JP2019041275A - Ultrasonic inspection apparatus and capacitive ultrasonic transducer - Google Patents

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祐介 森田
Yusuke Morita
祐介 森田
俊太郎 町田
Shuntaro Machida
俊太郎 町田
浩章 長谷川
Hiroaki Hasegawa
浩章 長谷川
泰一 竹崎
Taichi Takezaki
泰一 竹崎
龍崎 大介
Daisuke Ryuzaki
大介 龍崎
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Abstract

To improve performance of an ultrasonic inspection apparatus including a capacitance detection type ultrasonic sensor which has a hollow portion between electrodes and vibrates a membrane.SOLUTION: Of membranes 7 of respective channels 6 sharing one cavity 5, between the membranes 7 adjacent to each other, the opposing sides of the membranes 7 are connected to form a connection portion 11 supported by a column 12 in the cavity 5. The connection portion 11 has a lower Young's modulus, acoustic impedance, and a smaller spring constant than the membranes 7.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、超音波検査装置および静電容量型超音波トランスデューサに関し、特に、MEMS(Micro Electro Mechanical System)技術により製造される静電容量型超音波トランスデューサおよび当該静電容量型超音波トランスデューサを用いた超音波検査装置に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to an ultrasonic inspection apparatus and a capacitive ultrasonic transducer, and in particular, to a capacitive ultrasonic transducer manufactured by MEMS (Micro Electro Mechanical System) technology and the capacitive ultrasonic transducer. The present invention relates to a technique effective when applied to an existing ultrasonic inspection apparatus.

超音波センサは、例えば医療用の超音波エコー診断装置または非破壊検査の超音波探傷装置などの様々な超音波検査装置に実用化されている。   Ultrasonic sensors have been put to practical use in various ultrasonic inspection apparatuses such as medical ultrasonic echo diagnostic apparatuses or nondestructive ultrasonic inspection apparatuses.

これまでの超音波センサは、圧電体の振動を利用したものが主流であるが、近年のMEMS技術の進歩により、MEMS技術を用いた静電容量型超音波トランスデューサ(CMUT:Capacitive Micro-machined Ultrasonic Transducer)の開発が進められている。   Conventional ultrasonic sensors mainly use the vibration of a piezoelectric material. However, due to recent advances in MEMS technology, capacitive ultrasonic transducers (CMUT: Capacitive Micro-machined Ultrasonic) using MEMS technology. Transducer) is under development.

静電容量型超音波トランスデューサは、互いに対向する電極間に空洞部を持つ振動子を半導体基板上に形成したものである。当該静電容量型超音波トランスデューサでは、各電極に直流および交流の電圧を重畳印加してメンブレン(可撓性膜)を共振周波数付近で振動させ、これにより超音波を発生させる。   The capacitive ultrasonic transducer is obtained by forming a vibrator having a cavity between electrodes facing each other on a semiconductor substrate. In the capacitive ultrasonic transducer, DC and AC voltages are superimposed and applied to each electrode to vibrate the membrane (flexible film) near the resonance frequency, thereby generating ultrasonic waves.

このような静電容量型超音波トランスデューサに係る技術については、例えば特許文献1(米国特許第7,800,189号明細書)に記載があり、1つの空洞部を共有する複数のチャネルのそれぞれのメンブレンのうち、互いに接続された隣り合うメンブレン同士の中間に、メンブレンを支える柱を複数配置した静電容量型超音波トランスデューサが開示されている。   A technique related to such a capacitive ultrasonic transducer is described in, for example, Patent Document 1 (US Pat. No. 7,800,189), and each of a plurality of channels sharing one cavity portion. Among these membranes, there is disclosed a capacitive ultrasonic transducer in which a plurality of columns supporting the membrane are arranged in the middle between adjacent membranes connected to each other.

米国特許第7,800,189号明細書US Pat. No. 7,800,189

メンブレンの上下の電極間の容量を検出する静電容量型超音波トランスデューサでは、送信効率および受信感度を向上させる観点から、半導体チップの面積に対し、上部電極を振動させて振動子として使用できるチャネルの面積が占める割合(フィルファクタ)を増大させることが重要となる。特に、送受信する音波の周波数が高くなるとチャネルの幅が小さくなるため、チャネル同士の間のリム部が占める面積が大きくなるため、フィルファクタの減少が問題となる。   In capacitive ultrasonic transducers that detect the capacitance between the upper and lower electrodes of the membrane, from the viewpoint of improving transmission efficiency and reception sensitivity, a channel that can be used as a vibrator by vibrating the upper electrode relative to the area of the semiconductor chip It is important to increase the ratio (fill factor) occupied by the area. In particular, when the frequency of the sound wave to be transmitted / received is increased, the channel width is decreased, and the area occupied by the rim portion between the channels is increased.

複数のチャネルが1つの空洞部を共有する場合、チャネル同士の間の隔壁の占有面積を低減することができるため、リム部が占める面積の増大を抑え、かつ、静電容量型超音波トランスデューサを微細化することが可能となる。しかし、特許文献1のように、1つの空洞部を共有する複数のチャネルのそれぞれのメンブレンが互いに直接接続されていると、各メンブレンが個別に振動することが困難となり、チャネル間の音響分離ができなくなる問題がある。その対策として、メンブレン同士の間に切れ目を設けてメンブレン同士を完全に分離すると、空洞部内の真空状態が保持できず、空洞部内に外部からガスまたは音響媒質(ゴミ)が浸入し、装置の信頼性が低下する虞がある。   When a plurality of channels share a single cavity, the occupied area of the partition wall between the channels can be reduced, so that an increase in the area occupied by the rim part is suppressed, and a capacitive ultrasonic transducer is provided. It becomes possible to miniaturize. However, as in Patent Document 1, if the membranes of a plurality of channels sharing a single cavity are directly connected to each other, it becomes difficult for each membrane to vibrate individually, and acoustic separation between channels becomes difficult. There is a problem that can not be done. As a countermeasure, when the membranes are completely separated by providing a cut between the membranes, the vacuum state in the cavity cannot be maintained, and gas or acoustic medium (dust) enters the cavity from the outside, and the reliability of the device There is a risk that the performance will be reduced.

本発明の前記の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above object and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

本願において開示される実施の形態のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。   Of the embodiments disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

一実施の形態である超音波検査装置は、複数の可撓性膜と、前記複数の可撓性膜のうち、隣り合う前記可撓性膜同士の相互間に接続された、前記複数の可撓性膜のそれぞれよりも音響インピーダンスが低い接続部と、前記接続部を支える支柱とを有する静電容量型超音波トランスデューサを備えたものである。   An ultrasonic inspection apparatus according to an embodiment includes a plurality of flexible films and the plurality of flexible films connected between the adjacent flexible films among the plurality of flexible films. A capacitive ultrasonic transducer having a connection portion having lower acoustic impedance than each of the flexible films and a column supporting the connection portion is provided.

また、他の一実施の形態である静電容量型超音波トランスデューサは、複数の可撓性膜と、前記複数の可撓性膜のうち、隣り合う前記可撓性膜同士の相互間に接続された、前記複数の可撓性膜のそれぞれよりも音響インピーダンスが低い接続部と、前記接続部を支える支柱とを有するものである。   In addition, a capacitive ultrasonic transducer according to another embodiment includes a plurality of flexible films and a connection between adjacent flexible films among the plurality of flexible films. And a connecting portion having an acoustic impedance lower than each of the plurality of flexible films, and a column supporting the connecting portion.

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。   Among the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.

本発明によれば、超音波検査装置の性能を向上させることができる。   According to the present invention, the performance of the ultrasonic inspection apparatus can be improved.

また、本発明によれば、静電容量型超音波トランスデューサの性能を向上させることができる。   Further, according to the present invention, the performance of the capacitive ultrasonic transducer can be improved.

本発明の実施の形態1である静電容量型超音波トランスデューサを示す平面図である。It is a top view which shows the capacitive ultrasonic transducer which is Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1である静電容量型超音波トランスデューサの要部を示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of the capacitive ultrasonic transducer which is Embodiment 1 of this invention. 図2のA−A線における断面図である。It is sectional drawing in the AA of FIG. 図2のB−B線における断面図である。It is sectional drawing in the BB line of FIG. 図2のC−C線における断面図である。It is sectional drawing in the CC line of FIG. 本発明の実施の形態1の変形例1である静電容量型超音波トランスデューサを示す平面図である。It is a top view which shows the capacitive ultrasonic transducer which is the modification 1 of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1の変形例2である静電容量型超音波トランスデューサを示す平面図である。It is a top view which shows the capacitive ultrasonic transducer which is the modification 2 of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1の変形例3である静電容量型超音波トランスデューサの要部を示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of the capacitive ultrasonic transducer which is the modification 3 of Embodiment 1 of this invention. 図8のA−A線における断面図である。It is sectional drawing in the AA of FIG. 図8のB−B線における断面図である。It is sectional drawing in the BB line of FIG. 本発明の実施の形態2である静電容量型超音波トランスデューサの要部を示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of the capacitive ultrasonic transducer which is Embodiment 2 of this invention. 図11のA−A線における断面図である。It is sectional drawing in the AA of FIG. 図11のB−B線における断面図である。It is sectional drawing in the BB line of FIG. 本発明の実施の形態2の変形例である静電容量型超音波トランスデューサの要部を示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of the capacitive ultrasonic transducer which is a modification of Embodiment 2 of this invention. 図14のA−A線における断面図である。It is sectional drawing in the AA of FIG. 図14のB−B線における断面図である。It is sectional drawing in the BB line of FIG. 本発明の実施の形態3である静電容量型超音波トランスデューサの要部を示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of the capacitive ultrasonic transducer which is Embodiment 3 of this invention. 図17のA−A線における断面図である。It is sectional drawing in the AA of FIG. 図17のB−B線における断面図である。It is sectional drawing in the BB line of FIG. 本発明の実施の形態4である超音波検査装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the ultrasonic inspection apparatus which is Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態4である超音波検査装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the ultrasonic inspection apparatus which is Embodiment 4 of this invention. 比較例1である静電容量型超音波トランスデューサの要部を示す断面図である。6 is a cross-sectional view showing a main part of a capacitive ultrasonic transducer that is Comparative Example 1. FIG. 比較例2である静電容量型超音波トランスデューサの要部を示す断面図である。6 is a cross-sectional view showing a main part of a capacitive ultrasonic transducer that is Comparative Example 2. FIG. 比較例2である静電容量型超音波トランスデューサの要部を示す断面図である。6 is a cross-sectional view showing a main part of a capacitive ultrasonic transducer that is Comparative Example 2. FIG. 比較例1である静電容量型超音波トランスデューサを構成するメンブレンの動きを説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the motion of the membrane which comprises the capacitive ultrasonic transducer which is the comparative example 1. FIG. 本発明の実施の形態1である静電容量型超音波トランスデューサを構成するメンブレンの動きを説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the motion of the membrane which comprises the capacitive ultrasonic transducer which is Embodiment 1 of this invention.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、以下の実施の形態では、特に必要なときを除き、同一または同様な部分の説明を原則として繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof will be omitted. Also, in the following embodiments, the description of the same or similar parts will not be repeated in principle unless particularly necessary.

本願における半導体基板とは、半導体集積回路の製造に用いるシリコンその他の半導体単結晶基板、石英基板、サファイア基板、ガラス基板、その他の絶縁基板、または半導体基板など、並びにそれらの複合的基板を指す。   The semiconductor substrate in this application refers to a silicon or other semiconductor single crystal substrate, a quartz substrate, a sapphire substrate, a glass substrate, another insulating substrate, a semiconductor substrate, or the like used for manufacturing a semiconductor integrated circuit, and a composite substrate thereof.

(実施の形態1)
本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサは、例えばMEMS(Micro Electro Mechanical System)技術を用いて製造された超音波送受信センサである。
(Embodiment 1)
The capacitive ultrasonic transducer of this embodiment is an ultrasonic transmission / reception sensor manufactured using, for example, MEMS (Micro Electro Mechanical System) technology.

<静電容量型超音波トランスデューサの構造>
以下に、図1〜図5を用いて、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサの構造について説明する。図1および図2は、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサを示す平面図である。図2では、図1の要部を拡大して示している。図3〜図5は、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサを示す断面図である。図3は図2のA−A線における断面図であり、図4は図2のB−B線における断面図であり、図5は図2のC−C線における断面図である。
<Structure of capacitive ultrasonic transducer>
Hereinafter, the structure of the capacitive ultrasonic transducer according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2 are plan views showing a capacitive ultrasonic transducer according to the present embodiment. 2, the principal part of FIG. 1 is expanded and shown. 3 to 5 are cross-sectional views showing the capacitive ultrasonic transducer of this embodiment. 3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 2, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 2, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line CC in FIG.

図1は、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサである半導体チップ1の全体を示す平面図である。半導体チップ1は、厚さ方向に沿って互いに反対側に位置する主面(上面、表面)および裏面(下面)を有しており、図1では、半導体チップ1の主面側の平面図(上面図)を示している。   FIG. 1 is a plan view showing the entirety of a semiconductor chip 1 which is a capacitive ultrasonic transducer according to the present embodiment. The semiconductor chip 1 has a main surface (upper surface, front surface) and a rear surface (lower surface) located on opposite sides along the thickness direction. In FIG. 1, a plan view of the main surface side of the semiconductor chip 1 ( Top view).

図1に示すように、半導体チップ1の平面形状は、例えば長方形、つまり矩形である。ここでは、半導体チップ1はX方向に延在している。半導体チップ1の主面には、X方向に並ぶ複数のセル2と、複数のボンディングパッド(以下、パッドという)3、4とが配置されている。図1では、半導体チップ1の主面に3つのセル2を示しているが、セルの数は3つより少なくても多くてもよい。パッド3、4のそれぞれは、各セル2とY方向において隣り合って配置されている。X方向とY方向とは、平面視で互いに直交する方向であり、いずれも半導体チップ1の主面に沿う方向である。平面視において、X方向は半導体チップ1の長手方向であり、Y方向は半導体チップ1の短手方向である。パッド3、4は、半導体チップ1の入出力用の端子であり、パッド3、4には、ボンディングワイヤなどが電気的に接続される。   As shown in FIG. 1, the planar shape of the semiconductor chip 1 is, for example, a rectangle, that is, a rectangle. Here, the semiconductor chip 1 extends in the X direction. A plurality of cells 2 arranged in the X direction and a plurality of bonding pads (hereinafter referred to as pads) 3 and 4 are arranged on the main surface of the semiconductor chip 1. In FIG. 1, three cells 2 are shown on the main surface of the semiconductor chip 1, but the number of cells may be less or more than three. Each of the pads 3 and 4 is arranged adjacent to each cell 2 in the Y direction. The X direction and the Y direction are directions orthogonal to each other in plan view, and both are directions along the main surface of the semiconductor chip 1. In plan view, the X direction is the longitudinal direction of the semiconductor chip 1, and the Y direction is the short direction of the semiconductor chip 1. The pads 3 and 4 are input / output terminals of the semiconductor chip 1, and bonding wires and the like are electrically connected to the pads 3 and 4.

各セル2は1つの空洞部5を有している。空洞部5の平面視での形状は、例えば矩形である。各セル2は、空洞部5と平面視で重なる領域に、X方向に並ぶ3つのチャネル6を備えている。また、チャネル6は、空洞部5上にメンブレン(可撓性膜)7を有している。チャネル6のそれぞれは、超音波を発生させ、超音波を送信することが可能であり、かつ、超音波を受信することが可能な最小単位の振動子である。当該振動子は、例えば静電型可変容量(可変容量センサ)を構成している。各チャネル6は、メンブレン7上に配置された上部電極8と、空洞部5の下に配置された下部電極9(図3参照)を有している。すなわち、下部電極9、空洞部5および上部電極8は、平面視で重なっている。各チャネル6は、メンブレン7および上部電極8を1つずつ備えており、セル2内の全てのチャネル6が1つの下部電極(裏面電極)9を共有している。また、1つの下部電極9を複数のセル2が共有していてもよい。   Each cell 2 has one cavity 5. The shape of the cavity 5 in plan view is, for example, a rectangle. Each cell 2 includes three channels 6 arranged in the X direction in a region overlapping the cavity 5 in plan view. The channel 6 has a membrane (flexible membrane) 7 on the cavity 5. Each of the channels 6 is a minimum unit vibrator capable of generating an ultrasonic wave, transmitting the ultrasonic wave, and receiving the ultrasonic wave. The vibrator constitutes, for example, an electrostatic variable capacitance (variable capacitance sensor). Each channel 6 has an upper electrode 8 disposed on the membrane 7 and a lower electrode 9 (see FIG. 3) disposed below the cavity 5. That is, the lower electrode 9, the cavity 5 and the upper electrode 8 overlap in plan view. Each channel 6 includes one membrane 7 and one upper electrode 8, and all the channels 6 in the cell 2 share one lower electrode (back electrode) 9. A plurality of cells 2 may share one lower electrode 9.

各上部電極8のY方向の端部から配線が引き出されており、当該配線の端部の上面にパッド3が形成されている。つまり、パッド3は上部電極8に電気的に接続されている。また、Y方向において空洞部5と隣り合う領域であって、パッド3とは反対側の領域には、下部電極9に電気的に接続されたパッド4が配置されている。このように、平面視において、パッド3とパッド4の間に空洞部5が配置されており、空洞部5の内側に3つのメンブレン7と3つの上部電極8とが配置されている。言い換えれば、平面視でメンブレン7および上部電極8は空洞部5の内側に位置している。平面視での空洞部5の端部(側面)とメンブレン7および上部電極8とは互いに離間しており、隣り合うメンブレン7同士も互いに離間しており、隣り合う上部電極8も互いに離間している。   Wiring is drawn from the end of each upper electrode 8 in the Y direction, and a pad 3 is formed on the upper surface of the end of the wiring. That is, the pad 3 is electrically connected to the upper electrode 8. A pad 4 electrically connected to the lower electrode 9 is disposed in a region adjacent to the cavity 5 in the Y direction and on the opposite side of the pad 3. Thus, the cavity 5 is disposed between the pad 3 and the pad 4 in plan view, and the three membranes 7 and the three upper electrodes 8 are disposed inside the cavity 5. In other words, the membrane 7 and the upper electrode 8 are located inside the cavity 5 in plan view. The end (side surface) of the cavity 5 in plan view is separated from the membrane 7 and the upper electrode 8, the adjacent membranes 7 are also separated from each other, and the adjacent upper electrodes 8 are also separated from each other. Yes.

半導体チップ1を構成する部分のうち、平面視で空洞部5と隣り合う部分である枠部(リム部)10は、例えば絶縁膜から成る。枠部10の一部は空洞部5の側面を構成している。枠部10は、後述する接続部11を介して間接的にメンブレン7を支える役割と、互いに隣り合う空洞部5同士の間の隔壁としての役割とを有する。   Of the parts constituting the semiconductor chip 1, a frame part (rim part) 10 that is a part adjacent to the cavity part 5 in plan view is made of, for example, an insulating film. A part of the frame portion 10 constitutes a side surface of the cavity portion 5. The frame portion 10 has a role of indirectly supporting the membrane 7 via a connecting portion 11 described later, and a role as a partition between the hollow portions 5 adjacent to each other.

図2には、上記半導体チップ1の要部であって、1つのセル2の平面図を拡大して示している。図2に示すように、チャネル6、メンブレン7および上部電極8のそれぞれは、Y方向に延在する長方形のレイアウトを有している。平面視において、メンブレン7と枠部10との間、および、セル2内で隣り合うメンブレン7同士の間は、薄い絶縁膜を含む接続部(低ヤング率部、低音響インピーダンス部)11により接続されている。   FIG. 2 is an enlarged plan view of one cell 2 which is a main part of the semiconductor chip 1. As shown in FIG. 2, each of the channel 6, the membrane 7 and the upper electrode 8 has a rectangular layout extending in the Y direction. In a plan view, the membrane 7 and the frame 10 and between the membranes 7 adjacent in the cell 2 are connected by a connecting portion (low Young's modulus portion, low acoustic impedance portion) 11 including a thin insulating film. Has been.

セル2内において、X方向で隣り合うメンブレン7同士の間の領域の直下の空洞部内には、支柱12が形成されている。支柱12は、半導体チップ1の主面に対して垂直な方向(垂直方向、縦方向)において空洞部5を貫通する柱状の絶縁膜により構成されている。X方向で隣り合うメンブレン7同士の間でY方向に延在する接続部11の直下において、支柱12はY方向に一定の間隔で並んで複数配置されている。すなわち、支柱12は接続部11を支えることで、間接的にメンブレン7およびメンブレン7上の上部電極8を支える役割を有している。図2では、支柱12の輪郭を破線で示している。   In the cell 2, a support column 12 is formed in a cavity portion immediately below a region between the membranes 7 adjacent in the X direction. The column 12 is constituted by a columnar insulating film that penetrates the cavity 5 in a direction (vertical direction, vertical direction) perpendicular to the main surface of the semiconductor chip 1. Immediately below the connecting portion 11 extending in the Y direction between the membranes 7 adjacent in the X direction, a plurality of support columns 12 are arranged side by side at a constant interval in the Y direction. That is, the support column 12 supports the connecting portion 11 to indirectly support the membrane 7 and the upper electrode 8 on the membrane 7. In FIG. 2, the outline of the support column 12 is indicated by a broken line.

図3および図4には、半導体チップ1(図1参照)が有する1つのセル2を示す断面であって、X方向に沿う断面を示している。また、図5には、半導体チップ1が有する1つのセル2を示す断面であって、Y方向に沿う断面を示している。図3および図5では、支柱12を含む断面を示し、図4では、支柱12を含まない断面を示している。   3 and 4 are cross sections showing one cell 2 included in the semiconductor chip 1 (see FIG. 1) and showing a cross section along the X direction. FIG. 5 is a cross-section showing one cell 2 included in the semiconductor chip 1 and a cross-section along the Y direction. 3 and 5 show a cross section including the support column 12, and FIG. 4 shows a cross section not including the support column 12.

図3〜図5に示すように、半導体チップ1は、基板13と、基板13上に順に積層された絶縁膜14、下部電極(裏面電極)9および絶縁膜15を有している。基板13は、上側の主面と、当該主面の反対側の裏面とを有している。基板13は、例えばシリコン(Si)単結晶から成る。絶縁膜14は、例えば酸化シリコン(SiO等)などから成る。ここでは、絶縁膜14はTEOS(Tetra Ethyl Ortho Silicate、テトラエトキシシラン)膜から成る。下部電極9は、例えばタングステン(W)膜または窒化チタン(TiN)膜などの導体膜から成る。また、下部電極9はタングステン膜または窒化チタン膜を含む複数の導体膜から成る積層構造を有していてもよい。絶縁膜15は、例えば酸化シリコン、窒化シリコン(Si等)、炭化シリコン(SiC)または炭窒化シリコン(SiCN)から成る。なお、絶縁膜15は、不純物が導入されていない真性半導体であるアモルファス(非晶質)シリコンにより構成されていてもよい。 As shown in FIGS. 3 to 5, the semiconductor chip 1 includes a substrate 13, an insulating film 14, a lower electrode (back electrode) 9, and an insulating film 15 that are sequentially stacked on the substrate 13. The substrate 13 has an upper main surface and a back surface opposite to the main surface. The substrate 13 is made of, for example, silicon (Si) single crystal. The insulating film 14 is made of, for example, silicon oxide (SiO 2 or the like). Here, the insulating film 14 is made of a TEOS (Tetra Ethyl Ortho Silicate, tetraethoxysilane) film. The lower electrode 9 is made of a conductor film such as a tungsten (W) film or a titanium nitride (TiN) film. Further, the lower electrode 9 may have a laminated structure composed of a plurality of conductor films including a tungsten film or a titanium nitride film. The insulating film 15 is made of, for example, silicon oxide, silicon nitride (Si 3 N 4 or the like), silicon carbide (SiC), or silicon carbonitride (SiCN). The insulating film 15 may be made of amorphous silicon which is an intrinsic semiconductor into which no impurity is introduced.

絶縁膜15上には、セル2の周辺部に形成された枠部10と、基板13の主面に沿う方向(横方向)において枠部10に囲まれた空洞部5と、空洞部5の直上に形成された複数のメンブレン7と、複数のメンブレン7のそれぞれの直上に形成された上部電極8とが形成されている。また、空洞部5上には、互いに隣り合うメンブレン7の間を接続する接続部11と、互いに隣り合う枠部10とメンブレン7との間を接続する接続部11とが形成されている。下部電極9および絶縁膜15とメンブレン7との間には空洞部5が存在しており、下部電極9および絶縁膜15とメンブレン7とは互いに離間している。空洞部5の底面は絶縁膜15により構成され、空洞部5の側面は枠部10により構成され、空洞部5の上面は接続部11およびメンブレン7により構成されている。   On the insulating film 15, the frame portion 10 formed in the peripheral portion of the cell 2, the cavity portion 5 surrounded by the frame portion 10 in the direction along the main surface of the substrate 13 (lateral direction), and the cavity portion 5 A plurality of membranes 7 formed immediately above and an upper electrode 8 formed immediately above each of the plurality of membranes 7 are formed. Further, on the hollow portion 5, a connection portion 11 that connects between the membranes 7 adjacent to each other and a connection portion 11 that connects between the frame portion 10 and the membrane 7 adjacent to each other are formed. The cavity 5 exists between the lower electrode 9 and the insulating film 15 and the membrane 7, and the lower electrode 9, the insulating film 15 and the membrane 7 are separated from each other. The bottom surface of the cavity portion 5 is constituted by the insulating film 15, the side surface of the cavity portion 5 is constituted by the frame portion 10, and the upper surface of the cavity portion 5 is constituted by the connection portion 11 and the membrane 7.

図3〜図5では、接続部11を破線で囲んでいる。図3および図5に示すように、X方向に隣り合うメンブレン7同士の間の接続部11の直下には、支柱12が形成されている。支柱12の上面は接続部11の下面に接し、支柱12の底面は絶縁膜15の上面に接している。支柱12の側面は空洞部5の側面を構成している。つまり、支柱12は平面視において空洞部5に囲まれており、支柱12は接続部11を支えている。すなわち、支柱12は、接続部11に接続されたメンブレン7および上部電極8を支えている。   3-5, the connection part 11 is enclosed with the broken line. As shown in FIGS. 3 and 5, a support column 12 is formed immediately below the connecting portion 11 between the membranes 7 adjacent in the X direction. The upper surface of the support column 12 is in contact with the lower surface of the connection portion 11, and the bottom surface of the support column 12 is in contact with the upper surface of the insulating film 15. The side surface of the column 12 constitutes the side surface of the cavity 5. That is, the support column 12 is surrounded by the cavity 5 in plan view, and the support column 12 supports the connection unit 11. That is, the support column 12 supports the membrane 7 and the upper electrode 8 connected to the connection portion 11.

図3〜図5では、枠部10およびメンブレン7のそれぞれを1つの膜で示しているが、枠部10およびメンブレン7のそれぞれは、例えば、酸化シリコン膜または窒化シリコン膜などの複数の絶縁膜を積層した構造を有している。また、支柱12は複数の絶縁膜を積層した構造を有していてもよい。支柱12は、例えば、酸化シリコン膜若しくは窒化シリコン膜またはそれらの絶縁膜を積層した積層膜から成る。   3 to 5, each of the frame portion 10 and the membrane 7 is shown as one film. However, each of the frame portion 10 and the membrane 7 includes a plurality of insulating films such as a silicon oxide film or a silicon nitride film, for example. Has a laminated structure. Moreover, the support | pillar 12 may have a structure which laminated | stacked the some insulating film. The support column 12 is made of, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a laminated film in which those insulating films are laminated.

接続部11は、複数のメンブレン7を含む積層絶縁膜の上面の一部をエッチング工程により後退させ、これにより溝16を形成することで形成されている。溝16は、メンブレン7の隣に形成され、溝16の底面は、メンブレン7の底面の高さに達していない。言い換えれば、溝16の底面は、当該積層絶縁膜の途中深さに位置している。つまり、当該エッチング工程で形成する溝16は、当該積層絶縁膜を貫通していない。溝16の底部には、当該積層絶縁膜の上面が後退した結果残った薄膜17が形成されており、接続部11は主に薄膜17により構成されている。ただし、本実施の形態の接続部11は、薄膜17上の溝16内の空間も含むものとする。薄膜17は、メンブレン7よりも膜厚が小さい絶縁膜または積層絶縁膜である。薄膜17は、例えば、酸化シリコン膜若しくは窒化シリコン膜またはそれらの絶縁膜を積層した積層膜から成る。   The connection portion 11 is formed by retreating a part of the upper surface of the laminated insulating film including the plurality of membranes 7 by an etching process, thereby forming the groove 16. The groove 16 is formed next to the membrane 7, and the bottom surface of the groove 16 does not reach the height of the bottom surface of the membrane 7. In other words, the bottom surface of the groove 16 is located at an intermediate depth of the laminated insulating film. That is, the groove 16 formed in the etching process does not penetrate the laminated insulating film. A thin film 17 remaining as a result of the upper surface of the laminated insulating film receding is formed at the bottom of the groove 16, and the connection portion 11 is mainly composed of the thin film 17. However, the connection part 11 of this Embodiment shall also include the space in the groove | channel 16 on the thin film 17. FIG. The thin film 17 is an insulating film or a laminated insulating film whose film thickness is smaller than that of the membrane 7. The thin film 17 is made of, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a laminated film in which those insulating films are laminated.

例えば、薄膜17は、メンブレン7および枠部10のそれぞれの一部と一体になっている。つまり、薄膜17を構成する絶縁膜は、メンブレン7および枠部10のそれぞれを構成する積層膜のうちの一部の絶縁膜と同一の膜である。言い換えれば、メンブレン7、枠部10および薄膜17のそれぞれは、1つの絶縁膜を共有している。また、支柱12は、メンブレン7または薄膜17と共に同一の絶縁膜を共有していてもよい。   For example, the thin film 17 is integrated with a part of each of the membrane 7 and the frame part 10. That is, the insulating film constituting the thin film 17 is the same film as a part of the insulating films of the laminated films constituting the membrane 7 and the frame portion 10. In other words, each of the membrane 7, the frame portion 10, and the thin film 17 shares one insulating film. Moreover, the support | pillar 12 may share the same insulating film with the membrane 7 or the thin film 17. FIG.

図3では、溝16および薄膜17を、支柱12と同等の幅で示しているが、横方向における溝16および薄膜17のそれぞれの幅は、支柱12の幅よりも大きいことが好ましい。つまり、横方向において、溝16の両側の側面は、支柱12の側面よりも外側に位置していることが好ましい。言い換えれば、平面視において、支柱12の全体が溝16の内側に位置していることが望ましい。これは、図26を用いて後述するように、メンブレン7および上部電極8を撓むことなく振動させるためには、メンブレン7と支柱12との間に、ヤング率が低くばね定数が小さい接続部11を設けることが重要だからである。   In FIG. 3, the groove 16 and the thin film 17 are shown as having the same width as the support 12, but the width of each of the groove 16 and the thin film 17 in the lateral direction is preferably larger than the width of the support 12. That is, it is preferable that the side surfaces on both sides of the groove 16 are located outside the side surfaces of the support column 12 in the lateral direction. In other words, it is desirable that the entire support column 12 is located inside the groove 16 in plan view. As will be described later with reference to FIG. 26, in order to vibrate the membrane 7 and the upper electrode 8 without bending, a connecting portion having a low Young's modulus and a small spring constant is provided between the membrane 7 and the support column 12. 11 is important.

ここでいうメンブレンとは、振動子の動作時に振動する部分のことであり、図3では、各チャネル6において空洞部5の直上に位置する積層絶縁膜を指す。ここでは、メンブレン7と上部電極8とをそれぞれ別々の部分として説明するが、メンブレンの概念には上部電極8が含まれる場合がある。   The membrane here refers to a portion that vibrates during operation of the vibrator. In FIG. 3, the membrane refers to a laminated insulating film positioned immediately above the cavity 5 in each channel 6. Here, the membrane 7 and the upper electrode 8 will be described as separate parts, but the upper electrode 8 may be included in the concept of the membrane.

図3〜図5に示すように、支柱12は、X方向で隣り合うメンブレン7同士の間の接続部11の直下の全体に連続して延在しているのではなく、柱状のパターンを有しており、Y方向に並んで接続部11の下面の一部を複数の箇所で支えている。セル2内でX方向に並ぶチャネル6のそれぞれのメンブレン7の直下の空洞部5は互いに繋がっており、空洞部5は、絶縁膜15、枠部10、メンブレン7および接続部11により周囲を完全に囲まれ、密閉されている。したがって、空洞部5にガスまたはゴミが浸入することを防ぐことができる。   As shown in FIGS. 3 to 5, the support column 12 does not extend continuously directly below the connection portion 11 between the membranes 7 adjacent in the X direction, but has a columnar pattern. In addition, a part of the lower surface of the connecting portion 11 is supported in a plurality of locations side by side in the Y direction. The cavities 5 immediately below the membranes 7 of the channels 6 arranged in the X direction in the cell 2 are connected to each other, and the cavities 5 are completely surrounded by the insulating film 15, the frame part 10, the membrane 7 and the connection part 11. Surrounded and sealed. Therefore, it is possible to prevent gas or dust from entering the cavity 5.

上部電極8は、例えばタングステン(W)膜または窒化チタン(TiN)膜などの導体膜から成る。また、上部電極8はタングステン膜または窒化チタン膜を含む複数の導体膜から成る積層構造を有していてもよい。下部電極9と上部電極8との間隔は例えば500nm程度である。上部電極8は、接続部11および支柱12のそれぞれの直上には形成されていない。   The upper electrode 8 is made of a conductive film such as a tungsten (W) film or a titanium nitride (TiN) film. Further, the upper electrode 8 may have a laminated structure composed of a plurality of conductor films including a tungsten film or a titanium nitride film. The distance between the lower electrode 9 and the upper electrode 8 is, for example, about 500 nm. The upper electrode 8 is not formed immediately above the connection portion 11 and the support column 12.

図1〜図5に示す本実施の形態の半導体チップ(静電容量型超音波トランスデューサ)1は、複数の振動子を有する装置である。静電容量型超音波トランスデューサを用いて超音波を発生させる動作(送信動作)では、下部電極9および上部電極8に直流および交流の電圧を重畳印加することにより、下部電極9と上部電極8との間に静電気力が働き、各振動子のメンブレン7が、メンブレン7のばねの力との釣り合いにより、共振周波数付近で垂直方向に振動する(図26参照)。このとき、上部電極8と下部電極9との間の最大の電位差は例えば300Vである。これにより、振動子から数MHzの超音波(超音波パルス)が発生する。   A semiconductor chip (capacitive ultrasonic transducer) 1 of the present embodiment shown in FIGS. 1 to 5 is a device having a plurality of vibrators. In the operation (transmission operation) for generating ultrasonic waves using the capacitive ultrasonic transducer, the lower electrode 9 and the upper electrode 8 are applied by superimposing and applying DC and AC voltages to the lower electrode 9 and the upper electrode 8. Electrostatic force works between the two, and the membrane 7 of each vibrator vibrates in the vertical direction near the resonance frequency due to the balance with the spring force of the membrane 7 (see FIG. 26). At this time, the maximum potential difference between the upper electrode 8 and the lower electrode 9 is, for example, 300V. Thereby, an ultrasonic wave (ultrasonic pulse) of several MHz is generated from the vibrator.

また、静電容量型超音波トランスデューサによる受信動作では、各振動子のメンブレン7に到達した超音波の圧力によりメンブレン7が振動し、下部電極9と上部電極8との間の静電容量が変化することで、超音波を検出することができる。すなわち、反射波による下部電極9と上部電極8との間隔の変位を静電容量(各振動子の静電容量)の変化として検出する。このように静電容量型超音波トランスデューサを用いて超音波の送受信を行うことにより、例えば生体組織の断層像を撮像することができる。   Further, in the reception operation by the capacitive ultrasonic transducer, the membrane 7 vibrates due to the pressure of the ultrasonic waves reaching the membrane 7 of each transducer, and the capacitance between the lower electrode 9 and the upper electrode 8 changes. By doing so, ultrasonic waves can be detected. That is, the displacement of the distance between the lower electrode 9 and the upper electrode 8 due to the reflected wave is detected as a change in electrostatic capacity (capacitance of each vibrator). Thus, by transmitting and receiving ultrasonic waves using a capacitive ultrasonic transducer, for example, a tomographic image of a living tissue can be taken.

本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサの主な特徴は、上下の電極間の空洞部5を複数のチャネル6が共有する場合に、隣り合うメンブレン7同士の間に、メンブレン7よりも柔らかい構造を有する接続部11を形成することにある。本実施の形態では、隣り合うメンブレン7同士の間に溝16を形成し、接続部11を溝16内の空間と溝16の底部の薄膜17とにより構成することにより、メンブレン7の一部と同じ材料を含む接続部11のヤング率および音響インピーダンスを、メンブレン7のヤング率および音響インピーダンスよりも、それぞれ低くしている。薄膜17は、メンブレン7よりも膜厚が小さいため、薄膜17のばね定数はメンブレン7のばね定数よりも小さい。なお、仮にメンブレンが上部電極を含むものである場合でも、接続部11のヤング率および音響インピーダンスは、メンブレン7のヤング率および音響インピーダンスよりも低く、接続部11のばね定数は、メンブレン7のばね定数より小さい。   The main feature of the capacitive ultrasonic transducer according to the present embodiment is that when a plurality of channels 6 share the cavity 5 between the upper and lower electrodes, the gap between adjacent membranes 7 is greater than that of the membrane 7. The purpose is to form the connection portion 11 having a soft structure. In the present embodiment, a groove 16 is formed between adjacent membranes 7, and the connecting portion 11 is constituted by a space in the groove 16 and a thin film 17 at the bottom of the groove 16, thereby providing a part of the membrane 7. The Young's modulus and acoustic impedance of the connection part 11 containing the same material are set lower than the Young's modulus and acoustic impedance of the membrane 7, respectively. Since the thin film 17 is thinner than the membrane 7, the spring constant of the thin film 17 is smaller than the spring constant of the membrane 7. Even if the membrane includes the upper electrode, the Young's modulus and acoustic impedance of the connecting portion 11 are lower than the Young's modulus and acoustic impedance of the membrane 7, and the spring constant of the connecting portion 11 is smaller than the spring constant of the membrane 7. small.

また、メンブレン7よりも膜厚が小さい薄膜17を含む接続部11の音響インピーダンスは、メンブレン7の音響インピーダンスよりも低い。音響インピーダンスとは、音が媒質内を伝播する際の抵抗値を表すものであり、音波が伝搬する媒質の密度と音速との積により求められる。本実施の形態では、接続部11は薄膜17と薄膜17の直上の溝16内の空間とにより構成されているため、接続部11の密度はメンブレン7よりも小さい。また、空洞部5または溝16内の空間のように、膜が形成されていない領域、つまり、真空領域または空気などのガスが存在する領域の音響インピーダンスは、酸化シリコン膜または窒化シリコン膜などの膜の音響インピーダンスよりも低い。したがって、接続部11の音響インピーダンスは、メンブレン7の音響インピーダンスよりも低い。   Further, the acoustic impedance of the connecting portion 11 including the thin film 17 having a smaller film thickness than the membrane 7 is lower than the acoustic impedance of the membrane 7. The acoustic impedance represents a resistance value when sound propagates through the medium, and is obtained by the product of the density of the medium through which the sound wave propagates and the sound speed. In the present embodiment, since the connection portion 11 is constituted by the thin film 17 and the space in the groove 16 immediately above the thin film 17, the density of the connection portion 11 is smaller than that of the membrane 7. In addition, the acoustic impedance of a region where a film is not formed, such as a space in the cavity 5 or the groove 16, that is, a region where a gas such as a vacuum region or air exists, is such as a silicon oxide film or a silicon nitride film. Lower than the acoustic impedance of the membrane. Therefore, the acoustic impedance of the connecting portion 11 is lower than the acoustic impedance of the membrane 7.

<静電容量型超音波トランスデューサの効果>
以下に、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサの効果について、図26と、比較例を示す図22〜図25とを用いて説明する。図22は、比較例1である静電容量型超音波トランスデューサの要部を示す断面図である。図23および図24は、比較例2である静電容量型超音波トランスデューサの要部を示す断面図である。図22および図23は、図3に対応する箇所の断面、つまり支柱を含む断面であり、図24は、図4に対応する箇所の断面、つまり支柱を含まない断面である。図25は、比較例1の静電容量型超音波トランスデューサを構成するメンブレンの動きを説明する断面図である。図26は、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサを構成するメンブレンの動きを説明する断面図である。図25および図26では、一部の上部電極について、ハッチングを省略している。
<Effects of capacitive ultrasonic transducer>
Hereinafter, the effect of the capacitive ultrasonic transducer of the present embodiment will be described with reference to FIG. 26 and FIGS. 22 to 25 showing comparative examples. FIG. 22 is a cross-sectional view showing the main part of a capacitive ultrasonic transducer that is Comparative Example 1. 23 and 24 are cross-sectional views showing the main parts of a capacitive ultrasonic transducer that is Comparative Example 2. FIG. 22 and FIG. 23 are cross sections of the portion corresponding to FIG. 3, that is, a cross section including the column, and FIG. 24 is a cross section of the portion corresponding to FIG. FIG. 25 is a cross-sectional view for explaining the movement of the membrane constituting the capacitive ultrasonic transducer of Comparative Example 1. FIG. 26 is a cross-sectional view for explaining the movement of the membrane constituting the capacitive ultrasonic transducer of this embodiment. In FIGS. 25 and 26, hatching is omitted for some of the upper electrodes.

静電容量型超音波トランスデューサ(CMUT:Capacitive Micro-machined Ultrasonic Transducer)は、送受信可能な超音波の周波数を高めることで、適用領域を拡大することができる。カテーテルまたは顕微鏡などに静電容量型超音波トランスデューサを応用する場合には、医療向けに使用される静電容量型超音波トランスデューサが送受信する超音波の周波数(1〜10MHz)よりも高い周波数(20MHz以上)の超音波を送受信する必要がある。   Capacitive micro-machined ultrasonic transducers (CMUTs) can expand the application area by increasing the frequency of ultrasonic waves that can be transmitted and received. When a capacitive ultrasonic transducer is applied to a catheter or a microscope, a frequency (20 MHz) higher than an ultrasonic frequency (1 to 10 MHz) transmitted and received by the capacitive ultrasonic transducer used for medical purposes. It is necessary to transmit and receive the above ultrasonic waves.

静電容量型超音波トランスデューサの送受信可能な周波数が高くなると、その波長に依存して静電容量型超音波トランスデューサのチャネルの幅が狭くなり、結果的にデバイス領域(センサ領域)に対するチャネル間のリム部の面積の占める割合が大きくなる。このことは、静電容量型超音波トランスデューサである半導体チップの面積に対し、超音波を送信(発生)、受信する領域(チャネル)が占める面積が減少すること、つまりフィルファクタの減少を意味する。フィルファクタが減少すると、静電容量型超音波トランスデューサの送信効率および受信感度が低下する問題が生じる。送信効率および受信感度などの静電容量型超音波トランスデューサの特性が低下することを避けるために、半導体チップの面積を増大させ、これにより超音波を送信受信する領域の面積を拡げることが考えられるが、この場合、静電容量型超音波トランスデューサの微細化が困難となる問題が生じる。   When the frequency at which the capacitive ultrasonic transducer can transmit and receive increases, the channel width of the capacitive ultrasonic transducer becomes narrower depending on the wavelength, and as a result, the channel between the device region (sensor region) and the channel is reduced. The proportion of the area of the rim portion increases. This means that the area occupied by the area where the ultrasonic wave is transmitted (generated) and received (channel) is reduced relative to the area of the semiconductor chip which is a capacitive ultrasonic transducer, that is, the fill factor is reduced. . When the fill factor decreases, there arises a problem that the transmission efficiency and reception sensitivity of the capacitive ultrasonic transducer are lowered. In order to avoid deterioration of the characteristics of the capacitive ultrasonic transducer such as transmission efficiency and reception sensitivity, it is conceivable to increase the area of the semiconductor chip, thereby expanding the area of the ultrasonic wave transmission / reception area. However, in this case, there is a problem that it is difficult to miniaturize the capacitive ultrasonic transducer.

これに対し、静電容量型超音波トランスデューサの面積の増大を防ぎつつ、半導体チップ上で、音の送受信に寄与しない領域を低減することを目的として、図22に示すような比較例1の構造を有する静電容量型超音波トランスデューサを形成することが考えられる。すなわち、全てのチャネル6の1つ1つを、枠部10により囲むのではなく、図22に示すように、互いに隣り合うチャネル6のそれぞれの空洞部5を連結させ、1つの空洞部5を複数のチャネル6が共有することで、チャネル6同士の間隔の増大を防ぐことができる。ここでは、互いに隣り合うメンブレン7同士の間の接続部111を支柱12で部分的に支えている。   On the other hand, the structure of Comparative Example 1 as shown in FIG. 22 is intended to reduce the area on the semiconductor chip that does not contribute to transmission / reception of sound while preventing an increase in the area of the capacitive ultrasonic transducer. It is conceivable to form a capacitive ultrasonic transducer having That is, instead of enclosing all the channels 6 one by one with the frame portion 10, as shown in FIG. By sharing the plurality of channels 6, it is possible to prevent an increase in the interval between the channels 6. Here, the connecting portion 111 between the membranes 7 adjacent to each other is partially supported by the support column 12.

比較例1の静電容量型超音波トランスデューサは、互いに隣り合うメンブレン7同士の間、および、メンブレン7と枠部10との間のそれぞれに設けられた接続部111が、メンブレン7と同じ構造を有し、同じ膜厚を有しており、この点で本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサと異なる。つまり、接続部111の音響インピーダンスはメンブレン7の音響インピーダンスと同じ値であり、接続部111のヤング率はメンブレン7のヤング率と同じ値である。また、接続部111のばね定数はメンブレン7のばね定数と同じ値である。このため、所定のチャネル6で音の送受信を行う際、当該チャネル6のメンブレン7の振動の影響を受け、当該メンブレン7に接続された接続部および他のメンブレン7も振動する。すなわち、1つのメンブレン7が振動する際に、他のメンブレン7が振動することを防ぐことができない。このことは、同一の空洞部5を共有するチャネル6同士の間で音響的な分離ができないことを意味する。   The capacitive ultrasonic transducer of Comparative Example 1 has the same structure as the membrane 7 in which the connecting portions 111 provided between the membranes 7 adjacent to each other and between the membrane 7 and the frame portion 10 are the same. And the same film thickness, which is different from the capacitive ultrasonic transducer of this embodiment. That is, the acoustic impedance of the connecting portion 111 is the same value as the acoustic impedance of the membrane 7, and the Young's modulus of the connecting portion 111 is the same value as the Young's modulus of the membrane 7. The spring constant of the connecting portion 111 is the same value as the spring constant of the membrane 7. For this reason, when sound is transmitted / received through a predetermined channel 6, the connection portion connected to the membrane 7 and the other membrane 7 are also vibrated under the influence of the vibration of the membrane 7 of the channel 6. That is, when one membrane 7 vibrates, it cannot prevent other membranes 7 from vibrating. This means that acoustic separation cannot be performed between the channels 6 sharing the same cavity 5.

静電容量型超音波トランスデューサのセルをアレイ化して音響的なフォーカスを行う場合、アレイ内の複数のチャネル6のそれぞれは異なったタイミングで送受信を行う。このため、隣接するチャネル同士は音響的に分離する必要がある。しかし、比較例1のように、複数のチャネル6が空洞部5を共有し、かつ、メンブレン7同士の間の接続部111がメンブレン7と同じ構造を有している場合、チャネル6同士の間で音響分離をすることができない。その結果、静電容量型超音波トランスデューサの隣り合うチャネル6同士の間における音響的な分解能が低下する問題が生じる。   When acoustic focusing is performed by arraying cells of the capacitive ultrasonic transducer, each of the plurality of channels 6 in the array transmits and receives at different timings. For this reason, adjacent channels need to be acoustically separated. However, as in Comparative Example 1, when the plurality of channels 6 share the hollow portion 5 and the connecting portion 111 between the membranes 7 has the same structure as the membrane 7, Sound separation is not possible. As a result, there arises a problem that the acoustic resolution between the adjacent channels 6 of the capacitive ultrasonic transducer is lowered.

音響的な分離ができない場合、次のような問題が生じる。すなわち、静電容量型超音波トランスデューサを用いて送受信する音および信号においてノイズが発生する問題、および、送信時に上部電極8および下部電極9に電圧を印加した際、メンブレン7が動き難い問題が生じる。つまり、隣り合うチャネル6のそれぞれを構成する振動子を個別に動作させて送受信を行うことが困難となる。   When acoustic separation is not possible, the following problems occur. That is, there are problems that noise is generated in sound and signals transmitted and received using the capacitive ultrasonic transducer, and that the membrane 7 is difficult to move when voltage is applied to the upper electrode 8 and the lower electrode 9 during transmission. . That is, it becomes difficult to perform transmission / reception by individually operating the vibrators constituting the adjacent channels 6.

これに対し、図23および図24に示す比較例2の静電容量型超音波トランスデューサのように、チャネル6同士を音響的に分離するために、互いに隣り合うメンブレン7同士の間に、メンブレン7を貫通する切れ込み(貫通孔24)を入れることが考えられる。すなわち、比較例2の静電容量型超音波トランスデューサは、空洞部5の直上において、互いに隣り合うメンブレン7同士の間に接続部を有しておらず、隣り合うメンブレン7同士は互いに分離している。支柱12はメンブレン7の端部の下面を支えており、図24に示すように、支柱12がない箇所では、空洞部5が露出している。この場合、静電容量型超音波トランスデューサの外部から、互いに隣り合うメンブレン7同士の間の貫通孔24を介してガスまたは音響媒質などが空洞部5内に浸入する。当該ガスまたは音響媒質は、半導体チップの製造工程および半導体チップの完成後に空洞部5内に浸入することが考えられる。その結果、空洞部5内の真空を保持できないため、上部電極8と下部電極9との間に電圧を印加した際、それらの電極間で放電が起こり易くなり、静電容量型超音波トランスデューサの信頼性が低下する。   On the other hand, in order to acoustically separate the channels 6 from each other as in the capacitive ultrasonic transducer of the comparative example 2 shown in FIGS. 23 and 24, the membrane 7 is interposed between the membranes 7 adjacent to each other. It is conceivable to make a notch (through hole 24) penetrating through. That is, the capacitive ultrasonic transducer of Comparative Example 2 does not have a connection portion between the membranes 7 adjacent to each other immediately above the cavity 5, and the adjacent membranes 7 are separated from each other. Yes. The support column 12 supports the lower surface of the end portion of the membrane 7. As shown in FIG. 24, the cavity portion 5 is exposed at a place where the support column 12 is not provided. In this case, gas or an acoustic medium or the like enters the cavity 5 from the outside of the capacitive ultrasonic transducer through the through hole 24 between the membranes 7 adjacent to each other. It is conceivable that the gas or the acoustic medium enters the cavity 5 after the semiconductor chip manufacturing process and the semiconductor chip are completed. As a result, since the vacuum in the cavity 5 cannot be maintained, when a voltage is applied between the upper electrode 8 and the lower electrode 9, discharge easily occurs between the electrodes, and the capacitive ultrasonic transducer Reliability decreases.

また、図22に示す比較例1のように、メンブレン7と接続部111とが、同じ構造、同じ膜厚、同じヤング率、同じばね定数、同じ音響インピーダンスを有している場合、支柱12の直上において固定されている接続部111の近傍のメンブレン7は、送受信の動作時に殆ど上下に動かない。つまり、図25に示すように、メンブレン7の中央部は垂直方向に大きく振動するが、メンブレン7の端部は垂直方向の振動幅が小さい。このため、メンブレン7は振動時に大きく湾曲する。この場合、1つのチャネル6内において、メンブレン7の振動時に下部電極9と上部電極8との間隔が変動する領域、つまり、静電容量の変化を検出することができる領域が、メンブレン7の中央部近傍のみに限られるため、静電容量型超音波トランスデューサの実効的なフィルファクタが減少する。   Further, as in Comparative Example 1 shown in FIG. 22, when the membrane 7 and the connecting portion 111 have the same structure, the same film thickness, the same Young's modulus, the same spring constant, and the same acoustic impedance, The membrane 7 in the vicinity of the connection portion 111 fixed immediately above hardly moves up and down during the transmission / reception operation. That is, as shown in FIG. 25, the center portion of the membrane 7 vibrates greatly in the vertical direction, but the end portion of the membrane 7 has a small vibration width in the vertical direction. For this reason, the membrane 7 is greatly curved during vibration. In this case, in one channel 6, a region where the distance between the lower electrode 9 and the upper electrode 8 fluctuates when the membrane 7 vibrates, that is, a region where a change in capacitance can be detected is the center of the membrane 7. Therefore, the effective fill factor of the capacitive ultrasonic transducer is reduced.

なお、図25では1つのメンブレン7の動作態様のみを示しているが、図22を用いて説明したように、比較例1の静電容量型超音波トランスデューサでは隣り合うチャネル6同士の間の音響的分離が不十分であるため、所定のメンブレン7が振動する際に、当該メンブレン7と隣り合う他のメンブレン7も振動することが考えられる。   FIG. 25 shows only the operation mode of one membrane 7, but as described with reference to FIG. 22, in the capacitive ultrasonic transducer of Comparative Example 1, the sound between adjacent channels 6 is not shown. Since the target separation is insufficient, it is conceivable that when the predetermined membrane 7 vibrates, another membrane 7 adjacent to the membrane 7 also vibrates.

そこで、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサでは、隣り合うメンブレン7同士の間、および、メンブレン7と枠部10との間に、メンブレン7よりもヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい接続部11を設けている。ここでは、1つのセル2内において、複数のチャネル6が空洞部5を共有し、それらのチャネル6同士の間の領域を枠部10ではなく支柱12で支えることで、セル2内のチャネル6同士の間の幅を縮小している。これにより、半導体チップの面積に対し振動子が占める面積の割合を高めることができるため、静電容量型超音波トランスデューサの特性(送信効率および受信感度)を向上させることができる。   Therefore, in the capacitive ultrasonic transducer of the present embodiment, Young's modulus and acoustic impedance are lower between the membranes 7 adjacent to each other and between the membrane 7 and the frame portion 10 than the membrane 7, and the spring A connecting portion 11 having a small constant is provided. Here, in one cell 2, a plurality of channels 6 share the cavity portion 5, and the region between the channels 6 is supported by the support column 12 instead of the frame portion 10, whereby the channel 6 in the cell 2. The width between them is reduced. Thereby, since the ratio of the area which a vibrator occupies with respect to the area of a semiconductor chip can be raised, the characteristic (transmission efficiency and reception sensitivity) of a capacitive ultrasonic transducer can be improved.

また、本実施の形態では、支柱12の直上のみでなく、他の領域においてもメンブレン7同士の間を接続部11により接続することで、図23および図24に示した比較例2と異なり、空洞部5を密閉することができる。したがって、空洞部5内の真空を保持することができるため、上部電極8と下部電極9との間に電圧を印加した際、それらの電極間で放電が起こることを防ぎ、これにより、静電容量型超音波トランスデューサの信頼性を高めることができる。   Further, in the present embodiment, not only directly above the support column 12, but also in other regions by connecting the membranes 7 with each other by the connecting portion 11, unlike the comparative example 2 shown in FIG. 23 and FIG. The cavity 5 can be sealed. Therefore, since the vacuum in the cavity 5 can be maintained, when a voltage is applied between the upper electrode 8 and the lower electrode 9, it is possible to prevent a discharge from occurring between the electrodes, thereby preventing electrostatic discharge. The reliability of the capacitive ultrasonic transducer can be increased.

また、本実施の形態では、メンブレン7同士の間の接続部11のヤング率および音響インピーダンスが、それぞれメンブレン7のヤング率および音響インピーダンスよりも低い。このため、所定のチャネル6のメンブレン7が振動した際に、当該メンブレン7と隣り合う他のメンブレン7が影響を受け、意図せず振動することを防ぐことができる。また、音の送受信を行うために所定のメンブレン7を振動する際、当該メンブレン7が他のメンブレン7に接続されていることに起因して、振動し難くなることを防ぐことができる。よって、図22に示す比較例1に比べ、空洞部5を共有するチャネル6同士を音響的に分離することができる。つまり、互いに隣り合うチャネル6同士は、それらの相互間の支柱12の直上の接続部11を介して音響的に分離されている。また、静電容量型超音波トランスデューサの特性(送信効率および受信感度)を向上させることができる。   Moreover, in this Embodiment, the Young's modulus and acoustic impedance of the connection part 11 between the membranes 7 are lower than the Young's modulus and acoustic impedance of the membrane 7, respectively. For this reason, when the membrane 7 of the predetermined channel 6 vibrates, other membranes 7 adjacent to the membrane 7 are affected and can be prevented from unintentionally vibrating. Further, when vibrating a predetermined membrane 7 to transmit and receive sound, it is possible to prevent the membrane 7 from being difficult to vibrate due to the membrane 7 being connected to another membrane 7. Therefore, compared with the comparative example 1 shown in FIG. 22, the channels 6 sharing the cavity 5 can be acoustically separated. That is, the channels 6 adjacent to each other are acoustically separated via the connection portion 11 immediately above the support column 12 between them. In addition, the characteristics (transmission efficiency and reception sensitivity) of the capacitive ultrasonic transducer can be improved.

また、接続部11のヤング率およびばね定数はメンブレン7のヤング率およびばね定数よりも小さく、接続部11はメンブレン7よりも柔らかく、剛性が低く、曲がりやすい部分である。よって、図26に示すように、メンブレン7が振動する際には接続部11が大きく変形し易い。このため、メンブレン7の振動時にメンブレン7およびメンブレン7上の上部電極8が撓むことを防ぐことができる。したがって、メンブレン7の振動時には、メンブレン7および上部電極8が殆ど湾曲しない状態で上下に動き、上部電極8の全体と下部電極9との間の垂直方向における距離が一様に変動する。これは、上部電極8の全体が、静電容量の変化を検出することができる領域として機能することを意味する。   Further, the Young's modulus and spring constant of the connecting portion 11 are smaller than the Young's modulus and spring constant of the membrane 7, and the connecting portion 11 is softer, lower in rigidity, and easily bent. Therefore, as shown in FIG. 26, when the membrane 7 vibrates, the connecting portion 11 is easily deformed greatly. For this reason, it is possible to prevent the membrane 7 and the upper electrode 8 on the membrane 7 from bending when the membrane 7 vibrates. Therefore, when the membrane 7 vibrates, the membrane 7 and the upper electrode 8 move up and down with almost no curvature, and the distance in the vertical direction between the entire upper electrode 8 and the lower electrode 9 varies uniformly. This means that the entire upper electrode 8 functions as a region where a change in capacitance can be detected.

このように、上部電極8と下部電極9とが並行平板としての位置関係を保ったまま、上部電極8が振動するため、図25に示す比較例1に比べ、静電容量の変化を検出することができる領域の減少を防ぐことができ、静電容量型超音波トランスデューサの実効的なフィルファクタを向上させることができる。このとき、メンブレン7および上部電極8を撓むことなく振動させるためには、平面視でメンブレン7と支柱12との間に、ヤング率が低い接続部11を設けることが重要である。したがって、横方向において、溝16および薄膜17の幅、すなわち接続部11の幅は、支柱12の幅よりも大きいことが望ましい。   In this manner, the upper electrode 8 vibrates while maintaining the positional relationship between the upper electrode 8 and the lower electrode 9 as parallel plates, and therefore, a change in capacitance is detected as compared with the comparative example 1 shown in FIG. It is possible to prevent a reduction in the area that can be used, and to improve the effective fill factor of the capacitive ultrasonic transducer. At this time, in order to vibrate the membrane 7 and the upper electrode 8 without bending, it is important to provide the connection portion 11 having a low Young's modulus between the membrane 7 and the support 12 in a plan view. Therefore, in the lateral direction, the width of the groove 16 and the thin film 17, that is, the width of the connection portion 11 is preferably larger than the width of the support column 12.

以上に説明したように、メンブレン7よりもヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい接続部11を設けることで、メンブレン7同士の間の振動の伝播を防ぎ、隣り合うチャネル6同士の間の音響的分離を実現し、空洞部5を密閉して真空状態を保ち、かつ、メンブレン7の振動時に上部電極8が撓むことを防ぐことができる。また、フィルファクタが減少することを防ぎつつ、チャネルの幅を縮小することができるため、送受信する音波の周波数を高めることができる。よって、静電容量型超音波トランスデューサで検査可能な周波数帯域を拡げることができる。   As described above, by providing the connection part 11 having a Young's modulus and acoustic impedance lower than that of the membrane 7 and having a small spring constant, propagation of vibration between the membranes 7 is prevented, and between adjacent channels 6. Thus, the cavity 5 can be sealed to maintain a vacuum state, and the upper electrode 8 can be prevented from bending when the membrane 7 vibrates. In addition, since the channel width can be reduced while preventing the fill factor from decreasing, the frequency of sound waves to be transmitted and received can be increased. Therefore, the frequency band that can be inspected by the capacitive ultrasonic transducer can be expanded.

なお、図1〜図5では、メンブレン7と枠部10との間の領域に接続部11が形成されている場合について説明したが、当該領域に接続部11を形成せず、メンブレン7と枠部10とを直接接続してもよい。その場合、当該領域に接続部11を形成する場合に比べ、上部電極8と下部電極9との並行な位置関係を保ったまま上部電極8が振動させる効果は得難くなるが、メンブレン7同士を音響的に分離する効果は得られる。   1 to 5, the case where the connection portion 11 is formed in the region between the membrane 7 and the frame portion 10 has been described. However, the connection portion 11 is not formed in the region, and the membrane 7 and the frame are formed. The unit 10 may be directly connected. In that case, the effect of vibrating the upper electrode 8 while maintaining the parallel positional relationship between the upper electrode 8 and the lower electrode 9 is difficult to obtain as compared with the case where the connection portion 11 is formed in the region. An acoustic separation effect is obtained.

<変形例1>
図6に、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサの変形例1を示す。図6は、本実施の形態の変形例1である静電容量型超音波トランスデューサを示す平面図である。
<Modification 1>
FIG. 6 shows a first modification of the capacitive ultrasonic transducer according to the present embodiment. FIG. 6 is a plan view showing a capacitive ultrasonic transducer that is Modification 1 of the present embodiment.

図1では、1つの空洞部5が3つのチャネル6を有する場合について説明したが、図6に示すように、1つ空洞部5は、X方向に並ぶチャネル6を4つ以上有していてもよい。この場合においても、1つの空洞部5を共有する複数のチャネル6のそれぞれのメンブレン7は、隣り合う他のメンブレン7との間に接続部11を有しており、接続部11の直下には、Y方向に並ぶ複数の支柱12が配置されている。このように、空洞部5を共有するチャネル6の数を増やすことで、枠部10の面積を低減することができるため、静電容量型超音波トランスデューサのフィルファクタを向上させることができる。   In FIG. 1, the case where one cavity 5 has three channels 6 has been described. However, as shown in FIG. 6, one cavity 5 has four or more channels 6 arranged in the X direction. Also good. Even in this case, each of the membranes 7 of the plurality of channels 6 sharing one cavity portion 5 has the connection portion 11 between the other adjacent membranes 7. A plurality of support columns 12 arranged in the Y direction are arranged. Thus, since the area of the frame part 10 can be reduced by increasing the number of channels 6 that share the cavity part 5, the fill factor of the capacitive ultrasonic transducer can be improved.

<変形例2>
図7に、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサの変形例2を示す。図7は、本実施の形態の変形例2である静電容量型超音波トランスデューサを示す平面図である。図7では、下部電極9の輪郭を破線で示している。
<Modification 2>
FIG. 7 shows a second modification of the capacitive ultrasonic transducer according to the present embodiment. FIG. 7 is a plan view showing a capacitive ultrasonic transducer that is a second modification of the present embodiment. In FIG. 7, the outline of the lower electrode 9 is indicated by a broken line.

図1では、セル2がX方向にのみ並んで配置された場合の静電容量型超音波トランスデューサを示したが、セル2はX方向に加えてY方向に複数並んでいてもよい。つまり、セル2がアレイ状に並んでいてもよい。この場合、例えばY方向に並ぶ複数のチャネル6のそれぞれの上部電極8は互いに接続され、Y方向に並ぶ複数の上部電極8に接続された配線は、それらの複数の上部電極8に対し、Y方向の外側の一方に引き出され、当該配線の端部にパッド3が形成される。また、例えばX方向に並ぶ複数のチャネル6のそれぞれの下部電極9は互いに接続され、X方向に並ぶ複数のセル2のそれぞれの下部電極9に接続された配線は、それらの複数のセル2に対し、X方向の外側の一方に引き出され、当該配線の端部にパッド4が形成される。   Although FIG. 1 shows the capacitive ultrasonic transducer when the cells 2 are arranged side by side only in the X direction, a plurality of cells 2 may be arranged in the Y direction in addition to the X direction. That is, the cells 2 may be arranged in an array. In this case, for example, the upper electrodes 8 of the plurality of channels 6 arranged in the Y direction are connected to each other, and the wiring connected to the plurality of upper electrodes 8 arranged in the Y direction is connected to the plurality of upper electrodes 8 with respect to the Y electrodes. The pad 3 is formed at one end outside the direction and at the end of the wiring. For example, the lower electrodes 9 of the plurality of channels 6 arranged in the X direction are connected to each other, and the wiring connected to the lower electrodes 9 of the plurality of cells 2 arranged in the X direction is connected to the plurality of cells 2. On the other hand, the pad 4 is drawn out to the outer side in the X direction, and the pad 4 is formed at the end of the wiring.

すなわち、ここでは所定のパッド3に接続された配線と、所定のパッド4に接続された配線の交点に1つのセル2を配置している。ここでは、1つのセル2内の3つの上部電極8に別々の電位を供給するため、それらの上部電極8のそれぞれに対し別々に接続されたパッド3を形成している。   That is, here, one cell 2 is arranged at the intersection of the wiring connected to the predetermined pad 3 and the wiring connected to the predetermined pad 4. Here, in order to supply different potentials to the three upper electrodes 8 in one cell 2, pads 3 connected separately to each of the upper electrodes 8 are formed.

<変形例3>
図1〜図5では、メンブレン同士の間に、メンブレンと同じ構造を有する絶縁膜を薄膜化することで形成された接続部を設けることについて説明したが、以下では、図8〜図10を用いて、メンブレン7同士の間に横向きの蛇腹構造を有する接続部を設けることについて説明する。図8は、本実施の形態の変形例3である静電容量型超音波トランスデューサの平面図である。図9および図10は、それぞれ、図8のA−A線における断面図、および、図8のB−B線における断面図である。
<Modification 3>
In FIGS. 1 to 5, it has been described that a connection portion formed by thinning an insulating film having the same structure as the membrane is provided between the membranes, but in the following, FIGS. 8 to 10 are used. The provision of a connecting portion having a lateral bellows structure between the membranes 7 will be described. FIG. 8 is a plan view of a capacitive ultrasonic transducer that is a third modification of the present embodiment. 9 and 10 are a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 8 and a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 8, respectively.

図8〜図10に示すように、本変形例の静電容量型超音波トランスデューサの構造は、図1〜図5を用いて説明した静電容量型超音波トランスデューサと比べ、互いに隣り合うメンブレン7同士の間の接続部(低ヤング率部、低音響インピーダンス部)21の断面構造が蛇腹状である点で異なっており、他の構造は図1〜図5を用いて説明した静電容量型超音波トランスデューサと同様である。すなわち、接続部21は、X方向において互いに隣り合うメンブレン7同士の間、および、X方向において互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間のそれぞれに連続的に形成されている。また、ここでは、Y方向において互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間に、図1〜図5を用いて説明した接続部11が形成されている。空洞部5は、絶縁膜15、枠部10、接続部21およびメンブレン7により密封されている。   As shown in FIGS. 8 to 10, the structure of the capacitive ultrasonic transducer according to this modification is adjacent to the membrane 7 adjacent to the capacitive ultrasonic transducer described with reference to FIGS. 1 to 5. The connection part (low Young's modulus part, low acoustic impedance part) 21 is different in that the cross-sectional structure is bellows-like, and the other structure is the capacitance type described with reference to FIGS. It is the same as an ultrasonic transducer. That is, the connection part 21 is continuously formed between the membranes 7 adjacent to each other in the X direction and between the membrane 7 and the frame part 10 adjacent to each other in the X direction. Here, the connecting portion 11 described with reference to FIGS. 1 to 5 is formed between the membrane 7 and the frame portion 10 adjacent to each other in the Y direction. The cavity 5 is sealed by the insulating film 15, the frame part 10, the connection part 21 and the membrane 7.

接続部21は、メンブレン7および枠部10を構成する複数の絶縁膜のうちの一部の絶縁膜から成る。つまり、接続部21は、メンブレン7および枠部10のそれぞれの側面に接続されており、メンブレン7および枠部10のそれぞれと一体になっている。   The connection part 21 is made of a part of the insulating films constituting the membrane 7 and the frame part 10. That is, the connection part 21 is connected to the respective side surfaces of the membrane 7 and the frame part 10, and is integrated with each of the membrane 7 and the frame part 10.

接続部21は、横方向に延在する蛇腹状(波状)の断面構造、つまり、ジグザグな断面構造を有している。例えば、X方向に互いに隣り合うメンブレン7同士の間、および、X方向に互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間のそれぞれにおいて、接続部21は、X方向に延在する蛇腹状(波状)の断面構造を有している。すなわち、接続部21は、メンブレン7が隣り合う方向に延在する蛇腹状の断面構造を有している。   The connecting portion 21 has a bellows-like (wave-like) cross-sectional structure extending in the lateral direction, that is, a zigzag cross-sectional structure. For example, in each of the membranes 7 adjacent to each other in the X direction and between the membrane 7 and the frame portion 10 adjacent to each other in the X direction, the connection portion 21 has an accordion shape (corrugated shape) extending in the X direction. ). That is, the connecting portion 21 has a bellows-like cross-sectional structure extending in the direction in which the membrane 7 is adjacent.

ここでは、Y方向で隣り合うメンブレン7と枠部10との間には、図1〜図5を用いて説明した接続部11が形成されているが、当該接続部11に代えて接続部21が形成されていてもよい。その場合、Y方向に互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間において、接続部21は、Y方向に延在する蛇腹状(波状)の断面構造を有している。   Here, the connecting portion 11 described with reference to FIGS. 1 to 5 is formed between the membrane 7 and the frame portion 10 adjacent in the Y direction, but the connecting portion 21 is used instead of the connecting portion 11. May be formed. In that case, between the membrane 7 and the frame part 10 adjacent to each other in the Y direction, the connection part 21 has a bellows-like (wave-like) cross-sectional structure extending in the Y direction.

接続部21の最低面の位置とメンブレン7の最低面の位置とは、互いに同じ高さにある。また、接続部21の最高面の位置とメンブレン7の最高面の位置とは、互いに同じ高さにある。すなわち、接続部21の全体の厚さと、メンブレン7の厚さとは、互いに同じである。複数のメンブレン7のうち、X方向に互いに隣り合う第1のメンブレン7と第2のメンブレン7との間の接続部21は、横方向に延在する第1膜と、横方向に延在し、第1膜に対して離間し、第1膜上に位置する第2膜と、縦方向に延在する第3膜とをそれぞれ複数有している。第3膜は、第1膜の第1のメンブレン7側の端部と、第2膜の第2のメンブレン7側の端部とを互いに接続し、または、第1膜の第2のメンブレン7側の端部と、第2膜の第1のメンブレン7側の端部とを互いに接続する絶縁膜である。   The position of the lowest surface of the connecting portion 21 and the position of the lowest surface of the membrane 7 are at the same height. Further, the position of the highest surface of the connecting portion 21 and the position of the highest surface of the membrane 7 are at the same height. That is, the total thickness of the connecting portion 21 and the thickness of the membrane 7 are the same. Among the plurality of membranes 7, the connection portion 21 between the first membrane 7 and the second membrane 7 adjacent to each other in the X direction extends in the lateral direction and the first membrane extends in the lateral direction. And a plurality of second films spaced apart from the first film and positioned on the first film, and a plurality of third films extending in the longitudinal direction. The third membrane connects the end of the first membrane on the first membrane 7 side and the end of the second membrane on the second membrane 7 side, or the second membrane 7 of the first membrane. This is an insulating film that connects the end portion on the side and the end portion on the first membrane 7 side of the second film.

第1膜の第1のメンブレン7側の端部、および、第1膜の第2のメンブレン7側の端部のそれぞれに、第3膜は接続されている。同様に、第2膜の第1のメンブレン7側の端部、および、第2膜の第2のメンブレン7側の端部のそれぞれに、第3膜は接続されている。ただし、第1膜および第2膜のそれぞれの端部のうち、いずれかのメンブレン7または枠部10に接続されている端部には、第3膜は接続されていない。なお、図8〜図10では、第2膜がメンブレン7および枠部10のいずれにも接続されていない場合の構造を示している。接続部21は、第1膜、第3膜、第2膜および第3膜の順に接続された連続する絶縁膜と、互いに隣り合う第3膜同士の間の空間とにより構成されている。第1膜、第2膜および第3膜のそれぞれの膜厚は、メンブレン7の厚さより小さい。   The third film is connected to each of the end of the first film on the first membrane 7 side and the end of the first film on the second membrane 7 side. Similarly, the third film is connected to each of the end of the second film on the first membrane 7 side and the end of the second film on the second membrane 7 side. However, the 3rd film | membrane is not connected to the edge part connected to either the membrane 7 or the frame part 10 among each edge part of a 1st film | membrane and a 2nd film | membrane. 8 to 10 show a structure in the case where the second film is not connected to either the membrane 7 or the frame portion 10. The connecting portion 21 is composed of a continuous insulating film connected in the order of the first film, the third film, the second film, and the third film, and a space between the third films adjacent to each other. Each film thickness of the first film, the second film, and the third film is smaller than the thickness of the membrane 7.

X方向に互いに隣り合うメンブレン7同士の中間には第1膜が形成されており、当該第1膜の底面の一部は、支柱12により支えられている。当該第1膜を含む接続部21のうち、他の第1膜と、第2膜および第3膜とは、支柱12に接していない。すなわち、支柱12の直上の第1膜と、メンブレン7との間には、当該第1膜に接続された第3膜、第2膜および他の第1膜を含む接続部21が形成されている。   A first film is formed between the membranes 7 adjacent to each other in the X direction, and a part of the bottom surface of the first film is supported by the support column 12. Of the connection part 21 including the first film, the other first film, the second film, and the third film are not in contact with the support column 12. That is, a connection portion 21 including a third film, a second film, and another first film connected to the first film is formed between the first film immediately above the support column 12 and the membrane 7. Yes.

なお、図8に示す接続部21のY方向の端部では、第2膜の端部と接続部11とに接続された第3膜(図示しない)が形成されているため、Y方向に延在する接続部21とX方向に延在する接続部11とによりメンブレン7を囲んでも、空洞部5の気密性を保つことができる。すなわち、空洞部5を密閉して真空状態を保つことができる。よって、空洞部5内にガスまたは音響媒質などが浸入することに起因する放電の発生を防ぎ、これにより、静電容量型超音波トランスデューサの信頼性を高めることができる。   In addition, since the 3rd film | membrane (not shown) connected to the edge part of the 2nd film | membrane and the connection part 11 is formed in the edge part of the Y direction of the connection part 21 shown in FIG. Even if the membrane 7 is surrounded by the existing connection portion 21 and the connection portion 11 extending in the X direction, the airtightness of the cavity portion 5 can be maintained. That is, the cavity 5 can be sealed to maintain a vacuum state. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of electric discharge due to the invasion of gas or an acoustic medium into the hollow portion 5, thereby improving the reliability of the capacitive ultrasonic transducer.

接続部21は、メンブレン7よりも膜厚が薄い膜により形成された蛇腹状の絶縁膜であるため、メンブレン7よりもヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい。つまり、接続部21はメンブレン7よりも柔らかく剛性が低いため、変形し易く、かつ、振動を伝え難い性質を有する。このため、メンブレン7同士の間の振動の伝播を防ぎ、隣り合うチャネル6同士の間の音響的分離を実現することができる。これにより、静電容量型超音波トランスデューサの性能を高めることができる。   Since the connecting portion 21 is a bellows-like insulating film formed with a film thinner than the membrane 7, the Young's modulus and acoustic impedance are lower and the spring constant is smaller than that of the membrane 7. That is, since the connecting portion 21 is softer and less rigid than the membrane 7, it has a property that it is easily deformed and hardly transmits vibration. For this reason, propagation of vibration between the membranes 7 can be prevented, and acoustic separation between the adjacent channels 6 can be realized. Thereby, the performance of the capacitive ultrasonic transducer can be enhanced.

また、蛇腹状の接続部21は、図1〜図5を用いて説明した接続部11に比べてヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さいため、接続部11よりも変形し易い。よって、図26を用いて説明したように、メンブレン7の振動時にメンブレン7が曲がることを防ぐことができる。したがって、メンブレン7の振動時に上部電極8が撓むことを防ぐことができるため、静電容量の変化を検出することができる領域の減少を防ぐことができ、静電容量型超音波トランスデューサの実効的なフィルファクタを向上させることができる。   In addition, the bellows-like connecting portion 21 has a lower Young's modulus and acoustic impedance and a smaller spring constant than the connecting portion 11 described with reference to FIGS. Therefore, as described with reference to FIG. 26, it is possible to prevent the membrane 7 from bending when the membrane 7 vibrates. Therefore, since the upper electrode 8 can be prevented from bending when the membrane 7 vibrates, it is possible to prevent a decrease in a region where a change in capacitance can be detected. The fill factor can be improved.

(実施の形態2)
以下では、図11〜図13を用いて、隣り合うメンブレン7同士の間に、柔軟材料部を有する接続部を設けることについて説明する。図11は、本実施の形態2である静電容量型超音波トランスデューサの平面図である。図12および図13は、それぞれ、図11のA−A線における断面図、および、図11のB−B線における断面図である。
(Embodiment 2)
Below, providing the connection part which has a flexible material part between adjacent membranes 7 is demonstrated using FIGS. 11-13. FIG. 11 is a plan view of the capacitive ultrasonic transducer according to the second embodiment. 12 and 13 are a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 11 and a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 11, respectively.

図11〜図13に示すように、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサの構造は、図1〜図5を用いて説明した静電容量型超音波トランスデューサと比べ、互いに隣り合うメンブレン7同士の間の接続部(低ヤング率部、低音響インピーダンス部)31が、メンブレン7を貫通する溝18と、溝18を埋め込んだ柔軟材料部(絶縁膜)19とにより構成されている点で異なっている。また、溝18は、互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間にも形成されており、当該溝18内にも柔軟材料部19が埋め込まれている。本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサのその他の構造は、図1〜図5を用いて説明した静電容量型超音波トランスデューサと同様である。各メンブレン7は、平面視で接続部31により囲まれている。   As shown in FIGS. 11 to 13, the structure of the capacitive ultrasonic transducer according to the present embodiment is adjacent to the capacitive ultrasonic transducer described with reference to FIGS. 1 to 5. The connection part (low Young's modulus part, low acoustic impedance part) 31 between 7 is comprised by the groove | channel 18 which penetrates the membrane 7, and the flexible material part (insulating film) 19 which embedded the groove | channel 18. Is different. Further, the groove 18 is also formed between the membrane 7 and the frame portion 10 adjacent to each other, and the flexible material portion 19 is embedded in the groove 18. Other structures of the capacitive ultrasonic transducer according to the present embodiment are the same as those of the capacitive ultrasonic transducer described with reference to FIGS. Each membrane 7 is surrounded by the connection portion 31 in plan view.

柔軟材料部19は、メンブレン7に比べ、柔軟であり、ヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい性質を有する。すなわち、柔軟材料部19を構成する材料は、メンブレン7を構成する酸化シリコン膜および窒化シリコン膜のいずれよりもヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい。ここでは、柔軟材料部19は、例えば、メンブレン7を構成する酸化シリコン膜よりも密度が小さい酸化シリコン膜、または、インクジェット樹脂若しくはポリイミドなどの樹脂から成る。柔軟材料部19を構成する当該酸化シリコン膜は、例えばSOG(Spin on Glass)である。このような密度の低い酸化シリコン膜は、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition)法により形成することができる。当該酸化シリコン膜は、酸化法などで形成された酸化シリコン膜よりも誘電率が低い絶縁膜、つまり、所謂low−k膜である。   The flexible material portion 19 is more flexible than the membrane 7, has a property that the Young's modulus and acoustic impedance are low, and the spring constant is small. That is, the material constituting the flexible material portion 19 has a lower Young's modulus and acoustic impedance and a smaller spring constant than both the silicon oxide film and the silicon nitride film constituting the membrane 7. Here, the flexible material portion 19 is made of, for example, a silicon oxide film having a density lower than that of the silicon oxide film constituting the membrane 7, or a resin such as inkjet resin or polyimide. The silicon oxide film constituting the flexible material portion 19 is, for example, SOG (Spin on Glass). Such a low-density silicon oxide film can be formed by, for example, a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. The silicon oxide film is an insulating film having a lower dielectric constant than a silicon oxide film formed by an oxidation method, that is, a so-called low-k film.

柔軟材料部19は溝18内を完全に埋め込んでおり、柔軟材料部19の上部の一部は、メンブレン7の上面上に乗り上げている。つまり、柔軟材料部19の一部はメンブレン7の上面を覆っている。また、支柱12の上面は柔軟材料部19の下面に接しており、支柱12は、接続部31と、接続部31に接続されたメンブレン7とを支えている。溝18はメンブレン7を貫通しているため、支柱12がない領域では、柔軟材料部19の下面が空洞部5内で露出している。ここで、柔軟材料部19がない場合、メンブレン7を貫通する溝18が開口されているため、空洞部5内の気密性を保つことはできない。しかし、本実施の形態では溝18を柔軟材料部19により埋め込むことで、空洞部5を密閉して真空状態を保つことができる。よって、空洞部5内にガスまたは音響媒質などが浸入することに起因する放電の発生を防ぐことができ、これにより、静電容量型超音波トランスデューサの信頼性を高めることができる。   The flexible material portion 19 is completely embedded in the groove 18, and a part of the upper portion of the flexible material portion 19 rides on the upper surface of the membrane 7. That is, a part of the flexible material portion 19 covers the upper surface of the membrane 7. The upper surface of the support column 12 is in contact with the lower surface of the flexible material portion 19, and the support column 12 supports the connection portion 31 and the membrane 7 connected to the connection portion 31. Since the groove 18 penetrates the membrane 7, the lower surface of the flexible material portion 19 is exposed in the cavity portion 5 in the region where the support column 12 is not present. Here, when there is no flexible material part 19, since the groove | channel 18 which penetrates the membrane 7 is opened, the airtightness in the cavity part 5 cannot be maintained. However, in the present embodiment, the groove 18 is filled with the flexible material portion 19 so that the cavity portion 5 can be sealed and a vacuum state can be maintained. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of discharge due to the intrusion of gas, acoustic medium, or the like into the cavity 5, thereby improving the reliability of the capacitive ultrasonic transducer.

ここでは、図12および図13において、互いに同じ幅を有する溝18および支柱12を示しているが、図11に示すように、X方向の溝18の幅は、X方向の支柱12の幅より大きくてもよい。また、X方向の溝18の幅は、X方向の支柱12の幅より小さくてもよい。接続部31は、メンブレン7よりもヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さいため、メンブレン7に比べて振動を伝えにくい性質を有する。また、互いに隣り合うメンブレン7同士は、溝18により分離されており、それらのメンブレン7同士の間には、メンブレン7と絶縁膜を共有する膜は形成されていない。このため、メンブレン7同士の間の振動の伝播を防ぎ、隣り合うチャネル6同士の間の音響的分離を実現することができる。これにより、静電容量型超音波トランスデューサの性能を高めることができる。   Here, in FIG. 12 and FIG. 13, the groove 18 and the support 12 having the same width are shown, but as shown in FIG. 11, the width of the groove 18 in the X direction is larger than the width of the support 12 in the X direction. It can be large. Further, the width of the groove 18 in the X direction may be smaller than the width of the support column 12 in the X direction. Since the connection part 31 has a Young's modulus and acoustic impedance lower than those of the membrane 7 and a small spring constant, it has a property that it is difficult to transmit vibration compared to the membrane 7. Further, the membranes 7 adjacent to each other are separated by the groove 18, and a film sharing an insulating film with the membrane 7 is not formed between the membranes 7. For this reason, propagation of vibration between the membranes 7 can be prevented, and acoustic separation between the adjacent channels 6 can be realized. Thereby, the performance of the capacitive ultrasonic transducer can be enhanced.

また、メンブレン7に比べてヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい柔軟材料部19を接続部31に形成することで、図26を用いて説明したように、メンブレン7の振動時にメンブレン7が曲がることを防ぐことができる。したがって、メンブレン7の振動時に上部電極8が撓むことを防ぐことができるため、静電容量の変化を検出することができる領域の減少を防ぐことができ、静電容量型超音波トランスデューサの実効的なフィルファクタを向上させることができる。このようにメンブレン7の振動時に上部電極8が撓むことを防ぐ観点では、X方向の溝18の幅は、X方向の支柱12の幅より大きいことが好ましい。   Further, by forming the flexible material portion 19 having a lower Young's modulus and acoustic impedance and a smaller spring constant than the membrane 7 at the connection portion 31, as described with reference to FIG. Can be prevented from bending. Therefore, since the upper electrode 8 can be prevented from bending when the membrane 7 vibrates, it is possible to prevent a decrease in a region where a change in capacitance can be detected. The fill factor can be improved. Thus, from the viewpoint of preventing the upper electrode 8 from bending when the membrane 7 vibrates, the width of the groove 18 in the X direction is preferably larger than the width of the support column 12 in the X direction.

なお、ここではメンブレン7を貫通する溝18内に柔軟材料部19を埋め込むことについて説明したが、前記実施の形態1の接続部11(図3参照)に本実施の形態を組み合わせて、薄膜17上の溝16内に柔軟材料部19を埋め込んでもよい。この場合、接続部11の強度を向上させることができる。同様に、前記実施の形態3の蛇腹状の接続部21(図9参照)において、互いに隣り合う第3膜同士の間に柔軟材料部19を埋め込んでもよい。   Although the description has been given here of embedding the flexible material portion 19 in the groove 18 penetrating the membrane 7, the thin film 17 is combined with the connection portion 11 (see FIG. 3) of the first embodiment. The flexible material portion 19 may be embedded in the upper groove 16. In this case, the strength of the connection part 11 can be improved. Similarly, in the bellows-like connection portion 21 (see FIG. 9) of the third embodiment, the flexible material portion 19 may be embedded between the third films adjacent to each other.

<変形例>
以下では、図14〜図16を用いて、メンブレン7同士に溝の上部の一部に柔軟材料部を埋め込むことについて説明する。図14は、本実施の形態の変形例である静電容量型超音波トランスデューサの平面図である。図15および図16は、それぞれ、図14のA−A線における断面図、および、図14のB−B線における断面図である。
<Modification>
Hereinafter, using FIG. 14 to FIG. 16, it will be described that the flexible material portion is embedded in a part of the upper portion of the groove between the membranes 7. FIG. 14 is a plan view of a capacitive ultrasonic transducer that is a modification of the present embodiment. 15 and 16 are a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 14 and a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 14, respectively.

図14〜図16に示すように、本変形例の静電容量型超音波トランスデューサの構造は、図1〜図5を用いて説明した静電容量型超音波トランスデューサと比べ、互いに隣り合うメンブレン7同士の間の接続部(低ヤング率部、低音響インピーダンス部)41が、メンブレン7を貫通する溝20と、溝20の上部を埋め込んだ柔軟材料部25とにより構成されている点で異なっている。同様に、溝20は、互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間にも形成されており、当該溝20内にも柔軟材料部25が埋め込まれている。本変形例の静電容量型超音波トランスデューサのその他の構造は、図1〜図5を用いて説明した静電容量型超音波トランスデューサと同様である。各メンブレン7は、平面視で接続部41により囲まれている。   As shown in FIGS. 14 to 16, the structure of the capacitive ultrasonic transducer of this modification is adjacent to the membrane 7 adjacent to the capacitive ultrasonic transducer described with reference to FIGS. 1 to 5. The connection part (low Young's modulus part, low acoustic impedance part) 41 between them is different by the point comprised by the groove | channel 20 which penetrates the membrane 7, and the flexible material part 25 which embedded the upper part of the groove | channel 20. Yes. Similarly, the groove 20 is also formed between the membrane 7 and the frame portion 10 adjacent to each other, and the flexible material portion 25 is embedded in the groove 20. The other structure of the capacitive ultrasonic transducer of this modification is the same as that of the capacitive ultrasonic transducer described with reference to FIGS. Each membrane 7 is surrounded by the connecting portion 41 in plan view.

溝20は、互いに隣り合うメンブレン7同士の間、および、互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間のそれぞれに開口された、メンブレン7を貫通するスリットである。溝20の短手方向の幅は、図11〜図13を用いて説明した溝18の短手方向の幅よりも小さく、支柱12の幅よりも小さい。このため、メンブレン7の端部の下面の一部は支柱12の上面に接しており、メンブレン7は支柱12により直接支えられている。   The groove 20 is a slit that penetrates the membrane 7 and is opened between the membranes 7 adjacent to each other and between the membrane 7 and the frame portion 10 adjacent to each other. The width in the short direction of the groove 20 is smaller than the width in the short direction of the groove 18 described with reference to FIGS. 11 to 13 and smaller than the width of the column 12. For this reason, a part of the lower surface of the end portion of the membrane 7 is in contact with the upper surface of the column 12, and the membrane 7 is directly supported by the column 12.

溝20内の上部は、柔軟材料部25により埋め込まれている。ただし、図11〜図13を用いて説明した柔軟材料部19とは異なり、柔軟材料部25は溝20を完全には埋め込んでいない。つまり、柔軟材料部25は溝20の側面のうちの上部(上端)のみを覆っており、当該側面のうちの下部(下端)は柔軟材料部25から露出している。このため、溝20の一部は空洞部5を構成している。言い換えれば、互いに隣り合うメンブレン7のそれぞれの上端同士の間には柔軟材料部25が埋め込まれており、互いに隣り合うメンブレン7のそれぞれの下端同士の間には空洞が存在する。   The upper part in the groove 20 is embedded by the flexible material part 25. However, unlike the flexible material portion 19 described with reference to FIGS. 11 to 13, the flexible material portion 25 does not completely fill the groove 20. That is, the flexible material portion 25 covers only the upper portion (upper end) of the side surface of the groove 20, and the lower portion (lower end) of the side surface is exposed from the flexible material portion 25. For this reason, a part of the groove 20 constitutes the cavity 5. In other words, the flexible material portion 25 is embedded between the upper ends of the membranes 7 adjacent to each other, and a cavity exists between the lower ends of the membranes 7 adjacent to each other.

柔軟材料部25は、上記柔軟材料部19と同様の材料から成り、メンブレン7よりもヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい。柔軟材料部25の一部はメンブレン7上に位置しており、メンブレン7の上面の端部を覆っている。図15および図16に示すように、柔軟材料部25は、概ね円状の断面を有している。つまり、例えば互いに隣り合うメンブレン7同士の間において、柔軟材料部25は、Y方向に延在する倒れた円柱状の構造を有している。柔軟材料部25により全ての溝20の上部は塞がれている。よって、溝20を柔軟材料部25により埋め込むことで、空洞部5を密閉して真空状態を保つことができる。このため、空洞部5内にガスまたは音響媒質などが浸入することに起因する放電の発生を防ぐことができ、これにより、静電容量型超音波トランスデューサの信頼性を高めることができる。   The flexible material portion 25 is made of the same material as that of the flexible material portion 19, and has a lower Young's modulus and acoustic impedance than the membrane 7 and a small spring constant. A part of the flexible material portion 25 is located on the membrane 7 and covers an end portion of the upper surface of the membrane 7. As shown in FIGS. 15 and 16, the flexible material portion 25 has a substantially circular cross section. That is, for example, between the membranes 7 adjacent to each other, the flexible material portion 25 has a collapsed columnar structure extending in the Y direction. The upper portions of all the grooves 20 are closed by the flexible material portion 25. Therefore, by embedding the groove 20 with the flexible material portion 25, the cavity portion 5 can be sealed to maintain a vacuum state. For this reason, generation | occurrence | production of the discharge resulting from gas or an acoustic medium infiltrating in the cavity part 5 can be prevented, and, thereby, the reliability of a capacitive ultrasonic transducer can be improved.

接続部41は、溝20と、溝20内の上部に埋め込まれた柔軟材料部25と、柔軟材料部25の下の溝20内の空洞とにより構成されている。したがって、接続部41は、メンブレン7よりもヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さいため、メンブレン7に比べて振動を伝え難い性質を有する。また、互いに隣り合うメンブレン7同士は、溝20により分離されており、それらのメンブレン7同士の間には、メンブレン7と絶縁膜を共有する膜は形成されていない。このため、メンブレン7同士の間の振動の伝播を防ぎ、隣り合うチャネル6同士の間の音響的分離を実現することができる。これにより、静電容量型超音波トランスデューサの性能を高めることができる。   The connecting portion 41 includes the groove 20, a flexible material portion 25 embedded in the upper portion of the groove 20, and a cavity in the groove 20 below the flexible material portion 25. Therefore, the connection portion 41 has a property that the Young's modulus and the acoustic impedance are lower than that of the membrane 7 and the spring constant is small, so that it is difficult to transmit vibration compared to the membrane 7. Further, the membranes 7 adjacent to each other are separated by the groove 20, and a film sharing an insulating film with the membrane 7 is not formed between the membranes 7. For this reason, propagation of vibration between the membranes 7 can be prevented, and acoustic separation between the adjacent channels 6 can be realized. Thereby, the performance of the capacitive ultrasonic transducer can be enhanced.

また、メンブレン7に比べてヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい柔軟材料部25を接続部41に形成することで、図26を用いて説明したように、メンブレン7の振動時にメンブレン7が曲がることを防ぐことができる。すなわち、図22および図25に示すように、メンブレン7と同じ構造から成る接続部111を形成する場合に比べ、本変形例の接続部41は、ヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい。したがって、メンブレン7の振動時に上部電極8が撓むことを防ぐことができるため、静電容量の変化を検出することができる領域の減少を防ぐことができ、静電容量型超音波トランスデューサの実効的なフィルファクタを向上させることができる。   In addition, by forming the flexible material portion 25 having a lower Young's modulus and acoustic impedance and a smaller spring constant than the membrane 7 in the connection portion 41, as described with reference to FIG. Can be prevented from bending. That is, as shown in FIG. 22 and FIG. 25, compared with the case where the connecting portion 111 having the same structure as the membrane 7 is formed, the connecting portion 41 of this modification has a low Young's modulus and acoustic impedance and a small spring constant. . Therefore, since the upper electrode 8 can be prevented from bending when the membrane 7 vibrates, it is possible to prevent a decrease in a region where a change in capacitance can be detected. The fill factor can be improved.

また、溝20内に柔軟材料部25が形成されておらず、柔軟材料部25が溝20と隣り合うメンブレン7のそれぞれの端部の上面を覆い、溝20の上部を塞いでいる場合であって、接続部41が、溝20上の柔軟材料部25と、柔軟材料部25の下の溝20内の空間とにより構成されている場合にも、上記の効果と同様の効果を得ることができる。なぜならば、この場合にも、空洞部5は密封されており、かつ、互いに隣り合うメンブレン7同士は、それらのメンブレン7のそれぞれの上面の端部に接する柔軟材料部25により互いに接続されるためである。   Further, the flexible material portion 25 is not formed in the groove 20, and the flexible material portion 25 covers the upper surface of each end portion of the membrane 7 adjacent to the groove 20 and closes the upper portion of the groove 20. Thus, even when the connecting portion 41 is configured by the flexible material portion 25 on the groove 20 and the space in the groove 20 below the flexible material portion 25, the same effect as described above can be obtained. it can. This is because, also in this case, the cavity 5 is sealed, and the membranes 7 adjacent to each other are connected to each other by the flexible material portion 25 in contact with the end portions of the upper surfaces of the membranes 7. It is.

なお、ここではメンブレン7を貫通する溝20内に柔軟材料部25を埋め込むことについて説明したが、前記実施の形態1の接続部11(図3参照)に本変形例を組み合わせて、薄膜17上の溝16内の上部に柔軟材料部25を埋め込んでもよい。この場合、接続部11の強度を向上させることができる。同様に、前記実施の形態3の蛇腹状の接続部21(図9参照)において、互いに隣り合う第3膜同士の間であって、第1膜の直上の溝の上部に柔軟材料部25を埋め込んでもよい。   Here, the description has been given of embedding the flexible material portion 25 in the groove 20 penetrating the membrane 7, but this modification is combined with the connection portion 11 (see FIG. 3) of the first embodiment to form the thin film 17 on the thin film 17. The flexible material portion 25 may be embedded in the upper portion of the groove 16. In this case, the strength of the connection part 11 can be improved. Similarly, in the bellows-shaped connection portion 21 (see FIG. 9) of the third embodiment, the flexible material portion 25 is provided between the third films adjacent to each other and above the groove just above the first film. May be embedded.

(実施の形態3)
以下では、図17〜図19を用いて、メンブレン7同士の間に縦向きの蛇腹構造を有する接続部を設けることについて説明する。図17は、本実施の形態3である静電容量型超音波トランスデューサの平面図である。図18および図19は、それぞれ、図17のA−A線における断面図、および、図17のB−B線における断面図である。
(Embodiment 3)
In the following, using FIGS. 17 to 19, it will be described how to provide a connecting portion having a vertical bellows structure between the membranes 7. FIG. 17 is a plan view of the capacitive ultrasonic transducer according to the third embodiment. 18 and 19 are a sectional view taken along line AA in FIG. 17 and a sectional view taken along line BB in FIG. 17, respectively.

図17〜図19に示すように、本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサの構造は、図1〜図5を用いて説明した静電容量型超音波トランスデューサと比べ、互いに隣り合うメンブレン7同士の間の接続部(低ヤング率部、低音響インピーダンス部)51の断面構造が縦向きの蛇腹状である点で異なっている。本実施の形態の静電容量型超音波トランスデューサのその他の構造は、図1〜図5を用いて説明した静電容量型超音波トランスデューサと同様である。すなわち、接続部51は、X方向において互いに隣り合うメンブレン7同士の間、および、メンブレン7と枠部10との間のそれぞれに連続的に形成されている。   As shown in FIGS. 17 to 19, the structure of the capacitive ultrasonic transducer of this embodiment is adjacent to the capacitive ultrasonic transducer described with reference to FIGS. The connection part (low Young's modulus part, low acoustic impedance part) 51 between 7 is different in the point that it is a bellows shape of the vertical direction. Other structures of the capacitive ultrasonic transducer according to the present embodiment are the same as those of the capacitive ultrasonic transducer described with reference to FIGS. That is, the connection part 51 is continuously formed between the membranes 7 adjacent to each other in the X direction and between the membrane 7 and the frame part 10.

互いに隣り合うメンブレン7同士の間の接続部51は、それらのメンブレン7の対向する側面のうち、一方の第1側面から他方の第2側面に向かって横方向に突出する複数の第1突出部22と、第2側面から第1側面に向かって横方向に突出する複数の第2突出部23とを有している。つまり、第1突出部22は第1側面に接続されており、第2突出部は第2側面に接続されている。当該接続部51を構成する第1突出部22と第2突出部23とは、縦方向において、互いに離間して交互に配置されている。また、メンブレン7の対向する側面である第1側面および第2側面は、互いに離間している。すなわち、第1側面および第1突出部22と、第2側面および第2突出部23との間には、メンブレン7の上面から下面まで貫通する蛇腹状の空間が開口されている。つまり、当該空間はメンブレン7の上面から下面に亘って連続的に形成されており、当該空間には柔軟材料部などは埋め込まれていない。したがって、空洞部5は密封されていない。   The connection part 51 between the membranes 7 adjacent to each other has a plurality of first protrusions protruding laterally from one first side surface to the other second side surface among the opposing side surfaces of the membranes 7. 22 and a plurality of second projecting portions 23 projecting laterally from the second side surface toward the first side surface. That is, the 1st protrusion part 22 is connected to the 1st side surface, and the 2nd protrusion part is connected to the 2nd side surface. The 1st protrusion part 22 and the 2nd protrusion part 23 which comprise the said connection part 51 are mutually spaced apart and arrange | positioned alternately in the vertical direction. Moreover, the 1st side surface and 2nd side surface which are the side surfaces which the membrane 7 opposes are mutually spaced apart. That is, a bellows-like space that penetrates from the upper surface to the lower surface of the membrane 7 is opened between the first side surface and the first protrusion 22 and the second side surface and the second protrusion 23. That is, the space is continuously formed from the upper surface to the lower surface of the membrane 7, and the flexible material portion or the like is not embedded in the space. Therefore, the cavity 5 is not sealed.

このように、互いに隣り合うメンブレン7同士の間の接続部51は、一方のメンブレン7の第1側面に縦方向に並んで複数形成された櫛歯状の第1突出部22と、他方のメンブレン7の第2側面に縦方向に並んで複数形成された櫛歯状の第2突出部23とを互い違いに組み合わせた形状を有している。つまり、接続部51は、複数の第1突出部22、複数の第2突出部23、および、第1側面と第2側面との間の空間により構成されている。これは、互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間の接続部51も同様である。   Thus, the connection part 51 between the membranes 7 adjacent to each other includes a comb-shaped first protrusion 22 formed in a row in the vertical direction on the first side surface of one membrane 7 and the other membrane. 7 has a shape in which a plurality of comb-shaped second protrusions 23 formed in a row in the vertical direction on the second side surface are alternately combined. That is, the connection part 51 is comprised by the some 1st protrusion part 22, the some 2nd protrusion part 23, and the space between a 1st side surface and a 2nd side surface. The same applies to the connecting portion 51 between the membrane 7 and the frame portion 10 adjacent to each other.

すなわち、互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間の接続部51は、それらのメンブレン7と枠部10との対向する側面のうち、一方の第3側面から他方の第4側面に向かって横方向に突出する複数の第1突出部22と、第4側面から第3側面に向かって横方向に突出する複数の第2突出部23とを有している。つまり、第1突出部22は第3側面に接続されており、第2突出部は第4側面に接続されている。当該接続部51を構成する第1突出部22と第2突出部23とは、縦方向において、互いに離間して交互に配置されている。また、互いに対向する側面である第3側面および第4側面は、互いに離間している。すなわち、第3側面および第1突出部22と、第4側面および第2突出部23との間には、メンブレン7および枠部10のそれぞれの上面からメンブレン7の下面まで貫通する蛇腹状の断面を有する空間が開口されている。   That is, the connection part 51 between the membrane 7 adjacent to each other and the frame part 10 is directed from one third side surface toward the other fourth side surface among the opposing side surfaces of the membrane 7 and the frame part 10. A plurality of first protrusions 22 protruding in the lateral direction and a plurality of second protrusions 23 protruding in the horizontal direction from the fourth side surface toward the third side surface are provided. That is, the 1st protrusion part 22 is connected to the 3rd side surface, and the 2nd protrusion part is connected to the 4th side surface. The 1st protrusion part 22 and the 2nd protrusion part 23 which comprise the said connection part 51 are mutually spaced apart and arrange | positioned alternately in the vertical direction. Moreover, the 3rd side surface and the 4th side surface which are the side surfaces which mutually oppose are mutually spaced apart. That is, a bellows-like cross section that penetrates from the upper surface of the membrane 7 and the frame portion 10 to the lower surface of the membrane 7 between the third side surface and the first protrusion 22 and the fourth side surface and the second protrusion 23. A space having an opening is opened.

このように、互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間の接続部51は、第3側面に縦方向に並んで複数形成された櫛歯状の第1突出部22と、第4側面に縦方向に並んで複数形成された櫛歯状の第2突出部23とを互い違いに組み合わせた形状を有している。   Thus, the connection part 51 between the membrane 7 adjacent to each other and the frame part 10 includes a plurality of comb-shaped first protrusions 22 formed in the vertical direction on the third side surface, and a fourth side surface. A plurality of comb-shaped second protrusions 23 formed in a row in the vertical direction are alternately combined.

接続部51の全体の厚さと、メンブレン7の厚さとは、互いに同じである。接続部51を構成する第1突出部22および第2突出部23は、平面視で互いに重なっている。互いに隣り合うメンブレン7同士の間の接続部51を構成する第1突出部22および第2突出部23は、メンブレン7の側面に沿ってY方向に延在している。また、X方向で隣り合うメンブレン7と枠部10との間の接続部51を構成する第1突出部22および第2突出部23は、メンブレン7の側面に沿ってY方向に延在している。また、Y方向で隣り合うメンブレン7と枠部10との間の接続部51を構成する第1突出部22および第2突出部23は、メンブレン7の側面に沿ってX方向に延在している。第1突出部22および第2突出部23のそれぞれの縦方向の厚さは、メンブレン7の厚さよりも小さい。また、第1突出部22と第2突出部23との間の空間の縦方向の距離は、メンブレン7の厚さよりも小さい。   The overall thickness of the connecting portion 51 and the thickness of the membrane 7 are the same. The 1st protrusion part 22 and the 2nd protrusion part 23 which comprise the connection part 51 have mutually overlapped by planar view. The first projecting portion 22 and the second projecting portion 23 constituting the connecting portion 51 between the membranes 7 adjacent to each other extend in the Y direction along the side surface of the membrane 7. Moreover, the 1st protrusion part 22 and the 2nd protrusion part 23 which comprise the connection part 51 between the membrane 7 and the frame part 10 which adjoin in the X direction are extended in the Y direction along the side surface of the membrane 7. Yes. Moreover, the 1st protrusion part 22 and the 2nd protrusion part 23 which comprise the connection part 51 between the membrane 7 and the frame part 10 which adjoin in the Y direction are extended in the X direction along the side surface of the membrane 7. Yes. The thickness in the vertical direction of each of the first protrusion 22 and the second protrusion 23 is smaller than the thickness of the membrane 7. Further, the vertical distance of the space between the first protrusion 22 and the second protrusion 23 is smaller than the thickness of the membrane 7.

互いに隣り合うメンブレン7同士の間の接続部51の下面の一部は、支柱12により支えられている。つまり、第1突出部22または第2突出部23のいずれかの下面が、支柱12の上面に接している。例えば第1突出部22の下面が支柱12の上面に接している場合には、第2突出部23は当該支柱12に接していない。支柱12の上面の一部は、支柱12に接する第1突出部22または第2突出部23と離間するメンブレン7の下面の端部に接している。つまり、支柱12は、上記空間を挟んで配置された一方のメンブレン7の下端と、他方のメンブレン7の側面に接続された第1突出部22または第2突出部23とを直接支えている。   A part of the lower surface of the connecting portion 51 between the membranes 7 adjacent to each other is supported by the support column 12. That is, the lower surface of either the first protrusion 22 or the second protrusion 23 is in contact with the upper surface of the support column 12. For example, when the lower surface of the first protrusion 22 is in contact with the upper surface of the column 12, the second protrusion 23 is not in contact with the column 12. A part of the upper surface of the support column 12 is in contact with the end portion of the lower surface of the membrane 7 that is separated from the first projecting portion 22 or the second projecting portion 23 in contact with the support column 12. That is, the column 12 directly supports the lower end of one membrane 7 disposed with the space interposed therebetween and the first projecting portion 22 or the second projecting portion 23 connected to the side surface of the other membrane 7.

図19に示すように、支柱12(図18参照)の直上以外の領域では、接続部51を構成する上記空間はメンブレン7を貫通している。このため、当該空間を通じて空洞部5内にガスまたは音響触媒(ゴミ)が侵入し、これに起因して上下の電極間に放電が生じることが問題となるようにも思える。しかし、ここでは互いに隣り合うメンブレン7同士の間、および、互いに隣り合うメンブレン7と枠部10との間のそれぞれにおいて、複数の第1突出部と複数の第2突出部とを互いに離間した状態で交互に重ねることで、縦方向に延びる蛇腹状の空間を形成している。これにより、図23および図24に示す比較例2の貫通孔24に比べて、ガスおよびゴミが接続部51上から空洞部5内に侵入する経路を長くすることができ、かつ、当該経路を複雑にすることができる。   As shown in FIG. 19, in the region other than directly above the support column 12 (see FIG. 18), the space constituting the connecting portion 51 penetrates the membrane 7. For this reason, it seems that it becomes a problem that gas or an acoustic catalyst (dust) enters the cavity 5 through the space and discharge occurs between the upper and lower electrodes due to this. However, here, the plurality of first protrusions and the plurality of second protrusions are separated from each other between the adjacent membranes 7 and between the adjacent membranes 7 and the frame portion 10. As a result, the bellows-like space extending in the vertical direction is formed. Thereby, compared with the through-hole 24 of the comparative example 2 shown in FIG.23 and FIG.24, the path | route which gas and refuse penetrate | invade into the cavity part 5 from on the connection part 51 can be lengthened, and the said path | route can be made. Can be complicated.

これにより、ガスおよびゴミが空洞部5内に侵入することを防ぐことができる。また、ガスおよびゴミが空洞部5内に侵入したとしても、図23および図24に示す比較例2に比べて、ガスおよびゴミが空洞部5内に侵入する確率を低減し、ガスおよびゴミが空洞部5内に侵入するまでの所要時間を増大させることができる。したがって、静電容量型超音波トランスデューサの寿命を延ばすことができるため、静電容量型超音波トランスデューサの信頼性を向上させることができる。   Thereby, it is possible to prevent gas and dust from entering the cavity 5. Further, even if gas and dust enter the cavity 5, the probability of gas and dust entering the cavity 5 is reduced as compared with Comparative Example 2 shown in FIGS. 23 and 24. The time required to enter the cavity 5 can be increased. Therefore, since the life of the capacitive ultrasonic transducer can be extended, the reliability of the capacitive ultrasonic transducer can be improved.

ここで、第1突出部22および第2突出部23のそれぞれは、メンブレン7または枠部10を構成する絶縁膜と同じ絶縁膜から成る。すなわち、第1突出部22および第2突出部23のそれぞれは、例えば酸化シリコン膜または窒化シリコン膜などから成る。ただし、接続部51は、複数の第1突出部22、複数の第2突出部23、および、第1突出部22と第2突出部23との間の蛇腹状の空間とにより構成されている。このため、接続部51は、メンブレン7よりもヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい。つまり、接続部51はメンブレン7よりも変形しやすく、かつ、振動を伝え難い性質を有する。このため、メンブレン7同士の間の振動の伝播を防ぎ、隣り合うチャネル6同士の間の音響的分離を実現することができる。特に、本実施の形態では、互いに隣り合うメンブレン7同士が完全に分離しているため、チャネル6同士の間での音響的な分離性能が優れている。したがって、静電容量型超音波トランスデューサの性能を高めることができる。   Here, each of the first protrusion 22 and the second protrusion 23 is made of the same insulating film as the insulating film constituting the membrane 7 or the frame 10. That is, each of the first protrusion 22 and the second protrusion 23 is made of, for example, a silicon oxide film or a silicon nitride film. However, the connection part 51 is comprised by the some 1st protrusion part 22, the some 2nd protrusion part 23, and the bellows-like space between the 1st protrusion part 22 and the 2nd protrusion part 23. As shown in FIG. . For this reason, the connection part 51 has a Young's modulus and an acoustic impedance lower than the membrane 7, and a spring constant is small. That is, the connecting portion 51 has a property that it is more easily deformed than the membrane 7 and hardly transmits vibration. For this reason, propagation of vibration between the membranes 7 can be prevented, and acoustic separation between the adjacent channels 6 can be realized. In particular, in the present embodiment, since the membranes 7 adjacent to each other are completely separated, the acoustic separation performance between the channels 6 is excellent. Therefore, the performance of the capacitive ultrasonic transducer can be improved.

また、接続部51は、メンブレン7に比べてヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい。このため、図26を用いて説明したように、メンブレン7の振動時にメンブレン7が曲がることを防ぐことができる。したがって、メンブレン7の振動時に上部電極8が撓むことを防ぐことができるため、静電容量の変化を検出することができる領域の減少を防ぐことができ、静電容量型超音波トランスデューサの実効的なフィルファクタを向上させることができる。   Further, the connecting portion 51 has a lower Young's modulus and acoustic impedance than the membrane 7, and a small spring constant. For this reason, as described with reference to FIG. 26, it is possible to prevent the membrane 7 from bending when the membrane 7 vibrates. Therefore, since the upper electrode 8 can be prevented from bending when the membrane 7 vibrates, it is possible to prevent a decrease in a region where a change in capacitance can be detected. The fill factor can be improved.

(実施の形態4)
次に、前記実施の形態1〜3のいずれかの超音トランスデューサ(半導体チップ)を、例えば超音波エコー診断装置(超音波診断装置、超音波画像装置)などの超音波検査装置に適用した場合について、図20および図21を用いて説明する。図20は、本実施の形態の超音波検査装置を示す斜視図である。図21は、本実施の形態の超音波検査装置の構成を示すブロック図である。
(Embodiment 4)
Next, when the ultrasonic transducer (semiconductor chip) according to any one of the first to third embodiments is applied to an ultrasonic inspection apparatus such as an ultrasonic echo diagnostic apparatus (ultrasonic diagnostic apparatus, ultrasonic imaging apparatus), for example. Will be described with reference to FIGS. 20 and 21. FIG. FIG. 20 is a perspective view showing the ultrasonic inspection apparatus of the present embodiment. FIG. 21 is a block diagram illustrating a configuration of the ultrasonic inspection apparatus according to the present embodiment.

超音波画像装置は、音波の透過性を利用し、外から見ることのできない生体内部を、可聴音領域を超えた超音波を用いてリアルタイムで画像化して目視可能にした医療用診断装置である。図20に示すように、超音波画像装置30は、本体32と、本体32の上部に設置された表示部33と、本体の前面部分に取り付けられた操作部36と、静電容量型超音波トランスデューサ34を含む超音波探触子(プローブ)35とを備えている。超音波探触子35からはコードが伸びており、当該コードは接続部37において本体32に接続されている。この静電容量型超音波トランスデューサ34は、例えば図1に示す半導体チップ1に相当する。   The ultrasonic imaging apparatus is a medical diagnostic apparatus that uses the transmission of sound waves and visualizes the inside of a living body that cannot be seen from the outside by using ultrasonic waves that exceed the audible sound range and can be viewed in real time. . As shown in FIG. 20, the ultrasonic imaging apparatus 30 includes a main body 32, a display unit 33 installed on the upper part of the main body 32, an operation unit 36 attached to the front portion of the main body, and capacitive ultrasonic waves. An ultrasonic probe (probe) 35 including a transducer 34 is provided. A cord extends from the ultrasonic probe 35, and the cord is connected to the main body 32 at the connection portion 37. The capacitive ultrasonic transducer 34 corresponds to, for example, the semiconductor chip 1 shown in FIG.

図21に示すように、超音波画像装置(超音波検査装置)30は、超音波探触子35、送受信分離部40、送信部42、バイアス部43、受信部44、整相加算部45、画像処理部46、表示部33、制御部47および操作部36により構成されている。超音波探触子35は送受信分離部40に接続されており、操作部36は制御部47に接続されている。送信部42およびバイアス部43は、送受信分離部40と制御部47との間に並列に接続されている。送受信分離部40は受信部44に接続されており、受信部44は整相加算部45および表示部33に接続されており、画像処理部46は制御部47、整相加算部45および表示部33に接続されている。   As shown in FIG. 21, an ultrasonic imaging apparatus (ultrasonic inspection apparatus) 30 includes an ultrasonic probe 35, a transmission / reception separation unit 40, a transmission unit 42, a bias unit 43, a reception unit 44, a phasing addition unit 45, The image processing unit 46, the display unit 33, the control unit 47, and the operation unit 36 are configured. The ultrasonic probe 35 is connected to the transmission / reception separating unit 40, and the operation unit 36 is connected to the control unit 47. The transmission unit 42 and the bias unit 43 are connected in parallel between the transmission / reception separation unit 40 and the control unit 47. The transmission / reception separation unit 40 is connected to the reception unit 44, the reception unit 44 is connected to the phasing addition unit 45 and the display unit 33, and the image processing unit 46 is a control unit 47, phasing addition unit 45 and display unit. 33.

超音波探触子35は、被検体(生体)に接触させて被検体との間で超音波を送受波する装置であり、被検体との接触面に静電容量型超音波トランスデューサ素子のアレイを備えている。この静電容量型超音波トランスデューサとして、前記実施の形態1〜3のいずれかの静電容量型超音波トランスデューサが採用されている。   The ultrasonic probe 35 is a device that transmits and receives ultrasonic waves to and from a subject by making contact with the subject (living body), and an array of capacitive ultrasonic transducer elements on the contact surface with the subject. It has. As the capacitive ultrasonic transducer, the capacitive ultrasonic transducer according to any one of the first to third embodiments is employed.

次に、本実施の形態の超音波検査装置である超音波画像装置30の動作について説明する。超音波画像装置30を用いて検査をする際には、超音波探触子35から超音波が被検体に送波され、被検体からの反射エコー信号が超音波探触子35により受波される。送信部42およびバイアス部43は、超音波探触子35に駆動信号を供給する装置である。   Next, the operation of the ultrasonic imaging apparatus 30 that is the ultrasonic inspection apparatus of the present embodiment will be described. When an inspection is performed using the ultrasonic imaging apparatus 30, an ultrasonic wave is transmitted from the ultrasonic probe 35 to the subject, and a reflected echo signal from the subject is received by the ultrasonic probe 35. The The transmission unit 42 and the bias unit 43 are devices that supply drive signals to the ultrasonic probe 35.

受信部44は、超音波探触子35から出力される反射エコー信号を受信する装置である。受信部44は、さらに、受信した反射エコー信号に対してアナログデジタル変換などの処理を行う。送受信分離部40は、送信時には送信部42から超音波探触子35へ駆動信号を渡し、受信時には超音波探触子35から受信部44へ受信信号を渡すよう送信と受信とを切り換え、分離するものである。   The receiving unit 44 is a device that receives a reflected echo signal output from the ultrasonic probe 35. The receiving unit 44 further performs processing such as analog-digital conversion on the received reflected echo signal. The transmission / reception separation unit 40 switches between transmission and reception so as to pass a drive signal from the transmission unit 42 to the ultrasonic probe 35 at the time of transmission and to pass a reception signal from the ultrasonic probe 35 to the reception unit 44 at the time of reception. To do.

整相加算部45は、受信された反射エコー信号を整相加算する装置である。画像処理部46は、整相加算された反射エコー信号に基づいて診断画像(例えば、断層像または血流像など)を構成する装置である。表示部33は、画像処理された診断画像を表示する表示装置である。   The phasing addition unit 45 is a device that performs phasing addition of the received reflected echo signals. The image processing unit 46 is a device that configures a diagnostic image (for example, a tomographic image or a blood flow image) based on the reflected echo signal subjected to phasing addition. The display unit 33 is a display device that displays a diagnostic image subjected to image processing.

制御部47は、上述した各構成要素を制御する装置である。操作部36は、制御部47に指示を与える装置である。操作部36は、例えば、トラックボール、キーボード若しくはマウスなどの入力機器またはそれらを組み合わせたものである。   The control unit 47 is a device that controls each component described above. The operation unit 36 is a device that gives an instruction to the control unit 47. The operation unit 36 is, for example, an input device such as a trackball, a keyboard, or a mouse, or a combination thereof.

図20に示す超音波探触子35は、超音波の送受信部である。超音波探触子35を形成するプローブケースの先端面には、静電容量型超音波トランスデューサ34が、その主面(複数の振動子の形成面)を外部に向けた状態で取り付けられている。   An ultrasonic probe 35 shown in FIG. 20 is an ultrasonic transmission / reception unit. A capacitive ultrasonic transducer 34 is attached to the distal end surface of the probe case forming the ultrasonic probe 35 with its main surface (surface on which a plurality of transducers are formed) facing outward. .

超音波診断に際しては、超音波探触子35の先端を被検体(生体)の表面に当てた後、超音波探触子35の先端が被検体の表面に当たる位置を徐々にずらしながら走査する。このとき、体表に当てた超音波探触子35から被検体内に数MHzの超音波パルスを送波し、音響インピーダンスの異なる組織境界からの反射波(反響またはエコー)を受波する。これにより、表示部33に表示された生体組織の断層像を得て、診断対象に関する情報を知ることができる。超音波を送波してから受波するまでの時間間隔によって反射体の距離情報が得られる。また、反射波のレベルまたは外形から反射体の存在または質に関する情報が得られる。   In ultrasonic diagnosis, the tip of the ultrasonic probe 35 is applied to the surface of the subject (living body), and then scanning is performed while gradually shifting the position where the tip of the ultrasonic probe 35 contacts the surface of the subject. At this time, an ultrasonic pulse of several MHz is transmitted from the ultrasonic probe 35 applied to the body surface into the subject, and a reflected wave (an echo or an echo) from a tissue boundary having a different acoustic impedance is received. Thereby, the tomographic image of the living tissue displayed on the display unit 33 can be obtained, and information related to the diagnosis target can be known. The distance information of the reflector can be obtained by the time interval from transmitting the ultrasonic wave to receiving it. Also, information on the presence or quality of the reflector can be obtained from the level or contour of the reflected wave.

本実施の形態の超音波検査装置は、超音波探触子が備える静電容量型超音波トランスデューサとして、前記実施の形態1〜3で説明した静電容量型超音波トランスデューサを採用している。すなわち、当該静電容量型超音波トランスデューサは、空洞部を共有する複数のチャネルのそれぞれのメンブレン同士の間に、支柱12により支えられた接続部であって、メンブレンよりもヤング率および音響インピーダンスが低く、ばね定数が小さい接続部を有するものである。   The ultrasonic inspection apparatus according to the present embodiment employs the capacitive ultrasonic transducer described in the first to third embodiments as the capacitive ultrasonic transducer included in the ultrasonic probe. That is, the capacitive ultrasonic transducer is a connection portion supported by the support column 12 between the membranes of a plurality of channels sharing the cavity, and has a Young's modulus and acoustic impedance higher than those of the membrane. It has a connection part that is low and has a small spring constant.

これにより、メンブレン同士の間の振動の伝播を防ぎ、隣り合うチャネル同士の間の音響的分離を実現することができるため、静電容量型超音波トランスデューサの特性(送信効率および受信感度)を向上させることができる。また、チャネルの幅を縮小しても、複数のチャネルが空洞部を共有させることで、枠部が占める面積の割合が増大することを防ぐことができる。よって、静電容量型超音波トランスデューサの主面のうち、振動子として使用できるチャネルの面積が占める割合(フィルファクタ)が減少することを防ぎつつ、静電容量型超音波トランスデューサを微細化することができる。また、フィルファクタが減少することを防ぎつつ、チャネルの幅を縮小することで、送受信する音波の周波数を高めることができるため、超音波検査装置で検査可能な周波数帯域を拡げることができる。よって、超音波検査装置の性能を向上させることができる。   This prevents the propagation of vibrations between membranes and enables acoustic separation between adjacent channels, improving the characteristics (transmission efficiency and reception sensitivity) of capacitive ultrasonic transducers. Can be made. Further, even if the channel width is reduced, it is possible to prevent the ratio of the area occupied by the frame portion from increasing because the plurality of channels share the cavity portion. Therefore, miniaturization of the capacitive ultrasonic transducer while preventing the reduction of the ratio (fill factor) of the area of the channel that can be used as a vibrator in the main surface of the capacitive ultrasonic transducer. Can do. In addition, by reducing the channel width while preventing the fill factor from decreasing, the frequency of sound waves to be transmitted and received can be increased, so that the frequency band that can be inspected by the ultrasonic inspection apparatus can be expanded. Therefore, the performance of the ultrasonic inspection apparatus can be improved.

また、静電容量型超音波トランスデューサの空洞部の気密性を高めつつ、メンブレン同士の音響的分離を実現することができる。よって、超音波検査装置の信頼性を向上させることができる。また、メンブレンの振動時にメンブレンおよび上部電極が撓むことを防ぐことができるため、静電容量型超音波トランスデューサの主面のうち、振動子として使用できるチャネルの面積が占める割合(フィルファクタ)を向上させることができる。よって、超音波検査装置の性能を向上させることができる。   In addition, acoustic separation between the membranes can be realized while enhancing the airtightness of the cavity of the capacitive ultrasonic transducer. Therefore, the reliability of the ultrasonic inspection apparatus can be improved. In addition, since the membrane and upper electrode can be prevented from bending when the membrane vibrates, the ratio of the area of the channel that can be used as a transducer (fill factor) to the main surface of the capacitive ultrasonic transducer Can be improved. Therefore, the performance of the ultrasonic inspection apparatus can be improved.

以上、本発明者らによってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。   Although the invention made by the present inventors has been specifically described based on the embodiment, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

例えば、前記実施の形態4では、医療用診断装置に静電容量型超音波トランスデューサを用いる場合について説明したが、前記実施の形態1〜3で説明した静電容量型超音波トランスデューサは、カテーテルまたは顕微鏡などの超音波検査装置に使用することが可能である。   For example, in the fourth embodiment, the case where a capacitive ultrasonic transducer is used in a medical diagnostic apparatus has been described. However, the capacitive ultrasonic transducer described in the first to third embodiments may be a catheter or It can be used for an ultrasonic inspection apparatus such as a microscope.

5 空洞部
6 チャネル
7 メンブレン
8 上部電極
9 下部電極
10 枠部
11 接続部(低ヤング率部、低音響インピーダンス部)
12 支柱
5 Cavity 6 Channel 7 Membrane 8 Upper Electrode 9 Lower Electrode 10 Frame 11 Connection (Low Young's Modulus, Low Acoustic Impedance)
12 props

Claims (15)

静電容量型超音波トランスデューサを備えた超音波検査装置であって、
前記静電容量型超音波トランスデューサは、
複数の可撓性膜と、
前記複数の可撓性膜のうち、隣り合う前記可撓性膜同士の相互間に接続された、前記複数の可撓性膜のそれぞれよりも音響インピーダンスが低い接続部と、
前記接続部を支える支柱と、
前記複数の可撓性膜の直下に形成された第1電極と、
前記複数の可撓性膜のそれぞれの直上に形成された第2電極と、
前記複数の可撓性膜と前記第1電極との間に形成された空洞部と、
を有する、超音波検査装置。
An ultrasonic inspection apparatus including a capacitive ultrasonic transducer,
The capacitive ultrasonic transducer is
A plurality of flexible membranes;
Of the plurality of flexible membranes, connected between the adjacent flexible membranes, each having a lower acoustic impedance than each of the plurality of flexible membranes;
A column supporting the connecting portion;
A first electrode formed immediately below the plurality of flexible films;
A second electrode formed immediately above each of the plurality of flexible membranes;
A cavity formed between the plurality of flexible membranes and the first electrode;
An ultrasonic inspection apparatus.
請求項1記載の超音波検査装置において、
前記接続部を構成する第1膜の膜厚は、前記複数の可撓性膜のそれぞれの膜厚よりも小さい、超音波検査装置。
The ultrasonic inspection apparatus according to claim 1,
The ultrasonic inspection apparatus, wherein a thickness of the first film constituting the connection portion is smaller than a thickness of each of the plurality of flexible films.
請求項1記載の超音波検査装置において、
前記接続部は、前記複数の可撓性膜が互いに隣り合う方向に延在する蛇腹状の第2膜により構成されている、超音波検査装置。
The ultrasonic inspection apparatus according to claim 1,
The said connection part is an ultrasonic inspection apparatus comprised by the bellows-like 2nd film | membrane where the said some flexible film is extended in the mutually adjacent direction.
請求項1記載の超音波検査装置において、
前記接続部は、互いに隣り合う前記複数の可撓性膜同士の間の貫通孔内に埋め込まれた第2膜を含んでおり、
前記第2膜は、前記複数の可撓性膜のそれぞれよりも音響インピーダンスが低い、超音波検査装置。
The ultrasonic inspection apparatus according to claim 1,
The connection portion includes a second film embedded in a through hole between the plurality of adjacent flexible films,
The ultrasonic inspection apparatus, wherein the second film has an acoustic impedance lower than that of each of the plurality of flexible films.
請求項1記載の超音波検査装置において、
前記接続部は、互いに隣り合う前記複数の可撓性膜同士の対向する第1側面および第2側面の間において、前記第1側面から前記第2側面側に延在する複数の第1突出部と、前記第2側面から前記第1側面側に延在する複数の第2突出部とを含んでおり、
前記複数の第1突出部と前記複数の第2突出部とは、縦方向に交互に重ねられており、
前記複数の第1突出部および前記第1側面と前記複数の第2突出部および前記第2側面とは、互いに離間している、超音波検査装置。
The ultrasonic inspection apparatus according to claim 1,
The connecting portion includes a plurality of first protrusions extending from the first side surface to the second side surface between the opposing first and second side surfaces of the plurality of adjacent flexible films. And a plurality of second protrusions extending from the second side surface to the first side surface side,
The plurality of first protrusions and the plurality of second protrusions are alternately stacked in the vertical direction,
The ultrasonic inspection apparatus, wherein the plurality of first protrusions and the first side surface, and the plurality of second protrusions and the second side surface are separated from each other.
複数の可撓性膜と、
前記複数の可撓性膜のうち、隣り合う前記可撓性膜同士の相互間に接続された、前記複数の可撓性膜のそれぞれよりも音響インピーダンスが低い接続部と、
前記接続部を支える支柱と、
前記複数の可撓性膜の直下に形成された第1電極と、
前記複数の可撓性膜のそれぞれの直上に形成された第2電極と、
前記複数の可撓性膜と前記第1電極との間に形成された空洞部と、
を有する、静電容量型超音波トランスデューサ。
A plurality of flexible membranes;
Of the plurality of flexible membranes, connected between the adjacent flexible membranes, each having a lower acoustic impedance than each of the plurality of flexible membranes;
A column supporting the connecting portion;
A first electrode formed immediately below the plurality of flexible films;
A second electrode formed immediately above each of the plurality of flexible membranes;
A cavity formed between the plurality of flexible membranes and the first electrode;
A capacitive ultrasonic transducer.
請求項6記載の静電容量型超音波トランスデューサにおいて、
前記接続部を構成する第1膜の膜厚は、前記複数の可撓性膜のそれぞれの膜厚よりも小さい、静電容量型超音波トランスデューサ。
The capacitive ultrasonic transducer according to claim 6,
The capacitive ultrasonic transducer, wherein a thickness of the first film constituting the connection portion is smaller than a thickness of each of the plurality of flexible films.
請求項6記載の静電容量型超音波トランスデューサにおいて、
前記接続部は、前記複数の可撓性膜が互いに隣り合う方向に延在する蛇腹状の第2膜により構成されている、静電容量型超音波トランスデューサ。
The capacitive ultrasonic transducer according to claim 6,
The said connection part is a capacitive ultrasonic transducer comprised by the bellows-like 2nd film | membrane where the said some flexible film is extended in the mutually adjacent direction.
請求項6記載の静電容量型超音波トランスデューサにおいて、
前記接続部は、互いに隣り合う前記複数の可撓性膜同士の間の貫通孔内に埋め込まれた第2膜を含んでおり、
前記第2膜は、前記複数の可撓性膜のそれぞれよりも音響インピーダンスが低い、静電容量型超音波トランスデューサ。
The capacitive ultrasonic transducer according to claim 6,
The connection portion includes a second film embedded in a through hole between the plurality of adjacent flexible films,
The second membrane is a capacitive ultrasonic transducer having an acoustic impedance lower than that of each of the plurality of flexible membranes.
請求項6記載の静電容量型超音波トランスデューサにおいて、
前記接続部は、互いに隣り合う前記複数の可撓性膜同士の対向する第1側面および第2側面の間において、前記第1側面から前記第2側面側に延在する複数の第1突出部と、前記第2側面から前記第1側面側に延在する複数の第2突出部とを含んでおり、
前記複数の第1突出部と前記複数の第2突出部とは、縦方向に交互に重ねられており、
前記複数の第1突出部および前記第1側面と前記複数の第2突出部および前記第2側面とは、互いに離間している、静電容量型超音波トランスデューサ。
The capacitive ultrasonic transducer according to claim 6,
The connecting portion includes a plurality of first protrusions extending from the first side surface to the second side surface between the opposing first and second side surfaces of the plurality of adjacent flexible films. And a plurality of second protrusions extending from the second side surface to the first side surface side,
The plurality of first protrusions and the plurality of second protrusions are alternately stacked in the vertical direction,
The plurality of first protrusions and the first side face, and the plurality of second protrusions and the second side face are capacitive ultrasonic transducers that are separated from each other.
静電容量型超音波トランスデューサを備えた超音波検査装置であって、
前記静電容量型超音波トランスデューサは、
複数の可撓性膜と、
前記複数の可撓性膜のうち、隣り合う前記可撓性膜同士の相互間に接続された、前記複数の可撓性膜のそれぞれよりもヤング率が低い接続部と、
前記接続部を支える支柱と、
前記複数の可撓性膜の直下に形成された第1電極と、
前記複数の可撓性膜のそれぞれの直上に形成された第2電極と、
前記複数の可撓性膜と前記第1電極との間に形成された空洞部と、
を有する、超音波検査装置。
An ultrasonic inspection apparatus including a capacitive ultrasonic transducer,
The capacitive ultrasonic transducer is
A plurality of flexible membranes;
Of the plurality of flexible films, connected between the adjacent flexible films, each having a lower Young's modulus than each of the plurality of flexible films,
A column supporting the connecting portion;
A first electrode formed immediately below the plurality of flexible films;
A second electrode formed immediately above each of the plurality of flexible membranes;
A cavity formed between the plurality of flexible membranes and the first electrode;
An ultrasonic inspection apparatus.
請求項11記載の超音波検査装置において、
前記接続部を構成する第1膜の膜厚は、前記複数の可撓性膜のそれぞれの膜厚よりも小さい、超音波検査装置。
The ultrasonic inspection apparatus according to claim 11,
The ultrasonic inspection apparatus, wherein a thickness of the first film constituting the connection portion is smaller than a thickness of each of the plurality of flexible films.
請求項11記載の超音波検査装置において、
前記接続部は、前記複数の可撓性膜が互いに隣り合う方向に延在する蛇腹状の第2膜により構成されている、超音波検査装置。
The ultrasonic inspection apparatus according to claim 11,
The said connection part is an ultrasonic inspection apparatus comprised by the bellows-like 2nd film | membrane where the said some flexible film is extended in the mutually adjacent direction.
請求項11記載の超音波検査装置において、
前記接続部は、互いに隣り合う前記複数の可撓性膜同士の間の貫通孔内に埋め込まれた第2膜を含んでおり、
前記第2膜は、前記複数の可撓性膜のそれぞれよりもヤング率が低い、超音波検査装置。
The ultrasonic inspection apparatus according to claim 11,
The connection portion includes a second film embedded in a through hole between the plurality of adjacent flexible films,
The ultrasonic inspection apparatus, wherein the second film has a Young's modulus lower than each of the plurality of flexible films.
請求項11記載の超音波検査装置において、
前記接続部は、互いに隣り合う前記複数の可撓性膜同士の対向する第1側面および第2側面の間において、前記第1側面から前記第2側面側に延在する複数の第1突出部と、前記第2側面から前記第1側面側に延在する複数の第2突出部とを含んでおり、
前記複数の第1突出部と前記複数の第2突出部とは、縦方向に交互に重ねられており、
前記複数の第1突出部および前記第1側面と前記複数の第2突出部および前記第2側面とは、互いに離間している、超音波検査装置。
The ultrasonic inspection apparatus according to claim 11,
The connecting portion includes a plurality of first protrusions extending from the first side surface to the second side surface between the opposing first and second side surfaces of the plurality of adjacent flexible films. And a plurality of second protrusions extending from the second side surface to the first side surface side,
The plurality of first protrusions and the plurality of second protrusions are alternately stacked in the vertical direction,
The ultrasonic inspection apparatus, wherein the plurality of first protrusions and the first side surface, and the plurality of second protrusions and the second side surface are separated from each other.
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