JP2013125287A - Input device - Google Patents

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Takaaki Fukuyama
高章 福山
Kazuyoshi Yamagata
一芳 山縣
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an input device which allows the reduction of input load of an input part.SOLUTION: An input device 1 includes a first transparent substrate 10, a first electrode layer 11 formed on the first transparent substrate 10, a second transparent substrate disposed so as to face the input surface side of the first transparent substrate 10, and a second electrode layer 21 formed on the second transparent substrate 20. The first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 are arranged so that the first electrode layer 11 and the second electrode layer 21 face each other with a space therebetween, and an input part 31 allowing an input with depressing operation is formed on the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20. The first electrode layer 11 and the second electrode layer 21 are formed in the input part 31 and on the outer periphery of the input part 31, and a distance between the first electrode layer 11 and the second electrode layer 21 in the input part 31 is shorter than that on the outer periphery of the input part 31.

Description

本発明は、入力装置に関し、特に、1対の透明基材が空間を設けて貼り合わされた入力装置に関する。   The present invention relates to an input device, and more particularly, to an input device in which a pair of transparent base materials are bonded together with a space.

現在、携帯用の電子機器などの表示部として、表示画像のメニュー項目やオブジェクトを視認しながら、指などで操作して座標入力を行うための透光型入力装置が用いられている。このような入力装置の動作方式には様々な方式が挙げられるが、例えば特許文献1及び特許文献2には抵抗膜式の入力装置について開示されている。   Currently, as a display unit of a portable electronic device or the like, a translucent input device for performing coordinate input by operating with a finger while visually recognizing a menu item or an object of a display image is used. There are various methods for operating such an input device. For example, Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose a resistance film type input device.

特許文献1及び特許文献2に記載されている入力装置は、液晶ディスプレイなどの表示装置に重ねて用いられ、表示装置の画像を視認可能な透光領域と、透光領域を囲む枠状の非透光領域とが形成されている。入力装置の透光領域には、表示装置の画像を視認しながら入力位置情報を入力可能なタッチ入力部が形成されており、非透光領域の一部にはスイッチ入力部が形成されている。スイッチ入力部は、例えば通話機能などの操作を入力可能な入力部である。   The input devices described in Patent Document 1 and Patent Document 2 are used by being overlapped on a display device such as a liquid crystal display, and a translucent region in which an image of the display device can be visually recognized and a frame-like non-circular surrounding the translucent region A translucent region is formed. A touch input unit capable of inputting input position information while visually recognizing an image of the display device is formed in the light transmitting region of the input device, and a switch input unit is formed in a part of the non-light transmitting region. . The switch input unit is an input unit that can input operations such as a call function.

図7には、従来例の抵抗膜式の入力装置101の断面図を示す。なお、図7は従来例の入力装置101の課題を説明するために模式的に示した部分拡大断面図である。従来例の入力装置101は、第1透明基材110及び第2透明基材120を有して構成されており、第1透明基材110と第2透明基材120とは、配線部146を介して空間を設けて対向配置されている。第2透明基材120の入力面側には加飾フィルム150が設けられており、着色された加飾層151により、透光領域と非透光領域とが区分けされている。   FIG. 7 is a cross-sectional view of a conventional resistance film type input device 101. FIG. 7 is a partial enlarged cross-sectional view schematically showing the problem of the input device 101 of the conventional example. The input device 101 of the conventional example is configured to include a first transparent base material 110 and a second transparent base material 120, and the first transparent base material 110 and the second transparent base material 120 include a wiring part 146. Through which a space is provided. A decorative film 150 is provided on the input surface side of the second transparent substrate 120, and a light-transmitting region and a non-light-transmitting region are separated by a colored decorative layer 151.

また、第1透明基材110と第2透明基材120との対向する面には、それぞれ第1電極層111及び第2電極層121が形成されている。タッチ入力部131表面の任意の箇所を押圧操作すると、第2透明基材120と加飾フィルム150とが第1透明基材110側に変形して、1対の電極層どうしが接触する。その接触点での抵抗値変化を読み取ることで入力位置情報を検出することができる。また、スイッチ入力部132においても同様に、スイッチ入力部132を押圧操作すると、第2透明基材120が第1透明基材110側に変形して、第1電極層111と第2電極層121とが接触する。これにより、スイッチ入力部132の入力情報を検出することができる。   Moreover, the 1st electrode layer 111 and the 2nd electrode layer 121 are each formed in the surface where the 1st transparent base material 110 and the 2nd transparent base material 120 oppose. When an arbitrary position on the surface of the touch input unit 131 is pressed, the second transparent base material 120 and the decorative film 150 are deformed to the first transparent base material 110 side, and a pair of electrode layers come into contact with each other. The input position information can be detected by reading the resistance value change at the contact point. Similarly, in the switch input unit 132, when the switch input unit 132 is pressed, the second transparent substrate 120 is deformed to the first transparent substrate 110 side, and the first electrode layer 111 and the second electrode layer 121 are deformed. And contact. Thereby, the input information of the switch input unit 132 can be detected.

国際公開2011/021406号International Publication No. 2011/021406 国際公開2009/025269号International Publication No. 2009/025269

抵抗膜式の入力装置101は、押圧して電極層どうしを接触させることにより入力操作が行われるため、少なくとも第2透明基材120及び加飾フィルム150を変形させる程度の入力荷重が必要である。さらにタッチ入力部131においては手書き文字入力など連続した入力操作を行う場合もあるため、よりスムーズで快適な入力操作を実現できることが好ましい。そのため、入力荷重を低減させることが望まれている。   Since the resistance film type input device 101 performs an input operation by pressing and bringing the electrode layers into contact with each other, an input load that at least deforms the second transparent substrate 120 and the decorative film 150 is required. . Further, since the touch input unit 131 may perform a continuous input operation such as handwritten character input, it is preferable that a smoother and more comfortable input operation can be realized. Therefore, it is desired to reduce the input load.

また、スイッチ入力部132は、その面積がタッチ入力部131に比べて非常に小さく、指などで押圧可能な程度の面積で形成されている。したがって、スイッチ入力部132の入力操作時において、第2透明基材120を変形させて対向する電極層どうしを接触させるには、第2透明基材120をより大きく撓ませるように大きな入力荷重が必要である。そのため、スイッチ入力部132においても、より入力荷重を低減させることが要求されている。   In addition, the switch input unit 132 has a very small area compared to the touch input unit 131 and is formed with an area that can be pressed with a finger or the like. Therefore, during the input operation of the switch input unit 132, in order to deform the second transparent substrate 120 and bring the opposing electrode layers into contact with each other, a large input load is applied so as to bend the second transparent substrate 120 more greatly. is necessary. Therefore, the switch input unit 132 is also required to further reduce the input load.

図7に示すように、第1電極層111と第2電極層121との電極間距離は、タッチ入力部131及びスイッチ入力部132の周囲に配置された配線部146の高さによって規制されている。タッチ入力部131及びスイッチ入力部132の入力荷重を低減させる方法として、配線部146を低背化することにより、第1電極層111と第2電極層121との距離を小さくすることが効果的である。しかしながら、配線部146は、タッチ入力部131及びスイッチ入力部132の入力信号を引き出すための各配線層や、配線層間の電気的絶縁を確保するためのレジスト層、第1透明基材110と第2透明基材120とを貼り合わせるための粘着層等が積層された構造体となっている(図7では省略して示す)。したがって、配線部146を低背化すると、各配線層を薄くしなくてはならず、抵抗値の増大や断線の発生等により接続信頼性が低下してしまう。また、レジスト層を薄層化すると配線層間の絶縁を確保できなくなるという課題が生じる。このため、配線部146を低背化して入力荷重を低減させることは困難である。   As shown in FIG. 7, the interelectrode distance between the first electrode layer 111 and the second electrode layer 121 is regulated by the height of the wiring part 146 disposed around the touch input part 131 and the switch input part 132. Yes. As a method of reducing the input load of the touch input unit 131 and the switch input unit 132, it is effective to reduce the distance between the first electrode layer 111 and the second electrode layer 121 by reducing the height of the wiring unit 146. It is. However, the wiring unit 146 includes each wiring layer for extracting input signals from the touch input unit 131 and the switch input unit 132, a resist layer for ensuring electrical insulation between the wiring layers, the first transparent substrate 110 and the first transparent substrate 110. 2 A structure in which an adhesive layer or the like for bonding the transparent substrate 120 is laminated (not shown in FIG. 7). Therefore, if the wiring portion 146 is lowered in height, each wiring layer must be thinned, and the connection reliability is lowered due to an increase in resistance value or occurrence of disconnection. Further, when the resist layer is thinned, there arises a problem that insulation between wiring layers cannot be secured. For this reason, it is difficult to reduce the input load by reducing the height of the wiring portion 146.

本発明は、上記課題を解決して、入力部の入力荷重を低減させることが可能な入力装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above problems and provide an input device capable of reducing an input load of an input unit.

本発明の入力装置は、第1透明基材と、前記第1透明基材に形成された第1電極層と、前記第1透明基材の入力面側に対向配置された第2透明基材と、前記第2透明基材に形成された第2電極層と、を有し、前記第1電極層と前記第2電極層とが空間を設けて対向するように前記第1透明基材と前記第2透明基材とが配置されており、前記第1透明基材及び前記第2透明基材には、押圧操作により入力可能な入力部が形成されており、前記第1電極層及び前記第2電極層は前記入力部及び前記入力部の外周に形成されており、前記入力部の外周における前記第1電極層と前記第2電極層との距離に対して、前記入力部における前記第1電極層と前記第2電極層との距離が小さいことを特徴とする。   An input device according to the present invention includes a first transparent base material, a first electrode layer formed on the first transparent base material, and a second transparent base material disposed opposite to the input surface side of the first transparent base material. And a second electrode layer formed on the second transparent substrate, and the first transparent substrate and the first transparent substrate so that the first electrode layer and the second electrode layer face each other with a space provided therebetween. The second transparent base material is disposed, and the first transparent base material and the second transparent base material are provided with an input portion that can be input by a pressing operation, and the first electrode layer and the second transparent base material The second electrode layer is formed on the outer periphery of the input unit and the input unit, and the second electrode layer in the input unit with respect to the distance between the first electrode layer and the second electrode layer on the outer periphery of the input unit. The distance between one electrode layer and the second electrode layer is small.

これによれば、入力部における第1電極層と第2電極層との距離を小さくすることができるため、入力操作時において、入力面側に配置された第2透明基材の変形量を小さくすることができる。したがって、入力部の入力荷重を低減させることが可能となる。   According to this, since the distance between the first electrode layer and the second electrode layer in the input unit can be reduced, the amount of deformation of the second transparent substrate disposed on the input surface side can be reduced during the input operation. can do. Therefore, the input load of the input unit can be reduced.

本発明の入力装置によれば、前記入力部の外周において、前記第1透明基材と前記第2透明基材との間には配線部が設けられており、前記配線部は、前記第1電極層に接続された第1配線層と、前記第2電極層に接続された第2配線層と、前記第1透明基材と前記第2透明基材とを貼り合わせるための粘着層とを有して構成される積層体であり、前記配線部の厚さに対して、前記入力部における前記第1電極層と前記第2電極層との距離が小さいことが好ましい。これによれば、配線部を低背化することなく、第1電極層と第2電極層との距離を小さくして入力荷重を低減することが可能である。すなわち、配線部を構成する各配線層の厚みを維持して各配線層の抵抗値の増大や断線の発生を防止するとともに、配線層間の距離を維持して配線層間の絶縁を確保することができる。したがって、入力部の入力荷重を低減させるとともに、配線部の電気的信頼性を確保することが可能である。   According to the input device of the present invention, a wiring part is provided between the first transparent base material and the second transparent base material on an outer periphery of the input part, and the wiring part is provided with the first part. A first wiring layer connected to the electrode layer; a second wiring layer connected to the second electrode layer; and an adhesive layer for bonding the first transparent substrate and the second transparent substrate together. Preferably, the distance between the first electrode layer and the second electrode layer in the input portion is smaller than the thickness of the wiring portion. According to this, it is possible to reduce the input load by reducing the distance between the first electrode layer and the second electrode layer without reducing the height of the wiring portion. That is, the thickness of each wiring layer constituting the wiring portion can be maintained to prevent an increase in resistance value of each wiring layer and the occurrence of disconnection, and the distance between the wiring layers can be maintained to ensure insulation between the wiring layers. it can. Therefore, it is possible to reduce the input load of the input part and to ensure the electrical reliability of the wiring part.

本発明の入力装置によれば、前記第1透明基材の前記入力部には、前記第2透明基材に向かい突出する突出面が形成されており、少なくとも前記突出面には前記第1電極層が形成されていることが好適である。これによれば、突出面を形成することによって、入力部における第1電極層と第2電極層との距離を小さくすることが可能となる。また、入力面側に配置される第2透明基材側の構成を変えることなく電極層間距離を小さくすることができる。したがって、第2透明基材の剛性を低下させることなく入力荷重を低減することが可能であり、入力装置の外観の劣化や耐久性の低下を防止することができる。   According to the input device of the present invention, the input portion of the first transparent substrate is formed with a protruding surface that protrudes toward the second transparent substrate, and at least the first electrode is formed on the protruding surface. It is preferred that a layer is formed. According to this, it is possible to reduce the distance between the first electrode layer and the second electrode layer in the input portion by forming the protruding surface. Further, the distance between the electrode layers can be reduced without changing the configuration of the second transparent substrate side disposed on the input surface side. Therefore, it is possible to reduce the input load without reducing the rigidity of the second transparent base material, and it is possible to prevent deterioration of the appearance and durability of the input device.

本発明の入力装置によれば、前記突出面と、前記第1透明基材の基面とは、傾斜面で接続されており、前記第1電極層は前記突出面、前記傾斜面、及び前記第1透明基材の前記基面に亘って形成されていることが好ましい。こうすれば、突出面が形成されていない第1透明基材の基面から突出面に亘って、第1電極層の接続信頼性を確実に得ることができる。また、第1電極層の製造工程において、突出面が形成されていない第1透明基材の基面及び突出面に亘って、同一の工程で第1電極層を形成することが容易であり、製造コストの低減につながる。   According to the input device of the present invention, the protruding surface and the base surface of the first transparent base material are connected by an inclined surface, and the first electrode layer includes the protruding surface, the inclined surface, and the It is preferable that the first transparent substrate is formed over the base surface. If it carries out like this, the connection reliability of a 1st electrode layer can be obtained reliably from the base surface of the 1st transparent base material in which the protrusion surface is not formed to a protrusion surface. Moreover, in the manufacturing process of the first electrode layer, it is easy to form the first electrode layer in the same process over the base surface and the protruding surface of the first transparent base material on which the protruding surface is not formed, This leads to a reduction in manufacturing costs.

本発明の入力装置において、前記突出面に形成された前記第1電極層と前記突出面に対向する前記第2電極層との距離は、前記第1透明基材の基面に形成された前記第1電極層と該基面に対向する前記第2電極層との距離よりも小さいことが好適である。これによれば、入力操作時の押圧操作によって第2透明基材が変形して、突出面に形成された第1電極層と突出面に対向する第2電極層とが接触して、入力情報が検知される。したがって、入力部における突出面に形成された第1電極層と突出面に対向する第2電極層との距離を小さくすることができ、入力荷重を低減することができる。   In the input device of the present invention, the distance between the first electrode layer formed on the projecting surface and the second electrode layer facing the projecting surface is the base surface of the first transparent base material. It is preferable that the distance is smaller than the distance between the first electrode layer and the second electrode layer facing the base surface. According to this, the second transparent base material is deformed by the pressing operation at the time of the input operation, and the first electrode layer formed on the protruding surface and the second electrode layer facing the protruding surface are in contact with each other. Is detected. Therefore, the distance between the first electrode layer formed on the protruding surface in the input portion and the second electrode layer facing the protruding surface can be reduced, and the input load can be reduced.

本発明の入力装置によれば、前記突出面は、前記第2透明基材に対して略平行な平坦面を有して形成されていることが好適である。これによれば、入力部における電極間距離を均一に設けることが可能となり、入力部の操作面内における入力荷重のばらつきを抑制することができる。   According to the input device of the present invention, it is preferable that the protruding surface has a flat surface substantially parallel to the second transparent base material. According to this, it becomes possible to provide the distance between electrodes in an input part uniformly, and can suppress the dispersion | variation in the input load in the operation surface of an input part.

本発明の入力装置によれば、前記配線部は、前記入力部を囲むように設けられていることが好ましい。これによれば、入力部の周縁部において第1電極層と第2電極層との距離が配線部により保持される。したがって、電極層間距離が小さくなっても、入力部の周縁にわたって入力荷重を一定に保つことができる。   According to the input device of the present invention, it is preferable that the wiring portion is provided so as to surround the input portion. According to this, the distance between the first electrode layer and the second electrode layer is held by the wiring portion at the peripheral portion of the input portion. Therefore, even when the electrode interlayer distance is reduced, the input load can be kept constant over the periphery of the input portion.

本発明の入力装置によれば、前記第1透明基材及び前記第2透明基材には、枠状の非透光領域と、前記非透光領域の内方の透光領域とが形成されており、前記入力部は、前記非透光領域の一部に形成されたスイッチ入力部であることが好適である。スイッチ入力部は小さな面積で形成されており、入力操作時において第2透明基材をより大きく撓ませる必要があるため、効果的に入力荷重を低減してスイッチ入力操作を行うことが可能となる。   According to the input device of the present invention, the first transparent base material and the second transparent base material are formed with a frame-shaped non-light-transmitting region and an inner light-transmitting region of the non-light-transmitting region. Preferably, the input unit is a switch input unit formed in a part of the non-light-transmitting region. Since the switch input part is formed with a small area and it is necessary to bend the second transparent base material more greatly during the input operation, it is possible to effectively reduce the input load and perform the switch input operation. .

本発明の入力装置によれば、前記第1透明基材及び前記第2透明基材には、枠状の非透光領域と、前記非透光領域の内方の透光領域とが形成されており、前記入力部は、前記透光領域に形成されたタッチ入力部であることが好適である。これによれば、タッチ入力部の入力荷重を低減して、手書き文字入力など様々な入力操作をスムーズに行うことが可能な抵抗膜式の入力装置を提供することができる。   According to the input device of the present invention, the first transparent base material and the second transparent base material are formed with a frame-shaped non-light-transmitting region and an inner light-transmitting region of the non-light-transmitting region. Preferably, the input unit is a touch input unit formed in the light-transmitting region. According to this, it is possible to provide a resistance film type input device capable of reducing input load of the touch input unit and smoothly performing various input operations such as handwritten character input.

本発明の入力装置によれば、入力部における第1電極層と第2電極層との距離を小さくすることができるため、入力操作時において、入力面側に配置された第2透明基材の変形量を小さくすることができる。したがって、入力部の入力荷重を低減させることが可能となる。   According to the input device of the present invention, since the distance between the first electrode layer and the second electrode layer in the input unit can be reduced, the second transparent base material disposed on the input surface side during the input operation can be used. The amount of deformation can be reduced. Therefore, the input load of the input unit can be reduced.

本発明の実施形態における入力装置の斜視図である。It is a perspective view of the input device in the embodiment of the present invention. 実施形態の入力装置を構成する、第1透明基材の平面図である。It is a top view of the 1st transparent substrate which constitutes the input device of an embodiment. 実施形態の入力装置を構成する、第2透明基材の平面図である。It is a top view of the 2nd transparent substrate which constitutes the input device of an embodiment. 図1のIV−IV線に対応する箇所で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected in the location corresponding to the IV-IV line | wire of FIG. 図1のV−V線に対応する箇所で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected in the location corresponding to the VV line | wire of FIG. 実施形態の入力装置の変形例を示す、スイッチ入力部付近の部分拡大断面図である。It is the elements on larger scale of the switch input part vicinity which show the modification of the input device of embodiment. 従来例の入力装置の課題を説明するための模式断面図である。It is a schematic cross section for demonstrating the subject of the input device of a prior art example.

図1には、本発明の実施形態における入力装置1の斜視図を示す。なお、各図面は、説明のために寸法の比率を適宜変更して示している。   In FIG. 1, the perspective view of the input device 1 in embodiment of this invention is shown. In the drawings, the ratio of dimensions is appropriately changed for the sake of explanation.

図1に示すように、本実施形態の入力装置1は、第1透明基材10と第2透明基材20とが第1粘着層(図示しない)を介して積層されている。そして、第2透明基材20の入力面側には第2粘着層(図示しない)を介して加飾フィルム50が貼りあわされている。   As shown in FIG. 1, in the input device 1 of the present embodiment, a first transparent base material 10 and a second transparent base material 20 are laminated via a first adhesive layer (not shown). And the decoration film 50 is affixed on the input surface side of the 2nd transparent base material 20 through the 2nd adhesion layer (not shown).

加飾フィルム50には着色された加飾層51が枠状に形成されており、加飾層51によって透光領域43と非透光領域44とが区分けされている。これにより、図1に示すように、本実施形態の入力装置1には、枠状の非透光領域44と、非透光領域44の内方の透光領域43が設けられている。入力装置1は、液晶ディスプレイやOLEDパネル等の表示装置(図示しない)の表示面側に積層されて、操作者は、表示装置からの表示画像や文字情報を入力装置1の透光領域43を通して視認することができる。本実施形態の入力装置1において、透光領域43と平面視でほぼ重なる領域にタッチ入力部31が形成されている。入力装置1は、いわゆる抵抗膜式タッチパネルであり、タッチ入力部31の表面の任意の箇所を押圧操作すると、その箇所で入力位置情報が検知される。   A colored decorative layer 51 is formed in a frame shape on the decorative film 50, and the light-transmitting region 43 and the non-light-transmitting region 44 are divided by the decorative layer 51. Thereby, as shown in FIG. 1, the input device 1 of the present embodiment is provided with a frame-shaped non-translucent area 44 and a translucent area 43 inside the non-translucent area 44. The input device 1 is stacked on the display surface side of a display device (not shown) such as a liquid crystal display or an OLED panel, and an operator passes a display image or character information from the display device through a light-transmitting region 43 of the input device 1. It can be visually recognized. In the input device 1 of the present embodiment, the touch input unit 31 is formed in a region that substantially overlaps the light-transmitting region 43 in plan view. The input device 1 is a so-called resistive film type touch panel, and when an arbitrary position on the surface of the touch input unit 31 is pressed, input position information is detected at that position.

また、図1に示すように非透光領域44の一部にはスイッチ入力部32が形成されている。スイッチ入力部32は、例えば、携帯電話機器の通話機能の操作を行う入力部であり、タッチ入力部31とは独立して入力操作を行うことが可能である。スイッチ入力部32の面積は指やペン状の入力器具で押圧可能な程度であり、スイッチ入力部32はタッチ入力部31に比べて小さい面積で形成されている。本実施形態においてスイッチ入力部32は、Y2側の非入力領域44に2箇所形成されているが、その位置や数は特に限定されず、1箇所、又は3箇所以上の複数個が設けられる場合もある。   As shown in FIG. 1, a switch input unit 32 is formed in a part of the non-light-transmissive region 44. The switch input unit 32 is, for example, an input unit that operates a call function of a mobile phone device, and can perform an input operation independently of the touch input unit 31. The area of the switch input unit 32 is such that it can be pressed with a finger or a pen-like input instrument, and the switch input unit 32 is formed with a smaller area than the touch input unit 31. In this embodiment, the switch input unit 32 is formed at two places in the non-input area 44 on the Y2 side, but the position and number are not particularly limited, and one or more than three places are provided. There is also.

図2には第1透明基材10の平面図を、図3には第2透明基材20の平面図を示す。なお、図2及び図3の平面図はいずれも入力面側から見たときの図を示し、図3の各電極層、配線層等は第2透明基材20を透過させて図示している。   FIG. 2 is a plan view of the first transparent substrate 10, and FIG. 3 is a plan view of the second transparent substrate 20. 2 and FIG. 3 are views as viewed from the input surface side, and each electrode layer, wiring layer, etc. in FIG. 3 are shown through the second transparent substrate 20. .

図2に示すように、第1透明基材10のタッチ入力部31及びスイッチ入力部32には、第1電極層11(11a、11b)が形成されている。また、第1透明基材10の非透光領域44には、タッチ入力部31の入力情報を引き出すための第1配線層12a、及びスイッチ入力部32の入力情報を引き出すための第1配線層12bが引き回されている。なお、第1電極層11(11a、11b)は、第1配線層12(12a、12b)と接続するために、タッチ入力部31の外周及びスイッチ入力部32の外周にも形成されている。   As shown in FIG. 2, the first electrode layer 11 (11 a, 11 b) is formed on the touch input unit 31 and the switch input unit 32 of the first transparent substrate 10. Further, in the non-light-transmitting region 44 of the first transparent base material 10, a first wiring layer 12 a for extracting input information of the touch input unit 31 and a first wiring layer for extracting input information of the switch input unit 32. 12b is routed. The first electrode layer 11 (11a, 11b) is also formed on the outer periphery of the touch input unit 31 and the outer periphery of the switch input unit 32 in order to connect to the first wiring layer 12 (12a, 12b).

第1配線層12aは透光領域43を囲むように形成されており、X1側の非透光領域44及びX2側の非透光領域44に配置された第1配線層12aは、第1電極層11aをX1−X2方向に挟むように配置されて第1電極層11aと接続されている。そして、第1配線層12aはY1側の非透光領域44に引き出されて、第1接続部13と接続される。なお、Y2側の非透光領域44に配置されてX1−X2方向に延出する第1配線層12aは、第1透明基材10と第2透明基材20との基材間距離を一定にするために設けられているダミー配線層である。また、スイッチ入力部32の入力情報を引き出すための第1配線層12bが非透光領域44に引き回されている。第1配線層12bはスイッチ入力部32の第1電極層11bと接続されており、X1側及びX2側の非透光領域44を引き回されて第1接続部13へと接続される。   The first wiring layer 12a is formed so as to surround the light transmitting region 43, and the first wiring layer 12a disposed in the non-light transmitting region 44 on the X1 side and the non-light transmitting region 44 on the X2 side includes the first electrode. The layer 11a is disposed so as to sandwich the X1-X2 direction and is connected to the first electrode layer 11a. Then, the first wiring layer 12 a is drawn out to the non-light-transmitting region 44 on the Y1 side and connected to the first connection portion 13. The first wiring layer 12a disposed in the non-light-transmitting region 44 on the Y2 side and extending in the X1-X2 direction has a constant inter-substrate distance between the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20. This is a dummy wiring layer provided for the purpose. Further, the first wiring layer 12 b for drawing out the input information of the switch input unit 32 is routed to the non-light-transmissive region 44. The first wiring layer 12 b is connected to the first electrode layer 11 b of the switch input unit 32, and is connected to the first connection unit 13 by being routed through the non-light-transmitting regions 44 on the X1 side and the X2 side.

同様に、図3に示すように、第2透明基材20のタッチ入力部31及びその外周には第2電極層21aが形成されており、スイッチ入力部32及びその外周には第2電極層21bが形成されている。そして、第2透明基材20の非透光領域44には、第2電極層21aと接続された第2配線層22a、及び第2電極層21bと接続された第2配線層22bが形成されている。Y1側及びY2側の非透光領域44に配置された第2配線層22aは、第2電極層21aをY1−Y2方向に挟むように配置されて、第2電極層21aと接続されている。Y2側の非透光領域44で第2電極層21aと接続された第2配線層22aは、X2側の非透光領域44を引き回されて第2接続部23へと接続される。またY1側の第2配線層22aは、第2電極層21aと接続されるとともに第2接続層23へと接続されている。そして、スイッチ入力部32の入力情報を引き出すための第2配線層22bは、第2電極層21bと接続されて、X1側の非透光領域44を引き回されて第2接続部23へと接続されている。   Similarly, as shown in FIG. 3, the second electrode layer 21a is formed on the touch input portion 31 and the outer periphery thereof of the second transparent substrate 20, and the second electrode layer is formed on the switch input portion 32 and the outer periphery thereof. 21b is formed. Then, in the non-light-transmissive region 44 of the second transparent substrate 20, a second wiring layer 22a connected to the second electrode layer 21a and a second wiring layer 22b connected to the second electrode layer 21b are formed. ing. The second wiring layer 22a disposed in the non-light-transmitting region 44 on the Y1 side and the Y2 side is disposed so as to sandwich the second electrode layer 21a in the Y1-Y2 direction, and is connected to the second electrode layer 21a. . The second wiring layer 22a connected to the second electrode layer 21a in the non-light-transmitting region 44 on the Y2 side is routed through the non-light-transmitting region 44 on the X2 side and connected to the second connection portion 23. The second wiring layer 22a on the Y1 side is connected to the second electrode layer 21a and to the second connection layer 23. The second wiring layer 22b for extracting the input information of the switch input unit 32 is connected to the second electrode layer 21b, and is routed through the non-light-transmitting region 44 on the X1 side to the second connection unit 23. It is connected.

図2に示す、第1透明基材10は、透明な樹脂材料で形成されており、例えばPC(ポリカーボネート)やPMMA(ポリメタクリル酸メチル樹脂)等の樹脂材料を用いることができる。第1透明基材10は、入力操作時の押圧力を支持可能な剛性を有するように、0.5mm〜2.0mm程度の厚みで形成されている。また、図3に示す、入力面側に配置される第2透明基材20には、可撓性を有するフィルム状の樹脂材料が用いられており、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)等の透明樹脂フィルムが用いられている。その厚みは50μm〜200μm程度に形成されている。   The first transparent substrate 10 shown in FIG. 2 is formed of a transparent resin material, and for example, a resin material such as PC (polycarbonate) or PMMA (polymethyl methacrylate resin) can be used. The first transparent base material 10 is formed with a thickness of about 0.5 mm to 2.0 mm so as to have rigidity capable of supporting a pressing force during an input operation. Moreover, the 2nd transparent base material 20 arrange | positioned at the input surface side shown in FIG. 3 uses the film-form resin material which has flexibility, for example, transparent resin films, such as PET (polyethylene terephthalate) Is used. The thickness is about 50 μm to 200 μm.

第1電極層11(11a、11b)及び第2電極層21(21a、21b)には、いずれも可視光で透光性を有するITO(Indium Tin Oxide)、SnO、ZnO等の透明導電材料が用いられる。第1電極層11及び第2電極層21は、スパッタ法や蒸着法等の薄膜法で成膜することができる。また、薄膜法以外の方法では、あらかじめ透明導電膜が形成されたフィルムを用意して透明導電膜を基材に転写する転写法や、液状の原料を塗布、乾燥して透明導電膜を形成する塗布法等が挙げられる。 The first electrode layer 11 (11a, 11b) and the second electrode layer 21 (21a, 21b) are both transparent conductive materials such as ITO (Indium Tin Oxide), SnO 2 , and ZnO that are transparent to visible light. Is used. The first electrode layer 11 and the second electrode layer 21 can be formed by a thin film method such as sputtering or vapor deposition. In addition to the thin film method, a transparent conductive film is formed by preparing a film on which a transparent conductive film is formed in advance and transferring the transparent conductive film to a substrate, or applying and drying a liquid raw material. Examples thereof include a coating method.

図2に示す、第1電極層11aと第1電極層11bとは、別々の工程で異なる材料を用いて形成することも可能であるが、共通の透明導電材料を用いて同一の工程で形成することが好ましく、こうすれば製造コストを低減することができる。この場合、第1透明基材10の表面に透明導電材料を薄膜法や転写法等で成膜して、その後、レーザートリミングやエッチング等により不要な部分を除去することにより、第1電極層11aと第1電極層11bとが分離される。なお、図3に示す第2電極層21a、第2電極層21bについても同様に、同一工程で形成することができる。   The first electrode layer 11a and the first electrode layer 11b shown in FIG. 2 can be formed using different materials in different steps, but are formed in the same step using a common transparent conductive material. It is preferable that the manufacturing cost be reduced. In this case, a transparent conductive material is formed on the surface of the first transparent substrate 10 by a thin film method or a transfer method, and then unnecessary portions are removed by laser trimming, etching, or the like, whereby the first electrode layer 11a. And the first electrode layer 11b are separated. Similarly, the second electrode layer 21a and the second electrode layer 21b shown in FIG. 3 can be formed in the same process.

また、第1配線層12及び第2配線層22は、Ag、Cu等の導電性材料を含む印刷インクを用いて、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法等により形成することができる。   Moreover, the 1st wiring layer 12 and the 2nd wiring layer 22 can be formed by the screen printing method, the inkjet printing method, etc. using the printing ink containing electroconductive materials, such as Ag and Cu.

<タッチ入力部>
図4には、図1のIV−IV線に対応する箇所で切断した入力装置1の断面図を示し、特に、タッチ入力部31の断面図を示す。なお、本明細書において、タッチ入力部31とは、透光領域43と平面視でほぼ重なる領域であり、配線部46に囲まれた、第1電極層11aと第2電極層21aとが空間を設けて対向配置された領域とする。
<Touch input section>
4 shows a cross-sectional view of the input device 1 cut at a location corresponding to the line IV-IV in FIG. 1, and particularly shows a cross-sectional view of the touch input unit 31. FIG. In this specification, the touch input unit 31 is a region that substantially overlaps the light-transmitting region 43 in plan view, and the first electrode layer 11a and the second electrode layer 21a surrounded by the wiring unit 46 are spaces. To provide a region oppositely disposed.

図4に示すように、本実施形態の入力装置1において、第1透明基材10と第2透明基材20とは空間を設けて対向配置されており、第1電極層11aと第2電極層21aとが対向するように配置されている。また、第1透明基材10と第2透明基材20とは、非透光領域44に設けられた第1粘着層53及びレジスト層52を介して貼り合わされている。   As shown in FIG. 4, in the input device 1 of this embodiment, the 1st transparent base material 10 and the 2nd transparent base material 20 provide the space, and are opposingly arranged, and the 1st electrode layer 11a and the 2nd electrode It arrange | positions so that the layer 21a may oppose. Further, the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 are bonded together via a first adhesive layer 53 and a resist layer 52 provided in the non-light-transmitting region 44.

図4に示すように、第1透明基材10に形成された第1配線層12a、12bと第2透明基材20に形成された第2配線層22a、22bとは、平面視で重なるように配置されている。これにより、入力装置1の非透光領域44の面積を小さくすることが可能であり、入力装置1の狭額縁化に効果的である。また、レジスト層52は、第1透明基材10及び第2透明基材20に形成された各配線層間の電気的絶縁を確実に得るために設けられている。さらに、レジスト層52に重ねて配置された第1粘着層53により第1透明基材10と第2透明基材20とが貼り合わされている。なお、レジスト層52は、必要に応じて2層以上設けてもよい。   As shown in FIG. 4, the first wiring layers 12 a and 12 b formed on the first transparent base material 10 and the second wiring layers 22 a and 22 b formed on the second transparent base material 20 overlap in plan view. Is arranged. As a result, the area of the non-transparent region 44 of the input device 1 can be reduced, which is effective for narrowing the frame of the input device 1. The resist layer 52 is provided in order to reliably obtain electrical insulation between the wiring layers formed on the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20. Further, the first transparent base material 10 and the second transparent base material 20 are bonded together by the first adhesive layer 53 disposed so as to overlap the resist layer 52. Note that two or more resist layers 52 may be provided as necessary.

第1透明基材10と第2透明基材20との間には、各配線層、レジスト層52、第1粘着層53を有して構成される配線部46が介在しており、配線部46の合計厚さによって第1透明基材10と第2透明基材20との距離が決められる。例えば、本実施形態において、配線部46の合計厚みは0.05mm〜0.2mm程度に形成されている。   Between the 1st transparent base material 10 and the 2nd transparent base material 20, the wiring part 46 comprised by having each wiring layer, the resist layer 52, and the 1st adhesion layer 53 is interposing, and a wiring part The total thickness of 46 determines the distance between the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20. For example, in the present embodiment, the total thickness of the wiring portion 46 is formed to be about 0.05 mm to 0.2 mm.

また、図1及び図4に示すように、第2透明基材20の入力面側には、第2粘着層54を介して加飾フィルム50が積層されている。したがって、操作者は直接加飾フィルム50の表面を押圧して入力操作を行うことができる。加飾フィルム50には着色された加飾層51が形成されており、加飾層51によって操作者から配線部46等が直接視認されることを防ぐことができる。加飾フィルム50には、第2透明基材20と同様にPET等の透明樹脂フィルムが用いられている。   Moreover, as shown in FIG.1 and FIG.4, the decorating film 50 is laminated | stacked through the 2nd adhesion layer 54 at the input surface side of the 2nd transparent base material 20. As shown in FIG. Therefore, the operator can perform an input operation by directly pressing the surface of the decorative film 50. A colored decorative layer 51 is formed on the decorative film 50, and the decorative layer 51 can prevent the operator from directly viewing the wiring portion 46 and the like. A transparent resin film such as PET is used for the decorative film 50 as in the second transparent substrate 20.

タッチ入力部31の入力操作において、加飾フィルム50の透光領域43の任意の箇所を押圧すると、加飾フィルム50と第2透明基材20とが一体に第1透明基材10側に撓んで、第1電極層11aと第2電極層21aとが接触する。第1電極層11a及び第2電極層21aにはそれぞれ電圧が印加されており、接触位置に応じて生じる分圧比によって入力位置座標が検出される。   In an input operation of the touch input unit 31, when an arbitrary portion of the translucent region 43 of the decorative film 50 is pressed, the decorative film 50 and the second transparent base material 20 are flexed integrally with the first transparent base material 10 side. Thus, the first electrode layer 11a and the second electrode layer 21a are in contact with each other. A voltage is applied to each of the first electrode layer 11a and the second electrode layer 21a, and the input position coordinates are detected by the voltage division ratio generated according to the contact position.

本実施形態において、第1透明基材10のタッチ入力部31には、第2透明基材20に向かい突出する凸部35が形成されており、第1電極層11aは、凸部35の突出面37a及び突出面37aが形成されていない第1透明基材10の基面37bに亘って形成されている。また、第2電極層21aは、第1電極層11aに対向する様に第2透明基材20に形成されている。したがって、突出面37aに形成された第1電極層11aと、突出面37aに対向する第2電極層21aとの距離は、第1透明基材10の基面37bに形成された第1電極層11aと、基面37bに対向する第2電極層21aとの距離よりも小さく形成されている。すなわち、タッチ入力部31の外周における電極層間の距離に対して、タッチ入力部31における電極層間の距離が小さくなっている。これにより、入力操作時において、第2透明基材20及び加飾フィルム50の変形量を小さくすることができ、タッチ入力部31の入力荷重を低減させることが可能となる。また、タッチ入力部31の入力操作において、手書き文字入力などの多様な入力操作を快適に行うことができる入力装置1を提供できる。   In the present embodiment, the touch input portion 31 of the first transparent base material 10 is formed with a convex portion 35 that protrudes toward the second transparent base material 20, and the first electrode layer 11 a protrudes from the convex portion 35. The surface 37a and the projecting surface 37a are formed over the base surface 37b of the first transparent substrate 10 on which the surface 37a and the protruding surface 37a are not formed. Moreover, the 2nd electrode layer 21a is formed in the 2nd transparent base material 20 so that the 1st electrode layer 11a may be opposed. Therefore, the distance between the first electrode layer 11a formed on the protruding surface 37a and the second electrode layer 21a facing the protruding surface 37a is the first electrode layer formed on the base surface 37b of the first transparent base material 10. 11a and the distance between the second electrode layer 21a facing the base surface 37b. That is, the distance between the electrode layers in the touch input unit 31 is smaller than the distance between the electrode layers in the outer periphery of the touch input unit 31. Thereby, at the time of input operation, the deformation amount of the 2nd transparent base material 20 and the decorating film 50 can be made small, and it becomes possible to reduce the input load of the touch input part 31. FIG. In addition, the input device 1 that can comfortably perform various input operations such as handwritten character input in the input operation of the touch input unit 31 can be provided.

また、タッチ入力部31を囲むように形成されている配線部46の厚さに対して、タッチ入力部31における第1電極層11aと第2電極層21aとの距離が小さくなるように形成されている。したがって、配線部46を低背化することなくタッチ入力部31における1対の電極層間の距離を小さくすることが可能である。すなわち、配線部46を構成する第1配線層12(12a、12b)、及び第2配線層22aの厚さを維持して各配線層の抵抗値の増大や断線を防止して電気的接続信頼性を確保するとともに、レジスト層52、第1粘着層53の厚みを確保して配線層間の絶縁を確実なものにすることができる。これにより、タッチ入力部31の入力荷重を低減するとともに、配線部46の電気的信頼性を確保することができる。   In addition, the distance between the first electrode layer 11a and the second electrode layer 21a in the touch input unit 31 is made smaller than the thickness of the wiring unit 46 formed so as to surround the touch input unit 31. ing. Therefore, it is possible to reduce the distance between the pair of electrode layers in the touch input unit 31 without reducing the height of the wiring unit 46. In other words, the thickness of the first wiring layer 12 (12a, 12b) and the second wiring layer 22a constituting the wiring portion 46 is maintained, and an increase in resistance value and disconnection of each wiring layer are prevented to ensure electrical connection reliability. In addition, the thickness of the resist layer 52 and the first adhesive layer 53 can be ensured and the insulation between the wiring layers can be ensured. Thereby, while reducing the input load of the touch input part 31, the electrical reliability of the wiring part 46 is securable.

例えば、本実施形態において、第1配線層12(12a、12b)、第2配線層22(22a、22b)について、それぞれ10μm〜20μm程度の厚みを確保することができ、電気的接続信頼性が確保される。また、レジスト層52は20μm〜30μm程度の厚みを有して形成することが可能であり、対向する配線層間の電気的絶縁が確実に得られる。   For example, in the present embodiment, the first wiring layer 12 (12a, 12b) and the second wiring layer 22 (22a, 22b) can each have a thickness of about 10 μm to 20 μm, and the electrical connection reliability is high. Secured. Further, the resist layer 52 can be formed with a thickness of about 20 μm to 30 μm, and electrical insulation between the opposing wiring layers can be reliably obtained.

また、入力荷重を低減させる方法として、第2透明基材20の厚さや材料を変更して剛性を低減させる方法も挙げられる。しかし、この場合、第2透明基材20のだれや凹みが生じて、入力装置1の美観の劣化や、第1電極層11aと第2電極層21aとの間隔を維持できず入力機能を実現できなくなるおそれがある。本実施形態においては、入力面側に配置される第2透明基材20及び加飾フィルム50の構成の変更や、剛性の小さい材料に変更することなく電極層間の距離を小さくすることができるため、入力装置1の耐久性、耐環境性の低下や美観の劣化を防止することができる。   Moreover, as a method of reducing the input load, a method of reducing the rigidity by changing the thickness or material of the second transparent base material 20 may be used. However, in this case, the sagging or dent of the second transparent base material 20 occurs, and the input device 1 cannot be maintained and the distance between the first electrode layer 11a and the second electrode layer 21a cannot be maintained, thereby realizing the input function. There is a risk that it will not be possible. In the present embodiment, the distance between the electrode layers can be reduced without changing the configuration of the second transparent base material 20 and the decorative film 50 arranged on the input surface side or changing to a material with low rigidity. Further, it is possible to prevent the durability and environmental resistance of the input device 1 from being lowered and the appearance from being deteriorated.

本実施形態において、突出面37aと、突出面37aの形成されていない第1透明基材10の基面37bとは傾斜面37cで接続されている。そして、第1電極層11aは突出面37a、傾斜面37c、及び第1透明基材の基面37bに亘って形成されている。本実施形態において、傾斜面37cの傾斜角度は、5°〜20°程度に形成することができる。こうすれば、第1透明基材10の基面37bと突出面37aとが緩やかに接続されるため、第1電極層11aにおけるクラックや断線の発生を防止することができる。また、第1電極層11を形成する際に、突出面37a及び突出面37aが形成されていない第1透明基材10の基面37bに亘って、同一の工程で第1電極層11を形成することが容易であり、製造コストの低減につながる。   In the present embodiment, the protruding surface 37a and the base surface 37b of the first transparent base material 10 where the protruding surface 37a is not formed are connected by an inclined surface 37c. And the 1st electrode layer 11a is formed over the protrusion surface 37a, the inclined surface 37c, and the base surface 37b of a 1st transparent base material. In the present embodiment, the inclination angle of the inclined surface 37c can be formed to about 5 ° to 20 °. By so doing, the base surface 37b and the projecting surface 37a of the first transparent substrate 10 are gently connected, so that the occurrence of cracks and disconnections in the first electrode layer 11a can be prevented. Moreover, when forming the 1st electrode layer 11, the 1st electrode layer 11 is formed in the same process over the base surface 37b of the 1st transparent base material 10 in which the protrusion surface 37a and the protrusion surface 37a are not formed. It is easy to do and leads to reduction of manufacturing cost.

また、突出面37aは、第2透明基材20と略平行に対向する平坦面を有して形成されている。したがって、タッチ入力部31の領域内で電極間距離を均一に設けることが可能であり、操作面内における入力荷重のばらつきが抑制される。   Further, the protruding surface 37 a is formed to have a flat surface that faces the second transparent substrate 20 substantially in parallel. Therefore, the distance between the electrodes can be provided uniformly within the area of the touch input unit 31, and variations in the input load within the operation surface are suppressed.

タッチ入力部31における凸部35の高さは、特に限定されるものではないが、例えば配線部46の厚みに対して約1/2に形成することができる。こうすれば、タッチ入力部31における電極層間距離が1/2程度に小さくなり、入力荷重が十分に低減される。   Although the height of the convex part 35 in the touch input part 31 is not specifically limited, For example, it can form in about 1/2 with respect to the thickness of the wiring part 46. FIG. By doing so, the electrode interlayer distance in the touch input unit 31 is reduced to about ½, and the input load is sufficiently reduced.

なお、本実施形態において、タッチ入力部31が透光領域43と平面視でほぼ重なる場合について示したが、この態様に限らず、タッチ入力部31が非透光領域44の一部に形成されている場合などでも同様の効果を奏する。   In the present embodiment, the case where the touch input unit 31 substantially overlaps the translucent region 43 in plan view has been described. However, the present invention is not limited to this aspect, and the touch input unit 31 is formed in a part of the non-translucent region 44. The same effect is achieved even when

<スイッチ入力部>
図5には、図1のV−V線に対応する箇所で切断した入力装置1の断面図を示し、スイッチ入力部32付近の部分拡大断面図を示す。なお、図1に示すようにスイッチ入力部32が複数箇所に設けられる場合があるが、いずれも同様の構成であるため、1つのスイッチ入力部32について説明する。なお、本明細書において、スイッチ入力部32は、配線部46、47に囲まれた、第1電極層11bと第2電極層21bとが空間を設けて対向配置された領域とする。
<Switch input section>
FIG. 5 shows a cross-sectional view of the input device 1 cut at a location corresponding to the line VV in FIG. 1, and shows a partially enlarged cross-sectional view in the vicinity of the switch input portion 32. As shown in FIG. 1, there are cases where the switch input unit 32 is provided at a plurality of locations, but since all have the same configuration, only one switch input unit 32 will be described. In the present specification, the switch input unit 32 is a region surrounded by the wiring units 46 and 47 and in which the first electrode layer 11b and the second electrode layer 21b are arranged to face each other with a space.

図5に示すように、スイッチ入力部32において、第1透明基材10に形成された第1電極層11bと、第2透明基材20に形成された第2電極層21bとが、空間を設けて対向配置されている。   As shown in FIG. 5, in the switch input unit 32, the first electrode layer 11 b formed on the first transparent substrate 10 and the second electrode layer 21 b formed on the second transparent substrate 20 divide the space. It is provided and opposed.

また、図5に示すようにスイッチ入力部32の入力情報を引き出すための第1配線層12b及び第2配線層22bが形成されている。第1配線層12b及び第2配線層22bは、第1透明基材10及び第2透明基材20の対向する面に、平面視でほぼ重畳するように積層される。図3及び図5に示すように、第1配線層12bは、スイッチ入力部32を囲むように形成されるとともに第1電極層11bと接続されている。第2配線層22bについても同様に、第2電極層21bと接続されている。   Further, as shown in FIG. 5, a first wiring layer 12b and a second wiring layer 22b for extracting input information of the switch input unit 32 are formed. The first wiring layer 12b and the second wiring layer 22b are stacked so as to substantially overlap each other on the opposing surfaces of the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 in plan view. As shown in FIGS. 3 and 5, the first wiring layer 12b is formed so as to surround the switch input portion 32 and is connected to the first electrode layer 11b. Similarly, the second wiring layer 22b is connected to the second electrode layer 21b.

スイッチ入力部32の周囲には、第1透明基材10と第2透明基材20との間に配線部47が設けられている。また、配線部47は、第1配線層12a、12b、第2配線層22a、22b、レジスト層52、粘着層53等を有して構成される。図5に示すように、配線部47は、タッチ入力部31の配線部46と一部共通の部材で構成されており、また、スイッチ入力部32の近傍にはタッチ入力部31の配線部46が配置されている。配線部47の合計厚みは、タッチ入力部31の配線部46と同等の厚みで形成されている。   Around the switch input unit 32, a wiring unit 47 is provided between the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20. In addition, the wiring part 47 includes the first wiring layers 12a and 12b, the second wiring layers 22a and 22b, the resist layer 52, the adhesive layer 53, and the like. As shown in FIG. 5, the wiring unit 47 is configured by a partly common member with the wiring unit 46 of the touch input unit 31, and the wiring unit 46 of the touch input unit 31 is in the vicinity of the switch input unit 32. Is arranged. The total thickness of the wiring part 47 is formed with a thickness equivalent to that of the wiring part 46 of the touch input unit 31.

スイッチ入力部32の入力操作において、スイッチ入力部32の表面を押圧操作すると、加飾フィルム50及び第2透明基材20が第1透明基材10側に撓んで、対向する第1電極層11bと第2電極層21bとが接触する。この電極層どうしの接触によって、入力情報が検出される。   In the input operation of the switch input unit 32, when the surface of the switch input unit 32 is pressed, the decorative film 50 and the second transparent base material 20 are bent toward the first transparent base material 10 to face the first electrode layer 11b facing each other. And the second electrode layer 21b come into contact with each other. Input information is detected by contact between the electrode layers.

スイッチ入力部32の面積は指などで押圧可能な程度であり、タッチ入力部31よりも小さい面積で形成されている。そして、スイッチ入力部32は、タッチ入力部31と共通の第1透明基材10及び第2透明基材20を有して構成されている。そのため、従来例の入力装置101においては、タッチ入力部131と比較して、スイッチ入力部132の入力操作時に第2透明基材120及び加飾フィルム150をより大きく撓ませる必要があり、より大きな入力荷重が必要であるという課題があった。   The area of the switch input unit 32 is such that it can be pressed with a finger or the like, and is formed with an area smaller than that of the touch input unit 31. The switch input unit 32 includes the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 that are common to the touch input unit 31. Therefore, in the input device 101 of the conventional example, compared with the touch input unit 131, it is necessary to bend the second transparent base material 120 and the decorative film 150 more greatly during the input operation of the switch input unit 132, which is larger. There was a problem that an input load was necessary.

本実施形態において、タッチ入力部31と同様に、スイッチ入力部32には第2透明基材20に向かい突出する凸部36が形成されている。凸部36の突出面38a、及び突出面38aが形成されていない第1透明基材10の基部38bには第1電極層11bが形成されており、突出面38a及び基部38bに対向する第2透明基材20には第2電極層21bが形成されている。これにより、スイッチ入力部32の外周における電極層間の距離に対して、スイッチ入力部32における電極層間の距離が小さくなっているため、スイッチ入力部32の入力操作時において、第2透明基材20及び加飾フィルム50の変形量を小さくすることができる。したがって、スイッチ入力部32のように小さい面積の入力部においても、入力操作時における入力荷重を効果的に低減させることが可能となる。   In the present embodiment, like the touch input unit 31, the switch input unit 32 is formed with a convex portion 36 that protrudes toward the second transparent substrate 20. The first electrode layer 11b is formed on the projecting surface 38a of the convex portion 36 and the base portion 38b of the first transparent base material 10 where the projecting surface 38a is not formed, and the second electrode facing the projecting surface 38a and the base portion 38b. A second electrode layer 21 b is formed on the transparent substrate 20. Thereby, since the distance between the electrode layers in the switch input unit 32 is smaller than the distance between the electrode layers on the outer periphery of the switch input unit 32, the second transparent substrate 20 is input during the input operation of the switch input unit 32. And the deformation amount of the decorative film 50 can be made small. Therefore, even in an input unit with a small area such as the switch input unit 32, it is possible to effectively reduce the input load during the input operation.

また、本実施形態において、配線部47の合計厚みに対して、スイッチ入力部32における第1電極層11bと第2電極層21bとの距離を小さく形成することが可能となる。すなわち、配線部47を低背化することなくスイッチ入力部32における電極間距離を低減することができる。本実施形態においては、第1配線層12a、12b及び第2配線層22a、22bについて、それぞれ10μm〜20μm程度の厚みを確保することができることから、各配線層の抵抗値の増大や断線を防止して電気的接続信頼性が確保される。また、レジスト層52は20μm〜30μm程度の厚みを有して形成することが可能であり、対向する配線層間の電気的絶縁を確実に得ることができる。   Further, in the present embodiment, the distance between the first electrode layer 11b and the second electrode layer 21b in the switch input unit 32 can be reduced with respect to the total thickness of the wiring portion 47. That is, the distance between the electrodes in the switch input unit 32 can be reduced without reducing the height of the wiring unit 47. In the present embodiment, the first wiring layers 12a and 12b and the second wiring layers 22a and 22b can each have a thickness of about 10 μm to 20 μm, thereby preventing an increase in resistance value and disconnection of each wiring layer. Thus, electrical connection reliability is ensured. Further, the resist layer 52 can be formed with a thickness of about 20 μm to 30 μm, and electrical insulation between opposing wiring layers can be obtained with certainty.

スイッチ入力部32の入力荷重を低減させる方法として、例えば、スイッチ入力部32の面積を大きくする、あるいは第2透明基材20及び加飾フィルム50を薄くするなど剛性を下げる方法も検討された。しかしながら、スイッチ入力部32の面積を大きくすることは、入力装置1の小型化、狭額縁化に反するため、好ましくない。また、第2透明基材20及び加飾フィルム50の剛性を小さくすると、スイッチ入力部32の繰り返し入力操作によって、第2透明基材20のだれ、撓みが生じて、外観上の不具合や、入力機能の不具合が発生するおそれがある。   As a method of reducing the input load of the switch input unit 32, for example, a method of reducing the rigidity such as increasing the area of the switch input unit 32 or thinning the second transparent base material 20 and the decorative film 50 has been studied. However, it is not preferable to increase the area of the switch input unit 32 because it is contrary to downsizing and narrowing of the input device 1. Further, when the rigidity of the second transparent base material 20 and the decorative film 50 is reduced, the second transparent base material 20 is bent and bent due to the repeated input operation of the switch input unit 32, and the appearance defect and the input There is a risk of functional failures.

本実施形態の入力装置1においては、第1透明基材10に突出面38aを設けて、スイッチ入力部32において対向する電極層間の距離を小さくすることにより、配線部46、47における電気的信頼性を確保するとともにスイッチ入力部32における入力荷重を低減することができる。したがって、スイッチ入力部32の面積の拡大や第2透明基材20の剛性を小さくすることなく、スイッチ入力部32の入力荷重を低減することができる。これによれば、入力装置1の狭額縁化を実現でき、また、繰り返し入力による第2透明基材20の劣化を抑制することができ、入力装置1の耐久性、耐環境性の劣化や、外観上の不具合の発生、美観の劣化を抑制することができる。   In the input device 1 of the present embodiment, the first transparent base material 10 is provided with the projecting surface 38a, and the distance between the electrode layers facing each other in the switch input unit 32 is reduced, so that the electrical reliability in the wiring units 46 and 47 is achieved. The input load at the switch input unit 32 can be reduced while ensuring the performance. Therefore, the input load of the switch input unit 32 can be reduced without increasing the area of the switch input unit 32 and reducing the rigidity of the second transparent base material 20. According to this, narrowing of the frame of the input device 1 can be realized, deterioration of the second transparent base material 20 due to repeated input can be suppressed, durability of the input device 1 and deterioration of environmental resistance, Occurrence of defects in appearance and deterioration of aesthetics can be suppressed.

スイッチ入力部32における凸部36の高さは、特に限定されるものではないが、例えば配線部47の厚みに対して約1/2程度に形成することができる。こうすれば、スイッチ入力部32における電極層間距離が1/2程度に小さくできるため、入力面積の小さなスイッチ入力部32においては、効果的に入力荷重が低減される。   The height of the convex portion 36 in the switch input portion 32 is not particularly limited, but can be formed to be about ½ of the thickness of the wiring portion 47, for example. By doing so, the electrode interlayer distance in the switch input section 32 can be reduced to about ½, so that the input load is effectively reduced in the switch input section 32 having a small input area.

また、図4に示すタッチ入力部31と同様に、スイッチ入力部32においても、突出面38aと、突出面38aが形成されていない第1透明基材10の基面38bとは、傾斜面38cで接続されており、第1電極層11bは、突出面38aの形成されていない第1透明基材10の基面38b、傾斜面38c、及び突出面38aに亘って形成されている。傾斜面38cを設けることにより、第1電極層11bのクラックや断線等の発生を抑制して確実に電気的接続を行うことが可能となる。   Similarly to the touch input unit 31 shown in FIG. 4, also in the switch input unit 32, the projecting surface 38a and the base surface 38b of the first transparent base material 10 on which the projecting surface 38a is not formed are inclined surfaces 38c. The first electrode layer 11b is formed across the base surface 38b, the inclined surface 38c, and the protruding surface 38a of the first transparent substrate 10 on which the protruding surface 38a is not formed. By providing the inclined surface 38c, it is possible to reliably perform electrical connection while suppressing the occurrence of cracks and disconnections in the first electrode layer 11b.

さらに、突出面38aは第2透明基材20と略平行に、かつ、平坦な面で形成されていることが好ましい。また、配線部47はスイッチ入力部32を囲むように形成されている。これにより、スイッチ入力部32の領域内で電極間距離を均一に維持ことが可能であり、操作面内における入力感度のばらつきが抑制される。また、配線部47を周囲に形成することで、スイッチ入力部32の領域内における電圧の分布を小さくして、入力感度のばらつきを小さくすることができる。   Furthermore, it is preferable that the protruding surface 38a is formed as a flat surface substantially parallel to the second transparent substrate 20. The wiring part 47 is formed so as to surround the switch input part 32. As a result, the distance between the electrodes can be kept uniform within the area of the switch input section 32, and variations in input sensitivity within the operation surface are suppressed. Further, by forming the wiring part 47 around, the voltage distribution in the area of the switch input part 32 can be reduced, and the variation in input sensitivity can be reduced.

図5に示すように、本実施形態の配線部47において、第1粘着層53はレジスト層52と段差を有するように積層されている。第1粘着層53の内端部は、レジスト層52の内端部よりも、スイッチ入力部32から離間する位置に設けられている。スイッチ入力部32は小さい面積で形成されているため、配線部47近傍のスイッチ入力部32において、より大きく加飾フィルム50及び第2透明基材20を変形させる必要があり、入力荷重が大きくなる傾向がある。図5に示す構成によれば、スイッチ入力部32近傍の配線部47の厚みを小さくすることができるため、スイッチ入力部32の配線部47近傍においても、入力荷重を低減して入力操作を行うことができる。したがって、スイッチ入力部32の有効利用可能な領域を大きくすることが可能である。なお、このような構成であっても、第1配線層12a、12b、第2配線層22a、22b及びレジスト層52の構成は、薄層化、狭幅化されないため、電気的接続信頼性、及び絶縁は確保される。   As shown in FIG. 5, in the wiring portion 47 of this embodiment, the first adhesive layer 53 is laminated so as to have a step with the resist layer 52. The inner end portion of the first adhesive layer 53 is provided at a position farther from the switch input portion 32 than the inner end portion of the resist layer 52. Since the switch input part 32 is formed with a small area, it is necessary to deform the decorative film 50 and the second transparent base material 20 in the switch input part 32 in the vicinity of the wiring part 47, and the input load increases. Tend. According to the configuration shown in FIG. 5, the thickness of the wiring portion 47 in the vicinity of the switch input portion 32 can be reduced. Therefore, even in the vicinity of the wiring portion 47 of the switch input portion 32, an input operation is performed with a reduced input load. be able to. Therefore, it is possible to increase the area where the switch input unit 32 can be effectively used. Even in such a configuration, the configuration of the first wiring layers 12a and 12b, the second wiring layers 22a and 22b, and the resist layer 52 is not thinned or narrowed. And insulation is ensured.

このような配線部47の構成は、図4に示すタッチ入力部31に適用することも可能であり、同様にタッチ入力部31の周縁部における入力荷重が低減される。   Such a configuration of the wiring portion 47 can also be applied to the touch input unit 31 shown in FIG. 4, and the input load at the peripheral portion of the touch input unit 31 is similarly reduced.

本実施形態の入力装置1において、第1透明基材10はPCやPMMA等の樹脂材料を用いて射出成形によって形成することができる。したがって、凸部35及び凸部36は第1透明基材10の基部と同じ工程で射出成形法により形成される。射出成形法で形成することにより、凸部35及び凸部36の突出量や形状を制御することが容易であり、タッチ入力部31及びスイッチ入力部32における電極層間の距離を適切に制御することができる。また、射出成形法で形成することにより、金型を変更することで容易に凸部35及び凸部36を形成することが可能であり、その他の製造工程に大きな変更を要せず従来と同様の工程で製造することができる。これにより、製造コストの増大を抑制できる。   In the input device 1 of the present embodiment, the first transparent substrate 10 can be formed by injection molding using a resin material such as PC or PMMA. Therefore, the convex part 35 and the convex part 36 are formed by the injection molding method in the same process as the base part of the first transparent substrate 10. By forming by the injection molding method, it is easy to control the protruding amount and shape of the convex portion 35 and the convex portion 36, and appropriately control the distance between the electrode layers in the touch input portion 31 and the switch input portion 32. Can do. In addition, by forming by the injection molding method, it is possible to easily form the convex portions 35 and the convex portions 36 by changing the mold, and the other manufacturing processes do not require major changes and are the same as the conventional ones. It can be manufactured by the process. Thereby, the increase in manufacturing cost can be suppressed.

<スイッチ入力部の変形例>
図6には、本実施形態の入力装置1の変形例を示し、特にスイッチ入力部32の部分拡大断面図を示す。本実施形態においては、スイッチ入力部32の第1電極層11bに第3電極層39が積層されている。このような構成であっても、スイッチ入力部32の外周における電極層間距離に対して、スイッチ入力部32において対向する電極層間の距離を小さくすることができることから、入力荷重を低減させることができる。また、配線部47を低背化することなく、スイッチ入力部32における入力荷重が低減されることから、配線部47の電気的信頼性を確保することができる。
<Modification of switch input unit>
FIG. 6 shows a modified example of the input device 1 of the present embodiment, and particularly shows a partially enlarged sectional view of the switch input unit 32. In the present embodiment, the third electrode layer 39 is laminated on the first electrode layer 11 b of the switch input unit 32. Even in such a configuration, the distance between the electrode layers facing each other in the switch input unit 32 can be reduced with respect to the distance between the electrode layers in the outer periphery of the switch input unit 32, and thus the input load can be reduced. . In addition, since the input load at the switch input unit 32 is reduced without reducing the height of the wiring unit 47, the electrical reliability of the wiring unit 47 can be ensured.

また、図6においては、第3電極層39は第1透明基材10側に形成されているが、第1透明基材10と第2透明基材20との両方に形成しても良い。この場合、スイッチ入力部32における電極層間の距離がさらに小さくなるため、より入力荷重が低減される。   In FIG. 6, the third electrode layer 39 is formed on the first transparent substrate 10 side, but may be formed on both the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20. In this case, since the distance between the electrode layers in the switch input unit 32 is further reduced, the input load is further reduced.

第3電極層39は、例えば導電性材料を含む印刷インクを用いて、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法等により形成することができる。また、透明導電性材料を用いてタッチ入力部31に適用して、タッチ入力部31における電極層間の距離を小さくすることも可能である。   The third electrode layer 39 can be formed by using a printing ink containing a conductive material, for example, by a screen printing method or an inkjet printing method. Further, the distance between the electrode layers in the touch input unit 31 can be reduced by applying the transparent conductive material to the touch input unit 31.

1 入力装置
10 第1透明基材
11、11a、11b 第1電極層
12、12a、12b 第1配線層
20 第2透明基材
21、21a、21b 第2電極層
22、22a、22b 第2配線層
31 タッチ入力部
32 スイッチ入力部
35、36 凸部
37a、38a 突出面
37b、38b 基面
37c、38c 傾斜面
39 第3電極層
43 透光領域
44 非透光領域
46、47 配線部
50 加飾フィルム
52 レジスト層
53 第1粘着層
54 第2粘着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Input device 10 1st transparent base material 11, 11a, 11b 1st electrode layer 12, 12a, 12b 1st wiring layer 20 2nd transparent base material 21, 21a, 21b 2nd electrode layer 22, 22a, 22b 2nd wiring Layer 31 Touch input unit 32 Switch input unit 35, 36 Protruding part 37a, 38a Projecting surface 37b, 38b Base surface 37c, 38c Inclined surface 39 Third electrode layer 43 Translucent region 44 Non-transparent region 46, 47 Wiring unit 50 Addition Decorative film 52 Resist layer 53 First adhesive layer 54 Second adhesive layer

Claims (9)

第1透明基材と、
前記第1透明基材に形成された第1電極層と、
前記第1透明基材の入力面側に対向配置された第2透明基材と、
前記第2透明基材に形成された第2電極層と、を有し、
前記第1電極層と前記第2電極層とが空間を設けて対向するように前記第1透明基材と前記第2透明基材とが配置されており、
前記第1透明基材及び前記第2透明基材には、押圧操作により入力可能な入力部が形成されており、
前記第1電極層及び前記第2電極層は前記入力部及び前記入力部の外周に形成されており、
前記入力部の外周における前記第1電極層と前記第2電極層との距離に対して、
前記入力部における前記第1電極層と前記第2電極層との距離が小さいことを特徴とする入力装置。
A first transparent substrate;
A first electrode layer formed on the first transparent substrate;
A second transparent substrate disposed opposite to the input surface side of the first transparent substrate;
A second electrode layer formed on the second transparent substrate,
The first transparent substrate and the second transparent substrate are arranged so that the first electrode layer and the second electrode layer are opposed to each other with a space,
The first transparent base material and the second transparent base material are formed with an input portion that can be input by a pressing operation,
The first electrode layer and the second electrode layer are formed on the outer periphery of the input unit and the input unit,
For the distance between the first electrode layer and the second electrode layer on the outer periphery of the input unit,
The input device according to claim 1, wherein a distance between the first electrode layer and the second electrode layer in the input unit is small.
前記入力部の外周において、前記第1透明基材と前記第2透明基材との間には配線部が設けられており、
前記配線部は、前記第1電極層に接続された第1配線層と、前記第2電極層に接続された第2配線層と、前記第1透明基材と前記第2透明基材とを貼り合わせるための粘着層と、を有して構成される積層体であり、
前記配線部の厚さに対して、前記入力部における前記第1電極層と前記第2電極層との距離が小さいことを特徴とする請求項1に記載の入力装置。
In the outer periphery of the input part, a wiring part is provided between the first transparent base material and the second transparent base material,
The wiring portion includes a first wiring layer connected to the first electrode layer, a second wiring layer connected to the second electrode layer, the first transparent base material, and the second transparent base material. An adhesive layer for bonding, and a laminated body comprising
The input device according to claim 1, wherein a distance between the first electrode layer and the second electrode layer in the input unit is smaller than a thickness of the wiring unit.
前記第1透明基材の前記入力部には、前記第2透明基材に向かい突出する突出面が形成されており、少なくとも前記突出面には前記第1電極層が形成されていることを特徴とする請求項2に記載の入力装置。   The input portion of the first transparent substrate is formed with a protruding surface protruding toward the second transparent substrate, and at least the first electrode layer is formed on the protruding surface. The input device according to claim 2. 前記突出面と、前記第1透明基材の基面とは、傾斜面で接続されており、前記第1電極層は前記突出面、前記傾斜面、及び前記第1透明基材の前記基面に亘って形成されていることを特徴とする請求項3に記載の入力装置。   The projecting surface and the base surface of the first transparent substrate are connected by an inclined surface, and the first electrode layer includes the projecting surface, the inclined surface, and the base surface of the first transparent substrate. The input device according to claim 3, wherein the input device is formed over the entire area. 前記突出面に形成された前記第1電極層と前記突出面に対向する前記第2電極層との距離は、前記第1透明基材の基面に形成された前記第1電極層と該基面に対向する前記第2電極層との距離よりも小さいことを特徴とする請求項3または請求項4に記載の入力装置。   The distance between the first electrode layer formed on the projecting surface and the second electrode layer facing the projecting surface is the same as the distance between the first electrode layer formed on the base surface of the first transparent substrate and the base. The input device according to claim 3, wherein the input device is smaller than a distance to the second electrode layer facing the surface. 前記突出面は、前記第2透明基材に対して略平行な平坦面を有して形成されていることを特徴とする請求項3から請求項5のいずれか1項に記載の入力装置。   The input device according to claim 3, wherein the projecting surface is formed to have a flat surface substantially parallel to the second transparent base material. 前記配線部は、前記入力部を囲むように設けられていることを特徴とする請求項2から請求項6に記載の入力装置。   The input device according to claim 2, wherein the wiring unit is provided so as to surround the input unit. 前記第1透明基材及び前記第2透明基材には、枠状の非透光領域と、前記非透光領域の内方の透光領域とが形成されており、
前記入力部は、前記非透光領域の一部に形成されたスイッチ入力部であることを特徴とする、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の入力装置。
The first transparent base material and the second transparent base material are formed with a frame-shaped non-light-transmitting region and an inner light-transmitting region of the non-light-transmitting region,
The input device according to any one of claims 1 to 7, wherein the input unit is a switch input unit formed in a part of the non-light-transmitting region.
前記第1透明基材及び前記第2透明基材には、枠状の非透光領域と、前記非透光領域の内方の透光領域とが形成されており、
前記入力部は、前記透光領域に形成されたタッチ入力部であることを特徴とする、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の入力装置。
The first transparent base material and the second transparent base material are formed with a frame-shaped non-light-transmitting region and an inner light-transmitting region of the non-light-transmitting region,
The input device according to claim 1, wherein the input unit is a touch input unit formed in the translucent region.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2019044800A1 (en) * 2017-09-01 2020-08-13 パナソニックIpマネジメント株式会社 Touch panel
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