JP2013509300A - Cryogenic system for removing acid gases from hydrocarbon gas streams by removing hydrogen sulfide - Google Patents

Cryogenic system for removing acid gases from hydrocarbon gas streams by removing hydrogen sulfide Download PDF

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Abstract

酸性ガス除去システム(AGRS)と、硫黄成分除去システム(SCRS)を含む、生ガス流から酸性ガスを除去するためのシステム。酸性ガス除去システムが、サワーガス流を受け取り、これを主にメタンから構成されるオーバーヘッドガス流と、主に二酸化炭素から構成される底部酸性ガス流に分離する。硫黄成分除去システムは、酸性ガス除去システムの上流または下流のいずれかに設置される。SCRSはガス流を、受け取り、ガス流を、硫化水素を含む第1の流体流と、二酸化炭素を含む第2の流体流に全般的に分離する。SCRSがAGRSの上流にある場合、第2の流体流もまた主にメタンを含む。SCRSがAGRSの下流にある場合、第2の流体流は、主に二酸化炭素である。様々な種類の硫黄成分除去システムを利用することができる。  A system for removing acid gas from a raw gas stream, including an acid gas removal system (AGRS) and a sulfur component removal system (SCRS). An acid gas removal system receives the sour gas stream and separates it into an overhead gas stream composed primarily of methane and a bottom acid gas stream composed primarily of carbon dioxide. The sulfur component removal system is installed either upstream or downstream of the acid gas removal system. The SCRS receives the gas stream and generally separates the gas stream into a first fluid stream that includes hydrogen sulfide and a second fluid stream that includes carbon dioxide. If SCRS is upstream of AGRS, the second fluid stream also contains mainly methane. When SCRS is downstream of AGRS, the second fluid stream is primarily carbon dioxide. Various types of sulfur component removal systems can be utilized.

Description

関連出願への相互参照
本願は、2009年11月2日に出願した、その全体が本明細書に参照により組み込まれている、硫化水素の除去によって、炭化水素ガス流から酸性ガスを除去するための極低温システムという表題の、米国仮特許出願第61/257,277号への利益を主張する。
CROSS REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS This application is filed on Nov. 2, 2009, and is incorporated by reference herein in its entirety to remove acid gases from a hydrocarbon gas stream by removal of hydrogen sulfide. Claims to US Provisional Patent Application No. 61 / 257,277, entitled "Cryogenic System".

本セクションは、本開示の代表的な実施形態に関連し得る、本発明の技術の様々な態様を紹介することを意図している。この考察は、本開示の特定の態様のより良い理解を促進するためのフレームワークを提供するための手助けとなると考えられる。したがって、本セクションは、この観点から読み取るべきであり、必ずしも従来技術の承認として読み取るべきではないことを理解すべきである。
本発明は、流体分離の分野に関する。より具体的には本発明は、炭化水素の流体流から硫化水素と他の酸性ガスの両方を分離することに関する。
This section is intended to introduce various aspects of the present technology that may be related to exemplary embodiments of the present disclosure. This discussion is believed to help provide a framework to facilitate a better understanding of certain aspects of the present disclosure. Accordingly, it should be understood that this section should be read from this perspective and not necessarily as prior art approval.
The present invention relates to the field of fluid separation. More specifically, the present invention relates to separating both hydrogen sulfide and other acid gases from a hydrocarbon fluid stream.

貯留層からの炭化水素の生成は、非炭化水素ガスの偶発的生成が伴うことが多い。このようなガスとして、汚染物質、例えば硫化水素(H2S)および二酸化炭素(CO2)などが挙げられる。H2SおよびCO2が炭化水素ガス流(例えばメタンまたはエタンなど)の一部として生成される場合、このガス流は、たびたび「サワーガス」と呼ばれる。
サワーガスは、さらなる処理または販売のために下流に送られる前に、CO2、H2S、および他の汚染物質を除去するために通常処理される。酸性ガスの除去により、「スウィートニングされた」炭化水素ガス流が生成される。このスウィートニングされた流れは、環境的に許容可能な燃料としてまたは化学薬品もしくはガスから液体を生成する施設への供給原料として使用することができる。スウィートニングされたガス流を冷やす(chill)ことによって、液化天然ガス、すなわちLNGを形成することができる。
Production of hydrocarbons from the reservoir is often accompanied by accidental production of non-hydrocarbon gases. Such gases include pollutants such as hydrogen sulfide (H 2 S) and carbon dioxide (CO 2 ). When H 2 S and CO 2 are produced as part of a hydrocarbon gas stream (such as methane or ethane), this gas stream is often referred to as “sour gas”.
Sour gas is typically processed to remove CO 2 , H 2 S, and other contaminants before being sent downstream for further processing or sale. Removal of the acid gas produces a “sweetened” hydrocarbon gas stream. This sweetened stream can be used as an environmentally acceptable fuel or as a feed to a facility that produces liquids from chemicals or gases. By chilling the sweetened gas stream, liquefied natural gas, or LNG, can be formed.

このガス分離プロセスは、分離した汚染物質の処分に関して問題を引き起こす。場合によっては、濃い酸性ガス(主にH2SおよびCO2からなる)は硫黄回収ユニット(「SRU」)に送られる。このSRUは、H2Sを良性の元素硫黄に変換する。しかし、ある地域において(例えばカスピ海地域など)は、市場が限定されているため、追加の元素硫黄の生成は切望されない。したがって、何百万トンもの硫黄が、世界のある地域(最も名が知れているのはカナダおよびカザフスタン)の、大きな、地上ブロックに貯留されている。
硫黄が地上に貯留されている間に、酸性ガスに伴う二酸化炭素は、多くの場合大気に放出される。しかし、CO2放出の実施が、切望されない場合がある。CO2排出を最小限に抑える1つの提案は、酸性ガス注入(「AGI」)と呼ばれるプロセスである。AGIとは、望ましくないサワーガスを、加圧下で地下構造に再注入し、後日見込まれる使用のために隔離することを意味する。あるいは、油回収作業を強化するために、二酸化炭素を使用して、人工貯留層の圧力を作り出す。
This gas separation process causes problems with respect to the disposal of separated contaminants. In some cases, a rich acidic gas (consisting primarily of H 2 S and CO 2 ) is sent to a sulfur recovery unit (“SRU”). This SRU converts H 2 S into benign elemental sulfur. However, in some regions (such as the Caspian Sea region), the market is limited, so the production of additional elemental sulfur is not desired. Millions of tons of sulfur are therefore stored in large, ground blocks in some parts of the world (most notably Canada and Kazakhstan).
While sulfur is stored on the ground, carbon dioxide associated with acid gases is often released to the atmosphere. However, the implementation of CO 2 release may not be longing for. One proposal for minimizing CO 2 emissions is a process called acid gas injection (“AGI”). AGI means that undesired sour gas is reinjected into the underground structure under pressure and sequestered for possible use at a later date. Alternatively, carbon dioxide is used to create artificial reservoir pressure to enhance oil recovery operations.

AGIを促進するため、炭化水素ガスから酸性ガス成分を効果的に分離するガス処理施設を所有することが望ましい。しかし、およそ15%または20%を超えるCO2および/またはH2Sを含有する生産物流である「極めてサワーである」流れに対して、所望の炭化水素から汚染物質を経済的に分離することができる施設を設計、建設、および作動することは特に困難となり得る。多くの天然ガス貯留層は、比較的に低いパーセンテージの炭化水素(例えば40%未満)および高いパーセンテージの酸性ガス、主に二酸化炭素を含有するが、硫化水素、硫化カルボニル、二硫化炭素および様々なメルカプタンも含有する。これらの場合、極低温ガス処理を採用するのが有利となり得る。 In order to promote AGI, it is desirable to have a gas treatment facility that effectively separates acidic gas components from hydrocarbon gases. However, economically separating pollutants from the desired hydrocarbons for “very sour” streams that are production streams containing approximately 15% or more than 20% CO 2 and / or H 2 S It can be particularly difficult to design, construct and operate facilities capable of Many natural gas reservoirs contain a relatively low percentage of hydrocarbons (eg less than 40%) and a high percentage of acid gases, mainly carbon dioxide, but hydrogen sulfide, carbonyl sulfide, carbon disulfide and various Also contains mercaptans. In these cases, it may be advantageous to employ cryogenic gas treatment.

極低温ガス処理は、ガス分離に対してたびたび使用される蒸留プロセスである。極低温ガス分離は、中等度の圧力(例えば,1平方インチゲージ(psig)当たり350〜550ポンド)で、冷却したオーバーヘッドガス流を生成する。さらに、液化された酸性ガスが「底部」生成物として生成される。液化された酸性ガスは,比較的高密度であることから、注入プロセスを援助するために流体静力学的ヘッドをAGI坑井において有利に使用することができる。これは、液化された酸性ガスを構造内にポンプで入れるのに必要なエネルギーは、低圧力の酸性ガスを貯留層圧力へと圧縮するのに必要なエネルギーよりも低いことを意味する。コンプレッサーおよびポンプの段階がより少ないことが必要とされる。   Cryogenic gas treatment is a distillation process often used for gas separation. Cryogenic gas separation produces a cooled overhead gas stream at moderate pressure (eg, 350-550 pounds per square inch gauge (psig)). In addition, liquefied acidic gas is produced as a “bottom” product. Because the liquefied acid gas is relatively dense, a hydrostatic head can be advantageously used in the AGI well to assist the injection process. This means that the energy required to pump the liquefied acidic gas into the structure is lower than the energy required to compress the low pressure acidic gas to the reservoir pressure. Fewer compressor and pump stages are required.

サワーガスの極低温蒸留に関しては、難題も存在する。処理すべきガスの中に、およそ700psig未満の全圧力において、CO2がおよそ5モルパーセントを超える濃度で存在する場合、これは、標準の極低温蒸留ユニットにおいて固体として凍結することになる。CO2が固体として形成すると、極低温蒸留プロセスを破壊する。この問題を回避するため、譲受人は、様々な「Controlled Freeze Zone(商標)」(CFZ(商標))プロセスをこれまでに設計してきた。このCFZ(商標)プロセスは、蒸留塔の開口部分内に凍結したCO2粒子を形成させることを可能にし、次いで溶融トレイ上で粒子を捕らえることによって、固体粒子を形成する二酸化炭素の傾向をうまく活用する。その結果、きれいなメタン流(生ガス中に存在する任意の窒素またはヘリウムと共に)が、塔の最上部に生成され、その一方で低温の液体CO2/H2S流が塔の底部に生成される。およそ700psigよりも高い圧力で、CO2の凍結を心配することなく「バルク分取」蒸留を行うことができる。しかし、オーバーヘッドに生成されるメタンは、その中に少なくとも数パーセントのCO2を有することになる。 There are challenges associated with the cryogenic distillation of sour gas. If CO 2 is present in the gas to be processed at a concentration of greater than approximately 5 mole percent at a total pressure of less than approximately 700 psig, this will freeze as a solid in a standard cryogenic distillation unit. When CO 2 forms as a solid, it destroys the cryogenic distillation process. To circumvent this problem, the assignee has previously designed a variety of “Controlled Freeze Zone ™” (CFZ ™) processes. The CFZ (TM) process makes it possible to form a frozen CO 2 particles in the opening portion of the distillation column, and then by capturing particles on melting tray well a tendency of carbon dioxide to form solid particles use. As a result, a clean methane stream (with any nitrogen or helium present in the raw gas) is produced at the top of the column, while a cold liquid CO 2 / H 2 S stream is produced at the bottom of the tower. The “Bulk preparative” distillation can be performed at pressures above about 700 psig without worrying about freezing of CO 2 . However, the methane produced in the overhead will have at least a few percent of CO 2 in it.

特定の態様のCFZ(商標)プロセスおよび関連機器は、米国特許第4,533,372号、米国特許第4,923,493号、米国特許第5,062,270号、米国特許第5,120,338号および米国特許第6,053,007号に記載されている。
上記の米国特許に全般的に記載されているように、極低温ガス処理のために使用される蒸留塔、またはカラムは、下部蒸留域と中間部の制御された凍結域とを含む。上部蒸留域も含まれることが好ましい。二酸化炭素の凝固点よりは低いが、その圧力でメタンの沸点より高い温度領域を有するカラムの一部分を提供することにより、カラムが作動して固体CO2粒子を生成する。制御された凍結域は、CO2に凍結した(固体)粒子を形成させながら、メタンおよび他の軽質炭化水素ガスの気化を可能とするような温度および圧力で作動することがより好ましい。
Certain embodiments of the CFZ ™ process and related equipment are described in US Pat. No. 4,533,372, US Pat. No. 4,923,493, US Pat. No. 5,062,270, US Pat. No. 5,120. , 338 and US Pat. No. 6,053,007.
As generally described in the above-mentioned US patents, the distillation column or column used for cryogenic gas treatment includes a lower distillation zone and an intermediate controlled freezing zone. Preferably an upper distillation zone is also included. By providing a portion of the column that is below the freezing point of carbon dioxide but at that pressure and above the boiling point of methane, the column operates to produce solid CO 2 particles. Freezing range controlled, while to form frozen in CO 2 (the solid) particles, it is preferable to operate at a temperature and pressure such as to allow vaporization of methane and other light hydrocarbon gases.

ガス供給流がカラムを上方に移動するにつれて、凍結したCO2粒子は、供給流を抜け出し、制御された凍結域から溶融トレイへと重力によって下降する。この溶融トレイで、粒子が液化する。次いで二酸化炭素リッチな液体流は、溶融トレイから、カラム底部の下部蒸留域へと流れ落ちる。下部蒸留域は、実質的にいかなる二酸化炭素固体も形成されないが、溶解したメタンは煮沸して取り除かれるように温度および圧力が維持されている。一態様において、底部酸性ガス流は、30°から40°Fで生成される。
一実施形態において、一部のまたはすべての凍結したCO2粒子は、凍結域の底部のトレイ上に収集することができる。次いで粒子は、さらなる処理のために蒸留塔から運び出される。
制御された凍結域は、低温液体スプレーを含む。このスプレーは、「還流」として知られる、メタンリッチな液体流である。軽質炭化水素ガスおよび取り込まれたサワーガスの気体流が、カラムを介して上方に移動するにつれて、気体流は液体スプレーに遭遇する。低温液体スプレーは、メタンガスを蒸発させ、カラム内を上方に流動させながら、固体CO2粒子が抜け出るよう補助する。
As the gas feed stream moves up the column, the frozen CO 2 particles exit the feed stream and descend by gravity from the controlled freezing zone to the melting tray. The particles are liquefied in this melting tray. The carbon dioxide rich liquid stream then flows down from the melting tray to the lower distillation zone at the bottom of the column. The lower distillation zone does not substantially form any carbon dioxide solids, but is maintained at temperature and pressure so that dissolved methane is boiled off. In one aspect, the bottom acid gas stream is generated at 30 ° to 40 ° F.
In one embodiment, some or all of the frozen CO 2 particles can be collected on a tray at the bottom of the freezing zone. The particles are then removed from the distillation column for further processing.
The controlled freezing zone includes a cryogenic liquid spray. This spray is a methane-rich liquid stream, known as “reflux”. As the gas stream of light hydrocarbon gas and entrained sour gas travels up through the column, the gas stream encounters a liquid spray. The cryogenic liquid spray assists the solid CO 2 particles escape while evaporating the methane gas and flowing upwards through the column.

上部蒸留域において、メタン(またはオーバーヘッドガス)は、捕獲され、管より導き出されて販売されるか、または燃料として使用可能にされる。一態様において、オーバーヘッドメタン流は、およそ−130°Fで放出される。オーバーヘッドガスは、追加の冷却により部分的に液化され、この液体は還流としてカラムに戻ることもできる。液体還流は、通常カラムの精留セクションのトレイまたは充填物を通過して流れた後で、制御された凍結域のスプレーセクションに低温スプレーとして注入される。
上部蒸留域で生成されたメタンは、パイプラインデリバリー用の大部分の規格を満たしている。例えば、メタンは、十分な還流が生成され、および/または上部蒸留域において充填物またはトレイからの十分な分離の段階が存在する場合、パイプラインのCO2規格2モルパーセント未満、ならびにH2S規格4ppmを満たすことができる。しかし、元の生ガス流が硫化水素(または他の硫黄含有化合物)を含有する場合、これらは、二酸化炭素および硫化水素の液体塔底流で終わってしまうことになる。
In the upper distillation zone, methane (or overhead gas) is captured and derived from a tube and sold or made available as fuel. In one aspect, the overhead methane stream is released at approximately -130 ° F. The overhead gas is partially liquefied by additional cooling, and this liquid can also return to the column as reflux. The liquid reflux usually flows through the tray or packing of the rectification section of the column and then is injected as a cryogenic spray into the spray section of the controlled freezing zone.
Methane produced in the upper distillation zone meets most standards for pipeline delivery. For example, methane produces less than 2 mole percent of CO 2 in the pipeline and H 2 S if sufficient reflux is produced and / or there is a sufficient separation stage from the packing or tray in the upper distillation zone, and H 2 S The standard 4 ppm can be satisfied. However, if the original raw gas stream contains hydrogen sulfide (or other sulfur-containing compound), these will end up with a liquid column bottom stream of carbon dioxide and hydrogen sulfide.

硫化水素は、空気より重質の有毒なガスである。これは、坑井および表面機器を腐食する。硫化水素が水の存在下で金属導管およびバルブに接触した場合、硫化鉄の腐食が生じ得る。したがって、硫化水素および他の硫黄成分は、これが低温蒸留カラムに入る前に、生ガス流から除去することが望ましい。これによって、「よりスウィートな」ガス流のカラムへの供給が可能となる。極低温プロセスにより生成されたCO2は、このようにH2Sを実質的に含まないので、例えば油回収の強化のために使用することができる。 Hydrogen sulfide is a toxic gas heavier than air. This corrodes wells and surface equipment. When hydrogen sulfide contacts metal conduits and valves in the presence of water, iron sulfide corrosion can occur. Therefore, it is desirable to remove hydrogen sulfide and other sulfur components from the raw gas stream before it enters the cryogenic distillation column. This allows for a “sweeter” gas stream to be fed to the column. The CO 2 produced by the cryogenic process is thus substantially free of H 2 S and can be used, for example, for enhanced oil recovery.

サワーガス除去のために極低温蒸留を施す前に、天然の生ガス流からH2Sおよびメルカプタンの含有量を削減するシステムが必要となる。あるいは、極低温ガス分離システムおよびCFZ塔からの酸性ガス底部流の下流から硫化水素を抽出する付随的プロセスが必要となる。 A system is needed that reduces the content of H 2 S and mercaptans from the natural raw gas stream prior to cryogenic distillation for sour gas removal. Alternatively, an additional process of extracting hydrogen sulfide from the cryogenic gas separation system and downstream of the acidic gas bottom stream from the CFZ column is required.

サワーガス流から酸性ガスを除去するためのシステムが提供される。一実施形態において、このシステムは、酸性ガス除去システムを含む。この酸性ガス除去システムは、サワーガス流を、主にメタンから構成されるオーバーヘッドガス流と、主に二酸化炭素から構成される液化された底部酸性ガス流とに分離する極低温蒸留塔を利用している。このシステムはまた、硫黄成分除去システムを含む。この硫黄成分除去システムは、酸性ガス除去システムの上流に設置される。この硫黄成分除去システムは、生ガス流を受け取り、生ガス流を全般的に、硫化水素を有する流体流と、サワーガス流とに分離する。
サワーガス流は、およそ4ppmから100ppmの間の硫黄成分を含むことが好ましい。このような成分は、硫化水素、硫化カルボニル、および様々なメルカプタンであってよい。
極低温酸性ガス除去システムは、蒸留塔へ侵入する前にサワーガス流を冷やすための冷蔵システムを含むことが好ましい。極低温酸性ガス除去システムは、蒸留塔が、下部蒸留域および中間部の制御された凍結域を有する、「CFZ」システムであることが好ましい。中間部の制御された凍結域、または「スプレーセクション」は、主にメタンで構成される低温液体スプレーを受け取る。この低温スプレーは、蒸留塔のオーバーヘッドループ下流から生成される液体還流である。冷蔵機器は、オーバーヘッドメタン流を冷却し、オーバーヘッドメタン流の一部分を低温液体還流として極低温蒸留塔へ戻すため、極低温蒸留塔の下流に提供される。
A system is provided for removing acid gases from a sour gas stream. In one embodiment, the system includes an acid gas removal system. The acid gas removal system utilizes a cryogenic distillation column that separates the sour gas stream into an overhead gas stream composed primarily of methane and a liquefied bottom acid gas stream composed primarily of carbon dioxide. Yes. The system also includes a sulfur component removal system. This sulfur component removal system is installed upstream of the acid gas removal system. The sulfur component removal system receives a raw gas stream and generally separates the raw gas stream into a fluid stream having hydrogen sulfide and a sour gas stream.
The sour gas stream preferably contains between about 4 ppm and 100 ppm sulfur components. Such components may be hydrogen sulfide, carbonyl sulfide, and various mercaptans.
The cryogenic acid gas removal system preferably includes a refrigeration system for cooling the sour gas stream prior to entering the distillation column. The cryogenic acid gas removal system is preferably a “CFZ” system in which the distillation column has a lower distillation zone and a controlled freezing zone in the middle. An intermediate controlled freezing zone, or “spray section”, receives a cryogenic liquid spray composed primarily of methane. This cold spray is a liquid reflux produced from the overhead loop downstream of the distillation column. Refrigeration equipment is provided downstream of the cryogenic distillation column to cool the overhead methane stream and return a portion of the overhead methane stream as cryogenic liquid reflux to the cryogenic distillation column.

極低温蒸留システム以外の他の酸性ガス除去システムを採用することができることを理解されたい。例えば、酸性ガス除去システムは、CO2と共にH2Sも拒絶する傾向にある物理溶媒系であってよい。この酸性ガス除去システムは、バルク分取を採用してもよい。 It should be understood that other acid gas removal systems other than cryogenic distillation systems can be employed. For example, the acid gas removal system may be a physical solvent system that tends to reject H 2 S as well as CO 2 . This acid gas removal system may employ bulk fractionation.

様々なタイプの硫黄成分除去システムを利用することができる。これらは、サワーガス流から硫黄含有成分を分離するために物理溶媒を採用しているシステムを含む。これらはまた、レドックスプロセス、およびいわゆるスカベンジャーの使用を含んでもよい。これらはまた、いわゆる「CrystaSulf」プロセスを含んでもよい。
一態様において、硫黄成分除去システムは、少なくとも1つの固体吸着床を含む。少なくとも1つの固体吸着床は、メタンガスおよび二酸化炭素をサワーガス流として通過させる一方で、少なくとも一部の硫化水素を吸着する。この固体吸着床は、例えば、(1)ゼオライト材料から作られていてもよいし、または(ii)少なくとも1つのモレキュラーシーブを含んでもよい。固体吸着床は、少なくともいくらかの水を偶発的に吸着してもよい。
少なくとも1つの固体吸着床は、吸着動的分離床であってよい。あるいは、少なくとも1つの固体吸着床は、少なくとも3つの固体吸着床を含むこともでき、(i)少なくとも3つの固体吸着床のうちの第1の床は、硫黄成分を吸着するために使用され、(ii)少なくとも3つの固体吸着床のうちの第2の床には、再生が施され、および(iii)少なくとも3つの固体吸着床のうちの第3の床は、少なくとも3つの固体吸着床の第1の床の代替として取っておく。再生は、熱スイング吸着プロセスの一部、圧力スイング吸着プロセスの一部、またはこれらの組合せであってよい。
Various types of sulfur component removal systems can be utilized. These include systems that employ physical solvents to separate sulfur-containing components from sour gas streams. These may also include the use of redox processes and so-called scavengers. They may also include a so-called “CrystaSulf” process.
In one aspect, the sulfur component removal system includes at least one solid adsorbent bed. At least one solid adsorbent bed adsorbs at least a portion of hydrogen sulfide while allowing methane gas and carbon dioxide to pass through as a sour gas stream. This solid adsorbent bed may, for example, (1) be made from a zeolitic material or (ii) contain at least one molecular sieve. The solid adsorbent bed may adsorb at least some water accidentally.
The at least one solid adsorption bed may be an adsorption dynamic separation bed. Alternatively, the at least one solid adsorbent bed can include at least three solid adsorbent beds, (i) the first of the at least three solid adsorbent beds is used to adsorb sulfur components; (Ii) a second of the at least three solid adsorbent beds is regenerated, and (iii) a third of the at least three solid adsorbent beds is of at least three solid adsorbent beds. Set aside for the first floor. The regeneration may be part of a thermal swing adsorption process, part of a pressure swing adsorption process, or a combination thereof.

別の実施形態において、硫黄成分除去システムは、選択性アミンなどの化学溶媒を採用している。この例では、硫黄成分除去システムは、複数の並流接触装置を利用することが好ましい。
物理溶媒系または化学溶媒系の代わりに、またはこれらに加えて、他のタイプの硫黄成分除去システムを利用することもできる。このような系は、レドックスシステム、少なくとも1つの固体吸着床の使用、または少なくとも1つの吸収動的分離床の使用を含み得る。
サワーガス流から酸性ガスを除去するための分離システムもまた本明細書中に提供されている。このシステムにおいて、硫化水素および他の硫黄含有化合物は、酸性ガス除去システムの下流で実質的に除去される。このシステムは、酸性ガス流を処理するように設計されている。酸性ガス流は、およそ4ppmから100ppmの間の硫黄成分を最初に含む生ガス流から得られる。
In another embodiment, the sulfur component removal system employs a chemical solvent such as a selective amine. In this example, the sulfur component removal system preferably utilizes a plurality of co-current contact devices.
Other types of sulfur component removal systems may be utilized instead of or in addition to physical or chemical solvent systems. Such a system may include a redox system, the use of at least one solid adsorption bed, or the use of at least one absorption dynamic separation bed.
A separation system for removing acid gases from the sour gas stream is also provided herein. In this system, hydrogen sulfide and other sulfur-containing compounds are substantially removed downstream of the acid gas removal system. This system is designed to handle acid gas streams. The acid gas stream is obtained from a raw gas stream initially containing between about 4 ppm and 100 ppm sulfur components.

一実施形態において、システムは、酸性ガス除去システムを含む。この酸性ガス除去システムは、生ガス流を受け取り、この生ガス流を、主にメタンで構成されるオーバーヘッドガス流と、主に二酸化炭素から構成される底部液体酸性ガス流とに分離する。硫化水素はまた、底部酸性ガス流内に存在することになる。システムはまた、硫黄成分除去システムも含む。硫黄成分除去システムは、酸性ガス除去システムの下流に設置される。硫黄成分除去システムは、底部酸性ガス流を受け取り、底部酸性ガス流を全般的に、二酸化炭素流と、主に硫黄含有化合物を有する別の流れとに分離する。   In one embodiment, the system includes an acid gas removal system. The acid gas removal system receives a raw gas stream and separates the raw gas stream into an overhead gas stream composed primarily of methane and a bottom liquid acid gas stream composed primarily of carbon dioxide. Hydrogen sulfide will also be present in the bottom acid gas stream. The system also includes a sulfur component removal system. The sulfur component removal system is installed downstream of the acid gas removal system. The sulfur component removal system receives a bottom acid gas stream and generally separates the bottom acid gas stream into a carbon dioxide stream and another stream having primarily sulfur-containing compounds.

酸性ガス除去システムは、極低温酸性ガス除去システムであることが好ましい。極低温酸性ガス除去システムは、生ガス流を受け取るための蒸留塔と、蒸留塔に侵入する前の生ガス流を冷やすための冷蔵システムとを含む。極低温酸性ガス除去システムは、蒸留塔が下部蒸留域と、中間部の制御された凍結域とを有する「CFZ」システムであることが好ましい。中間部の制御された凍結域、または「スプレーセクション」は、主にメタンで構成される低温液体スプレーを受け取る。この低温スプレーは、蒸留塔のオーバーヘッドループ下流から生成される液体還流である。冷蔵機器は、オーバーヘッドメタン流を冷却し、オーバーヘッドメタン流の一部分を液体である還流として極低温蒸留塔へ戻すため、極低温蒸留塔の下流に提供される。   The acid gas removal system is preferably a cryogenic acid gas removal system. The cryogenic acid gas removal system includes a distillation column for receiving a raw gas stream and a refrigeration system for cooling the raw gas stream prior to entering the distillation column. The cryogenic acid gas removal system is preferably a “CFZ” system in which the distillation column has a lower distillation zone and a controlled freezing zone in the middle. An intermediate controlled freezing zone, or “spray section”, receives a cryogenic liquid spray composed primarily of methane. This cold spray is a liquid reflux produced from the overhead loop downstream of the distillation column. Refrigeration equipment is provided downstream of the cryogenic distillation column to cool the overhead methane stream and return a portion of the overhead methane stream as a liquid reflux to the cryogenic distillation column.

様々なタイプの硫黄成分除去システムを利用することができる。一態様において、この硫黄成分除去システムは、少なくとも1つの固体吸着床を含む。この少なくとも1つの固体吸着床は、底部酸性ガス流から少なくともいくらかの硫黄含有成分を吸着し、二酸化炭素ガスを実質的に通過させる。固体吸着床は、例えば、吸着動的分離(AKS)を使用することができる。このAKS床は、少なくともいくらかの二酸化炭素を偶発的に吸着してよい。この例では、AKS硫黄成分除去システムはまた、重力分離器などの分離器を含むことが好ましい。この重力分離器は、液体の重質炭化水素成分および硫化水素を例えばガス状のCO2から分離する。
あるいは、固体吸着床は、H2Sと直接反応し、硫化鉄を形成することによってこれを除去するための鉄スポンジであってよい。
Various types of sulfur component removal systems can be utilized. In one aspect, the sulfur component removal system includes at least one solid adsorbent bed. The at least one solid adsorbent bed adsorbs at least some sulfur-containing components from the bottom acidic gas stream and substantially passes carbon dioxide gas. The solid adsorption bed can use, for example, adsorption dynamic separation (AKS). This AKS bed may adsorb at least some carbon dioxide accidentally. In this example, the AKS sulfur component removal system also preferably includes a separator, such as a gravity separator. This gravity separator separates liquid heavy hydrocarbon components and hydrogen sulfide from, for example, gaseous CO 2 .
Alternatively, the solid adsorbent bed may be an iron sponge to react directly with H 2 S to remove it by forming iron sulfide.

別の態様では、硫黄成分除去システムは、抽出蒸留プロセスを含む。この抽出蒸留プロセスは、少なくとも2つの溶媒回収カラムを採用している。第1のカラムは、底部酸性ガス流を受け取り、底部酸性ガス流を、主に二酸化炭素で構成される第1の流体流と、主に溶媒および硫黄含有化合物で構成される第2の流体流とに分離する。   In another aspect, the sulfur component removal system includes an extractive distillation process. This extractive distillation process employs at least two solvent recovery columns. The first column receives a bottom acid gas stream, and the bottom acid gas stream is divided into a first fluid stream mainly composed of carbon dioxide and a second fluid stream mainly composed of a solvent and a sulfur-containing compound. And to separate.

本発明をより良く理解できるように、特定の図解、チャートおよび/またはフローチャートを本明細書に添付する。しかし、ここで注意すべきことは、これらの図は、本発明の選択された実施形態しか例示しておらず、したがって範囲を制限するものと考えられてはならない。なぜなら、本発明は、他の同様に効果的な実施形態および応用を受け入れることができるからである。   In order that the present invention may be better understood, specific illustrations, charts and / or flowcharts are appended hereto. It should be noted, however, that these figures are only illustrative of selected embodiments of the present invention and therefore should not be considered limiting in scope. This is because the present invention is amenable to other equally effective embodiments and applications.

一実施形態における例示的なCFZ蒸留塔の側面図である。冷やされた生ガス流は、塔の中間部の制御された凍結域へと注入される。FIG. 3 is a side view of an exemplary CFZ distillation column in one embodiment. The cooled raw gas stream is injected into a controlled freezing zone in the middle of the tower. 一実施形態における溶融トレイの平面図である。溶融トレイは、塔内において、制御された凍結域の下に存在する。It is a top view of the fusion tray in one embodiment. The melting tray is in the tower below the controlled freezing zone. 図2Aの溶融トレイの、線2B−2Bに沿った横断面図である。2B is a cross-sectional view of the melting tray of FIG. 2A along line 2B-2B. FIG. 図2Aの溶融トレイの、線2C−2Cに沿った横断面図である。2B is a cross-sectional view of the melting tray of FIG. 2A along line 2C-2C. 一実施形態における、蒸留塔の下部蒸留域内のストリッピングトレイの拡大側面図である。FIG. 3 is an enlarged side view of a stripping tray in the lower distillation zone of the distillation column in one embodiment. 一実施形態において、蒸留塔の下部蒸留セクションまたは上部蒸留セクションのいずれかで使用することができるジェットトレイの透視図である。FIG. 2 is a perspective view of a jet tray that can be used in either the lower distillation section or the upper distillation section of a distillation column in one embodiment. 図4Aのジェットトレイの中の、1つの開口の側面図である。FIG. 4B is a side view of one opening in the jet tray of FIG. 4A. 図1の蒸留塔の中間部の制御された凍結域の側面図である。この図において、2つの例示的開口調節板が中間部の制御された凍結域に付加されている。2 is a side view of a controlled freezing zone in the middle of the distillation column of FIG. In this figure, two exemplary aperture adjustment plates have been added to the controlled freezing zone in the middle. 一実施形態において、本発明に従いガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設を示す概略図である。ガス処理施設は、酸性ガス除去システム上流に溶媒プロセスを採用している。1 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility for removing acid gas from a gas stream according to the present invention, in one embodiment. FIG. The gas treatment facility employs a solvent process upstream of the acid gas removal system. 一実施形態において、図6の溶媒系の詳細な概略図を提供している。ここで溶媒系は、硫化水素を除去するために、脱水されたガス流と接触するよう作動する物理溶媒系である。In one embodiment, a detailed schematic diagram of the solvent system of FIG. 6 is provided. The solvent system here is a physical solvent system that operates to contact the dehydrated gas stream to remove hydrogen sulfide. 代替実施形態において、図6の溶媒系の詳細な概略図を提供している。ここで溶媒系は、硫化水素を除去するために、脱水されたガス流と接触するよう作動する化学溶媒系である。In an alternative embodiment, a detailed schematic diagram of the solvent system of FIG. 6 is provided. The solvent system here is a chemical solvent system that operates to contact the dehydrated gas stream to remove hydrogen sulfide. 一実施形態において、本発明に従いガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設を示す概略図である。この配置において、硫化水素は、レドックスプロセスを用いて、酸性ガス除去システムの上流でガス流から除去される。1 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility for removing acid gas from a gas stream according to the present invention, in one embodiment. FIG. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the gas stream upstream of the acid gas removal system using a redox process. 一実施形態において、本発明に従いガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設を示す概略図である。この配置において、硫化水素は、スカベンジャーを用いて酸性ガス除去システムの上流でガス流から除去される。1 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility for removing acid gas from a gas stream according to the present invention, in one embodiment. FIG. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the gas stream upstream of the acid gas removal system using a scavenger. 一実施形態において、本発明に従いガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設を示す概略図である。この配置において、硫化水素は、CrystaSulfプロセスを用いて酸性ガス除去システムの上流でガス流から除去される。1 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility for removing acid gas from a gas stream according to the present invention, in one embodiment. FIG. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the gas stream upstream of the acid gas removal system using a CrystaSulf process. 一実施形態において、本発明に従いガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設を示す概略図である。この配置において、硫化水素は、熱スイング吸着システムを用いて酸性ガス除去システムの上流でガス流から除去される。1 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility for removing acid gas from a gas stream according to the present invention, in one embodiment. FIG. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the gas stream upstream of the acid gas removal system using a thermal swing adsorption system. 一実施形態において、本発明に従いガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設を示す概略図である。この配置において、硫化水素は、圧力スイング吸着システムを用いて酸性ガス除去システムの上流でガス流から除去される。1 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility for removing acid gas from a gas stream according to the present invention, in one embodiment. FIG. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the gas stream upstream of the acid gas removal system using a pressure swing adsorption system. 別の実施形態における本発明のガス処理施設を示す概略図である。この配置において、硫化水素は、吸着動的分離を利用する吸着床を用いて酸性ガス除去システムの上流でガス流から除去される。It is the schematic which shows the gas processing facility of this invention in another embodiment. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the gas stream upstream of the acid gas removal system using an adsorption bed that utilizes adsorption dynamic separation. 別の実施形態における本発明のガス処理施設を示す概略図である。この配置において、硫化水素は、吸着動的分離を利用する吸着床を用いて酸性ガス除去システムの下流でガス流から除去される。It is the schematic which shows the gas processing facility of this invention in another embodiment. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the gas stream downstream of the acid gas removal system using an adsorbent bed that utilizes adsorptive dynamic separation. 別の実施形態における本発明のガス処理施設の概略図である。この配置において、硫化水素は、抽出蒸留プロセスを用いて酸性ガス除去システムの下流でガス流から除去される。It is the schematic of the gas processing facility of this invention in another embodiment. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the gas stream downstream of the acid gas removal system using an extractive distillation process. 図15Aの抽出蒸留プロセスのためのガス処理施設の詳細な概略図である。FIG. 15B is a detailed schematic diagram of a gas processing facility for the extractive distillation process of FIG. 15A.

定義
本明細書で使用する場合、「炭化水素」という用語は、独占的ではないが主に、元素水素および炭素を含む有機化合物を指す。炭化水素は、全般的に2つのクラスに分かれる:脂肪または直鎖炭化水素、および環式テルペンを含めた環式または閉鎖炭化水素環。炭化水素含有物質の例として、燃料として使用することができるか、または品質を向上させて燃料にすることができる、任意の形態の天然ガス、油、石炭、およびビチューメンが挙げられる。
Definitions As used herein, the term “hydrocarbon” refers to an organic compound that primarily includes, but is not exclusively, elemental hydrogen and carbon. Hydrocarbons generally fall into two classes: cyclic or closed hydrocarbon rings, including aliphatic or straight chain hydrocarbons, and cyclic terpenes. Examples of hydrocarbon-containing materials include any form of natural gas, oil, coal, and bitumen that can be used as a fuel or can be improved in quality into a fuel.

本明細書で使用する場合、「炭化水素流体」という用語は、ガスまたは液体である、炭化水素または炭化水素混合物を指す。例えば、炭化水素流体は、形成条件、処理条件または周囲条件(15℃および1atm気圧)においてガスまたは液体である炭化水素または炭化水素混合物を含み得る。炭化水素流体は、例えば、油、天然ガス、炭層メタン、シェール油、熱分解油、熱分解ガス、石炭の熱分解生成物およびガス状または液体状態である他の炭化水素を含み得る。
「物質移動装置」という用語は、接触させるべき流体を受け取り、例えば重力流などを介してこれら流体を他の対象へと回す任意の対象を指す。1つの非限定的な例が、特定の成分をストリッピングするためのトレイである。グリッド充填はもう1つの例である。
As used herein, the term “hydrocarbon fluid” refers to a hydrocarbon or hydrocarbon mixture that is a gas or a liquid. For example, the hydrocarbon fluid may comprise a hydrocarbon or hydrocarbon mixture that is a gas or liquid at forming, processing or ambient conditions (15 ° C. and 1 atm atmosphere). The hydrocarbon fluid may include, for example, oil, natural gas, coal seam methane, shale oil, pyrolysis oil, pyrolysis gas, pyrolysis products of coal, and other hydrocarbons that are in a gaseous or liquid state.
The term “mass transfer device” refers to any object that receives fluids to be contacted and directs them to other objects, such as via gravity flow. One non-limiting example is a tray for stripping specific ingredients. Grid filling is another example.

本明細書で使用する場合、「流体」という用語は、ガス、液体、およびガスと液体の組合せ、ならびにガスと固体の組合せおよび液体と固体の組合せを指す。
本明細書で使用する場合、「凝縮できる炭化水素」という用語は、およそ15℃および1絶対大気圧で凝縮する炭化水素を意味する。凝縮できる炭化水素は、例えば4を超える炭素数を有する炭化水素混合物を含み得る。
本明細書で使用する場合、「重質炭化水素」という用語は、1個を超える炭素原子を有する炭化水素を指す。主要な例として、エタン、プロパンおよびブタンが挙げられる。他の例として、ペンタン、芳香族、またはダイヤモンドイドが挙げられる。
As used herein, the term “fluid” refers to gases, liquids, and combinations of gas and liquid, and combinations of gas and solid and combinations of liquid and solid.
As used herein, the term “condensable hydrocarbon” means a hydrocarbon that condenses at approximately 15 ° C. and 1 absolute atmospheric pressure. Hydrocarbons that can be condensed may include hydrocarbon mixtures having, for example, a carbon number greater than four.
As used herein, the term “heavy hydrocarbon” refers to a hydrocarbon having more than one carbon atom. Major examples include ethane, propane and butane. Other examples include pentane, aromatic, or diamondoid.

本明細書で使用する場合、「閉ループ冷蔵システム」という用語は、外部からの作用する流体、例えばプロパンまたはエチレンなどが、オーバーヘッドメタン流を冷やすための冷却剤として使用されている任意の冷蔵システムを意味する。これは、オーバーヘッドメタン流それ自体の一部分が作用する流体として使用される「開ループ冷蔵システム」と対照的である。
本明細書で使用する場合、「並流の接触装置」または「並流の接触器」という用語とは、(i)ガスの流れおよび(ii)溶媒の別の流れが、接触装置内で全般的に同じ方向に流れている間に、これらガス流と溶媒流が互いに接触するような形でこれらの流れを受ける容器を意味する。非限定的な例として、排出装置およびコアレッサー、または静的混合機プラスデリキダイザーが挙げられる。
「非吸収ガス」とは、ガススウィートニングプロセスの間に溶媒により有意に吸収されないガスを意味する。
本明細書で使用する場合、「天然ガス」という用語は、原油井(随伴ガス)または地下のガス保有構造(非随伴ガス)から得られる多成分ガスを指す。天然ガスの組成および圧力は、有意に異なる可能性がある。典型的な天然ガス流は、メタン(C1)を有意な成分として含有する。天然のガス流はまた、エタン(C2)、より高い分子量の炭化水素、および1つまたは複数の酸性ガスを含有し得る。天然ガスはまた、微量な汚染物質、例えば水、窒素、ろう、および原油などを含有し得る。
As used herein, the term “closed loop refrigeration system” refers to any refrigeration system in which an external working fluid, such as propane or ethylene, is used as a coolant to cool an overhead methane stream. means. This is in contrast to an “open loop refrigeration system” that is used as a fluid on which a portion of the overhead methane stream itself acts.
As used herein, the term “cocurrent contact device” or “cocurrent contactor” refers to (i) a flow of gas and (ii) another flow of solvent within the contact device. Means a vessel that receives these streams in such a way that the gas and solvent streams are in contact with each other while flowing in the same direction. Non-limiting examples include a discharge device and coalescer, or a static mixer plus deliquesizer.
By “non-absorbing gas” is meant a gas that is not significantly absorbed by the solvent during the gas sweetening process.
As used herein, the term “natural gas” refers to a multi-component gas obtained from a crude oil well (associated gas) or an underground gas-holding structure (non-associated gas). The composition and pressure of natural gas can be significantly different. A typical natural gas stream contains methane (C 1 ) as a significant component. The natural gas stream may also contain ethane (C 2 ), higher molecular weight hydrocarbons, and one or more acid gases. Natural gas can also contain trace contaminants such as water, nitrogen, wax, and crude oil.

本明細書で使用する場合、「酸性ガス」は、酸性溶液を生成する水中に溶解している任意のガスを意味する。酸性ガスの非限定的な例として、硫化水素(H2S)および二酸化炭素(CO2)が挙げられる。硫黄化合物として、二硫化炭素(CS2)、硫化カルボニル(COS)、メルカプタン、またはこれらの混合物が挙げられる。 As used herein, “acid gas” means any gas that is dissolved in water to produce an acidic solution. Non-limiting examples of acid gases include hydrogen sulfide (H 2 S) and carbon dioxide (CO 2 ). Sulfur compounds include carbon disulfide (CS 2 ), carbonyl sulfide (COS), mercaptans, or mixtures thereof.

「液体溶媒」という用語は、酸性ガスを優先的に吸収し、これによってガス流から酸性ガス成分の少なくとも一部分を除去するまたは「スクラビングで取り除く」、実質的には液相の流体を意味する。ガス流は、炭化水素ガス流または他のガス流、例えば窒素を有するガス流などであってよい。
「スウィートニングされたガス流」とは、除去した酸性ガス成分の少なくとも一部分を有していた実質的には気相の流体流を指す。
本明細書で使用する場合、選択されたガス成分をガス流から吸収性液体で除去することに関して「リーン」および「リッチ」という用語は、相対的であり、選択されたガス成分の含有量の程度がそれぞれ、より少ないまたはより大きいことを単に意味するだけにすぎない。それぞれの「リーン」および「リッチ」という用語は、それぞれ、吸収性液体は選択されたガス成分を完全に有していないか、または選択されたガス成分をそれ以上吸収することができないかのいずれかを必ずしも示しているまたは必要とするわけではない。実際に、一連の2つ以上の接触器の中の第1の接触器内で生成されたいわゆる「リッチ」な吸収性液体は、本明細書中のこれより以下から明らかなように、残りの吸収能力を有意にまたは多く保持していることが好ましい。逆に「リーン」な吸収性液体は、大幅な吸収が可能であるが、除去されているガス成分の微量な濃縮物を保持することもできることを理解されたい。
The term “liquid solvent” means a substantially liquid phase fluid that preferentially absorbs acid gas, thereby removing or “scrubping” at least a portion of the acid gas component from the gas stream. The gas stream may be a hydrocarbon gas stream or other gas stream, such as a gas stream with nitrogen.
"Sweetned gas stream" refers to a substantially gas phase fluid stream that had at least a portion of the removed acid gas component.
As used herein, the terms “lean” and “rich” are relative to removing a selected gas component from a gas stream with an absorbent liquid and are relative to the content of the selected gas component. Each degree is merely meant to be less or greater. The terms “lean” and “rich” respectively indicate that the absorbent liquid either does not have the selected gas component completely or cannot absorb the selected gas component any more. Does not necessarily indicate or require. In fact, the so-called “rich” absorbent liquid produced in the first contactor in a series of two or more contactors, as will be apparent from the rest of this specification, It is preferable to retain significantly or much of the absorption capacity. Conversely, a “lean” absorbent liquid is capable of significant absorption, but it should be understood that it can also retain trace concentrations of the gas component being removed.

「生ガス流」という用語は、流体が主に気相であり、二酸化炭素、硫化水素、または他の酸性成分を除去するためのステップが行われていない炭化水素の流体流を指す。   The term “raw gas stream” refers to a hydrocarbon fluid stream in which the fluid is predominantly in the gas phase and has not undergone a step to remove carbon dioxide, hydrogen sulfide, or other acidic components.

「サワーガス流」という用語は、流体が主に気相であり、少なくとも3モルパーセントの二酸化炭素および/または4ppmを超える硫化水素を含有する、炭化水素の流体流を指す。
本明細書で使用する場合、「表面下」という用語は、土表面の下に生じる地層を指す。
The term “sour gas stream” refers to a hydrocarbon fluid stream where the fluid is predominantly in the gas phase and contains at least 3 mole percent carbon dioxide and / or greater than 4 ppm hydrogen sulfide.
As used herein, the term “subsurface” refers to a formation that occurs below the surface of the soil.

具体的な実施形態の説明
図1は、一実施形態において本発明と関連して使用し得る極低温蒸留塔100の概略図を提示している。この極低温蒸留塔100は、本明細書中、「極低温蒸留塔」、「カラム」、「CFZカラム」、またはただの「塔」と交換可能なように呼ぶことができる。
図1の極低温蒸留塔100は、初期流体流10を受ける。この流体流10は、主に生産ガスで構成される。一般に、流体流は、坑井先端または坑井先端の一群(示されていない)からの乾燥したガス流を示し、およそ65%からおよそ95%のメタンを含有する。しかし,流体流10は、より低いパーセンテージのメタン、例えばおよそ30%から65%、またはさらに20%から40%まで低いパーセンテージのメタンを含有し得る。
DESCRIPTION OF SPECIFIC EMBODIMENTS FIG. 1 presents a schematic diagram of a cryogenic distillation column 100 that can be used in connection with the present invention in one embodiment. This cryogenic distillation column 100 may be referred to herein interchangeably with “cryogenic distillation column”, “column”, “CFZ column”, or just “tower”.
The cryogenic distillation column 100 of FIG. 1 receives an initial fluid stream 10. This fluid stream 10 is mainly composed of production gas. In general, the fluid stream represents a dry gas stream from a well tip or a group of well tips (not shown) and contains approximately 65% to approximately 95% methane. However, the fluid stream 10 may contain a lower percentage of methane, for example, a lower percentage of methane, approximately 30% to 65%, or even 20% to 40%.

メタンは、他の炭化水素ガスの微量元素、例えばエタンなどと共に存在し得る。さらに、微量のヘリウムおよび窒素が存在し得る。本出願において、流体流10はまた特定の汚染物質も含むことになる。これら汚染物質として、酸性ガス、例えばCO2およびH2Sなどが挙げられる。
初期流体流10には、1平方インチ(psi)当たり約600ポンドの生産後圧力がかかり得る。場合によっては、初期流体流10の圧力は、およそ750psiまで、またはさらには1,000psiとなり得る。
流体流10は、通常蒸留塔100に入る前に冷やされる。熱交換器150、例えば円筒多管式熱交換器などが初期流体流10用に提供されている。冷蔵ユニット(示されていない)は、冷やされた流体(例えば液体プロパンなど)を熱交換器150に提供することによって、初期流体流10をおよそ−30°から−40°Fまで低い温度に低下させる。冷やされた流体流は、次いで膨張装置152を介して移動することができる。この膨張装置152は、例えばJoule−Thompson(「J−T」)バルブであってよい。
Methane may be present along with other hydrocarbon gas trace elements such as ethane. In addition, trace amounts of helium and nitrogen may be present. In this application, the fluid stream 10 will also contain certain contaminants. These contaminants include acidic gases such as CO 2 and H 2 S.
The initial fluid stream 10 can be subjected to a post production pressure of about 600 pounds per square inch (psi). In some cases, the pressure of the initial fluid stream 10 can be up to approximately 750 psi, or even 1,000 psi.
The fluid stream 10 is typically cooled before entering the distillation column 100. A heat exchanger 150, such as a cylindrical multi-tube heat exchanger, is provided for the initial fluid stream 10. A refrigeration unit (not shown) reduces the initial fluid stream 10 to a low temperature from approximately −30 ° to −40 ° F. by providing a cooled fluid (eg, liquid propane, etc.) to the heat exchanger 150. Let The chilled fluid stream can then travel through expansion device 152. The expansion device 152 may be, for example, a Joule-Thompson (“J-T”) valve.

膨張装置152は、流体流10のさらなる冷却を達成するために膨張器としての機能を果たす。流体流10の部分的な液化が成し遂げられるのが好ましい。Joule−Thompson(または「J−T」)バルブは、固体を形成する傾向があるガス供給流に対して好ましい。膨張装置152は、供給管における熱損失を最小限に抑え、一部の成分(例えばCO2またはベンゼンなど)がこれらの凝固点未満で滴下された場合、固体によって詰まる可能性を最小限に抑えるために、極低温蒸留塔100に近接して組み込まれるのが好ましい。
J−Tバルブの代替として、膨張器装置152は、ターボ膨張器であってよい。ターボ膨張器は、より多くの冷却をもたらし、上述した冷蔵ユニットのようなプロセス用のシャフトワークの供給元を作り出す。熱交換器150は、冷蔵ユニットの一部である。このようにして、オペレーターは、蒸留プロセスの全エネルギー所要量を最小限に抑えることができる。しかし、ターボ膨張器は、J−Tバルブのようにうまく凍結した粒子を取り扱うことはできない。
The expansion device 152 serves as an expander to achieve further cooling of the fluid stream 10. Preferably, partial liquefaction of the fluid stream 10 is achieved. A Joule-Thompson (or “J-T”) valve is preferred for gas feed streams that tend to form solids. The expansion device 152 minimizes heat loss in the supply tube and minimizes the possibility of clogging by solids when some components (such as CO 2 or benzene) are dripped below their freezing point. In addition, it is preferably incorporated close to the cryogenic distillation column 100.
As an alternative to a J-T valve, the inflator device 152 may be a turbo inflator. Turbo expanders provide more cooling and create shaftwork sources for processes such as the refrigeration units described above. The heat exchanger 150 is a part of the refrigeration unit. In this way, the operator can minimize the total energy requirements of the distillation process. However, turbo expanders cannot handle particles that are frozen as well as JT valves.

いずれの場合にも、熱交換器150および膨張器装置152は、初期流体流10中の生ガスを冷やされた流体流12に変換する。冷やされた流体流12の温度は約−40°から−70°Fが好ましい。一態様において、極低温蒸留塔100は、およそ550psiの圧力で作動し、冷やされた流体流12は約−62°Fで作動する。一部の気体相は、冷やされた流体流12へと必然的に取り込まれてもよいが、これらの条件下では、冷やされた流体流12は、実質的に液相である。おそらく、CO2の存在下では、いかなる固体形成も生じない。 In either case, the heat exchanger 150 and the expander device 152 convert the raw gas in the initial fluid stream 10 to the cooled fluid stream 12. The temperature of the chilled fluid stream 12 is preferably about -40 ° to -70 ° F. In one aspect, the cryogenic distillation column 100 operates at a pressure of approximately 550 psi and the chilled fluid stream 12 operates at about -62 ° F. Some gas phase may inevitably be taken into the chilled fluid stream 12, but under these conditions, the chilled fluid stream 12 is substantially in the liquid phase. Presumably, no solid formation occurs in the presence of CO 2 .

CFZ極低温蒸留塔100は、3つの主要セクションに分けられる。これらは、下部蒸留域、または「ストリッピングセクション」106、中間部の制御された凍結域、または「スプレーセクション」108、および上部蒸留域、または「精留セクション」110である。図1の塔配置において、冷やされた流体流12は、制御された凍結域108内の蒸留塔100内に導入される。しかし冷やされた流体流12は、代わりに下部蒸留域106の最上部付近に導入されてもよい。   The CFZ cryogenic distillation column 100 is divided into three main sections. These are the lower distillation zone, or “stripping section” 106, the middle controlled freezing zone, or “spray section” 108, and the upper distillation zone, or “rectification section” 110. In the tower arrangement of FIG. 1, the chilled fluid stream 12 is introduced into the distillation tower 100 in a controlled freezing zone 108. However, the cooled fluid stream 12 may instead be introduced near the top of the lower distillation zone 106.

図1の配置において、下部蒸留域106、中間部のスプレーセクション108、上部蒸留域110、および関連する構成要素は、単一容器100の内部に収納されていることに注意されたい。しかし、塔100の高さおよび動作の検討事項を考慮しなければならない可能性のある沖合での用途に対して、または輸送に制限があることが問題となる遠隔地に対しては、塔110を、2つの別々の圧力容器に分割してもよい(示されていない)。例えば、下部蒸留域106および制御された凍結域108を一容器に配置し、上部蒸留域108を別の容器に配置してもよい。次いで外部の配管を使用して、2つの容器を相互接続する。   Note that in the arrangement of FIG. 1, the lower distillation zone 106, the middle spray section 108, the upper distillation zone 110, and related components are contained within a single vessel 100. However, for offshore applications where tower 100 height and operational considerations may have to be taken into account, or for remote areas where limited transport is a concern, tower 110 May be divided into two separate pressure vessels (not shown). For example, the lower distillation zone 106 and the controlled freezing zone 108 may be placed in one container and the upper distillation zone 108 may be placed in another vessel. The external vessel is then used to interconnect the two containers.

いずれの実施形態においても、下部蒸留域106の温度は、冷やされた流体流12の供給温度より高い。下部蒸留域106の温度は、カラム100の作動圧において、冷やされた流体流12中のメタンの沸点よりもかなり上になるように設計されている。この方法で、メタンは、より重質な炭化水素および液体酸性ガス成分から優先的に取り除かれる。もちろん、当業者であれば、蒸留塔100内の液体は混合物であり、すなわちこれは純粋なメタンと純粋なCO2の間のある中間の温度で液体が「沸騰する」ことを意味することを理解されたい。さらに、この混合物(例えばエタンまたはプロパンなど)の中により重質な炭化水素が存在する場合、この混合物の沸点は上昇することになる。これらの要素は、極低温蒸留塔100内の作動温度に対する設計の検討材料となる。 In either embodiment, the temperature of the lower distillation zone 106 is higher than the supply temperature of the chilled fluid stream 12. The temperature of the lower distillation zone 106 is designed to be well above the boiling point of methane in the chilled fluid stream 12 at the column 100 operating pressure. In this way, methane is preferentially removed from heavier hydrocarbons and liquid acid gas components. Of course, those skilled in the art, the liquid of the distillation column 100 is a mixture, i.e., that this is the liquid at an intermediate temperature which is between the pure methane and pure CO 2 means "boiling" I want you to understand. Furthermore, if heavier hydrocarbons are present in the mixture (such as ethane or propane), the boiling point of the mixture will increase. These factors provide design considerations for the operating temperature within the cryogenic distillation column 100.

下部蒸留域106において、CO2および任意の他の液相の流体は、極低温蒸留塔100の底部に向かって重力により落下する。同時に、メタンおよび他の気体相の流体は、抜け出して塔100の最上部に向かって上方に上昇する。この分離はガス相と液相の間の密度の差を介して主に遂行される。しかし、この分離プロセスは、蒸留塔100の内部の構成要素により補助されてもよい。以下に記載されているように、これらは溶融トレイ130、複数の有利に設計された物質移動装置126、および場合によるヒーター系統25を含む。サイドリボイラー(173を参照されたい)を、同様に下部蒸留域106に付加することによって、メタンの除去を促進することができる。 In the lower distillation zone 106, CO 2 and any other liquid phase fluid drop by gravity toward the bottom of the cryogenic distillation column 100. At the same time, methane and other gas phase fluids escape and rise upward toward the top of the tower 100. This separation is mainly accomplished via the density difference between the gas phase and the liquid phase. However, this separation process may be assisted by components inside the distillation column 100. As described below, these include a melting tray 130, a plurality of advantageously designed mass transfer devices 126, and an optional heater system 25. A side reboiler (see 173) can also be added to the lower distillation zone 106 to facilitate removal of methane.

再び図1を参照すると、冷やされた流体流12は、下部蒸留域106の最上部付近でカラム100に導入することができる。代わりに溶融トレイ130の上で制御された凍結域108に供給流12を導入することが望ましいこともある。冷やされた流体流12の注入点は、主に初期流体流10の組成により決定される設計上の問題である。
冷やされた流体流12の温度が、固体を予想できない位十分に高い温度である場合(例えば−70°Fを超える場合など)、冷やされた流体流12をカラム100内の2相フラッシュボックスタイプ装置(または気体分配器)124を介して下部蒸留域106へと直接注入することが好ましいこともある。フラッシュボックス124の使用は、冷やされた流体流12の中の2相の気体/液体混合物を少なくとも部分的に分離する役目を果たす。このフラッシュボックス124は、2相の流体が、フラッシュボックス124内の調節板に当たるように溝付きであってよい。
Referring again to FIG. 1, the chilled fluid stream 12 can be introduced into the column 100 near the top of the lower distillation zone 106. Alternatively, it may be desirable to introduce the feed stream 12 to the controlled freezing zone 108 on the melting tray 130. The injection point of the chilled fluid stream 12 is a design issue determined primarily by the composition of the initial fluid stream 10.
If the temperature of the chilled fluid stream 12 is high enough that no solids can be expected (eg, greater than -70 ° F.), the chilled fluid stream 12 is a two-phase flash box type in the column 100 It may be preferred to inject directly into the lower distillation zone 106 via the device (or gas distributor) 124. Use of the flash box 124 serves to at least partially separate the two-phase gas / liquid mixture in the chilled fluid stream 12. The flash box 124 may be grooved so that the two-phase fluid strikes the adjustment plate in the flash box 124.

入口温度が低いために固体が予測される場合、冷やされた流体流12は、上述のようにカラム100に供給される前に容器173内で部分的に分離する必要があり得る。この場合、冷やされた供給流12は、2つの相分離器173内で分離することによって、固体がカラム100の入口系統および内部の構成要素をふさぐ可能性を最小限に抑えことができる。ガスの気体は、容器の入口系統11を介して相分離器173から離れ、そこで入口分配器121を介してカラム100に入る。次いでこのガスは、カラム100を介して上方に進む。液体/固体スラリー13は、相分離器173から放出される。液体/固体スラリーは気体分配器124を介してカラム100および溶融トレイ130へと誘導される。液体/固体スラリー13は、重力によりまたはポンプ175によりカラム100へと供給することができる。   If solids are expected due to low inlet temperature, the chilled fluid stream 12 may need to be partially separated in the container 173 before being fed to the column 100 as described above. In this case, the cooled feed stream 12 can be separated in the two phase separators 173 to minimize the possibility of solids blocking the column 100 inlet system and internal components. The gaseous gas leaves the phase separator 173 via the vessel inlet system 11 where it enters the column 100 via the inlet distributor 121. This gas then travels upward through the column 100. Liquid / solid slurry 13 is discharged from phase separator 173. Liquid / solid slurry is directed to column 100 and melt tray 130 via gas distributor 124. The liquid / solid slurry 13 can be fed to the column 100 by gravity or by a pump 175.

いずれの配置においても、すなわち2つの相分離器173があってもなくても、冷やされた流体流12(または11)は、カラム100へと入る。液体成分は、フラッシュボックス124から離れ、下部蒸留域106内のストリッピングトレイ126の一群へと下る。このストリッピングトレイ126は、一連の堰128および下降管129を含む。これらは、図3に関連して以下でより十分に記載されている。ストリッピングトレイ126は、下部蒸留域106のより温かい温度と相まって、メタンが溶液から抜け出すように作用する。生成した気体は、煮沸で取り出されたメタンおよび任意の取り込まれた二酸化炭素分子を担持している。
気体は、溶融トレイ130の上昇管または排気筒131(図2Bに見てとれる)を介してさらに上方に前進し、凍結域108に至る。排気筒131は、凍結域108全体に渡る均一な分布のために気体分配器として作用する。次いで気体は、CO2を「凍結させる」ためのスプレーヘッダー120からの低温液体に接触する。別の言い方をすれば、CO2は、凍結し、次いで溶融トレイ130上に沈殿または「雪」として戻る。次いで固体CO2は溶融され、液体の形態で溶融トレイ130を重力によって流れ落ち、そこより下からは、下部蒸留域106を介して流れ落ちる。
In either arrangement, that is, with or without the two phase separators 173, the cooled fluid stream 12 (or 11) enters the column 100. The liquid component leaves the flash box 124 and descends to a group of stripping trays 126 in the lower distillation zone 106. The stripping tray 126 includes a series of weirs 128 and downcomers 129. These are described more fully below in connection with FIG. The stripping tray 126, coupled with the warmer temperature of the lower distillation zone 106, acts to allow methane to escape from the solution. The produced gas carries methane extracted by boiling and any incorporated carbon dioxide molecules.
The gas advances further upward through the riser tube or exhaust tube 131 (shown in FIG. 2B) of the melting tray 130 and reaches the freezing zone 108. The exhaust tube 131 acts as a gas distributor for a uniform distribution throughout the freezing zone 108. The gas then contacts the cryogenic liquid from the spray header 120 to “freeze” the CO 2 . In other words, the CO 2 freezes and then returns as a precipitate or “snow” on the melting tray 130. The solid CO 2 is then melted and flows down by gravity through the melting tray 130 in liquid form, from below it flows through the lower distillation zone 106.

以下においてより十分に考察されている通り、スプレーセクション108は極低温蒸留塔100の中間部の凍結域である。塔100に入る前に冷やされた流体流12が容器173内で分離する交互の構成により、分離した液体/固体スラリー13の一部が溶融トレイ130のすぐ上の塔100に導入される。このようにして、酸性ガスおよびより重質な炭化水素成分の液体/固体混合物は、分配器121から流れ出ることになり、固体および液体は、溶融トレイ130上へと落ちる。   As will be discussed more fully below, the spray section 108 is a freezing zone in the middle of the cryogenic distillation column 100. A portion of the separated liquid / solid slurry 13 is introduced into the tower 100 immediately above the melting tray 130 by an alternate configuration in which the cooled fluid stream 12 separates in the vessel 173 before entering the tower 100. In this way, a liquid / solid mixture of acid gas and heavier hydrocarbon components will flow out of the distributor 121, and the solids and liquid will fall onto the melting tray 130.

溶融トレイ130は、液体および固体物質、主にCO2およびH2Sを、中間部の制御された凍結域108から重力によって受け取るように設計されている。溶融トレイ130は、液体および固体物質を温める役目があり、さらなる精製のためにこれらを液体形態で、下部蒸留域106を介して下向きに誘導する。溶融トレイ130は、液体プールの制御された凍結域108から固体/液体混合物を収集し、温める。溶融トレイ130は、気体流を放出して制御された凍結域108に戻し、固体CO2を溶融するための十分な熱伝達を提供し、溶融トレイ130より下のカラム100の下部蒸留域または下部蒸留域106への、液体/スラリーの排水を促進するように設計されている。 The melting tray 130 is designed to receive liquid and solid materials, primarily CO 2 and H 2 S, by gravity from the intermediate controlled freezing zone 108. The melt tray 130 serves to warm the liquid and solid materials and guides them downward in the liquid form through the lower distillation zone 106 for further purification. The melting tray 130 collects and warms the solid / liquid mixture from the controlled freezing zone 108 of the liquid pool. Melting tray 130 discharges the gas stream back to controlled freezing zone 108 and provides sufficient heat transfer to melt solid CO 2 , lower distillation zone or lower portion of column 100 below melting tray 130. Designed to facilitate drainage of liquid / slurry to distillation zone 106.

図2Aは、一実施形態における溶融トレイ130の平面図を提供している。図2Bは、図2AのB−Bの線に沿った溶融トレイ130の横断面図を提供する。図2Cは、C−Cの線に沿った溶融トレイ130の横断面図を示す。溶融トレイ130は、これら3つの図をまとめて参照して説明されることになる。
第1に、溶融トレイ130は、底部134を含む。底部134は、実質的に平面の本体であってよい。しかし、図2A、2Bおよび2Cに示されている好ましい実施形態では、底部134は、実質的に非平面プロファイルを採用している。この非平面構成により、制御された凍結域108から溶融トレイ130上に載せられた液体および固体を接触させるための表面積が増加する。これによって、カラム100の下部蒸留域106から上へと回される気体から、液体および解凍する固体への熱伝達が増加する効果が生じる。一態様において、底部134は波形である。別の態様では、底部134は実質的に正弦曲線である。この態様のトレイ設計は、図2Bに示されている。他の非平面的配置を代わりに使用することによって、溶融トレイ130の熱伝達地域を増加させることができることを理解されたい。
FIG. 2A provides a top view of the melting tray 130 in one embodiment. FIG. 2B provides a cross-sectional view of the melting tray 130 along the line BB of FIG. 2A. FIG. 2C shows a cross-sectional view of the melting tray 130 along the line CC. The melting tray 130 will be described with reference to these three figures collectively.
First, the melting tray 130 includes a bottom 134. The bottom 134 may be a substantially planar body. However, in the preferred embodiment shown in FIGS. 2A, 2B and 2C, the bottom 134 employs a substantially non-planar profile. This non-planar configuration increases the surface area for contacting liquids and solids placed on the melting tray 130 from the controlled freezing zone 108. This has the effect of increasing the heat transfer from the gas routed up from the lower distillation zone 106 of the column 100 to the liquid and the solid to be thawed. In one aspect, the bottom 134 is corrugated. In another aspect, the bottom 134 is substantially sinusoidal. This form of tray design is shown in FIG. 2B. It should be understood that the heat transfer area of the melting tray 130 can be increased by using other non-planar arrangements instead.

溶融トレイ底部134は傾いているのが好ましい。この傾斜は、図2Cの側面図に明示されている。大部分の固体が溶融されるべきではあるが、傾斜は、液体混合物中の任意の未溶融の固体が確かに溶融トレイ130から流れ出し、そこから下の蒸留域106に入るようにするための役目を果たす。
図2Cの図を見ると、液だめまたはチャネル138が溶融トレイ130の中心にあることを見てとれる。この溶融トレイ底部134は、チャネル138に向かって内向きに傾斜することによって、固体/液体混合物を送達する。底部134は、任意の方法で傾斜することによって、重力による液体の引抜きを促進し得る。
The melting tray bottom 134 is preferably inclined. This slope is clearly shown in the side view of FIG. 2C. Although most of the solids should be melted, the slope serves to ensure that any unmelted solids in the liquid mixture flow out of the melting tray 130 and from there into the lower distillation zone 106. Fulfill.
Looking at the view of FIG. 2C, it can be seen that the sump or channel 138 is in the center of the melting tray 130. The melt tray bottom 134 delivers a solid / liquid mixture by tilting inward toward the channel 138. The bottom 134 may be inclined in any manner to facilitate liquid withdrawal by gravity.

米国特許第4,533,372号に記載の通り、溶融トレイは、「排気筒トレイ」と呼ばれた。これは、単一の通風用の排気筒の存在によるものであった。排気筒は、気体がこれを介して、排気筒トレイを上方に移動できる開口を提供した。しかし、単一の排気筒の存在とは、排気筒トレイを介して上方に移動するすべてのガスは、単一の開口を介して出て行かなければならないことを意味した。その一方で、図2A、2Bおよび2Cの溶融トレイ130では、複数の排気筒131が提供されている。複数の排気筒131の使用は、気体分布を向上させる。これによって、中間部の制御された凍結域108でより良い熱/物質移動が得られる。
排気筒131は、任意のプロファイルであってよい。例えば、排気筒131は、円形、四角形、または気体の溶融トレイ130の通り抜けを可能にする任意の他の形であってよい。排気筒131はまた、幅が狭く、制御された凍結域108へと上方に伸びていてもよい。これにより、気体がCFZ制御された凍結域108へと上昇するにつれて、気体を均等に分布するための有利な圧力の低下が可能となる。排気筒131は、波形の底部134の最上部に位置することによって、追加の熱伝達地域を提供することが好ましい。
As described in US Pat. No. 4,533,372, the melting tray was referred to as the “exhaust tray”. This was due to the presence of a single ventilator for ventilation. The exhaust stack provided an opening through which gas can move up the exhaust stack tray. However, the presence of a single exhaust stack meant that all gas traveling upward through the exhaust stack tray had to exit through a single opening. On the other hand, in the melting tray 130 of FIGS. 2A, 2B, and 2C, a plurality of exhaust pipes 131 are provided. The use of the plurality of exhaust pipes 131 improves the gas distribution. This provides better heat / mass transfer in the controlled freezing zone 108 in the middle.
The exhaust tube 131 may have an arbitrary profile. For example, the exhaust stack 131 may be circular, square, or any other shape that allows the gas melting tray 130 to pass through. The exhaust stack 131 may also be narrow and extend upward into the controlled freezing zone 108. This allows an advantageous pressure drop to distribute the gas evenly as the gas rises to the frozen zone 108 under CFZ control. The exhaust stack 131 is preferably located at the top of the corrugated bottom 134 to provide an additional heat transfer area.

排気筒131の最上部の開口は、とびら口またはキャップ132で覆われているのが好ましい。これによって、制御された凍結域108から落下する固体が溶融トレイ130に落ちることを回避できる確率を最小限に抑える。図2A、2Bおよび2Cにおいて、キャップ132は、排気筒131のそれぞれの上に見られる。   The uppermost opening of the exhaust tube 131 is preferably covered with a door opening or cap 132. This minimizes the probability that a solid falling from the controlled freezing zone 108 can be avoided from falling on the melting tray 130. In FIGS. 2A, 2B and 2C, a cap 132 is seen on each of the exhaust stacks 131.

溶融トレイ130はまた、バブルキャップを装備するように設計されていてもよい。このバブルキャップは、溶融トレイ130の底面から上昇する、底部134の凸状の出入りと定義される。バブルキャップは、溶融トレイ130の表面積をさらに増加することによって、CO2リッチな液体への追加の熱伝達を提供する。この設計を用いて、適切な液体の引抜き、例えば傾斜角の増加などが、液体が下のストリッピングトレイ126に確実に誘導されるように提供されるべきである。 The melting tray 130 may also be designed to be equipped with a bubble cap. This bubble cap is defined as the convex entry / exit of the bottom portion 134 rising from the bottom surface of the melting tray 130. The bubble cap provides additional heat transfer to the CO 2 rich liquid by further increasing the surface area of the melt tray 130. Using this design, proper liquid withdrawal, such as increased tilt angle, should be provided to ensure that the liquid is directed to the lower stripping tray 126.

再び図1を参照すると、溶融トレイ130はまた、外部液体移動システム付きで設計することもできる。この移動システムは、すべての液体が固体を実質的に含まず、十分な熱伝達が提供されることを確実にする役目を果たす。移動システムは第1に引抜きノズル136を含む。一実施形態においてこの引抜きノズル136は、引抜き液だめ内に存在するか、またはチャネル138内に存在する(図2Cに示されている)。チャネル138で収集された流体は、移動ライン135に送達される。移動ライン135を介した流れは制御バルブ137およびレベルコントローラー「LC」により制御することができる(図1に見てとれる)。流体は、移動ライン135を介して下部蒸留域106に戻る。液体レベルが高すぎる場合、制御バルブ137は開く。レベルが低すぎる場合、制御バルブ137は閉じる。オペレーターが下部蒸留域106の移動システムを採用しないことを選択した場合、制御バルブ137は閉じられ、流体は直接物質移動装置へと誘導されるか、またはストリッピングのためにオーバーフロー下降管139を介して溶融トレイ130の下の「ストリッピングトレイ」126へと誘導される。
外部移動システムが使用されるかどうかに関わらず、固体CO2は溶融トレイ130上で温められ、CO2リッチな液体へと変換される。溶融トレイ130は、下部蒸留域106からの気体によって下側から加熱される。様々な手段例えばヒーターライン25などを用いて、補助的な熱を、溶融トレイ130に、または溶融トレイ底部134のちょうど上に、付加してもよい。ヒーターライン25は、底部リボイラー160からすでに入手可能な熱エネルギーを利用することによって、固体の解凍を促進する。
Referring again to FIG. 1, the melt tray 130 can also be designed with an external liquid transfer system. This transfer system serves to ensure that all liquids are substantially free of solids and sufficient heat transfer is provided. The movement system first includes an extraction nozzle 136. In one embodiment, the draw nozzle 136 is in the draw reservoir or in the channel 138 (shown in FIG. 2C). Fluid collected in channel 138 is delivered to travel line 135. The flow through the movement line 135 can be controlled by a control valve 137 and a level controller “LC” (taken in FIG. 1). The fluid returns to lower distillation zone 106 via transfer line 135. If the liquid level is too high, the control valve 137 opens. If the level is too low, the control valve 137 is closed. If the operator chooses not to adopt the lower distillation zone 106 transfer system, the control valve 137 is closed and fluid is either directed directly to the mass transfer device or via the overflow downcomer 139 for stripping. To the “stripping tray” 126 below the melting tray 130.
Regardless of whether an external transfer system is used, the solid CO 2 is warmed on the melting tray 130 and converted to a CO 2 rich liquid. The melting tray 130 is heated from below by the gas from the lower distillation zone 106. Auxiliary heat may be applied to the melting tray 130 or just above the melting tray bottom 134 using various means such as the heater line 25. The heater line 25 facilitates thawing of solids by utilizing the thermal energy already available from the bottom reboiler 160.

CO2リッチな液体は、液体レベル制御下の溶融トレイ130から引き抜かれ、重力によって下部蒸留域106へと導入される。記述されているように、溶融トレイ130の下の下部蒸留域106には複数のストリッピングトレイ126が提供されている。ストリッピングトレイ126は、1つのトレイが他の上にある、実質的に平行な関係にあるのが好ましい。ストリッピングトレイ126のそれぞれは、液体レベルがトレイ上に維持されるように堰を備え、極めてわずかに傾斜して位置していてもよい。流体は、堰の上を、各トレイに沿って重力により流れ、次いで下降管を介して次のトレイへと流れ落ちる。
ストリッピングトレイ126は、様々な配置にすることができる。ストリッピングトレイ126は、全般的に水平な関係に配置することによって、行ったり来たりする、カスケード式の液体流を形成することができる。しかし、ストリッピングトレイ126は、実質的に同じ水平面に沿って別個のストリッピングトレイにより分割されているカスケード式の液体流を作り出すように配置されるのが好ましい。これは図3の配置に示されており、この配置では、液体が別個のトレイを横切って流れ、2つの対向する下降管129へと落ちるように、液体流は少なくとも一度分割される。
The CO 2 rich liquid is withdrawn from the melting tray 130 under liquid level control and introduced into the lower distillation zone 106 by gravity. As described, a plurality of stripping trays 126 are provided in the lower distillation zone 106 below the melting tray 130. The stripping tray 126 is preferably in a substantially parallel relationship with one tray over the other. Each of the stripping trays 126 may be positioned with a very slight inclination with a weir so that the liquid level is maintained on the tray. The fluid flows by gravity over each weir along each tray and then flows down to the next tray via the downcomer.
The stripping tray 126 can be variously arranged. The stripping tray 126 can be arranged in a generally horizontal relationship to form a cascading liquid stream that can be moved back and forth. However, the stripping tray 126 is preferably arranged to create a cascaded liquid flow that is divided by separate stripping trays along substantially the same horizontal plane. This is illustrated in the arrangement of FIG. 3, where the liquid flow is split at least once so that the liquid flows across separate trays and falls into two opposing downcomers 129.

図3は、一実施形態におけるストリッピングトレイ126配置の側面図を提供している。ストリッピングトレイ126のそれぞれは、上からの流体を受け、これらを収集する。各ストリッピングトレイ126は、ダムとして機能することによって、ストリッピングトレイ126のそれぞれ上に流体の小さなプールを収集することを可能にする堰128を有するのが好ましい。蓄積は、1/2から1インチであってよいが、任意の高さを採用してもよい。流体が1つのトレイ126から次の下位のトレイ126へと落ちることにより、堰128によって落水効果が生まれる。一態様では、ストリッピングトレイ126は傾斜がないが、この落水効果は、堰128をより高くする構成を介して作り出される。流体は、トレイ126のこの「接触地域」において、直交して流れる液体からメタンを取り出す、より軽質な炭化水素リッチな上昇気体と接触する。堰128は、下降管129を動的にふさぐように働くことによって、気体が下降管129を介して迂回するのを防止し、炭化水素ガスの脱出をさらに促進する手助けを行う。   FIG. 3 provides a side view of the stripping tray 126 arrangement in one embodiment. Each of the stripping trays 126 receives fluid from above and collects them. Each stripping tray 126 preferably has a weir 128 that functions as a dam, thereby allowing a small pool of fluid to be collected on each of the stripping trays 126. The accumulation may be 1/2 to 1 inch, but any height may be employed. As the fluid falls from one tray 126 to the next lower tray 126, the weir 128 creates a draining effect. In one aspect, the stripping tray 126 is not inclined, but this falling effect is created through a higher weir 128 configuration. In this “contact area” of tray 126, the fluid comes into contact with a lighter, hydrocarbon-rich ascending gas that extracts methane from the orthogonally flowing liquid. The weir 128 acts to block the downcomer 129 dynamically, thereby preventing gas from bypassing through the downcomer 129 and helping further promote escape of the hydrocarbon gas.

液体が下部蒸留域106を介して下向きに移動するにつれて液体中のメタンのパーセンテージは、ますます小さくなる。蒸留の程度は、下部蒸留域106内のトレイ126の数に依存する。下部蒸留域106の上の部分では、液体のメタン含有量は、25モルパーセントまで高くなり得るが、ストリッピングトレイの底部では、メタン含有量は、0.04モルパーセントまで低くなり得る。メタン含有物は、ストリッピングトレイ126(または他の物質移動装置)に沿って急速にフラッシュされる。下部蒸留域106において使用される物質移動装置の数は、生ガス流10の組成に基づく設計上の選択の問題である。しかし、例えば液化された酸性ガスにおいて所望の1%以下のレベルまでメタンを除去するためには、わずか数レベルのストリッピングトレイ126の利用しか通常必要とされない。   As the liquid moves downward through the lower distillation zone 106, the percentage of methane in the liquid becomes increasingly smaller. The degree of distillation depends on the number of trays 126 in the lower distillation zone 106. In the upper part of the lower distillation zone 106, the liquid methane content can be as high as 25 mole percent, while at the bottom of the stripping tray, the methane content can be as low as 0.04 mole percent. The methane content is rapidly flushed along the stripping tray 126 (or other mass transfer device). The number of mass transfer devices used in the lower distillation zone 106 is a matter of design choice based on the composition of the raw gas stream 10. However, only a few levels of stripping tray 126 are typically required to remove methane, for example, in liquefied acid gas to the desired level of 1% or less.

メタンの脱出を促進する様々な個別のストリッピングトレイ126構成を採用してもよい。ストリッピングトレイ126は、篩の穴またはバブルキャップを有するパネルを単に示し得る。しかし、流体に対するさらなる熱伝達を提供し、固体が原因の望ましくない遮断を防止するため、いわゆる「ジェットトレイ」を溶融トレイの下に採用してもよい。トレイの代わりに、ランダムなまたは構造化された充填物を採用してもよい。   A variety of individual stripping tray 126 configurations that facilitate methane escape may be employed. The stripping tray 126 may simply represent a panel having a sieve hole or bubble cap. However, a so-called “jet tray” may be employed under the melting tray to provide additional heat transfer to the fluid and prevent undesired blockage due to solids. Instead of trays, random or structured packing may be employed.

図4Aは、一実施形態における例示的ジェットトレイ426の平面図を提供している。図4Bは、ジェットトレイ426からのジェットタブ422の横断面図を提供している。示されているように、各ジェットトレイ426は、本体424を有し、複数のジェットタブ422が、本体424内に形成されている。各ジェットタブ422は、開口425を覆う傾いたタブ部材428を含む。したがって、ジェットトレイ426は、複数の小さい開口425を有する。   FIG. 4A provides a top view of an exemplary jet tray 426 in one embodiment. FIG. 4B provides a cross-sectional view of the jet tab 422 from the jet tray 426. As shown, each jet tray 426 has a body 424 with a plurality of jet tabs 422 formed in the body 424. Each jet tab 422 includes a tilted tab member 428 that covers the opening 425. Accordingly, the jet tray 426 has a plurality of small openings 425.

作動中、1つまたは複数のジェットトレイ426は、塔100の下部蒸留域106および/または上部蒸留域110に位置することができる。トレイ426は、複数の通路、例えば図3のストリッピングトレイ126のパターンなどを用いて配置することができる。しかし、メタンガスの脱出を促進するものであればいかなるトレイまたは充填物の配置も利用することができる。流体は、各ジェットトレイ426上に滝のように落ちる。次いで流体は本体424に沿って流れる。タブ422は、流体がトレイ426上を、急速におよび効率的に移動するよう、最適に方向づけられている。隣接した下降管(示されていない)が提供されることによって、それに続くトレイ426に液体を移動させてもよい。開口425はまた、下部蒸留域106で流体移動のプロセス中に放出されたガスの気体が、溶融トレイ130へと、および排気筒131を介して、より効率的に上方に進むことを可能にする。   During operation, one or more jet trays 426 can be located in the lower distillation zone 106 and / or the upper distillation zone 110 of the column 100. The tray 426 can be arranged using a plurality of passages, such as the pattern of the stripping tray 126 of FIG. However, any tray or packing arrangement that facilitates escape of methane gas can be utilized. The fluid falls like a waterfall on each jet tray 426. The fluid then flows along the body 424. Tabs 422 are optimally oriented so that fluid moves quickly and efficiently over tray 426. An adjacent downcomer (not shown) may be provided to move liquid to the subsequent tray 426. Opening 425 also allows gas gases released during the fluid transfer process in lower distillation zone 106 to travel more efficiently upward into melt tray 130 and through exhaust stack 131. .

一態様において、トレイ(例えばトレイ126または426など)は、耐付着性物質、すなわち、固体の蓄積を防止する物質から作製ことができる。耐付着性物質をある処理機器において利用することによって、腐食性金属粒子、ポリマー、塩、水和物、触媒微粉、または他の化学固体化合物の蓄積を防止する。極低温蒸留塔100の場合、耐付着性物質を、トレイ126または426において使用することによって、CO2固体の固着を制限することができる。例えば、テフロン(商標)コーティングを、トレイ126または426の表面に適用することができる。
代わりに、CO2が確実にカラム100の内径に沿って固体形態で蓄積し始めないようにするため、物理的設計を提供することもできる。この点において、カラム100の壁に沿って液体が推し進められるようにジェットタブ422の方向を合わせ、これによってカラム100の壁に沿って固体が蓄積するのを防止し、優れた気体と液体の接触を確実にすることができる。
In one aspect, the tray (eg, tray 126 or 426, etc.) can be made from an anti-adhesive material, ie, a material that prevents the accumulation of solids. The use of anti-stick materials in certain processing equipment prevents the accumulation of corrosive metal particles, polymers, salts, hydrates, catalyst fines, or other chemical solid compounds. In the case of the cryogenic distillation column 100, the adherent material can be used in the trays 126 or 426 to limit the sticking of the CO 2 solids. For example, a Teflon ™ coating can be applied to the surface of tray 126 or 426.
Alternatively, a physical design can be provided to ensure that CO 2 does not begin to accumulate in solid form along the inner diameter of the column 100. In this regard, the jet tab 422 is oriented so that liquid is propelled along the wall of the column 100, thereby preventing solids from accumulating along the wall of the column 100 and providing excellent gas-liquid contact. Can be ensured.

トレイ配置のいずれにおいても、下方に流れる液体が、ストリッピングトレイ126に達すると、物質分離が生じる。メタンガスは、溶液から抜け出し、気体の形態で上方に移動する。しかしCO2は、温度が一般的に十分低く、濃度が十分高いので、主にその液体の形態のままであり、下部蒸留域106の底部へと下方に移動するが、ただし、一部のCO2は、プロセス中にどうしても気化することになる。次いで液体は、底部流体流22として出口ラインから極低温蒸留塔100の外へ出る。 In any of the tray arrangements, material separation occurs when the downward flowing liquid reaches the stripping tray 126. Methane gas escapes from the solution and moves upward in the form of a gas. However, CO 2 remains largely in its liquid form because the temperature is generally low enough and the concentration is high enough to move down to the bottom of the lower distillation zone 106, although some CO 2 will definitely vaporize during the process. The liquid then exits the cryogenic distillation column 100 from the outlet line as a bottom fluid stream 22.

蒸留塔100から出る際に、底部流体流22は、リボイラー160に入る。図1において、リボイラー160は、再沸騰させた気体をストリッピングトレイの底部に提供する反応窯タイプの容器である。再沸騰させた気体のラインが、27に見てとれる。さらに、再沸騰させた気体が、ヒーターライン25を介して送達されることによって、溶融トレイ130に補助的な熱を提供することができる。この補助的な熱は、バルブ165および温度コントローラーTCを介して制御されている。代わりに、熱交換器、例えば熱サイホン式熱交換器など(示されていない)を使用することによって、初期流体流10を冷却して、エネルギーを効率的に利用することができる。この点において、リボイラー160に入る液体は、比較的低温、例えばおよそ30°から40°Fのままである。初期流体流10を統合した熱によって、オペレーターは、生産流体流10を事前冷却しながら、蒸留塔100からの冷たい底部の流体流22を温め、部分的に沸騰することができる。この場合に対して、ライン25を介して補助的な熱を提供する流体は、リボイラー160からの気体相の戻りである。   Upon exiting the distillation column 100, the bottom fluid stream 22 enters the reboiler 160. In FIG. 1, a reboiler 160 is a reaction kiln type container that provides re-boiled gas to the bottom of a stripping tray. A re-boiled gas line can be seen at 27. In addition, the reboiled gas can be delivered via the heater line 25 to provide supplemental heat to the melting tray 130. This auxiliary heat is controlled via a valve 165 and a temperature controller TC. Instead, by using a heat exchanger, such as a thermosiphon heat exchanger (not shown), the initial fluid stream 10 can be cooled to efficiently utilize energy. At this point, the liquid entering the reboiler 160 remains at a relatively low temperature, eg, approximately 30 ° to 40 ° F. The integrated heat of the initial fluid stream 10 allows the operator to warm and partially boil the cold bottom fluid stream 22 from the distillation column 100 while pre-cooling the production fluid stream 10. In this case, the fluid providing supplemental heat via line 25 is the return of the gas phase from reboiler 160.

一部条件下では、溶融トレイ130は、ヒーターライン25なしで作動することができることが予期される。これらの場合には、溶融トレイ130は、内部加熱機能例えば電気ヒーターなどを付けて設計することができる。しかし、底部の流体流22において利用できる熱エネルギーを採用している熱システムが提供されることが好ましい。ヒーターライン25の温かい流体は、一態様において30°から40°Fで存在し、よって、これらは相対的熱エネルギーを含有する。したがって、図1において、ヒーターライン25の温かい気体流は、溶融トレイ130上の加熱コイル(示されていない)を介して溶融トレイ130に誘導されていることが示されている。代わりに温かい気体流は、移動ライン135につながっていてもよい。   Under some conditions, it is expected that the melt tray 130 can operate without the heater line 25. In these cases, the melting tray 130 can be designed with an internal heating function, such as an electric heater. However, it is preferred to provide a thermal system that employs thermal energy available in the bottom fluid stream 22. The warm fluid in the heater line 25 is present in one embodiment at 30 ° to 40 ° F. and thus they contain relative thermal energy. Thus, in FIG. 1, it is shown that the warm gas flow in the heater line 25 is directed to the melting tray 130 via a heating coil (not shown) on the melting tray 130. Alternatively, the warm gas stream may be connected to the movement line 135.

作動中、再沸騰させた気体流の大部分は、ライン27を介して、底部の液体レベルより上で、および最後のストリッピングトレイ126において、またはこれよりも下で、カラム底部に導入される。再沸騰させた気体が各トレイ126を介して上方へと回るにつれて、残留するメタンは液体から取り除かれる。この気体は、塔を上方に移動するにつれて冷たくなる。ライン27からの気体流が波形の溶融トレイ130に到達するまでには、温度はおよそ−20°Fから0°Fまで降下し得る。しかし、気体流は、溶融トレイ130上の溶融固体(おそらく約−50°Fから−70°F)と比較して、かなり温かいままである。この気体は、これが溶融トレイ130と接触した場合、固体CO2を溶融するだけの十分なエンタルピーを依然として有する。 In operation, the majority of the reboiled gas stream is introduced to the bottom of the column via line 27 above the bottom liquid level and at or below the last stripping tray 126. . As the reboiled gas turns upward through each tray 126, residual methane is removed from the liquid. This gas gets colder as it moves up the tower. By the time the gas flow from line 27 reaches the corrugated melt tray 130, the temperature can drop from approximately −20 ° F. to 0 ° F. However, the gas flow remains fairly warm compared to the molten solid on the melt tray 130 (possibly about −50 ° F. to −70 ° F.). This gas still has sufficient enthalpy to melt the solid CO 2 when it comes into contact with the melting tray 130.

再びリボイラー160に戻ると、液体形態でリボイラー160を出る底部流24内の流体は、膨張器バルブ162を通過してもよい。膨張器バルブ162は、底部液体生成物の圧力を減少させ、冷蔵効果を効果的に提供する。したがって、冷やされた底部流26が提供される。リボイラー160を出るCO2リッチな液体は、1つまたは複数のAGI坑井(図1の250に概略的に見てとれる)を介して穴の下方にポンプで送り込むことができる。いくつかの状況において、液体CO2は、強化された油回収プロセスの一部として、部分的に回収された油貯留層にポンプで送り込むことができる。したがって、CO2は、混和性注入物質となることができる。代替案として、CO2は、油回収を強化するための混和性フラッディング剤として使用することもできる。 Returning to the reboiler 160 again, fluid in the bottom stream 24 exiting the reboiler 160 in liquid form may pass through the inflator valve 162. The inflator valve 162 reduces the bottom liquid product pressure and effectively provides a refrigeration effect. Accordingly, a cooled bottom stream 26 is provided. The CO 2 rich liquid exiting the reboiler 160 can be pumped down the hole through one or more AGI wells (schematically seen at 250 in FIG. 1). In some situations, liquid CO 2 can be pumped into a partially recovered oil reservoir as part of an enhanced oil recovery process. Thus, CO 2 can be a miscible injection material. As an alternative, CO 2 can also be used as a miscible flooding agent to enhance oil recovery.

再び塔100の下部蒸留域106を参照すると、ガスは、溶融トレイ130の排気筒131を介して、下部蒸留域106を上方に移動し、制御された凍結域108に至る。制御された凍結域108は、複数のスプレーノズル122を有する開口チャンバーと定義される。気体が制御された凍結域108を介して上方に移動するにつれて、気体の温度は非常に低くなる。気体はスプレーノズル122から出る液体メタン(「還流」)と接触する。この液体メタンは、熱交換器170を含む外部冷蔵ユニットにより冷やされているので上方に移動する気体よりも非常に冷たい。1つの配置において、液体メタンは、約−120°Fから−130°Fの温度でスプレーノズル122から出る。しかし、液体メタンが蒸発するにつれ、液体メタンはその周辺からの熱を吸収し、これによって上方に移動する気体の温度を減少させる。気化したメタンはまた、その密度の減少(液体メタンと比較して)および蒸留塔100内の圧力勾配により上方に流れる。   Referring again to the lower distillation zone 106 of the tower 100, the gas travels upward through the lower distillation zone 106 through the exhaust 131 of the melting tray 130 to the controlled freezing zone 108. The controlled freezing zone 108 is defined as an open chamber having a plurality of spray nozzles 122. As the gas moves upward through the controlled freezing zone 108, the temperature of the gas becomes very low. The gas contacts liquid methane (“reflux”) exiting the spray nozzle 122. Since this liquid methane is cooled by the external refrigeration unit including the heat exchanger 170, it is much cooler than the gas moving upward. In one arrangement, liquid methane exits the spray nozzle 122 at a temperature of about -120 ° F to -130 ° F. However, as the liquid methane evaporates, it absorbs heat from its surroundings, thereby reducing the temperature of the gas moving upwards. The vaporized methane also flows upward due to its density reduction (compared to liquid methane) and the pressure gradient in the distillation column 100.

メタンの気体が極低温蒸留塔100をさらに上に移動するにつれて、これらは、中間部の制御された凍結域108を離れ、上部蒸留域110に入る。気体は、元の冷やされた流体流12から抜け出した他の軽質ガスと共に上方に移動し続ける。一緒になった炭化水素気体は、極低温蒸留塔100の最上部から外へ出て、オーバーヘッドメタン流14となる。   As the methane gas travels further up the cryogenic distillation column 100, they leave the intermediate controlled freezing zone 108 and enter the upper distillation zone 110. The gas continues to move upwards with other light gases that have escaped from the original cooled fluid stream 12. The combined hydrocarbon gas exits from the top of the cryogenic distillation column 100 to form an overhead methane stream 14.

オーバーヘッドメタン流14内の炭化水素ガスは、外部冷蔵ユニット170へと移動する。一態様において、冷蔵ユニット170は、オーバーヘッドメタン流14をおよそ−135°から−145°Fまで低い温度に冷やすことが可能なエチレン冷却剤または他の冷却剤を使用する。これは、オーバーヘッドメタン流14を少なくとも部分的に液化する働きをする。次いで冷蔵されたメタン流14は、還流凝縮器または分離チャンバー172に移動する。   The hydrocarbon gas in the overhead methane stream 14 moves to the external refrigeration unit 170. In one aspect, the refrigeration unit 170 uses an ethylene coolant or other coolant that can cool the overhead methane stream 14 to temperatures as low as approximately −135 ° to −145 ° F. This serves to at least partially liquefy the overhead methane stream 14. The refrigerated methane stream 14 then travels to a reflux condenser or separation chamber 172.

分離チャンバー172を使用して、「液体還流」18と時々呼ばれる液体からガス16を分離する。ガス16は、元の生ガス流10からのより軽質な炭化水素ガス、主にメタンを表す。窒素およびヘリウムもまた存在し得る。メタンガス16は、もちろん、いかなる微量のエタンと共に、最終的に捕獲が模索され、商業的に販売されることになる「製品」である。オーバーヘッドメタン流14のこの非液化部分も現場での燃料に利用できる。
冷蔵ユニット170を出るオーバーヘッドメタン流14の一部分は凝縮される。この部分は、分離チャンバー172で分離され、塔100に戻される液体還流18である。ポンプ19を使用することによって、液体還流18を移動させて塔100に戻すことができる。代わりに、分離チャンバー172を塔100の上に組み込むことによって、液体還流18の重力供給を提供する。この液体還流18は、上部蒸留域110から逃れたあらゆる二酸化炭素を含むことになる。しかし、液体還流18の大部分は、窒素(存在する場合、初期流体流10の中)および微量の硫化水素(存在する場合、同様に初期流体流10の中)と共に、通常95%以上がメタンである。
A separation chamber 172 is used to separate the gas 16 from the liquid, sometimes referred to as “liquid reflux” 18. Gas 16 represents the lighter hydrocarbon gas from the original raw gas stream 10, primarily methane. Nitrogen and helium may also be present. Methane gas 16 is, of course, a “product” that will eventually be sought for capture and sold commercially, along with any traces of ethane. This non-liquefied portion of the overhead methane stream 14 can also be used for on-site fuel.
A portion of the overhead methane stream 14 exiting the refrigeration unit 170 is condensed. This part is the liquid reflux 18 separated in the separation chamber 172 and returned to the tower 100. By using the pump 19, the liquid reflux 18 can be moved back to the tower 100. Instead, a gravity feed of liquid reflux 18 is provided by incorporating a separation chamber 172 above the tower 100. This liquid reflux 18 will contain any carbon dioxide that has escaped from the upper distillation zone 110. However, most of the liquid reflux 18 is typically 95% or more of methane, along with nitrogen (if present, in the initial fluid stream 10) and traces of hydrogen sulfide (if present, also in the initial fluid stream 10). It is.

1つの冷却配置において、オーバーヘッドメタン流14は、開ループ冷蔵システム、例えば図6に示され、図6に関連して記載されている冷蔵システムなどを介して取り出される。この配置において、クロス交換器を介して、オーバーヘッドメタン流14を取り出すことによって、液体還流18として使用されたオーバーヘッドメタン流の戻された部分を冷やす。その後、このオーバーヘッドメタン流14をおよそ1,000psi〜1,400psiに加圧し、次いで外気、および場合により外部プロパン冷却剤を用いて冷却する。次いでこの加圧して、冷やされたガス流をさらに冷却するために、膨張器を介して誘導する。ターボ膨張器を使用することによって、さらにより多くの液体ならびにいくらかのシャフトワークを回収することができる。「Process For Separating a Multi-Component Gas Stream Containing at Least One Freezable Component」という表題の米国特許第6,053,007号は、オーバーヘッドメタン流の冷却について記載し、その全体が参照により本明細書に組み込まれている。   In one cooling arrangement, overhead methane stream 14 is withdrawn via an open loop refrigeration system, such as the refrigeration system shown in FIG. 6 and described in connection with FIG. In this arrangement, the returned portion of the overhead methane stream used as liquid reflux 18 is cooled by removing the overhead methane stream 14 via a cross exchanger. This overhead methane stream 14 is then pressurized to approximately 1,000 psi to 1,400 psi and then cooled with ambient air and optionally an external propane coolant. This pressurization is then directed through an expander to further cool the cooled gas stream. By using a turbo expander, even more liquid as well as some shaftwork can be recovered. US Pat. No. 6,053,007 entitled “Process For Separating a Multi-Component Gas Stream Containing at Least One Freezable Component” describes cooling of an overhead methane stream, which is incorporated herein by reference in its entirety. It is.

本発明は、オーバーヘッドメタン流14に対する冷却方法により限定されるものではないことをここで理解されたい。冷蔵ユニット170と初期冷蔵ユニット150との間の冷却の程度は異なってもよいこともまた理解されたい。場合によっては、冷蔵ユニット150をより高い温度で作動させるが、次いで冷蔵ユニット170におけるオーバーヘッドメタン流14の冷却をより強力にすることが望ましいこともある。繰り返すが、本発明はこれらの種類の設計上の選択に限定されない。   It should be understood here that the present invention is not limited by the cooling method for the overhead methane stream 14. It should also be understood that the degree of cooling between the refrigeration unit 170 and the initial refrigeration unit 150 may be different. In some cases, it may be desirable to operate the refrigeration unit 150 at a higher temperature, but then to more powerfully cool the overhead methane stream 14 in the refrigeration unit 170. Again, the present invention is not limited to these types of design choices.

再び図1に戻ると、液体還流18は、上部蒸留域110に戻される。次いで液体還流18は、上部蒸留域110内の1つまたは複数の物質移動装置116を介して重力によって運ばれる。一実施形態においてこの物質移動装置116は、上述のトレイ126と同様に、カスケード式の一連の堰118および下降管119を提供する精留トレイである。
液体還流流18からの流体が精留トレイ116を介して下向きに移動するにつれて、追加のメタンが上部蒸留域110から気化する。このメタンガスは、オーバーヘッドメタン流14に再び加わることによって、ガス生産物流16の一部になる。しかし、液体還流18中に残留する液相は、収集トレイ140上に落ちる。これによって、液体還流流18は、制御された凍結域108から上方に移動する少ないパーセンテージの炭化水素および残留酸性ガスを必然的に拾い上げることになる。メタンおよび二酸化炭素の液体混合物が、収集トレイ140において収集される。
Returning again to FIG. 1, the liquid reflux 18 is returned to the upper distillation zone 110. The liquid reflux 18 is then carried by gravity through one or more mass transfer devices 116 in the upper distillation zone 110. In one embodiment, the mass transfer device 116 is a rectification tray that provides a cascade of series of weirs 118 and downcomers 119, similar to the tray 126 described above.
As the fluid from the liquid reflux stream 18 moves downwardly through the rectification tray 116, additional methane is vaporized from the upper distillation zone 110. This methane gas becomes part of the gas product stream 16 by rejoining the overhead methane stream 14. However, the liquid phase remaining in the liquid reflux 18 falls on the collection tray 140. This inevitably causes the liquid reflux stream 18 to pick up a small percentage of hydrocarbons and residual acid gases that move upward from the controlled freezing zone 108. A liquid mixture of methane and carbon dioxide is collected in the collection tray 140.

収集トレイ140は、液体を収集するための実質的に平面の本体と定義されるのが好ましい。しかし、溶融トレイ130と同様に、収集トレイ140は、制御された凍結域108から来るガスを通風するための、1つ、好ましくは複数の排気筒も有する。排気筒およびキャップの配置、例えば図2Bおよび2Cにおいて構成要素131および132で提示されているものなどを使用することができる。収集トレイ140用の排気筒141およびキャップ142は、図5の拡大図で示され、以下でさらに考察されている。   The collection tray 140 is preferably defined as a substantially planar body for collecting liquid. However, like the melting tray 130, the collection tray 140 also has one, preferably a plurality of exhaust stacks, for venting the gas coming from the controlled freezing zone 108. An arrangement of exhaust stacks and caps can be used, such as those presented in components 131 and 132 in FIGS. 2B and 2C. Exhaust tube 141 and cap 142 for collection tray 140 are shown in the enlarged view of FIG. 5 and are discussed further below.

上部蒸留域110において、存在するあらゆるH2Sは、処理温度において、ガス中に溶解されていることよりも、液体中に溶解されていることが優先されることをここで注意されたい。この点において、H2Sは、相対的不安定さが比較的低い。残留気体をより多く液体に接触させることによって、極低温蒸留塔100は、H2S濃度を所望のパーツパーミリオン(ppm)の限界内、例えば10またはさらには4ppm規格まで押し下げる。上部蒸留域110内で物質移動装置116を介して流体が移動するにつれて、H2Sは、液体メタンと接触し、気体相から引き出され、液体流20の一部となる。そこから、H2Sは、液体形態で下部蒸留域106を介して下向きに移動し、最終的に液化された底部酸性ガス流22の一部として極低温蒸留塔100を出る。供給流内にH2Sが少ししか、もしくは全く存在しない場合、またはH2Sが上流プロセスにおいて選択的に取り出された場合には、オーバーヘッドガス中にH2Sは実質的には全く存在しないことになる。 It should be noted here that any H 2 S present in the upper distillation zone 110 is preferred to be dissolved in the liquid rather than being dissolved in the gas at the processing temperature. In this respect, H 2 S has a relatively low relative instability. By bringing more residual gas into contact with the liquid, the cryogenic distillation column 100 pushes the H 2 S concentration down to the desired parts per million (ppm) limit, eg, 10 or even 4 ppm standards. As the fluid moves through the mass transfer device 116 in the upper distillation zone 110, H 2 S comes into contact with the liquid methane and is withdrawn from the gas phase and becomes part of the liquid stream 20. From there, the H 2 S moves downward in liquid form through the lower distillation zone 106 and exits the cryogenic distillation column 100 as part of the bottom liquefied bottom acidic gas stream 22. If little or no H 2 S is present in the feed stream, or if H 2 S is selectively removed in the upstream process, virtually no H 2 S is present in the overhead gas. It will be.

極低温蒸留塔100において、収集トレイ140で捕獲された液体は、液体流20として上部蒸留域110から引き出される。液体流20は、主にメタンから構成される。一態様において、液体流20は、およそ93モルパーセントのメタン、3%のCO2、0.5%のH2S、および3.5%のN2から構成される。この時点で、液体流20は、およそ−125°Fから−130°Fである。これは液体還流流18よりもわずかに温かいだけである。液体流20は、還流ドラム174へと誘導される。還流ドラム174の目的はポンプ176に対してサージ能力を提供することである。還流ドラム174から出る際に、スプレー流21が作り出される。スプレー流21は、ポンプ176で加圧されて極低温蒸留塔100への第2の再導入がなされる。この例では、スプレー流21は、中間部の制御された凍結域108へとポンプで送り込まれ、ノズル122を介して排出される。 In the cryogenic distillation column 100, the liquid captured in the collection tray 140 is drawn from the upper distillation zone 110 as a liquid stream 20. The liquid stream 20 is mainly composed of methane. In one embodiment, the liquid stream 20 is comprised of approximately 93 mole percent methane, 3% CO 2 , 0.5% H 2 S, and 3.5% N 2 . At this point, the liquid stream 20 is approximately -125 ° F to -130 ° F. This is only slightly warmer than the liquid reflux stream 18. Liquid stream 20 is directed to reflux drum 174. The purpose of the reflux drum 174 is to provide surge capability for the pump 176. Upon exiting the reflux drum 174, a spray stream 21 is created. The spray stream 21 is pressurized by a pump 176 and second reintroduction into the cryogenic distillation column 100 is performed. In this example, the spray stream 21 is pumped into the intermediate controlled freezing zone 108 and discharged through the nozzle 122.

スプレー流21のある部分、特にメタンは、ノズル122を出る際に気化および蒸発する。そこからメタンは、制御された凍結域108を介し、収集トレイ140内の排気筒を介し、および上部蒸留域110内の物質移動装置116を介して上昇する。メタンは、オーバーヘッドメタン流14として蒸留塔100を離れ、最終的にガス流16内の商品の一部となる。   Certain portions of the spray stream 21, particularly methane, vaporize and evaporate upon exiting the nozzle 122. From there, the methane rises through the controlled freezing zone 108, through the stack in the collection tray 140, and through the mass transfer device 116 in the upper distillation zone 110. The methane leaves the distillation column 100 as an overhead methane stream 14 and eventually becomes part of the commodity in the gas stream 16.

ノズル122からのスプレー流21はまた、二酸化炭素をガス相から脱昇華させる。これに関して、最初に液体メタン中に溶解したCO2は、一瞬ガス相に入り、メタンと共に上方に移動することができる。しかし、制御された凍結域108内では温度が低温のため、いずれのガス状二酸化炭素も、急速に核となり、凝集して固相となり、「雪」が降り始まる。この現象を脱昇華と呼ぶ。このように、一部のCO2は、それが溶融トレイ130にぶつかるまで、再び液相になることは決してない。この二酸化炭素は溶融トレイ130上に「雪」として降り、液相へと溶融する。そこから、CO2リッチな液体は、下部蒸留域106内の物質移動装置またはトレイ126を、上述の冷やされた生ガス流12からの液体CO2と共に滝のように落下する。その時点で、ノズル122のスプレー流21からの残留するあらゆるメタンは、気体となって急速に抜け出すはずである。これらの気体は極低温蒸留塔100内を上方に移動し、上部蒸留域110に再び入る。 The spray stream 21 from the nozzle 122 also desublimates carbon dioxide from the gas phase. In this regard, CO 2 first dissolved in liquid methane can enter the gas phase for a moment and move upward with the methane. However, since the temperature is low in the controlled freezing zone 108, any gaseous carbon dioxide rapidly becomes a nucleus, agglomerates into a solid phase, and “snow” begins to fall. This phenomenon is called desublimation. In this way, some CO 2 never becomes liquid again until it hits the melting tray 130. This carbon dioxide falls as “snow” on the melting tray 130 and melts into the liquid phase. From there, the CO 2 rich liquid falls down the mass transfer device or tray 126 in the lower distillation zone 106 together with the liquid CO 2 from the cooled raw gas stream 12 as a waterfall. At that point, any remaining methane from the spray stream 21 of the nozzle 122 should rapidly escape as a gas. These gases move upward in the cryogenic distillation column 100 and enter the upper distillation zone 110 again.

塔100を上方へ移動しているガスに、冷やされた液体をできるだけ多く接触させることが望ましい。気体がノズル122から発するスプレー流21を迂回すると、より高いレベルのCO2が塔100の上部蒸留域110に到達することができることになる。制御された凍結域108内のガス/液体の接触の効率を向上させるため、設計された構成を有する複数のノズル122を採用することができる。したがって、還流の流体流21を有する、単一のスプレー供給元を1つまたは複数のレベルで採用するよりも、複数のスプレーノズル122を有するように設計されてもよい、いくつかのスプレーヘッダー120を使用してもよい。このように、スプレーノズル122の構成は、制御された凍結域108内で生じる熱および物質移動に対して影響がある。また、ノズルそれ自体も液滴の粒度およびこれら液滴の領域分布が最適となるよう設計することができる。 It is desirable to bring as much of the cooled liquid as possible into contact with the gas moving up the tower 100. If the gas bypasses the spray stream 21 emanating from the nozzle 122, higher levels of CO 2 can reach the upper distillation zone 110 of the column 100. In order to improve the efficiency of gas / liquid contact within the controlled freezing zone 108, a plurality of nozzles 122 having a designed configuration can be employed. Thus, several spray headers 120 that may be designed with multiple spray nozzles 122 rather than employing a single spray source at one or more levels with a reflux fluid stream 21. May be used. Thus, the configuration of the spray nozzle 122 has an effect on the heat and mass transfer that occurs within the controlled freezing zone 108. The nozzles themselves can also be designed to optimize the droplet size and the area distribution of these droplets.

本発明の譲受人は、2007年11月20日の国際出願日を有する同時係属の国際特許公開第2008/091316号において、様々なノズル配置をこれまで提唱してきた。その出願および図6Aおよび6Bは、ノズル構成を教示するために本明細書に参照により組み込まれている。ノズルは、制御された凍結域108内での360°の適用範囲を確実にし、優れた気体/液体の接触および熱/物質の移動を提供することを追求している。これにより、今度は、極低温蒸留塔100を介して上方に移動するあらゆるガス状二酸化炭素がより効果的に冷やされる。   The assignee of the present invention has previously proposed various nozzle arrangements in co-pending International Patent Publication No. 2008/091316, which has an international filing date of November 20, 2007. That application and FIGS. 6A and 6B are incorporated herein by reference to teach the nozzle configuration. The nozzle seeks to ensure 360 ° coverage within the controlled freezing zone 108 and to provide excellent gas / liquid contact and heat / mass transfer. In this way, any gaseous carbon dioxide that moves upward through the cryogenic distillation column 100 is now cooled more effectively.

完璧な適用範囲のための複数のヘッダー120および対応するオーバーラップノズル122の配置の使用は、逆混合も最小限に抑える。この点において、適用範囲が完璧となることによって、微細な、低質量のCO2粒子が蒸留塔100に戻り、上部蒸留域110へ再び入ることが防止される。次いでこれらの粒子はメタンと再混合され、オーバーヘッドメタン流14へ再び入ることになり、再びリサイクルされるだけとなる。 The use of multiple headers 120 and corresponding overlap nozzle 122 arrangements for perfect coverage also minimizes backmixing. In this respect, the complete application range prevents fine, low mass CO 2 particles from returning to the distillation column 100 and entering the upper distillation zone 110 again. These particles are then remixed with methane and reenter the overhead methane stream 14 and are only recycled again.

図1に関連して記載されている上記酸性ガス除去システムは、実質的に酸性ガスを含まない商業用メタン生成物16を生産するために有利である。生成物16は液化されているのが好ましく、販売のためパイプラインの下方に送られる。この液化ガス生成物は、十分な還流が生成される、パイプラインCO2規格である1〜4モルパーセントを満たしているのが好ましい。二酸化炭素および硫化水素は底部流22を介して除去される。
場合によっては、生の初期流体流10中の比較的に多量なCO2と共に少量のH2Sが存在する。この場合、「きれいな」液体CO2流が底部流22で生成され得るように、極低温蒸留塔の前でH2Sを選択的に除去することが望ましいこともある。このような方法で、CO2は、油回収(「EOR」)作業の強化のために貯留層へと直接注入されてもよい。したがって、塔100などの極低温蒸留塔内で酸性ガス除去が行われる前に初期流体流10と共に生成される硫黄成分の一部分を除去するためのシステムおよび方法が、本明細書中で提案されている。
The acid gas removal system described in connection with FIG. 1 is advantageous for producing a commercial methane product 16 that is substantially free of acid gas. Product 16 is preferably liquefied and is sent down the pipeline for sale. The liquefied gas product, sufficient reflux is produced, preferably meets 1-4 mole percent is a pipeline CO 2 standard. Carbon dioxide and hydrogen sulfide are removed via bottom stream 22.
In some cases, there is a small amount of H 2 S with a relatively large amount of CO 2 in the raw initial fluid stream 10. In this case, it may be desirable to selectively remove H 2 S before the cryogenic distillation column so that a “clean” liquid CO 2 stream can be produced in the bottom stream 22. In this way, CO 2 may be injected directly into the reservoir for enhanced oil recovery (“EOR”) operations. Accordingly, a system and method for removing a portion of the sulfur component that is produced with the initial fluid stream 10 before acid gas removal in a cryogenic distillation column such as column 100 is proposed herein. Yes.

ガス流から硫黄成分を除去するためのいくつかのH2S選択プロセスが本明細書中で提案されている。水性プロセスおよび非水性プロセスの両方が記載されている。これらプロセスは、任意のスルフヒドリル化合物、例えば硫化水素(H2S)など、およびメルカプタンとして知られている、またチオール(R?SH)としても知られている(式中、Rは炭化水素基である)、スルフヒドリル(?SH)基を有する有機硫黄化合物を除去することが好ましい。
酸性ガス除去システムの上流で硫黄成分を除去するための第1の方法は、溶媒の使用を採用する。特定の溶媒は、硫化水素に対して親和性を有し、メタンからH2Sを分離するために使用することができる。溶媒は、物理溶媒または化学溶媒のいずれかであってよい。
Several H 2 S selection processes for removing sulfur components from the gas stream have been proposed herein. Both aqueous and non-aqueous processes are described. These processes are known as any sulfhydryl compounds such as hydrogen sulfide (H 2 S), and also known as mercaptans, and also known as thiols (R? SH), where R is a hydrocarbon group. It is preferred to remove organic sulfur compounds having a sulfhydryl (? SH) group.
The first method for removing sulfur components upstream of the acid gas removal system employs the use of a solvent. Certain solvents have an affinity for hydrogen sulfide and can be used to separate H 2 S from methane. The solvent can be either a physical solvent or a chemical solvent.

図6は、一実施形態においてガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設600を示す概略図である。このガス処理施設600は、酸性ガス除去システムの上流に溶媒プロセスを採用している。酸性ガス除去システムは、全般的に650で示され、溶媒プロセスは、ブロック605で示されている。酸性ガス除去システム650は、ブロック100において分離容器を含む。ブロック100は、図1の制御された凍結域塔100を全般的に示している。しかし、ブロック100はまた、バルク分取塔などの任意の極低温蒸留塔も表すことができる。
図6において、生産ガス流は612において示されている。ガス流612は、貯留層発生領域、または「フィールド」610の中で行われる炭化水素生産活動から始まる。フィールド610は、ガス状炭化水素が生成されるいかなる場所も表すことができることを理解されたい。
フィールド610は、陸上、海岸付近または沖合にあってもよい。このフィールド610は、元の貯留層圧力から作動してもよいし、または強化された回収手順が施されてもよい。本明細書中で特許請求されているシステムおよび方法は、硫化水素および二酸化炭素が混入した炭化水素を生成するものであれば、開発中であるフィールドの種類に限定されない。炭化水素は、主にメタンを含むことになるが、2〜10モルパーセントのエタンおよび他の重質炭化水素、例えばプロパンなどまたはさらに微量のブタンおよび芳香族炭化水素も含み得る。
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility 600 for removing acid gases from a gas stream in one embodiment. The gas processing facility 600 employs a solvent process upstream of the acid gas removal system. The acid gas removal system is indicated generally at 650 and the solvent process is indicated at block 605. The acid gas removal system 650 includes a separation vessel at block 100. Block 100 generally represents the controlled freezing zone tower 100 of FIG. However, block 100 can also represent any cryogenic distillation column, such as a bulk preparative column.
In FIG. 6, the product gas stream is shown at 612. Gas stream 612 begins with a hydrocarbon production activity that takes place in a reservoir generation region, or “field” 610. It should be understood that field 610 can represent any location where gaseous hydrocarbons are produced.
Field 610 may be on land, near the coast, or offshore. This field 610 may operate from the original reservoir pressure or may be subjected to enhanced recovery procedures. The systems and methods claimed herein are not limited to the type of field under development as long as they produce hydrocarbons mixed with hydrogen sulfide and carbon dioxide. The hydrocarbon will primarily contain methane but may also contain 2-10 mole percent ethane and other heavy hydrocarbons such as propane or even traces of butane and aromatic hydrocarbons.

ガス流612は、「生」であり、これは酸性ガス除去プロセスが施されていないことを意味する。生ガス流612は、パイプライン、例えば、フィールド610からガス処理施設600までを通過してもよい。ガス処理施設600に到着した時点で、ガス流612は、例えばグリコール脱水容器などの脱水プロセスを介して誘導されてもよい。脱水容器は、620で概略的に示されている。生ガス流612を脱水容器620に通した結果、水流622が生成される。場合によっては、水のこぼれ落ちおよび水和物の形成を防止するためにこの生ガス流612を、モノエチレングリコール(MEG)と混合してもよい。MEGは、例えばチラー上にスプレーしてもよく、チラーおよび注入ガス組成物の温度により、液体が収集されて、水、より濃縮したMEG、および場合によりいくらかの重質炭化水素へと分離されてもよい。
水流622は、水処置施設へ送られてもよい。代わりに、水流622は、地下構造へ再注入することもできる。地下構造はブロック630で示されている。さらに代替法として、除去した水流622を処理することによって環境基準を満たし、次いで処理済みの水としてその地域の流域(示されていない)へと放出することができる。
The gas stream 612 is “raw”, which means that no acid gas removal process has been applied. The raw gas stream 612 may pass through a pipeline, for example, from the field 610 to the gas processing facility 600. Upon arrival at the gas processing facility 600, the gas stream 612 may be directed through a dehydration process such as, for example, a glycol dehydration vessel. A dehydration vessel is shown schematically at 620. As a result of passing the raw gas stream 612 through the dehydration vessel 620, a water stream 622 is generated. In some cases, this raw gas stream 612 may be mixed with monoethylene glycol (MEG) to prevent water spillage and hydrate formation. The MEG may be sprayed, for example, on a chiller, where the liquid is collected and separated into water, more concentrated MEG, and possibly some heavy hydrocarbons, depending on the temperature of the chiller and the injected gas composition. Also good.
The water stream 622 may be sent to a water treatment facility. Alternatively, the water stream 622 can be reinjected into the underground structure. The underground structure is indicated by block 630. As a further alternative, the removed water stream 622 can be treated to meet environmental standards and then discharged as treated water into the local watershed (not shown).

さらに、生産ガス流612を脱水容器620に通した結果、実質的に脱水されたメタンガス流624が生成される。脱水されたガス流624は、微量の窒素、ヘリウムおよび他の不活性ガスを含有し得る。本発明のシステムおよび方法に関連して、脱水されたガス流624はまた二酸化炭素および少量の硫化水素も含む。ガス流624は、他の硫黄成分、例えば硫化カルボニル、二硫化炭素、二酸化硫黄、および様々なメルカプタンなどを含有し得る。   Further, passing the product gas stream 612 through the dehydration vessel 620 results in the production of a substantially dehydrated methane gas stream 624. The dehydrated gas stream 624 can contain trace amounts of nitrogen, helium and other inert gases. In connection with the system and method of the present invention, the dehydrated gas stream 624 also contains carbon dioxide and a small amount of hydrogen sulfide. The gas stream 624 may contain other sulfur components such as carbonyl sulfide, carbon disulfide, sulfur dioxide, and various mercaptans.

脱水されたガス流624は、予備の冷蔵ユニット625を通過してもよい。冷蔵ユニット625は、脱水されたガス流624を、およそ20°Fから50°Fまで低い温度に冷やす。冷蔵ユニット625は、例えば、空気冷却器またはエチレンもしくはプロパンの冷蔵庫であってよい。   The dehydrated gas stream 624 may pass through a spare refrigeration unit 625. The refrigeration unit 625 cools the dehydrated gas stream 624 to temperatures as low as approximately 20 ° F. to 50 ° F. The refrigeration unit 625 may be, for example, an air cooler or an ethylene or propane refrigerator.

硫化鉄腐食を防止するために脱水されたガス流624から硫黄成分を除去することが望ましい。ガス処理施設600に従い、溶媒系605が提供される。脱水されたガス流624は、溶媒系605に入る。溶媒系605は、ガス流624を溶媒に接触させることによって、吸収プロセスを介して硫化水素を除去する。これは、比較的低温および比較的に高圧で行われ、このプロセス中の酸性ガス成分の溶解度は、メタンのそれを超える。
記述されているように、溶媒系605は、物理溶媒系または化学溶媒系のいずれかであってよい。図7Aは、一実施形態における物理溶媒系705Aの概略図を、提供している。物理溶媒系705Aは、硫黄成分を除去するために脱水されたガス流624を接触させるよう作動する。
It is desirable to remove sulfur components from the dehydrated gas stream 624 to prevent iron sulfide corrosion. In accordance with the gas processing facility 600, a solvent system 605 is provided. Dehydrated gas stream 624 enters solvent system 605. Solvent system 605 removes hydrogen sulfide through an absorption process by contacting gas stream 624 with a solvent. This is done at relatively low temperatures and relatively high pressures, and the solubility of the acid gas component during this process exceeds that of methane.
As described, the solvent system 605 can be either a physical solvent system or a chemical solvent system. FIG. 7A provides a schematic diagram of a physical solvent system 705A in one embodiment. Physical solvent system 705A operates to contact dehydrated gas stream 624 to remove sulfur components.

適切な物理溶媒の例として、N−メチルピロリドン、プロピレンカーボネート、メチルシアノアセテート、および冷蔵したメタノールが挙げられる。物理溶媒の好ましい例は、スルホランであり、この化学名はテトラメチレンスルホンである。スルホランは、スルホニル官能基を含有する有機硫黄化合物である。スルホニル基は、2個の酸素原子と二重結合した硫黄原子である。硫黄酸素二重結合は、極めて極性であり、水中での高い溶解度を可能にする。同時に、4個の炭素の環は、炭化水素に対して親和性を提供する。これらの特性は、スルホランに、水と炭化水素の両方に対する混和性を与え、その結果、スルホランは、炭化水素混合物を精製するための溶媒として広範囲に使用されている。
好ましい物理溶媒はSelexol(商標)である。Selexol(商標)は、Dow Chemical Companyの子会社であるUnion Carbideのガス処理製品の商標名である。Selexol(商標)溶媒は、ポリエチレングリコールのジメチルエーテルの混合物である。このようなある成分の一例がジメトキシテトラエチレングリコールである。Selexol(登録商標)はまた初期流体流10中の任意の重質炭化水素ならびにいくらかの水を拾い上げる。初期流体流10が開始時点でかなり乾燥している場合、Selexol(商標)を使用することで、他の脱水の必要性を排除することができる。Selexol(商標)溶媒が冷やされており、次いでCO2で事前に飽和させている場合、Selexol(商標)溶媒はH2Sに対して選択性があることをここで注意されたい。
Examples of suitable physical solvents include N-methylpyrrolidone, propylene carbonate, methyl cyanoacetate, and refrigerated methanol. A preferred example of the physical solvent is sulfolane, the chemical name of which is tetramethylene sulfone. Sulfolane is an organic sulfur compound containing a sulfonyl functional group. A sulfonyl group is a sulfur atom double-bonded to two oxygen atoms. Sulfur oxygen double bonds are extremely polar and allow high solubility in water. At the same time, the four carbon ring provides affinity for the hydrocarbon. These properties make sulfolane miscible with both water and hydrocarbons, so that sulfolane is widely used as a solvent for purifying hydrocarbon mixtures.
A preferred physical solvent is Selexol ™. Selexol ™ is a trade name for a gas treatment product of Union Carbide, a subsidiary of Dow Chemical Company. Selexol ™ solvent is a mixture of dimethyl ether of polyethylene glycol. One example of such a component is dimethoxytetraethylene glycol. Selexol® also picks up any heavy hydrocarbons in the initial fluid stream 10 as well as some water. If the initial fluid stream 10 is fairly dry at the start, Selexol ™ can be used to eliminate the need for other dewatering. It should be noted here that Selexol ™ solvent is selective for H 2 S when the Selexol ™ solvent is cooled and then pre-saturated with CO 2 .

図7Aを参照すると、脱水されたガス流624が注入分離器660に入るのが見てとれる。ガス流624をきれいに保つことによって酸性ガス除去プロセスの間液体溶媒の泡立ちを防止することが望ましいことを理解されたい。したがって、注入分離器660を使用して、液体不純物、例えば油ベースの掘削流体および泥を濾過除去する。いくらかの粒子の濾過も行うことができる。ブラインは、上流脱水容器620を用いてふるい落とすことが好ましい。しかし、注入分離器660は、いかなる凝縮した炭化水素も除去することができる。   Referring to FIG. 7A, it can be seen that the dehydrated gas stream 624 enters the injection separator 660. It should be understood that it is desirable to prevent liquid solvent bubbling during the acid gas removal process by keeping gas stream 624 clean. Accordingly, the injection separator 660 is used to filter out liquid impurities, such as oil-based drilling fluid and mud. Some particles can also be filtered. Brine is preferably screened using upstream dewatering vessel 620. However, the injection separator 660 can remove any condensed hydrocarbons.

掘削流体および凝縮した炭化水素などの液体は、注入分離器660の底部から滴下される。液体の不純物流は662に見てとれる。水ベースの不純物は、通常水処置施設(示されていない)に送られるか、または貯留層圧力を維持するため、または処分のために構造630に再注入され得る。炭化水素液体は、一般的に凝縮物処理施設に送られる。ガスは、注入分離器660の最上部から出る。浄化されたガス流が664に見てとれる。   Drilling fluid and liquid such as condensed hydrocarbons are dripped from the bottom of injection separator 660. A liquid impurity stream can be seen at 662. Water-based impurities can usually be sent to a water treatment facility (not shown) or reinjected into the structure 630 to maintain reservoir pressure or for disposal. The hydrocarbon liquid is generally sent to a condensate treatment facility. The gas exits from the top of the injection separator 660. The purified gas stream can be seen at 664.

浄化したガス流664は、ガスからガスの交換器665へと誘導されてもよい。ガスからガスの交換器665は、浄化されたガス流664内のガスを事前に冷却する。次いで浄化されたガスは、吸収体670へと誘導される。吸収体670は、吸収剤を受け取る、逆流接触塔であることが好ましい。図7Aの配置で、浄化されたガス流664は、塔670の底部に入る。同時に、物理溶媒696は、塔670の最上部に入る。塔670は、トレイ付の塔、充填された塔、または他の種類の塔であってよい。   Purified gas stream 664 may be directed from gas to gas exchanger 665. A gas to gas exchanger 665 precools the gas in the purified gas stream 664. The purified gas is then directed to the absorber 670. Absorber 670 is preferably a reverse flow contact column that receives the absorbent. In the arrangement of FIG. 7A, the purified gas stream 664 enters the bottom of column 670. At the same time, physical solvent 696 enters the top of column 670. Tower 670 may be a trayed tower, a packed tower, or other type of tower.

ガス/液体の接触のために設計された、任意の数の、塔でない装置も代わりに利用することができることを理解されたい。これらは、静的混合機および並流の接触装置を含み得る。図7Aの逆流塔670は、単に例示的目的のためだけである。注意することは、ガスと液体の接触容器のための小型の、並流接触器の使用は、全体の設置面積および物理溶媒系705Aの質量を削減できるので好ましい。
吸収剤は、例えば、H2Sおよび偶発的にいくらかのCO2を「ふるい落とす」ため浄化されたガス流664と混合される溶媒であってよい。吸収剤は、具体的には、上述のSelexol(登録商標)であってよい。吸収剤と接触させるプロセスの結果、軽質ガス流678が生成される。軽質ガス流678は、塔670の最上部から出てくる。軽質ガス流678は、メタンおよび二酸化炭素を含有する。軽質ガス流678は、図6においてブロック100で概略的に示されている、極低温蒸留塔に誘導される前に冷蔵プロセスを通過する。
It should be understood that any number of non-tower devices designed for gas / liquid contact could be utilized instead. These may include static mixers and co-current contact devices. The backflow column 670 of FIG. 7A is for illustrative purposes only. It should be noted that the use of a small, co-current contactor for the gas and liquid contact vessel is preferred because it reduces the overall footprint and physical solvent system 705A mass.
The absorbent may be, for example, a solvent that is mixed with the purified gas stream 664 to “siete out” H 2 S and some CO 2 . Specifically, the absorbent may be the above-described Selexol (registered trademark). As a result of the process of contacting with the absorbent, a light gas stream 678 is produced. Light gas stream 678 exits from the top of column 670. The light gas stream 678 contains methane and carbon dioxide. The light gas stream 678 passes through a refrigeration process before being directed to a cryogenic distillation tower, schematically illustrated at block 100 in FIG.

一瞬だけ図6に戻ってこれを参照すると、軽質ガス流678は、物理溶媒系705Aを出て、チラー626を通過する。チラー626は、軽質ガス流678を、およそ−30°Fから−40°Fまで低い温度に冷やす。チラー626は、例えば、エチレンまたはプロパンの冷蔵庫であってよい。
軽質ガス流678は、次に膨張装置628を介して移動するのが好ましい。この膨張装置628は、例えば、Joule−Thompson(「J−T」)バルブであってよい。膨張装置628は、軽質ガス流678のさらなる冷却を達成するために膨張器としての機能を果たす。膨張装置628は、軽質ガス流678の温度を、例えば、およそ−70°Fから−80°Fまで低い温度にさらに減少させる。ガス流678の少なくとも部分的な液化も達成されるのが好ましい。冷却したサワーガス流がライン611で生成する。
Returning to FIG. 6 for a moment and referring to this, the light gas stream 678 exits the physical solvent system 705 A and passes through the chiller 626. Chiller 626 cools light gas stream 678 to a temperature as low as approximately −30 ° F. to −40 ° F. The chiller 626 may be, for example, an ethylene or propane refrigerator.
Light gas stream 678 then preferably travels through expansion device 628. The expansion device 628 may be, for example, a Joule-Thompson (“J-T”) valve. The expansion device 628 serves as an expander to achieve further cooling of the light gas stream 678. The expansion device 628 further reduces the temperature of the light gas stream 678 to a lower temperature, for example, from approximately -70 ° F to -80 ° F. Preferably, at least partial liquefaction of the gas stream 678 is also achieved. A cooled sour gas stream is generated in line 611.

再び図7Aを参照すると、接触塔670は、硫黄成分を拾い上げることになる。これらは、「リッチ」な溶媒として塔670の底部から放出される。リッチ溶媒流672が塔670を出るのが見てとれる。リッチ溶媒流672は、いくらかの二酸化炭素も含み得る。
図7Aの配置において、リッチ溶媒流672は、パワー回収タービン674を介して運ばれる。これにより、物理溶媒系705Aのための電気的エネルギーの生成が可能となる。ここから、リッチ溶媒流672は、一連のフラッシュ分離器680を介して運ばれる。図7Aの例示的配置において、3つの分離器が、682、684および686において示されている。分離器682、684、686は、物理溶媒プロセスに従い、より低い温度および圧力で連続的に作動する。
Referring again to FIG. 7A, the contact tower 670 will pick up the sulfur component. These are released from the bottom of column 670 as a “rich” solvent. It can be seen that rich solvent stream 672 exits column 670. The rich solvent stream 672 may also contain some carbon dioxide.
In the arrangement of FIG. 7A, rich solvent stream 672 is conveyed through power recovery turbine 674. This allows generation of electrical energy for the physical solvent system 705A. From here, the rich solvent stream 672 is conveyed through a series of flash separators 680. In the exemplary arrangement of FIG. 7A, three separators are shown at 682, 684 and 686. Separators 682, 684, 686 operate continuously at lower temperatures and pressures according to the physical solvent process.

第1の分離器682は、例えば、500psiの圧力および90°Fの温度で作動してもよい。第1の分離器682は、リッチ溶媒流672中に取り込まれた軽質ガスを放出する。681に示されているこれら軽質ガスは、主にメタンおよび二酸化炭素を含むが、微量のH2Sを有する可能性がある。この軽質ガス681は、極低温蒸留塔100に誘導されてもよい(図7Aには示されていない)。これらのガスは、軽質ガス流678と合わせることができる。軽質ガス681は、コンプレッサー690を介して移動することによって、流れ611として極低温蒸留塔100に行く途中で圧力を押し上げることが好ましい。蒸留塔100が溶媒プロセス705Aの第1のフラッシュ段階、すなわち第1の分離器682よりも低い圧力で作動している場合、圧縮は必要でないこともある。この場合、流れ681および678を合わせることができるよう、圧力低下がオーバーヘッド流678に対して必要となる。この圧力低下は、極低温蒸留塔100付近でJ−Tバルブにより誘発されてもよい。もちろん、流れ681は、J−Tバルブの下流に導入されなければならない。 The first separator 682 may operate, for example, at a pressure of 500 psi and a temperature of 90 ° F. The first separator 682 releases light gas entrained in the rich solvent stream 672. These light gases shown at 681 contain primarily methane and carbon dioxide, but may have traces of H 2 S. This light gas 681 may be directed to the cryogenic distillation column 100 (not shown in FIG. 7A). These gases can be combined with the light gas stream 678. The light gas 681 is preferably moved through the compressor 690 to increase pressure on the way to the cryogenic distillation column 100 as stream 611. If the distillation column 100 is operating at a lower pressure than the first flash stage of the solvent process 705A, ie, the first separator 682, compression may not be necessary. In this case, a pressure drop is required for overhead stream 678 so that streams 681 and 678 can be combined. This pressure drop may be induced by a JT valve near the cryogenic distillation column 100. Of course, the stream 681 must be introduced downstream of the J-T valve.

理想的には、浄化されたガス流664からのすべての硫化水素およびいずれの重質炭化水素も、リッチな溶媒流672で捕獲される。次第にリッチになる溶媒流は、各分離器682、684、686から放出される。これら次第にリッチになる流れは、ライン683、685および687と表示されている。したがって、物理溶媒は、一般的に圧力減少により再生され、あらゆる溶解されたメタンおよび二酸化炭素を溶媒からフラッシュさせる。
ライン687は、いくらかのCO2は取り出されているが、溶媒流687は十分に再生されていないので、「セミリーン」溶媒流である。溶媒流687の一部分は、ブースターポンプ692を介して運ばれ、接触塔の中間レベルにおいてセミリーン溶媒として接触塔670に再導入される。693に示された、残りの部分は、再生容器652に誘導される。
Ideally, all hydrogen sulfide and any heavy hydrocarbons from the purified gas stream 664 are captured in the rich solvent stream 672. A progressively richer solvent stream is discharged from each separator 682, 684, 686. These increasingly rich flows are indicated by lines 683, 685 and 687. Thus, the physical solvent is generally regenerated by pressure reduction, causing any dissolved methane and carbon dioxide to be flushed from the solvent.
Line 687 is a “semi-lean” solvent stream because some CO 2 has been removed, but solvent stream 687 has not been fully regenerated. A portion of the solvent stream 687 is conveyed via a booster pump 692 and reintroduced into the contact column 670 as a semi-lean solvent at an intermediate level of the contact column. The remaining portion shown at 693 is directed to the regeneration vessel 652.

3つの分離器のうちの第2の684および第3の686と関連して、これら分離器684、686のそれぞれもまた、非常に少量の軽質ガスを放出することに注意されたい。これら軽質ガスは、少量のメタンと共に二酸化炭素を主に含むことになる。これらの軽質ガスは、689で2つの別々のラインで示されている。軽質ガス689は、圧縮され、ライン611と合わせられ、次いで極低温蒸留塔100に誘導されてもよい。代わりに、ライン689からの軽質ガスは、図6において642で示されている液化された底部酸性ガス流に直接送達されてもよい。   Note that in conjunction with the second and third 684 of the three separators, each of these separators 684, 686 also emits a very small amount of light gas. These light gases mainly contain carbon dioxide together with a small amount of methane. These light gases are shown at 689 in two separate lines. Light gas 689 may be compressed and combined with line 611 and then directed to cryogenic distillation column 100. Alternatively, the light gas from line 689 may be delivered directly to the liquefied bottom acid gas stream shown at 642 in FIG.

上流でのH2S除去に対して物理溶媒を用いることの1つの利点は、溶媒は一般的に吸湿性であることである。これによって、特に初期流体流10がすでに実質的に乾燥している場合、ガス脱水容器620の必要性を排除することができる。この目的を達成するために、選択された溶媒それ自体は、非水性であることが好ましい。この方法により、溶媒は、生の天然ガスをさらに脱水するために使用することができる。この場合、水は、再生器652からの気体流655の中に含まれて外に出ることができる。 One advantage of using a physical solvent for upstream H 2 S removal is that the solvent is generally hygroscopic. This eliminates the need for a gas dehydration vessel 620, particularly when the initial fluid stream 10 is already substantially dry. In order to achieve this objective, the selected solvent itself is preferably non-aqueous. By this method, the solvent can be used to further dehydrate raw natural gas. In this case, the water can be included in the gas stream 655 from the regenerator 652 and exit.

このプロセスの欠点は、いくらかの軽質炭化水素およびCO2がある程度物理溶媒内で共吸着されることである。複数の分離器682、684、686の使用は、リッチ溶媒流672から、通常すべてのメタンではないとしても、大部分のメタンを除去する。 The disadvantage of this process is that some light hydrocarbons and CO 2 are co-adsorbed to some extent in the physical solvent. The use of multiple separators 682, 684, 686 removes most if not all methane from the rich solvent stream 672, usually not all.

再び再生容器652を参照すると、この容器652は、ストリッパーとして作用する。硫化水素成分は、これらが、濃縮H2S流として気体流655を介して再生容器652を出るように追い立てられる。気体流655中の濃縮H2Sは、物理溶媒系705Aを出るように示されている。これは、図6のライン655でも示されている。
気体流655中の濃縮H2Sは、酸性ガス注入(AGI)施設に送られるのが好ましい。第2の物理溶媒プロセスを、前もって使用することによって、あらゆるCO2および水蒸気を除去してもよい。分離器は658において示されている。この分離器658は、ガスをオーバーヘッドへ移動させながら、凝縮した水および溶媒を回収する還流容器である。凝縮した水および溶媒は、底部ライン659を介して再生容器652へ戻すこともできる。同時に、オーバーヘッドガスを、ライン691を介して、酸性ガス注入(図6のブロック649に概略的に示されており、以下で考察する)に送ることもできる。
気体流655はまた二酸化炭素を含む。二酸化炭素およびいずれの水蒸気も、オーバーヘッドライン691を介してH2Sと共に分離器658を出ることになる。H2Sは、好ましくは下流のAGI施設649に送られるか、または硫黄回収ユニット(SRU)に(示されていない)送られてもよい。
Referring again to the regeneration vessel 652, this vessel 652 acts as a stripper. The hydrogen sulfide components are driven such that they exit the regeneration vessel 652 via the gas stream 655 as a concentrated H 2 S stream. Concentrated H 2 S in gas stream 655 is shown exiting physical solvent system 705A. This is also illustrated by line 655 in FIG.
The concentrated H 2 S in the gas stream 655 is preferably sent to an acid gas injection (AGI) facility. Any CO 2 and water vapor may be removed by using a second physical solvent process in advance. A separator is shown at 658. The separator 658 is a reflux vessel that collects condensed water and solvent while moving gas to overhead. Condensed water and solvent can also be returned to the regeneration vessel 652 via the bottom line 659. At the same time, overhead gas can also be sent via line 691 to acid gas injection (shown schematically in block 649 of FIG. 6 and discussed below).
The gas stream 655 also includes carbon dioxide. Carbon dioxide and any water vapor will exit separator 658 with H 2 S via overhead line 691. H 2 S is preferably sent to a downstream AGI facility 649 or may be sent (not shown) to a sulfur recovery unit (SRU).

図7Aに表されている再生容器652は、ストリッピングガスを利用して、溶媒から硫黄成分を分離することができる。この再生容器652は、任意の数のストリッピングガスを供給することができる。一例は、高いCO2含有量を有する燃料ガス流である。高いCO2含有量の燃料ガスは、CO2で溶媒を「事前に飽和させる」のを助け、これによって、浄化されたガス流664からのCO2収集を減少させることができるので、ストリッピングガス651に対して好ましい。ストリッピングガスは、ライン651’を介して再生容器652へと流れ込むことが見てとれる。このストリッピングガス651’は、例えば一番低い圧力のフラッシュ段階、すなわち分離器686からの軽質ガス流689の一部分であってよい。これによって、いくらかの炭化水素の潜在的な回収が可能となる。 The regeneration vessel 652 shown in FIG. 7A can separate the sulfur component from the solvent using a stripping gas. The regeneration vessel 652 can supply any number of stripping gases. An example is a fuel gas stream having a high CO 2 content. A high CO 2 content fuel gas helps to “pre-saturate” the solvent with CO 2 , thereby reducing CO 2 collection from the purified gas stream 664 so that the stripping gas Preferred for 651. It can be seen that the stripping gas flows into the regeneration vessel 652 via line 651 '. This stripping gas 651 ′ may be part of the light gas stream 689 from, for example, the lowest pressure flash stage, ie separator 686. This allows for the potential recovery of some hydrocarbons.

再生された溶媒は、再生容器652の底部から誘導される。再生された溶媒は、653として出る。再生された溶媒653は、ブースターポンプ654を介して運ばれる。第2のブースターポンプ694を利用することによって、再生溶媒653を運搬するラインの圧力をさらに強化されてもよい。その後、再生された溶媒653は、場合により冷蔵ユニットを有する熱交換器695を介して冷却されるのが好ましい。次いで冷やされたおよび再生された溶媒696は、リサイクルして接触器670に戻される。   The regenerated solvent is guided from the bottom of the regeneration container 652. The regenerated solvent exits as 653. The regenerated solvent 653 is carried via the booster pump 654. By using the second booster pump 694, the pressure of the line carrying the regeneration solvent 653 may be further increased. Thereafter, the regenerated solvent 653 is preferably cooled via a heat exchanger 695 optionally having a refrigeration unit. The cooled and regenerated solvent 696 is then recycled back to the contactor 670.

一部分の再生された溶媒は、再生容器652の底部から取り出され、リボイラー697に送られる。リボイラーは、溶媒を温める。温められた溶媒は、ライン651”を介して、一部気化した流れとして、再生容器697に戻される。
図7Aは、物理溶媒系705Aの一実施形態を明示している。しかし、記述されているように、溶媒系605は、代わりに化学溶媒系であってもよい。化学溶媒系であれば、化学溶媒、特にH2S選択性アミンを使用することになる。このような選択性アミンの例として、メチルジエタノールアミン(MDEA)およびFlexsorb(登録商標)ファミリーのアミンが挙げられる。Flexsorb(登録商標)は、サワーガス混合物からの硫黄ガス除去に使用される化学吸着剤に対する商標名である。Flexsorb(登録商標)吸着剤または他のアミンは、炭化水素ガス流624または極低温蒸留塔の上流の浄化したガス流664と接触させる。
アミンベースの溶媒は、炭化水素ガス流中の酸性ガス成分との化学反応に依存する。この反応プロセスは、時々「ガススウィートニング」と呼ばれる。このような化学反応は、特におよそ300psia(2.07MPa)より下の供給ガス圧力において、物理ベースの溶媒よりも一般的により効果的である。
Flexsorb(登録商標)アミンは、CO2含有ガス流から選択的にH2Sを除去するための好ましい化学溶媒である。Flexsorb(登録商標)アミンは、CO2吸収と比較して比較的に速い速度のH2S吸収をうまく利用している。高速の吸収速度は、カルバメートの形成を防止する助けとなる。アミンベースのプロセスから生成した硫化水素は、一般的に低圧である。産出したH2Sには、硫黄回収、または有意な圧縮を必要とする地中への処分のいずれかを施すことになる。
A portion of the regenerated solvent is removed from the bottom of the regeneration vessel 652 and sent to the reboiler 697. The reboiler warms the solvent. The warmed solvent is returned to the regeneration vessel 697 as a partially vaporized flow via line 651 ″.
FIG. 7A demonstrates one embodiment of physical solvent system 705A. However, as described, the solvent system 605 may alternatively be a chemical solvent system. In the case of a chemical solvent system, a chemical solvent, particularly an H 2 S selective amine, will be used. Examples of such selective amines include methyldiethanolamine (MDEA) and the Flexsorb (R) family of amines. Flexsorb® is a trade name for a chemical adsorbent used to remove sulfur gas from a sour gas mixture. A Flexsorb® adsorbent or other amine is contacted with a hydrocarbon gas stream 624 or a purified gas stream 664 upstream of the cryogenic distillation column.
Amine-based solvents rely on chemical reactions with acid gas components in the hydrocarbon gas stream. This reaction process is sometimes referred to as “gas sweetening”. Such chemical reactions are generally more effective than physics-based solvents, especially at feed gas pressures below about 300 psia (2.07 MPa).
Flexsorb® amine is a preferred chemical solvent for selectively removing H 2 S from a CO 2 -containing gas stream. Flexsorb (TM) amines are good use H 2 S absorption of a relatively fast rate compared to CO 2 absorption. The high absorption rate helps prevent carbamate formation. Hydrogen sulfide produced from amine-based processes is generally at low pressure. The produced H 2 S will be either sulfur recovered or disposed of in the ground that requires significant compression.

選択性アミンを用いた硫化水素の除去は、化学溶媒で脱水し、冷やされた流体流624と接触させることによって遂行することができる。これは、ガス流624を「吸収体」へと注入することによって行うことができる。吸収体とは、ガス流624からのガスをFlexsorb(商標)または他の液体アミンと接触させることを可能とする容器である。この2つの流体物質は相互作用するので、アミンは、サワーガスからのH2Sを吸収することによって、スウィートニングされたガス流を生成する。スウィートニングされたガス流は、主にメタンおよび二酸化炭素を含有する。この「スウィート」ガスは、吸収体の最上部から流れる。 Removal of hydrogen sulfide using a selective amine can be accomplished by dehydration with a chemical solvent and contact with a cooled fluid stream 624. This can be done by injecting a gas stream 624 into the “absorber”. An absorber is a container that allows gas from gas stream 624 to come in contact with Flexsorb ™ or other liquid amine. Since the two fluid substances interact, the amine generates a sweetened gas stream by absorbing H 2 S from the sour gas. The sweetened gas stream contains mainly methane and carbon dioxide. This “sweet” gas flows from the top of the absorber.

一態様において、吸収体は大きな、逆流接触塔である。この配置において、生ガス流624は、接触塔の底部へ注入され、化学溶媒、または「リーン溶媒流」は、接触塔の最上部に注入される。逆流接触塔の内側で一度入ると、ガス流624からのガスは、吸収体を介して上方に移動する。通常、1つまたは複数のトレイまたは他の内部構造物(示されていない)が吸収体内に提供されることによって、天然ガスに対して複数の流路を作り出し、ガス相と液相の間に界面領域を作り出す。同時に、リーン溶媒流からの液体は、吸収体内の一連のトレイを下向きに、および横切って移動する。トレイは、天然ガスと溶媒流との相互作用を支援する。このプロセスは、「Removal of Acid Gases From a Gas Stream」という表題の特許出願の図1と関連して明示されている。この出願は、2008年10月14日に仮出願され、米国特許第61/105,343号が割り当てられた。図1および明細書の対応する部分は、本明細書に参照により組み込まれている。   In one embodiment, the absorber is a large, counter-current contact tower. In this arrangement, the raw gas stream 624 is injected into the bottom of the contact tower and the chemical solvent, or “lean solvent stream” is injected into the top of the contact tower. Once inside the countercurrent contact tower, the gas from the gas stream 624 moves up through the absorber. Typically, one or more trays or other internal structures (not shown) are provided in the absorber to create multiple flow paths for natural gas between the gas phase and the liquid phase. Create an interface area. At the same time, the liquid from the lean solvent stream moves down and across the series of trays in the absorber. The tray supports the interaction between natural gas and solvent flow. This process is demonstrated in connection with FIG. 1 of the patent application entitled “Removal of Acid Gases From a Gas Stream”. This application was provisionally filed on October 14, 2008 and assigned US Pat. No. 61 / 105,343. FIG. 1 and corresponding parts of the specification are hereby incorporated by reference.

「リッチ」なアミン溶液は、逆流接触塔の底部から落ちる。これは、吸収されたH2Sと共に液体アミンを含む。リッチなアミン溶液は、物理溶媒系705Aと関連して上記図7Aに記載されている再生構成要素にかなり似ているように見え得る再生プロセスを介して取り出されるが、ただし、これは通常、100〜200psigで作動している単一のフラッシュ容器しか有していない。 A “rich” amine solution falls from the bottom of the counter-current contact tower. This includes liquid amines along with absorbed H 2 S. The rich amine solution is removed via a regeneration process that may appear quite similar to the regeneration component described in FIG. 7A above in connection with physical solvent system 705A, although this is typically 100% It has only a single flash vessel operating at ~ 200 psig.

2Sのスクラビング用吸収体として使用される逆流接触器塔は、非常に大きく重い傾向にある。これにより、沖合の油およびガス生産用途において特定の問題が生じる。したがって、油およびガスの回収から起こる炭化水素ガス流からのH2S除去のための代替実施形態が本明細書中に提案されている。これは、より小さな、並流の接触装置の使用を含む。これらの装置は、接触時間を減少させ、したがってCO2が吸収される確率を減少させることによって、アミンの選択性を向上させることができる。これらのより小さな吸収装置はまた、プロセス605の全体の設置面積のサイズを削減できる。 Backflow contactor towers used as H 2 S scrubbing absorbers tend to be very large and heavy. This creates particular problems in offshore oil and gas production applications. Thus, alternative embodiments for H 2 S removal from hydrocarbon gas streams resulting from oil and gas recovery are proposed herein. This includes the use of smaller, co-current contact devices. These devices can improve amine selectivity by reducing contact time and thus reducing the probability that CO 2 is absorbed. These smaller absorbers can also reduce the size of the overall footprint of process 605.

図7Bは、図6の溶媒プロセス605に対して使用し得る化学溶媒系705Bの例示的実施形態を説明している。化学溶媒系705Bは、一連の並行して流れる接触装置CD1、CD2、..、CD(n−1)、CDnを採用している。これらの装置を使用して選択性のアミンをガス流と接触させる。
並流の概念は、直列の2つ以上接触器を利用し、ここでサワーガス流および液体溶媒は、接触器内を一緒に移動する。一実施形態において、サワーガス流および液体溶媒は、一般的にそれぞれの接触器の縦方向の軸に沿って一緒に移動する。並流の接触器は、ずっと高い流体速度で作動することができる。その結果、並流接触器は、充填された塔またはトレイ付の塔を利用する逆流接触器よりも小型の傾向にある。
図7Aと同様に、脱水されたガス流624が、注入分離器660に入るのが見てとれることができる。注入分離器660は、例えば油ベースの掘削流体および泥などの液体不純物を濾過除去する働きをする。ブラインは、図6に示されている上流脱水容器620を用いてふるい落とされるのが好ましい。いくらかの粒子の濾過はまた注入分離器660内で行うことができる。ガス流624をきれいに保つことによって酸性ガス除去プロセスの間液体溶媒の泡立ちを防止することが望ましいことを理解されたい。
FIG. 7B illustrates an exemplary embodiment of a chemical solvent system 705B that may be used for the solvent process 605 of FIG. The chemical solvent system 705B includes a series of parallel flow contact devices CD1, CD2,. . , CD (n-1), CDn are employed. These devices are used to contact the selective amine with the gas stream.
The co-current concept utilizes two or more contactors in series, where the sour gas stream and liquid solvent move together in the contactor. In one embodiment, the sour gas stream and the liquid solvent move together generally along the longitudinal axis of each contactor. Cocurrent contactors can operate at much higher fluid velocities. As a result, co-current contactors tend to be smaller than countercurrent contactors that utilize packed towers or towers with trays.
Similar to FIG. 7A, it can be seen that the dehydrated gas stream 624 enters the injection separator 660. Injection separator 660 serves to filter out liquid impurities such as, for example, oil-based drilling fluids and mud. The brine is preferably screened using the upstream dewatering vessel 620 shown in FIG. Some particle filtration can also take place in the injection separator 660. It should be understood that it is desirable to prevent liquid solvent bubbling during the acid gas removal process by keeping gas stream 624 clean.

凝縮した炭化水素および掘削流体などの液体は、注入分離器660の底部から落ちる。液体不純物流は、662において見てとれる。水によって運ばれた不純物は通常水処置施設(示されていない)に送られるか、または構造630に再注入されてもよく、ライン622は、貯留層圧力を維持するためまたは処分用である。炭化水素液体は、通常凝縮処理器につながっている。ガスは、注入分離器660の最上部から出る。浄化されたサワーガス流は664において見てとれる。
浄化されたサワーガスは、一連の吸収体に誘導される。ここにおいて、吸収体は、並流の接触装置CD1、CD2、..、CD(n−1)、CDnである。各接触器CD1、CD2、..、CD(n−1)、CDnは、ガス流664から一部分のH2S分を除去し、これによって、次第にスウィートニングされるガス流を放出する。最終の接触器CDnは、メタンおよび二酸化炭素を実質的に含む最終のスウィートニングされたガス流730(n)を提供する。ガス流730(n)は、図6のライン678となる。
Liquids such as condensed hydrocarbons and drilling fluid fall from the bottom of injection separator 660. The liquid impurity stream can be seen at 662. Impurities carried by the water are usually sent to a water treatment facility (not shown) or may be reinjected into the structure 630, and the line 622 is for maintaining reservoir pressure or for disposal. The hydrocarbon liquid is usually connected to a condensing processor. The gas exits from the top of the injection separator 660. The purified sour gas stream can be seen at 664.
The purified sour gas is guided to a series of absorbers. Here, the absorber is a co-current contact device CD1, CD2,. . , CD (n-1), CDn. Each contactor CD1, CD2,. . , CD (n−1), CDn remove a portion of the H 2 S content from the gas stream 664, thereby releasing a progressively sweetened gas stream. The final contactor CDn provides a final sweetened gas stream 730 (n) substantially comprising methane and carbon dioxide. Gas stream 730 (n) becomes line 678 in FIG.

作動中、ガス流664は、第1の並流吸収体、または接触装置、CD1に入る。ここで、ガスは、液体溶媒720と混合される。溶媒720は、好ましくは、アミン溶液、例えばメチルジエタノールアミン(MDEA)、またはFlexsorb(登録商標)アミンなどからなる。液体溶媒はまた、ヒンダードアミン、第三級アミン、またはこれらの組合せを含み得る。Flexsorb(登録商標)は、ヒンダードアミンの一例であり、MDEAは、第三級アミンの一例である。さらに、溶媒流720は、一部再生されるか、または再生器750により生成される「セミリーン」溶媒である。「セミリーン」溶媒720の第1の接触器CD1への移動は、ポンプ724によって支援される。ポンプ724は、セミリーン溶媒720を適切な圧力下で第1の接触器CD1に移動させる。適切な圧力の例とは、およそ15psia〜1,500psigである。   In operation, the gas stream 664 enters the first co-current absorber, or contact device, CD1. Here, the gas is mixed with the liquid solvent 720. Solvent 720 preferably comprises an amine solution such as methyldiethanolamine (MDEA) or Flexsorb® amine. The liquid solvent can also include hindered amines, tertiary amines, or combinations thereof. Flexsorb (R) is an example of a hindered amine and MDEA is an example of a tertiary amine. Further, solvent stream 720 is a “semi-lean” solvent that is partially regenerated or produced by regenerator 750. The movement of “semi-lean” solvent 720 to the first contactor CD 1 is assisted by pump 724. Pump 724 moves semi-lean solvent 720 to the first contactor CD1 under appropriate pressure. An example of a suitable pressure is approximately 15 psia to 1,500 psig.

第1の接触器CD1の内側に一度入ると、ガス流664および化学溶媒流720は、第1の接触器CD1の縦方向の軸に沿って移動する。これらが移動するにつれて、液体アミン(または他の溶媒)は、ガス流664中のH2Sと相互作用し、H2Sをアミン分子に化学結合させるか、またはH2Sをアミン分子によって吸収させる。第1の「リッチ」溶媒溶液740(1)は第1の接触器CD1の底部から落ちる。同時に、第1の部分的にスウィートニングされたガス流730(1)は、第1の接触器CD1を出て、第2の接触器CD2に放出される。 Once inside the first contactor CD1, the gas stream 664 and the chemical solvent stream 720 move along the longitudinal axis of the first contactor CD1. As they move, the liquid amine (or other solvent) interacts with the H 2 S in the gas stream 664, either by chemically bonding the H 2 S in an amine molecule, or H 2 S by amine molecular absorption Let The first “rich” solvent solution 740 (1) falls from the bottom of the first contactor CD1. At the same time, the first partially sweetened gas stream 730 (1) exits the first contactor CD1 and is discharged to the second contactor CD2.

第2の接触器CD2はまた並流の分離装置を表す。第3の並流の分離装置CD3が第2の接触器CD2の後に提供されてもよい。第2および第3の接触器CD2、CD3のそれぞれは、それぞれの部分的にスウィートニングされたガス流730(2)、730(3)を生成する。さらに、第2および第3の接触器CD2、CD3のそれぞれは、それぞれの部分充填されたガス処理溶液740(2)、740(3)を生成する。アミンが溶媒として使用される場合、この部分充填されたガス処理溶液740(2)、740(3)はリッチなアミン溶液を含むことになる。例示的システム705Bにおいて、第2の充填されたガス処理溶液740(2)は、第1の充填されたガス処理溶液740(1)と合流し、再生器750を通過することを含めて、再生プロセスを通過する。   The second contactor CD2 also represents a cocurrent separation device. A third cocurrent separation device CD3 may be provided after the second contactor CD2. Each of the second and third contactors CD2, CD3 produces a respective partially sweetened gas stream 730 (2), 730 (3). Further, each of the second and third contactors CD2, CD3 produces a respective partially filled gas treatment solution 740 (2), 740 (3). When amine is used as the solvent, this partially filled gas treatment solution 740 (2), 740 (3) will contain a rich amine solution. In the exemplary system 705B, the second filled gas treatment solution 740 (2) merges with the first filled gas treatment solution 740 (1) and passes through the regenerator 750 to regenerate. Go through the process.

ガス664が、次第にスウィートニングされるガス流730(1)、730(2)、...730(n−1)を介して下流の方向に移動するにつれて、システム内の圧力は、一般的に低下することに注意されたい。この圧力低下が起こると、次第にリッチとなる、上流方向に向かうアミン(または他の液体溶媒)流740(n)、740(n−1)、...740(2)、740(1)の圧力は、ガス圧力に一致させるため一般的に増加しなければならない。したがって、システム705Bにおいて、1つまたは複数の小さいブースターポンプ(示されていない)が接触器CD1、CD2、...のそれぞれの間に配置されていることが好ましい。これは、システム内の液体圧力を押し上げる役目を果たす。   Gas streams 730 (1), 730 (2),. . . Note that the pressure in the system generally decreases as it travels downstream through 730 (n-1). As this pressure drop occurs, the upstream (or other liquid solvent) stream 740 (n), 740 (n-1),. . . The pressure at 740 (2), 740 (1) must generally increase to match the gas pressure. Thus, in system 705B, one or more small booster pumps (not shown) are connected to contactors CD1, CD2,. . . It is preferable to arrange | position between each of these. This serves to boost the liquid pressure in the system.

システム705Bにおいて、流れ740(1)、740(2)は、最初にフラッシュドラム742を介して移動する「リッチ」溶媒溶液を含む。フラッシュドラム742は、およそ100〜150psigの圧力で作動する。このフラッシュドラム742は通常、その中の溶媒流740に対して沈殿効果または蛇行性の流路を作り出す内部構造部分を有する。残留するガス、例えばメタンおよびCO2などは、溶媒流740からライン744を介してフラッシュされる。ライン744において捕獲された残留ガスは、例えばライン720からの少量の新鮮なアミンと接触させた場合、およそ100ppmの酸性ガス含有量まで減少し得る。この濃度は、この残留ガスをシステム705B用の燃料ガスとして使用することができる程十分に低い。 In system 705B, streams 740 (1), 740 (2) initially contain a “rich” solvent solution that travels through flash drum 742. The flash drum 742 operates at a pressure of approximately 100-150 psig. The flash drum 742 typically has an internal structural portion that creates a precipitation effect or serpentine flow path for the solvent stream 740 therein. Residual gases such as methane and CO 2 are flushed from solvent stream 740 via line 744. Residual gas captured in line 744 can be reduced to an acid gas content of approximately 100 ppm, for example when contacted with a small amount of fresh amine from line 720. This concentration is low enough that this residual gas can be used as a fuel gas for system 705B.

残留する天然ガスは、溶媒流740からライン744を介してフラッシュすることができる。生成したリッチ溶媒流746は、再生器750へと誘導される。
再生器750に移動する前に、リッチ溶媒流746は、熱交換器(示されていない)を介して移動するのが好ましい。比較的冷たい(周辺温度に近い)溶媒流746は、再生器750の底部を出る温かなリーン溶媒流760との熱接触を介して加熱することができる。さらにこれは、リーン溶媒流760がリーン溶媒冷却器764、次いで最終接触器CDnへと送達される前に、リーン溶媒流760を有利に冷却する働きをする。
Residual natural gas can be flushed from solvent stream 740 via line 744. The resulting rich solvent stream 746 is directed to the regenerator 750.
Prior to moving to the regenerator 750, the rich solvent stream 746 is preferably transferred via a heat exchanger (not shown). The relatively cool (close to ambient temperature) solvent stream 746 can be heated via thermal contact with the warm lean solvent stream 760 exiting the bottom of the regenerator 750. This further serves to advantageously cool the lean solvent stream 760 before it is delivered to the lean solvent cooler 764 and then to the final contactor CDn.

再生器750は、リボイラー756の上のトレイまたは他の内部構造物(示されていない)を含むストリッパー部分752と定義される。熱を生成するために熱供給元が、リボイラー756に提供される。再生器750は、最終の接触器CDnにおける再利用のためリサイクルされる、再生されたまたは「リーン」溶媒流760を生成する。濃縮H2Sを含有する再生器750から取り除かれたオーバーヘッドガスは、不純物流770として再生器750を出る。
2Sリッチな不純物流770は、凝縮器772へと移動する。この凝縮器772は、不純物流770を冷却する働きをする。冷却した不純物流770は、不純物流770からあらゆる残留液体(主に凝縮した水)を分離する還流蓄積器774を介して移動する。次いで主にH2Sを含む酸性ガス流776が作り出される。酸性ガス流776は、図6のライン655と同じである。
Regenerator 750 is defined as a stripper portion 752 that includes a tray or other internal structure (not shown) above reboiler 756. A heat source is provided to the reboiler 756 to generate heat. The regenerator 750 produces a regenerated or “lean” solvent stream 760 that is recycled for reuse in the final contactor CDn. Overhead gas removed from regenerator 750 containing concentrated H 2 S exits regenerator 750 as impurity stream 770.
The H 2 S rich impurity stream 770 moves to the condenser 772. This condenser 772 serves to cool the impurity stream 770. The cooled impurity stream 770 travels through a reflux accumulator 774 that separates any residual liquid (mainly condensed water) from the impurity stream 770. An acid gas stream 776 containing mainly H 2 S is then created. The acid gas stream 776 is the same as line 655 of FIG.

一部の液体は、還流蓄積器774から落ちてもよい。これは、残留液体流775を生じる。この残留液体流775は、好ましくは圧力を押し上げるためにポンプ778を介して運ばれ、次いでそこで、再生器750へと再導入される。残留する液体のいくらかは、リーン溶媒流760の一部として再生器750の底部を出ることになる。いくらかの水含有量が、リーン溶媒流760に付加されることで、スウィートニングされたガス流730(n−1)、730(n)への水蒸気の損失を埋めてもよい。この水は、還流ポンプ778の吸い込みまたは吸引の際に付加することができる。
このリーンまたは再生された溶媒760は低圧である。したがって、再生された溶媒760を表すこの液体流は、圧力押し上げポンプ762を介して運ばれる。ポンプ762は、リーン溶媒ブースター762と呼ばれる。そこから、このリーン溶媒760が冷却器764を通過する。冷却器764を介して溶媒を冷却することによって、リーン溶媒760が酸性ガスを効果的に吸収することを確実にする。冷やされたリーン溶媒760は、最後の分離接触器CDnのために溶媒流として使用される。
Some liquid may fall from the reflux accumulator 774. This produces a residual liquid stream 775. This residual liquid stream 775 is preferably conveyed via pump 778 to boost the pressure and then reintroduced there into regenerator 750. Some of the remaining liquid will exit the bottom of the regenerator 750 as part of the lean solvent stream 760. Some water content may be added to the lean solvent stream 760 to compensate for the loss of water vapor to the sweetened gas stream 730 (n-1), 730 (n). This water can be added during the suction or suction of the reflux pump 778.
This lean or regenerated solvent 760 is at low pressure. Thus, this liquid stream representing the regenerated solvent 760 is conveyed via the pressure boost pump 762. Pump 762 is referred to as a lean solvent booster 762. From there, this lean solvent 760 passes through a cooler 764. Cooling the solvent via the cooler 764 ensures that the lean solvent 760 effectively absorbs the acid gas. The cooled lean solvent 760 is used as the solvent stream for the final separation contactor CDn.

溶媒タンク722は、接触装置CD1、CD2、..、CD(n−1)、CDnの近位に提供されてもよい。リーン溶媒760は、溶媒タンク722を通過することができる。溶媒タンク722は、ガス施設705Bのために必要となり得るので、オフラインで、溶媒用貯留層を提供することがより好ましい。
再び複数の並流の接触装置CD1、CD2、...CD(n−1)、CDnを参照すると、各接触装置は、炭化水素ガスおよび硫化水素を含むガス流を受け取る。各接触装置CD1、CD2、...CD(n−1)、CDnは、順次H2Sを除去し、次第にスウィートニングされるガス流を生成するために作動する。並流の接触装置CD1、CD2、...CD(n−1)、CDnは、様々な短い接触時間の混合装置のいずれかであってよい。例として、静的混合機および遠心撹拌機が挙げられる。いくつかの混合装置は、排出装置を介して液体をバラバラに分裂させる。排出装置は、ベンチュリ管に似た管を介してガスを送達し、次にこの管が液体溶媒を管に引き込む。ベンチュリ効果のため、液体溶媒は引きずり込まれ、壊れて小さい液滴となり、ガスとの接触表面積を大きくする。
The solvent tank 722 includes contact devices CD1, CD2,. . , CD (n−1), may be provided proximal to CDn. The lean solvent 760 can pass through the solvent tank 722. Since the solvent tank 722 may be required for the gas facility 705B, it is more preferable to provide the solvent reservoir offline.
Again, a plurality of co-current contact devices CD1, CD2,. . . Referring to CD (n-1), CDn, each contact device receives a gas stream comprising hydrocarbon gas and hydrogen sulfide. Each contact device CD1, CD2,. . . CD (n-1), CDn operates to sequentially remove H 2 S and produce a progressively sweetened gas stream. Co-current contact devices CD1, CD2,. . . CD (n-1), CDn may be any of various short contact time mixing devices. Examples include static mixers and centrifugal agitators. Some mixing devices break the liquid apart through the discharge device. The evacuation device delivers gas through a tube similar to a Venturi tube, which then draws the liquid solvent into the tube. Due to the Venturi effect, the liquid solvent is dragged in and breaks into small droplets, increasing the contact surface area with the gas.

1つの好ましい接触装置は、ProsCon(商標)接触器である。この接触器は、排出装置、それに続く遠心性コアレッサーを利用する。この遠心性コアレッサーは、小さい容積の液体溶媒を再統合するための大きな遠心力を引き起こす。どのような実施形態であっても、小型の容器技術を採用するのが好ましく、これによって、大きな接触器塔と比べてハードウエアの縮小が可能になる。
第1の接触器CD1は、生ガス流664を受け取る。このガス流664は、硫化水素の除去のために第1の接触器CD1内で処理される。次いで第1の部分的にスウィートニングされたガス流730(1)が放出される。第1の部分的に−スウィートニングされたガス流730(1)は第2の接触器CD2に送達される。第2の、より完全にスウィートニングされたガス流730(2)が放出されるよう、第1のスウィートニングされたガス流730(1)はそこで硫化水素の除去のためにさらに処理される。第3の接触器CD3がより完全にスウィートニングされたガス流730(3)を生成するように、このパターンが継続される。第4の接触器CD4は、さらにもっとスウィートニングされたガス流730(4)を生成し、最後から1つ前の接触器は、さらにもっとスウィートニングされたガス流CD(n−1)を生成する。これらの各流れは、「続発性の」スウィートニングされたガス流と呼ぶことができる。
One preferred contact device is a ProsCon ™ contactor. This contactor utilizes a discharge device followed by a centrifugal coalescer. This centrifugal coalescer causes a large centrifugal force to reintegrate a small volume of liquid solvent. In any embodiment, it is preferable to employ small vessel technology, which allows for hardware reduction compared to large contactor towers.
The first contactor CD1 receives a raw gas stream 664. This gas stream 664 is processed in the first contactor CD1 for removal of hydrogen sulfide. A first partially sweetened gas stream 730 (1) is then released. The first partially-sweetened gas stream 730 (1) is delivered to the second contactor CD2. The first sweetened gas stream 730 (1) is then further processed for removal of hydrogen sulfide so that a second, more fully sweetened gas stream 730 (2) is released. This pattern is continued so that the third contactor CD3 produces a more fully sweetened gas stream 730 (3). The fourth contactor CD4 produces an even more sweetened gas stream 730 (4) and the last contactor produces an even more sweetened gas stream CD (n-1). To do. Each of these streams can be referred to as a “secondary” sweetened gas stream.

最終のスウィートニングされたガス流730(n)は、最終の接触器CDnにより放出される。最終接触器CDnの前の接触装置の数(少なくとも2つ)は、主に所望の標準を満たすためのH2S除去の必要レベルによって決定される。図7のシステム705Bにおいて、最終のスウィートニングされたガス流730(n)は、依然として二酸化炭素を含有する。したがってスウィートニングされたガス流730(n)は、図6のCFZ塔100を介して取り出されなければならない。スウィートニングされたガス流730(n)は、図6のライン678と同じである。 The final sweetened gas stream 730 (n) is discharged by the final contactor CDn. The number of contact devices (at least two) before the final contactor CDn is mainly determined by the required level of H 2 S removal to meet the desired standard. In the system 705B of FIG. 7, the final sweetened gas stream 730 (n) still contains carbon dioxide. Accordingly, the sweetened gas stream 730 (n) must be removed via the CFZ column 100 of FIG. The sweetened gas stream 730 (n) is the same as line 678 in FIG.

一態様において、混合装置と対応する凝集装置の組合せが各接触器において採用されている。したがって、例えば、第1のCD1および第2のCD2接触器は、これらの混合装置として静的混合機を利用することができ、第3のCD3および他のCD4接触器は、排出装置を利用することができ、CDn−1およびCDn接触器は、遠心撹拌機を利用することができる。各接触器には、凝集装置が付随している。いずれの実施形態においても、ガス流664、730(1)、730(2)、...730(n−1)および並流で流れる液体溶媒流は、接触器CD1、CD2、...CDnを介して同じ方向に流れる。これによって、短い期間、おそらくさらに100ミリ秒以下まで短い期間で処理反応が行われることが可能となる。特定のアミンは、CO2よりもより急速にH2Sと反応することから、これは、選択性のH2S除去(CO2に対して)にとって有利である。 In one embodiment, a combination of a mixing device and a corresponding flocculating device is employed in each contactor. Thus, for example, the first CD1 and second CD2 contactors can utilize a static mixer as their mixing device, and the third CD3 and other CD4 contactors utilize a discharge device. CDn-1 and CDn contactors can utilize centrifugal agitators. Each contactor is associated with an agglomeration device. In either embodiment, the gas streams 664, 730 (1), 730 (2),. . . 730 (n-1) and the co-currently flowing liquid solvent stream are contactors CD1, CD2,. . . It flows in the same direction via CDn. This allows the treatment reaction to take place in a short period, perhaps even as short as 100 milliseconds or less. This is advantageous for selective H 2 S removal (relative to CO 2 ) because certain amines react with H 2 S more rapidly than CO 2 .

ガス流を受け取ることに加えて、各並流の接触器CD1、CD2、...CD(n−1)、CDnはまた、液体溶媒流を受け取る。システム705Bにおいて、第1の接触器CD1は、部分的に再生された溶媒流720を受け取る。その後、それに続く接触器CD2、CD3、CD(n−1)、CDnは、次のそれぞれの接触器から放出された充填された溶媒溶液を受け取る。したがって第2の接触器CD2は、第3の接触器CD3から放出された部分充填された溶媒溶液740(3)を受け取り、第3の接触器CD3は、第4の接触器CD4から放出された部分充填された溶媒溶液740(4)を受け取り、最後から1つ前の接触器CD(n−1)は、最終の接触器CDnからの部分充填された溶媒溶液740(n)を受け取る。別の言い方をすれば、第2の接触器CD2に送られた液体溶媒は、第3の接触器CD3から放出された部分充填された溶媒溶液740(3)を含み、第3の接触器CD3に送られた液体溶媒は、第4の接触器CD4から放出された部分充填された溶媒溶液740(4)を含み、最後から1つ前の接触器CD(n−1)に送られた液体溶媒は、最終の接触器CDnからの部分充填された溶媒溶液740(n)を含む。したがって、部分充填された溶媒溶液は、次第にスウィートニングされたガス流730(1)、730(2)、730(3)、...730(n−1)とは反対の処理方向に、接触器CD1、CD2、CD3、...CDnへと導入される。
最後の分離接触器CDnはまた液体溶媒を受け取る。この液体溶媒は、再生された溶媒流760である。再生された溶媒流760は極めてリーンである。
In addition to receiving the gas flow, each co-current contactor CD1, CD2,. . . CD (n-1), CDn also receives a liquid solvent stream. In system 705B, the first contactor CD1 receives a partially regenerated solvent stream 720. Subsequent contactors CD2, CD3, CD (n-1), CDn then receive the filled solvent solution released from the next respective contactor. Thus, the second contactor CD2 receives the partially filled solvent solution 740 (3) released from the third contactor CD3, and the third contactor CD3 is released from the fourth contactor CD4. The partially filled solvent solution 740 (4) is received, and the last previous contactor CD (n-1) receives the partially filled solvent solution 740 (n) from the final contactor CDn. In other words, the liquid solvent sent to the second contactor CD2 includes a partially filled solvent solution 740 (3) discharged from the third contactor CD3, and the third contactor CD3. The liquid solvent sent to the liquid contains the partially filled solvent solution 740 (4) discharged from the fourth contactor CD4, and the liquid sent to the last previous contactor CD (n-1). The solvent includes a partially filled solvent solution 740 (n) from the final contactor CDn. Thus, the partially filled solvent solution can be used to form an increasingly sweetened gas stream 730 (1), 730 (2), 730 (3),. . . 730 (n-1) in the opposite process direction, contactors CD1, CD2, CD3,. . . Introduced into CDn.
The last separation contactor CDn also receives a liquid solvent. This liquid solvent is the regenerated solvent stream 760. The regenerated solvent stream 760 is very lean.

図7Bの化学溶媒系705Bは、説明に役立つことを意図している。複数の並流の接触装置を吸収体として採用するこのようなシステムに対して他の配置を使用することができる。このような追加のシステムの例は、上で参照された米国特許出願第61/105,343号におけるCO2除去の文脈中に記載されている。明細書の図2Bおよび対応する部分も本明細書に参照により組み込まれている。 The chemical solvent system 705B of FIG. 7B is intended to be illustrative. Other arrangements can be used for such systems that employ multiple co-current contact devices as absorbers. Examples of such additional systems are described in the context of CO 2 removal in US patent application Ser. No. 61 / 105,343, referenced above. FIG. 2B and corresponding portions of the specification are also incorporated herein by reference.

図7Bのシステム705Bにおいて、溶媒溶液740(1)および740(2)の両方に再生を施す。部分的に再生された溶媒780は、再生容器750から出てくる。この溶媒780は、ブースターポンプ782を介して加圧下に置かれる。そこから、溶媒780は、熱交換器784内での冷却によって、溶媒流720になる。溶媒780は、溶媒流720として第1の並流の接触器CD1に導入される前に、ブースターポンプ724を介してさらに加圧される。   In system 705B of FIG. 7B, both solvent solutions 740 (1) and 740 (2) are regenerated. Partially regenerated solvent 780 emerges from the regeneration vessel 750. This solvent 780 is placed under pressure through a booster pump 782. From there, the solvent 780 becomes a solvent stream 720 upon cooling in the heat exchanger 784. The solvent 780 is further pressurized via a booster pump 724 before being introduced as a solvent stream 720 into the first co-current contactor CD1.

再び図6を参照すると、軽質ガス流678(これは図7Aのライン678および図7Bのライン730(n)でもある)は、溶媒系605を出て、脱水器を通過し、チラー626を通過する。チラー626は、軽質ガス流678をおよそ−30°Fから−40°Fまで低い温度に冷やす。チラー626は、例えばエチレンまたはプロパンの冷蔵庫であってよい。
軽質ガス流678は、次に膨張装置628を介して移動するのが好ましい。この膨張装置628は、例えば、Joule−Thompson(「J−T」)バルブであってよい。膨張装置628は、軽質ガス流678のさらなる冷却を達成するために膨張器としての機能を果たす。膨張装置628は、軽質ガス流678の温度を例えば、およそ−70°Fから−80°Fまでさらに減少させる。ガス流678の少なくとも部分的な液化も達成されるのが好ましい。冷却したサワーガス流は、ライン611において示されている。
Referring again to FIG. 6, light gas stream 678 (which is also line 678 in FIG. 7A and line 730 (n) in FIG. 7B) exits solvent system 605, passes through the dehydrator, and passes through chiller 626. To do. Chiller 626 cools light gas stream 678 to a temperature as low as approximately −30 ° F. to −40 ° F. The chiller 626 may be, for example, an ethylene or propane refrigerator.
Light gas stream 678 then preferably travels through expansion device 628. The expansion device 628 may be, for example, a Joule-Thompson (“J-T”) valve. The expansion device 628 serves as an expander to achieve further cooling of the light gas stream 678. The expansion device 628 further reduces the temperature of the light gas stream 678 from, for example, approximately −70 ° F. to −80 ° F. Preferably, at least partial liquefaction of the gas stream 678 is also achieved. The cooled sour gas stream is shown in line 611.

ライン611の冷やされたサワーガスは、極低温蒸留塔100に入る。この極低温蒸留塔100は、CO2粒子を意図的に凍結するプロセスを介して酸性ガスからメタンを蒸留するために作動するいかなる塔であってよい。極低温蒸留塔は、例えば、図1のCFZ(商標)塔100であってよい。ライン611の冷やされたサワーガスは、塔100におよそ500〜600psigで入る。
図1に関連して説明されているように、酸性ガスは、液化された酸性ガス底部流642として蒸留塔100から取り出される。この例では、この酸性ガス底部流642は、主に二酸化炭素を含む。酸性ガス底部流642は、非常にわずかな硫化水素または他の硫黄成分、例えば硫黄成分除去システム(溶媒系605)によって捕獲されたものなどを含有し、さらなる処理のため濃縮H2S流655として送達される。H2Sは、硫黄回収ユニット(示されていない)を用いて元素硫黄へと変換することができる。この硫黄回収ユニットは、いわゆるClausプロセスであってよい。これによって、より効果的な、多量の硫黄の硫黄回収が可能となる。
The chilled sour gas in line 611 enters the cryogenic distillation tower 100. The cryogenic distillation column 100 may be any column that operates to distill methane from acid gases via a process that intentionally freezes CO 2 particles. The cryogenic distillation column may be, for example, the CFZ ™ column 100 of FIG. The chilled sour gas in line 611 enters tower 100 at approximately 500-600 psig.
As described in connection with FIG. 1, acid gas is withdrawn from the distillation column 100 as a liquefied acid gas bottom stream 642. In this example, the acid gas bottom stream 642 includes primarily carbon dioxide. The acid gas bottom stream 642 contains very little hydrogen sulfide or other sulfur component, such as that captured by the sulfur component removal system (solvent system 605), and as further concentrated H 2 S stream 655 for further processing. Delivered. H 2 S can be converted to elemental sulfur using a sulfur recovery unit (not shown). This sulfur recovery unit may be a so-called Claus process. This enables more effective sulfur recovery of a large amount of sulfur.

少なくともの一部の底部流642は、リボイラー643を介して送られる。そこから、メタンを含有する流体は、ガス流644として塔100へ戻るように再び誘導される。主に二酸化炭素から構成される残留流体は、CO2ライン646を介して放出される。ライン646中のCO2は、液体形態である。ライン646の二酸化炭素は、圧力ブースター648を通過し、次いでブロック649で示されている通り、1つまたは複数の酸性ガス注入(AGI)坑井を介して地下構造に注入されるのが好ましい。 At least some of the bottom stream 642 is routed through a reboiler 643. From there, the fluid containing methane is again directed back to the tower 100 as a gas stream 644. Residual fluid composed primarily of carbon dioxide is released via the CO 2 line 646. The CO 2 in line 646 is in liquid form. The carbon dioxide in line 646 preferably passes through pressure booster 648 and then is injected into the underground structure via one or more acid gas injection (AGI) wells, as indicated by block 649.

メタンは、オーバーヘッドメタン流112として蒸留塔100から放出される。このオーバーヘッドメタン流112は、およそ2モルパーセント以下の二酸化炭素を含むのが好ましい。このパーセンテージにおいて、オーバーヘッドメタン流112は、燃料ガスとして使用することができるか、または天然ガスとして特定の市場に販売することができる。しかし、本明細書中の特定の方法に従い、オーバーヘッドメタン流112に、さらなる処理を施すことが望ましい。より具体的には,オーバーヘッドメタン流112は、開ループ冷蔵システムを通過する。   Methane is discharged from the distillation column 100 as an overhead methane stream 112. This overhead methane stream 112 preferably contains approximately 2 mole percent or less of carbon dioxide. In this percentage, the overhead methane stream 112 can be used as fuel gas or sold to a specific market as natural gas. However, it may be desirable to subject the overhead methane stream 112 to further processing in accordance with certain methods herein. More specifically, overhead methane stream 112 passes through an open loop refrigeration system.

最初に、オーバーヘッドメタン流112は、クロス交換器113を通過する。このクロス交換器113は、膨張器装置19を介して増大させた後、極低温蒸留塔100に再導入される液体還流流18を事前に冷却する働きをする。次にオーバーヘッドメタン流112は、その圧力を上げるため、コンプレッサー114を介して送られる。
次に、加圧したメタン流112を冷却する。これは、例えば空中冷却器115にメタン流112を通すことによって行うことができる。冷たい、および加圧したメタン流116が生成される。メタン流116は、商品を作製するために液化されることが好ましい。
Initially, the overhead methane stream 112 passes through the cross exchanger 113. This cross exchanger 113 serves to pre-cool the liquid reflux stream 18 which is increased via the expander device 19 and then reintroduced into the cryogenic distillation column 100. The overhead methane stream 112 is then sent through the compressor 114 to increase its pressure.
The pressurized methane stream 112 is then cooled. This can be done, for example, by passing the methane stream 112 through the air cooler 115. A cold and pressurized methane stream 116 is produced. The methane stream 116 is preferably liquefied to make a product.

冷却器115を離れる冷却および加圧されたメタン流116の一部は、還流流18に分割される。この還流流18は、熱交換器113内でさらに冷却され、次いで膨張器装置19を介して拡張されることによって、最終的に図1の低温スプレー流21を生成する。この低温スプレー流21は、蒸留塔100に入り、そこで、低温液体スプレーとして使用される。この液体スプレー、または還流は、制御された凍結域(図1の108で示される)の温度を減少させ、上述の脱水されたガス流624からのCO2および他の酸性ガス粒子を凍結させる手助けをする。
図6は、ガス処理システム600の選択された態様のみを明らかにすることを意図した単純化された概略図を表していることを理解されたい。ガス処理システムは通常、多くの追加の構成要素、例えば圧力測定装置、温度測定装置、レベル測定装置、および流量測定装置と共に、ヒーター、チラー、凝縮器、液体ポンプ、ガスコンプレッサー、送風器、他の種類の分離機器および/または分別機器、バルブ、スイッチ、コントローラーなどを含むことになる。
A portion of the cooled and pressurized methane stream 116 leaving the cooler 115 is split into a reflux stream 18. This reflux stream 18 is further cooled in heat exchanger 113 and then expanded via expander device 19 to ultimately produce the cold spray stream 21 of FIG. This cold spray stream 21 enters the distillation column 100 where it is used as a cold liquid spray. This liquid spray, or reflux, reduces the temperature of the controlled freezing zone (shown at 108 in FIG. 1) and helps freeze the CO 2 and other acid gas particles from the dehydrated gas stream 624 described above. do.
It should be understood that FIG. 6 represents a simplified schematic diagram intended to reveal only selected aspects of the gas processing system 600. Gas treatment systems typically have many additional components, such as pressure measuring devices, temperature measuring devices, level measuring devices, and flow measuring devices, as well as heaters, chillers, condensers, liquid pumps, gas compressors, blowers, and other It will include types of separation equipment and / or sorting equipment, valves, switches, controllers, etc.

生ガス流から硫黄成分を除去するための追加の方法が本明細書中で提供される。このような1つの方法は、「レドックス」プロセスという大見出しの分類に入る。「レドックス」という用語は、還元酸化反応を表す。還元酸化とは、原子がその酸化数または酸化状態を変更させる化学反応のことを述べている。本発明のレドックスプロセスにおいて、酸化された金属例えばキレートされた鉄などが直接H2Sと反応することによって、元素硫黄を形成する。
酸化された金属は、水性のキレート金属触媒溶液である。作動中、硫化水素を含有するガス流は、キレート金属触媒と接触することによって、吸収が生じる。それに続いて、硫化水素が元素硫黄へと酸化し、同時により低い酸化状態への金属の還元が行われる。次いで触媒溶液は、これを酸素含有ガスと接触させることによって、金属を酸化させてより高い酸化状態に戻すことによって、再利用のために再生される。
Additional methods for removing sulfur components from a raw gas stream are provided herein. One such method falls under the broad heading “redox” process. The term “redox” refers to a reductive oxidation reaction. Reductive oxidation refers to a chemical reaction in which an atom changes its oxidation number or oxidation state. In the redox process of the present invention, oxidized metal, such as chelated iron, reacts directly with H 2 S to form elemental sulfur.
The oxidized metal is an aqueous chelate metal catalyst solution. During operation, the gas stream containing hydrogen sulfide is absorbed by contact with the chelating metal catalyst. Subsequently, the hydrogen sulfide is oxidized to elemental sulfur and at the same time the metal is reduced to a lower oxidation state. The catalyst solution is then regenerated for reuse by contacting it with an oxygen-containing gas to oxidize the metal back to a higher oxidation state.

図8は、生ガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設800を示す概略図である。この配置において、硫化水素は、レドックスプロセスを用いて、酸性ガス除去システム650の上流で生ガス流から取り出される。このレドックスプロセスは、水性ベースであり、これはH2Sの除去ステップが開始される前に生ガス流の脱水を行う必要がないことを意味する。 FIG. 8 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility 800 for removing acidic gas from a raw gas stream. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the raw gas stream upstream of the acid gas removal system 650 using a redox process. This redox process is aqueous based, which means that there is no need to dewater the raw gas stream before the H 2 S removal step is initiated.

図8は、生産ガス流812を受け取るガス処理施設800を示している。この生産ガス流812は、貯留層発生領域、または「フィールド」810において行われる炭化水素生産活動から始まる。このフィールド810は、ガス状炭化水素が生成されるいかなる場所も表すことができることを理解されたい。炭化水素は、メタンならびに硫化水素を含むことになる。炭化水素はまた、エタンならびに二酸化炭素も含み得る。
ガス処理施設800において、ガス流812は、硫黄成分除去システム850に流れ込む。この硫黄成分除去システム850は、レドックスプロセスを使用している。この硫黄成分除去システム850は最初に接触器820を含む。この接触器820は、フィールド810からの生の炭化水素ガスを受け取るチャンバー825と定義される。一度チャンバー825内に入ると、生ガス流812から硫化水素および他の硫黄成分を分離する化学反応が起きる。
FIG. 8 shows a gas processing facility 800 that receives the product gas stream 812. This product gas stream 812 begins with a hydrocarbon production activity that takes place in a reservoir generation region, or “field” 810. It should be understood that this field 810 can represent any location where gaseous hydrocarbons are produced. Hydrocarbons will include methane as well as hydrogen sulfide. The hydrocarbon may also include ethane as well as carbon dioxide.
In the gas processing facility 800, the gas stream 812 flows into the sulfur component removal system 850. The sulfur component removal system 850 uses a redox process. The sulfur component removal system 850 initially includes a contactor 820. This contactor 820 is defined as a chamber 825 that receives raw hydrocarbon gas from field 810. Once in the chamber 825, a chemical reaction occurs that separates hydrogen sulfide and other sulfur components from the raw gas stream 812.

化学反応を起こすため、チャンバー820はまたキレートされた酸化金属を受け取る。このような酸化金属の例は、キレート鉄である。このキレート鉄は、金属キラント溶液の形態である。この金属キラント溶液は、ライン842を介してチャンバー825へと送達される。
一度チャンバー825内に入ると、キレート金属溶液は、生ガス流812内の硫化水素と反応する。還元酸化反応が起きる。その結果、キレートされた還元金属混合物は、元素硫黄と共に底部ライン822を介して放出される。同時に、ガスは、オーバーヘッドライン824を介して逃げる。塩基性反応物はS-- + 2Fe+++→S0 + 2Fe++である。
Chamber 820 also receives the chelated metal oxide to cause a chemical reaction. An example of such a metal oxide is chelated iron. This chelated iron is in the form of a metal chelant solution. This metal chelant solution is delivered to chamber 825 via line 842.
Once in the chamber 825, the chelated metal solution reacts with hydrogen sulfide in the raw gas stream 812. A reduction oxidation reaction occurs. As a result, the chelated reduced metal mixture is released through the bottom line 822 along with elemental sulfur. At the same time, the gas escapes via overhead line 824. Basic reactant S - a + 2Fe +++ → S 0 + 2Fe ++.

ライン824のガスは、主にメタンおよび二酸化炭素を含む。微量のエタン、窒素、または他の構成要素もまたライン824に存在し得る。ライン824のガスが一緒になって、サワーガスを意味する。
例示的な硫黄成分除去システム850はまた酸化器830も含む。この酸化器830は、還元された金属混合物を酸化させるためのチャンバー835と定義される。酸化器830は、ライン822を介して還元された金属混合物を受け取る。ライン822の金属混合物の圧力は、バルブ828によって制御されている。
The gas in line 824 contains mainly methane and carbon dioxide. Trace amounts of ethane, nitrogen, or other components may also be present in line 824. The gas in line 824 together means sour gas.
The exemplary sulfur component removal system 850 also includes an oxidizer 830. This oxidizer 830 is defined as a chamber 835 for oxidizing the reduced metal mixture. Oxidizer 830 receives the reduced metal mixture via line 822. The pressure of the metal mixture in line 822 is controlled by valve 828.

酸化器830はまた空気も受け取る。空気は、ライン834を介して酸化器830に導入される。空気送風器838により酸化器830内のチャンバー835を介して空気を循環させるために、ライン834の圧力を増加させる。一度チャンバー835内に入ると、空気は、キレート金属混合物と接触して、還元された金属混合物を酸化させる。空気は、放出ライン836を介して酸化器830から放出される。
酸化により、酸化された、キレート金属混合物が生成される。このキレート混合物はまた、コロイドの形態の硫黄を含有する。硫黄を含むキレート混合物は、ライン832を介して酸化器830から落ちる。
例示的硫黄成分除去システム850はまた分離器840を含む。図8の分離器840は、遠心機として示されている。しかし、他の種類の分離器を採用することもできる。遠心機840は、硫黄を含む水性のキラント混合物を2つの成分に分離する。1つの成分は、元素硫黄である。この元素硫黄は、純度の高い固体製品としてプロセスから持続的に取り出される。接触プロセスは、コロイド状硫黄で機器がふさがれることから、比較的低圧であることに(300psig以下)限定されることが好ましい。元素硫黄は、貯蔵されてもよく、またはより好ましくは、商品として販売される。
The oxidizer 830 also receives air. Air is introduced into oxidizer 830 via line 834. In order to circulate air through chamber 835 in oxidizer 830 by air blower 838, the pressure in line 834 is increased. Once in the chamber 835, the air contacts the chelate metal mixture and oxidizes the reduced metal mixture. Air is released from the oxidizer 830 via a discharge line 836.
Oxidation produces an oxidized chelate metal mixture. This chelate mixture also contains sulfur in colloidal form. The chelate mixture containing sulfur falls from the oxidizer 830 via line 832.
The exemplary sulfur component removal system 850 also includes a separator 840. The separator 840 of FIG. 8 is shown as a centrifuge. However, other types of separators can be employed. The centrifuge 840 separates the aqueous chelant mixture containing sulfur into two components. One component is elemental sulfur. This elemental sulfur is continuously removed from the process as a pure solid product. The contact process is preferably limited to relatively low pressure (300 psig or less) because the equipment is plugged with colloidal sulfur. Elemental sulfur may be stored or more preferably sold as a commodity.

元素硫黄は、ライン844で落ちる。硫黄は、硫黄取り扱いユニット(示されていない)に誘導されることが好ましい。これにより、元素硫黄を実質的に含まない水性の金属キラント溶液が残る。
除去システム850の水性の金属触媒溶液は、再生されたキレート鉄である。このキレート鉄は、ライン842により、接触器820に戻されるよう再び誘導される。ライン842において圧力を増加させ、キラント混合物を接触容器825まで運搬するようにポンプ844が提供されてもよい。この方法によって、キレート鉄(または他の酸化された金属)は、回収され、再利用され得る。
Elemental sulfur falls at line 844. The sulfur is preferably directed to a sulfur handling unit (not shown). This leaves an aqueous metal killant solution that is substantially free of elemental sulfur.
The aqueous metal catalyst solution of the removal system 850 is regenerated chelated iron. This chelated iron is again guided back to the contactor 820 by line 842. A pump 844 may be provided to increase the pressure at line 842 and carry the chelant mixture to the contact vessel 825. By this method, chelated iron (or other oxidized metal) can be recovered and reused.

再びガスライン824を参照すると、ガスライン824のサワーガスが、脱水容器860に運ばれる。レドックスプロセスは生ガス流812からH2Sを分離するために水性ベースの物質を使用することから、それに続くライン824のガスの脱水が、極低温の酸性ガスの除去前に必要である。サワーガスをガスライン824から脱水容器860を介して回した結果、水性流862が生成する。水性流862は、水処理施設に送られてもよい。代替法として、水性流862を地下構造、例えば図6の地下構造630などに再注入することもできる。さらには、代替法として、除去した水性流862を処理することによって、環境基準を満たし、次いで処理済みの水として地域の流域(示されていない)に放出することもできる。
同様に、ライン824から脱水容器860を介してサワーガスを回した結果、実質的に脱水されたガス流864が生成される。この脱水されたガス流864はメタンを含み、微量の窒素、ヘリウムおよび他の不活性ガスも含有し得る。本発明のシステムおよび方法に関連して、脱水されたガス流864は二酸化炭素も含む。
Referring to the gas line 824 again, the sour gas in the gas line 824 is conveyed to the dehydration vessel 860. Since the redox process uses aqueous based material to separate H 2 S from the raw gas stream 812, subsequent dehydration of the gas in line 824 is necessary prior to removal of the cryogenic acid gas. As a result of the sour gas turning from the gas line 824 through the dehydration vessel 860, an aqueous stream 862 is produced. The aqueous stream 862 may be sent to a water treatment facility. Alternatively, the aqueous stream 862 can be reinjected into an underground structure, such as the underground structure 630 of FIG. Further, as an alternative, the removed aqueous stream 862 can be treated to meet environmental standards and then discharged into a regional watershed (not shown) as treated water.
Similarly, turning the sour gas from line 824 through dehydration vessel 860 results in a substantially dehydrated gas stream 864. This dehydrated gas stream 864 contains methane and may also contain traces of nitrogen, helium and other inert gases. In connection with the system and method of the present invention, the dehydrated gas stream 864 also includes carbon dioxide.

脱水されたガス流864は、脱水容器860を出て、チラー626を通過する。このチラー626は、脱水されたガス流864をおよそ−30°Fから−40°Fまで低い温度に冷やす。チラー626は、例えば、エチレンまたはプロパンの冷蔵庫であってよい。こうして冷やされた軽質ガス流678が生成される。
軽質ガス流678は次に膨張装置628を介して移動するのが好ましい。この膨張装置628は、例えば、Joule−Thompson(「J−T」)バルブであってよい。この膨張装置628は、軽質ガス流678のさらなる冷却を達成するために膨張器としての機能を果たす。この膨張装置628は、軽質ガス流678の温度を、例えばおよそ−70°Fから−80°Fまで低い温度にさらに減少させる。ガス流678の少なくとも部分的な液化も達成されるのが好ましい。冷却したサワーガス流は、ライン611で示されている。
The dehydrated gas stream 864 exits the dehydration vessel 860 and passes through the chiller 626. The chiller 626 cools the dehydrated gas stream 864 to temperatures as low as approximately −30 ° F. to −40 ° F. The chiller 626 may be, for example, an ethylene or propane refrigerator. A cooled light gas stream 678 is thus produced.
Light gas stream 678 then preferably travels through expansion device 628. The expansion device 628 may be, for example, a Joule-Thompson (“J-T”) valve. This expansion device 628 serves as an expander to achieve further cooling of the light gas stream 678. This expansion device 628 further reduces the temperature of the light gas stream 678 to a low temperature, for example, from approximately -70.degree. Preferably, at least partial liquefaction of the gas stream 678 is also achieved. The cooled sour gas stream is indicated by line 611.

ライン611の冷却したサワーガスは、蒸留塔へと誘導される。この蒸留塔は、例えば図1および6のCFZ塔100であってよい。ライン611からのサワーガスは、次いで酸性ガス除去システムを介して処理される。この酸性ガス除去システムは、例えば、図6の酸性ガス除去システム650に従うことができる。   The cooled sour gas in line 611 is directed to the distillation column. This distillation column may be, for example, the CFZ column 100 of FIGS. The sour gas from line 611 is then processed via an acid gas removal system. This acid gas removal system can follow, for example, the acid gas removal system 650 of FIG.

生ガス流から硫黄成分を除去するための別の手段は、スカベンジャーベッドのスカベンジャーの使用を介するものである。スカベンジャーの使用は、ガス流からH2Sおよびメルカプタンを除去する手段としてガス処理業界において知られている。スカベンジャーは固体でもよいし、これらは液体形態でもよいし、またはこれらは触媒溶液でもよい。
スカベンジャーは、スルフヒドリル含有化合物および他の硫黄含有化合物を例えば金属硫化物などの無害な化合物へと変換する。この化合物は、安全におよび環境的に健全な方法で廃棄することができる。生ガス流内のH2S組成が低いために従来のアミン処理が経済的に実行可能でない場合には、スカベンジャー特有の有用性がある。1つの例が、H2S組成がおよそ300ppm未満の場合である。
Another means for removing sulfur components from the raw gas stream is through the use of a scavenger bed scavenger. The use of scavengers is known in the gas processing industry as a means of removing H 2 S and mercaptans from gas streams. The scavengers can be solid, they can be in liquid form, or they can be catalyst solutions.
Scavengers convert sulfhydryl-containing compounds and other sulfur-containing compounds into harmless compounds such as metal sulfides. This compound can be disposed of in a safe and environmentally sound manner. There is scavenger-specific utility when conventional amine treatment is not economically feasible due to the low H 2 S composition in the raw gas stream. One example is when the H 2 S composition is less than approximately 300 ppm.

既知の液体ベースのスカベンジャーの一例は、トリアジンである。より具体的な例が、1,3,5トリ−(2−ヒドロキシエチル)−ヘキサヒドロ−S−トリアジンの水性配合物である。液体ベースのスカベンジャーの別の例は亜硝酸溶液である。
固体スカベンジャーの例は、酸化鉄(FeO、Fe23、またはFe34)および酸化亜鉛(ZnO)である。固体スカベンジャーは、一般的に再生不可能である。再生不可能なスカベンジャーベッドは一度使用されると、交換しなければならない。酸化鉄は、一般的に効力を発揮するためいくらかの水分を必要とするが、酸化亜鉛は必要としない。したがって、サワーガス流がすでに脱水されている場合、ZnOの使用は、CO2除去プロセスの上流で必ずしも追加の脱水を行う必要がないという点で有利である。しかし、水は、酸化プロセスから生成することができる。したがって、H2Sの初期レベルによっては、それに続く脱水が必要となり得る。
An example of a known liquid-based scavenger is triazine. A more specific example is an aqueous formulation of 1,3,5 tri- (2-hydroxyethyl) -hexahydro-S-triazine. Another example of a liquid-based scavenger is a nitrous acid solution.
Examples of solid scavengers are iron oxide (FeO, Fe 2 O 3 , or Fe 3 O 4 ) and zinc oxide (ZnO). Solid scavengers are generally non-renewable. Non-renewable scavenger beds must be replaced once used. Iron oxide generally requires some moisture to be effective, but does not require zinc oxide. Thus, if the sour gas stream is already dehydrated, the use of ZnO is advantageous in that it does not necessarily require additional dehydration upstream of the CO 2 removal process. However, water can be generated from an oxidation process. Therefore, depending on the initial level of H 2 S, subsequent dehydration may be required.

硫化水素捕捉剤は、3つのうちの1つの方法を介して最も一般的に適用される。第1に、液体捕捉剤のバッチ適用をスパージされた塔接触器において使用することができる。第2に、固体捕捉剤のバッチ適用を固定床接触器において行うことができる。第3に、液体捕捉剤の容器への連続的直接注入を採用することができる。これが最も一般的な用途である。
従来の直接注入のH2S捕捉は、接触器としてパイプラインを使用する。この用途において、液体H2S捕捉剤、例えばトリアジンなどは、ガス流に注入される。H2Sは、捕捉溶液に吸収される。H2Sは、反応して副生成物を形成し、この副生成物は続いて生ガス流から取り出され、処分される。H2S捕捉の直接注入の代替法は、高圧下で、小さい開口を介して捕捉剤の液体ジェットを押し出すことを含む。通常、霧吹きノズルを使用して、液体捕捉剤が非常に小さい液滴へと霧化させる。直接注入法は、多くの用途に対して、バッチ適用と比較して資本コストが低いため、全体のコストが一番低い可能性がある。
Hydrogen sulfide scavengers are most commonly applied via one of three methods. First, batch application of liquid scavenger can be used in a sparged column contactor. Second, batch application of solid scavenger can be performed in a fixed bed contactor. Third, continuous direct injection of the liquid scavenger into the container can be employed. This is the most common application.
Conventional direct injection H 2 S capture uses a pipeline as a contactor. In this application, a liquid H 2 S scavenger, such as triazine, is injected into the gas stream. H 2 S is absorbed into the capture solution. The H 2 S reacts to form a byproduct, which is subsequently removed from the raw gas stream and disposed of. An alternative to direct injection of H 2 S capture involves extruding a liquid jet of capture agent through a small opening under high pressure. Usually, a spray nozzle is used to atomize the liquid capture agent into very small droplets. The direct injection method may have the lowest overall cost for many applications due to lower capital costs compared to batch application.

図9は、一実施形態において本発明に従いガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設900を示す概略図である。この配置において、スカベンジャーを用いて酸性ガス除去システム950の上流で生ガス流912から硫化水素を除去する。
図9は、生産ガス流912を受け取るガス処理施設900を示している。この生産ガス流912は、貯留層生産領域、または「フィールド」910において行われる炭化水素生産活動から始まる。このフィールド910は、ガス状炭化水素が生産されるいかなる場所も表すことができることを理解されたい。炭化水素は、メタンならびに硫化水素を含むことになる。炭化水素はまた、エタンならびに二酸化炭素も含み得る。
FIG. 9 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility 900 for removing acid gases from a gas stream according to the present invention in one embodiment. In this arrangement, scavengers are used to remove hydrogen sulfide from the raw gas stream 912 upstream of the acid gas removal system 950.
FIG. 9 shows a gas processing facility 900 that receives the product gas stream 912. This production gas stream 912 begins with a hydrocarbon production activity performed in a reservoir production area, or “field” 910. It should be understood that this field 910 can represent any location where gaseous hydrocarbons are produced. Hydrocarbons will include methane as well as hydrogen sulfide. The hydrocarbon may also include ethane as well as carbon dioxide.

ガス処理施設900において、生産ガス流912は、硫黄成分除去システム950に流れ込む。この硫黄成分除去システム950は、H2Sスカベンジャーを使用する。上に記載の捕捉方法のいずれかを採用してもよい。例示的硫黄成分除去システム950は、上述の第3の方法を使用し、すなわち、液体スカベンジャーを分離容器920へ連続して注入する。
生ガス流912から硫黄成分を除去するために、生ガス流912は、パイプライン922へと誘導される。同時に、液体スカベンジャー例えばトリアジンなどが、スカベンジャーライン944を介してパイプライン922に導入される。このトリアジンは、霧吹きノズル923を介して注入され、次いで静的混合機925内の生ガス流912と混合される。そこから、接触した生ガス流912は、分離容器920に入る。
In the gas processing facility 900, the product gas stream 912 flows into the sulfur component removal system 950. The sulfur component removal system 950 uses an H 2 S scavenger. Any of the capture methods described above may be employed. The exemplary sulfur component removal system 950 uses the third method described above, ie, continuously injects a liquid scavenger into the separation vessel 920.
In order to remove sulfur components from the raw gas stream 912, the raw gas stream 912 is directed to the pipeline 922. At the same time, a liquid scavenger such as triazine is introduced into the pipeline 922 via the scavenger line 944. This triazine is injected through a spray nozzle 923 and then mixed with the raw gas stream 912 in the static mixer 925. From there, the contacted raw gas stream 912 enters the separation vessel 920.

分離容器920は、チャンバー926と定義される。液体は、チャンバー926底部に沈降し、ガス状成分は、チャンバー926最上部に出る。この液体は、液体ライン927を介して出る。液体は、使用済みスカベンジャー物質を含む。ライン927からの液体の一部分は、流出する廃棄物として取り出される。廃棄ライン942は、流出する廃棄物を、保持タンク(示されていない)または他の廃棄物保持領域へと誘導する。廃棄物は、トラックまたは廃棄ラインで遠くに運び出されてもよい。ライン927からの液体の残りの部分は、スカベンジャーライン944に戻るように再び誘導されることによって、スカベンジャーが十分に使用されていない場合、生ガス流912と接触させることができる。   Separation vessel 920 is defined as chamber 926. The liquid settles to the bottom of chamber 926 and the gaseous component exits to the top of chamber 926. This liquid exits via the liquid line 927. The liquid contains spent scavenger material. A portion of the liquid from line 927 is removed as effluent waste. A waste line 942 directs spilled waste to a holding tank (not shown) or other waste holding area. Waste may be carried away by truck or waste line. The remaining portion of the liquid from line 927 can be brought back into scavenger line 944 to come into contact with raw gas stream 912 if the scavenger is not fully utilized.

硫黄成分除去システム950は、スカベンジャー容器930も含む。このスカベンジャー容器930は、液体捕捉剤を保持する。オペレーターは、必要ならば、スカベンジャー容器930からスカベンジャーライン944へと液体捕捉剤を回す。ポンプ946は、パイプライン922への液体捕捉剤の注入のため、圧力を増加させるために提供される。   The sulfur component removal system 950 also includes a scavenger vessel 930. This scavenger container 930 holds a liquid scavenger. The operator turns the liquid scavenger from the scavenger vessel 930 to the scavenger line 944 if necessary. A pump 946 is provided to increase the pressure for the injection of liquid scavenger into the pipeline 922.

再び分離容器920を参照すると、この分離容器920は、ミスト分離器924を含み得る。このミスト分離器924は、ガス状成分を有する分離容器920の最上部から液体粒子が逃げるのを防止するのを助ける。この現象は、飛末同伴と呼ばれる。ミスト分離器924は、気体が分離容器920内で上方に移動するにつれて、気体のための蛇行性通路を作り出すメッシュまたは膜と類似している。ミスト分離器は公知である。ミスト分離器の一製造元は、Separation Products、Inc.、Alvin、Texasである。Separation Products、Incは、Amistco(商標)という商標名でミスト分離器を製造している。   Referring again to the separation vessel 920, the separation vessel 920 can include a mist separator 924. The mist separator 924 helps prevent liquid particles from escaping from the top of the separation vessel 920 having gaseous components. This phenomenon is called flying entrainment. The mist separator 924 is similar to a mesh or membrane that creates a serpentine passage for the gas as it moves upward in the separation vessel 920. Mist separators are known. One manufacturer of mist separators is Separation Products, Inc. Alvin, Texas. Separation Products, Inc. manufactures mist separators under the trade name Amistco ™.

ガス状成分は、オーバーヘッドガスライン945を介して分離容器920を離れる。このガス状成分は、主にメタンおよび二酸化炭素に代表される。微量元素であるエタン、窒素、ヘリウムおよび芳香族も存在し得る。ライン945内のガスは、サワーガスと呼ばれ得る。ガスライン945内のサワーガスは、脱水容器960に運ばれる。
スカベンジャープロセスは、生ガス流912からH2Sを分離するために水性ベースの物質を使用するので、ライン945内のガスの脱水が極低温の二酸化炭素除去前に必要である。ガスライン945から脱水容器960を介してサワーガスを回した結果、水流962が生成される。この水流962は、水処理施設に送られてもよい。代替法として、水流962を、例えば地下構造図6の地下構造630などに再注入することもできる。さらに代替法として、除去した水流962を処理することによって、環境基準を満たし、次いで処理済みの水として地域の流域(示されていない)に放出することもできる。
The gaseous component leaves the separation vessel 920 via the overhead gas line 945. This gaseous component is mainly represented by methane and carbon dioxide. Trace elements ethane, nitrogen, helium and aromatics may also be present. The gas in line 945 may be referred to as sour gas. The sour gas in the gas line 945 is conveyed to the dehydration container 960.
Since the scavenger process uses an aqueous based material to separate H 2 S from the raw gas stream 912, dehydration of the gas in line 945 is necessary prior to cryogenic carbon dioxide removal. As a result of turning the sour gas from the gas line 945 through the dehydration vessel 960, a water stream 962 is generated. This water stream 962 may be sent to a water treatment facility. Alternatively, the water stream 962 can be reinjected into, for example, the underground structure 630 of the underground structure FIG. As a further alternative, the removed water stream 962 can be treated to meet environmental standards and then be discharged as treated water into a local watershed (not shown).

同様に、脱水容器960を介してライン945からサワーガスを回した結果、実質的に脱水されたガス流964が生成される。脱水されたガス流964は、チラー626を通過する。チラー626は、脱水されたガス流964をおよそ−30°Fから−40°Fまで低い温度に冷やす。チラー626は、例えば、エチレンまたはプロパンの冷蔵庫であってよい。こうして冷やされた軽質ガス流678が生成される。
次に膨張装置628を介して、この軽質ガス流678を移動するのが好ましい。膨張装置628は、例えば、Joule−Thompson(「J−T」)バルブであってよい。この膨張装置628は、軽質ガス流678のさらなる冷却を達成するために膨張器としての機能を果たす。この膨張装置628は、軽質ガス流678を、例えばおよそ−70°Fから−80°Fまで低い温度にさらに減少させる。ガス流678の少なくとも部分的な液化も達成されるのが好ましい。この冷却したサワーガス流はライン611で示されている。
Similarly, turning sour gas from line 945 through dehydration vessel 960 results in a substantially dehydrated gas stream 964. Dehydrated gas stream 964 passes through chiller 626. Chiller 626 cools dehydrated gas stream 964 to a temperature as low as approximately −30 ° F. to −40 ° F. The chiller 626 may be, for example, an ethylene or propane refrigerator. A cooled light gas stream 678 is thus produced.
This light gas stream 678 is then preferably moved through expansion device 628. Inflator 628 may be, for example, a Joule-Thompson (“J-T”) valve. This expansion device 628 serves as an expander to achieve further cooling of the light gas stream 678. The expansion device 628 further reduces the light gas stream 678 to a low temperature, for example, from approximately -70 ° F to -80 ° F. Preferably, at least partial liquefaction of the gas stream 678 is also achieved. This cooled sour gas stream is indicated by line 611.

ライン611の冷却したサワーガスは、蒸留塔へと誘導される。この蒸留塔は、例えば図1および6のCFZ塔100であってよい。次いで冷却したガス流は、酸性ガス除去システムを介して処理される。酸性ガス除去システムは、例えば、図6の酸性ガス除去システム650に従うことができる。
スルフヒドリル(?SH)基を有する有機硫黄化合物の除去のために本明細書中で提案されたさらに別の手段は、CrystaSulfプロセスとして知られているプロセスを介する。このCrystaSulfプロセスは、CrystaTech、Inc.、Austin、Texasにより開発された。このCrystaSulfプロセスは、改質された液相Claus反応プロセスを使用することによって、生ガス流からH2Sを除去する。
The cooled sour gas in line 611 is directed to the distillation column. This distillation column may be, for example, the CFZ column 100 of FIGS. The cooled gas stream is then processed through an acid gas removal system. The acid gas removal system can follow, for example, the acid gas removal system 650 of FIG.
Yet another means proposed herein for the removal of organosulfur compounds having sulfhydryl (? SH) groups is through a process known as the CrystaSulf process. This CrystaSulf process is available from CrystaTech, Inc. , Developed by Austin, Texas. This CrystaSulf process removes H 2 S from the raw gas stream by using a modified liquid phase Claus reaction process.

「Clausプロセス」とは、硫化水素含有ガス流から元素硫黄を回収するために天然ガスおよび石油精製業界で時々使用されるプロセスである。手短に言うと、元素硫黄を生成するClausプロセスは2つの主要なセクションを含む。第1のセクションは、H2Sの一部が燃焼してSO2になり、形成されたSO2が残留するH2Sと反応することによって、約1,800°から2,200°Fで元素硫黄を生成する熱セクションである。熱セクション内に触媒は存在しない。第2のセクションは、適切な触媒(例えばアルミナなど)上で400°から650°Fの間の温度で元素硫黄が生成される触媒のセクションである。元素硫黄を生成するためのこの反応は平衡反応である。それ故、H2Sの元素硫黄への全面的変換を増強させることを目指して分離が生じるClausプロセスにはいくつかの段階が存在する。各段階では、加熱、反応、冷却および分離が関与する。 A “Claus process” is a process that is sometimes used in the natural gas and petroleum refining industry to recover elemental sulfur from a hydrogen sulfide-containing gas stream. Briefly, the Claus process for producing elemental sulfur includes two main sections. The first section is about 1,800 ° to 2,200 ° F. by a portion of H 2 S burning to SO 2 and the formed SO 2 reacting with the remaining H 2 S. A thermal section that produces elemental sulfur. There is no catalyst in the thermal section. The second section is the section of the catalyst where elemental sulfur is produced at a temperature between 400 ° and 650 ° F. on a suitable catalyst (such as alumina). This reaction to produce elemental sulfur is an equilibrium reaction. Therefore, there are several stages in the Claus process where separation occurs with the aim of enhancing the overall conversion of H 2 S to elemental sulfur. Each stage involves heating, reaction, cooling and separation.

「CrystaSulf」という用語は、プロセスばかりでなく、プロセス中に使用される溶媒も指す。CrystaSulf(登録商標)は、硫化水素および二酸化硫黄を溶解して、これらが直接元素硫黄に反応できるようにする非水系の、物理溶剤である。このCrystaSulf(登録商標)溶媒は、時々、液またはスクラビング液と呼ばれている。CrystaSulfプロセスにおいて、硫化水素は非水系のスクラビング液を用いてガス流から取り出される。スクラビング液は、例えばフェニルキシリルエタンなど、元素硫黄のための有機溶剤であってよい。一般的に非水系溶媒は、アルキル置換ナフタレン、フェニルキシリルエタンを含めたジアリールアルカン、例えばフェニル−o−キシリルエタン、フェニルトリルエタン、フェニルナフチルエタン、フェニルアリールアルカン、ジベンジルエーテル、ジフェニルエーテル、部分的に水素化したテルフェニル、部分的に水素化したジフェニルエタン、部分的に水素化したナフタレンおよびこれらの混合物などからなる群から選択することができる。
通常、CrystaSulf(登録商標)溶媒は、酸化剤としてSO2を採用している。これによって、Claus反応(2H2S+SO2→3S+2H2O)が溶媒相内で生じる。別の言い方をすれば、二酸化硫黄を溶媒溶液に付加することによって、より良いH2S除去を達成する。
The term “CrystaSulf” refers not only to the process, but also to the solvent used during the process. CrystaSulf (R) is a non-aqueous, physical solvent that dissolves hydrogen sulfide and sulfur dioxide, allowing them to react directly with elemental sulfur. This CrystaSulf® solvent is sometimes referred to as a liquid or scrubbing liquid. In the CrystaSulf process, hydrogen sulfide is removed from the gas stream using a non-aqueous scrubbing liquid. The scrubbing liquid may be an organic solvent for elemental sulfur, such as phenylxylylethane. Generally non-aqueous solvents are alkyl-substituted naphthalenes, diarylalkanes including phenylxylylethane, such as phenyl-o-xylylethane, phenyltolylethane, phenylnaphthylethane, phenylarylalkane, dibenzylether, diphenylether, partially It can be selected from the group consisting of hydrogenated terphenyl, partially hydrogenated diphenylethane, partially hydrogenated naphthalene and mixtures thereof.
Usually, CrystaSulf (TM) solvents employs the SO 2 as the oxidizing agent. This causes a Claus reaction (2H 2 S + SO 2 → 3S + 2H 2 O) in the solvent phase. In other words, better H 2 S removal is achieved by adding sulfur dioxide to the solvent solution.

CrystaSulfプロセスは、米国特許第6,416,729号に記載されている。この’729号特許は、「Process for Removing Hydrogen Sulfide from Gas Streams Which Include or are Supplemented with Sulfur Dioxide」という表題が付いている。この’729号特許は、その全体が本明細書に参照により組み込まれている。CrystaSulfプロセスのための追加の実施形態が、「Process for Removing Hydrogen Sulfide From Gas Streams Which Include or Are Supplemented with Sulfur Dioxide, by Scrubbing with a Nonaqueous Sorbent」という表題が付いている米国特許第6,818,194号において開示されている。この’194号特許も本明細書に参照により組み込まれている。   The CrystaSulf process is described in US Pat. No. 6,416,729. The '729 patent is entitled “Process for Removing Hydrogen Sulfide from Gas Streams Which Include or are Supplemented with Sulfur Dioxide”. The '729 patent is hereby incorporated by reference in its entirety. An additional embodiment for the CrystalSulf process is US Pat. No. 6,818,194, entitled “Process for Removing Hydrogen Sulfide From Gas Streams Which Include or Are Supplemented with Sulfur Dioxide, by Scrubbing with a Nonaqueous Sorbent”. In the issue. The '194 patent is also incorporated herein by reference.

図10は、別の実施形態における、ガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設1000を示す概略図である。この配置において、硫化水素は、CrystaSulfプロセスを用いて、酸性ガス除去システム650の上流で生ガス流1012から取り出される。CrystaSulfプロセスは、硫化水素を除去するための硫黄成分除去システム1050の一部である。
図10は、生産ガス流1012を受け取るガス処理施設1000を示している。この生産ガス流1012は、貯留層生産領域、または「フィールド」1010で行われる炭化水素生産活動から始まる。このフィールド1010は、上述したフィールド810および910と同じ意味である。炭化水素は、フィールド1010から生産される。炭化水素は、硫化水素と共にメタンを含むことになる。炭化水素はエタンならびに二酸化炭素も含み得る。
FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility 1000 for removing acidic gas from a gas stream in another embodiment. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the raw gas stream 1012 upstream of the acid gas removal system 650 using a CrystaSulf process. The CrystaSulf process is part of a sulfur component removal system 1050 for removing hydrogen sulfide.
FIG. 10 illustrates a gas processing facility 1000 that receives the product gas stream 1012. This production gas stream 1012 begins with a hydrocarbon production activity that takes place in a reservoir production area, or “field” 1010. This field 1010 has the same meaning as the fields 810 and 910 described above. Hydrocarbons are produced from field 1010. The hydrocarbon will contain methane along with hydrogen sulfide. The hydrocarbon may include ethane as well as carbon dioxide.

ガス処理施設1000において、生産ガス流1012は硫黄成分除去システム1050内に流れ込む。この硫黄成分除去システム1050は、上述のCrystaSulfプロセスを使用する。CrystaSulfプロセスに従い生ガス流1012から硫黄成分を除去するために、生ガス流1012は、吸収体1020に誘導される。同時に、液体SO2はライン1084を介して吸収体1020に導入される。液化二酸化硫黄が酸化ガスとして付加される。
液体SO2は、最初に保存容器1080内で維持される。SO2ライン1082は、必要な場合、保存容器1080からライン1084へと液体SO2を運ぶ。ポンプ1076が、圧力を増加させるためにライン1082に沿って提供されることで、液体SO2が吸収体1020に移動させられる。
In the gas processing facility 1000, the product gas stream 1012 flows into the sulfur component removal system 1050. The sulfur component removal system 1050 uses the above-described CrystaSulf process. In order to remove sulfur components from the raw gas stream 1012 according to the CrystaSulf process, the raw gas stream 1012 is directed to the absorber 1020. At the same time, the liquid SO 2 is introduced into the absorber 1020 via the line 1084. Liquefied sulfur dioxide is added as an oxidizing gas.
Liquid SO 2 is initially maintained in storage container 1080. The SO 2 line 1082 carries liquid SO 2 from the storage container 1080 to the line 1084 if necessary. A pump 1076 is provided along line 1082 to increase the pressure, thereby moving liquid SO 2 to the absorber 1020.

吸収体1020は、チャンバー1025と定義される。この吸収体1020の中で、生ガス流1012は、ライン1084からのSO2を含有する液体溶媒と接触する。液体はチャンバー1025底部で沈降し、ガス状成分は、チャンバー1025最上部から出る。吸着剤と呼ばれるこの液体は、液体ライン1022を介して出る。吸着剤は、一般的に、硫黄と水の溶液を、微量元素であるメタンに加えて残留する硫化水素および/または二酸化硫黄と共に含む。
液体は、ライン1022を介してフラスコ1030へと誘導される。このフラスコ1030は、溶媒から水および取り込まれたいずれの炭化水素ガスをフラッシュする働きをする。硫黄含有溶液は、底部流1036を介してフラスコを出る。同時に、炭化水素ガスおよび微量の水蒸気がオーバーヘッドライン1032を出る。
Absorber 1020 is defined as chamber 1025. Within this absorber 1020, the raw gas stream 1012 is in contact with a liquid solvent containing SO 2 from line 1084. The liquid settles at the bottom of the chamber 1025 and the gaseous component exits from the top of the chamber 1025. This liquid, called the adsorbent, exits through the liquid line 1022. Adsorbents generally contain a solution of sulfur and water, along with residual hydrogen sulfide and / or sulfur dioxide in addition to the trace element methane.
Liquid is directed to flask 1030 via line 1022. The flask 1030 serves to flush water and any incorporated hydrocarbon gases from the solvent. The sulfur containing solution exits the flask via bottom stream 1036. At the same time, hydrocarbon gas and traces of water vapor exit overhead line 1032.

オーバーヘッドライン1032は、コンプレッサー1034を介して運ばれる。オーバーヘッドライン1032の圧力を押し上げることは、炭化水素ガスから水を抜き出すのを助ける。次いで炭化水素ガスは、分離容器1040へと誘導される。この分離容器1040は、通常重力による分離器であるが、液体サイクロンまたはVortistep分離器も使用することができる。水は、ライン1044において分離容器1040から落ちる。ライン1044の水は、処理施設(示されていない)に誘導されるのが好ましい。
炭化水素ガスは、ライン1042を介して分離容器1040から放出される。ライン1042の炭化水素ガスは、生ガス流1012と合流する。そこから、炭化水素ガスは、吸収体1020へと再び入る。
再びフラスコ1030を参照すると、記述されているように、フラスコは、底部流1036を介して硫黄含有溶液を放出する。この硫黄含有溶液は、冷却ループ1038へと移動する。硫黄含有溶液は、ライン1058からの透明な液の一部分と合流する。この透明な液は、例えば、追加の物理溶剤を含み得る。
Overhead line 1032 is carried through compressor 1034. Increasing the pressure in overhead line 1032 helps to draw water from the hydrocarbon gas. The hydrocarbon gas is then directed to the separation vessel 1040. The separation vessel 1040 is typically a gravity separator, but a hydrocyclone or Voristep separator can also be used. Water falls from the separation vessel 1040 at line 1044. The water in line 1044 is preferably directed to a treatment facility (not shown).
Hydrocarbon gas is released from separation vessel 1040 via line 1042. The hydrocarbon gas in line 1042 merges with the raw gas stream 1012. From there, the hydrocarbon gas enters the absorber 1020 again.
Referring again to flask 1030, as described, the flask releases a sulfur-containing solution via bottom stream 1036. This sulfur-containing solution moves to the cooling loop 1038. The sulfur-containing solution merges with a portion of the clear liquid from line 1058. This clear liquid may contain, for example, an additional physical solvent.

冷却ループ1038内の圧力は、硫黄含有溶液が遠心ポンプ1052を介して移動するにつれて増加する。そこから、硫黄含有溶液は、PTFE熱交換器1054内で冷やされる。硫黄含有溶液が熱交換器1054を通過するにつれて、これは、溶解した硫黄に対して飽和温度よりも下の温度に冷却される。硫黄含有溶液は、溶解した硫黄に対して過飽和になり、したがってこれは結晶化する。   The pressure in the cooling loop 1038 increases as the sulfur-containing solution moves through the centrifugal pump 1052. From there, the sulfur-containing solution is cooled in a PTFE heat exchanger 1054. As the sulfur-containing solution passes through the heat exchanger 1054, it is cooled to a temperature below the saturation temperature for the dissolved sulfur. The sulfur-containing solution becomes supersaturated with respect to dissolved sulfur and thus it crystallizes.

冷やされたおよび結晶化した硫黄含有溶液は、結晶器1055に入る。具体的に、ライン1038からの硫黄含有溶液は、結晶器1055の底部に誘導される。冷やされた硫黄含有溶液は、結晶器1055内の沈殿域1059の中に存在する硫黄結晶に接触する。この結晶は、過飽和硫黄溶液に種結晶をまく役目を果たし、溶解された硫黄の析出をもたらす。これによって、硫黄スラリーが作り出される。
硫黄スラリーは、硫黄スラリーライン1056を介して結晶器1055を出る。ライン1056の硫黄スラリーは、フィルター1060へ送達される。このフィルター1060は、硫黄スラリーを純粋な固体硫黄および透明な液へと分離する。固体硫黄の除去は、ライン1062で表される。透明な液がライン1064を介して濾液として放出され、リサイクルして結晶器1055に戻される。透明な液を運んで結晶器1055へと戻すため、ポンプ1066が提供されるのが好ましい。
The cooled and crystallized sulfur-containing solution enters the crystallizer 1055. Specifically, the sulfur-containing solution from line 1038 is directed to the bottom of crystallizer 1055. The cooled sulfur-containing solution contacts sulfur crystals present in the precipitation zone 1059 in the crystallizer 1055. This crystal serves to seed the supersaturated sulfur solution, resulting in the precipitation of dissolved sulfur. This creates a sulfur slurry.
The sulfur slurry exits crystallizer 1055 via sulfur slurry line 1056. The sulfur slurry in line 1056 is delivered to filter 1060. This filter 1060 separates the sulfur slurry into pure solid sulfur and a clear liquid. Solid sulfur removal is represented by line 1062. The clear liquid is discharged as filtrate through line 1064 and recycled back to the crystallizer 1055. A pump 1066 is preferably provided to carry the clear liquid back to the crystallizer 1055.

透明な液は、結晶器の最上部まで上昇する。透明な液の一部分は、ライン1058を介して結晶器1055から誘導される。ライン1058の透明な液は、フラスコからの硫黄溶液1036と合流することによって、上で考察したように、冷却ループ1038を形成する。ライン1072を介して、透明な液の分離部分を結晶器1055の最上部から抽出する。ライン1072の抽出された液は、熱交換器1074を介して加熱される。加熱した液は、ライン1082からの二酸化硫黄と合流する。加熱した液1074は、ブースターポンプ1076を介して取り出され、次いで吸収体1020のチャンバー1025へと再び誘導される。
硫黄成分除去システム1000に関連して記載されているCrystaSulfプロセスは、単に例示的でしかないことを理解されたい。他のCrystaSulfプロセス、例えば組み込まれている米国特許第6,416,729号および米国特許第6,818,194号に記載されているものなどを使用することもできる。プロセスに関わらず、オーバーヘッドガス流1045は、吸収体1020から生成される。
The clear liquid rises to the top of the crystallizer. A portion of the clear liquid is derived from crystallizer 1055 via line 1058. The clear liquid in line 1058 merges with the sulfur solution 1036 from the flask to form a cooling loop 1038 as discussed above. A separated portion of the clear liquid is extracted from the top of the crystallizer 1055 via line 1072. The liquid extracted from the line 1072 is heated via the heat exchanger 1074. The heated liquid merges with sulfur dioxide from line 1082. The heated liquid 1074 is withdrawn via a booster pump 1076 and then guided again into the chamber 1025 of the absorber 1020.
It should be understood that the CrystaSulf process described in connection with the sulfur component removal system 1000 is merely exemplary. Other CrystaSulf processes can also be used, such as those described in the incorporated US Pat. No. 6,416,729 and US Pat. No. 6,818,194. Regardless of the process, an overhead gas stream 1045 is generated from the absorber 1020.

オーバーヘッドガス流1045は、主にメタンおよび二酸化炭素を含有する。微量元素のエタン、窒素、ヘリウムおよび芳香族も存在し得る。硫黄成分は抽出され、ライン1062を介して運ばれる。オーバーヘッドガス流1045は、サワーガスと呼んでもよい。ガス流1045内のサワーガスは、脱水容器1060に運ばれるのが好ましい。しかし、CrystaSulfプロセスは非水系であるため、生ガス流1012が硫黄成分除去システム1050に入る前に脱水を行うことができる。
オーバーヘッドガス流1045は、チラー626を通過する。チラー626は、ガス流1045をおよそ−30°Fから−40°Fまで低い温度に冷やす。チラー626は、例えばエチレンまたはプロパンの冷蔵庫であってよい。こうして冷やされた軽質ガス流678が生成される。
The overhead gas stream 1045 contains mainly methane and carbon dioxide. Trace elements ethane, nitrogen, helium and aromatics may also be present. Sulfur components are extracted and conveyed via line 1062. Overhead gas stream 1045 may be referred to as sour gas. The sour gas in the gas stream 1045 is preferably conveyed to the dehydration vessel 1060. However, because the CrystaSulf process is non-aqueous, dewatering can occur before the raw gas stream 1012 enters the sulfur component removal system 1050.
Overhead gas stream 1045 passes through chiller 626. Chiller 626 cools gas stream 1045 to a temperature as low as approximately −30 ° F. to −40 ° F. The chiller 626 may be, for example, an ethylene or propane refrigerator. A cooled light gas stream 678 is thus produced.

次に軽質ガス流678は、膨張装置628を介して移動するのが好ましい。この膨張装置628は、例えば、図6に関連して記載したJoule−Thompson(「J−T」)バルブまたは他の装置であってよい。膨張装置628は、軽質ガス流678の温度を、例えば、およそ−70°Fから−80°Fまで低い温度にさらに減少させる。ガス流678の少なくとも部分的な液化も達成されるのが好ましい。冷却したガス流は、ライン611を介して移動する。   Light gas stream 678 is then preferably moved through expansion device 628. The expansion device 628 may be, for example, a Joule-Thompson (“J-T”) valve or other device described in connection with FIG. The expansion device 628 further reduces the temperature of the light gas stream 678 to a low temperature, for example, from approximately −70 ° F. to −80 ° F. Preferably, at least partial liquefaction of the gas stream 678 is also achieved. The cooled gas stream travels through line 611.

ライン611の冷却したサワーガスは蒸留塔に誘導される。蒸留塔は、例えば図1および6のCFZ塔100であってよい。ライン611の冷却したサワーガスは、次いで酸性ガス除去システムを介して処理される。酸性ガス除去システムは、例えば二酸化炭素を除去するために使用される図6の酸性ガス除去システム650に従うことができる。
極低温蒸留塔の上流の少なくとも中程度のレベルの硫化水素を除去するために使用することができる2つの追加の方法は、吸着床の使用を含む。一方の方法は熱スイング吸着を採用し、他方は、圧力スイング吸着を利用する。吸着床は、モレキュラーシーブである。いずれの場合も、モレキュラーシーブは再生される。
The cooled sour gas in line 611 is directed to the distillation column. The distillation column may be, for example, the CFZ column 100 of FIGS. The cooled sour gas in line 611 is then processed through an acid gas removal system. The acid gas removal system can follow the acid gas removal system 650 of FIG. 6 used, for example, to remove carbon dioxide.
Two additional methods that can be used to remove at least moderate levels of hydrogen sulfide upstream of the cryogenic distillation column include the use of an adsorbent bed. One method employs thermal swing adsorption and the other utilizes pressure swing adsorption. The adsorption bed is a molecular sieve. In either case, the molecular sieve is regenerated.

モレキュラーシーブは、脱水のために使用されることが多いが、H2Sおよびメルカプタン除去のために使用することもできる。多くの場合、これらの使用は単一の充填床の中で組み合わせられ、4Aモレキュラーシーブ物質の層は脱水のために最上部に位置し、13Xモレキュラーシーブ物質の層は、H2Sおよびメルカプタン除去のために底部に位置する。したがって、生ガス流は、乾燥および脱硫黄化の両方が行われている。 Molecular sieves are often used for dehydration, but can also be used for H 2 S and mercaptan removal. In many cases, these uses are combined in a single packed bed where the 4A molecular sieve material layer is on top for dehydration and the 13X molecular sieve material layer removes H 2 S and mercaptan. Located at the bottom for. Thus, the raw gas stream is both dried and desulfurized.

図11は、別の実施形態においてガス流から酸性ガスを除去するためのガス処理施設1100を示す概略図を表す。この配置において、硫化水素は、酸性ガス除去システム650の上流で熱スイング吸着システム1150を用いて生ガス流624から除去される。
ガス処理施設1100は、図6のガス処理施設600に従い一般的に作動する。この点において、脱水されたガス流624は、硫黄成分除去システムに送達される。そこから、主にメタンおよび二酸化炭素から構成されるサワーガスは、冷やされ、ライン611を介して酸性ガス除去システム650に送達される。しかし、硫黄成分除去システムとして、吸収体と共に溶媒系605を使用する代わりに、熱スイング吸着システム1150が使用される。この熱スイング吸着システム1150は、脱水されたガス流624からの硫化水素の少なくとも部分的な分離を提供する。
FIG. 11 depicts a schematic diagram illustrating a gas processing facility 1100 for removing acid gases from a gas stream in another embodiment. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the raw gas stream 624 using a thermal swing adsorption system 1150 upstream of the acid gas removal system 650.
The gas processing facility 1100 generally operates in accordance with the gas processing facility 600 of FIG. At this point, the dehydrated gas stream 624 is delivered to a sulfur component removal system. From there, sour gas composed primarily of methane and carbon dioxide is cooled and delivered to the acid gas removal system 650 via line 611. However, instead of using the solvent system 605 with the absorber as a sulfur component removal system, a thermal swing adsorption system 1150 is used. This thermal swing adsorption system 1150 provides at least partial separation of hydrogen sulfide from the dehydrated gas stream 624.

熱スイング吸着システム1150は、メタンおよび二酸化炭素から構成される軽質ガス流を回しながら、吸着床1110を使用することによって硫化水素および他の硫黄成分を選択的に吸着する。軽質ガス流は、ライン1112で放出されていることが示される。軽質ガス流1112は、メタンから二酸化炭素を分離するためにサワーガス流として、蒸留塔、例えば図1の塔100などに送達される。
極低温蒸留塔100に入る前に、軽質ガス流1112を事前に冷却しておくことが好ましい。例示的ガス処理施設1100において、軽質ガス流1112は、冷蔵ユニット626を通過し、次いで膨張装置628を通過する。この膨張装置628は、例えば、Joule−Thompson(「J−T」)バルブであってよい。好ましくは、軽質ガス流1112の少なくとも部分的な液化が冷却に関連して達成される。冷却したサワーガス流は生成され、ライン611を介して酸性ガス除去システム650に誘導される。
The thermal swing adsorption system 1150 selectively adsorbs hydrogen sulfide and other sulfur components by using an adsorption bed 1110 while turning a light gas stream composed of methane and carbon dioxide. The light gas stream is shown being released at line 1112. Light gas stream 1112 is delivered as a sour gas stream to a distillation column, such as column 100 of FIG. 1, for separating carbon dioxide from methane.
Prior to entering the cryogenic distillation column 100, the light gas stream 1112 is preferably pre-cooled. In the exemplary gas processing facility 1100, the light gas stream 1112 passes through the refrigeration unit 626 and then through the expansion device 628. The expansion device 628 may be, for example, a Joule-Thompson (“J-T”) valve. Preferably, at least partial liquefaction of the light gas stream 1112 is achieved in connection with cooling. A cooled sour gas stream is generated and directed to the acid gas removal system 650 via line 611.

再び熱スイング吸着システム1150を参照すると、熱スイング吸着システム1150内の吸着床1110は、ゼオライトから作られたモレキュラーシーブが好ましい。しかし、他の吸着床、例えばシリカゲルから作られた床などを採用してもよい。炭化水素ガス分離の技術分野の当業者であれば、吸着床の選択は通常、取り出される汚染物質の組成に依存することになることを理解されたい。この場合、汚染物質は主に硫化水素である。
作動中、吸着床1110が加圧チャンバー内に存在することになる。吸着床1110は、脱水されたガス流624を受け取り、ある量の二酸化炭素と共に硫化水素および他の硫黄成分を吸着する。吸着システム1150内の吸着床1110は、床がH2Sで実質的に飽和されたら、再生された床と交換される。H2Sは、乾燥、加熱したガスを用いて、床を加熱する反応で床1110から放出される。適切なガスには、オーバーヘッドメタン流112の一部分、加熱した窒素、または他に利用可能な燃料ガスが含まれる。
Referring again to the thermal swing adsorption system 1150, the adsorption bed 1110 in the thermal swing adsorption system 1150 is preferably a molecular sieve made from zeolite. However, other adsorbent beds such as beds made from silica gel may be employed. Those skilled in the art of hydrocarbon gas separation will understand that the choice of adsorbent bed will typically depend on the composition of the contaminants being removed. In this case, the pollutant is mainly hydrogen sulfide.
During operation, an adsorbent bed 1110 will be present in the pressurized chamber. Adsorption bed 1110 receives dehydrated gas stream 624 and adsorbs hydrogen sulfide and other sulfur components along with an amount of carbon dioxide. The adsorption bed 1110 in the adsorption system 1150 is replaced with a regenerated bed once the bed is substantially saturated with H 2 S. H 2 S is released from the bed 1110 in a reaction in which the dried and heated gas is used to heat the bed. Suitable gases include a portion of the overhead methane stream 112, heated nitrogen, or other available fuel gas.

ブロック1140は、吸着床のための再生チャンバーを描写している。再生チャンバー1140は、乾燥、加熱したガス1132を受け取る。図11の配置において、乾燥ガス1132は、オーバーヘッドメタン流112から受け取る。オーバーヘッドメタン流112は、主にメタンを含むが、微量の窒素およびヘリウムも含み得る。オーバーヘッドメタン流112は、圧縮されることによって、再生チャンバー内のガスの圧力を上げることができる。圧力ブースターは、1130で示されている。しかし、再生は、増加した温度を介して主に起きるが、一般的により低い圧力で増強される。
十分な再生のためには10〜15パーセントのオーバーヘッドメタン流112が必要となり得る。再生チャンバー1140は加熱した、乾燥流体流1142を、放出する。この乾燥流体流1142は、固体吸着床1110に誘導され、再生流として作用する。乾燥流体流1142は、主にメタンから構成されるが、いくらかのCO2も含有する。
Block 1140 depicts a regeneration chamber for the adsorption bed. The regeneration chamber 1140 receives the dried and heated gas 1132. In the arrangement of FIG. 11, dry gas 1132 is received from overhead methane stream 112. Overhead methane stream 112 contains primarily methane, but may also contain traces of nitrogen and helium. The overhead methane stream 112 can be compressed to increase the pressure of the gas in the regeneration chamber. A pressure booster is indicated at 1130. However, regeneration occurs primarily through increased temperatures, but is generally enhanced at lower pressures.
A 10-15 percent overhead methane stream 112 may be required for full regeneration. The regeneration chamber 1140 emits a heated, dry fluid stream 1142. This dry fluid stream 1142 is guided to the solid adsorbent bed 1110 and acts as a regenerative stream. Dry fluid stream 1142 is mainly composed of methane, some CO 2 also contains.

熱スイング再生サイクルのため、少なくとも3つの吸着床が採用されるのが好ましい。第1の床は、1110で示されているように吸着用に使用され、第2の床は再生チャンバー1140内で再生が施され、第3の床は、すでに再生され、第1の床1110が実質的に飽和された場合吸着システム1150において使用するために蓄えてある。したがって、最低限で3つの床がより効果のある作業のために平行して使用される。これらの床は、例えば、シリカゲルなどで充填されていてもよい。   Preferably at least three adsorbent beds are employed for the thermal swing regeneration cycle. The first floor is used for adsorption as indicated at 1110, the second floor is regenerated in the regeneration chamber 1140, the third floor is already regenerated, and the first floor 1110 Is stored for use in the adsorption system 1150 when it is substantially saturated. Therefore, a minimum of three floors are used in parallel for more effective work. These beds may be filled with silica gel, for example.

図11に見られるように、濃縮したH2Sガス流は、ライン1114を介して吸着システム1110から放出される。濃縮した硫化水素流1114は、再生流としても作用する。再生流1114は、主にCH4およびH2Sを含むが、微量の二酸化炭素および場合によりいくらかの重質炭化水素も含有する可能性が最も高い。一態様において、再生流1114は、冷蔵ユニット1116を用いて冷却される。これにより、再生流1114の部分的な液化が少なくとも起きる。次いで再生流1114は分離器1120に導入される。分離器1120は、軽質ガスから再生流1114内の水を分離する重力分離器が好ましい。軽質ガスは、一般的にメタン、硫化水素、および二酸化炭素を含む。 As seen in FIG. 11, the concentrated H 2 S gas stream is discharged from the adsorption system 1110 via line 1114. The concentrated hydrogen sulfide stream 1114 also acts as a regeneration stream. The regenerative stream 1114 mainly contains CH 4 and H 2 S, but most likely also contains traces of carbon dioxide and possibly some heavy hydrocarbons. In one aspect, the regenerative stream 1114 is cooled using a refrigeration unit 1116. This causes at least partial liquefaction of the regenerative stream 1114. Recycle stream 1114 is then introduced into separator 1120. Separator 1120 is preferably a gravity separator that separates the water in regenerative stream 1114 from light gas. Light gases typically include methane, hydrogen sulfide, and carbon dioxide.

軽質ガスは、分離器1120の最上部から(ライン1122で概略的に示されている)放出される。ライン1122の分離器1120から放出された軽質ガスは、脱水されたガス流624に戻る。同時に、水、重質炭化水素(主にエタン)および溶解した硫化水素は、分離器1120の底部から(ライン1124で概略的に示されている)放出される。一部の実施において、ライン1122のリサイクルガスは、確実にこれがシステムを介してリサイクルされないようにするため、H2Sに対する処理が必要となり得る。
ガス処理施設1100は、脱水ユニット620を含んでいなくてもよいことに注意されたい。水は、再生流1114と共に固体吸着床1110から落ちることになり、ライン611のサワーガス流に移動しない。水は、ライン1124中の硫化水素と共に分離器1120からさらに落ちる。次いで硫黄化合物からの水の分離は、例えば、サワー水ストリッパーまたは他の分離器(示されていない)を用いて達成することができる。
Light gas is released from the top of the separator 1120 (shown schematically at line 1122). Light gas released from separator 1120 in line 1122 returns to dehydrated gas stream 624. At the same time, water, heavy hydrocarbons (mainly ethane) and dissolved hydrogen sulfide are released from the bottom of separator 1120 (shown schematically at line 1124). In some implementations, the recycle gas in line 1122 may require treatment for H 2 S to ensure that it is not recycled through the system.
Note that the gas processing facility 1100 may not include the dehydration unit 620. Water will fall from the solid adsorbent bed 1110 with the regeneration stream 1114 and will not move to the sour gas stream in line 611. The water further falls from the separator 1120 with the hydrogen sulfide in line 1124. Separation of water from the sulfur compound can then be accomplished using, for example, a sour water stripper or other separator (not shown).

一用途において、再生ガスヒーター1140からの使用済みのガスを燃焼することによって、タービン(示されていない)を駆動することができる。次にこのタービンは、開ループコンプレッサー(例えば図1のコンプレッサー176など)を駆動することができる。このようなタービンからの廃熱を取り出し、これを使用して硫化水素回収プロセス用の再生ガス(例えばライン1132の中)を予熱することによって、再生ガスヒーター1140を酸性ガス除去プロセスにさらに統合してもよい。同様に、オーバーヘッドコンプレッサー114からの熱を使用することによって、硫化水素回収プロセス用に使用される再生ガスを予熱することもできる。   In one application, a turbine (not shown) can be driven by burning spent gas from the regeneration gas heater 1140. The turbine can then drive an open loop compressor (eg, compressor 176 of FIG. 1). By removing the waste heat from such turbines and using it to preheat the regeneration gas for the hydrogen sulfide recovery process (eg, in line 1132), the regeneration gas heater 1140 is further integrated into the acid gas removal process. May be. Similarly, heat from the overhead compressor 114 can be used to preheat the regeneration gas used for the hydrogen sulfide recovery process.

再生ガスは、固体床1110から脱着したH2Sを含有することがここで観察される。このガスを溶媒と接触させることによって、H2Sを除去し、メタンおよび他のいかなる炭化水素も回収することができる。この方法で、ガスのBTU値を復旧させることができる。
記述されているように、圧力スイング吸着を同様に使用することによって、酸性ガス除去施設の上流で硫化水素および他の硫黄成分を除去することができる。圧力スイング吸着、または「PSA」は、汚染物質が固体吸着床に吸着するプロセスを一般的に指す。飽和後、固体吸着剤は、その圧力を低下させることによって再生される。圧力を減少させることによって、汚染物質が低圧力流として放出される。
It is here observed that the regeneration gas contains H 2 S desorbed from the solid bed 1110. By contacting this gas with a solvent, H 2 S can be removed and methane and any other hydrocarbons can be recovered. In this way, the BTU value of the gas can be recovered.
As described, pressure swing adsorption can also be used to remove hydrogen sulfide and other sulfur components upstream of the acid gas removal facility. Pressure swing adsorption, or “PSA”, generally refers to the process by which contaminants adsorb to a solid adsorbent bed. After saturation, the solid adsorbent is regenerated by reducing its pressure. By reducing the pressure, contaminants are released as a low pressure flow.

図12は、硫化水素の除去のために圧力スイング吸着を使用するガス処理施設1200の概略図を提供している。このガス処理施設1200は一般的に、図6のガス処理施設600に従い作動する。この点において、脱水されたガス流624は冷やされ、次いでサワーガスライン611を介して酸性ガス除去システム650に送達される。しかし、硫化水素を除去するために、接触塔670と共に物理溶剤接触システム605を使用する代わりに、圧力スイング吸着システム1250が使用される。この圧力スイング吸着システム1250は、生ガス流624からの硫化水素の少なくとも部分的な分離を提供する。   FIG. 12 provides a schematic diagram of a gas processing facility 1200 that uses pressure swing adsorption for removal of hydrogen sulfide. The gas processing facility 1200 generally operates in accordance with the gas processing facility 600 of FIG. At this point, the dehydrated gas stream 624 is cooled and then delivered to the acid gas removal system 650 via the sour gas line 611. However, instead of using the physical solvent contact system 605 with the contact tower 670 to remove hydrogen sulfide, a pressure swing adsorption system 1250 is used. This pressure swing adsorption system 1250 provides at least partial separation of hydrogen sulfide from the raw gas stream 624.

熱スイング吸着システム1150と同様に、圧力スイング吸着システム1250は、吸着床1210を使用することによって、メタンガスを放出しながら、H2Sを選択的に吸着する。吸着床1210は、ゼオライトから作られたモレキュラーシーブが好ましい。しかし、他の吸着床、例えばシリカゲルから作られた床などを採用してもよい。炭化水素ガス分離の技術分野の当業者であれば、吸着床の選択は通常、生ガス流624の組成に依存することを再び理解している。
図12に見てとれるように、吸着システム1250は、軽質ガス流1212を介してメタンガスを放出する。この軽質ガス流1212は、冷蔵ユニット626を介して運ばれ、次いで、好ましくは、極低温蒸留塔100に侵入する前にJoules−Thompsonバルブ628を介して運ばれる。同時に、濃縮した硫化水素流は、ライン1214を介して吸着床1210から放出される。
Similar to the thermal swing adsorption system 1150, the pressure swing adsorption system 1250 uses the adsorption bed 1210 to selectively adsorb H 2 S while releasing methane gas. The adsorbent bed 1210 is preferably a molecular sieve made from zeolite. However, other adsorbent beds such as beds made from silica gel may be employed. Those skilled in the art of hydrocarbon gas separation will again understand that the selection of the adsorbent bed typically depends on the composition of the raw gas stream 624.
As can be seen in FIG. 12, the adsorption system 1250 emits methane gas via the light gas stream 1212. This light gas stream 1212 is conveyed via the refrigeration unit 626 and then preferably via the Joules-Thompson valve 628 before entering the cryogenic distillation column 100. At the same time, the concentrated hydrogen sulfide stream is discharged from the adsorption bed 1210 via line 1214.

作動中、圧力スイング吸着システム1250内の吸着床1210は、加圧チャンバー内に存在する。吸着床1210は、脱水されたガス流624を受け取り、残っているいずれの水およびいずれの重質炭化水素と共にH2Sを吸着する。微量の二酸化炭素も吸着し得る。吸着床1210は、床1210が硫化水素および他の硫黄成分で飽和したら交換する。H2S(もしあれば、重質炭化水素)は、加圧チャンバー内の減少する圧力と反応して床から放出されることになる。次いで濃縮した硫化水素流1214が放出される。 In operation, the adsorbent bed 1210 in the pressure swing adsorption system 1250 resides in a pressurized chamber. Adsorption bed 1210 receives dehydrated gas stream 624 and adsorbs H 2 S along with any remaining water and any heavy hydrocarbons. Trace amounts of carbon dioxide can also be adsorbed. Adsorbent bed 1210 is replaced when bed 1210 is saturated with hydrogen sulfide and other sulfur components. H 2 S (heavy hydrocarbons, if any) will be released from the bed in response to the decreasing pressure in the pressurized chamber. A concentrated hydrogen sulfide stream 1214 is then released.

ほとんどの場合、加圧チャンバー内の圧力を大気圧まで低く減少させることによって、濃縮硫化水素流1214内の大多数の硫化水素および他の汚染物質が吸着床1210から放出される。しかしある極端な場合には、真空チャンバーを使用して濃縮硫化水素流1214に亜大気圧を適用することによって、圧力スイング吸着システム1250を支援することができる。これはブロック1220において示されている。より低い圧力の存在下、硫黄成分および重質炭化水素は、吸着床1210を構成する固体マトリックスから脱着する。
水、重質炭化水素および硫化水素の混合物は、ライン1222を介して真空チャンバー1220を出ることになる。この混合物は分離器1230に入る。この分離器1230は、重質炭化水素および水を硫化水素から分離する重力分離器が好ましい。液体成分は、底部(ライン1234で概略的に示されている)から放出される。溶解したH2Sに対する処理後、ライン1234のいずれの重質炭化水素が商業販売に送られてもよい。ガス形態の硫化水素は、分離器1230(ライン1232で概略的に示されている)の最上部から放出される。ライン1232中のH2Sは、硫黄回収ユニット(示されていない)に送られるか、または酸性ガス注入の一部として地下構造に注入される。
In most cases, the majority of hydrogen sulfide and other contaminants in the concentrated hydrogen sulfide stream 1214 are released from the adsorbent bed 1210 by reducing the pressure in the pressurized chamber to atmospheric pressure. However, in some extreme cases, the pressure swing adsorption system 1250 can be assisted by applying subatmospheric pressure to the concentrated hydrogen sulfide stream 1214 using a vacuum chamber. This is indicated at block 1220. In the presence of lower pressure, sulfur components and heavy hydrocarbons desorb from the solid matrix that makes up the adsorbent bed 1210.
The mixture of water, heavy hydrocarbons and hydrogen sulfide will exit the vacuum chamber 1220 via line 1222. This mixture enters separator 1230. The separator 1230 is preferably a gravity separator that separates heavy hydrocarbons and water from hydrogen sulfide. The liquid component is discharged from the bottom (represented schematically by line 1234). Any heavy hydrocarbons in line 1234 may be sent for commercial sale after treatment for dissolved H 2 S. Gas form hydrogen sulfide is discharged from the top of the separator 1230 (shown schematically by line 1232). H 2 S in line 1232 is sent to a sulfur recovery unit (not shown) or injected into the underground structure as part of the acid gas injection.

圧力スイング吸着システム1250は、平行した複数の床に依存し得る。第1の床1210は、吸着用に使用される。これは使用する床として知られている。第2の床(示されていない)は、圧力減少を介して再生が施される。第3の床は、すでに再生され、第1の床1210が実質的に飽和した場合吸着システム1250において使用するために蓄えてある。したがって、最低限で3つの床をより効果のある作業のために平行して使用することができる。これらの床は、例えば活性炭またはモレキュラーシーブで充填されていてもよい。   The pressure swing adsorption system 1250 can rely on multiple beds in parallel. The first floor 1210 is used for adsorption. This is known as the floor to use. The second floor (not shown) is regenerated through pressure reduction. The third bed has already been regenerated and stored for use in the adsorption system 1250 when the first bed 1210 is substantially saturated. Therefore, a minimum of three floors can be used in parallel for more effective work. These beds may be filled with, for example, activated carbon or molecular sieves.

圧力スイング吸着システム1250は、高速サイクル圧力スイング吸着システムであってよい。いわゆる「高速サイクル」プロセスにおいて、サイクルの時間は、数秒と短くすることができる。高速サイクルPSA(「RCPSA」)ユニットであれば普通のPSA装置と比較してかなり小型であるため特に有利である。注入ガスに対して前処理が必要となり得ることに注意されたい。代わりに、充填床の最上部の物質の犠牲層を使用することによって、活性物質を保存することもできる。
一態様において、熱スイング再生と圧力スイング再生の組合せを採用することもできる。
The pressure swing adsorption system 1250 may be a fast cycle pressure swing adsorption system. In the so-called “fast cycle” process, the cycle time can be as short as a few seconds. High speed cycle PSA (“RCPSA”) units are particularly advantageous because they are much smaller than ordinary PSA equipment. Note that pretreatment may be required for the injected gas. Alternatively, the active material can be preserved by using a sacrificial layer of material at the top of the packed bed.
In one aspect, a combination of thermal swing regeneration and pressure swing regeneration may be employed.

本明細書中で提案された、酸性ガス除去システムの上流で硫化水素を除去するための別の方法は、吸着動的分離、またはAKSと呼ばれるプロセスである。AKSは、他の化学種に対して、特定の化学種が構造化された吸着剤上に吸着する速度に依存する比較的新しい種類の固体吸着剤を採用している。これは、固体吸着剤の平衡吸着特性により選択性が主に与えられる伝統的な平衡制御されたスイング吸着プロセスと対照的である。後者の場合、微小孔内の軽質の生成物または吸着剤の自由体積の競合する吸着等温線は好まれない。   Another method proposed here for removing hydrogen sulfide upstream of an acid gas removal system is an adsorption dynamic separation, or process called AKS. AKS employs a relatively new type of solid adsorbent that depends on the rate at which a particular species adsorbs on a structured adsorbent relative to other species. This is in contrast to the traditional equilibrium controlled swing adsorption process where selectivity is mainly given by the equilibrium adsorption properties of the solid adsorbent. In the latter case, adsorption isotherms that compete for light product in the micropores or free volume of the adsorbent are not preferred.

動力学的に制御されたスイング吸着プロセスにおいて、選択性は、吸着剤の拡散特性により、および微小孔内の輸送拡散係数により主に与えられる。吸着剤は、1つまたは複数のガス成分に対して「動力学的選択性」を有する。本明細書で使用する場合、「動力学的選択性」という用語は、単一の成分拡散係数、D(m2/sec)と、2つの異なる化学種の比率として定義される。これら単一の成分拡散係数は、所与の純粋なガス成分にする所与の吸着剤に対して測定されるStefan−Maxwell輸送拡散係数としても知られている。したがって、例えば、ある特定の吸着剤の、成分Bに対する成分Aの動力学的選択性は、DA/DBと同じである。物質に対する単一の成分拡散係数は、吸着性物質の技術分野では周知の試験によって求めることができる。
動力学的拡散係数を測定するための好ましい手段は、Reyesらによって「Frequency Modulation Methods for Diffusion and Adsorption Measurements in Porous Solids」, J. Phys. Chem. B. 101, pp.614-622(1997)において記載された周波数反応技法を用いたものである。動力学的に制御された分離において、選択された吸着剤の、第2成分(例えば、成分B)に対する第1成分(例えば、成分A)の動力学的選択性(すなわち、DA/DB)は、5を超え、より好ましくは20を超え、さらにより好ましくは50を超えることが好ましい。
In a kinetically controlled swing adsorption process, selectivity is mainly given by the diffusion properties of the adsorbent and by the transport diffusion coefficient within the micropore. Adsorbents have “kinetic selectivity” for one or more gas components. As used herein, the term “kinetic selectivity” is defined as a single component diffusion coefficient, D (m 2 / sec), and the ratio of two different species. These single component diffusion coefficients are also known as Stefan-Maxwell transport diffusion coefficients measured for a given adsorbent that results in a given pure gas component. Thus, for example, the kinetic selectivity of component A relative to component B for a particular adsorbent is the same as D A / D B. A single component diffusion coefficient for a material can be determined by tests well known in the adsorbent material art.
A preferred means for measuring kinetic diffusion coefficients is described by Reyes et al. In “Frequency Modulation Methods for Diffusion and Adsorption Measurements in Porous Solids”, J. Phys. Chem. B. 101, pp. 614-622 (1997). The frequency response technique described is used. In a kinetically controlled separation, the kinetic selectivity (ie, D A / D B ) of the first component (eg, component A) relative to the second component (eg, component B) of the selected adsorbent. ) Is preferably greater than 5, more preferably greater than 20, even more preferably greater than 50.

吸着剤はゼオライト物質であることが好ましい。重質炭化水素を除去するための適切なポアサイズを有するゼオライトの非限定的な例として、MFI、フォージャサイト型、MCM−41およびBetaが挙げられる。重質炭化水素除去のための本発明の方法の実施形態において利用されるゼオライトのSi/Al比率は、吸着剤の過剰な付着を防止するためには、およそ20からおよそ1,000が好ましく、好ましくはおよそ200からおよそ1,000である。炭化水素ガス成分の分離のための吸着動的分離の使用についての追加の技術情報は、その全体の開示が本明細書に参照により組み込まれている、米国特許公開第2008/0282884号である。   The adsorbent is preferably a zeolitic material. Non-limiting examples of zeolites with suitable pore sizes for removing heavy hydrocarbons include MFI, faujasite type, MCM-41 and Beta. The Si / Al ratio of the zeolite utilized in the method embodiment of the present invention for heavy hydrocarbon removal is preferably about 20 to about 1,000 to prevent excessive adsorbent deposition; Preferably it is about 200 to about 1,000. Additional technical information about the use of adsorptive dynamic separation for the separation of hydrocarbon gas components is US Patent Publication No. 2008/0282884, the entire disclosure of which is incorporated herein by reference.

図13は、別の実施形態における本発明のガス処理施設1300を示す概略図である。この配置において、硫化水素は、吸着動的分離を利用する吸着床1310を用いて酸性ガス除去システム650の上流でガス流から除去される。
ガス処理施設1300は、図6Aのガス処理施設600に従い一般的に作動する。この点において、脱水されたガス流624は、予備冷蔵ユニット625で冷やされ、次いでライン611のサワーガス流を介して酸性ガス除去システム650に送達される。しかし、硫化水素を除去するために、接触塔670と共に、物理溶剤接触システム605を酸性ガス除去システム650の上流で使用する代わりに、AKS固体吸着床1310が使用される。この吸着床1310は、硫化水素を優先的に吸着する。
FIG. 13 is a schematic diagram illustrating a gas processing facility 1300 of the present invention in another embodiment. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the gas stream upstream of the acid gas removal system 650 using an adsorption bed 1310 that utilizes adsorption dynamic separation.
The gas processing facility 1300 generally operates in accordance with the gas processing facility 600 of FIG. 6A. At this point, the dehydrated gas stream 624 is cooled in the pre-refrigeration unit 625 and then delivered to the acid gas removal system 650 via the sour gas stream in line 611. However, instead of using a physical solvent contact system 605 upstream of the acid gas removal system 650 with the contact tower 670 to remove hydrogen sulfide, an AKS solid adsorbent bed 1310 is used. This adsorption bed 1310 preferentially adsorbs hydrogen sulfide.

現在の吸着動的分離の適用において、硫化水素成分は、吸着床1310で保持されることになる。これは、H2Sがより低い圧力で回収されることを意味する。この吸着床1310は、圧力スイング吸着または高速サイクル圧力スイング吸着と一緒に使用されてもよい。圧力が減少した際に、液体天然ガス流1314は、低圧で固体吸着床から放出される。液体天然ガス流1314は、脱水されたガス流624からの硫黄成分の大部分を含有し、重質炭化水素および微量の二酸化炭素も含有し得る。
硫化水素および二酸化炭素を重質炭化水素から分離するため、追加の蒸留カラムが必要である。蒸留容器は1320で示されている。蒸留容器1320は、例えば汚染物質浄化システムとして使用されるトレイカラムまたは充填カラムであってよい。硫化水素および二酸化炭素は、オーバーヘッドライン1324を介して放出される。ライン1324は、貯留層1349への酸性ガス注入のために酸性ガスライン646と合流するのが好ましい。サワーの重質炭化水素および大部分の水分子は、底部ライン1322を介して蒸留容器1320を出る。重質炭化水素は、液体天然ガスの形態、すなわちエタン、場合によりプロパンであってよい。液体天然ガスは、H2Sの除去のために処理され、販売のために捕獲される。
In the current application of adsorption dynamic separation, the hydrogen sulfide component will be retained in the adsorption bed 1310. This means that H 2 S is recovered at a lower pressure. This adsorbent bed 1310 may be used in conjunction with pressure swing adsorption or fast cycle pressure swing adsorption. As the pressure decreases, the liquid natural gas stream 1314 is discharged from the solid adsorbent bed at a low pressure. Liquid natural gas stream 1314 contains the majority of the sulfur component from dehydrated gas stream 624 and may also contain heavy hydrocarbons and traces of carbon dioxide.
An additional distillation column is required to separate hydrogen sulfide and carbon dioxide from heavy hydrocarbons. The distillation vessel is shown at 1320. The distillation vessel 1320 may be a tray column or packed column used as a contaminant purification system, for example. Hydrogen sulfide and carbon dioxide are released via overhead line 1324. Line 1324 preferably merges with acid gas line 646 for acid gas injection into reservoir 1349. Sour heavy hydrocarbons and most water molecules exit distillation vessel 1320 via bottom line 1322. The heavy hydrocarbon may be in the form of liquid natural gas, ie ethane, optionally propane. Liquid natural gas is processed for removal of H 2 S and captured for sale.

システム1300の吸着動的分離プロセスは、大量な過剰圧力下で生成された天然ガス流から硫化水素および重質炭化水素を回収するのにより有利となり得ることに注意されたい。この状況において、ライン611のサワーガスは、極低温蒸留塔100により処理されるべき十分な圧力を有する。過剰圧力の例とは、400psigを超えるような圧力である。   It should be noted that the adsorption dynamic separation process of system 1300 can be more advantageous for recovering hydrogen sulfide and heavy hydrocarbons from natural gas streams produced under large excess pressure. In this situation, the sour gas in line 611 has sufficient pressure to be processed by the cryogenic distillation column 100. An example of overpressure is a pressure exceeding 400 psig.

吸着床1310は、軽質ガス流1312を放出する。流れ1312内のガスは、メタンおよび二酸化炭素から主に構成される。流れ1312の軽質ガスは、極低温蒸留塔100に入る前に、冷却されることが好ましい。例示的ガス処理施設1300において、流れ1312内の軽質ガスは、冷蔵ユニット626を通過し、次いで膨張装置628を通過する。冷却したサワーガス流は、酸性ガス除去システム650に誘導されるライン611において生成される。
重質炭化水素を除去するための別の一般の手法において、重質炭化水素は、蒸留塔100からの「下流の」底部流646から抽出される。一例において、吸着動的分離プロセスは、極低温蒸留塔の下流に採用される。
Adsorption bed 1310 emits a light gas stream 1312. The gas in stream 1312 is primarily composed of methane and carbon dioxide. The light gas in stream 1312 is preferably cooled before entering cryogenic distillation column 100. In the exemplary gas processing facility 1300, light gases in stream 1312 pass through refrigeration unit 626 and then through expansion device 628. A cooled sour gas stream is generated in line 611 that is directed to the acid gas removal system 650.
In another general approach for removing heavy hydrocarbons, heavy hydrocarbons are extracted from “downstream” bottom stream 646 from distillation column 100. In one example, an adsorption dynamic separation process is employed downstream of the cryogenic distillation column.

図14は、吸着動的分離プロセスを採用しているガス処理施設1400の概略図を表す。このガス処理施設1400は、一般的に図13のガス処理施設1300に従う。しかし、この例では、酸性ガス除去システム650の上流でAKS固体吸着床1310を使用する代わりに、酸性ガス除去システム100の下流でAKS固体吸着床1410が使用されている。   FIG. 14 depicts a schematic diagram of a gas processing facility 1400 that employs an adsorption dynamic separation process. This gas processing facility 1400 generally follows the gas processing facility 1300 of FIG. However, in this example, instead of using the AKS solid adsorption bed 1310 upstream of the acid gas removal system 650, an AKS solid adsorption bed 1410 is used downstream of the acid gas removal system 100.

図14において、酸性ガス、すなわち硫化水素および二酸化炭素が、液化された底部酸性ガス流642として蒸留塔100から取り出されることが見てとれることができる。この液体流642は、微量のメタンを含有するガスが再誘導されてガス流644として塔100に戻るリボイラー643を介して送られてもよい。主に酸性ガスから構成される残留液体は、酸性ガスライン646を介して放出される。
ライン646からの酸性ガスは、AKS固体吸着床1410へと送達される。酸性ガスは、低温のままであり、これらが床1410を通過する間は液相として存在する。硫化水素および任意の重質炭化水素は、酸性ガスから取り出され、ライン1412を介して液体天然ガス流1412として放出される。同時に、酸性ガスは、AKS固体吸着床1410を通過し、底部酸性ガス流1414として放出される。
In FIG. 14, it can be seen that acid gases, namely hydrogen sulfide and carbon dioxide, are removed from the distillation column 100 as a liquefied bottom acid gas stream 642. This liquid stream 642 may be sent via a reboiler 643 where gas containing a trace amount of methane is redirected and returned to the tower 100 as a gas stream 644. Residual liquid mainly composed of acid gas is discharged via acid gas line 646.
Acid gas from line 646 is delivered to AKS solid adsorbent bed 1410. The acid gases remain cold and exist as a liquid phase while they pass through the bed 1410. Hydrogen sulfide and any heavy hydrocarbons are removed from the acid gas and discharged as a liquid natural gas stream 1412 via line 1412. At the same time, acid gas passes through the AKS solid adsorbent bed 1410 and is released as a bottom acid gas stream 1414.

底部酸性ガス流1414内の酸性ガスは、主に液相のままである。ライン1414の液化された酸性ガスは主にCO2であり、気化してもよい。代わりに、ライン1414の液化された酸性ガスは、ブロック649で示された1つまたは複数の酸性ガス注入(AGI)坑井を介して地下構造に注入することができる。この例では、ライン646の酸性ガスは、圧力ブースター648を通過するのが好ましい。
液体天然ガス流1412は、重質炭化水素ならびに硫化水素および微量の二酸化炭素を含有することを注意されたい。したがって、液体天然ガス流1412からH2SおよびCO2を分離するために、蒸留プロセスが行われる。蒸留容器は1420に示されている。H2Sおよび微量のCO2ガスは、オーバーヘッドライン1424を介して蒸留容器1420から放出される。ライン1424は、貯留層649への酸性ガス注入のために、底部酸性ガス流1414と合流するのが好ましい。重質炭化水素は、底部ライン1422を介して容器1420を出て、販売のために捕獲される。
The acid gas in the bottom acid gas stream 1414 remains primarily in the liquid phase. The liquefied acid gas in line 1414 is mainly CO 2 and may be vaporized. Alternatively, the liquefied acid gas in line 1414 can be injected into the underground structure via one or more acid gas injection (AGI) wells shown at block 649. In this example, the acid gas in line 646 preferably passes through pressure booster 648.
Note that the liquid natural gas stream 1412 contains heavy hydrocarbons and hydrogen sulfide and traces of carbon dioxide. Accordingly, a distillation process is performed to separate H 2 S and CO 2 from the liquid natural gas stream 1412. A distillation vessel is shown at 1420. H 2 S and a small amount of CO 2 gas are released from the distillation vessel 1420 via the overhead line 1424. Line 1424 preferably merges with bottom acid gas stream 1414 for acid gas injection into reservoir 649. Heavy hydrocarbons exit container 1420 via bottom line 1422 and are captured for sale.

図15Aは、別の実施形態における本発明のガス処理施設1500の概略図である。この配置において、硫化水素は、抽出蒸留プロセスを用いて酸性ガス除去システム650の下流でガス流から除去される。抽出蒸留プロセスは、ボックス1550で表される。
この例示的ガス処理施設1500は一般的に、図6のガス処理施設600に従う。この点において、脱水されたガス流624は冷やされ、次いでサワーガスライン611を介して酸性ガス除去システム650に送達される。しかし酸性ガス除去システム650の上流で接触塔と共に溶媒接触システム605を使用する代わりに、酸性ガス除去システム650の下流で抽出蒸留プロセスが使用される。
FIG. 15A is a schematic diagram of a gas processing facility 1500 of the present invention in another embodiment. In this arrangement, hydrogen sulfide is removed from the gas stream downstream of the acid gas removal system 650 using an extractive distillation process. The extractive distillation process is represented by box 1550.
This exemplary gas processing facility 1500 generally follows the gas processing facility 600 of FIG. At this point, the dehydrated gas stream 624 is cooled and then delivered to the acid gas removal system 650 via the sour gas line 611. However, instead of using the solvent contact system 605 with the contact tower upstream of the acid gas removal system 650, an extractive distillation process is used downstream of the acid gas removal system 650.

冷やされたサワーガスは、ライン611を通過し、酸性ガス除去システム650に入ることが図15Aにおいて見てとれることができる。ライン611の冷やされたサワーガスは、脱水された生ガス流624と同じ組成を有する。ライン611のサワーガスは、硫化水素および二酸化炭素と共にメタンを含む。エタンならびに微量元素である窒素、ヘリウムおよび芳香族も存在し得る。
ライン611のサワーガスは、最初にカラム100に入る。これは、図1および6のCFZ塔100と同じであってよい。上述のように、CFZ塔100は、サワーガスをオーバーヘッドメタン流112と底部酸性ガス流642へと分離する。この例において、底部酸性ガス流642は、二酸化炭素および硫化水素の両方を含む。
It can be seen in FIG. 15A that the chilled sour gas passes through line 611 and enters the acid gas removal system 650. The chilled sour gas in line 611 has the same composition as the dehydrated raw gas stream 624. The sour gas in line 611 contains methane along with hydrogen sulfide and carbon dioxide. Ethane and trace elements nitrogen, helium and aromatics may also be present.
Sour gas in line 611 first enters column 100. This may be the same as the CFZ tower 100 of FIGS. As described above, the CFZ tower 100 separates sour gas into an overhead methane stream 112 and a bottom acid gas stream 642. In this example, the bottom acid gas stream 642 includes both carbon dioxide and hydrogen sulfide.

底部流642は、リボイラー643を介して送られてもよい。そこからメタンを含有する流体が再誘導されて炭化水素ガス流644として塔100に戻る。主に硫化水素および二酸化炭素から構成される残留流体は、酸性ガスライン646を介して放出される。酸性ガスライン646内の物質は、液体形態であり、抽出蒸留システム1550に入る。   The bottom stream 642 may be sent through a reboiler 643. From there the fluid containing methane is redirected and returns to the tower 100 as a hydrocarbon gas stream 644. Residual fluid composed primarily of hydrogen sulfide and carbon dioxide is discharged via acid gas line 646. The material in the acid gas line 646 is in liquid form and enters the extractive distillation system 1550.

図15Bは、抽出蒸留プロセスのためのガス処理施設1550の詳細な概略図である。ライン646が、抽出蒸留施設1550に酸性ガスを運搬しているのが見てとれることができる。図15Bの例示的配置において、3つの抽出蒸留カラム1510、1520および1530が示されている。しかし、3つより多くのカラムを採用することができることを理解されたい。
抽出蒸留カラム1510は、プロパン回収カラムである。このプロパン回収カラム1510は、容器内で炭化水素溶媒と酸性ガス流646を混合する。第1のカラム1510の温度は一般的に−100°から50°Fである。プロパン回収カラム1510において、溶媒は、硫化水素を吸収し、これによって、溶媒はカラム1510から溶媒底部流1514として離れる。これはまた、いくらかの二酸化炭素ならびに重質炭化水素を含有することになる。同時に、二酸化炭素および微量の軽質炭化水素がオーバーヘッド流1554を介してカラム1510を出る。流れ1554の二酸化炭素は、地下構造(図15Aの649)への注入のために、酸性ガス注入ライン1552と合わせることができる。
FIG. 15B is a detailed schematic diagram of a gas processing facility 1550 for the extractive distillation process. It can be seen that line 646 carries acid gas to the extractive distillation facility 1550. In the exemplary arrangement of FIG. 15B, three extractive distillation columns 1510, 1520 and 1530 are shown. However, it should be understood that more than three columns can be employed.
The extractive distillation column 1510 is a propane recovery column. This propane recovery column 1510 mixes the hydrocarbon solvent and acid gas stream 646 in a vessel. The temperature of the first column 1510 is typically between −100 ° and 50 ° F. In the propane recovery column 1510, the solvent absorbs hydrogen sulfide, which causes the solvent to leave the column 1510 as the solvent bottom stream 1514. This will also contain some carbon dioxide as well as heavy hydrocarbons. At the same time, carbon dioxide and traces of light hydrocarbons exit column 1510 via overhead stream 1554. Carbon dioxide in stream 1554 can be combined with acid gas injection line 1552 for injection into an underground structure (649 in FIG. 15A).

溶媒底部流1514は、第2の抽出蒸留カラム1520に入る。第2の抽出蒸留カラム1520は、CO2除去カラムである。CO2除去カラム1520内の温度は一般的に、0°から250°Fであり、これはプロパン回収カラム1510内の温度より高い。CO2除去カラム1520において、溶媒および重質炭化水素は、第2の溶媒底部流1524としてカラム1520を離れる。同時に、二酸化炭素は、オーバーヘッドCO2流1552として第2のカラム1520を出る。このオーバーヘッドCO2流1552は、油回収の増強のために使用されるのが好ましい。
最終カラム1530は図15Bに示されている。最終カラム1530は、添加物回収カラムである。この添加物回収カラム1530は、溶媒から「液体天然ガス」として知られる重質炭化水素成分を分離する蒸留の仕組みを使用する。第3のカラム1530内の温度は、一般的に80°Fから350°Fであり、これは第2のカラム1530内の温度より高い。液体天然ガスは、ライン1532を介してカラム1530を出て、残留するあらゆるH2SおよびCO2を除去するために処理ユニットに運ばれる。この処理ユニットは、液体/液体抽出器であってよく、ここではアミンが例えばH2S/CO2除去のために使用されている。
The solvent bottom stream 1514 enters the second extractive distillation column 1520. The second extractive distillation column 1520 is a CO 2 removal column. The temperature in the CO 2 removal column 1520 is typically between 0 ° and 250 ° F., which is higher than the temperature in the propane recovery column 1510. In the CO 2 removal column 1520, the solvent and heavy hydrocarbons leave the column 1520 as a second solvent bottom stream 1524. At the same time, the carbon dioxide exits the second column 1520 as an overhead CO 2 stream 1552. This overhead CO 2 stream 1552 is preferably used for enhanced oil recovery.
The final column 1530 is shown in FIG. 15B. The final column 1530 is an additive recovery column. This additive recovery column 1530 uses a distillation scheme that separates heavy hydrocarbon components known as “liquid natural gas” from the solvent. The temperature in the third column 1530 is typically between 80 ° F. and 350 ° F., which is higher than the temperature in the second column 1530. Liquid natural gas exits column 1530 via line 1532 and is carried to a processing unit to remove any remaining H 2 S and CO 2 . This processing unit may be a liquid / liquid extractor, in which amine is used, for example, for H 2 S / CO 2 removal.

溶媒は、底部溶媒流1534として添加物回収カラム1530を離れる。この底部溶媒流1534は、再生された添加物を表す。底部溶媒流1534の大部分は、抽出蒸留プロセスのために第1のカラム1510に再導入される。流れ1534からの過剰の溶媒は、ライン1536を介して処理するために液体天然ガス流1532と合わせてもよい。   The solvent leaves the additive recovery column 1530 as the bottom solvent stream 1534. This bottom solvent stream 1534 represents the regenerated additive. Most of the bottom solvent stream 1534 is reintroduced to the first column 1510 for the extractive distillation process. Excess solvent from stream 1534 may be combined with liquid natural gas stream 1532 for processing via line 1536.

再び図15Aを参照すると、ライン1554の二酸化炭素は、ライン1552でCO2と合わせられ、圧力ブースター648を通過し、次いでブロック649で示された1つまたは複数の酸性ガス注入(AGI)坑井を介して地下構造に注入されることが好ましい。
図に示されているように、酸性ガス除去プロセスに関連して硫黄成分を除去するため、いくつかの方法を使用することができる。一般的に、選択された方法は、生の天然ガス、または処理を受けるガスの状態に依存する。例えば、H2S濃度がおよそ0.1%未満の場合、いずれにせよ脱水が必要なため、モレキュラーシーブ手法の組合せがベストとなり得る。モレキュラーシーブにより、「汚れた」開始を促進できるCO2をいくらか除去するという利点が加えられた。
Referring again to FIG. 15A, the carbon dioxide in line 1554 is combined with CO 2 in line 1552 and passes through pressure booster 648 and then one or more acid gas injection (AGI) wells indicated at block 649. It is preferable to be injected into the underground structure via
As shown in the figure, several methods can be used to remove the sulfur component in connection with the acid gas removal process. In general, the method chosen depends on the state of raw natural gas or the gas being treated. For example, when the H 2 S concentration is less than about 0.1%, dehydration is necessary anyway, so the combination of molecular sieve methods can be the best. The molecular sieve added the advantage of removing some CO 2 that could promote “dirty” initiation.

注入ガス内におよそ0.1%から10%のH2Sがある場合、Selexol(商標)のような物理溶剤がベストのオプションとなり得る。これを使用することによって、あるレベルまで注入ガスを乾燥させることができるので、これは溶媒が乾燥していることが理想的である。CFZ処理のため、ガスは、(より小さな)モレキュラーシーブユニットによるさらなる脱水を必要とし得る。Selexolユニットからの濃縮H2S流は、硫黄回収ユニット(SRU)内で処理されてもよいし、または圧縮され、坑内処分のためにCFZ底部流と合わせられてもよい。
硫化水素除去のための上記方法は、「制御された凍結域」の塔を利用するプロセスだけでなく、いずれの酸性ガス除去プロセスと一緒に適用することができることを理解されたい。他の極低温蒸留カラムを採用してもよい。さらに、他の極低温蒸留プロセス、例えばバルク分取などを使用することもできる。バルク分取塔は、図1のCFZ塔100と似ているが、中間部の凍結域がない。バルク分取塔は通常、CFZ塔100よりも高い圧力、例えば700psigより上などで作動し、これによってCO2固体の形成を回避する。しかしオーバーヘッドメタン流112は、有意な量のCO2を含有し得る。いずれの例においても、脱水されたガス流624がおよそ3%を超えるC2またはより重質な炭化水素を含む場合、硫化水素の除去のために別々のプロセスを利用することが望ましい。
If there is approximately 0.1% to 10% H 2 S in the injection gas, a physical solvent such as Selexol ™ may be the best option. Ideally, the solvent is dry because it can be used to dry the injection gas to a certain level. Due to the CFZ process, the gas may require further dehydration with a (smaller) molecular sieve unit. The concentrated H 2 S stream from the Selexol unit may be processed in a sulfur recovery unit (SRU) or may be compressed and combined with the CFZ bottom stream for underground disposal.
It should be understood that the above method for hydrogen sulfide removal can be applied in conjunction with any acid gas removal process, not just a process utilizing a “controlled freezing zone” tower. Other cryogenic distillation columns may be employed. In addition, other cryogenic distillation processes such as bulk prep can be used. The bulk fractionation tower is similar to the CFZ tower 100 of FIG. 1, but without an intermediate freezing zone. Bulk preparative columns typically operate at higher pressures than CFZ column 100, such as above 700 psig, thereby avoiding the formation of CO 2 solids. However overhead methane stream 112 may contain significant amounts of CO 2. In either instance, if the dehydrated gas stream 624 contains approximately greater than 3% C 2 or heavier hydrocarbons, it may be desirable to utilize a separate process for hydrogen sulfide removal.

本明細書中に記載されている本発明は、上に記載された優位性および利点を成し遂げためよく計算されていることは明らかであるが、本発明は、その趣旨から逸脱することなく改質、変法および変更を受け入れることができることを理解されたい。制御された凍結域を用いた、酸性ガス除去プロセス作業の向上がもたらされる。この向上によって、生産ガス内で非常に低レベルまでH2Sを除去するための設計が得られる。 It will be apparent that the invention described herein has been well calculated to achieve the advantages and advantages described above, but the invention may be modified without departing from its spirit. It should be understood that variations and modifications can be accepted. An improved acid gas removal process operation is achieved using a controlled freezing zone. This improvement provides a design for removing H 2 S to very low levels in the production gas.

Claims (45)

サワーガス流から酸性ガスを除去するためのシステムであって、
サワーガス流を、主にメタンから構成されるオーバーヘッドガス流と、主に二酸化炭素から構成される液化された底部酸性ガス流とに分離する極低温蒸留塔を利用する、サワーガス流を受け取るための酸性ガス除去システムと、
生ガス流を受け取り、生ガス流を、硫化水素流とサワーガス流に全般的に分離する、酸性ガス除去システムの上流の硫黄成分除去システムと
を含むシステム。
A system for removing acid gases from a sour gas stream,
Acidity to receive the sour gas stream using a cryogenic distillation column that separates the sour gas stream into an overhead gas stream composed primarily of methane and a liquefied bottom acidic gas stream composed primarily of carbon dioxide A gas removal system;
A system comprising a sulfur component removal system upstream of an acid gas removal system that receives the raw gas stream and generally separates the raw gas stream into a hydrogen sulfide stream and a sour gas stream.
生ガス流がおよそ4ppmから100ppmの間の硫黄成分を含有する、請求項1に記載のシステム。   The system of claim 1, wherein the raw gas stream contains between about 4 ppm and 100 ppm sulfur components. 極低温酸性ガス除去システムが、サワーガス流の極低温蒸留塔への侵入前にこれを冷やすための熱交換器をさらに含む、請求項2に記載のシステム。   The system of claim 2, wherein the cryogenic acid gas removal system further comprises a heat exchanger for cooling the sour gas stream prior to entering the cryogenic distillation column. 極低温蒸留塔が、下部蒸留域および主にメタンから構成される低温液体スプレーを受け取る中間部の制御された凍結域と、
オーバーヘッドメタン流を冷却するため、およびオーバーヘッドメタン流の一部分を低温スプレーとして極低温蒸留塔に戻すための極低温蒸留塔の下流の冷蔵機器と
を含み、塔がサワーガス流を受け取り、次いでこれをオーバーヘッドメタン流と底部酸性ガス流に分離する、請求項3に記載のシステム。
A cryogenic distillation column having a controlled freezing zone in the middle of the lower distillation zone and receiving a cryogenic liquid spray composed mainly of methane;
Refrigeration equipment downstream of the cryogenic distillation tower for cooling the overhead methane stream and returning a portion of the overhead methane stream as a cryogenic spray to the cryogenic distillation tower, the tower receiving the sour gas stream and then passing it overhead The system of claim 3, wherein the system separates into a methane stream and a bottom acid gas stream.
酸性ガス除去システムがバルク分別システムである、請求項2に記載のシステム。   The system of claim 2, wherein the acid gas removal system is a bulk fractionation system. 硫黄成分除去システムが、化学溶媒システムを含む、請求項2に記載のシステム。   The system of claim 2, wherein the sulfur component removal system comprises a chemical solvent system. 化学溶媒が、メチルジエタノールアミン(MDEA)、Flexsorb(登録商標)ファミリーの溶媒からの選択性アミン、またはこれらの組合せを含む、請求項6に記載のシステム。   The system of claim 6, wherein the chemical solvent comprises methyldiethanolamine (MDEA), a selective amine from the Flexsorb® family of solvents, or a combination thereof. 化学溶媒システムが複数の並流の接触器を利用する、請求項6に記載のシステム。   The system of claim 6, wherein the chemical solvent system utilizes a plurality of co-current contactors. 化学溶媒システムの並流の接触器が、
(i)生ガス流および(ii)第2の液体溶媒を受け取るように設計された第1の並流の接触器であって、さらに(iii)主にメタンから構成される、第1の部分的にスウィートニングされたガス流および(iv)第1の部分充填されたガス処理溶液を放出するように設計された第1の並流の接触器と、
(i)第1の部分的にスウィートニングされたガス流および(ii)第3の液体溶媒を受け取るように設計され、(iii)第2の部分的にスウィートニングされたガス流および(iv)第2の部分充填されたガス処理溶液を放出するように設計された第2の並流の接触器と、
(i)前の部分的にスウィートニングされたガス流および(ii)再生された液体溶媒を受け取るように設計され、(iii)主にメタンから構成される最終のスウィートニングされたガス流、および(iv)最終の軽く充填されたガス処理溶液を放出するように設計された、最終の並流の接触器と
を含み、
硫化水素流が、第1の部分充填されたガス処理溶液および第2の部分充填されたガス処理溶液から少なくとも一部構成され、
再生された液体溶媒が、少なくとも第1の部分充填されたガス処理溶液および第2の部分充填されたガス処理溶液から硫化水素を実質的に取り出す働きをする再生された溶媒流から少なくとも一部構成される、
請求項8に記載のシステム。
The co-current contactor of the chemical solvent system
A first portion of a first co-current contactor designed to receive a raw gas stream and (ii) a second liquid solvent, further comprising: (iii) consisting primarily of methane A first co-current contactor designed to discharge an optionally sweetened gas stream and (iv) a first partially filled gas treatment solution;
(Ii) designed to receive a first partially sweetened gas stream and (ii) a third liquid solvent; (iii) a second partially sweetened gas stream; and (iv) A second co-current contactor designed to release a second partially filled gas treatment solution;
(I) a previous partially sweetened gas stream and (ii) a final sweetened gas stream designed to receive the regenerated liquid solvent, and (iii) composed primarily of methane, and (Iv) a final co-current contactor designed to release the final lightly filled gas treatment solution;
A hydrogen sulfide stream is at least partially composed of a first partially filled gas treatment solution and a second partially filled gas treatment solution;
The regenerated liquid solvent is at least partially composed of a regenerated solvent stream that serves to substantially remove hydrogen sulfide from at least the first partially filled gas treatment solution and the second partially filled gas treatment solution. To be
The system according to claim 8.
少なくとも第1の部分充填されたガス処理溶液を受け取り、再生された液体溶媒を生成するように設計された液体溶媒再生器をさらに含む、請求項9に記載の化学溶媒システム。   The chemical solvent system of claim 9, further comprising a liquid solvent regenerator designed to receive at least a first partially filled gas treatment solution and produce a regenerated liquid solvent. 液体溶媒および再生された液体溶媒がヒンダードアミン、第三級アミン、またはこれらの組合せを含む、請求項9に記載のガス処理施設。   The gas treatment facility of claim 9, wherein the liquid solvent and the regenerated liquid solvent comprise a hindered amine, a tertiary amine, or a combination thereof. 化学溶媒システムの並流の接触器が、
第1の並流の接触器と、第2の並流の接触器と、最終の並流の接触器とを含み、
これら並流の接触器のそれぞれが、(i)生ガス流および液体溶媒を受け取り、(ii)スウィートニングされたガス流および別々の充填されたガス処理溶液を放出するよう設計され、
第1の並流の接触器、第2の並流の接触器および最終の並流の接触器が、それぞれのスウィートニングされたガス流を次第にスウィートニングされたガス流として直列に送達するよう設計され、
最終の並流の接触器、第2の並流の接触器および第1の並流の接触器が、それぞれのガス処理溶液を次第にリッチになるガス処理溶液として直列に送達するよう配置されている、
請求項8に記載のシステム。
The co-current contactor of the chemical solvent system
A first co-current contactor, a second co-current contactor, and a final co-current contactor;
Each of these co-current contactors is designed to (i) receive a raw gas stream and a liquid solvent, and (ii) release a sweetened gas stream and a separate packed gas processing solution;
The first co-current contactor, the second co-current contactor and the final co-current contactor are designed to deliver each sweetened gas stream in series as a progressively sweetened gas stream And
The final co-current contactor, the second co-current contactor, and the first co-current contactor are arranged to deliver the respective gas treatment solution in series as an increasingly rich gas treatment solution. ,
The system according to claim 8.
第1の並流の接触器が、(i)初期ガス流および(ii)第2の液体溶媒を受け取り、(iii)第1の部分的にスウィートニングされたガス流および(iv)第1の部分充填されたガス処理溶液を放出し、
第2の並流の接触器が、(i)第1の部分的にスウィートニングされたガス流を第1の並流の接触器から受け取り、(ii)第3の液体溶媒を受け取り、(iii)第2の部分的にスウィートニングされたガス流および(iv)第2の部分充填されたガス処理溶液を放出し、
最終の並流の接触器が、(i)前の部分的にスウィートニングされたガス流および(ii)再生された液体溶媒を受け取り、(iii)最終のスウィートニングされたガス流および(iv)最終の軽く充填されたガス処理溶液を放出する、
請求項12に記載の方法。
A first co-current contactor receives (i) an initial gas stream and (ii) a second liquid solvent, (iii) a first partially sweetened gas stream and (iv) a first Release the partially filled gas treatment solution,
A second co-current contactor receives (i) a first partially sweetened gas stream from the first co-current contactor; (ii) receives a third liquid solvent; (iii) Discharging a second partially sweetened gas stream and (iv) a second partially filled gas treatment solution;
The final co-current contactor receives (i) the previous partially sweetened gas stream and (ii) the regenerated liquid solvent, (iii) the final sweetened gas stream and (iv) Release the final lightly filled gas treatment solution,
The method of claim 12.
硫黄成分除去システムが、物理溶剤を利用する物理溶剤システムを含む、請求項2に記載のシステム。   The system of claim 2, wherein the sulfur component removal system comprises a physical solvent system that utilizes a physical solvent. 物理溶剤が、N−メチルピロリドン、プロピレンカーボネート、メチルシアノアセテート、冷蔵したメタノール、テトラメチレンスルホン、Selexol(商標)、またはこれらの組合せを含む、請求項14に記載のシステム。   The system of claim 14, wherein the physical solvent comprises N-methylpyrrolidone, propylene carbonate, methyl cyanoacetate, refrigerated methanol, tetramethylene sulfone, Selexol ™, or combinations thereof. 生ガス流を受け取り、生ガス流をサワーガス流および硫化水素流へと分離するための吸収体であって、硫化水素流が硫化水素および液体物理溶剤を含む吸収体と、
硫化水素流を処理して物理溶剤から硫化水素を分離するための少なくとも2つの分離器と、
物理溶剤を再生し、物理溶剤の少なくとも一部を吸収体に戻すための再生器と
を含む、請求項14に記載のシステム。
An absorber for receiving a raw gas stream and separating the raw gas stream into a sour gas stream and a hydrogen sulfide stream, wherein the hydrogen sulfide stream comprises hydrogen sulfide and a liquid physical solvent;
At least two separators for treating the hydrogen sulfide stream to separate hydrogen sulfide from the physical solvent;
A regenerator for regenerating the physical solvent and returning at least a portion of the physical solvent to the absorber.
硫黄成分除去システムが、硫黄成分を実質的に吸着するための少なくとも1つの固体吸着床を含み、硫黄成分が少なくとも1つの固体吸着床が再生される際に硫化水素流として放出され、前記少なくとも1つの固体吸着床がサワーガス流としてメタンおよびCO2を実質的に通過させる、請求項2に記載のシステム。 The sulfur component removal system includes at least one solid adsorbent bed for substantially adsorbing the sulfur component, and the sulfur component is released as a hydrogen sulfide stream when the at least one solid adsorbent bed is regenerated, said at least one The system of claim 2, wherein the two solid adsorbent beds substantially pass methane and CO 2 as a sour gas stream. 固体吸着床(i)がゼオライト物質で作られているか、または(ii)少なくとも1つのモレキュラーシーブを含む、請求項17に記載のシステム。   18. A system according to claim 17, wherein the solid adsorbent bed (i) is made of zeolitic material or (ii) comprises at least one molecular sieve. 硫黄成分除去システムが、硫化水素流内の硫黄成分から二酸化炭素を分離するための分離器をさらに含む、請求項18に記載のシステム。   The system of claim 18, wherein the sulfur component removal system further comprises a separator for separating carbon dioxide from the sulfur component in the hydrogen sulfide stream. 再生が、圧力スイング吸着プロセスの一部である、請求項17に記載のシステム。   The system of claim 17, wherein the regeneration is part of a pressure swing adsorption process. 前記少なくとも1つの固体吸着床が、少なくとも3つの吸着床を含み、
少なくとも3つの吸着床のうちの第1の吸着床が、硫化水素を吸着するために使用され、
少なくとも3つの吸着床のうちの第2の吸着床において、再生が施され、
少なくとも3つの吸着床うちの第3の吸着床が、少なくとも3つの吸着床のうちの第1の吸着床の代替として取っておく、請求項20に記載のシステム。
The at least one solid adsorbent bed comprises at least three adsorbent beds;
A first of the at least three adsorbent beds is used to adsorb hydrogen sulfide;
Regeneration is performed in a second adsorption bed of at least three adsorption beds,
21. The system of claim 20, wherein a third of the at least three beds is set aside as a replacement for the first of the at least three beds.
硫黄成分除去システムが、硫化水素流が分離器に入る前に、負の相対圧力を少なくとも3つの吸着床のうちの第1の吸着床にかけるための真空をさらに含み、少なくとも3つの吸着床のうちの第1の吸着床からの硫化水素の脱着を支援する、請求項21に記載のシステム。   The sulfur component removal system further includes a vacuum for applying a negative relative pressure to the first of the at least three adsorption beds before the hydrogen sulfide stream enters the separator, The system of claim 21, wherein the system assists in the desorption of hydrogen sulfide from the first adsorption bed. 再生が熱スイング吸着プロセスの一部である、請求項17に記載のシステム。   The system of claim 17, wherein the regeneration is part of a thermal swing adsorption process. 前記少なくとも1つの固体吸着床が、少なくとも3つの吸着床を含み、
少なくとも3つの吸着床のうちの第1の吸着床が硫化水素を吸着させるために使用され、
少なくとも3つの吸着床のうちの第2の吸着床において、再生が施され、
少なくとも3つの吸着床のうちの第3の吸着床が、少なくとも3つの吸着床のうちの第1の吸着床の代替として取っておく、請求項23に記載のシステム。
The at least one solid adsorbent bed comprises at least three adsorbent beds;
A first of the at least three beds is used to adsorb hydrogen sulfide;
Regeneration is performed in a second adsorption bed of at least three adsorption beds,
24. The system of claim 23, wherein a third of the at least three adsorption beds is set aside as a replacement for the first of the at least three adsorption beds.
硫黄成分除去システムが、(i)再生ガスを受け取り、(ii)再生されたガスを加熱し、(iii)加熱再生されたガスからの熱を第2の吸着床に適用することによって、第2の吸着床から硫化水素を脱着させるための再生ガスヒーターをさらに含み、
再生ガスヒーターが第1の固体吸着床にガス流を放出することによって、ガス流を硫化水素流とサワーガス流に分離し、
硫黄成分除去システムが、硫化水素流から任意のメタンを分離するための分離器をさらに含む、請求項24に記載のシステム。
A sulfur component removal system is configured to: (i) receive the regeneration gas, (ii) heat the regenerated gas, and (iii) apply heat from the heat regenerated gas to the second adsorption bed. A regenerative gas heater for desorbing hydrogen sulfide from the adsorption bed of
A regenerative gas heater releases the gas stream to the first solid adsorbent bed, thereby separating the gas stream into a hydrogen sulfide stream and a sour gas stream;
25. The system of claim 24, wherein the sulfur component removal system further comprises a separator for separating any methane from the hydrogen sulfide stream.
硫黄成分除去システムが、硫化水素流を受け取り、これが分離器に入る前に硫化水素流体流を冷やすための冷却器をさらに含む、請求項25に記載のシステム。 26. The system of claim 25, wherein the sulfur component removal system further includes a cooler for receiving the hydrogen sulfide stream and cooling the hydrogen sulfide fluid stream before it enters the separator. 硫黄成分除去システムが、硫化水素を実質的に吸着するための少なくとも1つの固体吸着床を含み、硫化水素が少なくとも1つの固体吸着床が再生される際に硫化水素流として放出され、前記少なくとも1つの固体吸着床がサワーガス流としてメタンおよび二酸化炭素を実質的に通過させる、請求項2に記載のシステム。   The sulfur component removal system includes at least one solid adsorbent bed for substantially adsorbing hydrogen sulfide, wherein the hydrogen sulfide is released as a hydrogen sulfide stream when the at least one solid adsorbent bed is regenerated, said at least one The system of claim 2, wherein the two solid adsorbent beds substantially pass methane and carbon dioxide as a sour gas stream. 前記少なくとも1つの固体吸着床が吸着動的分離床である、請求項27に記載のシステム。   28. The system of claim 27, wherein the at least one solid adsorption bed is an adsorption dynamic separation bed. 硫黄成分除去システムが、レドックスシステムを含む、請求項2に記載のシステム。   The system of claim 2, wherein the sulfur component removal system comprises a redox system. レドックスシステムが、
生ガス流およびキレートされた酸化金属を受け取るための接触器であって、キレートされた酸化金属が生ガス流と混合され、還元酸化反応を起こし、(i)キレートされた還元金属および元素硫黄を含む底部水溶液、ならびに(ii)メタンおよび二酸化炭素から構成されるオーバーヘッドガス流を放出する接触器と、
空気と共に底部水溶液を受け取り、酸化反応のためのチャンバーを提供するための酸化器であって、元素硫黄と共に水性のキレートされた金属混合物を放出する酸化器と、
元素硫黄と共に水性のキレートされた水性金属混合物を受け取り、元素硫黄と共に水性のキレートされた金属混合物を再生されたキレート金属触媒溶液と元素硫黄に分離するための分離器と、
再生されたキレートされた金属触媒溶液の少なくとも一部分を接触器に戻すように誘導するためのラインと
を含む、請求項29に記載のシステム。
Redox system
A contactor for receiving a raw gas stream and a chelated metal oxide, wherein the chelated metal oxide is mixed with the raw gas stream to cause a reductive oxidation reaction, and (i) the chelated reduced metal and elemental sulfur A bottom aqueous solution comprising, and (ii) a contactor that discharges an overhead gas stream composed of methane and carbon dioxide;
An oxidizer for receiving an aqueous bottom solution with air and providing a chamber for an oxidation reaction, releasing an aqueous chelated metal mixture with elemental sulfur;
A separator for receiving an aqueous chelated aqueous metal mixture with elemental sulfur and separating the aqueous chelated metal mixture with elemental sulfur into a regenerated chelated metal catalyst solution and elemental sulfur;
30. A system for directing at least a portion of the regenerated chelated metal catalyst solution back to the contactor.
硫黄成分除去システムが、スカベンジャーシステムを含む、請求項2に記載のシステム。   The system of claim 2, wherein the sulfur component removal system comprises a scavenger system. スカベンジャーシステムが、
液体捕捉剤が生ガス流と混合するラインと、
生ガス流をサワーガス流と使用済みのスカベンジャー流に分離するための分離容器であって、使用済みのスカベンジャー流が硫化水素および液体捕捉剤を含む分離容器と
を含む、請求項31に記載のシステム。
The scavenger system
A line where the liquid scavenger mixes with the raw gas stream;
32. The system of claim 31, wherein a separation vessel for separating a raw gas stream into a sour gas stream and a used scavenger stream, wherein the used scavenger stream comprises a separation vessel containing hydrogen sulfide and a liquid scavenger. .
オーバーヘッドガス流が、メタンばかりでなく、ヘリウム、窒素、またはこれらの組合せも含む、請求項2に記載のシステム。   The system of claim 2, wherein the overhead gas stream includes not only methane but also helium, nitrogen, or a combination thereof. 硫黄成分除去システムが、CrystaSulfプロセスを実施するためのシステムを含む、請求項2に記載のシステム。   The system of claim 2, wherein the sulfur component removal system comprises a system for performing a CrystaSulf process. 硫黄成分除去システムが、
(i)サワーガス流および(ii)スクラビング液として酸化ガスを受け取るための吸収体であって、酸化ガスが生ガス流と混合して化学反応を起こすことによって、(i)サワーガス流を放出し、(ii)水、硫化水素および酸化ガスから構成される吸着剤を放出する吸収体と、
液体吸着剤を、(i)主に炭化水素ガスおよび任意の取り込まれた水蒸気から構成されるオーバーヘッド気体流および(ii)硫黄溶液に分離するためのフラスコと、
炭化水素ガスから水を分離し、炭化水素ガスを生ガス流に戻すように送達するための分離容器と、
硫黄溶液を受け取るための結晶器であって、沈殿域内において硫黄結晶を用いて硫黄溶液に種結晶をまくことによって、溶解した硫黄の析出を生じさせ、(i)結晶器の下部の部分から硫黄スラリーを放出し、(ii)液を結晶器の上部の部分から酸化ガスとして誘導し、液の一部分が吸収体に戻るように誘導する結晶器と、
硫黄スラリーを純粋な固体硫黄と透明な液に分離するためのフィルターであって、透明な液が結晶器に戻るように誘導されるフィルターと
をさらに含む、請求項34に記載のシステム。
Sulfur component removal system
(I) an absorber for receiving oxidant gas as a sour gas stream and (ii) scrubbing liquid, wherein the oxidant gas mixes with the raw gas stream to cause a chemical reaction, thereby (i) releasing the sour gas stream; (Ii) an absorber that releases an adsorbent composed of water, hydrogen sulfide, and oxidizing gas;
A flask for separating the liquid adsorbent into (i) an overhead gas stream composed primarily of hydrocarbon gas and any entrained water vapor and (ii) a sulfur solution;
A separation vessel for separating water from the hydrocarbon gas and delivering the hydrocarbon gas back into the raw gas stream;
A crystallizer for receiving a sulfur solution, wherein sulfur crystals are seeded in the sulfur solution in the precipitation zone to cause precipitation of dissolved sulfur, and (i) sulfur from the lower part of the crystallizer. Discharging the slurry; (ii) a crystallizer for inducing liquid from the upper part of the crystallizer as oxidizing gas and directing a part of the liquid back to the absorber;
35. The system of claim 34, further comprising a filter for separating the sulfur slurry into pure solid sulfur and a clear liquid, wherein the clear liquid is induced to return to the crystallizer.
生ガス流が硫黄成分除去システムを通過する前にこれを受け取り、生ガス流を、脱水した生ガス流と、実質的に水性の流体から構成される流れに分離するための脱水器具をさらに含むシステムであって、
硫黄成分除去システムが受け取る生ガス流が、脱水した生ガス流である、請求項2に記載のシステム。
A dehydration device for receiving the raw gas stream prior to passing through the sulfur removal system and separating the raw gas stream into a dehydrated raw gas stream and a stream composed of a substantially aqueous fluid; A system,
The system of claim 2, wherein the raw gas stream received by the sulfur component removal system is a dehydrated raw gas stream.
サワーガス流を受け取るための酸性ガス除去システムであって、サワーガス流にはおよそ10%未満の硫黄成分が含まれ、サワーガス流を、主にメタンから構成されるオーバーヘッドガス流と、主に二酸化炭素および硫黄成分から構成される液体底部酸性ガス流に分離する極低温蒸留塔を利用する酸性ガス除去システムと、
酸性ガス除去システムの下流の硫黄成分除去システムであって、底部酸性ガス流を受け取り、底部酸性ガス流を二酸化炭素流体流と硫化水素流に全般的に分離する硫黄成分除去システムと
を含む、サワーガス流から酸性ガスを除去するためのシステム。
An acid gas removal system for receiving a sour gas stream, wherein the sour gas stream contains less than about 10% sulfur components, the sour gas stream comprising an overhead gas stream composed primarily of methane, and mainly carbon dioxide and An acid gas removal system utilizing a cryogenic distillation column that separates into a liquid bottom acid gas stream composed of sulfur components;
A sulfur component removal system downstream of an acid gas removal system, comprising a sulfur component removal system that receives a bottom acid gas stream and generally separates the bottom acid gas stream into a carbon dioxide fluid stream and a hydrogen sulfide stream. A system for removing acid gases from a stream.
酸性ガス除去システムが、サワーガス流の蒸留塔への侵入前にこれを冷やすための熱交換器をさらに含む、請求項37に記載のシステム。   38. The system of claim 37, wherein the acid gas removal system further comprises a heat exchanger for cooling the sour gas stream prior to entering the distillation column. 極低温蒸留塔が、
下部蒸留域および主にメタンから構成される低温液体スプレーを受け取る中間部の制御された凍結域であって、塔がサワーガス流を受け取り、次いでサワーガス流をオーバーヘッドメタン流と液化された底部酸性ガス流に分離する中間部の制御された凍結域と、
オーバーヘッドメタン流を冷却し、オーバーヘッドメタン流の一部分を液体還流として極低温蒸留塔に戻すための極低温蒸留塔の下流の冷蔵機器と
を含む、請求項38に記載のシステム。
Cryogenic distillation tower
A lower freezing zone and an intermediate controlled freezing zone that receives a cryogenic liquid spray composed primarily of methane, where the tower receives the sour gas stream, and then the sour gas stream is divided into an overhead methane stream and a liquefied bottom acid gas stream. A controlled freezing zone in the middle part separating into
40. The system of claim 38, comprising refrigeration equipment downstream of the cryogenic distillation column for cooling the overhead methane stream and returning a portion of the overhead methane stream as liquid reflux to the cryogenic distillation column.
硫黄成分除去システムが、
底部酸性ガス流から硫化水素を実質的に吸着するための少なくとも1つの固体吸着床であって、硫化水素が前記少なくとも1つの固体吸着床が再生される際に硫化水素流として放出され、前記少なくとも1つの固体吸着床が二酸化炭素流体流として二酸化炭素を含む酸性ガスを実質的に通過させる、少なくとも1つの固体吸着床を含む、請求項37に記載のシステム。
Sulfur component removal system
At least one solid adsorption bed for substantially adsorbing hydrogen sulfide from the bottom acidic gas stream, wherein hydrogen sulfide is released as a hydrogen sulfide stream when the at least one solid adsorption bed is regenerated, 38. The system of claim 37, wherein the solid adsorbent bed comprises at least one solid adsorbent bed that substantially passes an acid gas comprising carbon dioxide as a carbon dioxide fluid stream.
前記少なくとも1つの固体吸着床が、少なくとも1つの吸着動的分離床を含む、請求項40に記載のシステム。   41. The system of claim 40, wherein the at least one solid adsorption bed comprises at least one adsorption dynamic separation bed. 硫黄成分除去システムが、少なくとも2つの抽出蒸留カラムを有する抽出蒸留システムを含む、請求項37に記載のシステム。   38. The system of claim 37, wherein the sulfur component removal system comprises an extractive distillation system having at least two extractive distillation columns. 抽出蒸留システムが、
プロパン回収カラムとして働く第1の抽出蒸留カラムであって、プロパン回収カラムによって、溶媒と酸性ガス流とが混合して酸性ガスを吸収することにより、別々に二酸化炭素流を放出しながら、溶媒が溶媒底部流としてカラムを離れるように作用する第1の抽出蒸留カラムと、
CO2除去カラムとして働く第2の抽出蒸留カラムであって、CO2除去カラムによって、溶媒および重質炭化水素が、別々にCO2を放出しながら、第2の溶媒底部流として酸性ガス除去カラムを離れるように作用する第2の抽出蒸留カラムと、
添加物回収カラムとして働く第3の抽出蒸留カラムであって、添加物回収カラムが蒸留の仕組みを使用することによって、液体天然ガスがカラムオーバーヘッドから別々に出る間に、底部溶媒流が再生された添加物として放出されるように、「液体天然ガス」として知られている重質炭化水素成分を溶媒から分離する第3の抽出蒸留カラムと
を含む、請求項42に記載のシステム。
Extractive distillation system
A first extractive distillation column that acts as a propane recovery column, wherein the propane recovery column mixes the solvent and the acidic gas stream to absorb the acidic gas, thereby releasing the carbon dioxide stream separately, A first extractive distillation column that acts to leave the column as a solvent bottom stream;
A second extractive distillation column that acts as a CO 2 removal column, wherein the CO 2 removal column causes the solvent and heavy hydrocarbons to separately release CO 2 while the acid gas removal column as the second solvent bottom stream. A second extractive distillation column that acts to leave
A third extractive distillation column that serves as an additive recovery column, wherein the bottom solvent stream was regenerated while the liquid natural gas exited separately from the column overhead by using a distillation mechanism. 43. A system according to claim 42, comprising a third extractive distillation column for separating heavy hydrocarbon components known as "liquid natural gas" from the solvent to be released as an additive.
サワーガス流がおよそ1%未満の硫黄成分を含む、請求項37に記載のシステム。   38. The system of claim 37, wherein the sour gas stream comprises less than approximately 1% sulfur component. サワーガス流が、およそ4ppmから100ppmの間の硫黄成分を含む、請求項37に記載のシステム。   38. The system of claim 37, wherein the sour gas stream comprises between approximately 4 ppm and 100 ppm sulfur component.
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