JP2020071968A - Flexible organic el display manufacturing method - Google Patents

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剛史 池田
Tsuyoshi Ikeda
剛史 池田
生芳 高松
Ikuyoshi Takamatsu
生芳 高松
山本 幸司
Koji Yamamoto
山本  幸司
東光 崔
Dong Kwang Choi
東光 崔
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Abstract

To provide a flexible organic EL display manufacturing method in which the quality of a resin layer separated from a glass layer is less likely to deteriorate.SOLUTION: A flexible organic EL display manufacturing method includes a cutting step of cutting out a unit laminated substrate 70 of a predetermined size from a laminated substrate 60 in which a glass layer 61 and a resin layer 62 are laminated. In the cutting step, the glass layer 61 of the unit laminated substrate 70 is cut such that a cut surface 66 of the glass layer 61 is located outside a cut surface 67 of the resin layer 62.SELECTED DRAWING: Figure 14

Description

本発明は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a flexible organic EL display.

有機EL(electro luminescence)ディスプレイは発光層、電極、および、基板が積層された発光デバイスを備える。フレキシブル有機ELディスプレイでは、基板にフレキシブル基板が用いられる。フレキシブル有機ELディスプレイの製造工程では、ガラス層に樹脂層が形成され、樹脂層に発光層等が形成される(例えば特許文献1)。   An organic EL (electro luminescence) display includes a light emitting device in which a light emitting layer, electrodes, and a substrate are laminated. In a flexible organic EL display, a flexible substrate is used as the substrate. In a manufacturing process of a flexible organic EL display, a resin layer is formed on a glass layer, and a light emitting layer and the like are formed on the resin layer (for example, Patent Document 1).

再公表特許WO2011/030716号公報Republished Patent WO2011 / 030716

フレキシブル有機ELディスプレイの製造工程では、発光層等が形成された樹脂層とガラス層とは剥離される。剥離の手段は、例えばレーザリフトオフである。照射対象に対するレーザの照射の状態が、剥離される樹脂層の品質に影響を及ぼす場合がある。   In the manufacturing process of the flexible organic EL display, the resin layer on which the light emitting layer and the like are formed and the glass layer are separated from each other. The peeling means is, for example, laser lift-off. The state of laser irradiation on the irradiation target may affect the quality of the resin layer to be peeled off.

本発明の目的は、ガラス層から剥離される樹脂層の品質が低下しにくいフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible organic EL display in which the quality of the resin layer separated from the glass layer is less likely to deteriorate.

本発明に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、ガラス層と樹脂層とが積層された積層基板から所定サイズの単位積層基板を切り出す切断工程を含み、前記切断工程では、前記単位積層基板の前記ガラス層の切断面が前記樹脂層の切断面に対して外側に位置するように前記ガラス層を切断する。
この製造方法では、レーザがガラス層の切断面の影響を受けることなく樹脂層に照射される。樹脂層に適切にレーザが照射されるため、ガラス層から剥離される樹脂層の品質が低下しにくい。
The method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present invention includes a cutting step of cutting out a unit laminated substrate having a predetermined size from a laminated substrate in which a glass layer and a resin layer are laminated, and in the cutting step, the glass of the unit laminated substrate The glass layer is cut so that the cut surface of the layer is located outside the cut surface of the resin layer.
In this manufacturing method, the laser is applied to the resin layer without being affected by the cut surface of the glass layer. Since the resin layer is appropriately irradiated with the laser, the quality of the resin layer separated from the glass layer does not easily deteriorate.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記ガラス層は、前記樹脂層が形成される第1平面、および、前記第1平面と対をなす第2平面を含み、前記切断工程では、前記第2平面から前記第1平面に向かうにつれて前記ガラス層の幅が狭くなる切断面が形成されるように前記ガラス層を切断する。
垂直面に対して平行な切断面の形成を意図してガラス層を切断した場合でも製造誤差により切断面が垂直面に対して傾斜することがある。このような切断面の形成を正確に管理することには困難をともなう。上記製造方法では、傾斜した切断面の形成を意図してガラス層を切断するため、製造誤差の影響を考慮しても意図した方向とは異なる方向に傾斜した切断面が形成されにくい。
In an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, the glass layer includes a first plane on which the resin layer is formed, and a second plane that forms a pair with the first plane, and in the cutting step, The glass layer is cut so that a cut surface is formed in which the width of the glass layer becomes narrower from the second plane toward the first plane.
Even when the glass layer is cut to form a cut surface parallel to the vertical surface, the cut surface may be inclined with respect to the vertical surface due to manufacturing error. Accurate management of the formation of such a cut surface is difficult. In the above manufacturing method, the glass layer is cut with the intention of forming an inclined cut surface, so that even if the influence of manufacturing error is taken into consideration, it is difficult to form a cut surface inclined in a direction different from the intended direction.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記切断工程では、前記第2平面から前記第1平面に向かうにつれて前記ガラス層の幅が狭くなるスクライブラインが形成されるように前記ガラス層をスクライブし、スクライブされた前記ガラス層をブレイクする。
この製造方法では、樹脂層の切断面に対して外側に位置するガラス層の切断面を効率的に形成できる。
In an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, in the cutting step, the glass layer is scribed so that a scribe line is formed in which the width of the glass layer becomes narrower from the second plane toward the first plane. Then, the scribed glass layer is broken.
In this manufacturing method, the cut surface of the glass layer located outside the cut surface of the resin layer can be efficiently formed.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記切断工程では、回転中心面に対して非対称な形状の刃先部を有するスクライビングホイールを用いて前記ガラス層をスクライブする。
この製造方法では、垂直面に対して傾斜するガラス層の切断面の形状が刃先部の形状により規定され、ガラス層を容易に切断できる。
In an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, in the cutting step, the glass layer is scribed using a scribing wheel having a blade edge portion having an asymmetric shape with respect to a rotation center plane.
In this manufacturing method, the shape of the cut surface of the glass layer that is inclined with respect to the vertical surface is defined by the shape of the cutting edge portion, and the glass layer can be easily cut.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、レーザリフトオフにより前記単位積層基板の前記ガラス層と前記樹脂層とを剥離する剥離工程をさらに含む。
この製造方法によれば、樹脂層とガラス層とを効率的に剥離できる。
An example of the method for manufacturing the flexible organic EL display further includes a peeling step of peeling the glass layer and the resin layer of the unit laminated substrate by laser lift-off.
According to this manufacturing method, the resin layer and the glass layer can be efficiently separated.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記切断工程では、複数の前記積層基板を備え、前記複数の積層基板は第1ガラス層と第1樹脂層とが積層された第1積層基板、および、第2ガラス層と第2樹脂層とが積層された第2積層基板を含み、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが対向するように積層された多層積層基板から単位積層基板を切り出す。
この製造方法では、単位積層基板を切り出す元となる積層基板が多層積層基板である場合にも、レーザがガラス層の切断面の影響を受けることなく樹脂層に照射され、ガラス層から剥離される樹脂層の品質が低下しにくい。
In one example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, in the cutting step, a plurality of the laminated substrates are provided, and the plurality of laminated substrates are a first laminated substrate in which a first glass layer and a first resin layer are laminated, And a unit laminated substrate including a second laminated substrate in which a second glass layer and a second resin layer are laminated, in which the first resin layer and the second resin layer are laminated so as to face each other. Cut out.
In this manufacturing method, even when the laminated substrate from which the unit laminated substrate is cut out is a multilayer laminated substrate, the resin layer is irradiated with the laser without being affected by the cut surface of the glass layer, and is peeled from the glass layer. The quality of the resin layer does not easily deteriorate.

本発明によれば、ガラス層から剥離される樹脂層の品質が低下しにくくなる。   According to the present invention, the quality of the resin layer separated from the glass layer is less likely to deteriorate.

第1実施形態の製造方法に関する多層積層基板の断面図。Sectional drawing of the multilayer laminated substrate regarding the manufacturing method of 1st Embodiment. 図1の多層積層基板の平面図。The top view of the multilayer laminated substrate of FIG. レーザ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a laser processing apparatus. スクライブ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a scribe processing apparatus. スクライビングホイールの断面図。Sectional drawing of a scribing wheel. 第1実施形態の製造方法を示すフローチャート。3 is a flowchart showing the manufacturing method of the first embodiment. 後段加工工程の加工順番と加工種類との関係を示す図。The figure which shows the relationship between the processing order and processing type of a latter-stage processing process. レーザ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a laser processing apparatus. 単位積層基板の一例の断面図。Sectional drawing of an example of a unit laminated substrate. 剥離工程の一例を示す図。The figure which shows an example of a peeling process. 第2実施形態の製造方法に関する多層積層基板の断面図。Sectional drawing of the multilayer laminated substrate regarding the manufacturing method of 2nd Embodiment. 第2実施形態の製造方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing method of 2nd Embodiment. 切断工程の加工順番と加工種類との関係を示す図。The figure which shows the relationship between the processing order of a cutting process, and a processing type. 剥離工程の一例を示す図。The figure which shows an example of a peeling process. 変形例の製造方法に関する多層積層基板の断面図。Sectional drawing of the multilayer laminated substrate regarding the manufacturing method of a modification.

(第1実施形態)
図面を参照してフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法について説明する。フレキシブル有機ELディスプレイは、据置型の機器および携帯機器等に用いられる。据置型の機器の一例は、パーソナルコンピュータおよびテレビ受像機である。携帯機器の一例は、携帯情報端末、ウェアラブルコンピュータ、および、ノート型パーソナルコンピュータである。携帯情報端末の一例はスマートフォン、タブレット、および、携帯ゲーム機である。ウェアラブルコンピュータの一例は、ヘッドマウントディスプレイおよびスマートウォッチである。
(First embodiment)
A method for manufacturing a flexible organic EL display will be described with reference to the drawings. Flexible organic EL displays are used in stationary devices, mobile devices, and the like. An example of a stationary device is a personal computer and a television receiver. Examples of mobile devices are personal digital assistants, wearable computers, and notebook personal computers. Examples of mobile information terminals are smartphones, tablets, and mobile game consoles. Examples of wearable computers are head mounted displays and smart watches.

フレキシブル有機ELディスプレイは、発光層、電極、および、基板が積層された発光デバイスと、発光デバイスを一方から覆う第1保護フィルムと、発光デバイスを他方から覆う第2保護フィルムとを有する。第1保護フィルムおよび第2保護フィルムはそれぞれ、例えばPET(polyethylene terephthalate)が用いられる。なお、第1保護フィルムおよび第2保護フィルムの一方は省略してもよい。発光デバイスの製造工程では、図1に示される1枚の多層積層基板10から複数の発光デバイスが製造される。   The flexible organic EL display has a light emitting device in which a light emitting layer, an electrode, and a substrate are laminated, a first protective film that covers the light emitting device from one side, and a second protective film that covers the light emitting device from the other side. PET (polyethylene terephthalate) is used for the first protective film and the second protective film, respectively. One of the first protective film and the second protective film may be omitted. In the manufacturing process of the light emitting device, a plurality of light emitting devices are manufactured from the single multilayer laminated substrate 10 shown in FIG.

多層積層基板10は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造の途中段階で製造される。多層積層基板10は、第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとが積層された第1積層基板11と、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとが積層された第2積層基板12とを有する。多層積層基板10は、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとが対向するように第1積層基板11と第2積層基板12とが積層されて構成されている。多層積層基板10は、導電層13をさらに有する。導電層13は、例えば第1積層基板11の第1樹脂層11B上に形成されている。導電層13は、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとに挟まれている。導電層13は、OLED(Organic Light Diode)、TFT(Thin Film Transistor)等の電子デバイス用部材が形成されている。第1樹脂層11B、導電層13、および、第2樹脂層12Bは、発光デバイスを構成している。   The multilayer laminated substrate 10 is manufactured at an intermediate stage of manufacturing a flexible organic EL display. The multilayer laminated substrate 10 includes a first laminated substrate 11 in which a first glass layer 11A and a first resin layer 11B are laminated, and a second laminated substrate 12 in which a second glass layer 12A and a second resin layer 12B are laminated. Have and. The multilayer laminated substrate 10 is configured by laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 such that the first resin layer 11B and the second resin layer 12B face each other. The multilayer laminated substrate 10 further includes a conductive layer 13. The conductive layer 13 is formed on the first resin layer 11B of the first laminated substrate 11, for example. The conductive layer 13 is sandwiched between the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. The conductive layer 13 is formed with an electronic device member such as an OLED (Organic Light Diode) or a TFT (Thin Film Transistor). The first resin layer 11B, the conductive layer 13, and the second resin layer 12B form a light emitting device.

第1積層基板11の第1ガラス層11Aと第2積層基板12の第2ガラス層12Aとは同じ材料が用いられ、同じサイズに形成されている。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの組成は、特に限定されないが、例えばアルカリ金属酸化物を含有するガラス、または無アルカリガラス等の種々の組成のガラスを用いることができる。アルカリ金属酸化物を含有するガラスの一例は、ソーダライムガラスである。本実施形態では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aは、無アルカリガラスが用いられる。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの厚さはそれぞれ、特に限定されないが、例えば0.5mm程度であることが好ましい。第1ガラス層11Aは、第1樹脂層11Bが形成される第1平面14A、および、第1平面14Aと対をなす第2平面14Bを有する。第2ガラス層12Aは、第2樹脂層12Bが形成される第1平面15A、および、第1平面15Aと対をなす第2平面15Bを有する。   The first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 and the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 are made of the same material and have the same size. The composition of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not particularly limited, but glass having various compositions such as glass containing an alkali metal oxide or non-alkali glass can be used. An example of glass containing an alkali metal oxide is soda lime glass. In this embodiment, non-alkali glass is used for the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. The thickness of each of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not particularly limited, but is preferably about 0.5 mm, for example. The first glass layer 11A has a first flat surface 14A on which the first resin layer 11B is formed, and a second flat surface 14B paired with the first flat surface 14A. The second glass layer 12A has a first flat surface 15A on which the second resin layer 12B is formed, and a second flat surface 15B paired with the first flat surface 15A.

第1積層基板11の第1樹脂層11Bと第2積層基板12の第2樹脂層12Bとは同じ材料が用いられ、同じサイズに形成されている。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの組成は、特に限定されないが、例えばポリイミド(PI)を用いることができる。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの厚さはそれぞれ、特に限定されないが、例えば10μm以上30μm以下の範囲であることが好ましい。   The first resin layer 11B of the first laminated substrate 11 and the second resin layer 12B of the second laminated substrate 12 are made of the same material and have the same size. The compositions of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are not particularly limited, but polyimide (PI) can be used, for example. The thickness of each of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 μm or more and 30 μm or less, for example.

図2は、多層積層基板10の平面図である。
図2の破線によって示される切断予定部16,17に沿って多層積層基板10を格子状に切断することによって単位積層基板20が形成される。単位積層基板20の平面視におけるサイズは、平面視において発光デバイスの予め決められたサイズに相当する。
FIG. 2 is a plan view of the multilayer laminated substrate 10.
A unit laminated substrate 20 is formed by cutting the multilayer laminated substrate 10 in a lattice shape along the planned cutting portions 16 and 17 indicated by broken lines in FIG. The size of the unit laminated substrate 20 in plan view corresponds to the predetermined size of the light emitting device in plan view.

多層積層基板10の切断には、レーザ加工装置およびスクライブ加工装置の少なくとも一方が用いられる。図3は、レーザ加工装置の構成の一例であり、図4は、スクライブ加工装置の構成の一例である。図3および図4において、X軸方向、Y軸方向、および、Z軸方向を図3および図4に示すとおり規定する。なお、第1積層基板11および第2積層基板12の切断には、ダイシング加工装置(図示略)を用いてもよい。   At least one of a laser processing device and a scribing device is used to cut the multilayer laminated substrate 10. FIG. 3 is an example of the configuration of the laser processing apparatus, and FIG. 4 is an example of the configuration of the scribing apparatus. 3 and 4, the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction are defined as shown in FIGS. 3 and 4. A dicing machine (not shown) may be used to cut the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12.

図3に示されるように、レーザ加工装置30は、多層積層基板10を切断するためのレーザ装置31と、レーザ装置31に対して多層積層基板10を移動させるための機械駆動系32と、レーザ装置31および機械駆動系32を制御する第1制御部33とを備える。   As shown in FIG. 3, the laser processing apparatus 30 includes a laser device 31 for cutting the multilayer laminated substrate 10, a mechanical drive system 32 for moving the multilayer laminated substrate 10 with respect to the laser device 31, and a laser. A first control unit 33 that controls the device 31 and the mechanical drive system 32.

レーザ装置31は、多層積層基板10における第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bと、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aとの少なくとも一方を加工可能である。レーザ装置31は、多層積層基板10にレーザ光を照射するためのレーザ発振器34と、レーザ光を機械駆動系32に伝送する伝送光学系35とを有する。レーザ発振器34は、例えばUV(Ultra Violet)レーザまたはCOレーザである。レーザ加工装置30が第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを加工する場合、レーザ発振器34はUVレーザである。レーザ加工装置30が第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを加工する場合、レーザ発振器34はCOレーザまたはUVレーザである。伝送光学系35は、例えば集光レンズ、複数のミラー、プリズム、ビームエキスパンダ等から構成される。また、伝送光学系35は、例えばレーザ発振器34が組み込まれたレーザ照射ヘッドをX軸方向に移動させるためのX軸方向移動機構を有する。レーザ発振器34から照射されたレーザ光は、伝送光学系35を介して多層積層基板10に向けて照射される。 The laser device 31 can process at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B and the first glass layer 11A and the second glass layer 12A in the multilayer laminated substrate 10. The laser device 31 has a laser oscillator 34 for irradiating the multilayer laminated substrate 10 with laser light, and a transmission optical system 35 for transmitting the laser light to the mechanical drive system 32. The laser oscillator 34 is, for example, a UV (Ultra Violet) laser or a CO 2 laser. When the laser processing device 30 processes the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the laser oscillator 34 is a UV laser. When the laser processing device 30 processes the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the laser oscillator 34 is a CO 2 laser or a UV laser. The transmission optical system 35 includes, for example, a condenser lens, a plurality of mirrors, a prism, a beam expander, and the like. Further, the transmission optical system 35 has an X-axis direction moving mechanism for moving the laser irradiation head in which the laser oscillator 34 is incorporated, for example, in the X-axis direction. The laser light emitted from the laser oscillator 34 is emitted toward the multilayer laminated substrate 10 via the transmission optical system 35.

機械駆動系32は、レーザ装置31とZ軸方向に対向して配置されている。機械駆動系32は、ベッド36、加工テーブル37、および、移動装置38から構成される。加工テーブル37上には、多層積層基板10が載置される。移動装置38は、加工テーブル37をベッド36に対して水平方向(X軸方向およびY軸方向)に移動させる。移動装置38は、ガイドレール、移動テーブル、モータ等を有する公知の機構である。   The mechanical drive system 32 is arranged to face the laser device 31 in the Z-axis direction. The mechanical drive system 32 includes a bed 36, a processing table 37, and a moving device 38. The multilayer laminated substrate 10 is placed on the processing table 37. The moving device 38 moves the processing table 37 in the horizontal direction (X-axis direction and Y-axis direction) with respect to the bed 36. The moving device 38 is a known mechanism having a guide rail, a moving table, a motor, and the like.

第1制御部33は、予め定められる制御プログラムを実行する演算処理装置を有する。演算処理装置は、例えばCPU(Central Processing Unit)またはMPU(Micro Processing Unit)を有する。第1制御部33は、1または複数のマイクロコンピュータを有してもよい。第1制御部33は、記憶部をさらに有する。記憶部には、各種の制御プログラムおよび各種の制御処理に用いられる情報が記憶される。記憶部は、例えば不揮発性メモリおよび揮発性メモリを有する。第1制御部33は、レーザ装置31に設けられてもよいし、機械駆動系32に設けられてもよいし、レーザ装置31および機械駆動系32とは別に設けられてもよい。第1制御部33がレーザ装置31および機械駆動系32とは別に設けられる場合、第1制御部33の配置位置は任意に設定可能である。   The first controller 33 has an arithmetic processing unit that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU (Central Processing Unit) or an MPU (Micro Processing Unit). The first control unit 33 may include one or more microcomputers. The first control unit 33 further includes a storage unit. The storage unit stores various control programs and information used for various control processes. The storage unit has, for example, a non-volatile memory and a volatile memory. The first control unit 33 may be provided in the laser device 31, may be provided in the mechanical drive system 32, or may be provided separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32. When the first control unit 33 is provided separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32, the arrangement position of the first control unit 33 can be set arbitrarily.

図4に示されるように、スクライブ加工装置40は、スクライビングホイール50と多層積層基板10とがX軸方向およびY軸方向に相対的に移動することによって多層積層基板10にX軸方向およびY軸方向に沿うスクライブラインを形成する。スクライブ加工装置40は、多層積層基板10を加工するための加工装置41と、多層積層基板10を搬送するための搬送装置42と、加工装置41および搬送装置42を制御する第2制御部43とを備える。   As shown in FIG. 4, in the scribing apparatus 40, the scribing wheel 50 and the multilayer laminated substrate 10 are relatively moved in the X-axis direction and the Y-axis direction, whereby the multilayer laminated substrate 10 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction. Form a scribe line along the direction. The scribing processing device 40 includes a processing device 41 for processing the multilayer laminated substrate 10, a transport device 42 for transporting the multilayer laminated substrate 10, and a second controller 43 for controlling the processing device 41 and the transport device 42. Equipped with.

搬送装置42は、一対のレール44、テーブル45、直進駆動装置46、回転装置47等から構成される。一対のレール44は、Y軸方向に沿って延びている。図4のスクライブ加工装置40では、スクライブ加工装置40のベース(図示略)に一対のレール44が配置され、直進駆動装置46によってテーブル45が一対のレール44に沿って往復移動し、回転装置47によってテーブル45が中心軸Cまわりを回転する。テーブル45には、多層積層基板10が載置される。直進駆動装置46の一例は、送りねじ装置を有する。回転装置47は、駆動源となるモータを有する。   The transfer device 42 includes a pair of rails 44, a table 45, a linear drive device 46, a rotation device 47, and the like. The pair of rails 44 extend along the Y-axis direction. In the scribing device 40 of FIG. 4, a pair of rails 44 are arranged on the base (not shown) of the scribing device 40, and the linear drive device 46 causes the table 45 to reciprocate along the pair of rails 44, and the rotating device 47. This causes the table 45 to rotate about the central axis C. The multilayer laminated substrate 10 is placed on the table 45. An example of the linear drive device 46 has a feed screw device. The rotating device 47 has a motor that serves as a drive source.

加工装置41は、横駆動装置48、縦駆動装置49、および、スクライビングホイール50等から構成される。スクライビングホイール50は、スクライビングホイール50を保持するためのホルダユニットに取り付けられる。ホルダユニットは、ホルダユニットを保持するためのスクライブヘッドに取り付けられる。スクライブヘッドは、横駆動装置48によってX軸方向に移動し、縦駆動装置49によってZ軸方向に移動する。スクライビングホイール50がX軸方向に移動することによって、多層積層基板10にX軸方向に沿うスクライブラインを形成する。   The processing device 41 includes a lateral drive device 48, a vertical drive device 49, a scribing wheel 50, and the like. The scribing wheel 50 is attached to a holder unit for holding the scribing wheel 50. The holder unit is attached to a scribing head for holding the holder unit. The scribing head is moved in the X-axis direction by the lateral drive device 48, and is moved in the Z-axis direction by the vertical drive device 49. By moving the scribing wheel 50 in the X-axis direction, a scribe line is formed in the multilayer laminated substrate 10 along the X-axis direction.

スクライビングホイール50は、ホルダユニットに取り付けられるピン(図示略)に回転可能に支持される。スクライビングホイール50を構成する材料の一例は、焼結ダイヤモンド(Poly Crystalline Diamond)、超硬金属、単結晶ダイヤモンド、および、多結晶ダイヤモンドである。スクライビングホイール50は、例えば図5(a)に示される形状のスクライビングホイール50A、および、図5(b)に示される形状のスクライビングホイール50Bのいずれかを用いることができる。   The scribing wheel 50 is rotatably supported by a pin (not shown) attached to the holder unit. Examples of the material forming the scribing wheel 50 are sintered diamond (Poly Crystalline Diamond), cemented carbide, single crystal diamond, and polycrystalline diamond. As the scribing wheel 50, for example, one of the scribing wheel 50A having the shape shown in FIG. 5A and the scribing wheel 50B having the shape shown in FIG. 5B can be used.

図5(a)に示されるスクライビングホイール50Aは、円板状の本体部51と、断面V字状の刃先部52とから構成される。断面V字状とは、スクライビングホイール50Aの厚さ方向(以下「厚さ方向DT」)に沿う平面でスクライビングホイール50Aを切った断面において、スクライビングホイール50Aの外周縁に向けて先細る形状である。   The scribing wheel 50A shown in FIG. 5A is composed of a disk-shaped main body 51 and a blade edge 52 having a V-shaped cross section. The V-shaped cross section is a shape that tapers toward the outer peripheral edge of the scribing wheel 50A in a cross section obtained by cutting the scribing wheel 50A along a plane along the thickness direction of the scribing wheel 50A (hereinafter referred to as "thickness direction DT"). ..

本体部51の中心部には、本体部51を厚さ方向DTに貫通する挿入孔53が形成される。挿入孔53にはピンが挿入される。
刃先部52は、断面V字状を形成する2つの斜面である第1斜面52Aおよび第2斜面52Bを有する。第1斜面52Aおよび第2斜面52Bは、スクライビングホイール50Aの厚さ方向DTの中心であって、厚さ方向DTに直交する回転中心面RCに対して対称である。
An insertion hole 53 that penetrates the body 51 in the thickness direction DT is formed in the center of the body 51. A pin is inserted into the insertion hole 53.
The blade edge portion 52 has a first slope 52A and a second slope 52B, which are two slopes forming a V-shaped cross section. The first slope 52A and the second slope 52B are the centers of the scribing wheel 50A in the thickness direction DT and are symmetrical with respect to the rotation center plane RC orthogonal to the thickness direction DT.

図5(b)に示されるスクライビングホイール50Bは、スクライビングホイール50Aと比較して、刃先部52の形状が異なる。スクライビングホイール50Bの刃先部52における第1斜面52Aおよび第2斜面52Bは、回転中心面RCに対して非対称である。より詳細には、厚さ方向に沿うスクライビングホイール50Bの断面において、スクライビングホイール50Bの径方向に平行な線分L1と第1斜面52Aとがなす第1角度θ1は、線分L1と第2斜面52Bとがなす第2角度θ2よりも大きい。なお、回転中心面RCに対して線分L1に沿う方向における刃先部52の先端の位置がずれていれば、第1角度θ1は、第2角度θ2と等しくてもよい。   The scribing wheel 50B shown in FIG. 5 (b) is different from the scribing wheel 50A in the shape of the cutting edge portion 52. The first slope 52A and the second slope 52B in the cutting edge portion 52 of the scribing wheel 50B are asymmetric with respect to the rotation center plane RC. More specifically, in the cross section of the scribing wheel 50B along the thickness direction, the first angle θ1 formed by the line segment L1 parallel to the radial direction of the scribing wheel 50B and the first slope surface 52A is the line segment L1 and the second slope surface. It is larger than the second angle θ2 formed by 52B. The first angle θ1 may be equal to the second angle θ2 as long as the position of the tip of the cutting edge portion 52 is displaced with respect to the rotation center plane RC in the direction along the line segment L1.

第2制御部43は、予め定められる制御プログラムを実行する演算処理装置を有する。演算処理装置は、例えばCPUまたはMPUを有する。第2制御部43は、1または複数のマイクロコンピュータを有してもよい。第2制御部43は、記憶部をさらに有する。記憶部には、各種の制御プログラムおよび各種の制御処理に用いられる情報が記憶される。記憶部は、例えば不揮発性メモリおよび揮発性メモリを有する。第2制御部43は、加工装置41に設けられてもよいし、搬送装置42に設けられてもよいし、加工装置41および搬送装置42とは別に設けられてもよい。第2制御部43が加工装置41および搬送装置42とは別に設けられる場合、第2制御部43の配置位置は任意に設定可能である。   The second control unit 43 has an arithmetic processing unit that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU or MPU. The second control unit 43 may have one or more microcomputers. The second control unit 43 further includes a storage unit. The storage unit stores various control programs and information used for various control processes. The storage unit has, for example, a non-volatile memory and a volatile memory. The second controller 43 may be provided in the processing device 41, may be provided in the transport device 42, or may be provided separately from the processing device 41 and the transport device 42. When the second control unit 43 is provided separately from the processing device 41 and the transfer device 42, the arrangement position of the second control unit 43 can be set arbitrarily.

〔フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法〕
次に、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の詳細について説明する。図6は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の工程の一例を示す。
[Method for manufacturing flexible organic EL display]
Next, details of the method for manufacturing the flexible organic EL display will be described. FIG. 6 shows an example of steps of a method for manufacturing a flexible organic EL display.

フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法では、第1積層基板11および第2積層基板12を貼り合せて多層積層基板10を製造後、多層積層基板10を所定サイズに切断して単位積層基板20を製造する。次に、単位積層基板20から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを除去することにより、発光デバイスが製造される。そして、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに第1保護フィルムおよび第2保護フィルムを取り付ける。これにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   In the method of manufacturing a flexible organic EL display, after the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are bonded to each other to produce the multilayer laminated substrate 10, the multilayer laminated substrate 10 is cut into a predetermined size to produce the unit laminated substrate 20. .. Next, the light emitting device is manufactured by removing the first glass layer 11A and the second glass layer 12A from the unit laminated substrate 20. Then, the first protective film and the second protective film are attached to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. Thereby, a flexible organic EL display is manufactured.

図6に示されるように、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程よりも前の工程である前段工程と、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程以降の工程である後段工程とに区分される。前段工程は、前段積層工程を含む。前段積層工程は、第1積層基板11および第2積層基板12を製造する工程である。後段工程は、後段積層工程、後段加工工程、および、剥離工程を含む。後段積層工程は、第1積層基板11および第2積層基板12を積層して多層積層基板10を製造する工程である。後段加工工程は、多層積層基板10の切断予定部16,17に沿って多層積層基板10を切断することにより、すなわち多層積層基板10を所定サイズに切断することにより、単位積層基板20を製造する工程である。剥離工程は、レーザリフトオフ(LLO:Laser Lift Off)によって第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとを剥離し、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとを剥離する工程である。以下、各工程の詳細について説明する。   As shown in FIG. 6, in the method for manufacturing a flexible organic EL display, a first step, which is a step prior to the step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, a first laminated substrate 11 and a second laminated substrate 11 It is divided into a subsequent step, which is a step after the step of stacking the two-layered substrate 12. The pre-stage process includes a pre-stage lamination process. The pre-stage laminating step is a step of manufacturing the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The post-stage process includes a post-stage laminating process, a post-stage processing process, and a peeling process. The latter-stage laminating step is a step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 to manufacture the multilayer laminated substrate 10. In the latter-stage processing step, the unit laminated board 20 is manufactured by cutting the multilayer laminated board 10 along the planned cutting portions 16 and 17 of the multilayer laminated board 10, that is, by cutting the multilayer laminated board 10 into a predetermined size. It is a process. The peeling step is a step of peeling the first glass layer 11A and the first resin layer 11B and peeling the second glass layer 12A and the second resin layer 12B by laser lift off (LLO). The details of each step will be described below.

前段積層工程では、第1ガラス層11Aの第1平面14Aの全体にわたり第1樹脂層11Bを形成することによって第1積層基板11を製造し、第2ガラス層12Aの第1平面15Aの全体にわたり第2樹脂層12Bを形成することによって第2積層基板12を製造する。第1ガラス層11Aの第1平面14Aへの第1樹脂層11Bの形成方法、および、第2ガラス層12Aの第1平面15Aへの第2樹脂層12Bの形成方法はそれぞれ、ガラス層に樹脂層を塗布する方法、または、ガラス層に接着層を介して樹脂層をラミネートする方法を選択できる。またガラス層に樹脂層を固定する方法として、加熱硬化処理、または、プレス法による加熱および加圧処理を選択できる。   In the first-stage laminating step, the first laminated substrate 11 is manufactured by forming the first resin layer 11B over the entire first plane 14A of the first glass layer 11A, and over the entire first plane 15A of the second glass layer 12A. The second laminated substrate 12 is manufactured by forming the second resin layer 12B. The method for forming the first resin layer 11B on the first flat surface 14A of the first glass layer 11A and the method for forming the second resin layer 12B on the first flat surface 15A of the second glass layer 12A are respectively the resin for the glass layer. A method of applying a layer or a method of laminating a resin layer on a glass layer via an adhesive layer can be selected. As a method for fixing the resin layer to the glass layer, heat curing treatment or heating and pressure treatment by a pressing method can be selected.

後段積層工程では、所定サイズに切断されていない第1積層基板11と所定サイズに切断されていない第2積層基板12とを積層する。一例では、第1積層基板11と第2積層基板12とが、例えば接着層SDを介して貼り合せられる。これにより、多層積層基板10が製造される。   In the latter-stage laminating step, the first laminated substrate 11 not cut into a predetermined size and the second laminated substrate 12 not cut into a predetermined size are laminated. In one example, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are attached to each other via, for example, the adhesive layer SD. Thereby, the multilayer laminated substrate 10 is manufactured.

後段加工工程は、第1積層基板11および第2積層基板12をそれぞれ切断する後段切断工程を含む。後段加工工程の後段切断工程では、例えば図7(a)(b)に示されるように、多層積層基板10を切断する順番および加工種類を任意に選択できる。図7(a)の表は、第1積層基板11および第2積層基板12の順に切断する場合の各層の加工順番と加工種類との関係の一例を示す。図7(b)は、第2積層基板12および第1積層基板11の順に切断する場合の各層の加工順番と加工種類との関係の一例を示す。図7(a)(b)に示されるとおり、第1樹脂層11Bを第1ガラス層11Aよりも前に切断またはスクライブする場合、および、第2樹脂層12Bを第2ガラス層12Aよりも前に切断またはスクライブする場合、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの加工にスクライブ加工装置40を用いることはできない。第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bをレーザで切断する場合、例えば次の第1の方法および第2の方法を選択できる。第1の方法は、レーザによって第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bをスクライブした後、第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bをブレイクする。第2の方法は、レーザによって第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bを切断する。なお、第1の工程例の後段加工工程の後段切断工程では、第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bに対して、切断する層およびスクライブ後にブレイクする層のいずれかを任意に選択できる。   The post-processing step includes a post-cutting step of cutting the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, respectively. In the post-cutting step of the post-processing step, as shown in FIGS. 7A and 7B, for example, the order in which the multilayer laminated substrate 10 is cut and the processing type can be arbitrarily selected. The table of FIG. 7A shows an example of the relationship between the processing order and processing type of each layer when the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are cut in this order. FIG. 7B shows an example of the relationship between the processing order and processing type of each layer when the second laminated substrate 12 and the first laminated substrate 11 are cut in this order. As shown in FIGS. 7A and 7B, when the first resin layer 11B is cut or scribed before the first glass layer 11A, and when the second resin layer 12B is before the second glass layer 12A. In the case of cutting or scribing, the scribe processing device 40 cannot be used for processing the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. When cutting the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B with a laser, for example, the following first method and second method can be selected. The first method is to scribe the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B with a laser, and then the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, The first resin layer 11B and the second resin layer 12B are broken. The second method cuts the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B with a laser. In the second-stage cutting process of the first-stage processing example, in the second-stage cutting process, the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B are cut into layers and Any of the layers to be broken after scribing can be arbitrarily selected.

第1樹脂層11Bまたは第2樹脂層12Bをレーザで切断する場合、第1樹脂層11Bまたは第2樹脂層12Bに対するレーザの照射におけるレーザの出力を、所定温度以上のガスの発生が抑制される所定出力未満に設定し、第1樹脂層11Bまたは第2樹脂層12Bにレーザを複数回照射することが好ましい。レーザによる第1樹脂層11Bまたは第2樹脂層12Bの加工時に発生するガスが時間の経過とともに冷却されるため、多層積層基板10の内部のガスの体積の増大を抑制できる。   When the first resin layer 11B or the second resin layer 12B is cut with a laser, generation of a gas having a laser output during laser irradiation of the first resin layer 11B or the second resin layer 12B above a predetermined temperature is suppressed. It is preferable to set the output to less than the predetermined output and irradiate the first resin layer 11B or the second resin layer 12B with the laser multiple times. Since the gas generated when the first resin layer 11B or the second resin layer 12B is processed by the laser is cooled with the passage of time, it is possible to suppress an increase in the volume of the gas inside the multilayer laminated substrate 10.

レーザまたはスクライビングホイール50によって第1ガラス層11Aをスクライブした後、レーザによって第2樹脂層12Bを切断または第2樹脂層12Bをスクライブする場合、第2ガラス層12A側からレーザを照射することが好ましい。レーザによって第2樹脂層12Bを切断する場合、第2樹脂層12Bを切断後、同一照射方向のレーザによって第1樹脂層11Bを切断または第1樹脂層11Bをスクライブしてもよい。レーザまたはスクライビングホイール50によって第2ガラス層12Aをスクライブした後、レーザによって第1樹脂層11Bを切断または第1樹脂層11Bをスクライブする場合、第1ガラス層11A側からレーザを照射することが好ましい。レーザによって第1樹脂層11Bを切断する場合、第1樹脂層11Bを切断後、同一照射方向のレーザによって第2樹脂層12Bを切断または第2樹脂層12Bをスクライブしてもよい。   When the second resin layer 12B is cut or the second resin layer 12B is scribed by the laser after the first glass layer 11A is scribed by the laser or the scribing wheel 50, it is preferable to irradiate the laser from the second glass layer 12A side. .. When the second resin layer 12B is cut by the laser, the first resin layer 11B may be cut or the first resin layer 11B may be scribed by the laser in the same irradiation direction after cutting the second resin layer 12B. When the first resin layer 11B is cut or the first resin layer 11B is scribed by the laser after the second glass layer 12A is scribed by the laser or the scribing wheel 50, it is preferable to irradiate the laser from the first glass layer 11A side. .. When the first resin layer 11B is cut by the laser, the second resin layer 12B may be cut or the second resin layer 12B may be scribed by the laser in the same irradiation direction after cutting the first resin layer 11B.

ガラス層および樹脂層のそれぞれをレーザによって切断またはガラス層および樹脂層のそれぞれをスクライブする場合、図3に示されるレーザ加工装置30に代えて、図8に示されるレーザ加工装置30Aが用いられる。レーザ加工装置30Aは、レーザ加工装置30と比較して、レーザ装置の構成が異なる。以下、レーザ加工装置30Aのうちの異なる構成について説明する。   When cutting each of the glass layer and the resin layer with a laser or scribing each of the glass layer and the resin layer, a laser processing apparatus 30A shown in FIG. 8 is used instead of the laser processing apparatus 30 shown in FIG. The laser processing device 30A is different from the laser processing device 30 in the configuration of the laser device. Hereinafter, a different configuration of the laser processing device 30A will be described.

レーザ加工装置30Aのレーザ装置31Aは、第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを有する。第1レーザ発振器34AはUVレーザであり、第2レーザ発振器34BはCOレーザである。第1レーザ発振器34Aから照射されたレーザ光、および、第2レーザ発振器34Bから照射されたレーザ光は、伝送光学系35を介して多層積層基板10に照射される。なお、伝送光学系35は、第1レーザ発振器34Aに対応する伝送光学系と、第2レーザ発振器34Bに対応する伝送光学系とが個別に設けられてもよい。 The laser device 31A of the laser processing device 30A has a first laser oscillator 34A and a second laser oscillator 34B. The first laser oscillator 34A is a UV laser and the second laser oscillator 34B is a CO 2 laser. The laser light emitted from the first laser oscillator 34A and the laser light emitted from the second laser oscillator 34B are emitted to the multilayer laminated substrate 10 via the transmission optical system 35. The transmission optical system 35 may be provided with a transmission optical system corresponding to the first laser oscillator 34A and a transmission optical system corresponding to the second laser oscillator 34B separately.

第1制御部33は、多層積層基板10に対する加工対象の種類(ガラス層または樹脂層)に応じて第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを選択する。例えば第1制御部33は、予め記憶された制御プログラムによって加工対象の種類であるガラス層および樹脂層の加工順番を定め、定められた加工順番に応じて第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを選択する。   The first control unit 33 selects the first laser oscillator 34A and the second laser oscillator 34B according to the type (glass layer or resin layer) of the processing target for the multilayer laminated substrate 10. For example, the first control unit 33 determines the processing order of the glass layer and the resin layer, which are the types of processing targets, according to a control program stored in advance, and the first laser oscillator 34A and the second laser oscillator according to the determined processing order. Select 34B.

図9は、後段切断工程において製造された単位積層基板20の一例を示す。図9に示される単位積層基板20は、図5(b)に示されるスクライビングホイール50Bによって第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aがスクライブされた後にブレイクされることによって製造される。図9に示される単位積層基板20の断面において、単位積層基板20の厚さ方向Tと直交する方向を幅方向Wと規定する。単位積層基板20の断面において、単位積層基板20の幅方向Wの中心に向かう側を内側とし、幅方向Wの端部に向かう方向を外側とする。   FIG. 9 shows an example of the unit laminated substrate 20 manufactured in the latter cutting process. The unit laminated substrate 20 shown in FIG. 9 is manufactured by scribing the first glass layer 11A and the second glass layer 12A by the scribing wheel 50B shown in FIG. 5B and then breaking them. In the cross section of the unit laminated substrate 20 shown in FIG. 9, the direction orthogonal to the thickness direction T of the unit laminated substrate 20 is defined as the width direction W. In the cross section of the unit laminated substrate 20, the side toward the center of the unit laminated substrate 20 in the width direction W is the inside, and the direction toward the end in the width direction W is the outside.

後段切断工程では、単位積層基板20の第1ガラス層11Aの切断面23Aが第1樹脂層11Bの切断面23Bに対して外側に位置するように第1ガラス層11Aを切断する。単位積層基板20の第2ガラス層12Aの切断面24Aが第2樹脂層12Bの切断面24Bに対して外側に位置するように第2ガラス層12Aを切断する。より詳細には、第1ガラス層11Aの第2平面14Bから第1平面14Aに向かうにつれて第1ガラス層11Aの幅WD1が狭くなる切断面23Aが形成されるように第1ガラス層11Aが切断されている。第2ガラス層12Aの第2平面15Bから第1平面15Aに向かうにつれて第2ガラス層12Aの幅WD2が狭くなる切断面24Aが形成されるように第2ガラス層12Aが切断されている。スクライビングホイール50Bによって第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライブするため、スクライブ加工装置40は、図9に示す断面視において第1ガラス層11Aの第2平面14Bから第1平面14Aに向かうにつれて第1ガラス層11Aの幅WD1が狭くなるスクライブライン(クラック)が形成されるように第1ガラス層11Aをスクライブする。次にスクライブした第1ガラス層11Aをブレイクする。スクライブ加工装置40は、図9に示す断面視において第2ガラス層12Aの第2平面15Bから第1平面15Aに向かうにつれて第2ガラス層12Aの幅WD2が狭くなるスクライブライン(クラック)が形成されるように第2ガラス層12Aをスクライブする。次にスクライブした第2ガラス層12Aをブレイクする。なお、スクライビングホイール50Bに代えて、レーザ加工装置30のレーザによって図9に示される第1ガラス層11Aの切断面23Aおよび第2ガラス層12Aの切断面24Aを形成してもよい。   In the latter-stage cutting step, the first glass layer 11A is cut such that the cut surface 23A of the first glass layer 11A of the unit laminated substrate 20 is located outside the cut surface 23B of the first resin layer 11B. The second glass layer 12A is cut such that the cut surface 24A of the second glass layer 12A of the unit laminated substrate 20 is located outside the cut surface 24B of the second resin layer 12B. More specifically, the first glass layer 11A is cut such that a cutting surface 23A is formed in which the width WD1 of the first glass layer 11A becomes narrower from the second plane 14B of the first glass layer 11A toward the first plane 14A. Has been done. The second glass layer 12A is cut so as to form a cut surface 24A in which the width WD2 of the second glass layer 12A becomes narrower from the second plane 15B of the second glass layer 12A toward the first plane 15A. Since the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed by the scribing wheel 50B, the scribing apparatus 40 moves from the second plane 14B of the first glass layer 11A to the first plane 14A in the cross-sectional view shown in FIG. As a result, the first glass layer 11A is scribed so that a scribe line (crack) that narrows the width WD1 of the first glass layer 11A is formed. Next, the scribed first glass layer 11A is broken. In the scribing apparatus 40, a scribe line (crack) is formed in which the width WD2 of the second glass layer 12A becomes narrower from the second plane 15B of the second glass layer 12A toward the first plane 15A in the cross-sectional view shown in FIG. So that the second glass layer 12A is scribed. Next, the scribed second glass layer 12A is broken. Instead of the scribing wheel 50B, the cut surface 23A of the first glass layer 11A and the cut surface 24A of the second glass layer 12A shown in FIG. 9 may be formed by the laser of the laser processing device 30.

剥離工程では、レーザリフトオフ装置(図示略)を用いる。本実施形態では、レーザリフトオフ装置のレーザとしてUVレーザが用いられる。図10(a)に示されるように、第1ガラス層11A側から第1樹脂層11Bにレーザを照射することによって第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離する。第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離する場合、レーザは、第1ガラス層11Aの第2平面14Bに直交するように照射される。次に、図10(b)に示されるように、第2ガラス層12A側から第2樹脂層12Bにレーザを照射することによって第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離する。第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離する場合、レーザは、第2ガラス層12Aの第2平面15Bに直交するように照射される。なお、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを剥離する順番は任意に変更可能である。例えば、第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離した後、第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離してもよい。   A laser lift-off device (not shown) is used in the peeling process. In this embodiment, a UV laser is used as the laser of the laser lift-off device. As shown in FIG. 10A, the first resin layer 11B and the first glass layer 11A are separated by irradiating the first resin layer 11B with a laser from the first glass layer 11A side. When peeling off the first resin layer 11B and the first glass layer 11A, the laser is applied so as to be orthogonal to the second plane 14B of the first glass layer 11A. Next, as shown in FIG. 10B, the second resin layer 12B and the second glass layer 12A are separated by irradiating the second resin layer 12B with a laser from the second glass layer 12A side. When peeling off the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the laser is applied so as to be orthogonal to the second plane 15B of the second glass layer 12A. The order of peeling the first glass layer 11A and the second glass layer 12A can be arbitrarily changed. For example, after peeling the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the first resin layer 11B and the first glass layer 11A may be peeled.

多層積層基板10から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aが取り除かれた(図10(c)参照)後、第1樹脂層11Bを覆うように第1保護フィルムが取り付けられ、第2樹脂層12Bを覆うように第2保護フィルムが取り付けられることにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   After the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are removed from the multilayer laminated substrate 10 (see FIG. 10C), the first protective film is attached so as to cover the first resin layer 11B, and the second resin The flexible organic EL display is manufactured by attaching the second protective film so as to cover the layer 12B.

図9に示される単位積層基板20では、第1樹脂層11Bの幅方向Wの端縁まで第1ガラス層11Aの第2平面14Bが形成され、第2樹脂層12Bの幅方向Wの端縁まで第2ガラス層12Aの第2平面15Bが形成されている。すなわち、厚さ方向Tにおいて、第1樹脂層11Bの幅方向Wの端縁と第1ガラス層11Aの切断面23Aとが重ならず、第2樹脂層12Bの幅方向Wの端縁と第2ガラス層12Aの切断面24Aとが重なっていない。このため、第1樹脂層11Bの幅方向Wの端縁および第2樹脂層12Bの幅方向Wの端縁に対してレーザリフトオフ装置のレーザを照射する場合、レーザが第1ガラス層11Aの切断面23Aおよび第2ガラス層12Aの切断面24Aを通過しない。   In the unit laminated substrate 20 shown in FIG. 9, the second flat surface 14B of the first glass layer 11A is formed up to the edge of the first resin layer 11B in the width direction W, and the edge of the second resin layer 12B in the width direction W is formed. The second plane 15B of the second glass layer 12A is formed up to. That is, in the thickness direction T, the edge in the width direction W of the first resin layer 11B and the cut surface 23A of the first glass layer 11A do not overlap each other, and the edge in the width direction W of the second resin layer 12B and the edge 2 The cut surface 24A of the glass layer 12A does not overlap. Therefore, when the laser of the laser lift-off device is irradiated to the widthwise W edge of the first resin layer 11B and the widthwise W edge of the second resin layer 12B, the laser cuts the first glass layer 11A. It does not pass through the surface 23A and the cut surface 24A of the second glass layer 12A.

本実施形態の効果について説明する。
(1−1)単位積層基板20の第1ガラス層11Aの切断面23Aが第1樹脂層11Bの切断面23Bよりも幅方向Wの外側に位置し、第2ガラス層12Aの切断面24Aが第2樹脂層12Bの切断面24Bよりも幅方向Wの外側に位置している。この製造方法によれば、レーザが第1ガラス層11Aの切断面23Aおよび第2ガラス層12Aの切断面24Aの影響を受けることなく、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに照射される。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bにそれぞれレーザが適切に照射されるため、第1ガラス層11Aから剥離される第1樹脂層11Bの品質、および、第2ガラス層12Aから剥離される第2樹脂層12Bの品質がそれぞれ低下しにくい。
The effects of this embodiment will be described.
(1-1) The cut surface 23A of the first glass layer 11A of the unit laminated substrate 20 is positioned outside the cut surface 23B of the first resin layer 11B in the width direction W, and the cut surface 24A of the second glass layer 12A is It is located outside the cut surface 24B of the second resin layer 12B in the width direction W. According to this manufacturing method, the laser is applied to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B without being affected by the cut surface 23A of the first glass layer 11A and the cut surface 24A of the second glass layer 12A. .. Since the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are appropriately irradiated with the laser, respectively, the quality of the first resin layer 11B separated from the first glass layer 11A and the quality of the first resin layer 11B separated from the second glass layer 12A. The quality of the second resin layer 12B does not easily deteriorate.

(1−2)後段切断工程では、第2平面14Bから第1平面14Aに向かうにつれて第1ガラス層11Aの幅WD1が狭くなる切断面23Aが形成されるように第1ガラス層11Aを切断する。第2平面15Bから第1平面15Aに向かうにつれて第2ガラス層12Aの幅WD2が狭くなる切断面24Aが形成されるように第2ガラス層12Aを切断する。この製造方法では、傾斜した切断面23A,24Aの形成を意図して第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを切断するため、製造誤差の影響を考慮しても意図した方向とは異なる方向に傾斜した切断面が形成されにくい。   (1-2) In the second-stage cutting step, the first glass layer 11A is cut so that the cutting surface 23A in which the width WD1 of the first glass layer 11A becomes narrower from the second flat surface 14B toward the first flat surface 14A is formed. .. The second glass layer 12A is cut so that a cutting surface 24A is formed in which the width WD2 of the second glass layer 12A becomes narrower from the second plane 15B toward the first plane 15A. In this manufacturing method, since the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are cut with the intention of forming the inclined cut surfaces 23A and 24A, even if the influence of the manufacturing error is taken into consideration, a direction different from the intended direction. It is difficult to form an inclined cut surface.

(1−3)後段切断工程では、第2平面14Bから第1平面14Aに向かうにつれて第1ガラス層11Aの幅WD1が狭くなるスクライブライン(クラック)が形成されるように第1ガラス層11Aをスクライブし、スクライブされた第1ガラス層11Aをブレイクする。第2平面15Bから第1平面15Aに向かうにつれて第2ガラス層12Aの幅WD2が狭くなるスクライブライン(クラック)が形成されるように第2ガラス層12Aをスクライブし、スクライブされた第2ガラス層12Aをブレイクする。この製造方法では、第1樹脂層11Bの切断面23Bに対して外側に位置する第1ガラス層11Aの切断面23Aを効率的に形成でき、第2樹脂層12Bの切断面24Bに対して外側に位置する第2ガラス層12Aの切断面24Aを効率的に形成できる。   (1-3) In the subsequent cutting step, the first glass layer 11A is formed so that scribe lines (cracks) are formed in which the width WD1 of the first glass layer 11A becomes narrower from the second plane 14B toward the first plane 14A. Scribe and break the scribed first glass layer 11A. The second glass layer 12A is scribed so as to form scribe lines (cracks) in which the width WD2 of the second glass layer 12A becomes narrower from the second plane 15B toward the first plane 15A, and the scribed second glass layer Break 12A. In this manufacturing method, the cut surface 23A of the first glass layer 11A located outside the cut surface 23B of the first resin layer 11B can be efficiently formed, and the cut surface 24B of the second resin layer 12B is cut outside. It is possible to efficiently form the cut surface 24A of the second glass layer 12A located at the position.

(1−4)後段切断工程では、図5(b)に示される回転中心面RCに対して非対称な形状の刃先部52を有するスクライビングホイール50Bを用いて第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライブする。この製造方法では、第2平面14Bに対して傾斜する第1ガラス層11Aの切断面23Aの形状、および第2平面15Bに対して傾斜する第2ガラス層12Aの切断面24Aの形状が刃先部52の形状により規定され、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを容易に切断できる。   (1-4) In the latter-stage cutting step, the first glass layer 11A and the second glass layer are formed by using the scribing wheel 50B having the cutting edge portion 52 having an asymmetric shape with respect to the rotation center plane RC shown in FIG. 5B. Scribe 12A. In this manufacturing method, the shape of the cutting surface 23A of the first glass layer 11A inclined with respect to the second plane 14B and the shape of the cutting surface 24A of the second glass layer 12A inclined with respect to the second plane 15B are the cutting edge portions. It is defined by the shape of 52, and the first glass layer 11A and the second glass layer 12A can be easily cut.

(1−5)レーザリフトオフによって第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとを剥離し、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとを剥離する剥離工程をさらに含む。この製造方法では、第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとを効率的に剥離でき、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとを効率的に剥離できる。   (1-5) A peeling step of peeling the first glass layer 11A and the first resin layer 11B and peeling the second glass layer 12A and the second resin layer 12B by laser lift-off is further included. In this manufacturing method, the first glass layer 11A and the first resin layer 11B can be efficiently peeled off, and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B can be efficiently peeled off.

(1−6)フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1積層基板11と第2積層基板12とを積層する工程以降の工程である後段工程において、多層積層基板10を所定サイズに切断する。この製造方法では、第1積層基板11と第2積層基板12とを積層された多層積層基板10の状態で切断されるため、積層作業が簡素化される。このため、フレキシブル有機ELディスプレイの製造効率が低下しにくい。   (1-6) In the method for manufacturing a flexible organic EL display, the multilayer laminated substrate 10 is cut into a predetermined size in a subsequent step that is a step after the step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. In this manufacturing method, since the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are cut in the laminated multilayer laminated substrate 10, the laminating operation is simplified. Therefore, the manufacturing efficiency of the flexible organic EL display is unlikely to decrease.

(1−7)後段加工工程の後段切断工程では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをまず切断し、次に第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを切断する。この製造方法では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aが先に切断されるため、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを切断する工程では第1樹脂層11Bにおける第1ガラス層11Aに覆われていない部分、および、第2樹脂層12Bにおける第2ガラス層12Aに覆われていない部分をそれぞれ切断できる。例えば、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bをレーザで切断する場合、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対するレーザの照射にともない発生するガスが第1ガラス層11Aの切断部分および第2ガラス層12Aの切断部分から排出される。このため、ガスが第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの品質に影響を及ぼすおそれが低くなる。   (1-7) In the latter cutting step of the latter processing step, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are first cut, and then the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut. In this manufacturing method, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are cut first, so in the step of cutting the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the first glass layer in the first resin layer 11B is cut. The portion not covered with 11A and the portion of the second resin layer 12B not covered with the second glass layer 12A can be cut. For example, in the case of cutting the first resin layer 11B and the second resin layer 12B with a laser, the gas generated by the irradiation of the laser on the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is the cut portion of the first glass layer 11A and It is discharged from the cut portion of the second glass layer 12A. For this reason, the gas is less likely to affect the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B.

(1−8)後段切断工程では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bをレーザにより切断する。このため、例えばスクライビングホイール50を用いた切断と比較して、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの切断時の発熱量が少なく、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの品質が低下しにくい。   (1-8) In the latter-stage cutting step, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut with a laser. Therefore, as compared with, for example, the cutting using the scribing wheel 50, the amount of heat generated when cutting the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is small, and the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is low. Hard to drop.

(1−9)後段切断工程では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対する1回あたりのレーザの照射におけるレーザの出力を、所定温度以上のガスの発生が抑制される所定出力未満に設定する。この製造方法によれば、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bにレーザが照射された場合に高温のガスが発生しにくく、ガスの影響により第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bの品質が低下するおそれが低減される。   (1-9) In the latter-stage cutting step, the laser output per laser irradiation to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is made less than a predetermined output that suppresses the generation of gas at a predetermined temperature or higher. Set. According to this manufacturing method, high-temperature gas is unlikely to be generated when the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are irradiated with laser, and the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are affected by the gas. The risk that the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B will deteriorate is reduced.

(第2実施形態)
図11〜図14を参照して、第2実施形態のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法について説明する。本実施形態では、第1実施形態と比較して、多層積層基板10に代えて積層基板60を製造する点が異なる。
(Second embodiment)
A method for manufacturing the flexible organic EL display of the second embodiment will be described with reference to FIGS. 11 to 14. The present embodiment is different from the first embodiment in that a laminated substrate 60 is manufactured instead of the multilayer laminated substrate 10.

図11に示されるように、積層基板60は、ガラス層61と樹脂層62とが積層されて構成される。ガラス層61は、樹脂層62が形成される第1平面63A、および、第1平面63Aと対をなす第2平面63Bを有する。積層基板60は、導電層68をさらに有する。導電層68は、第1実施形態の導電層13と同じである。樹脂層62および導電層68は、発光デバイスを構成している。ガラス層61の組成は、例えば第1実施形態の第1ガラス層11Aまたは第2ガラス層12Aの組成と同じである。樹脂層62の組成は、例えば第1実施形態の第1樹脂層11Bまたは第2樹脂層12Bの組成と同じである。   As shown in FIG. 11, the laminated substrate 60 is configured by laminating a glass layer 61 and a resin layer 62. The glass layer 61 has a first flat surface 63A on which the resin layer 62 is formed and a second flat surface 63B paired with the first flat surface 63A. The laminated substrate 60 further includes a conductive layer 68. The conductive layer 68 is the same as the conductive layer 13 of the first embodiment. The resin layer 62 and the conductive layer 68 form a light emitting device. The composition of the glass layer 61 is the same as that of the first glass layer 11A or the second glass layer 12A of the first embodiment, for example. The composition of the resin layer 62 is, for example, the same as the composition of the first resin layer 11B or the second resin layer 12B of the first embodiment.

図12に示されるように、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、積層工程、切断工程、および、剥離工程を含む。積層工程は、ガラス層61に樹脂層62を積層して積層基板60を製造する工程である。切断工程は、積層基板60から所定サイズの単位積層基板70(図14(a)参照)を切り出す工程である。剥離工程は、レーザリフトオフにより単位積層基板70の樹脂層62とガラス層61とを剥離する工程である。以下、各工程の詳細について説明する。   As shown in FIG. 12, the method for manufacturing a flexible organic EL display includes a laminating step, a cutting step, and a peeling step. The laminating step is a step of manufacturing the laminated substrate 60 by laminating the resin layer 62 on the glass layer 61. The cutting step is a step of cutting a unit laminated substrate 70 (see FIG. 14A) of a predetermined size from the laminated substrate 60. The peeling step is a step of peeling the resin layer 62 and the glass layer 61 of the unit laminated substrate 70 by laser lift-off. The details of each step will be described below.

積層工程では、ガラス層61の第1平面63Aの全体にわたり樹脂層62を形成することによって積層基板60を製造する。ガラス層61の第1平面63Aへの樹脂層62の形成方法は、ガラス層61に樹脂層62を塗布する方法、または、ガラス層61に接着層を介して樹脂層62をラミネートする方法を選択できる。またガラス層61に樹脂層62を固定する方法として、加熱硬化処理、または、プレス法による加熱および加圧処理を選択できる。   In the laminating process, the laminated substrate 60 is manufactured by forming the resin layer 62 over the entire first plane 63A of the glass layer 61. As a method of forming the resin layer 62 on the first plane 63A of the glass layer 61, a method of applying the resin layer 62 to the glass layer 61 or a method of laminating the resin layer 62 on the glass layer 61 via an adhesive layer is selected. it can. Further, as a method of fixing the resin layer 62 to the glass layer 61, heat curing treatment or heating and pressure treatment by a pressing method can be selected.

切断工程では、図11に示されるガラス層61の切断予定部64Aおよび樹脂層62の切断予定部64Bに沿ってガラス層61および樹脂層62をそれぞれ切断する。切断予定部64A,64Bは、積層基板60が所定サイズに切断するための切断部分である。図13に示されるように、切断工程では、積層基板60を切断する順番および加工種類を任意に選択できる。積層基板60は、樹脂層62およびガラス層61の順に切断してもよいし、ガラス層61および樹脂層62の順に切断してもよい。ガラス層61および樹脂層62の切断について、レーザ加工装置30およびスクライブ加工装置40のいずれかを用いてもよい。また、ガラス層61および樹脂層62の切断について、レーザ加工装置30またはスクライブ加工装置40によってスクライブした後、ブレイクしてもよいし、レーザ加工装置30によって切断してもよい。   In the cutting step, the glass layer 61 and the resin layer 62 are respectively cut along the planned cutting portion 64A of the glass layer 61 and the planned cutting portion 64B of the resin layer 62 shown in FIG. The planned cutting portions 64A and 64B are cutting portions for cutting the laminated substrate 60 into a predetermined size. As shown in FIG. 13, in the cutting step, the order of cutting the laminated substrate 60 and the processing type can be arbitrarily selected. The laminated substrate 60 may be cut in the order of the resin layer 62 and the glass layer 61, or may be cut in the order of the glass layer 61 and the resin layer 62. For cutting the glass layer 61 and the resin layer 62, either the laser processing device 30 or the scribe processing device 40 may be used. Regarding the cutting of the glass layer 61 and the resin layer 62, the laser processing device 30 or the scribing device 40 may scribe and then break, or the laser processing device 30 may cut.

切断工程において、ガラス層61の切断予定部64Aおよび樹脂層62の切断予定部64Bのそれぞれをレーザによってスクライブまたは切断する場合、図3に示されるレーザ加工装置30に代えて、図8に示されるレーザ加工装置30Aが用いられる。   In the cutting step, when scribing or cutting each of the planned cutting portion 64A of the glass layer 61 and the planned cutting portion 64B of the resin layer 62 by laser, instead of the laser processing device 30 shown in FIG. 3, it is shown in FIG. The laser processing device 30A is used.

図14(a)は、切断工程において図5(b)に示されるスクライビングホイール50Bによってガラス層61をスクライブおよびブレイクした場合の所定サイズの積層基板60である単位積層基板70を示す。図14(a)に示される単位積層基板70の断面において、単位積層基板70の厚さ方向Tと直交する方向を幅方向Wと規定する。単位積層基板70の断面において、単位積層基板70の幅方向Wの中心に向かう側を内側とし、幅方向Wの端部に向かう方向を外側とする。   FIG. 14A shows a unit laminated substrate 70 which is a laminated substrate 60 of a predetermined size when the glass layer 61 is scribed and broken by the scribing wheel 50B shown in FIG. 5B in the cutting step. In the cross section of the unit laminated substrate 70 shown in FIG. 14A, the direction orthogonal to the thickness direction T of the unit laminated substrate 70 is defined as the width direction W. In the cross section of the unit laminated substrate 70, the side facing the center of the unit laminated substrate 70 in the width direction W is the inner side, and the direction toward the end portion in the width direction W is the outer side.

切断工程では、単位積層基板70のガラス層61の切断面66が樹脂層62の切断面67に対して外側に位置するようにガラス層61の切断予定部64A(図11参照)を切断する。より詳細には、切断工程においてガラス層61の第2平面63Bから第1平面63Aに向かうにつれてガラス層61の幅WDが狭くなる切断面66が形成されるようにガラス層61の切断予定部64Aが切断されている。スクライビングホイール50Bによってガラス層61をスクライブするため、切断工程では、スクライブ加工装置40は、図14(a)の断面視においてガラス層61の第2平面63Bから第1平面63Aに向かうにつれてガラス層61の幅WDが狭くなるスクライブライン(クラック)が形成されるようにガラス層61の切断予定部64Aをスクライブする。次にスクライブしたガラス層61の切断予定部64Aをブレイクする。なお、スクライビングホイール50Bに代えて、レーザ加工装置30のレーザによって図14(a)に示されるガラス層61の切断面66を形成してもよい。   In the cutting step, the planned cutting portion 64A (see FIG. 11) of the glass layer 61 is cut so that the cutting surface 66 of the glass layer 61 of the unit laminated substrate 70 is located outside the cutting surface 67 of the resin layer 62. More specifically, in the cutting step, the planned cutting portion 64A of the glass layer 61 is formed so that the cutting surface 66 in which the width WD of the glass layer 61 becomes narrower from the second plane 63B of the glass layer 61 toward the first plane 63A. Has been disconnected. Since the scribing wheel 50B scribes the glass layer 61, in the cutting step, the scribing apparatus 40 moves the glass layer 61 from the second plane 63B of the glass layer 61 toward the first plane 63A in the cross-sectional view of FIG. The to-be-cut portion 64A of the glass layer 61 is scribed so that a scribe line (crack) having a narrow width WD is formed. Next, the planned cutting portion 64A of the scribed glass layer 61 is broken. Instead of the scribing wheel 50B, the cut surface 66 of the glass layer 61 shown in FIG. 14A may be formed by the laser of the laser processing device 30.

剥離工程では、第1実施形態と同様のレーザリフトオフ装置(図示略)を用いて、図14(a)に示されるように、ガラス層61から樹脂層62にレーザを照射することによって樹脂層62とガラス層61とを剥離する。   In the peeling step, the laser lift-off device (not shown) similar to that of the first embodiment is used to irradiate the resin layer 62 with a laser beam from the glass layer 61 as shown in FIG. 14A. The glass layer 61 is peeled off.

多層積層基板10からガラス層61が取り除かれた(図14(b)参照)後、樹脂層62の厚さ方向Tの一方を覆うように第1保護フィルムが取り付けられ、樹脂層62の厚さ方向Tの他方を覆うように第2保護フィルムが取り付けられることにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   After the glass layer 61 is removed from the multilayer laminated substrate 10 (see FIG. 14B), the first protective film is attached so as to cover one side in the thickness direction T of the resin layer 62, and the thickness of the resin layer 62. The flexible organic EL display is manufactured by attaching the second protective film so as to cover the other side in the direction T.

図14(a)に示される単位積層基板70では、樹脂層62の幅方向Wの端縁までガラス層61の第2平面63Bが形成されている。すなわち、厚さ方向Tにおいて、樹脂層62の幅方向Wの端縁とガラス層61の切断面66とが重なっていない。このため、樹脂層62の幅方向Wの端縁に対してレーザリフトオフ装置のレーザを照射する場合、レーザがガラス層61の切断面66を通過しない。   In the unit laminated substrate 70 shown in FIG. 14A, the second plane 63B of the glass layer 61 is formed up to the edge of the resin layer 62 in the width direction W. That is, in the thickness direction T, the edge of the resin layer 62 in the width direction W and the cut surface 66 of the glass layer 61 do not overlap. Therefore, when the edge of the resin layer 62 in the width direction W is irradiated with the laser of the laser lift-off device, the laser does not pass through the cut surface 66 of the glass layer 61.

本実施形態の効果について説明する。
(2−1)単位積層基板70のガラス層61の切断面66が樹脂層62の切断面67よりも幅方向Wの外側に位置している。この製造方法によれば、レーザリフトオフ装置のレーザがガラス層61の切断面66およびガラス層61の切断面67の影響を受けることなく、樹脂層62に照射される。樹脂層62にレーザリフトオフ装置のレーザが適切に照射されるため、ガラス層61から剥離される樹脂層62の品質が低下しにくい。
The effects of this embodiment will be described.
(2-1) The cut surface 66 of the glass layer 61 of the unit laminated substrate 70 is located outside the cut surface 67 of the resin layer 62 in the width direction W. According to this manufacturing method, the laser of the laser lift-off device irradiates the resin layer 62 without being affected by the cut surface 66 of the glass layer 61 and the cut surface 67 of the glass layer 61. Since the resin layer 62 is appropriately irradiated with the laser of the laser lift-off device, the quality of the resin layer 62 separated from the glass layer 61 is unlikely to deteriorate.

(2−2)切断工程では、第2平面63Bから第1平面63Aに向かうにつれてガラス層61の幅WDが狭くなる切断面66が形成されるようにガラス層61を切断する。この製造方法では、傾斜した切断面66の形成を意図してガラス層61を切断するため、製造誤差の影響を考慮しても意図した方向とは異なる方向に傾斜した切断面が形成されにくい。   (2-2) In the cutting step, the glass layer 61 is cut so that the cutting surface 66 is formed in which the width WD of the glass layer 61 becomes narrower from the second plane 63B toward the first plane 63A. In this manufacturing method, since the glass layer 61 is cut with the intention of forming the inclined cut surface 66, even if the influence of the manufacturing error is taken into consideration, it is difficult to form a cut surface inclined in a direction different from the intended direction.

(2−3)切断工程では、第2平面63Bから第1平面63Aに向かうにつれてガラス層61の幅WDが狭くなるスクライブライン(クラック)が形成されるようにガラス層61をスクライブし、スクライブされたガラス層61をブレイクする。この製造方法では、樹脂層62の切断面67に対して外側に位置するガラス層61の切断面66を効率的に形成できる。   (2-3) In the cutting step, the glass layer 61 is scribed and scribed so that scribe lines (cracks) are formed in which the width WD of the glass layer 61 becomes narrower from the second plane 63B toward the first plane 63A. The broken glass layer 61 is broken. With this manufacturing method, the cut surface 66 of the glass layer 61 located outside the cut surface 67 of the resin layer 62 can be efficiently formed.

(2−4)図5(b)に示される回転中心面RCに対して非対称な形状の刃先部52を有するスクライビングホイール50Bを用いてガラス層61をスクライブする。この製造方法では、第2平面63Bに対して傾斜するガラス層61の切断面66の形状が刃先部52の形状により規定され、ガラス層61を容易に切断できる。   (2-4) The glass layer 61 is scribed using the scribing wheel 50B having the blade edge portion 52 having an asymmetric shape with respect to the rotation center plane RC shown in FIG. 5 (b). In this manufacturing method, the shape of the cutting surface 66 of the glass layer 61 that is inclined with respect to the second plane 63B is defined by the shape of the cutting edge portion 52, and the glass layer 61 can be easily cut.

(2−5)フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、レーザリフトオフによってガラス層61と樹脂層62とを剥離する剥離工程をさらに含む。この製造方法では、ガラス層61と樹脂層62とを効率的に剥離できる。   (2-5) The method for manufacturing a flexible organic EL display further includes a peeling step of peeling the glass layer 61 and the resin layer 62 by laser lift-off. In this manufacturing method, the glass layer 61 and the resin layer 62 can be efficiently separated.

(変形例)
上記各実施形態は本開示に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法が取り得る形態の例示であり、その形態を制限することを意図していない。本開示に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は各実施形態に例示された形態とは異なる形態を取り得る。その一例は、各実施形態の構成の一部を置換、変更、もしくは、省略した形態、または、各実施形態に新たな構成を付加した形態である。以下の変形例において、各実施形態の形態と共通する部分については、各実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
(Modification)
Each of the above embodiments is an example of a form that the method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present disclosure can take, and is not intended to limit the form. The method of manufacturing the flexible organic EL display according to the present disclosure may take a form different from the form exemplified in each embodiment. An example thereof is a form in which a part of the configuration of each embodiment is replaced, changed, or omitted, or a configuration in which a new configuration is added to each embodiment. In the following modified examples, the same parts as those of the embodiments are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

・第1実施形態において、後段切断工程では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを切断する場合、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対するレーザの照射にともない発生するガスを吸引する吸引機構80が設けられてもよい。図15に示されるように、吸引機構80は、多層積層基板10の周面10Aを介してガスを吸引するように構成される。吸引機構80の一例は、吸気ファンを有する。吸引機構80は、吸気ファンが駆動することにより、多層積層基板10の周面10Aにおける空気を吸引する。この場合、多層積層基板10内に発生したガスが周面10Aを介して多層積層基板10の外部に排出される。   In the first embodiment, in the latter cutting step, when the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut, the gas generated due to the laser irradiation to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is sucked. A suction mechanism 80 may be provided. As shown in FIG. 15, the suction mechanism 80 is configured to suck gas through the peripheral surface 10A of the multilayer laminated substrate 10. An example of the suction mechanism 80 has an intake fan. The suction mechanism 80 sucks air on the peripheral surface 10A of the multilayer laminated substrate 10 by driving the suction fan. In this case, the gas generated in the multilayer laminated substrate 10 is discharged to the outside of the multilayer laminated substrate 10 via the peripheral surface 10A.

・第1実施形態において、複数回のレーザの照射により、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの切断する場合、レーザを所定出力未満に設定することに代えてまたは加えて、一定の時間を空けて第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bにレーザを複数回照射することにより第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを切断してもよい。この製造方法では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一方にレーザが照射され、レーザの照射が一時的に中断され、一定の時間が経過した後に再び第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一方にレーザが照射され、これらのレーザの照射および一時的な照射の中断が複数回にわたり繰り返される。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの他方にレーザが照射される場合も同様である。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対するレーザの照射にともない発生したガスが、レーザの照射が一時的に中断されているときに冷却され、ガスの影響により第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bの品質が低下するおそれが低減される。   -In 1st Embodiment, when cutting the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B by irradiation of the laser of multiple times, in place of or in addition to setting a laser to less than predetermined output, fixed time Alternatively, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B may be cut by irradiating the first resin layer 11B and the second resin layer 12B with a laser a plurality of times. In this manufacturing method, one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is irradiated with a laser, the irradiation of the laser is temporarily interrupted, and after a certain period of time elapses, the first resin layer 11B and the second resin layer 11B are again formed. One of the resin layers 12B is irradiated with the laser, and the irradiation of these lasers and the temporary interruption of the irradiation are repeated a plurality of times. The same applies when the other of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is irradiated with laser. The gas generated by the laser irradiation to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cooled when the laser irradiation is temporarily stopped, and the first glass layer 11A and the second glass layer 11A The risk that the quality of the glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B will deteriorate is reduced.

・第1実施形態において、所定サイズの第1積層基板11である第1単位積層基板と、所定サイズの第2積層基板12である第2単位積層基板とを貼り合せて単位積層基板20を製造してもよい。すなわち前段工程は、第1積層基板11を所定サイズに切断する第1切断工程と、第2積層基板12を所定サイズに切断する第2切断工程とを含む。後段積層工程では、第1単位積層基板と第2単位積層基板とを積層する。この場合、第1単位積層基板の第1ガラス層11Aには切断面23Aが形成され、第2単位積層基板の第2ガラス層12Aには切断面24Aが形成される。   In the first embodiment, the unit laminated substrate 20 is manufactured by bonding the first unit laminated substrate which is the first laminated substrate 11 having the predetermined size and the second unit laminated substrate which is the second laminated substrate 12 having the predetermined size. You may. That is, the pre-stage process includes a first cutting process for cutting the first laminated substrate 11 into a predetermined size and a second cutting process for cutting the second laminated substrate 12 into a predetermined size. In the latter-stage laminating step, the first unit laminated substrate and the second unit laminated substrate are laminated. In this case, the cut surface 23A is formed on the first glass layer 11A of the first unit laminated substrate, and the cut surface 24A is formed on the second glass layer 12A of the second unit laminated substrate.

・第1実施形態において、所定サイズの第1積層基板11である第1単位積層基板と、所定サイズに切断される前の第2積層基板12とを貼り合せた後、第2積層基板12を所定サイズに切断して単位積層基板20を製造してもよい。また所定サイズの第2積層基板12である第2単位積層基板と、所定サイズに切断される前の第1積層基板11とを貼り合せた後、第1積層基板11を所定サイズに切断して単位積層基板20を製造してもよい。すなわち、前段工程は、第1積層基板11を所定サイズに切断する第1切断工程と、第2積層基板12を所定サイズに切断する第2切断工程との一方を含む。後段工程は、第1積層基板11を所定サイズに切断する第1切断工程と、第2積層基板12を所定サイズに切断する第2切断工程との他方を含む。この場合、後段加工工程後には、図9に示される単位積層基板20が製造される。   In the first embodiment, after bonding the first unit laminated board which is the first laminated board 11 having a predetermined size and the second laminated board 12 which has not been cut into the predetermined size, the second laminated board 12 is formed. The unit laminated substrate 20 may be manufactured by cutting into a predetermined size. Also, after bonding the second unit laminated board, which is the second laminated board 12 of a predetermined size, and the first laminated board 11 before being cut into a predetermined size, the first laminated board 11 is cut into a predetermined size. The unit laminated substrate 20 may be manufactured. That is, the former step includes one of a first cutting step of cutting the first laminated substrate 11 into a predetermined size and a second cutting step of cutting the second laminated substrate 12 into a predetermined size. The latter step includes the other of the first cutting step of cutting the first laminated substrate 11 into a predetermined size and the second cutting step of cutting the second laminated substrate 12 into a predetermined size. In this case, the unit laminated substrate 20 shown in FIG. 9 is manufactured after the subsequent processing step.

・第1実施形態において、第1積層基板11に導電層13が形成されることに代えて、または第1積層基板11に導電層13が形成されることに加えて、第2積層基板12に導電層13が形成されてもよい。   In the first embodiment, in addition to forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11 or in addition to forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11, the conductive layer 13 is formed on the second laminated substrate 12. The conductive layer 13 may be formed.

10 :多層積層基板
11 :第1積層基板
11A:第1ガラス層
11B:第1樹脂層
12 :第2積層基板
12A:第2ガラス層
12B:第2樹脂層
14A:第1平面
14B:第2平面
15A:第1平面
15B:第2平面
20 :単位積層基板
23A:切断面
23B:切断面
24A:切断面
24B:切断面
50,50A,50B:スクライビングホイール
52 :刃先部
60 :積層基板
61 :ガラス層
62 :樹脂層
63A:第1平面
63B:第2平面
66 :切断面
67 :切断面
70 :単位積層基板
RC :回転中心面
10: multilayer laminated substrate 11: first laminated substrate 11A: first glass layer 11B: first resin layer 12: second laminated substrate 12A: second glass layer 12B: second resin layer 14A: first plane 14B: second Plane 15A: First plane 15B: Second plane 20: Unit laminated substrate 23A: Cutting surface 23B: Cutting surface 24A: Cutting surface 24B: Cutting surfaces 50, 50A, 50B: Scribing wheel 52: Blade edge portion 60: Laminated substrate 61: Glass layer 62: Resin layer 63A: First plane 63B: Second plane 66: Cutting plane 67: Cutting plane 70: Unit laminated substrate RC: Rotation center plane

Claims (6)

ガラス層と樹脂層とが積層された積層基板から所定サイズの単位積層基板を切り出す切断工程を含み、
前記切断工程では、前記単位積層基板の前記ガラス層の切断面が前記樹脂層の切断面に対して外側に位置するように前記ガラス層を切断する
フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
Including a cutting step of cutting out a unit laminated substrate of a predetermined size from a laminated substrate in which a glass layer and a resin layer are laminated,
In the cutting step, the glass layer is cut such that the cut surface of the glass layer of the unit laminated substrate is located outside the cut surface of the resin layer.
前記ガラス層は、前記樹脂層が形成される第1平面、および、前記第1平面と対をなす第2平面を含み、
前記切断工程では、前記第2平面から前記第1平面に向かうにつれて前記ガラス層の幅が狭くなる切断面が形成されるように前記ガラス層を切断する
請求項1に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The glass layer includes a first plane on which the resin layer is formed, and a second plane that forms a pair with the first plane,
The flexible organic EL display according to claim 1, wherein in the cutting step, the glass layer is cut so that a cutting surface in which the width of the glass layer becomes narrower from the second plane toward the first plane is formed. Production method.
前記切断工程では、前記第2平面から前記第1平面に向かうにつれて前記ガラス層の幅が狭くなるスクライブラインが形成されるように前記ガラス層をスクライブし、スクライブされた前記ガラス層をブレイクする
請求項2に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
In the cutting step, the glass layer is scribed so as to form a scribe line in which the width of the glass layer becomes narrower from the second plane toward the first plane, and the scribed glass layer is broken. Item 3. A method for manufacturing a flexible organic EL display according to item 2.
前記切断工程では、回転中心面に対して非対称な形状の刃先部を有するスクライビングホイールを用いて前記ガラス層をスクライブする
請求項3に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method of manufacturing a flexible organic EL display according to claim 3, wherein in the cutting step, the glass layer is scribed using a scribing wheel having a blade edge portion having an asymmetric shape with respect to a rotation center plane.
レーザリフトオフにより前記単位積層基板の前記ガラス層と前記樹脂層とを剥離する剥離工程をさらに含む
請求項1〜4のいずれか一項に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method for manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, further comprising a peeling step of peeling off the glass layer and the resin layer of the unit laminated substrate by laser lift-off.
前記切断工程では、複数の前記積層基板を備え、前記複数の積層基板は第1ガラス層と第1樹脂層とが積層された第1積層基板、および、第2ガラス層と第2樹脂層とが積層された第2積層基板を含み、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが対向するように積層された多層積層基板から単位積層基板を切り出す
請求項1〜5のいずれか一項に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
In the cutting step, a plurality of laminated substrates are provided, the plurality of laminated substrates are a first laminated substrate in which a first glass layer and a first resin layer are laminated, and a second glass layer and a second resin layer. The unit laminated substrate is cut out from a multilayer laminated substrate including a second laminated substrate in which is laminated so that the first resin layer and the second resin layer are laminated so as to face each other. A method for manufacturing a flexible organic EL display according to item 1.
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