, chemical resistance, and flame retardancy, and is preferable as a material for the base material 20.

第1領域31、第2領域32及び中間領域33の形状について説明する。図1に示すように、第1領域31及び第2領域32は、平面視において、第1方向D1に延びる一対の辺と、第2方向D2に延びる一対の辺とを含む四角形状を有していてもよい。 The shapes of the first region 31, the second region 32, and the intermediate region 33 will be described. As shown in FIG. 1, the first region 31 and the second region 32 have a quadrangular shape including a pair of sides extending in the first direction D1 and a pair of sides extending in the second direction D2 in a plan view. You may be.

図4は、基材20の中間領域33の一例を拡大して示す平面図である。図1及び図4に示すように、中間領域33は、第1領域31に接続されている第1端331及び第2領域32に接続されている第2端332を含む。また、中間領域33は、第1領域31と第2領域32との間に並ぶ複数の伸縮構造部34を有する。複数の伸縮構造部34が並ぶ方向は、第1方向D1に平行であってもよい。 FIG. 4 is an enlarged plan view showing an example of the intermediate region 33 of the base material 20. As shown in FIGS. 1 and 4, the intermediate region 33 includes a first end 331 connected to the first region 31 and a second end 332 connected to the second region 32. Further, the intermediate region 33 has a plurality of elastic structure portions 34 arranged between the first region 31 and the second region 32. The direction in which the plurality of telescopic structure portions 34 are arranged may be parallel to the first direction D1.

伸縮構造部34は、第1領域31と第2領域32との間の間隔を広げる向きの力が基材20に加えられる場合に、第1方向D1における寸法を拡大させるように変形するよう構成されている。例えば図4に示すように、伸縮構造部34は、第1方向D1に交差する方向に延びるとともに第1方向D1において対向する第1要素35及び第2要素36と、第1要素35と第2要素36とを接続する接続要素37と、を含む。このように伸縮構造部34は、いわゆるジグザグ形状を有する。 The telescopic structure portion 34 is configured to be deformed so as to increase the dimension in the first direction D1 when a force in a direction for widening the distance between the first region 31 and the second region 32 is applied to the base material 20. Has been done. For example, as shown in FIG. 4, the telescopic structure portion 34 extends in a direction intersecting the first direction D1 and faces the first element 35 and the second element 36 in the first direction D1, and the first element 35 and the second. Includes a connection element 37 that connects the element 36. As described above, the telescopic structure portion 34 has a so-called zigzag shape.

図4においては、第1要素35及び第2要素36が、第1方向D1に直交する第2方向D2において少なくとも部分的に直線状に延び、接続要素37が、第1方向D1において少なくとも部分的に直線状に延びる例が示されている。図示はしないが、第1要素35及び第2要素36は、第1方向D1及び第2方向D2の両方に対して交差する方向に延びていてもよい。 In FIG. 4, the first element 35 and the second element 36 extend at least partially linearly in the second direction D2 orthogonal to the first direction D1, and the connecting element 37 extends at least partially in the first direction D1. An example of extending linearly is shown in. Although not shown, the first element 35 and the second element 36 may extend in a direction intersecting both the first direction D1 and the second direction D2.

図4において、符号K1は、複数の伸縮構造部34の配列周期を表す。配列周期は、例えば、伸縮構造部34が並ぶ方向における一定の範囲にわたって、伸縮構造部34の中心点の間隔を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。伸縮構造部34の中心点は、第1要素35と第2要素36との間の、第1方向D1における中間点である。 In FIG. 4, reference numeral K1 represents an arrangement period of the plurality of telescopic structure portions 34. The arrangement period is calculated, for example, by measuring the distance between the center points of the stretchable structure portions 34 over a certain range in the direction in which the stretchable structure portions 34 are arranged and calculating the average thereof. The center point of the telescopic structure portion 34 is an intermediate point in the first direction D1 between the first element 35 and the second element 36.

また、符号K2は、第1要素35と第2要素36との間の間隔の最小値を表す。図4に示す例において、第1要素35と第2要素36との間の間隔は、第2方向D2における位置に依らず一定である。 Further, the reference numeral K2 represents the minimum value of the interval between the first element 35 and the second element 36. In the example shown in FIG. 4, the distance between the first element 35 and the second element 36 is constant regardless of the position in the second direction D2.

第1要素35と第2要素36との間の間隔の最小値K2は、複数の伸縮構造部34の配列周期K1の0.4倍よりも小さくてもよく、0.3倍よりも小さくてもよく、0.2倍よりも小さくてもよく、0.1倍よりも小さくてもよい。 The minimum value K2 of the distance between the first element 35 and the second element 36 may be smaller than 0.4 times the arrangement period K1 of the plurality of elastic structure portions 34, and may be smaller than 0.3 times. It may be smaller than 0.2 times, and may be smaller than 0.1 times.

図5は、基材20の中間領域33のその他の例を示す平面図である。図5に示すように、第1要素35と接続要素37とが接続される部分において、基材20の輪郭が湾曲していてもよい。これにより、伸縮構造部34が変形する際に第1要素35と接続要素37とが接続される部分に応力が集中することを抑制することができる。第2要素36と接続要素37とが接続される部分においても、基材20の輪郭が湾曲していてもよい。 FIG. 5 is a plan view showing another example of the intermediate region 33 of the base material 20. As shown in FIG. 5, the contour of the base material 20 may be curved at the portion where the first element 35 and the connecting element 37 are connected. As a result, it is possible to prevent stress from concentrating on the portion where the first element 35 and the connecting element 37 are connected when the telescopic structure portion 34 is deformed. The contour of the base material 20 may be curved even in the portion where the second element 36 and the connecting element 37 are connected.

図6Aは、基材20の中間領域33のその他の例を示す平面図である。図6Aに示すように、伸縮構造部34は、馬蹄形状を有していてもよい。この場合、第1要素35、第2要素36及び接続要素37は、少なくとも部分的に湾曲している。第1要素35と第2要素36との間の間隔は、第2方向D2において接続要素37とは反対側の位置で、最小値K2を示す。また、第1要素35と第2要素36との間の間隔は、伸縮構造部34と、第1要素35と第2要素36との間の間隔が最小値K2を示す位置との間で、最大値K3を示す。 FIG. 6A is a plan view showing another example of the intermediate region 33 of the base material 20. As shown in FIG. 6A, the telescopic structure portion 34 may have a horseshoe shape. In this case, the first element 35, the second element 36 and the connecting element 37 are at least partially curved. The distance between the first element 35 and the second element 36 shows the minimum value K2 at a position opposite to the connecting element 37 in the second direction D2. Further, the distance between the first element 35 and the second element 36 is between the telescopic structure portion 34 and the position where the distance between the first element 35 and the second element 36 shows the minimum value K2. The maximum value K3 is shown.

図6Aに示す例において、第1要素35と第2要素36との間の間隔の最小値K2は、複数の伸縮構造部34の配列周期K1の0.2倍よりも小さくてもよく、0.15倍よりも小さくてもよく、0.1倍よりも小さくてもよい。また、第1要素35と第2要素36との間の間隔の最大値K3は、複数の伸縮構造部34の配列周期K1の0.3倍よりも大きくてもよく、0.4倍よりも大きくてもよく、0.5倍よりも大きくてもよく、0.6倍よりも大きくてもよい。 In the example shown in FIG. 6A, the minimum value K2 of the distance between the first element 35 and the second element 36 may be smaller than 0.2 times the arrangement period K1 of the plurality of telescopic structure portions 34, and is 0. It may be smaller than .15 times and less than 0.1 times. Further, the maximum value K3 of the distance between the first element 35 and the second element 36 may be larger than 0.3 times the arrangement period K1 of the plurality of elastic structure portions 34, and may be larger than 0.4 times. It may be larger, greater than 0.5 times, or greater than 0.6 times.

図6Bは、馬蹄形状を有する伸縮構造部34及び配線52の中間部分63のその他の例を示す平面図である。図6Bに示す例において、符号Cが付された直線は、第2方向D2における伸縮構造部34の中央を通り、第1方向D1に延びる中央線である。図6Bに示す例において、伸縮構造部34は、中央線Cよりも第2方向における一方の側に位置し、中央線Cにおいて開口している円弧Q1と、中央線Cよりも第2方向における他方の側に位置し、中央線Cにおいて開口し、円弧Q1に接続されている円弧Q2とを、第1方向D1に周期的に並べた形状を有している。配線52の中間部分63も同様である。このような形状を採用することにより、伸縮構造部34及び配線52の中間部分63の、伸長に対する耐性を高めることができる。 FIG. 6B is a plan view showing another example of the telescopic structure portion 34 having a horseshoe shape and the intermediate portion 63 of the wiring 52. In the example shown in FIG. 6B, the straight line with the reference numeral C is a center line extending through the center of the telescopic structure portion 34 in the second direction D2 and extending in the first direction D1. In the example shown in FIG. 6B, the telescopic structure portion 34 is located on one side in the second direction from the center line C, and has an arc Q1 that is open at the center line C and a second direction from the center line C. It has a shape in which an arc Q2 located on the other side, opened at the center line C, and connected to the arc Q1 is periodically arranged in the first direction D1. The same applies to the intermediate portion 63 of the wiring 52. By adopting such a shape, it is possible to increase the resistance of the intermediate portion 63 of the telescopic structure portion 34 and the wiring 52 to elongation.

図6Bにおいて、符号θは、円弧Q1、Q2の円周角を表し、符号Rは、円弧Q1、Q2の半径を表す。また、符号Wは、配線52の中間部分63の幅を表す。円弧Q1、Q2の円周角θは、好ましくは180°以上270°以下である。図6Bに示す例において、θは270°である。円弧Q1、Q2の半径Rを配線52の中間部分63の幅Wで割った値(=R/W)は、好ましくは15以上である。 In FIG. 6B, the reference numeral θ represents the inscribed angle of the arcs Q1 and Q2, and the reference numeral R represents the radius of the arcs Q1 and Q2. Further, the reference numeral W represents the width of the intermediate portion 63 of the wiring 52. The inscribed angle θ of the arcs Q1 and Q2 is preferably 180 ° or more and 270 ° or less. In the example shown in FIG. 6B, θ is 270 °. The value (= R / W) obtained by dividing the radius R of the arcs Q1 and Q2 by the width W of the intermediate portion 63 of the wiring 52 is preferably 15 or more.

〔粘着層〕
図3は、図1の配線基板10のA−A線に沿った断面図の一例である。図3に示すように、基材20の第2面22側には粘着層71が設けられていてもよい。粘着層71は、配線基板10を人の腕などの対象物に貼り付けるための粘着剤を含む。図3に示すように、配線基板10は、粘着層71を覆う保護シート73を含んでいてもよい。保護シート73は、配線基板10を対象物に貼り付ける際に剥がされる。
[Adhesive layer]
FIG. 3 is an example of a cross-sectional view taken along the line AA of the wiring board 10 of FIG. As shown in FIG. 3, the adhesive layer 71 may be provided on the second surface 22 side of the base material 20. The adhesive layer 71 contains an adhesive for attaching the wiring board 10 to an object such as a human arm. As shown in FIG. 3, the wiring board 10 may include a protective sheet 73 that covers the adhesive layer 71. The protective sheet 73 is peeled off when the wiring board 10 is attached to the object.

図3に示すように、粘着層71は、基材20の第2面22の面内方向に並ぶ複数の粘着部72を含んでいてもよい。複数の粘着部72は、間隔を空けて配置されている。これにより、配線基板10に、粘着層71を介して対象物に固定されてはいない部分を設けることができる。 As shown in FIG. 3, the adhesive layer 71 may include a plurality of adhesive portions 72 arranged in the in-plane direction of the second surface 22 of the base material 20. The plurality of adhesive portions 72 are arranged at intervals. As a result, the wiring board 10 can be provided with a portion that is not fixed to the object via the adhesive layer 71.

〔配線〕
配線52は、導電性を有し、平面視において細長い形状を有する部材である。本実施の形態において、配線52は、基材20の第1面21側に位置している。図2に示すように、配線52は、基材20の第1面21に接していてもよい。図示はしないが、基材20の第1面21と配線52との間にその他の部材が介在されていてもよい。
〔wiring〕
The wiring 52 is a member that has conductivity and has an elongated shape in a plan view. In the present embodiment, the wiring 52 is located on the first surface 21 side of the base material 20. As shown in FIG. 2, the wiring 52 may be in contact with the first surface 21 of the base material 20. Although not shown, other members may be interposed between the first surface 21 of the base material 20 and the wiring 52.

配線52は、基材20の第1領域31に位置する第1部分61と、第2領域32に位置する第2部分62と、中間領域33に位置し、第1部分61及び第2部分62に接続されている中間部分63と、を含む。図1及び図2に示す例において、第1部分61及び第2部分62は第1方向D1に延びている。 The wiring 52 is located in the first portion 61 located in the first region 31 of the base material 20, the second portion 62 located in the second region 32, and the intermediate region 33, and is located in the first portion 61 and the second portion 62. Includes an intermediate portion 63, which is connected to. In the examples shown in FIGS. 1 and 2, the first portion 61 and the second portion 62 extend in the first direction D1.

配線52の中間部分63は、基材20の中間領域33に沿って延びている。例えば、中間部分63は、中間領域33と同様に平面視においてジグザグ形状を有する。中間部分63は、第1領域31と第2領域32との間の間隔を広げる向きの力が基材20に加えられる場合に、第1方向D1における寸法を拡大させるように中間領域33に追従して変形することができる。 The intermediate portion 63 of the wiring 52 extends along the intermediate region 33 of the substrate 20. For example, the intermediate portion 63 has a zigzag shape in a plan view like the intermediate region 33. The intermediate region 63 follows the intermediate region 33 so as to increase the dimensions in the first direction D1 when a force in the direction of increasing the distance between the first region 31 and the second region 32 is applied to the base material 20. Can be transformed.

配線52の材料としては、後述する蛇腹形状部の解消及び生成を利用して基材20の伸長及び収縮に追従することができる材料が用いられる。配線52の材料は、それ自体が伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。
配線52に用いられ得る、それ自体は伸縮性を有さない材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、クロム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。配線52の材料自体が伸縮性を有さない場合、配線52としては、金属膜を用いることができる。
配線52に用いられる材料自体が伸縮性を有する場合、材料の伸縮性は、例えば、基材20の伸縮性と同様である。配線52に用いられ得る、それ自体が伸縮性を有する材料としては、例えば、導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物が挙げられる。導電性粒子としては、配線に使用できるものであればよく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子が挙げられる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。
As the material of the wiring 52, a material capable of following the elongation and contraction of the base material 20 by utilizing the elimination and formation of the bellows-shaped portion described later is used. The material of the wiring 52 may or may not have elasticity by itself.
Examples of the material that can be used for the wiring 52 and does not have elasticity by itself include metals such as gold, silver, copper, aluminum, platinum, and chromium, and alloys containing these metals. When the material of the wiring 52 itself does not have elasticity, a metal film can be used as the wiring 52.
When the material itself used for the wiring 52 has elasticity, the elasticity of the material is similar to, for example, the elasticity of the base material 20. Examples of the material that can be used for the wiring 52 and has elasticity by itself include a conductive composition containing conductive particles and an elastomer. The conductive particles may be any particles that can be used for wiring, and examples thereof include particles of gold, silver, copper, nickel, palladium, platinum, carbon and the like. Of these, silver particles are preferably used.

好ましくは、配線52は、変形に対する耐性を有する構造を備える。例えば、配線52は、ベース材と、ベース材の中に分散された複数の導電性粒子とを有する。この場合、ベース材として、樹脂などの変形可能な材料を用いることにより、基材20の伸縮に応じて配線52も変形することができる。また、変形が生じた場合であっても複数の導電性粒子の間の接触が維持されるように導電性粒子の分布や形状を設定することにより、配線52の導電性を維持することができる。 Preferably, the wiring 52 has a structure that is resistant to deformation. For example, the wiring 52 has a base material and a plurality of conductive particles dispersed in the base material. In this case, by using a deformable material such as resin as the base material, the wiring 52 can also be deformed according to the expansion and contraction of the base material 20. Further, the conductivity of the wiring 52 can be maintained by setting the distribution and shape of the conductive particles so that the contact between the plurality of conductive particles is maintained even when the deformation occurs. ..

配線52のベース材を構成する材料としては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、例えば、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ポリブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。中でも、ウレタン系、シリコーン系構造を含む樹脂やゴムが、その伸縮性や耐久性などの面から好ましく用いられる。また、配線52の導電性粒子を構成する材料としては、例えば銀、銅、金、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子を用いることができる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。 As a material constituting the base material of the wiring 52, general thermoplastic elastomers and thermocurable elastomers can be used. For example, styrene-based elastomers, acrylic-based elastomers, olefin-based elastomers, urethane-based elastomers, silicone rubbers, etc. Elastomer rubber, fluororubber, nitrile rubber, polybutadiene, polychloroprene and the like can be used. Among them, resins and rubbers containing urethane-based and silicone-based structures are preferably used in terms of their elasticity and durability. Further, as a material constituting the conductive particles of the wiring 52, for example, particles such as silver, copper, gold, nickel, palladium, platinum, and carbon can be used. Of these, silver particles are preferably used.

配線52の厚みは、基材20の伸縮に耐え得る厚みであればよく、配線52の材料等に応じて適宜選択される。
例えば、配線52の材料が伸縮性を有さない場合、配線52の厚みは、25nm以上100μm以下の範囲内とすることができ、50nm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、100nm以上5μm以下の範囲内であることがより好ましい。
また、配線52の材料が伸縮性を有する場合、配線52の厚みは、5μm以上60μm以下の範囲内とすることができ、10μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、20μm以上40μm以下の範囲内であることがより好ましい。
配線52の幅は、例えば50μm以上且つ10mm以下である。
The thickness of the wiring 52 may be a thickness that can withstand the expansion and contraction of the base material 20, and is appropriately selected depending on the material of the wiring 52 and the like.
For example, when the material of the wiring 52 does not have elasticity, the thickness of the wiring 52 can be in the range of 25 nm or more and 100 μm or less, preferably in the range of 50 nm or more and 50 μm or less, and preferably 100 nm or more and 5 μm. It is more preferably within the following range.
When the material of the wiring 52 has elasticity, the thickness of the wiring 52 can be in the range of 5 μm or more and 60 μm or less, preferably in the range of 10 μm or more and 50 μm or less, and 20 μm or more and 40 μm or less. It is more preferable that it is within the range.
The width of the wiring 52 is, for example, 50 μm or more and 10 mm or less.

配線52の幅は、配線52に求められる電気抵抗値に応じて適宜選択される。配線52の幅は、例えば1μm以上であり、好ましくは50μm以上である。また、配線52の幅は、例えば10mm以下であり、好ましくは1mm以下である。 The width of the wiring 52 is appropriately selected according to the electric resistance value required for the wiring 52. The width of the wiring 52 is, for example, 1 μm or more, preferably 50 μm or more. The width of the wiring 52 is, for example, 10 mm or less, preferably 1 mm or less.

配線52の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上または後述する支持基板80上に蒸着法、スパッタリング法、めっき法、金属箔の積層等により金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする方法が挙げられる。基材20上または後述する支持基板80上に金属箔を積層する場合、基材20または支持基板80と金属箔との間に接着層などが介在されていてもよい。また、配線52の材料自体が伸縮性を有する場合、例えば、基材20上または支持基板80上に一般的な印刷法により上記の導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物をパターン状に印刷する方法が挙げられる。これらの方法のうち、材料効率がよく安価に製作できる印刷法が好ましく用いられ得る。 The method for forming the wiring 52 is appropriately selected depending on the material and the like. For example, a method of forming a metal film on a base material 20 or a support substrate 80 described later by a vapor deposition method, a sputtering method, a plating method, laminating of metal foils, or the like, and then patterning the metal film by a photolithography method can be mentioned. When the metal foil is laminated on the base material 20 or the support substrate 80 described later, an adhesive layer or the like may be interposed between the base material 20 or the support substrate 80 and the metal foil. When the material of the wiring 52 itself has elasticity, for example, the conductive composition containing the above-mentioned conductive particles and elastomer is patterned on the base material 20 or the support substrate 80 by a general printing method. There is a method of printing. Of these methods, a printing method that has high material efficiency and can be manufactured at low cost can be preferably used.

〔電子部品〕
電子部品51は、基材20の第1面21側において配線52に電気的に接続されている。なお、配線基板10は、電子部品51が搭載されていない状態で流通したり使用されたりしてもよい。この場合、配線基板10は、電子部品51を搭載可能なように構成されている。
[Electronic components]
The electronic component 51 is electrically connected to the wiring 52 on the first surface 21 side of the base material 20. The wiring board 10 may be distributed or used in a state where the electronic component 51 is not mounted. In this case, the wiring board 10 is configured so that the electronic component 51 can be mounted.

電子部品51は、配線52に接続される電極を有していてもよい。この場合、配線基板10は、電子部品51の電極に接するとともに配線52に電気的に接続された接続部を有する。接続部は、例えばパッドである。 The electronic component 51 may have an electrode connected to the wiring 52. In this case, the wiring board 10 has a connecting portion that is in contact with the electrodes of the electronic component 51 and is electrically connected to the wiring 52. The connection is, for example, a pad.

また、電子部品51は、配線52に接続される電極を有していなくてもよい。例えば、電子部品51は、配線基板10の複数の構成要素のうちの少なくとも1つの構成要素と一体的な部材を含んでいてもよい。このような電子部品51の例として、配線基板10の配線52を構成する導電層と一体的な導電層を含むものや、配線52を構成する導電層とは別の層に位置する導電層を含むものを挙げることができる。例えば、電子部品51は、配線52を構成する導電層よりも平面視において広い幅を有する導電層によって構成されたパッドであってもよい。パッドには、検査用のプローブ、ソフトウェア書き換え用の端子などが接続される。また、電子部品51は、導電層が平面視においてらせん状に延びることによって構成された配線パターンであってもよい。このように、導電層がパターニングされて所定の機能が付与された部分も、電子部品51となり得る。 Further, the electronic component 51 does not have to have an electrode connected to the wiring 52. For example, the electronic component 51 may include a member integrated with at least one component of the plurality of components of the wiring board 10. Examples of such an electronic component 51 include those including a conductive layer integrated with the conductive layer constituting the wiring 52 of the wiring board 10, and a conductive layer located in a layer different from the conductive layer constituting the wiring 52. Examples include those that include. For example, the electronic component 51 may be a pad made of a conductive layer having a wider width in a plan view than the conductive layer forming the wiring 52. A probe for inspection, a terminal for rewriting software, etc. are connected to the pad. Further, the electronic component 51 may have a wiring pattern formed by spirally extending the conductive layer in a plan view. In this way, the portion where the conductive layer is patterned and given a predetermined function can also be the electronic component 51.

電子部品51は、能動部品であってもよく、受動部品であってもよく、機構部品であってもよい。電子部品51の例としては、トランジスタ、LSI(Large-Scale Integration)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)、リレー、LED、OLED、LCDなどの発光素子、センサ、ブザー等の発音部品、振動を発する振動部品、冷却発熱をコントロールするペルチェ素子や電熱線などの冷発熱部品、抵抗器、キャパシタ、インダクタ、圧電素子、スイッチ、コネクタなどを挙げることができる。電子部品51の上述の例のうち、センサが好ましく用いられる。センサとしては、例えば、温度センサ、圧力センサ、光センサ、光電センサ、近接センサ、せん断力センサ、生体センサ、レーザーセンサ、マイクロ波センサ、湿度センサ、歪みセンサ、ジャイロセンサ、加速度センサ、変位センサ、磁気センサ、ガスセンサ、GPSセンサ、超音波センサ、臭いセンサ、脳波センサ、電流センサ、振動センサ、脈波センサ、心電センサ、光度センサ等を挙げることができる。これらのセンサのうち、生体センサが特に好ましい。生体センサは、心拍や脈拍、心電、血圧、体温、血中酸素濃度等の生体情報を測定することができる。 The electronic component 51 may be an active component, a passive component, or a mechanical component. Examples of electronic components 51 include transistors, LSI (Large-Scale Integration), MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), relays, light emitting elements such as LEDs, OLEDs, and LCDs, sound components such as sensors and buzzers, and vibrations that generate vibrations. Examples thereof include parts, cold and heat-generating parts such as Perche elements and heating wires that control cooling heat generation, resistors, capacitors, inductors, piezoelectric elements, switches, and connectors. Of the above examples of the electronic component 51, the sensor is preferably used. Examples of sensors include temperature sensors, pressure sensors, optical sensors, photoelectric sensors, proximity sensors, shear force sensors, biosensors, laser sensors, microwave sensors, humidity sensors, strain sensors, gyro sensors, acceleration sensors, displacement sensors, etc. Examples thereof include magnetic sensors, gas sensors, GPS sensors, ultrasonic sensors, odor sensors, brain wave sensors, current sensors, vibration sensors, pulse wave sensors, electrocardiographic sensors, and photometric sensors. Of these sensors, biosensors are particularly preferred. The biosensor can measure biometric information such as heartbeat, pulse, electrocardiogram, blood pressure, body temperature, and blood oxygen concentration.

次に、電極を有さない電子部品51の用途について説明する。例えば、上述のパッドは、検査用のプローブ、ソフトウェア書き換え用の端子などが接続される部分として機能し得る。また、らせん状に延びることによって構成された配線パターンは、アンテナなどとして機能し得る。 Next, the use of the electronic component 51 having no electrode will be described. For example, the pad described above can function as a portion to which a probe for inspection, a terminal for software rewriting, and the like are connected. Further, the wiring pattern formed by extending in a spiral shape can function as an antenna or the like.

次に、配線基板10の断面形状について詳細に説明する。図4は、配線基板10のうち配線52を備える部分を拡大して示す図である。 Next, the cross-sectional shape of the wiring board 10 will be described in detail. FIG. 4 is an enlarged view showing a portion of the wiring board 10 including the wiring 52.

後述するように、配線52は、張力を加えられて第1伸長量で伸長された状態の基材20に設けられる。この場合、基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、配線52は、図7に示すように、蛇腹状に変形して蛇腹形状部55を有するようになる。 As will be described later, the wiring 52 is provided on the base material 20 in a state of being stretched by the first stretching amount under tension. In this case, when the tension is removed from the base material 20 and the base material 20 contracts, the wiring 52 is deformed into a bellows shape to have the bellows-shaped portion 55 as shown in FIG. 7.

配線52の蛇腹形状部55は、配線52が延びる第1方向D1方向に沿って並ぶ複数の山部53を含む。山部53は、配線52の表面において第1面21の法線方向に隆起した部分である。図7に示すように、配線52が延びる方向において隣り合う2つの山部53の間には谷部54が存在していてもよい。 The bellows-shaped portion 55 of the wiring 52 includes a plurality of mountain portions 53 arranged along the first direction D1 in which the wiring 52 extends. The mountain portion 53 is a portion of the surface of the wiring 52 that is raised in the normal direction of the first surface 21. As shown in FIG. 7, a valley portion 54 may exist between two mountain portions 53 adjacent to each other in the direction in which the wiring 52 extends.

配線52の山部53及び谷部54並びに基材20の第1面21の山部23及び谷部24は、配線52が延びる方向に並んでいる。しかしながら、これに限られることはなく、図示はしないが、配線52の山部53及び谷部54並びに基材20の第1面21の山部23及び谷部24が並ぶ方向と、配線52が延びる方向とが一致していなくてもよい。また、図7においては、蛇腹形状部55の複数の山部53及び谷部54が一定の周期で並ぶ例が示されているが、これに限られることはない。図示はしないが、蛇腹形状部55の複数の山部53及び谷部54は、不規則に並んでいてもよい。例えば、隣り合う2つの山部53の間の間隔が一定でなくてもよい。 The peaks 53 and 54 of the wiring 52 and the peaks 23 and 24 of the first surface 21 of the base material 20 are arranged in the direction in which the wiring 52 extends. However, the wiring 52 is not limited to this, and although not shown, the direction in which the peaks 53 and 54 of the wiring 52 and the peaks 23 and 24 of the first surface 21 of the base material 20 are lined up and the wiring 52 It does not have to match the extending direction. Further, in FIG. 7, a plurality of peaks 53 and valleys 54 of the bellows-shaped portion 55 are arranged at regular intervals, but the present invention is not limited to this. Although not shown, the plurality of peaks 53 and valleys 54 of the bellows-shaped portion 55 may be arranged irregularly. For example, the distance between two adjacent mountain portions 53 does not have to be constant.

図7において、符号S1は、第1面21側における配線基板10の表面のうち配線52の蛇腹形状部55に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅を表す。図7に示す例においては、配線52が配線基板10の表面に位置しているので、振幅S1は、配線52の山部53及び谷部54の振幅である。振幅S1は、例えば1μm以上であり、より好ましくは10μm以上である。振幅S1を10μm以上とすることにより、基材20の伸長に追従して配線52が変形し易くなる。また、振幅S1は、例えば500μm以下であってもよい。 In FIG. 7, reference numeral S1 represents the amplitudes of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board 10 on the first surface 21 side that overlaps the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52. In the example shown in FIG. 7, since the wiring 52 is located on the surface of the wiring board 10, the amplitude S1 is the amplitude of the peak portion 53 and the valley portion 54 of the wiring 52. The amplitude S1 is, for example, 1 μm or more, more preferably 10 μm or more. By setting the amplitude S1 to 10 μm or more, the wiring 52 is easily deformed following the elongation of the base material 20. Further, the amplitude S1 may be, for example, 500 μm or less.

山部及び谷部の振幅は、例えば、山部及び谷部が並ぶ方向における一定の範囲にわたって、隣り合う山部と谷部との間の、基材20の法線方向における距離を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。「山部及び谷部が並ぶ方向における一定の範囲」は、例えば10mmである。隣り合う山部と谷部との間の距離を測定する測定器としては、レーザー顕微鏡などを用いた非接触式の測定器を用いてもよく、接触式の測定器を用いてもよい。また、断面写真などの画像に基づいて、隣り合う山部と谷部との間の距離を測定してもよい。 The amplitude of the peaks and valleys is measured, for example, by measuring the distance between the adjacent peaks and valleys in the normal direction of the base material 20 over a certain range in the direction in which the peaks and valleys are lined up. It is calculated by calculating the average of them. The "certain range in the direction in which the peaks and valleys are lined up" is, for example, 10 mm. As the measuring instrument for measuring the distance between the adjacent peaks and valleys, a non-contact measuring instrument using a laser microscope or the like may be used, or a contact measuring instrument may be used. Further, the distance between the adjacent peaks and valleys may be measured based on an image such as a cross-sectional photograph.

図7において、符号F1は、第1面21側における配線基板10の表面のうち配線52の蛇腹形状部55に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期を表す。図7に示す例においては、配線52が配線基板10の表面に位置しているので、周期F1は、配線52の山部53及び谷部54の周期である。周期F1は、例えば10μm以上であり、より好ましくは100μm以上である。また、周期F1は、例えば100mm以下であり、より好ましくは10mm以下である。山部及び谷部の周期F1は、山部及び谷部が並ぶ方向における一定の範囲にわたって、複数の山部の間隔を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。 In FIG. 7, reference numeral F1 represents a period of peaks and valleys appearing on a portion of the surface of the wiring board 10 on the first surface 21 side that overlaps the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52. In the example shown in FIG. 7, since the wiring 52 is located on the surface of the wiring board 10, the period F1 is the period of the peaks 53 and the valleys 54 of the wiring 52. The period F1 is, for example, 10 μm or more, more preferably 100 μm or more. The period F1 is, for example, 100 mm or less, more preferably 10 mm or less. The period F1 of the peaks and valleys is calculated by measuring the intervals between the plurality of peaks over a certain range in the direction in which the peaks and valleys are lined up and calculating the average of them.

図7において、符号S2は、配線52の蛇腹形状部55に重なる部分において基材20の第1面21に現れる山部23及び谷部24の振幅を表す。図7に示すように配線52が基材20の第1面21上に位置している場合、基材20の第1面21の山部23及び谷部24の振幅S2は、配線52の蛇腹形状部55の振幅S1に等しい。 In FIG. 7, reference numeral S2 represents the amplitude of the peak portion 23 and the valley portion 24 appearing on the first surface 21 of the base material 20 at the portion overlapping the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52. When the wiring 52 is located on the first surface 21 of the base material 20 as shown in FIG. 7, the amplitude S2 of the peaks 23 and the valleys 24 of the first surface 21 of the base material 20 is the bellows of the wiring 52. It is equal to the amplitude S1 of the shape portion 55.

図7に示すように、配線基板10のうち基材20の第2面22側の表面にも、配線52が延びる方向に沿って並ぶ複数の山部25や谷部26が現れてもよい。図7に示す例において、第2面22側の山部25は、配線52の蛇腹形状部55の谷部54に重なる位置に現れ、第2面22側の谷部26は、配線52の蛇腹形状部55の山部53に重なる位置に現れている。 As shown in FIG. 7, a plurality of peaks 25 and valleys 26 arranged along the direction in which the wiring 52 extends may also appear on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side of the base material 20. In the example shown in FIG. 7, the mountain portion 25 on the second surface 22 side appears at a position overlapping the valley portion 54 of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52, and the valley portion 26 on the second surface 22 side is the bellows portion of the wiring 52. It appears at a position overlapping the mountain portion 53 of the shape portion 55.

図7において、符号S3は、基材20の第2面22側における配線基板10の表面において配線52が延びる方向に沿って並ぶ複数の山部25及び谷部26の、基材20の第2面22の法線方向における振幅を表す。第2面22側の山部25及び谷部26の振幅S3は、第1面21側の山部53及び谷部54の振幅S1と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、第2面22側の山部25及び谷部26の振幅S3が、第1面21側の山部53及び谷部54の振幅S1よりも小さくてもよい。例えば、振幅S3は、振幅S1の0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.6倍以下であってもよい。また、振幅S3は、振幅S1の0.1倍以上であってもよく、0.2倍以上であってもよい。なお、「第2面22側の山部25及び谷部26の振幅S3が、第1面21側の山部53及び谷部54の振幅S1よりも小さい」とは、第2面22側における配線基板10の表面に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 In FIG. 7, reference numeral S3 is a second of the base material 20 of a plurality of peaks 25 and valleys 26 arranged along the direction in which the wiring 52 extends on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side of the base material 20. Represents the amplitude of the surface 22 in the normal direction. The amplitude S3 of the peak 25 and the valley 26 on the second surface 22 side may be the same as or different from the amplitude S1 of the peak 53 and the valley 54 on the first surface 21 side. For example, the amplitude S3 of the peak 25 and the valley 26 on the second surface 22 side may be smaller than the amplitude S1 of the peak 53 and the valley 54 on the first surface 21 side. For example, the amplitude S3 may be 0.9 times or less, 0.8 times or less, or 0.6 times or less the amplitude S1. Further, the amplitude S3 may be 0.1 times or more, or 0.2 times or more, the amplitude S1. In addition, "the amplitude S3 of the mountain portion 25 and the valley portion 26 on the second surface 22 side is smaller than the amplitude S1 of the mountain portion 53 and the valley portion 54 on the first surface 21 side" is said on the second surface 22 side. This is a concept including a case where peaks and valleys do not appear on the surface of the wiring board 10.

図7において、符号F3は、基材20の第2面22側における配線基板10の表面において配線52が延びる方向に沿って並ぶ複数の山部25及び谷部26の周期を表す。第2面22側の山部25及び谷部26の周期F3は、図7に示すように、第1面21側の山部53及び谷部54の周期F1と同一であってもよい。 In FIG. 7, reference numeral F3 represents a period of a plurality of peaks 25 and valleys 26 arranged along the direction in which the wiring 52 extends on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side of the base material 20. As shown in FIG. 7, the period F3 of the mountain portion 25 and the valley portion 26 on the second surface 22 side may be the same as the period F1 of the mountain portion 53 and the valley portion 54 on the first surface 21 side.

図8は、配線基板10に生じる蛇腹形状部55の一例を拡大して示す平面図である。図8に示すように、複数の山部53を含む蛇腹形状部55は、配線52のうち20の第1領域31に位置する第1部分61に生じていてもよい。図示はしないが、蛇腹形状部55は、基材20の第2領域32に位置する配線52の第2部分62に生じていてもよい。また、図8に示すように、蛇腹形状部55は、基材20の中間領域33に位置する配線52の中間領域33に生じていてもよい。 FIG. 8 is an enlarged plan view showing an example of the bellows-shaped portion 55 generated on the wiring board 10. As shown in FIG. 8, the bellows-shaped portion 55 including the plurality of peak portions 53 may be formed in the first portion 61 located in the first region 31 of 20 of the wiring 52. Although not shown, the bellows-shaped portion 55 may be formed in the second portion 62 of the wiring 52 located in the second region 32 of the base material 20. Further, as shown in FIG. 8, the bellows-shaped portion 55 may be formed in the intermediate region 33 of the wiring 52 located in the intermediate region 33 of the base material 20.

中間部分63のようなジグザグ形状を有する部分に生じる蛇腹形状部55は、図8に示すように、配線52が延びる方向に並ぶ複数の山部53を含んでいてもよい。このような蛇腹形状部55は、例えば、異なる2方向において基材20を伸長させた状態で基材20にジグザグ形状の中間部分63を設けた後、基材20を収縮させることにより、形成され得る。異なる2方向は、例えば第1方向D1及び第2方向D2である。 As shown in FIG. 8, the bellows-shaped portion 55 generated in the portion having a zigzag shape such as the intermediate portion 63 may include a plurality of mountain portions 53 arranged in the direction in which the wiring 52 extends. Such a bellows-shaped portion 55 is formed, for example, by providing a zigzag-shaped intermediate portion 63 on the base material 20 in a state where the base material 20 is extended in two different directions, and then shrinking the base material 20. obtain. The two different directions are, for example, the first direction D1 and the second direction D2.

図8において、符号F11は、第1面21側における配線基板10の表面のうち配線52の第1部分61の蛇腹形状部55に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期を表す。また、符号F12は、第1面21側における配線基板10の表面のうち配線52の中間部分63の蛇腹形状部55に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期を表す。周期F12は、周期F11と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、周期F12は、周期F11よりも大きくてもよく、小さくてもよい。 In FIG. 8, reference numeral F11 represents a period of peaks and valleys appearing on a portion of the surface of the wiring board 10 on the first surface 21 side that overlaps the bellows-shaped portion 55 of the first portion 61 of the wiring 52. Further, reference numeral F12 represents a period of peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board 10 on the first surface 21 side, which overlaps the bellows-shaped portion 55 of the intermediate portion 63 of the wiring 52. The period F12 may be the same as or different from the period F11. For example, the period F12 may be larger or smaller than the period F11.

周期F12が、周期F11よりも大きい場合、周期F12は、周期F11の1.1倍以上であってもよく、1.2倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよく、2.0倍以上であってもよい。 When the period F12 is larger than the period F11, the period F12 may be 1.1 times or more, 1.2 times or more, or 1.5 times or more the period F11. , 2.0 times or more.

周期F12が、周期F11よりも小さい場合、周期F12は、周期F11の0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.7倍以下であってもよく、0.5倍以下であってもよい。 When the period F12 is smaller than the period F11, the period F12 may be 0.9 times or less of the period F11, 0.8 times or less, or 0.7 times or less. , 0.5 times or less.

また、第1面21側における配線基板10の表面のうち配線52の中間部分63の蛇腹形状部55に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅(以下、振幅S12とも表す)は、第1面21側における配線基板10の表面のうち配線52の第1部分61の蛇腹形状部55に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅(以下、振幅S11とも表す)と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、振幅S12は、振幅S11よりも大きくてもよく、小さくてもよい。 Further, the amplitudes (hereinafter, also referred to as amplitude S12) of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring substrate 10 on the first surface 21 side that overlaps the bellows-shaped portion 55 of the intermediate portion 63 of the wiring 52 are the first. It may be the same as the amplitude (hereinafter, also referred to as amplitude S11) of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring substrate 10 on the surface 21 side that overlaps the bellows-shaped portion 55 of the first portion 61 of the wiring 52. , May be different. For example, the amplitude S12 may be larger or smaller than the amplitude S11.

振幅S12が、振幅S11よりも大きい場合、振幅S12は、振幅S11の1.1倍以上であってもよく、1.2倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよく、2.0倍以上であってもよい。 When the amplitude S12 is larger than the amplitude S11, the amplitude S12 may be 1.1 times or more, 1.2 times or more, or 1.5 times or more the amplitude S11. , 2.0 times or more.

振幅S12が、振幅S11よりも小さい場合、振幅S12は、振幅S11の0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.7倍以下であってもよく、0.5倍以下であってもよい。 When the amplitude S12 is smaller than the amplitude S11, the amplitude S12 may be 0.9 times or less, 0.8 times or less, or 0.7 times or less the amplitude S11. , 0.5 times or less.

図9は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図9に示すように、第2面22側の山部25及び谷部26の周期F3は、第1面21側の山部53及び谷部54の周期F1よりも大きくてもよい。例えば、周期F3は、周期F1の1.1倍以上であってもよく、1.2倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよく、2.0倍以上であってもよい。なお、「第2面22側の山部25及び谷部26の周期F3が、第1面21側の山部53及び谷部54の周期F1よりも大きい」とは、第2面22側における配線基板10の表面に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 FIG. 9 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in FIG. 9, the period F3 of the mountain portion 25 and the valley portion 26 on the second surface 22 side may be larger than the period F1 of the mountain portion 53 and the valley portion 54 on the first surface 21 side. For example, the period F3 may be 1.1 times or more, 1.2 times or more, 1.5 times or more, or 2.0 times or more the period F1. May be good. It should be noted that "the period F3 of the mountain portion 25 and the valley portion 26 on the second surface 22 side is larger than the period F1 of the mountain portion 53 and the valley portion 54 on the first surface 21 side" is said on the second surface 22 side. This is a concept including a case where peaks and valleys do not appear on the surface of the wiring board 10.

図10は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図10に示すように、第2面22側の山部25及び谷部26の位置が、第1面21側の谷部54及び山部53の位置からJだけずれていてもよい。ずれ量Jは、例えば0.1×F1以上であり、0.2×F1以上であってもよい。 FIG. 10 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in FIG. 10, the positions of the mountain portions 25 and the valley portions 26 on the second surface 22 side may be deviated by J from the positions of the valley portions 54 and the valley portions 53 on the first surface 21 side. The deviation amount J is, for example, 0.1 × F1 or more, and may be 0.2 × F1 or more.

(配線基板の製造方法)
次に、図11(a)〜(c)及び図12(a)〜(c)を参照して、配線基板10の製造方法について説明する。図11(a)〜(c)は、配線基板10の製造方法の一例を説明するための平面図である。図12(a)〜(c)は、図11(a)〜(c)の配線基板10のB−B線に沿った断面図である。
(Manufacturing method of wiring board)
Next, a method of manufacturing the wiring board 10 will be described with reference to FIGS. 11 (a) to 11 (c) and FIGS. 12 (a) to 12 (c). 11 (a) to 11 (c) are plan views for explaining an example of a method of manufacturing the wiring board 10. 12 (a) to 12 (c) are cross-sectional views taken along the line BB of the wiring board 10 of FIGS. 11 (a) to 11 (c).

まず、図11(a)及び図12(a)に示すように、第1面21及び第2面22を含み、伸縮性を有する矩形状の基材20を準備する基材準備工程を実施する。図12(a)の符号L0は、張力が加えられていない状態の基材20の、第1方向D1における寸法を表している。 First, as shown in FIGS. 11 (a) and 12 (a), a base material preparation step of preparing a rectangular base material 20 having elasticity including the first surface 21 and the second surface 22 is carried out. .. Reference numeral L0 in FIG. 12A represents the dimensions of the base material 20 in the untensioned state in the first direction D1.

続いて、図11(b)及び図12(b)に示すように、第1方向D1において基材20に第1張力T1を加えて、基材20を寸法L1まで伸長させる第1伸長工程を実施する。第1方向D1における基材20の伸長率(=(L1−L0)×100/L0)は、例えば10%以上且つ200%以下である。伸長工程は、基材20を加熱した状態で実施してもよく、常温で実施してもよい。基材20を加熱する場合、基材20の温度は例えば50℃以上且つ100℃以下である。図11(b)に示すように、第2方向D2においても基材20に第1張力T1を加えて、基材20を第2方向D2に伸長させてもよい。 Subsequently, as shown in FIGS. 11B and 12B, a first stretching step of applying a first tension T1 to the base material 20 in the first direction D1 to stretch the base material 20 to the dimension L1 is performed. carry out. The elongation rate (= (L1-L0) × 100 / L0) of the base material 20 in the first direction D1 is, for example, 10% or more and 200% or less. The stretching step may be carried out in a state where the base material 20 is heated, or may be carried out at room temperature. When the base material 20 is heated, the temperature of the base material 20 is, for example, 50 ° C. or higher and 100 ° C. or lower. As shown in FIG. 11B, the first tension T1 may be applied to the base material 20 in the second direction D2 to extend the base material 20 in the second direction D2.

続いて、図11(b)及び図12(b)に示すように、第1伸長工程における第1張力T1によって伸長した状態の基材20の第1面21に配線52を設ける配線形成工程を実施する。例えば、ベース材及び導電性粒子を含む導電性ペーストを基材20の第1面21に印刷する。配線52は、第1部分61、第2部分62及び中間部分63を含む。中間部分63は、第1方向D1に並ぶ複数の伸縮構造部64を含む。複数の伸縮構造部64を含む中間部分63は、平面視において、上述の基材20の伸縮構造部34と相似の形状を有する。例えば、中間部分63は、図11(b)に示すようにジグザグ形状を有する。 Subsequently, as shown in FIGS. 11 (b) and 12 (b), a wiring forming step of providing the wiring 52 on the first surface 21 of the base material 20 in a state of being stretched by the first tension T1 in the first stretching step is performed. carry out. For example, a conductive paste containing a base material and conductive particles is printed on the first surface 21 of the base material 20. The wiring 52 includes a first portion 61, a second portion 62, and an intermediate portion 63. The intermediate portion 63 includes a plurality of telescopic structure portions 64 arranged in the first direction D1. The intermediate portion 63 including the plurality of elastic structure portions 64 has a shape similar to that of the elastic structure portion 34 of the above-mentioned base material 20 in a plan view. For example, the intermediate portion 63 has a zigzag shape as shown in FIG. 11 (b).

その後、基材20から第1張力T1を取り除く第1収縮工程を実施する。これにより、図11(c)及び図12(c)において矢印Cで示すように、第1方向D1において基材20が収縮し、基材20に設けられている配線52にも変形が生じる。配線52の変形は、上述のように蛇腹形状部55として生じ得る。このようにして、蛇腹形状部が現れている配線基板10を得ることができる。上述の第1伸長工程において基材20が第2方向D2においても伸長されている場合、基材20は、第2方向D2においても収縮し、第2方向D2に並ぶ複数の山部を有する蛇腹形状部55が生じる。 Then, the first shrinkage step of removing the first tension T1 from the base material 20 is carried out. As a result, as shown by the arrow C in FIGS. 11 (c) and 12 (c), the base material 20 contracts in the first direction D1, and the wiring 52 provided on the base material 20 is also deformed. The deformation of the wiring 52 can occur as the bellows-shaped portion 55 as described above. In this way, the wiring board 10 in which the bellows-shaped portion appears can be obtained. When the base material 20 is also stretched in the second direction D2 in the first stretching step described above, the base material 20 contracts in the second direction D2 as well, and the bellows having a plurality of peaks arranged in the second direction D2. The shape portion 55 is generated.

その後、基材20を部分的に切断する切断工程を実施する。切断工程においては、基材20を、第1方向D1において間隔を空けて対向する上述の第1領域31及び第2領域32と、第1領域31に接続されている第1端331及び第2端332に接続されている第2端332を含む中間領域33と、に区画する。基材20を切断するための方法としては、例えばレーザー加工を用いることができる。例えば、基材20の第1領域31と第2領域32との間の部分のうち配線52の中間部分63の周囲の部分以外を除去するよう、レーザーを基材20に照射する。このようにして、図1に示す配線基板10を得ることができる。 After that, a cutting step of partially cutting the base material 20 is performed. In the cutting step, the base material 20 is connected to the above-mentioned first region 31 and the second region 32, which face each other at intervals in the first direction D1, and the first end 331 and the second region 31 connected to the first region 31. It is partitioned into an intermediate region 33 including a second end 332 connected to the end 332. As a method for cutting the base material 20, for example, laser processing can be used. For example, the base material 20 is irradiated with a laser so as to remove a portion between the first region 31 and the second region 32 of the base material 20 other than the portion around the intermediate portion 63 of the wiring 52. In this way, the wiring board 10 shown in FIG. 1 can be obtained.

(配線基板の使用方法)
次に、配線基板10の使用方法の一例について説明する。図13は、人の腕などの対象物100に貼り付けられている状態の配線基板10の一部を示す図である。ここでは、配線基板10のうち基材20の第1領域31、中間領域33及び第2領域32に対応する部分がそれぞれ、人の腕の前腕、肘及び上腕に貼り付けられている場合について説明する。
(How to use the wiring board)
Next, an example of how to use the wiring board 10 will be described. FIG. 13 is a diagram showing a part of the wiring board 10 in a state of being attached to the object 100 such as a human arm. Here, a case will be described in which the portions of the wiring board 10 corresponding to the first region 31, the intermediate region 33, and the second region 32 of the base material 20 are attached to the forearm, elbow, and upper arm of the human arm, respectively. To do.

図13においては、粘着部72が点線で表されている。図13に示すように、配線基板10のうち基材20の中間領域33に対応する部分においては、第1要素35及び第2要素36の一部に粘着部72が設けられていてもよい。この場合、基材20の中間領域33のうち隣り合う2つの粘着部72の間に位置する部分は、肘に貼り付けられていない。粘着部72は、好ましくは、中央線Cに重なる位置に設けられている。これにより、配線基板10が伸縮する際に、ジグザグ状の中間領域33の湾曲部や屈曲部に加わる応力を低減することができる。 In FIG. 13, the adhesive portion 72 is represented by a dotted line. As shown in FIG. 13, in the portion of the wiring board 10 corresponding to the intermediate region 33 of the base material 20, the adhesive portion 72 may be provided on a part of the first element 35 and the second element 36. In this case, the portion of the intermediate region 33 of the base material 20 located between the two adjacent adhesive portions 72 is not attached to the elbow. The adhesive portion 72 is preferably provided at a position overlapping the center line C. As a result, when the wiring board 10 expands and contracts, the stress applied to the curved portion and the bent portion of the zigzag intermediate region 33 can be reduced.

腕を動かしたり曲げたりすると、腕の皮膚が変位したり伸びたりし、これに伴って配線基板10の基材20にも伸びが生じ得る。ここで本実施の形態によれば、配線基板10の配線52が蛇腹形状部55を有している。このため、配線基板10の基材20が伸長する際、配線52は、蛇腹形状部55の起伏を低減するように変形することによって、すなわち蛇腹形状を解消することによって、基材20の伸長に追従することができる。このため、基材20の伸長に伴って配線52の全長が増加することや、配線52の断面積が減少することを抑制することができる。このことにより、配線基板10の伸長に起因して配線52の抵抗値が増加することを抑制することができる。また、配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。 When the arm is moved or bent, the skin of the arm is displaced or stretched, and the base material 20 of the wiring board 10 may be stretched accordingly. Here, according to the present embodiment, the wiring 52 of the wiring board 10 has a bellows-shaped portion 55. Therefore, when the base material 20 of the wiring board 10 is stretched, the wiring 52 is deformed so as to reduce the undulations of the bellows-shaped portion 55, that is, by eliminating the bellows shape, the base material 20 is stretched. Can follow. Therefore, it is possible to prevent the total length of the wiring 52 from increasing and the cross-sectional area of the wiring 52 from decreasing as the base material 20 extends. As a result, it is possible to suppress an increase in the resistance value of the wiring 52 due to the extension of the wiring board 10. Further, it is possible to prevent the wiring 52 from being damaged such as a crack.

ところで、肘において生じる皮膚の伸びの程度は、前腕及び上腕において生じる皮膚の伸びの程度に比べて大きい。このため、基材20の中間領域33及び中間領域33に位置する配線52の中間部分63には、基材20の第1領域31及び第1領域31に位置する配線52の第1部分61、並びに、基材20の第2領域32及び第2領域32に位置する配線52の第2部分62に比べて大きな伸長性が求められる。 By the way, the degree of skin stretch that occurs in the elbow is larger than the degree of skin stretch that occurs in the forearm and upper arm. Therefore, in the intermediate region 33 of the base material 20 and the intermediate portion 63 of the wiring 52 located in the intermediate region 33, the first portion 61 of the wiring 52 located in the first region 31 and the first region 31 of the base material 20 In addition, greater extensibility is required than the second region 32 of the base material 20 and the second portion 62 of the wiring 52 located in the second region 32.

ここで本実施の形態によれば、基材20の中間領域33は、複数の伸縮構造部34を有している。また、配線52の中間部分63は、伸縮構造部34に沿って延びる伸縮構造部64を含んでいる。このため、第1領域31と第2領域32との間の間隔を広げる向きの力が基材20に加えられる場合に、伸縮構造部34は、図14に示すように、第1要素35及び第2要素36が傾くことによって第1要素35と第2要素36との間の間隔を拡大させることができる。このように、本実施の形態によれば、蛇腹形状の解消に加えて、伸縮構造部34の形状の変化を利用して、基材20の中間領域33を伸長させることができる。これにより、中間領域33の伸長性を、第1領域31及び第2領域32の伸長性に比べて高くすることができる。このことにより、肘のような局所的に大きく変形する部分を含む対象物100に対処し易くなる。例えば、配線基板10の伸長に起因して配線52の抵抗値が増加することを抑制することができる。また、配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。 Here, according to the present embodiment, the intermediate region 33 of the base material 20 has a plurality of elastic structure portions 34. Further, the intermediate portion 63 of the wiring 52 includes the telescopic structure portion 64 extending along the telescopic structure portion 34. Therefore, when a force in a direction for widening the distance between the first region 31 and the second region 32 is applied to the base material 20, the stretchable structure portion 34 has the first element 35 and the first element 35 as shown in FIG. By tilting the second element 36, the distance between the first element 35 and the second element 36 can be increased. As described above, according to the present embodiment, in addition to eliminating the bellows shape, the intermediate region 33 of the base material 20 can be extended by utilizing the change in the shape of the stretchable structure portion 34. Thereby, the extensibility of the intermediate region 33 can be made higher than the extensibility of the first region 31 and the second region 32. This makes it easier to deal with the object 100 including a locally greatly deformed portion such as an elbow. For example, it is possible to suppress an increase in the resistance value of the wiring 52 due to the extension of the wiring board 10. Further, it is possible to prevent the wiring 52 from being damaged such as a crack.

なお、基材20に張力を加えた場合に、基材20の中間領域33において、蛇腹形状の解消又は伸縮構造部34の形状の変化のいずれが先に生じるかは、特には限られない。例えば、基材20に張力を加えた場合に、まず、中間領域33において、伸縮構造部34の形状の変化に起因する中間領域33の伸長が生じ、続いて、第1領域31、第2領域32及び中間領域33において、蛇腹形状の解消に起因する基材20の伸長が生じてもよい。若しくは、まず、第1領域31、第2領域32及び中間領域33において、蛇腹形状の解消に起因する基材20の伸長が生じ、続いて、中間領域33において、伸縮構造部34の形状の変化に起因する中間領域33の伸長が生じてもよい。若しくは、蛇腹形状の解消又は伸縮構造部34の形状の変化の両方が同時に中間領域33において生じてもよい。 When tension is applied to the base material 20, it is not particularly limited whether the bellows shape is eliminated or the shape of the stretchable structure portion 34 is changed first in the intermediate region 33 of the base material 20. For example, when tension is applied to the base material 20, first, in the intermediate region 33, the intermediate region 33 is stretched due to the change in the shape of the stretchable structure portion 34, followed by the first region 31 and the second region. In 32 and the intermediate region 33, the base material 20 may be stretched due to the elimination of the bellows shape. Alternatively, first, in the first region 31, the second region 32, and the intermediate region 33, the base material 20 is stretched due to the elimination of the bellows shape, and then in the intermediate region 33, the shape of the stretchable structure portion 34 is changed. The extension of the intermediate region 33 due to the above may occur. Alternatively, both the elimination of the bellows shape and the change in the shape of the telescopic structure portion 34 may occur simultaneously in the intermediate region 33.

本実施の形態において得られる、配線52の電気抵抗値に関する効果の一例について説明する。ここでは、張力が基材20に加えられていない第1状態における配線52の電気抵抗値を、第1電気抵抗値と称する。また、基材20に張力を加えて基材20を第1状態に比べて50%伸長させた第2状態における配線52の抵抗値を、第2電気抵抗値と称する。また、基材20に張力を加えて基材20を第1状態に比べて80%伸長させた第3状態における配線52の抵抗値を、第3電気抵抗値と称する。 An example of the effect on the electric resistance value of the wiring 52 obtained in the present embodiment will be described. Here, the electric resistance value of the wiring 52 in the first state in which tension is not applied to the base material 20 is referred to as a first electric resistance value. Further, the resistance value of the wiring 52 in the second state in which tension is applied to the base material 20 to extend the base material 20 by 50% as compared with the first state is referred to as a second electrical resistance value. Further, the resistance value of the wiring 52 in the third state in which tension is applied to the base material 20 to extend the base material 20 by 80% as compared with the first state is referred to as a third electrical resistance value.

本実施の形態によれば、基材20の第1領域31において配線52の第1部分61に蛇腹形状部55を形成することにより、第1電気抵抗値に対する、第1電気抵抗値と第2電気抵抗値の差の絶対値の比率を、20%以下にすることができ、より好ましくは10%以下にすることができ、更に好ましくは5%以下にすることができる。すなわち、基材20の第1領域31に位置する配線52の第1部分61に、50%の伸長に対する耐性を持たせることができる。基材20の第2領域32に位置する配線52の第2部分62についても同様である。 According to the present embodiment, by forming the bellows-shaped portion 55 in the first portion 61 of the wiring 52 in the first region 31 of the base material 20, the first electrical resistance value and the second electrical resistance value with respect to the first electrical resistance value are formed. The ratio of the absolute values of the differences in electrical resistance values can be 20% or less, more preferably 10% or less, and even more preferably 5% or less. That is, the first portion 61 of the wiring 52 located in the first region 31 of the base material 20 can be made resistant to 50% elongation. The same applies to the second portion 62 of the wiring 52 located in the second region 32 of the base material 20.

また、本実施の形態によれば、基材20の中間領域33に位置する配線52の中間部分63において生じる、第1電気抵抗値に対する、第1電気抵抗値と第2電気抵抗値の差の絶対値の比率を、配線52の第1部分61の場合に比べて小さくすることができる。また、基材20の中間領域33に位置する配線52の中間部分63において生じる、第1電気抵抗値に対する、第1電気抵抗値と第3電気抵抗値の差の絶対値の比率を、20%以下にすることができ、より好ましくは10%以下にすることができ、更に好ましくは5%以下にすることができる。すなわち、基材20の中間領域33に位置する配線52の中間部分63に、80%の伸長に対する耐性を持たせることができる。 Further, according to the present embodiment, the difference between the first electric resistance value and the second electric resistance value with respect to the first electric resistance value generated in the intermediate portion 63 of the wiring 52 located in the intermediate region 33 of the base material 20. The ratio of the absolute values can be made smaller than that of the first portion 61 of the wiring 52. Further, the ratio of the absolute value of the difference between the first electric resistance value and the third electric resistance value to the first electric resistance value generated in the intermediate portion 63 of the wiring 52 located in the intermediate region 33 of the base material 20 is 20%. It can be less than or equal to, more preferably less than 10%, even more preferably less than or equal to 5%. That is, the intermediate portion 63 of the wiring 52 located in the intermediate region 33 of the base material 20 can be made resistant to 80% elongation.

ここで比較のため、配線基板10全体に、80%の伸長に対する耐性を持たせる場合について考える。この場合、上述の第1伸長工程において、基材20全体を例えば80%以上伸長させることが必要になる。この結果、収縮後の配線基板10の寸法が小さくなり、配線基板10の生産性が低下してしまう。また、配線基板10の配線52の全体が、80%以上の基材20の伸長に対応する蛇腹形状部55を有するので、配線52の信頼性が低下し易くなる。 Here, for comparison, a case where the entire wiring board 10 is made to withstand 80% elongation will be considered. In this case, in the above-mentioned first stretching step, it is necessary to stretch the entire base material 20 by, for example, 80% or more. As a result, the size of the wiring board 10 after shrinkage becomes small, and the productivity of the wiring board 10 decreases. Further, since the entire wiring 52 of the wiring board 10 has a bellows-shaped portion 55 corresponding to the elongation of the base material 20 of 80% or more, the reliability of the wiring 52 tends to decrease.

これに対して、本実施の形態においては、第1伸長工程おける基材20の伸長率を、80%よりも低く、例えば50%に維持しながら、基材20の中間領域33に位置する配線52の中間部分63に、80%の伸長に対する耐性を持たせることができる。このため、収縮後の配線基板10の寸法が小さくなることを抑制することができ、配線基板10の生産性を維持することができる。また、配線52の信頼性が低下することを抑制することができる。 On the other hand, in the present embodiment, the wiring located in the intermediate region 33 of the base material 20 while maintaining the elongation rate of the base material 20 in the first stretching step is lower than 80%, for example, 50%. The intermediate portion 63 of 52 can be made resistant to 80% elongation. Therefore, it is possible to prevent the size of the wiring board 10 from becoming smaller after shrinkage, and it is possible to maintain the productivity of the wiring board 10. In addition, it is possible to prevent the reliability of the wiring 52 from being lowered.

好ましくは、上述のように、配線基板10のうち基材20の中間領域33に対応する部分が、間隔を空けて配置された複数の粘着部72によって対象物100に貼り付けられている。この場合、中間領域33のうち隣り合う2つの粘着部72の間に位置する部分は、対象物100からの束縛を受けることなく自由に変形し易い。このことも、中間領域33の伸長性を高めることや、配線52の信頼性を高めることに寄与し得る。以下、その理由について説明する。 Preferably, as described above, the portion of the wiring board 10 corresponding to the intermediate region 33 of the base material 20 is attached to the object 100 by a plurality of adhesive portions 72 arranged at intervals. In this case, the portion of the intermediate region 33 located between the two adjacent adhesive portions 72 is easily deformed freely without being bound by the object 100. This can also contribute to increasing the extensibility of the intermediate region 33 and increasing the reliability of the wiring 52. The reason will be described below.

対象物100及び対象物に貼り付けられている配線基板10の変形や伸長は、対象物100の一部において局所的に大きく生じることがある。例えば、人の肘に貼り付けられている配線基板10の基材20の中間領域33の一部において、関節の構造などに起因して、局所的に大きな伸長が生じることがある。基材20の中間領域33の全域が粘着層71を介して隙間なく肘に貼り付けられている場合、中間領域33及び中間部分63の各部分が、局所的に生じ得る最大の伸長に耐えることが求められる。 Deformation or elongation of the object 100 and the wiring board 10 attached to the object 100 may occur locally in a part of the object 100. For example, in a part of the intermediate region 33 of the base material 20 of the wiring board 10 attached to the elbow of a person, a large extension may occur locally due to the structure of joints or the like. When the entire area of the intermediate region 33 of the base material 20 is firmly attached to the elbow via the adhesive layer 71, each portion of the intermediate region 33 and the intermediate portion 63 can withstand the maximum elongation that can occur locally. Is required.

一方、図13及び図14に示すように、配線基板10の中間領域33が、間隔を空けて配置された複数の粘着部72によって対象物100に貼り付けられている場合、中間領域33のうち隣り合う2つの粘着部72の間に位置する部分は、対象物100の伸長に応じて一様に伸長する。例えば、対象物100のうち隣り合う2つの粘着部72の間に位置する一部(以下、極大伸長部とも称する)で大きな伸長が生じた場合について考える。中間領域33は、対象物100の極大伸長部には貼り付けられていない。このため、隣り合う2つの粘着部72の間に位置する部分が、極大伸長部の伸長に相当する分だけ変形することによって、極大伸長部に対処することができる。従って、中間領域33のうち極大伸長部に貼り付けられている部分だけで対処する場合に比べて、中間領域33に求められる伸長性の程度を低減することができる。 On the other hand, as shown in FIGS. 13 and 14, when the intermediate region 33 of the wiring board 10 is attached to the object 100 by a plurality of adhesive portions 72 arranged at intervals, the intermediate region 33 is included in the intermediate region 33. The portion located between the two adjacent adhesive portions 72 extends uniformly as the object 100 extends. For example, consider a case where a large extension occurs in a part (hereinafter, also referred to as a maximum extension portion) located between two adjacent adhesive portions 72 of the object 100. The intermediate region 33 is not attached to the maximum extension portion of the object 100. Therefore, the maximum extension portion can be dealt with by deforming the portion located between the two adjacent adhesive portions 72 by the amount corresponding to the extension of the maximum extension portion. Therefore, the degree of extensibility required for the intermediate region 33 can be reduced as compared with the case where only the portion of the intermediate region 33 that is attached to the maximum extension portion is dealt with.

配線基板10の用途としては、ヘルスケア分野、医療分野、介護分野、エレクトロニクス分野、スポーツ・フィットネス分野、美容分野、モビリティ分野、畜産・ペット分野、アミューズメント分野、ファッション・アパレル分野、セキュリティ分野、ミリタリー分野、流通分野、教育分野、建材・家具・装飾分野、環境エネルギー分野、農林水産分野、ロボット分野などを挙げることができる。例えば、人の腕などの身体の一部に取り付ける製品を、本実施の形態による配線基板10を用いて構成する。配線基板10は伸長することができるので、例えば配線基板10を伸長させた状態で身体に取り付けることにより、配線基板10を身体の一部により密着させることができる。このため、良好な着用感を実現することができる。また、配線基板10が伸長した場合に配線52の電気抵抗値が低下することを抑制することができるので、配線基板10の良好な電気特性を実現することができる。他にも配線基板10は伸長することができるので、人などの生体に限らず曲面や立体形状に沿わせて設置や組込むことが可能である。それらの製品の一例としては、バイタルセンサ、マスク、補聴器、歯ブラシ、絆創膏、湿布、コンタクトレンズ、義手、義足、義眼、カテーテル、ガーゼ、薬液パック、包帯、ディスポーザブル生体電極、おむつ、リハビリ用機器、家電製品、ディスプレイ、サイネージ、パーソナルコンピューター、携帯電話、マウス、スピーカー、スポーツウェア、リストバンド、はちまき、手袋、水着、サポーター、ボール、グローブ、ラケット、クラブ、バット、釣竿、リレーのバトンや器械体操用具、またそのグリップ、身体トレーニング用機器、浮き輪、テント、水着、ゼッケン、ゴールネット、ゴールテープ、薬液浸透美容マスク、電気刺激ダイエット用品、懐炉、付け爪、タトゥー、自動車、飛行機、列車、船舶、自転車、ベビーカー、ドローン、車椅子、などのシート、インパネ、タイヤ、内装、外装、サドル、ハンドル、道路、レール、橋、トンネル、ガスや水道の管、電線、テトラポッド、ロープ首輪、リード、ハーネス、動物用のタグ、ブレスレット、ベルトなど、ゲーム機器、コントローラーなどのハプティクスデバイス、ランチョンマット、チケット、人形、ぬいぐるみ、応援グッズ、帽子、服、メガネ、靴、インソール、靴下、ストッキング、スリッパ、インナーウェア、マフラー、耳あて、鞄、アクセサリー、指輪、時計、ネクタイ、個人ID認識デバイス、ヘルメット、パッケージ、ICタグ、ペットボトル、文具、書籍、ペン、カーペット、ソファ、寝具、照明、ドアノブ、手すり、花瓶、ベッド、マットレス、座布団、カーテン、ドア、窓、天井、壁、床、ワイヤレス給電アンテナ、電池、ビニールハウス、ネット(網)、ロボットハンド、ロボット外装を挙げることができる。 Applications of the wiring board 10 include healthcare field, medical field, nursing care field, electronics field, sports / fitness field, beauty field, mobility field, livestock / pet field, amusement field, fashion / apparel field, security field, and military field. , Distribution field, education field, building materials / furniture / decoration field, environmental energy field, agriculture, forestry and fisheries field, robot field, etc. For example, a product to be attached to a part of the body such as a human arm is configured by using the wiring board 10 according to the present embodiment. Since the wiring board 10 can be extended, for example, by attaching the wiring board 10 to the body in an extended state, the wiring board 10 can be brought into close contact with a part of the body. Therefore, a good wearing feeling can be realized. Further, since it is possible to suppress a decrease in the electric resistance value of the wiring 52 when the wiring board 10 is extended, it is possible to realize good electrical characteristics of the wiring board 10. In addition, since the wiring board 10 can be extended, it can be installed or incorporated along a curved surface or a three-dimensional shape, not limited to a living body such as a human being. Examples of these products include vital sensors, masks, hearing aids, toothbrushes, plasters, wet cloths, contact lenses, artificial hands, artificial legs, artificial eyes, catheters, gauze, chemical packs, bandages, disposable bioelectrodes, diapers, rehabilitation equipment, home appliances. Products, displays, signage, personal computers, mobile phones, mice, speakers, sportswear, wristbands, earmuffs, gloves, swimwear, supporters, balls, gloves, rackets, clubs, bats, fishing rods, relay batons and jewelry. In addition, its grips, physical training equipment, floats, tents, swimwear, bibs, goal nets, goal tapes, chemical penetration beauty masks, electrical stimulation diet supplies, pocket furnaces, claws, tattoos, automobiles, airplanes, trains, ships, bicycles , Strollers, drones, wheelchairs, etc. Seats, instrument panels, tires, interiors, exteriors, saddles, handles, roads, rails, bridges, tunnels, gas and water pipes, wires, tetrapods, rope collars, leads, harnesses, animals Tags, bracelets, belts, game equipment, haptics devices such as controllers, luncheon mats, tickets, dolls, stuffed animals, cheering goods, hats, clothes, glasses, shoes, insoles, socks, stockings, slippers, innerwear, Mufflers, earmuffs, bags, accessories, rings, watches, ties, personal ID recognition devices, helmets, packages, IC tags, PET bottles, stationery, books, pens, carpets, sofas, bedding, lighting, doorknobs, handrails, vases, Beds, mattresses, cushions, curtains, doors, windows, ceilings, walls, floors, wireless power antennas, batteries, vinyl houses, nets, robot hands, robot exteriors.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。 It is possible to make various changes to the above-described embodiment. Hereinafter, a modified example will be described with reference to the drawings as necessary. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding portions in the above-described embodiment will be used for the portions that can be configured in the same manner as in the above-described embodiment. Duplicate description is omitted. Further, when it is clear that the action and effect obtained in the above-described embodiment can be obtained in the modified example, the description thereof may be omitted.

(第1の変形例)
本変形例においては、配線基板10が、配線52に生じる蛇腹形状部55の周期や振幅を調整する調整層41を備える例について説明する。
(First modification)
In this modification, an example will be described in which the wiring board 10 includes an adjustment layer 41 for adjusting the period and amplitude of the bellows-shaped portion 55 generated in the wiring 52.

図15は、第1の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図15に示すように、配線基板10は、基材20の第1面21側に位置する調整層41を備えていてもよい。図15に示す例において、調整層41は、配線52に重なるよう配置されている。調整層41は、配線52と重ならない位置において、基材20の第1面21側に設けられていてもよい。 FIG. 15 is a cross-sectional view showing the wiring board 10 according to the first modification. As shown in FIG. 15, the wiring board 10 may include an adjusting layer 41 located on the first surface 21 side of the base material 20. In the example shown in FIG. 15, the adjusting layer 41 is arranged so as to overlap the wiring 52. The adjusting layer 41 may be provided on the first surface 21 side of the base material 20 at a position where it does not overlap with the wiring 52.

〔調整層〕
調整層41は、基材20の伸縮を制御するために基材20の第1面21側に設けられている層である。調整層41は、基材20の広域にわたって設けられている。例えば、調整層41は、基材20の第1面21側において、配線52よりも高い占有率を有する。このため、調整層41が設けられていない場合に比べて、配線基板10を伸縮させる際に配線基板10の一部に局所的に応力が集中することを抑制することができる。例えば、基材20の弾性係数と配線52の弾性係数の相違が大きく、且つ配線52の占有率が低い場合、配線基板10を伸縮させる際に配線52に応力が集中し易い。これに対して、本実施の形態によれば、基材20に調整層41を設けることにより、配線52に応力が集中することを抑制することができる。これにより、配線基板10に生じる湾曲や屈曲などの変形が局所的に大きくなることを抑制することができる。このため、配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。また、配線基板10を繰り返し伸縮させた際に配線52の電気抵抗値が増加してしまうことを抑制することができる。
[Adjustment layer]
The adjusting layer 41 is a layer provided on the first surface 21 side of the base material 20 in order to control the expansion and contraction of the base material 20. The adjusting layer 41 is provided over a wide area of the base material 20. For example, the adjusting layer 41 has a higher occupancy rate than the wiring 52 on the first surface 21 side of the base material 20. Therefore, as compared with the case where the adjusting layer 41 is not provided, it is possible to suppress the local stress concentration on a part of the wiring board 10 when the wiring board 10 is expanded and contracted. For example, when the difference between the elastic modulus of the base material 20 and the elastic modulus of the wiring 52 is large and the occupancy of the wiring 52 is low, stress tends to concentrate on the wiring 52 when the wiring substrate 10 is expanded and contracted. On the other hand, according to the present embodiment, by providing the adjusting layer 41 on the base material 20, it is possible to suppress the concentration of stress on the wiring 52. As a result, it is possible to prevent the deformation such as bending and bending that occurs in the wiring board 10 from becoming large locally. Therefore, it is possible to prevent the wiring 52 from being damaged such as a crack. Further, it is possible to prevent the electric resistance value of the wiring 52 from increasing when the wiring board 10 is repeatedly expanded and contracted.

なお「調整層の占有率」とは、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合の配線基板10全体の面積に対する、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合の、第1面21側に位置する全ての調整層41の面積の比率である。同様に、「配線の占有率」とは、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合の配線基板10全体の面積に対する、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合の、第1面21側に位置する全ての配線52の面積の比率である。 The "occupancy rate of the adjusting layer" is the normal direction of the first surface 21 of the base material 20 with respect to the area of the entire wiring board 10 when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the base material 20. It is the ratio of the area of all the adjustment layers 41 located on the first surface 21 side when viewed along. Similarly, the “wiring occupancy” is the normal of the first surface 21 of the base material 20 with respect to the area of the entire wiring substrate 10 when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the base material 20. It is the ratio of the area of all the wirings 52 located on the first surface 21 side when viewed along the direction.

調整層41は、基材20の第1の弾性係数よりも高い弾性係数を有してもよい。また、調整層41の弾性係数は、配線52の弾性係数よりも低くてもよい。調整層41の弾性係数は、例えば10GPa以上500GPa以下であり、より好ましくは1GPa以上300GPa以下である。調整層41の弾性係数が低すぎると、基材20の伸長を抑制できない場合がある。また、調整層41の弾性係数が高すぎると、基材20が伸縮した際に、割れやひびなど構造の破壊が調整層41に起こる場合がある。調整層41の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の1.1倍以上5000倍以下であってもよく、より好ましくは10倍以上3000倍以下である。以下の説明において、調整層41の弾性係数のことを、第2の弾性係数とも称する。 The adjusting layer 41 may have a higher elastic modulus than the first elastic modulus of the base material 20. Further, the elastic modulus of the adjusting layer 41 may be lower than the elastic modulus of the wiring 52. The elastic modulus of the adjusting layer 41 is, for example, 10 GPa or more and 500 GPa or less, and more preferably 1 GPa or more and 300 GPa or less. If the elastic modulus of the adjusting layer 41 is too low, the elongation of the base material 20 may not be suppressed. Further, if the elastic modulus of the adjusting layer 41 is too high, when the base material 20 expands and contracts, structural destruction such as cracks and cracks may occur in the adjusting layer 41. The elastic modulus of the adjusting layer 41 may be 1.1 times or more and 5000 times or less of the first elastic modulus of the base material 20, and more preferably 10 times or more and 3000 times or less. In the following description, the elastic modulus of the adjusting layer 41 is also referred to as a second elastic modulus.

調整層41の材料は、伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。中でも、調整層の材料は伸縮性を有することが好ましい。調整層41が伸縮性を有する材料を含む場合には、変形に対する耐性を有することができるからである。 The material of the adjusting layer 41 may or may not have elasticity. Above all, it is preferable that the material of the adjusting layer has elasticity. This is because when the adjusting layer 41 contains a stretchable material, it can have resistance to deformation.

調整層41に用いられる伸縮性を有さない材料としては、例えば、樹脂を挙げることができる。樹脂としては、一般的な樹脂を用いることができ、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等のいずれも用いることができる。また、調整層41が樹脂又はエラストマーを含む場合、調整層としては、樹脂基材を用いることもできる。 Examples of the non-stretchable material used for the adjusting layer 41 include resin. As the resin, a general resin can be used, and for example, any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a photocurable resin and the like can be used. When the adjusting layer 41 contains a resin or an elastomer, a resin base material can be used as the adjusting layer.

調整層41に用いられる伸縮性を有する材料の伸縮性としては、基材20の伸縮性と同様とすることができる。
調整層41に用いられる伸縮性を有する材料としては、例えば、エラストマーを挙げることができる。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、具体的には、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、アミド系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等が挙げられる。調整層41を構成する材料がこれらの樹脂である場合、調整層41は、透明性を有していてもよい。また、調整層は、遮光性、例えば紫外線を遮蔽する特性を有していてもよい。例えば、調整層41は黒色であってもよい。また調整層の色と基板の色とが同一であってもよい。調整層41にデザイン性を持たせて加飾の役割を持っていてもよい。
The stretchability of the stretchable material used for the adjusting layer 41 can be the same as the stretchability of the base material 20.
As the stretchable material used for the adjusting layer 41, for example, an elastomer can be mentioned. As the elastomer, general thermoplastic elastomers and thermocurable elastomers can be used, and specifically, styrene-based elastomers, olefin-based elastomers, urethane-based elastomers, amide-based elastomers, silicone rubbers, urethane rubbers, and fluororubbers. , Polybutadiene, polyisobutylene, polystyrene butadiene, polychloroprene and the like. When the material constituting the adjusting layer 41 is these resins, the adjusting layer 41 may have transparency. Further, the adjusting layer may have a light-shielding property, for example, a property of shielding ultraviolet rays. For example, the adjusting layer 41 may be black. Further, the color of the adjusting layer and the color of the substrate may be the same. The adjusting layer 41 may have a design and have a role of decoration.

また、調整層41は、絶縁性を有していてもよい。絶縁性を有する調整層41の材料としては、樹脂やエラストマーを用いることができる。 Further, the adjusting layer 41 may have an insulating property. As the material of the adjusting layer 41 having an insulating property, a resin or an elastomer can be used.

調整層41の第2の弾性係数を算出する方法は、調整層41の形態に応じて適宜定められる。例えば、調整層41の第2の弾性係数を算出する方法は、上述の基材20の弾性係数を算出する方法と同様であってもよく、異なっていてもよい。後述する支持基板80の弾性係数も同様である。例えば、調整層41又は支持基板80の弾性係数を算出する方法として、調整層41又は支持基板80のサンプルを用いて、ASTM D882に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。 The method for calculating the second elastic modulus of the adjusting layer 41 is appropriately determined according to the form of the adjusting layer 41. For example, the method of calculating the second elastic modulus of the adjusting layer 41 may be the same as or different from the method of calculating the elastic modulus of the base material 20 described above. The elastic modulus of the support substrate 80 described later is also the same. For example, as a method of calculating the elastic modulus of the adjusting layer 41 or the supporting substrate 80, a method of performing a tensile test in accordance with ASTM D882 using a sample of the adjusting layer 41 or the supporting substrate 80 can be adopted. ..

調整層41の厚みは、伸縮に耐え得る厚みであればよく、調整層41の材料等に応じて適宜選択される。調整層41の厚みは、例えば、0.1μm以上とすることができ、1μm以上であってもよく、10μm以上であってもよい。また、調整層41の厚みは、例えば、5mm以下とすることができ、1mm以下であってもよく、500μm以下であってもよく、100μm以下であってもよい。調整層41が薄すぎると、応力集中を低減する効果が十分に得られない場合がある。また、調整層41が厚すぎると、調整層41の弾性係数が上述の関係を満たしていても、調整層41の曲げ剛性が大きくなり、応力集中を低減することが困難になる場合がある。 The thickness of the adjusting layer 41 may be any thickness that can withstand expansion and contraction, and is appropriately selected depending on the material of the adjusting layer 41 and the like. The thickness of the adjusting layer 41 can be, for example, 0.1 μm or more, and may be 1 μm or more, or 10 μm or more. Further, the thickness of the adjusting layer 41 can be, for example, 5 mm or less, may be 1 mm or less, may be 500 μm or less, or may be 100 μm or less. If the adjusting layer 41 is too thin, the effect of reducing stress concentration may not be sufficiently obtained. Further, if the adjusting layer 41 is too thick, even if the elastic modulus of the adjusting layer 41 satisfies the above relationship, the bending rigidity of the adjusting layer 41 becomes large, and it may be difficult to reduce the stress concentration.

調整層41の特性を、弾性係数に替えて曲げ剛性によって表してもよい。調整層41の断面二次モーメントは、配線52が延びる方向に直交する平面によって調整層41を切断した場合の断面に基づいて算出される。調整層41の曲げ剛性は、基材20の曲げ剛性の1.1倍以上であってもよく、より好ましくは2倍以上であり、更に好ましくは10倍以上である。なお、曲げ剛性は、対象となる部材の断面二次モーメントと、対象となる部材を構成する材料の弾性係数との積であり、単位はN・m又はPa・mである。 The characteristic of the adjusting layer 41 may be expressed by flexural rigidity instead of the elastic modulus. The moment of inertia of area of the adjusting layer 41 is calculated based on the cross section when the adjusting layer 41 is cut by a plane orthogonal to the direction in which the wiring 52 extends. The bending rigidity of the adjusting layer 41 may be 1.1 times or more, more preferably 2 times or more, and further preferably 10 times or more the bending rigidity of the base material 20. The flexural rigidity is the product of the moment of inertia of area of the target member and the elastic modulus of the material constituting the target member, and the unit is N · m 2 or Pa · m 4 .

調整層41の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上または後述する支持基板80上に配線52を形成した後、調整層41を構成する材料を印刷法により基材20上に印刷する方法が挙げられる。調整層41を構成する金属箔、樹脂フィルムなどの部材を基材20に接着層などを介して貼り付けてもよい。 The method for forming the adjusting layer 41 is appropriately selected depending on the material and the like. For example, after forming the wiring 52 on the base material 20 or the support substrate 80 described later, a method of printing the material constituting the adjusting layer 41 on the base material 20 by a printing method can be mentioned. A member such as a metal foil or a resin film constituting the adjusting layer 41 may be attached to the base material 20 via an adhesive layer or the like.

図16は、配線基板に生じる蛇腹形状部の一例を拡大して示す断面図である。配線52と同様に調整層41も、張力を加えられて伸長された状態の基材20に設けられる。例えば、第1伸長量で伸長された状態の基材20に配線52を設ける工程において、調整層41も基材20に設けられる。この場合、基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、調整層41は、図16に示すように、蛇腹状に変形して蛇腹形状部45を有するようになる。調整層41の蛇腹形状部45は、第1方向D1方向に沿って並ぶ複数の山部43及び谷部44を含む。 FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view showing an example of a bellows-shaped portion generated on the wiring board. Similar to the wiring 52, the adjusting layer 41 is also provided on the base material 20 in a state of being stretched by applying tension. For example, in the step of providing the wiring 52 on the base material 20 stretched by the first elongation amount, the adjusting layer 41 is also provided on the base material 20. In this case, when the tension is removed from the base material 20 and the base material 20 contracts, the adjusting layer 41 is deformed into a bellows shape to have a bellows-shaped portion 45 as shown in FIG. The bellows-shaped portion 45 of the adjusting layer 41 includes a plurality of peak portions 43 and valley portions 44 arranged along the first direction D1 direction.

図16において、符号S4は、調整層41に現れる山部43及び谷部44の振幅を表す。振幅S4は、例えば1μm以上であり、より好ましくは10μm以上である。また、振幅S4は、例えば500μm以下であってもよい。 In FIG. 16, reference numeral S4 represents the amplitudes of the peaks 43 and valleys 44 appearing in the adjustment layer 41. The amplitude S4 is, for example, 1 μm or more, more preferably 10 μm or more. Further, the amplitude S4 may be, for example, 500 μm or less.

調整層41の蛇腹形状部45における振幅S4は、配線52の蛇腹形状部55における振幅S1と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、調整層41の蛇腹形状部45における振幅S4が、配線52の蛇腹形状部55における振幅S1よりも大きくてもよく、振幅S1よりも小さくてもよい。 The amplitude S4 in the bellows-shaped portion 45 of the adjusting layer 41 may be the same as or different from the amplitude S1 in the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52. For example, the amplitude S4 in the bellows-shaped portion 45 of the adjusting layer 41 may be larger than the amplitude S1 in the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52, or may be smaller than the amplitude S1.

図16において、符号F4は、調整層41の蛇腹形状部45の山部43及び谷部44の周期を表す。調整層41の蛇腹形状部45の周期F4は、配線52の蛇腹形状部55の周期F1と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、調整層41の蛇腹形状部45の周期F4が、配線52の蛇腹形状部55の周期F1よりも大きくてもよく、周期F1よりも小さくてもよい。 In FIG. 16, reference numeral F4 represents the period of the peak portion 43 and the valley portion 44 of the bellows-shaped portion 45 of the adjustment layer 41. The period F4 of the bellows-shaped portion 45 of the adjusting layer 41 may be the same as or different from the period F1 of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52. For example, the period F4 of the bellows-shaped portion 45 of the adjustment layer 41 may be larger than the period F1 of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52, or may be smaller than the period F1.

(第2の変形例)
上述の実施の形態においては、配線52が基材20の第1面21に設けられる例を示したが、これに限られることはない。本変形例においては、配線52が支持基板によって支持される例を示す。
(Second modification)
In the above-described embodiment, the wiring 52 is provided on the first surface 21 of the base material 20, but the present invention is not limited to this. In this modification, an example in which the wiring 52 is supported by the support substrate is shown.

図17は、第2の変形例に係る配線基板10のうち配線52を含む部分の断面図であり、上述の実施の形態における図2に相当する図である。配線基板10は、基材20、支持基板80及び配線52を少なくとも備える。配線基板10は、配線52に電気的に接続されるよう支持基板80に搭載されている電子部品51を備えていてもよい。 FIG. 17 is a cross-sectional view of a portion of the wiring board 10 according to the second modification including the wiring 52, which corresponds to FIG. 2 in the above-described embodiment. The wiring board 10 includes at least a base material 20, a support board 80, and a wiring 52. The wiring board 10 may include an electronic component 51 mounted on the support board 80 so as to be electrically connected to the wiring 52.

〔支持基板〕
支持基板80は、基材20よりも低い伸縮性を有するよう構成された部材である。支持基板80は、基材20側に位置する第2面82と、第2面82の反対側に位置する第1面81と、を含む。図17に示す例において、支持基板80は、その第1面81側において配線52を支持している。また、支持基板80は、その第2面82側において基材20の第1面21に接合されている。例えば、基材20と支持基板80との間に、接着剤を含む接着層85が設けられていてもよい。接着層85を構成する材料としては、例えばアクリル系接着剤、シリコーン系接着剤等を用いることができる。接着層85の厚みは、例えば5μm以上且つ200μm以下である。
[Support board]
The support substrate 80 is a member configured to have lower elasticity than the substrate 20. The support substrate 80 includes a second surface 82 located on the substrate 20 side and a first surface 81 located on the opposite side of the second surface 82. In the example shown in FIG. 17, the support substrate 80 supports the wiring 52 on the first surface 81 side thereof. Further, the support substrate 80 is joined to the first surface 21 of the base material 20 on the second surface 82 side thereof. For example, an adhesive layer 85 containing an adhesive may be provided between the base material 20 and the support substrate 80. As the material constituting the adhesive layer 85, for example, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, or the like can be used. The thickness of the adhesive layer 85 is, for example, 5 μm or more and 200 μm or less.

図18は、図17の配線基板10を拡大して示す断面図である。本変形例においては、支持基板80に接合された基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、配線52の山部53及び谷部54と同様の山部及び谷部が支持基板80にも現れる。支持基板80の特性や寸法は、このような山部や谷部が形成され易くなるよう設定されている。例えば、支持基板80は、基材20の第1の弾性係数よりも大きい弾性係数を有する。以下の説明において、支持基板80の弾性係数のことを、第3の弾性係数とも称する。 FIG. 18 is an enlarged cross-sectional view of the wiring board 10 of FIG. In this modification, when the tension is removed from the base material 20 bonded to the support substrate 80 and the base material 20 contracts, the peaks and valleys similar to the peaks 53 and valleys 54 of the wiring 52 are supported. It also appears on the substrate 80. The characteristics and dimensions of the support substrate 80 are set so that such peaks and valleys are easily formed. For example, the support substrate 80 has an elastic modulus larger than the first elastic modulus of the substrate 20. In the following description, the elastic modulus of the support substrate 80 is also referred to as a third elastic modulus.

なお、図示はしないが、支持基板80は、その第2面82側において配線52を支持していてもよい。 Although not shown, the support substrate 80 may support the wiring 52 on the second surface 82 side thereof.

支持基板80の第3の弾性係数は、例えば100MPa以上であり、より好ましくは1GPa以上である。また、支持基板80の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の100倍以上50000倍以下であってもよく、好ましくは1000倍以上10000倍以下である。このように支持基板80の第3の弾性係数を設定することにより、山部53及び谷部54の周期F1が小さくなり過ぎることを抑制することができる。また、山部53及び谷部54において局所的な折れ曲がりが生じることを抑制することができる。
なお、支持基板80の弾性係数が低すぎると、配線52の形成工程中に支持基板80が変形し易く、この結果、支持基板80に対する配線52の位置合わせが難しくなる。また、支持基板80の弾性係数が高すぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、また基材20の割れや折れが発生し易くなる。
The third elastic modulus of the support substrate 80 is, for example, 100 MPa or more, more preferably 1 GPa or more. Further, the third elastic modulus of the support substrate 80 may be 100 times or more and 50,000 times or less, preferably 1000 times or more and 10000 times or less of the first elastic modulus of the base material 20. By setting the third elastic modulus of the support substrate 80 in this way, it is possible to prevent the period F1 of the peak portion 53 and the valley portion 54 from becoming too small. In addition, it is possible to suppress the occurrence of local bending in the mountain portion 53 and the valley portion 54.
If the elastic modulus of the support substrate 80 is too low, the support substrate 80 is likely to be deformed during the process of forming the wiring 52, and as a result, it becomes difficult to align the wiring 52 with respect to the support substrate 80. Further, if the elastic modulus of the support substrate 80 is too high, it becomes difficult to restore the base material 20 at the time of relaxation, and the base material 20 is likely to be cracked or broken.

また、支持基板80の厚みは、例えば500nm以上10μm以下であり、より好ましくは1μm以上5μm以下である。支持基板80の厚みが小さすぎると、支持基板80の製造工程や、支持基板80上に配線52などの部材を形成する工程における、支持基板80のハンドリングが難しくなる。支持基板80の厚みが大きすぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、目標の基材20の伸縮が得られなくなる。 The thickness of the support substrate 80 is, for example, 500 nm or more and 10 μm or less, more preferably 1 μm or more and 5 μm or less. If the thickness of the support substrate 80 is too small, it becomes difficult to handle the support substrate 80 in the manufacturing process of the support substrate 80 and the process of forming a member such as a wiring 52 on the support substrate 80. If the thickness of the support substrate 80 is too large, it becomes difficult to restore the base material 20 at the time of relaxation, and the target base material 20 cannot be expanded or contracted.

支持基板80を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂等を用いることができる。その中でも、耐久性や耐熱性がよいポリエチレンナフタレートかポリイミドが好ましく用いられ得る。 As the material constituting the support substrate 80, for example, polyethylene naphthalate, polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic resin and the like can be used. Among them, polyethylene naphthalate or polyimide having good durability and heat resistance can be preferably used.

支持基板80の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の100倍以下であってもよい。支持基板80の第3の弾性係数を算出する方法は、基材20又は調整層41の場合と同様である。 The third elastic modulus of the support substrate 80 may be 100 times or less of the first elastic modulus of the base material 20. The method of calculating the third elastic modulus of the support substrate 80 is the same as that of the base material 20 or the adjusting layer 41.

(配線基板の製造方法)
次に、図19(a)〜(c)を参照して、本変形例に係る配線基板10の製造方法について説明する。
(Manufacturing method of wiring board)
Next, a method of manufacturing the wiring board 10 according to this modification will be described with reference to FIGS. 19 (a) to 19 (c).

まず、支持基板80を準備する。続いて、支持基板80の第1面81に配線52を設ける。例えば、まず、蒸着法、めっき法などによって支持基板80の第1面81に銅層などの金属層を形成する。続いて、フォトリソグラフィ法およびエッチング法を用いて金属層を加工する。これにより、第1面81に配線52を得ることができる。 First, the support substrate 80 is prepared. Subsequently, the wiring 52 is provided on the first surface 81 of the support substrate 80. For example, first, a metal layer such as a copper layer is formed on the first surface 81 of the support substrate 80 by a vapor deposition method, a plating method, or the like. Subsequently, the metal layer is processed by using a photolithography method and an etching method. As a result, the wiring 52 can be obtained on the first surface 81.

続いて、図19(b)に示すように、第1方向D1において基材20に第1張力T1を加えて、基材20を寸法L1まで伸長させる第1伸長工程を実施する。続いて、第1伸長工程における第1張力T1によって伸長した状態の基材20の第1面21に配線52を設ける配線形成工程を実施する。本変形例の配線形成工程においては、図19(b)に示すように、基材20の第1面21に、配線52が設けられた支持基板80の第2面82を接合させる。この際、基材20と支持基板80との間に接着層85を設けてもよい。 Subsequently, as shown in FIG. 19B, a first stretching step of applying a first tension T1 to the base material 20 in the first direction D1 to stretch the base material 20 to the dimension L1 is carried out. Subsequently, a wiring forming step of providing the wiring 52 on the first surface 21 of the base material 20 in a state of being stretched by the first tension T1 in the first stretching step is carried out. In the wiring forming step of this modification, as shown in FIG. 19B, the second surface 82 of the support substrate 80 provided with the wiring 52 is joined to the first surface 21 of the base material 20. At this time, the adhesive layer 85 may be provided between the base material 20 and the support substrate 80.

その後、基材20から第1張力T1を取り除く第1収縮工程を実施する。これにより、図19(c)において矢印Cで示すように、第1方向D1において基材20が収縮し、基材20に設けられている支持基板80及び配線52にも変形が生じる。支持基板80及び配線52の変形は、上述のように蛇腹形状部として生じ得る。 Then, the first shrinkage step of removing the first tension T1 from the base material 20 is carried out. As a result, as shown by an arrow C in FIG. 19C, the base material 20 contracts in the first direction D1, and the support substrate 80 and the wiring 52 provided on the base material 20 are also deformed. Deformation of the support substrate 80 and the wiring 52 can occur as a bellows-shaped portion as described above.

その後、基材20及び支持基板80を部分的に切断する切断工程を実施する。切断工程においては、上述の実施の形態の場合と同様に、基材20を、第1方向D1において間隔を空けて対向する上述の第1領域31及び第2領域32と、第1領域31に接続されている第1端331及び第2端332に接続されている第2端332を含む中間領域33と、に区画する。また、支持基板80を、基材20と同様に区画する。基材20及び支持基板80を切断するための方法としては、上述の実施の形態の場合と同様に、レーザー加工を用いることができる。例えば、基材20の第1領域31と第2領域32との間の部分のうち配線52の中間部分63の周囲の部分以外、及び、対応する支持基板80の部分を除去するよう、レーザーを基材20及び支持基板80に照射する。このようにして、複数の伸縮構造部34を含む中間領域33を有する基材20と、平面視において中間領域33と同一の輪郭を有する部分を含む支持基板80と、を備える配線基板10を得ることができる。 After that, a cutting step of partially cutting the base material 20 and the support substrate 80 is performed. In the cutting step, as in the case of the above-described embodiment, the base material 20 is placed in the first region 31 and the second region 32 and the first region 31 facing each other at intervals in the first direction D1. It is divided into an intermediate region 33 including a first end 331 connected and a second end 332 connected to the second end 332. Further, the support substrate 80 is partitioned in the same manner as the substrate 20. As a method for cutting the base material 20 and the support substrate 80, laser processing can be used as in the case of the above-described embodiment. For example, the laser is used to remove the portion between the first region 31 and the second region 32 of the base material 20 other than the portion around the intermediate portion 63 of the wiring 52 and the portion of the corresponding support substrate 80. Irradiate the base material 20 and the support substrate 80. In this way, a wiring board 10 including a base material 20 having an intermediate region 33 including a plurality of stretchable structure portions 34 and a support substrate 80 including a portion having the same contour as the intermediate region 33 in a plan view is obtained. be able to.

なお、図17乃至図19においては、支持基板80が接着層85を介して基材20に接合される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、非接着表面を分子修飾させて、分子接着結合させる方法などによって支持基板80が基材20に接合されていてもよい。この場合、基材20と支持基板80との間に接着層が設けられていなくてもよい。 In addition, in FIGS. 17 to 19, an example in which the support substrate 80 is bonded to the base material 20 via the adhesive layer 85 is shown. However, the present invention is not limited to this, and the support substrate 80 may be bonded to the base material 20 by a method such as molecularly modifying the non-adhesive surface to bond the molecules. In this case, the adhesive layer may not be provided between the base material 20 and the support substrate 80.

なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。 Although some modifications to the above-described embodiments have been described, it is naturally possible to apply a plurality of modifications in combination as appropriate.

10 配線基板
20 基材
21 第1面
22 第2面
23 山部
24 谷部
25 山部
26 谷部
31 第1領域
32 第2領域
33 中間領域
331 第1端
332 第2端
34 伸縮構造部
35 第1要素
36 第2要素
37 接続要素
41 調整層
43 山部
44 谷部
45 蛇腹形状部
51 電子部品
52 配線
53 山部
54 谷部
55 蛇腹形状部
61 第1部分
62 第2部分
63 中間部分
71 粘着層
72 粘着部
73 保護シート
80 支持基板
81 第1面
82 第2面
85 接着層
100 対象物
10 Wiring board 20 Base material 21 First surface 22 Second surface 23 Mountain part 24 Valley part 25 Mountain part 26 Valley part 31 First area 32 Second area 33 Intermediate area 331 First end 332 Second end 34 Telescopic structure part 35 1st element 36 2nd element 37 Connection element 41 Adjustment layer 43 Mountain part 44 Valley part 45 Bellows shape part 51 Electronic component 52 Wiring 53 Mountain part 54 Valley part 55 Bellows shape part 61 1st part 62 2nd part 63 Intermediate part 71 Adhesive layer 72 Adhesive part 73 Protective sheet 80 Support substrate 81 First surface 82 Second surface 85 Adhesive layer 100 Object

Claims (18)

第1方向において間隔を空けて対向する第1領域及び第2領域と、前記第1領域に接続されている第1端及び前記第2領域に接続されている第2端を含む中間領域と、を含み、伸縮性を有する基材と、
前記第1領域に位置する第1部分と、前記第2領域に位置する第2部分と、前記中間領域に位置し、前記第1部分及び前記第2部分に接続されている中間部分と、を含む配線と、を備え、
前記基材の前記中間領域は、前記第1領域と前記第2領域との間に並ぶ複数の伸縮構造部を有し、
前記伸縮構造部は、前記第1方向に交差する方向に延びるとともに前記第1方向において対向する第1要素及び第2要素と、前記第1要素と前記第2要素とを接続する接続要素と、を含む、配線基板。
An intermediate region including a first region and a second region facing each other at intervals in the first direction, a first end connected to the first region, and a second end connected to the second region. With a stretchable substrate, including
A first portion located in the first region, a second portion located in the second region, and an intermediate portion located in the intermediate region and connected to the first portion and the second portion. With wiring, including
The intermediate region of the base material has a plurality of stretchable structural portions arranged between the first region and the second region.
The telescopic structure portion extends in a direction intersecting the first direction and faces the first element and the second element in the first direction, and a connecting element connecting the first element and the second element. Including the wiring board.
前記第1要素と前記第2要素との間の間隔の最小値は、複数の前記伸縮構造部の配列周期の0.4倍よりも小さい、請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, wherein the minimum value of the distance between the first element and the second element is smaller than 0.4 times the arrangement period of the plurality of elastic structure portions. 前記第1要素と前記第2要素との間の間隔の最小値は、複数の前記伸縮構造部の配列周期の0.2倍よりも小さい、請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, wherein the minimum value of the distance between the first element and the second element is smaller than 0.2 times the arrangement period of the plurality of telescopic structures. 前記第1要素と前記第2要素との間の間隔の最大値は、複数の前記伸縮構造部の配列周期の0.3倍よりも大きい、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線基板。 The maximum value of the distance between the first element and the second element is larger than 0.3 times the arrangement period of the plurality of elastic structure portions, according to any one of claims 1 to 3. Wiring board. 前記配線は、前記配線が延びる方向に並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有する、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the wiring has a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys arranged in a direction in which the wiring extends. 前記配線は、前記基材の第1面側に位置し、
前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅が、前記基材の前記第1面の反対側に位置する第2面の側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅よりも大きい、請求項5に記載の配線基板。
The wiring is located on the first surface side of the base material and is located on the first surface side.
The amplitudes of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the first surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring are on the opposite side of the first surface of the base material. The wiring board according to claim 5, which is larger than the amplitude of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the side of the second surface where the wiring is located, which overlaps with the bellows-shaped portion of the wiring.
前記配線は、前記基材の第1面側に位置し、
前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期が、前記基材の前記第1面の反対側に位置する第2面の側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期よりも小さい、請求項5又は6に記載の配線基板。
The wiring is located on the first surface side of the base material and is located on the first surface side.
The period of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the first surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring is on the opposite side of the first surface of the base material. The wiring board according to claim 5 or 6, which is smaller than the period of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the side of the second surface where the wiring is located, which overlaps with the bellows-shaped portion of the wiring.
前記配線は、前記基材の第1面側に位置し、
前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の位置が、前記基材の前記第1面の反対側に位置する第2面の側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の位置からずれている、請求項5乃至7のいずれか一項に記載の配線基板。
The wiring is located on the first surface side of the base material and is located on the first surface side.
The positions of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the first surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring are on the opposite side of the first surface of the base material. According to any one of claims 5 to 7, the positions of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the side of the second surface where the wirings are located overlap with the bellows-shaped portion of the wirings. The wiring board described.
前記配線は、前記基材の第1面側に位置し、
前記配線基板は、前記基材の第1面側に位置し、前記配線よりも低い弾性係数を有する調整層を備える、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の配線基板。
The wiring is located on the first surface side of the base material and is located on the first surface side.
The wiring board according to any one of claims 1 to 8, wherein the wiring board is located on the first surface side of the base material and includes an adjusting layer having an elastic modulus lower than that of the wiring.
前記基材は、熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル又はシリコンゲルを含む、請求項1乃至9のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring substrate according to any one of claims 1 to 9, wherein the base material contains a thermoplastic elastomer, silicone rubber, urethane gel, or silicon gel. 支持基板を更に備える、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 10, further comprising a support board. 前記支持基板は、前記基材よりも高い弾性係数を有し、前記配線を支持する、請求項11に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 11, wherein the support substrate has a higher elastic modulus than the base material and supports the wiring. 前記支持基板は、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタラートを含む、請求項11又は12に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 11 or 12, wherein the support substrate contains polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin, or polyethylene terephthalate. 前記基材の前記第1領域又は前記第2領域の少なくともいずれか一方において前記配線に電気的に接続される電子部品を更に備える、請求項1乃至13のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 13, further comprising an electronic component electrically connected to the wiring in at least one of the first region and the second region of the base material. 配線基板の製造方法であって、
伸縮性を有する基材に、少なくとも前記基材の第1面の面内方向の1つである第1方向において、張力を加えて、前記基材を伸長させる伸長工程と、
前記伸長工程によって伸長した状態の前記基材の第1面側に配線を設ける配線形成工程と、
前記基材を部分的に切断して、前記基材を、前記第1方向において間隔を空けて対向する第1領域及び第2領域と、前記第1領域に接続されている第1端及び前記第2領域に接続されている第2端を含む中間領域と、に区画する切断工程と、を備え、
前記配線は、前記基材の前記第1領域から前記中間領域を通って前記第2領域に至っており、
前記基材の前記中間領域は、前記第1領域と前記第2領域との間に並ぶ複数の伸縮構造部を有し、
前記伸縮構造部は、前記第1方向に交差する方向に延びるとともに前記第1方向において対向する第1要素及び第2要素と、前記第1要素と前記第2要素とを接続する接続要素と、を含む、配線基板の製造方法。
It is a method of manufacturing a wiring board.
An extension step of applying tension to a stretchable base material in at least one of the in-plane directions of the first surface of the base material to extend the base material.
A wiring forming step of providing wiring on the first surface side of the base material in a state of being stretched by the stretching step, and a wiring forming step.
The base material is partially cut so that the base material is spaced apart from each other in the first direction to face the first and second regions, the first end connected to the first region, and the said. The intermediate region including the second end connected to the second region and the cutting step for partitioning into the second region are provided.
The wiring reaches the second region from the first region of the base material through the intermediate region.
The intermediate region of the base material has a plurality of stretchable structural portions arranged between the first region and the second region.
The telescopic structure portion extends in a direction intersecting the first direction and faces the first element and the second element in the first direction, and a connecting element connecting the first element and the second element. A method of manufacturing a wiring board, including.
前記切断工程の後、前記基材から前記張力を取り除く収縮工程を備える、請求項15に記載の配線基板の製造方法。 The method for manufacturing a wiring board according to claim 15, further comprising a shrinking step of removing the tension from the base material after the cutting step. 前記配線形成工程は、支持基板に配線を形成する工程と、伸長した状態の前記基材の第1面側に前記支持基板を取り付ける工程と、を有する、請求項15に記載の配線基板の製造方法。 The production of the wiring board according to claim 15, wherein the wiring forming step includes a step of forming wiring on the support substrate and a step of attaching the support substrate to the first surface side of the stretched base material. Method. 前記配線形成工程の後であって、前記切断工程の前に、前記基材から前記張力を取り除く収縮工程を備える、請求項17に記載の配線基板の製造方法。 The method for manufacturing a wiring board according to claim 17, further comprising a shrinking step of removing the tension from the base material after the wiring forming step and before the cutting step.
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