JP2017155163A - Tetracarboxylic acid dianhydride, polyimide and method for producing the same - Google Patents

Tetracarboxylic acid dianhydride, polyimide and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2017155163A
JP2017155163A JP2016041175A JP2016041175A JP2017155163A JP 2017155163 A JP2017155163 A JP 2017155163A JP 2016041175 A JP2016041175 A JP 2016041175A JP 2016041175 A JP2016041175 A JP 2016041175A JP 2017155163 A JP2017155163 A JP 2017155163A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyimide
tetracarboxylic dianhydride
ppm
content
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016041175A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
剛 小池
Takeshi Koike
剛 小池
伸一 小松
Shinichi Komatsu
伸一 小松
理恵子 藤代
Rieko FUJISHIRO
理恵子 藤代
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
JX Nippon Oil and Energy Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JX Nippon Oil and Energy Corp filed Critical JX Nippon Oil and Energy Corp
Priority to JP2016041175A priority Critical patent/JP2017155163A/en
Publication of JP2017155163A publication Critical patent/JP2017155163A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tetracarboxylic acid dianhydride that makes it possible to produce a polyimide having a sufficiently high level of heat resistance, with improved reliability.SOLUTION: A tetracarboxylic acid dianhydride comprises a compound represented by the general formula (1) [where, R, R, Rindependently represent a hydrogen atom or the like, n is an integer of 0-12], with a content of Cu being 10 ppm or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、テトラカルボン酸二無水物、ポリイミド並びにその製造方法に関する。   The present invention relates to a tetracarboxylic dianhydride, a polyimide, and a method for producing the same.

従来より様々な分野において、基板(例えばスマートフォンやタブレット端末等のモバイル機器の基板等)としてガラス基板が用いられてきた。しかしながら、ガラス基板は衝撃によって割れるといった問題があることから、光透過性が十分に高く、十分に高度な耐熱性を有するとともに、軽くて柔軟な素材の出現が求められてきた。そして、このようなガラス代替用途等に用いる素材として、脂環式のポリイミドが注目されている。   Conventionally, glass substrates have been used in various fields as substrates (for example, substrates for mobile devices such as smartphones and tablet terminals). However, since the glass substrate has a problem that it is broken by an impact, there has been a demand for the appearance of a light and flexible material having a sufficiently high light transmittance and a sufficiently high heat resistance. An alicyclic polyimide has attracted attention as a material used for such glass substitute applications.

このような脂環式のポリイミドとしては、例えば、国際公開第2011/099518号(特許文献1)においては、特定の一般式で記載される繰り返し単位を有するポリイミド及びそのモノマーとして利用可能なテトラカルボン酸二無水物が開示されている。かかる特許文献1に記載のポリイミドは、光透過性が十分に高く、十分に優れた耐熱性を有するものであり、ガラス代替用途等に好適に利用可能なものであった。しかしながら、その用途によっては、ポリイミドにより高い水準の耐熱性を発揮させることが望まれる場合もあり、特許文献1に記載の技術は、そのような要求に応えられるような、十分に高度な水準の耐熱性を有するポリイミドを、より確実に製造するといった点においては、必ずしも十分なものではなかった。   As such an alicyclic polyimide, for example, in International Publication No. 2011/099518 (Patent Document 1), a polyimide having a repeating unit described by a specific general formula and a tetracarboxylic acid that can be used as a monomer thereof. Acid dianhydrides are disclosed. The polyimide described in Patent Document 1 has a sufficiently high light transmittance and a sufficiently excellent heat resistance, and can be suitably used for glass substitute applications and the like. However, depending on the application, it may be desired to exhibit a high level of heat resistance with polyimide, and the technique described in Patent Document 1 has a sufficiently high level to meet such a requirement. In terms of more reliably producing a heat-resistant polyimide, it is not always sufficient.

国際公開第2011/099518号International Publication No. 2011/099518

本発明は、前記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、十分に高度な水準の耐熱性を有するポリイミドをより確実に製造することを可能とするテトラカルボン酸二無水物、十分に高度な水準の耐熱性を有するポリイミド、及び、そのポリイミドの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and tetracarboxylic dianhydride that makes it possible to more reliably produce a polyimide having a sufficiently high level of heat resistance. It aims at providing the polyimide which has a high level heat resistance, and the manufacturing method of the polyimide.

本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねたところ、先ず、テトラカルボン酸二無水物中に含まれ得る種々の金属成分(例えば製造時に使用した触媒や酸化剤、反応容器を構成する成分等に由来する金属等が挙げられる。)の中でCuの含有量が、そのテトラカルボン酸二無水物を用いて得られるポリイミドの耐熱性に関係することを見出した(なお、一般に、下記一般式(1)で表されるようなテトラカルボン酸二無水物は、その工業的な合成において触媒とともに酸化剤として銅化合物を利用する必要があり、かかる銅化合物に由来して最終生成物であるテトラカルボン酸二無水物中に銅(Cu)が含有され得る。)。そして、このような知見に基づいて、本発明者らは、前記目的を達成すべく更に鋭意研究を重ねた結果、Cuの含有量を10ppm以下とした、下記一般式(1)で表されるようなテトラカルボン酸二無水物により、驚くべきことに、十分に高度な水準の耐熱性を有するポリイミドを、より確実に(より安定的に)製造することが可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。   The inventors of the present invention made extensive studies to achieve the above object. As a result, first, various metal components that can be contained in tetracarboxylic dianhydride (for example, a catalyst, an oxidant, a reaction vessel used in the production) Among them, it has been found that the content of Cu is related to the heat resistance of the polyimide obtained using the tetracarboxylic dianhydride (in general, The tetracarboxylic dianhydride represented by the following general formula (1) needs to use a copper compound as an oxidizing agent together with a catalyst in its industrial synthesis, and is finally derived from such a copper compound. The copper (Cu) may be contained in the tetracarboxylic dianhydride that is a product. And based on such knowledge, as a result of further earnest studies to achieve the above object, the present inventors are represented by the following general formula (1) in which the Cu content is 10 ppm or less. Surprisingly, it has been found that such a tetracarboxylic dianhydride can more reliably (more stably) produce a polyimide having a sufficiently high level of heat resistance. It came to complete.

すなわち、本発明のテトラカルボン酸二無水物は、下記一般式(1):   That is, the tetracarboxylic dianhydride of the present invention has the following general formula (1):

[式(1)中、R、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される化合物からなり、かつ、
Cu(銅)の含有量が10ppm以下であることを特徴とするものである。
[In the formula (1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom; An integer of 12 is shown. ]
And a compound represented by
The content of Cu (copper) is 10 ppm or less.

上記本発明のテトラカルボン酸二無水物においては、Pd(パラジウム)の含有量が10ppm以下であることが好ましい。   In the tetracarboxylic dianhydride of the present invention, the content of Pd (palladium) is preferably 10 ppm or less.

また、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物においては、B(ホウ素)の含有量が5ppm以下であることが好ましい。   In the tetracarboxylic dianhydride of the present invention, the B (boron) content is preferably 5 ppm or less.

本発明のポリイミドは、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物と、下記一般式(3):
N−R10−NH (3)
[式(3)中、R10は炭素数6〜50のアリール基を示す。]
で表される芳香族ジアミンとの重合体であり、かつ、下記一般式(2):
The polyimide of the present invention includes the tetracarboxylic dianhydride of the present invention and the following general formula (3):
H 2 N-R 10 -NH 2 (3)
[In the formula (3), R 10 represents an aryl group having 6 to 50 carbon atoms. ]
And a polymer with an aromatic diamine represented by the following general formula (2):

[式(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、R10は炭素数6〜50のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位を含有することを特徴とするものである。
[In the formula (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom, and R 10 represents carbon. An aryl group having a number of 6 to 50 is shown, and n is an integer of 0 to 12. ]
It is characterized by containing the repeating unit represented by these.

本発明のポリイミドの製造方法は、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物と、下記一般式(3):
N−R10−NH (3)
[式(3)中、R10は炭素数6〜50のアリール基を示す。]
で表される芳香族ジアミンとを反応せしめてポリアミド酸を形成した後、該ポリアミド酸をイミド化させることにより、
前記テトラカルボン酸二無水物と前記芳香族ジアミンとの重合体であり、かつ、下記一般式(2):
The method for producing the polyimide of the present invention comprises the above tetracarboxylic dianhydride of the present invention and the following general formula (3):
H 2 N-R 10 -NH 2 (3)
[In the formula (3), R 10 represents an aryl group having 6 to 50 carbon atoms. ]
After forming a polyamic acid by reacting with an aromatic diamine represented by the following, by imidizing the polyamic acid,
It is a polymer of the tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine, and the following general formula (2):

[式(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、R10は炭素数6〜50のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位を含有するポリイミドを得ること、
を特徴とする方法である。
Wherein (2), R 1, R 2, R 3 are each independently a hydrogen atom, it represents one selected from the group consisting of alkyl groups and fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms, R 10 is A C6-C50 aryl group is shown, n shows the integer of 0-12. ]
Obtaining a polyimide containing a repeating unit represented by:
It is the method characterized by this.

本発明によれば、十分に高度な水準の耐熱性を有するポリイミドをより確実に製造することを可能とするテトラカルボン酸二無水物、十分に高度な水準の耐熱性を有するポリイミド、及び、そのポリイミドの製造方法を提供することが可能となる。   According to the present invention, a tetracarboxylic dianhydride that makes it possible to more reliably produce a polyimide having a sufficiently high level of heat resistance, a polyimide having a sufficiently high level of heat resistance, and its It is possible to provide a method for producing polyimide.

実施例5で得られたポリイミドのIRスペクトルを示すグラフである。6 is a graph showing an IR spectrum of the polyimide obtained in Example 5.

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments thereof.

[テトラカルボン酸二無水物]
本発明のテトラカルボン酸二無水物は、下記一般式(1):
[Tetracarboxylic dianhydride]
The tetracarboxylic dianhydride of the present invention has the following general formula (1):

[式(1)中、R、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される化合物からなり、かつ、
Cu(銅)の含有量が10ppm以下であることを特徴とするものである。
[In the formula (1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom; An integer of 12 is shown. ]
And a compound represented by
The content of Cu (copper) is 10 ppm or less.

このような一般式(1)中のRとして選択され得るアルキル基は、炭素数が1〜10のアルキル基である。このような炭素数が10を超えると、ポリイミドのモノマーとして用いた場合に、得られるポリイミドの耐熱性が低下する。また、このようなRとして選択され得るアルキル基の炭素数としては、ポリイミドを製造した際により高度な耐熱性が得られるという観点から、1〜6であることが好ましく、1〜5であることがより好ましく、1〜4であることが更に好ましく、1〜3であることが特に好ましい。また、このようなRとして選択され得るアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。 The alkyl group that can be selected as R 1 in the general formula (1) is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. When such a carbon number exceeds 10, when it uses as a monomer of a polyimide, the heat resistance of the polyimide obtained will fall. As the number of carbon atoms in the alkyl group such can be selected as R 1, from the viewpoint of high heat resistance when a polyimide was prepared to obtain, preferably 1 to 6, is 1 to 5 Is more preferable, it is still more preferable that it is 1-4, and it is especially preferable that it is 1-3. Such an alkyl group that can be selected as R 1 may be linear or branched.

前記一般式(1)中のRとしては、ポリイミドを製造した際により高度な耐熱性が得られるという観点から、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基であることがより好ましく、中でも、原料の入手が容易であることや精製がより容易であるという観点から、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基又はイソプロピル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。また、このような式中の複数のRは精製の容易さ等の観点から、同一のものであることが特に好ましい。 R 1 in the general formula (1) is more preferably independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of obtaining a high degree of heat resistance when a polyimide is produced. Among these, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an isopropyl group is more preferable from the viewpoint of easy availability of raw materials and easier purification, and a hydrogen atom or methyl group is more preferable. Particularly preferred is a group. Moreover, it is especially preferable that several R < 1 > in such a formula is the same from viewpoints of the ease of refinement | purification etc.

また、このような一般式(1)中のR、Rとして選択され得る炭素数1〜10のアルキル基は、前述のRとして選択され得る炭素数1〜10のアルキル基と同様のものである。このようなR、Rとして選択され得る置換基としては、精製の容易さの観点から、それぞれ独立に、上記置換基の中でも、水素原子、炭素数1〜10(好ましくは1〜6、より好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜3)のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。 The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms R 2, may be selected as R 3 in the general formula (1) is the same as the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which can be selected as R 1 described above Is. As such substituents that can be selected as R 2 and R 3 , from the viewpoint of ease of purification, each of the above substituents is independently a hydrogen atom, a C 1-10 (preferably 1-6, The alkyl group is more preferably 1 to 5, still more preferably 1 to 4, particularly preferably 1 to 3), and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.

また、前記一般式(1)中のnは0〜12の整数を示す。このようなnの値が前記上限を超えると、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロアルカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物類の精製が困難になる。また、このような一般式(1)中のnの数値範囲の上限値は、より精製が容易となるといった観点から、5であることがより好ましく、3であることが特に好ましい。また、このような一般式(1)中のnの数値範囲の下限値は、原料の安定性等の観点から、1であることがより好ましく、2であることが特に好ましい。このように一般式(1)中のnとしては2〜3の整数であることが特に好ましい。   Moreover, n in the said General formula (1) shows the integer of 0-12. When the value of n exceeds the above upper limit, norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α′-spiro-2 ″ -norbornane-5,5 ″, 6,6 ″ -tetracarboxylic Purification of acid dianhydrides becomes difficult. Further, the upper limit value of the numerical value range of n in the general formula (1) is more preferably 5 and particularly preferably 3 from the viewpoint of easier purification. Further, the lower limit of the numerical range of n in the general formula (1) is more preferably 1 and particularly preferably 2 from the viewpoint of the stability of the raw material. Thus, it is particularly preferable that n in the general formula (1) is an integer of 2 to 3.

本発明のテトラカルボン酸二無水物は、このような一般式(1)で表される化合物であるとともに、Cuの含有量が10ppm以下のものである。先ず、上記一般式(1)で表される化合物(テトラカルボン酸二無水物)は、例えば、国際公開第2011/099518号の実施例1の記載からも明らかなように、その製造に際して、銅化合物を酸化剤として利用することにより製造される。特に工業的な生産の観点からは、一般に、酸化剤の入手の容易性やその効果等から、銅化合物が必須成分として利用される(このような銅化合物は、特に工業的にテトラカルボン酸二無水物の前駆体であるテトラカルボン酸エステル化合物を製造する際に利用される。)。そして、このような製造時に利用した銅化合物に由来して、最終的な製造物である前記テトラカルボン酸二無水物には銅(Cu)が含有され得る。このような状況下において、本発明のテトラカルボン酸二無水物は、かかるCuの含有量を10ppm以下としたものである。このようなCuの含有量が前記上限を超えると、そのようなテトラカルボン酸二無水物を用いて得られるポリイミドの耐熱性が低下する傾向にある。また、より高度な耐熱性が得られることから、テトラカルボン酸二無水物中の前記Cuの含有量は5ppm以下であることがより好ましく、3ppm以下であることが更に好ましく、2ppm以下であることが特に好ましく、1〜0ppmであることが最も好ましい。このようなCuの含有量は、そのテトラカルボン酸二無水物の種類や該化合物の製造時に利用した銅化合物の種類等に応じて、テトラカルボン酸二無水物及びその前駆体(テトラカルボン酸エステル化合物等)の製造時に、ろ過工程、洗浄工程や精製工程を適宜実施することにより、上記範囲内にすることができる。   The tetracarboxylic dianhydride of the present invention is such a compound represented by the general formula (1) and has a Cu content of 10 ppm or less. First, the compound represented by the above general formula (1) (tetracarboxylic dianhydride) is, for example, as shown in Example 1 of International Publication No. 2011/099518. It is produced by using the compound as an oxidizing agent. In particular, from the viewpoint of industrial production, a copper compound is generally used as an essential component because of the availability of an oxidizing agent, its effect, etc. It is used in producing a tetracarboxylic acid ester compound that is a precursor of an anhydride). And the said tetracarboxylic dianhydride which is a final product derived from the copper compound utilized at the time of such manufacture may contain copper (Cu). Under such circumstances, the tetracarboxylic dianhydride of the present invention has a Cu content of 10 ppm or less. When such Cu content exceeds the upper limit, the heat resistance of the polyimide obtained using such a tetracarboxylic dianhydride tends to decrease. Further, since higher heat resistance is obtained, the content of Cu in the tetracarboxylic dianhydride is more preferably 5 ppm or less, further preferably 3 ppm or less, and 2 ppm or less. Is particularly preferred, with 1 to 0 ppm being most preferred. Depending on the type of the tetracarboxylic dianhydride and the type of the copper compound used during the production of the compound, the content of such Cu may be determined based on the tetracarboxylic dianhydride and its precursor (tetracarboxylic acid ester). In the production of the compound, etc.), the filtration range, the washing step and the purification step can be carried out as appropriate so that the above range is satisfied.

また、上記一般式(1)で表される化合物(テトラカルボン酸二無水物)は、その工業的な製造に際して、一般的に、パラジウム触媒が利用される(特に、テトラカルボン酸二無水物の前駆体であるテトラカルボン酸エステル化合物を製造する際に利用される。)。そのため、本発明のテトラカルボン酸二無水物には、その触媒に由来してパラジウム(Pd)が含有され得る。そして、本発明のテトラカルボン酸二無水物においては、製造時に含まれ得るパラジウムの含有量が10ppm以下であることが好ましく、8ppm以下であることがより好ましく、6ppm以下であることが更に好ましく、5ppm以下であることが特に好ましく、3〜0ppmであることが最も好ましい。このようなPdの含有量が前記上限を超えると十分に高度な水準の透明性を有するポリイミドが得られない傾向にある。このようなPdの含有量は、そのテトラカルボン酸二無水物の種類や該化合物の製造時に利用した触媒の種類等に応じて、テトラカルボン酸二無水物及びその前駆体(テトラカルボン酸エステル化合物等)の製造時に、ろ過工程、洗浄工程や精製工程を適宜実施することにより、上記範囲内にすることができる。   In addition, the compound represented by the above general formula (1) (tetracarboxylic dianhydride) generally uses a palladium catalyst for its industrial production (in particular, tetracarboxylic dianhydride). It is used when producing a tetracarboxylic acid ester compound as a precursor.) Therefore, the tetracarboxylic dianhydride of the present invention can contain palladium (Pd) derived from the catalyst. And in the tetracarboxylic dianhydride of the present invention, the content of palladium that can be included in the production is preferably 10 ppm or less, more preferably 8 ppm or less, still more preferably 6 ppm or less, 5 ppm or less is particularly preferable, and 3 to 0 ppm is most preferable. If the Pd content exceeds the upper limit, a polyimide having a sufficiently high level of transparency tends to be not obtained. The content of such Pd depends on the type of tetracarboxylic dianhydride, the type of catalyst used during the production of the compound, etc., and the precursor thereof (tetracarboxylic acid ester compound). Etc.) can be made within the above range by appropriately performing a filtration step, a washing step and a purification step.

また、上記一般式(1)で表される化合物(テトラカルボン酸二無水物)は、一般に、工業的にはパラジウム触媒や銅化合物等を利用してテトラカルボン酸エステル化合物を得た後、そのテトラカルボン酸エステル化合物を酸無水物化する方法を採用することにより製造される。そして、このような酸無水物化に際しては、より透明性が高い化合物を、より効率よく得るために、超強酸であるテトラフルオロエタンスルホン酸(HCFCFSOH、沸点:210℃)等の均一系触媒(例えば特開2015−218160号公報に記載の均一系触媒等)が利用される。そして、このような超強酸が利用されると、反応容器として利用されるフラスコ等から、ホウ素が少量(微量)溶出して、最終的に得られるテトラカルボン酸二無水物にホウ素が含有され得る。すなわち、ホウ素は、反応容器であるフラスコ(パイレックス(登録商標)ガラス)等に含まれる成分であって、上記一般式(1)で表される化合物(テトラカルボン酸二無水物)を製造する際、特に、超強酸等の酸を利用する工程において、反応容器(フラスコ(パイレックス(登録商標)ガラス))から溶出して該化合物中に混入され得る成分である。そして、本発明のテトラカルボン酸二無水物においては、上述のようにして混入されるホウ素(B)の含有量が5ppm以下であることが好ましく、4ppm以下であることがより好ましく、3ppm以下であることが更に好ましく、2ppm以下であることが特に好ましく、1〜0ppmであることが最も好ましい。このようなBの含有量が前記上限を超えると十分に高度な水準の耐熱性を有するポリイミドが得られない傾向にある。また、このようなホウ素(B)の含有量は、そのテトラカルボン酸二無水物の種類等に応じて、テトラカルボン酸二無水物及びその前駆体(テトラカルボン酸エステル化合物等)の製造時に、ろ過工程、洗浄工程(特に水洗工程)や精製工程を適宜実施することにより、上記範囲内にすることができる(なお、ホウ素(B)は酸無水物化工程において一般に酸を利用するため、酸無水物化工程において混入し易い成分であることから、ホウ素の含有量を上記条件を満たすものとするためには、テトラカルボン酸二無水物の調製後にろ過工程、洗浄工程(特に水洗工程)や精製工程を適宜実施することがより好ましい。)。 In addition, the compound represented by the above general formula (1) (tetracarboxylic dianhydride) is generally industrially obtained after obtaining a tetracarboxylic acid ester compound using a palladium catalyst, a copper compound, etc. It is manufactured by adopting a method of converting a tetracarboxylic acid ester compound into an acid anhydride. And in such acid anhydride formation, in order to obtain a more transparent compound more efficiently, tetrafluoroethanesulfonic acid (HCF 2 CF 2 SO 3 H, boiling point: 210 ° C.) which is a super strong acid, etc. Or a homogeneous catalyst (for example, a homogeneous catalyst described in JP-A-2015-218160) is used. And when such a super strong acid is utilized, boron may be contained in the tetracarboxylic dianhydride finally obtained by eluting a small amount (trace amount) of boron from a flask or the like used as a reaction vessel. . That is, boron is a component contained in a reaction vessel such as a flask (Pyrex (registered trademark) glass) and the like, and when producing a compound represented by the above general formula (1) (tetracarboxylic dianhydride). In particular, it is a component that can be eluted from a reaction vessel (flask (Pyrex (registered trademark) glass)) and mixed into the compound in a step of utilizing an acid such as a super strong acid. In the tetracarboxylic dianhydride of the present invention, the content of boron (B) mixed as described above is preferably 5 ppm or less, more preferably 4 ppm or less, and 3 ppm or less. More preferably, it is more preferably 2 ppm or less, and most preferably 1 to 0 ppm. When the B content exceeds the upper limit, a polyimide having a sufficiently high level of heat resistance tends to be not obtained. Further, the content of such boron (B) depends on the type of the tetracarboxylic dianhydride, etc., during the production of the tetracarboxylic dianhydride and its precursor (tetracarboxylic ester compound, etc.) By appropriately performing a filtration step, a washing step (especially a water washing step) and a purification step, it can be within the above range (in addition, since boron (B) generally uses an acid in an acid anhydride step, an acid anhydride). Since it is a component that easily mixes in the materialization process, in order to satisfy the above requirements for the boron content, after the preparation of tetracarboxylic dianhydride, the filtration process, the washing process (especially the water washing process) and the purification process It is more preferable to carry out as appropriate.)

なお、本発明において、テトラカルボン酸二無水物中に含まれ得る金属成分(Cu、Pd、B)の含有量は、測定装置としてICP発光分光装置(例えばサーモフィッシャー社製の商品名「iCap630 Duo」)を用い、試料として、96質量%濃度の超高純度硫酸水溶液(1mL)及び60質量%濃度の超高純度過塩素酸水溶液(2mL)の混合液中に、テトラカルボン酸二無水物0.2gを溶解した後、超純水を用いて全量が50mLになるように希釈した溶液を準備して、軸方向測光(アキシャル)、測定時間30秒の条件で、該溶液(試料)中の各金属成分の量を分析することにより、質量を基準とした化合物(テトラカルボン酸二無水物)中の各金属成分の含有量(単位:ppm)を求めることで測定することができる。なお、ここにいう「超高純度硫酸水溶液」、「超高純度過塩素酸水溶液」、「超純水」といった超高純度試薬とは不純物元素の含有量をICP装置、ICP−MS装置の検出限界以下(pptレベル)まで精製した溶液であり、これらの水溶液等としては、市販品(例えば、関東化学社製の超高純度試薬ウルトラピュアシリーズ等)を適宜利用することができる。   In the present invention, the content of the metal components (Cu, Pd, B) that can be contained in the tetracarboxylic dianhydride is determined as an ICP emission spectroscope (for example, trade name “iCap630 Duo manufactured by Thermo Fisher Co., Ltd.) as a measuring device. )) As a sample, a tetracarboxylic dianhydride 0 was added as a sample in a mixed solution of 96% by mass ultrapure sulfuric acid aqueous solution (1 mL) and 60% by mass ultrapure perchloric acid aqueous solution (2 mL). After dissolving 2 g, prepare a solution diluted with ultrapure water so that the total amount becomes 50 mL, and in the solution (sample) under conditions of axial photometry (axial) and measurement time 30 seconds By analyzing the amount of each metal component, it can be measured by determining the content (unit: ppm) of each metal component in the compound (tetracarboxylic dianhydride) based on mass. The ultra-high purity reagents such as “ultra-high purity sulfuric acid aqueous solution”, “ultra-high purity perchloric acid aqueous solution”, and “ultra-pure water” are used to detect the content of impurity elements by ICP and ICP-MS devices. It is a solution purified to below the limit (ppt level), and as these aqueous solutions and the like, commercially available products (for example, ultra-pure reagent Ultrapure series manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) can be used as appropriate.

このような本発明のテトラカルボン酸二無水物を製造するための方法としては、特に制限されないが、例えば、下記一般式(4−1):   Although it does not restrict | limit especially as a method for manufacturing such tetracarboxylic dianhydride of this invention, For example, following General formula (4-1):

[式(4−1)中のR、R、R、nはそれぞれ上記一般式(1)中のR、R、R、nと同義である(その好適なものも同様である。)]
で表されるノルボルネン系化合物を、パラジウム触媒及び銅化合物の存在下において、一酸化炭素及びアルコールと反応させて、上記一般式(4−1)中の二重結合を形成する炭素原子(一般式(4−1)において*1〜*4で表される炭素原子)に、それぞれエステル基を導入して、テトラカルボン酸エステル化合物(粗生成物)を形成した後、前記テトラカルボン酸エステル化合物を酸無水物化した際に、得られるテトラカルボン酸二無水物中のCu(銅)の含有量が10ppm以下となるように、前記粗生成物に対して、ろ過工程、洗浄工程を適宜施し、前記ろ過工程、前記洗浄工程を適宜実施した後に得られた化合物(テトラカルボン酸エステル化合物)を酸無水物化することによりテトラカルボン酸二無水物を得る方法を好適に利用することができる。なお、このような方法において、例えば、前記アルコールが式:ROH[式中、Rはアルキル基等を示す。]で表されるものである場合、上記一般式(4−1)中の二重結合を形成する炭素原子(一般式(4−1)において*1〜4で表される炭素原子)に導入するエステル基は、式:−COORで表されるものとなり、得られる前記テトラカルボン酸エステル化合物は、下記式(4−2):
[R 1 in the formula (4-1), R 2, R 3, n are respectively the same as R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (1) (same as the preferred ]]]
In the presence of a palladium catalyst and a copper compound, a carbon atom (general formula) that forms a double bond in the above general formula (4-1). In (4-1), carbon atoms represented by * 1 to * 4) are each introduced with an ester group to form a tetracarboxylic acid ester compound (crude product). When the acid anhydride is formed, the crude product is appropriately subjected to a filtration step and a washing step so that the content of Cu (copper) in the resulting tetracarboxylic dianhydride is 10 ppm or less, A method of obtaining a tetracarboxylic dianhydride by converting the compound (tetracarboxylic acid ester compound) obtained after appropriately performing the filtration step and the washing step into an acid anhydride is suitably used. It can be. In such a method, for example, the alcohol is represented by the formula: ROH [wherein R represents an alkyl group or the like. ] Is introduced into the carbon atom forming the double bond in the general formula (4-1) (the carbon atom represented by * 1 to 4 in the general formula (4-1)). The ester group to be represented is represented by the formula: —COOR, and the resulting tetracarboxylic acid ester compound is represented by the following formula (4-2):

[式(4−2)中のR、R、R、nはそれぞれ上記一般式(1)中のR、R、R、nと同義であり(その好適なものも同様である。)、Rは用いたアルコールに由来した基となる(例えば、アルコールとしてRがメチル基である式:ROH(メタノール)を用いた場合には、Rはメチル基となる。)。]
で表される化合物となる。
[R 1 in the formula (4-2), R 2, R 3, n are respectively the same as R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (1) (same as the preferred R is a group derived from the alcohol used (for example, when the formula ROH (methanol) in which R is a methyl group is used as the alcohol, R is a methyl group). ]
It becomes the compound represented by these.

このような一般式(4−1)で表されるノルボルネン系化合物は、公知の方法(例えば、国際公開第2011/099518号に記載されている方法等)を適宜採用して製造することができる。   Such a norbornene-based compound represented by the general formula (4-1) can be produced by appropriately employing a known method (for example, a method described in International Publication No. 2011/099518). .

また、このようなアルコールとしては、特に制限されず、エステル化に利用することが可能なものを適宜利用することができるが、中でも、工業的な入手性の観点から、炭素数が1〜10のアルキルアルコール、炭素数が3〜10のシクロアルキルアルコール、炭素数が2〜10のアルケニルアルコール、炭素数が6〜20のアリールアルコール、炭素数が7〜20のアラルキルアルコールを用いることが好ましい。このようなアルコールとしては、具体的には、メタノール、エタノール、ブタノール、アリルアルコール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等が挙げられ、中でも、得られる化合物の精製がより容易となるという観点から、メタノール、エタノールがより好ましく、メタノールが特に好ましい。また、このようなアルコールは1種を単独であるいは2種以上を混合して用いてもよい。   In addition, the alcohol is not particularly limited, and any alcohol that can be used for esterification can be appropriately used. Among them, from the viewpoint of industrial availability, the number of carbon atoms is 1 to 10. It is preferable to use an alkyl alcohol of 3 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl alcohol having 3 to 10 carbon atoms, an alkenyl alcohol having 2 to 10 carbon atoms, an aryl alcohol having 6 to 20 carbon atoms, and an aralkyl alcohol having 7 to 20 carbon atoms. Specific examples of such alcohols include methanol, ethanol, butanol, allyl alcohol, cyclohexanol, benzyl alcohol, etc. Among them, methanol and ethanol are preferred from the viewpoint that purification of the resulting compound is easier. Is more preferable, and methanol is particularly preferable. Such alcohols may be used alone or in combination of two or more.

また、パラジウム触媒及び銅化合物の存在下において、一酸化炭素及びアルコールと反応させてテトラカルボン酸エステル化合物を形成する方法(形成する際の条件)としては、特に制限されず、公知の方法(例えば、国際公開第2011/099518や特開2015−137230号等に記載されている方法)を適宜採用することができる。   In addition, the method for forming a tetracarboxylic acid ester compound by reacting with carbon monoxide and an alcohol in the presence of a palladium catalyst and a copper compound (conditions for forming) is not particularly limited, and a known method (for example, The methods described in International Publication No. 2011/099518, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-137230, and the like can be appropriately employed.

このようなパラジウム触媒や銅化合物としては特に制限されず、二重結合を形成する炭素原子にエステル基を導入するために用いることが可能な、公知のパラジウム触媒や銅化合物(例えば、国際公開第2011/099518や国際公開第2014/050810に記載されているパラジウム触媒や、国際公開第2011/099518や国際公開第2014/050810において酸化剤として例示されている銅化合物(例えば、塩化銅、酢酸銅、炭酸銅等)等)を適宜利用することができる。   Such a palladium catalyst or copper compound is not particularly limited, and can be used to introduce an ester group into a carbon atom that forms a double bond. Palladium catalysts described in 2011/099518 and International Publication No. 2014/050810, and copper compounds exemplified as oxidizing agents in International Publication Nos. 2011/099518 and 2014/050810 (for example, copper chloride, copper acetate) , Copper carbonate, etc.) can be used as appropriate.

また、一酸化炭素及びアルコールと反応させてテトラカルボン酸エステル化合物を形成して、前記テトラカルボン酸エステル化合物の粗生成物を得た後においては、前述のように、テトラカルボン酸エステル化合物を酸無水物化する前に、最終的に得られる酸二無水物中のCu(銅)の含有量が10ppm以下となるように、前記テトラカルボン酸エステル化合物の粗生成物に対して、ろ過工程、洗浄工程を適宜施すことが好ましい。このようなろ過工程や洗浄工程は、製造時に混入し得る金属成分の量(例えば、前記銅化合物に由来して混入するCuの含有量、前記パラジウム触媒に由来して混入するPdの含有量等)が、所望の範囲となるように適宜実施すればよく、得られる化合物の種類や混入し得る金属の種類に応じて、公知の方法や条件を適宜採用して、金属成分の量(例えば、Cuの含有量、Pdの含有量等)が目的の範囲となるようにすればよい。   In addition, after reacting with carbon monoxide and alcohol to form a tetracarboxylic acid ester compound to obtain a crude product of the tetracarboxylic acid ester compound, the tetracarboxylic acid ester compound is converted into an acid as described above. Before the anhydride, the crude product of the tetracarboxylic acid ester compound is filtered and washed so that the content of Cu (copper) in the finally obtained acid dianhydride is 10 ppm or less. It is preferable to perform the process appropriately. Such a filtration process and a washing | cleaning process are the quantity of the metal component which can be mixed at the time of manufacture (for example, content of Cu mixed from the said copper compound, content of Pd mixed from the said palladium catalyst, etc.) ) May be appropriately implemented so as to be within a desired range, and depending on the type of compound to be obtained and the type of metal that can be mixed, known methods and conditions are appropriately adopted, the amount of metal component (for example, The content of Cu, the content of Pd, etc.) may be within the target ranges.

また、このようなろ過工程としては、効率よくCu、Pd等の金属成分を除去するといった観点から、テトラカルボン酸エステル化合物は溶解できるものの、その化合物の製造の際に用いたパラジウム触媒や銅化合物は溶解できないような溶媒に、前記粗生成物を溶解させた後にろ過することでパラジウム触媒や銅化合物を除去する工程とすることが好ましい。なお、このようなろ過工程としても特に制限されず、公知の方法(例えば、特開2015−137230号公報に記載の方法)を適宜採用することができる。   Further, as such a filtration step, from the viewpoint of efficiently removing metal components such as Cu and Pd, the tetracarboxylic acid ester compound can be dissolved, but the palladium catalyst or copper compound used in the production of the compound can be dissolved. It is preferable to set it as the process of removing a palladium catalyst and a copper compound by dissolving, after filtering the said crude product in the solvent which cannot melt | dissolve. In addition, it does not restrict | limit especially as such a filtration process, A well-known method (For example, the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-137230) can be employ | adopted suitably.

また、前記洗浄工程としては、特に制限されず、ハロゲン系溶媒(クロロホルム等)や塩酸等を利用した洗浄工程、水を利用した水洗工程等を適宜組み合わせる等して、製造時に混入し得る不純物としての金属成分の量(例えば、Cuの含有量、Pdの含有量等)が、所望の範囲となるように、用いた触媒の種類や得られた化合物の種類等に応じて適宜実施すればよい。金属成分の量(例えば、Cuの含有量、Pdの含有量等)が所望の範囲となるように、例えば、用いた触媒の種類や得られた化合物の種類に応じて、水洗工程の回数を複数回にする等、洗浄工程の実施回数や使用する水の量の条件などを適宜変更する等しながら、洗浄工程を実施すればよい。   In addition, the washing step is not particularly limited, and as an impurity that can be mixed during production by appropriately combining a washing step using a halogen-based solvent (such as chloroform) or hydrochloric acid, a washing step using water, and the like. What is necessary is just to implement suitably according to the kind of the used catalyst, the kind of obtained compound, etc. so that the quantity (for example, content of Cu, content of Pd, etc.) of this may become a desired range. . Depending on the type of catalyst used and the type of compound obtained, for example, the number of water washing steps is adjusted so that the amount of metal component (eg, Cu content, Pd content, etc.) is in the desired range. What is necessary is just to implement a washing | cleaning process, changing the conditions, such as the frequency | count of implementation of a washing | cleaning process, the quantity of the water to be used, etc. suitably, such as making it into multiple times.

また、このようなろ過工程や洗浄工程を実施した後においては、より高い純度の化合物を得るといった観点から必要に応じて精製工程を更に施してもよい。このような精製の方法としては、例えば、酢酸中にテトラカルボン酸エステル化合物を添加し、加熱して溶解させた後、放冷して前記テトラカルボン酸エステル化合物の結晶を析出させる工程(酢酸再結晶工程)を利用してもよい。   Moreover, after implementing such a filtration process and a washing | cleaning process, you may further give a refinement | purification process as needed from a viewpoint of obtaining a compound of higher purity. As a purification method, for example, a step of adding a tetracarboxylic acid ester compound in acetic acid, dissolving it by heating, and then allowing to cool and precipitating crystals of the tetracarboxylic acid ester compound (acetic acid recrystallization). A crystallization step) may be used.

さらに、前記テトラカルボン酸エステル化合物を酸無水物化する方法も特に制限されず、公知の方法(例えば、国際公開第2011/099518号や特開2015−137234号公報、特開2015−218160号公報に記載されている方法等)を採用することができるが、工業的には、より透明性の高いテトラカルボン酸二無水物をより効率よく製造するとの観点からは、触媒として、いわゆる均一系触媒(特に好ましくは超強酸)を利用して酸二無水物化する方法(例えば特開2015−218160号公報に記載されている方法)を採用することが好ましい。そして、このような均一系触媒として超強酸を利用して酸二無水物化する方法を採用した場合には、その超強酸により反応容器中に含まれている金属成分(特にホウ素(B))が溶解して混入されることから、酸無水物化後においても、混入し得る金属成分(Cu、Pd、B等)の含有量が、所望の範囲となるように、ろ過工程、洗浄工程(例えば酢酸エチルを用いた洗浄工程等)の他、場合により精製工程等を適宜実施することが好ましい。なお、このような酸無水物化後のろ過工程、洗浄工程及び精製工程としては、得られる化合物の種類や混入し得る金属の種類(Cu、Pd、B等)に応じて、公知の方法や条件を適宜採用して、その金属成分の含有量が目的の範囲となるように条件を適宜変更しながら実施すればよい。また、例えば、特にホウ素(B)の含有量を前記範囲とするとの観点からは、反応溶媒である酢酸や溶出したホウ素成分の溶解性が高い溶液(例えば酢酸エチル等)を用いて、酸無水物化により得られたテトラカルボン酸二無水物を洗浄することが好ましい(なお、その洗浄液の使用量や洗浄回数等の条件を適宜変更することで、ホウ素(B)の含有量を前記範囲内の所望の量とすることが可能である。)
このようにして、テトラカルボン酸エステル化合物の粗生成物を得た後、これにろ過工程、洗浄工程、場合により再結晶等の精製工程を適宜施してテトラカルボン酸エステル化合物を得た後、これを酸無水物化することで(場合により酸無水物化後においても、ろ過工程、洗浄工程、精製工程等を適宜施すことで)、Cuの含有量が10ppm以下であり、且つ、上記一般式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物を効率よく得ることができる。なお、テトラカルボン酸エステル化合物の粗生成物や、酸無水物化後に得られるテトラカルボン酸二無水物に対して施す、ろ過工程、洗浄工程、再結晶工程の条件を適宜変更することにより、Cuの含有量を10ppm以下とすることが可能であるばかりか、パラジウムの含有量を10ppm以下とすることや、ホウ素の含有量を5ppm以下とすることも可能である。なお、このようなろ過工程、洗浄工程、再結晶工程の条件は用いた触媒の種類等に応じて、公知の方法で採用されているような条件を適宜設定すればよい。
Further, the method of acidifying the tetracarboxylic acid ester compound is not particularly limited, and known methods (for example, International Publication Nos. 2011/099518, JP-A-2015-137234, and JP-A-2015-218160) However, from the viewpoint of more efficiently producing a highly transparent tetracarboxylic dianhydride, it is possible to employ a so-called homogeneous catalyst (as a catalyst). It is particularly preferable to employ a method of acid dianhydride utilizing a super strong acid (for example, a method described in JP-A-2015-218160). And when adopting the method of acid dianhydride using super strong acid as such a homogeneous catalyst, the metal component (particularly boron (B)) contained in the reaction vessel by the super strong acid Since it is dissolved and mixed, the filtration step and the washing step (for example, acetic acid) are performed so that the content of metal components (Cu, Pd, B, etc.) that can be mixed after the acid anhydride is within a desired range. In addition to a washing step using ethyl, etc., it is preferable to carry out a purification step and the like as appropriate. In addition, as such a filtration process, washing | cleaning process, and a refinement | purification process after acid anhydride formation, according to the kind of compound obtained and the kind (Cu, Pd, B, etc.) which can be mixed, well-known method and conditions May be adopted as appropriate, and the conditions may be changed appropriately so that the content of the metal component falls within the target range. In addition, for example, from the viewpoint that the content of boron (B) is within the above range, a solution having high solubility of acetic acid as a reaction solvent or an eluted boron component (for example, ethyl acetate or the like) is used. It is preferable to wash the tetracarboxylic dianhydride obtained by the materialization (Note that the content of boron (B) is within the above range by appropriately changing the conditions such as the amount of the washing liquid used and the number of washings) The desired amount can be obtained.)
Thus, after obtaining a crude product of a tetracarboxylic acid ester compound, a filtration step, a washing step, and optionally a purification step such as recrystallization are appropriately performed to obtain a tetracarboxylic acid ester compound. Is converted to an acid anhydride (optionally, even after acid anhydride conversion, the filtration step, the washing step, the purification step, etc. are performed as appropriate), the Cu content is 10 ppm or less, and the above general formula (1 ) Can be efficiently obtained. In addition, by appropriately changing the conditions of the filtration step, the washing step, and the recrystallization step applied to the crude product of the tetracarboxylic acid ester compound and the tetracarboxylic dianhydride obtained after acid anhydride formation, Not only can the content be 10 ppm or less, but the palladium content can be 10 ppm or less, and the boron content can be 5 ppm or less. In addition, what is necessary is just to set suitably the conditions which are employ | adopted by the well-known method according to the kind etc. of the catalyst used for the conditions of such a filtration process, a washing | cleaning process, and a recrystallization process.

なお、上述のテトラカルボン酸二無水物を製造するための方法として好適な方法は、テトラカルボン酸エステル化合物の粗生成物に対してろ過工程、洗浄工程、再結晶工程等を施す方法(場合により酸無水物化後においても、ろ過工程、洗浄工程、精製工程等を適宜施す方法)であったが、本発明のテトラカルボン酸二無水物を製造するための方法は上記方法に制限されるものではなく、例えば、テトラカルボン酸エステル化合物を得た後、これを酸無水物化した後に、ろ過工程、洗浄工程、再結晶工程を適宜施してCuの含有量が10ppm以下となるようなテトラカルボン酸二無水物を得る方法としてもよい。この場合においても、ろ過工程、洗浄工程、再結晶工程等は公知の条件で目的とする設計に応じて適宜実施(CuやPd、更にはBの含有量が所望の量となるように適宜条件を変更しながら実施)すればよい。   In addition, the method suitable as a method for manufacturing the above-mentioned tetracarboxylic dianhydride is a method of subjecting a crude product of a tetracarboxylic acid ester compound to a filtration step, a washing step, a recrystallization step, etc. Even after acid anhydride formation, the filtration step, washing step, purification step and the like were appropriately performed), but the method for producing the tetracarboxylic dianhydride of the present invention is not limited to the above method. For example, after a tetracarboxylic acid ester compound is obtained, and then converted into an acid anhydride, a tetracarboxylic acid diester is prepared so that the content of Cu is 10 ppm or less by appropriately performing a filtration step, a washing step, and a recrystallization step. It is good also as a method of obtaining an anhydride. Also in this case, the filtration step, the washing step, the recrystallization step, etc. are appropriately performed according to the target design under known conditions (the conditions are appropriately set so that the content of Cu, Pd, and further B becomes a desired amount. Can be implemented while changing

[ポリイミド]
本発明のポリイミドは、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物と、下記一般式(3):
N−R10−NH (3)
[式(3)中、R10は炭素数6〜50のアリール基を示す。]
で表される芳香族ジアミンとの重合体であり、かつ、下記一般式(2):
[Polyimide]
The polyimide of the present invention includes the tetracarboxylic dianhydride of the present invention and the following general formula (3):
H 2 N-R 10 -NH 2 (3)
[In the formula (3), R 10 represents an aryl group having 6 to 50 carbon atoms. ]
And a polymer with an aromatic diamine represented by the following general formula (2):

[式(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、R10は炭素数6〜50のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位を含有することを特徴とするものである。
[In the formula (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom, and R 10 represents carbon. An aryl group having a number of 6 to 50 is shown, and n is an integer of 0 to 12. ]
It is characterized by containing the repeating unit represented by these.

このような芳香族ジアミンは、下記一般式(3):
N−R10−NH (3)
で表されるものである。このような一般式(3)中のR10として選択され得るアリール基は、炭素数が6〜50のものであるが、このようなアリール基の炭素数は6〜40であることが好ましく、6〜30であることがより好ましく、12〜20であることが更に好ましい。このような炭素数が前記下限未満では得られるポリイミドの耐熱性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、得られたポリイミドの溶媒に対する溶解性が低下する傾向にある。
Such an aromatic diamine has the following general formula (3):
H 2 N-R 10 -NH 2 (3)
It is represented by The aryl group that can be selected as R 10 in the general formula (3) has 6 to 50 carbon atoms, and the aryl group preferably has 6 to 40 carbon atoms, More preferably, it is 6-30, and it is still more preferable that it is 12-20. When the number of carbon atoms is less than the lower limit, the heat resistance of the resulting polyimide tends to be reduced. On the other hand, when the carbon number exceeds the upper limit, the solubility of the obtained polyimide in a solvent tends to be lowered.

また、前記一般式(3)中のR10としては、耐熱性と溶解性のバランスの観点から、下記一般式(5)〜(8): As the R 10 in the general formula (3), from the viewpoint of balance of solubility and heat resistance, the following general formula (5) to (8):

[式(7)中、R11は、水素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基及びトリフルオロメチル基よりなる群から選択される1種を示し、式(8)中、Qは、式:−O−、−S−、−CO−、−CONH−、−SO−、−C(CF−、−C(CH−、−CH−、−O−C−C(CH-C−O−、−O−C−C(CF-C−O−、−O−C−SO-C−O−、−C(CH−C−C(CH−、−O−C−C−O−、及び、−O−C−O−で表される基、並びに、下記一般式(9): [In the formula (7), R 11 represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, an ethyl group and a trifluoromethyl group, and in the formula (8), Q represents a formula: -O -, - S -, - CO -, - CONH -, - SO 2 -, - C (CF 3) 2 -, - C (CH 3) 2 -, - CH 2 -, - O-C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -C 6 H 4 -O -, - O-C 6 H 4 -C (CF 3) 2 -C 6 H 4 -O -, - O-C 6 H 4 -SO 2 -C 6 H 4 -O -, - C (CH 3) 2 -C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -, - O-C 6 H 4 -C 6 H 4 -O-, and, -O -C 6 H 4 -O-, a group represented by the well, the following general formula (9):

(式(9)中、Raはそれぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、フェニル基及びトリル基のうちのいずれか1種を示し、yは1〜18の整数を示す。)
で表される基からなる群から選択される1種を示す。]
で表される基のうちの少なくとも1種であることが好ましい。
(In the formula (9), R a independently represents any one of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group, and a tolyl group, and y represents an integer of 1 to 18.)
1 type selected from the group consisting of groups represented by: ]
It is preferable that it is at least 1 sort (s) of group represented by these.

このような一般式(7)中のR11としては、耐熱性の観点から、水素原子、フッ素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。 R 11 in the general formula (7) is more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, or an ethyl group, and particularly preferably a hydrogen atom, from the viewpoint of heat resistance.

また、上記一般式(8)中のQとして選択され得る上記一般式(9)で表される基において、Raはそれぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、フェニル基及びトリル基のうちのいずれか1種である。このようなアルキル基の炭素数が前記上限を超えるとポリイミドフィルムの耐熱性や透明性が低下する傾向にある。このようなRaとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基、トリル基であることが好ましく、メチル基、エチル基であることがより好ましく、メチル基が更に好ましい。 In the group represented by the general formula (9) that can be selected as Q in the general formula (8), each R a is independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group, or a tolyl group. Any one of these. When the carbon number of such an alkyl group exceeds the upper limit, the heat resistance and transparency of the polyimide film tend to be reduced. Such Ra is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a phenyl group, or a tolyl group, more preferably a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a methyl group.

また、上記一般式(9)中のyは1〜15(より好ましくは3〜12、更に好ましくは5〜10)の整数を示す。このようなyの値が前記下限未満ではポリイミドフィルムの接着性やレーザ剥離性(基板上にフィルムを作成した場合においてレーザ剥離処理を施した場合のフィルムの剥離のしやすさ)が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えるとポリイミドフィルムの耐熱性や透明性が低下する傾向にある。   Moreover, y in the said General formula (9) shows the integer of 1-15 (more preferably 3-12, still more preferably 5-10). If the value of y is less than the lower limit, the adhesiveness and laser peelability of the polyimide film (ease of film peeling when laser peeling treatment is performed when a film is formed on a substrate) tend to decrease. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the heat resistance and transparency of the polyimide film tend to be lowered.

なお、上記一般式(3)中のR10が式(8)で表される基であり、且つ、該式(8)中のQが上記一般式(9)で表される基である芳香族ジアミンの好適な一例としては、例えば、下記式(10): In addition, the aromatic in which R 10 in the general formula (3) is a group represented by the formula (8), and Q in the formula (8) is a group represented by the general formula (9). As a suitable example of the group diamine, for example, the following formula (10):

[式(10)中、Meはメチル基であることを示す。]
で表される化合物(シリコーン系の芳香族ジアミン)等が挙げられる。
[In the formula (10), Me represents a methyl group. ]
(Silicone-based aromatic diamine) and the like.

また、上記一般式(8)中のQとしては、耐熱性と溶解性のバランスという観点から、式:−CONH−、−O−C−O−、−O−、−C(CH−、−CH−、−O−C−C−O−又は−O−C−C(CH-C−O−、で表される基が好ましく、式:−CONH−、−O−C−O−、−O−C−C−O−又は−O−で表される基が特に好ましく、式:−CONH−、−O−C−O−又は−O−で表される基が最も好ましい。さらに、上記一般式(8)中のQとしては、接着性やレーザ剥離性の観点からは、上記一般式(9)で表される基であることが好ましく、線膨張係数と耐熱性の観点からは、式:−CONH−で表される基が好ましい。 As the Q in the general formula (8), from the viewpoint of solubility of the balance between heat resistance, the formula: -CONH -, - O-C 6 H 4 -O -, - O -, - C (CH 3) 2 -, - CH 2 -, - O-C 6 H 4 -C 6 H 4 -O- , or -O-C 6 H 4 -C ( CH 3) 2 -C 6 H 4 -O-, in Groups represented by the formula: —CONH—, —O—C 6 H 4 —O—, —O—C 6 H 4 —C 6 H 4 —O— or —O— are particularly preferred. A group represented by the formula: —CONH—, —O—C 6 H 4 —O— or —O— is most preferable. Furthermore, Q in the general formula (8) is preferably a group represented by the general formula (9) from the viewpoints of adhesiveness and laser peelability, and has a linear expansion coefficient and heat resistance. Is preferably a group represented by the formula: -CONH-.

また、このような一般式(3)で表される芳香族ジアミンとしては、例えば、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエタン、3,3’−ジアミノジフェニルエタン、4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、p−ジアミノベンゼン、m−ジアミノベンゼン、o−ジアミノベンゼン、4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルビフェニル,3,3’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジアミノビフェニル、3,4’−ジアミノビフェニル、2,6−ジアミノナフタレン、1,4−ジアミノナフタレン、1,5−ジアミノナフタレン、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチル−エチリデン)]ビスアニリン、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチル−エチリデン)]ビスアニリン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ジアミノベンズアニリド、3,4’−ジアミノベンズアニリド、9,9’−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、o−トリジンスルホン、2,3,5,6−テトラメチル−1,4−フェニレンジアミン、3,3’,5,5’−テトラメチルベンジジン、1,5−ビス(4−アミノフェノキシ)ペンタン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。なお、このような芳香族ジアミンの中でも、表面平滑性、耐熱性、透明性、線膨張係数の観点から、4,4’−ジアミノベンズアニリド、p−ジアミノベンゼン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルが好ましく、4,4’−ジアミノベンズアニリド、p−ジアミノベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルがより好ましく、4,4’−ジアミノベンズアニリド、p−ジアミノベンゼンが更に好ましい。また、このような芳香族ジアミンは目的とするポリイミドの設計に併せて、1種を単独で用いてもよく、あるいは、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the aromatic diamine represented by the general formula (3) include 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylethane, and 3,3. '-Diaminodiphenylethane, 4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) Propane, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-amino Phenoxy) phenyl] sulfone, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphe , 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminobenzophenone, 3,3′-diaminobenzophenone, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, p-diaminobenzene, m-diaminobenzene, o -Diaminobenzene, 4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diamino-2,2'-dimethylbiphenyl, 4,4'-diamino-3,3'-dimethylbiphenyl, 3,3'-diaminobiphenyl, 2,2′-diaminobiphenyl, 3,4′-diaminobiphenyl, 2,6-diaminonaphthalene, 1,4-diaminonaphthalene, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4 ′-[1,3-phenylenebis ( 1-methyl-ethylidene)] bisaniline, 4,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methyl-ethylidene)] Suaniline, 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-diaminobenzanilide, 3,4′- Diaminobenzanilide, 9,9′-bis (4-aminophenyl) fluorene, o-tolidine sulfone, 2,3,5,6-tetramethyl-1,4-phenylenediamine, 3,3 ′, 5,5 ′ -Tetramethylbenzidine, 1,5-bis (4-aminophenoxy) pentane, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) hexafluo And ropropane. Among such aromatic diamines, 4,4′-diaminobenzanilide, p-diaminobenzene, 2,2′-dimethyl-4 are preferred from the viewpoints of surface smoothness, heat resistance, transparency, and linear expansion coefficient. 4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl are preferred, 4,4′-diaminobenzanilide, p-diamino Benzene and 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl are more preferable, and 4,4′-diaminobenzanilide and p-diaminobenzene are still more preferable. Such aromatic diamines may be used alone or in combination of two or more in accordance with the design of the target polyimide.

また、本発明のポリイミドは、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物と、上記一般式(3)で表される芳香族ジアミンとの重合体である。このように、本発明のポリイミドは、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物をモノマーとして利用して得られる重合体であることから、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物に由来して、ポリイミド中に含有されるCuの含有量を十分に低いものとすることができ、ポリイミドの耐熱性をより高度なものとすることが可能である。なお、このような重合体の製造条件等は後述の本発明のポリイミドの製造方法において説明する。   The polyimide of the present invention is a polymer of the tetracarboxylic dianhydride of the present invention and an aromatic diamine represented by the general formula (3). Thus, since the polyimide of the present invention is a polymer obtained by using the tetracarboxylic dianhydride of the present invention as a monomer, derived from the tetracarboxylic dianhydride of the present invention, The content of Cu contained in the polyimide can be made sufficiently low, and the heat resistance of the polyimide can be made higher. In addition, the manufacturing conditions etc. of such a polymer are demonstrated in the manufacturing method of the polyimide of this invention mentioned later.

さらに、本発明のポリイミドは、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物と、上記一般式(3)で表される芳香族ジアミンとの重合体であって、下記一般式(2):   Furthermore, the polyimide of the present invention is a polymer of the tetracarboxylic dianhydride of the present invention and an aromatic diamine represented by the above general formula (3), which has the following general formula (2):

[式(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、R10は炭素数6〜50のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位を含有するものである。
[In the formula (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom, and R 10 represents carbon. An aryl group having a number of 6 to 50 is shown, and n is an integer of 0 to 12. ]
The repeating unit represented by these is contained.

このような一般式(2)中のR、R、R、nは、それぞれ上記一般式(1)中のR、R、R、nと同様のものであり、その好適なものも同様である。また、このような一般式(2)中のR10は、上記一般式(3)で表される芳香族ジアミンに由来する基であり、上記一般式(3)中のR10と同様のものである(その好適なものも同様である。)。 R 1, R 2, R 3, n in the general formula (2) is respectively the same as R 1, R 2, R 3, n in the general formula (1), the preferred The same is true for anything. R 10 in the general formula (2) is a group derived from the aromatic diamine represented by the general formula (3), and is the same as R 10 in the general formula (3). (The same applies to the preferred ones.)

また、このようなポリイミドとしては、耐熱性の観点から、ポリイミド中のCuの含有量が5ppm以下であることがより好ましく、3ppm以下であることが更に好ましく、2ppm以下であることが特に好ましく、1〜0ppmであることが最も好ましい。さらに、このようなポリイミドとしては、より高度な水準の透明性を有するポリイミドを得るという観点から、ポリイミド中のPdの含有量が8ppm以下であることがより好ましく、6ppm以下であることが更に好ましく、5ppm以下であることが特に好ましく、3〜0ppmであることが最も好ましい。また、このようなポリイミドとしては、より高度な水準の耐熱性を有するポリイミドを得るという観点から、ポリイミド中のBの含有量が4ppm以下であることがより好ましく、3ppm以下であることが更に好ましく、2ppm以下であることが特に好ましく、1〜0ppmであることが最も好ましい。   Further, as such a polyimide, from the viewpoint of heat resistance, the content of Cu in the polyimide is more preferably 5 ppm or less, further preferably 3 ppm or less, particularly preferably 2 ppm or less, Most preferably, it is 1 to 0 ppm. Furthermore, as such a polyimide, from the viewpoint of obtaining a polyimide having a higher level of transparency, the content of Pd in the polyimide is more preferably 8 ppm or less, and further preferably 6 ppm or less. It is particularly preferably 5 ppm or less, and most preferably 3 to 0 ppm. Further, as such polyimide, from the viewpoint of obtaining a polyimide having a higher level of heat resistance, the content of B in the polyimide is more preferably 4 ppm or less, and further preferably 3 ppm or less. 2 ppm or less is particularly preferable, and 1 to 0 ppm is most preferable.

また、このようなポリイミドとしては、5%重量減少温度が490℃以上のものが好ましく、500℃〜550℃のものがより好ましい。このような5%重量減少温度が前記下限未満では、本発明で要求するような非常に高度な耐熱性を得ることが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、そのような特性を有するポリイミドを製造することが困難となる傾向にある。なお、このような5%重量減少温度は、測定装置として熱重量分析装置(例えばエスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製の商品名「TG/DTA220」)を使用して、窒素ガス雰囲気下、走査温度を30℃から550℃に設定し、昇温速度10℃/min.の条件で昇温して、用いた試料の重量が5%減少する温度を測定することにより求めることができる。なお、測定に際しては、試料の質量を1.0mg〜10mgとして利用することが好ましい。前記試料の質量を前記範囲とする場合には、仮に試料の質量を変えて測定しても、同一のポリイミドに対しては同一の値を測定できる。   Moreover, as such a polyimide, that whose 5% weight loss temperature is 490 degreeC or more is preferable, and the thing of 500 to 550 degreeC is more preferable. If the 5% weight loss temperature is less than the lower limit, it tends to be difficult to obtain a very high heat resistance as required in the present invention. It tends to be difficult to produce a polyimide having the above. Such a 5% weight reduction temperature is obtained by using a thermogravimetric analyzer (for example, trade name “TG / DTA220” manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd.) as a measuring device, and scanning temperature in a nitrogen gas atmosphere. Is set to 30 ° C. to 550 ° C., and the rate of temperature increase is 10 ° C./min. The temperature can be determined by measuring the temperature at which the weight of the sample used is reduced by 5%. In the measurement, it is preferable to use the mass of the sample as 1.0 mg to 10 mg. When the mass of the sample is within the above range, the same value can be measured for the same polyimide even if the mass of the sample is changed.

また、このようなポリイミドとしては、より高度な透明性を得るといった観点から、全光線透過率が80%以上(更に好ましくは85%以上、特に好ましくは87%以上)であるものがより好ましい。また、このようなポリイミドとしては、より高度な透明性を得るといった観点から、ヘイズ(濁度)が5〜0(更に好ましくは4〜0、特に好ましくは3〜0)であるものがより好ましい。さらに、このようなポリイミドとしては、より高度な透明性を得るといった観点から、黄色度(YI)が5〜0(更に好ましくは4〜0、特に好ましくは3〜0)であるものがより好ましい。このような全光線透過率、ヘイズ(濁度)及び黄色度(YI)は、ポリイミドの種類等を適宜選択することにより容易に達成することができる。なお、このような全光線透過率、ヘイズ(濁度)及び黄色度(YI)は、測定装置として、日本電色工業株式会社製の商品名「ヘーズメーターNDH−5000」又は日本電色工業株式会社製の商品名「分光色彩計SD6000」を用いて(日本電色工業株式会社製の商品名「ヘーズメーターNDH−5000」で全光線透過率とヘイズとを測定し、日本電色工業株式会社製の商品名「分光色彩計SD6000」で黄色度を測定する。)、厚みが5〜20μmのポリイミドからなるフィルムを測定用の試料として用いて測定した値を採用することができる。なお、全光線透過率、ヘイズ(濁度)及び黄色度(YI)は、厚みが5〜20μmのポリイミドからなるフィルムであれば、厚みが十分に薄く、測定値に影響がでないことから、同一のポリイミドからは同一の値を測定できる。そのため、全光線透過率、ヘイズ(濁度)及び黄色度(YI)の測定には、前記範囲の厚みを有するフィルムを利用すればよい。また、測定試料の縦、横の大きさは、前記測定装置の測定部位に配置できるサイズであればよく、縦、横の大きさは適宜変更してもよい。なお、このような全光線透過率は、JIS K7361−1(1997年発行)に準拠した測定を行うことにより求め、ヘイズ(濁度)は、JIS K7136(2000年発行)に準拠した測定を行うことにより求め、黄色度(YI)はASTM E313−05(2005年発行)に準拠した測定を行うことにより求める。   Moreover, as such a polyimide, from the viewpoint of obtaining a higher degree of transparency, a polyimide having a total light transmittance of 80% or more (more preferably 85% or more, particularly preferably 87% or more) is more preferable. Moreover, as such a polyimide, the thing whose haze (turbidity) is 5-0 (more preferably 4-0, especially preferably 3-0) is more preferable from a viewpoint of obtaining higher transparency. . Furthermore, as such a polyimide, from the viewpoint of obtaining higher transparency, it is more preferable that the yellowness (YI) is 5 to 0 (more preferably 4 to 0, particularly preferably 3 to 0). . Such total light transmittance, haze (turbidity), and yellowness (YI) can be easily achieved by appropriately selecting the type of polyimide. In addition, such total light transmittance, haze (turbidity), and yellowness (YI), as a measuring device, the brand name "Hazemeter NDH-5000" by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. or Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. Using the product name “Spectral Color Meter SD6000” manufactured by the company (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., product name “Haze Meter NDH-5000” was used to measure the total light transmittance and haze. The value measured by using a film made of polyimide having a thickness of 5 to 20 μm as a sample for measurement can be adopted. The total light transmittance, haze (turbidity), and yellowness (YI) are the same because the thickness is sufficiently thin and the measured value is not affected if the film is made of polyimide having a thickness of 5 to 20 μm. The same value can be measured from the polyimide. Therefore, what is necessary is just to utilize the film which has the thickness of the said range for the measurement of a total light transmittance, haze (turbidity), and yellowness (YI). In addition, the vertical and horizontal sizes of the measurement sample may be any size that can be arranged at the measurement site of the measurement apparatus, and the vertical and horizontal sizes may be appropriately changed. In addition, such total light transmittance is calculated | required by measuring based on JISK7361-1 (issued in 1997), and a haze (turbidity) performs the measurement based on JISK7136 (issued in 2000). The yellowness (YI) is obtained by performing measurement in accordance with ASTM E313-05 (issued in 2005).

また、このようなポリイミドは、線膨張係数が0〜100ppm/Kであることが好ましく、5〜60ppm/Kであることがより好ましく、10〜30ppm/Kであることが更に好ましい。このような線膨張係数が前記上限を超えると、線膨張係数の範囲が5〜20ppm/Kである金属や無機物と組合せて複合化した場合に熱履歴で剥がれが生じやすくなる傾向にある。また、前記線膨張係数が、前記下限未満では溶解性の低下やフィルム特性が低下する傾向にある。このようなポリイミドの線膨張係数の測定方法としては、縦20mm、横5mmの大きさのポリイミドフィルム(かかるフィルムの厚みは測定値に影響するものではないため特に制限されるものではないが、10〜30μmとすることが好ましい。)を形成して測定試料とし、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8310」)を利用して、窒素雰囲気下、引張りモード(49mN)、昇温速度5℃/分の条件を採用して、50℃〜200℃における前記試料の縦方向の長さの変化を測定して、50℃〜200℃の温度範囲における1℃あたりの長さの変化の平均値を求めることにより得られる値を採用する。   Further, such a polyimide preferably has a linear expansion coefficient of 0 to 100 ppm / K, more preferably 5 to 60 ppm / K, and still more preferably 10 to 30 ppm / K. When such a linear expansion coefficient exceeds the upper limit, peeling tends to occur due to thermal history when combined with a metal or inorganic material having a linear expansion coefficient range of 5 to 20 ppm / K. Moreover, when the linear expansion coefficient is less than the lower limit, the solubility and the film characteristics tend to be lowered. As a method for measuring the linear expansion coefficient of such polyimide, a polyimide film having a size of 20 mm in length and 5 mm in width (thickness of the film does not affect the measured value, but is not particularly limited. To 30 μm.) To form a measurement sample, and using a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8310” manufactured by Rigaku) as a measurement device, under a nitrogen atmosphere, a tensile mode (49 mN), The length per 1 ° C. in the temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. is measured by measuring the change in the length of the sample in the vertical direction at 50 ° C. to 200 ° C. under the condition of the heating rate of 5 ° C./min. The value obtained by calculating the average value of the changes in is adopted.

さらに、このようなポリイミドの数平均分子量(Mn)としては、ポリスチレン換算で1000〜100000であることが好ましい。また、このようなポリイミドの重量平均分子量(Mw)としては、ポリスチレン換算で1000〜500000であることが好ましい。さらに、このようなポリイミドの分子量分布(Mw/Mn)は1.1〜5.0であることが好ましい。このようなMn、Mw、Mw/Mnが前記下限未満ではフィルムの物性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると粘度が5〜150cpsを超え、フィルムの表面平滑性が悪化する傾向にある。なお、このようなポリイミドの分子量(Mw又はMn)や分子量の分布(Mw/Mn)は、測定装置としてゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用い、測定したデータをポリスチレンで換算して求めることができる。なお、このようなポリイミドにおいては、分子量の測定が困難な場合には、そのポリイミドの製造に用いるポリアミド酸の粘度に基づいて、分子量等を類推して、用途等に応じたポリイミドを選別して使用してもよい。   Furthermore, the number average molecular weight (Mn) of such a polyimide is preferably 1000 to 100,000 in terms of polystyrene. Moreover, as a weight average molecular weight (Mw) of such a polyimide, it is preferable that it is 1000-500000 in polystyrene conversion. Furthermore, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of such a polyimide is preferably 1.1 to 5.0. When such Mn, Mw, Mw / Mn is less than the lower limit, the physical properties of the film tend to be lowered. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the viscosity exceeds 5 to 150 cps, and the surface smoothness of the film tends to deteriorate. is there. In addition, the molecular weight (Mw or Mn) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of such a polyimide can be obtained by converting measured data with polystyrene using gel permeation chromatography as a measuring device. In addition, in such a polyimide, when it is difficult to measure the molecular weight, the molecular weight is estimated based on the viscosity of the polyamic acid used for the production of the polyimide, and the polyimide according to the application is selected. May be used.

また、このようなフィルムを形成するポリイミドとしては、ガラス転移温度が200℃以上であることが好ましく、250℃〜500℃であることが更に好ましく、300℃〜450℃とすることが特に好ましい。このようなガラス転移温度が前記下限未満では、耐熱性の観点から目的の用途(ガラス代替や有機EL基板など)に使用不能となる傾向にある。このようなポリイミドのガラス転移温度は、測定装置として熱機械的分析装置(例えば、リガク製の商品名「TMA8311」)を使用し、昇温速度:5℃/分の条件で、窒素雰囲気下、ペネトレーションモードにより30℃から550℃の間を走査することにより求められる値(いわゆるペネトレーション(針入れ)法による測定値)を採用することができる。なお、以下の軟化温度はガラス転移温度と同一の測定条件で同時測定が可能である(ガラス転移温度が検出される場合は軟化温度の前にピークが出現する)。   Moreover, as a polyimide which forms such a film, it is preferable that glass transition temperature is 200 degreeC or more, It is more preferable that it is 250 to 500 degreeC, It is especially preferable to set it as 300 to 450 degreeC. If such a glass transition temperature is less than the lower limit, it tends to be unusable for the intended application (glass replacement, organic EL substrate, etc.) from the viewpoint of heat resistance. The glass transition temperature of such a polyimide is measured using a thermomechanical analyzer (for example, trade name “TMA8311” manufactured by Rigaku) as a measuring device, under a temperature increase rate of 5 ° C./min under a nitrogen atmosphere. A value obtained by scanning between 30 ° C. and 550 ° C. in the penetration mode (measured value by a so-called penetration (needle insertion) method) can be adopted. The following softening temperatures can be measured simultaneously under the same measurement conditions as the glass transition temperature (when a glass transition temperature is detected, a peak appears before the softening temperature).

また、このようなポリイミドとしては、軟化温度が300℃以上のものが好ましく、350〜550℃のものがより好ましい。このような軟化温度が前記下限未満では十分な耐熱性を得ることが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えるとそのような特性を有するポリイミドを製造することが困難となる傾向にある。なお、このような軟化温度は、熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8311」)を使用して、ペネトレーションモードにより測定することができる(いわゆるペネトレーション(針入れ)法により測定できる)。また、測定に際しては、試料のサイズ(縦、横、厚み等)は測定値に影響するものではないため、用いる熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8310」)の治具に装着可能なサイズに、試料のサイズを適宜調整すればよい。なお、このような軟化温度の測定方法としては、例えば、測定試料として縦5mm、横5mm、厚み13μmの大きさのポリイミドからなるフィルムを準備し、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8311」)を用いて、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件を採用して、30℃〜550℃の温度範囲の条件でフィルムに透明石英製ピン(先端の直径:0.5mm)を針入れすることにより測定する方法(いわゆるペネトレーション(針入れ)法)を採用してもよい。   Moreover, as such a polyimide, that whose softening temperature is 300 degreeC or more is preferable, and the thing of 350-550 degreeC is more preferable. If the softening temperature is less than the lower limit, it tends to be difficult to obtain sufficient heat resistance, and if it exceeds the upper limit, it tends to be difficult to produce a polyimide having such characteristics. . In addition, such a softening temperature can be measured by a penetration mode using a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8311” manufactured by Rigaku) (can be measured by a so-called penetration method). In measurement, the sample size (vertical, horizontal, thickness, etc.) does not affect the measured value, so it can be attached to the jig of the thermomechanical analyzer to be used (trade name “TMA8310” manufactured by Rigaku). The sample size may be adjusted as appropriate to a suitable size. In addition, as a measuring method of such a softening temperature, for example, a film made of polyimide having a size of 5 mm in length, 5 mm in width, and 13 μm in thickness is prepared as a measurement sample, and a thermomechanical analyzer (manufactured by Rigaku) is used as a measuring device. Using a product name “TMA8311”), a transparent quartz pin (tip diameter: tip diameter) was applied to the film under a temperature range of 30 ° C. to 550 ° C. under a nitrogen atmosphere under a temperature rising rate of 5 ° C./min. You may employ | adopt the method (what is called penetration (needle insertion) method) which measures by inserting a needle into 0.5 mm.

以上、本発明のポリイミドについて説明したが、以下、本発明のポリイミドを製造するための方法として好適に利用することが可能な、本発明のポリイミドの製造方法について説明する。   Although the polyimide of the present invention has been described above, the method for producing the polyimide of the present invention that can be suitably used as a method for producing the polyimide of the present invention will be described below.

[ポリイミドの製造方法]
本発明のポリイミドの製造方法は、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物と、上記一般式(3)で表される芳香族ジアミンとを反応せしめてポリアミド酸を形成した後、該ポリアミド酸をイミド化させることにより、
前記テトラカルボン酸二無水物と前記芳香族ジアミンとの重合体であり、かつ、上記一般式(2)で表される繰り返し単位を含有するポリイミドを得ること、
を特徴とする方法である。
[Production method of polyimide]
The method for producing the polyimide of the present invention comprises forming the polyamic acid by reacting the tetracarboxylic dianhydride of the present invention with the aromatic diamine represented by the general formula (3), By imidizing,
Obtaining a polyimide which is a polymer of the tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine and contains a repeating unit represented by the general formula (2),
It is the method characterized by this.

このようなポリイミドの製造方法は、テトラカルボン酸二無水物として、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物(Cuの含有量が10ppm以下である本発明のテトラカルボン酸二無水物)を利用し、かつ、芳香族ジアミンとして上記一般式(3)で表される芳香族ジアミンを利用する以外は、公知のポリイミドの製造方法(国際公開第2011/099518に記載の方法、国際公開第2013/021942に記載の方法)を利用することができる。そのため、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物と、上記一般式(3)で表される芳香族ジアミンとを反応させる際の条件としては、公知の条件を適宜採用すればよく、例えば、溶媒と、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物と、前記一般式(3)で表される芳香族ジアミンとを含有する混合液を準備し、大気圧、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性雰囲気の条件下、0〜50℃の温度条件下において、0.5〜24時間撹拌することにより反応させる方法を採用してもよい。なお、このような溶媒としては、例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、プロピレンカーボネート、テトラメチル尿素(テトラメチルウレア(TMU))、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ピリジンなどの非プロトン系極性溶媒;m−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒;テトラハイドロフラン、ジオキサン、セロソルブ、グライム、ジグライム、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエーテル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒;シクロペンタノンやシクロヘキサノン等のケトン系溶媒;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒などが挙げられる。   Such a method for producing a polyimide utilizes the tetracarboxylic dianhydride of the present invention (a tetracarboxylic dianhydride of the present invention having a Cu content of 10 ppm or less) as the tetracarboxylic dianhydride. In addition, except that the aromatic diamine represented by the general formula (3) is used as the aromatic diamine, a known polyimide production method (a method described in International Publication No. 2011/099518, International Publication No. 2013/021942). Can be used. Therefore, as the conditions for reacting the tetracarboxylic dianhydride of the present invention with the aromatic diamine represented by the general formula (3), known conditions may be appropriately employed. And a mixture containing the tetracarboxylic dianhydride of the present invention and the aromatic diamine represented by the general formula (3), and an inert atmosphere such as atmospheric pressure, nitrogen, helium, argon The method of making it react by stirring for 0.5 to 24 hours on the conditions of 0-50 degreeC on these conditions may be employ | adopted. Examples of such a solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, propylene carbonate, tetramethylurea (tetramethylurea). (TMU)), aprotic polar solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, hexamethylphosphoric triamide, pyridine; phenolic solvents such as m-cresol, xylenol, phenol, halogenated phenol; Ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, cellosolve, glyme, diglyme and propylene glycol monomethyl ether acetate; aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene; ketones such as cyclopentanone and cyclohexanone Emissions solvents; acetonitrile, nitrile solvents such as benzonitrile and the like.

また、このように上記本発明のテトラカルボン酸二無水物と、上記一般式(3)で表される芳香族ジアミンとを反応させて得られるポリアミド酸は、下記一般式(11):   Further, the polyamic acid obtained by reacting the tetracarboxylic dianhydride of the present invention with the aromatic diamine represented by the general formula (3) as described above is represented by the following general formula (11):

[式(11)中のR、R、R、nはそれぞれ上記一般式(1)中のR、R、R、nと同様のものであり(その好適なものも同様である。)、式(11)中のR10は上記一般式(3)中のR10と同様のものである(その好適なものも同様である。)。]
で表されるものとなる。なお、後述のイミド化前に、上述のようにして得られたポリアミド酸を、そのまま(溶媒中で反応させた場合においてその溶媒中に存在する状態で)或いは単離した後に再度溶媒に溶解させて、前記ポリアミド酸と前記溶媒とを含む溶液(樹脂溶液:ワニス)の状態として保管等してもよい。
Expression (11) R 1, R 2 , R 3, n in is in each the same as R 1, R 2, R 3 , n in the general formula (1) (same as the preferred in a.), R 10 in the formula (11) is similar to the R 10 in the general formula (3) (the same applies to those that preferred.). ]
It will be represented by Before the imidation described below, the polyamic acid obtained as described above is dissolved in the solvent as it is (in the state where it is present in the solvent when reacted in a solvent) or after isolation. In addition, it may be stored as a solution (resin solution: varnish) containing the polyamic acid and the solvent.

また、このようなポリアミド酸をイミド化する方法も特に制限されず、公知のポリイミドの製造方法(国際公開第2011/099518に記載の方法、国際公開第2013/021942に記載の方法)において採用されているイミド化の方法(例えば、前記ポリアミド酸を60〜450℃(より好ましくは60〜400℃、更に好ましくは150〜350℃、特に好ましくは150℃〜250℃)に加熱してイミド化する方法等)を適宜採用することができる。   Further, the method for imidizing such polyamic acid is not particularly limited, and is employed in a known polyimide production method (method described in International Publication No. 2011/099518, method described in International Publication No. 2013/021942). The imidization method (for example, the polyamic acid is heated to 60 to 450 ° C. (more preferably 60 to 400 ° C., further preferably 150 to 350 ° C., particularly preferably 150 ° C. to 250 ° C.) to imidize. Method, etc.) can be employed as appropriate.

このようにして、前記ポリアミド酸をイミド化して得られるポリイミドは、上記本発明のテトラカルボン酸二無水物と前記芳香族ジアミンとの重合体であり、かつ、上記一般式(2)で表される繰り返し単位を含有するポリイミドとなる。そして、このようなポリイミドは、モノマーとしてCuの含有量が10ppm以下の上記本発明のテトラカルボン酸二無水物を用いるものであることから、得られるポリイミド中に含まれるCuの含有量を十分に低減させることができ、これにより、得られるポリイミドの耐熱性をより高度なものとすることができる。また、このような本発明のポリイミドの製造方法によれば、上記本発明のポリイミドを効率よく製造することができる。   Thus, the polyimide obtained by imidizing the polyamic acid is a polymer of the tetracarboxylic dianhydride of the present invention and the aromatic diamine, and is represented by the general formula (2). It becomes a polyimide containing a repeating unit. And since such a polyimide uses the tetracarboxylic dianhydride of the present invention having a Cu content of 10 ppm or less as a monomer, the content of Cu contained in the obtained polyimide is sufficient. This can reduce the heat resistance of the resulting polyimide. Moreover, according to the manufacturing method of the polyimide of this invention, the said polyimide of this invention can be manufactured efficiently.

なお、このような本発明のポリイミドは、Cuの含有量が十分に抑制されており、非常に高度な耐熱性を有することから、例えば、フレキシブル配線基板用フィルム(FPC基板)、フレキシブル銅張積層板用の基板(FCCL基板)、耐熱絶縁テープ、電線エナメル、半導体の保護コーティング剤、液晶配向膜、有機EL用透明導電性フィルム、有機EL用TFT基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、カバーガラス代替フィルム、フレキシブル基板フィルム、フレキシブル透明導電性フィルム、有機薄膜型太陽電池用透明導電性フィルム、色素増感型太陽電池用透明導電性フィルム、フレキシブルガスバリアフィルム、タッチパネル用フィルム、複写機用シームレスポリイミドベルト(いわゆる転写ベルト)、透明電極基板(有機EL用透明電極基板、太陽電池用透明電極基板、電子ペーパーの透明電極基板等)、層間絶縁膜、センサー基板、イメージセンサーの基板、発光ダイオード(LED)の反射板(LED照明の反射板:LED反射板)、LED照明用のカバー、LED反射板照明用カバー、カバーレイフィルム、高延性複合体基板、半導体向けレジスト、リチウムイオンバッテリー、有機メモリ用基板、有機トランジスタ用基板、有機半導体用基板、カラーフィルタ基材、フロントフィルム等の用途に用いる材料等として適宜好適に利用することができる。   In addition, since the content of Cu is sufficiently suppressed and the polyimide of the present invention has a very high heat resistance, for example, a film for a flexible wiring board (FPC board), a flexible copper-clad laminate, and the like. Substrate for board (FCCL substrate), heat-resistant insulating tape, wire enamel, semiconductor protective coating agent, liquid crystal alignment film, transparent conductive film for organic EL, TFT substrate for organic EL, color filter substrate, touch panel substrate, cover Glass substitute film, flexible substrate film, flexible transparent conductive film, transparent conductive film for organic thin film solar cell, transparent conductive film for dye-sensitized solar cell, flexible gas barrier film, film for touch panel, seamless polyimide for copier Belt (so-called transfer belt), transparent electrode base (Transparent electrode substrate for organic EL, transparent electrode substrate for solar cell, transparent electrode substrate for electronic paper, etc.), interlayer insulating film, sensor substrate, image sensor substrate, light-emitting diode (LED) reflector (LED illumination reflector) : LED reflector), LED illumination cover, LED reflector illumination cover, coverlay film, high ductility composite substrate, resist for semiconductor, lithium ion battery, organic memory substrate, organic transistor substrate, organic semiconductor It can be suitably used suitably as a material used for applications such as a substrate, a color filter substrate, and a front film.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.

[特性の評価方法について]
先ず、以下に示す実施例等において得られた化合物や重合体の特性の評価方法について説明する。
[Characteristic evaluation method]
First, the evaluation method of the characteristic of the compound and polymer obtained in the Example etc. which are shown below is demonstrated.

<分子構造の同定>
各実施例や各比較例で得られた化合物の分子構造の同定は、その化合物に応じて、赤外吸収スペクトル測定(IR測定)、核磁気共鳴スペクトル測定(NMR測定)等の測定を適宜採用することで行った。なお、IR測定及びNMR測定には、測定装置として、それぞれ、IR測定機(日本分光株式会社製FT/IR−4100)、NMR測定機(VARIAN社製、商品名:UNITY INOVA−600)を用いた。
<Identification of molecular structure>
For identification of the molecular structure of the compound obtained in each example or each comparative example, measurements such as infrared absorption spectrum measurement (IR measurement) and nuclear magnetic resonance spectrum measurement (NMR measurement) are appropriately employed depending on the compound. It was done by doing. In addition, for IR measurement and NMR measurement, an IR measuring device (FT / IR-4100 manufactured by JASCO Corporation) and an NMR measuring device (manufactured by VARIAN, trade name: UNITY INOVA-600) are used as measuring devices, respectively. It was.

<全光線透過率、ヘイズ(濁度)及び黄色度(YI)の測定>
ポリイミドの全光線透過率の値(単位:%)、ヘイズ(濁度:HAZE)及び黄色度(YI)は、各実施例等で得られたポリイミド(フィルム形状のポリイミド)をそのまま測定用の試料として用い、測定装置として日本電色工業株式会社製の商品名「ヘーズメーターNDH−5000」又は日本電色工業株式会社製の商品名「分光色彩計SD6000」を用いて、それぞれ測定を行うことにより求めた。なお、日本電色工業株式会社製の商品名「ヘーズメーターNDH−5000」で全光線透過率とヘイズを測定し、日本電色工業株式会社製の商品名「分光色彩計SD6000」で黄色度を測定した。また、全光線透過率は、JIS K7361−1(1997年発行)に準拠した測定を行うことにより求め、ヘイズ(濁度)は、JIS K7136(2000年発行)に準拠した測定を行うことにより求め、色度(YI)はASTM E313−05(2005年発行)に準拠した測定を行うことにより求めた。
<Measurement of total light transmittance, haze (turbidity) and yellowness (YI)>
Samples for measuring the total light transmittance (unit:%), haze (turbidity: HAZE), and yellowness (YI) of polyimide as measured in each example etc. (polyimide in film shape) By using the product name “Hazemeter NDH-5000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. or the product name “spectral colorimeter SD6000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. Asked. The total light transmittance and haze are measured with a trade name “Haze Meter NDH-5000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., and the yellowness is measured with a product name “Spectral Color Meter SD6000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. It was measured. Further, the total light transmittance is obtained by performing measurement in accordance with JIS K7361-1 (issued in 1997), and the haze (turbidity) is obtained by performing measurement in accordance with JIS K7136 (issued in 2000). The chromaticity (YI) was determined by performing measurement in accordance with ASTM E313-05 (issued in 2005).

<線膨張係数(CTE)の測定>
ポリイミドの線膨張係数(CTE)は、各実施例等で得られたポリイミド(フィルム形状のポリイミド)から縦20mm、横5mm、厚み13μmの大きさのフィルムをそれぞれ形成して測定試料とし、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8310」)を利用して、窒素雰囲気下、引張りモード(49mN)、昇温速度5℃/分の条件を採用して、50℃〜200℃における前記試料の長さの変化を測定して、50℃〜200℃の温度範囲における1℃あたりの長さの変化の平均値を求めることにより測定した。
<Measurement of linear expansion coefficient (CTE)>
The linear expansion coefficient (CTE) of polyimide is a measurement sample by forming a film having a size of 20 mm in length, 5 mm in width, and 13 μm in thickness from the polyimide (film-shaped polyimide) obtained in each example etc. Using a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8310” manufactured by Rigaku), adopting a tension mode (49 mN) and a heating rate of 5 ° C./min under a nitrogen atmosphere, 50 ° C. to 200 ° C. The change in the length of the sample was measured, and the average value of the change in length per 1 ° C. in the temperature range of 50 ° C. to 200 ° C. was measured.

<5%重量減少温度(Td5%)の測定>
ポリイミドの5%重量減少温度は、各実施例等で得られたポリイミドから、それぞれ2〜4mgの試料を準備し、これをアルミ製サンプルパンに入れ、測定装置として熱重量分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製の商品名「TG/DTA220」)を使用して、窒素ガス雰囲気下、走査温度を30℃から550℃に設定し、昇温速度10℃/分の条件で加熱して、用いた試料の重量が5%減少する温度を測定することにより求めた。
<Measurement of 5% weight loss temperature (Td 5%)>
The 5% weight reduction temperature of polyimide was prepared by preparing 2 to 4 mg samples from the polyimides obtained in each Example, etc., and placing them in an aluminum sample pan. A thermogravimetric analyzer (SII Using a trade name “TG / DTA220” manufactured by Nanotechnology Co., Ltd.), setting the scanning temperature from 30 ° C. to 550 ° C. in a nitrogen gas atmosphere, heating at a temperature rising rate of 10 ° C./min, It was determined by measuring the temperature at which the weight of the sample used was reduced by 5%.

(実施例1)
<テトラカルボン酸エステル化合物の生成工程>
1000mLのガラス製のオートクレーブ(耐圧ガラス工業製の商品名「ハイパーグラスターTEM−V型」)の容器に、メタノール(820mL)、CuCl(II)(81.6g、454mmol)、下記一般式(I):
Example 1
<Step of producing tetracarboxylic acid ester compound>
In a container of 1000 mL glass autoclave (trade name “Hyperblaster TEM-V type” manufactured by pressure-resistant glass industry), methanol (820 mL), CuCl 2 (II) (81.6 g, 454 mmol), the following general formula (I ):

で表される5−ノルボルネン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−5’’−ノルボルネン(35.6g、148mmol:以下、場合により「原料化合物」と称する。)、及び、Pd(OAc)(NO)(166mg、Pd換算で0.74mmol)を添加して混合液を得た。なお、Pd(OAc)(NO)は2005年に発行されたDalton Trans(vol.11)の第1991頁に記載された方法を採用して製造した。また、上記一般式(I)で表わされるノルボルネン化合物は、国際公開2011/099518号の合成例1に開示されている方法と同様の方法を採用して製造した。 5-norbornene-2-spiro-α-cyclopentanone-α′-spiro-2 ″ -5 ″ -norbornene (35.6 g, 148 mmol: hereinafter sometimes referred to as “raw material compound”. ) And Pd 3 (OAc) 5 (NO 2 ) (166 mg, 0.74 mmol in terms of Pd) were added to obtain a mixed solution. Pd 3 (OAc) 5 (NO 2 ) was produced by employing the method described on page 1991 of Dalton Trans (vol. 11) issued in 2005. Further, the norbornene compound represented by the above general formula (I) was produced by adopting the same method as disclosed in Synthesis Example 1 of International Publication No. 2011/099518.

次いで、前記容器の内部に存在する混合液に対してガラス管を介してガスをバブリングできるようにガラス管を配置した。その後、前記容器を密閉して内部の雰囲気ガスを窒素で置換した。その後、前記容器に真空ポンプを繋ぎ、容器内を減圧にした(容器内の圧力:0.015MPa)。次に、前記混合液中にガラス管を介して一酸化炭素を前記原料化合物に対して0.015モル当量/分の割合(流量)でバブリングして供給しながら、温度を25〜30℃に維持するようにしつつ、容器内の圧力を0.13MPaに維持するようにして、前記混合液を5時間撹拌した後、さらに、温度:40℃の条件下、容器内の圧力を0.13MPaに維持するようにして3時間撹拌し、反応液を得た。次いで、前記容器の内部から一酸化炭素を含む雰囲気ガスを除き、前記反応液をエバポレーターで濃縮することにより前記反応液中からメタノールを除去(留去)して、テトラカルボン酸エステル化合物(反応生成物)の粗生成物を得た(収量65.4g、収率92.6%、重合物2.20%:かかる収量及び収率は、前記反応生成物を高速液体クロマトグラフィー(HPLC、Agilent社製、1200シリーズ)分析による測定により求めた値であり、重合物の割合はGPC分析による測定により求めた値である。)。   Subsequently, the glass tube was arrange | positioned so that gas could be bubbled through the glass tube with respect to the liquid mixture which exists in the inside of the said container. Then, the said container was sealed and internal atmospheric gas was substituted with nitrogen. Thereafter, a vacuum pump was connected to the container to reduce the pressure in the container (pressure in the container: 0.015 MPa). Next, while supplying carbon monoxide through the glass tube at a rate (flow rate) of 0.015 molar equivalent / minute with respect to the raw material compound, the temperature is adjusted to 25 to 30 ° C. While maintaining the pressure in the container at 0.13 MPa, the mixture was stirred for 5 hours, and then the pressure in the container was further reduced to 0.13 MPa under the condition of temperature: 40 ° C. The mixture was stirred for 3 hours so as to maintain the reaction solution. Next, the atmosphere gas containing carbon monoxide is removed from the inside of the container, and the reaction solution is concentrated with an evaporator to remove (evaporate) methanol from the reaction solution, thereby producing a tetracarboxylic acid ester compound (reaction product). Product) (yield 65.4 g, yield 92.6%, polymer 2.20%: the yield and yield were determined by high performance liquid chromatography (HPLC, Agilent) Manufactured, 1200 series) values obtained by measurement by analysis, and the ratio of the polymer is a value obtained by measurement by GPC analysis.

<ろ過工程>
前記テトラカルボン酸エステル化合物の粗生成物を別の容器(容量2000mLの撹拌機能付きガラス容器)に移した後、前記粗生成物に対して、トルエン(1200mL)を加えて80℃の温度条件で1時間激しく撹拌することにより、前記テトラカルボン酸エステル化合物をトルエンで抽出し、トルエン抽出液(前記生成物の濃度:8.4質量%)を得た。次いで、前記トルエン抽出液の温度を80℃に保ったまま、前記トルエン抽出液から、トルエンに溶解しない成分であるCuCl及びPd(OAc)(NO)を分離するように、桐山ロートを用いた減圧ろ過を行って、ろ過後のトルエン抽出液(ろ液)を得た。
<Filtration process>
After the crude product of the tetracarboxylic acid ester compound was transferred to another container (glass container with a capacity of 2000 mL), toluene (1200 mL) was added to the crude product at a temperature of 80 ° C. By vigorously stirring for 1 hour, the tetracarboxylic acid ester compound was extracted with toluene to obtain a toluene extract (concentration of the product: 8.4% by mass). Next, while maintaining the temperature of the toluene extract at 80 ° C., the Kiriyama funnel is used to separate CuCl and Pd 3 (OAc) 5 (NO 2 ), which are components not dissolved in toluene, from the toluene extract. The reduced-pressure filtration used was performed and the toluene extract (filtrate) after filtration was obtained.

<洗浄工程>
次に、前記ろ過工程後に得られたトルエン抽出液(ろ液)を、80℃の温度条件下において5質量%の塩酸(200ml)で3回洗浄した。次いで、このようにして塩酸で洗浄した前記トルエン抽出液を、80℃の温度条件下において、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(200ml)により2回洗浄した。次いで、このようにして飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した前記トルエン抽出液を、80℃の温度条件下において、イオン交換水(200ml)により2回洗浄した後、得られたトルエン抽出液をフィルターでろ過することにより、洗浄後のトルエン抽出液(反応生成物の濃度:7.9質量%)を得た。
<Washing process>
Next, the toluene extract (filtrate) obtained after the filtration step was washed three times with 5% by mass hydrochloric acid (200 ml) under the temperature condition of 80 ° C. Subsequently, the toluene extract thus washed with hydrochloric acid was washed twice with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (200 ml) under the temperature condition of 80 ° C. Next, the toluene extract thus washed with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate was washed twice with ion-exchanged water (200 ml) under the temperature condition of 80 ° C., and the obtained toluene extract was filtered with a filter. By filtration, a toluene extract after washing (concentration of reaction product: 7.9% by mass) was obtained.

<トルエン除去工程>
前記洗浄工程後に得られたトルエン抽出液(反応生成物の濃度:7.9質量%)を、常圧(0.1MPa)で、トルエンの沸点である110℃程度まで加熱することにより濃縮した。このような濃縮操作により総量で900mlのトルエンを留去し、反応生成物の濃度を25質量%に調整した濃縮液(前記トルエン抽出液の濃縮液)を得た。その後、前記濃縮液を室温(25℃)で12時間ほど放冷して、白色結晶を析出させた。次いで、前記濃縮液から、白色結晶をろ別した。その後、ろ別した白色結晶を50mLのトルエンで2回かけ洗いを行った。このようにして得られた白色結晶に対して、60℃で真空乾燥する工程を施して、該結晶に付着しているトルエンを蒸発せしめて、固形分(白色結晶、33.9g、収率48%)を得た。
<Toluene removal process>
The toluene extract obtained after the washing step (concentration of reaction product: 7.9% by mass) was concentrated by heating to about 110 ° C., which is the boiling point of toluene, at normal pressure (0.1 MPa). By such a concentration operation, 900 ml of toluene in a total amount was distilled off to obtain a concentrated solution (concentrated solution of the toluene extract) in which the concentration of the reaction product was adjusted to 25% by mass. Thereafter, the concentrated solution was allowed to cool at room temperature (25 ° C.) for about 12 hours to precipitate white crystals. Next, white crystals were filtered off from the concentrated solution. Thereafter, the filtered white crystals were washed twice with 50 mL of toluene. The white crystals thus obtained were subjected to a vacuum drying step at 60 ° C. to evaporate toluene adhering to the crystals to obtain solids (white crystals, 33.9 g, yield 48). %).

<酢酸再結晶工程(精製工程)>
次いで、得られた固形分(白色結晶)の濃度が20質量%となるように、135.9gの酢酸を加え、110℃程度まで加熱して結晶を溶解させた後、前記溶解液を室温(25℃)で12時間ほど放冷することにより白色結晶を析出させて、前記白色結晶を含む溶液を得た。次いで、前記溶液から白色結晶をろ別し、50mLのトルエンで2回かけ洗いを行い、得られた白色結晶に対して60℃で真空乾燥する工程を施して、該結晶に付着しているトルエンを蒸発せしめることにより、テトラカルボン酸エステル化合物(白色結晶、29.7g、収率42%)を得た。
<Acetic acid recrystallization process (purification process)>
Next, 135.9 g of acetic acid was added so that the concentration of the obtained solid content (white crystals) was 20% by mass, and the crystals were dissolved by heating to about 110 ° C. Then, the solution was dissolved at room temperature ( The white crystals were precipitated by allowing to cool at 25 ° C. for about 12 hours to obtain a solution containing the white crystals. Next, white crystals are filtered off from the solution, washed twice with 50 mL of toluene, and the obtained white crystals are subjected to a vacuum drying process at 60 ° C. Was evaporated to obtain a tetracarboxylic acid ester compound (white crystals, 29.7 g, yield 42%).

このようにして得られた生成物(テトラカルボン酸エステル化合物)の構造確認のために、IR測定、NMR(H−NMR)測定を行ったところ、下記一般式(II): In order to confirm the structure of the product (tetracarboxylic acid ester compound) thus obtained, IR measurement and NMR ( 1 H-NMR) measurement were performed. The following general formula (II):

に示す化合物(ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸テトラメチルエステル)であることが確認された。また、このようにして得られた生成物に対してGPC分析を行ったところ、不純物である重合物(前記原料化合物中のノルボルネン環が付加重合した重合物や、複数のノルボルネン環がケト基で結合した重合物の混合物等)の含有量は0.27%であった。なお、得られた生成物をN,N−ジメチルアセトアミドに溶解させ、5質量%の溶液を調製して、測定装置として島津製作所社製のUV−Vis測定装置(商品名「UV−2550」)を用いて、400nmの光の透過率を測定したところ、400nmの光の透過率は99.4%であった。 (Norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α′-spiro-2 ″ -norbornane-5,5 ″, 6,6 ″ -tetracarboxylic acid tetramethyl ester) confirmed. Further, when GPC analysis was performed on the product thus obtained, a polymer which is an impurity (a polymer obtained by addition polymerization of a norbornene ring in the raw material compound or a plurality of norbornene rings having a keto group). The content of the combined polymer mixture etc.) was 0.27%. The obtained product was dissolved in N, N-dimethylacetamide to prepare a 5 mass% solution, and a UV-Vis measuring device (trade name “UV-2550”) manufactured by Shimadzu Corporation was used as a measuring device. As a result, the transmittance of 400 nm light was measured, and the transmittance of 400 nm light was 99.4%.

<酸二無水物の製造工程>
容量が300mLの還流管付きのフラスコ中に、前記酢酸再結晶工程(精製工程)後に得られたテトラカルボン酸エステル化合物(上記一般式(II)で表される化合物)10gを酢酸190g中に溶解させた溶液を添加し、その後、前記溶液中に均一系酸触媒としてテトラフルオロエタンスルホン酸(HCFCFSOH、沸点:210℃)0.38gを添加した。次に、前記フラスコ内の雰囲気ガスを窒素に置換した後、窒素気流下、大気圧の条件で前記溶液をマグネチックスターラを用いて撹拌しながら加熱した。このような加熱により前記フラスコ内の温度を118℃として、還流を0.5時間行った(還流工程)。このような還流工程後、118℃の加熱条件でリービッヒコンデンサーを用いて発生する蒸気を留去すると同時に、滴下漏斗を用いて酢酸をフラスコ内に加えて、フラスコ内の液量が一定になるようにする工程(以下、「工程(i)」と称する。)を施した。なお、このような工程(i)においては、蒸気の留去を開始した後、2時間経過した後から、フラスコ内の液中(反応溶液中)に白色の沈殿物が生成されていることが確認された。また、このような工程(i)においては、1時間ごとに、系外に留去した留出液を質量測定とガスクロマトグラフとにより分析して反応の進行の程度を確認した。なお、このような分析により、留出液中には酢酸、酢酸メチル、水が存在することが確認された。また、上述のような工程における留出液の除去速度を測定したところ、留出液の除去される速度(割合)は1時間あたり約35mLであった。そして、このような工程(i)において蒸気の留去を開始した後、4時間経過した後に酢酸メチルの留出が止まったことから、加熱を止めて、前記工程(i)を終了した。なお、留去開始から4時間経過後までの酢酸メチルの留出量(総量)は、5.5gであった。また、酢酸メチルの留出が止まるまでの間(反応を終了させるまでの間)に留去された酢酸の量は85gであった。
<Production process of acid dianhydride>
In a flask with a reflux tube having a capacity of 300 mL, 10 g of a tetracarboxylic acid ester compound (compound represented by the above general formula (II)) obtained after the acetic acid recrystallization step (purification step) is dissolved in 190 g of acetic acid. Then, 0.38 g of tetrafluoroethanesulfonic acid (HCF 2 CF 2 SO 3 H, boiling point: 210 ° C.) was added as a homogeneous acid catalyst to the solution. Next, after replacing the atmosphere gas in the flask with nitrogen, the solution was heated with stirring using a magnetic stirrer under a nitrogen stream under atmospheric pressure. By such heating, the temperature in the flask was set to 118 ° C., and refluxing was performed for 0.5 hours (refluxing step). After such a reflux step, vapor generated using a Liebig condenser is heated under a heating condition of 118 ° C., and at the same time, acetic acid is added into the flask using a dropping funnel so that the liquid volume in the flask becomes constant. (Hereinafter referred to as “step (i)”). In addition, in such step (i), a white precipitate is generated in the liquid (reaction solution) in the flask after 2 hours have elapsed after the start of evaporation of the vapor. confirmed. In step (i), the distillate distilled off from the system was analyzed by mass measurement and gas chromatography every hour to confirm the degree of progress of the reaction. Such an analysis confirmed that acetic acid, methyl acetate, and water were present in the distillate. Moreover, when the removal speed | rate of the distillate in the above processes was measured, the speed | rate (ratio) by which a distillate was removed was about 35 mL per hour. And after starting distillation of vapor | steam in such a process (i), since distillation of methyl acetate stopped after 4 hours passed, heating was stopped and the said process (i) was complete | finished. In addition, the distillation amount (total amount) of methyl acetate from the start of distillation until 4 hours later was 5.5 g. The amount of acetic acid distilled off until the distillation of methyl acetate stopped (until the reaction was completed) was 85 g.

このようにして、工程(i)を施した後に、フラスコ内の溶液から酢酸を留去して濃縮液を得た後、該濃縮液に対して濾紙を用いた減圧濾過を行って白色の固形分を得た。そして、得られた白色の固形分を酢酸エチル(10mL)で5回洗浄した(酢酸エチル洗浄工程)。その後、酢酸エチル洗浄工程後の固形分を80℃で24時間乾燥することにより、7.6gの白色粉末を得た。   Thus, after performing step (i), acetic acid is distilled off from the solution in the flask to obtain a concentrated solution, and then the concentrated solution is filtered under reduced pressure using a filter paper to obtain a white solid. Got the minute. The resulting white solid was washed 5 times with ethyl acetate (10 mL) (ethyl acetate washing step). Thereafter, the solid content after the ethyl acetate washing step was dried at 80 ° C. for 24 hours to obtain 7.6 g of white powder.

このようにして得られた粉末を一部採取して、高速液体クロマトグラフィー(HPLC、Agilent社製、1200シリーズ)分析を行った結果、得られた白色粉末は単一のピークを与えるものであること(単一の生成物が得られていること)が分かった。なお、前記液体クロマトグラフ分析の結果から、原料化合物(前記テトラカルボン酸エステル化合物)の残存は全く確認されなかった。また、このようにして得られた結晶の化合物の構造を同定すべく、NMR測定を行ったところ、得られた化合物は下記一般式(III):   A part of the powder thus obtained was collected and analyzed by high performance liquid chromatography (HPLC, 1200 series, manufactured by Agilent). As a result, the obtained white powder gives a single peak. (A single product was obtained). From the results of the liquid chromatographic analysis, no residual raw material compound (the tetracarboxylic acid ester compound) was confirmed. Moreover, when NMR measurement was performed in order to identify the structure of the crystalline compound thus obtained, the obtained compound had the following general formula (III):

で表されるテトラカルボン酸二無水物(CpODA)であることが確認された。 It was confirmed that it is tetracarboxylic dianhydride (CpODA) represented by.

次いで、得られたテトラカルボン酸二無水物(CpODA)を用いて、その化合物(CpODA)中に含まれる銅(Cu)、パラジウム(Pd)及びホウ素(B)の含有量を、以下のようにして測定(分析)した。すなわち、先ず、マイクロウェーブ分解装置用テフロン(登録商標)容器にテトラカルボン酸二無水物(CpODA)0.2g、96質量%濃度の超高純度硫酸水溶液(1mL:関東化学社製の商品名「超高純度試薬ウルトラピュア硫酸」)および60質量%濃度の超高純度過塩素酸水溶液(2mL:関東化学社製の商品名「超高純度試薬ウルトラピュア過塩素酸(60%)」)を入れ、該容器をマイクロウェーブ分解装置(パーキンエルマー社製の商品名「MultiWave3000」)に設置した。次に、かかるマイクロウェーブ分解装置において、出力800Wで20分保持した後、出力1400Wで20分保持して、超高純度硫酸水溶液及び超高純度過塩素酸水溶液の混合液中にテトラカルボン酸二無水物(CpODA)を溶解させた後、超純水(関東化学社製の商品名「超高純度試薬ウルトラピュア超純水」)を用いて全量が50mLになるように希釈することで溶液を調製した。このようにして得られた溶液(試料)を用いて、ICP発光分光装置(サーモフィッシャー社製の商品名「iCap630 Duo」)により軸方向測光(アキシャル)、測定時間30秒の条件で分析することにより、その化合物(テトラカルボン酸二無水物:CpODA)中に含まれる銅(Cu)、パラジウム(Pd)及びホウ素(B)の含有量を測定(分析)した。このような測定の結果、得られたテトラカルボン酸二無水物(CpODA)において、Cuの含有量は0.2ppm未満(<0.2ppm:検出限界値よりも小さな値)であり、Pdの含有量は0.2ppm未満(<0.2ppm:検出限界値よりも小さな値)であり、Bの含有量は0.3ppmであることが確認された。   Next, using the obtained tetracarboxylic dianhydride (CpODA), the contents of copper (Cu), palladium (Pd) and boron (B) contained in the compound (CpODA) are as follows. Measured (analyzed). That is, first, 0.2 g of tetracarboxylic dianhydride (CpODA) in a Teflon (registered trademark) container for a microwave decomposing apparatus, a 96 mass% ultra high purity sulfuric acid aqueous solution (1 mL: trade name “manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.” Ultra high purity reagent ultra pure sulfuric acid ") and 60% by mass ultra high purity perchloric acid aqueous solution (2mL: trade name" Ultra high purity reagent ultra pure perchloric acid (60%) "manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.)) The container was placed in a microwave decomposition apparatus (trade name “MultiWave 3000” manufactured by PerkinElmer). Next, in such a microwave decomposition apparatus, after holding at an output of 800 W for 20 minutes, holding at an output of 1400 W for 20 minutes, a tetracarboxylic acid dihydrate is mixed in a mixed solution of an ultrahigh purity sulfuric acid aqueous solution and an ultrahigh purity perchloric acid aqueous solution. After dissolving the anhydride (CpODA), the solution is diluted with ultrapure water (trade name “Ultrapure Reagent Ultrapure Ultrapure Water” manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) to a total volume of 50 mL. Prepared. Using the solution (sample) thus obtained, analysis is performed with an ICP emission spectrometer (trade name “iCap630 Duo” manufactured by Thermo Fisher Co., Ltd.) under conditions of axial photometry (axial) and measurement time of 30 seconds. Then, the contents of copper (Cu), palladium (Pd) and boron (B) contained in the compound (tetracarboxylic dianhydride: CpODA) were measured (analyzed). As a result of such measurement, in the obtained tetracarboxylic dianhydride (CpODA), the Cu content is less than 0.2 ppm (<0.2 ppm: a value smaller than the detection limit value), and the Pd content The amount was less than 0.2 ppm (<0.2 ppm: a value smaller than the detection limit value), and the B content was confirmed to be 0.3 ppm.

(実施例2〜4及び比較例1〜2)
前記テトラカルボン酸エステル化合物に対して行う洗浄工程及び酢酸再結晶工程(精製工程)、並びに、酸二無水物の製造工程において行う酢酸エチル洗浄工程を適宜変更することにより、金属成分(銅(Cu)、パラジウム(Pd)及びホウ素(B))の含有量が表1に記載の量となる上記一般式(III)で表されるテトラカルボン酸二無水物(CpODA)をそれぞれ得た。なお、表1に示す銅(Cu)、パラジウム(Pd)及びホウ素(B)の含有量は実施例1で採用した測定方法と同様の方法を採用して測定した値である。
(Examples 2-4 and Comparative Examples 1-2)
By appropriately changing the washing step and the acetic acid recrystallization step (purification step) performed on the tetracarboxylic acid ester compound and the ethyl acetate washing step performed in the acid dianhydride manufacturing step, the metal component (copper (Cu ), Palladium (Pd) and boron (B)), the tetracarboxylic dianhydrides (CpODA) represented by the above general formula (III) having the amounts shown in Table 1 were obtained. In addition, the content of copper (Cu), palladium (Pd), and boron (B) shown in Table 1 is a value measured by adopting the same method as that employed in Example 1.

(実施例5)
<ポリアミド酸の調製工程>
先ず、30mlの三口フラスコをヒートガンで加熱して十分に乾燥させた。次に、十分に乾燥させた前記三口フラスコ内の雰囲気ガスを窒素で置換して、前記三口フラスコ内を窒素雰囲気とした。次いで、前記三口フラスコ内に、下記一般式(IV):
(Example 5)
<Preparation process of polyamic acid>
First, a 30 ml three-necked flask was heated with a heat gun and sufficiently dried. Next, the atmosphere gas in the three-necked flask that was sufficiently dried was replaced with nitrogen, and the inside of the three-necked flask was changed to a nitrogen atmosphere. Next, the following general formula (IV):

で表される芳香族ジアミンである4,4’−ジアミノベンズアニリド0.2045g(0.90mmol:日本純良薬品株式会社製:DABAN)を添加した後、N,N−ジメチルアセトアミドを2.7g添加して撹拌することにより、前記N,N−ジメチルアセトアミド中に芳香族ジアミン(DABAN)を溶解させて溶解液を得た。 After adding 0.2045 g (0.90 mmol: Nippon Pure Chemical Industries, Ltd .: DABAN), which is an aromatic diamine represented by the following formula, 2.7 g of N, N-dimethylacetamide is added. By stirring, aromatic diamine (DABAN) was dissolved in the N, N-dimethylacetamide to obtain a solution.

次に、前記溶解液を含有する三口フラスコ内に、窒素雰囲気下、実施例1で得られたテトラカルボン酸二無水物(CpODA:Cuの含有量:0.2ppm未満(<0.2ppm)、Pdの含有量:0.2ppm未満(<0.2ppm)、Bの含有量:0.3ppm)を0.3459g(0.90mmol)添加した後、窒素雰囲気下、室温(25℃)で12時間撹拌することにより、テトラカルボン酸二無水物(CpODA)と前記芳香族ジアミン(DABAN)とを反応させてポリアミド酸を形成し、反応液(ポリアミド酸溶液)を得た。   Next, in a three-necked flask containing the dissolution solution, under a nitrogen atmosphere, tetracarboxylic dianhydride obtained in Example 1 (CpODA: Cu content: less than 0.2 ppm (<0.2 ppm), After adding 0.3459 g (0.90 mmol) of Pd content: less than 0.2 ppm (<0.2 ppm) and B content: 0.3 ppm), at room temperature (25 ° C.) for 12 hours under nitrogen atmosphere By stirring, tetracarboxylic dianhydride (CpODA) and the aromatic diamine (DABAN) were reacted to form a polyamic acid to obtain a reaction liquid (polyamic acid solution).

なお、このようにして形成されたポリアミド酸の固有粘度[η]を、離合社製の自動粘度測定装置(商品名「VMC−252」)を用い、N,N−ジメチルアセトアミドを溶媒として、濃度0.5g/dLのポリアミド酸の測定試料(ポリアミド酸の溶液)を調整して、30℃の温度条件下において測定した。すなわち、前記ポリアミド酸溶液(前記反応液[溶媒:N,N−ジメチルアセトアミド])の一部を利用して、ポリアミド酸の濃度が0.5g/dLとなるN,N−ジメチルアセトアミド溶液を調製して、上記条件でポリアミド酸の固有粘度[η]を測定したところ、ポリアミド酸の固有粘度[η]は0.90dL/gであった。   In addition, the intrinsic viscosity [η] of the polyamic acid formed in this manner was measured using an automatic viscosity measuring apparatus (trade name “VMC-252”) manufactured by Koiso Co., Ltd., with N, N-dimethylacetamide as a solvent and a concentration. A measurement sample (polyamic acid solution) of 0.5 g / dL of polyamic acid was prepared and measured under a temperature condition of 30 ° C. That is, using part of the polyamic acid solution (the reaction solution [solvent: N, N-dimethylacetamide]), an N, N-dimethylacetamide solution having a polyamic acid concentration of 0.5 g / dL is prepared. Then, when the intrinsic viscosity [η] of the polyamic acid was measured under the above conditions, the intrinsic viscosity [η] of the polyamic acid was 0.90 dL / g.

<ポリイミドの調製工程(イミド化工程)>
ガラス基板として無アルカリガラス(コーニング社製の商品名「イーグルXG」、縦:100mm、横100mm、厚み0.7mm)を準備して、上述のようにして得られた反応液(ポリアミド酸溶液)を前記ガラス基板の表面上に加熱硬化後の塗膜の厚みが13μmとなるようにスピンコートして、前記ガラス基板上に塗膜を形成した。その後、前記塗膜の形成されたガラス基板を60℃のホットプレート上に載せて2時間静置して、前記塗膜から溶媒を蒸発させて除去した(溶媒除去処理)。
<Polyimide preparation process (imidization process)>
A non-alkali glass (trade name “Eagle XG” manufactured by Corning Inc., length: 100 mm, width 100 mm, thickness 0.7 mm) was prepared as a glass substrate, and the reaction solution (polyamic acid solution) obtained as described above was prepared. Was spin-coated on the surface of the glass substrate so that the thickness of the coating film after heat curing was 13 μm, thereby forming a coating film on the glass substrate. Thereafter, the glass substrate on which the coating film was formed was placed on a hot plate at 60 ° C. and allowed to stand for 2 hours, and the solvent was evaporated and removed from the coating film (solvent removal treatment).

このような溶媒除去処理後、前記塗膜の形成されたガラス基板を3L/分の流量で窒素が流れているイナートオーブンに投入し、イナートオーブン内で、窒素雰囲気下、25℃の温度条件で0.5時間静置した後、135℃の温度条件で0.5時間加熱し、更に380℃の温度条件で1時間加熱して、前記塗膜を硬化せしめ、前記ガラス基板上にポリイミドからなるフィルムを形成した。   After such solvent removal treatment, the glass substrate on which the coating film has been formed is put into an inert oven in which nitrogen is flowing at a flow rate of 3 L / min, and in the inert oven at 25 ° C. under a nitrogen atmosphere. After standing for 0.5 hour, heated at 135 ° C. for 0.5 hour, further heated at 380 ° C. for 1 hour to cure the coating film, and made of polyimide on the glass substrate A film was formed.

このようにして得られたポリイミドからなるフィルムに対してIR分析をIR測定機(日本分光株式会社製FT/IR−4100)を用いて行った。このようにして得られたIR分析結果(IRスペクトルのグラフ)を図1に示す。図1に示す結果からも明らかなように、イミドカルボニルのC=O伸縮振動が1698cm−1に観察されることから該フィルムは確かにポリイミドからなるフィルムであることが確認された。また、用いたモノマーの種類から、得られたポリイミドは、前記テトラカルボン酸二無水物(CpODA)と前記芳香族ジアミン(DABAN)との重合体であり、かつ、上記一般式(2)で表される繰り返し単位[なお、式中のR、R、Rがいずれも水素原子であり、かつ、Rが上記一般式(8)で表される基(式中のQが−CONH−である。)である。]を含有するものであることが分かった。得られたポリイミドの特性を表2に示す。 Thus, IR analysis was performed with respect to the film which consists of a polyimide obtained by using IR measuring machine (JASCO Corporation FT / IR-4100). The IR analysis results (IR spectrum graph) thus obtained are shown in FIG. As is clear from the results shown in FIG. 1, since the C═O stretching vibration of imidecarbonyl was observed at 1698 cm −1 , it was confirmed that the film was a film made of polyimide. Moreover, the polyimide obtained from the kind of monomer used is a polymer of the tetracarboxylic dianhydride (CpODA) and the aromatic diamine (DABAN), and is represented by the general formula (2). [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 in the formula are all hydrogen atoms, and R 4 is a group represented by the above general formula (8) (wherein Q is —CONH -. It was found to contain the The properties of the obtained polyimide are shown in Table 2.

(実施例6)
実施例1で得られたテトラカルボン酸二無水物の代わりに、実施例2で得られたテトラカルボン酸二無水物(CpODA:Cuの含有量:0.2ppm未満(<0.2ppm)、Pdの含有量:2.2ppm、Bの含有量:0.3ppm)を用いた以外は、実施例5と同様にしてポリイミドからなるフィルムを形成した。
(Example 6)
Instead of the tetracarboxylic dianhydride obtained in Example 1, the tetracarboxylic dianhydride obtained in Example 2 (CpODA: Cu content: less than 0.2 ppm (<0.2 ppm), Pd A film made of polyimide was formed in the same manner as in Example 5, except that the content of 2.2 ppm and the content of B: 0.3 ppm were used.

(実施例7)
実施例1で得られたテトラカルボン酸二無水物の代わりに、実施例3で得られたテトラカルボン酸二無水物(CpODA:Cuの含有量:0.2ppm未満(<0.2ppm)、Pdの含有量:11ppm、Bの含有量:3.7ppm)を用いた以外は、実施例5と同様にしてポリイミドからなるフィルムを形成した。
(Example 7)
Instead of the tetracarboxylic dianhydride obtained in Example 1, the tetracarboxylic dianhydride obtained in Example 3 (CpODA: Cu content: less than 0.2 ppm (<0.2 ppm), Pd A polyimide film was formed in the same manner as in Example 5, except that the content of 11 ppm and the content of B: 3.7 ppm were used.

(実施例8)
実施例1で得られたテトラカルボン酸二無水物の代わりに、実施例4で得られたテトラカルボン酸二無水物(CpODA:Cuの含有量:0.2ppm未満(<0.2ppm)、Pdの含有量:1.5ppm、Bの含有量:5.1ppm)を用いた以外は、実施例5と同様にしてポリイミドからなるフィルムを形成した。
(Example 8)
Instead of the tetracarboxylic dianhydride obtained in Example 1, the tetracarboxylic dianhydride obtained in Example 4 (CpODA: Cu content: less than 0.2 ppm (<0.2 ppm), Pd A polyimide film was formed in the same manner as in Example 5 except that the content of 1.5 ppm and the content of B: 5.1 ppm were used.

(比較例3)
実施例1で得られたテトラカルボン酸二無水物の代わりに、比較例1で得られたテトラカルボン酸二無水物(CpODA:Cuの含有量:12ppm、Pdの含有量:0.2ppm、Bの含有量:0.8ppm)を用いた以外は、実施例5と同様にしてポリイミドからなるフィルムを形成した。
(Comparative Example 3)
Instead of the tetracarboxylic dianhydride obtained in Example 1, the tetracarboxylic dianhydride obtained in Comparative Example 1 (CpODA: Cu content: 12 ppm, Pd content: 0.2 ppm, B A film made of polyimide was formed in the same manner as in Example 5 except that the content of 0.8 ppm was used.

(比較例4)
実施例1で得られたテトラカルボン酸二無水物の代わりに、比較例2で得られたテトラカルボン酸二無水物(CpODA:Cuの含有量:19ppm、Pdの含有量:2.0ppm、Bの含有量:3.7ppm)を用いた以外は、実施例5と同様にしてポリイミドからなるフィルムを形成した。
(Comparative Example 4)
Instead of the tetracarboxylic dianhydride obtained in Example 1, the tetracarboxylic dianhydride obtained in Comparative Example 2 (CpODA: Cu content: 19 ppm, Pd content: 2.0 ppm, B A film made of polyimide was formed in the same manner as in Example 5 except that the content of 3.7 ppm was used.

表1及び2に示した結果から明らかなように、Cuの含有量が0.2ppm未満である本発明のテトラカルボン酸二無水物(実施例1〜4)を用いてポリイミドを製造した場合(実施例5〜8)には、いずれも5%重量減少温度(Td5%)が494℃以上となっており、Td5%を指標とした耐熱性が非常に高度なものとなることが確認された。これに対して、Cuの含有量が12ppm以上となっているテトラカルボン酸二無水物(比較例1〜2)を用いてポリイミドを製造した場合(比較例3〜4)においては、5%重量減少温度(Td5%)がいずれも490℃以下となっていた。このような結果から、Cuの含有量と、Td5%を指標とした耐熱性との間に相関関係があり、テトラカルボン酸二無水物中の銅(Cu)の含有量をより低い値とすることにより、ポリイミドを形成した際に、より高度な耐熱性が得られることが分かった。   As is apparent from the results shown in Tables 1 and 2, when a polyimide is produced using the tetracarboxylic dianhydride (Examples 1 to 4) of the present invention in which the Cu content is less than 0.2 ppm ( In all of Examples 5 to 8, the 5% weight loss temperature (Td5%) was 494 ° C. or higher, and it was confirmed that the heat resistance with Td5% as an index was very high. . On the other hand, in the case of producing a polyimide using a tetracarboxylic dianhydride (Comparative Examples 1 to 2) having a Cu content of 12 ppm or more (Comparative Examples 3 to 4), 5% by weight The decrease temperatures (Td 5%) were all 490 ° C. or lower. From these results, there is a correlation between the Cu content and the heat resistance with Td of 5% as an index, and the copper (Cu) content in the tetracarboxylic dianhydride is set to a lower value. Thus, it was found that a higher degree of heat resistance can be obtained when polyimide is formed.

また、表1及び2に示した結果から、例えば、Cuの含有量が0.2ppm未満であるテトラカルボン酸二無水物(実施例1〜4)を用いて得られたポリイミド(実施例5〜8)の結果を比較すると、パラジウム(Pd)の含有量が2.2ppm以下となっている実施例1〜2及び実施例4で得られたテトラカルボン酸二無水物(CpODA)を用いた場合(実施例5〜6、8)には、得られるポリイミドの黄色度(YI)が3.5以下となり、全光線透過率が87.1%以上となっているのに対して、パラジウム(Pd)の含有量が11ppmとなっている実施例3で得られたテトラカルボン酸二無水物(CpODA)を用いた場合(実施例7)には、得られるポリイミドの黄色度(YI)が上記値(3.5)よりも高い値となるとともに、全光線透過率も上記値(87.1%)よりも低下していた。このような結果から、銅(Cu)の含有量をより低い値としつつ、パラジウム(Pd)の含有量をより低い値としたテトラカルボン酸二無水物(CpODA)を用いることで、Td5%を指標とした耐熱性をより高度なものとすることを達成しつつ、より高度な水準の透明性を有するポリイミドを製造することが可能であることが分かった。   Moreover, from the results shown in Tables 1 and 2, for example, polyimides obtained using tetracarboxylic dianhydrides (Examples 1 to 4) having a Cu content of less than 0.2 ppm (Examples 5 to 5). When the results of 8) are compared, when the tetracarboxylic dianhydride (CpODA) obtained in Examples 1-2 and Example 4 in which the content of palladium (Pd) is 2.2 ppm or less is used In Examples 5-6 and 8, the yellowness (YI) of the resulting polyimide is 3.5 or less and the total light transmittance is 87.1% or more, whereas palladium (Pd ) Content of 11 ppm, when the tetracarboxylic dianhydride (CpODA) obtained in Example 3 was used (Example 7), the yellowness (YI) of the polyimide obtained was the above value. (3.5) and higher than Total light transmittance was lower than the value (87.1%). From such results, by using tetracarboxylic dianhydride (CpODA) with a lower content of copper (Cu) and a lower content of palladium (Pd), Td 5% can be reduced. It has been found that it is possible to produce a polyimide having a higher level of transparency while achieving higher heat resistance as an index.

また、Cuの含有量が0.2ppm未満であるテトラカルボン酸二無水物(実施例1〜4)を用いて得られたポリイミド(実施例5〜8)の結果を比較すると、テトラカルボン酸二無水物中のホウ素の含有量は「実施例1〜2<実施例3<実施例4」の順で大きくなっているが、よりホウ素の含有量が少ない実施例1〜2で得られたテトラカルボン酸二無水物を用いた場合(実施例5〜6)においては、Td5%が502℃以上と非常に高度な値となっており、更に高い水準の耐熱性が達成されていることが分かった。このような結果から、銅(Cu)の含有量をより低い値としつつ、更にホウ素(B)の含有量をより低い値としたテトラカルボン酸二無水物(CpODA)を用いることで、より高い水準の耐熱性が得られることも分かった。   Moreover, when the result of the polyimide (Examples 5-8) obtained using the tetracarboxylic dianhydride (Examples 1-4) whose Cu content is less than 0.2 ppm is compared, the tetracarboxylic acid dianhydrides are compared. The boron content in the anhydride is increased in the order of “Examples 1 and 2 <Example 3 <Example 4”, but the tetra content obtained in Examples 1 and 2 having a lower boron content. In the case of using carboxylic dianhydride (Examples 5 to 6), it was found that Td5% was a very high value of 502 ° C. or higher, and a higher level of heat resistance was achieved. It was. From such a result, it is higher by using tetracarboxylic dianhydride (CpODA) in which the content of copper (Cu) is lower and the content of boron (B) is lower. It was also found that a level of heat resistance was obtained.

以上説明したように、本発明によれば、十分に高度な水準の耐熱性を有するポリイミドをより確実に製造することを可能とするテトラカルボン酸二無水物、十分に高度な水準の耐熱性を有するポリイミド、及び、そのポリイミドの製造方法を提供することが可能となる。   As described above, according to the present invention, a tetracarboxylic dianhydride that makes it possible to more reliably produce a polyimide having a sufficiently high level of heat resistance, and a sufficiently high level of heat resistance. It becomes possible to provide the polyimide which has, and the manufacturing method of the polyimide.

したがって、本発明のテトラカルボン酸二無水物は、特に、耐熱性が要求されるフレキシブル配線基板用のポリイミド、耐熱絶縁テープ用のポリイミド、電線エナメル用のポリイミド、半導体の保護コーティング用のポリイミド、液晶配向膜用のポリイミド、有機ELの透明電極基板用のポリイミド、太陽電池の透明電極基板用のポリイミド、電子ペーパーの透明電極基板用のポリイミド、各種のガスバリアフィルム基板材料、層間絶縁膜用のポリイミド、センサー基板用のポリイミド、プリンタ転写ベルト用のポリイミド等を製造するための原料化合物として有用である。   Accordingly, the tetracarboxylic dianhydride of the present invention is particularly suitable for polyimides for flexible wiring boards, polyimides for heat-resistant insulating tapes, polyimides for electric wire enamel, polyimides for protective coatings of semiconductors, liquid crystals that require heat resistance. Polyimide for alignment film, polyimide for organic EL transparent electrode substrate, polyimide for solar cell transparent electrode substrate, polyimide for electronic paper transparent electrode substrate, various gas barrier film substrate materials, polyimide for interlayer insulation film, It is useful as a raw material compound for producing polyimide for sensor substrates, polyimide for printer transfer belts, and the like.

Claims (5)

下記一般式(1):
[式(1)中、R、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される化合物からなり、かつ、
Cuの含有量が10ppm以下であることを特徴とするテトラカルボン酸二無水物。
The following general formula (1):
[In the formula (1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom; An integer of 12 is shown. ]
And a compound represented by
A tetracarboxylic dianhydride, characterized in that the Cu content is 10 ppm or less.
Pdの含有量が10ppm以下であることを特徴とする請求項1に記載のテトラカルボン酸二無水物。   The tetracarboxylic dianhydride according to claim 1, wherein the content of Pd is 10 ppm or less. Bの含有量が5ppm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のテトラカルボン酸二無水物。   The tetracarboxylic dianhydride according to claim 1 or 2, wherein the content of B is 5 ppm or less. 請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のテトラカルボン酸二無水物と、下記一般式(3):
N−R10−NH (3)
[式(3)中、R10は炭素数6〜50のアリール基を示す。]
で表される芳香族ジアミンとの重合体であり、かつ、下記一般式(2):
[式(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、R10は炭素数6〜50のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位を含有することを特徴とする記載のポリイミド。
The tetracarboxylic dianhydride according to any one of claims 1 to 3, and the following general formula (3):
H 2 N-R 10 -NH 2 (3)
[In the formula (3), R 10 represents an aryl group having 6 to 50 carbon atoms. ]
And a polymer with an aromatic diamine represented by the following general formula (2):
[In the formula (2), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom, and R 10 represents carbon. An aryl group having a number of 6 to 50 is shown, and n is an integer of 0 to 12. ]
The polyimide of the description characterized by containing the repeating unit represented by these.
請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のテトラカルボン酸二無水物と、下記一般式(3):
N−R10−NH (3)
[式(3)中、R10は炭素数6〜50のアリール基を示す。]
で表される芳香族ジアミンとを反応せしめてポリアミド酸を形成した後、該ポリアミド酸をイミド化させることにより、
前記テトラカルボン酸二無水物と前記芳香族ジアミンとの重合体であり、かつ、下記一般式(2):
[式(2)中、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される1種を示し、R10は炭素数6〜50のアリール基を示し、nは0〜12の整数を示す。]
で表される繰り返し単位を含有するポリイミドを得ること、
を特徴とするポリイミドの製造方法。
The tetracarboxylic dianhydride according to any one of claims 1 to 3, and the following general formula (3):
H 2 N-R 10 -NH 2 (3)
[In the formula (3), R 10 represents an aryl group having 6 to 50 carbon atoms. ]
After forming a polyamic acid by reacting with an aromatic diamine represented by the following, by imidizing the polyamic acid,
It is a polymer of the tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine, and the following general formula (2):
Wherein (2), R 1, R 2, R 3 are each independently a hydrogen atom, it represents one selected from the group consisting of alkyl groups and fluorine atom having 1 to 10 carbon atoms, R 10 is A C6-C50 aryl group is shown, n shows the integer of 0-12. ]
Obtaining a polyimide containing a repeating unit represented by:
A method for producing polyimide, characterized by the following.
JP2016041175A 2016-03-03 2016-03-03 Tetracarboxylic acid dianhydride, polyimide and method for producing the same Pending JP2017155163A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016041175A JP2017155163A (en) 2016-03-03 2016-03-03 Tetracarboxylic acid dianhydride, polyimide and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016041175A JP2017155163A (en) 2016-03-03 2016-03-03 Tetracarboxylic acid dianhydride, polyimide and method for producing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017155163A true JP2017155163A (en) 2017-09-07

Family

ID=59809228

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016041175A Pending JP2017155163A (en) 2016-03-03 2016-03-03 Tetracarboxylic acid dianhydride, polyimide and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2017155163A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110511229A (en) * 2019-09-02 2019-11-29 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 A kind of anhydride compounds and the preparation method and application thereof
JPWO2019065522A1 (en) * 2017-09-29 2020-09-10 三菱瓦斯化学株式会社 Polyimide resin, polyimide varnish and polyimide film

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2019065522A1 (en) * 2017-09-29 2020-09-10 三菱瓦斯化学株式会社 Polyimide resin, polyimide varnish and polyimide film
JP7255489B2 (en) 2017-09-29 2023-04-11 三菱瓦斯化学株式会社 Polyimide resin, polyimide varnish and polyimide film
CN110511229A (en) * 2019-09-02 2019-11-29 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 A kind of anhydride compounds and the preparation method and application thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6516048B2 (en) Polyimide precursor and polyimide
CN112368287B (en) Tetracarboxylic dianhydride, polyimide precursor resin, polyimide precursor resin solution, polyimide solution and polyimide film
CN109535423B (en) Polyimide precursor composition, method for producing polyimide, polyimide film, and substrate
JP6506260B2 (en) Tetracarboxylic acid dianhydride, polyamic acid, polyimide, method for producing them, and polyamic acid solution
WO2017030019A1 (en) Tetracarboxylic dianhydride, carbonyl compound, polyamic acid and polyimide and methods respectively for producing these compounds, solution prepared using polyamic acid, and film produced using polyimide
TWI759335B (en) Polyimide, polyimide precursor resin, solution thereof, method for producing polyimide, and film using polyimide
WO2015053312A1 (en) Polyimide precursor, polyimide, polyimide film, varnish, and substrate
CN110790929A (en) Colorless transparent high-modulus polyimide film and preparation method thereof
JPWO2015080139A1 (en) Polyimide precursor composition, polyimide production method, polyimide, polyimide film, and substrate
JP2018044180A (en) Polyimide resin composition and polyimide varnish
JP2017066354A (en) Polyamic acid, polyamic acid solution, polyimide, polyimide solution, film using polyimide
TW201841898A (en) Tetracarboxylic dianhydride, polyimide precursor resin and solution thereof, and polyimide and solution thereof
KR101721555B1 (en) Process for polyimide resin
JP6916189B2 (en) Polyimide, polyamic acid, their solutions and films using polyimide
JP2017155163A (en) Tetracarboxylic acid dianhydride, polyimide and method for producing the same
JP7359602B2 (en) Diamine compound and its manufacturing method
TW201815891A (en) Method for preparing adamantane-containing polyimide having properties such as low dielectric constant, high glass transition temperature (Tg) and good processability
CN116057109B (en) Polymer composition, varnish, and polyimide film
CN115380059B (en) Imide-amic acid copolymer, process for producing the same, varnish, and polyimide film
CN117120514A (en) Imide-amic acid copolymer, process for producing the same, varnish, and polyimide film
WO2019172460A2 (en) Tetracarboxylic dianhydride, carbonyl compound, polyimide precursor resin, and polyimide
JP7033559B2 (en) Tetracarboxylic dianhydride, carbonyl compound, polyimide precursor resin and polyimide
TW202043337A (en) Polymers for use in electronic devices
JP2010235859A (en) Polyimide material, film and composition, and method for producing the same
JP6765093B2 (en) Polyimide