JP2017150896A - Gas analyzer and gas supply system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガス分析装置及びガス供給システムに関する。 The present invention relates to a gas analyzer and a gas supply system.
従来、ガスを供給するガス供給システムとして、例えば特許文献１に記載されているものが知られている。このようなガス供給システムでは、当該システム内にて、ガスの中に含まれる不純物の量を測定することが要請されている。ここで、ガス供給システム内のガスに含まれる不純物の量を分析する方法として、例えば、ガスクロマトグラフィが用いられる場合がある。 2. Description of the Related Art Conventionally, for example, a gas supply system that supplies gas is described in Patent Document 1. In such a gas supply system, it is required to measure the amount of impurities contained in the gas within the system. Here, as a method of analyzing the amount of impurities contained in the gas in the gas supply system, for example, gas chromatography may be used.
しかしながら、ガスクロマトグラフィは、ガスクロマトグラフィは装置が大がかりであるため、測定の精度は高い反面、測定に時間がかかってしまい、応答性が低い（測定結果をすぐに反映することができない）という問題がある。また、適用のためのコストが増加するという問題がある。従って、ガス中に含まれる不純物を容易に分析できる方法が求められていた。 However, since gas chromatography is a large-scale apparatus, the accuracy of the measurement is high, but the measurement takes time and the response is low (the measurement result cannot be reflected immediately). is there. There is also a problem that the cost for application increases. Therefore, a method capable of easily analyzing impurities contained in the gas has been demanded.
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、ガス中に含まれる不純物の量を容易に分析することができるガス分析装置、及びガス供給システムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a gas analyzer and a gas supply system that can easily analyze the amount of impurities contained in a gas.
本発明によるガス分析装置は、ガス中に含まれる不純物の量を分析するガス分析装置であって、ガスへ向けて電磁波又は赤外線を出力する出力部と、出力部から出力された電磁波又は赤外線を受信する受信部と、受信部で受信された電磁波又は赤外線の強度に基づいてガス中の不純物の量を分析する分析部と、を備える。 A gas analyzer according to the present invention is a gas analyzer that analyzes the amount of impurities contained in a gas, and outputs an electromagnetic wave or infrared ray output to the gas, and an electromagnetic wave or infrared ray output from the output unit. A receiving unit for receiving, and an analyzing unit for analyzing the amount of impurities in the gas based on the intensity of electromagnetic waves or infrared rays received by the receiving unit.
このようなガス分析装置は、ガスへ向けて電磁波又は赤外線を出力する出力部と、出力部から出力された電磁波又は赤外線を受信する受信部と、を備えている。また、受信部で受信された電磁波又は赤外線の強度に基づいてガス中の不純物の量を分析する分析部を備える。このような構成により、電磁波及び赤外線をガス中に伝搬させることで、ガスに不純物が含まれていた場合には、受信部は強度が減衰した電磁波及び赤外線を受信することができる。そして、分析部は、受信部で受信された結果に基づいて、ガス供給システム内におけるガスの不純物の量を分析することが可能となる。このような構成によれば、出力部から出力された電磁波又は赤外線を受信部で受信することで、分析部がガス中に含まれる不純物の量を速やかに分析できる。また、ガス分析装置は、電磁波又は赤外線の出力部と受信部を用いたシンプルな構造であるため、装置が大掛かりになることを抑制できる。以上より、ガス中に含まれる不純物の量を容易に分析することができる。 Such a gas analyzer includes an output unit that outputs electromagnetic waves or infrared rays toward the gas, and a reception unit that receives electromagnetic waves or infrared rays output from the output unit. In addition, an analysis unit that analyzes the amount of impurities in the gas based on the intensity of electromagnetic waves or infrared rays received by the reception unit is provided. With such a configuration, when the electromagnetic wave and the infrared light are propagated in the gas, and the impurity is contained in the gas, the reception unit can receive the electromagnetic wave and the infrared light whose intensity is attenuated. And an analysis part can analyze the quantity of the impurity of the gas in a gas supply system based on the result received by the receiving part. According to such a structure, the analysis part can analyze rapidly the quantity of the impurity contained in gas by receiving the electromagnetic waves or infrared rays output from the output part with a receiving part. In addition, since the gas analyzer has a simple structure using an electromagnetic wave or infrared ray output unit and a reception unit, it is possible to prevent the apparatus from becoming large. As described above, the amount of impurities contained in the gas can be easily analyzed.
また、本発明に係るガス分析装置において、分析する不純物の種類の数に合わせて、出力部は１又は複数の波長に係る電磁波又は赤外線を出力し、受信部は１又は複数の波長に係る電磁波又は赤外線を受信してよい。これにより、複数の種類の不純物の量を分析することができる。 Further, in the gas analyzer according to the present invention, the output unit outputs electromagnetic waves or infrared rays related to one or a plurality of wavelengths, and the receiving unit corresponds to the electromagnetic waves related to one or a plurality of wavelengths, according to the number of types of impurities to be analyzed. Alternatively, infrared light may be received. Thereby, the quantity of several types of impurities can be analyzed.
また、本発明に係るガス分析装置において、ガスを流通させるガス流通部を更に備えてよい。このように、ガス分析のための専用のガス流通部を設けることで、当該分析に必要な距離を十分に稼ぐことができ、ガス供給システムへの適用も容易となる。 In addition, the gas analyzer according to the present invention may further include a gas distribution unit for distributing gas. Thus, by providing a dedicated gas circulation part for gas analysis, a distance necessary for the analysis can be sufficiently obtained, and application to the gas supply system is facilitated.
また、本発明に係るガス分析装置において、ガス流通部へガスを導入する導入部には、ガスの圧力を調整する圧力調整部が設けられてよい。これにより、ガスの圧力をガス分析に適した圧力に調整することができる。 In the gas analyzer according to the present invention, a pressure adjusting unit that adjusts the gas pressure may be provided in the introduction unit that introduces the gas into the gas circulation unit. Thereby, the pressure of gas can be adjusted to the pressure suitable for gas analysis.
また、本発明に係るガス分析装置において、分析部は、ガスの圧力に基づいて、分析結果を補正してよい。これにより、ガスの圧力に応じて適切な分析結果を得ることができる。 In the gas analyzer according to the present invention, the analysis unit may correct the analysis result based on the gas pressure. Thereby, an appropriate analysis result can be obtained according to the gas pressure.
また、本発明に係るガス分析装置において、例えば、ガスは、Ｈ２、Ｏ２、Ｎ２、Ｎ２、Ａｒ、Ｈ２Ｏ、ＣＯ、ＣＯ２、ＣｎＨ（２ｎ＋２）の少なくともいずれかであってよい。 In the gas analyzer according to the present invention, for example, the gas is at least one of H 2 , O 2 , N 2 , N 2 , Ar, H 2 O, CO, CO 2 , and C n H (2n + 2). It may be.
また、本発明に係るガス分析装置において、例えば、ガスはＨ２であり、不純物はＣｎＨ（２ｎ＋２）で示される物質の少なくとも１種類を含んでよい。 In the gas analyzer according to the present invention, for example, the gas may be H 2 and the impurity may include at least one kind of substance represented by C n H (2n + 2) .
本発明に係るガス供給システムは、ガスを供給対象物へ供給するガス供給システムであって、上述のガス分析装置と、ガス分析装置の分析結果に基づいてシステム内の機器を制御する制御部と、を備える。 A gas supply system according to the present invention is a gas supply system that supplies a gas to a supply object, and includes the above-described gas analyzer, and a controller that controls equipment in the system based on the analysis result of the gas analyzer; .
このようなガス供給システムは、ガス分析装置の分析結果に基づいて、ガスに含まれる不純物の量を低減するための機器の制御を行うことができる。 Such a gas supply system can control equipment for reducing the amount of impurities contained in the gas based on the analysis result of the gas analyzer.
本発明によれば、不純物の量を容易に分析することができる。 According to the present invention, the amount of impurities can be easily analyzed.
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
図１は、本実施形態に係るガス供給システムの構成を示すブロック図である。本実施形態では、ガス供給システム１００として、ＦＣＶ等に高純度水素を供給する水素ステーションを例として説明を行う。本実施形態に係るガス供給システム１００は、有機化合物（常温で液体）を原料として水素を生成し、当該水素を供給するものである。なお、水素精製の過程では、原料である有機化合物（常温で液体）を脱水素した、脱水素生成物（有機化合物（常温で液体））が除去される。原料の有機化合物として、例えば、有機ハイドライドが挙げられる。有機ハイドライドは、製油所で大量に生産されている水素を芳香族炭化水素と反応させた水素化物が好適な例である。また、有機ハイドライドは、芳香族の水素化化合物に限らず、２−プロパノール（水素とアセトンが生成される）の系もある。有機ハイドライドは、ガソリンなどと同様に液体燃料としてタンクローリーなどによってガス供給システム１００へ輸送することができる。本実施形態では有機ハイドライドとして、メチルシクロヘキサン（以下、ＭＣＨと称する）を用いる。その他、有機ハイドライドとしてシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、デカリン、メチルデカリン、ジメチルデカリン、エチルデカリンなど芳香物炭化水素の水素化物を適用することができる（なお、芳香族化合物は特に水素含有量の多い好適な例である）。ガス供給システム１００は、燃料電池自動車（ＦＣＶ）や水素エンジン車を供給対象物として水素を供給することができる。なお、メタンを主成分とした天然ガスやプロパンを主成分としたＬＰＧ、あるいはガソリン、ナフサ、灯油、軽油といった液体炭化水素原料から水素を製造する場合にも適用可能である。 FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a gas supply system according to the present embodiment. In the present embodiment, the gas supply system 100 will be described by taking as an example a hydrogen station that supplies high-purity hydrogen to FCV or the like. The gas supply system 100 according to the present embodiment generates hydrogen using an organic compound (liquid at normal temperature) as a raw material, and supplies the hydrogen. In the process of hydrogen purification, the dehydrogenated product (organic compound (liquid at room temperature)) obtained by dehydrogenating the organic compound (liquid at room temperature) as a raw material is removed. Examples of the raw material organic compound include organic hydride. An organic hydride is preferably a hydride obtained by reacting a large amount of hydrogen produced in a refinery with an aromatic hydrocarbon. In addition, the organic hydride is not limited to an aromatic hydrogenated compound, and there is a system of 2-propanol (hydrogen and acetone are generated). The organic hydride can be transported to the gas supply system 100 as a liquid fuel by a tank lorry as in the case of gasoline. In this embodiment, methylcyclohexane (hereinafter referred to as MCH) is used as the organic hydride. In addition, hydrides of aromatic hydrocarbons such as cyclohexane, dimethylcyclohexane, ethylcyclohexane, decalin, methyldecalin, dimethyldecalin, and ethyldecalin can be used as organic hydrides (Note that aromatic compounds have a particularly high hydrogen content. This is a preferred example). The gas supply system 100 can supply hydrogen using a fuel cell vehicle (FCV) or a hydrogen engine vehicle as a supply object. In addition, it is applicable also when manufacturing hydrogen from liquid hydrocarbon raw materials, such as natural gas which has methane as a main component, LPG which has propane as a main component, or gasoline, naphtha, kerosene, and light oil.
図１に示すように、本実施形態に係るガス供給システム１００は、原料供給部１、反応部２、精製部３、圧縮機４、ディスペンサ５、ガス分析装置１０、及び制御部１５を備えている。なお、本実施形態では、原料としてＭＣＨを採用し、水素精製の過程で除去される脱水素生成物がトルエンである場合を例として説明する。なお、実際には、トルエンのみならず、未反応のＭＣＨと少量の副生成物及び不純物も存在するが、本実施形態中では、トルエンに混じって当該トルエンと同じ挙動を示す。従って、以下の説明において、「トルエン」と称して説明するものには、未反応のＭＣＨや副生成物も含むものとする。 As shown in FIG. 1, a gas supply system 100 according to this embodiment includes a raw material supply unit 1, a reaction unit 2, a purification unit 3, a compressor 4, a dispenser 5, a gas analyzer 10, and a control unit 15. Yes. In the present embodiment, an example will be described in which MCH is employed as a raw material, and the dehydrogenation product removed in the process of hydrogen purification is toluene. In practice, not only toluene but also unreacted MCH and a small amount of by-products and impurities are present, but in this embodiment, the same behavior as toluene is exhibited when mixed with toluene. Therefore, in the following description, what is referred to as “toluene” includes unreacted MCH and by-products.
原料供給部１は、原料となるＭＣＨを貯留し、下流側へ供給する機器である。例えば、外部からタンクローリーなどで輸送されたＭＣＨは、原料供給部１にて貯留される。原料供給部１に貯留されているＭＣＨは、圧縮機（不図示）によって反応部２へ供給される。なお、原料供給部１と反応部２との間には、ＭＣＨを気化する気化器を設けてもよい。 The raw material supply unit 1 is a device that stores MCH as a raw material and supplies it to the downstream side. For example, MCH transported from the outside by a tank lorry or the like is stored in the raw material supply unit 1. The MCH stored in the raw material supply unit 1 is supplied to the reaction unit 2 by a compressor (not shown). Note that a vaporizer for vaporizing MCH may be provided between the raw material supply unit 1 and the reaction unit 2.
反応部２は、ＭＣＨを脱水素反応させることによって水素を得る機器である。すなわち、反応部２は、脱水素触媒を用いた脱水素反応によってＭＣＨから水素を取り出す機器である。有機ハイドライドの反応は可逆反応であり、反応条件（温度、圧力）によって反応の方向が変わる（化学平衡の制約を受ける）。一方、脱水素反応は、常に吸熱反応で分子数が増える反応である。脱水素反応は吸熱反応であるため反応部２は、図示されない熱源から熱を供給される。反応部２は、脱水素触媒中を流れるＭＣＨと熱源からの熱媒体との間で熱交換可能な機構を有している。反応部２で得られた水素は、精製部３へ供給される。なお、反応部２と精製部３との間には水素を気体と液体とに分離する気液分離部が設けられてよい。 The reaction unit 2 is a device that obtains hydrogen by dehydrogenating MCH. That is, the reaction unit 2 is a device that extracts hydrogen from MCH by a dehydrogenation reaction using a dehydrogenation catalyst. The organic hydride reaction is a reversible reaction, and the direction of the reaction changes depending on the reaction conditions (temperature, pressure) (restricted by chemical equilibrium). On the other hand, the dehydrogenation reaction is a reaction in which the number of molecules is always increased by an endothermic reaction. Since the dehydrogenation reaction is an endothermic reaction, the reaction unit 2 is supplied with heat from a heat source (not shown). The reaction unit 2 has a mechanism capable of exchanging heat between the MCH flowing in the dehydrogenation catalyst and the heat medium from the heat source. Hydrogen obtained in the reaction unit 2 is supplied to the purification unit 3. Note that a gas-liquid separation unit that separates hydrogen into gas and liquid may be provided between the reaction unit 2 and the purification unit 3.
精製部３は、反応部２で得られた水素含有ガスから、脱水素生成物（本実施形態ではトルエン）を除去する。これによって、精製部３は、当該水素含有ガスを精製して高純度水素（精製ガス）を得る。得られた高純度水素は、圧縮機４へ供給される。なお、水素及び脱水素生成物を含むオフガスは、図示されないリサイクルラインを介して反応部２の上流側へ供給される。 The purification unit 3 removes the dehydrogenation product (toluene in this embodiment) from the hydrogen-containing gas obtained in the reaction unit 2. Thereby, the purification unit 3 purifies the hydrogen-containing gas to obtain high-purity hydrogen (purified gas). The obtained high purity hydrogen is supplied to the compressor 4. In addition, the off gas containing hydrogen and a dehydrogenation product is supplied to the upstream of the reaction part 2 via the recycle line which is not shown in figure.
精製部３は、採用する水素精製方法によって異なるが、具体的には、水素精製方法として膜分離を用いる場合には、水素分離膜を備える水素分離装置であり、ＰＳＡ（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｓｗｉｎｇ ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ）法又はＴＳＡ（Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｓｗｉｎｇ ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ）法を用いる場合には、不純物を吸着する吸着材を格納する吸着塔を複数備えた吸着除去装置である。 The purification unit 3 differs depending on the hydrogen purification method employed. Specifically, when membrane separation is used as the hydrogen purification method, the purification unit 3 is a hydrogen separation apparatus including a hydrogen separation membrane, and is a PSA (Pressure Swing Adsorption) method or When a TSA (Temperature swing adsorption) method is used, the adsorption / removal apparatus includes a plurality of adsorption towers that store adsorbents that adsorb impurities.
圧縮機４は、精製部３で得られた高純度水素を高圧状態とする。圧縮機４は、例えば、２０〜８５ＭＰａの圧力で高純度水素を高圧状態とする。圧縮機４は、高純度水素をＦＣＶへ供給可能とするために高圧状態にした上で、図示されない蓄圧器等を介してディスペンサ５へ供給する。圧縮機４で圧縮された高純度水素は、ディスペンサ５によってＦＣＶに供給される。 The compressor 4 puts the high purity hydrogen obtained in the purification unit 3 into a high pressure state. The compressor 4 makes high-purity hydrogen into a high pressure state at a pressure of 20 to 85 MPa, for example. The compressor 4 is in a high pressure state so that high purity hydrogen can be supplied to the FCV, and then supplied to the dispenser 5 via a pressure accumulator or the like (not shown). The high purity hydrogen compressed by the compressor 4 is supplied to the FCV by the dispenser 5.
ガス分析装置１０は、ガス中に含まれる不純物の量を分析する装置である。ガス分析装置１０は、ガス中の不純物の濃度を分析することができる。ここでは、分析対象となるガスとは、上述の高純度水素である。また、不純物は、ＣｎＨ（２ｎ＋２）で示される物質の少なくとも１種類を含んだものであってよい。ＣｎＨ（２ｎ＋２）で示される物質として、ＣＨ４、Ｃ２Ｈ６、Ｃ６Ｈ５ＣＨ３、Ｃ５Ｈ１１ＣＨ３等が例示される。また、不純物として水分が含まれる場合もある。本実施形態に係るガス分析装置１０が対象とする不純物の濃度は、５００ｐｐｍ以下の濃度である。 The gas analyzer 10 is an apparatus that analyzes the amount of impurities contained in a gas. The gas analyzer 10 can analyze the concentration of impurities in the gas. Here, the gas to be analyzed is the above-described high-purity hydrogen. Further, the impurity may include at least one kind of substance represented by C n H (2n + 2) . Examples of the substance represented by C n H (2n + 2) include CH 4 , C 2 H 6 , C 6 H 5 CH 3 , and C 5 H 11 CH 3 . In some cases, moisture is contained as an impurity. The concentration of impurities targeted by the gas analyzer 10 according to the present embodiment is a concentration of 500 ppm or less.
図１に示すように、ガス分析装置１０は、精製部３よりも下流側（ガス供給システムにおけるガスの流れの下流側）における水素を分析してよい。このように、精製後の水素を分析することにより、ＦＣＶに供給される状態の水素を分析することができる。ただし、ガス分析装置１０の配置は特に限定されず、精製部３よりも上流側に配置してもよい。 As shown in FIG. 1, the gas analyzer 10 may analyze hydrogen on the downstream side of the purification unit 3 (downstream side of the gas flow in the gas supply system). In this way, by analyzing the purified hydrogen, it is possible to analyze the hydrogen supplied to the FCV. However, the arrangement of the gas analyzer 10 is not particularly limited, and may be arranged upstream of the purification unit 3.
また、ガス分析装置１０は、圧縮機４よりも上流側における水素を分析してよい。圧縮機４よりも下流側では水素が高圧の状態にある。従って、ガス分析装置１０を圧縮機４よりも下流側に設ける場合は、ガス分析装置１０のガス流通部２１（詳細は後述）や減圧弁を高圧に耐え得るものにする必要があり、コストが高くなる可能性がある。一方、圧縮機４を圧縮機４よりも上流側に配置することで、ガス分析装置１０の強度を過度にあげる必要がなくなり、コストを低下させることができる。ただし、ガス分析装置１０の配置は特に限定されず、圧縮機４よりも下流側に配置してもよい。 Further, the gas analyzer 10 may analyze hydrogen on the upstream side of the compressor 4. Hydrogen is in a high pressure state downstream of the compressor 4. Therefore, when the gas analyzer 10 is provided on the downstream side of the compressor 4, it is necessary to make the gas flow part 21 (details will be described later) and the pressure reducing valve of the gas analyzer 10 capable of withstanding high pressure, which is costly. May be high. On the other hand, by disposing the compressor 4 upstream of the compressor 4, it is not necessary to increase the strength of the gas analyzer 10 excessively, and the cost can be reduced. However, the arrangement of the gas analyzer 10 is not particularly limited, and may be arranged on the downstream side of the compressor 4.
制御部１５は、例えば電子制御を行うデバイス（例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）、および入出力インターフェイスを含んで構成されたデバイス）によって構成されている。制御部１５は、ガス分析装置１０の分析結果（詳細は後述する）に基づいてシステム内の機器を制御する。制御部１５は、原料供給部１、反応部２、精製部３、圧縮機４、及びガス分析装置１０と電気的に接続されている。制御部１５は、ガス供給システム１００の運転中の所定のタイミングにて、ガス分析装置から高純度水素の分析結果を受信する。当該分析結果に基づいて、制御部１５は、原料供給部１の原料供給量、反応部２の反応速度、精製部３の温度や圧力、圧縮機４の圧力等を制御する。例えば、ガス分析装置１０によって、高純度水素に所定量以上の不純物が含まれていることが検出された場合、制御部１５は、不純物の量を減らすための制御を行う。具体的には、制御部１５は、反応部２の温度調整、リサイクル水素量の調節などの制御を行う。あるいは、水素に所定量以上の不純物が含まれている場合は、制御部１５は、システム全体を停止する制御を行ってもよい。 The control unit 15 is configured by, for example, a device that performs electronic control (for example, a device including a central processing unit (CPU), a read only memory (ROM), a random access memory (RAM), and an input / output interface). Yes. The control unit 15 controls devices in the system based on the analysis result (details will be described later) of the gas analyzer 10. The control unit 15 is electrically connected to the raw material supply unit 1, the reaction unit 2, the purification unit 3, the compressor 4, and the gas analyzer 10. The control unit 15 receives the analysis result of high purity hydrogen from the gas analyzer at a predetermined timing during operation of the gas supply system 100. Based on the analysis result, the control unit 15 controls the raw material supply amount of the raw material supply unit 1, the reaction rate of the reaction unit 2, the temperature and pressure of the purification unit 3, the pressure of the compressor 4, and the like. For example, when the gas analyzer 10 detects that a predetermined amount or more of impurities are contained in high-purity hydrogen, the control unit 15 performs control for reducing the amount of impurities. Specifically, the control unit 15 performs control such as temperature adjustment of the reaction unit 2 and adjustment of the amount of recycled hydrogen. Alternatively, when hydrogen includes a predetermined amount or more of impurities, the control unit 15 may perform control to stop the entire system.
図２を参照し、本実施形態に係るガス分析装置１０の詳細な構成について説明する。図２に示すように、ガス分析装置１０は、ガス流通部２１、出力部２２、受信部２３、参照用受信部２４、ホーン２６，２７及び分析部２８を備えている。 A detailed configuration of the gas analyzer 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, the gas analyzer 10 includes a gas circulation unit 21, an output unit 22, a receiving unit 23, a reference receiving unit 24, horns 26 and 27, and an analyzing unit 28.
ガス流通部２１は、ガス供給システム１００のガスラインからガス（ここでは水素）を取り出して、当該ガスを流通させる。ガス流通部２１は、所定の方向に直線状に延びる管状部材２１ａによって構成される。ガス流通部２１を構成する管状部材２１ａは、分析のためにガスの流れを整えるのに十分な長さを有していればよい。管状部材２１ａの一端側には、ガスを管状部材２１ａへ導入する導入部２１ｂが設けられている。管状部材２１ａの他端側には、ガスを管状部材２１ａから流出させる流出部２１ｃが設けられている。導入部２１ｂ及び流出部２１ｃは、管状部材２１ａの管壁から径方向へ延びているが、接続態様は特に限定されない。導入部２１ｂには、ガスの圧力を調整する減圧弁（圧力調整部）３１が設けられる。当該減圧弁３１によって、管状部材２１ａは、０．１〜１．０Ｐａまで減圧されることが好ましい。管状部材２１ａの両端部には、電磁波を透過させるガラス窓が形成されている。 The gas circulation part 21 takes out gas (here, hydrogen) from the gas line of the gas supply system 100 and circulates the gas. The gas flow part 21 is configured by a tubular member 21a that extends linearly in a predetermined direction. The tubular member 21a constituting the gas flow part 21 only needs to have a sufficient length to adjust the gas flow for analysis. An introduction portion 21b for introducing gas into the tubular member 21a is provided on one end side of the tubular member 21a. On the other end side of the tubular member 21a, an outflow portion 21c for allowing gas to flow out of the tubular member 21a is provided. Although the introducing | transducing part 21b and the outflow part 21c are extended in the radial direction from the tube wall of the tubular member 21a, a connection aspect is not specifically limited. The introduction part 21b is provided with a pressure reducing valve (pressure adjusting part) 31 for adjusting the gas pressure. The tubular member 21 a is preferably decompressed to 0.1 to 1.0 Pa by the pressure reducing valve 31. Glass windows that transmit electromagnetic waves are formed at both ends of the tubular member 21a.
出力部２２は、ガスへ向けて電磁波を出力する。出力部２２は、ガス流通部２１の管状部材２１ａの他端側において、ガラス窓と対向する位置に配置されている。出力部２２は、ホーン２６及びガラス窓を介して、ガス流通部２１の管状部材２１ａ内を流通するガスへ電磁波を出力する。電子波は、管状部材２１ａ内を軸方向へ向かって進行する。出力部２２として、周波数が１０〜１００ＧＨｚのミリ波を出力する発振器（例えば、Ｇｕｎｎダイオード発振器等）を採用してよい。出力部２２は、分析部２８と電気的に接続されており、分析部２８からの制御信号に基づいて電磁波を出力する。 The output unit 22 outputs an electromagnetic wave toward the gas. The output part 22 is arranged at a position facing the glass window on the other end side of the tubular member 21 a of the gas flow part 21. The output unit 22 outputs electromagnetic waves to the gas flowing through the tubular member 21a of the gas flow unit 21 through the horn 26 and the glass window. The electron wave travels in the axial direction in the tubular member 21a. As the output unit 22, an oscillator (for example, a Gunn diode oscillator or the like) that outputs a millimeter wave having a frequency of 10 to 100 GHz may be employed. The output unit 22 is electrically connected to the analysis unit 28 and outputs an electromagnetic wave based on a control signal from the analysis unit 28.
ホーン２６は、出力部２２が出力する電磁波を一定の領域に絞り込む。ホーン２６は、ガス流通部２１の管状部材２１ａの軸方向において、出力部２２と管状部材２１ａの他端との間に配置される。当該構成により、出力部２２から出力された電磁波は、ホーン２６を介してガス流通部２１の管状部材２１ａ内へ進入する。また、ホーン２６は、出力部２２から出力された電磁波の一部を分岐させて、ガス流通部２１とは異なる方向へ導出させる参照用電磁波導出ポート２６ａを備えている。参照用電磁波とは、ガス流通部２１内のガスを伝搬した電磁波の強度と比較するために、電磁波の発振強度を参照するためのものである。参照用電磁波導出ポート２６ａから導出された参照用電磁波は、参照用受信部２４にて受信される。参照用受信部２４は、分析部２８と電気的に接続されている。参照用受信部２４は、受信した参照用電磁波の強度を分析部へ送信する。 The horn 26 narrows down the electromagnetic wave output from the output unit 22 to a certain area. The horn 26 is disposed between the output part 22 and the other end of the tubular member 21a in the axial direction of the tubular member 21a of the gas flow part 21. With this configuration, the electromagnetic wave output from the output unit 22 enters the tubular member 21 a of the gas circulation unit 21 via the horn 26. In addition, the horn 26 includes a reference electromagnetic wave derivation port 26 a that branches a part of the electromagnetic wave output from the output unit 22 and derives it in a direction different from that of the gas circulation unit 21. The reference electromagnetic wave is used to refer to the oscillation intensity of the electromagnetic wave in order to compare with the intensity of the electromagnetic wave propagated through the gas in the gas flow part 21. The reference electromagnetic wave derived from the reference electromagnetic wave deriving port 26 a is received by the reference receiving unit 24. The reference receiving unit 24 is electrically connected to the analyzing unit 28. The reference receiving unit 24 transmits the intensity of the received reference electromagnetic wave to the analysis unit.
受信部２３は、出力部２２から出力されて、ガス流通部２１内のガスを伝搬した電磁波を受信する。受信部２３は、ガス流通部２１の管状部材２１ａの一端側において、ガラス窓と対向する位置に配置されている。受信部２３は、ガス流通部２１の管状部材２１ａの一端側のガラス窓を透過した電磁波をホーン２７を介して受信する。受信部２３は、分析部２８と電気的に接続されている。受信部２３は、受信した電磁波の強度に関する情報を分析部２８へ送信する。なお、ホーン２７は、ガス流通部２１の管状部材２１ａの軸方向において、受信部２３と管状部材２１ａの一端との間に配置される。当該構成により、ガス流通部２１の管状部材２１ａのガラス窓を透過した電磁波は、ホーン２７を介して受信部２３にて受信される。 The receiving unit 23 receives the electromagnetic wave output from the output unit 22 and propagated through the gas in the gas circulation unit 21. The receiving part 23 is arranged at a position facing the glass window on one end side of the tubular member 21 a of the gas circulation part 21. The receiving unit 23 receives the electromagnetic wave transmitted through the glass window on one end side of the tubular member 21 a of the gas circulation unit 21 via the horn 27. The receiving unit 23 is electrically connected to the analyzing unit 28. The receiving unit 23 transmits information regarding the intensity of the received electromagnetic wave to the analyzing unit 28. The horn 27 is disposed between the receiving portion 23 and one end of the tubular member 21a in the axial direction of the tubular member 21a of the gas flow portion 21. With this configuration, the electromagnetic wave transmitted through the glass window of the tubular member 21 a of the gas circulation unit 21 is received by the receiving unit 23 via the horn 27.
分析部２８は、受信部２３で受信された電磁波又は赤外線の強度に基づいてガス中の不純物の量を分析する。本実施形態においては、分析部２８は、受信部２３で受信された電磁波の強度と、参照用受信部２４で受信された参照用電磁波の強度とを比較することによって、ガス中の不純物の量を分析する。分析部２８は、受信部２３で受信された電磁波の強度と、参照用受信部２４で受信された参照用電磁波の強度とを比較することで、ガス流通部２１のガス中を伝搬したガスの減衰量を取得することができる。分析部２８は、当該減衰量に基づいてガス中の不純物の量を分析する。ここで、ガスに含まれる不純物の量が同じであったとしても、ガスの圧力が変化すれば、単位体積中に含まれる不純物の密度が変化するため、電磁波の減衰量は変化する。従って、分析部２８は、ガス流通部２１内のガスの圧力を検出し、当該ガスの圧力に基づいて、分析結果を補正してよい。あるいは、減圧弁３１にて導入されるガスの圧力を一定にすることによって、分析部２８にて分析結果の補正を行わないような構成を採用してもよい。なお、分析部２８は、制御部１５に組み込まれていてもよい。 The analyzer 28 analyzes the amount of impurities in the gas based on the electromagnetic wave or infrared intensity received by the receiver 23. In the present embodiment, the analyzing unit 28 compares the intensity of the electromagnetic wave received by the receiving unit 23 with the intensity of the reference electromagnetic wave received by the reference receiving unit 24 to thereby determine the amount of impurities in the gas. Analyze. The analyzing unit 28 compares the intensity of the electromagnetic wave received by the receiving unit 23 with the intensity of the reference electromagnetic wave received by the reference receiving unit 24, so that the gas propagating through the gas in the gas circulation unit 21 is The amount of attenuation can be acquired. The analysis unit 28 analyzes the amount of impurities in the gas based on the attenuation amount. Here, even if the amount of impurities contained in the gas is the same, if the pressure of the gas changes, the density of the impurities contained in the unit volume changes, so that the attenuation of electromagnetic waves changes. Therefore, the analysis unit 28 may detect the pressure of the gas in the gas circulation unit 21 and correct the analysis result based on the pressure of the gas. Or you may employ | adopt the structure which does not correct | amend the analysis result in the analysis part 28 by making the pressure of the gas introduce | transduced in the pressure-reduction valve 31 constant. The analysis unit 28 may be incorporated in the control unit 15.
ここで、不純物として含まれる一種類の特定の物質を分析する場合、ガスを伝搬する電磁波の周波数は特定の値に設定される。一つの物質を検出するには、出力部２２及び受信部２３の対が一つ必要となる。よって、不純物として一種類の物質の量を分析する場合、ガス分析装置１０は、出力部２２及び受信部２３の対を一つ備えればよい。一方、不純物として複数種類の物質の量を分析する場合、分析する不純物の種類の数に合わせて、出力部２２は複数の波長に係る電磁波を出力し、受信部２３は複数の波長に係る電磁波を受信してよい。例えば、ガス分析装置１０は、出力部２２及び受信部２３の対を複数備えればよい。あるいは、出力部２２として、出力する電磁波の波長（周波数）を調整できることで、複数の波長に係る電磁波を出力できるタイプのものを採用してもよい。また、受信部２３として、受信できる電磁波の波長（周波数）を調整できることで、複数の波長に係る電磁波を受信できるタイプのものを採用してもよい。 Here, when analyzing one kind of specific substance contained as an impurity, the frequency of the electromagnetic wave propagating through the gas is set to a specific value. In order to detect one substance, one pair of the output part 22 and the receiving part 23 is needed. Therefore, when analyzing the quantity of one kind of substance as an impurity, the gas analyzer 10 only needs to include one pair of the output unit 22 and the reception unit 23. On the other hand, when analyzing the amount of a plurality of types of substances as impurities, the output unit 22 outputs electromagnetic waves related to a plurality of wavelengths, and the receiving unit 23 corresponds to the number of types of impurities to be analyzed, and the receiving unit 23 May be received. For example, the gas analyzer 10 may include a plurality of pairs of the output unit 22 and the reception unit 23. Or you may employ | adopt the type which can output the electromagnetic wave which concerns on a some wavelength as the output part 22 by adjusting the wavelength (frequency) of the electromagnetic wave to output. Further, as the receiving unit 23, a type capable of receiving electromagnetic waves related to a plurality of wavelengths by adjusting the wavelength (frequency) of the electromagnetic waves that can be received may be adopted.
次に、本実施形態に係るガス分析装置、及びガス供給システムの作用・効果について説明する。 Next, operations and effects of the gas analyzer and the gas supply system according to the present embodiment will be described.
本実施形態に係るガス分析装置は、ガスへ向けて電磁波を出力する出力部２２と、出力部２２から出力された電磁波を受信する受信部２３と、を備えている。また、受信部２３で受信された電磁波の強度に基づいてガス中の不純物の量を分析する分析部２８を備える。このような構成により、電磁波をガス中に伝搬させることで、ガスに不純物が含まれていた場合には、受信部２３は強度が減衰した電磁波を受信することができる。そして、分析部は、受信部２３で受信された結果に基づいて、ガス供給システム１００内におけるガスの不純物の量を分析することが可能となる。このような構成によれば、出力部２２から出力された電磁波を受信部２３で受信することで、分析部２８がガス中に含まれる不純物の量を速やかに分析できる。また、ガス分析装置１０は、電磁波の出力部２２と受信部２３を用いたシンプルな構造であるため、装置が大掛かりになることを抑制できる。以上より、ガス中に含まれる不純物の量を容易に分析することができる。 The gas analyzer according to the present embodiment includes an output unit 22 that outputs an electromagnetic wave toward the gas, and a reception unit 23 that receives the electromagnetic wave output from the output unit 22. Moreover, the analysis part 28 which analyzes the quantity of the impurity in gas based on the intensity | strength of the electromagnetic waves received by the receiving part 23 is provided. With such a configuration, when the electromagnetic wave is propagated in the gas, when the gas contains impurities, the receiving unit 23 can receive the electromagnetic wave whose intensity is attenuated. Then, the analysis unit can analyze the amount of gas impurities in the gas supply system 100 based on the result received by the reception unit 23. According to such a configuration, the electromagnetic wave output from the output unit 22 is received by the receiving unit 23, so that the analysis unit 28 can quickly analyze the amount of impurities contained in the gas. Moreover, since the gas analyzer 10 has a simple structure using the electromagnetic wave output unit 22 and the reception unit 23, the apparatus can be prevented from becoming large. As described above, the amount of impurities contained in the gas can be easily analyzed.
また、本実施形態に係るガス分析装置１０において、分析する不純物の種類の数に合わせて、分析する不純物の種類の数に合わせて、出力部２２は１又は複数の波長に係る電磁波を出力し、受信部２３は、１又は複数の波長に係る電磁波を受信してよい。これにより、複数の種類の不純物の量を分析することができる。 In the gas analyzer 10 according to the present embodiment, the output unit 22 outputs electromagnetic waves related to one or a plurality of wavelengths according to the number of types of impurities to be analyzed in accordance with the number of types of impurities to be analyzed. The receiving unit 23 may receive electromagnetic waves related to one or a plurality of wavelengths. Thereby, the quantity of several types of impurities can be analyzed.
また、本実施形態に係るガス分析装置１０において、ガスを流通させるガス流通部２１を更に備えている。例えば、ガス供給システム１００のラインを流れるガスを直接分析する場合は、ラインの場所によっては、ガス分析に必要な距離を稼ぐことができない場合や、出力部２２や受信部２３の配置が困難となる場合もある。一方、ガス分析のための専用のガス流通部２１を設けることで、当該分析に必要な距離を十分に稼ぐことができ、ガス供給システム１００への適用も容易となる。 In addition, the gas analyzer 10 according to the present embodiment further includes a gas circulation part 21 for circulating gas. For example, when the gas flowing through the line of the gas supply system 100 is directly analyzed, depending on the location of the line, the distance necessary for the gas analysis cannot be obtained, or the arrangement of the output unit 22 and the receiving unit 23 is difficult. Sometimes it becomes. On the other hand, by providing the dedicated gas circulation part 21 for gas analysis, a distance necessary for the analysis can be sufficiently obtained, and application to the gas supply system 100 is facilitated.
また、本実施形態に係るガス分析装置１０において、ガス流通部２１へガスを導入する導入部２１ｂには、ガスの圧力を調整する減圧弁３１が設けられている。これにより、ガスの圧力をガス分析に適した圧力に調整することができる。 Further, in the gas analyzer 10 according to the present embodiment, a pressure reducing valve 31 that adjusts the pressure of the gas is provided in the introduction unit 21 b that introduces the gas into the gas circulation unit 21. Thereby, the pressure of gas can be adjusted to the pressure suitable for gas analysis.
また、本実施形態に係るガス分析装置１０において、分析部２８は、ガスの圧力に基づいて、分析結果を補正する。これにより、ガスの圧力に応じて適切な分析結果を得ることができる。 In the gas analyzer 10 according to this embodiment, the analysis unit 28 corrects the analysis result based on the gas pressure. Thereby, an appropriate analysis result can be obtained according to the gas pressure.
本実施形態に係るガス供給システム１００は、上述のガス分析装置１０と、ガス分析装置１０の分析結果に基づいてシステム内の機器を制御する制御部１５と、を備える。このようなガス供給システム１００は、ガス分析装置１０の分析結果に基づいて、ガスに含まれる不純物の量を低減するための機器の制御を行うことができる。このように、ガス供給システム１００が、ガス分析装置１０の結果と連動して制御を行うことにより、ガス供給システム１００に滞在している作業員が少人数であったとしても、ガス中に不純物が含まれるような状況への対応が可能となる。 The gas supply system 100 according to the present embodiment includes the gas analyzer 10 described above and a control unit 15 that controls equipment in the system based on the analysis result of the gas analyzer 10. Such a gas supply system 100 can control equipment for reducing the amount of impurities contained in the gas based on the analysis result of the gas analyzer 10. As described above, the gas supply system 100 performs control in conjunction with the result of the gas analyzer 10, so that even if there are a small number of workers staying in the gas supply system 100, impurities are contained in the gas. It is possible to deal with situations where the
本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。 The present invention is not limited to the embodiment described above.
例えば、上述の実施形態では、出力部は電磁波を出力していたが、赤外線を出力してもよい。図３に示すように、出力部１２６が赤外線を出力し、受信部１２３がガス中を伝搬した赤外線を受信してもよい。出力部１２６として、赤外線を出力する赤外線ＬＥＤを採用してよい。また、受信部１２３としてフォトダイオードを受信してよい。出力部１２６から出力された赤外線がガスを伝搬し、当該赤外線を受信部１２３が受信する。ガス中に含まれる不純物の量に応じて、赤外線の強度が減衰するため、分析部２８は、受信部１２３の受信結果に基づいて、ガス中に含まれる不純物の量を分析することができる。なお、当該変形例の場合も、分析する不純物の種類の数に合わせて、出力部１２６は複数の波長に係る赤外線を出力し、受信部１２３は、複数の波長に係る赤外線を受信してよい。 For example, in the above-described embodiment, the output unit outputs electromagnetic waves, but may output infrared rays. As shown in FIG. 3, the output unit 126 may output infrared rays, and the reception unit 123 may receive infrared rays propagated in the gas. An infrared LED that outputs infrared light may be employed as the output unit 126. Further, a photodiode may be received as the receiving unit 123. The infrared ray output from the output unit 126 propagates the gas, and the receiving unit 123 receives the infrared ray. Since the intensity of infrared rays is attenuated according to the amount of impurities contained in the gas, the analyzing unit 28 can analyze the amount of impurities contained in the gas based on the reception result of the receiving unit 123. Also in the case of the modification, the output unit 126 may output infrared rays related to a plurality of wavelengths, and the receiving unit 123 may receive infrared rays related to a plurality of wavelengths in accordance with the number of types of impurities to be analyzed. .
また、上述の実施形態では、ガス供給システムとして有機ハイドライドを原料とした水素ステーションを例示した。これに代えて、図４（ａ）及び図４（ｂ）に示す水素ステーションにガス供給システムを適用してもよい。図４（ａ）は、ガス供給システム２００として、オフサイト型の水素ステーションを例示している。ガス供給システム２００は、水素カードル２０１や水素トレーラー２０２等を用いて外部から水素が補給される。図４（ｂ）は、ガス供給システム３００として、オンサイト型の水素ステーションを例示している。ガス供給システム３００は、ＬＰガス等の原料３０１を用いて水素製造・精製装置３０２にてシステム内で水素の製造・精製を行う。ガス供給システム２００，３００は、補給された水素を圧縮する圧縮機２０３と、圧縮された高圧の水素を蓄圧する蓄圧器２０４と、蓄圧器２０４の水素をＦＣＶに供給するディスペンサ２０５と、を備える。このようなガス供給システム２００に対して、ガス分析装置１０は、圧縮機２０３よりも上流側のラインに設けられてよい。当該箇所は、低圧（１．０ＭＰａ未満）であるため、ガス分析装置１０を耐圧性のある構造にしなくともよい。一方、ガス分析装置１０は、圧縮機２０３よりも下流側のラインに設けてもよく、例えばディスペンサ２０５の下流側のラインに設けてもよい。当該箇所は、高圧（８０ＭＰａ程度）であるため、ガス分析装置１０を耐圧性のある構造にすればよい。 Moreover, in the above-mentioned embodiment, the hydrogen station which used the organic hydride as a raw material was illustrated as a gas supply system. Instead, a gas supply system may be applied to the hydrogen station shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b). FIG. 4A illustrates an off-site type hydrogen station as the gas supply system 200. The gas supply system 200 is replenished with hydrogen from the outside using a hydrogen curd 201 or a hydrogen trailer 202. FIG. 4B illustrates an on-site hydrogen station as the gas supply system 300. The gas supply system 300 uses a raw material 301 such as LP gas to produce and purify hydrogen in the system by a hydrogen production / purification apparatus 302. The gas supply systems 200 and 300 include a compressor 203 that compresses replenished hydrogen, a pressure accumulator 204 that accumulates compressed high-pressure hydrogen, and a dispenser 205 that supplies hydrogen from the accumulator 204 to the FCV. . With respect to such a gas supply system 200, the gas analyzer 10 may be provided in a line upstream of the compressor 203. Since the location is at a low pressure (less than 1.0 MPa), the gas analyzer 10 does not have to have a pressure resistant structure. On the other hand, the gas analyzer 10 may be provided on the downstream line of the compressor 203, for example, on the downstream line of the dispenser 205. Since the location is at a high pressure (about 80 MPa), the gas analyzer 10 may have a pressure resistant structure.
また、上述の実施形態において、ガス分析装置は、ガス供給システムの特定の箇所に組み込まれるものであった。これに変えて、ガス分析装置を携帯型の装置としてもよい。例えば、作業者がガス分析装置を持ち運び、ガス供給システムの特定の箇所におけるガスを分析してもよい。また、ガス分析装置は、ガスを流通させるための専用のガス流通部を備えていたが、当該ガス流通部を備えていなくてもよい。この場合、ガス供給システムのラインを流れるガスに対して直接的に電磁波や赤外線を出力する。 Moreover, in the above-mentioned embodiment, the gas analyzer was incorporated in the specific location of the gas supply system. Alternatively, the gas analyzer may be a portable device. For example, an operator may carry a gas analyzer and analyze gas at a specific location of the gas supply system. Moreover, although the gas analyzer was provided with the gas distribution part for exclusive use for distribute | circulating gas, it does not need to be provided with the said gas distribution part. In this case, electromagnetic waves and infrared rays are directly output to the gas flowing through the gas supply system line.
また、上述の実施形態においては、出力部と直線状に対向する位置に受信部が設けられており、出力部からの電磁波又は赤外線を直接受信部が受信していた。これに変えて、出力部と受信部とが並列に並べられており、出力部が出力した電磁波又は赤外線が所定の箇所で反射し、受信部が反射した電磁波又は赤外線を受信してもよい。 In the above-described embodiment, the receiving unit is provided at a position that linearly opposes the output unit, and the receiving unit directly receives electromagnetic waves or infrared rays from the output unit. Alternatively, the output unit and the reception unit may be arranged in parallel, and the electromagnetic wave or infrared ray output from the output unit may be reflected at a predetermined location, and the electromagnetic wave or infrared ray reflected by the reception unit may be received.
また、上述の実施形態においては、水素ステーションにおける水素を対象としてガス分析装置の分析が行われる場合を例示したが、分析対象となるガスは、水素（Ｈ２）に限定されず、Ｏ２、Ｎ２、Ｎ２、Ａｒ、Ｈ２Ｏ、ＣＯ、ＣＯ２、ＣｎＨ（２ｎ＋２）の少なくともいずれかであってもよい。 Moreover, in the above-mentioned embodiment, although the case where the analysis of a gas analyzer was performed for hydrogen in a hydrogen station was illustrated, the gas to be analyzed is not limited to hydrogen (H 2 ), and O 2 , It may be at least one of N 2 , N 2 , Ar, H 2 O, CO, CO 2 , and C n H (2n + 2) .
１０…ガス分析装置、１５…制御部、２１…ガス流通部、２２…出力部、２３…受信部、２８…分析部、１００，２００，３００…ガス供給システム。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Gas analyzer, 15 ... Control part, 21 ... Gas distribution part, 22 ... Output part, 23 ... Receiving part, 28 ... Analysis part, 100,200,300 ... Gas supply system.
Claims (8)
前記ガスへ向けて電磁波又は赤外線を出力する出力部と、
前記出力部から出力された電磁波又は赤外線を受信する受信部と、
前記受信部で受信された電磁波又は赤外線の強度に基づいて前記ガス中の不純物の量を分析する分析部と、
を備える、ガス分析装置。 A gas analyzer for analyzing the amount of impurities contained in a gas,
An output unit that outputs electromagnetic waves or infrared rays toward the gas;
A receiving unit for receiving electromagnetic waves or infrared rays output from the output unit;
An analysis unit for analyzing the amount of impurities in the gas based on the intensity of electromagnetic waves or infrared rays received by the reception unit;
A gas analyzer.
請求項１〜７の何れか一項に記載のガス分析装置と、
前記ガス分析装置の分析結果に基づいてシステム内の機器を制御する制御部と、
を備える、ガス供給システム。
A gas supply system for supplying the gas to a supply object,
A gas analyzer according to any one of claims 1 to 7,
A control unit for controlling devices in the system based on the analysis result of the gas analyzer;
A gas supply system comprising:
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