JP2018119043A - Polyamide resin composition for laser direct structuring, resin molded article, method for producing resin molded article with plating and method for manufacturing portable electric equipment component - Google Patents

Polyamide resin composition for laser direct structuring, resin molded article, method for producing resin molded article with plating and method for manufacturing portable electric equipment component Download PDF

Info

Publication number
JP2018119043A
JP2018119043A JP2017010410A JP2017010410A JP2018119043A JP 2018119043 A JP2018119043 A JP 2018119043A JP 2017010410 A JP2017010410 A JP 2017010410A JP 2017010410 A JP2017010410 A JP 2017010410A JP 2018119043 A JP2018119043 A JP 2018119043A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
polyamide resin
plating
resin composition
resin molded
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017010410A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6745226B2 (en
Inventor
隆介 山田
Ryusuke Yamada
隆介 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Engineering Plastics Corp
Original Assignee
Mitsubishi Engineering Plastics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Engineering Plastics Corp filed Critical Mitsubishi Engineering Plastics Corp
Priority to JP2017010410A priority Critical patent/JP6745226B2/en
Publication of JP2018119043A publication Critical patent/JP2018119043A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6745226B2 publication Critical patent/JP6745226B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyamide resin composition for laser direct structuring capable of providing a resin molded article comprising plating which is hard to peeling and has a high plating growth rate, a resin molded article using the resin composition, a method for producing a resin molded article with plating, and a method for manufacturing a portable electric equipment component.SOLUTION: The polyamide resin composition for laser direct structuring is provided which includes 1-30 pts.wt. of a laser direct structuring addition agent, 1-30 pts.wt. of zinc borate and 10-150 pts.wt. of an inorganic fiber with respect to 100 pts.wt. of a polyamide resin, and in which a content of a flame retardant is 5 pts.wt. or less with respect to 100 pts.wt. of the polyamide resin and is 100 pt.% or less of content of the zinc borate.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、レーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物、樹脂成形品、メッキ付樹脂成形品の製造方法および携帯電子機器部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a polyamide resin composition for laser direct structuring, a resin molded product, a method for producing a plated resin molded product, and a method for producing a portable electronic device component.

近年、スマートフォンを含む携帯電話の開発に伴い、携帯電話の内部にアンテナを製造する方法が種々検討されている。特に、携帯電話に3次元設計ができるアンテナを製造する方法が求められている。このような3次元アンテナを形成する技術の1つとして、レーザーダイレクトストラクチャリング(以下、「LDS」ということがある)技術が注目されている。LDS技術は、例えば、LDS添加剤を含む樹脂成形品の表面にレーザーを照射して活性化させ、前記活性化させた部分に金属を適用することによってメッキを形成する技術である。この技術の特徴は、接着剤などを使わずに、樹脂成形品の表面に直接にアンテナ等の金属構造体を製造できる点にある。かかるLDS技術は、例えば、特許文献1に開示されている。具体的には、特許文献1には、(A)示差走査熱量測定(DSC)により昇温速度10℃/分にて測定した融点が250℃以上の結晶性熱可塑性樹脂100重量部に対し、(B)波長450nmにおける反射率が25%以上であるレーザーダイレクトストラクチャリング添加剤2〜30重量部、(C)酸化チタン30〜150重量部、および、(D)リン系難燃剤5.5重量部以上を含む、熱可塑性樹脂組成物が開示されている。   In recent years, with the development of mobile phones including smartphones, various methods for manufacturing antennas inside mobile phones have been studied. In particular, there is a need for a method of manufacturing an antenna that can be three-dimensionally designed for a mobile phone. As one of the techniques for forming such a three-dimensional antenna, a laser direct structuring (hereinafter, also referred to as “LDS”) technique has attracted attention. The LDS technique is, for example, a technique for forming a plating by irradiating a surface of a resin molded product containing an LDS additive by irradiating a laser and applying a metal to the activated portion. A feature of this technique is that a metal structure such as an antenna can be manufactured directly on the surface of a resin molded product without using an adhesive or the like. Such LDS technology is disclosed in Patent Document 1, for example. Specifically, Patent Document 1 includes (A) 100 parts by weight of a crystalline thermoplastic resin having a melting point of 250 ° C. or higher measured by a differential scanning calorimetry (DSC) at a heating rate of 10 ° C./min. (B) 2-30 parts by weight of a laser direct structuring additive having a reflectance at a wavelength of 450 nm of 25% or more, (C) 30-150 parts by weight of titanium oxide, and (D) 5.5% by weight of a phosphorus flame retardant. A thermoplastic resin composition containing at least a part is disclosed.

特開2015−25127号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-25127

近年、LDS技術の進歩に伴い、LDS用ポリアミド樹脂組成物について、メッキが剥がれにくく、かつ、メッキの成長速度が速いことが求められている。本発明はかかる課題を解決するものであって、メッキが剥がれにくく、かつ、メッキ成長速度が速い樹脂成形品を提供可能なLDS用ポリアミド樹脂組成物、ならびに、前記樹脂組成物を用いた、樹脂成形品、メッキ付樹脂成形品の製造方法および携帯電子機器部品の製造方法を提供することを目的とする。   In recent years, with the advancement of LDS technology, it has been demanded that the polyamide resin composition for LDS is hard to peel off and the plating growth rate is high. The present invention solves such a problem, and is a polyamide resin composition for LDS capable of providing a resin molded product that is difficult to peel off and has a high plating growth rate, and a resin using the resin composition. It aims at providing the manufacturing method of a molded article, the resin molded article with plating, and the manufacturing method of portable electronic device components.

上記課題のもと、本発明者が検討を行った結果、ホウ酸亜鉛を配合することにより、上記課題を解決しうることを見出した。具体的には、下記手段<1>により、好ましくは<2>〜<17>により上記課題は解決された。
<1>ポリアミド樹脂100重量部に対し、レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤1〜30重量部、ホウ酸亜鉛1〜30重量部および無機繊維10〜150重量部を含み、難燃剤の含有量が、前記ポリアミド樹脂100重量部に対し、5重量部以下であり、かつ、前記ホウ酸亜鉛の含有量の100重量%以下である、レーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。
<2>前記無機繊維がガラス繊維である、<1>に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。
<3>前記レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤が、銅、アンチモンおよび錫の少なくとも1種を含む、<1>または<2>に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。
<4>前記ポリアミド樹脂が半芳香族ポリアミド樹脂である、<1>〜<3>のいずれか1つに記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。
<5>前記ポリアミド樹脂の少なくとも1種が、ジアミン由来の構成単位とジカルボン酸由来の構成単位から構成され、前記ジアミン由来の構成単位の70モル%以上がキシリレンジアミンに由来し、ジカルボン酸由来の構成単位の70モル%以上が、炭素原子数4〜20のα,ω−直鎖脂肪族ジカルボン酸に由来する、<1>〜<3>のいずれか1つに記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。
<6>前記ホウ酸亜鉛を前記ポリアミド樹脂100重量部に対し、10〜30重量部含む、<1>〜<5>のいずれか1つに記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。
<7>さらに、タルクを、レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤100重量部に対し、0.1〜200重量部含む、<1>〜<6>のいずれか1つに記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。
<8>前記ポリアミド樹脂の融点が200〜330℃である、<1>〜<7>のいずれか1つに記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。
<9>前記無機繊維を前記ポリアミド樹脂100重量部に対し、20〜80重量部含む、<1>〜<8>のいずれか1つに記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。
<10><1>〜<9>のいずれか1つに記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品。
<11>前記樹脂成形品の一部の表面粗さRaが4.0μm以上であり、他の一部の表面粗さRaが1.0μm以下である、<10>に記載の樹脂成形品。
<12>前記樹脂成形品の表面にメッキを有する、<10>または<11>に記載の樹脂成形品。
<13>前記メッキがアンテナとしての性能を保有する、<12>に記載の樹脂成形品。
<14>携帯電子機器部品である、<10>〜<13>のいずれか1つに記載の樹脂成形品。
<15><1>〜<9>のいずれか1つに記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品の表面に、レーザーを照射後、金属を適用して、メッキを形成することを含む、メッキ付樹脂成形品の製造方法。
<16>前記メッキが銅メッキである、<15>に記載のメッキ付樹脂成形品の製造方法。
<17><15>または<16>に記載のメッキ付樹脂成形品の製造方法を含む、アンテナを有する携帯電子機器部品の製造方法。
As a result of investigations by the inventor under the above problems, it has been found that the above problems can be solved by blending zinc borate. Specifically, the above problem has been solved by the following means <1>, preferably <2> to <17>.
<1> 100 parts by weight of polyamide resin, 1-30 parts by weight of laser direct structuring additive, 1-30 parts by weight of zinc borate and 10-150 parts by weight of inorganic fiber, The polyamide resin composition for laser direct structuring which is 5 parts by weight or less and 100% by weight or less of the content of the zinc borate with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin.
<2> The polyamide resin composition for laser direct structuring according to <1>, wherein the inorganic fiber is a glass fiber.
<3> The polyamide resin composition for laser direct structuring according to <1> or <2>, wherein the laser direct structuring additive contains at least one of copper, antimony and tin.
<4> The polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of <1> to <3>, wherein the polyamide resin is a semi-aromatic polyamide resin.
<5> At least one of the polyamide resins is composed of a structural unit derived from a diamine and a structural unit derived from a dicarboxylic acid, 70 mol% or more of the structural unit derived from the diamine is derived from xylylenediamine, and derived from a dicarboxylic acid The laser direct structuring according to any one of <1> to <3>, wherein 70 mol% or more of the structural unit is derived from an α, ω-linear aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 20 carbon atoms. Polyamide resin composition.
<6> The polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of <1> to <5>, wherein the zinc borate is included in an amount of 10 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin.
<7> The polyamide for laser direct structuring according to any one of <1> to <6>, further comprising 0.1 to 200 parts by weight of talc with respect to 100 parts by weight of the laser direct structuring additive. Resin composition.
<8> The polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of <1> to <7>, wherein the polyamide resin has a melting point of 200 to 330 ° C.
<9> The polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of <1> to <8>, wherein the inorganic fiber is contained in an amount of 20 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin.
<10> A resin molded product obtained by molding the polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of <1> to <9>.
<11> The resin molded product according to <10>, wherein a part of the surface roughness Ra of the resin molded product is 4.0 μm or more and another part of the surface roughness Ra is 1.0 μm or less.
<12> The resin molded product according to <10> or <11>, wherein the surface of the resin molded product is plated.
<13> The resin molded product according to <12>, wherein the plating has performance as an antenna.
<14> The resin molded product according to any one of <10> to <13>, which is a portable electronic device component.
<15><1> to <9> After applying the laser to the surface of the resin molded product formed by molding the polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of the above, a metal is applied, A method for producing a resin-molded article with plating, comprising forming plating.
<16> The method for producing a resin-molded product with plating according to <15>, wherein the plating is copper plating.
<17> A method for manufacturing a portable electronic device component having an antenna, including the method for manufacturing a plated resin molded product according to <15> or <16>.

本発明により、メッキが剥がれにくく、かつ、メッキ成長速度が速い樹脂成形品を提供可能なレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物、ならびに、前記樹脂組成物を用いた、樹脂成形品、メッキ付樹脂成形品の製造方法および携帯電子機器部品の製造方法を提供可能になった。   According to the present invention, a polyamide resin composition for laser direct structuring capable of providing a resin molded product in which plating is difficult to peel off and has a high plating growth rate, and a resin molded product and a plated resin using the resin composition It has become possible to provide a method for manufacturing a molded article and a method for manufacturing a portable electronic device part.

樹脂成形品の表面にメッキを設ける工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the process of providing plating on the surface of a resin molded product.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

本発明のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物(以下、「本発明の樹脂組成物」ということがある)は、ポリアミド樹脂100重量部に対し、レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤1〜30重量部、ホウ酸亜鉛1〜30重量部および無機繊維10〜150重量部を含み、難燃剤の含有量が、前記ポリアミド樹脂100重量部に対し、5重量部以下であり、かつ、前記ホウ酸亜鉛の含有量の100重量%以下であることを特徴とする。このような構成とすることにより、メッキが剥がれにくく、かつ、メッキの成長速度が速い樹脂成形品を提供可能になる。
すなわち、ホウ酸亜鉛を配合することにより、レーザーを照射した際に、樹脂の炭化が促進され、樹脂成形品の表面が粗面化されやすくなる。そして、粗面化された樹脂成形品は、メッキに対するアンカー効果が働きやすくなると推測される。さらに、ガラス繊維を配合することにより、樹脂成形品の表面の樹脂が炭化された際に露出したガラス繊維もメッキ側にも入り込み、さらに、樹脂成形品のメッキの密着性を高めると推測される。
さらに、本発明の樹脂組成物を用いることにより、メッキの成長速度も向上させることが可能になる。これは表面が粗面化することによって、LDS活性領域の表面積が増え、銅メッキが成長するために必要な金属シードが増すためと考えられる。
The polyamide resin composition for laser direct structuring of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “resin composition of the present invention”) is 1 to 30 parts by weight of a laser direct structuring additive with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin. Including 1 to 30 parts by weight of zinc borate and 10 to 150 parts by weight of inorganic fiber, the content of the flame retardant is 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin, and the content of the zinc borate It is characterized by being 100% by weight or less of the amount. By adopting such a configuration, it becomes possible to provide a resin molded product in which the plating is difficult to peel off and the plating growth rate is high.
That is, by blending zinc borate, carbonization of the resin is promoted when the laser is irradiated, and the surface of the resin molded product is easily roughened. The roughened resin molded product is presumed to have an anchor effect on plating. Furthermore, it is presumed that the glass fiber exposed when the resin on the surface of the resin molded product is carbonized also enters the plating side by adding the glass fiber, and further, the adhesion of plating of the resin molded product is improved. .
Furthermore, the growth rate of plating can be improved by using the resin composition of the present invention. This is presumably because the surface area of the LDS active region increases due to the roughening of the surface, and the metal seeds necessary for copper plating to grow increase.

<ポリアミド樹脂>
本発明で用いるポリアミド樹脂は特に定めるものではなく、公知のポリアミド樹脂を用いることができる。例えば、ポリアミド樹脂としては、特開2011−132550号公報の段落0011〜0013の記載を参酌することができる。
ポリアミド樹脂は、結晶性ポリアミド樹脂でも非晶性ポリアミド樹脂でもよいが、結晶性ポリアミド樹脂が好ましい。結晶性ポリアミド樹脂を用いると、樹脂成形品を成形する際に、より早く硬化させることができるため、樹脂成形品の表面に凹凸をより効果的に形成することもできる。このため、樹脂成形品とメッキの密着性をより向上させることができる。
<Polyamide resin>
The polyamide resin used in the present invention is not particularly defined, and a known polyamide resin can be used. For example, as the polyamide resin, descriptions in paragraphs 0011 to 0013 of JP2011-132550A can be referred to.
The polyamide resin may be a crystalline polyamide resin or an amorphous polyamide resin, but a crystalline polyamide resin is preferred. When the crystalline polyamide resin is used, the resin molded product can be hardened more quickly, so that the unevenness can be more effectively formed on the surface of the resin molded product. For this reason, the adhesiveness of a resin molded product and plating can be improved more.

本発明で用いるポリアミド樹脂は、半芳香族ポリアミド樹脂であることが好ましい。ここで、半芳香族ポリアミド樹脂とは、ジアミン由来の構成単位とジカルボン酸由来の構成単位から構成され、ジアミン由来の構成単位およびジカルボン酸由来の構成単位の合計構成単位の30〜70モル%が芳香環を含む構成単位であることをいい、ジアミン由来の構成単位およびジカルボン酸由来の構成単位の合計構成単位の40〜60モル%が芳香環を含む構成単位であることが好ましい。このような半芳香族ポリアミド樹脂を用いることにより、得られる樹脂成形品の機械的強度を高くすることができる。半芳香族ポリアミド樹脂としては、ポリアミド6T、ポリアミド9T、後述するキシリレンジアミン系ポリアミド樹脂などが例示される。   The polyamide resin used in the present invention is preferably a semi-aromatic polyamide resin. Here, the semi-aromatic polyamide resin is composed of a structural unit derived from a diamine and a structural unit derived from a dicarboxylic acid, and 30 to 70 mol% of the total structural unit of the structural unit derived from the diamine and the structural unit derived from the dicarboxylic acid. It is a structural unit containing an aromatic ring, and 40 to 60 mol% of the total structural unit of the structural unit derived from diamine and the structural unit derived from dicarboxylic acid is preferably a structural unit containing an aromatic ring. By using such a semi-aromatic polyamide resin, the mechanical strength of the resin molded product obtained can be increased. Examples of the semi-aromatic polyamide resin include polyamide 6T, polyamide 9T, and a xylylenediamine-based polyamide resin described later.

本発明で用いるポリアミド樹脂は、少なくとも1種が、ジアミン由来の構成単位とジカルボン酸由来の構成単位から構成され、前記ジアミン由来の構成単位の70モル%以上がキシリレンジアミンに由来し、ジカルボン酸由来の構成単位の70モル%以上が、炭素原子数4〜20のα,ω−直鎖脂肪族ジカルボン酸に由来するポリアミド樹脂(以下、「キシリレンジアミン系ポリアミド樹脂」ということがある)が好ましい。
キシリレンジアミン系ポリアミド樹脂のジアミン由来の構成単位は、より好ましくは80モル%以上、さらに好ましくは85モル%以上、一層好ましくは90モル%以上、より一層好ましくは95モル%以上がキシリレンジアミンに由来する。キシリレンジアミン系ポリアミド樹脂のジカルボン酸由来の構成単位は、より好ましくは80モル%以上、さらに好ましくは85モル%以上、一層好ましくは90モル%以上、より一層好ましくは95モル%以上が、炭素原子数が4〜20のα,ω−直鎖脂肪族ジカルボン酸に由来する。
キシリレンジアミンは、パラキシリレンジアミンおよびメタキシリレンジアミンが好ましく、少なくともパラキシリレンジアミンを含むことがより好ましい。
In the polyamide resin used in the present invention, at least one kind is composed of a structural unit derived from diamine and a structural unit derived from dicarboxylic acid, and 70 mol% or more of the structural unit derived from diamine is derived from xylylenediamine, and dicarboxylic acid A polyamide resin in which 70 mol% or more of the derived structural unit is derived from an α, ω-linear aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 20 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as “xylylenediamine-based polyamide resin”) preferable.
The structural unit derived from diamine of the xylylenediamine polyamide resin is more preferably 80 mol% or more, further preferably 85 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, and still more preferably 95 mol% or more. Derived from. The structural unit derived from dicarboxylic acid of the xylylenediamine-based polyamide resin is more preferably 80 mol% or more, further preferably 85 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, and still more preferably 95 mol% or more. It is derived from an α, ω-linear aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 20 atoms.
The xylylenediamine is preferably paraxylylenediamine and metaxylylenediamine, and more preferably contains at least paraxylylenediamine.

キシリレンジアミン系ポリアミド樹脂の原料ジアミン成分として用いることができるメタキシリレンジアミンおよびパラキシリレンジアミン以外のジアミンとしては、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、2−メチルペンタンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、2,2,4−トリメチル−ヘキサメチレンジアミン、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)プロパン、ビス(アミノメチル)デカリン、ビス(アミノメチル)トリシクロデカン等の脂環式ジアミン、ビス(4−アミノフェニル)エーテル、パラフェニレンジアミン、ビス(アミノメチル)ナフタレン等の芳香環を有するジアミン等を例示することができ、1種または2種以上を混合して使用できる。   Examples of diamines other than metaxylylenediamine and paraxylylenediamine that can be used as raw material diamine components for xylylenediamine polyamide resins include tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, 2-methylpentanediamine, hexamethylenediamine, and heptamethylene. Aliphatic diamines such as diamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, dodecamethylenediamine, 2,2,4-trimethyl-hexamethylenediamine, 2,4,4-trimethylhexamethylenediamine, 1,3- Bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) meta 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) propane, bis (aminomethyl) decalin, alicyclic diamines such as bis (aminomethyl) tricyclodecane, bis (4-aminophenyl) ether, paraphenylenediamine, bis Examples include diamines having an aromatic ring such as (aminomethyl) naphthalene, and one or a mixture of two or more can be used.

キシリレンジアミン系ポリアミド樹脂の原料ジカルボン酸成分として用いるのに好ましい炭素原子数4〜20のα,ω−直鎖脂肪族ジカルボン酸としては、例えばコハク酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、アジピン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸等の脂肪族ジカルボン酸が例示でき、1種または2種以上を混合して使用できるが、これらの中でもポリアミド樹脂の融点が成形加工するのに適切な範囲となることから、アジピン酸またはセバシン酸がより好ましく、セバシン酸がさらに好ましい。   Preferred examples of the α, ω-linear aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 20 carbon atoms to be used as the raw material dicarboxylic acid component of the xylylenediamine-based polyamide resin include succinic acid, glutaric acid, pimelic acid, suberic acid, and azelain. Examples thereof include aliphatic dicarboxylic acids such as acid, adipic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, and dodecanedioic acid, and one or a mixture of two or more can be used. Among these, the melting point of the polyamide resin is molded. Therefore, adipic acid or sebacic acid is more preferable, and sebacic acid is more preferable.

上記炭素原子数4〜20のα,ω−直鎖脂肪族ジカルボン酸以外のジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、テレフタル酸、オルソフタル酸等のフタル酸化合物、1,2−ナフタレンジカルボン酸、1,3−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、1,6−ナフタレンジカルボン酸、1,7−ナフタレンジカルボン酸、1,8−ナフタレンジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸といった異性体等のナフタレンジカルボン酸等を例示することができ、1種または2種以上を混合して使用できる。   Examples of the dicarboxylic acid component other than the α, ω-linear aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 20 carbon atoms include phthalic acid compounds such as isophthalic acid, terephthalic acid and orthophthalic acid, 1,2-naphthalenedicarboxylic acid, 3-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,7-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid, 2,3- Examples thereof include naphthalenedicarboxylic acids such as isomers such as naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and one kind or a mixture of two or more kinds can be used.

なお、ジアミン由来の構成単位とジカルボン酸由来の構成単位を主成分として構成されるが、これら以外の構成単位を完全に排除するものではなく、ε−カプロラクタムやラウロラクタム等のラクタム類、アミノカプロン酸、アミノウンデカン酸等の脂肪族アミノカルボン酸類由来の構成単位を含んでいてもよいことは言うまでもない。ここで主成分とは、キシリレンジアミン系ポリアミド樹脂を構成する構成単位のうち、ジアミン由来の構成単位とジカルボン酸由来の構成単位の合計数が全構成単位のうち最も多いことをいう。本発明では、キシリレンジアミン系ポリアミド樹脂における、ジアミン由来の構成単位とジカルボン酸由来の構成単位の合計は、全構成単位の90%以上を占めることが好ましく、95%以上を占めることがより好ましい。   In addition, the constitutional unit derived from a diamine and the constitutional unit derived from a dicarboxylic acid are used as main components, but other constitutional units are not completely excluded, and lactams such as ε-caprolactam and laurolactam, aminocaproic acid Needless to say, structural units derived from aliphatic aminocarboxylic acids such as aminoundecanoic acid may be included. Here, the main component means that among the constituent units constituting the xylylenediamine-based polyamide resin, the total number of constituent units derived from diamine and constituent units derived from dicarboxylic acid is the largest among all constituent units. In the present invention, the total of diamine-derived structural units and dicarboxylic acid-derived structural units in the xylylenediamine-based polyamide resin preferably occupies 90% or more of all the structural units, and more preferably 95% or more. .

ポリアミド樹脂の融点は、150〜350℃であることが好ましく、180〜330℃であることがより好ましく、200〜330℃であることがさらに好ましく、200〜320℃であることが一層好ましい。
融点は、後述する実施例に記載の方法に従って測定される。
The melting point of the polyamide resin is preferably 150 to 350 ° C, more preferably 180 to 330 ° C, further preferably 200 to 330 ° C, and further preferably 200 to 320 ° C.
Melting | fusing point is measured in accordance with the method as described in the Example mentioned later.

ポリアミド樹脂は、数平均分子量(Mn)の下限が、6,000以上であることが好ましく、8,000以上であることがより好ましく、10,000以上であることがさらに好ましく、15,000以上であることが一層好ましく、20,000以上であることがより一層好ましく、22,000以上であることがさらに一層好ましい。上記Mnの上限は、35,000以下が好ましく、30,000以下がより好ましく、28,000以下がさらに好ましく、26,000以下が一層好ましい。このような範囲であると、耐熱性、弾性率、寸法安定性、成形加工性がより良好となる。   In the polyamide resin, the lower limit of the number average molecular weight (Mn) is preferably 6,000 or more, more preferably 8,000 or more, further preferably 10,000 or more, and 15,000 or more. Is more preferably 20,000 or more, and further preferably 22,000 or more. The upper limit of the Mn is preferably 35,000 or less, more preferably 30,000 or less, further preferably 28,000 or less, and further preferably 26,000 or less. Within such a range, the heat resistance, elastic modulus, dimensional stability, and moldability become better.

本発明の樹脂組成物におけるポリアミド樹脂の含有量は、下限値が、30重量%以上であることが好ましく、40重量%以上であることがより好ましく、45重量%以上であることがさらに好ましい。前記含有量の上限値は、80重量%以下であることが好ましく、70重量%以下であることがより好ましく、60重量%以下であることがさらに好ましく、55重量%以下であることが一層好ましい。
ポリアミド樹脂は1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。2種以上含む場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
The lower limit of the content of the polyamide resin in the resin composition of the present invention is preferably 30% by weight or more, more preferably 40% by weight or more, and further preferably 45% by weight or more. The upper limit of the content is preferably 80% by weight or less, more preferably 70% by weight or less, further preferably 60% by weight or less, and further preferably 55% by weight or less. .
The polyamide resin may contain only 1 type, and may contain 2 or more types. When 2 or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

本発明の樹脂組成物は、ポリアミド樹脂以外の熱可塑性樹脂を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。本発明の樹脂組成物は、ポリアミド樹脂以外の熱可塑性樹脂の含有量が本発明の樹脂組成物の5重量%以下であることが好ましく、3重量%以下であることがより好ましく、1重量%以下であることが一層好ましい。   The resin composition of the present invention may or may not contain a thermoplastic resin other than the polyamide resin. In the resin composition of the present invention, the content of the thermoplastic resin other than the polyamide resin is preferably 5% by weight or less, more preferably 3% by weight or less, and more preferably 1% by weight of the resin composition of the present invention. More preferably, it is as follows.

<レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(LDS添加剤)>
本発明の樹脂組成物は、レーザーダイレクトストラクチャリング(LDS)添加剤を含む。本発明におけるLDS添加剤は、ポリアミド樹脂100重量部に対し、LDS添加剤と考えられる添加剤を10重量部添加し、波長1064nmのYAGレーザーを用い、出力10W、周波数80kHz、速度3m/sにて照射し、その後のメッキ工程は無電解のMacDermid社製M−Copper85のメッキ槽にて実施し、該レーザー照射面に金属を適用したときに、メッキを形成できる化合物をいう。本発明で用いるLDS添加剤は、合成品であってもよいし、市販品を用いてもよい。また、市販品は、LDS添加剤として市販されているものの他、本発明におけるLDS添加剤の要件を満たす限り、他の用途として販売されている物質であってもよい。LDS添加剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
<Laser direct structuring additive (LDS additive)>
The resin composition of the present invention contains a laser direct structuring (LDS) additive. The LDS additive in the present invention is 10 parts by weight of an additive considered to be an LDS additive with respect to 100 parts by weight of a polyamide resin, and a YAG laser having a wavelength of 1064 nm is used. The output is 10 W, the frequency is 80 kHz, and the speed is 3 m / s. The subsequent plating process is performed in an electroless MacDermid M-Copper 85 plating tank, and refers to a compound that can form plating when a metal is applied to the laser irradiated surface. The LDS additive used in the present invention may be a synthetic product or a commercial product. In addition to those that are commercially available as LDS additives, commercially available products may be substances that are sold for other uses as long as they satisfy the requirements of the LDS additive in the present invention. Only one type of LDS additive may be used, or two or more types may be used in combination.

本発明で用いるLDS添加剤の第一の実施形態は、銅およびクロムを含む化合物である。第一の実施形態のLDS添加剤としては、銅を10〜30重量%含むことが好ましい。また、クロムを15〜50重量%含むことが好ましい。第一の実施形態におけるLDS添加剤は、銅およびクロムを含む酸化物であることが好ましい。   The first embodiment of the LDS additive used in the present invention is a compound containing copper and chromium. The LDS additive of the first embodiment preferably contains 10 to 30% by weight of copper. Moreover, it is preferable that 15-50 weight% of chromium is included. The LDS additive in the first embodiment is preferably an oxide containing copper and chromium.

銅およびクロムの含有形態としては、スピネル構造が好ましい。スピネル構造とは、複酸化物でAB型の化合物(AとBは金属元素)にみられる代表的結晶構造型の1つである。 As the copper and chromium content, a spinel structure is preferable. The spinel structure is one of the typical crystal structure types found in double oxide AB 2 O 4 type compounds (A and B are metal elements).

第一の実施形態のLDS添加剤は、銅およびクロムの他に、他の金属を微量含んでいてもよい。他の金属としては、アンチモン、錫、鉛、インジウム、鉄、コバルト、ニッケル、亜鉛、カドミウム、銀、ビスマス、ヒ素、マンガン、マグネシウムおよびカルシウムなどが例示され、マンガンが好ましい。これら金属は酸化物として存在していてもよい。
第一の実施形態のLDS添加剤の好ましい一例は、銅クロム酸化物以外の金属酸化物の含有量が10重量%以下であるLDS添加剤である。
The LDS additive of the first embodiment may contain a trace amount of other metals in addition to copper and chromium. Examples of other metals include antimony, tin, lead, indium, iron, cobalt, nickel, zinc, cadmium, silver, bismuth, arsenic, manganese, magnesium and calcium, and manganese is preferable. These metals may exist as oxides.
A preferred example of the LDS additive of the first embodiment is an LDS additive having a content of metal oxide other than copper chromium oxide of 10% by weight or less.

本発明で用いるLDS添加剤の第二の実施形態は、アンチモンおよびリンの少なくとも1種と、錫とを含む酸化物、好ましくはアンチモンと錫とを含む酸化物である。   The second embodiment of the LDS additive used in the present invention is an oxide containing at least one of antimony and phosphorus and tin, preferably an oxide containing antimony and tin.

第二の実施形態のLDS添加剤は、錫の含有量がリンおよびアンチモンの含有量よりも多いものがより好ましく、錫とリンとアンチモンの合計量に対する錫の量が、80重量%以上であることがさらに好ましい。   The LDS additive of the second embodiment preferably has a tin content higher than that of phosphorus and antimony, and the amount of tin with respect to the total amount of tin, phosphorus and antimony is 80% by weight or more. More preferably.

特に、第二の実施形態のLDS添加剤としては、アンチモンと錫とを含む酸化物が好ましく、錫の含有量がアンチモンの含有量よりも多い酸化物がより好ましく、錫とアンチモンの合計量に対する錫の量が、80重量%以上である酸化物がさらに好ましい。   In particular, the LDS additive of the second embodiment is preferably an oxide containing antimony and tin, more preferably an oxide having a tin content higher than the content of antimony, relative to the total amount of tin and antimony. An oxide in which the amount of tin is 80% by weight or more is more preferable.

より具体的には、第二の実施形態のLDS添加剤としては、アンチモンがドープされた酸化錫、酸化アンチモンがドープされた酸化錫、リンがドープされた酸化錫、リン酸化物がドープされた酸化錫が挙げられ、アンチモンがドープされた酸化錫および酸化アンチモンがドープされた酸化錫が好ましく、酸化アンチモンがドープされた酸化錫がより好ましい。例えば、リンと酸化錫とを含むLDS添加剤において、リンの含有量は、1〜20重量%であることが挙げられる。また、アンチモンと酸化錫とを含むLDS添加剤において、アンチモンの含有量は、1〜20重量%であることが好ましい。また、リンとアンチモンと酸化錫とを含むLDS添加剤において、リンの含有量は、0.5〜10重量%、アンチモンの含有量は、0.5〜10重量%であることが好ましい。   More specifically, as the LDS additive of the second embodiment, antimony-doped tin oxide, antimony oxide-doped tin oxide, phosphorus-doped tin oxide, and phosphorus oxide were doped. Examples include tin oxide, tin oxide doped with antimony and tin oxide doped with antimony oxide are preferred, and tin oxide doped with antimony oxide is more preferred. For example, in the LDS additive containing phosphorus and tin oxide, the phosphorus content is 1 to 20% by weight. In the LDS additive containing antimony and tin oxide, the content of antimony is preferably 1 to 20% by weight. In the LDS additive containing phosphorus, antimony and tin oxide, the phosphorus content is preferably 0.5 to 10% by weight, and the antimony content is preferably 0.5 to 10% by weight.

本発明で用いるLDS添加剤の第三の実施形態は、少なくとも2種の金属を含み、かつ、抵抗率が5×10Ω・cm以下の導電性酸化物を含むことが好ましい。導電性酸化物の抵抗率は、8×10Ω・cm以下がより好ましく、7×10Ω・cm以下がさらに好ましく、5×10Ω・cm以下が一層好ましい。下限については特に制限はないが、例えば、1×10Ω・cm以上であってもよく、さらには、1×10Ω・cm以上であってもよい。
本発明における導電性酸化物の抵抗率は、通常、粉末抵抗率をいい、導電性酸化物の微粉末10gを、内面にテフロン(登録商標)加工を施した内径25mmの円筒内へ装入して100kgf/cmに加圧し(充填率20%)、横河電機社製の「3223型」テスターで測定することができる。
The third embodiment of the LDS additive used in the present invention preferably contains a conductive oxide containing at least two kinds of metals and having a resistivity of 5 × 10 3 Ω · cm or less. The resistivity of the conductive oxide is more preferably 8 × 10 2 Ω · cm or less, further preferably 7 × 10 2 Ω · cm or less, and further preferably 5 × 10 2 Ω · cm or less. Although there is no restriction | limiting in particular about a lower limit, For example, 1 * 10 < 1 > ohm * cm or more may be sufficient, and 1 * 10 < 2 > ohm * cm or more may be sufficient.
The resistivity of the conductive oxide in the present invention usually refers to the powder resistivity, and 10 g of the fine powder of the conductive oxide is charged into a cylinder having an inner diameter of 25 mm and subjected to Teflon (registered trademark) processing on the inner surface. pressurized to 100 kgf / cm 2 Te (filling rate 20%) can be measured by Yokogawa Electric Corp. "3223 Model" tester.

第三の実施形態で用いるLDS添加剤は、抵抗率が5×10Ω・cm以下の導電性酸化物を含んでいれば特に制限されないが、少なくとも2種の金属を含むことが好ましく、具体的には、周期表のn族(nは3〜16の整数)の金属とn+1族の金属を含むことが好ましい。nは10〜13の整数がより好ましく、12または13がさらに好ましい。
第三の実施形態で用いるLDS添加剤は、LDS添加剤中における、周期表のn族(nは3〜16の整数)の金属の含有量とn+1族の金属の含有量の合計を100モル%としたとき、一方の金属の含有量が15モル%以下であることが好ましく、12モル%以下であることがより好ましく、10モル%以下であることがさらに好ましい。下限については特に制限はないが、0.0001モル%以上が好ましい。2種以上の金属の含有量をこのような範囲とすることで、メッキ性を向上させることができる。本発明では特に、n+1族の金属がドープされたn族の金属酸化物が好ましい。
さらに、第三の実施形態で用いるLDS添加剤は、LDS添加剤中に含まれる金属成分の98重量%以上が、上記周期表のn族の金属の含有量とn+1族の金属で構成されることが好ましい。
The LDS additive used in the third embodiment is not particularly limited as long as it contains a conductive oxide having a resistivity of 5 × 10 3 Ω · cm or less, but preferably contains at least two kinds of metals. Specifically, it preferably contains a metal of group n (n is an integer of 3 to 16) and a metal of group n + 1 of the periodic table. n is more preferably an integer of 10 to 13, and further preferably 12 or 13.
In the LDS additive, the LDS additive used in the third embodiment is 100 mol of the total content of the metal of group n (n is an integer of 3 to 16) and the metal content of group n + 1 in the periodic table. %, The content of one metal is preferably 15 mol% or less, more preferably 12 mol% or less, and even more preferably 10 mol% or less. Although there is no restriction | limiting in particular about a minimum, 0.0001 mol% or more is preferable. By setting the content of two or more kinds of metals in such a range, the plating property can be improved. In the present invention, an n group metal oxide doped with an n + 1 group metal is particularly preferable.
Further, in the LDS additive used in the third embodiment, 98% by weight or more of the metal component contained in the LDS additive is composed of the group n metal content and the group n + 1 metal of the periodic table. It is preferable.

周期表のn族の金属としては、例えば、3族(スカンジウム、イットリウム)、4族(チタン、ジルコニウムなど)、5族(バナジウム、ニオブなど)、6族(クロム、モリブテンなど)、7族(マンガンなど)、8族(鉄、ルテニウムなど)、9族(コバルト、ロジウム、イリジウムなど)、10族(ニッケル、パラジウム、白金)、11族(銅、銀、金など)、12族(亜鉛、カドミウムなど)、13族(アルミニウム、ガリウム、インジウムなど)、14族(ゲルマニウム、錫など)、15族(ヒ素、アンチモンなど)、16族(セレン、テルルなど)が挙げられる。中でも、12族(n=12)の金属が好ましく、亜鉛がより好ましい。   Examples of the metal of group n in the periodic table include group 3 (scandium, yttrium), group 4 (titanium, zirconium, etc.), group 5 (vanadium, niobium, etc.), group 6 (chromium, molybdenum, etc.), group 7 ( Manganese, etc.), group 8 (iron, ruthenium, etc.), group 9 (cobalt, rhodium, iridium, etc.), group 10 (nickel, palladium, platinum), group 11 (copper, silver, gold etc.), group 12 (zinc, Cadmium, etc.), group 13 (aluminum, gallium, indium, etc.), group 14 (germanium, tin, etc.), group 15 (arsenic, antimony, etc.), group 16 (selenium, tellurium, etc.). Among them, a Group 12 (n = 12) metal is preferable, and zinc is more preferable.

周期表のn+1族の金属としては、例えば、4族(チタン、ジルコニウムなど)、5族(バナジウム、ニオブなど)、6族(クロム、モリブテンなど)、7族(マンガンなど)、8族(鉄、ルテニウムなど)、9族(コバルト、ロジウム、イリジウムなど)、10族(ニッケル、パラジウム、白金)、11族(銅、銀、金など)、12族(亜鉛、カドミウムなど)、13族(アルミニウム、ガリウム、インジウムなど)、14族(ゲルマニウム、錫など)、15族(ヒ素、アンチモンなど)、16族(セレン、テルルなど)が挙げられる。中でも、13族(n+1=13)の金属が好ましく、アルミニウムまたはガリウムがより好ましく、アルミニウムがさらに好ましい。   Examples of the metal of group n + 1 of the periodic table include group 4 (titanium, zirconium, etc.), group 5 (vanadium, niobium, etc.), group 6 (chromium, molybdenum, etc.), group 7 (manganese, etc.), group 8 (iron). , Ruthenium, etc.), group 9 (cobalt, rhodium, iridium, etc.), group 10 (nickel, palladium, platinum), group 11 (copper, silver, gold, etc.), group 12 (zinc, cadmium, etc.), group 13 (aluminum) , Gallium, indium, etc.), group 14 (germanium, tin, etc.), group 15 (arsenic, antimony, etc.), and group 16 (selenium, tellurium, etc.). Among them, a Group 13 (n + 1 = 13) metal is preferable, aluminum or gallium is more preferable, and aluminum is more preferable.

第三の実施形態で用いるLDS添加剤は、導電性金属酸化物以外の金属を含有していてもよい。導電性酸化物以外の金属としては、アンチモン、チタン、インジウム、鉄、コバルト、ニッケル、カドミウム、銀、ビスマス、ヒ素、マンガン、クロム、マグネシウム、カルシウムなどが例示される。これら金属は酸化物として存在していてもよい。これら金属の含有量は、LDS添加剤に対してそれぞれ0.01重量%以下が好ましい。   The LDS additive used in the third embodiment may contain a metal other than the conductive metal oxide. Examples of the metal other than the conductive oxide include antimony, titanium, indium, iron, cobalt, nickel, cadmium, silver, bismuth, arsenic, manganese, chromium, magnesium, and calcium. These metals may exist as oxides. The content of these metals is preferably 0.01% by weight or less with respect to the LDS additive.

上記の中でも、本発明では、LDS添加剤が、銅、アンチモンおよび錫の少なくとも1種を含むことが好ましく、上記第一の実施形態および第二の実施形態のいずれかのLDS添加剤を含むことがより好ましい。   Among the above, in the present invention, the LDS additive preferably contains at least one of copper, antimony, and tin, and contains the LDS additive of any of the first embodiment and the second embodiment. Is more preferable.

本発明で用いるLDS添加剤の数平均粒子径は、0.01〜100μmであることが好ましく、0.05〜30μmであることがより好ましく、0.05〜15μmであることがさらに好ましい。このような平均粒子径とすることにより、メッキの表面をより均一にすることができる。   The number average particle diameter of the LDS additive used in the present invention is preferably 0.01 to 100 μm, more preferably 0.05 to 30 μm, and further preferably 0.05 to 15 μm. By setting it as such an average particle diameter, the surface of plating can be made more uniform.

樹脂組成物における、LDS添加剤の含有量は、ポリアミド樹脂100重量部に対し、好ましくは1〜30重量部であり、より好ましくは2〜25重量部であり、さらに好ましくは5〜20重量部である。LDS添加剤の含有量をこのような範囲にすることによって、得られる樹脂成形品のメッキ性をより良好にすることができる。また、後述するように、タルクと組み合わせることにより、少ない含有量でメッキを形成することが可能になる。2種以上のLDS添加剤を含む場合には、合計量が上記範囲となることが好ましい。   The content of the LDS additive in the resin composition is preferably 1 to 30 parts by weight, more preferably 2 to 25 parts by weight, and further preferably 5 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin. It is. By setting the content of the LDS additive in such a range, it is possible to improve the plating property of the obtained resin molded product. As will be described later, by combining with talc, plating can be formed with a small content. When two or more LDS additives are included, the total amount is preferably within the above range.

<ホウ酸亜鉛>
本発明の樹脂組成物は、ホウ酸亜鉛を含む。ホウ酸亜鉛を含むことにより、樹脂成形品にメッキを形成したときに、メッキが剥がれにくくなり、かつ、メッキ成長速度を早くすることができる。ホウ酸亜鉛は、難燃助剤として知られている化合物であるが、メッキ成長速度を早くすることについては全く知られていない。特に、他の難燃助剤(例えば、水酸化マグネシウムや錫酸亜鉛など)では発揮せず、ホウ酸亜鉛を用いた場合にのみ、本発明の効果を奏することは驚くべきことである。
本発明では、ポリアミド樹脂100重量部に対し、ホウ酸亜鉛1〜30重量部含む。ホウ酸亜鉛の配合量の下限値は、2重量部以上がより好ましく、8重量部以上がさらに好ましく、10重量部以上が一層好ましく、14重量部以上であってもよい。ホウ酸亜鉛の配合量の上限値は、26重量部以下が好ましい。
<Zinc borate>
The resin composition of the present invention contains zinc borate. By including zinc borate, when plating is formed on a resin molded product, the plating is difficult to peel off, and the plating growth rate can be increased. Zinc borate is a compound known as a flame retardant aid, but nothing is known about increasing the plating growth rate. In particular, it is surprising that the effect of the present invention can be achieved only when zinc borate is used without being exhibited by other flame retardant aids (for example, magnesium hydroxide and zinc stannate).
In this invention, 1-30 weight part of zinc borate is included with respect to 100 weight part of polyamide resins. The lower limit of the compounding amount of zinc borate is more preferably 2 parts by weight or more, further preferably 8 parts by weight or more, further preferably 10 parts by weight or more, and may be 14 parts by weight or more. The upper limit of the amount of zinc borate is preferably 26 parts by weight or less.

本発明の樹脂組成物は、LDS添加剤とホウ酸亜鉛の重量比が、LDS添加剤1に対し、0.1〜3.0であることが好ましく、1.0〜3.0であることがより好ましく、1.5〜2.6であることがさらに好ましい。このような範囲とすることにより、本発明の効果がより効果的に発揮される。   In the resin composition of the present invention, the weight ratio of the LDS additive to zinc borate is preferably 0.1 to 3.0 with respect to the LDS additive 1, and preferably 1.0 to 3.0. Is more preferable, and it is more preferable that it is 1.5-2.6. By setting it as such a range, the effect of this invention is exhibited more effectively.

本発明の樹脂組成物は、ホウ酸亜鉛以外の難燃助剤を配合してもよいし、配合しなくてもよい。本発明の実施形態の一例として、他の難燃助剤は、ホウ酸亜鉛の量の5重量%以下、さらには3重量%以下、特には1重量%以下とする形態が例示される。   The resin composition of the present invention may or may not contain a flame retardant aid other than zinc borate. As an example of an embodiment of the present invention, another flame retardant aid is exemplified by a form in which the amount of zinc borate is 5% by weight or less, further 3% by weight or less, particularly 1% by weight or less.

<無機繊維>
本発明の樹脂組成物は、無機繊維を含む。無機繊維としては、炭素繊維およびガラス繊維が例示され、ガラス繊維が好ましい。
<Inorganic fiber>
The resin composition of the present invention contains inorganic fibers. Examples of inorganic fibers include carbon fibers and glass fibers, with glass fibers being preferred.

本発明における無機繊維とは、繊維状の無機材料を意味し、より具体的には、1,000〜10,000本の無機繊維を集束し、所定の長さにカットされたチョップド形状が好ましい。
本発明における無機繊維は、数平均繊維長が0.5〜10mmのものが好ましく、1〜5mmのものがより好ましい。このような数平均繊維長の無機繊維を用いることにより、機械的強度をより向上させることができる。数平均繊維長は光学顕微鏡の観察で得られる画像に対して、繊維長を測定する対象の無機繊維をランダムに抽出してその長辺を測定し、得られた測定値から数平均繊維長を算出する。観察の倍率は20倍とし、測定本数は1,000本以上として行う。概ね、カット長に相当する。
また、無機繊維の断面は、円形、楕円形、長円形、長方形、長方形の両短辺に半円を合わせた形状、まゆ型等いずれの形状であってもよいが、円形が好ましい。ここでの円形は、数学的な意味での円形に加え、本発明の技術分野において通常円形と称されるものを含む趣旨である。
無機繊維の数平均繊維径は、下限が、4.0μm以上であることが好ましく、4.5μm以上であることがより好ましく、5.0μm以上であることがさらに好ましい。無機繊維の数平均繊維径の上限は、15.0μm以下であることが好ましく、9.0μm以下であることがより好ましく、7.5μm以下であることがさらに好ましい。このような範囲の数平均繊維径を有する無機繊維を用いることにより、湿熱をした後にもメッキ性により優れた樹脂成形品が得られる。さらに、樹脂成形品を長期間保存した場合や、長期間にわたって熱処理した場合にも、高いメッキ性を維持できる。なお、無機繊維の数平均繊維径は、電子顕微鏡の観察で得られる画像に対して、繊維径を測定する対象のガラス繊維をランダムに抽出し、中央部に近いところで繊維径を測定し、得られた測定値から算出する。観察の倍率は1,000倍とし、測定本数は1,000本以上として行う。円形以外の断面を有するガラス繊維の数平均繊維径は、断面の面積と同じ面積の円に換算したときの数平均繊維径とする。
The inorganic fiber in the present invention means a fibrous inorganic material, and more specifically, a chopped shape in which 1,000 to 10,000 inorganic fibers are converged and cut to a predetermined length is preferable. .
The inorganic fiber in the present invention preferably has a number average fiber length of 0.5 to 10 mm, more preferably 1 to 5 mm. By using inorganic fibers having such a number average fiber length, the mechanical strength can be further improved. The number average fiber length is obtained by randomly extracting the inorganic fiber to be measured for the image obtained by observation with an optical microscope, measuring the long side, and calculating the number average fiber length from the measured value. calculate. The observation magnification is 20 times, and the number of measurement is 1,000 or more. Generally corresponds to the cut length.
In addition, the cross section of the inorganic fiber may be any shape such as a circle, an ellipse, an oval, a rectangle, a shape in which semicircles are combined on both short sides of the rectangle, or an eyebrow shape, but a circle is preferable. The circular shape here includes not only a circular shape in a mathematical sense but also what is generally called a circular shape in the technical field of the present invention.
The lower limit of the number average fiber diameter of the inorganic fibers is preferably 4.0 μm or more, more preferably 4.5 μm or more, and further preferably 5.0 μm or more. The upper limit of the number average fiber diameter of the inorganic fibers is preferably 15.0 μm or less, more preferably 9.0 μm or less, and even more preferably 7.5 μm or less. By using inorganic fibers having a number average fiber diameter in such a range, a resin molded article having excellent plating properties can be obtained even after wet heat. Furthermore, high plating properties can be maintained even when the resin molded product is stored for a long period of time or is heat-treated for a long period of time. In addition, the number average fiber diameter of the inorganic fiber is obtained by randomly extracting the glass fiber to be measured for the fiber diameter from the image obtained by observation with an electron microscope and measuring the fiber diameter near the center. Calculated from the measured values. The observation magnification is 1,000 times, and the number of measurement is 1,000 or more. The number average fiber diameter of glass fibers having a cross section other than a circle is the number average fiber diameter when converted to a circle having the same area as the cross section.

次に、本発明で好ましく用いられるガラス繊維について説明する。
ガラス繊維は、一般的に供給されるEガラス(Electricalglass)、Cガラス(Chemical glass)、Aガラス(Alkali glass)、Sガラス(High strength glass)、および耐アルカリガラス等のガラスを溶融紡糸して得られる繊維が用いられるが、ガラス繊維にできるものであれば使用可能であり、特に限定されない。本発明では、Eガラスを含むことが好ましい。
Next, the glass fiber preferably used in the present invention will be described.
Glass fiber is obtained by melt-spinning glass such as E glass (Electrical glass), C glass (Chemical glass), A glass (Alkali glass), S glass (High strength glass), and alkali-resistant glass that are generally supplied. Although the fiber obtained is used, it can be used as long as it can be made into glass fiber, and is not particularly limited. In this invention, it is preferable that E glass is included.

本発明で用いるガラス繊維は、例えば、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤等の表面処理剤で表面処理されていることが好ましい。表面処理剤の付着量は、ガラス繊維の0.01〜1重量%であることが好ましい。さらに必要に応じて、脂肪酸アミド化合物、シリコーンオイル等の潤滑剤、第4級アンモニウム塩等の帯電防止剤、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等の被膜形成能を有する樹脂、被膜形成能を有する樹脂と熱安定剤、難燃剤等の混合物で表面処理されたものを用いることもできる。   The glass fiber used in the present invention is surface-treated with a surface treatment agent such as a silane coupling agent such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and γ-aminopropyltriethoxysilane. It is preferable that The adhesion amount of the surface treatment agent is preferably 0.01 to 1% by weight of the glass fiber. Furthermore, if necessary, a lubricant such as a fatty acid amide compound, silicone oil, an antistatic agent such as a quaternary ammonium salt, a resin having a film forming ability such as an epoxy resin or a urethane resin, a resin having a film forming ability and a heat What was surface-treated with a mixture of a stabilizer, a flame retardant, etc. can also be used.

ガラス繊維は市販品として入手できる。市販品としては、例えば、日本電気硝子社製、T286H、T56H、T289H、オーウェンスコーニング社製、DEFT2A、PPG社製、HP3540、日東紡社製、CSG3PA820等が挙げられる。   Glass fiber is available as a commercial product. Examples of commercially available products include Nippon Electric Glass, T286H, T56H, T289H, Owens Corning, DEFT2A, PPG, HP3540, Nittobo, CSG3PA820, and the like.

本発明の樹脂組成物における無機繊維の含有量は、ポリアミド樹脂100重量部に対し、下限が10重量部以上であり、15重量部以上であることが好ましく、20重量部以上であることがより好ましい。上記含有量の上限は、150重量部以下であり、100重量部以下であることが好ましく、80重量部以下であることがより好ましく、70重量部以下であることがさらに好ましい。
本発明の樹脂組成物は、無機繊維を、1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。2種以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
The content of inorganic fibers in the resin composition of the present invention has a lower limit of 10 parts by weight or more, preferably 15 parts by weight or more, and more preferably 20 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin. preferable. The upper limit of the content is 150 parts by weight or less, preferably 100 parts by weight or less, more preferably 80 parts by weight or less, and still more preferably 70 parts by weight or less.
The resin composition of the present invention may contain only one kind of inorganic fiber, or may contain two or more kinds. When 2 or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

本発明の樹脂組成物は、ポリアミド樹脂と無機繊維の合計量が、樹脂組成物の60重量%以上を占めることが好ましく、70重量%以上を占めることがより好ましい。   In the resin composition of the present invention, the total amount of the polyamide resin and the inorganic fibers preferably occupies 60% by weight or more of the resin composition, and more preferably 70% by weight or more.

<タルク>
本発明の樹脂組成物は、さらに、タルクを含んでいてもよい。タルクを配合することによって寸法安定性、製品外観を良好にすることができ、また、タルクを配合することにより、よりメッキ成長速度を早くすることができる。さらに、タルクを配合することにより、LDS添加剤の含有量を減らしても、樹脂成形品のメッキ性を良好にすることができる。タルクは、ポリオルガノハイドロジェンシロキサン類およびオルガノポリシロキサン類から選択される化合物の少なくとも1種で表面処理されたものを用いてもよい。この場合、タルクにおけるシロキサン化合物の付着量は、タルクの0.1〜5重量%であることが好ましい。
タルクの数平均粒子径は1〜50μmであることが好ましく、2〜25μmであることがより好ましい。タルクは、通常、鱗片状であるが、最も長い部分の長さを平均径とする。タルクの数平均粒子径は、電子顕微鏡の観察で得られる画像に対して、粒子径を測定する対象のタルクをランダムに抽出し粒子径を測定し、得られた測定値から算出する。観察の倍率は1,000倍とし、測定数は1,000個以上として行う。
<Talc>
The resin composition of the present invention may further contain talc. By blending talc, dimensional stability and product appearance can be improved, and by blending talc, the plating growth rate can be further increased. Furthermore, by blending talc, the plating property of the resin molded product can be improved even if the content of the LDS additive is reduced. As the talc, one having a surface treated with at least one compound selected from polyorganohydrogensiloxanes and organopolysiloxanes may be used. In this case, the adhesion amount of the siloxane compound in talc is preferably 0.1 to 5% by weight of talc.
The number average particle diameter of talc is preferably 1 to 50 μm, and more preferably 2 to 25 μm. Talc is usually scaly, but the length of the longest part is the average diameter. The number average particle size of talc is calculated from the measured values obtained by randomly extracting talc to be measured for particle size from an image obtained by observation with an electron microscope and measuring the particle size. The observation magnification is 1,000 times, and the number of measurements is 1,000 or more.

本発明の樹脂組成物における、タルクの含有量は、配合する場合、ポリアミド樹脂100重量部に対し、好ましくは1〜30重量部であり、より好ましくは2〜25重量部であり、さらに好ましくは5〜20重量部である。
本発明の樹脂組成物における、タルクの含有量は、配合する場合、LDS添加剤100重量部に対し、0.1〜200重量部であることが好ましく、1〜150重量部であることがより好ましく、20〜120重量部であることがさらに好ましく、80〜120重量部であることが一層好ましい。また、タルクがシロキサン化合物で表面処理されている場合には、シロキサン化合物で表面処理されたタルクの含有量が、上記範囲内であることが好ましい。
When blended, the content of talc in the resin composition of the present invention is preferably 1 to 30 parts by weight, more preferably 2 to 25 parts by weight, further preferably 100 parts by weight of polyamide resin. 5 to 20 parts by weight.
When blended, the content of talc in the resin composition of the present invention is preferably 0.1 to 200 parts by weight and more preferably 1 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the LDS additive. Preferably, it is 20-120 weight part, More preferably, it is 80-120 weight part. When talc is surface-treated with a siloxane compound, the content of talc surface-treated with a siloxane compound is preferably within the above range.

<離型剤>
本発明の樹脂組成物は、離型剤をさらに含有していてもよい。離型剤は、主に、樹脂組成物の成形時の生産性を向上させるために使用されるものである。離型剤としては、例えば、脂肪族カルボン酸アミド系、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボン酸とアルコールとのエステル、数平均分子量200〜15000の脂肪族炭化水素化合物、ポリシロキサン系シリコーンオイルなどが挙げられる。これらの離型剤の中では、特に、カルボン酸アミド系化合物が好ましい。
<Release agent>
The resin composition of the present invention may further contain a release agent. The mold release agent is mainly used for improving the productivity at the time of molding the resin composition. Examples of the release agent include aliphatic carboxylic acid amides, aliphatic carboxylic acids, esters of aliphatic carboxylic acids and alcohols, aliphatic hydrocarbon compounds having a number average molecular weight of 200 to 15000, polysiloxane silicone oils, and the like. Can be mentioned. Among these release agents, carboxylic acid amide compounds are particularly preferable.

脂肪族カルボン酸アミド系としては、例えば、高級脂肪族モノカルボン酸および/または多塩基酸とジアミンとの脱水反応によって得られる化合物が挙げられる。
離型剤の詳細は、特開2016−196563号公報の段落0037〜0042の記載および特開2016−078318号公報の段落0048〜0058の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Examples of the aliphatic carboxylic acid amide system include compounds obtained by a dehydration reaction between a higher aliphatic monocarboxylic acid and / or a polybasic acid and a diamine.
Details of the mold release agent can be referred to the descriptions in paragraphs 0037 to 0042 of JP-A-2006-196563 and paragraphs 0048 to 0058 of JP-A-2006-078318, the contents of which are incorporated herein. .

離型剤の含有量は、配合する場合、樹脂組成物に対して、下限は、好ましくは0.001重量%以上であり、より好ましくは0.01重量%以上であり、また、上限は、好ましくは2重量%以下、より好ましくは1.5重量%以下である。このような範囲とすることによって、離型性を良好にすることができ、また、射出成形時の金型汚染を防止することができる。離型剤は、1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。2種以上用いる場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。   The content of the release agent, when blended, is preferably 0.001% by weight or more, more preferably 0.01% by weight or more with respect to the resin composition, and the upper limit is Preferably it is 2 weight% or less, More preferably, it is 1.5 weight% or less. By setting it as such a range, mold release property can be made favorable and the mold contamination at the time of injection molding can be prevented. A mold release agent may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.

<熱安定剤>
本発明の樹脂組成物は、有機系および/または無機系熱安定剤をさらに含有していてもよい。
有機系熱安定剤としては、フェノール系化合物、ホスファイト系化合物、ヒンダードアミン系化合物、トリアジン系化合物、およびイオウ系化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
熱安定剤としては、1種のみ用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Heat stabilizer>
The resin composition of the present invention may further contain an organic and / or inorganic heat stabilizer.
The organic heat stabilizer is preferably at least one selected from the group consisting of phenolic compounds, phosphite compounds, hindered amine compounds, triazine compounds, and sulfur compounds.
As a heat stabilizer, only 1 type may be used and it may be used in combination of 2 or more type.

熱安定剤の含有量は、含有する場合、本発明の樹脂組成物100重量部に対して、0.01重量部〜5重量部であることが好ましく、0.03〜4重量部であることがより好ましい。熱安定剤が少なすぎると熱安定効果が不十分となる可能性があり、熱安定剤が多すぎると効果が頭打ちとなり経済的でなくなる可能性がある。   When contained, the content of the heat stabilizer is preferably 0.01 to 5 parts by weight, and 0.03 to 4 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the resin composition of the present invention. Is more preferable. If the amount of the heat stabilizer is too small, the heat stabilization effect may be insufficient. If the amount of the heat stabilizer is too large, the effect may reach a peak and may not be economical.

<光安定剤>
本発明の樹脂組成物は、有機系および/または無機系光安定剤を含んでいてもよい。
有機系光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、およびシアノアクリレート系化合物などの紫外線吸収効果のある化合物、並びにヒンダードアミン系化合物およびヒンダードフェノール系化合物などのラジカル捕捉能力のある化合物などが挙げられる。
光安定剤としては、紫外線吸収効果のある化合物とラジカル捕捉能力のある化合物を併用することにより、より高い安定化効果を発揮させることができる。
光安定剤としては、1種のみ用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Light stabilizer>
The resin composition of the present invention may contain an organic and / or inorganic light stabilizer.
Examples of organic light stabilizers include compounds having an ultraviolet absorption effect such as benzophenone compounds, salicylate compounds, benzotriazole compounds, and cyanoacrylate compounds, and radicals such as hindered amine compounds and hindered phenol compounds. Examples thereof include compounds having a capturing ability.
As a light stabilizer, a higher stabilizing effect can be exhibited by using a compound having an ultraviolet absorption effect and a compound having a radical scavenging ability in combination.
As a light stabilizer, only 1 type may be used and it may be used in combination of 2 or more type.

光安定剤の含有量は、本発明の樹脂組成物100重量部に対して、0.01〜5重量部であることが好ましく、0.01〜4重量部であることがより好ましい。   The content of the light stabilizer is preferably 0.01 to 5 parts by weight and more preferably 0.01 to 4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition of the present invention.

<アルカリ>
本発明の樹脂組成物はアルカリを含んでいてもよい。本発明で用いるLDS添加剤が酸性物質(例えば、pH6以下)の場合に、組み合わせによって自身が還元することで色目がまだら模様となるケースがあるが、アルカリを添加することにより、得られる樹脂成形品の色あいをより均一にすることができる。アルカリの種類は特に定めるものではなく、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等を用いることができる。アルカリは、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物における、アルカリの含有量は、LDS添加剤の種類およびアルカリの種類にもよるが、LDS添加剤の含有量の、好ましくは0.01〜20重量%であり、より好ましくは0.05〜15重量%である。
<Alkali>
The resin composition of the present invention may contain an alkali. When the LDS additive used in the present invention is an acidic substance (for example, pH 6 or less), there is a case where the color becomes a mottled pattern by reducing itself by the combination, but the resin molding obtained by adding an alkali The color of the product can be made more uniform. The kind of alkali is not particularly defined, and calcium hydroxide, magnesium hydroxide and the like can be used. Only 1 type may be used for an alkali and it may use 2 or more types together.
In the resin composition of the present invention, the alkali content depends on the type of LDS additive and the type of alkali, but is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably the content of the LDS additive. Is 0.05 to 15% by weight.

<その他の添加剤>
本発明の樹脂組成物は、上記の他、他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、エラストマー、無機繊維以外のフィラー、酸化チタン、酸化防止剤、耐加水分解性改良剤、艶消剤、紫外線吸収剤、核剤、可塑剤、分散剤、帯電防止剤、着色防止剤、ゲル化防止剤、着色剤等が例示される。これらの詳細は、特許第4894982号公報の段落0130〜0155の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。これらの成分は、合計で、樹脂組成物の20重量%以下であることが好ましい。これらの成分は、それぞれ、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、本発明の樹脂組成物は、難燃剤の含有量が、ポリアミド樹脂100重量部に対し、5重量部以下であり、かつ、前記ホウ酸亜鉛の含有量の100重量%以下である。好ましくは、樹脂組成物における難燃剤の含有量が、ポリアミド樹脂100重量部に対し、3重量部以下であり、かつ、前記ホウ酸亜鉛の含有量の50重量%以下である。さらに好ましくは、樹脂組成物における難燃剤の含有量が、ポリアミド樹脂100重量部に対し、3重量部以下であり、かつ、前記ホウ酸亜鉛の含有量の10重量%以下である。一層好ましくは、樹脂組成物における難燃剤の含有量が実質的にゼロである。難燃剤には、リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤等が含まれる。
<Other additives>
The resin composition of the present invention may contain other components in addition to the above. Other components include elastomers, fillers other than inorganic fibers, titanium oxide, antioxidants, hydrolysis resistance improvers, matting agents, UV absorbers, nucleating agents, plasticizers, dispersants, antistatic agents, coloring Examples thereof include an inhibitor, an antigelling agent, and a colorant. Details of these can be referred to the description of paragraphs 0130 to 0155 of Japanese Patent No. 4894982, the contents of which are incorporated herein. These components are preferably a total of 20% by weight or less of the resin composition. Each of these components may be used alone or in combination of two or more.
In the resin composition of the present invention, the content of the flame retardant is 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin, and 100% by weight or less of the content of the zinc borate. Preferably, the content of the flame retardant in the resin composition is 3 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin, and 50% by weight or less of the content of the zinc borate. More preferably, the content of the flame retardant in the resin composition is 3 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin and 10% by weight or less of the content of the zinc borate. More preferably, the flame retardant content in the resin composition is substantially zero. Examples of the flame retardant include a phosphorus-based flame retardant and a halogen-based flame retardant.

<樹脂組成物の製造方法>
本発明の樹脂組成物の製造方法としては、任意の方法が採用される。
例えば、ポリアミド樹脂、無機繊維、LDS添加剤等をV型ブレンダー等の混合手段を用いて混合し、一括ブレンド品を調製した後、ベント付き押出機で溶融混練してペレット化する方法が挙げられる。あるいは、二段階練込法として、予め、無機繊維以外の成分等を、十分混合後、ベント付き押出機で溶融混練りしてペレットを製造した後、そのペレットと無機繊維を混合後、ベント付き押出機で溶融混練りする方法が挙げられる。
さらに、無機繊維以外の成分等を、V型ブレンダー等で十分混合したものを予め調製しておき、それをベント付き二軸押出機の第一シュートより供給し、無機繊維は押出機途中の第二シュートより供給して溶融混練、ペレット化する方法が挙げられる。
<Method for producing resin composition>
Arbitrary methods are employ | adopted as a manufacturing method of the resin composition of this invention.
For example, a method of mixing polyamide resin, inorganic fiber, LDS additive, etc. using a mixing means such as a V-type blender to prepare a batch blend, and then melt-kneading with a vented extruder to pelletize. . Alternatively, as a two-stage kneading method, components other than inorganic fibers, etc., are mixed in advance and then melt-kneaded with a vented extruder to produce pellets, and then the pellets and inorganic fibers are mixed and then vented The method of melt-kneading with an extruder is mentioned.
Further, a component in which components other than the inorganic fibers are sufficiently mixed with a V-type blender is prepared in advance, and is supplied from the first chute of the twin screw extruder with a vent. A method of supplying from two chutes and melt-kneading and pelletizing can be mentioned.

押出機の混練ゾーンのスクリュー構成は、混練を促進するエレメントを上流側に、昇圧能力のあるエレメントを下流側に配置されることが好ましい。
混練を促進するエレメントとしては、順送りニーディングディスクエレメント、直交ニーディングディスクエレメント、幅広ニーディングディスクエレメント、および順送りミキシングスクリューエレメント等が挙げられる。
As for the screw configuration of the kneading zone of the extruder, it is preferable that the element that promotes kneading is arranged on the upstream side, and the element having a boosting ability is arranged on the downstream side.
Examples of elements that promote kneading include a progressive kneading disk element, an orthogonal kneading disk element, a wide kneading disk element, and a progressive mixing screw element.

溶融混練に際しての加熱温度は、通常180〜360℃の範囲から適宜選ぶことができる。温度が高すぎると分解ガスが発生しやすく、ストランド切れ等押出不良の原因になる場合がある。それ故、剪断発熱等に考慮したスクリュー構成の選定が望ましい。混練り時や、後工程の成形時の分解を抑制するため、酸化防止剤や熱安定剤の使用が望ましい。   The heating temperature at the time of melt kneading can be appropriately selected from the range of usually 180 to 360 ° C. If the temperature is too high, decomposition gas tends to be generated, which may cause extrusion failure such as strand breakage. Therefore, it is desirable to select a screw configuration in consideration of shear heat generation. In order to suppress decomposition at the time of kneading or molding in a subsequent process, it is desirable to use an antioxidant or a heat stabilizer.

<樹脂成形品>
本発明は、また、本発明の樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品を開示する。本発明の樹脂成形品は、その一部の表面粗さRaが4.0μm以上であることが好ましく、4.2μm以上であることがより好ましく、5.0μm以上であることがさらに好ましい。前記表面粗さRaの上限値は、例えば、7.0μm以下であり、6.5μm以下であってもよい。このように表面粗さが大きい部分は、レーザーを照射することによって形成される。一方、前記樹脂成形品の他の一部の表面粗さRaは1.0μm以下であることが好ましく、0.5μm以下であることがより好ましく、0.3μm以下であることがさらに好ましい。このように、レーザー照射した一部の領域のみ表面粗さを高くすることにより、外観に優れ、かつ、メッキとの密着性が高い樹脂成形品が得られる。
<Resin molded product>
The present invention also discloses a resin molded product obtained by molding the resin composition of the present invention. The resin molded product of the present invention preferably has a partial surface roughness Ra of 4.0 μm or more, more preferably 4.2 μm or more, and even more preferably 5.0 μm or more. The upper limit value of the surface roughness Ra is, for example, 7.0 μm or less, and may be 6.5 μm or less. Thus, a part with a large surface roughness is formed by irradiating a laser. On the other hand, the surface roughness Ra of the other part of the resin molded product is preferably 1.0 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, and further preferably 0.3 μm or less. Thus, by increasing the surface roughness only in a part of the region irradiated with the laser, a resin molded product having excellent appearance and high adhesion to the plating can be obtained.

本発明における、樹脂成形品の製造方法は、特に限定されず、樹脂組成物について一般に採用されている成形法を任意に採用できる。その例を挙げると、射出成形法、超高速射出成形法、射出圧縮成形法、二色成形法、ガスアシスト等の中空成形法、断熱金型を使用した成形法、急速加熱金型を使用した成形法、発泡成形(超臨界流体も含む)、インサート成形、IMC(インモールドコーティング成形)成形法、押出成形法、シート成形法、熱成形法、回転成形法、積層成形法、プレス成形法、ブロー成形法などが挙げられる。また、ホットランナー方式を使用した成形法を用いることもできる。   The method for producing a resin molded product in the present invention is not particularly limited, and a molding method generally adopted for the resin composition can be arbitrarily adopted. For example, injection molding method, ultra-high speed injection molding method, injection compression molding method, two-color molding method, hollow molding method such as gas assist, molding method using heat insulating mold, rapid heating mold were used. Molding method, foam molding (including supercritical fluid), insert molding, IMC (in-mold coating molding) molding method, extrusion molding method, sheet molding method, thermoforming method, rotational molding method, laminate molding method, press molding method, Examples thereof include a blow molding method. A molding method using a hot runner method can also be used.

本発明の樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品は、樹脂成形品の表面にメッキを有する、メッキ付樹脂成形品として好ましく用いられる。本発明の樹脂成形品におけるメッキはアンテナとしての性能を保有する態様が好ましい。 The resin molded product formed by molding the resin composition of the present invention is preferably used as a resin molded product with plating having plating on the surface of the resin molded product. The plating in the resin molded product of the present invention preferably has an antenna performance.

<メッキ付き樹脂成形品の製造方法>
次に、本発明の樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品の表面に、レーザーを照射後、金属を適用して、メッキを形成することを含む、メッキ付樹脂成形品の製造方法について開示する。
図1は、レーザーダイレクトストラクチャリング技術によって、樹脂成形品1の表面にメッキを形成する工程を示す概略図である。図1では、樹脂成形品1は、平坦な基板となっているが、必ずしも平坦な基板である必要はなく、一部または全部が曲面している樹脂成形品であってもよい。また、得られるメッキ付き樹脂成形品は、最終製品に限らず、各種部品も含む趣旨である。
<Manufacturing method of resin molded product with plating>
Next, a method for producing a resin-molded article with plating, which includes forming a plating by applying a metal to the surface of a resin-molded article obtained by molding the resin composition of the present invention after laser irradiation is disclosed. To do.
FIG. 1 is a schematic view showing a process of forming plating on the surface of a resin molded product 1 by a laser direct structuring technique. In FIG. 1, the resin molded product 1 is a flat substrate. However, the resin molded product 1 is not necessarily a flat substrate, and may be a resin molded product having a partially or entirely curved surface. Moreover, the resin molded product with plating obtained is not limited to the final product, and includes various parts.

再び図1に戻り、樹脂成形品1にレーザー2を照射する。ここでのレーザーとは、特に定めるものではなく、YAGレーザー、エキシマレーザー、電磁線等の公知のレーザーから適宜選択することができ、YAGレーザーが好ましい。また、レーザーの波長も特に定めるものではない。好ましい波長範囲は、200nm〜1200nmであり、より好ましくは800〜1200nmである。
レーザーが照射されると、レーザーが照射された部分3のみ、樹脂成形品1が活性化される。この活性化された状態で、樹脂成形品1をメッキ液4に適用する。メッキ液4としては、特に定めるものではなく、公知のメッキ液を広く採用することができ、金属成分として、銅、ニッケル、銀、金、およびパラジウムの少なくとも1種以上からなるメッキ液(特に、無電解のメッキ液)が好ましく、銅、ニッケル、銀、および金の少なくとも1種以上からなるメッキ液(特に、無電解のメッキ液)がより好ましく、銅を含むメッキ液(特に、無電解のメッキ液)がさらに好ましい。すなわち、本発明におけるメッキは、金属成分が、上記金属の少なくとも1種からなることが好ましい。
樹脂成形品1をメッキ液4に適用する方法についても、特に定めるものではないが、例えば、メッキ液を配合した液中に投入する方法が挙げられる。メッキ液を適用後の樹脂成形品は、レーザー照射した部分のみ、メッキ5が形成される。
本発明の方法では、1mm以下、さらには、150μm以下の幅の間隔(下限値は特に定めるものではないが、例えば、30μm以上)を有するメッキ(回路)を形成することができる。メッキは、形成したメッキ(回路)の腐食や劣化を抑えるために、例えば無電解メッキを実施した後にニッケル、金でさらに保護することもできる。また、同様に無電解メッキ後に電解メッキを用い、必要な膜厚を短時間で形成することもできる。
また、上記メッキ付樹脂成形品の製造方法は、上記メッキ付樹脂成形品の製造方法を含む、アンテナを有する携帯電子機器部品の製造方法として好ましく用いられる。
Returning again to FIG. 1, the resin molded product 1 is irradiated with a laser 2. The laser here is not particularly defined, and can be appropriately selected from known lasers such as a YAG laser, an excimer laser, and electromagnetic radiation, and a YAG laser is preferable. Further, the wavelength of the laser is not particularly defined. A preferable wavelength range is 200 nm to 1200 nm, and more preferably 800 to 1200 nm.
When the laser is irradiated, the resin molded product 1 is activated only in the portion 3 irradiated with the laser. In this activated state, the resin molded product 1 is applied to the plating solution 4. The plating solution 4 is not particularly defined, and a known plating solution can be widely used. As the metal component, a plating solution comprising at least one of copper, nickel, silver, gold, and palladium (in particular, Electroless plating solution) is preferred, plating solution comprising at least one of copper, nickel, silver, and gold (especially electroless plating solution) is more preferred, and plating solution containing copper (especially electroless plating solution). Plating solution) is more preferable. That is, in the plating according to the present invention, the metal component is preferably made of at least one of the above metals.
The method of applying the resin molded product 1 to the plating solution 4 is not particularly defined, but for example, a method of introducing the resin molded product 1 into a solution containing the plating solution. In the resin molded product after applying the plating solution, the plating 5 is formed only on the portion irradiated with the laser.
In the method of the present invention, plating (circuit) having an interval of a width of 1 mm or less, further 150 μm or less (the lower limit is not particularly defined, but 30 μm or more, for example) can be formed. In order to suppress corrosion and deterioration of the formed plating (circuit), the plating can be further protected with nickel or gold after performing electroless plating, for example. Similarly, the required film thickness can be formed in a short time by using electroplating after electroless plating.
The method for producing a plated resin molded product is preferably used as a method for producing a portable electronic device part having an antenna, including the method for producing the plated resin molded product.

本発明の樹脂組成物から得られる樹脂成形品は、例えば、コネクタ、スイッチ、リレー、導電回路等の電子部品(特に、携帯電子機器部品)などの種々の用途に用いることができる。   The resin molded product obtained from the resin composition of the present invention can be used for various applications such as electronic components (particularly portable electronic device components) such as connectors, switches, relays, and conductive circuits.

その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、特開2011−219620号公報、特開2011−195820号公報、特開2011−178873号公報、特開2011−168705号公報、特開2011−148267号公報の記載を参酌することができる。   In addition, within the range which does not deviate from the meaning of the present invention, JP2011-219620A, JP2011-195820A, JP2011-178873A, JP2011-168705A, JP2011-148267A. The description of the publication can be taken into consideration.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

以下に示す原材料を用いた。
<ポリアミド樹脂PXD10の合成>
撹拌機、分縮器、冷却器、温度計、滴下装置および窒素導入管、ストランドダイを備えた反応容器に、精秤したセバシン酸(伊藤製油社製、セバシン酸TA)8950g(44.25mol)、次亜リン酸カルシウム12.54g(0.074mol)、酢酸ナトリウム6.45g(0.079mol)を秤量して仕込んだ。反応容器内を十分に窒素置換した後、窒素で0.4MPaに加圧し、撹拌しながら20℃から190℃に昇温して55分間でセバシン酸を均一に溶融した。次いでパラキシリレンジアミン(三菱ガス化学社製)5960g(43.76mol)を撹拌下で110分を要して滴下した。この間、反応容器内温は293℃まで連続的に上昇させた。滴下工程では圧力を0.42MPaに制御し、生成した水は分縮器および冷却器を通して系外に除いた。分縮器の温度は145〜147℃の範囲に制御した。パラキシリレンジアミン滴下終了後、反応容器内圧力0.42MPaにて20分間重縮合反応を継続した。この間、反応容器内温は296℃まで上昇させた。その後、30分間で反応容器内圧力を0.42MPaから0.12MPaまで減圧した。この間に内温は298℃まで昇温した。その後0.002MPa/分の速度で減圧し、20分間で0.08MPaまで減圧した。減圧完了時の反応容器内の温度は301℃であった。その後、系内を窒素で加圧し、反応容器内温度301℃、樹脂温度301℃で、ストランドダイからポリマーをストランド状に取出して20℃の冷却水にて冷却し、これをペレット化した。得られたポリアミド樹脂の融点は、290℃であった。
The following raw materials were used.
<Synthesis of polyamide resin PXD10>
8950 g (44.25 mol) of sebacic acid (made by Ito Oil Co., Ltd., Sebacic acid TA) precisely weighed in a reaction vessel equipped with a stirrer, a condenser, a cooler, a thermometer, a dropping device and a nitrogen introduction tube, and a strand die. Then, 12.54 g (0.074 mol) of calcium hypophosphite and 6.45 g (0.079 mol) of sodium acetate were weighed and charged. After sufficiently purging the inside of the reaction vessel with nitrogen, the pressure was increased to 0.4 MPa with nitrogen, the temperature was raised from 20 ° C. to 190 ° C. with stirring, and sebacic acid was uniformly melted in 55 minutes. Next, 5960 g (43.76 mol) of paraxylylenediamine (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added dropwise over 110 minutes with stirring. During this time, the internal temperature of the reaction vessel was continuously increased to 293 ° C. In the dropping step, the pressure was controlled to 0.42 MPa, and the generated water was removed from the system through a partial condenser and a cooler. The temperature of the partial condenser was controlled in the range of 145 to 147 ° C. After completion of dropwise addition of paraxylylenediamine, the polycondensation reaction was continued for 20 minutes at a reaction vessel internal pressure of 0.42 MPa. During this time, the temperature inside the reaction vessel was raised to 296 ° C. Thereafter, the internal pressure of the reaction vessel was reduced from 0.42 MPa to 0.12 MPa over 30 minutes. During this time, the internal temperature rose to 298 ° C. Thereafter, the pressure was reduced at a rate of 0.002 MPa / minute, and the pressure was reduced to 0.08 MPa over 20 minutes. The temperature in the reaction vessel at the time of completion of decompression was 301 ° C. Thereafter, the inside of the system was pressurized with nitrogen, and the polymer was taken out from the strand die in a strand shape at a reaction vessel internal temperature of 301 ° C. and a resin temperature of 301 ° C., and cooled with 20 ° C. cooling water, and pelletized. The melting point of the obtained polyamide resin was 290 ° C.

<<融点の測定>>
融点は、DSC(示差走査熱量測定)法により観測される昇温時の吸熱ピークのピークトップの温度として測定した。
測定には、DSC測定器を用い、試料量は約1mgとし、雰囲気ガスとしては窒素を30mL/分で流し、昇温速度は10℃/分の条件で室温から予想される融点以上の温度まで加熱し溶融させた際に観測される吸熱ピークのピークトップの温度から融点を求めた。
DSC測定器としては、島津製作所(SHIMADZU CORPORATION)社製、DSC−60を用いた。
融点の単位は、℃である。
<< Measurement of melting point >>
The melting point was measured as the peak top temperature of the endothermic peak at the time of temperature rise observed by DSC (Differential Scanning Calorimetry).
For the measurement, a DSC measuring instrument was used, the sample amount was about 1 mg, nitrogen was flowed at 30 mL / min as the atmospheric gas, and the rate of temperature increase was from room temperature to a temperature higher than the expected melting point at 10 ° C./min. The melting point was determined from the temperature at the peak top of the endothermic peak observed when heated and melted.
As the DSC measuring instrument, DSC-60 manufactured by Shimadzu Corporation was used.
The unit of melting point is ° C.

<ポリアミド樹脂MP10の合成>
撹拌機、分縮器、全縮器、温度計、滴下ロートおよび窒素導入管、ストランドダイを備えた反応容器に、精秤したセバシン酸12,135g(60mol)、次亜リン酸ナトリウム一水和物(NaHPO・HO)3.105g(ポリアミド樹脂中のリン原子濃度として50重量ppm)、酢酸ナトリウム1.61gを入れ、十分に窒素置換した後、さらに少量の窒素気流下で系内を撹拌しながら170℃まで加熱した。酢酸ナトリウム/次亜リン酸ナトリウム一水和物のモル比は、0.67とした。
これにメタキシリレンジアミンとパラキシリレンジアミンの7:3の混合ジアミン8,172g(60mol)を撹拌下に滴下し、生成する縮合水を系内へ除きながら系内を連続的に昇温した。混合メタキシリレンジアミンの滴下終了後、内温を260℃として40分間溶融重合反応を連続した。
その後、系内を窒素で加圧し、ストランドダイからポリマーを取り出して、これをペレット化した。得られたポリアミドの融点は215℃であった。
<Synthesis of polyamide resin MP10>
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a partial condenser, a full condenser, a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introducing tube, and a strand die, 12,135 g (60 mol) of sebacic acid precisely weighed, sodium hypophosphite monohydrate (NaH 2 PO 2 .H 2 O) 3.105 g (phosphorus atom concentration in the polyamide resin 50 ppm by weight) and 1.61 g of sodium acetate were sufficiently substituted with nitrogen, and then under a small amount of nitrogen stream The system was heated to 170 ° C. with stirring. The molar ratio of sodium acetate / sodium hypophosphite monohydrate was 0.67.
To this, 7,172 g (60 mol) of a 7: 3 mixed diamine of metaxylylenediamine and paraxylylenediamine was added dropwise with stirring, and the system was continuously heated while removing the condensed water produced. . After completion of the dropwise addition of the mixed metaxylylenediamine, the melt polymerization reaction was continued for 40 minutes at an internal temperature of 260 ° C.
Thereafter, the inside of the system was pressurized with nitrogen, the polymer was taken out from the strand die, and pelletized. The resulting polyamide had a melting point of 215 ° C.

<ポリアミド樹脂MP6の合成>
撹拌機、分縮器、全縮器、温度計、滴下ロートおよび窒素導入管、ストランドダイを備えた反応容器に、アジピン酸(Roadia社製)7.22kg(49.4mol)および酢酸ナトリウム/次亜リン酸ナトリウム・一水和物(モル比=1/1.5)11.66gを仕込み、十分に窒素置換した後、さらに少量の窒素気流下で系内を撹搾しながら170℃まで加熱溶融した。
メタキシリレンジアミンとパラキシリレンジアミンのモル比が70/30である混合キシリレンジアミン6.647kg(メタキシリレンジアミン34.16mol、パラキシリレンジアミン14.64mol、三菱ガス化学社製)を、反応容器内の溶融物に撹拌下で滴下し、生成する縮合水を系外に排出しながら、内温を連続的に2.5時間かけて240℃まで昇温した。
滴下終了後、内温を上昇させ、250℃に達した時点で反応容器内を減圧にし、さらに内温を上昇させて270℃で20分間、溶融重縮合反応を継続した。その後、系内を窒素で加圧し、得られた重合物をストランドダイから取り出して、これをペレット化することにより、ポリアミド樹脂を得た。融点は、255℃であった。
<Synthesis of polyamide resin MP6>
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a partial condenser, a full condenser, a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and a strand die, 7.22 kg (49.4 mol) of adipic acid (Rodia) and sodium acetate / next After charging 11.66 g of sodium phosphite monohydrate (molar ratio = 1 / 1.5) and thoroughly replacing with nitrogen, heat to 170 ° C while stirring the system under a small amount of nitrogen. Melted.
6.647 kg of mixed xylylenediamine having a molar ratio of metaxylylenediamine and paraxylylenediamine of 70/30 (34.16 mol of metaxylylenediamine, 14.64 mol of paraxylylenediamine, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company), The mixture was added dropwise to the melt in the reaction vessel with stirring, and the internal temperature was continuously raised to 240 ° C. over 2.5 hours while discharging the generated condensed water out of the system.
After completion of the dropping, the internal temperature was raised, and when the temperature reached 250 ° C., the pressure in the reaction vessel was reduced, and the internal temperature was further raised to continue the melt polycondensation reaction at 270 ° C. for 20 minutes. Thereafter, the inside of the system was pressurized with nitrogen, and the obtained polymer was taken out of the strand die and pelletized to obtain a polyamide resin. The melting point was 255 ° C.

<LDS添加剤>
Black1G:銅クロム酸化物(CuCr)(シェファードジャパン社製)
CP5C:アンチモンドープ酸化錫(酸化錫95重量%、酸化アンチモン5重量%)(Keeling&Walker社製)
<LDS additive>
Black1G: Copper chromium oxide (CuCr 2 O 4 ) (manufactured by Shepherd Japan)
CP5C: antimony-doped tin oxide (95% by weight of tin oxide, 5% by weight of antimony oxide) (manufactured by Keeling & Walker)

<ホウ酸亜鉛または代替物>
ホウ酸亜鉛:FirebrakeZB、Borax社製
水酸化マグネシウム:純正化学社製、特級
錫酸亜鉛:Flamtard−S、日本軽金属社製
<Zinc borate or alternatives>
Zinc borate: Firebrake ZB, manufactured by Borax Magnesium hydroxide: manufactured by Junsei Kagaku, special grade zinc stannate: Flametard-S, manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd.

<難燃剤>
ホスファゼンFB−110:伏見製薬社製
<Flame Retardant>
Phosphazene FB-110: Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd.

<ガラス繊維>
T756H:日本電気硝子社製、ウレタン系集束剤、カット長(数平均繊維長)3mm、数平均繊維径10μm、ガラス繊維の断面は円形である。
<Glass fiber>
T756H: manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., urethane sizing agent, cut length (number average fiber length) 3 mm, number average fiber diameter 10 μm, and glass fiber has a circular cross section.

<タルク>
5000S:ミクロンホワイト5000S、平均径4.7μm(林化成社製)
<Talc>
5000S: Micron White 5000S, average diameter 4.7 μm (manufactured by Hayashi Kasei Co., Ltd.)

<離型剤>
CS8CP:モンタン酸カルシウム(日東化成工業社製)
<Release agent>
CS8CP: Calcium montanate (Nitto Kasei Kogyo Co., Ltd.)

実施例1
<コンパウンド>
後述する下記表1に示す組成となるように、各成分をそれぞれ秤量し、ガラス繊維を除く成分をタンブラーにてブレンドし、二軸押出機(東芝機械社製、TEM26SS)の根元から投入し、溶融した後で、ガラス繊維をサイドフィードしてペレットを作製した。二軸押出機の温度設定は、300℃とした。
Example 1
<Compound>
Each component was weighed so as to have the composition shown in Table 1 below, blended with a tumbler, except for glass fiber, and charged from the root of a twin-screw extruder (Toshiki Machine Co., Ltd., TEM26SS), After melting, glass fibers were side fed to produce pellets. The temperature setting of the twin screw extruder was 300 ° C.

<表面粗さRa>
上述の製造方法で得られたペレットを120℃で5時間乾燥させた後、日精樹脂工業社製、SG75−MIIを用いて、シリンダー温度300℃、金型温度130℃、成形サイクル50秒の条件で射出成形し、3mm厚さのプレートを成形した。 得られたプレートについて、波長1064nmのYAGレーザーを、出力10W、速度80m/s、周波数3μsで照射した。照射後、JIS B 0601に準拠し、レーザー照射部のRaを測定した。測定に際し、東京精密(株)製、SURFCOM 3000A-3DF-STDを用いた。結果を表1に示した。
また、レーザー未照射部のRaについても同様に測定した。
<Surface roughness Ra>
After drying the pellet obtained by the above-mentioned manufacturing method at 120 ° C. for 5 hours, using Nissei Plastic Industries, SG75-MII, conditions of a cylinder temperature of 300 ° C., a mold temperature of 130 ° C., and a molding cycle of 50 seconds And 3 mm thick plate was formed by injection molding. The obtained plate was irradiated with a YAG laser having a wavelength of 1064 nm at an output of 10 W, a speed of 80 m / s, and a frequency of 3 μs. After the irradiation, Ra of the laser irradiation part was measured according to JIS B 0601. In the measurement, SURFCOM 3000A-3DF-STD manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. was used. The results are shown in Table 1.
Moreover, it measured similarly about Ra of a laser unirradiated part.

<メッキ引き剥がし強度>
上述の製造方法で得られたペレットを120℃で5時間乾燥させた後、日精樹脂工業社製、SG75−MIIを用いて、シリンダー温度300℃、金型温度130℃、成形サイクル50秒の条件で射出成形し、3mm厚さのプレートを成形した。 得られたプレートについて、波長1064nmのYAGレーザーを、出力10W、速度80m/s、周波数3μsで照射した。試験片を硫酸にて脱脂後、キザイ社製、THPアルカリアクチおよびTHPアルカリアクセで処理し、キザイ社製SELカッパーにて銅メッキ処理を行った。得られた銅メッキパターンを、90度剥離試験により、20mm/分の速さで10mm引き剥がした際の検出荷重から積分平均値を算出した。測定には、インストロン社製、ロードセル2kNを用いた。結果を表1に示した。
<Plating peel strength>
After drying the pellet obtained by the above-mentioned manufacturing method at 120 ° C. for 5 hours, using Nissei Plastic Industries, SG75-MII, conditions of a cylinder temperature of 300 ° C., a mold temperature of 130 ° C., and a molding cycle of 50 seconds And 3 mm thick plate was formed by injection molding. The obtained plate was irradiated with a YAG laser having a wavelength of 1064 nm at an output of 10 W, a speed of 80 m / s, and a frequency of 3 μs. The test piece was degreased with sulfuric acid and then treated with Kizai, THP Alkali Acti and THP Alkali Ax, and subjected to copper plating with a SEL copper made by Kizai. The integrated average value was calculated from the detected load when the obtained copper plating pattern was peeled 10 mm at a speed of 20 mm / min by a 90-degree peel test. For the measurement, a load cell 2 kN manufactured by Instron was used. The results are shown in Table 1.

<メッキ成長速度>
上述の製造方法で得られたペレットを120℃で5時間乾燥させた後、日精樹脂工業社製、SG75−MIIを用いて、シリンダー温度300℃、金型温度130℃、成形サイクル50秒の条件で射出成形し、3mm厚さのプレートを成形した。 得られたプレートについて、波長1064nmのYAGレーザーを、出力10W、速度80m/s、周波数3μsで照射した。試験片を硫酸にて脱脂後、キザイ社製、THPアルカリアクチおよびTHPアルカリアクセで処理し、キザイ社製SELカッパーにて銅メッキ処理を行った。得られた銅メッキパターンの膜厚を、ヤマト科学(株)製、蛍光X線式膜厚計FT110を用いて測定した。メッキ厚みは任意の測定箇所3ヶ所の平均値から算出した。
各実施例および比較例の膜厚について、比較例1の膜厚を1.0としたときのとの比でした。膜厚が厚いほど、成長速度が速いと言える。結果を表1に示した。
<Plating growth rate>
After drying the pellet obtained by the above-mentioned manufacturing method at 120 ° C. for 5 hours, using Nissei Plastic Industries, SG75-MII, conditions of a cylinder temperature of 300 ° C., a mold temperature of 130 ° C., and a molding cycle of 50 seconds And 3 mm thick plate was formed by injection molding. The obtained plate was irradiated with a YAG laser having a wavelength of 1064 nm at an output of 10 W, a speed of 80 m / s, and a frequency of 3 μs. The test piece was degreased with sulfuric acid and then treated with Kizai, THP Alkali Acti and THP Alkali Ax, and subjected to copper plating with a SEL copper made by Kizai. The film thickness of the obtained copper plating pattern was measured using a fluorescent X-ray film thickness meter FT110 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd. The plating thickness was calculated from the average value of three arbitrary measurement locations.
About the film thickness of each Example and the comparative example, it was ratio with the film thickness of the comparative example 1 being 1.0. It can be said that the thicker the film, the faster the growth rate. The results are shown in Table 1.

実施例2〜7、比較例1〜6
実施例1において、表1または表2に記載の通り変更し、他は同様に行った。結果を表1または表2に示した。
Examples 2-7, Comparative Examples 1-6
In Example 1, it changed as described in Table 1 or Table 2, and performed others similarly. The results are shown in Table 1 or Table 2.

上記結果から明らかなとおり、本発明の樹脂組成物は、レーザーを照射した部分の表面粗さを大きくできた。さらに、メッキ引き剥がし強度を高くでき、メッキを剥がれにくくすることが可能になった。
さらに、メッキ成長速度を速くすることが可能になった。
これに対し、ホウ酸亜鉛を添加しない場合(比較例1および2)や、ホウ酸亜鉛を添加せず、かつ、代わりに公知の難燃助剤として知られている化合物を配合した場合(比較例4および5)では、メッキ引き剥がし強度が小さくなり、メッキが剥がれやすかった。
また、ホウ酸亜鉛の量が本発明の範囲を超える場合(比較例3)、押出が困難であった。
さらに、ホウ酸亜鉛を添加しても、難燃剤も一緒に配合した場合(比較例6)、メッキ引き剥がし強度が小さくなり、メッキが剥がれやすかった。
As apparent from the above results, the resin composition of the present invention was able to increase the surface roughness of the portion irradiated with the laser. Furthermore, the plating peeling strength can be increased and the plating can be made difficult to peel off.
Furthermore, the plating growth rate can be increased.
In contrast, when zinc borate is not added (Comparative Examples 1 and 2), when zinc borate is not added, and a compound known as a known flame retardant aid is blended instead (comparison) In Examples 4 and 5), the peeling strength of the plating decreased, and the plating was easily peeled off.
Further, when the amount of zinc borate exceeded the range of the present invention (Comparative Example 3), extrusion was difficult.
Further, even when zinc borate was added, when the flame retardant was also blended (Comparative Example 6), the plating peel strength was reduced and the plating was easily peeled off.

1 樹脂成形品
2 レーザー
3 レーザーが照射された部分
4 メッキ液
5 メッキ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin molded product 2 Laser 3 Laser irradiated part 4 Plating solution 5 Plating

Claims (17)

ポリアミド樹脂100重量部に対し、レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤1〜30重量部、ホウ酸亜鉛1〜30重量部および無機繊維10〜150重量部を含み、
難燃剤の含有量が、前記ポリアミド樹脂100重量部に対し、5重量部以下であり、かつ、前記ホウ酸亜鉛の含有量の100重量%以下である、レーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。
Including 100 parts by weight of polyamide resin, 1-30 parts by weight of laser direct structuring additive, 1-30 parts by weight of zinc borate and 10-150 parts by weight of inorganic fiber,
A polyamide resin composition for laser direct structuring, wherein the content of the flame retardant is 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin and 100% by weight or less of the content of the zinc borate.
前記無機繊維がガラス繊維である、請求項1に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。 The polyamide resin composition for laser direct structuring according to claim 1, wherein the inorganic fibers are glass fibers. 前記レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤が、銅、アンチモンおよび錫の少なくとも1種を含む、請求項1または2に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。 The polyamide resin composition for laser direct structuring according to claim 1 or 2, wherein the laser direct structuring additive contains at least one of copper, antimony and tin. 前記ポリアミド樹脂が半芳香族ポリアミド樹脂である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。 The polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of claims 1 to 3, wherein the polyamide resin is a semi-aromatic polyamide resin. 前記ポリアミド樹脂の少なくとも1種が、ジアミン由来の構成単位とジカルボン酸由来の構成単位から構成され、前記ジアミン由来の構成単位の70モル%以上がキシリレンジアミンに由来し、ジカルボン酸由来の構成単位の70モル%以上が、炭素原子数4〜20のα,ω−直鎖脂肪族ジカルボン酸に由来する、請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。 At least one of the polyamide resins is composed of a structural unit derived from a diamine and a structural unit derived from a dicarboxylic acid, 70 mol% or more of the structural unit derived from the diamine is derived from xylylenediamine, and a structural unit derived from a dicarboxylic acid The polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of claims 1 to 3, wherein 70 mol% or more of is derived from an α, ω-linear aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 20 carbon atoms. . 前記ホウ酸亜鉛を前記ポリアミド樹脂100重量部に対し、10〜30重量部含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。 The polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of claims 1 to 5, comprising 10 to 30 parts by weight of the zinc borate with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin. さらに、タルクを、レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤100重量部に対し、0.1〜200重量部含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。 Furthermore, the polyamide resin composition for laser direct structuring of any one of Claims 1-6 which contains 0.1-200 weight part with respect to 100 weight part of laser direct structuring additives. 前記ポリアミド樹脂の融点が200〜330℃である、請求項1〜7のいずれか1項に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。 The polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of claims 1 to 7, wherein the polyamide resin has a melting point of 200 to 330 ° C. 前記無機繊維を前記ポリアミド樹脂100重量部に対し、20〜80重量部含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物。 The polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of claims 1 to 8, comprising 20 to 80 parts by weight of the inorganic fiber with respect to 100 parts by weight of the polyamide resin. 請求項1〜9のいずれか1項に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品。 The resin molded product formed by shape | molding the polyamide resin composition for laser direct structuring of any one of Claims 1-9. 前記樹脂成形品の一部の表面粗さRaが4.0μm以上であり、他の一部の表面粗さRaが1.0μm以下である、請求項10に記載の樹脂成形品。 The resin molded product according to claim 10, wherein a part of the surface roughness Ra of the resin molded product is 4.0 μm or more and another part of the surface roughness Ra is 1.0 μm or less. 前記樹脂成形品の表面にメッキを有する、請求項10または11に記載の樹脂成形品。 The resin molded product according to claim 10 or 11, wherein the surface of the resin molded product has plating. 前記メッキがアンテナとしての性能を保有する、請求項12に記載の樹脂成形品。 The resin molded product according to claim 12, wherein the plating retains performance as an antenna. 携帯電子機器部品である、請求項10〜13のいずれか1項に記載の樹脂成形品。 The resin molded product according to any one of claims 10 to 13, which is a portable electronic device component. 請求項1〜9のいずれか1項に記載のレーザーダイレクトストラクチャリング用ポリアミド樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品の表面に、レーザーを照射後、金属を適用して、メッキを形成することを含む、メッキ付樹脂成形品の製造方法。 Applying a metal to the surface of a resin molded product obtained by molding the polyamide resin composition for laser direct structuring according to any one of claims 1 to 9, and then forming a plating. The manufacturing method of the resin molded product with plating containing. 前記メッキが銅メッキである、請求項15に記載のメッキ付樹脂成形品の製造方法。 The manufacturing method of the resin molded product with plating of Claim 15 whose said plating is copper plating. 請求項15または16に記載のメッキ付樹脂成形品の製造方法を含む、アンテナを有する携帯電子機器部品の製造方法。 The manufacturing method of the portable electronic device component which has an antenna including the manufacturing method of the resin molded product with plating of Claim 15 or 16.
JP2017010410A 2017-01-24 2017-01-24 Method for producing polyamide resin composition for laser direct structuring, resin molded article, plated resin molded article and method for producing portable electronic device parts Active JP6745226B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017010410A JP6745226B2 (en) 2017-01-24 2017-01-24 Method for producing polyamide resin composition for laser direct structuring, resin molded article, plated resin molded article and method for producing portable electronic device parts

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017010410A JP6745226B2 (en) 2017-01-24 2017-01-24 Method for producing polyamide resin composition for laser direct structuring, resin molded article, plated resin molded article and method for producing portable electronic device parts

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018119043A true JP2018119043A (en) 2018-08-02
JP6745226B2 JP6745226B2 (en) 2020-08-26

Family

ID=63044961

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017010410A Active JP6745226B2 (en) 2017-01-24 2017-01-24 Method for producing polyamide resin composition for laser direct structuring, resin molded article, plated resin molded article and method for producing portable electronic device parts

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6745226B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109694572A (en) * 2018-12-28 2019-04-30 江西中塑新材料科技有限公司 A kind of daiamid composition and its preparation method and application
JP2020070419A (en) * 2018-10-31 2020-05-07 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Polyamide resin composition, molding, kit and method for manufacturing molding
WO2021241380A1 (en) 2020-05-25 2021-12-02 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Permeable resin composition for laser welding, kit, molded article, and method for producing molded article

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015025127A (en) * 2013-06-21 2015-02-05 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Thermoplastic resin composition, resin molded article and manufacturing method of resin molded article with plated layer
WO2015033955A1 (en) * 2013-09-05 2015-03-12 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Thermoplastic resin composition, resin molded article, and method for producing plating-layer-equipped resin molded article
JP2015108075A (en) * 2013-12-05 2015-06-11 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Thermoplastic resin composition for laser direct structuring, resin molded article and manufacturing method for resin molded article
JP2016183422A (en) * 2014-06-30 2016-10-20 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Composition for laser direct structuring layer formation, kit, and production method of plated layer-attached resin molding
WO2016189023A1 (en) * 2015-05-28 2016-12-01 Dsm Ip Assets B.V. A thermoplastic polymer composition, an article made thereof and a process for preparing the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015025127A (en) * 2013-06-21 2015-02-05 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Thermoplastic resin composition, resin molded article and manufacturing method of resin molded article with plated layer
WO2015033955A1 (en) * 2013-09-05 2015-03-12 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Thermoplastic resin composition, resin molded article, and method for producing plating-layer-equipped resin molded article
JP2015108075A (en) * 2013-12-05 2015-06-11 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Thermoplastic resin composition for laser direct structuring, resin molded article and manufacturing method for resin molded article
JP2016183422A (en) * 2014-06-30 2016-10-20 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Composition for laser direct structuring layer formation, kit, and production method of plated layer-attached resin molding
WO2016189023A1 (en) * 2015-05-28 2016-12-01 Dsm Ip Assets B.V. A thermoplastic polymer composition, an article made thereof and a process for preparing the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020070419A (en) * 2018-10-31 2020-05-07 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Polyamide resin composition, molding, kit and method for manufacturing molding
JP7300571B2 (en) 2018-10-31 2023-06-30 グローバルポリアセタール株式会社 Polyamide resin composition, molded article, kit, and method for producing molded article
CN109694572A (en) * 2018-12-28 2019-04-30 江西中塑新材料科技有限公司 A kind of daiamid composition and its preparation method and application
WO2021241380A1 (en) 2020-05-25 2021-12-02 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 Permeable resin composition for laser welding, kit, molded article, and method for producing molded article

Also Published As

Publication number Publication date
JP6745226B2 (en) 2020-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6925465B2 (en) Manufacturing method of thermoplastic resin composition, resin molded product, plated resin molded product, and manufacturing method of portable electronic device parts
JP2012521486A (en) Plastic articles optionally with partial metal coating
TW200632011A (en) Heat stabilized moulding composition
JP7234204B2 (en) Thermoplastic resin composition, molded article, method for producing thermoplastic resin composition, and method for producing plated molded article
JP6745226B2 (en) Method for producing polyamide resin composition for laser direct structuring, resin molded article, plated resin molded article and method for producing portable electronic device parts
JPWO2014042069A1 (en) Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer
JP6749139B2 (en) Thermoplastic resin composition, resin molded product, method for manufacturing resin molded product with plating, and method for manufacturing portable electronic device component
JP2011102360A (en) Fiber-reinforced polyamide resin composition
JP2014015594A (en) Polyamide resin composition and molded article
JP2012062417A (en) Polyamide resin composition and method for molding the same
JP7025604B1 (en) Method for manufacturing resin composition, molded product and plated molded product
JP5516265B2 (en) Molding method of polyamide resin composition
JP5997525B2 (en) Copolymerized polyamide composition and molded article
JP2021155572A (en) Polyamide resin composition for laser direct structuring, resin molding, method for manufacturing plated resin molding, and method for manufacturing component of portable electronic device having antenna
JP2022054099A (en) Resin composition, molded article and thin wall molded article manufacturing method
JP6196478B2 (en) Thermoplastic resin composition, resin molded product, and method for producing resin molded product with plating layer
JP2015048382A (en) Polyamide resin composition and formed article
JP6042121B2 (en) Polyamide resin composition and molded product
JP2022189277A (en) Fiber-reinforced resin material, molding, and method for manufacturing fiber-reinforced resin material
JP2014005406A (en) Copolymerized polyamide and copolymerized polyamide composition
JP2019143023A (en) Resin composition and molded article
JP2014015553A (en) Copolymerization polyamide composition and molded article

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20191203

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200715

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200728

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200803

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6745226

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350