JP2019057539A - Semiconductor optical integrated element - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、分布帰還型(DFB:Distributed FeedBack)の半導体光集積素子に関し、特に、光強度をモニタする半導体光集積素子に関する。 The present invention relates to a distributed feedback (DFB) semiconductor optical integrated device, and more particularly to a semiconductor optical integrated device that monitors light intensity.
分布帰還型(DFB:Distributed FeedBack)レーザは、単一波長性に優れており、単一の基板上に電界吸収型(EA: Electroabsorption)変調器とモノシリックに一体化して構成される形態が知られている。この形態の半導体光集積素子(EA−DFBレーザ)は、伝送距離40km以上の長距離伝送用発光装置として用いられ、信号光波長としては、主として、光ファイバの伝播損失が小さい1.55μm帯、または、光ファイバに生じる波長分散の影響を受けにくい1.3μm帯が用いられている。 Distributed feedback (DFB) lasers have excellent single wavelength characteristics, and are known to be monolithically integrated with an electroabsorption (EA) modulator on a single substrate. ing. The semiconductor optical integrated device (EA-DFB laser) of this form is used as a light emitting device for long-distance transmission with a transmission distance of 40 km or more, and the signal light wavelength mainly includes a 1.55 μm band where propagation loss of an optical fiber is small, Alternatively, a 1.3 μm band that is not easily affected by chromatic dispersion generated in the optical fiber is used.
一般に、このようなEA−DFBレーザでも、光信号の光強度を一定に保つことが望ましい。そこで、光強度をモニタし、モニタされる光強度が一定になるようにDFBレーザに注入する電流を制御することが行われてきた。これをAPC(オートパワーコントロール)と称す。 In general, it is desirable to keep the light intensity of an optical signal constant even in such an EA-DFB laser. Therefore, it has been performed to monitor the light intensity and control the current injected into the DFB laser so that the monitored light intensity is constant. This is called APC (auto power control).
従来、DFBレーザとEA変調器とを備える多重光送信器モジュールを前提としてDFBレーザの光強度をモニタする構成として、DFBレーザの前段に受光器を備えるものが開示されている(特許文献1の図6)。 Conventionally, as a configuration for monitoring the light intensity of a DFB laser on the premise of a multiple optical transmitter module including a DFB laser and an EA modulator, a configuration in which a light receiver is provided in front of the DFB laser is disclosed (Patent Document 1). FIG. 6).
従来は、DFBレーザの前段で受光器が光強度をモニタする構成になっている。しかし、EA−DFBレーザでは、DFBレーザとEA変調器とに加えて、さらにSOAを同一基板上にモノリシック集積することによって、長距離伝送を実現するものがある。この構成は、特許文献2に記載されている。 Conventionally, a light receiver is configured to monitor the light intensity before the DFB laser. However, some EA-DFB lasers realize long distance transmission by monolithically integrating SOAs on the same substrate in addition to the DFB laser and the EA modulator. This configuration is described in Patent Document 2.
このような構成では、以下に説明するように、従来の構成が前提としている受光器の位置、すなわち、DFBレーザの前段で光強度をモニタしたとしても、光強度を一定に保つようなフィードバック制御を行えない。 In such a configuration, as will be described below, feedback control that keeps the light intensity constant even if the position of the light receiver assumed in the conventional structure, that is, the light intensity is monitored in the front stage of the DFB laser, is described below. Cannot be performed.
従来の構成が前提としている受光器は、DFBレーザの前段に設けられており、DFBレーザの光強度しかモニタしておらず、このため、SOAの劣化によってSOAの増幅率が下がったとしても検出することができない。 The receiver assumed in the conventional configuration is provided in the front stage of the DFB laser, and only monitors the light intensity of the DFB laser. Therefore, even if the SOA amplification factor decreases due to the deterioration of the SOA, it is detected. Can not do it.
この場合の問題として、SOAの増幅率が下がったとしても検出することができないために、フィードバック制御が実施されず、結果としてDFBレーザの光強度は低下する。 As a problem in this case, even if the amplification factor of the SOA is lowered, it cannot be detected, so feedback control is not performed, and as a result, the light intensity of the DFB laser is lowered.
本発明は、上記の状況下においてなされたものであり、DFBレーザとEA変調部とSOAとをモノシリック集積した構成において、SOAの劣化を検出し、出力光の強度を一定に保つようなフィードバック制御が可能な半導体光集積素子を提供することを目的とする。 The present invention has been made under the above circumstances, and in a configuration in which a DFB laser, an EA modulation unit, and an SOA are monolithically integrated, feedback control that detects deterioration of the SOA and keeps the intensity of output light constant. An object of the present invention is to provide a semiconductor optical integrated device capable of satisfying the requirements.
上記の目的を達成するため、本発明は、DFBレーザと、前記DFBレーザに接続されたEA変調器と、前記DFBレーザおよび前記EA変調器と同一基板上にモノリシック集積され、前記EA変調器の出射端に接続されたSOAとを含み、前記SOAの光導波路は、前記DFBレーザの出射光の光軸に対して光が斜めに伝搬するように配置され、前記SOAは、前記光導波路と同一の組成を有し、当該SOAの出射端面で反射される前記光の戻り光の強度をモニタする第1のモニタ部を有する。 To achieve the above object, the present invention relates to a DFB laser, an EA modulator connected to the DFB laser, and monolithically integrated on the same substrate as the DFB laser and the EA modulator. An SOA connected to the output end, and the optical waveguide of the SOA is arranged so that light propagates obliquely with respect to the optical axis of the output light of the DFB laser, and the SOA is the same as the optical waveguide And a first monitor unit that monitors the intensity of the return light of the light reflected by the exit end face of the SOA.
ここで、前記戻り光は、前記SOAの後段に設けらたコリメートレンズで前記光が反射した戻り光であるようにしてもよい。 Here, the return light may be return light reflected by the collimator lens provided in the subsequent stage of the SOA.
前記SOAはさらに、前記光の波長のずれにより変化する前記戻り光の強度をモニタする第2のモニタ部を有するようにしてもよい。 The SOA may further include a second monitor unit that monitors the intensity of the return light that changes due to a shift in the wavelength of the light.
前記DFBレーザおよび前記SOAの各々は、同一の制御端子に接続され、前記同一の制御端子に接続される前記DFBレーザおよび前記SOAの各駆動電流は、前記第1モニタ部のモニタ結果に応じてフィードバック制御されるようにしてよい。 Each of the DFB laser and the SOA is connected to the same control terminal, and each drive current of the DFB laser and the SOA connected to the same control terminal depends on the monitoring result of the first monitor unit. Feedback control may be performed.
本発明によると、DFBレーザとEA変調部とSOAとをモノシリック集積した構成において、SOAの劣化を検出し、出力光の強度を一定に保つようなフィードバック制御が可能である。 According to the present invention, in a configuration in which a DFB laser, an EA modulator, and an SOA are monolithically integrated, it is possible to perform feedback control that detects deterioration of the SOA and keeps the intensity of output light constant.
<第1実施形態>
以下、本発明の第1実施形態である半導体光集積素子(以下、単に「光集積素子」という。)100について説明する。この実施形態の光集積素子は、EA−DFBレーザである。
<First Embodiment>
The semiconductor optical integrated device (hereinafter simply referred to as “optical integrated device”) 100 according to the first embodiment of the present invention will be described below. The optical integrated device of this embodiment is an EA-DFB laser.
[光集積素子100の制御概略]
図1は、本実施形態に係る光集積素子100の制御の概略を説明するための図である。
[Outline of Control of Optical Integrated Device 100]
FIG. 1 is a diagram for explaining the outline of control of the optical integrated
図1に示すように、光集積素子100は、光の伝搬方向に対して順に、DFBレーザ11、EA変調器12、およびSOA13を備えており、これらの構成要素11〜13は、単一の半導体基板上に、一体的にモノシリック積層されている。そして、SOA13には、モニタ用受光器(モニタ部)14を含む。後述するように、この実施形態の光集積素子100では、受光器14が、戻り光dをモニタすることにより、光集積素子100の出力光の強度を一定に保つようなフィードバック制御が実現される。
As shown in FIG. 1, the optical integrated
図1において、DFBレーザ11とSOA13とは、同一の制御端子15から注入される電流値Iopによって制御される。このとき、DFBレーザ11への注入電流をIDFBとし、SOA13への注入電流をISOAとすると、電流値Iopは、Iop=IDFB+ISOAで与えられる。
In FIG. 1, the DFB
一般に、EA−DFBレーザを搭載した光送信モジュールで許容されるIopの値は60〜80mAである。この観点から、本実施形態の光集積素子100でも、Iopの上限値は、例えば80mAに設定されるのが好ましい。
In general, the value of I op allowed in an optical transmission module equipped with an EA-DFB laser is 60 to 80 mA. From this point of view, the upper limit value of I op is preferably set to 80 mA, for example, in the optical integrated
上述したIopとIDFBとISOAとの関係は、後述する図2において、詳細に示してある。図2は、かかる関係を説明するための図である。図2では、一般的な長さである450μmのDFBレーザ11が使用される。
The relationship between I op , I DFB and I SOA described above is shown in detail in FIG. FIG. 2 is a diagram for explaining such a relationship. In FIG. 2, a DFB
図2に示すように、例えば、SOA長が50μmの場合、SOA長はDFBレーザの長さ(450μm)に対して1/9となるため、電流値Iopの大部分はDFBレーザに注入される。 As shown in FIG. 2, for example, when the SOA length is 50 μm, the SOA length is 1/9 with respect to the length of the DFB laser (450 μm), so that most of the current value I op is injected into the DFB laser. The
一方、図2に示すように、SOA長が150μmの場合、SOA長はDFBレーザの長さに対して1/3となるため、Iop=80mAのときは60mA程度のIDFBがDFBレーザに注入され、20mA程度のISOAがSOAに注入される。 On the other hand, as shown in FIG. 2, when the SOA length is 150 μm, the SOA length is 1/3 of the length of the DFB laser. Therefore, when I op = 80 mA, I DFB of about 60 mA is applied to the DFB laser. Injected, about 20 mA of I SOA is injected into the SOA.
このように、DFBレーザ11およびSOA13の各長さを調整することで、それらに注入される電流IDFB,ISOAを調整することができる。
In this way, by adjusting the lengths of the
例えば、DFBレーザ11の長さが450μmの場合、DFBレーザ11の駆動で閾値電流およびSMSR(Sub-Mode Suppression Ratio)を得るためのIopは、最低でも60mAが必要となる。このため、光導波方向におけるSOA長は、150μm以下とすることが好ましい。
For example, when the length of the DFB
また、例えばDBRレーザ1を300μmに設定する場合は、必要なSMSRを得るためのIopは、40mA程度まで小さくすることができる。このため、SOA13を長くしてSOA13への電流ISOAを増やすことも可能となる。 For example, when the DBR laser 1 is set to 300 μm, I op for obtaining the necessary SMSR can be reduced to about 40 mA. For this reason, it is possible to increase the current I SOA to the SOA 13 by lengthening the SOA 13.
このように、DFBレーザ11とSOA13の長さのバランス(比率)に応じて、所定の長さのDFBレーザ11に最低限必要な電流を投入できるようにSOA13の長さを変更することで、安定的な単一モード動作と光出力の増幅の両立が実現できる。
In this way, by changing the length of the
[光集積素子100の構成]
次に、上述した光集積素子100の構成について、図3および図4を参照して説明する。図3は、光集積素子100の構成例を示す上面図である。図4は、光集積素子100において、光導波路5を伝搬する光の伝搬方向におけるDFBレーザ11からSOA13までの断面を説明するための図である。なお、この光集積素子100の構成の説明に関連して例示する材料は一例であり、自在に変更することができる。
[Configuration of Optical Integrated Device 100]
Next, the configuration of the above-described optical integrated
図3に示すように、光集積素子100は、DFBレーザ11と、DFBレーザに接続されたEA変調器12と、EA変調器12の出射端に接続されたSOA13とを含む。そして、SOA13には、受光器14が備えられる。
As shown in FIG. 3, the optical
DFBレーザ11およびEA変調器12では、光導波路5は、DFBレーザ11の出射光の光軸zの方向に沿って形成される。一方、SOA13では、光導波路5は、上述の光軸zの方向に対して光が斜めに伝搬するように形成される。図3の例では、SOA13の光導波路5は、光軸zの方向に対して、θ(例えば、30°)傾斜して形成される。
In the
SOA13の出射端面13A、すなわち光集積素子100の出射端面13Aには、AR(Anti-Reflection)膜が形成される。
An AR (Anti-Reflection) film is formed on the
この出射端面13Aにおいて、SOA13の光導波路5を伝搬する光が反射し、その戻り光dが、SOA13の受光器14に入射する。これにより、受光器14は、戻り光dの光強度をモニタする。戻り光dの光強度は、光集積素子100(SOA13)の出力光sの強度と相関関係があるので、光集積素子100では、上記モニタの結果に応じて、図1に示した電流値Iopの値をフィードバック制御して、光集積素子100の出力光sの強度を一定に保つことが可能になる。なお、図3に示したA−BにおけるSOA13の断面は、後述する図5において、概略的な模式図を示してある。
The light propagating through the
図4において、光集積素子100は、n型InP基板102を備え、この基板102上には、光導波方向に対して順に、DFBレーザ11と、EA変調器12と、SOA13と、受光器14とが形成される。また、基板102の裏面には、n型電極101を備える。
In FIG. 4, the optical
DFBレーザ11は、n−InPクラッド層103上に積層された活性層104とガイド層105とを有する。そして、ガイド層105には、λ/4位相シフト105Aおよび回折格子105Bを含む。活性層104は、InGaAlAs系またはInGaAsP系の材料で形成される。
The
ガイド層105上には、p−InPクラッド層106が形成され、このクラッド層106上にp型電極107が設けられる。この電極107には、図1に示した電流IDFBが注入される。
A p-InP clad
EA変調器12は、クラッド層103上に積層された吸収層108とクラッド層106とp型電極109とを有する。電極109には、EA変調器12を駆動させるためのバイアス電圧Vbiと高周波電圧RFとが、バイアスT200を介して印加される。これにより、EA変調器12では、DFBレーザ11からの光を変調するが可能になる。
The
吸収層108は、InGaAlAs系またはInGaAsP系の材料で形成され、量子井戸構造を有する。 The absorption layer 108 is made of an InGaAlAs-based or InGaAsP-based material and has a quantum well structure.
SOA13は、前述のクラッド層103上に積層された活性層131とガイド層132とクラッド層106とp型電極133とを有する。活性層131は、DFBレーザ11の活性層104と同一の組成を有し、ガイド層132は、DFBレーザ11のガイド層105と同一の組成を有する。この実施形態では、SOA13の電極133には、図1に示した電流ISOAが注入される。この実施形態では、例えば、25℃におけるDFBレーザ11およびSOA13での発光波長は約1.55μmとする。
The
図5は、図4のA−BにおけるSOA13の概略断面を説明するための模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a schematic cross section of the
この実施形態の光集積素子100は、図5に示すように、EA変調器12からの光を増幅するためのSOA13と、上述した戻り光dをモニタするための受光器14とを含む。
As shown in FIG. 5, the optical
SOA13では、活性層131は、クラッド層103,106の間に形成され、p型電極133は、コンタクト層134を介して、クラッド層106上に形成される。
In the
受光器14は、SOA13と同一の組成で形成される。すなわち、受光器14でも、活性層141は、活性層131と同一の組成で形成され、クラッド層103,106の間に形成される。p型電極143は、コンタクト層142を介して、クラッド層106上に形成される。電極143には、後述するビルトイン電圧Vb以上の電圧、またはSOA13の透明電流Itp以上の電流が与えられる。
The
[受光器14のモニタ方法]
以下、上述した光集積素子100の受光器14のモニタ方法について説明する。
[Monitoring method of the light receiver 14]
Hereinafter, a method for monitoring the
まず、受光器14の特性に関連して、図6を参照して説明する。
First, in relation to the characteristics of the
図6(a)は、受光器14の電流Iと電圧Vとの関係を説明するための図である。
FIG. 6A is a diagram for explaining the relationship between the current I and the voltage V of the
この受光器14では、順バイアス電圧(正のバイアス信号)が印加され、受光器14への入力光強度に応じた電圧値をモニタする。そして、この実施形態の光集積素子100では、このモニタの結果、電圧値(検出値)の変化に応じて、電流値Iopがフィードバックされて光集積素子100の出力光sの強度が一定になるように調整される。
In this
一般に、SOAは、経時変化により劣化して増幅率の低下することが知られている。 In general, it is known that SOA deteriorates with time and decreases in amplification factor.
本実施形態の光集積素子100において、SOA13は、経時変化により劣化して増幅率の低下することになるが、受光器14は、SOA13と同一の組成で形成される。これは、受光器14において、SOA13と同様の経時変化により劣化して低下する増幅率の変化をモニタするためである。換言すると、光集積素子100の出力光の強度のほかに、SOA13の経時変化もモニタされる。
In the optical
ここで、本実施形態の光集積素子100では、受光器14は、順バイアス電圧(ビルトイン電圧Vb以上)が印加される。これは、DFBレーザの前段に備えられる一般的なモニタ用受光器に印加される逆バイアス電圧(-3V)とは異なる。
Here, in the optical
受光器14に印加される順バイアス電圧は、図4(a)に示した受講部14のビルトイン電圧Vb以上の電圧とする。これは、受光器14、すなわちSOA13の経時変化による劣化を検出するため、しきい値キャリア密度電流を与えるような電圧である必要があるからである。
The forward bias voltage applied to the
また、上記順バイアス電圧とは別に、受光器14に、電流を注入するようにしてもよい。この場合でも、受光器14、すなわちSOA13の経時変化による劣化を検出するため、受光器14には、透明電流Itp以上の電流が与える。
In addition to the forward bias voltage, a current may be injected into the
例えば図6(b)は、受光器14の電流Iと光強度Lとの関係として、上述した透明電流Itpを例示している。
For example, FIG. 6B illustrates the above-described transparent current Itp as the relationship between the current I of the
このように、受光器14では、順バイアス電圧または電流が与えられ、受光器14への光強度に応じた電流値をモニタする。これにより、そのモニタの結果、電圧値の変化に応じて、電流値Iopがフィードバックされて光集積素子100の出力光sの強度が一定になるように調整されることになる。
In this manner, the
<第2実施形態>
第2実施形態の光集積素子100Aは、第1実施形態の光集積素子100と同様に戻り光dをモニタするものであるが、受光器でモニタされる値(戻り光の強度)を大きくするため、コヒーレントレンズ201からの戻り光dをモニタするように構成される。
Second Embodiment
The integrated
図7は、光集積素子100Aの構成例を示す上面図である。なお、本実施形態の以下の説明では、特に記述しない限り、第1実施形態の説明で用いた符号等をそのまま用いる。
FIG. 7 is a top view illustrating a configuration example of the optical
図7において、受光器14Aは、図3に示した受光器14Aよりも、y方向の長さが広く構成される。なお、それ以外の構成については、本実施形態の光集積素子100Aの構成は、図1〜図6に示したものと同一である。
In FIG. 7, the
このように構成することにより、光集積素子100Aでも、第1実施形態の光集積素子100と同様に、受光器14Aによるモニタの結果、検出された電圧値の変化に応じて、電流値Iopがフィードバックされて光集積素子100の出力光sの強度が一定になるように調整されることになる。
With this configuration, in the integrated
<第3実施形態>
第3実施形態の光集積素子100Bは、第2実施形態の光集積素子100Aと同様にコヒーレントレンズ201からの戻り光dの強度をモニタする。さらに、光集積素子100Bは、光集積素子100Bの出力光の波長のずれもモニタするように構成される。
<Third Embodiment>
The integrated
図8は、光集積素子100Bの構成例を示す上面図である。なお、本実施形態の以下の説明では、特に記述しない限り、第2実施形態の説明で用いた符号等をそのまま用いる。
FIG. 8 is a top view illustrating a configuration example of the optical
図8において、光集積素子100Bでは、戻り光dの強度をモニタする受光器14と、出力光の波長のずれもモニタするための受光器15とを備える。
In FIG. 8, the optical
ここで、光集積素子100Bの出射端面13Aに形成されるAR膜は、波長依存性を有するため、仮に光集積素子100Bの出力光の波長がずれた場合、受光器15でモニタされる戻り光dの強度は、そのずれにより変化し得る。受光器15は、このような変化を検出することにより、光集積素子100Bの出力光の波長のずれをモニタするようになっている。これにより、出力光の波長のずれが検出されたときに、例えばスペクトラムアナライザなどによって、その波長のずれをなくすように補正することも可能になる。
Here, since the AR film formed on the
なお、光集積素子100Bの出力光の波長にずれが生じない場合は、受光器14によるモニタ結果によって、図1に示した電流値Iopがフィードバックされて光集積素子100Bの出力光sの強度が一定になるように調整されるので、受光器15でモニタされる強度は変わらない。
If there is no deviation in the wavelength of the output light from the optical
次に、上記各実施形態の光集積素子100,100A,100Bの変形例について説明する。
Next, modified examples of the optical
(変更例1)
上記各実施形態では、光集積素子100,100A,100Bを光送信モジュールに搭載する態様について言及しなかったが、そのような光送信モジュールを構成するようにしてもよい。
(Modification 1)
In each of the embodiments described above, the aspect in which the optical
(変更例2)
以上では、図1を参照して、同一の制御端子15からDFBレーザ11およびSOA13の各々に電流を注入する場合について説明したが、異なる制御端子から、DFBレーザ11およびSOA13の各々に電流を注入するようにしてもよい。この場合、DFBレーザおよびSOAの各p型電極107,133には、それぞれの制御端子から電流IDFB,ISOAが注入される。
(Modification 2)
In the above, the case where current is injected into each of the
(変更例3)
以上では、1.55μm波長で発振する場合について説明したが、それ以外の波長を適用しても上記実施形態と同等の効果を得ることができる。例えば1.3μm帯で発振する場合についても、光通信用の光集積素子100の各構成要素11,12,13の結晶組成を変更して適用することもできる。
(Modification 3)
In the above description, the case of oscillating at a wavelength of 1.55 μm has been described. However, the same effect as in the above embodiment can be obtained even when other wavelengths are applied. For example, even in the case of oscillation in the 1.3 μm band, the crystal composition of each
11 DFBレーザ
12 EA変調器
13 SOA
14,15 モニタ用受光器
15 制御端子
100,100A,100B 半導体光集積素子
101 p型電極
102 基板
103,106,111,114 クラッド層
104 活性層
105 ガイド層
11
14, 15
Claims (4)
前記DFBレーザに接続されたEA変調器と、
前記DFBレーザおよび前記EA変調器と同一基板上にモノリシック集積され、前記EA変調器の出射端に接続されたSOAと
を含み、
前記SOAの光導波路は、前記DFBレーザの出射光の光軸に対して光が斜めに伝搬するように配置され、
前記SOAは、前記光導波路と同一の組成を有し、当該SOAの出射端面で反射される前記光の戻り光の強度をモニタする第1のモニタ部を有する
ことを特徴とする半導体光集積素子。 A DFB laser,
An EA modulator connected to the DFB laser;
An SOA monolithically integrated on the same substrate as the DFB laser and the EA modulator and connected to an output end of the EA modulator;
The optical waveguide of the SOA is arranged so that light propagates obliquely with respect to the optical axis of the emitted light of the DFB laser,
The SOA has the same composition as the optical waveguide, and has a first monitor unit that monitors the intensity of the return light reflected by the exit end face of the SOA. .
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