JP2016096249A - Shield cover and electronic device - Google Patents

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聖二 日比野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a shield cover which enables reduction of thickness without deteriorating the display quality of a liquid crystal panel.SOLUTION: A shield cover 30 covers a semiconductor element 10 installed on a printed circuit board 20, is made of a metal material, and includes a shield cover upper surface part 31 located at a center portion of an upper surface and a shield cover outer frame part 32 having an opening at the center portion of the upper surface. The shield cover upper surface part 31 and the shield cover outer frame part 32 are connected by conductive elastic members 33. A first thermal bonding member 51, which conducts heat from the semiconductor element 10 to the shield cover upper surface part 31, is installed between the semiconductor element 10 and the shield cover upper surface part 31. A second thermal bonding member 52, which conducts heat from the shield cover upper surface part 31 to a metal plate 60, is installed between the shield cover upper surface part 31 and the metal plate 60 provided on a rear surface of a display panel 61.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、シールドカバー及び電子装置に関するものである。   The present invention relates to a shield cover and an electronic device.

近年、スマートフォンやタブレット等の表示画面を有する携帯端末となる電子装置が普及しており、これらのスマートフォンやタブレット等は、携帯性の観点から、軽量化の他、薄型化が求められている。ところで、スマートフォンやタブレット等においては、CPU(Central Processing Unit)、パワーマネージメントチップ、無線通信チップ等の半導体素子が搭載されているが、これらの半導体素子は、動作させると熱が発生する。このように半導体素子において熱が発生し高温になると、半導体素子における機能が低下するため、半導体素子を冷却することが必須となる。   In recent years, electronic devices serving as mobile terminals having display screens such as smartphones and tablets have become widespread, and these smartphones, tablets, and the like are required to be lighter and thinner in terms of portability. By the way, in smart phones, tablets, and the like, semiconductor elements such as a CPU (Central Processing Unit), a power management chip, and a wireless communication chip are mounted. When these semiconductor elements are operated, heat is generated. As described above, when heat is generated in the semiconductor element and the temperature is increased, the function of the semiconductor element is deteriorated, so that the semiconductor element must be cooled.

半導体素子を冷却する方法としては、冷却ファン等の可動部品により放熱するアクティブ機構の他、可動部品を用いることなく放熱板等により放熱を行うパッシブ機構がある。スマートフォンやタブレット等においては、携帯性の観点より軽量化や薄型化が求められていることから、パッシブ機構が好ましいとされている。パッシブ機構では、半導体素子において発生した熱が、半導体素子と放熱板等との間に形成された熱伝導部材を介して、放熱板等に熱伝導され、放熱板等において放熱されることにより、半導体素子が冷却される。   As a method of cooling the semiconductor element, there is an active mechanism that radiates heat using a movable part such as a cooling fan, and a passive mechanism that radiates heat using a heat radiating plate or the like without using a movable part. In smart phones, tablets, and the like, passive mechanisms are preferred because they are required to be lightweight and thin from the viewpoint of portability. In the passive mechanism, the heat generated in the semiconductor element is thermally conducted to the heat radiating plate or the like through the heat conducting member formed between the semiconductor element and the heat radiating plate, and is radiated in the heat radiating plate or the like. The semiconductor element is cooled.

このような熱伝導部材は、一般的には、熱接合材料(TIM:Thermal Interface Material)により形成されている。熱接合材料は、表面粘着性を有しており、熱導電性が高く、柔軟性を有する材料であり、半導体素子と放熱板との隙間を埋めることにより、熱抵抗を低減させることができるため、半導体素子において発生した熱を速やかに熱伝導させることができる。   Such a heat conducting member is generally formed of a thermal bonding material (TIM: Thermal Interface Material). The thermal bonding material is a material having surface adhesiveness, high thermal conductivity, and flexibility, and can reduce thermal resistance by filling the gap between the semiconductor element and the heat sink. The heat generated in the semiconductor element can be quickly conducted.

特表2014−514771号公報JP-T-2014-514771

図1に基づきスマートフォンやタブレット等の電子装置の構造を説明する。スマートフォンやタブレット等の電子装置においては、CPU等の半導体素子910は、プリント基板920にハンダ付けされており、半導体素子910の周囲には、半導体素子910から発生する電磁波をシールドするため導電性を有する金属材料により形成されたシールドカバー930及びシールド支柱部940が設けられている。シールド支柱部940は、導電性を有する材料により、半導体素子910を囲むように形成され、プリント基板920にハンダ付けされており、接地電位に接続されている。シールドカバー930はシールド支柱部940にはめ込むことができるように形成されており、シールドカバー930をシールド支柱部940にはめ込むことにより、シールドカバー930により、プリント基板920に設置されている半導体素子910を覆うことができる。具体的には、シールドカバー930は、上面930aと側面930bとにより形成されており、側面930bは、シールド支柱部940の外形よりも若干大きな形状で形成されている。よって、シールド支柱部940が内側となるように、シールドカバー930の側面930bをはめ込むことにより、シールドカバー930により、プリント基板920の上に設置されている半導体素子910を覆うことができる。   The structure of an electronic device such as a smartphone or tablet will be described with reference to FIG. In an electronic device such as a smartphone or a tablet, a semiconductor element 910 such as a CPU is soldered to a printed circuit board 920, and the periphery of the semiconductor element 910 has conductivity to shield electromagnetic waves generated from the semiconductor element 910. A shield cover 930 and a shield post 940 formed of a metal material are provided. The shield support 940 is formed of a conductive material so as to surround the semiconductor element 910, is soldered to the printed circuit board 920, and is connected to the ground potential. The shield cover 930 is formed so as to be able to fit into the shield column 940, and by inserting the shield cover 930 into the shield column 940, the semiconductor element 910 installed on the printed circuit board 920 can be made by the shield cover 930. Can be covered. Specifically, the shield cover 930 is formed by an upper surface 930 a and a side surface 930 b, and the side surface 930 b is formed in a shape slightly larger than the outer shape of the shield column 940. Therefore, the semiconductor element 910 installed on the printed circuit board 920 can be covered with the shield cover 930 by fitting the side surface 930b of the shield cover 930 so that the shield support 940 is inside.

半導体素子910とシールドカバー930との間には、半導体素子910及びシールドカバー930の内側の面と接触するように、第1の熱接合部材951が設けられている。また、シールドカバー930と液晶パネル961の裏面における金属板960との間には、シールドカバー930の外側の面及び金属板960と接触するように、第2の熱接合部材952が設けられている。尚、一般的には、第1の熱接合部材951及び第2の熱接合部材952は、5〜20%圧縮して用いられるため、設置される部分の間隔よりも若干厚く形成されている。   A first thermal bonding member 951 is provided between the semiconductor element 910 and the shield cover 930 so as to contact the inner surface of the semiconductor element 910 and the shield cover 930. In addition, a second thermal bonding member 952 is provided between the shield cover 930 and the metal plate 960 on the back surface of the liquid crystal panel 961 so as to contact the outer surface of the shield cover 930 and the metal plate 960. . In general, the first thermal bonding member 951 and the second thermal bonding member 952 are used by being compressed by 5 to 20%, and thus are formed slightly thicker than the interval between installed portions.

また、シールド支柱部940は、接地電位に接続されているため、シールド支柱部940と側面930bにおいて接触しているシールドカバー930も接地電位となっている。このように、シールドカバー930を接地電位にすることにより、シールドカバー930において、半導体素子910を動作させた際に半導体素子910より発生した電磁波を遮蔽する効果を高めることができる。これにより、半導体素子910より発生した電磁波により、液晶パネル961の表示等に及ぼす悪影響を抑制することができる。   Further, since the shield post 940 is connected to the ground potential, the shield cover 930 that is in contact with the shield post 940 on the side surface 930b is also at the ground potential. Thus, by setting the shield cover 930 to the ground potential, the shield cover 930 can enhance the effect of shielding electromagnetic waves generated from the semiconductor element 910 when the semiconductor element 910 is operated. Thus, adverse effects on the display and the like of the liquid crystal panel 961 can be suppressed by electromagnetic waves generated from the semiconductor element 910.

このような電子装置においては、半導体素子910とシールドカバー930との間隔W1やシールドカバー930と金属板960との間隔W2を狭くすることにより、電子装置を薄型化することができる。しかしながら、薄型化のため部品の寸法を短くした分、部品における公差を狭くすることは困難であるため、不具合が生じる場合がある。   In such an electronic device, the electronic device can be thinned by narrowing the interval W1 between the semiconductor element 910 and the shield cover 930 and the interval W2 between the shield cover 930 and the metal plate 960. However, since it is difficult to reduce the tolerance in the part by reducing the dimension of the part for thinning, there may be a problem.

具体的には、実際に電子装置を構成する部品を製造する際には、長さや厚さ等にバラツキが生じる。このため、例えば、第2の熱接合部材952における厚さが設計値よりも厚く形成された場合や、間隔W2が設計値よりも狭く形成された場合には、液晶パネル961が金属板960側から受ける力により撓み表示画面ににじみが発生し、表示品位が低下する場合がある。また、電子装置の筐体などの外観等が変形してしまう場合がある。この傾向は、電子装置を薄型化すればするほど顕著になる。即ち、電子装置の薄型化のため、部品の寸法を短くし、熱接合部材の厚さを薄くしても、それに対応して公差を狭めることは困難であるため、薄型化した場合には、上述した不具合が生じることが顕著になる。   Specifically, when manufacturing components that actually constitute an electronic device, variations in length, thickness, and the like occur. For this reason, for example, when the thickness of the second thermal bonding member 952 is formed thicker than the design value or when the interval W2 is formed narrower than the design value, the liquid crystal panel 961 is on the metal plate 960 side. May cause the display screen to be blurred due to the force received from the screen, and the display quality may deteriorate. In addition, the external appearance of the casing of the electronic device may be deformed. This tendency becomes more prominent as the electronic device is made thinner. In other words, in order to reduce the thickness of the electronic device, it is difficult to narrow the tolerance correspondingly even if the dimensions of the parts are shortened and the thickness of the thermal bonding member is reduced. It becomes remarkable that the trouble mentioned above arises.

このため、液晶パネルの表示品位を低下させたり、電子装置の外観を変形させる等の不具合が生じることなく、薄型化することが可能な電子装置に用いられるシールドカバーが求められている。   For this reason, there is a need for a shield cover used in an electronic device that can be reduced in thickness without causing problems such as degrading the display quality of a liquid crystal panel or deforming the appearance of the electronic device.

本実施の形態の一観点によれば、基板の上に設置された半導体素子を覆う、金属材料により形成されたシールドカバーであって、上面の中央部分におけるシールドカバー上面部と、前記上面の中央部分に開口を有するシールドカバー外枠部と、を有し、前記シールドカバー上面部と前記シールドカバー外枠部は、導電性弾性部材により接続されており、前記半導体素子と前記シールドカバー上面部との間には、前記半導体素子から前記シールドカバー上面部に熱を伝導させる第1の熱接合部材が設置され、前記シールドカバー上面部と表示パネルの裏面に設けられた金属板との間には、前記シールドカバー上面部から前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材が設置されることを特徴とする。   According to one aspect of the present embodiment, a shield cover formed of a metal material that covers a semiconductor element placed on a substrate, the shield cover upper surface portion in the center portion of the upper surface, and the center of the upper surface A shield cover outer frame portion having an opening in a portion, and the shield cover upper surface portion and the shield cover outer frame portion are connected by a conductive elastic member, and the semiconductor element and the shield cover upper surface portion In between, a first thermal bonding member that conducts heat from the semiconductor element to the upper surface portion of the shield cover is installed, and between the upper surface portion of the shield cover and a metal plate provided on the back surface of the display panel The second heat bonding member for conducting heat from the upper surface of the shield cover to the metal plate is installed.

開示のシールドカバーによれば、液晶パネルの表示品位を低下させたり、電子装置の外観を変形させる等の不具合が生じることなく、電子装置を薄型化することができる。   According to the disclosed shield cover, it is possible to reduce the thickness of the electronic device without causing problems such as lowering the display quality of the liquid crystal panel and deforming the appearance of the electronic device.

電子装置の構造図Structure diagram of electronic device 第1の実施の形態における電子装置の構造図Structure diagram of electronic device according to first embodiment 第1の実施の形態における電子装置の説明図Explanatory drawing of the electronic device in 1st Embodiment 第2の実施の形態における電子装置の構造図Structure diagram of electronic device according to second embodiment 第2の実施の形態における電子装置の説明図Explanatory drawing of the electronic device in 2nd Embodiment 第3の実施の形態における電子装置の構造図Structure diagram of electronic device according to third embodiment 第3の実施の形態における電子装置の説明図Explanatory drawing of the electronic device in 3rd Embodiment 第4の実施の形態における電子装置の構造図Structure diagram of electronic device according to fourth embodiment 第4の実施の形態における電子装置の説明図Explanatory drawing of the electronic device in 4th Embodiment 第5の実施の形態における電子装置の構造図Structure diagram of electronic device according to fifth embodiment 第5の実施の形態における電子装置の説明図(1)Explanatory drawing (1) of the electronic device in 5th Embodiment 第5の実施の形態における電子装置の説明図(2)Explanatory drawing (2) of the electronic device in 5th Embodiment 第5の実施の形態における電子装置の説明図(3)Explanatory drawing (3) of the electronic device in 5th Embodiment 第5の実施の形態における電子装置の説明図(4)Explanatory drawing (4) of the electronic device in 5th Embodiment 第5の実施の形態における電子装置の説明図(5)Explanatory drawing (5) of the electronic device in 5th Embodiment 第6の実施の形態における電子装置の構造図Structure diagram of electronic device according to sixth embodiment 第6の実施の形態における電子装置の説明図Explanatory drawing of the electronic device in 6th Embodiment

実施するための形態について、以下に説明する。尚、同じ部材等については、同一の符号を付して説明を省略する。   The form for implementing is demonstrated below. In addition, about the same member etc., the same code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted.

〔第1の実施の形態〕
第1の実施の形態における電子装置について説明する。本実施の形態における電子装置は、スマートフォンやタブレット等の電子装置である。具体的には、図2に示されるように、CPU等の半導体素子10が、プリント基板20にハンダ付けされており、半導体素子10の周囲には、シールドカバー30及びシールド支柱部40が設けられている。シールドカバー30は、半導体素子10から発生する電磁波をシールドするため金属材料により形成されている。シールドカバー30が取り付けられるシールド支柱部40は、導電性を有する金属材料等により、半導体素子10を囲むように形成され、プリント基板20にハンダ付けされており、接地電位に接続されている。
[First Embodiment]
The electronic device according to the first embodiment will be described. The electronic device in the present embodiment is an electronic device such as a smartphone or a tablet. Specifically, as shown in FIG. 2, a semiconductor element 10 such as a CPU is soldered to a printed circuit board 20, and a shield cover 30 and a shield column 40 are provided around the semiconductor element 10. ing. The shield cover 30 is made of a metal material to shield electromagnetic waves generated from the semiconductor element 10. The shield post 40 to which the shield cover 30 is attached is formed so as to surround the semiconductor element 10 with a conductive metal material or the like, is soldered to the printed circuit board 20, and is connected to the ground potential.

シールドカバー30は、上面の中央部分に設置されるシールドカバー上面部31と、上面の中央部分に開口が形成されているシールドカバー外枠部32とを有している。シールドカバー上面部31は、シールドカバー外枠部32における開口よりも若干大きな形状で形成されている。シールドカバー外枠部32は、中央に開口を有する上面32aと側面32bとにより形成されている。シールドカバー外枠部32とシールドカバー上面部31とは、シールドカバー外枠部32の上面32aにおける外側の面とシールドカバー上面部31における外側の面とが、導電性弾性部材33により接続されている。導電性弾性部材33は、導電性ゴム等の導電性を有する樹脂材料により形成されており、導電性と弾性の双方の機能を備えている。   The shield cover 30 has a shield cover upper surface portion 31 installed at the center portion of the upper surface, and a shield cover outer frame portion 32 having an opening formed at the center portion of the upper surface. The shield cover upper surface portion 31 is formed in a shape slightly larger than the opening in the shield cover outer frame portion 32. The shield cover outer frame portion 32 is formed by an upper surface 32a and a side surface 32b having an opening at the center. The shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 are formed by connecting an outer surface of the upper surface 32 a of the shield cover outer frame portion 32 and an outer surface of the shield cover upper surface portion 31 by the conductive elastic member 33. Yes. The conductive elastic member 33 is formed of a conductive resin material such as conductive rubber and has both functions of conductivity and elasticity.

本実施の形態においては、シールドカバー外枠部32をシールド支柱部40にはめ込むことにより、プリント基板20の上の半導体素子10をシールドカバー30により覆うことができる。即ち、シールドカバー外枠部32における側面32bは、シールド支柱部40の外形よりも若干大きな形状で形成されており、シールド支柱部40が内側となるように、シールドカバー外枠部32の側面32bをはめ込むことができるように形成されている。   In the present embodiment, the semiconductor element 10 on the printed circuit board 20 can be covered with the shield cover 30 by fitting the shield cover outer frame portion 32 into the shield support column portion 40. That is, the side surface 32b of the shield cover outer frame portion 32 is formed in a shape slightly larger than the outer shape of the shield column portion 40, and the side surface 32b of the shield cover outer frame portion 32 is arranged so that the shield column portion 40 is on the inside. It is formed so that it can be fitted.

半導体素子10とシールドカバー上面部31との間には、半導体素子10及びシールドカバー上面部31の内側の面と接触するように、第1の熱接合部材51が設けられている。また、シールドカバー上面部31と表示パネル61の裏面における金属板60との間には、シールドカバー上面部31の外側の面及び金属板60と接触するように、第2の熱接合部材52が設けられている。   A first thermal bonding member 51 is provided between the semiconductor element 10 and the shield cover upper surface portion 31 so as to contact the inner surface of the semiconductor element 10 and the shield cover upper surface portion 31. Further, between the shield cover upper surface portion 31 and the metal plate 60 on the back surface of the display panel 61, the second thermal bonding member 52 is in contact with the outer surface of the shield cover upper surface portion 31 and the metal plate 60. Is provided.

尚、シールド支柱部40は接地電位となっているため、シールド支柱部40と側面32bにおいて接触しているシールドカバー外枠部32及びシールドカバー外枠部32と導電性弾性部材33により接続されているシールドカバー上面部31も接地電位となっている。このように、シールドカバー外枠部32及びシールドカバー上面部31を接地電位にすることにより、シールドカバー30において、半導体素子10を動作させた際に半導体素子10より発生する電磁波を遮蔽する効果を高めることができる。これにより、半導体素子10より発生した電磁波により、表示パネル61の表示等に及ぼす悪影響を抑制することができる。   Since the shield post 40 is at ground potential, it is connected by the conductive elastic member 33 to the shield cover outer frame 32 and the shield cover outer frame 32 that are in contact with the shield post 40 on the side surface 32b. The shield cover upper surface 31 is also at ground potential. Thus, by setting the shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 to the ground potential, the shield cover 30 has an effect of shielding electromagnetic waves generated from the semiconductor element 10 when the semiconductor element 10 is operated. Can be increased. Thereby, the adverse effect on the display of the display panel 61 by the electromagnetic wave generated from the semiconductor element 10 can be suppressed.

本実施の形態においては、半導体素子10は、CPU、パワーマネージメントチップ、無線通信チップ、メモリ等であり、動作させた場合に発熱する。表示パネル61は、液晶パネル、EL(Electro Luminescence:エレクトロルミネッセンス)パネル等の画像を表示することのできるパネルである。   In the present embodiment, the semiconductor element 10 is a CPU, a power management chip, a wireless communication chip, a memory, or the like, and generates heat when operated. The display panel 61 is a panel capable of displaying an image such as a liquid crystal panel or an EL (Electro Luminescence) panel.

熱接合材料としては、一般的には、液状の放熱グリース、使用される温度範囲内において相転移温度を有し固体と液体の間で相転移する熱伝導性フェイズチェンジマテリアル、固体で柔軟性のある放熱シート等がある。このうち、液状の放熱グリースや、熱伝導性フェイズチェンジマテリアルは、弾性を有しておらず、また、液体等になるため、電子装置における振動等により流動する可能性がある。従って、第1の熱接合部材51及び第2の熱接合部材52として用いる場合には、固体で柔軟性のある放熱シートが好ましい。   In general, the thermal bonding material is a liquid thermal grease, a thermally conductive phase change material that has a phase transition temperature within the temperature range to be used and a phase transition between the solid and the liquid, and a solid and flexible material. There are some heat dissipation sheets. Among these, the liquid heat-dissipating grease and the heat conductive phase change material do not have elasticity and become liquid or the like, and thus may flow due to vibration or the like in the electronic device. Therefore, when using as the 1st heat joining member 51 and the 2nd heat joining member 52, a solid and flexible heat dissipation sheet is preferable.

尚、第1の熱接合部材51及び第2の熱接合部材52を放熱シートにより形成した場合には、発明者による経験に基づく知見より、放熱シートの熱伝導率の範囲は、1W/mK以上、10W/mK以下が好ましい。放熱シートの熱伝導率が、1W/mK未満の場合には、充分な放熱をすることができず、また、10W/mKを超えるものは、柔軟性も低下し、価格も高くなるため、電子装置を製造することが困難となり、低価格で製造することに適さないからである。また、放熱シートのアスカーC硬度は、30以下であることが好ましい。放熱シートは柔軟性が求められるため、適度な軟らかさを有するものが好ましいからである。   In addition, when the 1st heat joining member 51 and the 2nd heat joining member 52 are formed with a heat radiating sheet, the range of the heat conductivity of a heat radiating sheet is 1 W / mK or more from the knowledge based on experience by the inventor. 10 W / mK or less is preferable. If the thermal conductivity of the heat-dissipating sheet is less than 1 W / mK, sufficient heat dissipation cannot be performed, and if it exceeds 10 W / mK, the flexibility is reduced and the price is increased. This is because it is difficult to manufacture the device and it is not suitable for manufacturing at a low price. The Asker C hardness of the heat dissipation sheet is preferably 30 or less. This is because the heat-dissipating sheet is required to have flexibility, and therefore it is preferable that the sheet has moderate softness.

また、第1の熱接合部材51と第2の熱接合部材52とは、アスカーC硬度が異なるものであることが好ましく、更には、第1の熱接合部材51は第2の熱接合部材52よりも軟らかいものであることが好ましい。第1の熱接合部材51は第2の熱接合部材52よりも軟らかいと、力を受けた場合に第1の熱接合部材51が変形するため、受けた力を第1の熱接合部材51側にリリースすることができるため、力のリリース方向を一方向にすることができるからである。   Further, it is preferable that the first thermal bonding member 51 and the second thermal bonding member 52 have different Asker C hardness, and further, the first thermal bonding member 51 is the second thermal bonding member 52. It is preferably softer. If the first thermal bonding member 51 is softer than the second thermal bonding member 52, the first thermal bonding member 51 is deformed when receiving a force. This is because the force can be released in one direction.

シールドカバー30は、電磁波を吸収し遮蔽する機能を有しており、接地電位に接続されている。シールドカバー30は、導電性を有するとともに、所望の剛性が求められるため、金属材料により形成されていることが好ましい。具体的には、シールドカバー30は、ステンレスや、Al、Cu、Ni、Mgを含む金属材料(合金を含む)により形成されていることが好ましい。   The shield cover 30 has a function of absorbing and shielding electromagnetic waves, and is connected to a ground potential. The shield cover 30 is preferably made of a metal material because it has conductivity and desired rigidity. Specifically, the shield cover 30 is preferably made of stainless steel or a metal material (including an alloy) containing Al, Cu, Ni, or Mg.

表示パネル61の裏面に設けられた金属板60は、表示パネル61の保護等の機能の他、熱拡散板または放熱板としての機能が求められるため、金属材料により形成されている。具体的には、ステンレスや、Al、Cu、Ni、Mgを含む金属材料(合金を含む)により形成されていることが好ましい。また、金属板60には、熱伝導を補助するため、グラファイトシート等の熱伝導シートが張り付けられていてもよい。   The metal plate 60 provided on the back surface of the display panel 61 is made of a metal material because it has a function as a heat diffusion plate or a heat radiating plate in addition to functions such as protection of the display panel 61. Specifically, it is preferably formed of stainless steel or a metal material (including an alloy) containing Al, Cu, Ni, or Mg. The metal plate 60 may be attached with a heat conductive sheet such as a graphite sheet in order to assist heat conduction.

次に、本実施の形態の電子装置について、より詳細に説明する。具体的には、半導体素子10とシールドカバー30のシールドカバー上面部31との間隔W1が0.4mm±0.1mm、シールドカバー30のシールドカバー上面部31と金属板60との間隔W2が0.4mm±0.1mmとなる設計値の場合について説明する。   Next, the electronic device of this embodiment will be described in more detail. Specifically, the interval W1 between the semiconductor element 10 and the shield cover upper surface portion 31 of the shield cover 30 is 0.4 mm ± 0.1 mm, and the interval W2 between the shield cover upper surface portion 31 of the shield cover 30 and the metal plate 60 is 0. The case of a design value of 4 mm ± 0.1 mm will be described.

シールドカバー30におけるシールドカバー外枠部32及びシールドカバー上面部31は、厚さが約0.1mm厚のアルミニウム合金により形成されている。シールドカバー外枠部32及びシールドカバー上面部31は、各々プレス加工により作製されている。導電性弾性部材33として、EM導電7KBG(富士高分子工業株式会社製)が用いられている。本実施の形態においては、シールドカバー外枠部32の上面32aの外側の面とシールドカバー上面部31の外側の面とを導電性弾性部材33により接続することにより、シールドカバー30が作製されている。   The shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 of the shield cover 30 are formed of an aluminum alloy having a thickness of about 0.1 mm. The shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 are each produced by press working. As the conductive elastic member 33, EM conductive 7KBG (manufactured by Fuji Polymer Industries Co., Ltd.) is used. In the present embodiment, the shield cover 30 is manufactured by connecting the outer surface of the upper surface 32 a of the shield cover outer frame portion 32 and the outer surface of the shield cover upper surface portion 31 by the conductive elastic member 33. Yes.

シールドカバー外枠部32と導電性弾性部材33との接続、及び、シールドカバー上面部31と導電性弾性部材33との接続は、熱圧着によりなされており、例えば、アマルファ(メック株式会社)により行ってもよい。アマルファは、金属の表面を化学処理し、樹脂材料との接合に最適な表面を形成することにより、接着剤を用いることなく、金属と樹脂材料とを一体化する技術である。   The connection between the shield cover outer frame portion 32 and the conductive elastic member 33 and the connection between the shield cover upper surface portion 31 and the conductive elastic member 33 are made by thermocompression bonding, for example, by Amalfa (MEC Corporation). You may go. Amalfa is a technique for integrating a metal and a resin material without using an adhesive by chemically treating the surface of the metal to form an optimum surface for bonding with the resin material.

第1の熱接合部材51は、設計厚み0.5mmのTC−50SP−1.7(信越化学工業株式会社製:アスカーC硬度2)により形成されている。また、第2の熱接合部材52は、設計厚み0.5mmのTC−50CAT−20(信越化学工業株式会社製:アスカーC硬度20)により形成されている。従って、アスカーC硬度は、第2の熱接合部材52よりも第1の熱接合部材51が低くなっている。即ち、第1の熱接合部材51は、第2の熱接合部材52よりも軟らかい材料により形成される。尚、熱接合部材は、通常、5%〜20%圧縮して用いられるため、20%圧縮した際の厚さが設計値の中央値となるように形成されている。   The first thermal bonding member 51 is formed of TC-50SP-1.7 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: Asker C hardness 2) having a design thickness of 0.5 mm. The second thermal bonding member 52 is formed of TC-50CAT-20 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: Asker C hardness 20) having a design thickness of 0.5 mm. Accordingly, the Asker C hardness is lower in the first thermal bonding member 51 than in the second thermal bonding member 52. That is, the first thermal bonding member 51 is formed of a material that is softer than the second thermal bonding member 52. In addition, since a heat joining member is normally used by compressing 5%-20%, it is formed so that the thickness at the time of 20% compression may become the median value of a design value.

本実施の形態においては、第2の熱接合部材52の厚さが設計厚みよりも厚く形成されていたり、間隔W2が設計値の中央値よりも狭く形成されている場合には、図3に示されるように、第2の熱接合部材52により、シールドカバー上面部31が押される。このように、硬い第2の熱接合部材52により、シールドカバー上面部31が押されて動き、軟らかい第1の熱接合部材51が変形することにより、力が吸収される。これにより、表示パネル61に加わる力を抑制することができるため、表示パネル61における表示画面がにじむことを防ぐことができ、また、電子装置の外観等の変形を防ぐことができる。この際、シールドカバー外枠部32とシールドカバー上面部31とを接続している伸縮性を有する導電性弾性部材33が伸び、シールドカバー上面部31は接地電位が保たれるため、電磁シールドとしての機能が損なわれることはない。   In the present embodiment, when the thickness of the second thermal bonding member 52 is formed to be thicker than the design thickness or the interval W2 is formed to be narrower than the median value of the design value, FIG. As shown, the shield cover upper surface portion 31 is pushed by the second thermal bonding member 52. In this way, the shield cover upper surface portion 31 is pushed and moved by the hard second heat bonding member 52, and the soft first heat bonding member 51 is deformed to absorb the force. Thereby, since the force applied to the display panel 61 can be suppressed, the display screen on the display panel 61 can be prevented from blurring, and deformation of the electronic device such as the appearance can be prevented. At this time, the elastic elastic conductive member 33 connecting the shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 extends, and the shield cover upper surface portion 31 maintains the ground potential. The function of is not impaired.

〔第2の実施の形態〕
次に、第2の実施の形態について説明する。本実施の形態は、図4に示されるように、シールドカバー外枠部32の上面32aの内側の面とシールドカバー上面部31の内側の面とを導電性弾性部材33により接続することにより、シールドカバー30が作製されている電子装置である。導電性弾性部材33による接続部分を変更しても、シールドカバー30が、シールドカバー外枠部32とシールドカバー上面部31が導電性弾性部材33により接続されていれば、第1の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment will be described. In the present embodiment, as shown in FIG. 4, the inner surface of the upper surface 32 a of the shield cover outer frame portion 32 and the inner surface of the shield cover upper surface portion 31 are connected by a conductive elastic member 33. This is an electronic device in which the shield cover 30 is manufactured. If the shield cover 30 is connected to the shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 by the conductive elastic member 33 even if the connection portion by the conductive elastic member 33 is changed, the first embodiment The same effect can be obtained.

図5は、本実施の形態において、第2の熱接合部材52の厚さが設計厚みよりも厚く形成されていたり、間隔W2が設計値の中央値よりも狭く形成されている場合の状態を示す。これらの場合には、第1の実施の形態と同様に、硬い第2の熱接合部材52により、シールドカバー上面部31が押され、軟らかい第1の熱接合部材51が変形することにより、力が吸収される。   FIG. 5 shows a state where the thickness of the second thermal bonding member 52 is formed to be thicker than the design thickness or the interval W2 is formed to be narrower than the median value of the design value in the present embodiment. Show. In these cases, similarly to the first embodiment, the shield cover upper surface portion 31 is pushed by the hard second heat bonding member 52, and the soft first heat bonding member 51 is deformed, so that the force Is absorbed.

尚、上記以外の内容については、第1の実施の形態と同様である。   The contents other than the above are the same as in the first embodiment.

〔第3の実施の形態〕
次に、第3の実施の形態について説明する。本実施の形態は、図6に示されるように、シールドカバー外枠部32の上面32aの内側の面とシールドカバー上面部31の外側の面とを導電性弾性部材33により接続することにより、シールドカバー30が作製されている電子装置である。導電性弾性部材33による接続部分を変更しても、シールドカバー30が、シールドカバー外枠部32とシールドカバー上面部31が導電性弾性部材33により接続されていれば、第1の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment will be described. In this embodiment, as shown in FIG. 6, the inner surface of the upper surface 32 a of the shield cover outer frame portion 32 and the outer surface of the shield cover upper surface portion 31 are connected by a conductive elastic member 33. This is an electronic device in which the shield cover 30 is manufactured. If the shield cover 30 is connected to the shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 by the conductive elastic member 33 even if the connection portion by the conductive elastic member 33 is changed, the first embodiment The same effect can be obtained.

図7は、本実施の形態において、第2の熱接合部材52の厚さが設計厚みよりも厚く形成されていたり、間隔W2が設計値の中央値よりも狭く形成されている場合の状態を示す。これらの場合には、第1の実施の形態と同様に、硬い第2の熱接合部材52により、シールドカバー上面部31が押され、軟らかい第1の熱接合部材51が変形することにより、力が吸収される。   FIG. 7 shows a state where the thickness of the second thermal bonding member 52 is formed to be thicker than the design thickness or the interval W2 is formed to be narrower than the median value of the design value in the present embodiment. Show. In these cases, similarly to the first embodiment, the shield cover upper surface portion 31 is pushed by the hard second heat bonding member 52, and the soft first heat bonding member 51 is deformed, so that the force Is absorbed.

尚、上記以外の内容については、第1の実施の形態と同様である。   The contents other than the above are the same as in the first embodiment.

〔第4の実施の形態〕
次に、第4の実施の形態における電子装置について説明する。本実施の形態における電子装置は、図8に示されるように、CPU等の半導体素子10が、プリント基板20にハンダ付けされており、半導体素子10の周囲には、シールドカバー130及び導電性弾性支柱部140が設けられている。シールドカバー130は、半導体素子10から発生する電磁波をシールドするため金属材料により形成されている。シールドカバー130が取り付けられる導電性弾性支柱部140は、半導体素子10を囲むように形成されて、プリント基板20に設置されており、接地電位に接続されている。本実施の形態においては、導電性弾性支柱部140は、導電性ゴム等により形成されており、導電性と弾性の双方の機能を備えている。
[Fourth Embodiment]
Next, an electronic device according to a fourth embodiment will be described. As shown in FIG. 8, in the electronic device according to the present embodiment, a semiconductor element 10 such as a CPU is soldered to a printed circuit board 20, and a shield cover 130 and a conductive elastic material are disposed around the semiconductor element 10. A support column 140 is provided. The shield cover 130 is made of a metal material to shield electromagnetic waves generated from the semiconductor element 10. The conductive elastic support column 140 to which the shield cover 130 is attached is formed so as to surround the semiconductor element 10, is installed on the printed circuit board 20, and is connected to the ground potential. In the present embodiment, the conductive elastic support column 140 is made of conductive rubber or the like, and has both functions of conductivity and elasticity.

シールドカバー130は、上面130aと側面130bとを有しており、シールドカバー130の側面130bを導電性弾性支柱部140にはめ込むことにより、プリント基板20に設置されている半導体素子10をシールドカバー130により覆うことができる。具体的には、シールドカバー130の側面130bは、導電性弾性支柱部140の外形よりも若干大きな形状で形成されており、導電性弾性支柱部140が内側となるように、シールドカバー130の側面130bをはめ込むことができるように形成されている。これにより、プリント基板20に取り付けられている半導体素子10をシールドカバー130により覆うことができる。   The shield cover 130 has an upper surface 130a and a side surface 130b. By fitting the side surface 130b of the shield cover 130 into the conductive elastic column 140, the semiconductor element 10 installed on the printed circuit board 20 is shielded. Can be covered. Specifically, the side surface 130b of the shield cover 130 is formed in a shape slightly larger than the outer shape of the conductive elastic column portion 140, and the side surface of the shield cover 130 is arranged so that the conductive elastic column portion 140 is on the inner side. It is formed so that 130b can be fitted. Thereby, the semiconductor element 10 attached to the printed circuit board 20 can be covered with the shield cover 130.

半導体素子10とシールドカバー130の上面130aとの間には、半導体素子10及びシールドカバー130の上面130aの内側の面と接触するように、第1の熱接合部材51が設けられている。また、シールドカバー130の上面130aと表示パネル61の裏面における金属板60との間には、シールドカバー130の上面130aの外側の面及び金属板60と接触するように、第2の熱接合部材52が設けられている。   A first thermal bonding member 51 is provided between the semiconductor element 10 and the upper surface 130 a of the shield cover 130 so as to be in contact with the inner surface of the semiconductor element 10 and the upper surface 130 a of the shield cover 130. Further, the second thermal bonding member is in contact with the outer surface of the upper surface 130 a of the shield cover 130 and the metal plate 60 between the upper surface 130 a of the shield cover 130 and the metal plate 60 on the back surface of the display panel 61. 52 is provided.

尚、導電性弾性支柱部140は、接地電位に接続されているため、導電性弾性支柱部140と側面130bにおいて接触しているシールドカバー130も接地電位となっている。このように、シールドカバー130を接地電位にすることにより、シールドカバー130において、半導体素子10を動作させた際に半導体素子10より発生する電磁波を遮蔽する効果を高めることができる。これにより、半導体素子10より発生した電磁波により、表示パネル61の表示等に及ぼす悪影響を抑制することができる。   Since the conductive elastic column 140 is connected to the ground potential, the shield cover 130 in contact with the conductive elastic column 140 on the side surface 130b is also at the ground potential. Thus, by setting the shield cover 130 to the ground potential, the shield cover 130 can enhance the effect of shielding electromagnetic waves generated from the semiconductor element 10 when the semiconductor element 10 is operated. Thereby, the adverse effect on the display of the display panel 61 by the electromagnetic wave generated from the semiconductor element 10 can be suppressed.

より詳細に本実施の形態の電子装置について説明する。具体的には、半導体素子10とシールドカバー130の上面130aとの間隔W1が0.4mm±0.1mm、シールドカバー130の上面130aと金属板60との間隔W2が0.4mm±0.1mmとなる設計値の場合について説明する。   The electronic device of this embodiment will be described in more detail. Specifically, the interval W1 between the semiconductor element 10 and the upper surface 130a of the shield cover 130 is 0.4 mm ± 0.1 mm, and the interval W2 between the upper surface 130a of the shield cover 130 and the metal plate 60 is 0.4 mm ± 0.1 mm. The case of the design value will be described.

シールドカバー130は、厚さが約0.1mm厚のアルミニウム合金をプレス加工により、シールドカバー130の上面130aと側面130bとを形成することにより形成されている。導電性弾性支柱部140は、導電性のシリコンゴムにより形成されており、銀ペースト等の導電性接着剤により、プリント基板20に接続されている。   The shield cover 130 is formed by forming an upper surface 130a and a side surface 130b of the shield cover 130 by pressing an aluminum alloy having a thickness of about 0.1 mm. The conductive elastic support column 140 is made of conductive silicon rubber, and is connected to the printed circuit board 20 by a conductive adhesive such as silver paste.

第1の熱接合部材51は、設計厚み0.5mmのTC−50SP−1.7(信越化学工業株式会社製:アスカーC硬度2)により形成されている。また、第2の熱接合部材52は、設計厚み0.5mmのTC−50CAT−20(信越化学工業株式会社製:アスカーC硬度20)により形成されている。従って、アスカーC硬度は、第2の熱接合部材52よりも第1の熱接合部材51が低くなっている。即ち、第1の熱接合部材51は、第2の熱接合部材52よりも軟らかい材料により形成される。尚、熱接合部材は、通常、5%〜20%圧縮して用いられるため、20%圧縮した際の厚さが設計値の中央値となる厚さとなるように形成されている。   The first thermal bonding member 51 is formed of TC-50SP-1.7 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: Asker C hardness 2) having a design thickness of 0.5 mm. The second thermal bonding member 52 is formed of TC-50CAT-20 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: Asker C hardness 20) having a design thickness of 0.5 mm. Accordingly, the Asker C hardness is lower in the first thermal bonding member 51 than in the second thermal bonding member 52. That is, the first thermal bonding member 51 is formed of a material that is softer than the second thermal bonding member 52. In addition, since a heat joining member is normally used by compressing 5%-20%, it is formed so that the thickness at the time of 20% compression may become the median value of a design value.

本実施の形態においては、第2の熱接合部材52の厚さが設計厚みよりも厚く形成されていたり、間隔W2が設計値の中央値よりも狭く形成されている場合には、図9に示されるように、第2の熱接合部材52により、シールドカバー130の上面130aが押される。このように、硬い第2の熱接合部材52により、シールドカバー130の上面130aが押されて動き、軟らかい第1の熱接合部材51が変形することにより、力が吸収される。これにより、表示パネル61に加わる力を抑制することができるため、表示パネル61における表示画面がにじむことを防ぐことができ、また、電子装置の外観等の変形を防ぐことができる。この際、導電性弾性支柱部140は伸縮性を有しており縮むが、シールドカバー130は、導電性弾性支柱部140と接触しており、シールドカバー130は接地電位の状態が保たれるため、電磁シールドとしての機能が損なわれることはない。   In the present embodiment, when the thickness of the second thermal bonding member 52 is formed to be thicker than the design thickness or the interval W2 is formed to be narrower than the median value of the design value, FIG. As shown, the upper surface 130 a of the shield cover 130 is pushed by the second thermal bonding member 52. In this way, the upper surface 130a of the shield cover 130 is pushed and moved by the hard second heat bonding member 52, and the soft first heat bonding member 51 is deformed to absorb the force. Thereby, since the force applied to the display panel 61 can be suppressed, the display screen on the display panel 61 can be prevented from blurring, and deformation of the electronic device such as the appearance can be prevented. At this time, the conductive elastic support column 140 is elastic and contracts, but the shield cover 130 is in contact with the conductive elastic support column 140, and the shield cover 130 is maintained at the ground potential. The function as an electromagnetic shield is not impaired.

尚、上記以外の内容については、第1の実施の形態と同様である。   The contents other than the above are the same as in the first embodiment.

〔第5の実施の形態〕
次に、第5の実施の形態における電子装置について説明する。本実施の形態における電子装置は、図10に示されるように、CPU等の半導体素子10は、プリント基板20にハンダ付けされており、半導体素子10の周囲には、シールドカバー230及びシールド支柱部40が設けられている。シールドカバー230が取り付けられるシールド支柱部40は、導電性を有する金属材料等により、半導体素子10を囲むように形成され、プリント基板20にハンダ付けされており、接地電位に接続されている。
[Fifth Embodiment]
Next, an electronic device according to a fifth embodiment will be described. In the electronic device according to the present embodiment, as shown in FIG. 10, a semiconductor element 10 such as a CPU is soldered to a printed circuit board 20, and a shield cover 230 and a shield post portion are provided around the semiconductor element 10. 40 is provided. The shield support column 40 to which the shield cover 230 is attached is formed so as to surround the semiconductor element 10 with a conductive metal material or the like, is soldered to the printed circuit board 20, and is connected to the ground potential.

図11〜図14に基づきシールドカバー230について説明する。シールドカバー230は、上面の中央部分に上面部中央領域231、上面部中央領域231の周囲に上面部周辺領域232が形成されており、上面部中央領域231と上面部周辺領域232との間には、エキスパンドメタル領域233が形成されている。尚、図11は、シールドカバー230の上面図であり、図12は断面図であり、図12(a)は、エキスパンドメタル領域233が広がっていない状態、図12(b)は、エキスパンドメタル領域233が広がっている状態を示す。   The shield cover 230 will be described with reference to FIGS. The shield cover 230 has an upper surface portion central region 231 formed in the central portion of the upper surface, and an upper surface portion peripheral region 232 formed around the upper surface portion central region 231, and is interposed between the upper surface portion central region 231 and the upper surface portion peripheral region 232. The expanded metal region 233 is formed. 11 is a top view of the shield cover 230, FIG. 12 is a cross-sectional view, FIG. 12 (a) is a state where the expanded metal region 233 is not expanded, and FIG. 12 (b) is an expanded metal region. A state where 233 is spread is shown.

シールドカバー230は、上面部周辺領域232の周囲が折り曲げられており側面部234が形成されている。エキスパンドメタル領域233は、図13(a)に示されるように、シールドカバー230の上面において複数の切り込み233aを設けることにより形成されている。本実施の形態においては、エキスパンドメタル領域233は、上面部中央領域231と上面部周辺領域232との間に6重の切り込み233aを設けることにより形成されている。尚、図10〜図15においては、便宜上、形成されている切り込み233aが4重の場合を示している。   The shield cover 230 has a side surface portion 234 formed by bending the periphery of the upper surface portion peripheral region 232. The expanded metal region 233 is formed by providing a plurality of cuts 233a on the upper surface of the shield cover 230, as shown in FIG. In the present embodiment, the expanded metal region 233 is formed by providing a six-fold cut 233 a between the upper surface central region 231 and the upper surface peripheral region 232. 10 to 15 show a case where the cuts 233a formed are quadruple for convenience.

これにより、シールドカバー230における上面部中央領域231に、上から力が加わることにより、エキスパンドメタル領域233において、切り込み233aの開口が広がり伸びる。尚、図14(a)は、図12(a)における状態のエキスパンドメタル領域233の断面の拡大図であり、図14(b)は、図12(b)における状態のエキスパンドメタル領域233の断面の拡大図である。   Accordingly, a force is applied to the upper surface central region 231 of the shield cover 230 from above, so that the opening of the notch 233a is expanded and extended in the expanded metal region 233. 14A is an enlarged view of a cross section of the expanded metal region 233 in the state shown in FIG. 12A, and FIG. 14B is a cross section of the expanded metal region 233 in the state shown in FIG. FIG.

本実施の形態においては、シールドカバー230における側面部234をシールド支柱部40にはめ込むことにより、プリント基板20の上の半導体素子10をシールドカバー230により覆うことができるように形成されている。具体的には、シールドカバー230における側面部234は、シールド支柱部40の外形よりも若干大きな形状で形成されている。よって、シールド支柱部40が内側となるように、シールドカバー230における側面部234をはめ込むことができ、シールドカバー230における側面部234をはめ込むことにより、半導体素子10をシールドカバー230により覆うことができる。   In the present embodiment, the semiconductor element 10 on the printed circuit board 20 can be covered with the shield cover 230 by fitting the side surface part 234 of the shield cover 230 into the shield column part 40. Specifically, the side surface portion 234 of the shield cover 230 is formed in a shape slightly larger than the outer shape of the shield support column 40. Therefore, the side surface portion 234 of the shield cover 230 can be fitted so that the shield column 40 is on the inside, and the semiconductor element 10 can be covered with the shield cover 230 by fitting the side surface portion 234 of the shield cover 230. .

半導体素子10とシールドカバー230における上面部中央領域231との間には、半導体素子10及びシールドカバー230における上面部中央領域231の内側の面と接触するように、第1の熱接合部材51が設けられている。また、シールドカバー230における上面部中央領域231と表示パネル61の裏面における金属板60との間には、シールドカバー230における上面部中央領域231の外側の面及び金属板60と接触するように、第2の熱接合部材52が設けられている。   Between the semiconductor element 10 and the upper surface central region 231 of the shield cover 230, the first thermal bonding member 51 is in contact with the inner surface of the upper surface central region 231 of the semiconductor element 10 and the shield cover 230. Is provided. Further, between the upper surface central region 231 of the shield cover 230 and the metal plate 60 on the back surface of the display panel 61, the outer surface of the upper surface central region 231 of the shield cover 230 and the metal plate 60 are in contact. A second thermal bonding member 52 is provided.

尚、シールド支柱部40は、接地電位となっているため、シールド支柱部40と側面部234において接触しているシールドカバー230の全体も接地電位となっている。即ち、シールドカバー230における上面部中央領域231、上面部周辺領域232、エキスパンドメタル領域233、側面部234も接地電位となっている。このように、シールドカバー230の全体を接地電位にすることにより、シールドカバー230において、半導体素子10を動作させた際に半導体素子10より発生する電子波を遮蔽する効果を高めることができる。これにより、半導体素子10より発生した電磁波により、表示パネル61の表示等に及ぼす悪影響を抑制することができる。   In addition, since the shield support | pillar part 40 is a grounding potential, the whole shield cover 230 which is in contact with the shield support | pillar part 40 and the side part 234 is also a grounding potential. That is, the upper surface central region 231, the upper surface peripheral region 232, the expanded metal region 233, and the side surface 234 in the shield cover 230 are also at ground potential. Thus, by setting the entire shield cover 230 to the ground potential, the shield cover 230 can enhance the effect of shielding the electron wave generated from the semiconductor element 10 when the semiconductor element 10 is operated. Thereby, the adverse effect on the display of the display panel 61 by the electromagnetic wave generated from the semiconductor element 10 can be suppressed.

尚、シールドカバー230において、電磁シールドしようとするノイズとなる電磁波は、一般的には、周波数がMHz帯からGHz帯の電磁波である。このため、エキスパンドメタル領域233における切り込み233aにより形成される開口は、電磁波における波長の1/10以下であることが好ましい。例えば、周波数が100MHzの電磁波がノイズとなる場合、100MHzの電磁波の波長は3mmであるため、エキスパンドメタル領域233の切り込み233aの広がった開口が最大で0.3mmとなるように形成されていれば、十分なシールド効果が得られる。上記の場合、100MHzよりも低い周波数の電磁波では、波長はこれよりも長くなるため、100MHz以下の周波数の電磁波をすべて遮蔽することができる。従って、ノイズとなる電磁波のうち、最も周波数の高い電磁波に対応して切り込み233aを形成することにより、すべてのノイズとなる電磁波を遮蔽することができる。   Note that, in the shield cover 230, electromagnetic waves that become noise to be electromagnetically shielded are generally electromagnetic waves having a frequency in the MHz band to the GHz band. For this reason, it is preferable that the opening formed by the notch 233a in the expanded metal region 233 is 1/10 or less of the wavelength in the electromagnetic wave. For example, when an electromagnetic wave having a frequency of 100 MHz becomes noise, the wavelength of the electromagnetic wave of 100 MHz is 3 mm, so that the opening in which the notch 233a of the expanded metal region 233 extends is 0.3 mm at the maximum. A sufficient shielding effect can be obtained. In the above case, the electromagnetic wave having a frequency lower than 100 MHz has a longer wavelength, and therefore can shield all electromagnetic waves having a frequency of 100 MHz or less. Therefore, by forming the cut 233a corresponding to the electromagnetic wave having the highest frequency among the electromagnetic waves that become noise, all the electromagnetic waves that become noise can be shielded.

より詳細に本実施の形態の電子装置について説明する。具体的には、半導体素子10とシールドカバー230の上面部中央領域231との間隔W1が0.4mm±0.1mm、シールドカバー30の上面部中央領域231と金属板60との間隔W2が0.4mm±0.1mmとなる設計値の場合について説明する。   The electronic device of this embodiment will be described in more detail. Specifically, the interval W1 between the semiconductor element 10 and the upper surface center region 231 of the shield cover 230 is 0.4 mm ± 0.1 mm, and the interval W2 between the upper surface center region 231 of the shield cover 30 and the metal plate 60 is 0. The case of a design value of 4 mm ± 0.1 mm will be described.

シールドカバー230は、厚さが約0.1mm厚のアルミニウム合金により形成されており、プレス加工により作製されている。   The shield cover 230 is made of an aluminum alloy having a thickness of about 0.1 mm, and is produced by pressing.

第1の熱接合部材51は、設計厚み0.5mmのTC−50SP−1.7(信越化学工業株式会社製:アスカーC硬度2)により形成されている。第2の熱接合部材52は、設計厚み0.5mmのTC−50CAT−20(信越化学工業株式会社製:アスカーC硬度20)により形成されている。従って、アスカーC硬度は、第2の熱接合部材52よりも第1の熱接合部材51が低くなっている。即ち、第1の熱接合部材51は、第2の熱接合部材52よりも軟らかい材料により形成される。尚、熱接合部材は、通常、5%〜20%圧縮して用いられるため、20%圧縮した際の厚さが設計値の中央値となるように形成されている。   The first thermal bonding member 51 is formed of TC-50SP-1.7 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: Asker C hardness 2) having a design thickness of 0.5 mm. The second thermal bonding member 52 is formed of TC-50CAT-20 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: Asker C hardness 20) having a design thickness of 0.5 mm. Accordingly, the Asker C hardness is lower in the first thermal bonding member 51 than in the second thermal bonding member 52. That is, the first thermal bonding member 51 is formed of a material that is softer than the second thermal bonding member 52. In addition, since a heat joining member is normally used by compressing 5%-20%, it is formed so that the thickness at the time of 20% compression may become the median value of a design value.

本実施の形態においては、第2の熱接合部材52の厚さが設計厚みよりも厚く形成されていたり、間隔W2が設計値の中央値よりも狭く形成されている場合には、図15に示されるように、第2の熱接合部材52により、上面部中央領域231が押される。このように、硬い第2の熱接合部材52により、シールドカバー230における上面部中央領域231が押されて動き、軟らかい第1の熱接合部材51が変形することにより、力が吸収される。これにより、表示パネル61に加わる力を抑制することができるため、表示パネル61における表示画面がにじむことを防ぐことができ、また、電子装置の外観等の変形を防ぐことができる。この際、シールドカバー230における上面部中央領域231と上面部周辺領域232との間におけるエキスパンドメタル領域233が伸縮性を有しており伸びる。これにより、シールドカバー230における上面部中央領域231は接地電位の状態が保たれるため、電磁シールドとしての機能が損なわれることはない。   In the present embodiment, when the thickness of the second thermal bonding member 52 is formed to be thicker than the design thickness or the interval W2 is formed to be narrower than the median value of the design value, FIG. As shown, the upper surface central region 231 is pushed by the second thermal bonding member 52. As described above, the hard second thermal bonding member 52 pushes and moves the upper surface central region 231 of the shield cover 230, and the soft first thermal bonding member 51 is deformed to absorb the force. Thereby, since the force applied to the display panel 61 can be suppressed, the display screen on the display panel 61 can be prevented from blurring, and deformation of the electronic device such as the appearance can be prevented. At this time, the expanded metal region 233 between the upper surface central region 231 and the upper surface peripheral region 232 of the shield cover 230 has elasticity and extends. As a result, the upper surface central region 231 of the shield cover 230 is maintained at the ground potential state, so that the function as an electromagnetic shield is not impaired.

〔第6の実施の形態〕
次に、第6の実施の形態における電子装置について説明する。本実施の形態における電子装置は、図16に示されるように、CPU等の半導体素子10が、プリント基板20にハンダ付けされており、半導体素子10の周囲には、シールドカバー30が設けられている。シールドカバー30は、半導体素子10から発生する電磁波をシールドするため金属材料により形成されている。シールドカバー30は、半導体素子10を囲むように形成され、プリント基板20に直接ハンダ付け等により取り付けられており、接地電位に接続されている。
[Sixth Embodiment]
Next, an electronic device according to a sixth embodiment will be described. In the electronic device according to the present embodiment, as shown in FIG. 16, a semiconductor element 10 such as a CPU is soldered to a printed circuit board 20, and a shield cover 30 is provided around the semiconductor element 10. Yes. The shield cover 30 is made of a metal material to shield electromagnetic waves generated from the semiconductor element 10. The shield cover 30 is formed so as to surround the semiconductor element 10 and is directly attached to the printed circuit board 20 by soldering or the like, and is connected to the ground potential.

シールドカバー30は、上面の中央部分に設置されるシールドカバー上面部31と、上面の中央部分に開口が形成されているシールドカバー外枠部32とを有している。シールドカバー上面部31は、シールドカバー外枠部32における開口よりも若干大きな形状で形成されている。シールドカバー外枠部32は、中央に開口を有する上面32aと側面32bとにより形成されている。シールドカバー外枠部32とシールドカバー上面部31とは、シールドカバー外枠部32の上面32aにおける外側の面とシールドカバー上面部31における外側の面とが、導電性弾性部材33により接続されている。導電性弾性部材33は、導電性ゴム等の導電性を有する樹脂材料により形成されており、導電性と弾性の双方の機能を備えている。本実施の形態においては、シールドカバー30におけるシールドカバー外枠部32が、プリント基板20に直接ハンダ付け等により取り付けられている。   The shield cover 30 has a shield cover upper surface portion 31 installed at the center portion of the upper surface, and a shield cover outer frame portion 32 having an opening formed at the center portion of the upper surface. The shield cover upper surface portion 31 is formed in a shape slightly larger than the opening in the shield cover outer frame portion 32. The shield cover outer frame portion 32 is formed by an upper surface 32a and a side surface 32b having an opening at the center. The shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 are formed by connecting an outer surface of the upper surface 32 a of the shield cover outer frame portion 32 and an outer surface of the shield cover upper surface portion 31 by the conductive elastic member 33. Yes. The conductive elastic member 33 is formed of a conductive resin material such as conductive rubber and has both functions of conductivity and elasticity. In the present embodiment, the shield cover outer frame portion 32 of the shield cover 30 is attached directly to the printed circuit board 20 by soldering or the like.

半導体素子10とシールドカバー上面部31との間には、半導体素子10及びシールドカバー上面部31の内側の面と接触するように、第1の熱接合部材51が設けられている。また、シールドカバー上面部31と表示パネル61の裏面における金属板60との間には、シールドカバー上面部31の外側の面及び金属板60と接触するように、第2の熱接合部材52が設けられている。   A first thermal bonding member 51 is provided between the semiconductor element 10 and the shield cover upper surface portion 31 so as to contact the inner surface of the semiconductor element 10 and the shield cover upper surface portion 31. Further, between the shield cover upper surface portion 31 and the metal plate 60 on the back surface of the display panel 61, the second thermal bonding member 52 is in contact with the outer surface of the shield cover upper surface portion 31 and the metal plate 60. Is provided.

尚、シールドカバー外枠部32は、接地電位に接続されているため、シールドカバー外枠部32と導電性弾性部材33により接続されているシールドカバー上面部31も接地電位となっている。このように、シールドカバー外枠部32及びシールドカバー上面部31を接地電位にすることにより、半導体素子10を動作させた際に半導体素子10より発生する電磁波をシールドカバー30において遮蔽する効果を高めることができる。これにより、半導体素子10より発生した電磁波により、表示パネル61の表示等に及ぼす悪影響を抑制することができる。   Since the shield cover outer frame portion 32 is connected to the ground potential, the shield cover upper frame portion 31 connected by the shield cover outer frame portion 32 and the conductive elastic member 33 is also at the ground potential. Thus, by setting the shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 to the ground potential, the effect of shielding the electromagnetic wave generated from the semiconductor element 10 when the semiconductor element 10 is operated in the shield cover 30 is enhanced. be able to. Thereby, the adverse effect on the display of the display panel 61 by the electromagnetic wave generated from the semiconductor element 10 can be suppressed.

より詳細に本実施の形態の電子装置について説明する。具体的には、半導体素子10とシールドカバー30のシールドカバー上面部31との間隔W1が0.4mm±0.1mm、シールドカバー30のシールドカバー上面部31と金属板60との間隔W2が0.4mm±0.1mmとなる設計値の場合について説明する。   The electronic device of this embodiment will be described in more detail. Specifically, the interval W1 between the semiconductor element 10 and the shield cover upper surface portion 31 of the shield cover 30 is 0.4 mm ± 0.1 mm, and the interval W2 between the shield cover upper surface portion 31 of the shield cover 30 and the metal plate 60 is 0. The case of a design value of 4 mm ± 0.1 mm will be described.

シールドカバー30におけるシールドカバー外枠部32及びシールドカバー上面部31は、厚さが約0.1mm厚のアルミニウム合金により形成されている。   The shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 of the shield cover 30 are formed of an aluminum alloy having a thickness of about 0.1 mm.

シールドカバー外枠部32と導電性弾性部材33との接続、及び、シールドカバー上面部31と導電性弾性部材33との接続は、熱圧着によりなされており、例えば、アマルファ(メック株式会社)により行ってもよい。   The connection between the shield cover outer frame portion 32 and the conductive elastic member 33 and the connection between the shield cover upper surface portion 31 and the conductive elastic member 33 are made by thermocompression bonding, for example, by Amalfa (MEC Corporation). You may go.

第1の熱接合部材51は、設計厚み0.5mmのTC−50SP−1.7(信越化学工業株式会社製:アスカーC硬度2)により形成されている。第2の熱接合部材52は、設計厚み0.5mmのTC−50CAT−20(信越化学工業株式会社製:アスカーC硬度20)により形成されている。   The first thermal bonding member 51 is formed of TC-50SP-1.7 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: Asker C hardness 2) having a design thickness of 0.5 mm. The second thermal bonding member 52 is formed of TC-50CAT-20 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: Asker C hardness 20) having a design thickness of 0.5 mm.

本実施の形態においては、第2の熱接合部材52の厚さが設計厚みよりも厚く形成されていたり、間隔W2が設計値の中央値よりも狭く形成されている場合には、図17に示されるように、第2の熱接合部材52により、シールドカバー上面部31が押される。このように、硬い第2の熱接合部材52により、シールドカバー上面部31が押されて動き、軟らかい第1の熱接合部材51が変形することにより、力が吸収される。これにより、表示パネル61に加わる力を抑制することができるため、表示パネル61における表示画面がにじむことを防ぐことができ、また、電子装置の外観等の変形を防ぐことができる。この際、シールドカバー外枠部32とシールドカバー上面部31とを接続している伸縮性を有する導電性弾性部材33が伸びるため、シールドカバー上面部31は接地電位が保たれ、電磁シールドとしての機能が損なわれることはない。   In the present embodiment, when the thickness of the second thermal bonding member 52 is formed to be thicker than the design thickness or the interval W2 is formed to be narrower than the median value of the design value, FIG. As shown, the shield cover upper surface portion 31 is pushed by the second thermal bonding member 52. In this way, the shield cover upper surface portion 31 is pushed and moved by the hard second heat bonding member 52, and the soft first heat bonding member 51 is deformed to absorb the force. Thereby, since the force applied to the display panel 61 can be suppressed, the display screen on the display panel 61 can be prevented from blurring, and deformation of the electronic device such as the appearance can be prevented. At this time, since the elastic elastic conductive member 33 connecting the shield cover outer frame portion 32 and the shield cover upper surface portion 31 extends, the shield cover upper surface portion 31 is maintained at the ground potential, and serves as an electromagnetic shield. There is no loss of functionality.

以上、実施の形態について詳述したが、特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。   Although the embodiment has been described in detail above, it is not limited to the specific embodiment, and various modifications and changes can be made within the scope described in the claims.

上記の説明に関し、更に以下の付記を開示する。
(付記1)
基板の上に設置された半導体素子を覆う、金属材料により形成されたシールドカバーであって、
上面の中央部分におけるシールドカバー上面部と、
前記上面の中央部分に開口を有するシールドカバー外枠部と、
を有し、前記シールドカバー上面部と前記シールドカバー外枠部は、導電性弾性部材により接続されており、
前記半導体素子と前記シールドカバー上面部との間には、前記半導体素子から前記シールドカバー上面部に熱を伝導させる第1の熱接合部材が設置され、
前記シールドカバー上面部と表示パネルの裏面に設けられた金属板との間には、前記シールドカバー上面部から前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材が設置されることを特徴とするシールドカバー。
(付記2)
前記導電性弾性部材は、導電性を有する樹脂材料により形成されていることを特徴とする付記1に記載のシールドカバー。
(付記3)
基板の上に設置された半導体素子を覆う、金属材料により形成されたシールドカバーであって、
上面の中央部分における上面部中央領域と、
前記上面部中央領域を囲む上面部周辺領域と、
前記上面部中央領域と前記上面部周辺領域との間に形成されたエキスパンドメタル領域と、
を有し、
前記エキスパンドメタル領域は、前記シールドカバーに複数の切り込みを設けることにより形成されており、
前記半導体素子と前記シールドカバーの前記上面部中央領域との間には、前記半導体素子から前記シールドカバーに熱を伝導させる第1の熱接合部材が設置され、
前記シールドカバーの前記上面部中央領域と表示パネルの裏面に設けられた金属板との間には、前記シールドカバーから前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材が設置されることを特徴とするシールドカバー。
(付記4)
前記シールドカバーは、前記半導体素子からの電磁波をシールドするものであることを特徴とする付記1から3のいずれかに記載のシールドカバー。
(付記5)
基板の上に設置された半導体素子と、
金属材料により形成された前記半導体素子を覆うシールドカバーと、
表示パネルの裏面に設けられた金属板と、
前記半導体素子と前記シールドカバーとの間に設置された前記半導体素子から前記シールドカバーに熱を伝導させる第1の熱接合部材と、
前記シールドカバーと前記金属板との間に設置された前記シールドカバーから前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材と、
を有し、
前記シールドカバーは、上面の中央部分におけるシールドカバー上面部と、前記上面の中央部分に開口を有するシールドカバー外枠部と、を有し、前記シールドカバー上面部と前記シールドカバー外枠部は、導電性弾性部材により接続されており、
前記第1の熱接合部材は、前記半導体素子と前記シールドカバー上面部との間に設置されており、
前記第2の熱接合部材は、前記シールドカバー上面部と前記金属板との間に設置されていることを特徴とする電子装置。
(付記6)
前記導電性弾性部材は、導電性を有する樹脂材料により形成されていることを特徴とする付記5に記載の電子装置。
(付記7)
基板の上に設置された半導体素子と、
金属材料により形成された前記半導体素子を覆うシールドカバーと、
表示パネルの裏面に設けられた金属板と、
前記半導体素子と前記シールドカバーとの間に設置された前記半導体素子から前記シールドカバーに熱を伝導させる第1の熱接合部材と、
前記シールドカバーと前記金属板との間に設置された前記シールドカバーから前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材と、
を有し、
前記シールドカバーは、上面の中央部分における上面部中央領域と、前記上面部中央領域を囲む上面部周辺領域と、前記上面部中央領域と前記上面部周辺領域との間に形成されたエキスパンドメタル領域とを有し、
前記エキスパンドメタル領域は、前記シールドカバーに複数の切り込みを設けることにより形成されており、
前記第1の熱接合部材は、前記半導体素子と前記シールドカバーの前記上面部中央領域との間に設置されており、
前記第2の熱接合部材は、前記シールドカバーの前記上面部中央領域と前記金属板との間に設置されていることを特徴とする電子装置。
(付記8)
前記基板には、導電性材料により形成されたシールド支柱部が設けられており、
前記シールド支柱部は、接地電位に接続されており、
前記シールドカバーは、前記シールド支柱部と接触して、前記シールド支柱部の一部又は全部を覆い設置されていることを特徴とする付記5から7のいずれかに記載の電子装置。
(付記9)
前記シールドカバーにおける側面が前記基板に接続され、接地電位に接続されていることを特徴とする付記5から7のいずれかに記載の電子装置。
(付記10)
基板の上に設置された半導体素子と、
金属材料により形成された前記半導体素子を覆うシールドカバーと、
表示パネルの裏面に設けられた金属板と、
前記半導体素子と前記シールドカバーとの間に設置された前記半導体素子から前記シールドカバーに熱を伝導させる第1の熱接合部材と、
前記シールドカバーと前記金属板との間に設置された前記シールドカバーから前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材と、
を有し、
前記基板には、導電性弾性部材により形成された導電性弾性支柱部が設けられており、
前記導電性弾性支柱部は、接地電位に接続されており、
前記シールドカバーは、前記導電性弾性支柱部と接触して、前記導電性弾性支柱部の一部又は全部を覆い設置されていることを特徴とする電子装置。
(付記11)
前記導電性弾性支柱部は、導電性を有する樹脂材料により形成されていることを特徴とする付記10に記載の電子装置。
(付記12)
前記第1の熱接合部材は、前記第2の熱接合部材よりも、硬度が低いことを特徴とする付記5から11のいずれかに記載の電子装置。
(付記13)
前記第1の熱接合部材及び前記第2の熱接合部材は、放熱シートであることを特徴とする付記5から12のいずれかに記載の電子装置。
(付記14)
前記表示パネルは、液晶パネルまたはエレクトロルミネッセンスパネルであることを特徴とする付記5から13のいずれかに記載の電子装置。
In addition to the above description, the following additional notes are disclosed.
(Appendix 1)
A shield cover made of a metal material covering a semiconductor element installed on a substrate;
An upper surface portion of the shield cover in a central portion of the upper surface;
A shield cover outer frame portion having an opening in a central portion of the upper surface;
The shield cover upper surface part and the shield cover outer frame part are connected by a conductive elastic member,
Between the semiconductor element and the shield cover upper surface portion, a first thermal bonding member that conducts heat from the semiconductor element to the shield cover upper surface portion is installed,
Between the shield cover upper surface part and the metal plate provided on the back surface of the display panel, a second heat bonding member for conducting heat from the shield cover upper surface part to the metal plate is installed. Shield cover.
(Appendix 2)
The shield cover according to appendix 1, wherein the conductive elastic member is made of a conductive resin material.
(Appendix 3)
A shield cover made of a metal material covering a semiconductor element installed on a substrate;
A central region of the upper surface portion in the central portion of the upper surface;
An upper surface peripheral region surrounding the upper surface central region;
An expanded metal region formed between the upper surface central region and the upper surface peripheral region;
Have
The expanded metal region is formed by providing a plurality of cuts in the shield cover,
Between the semiconductor element and the central region of the upper surface portion of the shield cover, a first thermal bonding member that conducts heat from the semiconductor element to the shield cover is installed,
A second thermal bonding member that conducts heat from the shield cover to the metal plate is installed between the central region of the upper surface portion of the shield cover and the metal plate provided on the back surface of the display panel. Characteristic shield cover.
(Appendix 4)
The shield cover according to any one of appendices 1 to 3, wherein the shield cover shields electromagnetic waves from the semiconductor element.
(Appendix 5)
A semiconductor element installed on a substrate;
A shield cover that covers the semiconductor element formed of a metal material;
A metal plate provided on the back surface of the display panel;
A first thermal bonding member for conducting heat from the semiconductor element installed between the semiconductor element and the shield cover to the shield cover;
A second thermal bonding member for conducting heat from the shield cover installed between the shield cover and the metal plate to the metal plate;
Have
The shield cover includes a shield cover upper surface portion in a central portion of the upper surface, and a shield cover outer frame portion having an opening in the central portion of the upper surface, and the shield cover upper surface portion and the shield cover outer frame portion are Connected by a conductive elastic member,
The first thermal bonding member is installed between the semiconductor element and the shield cover upper surface part,
The second thermal bonding member is installed between the shield cover upper surface portion and the metal plate.
(Appendix 6)
The electronic device according to appendix 5, wherein the conductive elastic member is made of a conductive resin material.
(Appendix 7)
A semiconductor element installed on a substrate;
A shield cover that covers the semiconductor element formed of a metal material;
A metal plate provided on the back surface of the display panel;
A first thermal bonding member for conducting heat from the semiconductor element installed between the semiconductor element and the shield cover to the shield cover;
A second thermal bonding member for conducting heat from the shield cover installed between the shield cover and the metal plate to the metal plate;
Have
The shield cover includes an upper surface central region in a central portion of the upper surface, an upper surface peripheral region surrounding the upper surface central region, and an expanded metal region formed between the upper surface central region and the upper surface peripheral region. And
The expanded metal region is formed by providing a plurality of cuts in the shield cover,
The first thermal bonding member is installed between the semiconductor element and the central region of the upper surface portion of the shield cover,
The electronic device according to claim 1, wherein the second thermal bonding member is disposed between the central region of the upper surface portion of the shield cover and the metal plate.
(Appendix 8)
The substrate is provided with a shield post formed of a conductive material,
The shield post is connected to a ground potential;
The electronic device according to any one of appendices 5 to 7, wherein the shield cover is in contact with the shield support portion and is installed so as to cover part or all of the shield support portion.
(Appendix 9)
The electronic device according to any one of appendices 5 to 7, wherein a side surface of the shield cover is connected to the substrate and connected to a ground potential.
(Appendix 10)
A semiconductor element installed on a substrate;
A shield cover that covers the semiconductor element formed of a metal material;
A metal plate provided on the back surface of the display panel;
A first thermal bonding member for conducting heat from the semiconductor element installed between the semiconductor element and the shield cover to the shield cover;
A second thermal bonding member for conducting heat from the shield cover installed between the shield cover and the metal plate to the metal plate;
Have
The substrate is provided with a conductive elastic column portion formed of a conductive elastic member,
The conductive elastic strut portion is connected to a ground potential,
The electronic device according to claim 1, wherein the shield cover is in contact with the conductive elastic column portion and covers a part or all of the conductive elastic column portion.
(Appendix 11)
11. The electronic device according to appendix 10, wherein the conductive elastic column part is formed of a conductive resin material.
(Appendix 12)
The electronic device according to any one of appendices 5 to 11, wherein the first thermal bonding member has a lower hardness than the second thermal bonding member.
(Appendix 13)
The electronic device according to any one of appendices 5 to 12, wherein the first thermal bonding member and the second thermal bonding member are heat dissipation sheets.
(Appendix 14)
14. The electronic device according to any one of appendices 5 to 13, wherein the display panel is a liquid crystal panel or an electroluminescence panel.

10 半導体素子
20 プリント基板
30 シールドカバー
31 シールドカバー上面部
32 シールドカバー外枠部
32a シールドカバー外枠部の上面
32b シールドカバー外枠部の側面
33 導電性弾性部材
40 シールド支柱部
51 第1の熱接合部材
52 第2の熱接合部材
60 金属板
61 表示パネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor element 20 Printed circuit board 30 Shield cover 31 Shield cover upper surface part 32 Shield cover outer frame part 32a Upper surface 32b of shield cover outer frame part Side surface 33 of shield cover outer frame part Conductive elastic member 40 Shield support | pillar part 51 1st heat Joining member 52 Second thermal joining member 60 Metal plate 61 Display panel

Claims (8)

基板の上に設置された半導体素子を覆う、金属材料により形成されたシールドカバーであって、
上面の中央部分におけるシールドカバー上面部と、
前記上面の中央部分に開口を有するシールドカバー外枠部と、
を有し、前記シールドカバー上面部と前記シールドカバー外枠部は、導電性弾性部材により接続されており、
前記半導体素子と前記シールドカバー上面部との間には、前記半導体素子から前記シールドカバー上面部に熱を伝導させる第1の熱接合部材が設置され、
前記シールドカバー上面部と表示パネルの裏面に設けられた金属板との間には、前記シールドカバー上面部から前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材が設置されることを特徴とするシールドカバー。
A shield cover made of a metal material covering a semiconductor element installed on a substrate;
An upper surface portion of the shield cover in a central portion of the upper surface;
A shield cover outer frame portion having an opening in a central portion of the upper surface;
The shield cover upper surface part and the shield cover outer frame part are connected by a conductive elastic member,
Between the semiconductor element and the shield cover upper surface portion, a first thermal bonding member that conducts heat from the semiconductor element to the shield cover upper surface portion is installed,
Between the shield cover upper surface part and the metal plate provided on the back surface of the display panel, a second heat bonding member for conducting heat from the shield cover upper surface part to the metal plate is installed. Shield cover.
前記導電性弾性部材は、導電性を有する樹脂材料により形成されていることを特徴とする請求項1に記載のシールドカバー。   The shield cover according to claim 1, wherein the conductive elastic member is formed of a resin material having conductivity. 基板の上に設置された半導体素子を覆う、金属材料により形成されたシールドカバーであって、
上面の中央部分における上面部中央領域と、
前記上面部中央領域を囲む上面部周辺領域と、
前記上面部中央領域と前記上面部周辺領域との間に形成されたエキスパンドメタル領域と、
を有し、
前記エキスパンドメタル領域は、前記シールドカバーに複数の切り込みを設けることにより形成されており、
前記半導体素子と前記シールドカバーの前記上面部中央領域との間には、前記半導体素子から前記シールドカバーに熱を伝導させる第1の熱接合部材が設置され、
前記シールドカバーの前記上面部中央領域と表示パネルの裏面に設けられた金属板との間には、前記シールドカバーから前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材が設置されることを特徴とするシールドカバー。
A shield cover made of a metal material covering a semiconductor element installed on a substrate;
A central region of the upper surface portion in the central portion of the upper surface;
An upper surface peripheral region surrounding the upper surface central region;
An expanded metal region formed between the upper surface central region and the upper surface peripheral region;
Have
The expanded metal region is formed by providing a plurality of cuts in the shield cover,
Between the semiconductor element and the central region of the upper surface portion of the shield cover, a first thermal bonding member that conducts heat from the semiconductor element to the shield cover is installed,
A second thermal bonding member that conducts heat from the shield cover to the metal plate is installed between the central region of the upper surface portion of the shield cover and the metal plate provided on the back surface of the display panel. Characteristic shield cover.
基板の上に設置された半導体素子と、
金属材料により形成された前記半導体素子を覆うシールドカバーと、
表示パネルの裏面に設けられた金属板と、
前記半導体素子と前記シールドカバーとの間に設置された前記半導体素子から前記シールドカバーに熱を伝導させる第1の熱接合部材と、
前記シールドカバーと前記金属板との間に設置された前記シールドカバーから前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材と、
を有し、
前記シールドカバーは、上面の中央部分におけるシールドカバー上面部と、前記上面の中央部分に開口を有するシールドカバー外枠部と、を有し、前記シールドカバー上面部と前記シールドカバー外枠部は、導電性弾性部材により接続されており、
前記第1の熱接合部材は、前記半導体素子と前記シールドカバー上面部との間に設置されており、
前記第2の熱接合部材は、前記シールドカバー上面部と前記金属板との間に設置されていることを特徴とする電子装置。
A semiconductor element installed on a substrate;
A shield cover that covers the semiconductor element formed of a metal material;
A metal plate provided on the back surface of the display panel;
A first thermal bonding member for conducting heat from the semiconductor element installed between the semiconductor element and the shield cover to the shield cover;
A second thermal bonding member for conducting heat from the shield cover installed between the shield cover and the metal plate to the metal plate;
Have
The shield cover includes a shield cover upper surface portion in a central portion of the upper surface, and a shield cover outer frame portion having an opening in the central portion of the upper surface, and the shield cover upper surface portion and the shield cover outer frame portion are Connected by a conductive elastic member,
The first thermal bonding member is installed between the semiconductor element and the shield cover upper surface part,
The second thermal bonding member is installed between the shield cover upper surface portion and the metal plate.
前記導電性弾性部材は、導電性を有する樹脂材料により形成されていることを特徴とする請求項4に記載の電子装置。   The electronic device according to claim 4, wherein the conductive elastic member is formed of a conductive resin material. 基板の上に設置された半導体素子と、
金属材料により形成された前記半導体素子を覆うシールドカバーと、
表示パネルの裏面に設けられた金属板と、
前記半導体素子と前記シールドカバーとの間に設置された前記半導体素子から前記シールドカバーに熱を伝導させる第1の熱接合部材と、
前記シールドカバーと前記金属板との間に設置された前記シールドカバーから前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材と、
を有し、
前記シールドカバーは、上面の中央部分における上面部中央領域と、前記上面部中央領域を囲む上面部周辺領域と、前記上面部中央領域と前記上面部周辺領域との間に形成されたエキスパンドメタル領域とを有し、
前記エキスパンドメタル領域は、前記シールドカバーに複数の切り込みを設けることにより形成されており、
前記第1の熱接合部材は、前記半導体素子と前記シールドカバーの前記上面部中央領域との間に設置されており、
前記第2の熱接合部材は、前記シールドカバーの前記上面部中央領域と前記金属板との間に設置されていることを特徴とする電子装置。
A semiconductor element installed on a substrate;
A shield cover that covers the semiconductor element formed of a metal material;
A metal plate provided on the back surface of the display panel;
A first thermal bonding member for conducting heat from the semiconductor element installed between the semiconductor element and the shield cover to the shield cover;
A second thermal bonding member for conducting heat from the shield cover installed between the shield cover and the metal plate to the metal plate;
Have
The shield cover includes an upper surface central region in a central portion of the upper surface, an upper surface peripheral region surrounding the upper surface central region, and an expanded metal region formed between the upper surface central region and the upper surface peripheral region. And
The expanded metal region is formed by providing a plurality of cuts in the shield cover,
The first thermal bonding member is installed between the semiconductor element and the central region of the upper surface portion of the shield cover,
The electronic device according to claim 1, wherein the second thermal bonding member is disposed between the central region of the upper surface portion of the shield cover and the metal plate.
基板の上に設置された半導体素子と、
金属材料により形成された前記半導体素子を覆うシールドカバーと、
表示パネルの裏面に設けられた金属板と、
前記半導体素子と前記シールドカバーとの間に設置された前記半導体素子から前記シールドカバーに熱を伝導させる第1の熱接合部材と、
前記シールドカバーと前記金属板との間に設置された前記シールドカバーから前記金属板に熱を伝導させる第2の熱接合部材と、
を有し、
前記基板には、導電性弾性部材により形成された導電性弾性支柱部が設けられており、
前記導電性弾性支柱部は、接地電位に接続されており、
前記シールドカバーは、前記導電性弾性支柱部と接触して、前記導電性弾性支柱部の一部又は全部を覆い設置されていることを特徴とする電子装置。
A semiconductor element installed on a substrate;
A shield cover that covers the semiconductor element formed of a metal material;
A metal plate provided on the back surface of the display panel;
A first thermal bonding member for conducting heat from the semiconductor element installed between the semiconductor element and the shield cover to the shield cover;
A second thermal bonding member for conducting heat from the shield cover installed between the shield cover and the metal plate to the metal plate;
Have
The substrate is provided with a conductive elastic column portion formed of a conductive elastic member,
The conductive elastic strut portion is connected to a ground potential,
The electronic device according to claim 1, wherein the shield cover is in contact with the conductive elastic column portion and covers a part or all of the conductive elastic column portion.
前記第1の熱接合部材は、前記第2の熱接合部材よりも、硬度が低いことを特徴とする請求項4から7のいずれかに記載の電子装置。   The electronic device according to claim 4, wherein the first heat bonding member has a lower hardness than the second heat bonding member.
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