JP2017032957A - Light irradiation device and light irradiation method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ワークに偏光光を照射する光照射装置および光照射方法に関する。 The present invention relates to a light irradiation apparatus and a light irradiation method for irradiating a workpiece with polarized light.
近年、液晶パネルをはじめとする液晶表示素子の配向膜や、視野角補償フィルムの配向層などの配向処理に関し、所定の波長の偏光光を照射して配向を行う、光配向と呼ばれる技術が採用されている。
例えば、特許文献1には、光配向に用いる光照射装置が開示されている。この光照射装置は、光照射領域の幅に相当する長さを有する線状の光源と、当該光源からの光を偏光する偏光素子とを備え、光源の長手方向に対して直交する方向に搬送されるワークに対して偏光光を照射することで光配向処理を行う。
In recent years, a technique called photo-alignment has been adopted in which alignment is performed by irradiating polarized light of a predetermined wavelength with respect to alignment processing of alignment films for liquid crystal display elements such as liquid crystal panels and alignment layers for viewing angle compensation films. Has been.
For example, Patent Document 1 discloses a light irradiation apparatus used for photo-alignment. The light irradiation apparatus includes a linear light source having a length corresponding to the width of the light irradiation region and a polarizing element that polarizes light from the light source, and is conveyed in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the light source. A photo-alignment process is performed by irradiating polarized light to the workpiece.
ところで、光配向処理は、テレビ画面用の液晶パネルのような大型の基板のみならず、スマートフォン用など中小型の液晶ディスプレイにも展開されてきている。そのため、大型の液晶ディスプレイと中小型の液晶ディスプレイなど、異なるサイズ、異なる用途のディスプレイを効率的に製造したいという要望がある。
このような要望に応えるためには、1枚の基板上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成し、この基板をマザー基板として複数種類の基板を作成する必要がある。しかしながら、従来の光照射装置は、1枚の基板の全面に対し、一定方向の偏光軸を有する偏光光を照射することしかできない。そのため、1度の光配向処理で1枚の基板上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成することはできない。
そこで、本発明は、1度の光配向処理で、1枚のワーク上に配向方向が異なる複数の領域を形成することができる光照射装置および光照射方法を提供することを課題としている。
By the way, the photo-alignment process has been developed not only for a large substrate such as a liquid crystal panel for a television screen but also for a small and medium liquid crystal display such as a smartphone. Therefore, there is a demand for efficiently producing displays of different sizes and different uses such as a large liquid crystal display and a small and medium liquid crystal display.
In order to meet such a demand, it is necessary to form a plurality of alignment regions having different alignment directions on a single substrate and to create a plurality of types of substrates using this substrate as a mother substrate. However, the conventional light irradiation apparatus can only irradiate the entire surface of one substrate with polarized light having a polarization axis in a certain direction. Therefore, a plurality of alignment regions having different alignment directions cannot be formed on a single substrate by one photo-alignment treatment.
Therefore, an object of the present invention is to provide a light irradiation apparatus and a light irradiation method capable of forming a plurality of regions having different alignment directions on a single workpiece by one photo-alignment treatment.
上記課題を解決するために、本発明に係る光照射装置の一態様は、光配向膜が形成されたワークに偏光光を照射して光配向を行う光照射装置であって、前記ワークを所定の搬送路に沿って搬送するステージと、前記ワークの搬送路上に設置され、光源からの光を第一の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光を照射する第一の光照射部と、前記搬送路上において前記第一の光照射部に並設され、光源からの光を前記第一の偏光子とは異なる方向の透過軸を有する第二の偏光子によって偏光し、光出射口から第二の偏光光を照射する第二の光照射部と、前記第一の光照射部の光出射口の光出射側に配置され、前記第一の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第一の領域を規定する第一のプレート部材と、前記第二の光照射部の光出射口の光出射側に配置され、前記第二の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第二の領域を規定する第二のプレート部材と、を備える。 In order to solve the above-described problems, one aspect of a light irradiation apparatus according to the present invention is a light irradiation apparatus that performs light alignment by irradiating polarized light onto a work on which a photo-alignment film is formed. A stage that is transported along a transport path of the first workpiece, and a first light that is installed on the transport path of the workpiece, polarizes light from the light source by the first polarizer, and irradiates the first polarized light from the light exit port. An irradiation unit and a second light polarizer arranged in parallel with the first light irradiation unit on the transport path, and polarized by a second polarizer having a transmission axis in a direction different from that of the first polarizer, A second light irradiating unit that irradiates the second polarized light from the output port and a light output side of the light output port of the first light irradiating unit, and should be photo-aligned by the first polarized light A first plate member defining a first region on the workpiece; and the second light irradiation unit. It is disposed on the light emitting side of the light exit opening, and a second plate member defining a second region on the workpiece to be photo-alignment by the second polarized light.
上記の構成により、第一のプレート部材によって、第一の光照射部から出射される第一の偏光光が照射されるワーク上の領域を規定することができ、第二のプレート部材によって、第二の光照射部から出射される第二の偏光光が照射されるワーク上の領域を規定することができる。これにより、偏光軸がそれぞれ異なる複数の偏光光を1枚のワークに照射領域を分けて照射することができ、1度の光配向処理で、1枚のワーク上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成することができる。したがって、異なるサイズ、異なる用途の基板を効率的に製造することができ、生産性を向上させることができる。
また、上記の光照射装置において、前記第一のプレート部材および前記第二のプレート部材は、前記光配向膜の光配向に寄与する波長の偏光光を遮光する光学フィルタにより構成されていてもよい。このように、第一のプレート部材および第二のプレート部材を光学フィルタにより構成すれば、光源からの熱による第一のプレート部材および第二のプレート部材の変形や劣化を抑制することができる。
With the above configuration, the first plate member can define the region on the workpiece irradiated with the first polarized light emitted from the first light irradiation unit, and the second plate member It is possible to define a region on the workpiece irradiated with the second polarized light emitted from the second light irradiation unit. Thereby, it is possible to irradiate a single work with a plurality of polarized lights having different polarization axes, and to irradiate a single work with a plurality of orientations having different orientation directions on a single work. Regions can be formed. Therefore, substrates of different sizes and different applications can be efficiently manufactured, and productivity can be improved.
In the light irradiation apparatus, the first plate member and the second plate member may be configured by an optical filter that blocks polarized light having a wavelength that contributes to the light alignment of the light alignment film. . As described above, when the first plate member and the second plate member are configured by the optical filter, deformation and deterioration of the first plate member and the second plate member due to heat from the light source can be suppressed.
さらに、上記の光照射装置において、前記第一のプレート部材および前記第二のプレート部材は、前記光出射口から出射される偏光光の照射可能領域内における所定の使用位置と、前記照射可能領域から退避した退避位置との間を移動可能であってもよい。このように、第一のプレート部材および第二のプレート部材を移動可能に構成することで、ワーク上に形成される配向領域の位置およびサイズを調整可能となる。したがって、様々なサイズの基板の製造に対応することができる。また、例えば、第一のプレート部材を退避位置に退避させ、第二の光照射部からの偏光光の照射を停止すれば、ワークの全面に対して一様に第一の偏光光を照射することもできる。したがって、1枚のワークの全面に対して同一方向の偏光軸を有する偏光光を照射する光配向処理と、1枚のワークを複数の配向領域に分け、配向領域ごとにそれぞれ異なる方向の偏光軸を有する偏光光を照射する光配向処理とを切り替えて実施することも可能となる。 Furthermore, in the above-described light irradiation device, the first plate member and the second plate member have a predetermined use position in the irradiation possible region of the polarized light emitted from the light emission port, and the irradiation possible region. It may be possible to move between the retracted position and the retracted position. As described above, by configuring the first plate member and the second plate member to be movable, the position and size of the alignment region formed on the workpiece can be adjusted. Therefore, it can respond to manufacture of various size substrates. Further, for example, if the first plate member is retracted to the retracted position and irradiation of the polarized light from the second light irradiation unit is stopped, the first polarized light is uniformly applied to the entire surface of the workpiece. You can also. Therefore, a photo-alignment process in which the entire surface of one workpiece is irradiated with polarized light having a polarization axis in the same direction, and one workpiece is divided into a plurality of alignment regions, and polarization axes in different directions for each alignment region. It is also possible to switch between the photo-alignment process of irradiating polarized light having
また、上記の光照射装置において、前記第一のプレート部材および前記第二のプレート部材は、水平方向にスライド移動可能であってもよい。この場合、装置の高さ方向(垂直方向)の省スペース化が図れる。
さらにまた、上記の光照射装置において、前記第一のプレート部材および前記第二のプレート部材は、それぞれ複数枚のサブプレート部材により構成され、前記複数枚のサブプレート部材は、前記使用位置において、前記サブプレート部材同士の端部をオーバーラップさせて一列に連なるように配置されていてもよい。この場合、オーバーラップ量に応じてワーク上に形成される配向領域のサイズを調整可能となる。また、退避位置では複数枚のサブプレート部材を重ねて配置しておくことができるので、退避位置のスペースが小さくてすむ。
In the light irradiation device, the first plate member and the second plate member may be slidable in the horizontal direction. In this case, space saving in the height direction (vertical direction) of the apparatus can be achieved.
Furthermore, in the light irradiation device, the first plate member and the second plate member are each configured by a plurality of subplate members, and the plurality of subplate members are in the use position, You may arrange | position so that the edge part of the said subplate members may overlap and it may continue in a row. In this case, the size of the alignment region formed on the workpiece can be adjusted according to the overlap amount. In addition, since a plurality of sub-plate members can be stacked in the retracted position, the space at the retracted position can be reduced.
また、上記の光照射装置において、前記第一の領域は、前記ワーク上の前記搬送路に直交する方向における一方の側に設定され、前記第二の領域は、前記ワーク上の前記搬送路に直交する方向における他方の側に設定され、前記第一のプレート部材の前記一方の側の端部の位置、および前記第二のプレート部材の前記他方の側の端部の位置は、それぞれ前記第一の領域の前記他方の側の端部と前記第二の領域の前記一方の側の端部との間に設定されていてもよい。このように第一のプレート部材および第二のプレート部材の端部位置を設定することで、1枚のワーク上を搬送路に直交する方向に分離して複数の配向領域を適切に形成することができる。 In the light irradiation apparatus, the first area is set on one side in a direction orthogonal to the conveyance path on the workpiece, and the second area is on the conveyance path on the workpiece. The position of the one end of the first plate member and the position of the other end of the second plate member are set on the other side in the orthogonal direction, respectively. You may set between the edge part of the said other side of one area | region, and the edge part of the said one side of said 2nd area | region. In this way, by setting the end positions of the first plate member and the second plate member, a plurality of orientation regions are appropriately formed by separating one work piece in a direction perpendicular to the conveyance path. Can do.
さらに、上記の光照射装置において、前記第一のプレート部材および前記第二のプレート部材の端部にそれぞれ設けられ、当該端部よりも下方に位置する下端面を有する先端部材をさらに備えてもよい。この場合、先端部材を設けない場合と比較して、第一のプレート部材や第二のプレート部材の直下の領域への光の回り込みを低減することができる。したがって、ワーク上に適切に配向領域を形成することができる。
また、上記の光照射装置において、前記先端部材は、前記下端面の高さ方向位置を調整可能であってもよい。この場合、上記の光の回り込み量を調整することが可能となり、より適切にワーク上に配向領域を形成することができる。
Furthermore, the light irradiation device may further include a tip member provided at each of the end portions of the first plate member and the second plate member and having a lower end surface positioned below the end portion. Good. In this case, it is possible to reduce the wraparound of light into the region immediately below the first plate member and the second plate member as compared with the case where no tip member is provided. Therefore, it is possible to appropriately form the alignment region on the workpiece.
In the light irradiation device, the tip member may be capable of adjusting a height direction position of the lower end surface. In this case, it becomes possible to adjust the amount of wraparound of the light, and an alignment region can be formed on the workpiece more appropriately.
また、本発明に係る光照射方法の一態様は、光配向膜が形成されたワークに偏光光を照射して光配向を行う光照射方法であって、前記ワークの搬送路上に設置され、光源からの光を第一の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光を照射する第一の光照射部の前記光出射口の光出射側に、第一のプレート部材を配置して、前記第一の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第一の領域を規定するステップと、前記搬送路上において前記第一の光照射部に並設され、光源からの光を前記第一の偏光子とは異なる方向の透過軸を有する第二の偏光子によって偏光し、光出射口から第二の偏光光を照射する第二の光照射部の前記光出射口の光出射側に、第二のプレート部材を配置して、前記第二の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第二の領域を規定するステップと、前記ワークをステージによって前記搬送路に沿って搬送し、前記ワーク上の前記第一の領域に前記第一の偏光光を照射し、前記ワーク上の前記第二の領域に前記第二の偏光光を照射するステップと、を含む。
上記の構成により、偏光軸がそれぞれ異なる複数の偏光光を1枚のワークに照射領域を分けて照射することができ、1度の光配向処理で、1枚のワーク上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成することができる。したがって、異なるサイズ、異なる用途の基板を効率的に製造することができ、生産性を向上させることができる。
Another aspect of the light irradiation method according to the present invention is a light irradiation method for performing light alignment by irradiating polarized light onto a work on which a photo-alignment film is formed, the light irradiation method being installed on the work transport path. The first plate member is disposed on the light exit side of the light exit port of the first light irradiator that polarizes the light from the first light irradiator and irradiates the first polarized light from the light exit port. A step of defining a first region on the workpiece to be photo-aligned by the first polarized light, and arranged in parallel with the first light irradiation unit on the transport path, The light exit side of the light exit of the second light irradiator that is polarized by the second polarizer having a transmission axis in a direction different from that of the first polarizer and irradiates the second polarized light from the light exit The second plate member is disposed, and the second polarized light is to be photo-aligned by the second polarized light. Defining a second region on the workpiece, conveying the workpiece along the conveyance path by a stage, irradiating the first polarized light on the first region on the workpiece, Irradiating the second region with the second polarized light.
With the above configuration, a plurality of polarized light beams having different polarization axes can be irradiated onto a single work by dividing an irradiation region, and a plurality of different alignment directions can be formed on a single work by a single photo-alignment process. The alignment region can be formed. Therefore, substrates of different sizes and different applications can be efficiently manufactured, and productivity can be improved.
本発明によれば、偏光軸がそれぞれ異なる複数の偏光光を1枚のワークに照射領域を分けて照射することができるので、1度の光配向処理で、1枚のワーク上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成することができる。したがって、異なるサイズ、異なる用途の基板を効率的に製造することができ、生産性を向上させることができる。 According to the present invention, it is possible to irradiate a single workpiece with a plurality of polarized light beams having different polarization axes, so that the orientation direction can be adjusted on one workpiece by one photo-alignment treatment. A plurality of different alignment regions can be formed. Therefore, substrates of different sizes and different applications can be efficiently manufactured, and productivity can be improved.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
(第一の実施形態)
図1は、本実施形態の偏光光照射装置100を示す概略構成図である。
偏光光照射装置100は、光照射部10A、10Bおよび10Cと、ワークWを搬送する搬送部20とを備える。ここで、ワークWは、例えば光配向膜が形成された矩形状の基板である。偏光光照射装置100は、光照射部10A〜10Cの少なくとも1つから偏光光(偏光した光)を照射しながら、搬送部20によってワークWを直線移動させ、ワークWの光配向膜に上記偏光光を照射して光配向処理をする。
本実施形態では、偏光光照射装置100は、1枚のワークWの全面に対して同一方向の偏光軸を有する偏光光を照射する第一の光配向処理と、1枚のワークW上を複数の配向領域に分け、配向領域ごとにそれぞれ異なる方向の偏光軸を有する偏光光を照射する第二の光配向処理とを切り替えて実施可能とする。なお、本実施形態では、第一の光配向処理の方が第二の光配向処理よりも実施頻度が高いものとして説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a polarized
The polarized
In the present embodiment, the polarized
光照射部10A〜10Cは、線状の光源であるランプ11と、ランプ11の光を反射するミラー12とをそれぞれ備える。また、光照射部10A〜10Cは、その光出射側に配置された偏光子ユニット13をそれぞれ備える。さらに、光出射部10A〜10Cは、ランプ11、ミラー12および偏光子ユニット13を収容するランプハウス14をそれぞれ備える。
光照射部10A〜10Cは、ランプ11の長手方向をワークWの搬送路が延在する方向である搬送方向(X方向)に直交する方向(Y方向)に一致させた状態で、ワークWの搬送方向(X方向)に沿って並設されている。なお、図1では、灯具(光照射部)を3灯としているが、2灯以上であればよい。
Each of the
The
以下、光照射部10A〜10Cの具体的構成について説明する。
ランプ11は長尺状のいわゆるロングアーク放電ランプであり、その発光部が、ワークWの搬送方向に直交する方向の幅に対応する長さを有する。このランプ11は、例えば、高圧水銀ランプや、水銀に他の金属とハロゲンとを加えたメタルハライドランプ、水銀以外の金属とハロゲンとが封入されたメタルハライドランプ等の放電ランプであり、封入発光種に応じて波長200nm〜400nmの紫外光を放射する。
光配向膜の材料としては、波長254nmの光で配向されるもの、波長313nmの光で配向されるもの、波長365nmの光で配向されるものなどが知られており、光源の種類は必要とされる波長に応じて適宜選択する。
なお、光源としては、紫外光を放射するLEDやLDを直線状に並べて配置した線状光源を用いることもできる。その場合、LEDやLDを並べる方向がランプの長手方向に相当する。
Hereinafter, a specific configuration of the
The
As materials for the photo-alignment film, those that are aligned by light having a wavelength of 254 nm, those that are aligned by light having a wavelength of 313 nm, and materials that are aligned by light having a wavelength of 365 nm are known. It selects suitably according to the wavelength to be performed.
As the light source, a linear light source in which LEDs or LDs that emit ultraviolet light are arranged in a straight line can be used. In that case, the direction in which the LEDs and LDs are arranged corresponds to the longitudinal direction of the lamp.
ミラー12は、ランプ11からの放射光を所定の方向に反射するものであり、その断面が楕円形または放物線状の樋状集光鏡である。ミラー12は、その長手方向がランプ11の長手方向と一致するように配置されている。
ランプハウス14は、その底面に、ランプ11からの放射光およびミラー12による反射光が通過する光出射口を有する。偏光子ユニット13は、ランプハウス14の光出射口に取り付けられ、当該光出射口を通過する光を偏光する。
偏光子ユニット13は、複数の偏光子をY方向、本実施形態においてはランプ11の長手方向に沿って並んで配置した構成を有する。これら複数の偏光子は、例えばフレーム等により支持されている。偏光子は、例えば、ワイヤーグリッド型偏光素子であり、偏光子の個数は、偏光光を照射する領域の大きさに合わせて適宜選択する。なお、1つの偏光子ユニット13を構成する各偏光子は、それぞれ透過軸が同一方向を向くように配置されている。本実施形態では、光照射部10Aが有する各偏光子の透過軸の方向と、光照射部10Bが有する各偏光子の透過軸の方向とを同一方向とする。そして、光照射部10Cが有する各偏光子の透過軸の方向を、光照射部10Aおよび10Cがそれぞれ有する偏光子の透過軸の方向とは異なる方向に設定する。
The
The
The
すなわち、光照射部10Aおよび光照射部10Bは、ランプ11からの光を第一の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光を照射する。また、光照射部10Cは、ランプ11からの光を第一の偏光光とは異なる方向の透過軸を有する第二の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光とは偏光軸の方向が異なる第二の偏光光を照射する。なお、光照射部10Aが第一の光照射部に対応し、光照射部10Cが第二の光照射部に対応している。
また、X方向に並設された3つの光照射部10A〜10Cのうち、X方向両端に配置された光照射部10Aおよび10Cは、それぞれ偏光子ユニット13の光出射口の光出射側に、偏光子ユニット13により偏光された偏光光のうち、所定の波長の偏光光を選択的に遮光可能な遮光部16(図2参照)を備える。ここで、所定の波長とは、ワークWの光配向膜の材料が感度を持つ波長である。
That is, the
In addition, among the three
図2は、光照射部10Aの遮光部16の概略を説明するための図である。遮光部16は、光照射部10Aによる偏光光の照射可能領域150A内の所定の使用位置に配置され、照射可能領域150Aのうち、一部の領域をワークWへの偏光光の照射を許容する照射許容領域151Aとし、残りの領域を遮光領域152Aとする。ここで、遮光領域152Aとは、偏光子ユニット13から出射される偏光光のうち、少なくとも光配向に寄与する波長の光が遮光された領域である。本実施形態では、遮光部16の使用位置の直下が遮光領域152Aとなる。
なお、図2においては、光照射部10Aの遮光部16のみ図示しているが、光照射部10Cの遮光部16についても同様である。すなわち、光照射部10Cの遮光部16は、光照射部10Cによる偏光光の照射可能領域(150C)のうち、一部の領域をワークWへの偏光光の照射を許容する照射許容領域(151C)とし、残りの領域を遮光領域(152C)とする。光照射部10Aにおける照射許容領域151Aと光照射部10Cにおける照射許容領域151Cとは、Y方向において重ならないように設定される。遮光部16の詳細については後述する。
FIG. 2 is a diagram for explaining the outline of the
In FIG. 2, only the
搬送部20は、ワークWが載置されるステージ21を備える。ステージ21は、真空吸着等の方法によりワークWを吸着保持可能な平板状のステージである。なお、本実施形態では、ステージ21およびワークWを矩形状としているが、これに限定するものではなく、任意の形状とすることができる。また、ワークWを平板状のステージで吸着保持する構成に限定されるものではなく、複数のピンによってワークWを吸着保持する構成であってもよい。
また、搬送部20は、ステージ21をX方向に移動するためのX方向駆動機構22を備える。X方向駆動機構22は、例えばリニアモータ駆動機構であり、X方向に沿って延びる2本のガイド22Aと、2本のガイド22Aの間に配置されたマグネット板22Bと、コイルモジュール22Cとを備える。2本のガイド22Aとマグネット板22Bとは、不図示の設置台の上面に配置されている。マグネット板22Bは、隣り合う磁極の極性を交互に変えてX方向に等間隔で並べられた複数のマグネットにより構成されている。また、コイルモジュール22Cは、ステージ21の裏面の中央部に、マグネット板22Bと対向するように取り付けられている。なお、X方向駆動機構22としては、例えばボールねじを用いた機構を採用することもできる。
The
In addition, the
このように、ステージ21は、搬送軸であるガイド22Aに沿ってX方向に往復移動可能に構成されている。なお、X方向駆動機構22の構成は、図1に示す構成に限定されるものではなく、ステージ21をX方向に移動可能な構成であれば任意の構成を採用することができる。
さらに、搬送部20は、ステージ21をθ方向(Z軸回り)に回転可能なθ移動機構24を備える。ステージ21は、固定ベース25上にθ方向に回転可能に取り付けられており、θ移動機構24は、ステージ21のθ方向の回転角度を調整可能である。
ステージ21の移動経路は、光照射部10A、10Bおよび10Cの真下を通るように設計されている。搬送部20は、ワークWを光照射部10A、10Bおよび10Cによる偏光光の照射領域に搬送し、且つその照射領域を通過させるように構成されている。さらに、搬送部20は、ワークWが照射領域を完全に通過した後、当該ワークWを折り返し、再び当該照射領域を通過させるように構成されている。
本実施形態では、偏光光照射装置100は、第一の光配向処理を行う場合、光照射部10Aおよび10Bを作動状態とし、光照射部10Cを非作動状態とする。また、光照射部10Aの遮光部16を非作動状態とし、遮光領域152Aを形成しないようにする。これにより、光照射部10Aおよび10BからワークWの全面に対して第一の偏光光を照射し、光配向処理することができる。
As described above, the
Further, the
The moving path of the
In the present embodiment, when performing the first photo-alignment process, the polarized
一方、偏光光照射装置100は、第二の光配向処理を行う場合、光照射部10Aおよび10Cを作動状態とし、光照射部10Bを非作動状態とする。また、光照射部10Aおよび10Cの遮光部16を共に作動状態とし、光照射部10Aおよび10Cにそれぞれ遮光領域152Aおよび152Cを形成する。これにより、ワークW上に第一の偏光光のみが照射されて光配向処理される第一の配向領域と、第二の偏光光のみが照射されて光配向処理される第二の配向領域とを形成することができる。上述したように、光照射部10Aにおける照射許容領域151Aと光照射部10Cにおける照射許容領域151Cとは、Y方向において重ならないように設定される。したがって、ワークW上には、第一の配向領域と第二の配向領域とがY方向に分割されて形成される。
On the other hand, when performing the second photo-alignment process, the polarized
ステージ21の基本動作は、以下のとおりである。
ステージ21は、X方向における照射領域の一方の側に設定されたワーク搭載位置において、ワークWの交換処理およびアライメント処理が行われる。アライメント完了後、ステージ21は、θ回転機構24によって回転移動される。これにより、ワークWの向きが偏光光の偏光軸に対して所定の向きになる。
その後、ステージ21は、照射領域へ向けてX方向に往路移動を開始する。そして、照射領域を通過した所定の折り返し位置に到達すると、同時に復路移動を開始し、ワーク搭載位置まで引き返す。このワーク搭載位置では、再びワークWの交換処理およびアライメント処理が行われ、アライメント完了後、ステージ21は、再び照射領域へ向けて往路移動を開始する。この動作を繰り返す。図1の搬送部20の各部は、上記のステージ動作を実現するように不図示の制御部によって制御される。なお、ワークWの光配向膜に対する光配向処理は、往路移動と復路移動の双方で実施されてもよい。
The basic operation of the
The
Thereafter, the
以下、光照射部10Aおよび10Cがそれぞれ備える遮光部16の構成について、具体的に説明する。
図3は、光照射部10A〜10Cを光出射側から見たときの遮光部16の構成を示す図である。この図3に示すように、遮光部16は、遮光板17と遮光板駆動部18とを備える。遮光板17は、光照射部10Aおよび10Cの偏光子ユニット13よりも下方でワークWよりも上方に配置されている。遮光板17は、例えば光学フィルタなどのプレート状の部材である。すなわち、遮光により図2に示すような遮光領域152Aを形成するためには、遮光板17には面積の広い形態が要求される。また、遮光部16の高さ方向(Z方向)の省スペース化や軽量化のためには、遮光板17には厚さの薄い形態が要求される。そのため、遮光板17には、厚さが薄く、面積の広い形態であるプレート部材を用いる。また、遮光板17は、基板表面に真空蒸着法やスパッタリング法などにより機能膜(反射膜や吸収膜)が形成された構成を有する。基板は、例えば石英ガラスである。また、機能膜は、例えば、5酸化タンタル(Ta2O5)や酸化ケイ素(SiO2)などの無機材料からなる誘電体多層膜や、クロム(Cr)などからなる蒸着膜である。
Hereinafter, the configuration of the
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of the
すなわち、遮光板17は、透光性材料からなる基板に波長選択用の薄膜をコーティングした構成を有する。具体的には、遮光板17は、254nmや313nmといった光配向膜材料が感度を有する波長(ワークWの光配向に寄与する波長)の光を遮光し、それ以外の波長の光を透過する波長カットフィルタとする。遮光板17は、上記のコーティング膜が形成された面を上方(ランプ11側)に向けて配設される。なお、遮光板17は、材料そのものに不純物をドープした波長選択的カットフィルタ、例えば、紫外光を吸収するドーピング材がドープされた石英ガラスであってもよい。
That is, the
遮光板駆動部18は、例えばモータ駆動機構であり、遮光板17をY方向にスライド移動可能に構成されている。具体的には、遮光板17は、照射領域15内において対応する光照射部10Aまたは10Cから照射される偏光光のうち上述した所定の波長の光を遮断してワークWに照射されることを阻止する遮光位置(使用位置)と、照射領域15から退避してワークWへの偏光光の照射を許容する退避位置161との間を移動可能である。なお、図3は、遮光板17が退避位置161に配置されている状態を示している。
この図3に示すように、光照射部10Aの遮光板17の退避位置161と、光照射部10Cの遮光板17の退避位置161とは、Y方向において照射領域15を挟んで対向する位置に設定されている。つまり、退避位置161から照射領域15へ向かう方向を前進方向、照射領域15から退避位置161へ戻る方向を後退方向とすると、光照射部10Aの遮光板17の前進方向と光照射部10Cの遮光板17の前進方向とは、Y方向において逆向きとなる。
The light shielding
As shown in FIG. 3, the retracted
図4は、遮光板17の具体的構成を示す斜視図である。なお、光照射部10Aの遮光板17と光照射部10Cの遮光板17とは同様の構成を有するため、図4においては、光照射部10Aの遮光板17のみを図示し、以下、光照射部10Aの遮光板17の構成について説明する。
遮光板17は、上述したようにプレート部材により構成されているが、当該プレート部材は複数のサブプレート部材の集合によって構成してもよい。具体的には、図4に示すように、同一形状の3枚のサブプレート部材である遮光板17a〜17cにより構成することができる。これら遮光板17a〜17cは、それぞれ個別にY方向に移動可能であり、一番下(ワークW側)に位置する遮光板17aから遮光板17b、遮光板17cの順に、退避位置161から前進方向に一列に連なるように引き出された形で遮光位置162に配置される。また、この遮光位置162において、遮光板17a〜17cは、前段の遮光板の後端部と後段の遮光板の前端部とがオーバーラップするように配置される。これにより、遮光板(サブプレート部材)同士のつなぎ目部分から光が漏れてワークWに照射されるのを防止し、適切に図2に示す遮光領域152Aを形成することができる。
FIG. 4 is a perspective view showing a specific configuration of the
As described above, the
遮光板17a〜17cは、図5(a)に示すように、退避位置161では完全に重なった状態で配置される。すなわち、退避位置161では、遮光板同士のオーバーラップ量は最大となる。そして、この状態から、図5(b)に示すように上記オーバーラップ量を徐々に小さくしていくことで、遮光板17a〜17cは遮光位置162に配置され、その直下に図2に示す遮光領域152Aまたは152Cが形成される。上記オーバーラップ量は遮光領域152Aや152CのY方向の長さに応じて調整可能であり、図5(c)に示すようにオーバーラップ量が最小であるとき、遮光領域152Aや152CのY方向の長さは最大となる。
なお、本実施形態では、遮光板17a〜17cが同一形状を有する場合について説明するが、遮光板17a〜17cの形状は適宜設定可能である。また、遮光板の枚数も3枚に限定されるものではない。
As illustrated in FIG. 5A, the
In addition, although this embodiment demonstrates the case where the light-shielding
第二の光配向処理を行う際には、光照射部10Aの遮光部16と光照射部10Cの遮光部16とを共に作動状態とし、図6に示すように、光照射部10Aの遮光板17aの前進方向における先端位置と光照射部10Cの遮光板17aの前進方向における先端位置とを、Y方向において一致させる。このときの遮光板17aの先端位置Paは、光照射部10Aから出射される第一の偏光光のみが照射されるべきワークW上の領域(第一の領域)A1と、光照射部10Cから出射される第二の偏光光のみが照射されるべきワークW上の領域(第二の領域)B1との間の領域C内に設定する。本実施形態では、先端位置Paは、例えば領域A1と領域B1との間の隙間のY方向における中央位置に設定する。
When performing the second photo-alignment process, the
この場合、光照射部10Aの遮光板17a〜17cの直下を通過するワークWには、第一の偏光光のうち光配向に寄与する波長の光は照射されない。同様に、光照射部10Cの遮光板17a〜17cの直下を通過するワークWには、第二の偏光光のうち光配向に寄与する波長の光は照射されない。したがって、光照射部10Aおよび10Cを通過した光配向処理後のワークW上には、領域A1を含む第一の配向領域A2がY方向における先端位置Paの一方の側(図6の右側)に形成され、領域B1を含む第二の配向領域B2が先端位置Paの他方の側(図6の左側)に形成される。
なお、光照射部10Aの遮光板17aの前進方向における先端位置と光照射部10Cの遮光板17aの前進方向における先端位置とは、Y方向において必ずしも一致させる必要はない。上記の各先端位置は、領域A1と領域B1との間であれば適宜設定可能である。但し、遮光板17の直下に形成される遮光領域152Aへの光の回り込みを考慮すると、光照射部10Aの遮光板17aの前進方向における先端位置(図6の右側端部位置)は、領域A1の当該前進方向における後端位置(図6の左側端部位置)に近いほどよい。光照射部10Cの遮光板17aの前進方向における先端位置についても同様である。
In this case, the work W that passes immediately below the
Note that the front end position of the
さらに、図7に示すように、遮光板17aの前進方向端部に先端部材17dを設けてもよい。なお、図7では、光照射部10Aの遮光板17aに取り付ける先端部材17dのみを図示しているが、光照射部10Cの遮光板17aにも同様の先端部材17dを取り付けることができる。
先端部材17dは、光照射部10Aの光出射口から出射される光の遮光領域152Aへの回り込みを低減するための部材であり、図7に示すように、遮光板17aの前進方向端部よりも下方に位置する下端面を有する。また、先端部材17dは、例えば遮光板17aと同等の材質によって構成する。また、先端部材17dは、例えば、ねじ17eによって、遮光板17aに対して高さ方向(Z方向)位置を調整可能に取り付けられている。そして、先端部材17dは、遮光板17aよりもワークWに接近し、且つワークWから高さ方向に所定距離離間する位置に設置される。
Further, as shown in FIG. 7, a
The
図7の二点鎖線で示すように、上記の光の回り込みが発生している場合、照射許容領域151Aと遮光領域152Aとの境界位置は、先端部材17dのY方向における先端位置よりも後退方向側に設定される。この遮光領域152A側への光の回り込み量は、ワークWの上面と先端部材17dの下面との間のギャップGに応じて決まる。したがって、ギャップGは、遮光領域152Aへの光の回り込み量の許容値や、先端部材17dとワークWとの接触可能性等を考慮して設定する。
なお、先端部材17dの形状は、図7に示す形状に限定されない。先端部材17dのX方向から見た形状は、例えば、L字形状であってもよいし、I字形状であってもよい。また、先端部材17dは、一方の端部が遮光板17aの前進方向端部と同等、もしくは前進方向端部よりも前進方向側に突出して水平配置される平板状の部材であってもよい。この場合、平板状の部材を、遮光板17aの下面に高さ調整用のスペーサを介して取り付けてもよい。
As shown by the two-dot chain line in FIG. 7, when the above-described wraparound of light occurs, the boundary position between the irradiation
The shape of the
ところで、近年、光配向処理はテレビ画面用の大型の液晶ディスプレイのみならず、スマートフォン用など中小型の液晶ディスプレイにも展開されてきており、様々な種類、寸法の液晶ディスプレイの生産が期待されている。このような様々な種類の基板を効率良く処理するためには、1枚の多面取りマザー基板から種類の異なる複数のセル基板を切り出す必要がある。
本実施形態における偏光光照射装置100は、上述した構成により、一度の光照射処理によって、1枚のワークW上に配向方向の異なる複数の配向領域を形成することができる。したがって、複数種類の基板を効率良く生産することができ、コストメリットが得られる。また、個別のオーダーにも柔軟に対応することができる。
By the way, in recent years, photo-alignment processing has been developed not only for large-sized liquid crystal displays for TV screens but also for small and medium-sized liquid crystal displays for smartphones, and production of liquid crystal displays of various types and dimensions is expected. Yes. In order to efficiently process such various types of substrates, it is necessary to cut out a plurality of different types of cell substrates from one multi-sided mother substrate.
With the configuration described above, the polarized
また、本実施形態の偏光光照射装置100は、3つの光照射部10A〜10Cを備え、光照射部10Aの光出射口の光出射側と光照射部10Cの光出射口の光出射側とにそれぞれ遮光部16を設ける。そして、この遮光部16によって、光照射部10Aから出射される第一の偏光光の照射許容領域151Aと、光照射部10Cから出射される第二の偏光光の照射許容領域151Cとを規定する。すなわち、遮光部16は、ワークW上の第一の偏光光によって光配向されるべき領域A1と、第二の偏光光によって光配向されるべき領域B1とを既定することができる。したがって、一度の光照射処理によって、ワークW上に異なる複数の配向領域を適切に形成することができる。
Moreover, the polarized
また、第一の光配向処理を行う際に使用する光照射部10Aおよび10Bは、X方向において基板交換位置に近い側に配置される。基板交換位置から光配向処理が行われる照射領域15までの距離が短いほど、タクトタイムは短縮されるため、実施頻度が高い第一の光配向処理において使用される光照射部10Aおよび10Bを基板交換位置に近い側に配置することで、生産性を向上させることができる。上記実施形態では、第一の光配向処理の実施頻度の方が第二の光配向処理の実施頻度よりも高い場合について説明したが、第二の光配向処理の実施頻度の方が第一の光配向処理の実施頻度よりも高い場合には、基板交換位置に近い側に光照射部10Aおよび10Cを配置してもよい。
なお、第一の光配向処理を実施しない場合や、光配向処理に必要な照射光量や光配向処理時間などの条件により第一の光配向処理を1つの光照射部10Aのみを使用して実施可能である場合には、遮光部16を有しない光照射部10Bは設置しなくてもよい。
In addition, the
When the first photo-alignment process is not performed, or the first photo-alignment process is performed using only one
また、遮光部16は、プレート部材である遮光板17と、遮光板17をY方向にスライド移動させる遮光板駆動部18とを含んで構成する。これにより、ワークW上をY方向に複数領域に分割し、これらの領域をそれぞれ配向方向が異なる配向領域として設定することができる。さらに、遮光板17のY方向における配置位置の自由度を向上させることができるので、ワークW上に形成する配向領域を比較的自由に設定することができ、様々なサイズの液晶配向領域に対応することができる。
また、遮光板17を水平方向にスライド移動可能な構成とすることで、遮光部16の高さ方向(Z方向)の省スペース化が図れる。したがって、光照射部10A,10Cの光出射口からワークWまでの距離が非常に近い場合であっても、遮光板17を光出射口の光出射側の適切な位置に配置することができる。
The
Further, by configuring the
さらに、遮光板17は、光出射口から出射される偏光光の照射可能領域内における所定の使用位置(遮光位置)162と、照射可能領域から退避した退避位置161との間を移動可能な構成とする。この場合、遮光板17を退避位置161に配置した非作動状態では、照射可能領域内に遮光領域が形成されない。そのため、遮光部16を備える光照射部を、第一の光配向処理と第二の光配向処理との両方に併用することができる。
また、光照射部10Aの遮光板17の退避位置161と、光照射部10Cの遮光板17の退避位置161とを、Y方向において対向する位置に設定する。すなわち、光照射部10Aの遮光板17の前進方向と光照射部10Cの遮光板17の前進方向とを、Y方向において逆向きに設定する。したがって、各遮光板17の退避位置161と遮光位置162との間の移動距離を短くすることができ、各遮光板17の移動時間の短縮が図れる。
なお、上記実施形態においては、遮光板17の退避位置161を光照射部10Aおよび10CのY方向端部に設ける場合について説明したが、X方向に退避位置を設けられる場合には、遮光板17をX方向に退避させる構成であってもよい。
Further, the
Further, the retracted
In the above-described embodiment, the case where the
さらに、遮光板17を光学フィルタにより構成するので、遮光板17を金属板や樹脂によって構成する場合と比較して、ランプ11の熱や紫外線による変形や劣化を抑制することができる。仮に、遮光板17を金属板とすると、ランプ11の熱により遮光板17が変形し、スライド移動ができなくなったりワークWに接触したりするといった不具合が生じ得る。これに対して、本実施形態では、遮光板17を光学フィルタによって構成するので、上記不具合の発生を抑制することができる。なお、遮光板17は、光学フィルタに限定されるものではなく、熱や紫外線に耐えうる材質で且つ遮光領域を適切に形成可能な部材であれば、適宜適用可能である。
Furthermore, since the
また、遮光板17は、複数枚(上記実施形態では3枚)のサブプレート部材である遮光板17a〜17cにより構成し、退避位置161では、これら遮光板17a〜17cをZ方向に重ね合わせて配置する。したがって、退避位置161のスペースを小さくすることができ、装置の小型化を実現することができる。さらに、遮光位置162では、これら遮光板17a〜17cを一列に連なるように、前段の遮光板の後端部と後段の遮光板の前端部とをオーバーラップさせて配置する。したがって、遮光板同士の隙間から偏光光が漏れて遮光領域152A,152Cに照射されるのを防止し、適切に遮光領域152A,152Cを形成することができる。また、遮光板同士のオーバーラップ量を調整することで、遮光領域のサイズを容易に調整することができる。
さらに、遮光板17の前進方向先端部に先端部材17dを設けるので、遮光領域152A,152Cへの偏光光の回り込みを抑制することができる。さらに、先端部材17dは、その下端面の高さ方向位置を調整可能に構成されているので、上記の光の回り込み量を調整することができ、適切に遮光領域152A,152Cを形成することができる。
The
Furthermore, since the
(変形例)
上記実施形態においては、遮光板17を退避位置161と遮光位置162との間で水平方向にスライド移動可能な構成とする場合について説明したが、遮光板17は、必ずしもスライド移動する必要はない。例えば、遮光板17は回転開閉する構成であってもよい。さらに、遮光板17は、ランプハウス14に対して着脱可能にねじ止めする構成であってもよい。この場合、遮光領域152A,152Cの大きさに応じたサイズの遮光板17をランプハウス14に取り付けるようにすれば、ワークW上に形成する配向領域のサイズを自由に設定することが可能となる。すなわち、遮光板17は手動で移動させてもよい。
また、上記実施形態においては、遮光板17をY方向に移動可能な構成とする場合について説明したが、ワークW上に形成する配向領域の位置およびサイズが固定である場合には、遮光板17は固定であってもよい。
(Modification)
In the above embodiment, the case where the
Further, in the above embodiment, the case where the
さらに、上記実施形態においては、ワークW上に2つの配向領域を形成する場合について説明したが、3つ以上の配向領域を形成することもできる。この場合、遮光部16を備える光照射部を3つ以上設けてもよいし、1つの光照射部に複数の遮光部16を備え、1つの光照射部において複数の遮光領域を形成するようにしてもよい。
また、上記実施形態においては、1つのステージ21が灯具(光照射部10A〜10C)の直下を往復するシングルステージ方式の偏光光照射装置100に本発明を適用する場合について説明したが、偏光光照射装置100の構成は図1に示す構成に限定されない。例えば、2つのステージが灯具の下を往復しあう、所謂ツインステージ方式の偏光光照射装置100に本発明を適用することもできる。また、1つのステージに複数のワークWを載置し、ワークWごとに異なる偏光軸の偏光光を照射して光配向処理を行う装置にも適用可能である。
Furthermore, in the above-described embodiment, the case where two alignment regions are formed on the workpiece W has been described, but three or more alignment regions can also be formed. In this case, three or more light irradiation units including the
Moreover, in the said embodiment, although the case where one
10A〜10C…光照射部、11…ランプ、12…ミラー、13…偏光子ユニット、14…ランプハウス、15…照射領域、16…遮光部、17(17a〜17c)…遮光板(プレート部材)、17d…先端部材、17e…ねじ、18…遮光板駆動部、20…搬送部、21…ステージ、22…X方向駆動機構、22A…ガイド、22B…マグネット板、22C…コイルモジュール、24…θ移動機構、100…偏光光照射装置、150A…照射可能領域、151A…照射許容領域、152A…遮光領域、161…退避位置、162…遮光位置(使用位置)
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記ワークを所定の搬送路に沿って搬送するステージと、
前記ワークの搬送路上に設置され、光源からの光を第一の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光を照射する第一の光照射部と、
前記搬送路上において前記第一の光照射部に並設され、光源からの光を前記第一の偏光子とは異なる方向の透過軸を有する第二の偏光子によって偏光し、光出射口から第二の偏光光を照射する第二の光照射部と、
前記第一の光照射部の光出射口の光出射側に配置され、前記第一の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第一の領域を規定する第一のプレート部材と、
前記第二の光照射部の光出射口の光出射側に配置され、前記第二の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第二の領域を規定する第二のプレート部材と、を備えることを特徴とする光照射装置。 A light irradiation device that performs light alignment by irradiating polarized light onto a work on which a photo-alignment film is formed,
A stage for conveying the workpiece along a predetermined conveyance path;
A first light irradiating unit that is installed on the conveyance path of the workpiece, polarizes light from the light source by the first polarizer, and irradiates the first polarized light from the light exit port;
The light from the light source is arranged in parallel with the first light irradiation unit on the transport path, and is polarized by a second polarizer having a transmission axis in a direction different from that of the first polarizer. A second light irradiation unit for irradiating two polarized lights;
A first plate member disposed on the light exit side of the light exit of the first light irradiator and defining a first region on the workpiece to be photo-oriented by the first polarized light;
A second plate member disposed on the light exit side of the light exit of the second light irradiator and defining a second region on the workpiece to be photo-oriented by the second polarized light; A light irradiation apparatus comprising:
前記光配向膜の光配向に寄与する波長の偏光光を遮光する光学フィルタにより構成されていることを特徴とする請求項1に記載の光照射装置。 The first plate member and the second plate member are:
The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the light irradiation apparatus includes an optical filter that blocks polarized light having a wavelength that contributes to the photo-alignment of the photo-alignment film.
前記光出射口から出射される偏光光の照射可能領域内における所定の使用位置と、前記照射可能領域から退避した退避位置との間を移動可能であることを特徴とする請求項1または2に記載の光照射装置。 The first plate member and the second plate member are:
3. The apparatus according to claim 1, wherein the movable portion is movable between a predetermined use position in an irradiable area of the polarized light emitted from the light exit and a retracted position retracted from the irradiable area. The light irradiation apparatus of description.
前記複数枚のサブプレート部材は、前記使用位置において、前記サブプレート部材同士の端部をオーバーラップさせて一列に連なるように配置されていることを特徴とする請求項3または4に記載の光照射装置。 Each of the first plate member and the second plate member is constituted by a plurality of sub-plate members,
5. The light according to claim 3, wherein the plurality of sub-plate members are arranged in a row so that end portions of the sub-plate members overlap each other at the use position. Irradiation device.
前記第一のプレート部材の前記一方の側の端部の位置、および前記第二のプレート部材の前記他方の側の端部の位置は、それぞれ前記第一の領域の前記他方の側の端部と前記第二の領域の前記一方の側の端部との間に設定されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の光照射装置。 The first area is set on one side in a direction orthogonal to the conveyance path on the workpiece, and the second area is set on the other side in a direction orthogonal to the conveyance path on the workpiece. And
The position of the end on the one side of the first plate member and the position of the end on the other side of the second plate member are respectively the end on the other side of the first region. The light irradiation device according to claim 1, wherein the light irradiation device is set between the first region and the end portion on the one side of the second region.
前記ワークの搬送路上に設置され、光源からの光を第一の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光を照射する第一の光照射部の前記光出射口の光出射側に、第一のプレート部材を配置して、前記第一の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第一の領域を規定するステップと、
前記搬送路上において前記第一の光照射部に並設され、光源からの光を前記第一の偏光子とは異なる方向の透過軸を有する第二の偏光子によって偏光し、光出射口から第二の偏光光を照射する第二の光照射部の前記光出射口の光出射側に、第二のプレート部材を配置して、前記第二の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第二の領域を規定するステップと、
前記ワークをステージによって前記搬送路に沿って搬送し、前記ワーク上の前記第一の領域に前記第一の偏光光を照射し、前記ワーク上の前記第二の領域に前記第二の偏光光を照射するステップと、を含むことを特徴とする光照射方法。 A light irradiation method for performing photo-alignment by irradiating polarized light to a work on which a photo-alignment film is formed,
The light exit side of the light exit port of the first light irradiating unit that is installed on the conveyance path of the workpiece, polarizes the light from the light source by the first polarizer, and irradiates the first polarized light from the light exit port. Disposing a first plate member to define a first region on the workpiece to be photo-oriented by the first polarized light;
The light from the light source is arranged in parallel with the first light irradiation unit on the transport path, and is polarized by a second polarizer having a transmission axis in a direction different from that of the first polarizer. A second plate member is disposed on the light exit side of the light exit port of the second light irradiating unit that irradiates the second polarized light, on the workpiece to be photo-oriented by the second polarized light Defining a second region;
The work is transported along the transport path by a stage, the first polarized light is irradiated onto the first area on the work, and the second polarized light is applied to the second area on the work. And irradiating with a light irradiation method.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015156117A JP2017032957A (en) | 2015-08-06 | 2015-08-06 | Light irradiation device and light irradiation method |
TW105106336A TW201721259A (en) | 2015-08-06 | 2016-03-02 | Light irradiation device and light irradiation method |
CN201610289141.9A CN106444101A (en) | 2015-08-06 | 2016-05-04 | Light irradiation apparatus and light irradiation method |
CN201620396471.3U CN205620651U (en) | 2015-08-06 | 2016-05-04 | Light irradiation apparatus |
KR1020160059404A KR20170017707A (en) | 2015-08-06 | 2016-05-16 | Light irradiation apparatus and light irradiation method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015156117A JP2017032957A (en) | 2015-08-06 | 2015-08-06 | Light irradiation device and light irradiation method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017032957A true JP2017032957A (en) | 2017-02-09 |
Family
ID=57025670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015156117A Pending JP2017032957A (en) | 2015-08-06 | 2015-08-06 | Light irradiation device and light irradiation method |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017032957A (en) |
KR (1) | KR20170017707A (en) |
CN (2) | CN205620651U (en) |
TW (1) | TW201721259A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017145975A1 (en) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 株式会社ブイ・テクノロジー | Polarized light irradiation device |
DE112018000995B4 (en) | 2017-02-24 | 2021-10-28 | Kyocera Corporation | RADIO COMMUNICATION DEVICE AND CONTROL PROCEDURE THEREOF |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017151405A (en) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 株式会社ブイ・テクノロジー | Polarized light irradiation device |
JP2018017952A (en) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | ウシオ電機株式会社 | Light projection apparatus and light projection method |
CN106773336A (en) * | 2017-01-03 | 2017-05-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of shade, multi-model set product light orientation equipment and its control method |
CN109856862A (en) * | 2017-11-30 | 2019-06-07 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | Dual stage light alignment apparatus and alignment method |
CN110658653B (en) * | 2018-06-29 | 2021-09-03 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | Optical alignment device and method |
CN110262135A (en) * | 2019-06-27 | 2019-09-20 | 成都天马微电子有限公司 | The process for optical alignment and display base plate of a kind of light orientation device, display base plate |
CN111552124B (en) * | 2020-05-26 | 2022-09-23 | 武汉京东方光电科技有限公司 | Optical alignment equipment and method |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5344105B1 (en) | 2013-03-08 | 2013-11-20 | ウシオ電機株式会社 | Polarizing light irradiation apparatus for photo-alignment and polarized light irradiation method for photo-alignment |
-
2015
- 2015-08-06 JP JP2015156117A patent/JP2017032957A/en active Pending
-
2016
- 2016-03-02 TW TW105106336A patent/TW201721259A/en unknown
- 2016-05-04 CN CN201620396471.3U patent/CN205620651U/en not_active Expired - Fee Related
- 2016-05-04 CN CN201610289141.9A patent/CN106444101A/en active Pending
- 2016-05-16 KR KR1020160059404A patent/KR20170017707A/en unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017145975A1 (en) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 株式会社ブイ・テクノロジー | Polarized light irradiation device |
DE112018000995B4 (en) | 2017-02-24 | 2021-10-28 | Kyocera Corporation | RADIO COMMUNICATION DEVICE AND CONTROL PROCEDURE THEREOF |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201721259A (en) | 2017-06-16 |
CN106444101A (en) | 2017-02-22 |
KR20170017707A (en) | 2017-02-15 |
CN205620651U (en) | 2016-10-05 |
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