JP2018141670A - Laser-induced analysis device, sample plate to be used for the same, and laser-induced analysis method - Google Patents

Laser-induced analysis device, sample plate to be used for the same, and laser-induced analysis method Download PDF

Info

Publication number
JP2018141670A
JP2018141670A JP2017034994A JP2017034994A JP2018141670A JP 2018141670 A JP2018141670 A JP 2018141670A JP 2017034994 A JP2017034994 A JP 2017034994A JP 2017034994 A JP2017034994 A JP 2017034994A JP 2018141670 A JP2018141670 A JP 2018141670A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
analyzer
sample
laser induced
recess
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017034994A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6702228B2 (en
Inventor
喜直 伊藤
Yoshinao Ito
喜直 伊藤
大野 隆
Takashi Ono
隆 大野
正博 井原
Masahiro Ihara
正博 井原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2017034994A priority Critical patent/JP6702228B2/en
Publication of JP2018141670A publication Critical patent/JP2018141670A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6702228B2 publication Critical patent/JP6702228B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique improves analysis sensitivity in analyzing a sample solidified by evaporation and drying from a liquid state by a Laser-Induced Plasma Spectroscopy.SOLUTION: A laser-induced analysis device 10 comprises: a sample plate 1 that has a concavity part where a low position part lower than other part is formed at a prescribed part of a bottom surface; a heating processing unit 2 that heats a liquid sample dripped at the concavity part to evaporate and dry the liquid sample; a light source 5 that irradiates the concavity part where a dried solidification sample obtained by evaporation and drying is held with laser light; and an analyzer 8 that acquires a light emission spectrum of light generated by the irradiation of the laser light.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、液体状態から蒸発乾固によって固体化されたサンプルを、レーザ誘起プラズマ分光法(Laser-Induced Plasma Spectroscopy: LIPS)により分析する技術に関する。   The present invention relates to a technique for analyzing a sample solidified by evaporation to dryness from a liquid state by laser-induced plasma spectroscopy (LIPS).

半導体基板等の製造工程では、半導体基板等に付着した汚染物質等を除去するための洗浄処理が頻繁に行われる。この洗浄処理は、脱イオン水や薬液等の各種の洗浄液を用いて行われることが多い(所謂、ウェット洗浄)。   In a manufacturing process of a semiconductor substrate or the like, a cleaning process for removing contaminants or the like attached to the semiconductor substrate or the like is frequently performed. This cleaning process is often performed using various cleaning liquids such as deionized water and chemicals (so-called wet cleaning).

ウェット洗浄においては、洗浄液の消費量を抑えるため(製造コストの低減)や環境負荷低減のために、洗浄に一度用いた洗浄液をそのまま廃棄せずに、フィルタ等が介挿された循環ラインを通じて循環させて繰り返し使用することがある。このような態様においては、洗浄液が繰り返し使用される回数が多くなるにつれて、洗浄液における不純物(具体的には例えば、配線工程において、洗浄装置の洗浄対象物から除去された各種の金属(例えば、配線として用いられている銅)、等)の含有量が徐々に増えていき、洗浄液の洗浄機能が低下し、洗浄対象物を十分に洗浄することが難しくなる。したがって、洗浄液を繰り返して使用する場合は、洗浄液における不純物の含有量をリアルタイムで監視することが好ましい。   In wet cleaning, in order to reduce the consumption of cleaning liquid (reduction of manufacturing costs) and reduce environmental burden, the cleaning liquid once used for cleaning is not discarded as it is, but is circulated through a circulation line in which a filter is inserted. May be used repeatedly. In such an embodiment, as the number of times the cleaning liquid is repeatedly used increases, impurities in the cleaning liquid (specifically, for example, various metals removed from the cleaning target of the cleaning device in the wiring process (for example, wiring) As the content of copper, etc.) used in the process gradually increases, the cleaning function of the cleaning liquid decreases and it becomes difficult to sufficiently clean the object to be cleaned. Therefore, when the cleaning liquid is used repeatedly, it is preferable to monitor the content of impurities in the cleaning liquid in real time.

特許文献1には、洗浄液等の液体サンプル中の含有物質の濃度を計測する装置が記載されている。ここでは、まず、液体サンプルを所定のプレート上に滴下し、これを加熱して蒸発乾固させる。そして、プレート上に残された乾固サンプルをレーザ誘起プラズマ分光法により分析して、該乾固サンプルに含まれる物質量を求める。   Patent Document 1 describes an apparatus for measuring the concentration of a contained substance in a liquid sample such as a cleaning liquid. Here, first, a liquid sample is dropped on a predetermined plate, and this is heated and evaporated to dryness. Then, the dry sample left on the plate is analyzed by laser-induced plasma spectroscopy to determine the amount of substance contained in the dry sample.

ここで、「レーザ誘起プラズマ分光法」について説明する。この分析手法では、まず、分析対象となるサンプル(特許文献1の場合、乾固サンプル)に短パルスのレーザ光を照射(集光(フォーカシング))する。すると、高温高密度のプラズマ(破壊プラズマ)が生成され、レーザ光が集光されたスポットにおいてサンプル表面にある物質(原子)が励起される。励起された各物質は固有の波長の光を放射しながら状態遷移する。したがって、このときに発生した光の発光スペクトルを分光器で取得し、該発光スペクトルに現れるピークの位置(波長)および強度を特定することで、サンプルに含まれる物質の種類および量を特定することができる。
なお、この手法でガス中に含まれる物質を特定する場合は、「レーザブレイクダウン分光法(Laser-Induced Breakdown Spectroscopy: LIBS)」と呼ばれることもある。
Here, “laser-induced plasma spectroscopy” will be described. In this analysis method, first, a sample to be analyzed (in the case of Patent Document 1, a dry sample) is irradiated (focused) with a short pulse of laser light. Then, high-temperature and high-density plasma (destructive plasma) is generated, and a substance (atom) on the sample surface is excited at a spot where the laser beam is condensed. Each excited substance undergoes a state transition while emitting light of a specific wavelength. Therefore, by acquiring the emission spectrum of the light generated at this time with a spectrograph and specifying the position (wavelength) and intensity of the peak appearing in the emission spectrum, the type and amount of the substance contained in the sample can be specified. Can do.
In addition, when specifying the substance contained in gas by this method, it may be called "Laser-Induced Breakdown Spectroscopy (LIBS)."

特開2016−95139号公報JP, 2006-95139, A

レーザ誘起プラズマ分光法は、固体のサンプル表面に短パルスのレーザ光を集光し破壊プラズマを発生させることにより、そのプラズマ中に存在する原子を励起させ、その固有の発光を分析する手法である。したがって、洗浄液等の液体サンプルに含有される物質の量をこの手法を用いて特定するためには、上述したとおり、液体サンプルを所定のサンプルプレート上に滴下し、これを加熱して蒸発乾固により固体化する工程が必要となる。   Laser-induced plasma spectroscopy is a technique in which a short pulse of laser light is focused on a solid sample surface to generate a destructive plasma, thereby exciting the atoms present in the plasma and analyzing its intrinsic emission. . Therefore, in order to specify the amount of a substance contained in a liquid sample such as a cleaning liquid using this technique, as described above, the liquid sample is dropped on a predetermined sample plate and heated to evaporate to dryness. The process of solidifying is required.

従来において一般的に用いられているサンプルプレートは、一方の主面に凹部が形成された薄板状の部材であり、この凹部に液体サンプルが滴下される。ここで、凹部に保持される液体サンプルの量が多いと蒸発乾固に要する時間が長くなってしまうため、その量は100μリットル程度以下の微量なものとされる。このような微量の液体サンプルを蒸発乾固して得られる乾固サンプルは微量であり、さらに、この微量の乾固サンプルがサンプルプレートの凹部の底面に分散して析出するため、レーザ光の集光スポットに相当する領域には極めて微量の乾固サンプルしか存在しない。このため、発光スペクトルに現れるピークの強度が十分に大きなものとならず、十分な分析感度を得ることが難しかった。   A sample plate generally used in the past is a thin plate-like member having a concave portion formed on one main surface, and a liquid sample is dropped into the concave portion. Here, if the amount of the liquid sample held in the concave portion is large, the time required for evaporation to dryness becomes long, so the amount is a very small amount of about 100 μL or less. The amount of dry sample obtained by evaporating and drying such a small amount of liquid sample is very small. Furthermore, since this small amount of dry sample is dispersed and deposited on the bottom surface of the concave portion of the sample plate, the concentration of laser light is reduced. There is only a very small amount of dry sample in the area corresponding to the light spot. For this reason, the intensity of the peak appearing in the emission spectrum is not sufficiently large, and it has been difficult to obtain sufficient analysis sensitivity.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、液体状態から蒸発乾固によって固体化されたサンプルをレーザ誘起プラズマ分光法により分析するにあたって、分析感度を向上させることができる技術の提供を目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides a technique capable of improving analysis sensitivity in analyzing a sample solidified by evaporation to dryness from a liquid state by laser-induced plasma spectroscopy. It is an object.

上記課題を解決するために成された本発明は、
レーザ誘起分析装置であって、
底面の所定箇所に他の箇所よりも低い低位置部が形成された凹部、を有するサンプルプレートと、
前記凹部に滴下された液体サンプルを加熱して蒸発乾固させる加熱処理部と、
蒸発乾固によって得られた乾固サンプルが保持された前記凹部の前記低位置部にレーザ光を照射する光源と、
前記レーザ光の照射により発生した光の発光スペクトルを取得する分析器と、
を備える。
The present invention made to solve the above problems
A laser induced analyzer comprising:
A sample plate having a recess formed in a predetermined position on the bottom surface with a lower position part lower than other parts, and
A heat treatment section for heating and evaporating and drying the liquid sample dropped in the recess;
A light source that irradiates a laser beam to the low position portion of the concave portion in which the dried sample obtained by evaporation to dryness is held;
An analyzer for obtaining an emission spectrum of light generated by the laser light irradiation;
Is provided.

サンプルプレートの凹部に滴下された液体サンプルの溶媒を蒸発させてゆくと、溶液の濃度は徐々に濃くなってゆき、残った比較的高濃度の溶液は低位置部に集まってそこで蒸発乾固する。したがって、低位置部は、それ以外の部分と比べて、単位面積当たりの乾固サンプルの析出量が多くなる。このように、それ以外の部分と比べて乾固サンプルの析出量が多い低位置部を狙ってレーザ光を照射して発光スペクトルを取得することにより、分析感度を向上させることができる。   When the solvent of the liquid sample dropped in the concave part of the sample plate is evaporated, the concentration of the solution gradually increases, and the remaining relatively high concentration solution gathers at the low position and evaporates to dryness there. . Therefore, the amount of precipitation of the dried sample per unit area is larger in the low position portion than in other portions. In this way, the analysis sensitivity can be improved by obtaining the emission spectrum by irradiating the laser beam aiming at the low position portion where the amount of the dried solid sample deposited is larger than the other portions.

好ましくは、
前記光源が、前記低位置部内の互いに異なる複数の位置のそれぞれにレーザ光を照射し、
前記分析器が、各照射で得られた発光スペクトルを取得する。
Preferably,
The light source irradiates each of a plurality of different positions in the low position portion with laser light,
The analyzer acquires the emission spectrum obtained with each irradiation.

蒸発乾固の最終段階(すなわち、最後に残った最も高濃度の微量の溶液が蒸発乾固する段階)において、凹部に残った最後の溶液は表面張力により液滴を形成し、凹部内のいずれかの箇所で最終的に蒸発乾固する。この液滴が最終的に蒸発乾固した箇所(液滴乾固部分)は、他の部分に比べて乾固サンプルの析出量が突出して多いものとなる。したがって、この液滴乾固部分にレーザ光を照射することができれば、特に高い分析感度を得ることができる。
仮に、低位置部が設けられないとすると、この液滴乾固部分は凹部内の全領域に存在し得るため、液滴乾固部分にレーザ光を高確率で照射するためには、凹部内の全領域に対して満遍なくレーザ光を照射しなければならず、必要な照射回数が多くなってしまう(ひいては、分析に要する時間が長くなってしまう)。これに対し、低位置部が設けられる上記の構成によると、液滴乾固部分は必ずこの低位置部内のどこかに存在するので、液滴乾固部分にレーザ光を高確率で照射するために、凹部内の全領域に対して満遍なくレーザ光を照射する必要はなく、低位置部内の互いに異なる複数の位置のそれぞれにレーザ光を照射するだけでよい。すなわち、少ない照射回数で、液滴乾固部分に高確率でレーザ光を照射することができる。これにより、分析に要する時間を短く抑えつつ、高い分析感度を得ることが可能となる。
また、液滴乾固部分に高確率でレーザ光を照射することが可能となると、そのサンプルに関するばらつきの少ない分析結果を得ることも可能となる。すなわち、同じサンプルであっても、レーザ光が液滴乾固部分に照射された場合とそれ以外の箇所に照射された場合とでは得られるスペクトルのピーク強度が大きく異なるものとなるため、これらの各場合が混在するとこれが分析誤差となってしまうが、安定的に液滴乾固部分にレーザ光を照射するが可能となれば、このような分析誤差の発生が抑制されて、ばらつきの少ない分析結果が得られる。
In the final stage of evaporation to dryness (ie, the stage in which the most concentrated trace solution remaining at the end evaporates to dryness), the last solution remaining in the recess forms droplets due to surface tension. Finally, it is evaporated to dryness. A portion (droplet dried portion) where the droplets are finally evaporated to dryness has a larger amount of deposited solid sample than other portions. Therefore, if the droplet dried portion can be irradiated with laser light, particularly high analysis sensitivity can be obtained.
If the low position portion is not provided, this droplet dried portion may exist in the entire region in the recess. Therefore, in order to irradiate the droplet dried portion with laser light with a high probability, Therefore, the laser beam must be irradiated evenly over the entire region, and the number of necessary irradiations is increased (and the time required for analysis is increased). On the other hand, according to the above-described configuration in which the low position portion is provided, the droplet dry portion is always present somewhere in the low position portion, so that the droplet dry portion is irradiated with laser light with high probability. In addition, it is not necessary to uniformly irradiate the entire region in the recess with the laser beam, and it is only necessary to irradiate each of a plurality of different positions in the low position portion. That is, it is possible to irradiate a laser beam with a high probability to the droplet dried portion with a small number of irradiations. This makes it possible to obtain high analysis sensitivity while keeping the time required for analysis short.
In addition, if it becomes possible to irradiate the dried portion of the droplet with laser light with high probability, it is also possible to obtain an analysis result with little variation regarding the sample. That is, even in the same sample, the peak intensity of the spectrum obtained differs greatly when the laser beam is irradiated on the dried portion of the droplet and when it is irradiated on the other portions. When each case is mixed, this becomes an analysis error. However, if it is possible to stably irradiate the dried portion of the droplet with laser light, the generation of such an analysis error is suppressed and analysis with little variation is performed. Results are obtained.

好ましくは、
前記複数の位置に対するレーザ光の照射で得られた複数の発光スペクトルを積算した積算データを取得する積算データ取得部、
をさらに備える。
Preferably,
An integrated data acquisition unit for acquiring integrated data obtained by integrating a plurality of emission spectra obtained by laser light irradiation to the plurality of positions;
Is further provided.

低位置部内の互いに異なる複数の位置のそれぞれについて得られた発光スペクトルを積算した積算データを取得することで、ノイズの影響を低減してS/N比を大きくすることができる。   By acquiring integrated data obtained by integrating emission spectra obtained for a plurality of different positions in the low position portion, the influence of noise can be reduced and the S / N ratio can be increased.

好ましくは、
前記複数の位置に対するレーザ光の照射で得られた複数の発光スペクトルを平均した平均データを取得する平均データ取得部、
をさらに備える。
Preferably,
An average data acquisition unit for acquiring average data obtained by averaging a plurality of emission spectra obtained by laser light irradiation to the plurality of positions;
Is further provided.

低位置部内の互いに異なる複数の位置のそれぞれについて得られた発光スペクトルを平均した平均データを取得することで、ノイズの影響を低減してS/N比を大きくすることができる。   By obtaining average data obtained by averaging the emission spectra obtained for each of a plurality of different positions in the low position portion, the influence of noise can be reduced and the S / N ratio can be increased.

好ましくは、
前記レーザ誘起分析装置において、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面の外周縁に沿って溝が形成されている。
このサンプルプレートにおいては、円形状の底面の外周縁に沿って形成されたリング状の溝の底が低位置部を構成する。
Preferably,
In the laser induced analyzer,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
A groove is formed along the outer peripheral edge of the bottom surface.
In this sample plate, the bottom of the ring-shaped groove formed along the outer peripheral edge of the circular bottom forms the low position portion.

或いは、好ましくは、
前記レーザ誘起分析装置において、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面が、その中心から外周縁に向かって下方に傾斜する形状である。
このサンプルプレートにおいては、円形状の底面の外周縁付近が低位置部を構成する。
Alternatively, preferably
In the laser induced analyzer,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
The bottom surface has a shape inclined downward from the center toward the outer peripheral edge.
In this sample plate, the vicinity of the outer peripheral edge of the circular bottom constitutes the low position portion.

或いは、好ましくは、
前記レーザ誘起分析装置において、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面が、その外周縁から中心に向かって下方に傾斜する形状である。
このサンプルプレートにおいては、円形状の底面の中心部分が低位置部を構成する。
Alternatively, preferably
In the laser induced analyzer,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
The bottom surface has a shape inclined downward from the outer peripheral edge toward the center.
In this sample plate, the central portion of the circular bottom forms the low position portion.

或いは、好ましくは、
前記レーザ誘起分析装置において、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面の中央に、平面視円形状の窪みが形成されている。
このサンプルプレートにおいては、底面の中央に形成された窪みの底が低位置部を構成する。
Alternatively, preferably
In the laser induced analyzer,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
A recess having a circular shape in plan view is formed at the center of the bottom surface.
In this sample plate, the bottom of the recess formed in the center of the bottom surface constitutes the low position portion.

或いは、好ましくは、
前記レーザ誘起分析装置において、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面の外周縁に沿って、平面視弧状の溝が間隔をあけて複数個形成されている。
このサンプルプレートにおいては、底面の外周縁に沿って形成された各弧状の溝の底が低位置部を構成する。
Alternatively, preferably
In the laser induced analyzer,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
A plurality of arc-shaped grooves in plan view are formed at intervals along the outer peripheral edge of the bottom surface.
In this sample plate, the bottom of each arc-shaped groove formed along the outer peripheral edge of the bottom surface constitutes the low position portion.

或いは好ましくは、
前記レーザ誘起分析装置において、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面の外周縁に沿って、平面視円形状の窪みが間隔をあけて複数個形成されている。
このサンプルプレートにおいては、底面の外周縁に沿って形成された各窪みの底が低位置部を構成する。
Or preferably,
In the laser induced analyzer,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
A plurality of circular recesses in a plan view are formed at intervals along the outer peripheral edge of the bottom surface.
In this sample plate, the bottom of each recess formed along the outer peripheral edge of the bottom surface constitutes the low position portion.

上記の各サンプルプレートのいずれにおいても、低位置部における単位面積当たりの乾固サンプルの析出量は他の部分よりも多くなる。したがって、この低位置部を狙ってレーザ光を照射して発光スペクトルを取得することにより、分析感度を向上させることができる。
また、上記の各サンプルプレートを備える場合、例えば、サンプルプレートを凹部の底面の中心を通る軸の周りに回転させつつ、所定姿勢で固定配置された光源から低位置部に向けて間欠的に(好ましくは一定間隔で)レーザ光を照射することで、低位置部における互いに異なる複数の位置にレーザ光を照射することができる。すなわち、複雑な機構を設けなくても、低位置部内の互いに異なる複数の位置にレーザ光を照射することができる。
In any of the above sample plates, the amount of precipitation of the dried sample per unit area in the low position portion is greater than in other portions. Therefore, analysis sensitivity can be improved by aiming at this low position and irradiating laser light to obtain an emission spectrum.
Further, when each sample plate is provided, for example, while rotating the sample plate around an axis passing through the center of the bottom surface of the recess, intermittently from a light source fixedly arranged in a predetermined posture toward a low position portion ( By irradiating the laser beam (preferably at a constant interval), it is possible to irradiate the laser beam to a plurality of different positions in the low position portion. That is, it is possible to irradiate a plurality of different positions in the low position portion with laser light without providing a complicated mechanism.

また、本発明は、レーザ誘起分析装置に用いられるサンプルプレートも対象としている。すなわち、該サンプルプレートは、
液体サンプルが滴下される凹部を有し、該凹部の底面の所定箇所に、他の箇所よりも低い低位置部を有する。
The present invention is also directed to a sample plate used in a laser induced analyzer. That is, the sample plate is
It has a recessed part into which a liquid sample is dropped, and has a low position part lower than other parts at a predetermined place on the bottom surface of the recessed part.

液体サンプルをこのサンプルプレートの凹部に滴下して溶媒を蒸発させてゆくと、溶液の濃度は徐々に濃くなってゆき、残った比較的高濃度の溶液は低位置部に集まってそこで蒸発乾固する。したがって、低位置部は、それ以外の部分と比べて、単位面積当たりの乾固サンプルの析出量が多くなる。このように、それ以外の部分と比べて乾固サンプルの析出量が多い低位置部を狙ってレーザ光を照射して発光スペクトルを取得することにより、分析感度を向上させることができる。   When a liquid sample is dropped into the recess of the sample plate and the solvent is evaporated, the concentration of the solution gradually increases, and the remaining relatively high concentration solution gathers at the lower position and evaporates to dryness there. To do. Therefore, the amount of precipitation of the dried sample per unit area is larger in the low position portion than in other portions. In this way, the analysis sensitivity can be improved by obtaining the emission spectrum by irradiating the laser beam aiming at the low position portion where the amount of the dried solid sample deposited is larger than the other portions.

また、本発明は、レーザ誘起分析方法にも向けられている。
すなわち、該レーザ誘起分析方法は、
底面の所定箇所に他の箇所よりも低い低位置部が形成された凹部を有するサンプルプレートの該凹部に液体サンプルを滴下する工程と、
前記凹部に滴下された液体サンプルを加熱して蒸発乾固させる工程と、
蒸発乾固によって得られた乾固サンプルが保持された前記凹部の前記低位置部にレーザ光を照射する工程と、
前記レーザ光の照射により発生した光の発光スペクトルを取得する工程と、
を備える。
The present invention is also directed to a laser induced analysis method.
That is, the laser induced analysis method is:
Dropping a liquid sample into the concave portion of the sample plate having a concave portion in which a lower position portion formed at a lower position than the other portions is formed at a predetermined position on the bottom surface;
Heating and evaporating and drying the liquid sample dropped in the recess;
Irradiating a laser beam to the low position portion of the concave portion in which the dried sample obtained by evaporation to dryness is held;
Obtaining an emission spectrum of light generated by the laser light irradiation;
Is provided.

上記の発明によると、サンプルプレートの低位置部を狙ってレーザ光を照射して発光スペクトルを取得することにより、分析感度を向上させることができる。   According to said invention, analysis sensitivity can be improved by irradiating a laser beam aiming at the low position part of a sample plate, and acquiring an emission spectrum.

レーザ誘起分析装置の構成を模式的に示す図。The figure which shows the structure of a laser induction analysis apparatus typically. サンプルプレートの平面図および断面図。The top view and sectional drawing of a sample plate. サンプルプレートに滴下された液体サンプルが蒸発乾固する様子を説明するための図。The figure for demonstrating a mode that the liquid sample dripped at the sample plate evaporates to dryness. サンプルプレートに対するレーザ光の照射位置を説明するための図。The figure for demonstrating the irradiation position of the laser beam with respect to a sample plate. 分析に係る一連の流れを示す図。The figure which shows a series of flows concerning an analysis. 第1変形例に係るサンプルプレートの平面図および断面図。The top view and sectional drawing of the sample plate which concern on a 1st modification. 第2変形例に係るサンプルプレートの平面図および断面図。The top view and sectional drawing of the sample plate which concern on a 2nd modification. 第3変形例に係るサンプルプレートの平面図および断面図。The top view and sectional drawing of the sample plate which concern on a 3rd modification. 第4変形例に係るサンプルプレートの平面図および断面図。The top view and sectional drawing of the sample plate which concern on a 4th modification. 第5変形例に係るサンプルプレートの平面図および断面図。The top view and sectional drawing of the sample plate which concern on a 5th modification.

以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれることはいうまでもない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited to embodiment described below, It cannot be overemphasized that various aspects are included in the range which does not deviate from the meaning of this invention.

<1.装置構成>
実施形態に係るレーザ誘起分析装置は、液体状態から蒸発乾固によって固体化されたサンプルをレーザ誘起プラズマ分光法により分析する装置であり、その構成例が図1に模式的に示されている。
<1. Device configuration>
The laser-induced analysis apparatus according to the embodiment is an apparatus for analyzing a sample solidified by evaporation to dryness from a liquid state by laser-induced plasma spectroscopy, and its configuration example is schematically shown in FIG.

レーザ誘起分析装置10は、例えば、脱イオン水や薬液等の各種の洗浄液を用いて半導体基板等を洗浄する洗浄装置20において洗浄に使用された洗浄液を、分析対象とする。すなわち、洗浄装置20から例えば定期的に所定量の洗浄液が採取され、該採取された洗浄液が液体サンプル91(図3参照)としてサンプルプレート1上に滴下される。そして、該サンプルプレート1がレーザ誘起分析装置10に搬入される。なお、これら一連の処理は、機械的な機構により自動で行われてもよいし、分析者によって手動で行われてもよい。   The laser-induced analysis apparatus 10 uses, for example, a cleaning liquid used for cleaning in a cleaning apparatus 20 that cleans a semiconductor substrate or the like using various cleaning liquids such as deionized water or chemicals. That is, for example, a predetermined amount of cleaning liquid is periodically collected from the cleaning device 20, and the collected cleaning liquid is dropped on the sample plate 1 as a liquid sample 91 (see FIG. 3). Then, the sample plate 1 is carried into the laser induced analyzer 10. The series of processes may be automatically performed by a mechanical mechanism or may be manually performed by an analyst.

レーザ誘起分析装置10は、サンプルプレート1上に保持された液体サンプル91を加熱してこれを蒸発乾固させる加熱処理部2を備える。加熱処理部2は具体的には例えば、ヒータ、ホットプレート等により構成される。   The laser-induced analysis apparatus 10 includes a heat treatment unit 2 that heats the liquid sample 91 held on the sample plate 1 and evaporates and dries it. Specifically, the heat processing part 2 is comprised by a heater, a hot plate, etc., for example.

さらに、レーザ誘起分析装置10は、蒸発乾固によって固体化されたサンプル(乾固サンプル)92(図3参照)を保持したサンプルプレート1が載置されるステージ3と、ステージ3を鉛直な回転軸31の周りに回転させる駆動機構4とを備える。サンプルプレート1は、ステージ3の上面の所定位置に載置されるようになっており、該所定位置は、サンプルプレート1の中心(より正確には、後述する凹部11の底面110の中心)が回転軸31と一致するような位置とされる。ステージ3には、サンプルプレート1を該所定位置に位置決めするための位置規制部(例えば、サンプルプレート1の角部分に当接するようなL字状の突起32(図4参照))が形成されていることも好ましい。   Further, the laser induced analyzer 10 includes a stage 3 on which a sample plate 1 holding a sample (dried sample) 92 (see FIG. 3) solidified by evaporation to dryness is placed, and the stage 3 is rotated vertically. And a drive mechanism 4 that rotates around the shaft 31. The sample plate 1 is placed at a predetermined position on the upper surface of the stage 3, and the predetermined position is the center of the sample plate 1 (more precisely, the center of the bottom surface 110 of the recess 11 described later). The position coincides with the rotation axis 31. The stage 3 is formed with a position restricting portion for positioning the sample plate 1 at the predetermined position (for example, an L-shaped protrusion 32 (see FIG. 4) that contacts the corner portion of the sample plate 1). It is also preferable.

さらに、レーザ誘起分析装置10は、レーザ光を出射する光源(レーザ装置)5と、光源5から出射されるレーザ光を導く照射光学系6と、照射光学系6から導出されるレーザ光をステージ3上の所定位置に載置されたサンプルプレート1上の所定位置に集光するためのレンズ7とを備える。光源5として、例えばYAGレーザを用いることができる。また、レーザ誘起分析装置10は、その背が低いほど安定感が増すため、光源5は、図示されるように、ここから出射されるレーザ光がステージ3上に載置されたサンプルプレート1の表面に対して斜めに入射するような位置および姿勢で配置されることが好ましい。   Furthermore, the laser induced analyzer 10 is a stage for a light source (laser device) 5 that emits laser light, an irradiation optical system 6 that guides the laser light emitted from the light source 5, and a laser light derived from the irradiation optical system 6. 3 and a lens 7 for condensing light at a predetermined position on the sample plate 1 placed at a predetermined position on the sample plate 1. As the light source 5, for example, a YAG laser can be used. Further, since the laser-induced analysis apparatus 10 is more stable as the height thereof is lower, the light source 5 is provided on the sample plate 1 on which the laser light emitted from the light source 5 is placed on the stage 3 as shown in the figure. It is preferable to be arranged in a position and posture so as to enter obliquely with respect to the surface.

さらに、レーザ誘起分析装置10は、レーザ光の照射により発生した光の発光スペクトルを取得する分析器8を備える。分析器8は、例えば、ファイバ80等を介して導入された光を波長毎に分解(分光)する回折格子(分光手段)81と、分光された光を受光して発光スペクトルを取得する撮像素子82とを含んで構成される。   Further, the laser induced analyzer 10 includes an analyzer 8 that acquires an emission spectrum of light generated by laser light irradiation. The analyzer 8 includes, for example, a diffraction grating (spectral means) 81 that decomposes (splits) the light introduced through the fiber 80 and the like for each wavelength, and an imaging device that receives the split light and acquires an emission spectrum. 82.

さらに、レーザ誘起分析装置10は、これが備える各要素を制御して一連の動作を実行させる制御部(制御回路)9を備える。制御部9には、分析器8が取得した発光スペクトルを演算処理する演算部90が実現されている。演算部90は、分析器8が取得した複数の発光スペクトル(後述する)を積算して積算データを取得する積算データ取得部901と、該複数の発光スペクトルを平均して平均データを取得する平均データ取得部902と、を備える。また、制御部9は、コンピュータ30と接続されており、レーザ誘起分析装置10にて取得された各種のデータ(分析器8で取得された発光スペクトル、演算部90で取得された積算データや平均データ、等)を、該コンピュータ30に送信する。コンピュータ30は、これと接続された表示部に該取得した各種データを表示する。また、コンピュータ30は、これに接続された入力部を介して行われた各種の入力操作等の各種情報を制御部9に送信し、制御部9は、コンピュータ30から受信した情報に基づいてレーザ誘起分析装置10の各要素を制御する。なお、演算部90は、コンピュータ30において実現されてもよい。   Further, the laser induced analyzer 10 includes a control unit (control circuit) 9 that controls each element included in the laser induced analyzer 10 and executes a series of operations. The control unit 9 implements a calculation unit 90 that performs calculation processing on the emission spectrum acquired by the analyzer 8. The calculation unit 90 integrates a plurality of emission spectra (to be described later) acquired by the analyzer 8 to acquire integration data, and an average that averages the plurality of emission spectra to acquire average data. A data acquisition unit 902. The control unit 9 is connected to the computer 30, and various data acquired by the laser induced analyzer 10 (emission spectrum acquired by the analyzer 8, integrated data acquired by the calculation unit 90, average data Data, etc.) is transmitted to the computer 30. The computer 30 displays the acquired various data on a display unit connected thereto. Further, the computer 30 transmits various information such as various input operations performed via the input unit connected thereto to the control unit 9, and the control unit 9 performs laser processing based on the information received from the computer 30. Each element of the induction analyzer 10 is controlled. The arithmetic unit 90 may be realized in the computer 30.

<2.サンプルプレート1>
次に、レーザ誘起分析装置10で使用されるサンプルプレート1について、図2を参照しながら説明する。図2には、サンプルプレート1の平面図およびサンプルプレート1をK−K方向から見た断面図が示されている。
<2. Sample plate 1>
Next, the sample plate 1 used in the laser induced analyzer 10 will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows a plan view of the sample plate 1 and a cross-sectional view of the sample plate 1 viewed from the KK direction.

サンプルプレート1は、平面視にて矩形状(例えば、一辺が2.5cm程度の矩形状)であって、シリコンにより形成される。もっとも、サンプルプレート1は、平面視にて矩形以外の形状(例えば、円形状、多角形状)であってもよいし、シリコン以外の材料(ただし、測定対象となる物質を含まない材料)により形成されてもよい。   The sample plate 1 has a rectangular shape (for example, a rectangular shape having a side of about 2.5 cm) in plan view, and is formed of silicon. However, the sample plate 1 may have a shape other than a rectangle (for example, a circular shape or a polygonal shape) in plan view, or may be formed of a material other than silicon (however, a material that does not include a substance to be measured). May be.

サンプルプレート1の上面には、平面視にて円形状の凹部11が形成される。この凹部11は、液体サンプル91を保持するための形状部分である。凹部11の内面は、その親水性を高めるべく、ブラスト加工等により粗面化されていることも好ましい。   A circular recess 11 is formed on the upper surface of the sample plate 1 in plan view. The recess 11 is a shape portion for holding the liquid sample 91. The inner surface of the recess 11 is also preferably roughened by blasting or the like in order to increase its hydrophilicity.

サンプルプレート1に保持される液体サンプル91の量が多くなるにつれて、その蒸発乾固に要する時間が長くなる。したがって、サンプルプレート1の凹部11は、信頼できる分析結果を得るために必要な最小限の液体サンプル91を保持できるような容積(具体的には、30μリットル〜100μリットル程度)となっていることが好ましい。また、凹部11が深くなると、その底面にレーザ光を到達させるためにレーザ光の入射角を十分小さくしなければならず、そうなると、光源5の配置位置が該凹部11のほぼ真上に限定されてしまう(ひいては、装置の背が高くなり不安定になってしまう)。そこで、凹部11の深さは0.1mm程度以下であることが好ましい。例えば、平面視にて円形状の凹部11において、その直径を2cm程度とすれば、0.1mm程度の深さで30μリットル以上の容積を確保することが可能となり、経験上、このようなサイズの凹部11には100μリットル程度の液体サンプルを支持できることがわかっている。   As the amount of the liquid sample 91 held on the sample plate 1 increases, the time required for the evaporation to dryness becomes longer. Therefore, the recess 11 of the sample plate 1 has a volume (specifically, about 30 μl to 100 μl) that can hold the minimum liquid sample 91 necessary for obtaining a reliable analysis result. Is preferred. Further, when the concave portion 11 becomes deep, the incident angle of the laser beam has to be made sufficiently small in order to allow the laser beam to reach the bottom surface thereof, and in that case, the arrangement position of the light source 5 is limited almost directly above the concave portion 11. (As a result, the device becomes tall and unstable). Therefore, the depth of the recess 11 is preferably about 0.1 mm or less. For example, if the diameter of the circular recess 11 in a plan view is about 2 cm, it is possible to secure a volume of 30 μl or more at a depth of about 0.1 mm. It has been found that the recess 11 can support a liquid sample of about 100 μl.

凹部11の底面110には、その所定箇所に他の箇所よりも低い低位置部が形成される。具体的には、平面視にて円形状の底面110の外周縁に沿って、リング状の溝12が形成されており、この溝12の底120が低位置部を構成している。   On the bottom surface 110 of the recess 11, a lower position portion lower than the other locations is formed at the predetermined location. Specifically, a ring-shaped groove 12 is formed along the outer peripheral edge of the circular bottom surface 110 in plan view, and the bottom 120 of the groove 12 forms a low position portion.

溝12の底120と溝12に囲まれた円形部分(中央部分)13はいずれも平坦である。ただし、上述したとおり、溝12および中央部分13は、ブラスト加工により粗面化されていてもよい。中央部分13の深さは数十μm程度であることが好ましく、中央部分13から見た溝12の深さ(すなわち、中央部分13と溝12の高低差)も数十μm(好ましくは、10μm〜20μm)であることが好ましい。また、溝12の幅は2mm程度であることが好ましい。   Both the bottom 120 of the groove 12 and the circular portion (center portion) 13 surrounded by the groove 12 are flat. However, as described above, the groove 12 and the central portion 13 may be roughened by blasting. The depth of the central portion 13 is preferably about several tens of μm, and the depth of the groove 12 (that is, the height difference between the central portion 13 and the groove 12) viewed from the central portion 13 is also several tens of μm (preferably 10 μm). ˜20 μm). The width of the groove 12 is preferably about 2 mm.

図3には、サンプルプレート1の凹部11に滴下された液体サンプル91が蒸発乾固する様子が模式的に示されている。ここに示されるように、液体サンプル91が凹部11に滴下された初期状態から(P1)、加熱により液体サンプル91の溶媒の蒸発が進むと、溶液の濃度は徐々に濃くなってゆき、まずは中央部分13に乾固サンプル92が析出し、残った比較的高濃度の液体サンプル91は溝12に集まる(P2)。ここからさらに液体サンプル91の溶媒の蒸発が進むと、溝12内の液体サンプル91はここで蒸発乾固する(P3)。したがって、単位面積当たりの乾固サンプル92の析出量は、中央部分13よりも溝12の底120(すなわち、低位置部)の方が多くなる。   FIG. 3 schematically shows how the liquid sample 91 dropped into the recess 11 of the sample plate 1 evaporates to dryness. As shown here, as the evaporation of the solvent of the liquid sample 91 proceeds by heating from the initial state where the liquid sample 91 is dropped into the recess 11 (P1), the concentration of the solution gradually increases. A dry sample 92 is deposited on the portion 13, and the remaining relatively high concentration liquid sample 91 is collected in the groove 12 (P2). When the solvent of the liquid sample 91 further evaporates from here, the liquid sample 91 in the groove 12 evaporates to dryness here (P3). Therefore, the precipitation amount of the dry sample 92 per unit area is larger at the bottom 120 of the groove 12 (that is, the lower position portion) than at the central portion 13.

なお、蒸発乾固の最終段階(すなわち、溝12内に最後に残った最も高濃度の微量の液体サンプル91が蒸発乾固する段階)では、該最後に残った最も高濃度の液体サンプル91は表面張力により液滴910を形成し(P3)、該液滴910は溝12内のいずれかの箇所で最終的に蒸発乾固する(P4)。すなわち、このサンプルプレート1を用いて液体サンプル91を蒸発乾固させた場合、液滴乾固部分A(すなわち、他の部分に比べて乾固サンプルの析出量が突出して多い部分である液滴乾固部分A)は必ず溝12の底120(すなわち、低位置部)内のどこかに存在することになる。   In the final stage of evaporation to dryness (that is, the stage in which the liquid sample 91 having the highest concentration remaining in the groove 12 is evaporated to dryness), the liquid sample 91 having the highest concentration remaining last is A droplet 910 is formed by surface tension (P3), and the droplet 910 is finally evaporated to dryness at any location in the groove 12 (P4). That is, when the liquid sample 91 is evaporated to dryness using the sample plate 1, the droplet dry portion A (that is, the droplet that is a portion where the amount of precipitation of the dried sample protrudes more than other portions). The dried portion A) will always be somewhere within the bottom 120 of the groove 12 (ie, the low position).

<3.レーザ光の照射位置>
次に、レーザ光の照射位置について、図4を参照しながら説明する。図4は、サンプルプレート1に対するレーザ光の照射位置を説明するための図である。
<3. Laser beam irradiation position>
Next, the irradiation position of the laser beam will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a view for explaining the irradiation position of the laser beam on the sample plate 1.

レーザ光は、サンプルプレート1における溝12の底120(すなわち、低位置部)を狙ってレーザ光を照射する。具体的には、光源5は、所定姿勢(すなわち、ここから出射されたレーザ光が、ステージ3の所定位置に載置されたサンプルプレート1の凹部11の低位置部(すなわち、溝12の底120内)に照射されるような姿勢)で固定配置される。そして、駆動機構4が、ステージ3を回転軸31の周りに回転させつつ、光源5から間欠的に(好ましくは一定間隔で)レーザ光を照射する。ステージ3の回転軸31は、ステージ3上の所定位置に載置されたサンプルプレート1の中心(すなわち、凹部11の底面110の中心)を通る軸と一致している。したがって、サンプルプレート1上から見ると、レーザ光の照射位置は、溝12に沿って移動していく。すなわち、溝12の底120における互いに異なる複数の位置Qi(i=1,2,・・・、n)のそれぞれにレーザ光が照射される。   The laser beam is irradiated with the laser beam aiming at the bottom 120 (that is, the low position portion) of the groove 12 in the sample plate 1. Specifically, the light source 5 has a predetermined posture (that is, a laser beam emitted from the light source 5 is positioned at a low position of the concave portion 11 of the sample plate 1 placed at a predetermined position of the stage 3 (that is, the bottom of the groove 12). 120), and is fixedly arranged. Then, the drive mechanism 4 irradiates laser light intermittently (preferably at regular intervals) from the light source 5 while rotating the stage 3 around the rotation shaft 31. The rotation axis 31 of the stage 3 coincides with an axis passing through the center of the sample plate 1 placed at a predetermined position on the stage 3 (that is, the center of the bottom surface 110 of the recess 11). Therefore, when viewed from above the sample plate 1, the irradiation position of the laser light moves along the groove 12. That is, each of a plurality of different positions Qi (i = 1, 2,..., N) on the bottom 120 of the groove 12 is irradiated with laser light.

駆動機構4がステージ3を一定の速度で回転させつつ、光源5から一定の周期でn回レーザ光を照射すれば、溝12の底120に沿って等間隔で並ぶ複数の位置Qi(i=1,2,・・・、n)のそれぞれに、レーザ光が照射される。このとき、隣り合う照射位置Qi,Q(i+1)の間隔は、ステージ3の回転速度およびレーザ光の照射周期によって調整することができる。例えば、凹部11の直径が2cm程度である場合、ステージ3が1回転する間にレーザ光を40回程度照射すれば、凹部11の中心から見て隣り合う照射位置Qi,Q(i+1)の間隔は1.6mm程度と十分に小さなものとなる。   When the drive mechanism 4 rotates the stage 3 at a constant speed and irradiates the laser beam n times from the light source 5 at a constant period, a plurality of positions Qi (i = i = a) arranged at equal intervals along the bottom 120 of the groove 12. Each of 1, 2,..., N) is irradiated with laser light. At this time, the interval between the adjacent irradiation positions Qi and Q (i + 1) can be adjusted by the rotational speed of the stage 3 and the irradiation period of the laser light. For example, when the diameter of the recess 11 is about 2 cm, if the laser beam is irradiated about 40 times while the stage 3 rotates once, the interval between the irradiation positions Qi and Q (i + 1) adjacent to each other when viewed from the center of the recess 11 Is as small as 1.6mm.

このように、レーザ誘起分析装置10では、低位置部を狙ってレーザ光が照射されるところ、上述したとおり、低位置部には、それ以外の部分と比べて多量の乾固サンプルが析出しているので、得られる発光スペクトルに現れるピークの強度が十分に大きなものとなる。すなわち、分析感度が良好なものとなる。
また、低位置部内のどこかの位置に、乾固サンプルの析出量が突出して多い液滴乾固部分Aが存在するところ、レーザ誘起分析装置10では、低位置部内における互いに異なる複数の位置Qi(i=1,2,・・・、n)のそれぞれにレーザ光を照射するので、高確率で液滴乾固部分Aにレーザ光を照射して発光スペクトルを取得することができる。したがって、特に高い分析感度が得られるとともに、そのサンプルに関するばらつきの少ない分析結果を得ることが可能となる。
As described above, in the laser induced analyzer 10, the laser beam is irradiated aiming at the low position part. As described above, a large amount of dry sample is deposited on the low position part as compared with other parts. Therefore, the intensity of the peak appearing in the obtained emission spectrum is sufficiently large. That is, the analytical sensitivity is good.
Further, in the laser induced analyzer 10, there is a plurality of different positions Qi in the low position portion in the low position portion where there is a droplet dry portion A where the precipitation amount of the dry sample is large and protrudes at some position in the low position portion. Since each of (i = 1, 2,..., N) is irradiated with laser light, the emission spectrum can be acquired by irradiating the droplet dry portion A with laser light with high probability. Therefore, particularly high analysis sensitivity can be obtained, and an analysis result with little variation regarding the sample can be obtained.

<4.処理の流れ>
サンプルの分析に係る一連の流れを、図5を参照しながら説明する。図5は、該一連の流れを示す図である。
<4. Process flow>
A series of flows relating to sample analysis will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram showing the series of flows.

まず、上述したとおり、洗浄装置20から採取された洗浄液が、液体サンプル91としてサンプルプレート1上に所定量だけ滴下され、液体サンプル91を保持したサンプルプレート1がレーザ誘起分析装置10に搬入される(ステップS1)。   First, as described above, the cleaning liquid collected from the cleaning apparatus 20 is dropped on the sample plate 1 as a liquid sample 91 by a predetermined amount, and the sample plate 1 holding the liquid sample 91 is carried into the laser induced analyzer 10. (Step S1).

レーザ誘起分析装置10に搬入されたサンプルプレート1は、加熱処理部2において加熱される。すると、サンプルプレート1に保持されている液体サンプル91が蒸発乾固して、乾固サンプル92が得られる(ステップS2)。   The sample plate 1 carried into the laser induced analyzer 10 is heated in the heat processing unit 2. Then, the liquid sample 91 held on the sample plate 1 is evaporated to dryness, and a dried sample 92 is obtained (step S2).

乾固サンプル92が得られると、これを保持したサンプルプレート1は、ステージ3上の所定位置に載置される。そして、駆動機構4が、ステージ3を回転軸31の周りに回転させつつ、光源5から間欠的にレーザ光を照射する。これによって、ステージ3上のサンプルプレート1の凹部11の低位置部(すなわち、溝12の底120)における互いに異なる複数の位置Qi(i=1,2,・・・、n)のそれぞれにレーザ光が照射される(ステップS3)。   When the dried sample 92 is obtained, the sample plate 1 holding the dried sample 92 is placed at a predetermined position on the stage 3. Then, the drive mechanism 4 irradiates laser light intermittently from the light source 5 while rotating the stage 3 around the rotation shaft 31. Thereby, the laser is applied to each of a plurality of different positions Qi (i = 1, 2,..., N) in the low position portion of the recess 11 of the sample plate 1 on the stage 3 (that is, the bottom 120 of the groove 12). Light is irradiated (step S3).

レーザ光が照射(集光)されることにより、高温高密度のプラズマが生成されて、レーザ光が集光されたスポットにおいて乾固サンプル92の表面にある物質(原子)が励起される。励起された各物質は固有の波長の光を放射しながら状態遷移する。このときに発生した光は、ファイバ80等を介して分析器8に導入される。分析器8では、導入された光が回折格子81で分光されて撮像素子82で検出されることにより、発光スペクトルが取得される(ステップS4)。ここでは、複数の位置Qi(i=1,2,・・・、n)のそれぞれにレーザ光が次々と照射されるので、分析器8は、各照射で得られた発光スペクトルを次々と取得することになる。   By irradiating (condensing) the laser light, high-temperature and high-density plasma is generated, and the substance (atom) on the surface of the dried sample 92 is excited at the spot where the laser light is condensed. Each excited substance undergoes a state transition while emitting light of a specific wavelength. The light generated at this time is introduced into the analyzer 8 through the fiber 80 or the like. In the analyzer 8, the introduced light is dispersed by the diffraction grating 81 and detected by the image sensor 82, whereby an emission spectrum is acquired (step S4). Here, since the laser light is sequentially irradiated to each of the plurality of positions Qi (i = 1, 2,..., N), the analyzer 8 acquires the emission spectrum obtained by each irradiation one after another. Will do.

分析器8が取得した複数の発光スペクトルは制御部9に送られ、積算データ取得部901が、該複数の発光スペクトルを積算して積算データを取得する(ステップS5)。あるいは、平均データ取得部902が、該複数の発光スペクトルを平均して平均データを取得する。もっとも、積算データと平均データの両方が取得されてもよい。   The plurality of emission spectra acquired by the analyzer 8 is sent to the control unit 9, and the integration data acquisition unit 901 integrates the plurality of emission spectra to acquire integration data (step S5). Alternatively, the average data acquisition unit 902 acquires the average data by averaging the plurality of emission spectra. However, both integrated data and average data may be acquired.

ステップS5で取得された積算データ(あるいは平均データ、あるいはこれらの両方)は、複数の発光スペクトルとともに、コンピュータ30に送られる。ユーザは、コンピュータ30を用いてこの積算データ等に現れるピークの位置(波長)および強度を特定することで、サンプルに含まれる物質の種類および量を特定することができる。すなわち、物質は各々固有の波長を有しているので、波長を特定することで物質の種類が特定可能であり、ピークの強度は物質量に比例するので、該強度を特定することで物質の含有量が特定可能である。   The integrated data (or average data or both of them) acquired in step S5 is sent to the computer 30 together with a plurality of emission spectra. The user can specify the type and amount of the substance contained in the sample by specifying the position (wavelength) and intensity of the peak appearing in the integrated data using the computer 30. In other words, since each substance has a unique wavelength, the type of substance can be specified by specifying the wavelength, and the intensity of the peak is proportional to the amount of substance. The content can be specified.

上述したとおり、このサンプルプレート1を用いて液体サンプル91を蒸発乾固させた場合、低位置部である溝12の底120に他の部分に比べて多量の乾固サンプル92が析出しており、レーザ誘起分析装置10は該低位置部を狙ってレーザ光を照射する。したがって、得られる発光スペクトルに現れるピークの強度が十分に大きなものとなる。すなわち、分析感度が良好なものとなる。
また、このサンプルプレート1を用いて液体サンプル91を蒸発乾固させた場合、液滴乾固部分Aは必ず該低位置部内のどこかの位置に存在する。したがって、該低位置部内における互いに異なる複数の位置Qi(i=1,2,・・・、n)のそれぞれを狙ってレーザ光を照射して発光スペクトルを取得することにより、高確率で液滴乾固部分Aの発光スペクトルが取得できることとなり、これにより、特に高い分析感度が得られるとともに、該サンプルに関するばらつきの少ない分析結果を得ることができる。
As described above, when the liquid sample 91 is evaporated and dried using the sample plate 1, a larger amount of the dried sample 92 is deposited on the bottom 120 of the groove 12, which is the lower position portion, than the other portions. The laser-induced analysis apparatus 10 irradiates the laser beam aiming at the low position portion. Therefore, the intensity of the peak appearing in the obtained emission spectrum is sufficiently large. That is, the analytical sensitivity is good.
Further, when the liquid sample 91 is evaporated and dried using the sample plate 1, the droplet dried portion A always exists at some position in the low position portion. Therefore, the liquid droplets are obtained with high probability by irradiating the laser beam with each of a plurality of different positions Qi (i = 1, 2,..., N) in the low position portion to acquire the emission spectrum. The emission spectrum of the dried portion A can be obtained, whereby a particularly high analysis sensitivity can be obtained and an analysis result with little variation regarding the sample can be obtained.

また、該複数の位置Qi(i=1,2,・・・、n)のそれぞれについて得られた発光スペクトルを積算した積算データ(あるいは各発光スペクトルを平均した平均データ)を取得することで、ノイズの影響を低減してS/N比を大きくすることが可能となり、これによって分析精度を高めることができる。また、このような積算データあるいは平均データを取得することで、物質の検出濃度のばらつきを抑制することも可能となる。   Further, by acquiring integrated data obtained by integrating the emission spectra obtained for each of the plurality of positions Qi (i = 1, 2,..., N) (or average data obtained by averaging the emission spectra), It is possible to reduce the influence of noise and increase the S / N ratio, thereby improving the analysis accuracy. Further, by obtaining such integrated data or average data, it is possible to suppress variation in the detected concentration of the substance.

<5.サンプルプレートに係る変形例>
サンプルプレート1に形成される凹部11の底面110の形状は、上記に例示したものに限らない。図6〜図10には、別の形状に係るサンプルプレート1a,1b,1c,1d,1eの各平面図およびこれをK−K方向から見た断面図が示されている。
<5. Sample plate modification>
The shape of the bottom surface 110 of the concave portion 11 formed in the sample plate 1 is not limited to that illustrated above. FIGS. 6 to 10 show plan views of sample plates 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e according to different shapes and cross-sectional views of the sample plates viewed from the KK direction.

図6に示されるサンプルプレート(第1変形例に係るサンプルプレート)1aでは、凹部11aの底面110aは、平面視にて円形状であって、その中心から外周縁に向かって下方に傾斜する円錐形状とされており、該外周縁付近が低位置部を構成している。   In the sample plate (sample plate according to the first modification) 1a shown in FIG. 6, the bottom surface 110a of the recess 11a has a circular shape in plan view, and a cone that inclines downward from the center toward the outer peripheral edge. It has a shape, and the vicinity of the outer peripheral edge constitutes the low position portion.

図7に示されるサンプルプレート(第2変形例に係るサンプルプレート)1bでは、凹部11bの底面110bは、平面視にて円形状であって、その外周縁から中心に向かって下方に傾斜するすり鉢形状とされており、該中心部分(中心及びその近傍を含む部分)が低位置部を構成している。   In the sample plate 1b shown in FIG. 7 (sample plate according to the second modification), the bottom surface 110b of the recess 11b has a circular shape in plan view and tilts downward from the outer periphery to the center. The center portion (the portion including the center and the vicinity thereof) constitutes the low position portion.

図8に示されるサンプルプレート(第3変形例に係るサンプルプレート)1cでは、凹部11cの底面110cは、平面視にて円形状であって、その中央に平面視円形状の窪み14が形成されており、該窪み14の底140が低位置部を構成している。   In the sample plate 1c shown in FIG. 8 (sample plate according to the third modification), the bottom surface 110c of the recess 11c has a circular shape in plan view, and a recess 14 having a circular shape in plan view is formed at the center thereof. The bottom 140 of the recess 14 constitutes the low position portion.

図9に示されるサンプルプレート(第4変形例に係るサンプルプレート)1dでは、凹部11dの底面110dは平面視にて円形状であって、その外周縁に沿って、平面視弧状の溝(弧状溝)15が間隔をあけて複数個形成されている。ここでは、各弧状溝15の底150が低位置部を構成している。   In the sample plate 1d shown in FIG. 9 (sample plate according to the fourth modification), the bottom surface 110d of the recess 11d has a circular shape in a plan view, and has a groove (arc-shaped) in a plan view along the outer peripheral edge. A plurality of grooves 15 are formed at intervals. Here, the bottom 150 of each arcuate groove 15 forms a low position portion.

図10に示されるサンプルプレート(第5変形例に係るサンプルプレート)1eでは、凹部11eの底面110eは平面視にて円形状であって、その外周縁に沿って、平面視円形状の窪み16が間隔をあけて複数個形成されている。ここでは、各窪み16の底160が低位置部を構成している。   In the sample plate (sample plate according to the fifth modification) 1e shown in FIG. 10, the bottom surface 110e of the recess 11e has a circular shape in a plan view, and the recess 16 has a circular shape in a plan view along its outer periphery. Are formed at intervals. Here, the bottom 160 of each recess 16 constitutes a low position portion.

上記の各サンプルプレート1a,1b,1c,1d,1eのいずれにおいても、上述したサンプルプレート1と同様、凹部11a,11b,11c,11d,11eに滴下された液体サンプルの溶媒を蒸発させてゆくと、溶液の濃度は徐々に濃くなってゆき、残った比較的高濃度の溶液は低位置部に集まってそこで蒸発乾固する。したがって、低位置部は、それ以外の部分と比べて、単位面積当たりの乾固サンプルの析出量が多くなる。また、液滴乾固部分Aは必ず低位置部内のどこかに存在するものとなる。なお、第4、第5変形例に係るサンプルプレート1d,1eのように、低位置部が互いに分離した複数の領域から形成される場合、各領域に液滴乾固部分Aが存在することになる。   In any of the above sample plates 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e, the solvent of the liquid sample dropped in the recesses 11a, 11b, 11c, 11d, and 11e is evaporated as in the sample plate 1 described above. Then, the concentration of the solution gradually increases, and the remaining relatively high concentration solution gathers at the low position and evaporates to dryness there. Therefore, the amount of precipitation of the dried sample per unit area is larger in the low position portion than in other portions. Further, the droplet dry portion A always exists somewhere in the low position portion. In addition, when the low position portion is formed of a plurality of regions separated from each other like the sample plates 1d and 1e according to the fourth and fifth modified examples, there is a droplet drying portion A in each region. Become.

レーザ誘起分析装置10において、上記の各サンプルプレート1a,1b,1c,1d,1eが用いられる場合、上述したサンプルプレート1が用いられる場合と同様、レーザ光は、サンプルプレート1における低位置部(すなわち、それ以外の部分と比べて乾固サンプルの析出量が多い低位置部)を狙ってレーザ光を照射する。具体的には、光源5は、ここから出射されたレーザ光が、ステージ3の所定位置に載置されたサンプルプレート1a,1b,1c,1d,1eの凹部11a,11b,11c,11d,11eの低位置部に照射されるような姿勢で、固定配置される。そして、駆動機構4が、ステージ3を回転軸31(すなわち、凹部11a,11b,11c,11d,11eの底面110a,110b,110c,110d,110eの中心を通る軸)の周りに回転させつつ、光源5から間欠的に(好ましくは一定間隔で)レーザ光を照射する。これによって、各図に示されるように、各サンプルプレート1a,1b,1c,1d,1eの低位置部における互いに異なる複数の位置Qi(i=1,2,・・・、n)のそれぞれにレーザ光が照射される。なお、第4、第5変形例に係るサンプルプレート1d,1eのように、低位置部が互いに分離した複数の領域から形成される場合、各領域に割り当てられるレーザ光の照射位置は複数個であってもよいし(図9)、1個であってもよい(図10)。   When each of the sample plates 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e described above is used in the laser induced analyzer 10, the laser light is emitted from the low position portion ( That is, the laser beam is irradiated aiming at a low position portion where the amount of deposited solid sample is larger than other portions. Specifically, the light source 5 is configured such that the laser beam emitted from the light source 5 has the concave portions 11a, 11b, 11c, 11d, and 11e of the sample plates 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e placed at predetermined positions of the stage 3. It is fixedly arranged in such a posture as to irradiate the low position portion of the. The drive mechanism 4 rotates the stage 3 around the rotation axis 31 (that is, the axis passing through the centers of the bottom surfaces 110a, 110b, 110c, 110d, and 110e of the recesses 11a, 11b, 11c, 11d, and 11e) Laser light is irradiated from the light source 5 intermittently (preferably at regular intervals). As a result, as shown in each figure, each of a plurality of different positions Qi (i = 1, 2,..., N) in the low position portion of each sample plate 1a, 1b, 1c, 1d, 1e. Laser light is irradiated. In addition, when the low position portion is formed from a plurality of regions separated from each other as in the sample plates 1d and 1e according to the fourth and fifth modifications, a plurality of laser light irradiation positions assigned to each region are provided. There may be one (FIG. 9) and one (FIG. 10).

上述したとおり、低位置部を狙ってレーザ光を照射して発光スペクトルを取得することにより、分析感度が良好なものとなる。また、低位置部内における互いに異なる複数の位置Qi(i=1,2,・・・、n)のそれぞれを狙ってレーザ光を照射して発光スペクトルを取得することにより、高確率で液滴乾固部分Aの発光スペクトルが取得できることとなり、特に高い分析感度が得られるとともに、該サンプルに関するばらつきの少ない分析結果を得ることができる。   As described above, the analysis sensitivity is improved by obtaining the emission spectrum by irradiating the laser beam aiming at the low position portion. In addition, by aiming at each of a plurality of different positions Qi (i = 1, 2,..., N) in the low position portion and irradiating laser light to obtain an emission spectrum, droplet drying is performed with high probability. The emission spectrum of the solid part A can be acquired, and particularly high analysis sensitivity can be obtained, and analysis results with little variation regarding the sample can be obtained.

なお、上記の各変形例のうち、例えば、第2変形例に係るサンプルプレート1bにおいては、単位面積当たりの乾固サンプルの析出量は、凹部11bの底面110bの中心に近づくにつれて多くなる。また、液滴乾固部分Aは該中心あるいはそのごく近傍に存在する可能性が高い。そこで、このサンプルプレート1bを用いる場合、光源5からステージ3上のサンプルプレート1bの中心のみにレーザ光を照射する構成としてもよい。   Of the above-described modifications, for example, in the sample plate 1b according to the second modification, the amount of the dried sample deposited per unit area increases as the distance from the center of the bottom surface 110b of the recess 11b approaches. In addition, there is a high possibility that the droplet dry portion A exists at or near the center. Therefore, when this sample plate 1b is used, a configuration may be adopted in which laser light is irradiated only from the light source 5 to the center of the sample plate 1b on the stage 3.

<6.他の変形例>
上記の実施形態に係るレーザ誘起分析装置10においては、ステージ3を移動させる駆動機構4を設けたが、これに換えて(あるいは、これに加えて)、光源5を移動させる駆動機構を設けても良い。すなわち、ステージ3上のサンプルプレート1と光源5とを相対的に移動させることによって、レーザ光の照射位置をサンプルプレート1の低位置部内で移動させることができる構成であればどのようなものであってもよい。
<6. Other variations>
In the laser induced analyzer 10 according to the above embodiment, the drive mechanism 4 for moving the stage 3 is provided. Instead of (or in addition to) the drive mechanism 4 for moving the light source 5 is provided. Also good. That is, any configuration can be used as long as the sample plate 1 on the stage 3 and the light source 5 are moved relative to each other so that the irradiation position of the laser beam can be moved within the low position portion of the sample plate 1. There may be.

上記の実施形態に係るレーザ誘起分析装置10において、ステージ3を収容するとともに内部に密閉空間を形成可能なチャンバを設けてもよい。また、チャンバ内を排気する排気部をさらに設け、チャンバ内を減圧してから乾固サンプル92にレーザ光を照射して発光スペクトルを取得する構成としてもよい。また、チャンバ内に所定のガス(例えば、ヘリウムガス、窒素ガス)を供給するガス供給部を設けて、チャンバ内を所定ガス雰囲気に置換してから、レーザ光の照射を行って発光スペクトルを取得する構成としてもよい。これらの構成によると、発光スペクトルのノイズ(バックグラウンドノイズ)を低減することが可能となる。   In the laser induced analyzer 10 according to the above embodiment, a chamber that can accommodate the stage 3 and form a sealed space therein may be provided. In addition, an exhaust unit that exhausts the inside of the chamber may be further provided, and the emission spectrum may be acquired by irradiating the dry sample 92 with laser light after reducing the pressure in the chamber. In addition, a gas supply unit that supplies a predetermined gas (for example, helium gas or nitrogen gas) is provided in the chamber, the interior of the chamber is replaced with a predetermined gas atmosphere, and then an emission spectrum is obtained by laser irradiation. It is good also as composition to do. According to these configurations, it is possible to reduce noise (background noise) in the emission spectrum.

上記の実施形態においては、ステップS5において、複数の発光スペクトルから積算データあるいは平均データあるいはこれらの両方を取得する構成であったが、必ずしもこれらのデータを取得する必要はない。例えば、該複数の発光スペクトルのうち、所定の波長において最も大きなピークを検出しているものを選択して、該1個の発光スペクトルから物質の含有量等を特定してもよい。   In the above-described embodiment, the integrated data and / or average data are obtained from the plurality of emission spectra in step S5. However, it is not always necessary to obtain these data. For example, a substance in which the largest peak is detected at a predetermined wavelength among the plurality of emission spectra may be selected, and the content of the substance or the like may be specified from the single emission spectrum.

上記の各実施形態において、サンプルプレート1に形成される凹部11は、平面視にて矩形以外の形状(例えば、円形状、多角形状)であってもよい。サンプルプレート1a,1b,1c,1d,1eにおいても同様である。   In each of the above embodiments, the recess 11 formed in the sample plate 1 may have a shape other than a rectangle (for example, a circular shape or a polygonal shape) in plan view. The same applies to the sample plates 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e.

1,1a,1b,1c,1d,1e…サンプルプレート
11,11a,11b,11c,11d,11e…凹部
110,110a,110b,110c,110d,110e…底面
12…溝
13…中央部分
14…窪み
15…弧状溝
16…窪み
2…加熱処理部
3…ステージ
4…駆動機構
5…光源
6…照射光学系
7…レンズ
8…分析器
81…回折格子
82…撮像素子
9…制御部
90…演算部
901…積算データ取得部
902…平均データ取得部
91…液体サンプル
910…液滴
92…乾固サンプル
A…液滴乾固部分
10…レーザ誘起分析装置
20…洗浄装置
30…コンピュータ
1, 1a, 1b, 1c, 1d, 1e ... Sample plate 11, 11a, 11b, 11c, 11d, 11e ... Recess 110, 110a, 110b, 110c, 110d, 110e ... Bottom 12 ... Groove 13 ... Central part 14 ... Indentation DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 ... Arc-shaped groove 16 ... Depression 2 ... Heat processing part 3 ... Stage 4 ... Drive mechanism 5 ... Light source 6 ... Irradiation optical system 7 ... Lens 8 ... Analyzer 81 ... Diffraction grating 82 ... Imaging element 9 ... Control part 90 ... Calculation part 901: Integrated data acquisition unit 902 ... Average data acquisition unit 91 ... Liquid sample 910 ... Droplet 92 ... Drying sample A ... Droplet drying portion 10 ... Laser induced analyzer 20 ... Cleaning device 30 ... Computer

Claims (12)

底面の所定箇所に他の箇所よりも低い低位置部が形成された凹部、を有するサンプルプレートと、
前記凹部に滴下された液体サンプルを加熱して蒸発乾固させる加熱処理部と、
蒸発乾固によって得られた乾固サンプルが保持された前記凹部の前記低位置部にレーザ光を照射する光源と、
前記レーザ光の照射により発生した光の発光スペクトルを取得する分析器と、
を備える、レーザ誘起分析装置。
A sample plate having a recess formed in a predetermined position on the bottom surface with a lower position part lower than other parts, and
A heat treatment section for heating and evaporating and drying the liquid sample dropped in the recess;
A light source that irradiates a laser beam to the low position portion of the concave portion in which the dried sample obtained by evaporation to dryness is held;
An analyzer for obtaining an emission spectrum of light generated by the laser light irradiation;
A laser induced analyzer.
請求項1に記載のレーザ誘起分析装置であって、
前記光源が、前記低位置部内の互いに異なる複数の位置のそれぞれにレーザ光を照射し、
前記分析器が、各照射で得られた発光スペクトルを取得する、
レーザ誘起分析装置。
The laser induced analyzer according to claim 1,
The light source irradiates each of a plurality of different positions in the low position portion with laser light,
The analyzer obtains an emission spectrum obtained with each irradiation;
Laser induced analyzer.
請求項2に記載のレーザ誘起分析装置であって、
前記複数の位置に対するレーザ光の照射で得られた複数の発光スペクトルを積算した積算データを取得する積算データ取得部、
をさらに備える、レーザ誘起分析装置。
The laser induced analyzer according to claim 2,
An integrated data acquisition unit for acquiring integrated data obtained by integrating a plurality of emission spectra obtained by laser light irradiation to the plurality of positions;
A laser induced analyzer.
請求項2または3に記載のレーザ誘起分析装置であって、
前記複数の位置に対するレーザ光の照射で得られた複数の発光スペクトルを平均した平均データを取得する平均データ取得部、
をさらに備える、レーザ誘起分析装置。
The laser induced analyzer according to claim 2 or 3,
An average data acquisition unit for acquiring average data obtained by averaging a plurality of emission spectra obtained by laser light irradiation to the plurality of positions;
A laser induced analyzer.
請求項1から4のいずれかに記載のレーザ誘起分析装置であって、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面の外周縁に沿って溝が形成されている、
レーザ誘起分析装置。
The laser induced analyzer according to any one of claims 1 to 4,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
A groove is formed along the outer peripheral edge of the bottom surface,
Laser induced analyzer.
請求項1から4のいずれかに記載のレーザ誘起分析装置であって、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面が、その中心から外周縁に向かって下方に傾斜する形状である、
レーザ誘起分析装置。
The laser induced analyzer according to any one of claims 1 to 4,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
The bottom surface has a shape inclined downward from the center toward the outer peripheral edge,
Laser induced analyzer.
請求項1から4のいずれかに記載のレーザ誘起分析装置であって、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面が、その外周縁から中心に向かって下方に傾斜する形状である、
レーザ誘起分析装置。
The laser induced analyzer according to any one of claims 1 to 4,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
The bottom surface has a shape that is inclined downward from the outer peripheral edge toward the center.
Laser induced analyzer.
請求項1から4のいずれかに記載のレーザ誘起分析装置であって、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面の中央に、平面視円形状の窪みが形成されている、
レーザ誘起分析装置。
The laser induced analyzer according to any one of claims 1 to 4,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
In the center of the bottom surface, a circular recess in plan view is formed,
Laser induced analyzer.
請求項1から4のいずれかに記載のレーザ誘起分析装置であって、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面の外周縁に沿って、平面視弧状の溝が間隔をあけて複数個形成されている、
レーザ誘起分析装置。
The laser induced analyzer according to any one of claims 1 to 4,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
Along the outer peripheral edge of the bottom surface, a plurality of arc-shaped grooves in plan view are formed at intervals.
Laser induced analyzer.
請求項1から4のいずれかに記載のレーザ誘起分析装置であって、
前記凹部の前記底面が平面視にて円形状であり、
前記底面の外周縁に沿って、平面視円形状の窪みが間隔をあけて複数個形成されている、
レーザ誘起分析装置。
The laser induced analyzer according to any one of claims 1 to 4,
The bottom surface of the recess is circular in plan view;
A plurality of depressions having a circular shape in plan view are formed at intervals along the outer peripheral edge of the bottom surface.
Laser induced analyzer.
レーザ誘起分析装置に用いられるサンプルプレートであって、
液体サンプルが滴下される凹部を有し、該凹部の底面の所定箇所に、他の箇所よりも低い低位置部を有する、
サンプルプレート。
A sample plate used in a laser induced analyzer,
Having a recess into which a liquid sample is dropped, and having a low position lower than other locations at a predetermined location on the bottom surface of the recess,
Sample plate.
底面の所定箇所に他の箇所よりも低い低位置部が形成された凹部を有するサンプルプレートの該凹部に液体サンプルを滴下する工程と、
前記凹部に滴下された液体サンプルを加熱して蒸発乾固させる工程と、
蒸発乾固によって得られた乾固サンプルが保持された前記凹部の前記低位置部にレーザ光を照射する工程と、
前記レーザ光の照射により発生した光の発光スペクトルを取得する工程と、
を備える、レーザ誘起分析方法。
Dropping a liquid sample into the concave portion of the sample plate having a concave portion in which a lower position portion formed at a lower position than the other portions is formed at a predetermined position on the bottom surface;
Heating and evaporating and drying the liquid sample dropped in the recess;
Irradiating a laser beam to the low position portion of the concave portion in which the dried sample obtained by evaporation to dryness is held;
Obtaining an emission spectrum of light generated by the laser light irradiation;
A laser induced analysis method.
JP2017034994A 2017-02-27 2017-02-27 Laser-induced analysis device, sample plate used therein, and laser-induced analysis method Active JP6702228B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017034994A JP6702228B2 (en) 2017-02-27 2017-02-27 Laser-induced analysis device, sample plate used therein, and laser-induced analysis method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017034994A JP6702228B2 (en) 2017-02-27 2017-02-27 Laser-induced analysis device, sample plate used therein, and laser-induced analysis method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018141670A true JP2018141670A (en) 2018-09-13
JP6702228B2 JP6702228B2 (en) 2020-05-27

Family

ID=63527829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017034994A Active JP6702228B2 (en) 2017-02-27 2017-02-27 Laser-induced analysis device, sample plate used therein, and laser-induced analysis method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6702228B2 (en)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0249141A (en) * 1988-05-09 1990-02-19 Cosmo Oil Co Ltd Method and instrument for determining quickly concentration of sludge
JPH04249736A (en) * 1990-12-31 1992-09-04 Jasco Corp Concentrating vessel of eluate for infrared spectral measurement
JPH10142142A (en) * 1996-11-06 1998-05-29 S T Japan:Kk Sample holder
JP2004184137A (en) * 2002-11-29 2004-07-02 Nec Corp Chip for mass spectrometric analysis, laser desorption ionization time-of-flight type mass spectroscope using the same, and mass spectrometric system
US20090290151A1 (en) * 2008-03-03 2009-11-26 Ajjer Llc Analysis of arrays by laser induced breakdown spectroscopy
JP2009288067A (en) * 2008-05-29 2009-12-10 Toshiba Corp Analyzing method and analyzer
JP2016095139A (en) * 2014-11-12 2016-05-26 株式会社島津製作所 Manufacture method of specimen plate, specimen plate manufactured thereby, and inclusion substance measurement apparatus using the same
JP2016121968A (en) * 2014-12-25 2016-07-07 シチズンファインデバイス株式会社 Sample loading plate

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0249141A (en) * 1988-05-09 1990-02-19 Cosmo Oil Co Ltd Method and instrument for determining quickly concentration of sludge
JPH04249736A (en) * 1990-12-31 1992-09-04 Jasco Corp Concentrating vessel of eluate for infrared spectral measurement
JPH10142142A (en) * 1996-11-06 1998-05-29 S T Japan:Kk Sample holder
JP2004184137A (en) * 2002-11-29 2004-07-02 Nec Corp Chip for mass spectrometric analysis, laser desorption ionization time-of-flight type mass spectroscope using the same, and mass spectrometric system
US20090290151A1 (en) * 2008-03-03 2009-11-26 Ajjer Llc Analysis of arrays by laser induced breakdown spectroscopy
JP2009288067A (en) * 2008-05-29 2009-12-10 Toshiba Corp Analyzing method and analyzer
JP2016095139A (en) * 2014-11-12 2016-05-26 株式会社島津製作所 Manufacture method of specimen plate, specimen plate manufactured thereby, and inclusion substance measurement apparatus using the same
JP2016121968A (en) * 2014-12-25 2016-07-07 シチズンファインデバイス株式会社 Sample loading plate

Also Published As

Publication number Publication date
JP6702228B2 (en) 2020-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3932368B2 (en) Plasma generator
US8687189B2 (en) Analysis of arrays by laser induced breakdown spectroscopy
US9728388B2 (en) Measurement device, measurement apparatus, and method
JP6316064B2 (en) ICP emission spectrometer
WO2006076040A2 (en) Systems and method for fabricating substrate surfaces for sers and apparatuses utilizing same
US7659978B2 (en) Photobleaching by high power pulses
WO2014150696A1 (en) Methods and systems for analyzing samples
JP2009103643A (en) Device for surface enhanced raman spectroscopy
Järvinen et al. Detection of zinc and lead in water using evaporative preconcentration and single-particle laser-induced breakdown spectroscopy
Meneses-Nava et al. Stability evaluation of water droplets levitated by a TinyLev acoustic levitator for laser induced breakdown spectroscopy
WO2013080505A1 (en) Sensing device and sensing method using same
JP7164300B2 (en) Contamination identification device and method
JP6702228B2 (en) Laser-induced analysis device, sample plate used therein, and laser-induced analysis method
JP2008203020A (en) Microspectroscopic method
JP2010190595A (en) Laser spectroscopic analyzer, and laser spectroscopic analyzing method using the same
JP5980653B2 (en) Deposit analysis method and deposit analysis apparatus
JP4967830B2 (en) Sample analysis method and apparatus
JP4494606B2 (en) Liquid-containing substance analysis apparatus and liquid-containing substance analysis method
JP2009288067A (en) Analyzing method and analyzer
JP2005221373A (en) Element analyzer
Mateo et al. Chemical imaging using microline laser ablation: performance comparison of gaussian and flat top lasers
JP6966858B2 (en) Property measuring device and property measuring method
JP2020201173A (en) Laser-inducted analysis device and method
JP6107915B1 (en) Analysis method using a microscopic Raman spectroscopic analyzer
JP6296962B2 (en) Test body plate manufacturing method, test body plate manufactured thereby, and contained substance measuring apparatus using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190524

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200319

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200407

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200420

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6702228

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151