JP2015101858A - Deodorization method - Google Patents

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浩之 西中
Hiroyuki Nishinaka
浩之 西中
理史 竹本
Michifumi Takemoto
理史 竹本
渡邊 圭一郎
Keiichiro Watanabe
圭一郎 渡邊
博之 阿久澤
Hiroyuki Akusawa
博之 阿久澤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a deodorization method capable of suppressing a malodor emitted from a porous malodor emission part of a public toilet and the like.SOLUTION: A seal 4 between a porous urinal 3 and a floor surface 10, and a tile 11 on the floor surface 10 generate ammonia due to scattering of urine to be turned into a malodor generation part. Thus, a photocatalyst is sprayed on a scattering part, and photoirradiation is subsequently applied to the sprayed part to activate the photocatalyst and accelerate decomposition of an organic pollutant. Finally, cleaning is performed by using cleaning water into which a peroxide is mixed. Consequently, urea-splitting bacteria and the like on a surface of a porous part are inactivated.

Description

本発明は、例えばトイレ等で発生する臭気を抑制する防臭方法に関する。   The present invention relates to a deodorizing method for suppressing odor generated in, for example, a toilet.

トイレの大便器及び小便器等は、定期的な清掃を行っている場合にも関わらず、使用時間の経過に伴って臭気が発生し、利用者に不快感を与えることが多い。この現象は、水洗式トイレにおいても発生し、家庭用トイレは基より、特に使用頻度の高い駅、乗り物、ホテル、レストラン、学校、病院等のトイレにおいて課題として認識されている。このため、その対策が強く求められている。   Although toilet toilets and urinals of toilets are regularly cleaned, odors are often generated with the passage of time of use, which often causes discomfort to the user. This phenomenon also occurs in flush toilets, and is recognized as a problem in toilets such as stations, vehicles, hotels, restaurants, schools, hospitals, etc., which are frequently used, rather than home toilets. For this reason, countermeasures are strongly demanded.

臭気の代表例として、尿素分解菌や一般細菌等の細菌が尿素(CO(NH)を分解するときに発生するアンモニア(NH)が挙げられる。便器内に正常に排出された尿は、水洗式の便器であれば洗浄水により洗い流すことが容易である。しかし、意図せずに便器外に飛散した尿飛沫や便器直下の床へ散布した尿は、定常的に洗い流すことができず、臭気発生箇所になっている。この現象は、大便器、小便器、和洋式トイレに関わらず発生することがあるが、便器外への飛散を鑑みると小便器において影響が一番大きいといえる。 A typical example of odor is ammonia (NH 3 ) generated when bacteria such as urea-decomposing bacteria and general bacteria decompose urea (CO (NH 2 ) 2 ). The urine discharged normally in the toilet bowl can be easily washed away with flush water if it is a flush toilet. However, urine droplets that are unintentionally scattered outside the toilet bowl and urine sprayed on the floor immediately below the toilet bowl cannot be washed out constantly, and are odor-producing sites. This phenomenon may occur regardless of whether it is a urinal, a urinal, or a Japanese-Western style toilet, but it can be said that the effect is greatest in the urinal in view of scattering outside the toilet.

また、尿素分解菌や一般細菌等の細菌は、靴の汚れ等から運ばれてくるため、一時的な対策を行っても、再度、臭気が発生する可能性がある。   Further, since bacteria such as urea-decomposing bacteria and general bacteria are carried from dirt on shoes, odor may be generated again even if temporary measures are taken.

ところで、公共施設用トイレの床面は一般的に床タイルや汚垂石で構成されているが、各々のタイルやブロックは、モルタルからなる目地にて固定されていることが多い。しかし、目地として用いられているモルタル材は多孔質材であり、多孔質の内部では尿素分解菌や一般細菌等の細菌の温床になっている。したがって、目地はアンモニア(NH)発生の主要箇所である。 By the way, although the floor surface of a public facilities toilet is generally composed of floor tiles and sludge stone, each tile or block is often fixed by a joint made of mortar. However, the mortar material used as a joint is a porous material, and inside the porous material is a hotbed of bacteria such as ureolytic bacteria and general bacteria. Therefore, the joint is a main part of ammonia (NH 3 ) generation.

このような課題を解決するための、大がかりな設備が不要な防臭方法として、従来、芳香性物質をトイレに配置し、その芳香物質から発散する芳香によってアンモニア(NH)による臭気を打ち消す、いわゆるマスキング法と、吸着剤により臭気成分を吸着する方法とが知られている。 In order to solve such problems, as a deodorizing method that does not require large-scale equipment, conventionally, an aromatic substance is placed in a toilet, and the odor caused by ammonia (NH 3 ) is canceled by the fragrance emitted from the aromatic substance. A masking method and a method of adsorbing an odor component with an adsorbent are known.

マスキング法は、適用する場所に応じて一部での採用はある。しかし、この方法においてはアンモニア(NH)発生の要因である尿素分解菌を抑制することができない。このため、新たに飛散又は散布した尿により、断続的にアンモニア(NH)が発生するといった問題があると共に、次のような個別の問題もある。すなわち、マスキング法では、臭気成分が周辺環境中に飛散したままであるため、芳香性物質の発散量が減少するとアンモニア(NH)による臭気が優勢となり不快感を味わうことになるという問題を有している。これらの問題のため、マスキング法は、臭気が強い公共施設用トイレ等の戻り臭つまり防臭処理後の再度の臭気の発生の抑制目的には適していない。 The masking method is partially adopted depending on the place where it is applied. However, this method cannot suppress urea-decomposing bacteria that are the cause of ammonia (NH 3 ) generation. Therefore, there is a problem that ammonia (NH 3 ) is intermittently generated by newly scattered or dispersed urine, and there are also the following individual problems. That is, in the masking method, the odor component remains scattered in the surrounding environment, and therefore, if the amount of fragrant substances emitted decreases, the odor due to ammonia (NH 3 ) becomes dominant and the user feels uncomfortable. doing. Because of these problems, the masking method is not suitable for the purpose of suppressing the return odor of a public facility toilet or the like having a strong odor, that is, the generation of odor again after the deodorization treatment.

次に、吸着剤により臭気成分を吸着する方法は、吸着剤に飽和吸着量があり、吸着剤が飽和状態に達する毎に交換する必要があるのでコスト高となる。その上、使用当初は所定の吸着力を有していても、吸着力が次第に低下し、最終的には飽和に達してしまい効果がなくなってしまう。   Next, the method of adsorbing the odor component with the adsorbent is costly because the adsorbent has a saturated adsorption amount and needs to be replaced every time the adsorbent reaches a saturated state. In addition, even if it has a predetermined suction force at the beginning of use, the suction force gradually decreases, eventually reaching saturation, and the effect is lost.

一方、設備設置を伴う防臭方法としては、従来、トイレ内に防臭器を設置し、臭気の吸収・分解により防臭する方法、又は特許文献1に開示されているように、小便器直下の床面へ下方防汚床体を設置し、飛散尿滴若しくは尿の散布の受け皿として直接床面を汚さない方法が知られている。   On the other hand, as a deodorization method accompanied by installation of equipment, a conventional method of installing a deodorizer in a toilet and deodorizing by absorbing and decomposing odors, or a floor surface directly under a urinal as disclosed in Patent Document 1 A method is known in which an antifouling floor is installed below and the floor surface is not directly soiled as a receiving tray for scattered urine drops or urine.

しかしながら、前者のトイレ内に防臭器を設置し、臭気の吸収・分解により防臭する方法においても、適用する場所に応じて一部での採用はあるものの、アンモニア(NH)発生の要因である尿素分解菌を抑制できず、断続的にアンモニア(NH)が発生するといった問題を有している。その上、設備設置に高額の費用が発生すると共に、清掃後長時間放置され尿素分解菌が固着したような臭気が強い公共施設用トイレ等の戻り臭の抑制目的には適していない。 However, even in the former method of installing a deodorizer in the toilet and deodorizing by absorbing / degrading odors, although there are some adoption depending on the place to apply, it is a factor of ammonia (NH 3 ) generation There is a problem that urea-degrading bacteria cannot be suppressed and ammonia (NH 3 ) is generated intermittently. In addition, the installation of equipment is expensive, and it is not suitable for the purpose of suppressing return odors such as toilets for public facilities that have a strong odor such as being left for a long time after cleaning and having urea-degrading bacteria adhered thereto.

次に、後者の小便器直下の床面へ下方防汚床体を設置する方法は、防汚床体の設置面には新たに尿の飛散又は散布が発生しても尿素分解菌による尿素の分解は生じない点で評価できる。しかし、設置面以外への飛散尿や散布尿が床面を伝って、設置面下等の尿素分解菌に尿が供給され、アンモニア(NH)が発生するため、戻り臭を抑制できないという問題を有している。 Next, the latter method of installing a lower antifouling floor body on the floor surface directly under the urinal is to prevent urea from being decomposed by ureolytic bacteria even if urine is scattered or dispersed on the surface of the antifouling floor body. It can be evaluated in that no decomposition occurs. However, scattered urine and sprayed urine other than the installation surface travels down the floor surface, and urine is supplied to the ureolytic bacteria under the installation surface and ammonia (NH 3 ) is generated, so that the return odor cannot be suppressed. have.

ところで、上述した方法では、アンモニア(NH)を発生させる尿素分解菌を不活性化していない。そこで、従来、尿素分解菌を分解しながら洗い流す防臭作業も知られている。 By the way, the method described above does not inactivate urea-decomposing bacteria that generate ammonia (NH 3 ). Therefore, conventionally, a deodorizing operation for washing away the urea-decomposing bacteria while decomposing is also known.

この方法は、例えば、日常清掃とは別に、飛散、散布した床面に洗浄力の強い気体のオゾン(O)又は過酸化水素(H)が混入された洗浄水を用いて尿素分解菌を分解しながら洗い流す防臭/洗浄方法である。 In this method, for example, in addition to daily cleaning, urea is used by using cleaning water in which ozone (O 3 ) or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), which has a strong cleaning power, is scattered on a scattered and dispersed floor surface. It is a deodorizing / cleaning method in which degrading bacteria are washed away while being decomposed.

この防臭/洗浄方法は、アンモニア(NH)発生の要因である尿素分解菌を直接抑制することが可能であり、清掃直後にはアンモニア(NH)による臭気を抑制することができるものとなる。 This deodorization / cleaning method can directly suppress urea-decomposing bacteria that are the cause of ammonia (NH 3 ) generation, and can suppress odor due to ammonia (NH 3 ) immediately after cleaning. .

特開2013−126515号公報(2013年6月27日公開)JP2013-126515A (released on June 27, 2013) 特開2013−121592号公報(2013年6月20日公開)JP 2013-121592 A (released on June 20, 2013)

しかしながら、従来の防臭/洗浄方法では、戻り臭を抑制できないという問題を有している。具体的には、一般的な公衆トイレでは、モルタル材が床面のタイル目地やシールとして使用されている。しかし、モルタル材自体が多孔質であるために、多孔質内部に存在する尿素分解菌の全てを上記洗浄方式では不活性化させることはできない。その結果、清掃後に新たな尿の供給がない場合においても、清掃から時間が経てば再び戻り臭が発生する。   However, the conventional deodorization / cleaning method has a problem that the return odor cannot be suppressed. Specifically, in general public toilets, mortar is used as tile joints and seals on the floor. However, since the mortar material itself is porous, it is impossible to inactivate all of the urea-decomposing bacteria present in the porous interior by the above-described cleaning method. As a result, even when no new urine is supplied after cleaning, a return odor is generated again after a long time has passed since cleaning.

ここで、例えば、特許文献2には、可視光応答型繊維状光触媒を具備する浄化装置が開示されている。この浄化装置では、可視光応答型繊維状光触媒を用いて車両等の排気ガスに含まれる一酸化窒素(NO)の浄化処理を行うものとなっている。しかしながら、特許文献2には、トイレ等で発生する多孔質からなる臭気発生部から発生する臭気を抑制する防臭方法に関しては開示がない。   Here, for example, Patent Document 2 discloses a purification device including a visible light responsive fibrous photocatalyst. In this purification device, a visible light responsive fiber photocatalyst is used to purify nitrogen monoxide (NO) contained in the exhaust gas of a vehicle or the like. However, Patent Document 2 does not disclose a deodorizing method for suppressing odor generated from a porous odor generating portion generated in a toilet or the like.

本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、多孔質からなる臭気発生部から発生する臭気を抑制し得る防臭方法を提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said conventional problem, Comprising: The objective is to provide the deodorizing method which can suppress the odor which generate | occur | produces from the odor generating part which consists of porous.

本発明の一態様における防臭方法は、上記課題を解決するために、多孔質からなる臭気発生部に光触媒を散布する光触媒散布工程と、上記光触媒の散布部に光照射処理を行う光照射工程と、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程とをこの順に含むことを特徴としている。   In order to solve the above problems, the deodorization method according to an aspect of the present invention includes a photocatalyst spraying step of spraying a photocatalyst on a porous odor generating part, and a light irradiation process of performing a light irradiation process on the spraying part of the photocatalyst. And a cleaning step of cleaning with cleaning water mixed with peroxide in this order.

本発明の一態様によれば、多孔質からなる臭気発生部から発生する臭気を抑制し得る防臭方法を提供するという効果を奏する。   According to one aspect of the present invention, there is an effect of providing a deodorizing method capable of suppressing odor generated from a porous odor generating portion.

本発明の実施形態1における防臭方法の各工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows each process of the deodorizing method in Embodiment 1 of this invention. (a)は上記防臭方法が適用されるトイレの構成を示す側面図であり、(b)は上記防臭方法が適用されるトイレの構成を示す平面図である。(A) is a side view which shows the structure of the toilet to which the said deodorizing method is applied, (b) is a top view which shows the structure of the toilet to which the said deodorizing method is applied. 本発明の実施形態2における防臭方法の各工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows each process of the deodorizing method in Embodiment 2 of this invention. 本発明の検証実験における防臭方法の簡易評価モデルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the simple evaluation model of the deodorizing method in the verification experiment of this invention. 本発明の防臭方法における検証実験1の評価結果を示すグラフである。It is a graph which shows the evaluation result of the verification experiment 1 in the deodorizing method of this invention. 本発明の防臭方法における検証実験2の評価結果を示すグラフである。It is a graph which shows the evaluation result of the verification experiment 2 in the deodorizing method of this invention.

〔実施の形態1〕
本発明の一実施形態について図1及び図2に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
[Embodiment 1]
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2.

本実施の形態の防臭方法は、例えば、家庭用トイレ、又は駅、乗り物、ホテル、レストラン、学校若しくは病院等の公共用トイレで発生する臭気の防臭に適応可能である。また、家庭用トイレ及び公共用トイレ等のトイレに限らず、例えば汚水処理場、焼却場、廃棄物置き場等の臭気の戻り臭抑制にも適応可能である。   The deodorization method of this embodiment can be applied to deodorization of odors generated in, for example, household toilets or public toilets such as stations, vehicles, hotels, restaurants, schools, and hospitals. Further, the present invention is not limited to toilets such as household toilets and public toilets, and can be applied to odor control of odors such as sewage treatment plants, incineration plants, and waste storage facilities.

以下では、本実施の形態の防臭方法を、トイレ1の小便器3に適用する場合について、図2の(a)(b)に基づいて説明する。図2の(a)は、本実施の形態の防臭方法が適用されるトイレ1の構成を示す側面図である。図2の(b)は、本実施の形態の防臭方法が適用されるトイレ1の構成を示す平面図である。   Below, the case where the deodorizing method of this Embodiment is applied to the urinal 3 of the toilet 1 is demonstrated based on Fig.2 (a) (b). (A) of FIG. 2 is a side view which shows the structure of the toilet 1 to which the deodorizing method of this Embodiment is applied. FIG. 2B is a plan view showing the configuration of the toilet 1 to which the deodorizing method of the present embodiment is applied.

本実施の形態の防臭方法が適用されるトイレ1は、図2の(a)(b)に示すように、壁面2に小便器3が取り付けられている。   The toilet 1 to which the deodorizing method of the present embodiment is applied has a urinal 3 attached to a wall surface 2 as shown in FIGS.

この小便器3は床面10に例えば接触しており、小便器3と床面10との間にはシール4が施されている。このシール4には、多孔質材料であるモルタルが使用されている。また、床面10には多数のタイル11が敷設されており、これらタイル11の目地12にも多孔質材料であるモルタルが使用されている。尚、モルタルとは、細骨材としての砂とセメントと水とを練り混ぜたものである。また、本明細書では、多孔質材料とは、尿及び尿酸分解菌が侵入し得る程度の多孔質を意味している。   The urinal 3 is in contact with the floor surface 10, for example, and a seal 4 is provided between the urinal 3 and the floor surface 10. The seal 4 is made of mortar which is a porous material. In addition, a large number of tiles 11 are laid on the floor 10, and mortar that is a porous material is also used for the joints 12 of these tiles 11. The mortar is a mixture of sand, cement, and water as fine aggregates. In the present specification, the porous material means a porous material to which urine and urate-degrading bacteria can enter.

したがって、上記のシール4及び目地12は、本発明の多孔質からなる臭気発生部に対応する。   Accordingly, the seal 4 and the joint 12 correspond to the porous odor generating part of the present invention.

本実施の形態のトイレ1は一般的なものであるが、このようなトイレ1では、小便器3に衝突した尿が、床面10の飛散/滴下部13上に飛散又は直接滴下する。この飛散/滴下部13における臭気発生部としての目地12には、尿素分解菌や一般細菌等の細菌(以下、「尿素分解菌等」という)が尿に含まれる尿素(CO(NH)を分解することにより代表的な臭気として挙げられるアンモニア(NH)が発生する。 Although the toilet 1 of this Embodiment is common, in such a toilet 1, the urine which collided with the urinal 3 is scattered or dripped directly on the scattering / dropping part 13 of the floor surface 10. FIG. In the joint 12 as an odor generating part in the scattering / dropping part 13, urea (CO (NH 2 ) 2 containing bacteria such as urea-decomposing bacteria and general bacteria (hereinafter referred to as “urea-degrading bacteria”) in urine. ), Ammonia (NH 3 ), which is a typical odor, is generated.

そこで、本実施の形態の防臭方法では、多孔質からなる臭気発生部から発生する臭気を抑制し得る防臭方法を提供することを目的としている。   Accordingly, the object of the deodorization method of the present embodiment is to provide a deodorization method capable of suppressing odors generated from a porous odor generating part.

本実施の形態の防臭方法について、図1に基づいて説明する。図1は本実施の形態の防臭方法を示すフローチャートである。   The deodorization method of this Embodiment is demonstrated based on FIG. FIG. 1 is a flowchart showing the deodorizing method of the present embodiment.

本実施の形態の防臭方法は、図1に示すように、尿素分解菌等の有機汚染物質を含む臭気発生部としてのシール4及び目地12を含む飛散/滴下部13に対して、まず、光触媒を散布する光触媒散布工程を行う(S1)。続いて、光触媒の散布部に光照射処理を一定時間である例えば2時間行う光照射工程を行う(S2)。さらに、光照射工程の後、洗浄工程を行う(S3)。   As shown in FIG. 1, the deodorizing method according to the present embodiment first applies a photocatalyst to the scattering / dropping unit 13 including the seal 4 and the joint 12 as an odor generating unit including organic pollutants such as urea-decomposing bacteria. A photocatalyst spraying step of spraying is performed (S1). Then, the light irradiation process which performs light irradiation processing for a fixed time, for example, 2 hours is performed on the spraying part of the photocatalyst (S2). Further, after the light irradiation process, a cleaning process is performed (S3).

ここで、本実施の形態では、光触媒散布工程(S1)及び光照射工程(S2)において、光触媒は、可視光応答型光触媒材料を用いている。ただし、本発明においては、必ずしもこれに限らず、紫外光応答型の光触媒を用いることも可能である。   Here, in this embodiment, in the photocatalyst spraying step (S1) and the light irradiation step (S2), the photocatalyst uses a visible light responsive photocatalyst material. However, the present invention is not necessarily limited to this, and an ultraviolet light-responsive photocatalyst can also be used.

上記可視光応答型光触媒材料としては、例えば酸化タングステン(WO)又は酸化チタン(TiO)を用いることができる。 For example, tungsten oxide (WO 3 ) or titanium oxide (TiO 2 ) can be used as the visible light responsive photocatalytic material.

また、本実施の形態では、光触媒をスラリー(懸濁液)として散布するのが好ましい。これにより、モルタル内部へ浸透し易くなる。この場合、光触媒スラリーに含まれる光触媒の量は、例えば5〜30重量%が好ましい。   In the present embodiment, it is preferable to spray the photocatalyst as a slurry (suspension). This facilitates penetration into the mortar. In this case, the amount of the photocatalyst contained in the photocatalyst slurry is preferably 5 to 30% by weight, for example.

ところで、光触媒は、酸化分解の活性化作用だけでなく、それ自体が酸化/還元作用を有し、有機汚染物質分解作用を有している。すなわち、例えば酸化チタン(TiO)の価電子帯の電子が紫外光にて伝導帯に励起されると、その電子は比較的還元力の強いものとなる。他方、非常に酸化力の強い正孔も生成される。したがって、酸化チタン(TiO)に適切な助触媒を組み合わせれば、水(HO)を酸素(O)と水素イオン(H)に酸化すると共に、同時に水(HO)を水素(H)と水酸化物イオン(OH)に還元するほどの酸化還元能を示す。 By the way, the photocatalyst has not only an oxidative decomposition activation action but also an oxidation / reduction action itself, and an organic pollutant decomposition action. That is, for example, when an electron in the valence band of titanium oxide (TiO 2 ) is excited to the conduction band by ultraviolet light, the electron has a relatively strong reducing power. On the other hand, holes with very strong oxidizing power are also generated. Therefore, when an appropriate promoter is combined with titanium oxide (TiO 2 ), water (H 2 O) is oxidized into oxygen (O 2 ) and hydrogen ions (H + ), and at the same time, water (H 2 O) is converted into water (H 2 O). It shows redox ability enough to reduce to hydrogen (H 2 ) and hydroxide ion (OH ).

その結果、可視光である例えば400〜480nmの発光波長を有し、かつ発光強度が例えば7(mW/cm)のLED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)による青色光を用いた場合、照射時間が例えば20時間で臭気の発生を抑制することができる。 As a result, when blue light is emitted from an LED (Light Emitting Diode) having visible light emission wavelength of, for example, 400 to 480 nm and emission intensity of, for example, 7 (mW / cm 2 ), irradiation time However, the generation of odor can be suppressed in 20 hours, for example.

ここで、本実施の形態では、光照射工程(S2)において、光照射処理の範囲は、図2の(b)に示すように、床面10における小便器3の周囲において、尿の飛散/滴下部13よりも広い光照射領域14にて行う。また、光照射工程(S2)における光照射の波長は、可視光波長帯であればよい。尚、光触媒の散布部を照射する光源が外部に漏れない構造、又は外部に漏れても問題にならない場合には、光触媒材料は可視光応答型を用いる必要はない。このため、可視光応答型光触媒材料よりも安価に入手可能な紫外光応答型光触媒材料からなる光触媒を散布し、紫外光を照射することも可能である。   Here, in the present embodiment, in the light irradiation step (S2), the range of the light irradiation process is as shown in FIG. 2B, in which the urine is scattered around the urinal 3 on the floor surface 10. This is performed in a light irradiation region 14 wider than the dropping unit 13. Moreover, the wavelength of light irradiation in a light irradiation process (S2) should just be a visible light wavelength band. If the light source for irradiating the photocatalyst spraying portion does not leak to the outside, or if it does not matter if it leaks to the outside, it is not necessary to use a visible light responsive type photocatalyst material. For this reason, it is also possible to irradiate ultraviolet light by spraying a photocatalyst made of an ultraviolet light responsive photocatalyst material that is available at a lower cost than the visible light responsive photocatalyst material.

また、本実施の形態では、光照射工程の光照射時間について、例えば20時間とする。しかし、後述する実施の形態2及び〔検証実験2〕に示すように、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する事前洗浄工程(S0)を行う場合には、照射時間を短縮することが可能である。   In the present embodiment, the light irradiation time in the light irradiation step is set to 20 hours, for example. However, as shown in Embodiment 2 and [Verification Experiment 2] to be described later, the irradiation time is shortened when the pre-cleaning step (S0) in which cleaning is performed using cleaning water mixed with peroxide is performed. It is possible.

次に、本実施の形態では、光触媒散布工程(S1)及び光照射工程(S2)の後、オゾン(O)水又は過酸化水素(H)水等の過酸化物を用いて洗浄する。 Next, in this embodiment, after the photocatalyst spraying step (S1) and the light irradiation step (S2), a peroxide such as ozone (O 3 ) water or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) water is used. Wash.

すなわち、尿は、多孔質部の表面から内部に向けて浸み込んでいくため、多孔質部の表面の濃度が高い。そのため、尿素分解菌等は多孔質部の表面に多く培養される。オゾン(O)水又は過酸化水素(H)水は、多孔質部の内部まで浸透しない。しかし、オゾン(O)水又は過酸化水素(H)水等の過酸化物による洗浄水での洗浄処理を行うことよって、尿素分解菌等の濃度の高い多孔質部の表面における尿素分解菌等を不活性化することができる。この結果、臭気の発生を抑制することができる。 That is, since urine soaks inward from the surface of the porous portion, the concentration of the surface of the porous portion is high. Therefore, many urea decomposing bacteria etc. are cultured on the surface of the porous part. Ozone (O 3 ) water or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) water does not penetrate into the porous portion. However, by performing a cleaning treatment with a cleaning water such as ozone (O 3 ) water or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) water, the surface of the porous portion having a high concentration of urea decomposing bacteria or the like is used. Urea-degrading bacteria and the like can be inactivated. As a result, the generation of odor can be suppressed.

したがって、これら3つの光触媒散布工程(S1)、光照射工程(S2)、及び過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程を順次実施することにより、多孔質部材であるモルタルからなるシール4及び目地12の内部及び表面に存在する尿素分解菌等を殆ど不活性化させることができる。この結果、アンモニア(NH)臭が発生するということがない。 Therefore, by sequentially performing these three photocatalyst spraying steps (S1), the light irradiation step (S2), and the cleaning step using the cleaning water mixed with peroxide, a seal made of mortar that is a porous member. 4 and urea 12 existing inside and on the surface of the joint 12 can be almost inactivated. As a result, ammonia (NH 3 ) odor is not generated.

したがって、多孔質からなる臭気発生部から発生する臭気を抑制し得る防臭方法を提供することができる。   Therefore, the deodorizing method which can suppress the odor generated from the odor generating part which consists of porous can be provided.

このように、本実施の形態における防臭方法は、多孔質からなる臭気発生部としてのシール4及び目地12に光触媒を散布する光触媒散布工程S1と、光触媒の散布部に光照射処理を行う光照射工程S2と、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程S3とをこの順に含む。   As described above, the deodorization method according to the present embodiment includes the photocatalyst spraying step S1 for spraying the photocatalyst on the seal 4 and the joint 12 as the porous odor generating part, and the light irradiation for performing the light irradiation process on the spraying part of the photocatalyst. Step S2 and cleaning step S3 for cleaning using cleaning water mixed with peroxide are included in this order.

例えば、小便器3近傍においては飛散した尿に含まれる尿素(CO(NH)が飛散箇所である多孔質からなるタイル11の目地12やシール4等の臭気発生部に残っている。この臭気発生部では、尿素分解菌等がこの尿素(CO(NH)を分解してアンモニア(NH)を発生させる。このため、臭気発生部は、尿素分解菌等の有機汚染物質によって、臭気であるアンモニア(NH)臭の発生源となっている。 For example, in the vicinity of the urinal 3, urea (CO (NH 2 ) 2 ) contained in the scattered urine remains in the odor generating portion such as the joint 12 of the porous tile 11, the seal 4, and the like. In this odor generating part, urea decomposing bacteria and the like decompose this urea (CO (NH 2 ) 2 ) to generate ammonia (NH 3 ). For this reason, the odor generating part is a source of generation of an odor of ammonia (NH 3 ) due to organic pollutants such as urea-decomposing bacteria.

このような臭気発生部からの臭気を防臭するために、本実施の形態では、光触媒を散布する光触媒散布工程(S1)と、上記光触媒の散布部に光照射処理を行う光照射工程(S2)と、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程S3とを行う。これにより、多孔質からなる臭気発生部における多孔質内部及び表面の尿素分解菌等を不活性化することができ、アンモニア(NH)ガスの発生を抑制することができると考えられる。 In order to deodorize such odors from the odor generating part, in the present embodiment, a photocatalyst spraying process (S1) for spraying a photocatalyst and a light irradiation process (S2) for performing a light irradiation process on the spraying part of the photocatalyst. And a cleaning step S3 for cleaning using cleaning water mixed with peroxide. Thereby, it is considered that urea-decomposing bacteria and the like in the porous and surface of the porous odor generating part can be inactivated, and generation of ammonia (NH 3 ) gas can be suppressed.

すなわち、尿は、多孔質部の表面から内部に向けて浸み込んでいく。この多孔質部の内部に浸み込んだ尿及び尿素分解菌等は、光触媒散布工程S1及び光照射工程S2にて不活性化できる。   That is, urine penetrates from the surface of the porous portion toward the inside. The urine, urea decomposing bacteria, etc. that have soaked into the porous part can be inactivated in the photocatalyst spraying step S1 and the light irradiation step S2.

しかし、シール4及び目地12等のモルタルの多孔質部の表面は尿の濃度が高い。そのため、尿素分解菌等は多孔質部の表面に多く培養される。ここで、過酸化物での洗浄は、多孔質部の内部まで浸透しないが、多孔質部の表面への効果はある。その結果、アンモニア(NH)ガス濃度の高い多孔質部の表面に、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄処理を行うことよって、臭気抑制の高い効果が現れると考えられる。 However, the surface of the porous part of the mortar such as the seal 4 and the joint 12 has a high urine concentration. Therefore, many urea decomposing bacteria etc. are cultured on the surface of the porous part. Here, cleaning with peroxide does not penetrate into the inside of the porous portion, but has an effect on the surface of the porous portion. As a result, it is considered that a high effect of suppressing odor appears by performing a cleaning process on the surface of the porous portion having a high ammonia (NH 3 ) gas concentration using cleaning water mixed with peroxide.

したがって、多孔質からなる臭気発生部から発生する臭気を抑制し得る防臭方法を提供することができる。   Therefore, the deodorizing method which can suppress the odor generated from the odor generating part which consists of porous can be provided.

また、本実施の形態における防臭方法は、光触媒散布工程(S1)では、可視光応答型の光触媒を使用し、光照射工程(S2)では、可視光を使用して光照射処理を行う。   Moreover, the deodorizing method in this Embodiment uses a visible light response type photocatalyst in a photocatalyst dispersion | spreading process (S1), and performs a light irradiation process using visible light in a light irradiation process (S2).

すなわち、光触媒には、可視光応答型の光触媒と紫外光応答型の光触媒とが存在する。ここで、光照射工程(S2)には、できるだけ発光強度の大きい光源を用いることが好ましい。   That is, the photocatalyst includes a visible light responsive photocatalyst and an ultraviolet light responsive photocatalyst. Here, in the light irradiation step (S2), it is preferable to use a light source having as high emission intensity as possible.

しかしながら、紫外光光源は、可視光光源に比べて、発光強度が小さい。また、本実施の形態の防臭方法を、公衆便所等に適用することを考えた場合に、紫外光を密閉する構造を取ることが困難である。したがって、現実問題として、光照射工程において発光強度の大きい光源を用いるべく可視光を使用すると共に、光触媒においても可視光応答型の光触媒を使用する方が、利便性が高い。   However, the light emission intensity of the ultraviolet light source is smaller than that of the visible light source. Moreover, when considering applying the deodorizing method of the present embodiment to a public toilet or the like, it is difficult to take a structure that seals ultraviolet light. Therefore, as a practical problem, it is more convenient to use visible light so as to use a light source with high emission intensity in the light irradiation step, and also to use a visible light responsive photocatalyst as the photocatalyst.

また、本実施の形態における防臭方法は、光照射工程(S2)では、400〜480nmの波長の光を含む光源を用いて光照射処理を行う。   Moreover, the deodorizing method in this Embodiment performs a light irradiation process using the light source containing light with a wavelength of 400-480 nm in a light irradiation process (S2).

これにより、可視光である400〜480nmの波長の光を高い発光強度で出力できる青色LEDを用いることができ、入手容易な青色LEDを使用することが可能となる。   As a result, a blue LED that can output visible light having a wavelength of 400 to 480 nm with high emission intensity can be used, and an easily available blue LED can be used.

〔実施の形態2〕
本発明の他の実施の形態について図3に基づいて説明すれば、以下のとおりである。尚、本実施の形態において説明すること以外の構成は、前記実施の形態1と同じである。また、説明の便宜上、前記の実施の形態1の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
[Embodiment 2]
The following will describe another embodiment of the present invention with reference to FIG. The configurations other than those described in the present embodiment are the same as those in the first embodiment. For convenience of explanation, members having the same functions as those shown in the drawings of the first embodiment are given the same reference numerals, and explanation thereof is omitted.

前記実施の形態1の防臭方法では、最初に光触媒散布工程を行ったが、本実施の形態では、光触媒散布工程の前にオゾン(O)又は過酸化水素(H)等の過酸化物が混入された洗浄水を用いて事前洗浄工程を行う点が異なっている。 In the deodorization method of the first embodiment, the photocatalyst spraying step is first performed. However, in this embodiment, ozone (O 3 ) or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) or the like is used before the photocatalyst spraying step. The difference is that the pre-cleaning step is performed using cleaning water mixed with oxide.

本実施の形態の防臭方法について、図3に基づいて説明する。図3は本実施の形態の防臭方法を示すフローチャートである。   The deodorization method of this Embodiment is demonstrated based on FIG. FIG. 3 is a flowchart showing the deodorizing method of the present embodiment.

図3に示すように、本実施の形態の防臭方法について、光触媒散布工程(S1)の前に、オゾン(O)又は過酸化水素(H)等の過酸化物を用いて事前洗浄工程を行う(S0)。その後、光触媒を散布する光触媒散布工程を行い(S1)、続いて、光触媒の散布部に光照射処理を一定時間である例えば2時間行う光照射工程を行う(S2)。さらに、光照射工程の後、一定時間である48時間以内に洗浄工程を行う(S3)。 As shown in FIG. 3, the deodorization method of the present embodiment is preliminarily performed using a peroxide such as ozone (O 3 ) or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) before the photocatalyst spraying step (S1). A cleaning process is performed (S0). Thereafter, a photocatalyst spraying process for spraying the photocatalyst is performed (S1), and then a light irradiation process for performing a light irradiation process on the photocatalyst spraying portion for a certain time, for example, 2 hours is performed (S2). Further, after the light irradiation step, the cleaning step is performed within 48 hours, which is a fixed time (S3).

このように、本実施の形態における防臭方法は、光触媒散布工程(S1)の前に、多孔質からなる臭気発生部に過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する事前洗浄工程(S0)を含む。   As described above, the deodorization method according to the present embodiment uses the pre-cleaning step (S0) in which the cleaning is performed using the cleaning water in which the peroxide is mixed in the porous odor generating part before the photocatalyst spraying step (S1). )including.

すなわち、モルタル等の多孔質からなる臭気発生部には、前述したように、モルタル内部及びモルタル表面に尿を分解する尿素分解菌等が存在している。したがって、このような、臭気発生部に直接光触媒散布工程(S1)及び光照射工程(S2)を行う場合には、光照射時間を長くしなければ十分に尿素分解菌等を不活性化することができない。   That is, in the odor generating part made of a porous material such as mortar, as described above, urea-decomposing bacteria that decompose urine exist in the mortar and on the mortar surface. Therefore, in the case where the photocatalyst spraying step (S1) and the light irradiation step (S2) are directly performed on the odor generating part, it is necessary to sufficiently inactivate ureolytic bacteria and the like unless the light irradiation time is lengthened. I can't.

そこで、本実施の形態では、光触媒散布工程(S1)の前に、多孔質からなる臭気発生部に過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する事前洗浄工程(S0)を行う。   Therefore, in the present embodiment, prior to the photocatalyst spraying step (S1), a pre-cleaning step (S0) is performed in which cleaning is performed using cleaning water in which peroxide is mixed in the porous odor generating part.

これにより、多孔質部の表面における濃度の高い尿素分解菌等を、不活性化効果の高い過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する。この結果、光触媒散布工程(S1)及び光照射工程(S2)での必要不活性化量を低減することができ、延いては、光照射工程(S2)における照射時間の短縮化を図ることができる。   Thereby, urea-decomposing bacteria having a high concentration on the surface of the porous portion are washed using washing water mixed with a peroxide having a high inactivation effect. As a result, it is possible to reduce the necessary inactivation amount in the photocatalyst spraying step (S1) and the light irradiation step (S2), and to shorten the irradiation time in the light irradiation step (S2). it can.

具体的には、実施の形態1では、光照射工程の光照射時間を例えば20時間としていたが、本実施の形態では、光照射工程の光照射時間を例えば2時間に短縮することができる。   Specifically, in Embodiment 1, the light irradiation time of the light irradiation process is set to 20 hours, for example, but in this embodiment, the light irradiation time of the light irradiation process can be shortened to, for example, 2 hours.

〔実施の形態3〕
本発明のさらに他の実施の形態について説明すれば、以下のとおりである。尚、本実施の形態において説明すること以外の構成は、前記実施の形態1及び実施の形態2と同じである。また、説明の便宜上、前記の実施の形態1及び実施の形態2の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
[Embodiment 3]
The following will describe still another embodiment of the present invention. The configurations other than those described in the present embodiment are the same as those in the first embodiment and the second embodiment. For convenience of explanation, members having the same functions as those shown in the drawings of Embodiment 1 and Embodiment 2 are given the same reference numerals, and explanation thereof is omitted.

前記実施の形態1及び実施の形態2の防臭方法では、洗浄工程は、光照射工程の後、直ちに行われていた。本実施の形態では、洗浄工程の実施が、光照射工程の後、どのくらいの時間まで許容できるのかについて説明する。   In the deodorizing method of the first embodiment and the second embodiment, the cleaning process is performed immediately after the light irradiation process. In the present embodiment, it will be described how long the cleaning process can be performed after the light irradiation process.

本実施の形態の防臭方法では、洗浄工程は、光照射工程の後、48時間以内で実施する。これにより、臭気を抑制することができることが後述する検証実験3によって判明した。   In the deodorizing method of the present embodiment, the cleaning process is performed within 48 hours after the light irradiation process. Thereby, it became clear by the verification experiment 3 mentioned later that an odor can be suppressed.

このように、本実施の形態における防臭方法では、光照射工程(S2)の後の洗浄工程(S3)を、光照射工程の後48時間以内に行う。   Thus, in the deodorization method in this Embodiment, the washing | cleaning process (S3) after a light irradiation process (S2) is performed within 48 hours after a light irradiation process.

すなわち、多孔質からなる臭気発生部に対して光触媒散布工程(S1)及び光照射工程(S2)を実施し、その後に過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程(S3)を実施する場合に、洗浄工程(S3)の実施が光照射工程(S2)の後、長時間経過した場合には、再度、多孔質からなる臭気発生部の尿素分解菌等が増殖し、洗浄工程(S3)では十分に不活性化できなくなる。   That is, a cleaning step (S3) in which the photocatalyst spraying step (S1) and the light irradiation step (S2) are performed on the porous odor generating part, and then cleaning is performed using cleaning water mixed with peroxide. When the cleaning process (S3) is performed for a long time after the light irradiation process (S2), the urea-decomposing bacteria of the porous odor generating part grow again and the cleaning process is performed. In the step (S3), it cannot be sufficiently inactivated.

そこで、本実施の形態では、光照射工程(S2)の後の洗浄工程(S3)を、光照射工程(S2)の後48時間以内に行う。   Therefore, in the present embodiment, the cleaning step (S3) after the light irradiation step (S2) is performed within 48 hours after the light irradiation step (S2).

これにより、多孔質からなる臭気発生部の尿素分解菌等が増殖しても、洗浄工程(S3)にて尿素分解菌等の過剰な増殖を抑制し、多孔質からなる臭気発生部から発生する臭気を抑制することができる。   As a result, even if urea-decomposing bacteria and the like in the porous odor generating part grow, excessive growth of the urea-decomposing bacteria and the like is suppressed in the cleaning step (S3) and generated from the porous odor generating part. Odor can be suppressed.

〔実施の形態4〕
本発明のさらに他の実施の形態について説明すれば、以下のとおりである。尚、本実施の形態において説明すること以外の構成は、前記実施の形態1〜実施の形態3と同じである。また、説明の便宜上、前記の実施の形態1及び実施の形態2の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
[Embodiment 4]
The following will describe still another embodiment of the present invention. The configurations other than those described in the present embodiment are the same as those in the first to third embodiments. For convenience of explanation, members having the same functions as those shown in the drawings of Embodiment 1 and Embodiment 2 are given the same reference numerals, and explanation thereof is omitted.

前記実施の形態1〜実施の形態3の防臭方法では、洗浄工程(S3)は1回の実施でもよかった。本実施の形態では、洗浄工程は、光触媒散布工程(S1)及び光照射工程(S2)の後、過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)と再度の尿散布とが繰り返し行われる点が異なっている。   In the deodorizing method of Embodiments 1 to 3, the cleaning step (S3) may be performed once. In the present embodiment, after the photocatalyst spraying step (S1) and the light irradiation step (S2), the cleaning step includes a cleaning step (S3) using cleaning water mixed with peroxide and a second urine spraying. The difference is repeated.

すなわち、実際のトイレ1では、実施の形態1での光触媒散布工程(S1)及び光照射工程(S2)の後、過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)の終了後には、トイレ1の使用による再度の床面10における飛散/滴下部13上への尿の飛散又は直接滴下が生じる。   That is, in the actual toilet 1, after the photocatalyst spraying step (S1) and the light irradiation step (S2) in the first embodiment, after the completion of the cleaning step (S3) using the cleaning water mixed with peroxide. The urine scattering or direct dripping on the scattering / dropping portion 13 on the floor surface 10 again due to the use of the toilet 1 occurs.

この場合に、長時間放置すれば、再び、シール4及び目地12に尿素分解菌等が存在してアンモニア(NH)ガスが発生する。 In this case, if left for a long time, urea-decomposing bacteria and the like exist again in the seal 4 and the joint 12 to generate ammonia (NH 3 ) gas.

この場合に、再び、実施の形態1又は実施の形態2の防臭処理をするのでは、コストがかかる。   In this case, it is costly to perform the deodorizing process of the first embodiment or the second embodiment again.

そこで、本実施の形態では、洗浄工程(S3)の終了後には、トイレ1の使用による再度の床面10における飛散/滴下部13上への尿の飛散又は直接滴下があった場合に、所定時間内に再度の過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)を行う。そして、再度の尿の飛散又は直接滴下と所定時間内の過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)とが繰り返される。   Therefore, in the present embodiment, after the end of the cleaning step (S3), when the urine is scattered or dropped directly on the floor 10 by the use of the toilet 1 again, A cleaning step (S3) using cleaning water mixed with peroxide again in time is performed. Then, the scattering or direct dripping of urine again and the cleaning step (S3) using the cleaning water mixed with the peroxide within a predetermined time are repeated.

上記所定時間内は、後述する検証実験3により、48時間以内が好ましいことが確認できている。   It has been confirmed that the predetermined time is preferably within 48 hours according to the verification experiment 3 described later.

これにより、防臭方法として、常時、光触媒散布工程(S1)、光照射工程(S2)及び過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)を行うのではなく、一定時間内に過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)を繰り返すのみで臭気の発生を抑制することができので、防臭処理に際してコスの低減を図ることができる。   Thus, as a deodorizing method, the photocatalyst spraying step (S1), the light irradiation step (S2), and the cleaning step (S3) using the cleaning water mixed with peroxide are not always performed, but within a certain time. Since the generation of odor can be suppressed only by repeating the cleaning step (S3) using the cleaning water in which the peroxide is mixed, cost reduction can be achieved during the deodorizing treatment.

すなわち、臭気発生部からの臭気を防臭するために、光触媒を散布する光触媒散布工程(S1)と、光触媒の散布部に光照射処理を行う光照射工程(S2)と、過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)とを行う。これにより、多孔質からなる臭気発生部における多孔質内部及び表面の尿素分解菌を不活性化できると考えられる。   That is, in order to deodorize the odor from the odor generating unit, a photocatalyst spraying step (S1) for spraying a photocatalyst, a light irradiation step (S2) for performing a light irradiation process on the photocatalyst spraying portion, and a peroxide are mixed. And a washing step (S3) using the washing water. Thereby, it is considered that the urea-decomposing bacteria inside and on the surface of the porous odor generating part can be inactivated.

しかしながら、再度、尿が多孔質からなる臭気発生部に飛散された場合には、時間の経過と共に、再度、臭気が発生する。この理由は、アンモニア(NH)ガスの発生には尿と尿素分解菌等とが必要であるが、尿が再飛散されることによって、尿素分解菌等が培養される環境ができるためである。 However, when urine is scattered again to the porous odor generating part, the odor is generated again as time passes. The reason for this is that generation of ammonia (NH 3 ) gas requires urine and urea-decomposing bacteria, but an environment in which urea-decomposing bacteria and the like are cultivated by re-scattering urine. .

そこで、本実施の形態では、不活性化効果のある過酸化物による洗浄工程を48時間以内に行い、その後も48時間以内の洗浄工程を繰り返す。これによって、尿素分解菌等を不活性化しアンモニア(NH)ガスの発生の抑制を持続することができる。 Therefore, in the present embodiment, a cleaning process using a peroxide having an inactivating effect is performed within 48 hours, and thereafter the cleaning process within 48 hours is repeated. As a result, it is possible to inactivate urea-decomposing bacteria and continue to suppress the generation of ammonia (NH 3 ) gas.

尚、本実施の形態では、実施の形態1での光触媒散布工程(S1)及び光照射工程(S2)の後、過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)の終了後に、再度の尿の飛散又は直接滴下と所定時間内の過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)との繰り返しについて説明した。   In the present embodiment, after the photocatalyst spraying step (S1) and the light irradiation step (S2) in the first embodiment, after the cleaning step (S3) using the cleaning water mixed with peroxide is completed. The repetition of the urine scattering or direct dripping and the washing step (S3) using the washing water mixed with the peroxide within a predetermined time has been described.

しかし、本実施の形態では、必ずしもこれに限らず、実施の形態2での事前洗浄工程(S0)、光触媒散布工程(S1)及び光照射工程(S2)の後、過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)の終了後に、再度の尿の飛散又は直接滴下と所定時間内の過酸化物が混入された洗浄水を用いた洗浄工程(S3)との繰り返しについても適用できる。   However, in the present embodiment, the present invention is not necessarily limited to this. After the pre-cleaning step (S0), the photocatalyst spraying step (S1), and the light irradiation step (S2) in the second embodiment, peroxide is mixed. After the completion of the washing step (S3) using washing water, it is also applied to the repetition of the urine scattering or direct dripping and the washing step (S3) using washing water mixed with peroxide within a predetermined time. it can.

このように、本実施の形態の防臭方法は、多孔質からなる臭気発生部に光触媒を散布する光触媒散布工程(S1)と、上記光触媒の散布部に光照射処理を行う光照射工程(S2)と、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程(S3)とをこの順に含む。その後は、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程(S3)を48時間以内に繰り返す。   As described above, the deodorization method of the present embodiment includes the photocatalyst spraying step (S1) for spraying the photocatalyst on the porous odor generating portion, and the light irradiation step (S2) for performing the light irradiation treatment on the photocatalyst spraying portion. And a cleaning step (S3) of cleaning using cleaning water mixed with peroxide in this order. Thereafter, the cleaning step (S3) of cleaning with the cleaning water mixed with peroxide is repeated within 48 hours.

また、本実施の形態の防臭方法は、多孔質からなる臭気発生部に対して過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する事前洗浄工程(S0)と、光触媒を散布する光触媒散布工程(S1)と、上記光触媒の散布部に光照射処理を行う光照射工程(S2)と、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程(S3)とをこの順に含む。その後は、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程(S3)を48時間以内に繰り返す。   In addition, the deodorization method of the present embodiment includes a pre-cleaning step (S0) for cleaning the porous odor generating part using cleaning water mixed with peroxide, and a photocatalyst spraying step for spraying a photocatalyst. (S1), a light irradiation step (S2) for performing a light irradiation process on the photocatalyst spraying portion, and a cleaning step (S3) for cleaning with cleaning water mixed with peroxide are included in this order. Thereafter, the cleaning step (S3) of cleaning with the cleaning water mixed with peroxide is repeated within 48 hours.

これにより、1回目の洗浄工程(S3)の後に、再度の尿散布等の臭気発生要因が生じても、コストに低減を図りつつ臭気の発生の抑制を持続させることができる。   Thereby, even if odor generating factors such as urine spraying again occur after the first washing step (S3), it is possible to continue to suppress the generation of odor while reducing the cost.

また、本実施の形態における防臭方法では、光照射工程(S2)の後の洗浄工程(S3)を、48時間以内に繰り返して行う。   Moreover, in the deodorizing method in this Embodiment, the washing | cleaning process (S3) after a light irradiation process (S2) is repeatedly performed within 48 hours.

すなわち、多孔質からなる臭気発生部に対して光触媒散布工程(S1)、光照射工程(S2)及び洗浄工程(S3)を実施し、その後に、尿の供給があった場合に、48時間経過した場合には、再度、多孔質からなる臭気発生部の尿素分解菌等が増殖し、洗浄工程(S3)では十分に不活性化できなくなる。   That is, when the photocatalyst spraying step (S1), the light irradiation step (S2), and the washing step (S3) are performed on the porous odor generating part, and then urine is supplied, 48 hours have passed. In such a case, the urea-decomposing bacteria or the like in the porous odor generating portion grow again, and cannot be sufficiently inactivated in the cleaning step (S3).

そこで、本実施の形態では、繰り返しの洗浄工程(S3)を、毎回48時間以内に行う。   Therefore, in this embodiment, the repeated cleaning step (S3) is performed within 48 hours each time.

これにより、多孔質からなる臭気発生部の尿素分解菌等が増殖しても、洗浄工程(S3)にて尿素分解菌等の過剰な増殖を抑制し、多孔質からなる臭気発生部から発生する臭気の抑制を持続することができる。   As a result, even if urea-decomposing bacteria and the like in the porous odor generating part grow, excessive growth of the urea-decomposing bacteria and the like is suppressed in the cleaning step (S3) and generated from the porous odor generating part. Odor control can be continued.

〔検証実験1〕
本検証実験1では、実施の形態1の防臭方法についての検証実験について説明する。
[Verification experiment 1]
In this verification experiment 1, a verification experiment for the deodorization method of the first embodiment will be described.

本実施の形態では、トイレ1の臭気発生部からの臭気抑制を目的としているが、検証実験においては、実際のトイレ1での実施の事前検討として、図4に示す簡易評価モデル20にて、防臭評価実験を行った。   In the present embodiment, the purpose is to suppress odors from the odor generating part of the toilet 1, but in the verification experiment, as a preliminary examination of the implementation in the actual toilet 1, in the simple evaluation model 20 shown in FIG. A deodorization evaluation experiment was conducted.

上記簡易評価モデル20は、図4に示すように、上部にガス検知管測定口21を有する密閉容器22内にシャーレ23を設け、このシャーレ23内に臭気の発生源である目地12及びシール4を模したモルタル材の試験片24を載置したものからなっている。   As shown in FIG. 4, the simplified evaluation model 20 includes a petri dish 23 in an airtight container 22 having a gas detection tube measurement port 21 in the upper part, and the joint 12 and the seal 4 that are sources of odor in the petri dish 23. The test piece 24 is made of a mortar material simulating the above.

防臭評価実験に用いる臭気発生源である試験片24の作製方法は以下の通りである。   A method for producing the test piece 24 which is an odor generation source used in the deodorization evaluation experiment is as follows.

まず、モルタル材からなる試験片24を5gの大きさに個片化し、該個片化した試験片24を体外に排出して間もない尿に30分間室温環境で浸す。次いで、尿を一旦不活性化した後に、トイレで採取した尿素分解菌等を添加し、2時間室温環境で細菌の培養を行った。   First, the test piece 24 made of mortar material is separated into 5 g pieces, and the separated test piece 24 is discharged from the body and immersed in urine for 30 minutes at room temperature. Next, after inactivating urine, urea-decomposing bacteria collected in the toilet were added, and bacteria were cultured in a room temperature environment for 2 hours.

そして、防臭評価として、表1に示す処理内容の実施例1、比較例1、比較例2について行った。   And as deodorant evaluation, it performed about Example 1, the comparative example 1, and the comparative example 2 of the processing content shown in Table 1. FIG.

Figure 2015101858
Figure 2015101858

表1に示すように、実施例1では、作製した試験片24に対して光触媒散布工程として可視光応答型の光触媒である酸化タングステン(WO)を散布した後、光照射工程として青色LEDを用いてピーク波長450nmからなる可視光を発光強度7mW/cmにて20時間照射した。その後、再度尿を散布し、かつ30分室温環境で放置した。次いで、その試験片24に対して洗浄工程として濃度2.5ppmのオゾン(O)水を用いて2分間流水処理した。 As shown in Table 1, in Example 1, after spraying tungsten oxide (WO 3 ), which is a visible light responsive photocatalyst, as a photocatalyst spraying step on the prepared test piece 24, a blue LED is used as a light irradiation step. The sample was irradiated with visible light having a peak wavelength of 450 nm at an emission intensity of 7 mW / cm 2 for 20 hours. Thereafter, urine was sprayed again and left in a room temperature environment for 30 minutes. Subsequently, the test piece 24 was treated with running water for 2 minutes using ozone (O 3 ) water having a concentration of 2.5 ppm as a cleaning step.

また、比較として、光触媒散布工程、光照射工程、再度の尿散布及び30分放置については実施例1と同一条件で行い、その後の洗浄工程を行わない比較例1と、洗浄工程として水道水を用いて2分間流水処理した比較例2とについて行った。   In addition, as a comparison, the photocatalyst spraying step, the light irradiation step, the second urine spraying, and the standing for 30 minutes are performed under the same conditions as in Example 1, and the comparative example 1 in which the subsequent cleaning step is not performed and tap water as the cleaning step. It performed about the comparative example 2 which used the flowing water process for 2 minutes.

評価実験方法としては、図4に示すように、光触媒散布工程、光照射工程、再度の尿散布及び30分放置並びに洗浄工程後の各試験片24をシャーレ23上に載せ、容積が5Lの各密閉容器22内に個別に密封した。そして、密閉容器22内の試験片24にて培養された尿素分解菌等が、尿散布の30分放置後から洗浄工程後の20時間放置後までの間に発生させたアンモニア(NH)濃度を臭気の発生量として評価した。その後、尿散布と30分放置と洗浄工程と20時間放置と測定とを繰り返し、臭気発生の抑制方法の評価を行った。 As an evaluation experiment method, as shown in FIG. 4, each test piece 24 after the photocatalyst spraying step, the light irradiation step, the urine spraying again and standing for 30 minutes and the washing step is placed on the petri dish 23, and each volume is 5 L. The sealed container 22 was individually sealed. The concentration of ammonia (NH 3 ) generated by the urea-decomposing bacteria cultured in the test piece 24 in the sealed container 22 between 30 minutes after urine spraying and 20 hours after the washing step. Was evaluated as the amount of odor generated. Thereafter, urine spraying, standing for 30 minutes, washing step, standing for 20 hours and measurement were repeated to evaluate the method for suppressing odor generation.

臭気の濃度測定方法としては、アンモニア(NH)用ガス検知管を密閉容器22のガス検知管測定口21に接続してアンモニア(NH)ガス濃度の測定を行った。 As an odor concentration measurement method, an ammonia (NH 3 ) gas concentration was measured by connecting an ammonia (NH 3 ) gas detection tube to the gas detection tube measurement port 21 of the sealed container 22.

その結果を、図5に示す。尚、図5においては、20時間後、40時間後及び60時間後に一旦アンモニア(NH)ガス濃度が大きく低下している。この理由は、20時間後、40時間後及び60時間後のタイミングでアンモニア(NH)ガス濃度を測定した後、一旦、密閉容器22から試験片24を取り出す。そして、取り出した状態で尿を再散布し、洗浄工程を行った後、密閉容器22に試験片24を投入しているので、密閉容器22内のアンモニア(NH)ガス濃度が一度0となっているためである。 The result is shown in FIG. In FIG. 5, the ammonia (NH 3 ) gas concentration is greatly reduced once after 20 hours, after 40 hours and after 60 hours. This is because the test piece 24 is once taken out from the sealed container 22 after measuring the ammonia (NH 3 ) gas concentration at the timing of 20 hours, 40 hours and 60 hours later. Then, after the urine is resprayed in the removed state and the washing process is performed, the test piece 24 is put into the sealed container 22, so that the ammonia (NH 3 ) gas concentration in the sealed container 22 once becomes zero. This is because.

図5に示すように、比較例1の洗浄工程が無い場合、及び比較例2の洗浄工程を水道水で行った場合には、尿を散布し、20時間放置を繰り返す毎に、アンモニア(NH)ガス濃度が大きく増加しており、臭気発生の抑制効果がないことが分かる。 As shown in FIG. 5, when there is no cleaning process of Comparative Example 1 and when the cleaning process of Comparative Example 2 is performed with tap water, urine is sprayed and ammonia (NH 3 ) It can be seen that the gas concentration is greatly increased and there is no effect of suppressing odor generation.

これに対して、実施例1に示すように、洗浄工程をオゾン(O)水で行った場合には、尿を散布し、20時間放置しても、アンモニア(NH)ガス濃度は大きく増加せず、低い値を維持していることが分かる。 On the other hand, as shown in Example 1, when the washing process was performed with ozone (O 3 ) water, the ammonia (NH 3 ) gas concentration was large even when urine was sprayed and left for 20 hours. It turns out that it does not increase and maintains a low value.

この理由は、アンモニア(NH)ガスの発生には尿と尿素分解菌等とが必要であるが、尿を再散布することによって、尿素分解菌等が培養される環境ができる。そこに、不活性化効果のあるオゾン(O)水による洗浄工程を行うことによって、尿素分解菌等を不活性化しアンモニア(NH)ガスの発生が抑制できたと考えられる。また、尿は、多孔質部の表面から内部に向けて浸み込んでいくため、多孔質部の表面の濃度が高い。そのため、尿素分解菌等は多孔質部の表面に多く培養される。オゾン(O)水は、多孔質部の内部まで浸透しないが、多孔質部の表面への効果はあるため、濃度の高い多孔質部の表面にオゾン(O)水による洗浄処理を行うことよって、高い効果が現れていると考えられる。 The reason for this is that urine and urea-decomposing bacteria are required for the generation of ammonia (NH 3 ) gas, but by respreading urine, an environment in which urea-decomposing bacteria and the like are cultured can be created. It is considered that the generation of ammonia (NH 3 ) gas can be suppressed by inactivating urea-decomposing bacteria and the like by performing a cleaning step with ozone (O 3 ) water having an inactivating effect. Moreover, since urine soaks inward from the surface of the porous portion, the concentration of the surface of the porous portion is high. Therefore, many urea decomposing bacteria etc. are cultured on the surface of the porous part. Ozone (O 3 ) water does not penetrate to the inside of the porous part, but has an effect on the surface of the porous part, so the surface of the porous part having a high concentration is washed with ozone (O 3 ) water. Therefore, it is considered that a high effect appears.

〔検証実験2〕
本検証実験2では、実施の形態2の事前洗浄工程を行う防臭方法についての検証実験について説明する。尚、検証実験の簡易評価モデル20及び防臭評価実験に用いる臭気発生源である試験片24の作製方法は、前述した検証実験1と同じであるので、その説明を省略する。
[Verification experiment 2]
In this verification experiment 2, a verification experiment regarding the deodorization method for performing the preliminary cleaning process of the second embodiment will be described. In addition, since the preparation method of the test piece 24 which is the simple evaluation model 20 of a verification experiment and the odor generation source used for a deodorization evaluation experiment is the same as the verification experiment 1 mentioned above, the description is abbreviate | omitted.

本検証実験2では、防臭評価として、表2に示す処理内容の実施例2、実施例3、比較例3及び比較例4について行った。これら実施例2、実施例3、比較例3及び比較例4は、事前洗浄工程の内容、及び洗浄工程後の放置時間に互いに差異がある。尚、前記検証実験1では、光照射工程での光照射時間を20時間としていたのに対して、本検証実験2では光照射工程での光照射時間を2時間として短縮している点が異なっている。   In the verification experiment 2, the deodorization evaluation was performed on Example 2, Example 3, Comparative Example 3, and Comparative Example 4 having the processing contents shown in Table 2. These Example 2, Example 3, Comparative Example 3 and Comparative Example 4 are different from each other in the content of the pre-cleaning process and the standing time after the cleaning process. In the verification experiment 1, the light irradiation time in the light irradiation process was 20 hours, whereas in the verification experiment 2, the light irradiation time in the light irradiation process was shortened to 2 hours. ing.

Figure 2015101858
Figure 2015101858

すなわち、表2に示すように、実施例2では、作製した試験片24に対して、まず、濃度2.5ppmのオゾン(O)水を用いて2分間流水処理する事前洗浄工程を行う。 That is, as shown in Table 2, in Example 2, the prepared test piece 24 is first subjected to a pre-cleaning process in which flowing water is treated for 2 minutes using ozone (O 3 ) water having a concentration of 2.5 ppm.

一方、実施例3では、作製した試験片24に対して、まず、濃度10%の過酸化水素(H)水を用いて2分間流水処理する事前洗浄工程を行う。 On the other hand, in Example 3, a pre-cleaning process is first performed on the produced test piece 24 by flowing water for 2 minutes using 10% hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) water.

尚、比較例3及び比較例4については、事前洗浄工程は行わない。   For Comparative Example 3 and Comparative Example 4, the pre-cleaning process is not performed.

その後、実施例2、実施例3、比較例3及び比較例4の全てに対して、光触媒散布工程として可視光応答型の光触媒である酸化タングステン(WO)を散布した後、光照射工程として青色LEDを用いてピーク波長450nmからなる可視光を発光強度7mW/cmにて2時間照射した。次いで、再度尿を散布し、かつ30分室温環境で放置した。 Then, after spraying tungsten oxide (WO 3 ), which is a visible light responsive photocatalyst, as a photocatalyst spraying step for all of Example 2, Example 3, Comparative Example 3 and Comparative Example 4, as a light irradiation step Visible light having a peak wavelength of 450 nm was irradiated with a blue LED at an emission intensity of 7 mW / cm 2 for 2 hours. Then, urine was sprayed again and left in a room temperature environment for 30 minutes.

その後、実施例2、実施例3及び比較例3では、その試験片24に対して洗浄工程として濃度2.5ppmのオゾン(O)水を用いて2分間流水処理した。尚、比較例3では、洗浄工程を行わない。 Thereafter, in Example 2, Example 3, and Comparative Example 3, the test piece 24 was treated with running water for 2 minutes using ozone (O 3 ) water having a concentration of 2.5 ppm as a cleaning step. In Comparative Example 3, the cleaning process is not performed.

その後、全ての実施例2、実施例3、比較例3及び比較例4に対して、各試験片24を各密閉容器22に投入し、20時間放置後にアンモニア(NH)ガス濃度の測定を行った。 Thereafter, with respect to all of Example 2, Example 3, Comparative Example 3 and Comparative Example 4, each test piece 24 was put into each sealed container 22 and allowed to stand for 20 hours, and then the ammonia (NH 3 ) gas concentration was measured. went.

その結果、それぞれのアンモニア(NH)ガス濃度は、表2に示すように、実施例2では3.5ppm、実施例3では3ppm、比較例3では18ppm、及び比較例4では30ppmであった。 As a result, each ammonia (NH 3 ) gas concentration was 3.5 ppm in Example 2, 3 ppm in Example 3, 18 ppm in Comparative Example 3, and 30 ppm in Comparative Example 4, as shown in Table 2. .

以上の結果、光触媒散布工程の前に不活性化効果のあるオゾン(O)水又は過酸化水素(H)水を用いて事前洗浄工程を行うことによって、光照射工程での光照射時間を2時間に短縮しても、20時間放置後のアンモニア(NH)ガスの発生が抑制できていることが分かる。 As a result, the light in the light irradiation step is performed by performing the pre-cleaning step using ozone (O 3 ) water or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) water having an inactivation effect before the photocatalyst spraying step. It can be seen that even if the irradiation time is shortened to 2 hours, generation of ammonia (NH 3 ) gas after being left for 20 hours can be suppressed.

この理由は、多孔質内で培養した尿素分解菌等の濃度は表面から内部に向かって低減しており、多孔質部の表面の尿素分解菌等の量が最も多い。オゾン(O)水又は過酸化水素(H)水は不活性化効果が高いものの、内部まで浸透しないため、表面近傍でしか効果がなく、内部へは効果が低い。 This is because the concentration of urea-decomposing bacteria and the like cultured in the porous body decreases from the surface toward the inside, and the amount of urea-decomposing bacteria and the like on the surface of the porous part is the largest. Although ozone (O 3 ) water or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) water has a high deactivation effect, it does not penetrate into the inside, so it is effective only in the vicinity of the surface and has a low effect on the inside.

一方、光触媒の不活性化効果は内部まで浸透するものの、オゾン(O)水又は過酸化水素(H)水ほど不活性化効果が高くないため、短時間の光照射処理では不活性化効果が十分でない。 On the other hand, although the deactivation effect of the photocatalyst penetrates to the inside, the deactivation effect is not as high as that of ozone (O 3 ) water or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) water. The activation effect is not sufficient.

そこで、多孔質部の表面における濃度の高い尿素分解菌等を不活性化効果の高い過酸化物にて処理を行う。これにより、光触媒散布工程及び光照射工程での必要不活性化量を低減することができる。このことは、光の照射時間の短縮化を図ることが可能であることを意味している。   Therefore, the urea-decomposing bacteria having a high concentration on the surface of the porous part is treated with a peroxide having a high inactivation effect. Thereby, the required inactivation amount in the photocatalyst spraying step and the light irradiation step can be reduced. This means that the light irradiation time can be shortened.

すなわち、前述した検証実験1の実施例1では、光照射工程として20時間の照射を行っているのに対して、本検証実験2の実施例2及び実施例3では、光照射工程として2時間の照射で足りている。ここで、実際の公衆トイレ等での防臭処理を考えた場合には、LEDの照射を20時間行うことは、利用者がいることを考えると困難である。したがって、光の照射時間を短縮できることは大きな利点となる。   That is, in Example 1 of the verification experiment 1 described above, irradiation is performed for 20 hours as the light irradiation process, whereas in Examples 2 and 3 of the verification experiment 2, the light irradiation process is performed for 2 hours. Is sufficient. Here, when considering deodorizing treatment in an actual public toilet or the like, it is difficult to perform LED irradiation for 20 hours in view of the presence of a user. Therefore, it is a great advantage that the light irradiation time can be shortened.

〔検証実験3〕
本検証実験3では、前述した簡易評価モデル20ではなく、実際のトイレ1を使用して臭気発生抑制効果の評価を行った。
[Verification Experiment 3]
In this verification experiment 3, the odor generation suppression effect was evaluated using the actual toilet 1 instead of the simple evaluation model 20 described above.

実験に際して、トイレ1の小便器3の周囲のアンモニア(NH)ガス濃度を測定したところ、図1に示すシール4が最も高いアンモニア(NH)ガス濃度であった。このため、シール4に対して、表3に示す実施例4、実施例5、比較例5及び比較例6の処理を行った。 During the experiment, when the ammonia (NH 3 ) gas concentration around the urinal 3 of the toilet 1 was measured, the seal 4 shown in FIG. 1 had the highest ammonia (NH 3 ) gas concentration. For this reason, the process of Example 4, Example 5, Comparative Example 5 and Comparative Example 6 shown in Table 3 was performed on the seal 4.

Figure 2015101858
Figure 2015101858

まず、全ての実施例4、実施例5、比較例5及び比較例6において、シール4に対して事前洗浄工程として濃度2.5ppmのオゾン(O)水を用いて流水処理をした。その後、その流水処理したシール4に、光触媒散布工程として可視光応答型の光触媒である酸化タングステン(WO)を散布した後、光照射工程として青色LEDを用いてピーク波長450nmからなる可視光を発光強度7mW/cmにて2時間照射した。さらに、その24時間後にシール4の箇所においてガス検知管を用いて、アンモニア(NH)ガス濃度を測定した。 First, in all of Example 4, Example 5, Comparative Example 5 and Comparative Example 6, the seal 4 was subjected to running water treatment using ozone (O 3 ) water having a concentration of 2.5 ppm as a preliminary cleaning step. Then, after spraying tungsten oxide (WO 3 ), which is a visible light responsive photocatalyst, as a photocatalyst spraying step, the visible light having a peak wavelength of 450 nm is emitted using a blue LED as a light irradiation step. Irradiation was performed for 2 hours at an emission intensity of 7 mW / cm 2 . Further, 24 hours later, the ammonia (NH 3 ) gas concentration was measured using a gas detection tube at the location of the seal 4.

アンモニア(NH)ガス濃度の測定後、実施例4、実施例5、比較例5及び比較例6において、それぞれ以下の互いに異なる処理を行った。 After measurement of the ammonia (NH 3 ) gas concentration, the following different treatments were performed in Example 4, Example 5, Comparative Example 5 and Comparative Example 6, respectively.

まず、実施例4では、測定直後に濃度2.5ppmのオゾン(O)水を用いた洗浄工程を行い、24時間放置後、アンモニア(NH)ガス濃度の測定を行った。そして、この処理を24時間毎に繰り返した。 First, in Example 4, immediately after the measurement, a cleaning process using ozone (O 3 ) water having a concentration of 2.5 ppm was performed, and after standing for 24 hours, the ammonia (NH 3 ) gas concentration was measured. This process was repeated every 24 hours.

次に、実施例5では、測定直後に濃度2.5ppmのオゾン(O)水を用いた洗浄工程を行い、48時間放置後、アンモニア(NH)ガス濃度の測定を行った。そして、この処理を48時間毎に繰り返した。 Next, in Example 5, a cleaning process using ozone (O 3 ) water having a concentration of 2.5 ppm was performed immediately after the measurement, and after standing for 48 hours, the ammonia (NH 3 ) gas concentration was measured. This process was repeated every 48 hours.

続いて、比較例5では、測定直後に濃度2.5ppmのオゾン(O)水を用いた洗浄工程を行い、72時間放置後、アンモニア(NH)ガス濃度の測定を行った。そして、この処理を72時間毎に繰り返した。 Subsequently, in Comparative Example 5, a cleaning process using ozone (O 3 ) water having a concentration of 2.5 ppm was performed immediately after the measurement, and the ammonia (NH 3 ) gas concentration was measured after being left for 72 hours. This process was repeated every 72 hours.

最後に、比較例6では、測定直後に洗浄工程を行わず、24時間放置後、アンモニア(NH)ガス濃度の測定を行った。そして、この処理を24時間毎に繰り返した。 Finally, in Comparative Example 6, the cleaning step was not performed immediately after the measurement, and the ammonia (NH 3 ) gas concentration was measured after being left for 24 hours. This process was repeated every 24 hours.

この結果、図6に示す測定結果を得た。図6は、本検証実験3での測定結果を示すグラフである。   As a result, the measurement result shown in FIG. 6 was obtained. FIG. 6 is a graph showing measurement results in the verification experiment 3.

すなわち、図6に示す実施例4及び実施例5では、オゾン(O)水を用いた洗浄工程を24時間毎又は48時間毎に行った場合には、アンモニア(NH)ガス濃度の上昇は見られず、低いアンモニア(NH)ガス濃度10ppm以下を維持することができることが分かる。 That is, in Example 4 and Example 5 shown in FIG. 6, when the cleaning process using ozone (O 3 ) water is performed every 24 hours or every 48 hours, the ammonia (NH 3 ) gas concentration increases. It can be seen that a low ammonia (NH 3 ) gas concentration of 10 ppm or less can be maintained.

しかし、図6に示すように、オゾン(O)水を用いた洗浄工程を72時間毎に行った比較例5では、アンモニア(NH)ガス濃度が上昇し、洗浄工程を行わなかった比較例6と略同等のアンモニア(NH)ガス濃度まで達することが分かった。 However, as shown in FIG. 6, in Comparative Example 5 in which the cleaning process using ozone (O 3 ) water was performed every 72 hours, the ammonia (NH 3 ) gas concentration increased and the cleaning process was not performed. It was found that an ammonia (NH 3 ) gas concentration substantially equal to that in Example 6 was reached.

〔検証実験4〕
本検証実験4では、可視光応答型光触媒ではなく紫外光対応光触媒を使用して、検証実験3と同じ評価を行うことを試みた。したがって、光照射工程においては、青色LEDを用いてピーク波長365nmからなる紫外光を発光強度0.5mW/cmに変更した。
[Verification Experiment 4]
In this verification experiment 4, an attempt was made to perform the same evaluation as in the verification experiment 3 by using a photocatalyst for ultraviolet light instead of a visible light responsive photocatalyst. Therefore, in the light irradiation process, ultraviolet light having a peak wavelength of 365 nm was changed to a light emission intensity of 0.5 mW / cm 2 using a blue LED.

すなわち、可視光用LEDにおいては、高い発光強度7mW/cmのものが存在する。しかし、紫外光用LEDにおいては、発光強度の高いものが未だ存在しないので、照射強度は発光強度の低い条件でしか用意することができなかった。 That is, some visible light LEDs have a high emission intensity of 7 mW / cm 2 . However, in the LED for ultraviolet light, since there is not yet a high emission intensity, the irradiation intensity can be prepared only under the condition of low emission intensity.

また、紫外光用LEDを利用する場合には、紫外線が照射されるため、光が外に漏れない光照射方法を取ることが好ましい。特に公衆の利用が見込まれるトイレ1での照射においては、紫外線が外に漏れない構造が必須である。   Moreover, when using LED for ultraviolet light, since the ultraviolet-ray is irradiated, it is preferable to take the light irradiation method which does not leak light outside. In particular, in the irradiation with the toilet 1 that is expected to be used by the public, a structure that prevents ultraviolet rays from leaking outside is essential.

そこで、本検証実験4においても、検証実験を行う準備をした。しかし、トイレ1の形状によって照射箇所が変わるため、紫外線が漏れない構造を準備することが困難である。その結果、公衆の利用が見込まれるトイレ1での照射は難しいことが判明し、結局、検証実験を行うことができなかった。   Therefore, in this verification experiment 4, preparations were also made for a verification experiment. However, since the irradiation location varies depending on the shape of the toilet 1, it is difficult to prepare a structure in which ultraviolet rays do not leak. As a result, it turned out that it was difficult to irradiate with the toilet 1 which is expected to be used by the public.

すなわち、トイレ1の形状が、設置してある場所により異なる。また、公衆の利用が見込まれる状況においては、紫外光を密閉する構造を取ることが難しく、安全性の問題により、紫外光対応の光触媒の利用は難しいことが判明した。   That is, the shape of the toilet 1 differs depending on the place where it is installed. In addition, it was found that it is difficult to take a structure that seals ultraviolet light in situations where public use is expected, and it is difficult to use a photocatalyst that supports ultraviolet light due to safety issues.

〔まとめ〕
本発明の態様1における防臭方法は、多孔質からなる臭気発生部(シール4及び目地12)に光触媒を散布する光触媒散布工程S1と、上記光触媒の散布部に光照射処理を行う光照射工程S2と、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程S3とをこの順に含むことを特徴としている。
[Summary]
The deodorization method in aspect 1 of the present invention includes a photocatalyst spraying step S1 for spraying a photocatalyst on a porous odor generating part (seal 4 and joint 12), and a light irradiation process S2 for performing a light irradiation process on the photocatalyst spraying part. And a cleaning step S3 for cleaning using cleaning water mixed with peroxide in this order.

例えば、便器近傍においては飛散した尿に含まれる尿素(CO(NH)が飛散箇所である多孔質からなるタイルの目地やシール等の臭気発生部に残っている。この臭気発生部では、尿素分解菌等がこの尿素(CO(NH)を分解してアンモニア(NH)を発生する。このため、臭気発生部は、尿素分解菌等の有機汚染物質によって、臭気であるアンモニア(NH)臭の発生源となっている。 For example, in the vicinity of a toilet bowl, urea (CO (NH 2 ) 2 ) contained in the scattered urine remains in the odor generating part such as a tile joint or a seal made of a porous material that is a scattered part. In this odor generating part, urea decomposing bacteria and the like decompose this urea (CO (NH 2 ) 2 ) to generate ammonia (NH 3 ). For this reason, the odor generating part is a source of generation of an odor of ammonia (NH 3 ) due to organic pollutants such as urea-decomposing bacteria.

このような臭気発生部からの臭気を防臭するために、本発明では、光触媒を散布する光触媒散布工程と、上記光触媒の散布部に光照射処理を行う光照射工程とを行う。これにより、多孔質からなる臭気発生部における多孔質内部の尿素分解菌を不活性化でき、アンモニア(NH)ガスの発生を抑制することができると考えられる。 In order to deodorize such odor from the odor generating part, in the present invention, a photocatalyst spraying process for spraying a photocatalyst and a light irradiation process for performing a light irradiation process on the photocatalyst spraying part are performed. Thereby, it is considered that urea-decomposing bacteria in the porous region in the porous odor generating part can be inactivated, and generation of ammonia (NH 3 ) gas can be suppressed.

すなわち、尿は、多孔質部の表面から内部に向けて浸み込んでいく。この多孔質部の内部に浸み込んだ尿及び尿素分解菌等は、光触媒散布工程及び光照射工程にて不活性化できる。   That is, urine penetrates from the surface of the porous portion toward the inside. Urine, urea-decomposing bacteria, etc. that have soaked into the porous part can be inactivated in the photocatalyst spraying step and the light irradiation step.

しかし、シール及び目地等のモルタルの多孔質部の表面は尿の濃度が高い。そのため、尿素分解菌等は多孔質部の表面に多く培養される。ここで、過酸化物での洗浄は、多孔質部の内部まで浸透しないが、多孔質部の表面への効果はある。その結果、アンモニア(NH)ガス濃度の高い多孔質部の表面に、過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄処理を行うことよって、臭気抑制の高い効果が現れると考えられる。 However, the surface of the porous part of the mortar such as the seal and joint has a high urine concentration. Therefore, many urea decomposing bacteria etc. are cultured on the surface of the porous part. Here, cleaning with peroxide does not penetrate into the inside of the porous portion, but has an effect on the surface of the porous portion. As a result, it is considered that a high effect of suppressing odor appears by performing a cleaning process on the surface of the porous portion having a high ammonia (NH 3 ) gas concentration using cleaning water mixed with peroxide.

したがって、多孔質からなる臭気発生部から発生する臭気を抑制し得る防臭方法を提供することができる。   Therefore, the deodorizing method which can suppress the odor generated from the odor generating part which consists of porous can be provided.

本発明の態様2における防臭方法は、態様1における防臭方法において、前記光触媒散布工程S1では、可視光応答型の光触媒を使用し、前記光照射工程S2では、可視光を使用して前記光照射処理を行うことが好ましい。   The deodorization method in aspect 2 of the present invention is the deodorization method in aspect 1, wherein the photocatalyst spraying step S1 uses a visible light responsive photocatalyst, and the light irradiation step S2 uses visible light to emit the light. It is preferable to carry out the treatment.

すなわち、光触媒には、可視光応答型の光触媒と紫外光応答型の光触媒とが存在する。ここで、光照射工程には、できるだけ発光強度の大きい光源を用いることが好ましい。   That is, the photocatalyst includes a visible light responsive photocatalyst and an ultraviolet light responsive photocatalyst. Here, it is preferable to use a light source with as high emission intensity as possible in the light irradiation step.

しかしながら、紫外光光源は、可視光光源に比べて、発光強度が小さい。また、本発明の防臭方法を、公衆便所等に適用することを考えた場合に、紫外光を密閉する構造を取ることが困難である。   However, the light emission intensity of the ultraviolet light source is smaller than that of the visible light source. Moreover, when considering applying the deodorizing method of the present invention to a public toilet or the like, it is difficult to adopt a structure that seals ultraviolet light.

したがって、現実問題として、光照射工程において発光強度の大きい光源を用いるべく可視光を使用すると共に、光触媒においても可視光応答型の光触媒を使用する方が、利便性が高い。   Therefore, as a practical problem, it is more convenient to use visible light so as to use a light source with high emission intensity in the light irradiation step, and also to use a visible light responsive photocatalyst as the photocatalyst.

本発明の態様3における防臭方法は、態様1又は2における防臭方法において、前記光照射工程S2では、400〜480nmの波長の光を含む光源を用いて光照射処理を行うことが好ましい。   In the deodorization method according to aspect 3 of the present invention, in the deodorization method according to aspect 1 or 2, it is preferable that the light irradiation process is performed using a light source including light having a wavelength of 400 to 480 nm in the light irradiation step S2.

これにより、可視光である400〜480nmの波長の光を高い発光強度で出力できる青色LEDを用いることができ、入手容易な青色LEDを使用することが可能となる。   As a result, a blue LED that can output visible light having a wavelength of 400 to 480 nm with high emission intensity can be used, and an easily available blue LED can be used.

本発明の態様4における防臭方法は、態様1,2又は3における防臭方法において、前記光触媒散布工程S1の前に、多孔質からなる臭気発生部に過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する事前洗浄工程S0を含むことが好ましい。   The deodorization method according to aspect 4 of the present invention is the deodorization method according to aspects 1, 2, or 3, using washing water in which a peroxide is mixed in a porous odor generating part before the photocatalyst spraying step S1. It is preferable to include a pre-cleaning step S0 for cleaning.

すなわち、モルタル等の多孔質からなる臭気発生部には、前述したように、モルタル内部及びモルタル表面に尿を分解する尿素分解菌等が存在している。したがって、このような、臭気発生部に直接光触媒散布工程及び光照射工程を行う場合には、光照射時間を長くしなければ十分に尿素分解菌等を不活性化することができない。   That is, in the odor generating part made of a porous material such as mortar, as described above, urea-decomposing bacteria that decompose urine exist in the mortar and on the mortar surface. Therefore, in the case where the photocatalyst spraying step and the light irradiation step are directly performed on the odor generating part, ureolytic bacteria and the like cannot be sufficiently inactivated unless the light irradiation time is increased.

そこで、本発明では、光触媒散布工程の前に、多孔質からなる臭気発生部に過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する事前洗浄工程を行う。   Therefore, in the present invention, prior to the photocatalyst spraying step, a pre-cleaning step is performed in which cleaning is performed using cleaning water in which peroxide is mixed in the porous odor generating part.

これにより、多孔質部の表面における濃度の高い尿素分解菌等を、不活性化効果の高い過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する。この結果、光触媒散布工程及び光照射工程での必要不活性化量を低減することができ、光照射工程における照射時間の短縮化を図ることができる。   Thereby, urea-decomposing bacteria having a high concentration on the surface of the porous portion are washed using washing water mixed with a peroxide having a high inactivation effect. As a result, the necessary inactivation amount in the photocatalyst spraying step and the light irradiation step can be reduced, and the irradiation time in the light irradiation step can be shortened.

本発明の態様5における防臭方法は、態様4における防臭方法において、前記光照射工程S2の後の洗浄工程S3を、光照射工程S2の後48時間以内に行うことが好ましい。   In the deodorization method in aspect 5 of the present invention, in the deodorization method in aspect 4, it is preferable that the washing step S3 after the light irradiation step S2 is performed within 48 hours after the light irradiation step S2.

すなわち、多孔質からなる臭気発生部に対して光触媒散布工程及び光照射工程を実施し、その後に過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程を実施する場合に、洗浄工程の実施が光照射工程の後から長時間経過した場合には、再度、多孔質からなる臭気発生部の尿素分解菌等が増殖し、洗浄工程では十分に不活性化できなくなる。   That is, when the photocatalyst spraying step and the light irradiation step are performed on the porous odor generating part, and then the cleaning step is performed using the cleaning water mixed with the peroxide, the cleaning step is performed. When a long time has passed after the light irradiation process, the urea-decomposing bacteria and the like in the porous odor generating part grow again and cannot be sufficiently inactivated in the cleaning process.

そこで、本発明では、前記光照射工程の後の洗浄工程を、光照射工程の後48時間以内に行う。   Therefore, in the present invention, the cleaning step after the light irradiation step is performed within 48 hours after the light irradiation step.

これにより、多孔質からなる臭気発生部の尿素分解菌等が増殖しても、洗浄工程にて尿素分解菌等の過剰な増殖を抑制し、多孔質からなる臭気発生部から発生する臭気の抑制を持続することができる。   As a result, even if urea-decomposing bacteria etc. in the porous odor generating part grow, excessive growth of urea decomposing bacteria etc. is suppressed in the washing process, and odor generated from the porous odor generating part is suppressed. Can last.

尚、本発明は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the claims, and the technical means disclosed in different embodiments can be appropriately combined. Such embodiments are also included in the technical scope of the present invention.

本発明は、例えば、家庭用トイレ、又は駅、乗り物、ホテル、レストラン、学校若しくは病院等の公共用トイレで発生する臭気の防臭に適応可能である。また、家庭用トイレ及び公共用トイレ等のトイレに限らず、例えば汚水処理場、焼却場、廃棄物置き場等の臭気の戻り臭抑制にも適応可能である。   The present invention can be applied to deodorizing odors generated in, for example, household toilets or public toilets such as stations, vehicles, hotels, restaurants, schools, and hospitals. Further, the present invention is not limited to toilets such as household toilets and public toilets, and can be applied to odor control of odors such as sewage treatment plants, incineration plants, and waste storage facilities.

1 トイレ
2 壁面
3 小便器
4 シール
10 床面
11 タイル
12 目地
13 飛散/滴下部
14 光照射領域
20 簡易評価モデル
21 ガス検知管測定口
22 密閉容器
23 シャーレ
24 試験片
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Toilet 2 Wall surface 3 Urinal 4 Seal 10 Floor surface 11 Tile 12 Joint 13 Spattering / dropping part 14 Light irradiation area 20 Simple evaluation model 21 Gas detection tube measurement port 22 Sealed container 23 Petri dish 24 Test piece

Claims (5)

多孔質からなる臭気発生部に光触媒を散布する光触媒散布工程と、
上記光触媒の散布部に光照射処理を行う光照射工程と、
過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する洗浄工程とをこの順に含むことを特徴とする防臭方法。
A photocatalyst spraying step of spraying a photocatalyst on a porous odor generating part;
A light irradiation step of performing a light irradiation process on the dispersion portion of the photocatalyst;
A deodorizing method comprising: a cleaning step of cleaning with cleaning water mixed with peroxide in this order.
前記光触媒散布工程では、可視光応答型の光触媒を使用し、
前記光照射工程では、可視光を使用して前記光照射処理を行うことを特徴とする請求項1記載の防臭方法。
In the photocatalyst spraying step, a visible light responsive photocatalyst is used,
The deodorization method according to claim 1, wherein in the light irradiation step, the light irradiation treatment is performed using visible light.
前記光照射工程では、400〜480nmの波長の光を含む光源を用いて光照射処理を行うことを特徴とする請求項1又は2記載の防臭方法。   3. The deodorization method according to claim 1, wherein in the light irradiation step, the light irradiation treatment is performed using a light source including light having a wavelength of 400 to 480 nm. 前記光触媒散布工程の前に、多孔質からなる臭気発生部に過酸化物が混入された洗浄水を用いて洗浄する事前洗浄工程を含むことを特徴とする請求項1、2又は3記載の防臭方法。   4. The deodorization method according to claim 1, further comprising a pre-cleaning step of cleaning with a cleaning water in which a peroxide is mixed in a porous odor generating part before the photocatalyst spraying step. Method. 前記光照射工程の後の洗浄工程を、光照射工程の後48時間以内に行うことを特徴とする請求項4記載の防臭方法。   The deodorizing method according to claim 4, wherein the cleaning step after the light irradiation step is performed within 48 hours after the light irradiation step.
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