JP2013113607A - Semiconductor device and testing method for the same - Google Patents

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Katsuhide Matsumoto
勝秀 松本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve such a problem that when performing a DC test of a semiconductor device provided with an output circuit including an AC coupling part in a data signal line, amplitude cannot be maintained, and thereby, a semiconductor device provided with an output circuit including an AC coupling part in a data signal line and capable of achieving a DC test is desired.SOLUTION: A semiconductor device includes: a main driver for outputting a data signal to the external; an AC coupling part including a capacitor connected to a wire for transmitting the data signal, a termination resistor whose one-end is connected to the capacitor and the other end is connected to a bias voltage source and a first switch connected between the bias voltage source and the termination resistor; and a control circuit for cutting off connection between the bias voltage source of the AC coupling part and the termination resistor by a first switch in a test mode.

Description

本発明は、半導体装置及びそのテスト方法に関する。特に、出力回路を備える半導体装置及びそのテスト方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor device and a test method thereof. In particular, the present invention relates to a semiconductor device including an output circuit and a test method thereof.

半導体装置の製造工程では、製造した半導体装置の性能を確認するテスト工程が不可欠である。半導体装置のテスト工程は、DC(直流)テストとAC(交流)テストに大別される。DCテストは、半導体装置の静特性を確認するための試験である。より具体的には、入出力バッファの電圧・電流特性を保証するためにDCテストが実施される。ACテストは、半導体装置の動特性を確認するための試験である。より具体的には、半導体装置の機能(信号出力)を確認するために実施される。   In the manufacturing process of a semiconductor device, a test process for confirming the performance of the manufactured semiconductor device is indispensable. The test process of a semiconductor device is roughly divided into a DC (direct current) test and an AC (alternating current) test. The DC test is a test for confirming the static characteristics of the semiconductor device. More specifically, a DC test is performed to guarantee the voltage / current characteristics of the input / output buffer. The AC test is a test for confirming the dynamic characteristics of the semiconductor device. More specifically, it is performed to confirm the function (signal output) of the semiconductor device.

ここで、特許文献1において、多端子の半導体装置のDCテストを少数端子のLSIテスタで行うことで、テストにかかる費用を低減するDCテスト回路が開示されている。   Here, Patent Document 1 discloses a DC test circuit that reduces the cost of testing by performing a DC test of a multi-terminal semiconductor device using an LSI tester with a small number of terminals.

特開2000−258505号公報JP 2000-258505 A

なお、上記先行技術文献の開示を、本書に引用をもって繰り込むものとする。以下の分析は、本発明の観点からなされたものである。   The disclosure of the above prior art document is incorporated herein by reference. The following analysis has been made from the viewpoint of the present invention.

ノイズに対する耐性等を考慮すると、通信データ等は差動構成で送受信されることが多い。そのため、出力側の半導体装置では、その内部回路で生成された信号を受け付けるプリドライバと差動対から構成されるメインドライバの間にAC結合部を備えることが多い。AC結合部は、AC成分を抽出し、メインドライバに供給する。   In consideration of noise immunity, communication data and the like are often transmitted and received in a differential configuration. For this reason, an output-side semiconductor device often includes an AC coupling unit between a pre-driver that receives a signal generated by its internal circuit and a main driver that includes a differential pair. The AC coupling unit extracts the AC component and supplies it to the main driver.

さらに、AC結合部をレベルシフタとして動作させ、異なる電源電圧で動作する半導体装置間の接続を可能にすることがある。AC結合部を利用したレベルシフタであれば、電源電圧の変換に伴う消費電力を減少させることができるためである。   Further, the AC coupling unit may be operated as a level shifter to enable connection between semiconductor devices operating with different power supply voltages. This is because the level shifter using the AC coupling unit can reduce the power consumption accompanying the conversion of the power supply voltage.

しかし、AC結合部を含む半導体装置のDCテストの実施には問題がある。半導体装置は内部回路で生成した信号をプリドライバで受け付け、AC結合部でAC成分を抽出し、メインドライバを経由して、出力端子からデータを出力する。その際に、AC結合部にはコンデンサが含まれるため、DCパスが消滅してしまう。DCパスが存在しないと、半導体装置の出力端子では、その振幅を維持することができず、正常なDCテストを実施することができない。   However, there is a problem in performing a DC test of a semiconductor device including an AC coupling unit. The semiconductor device receives a signal generated by an internal circuit by a pre-driver, extracts an AC component by an AC coupling unit, and outputs data from an output terminal via a main driver. At this time, since the AC coupling unit includes a capacitor, the DC path disappears. If the DC path does not exist, the amplitude cannot be maintained at the output terminal of the semiconductor device, and a normal DC test cannot be performed.

そこで、AC結合部に含まれるコンデンサにスイッチを設け、DCテスト時にスイッチをオンし、DCパスを確保する対策が、発明者らにより検討された。しかし、このような対策では、信号を伝達するノードにおける寄生容量が増加し、高い周波数を持つ信号の品質が劣化し、ACテストの実施に支障が生じる。なお、DCパスが存在しない場合に、半導体装置の出力端子で振幅を維持できない理由、及び、コンデンサを追加することによってDCパスを確保する対策ではACテストの実施に支障が生じる理由、については後述する。   In view of this, the inventors have studied a countermeasure for securing a DC path by providing a switch in a capacitor included in the AC coupling unit and turning on the switch during a DC test. However, such a measure increases parasitic capacitance at a node that transmits a signal, degrades the quality of a signal having a high frequency, and hinders execution of an AC test. The reason why the amplitude cannot be maintained at the output terminal of the semiconductor device when there is no DC path, and the reason why the AC test is hindered by the measures for securing the DC path by adding a capacitor will be described later. To do.

そのため、データ信号ラインにAC結合部が含まれる出力回路を備える半導体装置であって、DCテストを可能にする半導体装置及びそのテスト方法が、望まれる。   Therefore, a semiconductor device including an output circuit in which an AC coupling unit is included in a data signal line, which enables a DC test and a test method thereof are desired.

本発明の第1の視点によれば、データ信号を外部に出力するメインドライバと、前記データ信号が伝達する配線と接続されているコンデンサと、一端が前記コンデンサと接続され、他の一端がバイアス電圧源に接続されている終端抵抗と、前記バイアス電圧源と前記終端抵抗との間に接続されている第1のスイッチと、を含むAC結合部と、テストモード時に前記AC結合部の前記バイアス電圧源と前記終端抵抗との接続を、前記第1のスイッチにより遮断する制御回路と、を備える半導体装置が提供される。   According to the first aspect of the present invention, a main driver for outputting a data signal to the outside, a capacitor connected to a wiring for transmitting the data signal, one end connected to the capacitor, and the other end biased An AC coupling unit including a termination resistor connected to a voltage source and a first switch connected between the bias voltage source and the termination resistor; and the bias of the AC coupling unit in a test mode There is provided a semiconductor device comprising: a control circuit that cuts off a connection between a voltage source and the termination resistor by the first switch.

本発明の第2の視点によれば、データ信号を外部に出力するメインドライバと、前記データ信号が伝達する配線と接続されているコンデンサと、一端が前記コンデンサと接続され、他の一端がバイアス電圧源に接続されている終端抵抗と、を含むAC結合部と、を備える半導体装置のテスト方法であって、DCテストの実施の際に、前記データ信号のデータレートを、前記コンデンサと前記終端抵抗から決定される時定数よりも長く設定する工程と、前記データ信号が、DCテストの測定の対象となっている論理レベルに遷移した際に、前記バイアス電圧源と前記終端抵抗との接続を遮断する工程と、を含む半導体装置のテスト方法が提供される。   According to the second aspect of the present invention, a main driver for outputting a data signal to the outside, a capacitor connected to a wiring for transmitting the data signal, one end connected to the capacitor, and the other end biased A test method for a semiconductor device comprising: an AC coupling unit including a termination resistor connected to a voltage source, wherein when performing a DC test, the data rate of the data signal is determined by the capacitor and the termination. A step of setting a time constant longer than a time constant determined from a resistor, and when the data signal transitions to a logic level to be measured by a DC test, connection between the bias voltage source and the termination resistor is established. A method of testing the semiconductor device, including the step of blocking.

本発明の各視点によれば、データ信号ラインにAC結合部が含まれる出力回路を備える半導体装置であって、DCテストを可能にする半導体装置及びそのテスト方法が、提供される。   According to each aspect of the present invention, a semiconductor device including an output circuit in which an AC coupling unit is included in a data signal line, and a semiconductor device that enables a DC test and a test method thereof are provided.

本発明の一実施形態の概要を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the outline | summary of one Embodiment of this invention. 半導体装置1を含んで構成されるテストシステムの一例を示す図である。1 is a diagram illustrating an example of a test system including a semiconductor device 1. 半導体装置1の内部構成の一例を示す図である。2 is a diagram illustrating an example of an internal configuration of a semiconductor device 1. FIG. 半導体装置1に対してDCテストを実施する際の波形の一例を示す図である。6 is a diagram illustrating an example of a waveform when a DC test is performed on a semiconductor device 1; FIG. 半導体装置4を含んで構成されるテストシステムの一例を示す図である。1 is a diagram illustrating an example of a test system including a semiconductor device 4. 半導体装置4の内部構成の一例を示す図である。2 is a diagram illustrating an example of an internal configuration of a semiconductor device 4. FIG. 本発明の第1の実施形態に係る半導体装置5を含んで構成されるテストシステムの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the test system comprised including the semiconductor device 5 which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 半導体装置5の内部構成の一例を示す図である。2 is a diagram illustrating an example of an internal configuration of a semiconductor device 5. FIG. 半導体装置5の通常動作モードにおける動作の一例を示す図である。6 is a diagram illustrating an example of an operation in a normal operation mode of the semiconductor device 5. FIG. 半導体装置5のDCテストモードにおける動作の一例を示す図である。6 is a diagram illustrating an example of an operation in a DC test mode of the semiconductor device 5. FIG. メインドライバ30への供給電圧と出力電圧との関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between a supply voltage to the main driver 30 and an output voltage. 本発明の第2の実施形態に係る半導体装置6を含んで構成されるテストシステムの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the test system comprised including the semiconductor device 6 which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 半導体装置6の内部構成の一例を示す図である。2 is a diagram illustrating an example of an internal configuration of a semiconductor device 6. FIG. AC結合終端部231の内部構成の一例を示す図である。3 is a diagram illustrating an example of an internal configuration of an AC coupling termination unit 231. FIG. 制御回路60の動作の一例を示す図である。5 is a diagram illustrating an example of the operation of a control circuit 60. FIG. 半導体装置6のテストモードにおける動作の一例を示す図である。6 is a diagram illustrating an example of an operation in a test mode of the semiconductor device 6. FIG. 本発明の第3の実施形態に係る半導体装置7に含まれているAC結合終端部231aの内部構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the internal structure of AC coupling | bond termination part 231a contained in the semiconductor device 7 which concerns on the 3rd Embodiment of this invention.

初めに、図1を用いて一実施形態の概要について説明する。なお、この概要に付記した図面参照符号は、理解を助けるための一例として各要素に便宜上付記したものであり、本発明を図示の態様に限定することを意図するものではない。   First, an outline of an embodiment will be described with reference to FIG. Note that the reference numerals of the drawings attached to this summary are attached to the respective elements for convenience as an example for facilitating understanding, and are not intended to limit the present invention to the illustrated embodiment.

上述のように、データ信号ラインにAC結合部が含まれる出力回路を備える半導体装置のDCテストの実施には問題がある。そのため、データ信号ラインにAC結合部が含まれる出力回路を備える半導体装置であって、DCテストを可能にする半導体装置が、望まれる。   As described above, there is a problem in performing a DC test of a semiconductor device including an output circuit in which an AC coupling unit is included in a data signal line. Therefore, a semiconductor device that includes an output circuit in which an AC coupling unit is included in the data signal line and that enables a DC test is desired.

そこで、一例として図1に示す半導体装置100を提供する。図1に示す半導体装置100は、データ信号を外部に出力するメインドライバ101と、データ信号が伝達する配線と接続されているコンデンサCと、一端がコンデンサCと接続され、他の一端がバイアス電圧源に接続されている終端抵抗RTと、バイアス電圧源と終端抵抗RTとの間に接続されている第1のスイッチSWと、を含むAC結合部102と、テストモード時にAC結合部102のバイアス電圧源と終端抵抗RTとの接続を、第1のスイッチSWにより遮断する制御回路103と、を備える。   Therefore, as an example, the semiconductor device 100 illustrated in FIG. 1 is provided. A semiconductor device 100 shown in FIG. 1 includes a main driver 101 that outputs a data signal to the outside, a capacitor C that is connected to a wiring that transmits the data signal, one end connected to the capacitor C, and the other end connected to a bias voltage. AC coupling unit 102 including a termination resistor RT connected to the source, and a first switch SW connected between the bias voltage source and the termination resistor RT, and a bias of the AC coupling unit 102 in the test mode And a control circuit 103 that disconnects the connection between the voltage source and the termination resistor RT by the first switch SW.

制御回路103は、DCテストを実施する際には、第1のスイッチSWを使用して、バイアス電圧源と終端抵抗RTとの接続を遮断する。その結果、コンデンサCの容量値と終端抵抗RTの抵抗値から定まるAC結合部102の時定数が大きくなる。時定数が大きくなれば、データ信号が変化してから電圧が収束するまでの時間が長くなる。そこで、メインドライバ101から出力されるデータ信号の振幅が一定の電圧に収束する前にDC測定を実施する(DCテストを行う)。以上のとおり、データ信号ラインにAC結合部102が含まれる半導体装置100であっても、DCテストの実施が可能である。   When performing the DC test, the control circuit 103 uses the first switch SW to cut off the connection between the bias voltage source and the termination resistor RT. As a result, the time constant of the AC coupling unit 102 determined from the capacitance value of the capacitor C and the resistance value of the termination resistor RT increases. As the time constant increases, the time from when the data signal changes until the voltage converges becomes longer. Therefore, DC measurement is performed (DC test is performed) before the amplitude of the data signal output from the main driver 101 converges to a constant voltage. As described above, the DC test can be performed even in the semiconductor device 100 in which the AC coupling unit 102 is included in the data signal line.

本発明において下記の形態が可能である。   In the present invention, the following modes are possible.

[形態1]上記第1の視点に係る半導体装置のとおりである。   [Mode 1] As in the semiconductor device according to the first aspect.

[形態2]前記制御回路は、半導体装置のDCテストの実施時には、前記第1のスイッチをオフし、半導体装置の通常動作モード時及び半導体装置のACテストの実施時には、前記第1のスイッチをオンすることが好ましい。   [Mode 2] The control circuit turns off the first switch when the DC test of the semiconductor device is performed, and turns the first switch off during the normal operation mode of the semiconductor device and the AC test of the semiconductor device. It is preferable to turn it on.

[形態3]前記AC結合部は、一端が、前記バイアス電圧源と前記終端抵抗の接続ノードに接続されている第1の抵抗と、一端が、前記接続ノード及び前記第1の抵抗と接続されている第2の抵抗と、第1の電圧源と前記第1の抵抗の間に配置される第2のスイッチと、前記第2の抵抗の両端に接続される第3のスイッチと、を含んで構成され、前記制御回路は、DCテストを実施する際に前記第2のスイッチをオンすると共に、前記メインドライバから出力するデータ信号の論理レベルに応じて前記第3のスイッチのオン・オフを決定することが好ましい。   [Mode 3] The AC coupling unit has one end connected to a connection node between the bias voltage source and the termination resistor, and one end connected to the connection node and the first resistor. And a second switch disposed between the first voltage source and the first resistor, and a third switch connected across the second resistor. The control circuit turns on the second switch when performing a DC test, and turns on / off the third switch according to the logic level of the data signal output from the main driver. It is preferable to determine.

[形態4]前記AC結合部は、一端が、前記バイアス電圧源と前記終端抵抗の接続ノードに接続されている第3の抵抗と、第1の電源と前記第3の抵抗の間に直列に配置される第4の抵抗と、前記第4の抵抗の両端に接続される第4のスイッチと、前記第3の抵抗の他の一端と接続される第1のMOSトランジスタと、を含んで構成され、さらに、前記第1のMOSトランジスタとカレントミラー回路を構成する第2のMOSトランジスタを含む基準電流生成部を備え、前記制御回路は、DCテストを実施する際に前記メインドライバから出力するデータ信号の論理レベルに応じて前記第4のスイッチのオン・オフを決定することが好ましい。   [Mode 4] The AC coupling unit has one end connected in series between a third resistor connected to a connection node between the bias voltage source and the termination resistor, and a first power source and the third resistor. A fourth resistor arranged; a fourth switch connected to both ends of the fourth resistor; and a first MOS transistor connected to the other end of the third resistor. And a reference current generation unit including a second MOS transistor that forms a current mirror circuit with the first MOS transistor, and the control circuit outputs data output from the main driver when performing a DC test. It is preferable to determine whether the fourth switch is turned on or off according to the logic level of the signal.

[形態5]上記第2の視点に係る半導体装置のテスト方法のとおりである。   [Mode 5] The test method of the semiconductor device according to the second aspect.

以下に具体的な実施の形態について、図面を参照してさらに詳しく説明する。   Hereinafter, specific embodiments will be described in more detail with reference to the drawings.

初めに、AC結合部を含む半導体装置1について説明する。   First, the semiconductor device 1 including the AC coupling portion will be described.

図2は、半導体装置1を含んで構成されるテストシステムの一例を示す図である。図2に示すテストシステムは、半導体装置1と、テスタ2と、テストボード3から構成されている。   FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a test system including the semiconductor device 1. The test system shown in FIG. 2 includes a semiconductor device 1, a tester 2, and a test board 3.

半導体装置1は、テストボード3を介してテスタ2に接続されている。より具体的には、半導体装置1の出力端子TXP及びTXNから出力される信号をテスタ2に含まれるテスタCH51及び52と、PMU(Power Management Unit)53及び54で受け付け、DCテストを行う。   The semiconductor device 1 is connected to the tester 2 via the test board 3. More specifically, signals output from the output terminals TXP and TXN of the semiconductor device 1 are received by testers CH51 and 52 and PMUs (Power Management Units) 53 and 54 included in the tester 2, and a DC test is performed.

半導体装置1には、プリドライバ10と、AC結合部20と、メインドライバ30と、バイアス回路40と、が含まれている。   The semiconductor device 1 includes a pre-driver 10, an AC coupling unit 20, a main driver 30, and a bias circuit 40.

プリドライバ10は電圧VDDD領域に、メインドライバ30は電圧VDDIO1領域に、それぞれ配置される。AC結合部20は、電圧VDDD領域と電圧VDDIO1領域の境界に配置される。プリドライバ10には、出力端子TXP及びTXNから出力する差動信号を生成するためのメイン信号及びポスト信号が入力される。なお、ポスト信号とは、メイン信号を1ビットシフト(遅延)させた信号である。このメイン信号及びポスト信号を使って、出力データの論理が変化した時は振幅を強調して出力し、出力データの論理が遷移しない時は振幅を減衰させて出力するエンファシス機能を実現する。   The pre-driver 10 is disposed in the voltage VDDD region, and the main driver 30 is disposed in the voltage VDDIO1 region. AC coupling unit 20 is arranged at the boundary between voltage VDDD region and voltage VDDIO1 region. The pre-driver 10 receives a main signal and a post signal for generating a differential signal output from the output terminals TXP and TXN. The post signal is a signal obtained by shifting (delaying) the main signal by 1 bit. The main signal and the post signal are used to realize an emphasis function in which the amplitude is emphasized and output when the logic of the output data changes, and the output is attenuated and output when the logic of the output data does not transition.

バイアス回路40は、AC結合部20に電圧VTT1を供給する(バイアス電圧を供給する)。   The bias circuit 40 supplies the voltage VTT1 to the AC coupling unit 20 (supplying a bias voltage).

図3は、半導体装置1の内部構成の一例を示す図である。   FIG. 3 is a diagram illustrating an example of the internal configuration of the semiconductor device 1.

プリドライバ10には、バッファB01〜B04が含まれている。バッファB01〜B04は、それぞれ半導体装置1の内部回路に接続されたノードS01〜S04から信号(メイン信号及びポスト信号)を受け付け、ノードS11〜S14に出力する。バッファB01〜B04は、CMOSバッファであって、SOX(シングルオキサイド構造)トランジスタにより構成されることが好ましい。   The pre-driver 10 includes buffers B01 to B04. The buffers B01 to B04 receive signals (main signal and post signal) from the nodes S01 to S04 connected to the internal circuit of the semiconductor device 1, and output the signals to the nodes S11 to S14. The buffers B01 to B04 are CMOS buffers and are preferably configured by SOX (single oxide structure) transistors.

AC結合部20には、コンデンサC01〜C04と終端抵抗RT01〜RT04が含まれている。コンデンサC01〜C04は、AC結合容量である。AC結合部20では、ノードS11〜S14の信号からAC成分を抽出すると共に、終端抵抗RT01〜RT04によりレベルシフトを施し、メインドライバ30に出力する。   The AC coupling unit 20 includes capacitors C01 to C04 and termination resistors RT01 to RT04. Capacitors C01 to C04 are AC coupling capacitors. The AC coupling unit 20 extracts the AC component from the signals of the nodes S11 to S14, performs level shift by the termination resistors RT01 to RT04, and outputs them to the main driver 30.

メインドライバ30には、Nチャンネル型MOSトランジスタN01〜N04と、定電流源CI01及びCI02が含まれている。Nチャンネル型MOSトランジスタN01及びN02によりメイン信号用の差動対を構成し、Nチャンネル型MOSトランジスタN03及びN04によりポスト信号用の差動対を構成する。Nチャンネル型MOSトランジスタN01〜N04には、MOX(マルチオキサイド構造)トランジスタを用いることが好ましい。メイン信号及びポスト信号を用いることで、メインドライバ30からは、4種類のレベルが出力可能である。メインドライバ30は、AC結合部20が出力する信号を受け付け、出力端子TXPから非反転信号を、出力端子TXNから反転信号を、それぞれ出力する。   The main driver 30 includes N-channel MOS transistors N01 to N04 and constant current sources CI01 and CI02. N-channel MOS transistors N01 and N02 form a main signal differential pair, and N-channel MOS transistors N03 and N04 form a post-signal differential pair. As the N-channel MOS transistors N01 to N04, MOX (multi-oxide structure) transistors are preferably used. By using the main signal and the post signal, the main driver 30 can output four types of levels. The main driver 30 receives a signal output from the AC coupling unit 20 and outputs a non-inverted signal from the output terminal TXP and an inverted signal from the output terminal TXN.

テスタ2には、PMU53及び54が含まれ、それぞれ負荷抵抗RL01及びRL02と接続されている。   The tester 2 includes PMUs 53 and 54, and is connected to load resistors RL01 and RL02, respectively.

ここで、図3に示す半導体装置1のDCテストを行うと、データ信号ラインにDCパスが存在しないため、DCテストが行うことができない場合がある。   Here, when the DC test of the semiconductor device 1 shown in FIG. 3 is performed, the DC test may not be performed because there is no DC path in the data signal line.

図4は、半導体装置1に対してDCテストを実施する際の波形の一例を示す図である。図4(a)は、DCテストを実施した際に、出力端子TXP及びTXNから出力される値の期待値を示す図である。図4(a)では、タイミング1の時点でDCテストのパターン走行を停止している。   FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a waveform when a DC test is performed on the semiconductor device 1. FIG. 4A is a diagram illustrating an expected value of values output from the output terminals TXP and TXN when the DC test is performed. In FIG. 4A, the pattern running of the DC test is stopped at the timing 1.

図4(b)は、テスタ2で観測できる出力端子TXP及びTXNの波形を示す図である。時刻T1において、DCテストのパターン走行が停止している。   FIG. 4B is a diagram illustrating waveforms of the output terminals TXP and TXN that can be observed by the tester 2. At time T1, the DC test pattern running is stopped.

テスタ2は、T1〜T2の間、出力端子TXP及びTXNの測定を行わず、待機する。その後、T2〜T3の間に出力端子TXP及びTXNのDC測定を実施する。ここで、AC結合部20が存在しなければ、データ信号ライン上にDCパスが存在するため、出力端子TXP及びTXNは、その振幅を維持することが可能である(図4(b)中段)。つまり、テスタ2でのDCテストの実施が可能である。   The tester 2 stands by without measuring the output terminals TXP and TXN between T1 and T2. Thereafter, DC measurement of the output terminals TXP and TXN is performed between T2 and T3. Here, if the AC coupling unit 20 is not present, a DC path is present on the data signal line, so that the output terminals TXP and TXN can maintain the amplitude (middle stage in FIG. 4B). . That is, it is possible to perform a DC test with the tester 2.

一方、AC結合部20が存在すると、データ信号ライン上にDCパスが存在せず、出力端子TXP及びTXNは、その振幅を維持することができない(図4(b)下段)。即ち、出力端子TXP及びTXNの電圧は、下記の式(1)で表される電圧Vcに収束してしまう。

Figure 2013113607
なお、VTT2はPMU53及び54に供給する電圧値、rlは負荷抵抗RL01及びRL02の抵抗値、ipは定電流源CI01が供給する電流値、imは定電流源CI02が供給する電流値、である。このように、半導体装置1をテスタ2によって、DCテストすることは不可能である。 On the other hand, when the AC coupling unit 20 is present, there is no DC path on the data signal line, and the output terminals TXP and TXN cannot maintain the amplitude (lower stage in FIG. 4B). That is, the voltages at the output terminals TXP and TXN converge to the voltage Vc expressed by the following equation (1).

Figure 2013113607
VTT2 is a voltage value supplied to the PMUs 53 and 54, rl is a resistance value of the load resistors RL01 and RL02, ip is a current value supplied by the constant current source CI01, and im is a current value supplied by the constant current source CI02. . Thus, it is impossible to DC test the semiconductor device 1 using the tester 2.

そこで、発明者らはデータ信号ライン上にAC結合部を備えていてもDCテストが可能な半導体装置4の検討を以下のとおり行った。   Therefore, the inventors have studied the semiconductor device 4 capable of performing the DC test even if the AC coupling portion is provided on the data signal line as follows.

図5は、半導体装置4を含んで構成されるテストシステムの一例を示す図である。図5において図2と同一構成要素には、同一の符号を表し、その説明を省略する。図2と図5の相違点は、テスタ2aに含まれるテスタCHドライバ55から制御信号SELを出力し、入力バッファ50を介して、AC結合部21が制御信号SELを受け付ける点である。   FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a test system including the semiconductor device 4. In FIG. 5, the same components as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. The difference between FIG. 2 and FIG. 5 is that the control signal SEL is output from the tester CH driver 55 included in the tester 2 a, and the AC coupling unit 21 receives the control signal SEL via the input buffer 50.

図5に示すテストシステムは、制御信号SELを用いることで、AC結合部21の動作を通常動作モードとテストモードの切り替えが可能である。   The test system shown in FIG. 5 can switch the operation of the AC coupling unit 21 between the normal operation mode and the test mode by using the control signal SEL.

図6は、半導体装置4の内部構成の一例を示す図である。図6において図3と同一構成要素には、同一の符号を表し、その説明を省略する。半導体装置1と半導体装置4の相違点は、AC結合部21において、スイッチSW01〜SW04を追加している点である。半導体装置4のAC結合部21では、コンデンサC01〜C04の両端にスイッチSW01〜SW04を接続し、それぞれのスイッチをオンすることで、DCパスを設けている。即ち、半導体装置4のDCテストの際には、スイッチSW01〜SW04を制御信号SELに基づきオンする。その結果、データ信号ライン上にDCパスが形成され、テスタ2aによるDCテストが実施できる。   FIG. 6 is a diagram illustrating an example of the internal configuration of the semiconductor device 4. 6, the same components as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. The difference between the semiconductor device 1 and the semiconductor device 4 is that in the AC coupling unit 21, switches SW01 to SW04 are added. In the AC coupling unit 21 of the semiconductor device 4, switches SW01 to SW04 are connected to both ends of the capacitors C01 to C04, and each switch is turned on to provide a DC path. That is, during the DC test of the semiconductor device 4, the switches SW01 to SW04 are turned on based on the control signal SEL. As a result, a DC path is formed on the data signal line, and a DC test can be performed by the tester 2a.

しかし、スイッチを追加する対策では、ACテストの実施時に問題が起きる。即ち、半導体装置1及び4におけるACテストの際には、その内部回路からノードS01〜S04に対して高速な(高い周期の)信号が供給される。従って、ノードS01〜S04及びノードS11〜S14の電圧変化も高速であることが求められる。   However, with the measure of adding a switch, a problem occurs when the AC test is performed. That is, at the time of the AC test in the semiconductor devices 1 and 4, a high speed (high cycle) signal is supplied from the internal circuit to the nodes S01 to S04. Therefore, the voltage changes of the nodes S01 to S04 and the nodes S11 to S14 are also required to be fast.

ここで、半導体装置4にはスイッチSW01〜SW04を追加しているため、それぞれのノードに対する寄生容量が増加してしまう。寄生容量の増加は、それぞれのノードを伝達する信号を劣化させる要因となり得る。   Here, since switches SW01 to SW04 are added to the semiconductor device 4, the parasitic capacitance for each node increases. The increase in parasitic capacitance can be a factor that degrades the signal transmitted through each node.

さらには、電圧VDDDの供給を受けるプリドライバ10と電圧VTT1の供給を受けるAC結合部21が異なる電源領域に含まれる場合には(電圧VDDDと電圧VTT1が異なる場合には)、スイッチSW01〜SW04が全てオンしている際に、ノードS01〜S04の電位が電圧VDDDの供給を受ける半導体素子(例えば、トランジスタ)の絶対最大定格を超えることも想定される。この場合には、回路の劣化及び破壊の可能性がある。   Further, when the pre-driver 10 that receives the supply of the voltage VDDD and the AC coupling unit 21 that receives the supply of the voltage VTT1 are included in different power supply regions (when the voltage VDDD and the voltage VTT1 are different), the switches SW01 to SW04 It is also assumed that the potentials of the nodes S01 to S04 exceed the absolute maximum rating of the semiconductor element (for example, a transistor) that receives the supply of the voltage VDDD. In this case, there is a possibility of circuit deterioration and destruction.

[第1の実施形態]
続いて、本発明の第1の実施形態について、図面を用いてより詳細に説明する。
[First Embodiment]
Next, the first embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

図7は、本実施形態に係る半導体装置5を含んで構成されるテストシステムの一例を示す図である。図7において図5と同一構成要素には、同一の符号を表し、その説明を省略する。半導体装置4及び5の相違点は、AC結合部21に代えてAC結合部22を備える点である。   FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a test system including the semiconductor device 5 according to the present embodiment. In FIG. 7, the same components as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. The difference between the semiconductor devices 4 and 5 is that an AC coupling unit 22 is provided instead of the AC coupling unit 21.

図8は、本実施形態に係る半導体装置5の内部構成の一例を示す図である。図8において図6と同一構成要素には、同一の符号を表し、その説明を省略する。AC結合部22には、Pチャンネル型MOSトランジスタP01〜P04が含まれおり、バイアス回路40から供給されるDCバイアスの遮断が可能である。なお、Pチャンネル型MOSトランジスタP01〜P04は、MOXトランジスタを使用することが好ましい。Pチャンネル型MOSトランジスタP01〜P04のゲートには、制御信号SELが接続される。   FIG. 8 is a diagram illustrating an example of an internal configuration of the semiconductor device 5 according to the present embodiment. In FIG. 8, the same components as those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. The AC coupling unit 22 includes P-channel MOS transistors P01 to P04, and can block the DC bias supplied from the bias circuit 40. The P channel type MOS transistors P01 to P04 are preferably MOX transistors. A control signal SEL is connected to the gates of the P-channel MOS transistors P01 to P04.

次に、本実施形態に係る半導体装置5の動作について説明する。   Next, the operation of the semiconductor device 5 according to this embodiment will be described.

図9は、半導体装置5の通常動作モードにおける動作の一例を示す図である。なお、以降の説明において、「0」はLレベルの出力、「1」はHレベルの出力を意味するものとする。さらに、出力端子TXP及びTXNの出力電圧のうち、Lレベルが強調された出力をLE、Hレベルが強調された出力をHEと表記する。   FIG. 9 is a diagram illustrating an example of the operation of the semiconductor device 5 in the normal operation mode. In the following description, “0” means an L level output, and “1” means an H level output. Further, among the output voltages of the output terminals TXP and TXN, an output in which the L level is emphasized is referred to as LE, and an output in which the H level is emphasized is referred to as HE.

通常動作モード時は、制御信号SELはLレベルに設定される。制御信号SELがLレベルに設定されるため、Pチャンネル型MOSトランジスタP01〜P04はオンし(導通し)、ノードS21〜S24のDC動作点は電圧VTT1に維持される。従って、ノードS21〜S24は、DC動作点である電圧VTT1に、コンデンサC01〜C04を介して入力される信号(AC成分)を加算した電位となる。さらに、バッファB01〜B04の出力インピーダンスが、終端抵抗RT01〜RT04の抵抗値に対して十分低ければ、AC成分の振幅は電圧VDDDとなる。   In the normal operation mode, the control signal SEL is set to L level. Since control signal SEL is set to the L level, P-channel MOS transistors P01 to P04 are turned on (conducted), and the DC operating points of nodes S21 to S24 are maintained at voltage VTT1. Therefore, the nodes S21 to S24 have a potential obtained by adding the signal (AC component) input through the capacitors C01 to C04 to the voltage VTT1 that is the DC operating point. Furthermore, if the output impedance of the buffers B01 to B04 is sufficiently lower than the resistance values of the termination resistors RT01 to RT04, the amplitude of the AC component becomes the voltage VDDD.

ここで、コンデンサC01〜C04の容量値と終端抵抗RT01〜RT04の抵抗値から定まる時定数以上の時間でテストパターンを変化させ続ければ、ノードS21〜S24は中心電圧VTT1、振幅VDDDの動作を安定して行う。即ち、コンデンサC01〜C04と終端抵抗RT01〜RT04で定まる時定数は、テストパターンのパルス幅よりも極めて大きいため、ノードS21〜S24に現れる波形は矩形波となる。なお、コンデンサC01〜C04と終端抵抗RT01〜RT04で定まる時定数を時定数TRCとして、以下の説明を行う。   Here, if the test pattern is continuously changed in a time longer than the time constant determined from the capacitance values of the capacitors C01 to C04 and the resistance values of the termination resistors RT01 to RT04, the nodes S21 to S24 can stabilize the operation of the center voltage VTT1 and the amplitude VDDD. And do it. That is, since the time constant determined by the capacitors C01 to C04 and the termination resistors RT01 to RT04 is much larger than the pulse width of the test pattern, the waveforms appearing at the nodes S21 to S24 are rectangular waves. The following description will be made assuming that the time constant determined by the capacitors C01 to C04 and the terminating resistors RT01 to RT04 is the time constant TRC.

図10は、半導体装置5のDCテストモードにおける動作の一例を示す図である。図10では、出力端子TXPからHEレベルを出力している際のDCテストを行う場合の波形を示している。他の出力レベル(Hレベル、LEレベル、Lレベル)の出力レベルを測定する際の動作も同様であるので、説明は省略する。   FIG. 10 is a diagram illustrating an example of the operation of the semiconductor device 5 in the DC test mode. FIG. 10 shows a waveform when a DC test is performed when the HE level is output from the output terminal TXP. Since the operation when measuring output levels of other output levels (H level, LE level, L level) is the same, the description thereof is omitted.

ここで、半導体装置に対してDCテストを行う目的は、出力バッファ等の静特性(出力電圧や出力電流)を確認するためのものであるので、データレート(テストパターンの周期)の変更とDCテストの結果とは無関係である。   Here, since the purpose of performing the DC test on the semiconductor device is to confirm the static characteristics (output voltage and output current) of the output buffer and the like, the change of the data rate (test pattern cycle) and the DC It has nothing to do with the results of the test.

そのため、半導体装置5のDCテスト時には、半導体装置5に供給されるテストパターンのデータレートを時定数TRCよりも長く設定することが可能である。データレートを時定数TRCよりも長く設定すると、ノードS21〜S24の電位は1データレートの時間内で中心電圧(収束電圧)VTT1に収束する。即ち、ノードS21〜S24における波形は、微分波形となる。従って、ノードS21〜S24の電位は、次のテストパターンが供給された際(データの変化時)には、電圧VTT1+電圧VDDD、又は、電圧VTT1−電圧VDDDとなる。   Therefore, during the DC test of the semiconductor device 5, it is possible to set the data rate of the test pattern supplied to the semiconductor device 5 to be longer than the time constant TRC. When the data rate is set longer than the time constant TRC, the potentials of the nodes S21 to S24 converge to the center voltage (convergence voltage) VTT1 within the time of one data rate. That is, the waveforms at the nodes S21 to S24 are differential waveforms. Therefore, the potentials of the nodes S21 to S24 become the voltage VTT1 + voltage VDDD or the voltage VTT1−voltage VDDD when the next test pattern is supplied (when data changes).

一方、制御信号SELを、DC測定を行いたいデータがテストパターンとして供給されたタイミングでLレベルからHレベルに遷移させる(時刻T4)。制御信号SELがHレベルに設定されることで、Pチャンネル型MOSトランジスタP01〜P04は全てオフ(非導通;ハイインピーダンス)となる。Pチャンネル型MOSトランジスタP01〜P04がオフすることで、AC結合部21の時定数は大きくなり、ノードS21〜S24の電位変化は極めて緩やかなものとなる。   On the other hand, the control signal SEL is changed from the L level to the H level at the timing when the data to be subjected to DC measurement is supplied as the test pattern (time T4). By setting the control signal SEL to the H level, all the P-channel MOS transistors P01 to P04 are turned off (non-conducting; high impedance). When the P-channel MOS transistors P01 to P04 are turned off, the time constant of the AC coupling unit 21 is increased, and the potential changes at the nodes S21 to S24 are extremely gradual.

ここで、ノードS21〜S24はメインドライバ30に含まれる差動対と接続されている。図11は、メインドライバ30への供給電圧と出力電圧との関係を示す図である。図11に示すように、メインドライバ30に含まれる差動対に一定値以上の振幅が入力されていれば、差動対を構成するNチャンネル型MOSトランジスタN01〜N04は飽和領域で動作し、出力レベルは安定する。但し、メインドライバ30の入力コモンモードは一定にする必要がある。そのため、図10に示す△V以上の振幅が差動対に供給されていれば、メインドライバ30から出力されるレベルは通常動作モード時のレベルと一致する。   Here, the nodes S21 to S24 are connected to a differential pair included in the main driver 30. FIG. 11 is a diagram showing the relationship between the supply voltage to the main driver 30 and the output voltage. As shown in FIG. 11, if an amplitude greater than a certain value is input to the differential pair included in the main driver 30, the N-channel MOS transistors N01 to N04 constituting the differential pair operate in the saturation region, The output level is stable. However, the input common mode of the main driver 30 needs to be constant. Therefore, if an amplitude of ΔV or more shown in FIG. 10 is supplied to the differential pair, the level output from the main driver 30 matches the level in the normal operation mode.

上述のように、データの変化時には通常動作モードと同様に、ノードS21〜S24の電子は電圧VTT1を中心として、電圧VDDDの振幅を持つため、差動対の出力(出力端子TXP及びTXN)は通常動作モード時の出力と一致する。また、時定数TRCが極めて大きくなっているため、ノードS21〜S24はメインドライバ30に含まれる差動対が完全動作する振幅を維持することができる。その結果、テスタ2aにおいて、出力端子TXP及びTXNのDC測定を正常に行うことができる。   As described above, when the data changes, as in the normal operation mode, the electrons of the nodes S21 to S24 have the amplitude of the voltage VDDD with the voltage VTT1 as the center, so the outputs of the differential pair (output terminals TXP and TXN) are It matches the output in normal operation mode. Further, since the time constant TRC is extremely large, the nodes S21 to S24 can maintain the amplitude at which the differential pair included in the main driver 30 operates completely. As a result, the DC measurement of the output terminals TXP and TXN can be normally performed in the tester 2a.

ここで、テストパターンを停止した後のノードS21〜S24の電位は、以下の式(2)及び(3)から求めることができる。

Hレベル:

Figure 2013113607

Lレベル:
Figure 2013113607

なお、rt1は終端抵抗RT01の抵抗値、zpswはPチャンネル型MOSトランジスタP01のインピーダンスであって、式(2)及び(3)は、ノードS21の電位を求める計算式である。 Here, the potentials of the nodes S21 to S24 after stopping the test pattern can be obtained from the following equations (2) and (3).

H level:
Figure 2013113607

L level:
Figure 2013113607

Note that rt1 is the resistance value of the termination resistor RT01, zpsw is the impedance of the P-channel MOS transistor P01, and equations (2) and (3) are calculation equations for obtaining the potential of the node S21.

以上のとおり、ノードS21〜S24の電位変化は、式(2)及び(3)で求めることができるので、メインドライバ30に含まれるNチャンネル型MOSトランジスタN01〜N04が飽和領域で動作するのに必要な入力振幅とパターンの供給を停止してからDC測定が行われるまで待機時間を考慮して、Pチャンネル型MOSトランジスタP01〜P04のインピーダンスを定めることができる。   As described above, the potential changes of the nodes S21 to S24 can be obtained by the equations (2) and (3), so that the N-channel MOS transistors N01 to N04 included in the main driver 30 operate in the saturation region. The impedance of the P-channel MOS transistors P01 to P04 can be determined in consideration of the standby time from when the necessary input amplitude and pattern supply are stopped until DC measurement is performed.

本実施形態に係る半導体装置5では、テストパターンのデータレートを時定数TRCよりも長く設定し、制御信号SELを、DC測定を行いたいデータが供給されたタイミングでHレベルに設定する。その結果、テスタ2aにおけるDC測定の期間(図10における時刻T5〜T6の期間)、出力端子TXP及びTXNの振幅を維持でき、DCテストを行うことが可能になる。即ち、半導体装置5のデータ信号ライン上にAC結合部が含まれていても、DCテストを実施することができる。なお、半導体装置5を通常動作させる際、又は、半導体装置5のACテストを実施する際には、Pチャンネル型MOSトランジスタP01〜P04のオンを維持するものとする。   In the semiconductor device 5 according to the present embodiment, the data rate of the test pattern is set longer than the time constant TRC, and the control signal SEL is set to the H level at the timing when the data to be subjected to DC measurement is supplied. As a result, the amplitude of the output terminals TXP and TXN can be maintained during the DC measurement period (time period T5 to T6 in FIG. 10) in the tester 2a, and the DC test can be performed. In other words, the DC test can be performed even if an AC coupling portion is included on the data signal line of the semiconductor device 5. Note that when the semiconductor device 5 is normally operated or when an AC test of the semiconductor device 5 is performed, the P-channel MOS transistors P01 to P04 are kept on.

また、半導体装置4とは異なり、データ信号ライン上にスイッチを追加していないので、通常動作モード時の高速動作が阻害されることもない。同時に、異電源領域にまたがるDCパスを設けておらず、各電源領域に含まれるトランジスタの絶対最大定格を超えることはなく、回路の劣化・破壊の懸念は生じない。   Further, unlike the semiconductor device 4, since no switch is added on the data signal line, high-speed operation in the normal operation mode is not hindered. At the same time, no DC path is provided across different power supply regions, the absolute maximum ratings of the transistors included in each power supply region are not exceeded, and there is no fear of circuit deterioration or destruction.

[第2の実施形態]
続いて、第2の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment will be described in detail with reference to the drawings.

本実施形態に係る半導体装置6は、テストモード時において、プリドライバ10を動作させず(プリドライバ10を介さず)、ノードS21〜S24に直接、電圧を供給することで、DCテストを実現する。   The semiconductor device 6 according to the present embodiment realizes a DC test by supplying a voltage directly to the nodes S21 to S24 without operating the predriver 10 (not via the predriver 10) in the test mode. .

図12は、本実施形態に係る半導体装置6を含んで構成されるテストシステムの一例を示す図である。図12において図7と同一構成要素には、同一の符号を表し、その説明を省略する。半導体装置5と6の相違点は、制御回路60を備え、AC結合部23の内部構成が異なる点である。また、テスタ2bから供給される信号と、それを受ける入力バッファ50aも相違する。   FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a test system including the semiconductor device 6 according to the present embodiment. In FIG. 12, the same components as those in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. The difference between the semiconductor devices 5 and 6 is that the control circuit 60 is provided and the internal configuration of the AC coupling unit 23 is different. The signal supplied from the tester 2b is also different from the input buffer 50a receiving it.

テスタ2bに含まれるテスタCHドライバ55aは、半導体装置6に対して3ビットのテスト信号TEST[2:0]を供給する。半導体装置6に含まれる制御回路60は、入力バッファ50aを介してテスト信号TEST[2:0]を受け付ける。制御回路60は、2ビットの制御信号SEL[1:0]と4ビットの制御信号RSEL[3:0]をAC結合部23に供給する。   The tester CH driver 55 a included in the tester 2 b supplies a 3-bit test signal TEST [2: 0] to the semiconductor device 6. The control circuit 60 included in the semiconductor device 6 receives the test signals TEST [2: 0] via the input buffer 50a. The control circuit 60 supplies a 2-bit control signal SEL [1: 0] and a 4-bit control signal RSEL [3: 0] to the AC coupling unit 23.

図13は、本実施形態に係る半導体装置6の内部構成の一例を示す図である。なお、図13において、テスタ2bの記載は省略している。図13において図8と同一構成要素には、同一の符号を表し、その説明を省略する。図13と図8の相違点は、AC結合部23の内部構成である。   FIG. 13 is a diagram illustrating an example of an internal configuration of the semiconductor device 6 according to the present embodiment. In FIG. 13, the description of the tester 2b is omitted. In FIG. 13, the same components as those in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. The difference between FIG. 13 and FIG. 8 is the internal configuration of the AC coupling unit 23.

AC結合部23には、AC結合終端部231〜234が含まれている。AC結合終端部231〜234は全て同一の内部構成を有しているが、受け付ける制御信号が異なる。具体的には、制御信号SEL[1:0]は全てのAC結合終端部231〜234に供給される。しかし、制御信号RSEL1はAC結合終端部231に、RSEL2はAC結合終端部232に、といったように制御信号RSEL[3:0]は個別のAC結合終端部に供給される。また、AC結合終端部231〜234は電圧VTT1及び電圧VDDIO1の電源供給を受け、対応した各ノードS21〜S24に接続されると共に、接地電圧VSSに接地される。   The AC coupling unit 23 includes AC coupling termination units 231 to 234. AC coupling termination units 231 to 234 all have the same internal configuration, but receive different control signals. Specifically, the control signal SEL [1: 0] is supplied to all the AC coupling termination units 231 to 234. However, the control signals RSEL [3: 0] are supplied to individual AC coupling terminators, such as the control signal RSEL1 to the AC coupling terminator 231, the RSEL2 to the AC coupling terminator 232, and so on. Further, the AC coupling termination units 231 to 234 receive power supply of the voltage VTT1 and the voltage VDDIO1, are connected to the corresponding nodes S21 to S24, and are grounded to the ground voltage VSS.

図14は、AC結合終端部231の内部構成の一例を示す図である。なお、上述のようにAC結合終端部231〜234の内部構成は同一のため、AC結合終端部232〜234に関する説明は省略する。   FIG. 14 is a diagram illustrating an example of the internal configuration of the AC coupling termination unit 231. In addition, since the internal structure of AC coupling | bond termination part 231-234 is the same as mentioned above, description regarding AC coupling | bond termination part 232-234 is abbreviate | omitted.

AC結合終端部231には、Nチャンネル型MOSトランジスタN05及びN06と、Pチャンネル型MOSトランジスタP05及びP06と、抵抗R01〜R03と、終端抵抗RT01が含まれている。   The AC coupling termination unit 231 includes N-channel MOS transistors N05 and N06, P-channel MOS transistors P05 and P06, resistors R01 to R03, and a termination resistor RT01.

Pチャンネル型MOSトランジスタP05のソースは電圧VTT1に接続され、ゲートで制御信号SEL0を受け付け、ドレインは終端抵抗RT01に接続されている。Pチャンネル型MOSトランジスタP06のソースは電圧VDDIO1に接続され、ゲートで制御信号SEL1を受け付け、ドレインは抵抗R01に接続されている。終端抵抗RT01の他の一端は、ノードS21に接続されている。Nチャンネル型MOSトランジスタN05のソースは接地され、ゲートで制御信号SEL0を受け付け、ドレインは抵抗R03に接続されている。Nチャンネル型MOSトランジスタN06のソース又はドレインは抵抗R02の一端に接続され、Nチャンネル型MOSトランジスタN06のソース又はドレインの他の一端は抵抗R02の他の一端と接続されている。Nチャンネル型MOSトランジスタN06のゲートで、制御信号RSEL1を受け付ける。Nチャンネル型MOSトランジスタN05及びN06は、抵抗R03を介して接続されている。MOSトランジスタN05、N06、P05及びP06には、MOXトランジスタを用いるのが望ましい。   The source of the P-channel MOS transistor P05 is connected to the voltage VTT1, the gate receives the control signal SEL0, and the drain is connected to the termination resistor RT01. The source of the P-channel MOS transistor P06 is connected to the voltage VDDIO1, the gate receives the control signal SEL1, and the drain is connected to the resistor R01. The other end of the termination resistor RT01 is connected to the node S21. The source of the N-channel MOS transistor N05 is grounded, the gate receives the control signal SEL0, and the drain is connected to the resistor R03. The source or drain of the N channel type MOS transistor N06 is connected to one end of the resistor R02, and the other end of the source or drain of the N channel type MOS transistor N06 is connected to the other end of the resistor R02. A control signal RSEL1 is received at the gate of the N-channel MOS transistor N06. N-channel MOS transistors N05 and N06 are connected via a resistor R03. As the MOS transistors N05, N06, P05 and P06, it is desirable to use MOX transistors.

AC結合終端部231は、制御信号SEL[1:0]と制御信号RSEL1の論理レベルの組み合わせによって、各MOSトランジスタにより構成されるスイッチを動作させ、通常動作モード時及びテストモード時におけるノードS21の電位を決定する。また、制御回路60(図12参照)は、外部から供給されるテスト信号TEST[2:0]に基づいて、制御信号SEL[1:0]と制御信号RSEL[3:0]の論理レベルを決定する。   The AC coupling terminator 231 operates a switch constituted by each MOS transistor in accordance with a combination of the logic levels of the control signal SEL [1: 0] and the control signal RSEL1, and sets the node S21 in the normal operation mode and the test mode. Determine the potential. The control circuit 60 (see FIG. 12) sets the logic levels of the control signal SEL [1: 0] and the control signal RSEL [3: 0] based on the test signal TEST [2: 0] supplied from the outside. decide.

図15は、制御回路60の動作の一例を示す図である。図15から明らかなとおり、制御回路60は、テスト信号TEST2の論理レベルに応じて、半導体装置6の動作を通常動作モード又はテストモードのいずれかに切り替える。   FIG. 15 is a diagram illustrating an example of the operation of the control circuit 60. As is apparent from FIG. 15, the control circuit 60 switches the operation of the semiconductor device 6 to either the normal operation mode or the test mode according to the logic level of the test signal TEST2.

テスト信号TEST2がHレベルであれば、制御回路60は半導体装置6を通常動作モードで動作させる。より具体的には、制御信号SEL1に限りHレベルに設定する。すると、AC結合終端部231〜234に含まれるPチャンネル型MOSトランジスタP05がオンとなり、他のトランジスタはオフとなる。その結果、ノードS31(Pチャンネル型MOSトランジスタP05のドレインと終端抵抗RT01の接続ノード;図14参照)の電位は電圧VTT1になる。この状態で、プリドライバ10からデータ信号を出力することで、ノードS21〜S24は中心電圧VTT1、振幅VDDDの電位変化することになる。   If the test signal TEST2 is at the H level, the control circuit 60 causes the semiconductor device 6 to operate in the normal operation mode. More specifically, only the control signal SEL1 is set to H level. Then, the P-channel MOS transistor P05 included in the AC coupling termination units 231 to 234 is turned on, and the other transistors are turned off. As a result, the potential of the node S31 (a connection node between the drain of the P-channel MOS transistor P05 and the termination resistor RT01; see FIG. 14) becomes the voltage VTT1. By outputting a data signal from the pre-driver 10 in this state, the nodes S21 to S24 change the potential of the center voltage VTT1 and the amplitude VDDD.

一方、制御回路60は、テスト信号TEST2がHレベルであれば、半導体装置6の動作モードはテストモードであると判断する。さらに、テスト信号TEST[1:0]に応じて、テストモード時に出力端子TXP及びTXNから出力する電圧を決定する。より具体的には、出力端子TXPからHEレベル、出力端子TXNからLEレベルを出力する場合には、テスト1を選択する(テスト信号TEST[1:0]=00に応じて動作する)。   On the other hand, if the test signal TEST2 is at the H level, the control circuit 60 determines that the operation mode of the semiconductor device 6 is the test mode. Further, the voltage output from the output terminals TXP and TXN in the test mode is determined according to the test signals TEST [1: 0]. More specifically, when the HE level is output from the output terminal TXP and the LE level is output from the output terminal TXN, the test 1 is selected (operates according to the test signals TEST [1: 0] = 00).

また、制御回路60は、テストモードが選択されると、制御信号SEL[1:0]=01に設定し、Pチャンネル型MOSトランジスタP05をオフ、Pチャンネル型MOSトランジスタP06をオン、Nチャンネル型MOSトランジスタN05をオン、とする。さらに、テスト信号TEST[1:0]に基づいて、制御信号RSEL[3:0]の論理レベルが定まる。制御信号RSEL[3:0]の論理レベルが定まると、Nチャンネル型MOSトランジスタN06のオン・オフが定まる。   When the test mode is selected, the control circuit 60 sets the control signal SEL [1: 0] = 01, turns off the P-channel MOS transistor P05, turns on the P-channel MOS transistor P06, and turns on the N-channel type. The MOS transistor N05 is turned on. Further, the logic level of the control signal RSEL [3: 0] is determined based on the test signal TEST [1: 0]. When the logic level of the control signal RSEL [3: 0] is determined, ON / OFF of the N-channel MOS transistor N06 is determined.

制御信号RSEL[3:0]の論理レベルは、ノードS31〜S34の電圧を決定する。具体的には、RSELn(nは0乃至3のいずれかの整数、以下同じ)=0であれば、ノードS31〜S34の電圧は出力端子TXP及びTXNからHレベルを出力する際の電圧に相当する電圧となる。一方、RSELn=1であれば、ノードS31〜S34の電位はLレベルを出力する際の電圧に相当する電圧となる。つまり、制御信号RSEL[3:0]がLレベルであれば、Nチャンネル型MOSトランジスタN06はオフとなり、抵抗R02の存在が有効になる。制御信号RSEL[3:0]がHレベルであれば、Nチャンネル型MOSトランジスタN06はオンし、抵抗R02の存在は無効になる。   The logic level of the control signal RSEL [3: 0] determines the voltages of the nodes S31 to S34. Specifically, if RSELn (n is an integer of 0 to 3, the same applies hereinafter) = 0, the voltages of the nodes S31 to S34 correspond to the voltages when the H level is output from the output terminals TXP and TXN. Voltage. On the other hand, if RSELn = 1, the potentials of the nodes S31 to S34 are voltages corresponding to voltages at the time of outputting the L level. That is, if the control signal RSEL [3: 0] is at the L level, the N-channel MOS transistor N06 is turned off, and the presence of the resistor R02 is valid. If the control signal RSEL [3: 0] is at the H level, the N-channel MOS transistor N06 is turned on and the presence of the resistor R02 is invalidated.

抵抗R02を有効又は無効に切り替えることで、ノードS31〜S34に供給する電圧
が切り替わる(電圧VDDIO1に対する分圧比が変わる)。即ち、プリドライバ10からデータ信号を出力しなければ、ノードS21〜S24の電圧は電圧VDDIO1と接地電圧VSS間の電圧を抵抗R01〜R03で分圧した電圧とすることができる。従って、半導体装置6では、テストモード時に遷移すると、プリドライバ10からノードS01〜S04に対するデータ信号の出力を停止する。
By switching the resistor R02 between valid and invalid, the voltage supplied to the nodes S31 to S34 is switched (the voltage division ratio with respect to the voltage VDDIO1 is changed). That is, if no data signal is output from the pre-driver 10, the voltages at the nodes S21 to S24 can be voltages obtained by dividing the voltage between the voltage VDDIO1 and the ground voltage VSS by the resistors R01 to R03. Therefore, in the semiconductor device 6, when the transition is made in the test mode, the output of the data signal from the pre-driver 10 to the nodes S01 to S04 is stopped.

図16は、半導体装置6のテストモードにおける動作の一例を示す図である。図16では、図15に示すテスト1の動作を行う場合の波形を示している。テスト1の動作であるので、出力端子TXPからHEレベル、出力端子TXNからLEレベル、に相当する電圧の測定を可能にする。他のテスト動作(テスト2〜4)についても、同様の動作のため、説明を省略する。   FIG. 16 is a diagram illustrating an example of the operation of the semiconductor device 6 in the test mode. FIG. 16 shows a waveform when the operation of test 1 shown in FIG. 15 is performed. Since this is an operation of test 1, it is possible to measure voltages corresponding to the HE level from the output terminal TXP and the LE level from the output terminal TXN. Since the other test operations (tests 2 to 4) are similar operations, the description thereof is omitted.

このように、ノードS21〜S24に対して通常動作モード時のLレベル、又は、Hレベルに相当する電圧を与えることで、出力端子TXP及びTXNから所望の電圧を出力させる。但し、その際、抵抗R01〜R03の抵抗値を、電圧VDDD、電圧VTT1、電圧VDDIO1及びノードS21〜S24の論理レベルを考慮して定めておく必要がある。上述のように、制御信号RSELnの論理レベルに応じて、抵抗R02の有効・無効が決定されるためである。   In this manner, by applying a voltage corresponding to the L level or the H level in the normal operation mode to the nodes S21 to S24, a desired voltage is output from the output terminals TXP and TXN. However, at this time, it is necessary to determine the resistance values of the resistors R01 to R03 in consideration of the voltage VDDD, the voltage VTT1, the voltage VDDIO1, and the logic levels of the nodes S21 to S24. This is because the validity / invalidity of the resistor R02 is determined according to the logic level of the control signal RSELn as described above.

具体的には、抵抗R01〜R03の抵抗値は以下の式(4)及び(5)を満たすように決定すればよい。

Hレベル:

Figure 2013113607

Lレベル:
Figure 2013113607

なお、r01〜r03は抵抗R01〜R03の抵抗値である。例えば、VDDD=1V、VTT1=1.6V、VDDIO1=3.3Vの場合には、r01=8kΩ、r02=10kΩ、r03=4kΩと定めることができる。 Specifically, the resistance values of the resistors R01 to R03 may be determined so as to satisfy the following expressions (4) and (5).

H level:
Figure 2013113607

L level:
Figure 2013113607

R01 to r03 are resistance values of the resistors R01 to R03. For example, when VDDD = 1V, VTT1 = 1.6V, and VDDIO1 = 3.3V, r01 = 8 kΩ, r02 = 10 kΩ, and r03 = 4 kΩ can be determined.

テスタ2bでは、この出力端子TXP及びTXNから出力される電圧を測定する(DCテストを実施する)。なお、テスト信号TEST[2:0]は、テストパターンとして供給することも、外部端子から電圧を印加することで設定してもよい。さらに、本実施形態では、制御信号RSELn[3:0]が供給されるスイッチをNチャンネル型MOSトランジスタで実現しているが、バイアス条件によってはPチャンネル型MOSトランジスタを使用する場合がある。このような場合は、RSELnの論理レベルを反転すればよい。   The tester 2b measures the voltage output from the output terminals TXP and TXN (performs a DC test). Note that the test signals TEST [2: 0] may be supplied as a test pattern or set by applying a voltage from an external terminal. Furthermore, in this embodiment, the switch to which the control signals RSELn [3: 0] are supplied is realized by an N-channel MOS transistor, but a P-channel MOS transistor may be used depending on the bias condition. In such a case, the logic level of RSELn may be inverted.

以上のように、本実施形態に係る半導体装置6では、AC結合終端部231〜234において、ノードS21〜S24の電圧を擬似的に生成することで、テスタ2bによるDC測定を可能にしている。   As described above, in the semiconductor device 6 according to the present embodiment, the AC coupling termination units 231 to 234 generate the voltages of the nodes S21 to S24 in a pseudo manner, thereby enabling DC measurement by the tester 2b.

[第3の実施形態]
続いて、第3の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment will be described in detail with reference to the drawings.

本実施形態に係る半導体装置7は、半導体装置6におけるAC結合終端部の回路構成を変更した構成を備えている。そのため、半導体装置7についての図12及び図13に相当する説明は省略する。   The semiconductor device 7 according to the present embodiment has a configuration in which the circuit configuration of the AC coupling termination unit in the semiconductor device 6 is changed. Therefore, description of the semiconductor device 7 corresponding to FIGS. 12 and 13 is omitted.

図17は、本実施形態に係る半導体装置7に含まれているAC結合終端部231aの内部構成の一例を示す図である。図17において図14と同一構成要素には、同一の符号を表し、その説明を省略する。なお、半導体装置7に含まれるAC結合終端部231a〜234aはそれぞれ共通して基準電流生成部235に接続されている。   FIG. 17 is a diagram illustrating an example of an internal configuration of the AC coupling termination unit 231a included in the semiconductor device 7 according to the present embodiment. In FIG. 17, the same components as those in FIG. 14 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. The AC coupling termination units 231a to 234a included in the semiconductor device 7 are connected to the reference current generation unit 235 in common.

AC結合終端部231aには、Nチャンネル型MOSトランジスタN07〜N10が含まれている。さらに、基準電流生成部235には、Nチャンネル型MOSトランジスタN11と定電流源CI03とが含まれている。なお、AC結合終端部231a〜234aに対する制御は半導体装置6における制御と同一のため、説明を省略する。   The AC coupling termination unit 231a includes N channel type MOS transistors N07 to N10. Further, the reference current generator 235 includes an N-channel MOS transistor N11 and a constant current source CI03. The control for the AC coupling terminators 231a to 234a is the same as the control in the semiconductor device 6, and thus the description thereof is omitted.

テストモード時には、Nチャンネル型MOSトランジスタN09がオフし、Nチャンネル型MOSトランジスタN10がオンすることで、Nチャンネル型MOSトランジスタN08とN11によりカレントミラー回路を形成し、抵抗R04(又は、R05)に定電流源CI03から供給される電流が流れる。この定電流源CI03から供給される電流と抵抗R04及びR05の抵抗値から、ノードS21〜S24の電圧を決定することができる。   In the test mode, when the N-channel MOS transistor N09 is turned off and the N-channel MOS transistor N10 is turned on, a current mirror circuit is formed by the N-channel MOS transistors N08 and N11, and the resistor R04 (or R05) is formed. A current supplied from the constant current source CI03 flows. From the current supplied from the constant current source CI03 and the resistance values of the resistors R04 and R05, the voltages of the nodes S21 to S24 can be determined.

具体的には、下記の式(6)及び(7)によって定める。

Hレベル:

Figure 2013113607

Lレベル:
Figure 2013113607

なお、r04及びr05は抵抗R04及びR05の抵抗値であり、Iaは定電流源CI03から供給される電流の電流値である。 Specifically, it is defined by the following formulas (6) and (7).

H level:
Figure 2013113607

L level:
Figure 2013113607

R04 and r05 are resistance values of the resistors R04 and R05, and Ia is a current value of the current supplied from the constant current source CI03.

以上のように、基準電流生成部235を用いることで、ノードS21〜S24の電圧を擬似的に生成し、テスタ2bによるDC測定を可能にしている。   As described above, by using the reference current generation unit 235, the voltages of the nodes S21 to S24 are generated in a pseudo manner, and DC measurement by the tester 2b is enabled.

なお、引用した上記の特許文献の開示は、本書に引用をもって繰り込むものとする。本発明の全開示(請求の範囲を含む)の枠内において、さらにその基本的技術思想に基づいて、実施形態ないし実施例の変更・調整が可能である。また、本発明の請求の範囲の枠内において種々の開示要素(各請求項の各要素、各実施例の各要素、各図面の各要素等を含む)の多様な組み合わせ、ないし、選択が可能である。すなわち、本発明は、請求の範囲を含む全開示、技術的思想にしたがって当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。   The disclosure of the cited patent document is incorporated herein by reference. Within the scope of the entire disclosure (including claims) of the present invention, the embodiments and examples can be changed and adjusted based on the basic technical concept. Further, various combinations or selections of various disclosed elements (including each element of each claim, each element of each embodiment, each element of each drawing, etc.) are possible within the scope of the claims of the present invention. It is. That is, the present invention of course includes various variations and modifications that could be made by those skilled in the art according to the entire disclosure including the claims and the technical idea.

1、4〜7、100 半導体装置
2、2a、2b テスタ
3 テストボード
10 プリドライバ
20、21、22、23、102 AC結合部
30、101 メインドライバ
40 バイアス回路
50、50a 入力バッファ
51、52 テスタCH
53、54 PMU
55、55a テスタCHドライバ
60、103 制御回路
231〜234、231a〜234a AC結合終端部
235 基準電流生成部
B01〜B04 バッファ
C、C01〜C04 コンデンサ
CI01、CI02、CI03 定電流源
N01〜N11 Nチャンネル型MOSトランジスタ
P01〜P06 Pチャンネル型MOSトランジスタ
R01〜R05 抵抗
RT、RT01〜RT04 終端抵抗
RL01、RL02 負荷抵抗
SW、SW01〜SW04 スイッチ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 4-7, 100 Semiconductor device 2, 2a, 2b Tester 3 Test board 10 Pre-driver 20, 21, 22, 23, 102 AC coupling part 30, 101 Main driver 40 Bias circuit 50, 50a Input buffer 51, 52 Tester CH
53, 54 PMU
55, 55a Tester CH driver 60, 103 Control circuits 231 to 234, 231a to 234a AC coupling terminator 235 Reference current generator B01 to B04 Buffer C, C01 to C04 Capacitors CI01, CI02, CI03 Constant current source N01 to N11 N channel Type MOS transistors P01 to P06 P channel type MOS transistors R01 to R05 Resistors RT, RT01 to RT04 Termination resistors RL01, RL02 Load resistors SW, SW01 to SW04 switches

Claims (5)

データ信号を外部に出力するメインドライバと、
前記データ信号が伝達する配線と接続されているコンデンサと、一端が前記コンデンサと接続され、他の一端がバイアス電圧源に接続されている終端抵抗と、前記バイアス電圧源と前記終端抵抗との間に接続されている第1のスイッチと、を含むAC結合部と、
テストモード時に前記AC結合部の前記バイアス電圧源と前記終端抵抗との接続を、前記第1のスイッチにより遮断する制御回路と、
を備えることを特徴とする半導体装置。
A main driver for outputting data signals to the outside;
A capacitor connected to the wiring for transmitting the data signal, a termination resistor having one end connected to the capacitor and the other end connected to a bias voltage source, and between the bias voltage source and the termination resistor An AC coupling unit including a first switch connected to
A control circuit that cuts off the connection between the bias voltage source of the AC coupling unit and the termination resistor in the test mode by the first switch;
A semiconductor device comprising:
前記制御回路は、半導体装置のDCテストの実施時には、前記第1のスイッチをオフし、半導体装置の通常動作モード時及び半導体装置のACテストの実施時には、前記第1のスイッチをオンする請求項1の半導体装置。   The control circuit turns off the first switch when a DC test of the semiconductor device is performed, and turns on the first switch during a normal operation mode of the semiconductor device and an AC test of the semiconductor device. 1. A semiconductor device. 前記AC結合部は、
一端が、前記バイアス電圧源と前記終端抵抗の接続ノードに接続されている第1の抵抗と、
一端が、前記接続ノード及び前記第1の抵抗と接続されている第2の抵抗と、
第1の電圧源と前記第1の抵抗の間に配置される第2のスイッチと、
前記第2の抵抗の両端に接続される第3のスイッチと、を含んで構成され、
前記制御回路は、DCテストを実施する際に前記第2のスイッチをオンすると共に、前記メインドライバから出力するデータ信号の論理レベルに応じて前記第3のスイッチのオン・オフを決定する請求項1又は2の半導体装置。
The AC coupling unit includes:
A first resistor having one end connected to a connection node of the bias voltage source and the termination resistor;
A second resistor having one end connected to the connection node and the first resistor;
A second switch disposed between a first voltage source and the first resistor;
A third switch connected to both ends of the second resistor,
The control circuit turns on the second switch when performing a DC test, and determines on / off of the third switch according to a logic level of a data signal output from the main driver. 1 or 2 semiconductor devices;
前記AC結合部は、
一端が、前記バイアス電圧源と前記終端抵抗の接続ノードに接続されている第3の抵抗と、
第1の電源と前記第3の抵抗の間に直列に配置される第4の抵抗と、
前記第4の抵抗の両端に接続される第4のスイッチと、
前記第3の抵抗の他の一端と接続される第1のMOSトランジスタと、を含んで構成され、
さらに、前記第1のMOSトランジスタとカレントミラー回路を構成する第2のMOSトランジスタを含む基準電流生成部を備え、
前記制御回路は、DCテストを実施する際に前記メインドライバから出力するデータ信号の論理レベルに応じて前記第4のスイッチのオン・オフを決定する請求項1又は2の半導体装置。
The AC coupling unit includes:
A third resistor having one end connected to a connection node of the bias voltage source and the termination resistor;
A fourth resistor arranged in series between a first power source and the third resistor;
A fourth switch connected to both ends of the fourth resistor;
A first MOS transistor connected to the other end of the third resistor,
And a reference current generator including a second MOS transistor that forms a current mirror circuit with the first MOS transistor,
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the control circuit determines on / off of the fourth switch in accordance with a logic level of a data signal output from the main driver when performing a DC test. 4.
データ信号を外部に出力するメインドライバと、
前記データ信号が伝達する配線と接続されているコンデンサと、
一端が前記コンデンサと接続され、他の一端がバイアス電圧源に接続されている終端抵抗と、を含むAC結合部と、
を備える半導体装置のテスト方法であって、
DCテストの実施の際に、前記データ信号のデータレートを、前記コンデンサと前記終端抵抗から決定される時定数よりも長く設定する工程と、
前記データ信号が、DCテストの測定の対象となっている論理レベルに遷移した際に、前記バイアス電圧源と前記終端抵抗との接続を遮断する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置のテスト方法。
A main driver for outputting data signals to the outside;
A capacitor connected to a wiring for transmitting the data signal;
An AC coupling unit including a termination resistor having one end connected to the capacitor and the other end connected to a bias voltage source;
A method for testing a semiconductor device comprising:
A step of setting a data rate of the data signal longer than a time constant determined from the capacitor and the termination resistor when performing a DC test;
Cutting off the connection between the bias voltage source and the termination resistor when the data signal transitions to a logic level that is the subject of a DC test measurement;
A method for testing a semiconductor device, comprising:
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020247348A1 (en) * 2019-06-03 2020-12-10 Teradyne, Inc. Automated test equipment for testing high-power electronic components
US11067629B2 (en) 2019-06-03 2021-07-20 Teradyne, Inc. Automated test equipment for testing high-power electronic components

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