JP2016101480A - Cosmetic treatment device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、美容処理装置に関する。 Embodiments described herein relate generally to a beauty treatment apparatus.
従来から弾性を有する１枚の薄い板と、この薄い板を振動させる超音波振動子を備える美容装置が知られている。この美容装置では、振動中の薄い板をユーザの肌面に当接させることで、肌面に付着している角質、皮脂または化粧の残りなどを除去することができる（ピーリングトリートメント）。 2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a beauty apparatus that includes an elastic thin sheet and an ultrasonic vibrator that vibrates the thin sheet. In this beauty device, a thin plate that is vibrating is brought into contact with the user's skin surface, so that keratin, sebum, or the rest of makeup attached to the skin surface can be removed (peeling treatment).
このような美容装置において、角質、皮脂または化粧の残りなどを効率よく（処理時間を短くしたり、少ない当接回数で除去したりすること）行いたいという要望がある。 In such a beauty apparatus, there is a demand to efficiently perform keratin, sebum, or the rest of makeup (reducing the processing time or removing it with a small number of contact).
本発明は、係る従来の課題を解決するためになされたものであり、角質、皮脂または化粧の残りなどを効率よく除去することが可能な美容処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the conventional problems, and an object of the present invention is to provide a beauty treatment apparatus capable of efficiently removing keratin, sebum, or the rest of makeup.
本実施形態の美容処理装置は、基部と、ユーザの肌面と接触する先端部をそれぞれ備え導電性を有する第１及び第２の肌接触部材と、前記第１及びまたは第２の肌接触部材を振動させる超音波振動子と、前記第１及び第２の肌接触部材間に電圧を印加する電圧印加部と、前記超音波振動子及びまたは電圧印加部の動作のＯＮまたはＯＦＦを制御する制御部とを具備する。 The beauty treatment apparatus according to the present embodiment includes a first skin contact member and a first skin contact member that are electrically conductive with a base portion and a tip portion that contacts the skin surface of the user, and the first and / or second skin contact member. An ultrasonic transducer that vibrates, a voltage application unit that applies a voltage between the first and second skin contact members, and a control that controls ON or OFF of the operation of the ultrasonic transducer and / or the voltage application unit Part.
以下、図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。
（第１の実施形態）
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(First embodiment)
図１は、第１の実施形態に係る美容処理装置１の斜視図である。図２は、図１の美容処理装置１のＡ―Ａ断面を示す断面図である。図２ではスイッチ群５０の図示を省略している。
図１及び図２に示すように美容処理装置１は、本体１０、肌接触プレート２０及び３０、超音波振動子４０、スイッチ群５０及び制御回路基板６０を備える。
FIG. 1 is a perspective view of a beauty treatment apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the AA cross section of the beauty treatment apparatus 1 of FIG. In FIG. 2, the illustration of the
As shown in FIGS. 1 and 2, the beauty treatment apparatus 1 includes a
美容処理装置１は、肌接触プレート２０及び３０をユーザ（施術者または被施術者）の肌面に当接させることで、肌面に付着している角質、皮脂または化粧の残りなどを除去する肌用のトリートメント装置である。
（本体１０について）
The beauty treatment apparatus 1 makes the
(About main unit 10)
本体１０は、表面部１０ａ、この表面部１０ａの裏側の裏面部１０ｂ及び表面部１０ａと裏面部１０ｂを接続する側面部１０ｃを備える。
本体１０は、ユーザが片手で持つことができる程度の大きさに形成される。本体１０は、断面が略楕円形状となるように、プラスチック材料を成形して作られる。
The
The
本体１０は、中空の筒体である。本体１０は、肌接触プレート２０及び３０、超音波振動子４０、スイッチ群５０及び制御回路基板６０を収容する。本体１０は、それぞれ図示を省略した電池（充電式バッテリーまたは乾電池）や商用電源から電力を得るための電源コード接続部などを備える。
本体１０は、例えば風呂場で使用できるようにゴム部材や防水型の接着剤などを用いて隙間が塞がれる。
（肌接触プレート２０及び３０の構成について）
The
The
(About the structure of the
肌接触プレート２０及び３０は互いに対応する形状及び機能を有する。したがって、ここでは肌接触プレート２０について詳細に説明し、肌接触プレート３０の詳細な説明は省略する。
肌接触プレート２０は、プレート部２１及びシール部２２を備える。
肌接触プレート２０は、シール部２２及び支持部材（図示せず）によって本体１０内に保持される
The
The
プレート部２１は、基部２１ａ及び先端部２１ｂを有する。
プレート部２１は、超音波振動子４０によって振動が与えられて振動する。プレート部２１は、ユーザの肌に電流を流すための電極としても機能する。
プレート部２１は、薄い板状（薄い直方体状）に形成されたステンレスやアルミなどの金属である。
The
The
The
プレート部２１は、導電性及び所定の弾性を有する。プレート部２１が０.４［ｍｍ]〜０.８［ｍｍ]程度の厚みを有する場合、プレート部２１の剛性と振動の強さとをバランスさせることができる。プレート部２１の厚みが薄すぎると振動しやすいが剛性が不足する。プレート部２１の厚みが厚すぎると、高い剛性が得られるが、角質、皮脂または化粧の残りなどを除去するのに充分な撓み（振幅）や振動の強さが得られない。
The
基部２１ａは、本体１０内に配設される。基部２１ａは、制御回路基板６０に図示を省略した導線により電気的に接続される。
先端部２１ｂは、本体１０から露出する。
先端部２１ｂは、ユーザの肌に接触する。先端部２１ｂの先端側の縁部には、ユーザの肌に最も接触しやすい肌当接面（第１の面）２１ｃが形成される。肌当接面２１ｃは、肌接触プレート２０の短手方向の側面である。
The
The
The
肌当接面２１ｃは、一部が、基部２１ａに向かって弓なりに凹んでいる。肌当接面２１ｃを弓なりに凹ませることによって肌当接面２１ｃとユーザの肌との接触面積を増やすことができる。
シール部２２は、接合部２２ａ及びシール部材２２ｂを有している。シール部２２は、例えばインサート成形によってプレート部２１と一体的に形成される。
シール部２２は、基部２１ａと先端部２１ｂの境界部における基部２１ａ側に位置する。シール部２２は、本体１０内に水分が侵入するのを防止する。
Part of the
The
The
接合部２２ａは、例えばプラスチックで形成される。接合部２２ａは、シール部材２２ｂがプレート部２１から取れてしまうことを防止する。例えば、シール部材２２ｂをプレート部２１に直接的に接合する場合、シール部材２２ｂの構成材料（例えばゴム）によっては接合強度が充分に得られずシール部材２２ｂがプレート部２１から取れてしまうことがある。接合部２２ａによってこのようなことを防止することができる。
接合部２２ａは、プレート部２１とシール部材２２ｂの間に介在する。接合部２２ａは、プレート部２１の一部の表面を覆う。
The joining
The joining
シール部材２２ｂは、弾性を有する。上記したようにシール部材２２ｂは、例えばゴムである。シール部材２２ｂは、接合部２２ａの一部の表面を覆う。
シール部材２２ｂは、本体１０の内壁面１０ｄ（図２参照）と接触する。シール部材２２ｂは、接合部２２ａと本体１０の間でわずかに潰れる。このとき、シール部材２２ｂの復元力によって、肌接触プレート２０と本体１０の間にできる隙間ｃを埋めることができる。
The
The
シール部材２２ｂは、先端部２１ｂの振動の支点として機能する。シール部材２２ｂの弾性によって、本体１０に伝わる超音波振動子４０の振動を低減することができる。この結果、本体１０に振動が伝わることによる先端部２１ｂの振動の弱化を防止することができる。
以上が、肌接触プレート２０の説明である。
The
The above is the description of the
肌接触プレート３０は、プレート部２１及びシール部２２にそれぞれ対応するプレート部３１及びシール部３２を備える。
プレート部３１は、基部２１ａ及び先端部２１ｂにそれぞれ対応する基部３１ａ及び先端部３１ｂを有する。先端部３１ｂの先端側の縁部には、肌当接面２１ｃに対応する肌当接面３１ｃ（第２の面）が形成される。
シール部３２は、接合部２２ａ及びシール部材２２ｂにそれぞれ対応する接合部３２ａ及びシール部材３２ｂを有する。
（肌接触プレート２０及び３０の配置の説明）
The
The
The
(Description of arrangement of
以上のような構成を有する肌接触プレート２０及び３０は、本体１０の表面部１０ａから裏面部１０ｂに向かう方向に順に配置される。肌接触プレート２０及び３０は互いに所定の距離（例えば、１[ｍｍ]〜１[ｃｍ]程度）を空けて配置される。肌接触プレート２０及び３０は、互いに並行して配置される。肌接触プレート２０及び３０は、肌当接面２１ｃ及び３１ｃの位置がほぼ揃っている（図１の仮想的な線Ｌ１参照）。
（超音波振動子４０について）
(About the ultrasonic transducer 40)
超音波振動子４０は、平坦面４０ａとこの平坦面４０ａの反対側の平坦面４０ｂを有している。超音波振動子４０は、直方体状または円柱状に形成される。超音波振動子４０は、圧電部材である。
超音波振動子４０は、例えば絶縁性を有する接着剤によって、肌接触プレート２０及び３０の基部２１ａ及び３１ａにそれぞれ取り付けられる。詳細には、平坦面４０ａが、肌接触プレート２０の基部２１ａに取り付けられ、平坦面４０ｂが、肌接触プレート３０の基部３１ａに取り付けられる。
The
The
超音波振動子４０は、制御回路基板６０から電圧が印加された場合に機械的に変位する（逆圧電効果）。超音波振動子４０の厚み方向の機械的な変位と同期して、超音波振動子４０に取り付けられた肌接触プレート２０及び３０が厚み方向に引かれたり押されたりする。この結果、超音波振動子４０の振動に追従して肌接触プレート２０及び３０がそれぞれの厚み方向に振動する。
（スイッチ群５０について）
The
(About switch group 50)
スイッチ群５０は、本体１０の表面部１０ａに設けられている。スイッチ群５０は、ユーザが美容処理装置１を操作するためのインターフェース部である。スイッチ群５０は、例えば、表面部１０ａ配設された押し込み式のスイッチであったり、表面部１０ａに設けられた液晶ディスプレイに表示され、制御回路基板６０よってスイッチとして制御される画像であったりする。
（制御回路基板６０について）
The
(Regarding the control circuit board 60)
次に図３を用いて制御回路基板６０について説明する。図３は、制御回路基板６０の機能を示すブロック図である。
図３に示すように、制御回路基板６０は、第１発振部６１、第２発振部６２、計時部６３、電源部６４、メモリ部６５及び入力受付部６６、これらを制御する制御部６７を有する。第１発振部６１、第２発振部６２、計時部６３、電源部６４、メモリ部６５、入力受付部６６及び制御部６７は、制御回路基板６０に設けられた種々の電子回路によって実現される。
Next, the
As shown in FIG. 3, the
第１発振部６１は、肌接触プレート２０及び３０間に電圧を印加するための１、０００［Ｈｚ］以下の正弦波状の電圧信号を生成する。第１発振部６１は、生成した電圧信号を電源部６４に出力する。第１発振部６１は、スパイク状（インパルス状）の電圧信号、または、パルス状（矩形波状）の電圧信号を生成することもできる。
The first
第２発振部６２は、例えば、超音波振動子４０を振動させるための２０［ｋＨｚ]〜１２０［ｋＨｚ］の電圧信号を生成する。第２発振部６２は、生成した電圧信号を電源部６４に出力する。第２発振部６２は、スパイク状（インパルス状）の電圧信号、または、パルス状（矩形波状）の電圧信号を生成することもできる。
For example, the second oscillating
計時部６３は所定の時間Ｔ１〜Ｔ４をそれぞれ計時する。時間Ｔ１〜Ｔ４のそれぞれの時間的な長さは特に限定されないが、それぞれ０〜９００秒の範囲であることが望ましい。時間Ｔ１〜Ｔ４は、予め設定された秒数でもよいし、ユーザが任意に設定した秒数でもよい。
The
時間Ｔ１は、電源部６４が、電圧を肌接触プレート２０及び３０間に印加し続ける時間である。Ｔ２は、電源部６４が、肌接触プレート２０及び３０間への電圧の印加を行わない時間である。
時間Ｔ３は、電源部６４が、超音波振動子４０に電圧を印加し続ける時間である。Ｔ４は、電源部６４が、超音波振動子４０への電圧の印加を行わない時間である。
Time T <b> 1 is a time during which the
Time T3 is a time during which the
計時部６３は、時間Ｔ１〜Ｔ４を計時したことを示す計時信号を制御部６７に出力する。例えば、計時部６３は、０秒〜時間Ｔ１までを計時すると、時間Ｔ１を計時したことを示す計時信号を制御部６７に出力して、計時時間を０秒にリセットする。そして、計時部６３は、制御部６７によって再度時間Ｔ１を計時するように制御されるまで、時間Ｔ１の計時を中断する。時間Ｔ２〜Ｔ４についても同様である。
The
電源部６４（電圧印加部）は、入力受付部６６、第２発振部６２、第１発振部６１、計時部６３、電源部６４、メモリ部６５及び制御部６７などに対して商用電源や電池から得られる電力を供給する。
電源部６４は、計時部６３が、時間Ｔ１を計時している間は、第１発振部６１が出力した電圧信号に対応する周波数及び所定のパワー（振幅）の電圧を肌接触プレート２０及び３０間に印加し続ける。
The power supply unit 64 (voltage application unit) is a commercial power supply or battery for the
While the
電源部６４は、第１発振部６１が出力したスパイク状またはパルス状の電圧信号に対応する電圧を肌接触プレート２０及び３０間へ印加する場合もある。この場合、電源部６４は、計時部６３が時間Ｔ１を計時している間は、肌接触プレート２０及び３０間にスパイク状またはパルス状の電圧を間欠的に印加し続ける。
電源部６４は、計時部６３が時間Ｔ２を計時している間は、肌接触プレート２０及び３０間への電圧の印加を停止する。
The
The
電源部６４は、計時部６３が時間Ｔ３を計時している間は、第２発振部６２が出力した電圧信号に対応する周波数及び所定のパワーの電圧を超音波振動子４０に印加し続ける。
電源部６４は、第２発振部６２が出力したスパイク状またはパルス状の電圧信号に対応する電圧を超音波振動子４０へ印加する場合もある。この場合、電源部６４は、計時部６３が時間Ｔ３を計時している間は、超音波振動子４０にスパイク状またはパルス状の電圧を間欠的に印加し続ける。
電源部６４は、計時部６３が時間Ｔ４を計時している間は、超音波振動子４０への電圧の印加を停止する。
The
The
The
メモリ部６５には、肌接触プレート２０及び３０間、超音波振動子４０に印加される電圧のパワーをそれぞれ示す値（例えば、電圧のピーク値）、電圧信号のパルス幅、時間Ｔ１〜Ｔ４を示す値などを予め保持させておくことができる。メモリ部６５はユーザが任意に設定した時間Ｔ１〜Ｔ４を保持することもできる。
The
入力受付部６６は、ユーザによるスイッチ群５０の操作を検知する。入力受付部６６は、検知した操作に対応する信号（検知信号）を制御部６７に出力する。検知信号は、例えば、メインスイッチのＯＮまたはＯＦＦを示す信号、時間Ｔ１〜Ｔ４を任意の時間に設定する信号、または、肌接触プレート２０及び３０間に印加される電圧の周波数やパワーを可変させる信号である。
The
制御部６７は、例えば、計時部６３から時間Ｔ１を計時したことを示す計時信号を受信すると、計時部６３を制御して時間Ｔ２を計時させる。制御部６７は、例えば、計時部６３から時間Ｔ２を計時したことを示す計時信号を受信すると、計時部６３を制御して再度時間Ｔ１を計時させる。時間Ｔ３及びＴ４についても同様である。
（美容処理装置１の動作について）
For example, when receiving a time signal indicating that the time T1 has been measured from the
(About the operation of the beauty treatment apparatus 1)
次に図４を用いて、美容処理装置１の動作について説明する。図４は、美容処理装置１の動作を示すフローチャートである。
（１）電源ＯＮ（ステップＳ１０１）
入力受付部６６が、ユーザによるスイッチ群５０の操作を検知したことに対応して、検知信号を制御部６７に出力する。ここでは、一例として、ユーザがメイン電源のＯＮ操作を行ったものとする。
Next, the operation of the beauty treatment apparatus 1 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the beauty processing apparatus 1.
(1) Power ON (Step S101)
The
（２）各部の制御（ステップＳ１０２〜Ｓ１０５）
制御部６７は、メモリ部６５が予め保持する時間Ｔ１〜Ｔ４、第１発振部６１及び第２発振部６２が生成する電圧信号の周波数、肌接触プレート２０及び３０間及びまたは超音波振動子４０に印加する電圧のパワーを示す値をそれぞれ読み出す（ステップＳ１０２）。
制御部６７は、読み出した値に対応させて、電圧信号を生成するように第１発振部６１及びまたは第２発振部６２をそれぞれ制御する。
第１発振部６１及び第２発振部６２は生成した電圧信号を電源部６４にそれぞれ出力する。
制御部６７は、計時部６３を制御して時間Ｔ１〜Ｔ４をそれぞれ所定のタイミングで計時させる（ステップＳ１０３）。
(2) Control of each part (steps S102 to S105)
The
The
The first
The
制御部６７は、第１発振部６１が出力した電圧信号に対応し、かつメモリ部６５から読み出した電圧のパワーを示す値に対応する電圧を肌接触プレート２０及び３０間に印加するように電源部６４を制御する（ステップＳ１０４）。
制御部６７は、計時部６３がそれぞれ計時した時間Ｔ１及びＴ２に基づいて、電源部６４を制御して、肌接触プレート２０及び３０間への電圧の印加をＯＮまたはＯＦＦする。
The
The
同様に、制御部６７は、第２発振部６１が出力した電圧信号に対応し、かつメモリ部６５から読み出した電圧のパワーを示す値に対応する電圧を超音波振動子４０に印加するように電源部６４を制御する。この結果、電圧を印加された超音波振動子４０が振動し、かつ超音波振動子４０に追従して肌接触プレート２０及び３０が振動する（Ｓ１０５）。
制御部６７は、計時部６３がそれぞれ計時した時間Ｔ３及びＴ４に基づいて、電源部６４を制御して、超音波振動子４０の振動をＯＮまたはＯＦＦする。
Similarly, the
The
（３）電源のＯＦＦ制御（ステップＳ１０６）
ユーザによるスイッチ群５０の操作（例えば、電源のＯＦＦ操作）を検知したことに対応して、入力受付部６６が、検知信号を制御部６７に出力する。この結果、制御部６７は、電源部６４から各部への電源供給を遮断するように電源部６４を制御する。この結果、美容処理装置１の電源がＯＦＦとなる（ステップＳ１０６のＹｅｓ）。
制御部６７は、この電源ＯＦＦの動作（ステップＳ１０６のＹｅｓ）を美容処理装置１の電源がＯＮ（ステップＳ１０１）されてから所定の時間が経過した後に自動的に行うこともできる。
（使用方法及び効果）
(3) Power OFF control (step S106)
The
The
(Usage method and effect)
ユーザは、美容処理装置１を持ち、肌接触プレート２０及び３０の肌当接面２１ｃ及び３１ｃを美容処理対象の肌面に当接させる。このとき、肌当接面２１ｃ及び３１ｃの凹部に肌が入り込むように美容処理装置１を肌面に当接させることが望ましい。
ユーザが美容処理装置１を肌面上で移動させると、超音波域の周波数で振動する肌接触プレート２０及び３０によって肌面が擦られて、肌面に付着している角質、皮脂または化粧の残りなどを除去することができる。
The user holds the beauty treatment apparatus 1 and brings the skin contact surfaces 21c and 31c of the
When the user moves the beauty treatment apparatus 1 on the skin surface, the skin surface is rubbed by the
このとき、美容処理装置１によれば、まず肌接触プレート２０によって、角質、皮脂または化粧の残りなどを除去することができる（第１の除去）。さらに美容処理装置１によれば、肌接触プレート２０では除去できなかった角質、皮脂または化粧の残りなどを肌接触プレート３０によって除去することができる（第２の除去）。したがって、美容処理装置１の肌面上の移動の回数が少なくても角質、皮脂または化粧の残りなどを短い時間で充分に除去することができる。
At this time, according to the beauty treatment apparatus 1, the
さらに、美容処理装置１によれば、電圧を印加された肌接触プレート２０及び３０を電極として、ＥＭＳ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ Ｍｕｓｃｌｅ Ｓｔｉｍｕｌａｔｉｏｎ：電気的筋肉刺激）のための電流を肌に流すことができる。
ＥＭＳは、電流を神経組織や筋組織に流すことにより、筋肉を強制的に収縮運動させることである。強制的に筋肉を収縮運動させることで、筋肉のこりがほぐれたり、肌が熱を帯びたりする。このことによって毛穴が開きやすくなる。この結果、毛穴に詰まっている角質、皮脂または化粧の残りが除去されやすくなる。
Furthermore, according to the beauty treatment apparatus 1, an electric current for EMS (Electrical Muscle Stimulation) can be passed through the skin using the
EMS is to force muscles to contract by passing an electric current through nerve tissue or muscle tissue. By forcing the muscles to contract, the muscle stiffness is loosened and the skin is heated. This facilitates opening of pores. As a result, the keratin, sebum or makeup residue clogged in the pores can be easily removed.
また、美容処理装置１では、肌接触プレート２０及び３０を直接的に接触させ難い部位（例えば、鼻周辺の凹凸の多い場所）であっても、この部位周辺に肌接触プレート２０及び３０が当接すれば、この部位にＥＭＳのための電流を流すことができる。
Further, in the beauty treatment apparatus 1, even if the
この結果、肌接触プレート２０及び３０による肌面の角質、皮脂または化粧の残りの直接的な除去が難しい部位であってもＥＭＳによって毛穴を開かせることができる。したがって、肌接触プレート２０及び３０を直接的に接触させ難い部位であっても、毛穴に詰まっている角質、皮脂または化粧の残りが除去されやすくなる。
As a result, pores can be opened by EMS even if the
さらに、美容処理装置１によれば、ＥＭＳによって筋繊維を刺激することができるので、筋繊維を鍛えて新陳代謝を上げることができる。この結果、角質、皮脂を排出しやすくなったり、ユーザの肌に張りが出たりする効果を期待することができる。 Furthermore, according to the beauty treatment apparatus 1, muscle fibers can be stimulated by EMS, so that muscle fibers can be trained to increase metabolism. As a result, it is possible to expect an effect that it becomes easy to discharge keratin and sebum and that the user's skin is stretched.
以上を要するに、美容処理装置１によれば、上記した第１及び第２の除去と、ＥＭＳによって、皮脂または化粧の残りなどを充分に除去しつつ、角質、皮脂または化粧の除去効果を高めることができる。ここで除去効果とは、処理にかかる時間の短縮と、角質、皮脂または化粧の除去量の向上を指す。
［第２の実施形態］
In short, according to the beauty treatment apparatus 1, the above-described first and second removal and EMS sufficiently remove the sebum or the rest of makeup, and enhance the removal effect of the keratin, sebum or makeup. Can do. Here, the removal effect refers to shortening the time required for treatment and improving the removal amount of keratin, sebum or makeup.
[Second Embodiment]
次に、図５及び図６を用いて第２の実施形態の美容処理装置１００について説明する。図５は、第２の実施形態に係る美容処理装置１００の断面図である。図５では、図２と同様にスイッチ群５０の図示を省略している。図６は、第２の実施形態に係る制御回路基板１６０の機能を示すブロック図である。
図５及び図６において、図１〜図４に示した第１の実施形態の構成要素と同一の構成要素については、同一の符号を付与し、詳細な説明を省略する。
Next, the
5 and 6, the same components as those of the first embodiment illustrated in FIGS. 1 to 4 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
図５及び図６に示すように美容処理装置１００は、本体１０、肌接触プレート２０、３０及び１２０、スイッチ群５０、超音波振動子１４０、１４１及び１４２、及び、制御回路基板１６０を備える。
美容処理装置１００は、第１の実施形態の美容処理装置１が、さらに肌接触プレート１２０を備えた実施形態である。美容処理装置１００では、ユーザがスイッチ群５０を操作して、肌接触プレート２０、３０及び１２０の中から、電圧が印加される一対の電極を選択することができる。
As shown in FIGS. 5 and 6, the
The
（肌接触プレート１２０の構成について）
肌接触プレート１２０は、肌接触プレート２０及び３０と対応する形状及び機能を有する。肌接触プレート１２０は、プレート部２１及びシール部２２にそれぞれ対応するプレート部１２１及びシール部１２２を備える。肌接触プレート１２０は、シール部１２２及び支持部材（図示せず）によって本体１０内に保持される。
プレート部１２１は、基部２１ａ及び先端部２１ｂにそれぞれ対応する基部１２１ａ及び先端部１２１ｂを有する。プレート部１２１は、超音波振動子１４２によって振動が与えられて振動する。
(About the structure of the skin contact plate 120)
The
先端部１２１ｂの先端側の縁部には、肌当接面２１ｃに対応する肌当接面１２１ｃが形成される。肌当接面１２１ｃは、肌接触プレート１２０の短手方向の側面である。
シール部１２２は、接合部２２ａ及びシール部材２２ｂにそれぞれ対応する接合部１２２ａ及びシール部材１２２ｂを有する。
（肌接触プレート２０、３０及び１２０の配置の説明）
A
The
(Description of arrangement of
以上のような構成を有する肌接触プレート２０、３０及び１２０は、本体１０の表面部１０ａから裏面部１０ｂに向かう方向にそれぞれ順に配置される。肌接触プレート２０、３０及び１２０は互いに所定の距離（例えば１[ｍｍ]〜１[ｃｍ]程度）を空けて配置される。
肌接触プレート２０、３０及び１２０は、それぞれ並行する。肌接触プレート２０、３０及び１２０は、肌当接面２１ｃ、３１ｃ及び１２１ｃの位置がほぼ揃っている（図５の仮想的な線Ｌ２参照）。
（超音波振動子１４０〜１４２について）
The
(About
超音波振動子１４０は、例えば接着剤によって肌接触プレート２０の基部２１ａに取り付けられる。同様に超音波振動子１４２及び１４３は、例えば接着剤によって肌接触プレート３０の基部３１ａ及び肌接触プレート１２０の基部１２１ａにそれぞれ取り付けられる。
超音波振動子１４０〜１４２は、制御回路基板１６０から電圧を印加されてそれぞれ独立して振動する。
The
The
次に図６を用いて制御回路基板１６０について説明する。図６は、制御回路基板１６０の機能を示すブロック図である。
図６に示すように、制御回路基板１６０は、第１発振部６１、計時部６３、メモリ部６５、入力受付部６６、選択部１６１、第２発振部１６２、電源部１６４及びこれらを制御する制御部１６７を有する。
Next, the
As shown in FIG. 6, the
選択部１６１は、肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一対の電極を電源部１６４に接続する。選択部１６１は、例えばトランジスタを用いたスイッチング回路によって実現できる。
第２発振部１６２は、第２発振部６２と対応する機能を有する。第２発振部１６２は、肌接触プレート２０、３０及び１２０をそれぞれ振動させるための４０［ｋＨｚ]〜１２０［ｋＨｚ］の電圧信号をそれぞれ生成する。
The
The
第２発振部１６２は、肌接触プレート２０、３０及び１２０毎に、それぞれ異なった周波数の電圧信号を生成できる。
第２発振部１６２は、生成した電圧信号を電源部１６４に出力する。
The
The
電源部１６４は、電源部６４と対応する機能を有する。電源部１６４は、第１発振部６１が出力した電圧信号に対応する電圧を選択部１６１が選択した一対の電極間に印加する。
The
電源部１６４は、第２発振部１６２が出力した肌接触プレート２０、３０及び１２０をそれぞれ振動させるための電圧信号に対応する周波数及び所定のパワーの電圧を超音波振動子１４０、１４１及び１４２にそれぞれ印加する。この結果、肌接触プレート２０、３０及び１２０が、それぞれ同じ周波数またはそれぞれ異なった周波数で振動する。
The
入力受付部６６は、ユーザによる肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一対の電極の選択操作をスイッチ群５０を介して検知する。入力受付部６６は、肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一対の電極の選択操作を示す検知信号（選択検知信号）を制御部１６７に送信する。
The
選択検知信号は、例えば、肌接触プレート２０及び３０を一対とするための選択を示す信号であったり、肌接触プレート２０及び１２０を一対とするための選択を示す信号であったり、肌接触プレート３０及び１２０を一対とするための選択を示す信号であったりする。
The selection detection signal is, for example, a signal indicating selection for pairing the
スイッチ群５０が、例えば、ロータリースイッチを有することで、肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一対の電極をユーザは容易に選択することができる。
スイッチ群５０が、押しボタン式のスイッチを有することで、ユーザが押しボタン式のスイッチを押すたびに、選択部１６１が、電源部１６４に接続する肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一対の電極の組み合わせを切り替えるようにしてもよい。
Since the
Since the
制御部１６７は、入力受付部６６が送信した選択検知信号を受信する。制御部１６７は、選択検知信号を受信すると、選択部１６１を制御して、肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一対の電極を電源部１６４に接続させる。この結果として、肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一対の電極に電圧を印加することができる。
（効果）
The
(effect)
第２の実施形態の美容処理装置１００では、肌接触プレート２０によって肌の角質、皮脂または化粧残りを除去し（第１の除去）、続いて、肌接触プレート３０によって肌接触プレート２０が除去しきれなかった角質、皮脂または化粧残りを除去し（第２の除去）、さらに肌接触プレート１２０によって肌接触プレート３０が除去しきれなかった角質、皮脂または化粧残りを除去することができる（第３の除去）。
In the
ユーザが、美容処理装置１００を用いて、例えば、腕や足など凹凸が少ない部位の角質または皮脂を除去したいと思う場合がある。この場合は、配置距離が最も離れた肌接触プレート２０及び１２０間に電圧を印加することが望ましい。肌接触プレート２０及び３０間に電圧を印加した場合に比べて、肌の広範囲にＥＭＳの効果を与えることができるからである。
In some cases, the user wants to remove keratin or sebum in a region with less unevenness, such as an arm or a foot, using the
ユーザが、美容処理装置１００を用いて、例えば、顔のように凹凸が多い部位の角質、皮脂または化粧残りを除去したいと思う場合がある。この場合は、隣接する肌接触プレート２０及び３０、または、隣接する肌接触プレート３０及び１２０間に電圧を印加することが望ましい。このような部位では、配置距離が最も離れた肌接触プレート２０及び１２０を同時に肌面に接触させることが困難な場合があるからである。
In some cases, the user wants to remove keratin, sebum, or makeup residue at a site with many irregularities such as a face, using the
凹凸が多い部位では、隣接する肌接触プレート２０及び３０が肌面に同時に接触しているとき肌接触プレート１２０が浮いた状態となることがある。同様に、凹凸が多い部位では、隣接する肌接触プレート３０及び１２０が肌面に同時に接触しているとき、肌接触プレート２０が浮いた状態となる場合もある。
同様に、凹凸が多い部位では、肌接触プレート２０及び１２０の間に位置する肌接触プレート３０は、肌面に確実に接触しているが、肌接触プレート２０及びまたは１２０は、肌面とわずかに接触するだけの場合もある。
In a part with many unevenness | corrugations, when the adjacent
Similarly, the
肌接触プレート２０及び１２０間に電圧を印加した場合に、肌接触プレート２０及び１２０のどちらか一方が、肌面と全く接触しない場合は、肌に電流が流れないので、ＥＭＳによる角質、皮脂または化粧残りの除去のための効果を得ることができない。
肌接触プレート３０は、肌面に確実に接触しているが、肌接触プレート２０及びまたは１２０が、肌面とわずかに接触する場合は、肌面に電流を流すことができるが、肌接触プレート２０及びまたは１２０と肌との接触面積が少ないために、肌面に電流が流れる際にユーザが痛みを感じることがある。
When a voltage is applied between the
Although the
美容処理装置１００では、肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一対の電極の組み合わせを選択部１６１によって選択できるので、隣接する肌接触プレート２０及び３０間、または、肌接触プレート３０及び１２０間に電圧を印加することによって、顔のように凹凸が多い部位にも電流を確実に流すことや、肌面に電流が流れる際にユーザが痛みを感じることを低減することができる。
In the
以上を要するに、美容処理装置１００では、選択部１６１を有することによって、肌の角質、皮脂または化粧残りを除去したい部位に応じて、肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一対の電極をユーザが適宜選択することができる。
さらに美容処理装置１００では、肌接触プレート２０、３０及び１２０が、それぞれ異なる周波数で振動することによって、肌面に異なる周波数の振動を与えることができる。この結果、肌面において異なる周波数の振動が合成されて、肌面が複雑に振動する。この場合、単一の周波数で肌面を振動させた場合よりも肌面に付着している角質、皮脂または化粧の残りなどが除去されやすくなる。
In short, the
Furthermore, in the
美容処理装置１００では、肌接触プレート２０、３０及び１２０を、それぞれ同じ周波数で振動させることもできる。この場合、肌接触プレート２０及び３０（または肌接触プレート３０及び１２０）は、互いに反対方向に振動することが望ましい（図５の矢印Ａ１〜Ａ３またはＢ１〜Ｂ３参照）。
図５に示す矢印Ｂ１及びＢ２（または、Ａ２及びＡ３）のように、肌接触プレート２０及び３０（または肌接触プレート３０及び１２０）が互いに反対方向に振動することによって、肌接触プレート２０及び３０（または肌接触プレート３０及び１２０）によって使用者の肌（皮膚）を挟み込むことができる。この結果、毛穴に詰まった角質、皮脂または化粧の残りなどを毛穴から押し出すことができる。すなわち、角質、皮脂または化粧の残りなどの除去効果を高めることができる。
［第１の変形例]
In the
As shown by arrows B1 and B2 (or A2 and A3) shown in FIG. 5, the
[First Modification]
次に、図７及び図８を用いて本発明の第１の変形例である美容処理装置１００ａについて説明する。図７は、第１の変形例に係る美容処理装置１００ａの断面図である。図７では、図５と同様にスイッチ群５０の図示を省略している。図８は、美容処理装置１００と美容処理装置１００ａの差異を説明する概念図である。
図７及び図８において、図１〜図６に示した第１及び第２の実施形態の構成要素と同一の構成要素については、同一の符号を付与し、詳細な説明を省略する。
Next, a
7 and 8, the same components as those of the first and second embodiments shown in FIGS. 1 to 6 are given the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
美容処理装置１００ａは、図５及び図６に示した美容処理装置１００の変形例である。図７に示すように、美容処理装置１００ａは、先端部２１ｂ、３１ｂ及び１２１ｂの長手方向の長さがそれぞれ異なった肌接触プレート２０、３０及び１２０を備える。
先端部２１ｂが一番長く、先端部１２１ｂが一番短く形成されている。このことにより、美容処理装置１００ａでは、肌接触プレート２０、３０及び１２０の長手方向における肌当接面２１ｃ、３１ｃ及び１２１ｃの位置がそれぞれ異なっている。
The
The
肌当接面２１ｃ、３１ｃ及び１２１ｃは、それぞれ仮想線Ｌ３上に位置する。
先端部２１ｂ、３１ｂ及び１２１ｂの長手方向に対する仮想線Ｌ３の角度θは、０°＜θ＜９０°の範囲内であれば特に限定されない。仮想線Ｌ３の角度θは、４５°≦θ＜９０°の範囲内であることが望ましい。
Skin contact surfaces 21c, 31c, and 121c are located on virtual line L3.
The angle θ of the virtual line L3 with respect to the longitudinal direction of the
角度θが９０°の場合は、図５に示す第２の実施形態の美容処理装置１００での肌当接面２１ｃ、３１ｃ及び１２１ｃの位置となる。先端部２１ｂを一番短く、先端部１２１ｂを一番長く形成した場合は、仮想線Ｌ３の角度θは、９０°＜θ＜１８０°となる。なお、先端部３１ｂを一番長く形成したり、先端部２１ｂ、３１ｂ及び１２１ｂの長さをそれぞれランダムに異ならせてもよい。
When the angle θ is 90 °, the positions of the
図８は、美容処理装置１００及び美容処理装置１００ａをそれぞれユーザの頬の同一箇所に当接させた場面を示している。図８では、美容処理装置１００は波線で示されている。
図８に示すように、美容処理装置１００ａでは、肌接触プレート２０、３０及び１２０のそれぞれの先端部２１ｂ、３１ｂ及び１２１ｂの長手方向の長さが異なっていることにより、美容処理装置１００に比べて、美容処理装置１００ａを肌面（図８中の符号Ｓ参照）に対して、ユーザの足元方向に寝かせた状態で使用することができる。
FIG. 8 shows a scene in which the
As shown in FIG. 8, the
この結果、美容処理装置１００ａを肌面上で移動させた場合に、肌当接面２１ｃ、３１ｃ及び１２１ｃが、角質、皮脂または化粧の残りなど鋭角に刈り取るように肌面を擦るので、角質、皮脂または化粧の残りなどの除去効果を高めることができる。
［第２の変形例]
As a result, when the
[Second Modification]
次に、図９を用いて本発明の第２の変形例である美容処理装置１００ｂについて説明する。図９は、第２の変形例に係る美容処理装置１００ｂの断面図である。図９では、図５と同様にスイッチ群５０の図示を省略している。
図９において、図１〜図８に示した第１及び第２の実施形態及び第１の変形例の構成要素と同一の構成要素については、同一の符号を付与し、詳細な説明を省略する。
Next, a
In FIG. 9, the same components as those of the first and second embodiments and the first modification shown in FIGS. 1 to 8 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. .
美容処理装置１００ｂは、図７及び図８に示した美容処理装置１００ａの変形例である。
図９に示すように、美容処理装置１００ｂは、肌接触面２１ｄ、３１ｄ及び１２１ｄがそれぞれ形成された肌接触プレート２０、３０及び１２０を備える。
肌接触面２１ｄは、肌当接面２１ｃを含む肌接触プレート２０の先端側を肌接触プレート２０の長手方向に対して所定の角度（例えば、１０°〜４５°）を持つように折り曲げることで形成される。同様に、肌接触面３１ｄ及び１２１ｄは、肌当接面３１ｃ及び１２１ｃをそれぞれ含む肌接触プレート３０及び１２０の先端側を肌接触プレート３０及び１２０の長手方向に対して所定の角度を持つようにそれぞれ折り曲げることで形成される。
The
As shown in FIG. 9, the
The
肌接触面２１ｄ、３１ｄ及び１２１ｄは、角質、皮脂または化粧の残りなどを除去する際にユーザの肌と接触する。肌接触面２１ｄ、３１ｄ及び１２１ｄは、それぞれ仮想線Ｌ４に沿って、一直線上に並ぶ。このことによって、肌接触面２１ｄ、３１ｄまたは１２１ｄをそれぞれ肌に接触させやすくなる。
美容処理装置１００ｂが、肌接触面２１ｄ、３１ｄ及び１２１ｄを有することによって、肌接触プレート２０と肌との接触面積を広くすることができる。この結果、肌に電流が流れる際にユーザが痛みを感じることを防止することができる。
［第３の実施形態］
The
Since the
[Third Embodiment]
次に、図１０を用いて第３の実施形態の美容処理装置２００について説明する。図１０は、第３の実施形態に係る美容処理装置２００を示す斜視図である。図１０において、図１〜図９に示した第１及び第２の実施形態、及び、第１及び第２の変形例の構成要素と同一の構成要素については、同一の符号を付与し、詳細な説明を省略する。
Next, a
図１０に示すように美容処理装置２００は、本体１０、肌接触プレート２０、超音波振動子４０、スイッチ群５０、制御回路基板６０及び肌接触ローラ部２１０を備える。
美容処理装置２００は、図１に示した肌接触プレート３０の代わりに肌接触ローラ部２１０を備える。
美容処理装置２００では、肌接触プレート２０及び肌接触ローラ部２１０間に電圧が印加される。美容処理装置２００では、超音波振動子４０は、肌接触プレート２０を振動させ、肌接触ローラ部２１０を振動させない。
As shown in FIG. 10, the
The
In the
肌接触ローラ部２１０は、本体部２２１及びシール部２２２を備える。
本体部２２１は、基部２２１ａ、一対の腕部２２１ｂ及びローラ部２２１ｃを有する。
本体部２２１は、ステンレスやアルミなどの金属により構成される。したがって、本体部２２１は、導電性を有する。
The skin
The
The
基部２２１ａは、本体１０内に配設される。基部２２１ａは、制御回路基板６０に図示を省略した導線により電気的に接続される。
一対の腕部２２１ｂは、本体１０から露出する。一対の腕部２２１ｂは、互いに並行して配置された棒状の部材である。一対の腕部２２１ｂは、ローラ部２２１ｃを回転可能に軸支する。
The
The pair of
ローラ部２２１ｃは、円柱形状を有する。ローラ部２２１ｃは、ユーザの肌面上を転動する。このとき、ローラ部２２１ｃの表面２２１ｄは、ユーザの肌と接触する。ローラ部２２１ｃは、多角形状を有していてもよい。
シール部２２２は、シール部２２と対応する構成及び機能を有する。すなわち、シール部２２２は、接合部２２ａと対応する接合部２２２ａ及びシール部材２２ｂと対応するシール部材２２２ｂを有している。シール部２２２は、本体１０内に水分が侵入するのを防止する。
（効果）
The
The
(effect)
第３の実施形態の美容処理装置２００によれば、肌接触プレート２０によって、角質、皮脂または化粧の残りなどを除去することができる。美容処理装置２００によれば、電圧を印加された肌接触プレート２０及び肌接触ローラ部２１０を電極として、ＥＭＳのための電流を肌に流すことができる。
さらに、ローラ部２２１ｃが、肌面上を転動しながら肌面に刺激を与えることによって、血行をよくしたり、ユーザに心地よさを与えることができる。
［第４の実施形態]
According to the
Furthermore, the
[Fourth Embodiment]
次に、図１１を用いて第４の実施形態の美容処理装置３００について説明する。図１１は、第４の実施形態に係る美容処理装置３００を示す断面図である。図１１において、図１〜図１０に示した第１〜第３の実施形態、及び、第１及び第２の変形例１及び２の構成要素と同一の構成要素については、同一の符号を付与し、詳細な説明を省略する。
Next, a
図１１に示すように美容処理装置３００は、本体１０、肌接触プレート２０及び３０、超音波振動子４０、スイッチ群５０（図示せず）、ペルチェ素子３１０、ヒートシンク３２０及び制御回路基板３６０を備える。
美容処理装置３００は、第１の実施形態に係る美容処理装置１が、ペルチェ素子３１０及びヒートシンク３２０をさらに備える実施形態である。
As shown in FIG. 11, the
The
ペルチェ素子３１０は、第１の面３１０ａ（冷温面）及び第２の面３１０ｂを有する。ペルチェ素子３１０は、薄い板状（薄い直方体状）に形成されている。第１の面３１０ａは、肌接触プレート３０の基部３１ａに取り付けられる。第２の面３１０ｂは、ヒートシンク３２０と接触する。この実施形態では、制御回路基板６０によって電流を流されて、第１の面３１０ａは冷たくなり、第２の面３１０ｂは温かくなる。
The
ヒートシンク３２０は、平坦面３２０ａ及び３２０ｂを有する。ヒートシンク３２０は、略直方体状に形成されている。ヒートシンク３２０は、熱伝導性の良い金属（例えば、アルミや銅）で形成されている。ヒートシンク３２０は、肌接触プレート２０、３０及びペルチェ素子３１０に比べて充分な肉厚を有しており、肌接触プレート３０及びペルチェ素子３１０に比べて熱容量が大きい。
The
平坦面３２０ａは、例えば接着剤によってペルチェ素子３１０の第２の面３１０ｂに取り付けられる。この結果、ペルチェ素子３１０の第２の面３１０ｂの熱がヒートシンク３２０に移動する。このことによって、第２の面３１０ｂの熱が第１の面３１０ａ側に回り込むことに起因する肌接触プレート３０の温度上昇を防止することができる。
The
制御回路基板３６０は、制御回路基板６０と対応する構成及び機能を有する。制御回路基板３６０は、例えば、制御部１６７と対応する機能を有する制御部３６７を有する。制御部３６７は、ペルチェ素子３１０に電流を流す。この結果、ペルチェ素子３１０の第１の面３１０ａは冷たくなり、第２の面３１０ｂは温かくなる。制御回路基板３６０は、ユーザによるスイッチ群５０の操作に対応して、ペルチェ素子３１０への電流のＯＮまたはＯＦＦを制御する。
（効果）
The
(effect)
第４の実施形態の美容処理装置３００では、超音波振動子４０によって振動した肌接触プレート２０によって肌の角質、皮脂または化粧残りを除去し（第１の除去）、続いて、肌接触プレート３０によって肌接触プレート２０が除去しきれなかった角質、皮脂または化粧残りを除去することができる（第２の除去）。したがって、美容処理装置１の肌面上の移動の回数が少なくても角質、皮脂または化粧の残りなどを短い時間で除去することができる。
In the
さらに、美容処理装置３００によれば、電圧を印加された肌接触プレート２０及び３０を電極として、ＥＭＳのための電流を肌に流すことができる。
美容処理装置３００では、ペルチェ素子３１０によって冷却された肌接触プレート３０が肌面に当接することによって、ＥＭＳによって開いた毛穴を閉じることができる。結果として、肌を引き締めることができる。
［第３の変形例]
Furthermore, according to the
In the
[Third Modification]
次に、図１２を用いて本発明の第３の変形例である美容処理装置３００ａについて説明する。図１２は、第３の変形例に係る美容処理装置３００ａの断面図である。図１２では、図１１と同様にスイッチ群５０の図示を省略している。
図１２において、図１〜図１１に示した第１〜第４の実施形態及び第１及び第２の変形例の構成要素と同一の構成要素については、同一の符号を付与し、詳細な説明を省略する。
Next, a beauty processing apparatus 300a that is a third modification of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 12 is a cross-sectional view of a beauty treatment apparatus 300a according to a third modification. In FIG. 12, the illustration of the
In FIG. 12, the same components as those of the first to fourth embodiments and the first and second modified examples shown in FIGS. Is omitted.
美容処理装置３００ａは、図１１に示した第４の実施形態の美容処理装置３００の変形例である。図１２に示すように美容処理装置３００ａは、本体１０、肌接触プレート２０及び３４０、超音波振動子４０、スイッチ群５０（図示せず）、ペルチェ素子３１０、ヒートシンク３２０及び制御回路基板３６０ａを備える。
The beauty processing apparatus 300a is a modification of the
（肌接触プレート３４０の構成について）
肌接触プレート３４０は、プレート部３４１及びシール部３４２を備える。肌接触プレート３４０は、シール部３４２及び支持部材（図示せず）によって本体１０内に保持される。シール部３４２は、シール部３２に対応する。シール部３４２は、接合部３２ａ及びシール部材３２ｂにそれぞれ対応する接合部３４２ａ及びシール部材３４２ｂを有する。
(About the structure of the skin contact plate 340)
The
プレート部３４１は、基部３４１ａ及び先端部３４１ｂを有する。プレート部３４１は、肌接触プレート２０のプレート部２１と同様の材料で形成される。プレート部３４１は、導電性を有する。プレート部３４１は、例えば、２［ｍｍ]〜５［ｍｍ］の厚みを有する。プレート部３４１は、ペルチェ素子３１０によって熱が加えられたり、冷却されたりする。ペルチェ素子３１０は、基部３４１ａに取り付けられる。
The
基部３４１ａは、本体１０内に配設される。基部３４１ａは、制御回路基板３６０ａに図示を省略した導線により電気的に接続される。
The base 341 a is disposed in the
先端部３４１ｂは、本体１０から露出する。先端部２１ｂの先端側には、肌当接面３４１ｃが配設される。肌当接面３４１ｃを含む先端部２１ｂの先端側は、肌接触プレート３４０の長手方向に対して所定の角度（例えば、１０°〜４５°）を持つように折り曲げられる。
The
肌当接面３４１ｃは、ユーザの肌面に当接する。肌当接面３４１ｃによって、ユーザの肌面を温めるまたは冷却することができる。肌当接面３４１ｃは、ユーザの肌面を速やかに温めるまたは冷却するために、少なくとも肌当接面２１ｃよりも広い接触面積を有する。
（肌接触プレート２０及び３４０の配置の説明）
The
(Description of arrangement of
肌接触プレート２０及び３４０は、本体１０の表面部１０ａから裏面部１０ｂに向かう方向にそれぞれ順に配置される。肌接触プレート２０及び３４０は互いに所定の距離を空けて配置される。例えば、基部２１ａ及び３４１ａ間の距離は、１［ｍｍ]〜１［ｃｍ]程度である。
The
肌接触プレート２０及び３４０は、互いに並行する。肌接触プレート２０及び３４０は、肌当接面２１ｃ及び３４１ｃの位置がほぼ揃っている（図１２の仮想的な線Ｌ５参照）。詳細には、肌当接面２１ｃは、３４１ｃの延長線上に位置する。
（制御回路基板３６０ａについて）
(Regarding the
制御回路基板３６０ａは、図１１に示した制御回路基板３６０と同様の機能及び構成を有する。制御回路基板３６０ａは、例えば、制御回路基板３６０の制御部３６７と対応する制御部３６７ａを有する。
制御部３６７ａは、肌接触プレート２０及び３４０間に電圧を印加する。
The
The
制御部３６７ａは、ユーザによるスイッチ群５０の操作に対応して、ペルチェ素子３１０に流す電流の向きを変更する。制御部３６７ａが、ペルチェ素子３１０に第１の方向の電流を流すと、第１の面３１０ａは温かくなり、第２の面３１０ｂは冷たくなる。結果として、第１の面３１０ａと接触する肌接触プレート３４０が温かくなる。
The
制御部３６７ａが、ペルチェ素子３１０に第１の方向とは逆の第２の方向の電流を流すと、第１の面３１０ａは冷たくなり、第２の面３１０ｂは温かくなる。結果として、第１の面３１０ａと接触する肌接触プレート３４０が冷たくなる。
（使用方法）
When the
(how to use)
（１）補助処理及び第１の処理 (1) Auxiliary processing and first processing
ユーザは、美容処理装置３００ａを持ち、肌接触プレート２０及び３４０の肌当接面２１ｃ及び３４１ｃを美容処理対象の肌面に当接させる。肌接触プレート２０は超音波振動子４０によって振動している。肌接触プレート２０及び肌接触プレート３４０間には電圧が印加される。
The user holds the beauty treatment apparatus 300a and causes the skin contact surfaces 21c and 341c of the
ユーザは、肌接触プレート３４０が温かくなるようにスイッチ群５０を操作する。この操作に対応して、制御部３６７ａがペルチェ素子３１０に第１の方向の電流を流す。結果として、肌接触プレート３４０が温かくなる。
ユーザは、肌接触プレート３４０が移動方向に対して先頭になるように、そして肌接触プレート２０が移動方向に対してプレート部３４１の後方になるように美容処理装置３００ａを肌面上で移動させる（図１２の矢印Ａ１参照）。
The user operates the
The user moves the beauty treatment apparatus 300a on the skin surface so that the
この結果、ユーザの肌面がまず肌接触プレート３４０によって暖められて毛穴が開く（補助処理）。このとき、ＥＭＳのための電流が肌に流れることによって、毛穴が開きやすくなる。
毛穴が開いた肌面を肌接触プレート２０が擦ることによって、肌面に付着していたり、毛穴に詰まったりしている角質、皮脂または化粧の残りなどを除去することができる（第１の処理）。
（２）第２の処理及びクールダウン処理
As a result, the user's skin surface is first heated by the
The
(2) Second process and cool-down process
ユーザは、肌接触プレート３４０が冷たくなるようにスイッチ群５０を操作する。この操作に対応して、制御回路基板３６０ａは、ペルチェ素子３１０に第２の方向の電流を流す。結果として、肌接触プレート３４０が冷たくなる。
ユーザは、肌接触プレート２０が移動方向に対して先頭になるように、そして肌接触プレート３４０が移動方向に対して肌接触プレート２０の後方になるように美容処理装置３００ａを肌面上で移動させる（図１２の矢印Ａ２参照）。
The user operates the
The user moves the beauty treatment apparatus 300a on the skin surface so that the
この結果、第１の処理で除去しきれなかった角質、皮脂または化粧の残りなどを肌接触プレート２０によって除去することができる（第２の処理）。そして、肌接触プレート２０によって肌の角質、皮脂または化粧残りが除去された後の肌面は、肌接触プレート３４０によって冷却される。結果として、毛穴が閉じる（クールダウン処理）。クールダウン処理によって、毛穴を閉じさせ、肌を引き締めることができる。
（効果）
As a result, keratin, sebum, or the rest of makeup that cannot be removed by the first treatment can be removed by the skin contact plate 20 (second treatment). Then, the skin surface after the skin stratum corneum, sebum or makeup residue is removed by the
(effect)
このように、第３の変形例である美容処理装置３００ａでは、第１、第２の除去、ＥＭＳ、補助処理及びクールダウン処理によって、肌の角質、皮脂または化粧残りを除去することができる。
肌接触プレート３４０が、肌面を温めたり、冷却したりすることによって、心地よさをユーザに感じさせることができる。
［その他の実施形態]
As described above, in the beauty processing apparatus 300a that is the third modification, the skin keratin, sebum, or makeup residue can be removed by the first and second removal, EMS, auxiliary processing, and cool-down processing.
The
[Other Embodiments]
以上、第１〜第５の実施形態、及び、第１〜第３の変形例を具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態及び変形例に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素をさらに変形して具現化できる。また、上記実施形態及び変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。 As mentioned above, although the 1st-5th embodiment and the 1st-3rd modification were concretely demonstrated, this invention is not limited to the said embodiment and a modification, In an implementation stage. The constituent elements can be further modified and embodied without departing from the scope of the invention. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment and the modified examples. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.
その他の実施形態の具体例を以下（１）〜（１０）に示す。
（１）図１１または図１２に示したヒートシンク３２０が、ペルチェ素子３１０、及び、肌接触プレート３０または３４０を超える横長形状を備えてもよい。そして、美容処理装置３００または３００ａが、ヒートシンク３２０のペルチェ素子３１０、及び、肌接触プレート３０または３４０を超えた部分に取り付けられる送風ユニットを備えてもよい。
送風ユニットは、ペルチェ素子３１０によって暖められた肌接触プレート３０または３４０の温度上昇を抑制して、肌接触プレート３０または３４０の温度を一定に保つ。
Specific examples of other embodiments are shown in (1) to (10) below.
(1) The
The blower unit suppresses the temperature rise of the
美容処理装置３００または３００ａは、肌接触プレート３０または３４０の温度を検出するセンサ素子（例えばサーミスタ）などを備えることが望ましい。センサ素子を用いて検出した温度に対応させて、制御部３６７または３６７ａが、ペルチェ素子３１０に流す電流の強さを可変させたり、送風ユニットが有するファンの回転数を可変させたりすることで、接触プレート３０または３４０の温度を一定に保つことができる。
The
ここで、制御部３６７または３６７ａによる温度の制御を容易にするためには、肌接触プレート３０または３４０は、温度が短時間のうちに急激に変化しないことが望ましい。接触プレート３０または３４０のプレート部３１または３４１の肉厚を厚くすることで、熱容量を増加させて、肌接触プレート３０または３４０の温度変化を緩やかにすることができる。
Here, in order to easily control the temperature by the
（２）接触プレート３４０は、板状ではなく、円筒形状や直方体形状を有してもよい。
（３）ヒートシンク３２０の平坦面３２０ｂが、肌接触プレート２０の基部２１ａと接触してもよい。この場合、ペルチェ素子３１０が、ヒートシンク３２０を介して肌接触プレート２０を温めたり、冷却したりすることができる。
(2) The
(3) The
（４）美容処理装置３００または３００ａは、ヒートシンク３２０を備えなくともよい。
(4) The
（５）美容処理装置３００ａが、美容処理装置３００ａの姿勢や移動方向を検知するセンサ（例えば、加速度センサ、ジャイロセンサ、ローラ形接触センサまたは赤外線式の非接触センサ）を備えてもよい。
この場合、制御部３６７ａは、センサの出力に基づいて、美容処理装置３００ａが肌面上でどの方向に移動したかを知覚することができる。制御部３６７ａは、美容処理装置３００ａの移動方向に対応させて、ペルチェ素子３１０に流す電流の向きを変えることができる。
(5) The beauty processing apparatus 300a may include a sensor (for example, an acceleration sensor, a gyro sensor, a roller-type contact sensor, or an infrared non-contact sensor) that detects the posture or movement direction of the beauty processing apparatus 300a.
In this case, the
（６）美容処理装置３００または３００ａにおいて、超音波振動子４０が、肌接触プレート３０または３４１を振動させてもよい。
（７）美容処理装置３００または３００ａにおいて、ペルチェ素子３１０を、肌接触プレート２０の基部２１ａに取り付けてもよい。この場合、ペルチェ素子３１０によって、肌接触プレート２０に熱を加えたり、冷却したりすることができる。
(6) In the
(7) In the
（８）美容処理装置１〜３００ａが、肌接触プレート２０〜３４０または肌接触ローラ部２１０を暖めるための加熱部材（例えば、セラミックヒータまたはフィルムヒータ）を備えてもよい。加熱部材は、例えば、肌接触プレート２０、３０、１２０または３４０のそれぞれの基部２１ａ、３１ａ、１２１ａまたは３４１ａ、または、肌接触ローラ部２１０の基部２２１ａに取付けられる。
(8) The beauty treatment apparatuses 1 to 300a may include a heating member (for example, a ceramic heater or a film heater) for heating the
（９）本体１０が、スライド機構を備えてもよい。例えば、図５に示す美容処理装置１００において、スライド機構は、本体１０内面に、肌接触プレート２０、３０または１２０の長手方向に沿って設けられる。スライド機構は、肌接触プレート２０、３０または１２０と対応する位置に設けられる。
(9) The
スライド機構は、棒状のスライドレールまたは直線状の溝によって実現される。肌接触プレート２０、３０または１２０は、スライドレールまたは直線状の溝にそれぞれ取り付けられる。このことによって、肌接触プレート２０、３０または１２０が、本体１０に対して相対的に移動する。この結果、肌の曲面に合うように、先端部２１ｂ、先端部３１ｂまたは１２１ｂの本体１０からの位置をそれぞれ可変することができる。
The sliding mechanism is realized by a rod-shaped slide rail or a linear groove.
この場合、本体１０に対して相対的に移動した肌接触プレート２０、３０または１２０を所定の位置に保持する係止機構を本体１０が備えることが望ましい。
係止機構の構成は、特に限定されない。係止機構は、例えば、ばねの復元力により肌接触プレート２０、３０または１２０の移動を阻害するものであったり、肌接触プレート２０、３０または１２０をねじで固定するものであったりする。
In this case, it is desirable for the
The configuration of the locking mechanism is not particularly limited. The locking mechanism may, for example, inhibit movement of the
（１０）本体１０が、ユーザが本体１０を持ったときに、ユーザの手と接触する手元電極を備えてもよい。この場合、電源部６４または１６４は、肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一つと、手元電極との間に電圧を印加することができる。この結果、ユーザが手元電極をさわりながら、電圧が印加された肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一つを肌に当接することで、手元電極、ユーザの皮膚、及び、肌接触プレート２０、３０及び１２０の内の一つ、によって閉回路が形成され、ユーザの肌にＥＭＳのための電流が流れる。
(10) The
この電流によってイオン導入法による肌のトリートメントを行うことができる。
イオン導入法とは、肌に電極を当接させて微弱な電流を流すことにより、本来であれば皮膚内に浸透しにくい美容のための種々の成分（例えば、ビタミンＡやビタミンＣなど）を皮膚内へ浸透させる手法である。
This current can be used to treat the skin by iontophoresis.
Iontophoresis refers to various components for beauty that are difficult to penetrate into the skin (for example, vitamin A, vitamin C, etc.) by passing a weak electric current while bringing an electrode into contact with the skin. This is a technique that penetrates into the skin.
１，１００，１００ａ，１００ｂ，２００，３００，３００ａ…美容処理装置、１０…本体、２０，３０，１２０，３４０…肌接触プレート、２１，３１，１２１，３４１…プレート部、２２，３２，１２２，２２２，３４２…シール部、４０，１４０，１４１，１４２…超音波振動子、５０…スイッチ群、６０，１６０，３６０，３６０ａ…制御回路基板、６１…第１発振部、６２，１６２…第２発振部、６３…計時部、６４，１６４…電源部、６５…メモリ部、６６…入力受付部、６７，１６７，３６７，３６７ａ…制御部、１６１…選択部、２１０…肌接触ローラ部、２２１…本体部、３１０…ペルチェ素子、３２０…ヒートシンク。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,100,100a, 100b, 200,300,300a ... Beauty treatment apparatus, 10 ... Main body, 20, 30, 120, 340 ... Skin contact plate, 21, 31, 121, 341 ... Plate part, 22, 32, 122 , 222, 342 ... seal part, 40, 140, 141, 142 ... ultrasonic transducer, 50 ... switch group, 60, 160, 360, 360a ... control circuit board, 61 ... first oscillation part, 62, 162 ... first 2 oscillating unit, 63 ... timing unit, 64, 164 ... power supply unit, 65 ... memory unit, 66 ... input receiving unit, 67, 167, 367, 367a ... control unit, 161 ... selection unit, 210 ... skin contact roller unit, 221... Main body, 310. Peltier element, 320.
Claims (9)
前記第１及びまたは第２の肌接触部材を振動させる超音波振動子と、
前記超音波振動子の動作のＯＮまたはＯＦＦを制御する制御部と
を具備することを特徴とする美容処理装置。 A first skin contact member and a second skin contact member each having a base portion and a tip portion contacting the skin surface of the user;
An ultrasonic vibrator that vibrates the first and / or second skin contact member;
A beauty processing apparatus comprising: a control unit that controls ON or OFF of the operation of the ultrasonic transducer.
前記第１及び第２の肌接触部材間に電圧を印加する電圧印加部を更に具備し、
前記制御部は、前記電圧印加部の動作のＯＮまたはＯＦＦを制御すること
を特徴とする請求項１または２に記載の美容処理装置。 The first and second skin contact members have conductivity,
A voltage applying unit for applying a voltage between the first and second skin contact members;
The beauty processing apparatus according to claim 1, wherein the control unit controls ON or OFF of the operation of the voltage application unit.
前記電圧印加部は、前記第１、第２または第３の肌接触部材のうちの一対の肌接触部材に前記電圧を印加すること
を特徴とする請求項３ないし５のいずれか一項に記載の美容処理装置。 And further comprising a third skin contact member having a base and a tip portion contacting the skin surface of the user and having conductivity,
The said voltage application part applies the said voltage to a pair of skin contact member of the said 1st, 2nd or 3rd skin contact member, The Claim 1 thru | or 5 characterized by the above-mentioned. Beauty treatment equipment.
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