JP2014214262A - Thermosetting resin composition and near-infrared cut filter - Google Patents

Thermosetting resin composition and near-infrared cut filter Download PDF

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一樹 新見
直房 宮川
Naofusa Miyagawa
直房 宮川
陵太郎 森田
Ryotaro Morita
陵太郎 森田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition that can be used to manufacture a near-infrared cut filter having high heat resistance and to provide a near-infrared cut filter having high heat resistance manufactured by using the resin composition, particularly, a near-infrared cut filter for an image pickup element such as CCD, CMOS or the like.SOLUTION: A curable resin composition comprises an epoxy resin, a curing agent for epoxy resin and a near-infrared ray absorbing dyestuff. An epoxy resin having a silicone skeleton produced by reacting, with water, a modified silicone oil produced by condensation of a silanol-terminated silicone oil and an epoxy group-containing silicon compound is used as the epoxy resin.

Description

本発明は近赤外線吸収色素を含有する熱硬化性樹脂組成物、及びこれらを用いた近赤外線フィルタ(光学フィルタ)に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition containing a near-infrared absorbing dye, and a near-infrared filter (optical filter) using these.

デジタルカメラなどに使用されているCCDやCMOS等の撮像素子は、可視域〜1100nm付近の近赤外域に渡る分光感度を有しており、これに対して人間の目は400nm〜700nm付近の波長の光を感じることができる。よって撮像素子と人間の目では分光感度に大きな差があるため、撮像素子の前面に近赤外域を吸収する近赤外線カットフィルタを備えて、人間の目の視感度に補正することが必要であることが知られている。   Image sensors such as CCDs and CMOSs used in digital cameras have a spectral sensitivity over the near infrared region from the visible region to near 1100 nm, whereas the human eye has a wavelength around 400 nm to 700 nm. Can feel the light. Therefore, since there is a large difference in spectral sensitivity between the image sensor and the human eye, it is necessary to provide a near-infrared cut filter that absorbs the near-infrared region in front of the image sensor to correct the visual sensitivity of the human eye. It is known.

撮像素子に用いられる近赤外線カットフィルタには、特許文献1のリン酸塩系ガラスにCuOを添加したガラスフィルタが知られている。しかしながら、この近赤外線吸収能を有するガラスは、非常に高価である。また、ガラスであるために加工性に問題があり、光学特性の設計の自由度も狭い。さらに、それゆえ、新たな近赤外線吸収能を組み込んだ組成物およびフィルタの開発が望まれていた。   As a near-infrared cut filter used for an image sensor, a glass filter obtained by adding CuO to a phosphate glass disclosed in Patent Document 1 is known. However, this glass having near infrared absorption ability is very expensive. Moreover, since it is glass, there exists a problem in workability, and the freedom degree of design of an optical characteristic is also narrow. Furthermore, therefore, the development of compositions and filters incorporating new near infrared absorption capabilities has been desired.

そこで、近赤外線吸収色素を含有する樹脂組成物を撮像素子表面あるいはフィルタ基材表面にコートすることで、近赤外線カットフィルタを作製する開発が行われている。しかし、この方法で作製されたフィルタは耐熱性が不十分であるため、さらに耐熱性の高いフィルタの開発が強く望まれていた。   Then, development which produces a near-infrared cut filter is performed by coating the image pick-up element surface or the filter base-material surface with the resin composition containing a near-infrared absorption pigment | dye. However, since the filter produced by this method has insufficient heat resistance, development of a filter with higher heat resistance has been strongly desired.

これらの問題を解決するために、特許文献2の酸化防止剤を添加する方法も提案されているが、まだ十分であるとは言えず、生産性の観点からも好ましくないため、耐熱性を向上させる他の方法が必要である。   In order to solve these problems, a method of adding an antioxidant of Patent Document 2 has also been proposed, but it is still not sufficient and is not preferable from the viewpoint of productivity, and thus improves heat resistance. Other ways to make it necessary are necessary.

このような背景から近年、加工性と耐熱性が高い近赤外線カットフィルタ、及びそれを作製するための樹脂組成物の開発が強く求められている。   Against this background, in recent years, there has been a strong demand for the development of a near-infrared cut filter having high workability and heat resistance and a resin composition for producing the same.

特開昭62−128943号JP-A 62-128943 特許第4232062号Patent No. 432062 WO2012/137837WO2012 / 137837

本発明は熱硬化性樹脂組成物、及びそれを用いて作製される加工性と耐熱性が高い近赤外線カットフィルタの提供を目的とする。   An object of the present invention is to provide a thermosetting resin composition, and a near-infrared cut filter having high workability and heat resistance produced using the same.

本発明者等は上記課題を解決するべく、鋭意検討の結果、特許文献3に記載の熱硬化性樹脂と近赤外線吸収色素から成る樹脂組成物及び近赤外線カットフィルタが前記課題を解決するものであることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies, the present inventors have solved the above-mentioned problems with a resin composition comprising a thermosetting resin and a near-infrared absorbing dye described in Patent Document 3 and a near-infrared cut filter. As a result, the present invention was completed.

即ち、本発明は、
(1)エポキシ樹脂(A)及びエポキシ樹脂硬化剤(B)、近赤外線吸収色素(C)を含有する樹脂組成物、
(2)エポキシ樹脂(A)が、シリコーン骨格エポキシ樹脂である(1)に記載の樹脂組成物、
(3)シリコーン骨格エポキシ樹脂が下記2段階の反応を経て合成されることを特徴とする(1)または(2)に記載の硬化性樹脂組成物、
第1段階反応;一般式(1)で表されるシラノール末端シリコーンオイル(a)と、一般式(2)で表されるエポキシ基含有ケイ素化合物(b)との縮合反応、
第2段階反応;前記の第1段階反応で得られた反応物と添加した水との反応による、アルコキシ基の脱アルコール加水分解縮合反応、

Figure 2014214262
(式中、Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、あるいは炭素数2〜10のアルケニル基を表し、mは平均値で2〜2000を表す。)
Figure 2014214262
(式中、Xはエポキシ基を有する置換基を、Rは炭素数1〜10の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基又は炭素数6〜10の芳香族炭化水素基を有するアリール基、Rは、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、pは0、1、2の整数、qは(3−p)、を表す。)
(4)エポキシ樹脂硬化剤(B)が多価カルボン酸樹脂である(1)乃至(3)のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物、
(5)多価カルボン酸樹脂が下記の(c)及び(d)を含む化合物の付加重合体である、(4)に記載の硬化性樹脂組成物、
(c);分子内に2つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物、
(d);分子内に1つ以上の酸無水物基を有する化合物、
(6)多価カルボン酸樹脂が下記の(c)〜(e)を含む化合物の付加重合体である(4)に記載の硬化性樹脂組成物、
(c);分子内に2つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物、
(d);分子内に1つ以上の酸無水物基を有する化合物、
(e);両末端カルビノール変性シリコーンオイル、
(7)下記の(l)〜(n)を特徴とする(6)に記載の硬化性樹脂組成物、
(l);分子内に2つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物(c)が下記式(3)の構造を有する、
(m);分子内に1つ以上の酸無水物基を含有する化合物(d)が下記式(4)乃至(11)からなる群より選択される一種以上である、
(n);両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)が下記式(12)の構造を有する、
Figure 2014214262
(式中、R、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜10のアルキレン基を、mは平均値で1〜1000を表す。)
Figure 2014214262
Figure 2014214262
(式中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜10のアルキレン基又は炭素数1〜10のエーテル結合を含むアルキレン基、Rはそれぞれ独立してメチル基又はフェニル基、nは平均値で1〜1000、を表す。)
(8)近赤外線吸収色素(C)が、シアニン化合物、ポリメチン化合物、ジイモニウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、金属ジチオール錯体、金属ジアミン錯体から選択される、少なくとも一種類を含有することを特徴とする(1)乃至(7)のいずれか一つに記載の樹脂組成物、
(9)近赤外線吸収色素(C)が、少なくとも1種類のシアニン化合物であることを特徴とする(1)乃至(7)のいずれか一つに記載の樹脂組成物、
(10)(9)に記載のシアニン化合物のメチン鎖の炭素数が5以上であることを特徴とする(1)乃至(7)のいずれか一つに記載の樹脂組成物、
(11)(1)乃至(10)のいずれか一つに記載の樹脂組成物を用いた近赤外線カットフィルタ、
(12)(11)に記載の近赤外線カットフィルタを具備した撮像素子、
に関する。 That is, the present invention
(1) A resin composition containing an epoxy resin (A) and an epoxy resin curing agent (B), a near-infrared absorbing dye (C),
(2) The resin composition according to (1), wherein the epoxy resin (A) is a silicone skeleton epoxy resin,
(3) The curable resin composition according to (1) or (2), wherein the silicone skeleton epoxy resin is synthesized through the following two-step reaction;
First stage reaction; condensation reaction of silanol-terminated silicone oil (a) represented by general formula (1) and epoxy group-containing silicon compound (b) represented by general formula (2);
Second stage reaction; dealcoholization hydrolysis condensation reaction of alkoxy group by reaction of the reactant obtained in the first stage reaction and added water;
Figure 2014214262
(In the formula, R 1 may be the same or different from each other, and is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or 2 carbon atoms. 10 represents an alkenyl group, and m represents an average value of 2 to 2000.)
Figure 2014214262
(In the formula, X is a substituent having an epoxy group, R 2 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms. , R 3 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, p represents an integer of 0, 1, 2 and q represents (3-p).)
(4) The curable resin composition according to any one of (1) to (3), wherein the epoxy resin curing agent (B) is a polyvalent carboxylic acid resin,
(5) The curable resin composition according to (4), wherein the polyvalent carboxylic acid resin is an addition polymer of a compound containing the following (c) and (d):
(C) a polyhydric alcohol compound having two or more hydroxyl groups in the molecule,
(D); a compound having one or more acid anhydride groups in the molecule;
(6) The curable resin composition according to (4), wherein the polyvalent carboxylic acid resin is an addition polymer of a compound containing the following (c) to (e):
(C) a polyhydric alcohol compound having two or more hydroxyl groups in the molecule,
(D); a compound having one or more acid anhydride groups in the molecule;
(E); carbinol-modified silicone oil at both ends,
(7) The curable resin composition according to (6), characterized by the following (l) to (n):
(L); the polyhydric alcohol compound (c) having two or more hydroxyl groups in the molecule has the structure of the following formula (3),
(M); the compound (d) containing one or more acid anhydride groups in the molecule is at least one selected from the group consisting of the following formulas (4) to (11).
(N); both ends carbinol-modified silicone oil (e) has the structure of the following formula (12),
Figure 2014214262
(Wherein R 6 and R 7 each independently represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents an average value of 1 to 1000).
Figure 2014214262
Figure 2014214262
(In the formula, each R 4 is independently an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or an alkylene group containing an ether bond having 1 to 10 carbon atoms, R 5 is each independently a methyl group or a phenyl group, and n is an average value. Represents 1 to 1000.)
(8) The near-infrared absorbing dye (C) contains at least one kind selected from a cyanine compound, a polymethine compound, a diimonium compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound, a metal dithiol complex, and a metal diamine complex. The resin composition according to any one of (1) to (7),
(9) The resin composition according to any one of (1) to (7), wherein the near-infrared absorbing dye (C) is at least one cyanine compound,
(10) The resin composition according to any one of (1) to (7), wherein the cyanine compound according to (9) has 5 or more carbon atoms in the methine chain,
(11) A near-infrared cut filter using the resin composition according to any one of (1) to (10),
(12) An image sensor provided with the near infrared cut filter according to (11),
About.

本発明により、耐熱性の高い近赤外線カットフィルタ、特にはCCDやCMOSなどの撮像素子用の近赤外線カットフィルタ、及びそれらを作製できる樹脂組成物を提供することができた。ただし、本発明の樹脂組成物の用途はこれらに限られるものではない。   According to the present invention, it is possible to provide a near-infrared cut filter having high heat resistance, in particular, a near-infrared cut filter for an image sensor such as a CCD or CMOS, and a resin composition capable of producing them. However, the use of the resin composition of the present invention is not limited to these.

本発明の硬化性樹脂組成物は、エポキシ樹脂(A)及びエポキシ樹脂硬化剤(B)、近赤外線吸収色素(C)を含有することを特徴とする。 The curable resin composition of the present invention contains an epoxy resin (A), an epoxy resin curing agent (B), and a near-infrared absorbing pigment (C).

本発明に用いられるエポキシ樹脂(A)としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。この中でも、硬化物の透明性、耐熱透明性の観点からエポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物の一つの態様であるシリコーン骨格エポキシ樹脂が好ましい。   Examples of the epoxy resin (A) used in the present invention include an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a phenol compound, an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a complex Cyclic epoxy resins, glycidyl ester epoxy resins, glycidyl amine epoxy resins, epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols, condensates of silicon compounds having epoxy groups with other silicon compounds, polymerizations having epoxy groups And a copolymer of the polymerizable unsaturated compound and other polymerizable unsaturated compound. Among these, a silicone skeleton epoxy resin which is one embodiment of a condensate of a silicon compound having an epoxy group and another silicon compound is preferable from the viewpoints of transparency of the cured product and heat-resistant transparency.

前記のシリコーン骨格エポキシ樹脂は、シリコーン結合(Si−O結合)を主骨格としたエポキシ基を有する樹脂であり、例えばエポキシ基含有ケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物を重合することで得られ、エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物とメチル基やフェニル基を有するアルコキシシランとの加水分解縮合重合物や、エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物とシラノール末端シリコーンオイルとの縮合重合物などが挙げられる、またヒドロシリル基(SiH基)を有するシリコーン樹脂とビニル基などの不飽和炭化水素基を有するエポキシ化合物との付加重合物なども使用できる。   The silicone skeleton epoxy resin is a resin having an epoxy group having a silicone bond (Si-O bond) as a main skeleton. For example, the silicone skeleton epoxy resin is obtained by polymerizing an epoxy group-containing silicon compound and other silicon compounds. Hydrolysis condensation polymerization products of alkoxysilane compounds having a group and alkoxysilanes having a methyl group or a phenyl group, condensation polymerization products of an alkoxysilane compound having an epoxy group and a silanol-terminated silicone oil, and the like. An addition polymer of a silicone resin having (SiH group) and an epoxy compound having an unsaturated hydrocarbon group such as a vinyl group can also be used.

本発明におけるシリコーン骨格エポキシ樹脂としては、シラノール末端シリコーンオイル(a)とエポキシ基含有ケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))を原料として、後記の2段階の製造工程を経て得られるシリコーン骨格エポキシ樹脂が最も好ましい。   As the silicone skeleton epoxy resin in the present invention, a silanol-terminated silicone oil (a) and an epoxy group-containing silicon compound (b) (and optionally an alkoxysilicon compound (f)) are used as raw materials in the following two-stage production. The silicone skeleton epoxy resin obtained through the process is most preferable.

前記のシラノール末端シリコーンオイル(a)は上記の式(1)で表され、シラノール基を両末端に有するシリコーン樹脂のことであり、式(1)のRは炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、あるいは炭素数2〜10のアルケニル基を示す。複数存在するRは同一であっても異なっていてもよいが、他の近赤外吸収色素との相溶性の観点から、フェニル基であることが好ましい。 The silanol-terminated silicone oil (a) is a silicone resin represented by the above formula (1) and having silanol groups at both ends, and R 1 in the formula (1) is a straight chain having 1 to 10 carbon atoms. A branched, cyclic or cyclic alkyl group, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms. A plurality of R 1 may be the same or different, but are preferably a phenyl group from the viewpoint of compatibility with other near-infrared absorbing dyes.

このフェニル基が存在する割合は、置換メチル基1モルに対し、0.05〜2.0モルが好ましく、より好ましくは0.1〜1.0モル、さらに好ましくは0.15〜0.3モル、特に好ましくは0.15〜0.2モルである。0.05モル以下では組成物中又は硬化物(光学フィルタ中)で、他の原料との相溶性が劣り、2.0モル以上では硬化物(光学フィルタ中)の耐光性(耐UV性)やヒートサイクル耐性が劣る等の問題がある。   The proportion of the phenyl group present is preferably 0.05 to 2.0 mol, more preferably 0.1 to 1.0 mol, and still more preferably 0.15 to 0.3 mol, per 1 mol of the substituted methyl group. Mol, particularly preferably 0.15 to 0.2 mol. If it is 0.05 mol or less, the composition or the cured product (in the optical filter) has poor compatibility with other raw materials, and if it is 2.0 mol or more, the light resistance (UV resistance) of the cured product (in the optical filter). There are problems such as poor heat cycle resistance.

式(1)において、mはポリスチレン換算で算出した平均値で2〜2000を示し、好ましくは3〜1000、より好ましくは3〜500、さらに好ましくは3〜50である。mが3以下では硬化物のヒートサイクル耐性が劣り、mが200以上では硬化物(光学フィルタ)の機械強度が低下する傾向にあり好ましくない。   In the formula (1), m is an average value calculated in terms of polystyrene and represents 2 to 2000, preferably 3 to 1000, more preferably 3 to 500, and further preferably 3 to 50. When m is 3 or less, the heat cycle resistance of the cured product is inferior, and when m is 200 or more, the mechanical strength of the cured product (optical filter) tends to decrease.

シラノール末端シリコーンオイル(a)の重量平均分子量(Mw)は400〜3000(GPC)の範囲のものが好ましい。重量平均分子量が400以下の場合、シリコーン部分の特性が出にくく耐熱性、耐光性が劣る可能性があり、3000以上では層分離が進行し、光学フィルタに使用するには透過性が劣り、使用が困難となる可能性がある。   The weight average molecular weight (Mw) of the silanol-terminated silicone oil (a) is preferably in the range of 400 to 3000 (GPC). When the weight average molecular weight is 400 or less, the properties of the silicone part are difficult to be obtained and the heat resistance and light resistance may be inferior. May be difficult.

本発明におけるシラノール末端シリコーンオイル(a)の分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて、下記の条件下で測定された値に基づき、ポリスチレン換算で重量平均分子量(Mw)を算出した。
GPCの測定条件
メーカー:島津製作所
カラム:ガードカラム SHODEX GPC LF−G LF−804(3本)
流速:1.0ml/min.
カラム温度:40℃
使用溶剤:THF(テトラヒドロフラン)
検出器:RI(示差屈折検出器)
As for the molecular weight of the silanol-terminated silicone oil (a) in the present invention, the weight average molecular weight (Mw) was calculated in terms of polystyrene based on the value measured under the following conditions using GPC (gel permeation chromatography). .
GPC measurement conditions Manufacturer: Shimadzu Corporation Column: Guard column SHODEX GPC LF-G LF-804 (3)
Flow rate: 1.0 ml / min.
Column temperature: 40 ° C
Solvent: THF (tetrahydrofuran)
Detector: RI (differential refraction detector)

シラノール末端シリコーンオイル(a)は、例えば、ジメチルジアルコキシシラン、メチルフェニルジクロルシラン、ジフェニルアルコキシシラン、ジメチルジクロルシラン、メチルフェニルジクロルシラン、ジフェニルジクロルシランを加水分解し、縮合することによって製造できる。   Silanol-terminated silicone oil (a) is obtained by, for example, hydrolyzing and condensing dimethyl dialkoxysilane, methylphenyldichlorosilane, diphenylalkoxysilane, dimethyldichlorosilane, methylphenyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane. Can be manufactured.

シラノール末端シリコーンオイル(a)の具体例としては、例えば、東レダウコーニング社製のPRX413、BY16−873;信越化学工業社製のX−21−5841、KF−9701;モメンティブ社製のXC96−723、TSR160、YR3370、YF3800、XF3905、YF3057、YF3807、YF3802、YF3897,YF3804、XF3905;旭化成ワッカーシリコーン社製のFINISH WS 62 M、CT 601M、CT 5000M;Gelest社製のDMS−S12、DMS−S14、DMS−S15、DMS−S21、DMS−S27、DMS−S31、DMS−S32、DMS−S33、DMS−S35、DMS−S42、DMS−S45、DMS−S51、PDS−0332、PDS−1615、PDS−9931、などが挙げられる。中でも、分子量の観点からPRX413、BY16−873、X−21−5841、KF−9701、XC96−723,YF3800、YF3804、FINISH WS 62 M、DMS−S12、DMS−S14、DMS−S15、DMS−S21、PDS−1615が好ましく、X−21−5841,XC96−723,YF3800,YF3804、FINISH WS 62 M、DMS−S14、PDS−1615が特に好ましい。これらシラノール末端シリコーンオイル(a)は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the silanol-terminated silicone oil (a) include PRX413 and BY16-873 manufactured by Toray Dow Corning; X-21-5841 and KF-9701 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; XC96-723 manufactured by Momentive. TSR160, YR3370, YF3800, XF3905, YF3057, YF3807, YF3802, YF3897, YF3804, XF3905; FINISH WS 62 M, CT 601M, CT 5000M manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone; DMS-S12 manufactured by Gelest, DMS-S12, DMS-S15, DMS-S21, DMS-S27, DMS-S31, DMS-S32, DMS-S33, DMS-S35, DMS-S42, DMS-S45, DMS-S51, PDS-0332, PDS-1615, PDS-9931, etc. are mentioned. Among them, PRX413, BY16-873, X-21-5841, KF-9701, XC96-723, YF3800, YF3804, FINISH WS 62 M, DMS-S12, DMS-S14, DMS-S15, DMS-S21 from the viewpoint of molecular weight. PDS-1615 is preferable, and X-21-5841, XC96-723, YF3800, YF3804, FINISH WS 62 M, DMS-S14, and PDS-1615 are particularly preferable. These silanol-terminated silicone oils (a) may be used alone or in combination of two or more.

前記のエポキシ基含有ケイ素化合物(b)は上記の式(2)で表されるアルコキシケイ素化合物である。式(2)中、Xはエポキシ基を有する置換基であれば特に制限はなく、その具体例としては、β−グリシドキシエチル、γ−グリシドキシプロピル、γ−グリシドキシブチル等のグリシドオキシ基で置換された炭素数1〜4のアルキル基、グリシジル基、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基、β−(3,4−エポキシシクロヘプチル)エチル基、4−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチル基、5−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ペンチル基等のオキシラン基を持った炭素数5〜8のシクロアルキル基で置換された炭素数1〜5のアルキル基が挙げられる。これらの中で、グリシドオキシ基で置換された炭素数1〜3のアルキル基、エポキシ基を有する炭素数5〜8のシクロアルキル基で置換された炭素数1〜3のアルキル基として、例えば、β−グリシドキシエチル基、γ−グリシドキシプロピル基、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基が好ましく、特に着色を抑えることができることからβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基が好ましい。   The epoxy group-containing silicon compound (b) is an alkoxy silicon compound represented by the above formula (2). In formula (2), X is not particularly limited as long as X is a substituent having an epoxy group, and specific examples thereof include β-glycidoxyethyl, γ-glycidoxypropyl, γ-glycidoxybutyl and the like. C1-C4 alkyl group substituted with glycidoxy group, glycidyl group, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group, β- (3,4 A cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms having an oxirane group such as an epoxycycloheptyl) ethyl group, a 4- (3,4-epoxycyclohexyl) butyl group, and a 5- (3,4-epoxycyclohexyl) pentyl group; Examples include substituted alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms. Among these, as an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with a glycidoxy group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms having an epoxy group, for example, β -Glycidoxyethyl group, γ-glycidoxypropyl group, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group is preferable, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group is particularly preferable because coloration can be suppressed. Is preferred.

式(2)中、Rとしては、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基又は炭素数6〜10の芳香族炭化水素基を有するアリール基を示す。例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。これらR2は、相溶性、硬化物(光学フィルタ)の耐熱透明性の観点から、メチル基、フェニル基が好ましい。 In Formula (2), R 2 represents an aryl group having a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms. For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, phenyl Group, naphthyl group and the like. R2 is preferably a methyl group or a phenyl group from the viewpoint of compatibility and heat-resistant transparency of a cured product (optical filter).

式(2)中のRは、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であり、具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらR3は、相溶性等の観点から、メチル基又はエチル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。 R 3 in the formula (2) is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an i-propyl group. , N-butyl group, i-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like. R3 is preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group, from the viewpoint of compatibility.

式(2)中のpは0、1、2の整数を表し、qは(3−p)を表す。硬化物(光学フィルタ)の機械強度の観点からpは0又は1が好ましい。   In formula (2), p represents an integer of 0, 1, 2 and q represents (3-p). From the viewpoint of the mechanical strength of the cured product (optical filter), p is preferably 0 or 1.

エポキシ基含有ケイ素化合物(b)として好ましい具体例としては、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルシクロヘキシルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルフェニルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルシクロヘキシルジメトキシシラン等が挙げられ、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランが特に好ましい。これらエポキシ基含有ケイ素化合物(b)は、単独又は2種以上で用いてもよく、以下に示すアルコキケイ素化合物(f)と併用することもできる。   Specific preferred examples of the epoxy group-containing silicon compound (b) include β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxy. Propyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylphenyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylcyclohexyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylphenyldimethoxysilane, 2- (3 4-D Carboxymethyl) ethyl cyclohexyl dimethoxysilane, and the like, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane are particularly preferable. These epoxy group-containing silicon compounds (b) may be used alone or in combination of two or more, and may be used in combination with the alkoxysilicon compound (f) shown below.

シリコーン骨格エポキシ樹脂において、エポキシ基含有ケイ素化合物(b)と共に、下記の式(13)で表わされるアルコキシケイ素化合物(f)を併用することができる。アルコキシケイ素化合物(f)を併用することで、シリコーン骨格エポキシ樹脂、又は硬化物(光学フィルタ)の、硬度、ガスバリア性、屈折率等を調整することができる。   In the silicone skeleton epoxy resin, the alkoxy silicon compound (f) represented by the following formula (13) can be used in combination with the epoxy group-containing silicon compound (b). By using the alkoxysilicon compound (f) in combination, the hardness, gas barrier property, refractive index and the like of the silicone skeleton epoxy resin or the cured product (optical filter) can be adjusted.

Figure 2014214262
Figure 2014214262

式(13)中の、R、Rは前記したものと同じであり、sは0、1、2、3の整数を、tは(4−s)を表す。 In the formula (13), R 6 and R 7 are the same as described above, s represents an integer of 0, 1, 2, and 3, and t represents (4-s).

併用できるアルコキシケイ素化合物(f)の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジジエトキシシラン等が挙げられ、中でもメチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランが好ましい。   Specific examples of the alkoxysilicon compound (f) that can be used in combination include methyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and diphenyldimethoxy. Silane, diphenyldidiethoxysilane and the like can be mentioned, among which methyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane and diphenyldimethoxysilane are preferable.

本発明において、使用するシラノール末端シリコーンオイル(a)とエポキシ基含有ケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))のうち、少なくともいずれか1種には芳香族骨格を有する化合物を使用することが、近赤外線収色素との相溶性の観点から好ましく、特にフェニル基を有する化合物を使用することが好ましい。さらに、作業性の観点から、シラノール末端シリコーンオイル(a)がフェニル基を有することが好ましい。   In the present invention, at least one of the silanol-terminated silicone oil (a) and the epoxy group-containing silicon compound (b) (and the alkoxysilicon compound (f) if necessary) used has an aromatic skeleton. From the viewpoint of compatibility with the near-infrared dye, it is preferable to use a compound having a phenyl group. Furthermore, from the viewpoint of workability, the silanol-terminated silicone oil (a) preferably has a phenyl group.

次に、製造工程1及び2について説明する。
製造工程1は、シラノール末端シリコーンオイル(a)のシラノール基と、エポキシ基含有ケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))のアルコキシ基を縮合させ、変性シリコーンオイル(g)を得る工程である。
製造工程2は、前記の製造工程1の後に、水を加えて残存するアルコキシ基を加水分解し、縮合を行なう工程である。
本発明におけるシリコーン骨格エポキシ樹脂の合成方法は、前記の製造工程1及び2を経て、変性シリコーンオイル(g)とエポキシ基含有ケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))の重合を行なうことを特徴とする。
Next, manufacturing steps 1 and 2 will be described.
In the production process 1, the silanol group of the silanol-terminated silicone oil (a) and the alkoxy group of the epoxy group-containing silicon compound (b) (and the alkoxy silicon compound (f) if necessary) are condensed to produce a modified silicone oil ( g).
The production process 2 is a process in which, after the production process 1, water is added to hydrolyze the remaining alkoxy groups to perform condensation.
The method for synthesizing the silicone skeleton epoxy resin in the present invention is carried out through the production steps 1 and 2 described above, and then the modified silicone oil (g) and the epoxy group-containing silicon compound (b) (and the alkoxysilicon compound (f) if necessary). ) Polymerization.

製造工程を二段階に分けることで、シラノール末端シリコーンオイル(a)のシラノール基と、エポキシ基含有ケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))のアルコキシ基が反応した変性シリコーンオイル(g)を得た後に、残存するアルコキシ基の脱アルコール加水分解縮合を行ない、均一な安定した製品を得ることができる。   By dividing the production process into two stages, the silanol group of the silanol-terminated silicone oil (a) and the alkoxy group of the epoxy group-containing silicon compound (b) (and the alkoxysilicon compound (f) as required) reacted. After obtaining the modified silicone oil (g), it is possible to obtain a uniform and stable product by subjecting the remaining alkoxy groups to dealcoholic hydrolysis and condensation.

上記の製造工程を二段階とせずに一つの製造工程として初期から水を加えると、シラノール基とアルコキシ基との縮合反応と、アルコキシシラン同士の重合反応が競争反応となり、互いの反応速度差や生成物の相溶性の差により、不均一な化合物が得られたり、エポキシ基を有さないシラノール末端シリコーンオイル(a)が大量に残存することになり、製品の品質を低下させたりする。   When water is added from the beginning as one manufacturing process without making the above manufacturing process into two stages, the condensation reaction between the silanol group and the alkoxy group and the polymerization reaction between the alkoxysilanes become competitive reactions, Due to the difference in the compatibility of the products, a heterogeneous compound is obtained, or a large amount of silanol-terminated silicone oil (a) having no epoxy group remains, which deteriorates the quality of the product.

上記の製造工程1は溶剤存在下で反応させることが好ましく、反応制御の観点から用いる溶剤としてアルコール類が特に好ましい。使用できるアルコール類としては炭素数1〜10のアルコール類が挙げられ、具体的にはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、t−ブタノール、ヘキサノール、オクタノール、ノナンアルコール、デカンアルコール、シクロヘキサノール、シクロペンタノール等が挙げられる。本発明においては1級アルコール類や2級アルコール類が好ましく、特に1級アルコール類、もしくは1級アルコール類と2級アルコール類を混合して用いることが好ましい。1級アルコール類の例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、オクタノール、ノナンアルコール、デカンアルコール、プロピレングリコール等が挙げられ、また、2級アルコール類の例としては、イソプロパノール、シクロヘキサノール、プロピレングリコール等が挙げられる。また、後処理での除去の問題から、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、t−ブタノール等の炭素数1〜4の低分子量のアルコール類が好ましい。これらは混合して用いてもよく、混合する場合、1級アルコール類や2級アルコール類から選択される二種以上であることが好ましく、少なくとも1成分に1級アルコール類が含有されることが、後述する触媒の溶解性に優れることから好ましい。好ましい1級アルコール類の使用量はアルコール類の全量の5重量%以上、より好ましくは10重量%以上である。   The production process 1 is preferably carried out in the presence of a solvent, and alcohols are particularly preferred as the solvent used from the viewpoint of reaction control. Examples of alcohols that can be used include alcohols having 1 to 10 carbon atoms, specifically, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, t-butanol, hexanol, octanol, nonane alcohol, decane alcohol, cyclohexanol, cyclohexane. Examples include pentanol. In the present invention, primary alcohols and secondary alcohols are preferable, and it is particularly preferable to use primary alcohols or a mixture of primary alcohols and secondary alcohols. Examples of primary alcohols include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, octanol, nonane alcohol, decane alcohol, propylene glycol and the like, and examples of secondary alcohols include isopropanol, cyclohexanol, Examples include propylene glycol. Moreover, from the problem of removal in post-treatment, alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, and t-butanol are preferable. These may be used as a mixture. When they are mixed, it is preferable to use at least two selected from primary alcohols and secondary alcohols, and at least one component may contain primary alcohols. From the viewpoint of excellent solubility of the catalyst described later. The amount of primary alcohols used is preferably 5% by weight or more, more preferably 10% by weight or more of the total amount of alcohols.

本反応に2級アルコール類を併用することで製造工程1の反応系の単位時間あたりの重量平均分子量の変化量が、1級アルコール類のみを用いた場合よりも小さくなるため、反応の制御がより容易である。一般的に工業生産などの場合は、反応時間、反応温度の厳密な制御が困難になるため、2級アルコール類の併用は反応制御の観点から特に工業生産などに有用である。   By using a secondary alcohol in combination with this reaction, the amount of change in the weight average molecular weight per unit time of the reaction system of production process 1 is smaller than when only the primary alcohol is used, so that the reaction can be controlled. It is easier. In general, in the case of industrial production and the like, it is difficult to strictly control the reaction time and reaction temperature, and therefore the combined use of secondary alcohols is particularly useful for industrial production from the viewpoint of reaction control.

製造工程1においてアルコール類の使用量は、シラノール末端シリコーンオイル(a)とエポキシ基含有ケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))の総重量に対し、2重量%以上含有することが好ましい。より好ましくは2〜100重量%、さらに好ましくは3〜50重量%、特に好ましくは4〜40重量%である。100重量%以上では反応速度が非常に低下し、2重量%未満の場合、副反応が進行し、高分子量化が進み、ゲル化、粘度の上昇、弾性率の増加、と伴い、硬化物としての使用が困難となる等の問題が生じる。   In the production process 1, the amount of alcohol used is 2% by weight based on the total weight of the silanol-terminated silicone oil (a) and the epoxy group-containing silicon compound (b) (and, if necessary, the alkoxysilicon compound (f)). It is preferable to contain above. More preferably, it is 2 to 100 weight%, More preferably, it is 3 to 50 weight%, Especially preferably, it is 4 to 40 weight%. When the amount is 100% by weight or more, the reaction rate is very low. When the amount is less than 2% by weight, side reaction proceeds, the molecular weight increases, gelation, increase in viscosity, increase in elastic modulus, The problem that it becomes difficult to use is generated.

本反応においては必要に応じて他の溶剤を併用してもよい。併用できる溶剤としては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ブタン酸イソプロピル等のエステル類;ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素化合物等が例示できる。   In this reaction, other solvents may be used in combination as necessary. Examples of solvents that can be used in combination include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclopentanone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, and isopropyl butanoate; hydrocarbon compounds such as hexane, cyclohexane, toluene, and xylene Etc. can be illustrated.

製造工程1における反応は反応効率の向上のため、触媒存在下で行なうことが好ましい。用いられる触媒としては、酸性または塩基性を示す化合物であれば使用する事ができる。酸性触媒の例としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸や蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が挙げられる。また、塩基性触媒の例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩等の無機塩基;アンモニア、トリエチルアミン、ジエチレントリアミン、n−ブチルアミン、ジメチルアミノエタノール、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等の有機塩基、等が挙げられる。これらの中でも、特に塩基性触媒が好ましく、生成物からの触媒除去を容易とするために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属塩、あるいはアルカリ土類金属塩等の塩基性触媒が好ましく、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物が特に好ましい。触媒の添加量は、シラノール末端シリコーンオイル(a)とエポキシ基含有ケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))の総重量に対し、通常0.001〜5重量%、好ましくは0.01〜2重量%である。また、触媒は、直接添加するか、またはメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類の溶剤に予め溶解させて添加するのが好ましい。   The reaction in the production process 1 is preferably performed in the presence of a catalyst in order to improve the reaction efficiency. As the catalyst to be used, any compound showing acidity or basicity can be used. Examples of the acidic catalyst include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid and oxalic acid. Examples of the basic catalyst include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and cesium hydroxide; alkalis such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate and potassium hydrogencarbonate. Examples include inorganic bases such as metal carbonates; organic bases such as ammonia, triethylamine, diethylenetriamine, n-butylamine, dimethylaminoethanol, triethanolamine, and tetramethylammonium hydroxide. Among these, a basic catalyst is particularly preferred, and a base such as an alkali metal salt such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or calcium hydroxide, or an alkaline earth metal salt is preferred in order to facilitate removal of the catalyst from the product. Are preferred, and alkali metal or alkaline earth metal hydroxides are particularly preferred. The amount of the catalyst added is usually 0.001 to 5% by weight based on the total weight of the silanol-terminated silicone oil (a) and the epoxy group-containing silicon compound (b) (and, if necessary, the alkoxysilicon compound (f)). Preferably, it is 0.01 to 2% by weight. In addition, the catalyst is preferably added directly or dissolved in advance in an alcohol solvent such as methanol, ethanol, propanol, or butanol.

この反応は、少量でも水が存在すると、目的とする反応以外のゾルーゲル反応が競争的に進行し、エポキシ基含有ケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))のアルコキシ基の重縮合反応により生成した反応物とシラノール末端シリコーンオイル(a)とが相溶せず白濁する問題があるので、この反応の水分の許容範囲はシラノール末端シリコーンオイル(a)とエポキシ基含有ケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))の総重量に対し0.5重量%以下、より好ましくは0.3重量%以下であり、無水条件が特に好ましい。   In this reaction, if water is present even in a small amount, the sol-gel reaction other than the target reaction proceeds competitively, and the alkoxy group-containing silicon compound (b) (and the alkoxy silicon compound (f) if necessary) alkoxy Since the reaction product produced by the polycondensation reaction of the group and the silanol-terminated silicone oil (a) are incompatible with each other and become cloudy, the allowable range of moisture in this reaction is that the silanol-terminated silicone oil (a) and the epoxy group contain It is 0.5% by weight or less, more preferably 0.3% by weight or less, based on the total weight of the silicon compound (b) (and, if necessary, the alkoxysilicon compound (f)), and anhydrous conditions are particularly preferred.

製造工程1の反応温度は、触媒量、使用溶剤にもよるが、通常20〜160℃、好ましくは40〜100℃、特に好ましくは50〜95℃である。又、反応時間は通常1〜20時間、好ましくは3〜12時間である。   Although the reaction temperature of the manufacturing process 1 is based also on a catalyst amount and a use solvent, it is 20-160 degreeC normally, Preferably it is 40-100 degreeC, Most preferably, it is 50-95 degreeC. The reaction time is usually 1 to 20 hours, preferably 3 to 12 hours.

このようにして製造工程1で得られる変性シリコーンオイル(g)は下記式(14)の化合物を主成分とするものと考えられる。   Thus, it is thought that the modified silicone oil (g) obtained by the manufacturing process 1 has a compound of following formula (14) as a main component.

Figure 2014214262
Figure 2014214262

式(14)中、R及びmは上記に同じ意味を示す。Rは前記したX、R、−ORのいずれかを、RはRおよび/または−ORをそれぞれ示す。 In formula (14), R 1 and m have the same meaning as described above. R 8 represents any one of the aforementioned X, R 6 , and —OR 7 , and R 9 represents R 6 and / or —OR 7 , respectively.

次に、製造工程2について説明記載する。
製造工程1の反応終了後、水を添加して、得られた上記の変性シリコーンオイル(g)に残存するアルコキシ基同士の重合(ゾルーゲル反応)を行なう。この際、必要に応じて前述のエポキシ基を含有するケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))、触媒を前述の量の範囲内で添加してもよい。この反応は、(1)変性シリコーンオイル(a)同士、および/または、(2)エポキシ基を含有するケイ素化合物(b)(および、使用する場合にはアルコキシケイ素化合物(f))との間、および/または、(3)エポキシ基を含有するケイ素化合物(b)(および、使用する場合にはアルコキシケイ素化合物(f))、および/または、(4)エポキシ基を含有するケイ素化合物(b)(および、使用する場合にはアルコキシケイ素化合物(f))の部分重合物と変性シリコーンオイル(g)との間で重合反応を行う工程である。上記の(1)〜(4)の重合反応は、同時に進行すると考えられる。
製造工程2は上記と同様に、触媒として塩基性無機触媒が好ましく、製造工程1の段階で必要な量を予め添加しておいてもよい。
Next, the manufacturing process 2 will be described.
After completion of the reaction in the production step 1, water is added to carry out polymerization (sol-gel reaction) between the alkoxy groups remaining in the obtained modified silicone oil (g). Under the present circumstances, you may add the silicon compound (b) (and alkoxy silicon compound (f) as needed) and a catalyst which contain the above-mentioned epoxy group within the range of the above-mentioned as needed. This reaction is performed between (1) the modified silicone oils (a) and / or (2) the silicon compound (b) containing an epoxy group (and, if used, the alkoxysilicon compound (f)). And / or (3) a silicon compound (b) containing an epoxy group (and an alkoxysilicon compound (f) if used) and / or (4) a silicon compound containing an epoxy group (b ) (And the alkoxysilicon compound (f), if used) is a step of performing a polymerization reaction between the partially polymerized silicone oil (g). The above polymerization reactions (1) to (4) are considered to proceed simultaneously.
In the production process 2, as described above, a basic inorganic catalyst is preferable as the catalyst, and a necessary amount in the stage of the production process 1 may be added in advance.

製造工程2においては溶剤を添加することが好ましい。製造工程2で用いられる溶剤としては、製造工程1と同じアルコール類であることが好ましい。使用できるアルコール類としては炭素数1〜10のアルコール類が挙げられ、具体的にはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、t−ブタノール、ヘキサノール、オクタノール、ノナンアルコール、デカンアルコール、シクロヘキサノール、シクロペンタノール等が挙げられる。特に1級アルコール類や2級アルコール類が好ましく、1級アルコール類が特に好ましい。また、反応後の溶剤の除去を考慮すると、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、t−ブタノール等の炭素数1〜4の低分子量のルコール類が好ましい。これらのアルコール類は2種以上混合して用いてもよい。これらのアルコール類を用いる事により、安定に分子量を制御する事が出来る。製造工程2におけるアルコール類の添加量はシラノール末端シリコーンオイル(a)とエポキシ基を含有するケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))の総重量に対し、20〜200重量%、好ましくは20〜150重量%、特に好ましくは30〜120重量%である。   In the production process 2, it is preferable to add a solvent. The solvent used in the production process 2 is preferably the same alcohol as in the production process 1. Examples of alcohols that can be used include alcohols having 1 to 10 carbon atoms, specifically, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, t-butanol, hexanol, octanol, nonane alcohol, decane alcohol, cyclohexanol, cyclohexane. Examples include pentanol. In particular, primary alcohols and secondary alcohols are preferable, and primary alcohols are particularly preferable. In consideration of removal of the solvent after the reaction, low-molecular-weight alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, and t-butanol are preferable. These alcohols may be used as a mixture of two or more. By using these alcohols, the molecular weight can be stably controlled. The addition amount of alcohols in the production process 2 is 20 to 20 based on the total weight of the silanol-terminated silicone oil (a) and the silicon compound (b) containing an epoxy group (and the alkoxysilicon compound (f) if necessary). It is 200% by weight, preferably 20 to 150% by weight, particularly preferably 30 to 120% by weight.

製造工程2において添加する水はイオン交換水、蒸留水、上水の何れも使用できる。水の使用量は、残存するアルコキシ基量に対し、0.5〜8.0当量、より好ましくは0.6〜5.0当量、特に好ましくは0.65〜2.0当量である。水の量が0.5当量を下回ると、反応速度が低下し、未反応のエポキシ基を含有するケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))が残存し、樹脂組成物の硬化不良等の問題が生じる可能性がある。また8.0当量を越えると、分子量制御が困難で、シリコーン骨格エポキシ樹脂の安定性を阻害する可能性がある。   As the water to be added in the production process 2, any of ion-exchanged water, distilled water and clean water can be used. The usage-amount of water is 0.5-8.0 equivalent with respect to the amount of remaining alkoxy groups, More preferably, it is 0.6-5.0 equivalent, Most preferably, it is 0.65-2.0 equivalent. When the amount of water is less than 0.5 equivalent, the reaction rate decreases, and the silicon compound (b) containing unreacted epoxy groups (and the alkoxysilicon compound (f) if necessary) remains, and the resin Problems such as poor curing of the composition may occur. On the other hand, if it exceeds 8.0 equivalents, it is difficult to control the molecular weight and the stability of the silicone skeleton epoxy resin may be hindered.

製造工程2の反応温度は、触媒量、使用溶剤にもよるが、通常20〜160℃、好ましくは40〜100℃、特に好ましくは50〜95℃である。又、反応時間は通常1〜20時間、好ましくは3〜12時間である。   The reaction temperature in production step 2 is usually 20 to 160 ° C, preferably 40 to 100 ° C, particularly preferably 50 to 95 ° C, although it depends on the amount of catalyst and the solvent used. The reaction time is usually 1 to 20 hours, preferably 3 to 12 hours.

反応終了後は、反応液中に水等を加えて、反応を停止するとともに反応物を水洗して触媒を除去する。水洗を行う場合、必要により水と相分離可能な溶剤を加えることが好ましい。好ましい溶剤としては例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノンなどのケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ブタン酸イソプロピルなどのエステル類;ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、等が挙げられる。   After completion of the reaction, water or the like is added to the reaction solution to stop the reaction and the reaction product is washed with water to remove the catalyst. When washing with water, it is preferable to add a solvent capable of phase separation with water if necessary. Preferred solvents include, for example, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclopentanone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate and isopropyl butanoate; hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, toluene and xylene, Etc.

本反応は水洗のみで触媒の除去を行ってもよいが、酸性や塩基性のいずれかの条件で反応を行うことから、中和反応により反応を停止した後に反応物の水洗を行うか、吸着剤を用いて触媒を吸着した後にろ過により吸着剤を除くことが出来る。中和反応には酸性または塩基性の化合物を使用する事ができる。酸性の化合物としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸や蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が挙げられる。また、塩基性の化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩;燐酸、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸トリナトリウム、ポリ燐酸、トリポリ燐酸ナトリウム等のリン酸塩類等の無機塩基;アンモニア、トリエチルアミン、ジエチレントリアミン、n−ブチルアミン、ジメチルアミノエタノール、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等の有機塩基、等を使用することができる。これらの中でも、生成物からの除去が容易である無機塩基もしくは無機酸が好ましく、中性付近へのpHの調整がより容易である燐酸塩類などがさらに好ましい。   In this reaction, the catalyst may be removed only by washing with water, but since the reaction is carried out under either acidic or basic conditions, the reaction product is washed with water after stopping the reaction by neutralization or adsorbed. The adsorbent can be removed by filtration after adsorbing the catalyst using the adsorbent. An acidic or basic compound can be used for the neutralization reaction. Examples of the acidic compound include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid and oxalic acid. Examples of basic compounds include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and cesium hydroxide; alkali metals such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, and potassium bicarbonate. Carbonates; inorganic bases such as phosphates such as phosphoric acid, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, trisodium phosphate, polyphosphoric acid, sodium tripolyphosphate; ammonia, triethylamine, diethylenetriamine, n-butylamine, dimethylaminoethanol, tri Organic bases such as ethanolamine and tetramethylammonium hydroxide can be used. Among these, an inorganic base or an inorganic acid that can be easily removed from the product is preferable, and phosphates that can easily adjust the pH to near neutral are more preferable.

前記の吸着剤としては例えば活性白土、活性炭、ゼオライト、無機・有機系の合成吸着剤、イオン交換樹脂等が挙げられ、具体例としては下記の製品が挙げられる。活性白土としては、例えば、東新化成社製の、活性白土SA35、SA1、T、R−15、E、ニッカナイトG−36、G−153、G−168;水沢化学工業社製の、ガレオンアース、ミズカエースなどが挙げられる。活性炭としては、例えば、味の素ファインテクノ社製の、CL−H、Y−10S、Y−10SFが;フタムラ化学社製の、S、Y、FC、DP、SA1000、K、A、KA、M、CW130BR、CW130AR、GM130Aなどが挙げられる。ゼオライトとしては、例えば、ユニオン昭和社製の、モレキュラーシーブ3A、4A、5A、13Xなどが挙げられる。合成吸着剤としては、例えば、協和化学社製の、キョーワード100、200、300、400、500、600、700、1000、2000;ローム・アンド・ハース社製の、アンバーリスト15JWET、15DRY、16WET、31WET、A21、アンバーライトIRA400JCl、IRA403BLCl、IRA404JCl;ダウケミカル社製の、ダウエックス66、HCR−S、HCR−W2、MAC−3、などが挙げられる。これらの吸着剤を反応液に加え、攪拌し、加熱等の処理を行い、触媒を吸着した後に、吸着剤をろ過、さらには残渣を水洗することによって、触媒や吸着剤を除くことができる。   Examples of the adsorbent include activated clay, activated carbon, zeolite, inorganic / organic synthetic adsorbent, ion exchange resin, and the like, and specific examples include the following products. As the activated clay, for example, activated clay SA35, SA1, T, R-15, E, Nikkanite G-36, G-153, G-168 manufactured by Toshin Kasei Co., Ltd., Galeon manufactured by Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd. Earth, Mizuka Ace, etc. are listed. Examples of the activated carbon include CL-H, Y-10S, and Y-10SF manufactured by Ajinomoto Fine Techno; S, Y, FC, DP, SA1000, K, A, KA, M, manufactured by Phutamura Chemical Co., Ltd. Examples thereof include CW130BR, CW130AR, and GM130A. Examples of zeolite include molecular sieves 3A, 4A, 5A, and 13X manufactured by Union Showa. As a synthetic adsorbent, for example, Kyoward 100, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 1000, 2000 manufactured by Kyowa Chemical Co., Ltd .; Amberlyst 15JWET, 15DRY, 16WET manufactured by Rohm and Haas 31WET, A21, Amberlite IRA400JCl, IRA403BLCl, IRA404JCl; Dowex 66, HCR-S, HCR-W2, MAC-3, etc., manufactured by Dow Chemical. These adsorbents are added to the reaction solution, stirred, heated, and so on. After adsorbing the catalyst, the adsorbent is filtered and the residue is washed with water to remove the catalyst and adsorbent.

反応終了後は水洗やろ過の他、一般的な分離精製方法によって精製することができる。精製方法としては例えば、カラムクロマトグラフィー、減圧濃縮、蒸留、抽出等が挙げられる。これらの精製方法は単独で行なってもよいし、複数を組み合わせてもよい。反応溶媒に予め水を混合した溶媒を用いて反応した場合、反応終了後に蒸留または減圧濃縮によって水を含む反応溶媒を系中から除いた後に、水と分離可能な溶剤を用いて水洗を行なうことが好ましい。水洗後は減圧濃縮等により溶剤を除去することで、本発明のシリコーン骨格エポキシ樹脂を得ることができる。   After completion of the reaction, it can be purified by a general separation and purification method in addition to washing with water and filtration. Examples of the purification method include column chromatography, concentration under reduced pressure, distillation, extraction and the like. These purification methods may be performed alone or in combination. When the reaction is carried out using a solvent in which water is mixed with the reaction solvent in advance, the reaction solvent containing water is removed from the system by distillation or concentration under reduced pressure after the completion of the reaction, and then washed with a solvent that can be separated from water. Is preferred. After washing with water, the silicone skeleton epoxy resin of the present invention can be obtained by removing the solvent by vacuum concentration or the like.

以下に、前記の製造工程1及び製造工程2を経て得られた、本発明におけるシリコーン骨格エポキシ樹脂の好ましい態様である、シラノール末端シリコーンオイル(a)とエポキシ基を含有するケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))との縮合物について説明する。本発明のシリコーン骨格エポキシ樹脂は、通常無色透明で25℃において流動性を有する液状化合物である。また、その分子量はGPCで測定した重量平均分子量として800〜10000のものが好ましく、1000〜5000のものがより好ましく、特に1500〜2800のものが好ましい。重量平均分子量が800以下の場合は耐熱性が低下し、5000以上の場合は基材上に作製した光学フィルタが硬化時に基材から剥離する場合がある。重量平均分子量(Mw)はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて下記条件下で測定されたポリスチレン換算により算出した。
GPCの測定条件
メーカー:島津製作所
カラム:ガードカラム SHODEX GPC LF−G LF−804(3本)
流速:1.0ml/min.
カラム温度:40℃
使用溶剤:THF(テトラヒドロフラン)
検出器:RI(示差屈折検出器)
In the following, silanol-terminated silicone oil (a) and silicon compound (b) containing an epoxy group, which is a preferred embodiment of the silicone skeleton epoxy resin in the present invention, obtained through the above-mentioned production process 1 and production process 2 ( And the condensate with an alkoxy silicon compound (f)) is demonstrated as needed. The silicone skeleton epoxy resin of the present invention is a liquid compound which is usually colorless and transparent and has fluidity at 25 ° C. The molecular weight is preferably 800 to 10,000, more preferably 1000 to 5000, and particularly preferably 1500 to 2800 as the weight average molecular weight measured by GPC. When the weight average molecular weight is 800 or less, the heat resistance decreases, and when it is 5000 or more, the optical filter produced on the substrate may be peeled off from the substrate during curing. The weight average molecular weight (Mw) was calculated by polystyrene conversion measured under the following conditions using GPC (gel permeation chromatography).
GPC measurement conditions Manufacturer: Shimadzu Corporation Column: Guard column SHODEX GPC LF-G LF-804 (3)
Flow rate: 1.0 ml / min.
Column temperature: 40 ° C
Solvent: THF (tetrahydrofuran)
Detector: RI (differential refraction detector)

シリコーン骨格エポキシ樹脂のエポキシ当量(JIS K−7236に記載の方法で測定)は300〜1500g/eqが好ましく、320〜1400g/eqがより好ましく、350〜1200g/eqがさらに好ましく、350〜1000g/eqが特に好ましい。一方、エポキシ当量が300g/eq以下または1500g/eq以上の場合は硬化物の機械特性が低下する可能性がある。   The epoxy equivalent (measured by the method described in JIS K-7236) of the silicone skeleton epoxy resin is preferably 300 to 1500 g / eq, more preferably 320 to 1400 g / eq, further preferably 350 to 1200 g / eq, and 350 to 1000 g / eq. eq is particularly preferred. On the other hand, when the epoxy equivalent is 300 g / eq or less or 1500 g / eq or more, the mechanical properties of the cured product may be deteriorated.

シリコーン骨格エポキシ樹脂は、単一のシリコーン骨格エポキシ樹脂であっても良く、2種以上のシリコーン骨格エポキシ樹脂の混合物であってもよい。ここで、硬化物の適度な機械強度の観点から、単一のシリコーン骨格エポキシ樹脂であれ、あるいは2種以上のシリコーン骨格エポキシ樹脂の混合物であっても、特定のシリコーン骨格エポキシ樹脂のエポキシ当量×(当該特定のシリコーン骨格エポキシ樹脂の含有量/シリコーン骨格エポキシ樹脂の総量)のエポキシ当量が、300〜1500g/eqであることが好ましく、350〜1000g/eqであることが特に好ましい。   The silicone skeleton epoxy resin may be a single silicone skeleton epoxy resin or a mixture of two or more silicone skeleton epoxy resins. Here, from the viewpoint of appropriate mechanical strength of the cured product, even if it is a single silicone skeleton epoxy resin or a mixture of two or more silicone skeleton epoxy resins, the epoxy equivalent of a specific silicone skeleton epoxy resin × The epoxy equivalent of (content of the specific silicone skeleton epoxy resin / total amount of silicone skeleton epoxy resin) is preferably 300 to 1500 g / eq, and particularly preferably 350 to 1000 g / eq.

シリコーン骨格エポキシ樹脂において3つの酸素原子が結合しているケイ素原子の全ケイ素原子に対する割合は、H−NMR、29Si−NMR、元素分析等によって求めることができるが、3〜50モル%が好ましく、5〜40モル%がより好ましく、特に6〜35モル%が好ましい。シルセスキオキサン由来の、3つの酸素原子に結合しているケイ素原子の全ケイ素原子に対する割合が3モル%を下回ると、硬化物が非常に軟化し、表面タックや傷つきやすくなり、50モル%を上回ると硬化物が非常に硬化してしまい問題となる。 In the silicone skeleton epoxy resin, the ratio of silicon atoms to which three oxygen atoms are bonded to the total silicon atoms can be determined by 1 H-NMR, 29 Si-NMR, elemental analysis, etc. Preferably, 5-40 mol% is more preferable, and especially 6-35 mol% is preferable. When the ratio of silicon atoms bonded to three oxygen atoms derived from silsesquioxane with respect to all silicon atoms is less than 3 mol%, the cured product becomes very soft, and surface tack and scratches tend to be easily formed, resulting in 50 mol%. Exceeding this causes a problem that the cured product is extremely cured.

シリコーン骨格エポキシ樹脂としては、上記のシラノール末端シリコーンオイル(a)を使用せず、エポキシ基を含有するケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))の縮合重合物であってもよい。   As the silicone skeleton epoxy resin, the above silanol-terminated silicone oil (a) is not used, but is a condensation polymer of an epoxy group-containing silicon compound (b) (and, if necessary, an alkoxysilicon compound (f)). There may be.

この化合物は、一段階の反応で製造することができ、前記の式(2)で表されるエポキシ基を含有するケイ素化合物(b)(および、必要に応じて前記の式(13)で表されるアルコキシケイ素化合物(f))に同じく、触媒や溶剤の存在下、適当量の水を滴下し、反応温度40〜100℃、反応時間1〜24時間の条件で縮合し、反応後は、触媒の不活性化や除去等の後処理によってエポキシ基を含有するケイ素化合物(b)(および、必要に応じてアルコキシケイ素化合物(f))の縮合物を得ることができる。   This compound can be produced by a one-step reaction, and includes a silicon compound (b) containing an epoxy group represented by the above formula (2) (and, if necessary, represented by the above formula (13). In the same manner, an appropriate amount of water is added dropwise to the alkoxysilicon compound (f)) in the presence of a catalyst or a solvent, and condensed under the conditions of a reaction temperature of 40 to 100 ° C. and a reaction time of 1 to 24 hours. A condensate of the silicon compound (b) containing an epoxy group (and, if necessary, the alkoxysilicon compound (f)) can be obtained by post-treatment such as inactivation or removal of the catalyst.

本発明の熱硬化性樹脂組成物には、前述したシリコーン骨格エポキシ樹脂に、その他のエポキシ樹脂を単独で、または複数の種類を混合してもよい。併用できるエポキシ樹脂としては、フェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は1種又は2種以上を混合して用いても良い。   In the thermosetting resin composition of the present invention, other epoxy resins may be used alone or in combination with the above-described silicone skeleton epoxy resin. Epoxy resins that can be used in combination include epoxy resins that are glycidyl etherification products of phenolic compounds, epoxy resins that are glycidyl etherification products of various novolak resins, alicyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, and glycidyl esters. Epoxy resins, glycidylamine epoxy resins, epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols, copolymers of polymerizable unsaturated compounds having an epoxy group and other polymerizable unsaturated compounds, etc. . These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

前記のフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂としては、例えば2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−(2,3−ヒドロキシ)フェニル]エチル]フェニル]プロパン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,4'−ビフェノール、テトラメチルビスフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノールS、テトラメチル−4,4'−ビフェノール、ジメチル−4,4'−ビフェノール、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,2'−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4'−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、フロログリシノール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類;1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類;フェノール化ポリブタジエン等のポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin that is a glycidyl etherified product of the phenol compound include 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [4- [1,1-bis [4- (2,3 -Hydroxy) phenyl] ethyl] phenyl] propane, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4'-biphenol, tetramethyl bisphenol A, dimethyl bisphenol A, tetramethyl bisphenol F, dimethyl bisphenol F, tetramethyl bisphenol S, Dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4′-biphenol, dimethyl-4,4′-biphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) Ethyl) phenyl] propane, 2,2′-methylene- Bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, phloroglicinol, diisopropyl Examples include phenols having a redene skeleton; phenols having a fluorene skeleton such as 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene; epoxy resins that are glycidyl etherified products of polyphenol compounds such as phenolized polybutadiene, and the like.

前記の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂としては、例えばフェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF及びビスフェノールS等のビスフェノール類、ナフトール類等の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin that is a glycidyl etherified product of the above-mentioned various novolak resins include, for example, phenols, cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and bisphenol S, and naphthols. Examples include novolak resins made from phenol, phenol novolak resins containing xylylene skeletons, phenol novolac resins containing dicyclopentadiene skeletons, phenol novolac resins containing biphenyl skeletons, phenol novolac resins containing fluorene skeletons, and the like. .

前記の脂環式エポキシ樹脂としては、例えば3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−(3,4−エポキシ)シクロヘキシルカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート等の脂肪族環骨格を有する脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the alicyclic epoxy resin include fats having an aliphatic ring skeleton such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl- (3,4-epoxy) cyclohexylcarboxylate and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate. Examples thereof include cyclic epoxy resins.

前記の脂肪族系エポキシ樹脂としては、例えば1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトール等の多価アルコールのグリシジルエーテル類が挙げられる。   Examples of the aliphatic epoxy resin include glycidyl ethers of polyhydric alcohols such as 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, polyethylene glycol, and pentaerythritol.

複素環式エポキシ樹脂としては、例えばイソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環を有する複素環式エポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the heterocyclic epoxy resin include heterocyclic epoxy resins having a heterocyclic ring such as an isocyanuric ring and a hydantoin ring.

前記のグリシジルエステル系エポキシ樹脂としては、例えばヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等のカルボン酸エステル類からなるエポキシ樹脂が挙げられ、
グリシジルアミン系エポキシ樹脂としては、例えばアニリン、トルイジン等のアミン類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。
Examples of the glycidyl ester epoxy resin include epoxy resins composed of carboxylic acid esters such as hexahydrophthalic acid diglycidyl ester,
Examples of the glycidylamine-based epoxy resin include epoxy resins obtained by glycidylating amines such as aniline and toluidine.

前記のハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂としては、例えばブロム化ビスフェノールA、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェノールS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールS、クロル化ビスフェノールA等のハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the epoxy resin obtained by glycidylation of the halogenated phenols include brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolak, brominated cresol novolac, chlorinated bisphenol S, and chlorinated bisphenol A. And epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols such as

エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体としては、日油(株)製のマープルーフG−0115S、同G−0130S、同G-0250S、同G−1010S、同G−0150M、同G−2050M等が挙げられ、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、4−ビニル−1−シクロヘキセン−1,2−エポキシド等が挙げられる。また他の重合性不飽和化合物の共重合体としては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エーテル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、ビニルシクロヘキサンなどが挙げられる。   As a copolymer of a polymerizable unsaturated compound having an epoxy group and another polymerizable unsaturated compound other than that, Marproof G-0115S, G-0130S, G-0250S manufactured by NOF Corporation are available. G-1010S, G-0150M, G-2050M and the like, and examples of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, 4-vinyl-1-cyclohexene-1 , 2-epoxide and the like. Examples of other polymerizable unsaturated compound copolymers include methyl (meth) acrylate, ether (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene, and vinylcyclohexane.

前記のエポキシ樹脂の中でも、透明性、耐熱透明性、耐光透明性の観点から、脂環式エポキシ樹脂の併用が好ましく、その骨格にエポキシシクロヘキサン構造を有する化合物が好ましく、シクロヘキセン構造を有する化合物の酸化反応により得られるエポキシ樹脂が特に好ましい。   Among the above-mentioned epoxy resins, from the viewpoint of transparency, heat-resistant transparency, and light-resistant transparency, the combined use of an alicyclic epoxy resin is preferable, a compound having an epoxycyclohexane structure in its skeleton is preferable, and an oxidation of a compound having a cyclohexene structure Epoxy resins obtained by reaction are particularly preferred.

これらのエポキシ樹脂としては、非特許文献1及び2(Tetrahedron vol.36 p.2409 (1980)、Tetrahedron Letter p.4475 (1980))に記載のシクロヘキセンカルボン酸とアルコール類とのエステル化反応あるいはシクロヘキセンメタノールとカルボン酸類とのエステル化反応、あるいは特許文献4及び5(特開2003−170059号、特開2004−262871号)に記載のシクロヘキセンアルデヒドのティシェンコ反応、さらには特許文献6(特開2006−052187号)に記載のシクロヘキセンカルボン酸エステルのエステル交換反応によって製造できる化合物を酸化した物などが挙げられる(これらの引例の全内容はここに参照として取り込まれる)。   Examples of these epoxy resins include esterification reaction of cyclohexene carboxylic acid and alcohols described in Non-Patent Documents 1 and 2 (Tetrahedron vol.36 p.2409 (1980), Tetrahedron Letter p.4475 (1980)) or cyclohexene. Esterification reaction between methanol and carboxylic acids, or Tyschenko reaction of cyclohexene aldehyde described in Patent Documents 4 and 5 (Japanese Patent Laid-Open Nos. 2003-170059 and 2004-262871), and further Patent Document 6 (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-2006). No. 052187) and the like, which are obtained by oxidizing a compound that can be produced by a transesterification reaction of a cyclohexenecarboxylic acid ester (the entire contents of these references are incorporated herein by reference).

これらの合成例で用いられるアルコール類としては、アルコール性水酸基を有する化合物であれば特に限定されないが、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、2,4−ジエチルペンタンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルネンジオールなどのジオール類;グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、2−ヒドロキシメチル−1,4−ブタンジオールなどのトリオール類;ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンなどのテトラオール類などが挙げられる。またカルボン酸類としてはシュウ酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、シクロヘキサンジカルボン酸などが挙げられるがこれに限らない。さらには、シクロヘキセンアルデヒド誘導体とアルコール類とのアセタール反応によるアセタール化合物が挙げられる。   The alcohol used in these synthesis examples is not particularly limited as long as it is a compound having an alcoholic hydroxyl group. For example, ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,4 -Butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, cyclohexanedimethanol, 2,4-diethylpentanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, tri Diols such as cyclodecane dimethanol and norbornenediol; Triols such as glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane, 2-hydroxymethyl-1,4-butanediol; pentaerythritol, ditrimethylo Such as tetraols such as propane. Examples of carboxylic acids include, but are not limited to, oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, and cyclohexanedicarboxylic acid. Furthermore, the acetal compound by the acetal reaction of a cyclohexene aldehyde derivative and alcohol is mentioned.

これらエポキシ樹脂の具体例としては、ダウ・ケミカル製のERL−4221、UVR−6105、ERL−4299;ダイセル化学工業製のセロキサイド2021P、エポリードGT401、EHPE3150、EHPE3150CE;ジシクロペンタジエンジエポキシドなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない(参考文献:総説エポキシ樹脂 基礎編I p76−85、その全内容はここに参照として取り込まれる)。   Specific examples of these epoxy resins include ERL-4221, UVR-6105, ERL-4299 manufactured by Dow Chemical; Celoxide 2021P manufactured by Daicel Chemical Industries, Epolide GT401, EHPE3150, EHPE3150CE; dicyclopentadiene diepoxide, and the like. However, it is not limited to these (reference: review epoxy resin basic edition I p76-85, the whole content is taken in here as a reference).

シリコーン骨格エポキシ樹脂と他のエポキシ樹脂を併用する場合には、全てのエポキシ樹脂の全重量に対して、シリコーン骨格エポキシ樹脂の割合は60〜99重量部であることが好ましく、90〜97重量部が特に好ましい。60重量部を下回ると、硬化物の耐光性(耐UV性)が劣る場合がある。   When the silicone skeleton epoxy resin and another epoxy resin are used in combination, the ratio of the silicone skeleton epoxy resin is preferably 60 to 99 parts by weight, and 90 to 97 parts by weight with respect to the total weight of all the epoxy resins. Is particularly preferred. If it is less than 60 parts by weight, the light resistance (UV resistance) of the cured product may be inferior.

本発明の硬化性樹脂組成物においてシリコーン骨格エポキシ樹脂を含む全てのエポキシ樹脂に対するエポキシ樹脂硬化剤(B)の配合比率は、全てのエポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.5〜1.2当量の硬化剤を使用することが好ましい。エポキシ基1当量に対して0.5当量に満たないか、あるいは1.2当量を超えると、良好な硬化物性が得られない場合がある。   In the curable resin composition of the present invention, the blending ratio of the epoxy resin curing agent (B) to all the epoxy resins including the silicone skeleton epoxy resin is 0.5 to 1 with respect to 1 equivalent of the epoxy groups of all the epoxy resins. It is preferred to use 2 equivalents of curing agent. If it is less than 0.5 equivalent or more than 1.2 equivalent to 1 equivalent of epoxy group, good cured properties may not be obtained.

次に、エポキシ樹脂硬化剤(B)について説明する。
本発明に用いられるエポキシ樹脂硬化剤(B)としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノール系化合物、多価カルボン酸などが挙げられるが、硬度、作業性(室温にて液状であること)、硬化物の透明性という観点から特に酸無水物、多価カルボン酸が好ましく、その中でも、後述する、両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)、分子内に二つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物(c)、分子内に一つのカルボン酸無水物基を有する化合物(d)、必要に応じて分子内に二つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物(h)との付加反応で得られる、多価カルボン酸樹脂が最も好ましい。
Next, the epoxy resin curing agent (B) will be described.
Examples of the epoxy resin curing agent (B) used in the present invention include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenolic compounds, and polyvalent carboxylic acids, but hardness, workability (room temperature) In particular, acid anhydrides and polyvalent carboxylic acids are preferable from the viewpoint of transparency of the cured product, and among them, both terminal carbinol-modified silicone oils (e) described later, The polyhydric alcohol compound (c) having the above hydroxyl group, the compound (d) having one carboxylic anhydride group in the molecule, and the compound having two or more carboxylic anhydride groups in the molecule (if necessary) ( Most preferred are polyvalent carboxylic acid resins obtained by addition reaction with h).

酸無水物としては、具体的には無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸、2,4−ジエチル無水グルタル酸、3,3−ジメチル無水グルタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物、などが挙げられる。特にメチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、2,4−ジエチル無水グルタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物などが、耐光性、透明性、作業性の観点から好ましい。   Specific examples of acid anhydrides include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, nadic anhydride, hexahydro anhydride Phthalic acid, methylhexahydrophthalic anhydride, glutaric anhydride, 2,4-diethyl glutaric anhydride, 3,3-dimethyl glutaric anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, bicyclo [2,2,1] heptane-2 , 3-dicarboxylic acid anhydride, methylbicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride, and the like. . In particular, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, 2,4-diethylglutaric anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, bicyclo [2,2, 1] Heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, methylbicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride Are preferable from the viewpoints of light resistance, transparency, and workability.

多価カルボン酸は少なくとも2つのカルボキシル基を有する化合物であり、2〜6官能のカルボン酸が好ましく、例えば、ブタン二酸、ペンタン二酸、ヘキサン二酸、ヘプタン二酸、オクタン二酸、ノナン二酸、デカン二酸、リンゴ酸等の直鎖アルキル二酸類;1,3,5−ペンタントリカルボン酸、クエン酸等のアルキルトリカルボン酸類;フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、シクロヘキサントリカルボン酸、ナジック酸、メチルナジック酸等の脂肪族環状多価カルボン酸類;リノレン酸やオレイン酸などの不飽和脂肪酸の多量体およびそれらの還元物であるダイマー酸類;2〜6官能の多価アルコールと酸無水物との反応により得られた化合物類、等が挙げられ、2〜6官能の多価アルコールと酸無水物との反応により得られた化合物類が、耐熱性、作業性の観点からより好ましい。さらには上記の酸無水物が飽和脂肪族環状酸無水物である多価カルボン酸が透明性の観点から特に好ましい。   The polyvalent carboxylic acid is a compound having at least two carboxyl groups, and is preferably a bifunctional to hexafunctional carboxylic acid, for example, butanedioic acid, pentanedioic acid, hexanedioic acid, heptanedioic acid, octanedioic acid, nonanedioic acid. Linear alkyl diacids such as acid, decanedioic acid and malic acid; alkyltricarboxylic acids such as 1,3,5-pentanetricarboxylic acid and citric acid; phthalic acid, hexahydrophthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid Aliphatic cyclic polycarboxylic acids such as acid, methyltetrahydrophthalic acid, cyclohexanetricarboxylic acid, nadic acid, and methylnadic acid; multimers of unsaturated fatty acids such as linolenic acid and oleic acid; and dimer acids that are reduced products thereof; Compounds obtained by reaction of 2-6 functional polyhydric alcohol and acid anhydride, etc. The recited, compounds obtained by the reaction of polyhydric alcohols and anhydrides of 2-6 functionalities are refractory, and more preferable from the viewpoint of workability. Furthermore, the polyhydric carboxylic acid whose said acid anhydride is a saturated aliphatic cyclic acid anhydride is especially preferable from a transparency viewpoint.

2〜6官能の多価アルコールとしてはアルコール性水酸基を有する化合物であれば特に限定されないが、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、2,4−ジエチルペンタンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルネンジオールなどのジオール類;グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、2−ヒドロキシメチル−1,4−ブタンジオールなどのトリオール類;ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンなどのテトラオール類;ジペンタエリスリトールなどのヘキサオール類、などが挙げられる。   The 2- to 6-functional polyhydric alcohol is not particularly limited as long as it is a compound having an alcoholic hydroxyl group, but ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,4-butanediol. 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, cyclohexanedimethanol, 2,4-diethylpentanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, tricyclodecanedi Diols such as methanol and norbornenediol; Triols such as glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane, 2-hydroxymethyl-1,4-butanediol; Teto such as pentaerythritol and ditrimethylolpropane Ols; hexaols such as dipentaerythritol, and the like.

好ましい多価アルコールとしては炭素数が5以上のアルコール類であり、1,6-ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、2,4−ジエチルペンタンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルネンジオールなどの化合物が好ましく、中でも2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、2,4−ジエチルペンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルネンジオールなどの分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類が、耐熱性、透明性の観点から好ましく、特に、トリシクロデカンジメタノールが好ましい。   Preferred polyhydric alcohols are alcohols having 5 or more carbon atoms, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 2, Compounds such as 4-diethylpentanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, tricyclodecane dimethanol, norbornenediol are preferable, and among them, 2-ethyl-2-butyl-1, Alcohols having a branched chain structure or cyclic structure such as 3-propanediol, neopentyl glycol, 2,4-diethylpentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, tricyclodecane dimethanol, norbornenediol are heat resistant. From the viewpoint of transparency, In particular, tricyclodecane dimethanol is preferable.

多価アルコールと反応させる酸無水物としては特にメチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸、2,4−ジエチル無水グルタル酸、3,3−ジメチル無水グルタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物などが好ましく、中でもメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、2,4−ジエチル無水グルタル酸、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物が、耐熱性、透明性、作業性の観点から好ましい。付加反応の条件としては公知の方法であっても特に限定なく用いることができ、例えば、無触媒、無溶剤の条件下で、酸無水物と多価アルコール類を40〜150℃で反応し、反応終了後、そのまま取り出すことで容易に得られる。   Examples of acid anhydrides to be reacted with polyhydric alcohol include methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, glutaric anhydride, and 2,4-diethylglutaric anhydride. Acid, 3,3-dimethyl glutaric anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylbicyclo [2,2,1] heptane-2, 3-dicarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride and the like are preferable, and among them, methylhexahydrophthalic anhydride, 2,4-diethyl glutaric anhydride, cyclohexane-1,3 , 4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride is preferred from the viewpoints of heat resistance, transparency and workability. Even if it is a well-known method as conditions for addition reaction, it can be used without limitation, for example, an acid anhydride and a polyhydric alcohol are reacted at 40 to 150 ° C. under non-catalytic and solvent-free conditions, After completion of the reaction, it can be easily obtained by taking it out as it is.

ここからは、多価カルボン酸樹脂の原料となる、両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)と、分子内に二つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物(c)と、分子内に二つ以上の酸無水物基を有する化合物(e)と、分子内に一つの酸無水物基を有する化合物(h)について説明する。   From here, the both-terminal carbinol-modified silicone oil (e), the polyhydric alcohol compound (c) having two or more hydroxyl groups in the molecule, and two in the molecule, which are raw materials for the polyvalent carboxylic acid resin The compound (e) having the above acid anhydride group and the compound (h) having one acid anhydride group in the molecule will be described.

両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)は上記の式(12)で示される両末端にアルコール性水酸基を有するシリコーン化合物である。式(12)において、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜10のアルキレン基又は炭素数1〜10のエーテル結合を含むアルキレン基を、Rはそれぞれ独立してメチル基又はフェニル基を、nは平均値で1〜1000をそれぞれ表す。 Both end carbinol-modified silicone oil (e) is a silicone compound having an alcoholic hydroxyl group at both ends represented by the above formula (12). In the formula (12), R 4 each independently represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or an alkylene group containing an ether bond having 1 to 10 carbon atoms, R 5 each independently represents a methyl group or a phenyl group, n represents an average value of 1-1000.

式(12)のRの具体例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレン、イソブチレン、ペンチレン、イソペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン等のアルキレン基;エトキシエチレン基、プロポキシエチレン基プロポキシプロピレン基、エトキシプロピレン基等のエーテル結合を有するアルキレン基、などが挙げられる。特に好ましいものは、プロポキシエチレン基、エトキシプロピレン基である。 Specific examples of R 4 in the formula (12) include methylene, ethylene, propylene, isopropylene, butylene, isobutylene, pentylene, isopentylene, hexylene, heptylene, octylene and other alkylene groups; ethoxyethylene group, propoxyethylene group propoxypropylene And an alkylene group having an ether bond such as an ethoxypropylene group. Particularly preferred are propoxyethylene group and ethoxypropylene group.

式(12)においてnは平均値で1〜1000であるが、好ましくは2〜100、より好ましくは5〜30である。   In formula (12), n is an average value of 1 to 1000, preferably 2 to 100, more preferably 5 to 30.

式(12)で示される両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)は、例えば、信越化学工業(株)のX-22-160AS、KF6001、KF6002、KF6003;東レ・ダウコーニング(株)製のBY16-201、BY16-004、SF8427;モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のXF42-B0970、XF42-C3294;旭化成ワッカーシリコーン(株)製のIM11、IM15);JNC(株)製のFM−4411、FM−4421等が挙げられ、いずれも市場から入手できる。これら両末端カルビノール変性シリコーンオイルは1種でもよいが、又は2種以上を混合して用いてもよい。これらの中でもX-22-160AS、KF6001、KF6002、BY16-201、XF42-B0970、FM4411が好ましい。   The both-end carbinol-modified silicone oil (e) represented by the formula (12) is, for example, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. X-22-160AS, KF6001, KF6002, KF6003; Toray Dow Corning Co., Ltd. BY16 -201, BY16-004, SF8427; XF42-B0970, XF42-C3294 manufactured by Momentive Performance Materials Japan GK; IM11, IM15 manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd .; FM- manufactured by JNC Corporation 4411, FM-4421, etc., all of which are available from the market. These two terminal carbinol-modified silicone oils may be used alone or in combination of two or more. Among these, X-22-160AS, KF6001, KF6002, BY16-201, XF42-B0970, and FM4411 are preferable.

分子内に二つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物(c)としては、例えば、末端アルコールポリエステル化合物(i)、炭化水素多価アルコール化合物(j)、末端アルコールポリカーボネート化合物が挙げられる。   Examples of the polyhydric alcohol compound (c) having two or more hydroxyl groups in the molecule include a terminal alcohol polyester compound (i), a hydrocarbon polyhydric alcohol compound (j), and a terminal alcohol polycarbonate compound.

末端アルコールポリエステル化合物(i)としては、特に限定されないが、例えば上記式(3)で示される、末端に水酸基を有するポリエステル化合物等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as terminal alcohol polyester compound (i), For example, the polyester compound etc. which have a hydroxyl group at the terminal shown by the said Formula (3) are mentioned.

式(3)において、Rの具体例としては、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン等の炭素数1〜10の直鎖アルキレン基;イソプロピレン、エチルブチルプロピレン、イソブチレン、イソペンチレン、ネオペンチレン、ジエチルペンチレン等の炭素数1〜10の分岐鎖を有するアルキレン基;シクロペンタンジメチレン、シクロヘキサンジメチレン等の環状構造を有するアルキレン基、等が挙げられる。この中でも、炭素数1〜10の分岐鎖を有するアルキレン基又は環状構造を有するアルキレン基が好ましく、特にエチルブチルプロピレン、イソブチレン、ネオペンチレン、ジエチルペンチレン、シクロヘキサンジメチレンが、硬化物の耐熱透明性の観点から好ましい。 In the formula (3), specific examples of R 6 include linear alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms such as ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, octylene; isopropylene, ethylbutylpropylene, isobutylene, Examples thereof include alkylene groups having a branched chain of 1 to 10 carbon atoms such as isopentylene, neopentylene, diethylpentylene, etc .; alkylene groups having a cyclic structure such as cyclopentanedimethylene, cyclohexanedimethylene, and the like. Among these, an alkylene group having a branched chain having 1 to 10 carbon atoms or an alkylene group having a cyclic structure is preferable, and in particular, ethylbutylpropylene, isobutylene, neopentylene, diethylpentylene, cyclohexanedimethylene is a heat-resistant transparency of a cured product. It is preferable from the viewpoint.

式(3)において、Rの具体例としては、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン等の炭素数1〜10の直鎖のアルキレン基;イソプロピレン、エチルブチルプロピレン、イソブチレン、イソペンチレン、ネオペンチレン、ジエチルペンチレン等の炭素数1〜10の分岐鎖を有するアルキレン基;クロペンタンジメチレン、シクロヘキサンジメチレン等の環状構造を有するアルキレン基、等が挙げられる。この中でも、炭素数1〜10の直鎖のアルキレン基が好ましく、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレンが、硬化物の基材への密着性の観点から特に好ましい。 In formula (3), specific examples of R 7 include linear alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms such as ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, and octylene; isopropylene, ethylbutylpropylene, and isobutylene. , An alkylene group having a branched chain of 1 to 10 carbon atoms such as isopentylene, neopentylene and diethylpentylene; an alkylene group having a cyclic structure such as clopentanedimethylene and cyclohexanedimethylene. Among these, a linear alkylene group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and propylene, butylene, pentylene, and hexylene are particularly preferable from the viewpoint of adhesion of a cured product to a substrate.

式(3)においてmは平均値で1〜1000であるが、好ましくは1〜300、より好ましくは2〜100、さらに好ましくは3〜30である。   In formula (3), m is an average value of 1 to 1000, preferably 1 to 300, more preferably 2 to 100, and further preferably 3 to 30.

末端アルコールポリエステル化合物(i)の重量平均分子量(Mw)は、500〜50000であるが、好ましくは500〜10000、より好ましくは、500〜3000である。重量平均分子量が500未満であると、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物硬度が非常に高くなり、ヒートサイクル試験等でクラックが入り、重量平均分子量が50000より大きいと硬化物に粘り気が発生する問題がある。本発明において重量平均分子量(Mw)は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて、下記条件下で測定された値に基づき、ポリスチレン換算で算出した。
GPCの測定条件
メーカー:島津製作所
カラム:ガードカラム SHODEX GPC LF−G LF−804(3本)
流速:1.0ml/min.
カラム温度:40℃
使用溶剤:THF(テトラヒドロフラン)
検出器:RI(示差屈折検出器)
Although the weight average molecular weight (Mw) of terminal alcohol polyester compound (i) is 500-50000, Preferably it is 500-10000, More preferably, it is 500-3000. When the weight average molecular weight is less than 500, the cured product hardness of the curable resin composition of the present invention becomes very high, cracks occur in a heat cycle test or the like, and when the weight average molecular weight is more than 50000, the cured product becomes sticky. There are problems that occur. In the present invention, the weight average molecular weight (Mw) was calculated in terms of polystyrene using GPC (gel permeation chromatography) based on the values measured under the following conditions.
GPC measurement conditions Manufacturer: Shimadzu Corporation Column: Guard column SHODEX GPC LF-G LF-804 (3)
Flow rate: 1.0 ml / min.
Column temperature: 40 ° C
Solvent: THF (tetrahydrofuran)
Detector: RI (differential refraction detector)

式(3)で示される末端アルコールポリエステル化合物(i)は、例えば、末端にアルコール性水酸基を有するポリエステルポリオール類が挙げられる。その具体例としてはポリエステルポリオールである、協和発酵ケミカル(株)製のキョーワポール1000PA、同2000PA、同3000PA、同2000BA;ADEKA(株)製のアデカニューエースY9−10、同YT−101;ダイセル化学工業(株)製のプラクセル220EB、同220EC;DIC(株)製のポリライトOD−X−286、同OD−X−102、同OD−X−355、同OD−X−2330、同OD−X−240、同OD−X−668、同OD−X−2554、同OD−X−2108、同OD−X−2376、同OD−X−2044、同OD−X−688、同OD−X−2068、同OD−X−2547、同OD−X−2420、同OD−X−2523、同OD−X−2555;豊国製油(株)製のHS2H−201AP、HS2H−351A、HS2H−451A、HS2H−851A、HS2N−221A、HS2N−521A、HS2H−220S、HS2N−220S、HS2N−226P、HS2B−222A、HOKOKUOL HT−110、同HT−210、同HT−12、同HT−250、同HT−310、同HT−40M等が挙げられ、いずれも市場から入手できる。これらポリエステル化合物は1種又は2種以上を混合して用いることが出来る。これらの中でもキョーワポール1000PA、アデカニューエースY9−10、HS2N−221Aが好ましい。   Examples of the terminal alcohol polyester compound (i) represented by the formula (3) include polyester polyols having an alcoholic hydroxyl group at the terminal. Specific examples thereof are polyester polyols, Kyowa Pole Chemical Co., Ltd. Kyowapol 1000PA, 2000PA, 3000PA, 2000BA; Adeka New Ace Y9-10, YT-101; Daicel Plaxel 220EB, 220EC manufactured by Chemical Industry Co., Ltd .; Polylite OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2355, OD-X-2330, OD- manufactured by DIC Corporation X-240, OD-X-668, OD-X-2554, OD-X-2108, OD-X-2376, OD-X-2044, OD-X-688, OD-X -2068, OD-X-2547, OD-X-2420, OD-X-2523, OD-X-2555; HS2 manufactured by Toyokuni Oil Co., Ltd. -201AP, HS2H-351A, HS2H-451A, HS2H-851A, HS2N-221A, HS2N-521A, HS2H-220S, HS2N-220S, HS2N-226P, HS2B-222A, HOKOKOOL HT-110, HT-210, Examples thereof include HT-12, HT-250, HT-310, and HT-40M, all of which are available from the market. These polyester compounds can be used alone or in combination of two or more. Among these, Kyowapol 1000PA, Adeka New Ace Y9-10, and HS2N-221A are preferable.

炭化水素多価アルコール化合物(j)は分子中に二つ以上の水酸基を有する炭化水素化合物であり、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ジメチルエタノール、ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジオール、ジメチルブタンジオール、ヘプタンジオール、ジメチルペンタンジオール、ジエチルプロパンジオール、オクタンジオール、ジメチルヘキサンジオール、ジエチルブタンジオール、ノナンジオール、ジメチルヘプタンジオール、ジエチルペンタンジオール、デカンジオール、ジメチルオクタンジオール、ジエチルヘキサンジオール、エチルブチルプロパンジオール、3−メチロール−1,5−ペンタンジオール、ジグリセリン、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン等の鎖状炭化水素多価アルコール化合物;シクロペンタンジオール、シクロペンタンジメタノール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジオール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルナンジオール、ノルボルナンジメタノール等の環状炭化水素多価アルコール化合物;トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリスヒドロキシメチルイソシアヌレート等の複素環多価アルコール化合物、等が挙げられる。これら炭化水素多価アルコール化合物(j)は1種でもよいが、2種以上を混合して用いてもよい。これらの中でもトリシクロデカンジメタノール、ジトリメチロールプロパン、ジグリセリン、シクロヘキサンジメタノールが硬化物の強度、硬化物の透明性の観点から好ましい。   The hydrocarbon polyhydric alcohol compound (j) is a hydrocarbon compound having two or more hydroxyl groups in the molecule, such as ethylene glycol, propylene glycol, propanediol, butanediol, dimethylethanol, pentanediol, neopentyl glycol, Hexanediol, dimethylbutanediol, heptanediol, dimethylpentanediol, diethylpropanediol, octanediol, dimethylhexanediol, diethylbutanediol, nonanediol, dimethylheptanediol, diethylpentanediol, decanediol, dimethyloctanediol, diethylhexanediol , Ethylbutylpropanediol, 3-methylol-1,5-pentanediol, diglycerin, dipentaerythritol, tri Chain hydrocarbon polyhydric alcohol compounds such as tyrolpropane and ditrimethylolpropane; cyclopentanediol, cyclopentanedimethanol, cyclohexanediol, cyclohexanedimethanol, tricyclodecanediol, tricyclodecane dimethanol, norbornanediol, norbornane dimethanol Cyclic hydrocarbon polyhydric alcohol compounds such as: heterocyclic polyhydric alcohol compounds such as tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and trishydroxymethyl isocyanurate, and the like. These hydrocarbon polyhydric alcohol compounds (j) may be used alone or in admixture of two or more. Among these, tricyclodecane dimethanol, ditrimethylolpropane, diglycerin, and cyclohexanedimethanol are preferable from the viewpoints of the strength of the cured product and the transparency of the cured product.

分子内に二つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物(c)の使用量は、特に限定されないが、両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)100重量部に対し、好ましくは0.5〜200重量部、より好ましくは5〜50重量部、さらに好ましくは10〜30重量部である。0.5重量部以上であれば硬化物の機械強度がより向上するため好ましく、200重量部以下であれば硬化物の耐熱透明性がより向上するためより好ましい。   Although the usage-amount of the polyhydric alcohol compound (c) which has a 2 or more hydroxyl group in a molecule | numerator is not specifically limited, Preferably it is 0.5-200 with respect to 100 weight part of both terminal carbinol modified silicone oil (e). Parts by weight, more preferably 5 to 50 parts by weight, still more preferably 10 to 30 parts by weight. 0.5 parts by weight or more is preferable because the mechanical strength of the cured product is further improved, and 200 parts by weight or less is more preferable because the heat-resistant transparency of the cured product is further improved.

次に分子内に一つのカルボン酸無水物基をもつ化合物(d)は、コハク酸無水物、メチルコハク酸無水物、エチルコハク酸無水物、2,3−ブタンジカルボン酸無水物、2,4−ペンタンジカルボン酸無水物、3,5−ヘプタンジカルボン酸無水物等の飽和脂肪族カルボン酸無水物;マレイン酸無水物、ドデシルコハク酸無水物等の不飽和脂肪族カルボン酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、ビシクロ[2,2,2]オクタン−2,3−ジカルボン酸無水物、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物、無水グルタル酸、2,4−ジエチル無水グルタル酸、3,3−ジメチル無水グルタル酸等の環状飽和脂肪族カルボン酸無水物;テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、4,5−ジメチル−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、ビシクロ[2.2.2]−5−オクテン−2,3−ジカルボン酸無水物等の環状不飽和脂肪族カルボン酸無水物;フタル酸無水物、イソフタル酸無水物、テレフタル酸無水物、トリメリット酸無水物等の芳香族カルボン酸無水物、等が挙げられる。中でも、多価カルボン酸樹脂とエポキシ樹脂とを硬化してなる硬化物は透明性が優れており、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、無水グルタル酸、2,4−ジエチル無水グルタル酸、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物が好ましい。中でもメチルヘキサヒドロフタル酸無水物、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物がより好ましく、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、2,4−ジエチル無水グルタル酸が特に好ましい。分子内に一つのカルボン酸無水物基を化合物(d)は1種でもよいが、2種以上混合して用いてもよい。   Next, the compound (d) having one carboxylic acid anhydride group in the molecule includes succinic acid anhydride, methyl succinic acid anhydride, ethyl succinic acid anhydride, 2,3-butanedicarboxylic acid anhydride, 2,4-pentane. Saturated aliphatic carboxylic acid anhydrides such as dicarboxylic acid anhydride and 3,5-heptanedicarboxylic acid anhydride; unsaturated aliphatic carboxylic acid anhydrides such as maleic acid anhydride and dodecyl succinic acid anhydride, hexahydrophthalic acid anhydride , Methylhexahydrophthalic anhydride, 1,3-cyclohexanedicarboxylic anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylnorbornane-2,3-dicarboxylic anhydride, nadic acid anhydride, methylnadic Acid anhydride, bicyclo [2,2,2] octane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid- , 2-anhydride, glutaric anhydride, 2,4-diethyl glutaric anhydride, 3,3-dimethyl glutaric anhydride and other cyclic saturated aliphatic carboxylic anhydrides; tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride , Nadic acid anhydride, methyl nadic acid anhydride, 4,5-dimethyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, bicyclo [2.2.2] -5-octene-2,3-dicarboxylic acid And cyclic unsaturated aliphatic carboxylic anhydrides such as anhydrides; aromatic carboxylic anhydrides such as phthalic anhydride, isophthalic anhydride, terephthalic anhydride, trimellitic anhydride, and the like. Among them, a cured product obtained by curing a polyvalent carboxylic acid resin and an epoxy resin has excellent transparency, such as hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and glutaric anhydride. 2,4-diethyl glutaric anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylnorbornane-2,3-dicarboxylic anhydride, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid-1,2-anhydride. preferable. Of these, methylhexahydrophthalic anhydride and 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid-1,2-anhydride are more preferable, and methylhexahydrophthalic anhydride and 2,4-diethylglutaric anhydride are particularly preferable. One carboxylic anhydride group in the molecule may be used as the compound (d), or two or more kinds may be used in combination.

分子内に二つ以上のカルボン酸無水物基をもつ化合物(h)は、例えば、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸無水物等が挙げられる。中でも、多価カルボン酸樹脂と前記したエポキシ樹脂とを硬化してなる硬化物の透明性が優れるため、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸無水物が好ましく、特に1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物が好ましい。分子内にカルボン酸無水物基を二つ以上もつ化合物(h)は1種でもよいが、2種以上混合して用いてもよい。   The compound (h) having two or more carboxylic acid anhydride groups in the molecule is, for example, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid. Dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, pyromellitic anhydride, 5- (2,5- Dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 4- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene- 1,2-dicarboxylic anhydride and the like. Especially, since the transparency of the cured product obtained by curing the polyvalent carboxylic acid resin and the above-described epoxy resin is excellent, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5 -Cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 4- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride is preferred, 2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride is preferred. The compound (h) having two or more carboxylic acid anhydride groups in the molecule may be used alone or in combination of two or more.

分子内に二つのカルボン酸無水物基をもつ化合物(h)の使用量は、分子内に一つのカルボン酸無水物基をもつ化合物(d)100重量部に対し、5〜1000重量部、好ましくは10〜500重量部、さらに好ましくは15〜300重量部である。300重量部より大きいと、多価カルボン酸樹脂が高分子量化しすぎて作業性が劣る恐れがある。   The amount of the compound (h) having two carboxylic anhydride groups in the molecule is preferably 5 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound (d) having one carboxylic anhydride group in the molecule. Is 10 to 500 parts by weight, more preferably 15 to 300 parts by weight. If it is larger than 300 parts by weight, the polyvalent carboxylic acid resin may be too high in molecular weight and workability may be inferior.

両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)、分子内に二つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物(c)、分子内に一つのカルボン酸無水物基を有する化合物(d)、分子内に二つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物(h)の使用量は、両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)と分子内に二つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物(c)の総アルコール性水酸基1当量に対し、分子内に一つのカルボン酸無水物基を有する化合物(d)と分子内に二つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物(h)との総カルボン酸無水物基が0.5〜2.0当量であることが好ましく、より好ましくは0.8〜1.5当量である。0.5当量以上であれば硬化物の機械強度が良好になるため好ましく、2.0当量以下であればカルボン酸無水物基が多く残存することがなく保管安定性が良好になり好ましい。   Both ends carbinol-modified silicone oil (e), polyhydric alcohol compound (c) having two or more hydroxyl groups in the molecule, compound (d) having one carboxylic anhydride group in the molecule, two in the molecule The amount of the compound (h) having one or more carboxylic anhydride groups is the total alcohol of the carbinol-modified silicone oil (e) at both ends and the polyhydric alcohol compound (c) having two or more hydroxyl groups in the molecule. Total carboxylic acid anhydride group of the compound (d) having one carboxylic acid anhydride group in the molecule and the compound (h) having two or more carboxylic acid anhydride groups in the molecule with respect to 1 equivalent of the functional hydroxyl group Is preferably 0.5 to 2.0 equivalents, more preferably 0.8 to 1.5 equivalents. If it is 0.5 equivalent or more, it is preferable because the mechanical strength of the cured product is good, and if it is 2.0 equivalent or less, a large amount of carboxylic acid anhydride groups do not remain and storage stability becomes good.

多価カルボン酸樹脂の製造は、溶剤中でも無溶剤でも行うことができる。用いられる溶剤としては、両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)、分子内に二つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物(c)、分子内に一つ以上のカルボン酸無水物基をもつ化合物(d)、分子内に二つ以上のカルボン酸無水物基をもつ化合物(h)、それぞれと反応しない溶剤であれば特に制限なく使用できる。使用できる溶剤としては、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒;メチルエチルケトン、シクロペンタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等が挙げられ、これらの中で、芳香族炭化水素やケトン類が好ましい。これらの溶剤は1種でもよいが、2種以上を混合して用いても良い。溶剤を用いる場合、その使用量は、両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)、分子内に二つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物(c)、分子内に一つ以上のカルボン酸無水物基をもつ化合物(d)、使用する場合に分子内に二つ以上のカルボン酸無水物基をもつ化合物(h)の合計100重量部に対して、0.5〜300重量部が好ましい。   The production of the polyvalent carboxylic acid resin can be performed in a solvent or without a solvent. Solvents used include: carbinol-modified silicone oil (e) at both ends, polyhydric alcohol compound (c) having two or more hydroxyl groups in the molecule, compound having one or more carboxylic anhydride groups in the molecule (D) The compound (h) having two or more carboxylic anhydride groups in the molecule and a solvent that does not react with each can be used without particular limitation. Examples of solvents that can be used include aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran, and acetonitrile; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclopentanone, and methyl isobutyl ketone; and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. Among these, aromatic hydrocarbons and ketones are preferable. These solvents may be used alone or in combination of two or more. In the case of using a solvent, the amount used is carbinol-modified silicone oil (e) at both ends, polyhydric alcohol compound (c) having two or more hydroxyl groups in the molecule, one or more carboxylic acid anhydrides in the molecule. 0.5 to 300 parts by weight is preferred with respect to 100 parts by weight in total of the compound (d) having a group and the compound (h) having two or more carboxylic anhydride groups in the molecule when used.

多価カルボン酸樹脂は、無触媒でも、触媒を用いても製造する事ができる。用いられる触媒は、例えば塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、硝酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸等の酸性化合物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物;トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等のアミン化合物;ピリジン、ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール等の複素環式化合物;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルプロピルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルセチルアンモニウムヒドロキシド、トリオクチルメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムヨージド、テトラメチルアンモニウムアセテート、トリオクチルメチルアンモニウムアセテート等の4級アンモニウム塩;オルトチタン酸テトラエチル、オルトチタン酸テトラメチル等のオルトチタン酸類;オクチル酸スズ、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸マンガン、オクチル酸カルシウム、オクチル酸ナトリウム、オクチル酸カリウム等の金属石鹸類、等が挙げられる。触媒は、1種でもよいが、2種以上を混合して用いてもよい。   The polyvalent carboxylic acid resin can be produced with or without a catalyst. Examples of the catalyst used include acidic compounds such as hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, nitric acid, trifluoroacetic acid, and trichloroacetic acid; sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, water Metal hydroxides such as magnesium oxide; amine compounds such as triethylamine, tripropylamine, tributylamine; pyridine, dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, imidazole, triazole, Heterocyclic compounds such as tetrazole; tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylethylammonium hydroxide Trimethylpropylammonium hydroxide, trimethylbutylammonium hydroxide, trimethylcetylammonium hydroxide, trioctylmethylammonium hydroxide, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium acetate, trioctylmethylammonium Quaternary ammonium salts such as acetate; orthotitanates such as tetraethyl orthotitanate and tetramethyl orthotitanate; tin octylate, cobalt octylate, zinc octylate, manganese octylate, calcium octylate, sodium octylate, octylic acid And metal soaps such as potassium. One type of catalyst may be used, or two or more types may be mixed and used.

触媒の使用量は、両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)、分子内に二つ以上の水酸基を有する多価アルコール化合物(c)、分子内に一つのカルボン酸無水物基をもつ化合物(d)、使用する場合に分子内に二つ以上のカルボン酸無水物基をもつ化合物(h)の合計100重量部に対して、0.05〜10重量部が好ましい。触媒は、直接添加するか、または予め溶剤等に溶解または分散させて添加してもよいが、メタノールやエタノール等のアルコール類や水を溶媒に用いると、未反応の、分子内に一つのカルボン酸無水物基を持つ化合物(d)や分子内に二つ以上のカルボン酸無水物基を持つ化合物(h)と反応してしまうため、避けることが好ましい。   The amount of the catalyst used is as follows: carbinol-modified silicone oil (e) at both ends, polyhydric alcohol compound (c) having two or more hydroxyl groups in the molecule, compound having one carboxylic anhydride group in the molecule (d ), When used, 0.05 to 10 parts by weight is preferable with respect to 100 parts by weight in total of the compound (h) having two or more carboxylic anhydride groups in the molecule. The catalyst may be added directly or dissolved or dispersed in advance in a solvent or the like. However, when alcohols such as methanol and ethanol and water are used as the solvent, unreacted one carboxylic acid in the molecule is added. Since it reacts with the compound (d) having an acid anhydride group and the compound (h) having two or more carboxylic anhydride groups in the molecule, it is preferable to avoid it.

多価カルボン酸樹脂の製造時の反応温度は、触媒量や使用する溶剤にもよるが、通常20〜160℃、好ましくは50〜150℃、特に好ましくは60〜145℃である。又、反応時間は通常1〜20時間、好ましくは3〜12時間である。反応は2段階以上で行なっても良く、例えば20〜100℃で1〜8時間反応させた後に、100〜160℃で1〜12時間反応させても良い。これは特に分子内に一つのカルボン酸無水物基を持つ化合物(d)は揮発性の高いものが多く、そのようなものを用いる場合、あらかじめ20〜100℃で反応させた後に、100〜160℃で反応させることで、揮発を抑えることができる。これにより、大気中への有害物質の拡散を抑制するだけでなく、設計どおりの多価カルボン酸樹脂を得ることができる。   The reaction temperature during the production of the polycarboxylic acid resin is usually 20 to 160 ° C., preferably 50 to 150 ° C., particularly preferably 60 to 145 ° C., although it depends on the amount of catalyst and the solvent used. The reaction time is usually 1 to 20 hours, preferably 3 to 12 hours. The reaction may be carried out in two or more stages, for example, after reacting at 20 to 100 ° C. for 1 to 8 hours, it may be allowed to react at 100 to 160 ° C. for 1 to 12 hours. In particular, the compound (d) having one carboxylic acid anhydride group in the molecule is often highly volatile, and when such a compound is used, it is reacted at 20 to 100 ° C. in advance and then 100 to 160. By reacting at ℃, volatilization can be suppressed. Thereby, not only can the diffusion of harmful substances into the atmosphere be suppressed, but a polyvalent carboxylic acid resin as designed can be obtained.

触媒を用いて製造を行なった場合は必要に応じて触媒の不活性化、および/又は水洗を行なうことで触媒を除くことができるが、そのまま残存させ、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化促進剤として利用することもできる。水洗処理を行なう場合、使用する溶剤の種類によっては水と相分離可能な溶剤を加えることが好ましい。併用する溶剤としては例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノンのようなケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ブタン酸イソプロピルなどのエステル類;ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、等が挙げられる。
反応や水洗に溶剤を用いた場合、通常の減圧濃縮処理などによって除くことができる。
In the case of production using a catalyst, the catalyst can be removed by deactivating the catalyst and / or washing with water as necessary, but it is left as it is, and the curable resin composition of the present invention is cured. It can also be used as an accelerator. When performing the water washing treatment, it is preferable to add a solvent capable of phase separation with water depending on the type of the solvent used. Examples of solvents used in combination include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclopentanone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate and isopropyl butanoate; hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, toluene and xylene , Etc.
When a solvent is used for the reaction or washing with water, it can be removed by ordinary vacuum concentration treatment.

このようにして得られる多価カルボン酸樹脂は、通常25℃において流動性を有する液状である。その分子量はGPCで測定した重量平均分子量として800〜80000のものが好ましく、1000〜10000のものがより好ましく、特に1500〜8000のものが好ましい。重量平均分子量が800を下回る場合は25℃における流動性が低下し、80000を上回る場合は、これを用いた硬化性樹脂組成物とした際に、後述するエポキシ樹脂との相溶性が劣る可能性がある。
重量平均分子量(Mw)はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて下記条件で測定されたポリスチレン換算で算出した。
GPCの測定各種条件
メーカー:島津製作所
カラム:ガードカラム SHODEX GPC LF−G LF−804(3本)
流速:1.0ml/min.
カラム温度:40℃
使用溶剤:THF(テトラヒドロフラン)
検出器:RI(示差屈折検出器)
The polyvalent carboxylic acid resin thus obtained is normally a liquid having fluidity at 25 ° C. The molecular weight is preferably 800 to 80000, more preferably 1000 to 10000, and particularly preferably 1500 to 8000 as the weight average molecular weight measured by GPC. When the weight average molecular weight is less than 800, the fluidity at 25 ° C. decreases, and when it exceeds 80000, the compatibility with the epoxy resin described later may be inferior when a curable resin composition is used. There is.
The weight average molecular weight (Mw) was calculated in terms of polystyrene measured using GPC (gel permeation chromatography) under the following conditions.
GPC measurement conditions Manufacturer: Shimadzu Corporation Column: Guard column SHODEX GPC LF-G LF-804 (3)
Flow rate: 1.0 ml / min.
Column temperature: 40 ° C
Solvent: THF (tetrahydrofuran)
Detector: RI (differential refraction detector)

製造された多価カルボン酸樹脂の酸価(JIS K−2501に記載の方法で測定)は35〜200mgKOH/gが好ましく、50〜180mgKOH/gがより好ましく、60〜150mgKOH/gが特に好ましい。官能基当量が35mgKOH/gを下回る場合や150mgKOH/gを上回る場合はその硬化物が非常に硬化して、硬化物の機械特性が低下する傾向があり、好ましくない。   The acid value (measured by the method described in JIS K-2501) of the manufactured polycarboxylic acid resin is preferably 35 to 200 mgKOH / g, more preferably 50 to 180 mgKOH / g, and particularly preferably 60 to 150 mgKOH / g. When the functional group equivalent is less than 35 mgKOH / g or more than 150 mgKOH / g, the cured product tends to be extremely cured, and the mechanical properties of the cured product tend to deteriorate, which is not preferable.

本発明の硬化性樹脂組成物においては、酸無水物と、多価カルボン酸と、多価カルボン酸樹脂のそれぞれを、2種以上併用することもできる。併用する場合、酸無水物および/又は多価カルボン酸樹脂は、エポキシ樹脂硬化剤の合計の0.5〜99.5重量%の割合で使用できる。   In the curable resin composition of the present invention, two or more acid anhydrides, polyvalent carboxylic acids, and polyvalent carboxylic acid resins may be used in combination. When used in combination, the acid anhydride and / or the polyvalent carboxylic acid resin can be used at a ratio of 0.5 to 99.5% by weight of the total of the epoxy resin curing agent.

エポキシ樹脂硬化剤として、前述の酸無水物および/または多価カルボン酸樹脂および/または多価カルボン酸樹脂以外の硬化剤を併用する場合、酸無水物および/または多価カルボン酸および/または多価カルボン酸樹脂の総量が、全硬化剤中に占める割合は30重量%以上が好ましく、特に40重量%以上が好ましい。   In the case where a curing agent other than the above-mentioned acid anhydride and / or polyvalent carboxylic acid resin and / or polyvalent carboxylic acid resin is used in combination as the epoxy resin curing agent, the acid anhydride and / or polyvalent carboxylic acid and / or polyhydric carboxylic acid are used. The proportion of the total amount of the polyvalent carboxylic acid resin in the total curing agent is preferably 30% by weight or more, particularly preferably 40% by weight or more.

併用できる硬化剤としては、例えばアミン系化合物、アミド系化合物、フェノール系化合物などが挙げられる。使用できる硬化剤の具体例としては、アミン類やポリアミド化合物(ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂など)、多価フェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−ヒドロキシアセトフェノン、o−ヒドロキシアセトフェノン、ジシクロペンタジエン、フルフラール、4,4’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビフェニル、4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニル、1,4’−ビス(クロロメチル)ベンゼン、1,4’−ビス(メトキシメチル)ベンゼン等との重縮合物およびこれらの変性物、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類、テルペンとフェノール類の縮合物、その他(イミダゾール、トリフルオロボラン−アミン錯体、グアニジン誘導体、など)などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。   Examples of the curing agent that can be used in combination include amine compounds, amide compounds, phenol compounds, and the like. Specific examples of curing agents that can be used include amines and polyamide compounds (diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, polyamide resin synthesized from ethylenediamine and dimer of linolenic acid, etc.) Polyphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, terpene diphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl- [ 1,1′-biphenyl] -4,4′-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane Phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, o-hydroxybenzaldehyde, p-hydroxyacetophenone, o-hydroxyacetophenone, Dicyclopentadiene, furfural, 4,4′-bis (chloromethyl) -1,1′-biphenyl, 4,4′-bis (methoxymethyl) -1,1′-biphenyl, 1,4′-bis (chloro Methyl) benzene, polycondensates with 1,4′-bis (methoxymethyl) benzene and their modified products, halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A, and condensation of terpenes and phenols Products, others (imidazole, trifluoroborane-amine complex, guanidine derivatives, etc.), etc., but are not limited to these, and these may be used alone or in combination of two or more. .

本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じてカップリング剤を使用することで、硬化物の硬度を補完することが可能である。使用できるカップリング剤としては、例えば3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、N−(2−(ビニルベンジルアミノ)エチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシラン系カップリング剤;イソプロピル(N−エチルアミノエチルアミノ)チタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、チタニウムジ(ジオクチルピロフォスフェート)オキシアセテート、テトライソプロピルジ(ジオクチルフォスファイト)チタネート、ネオアルコキシトリ(p−N−(β−アミノエチル)アミノフェニル)チタネート等のチタン系カップリング剤;Zr−アセチルアセトネート、Zr−メタクリレート、Zr−プロピオネート、ネオアルコキシジルコネート、ネオアルコキシトリスネオデカノイルジルコネート、ネオアルコキシトリス(ドデカノイル)ベンゼンスルフォニルジルコネート、ネオアルコキシトリス(エチレンジアミノエチル)ジルコネート、ネオアルコキシトリス(m−アミノフェニル)ジルコネート、アンモニウムジルコニウムカーボネート、Al−アセチルアセトネート、Al−メタクリレート、Al−プロピオネート等のジルコニウム、或いはアルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらのカップリング剤は1種又は2種以上を混合して用いても良い。カップリング剤は、必要に応じて本発明の硬化性樹脂組成物100重量部に対して通常0.05〜20重量部、好ましくは0.1〜10重量部を添加する。   The curable resin composition of the present invention can supplement the hardness of the cured product by using a coupling agent as necessary. Examples of coupling agents that can be used include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl. Trimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltri Methoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N- (2- (vinylbenzylamino) ethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloro Silane coupling agents such as propyltrimethoxysilane; isopropyl (N-ethylaminoethylamino) titanate, isopropyl triisostearoyl titanate, titanium di (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate, tetraisopropyl di (dioctyl phosphite) titanate, Titanium coupling agents such as neoalkoxytri (pN- (β-aminoethyl) aminophenyl) titanate; Zr-acetylacetonate, Zr-methacrylate, Zr-propionate, neoalkoxyzirconate, neoalkoxytrisneodeca Noyl zirconate, neoalkoxytris (dodecanoyl) benzenesulfonyl zirconate, neoalkoxytris (ethylenediaminoethyl) zirconate, neoalco Examples include zirconium such as xylitol (m-aminophenyl) zirconate, ammonium zirconium carbonate, Al-acetylacetonate, Al-methacrylate, and Al-propionate, or an aluminum coupling agent. These coupling agents may be used alone or in combination of two or more. The coupling agent is added in an amount of usually 0.05 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, if necessary, with respect to 100 parts by weight of the curable resin composition of the present invention.

本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じてナノオーダーレベルの無機充填材を使用することで、透明性を阻害せずに機械強度などを補完することが可能である。この様に透明性を確保するために用いられるナノオーダーレベル無機充填材の平均粒径は好ましくは500nm以下であり、200nm以下が特に好ましい。無機充填剤としては、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、チタニア、タルク等の粉体またはこれらを球形化したビーズ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの充填材は、単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。これら無機充填剤の含有量は、本発明の硬化性樹脂組成物中において0〜95重量%を占める量が用いられる。   In the curable resin composition of the present invention, it is possible to supplement mechanical strength and the like without impairing transparency by using a nano-order level inorganic filler as necessary. Thus, the average particle diameter of the nano-order level inorganic filler used for ensuring transparency is preferably 500 nm or less, and particularly preferably 200 nm or less. Examples of inorganic fillers include crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite, steatite, spinel, titania, talc, and the like. However, the present invention is not limited to these. These fillers may be used alone or in combination of two or more. The content of these inorganic fillers is 0 to 95% by weight in the curable resin composition of the present invention.

本発明の硬化性樹脂組成物の着色防止の目的で、光安定剤のアミン化合物又は、酸化防止材のリン系化合物およびフェノール系化合物を使用することができる。アミン化合物としては、例えば、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシラート、テトラキス(2,2,6,6−トトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシラート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールおよび3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンとの混合エステル化物、デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−ウンデカンオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)カーボネート、2,2,6,6,−テトラメチル−4−ピペリジルメタクリレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−〔2−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル〕−4−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル−メタアクリレート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)〔〔3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル〕メチル〕ブチルマロネート、デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1(オクチルオキシ)−4−ピペリジニル)エステル,1,1−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、N,N’,N″,N″′−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ジブチルアミン・1,3,5−トリアジン・N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物、ポリ〔〔6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル〕〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕〕、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物、2,2,4,4−テトラメチル−20−(β−ラウリルオキシカルボニル)エチル−7−オキサ−3,20−ジアザジスピロ〔5・1・11・2〕ヘネイコサン−21−オン、β−アラニン,N,−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−ドデシルエステル/テトラデシルエステル、N−アセチル−3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)ピロリジン−2,5−ジオン、2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−3,20−ジアザジスピロ〔5,1,11,2〕ヘネイコサン−21−オン、2,2,4,4−テトラメチル−21−オキサ−3,20−ジアザジシクロ−〔5,1,11,2〕−ヘネイコサン−20−プロパン酸ドデシルエステル/テトラデシルエステル、プロパンジオイックアシッド,〔(4−メトキシフェニル)−メチレン〕−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)エステル、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールの高級脂肪酸エステル、1,3−ベンゼンジカルボキシアミド,N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)等のヒンダートアミン系、オクタベンゾン等のベンゾフェノン系化合物、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミド−メチル)−5−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ペンチルフェニル)ベンゾトリアゾール、メチル3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートとポリエチレングリコールの反応生成物、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−ドデシル−4−メチルフェノール等のベンゾトリアゾール系化合物、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−〔(ヘキシル)オキシ〕フェノール等のトリアジン系化合物等が挙げられるが、特に好ましくは、ヒンダートアミン系化合物である。   For the purpose of preventing coloring of the curable resin composition of the present invention, an amine compound as a light stabilizer or a phosphorus compound and a phenol compound as an antioxidant can be used. Examples of the amine compound include tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, tetrakis (2,2,6,6-totramethyl). -4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and 3, 9-bis (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane mixed ester, decanedioic acid bis (2,2,6,6) 6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1-undecanoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) carbonate, 2,2,6,6, -tetramethyl 4-piperidyl methacrylate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 4-benzoyloxy-2 , 2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5 -Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl-methacrylate, bis (1 , 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] butyl Lonate, decanedioic acid bis (2,2,6,6-tetramethyl-1 (octyloxy) -4-piperidinyl) ester, reaction product of 1,1-dimethylethyl hydroperoxide and octane, N, N ′, N ", N" '-tetrakis- (4,6-bis- (butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino) -triazin-2-yl)- 4,7-diazadecane-1,10-diamine, dibutylamine, 1,3,5-triazine, N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,6-hexa Polycondensate of methylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [[6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3 , 5-Triazine-2 , 4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]], dimethyl succinate And 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, 2,2,4,4-tetramethyl-20- (β-lauryloxycarbonyl) ethyl-7-oxa- 3,20-diazadispiro [5 · 1 · 11 · 2] heneicosan-21-one, β-alanine, N,-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) -dodecyl ester / tetradecyl ester N-acetyl-3-dodecyl-1- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) pyrrolidine-2,5-dione, 2,2,4,4-tetramethyl-7-oxa- 3,20-diazadispiro [5,1,11,2] heneicosane-21-one, 2,2,4,4-tetramethyl-21-oxa-3,20-diazadicyclo- [5,1,11,2] -Heneicosane-20-propanoic acid dodecyl ester / tetradecyl ester, propanedioic acid, [(4-methoxyphenyl) -methylene] -bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) ester, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol higher fatty acid ester, 1,3-benzenedicarboxamide, N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) Hindered amines such as octabenzone, benzophenone compounds such as octabenzone, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (1,1,3, -Tetramethylbutyl) phenol, 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3- (3,4,5,6-tetrahydrophthalimido-methyl) -5-methylphenyl Benzotriazole, 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl) benzotriazole, Reaction product of methyl 3- (3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and polyethylene glycol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl)- Benzotriazole compounds such as 6-dodecyl-4-methylphenol, 2,4 Benzoate series such as di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5 Examples include triazine compounds such as [(hexyl) oxy] phenol, and hindered amine compounds are particularly preferable.

光安定材のアミン化合物としては、市販品を使用することができ、市販されているアミン系化合物としては特に限定されず、例えば、チバスペシャリティケミカルズ製の、TINUVIN765、TINUVIN770DF、TINUVIN144、TINUVIN123、TINUVIN622LD、TINUVIN152、CHIMASSORB944;ADEKA製の、LA−52、LA−57、LA−62、LA−63P、LA−77Y、LA−81、LA−82、LA−87などが挙げられる。   A commercially available product can be used as the amine compound of the light stabilizer, and it is not particularly limited as a commercially available amine-based compound. TINUVIN 152, CHIMASSORB 944; manufactured by ADEKA, LA-52, LA-57, LA-62, LA-63P, LA-77Y, LA-81, LA-82, LA-87, and the like.

上記のリン系化合物としては特に限定されず、例えば、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ジトリデシルホスファイト−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールAペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス(ジエチルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ−イソプロピルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ−n−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)(2−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェニル)(2−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、2,2'−エチリデンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェニル)(2−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3'−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3'−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3'−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3'−ビフェニレンジホスホナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−n−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどが挙げられる。   The phosphorus compound is not particularly limited, and examples thereof include 1,1,3-tris (2-methyl-4-ditridecyl phosphite-5-tert-butylphenyl) butane, distearyl pentaerythritol diphosphite, Bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, phenylbisphenol A pentaerythritol diphosphite , Dicyclohexylpentaerythritol diphosphite, tris (diethylphenyl) phosphite, tris (di-isopropylphenyl) phosphite, tris (di-n-butylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) ) Hos Ite, tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2′-methylenebis (4,6-di-tert-butyl) Phenyl) (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2′-methylenebis (4,6-di-tert-butylphenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,2′-ethylidenebis (4-methyl-6-tert-butyl) Phenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4, '-Biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,3'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -3,3'- Biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4,3'-biphenylenedi Phosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -3,3′-biphenylenediphosphonite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-n-butyl) Ruphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-tert-butylphenyl) -3-phenyl -Phenylphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tributyl phosphate, trimethyl phosphate, tricresyl phosphate, triphenyl phosphate, trichlorophenyl Examples include phosphate, triethyl phosphate, diphenyl cresyl phosphate, diphenyl monoorthoxenyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, dibutyl phosphate, dioctyl phosphate, diisopropyl phosphate, etc. .

これらのリン系化合物は、市販品を用いることもでき、市販されているリン系化合物としては特に限定されず、例えば、ADEKA製の、アデカスタブPEP−4C、アデカスタブPEP−8、アデカスタブPEP−24G、アデカスタブPEP−36、アデカスタブHP−10、アデカスタブ2112、アデカスタブ260、アデカスタブ522A、アデカスタブ1178、アデカスタブ1500、アデカスタブC、アデカスタブ135A、アデカスタブ3010、アデカスタブTPP等が挙げられる。   These phosphorus compounds can also be used as commercial products, and are not particularly limited as commercially available phosphorus compounds. For example, ADEKA's ADK STAB PEP-4C, ADK STAB PEP-8, ADK STAB PEP-24G, Examples include ADK STAB PEP-36, ADK STAB HP-10, ADK STAB 2112, ADK STAB 260, ADK STAB 522A, ADK STAB 1178, ADK STAB 1500, ADK STAB C, ADK STAB 135A, ADK STAB 3010, and ADK STAB TPP.

上記のフェノール系化合物としては特に限定はされず、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェノール、1,6−ヘキサンジオール−ビス−[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3,9−ビス−〔2−[3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2'−ブチリデンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、2−tert−ブチル−6−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェノールアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート、4,4’−チオビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,4−ジ−tert−ブチルフェノール、2,4−ジ−tert−ペンチルフェノール、4,4’−チオビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、ビス−[3,3−ビス−(4’−ヒドロキシ−3'−tert−ブチルフェニル)−ブタノイックアシッド]−グリコールエステル、2,4−ジ−tert−ブチルフェノール、2,4−ジ−tert−ペンチルフェノール、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート、ビス−[3,3−ビス−(4’−ヒドロキシ−3'−tert−ブチルフェニル)−ブタノイックアシッド]−グリコールエステル等が挙げられる。   The phenolic compound is not particularly limited, and examples thereof include 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol and n-octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy. Phenyl) propionate, tetrakis [methylene-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,4-di-tert-butyl-6-methylphenol, 1,6-hexane Diol-bis- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, 1, 3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, pe Taerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis- [2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5- Methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5 -Methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2'-butylidenebis (4,6-di-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2 '-Methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butyl) Phenol), 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenol acrylate, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-) tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6) -Tert-butylphenol), 2-tert-butyl-4-methylphenol, 2,4-di-tert-butylphenol, 2,4-di-tert-pentylphenol, 4,4'-thiobis (3-methyl-6) -Tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol) Bis- [3,3-bis- (4′-hydroxy-3′-tert-butylphenyl) -butanoic acid] -glycol ester, 2,4-di-tert-butylphenol, 2,4-di- tert-pentylphenol, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate, bis- [3,3-bis- (4′-hydroxy-3′-tert-butylphenyl) -butanoic acid] -glycol ester and the like.

上記のフェノール系化合物は、市販品を用いることもできる。市販されているフェノール系化合物としては特に限定されず、例えば、チバスペシャリティケミカルズ製のIRGANOX1010、IRGANOX1035、IRGANOX1076、IRGANOX1135、IRGANOX245、IRGANOX259、IRGANOX295、IRGANOX3114、IRGANOX1098、IRGANOX1520L;アデカ製の、アデカスタブAO−20、アデカスタブAO−30、アデカスタブAO−40、アデカスタブAO−50、アデカスタブAO−60、アデカスタブAO−70、アデカスタブAO−80、アデカスタブAO−90、アデカスタブAO−330;住友化学工業製の、Sumilizer GA−80、Sumilizer MDP−S、Sumilizer BBM−S、Sumilizer GM、Sumilizer GS(F)、Sumilizer GPなどが挙げられる。   A commercial item can also be used for said phenolic compound. It does not specifically limit as a phenolic compound marketed, For example, IRGANOX1010, IRGANOX1035, IRGANOX1076, IRGANOX1135, IRGANOX245, IRGANOX259, manufactured by Ciba Specialty Chemicals; ADK STAB AO-30, ADK STAB AO-40, ADK STAB AO-50, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-70, ADK STAB AO-80, ADK STAB AO-90, ADK STAB AO-330; Sumitizer GA-80 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. , Sumilizer MDP-S, Sumilizer BB MS, Sumilizer GM, Sumilizer GS (F), Sumilizer GP, etc. are mentioned.

この他、樹脂の着色防止剤としては市販の添加材を使用することができ、例えば、チバスペシャリティケミカルズ製の、THINUVIN328、THINUVIN234、THINUVIN326、THINUVIN120、THINUVIN477、THINUVIN479、CHIMASSORB2020FDL、CHIMASSORB119FLなどが挙げられる。   In addition, a commercially available additive can be used as the anti-coloring agent for the resin, such as THINUVIN 328, THINUVIN 234, THINUVIN 326, THINUVIN 120, THINUVIN 477, THINUVIN 479, CHIMASSORB 2020FDL, and CHIMASSORB119FL manufactured by Ciba Specialty Chemicals.

上記のアミン化合物、リン系化合物、フェノール系化合物の中から少なくとも1種以上を含有することが好ましく、その配合量としては特に限定されないが、本発明の硬化性樹脂組成物の全重量に対して、0.005〜5.0重量%の範囲である。   It is preferable to contain at least one of the above amine compounds, phosphorus compounds, and phenol compounds, and the amount of the compound is not particularly limited, but is based on the total weight of the curable resin composition of the present invention. , 0.005 to 5.0% by weight.

本発明の樹脂組成物を使用した近赤外線カットフィルタ(光学フィルタ)は、基材上に設けたものでも、又、基材自体であってもよい。基材としては、一般に光学フィルタに使用できるものであれば特に制限されないが、通常、ガラス若しくは樹脂製の基材が使用される。層の厚みは通常0.05μm〜10mm程度であるが、近赤外線カット率等の目的に応じて適宜、決定され得る。又、CCDやCMOSなどの撮像素子自体を基材とすることもできる。   The near-infrared cut filter (optical filter) using the resin composition of the present invention may be provided on a base material or the base material itself. The substrate is not particularly limited as long as it can be generally used for an optical filter, but a substrate made of glass or resin is usually used. The thickness of the layer is usually about 0.05 μm to 10 mm, but can be appropriately determined according to the purpose such as the near infrared cut rate. Further, an image pickup device itself such as a CCD or CMOS can be used as a base material.

本発明の樹脂組成物に用いる近赤外線吸収色素の含有率も目的とする近赤外線カット率に応じて適宜、決定される。用いる樹脂製の基材としては、例えば、ポリエチレン、ポリシクロアルカン、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物、及びそれらのビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデン、フッ化ビニリデン/ トリフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン/ テトラフルオロエチレン共重合体、シアン化ビニリデン/ 酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン等のフッ素を含む樹脂、ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリペプチド、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等が挙げられる。   The content of the near-infrared absorbing dye used in the resin composition of the present invention is also appropriately determined according to the target near-infrared cut rate. Examples of resin base materials used include vinyl compounds such as polyethylene, polycycloalkane, polycycloolefin, polystyrene, polyacrylic acid, polyacrylic ester, polyvinyl acetate, polyacrylonitrile, polyvinyl chloride, and polyvinyl fluoride. And addition polymers of these vinyl compounds, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid ester, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, poly (vinylidene cyanide), vinylidene fluoride / trifluoroethylene copolymer, vinylidene fluoride / tetrafluoroethylene Copolymers, vinyl compounds such as vinylidene cyanide / vinyl acetate copolymers or copolymers of fluorine compounds, trees containing fluorine such as polytrifluoroethylene, polytetrafluoroethylene, polyhexafluoropropylene, etc. , Nylon 6, polyamide such as nylon 66, polyimide, polyurethane, polypeptide, polyester such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyether polyoxymethylene or the like, epoxy resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, and the like.

本発明の樹脂組成物を使用した赤外線カットフィルタ(光学フィルタ)を作製する方法としては特に限定されるものではないが、例えば、1)熱硬化性樹脂と硬化剤に近赤外線吸収色素を溶解し、本発明の樹脂組成物とし、成型後、加熱硬化して樹脂板又はフィルムを作製する方法、2)近赤外線吸収色素を含有する塗料を作製し、本発明の樹脂組成物とし、透明樹脂板、透明フィルム、透明ガラス板、又は撮像素子にコーティングする方法、3)近赤外線吸収色素及び樹脂(接着剤)を含有させた組成物を作製し、本発明の樹脂組成物とし、合わせ樹脂板、合わせ樹脂フィルム、又は合わせガラス板を作製する方法、等の公知の方法が利用できる。   Although it does not specifically limit as a method of producing the infrared cut filter (optical filter) using the resin composition of this invention, For example, 1) A near-infrared absorption pigment | dye is melt | dissolved in a thermosetting resin and a hardening | curing agent. The resin composition of the present invention, a method for producing a resin plate or film by heat-curing after molding, 2) A paint containing a near-infrared absorbing dye is produced, the resin composition of the present invention, and a transparent resin plate , A method for coating a transparent film, a transparent glass plate, or an image pickup device, 3) a composition containing a near-infrared absorbing dye and a resin (adhesive) is prepared, and the resin composition of the present invention is used as a laminated resin plate; A known method such as a method of producing a laminated resin film or a laminated glass plate can be used.

1)の方法は、熱硬化性樹脂と硬化剤に近赤外線吸収色素を溶解し、本発明の樹脂組成物として、型内に注入、又は、金型に流し込んで、加熱反応させて硬化物を成形する方法が挙げられる。用いる組成によって加工温度、フィルム化(樹脂板化)の条件等は多少異なるが、通常100〜200℃で30分〜5時間程度の硬化条件が適用される。近赤外線吸収色素の添加量は、作製する樹脂板又はフィルムの厚み、吸収強度、可視光透過率等によって異なるが、通常、基材樹脂の質量に対して0.01〜30質量%程度、好ましくは0.01〜15質量%程度を使用する。   In the method 1), a near-infrared absorbing dye is dissolved in a thermosetting resin and a curing agent, and as a resin composition of the present invention, injected into a mold or poured into a mold, and heated to react to obtain a cured product. The method of shaping | molding is mentioned. Depending on the composition used, the processing temperature, the conditions for film formation (resin plate formation) and the like differ somewhat, but curing conditions of about 30 minutes to 5 hours at 100 to 200 ° C. are usually applied. The amount of the near-infrared absorbing dye added varies depending on the thickness of the resin plate or film to be produced, the absorption strength, the visible light transmittance, etc., but is usually about 0.01 to 30% by mass with respect to the mass of the base resin, preferably Is about 0.01 to 15% by mass.

2)の方法は、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂に溶解し塗料(本発明の樹脂組成物)化する方法であり、塗料(本発明の樹脂組成物)化する際に溶媒を用いることもできる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系の溶媒、又は、それらの混合溶媒を用いることができる。近赤外線吸収色素の濃度は、作製するコーティングの厚み、吸収強度、可視光透過率によって異なるが、バインダー樹脂に対して通常0.01〜30質量%程度である。このようにして得られた塗料を透明樹脂板、透明フィルム、透明ガラス板、又は撮像素子等の上にスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、グラビアコーター、オフセットコーター、スプレー等でコーティングして近赤外線吸収フィルタ、またはそれを具備した撮像素子を得ることができる。   The method 2) is a method of dissolving a near-infrared absorbing dye in a binder resin to form a paint (resin composition of the present invention), and a solvent can also be used when forming a paint (resin composition of the present invention). . As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixed solvent thereof can be used. Although the density | concentration of a near-infrared absorption pigment | dye changes with thickness of the coating to produce, absorption intensity, and visible light transmittance | permeability, it is about 0.01-30 mass% normally with respect to binder resin. The coating material thus obtained is coated on a transparent resin plate, transparent film, transparent glass plate, or imaging device with a spin coater, bar coater, roll coater, gravure coater, offset coater, spray, etc. An absorption filter or an image sensor including the absorption filter can be obtained.

本発明の近赤外線カットフィルタに含有される近赤外線吸収色素が、本発明の樹脂組成物中で溶解しない場合は、不溶性の色素を微粒子に分散化しながら、他の成分と混合してもよい。   When the near-infrared absorbing dye contained in the near-infrared cut filter of the present invention does not dissolve in the resin composition of the present invention, the insoluble dye may be mixed with other components while being dispersed into fine particles.

この方法としては、サンドミル(ビーズミル)、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、超音波分散機、マイクロフルイダイザー等を用いる公知の方法等が挙げられ、中でもサンドミル(ビーズミル)が好ましい。またサンドミル(ビーズミル)における色素粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用し、ビーズの充填率を大きくすること等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。更に粉砕処理後に濾過、遠心分離などで分散化に用いたビーズや粗粒子を除去することが好ましい。   As this method, a known method using a sand mill (bead mill), a roll mill, a ball mill, a paint shaker, an ultrasonic disperser, a microfluidizer or the like can be mentioned, and among these, a sand mill (bead mill) is preferable. Further, in the pulverization of the pigment particles in the sand mill (bead mill), it is preferable to use a bead having a small diameter and to perform the treatment under the condition of increasing the pulverization efficiency by increasing the filling rate of the beads. Furthermore, it is preferable to remove beads and coarse particles used for dispersion by filtration, centrifugation, or the like after the pulverization treatment.

本発明の近赤外線カットフィルタに用いられる近赤外線吸収色素がカチオン系である場合、その対アニオンとしては特に制限されないが、硬化物(光学フィルタ)の耐熱透明性の観点から、下記式(15)で表されるトリス(パーハロゲノアルキルスルホニル)イミドアニオン、若しくは下記式(16)で表されるトリス(パーハロゲノアルキルスルホニル)メチドアニオンが好ましい。より好ましくはトリス(パーハロゲノアルキルスルホニル)メチドアニオンであり、さらに好ましくは、下記式(16)においてnが1、Aがフッ素であるトリス(トリフルオロメチルスルホニル)メチドアニオンが挙げられる。   When the near-infrared absorbing dye used in the near-infrared cut filter of the present invention is cationic, the counter anion is not particularly limited, but from the viewpoint of heat-resistant transparency of the cured product (optical filter), the following formula (15) A tris (perhalogenoalkylsulfonyl) imide anion represented by the following formula (16) or a tris (perhalogenoalkylsulfonyl) methide anion represented by the following formula (16) is preferred. More preferred is a tris (perhalogenoalkylsulfonyl) methide anion, and still more preferred is a tris (trifluoromethylsulfonyl) methide anion in which n is 1 and A is fluorine in the following formula (16).

Figure 2014214262
(式中、xは1〜5、Aはフッ素、塩素、臭素若しくはヨウ素を示す。)
Figure 2014214262
(式中、xは1〜5、Aはフッ素、塩素、臭素若しくはヨウ素を示す。)
Figure 2014214262
(In the formula, x represents 1 to 5, and A represents fluorine, chlorine, bromine or iodine.)
Figure 2014214262
(In the formula, x represents 1 to 5, and A represents fluorine, chlorine, bromine or iodine.)

以下に、本発明の近赤外線カットフィルタに含有される近赤外線吸収色素の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではなく、近赤外線を吸収する化合物であればよい。シアニン化合物である場合、特許第4635007号(特許文献7)における化合物No.16〜45、特許第3786408号(特許文献8)における式(3)〜(32)、特開2007−153836号(特許文献9)における化合物No.1〜16、特開2008−88426号(特許文献10)における化合物No.16〜57が挙げられる。ポリメチン化合物である場合、特開1983−219090号(特許文献11)における化合物No.1〜20が挙げられる。ジイモニウム化合物である場合、特許第4800769号(特許文献12)の表1におけるNo.1〜150、WO2006/120888(特許文献13)の表1におけるNo.1〜20、特開2003−96040号(特許文献14)の表1〜3における化合物No.1〜36、特開2007−197492号(特許文献15)の表1における化合物No.1〜21が挙げられる。フタロシアニン化合物の場合、特開2000−026748号(特許文献6)における第1群および第2群に記載の化合物が挙げられ、ナフタロシアニン化合物である場合、特開2009−152415号(特許文献17)の第1表に記載の化合物が挙げられる。金属ジチオール錯体である場合、以下の式(17)が挙げられ、金属ジアミン錯体である場合、以下の式(18)が挙げられる。   Although the specific example of the near-infrared absorption pigment | dye contained in the near-infrared cut off filter of this invention is given to the following, it is not limited to these, What is necessary is just a compound which absorbs near-infrared light. When it is a cyanine compound, the compound No. 4 in Japanese Patent No. 4635007 (Patent Document 7) is used. 16 to 45, formulas (3) to (32) in Japanese Patent No. 3786408 (Patent Document 8), and compound No. 3 in JP-A-2007-1553836 (Patent Document 9). 1 to 16 and compound No. 1 in JP-A-2008-88426 (Patent Document 10). 16-57 are mentioned. In the case of a polymethine compound, compound No. 1 in JP-A No. 1983-219090 (Patent Document 11) is used. 1-20 are mentioned. In the case of a dimonium compound, No. 4 in Table 1 of Japanese Patent No. 4800769 (Patent Document 12). 1-150, No. 1 in Table 1 of WO2006 / 120888 (Patent Document 13). 1 to 20, Compound Nos. 1 to 3 in Tables 1 to 3 of JP-A No. 2003-96040 (Patent Document 14). 1-36, compound No. 1 in Table 1 of JP2007-197492A (Patent Document 15). 1-21 is mentioned. In the case of a phthalocyanine compound, the compounds described in the first group and the second group in JP-A No. 2000-026748 (Patent Document 6) can be mentioned. The compounds described in Table 1 are listed. When it is a metal dithiol complex, the following formula (17) is exemplified, and when it is a metal diamine complex, the following formula (18) is exemplified.

Figure 2014214262
(式中、R10 〜R13 は互いに同一もしくは相異なる水素原子、ハロゲン、シアノ基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、あるいは置換又は未置換のアリール基を表し、かつ、隣り合う2個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。また、Mはニッケル、白金、パラジウム、又は銅の金属である。)
Figure 2014214262
(In the formula, R 10 to R 13 are the same or different from each other, hydrogen atom, halogen, cyano group, acyl group, carbamoyl group, alkylaminocarbonyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, substituted or unsubstituted alkyl group. Or a substituted or unsubstituted aryl group, and two adjacent substituents may be connected via a linking group, and M is a metal of nickel, platinum, palladium, or copper. )

Figure 2014214262
(式中、R14 〜R17 は互いに同一もしくは相異なる水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、あるいは置換又は未置換のアリール基を表し、かつ、隣り合う2個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。また、Mはニッケル、白金、パラジウム、又は銅の金属である。)
Figure 2014214262
Wherein R 14 to R 17 are the same or different from each other, hydrogen atom, halogen atom, cyano group, acyl group, carbamoyl group, alkylaminocarbonyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, substituted or unsubstituted alkyl. Represents a group, or a substituted or unsubstituted aryl group, and two adjacent substituents may be connected via a linking group, and M is a metal of nickel, platinum, palladium, or copper. .)

ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。   Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

アシル基の例としては、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、ヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、p−t−ブチルベンゾイル基等が挙げられる。   Examples of the acyl group include acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, butylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, hexylcarbonyl group, benzoyl group, pt-butylbenzoyl group and the like.

アルキルアミノカルボニル基の例としては、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、n−プロピルアミノカルボニル基、n−ブチルアミノカルボニル基、sec−ブチルアミノカルボニル基、n−ペンチルアミノカルボニル基、n−ヘキシルアミノカルボニル基、n−ヘプチルアミノカルボニル基、n−オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−n−プロピルアミノカルボニル基、ジ−n−ブチルアミノカルボニル基、ジ−sec−ブチルアミノカルボニル基、ジ−n−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−n−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−n−ヘプチルアミノカルボニル基、ジ−オクチルアミノカルボニル基等が挙げられる。   Examples of alkylaminocarbonyl group include methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, n-propylaminocarbonyl group, n-butylaminocarbonyl group, sec-butylaminocarbonyl group, n-pentylaminocarbonyl group, n-hexyl. Aminocarbonyl group, n-heptylaminocarbonyl group, n-octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, di-n-propylaminocarbonyl group, di-n-butylaminocarbonyl Group, di-sec-butylaminocarbonyl group, di-n-pentylaminocarbonyl group, di-n-hexylaminocarbonyl group, di-n-heptylaminocarbonyl group, di-octylaminocarbonyl group and the like. That.

アルコキシカルボニル基の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、iso−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、iso−ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、iso−ペンチルオキシカルボニル基、neo−ペンチルオキシカルボニル基、1,2−ジメチル−プロピルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、1,3−ジメチル−ブチルオキシカルボニル基、1−iso−プロピルプロピルオキシカルボニル基、1,2−ジメチルブチルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、1,4−ジメチルペンチロキシカルボニル基、2−メチル−1−iso−プロピルプロピルオキシカルボニル基、1−エチル−3−メチルブチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基、3−メチル−iso−プロピルブチルオキシカルボニル基、2−メチル−1−iso−プロピルオキシカルボニル基、1−t−ブチル−2−メチルプロピルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基等の炭素数2〜20の直鎖又は分岐のアルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。   Examples of the alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, iso-propoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, iso-butoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl Group, n-pentyloxycarbonyl group, iso-pentyloxycarbonyl group, neo-pentyloxycarbonyl group, 1,2-dimethyl-propyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, 1,3- Dimethyl-butyloxycarbonyl group, 1-iso-propylpropyloxycarbonyl group, 1,2-dimethylbutyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, 1,4-dimethylpentoxyl Nyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropyloxycarbonyl group, 1-ethyl-3-methylbutyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, 2-ethylhexyloxycarbonyl group, 3-methyl-iso-propyl Linear or branched having 2 to 20 carbon atoms such as butyloxycarbonyl group, 2-methyl-1-iso-propyloxycarbonyl group, 1-t-butyl-2-methylpropyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group And alkyloxycarbonyl groups.

アリールオキシカルボニル基の例としては、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、トリオキシカルボニル基、キシリルオキシカルボニル基、クロロフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。   Examples of the aryloxycarbonyl group include a phenyloxycarbonyl group, a naphthyloxycarbonyl group, a trioxycarbonyl group, a xylyloxycarbonyl group, a chlorophenyloxycarbonyl group, and the like.

置換又は未置換のアルキル基のうち、未置換のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、neo−ペンチル基、シクロペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、1,3−ジメチルブチル基、1−iso−プロピルプロピル基、1,2−ジメチルブチル基、n−ヘプチル基、1,4−ジメチルペンチル基、2−メチル−1−iso−プロピルプロピル基、1−エチル−3−メチルブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、3−メチル1−iso−プロピルブチル基、2−メチル−1−iso−プロピル基、1−t−ブチル−2−メチルプロピル基、n−ノニル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基等の炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状の炭化水素基が挙げられる。   Among the substituted or unsubstituted alkyl groups, examples of the unsubstituted alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, and a sec-butyl group. , T-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, neo-pentyl group, cyclopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 1- iso-propylpropyl group, 1,2-dimethylbutyl group, n-heptyl group, 1,4-dimethylpentyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropyl group, 1-ethyl-3-methylbutyl group, n- Octyl group, 2-ethylhexyl group, 3-methyl 1-iso-propylbutyl group, 2-methyl-1-iso-propyl group, 1-t-butyl-2-methyl Propyl group, n- nonyl, 3,5,5 linear 1 to 20 carbon atoms such as trimethyl hexyl group, and a hydrocarbon group branched or cyclic.

置換アルキル基とは、上記の未置換のアルキル基の少なくとも1つの水素が種々の官能基に置換されたものである。例えば、未置換のアルキル基の水素がアルコキシ基に置換されたアルコキシアルキル基、未置換のアルキル基の水素がアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルキル基、未置換のアルキル基の水素がアルコキシアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、未置換のアルキル基の水素がハロゲン原子に置換されたハロゲン化アルキル基、未置換のアルキル基の水素がアミノ基に置換されたアミノアルキル基、未置換のアルキル基の水素がアルキルアミノ基に置換されたアルキルアミノアルキル基やジアルキルアミノアルキル基、その他アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルアミノカルボニルアルキル基、アルコキシスルホニルアルキル基等が挙げられる。   The substituted alkyl group is a group in which at least one hydrogen of the above-described unsubstituted alkyl group is substituted with various functional groups. For example, an alkoxyalkyl group in which the hydrogen of an unsubstituted alkyl group is substituted with an alkoxy group, an alkoxyalkoxyalkyl group in which the hydrogen of an unsubstituted alkyl group is substituted with an alkoxyalkoxy group, or the hydrogen of an unsubstituted alkyl group is an alkoxyalkoxy group An alkoxyalkoxyalkyl group substituted with an alkoxy group, a halogenated alkyl group in which the hydrogen of the unsubstituted alkyl group is substituted with a halogen atom, an aminoalkyl group in which the hydrogen of the unsubstituted alkyl group is substituted with an amino group, Examples thereof include alkylaminoalkyl groups and dialkylaminoalkyl groups in which hydrogen of the substituted alkyl group is substituted with alkylamino groups, other alkoxycarbonylalkyl groups, alkylaminocarbonylalkyl groups, alkoxysulfonylalkyl groups, and the like.

アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシエトキシエチル基、ジメトキシメチル基、ジエトチキシメチル基、ジメトキシエチル基、ジエトキシエチル基等が挙げられ、ハロゲン化アルキル基としては、クロロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ2−プロピル基等が挙げられる。   Alkoxyalkyl groups include methoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl, butoxyethyl, 3-methoxypropyl, 3-ethoxypropyl, methoxyethoxymethyl, ethoxyethoxyethyl, dimethoxymethyl Group, diethoxymethyl group, dimethoxyethyl group, diethoxyethyl group and the like. Examples of the halogenated alkyl group include chloromethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, trifluoromethyl group, 1,1. 1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl group and the like.

置換又は未置換のアリール基のうち、未置換のものとしては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、置換アリール基とは、上記の未置換のアリール基の少なくとも1つの水素が種々の官能基に置換されたものである。例えば、置換フェニル基としては、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、ブロモフェニル基、フロロフェニル基、ペンタフロロフェニル基、ヨウ化フェニル基等のハロゲン化フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ジメチルエチルフェニル基、iso−プロピルフェニル基、t−ブチルフェニル基、t−ブチルメチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、トリフロロメチルフェニル基等のアルキル誘導体置換フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、イソプロポキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、2−エチルヘキシルオキシフェニル基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシフェニル基、メチルエトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、1−メトキシ−5−エトキシフェニル基、1−メトキシ−2−エトキシフェニル基、1−メトキシ−3−エトキシフェニル基、1−メトキシ−4−エトキシフェニル基、1−エトキシ−2−メトキシフェニル基、2−メトキシ−3−エトキシフェニル基、2−メトキシ−4−エトキシフェニル基、2−メトキシ−5−エトキシフェニル基、1−エトキシ−4−メトキシフェニル基、2−メトキシ−3−エトキシフェニル基、ジエトキシフェニル基、エトキシエトキシフェニル基、ジ(エトキシエトキシ)フェニル基、エトキシエトキシエトキシフェニル基、ジ(エトキシエトキシエトキシ)フェニル基、3−メトキシ−4−(2−メトキシエトキシ)フェニル基、3−メトキシ−4−(2−エトキシエトキ)シフェニル基、3−エトキシ−4(2−メトキシエトキ)シフェニル基、3−エトキシ−4−(2−エトキシエトキ)シフェニル基、3−プロポキシ−4−(2−メトキシエトキシ)フェニル基、3−プロポキシ−4−(2−エトキシエトキ)シフェニル基、3−iso−プロポキシ−4−(2−メトキシエトキ)シフェニル基、3−iso−プロポキシ−4−(2−エトキシエトキ)シフェニル基、2−(2−ヒドロキシ)−3−メトキシフェニル基、3−メトキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル基、クロロメトキシフェニル基、クロロエトキシフェニル基等のアルコキシ置換フェニル基、メチルチオフェニル基、エチルチオフェニル基、t−ブチルチオフェニル基、ジ−tert−ブチルチオフェニル基、2−メチル−1−メチルチオフェニル基等のアルキルチオ基置換フェニル基、N,N−ジメチルアミノフェニル基、N,N−ジエチルアミノフェニル基、N,N−ジプロピルアミノフェニル基、N,N−ジブチルアミノフェニル基、N,N−ジアミルアミノフェニル基、N,N−ジヘキシルアミノフェニル基、N−メチル−N−エチルアミノフェニル基、N−ブチル−N−エチルアミノフェニル基、N−ヘキシル−N−エチルアミノフェニル基、4−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルフェニル基、4−(N,N−ジエチルアミノ)−エチルフェニル基、3−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルフェニル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルフェニル基等のアルキルアミノフェニル基等が挙げられる。   Among the substituted or unsubstituted aryl groups, examples of the unsubstituted one include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, and the like. The substituted aryl group includes various kinds of at least one hydrogen of the above-described unsubstituted aryl group. The functional group is substituted. For example, the substituted phenyl group includes a halogenated phenyl group such as a chlorophenyl group, a dichlorophenyl group, a trichlorophenyl group, a bromophenyl group, a fluorophenyl group, a pentafluorophenyl group, and a phenyl iodide group, a tolyl group, a xylyl group, and a mesityl group. Alkylphenyl-substituted phenyl groups such as ethylphenyl group, dimethylethylphenyl group, iso-propylphenyl group, t-butylphenyl group, t-butylmethylphenyl group, octylphenyl group, nonylphenyl group, trifluoromethylphenyl group, Methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, propoxyphenyl group, isopropoxyphenyl group, hexyloxyphenyl group, cyclohexyloxyphenyl group, octyloxyphenyl group, 2-ethylhexyloxyphenyl group, 3, 5, 5 Trimethylhexyloxyphenyl group, methylethoxyphenyl group, dimethoxyphenyl group, 1-methoxy-5-ethoxyphenyl group, 1-methoxy-2-ethoxyphenyl group, 1-methoxy-3-ethoxyphenyl group, 1-methoxy-4 -Ethoxyphenyl group, 1-ethoxy-2-methoxyphenyl group, 2-methoxy-3-ethoxyphenyl group, 2-methoxy-4-ethoxyphenyl group, 2-methoxy-5-ethoxyphenyl group, 1-ethoxy-4 -Methoxyphenyl group, 2-methoxy-3-ethoxyphenyl group, diethoxyphenyl group, ethoxyethoxyphenyl group, di (ethoxyethoxy) phenyl group, ethoxyethoxyethoxyphenyl group, di (ethoxyethoxyethoxy) phenyl group, 3- Methoxy-4- (2-methoxyethoxy) ) Phenyl group, 3-methoxy-4- (2-ethoxyethoxy) siphenyl group, 3-ethoxy-4 (2-methoxyethoxy) siphenyl group, 3-ethoxy-4- (2-ethoxyethoxy) siphenyl group, 3-propoxy- 4- (2-methoxyethoxy) phenyl group, 3-propoxy-4- (2-ethoxyethoxy) siphenyl group, 3-iso-propoxy-4- (2-methoxyethoxy) siphenyl group, 3-iso-propoxy-4- Alkoxy substitution such as (2-ethoxyethoxy) siphenyl group, 2- (2-hydroxy) -3-methoxyphenyl group, 3-methoxy-4- (2-hydroxyethoxy) phenyl group, chloromethoxyphenyl group, chloroethoxyphenyl group Phenyl group, methylthiophenyl group, ethylthiophenyl group, t-butylthiophenyl group Alkylthio group-substituted phenyl groups such as di-tert-butylthiophenyl group and 2-methyl-1-methylthiophenyl group, N, N-dimethylaminophenyl group, N, N-diethylaminophenyl group, N, N-dipropyl Aminophenyl group, N, N-dibutylaminophenyl group, N, N-diamylaminophenyl group, N, N-dihexylaminophenyl group, N-methyl-N-ethylaminophenyl group, N-butyl-N-ethyl Aminophenyl group, N-hexyl-N-ethylaminophenyl group, 4- (N, N-dimethylamino) -ethylphenyl group, 4- (N, N-diethylamino) -ethylphenyl group, 3- (N, N -Dimethylamino) -ethylphenyl group, alkylaminophenyl group such as 2- (N, N-dimethylamino) -ethylphenyl group, etc. And the like.

また、置換ナフチル基としては、クロロナフチル基、ジクロロナフチル基、トリクロロナフチル基、ブロモナフチル基、フロロナフチル基、ペンタフロロナフチル基、ヨウ化ナフチル基等のハロゲン化ナフチル基、エチルナフチル基、ジメチルエチルナフチル基、iso−プロピルナフチル基、t−ブチルナフチル基、t−ブチルメチルナフチル基、オクチルナフチル基、ノニルナフチル基、トリフロロメチルナフチル基のアルキル誘導体置換ナフチル基、メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、プロポキシナフチル基、ヘキシルオキシナフチル基、シクロヘキシルオキシナフチル基、オキチルオキシナフチル基、2−エチルヘキシルオキシナフチル基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシナフチル基、メチルエトキシナフチル基、ジメトキシナフチル基、クロロメトキシナフチル基、エトキシエトキシナフチル基、エトキシエトキシエトキシナフチル基等のアルコキシ基置換ナフチル基、メチルチオナフチル基、エチルチオナフチル基、t−ブチルチオナフチル基、メチルエチルチオナフチル基、ブチルメチルチオナフチル基等のアルキルチオ基置換ナフN,N−ジメチルアミノナフチル基、N,N−ジエチルアミノナフチル基、N,N−ジプロピルアミノナフチル基、N,N−ジブチルアミノナフチル基、N,N−ジアミルアミノナフチル基、N,N−ジヘキシルアミノナフチル基、N−メチル−N−エチルアミノナフチル基、N−ブチル−N−エチルアミノナフチル基、N−ヘキシル−N−エチルアミノナフチル基、4−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルナフチル基、4−(N,N−ジエチルアミノ)−エチルナフチル基、3−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルナフチル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)−エチルナフチル基等のアルキルアミノナフチル基が挙げられる。   Examples of the substituted naphthyl group include a chloronaphthyl group, a dichloronaphthyl group, a trichloronaphthyl group, a bromonaphthyl group, a fluoronaphthyl group, a pentafluoronaphthyl group, a iodide naphthyl group, and the like, an ethylnaphthyl group, and dimethylethyl Naphthyl group, iso-propyl naphthyl group, t-butyl naphthyl group, t-butylmethyl naphthyl group, octyl naphthyl group, nonyl naphthyl group, trifluoromethyl naphthyl group alkyl derivative substituted naphthyl group, methoxy naphthyl group, ethoxy naphthyl group, Propoxynaphthyl group, hexyloxynaphthyl group, cyclohexyloxynaphthyl group, octyloxynaphthyl group, 2-ethylhexyloxynaphthyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxynaphthyl group, methylethoxynaphthyl group, Alkoxy group-substituted naphthyl group such as methoxynaphthyl group, chloromethoxynaphthyl group, ethoxyethoxynaphthyl group, ethoxyethoxyethoxynaphthyl group, methylthionaphthyl group, ethylthionaphthyl group, t-butylthionaphthyl group, methylethylthionaphthyl group, butyl Alkylthio group substituted naphth N, N-dimethylaminonaphthyl group, N, N-diethylaminonaphthyl group, N, N-dipropylaminonaphthyl group, N, N-dibutylaminonaphthyl group, N, N-dia, such as methylthionaphthyl group Milaminonaphthyl group, N, N-dihexylaminonaphthyl group, N-methyl-N-ethylaminonaphthyl group, N-butyl-N-ethylaminonaphthyl group, N-hexyl-N-ethylaminonaphthyl group, 4- ( N, N-dimethylamino) -ethylnaphthy Alkylaminonaphthyl such as 4-, (N, N-diethylamino) -ethylnaphthyl group, 3- (N, N-dimethylamino) -ethylnaphthyl group, 2- (N, N-dimethylamino) -ethylnaphthyl group Groups.

置換又は未置換のアリール基としては、これらの他、置換又は未置換のp−ニトロフェニル基、置換又は未置換のピリジル基、置換又は未置換のピロジリル基、置換又は未置換のピペリジル基、置換又は未置換のモルホリン基、置換又は未置換のテトラヒドロピリジル基、置換又は未置換のチオフェニル基、置換又は未置換のイミダゾリル基、置換又は未置換のフリル基等も挙げられる。   In addition to these, the substituted or unsubstituted aryl group includes a substituted or unsubstituted p-nitrophenyl group, a substituted or unsubstituted pyridyl group, a substituted or unsubstituted pyrrolidyl group, a substituted or unsubstituted piperidyl group, a substituted Alternatively, an unsubstituted morpholine group, a substituted or unsubstituted tetrahydropyridyl group, a substituted or unsubstituted thiophenyl group, a substituted or unsubstituted imidazolyl group, a substituted or unsubstituted furyl group, and the like can also be mentioned.

上記の式(15)、(16)で表されるチオール金属錯体化合物のR10 〜R17で表される置換基で特に好ましいものは、互いに同一もしくは相異なるアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、iso−プロピルフェニル基、t−ブチルフェニル基、t−ブチルメチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、N,N−ジメチルアミノフェニル基、N,N−ジエチルアミノフェニル基、N,N−ジブチルアミノフェニル基、エチルナフチル基、ジメチルエチルナフチル基、iso−プロピルナフチル基、t−ブチルナフチル基、t−ブチルメチルナフチル基、メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、プロポキシナフチル基、メチルチオナフチル基、エチルチオナフチル基、t−ブチルチオナフチル基、メチルエチルチオナフチル基、ブチルメチルチオナフチル基、N,N−ジメチルアミノナフチル基、N,N−ジエチルアミノナフチル基、N,N−ジプロピルアミノナフチル基、N,N−ジブチルアミノナフチル基等の炭素数3〜20の置換又は未置換のアルキル基、フェニル基或いはナフチル基であり、また、特に好ましいMはニッケルである。   Particularly preferred substituents represented by R10 to R17 of the thiol metal complex compounds represented by the above formulas (15) and (16) are the same or different alkyl groups, phenyl groups, naphthyl groups, and tolyl groups. , Xylyl group, mesityl group, ethylphenyl group, dimethylphenyl group, iso-propylphenyl group, t-butylphenyl group, t-butylmethylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, propoxyphenyl group, N, N- Dimethylaminophenyl group, N, N-diethylaminophenyl group, N, N-dibutylaminophenyl group, ethylnaphthyl group, dimethylethylnaphthyl group, iso-propylnaphthyl group, t-butylnaphthyl group, t-butylmethylnaphthyl group, Methoxynaphthyl group, ethoxynaphthyl group, propoxynaphthyl Group, methylthionaphthyl group, ethylthionaphthyl group, t-butylthionaphthyl group, methylethylthionaphthyl group, butylmethylthionaphthyl group, N, N-dimethylaminonaphthyl group, N, N-diethylaminonaphthyl group, N, N A substituted or unsubstituted alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, such as a dipropylaminonaphthyl group or N, N-dibutylaminonaphthyl group, a phenyl group or a naphthyl group, and particularly preferred M is nickel.

又、併用できる無機金属の近赤外線吸収色素としては、例えば、金属銅又は硫化銅、酸化銅等の銅化合物、酸化亜鉛を主成分とする混合物、タングステン化合物、酸化チタンを主成分とする混合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、近赤外線を吸収する化合物であればよい。これらが本発明の樹脂組成物に溶解しない場合は上記の方法で分散化や混合して使用することができる。   Examples of the near-infrared absorbing dyes of inorganic metals that can be used in combination include copper compounds such as metallic copper or copper sulfide, copper oxide, mixtures containing zinc oxide as a main component, tungsten compounds, mixtures containing titanium oxide as a main component, etc. However, it is not limited to these, and any compound that absorbs near-infrared light may be used. When these do not dissolve in the resin composition of the present invention, they can be dispersed or mixed by the above method.

近赤外線吸収用の本発明の光学フィルタは、撮像素子用途やディスプレイの前面板に限らず、近赤外線をカットする必要があるフィルタフィルム、例えば、断熱フィルム、光学製品、サングラス等にも使用することが出来る。   The optical filter of the present invention for absorbing near infrared rays is used not only for imaging device applications and display front plates, but also for filter films that need to cut near infrared rays, such as heat insulating films, optical products, sunglasses, etc. I can do it.

以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明する。尚、本発明はこれら合成例、実施例に限定されるものではない。なお、合成例、実施例中の各物性値は以下の方法で測定した。ここで、部は特に断りのない限り重量部を表す。
○重量平均分子量:GPC法により、下記条件で測定したポリスチレン換算で算出した。
GPCの測定条件
メーカー:島津製作所
カラム:ガードカラム SHODEX GPC LF−G LF−804(3本)
流速:1.0ml/min.
カラム温度:40℃
使用溶剤:THF(テトラヒドロフラン)
検出器:RI(示差屈折検出器)
○分光特性:紫外可視分光光度計UV−3150(島津製作所社製)
○酸価:JIS K−2501に記載の方法で測定した。
○エポキシ当量:JIS K−7236に記載の方法で測定した。
○粘度:25℃においてE型粘度計を使用して測定した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to synthesis examples and examples. The present invention is not limited to these synthesis examples and examples. In addition, each physical-property value in a synthesis example and an Example was measured with the following method. Here, the part represents part by weight unless otherwise specified.
○ Weight average molecular weight: It was calculated by polystyrene conversion measured under the following conditions by the GPC method.
GPC measurement conditions Manufacturer: Shimadzu Corporation Column: Guard column SHODEX GPC LF-G LF-804 (3)
Flow rate: 1.0 ml / min.
Column temperature: 40 ° C
Solvent: THF (tetrahydrofuran)
Detector: RI (differential refraction detector)
○ Spectral characteristics: UV-visible spectrophotometer UV-3150 (manufactured by Shimadzu Corporation)
○ Acid value: measured by the method described in JIS K-2501.
○ Epoxy equivalent: Measured by the method described in JIS K-7236.
○ Viscosity: Measured using an E-type viscometer at 25 ° C.

[合成例1](エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物の合成)
2-(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン394部、分子量1700(GPC測定値)のシラノール基をもつポリジメチルジフェニルシロキサン475部、0.5%KOHメタノール溶液4部、イソプロピルアルコール36部を反応容器に仕込み、75℃に昇温した。昇温後、還流下にて10時間反応させた。その後、室温まで冷却し、メタノール656部を追加した。その後、50%蒸留水メタノール溶液172.8部を60分かけて滴下し、還流温度まで昇温してさらに10時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、5%第1水素ナトリウムリン酸水溶液で中和後、80℃に昇温し、メタノールを蒸留回収した。その後、室温まで冷却し、洗浄のために、メチルイソブチルケトン(MIBK)780部を添加後、水洗を3回繰り返した。次いで有機相を減圧下、100℃で溶媒を除去することによりシリコーン骨格エポキシ樹脂(X)731部を得た。得られた化合物(X)はエポキシ当量491g/eq、重量平均分子量2090、粘度3328mPa・s、外観は無色透明であった。
[Synthesis Example 1] (Synthesis of a condensation product of a silicon compound having an epoxy group and another silicon compound)
394 parts of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 475 parts of polydimethyldiphenylsiloxane having a silanol group with a molecular weight of 1700 (measured by GPC), 4 parts of 0.5% KOH methanol solution, 36 parts of isopropyl alcohol Was charged into a reaction vessel and heated to 75 ° C. After raising the temperature, the reaction was carried out under reflux for 10 hours. Then, it cooled to room temperature and added 656 parts of methanol. Thereafter, 172.8 parts of a 50% distilled water methanol solution was added dropwise over 60 minutes, the temperature was raised to the reflux temperature, and the reaction was further continued for 10 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to room temperature, neutralized with 5% aqueous sodium hydrogen phosphate solution, heated to 80 ° C., and methanol was recovered by distillation. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, 780 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK) was added for washing, and washing with water was repeated three times. Next, the organic phase was removed under reduced pressure at 100 ° C. to obtain 731 parts of a silicone skeleton epoxy resin (X). The obtained compound (X) had an epoxy equivalent of 491 g / eq, a weight average molecular weight of 2090, a viscosity of 3328 mPa · s, and the appearance was colorless and transparent.

[合成例2](エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物の合成)
2-(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン111部、分子量1700(GPC測定値)のシラノール基をもつポリジメチルジフェニルシロキサン100部、0.5%KOHメタノール溶液1部、イソプロピルアルコール8部を反応容器に仕込み、75℃に昇温した。昇温後、還流下にて10時間反応させた。その後、メタノール120部を追加し、50%蒸留水メタノール溶液48.6部を60分かけて滴下し、還流下さらに10時間反応させた。反応終了後、5%第1水素ナトリウムリン酸水溶液で中和後、80℃に昇温し、メタノールを蒸留回収した。その後、室温まで冷却し、洗浄のために、MIBK174部を添加後、水洗を3回繰り返した。次いで有機相を減圧下、100℃で溶媒を除去することによりシリコーン骨格エポキシ樹脂(Y)174部を得た。得られた化合物(Y)はエポキシ当量411g/eq、重量平均分子量3200、粘度15140mPa・s、外観は無色透明であった。
[Synthesis Example 2] (Synthesis of a condensate between a silicon compound having an epoxy group and another silicon compound)
111 parts of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 100 parts of polydimethyldiphenylsiloxane having a silanol group with a molecular weight of 1700 (measured by GPC), 1 part of 0.5% KOH methanol solution, 8 parts of isopropyl alcohol Was charged into a reaction vessel and heated to 75 ° C. After raising the temperature, the reaction was carried out under reflux for 10 hours. Then, 120 parts of methanol was added, 48.6 parts of 50% distilled water methanol solution was added dropwise over 60 minutes, and the mixture was further reacted for 10 hours under reflux. After completion of the reaction, the reaction mixture was neutralized with 5% aqueous sodium hydrogen phosphate solution, heated to 80 ° C., and methanol was recovered by distillation. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, 174 parts of MIBK was added for washing, and washing with water was repeated three times. Next, the organic phase was removed under reduced pressure at 100 ° C. to obtain 174 parts of a silicone skeleton epoxy resin (Y). The compound (Y) obtained had an epoxy equivalent of 411 g / eq, a weight average molecular weight of 3200, a viscosity of 15140 mPa · s, and the appearance was colorless and transparent.

[合成例3](多価カルボン酸樹脂の合成例)
撹拌装置、ジムロートコンデンサ、温度計を設置したガラス製セパラブルフラスコに、両末端カルビノール変性シリコーンであるX22-160AS(信越化学工業(株)製)243.5部、ポリエステルポリオールであるアデカニューエースY9−10(ADEKA(株)製、上記の式(3)においてRがネオペンチル基でRがブチル基であるポリエステルポリオール)60.9部、分子内に1つのカルボン酸無水基を含有する化合物であるリカシッドMH(メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、新日本理化(株)製)83.5部、分子内に2つ以上のカルボン酸無水物基を含有する化合物であるリカシッドBT−100(ブタンテトラカルボン酸二無水物、新日本理化(株)製)12.3部を仕込み、70℃で3時間、140℃で16時間反応させ、多価カルボン酸樹脂(Z)400部を得た。この時にGPC測定において、リカシッドBT−100および、リカシッドMHのピークは消失していた。得られた化合物(Z)は酸価76.7mgKOH/g、重量平均分子量3452、粘度5730mPa・s、外観は無色透明の液状であった。
[Synthesis Example 3] (Synthesis Example of Polycarboxylic Acid Resin)
In a glass separable flask equipped with a stirrer, a Dimroth condenser, and a thermometer, 243.5 parts X22-160AS (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), a terminal carbinol-modified silicone, and ADEKA NEW ACE, a polyester polyol Y9-10 (made by ADEKA Corporation, polyester polyol in which R 6 is a neopentyl group and R 7 is a butyl group in the above formula (3)) 60.9 parts, containing one carboxylic anhydride group in the molecule Ricacid MH (methyl hexahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) 83.5 parts, Ricacid BT-100 (compound containing two or more carboxylic anhydride groups in the molecule) 12.3 parts of butanetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Shin Nippon Rika) By the time the reaction to give the polycarboxylic acid resin (Z) 400 parts. At this time, the peaks of Ricacid BT-100 and Ricacid MH disappeared in the GPC measurement. The obtained compound (Z) was an acid value of 76.7 mgKOH / g, a weight average molecular weight of 3452, a viscosity of 5730 mPa · s, and the appearance was a colorless and transparent liquid.

[実施例1]
撹拌装置、温度計を設置したガラス製セパラブルフラスコに、エポキシ樹脂硬化剤として合成例3で得られた多価カルボン酸樹脂(Z)72.4部、硬化促進剤としてステアリン酸亜鉛0.50部を入れ、60℃で1時間撹拌をしながらステアリン酸亜鉛を多価カルボン酸樹脂(Z)に溶解させた。その後、28℃まで放冷し、エポキシ樹脂として合成例1で得られたシリコーン骨格エポキシ樹脂(X)40部、合成例2で得られたシリコーン骨格エポキシ樹脂(Y)60部、ERL-4221(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−(3,4−エポキシ)シクロヘキシルカルボキシレート、ダウケミカル製)5.0部を入れ、28℃で均一になるまで撹拌した。そこにクロロホルム150部、下記式(13)(特開2008−88426号公報に記載の化合物31、クロロホルム中のλmax:831nm)を1.0部添加し、28℃で均一になるまで撹拌することで本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物をスピンコーター上に配置したガラス基板上に滴下し、その基板を1000rpmで30秒間回転させることで基板表面をコーティングし、その後80℃で10分間乾燥させて溶媒を除去し、150℃で3時間熱硬化し、光学フィルタを得た。この光学フィルタを210℃で10分間放置し、加熱前後の分光波形を比較することで、耐熱性を評価した。

Figure 2014214262
[Example 1]
In a glass separable flask equipped with a stirrer and a thermometer, 72.4 parts of the polyvalent carboxylic acid resin (Z) obtained in Synthesis Example 3 as an epoxy resin curing agent, and 0.55 zinc stearate as a curing accelerator. The zinc stearate was dissolved in the polyvalent carboxylic acid resin (Z) while stirring at 60 ° C. for 1 hour. Thereafter, it was allowed to cool to 28 ° C., and 40 parts of the silicone skeleton epoxy resin (X) obtained in Synthesis Example 1 as an epoxy resin, 60 parts of the silicone skeleton epoxy resin (Y) obtained in Synthesis Example 2, ERL-4221 ( 5.0 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl- (3,4-epoxy) cyclohexylcarboxylate, manufactured by Dow Chemical) was added and stirred at 28 ° C. until uniform. 150 parts of chloroform and 1.0 part of the following formula (13) (Compound 31 described in JP-A-2008-88426, λmax in chloroform: 831 nm) are added thereto and stirred at 28 ° C. until uniform. Thus, the resin composition of the present invention was obtained. This resin composition is dropped onto a glass substrate placed on a spin coater, and the substrate surface is coated by rotating the substrate at 1000 rpm for 30 seconds, and then dried at 80 ° C. for 10 minutes to remove the solvent, and 150 Thermosetting at 3 ° C. for 3 hours gave an optical filter. This optical filter was allowed to stand at 210 ° C. for 10 minutes, and the heat resistance was evaluated by comparing spectral waveforms before and after heating.
Figure 2014214262

[比較例1]
撹拌装置、温度計を設置したガラス製セパラブルフラスコに、クロロホルム700部、ジアリルフタレート樹脂(ダイソー株式会社製、商品名「ダイソーダップS」)300部、実施例1と同じ赤外線吸収色素0.80部、を添加し、28℃で十分に撹拌して比較用樹脂組成物を得た。この樹脂組成物をスピンコーター上に配置したガラス基板上に滴下し、その基板を1000rpmで30秒間回転させることで基板表面をコーティングし、その後80℃で10分間乾燥させて溶媒を除去することで、光学フィルタを得た。この光学フィルタを150℃で3時間、その後210℃で10分間放置し、加熱前後の分光波形を比較することで、耐熱性を評価した。
[Comparative Example 1]
In a glass separable flask equipped with a stirrer and a thermometer, 700 parts of chloroform, 300 parts of diallyl phthalate resin (manufactured by Daiso Co., Ltd., trade name “Daisodap S”), the same infrared absorbing dye 0.80 as in Example 1 And the mixture was sufficiently stirred at 28 ° C. to obtain a comparative resin composition. This resin composition is dropped on a glass substrate placed on a spin coater, and the substrate surface is coated by rotating the substrate at 1000 rpm for 30 seconds, and then dried at 80 ° C. for 10 minutes to remove the solvent. An optical filter was obtained. This optical filter was allowed to stand at 150 ° C. for 3 hours and then at 210 ° C. for 10 minutes, and the heat resistance was evaluated by comparing spectral waveforms before and after heating.

[光学特性]
前記の分光光度計を用い、実施例1、及び比較例1の各光学フィルタの吸光度を300〜1100nmの範囲を1nmのサンプリングピッチで測定した。実施例1、及び比較例1の光学フィルタの耐熱試験前後における最大吸収波長(830nm)吸光度の変化を表1に示す。
[optical properties]
Using the spectrophotometer, the absorbance of each optical filter of Example 1 and Comparative Example 1 was measured in the range of 300 to 1100 nm at a sampling pitch of 1 nm. Table 1 shows changes in absorbance at the maximum absorption wavelength (830 nm) before and after the heat resistance test of the optical filters of Example 1 and Comparative Example 1.

表1

Figure 2014214262
Table 1
Figure 2014214262

表1における初期の吸光度A1が基準となるよう規格化を行い、表2を得た。   Normalization was performed so that the initial absorbance A1 in Table 1 was used as a reference, and Table 2 was obtained.

表2

Figure 2014214262
Table 2
Figure 2014214262

B2、B3の値が大きいほど、熱負荷に対する近赤外光吸収の衰退が小さく、耐熱性に優れた近赤外線カットフィルタと言える。表2の結果から比較例1のB2,B3は共に実施例1のB2,B3より低い値を示し、近赤外カットフィルタとして劣る結果を示した。   It can be said that as the values of B2 and B3 are larger, the near-infrared light absorption decay with respect to the heat load is smaller, and the near-infrared cut filter is excellent in heat resistance. From the results shown in Table 2, B2 and B3 in Comparative Example 1 both showed lower values than B2 and B3 in Example 1, indicating inferior results as near-infrared cut filters.

本発明の熱硬化性樹脂組成物及びこれによって得られる近赤外線カットフィルタ(光学フィルタ)は熱負荷がかかっても近赤外吸収の衰退が小さく耐候性が高いことに加え、樹脂溶液としてスピンコート等の方法で簡便に製膜することが可能であり加工性も高いため、各種用途の光学フィルタ、特にCCDやCMOSなどの撮像素子用の近赤外線カットフィルタ(光学フィルタ)として非常に有用である。   The thermosetting resin composition of the present invention and the near-infrared cut filter (optical filter) obtained thereby are spin coatable as a resin solution, in addition to having a small deterioration of near-infrared absorption and high weather resistance even when a thermal load is applied. Therefore, it is very useful as an optical filter for various applications, particularly as a near-infrared cut filter (optical filter) for an image sensor such as a CCD or CMOS. .

Claims (12)

エポキシ樹脂(A)及びエポキシ樹脂硬化剤(B)、近赤外線吸収色素(C)を含有する樹脂組成物。 A resin composition containing an epoxy resin (A), an epoxy resin curing agent (B), and a near-infrared absorbing dye (C). エポキシ樹脂(A)が、シリコーン骨格エポキシ樹脂である請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, wherein the epoxy resin (A) is a silicone skeleton epoxy resin. シリコーン骨格エポキシ樹脂が下記2段階の反応を経て合成されることを特徴とする請求項1または2に記載の硬化性樹脂組成物。
第1段階反応;一般式(1)で表されるシラノール末端シリコーンオイル(a)と、一般式(2)で表されるエポキシ基含有ケイ素化合物(b)との縮反応。
第2段階反応;前記の第1段階反応で得られた反応物と添加した水をとの反応によるアルコキシ基の脱アルコール加水分解縮合反応。
Figure 2014214262
(式中、Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、あるいは炭素数2〜10のアルケニル基を表し、mは平均値で2〜2000を表す。)
Figure 2014214262
(式中、Xはエポキシ基を有する置換基を、Rは炭素数1〜10の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基又は炭素数6〜10の芳香族炭化水素基を有するアリール基、Rは炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を、pは0、1、2の整数、qは(3−p)、を表す。)
The curable resin composition according to claim 1 or 2, wherein the silicone skeleton epoxy resin is synthesized through the following two-step reaction.
First stage reaction: a condensation reaction between the silanol-terminated silicone oil (a) represented by the general formula (1) and the epoxy group-containing silicon compound (b) represented by the general formula (2).
Second stage reaction: dealcoholization hydrolysis condensation reaction of alkoxy group by reaction between the reaction product obtained in the first stage reaction and added water.
Figure 2014214262
(In the formula, R 1 may be the same or different from each other, and is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or 2 carbon atoms. 10 represents an alkenyl group, and m represents an average value of 2 to 2000.)
Figure 2014214262
(In the formula, X is a substituent having an epoxy group, R 2 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms. R 3 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, p represents an integer of 0, 1, 2 and q represents (3-p).)
エポキシ樹脂硬化剤(B)が多価カルボン酸樹脂である請求項1乃至3のいずれか一項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the epoxy resin curing agent (B) is a polyvalent carboxylic acid resin. 多価カルボン酸樹脂が次の(c)及び(d)を含む化合物の付加重合体である、請求項4に記載の硬化性樹脂組成物
(c);分子内に2つ以上の水酸基を含有する多価アルコール化合物。
(d);分子内に1つ以上の酸無水物基を含有する化合物。
The curable resin composition (c) according to claim 4, wherein the polyvalent carboxylic acid resin is an addition polymer of a compound containing the following (c) and (d): containing two or more hydroxyl groups in the molecule A polyhydric alcohol compound.
(D); a compound containing one or more acid anhydride groups in the molecule.
多価カルボン酸樹脂が次の(c)〜(e)を含む化合物の付加重合体である請求項4に記載の硬化性樹脂組成物
(c);分子内に2つ以上の水酸基を含有する多価アルコール化合物。
(d);分子内に1つ以上の酸無水物基を含有する化合物。
(e);両末端カルビノール変性シリコーンオイル。
The curable resin composition (c) according to claim 4, wherein the polyvalent carboxylic acid resin is an addition polymer of a compound containing the following (c) to (e): containing two or more hydroxyl groups in the molecule Polyhydric alcohol compound.
(D); a compound containing one or more acid anhydride groups in the molecule.
(E): Both ends carbinol-modified silicone oil.
以下の(l)〜(n)を特徴とする請求項6に記載の硬化性樹脂組成物。
(l);分子内に2つ以上の水酸基を含有する多価アルコール化合物(c)が下記式(3)の構造を有する。
(m);分子内に1つ以上の酸無水物基を含有する化合物(d)が下記式(4)乃至(11)からなる群より選択される一種以上である。
(n);両末端カルビノール変性シリコーンオイル(e)が下記の式(12)の構造を有する。
Figure 2014214262
(式中、R、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜10のアルキレン基を、mは平均値で1〜1000を表す。)
Figure 2014214262
Figure 2014214262
(式中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜10のアルキレン基又は炭素数1〜10のエーテル結合を含むアルキレン基、Rはそれぞれ独立してメチル基又はフェニル基、nは平均値で1〜1000、を表す。)
The curable resin composition according to claim 6, characterized by the following (l) to (n).
(L): The polyhydric alcohol compound (c) containing two or more hydroxyl groups in the molecule has the structure of the following formula (3).
(M): The compound (d) containing one or more acid anhydride groups in the molecule is at least one selected from the group consisting of the following formulas (4) to (11).
(N): Both end carbinol-modified silicone oil (e) has the structure of the following formula (12).
Figure 2014214262
(Wherein R 6 and R 7 each independently represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents an average value of 1 to 1000).
Figure 2014214262
Figure 2014214262
(In the formula, each R 4 is independently an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or an alkylene group containing an ether bond having 1 to 10 carbon atoms, R 5 is each independently a methyl group or a phenyl group, and n is an average value. Represents 1 to 1000.)
近赤外吸収色素(C)が、シアニン化合物、ポリメチン化合物、ジイモニウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、金属ジチオール錯体、金属ジアミン錯体から選択される、少なくとも一種類を含有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The near-infrared absorbing dye (C) contains at least one kind selected from a cyanine compound, a polymethine compound, a diimonium compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound, a metal dithiol complex, and a metal diamine complex. Item 8. The resin composition according to any one of Items 1 to 7. 近赤外吸収色素(C)が、少なくとも1種類のシアニン化合物であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the near-infrared absorbing dye (C) is at least one cyanine compound. 請求項9に記載のシアニン化合物のメチン鎖の炭素数が5以上であることを特徴とする、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the methine chain of the cyanine compound according to claim 9 has 5 or more carbon atoms. 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の樹脂組成物を用いた近赤外線カットフィルタ。 The near-infrared cut filter using the resin composition as described in any one of Claims 1 thru | or 10. 請求項11に記載の近赤外線カットフィルタを具備した撮像素子。 An image sensor comprising the near infrared cut filter according to claim 11.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016104491A1 (en) * 2014-12-26 2016-06-30 Jsr株式会社 Infrared-blocking composition, cured film, and solid-state imaging device
JP2017222781A (en) * 2016-06-15 2017-12-21 デクセリアルズ株式会社 Thermosetting epoxy resin composition, and method for producing the same
CN112608600A (en) * 2019-10-04 2021-04-06 日铁化学材料株式会社 Curable resin composition containing silicone resin, cured product thereof, and method for producing silicone resin

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016104491A1 (en) * 2014-12-26 2016-06-30 Jsr株式会社 Infrared-blocking composition, cured film, and solid-state imaging device
CN107076894A (en) * 2014-12-26 2017-08-18 Jsr株式会社 Infrared ray shielding composition, cured film and solid camera head
JPWO2016104491A1 (en) * 2014-12-26 2017-11-24 Jsr株式会社 Infrared shielding composition, cured film, and solid-state imaging device
CN107076894B (en) * 2014-12-26 2020-01-31 Jsr株式会社 Infrared shielding composition, cured film, and solid-state imaging device
TWI701304B (en) * 2014-12-26 2020-08-11 日商Jsr股份有限公司 Infrared shielding composition, cured film and solid-state imaging device
JP2017222781A (en) * 2016-06-15 2017-12-21 デクセリアルズ株式会社 Thermosetting epoxy resin composition, and method for producing the same
CN112608600A (en) * 2019-10-04 2021-04-06 日铁化学材料株式会社 Curable resin composition containing silicone resin, cured product thereof, and method for producing silicone resin
CN112608600B (en) * 2019-10-04 2024-05-14 日铁化学材料株式会社 Curable resin composition containing silicone resin, cured product thereof, and method for producing silicone resin

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