JP2014120621A - Semiconductor laser device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、複数の半導体レーザ素子を用いて高出力の光ビームを発生する半導体レーザ装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor laser device that generates a high-power light beam using a plurality of semiconductor laser elements.
従来の半導体レーザ装置(例えば、特許文献1)では、階段状のジグの上に半導体レーザ素子を配置し、発光点を2次元的に集約している。他の先行技術(例えば、特許文献2)では、発光点が同一平面上に配置されている、いわゆるスタック型の半導体レーザ装置を使用しており、冷却に関して制約が多く、また、発光点間隔を狭める工夫はされているが、光路差については何ら考慮されていない。さらに他の先行技術(例えば、特許文献3)では、光軸を直角に折り返し、段差を設けた構成でも、発光点間の光路差が考慮されていない。 In a conventional semiconductor laser device (for example, Patent Document 1), semiconductor laser elements are arranged on a step-like jig, and light emission points are two-dimensionally aggregated. In another prior art (for example, Patent Document 2), a so-called stack type semiconductor laser device in which the light emitting points are arranged on the same plane is used, there are many restrictions on cooling, and the light emitting point interval is set to be small. Although narrowing has been devised, no consideration is given to the optical path difference. In another prior art (for example, Patent Document 3), even in a configuration in which the optical axis is folded at a right angle and a step is provided, the optical path difference between the light emitting points is not taken into consideration.
上述のような従来の半導体レーザ装置では、発光点の集合体全体の特性を考えた場合、各光ビーム間の光路差の影響が大きいため、レーザ光の高収束かつ高効率な発振が困難になる。また、複数の発光点に対して、一体となった光学素子を配置して外部共振器を構成した場合に、発光点ごとに光路差によってレーザ発振条件が変わってしまい、発振しなかったり、レーザ光の収束性が低下する等の問題がある。 In the conventional semiconductor laser device as described above, when considering the characteristics of the entire assembly of light emitting points, the influence of the optical path difference between each light beam is large, so that it is difficult to achieve high-convergence and high-efficiency oscillation of the laser light. Become. Also, when an external resonator is configured by arranging integrated optical elements for a plurality of light emitting points, the laser oscillation conditions change due to the optical path difference for each light emitting point, and the laser does not oscillate. There are problems such as a decrease in light convergence.
本発明の目的は、高収束かつ高効率な光ビームを発生できる半導体レーザ装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a semiconductor laser device capable of generating a light beam with high convergence and high efficiency.
上記目的を達成するために、本発明に係る半導体レーザ装置は、階段状に配置された複数の半導体レーザ素子であって、光軸間距離d1で直線状に配列し、互いに平行な複数の光ビームを出射する複数の半導体レーザ素子と、
各半導体レーザ素子から出射した光ビームが進行する光路長の差を低減し、各光ビームの光軸を平行に整列しつつ、各光ビームの光軸間距離d2をd1より小さく設定するための補正光学系と、を備えたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a semiconductor laser device according to the present invention is a plurality of semiconductor laser elements arranged in a staircase pattern, and is arranged in a straight line with a distance d1 between the optical axes and is parallel to each other. A plurality of semiconductor laser elements emitting a beam;
For reducing the difference in the optical path lengths of the light beams emitted from the respective semiconductor laser elements and aligning the optical axes of the respective light beams in parallel while setting the distance d2 between the optical axes of the respective light beams to be smaller than d1. And a correction optical system.
また本発明に係る半導体レーザ装置は、階段状に配置された複数の半導体レーザ素子であって、光軸間距離が等しく、複数の方向に進行する複数の光ビームを出射する複数の半導体レーザ素子と、
各半導体レーザ素子から出射した光ビームが進行する光路長の差を低減し、各光ビームの光軸を平行に整列するための補正光学系と、を備えたことを特徴とする。
The semiconductor laser device according to the present invention is a plurality of semiconductor laser elements arranged in a staircase pattern, wherein the distance between the optical axes is equal and a plurality of semiconductor laser elements emitting a plurality of light beams traveling in a plurality of directions are emitted. When,
And a correction optical system for reducing the difference in optical path lengths of the light beams emitted from the respective semiconductor laser elements and aligning the optical axes of the respective light beams in parallel.
本発明によれば、光路長差および光軸間距離が小さく、平行度が良好な複数の光ビームを実現できる。その結果、高収束かつ高効率な光ビームを発生することができる。 According to the present invention, it is possible to realize a plurality of light beams having a small difference in optical path length and a distance between optical axes and a good parallelism. As a result, a highly converged and highly efficient light beam can be generated.
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1による半導体レーザ装置を示す構成図である。半導体レーザ装置100は、複数(ここでは4個を例示)の半導体レーザ素子1a〜1dと、各半導体レーザ素子1a〜1dを支持するための支持台4と、各半導体レーザ素子1a〜1dから出射した光ビームLa〜Ldを補正するための補正光学系などで構成される。ここでは、理解容易のため、紙面に垂直な方向をX方向とし、半導体レーザ素子が放射する光ビームの進行方向をY方向とし、X方向およびY方向に垂直な方向をZ方向としている。
FIG. 1 is a block diagram showing a semiconductor laser device according to
支持台4は、熱伝導性に優れた金属材料、例えば、銅などで形成され、X方向に沿った水平ピッチpを有する水平面およびY方向に沿った垂直ピッチd1を有する垂直面からなる階段形状を有する。支持台4の各水平面上には、板状で等厚のヒートシンク3a〜3dが固定される。ヒートシンク3a〜3dは、例えば、銅などで形成され、放熱および電気伝導の機能を備えているが、支持台4がこれらの機能を兼用する場合は省略することも可能である。
The support base 4 is formed of a metal material having excellent thermal conductivity, such as copper, and has a stepped shape including a horizontal plane having a horizontal pitch p along the X direction and a vertical plane having a vertical pitch d1 along the Y direction. Have On each horizontal surface of the support 4, plate-like heat sinks 3 a to 3 d having an equal thickness are fixed. The
半導体レーザ素子1a〜1dは、ヒートシンク3a〜3dの水平面上のエッジ付近に半田付けで固定される。半導体レーザ素子1a〜1dの上面には、通電用のワイヤ(不図示)が接続される。個々の半導体レーザ素子1a〜1dは、単一の発光点を有するLD(レーザダイオード)チップでもよく、複数の発光点が直線状に配列したLDバーであってもよい。
The
半導体レーザ素子1a〜1dの発光点の前方には、コリメート機能とビーム変換機能を有する光学素子5a〜5dがそれぞれ設置される。光学素子5a〜5dは、ボールレンズ、ロッドレンズ、シリンドリカルレンズなどで構成され、一般には、レンズの焦点位置と発光点が一致するように位置決めされる。
最上段の水平面に位置する半導体レーザ素子1aが放射する光ビームLaは、光学素子5aを通過してそのまま外部に供給される。補正光学系は、半導体レーザ素子1a以外の半導体レーザ素子1b〜1dから出射した光ビームLb〜Ldを2回反射するためのZ型折り返しミラー6b,7b;6c,7c;6d,7dを含む。
The light beam La emitted from the
2段目の水平面に位置する半導体レーザ素子1bが放射する光ビームLbは、光ビームLaを基準として、その光路長は水平ピッチpに等しい距離だけ短くなり、垂直ピッチd1に等しい距離だけ下方に離れている。そこで、ミラー6b,7bの設置位置および反射角度は、光ビームLaと光ビームLbとの光路長の差が可及的に少なくなり、光ビームLa,Lbの光軸が平行に整列し、そして、光ビームLa,Lbの光軸間距離d2がd1より小さくなるように調整される。
The optical beam length of the light beam Lb emitted from the
3段目の水平面に位置する半導体レーザ素子1cが放射する光ビームLcは、光ビームLaを基準として、その光路長は水平ピッチpの2倍に等しい距離だけ短くなり、垂直ピッチd1の2倍に等しい距離だけ下方に離れている。そこで、ミラー6c,7cの設置位置および反射角度は、光ビームLaと光ビームLcとの光路長の差が可及的に少なくなり、光ビームLa,Lcの光軸が平行に整列し、そして、隣接する光ビームLb,Lcの光軸間距離d2がd1より小さくなるように調整される。
The light beam Lc emitted from the
4段目の水平面に位置する半導体レーザ素子1dが放射する光ビームLdは、光ビームLaを基準として、その光路長は水平ピッチpの3倍に等しい距離だけ短くなり、垂直ピッチd1の3倍に等しい距離だけ下方に離れている。そこで、ミラー6d,7dの設置位置および反射角度は、光ビームLaと光ビームLdとの光路長の差が可及的に少なくなり、光ビームLa,Ldの光軸が平行に整列し、そして、隣接する光ビームLc,Ldの光軸間距離d2がd1より小さくなるように調整される。
The light beam Ld emitted from the
図1の右側に示すように、光ビームLa〜Ldは、半導体レーザ素子の出射直後において距離d1の等間隔(ビームパターンB1)で垂直に配列しているが、補正光学系を通過した後は、距離d2(<d1)の等間隔(ビームパターンB2)で垂直に配列していることが判る。こうして光路長差および光軸間距離が小さく、平行度が良好な複数の光ビームを実現でき、その結果、高収束かつ高効率な光ビームを発生することができる。 As shown on the right side of FIG. 1, the light beams La to Ld are arranged vertically at equal intervals (beam pattern B1) at a distance d1 immediately after emission of the semiconductor laser element, but after passing through the correction optical system. It can be seen that they are arranged vertically at equal intervals (beam pattern B2) of distance d2 (<d1). Thus, a plurality of light beams having a small difference in optical path length and a distance between the optical axes and good parallelism can be realized. As a result, a highly converged and highly efficient light beam can be generated.
ここでは、4個の半導体レーザ素子1a〜1dを使用した場合を例示したが、2個、3個または5個以上の半導体レーザ素子を使用することも可能である。
Here, the case where four
なお、Z型折り返しミラー6b,7b;6c,7c;6d,7dのどちらか一方もしくは両方が、光学素子5a〜5dと一体化してもよく、あるいはヒートシンク3a〜3dに取り付けてもよい。
One or both of the Z-
本実施形態の効果は、全発光点の光路差が少なくなるため、発光点全てに対して個別にではなく、全部に対して一体として光学素子を使用して、外部共振器を構成した場合に最も大きく発揮される。また、ファイバ結合する場合も、光路差による集光点のずれ等が発生しにくく、結果として収束性の高いファイバ結合光源を得ることができる。 The effect of this embodiment is that the optical path difference of all the light emitting points is reduced, so that the external resonator is configured by using the optical element as an integral unit for all the light emitting points, not individually. It is most effective. In addition, in the case of fiber coupling, it is difficult for deviation of the condensing point due to the optical path difference to occur, and as a result, a fiber coupling light source with high convergence can be obtained.
また、発光点の個数が増えるほど、配置した発光点の間の光路差の影響は大きくなるため、本実施形態の効果はより大きく発揮される。 In addition, as the number of light emitting points increases, the effect of the optical path difference between the arranged light emitting points increases, and thus the effect of the present embodiment is further exerted.
さらに、ヒートシンクおよび半導体レーザ素子が縦に積層されるスタック型の装置を使用した場合に比べて、本実施形態は階段状の配置を採用しているため、冷却についての制約を大幅に緩和できる。 Furthermore, compared with the case where a stack type apparatus in which a heat sink and a semiconductor laser element are stacked vertically is used, the present embodiment employs a step-like arrangement, so that the restriction on cooling can be greatly relaxed.
また、補正光学系を用いて光軸間距離の変更が可能であるため、半導体レーザ素子周辺での機械設計の自由度が高くなり、より収束性の高いレーザ光を発生することが可能である。 In addition, since the distance between the optical axes can be changed using the correction optical system, the degree of freedom in mechanical design around the semiconductor laser element is increased, and laser light with higher convergence can be generated. .
実施の形態2.
図2は本発明の実施の形態2による半導体レーザ装置を示す構成図であり、図2(a)は平面図、図2(b)は正面図、図2(c)は右側面図である。半導体レーザ装置200は、複数(ここでは8個を例示)の半導体レーザ素子11a〜11hと、各半導体レーザ素子11a〜11hを支持するための支持台14と、各半導体レーザ素子11a〜11hから出射した光ビームLa〜Lhを補正するための補正光学系などで構成される。ここでは、理解容易のため、図2(b)における紙面に垂直な方向をX方向とし、半導体レーザ素子が放射する光ビームの最終進行方向をY方向とし、X方向およびY方向に垂直な方向をZ方向としている。
2 is a block diagram showing a semiconductor laser device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 2 (a) is a plan view, FIG. 2 (b) is a front view, and FIG. 2 (c) is a right side view. . The
支持台14は、熱伝導性に優れた金属材料、例えば、銅などで形成され、図2(b)に示すように、X方向に沿った水平ピッチpを有する水平面およびY方向に沿った垂直ピッチdを有する垂直面からなる階段形状を有する。支持台4の各水平面上には、板状で等厚のヒートシンク13a〜13hが固定される。ヒートシンク13a〜13hは、例えば、銅などで形成され、放熱および電気伝導の機能を備えているが、支持台14がこれらの機能を兼用する場合は省略することも可能である。
The
本実施形態では、光ビームLa〜Lhの高さに関して、半導体レーザ素子11aが位置する最上段の水平面Saの高さを基準として、半導体レーザ素子11bが位置する2段目の水平面Sbは段差d/2だけ低く、半導体レーザ素子11cが位置する3段目の水平面Scは段差dだけ低く、半導体レーザ素子11dが位置する4段目の水平面Sdは段差d×3/2だけ低く、半導体レーザ素子11eが位置する5段目の水平面Seは段差d×2だけ低く、半導体レーザ素子11fが位置する6段目の水平面Sfは段差d×5/2だけ低く、半導体レーザ素子11gが位置する7段目の水平面Sgは段差d×3だけ低く、半導体レーザ素子11hが位置する8段目の水平面Shは段差d×7/2だけ低くなるようにそれぞれ設定している。
In the present embodiment, with respect to the heights of the light beams La to Lh, the level of the second horizontal plane Sb on which the
半導体レーザ素子11a〜11hは、ヒートシンク13a〜13hの水平面上のエッジ付近に半田付けで固定される。半導体レーザ素子11a〜11hの上面には、通電用のワイヤ(不図示)が接続される。個々の半導体レーザ素子11a〜11hは、単一の発光点を有するLD(レーザダイオード)チップでもよく、複数の発光点が直線状に配列したLDバーであってもよい。
The
半導体レーザ素子11a〜11hの発光点の前方には、コリメート機能とビーム変換機能を有する光学素子15a〜15hがそれぞれ設置される。光学素子15a〜15hは、ボールレンズ、ロッドレンズ、シリンドリカルレンズなどで構成され、一般には、レンズの焦点位置と発光点が一致するように位置決めされる。
最上段の水平面Saに位置する半導体レーザ素子11aが放射する光ビームLaは、光学素子15aを通過してそのまま外部に供給される。補正光学系は、半導体レーザ素子11a以外の半導体レーザ素子11b〜11hから出射した光ビームLb〜Lhを90度の角度で反射するための折り返しミラー16b〜16hを含む。
The light beam La emitted from the
2段目の水平面Sbに位置する半導体レーザ素子11bから出射した光ビームLbは、+X方向に進行し、続いて折り返しミラー16bによってY方向に90度の角度で反射する。このとき光ビームLbの光軸は、光ビームLaに対して平行に整列しているが、距離d/2だけ下方に離れている。また、半導体レーザ素子11bからミラー16bまでの距離が半導体レーザ素子11aからミラー16bまでの距離と等しくなるように設定することによって、光ビームLbと光ビームLaの光路長の差が可及的に少なくなる。
The light beam Lb emitted from the
3段目の水平面Scに位置する半導体レーザ素子11cから出射した光ビームLcは、光ビームLbの進行方向と相対する−X方向に進行し、続いて折り返しミラー16cによってY方向に90度の角度で反射する。このとき光ビームLcの光軸は、光ビームLaに対して平行に整列しているが、距離dだけ下方に離れている。また、半導体レーザ素子11cからミラー16cまでの距離が半導体レーザ素子11aからミラー16cまでの距離と等しくなるように設定することによって、光ビームLcと光ビームLaの光路長の差が可及的に少なくなる。
The light beam Lc emitted from the
4段目の水平面Sdに位置する半導体レーザ素子11dから出射した光ビームLdは、+X方向に進行し、続いて折り返しミラー16dによってY方向に90度の角度で反射する。このとき光ビームLd光軸は、光ビームLaに対して平行に整列しているが、距離d×3/2だけ下方に離れている。また、半導体レーザ素子11dからミラー16dまでの距離が半導体レーザ素子11aからミラー16dまでの距離と等しくなるように設定することによって、光ビームLdと光ビームLaの光路長の差が可及的に少なくなる。
The light beam Ld emitted from the
5段目の水平面Seに位置する半導体レーザ素子11eから出射した光ビームLeは、光ビームLdの進行方向と相対する−X方向に進行し、続いて折り返しミラー16eによってY方向に90度の角度で反射する。このとき光ビームLeの光軸は、光ビームLaに対して平行に整列しているが、距離d×2だけ下方に離れている。また、半導体レーザ素子11eからミラー16eまでの距離が半導体レーザ素子11aからミラー16eまでの距離と等しくなるように設定することによって、光ビームLeと光ビームLaの光路長の差が可及的に少なくなる。
The light beam Le emitted from the
6段目の水平面Sfに位置する半導体レーザ素子11fから出射した光ビームLfは、+X方向に進行し、続いて折り返しミラー16fによってY方向に90度の角度で反射する。このとき光ビームLfの光軸は、光ビームLaに対して平行に整列しているが、距離d×5/2だけ下方に離れている。また、半導体レーザ素子11fからミラー16fまでの距離が半導体レーザ素子11aからミラー16fまでの距離と等しくなるように設定することによって、光ビームLfと光ビームLaの光路長の差が可及的に少なくなる。
The light beam Lf emitted from the
7段目の水平面Sgに位置する半導体レーザ素子11gから出射した光ビームLgは、光ビームLfの進行方向と相対する−X方向に進行し、続いて折り返しミラー16gによってY方向に90度の角度で反射する。このとき光ビームLgの光軸は、光ビームLaに対して平行に整列しているが、距離d×3だけ下方に離れている。また、半導体レーザ素子11gからミラー16gまでの距離が半導体レーザ素子11aからミラー16gまでの距離と等しくなるように設定することによって、光ビームLgと光ビームLaの光路長の差が可及的に少なくなる。
The light beam Lg emitted from the
8段目の水平面Shに位置する半導体レーザ素子11hから出射した光ビームLhは、+X方向に進行し、続いて折り返しミラー16hによってY方向に90度の角度で反射する。このとき光ビームLhの光軸は、光ビームLaに対して平行に整列しているが、距離d×7/2だけ下方に離れている。また、半導体レーザ素子11hからミラー16hまでの距離が半導体レーザ素子11aからミラー16hまでの距離と等しくなるように設定することによって、光ビームLhと光ビームLaの光路長の差が可及的に少なくなる。
The light beam Lh emitted from the
図2(c)の右側に示すように、光ビームLa〜Lhは、距離d/2の等間隔(ビームパターンB3)で垂直に配列していることが判る。こうして光路長差および光軸間距離が小さく、平行度が良好な複数の光ビームを実現でき、その結果、高収束かつ高効率な光ビームを発生することができる。 As shown on the right side of FIG. 2C, it can be seen that the light beams La to Lh are arranged vertically at equal intervals (beam pattern B3) of a distance d / 2. Thus, a plurality of light beams having a small difference in optical path length and a distance between the optical axes and good parallelism can be realized. As a result, a highly converged and highly efficient light beam can be generated.
そのため、複数の半導体レーザ素子から出射した光ビームを一括してファイバ結合した場合、光学距離の違いによって生じる、集光点のずれ(収差)、結合効率の低下、入射、出射NAの増加等を避けることができる。また、複数の半導体レーザ素子に対して、一体として外部共振器を構成した場合、光路差による効率の低下、集光性の低下を低減することが可能である。 For this reason, when optical beams emitted from a plurality of semiconductor laser elements are collectively coupled to a fiber, a focus point shift (aberration) caused by a difference in optical distance, a decrease in coupling efficiency, an incidence, an increase in emission NA, etc. Can be avoided. Further, when an external resonator is integrally formed with respect to a plurality of semiconductor laser elements, it is possible to reduce a decrease in efficiency and a decrease in light condensing performance due to an optical path difference.
さらに、ヒートシンクおよび半導体レーザ素子が縦に積層されるスタック型の装置を使用した場合に比べて、本実施形態は階段状の配置を採用しているため、冷却についての制約を大幅に緩和できる。 Furthermore, compared with the case where a stack type apparatus in which a heat sink and a semiconductor laser element are stacked vertically is used, the present embodiment employs a step-like arrangement, so that the restriction on cooling can be greatly relaxed.
なお、ここでは8個の半導体レーザ素子11a〜11hを使用した場合を例示したが、2個〜7個または9個以上の半導体レーザ素子を使用することも可能である。発光点の個数が増えるほど、配置した発光点の間の光路差の影響は大きくなるため、本実施形態の効果はより大きく発揮される。
Although the case where eight
実施の形態3.
図3は本発明の実施の形態3による半導体レーザ装置を示す構成図であり、図3(a)は平面図、図3(b)は正面図である。本実施形態では、実施の形態1に係る半導体レーザ装置100において、補正光学系の出射側に、外部共振器として波長分散素子21および部分透過ミラー22を配置している。
3 is a block diagram showing a semiconductor laser device according to a third embodiment of the present invention. FIG. 3 (a) is a plan view and FIG. 3 (b) is a front view. In the present embodiment, in the
部分透過ミラー22は、例えば、入射光の90%を反射し、10%を透過する特性を有し、各半導体レーザ素子1a〜1dの後端面との組合せで光共振器を構成するとともに、該光共振器の出力ミラーとして機能する。
The
波長分散素子21は、例えば、回折格子(グレーティング)、プリズムなどを含み、光ビームの波長に依存して出射方向が変化する特性を有する。波長分散素子21を光共振器の内部に配置した場合、光共振器の波長選択度が高くなり、単一の縦モード発振を実現できる。なお、波長分散素子21を光共振器の内部に配置しない構成も可能であり、その場合、マルチの縦モード発振を実現できる。
The
こうした外部共振器を使用することにより、収束性の高いレーザ光を発生することが可能である。また、半導体レーザ装置100において各光ビームLa〜Ldの光路長の差を低減しているため、より収束性の高いレーザ光を実現できる。
By using such an external resonator, it is possible to generate laser light with high convergence. In addition, since the difference in the optical path lengths of the light beams La to Ld is reduced in the
実施の形態4.
図4は本発明の実施の形態4による半導体レーザ装置を示す構成図であり、図4(a)は平面図、図4(b)は正面図である。本実施形態では、実施の形態2に係る半導体レーザ装置200において、補正光学系の出射側に、外部共振器として波長分散素子21および部分透過ミラー22を配置している。
Embodiment 4 FIG.
4 is a block diagram showing a semiconductor laser device according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 4 (a) is a plan view and FIG. 4 (b) is a front view. In the present embodiment, in the
部分透過ミラー22は、例えば、入射光の90%を反射し、10%を透過する特性を有し、各半導体レーザ素子1a〜1dの後端面との組合せで光共振器を構成するとともに、該光共振器の出力ミラーとして機能する。
The
波長分散素子21は、例えば、回折格子(グレーティング)、プリズムなどを含み、光ビームの波長に依存して出射方向が変化する特性を有する。波長分散素子21を光共振器の内部に配置した場合、光共振器の波長選択度が高くなり、単一の縦モード発振を実現できる。なお、波長分散素子21を光共振器の内部に配置しない構成も可能であり、その場合、マルチの縦モード発振を実現できる。
The
こうした外部共振器を使用することにより、収束性の高いレーザ光を発生することが可能である。また、半導体レーザ装置200において各光ビームLa〜Ldの光路長の差を低減しているため、より収束性の高いレーザ光を実現できる。
By using such an external resonator, it is possible to generate laser light with high convergence. In addition, since the difference in the optical path length of each of the light beams La to Ld is reduced in the
1a〜1d,11a〜11h 半導体レーザ素子、
3a〜3d,13a〜13h ヒートシンク、 4,14 支持台、
5a〜5d,15a〜15h 光学素子、
6b〜6d,7b〜7d,16b〜16h 折り返しミラー、
21 波長分散素子、 22 部分透過ミラー、
100,200 半導体レーザ装置、
La〜Lh 光ビーム、 Sa〜Sh 水平面。
1a to 1d, 11a to 11h semiconductor laser elements,
3a-3d, 13a-13h heat sink, 4,14 support base,
5a-5d, 15a-15h optical elements,
6b-6d, 7b-7d, 16b-16h Folding mirror,
21 wavelength dispersion element, 22 partial transmission mirror,
100, 200 semiconductor laser device,
La to Lh light beam, Sa to Sh horizontal plane.
Claims (6)
各半導体レーザ素子から出射した光ビームが進行する光路長の差を低減し、各光ビームの光軸を平行に整列しつつ、各光ビームの光軸間距離d2をd1より小さく設定するための補正光学系と、を備えたことを特徴とする半導体レーザ装置。 A plurality of semiconductor laser elements arranged in a step-like manner, arranged in a straight line at an inter-optical axis distance d1, and emitting a plurality of light beams parallel to each other;
For reducing the difference in the optical path lengths of the light beams emitted from the respective semiconductor laser elements and aligning the optical axes of the respective light beams in parallel while setting the distance d2 between the optical axes of the respective light beams to be smaller than d1. And a correction optical system.
各半導体レーザ素子から出射した光ビームが進行する光路長の差を低減し、各光ビームの光軸を平行に整列するための補正光学系と、を備えたことを特徴とする半導体レーザ装置。 A plurality of semiconductor laser elements arranged in a staircase, the plurality of semiconductor laser elements emitting a plurality of light beams having equal optical axis distances and traveling in a plurality of directions;
A semiconductor laser device, comprising: a correction optical system for reducing a difference in optical path lengths traveled by light beams emitted from the respective semiconductor laser elements and aligning optical axes of the respective light beams in parallel.
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-
2012
- 2012-12-17 JP JP2012274888A patent/JP2014120621A/en active Pending
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