JP2015125168A - Dielectric multilayer film - Google Patents

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太朗 小沼
丈範 熊谷
Takenori Kumagai
丈範 熊谷
治加 増田
Haruka Masuda
治加 増田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dielectric multilayer film which is highly durable and can maintain good flexibility and adhesion.SOLUTION: A dielectric multilayer film of the present invention has dielectric multiple layers comprising at least one each of a low refractive index layer and high refractive index layer laminated together and an adhesive layer, where at least one of the high refractive index layer and low refractive index layer contains a water-soluble polymer and a photocatalytic compound. The adhesion layer has an initial light transmittance Tof 30% or less at a wavelength of 280-410 nm, and a rate of change from the initial light transmittance Tto a light transmittance Tat the wavelength of 280-410 nm, measured after being continuously irradiated for 2000 hours from the adhesive layer side with light from a carbon-arc lamp set at an irradiance of 255 W/min an environment with a temperature of 40°C and humidity of 50%RH, is no more than 5%.

Description

本発明は誘電体多層膜フィルムに関する。   The present invention relates to a dielectric multilayer film.

高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれの光学的膜厚を調整して交互に積層させた積層膜は、特定の波長の光を選択的に反射することが理論的に裏付けられており、かような積層膜は、可視光線を透過し、近赤外線を選択的に反射することができる。したがって、かような積層膜は、建築物の窓や車輌用部材などに用いる熱線遮蔽用の反射膜(熱線反射膜)として用いられている。   It is theoretically supported that a laminated film in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated by adjusting the respective optical film thicknesses selectively reflects light of a specific wavelength. Such a laminated film transmits visible light and can selectively reflect near infrared rays. Therefore, such a laminated film is used as a heat-ray shielding reflective film (heat-ray reflective film) used for building windows, vehicle members, and the like.

熱線反射膜をフィルム上に形成した赤外(熱線)遮蔽フィルムは、建築物の窓や車輌用部材に貼り付けて用いられる。かような誘電体多層膜フィルムは、可視光線を透過させ、近赤外線を選択的に遮蔽するが、各層の膜厚や屈折率を調整するだけで、反射波長をコントロールすることができ、紫外線や可視光を反射することが可能である。   An infrared (heat ray) shielding film in which a heat ray reflective film is formed on a film is used by being attached to a building window or a vehicle member. Such a dielectric multilayer film transmits visible light and selectively blocks near-infrared rays, but the reflection wavelength can be controlled only by adjusting the film thickness and refractive index of each layer. It is possible to reflect visible light.

上記熱線反射膜の形成方法としては、一般的には乾式製膜法で積層する方法があるが、乾式製膜法による熱線反射膜の形成は、多くの製造コストを要するため、実用的ではない。実用的な方法としては、水溶性樹脂および無機微粒子の混合物を含む塗布液を、湿式塗布方式により塗布して積層する方法(例えば、特許文献1参照)や、樹脂膜を積層する方法(例えば、特許文献2参照)が挙げられる。   As a method for forming the heat ray reflective film, there is generally a method of laminating by a dry film forming method, but formation of a heat ray reflective film by a dry film forming method is not practical because it requires a lot of manufacturing costs. . As a practical method, a coating solution containing a mixture of a water-soluble resin and inorganic fine particles is applied by a wet coating method and laminated (for example, see Patent Document 1), or a method of laminating a resin film (for example, Patent Document 2).

国際公開第2012/014607号International Publication No. 2012/014607 特表2008−528313号公報Special table 2008-528313

上記特許文献1に開示された技術によれば、高い遮熱特性を有する誘電体多層膜フィルムを得ることができる。このような誘電体多層膜フィルムは、建築物の窓や車輌用部材に貼り付けて用いられるため、良好な屈曲性および密着性を維持することができる、耐久性の高い誘電体多層膜フィルムであることが求められている。   According to the technique disclosed in Patent Document 1, a dielectric multilayer film having high heat shielding properties can be obtained. Such a dielectric multilayer film is a highly durable dielectric multilayer film that can maintain good flexibility and adhesion because it is used by being attached to a window or a vehicle member of a building. There is a need to be.

しかしながら、本発明者らは、特許文献1に開示されたフィルムは、その構成によっては、上記特性が十分でない場合があることを見出した。   However, the present inventors have found that the above-mentioned characteristics may not be sufficient depending on the configuration of the film disclosed in Patent Document 1.

そこで本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、良好な屈曲性および密着性を維持することができる、耐久性の高い誘電体多層膜フィルムを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a highly durable dielectric multilayer film that can maintain good flexibility and adhesion.

本発明者らは、上記課題に鑑み、鋭意検討を進めた。その結果、特に誘電体多層膜中に、屈折率調整剤である酸化チタンが含まれる場合、誘電体多層膜フィルムの耐久性が良好でない場合があることを見出した。   In view of the above problems, the present inventors have intensively studied. As a result, it was found that the durability of the dielectric multilayer film may not be good particularly when the dielectric multilayer film contains titanium oxide as a refractive index adjusting agent.

そこで本発明者らはさらに検討を進め、その過程で、粘着層に紫外線吸収剤を添加することを試みた。しかしながら、かような構成のフィルムは、製造直後であれば良好な屈曲性および密着性を有しているものの、長期間太陽光に曝されると、屈曲性および密着性が経時的に低下することがある。   Therefore, the present inventors have further studied, and in the process, attempted to add an ultraviolet absorber to the adhesive layer. However, the film having such a structure has good flexibility and adhesion immediately after production, but when exposed to sunlight for a long time, the flexibility and adhesion deteriorate with time. Sometimes.

上記問題点に対し、さらなる検討を行ったところ、驚くべきことに、酸化チタン等を含む誘電体多層膜に、以下で詳説する特定の光透過率特性を有する粘着層を組み合わせることにより、太陽光に長期間曝された場合であっても、良好な屈曲性および密着性を維持し、耐久性に優れた誘電体多層フィルムが得られることが判明した。   As a result of further studies on the above problems, surprisingly, by combining a dielectric multilayer film containing titanium oxide or the like with an adhesive layer having specific light transmittance characteristics described in detail below, It has been found that a dielectric multilayer film having excellent durability and durability can be obtained even when exposed to a long period of time.

上記について、本発明者らは、以下のように考察した。   About the above, the present inventors considered as follows.

誘電体多層膜は、酸化チタンの他、樹脂を含むが、当該樹脂(特に水溶性高分子)は、粘着層に紫外線吸収剤を含まない場合、太陽光(特に紫外光)が酸化チタンに照射されることにより、酸化チタンの光触媒作用によって劣化するため、誘電体多層膜が脆くなる。その結果、誘電体多層膜、さらには当該フィルムを構成するその他の層が剥離してしまい、屈曲性および密着性を低下させると考えられる。   The dielectric multilayer film contains a resin in addition to titanium oxide, but when the resin (particularly water-soluble polymer) does not contain an ultraviolet absorber in the adhesive layer, sunlight (particularly ultraviolet light) irradiates titanium oxide. As a result, the dielectric multilayer film becomes brittle because it is degraded by the photocatalytic action of titanium oxide. As a result, it is considered that the dielectric multilayer film and further other layers constituting the film are peeled off, and the flexibility and adhesion are lowered.

これに対し、特定の波長における透過率が特定の値以下である粘着層を設け、光触媒作用を促進する波長(280〜410nm)を粘着層において吸収させることにより、誘電体多層膜中に含まれる酸化チタンの光触媒作用が抑制される。   On the other hand, an adhesive layer having a transmittance at a specific wavelength equal to or lower than a specific value is provided, and a wavelength (280 to 410 nm) that promotes photocatalysis is absorbed in the adhesive layer, thereby being included in the dielectric multilayer film. The photocatalytic action of titanium oxide is suppressed.

さらに、誘電体多層膜に含まれる化合物の光触媒作用を促進する波長(280〜410nm、特に390nm)における初期の光透過率T1(UV)に対する、所定条件下における所定時間経過後の光透過率T2(UV)の変化率を特定の範囲内とすることにより、上記光触媒作用の抑制効果の経時的な低下もまた抑制することができると推測される。その結果、屈曲性および密着性が良好であり、耐久性に優れた誘電体多層膜フィルムを得ることができる。なお、本発明は、上記メカニズムに何ら制限されるものではない。 Furthermore, the light transmittance after elapse of a predetermined time under a predetermined condition with respect to the initial light transmittance T 1 (UV) at a wavelength (280 to 410 nm, particularly 390 nm) that promotes the photocatalytic action of the compound contained in the dielectric multilayer film By setting the rate of change of T 2 (UV) within a specific range, it is presumed that a temporal decrease in the effect of suppressing the photocatalytic action can also be suppressed. As a result, a dielectric multilayer film having excellent flexibility and adhesion and excellent durability can be obtained. The present invention is not limited to the above mechanism.

以上のメカニズムから、本発明者らは、誘電体多層膜が酸化チタンを含む場合のみならず、他の光触媒作用を示す化合物を含む場合であっても、特定の光透過率および光透過率の変化率を有する粘着層を備えることにより、耐久性に優れた誘電体多層膜フィルムとすることができるのではないかと考え、本発明を完成させた次第である。   From the above mechanism, the present inventors have not only the case where the dielectric multilayer film contains titanium oxide but also the case where the dielectric multilayer film contains a compound exhibiting other photocatalytic action, the specific light transmittance and light transmittance. It is considered that a dielectric multilayer film having excellent durability can be obtained by providing an adhesive layer having a change rate, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。   That is, the above object of the present invention is achieved by the following configuration.

1.低屈折率層および高屈折率層が少なくとも1つ以上積層された誘電体多層膜と、
粘着層と、を有する誘電体多層膜フィルムであって、
前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも1層が、水溶性高分子と、光触媒作用を有する化合物とを含有し、
前記粘着層は、波長280〜410nmにおける初期光透過率T1(UV)が30%以下であり、前記初期光透過率T1(UV)に対し、温度40℃、湿度50%RHの環境下で、放射照度255W/mとしたカーボンアーク灯により2000時間連続で、前記粘着層側から光照射された後の波長280〜410nmにおける光透過率T2(UV)の変化率が5%以下である、誘電体多層膜フィルム;
2.前記粘着層は、波長390nmにおける初期光透過率T1(390)に対し、温度40℃、湿度50%RHの環境下で、放射照度255W/mとしたカーボンアーク灯により2000時間連続で、前記粘着層側から光照射された後の波長390nmにおける光透過率T2(390)の変化率が5%以下である、上記1.に記載の誘電体多層膜フィルム;
3.前記粘着層の厚みは、3〜30μmである、上記1.または2.に記載の誘電体多層膜フィルム;
4.前記粘着層は、2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンおよびこれらの誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含む、上記1.〜3.のいずれかに記載の誘電体多層膜フィルム;
5.前記光触媒作用を有する化合物は、酸化チタンを含む、上記1.〜4.のいずれかに記載の誘電体多層膜フィルム;
6.前記粘着層に対し、前記誘電体多層膜を介して反対側に配置される最表層をさらに有し、
前記最表層は、2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンおよびこれらの誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含む、上記1.〜5.のいずれかに記載の誘電体多層膜フィルム;
7.前記最表層は、紫外線硬化性ウレタンアクリレート系樹脂を含む、上記6.に記載の誘電体多層膜フィルム;
8.前記最表層は、赤外線吸収剤を含む、上記6.または7.に記載の誘電体多層膜フィルム。
1. A dielectric multilayer film in which at least one low refractive index layer and high refractive index layer are laminated;
A dielectric multilayer film having an adhesive layer,
At least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains a water-soluble polymer and a compound having a photocatalytic action,
The adhesive layer is the initial light transmittance T 1 (UV) is 30% or less at a wavelength 280~410Nm, the relative initial light transmittance T 1 (UV), temperature 40 ° C., under an environment of a humidity of 50% RH The rate of change of the light transmittance T 2 (UV) at a wavelength of 280 to 410 nm after irradiating light from the adhesive layer side for 2000 hours continuously with a carbon arc lamp having an irradiance of 255 W / m 2 is 5% or less. A dielectric multilayer film;
2. The adhesive layer is continuous for 2000 hours with a carbon arc lamp having an irradiance of 255 W / m 2 in an environment of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 50% RH with respect to an initial light transmittance T 1 (390) at a wavelength of 390 nm. 1. The change rate of the light transmittance T 2 (390) at a wavelength of 390 nm after light irradiation from the adhesive layer side is 5% or less. A dielectric multilayer film according to claim 1;
3. The pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 3 to 30 μm. Or 2. A dielectric multilayer film according to claim 1;
4). The adhesive layer is a group consisting of 2,4,6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine and derivatives thereof. Including at least one compound selected from 1 above. ~ 3. The dielectric multilayer film according to any one of
5. The compound having a photocatalytic action includes titanium oxide as described above. ~ 4. The dielectric multilayer film according to any one of
6). The adhesive layer further has an outermost layer disposed on the opposite side through the dielectric multilayer film,
The outermost layer is composed of 2,4,6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine and derivatives thereof. Including at least one compound selected from 1 above. ~ 5. The dielectric multilayer film according to any one of
7). 5. The outermost layer contains an ultraviolet curable urethane acrylate resin. A dielectric multilayer film according to claim 1;
8). 5. The outermost layer includes an infrared absorber. Or 7. The dielectric multilayer film described in 1.

本発明によれば、良好な屈曲性および密着性を維持することができる、耐久性の高い誘電体多層膜フィルムを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a highly durable dielectric multilayer film that can maintain good flexibility and adhesion.

本発明の一実施形態は、低屈折率層および高屈折率層が少なくとも1つ以上積層された誘電体多層膜と、
粘着層と、を有する誘電体多層膜フィルムであって、
前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも1層が、水溶性高分子と、光触媒作用を有する化合物とを含有し、
前記粘着層は、波長280〜410nmにおける初期光透過率T1(UV)が30%以下であり、前記初期光透過率T1(UV)に対し、温度40℃、湿度50%RHの環境下で、放射照度255W/mとしたカーボンアーク灯により2000時間連続で、前記粘着層側から光照射された後の波長280〜410nmにおける光透過率T2(UV)の変化率が5%以下である、誘電体多層膜フィルムである。
One embodiment of the present invention includes a dielectric multilayer film in which at least one low refractive index layer and high refractive index layer are laminated, and
A dielectric multilayer film having an adhesive layer,
At least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains a water-soluble polymer and a compound having a photocatalytic action,
The adhesive layer is the initial light transmittance T 1 (UV) is 30% or less at a wavelength 280~410Nm, the relative initial light transmittance T 1 (UV), temperature 40 ° C., under an environment of a humidity of 50% RH The rate of change of the light transmittance T 2 (UV) at a wavelength of 280 to 410 nm after irradiating light from the adhesive layer side for 2000 hours continuously with a carbon arc lamp having an irradiance of 255 W / m 2 is 5% or less. It is a dielectric multilayer film.

以下、本発明の誘電体多層膜フィルムに係る実施の形態を説明する。   Hereinafter, embodiments according to the dielectric multilayer film of the present invention will be described.

また、本明細書において、範囲を示す「X〜Y」は「X以上Y以下」を意味し、また、「重量」と「質量」、「重量%」と「質量%」および「質量部」と「質量部」は同義語として扱う。   In the present specification, “X to Y” indicating a range means “X or more and Y or less”, and “weight” and “mass”, “weight%”, “mass%”, and “part by mass”. And “parts by mass” are treated as synonyms.

≪誘電体多層膜フィルム≫
本発明の誘電体多層膜フィルムは、低屈折率層および高屈折率層が少なくとも1つ以上積層された誘電体多層膜と、粘着層とを必須に有する。ここで、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層は、水溶性高分子と、光触媒作用を有する化合物とを含有する。また、粘着層に対し、誘電体多層膜を介して反対側に配置される最表層(ハードコート層)を有していてもよい。すなわち、本発明の誘電体多層膜フィルムは、粘着層、誘電体多層膜、最表層の順に各層が形成されている構成であってもよい。さらに、本発明の効果を損なわない限りにおいて、上記各層の間に、その他の機能層や基材を有していてもよい。
≪Dielectric multilayer film≫
The dielectric multilayer film of the present invention essentially has a dielectric multilayer film in which at least one low refractive index layer and high refractive index layer are laminated and an adhesive layer. Here, at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains a water-soluble polymer and a compound having a photocatalytic action. Moreover, you may have the outermost layer (hard-coat layer) arrange | positioned on the opposite side via a dielectric multilayer film with respect to the adhesion layer. That is, the dielectric multilayer film of the present invention may have a configuration in which the layers are formed in the order of the adhesive layer, the dielectric multilayer film, and the outermost layer. Furthermore, as long as the effects of the present invention are not impaired, other functional layers and base materials may be provided between the above layers.

以下、本発明の誘電体多層膜フィルムの各構成要素について、詳細に説明する。   Hereinafter, each component of the dielectric multilayer film of the present invention will be described in detail.

[粘着層]
まず、本発明の誘電体多層膜フィルムにおける特徴的な要素である、粘着層について説明する。
[Adhesive layer]
First, the adhesive layer which is a characteristic element in the dielectric multilayer film of the present invention will be described.

本発明の粘着層は、粘着剤を含有し、上記の通り、波長280〜410nmにおける初期光透過率T1(UV)が30%以下であり、当該初期光透過率T1(UV)に対し、温度40℃、湿度50%RHの環境下で、放射照度255W/mとしたカーボンアーク灯により2000時間連続で光照射された後の光透過率T2(UV)の変化率(本明細書中、単に「UV透過率の変化率」とも称する)が5%以下である層である。なお、本明細書中において、上記UV透過率の変化率とは、下記の数式(1)によって算出される値である。 The pressure-sensitive adhesive layer of the present invention contains a pressure-sensitive adhesive, and as described above, the initial light transmittance T 1 (UV) at a wavelength of 280 to 410 nm is 30% or less, and the initial light transmittance T 1 (UV) Change rate of light transmittance T 2 (UV) after continuous irradiation with a carbon arc lamp having an irradiance of 255 W / m 2 under an environment of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 50% RH for 2000 hours (this specification) In this document, it is a layer having a 5% or less (also referred to as “change rate of UV transmittance”). In the present specification, the rate of change of the UV transmittance is a value calculated by the following mathematical formula (1).

なお、上記数式(1)において、光透過率T1(UV)およびT2(UV)は、実施例に記載の方法で測定した値を指すものとする。 In addition, in the said Numerical formula (1), light transmittance T1 (UV) and T2 (UV) shall point out the value measured by the method as described in an Example.

粘着層における特定波長のUV透過率の変化率を上記範囲内とすることにより、後述する誘電体多層膜に含まれる化合物の光触媒作用を長期間にわたって効果的に抑制することができ、誘電体多層膜フィルムに含まれる各層の劣化を抑制することができる。その結果、耐久性に優れた誘電体多層膜を得ることができる。本発明において、粘着層における上記透過率の変化率は、耐久性を向上させるという観点から、3%以下であると好ましく、1%以下であるとより好ましい。一方、上記透過率の変化率の下限は、低いほど好ましく、特に制限されない。よって、上記透過率の変化率の下限は0%(すなわち、変化なし)である。   By making the rate of change of the UV transmittance at a specific wavelength in the adhesive layer within the above range, the photocatalytic action of the compound contained in the dielectric multilayer film described later can be effectively suppressed over a long period of time, and the dielectric multilayer Deterioration of each layer included in the membrane film can be suppressed. As a result, a dielectric multilayer film having excellent durability can be obtained. In the present invention, the transmittance change rate in the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 3% or less, more preferably 1% or less, from the viewpoint of improving durability. On the other hand, the lower limit of the transmittance change rate is preferably as low as possible, and is not particularly limited. Therefore, the lower limit of the change rate of the transmittance is 0% (that is, no change).

また、このとき、粘着層における、波長280〜410nmの初期光透過率T1(UV)は、30%以下である。初期光透過率T1(UV)が30%超であると、粘着層において効果的に紫外線(特に、光触媒作用を促進する波長)を吸収することができず、誘電体多層膜に含まれる化合物が光触媒作用を示し、誘電体多層膜を構成する樹脂が劣化する。これに対し、初期の光透過率T1(UV)を30%以下とすることにより、誘電体多層膜中の化合物の光触媒作用を効果的に抑制することができる結果、耐久性の良好な誘電体多層膜フィルムを得ることができる。さらに、初期光透過率T1(UV)は、15%以下であるとより好ましく、5%以下であるとさらにより好ましく、1%以下であると特に好ましい。 At this time, the initial light transmittance T 1 (UV) at a wavelength of 280 to 410 nm in the adhesive layer is 30% or less. If the initial light transmittance T1 (UV) is more than 30%, the adhesive layer cannot effectively absorb ultraviolet rays (particularly, a wavelength that promotes photocatalytic action), and the compound contained in the dielectric multilayer film Shows a photocatalytic action, and the resin constituting the dielectric multilayer film deteriorates. On the other hand, by setting the initial light transmittance T 1 (UV) to 30% or less, the photocatalytic action of the compound in the dielectric multilayer film can be effectively suppressed. Body multilayer film can be obtained. Furthermore, the initial light transmittance T 1 (UV) is more preferably 15% or less, even more preferably 5% or less, and particularly preferably 1% or less.

さらに、上記の所定条件下、所定時間経過後の光の透過率T2(UV)は、具体的には、35%以下であると好ましく、25%以下であるとより好ましく、10%以下であるとさらにより好ましく、5%以下であると特に好ましく、2%以下であると最も好ましい。光透過率T2(UV)を35%以下とすると、長時間太陽光に曝された場合であっても、誘電体多層膜に含まれる化合物の触媒作用を効果的に抑制する効果が持続し、耐久性の良好な誘電体多層膜フィルムを得ることができる。 Furthermore, specifically, the light transmittance T 2 (UV) after the elapse of a predetermined time under the above-mentioned predetermined conditions is preferably 35% or less, more preferably 25% or less, and more preferably 10% or less. Even more preferably, it is particularly preferably 5% or less, and most preferably 2% or less. When the light transmittance T 2 (UV) is 35% or less, the effect of effectively suppressing the catalytic action of the compound contained in the dielectric multilayer film is sustained even when exposed to sunlight for a long time. A dielectric multilayer film having good durability can be obtained.

上記光透過率T1(UV)およびT2(UV)は、ともに小さいほど好ましいが、実質的な下限値は、0.00001%である。 The light transmittances T 1 (UV) and T 2 (UV) are both preferably as small as possible, but the substantial lower limit is 0.00001%.

よって以上より、粘着層は、そのUV透過率の変化率が5%以下であり、初期光透過率T1(UV)が30%以下であり、所定時間経過後の光の透過率T2(UV)が35%以下であると好ましい。 Therefore, from the above, the adhesive layer has a UV transmittance change rate of 5% or less, an initial light transmittance T1 (UV) of 30% or less, and a light transmittance T2 ( UV) is preferably 35% or less.

さらに、粘着層は、波長390nmにおける初期光透過率T1(390)に対し、温度40℃、湿度50%RHの環境下で、放射照度255W/mとしたカーボンアーク灯により2000時間連続で光照射された後の光透過率T2(390)の変化率(本明細書中、単に「390nmにおける透過率の変化率」とも称する)が5%以下であると好ましい。なお、本明細書中において、上記390nmにおける透過率の変化率とは、下記の数式(2)によって算出される値である。 Furthermore, the adhesive layer was continuously used for 2000 hours with a carbon arc lamp having an irradiance of 255 W / m 2 in an environment of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 50% RH with respect to the initial light transmittance T 1 (390) at a wavelength of 390 nm. It is preferable that the change rate of the light transmittance T 2 (390) after light irradiation (also simply referred to as “change rate of transmittance at 390 nm” in this specification) is 5% or less. In the present specification, the rate of change in transmittance at 390 nm is a value calculated by the following mathematical formula (2).

なお、上記数式(2)において、光透過率T1(390)およびT2(390)は、実施例に記載の方法で測定した値を指すものとする。 In addition, in the said Numerical formula (2), light transmittance T1 (390) and T2 (390) shall point out the value measured by the method as described in an Example.

誘電体多層膜に含まれる、光触媒作用を示す化合物、たとえば、酸化チタンや酸化ジルコニウムなどは、特に390nm付近の紫外線を吸収し、触媒作用を示す。したがって、特に390nmにおける透過率の変化率を上記範囲内とすることにより、粘着層が光触媒作用を促進する波長の光を長期にわたって吸収するため、光触媒作用をより長期的に抑制することができる。その結果、誘電体多層膜フィルムに含まれる各層の劣化を抑制する効果がさらに向上する。   A compound having a photocatalytic action, such as titanium oxide or zirconium oxide, contained in the dielectric multilayer film absorbs ultraviolet light particularly around 390 nm and exhibits a catalytic action. Therefore, in particular, by setting the rate of change in transmittance at 390 nm within the above range, the adhesive layer absorbs light having a wavelength that promotes photocatalysis over a long period of time, so that the photocatalytic action can be suppressed for a longer period. As a result, the effect of suppressing deterioration of each layer included in the dielectric multilayer film is further improved.

本発明において、粘着層における上記透過率の変化率は、耐久性を向上させるという観点から、3%以下であると好ましく、1%以下であるとより好ましい。一方、上記透過率の変化率の下限は、低いほど好ましく、特に制限されないが、実質的には0.001%である。   In the present invention, the transmittance change rate in the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 3% or less, more preferably 1% or less, from the viewpoint of improving durability. On the other hand, the lower limit of the transmittance change rate is preferably as low as possible, and is not particularly limited, but is substantially 0.001%.

また、このとき、波長280〜410nmにおける初期の光透過率T1(390)は、具体的には、30%以下であると好ましく、15%以下であるとより好ましく、5%以下であるとさらにより好ましく、1%以下であると特に好ましい。初期の光透過率T1(390)を30%以下とすると、粘着層において効果的に紫外線(特に、光触媒作用を促進する波長)を吸収することができ、誘電体多層膜に含まれる化合物の光触媒作用を効果的に抑制することができる。その結果、耐久性に優れる誘電体多層膜フィルムを得ることができる。 At this time, the initial light transmittance T 1 (390) at a wavelength of 280 to 410 nm is specifically preferably 30% or less, more preferably 15% or less, and more preferably 5% or less. Even more preferred is 1% or less. When the initial light transmittance T 1 (390) is 30% or less, the adhesive layer can effectively absorb ultraviolet rays (particularly, a wavelength that promotes photocatalytic action), and the compound contained in the dielectric multilayer film The photocatalytic action can be effectively suppressed. As a result, a dielectric multilayer film having excellent durability can be obtained.

さらに、所定条件下、所定時間経過後の光の透過率T2(390)は、具体的には、35%以下であると好ましく、25%以下であるとより好ましく、10%以下であるとさらにより好ましく、2%以下であると特に好ましい。光透過率T2(390)を35%以下とすると、長時間太陽光に曝された場合であっても、誘電体多層膜に含まれる化合物の触媒作用を効果的に抑制する効果が持続し、耐久性の良好な誘電体多層膜フィルムを得ることができる。 Furthermore, the light transmittance T 2 (390) after the elapse of a predetermined time under a predetermined condition is specifically preferably 35% or less, more preferably 25% or less, and 10% or less. Even more preferred is 2% or less. When the light transmittance T 2 (390) is 35% or less, the effect of effectively suppressing the catalytic action of the compound contained in the dielectric multilayer film is sustained even when exposed to sunlight for a long time. A dielectric multilayer film having good durability can be obtained.

上記光透過率T1(390)およびT2(390)は、ともに小さいほど好ましいが、実質的な下限値は、0.00001%である。 The light transmittances T 1 (390) and T 2 (390) are both preferably as small as possible, but the substantial lower limit is 0.00001%.

よって以上より、粘着層は、その390nmにおける透過率の変化率が5%以下であり、初期光透過率T1(390)が30%以下であり、所定時間経過後の光の透過率T2(390)が35%以下であると好ましい。 Therefore the above, the adhesive layer, the rate of change of transmittance in its 390nm is not more than 5%, the initial light transmittance T 1 (390) is 30% transmittance of light after a predetermined time T 2 (390) is preferably 35% or less.

上記の光触媒作用の抑制効果をより効果的に発揮するために、本発明の誘電体多層膜フィルムを窓ガラス等に設置する際、粘着層が、光(太陽光)の入射側となるように配設されると好ましい。すなわち、光の入射側から、粘着層、誘電体多層膜の順に配設される、内貼り構成であると好ましい。内貼り構成とは、たとえば窓ガラス等に対し、屋内側に誘電体多層膜フィルムを貼付する構成である。かような構成とすることにより、粘着層による紫外線の吸収を大きくし、誘電体多層膜に入射する紫外線量を極めて低減することができる。   In order to more effectively exhibit the above-described effect of suppressing photocatalysis, when the dielectric multilayer film of the present invention is installed on a window glass or the like, the adhesive layer is on the light (sunlight) incident side. Preferably provided. In other words, it is preferable that the adhesive layer and the dielectric multilayer film are disposed in this order from the light incident side in an in-applied configuration. The internal pasting configuration is a configuration in which a dielectric multilayer film is pasted indoors, for example, on a window glass or the like. With such a configuration, the absorption of ultraviolet rays by the adhesive layer can be increased, and the amount of ultraviolet rays incident on the dielectric multilayer film can be extremely reduced.

粘着層を構成する粘着剤としては、粘着層が上記特性を満たすことができるものであれば特に制限されず、例えば、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルアセタール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤などを例示することができる。   The pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as the pressure-sensitive adhesive layer can satisfy the above characteristics. For example, acrylic pressure-sensitive adhesive, silicon-based pressure-sensitive adhesive, urethane-based pressure-sensitive adhesive, polyvinyl acetal-based pressure-sensitive adhesive Examples thereof include an ethylene-vinyl acetate pressure-sensitive adhesive.

本発明の誘電体多層膜フィルムは、窓ガラスに貼り合わせる場合、窓に水を吹き付け、濡れた状態のガラス面に本誘電体多層膜フィルムの粘着層を合わせる貼り方、いわゆる水貼り法が張り直し、位置直し等の観点で好適に用いられる。そのため、水が存在する湿潤下では粘着力が弱い、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。   When the dielectric multilayer film of the present invention is bonded to a window glass, water is sprayed on the window, and the adhesive layer of the dielectric multilayer film is bonded to the wet glass surface, a so-called water bonding method is applied. It is preferably used from the viewpoints of correction and position correction. For this reason, an acrylic pressure-sensitive adhesive that has a weak adhesive force in the presence of water is preferably used.

使用されるアクリル系粘着剤は、溶剤系およびエマルジョン系どちらでもよいが、粘着力等を高め易いことから、溶剤系粘着剤が好ましく、その中でも溶液重合で得られたものが好ましい。このような溶剤系アクリル系粘着剤を溶液重合で製造する場合の原料としては、例えば、骨格となる主モノマーとして、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクリルアクリレート等のアクリル酸エステル、凝集力を向上させるためのコモノマーとして、酢酸ビニル、アクリルニトリル、スチレン、メチルメタクリレート等、さらに架橋を促進し、安定した粘着力を付与させ、また水の存在下でもある程度の粘着力を保持するために官能基含有モノマーとして、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。該積層フィルムの粘着剤層には、主ポリマーとして、特に高タック性を要するため、ブチルアクリレート等のような低いガラス転移温度(Tg)を有するものが特に有用である。   The acrylic pressure-sensitive adhesive used may be either solvent-based or emulsion-based, but is preferably a solvent-based pressure-sensitive adhesive because it is easy to increase the adhesive strength and the like, and among them, those obtained by solution polymerization are preferable. As a raw material when producing such a solvent-based acrylic pressure-sensitive adhesive by solution polymerization, for example, as a main monomer serving as a skeleton, an acrylic ester such as ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, acryl acrylate, As a comonomer to improve cohesive strength, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, methyl methacrylate, etc., to further promote crosslinking, to give stable adhesive strength, and to maintain a certain level of adhesive strength even in the presence of water Examples of the functional group-containing monomer include methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, hydroxyethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate. Since the adhesive layer of the laminated film requires a particularly high tack as the main polymer, those having a low glass transition temperature (Tg) such as butyl acrylate are particularly useful.

上記アクリル系粘着剤の市販品としては、たとえば、コーポニールシリーズ(日本合成化学社製)等が挙げられる。   As a commercial item of the said acrylic adhesive, Coponyl series (made by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

粘着層は、上記透過率の変化率を5%以下とするために、紫外線吸収剤を含んでいると好ましい。この時用いられる紫外線吸収剤は、上記透過率の変化率を特定することができれば、限定されるものではなく、無機系、有機系のいずれかであってもよいが、光触媒作用を示さないものであると好ましい。   The pressure-sensitive adhesive layer preferably contains an ultraviolet absorber so that the change rate of the transmittance is 5% or less. The ultraviolet absorber used at this time is not limited as long as the change rate of the transmittance can be specified, and may be either inorganic or organic, but does not exhibit a photocatalytic action. Is preferable.

無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。ただし、これらの無機系紫外線吸収剤のうち、光触媒作用を示すものを用いるときは、粘着層を構成する樹脂として、上記無機系紫外線吸収剤の光触媒作用に影響を受けない樹脂(たとえば、ポリシロキサン系樹脂)を用いる。   Examples of the inorganic ultraviolet absorber include titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, iron oxide and the like. However, among these inorganic ultraviolet absorbers, when using those exhibiting a photocatalytic action, as the resin constituting the adhesive layer, a resin that is not affected by the photocatalytic action of the inorganic ultraviolet absorbent (for example, polysiloxane) Resin).

粘着層において含まれる紫外線吸収剤は、上記吸収特性を有する化合物であればいかなる化合物も使用可能であるが、なかでも、ベンゾフェノン系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系、ヒンダードアミン系、ベンゾエート系等が挙げられ、なかでも、トリアジン系が好ましい。   Any compound can be used as the ultraviolet absorber contained in the adhesive layer as long as it has the above absorption characteristics. Among them, benzophenone, phenyl salicylate, triazine, hindered amine, benzoate and the like can be mentioned. Of these, triazines are preferred.

トリアジン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、〔2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−(ヘキシル)オキシフェノール〕(チヌビン1577FF、商品名、チバ・スペシャルティーケミカルズ製)、〔2−[4,6−ビス(2,4ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−5−(オクチルオキシ)フェノール〕、2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。市販品としては、アデカ社製「LA−46」、BASF社製「チヌビン1577ED」、「チヌビン400」、「チヌビン405」、「チヌビン460」、「チヌビン477」、「チヌビン479」、「チヌビン1159」等が挙げられる。上記紫外線吸収剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。   Examples of triazine ultraviolet absorbers include 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-). Ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-) Butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2- Hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazi 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1 , 3,5-triazine, [2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5- (hexyl) oxyphenol] (Tinuvin 1577FF, trade name, Ciba Specialty Chemicals) Manufactured), [2- [4,6-bis (2,4dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl] -5- (octyloxy) phenol], 2,4,6-tris ( Biphenylyl) -1,3,5-triazine and the like. Commercially available products include “LA-46” manufactured by Adeka Corporation, “Tinubin 1577ED”, “Tinuvin 400”, “Tinubin 405”, “Tinubin 460”, “Tinubin 477”, “Tinubin 479”, “Tinubin 1159” manufactured by BASF Corporation. Or the like. The said ultraviolet absorber may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types.

上記トリアジン系紫外線吸収剤の中でも、2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンおよびこれらの誘導体からなる群から選択される少なくとも一種であると好ましい。   Among the above triazine-based ultraviolet absorbers, 2,4,6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine and these It is preferable that it is at least one selected from the group consisting of derivatives.

「2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンおよびこれらの誘導体」について、以下、具体的に説明する。   Hereinafter, “2,4,6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine and derivatives thereof” will be specifically described below. Explained.

まず、「2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジンおよびその誘導体」とは、具体的には、下記の一般式(1)で表される化合物である。なお、本明細書中、これらの化合物を単に「ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物」とも称する。   First, “2,4,6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine and a derivative thereof” is specifically a compound represented by the following general formula (1). In the present specification, these compounds are also simply referred to as “hydroxyphenyltriazine compounds”.

上記一般式(1)中、R、R、Rは、それぞれ独立して、ヒドロキシ基または炭素原子数1〜20個のアルコキシ基であり、R、R、Rは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20個のアルキル基、炭素原子数3〜20個のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20個のアルケニル基、炭素原子数2〜20個のアルキニル基、アミノ基、シアノ基またはニトロ基を表わし、k、m、pは、1〜5の整数であり、l、n、qは、0〜5の整数であり、k+l=m+n=p+q=5である。 In the general formula (1), R 1, R 3, R 5 are each independently a hydroxy group or a carbon atom number of 1 to 20 alkoxy groups, R 2, R 4, R 6 are each Independently, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms Represents an alkynyl group, an amino group, a cyano group or a nitro group, k, m, and p are integers of 1 to 5, l, n, and q are integers of 0 to 5, and k + l = m + n = p + q = 5.

、R、Rの炭素原子数1〜20個のアルコキシ基は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。R〜Rのアルコキシ基は、たとえば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基が挙げられる。これらの中でも、溶媒に対する溶解性を向上させるため、炭素原子数1〜8アルコキシ基が好ましく、炭素原子数1〜5個のアルコキシ基がより好ましく、特に、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基が好ましい。 The alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms of R 1 , R 3 , and R 5 may be linear, branched, or cyclic. Examples of the alkoxy group of R 1 to R 3 include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an n-octyloxy group, and a 2-ethylhexyloxy group. Among these, in order to improve solubility in a solvent, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms is more preferable, and in particular, an n-propoxy group, an isopropoxy group, n -A butoxy group is preferred.

、R、Rのハロゲン原子は、特に制限されるものではなく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子のいずれも選択し得るものである。好ましくは、フッ素原子、塩素原子および臭素原子であり、特に好ましくはフッ素原子である。 The halogen atoms of R 2 , R 4 , and R 6 are not particularly limited, and any of a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom can be selected. Preferred are a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, and particularly preferred is a fluorine atom.

、R、Rの炭素原子数1〜20個のアルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。R〜Rのアルキル基は、たとえば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基などの直鎖状のアルキル基が挙げられる。これらの中でも、粘着層をコーティング(塗布法)により製膜する際の溶媒に対する溶解性を向上させるという観点から、炭素原子数1〜8個のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基がより好ましく、メチル基、エチル基がさらに好ましい。 The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of R 2 , R 4 and R 6 may be linear or branched. Examples of the alkyl group represented by R 1 to R 6 include linear alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, an n-octyl group, and a 2-ethylhexyl group. Groups. Among these, from a viewpoint of improving the solubility with respect to the solvent at the time of forming the adhesion layer by coating (coating method), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, and a methyl group, an ethyl group, n- A propyl group and an isopropyl group are more preferable, and a methyl group and an ethyl group are more preferable.

、R、Rの炭素原子数3〜20個のシクロアルキル基は、たとえば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などが挙げられる。これらの中でも、粘着層をコーティング(塗布法)により製膜する際の溶媒に対する溶解性を向上させるという観点から、炭素原子数4〜8個のシクロアルキル基が好ましく、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル、シクロヘプチル基がより好ましく、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基がさらに好ましい。 Examples of the cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms of R 2 , R 4 , and R 6 include a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Among these, a cycloalkyl group having 4 to 8 carbon atoms is preferable from the viewpoint of improving the solubility in a solvent when the adhesive layer is formed by coating (coating method), and a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclo A hexyl group and a cycloheptyl group are more preferable, and a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group are more preferable.

、R、Rの炭素原子数2〜20個のアルケニル基としては、1個以上の二重結合を有するものであれば、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。たとえば、ビニル基、アリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、2−ブテニル基、1,3−ブタジエニル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセニル基等が挙げられる。これらの中でも、溶媒に対する溶解性を向上させるため、炭素原子数2〜8個のアルケニル基が好ましく、炭素原子数2〜5個のアルケニル基がより好ましく、特に、ビニル基、アリル基が好ましい。 The alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms of R 2 , R 4 and R 6 may be linear, branched or cyclic as long as it has one or more double bonds. . For example, vinyl group, allyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, 2-pentenyl group, 2-hexenyl group and the like can be mentioned. Among these, in order to improve solubility in a solvent, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms is preferable, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms is more preferable, and a vinyl group and an allyl group are particularly preferable.

、R、Rの炭素原子数2〜20個のアルキニル基としては、1個以上の三重結合を有するものであれば、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。たとえば、エチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。これらの中でも、溶媒に対する溶解性を向上させるため、炭素原子数2〜8個のアルキニル基が好ましく、炭素原子数2〜5個のアルキニル基がより好ましく、特に、エチニル基が好ましい。 The alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms of R 2 , R 4 and R 6 may be linear, branched or cyclic as long as it has one or more triple bonds. For example, an ethynyl group, a propargyl group, etc. are mentioned. Among these, in order to improve the solubility in a solvent, an alkynyl group having 2 to 8 carbon atoms is preferable, an alkynyl group having 2 to 5 carbon atoms is more preferable, and an ethynyl group is particularly preferable.

、R、Rのアミノ基は、−NH、−NHR’または−NR’で表される基である。R’は、互いに異なっていてもよく、炭素原子数1〜20のアルキル基よりそれぞれ選択される。R’は、上記R、R、Rのアルキル基の説明と同様であるため、その説明を省略するが、溶媒に対する溶解性を向上させるため、R’は、炭素原子数1〜8個のアルキル基が好ましく、特に、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基が好ましい。 R 2, R 4, an amino group of R 6 is a group represented by -NH 2, -NHR 'or -NR' 2. R ′ may be different from each other, and each R ′ is selected from an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R ′ is the same as the description of the alkyl group of R 2 , R 4 , and R 6 above, and thus the description thereof is omitted. However, in order to improve solubility in a solvent, R ′ has 1 to 8 carbon atoms. Alkyl groups are preferable, and a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an isopropyl group are particularly preferable.

k、l、mは、R〜R基がフェニル基上にそれぞれ結合する数を表し、k、m、pは、1〜5の整数であり、l、n、qは、0〜5の整数であり、k+l=m+n=p+q=5である。溶媒に対する溶解性を向上させるため、k、m、pは、1〜3の整数であると好ましく、1または2であるとより好ましい。特にk、m、pが2であるときは、R、R、Rのヒドロキシ基またはアルコキシ基は、トリアジンに対して2,4位に置換していると好ましい。 k, l, and m represent the numbers of R 1 to R 3 groups bonded to the phenyl group, respectively, k, m, and p are integers of 1 to 5, and l, n, and q are 0 to 5 K + l = m + n = p + q = 5. In order to improve the solubility in a solvent, k, m, and p are preferably integers of 1 to 3, and more preferably 1 or 2. In particular, when k, m, and p are 2, it is preferable that the hydroxy group or alkoxy group of R 1 , R 3 , and R 5 is substituted at the 2,4 position with respect to triazine.

上記一般式(1)により示されるヒドロキシフェニルトリアジン系化合物の市販品としては、たとえば、「チヌビン477」が挙げられる。   As a commercial item of the hydroxyphenyl triazine type compound represented by the general formula (1), for example, “Tinuvine 477” can be cited.

次に、「2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンおよびその誘導体」について、以下、具体的に説明する。なお、本明細書中、上記化合物を単に「ビフェニリルトリアジン系化合物」とも称する。   Next, “2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine and derivatives thereof” will be specifically described below. In the present specification, the above compound is also simply referred to as “biphenylyltriazine compound”.

ビフェニリルトリアジン系化合物は、上記一般式(1)中、R、R、Rは、それぞれ独立して、炭素原子数6〜30個のアリール基であり、R、R、Rは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20個のアルキル基、炭素原子数3〜20個のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20個のアルケニル基、炭素原子数2〜20個のアルキニル基、アミノ基、シアノ基またはニトロ基を表わし、k、m、pは、1〜5の整数であり、l、n、qは、0〜5の整数であり、k+l=m+n=p+q=5である化合物である。 In the biphenylyl triazine-based compound, in the general formula (1), R 1 , R 3 , and R 5 are each independently an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and R 2 , R 4 , R 5 6 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, or a carbon atom. Represents an alkynyl group having a number of 2 to 20, an amino group, a cyano group, or a nitro group, k, m, and p are integers of 1 to 5, l, n, and q are integers of 0 to 5, k + l = m + n = p + q = 5.

、R、Rの炭素原子数6〜30のアリール基としては、特に制限はないが、例えば、フェニル基、ビフェニル基などの非縮合炭化水素基;ペンタレニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレニル基、ピレニル基などの縮合多環炭化水素基が挙げられる。これらのうち、最大吸収波長の特定波長領域における存在や耐久性等を考慮すると、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。 The aryl group having 6 to 30 carbon atoms of R 1 , R 3 , and R 5 is not particularly limited, and examples thereof include non-condensed hydrocarbon groups such as a phenyl group and a biphenyl group; a pentarenyl group, an indenyl group, and a naphthyl group. A condensed polycyclic hydrocarbon group such as Can be mentioned. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are preferable, and a phenyl group is more preferable in consideration of the existence and durability of the maximum absorption wavelength in a specific wavelength region.

また、R、R、Rならびにk、m、pおよびl、n、qについては、上記と同様であるため、詳細な説明を省略するが、k、m、pは、1〜3の整数であると好ましく、1または2であるとより好ましい。特にk、m、pが1であるときは、R、R、Rのアリール基は、トリアジンに対して4位(p−位)に置換していると好ましい。また、R、R、Rのいずれかは、少なくとも一つが水素原子であると好ましい。 Further, R 2 , R 4 , R 6 and k, m, p and l, n, q are the same as described above, and thus detailed description thereof is omitted, but k, m, p are 1 to 3 Is preferably an integer of 1, and more preferably 1 or 2. In particular, when k, m, and p are 1, the aryl group of R 1 , R 3 , and R 5 is preferably substituted at the 4-position (p-position) with respect to triazine. Moreover, it is preferable that at least one of R 2 , R 4 , and R 6 is a hydrogen atom.

上記一般式(1)で表される化合物は、単独で使用されてもまたは2種以上を混合して使用されてもよい。   The compound represented by the general formula (1) may be used alone or in combination of two or more.

粘着層の厚みは特に制限されないが、3μm〜30μmが好ましく、より好ましくは5〜25μm、特に好ましくは5〜15μmである。3μm以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。また、粘着層が薄すぎると、含有される紫外線吸収剤の量が少なくなり、上述した所定の紫外線吸収特性を得ることが難しくなるが、3μm以上とすることで、十分な量の紫外線吸収剤が粘着層中に含有されることとなり、上記所定の紫外線吸収特性を十分に得ることができる。逆に30μm以下であれば誘電体多層膜フィルムの透明性が向上するだけでなく、誘電体多層膜フィルムを窓ガラスに貼り付けた後、剥がしたときに粘着層間で凝集破壊が起こらず、ガラス面への粘着剤残りが無くなる傾向にある。さらに、粘着層が厚くなりすぎると、紫外線吸収剤の一定の付量に対して、粘着剤自体の量が多くなり、当該粘着剤自体が紫外線により劣化してしまうため、耐久性の点から好ましくないことがある。したがって、粘着層の厚みは、30μm以下とすると好ましい。なお、本明細書中、各層の厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM)によって断面を観察することにより測定した値を採用するものとする。   The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 3 μm to 30 μm, more preferably 5 to 25 μm, and particularly preferably 5 to 15 μm. If it is 3 micrometers or more, there exists a tendency for adhesiveness to improve and sufficient adhesive force is obtained. In addition, if the adhesive layer is too thin, the amount of the ultraviolet absorber contained will be small, and it will be difficult to obtain the above-mentioned predetermined ultraviolet absorption characteristics, but a sufficient amount of the ultraviolet absorber is set to 3 μm or more. Is contained in the pressure-sensitive adhesive layer, and the above-mentioned predetermined ultraviolet absorption characteristics can be sufficiently obtained. On the contrary, if the thickness is 30 μm or less, not only the transparency of the dielectric multilayer film is improved, but also when the dielectric multilayer film is pasted on the window glass and then peeled off, no cohesive failure occurs between the adhesive layers. There is a tendency for the adhesive residue on the surface to disappear. Furthermore, if the pressure-sensitive adhesive layer becomes too thick, the amount of the pressure-sensitive adhesive itself increases with respect to a certain amount of the UV absorber, and the pressure-sensitive adhesive itself is deteriorated by ultraviolet rays. There may not be. Therefore, the thickness of the adhesive layer is preferably 30 μm or less. In addition, in this specification, the value measured by observing a cross section with a scanning electron microscope (SEM) shall be employ | adopted for the thickness of each layer.

本形態において、粘着層に含まれる紫外線吸収剤の量は、上記透過率の変化率を特定の範囲内とすることができれば、特に制限されず、また、紫外線吸収剤の280〜410nmにおける吸光係数にも依存するが、目安として、粘着層の単位面積(1m)当たりの付量が、155mg/m以上であると好ましく、160mg/m以上であるとより好ましく、170mg/m以上であると特に好ましい。155mg/m以上であれば、誘電体多層膜に含まれる化合物の光触媒作用を促進する波長領域の光を十分に吸収することができる。一方で、付量は、特に制限されないが、2500mg/m以下であると好ましく、2000mg/m以下であるとより好ましく、1000mg/m以下であると特に好ましい。2500mg/m以下とすることにより、ブリードアウト(添加剤が時間の経過によりフィルム(層)の表面に浮き出てくる現象)を抑制し、ヘイズ(曇り度)の悪化を防止することができる。 In this embodiment, the amount of the ultraviolet absorber contained in the adhesive layer is not particularly limited as long as the change rate of the transmittance can be within a specific range, and the extinction coefficient at 280 to 410 nm of the ultraviolet absorber. As a guide, the amount of the adhesive layer per unit area (1 m 2 ) is preferably 155 mg / m 2 or more, more preferably 160 mg / m 2 or more, and 170 mg / m 2 or more. Is particularly preferred. If it is 155 mg / m 2 or more, light in the wavelength region that promotes the photocatalytic action of the compound contained in the dielectric multilayer film can be sufficiently absorbed. On the other hand, Tsukeryou is not particularly limited, preferable to be 2500 mg / m 2 or less, more preferable to be 2000 mg / m 2 or less, and particularly preferably 1000 mg / m 2 or less. By setting it to 2500 mg / m 2 or less, bleed-out (a phenomenon in which the additive emerges on the surface of the film (layer) over time) can be suppressed, and deterioration of haze (cloudiness) can be prevented.

特に、紫外線吸収剤として、2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンおよびこれらの誘導体のうち、少なくとも一種を用いた場合、これら化合物の付量は、165mg/m以上であると好ましく、175mg/以上とするとより好ましい。付量を上記範囲内とすることにより、粘着層における紫外線の吸収能を十分に確保することができ、その結果、誘電体多層膜の劣化を効果的に抑制することができる。 In particular, 2,4,6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine and derivatives thereof as UV absorbers Among these, when at least one kind is used, the amount of these compounds is preferably 165 mg / m 2 or more, and more preferably 175 mg / 2 or more. By setting the applied amount within the above range, it is possible to sufficiently secure the ultraviolet absorbing ability in the adhesive layer, and as a result, it is possible to effectively suppress the deterioration of the dielectric multilayer film.

粘着層は、その他の添加剤として、たとえば安定剤、界面活性剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を含有していてもよい。   The adhesive layer may contain other additives such as stabilizers, surfactants, flame retardants, antistatic agents, antioxidants, thermal stabilizers, lubricants, fillers, coloring, adhesion modifiers and the like. Good.

粘着層は、従来公知の方法によって作製することができるが、粘着層形成用組成物(塗布液)をワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングにより塗布する方法を用いると好ましい。上記の組成物(塗布液)をダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布・製膜することも可能である。   The pressure-sensitive adhesive layer can be produced by a conventionally known method, but it is preferable to use a method in which a pressure-sensitive adhesive layer forming composition (coating solution) is applied by wire bar coating, spin coating, or dip coating. The above composition (coating solution) can be applied and formed into a film by a continuous coating apparatus such as a die coater, a gravure coater, or a comma coater.

[最表層(ハードコート層)]
本発明の誘電体多層膜フィルムは、耐擦過性等を高めるための表面保護層として、基材の誘電体多層膜側の最表面に、最表層(ハードコート層)が設けられていてもよい。 本発明に係る最表層は、本発明の誘電体多層膜フィルムの片表面にのみ形成してもよく、両表面に形成してもよい。最表層は、外部からの物理的損傷を抑制し、誘電体多層膜を保護するために、貼り付ける対象物と反対側のフィルム表面に形成される。したがって、最表層は、誘電体多層膜を介して粘着層と反対側に配置(積層)される。
[Outermost layer (hard coat layer)]
In the dielectric multilayer film of the present invention, the outermost layer (hard coat layer) may be provided on the outermost surface of the base material on the dielectric multilayer film side as a surface protective layer for enhancing scratch resistance and the like. . The outermost layer according to the present invention may be formed only on one surface of the dielectric multilayer film of the present invention, or may be formed on both surfaces. The outermost layer is formed on the film surface opposite to the object to be attached in order to suppress physical damage from the outside and protect the dielectric multilayer film. Therefore, the outermost layer is disposed (laminated) on the side opposite to the adhesive layer through the dielectric multilayer film.

(紫外線吸収剤)
最表層は、表面保護機能を有するものであればその構成は限定されないが、誘電体多層膜に紫外線が照射されることに起因する劣化を抑制し、より耐久性の高い誘電体多層膜フィルムを得るために、最表層もまた、紫外線吸収剤を含んでいると好ましい。最表層に含まれる紫外線吸収剤は、特に制限されないが、たとえば、上記の粘着層に含まれる紫外線吸収剤と同様のものを使用すると好ましい。上記の紫外線吸収剤の中でも、より誘電体多層膜を保護する効果が高く、当該効果が長期にわたって持続する理由から、トリアジン系紫外線吸収剤が好ましい。さらに、これらの中でも、2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンおよびこれらの誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の化合物が紫外線吸収剤として用いられると好ましい。 最表層に含まれる紫外線吸収剤の量は、誘電体多層膜に入射する紫外線量を減らすことができる量であれば特に制限されない。目安として、上記紫外線吸収剤の最表層の単位面積(1m)当たりの付量が、80mg/m以上であると好ましく、100mg/m以上であるとより好ましく、155mg/m以上であるとさらにより好ましく、160mg/m以上であると特に好ましく、170mg/m以上であると最も好ましい。80mg/m以上であれば、誘電体多層膜に含まれる化合物の光触媒作用を促進する波長領域の光を十分に吸収することができる。一方で、付量は、特に制限されないが、2500mg/m以下であると好ましく、2000mg/m以下であるとより好ましく、1500mg/m以下であるとさらにより好ましく、500mg/m以下であると特に好ましい。2500mg/m以下とすることにより、ブリードアウト(添加剤が時間の経過によりフィルム(層)の表面に浮き出てくる現象)を抑制し、ヘイズ(曇り度)の悪化を防止することができる。
(UV absorber)
The structure of the outermost layer is not limited as long as it has a surface protection function, but the deterioration due to the irradiation of the dielectric multilayer film with ultraviolet rays is suppressed, and a more durable dielectric multilayer film is formed. In order to obtain it, it is preferable that the outermost layer also contains a UV absorber. Although the ultraviolet absorber contained in an outermost layer is not restrict | limited in particular, For example, it is preferable to use the same thing as the ultraviolet absorber contained in said adhesive layer. Among the above-mentioned ultraviolet absorbers, triazine-based ultraviolet absorbers are preferable because they have a higher effect of protecting the dielectric multilayer film and the effect lasts for a long time. Further, among these, 2,4,6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine and derivatives thereof are included. It is preferable that at least one compound selected from the group is used as the ultraviolet absorber. The amount of the ultraviolet absorber contained in the outermost layer is not particularly limited as long as it can reduce the amount of ultraviolet rays incident on the dielectric multilayer film. As a guideline, the weight per unit area (1 m 2 ) of the outermost layer of the UV absorber is preferably 80 mg / m 2 or more, more preferably 100 mg / m 2 or more, and 155 mg / m 2 or more. Even more preferably, it is particularly preferably 160 mg / m 2 or more, and most preferably 170 mg / m 2 or more. If it is 80 mg / m 2 or more, light in the wavelength region that promotes the photocatalytic action of the compound contained in the dielectric multilayer film can be sufficiently absorbed. On the other hand, Tsukeryou is not particularly limited, preferable to be 2500 mg / m 2 or less, more preferable to be 2000 mg / m 2 or less, still more preferable to be 1500 mg / m 2 or less, 500 mg / m 2 or less Is particularly preferred. By setting it to 2500 mg / m 2 or less, bleed-out (a phenomenon in which the additive emerges on the surface of the film (layer) over time) can be suppressed, and deterioration of haze (cloudiness) can be prevented.

(赤外線吸収剤)
また、最表層は、赤外線吸収剤を含んでいると好ましい。本発明において、上記フィルムの特性を満たす限りは、用いられる赤外線吸収剤の種類は特に限定されないが、たとえば、無機ナノ微粒子を含んでいると好ましい。ここでナノ微粒子とは、平均(一次)粒径が1000nm以下の粒子を指し、平均粒径が1〜500nmの範囲にあるものがより好ましく、1〜100nmの範囲にあるものがさらに好ましい。粒径は、透過型電子顕微鏡などの観察手段を用いて観察される粒子(観察面)の輪郭線上の任意の2点間の距離のうち最大の距離を意味する。平均粒径の値としては、透過型電子顕微鏡などの観察手段を用い、数〜数十視野中に観察される粒子の粒径の個数平均値として算出される値を用いる。
(Infrared absorber)
The outermost layer preferably contains an infrared absorber. In the present invention, the type of the infrared absorber used is not particularly limited as long as the characteristics of the film are satisfied. For example, it is preferable that inorganic nanoparticles are included. Here, the nano fine particles refer to particles having an average (primary) particle size of 1000 nm or less, more preferably those having an average particle size in the range of 1 to 500 nm, and even more preferably in the range of 1 to 100 nm. The particle diameter means the maximum distance among the distances between any two points on the outline of the particle (observation surface) observed using an observation means such as a transmission electron microscope. As the value of the average particle diameter, a value calculated as the number average value of the particle diameters of particles observed in several to several tens of fields using an observation means such as a transmission electron microscope is used.

無機粒子がナノ微粒子であることで、最表層の可視光線の透過性が確保される。このような無機ナノ微粒子としては、酸化亜鉛、酸化錫、酸化珪素、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、ホウ素化ランタンまたは酸化セリウム、および他の金属でドープされたこれらの化合物、ならびにこれらの混合物が挙げられる。他にもCd/Se、GaN、Y、Au、Ag、Cuナノ粒子も利用可能である。好適な無機ナノ微粒子としては、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化錫、ジルコニア、ホウ素化ランタンおよび他の金属でドープされたこれらの化合物が挙げられ、より好ましくは、酸化亜鉛、他の金属でドープされた酸化亜鉛、酸化錫、他の金属でドープされた酸化錫、ジルコニア、ホウ素化ランタンおよびこれらの混合物である。中でも、無機ナノ微粒子は、酸化亜鉛、他の金属でドープされた酸化亜鉛、酸化錫、他の金属でドープされた酸化錫であると特に好ましい。 When the inorganic particles are nano-particles, the visible light transmittance of the outermost layer is ensured. Such inorganic nanoparticles include zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, alumina, zirconia, titanium oxide, lanthanum boride or cerium oxide, and these compounds doped with other metals, and mixtures thereof. It is done. In addition, Cd / Se, GaN, Y 2 O 3 , Au, Ag, and Cu nanoparticles can also be used. Suitable inorganic nanoparticles include those compounds doped with silicon oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconia, lanthanum boride and other metals, more preferably doped with zinc oxide, other metals. Zinc oxide, tin oxide, tin oxide doped with other metals, zirconia, lanthanum boride and mixtures thereof. Among these, the inorganic nanoparticle is particularly preferably zinc oxide, zinc oxide doped with another metal, tin oxide, or tin oxide doped with another metal.

無機ナノ微粒子の硬化樹脂層中の配合量は、最表層全量(固形分換算)に対して、30〜80質量%であることが好ましく、50〜70質量%であることがより好ましい。無機ナノ微粒子の含有量がかような範囲にあることで、最表層のハードコート性とフィルムの剥がれまたは割れの抑制との両立がしやすくなる。 本明細書にて他の金属でドープされた化合物とは、化合物中に他の金属が混合されている状態、または化合物と他の金属(酸化物)とが結合している状態の双方を指す。例えば、アンチモンでドープされた酸化亜鉛は、酸化亜鉛中にアンチモンが混合されている状態、または酸化亜鉛とアンチモン酸化物が結合している状態の双方を意味する。   The blending amount of the inorganic nanoparticles in the cured resin layer is preferably 30 to 80% by mass, and more preferably 50 to 70% by mass with respect to the outermost layer total amount (solid content conversion). When the content of the inorganic nanoparticles is in such a range, it becomes easy to achieve both the hard coat property of the outermost layer and the suppression of peeling or cracking of the film. In the present specification, a compound doped with another metal refers to both a state in which another metal is mixed in the compound or a state in which the compound and another metal (oxide) are bonded. . For example, zinc oxide doped with antimony means both a state in which antimony is mixed in zinc oxide or a state in which zinc oxide and antimony oxide are combined.

他の金属でドープされた酸化亜鉛としては、アンチモンドープ酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛(ZnO・Sb)、インジウムドープ酸化亜鉛(インジウム亜鉛複合酸化物:IZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(ガリウム亜鉛複合酸化物:GZO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(アルミニウム亜鉛複合酸化物:AZO)が好ましく、アンチモン酸亜鉛(ZnO・Sb)、ガリウムドープ酸化亜鉛(ガリウム亜鉛複合酸化物:GZO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(アルミニウム亜鉛複合酸化物:AZO)がより好ましい。 Examples of zinc oxide doped with other metals include antimony-doped zinc oxide, zinc antimonate (ZnO.Sb 2 O 5 ), indium-doped zinc oxide (indium zinc composite oxide: IZO), gallium-doped zinc oxide (gallium zinc Composite oxide: GZO) and aluminum doped zinc oxide (aluminum zinc composite oxide: AZO) are preferable, zinc antimonate (ZnO.Sb 2 O 5 ), gallium doped zinc oxide (gallium zinc composite oxide: GZO), aluminum Doped zinc oxide (aluminum zinc composite oxide: AZO) is more preferable.

また、他の金属でドープされた酸化錫としては、アンチモンドープ酸化錫(アンチモン錫複合酸化物:ATO)、インジウムドープ酸化錫(インジウム錫複合酸化物:ITO)、ガリウムドープ酸化錫(ガリウム錫複合酸化物:GTO)が好ましく、アンチモンドープ酸化錫(アンチモン錫複合酸化物:ATO)、インジウムドープ酸化錫(インジウム錫複合酸化物:ITO)がより好ましい。   Examples of tin oxide doped with other metals include antimony-doped tin oxide (antimony tin composite oxide: ATO), indium-doped tin oxide (indium tin composite oxide: ITO), and gallium-doped tin oxide (gallium tin composite). Oxide: GTO) is preferable, and antimony-doped tin oxide (antimony tin composite oxide: ATO) and indium-doped tin oxide (indium tin composite oxide: ITO) are more preferable.

上記無機ナノ微粒子は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。   The said inorganic nanoparticle may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types.

すなわち、本発明の好適な実施形態において、最表層は、好適には酸化亜鉛および/または他の金属でドープされた酸化亜鉛(以下、「酸化亜鉛系粒子」とも称する)、ならびに酸化錫および/または他の金属でドープされた酸化錫(以下、「酸化錫系粒子」とも称する)を含む。   That is, in a preferred embodiment of the present invention, the outermost layer preferably comprises zinc oxide doped with zinc oxide and / or other metal (hereinafter also referred to as “zinc oxide-based particles”), and tin oxide and / or Alternatively, tin oxide doped with other metals (hereinafter also referred to as “tin oxide-based particles”) is included.

酸化亜鉛系粒子は酸化錫系粒子と比較して、近赤外領域の吸収能が低く、酸化錫系粒子に対し、重量にして1.3倍程度添加する必要があるが、その最表層中の樹脂の含有量が少なくなる。その結果、収縮応力の原因である樹脂成分が少ないため、最表層の収縮が低減され、従来よりも小さいカールのフィルムを作製することができる。そのため、酸化亜鉛類を赤外線吸収剤として最表層中に用いれば、割れ、剥がれが少ない誘電体多層膜フィルムを形成することができる。   Zinc oxide-based particles have a lower absorption capacity in the near-infrared region than tin oxide-based particles, and it is necessary to add about 1.3 times the weight of tin oxide-based particles. The content of the resin is reduced. As a result, since the resin component that causes the shrinkage stress is small, the shrinkage of the outermost layer is reduced, and a curl film smaller than the conventional one can be produced. Therefore, when zinc oxides are used in the outermost layer as an infrared absorber, a dielectric multilayer film with few cracks and peeling can be formed.

また、酸化亜鉛系粒子は酸化錫系粒子よりも紫外線吸収能が高いという特徴を有するため、硬化樹脂層の紫外線による劣化を低減することができ、長期間暴露による耐擦傷性の低減を防ぐことができる。このとき、内張り用途よりも外張り用途にフィルムを用いた場合、紫外線の影響をより大きく受けるため、上記効果がより顕著に現れる。   In addition, since zinc oxide-based particles have a feature of higher ultraviolet absorption capacity than tin oxide-based particles, deterioration of the cured resin layer due to ultraviolet rays can be reduced, and reduction in scratch resistance due to long-term exposure can be prevented. Can do. At this time, when the film is used for the outer use rather than the inner use, the effect is more remarkably exhibited because it is more affected by the ultraviolet rays.

酸化亜鉛系粒子および酸化錫系粒子は、溶剤または水に分散された市販品を用いてもよい。例えば、酸化亜鉛粒子系として、セルナックス(登録商標)シリーズ(日産化学工業株式会社製)、パゼットシリーズ(ハクスイテック株式会社製)、酸化錫粒子系として、ATO分散液、ITO分散液(以上、三菱マテリアル株式会社製)、KHシリーズ(住友金属鉱山株式会社製)等が挙げられる。   Commercially available products dispersed in a solvent or water may be used as the zinc oxide-based particles and tin oxide-based particles. For example, as a zinc oxide particle system, Celnax (registered trademark) series (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), passette series (manufactured by Hakusui Tech Co., Ltd.), as tin oxide particle system, an ATO dispersion, an ITO dispersion (above, Mitsubishi Materials Corporation), KH series (Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.), and the like.

本発明において、最表層は、上記の無機ナノ微粒子以外の赤外線吸収剤を含んでいてもよい。このような赤外線吸収剤としては、無機ナノ微粒子以外の無機系赤外線吸収剤および有機系赤外線吸収剤に大別される。無機系赤外線吸収剤としては、ホウ素化ランタン、ニッケル錯体系化合物等が挙げられる。また、有機系赤外線吸収剤としては、イモニウム系、フタロシアニン系、アミニウム系化合物を利用することができる。   In the present invention, the outermost layer may contain an infrared absorbent other than the inorganic nanoparticles. Such infrared absorbents are roughly classified into inorganic infrared absorbents other than inorganic nanoparticles and organic infrared absorbents. Examples of inorganic infrared absorbers include lanthanum boride and nickel complex compounds. Further, as the organic infrared absorber, an immonium-based, phthalocyanine-based, or aminium-based compound can be used.

有機系の市販品としては、例えば、NIR−IM1、NIR−AM1(以上、ナガセケミテックス株式会社製)、Lumogen(登録商標)シリーズ(BASF社製)等が挙げられる。   Examples of the organic commercial products include NIR-IM1, NIR-AM1 (manufactured by Nagase Chemitex Co., Ltd.), Lumogen (registered trademark) series (manufactured by BASF Corp.), and the like.

(硬化性樹脂)
最表層の構成は、上記の紫外線吸収剤および/または赤外線吸収剤以外に、熱や紫外線などで硬化する樹脂(本明細書中、単に「硬化性樹脂」とも称する)を含む構成であると好ましい。
(Curable resin)
The configuration of the outermost layer is preferably a configuration including a resin that is cured by heat, ultraviolet rays, or the like (in the present specification, simply referred to as “curable resin”) in addition to the ultraviolet absorber and / or infrared absorber. .

硬化性樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられるが、成形が容易なことから、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。かような硬化性樹脂は、単独でもまたは2種以上組み合わせても用いることができる。また、硬化型樹脂は市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。 ・熱硬化性樹脂
熱硬化性樹脂としては、ポリシロキサンに代表される無機系材料が挙げられる。
Examples of the curable resin include a thermosetting resin and an active energy ray curable resin, but an active energy ray curable resin is preferable because of easy molding. Such curable resins can be used singly or in combination of two or more. As the curable resin, a commercially available product may be used, or a synthetic product may be used. -Thermosetting resin As a thermosetting resin, the inorganic type material represented by polysiloxane is mentioned.

本発明に係る最表層の形成に適用可能なポリシロキサン系ハードコート材料としては、下記一般式(2)で表される化合物が好ましい。   As the polysiloxane hard coat material applicable to the formation of the outermost layer according to the present invention, a compound represented by the following general formula (2) is preferable.

上記一般式(2)において、RおよびR10は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基を表し、aおよびbは、a+b=4の関係を満たす整数である。 In the general formula (2), R and R 10 each independently represent a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a and b are a + b = 4 It is an integer that satisfies the relationship.

具体的な化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β−(N−アミノベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライドを挙げることができる。これらのメトキシ基、エトキシ基などの加水分解性基がヒドロキシ基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコート材料といわれている。   Specific compounds include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, Examples include methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and hexyltrimethoxysilane. Further, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β- (N-aminobenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane, Mention may be made of hydrochloride and octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride. Those having a hydrolyzable group such as methoxy group or ethoxy group substituted with a hydroxy group are generally referred to as polyorganosiloxane hard coat materials.

前記ポリオルガノシロキサン系ハードコート材料の具体的には、サーコートシリーズ、BP−16N(以上、株式会社動研製)、SR2441(東レ・ダウコーニング株式会社製)、Perma−New 6000(California Hardcoating Company社製)などを利用することができる。   Specific examples of the polyorganosiloxane-based hard coat material include Surcoat Series, BP-16N (manufactured by Doken Co., Ltd.), SR2441 (Toray Dow Corning Co., Ltd.), Perma-New 6000 (California Hardcoating Company, Inc.) ) Etc. can be used.

・活性エネルギー線硬化性樹脂
本発明に係る最表層で使用される硬化性樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられるが、成形が容易なことから、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。このような硬化性樹脂は、単独でもまたは2種以上組み合わせても用いることができる。
Active energy ray curable resin Examples of the curable resin used in the outermost layer according to the present invention include a thermosetting resin and an active energy ray curable resin. Is preferred. Such curable resins can be used singly or in combination of two or more.

活性エネルギー線樹脂とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化させて、活性エネルギー線硬化性樹脂層、すなわち最表層が形成される。活性エネルギー線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、製造工程の複雑化を抑制するという観点からは、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂が好ましい。   The active energy ray resin refers to a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the active energy ray curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and cured by irradiating an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam to cure the active energy ray. The conductive resin layer, that is, the outermost layer is formed. Typical examples of the active energy ray curable resin include an ultraviolet ray curable resin and an electron beam curable resin, but from the viewpoint of suppressing the complexity of the production process, the ultraviolet ray curable resin cured by ultraviolet ray irradiation. Resins are preferred.

ただし、本発明では、誘電体多層膜の劣化を抑制するため、誘電体多層膜フィルムの製造時においても誘電体多層膜に入射する紫外線量を低減することが好ましい。よって、フィルムの使用時のみならず、製造時においても紫外線による劣化を抑制するという意味で、紫外線硬化性樹脂を用いて最表層を形成する場合、最表層中に上記紫外線吸収剤が添加されているとよい。かような構成とすることにより、最表層の下層に設けられる誘電体多層膜に入射する紫外線量を低減し、耐久性に優れた誘電体多層膜フィルムを得ることができる。   However, in the present invention, in order to suppress deterioration of the dielectric multilayer film, it is preferable to reduce the amount of ultraviolet rays incident on the dielectric multilayer film even during the production of the dielectric multilayer film. Therefore, when the outermost layer is formed using an ultraviolet curable resin in the sense that the deterioration due to ultraviolet rays is suppressed not only during the use of the film but also during production, the ultraviolet absorber is added to the outermost layer. It is good to be. With such a configuration, it is possible to reduce the amount of ultraviolet light incident on the dielectric multilayer film provided in the lowermost layer of the outermost layer and obtain a dielectric multilayer film excellent in durability.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂、紫外線硬化性アクリルアクリレート樹脂、または紫外線硬化性エポキシ樹脂等を用いることができる。中でも、耐傷性、屈曲性の観点から、最表層は、紫外線硬化性ウレタンアクリレート系樹脂を含んでいると好ましい。   Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, an ultraviolet curable acrylic acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. Etc. can be used. Among these, from the viewpoint of scratch resistance and flexibility, the outermost layer preferably contains an ultraviolet curable urethane acrylate resin.

紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下、アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号公報に記載のユニディック(登録商標)17−806(DIC株式会社製)100質量部とコロネート(登録商標)L(日本ポリウレタン工業株式会社製)1質量部との混合物等が好ましく用いられる。   The UV curable urethane acrylate resin generally includes 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate) in addition to a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, 100 parts by mass of Unidic (registered trademark) 17-806 (manufactured by DIC Corporation) described in JP-A-59-151110 and 1 part by mass of Coronate (registered trademark) L (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) A mixture of these is preferably used.

紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる(例えば、特開昭59−151112号公報)。   The UV curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate or acrylic acid with a hydroxyl group or carboxyl group at the end of the polyester (see, for example, JP-A No. 59-151112).

紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。   The ultraviolet curable epoxy acrylate resin is obtained by reacting a terminal hydroxyl group of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride, or glycidyl acrylate.

紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレートのようなモノマーを反応させて得られるものを挙げることができる。   Examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipenta. Examples thereof include those obtained by reacting monomers such as erythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and triethylene glycol diacrylate.

最表層形成に用いられる活性エネルギー線硬化性樹脂の市販品の例としては、上記の他に、例えば、ヒタロイド(登録商標)シリーズ(日立化成株式会社製)、紫光シリーズ(日本合成化学工業株式会社製)、ビームセットシリーズ(荒川化学工業株式会社)、ETERMER2382(ETERNAL CHEMICAL社製)等を挙げることができる。   In addition to the above, examples of commercially available products of active energy ray-curable resins used for forming the outermost layer include, for example, the Hitaroid (registered trademark) series (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), the Shikko series (Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) Manufactured), a beam set series (Arakawa Chemical Industries, Ltd.), ETERMER 2382 (manufactured by ETERNAL CHEMICAL), and the like.

最表層は、従来公知の方法によって作製することができるが、最表層形成用組成物(塗布液)をワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングにより塗布する方法を用いると好ましい。上記の組成物(塗布液)をダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布・製膜することも可能である。   The outermost layer can be prepared by a conventionally known method, but it is preferable to use a method of applying the outermost layer forming composition (coating solution) by wire bar coating, spin coating, or dip coating. The above composition (coating solution) can be applied and formed into a film by a continuous coating apparatus such as a die coater, a gravure coater, or a comma coater.

[誘電体多層膜]
誘電体多層膜は、少なくとも1つの低屈折率層と高屈折率層とが少なくとも1つ以上積層された積層体である。本発明に係る誘電体多層膜は、太陽光線、赤外線、可視光線、または紫外線を反射する機能を発現するものであり、前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも1層は、光触媒作用を有する化合物を含む。
[Dielectric multilayer film]
The dielectric multilayer film is a laminate in which at least one low refractive index layer and at least one high refractive index layer are laminated. The dielectric multilayer film according to the present invention expresses a function of reflecting sunlight, infrared rays, visible rays, or ultraviolet rays, and at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer has a photocatalytic action. A compound having

誘電体多層膜の好適な形態は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層された交互積層体の形態を有する。なお、本明細書中、他方に対して屈折率の高い屈折率層を高屈折率層と、他方に対して屈折率の低い屈折率層を低屈折率層と称する。本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した2層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。したがって、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、誘電体多層膜を構成する各屈折率層において、隣接する2つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。   A preferred form of the dielectric multilayer film has a form of an alternating laminate in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated. In the present specification, a refractive index layer having a higher refractive index than the other is referred to as a high refractive index layer, and a refractive index layer having a lower refractive index than the other is referred to as a low refractive index layer. In this specification, the terms “high refractive index layer” and “low refractive index layer” refer to a refractive index layer having a higher refractive index when comparing the refractive index difference between two adjacent layers. It means that the lower refractive index layer is a low refractive index layer. Therefore, the terms “high refractive index layer” and “low refractive index layer” mean that when each refractive index layer constituting the dielectric multilayer film is focused on two adjacent refractive index layers, All forms other than those having the same refractive index are included.

低屈折率層の1層あたりの厚みは、20〜800nmであることが好ましく、50〜350nmであることがより好ましい。一方、高屈折率層の1層あたりの厚みは、20〜800nmであることが好ましく、50〜350nmであることがより好ましい。   The thickness per layer of the low refractive index layer is preferably 20 to 800 nm, and more preferably 50 to 350 nm. On the other hand, the thickness per layer of the high refractive index layer is preferably 20 to 800 nm, and more preferably 50 to 350 nm.

ここで、1層あたりの厚さを測定する場合、高屈折率層と低屈折率層とは、これらの間に明確な界面をもっていても、連続的に組成が変化する構造であってもよい。界面から組成が連続的に変化している場合には、それぞれの層が混合し屈折率が連続的に変化する領域中で、最大屈折率−最小屈折率=Δnとした場合、2層間の最小屈折率+Δn/2の地点を層界面とみなす。なお、後述する低屈折率層の層厚においても同様である。   Here, when measuring the thickness per layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer may have a clear interface between them, or may have a structure in which the composition changes continuously. . When the composition is continuously changed from the interface, the maximum refractive index-minimum refractive index = Δn in the region where the layers are mixed and the refractive index continuously changes. A point of refractive index + Δn / 2 is regarded as a layer interface. The same applies to the layer thickness of the low refractive index layer described later.

本発明において、高屈折率層および低屈折率層を積層して形成された誘電体多層膜の屈折率調整剤のプロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、XPS表面分析装置を用いて、最表面を0nmとして、0.5nm/minの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで見ることができる。また、積層膜を切断して、切断面をXPS表面分析装置で原子組成比を測定することで確認することも可能である。混合領域において、屈折率調整剤の濃度が不連続に変化している場合には、電子顕微鏡(TEM)による断層写真により境界を確認することができる。   In the present invention, the profile of the refractive index adjusting agent of the dielectric multilayer film formed by laminating the high refractive index layer and the low refractive index layer is etched from the surface to the depth direction using the sputtering method, and the XPS surface Using an analyzer, the outermost surface can be set to 0 nm, sputtered at a rate of 0.5 nm / min, and the atomic composition ratio can be measured. It is also possible to confirm the cut surface by cutting the laminated film and measuring the atomic composition ratio with an XPS surface analyzer. In the mixed region, when the concentration of the refractive index adjusting agent changes discontinuously, the boundary can be confirmed by a tomographic photograph using an electron microscope (TEM).

XPS表面分析装置としては、特に制限されず、いかなる機種も使用することができるが、例えば、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB−200Rを用いることができる。X線アノードにはMgを用い、出力600W(加速電圧15kV、エミッション電流40mA)で測定する。   The XPS surface analyzer is not particularly limited, and any model can be used. For example, ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific, Inc. can be used. Mg is used for the X-ray anode, and measurement is performed at an output of 600 W (acceleration voltage: 15 kV, emission current: 40 mA).

本発明に係る誘電体多層膜は、生産性の観点から、総層数の範囲としては、6〜50層が好ましく、8〜40層がより好ましく、9〜30層がさらに好ましい。   In the dielectric multilayer film according to the present invention, from the viewpoint of productivity, the range of the total number of layers is preferably 6 to 50 layers, more preferably 8 to 40 layers, and further preferably 9 to 30 layers.

誘電体多層膜においては、低屈折率層と高屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができるという観点から好ましい。低屈折率層および高屈折率層から構成される積層体(ユニット)の少なくとも1つにおいて、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が0.1以上であることが好ましく、より好ましくは0.3以上であり、さらに好ましくは0.35以上であり、特に好ましくは0.4超である。誘電体多層膜が高屈折率層および低屈折率層の積層体(ユニット)を複数有する場合には、全ての積層体(ユニット)における高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、誘電体多層膜の最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。   In the dielectric multilayer film, it is preferable to design a large difference in refractive index between the low refractive index layer and the high refractive index layer from the viewpoint that the infrared reflectance can be increased with a small number of layers. In at least one of the laminates (units) composed of the low refractive index layer and the high refractive index layer, the difference in refractive index between the adjacent low refractive index layer and high refractive index layer is preferably 0.1 or more. More preferably, it is 0.3 or more, More preferably, it is 0.35 or more, Most preferably, it is more than 0.4. When the dielectric multilayer film has a plurality of laminates (units) of the high refractive index layer and the low refractive index layer, the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer in all the laminated bodies (units) is It is preferable that it exists in the said suitable range. However, the outermost layer and the lowermost layer of the dielectric multilayer film may have a configuration outside the above preferred range.

特定波長領域の反射率は、隣接する2層の屈折率差と積層数とで決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率90%以上を得るためには、屈折率差が0.1より小さいと、200層以上の積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、また故障なく製造することも非常に困難になる。反射率の向上と層数を少なくするという観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には1.4程度が限界である。   The reflectance in the specific wavelength region is determined by the difference in refractive index between two adjacent layers and the number of stacked layers. The larger the difference in refractive index, the same reflectance can be obtained with a smaller number of layers. The refractive index difference and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software. For example, in order to obtain an infrared reflectance of 90% or more, if the difference in refractive index is less than 0.1, it is necessary to laminate 200 layers or more, which not only decreases productivity but also scattering at the interface of the layers. Becomes larger, the transparency is lowered, and it becomes very difficult to manufacture without failure. From the standpoint of improving reflectivity and reducing the number of layers, there is no upper limit to the difference in refractive index, but practically about 1.4 is the limit.

さらには、誘電体多層膜の光学特性として、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率が50%以上、好ましくは75%以上、より好ましくは85%以上であることが好ましく、また、波長900nm〜1400nmの領域に反射率50%を超える領域を有することが好ましい。   Further, as the optical characteristics of the dielectric multilayer film, the transmittance in the visible light region shown in JIS R3106-1998 is preferably 50% or more, preferably 75% or more, more preferably 85% or more, It is preferable to have a region in which the reflectance exceeds 50% in a wavelength region of 900 nm to 1400 nm.

誘電体多層膜は、基材上に、高屈折率層と低屈折率層とから構成される積層体(ユニット)を少なくとも1つ含む構成を有するものであればよい。好ましい高屈折率層および低屈折率層の層数としては、上記の観点から、総層数の範囲としては、100層以下、すなわち50ユニット以下であり、より好ましくは40層(20ユニット)以下であり、さらに好ましくは20層(10ユニット)以下である。また、誘電体多層膜は、上記ユニットを少なくとも1つ積層した構成であればよく、例えば、積層膜の最表層や最下層のどちらも高屈折率層または低屈折率層となる積層膜であってもよい。本発明に係る誘電体多層膜が基材を含む場合、基材に対する密着性の観点から、基材に隣接する最下層が低屈折率層である層構成が好ましい。   The dielectric multilayer film only needs to have a configuration including at least one laminate (unit) including a high refractive index layer and a low refractive index layer on a base material. As the number of layers of the high refractive index layer and the low refractive index layer, from the above viewpoint, the range of the total number of layers is 100 layers or less, that is, 50 units or less, more preferably 40 layers (20 units) or less. More preferably, it is 20 layers (10 units) or less. In addition, the dielectric multilayer film may have a configuration in which at least one of the above units is laminated. For example, the dielectric multilayer film is a laminated film in which both the outermost layer and the lowermost layer of the laminated film are high refractive index layers or low refractive index layers. May be. When the dielectric multilayer film according to the present invention includes a base material, a layer configuration in which the lowermost layer adjacent to the base material is a low refractive index layer is preferable from the viewpoint of adhesion to the base material.

(光触媒作用を有する化合物)
本発明においては、誘電体多層膜を構成する高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層が光触媒作用を有する化合物を含有する。ここで、「高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層」とは、誘電体多層膜を構成する高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層に光触媒作用を有する化合物が含有されていることを意味する。すなわち、本発明の誘電体多層膜フィルムは、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層に光触媒作用を有する化合物が含有されていれば、光触媒作用を有する化合物を含有しない高屈折率層、および/または光触媒作用を有する化合物を含有しない低屈折率層を有していてもよい。
(Compound with photocatalytic activity)
In the present invention, at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the dielectric multilayer film contains a compound having a photocatalytic action. Here, “at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer” means that a compound having a photocatalytic action is contained in at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the dielectric multilayer film. Means that That is, the dielectric multilayer film of the present invention has a high refractive index layer that does not contain a photocatalytic compound as long as at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains a photocatalytic compound. And / or a low refractive index layer that does not contain a photocatalytic compound.

誘電体多層膜の反射率の観点から、好ましくは、前記高屈折率層の少なくとも1層が光触媒作用を有する化合物を含む形態であり、より好ましくは、前記高屈折率層のすべての層が光触媒作用を有する化合物を含む形態である。   From the viewpoint of the reflectance of the dielectric multilayer film, preferably, at least one of the high refractive index layers includes a compound having a photocatalytic action, and more preferably, all layers of the high refractive index layer are photocatalysts. It is a form containing a compound having an action.

さらに、本発明において、「光触媒作用を有する化合物」とは、光を照射することにより触媒作用を示す化合物を意味する。また、「光触媒作用」とは、具体的には、光が照射されることにより、誘電体多層膜に含まれる水溶性高分子を分解する作用を意味する。   Furthermore, in the present invention, the “compound having a photocatalytic action” means a compound that exhibits a catalytic action when irradiated with light. The “photocatalytic action” specifically means an action of decomposing a water-soluble polymer contained in the dielectric multilayer film when irradiated with light.

本発明においては、このような光触媒作用を有する化合物を含む誘電体多層膜フィルムであっても、粘着層の光透過率および当該光透過率の変化率を所定の範囲内とすることにより、密着性や屈曲性に優れた耐久性の高い誘導体多層膜フィルムを得ることができる。   In the present invention, even with a dielectric multilayer film containing such a compound having a photocatalytic action, the adhesive layer can be adhered by adjusting the light transmittance of the adhesive layer and the rate of change of the light transmittance within a predetermined range. A highly durable derivative multilayer film excellent in flexibility and flexibility can be obtained.

当該光触媒作用を有する化合物は、無機化合物や有機化合物であってもよい。無機化合物としては、例えば、後述の高屈折率層に含まれる第1の屈折率調整剤および低屈折率層に含まれる第2の屈折率調整剤として用いられる金属酸化物粒子等が挙げられる。また、有機化合物としては、例えば、ベンゾインおよびその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等およびこれらの誘導体、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤が挙げられるが、これらに限定されず、光照射によりラジカルやカチオンなどの活性物質が発生する物質全てが包含される。   The compound having a photocatalytic action may be an inorganic compound or an organic compound. As an inorganic compound, the metal oxide particle etc. which are used as a 1st refractive index adjusting agent contained in the below-mentioned high refractive index layer and a 2nd refractive index adjusting agent contained in a low refractive index layer are mentioned, for example. Examples of organic compounds include benzoin and derivatives thereof, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and the like. Examples thereof include, but are not limited to, sensitizers, and all substances that generate active substances such as radicals and cations by light irradiation are included.

(1)高屈折率層
本発明に係る高屈折率層の構成としては、特に制限されないが、水溶性高分子と、光触媒作用を有する化合物とを含むものであると好ましい。なお、本明細書中、「水溶性高分子」とは、該水溶性高分子が最も溶解する温度で、0.5質量%の濃度に水に溶解させた際、G2グラスフィルタ(最大細孔40〜50μm)で濾過した場合に濾別される不溶物の質量が、加えた該水溶性高分子の50質量%以内であるものを言う。
(1) High Refractive Index Layer The configuration of the high refractive index layer according to the present invention is not particularly limited, but preferably includes a water-soluble polymer and a compound having a photocatalytic action. In this specification, “water-soluble polymer” means a G2 glass filter (maximum pore size) when dissolved in water at a concentration of 0.5 mass% at the temperature at which the water-soluble polymer is most dissolved. 40-50 μm) means that the mass of the insoluble matter filtered off is within 50% by mass of the added water-soluble polymer.

より詳細な高屈折率層の構成としては、第1の水溶性バインダー樹脂(水溶性高分子)および第1の屈折率調整剤を含有し、前記第1の屈折率調整剤が光触媒作用を有する化合物を含有していると好ましく、さらに必要に応じて、硬化剤、その他のバインダー樹脂、界面活性剤、各種添加剤等を含んでいてもよい。   As a more detailed constitution of the high refractive index layer, it contains a first water-soluble binder resin (water-soluble polymer) and a first refractive index adjusting agent, and the first refractive index adjusting agent has a photocatalytic action. It preferably contains a compound, and may further contain a curing agent, other binder resin, a surfactant, various additives, etc., if necessary.

本発明に係る高屈折率層の屈折率は、好ましくは1.80〜2.50であり、より好ましくは1.90〜2.20である。   The refractive index of the high refractive index layer according to the present invention is preferably 1.80 to 2.50, more preferably 1.90 to 2.20.

(1−1)第1の水溶性バインダー樹脂
本発明において、第1の水溶性バインダー樹脂(水溶性高分子)は、重量平均分子量が1,000〜200,000であることが好ましく、3,000〜150,000であることがより好ましい。
なお、本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、下記表1に示す測定条件下で測定した値を採用する。
(1-1) First water-soluble binder resin In the present invention, the first water-soluble binder resin (water-soluble polymer) preferably has a weight average molecular weight of 1,000 to 200,000, More preferably, it is 000-150,000.
In addition, in this specification, the value measured on the measurement conditions shown in following Table 1 using a gel permeation chromatography (GPC) is employ | adopted for a weight average molecular weight.

高屈折率層における第1の水溶性バインダー樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、5〜50質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましい。   The content of the first water-soluble binder resin in the high refractive index layer is preferably 5 to 50% by mass and 10 to 40% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer. Is more preferable.

高屈折率層に適用する第1の水溶性バインダー樹脂としては、ポリビニルアルコールであることが好ましい。また、後述する低屈折率層に存在する第2の水溶性バインダー樹脂(水溶性高分子)も、ポリビニルアルコールであることが好ましい。   The first water-soluble binder resin applied to the high refractive index layer is preferably polyvinyl alcohol. Moreover, it is preferable that the 2nd water-soluble binder resin (water-soluble polymer) which exists in the low-refractive-index layer mentioned later is also polyvinyl alcohol.

したがって、以下においては、高屈折率層および低屈折率層に含まれるポリビニルアルコールを併せて説明する。   Therefore, in the following, polyvinyl alcohol contained in the high refractive index layer and the low refractive index layer will be described together.

(1−1−1)ポリビニルアルコール
本発明に係る高屈折率層と低屈折率層とにおいては、ケン化度の異なる2種以上のポリビニルアルコールを含むことが好ましい。ここで、区別するために、高屈折率層で用いる第1の水溶性バインダー樹脂としてのポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(A)とし、低屈折率層で用いる第2の水溶性バインダー樹脂としてのポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(B)と称す。なお、各屈折率層が、ケン化度や重合度が異なる複数のポリビニルアルコールを含む場合には、各屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコールをそれぞれ高屈折率層におけるポリビニルアルコール(A)、および低屈折率層におけるポリビニルアルコール(B)と称する。
(1-1-1) Polyvinyl alcohol The high refractive index layer and the low refractive index layer according to the present invention preferably contain two or more kinds of polyvinyl alcohols having different saponification degrees. Here, in order to distinguish, polyvinyl alcohol (A) is used as the first water-soluble binder resin used in the high refractive index layer, and polyvinyl alcohol as the second water-soluble binder resin used in the low refractive index layer. Is referred to as polyvinyl alcohol (B). In addition, when each refractive index layer contains a plurality of polyvinyl alcohols having different saponification degrees and polymerization degrees, the polyvinyl alcohol having the highest content in each refractive index layer is changed to polyvinyl alcohol (A ), And polyvinyl alcohol (B) in the low refractive index layer.

本発明でいう「ケン化度」とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基(原料の酢酸ビニル由来のもの)とヒドロキシ基との合計数に対するヒドロキシ基の割合のことである。   The “degree of saponification” as used in the present invention is the ratio of hydroxy groups to the total number of acetyloxy groups (derived from the starting vinyl acetate) and hydroxy groups in polyvinyl alcohol.

また、ここでいう「屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール」という際には、ケン化度の差が3mol%以内のポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールであるとし、重合度を算出する。ただし、重合度1000以下の低重合度ポリビニルアルコールは、異なるポリビニルアルコールとする(仮にケン化度の差が3mol%以内のポリビニルアルコールがあったとしても同一のポリビニルアルコールとはしない)。具体的には、ケン化度が90mol%、ケン化度が91mol%、ケン化度が93mol%のポリビニルアルコールが同一層内にそれぞれ10質量%、40質量%、50質量%含まれる場合には、これら3つのポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとし、これら3つの混合物をポリビニルアルコール(A)または(B)とする。また、上記「ケン化度の差が3mol%以内のポリビニルアルコール」とは、いずれかのポリビニルアルコールに着目した場合に3mol%以内であれば足り、例えば、90mol%、91mol%、92mol%、94mol%のポリビニルアルコールを含む場合には、91mol%のポリビニルアルコールに着目した場合に、いずれのポリビニルアルコールのケン化度の差も3mol%以内なので、同一のポリビニルアルコールとなる。   In addition, when referring to “polyvinyl alcohol having the highest content in the refractive index layer” herein, the degree of polymerization is calculated assuming that the polyvinyl alcohol having a saponification degree difference of 3 mol% or less is the same polyvinyl alcohol. . However, a low polymerization degree polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 1000 or less is a different polyvinyl alcohol (even if there is a polyvinyl alcohol having a saponification degree difference of 3 mol% or less, it is not regarded as the same polyvinyl alcohol). Specifically, when polyvinyl alcohol having a saponification degree of 90 mol%, a saponification degree of 91 mol%, and a saponification degree of 93 mol% is contained in the same layer by 10 mass%, 40 mass%, and 50 mass%, respectively. These three polyvinyl alcohols are the same polyvinyl alcohol, and these three mixtures are polyvinyl alcohol (A) or (B). In addition, the above-mentioned “polyvinyl alcohol having a saponification degree difference of 3 mol% or less” suffices to be within 3 mol% when attention is paid to any polyvinyl alcohol. For example, 90 mol%, 91 mol%, 92 mol%, 94 mol % Of polyvinyl alcohol, when paying attention to 91 mol% of polyvinyl alcohol, the difference in saponification degree of any polyvinyl alcohol is within 3 mol%, so that the same polyvinyl alcohol is obtained.

同一層内にケン化度が3mol%以上異なるポリビニルアルコールが含まれる場合、異なるポリビニルアルコールの混合物とみなし、それぞれに重合度とケン化度を算出する。例えば、PVA203:5質量%、PVA117:25質量%、PVA217:10質量%、PVA220:10質量%、PVA224:10質量%、PVA235:20質量%、PVA245:20質量%が含まれる場合、最も含有量の多いPVA(ポリビニルアルコール)は、PVA217〜245の混合物であり(PVA217〜245のケン化度の差は3mol%以内なので同一のポリビニルアルコールである)、この混合物がポリビニルアルコール(A)または(B)となる。そうして、PVA217〜245の混合物(ポリビニルアルコール(A)または(B))において、重合度が、(1700×0.1+2000×0.1+2400×0.1+3500×0.2+4500×0.7)/0.7=3200であり、ケン化度は、88mol%となる。   When polyvinyl alcohol having a saponification degree different by 3 mol% or more is contained in the same layer, it is regarded as a mixture of different polyvinyl alcohols, and the polymerization degree and the saponification degree are calculated for each. For example, PVA203: 5% by mass, PVA117: 25% by mass, PVA217: 10% by mass, PVA220: 10% by mass, PVA224: 10% by mass, PVA235: 20% by mass, PVA245: 20% by mass, most contained A large amount of PVA (polyvinyl alcohol) is a mixture of PVA 217 to 245 (the difference in the degree of saponification of PVA 217 to 245 is within 3 mol%, and thus is the same polyvinyl alcohol), and this mixture is polyvinyl alcohol (A) or ( B). Thus, in a mixture of PVA 217 to 245 (polyvinyl alcohol (A) or (B)), the degree of polymerization is (1700 × 0.1 + 2000 × 0.1 + 2400 × 0.1 + 3500 × 0.2 + 4500 × 0.7) / 0.7 = 3200, and the degree of saponification is 88 mol%.

ポリビニルアルコール(A)とポリビニルアルコール(B)とのケン化度の絶対値の差は、3mol%以上であることが好ましく、5mol%以上であることがより好ましい。このような範囲であれば、高屈折率層と低屈折率層との層間混合状態が好ましいレベルになるため好ましい。また、ポリビニルアルコール(A)とポリビニルアルコール(B)とのケン化度の差は、離れていれば離れているほど好ましいが、ポリビニルアルコールの水への溶解性の観点から、20mol%以下であることが好ましい。   The difference in the absolute value of the degree of saponification between the polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol (B) is preferably 3 mol% or more, and more preferably 5 mol% or more. If it is such a range, since the interlayer mixing state of a high refractive index layer and a low refractive index layer will become a preferable level, it is preferable. Moreover, although the difference of the saponification degree of polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B) is so preferable that it is separated, it is 20 mol% or less from the viewpoint of the solubility to water of polyvinyl alcohol. It is preferable.

また、ポリビニルアルコール(A)およびポリビニルアルコール(B)のケン化度は、水への溶解性の観点で、75mol%以上であることが好ましい。さらに、ポリビニルアルコール(A)およびポリビニルアルコール(B)のうち一方がケン化度90mol%以上であり、他方が90mol%以下であることが、高屈折率層と低屈折率層との層間混合状態を好ましいレベルにするために好ましい。ポリビニルアルコール(A)およびポリビニルアルコール(B)のうち一方が、ケン化度95mol%以上であり、他方が90mol%以下であることがより好ましい。なお、ポリビニルアルコールのケン化度の上限は特に限定されるものではないが、通常100mol%未満であり、99.9mol%以下程度である。   Moreover, it is preferable that the saponification degree of polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B) is 75 mol% or more from the viewpoint of solubility in water. Furthermore, between polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B), one of them has a saponification degree of 90 mol% or more and the other is 90 mol% or less. Is preferable for achieving a preferable level. It is more preferable that one of the polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol (B) has a saponification degree of 95 mol% or more and the other is 90 mol% or less. In addition, although the upper limit of the saponification degree of polyvinyl alcohol is not specifically limited, Usually, it is less than 100 mol% and is about 99.9 mol% or less.

また、ケン化度の異なる2種のポリビニルアルコールの重合度は、1000以上のものが好ましく用いられ、特に、重合度が1500〜5000の範囲内のものがより好ましく、2000〜5000の範囲内のものがさらに好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が、1000以上であると塗布膜のひび割れがなく、5000以下であると塗布液が安定するからである。なお、本明細書において、「塗布液が安定する」とは、塗布液が経時的に安定することを意味する。ポリビニルアルコール(A)およびポリビニルアルコール(B)の少なくとも一方の重合度が2000〜5000の範囲内であると、塗膜のひび割れが減少し、特定の波長の反射率が向上するため好ましい。ポリビニルアルコール(A)およびポリビニルアルコール(B)の双方が、2000〜5000であると上記効果はより顕著に発揮できるため好ましい。   In addition, the polymerization degree of two kinds of polyvinyl alcohols having different saponification degrees is preferably 1000 or more, particularly preferably those having a polymerization degree in the range of 1500 to 5000, and in the range of 2000 to 5000. Those are more preferably used. This is because when the polymerization degree of polyvinyl alcohol is 1000 or more, there is no cracking of the coating film, and when it is 5000 or less, the coating solution is stabilized. In the present specification, “the coating solution is stable” means that the coating solution is stable over time. When the degree of polymerization of at least one of polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B) is in the range of 2000 to 5000, it is preferable because cracks in the coating film are reduced and the reflectance at a specific wavelength is improved. It is preferable that both the polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol (B) are 2000 to 5000 since the above effect can be more remarkably exhibited.

本発明でいう「重合度」とは、粘度平均重合度を指し、JIS K6726(1994)に準じて測定され、PVAを完全に再ケン化し、精製した後、30℃の水中で測定した極限粘度[η](dl/g)から、下記数式(3)により求められるものである。   The “degree of polymerization” as used in the present invention refers to the viscosity average degree of polymerization, and is measured according to JIS K6726 (1994). After re-saponification and purification of PVA, the intrinsic viscosity measured in water at 30 ° C. From [η] (dl / g), it is obtained by the following mathematical formula (3).

低屈折率層に含まれるポリビニルアルコール(B)は、ケン化度が75〜90mol%の範囲内で、かつ重合度が2000〜5000の範囲内であることが好ましい。このような特性を備えたポリビニルアルコールを低屈折率層に含有させると、界面混合がより抑制される点で好ましい。これは塗膜のひび割れが少なく、かつセット性が向上するためであると考えられる。   The polyvinyl alcohol (B) contained in the low refractive index layer preferably has a saponification degree in the range of 75 to 90 mol% and a polymerization degree in the range of 2000 to 5000. When polyvinyl alcohol having such characteristics is contained in the low refractive index layer, it is preferable in that interfacial mixing is further suppressed. This is considered to be because there are few cracks of a coating film and set property improves.

本発明で用いられるポリビニルアルコール(A)および(B)は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。ポリビニルアルコール(A)および(B)として用いられる市販品の例としては、例えば、PVA−102、PVA−103、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−120、PVA−124、PVA−203、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−235(以上、株式会社クラレ製)、JC−25、JC−33、JF−03、JF−04、JF−05、JP−03、JP−04、JP−05、JP−45(以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製)等が挙げられる。   As the polyvinyl alcohol (A) and (B) used in the present invention, a synthetic product or a commercially available product may be used. As an example of the commercial item used as polyvinyl alcohol (A) and (B), for example, PVA-102, PVA-103, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-120, PVA-124, PVA -203, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-235 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), JC-25, JC-33, JF-03, JF-04 , JF-05, JP-03, JP-04, JP-05, JP-45 (above, manufactured by Nippon Vinegar Poval Co., Ltd.) and the like.

本発明に係る水溶性バインダー樹脂は、本発明の効果を損なわない限りでは、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールを含んでもよい。このような変性ポリビニルアルコールを含むと、膜の密着性や耐水性、柔軟性が改良される場合がある。このような変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。   As long as the effects of the present invention are not impaired, the water-soluble binder resin according to the present invention may contain modified polyvinyl alcohol partially modified in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolysis of polyvinyl acetate. Good. When such a modified polyvinyl alcohol is included, the adhesion, water resistance, and flexibility of the film may be improved. Examples of such modified polyvinyl alcohol include cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, nonionic-modified polyvinyl alcohol, and vinyl alcohol polymers.

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61−10483号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。   Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol include primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups, as described in JP-A No. 61-10383, in the main chain or side chain of the polyvinyl alcohol. It is obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、特開2012−242644号公報の段落「0101」に記載されたものが挙げられる。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include those described in paragraph “0101” of JP2012-242644A.

アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1−206088号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号公報および同63−307979号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体および特開平7−285265号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。   Anion-modified polyvinyl alcohol is described in, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-206088, JP-A-61-237681 and JP-A-63-307979. Examples thereof include a copolymer of vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and a modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシ基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。   Nonionic modified polyvinyl alcohol includes, for example, a polyvinyl alcohol derivative in which a polyalkylene oxide group as described in JP-A-7-9758 is added to a part of vinyl alcohol, and JP-A-8-25795. Block copolymer of vinyl compound having hydrophobic group and vinyl alcohol, silanol-modified polyvinyl alcohol having silanol group, reactive group modification having reactive group such as acetoacetyl group, carbonyl group and carboxy group Polyvinyl alcohol etc. are mentioned.

また、ポリビニルアルコール系水溶性ポリマーを用いることも好ましく、例えば、エクセバール(登録商標、株式会社クラレ製)やニチゴーGポリマー(登録商標、日本合成化学工業株式会社製)などが挙げられる。   It is also preferable to use a polyvinyl alcohol-based water-soluble polymer, such as EXEVAL (registered trademark, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) or Nichigo G polymer (registered trademark, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.).

変性ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違いなど2種類以上を併用することができる。   Two or more types of modified polyvinyl alcohol can be used in combination, such as the degree of polymerization and the type of modification.

変性ポリビニルアルコールの含有量は、特に限定されるものではないが、各屈折率層の全質量(固形分)に対し、好ましくは1〜30質量%である。このような範囲であれば、上記効果がより発揮される。   Although content of modified polyvinyl alcohol is not specifically limited, Preferably it is 1-30 mass% with respect to the total mass (solid content) of each refractive index layer. If it is such a range, the said effect will be exhibited more.

本発明においては、屈折率の異なる層間ではケン化度の異なる2種のポリビニルアルコールがそれぞれ用いられることが好ましい。   In the present invention, it is preferable that two types of polyvinyl alcohol having different saponification degrees are used between layers having different refractive indexes.

(1−1−2)その他のバインダー樹脂
本発明に係る高屈折率層において、ポリビニルアルコール以外の第1の水溶性バインダー樹脂(水溶性高分子)としては、第1の屈折率調整剤を含有した高屈折率層が塗膜を形成することができれば、いかなるものでも制限なく使用可能である。また、後述する低屈折率層においても、ポリビニルアルコール以外の第2の水溶性バインダー樹脂としては、前記と同様に、第2の屈折率調整剤を含有した低屈折率層が塗膜を形成することができれば、どのようなものでも制限なく使用可能である。ただし、環境の問題や塗膜の柔軟性を考慮すると、水溶性高分子(特にゼラチン、増粘多糖類、反応性官能基を有するポリマー)が好ましい。これらの水溶性高分子は単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。
(1-1-2) Other Binder Resins In the high refractive index layer according to the present invention, the first water-soluble binder resin (water-soluble polymer) other than polyvinyl alcohol contains a first refractive index adjuster. Any material can be used without limitation as long as the high refractive index layer can form a coating film. Also in the low refractive index layer described later, as the second water-soluble binder resin other than polyvinyl alcohol, the low refractive index layer containing the second refractive index adjusting agent forms a coating film as described above. Anything can be used without limitation. However, in view of environmental problems and flexibility of the coating film, water-soluble polymers (particularly gelatin, thickening polysaccharides, polymers having reactive functional groups) are preferable. These water-soluble polymers may be used alone or in combination of two or more.

高屈折率層において、第1の水溶性バインダー樹脂として好ましく用いられるポリビニルアルコールとともに、併用する他のバインダー樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、5〜50質量%の範囲内で用いることもできる。   In the high refractive index layer, the content of other binder resin used together with polyvinyl alcohol preferably used as the first water-soluble binder resin is 5 to 50 mass with respect to 100 mass% of the solid content of the high refractive index layer. % Can also be used.

本発明においては、有機溶媒を用いる必要がなく、環境保全上好ましいことから、バインダー樹脂は水溶性高分子から構成される。すなわち、本発明ではその効果を損なわない限りにおいて、上記ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールに加えて、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール以外の水溶性高分子をバインダー樹脂として用いてもよい。かような水溶性高分子の中でも特にゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、または反応性官能基を有するポリマーが好ましい。これらの水溶性高分子は、単独で用いられていてもよいし、2種類以上が混合されて用いられていてもよい。   In the present invention, it is not necessary to use an organic solvent and it is preferable from the viewpoint of environmental conservation. Therefore, the binder resin is composed of a water-soluble polymer. That is, in the present invention, a water-soluble polymer other than polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol may be used as the binder resin in addition to the polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol as long as the effect is not impaired. Among such water-soluble polymers, gelatin, celluloses, thickening polysaccharides, or polymers having reactive functional groups are particularly preferable. These water-soluble polymers may be used alone or in combination of two or more.

(1−2)第1の屈折率調整剤
本発明に係る高屈折率層に適用可能な第1の屈折率調整剤としては、無機材料であってもよいし有機材料であってもよい。一般に無機材料の方がより高屈折率であることから好ましく、屈折率が2.0以上3.0以下である金属酸化物粒子がより好ましい。なお、第1の屈折率調整剤として金属酸化物粒子を用いる場合、該金属酸化物粒子は、光触媒作用を有する化合物となりうる。
(1-2) First Refractive Index Adjusting Agent The first refractive index adjusting agent applicable to the high refractive index layer according to the present invention may be an inorganic material or an organic material. In general, inorganic materials are preferred because of their higher refractive index, and metal oxide particles having a refractive index of 2.0 or more and 3.0 or less are more preferred. In the case where metal oxide particles are used as the first refractive index adjusting agent, the metal oxide particles can be a compound having a photocatalytic action.

さらに、具体的には、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。また、複数の金属で構成された複合酸化物粒子やコア・シェル状に金属構成が変化するコア・シェル粒子等を用いることもできる。また、有機系ではチオフェン系化合物、ポリフェニレンスルフィド系化合物、ポリアセチレン系化合物、ポリフェニレンビニレン系化合物、ポリピロール系化合物、ポリアニリン系化合物、を用いることができる。   More specifically, for example, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, synthetic amorphous silica, colloidal silica, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide, oxidized oxide Examples thereof include ferric iron, iron black, copper oxide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, and tin oxide. In addition, composite oxide particles composed of a plurality of metals, core / shell particles whose metal structure changes into a core / shell shape, and the like can also be used. In the organic system, a thiophene compound, a polyphenylene sulfide compound, a polyacetylene compound, a polyphenylene vinylene compound, a polypyrrole compound, or a polyaniline compound can be used.

透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、本発明に係る高屈折率層には、チタン、ジルコニウム等の高屈折率を有する金属の酸化物粒子、すなわち、酸化チタン粒子および/または酸化ジルコニア粒子を含有させることが好ましい。これらの中でも、高屈折率層を形成するための塗布液の安定性の観点から、高屈折率層は、酸化チタン粒子を含むとより好ましい。一方で、酸化チタンは、光触媒作用を有する化合物となりうる。したがって、高屈折率層に酸化チタン粒子を含むことにより、高屈折率層と低屈折率層との間の屈折率差を大きくすることができる一方で、当該酸化チタン粒子の光触媒作用による誘電体多層膜の劣化が生じうる。しかしながら、本発明によれば、粘着層において光触媒作用を促進する波長の紫外線を吸収することができるため、酸化チタン粒子の光触媒作用を抑制することができる。したがって、本発明によれば、酸化チタン粒子を用いることにより、高屈折率層と低屈折率層との間の屈折率差を大きくすることができるという、屈折率差に関する利点のみを引き出すことができる。   In order to form a transparent and higher refractive index layer having a higher refractive index, the high refractive index layer according to the present invention includes metal oxide particles having a high refractive index such as titanium and zirconium, that is, titanium oxide particles and It is preferable to contain zirconia oxide particles. Among these, from the viewpoint of the stability of the coating liquid for forming the high refractive index layer, the high refractive index layer more preferably contains titanium oxide particles. On the other hand, titanium oxide can be a compound having a photocatalytic action. Therefore, by including titanium oxide particles in the high refractive index layer, the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer can be increased, while the dielectric due to the photocatalytic action of the titanium oxide particles. Deterioration of the multilayer film can occur. However, according to the present invention, ultraviolet light having a wavelength that promotes photocatalytic action can be absorbed in the adhesive layer, so that the photocatalytic action of the titanium oxide particles can be suppressed. Therefore, according to the present invention, by using the titanium oxide particles, it is possible to bring out only the advantage relating to the refractive index difference that the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer can be increased. it can.

また、酸化チタンの中でも、とくにアナターゼ型よりルチル型(正方晶形)の方が、触媒活性が低いために、高屈折率層や隣接した層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなることからより好ましい。   Among titanium oxides, the rutile type (tetragonal type) has a lower catalytic activity than the anatase type, and the weather resistance of the high refractive index layer and adjacent layers is higher, and the refractive index is higher. Is more preferable.

また、本発明に係る高屈折率層に、第1の屈折率調整剤としてコア・シェル粒子を用いると、シェル層の含ケイ素の水和酸化物と第1の水溶性バインダー樹脂との相互作用により、高屈折率層と隣接層の層間混合が抑制される効果から、酸化チタン粒子が含ケイ素の水和酸化物で被覆(表面処理)されたコア・シェル粒子がさらに好ましい。   When core / shell particles are used as the first refractive index adjusting agent in the high refractive index layer according to the present invention, the interaction between the silicon-containing hydrated oxide of the shell layer and the first water-soluble binder resin Thus, from the effect of suppressing intermixing between the high refractive index layer and the adjacent layer, core / shell particles in which titanium oxide particles are coated (surface-treated) with a silicon-containing hydrated oxide are more preferable.

本発明に係るコア・シェル粒子のコアに用いられる酸化チタン粒子を含む水溶液は、pHが1.0〜3.0であり、かつチタン粒子のゼータ電位が正である水系の酸化チタンゾルの表面を、疎水化して有機溶剤に分散可能な状態にしたものを用いることが好ましい。   The aqueous solution containing titanium oxide particles used for the core of the core-shell particles according to the present invention has a surface of an aqueous titanium oxide sol having a pH of 1.0 to 3.0 and a positive zeta potential of the titanium particles. It is preferable to use a hydrophobized and dispersible state in an organic solvent.

本発明に係る第1の屈折率調整剤として用いられる金属酸化物粒子の含有量が高屈折率層の固形分100質量%に対して、15〜80質量%であると、低屈折率層との屈折率差を付与するという観点で好ましい。さらに、20〜77質量%であることがより好ましく、30〜75質量%であることがさらに好ましい。なお、当該コア・シェル粒子以外の金属酸化物粒子が、本発明に係る高屈折率層に含有される場合の含有量は、本発明の効果を奏することができる範囲であれば特に限定されるものではない。   When the content of the metal oxide particles used as the first refractive index adjuster according to the present invention is 15 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer, the low refractive index layer and This is preferable from the viewpoint of providing a difference in refractive index. Furthermore, it is more preferable that it is 20-77 mass%, and it is further more preferable that it is 30-75 mass%. The content when the metal oxide particles other than the core / shell particles are contained in the high refractive index layer according to the present invention is particularly limited as long as the effects of the present invention can be obtained. It is not a thing.

本発明においては、第1の屈折率調整剤として用いられる金属酸化物粒子の体積平均粒径は、50nm以下であることが好ましく、1〜40nmの範囲内であることがより好ましい。体積平均粒径が50nm以下であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   In the present invention, the volume average particle size of the metal oxide particles used as the first refractive index adjuster is preferably 50 nm or less, and more preferably in the range of 1 to 40 nm. A volume average particle size of 50 nm or less is preferable from the viewpoint of low visible light transmittance and low haze.

なお、本発明に係る第1の屈折率調整剤として用いられる金属酸化物粒子の体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、または電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれd1、d2・・・di・・・dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2・・・ni・・・nk個存在する粒子状の金属酸化物の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σ(vi・di)}/{Σ(vi)}で表される体積で重み付けされた平均粒径である。より具体的には、上記金属酸化物粒子の体積平均粒径とは、実施例に記載の方法により測定された値を指すものとする。   In addition, the volume average particle diameter of the metal oxide particles used as the first refractive index adjusting agent according to the present invention refers to observing the particles themselves using a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or an electron microscope. The particle diameter of 1,000 arbitrary particles was measured by the method and the method of observing the cross section and surface of the refractive index layer with an electron microscope, and d1, d2,. In a group of particulate metal oxides each having n1, n2,..., nk, particles having a particle size of dk, the volume average particle size when the volume per particle is vi. mv = average particle diameter weighted by a volume represented by {Σ (vi · di)} / {Σ (vi)}. More specifically, the volume average particle diameter of the metal oxide particles refers to a value measured by the method described in Examples.

(1−3)硬化剤
本発明においては、高屈折率層に適用する第1の水溶性バインダー樹脂を硬化させるため、硬化剤を使用することもできる。第1の水溶性バインダー樹脂と共に用いることができる硬化剤としては、当該第1の水溶性バインダー樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はない。例えば、第1の水溶性バインダー樹脂として、ポリビニルアルコールを用いる場合では、硬化剤として、ホウ酸およびその塩が好ましい。ホウ酸およびその塩以外にも公知のものが使用でき、一般的には、ポリビニルアルコールと反応し得る基を有する化合物またはポリビニルアルコールが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、適宜選択して用いられる。硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤(例えば、ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン等)、アルデヒド系硬化剤(例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール等)、活性ハロゲン系硬化剤(例えば、2,4−ジクロロ−4−ヒドロキシ−1,3,5,−s−トリアジン等)、活性ビニル系化合物(例えば、1,3,5−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等)、アルミニウム明礬等が挙げられる。
(1-3) Curing Agent In the present invention, a curing agent can be used to cure the first water-soluble binder resin applied to the high refractive index layer. The curing agent that can be used together with the first water-soluble binder resin is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the first water-soluble binder resin. For example, when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble binder resin, boric acid and its salt are preferable as the curing agent. In addition to boric acid and its salts, known ones can be used, and in general, a compound having a group capable of reacting with polyvinyl alcohol or a compound that promotes the reaction between different groups possessed by polyvinyl alcohol. Select and use. Specific examples of the curing agent include, for example, epoxy curing agents (for example, diglycidyl ethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, N, N-diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, etc. ), Aldehyde curing agents (eg, formaldehyde, glyoxal, etc.), active halogen curing agents (eg, 2,4-dichloro-4-hydroxy-1,3,5, -s-triazine, etc.), active vinyl compounds (For example, 1,3,5-trisacryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum and the like.

ホウ酸およびその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびそれらの塩が挙げられる。   Boric acid and its salts refer to oxygen acids and their salts having a boron atom as a central atom, specifically, orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid and octabored acid. Examples include acids and their salts.

(2)低屈折率層
本発明に係る低屈折率層の構成としては、特に制限されないが、第2の水溶性バインダー樹脂(水溶性高分子)および第2の屈折率調整剤を含んでいると好ましく、さらに必要に応じて、硬化剤、表面被覆成分、粒子表面保護剤、その他のバインダー樹脂、界面活性剤等各種添加剤を含んでもよい。
(2) Low Refractive Index Layer The configuration of the low refractive index layer according to the present invention is not particularly limited, but includes a second water-soluble binder resin (water-soluble polymer) and a second refractive index adjuster. Further, if necessary, various additives such as a curing agent, a surface coating component, a particle surface protective agent, other binder resins, and a surfactant may be included.

本発明に係る低屈折率層の屈折率は、好ましくは1.10〜1.60であり、より好ましくは1.30〜1.50である。   The refractive index of the low refractive index layer according to the present invention is preferably 1.10 to 1.60, more preferably 1.30 to 1.50.

(2−1)第2の水溶性バインダー樹脂
(2−1−1)ポリビニルアルコール
本発明に係る低屈折率層に適用する第2の水溶性バインダー樹脂として、ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。さらに、前記高屈折率層に存在するポリビニルアルコール(A)のケン化度とは異なるポリビニルアルコール(B)が、本発明に係る低屈折率層に用いられることがより好ましい。なお、ここでの第2の水溶性バインダー樹脂の好ましい重量平均分子量等、ポリビニルアルコール(A)およびポリビニルアルコール(B)についての説明は、上記高屈折率層の第1の水溶性バインダー樹脂にて説明されており、ここでは説明を省略する。
(2-1) Second water-soluble binder resin (2-1-1) Polyvinyl alcohol As the second water-soluble binder resin applied to the low refractive index layer according to the present invention, polyvinyl alcohol is preferably used. Furthermore, it is more preferable that polyvinyl alcohol (B) different from the saponification degree of polyvinyl alcohol (A) present in the high refractive index layer is used in the low refractive index layer according to the present invention. In addition, description about polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B), such as a preferable weight average molecular weight of 2nd water-soluble binder resin here, is 1st water-soluble binder resin of the said high refractive index layer. The explanation is omitted here, and the explanation is omitted here.

低屈折率層における第2の水溶性バインダー樹脂の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、10〜99.9質量%であることが好ましく、15〜80質量%であることがより好ましい。   The content of the second water-soluble binder resin in the low refractive index layer is preferably 10 to 99.9 mass% with respect to the solid content of 100 mass% of the low refractive index layer, and is 15 to 80 mass%. More preferably.

(2−1−2)その他の水溶性バインダー樹脂
本発明に係る低屈折率層において適用が可能な、ポリビニルアルコール以外の第2の水溶性バインダー樹脂としては、屈折率調整剤を含有した低屈折率層が塗膜を形成することができればどのようなものでも制限なく使用可能である。ただし、環境の問題や塗膜の柔軟性を考慮すると、水溶性高分子(特にゼラチン、増粘多糖類、反応性官能基を有するポリマー)が好ましい。これらの水溶性高分子は単独で用いても構わないし、2種類以上を混合して用いても構わない。
(2-1-2) Other water-soluble binder resins As the second water-soluble binder resin other than polyvinyl alcohol, which can be applied in the low refractive index layer according to the present invention, low refractive index containing a refractive index adjusting agent. Any material can be used without limitation as long as the rate layer can form a coating film. However, in view of environmental problems and flexibility of the coating film, water-soluble polymers (particularly gelatin, thickening polysaccharides, polymers having reactive functional groups) are preferable. These water-soluble polymers may be used alone or in combination of two or more.

低屈折率層において、第2の水溶性バインダー樹脂として好ましく用いられるポリビニルアルコールとともに、併用する他のバインダー樹脂の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、0.1〜10質量%であることが好ましい。   In the low refractive index layer, the content of other binder resin used together with polyvinyl alcohol preferably used as the second water-soluble binder resin is 0.1 to 0.1% by mass of the solid content of the low refractive index layer. It is preferable that it is 10 mass%.

本発明に係る低屈折率層において、セルロース類、増粘多糖類および反応性官能基を有するポリマー類等の水溶性高分子を含有することもできる。これらセルロース類、増粘多糖類および反応性官能基を有するポリマー類等の水溶性高分子は、上述した高屈折率層で説明した水溶性高分子と同様のものが用いられるため、ここでは説明を省略する。   The low refractive index layer according to the present invention may contain water-soluble polymers such as celluloses, thickening polysaccharides, and polymers having reactive functional groups. These water-soluble polymers such as celluloses, thickening polysaccharides and polymers having reactive functional groups are the same as the water-soluble polymers described in the high refractive index layer described above. Is omitted.

(2−2)第2の屈折率調整剤
本発明に係る低屈折率層に適用する第2の屈折率調整剤としては、無機材料であってもよいし有機材料であってもよいが、第2の水溶性バインダー樹脂との相性、液安定性、コスト等の観点からシリカ(二酸化ケイ素)を用いることが好ましく、具体的な例として合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカゾルを用いることがさらに好ましい。また、屈折率をより低減させるためには、低屈折率層に適用する第2の屈折率調整剤として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、特にシリカ(二酸化ケイ素)の中空微粒子が好ましい。なお、第2の屈折率調整剤として金属酸化物粒子を用いる場合、該金属酸化物粒子は、光触媒作用を有する化合物となりうる。
(2-2) Second Refractive Index Adjusting Agent The second refractive index adjusting agent applied to the low refractive index layer according to the present invention may be an inorganic material or an organic material, Silica (silicon dioxide) is preferably used from the viewpoints of compatibility with the second water-soluble binder resin, liquid stability, cost, and the like, and specific examples include synthetic amorphous silica and colloidal silica. Of these, acidic colloidal silica sol is more preferably used, and colloidal silica sol dispersed in an organic solvent is more preferably used. Further, in order to further reduce the refractive index, hollow fine particles having pores inside the particles can be used as the second refractive index adjusting agent applied to the low refractive index layer, particularly silica (silicon dioxide). The hollow fine particles are preferred. When metal oxide particles are used as the second refractive index adjusting agent, the metal oxide particles can be a compound having a photocatalytic action.

低屈折率層に適用する第2の屈折率調整剤が金属酸化物粒子(好ましくは二酸化ケイ素)である場合、その平均粒径は3〜100nmであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径(塗布前の分散液状態での粒径)は、3〜50nmであることがより好ましく、3〜40nmであることがさらに好ましく、3〜20nmであることが特に好ましく、4〜10nmであることが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、30nm以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   When the second refractive index adjusting agent applied to the low refractive index layer is metal oxide particles (preferably silicon dioxide), the average particle size is preferably 3 to 100 nm. The average particle diameter of primary particles of silicon dioxide dispersed in a primary particle state (particle diameter in a dispersion state before coating) is more preferably 3 to 50 nm, and further preferably 3 to 40 nm. 3 to 20 nm is particularly preferable, and 4 to 10 nm is most preferable. Moreover, as an average particle diameter of secondary particle | grains, it is preferable from a viewpoint with few hazes and excellent visible light transmittance | permeability that it is 30 nm or less.

低屈折率層に適用する第2の屈折率調整剤としての金属酸化物粒子の平均粒径は、粒子そのものまたは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで、個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。   The average particle diameter of the metal oxide particles as the second refractive index adjusting agent applied to the low refractive index layer was determined by observing the particles themselves or the particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer with an electron microscope. The particle diameter of an arbitrary particle is measured and obtained as a simple average value (number average). Here, the particle size of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

第2の屈折率調整剤として用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、例えば、特開昭57−14091号公報、特開昭60−219083号公報、特開昭60−219084号公報、特開昭61−20792号公報、特開昭61−188183号公報、特開昭63−17807号公報、特開平4−93284号公報、特開平5−278324号公報、特開平6−92011号公報、特開平6−183134号公報、特開平6−297830号公報、特開平7−81214号公報、特開平7−101142号公報、特開平7−179029号公報、特開平7−137431号公報、および国際公開第94/26530号などに記載されているものである。   The colloidal silica used as the second refractive index adjusting agent is obtained by heating and aging a silica sol obtained by metathesis of sodium silicate with an acid or the like or passing through an ion exchange resin layer. -14091, JP-A-60-219083, JP-A-60-219084, JP-A-61-20792, JP-A-61-188183, JP-A-63-17807, JP-A-4-93284, JP-A-5-278324, JP-A-6-92011, JP-A-6-183134, JP-A-6-297830, JP-A-7-81214, JP 7-101142, JP-A-7-179029, JP-A-7-137431, and International Publication No. 94/26530 Are those mounting.

このようなコロイダルシリカは、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。コロイダルシリカは、その表面がカチオン変性されたものであっても良く、また、Al、Ca、MgまたはBa等で処理されたものであってもよい。   Such colloidal silica may be a synthetic product or a commercially available product. The surface of the colloidal silica may be cation-modified, or may be treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.

低屈折率層に適用する第2の屈折率調整剤として、中空粒子を用いることもできる。中空粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、3〜70nmであることが好ましく、5〜50nmがより好ましく、5〜45nmがさらに好ましい。なお、中空粒子の平均粒子空孔径とは、中空粒子の内径の平均値である。本発明において、中空粒子の平均粒子空孔径は、上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低屈折率化される。平均粒子空孔径は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに50個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られる。なお、平均粒子空孔径としては、円形、楕円形または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、2本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。   Hollow particles can also be used as the second refractive index adjusting agent applied to the low refractive index layer. When using hollow particles, the average particle pore size is preferably 3 to 70 nm, more preferably 5 to 50 nm, and even more preferably 5 to 45 nm. The average particle pore diameter of the hollow particles is the average value of the inner diameters of the hollow particles. In the present invention, when the average particle pore diameter of the hollow particles is in the above range, the refractive index of the low refractive index layer is sufficiently lowered. The average particle diameter is 50 or more at random, which can be observed as a circle, an ellipse, or substantially a circle or an ellipse by electron microscope observation, and the number of holes is determined for each particle. Is obtained. The average particle hole diameter means the minimum distance among the distances between the outer edges of the hole diameter that can be observed as a circle, ellipse, substantially circle or ellipse, between two parallel lines.

低屈折率層に適用する第2の屈折率調整剤は、表面被覆成分により表面コーティングされていてもよい。   The second refractive index adjusting agent applied to the low refractive index layer may be surface-coated with a surface coating component.

低屈折率層における第2の屈折率調整剤の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、0.1〜85質量%であることが好ましく、30〜80質量%であることがより好ましく、45〜75質量%であることがさらに好ましい。   The content of the second refractive index adjusting agent in the low refractive index layer is preferably 0.1 to 85% by mass and 30 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. More preferably, it is more preferably 45 to 75% by mass.

(2−3)硬化剤
本発明に係る低屈折率層において、前記高屈折率層と同様に、硬化剤をさらに含有させることができる。低屈折率層に含まれる第2の水溶性バインダー樹脂と硬化反応を起こすものであれば、特に制限されない。特に、低屈折率層に適用する第2の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを用いた場合の硬化剤としては、ホウ酸およびその塩、ホウ砂が好ましい。また、ホウ酸およびその塩以外にも公知のものが使用できる。
(2-3) Curing Agent In the low refractive index layer according to the present invention, a curing agent can be further contained in the same manner as the high refractive index layer. There is no particular limitation as long as it causes a curing reaction with the second water-soluble binder resin contained in the low refractive index layer. In particular, as the curing agent when polyvinyl alcohol is used as the second water-soluble binder resin applied to the low refractive index layer, boric acid, a salt thereof, and borax are preferable. In addition to boric acid and its salts, known ones can be used.

低屈折率層における硬化剤の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、1〜15質量%であることが好ましく、2〜10質量%であることがより好ましい。   The content of the curing agent in the low refractive index layer is preferably 1 to 15% by mass and more preferably 2 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer.

特に、第2の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール1g当たり1〜800mgが好ましく、ポリビニルアルコール1g当たり100〜700mgがより好ましい。   In particular, the total amount of the curing agent used when polyvinyl alcohol is used as the second water-soluble binder resin is preferably 1 to 800 mg per 1 g of polyvinyl alcohol, and more preferably 100 to 700 mg per 1 g of polyvinyl alcohol.

また、硬化剤の具体例などは、上述した高屈折率層の項で説明した内容と同様であるためと同様であるため、ここでは説明を省略する。   Moreover, since the specific example of a hardening | curing agent is the same as that of the content demonstrated by the term of the high refractive index layer mentioned above, it is the same, and description is abbreviate | omitted here.

(3)各屈折率層の添加剤
本発明に係る高屈折率層および低屈折率層には、必要に応じて各種の添加剤を含有させることができる。また、高屈折率層における添加剤の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、0.0001〜20質量%であることが好ましい。当該添加剤の例を以下に記載する。
(3) Additive of Refractive Index Layer The high refractive index layer and the low refractive index layer according to the present invention can contain various additives as necessary. Moreover, it is preferable that content of the additive in a high refractive index layer is 0.0001-20 mass% with respect to 100 mass% of solid content of a high refractive index layer. Examples of such additives are described below.

(3−1)界面活性剤
本発明においては、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層が、さらに界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤としては、両性イオン系、カチオン系、アニオン系、ノニオン系のいずれの種類も使用することができる。より好ましくは、ベタイン系両性イオン性界面活性剤、4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤、ジアルキルスルホコハク酸塩系アニオン性界面活性剤、アセチレングリコール系ノニオン性界面活性剤、またはフッ素系カチオン性界面活性剤が好ましい。
(3-1) Surfactant In the present invention, at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer may further contain a surfactant. As the surfactant, any of zwitterionic, cationic, anionic, and nonionic types can be used. More preferably, a betaine zwitterionic surfactant, a quaternary ammonium salt cationic surfactant, a dialkylsulfosuccinate anionic surfactant, an acetylene glycol nonionic surfactant, or a fluorine cationic interface An activator is preferred.

本発明に係る界面活性剤の添加量としては、高屈折率層用塗布液または低屈折率層用塗布液の全質量を100質量%としたとき、0.0001〜0.30質量%の範囲であることが好ましく、0.0005〜0.10質量%であることがより好ましい。   The addition amount of the surfactant according to the present invention is in the range of 0.0001 to 0.30 mass% when the total mass of the coating liquid for high refractive index layer or the coating liquid for low refractive index layer is 100 mass%. It is preferable that it is 0.0005-0.10 mass%.

(3−2)その他の添加剤
本発明に係る高屈折率層または低屈折率層は、その他の添加剤として、アミノ酸、エマルジョン樹脂、リチウム化合物等を適宜選択して含有することができる。さらには、特開昭57−74193号公報、特開昭57−87988号公報、および特開昭62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭57−74192号、特開昭57−87989号公報、特開昭60−72785号公報、特開昭61−146591号公報、特開平1−95091号公報、および特開平3−13376号公報等に記載されている退色防止剤、特開昭59−42993号公報、特開昭59−52689号公報、特開昭62−280069号公報、特開昭61−242871号公報、および特開平4−219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、熱安定剤、酸化防止剤、難燃剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、滑剤、赤外線吸収剤、色素、顔料等の公知の各種添加剤などが挙げられる。
(3-2) Other Additives The high refractive index layer or the low refractive index layer according to the present invention can contain an amino acid, an emulsion resin, a lithium compound, and the like as appropriate as other additives. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, and JP-A-62-261476, JP-A-57-74192, JP-A-57- No. 878989, JP-A-60-72785, JP-A-61-146591, JP-A-1-95091, JP-A-3-13376, etc. Fluorescence enhancement described in JP-A-59-42993, JP-A-59-52689, JP-A-62-280069, JP-A-61-242871, and JP-A-4-219266 Whitening agent, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate and other pH adjusters, antifoaming agents, diethylene glycol and other lubricants, preservatives, Known additives such as additives, antistatic agents, matting agents, heat stabilizers, antioxidants, flame retardants, crystal nucleating agents, inorganic particles, organic particles, thickeners, lubricants, infrared absorbers, dyes, pigments, etc. Etc.

(4)誘電体多層膜の形成方法
本発明に係る誘電体多層膜の形成方法は、特に制限されないが、基材(透明樹脂フィルム)上に、第1の水溶性バインダー樹脂および第1の屈折率調整剤を含む高屈折率層用塗布液と、第2の水溶性バインダー樹脂および第2の屈折率調整剤を含む低屈折率層用塗布液とを塗布する工程を含む製造方法が好ましい。
(4) Dielectric Multilayer Film Forming Method The dielectric multilayer film forming method according to the present invention is not particularly limited, but the first water-soluble binder resin and the first refraction are formed on the substrate (transparent resin film). A production method including a step of applying a coating solution for a high refractive index layer containing a refractive index adjusting agent and a coating solution for a low refractive index layer containing a second water-soluble binder resin and a second refractive index adjusting agent is preferable.

塗布方法は、湿式塗布方法であれば特に制限されず、例えば、ローラーコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、スライド型カーテン塗布法、または米国特許第2,761,419号明細書、米国特許第2,761,791号明細書などに記載のスライドホッパー塗布法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。また、複数の層を重層塗布する方式としては、逐次重層塗布でもよいし、同時重層塗布でもよい。   The coating method is not particularly limited as long as it is a wet coating method. For example, a roller coating method, a rod bar coating method, an air knife coating method, a spray coating method, a slide curtain coating method, or US Pat. No. 2,761,419. Examples thereof include a slide hopper coating method and an extrusion coating method described in the specification and US Pat. No. 2,761,791. In addition, as a method of applying a plurality of layers in multiple layers, sequential multilayer application or simultaneous multilayer application may be used.

以下、本発明の好ましい製造方法(塗布方法)であるスライドホッパー塗布法による同時重層塗布について詳細に説明する。   Hereinafter, the simultaneous multilayer coating by the slide hopper coating method, which is a preferred production method (coating method) of the present invention, will be described in detail.

(4−1)溶媒
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒またはその混合溶媒が好ましい。
(4-1) Solvent The solvent for preparing the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer is not particularly limited, but water, an organic solvent or a mixed solvent thereof is preferable.

有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、2種以上混合して用いてもよい。   Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and 1-butanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl ether and propylene. Examples include ethers such as glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether, amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましい。   From the viewpoint of environment and simplicity of operation, the solvent for the coating solution is particularly preferably water or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate.

(4−2)塗布液の濃度
高屈折率層用塗布液中の第1の水溶性バインダー樹脂の濃度は、1〜10質量%の範囲内であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の第1の屈折率調整剤(金属酸化物粒子)の濃度は、1〜50質量%の範囲内であることが好ましい。
(4-2) Concentration of coating solution The concentration of the first water-soluble binder resin in the coating solution for the high refractive index layer is preferably in the range of 1 to 10% by mass. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the 1st refractive index regulator (metal oxide particle) in the coating liquid for high refractive index layers exists in the range of 1-50 mass%.

低屈折率層用塗布液中の第2の水溶性バインダー樹脂の濃度は、1〜10質量%の範囲内であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の第2の屈折率調整剤(金属酸化物粒子)の濃度は、1〜50質量%の範囲内であることが好ましい。   The concentration of the second water-soluble binder resin in the coating solution for the low refractive index layer is preferably in the range of 1 to 10% by mass. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the 2nd refractive index regulator (metal oxide particle) in the coating liquid for low refractive index layers exists in the range of 1-50 mass%.

(4−3)塗布液の調製方法
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、水溶性バインダー樹脂、屈折率調整剤、および必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、水溶性バインダー樹脂、屈折率調整剤、および必要に応じて用いられるその他の添加剤の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調整される。
(4-3) Preparation Method of Coating Liquid The preparation method of the coating liquid for the high refractive index layer and the coating liquid for the low refractive index layer is not particularly limited. For example, the water-soluble binder resin, the refractive index adjusting agent, and the necessity There may be mentioned a method in which other additives added in accordance with the above are added and mixed by stirring. At this time, the order of addition of the water-soluble binder resin, the refractive index adjuster, and other additives used as necessary is not particularly limited, and each component may be added and mixed sequentially while stirring. However, they may be added and mixed at once. If necessary, it is further adjusted to an appropriate viscosity using a solvent.

本発明においては、コア・シェル粒子を添加、分散して調製した水系の高屈折率層用塗布液を用いて、高屈折率層を形成することが好ましい。このとき、前記コア・シェル粒子としては、pHが5.0〜7.5の範囲内で、かつ粒子のゼータ電位が負であるゾルとして、高屈折率層用塗布液に添加して調製することが好ましい。   In the present invention, it is preferable to form a high refractive index layer using an aqueous coating solution for high refractive index layer prepared by adding and dispersing core / shell particles. At this time, the core / shell particles are prepared by adding to the coating solution for the high refractive index layer as a sol having a pH in the range of 5.0 to 7.5 and a negative zeta potential of the particles. It is preferable.

(4−4)塗布液の粘度
スライドホッパー塗布法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の40〜45℃における粘度は、5〜300mPa・sが好ましく、10〜250mPa・sがより好ましい。また、スライド型カーテン塗布法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の40〜45℃における粘度は、5〜1200mPa・sが好ましく、25〜500mPa・sがより好ましい。
(4-4) Viscosity of coating liquid The viscosity at 40 to 45 ° C. of the coating liquid for the high refractive index layer and the coating liquid for the low refractive index layer when performing simultaneous multilayer coating by the slide hopper coating method is 5 to 300 mPa · s. 10 to 250 mPa · s is more preferable. Further, the viscosity at 40 to 45 ° C. of the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer when performing simultaneous multilayer coating by the slide curtain coating method is preferably 5 to 1200 mPa · s, and 25 to 500 mPa · s. -S is more preferable.

また、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の15℃における粘度は、10mPa・s以上が好ましく、15〜30000mPa・sがより好ましく、20〜20000mPa・sがさらに好ましく、20〜18000mPa・sが特に好ましい。   Further, the viscosity at 15 ° C. of the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer is preferably 10 mPa · s or more, more preferably 15 to 30000 mPa · s, further preferably 20 to 20000 mPa · s, ˜18000 mPa · s is particularly preferable.

(4−5)塗布および乾燥方法
塗布および乾燥方法は、特に制限されないが、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を30℃以上に加温して、基材(透明樹脂フィルム)上に高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは1〜15℃に一旦冷却し(セット)、その後10℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度5〜50℃、膜面温度10〜50℃の範囲の条件である。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
(4-5) Coating and drying method The coating and drying method is not particularly limited, but the coating liquid for high refractive index layer and the coating liquid for low refractive index layer are heated to 30 ° C. or higher to form a base material (transparent resin After the simultaneous multilayer coating of the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer on the film), the temperature of the formed coating film is preferably cooled to 1 to 15 ° C. (set), and then It is preferable to dry at 10 ° C. or higher. More preferable drying conditions are a wet bulb temperature of 5 to 50 ° C. and a film surface temperature of 10 to 50 ° C. Moreover, as a cooling method immediately after application | coating, it is preferable to carry out by a horizontal set system from a viewpoint of the uniformity improvement of the formed coating film.

高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の塗布厚は、上記で示したような好ましい乾燥時の厚さとなるように塗布すればよい。   What is necessary is just to apply | coat so that the coating thickness of the coating liquid for high refractive index layers and the coating liquid for low refractive index layers may become the preferable thickness at the time of drying as shown above.

ここで、前記セットとは、冷風等を塗膜に当てて温度を下げるなどの手段により、塗膜組成物の粘度を高め各層間および各層内の物質の流動性を低下させる工程のことを意味する。冷風を塗布膜に表面から当てて、塗布膜の表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。   Here, the set means a step of increasing the viscosity of the coating composition and reducing the fluidity of the substances in each layer and in each layer by means such as applying cold air to the coating film to lower the temperature. To do. A state in which the cold air is applied to the coating film from the surface and the finger is pressed against the surface of the coating film is defined as a set completion state.

塗布した後、冷風を当ててからセットが完了するまでの時間(セット時間)は、5分以内であることが好ましい。また、下限の時間は特に制限されないが、45秒以上の時間をとることが好ましい。セット時間が短すぎると、層中の成分の混合が不十分となる虞がある。一方、セット時間が長すぎると、屈折率調整剤の層間拡散が進み、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が不十分となる虞がある。なお、高屈折率層と低屈折率層との間の高弾性化が素早く起こるのであれば、セットさせる工程は設けなくてもよい。   It is preferable that the time (setting time) from application of cold air to completion of setting after application is within 5 minutes. Further, the lower limit time is not particularly limited, but it is preferable to take 45 seconds or more. If the set time is too short, mixing of the components in the layer may be insufficient. On the other hand, if the set time is too long, the interlayer diffusion of the refractive index adjusting agent proceeds and there is a risk that the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer will be insufficient. In addition, if the high elasticity between the high refractive index layer and the low refractive index layer occurs quickly, the step of setting may not be provided.

セット時間の調整は、水溶性バインダー樹脂の濃度や屈折率調整剤(光触媒作用を有する化合物)の濃度を調整し、ゼラチン、ペクチン、寒天、カラギーナン、ゲランガム等の各種公知のゲル化剤など、他の成分を添加することにより調整することができる。   The set time is adjusted by adjusting the concentration of the water-soluble binder resin and the refractive index adjusting agent (compound with photocatalytic action), and various other known gelling agents such as gelatin, pectin, agar, carrageenan, gellan gum, etc. It can adjust by adding the component of.

冷風の温度は、0〜25℃であることが好ましく、5〜10℃であることがより好ましい。また、塗膜が冷風に晒される時間は、塗膜の搬送速度にもよるが、10〜120秒であることが好ましい。   The temperature of the cold air is preferably 0 to 25 ° C, and more preferably 5 to 10 ° C. Moreover, although the time for which a coating film is exposed to cold wind also depends on the conveyance speed of a coating film, it is preferable that it is 10 to 120 seconds.

本発明の誘電体多層膜フィルムは、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層が光触媒作用を有する化合物を含んでいれば、光触媒作用を有する化合物を含まない高屈折率層、および/または光触媒作用を有する化合物を含まない低屈折率層を含んでいてもよい。このような光触媒作用を有する化合物を含まない屈折率層の例として、樹脂の押出成形によって形成される屈折率層が挙げられる。   If at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains a compound having a photocatalytic action, the dielectric multilayer film of the present invention includes a high refractive index layer not containing a compound having a photocatalytic action, and / or Alternatively, a low refractive index layer not containing a compound having a photocatalytic action may be included. An example of the refractive index layer that does not contain such a compound having a photocatalytic action is a refractive index layer formed by extrusion molding of a resin.

樹脂の押出成形によって形成される屈折率層の形成方法としては、例えば、樹脂を溶融して得られた溶融樹脂を、多層押し出しダイよりキャスティングドラム上に押し出した後、急冷する方法があげられる。この際、溶融樹脂の押し出し冷却後、樹脂シートを延伸させてもよい。樹脂の延伸倍率としては、樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ2〜10倍であることが好ましい。   Examples of a method for forming a refractive index layer formed by resin extrusion include a method in which a molten resin obtained by melting a resin is extruded onto a casting drum from a multilayer extrusion die and then rapidly cooled. At this time, after extruding and cooling the molten resin, the resin sheet may be stretched. The stretching ratio of the resin can be appropriately selected according to the resin, but is preferably 2 to 10 times in the vertical axis direction and the horizontal axis direction, respectively.

前記樹脂としては、熱可塑性樹脂であれば特に制限されないが、例えば、ポリアルキレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル樹脂、アミド樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。   The resin is not particularly limited as long as it is a thermoplastic resin, and examples thereof include polyalkylene resins, polyester resins, polycarbonate resins, (meth) acrylic resins, amide resins, silicone resins, and fluorine resins.

前記ポリアルキレン樹脂としては、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)等が挙げられる。   Examples of the polyalkylene resin include polyethylene (PE) and polypropylene (PP).

前記ポリエステル樹脂としては、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするポリエステル樹脂が挙げられる。この際、前記ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等が挙げられる。また、前記ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール等が挙げられる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(PEN)であることが好ましい。   Examples of the polyester resin include polyester resins having a dicarboxylic acid component and a diol component as main components. At this time, the dicarboxylic acid component includes terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, cyclohexane. And dicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, 1,4-butanediol, cyclohexanedimethanol, cyclohexanediol, and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate (PEN) are preferable.

前記ポリカーボネート樹脂としては、ビスフェノールAやその誘導体であるビスフェノール類と、ホスゲンまたはフェニルジカーボネートとの反応物等が挙げられる。   Examples of the polycarbonate resin include a reaction product of bisphenol A or its derivative bisphenol and phosgene or phenyl dicarbonate.

前記(メタ)アクリル樹脂としては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド等の単独重合体または共重合体が挙げられる。   Examples of the (meth) acrylic resin include acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-2- Examples include homopolymers and copolymers such as ethylhexyl, cyclohexyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, and N, N-dimethyl (meth) acrylamide.

前記アミド樹脂としては、6,6−ナイロン、6−ナイロン、4,6−ナイロン、6,10−ナイロン、6,12−ナイロン等の脂肪族アミド系樹脂;フェニレンジアミン等の芳香族ジアミンと塩化テレフタロイルや塩化イソフタロイル等の芳香族ジカルボン酸またはその誘導体からなる芳香族ポリアミド等が挙げられる。   Examples of the amide resin include aliphatic amide resins such as 6,6-nylon, 6-nylon, 4,6-nylon, 6,10-nylon, and 6,12-nylon; aromatic diamines such as phenylenediamine and chloride. An aromatic polyamide made of an aromatic dicarboxylic acid such as terephthaloyl or isophthaloyl chloride or a derivative thereof can be used.

前記シリコーン樹脂としては、構成単位としてアルキル基、芳香族基等の有機基を有するシロキサン結合を含む樹脂が挙げられる。前記アルキル基としては、特に制限されないが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イオブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。また、前記芳香族基としては、特に制限されないが、フェニル基、トリル基等が挙げられる。これらのうち、メチル基および/またはフェニル基を有するものが好ましく、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、およびこれらの変性体がより好ましい。   Examples of the silicone resin include resins containing a siloxane bond having an organic group such as an alkyl group or an aromatic group as a structural unit. The alkyl group is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an iobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. The aromatic group is not particularly limited, and examples thereof include a phenyl group and a tolyl group. Among these, those having a methyl group and / or a phenyl group are preferable, and dimethylpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane, and modified products thereof are more preferable.

前記フッ素系樹脂としては、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、クロロトリフロロエチレン、フッ化ビリニデン等の単独重合体または共重合体等が挙げられる。   Examples of the fluororesin include homopolymers or copolymers such as tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, chlorotrifluoroethylene, and vinylidene fluoride.

上述した樹脂は、単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。   The above-described resins may be used alone or in combination of two or more.

樹脂の押出成形によって形成される屈折率層において、好ましい高屈折率層−低屈折率層の材料の組み合わせとしては、PET−PEN等が挙げられる。   In the refractive index layer formed by extrusion molding of resin, a preferable material combination of a high refractive index layer and a low refractive index layer includes PET-PEN and the like.

本発明の誘電体多層膜フィルムのその他の構成要素は従来公知のものを適宜使用することができる。その他の構成要素について、以下、詳細に説明する。   As other components of the dielectric multilayer film of the present invention, conventionally known components can be appropriately used. Other components will be described in detail below.

[基材(支持体)]
本発明に用いられる基材(フィルム支持体)としては、種々の樹脂フィルムを用いることができ、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム(以降ポリエステルと称す)としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや1,4−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。
[Base material (support)]
As the substrate (film support) used in the present invention, various resin films can be used, polyolefin films (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester films (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, A cellulose acetate etc. can be used, Preferably it is a polyester film. Although it does not specifically limit as a polyester film (henceforth polyester), It is preferable that it is polyester which has the film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components. The main constituent dicarboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, Examples thereof include cyclohexane dicarboxylic acid, diphenyl dicarboxylic acid, diphenyl thioether dicarboxylic acid, diphenyl ketone dicarboxylic acid, and phenylindane dicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-Hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol fluorene hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like. Among the polyesters having these as main constituent components, from the viewpoint of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc., dicarboxylic acid components such as terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diol components such as ethylene glycol and 1 Polyester having 1,4-cyclohexanedimethanol as the main constituent is preferred. Among these, polyesters mainly composed of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, copolymerized polyesters composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and mixtures of two or more of these polyesters are mainly used. Polyester as a constituent component is preferable.

本発明に用いられるフィルム支持体の厚みは、10〜300μm、特に20〜150μmであることが好ましい。また、本発明のフィルム支持体は、2枚重ねたものであっても良く、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。   The thickness of the film support used in the present invention is preferably 10 to 300 μm, particularly 20 to 150 μm. The film support of the present invention may be a laminate of two sheets. In this case, the type may be the same or different.

基材は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材を製造することができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材の流れ(縦軸)方向、または基材の流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することにより延伸支持体を製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することができるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ2〜10倍が好ましい。   The substrate can be produced by a conventionally known general method. For example, an unstretched substrate that is substantially amorphous and not oriented can be produced by melting a resin as a material with an extruder, extruding it with an annular die or a T-die, and quenching. In addition, the unstretched base material is subjected to a known method such as uniaxial stretching, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular-type simultaneous biaxial stretching, or the flow direction of the base material (vertical axis), or A stretched support can be produced by stretching in the direction perpendicular to the flow direction of the substrate (horizontal axis). Although the draw ratio in this case can be suitably selected according to the resin used as the raw material of the substrate, it is preferably 2 to 10 times in the vertical axis direction and the horizontal axis direction, respectively.

[アンカー層]
最表層の下層への密着性が得られない場合、最表層を積層する前にアンカー層(プライマー層)を形成してもよい。アンカー層の膜厚は特に限定されるものではないが、0.1〜10μm程度である。好適な例として、アンカー層を構成する樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂が挙げられ、以下に例を示す。
[Anchor layer]
When the adhesion to the lower layer of the outermost layer is not obtained, an anchor layer (primer layer) may be formed before the outermost layer is laminated. The thickness of the anchor layer is not particularly limited, but is about 0.1 to 10 μm. Preferable examples of the resin constituting the anchor layer include a polyvinyl acetal resin and an acrylic resin. Examples are shown below.

(ポリビニルアセタール樹脂)
ポリビニルアセタール系樹脂とは、例えば、ポリビニルアルコールを少なくとも1種の適当なアルデヒドとの反応によりアセタール化した樹脂であり、具体的には、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラールや部分的にホルマール化した部分を含むポリビニルブチラール、ポリビニルブチラールアセタール等の共重合アセタール等が挙げられる。これらのポリビニルアセタール系樹脂は、例えば、特開2012−242500号公報の段落「0098」に記載の市販品として入手が可能である。また、これらのポリビニルアセタール系樹脂は、その他の繰り返し単位を含有していても良い。
(Polyvinyl acetal resin)
The polyvinyl acetal-based resin is, for example, a resin obtained by acetalizing polyvinyl alcohol by reaction with at least one suitable aldehyde, and specifically, polyvinyl acetal, polyvinyl formal, polyvinyl butyral or partially formalized. Examples thereof include copolymer acetals such as polyvinyl butyral and polyvinyl butyral acetal containing a part. These polyvinyl acetal resins can be obtained as commercial products described in paragraph “0098” of JP 2012-242500 A, for example. Further, these polyvinyl acetal resins may contain other repeating units.

(アクリル樹脂)
アクリル樹脂としては、たとえば、特開2012−139948号公報の段落「0069」に記載されたモノマーをポリマー構成成分とする樹脂が挙げられる。これらのモノマーは1種もしくは2種以上を併用することができる。メタクリル酸メチル−アクリル酸エチル−アクリル酸アンモニウム−アクリルアミド共重合体、メタクリルアミド−アクリル酸ブチル−アクリル酸ソーダ−メタクリル酸メチル−N−メチロールアクリルアミド系共重合体等が好ましく挙げられる。アクリル系樹脂はアクリルエマルジョン、アクリル水溶液、アクリルディスパージョン等として製造でき、また入手できる。
(acrylic resin)
As an acrylic resin, resin which uses the monomer described in Paragraph "0069" of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-139948 as a polymer structural component is mentioned, for example. These monomers can be used alone or in combination of two or more. Preferable examples include methyl methacrylate-ethyl acrylate-ammonium acrylate-acrylamide copolymer, methacrylamide-butyl acrylate-sodium acrylate-methyl methacrylate-N-methylolacrylamide copolymer, and the like. The acrylic resin can be produced and obtained as an acrylic emulsion, an acrylic aqueous solution, an acrylic dispersion, or the like.

上記のこれら樹脂は1種又は2種以上の混合物として用いることができる。また、架橋剤としてイソシアネートを用いることができ、有機ジイソシアネート化合物としては、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等や脂環式ジイソシアネート類等の環状ジイソシアネート類、トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類等が好適である。水系で用いる場合、ブロックイソシアネートを用いることもでき、例えば、Baxenden社の品番214を用いることができる。   These resins can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Further, isocyanate can be used as a crosslinking agent, and organic diisocyanate compounds include aromatic diesters such as xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate and alicyclic diisocyanates, tolylene diisocyanate and 4,4-diphenylmethane diisocyanate. Aliphatic diisocyanates such as aromatic diisocyanates and hexamethylene diisocyanate are preferred. When used in an aqueous system, blocked isocyanate can be used, for example, product number 214 manufactured by Baxenden.

[その他の機能層]
本発明の誘電体多層膜フィルムは、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層(接着層)、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層(金属層、液晶層)、着色層(可視光線吸収層)、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の1つ以上を有していてもよい。
[Other functional layers]
The dielectric multilayer film of the present invention has a conductive layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, an easy adhesion layer (adhesive layer), an antifouling layer, a deodorizing layer, a droplet layer, an easy layer for the purpose of adding further functions. Sliding layer, abrasion-resistant layer, antireflection layer, electromagnetic wave shielding layer, ultraviolet absorbing layer, infrared absorbing layer, printing layer, fluorescent light emitting layer, hologram layer, release layer, adhesive layer, adhesive layer, high refractive index of the present invention It has one or more functional layers such as an infrared cut layer (metal layer, liquid crystal layer), colored layer (visible light absorption layer), and an intermediate film layer used for laminated glass other than the layer and the low refractive index layer. Also good.

≪赤外遮蔽体≫
本発明の誘電体多層膜フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルムや、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。また、自動車用の合わせガラスなどのガラスとガラスとの間に挟む、自動車用誘電体多層膜フィルム誘電体多層膜フィルムとしても好適に用いられる。この場合、外気ガスから誘電体多層膜フィルムを封止できるため、耐久性の観点から好ましい。
≪Infrared shield≫
The dielectric multilayer film of the present invention can be applied to a wide range of fields. For example, as a film for window pasting such as heat ray reflective film that gives heat ray reflection effect, film for agricultural greenhouses, etc. It is mainly used for the purpose of improving weather resistance. Moreover, it is used suitably also as a dielectric multilayer film film for motor vehicles sandwiched between glass and glass, such as laminated glass for motor vehicles. In this case, the dielectric multilayer film can be sealed from the outside gas, which is preferable from the viewpoint of durability.

特に、本発明に係る誘電体多層膜フィルムは、直接または接着剤を介して、ガラスまたはガラス代替の樹脂などの基体に貼合される部材に好適に用いられる。   In particular, the dielectric multilayer film according to the present invention is suitably used for a member that is bonded to a substrate such as glass or a glass substitute resin directly or via an adhesive.

基体として好ましいものは、プラスチック基体、金属基体、セラミック基体、布状基体等であり、フィルム状、板状、球状、立方体状、直方体状等様々な形態の基体に本発明の誘電体多層膜フィルムを設けることができる。これらの中でも、板状のセラミック基体が好ましく、ガラス板に本発明の誘電体多層膜フィルムを設けた赤外遮蔽体がより好ましい。ガラス板の例としては、例えば、JIS R3202:1996に記載されたフロート板ガラス、および磨き板ガラスが挙げられ、ガラス厚みとしては0.01〜20mmが好ましい。   Preferred examples of the substrate include a plastic substrate, a metal substrate, a ceramic substrate, and a cloth substrate, and the dielectric multilayer film of the present invention can be applied to a substrate in various forms such as a film, a plate, a sphere, a cube, and a cuboid. Can be provided. Among these, a plate-shaped ceramic substrate is preferable, and an infrared shielding body in which the dielectric multilayer film of the present invention is provided on a glass plate is more preferable. As an example of a glass plate, the float plate glass described in JISR3202: 1996 and polished plate glass are mentioned, for example, As glass thickness, 0.01-20 mm is preferable.

基体に本発明の誘電体多層膜フィルムを設ける方法としては、上述のように誘電体多層膜フィルムに粘着層を塗設し、粘着層を介して基体に貼り付ける方法が好適に用いられる。貼合方法としては、そのまま基体にフィルムを貼る乾式貼合、上述のように水貼り貼合する方法が適応できるが、基体と誘電体多層膜フィルムとの間に空気が入らないようにするため、また基体上での誘電体多層膜フィルムの位置決め等、施工のしやすさの観点で水貼り法により貼合することがより好ましい。   As a method for providing the dielectric multilayer film of the present invention on the substrate, a method in which an adhesive layer is applied to the dielectric multilayer film as described above, and is attached to the substrate via the adhesive layer is preferably used. As a pasting method, a dry pasting method in which a film is pasted on a substrate as it is, and a water pasting method as described above can be applied, but in order to prevent air from entering between the substrate and the dielectric multilayer film. Moreover, it is more preferable to bond by the water bonding method from the viewpoint of ease of construction such as positioning of the dielectric multilayer film on the substrate.

前記赤外遮蔽体は、本発明の誘電体多層膜フィルムを基体の少なくとも一方の面に設けられた態様であるが、基体の複数面に設けた態様や、本発明の誘電体多層膜フィルムに複数の基体を設けた態様でも構わない。例えば、上述の板ガラスの両面に本発明の誘電体多層膜フィルムを設けた態様、本発明の誘電体多層膜フィルムの両面に粘着層を塗設し、誘電体多層膜フィルムの両面に上述の板ガラスを貼り合わせた、合わせガラス状の態様でも構わない。   The infrared shield is an embodiment in which the dielectric multilayer film of the present invention is provided on at least one surface of the substrate, but the embodiment in which the dielectric multilayer film is provided on a plurality of surfaces of the substrate or the dielectric multilayer film of the present invention is provided. An aspect in which a plurality of bases are provided may be used. For example, an embodiment in which the dielectric multilayer film of the present invention is provided on both sides of the above-mentioned plate glass, an adhesive layer is coated on both sides of the dielectric multilayer film of the present invention, and the above-mentioned plate glass is provided on both sides of the dielectric multilayer film. A laminated glass-like embodiment may be used.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "mass%" is represented.

≪誘電体多層膜フィルムの作製≫
(低屈折率層用塗布液L1の調製)
コロイダルシリカの10質量%水溶液(スノーテックスOXS、日産化学社製)430部、ホウ酸3質量%水溶液150部、水85部、ポリビニルアルコール(JP−45、日本酢ビ・ポバール製、重合度4500、鹸化度88mol%)4質量%水溶液300部、および界面活性剤5質量%水溶液(ソフタゾリンLSB−R、川研ファインケミカル社製)3部を45℃で順に添加し、純水で1000部に仕上げ、低屈折率層用塗布液L1を調製した。
<< Production of dielectric multilayer film >>
(Preparation of coating liquid L1 for low refractive index layer)
430 parts of a 10% by weight aqueous solution of colloidal silica (Snowtex OXS, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), 150 parts of a 3% by weight aqueous solution of boric acid, 85 parts of water, polyvinyl alcohol (JP-45, manufactured by Nihon Vinegar Poval, degree of polymerization 4500) , Saponification degree 88 mol%) 4 parts by weight aqueous solution 300 parts and surfactant 5% by weight aqueous solution (Softazoline LSB-R, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) 3 parts in order at 45 ° C., and finished with pure water to 1000 parts A coating solution L1 for a low refractive index layer was prepared.

(高屈折率層用塗布液H1の調製)
二酸化チタン水和物を水に懸濁させた水性懸濁液(TiO濃度100g/L)10L(リットル)に、水酸化ナトリウム水溶液(濃度10モル/L)30Lを撹拌下で添加し、90℃に昇温し、5時間熟成した後、塩酸で中和、濾過、水洗した。なお、上記反応(処理)において、二酸化チタン水和物は公知の手法に従い、硫酸チタン水溶液を熱加水分解して得られたものを用いた。
(Preparation of coating liquid H1 for high refractive index layer)
30 L of an aqueous sodium hydroxide solution (concentration 10 mol / L) was added with stirring to 10 L (liter) of an aqueous suspension (TiO 2 concentration 100 g / L) in which titanium dioxide hydrate was suspended in water. The mixture was heated to 0 ° C. and aged for 5 hours, and then neutralized with hydrochloric acid, filtered, and washed with water. In the above reaction (treatment), titanium dioxide hydrate was obtained by thermal hydrolysis of an aqueous titanium sulfate solution according to a known method.

塩基処理チタン化合物をTiO濃度20g/Lになるよう純水に懸濁させ、撹拌下クエン酸をTiO量に対し0.4モル%加え昇温した。液温が95℃になったところで、濃塩酸を塩酸濃度30g/Lになるように加え、液温を維持しつつ3時間撹拌した。 The base-treated titanium compound was suspended in pure water to a TiO 2 concentration of 20 g / L, and 0.4 mol% of citric acid was added to the amount of TiO 2 with stirring to raise the temperature. When the liquid temperature reached 95 ° C., concentrated hydrochloric acid was added to a hydrochloric acid concentration of 30 g / L, and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the liquid temperature.

得られた酸化チタンゾル水系分散液のpHおよびゼータ電位を測定したところ、pHは1.4、ゼータ電位は+40mVであった。さらに、マルバーン社製ゼータサイザーナノにより粒径測定を行ったところ、体積平均粒径は35nm、単分散度は16%であった。   When the pH and zeta potential of the obtained titanium oxide sol aqueous dispersion were measured, the pH was 1.4 and the zeta potential was +40 mV. Furthermore, when the particle size was measured by Zetasizer Nano manufactured by Malvern, the volume average particle size was 35 nm, and the monodispersity was 16%.

体積平均粒径35nmのルチル型酸化チタン粒子を含む20.0質量%酸化チタンゾル水系分散液1kgに純水1kgを添加した。   1 kg of pure water was added to 1 kg of a 20.0 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion containing rutile-type titanium oxide particles having a volume average particle diameter of 35 nm.

上記の10.0質量%酸化チタンゾル水系分散液0.5kgに、純水2kgを加えた後、90℃に加熱した。その後、SiO濃度が2.0質量%のケイ酸水溶液1.3kgを徐々に添加し、次いで、得られた分散液をオートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、さらに濃縮して、ルチル型構造を有する酸化チタンで、被覆層がSiOである、20質量%のシリカ変性酸化チタン粒子のゾル水分散液を得た。 2 kg of pure water was added to 0.5 kg of the 10.0 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion described above, and then heated to 90 ° C. Thereafter, 1.3 kg of an aqueous silicic acid solution having a SiO 2 concentration of 2.0% by mass was gradually added, and then the obtained dispersion was subjected to heat treatment at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave, and further concentrated. A sol aqueous dispersion of 20% by mass of silica-modified titanium oxide particles having a rutile structure and a coating layer of SiO 2 was obtained.

次いで、シリカ変性酸化チタン粒子の20.0質量%ゾル水分散液320部、クエン酸の1.92質量%水溶液120部、10質量%ポリビニルアルコール溶液20部(PVA103、重合度300、鹸化度99mol%、クラレ社製)、ホウ酸の3質量%水溶液100部、ポリビニルアルコールの4質量%溶液350部(クラレ社製、PVA−124、重合度2400、鹸化度88mol%)、および界面活性剤の5質量%溶液1部(ソフタゾリンLSB−R、川研ファインケミカル社製)を45℃で順に添加し、純水で1000部に仕上げ、高屈折率層用塗布液H1を調製した。   Subsequently, 320 parts of a 20.0% by mass sol aqueous dispersion of silica-modified titanium oxide particles, 120 parts of a 1.92% by mass aqueous solution of citric acid and 20 parts of a 10% by mass polyvinyl alcohol solution (PVA103, polymerization degree 300, saponification degree 99 mol) %, Manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 100 parts of a 3% by weight aqueous solution of boric acid, 350 parts of a 4% by weight polyvinyl alcohol solution (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA-124, polymerization degree 2400, saponification degree 88 mol%), and surfactant 1 part of a 5% by mass solution (SOFTAZOLINE LSB-R, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) was sequentially added at 45 ° C., and finished with 1000 parts of pure water to prepare a coating solution H1 for a high refractive index layer.

(ハードコート層用塗布液1の作製)
赤外線吸収剤としてのZnO・Sb(セルナックス(登録商標)CX−Z410K、アンチモン酸亜鉛、日産化学株式会社製)55質量%、紫外線硬化性樹脂としての、紫光UV−7600B(日本合成化学株式会社製、紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂)12.1質量%およびビームセット(登録商標)575(荒川化学工業株式会社製、ウレタンアクリレート)5.2質量%、溶媒としての4−メチル−2−ペンタノン26.9質量%を添加した。さらに、フッ素系界面活性剤(フタージェント650A、株式会社ネオス製)を0.1質量%、光重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン株式会社製)0.7質量%を添加し、30分間撹拌し、ハードコート層用塗布液1を調製した。
(Preparation of hard coat layer coating solution 1)
ZnO.Sb 2 O 5 (Sernax (registered trademark) CX-Z410K, zinc antimonate, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 55 mass% as an infrared absorber, purple light UV-7600B (Nippon Gosei Co., Ltd.) as an ultraviolet curable resin Chemical Co., Ltd., UV curable urethane acrylate resin) 12.1% by mass and Beam Set (registered trademark) 575 (Arakawa Chemical Industries, Ltd., urethane acrylate) 5.2% by mass, 4-methyl-2 as a solvent -26.9% by weight of pentanone was added. Furthermore, 0.1% by mass of a fluorosurfactant (Furgent 650A, manufactured by Neos Co., Ltd.) and 0.7% by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF Japan Ltd.) are added and stirred for 30 minutes. Then, a hard coat layer coating solution 1 was prepared.

(ハードコート層用塗布液2の調製)
上記ハードコート用塗布液1の調製において、さらに紫外線吸収剤としての2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジン(上記一般式(1)中、R、R、Rがそれぞれフェニル基であり、R、R、Rが、それぞれ水素原子であり、k=m=p=1であり、l=n=q=4であり、R、R、Rのフェニル基がトリアジンに対して4位に置換している化合物)0.1質量%を添加したことを除いては、上記ハードコート用塗布液1と同様にしてハードコート用塗布液2を調製した。
(Preparation of hard coat layer coating solution 2)
In the preparation of the coating liquid 1 for hard coat, 2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine as an ultraviolet absorber (in the general formula (1), R 1 , R 3 , R 5 is a phenyl group, R 2 , R 4 and R 6 are each a hydrogen atom, k = m = p = 1, l = n = q = 4, R 1 , R 3 , A compound in which the phenyl group of R 5 is substituted at the 4-position with respect to triazine) In the same manner as in the hard coat coating solution 1, except that 0.1% by mass was added. 2 was prepared.

(ハードコート層用塗布液3の調製)
上記ハードコート用塗布液1の調製において、さらに紫外線吸収剤(チヌビン477、BASFジャパン株式会社製、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤)0.1質量%を添加したことを除いては、上記ハードコート用塗布液1と同様にしてハードコート用塗布液3を調製した。
(ハードコート層用塗布液4の調製)
上記ハードコート用塗布液1の調製において、さらに紫外線吸収剤(チヌビン234、BASFジャパン株式会社製、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤)0.1質量%を添加したことを除いては、上記ハードコート用塗布液1と同様にしてハードコート用塗布液4を調製した。
(Preparation of coating solution 3 for hard coat layer)
In the preparation of the coating liquid 1 for hard coat, the hard coat described above was added except that 0.1% by mass of an ultraviolet absorber (Tinubin 477, manufactured by BASF Japan Ltd., hydroxyphenyltriazine-based ultraviolet absorber) was further added. Hard coating solution 3 was prepared in the same manner as coating solution 1.
(Preparation of coating solution 4 for hard coat layer)
In the preparation of the hard coat coating solution 1, except for addition of 0.1% by mass of an ultraviolet absorber (Tinubin 234, manufactured by BASF Japan Ltd., benzotriazole ultraviolet absorber), In the same manner as the coating solution 1, a coating solution 4 for hard coat was prepared.

(ハードコート層用塗布液5の調製)
上記ハードコート用塗布液3の調製において、赤外線吸収剤を添加しなかったことを除いては、上記ハードコート用塗布液3と同様にしてハードコート用塗布液5を調製した。
(Preparation of hard coat layer coating solution 5)
A hard coat coating solution 5 was prepared in the same manner as the hard coat coating solution 3 except that no infrared absorber was added in the preparation of the hard coat coating solution 3.

(ハードコート層用塗布液6の調製)
上記ハードコート用塗布液1の調製において、紫外線硬化性樹脂を、ポリオールアクリレート樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 45質量%、トリメチロールプロパントリアクリレート 35質量%、ラウリルアクリレート 5質量%、トリエチレングリコールジアクリレート 15質量%の比率で重合したもの)に変更したことを除いては、上記ハードコート用塗布液1と同様にしてハードコート用塗布液5を調製した。
(Preparation of hard coat layer coating solution 6)
In the preparation of the coating liquid 1 for hard coat, an ultraviolet curable resin was used as a polyol acrylate resin (dipentaerythritol hexaacrylate 45% by mass, trimethylolpropane triacrylate 35% by mass, lauryl acrylate 5% by mass, triethylene glycol diacrylate. A hard coat coating solution 5 was prepared in the same manner as in the hard coat coating solution 1 except that the polymerization rate was changed to 15% by mass.

(粘着層用塗布液1の作製)
粘着剤(コーポニールN−2147、日本合成化学社製)100質量%、硬化剤(コロネート L−55E、日本ポリウレタン工業社製)5質量%、紫外線吸収剤(チヌビン477、BASFジャパン株式会社製、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤)3.2質量%、溶媒としての酢酸エチル121.7質量%を添加し、30分間撹拌し、粘着層用塗布液1を調製した。
(Preparation of coating solution 1 for adhesive layer)
Adhesive (Cooponyl N-2147, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 100% by mass, curing agent (Coronate L-55E, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) 5% by mass, UV absorber (Tinubin 477, manufactured by BASF Japan Ltd.) Hydroxyphenyltriazine UV absorber) 3.2% by mass and 121.7% by mass of ethyl acetate as a solvent were added and stirred for 30 minutes to prepare a coating solution 1 for an adhesive layer.

(粘着層用塗布液2の作製)
上記粘着層用塗布液1の調製において、紫外線吸収剤を変更し、チヌビン477の代わりにチヌビン1159(BASFジャパン株式会社製、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤)を添加したことを除いては、上記粘着層用塗布液1と同様にして粘着層用塗布液2を調製した。
(Preparation of coating solution 2 for adhesive layer)
In the preparation of the coating liquid 1 for the adhesive layer, the ultraviolet absorber was changed, and except that tinuvin 1159 (manufactured by BASF Japan Ltd., hydroxyphenyltriazine ultraviolet absorber) was added instead of tinuvin 477, An adhesive layer coating solution 2 was prepared in the same manner as the adhesive layer coating solution 1.

(粘着層用塗布液3の作製)
上記粘着層用塗布液1の調製において、紫外線吸収剤を変更し、チヌビン477の代わりに2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンを2.8質量%添加したことを除いては、上記粘着層用塗布液1と同様にして粘着層用塗布液3を調製した。
(Preparation of coating solution 3 for adhesive layer)
In the preparation of the coating solution 1 for the adhesive layer, the ultraviolet absorber was changed, and 2.8% by mass of 2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine was added instead of tinuvin 477. In the same manner as in the adhesive layer coating solution 1, an adhesive layer coating solution 3 was prepared.

(粘着層用塗布液4の作製)
上記粘着層用塗布液1の調製において、紫外線吸収剤を変更し、チヌビン477の代わりにチヌビン326(BASFジャパン株式会社製、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤)を添加したことを除いては、上記粘着層用塗布液1と同様にして粘着層用塗布液4を調製した。
(Preparation of coating solution 4 for adhesive layer)
In the preparation of the coating solution 1 for the adhesive layer, the adhesive was changed except that the ultraviolet absorber was changed and tinuvin 326 (manufactured by BASF Japan Ltd., benzotriazole ultraviolet absorber) was added instead of tinuvin 477. In the same manner as the layer coating solution 1, an adhesive layer coating solution 4 was prepared.

(粘着層用塗布液5の作製)
上記粘着層用塗布液1の調製において、紫外線吸収剤を変更し、チヌビン477の代わりにスミソーブ(登録商標)130(住友化学株式会社製、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤)を添加したことを除いては、上記粘着層用塗布液1と同様にして粘着層用塗布液5を調製した。
(Preparation of coating solution 5 for adhesive layer)
In the preparation of the coating liquid 1 for the adhesive layer, the ultraviolet absorber was changed, except that Sumisorb (registered trademark) 130 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., benzophenone-based ultraviolet absorber) was added instead of Tinuvin 477. In the same manner as in the pressure-sensitive adhesive layer coating solution 1, a pressure-sensitive adhesive layer coating solution 5 was prepared.

(実施例1)
9層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、上記で得られた低屈折率層用塗布液L1および高屈折率層用塗布液H1を45℃に保温しながら、45℃に加温した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300:両面易接着層、長さ200m×幅210mm、屈折率:1.58)上に、最下層と最上層は低屈折率層とし、それ以外はそれぞれ交互に、乾燥時の膜厚が低屈折率層は各層150nm、高屈折率層は各層130nmになるように計9層の同時重層塗布を行った。なお、層間の混合領域(混合層)の確認および膜厚の測定(確認)は、積層膜(誘電体多層膜フィルム試料)を切断して切断面をXPS表面分析装置で高屈折率材料(TiO)と低屈折率材料(SiO)の存在量を測定することで、上記した各層の膜厚が確保されていることが確認できた。
Example 1
Thickness heated to 45 ° C. while maintaining the low refractive index layer coating solution L1 and the high refractive index layer coating solution H1 obtained above at 45 ° C. On top of a 50 μm polyethylene terephthalate film (Toyobo A4300: double-sided easy-adhesion layer, length 200 m × width 210 mm, refractive index: 1.58), the lowermost layer and the uppermost layer are low-refractive index layers; Furthermore, a total of nine layers were simultaneously applied so that the low refractive index layer had a thickness of 150 nm and the high refractive index layer had a thickness of 130 nm. In addition, the confirmation of the mixed region (mixed layer) between the layers and the measurement (confirmation) of the film thickness are performed by cutting the laminated film (dielectric multilayer film sample) and cutting the cut surface with an XPS surface analyzer. 2 ) and the abundance of the low refractive index material (SiO 2 ) were measured, and it was confirmed that the film thickness of each layer described above was secured.

塗布直後、5℃の冷風を吹き付けてセットさせた。このとき、表面を指で触れても指に何もつかなくなるまでの時間(セット時間)は5分であった。   Immediately after application, 5 ° C. cold air was blown and set. At this time, even if the surface was touched with a finger, the time until the finger was lost (set time) was 5 minutes.

セット完了後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、9層からなる誘電体多層膜ユニットを作製した。上記の通り形成した高屈折率層の屈折率は1.95であり、低屈折率層の屈折率は1.45であった。   After completion of the setting, warm air of 80 ° C. was blown and dried to prepare a dielectric multilayer unit consisting of nine layers. The refractive index of the high refractive index layer formed as described above was 1.95, and the refractive index of the low refractive index layer was 1.45.

次に、グラビアコーターを用い、上記で調製したハードコート層用塗布液1を、誘電体多層膜ユニットと反対面に塗布し、乾燥区間温度90℃で乾燥後、紫外線ランプを用い照射部の照度が1000mW/cmで、照射量を0.3J/cmとして塗布層を硬化させ、乾燥膜厚が6μmになるように最表層(ハードコート層)を形成した。 Next, using a gravure coater, the hard coat layer coating solution 1 prepared above is applied to the opposite surface of the dielectric multilayer film unit, dried at a drying section temperature of 90 ° C., and then irradiated with an ultraviolet lamp. Was 1000 mW / cm 2 , the irradiation amount was 0.3 J / cm 2 , the coating layer was cured, and the outermost layer (hard coat layer) was formed so that the dry film thickness was 6 μm.

さらに、ダイコーターを用い、上記で調製した粘着層用塗布液1をセパレータ(NS−23MA:中本パックス社製)に塗布し、80℃で乾燥した後に、上記誘電体多層膜ユニット面と粘着層面を貼り合わせ、内貼り構成(すなわち、窓ガラス等の室内側に貼付される構成)の誘電体多層膜フィルム1を作製した。当該誘電体多層膜フィルム1の粘着層の膜厚は10μmであった。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は600mg/mであった。 Further, the adhesive layer coating solution 1 prepared above was applied to a separator (NS-23MA: manufactured by Nakamoto Pax Co., Ltd.) using a die coater, dried at 80 ° C., and then adhered to the dielectric multilayer film unit surface. The layer surfaces were bonded to each other to produce a dielectric multilayer film 1 having an in-applied configuration (that is, a configuration applied to the indoor side of a window glass or the like). The thickness of the adhesive layer of the dielectric multilayer film 1 was 10 μm. At this time, the amount of tinuvin 477 which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer was 600 mg / m 2 .

(実施例2)
上記実施例1において、粘着層の膜厚を35μmに変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして誘電体多層膜フィルム2を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は2100mg/mであった。
(Example 2)
A dielectric multilayer film 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that in Example 1 above, the thickness of the adhesive layer was changed to 35 μm. At this time, the amount of tinuvin 477 which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer was 2100 mg / m 2 .

(実施例3)
上記実施例1において、粘着層の膜厚を25μmに変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして誘電体多層膜フィルム3を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は1500mg/mであった。
(Example 3)
A dielectric multilayer film 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the adhesive layer was changed to 25 μm in Example 1. At this time, the amount of tinuvin 477, which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer, was 1500 mg / m 2 .

(実施例4)
上記実施例1において、粘着層の膜厚を3μmに変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして誘電体多層膜フィルム4を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は180mg/mであった。
Example 4
A dielectric multilayer film 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that in Example 1 above, the thickness of the adhesive layer was changed to 3 μm. At this time, the amount of tinuvin 477 which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer was 180 mg / m 2 .

(比較例1)
上記実施例1において、粘着層の膜厚を1μmに変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして比較誘電体多層膜フィルム1を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は60mg/mであった。
(Comparative Example 1)
A comparative dielectric multilayer film 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that in Example 1 above, the thickness of the adhesive layer was changed to 1 μm. At this time, the amount of tinuvin 477 which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer was 60 mg / m 2 .

(実施例5)
上記実施例1において、粘着層を形成する際、粘着層用塗布液1の代わりに粘着層用塗布液2を用い、粘着層の厚みを10μmに変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして誘電体多層膜フィルム5を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン1159の付量は750mg/mであった。
(Example 5)
In Example 1 above, when forming the adhesive layer, Example 1 was used except that the adhesive layer coating liquid 2 was used instead of the adhesive layer coating liquid 1 and the thickness of the adhesive layer was changed to 10 μm. In the same manner, a dielectric multilayer film 5 was produced. At this time, the amount of tinuvin 1159 which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer was 750 mg / m 2 .

(実施例6)
上記実施例1において、粘着層を形成する際、粘着層用塗布液1の代わりに粘着層用塗布液3を用い、粘着層の厚みを10μmに変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして誘電体多層膜フィルム6を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるビフェニリルトリアジンの付量は654mg/mであった。
(Example 6)
In Example 1 above, when forming the adhesive layer, Example 1 was used except that the adhesive layer coating solution 3 was used instead of the adhesive layer coating solution 1 and the thickness of the adhesive layer was changed to 10 μm. In the same manner, a dielectric multilayer film 6 was produced. At this time, the amount of biphenylyltriazine, which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer, was 654 mg / m 2 .

(比較例2)
上記実施例1において、粘着層を形成する際、粘着層用塗布液1の代わりに粘着層用塗布液4を用い、粘着層の厚みを10μmに変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして比較誘電体多層膜フィルム2を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン326の付量は654mg/mであった。
(Comparative Example 2)
In Example 1 above, when forming the adhesive layer, Example 1 was used except that the adhesive layer coating liquid 4 was used instead of the adhesive layer coating liquid 1 and the thickness of the adhesive layer was changed to 10 μm. Comparative dielectric multilayer film 2 was prepared in the same manner as described above. At this time, the amount of tinuvin 326 which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer was 654 mg / m 2 .

(比較例3)
上記実施例1において、粘着層を形成する際、粘着層用塗布液1の代わりに粘着層用塗布液5を用い、粘着層の厚みを10μmに変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして比較誘電体多層膜フィルム3を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるスミソーブ130の付量は654mg/mであった。
(Comparative Example 3)
In Example 1 above, when forming the adhesive layer, Example 1 was used except that the adhesive layer coating solution 5 was used instead of the adhesive layer coating solution 1 and the thickness of the adhesive layer was changed to 10 μm. Comparative dielectric multilayer film 3 was prepared in the same manner as described above. At this time, the amount of Sumisorb 130 as an ultraviolet absorber in the adhesive layer was 654 mg / m 2 .

(実施例7)
上記実施例1において、最表層(ハードコート層)を形成する際、ハードコート層用塗布液1の代わりにハードコート層用塗布液2を用いたことを除いては、上記実施例1と同様にして誘電体多層膜フィルム7を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は上記実施例1と同様であった。また、ハードコート層中の紫外線吸収剤であるビフェニリルトリアジンの付量は230mg/mであった。
(Example 7)
In Example 1, the outermost layer (hard coat layer) was formed in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer coating solution 2 was used instead of the hard coat layer coating solution 1. Thus, a dielectric multilayer film 7 was produced. At this time, the amount of tinuvin 477, which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer, was the same as in Example 1. Further, the amount of biphenylyltriazine, which is an ultraviolet absorber in the hard coat layer, was 230 mg / m 2 .

(実施例8)
上記実施例1において、最表層(ハードコート層)を形成する際、ハードコート層用塗布液1の代わりにハードコート層用塗布液3を用いたことを除いては、上記実施例1と同様にして誘電体多層膜フィルム8を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は上記実施例1と同様であった。また、ハードコート層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は200mg/mであった。
(Example 8)
In Example 1, the outermost layer (hard coat layer) was formed in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer coating solution 3 was used instead of the hard coat layer coating solution 1. Thus, a dielectric multilayer film 8 was produced. At this time, the amount of tinuvin 477, which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer, was the same as in Example 1. The amount of tinuvin 477, which is an ultraviolet absorber in the hard coat layer, was 200 mg / m 2 .

(実施例9)
上記実施例1において、最表層(ハードコート層)を形成する際、ハードコート層用塗布液1の代わりにハードコート層用塗布液4を用いたことを除いては、上記実施例1と同様にして誘電体多層膜フィルム9を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は上記実施例1と同様であった。また、ハードコート層中の紫外線吸収剤であるチヌビン234の付量は230mg/mであった。
Example 9
In Example 1, the outermost layer (hard coat layer) was formed in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer coating solution 4 was used instead of the hard coat layer coating solution 1. Thus, a dielectric multilayer film 9 was produced. At this time, the amount of tinuvin 477, which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer, was the same as in Example 1. The amount of tinuvin 234, which is an ultraviolet absorber in the hard coat layer, was 230 mg / m 2 .

(実施例10)
上記実施例1において、最表層(ハードコート層)を形成する際、ハードコート層用塗布液1の代わりにハードコート層用塗布液5を用い、最表層の厚みを3μmに変更したことを除いては、上記実施例1と同様にして誘電体多層膜フィルム10を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は上記実施例1と同様であった。また、ハードコート層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は100mg/mであった。
(Example 10)
In Example 1 above, when forming the outermost layer (hard coat layer), the hard coat layer coating solution 5 was used instead of the hard coat layer coating solution 1, and the thickness of the outermost layer was changed to 3 μm. Thus, a dielectric multilayer film 10 was produced in the same manner as in Example 1 above. At this time, the amount of tinuvin 477, which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer, was the same as in Example 1. The amount of tinuvin 477, which is an ultraviolet absorber in the hard coat layer, was 100 mg / m 2 .

(実施例11)
上記実施例1において、最表層(ハードコート層)を形成する際、ハードコート層用塗布液1の代わりにハードコート層用塗布液6を用いたことを除いては、上記実施例1と同様にして誘電体多層膜フィルム14を作製した。このとき、粘着層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は上記実施例1と同様であった。また、ハードコート層中の紫外線吸収剤であるチヌビン477の付量は230mg/mであった。
(Example 11)
In Example 1, the outermost layer (hard coat layer) was formed in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer coating solution 6 was used instead of the hard coat layer coating solution 1. Thus, a dielectric multilayer film 14 was produced. At this time, the amount of tinuvin 477, which is an ultraviolet absorber in the adhesive layer, was the same as in Example 1. The amount of tinuvin 477, which is an ultraviolet absorber in the hard coat layer, was 230 mg / m 2 .

上記実施例および比較例による誘電体多層膜フィルムの構成を下記表2および表3に示す。   The structures of the dielectric multilayer films according to the above examples and comparative examples are shown in Tables 2 and 3 below.

≪評価≫
下記物性の測定に関しては、特に断りのない限り、温度23℃±2℃,相対湿度(50±5)%で測定した。
≪Evaluation≫
Unless otherwise specified, the following physical properties were measured at a temperature of 23 ° C. ± 2 ° C. and a relative humidity (50 ± 5)%.

(透過率の測定)
各実施例および比較例による誘電体多層膜フィルムの粘着層の透過率は、以下の通り測定した。なお、本明細書中、粘着層の透過率T1(UV)、T2(UV)、T1(390)およびT2(390)の値は、下記の方法により測定された値を採用するものとする。
(Measurement of transmittance)
The transmittance of the adhesive layer of the dielectric multilayer film according to each example and comparative example was measured as follows. In addition, the value measured by the following method is employ | adopted for the value of the transmittance | permeability T1 (UV) , T2 (UV) , T1 (390), and T2 (390) of the adhesion layer in this specification. Shall.

セパレータに誘電体多層膜フィルムの作製時と同様にして粘着層を塗工し、当該粘着層の表面を、3mm厚のフロートガラスに貼り付け、温度23℃、湿度50%RHの環境下で30分間放置した後、セパレータを取り除き、試験片とした。   An adhesive layer is applied to the separator in the same manner as in the production of the dielectric multilayer film, and the surface of the adhesive layer is attached to a 3 mm-thick float glass, and the temperature is 23 ° C. and the humidity is 50% RH. After leaving for a minute, the separator was removed to obtain a test piece.

JIS A5759:2008に準拠し、島津製作所社製の分光光度計「U−4100」を用いて、試験片の透過率を280nmから410nmまで透過光を測定し、太陽光重価係数を乗じたものを、初期の紫外線透過率T1(UV)(%)として算出した。また、当該試験片について、390nmにおける透過率をT1(390)(%)とした。 In accordance with JIS A5759: 2008, using a spectrophotometer “U-4100” manufactured by Shimadzu Corporation, the transmittance of the test piece was measured from 280 nm to 410 nm and multiplied by the solar weight coefficient. Was calculated as the initial ultraviolet transmittance T 1 (UV) (%). Moreover, the transmittance | permeability in 390 nm was set to T1 (390) (%) about the said test piece.

次に、サンシャインウェザーメーター(S80HB、スガ試験機株式会社製)を用い、温度40℃、湿度50%RHの環境下で、ガラス面側から放射照度255W/mの光(サンシャインカーボンアーク(すなわち、カーボンアーク灯)、波長300〜700nm)を2000時間連続して照射し、加速劣化処理を行った。加速劣化処理後、上記と同様に透過率を測定し、紫外線透過率T2(UV)(%)を測定した。また、当該試験片について、390nmにおける透過率をT2(390)(%)とした。 Next, using a sunshine weather meter (S80HB, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), light having an irradiance of 255 W / m 2 from the glass surface side (sunshine carbon arc (ie, , Carbon arc lamp) and a wavelength of 300 to 700 nm) were continuously irradiated for 2000 hours to perform accelerated deterioration treatment. After the accelerated deterioration treatment, the transmittance was measured in the same manner as described above, and the ultraviolet transmittance T 2 (UV) (%) was measured. Moreover, the transmittance | permeability in 390 nm was set to T2 (390) (%) about the said test piece.

上記の通り得られたT1(UV)、T1(390)、T2(UV)、T2(390)より、上記の数式(1)および(2)を用いて、それぞれの変化率を計算した。 From the above-obtained T 1 (UV) , T 1 (390) , T 2 (UV) , and T 2 (390) , using the above equations (1) and (2), the respective rates of change are calculated. Calculated.

算出された値を表2および表3にそれぞれ示す。   The calculated values are shown in Table 2 and Table 3, respectively.

(屈曲性評価1)
各実施例および比較例による誘電体多層膜フィルムを、誘電体多層膜フィルムを50mm幅×150mm長に切り抜き、以下の加速劣化処理を行った。加速劣化処理は、サンシャインウェザーメーター(S80HB、スガ試験機株式会社製)を用い、温度40℃、湿度50%RHの環境下で、セパレータ側(すなわち、粘着層側)から放射照度255W/mの光(サンシャインカーボンアーク(すなわち、カーボンアーク灯)、300〜700nm)を2000時間連続して照射することにより行った。加速劣化処理後、上下の距離20mmを隔てて対向する板面に、治具を用いてフィルムの両端をそれぞれ固定し、上面(上板面)を幅50mm平行移動させ、1000回往復運動をさせた場合のフィルム外観を評価した。なお、フィルム外観について、以下の基準により評価を行った。評価結果を、表2および表3にそれぞれ示す。
(Flexibility evaluation 1)
The dielectric multilayer film according to each of the examples and comparative examples was cut into a 50 mm width × 150 mm length and subjected to the following accelerated deterioration treatment. The accelerated deterioration treatment uses a sunshine weather meter (S80HB, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), and the irradiance is 255 W / m 2 from the separator side (that is, the adhesive layer side) in an environment of temperature 40 ° C. and humidity 50% RH. No. 1 (Sunshine carbon arc (i.e., carbon arc lamp), 300 to 700 nm) was continuously irradiated for 2000 hours. After the accelerated deterioration treatment, both ends of the film are fixed to the plate surfaces facing each other with a vertical distance of 20 mm using a jig, and the upper surface (upper plate surface) is translated by 50 mm in width and reciprocated 1000 times. The film appearance was evaluated. The film appearance was evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 2 and Table 3, respectively.

◎ :変化なし
○ :フィルムにクラックが目視でほとんど認められない(1〜5本)
〇△:フィルムにクラックが目視でわずかに確認できる(6〜10本)
△ :フィルムにクラックが目視で確認できる(11〜30本)
× :フィルムにクラックが多数、目視で確認できる(30本超)。
A: No change B: Almost no cracks are visually observed in the film (1-5)
○ Δ: Slight cracks can be visually confirmed on the film (6 to 10)
(Triangle | delta): A crack can be visually confirmed in a film (11-30 pieces).
X: Many cracks can be visually confirmed in the film (more than 30).

(屈曲性評価2)
上記屈曲性評価1において、サンシャインウェザーメーターからの光照射を、セパレータ側ではなく、最表層(ハードコート層)側から行ったことを除いては、上記屈曲性評価1と同様にして評価した。なお、評価基準は屈曲性評価1と同様である。
(Flexibility evaluation 2)
In the above flexibility evaluation 1, evaluation was performed in the same manner as in the above flexibility evaluation 1 except that light irradiation from the sunshine weather meter was performed not from the separator side but from the outermost layer (hard coat layer) side. Note that the evaluation criteria are the same as in the flexibility evaluation 1.

(密着性評価1)
上記屈曲性評価1と同様の条件で加速劣化処理を行い、当該処理を行ったフィルムについて、以下の通り密着性を評価した。
(Adhesion evaluation 1)
The film was subjected to accelerated deterioration treatment under the same conditions as in Flexibility Evaluation 1, and the adhesion was evaluated as follows for the film subjected to the treatment.

各誘電体多層膜ユニットの密着性の評価は、JIS K 5600の5.6(2004年度版)の記載の碁盤目試験法に準じて行った。   The evaluation of the adhesion of each dielectric multilayer film unit was performed according to the cross-cut test method described in 5.6 (2004 edition) of JIS K 5600.

誘電体多層膜フィルムのセパレータを剥がし、粘着層に対してカッターナイフで基材に達する1mm角の100個の碁盤目状の切り傷を、1mm間隔のカッターガイドを用いて付けた。セロハン粘着テープ(ニチバン株式会社製「CT405AP−18」;18mm幅)を切り傷面に貼り付け、消しゴムで上からこすって完全にテープを付着させた後、垂直方向に引き剥がして、誘電体多層膜フィルム構成層が基材表面にどのくらい残存しているかを、100個の碁盤目について計測した。なお、剥離した部分(マス目)の数について、以下の基準により評価を行った。評価結果を、表2および表3にそれぞれ示す。   The separator of the dielectric multilayer film was peeled off, and 100 grid cuts of 1 mm square reaching the substrate with a cutter knife were applied to the adhesive layer using a cutter guide with an interval of 1 mm. A cellophane adhesive tape ("CT405AP-18" manufactured by Nichiban Co., Ltd .; 18mm width) is attached to the cut surface, rubbed with an eraser from the top to completely adhere the tape, and then peeled off in the vertical direction to form a dielectric multilayer film How many film constituent layers remained on the substrate surface was measured for 100 grids. In addition, it evaluated by the following references | standards about the number of the parts (cells) which peeled. The evaluation results are shown in Table 2 and Table 3, respectively.

10:剥離したマス目が0個
8 :剥離したマス目が1個以上5個未満
6 :剥離したマス目が5個以上15個未満
4 :剥離したマス目が15個以上25個未満
2 :剥離したマス目が25個以上45個未満
0 :剥離したマス目が45個以上100個以下。
10: 0 peeled cells 8: 1 or more and less than 5 cells 6: 5 or more but less than 15 cells 4 4: 15 or more cells but less than 25 cells 2 The peeled squares are 25 or more and less than 45 0: The peeled squares are 45 or more and 100 or less.

(密着性評価2)
上記密着性評価1において、サンシャインウェザーメーターからの光照射を、セパレータ側ではなく、最表層(ハードコート層)側から行ったことを除いては、上記密着性評価1と同様にして評価した。なお、評価基準は密着性評価1と同様である。
(Adhesion evaluation 2)
In the adhesion evaluation 1, evaluation was performed in the same manner as in the adhesion evaluation 1 except that the light irradiation from the sunshine weather meter was performed not from the separator side but from the outermost layer (hard coat layer) side. Note that the evaluation criteria are the same as in the adhesion evaluation 1.

表に示した評価結果から明らかなように、本発明に係る実施例の各種特性は、比較例に対して優れていることが分かる。そして、粘着層における280〜410nmの紫外線透過率変化が、5%以下であるとき、誘電体多層膜フィルム密着性と屈曲性が著しく向上することが示された。さらに、粘着層に含まれる紫外線吸収剤は、ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物と、ビフェニリル系化合物が好ましく用いられるが、実施例1と6との対比より、ビフェニリルトリアジン系化合物を用いたもの(実施例6)の方が、良好な結果が得られた。   As is clear from the evaluation results shown in the table, it can be seen that the various characteristics of the examples according to the present invention are superior to the comparative examples. And when the ultraviolet transmittance change of 280-410 nm in an adhesion layer is 5% or less, it was shown that dielectric multilayer film film adhesiveness and flexibility are improved remarkably. Furthermore, the ultraviolet absorber contained in the adhesive layer is preferably a hydroxyphenyl triazine compound and a biphenylyl compound, but in comparison with Examples 1 and 6, a biphenylyl triazine compound was used (Examples). 6) gave better results.

一方、従来粘着層に含まれていた紫外線吸収剤では、上記所定の紫外線透過率および透過率の変化率を得ることができず、加速劣化処理後の密着性および屈曲性は低下するという結果が得られた。   On the other hand, with the ultraviolet absorbers conventionally included in the adhesive layer, the predetermined ultraviolet transmittance and the rate of change of the transmittance cannot be obtained, and the adhesion and flexibility after the accelerated deterioration treatment are reduced. Obtained.

さらに、特定の紫外線吸収剤を含む最表層を有する場合、誘電体多層膜フィルムは、最表層側からの光照射を行った加速劣化処理後においても良好な屈曲性および密着性を示していた。よって、光触媒作用を有する化合物を含む誘電体多層膜を有する誘電体多層膜フィルムは、粘着層および最表層のいずれにも特定の紫外線吸収剤を含んでいると、特に光触媒作用を有する化合物の触媒作用が抑制される効果が高く、フィルムの密着性や屈曲性が向上すると考えられる。   Furthermore, when it has the outermost layer containing a specific ultraviolet absorber, the dielectric multilayer film exhibited good flexibility and adhesion even after accelerated deterioration treatment in which light irradiation was performed from the outermost layer side. Therefore, a dielectric multilayer film having a dielectric multilayer film containing a compound having a photocatalytic action is a catalyst of a compound having a photocatalytic action particularly when the adhesive layer and the outermost layer contain a specific ultraviolet absorber. It is considered that the effect of suppressing the action is high and the adhesion and flexibility of the film are improved.

さらにまた、最表層において赤外線吸収剤をさらに含むことにより、さらに誘電体多層膜の劣化が抑制され、密着性や屈曲性が向上に優れた誘電体多層膜フィルムを得ることができると考えられる。   Furthermore, it is considered that by further including an infrared absorber in the outermost layer, it is possible to obtain a dielectric multilayer film that is further suppressed in deterioration of the dielectric multilayer film and is excellent in adhesion and flexibility.

Claims (8)

低屈折率層および高屈折率層が少なくとも1つ以上積層された誘電体多層膜と、
粘着層と、を有する誘電体多層膜フィルムであって、
前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも1層が、水溶性高分子と、光触媒作用を有する化合物とを含有し、
前記粘着層は、波長280〜410nmにおける初期光透過率T1(UV)が30%以下であり、前記初期光透過率T1(UV)に対し、温度40℃、湿度50%RHの環境下で、放射照度255W/mとしたカーボンアーク灯により2000時間連続で、前記粘着層側から光照射された後の波長280〜410nmにおける光透過率T2(UV)の変化率が5%以下である、誘電体多層膜フィルム。
A dielectric multilayer film in which at least one low refractive index layer and high refractive index layer are laminated;
A dielectric multilayer film having an adhesive layer,
At least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains a water-soluble polymer and a compound having a photocatalytic action,
The adhesive layer is the initial light transmittance T 1 (UV) is 30% or less at a wavelength 280~410Nm, the relative initial light transmittance T 1 (UV), temperature 40 ° C., under an environment of a humidity of 50% RH The rate of change of the light transmittance T 2 (UV) at a wavelength of 280 to 410 nm after irradiating light from the adhesive layer side for 2000 hours continuously with a carbon arc lamp having an irradiance of 255 W / m 2 is 5% or less. A dielectric multilayer film.
前記粘着層は、波長390nmにおける初期光透過率T1(390)に対し、温度40℃、湿度50%RHの環境下で、放射照度255W/mとしたカーボンアーク灯により2000時間連続で、前記粘着層側から光照射された後の波長390nmにおける光透過率T2(390)の変化率が5%以下である、請求項1に記載の誘電体多層膜フィルム。 The adhesive layer is continuous for 2000 hours with a carbon arc lamp having an irradiance of 255 W / m 2 in an environment of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 50% RH with respect to an initial light transmittance T 1 (390) at a wavelength of 390 nm. The dielectric multilayer film according to claim 1, wherein a change rate of light transmittance T2 (390) at a wavelength of 390 nm after being irradiated with light from the adhesive layer side is 5% or less. 前記粘着層の厚みは、3〜30μmである、請求項1または2に記載の誘電体多層膜フィルム。   The dielectric multilayer film according to claim 1 or 2, wherein the adhesive layer has a thickness of 3 to 30 µm. 前記粘着層は、2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンおよびこれらの誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の誘電体多層膜フィルム。   The adhesive layer is a group consisting of 2,4,6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine and derivatives thereof. The dielectric multilayer film according to any one of claims 1 to 3, comprising at least one compound selected from the group consisting of: 前記光触媒作用を有する化合物は、酸化チタンを含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の誘電体多層膜フィルム。   The dielectric multilayer film according to claim 1, wherein the compound having a photocatalytic action includes titanium oxide. 前記粘着層に対し、前記誘電体多層膜を介して反対側に配置される最表層をさらに有し、
前記最表層は、2,4,6−トリス(ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンおよびこれらの誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の誘電体多層膜フィルム。
The adhesive layer further has an outermost layer disposed on the opposite side through the dielectric multilayer film,
The outermost layer is composed of 2,4,6-tris (hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (biphenylyl) -1,3,5-triazine and derivatives thereof. The dielectric multilayer film according to any one of claims 1 to 5, comprising at least one compound selected from the group consisting of:
前記最表層は、紫外線硬化性ウレタンアクリレート系樹脂を含む、請求項6に記載の誘電体多層膜フィルム。   The dielectric multilayer film according to claim 6, wherein the outermost layer includes an ultraviolet curable urethane acrylate resin. 前記最表層は、赤外線吸収剤を含む、請求項6または7に記載の誘電体多層膜フィルム。   The dielectric multilayer film according to claim 6 or 7, wherein the outermost layer includes an infrared absorber.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017043288A1 (en) * 2015-09-09 2017-03-16 コニカミノルタ株式会社 Optical reflection film
WO2017077810A1 (en) * 2015-11-04 2017-05-11 コニカミノルタ株式会社 Light reflecting film
JP2022089902A (en) * 2020-12-09 2022-06-16 味の素株式会社 Resin composition
WO2023190270A1 (en) * 2022-03-28 2023-10-05 日本製紙株式会社 Hard-coat film and method for manufacturing same

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009270062A (en) * 2008-05-09 2009-11-19 Fujifilm Corp Ultraviolet absorbent composition
JP2010287310A (en) * 2007-10-12 2010-12-24 Asahi Glass Co Ltd Optical filter
JP2012014043A (en) * 2010-07-02 2012-01-19 Oji Paper Co Ltd Optical adhesive, optical adhesive sheet and optical filter
WO2012026245A1 (en) * 2010-08-25 2012-03-01 コニカミノルタオプト株式会社 Hard-coat film, polarizing plate, and liquid-crystal display device
US20130085215A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive sheet
JP2013113896A (en) * 2011-11-25 2013-06-10 Nitto Denko Corp Hard coat film, polarizing plate, image display device, method for improving adhesion of hard coat layer and method for manufacturing hard coat film
JP2013136482A (en) * 2011-12-28 2013-07-11 Asahi Glass Co Ltd Ultraviolet-absorbing glass article
WO2013111735A1 (en) * 2012-01-25 2013-08-01 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Optical film
JP2013194037A (en) * 2012-03-22 2013-09-30 Sumitomo Seika Chem Co Ltd Copper complex, composition for ultraviolet absorbing member containing the same, and ultraviolet absorbing member using the same
WO2013183544A1 (en) * 2012-06-06 2013-12-12 コニカミノルタ株式会社 Infrared-shielding film and infrared-shielding body

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010287310A (en) * 2007-10-12 2010-12-24 Asahi Glass Co Ltd Optical filter
JP2009270062A (en) * 2008-05-09 2009-11-19 Fujifilm Corp Ultraviolet absorbent composition
JP2012014043A (en) * 2010-07-02 2012-01-19 Oji Paper Co Ltd Optical adhesive, optical adhesive sheet and optical filter
WO2012026245A1 (en) * 2010-08-25 2012-03-01 コニカミノルタオプト株式会社 Hard-coat film, polarizing plate, and liquid-crystal display device
US20130085215A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive sheet
JP2013113896A (en) * 2011-11-25 2013-06-10 Nitto Denko Corp Hard coat film, polarizing plate, image display device, method for improving adhesion of hard coat layer and method for manufacturing hard coat film
JP2013136482A (en) * 2011-12-28 2013-07-11 Asahi Glass Co Ltd Ultraviolet-absorbing glass article
WO2013111735A1 (en) * 2012-01-25 2013-08-01 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Optical film
JP2013194037A (en) * 2012-03-22 2013-09-30 Sumitomo Seika Chem Co Ltd Copper complex, composition for ultraviolet absorbing member containing the same, and ultraviolet absorbing member using the same
WO2013183544A1 (en) * 2012-06-06 2013-12-12 コニカミノルタ株式会社 Infrared-shielding film and infrared-shielding body

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017043288A1 (en) * 2015-09-09 2017-03-16 コニカミノルタ株式会社 Optical reflection film
WO2017077810A1 (en) * 2015-11-04 2017-05-11 コニカミノルタ株式会社 Light reflecting film
JP2022089902A (en) * 2020-12-09 2022-06-16 味の素株式会社 Resin composition
WO2023190270A1 (en) * 2022-03-28 2023-10-05 日本製紙株式会社 Hard-coat film and method for manufacturing same

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