JP2013096971A - 検査方法および検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液晶表示装置用の基板に付着した金属元素含有異物の有無を検査および修正する方法であって、前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、第1検査ステップで検出された位置に位置合わせして、その異物が金属元素を含有するか否かについて検査する第2検査ステップとを備えることを特徴とする検査方法。
【選択図】図1
Description
、導電性の場合にはその径の大小に拘わらず液晶表示装置組み立て工程から除外するか、あるいは修正を施して除去し、非導電性の場合にはその径が20μmまたは30μmより大きい場合に限って液晶表示装置組み立て工程から除外するか、あるいは修正を施して除去する必要がある。仮に、導電性・非導電性の区別なしに径の小さい異物が付着した基板を含めて除外すると、良品として使用できる基板まで除外することになり、歩留まりを著しく低下させることになるからである。また、導電性・非導電性の区別なしに径の小さい異物が付着した基板を含めて液晶表示装置組み立て工程に利用すると、組み立てられた液晶表示装置が不良品となり、その損失が増大する結果になる。
また、特許文献3は、液晶表示装置を組み立てた後、その電極同士の短絡の有無を検査する方法を記載しているが、この方法では、短絡した液晶表示装置全体を不良品として扱うことになる。
また、発明者は以前、特許文献4他において蛍光X線分析ユニットを用いて異物の元素種を判別する検査手段を提案しているが、この方法ではX線の漏洩を防止するために防護構造を設けねばならず、装置設計上の制限も多く、設置、運用上も監督官庁の認可や管理者の設置等が必要になる。
また、併せて、本発明はこの検査および修正方法に適用される検査装置を提供することを課題とするものである。
前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、
第1検査ステップで検出された位置に検査装置を位置合わせして、当該異物が金属元素を含有するか否かについてレーザーマイクロプローブ分光方式分析装置で検査する第2検査ステップと、を備えており、
前記位置合わせの際に、第1検査ステップで得られた位置座標の情報をもとに当該異物の位置に位置合わせした後、カメラユニットを使用して当該異物がある場所付近の画像を取得し、この画像から当該異物の座標を詳細に決定して位置合わせすると共に、当該異物が金属元素を含有していた場合には、その異物が付着した基板を不良品として除去およびレーザーマイクロプローブ分光方式分析装置で修正することを特徴とする検査方法である。
前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、
第1検査ステップで検出された異物のうち、予め定められた基準の大きさより小さい異物について、第1検査ステップで検出された位置に検査装置を位置合わせして、当該異物が金属元素を含有するか否かについてレーザーマイクロプローブ分光方式分析装置で検査する第2検査ステップと、を備えており、
前記位置合わせの際に、第1検査ステップで得られた位置座標の情報をもとに前期当該異物の位置に位置合わせした後、カメラユニットを使用して前記当該異物がある場所付近の画像を取得し、この画像から前記当該異物の座標を詳細に決定して位置合わせすると共に、前記当該異物が金属元素を含有していた場合には、その異物が付着した基板を不良品とすることを特徴とする検査方法である。
液晶表示装置用の基板を把持する把持機構と、
レーザーマイクロプローブ分光方式分析ユニットを搭載した検査ヘッドと、
予め得られた異物の位置座標の情報をもとに当該異物の位置に位置合わせした後、前記当該異物がある場所付近の画像を取得するカメラユニットと、
前記カメラユニットにより得られた前記当該異物がある場所付近の画像から、前記当該異物の座標を詳細に決定する詳細位置合わせ機構と、
前記詳細位置合わせ機構により詳細に決定された前記当該異物の位置に前記レーザーマイクロプローブ分光方式分析ユニットを位置合わせする移動機構と、
レーザーマイクロプローブ分光方式分析ユニットの結果に基づいて前記当該異物に含有される金属元素を検査する検査手段と、
前記当該異物が金属元素を含有していた場合には、その異物が付着した基板を不良品とする選別手段と、レーザー照射と分光分析もしくは画像取得を繰り返し、修正が完了したことを判断する判定手段と、
これら把持機構、検査ヘッド、移動機構及び検査手段を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする検査装置である。
図1は、第2検査ステップを実行するカラーフィルタの検査装置10を上面から見たときの模式図である。なお、以下では検査対象物をカラーフィルタとした場合について説明しているが、検査対象物はカラーフィルタに限らず、ガラス板を基材とし液晶表示装置に利用される基板を検査対象物とすることが可能である。
クロプローブ分光方式分析ユニット23が移動する。より詳細には、異物29の座標に、レーザーマイクロプローブ分光方式分析ユニット23のレーザー源22からパルスレーザーを照射できる位置に、レーザーマイクロプローブ分光方式分析ユニット23が移動する。レーザー照射された異物29からは、異物29に含まれる元素に特有のプラズマ光が発生するので、分光器21によって、そのプラズマ光を測定する。
数1に示す式による処理計算が可能だった領域42においては、異物欠陥31の座標のみが絶対値の大きなD’(X、Y)の値を持つことになるので、異物欠陥31の詳細な座標の決定が可能となる。
置付近の異物欠陥を含む画像52を取得する。この2つの画像で差分処理した処理後画像62を得て、異物欠陥51を抽出する。カメラユニット27の現在位置と処理後画像62内での異物欠陥位置から、異物欠陥51の座標を詳細に決定することができる。
また、このFe粒子に対し、同じ条件でレーザー照射を100回行ったところ、Feの特性波長における出力は約1.5倍まで減少し、異物が除去されたことが確認できた。
10a カラーフィルタ搬送手段
11a 把持機構
11b 直動機構
12 検査ヘッド
13 検査ヘッド移動機構
14 分析手段
15 判定手段
16 制御手段
17 カラーフィルタ
21 分光器
22 レーザー源
23 レーザーマイクロプローブ分光方式分析ユニット
24 CCDカメラ
25 レンズ
26 照明
27 カメラユニット
29 異物欠陥
31 異物欠陥
32 パターンピッチ
33 着目点
34a 比較点1
34b 比較点2
35 取得された画像
42 処理後画像
43 画像処理によって生じた無効領域
51 異物欠陥
52 異物欠陥を含む画像
53 参照画像
54 カラーフィルタ
61 異物欠陥
62 処理後画像
71 異物欠陥
72 異物欠陥を含む画像の取得場所および視野
73 参照画像の取得場所および視野
74 カラーフィルタ
82 処理後画像
83 パターンマッチング処理によって生じた無効領域
84 参照画像のシフト量
Claims (5)
- 液晶表示装置用の基板を製造する工程中で金属元素を含有した異物が付着した基板を選別して不良品として除去および修正するため、その基板に付着した金属元素を含有した異物の有無を検査する方法であって、
前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、
第1検査ステップで検出された位置に検査装置を位置合わせして、当該異物が金属元素を含有するか否かについてレーザーマイクロプローブ分光方式分析装置で検査する第2検査ステップと、を備えており、
前記位置合わせの際に、第1検査ステップで得られた位置座標の情報をもとに当該異物の位置に位置合わせした後、カメラユニットを使用して当該異物がある場所付近の画像を取得し、この画像から当該異物の座標を詳細に決定して位置合わせすると共に、当該異物が金属元素を含有していた場合には、その異物が付着した基板を不良品として除去およびレーザーマイクロプローブ分光方式分析装置で修正することを特徴とする検査方法。 - 液晶表示装置用の基板を製造する工程中で金属元素を含有した異物が付着した基板を選別して不良品として除去および修正するため、その基板に付着した金属元素を含有した異物の有無を検査する方法であって、
前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、
第1検査ステップで検出された異物のうち、予め定められた基準の大きさより小さい異物について、第1検査ステップで検出された位置に検査装置を位置合わせして、当該異物が金属元素を含有するか否かについてレーザーマイクロプローブ分光方式分析装置で検査する第2検査ステップと、を備えており、
前記位置合わせの際に、第1検査ステップで得られた位置座標の情報をもとに前期当該異物の位置に位置合わせした後、カメラユニットを使用して前記当該異物がある場所付近の画像を取得し、この画像から前記当該異物の座標を詳細に決定して位置合わせすると共に、前記当該異物が金属元素を含有していた場合には、その異物が付着した基板を不良品とすることを特徴とする検査方法。 - 前記基準の大きさが径20μmであることを特徴とする請求項2に記載の検査方法。
- 前記金属元素がFe元素又はAl元素であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の検査方法。
- 液晶表示装置用の基板を製造する工程中で金属元素を含有した異物が付着した基板を選別して不良品として除去するため、その基板に付着した金属元素を含有した異物を検出する装置であって、
液晶表示装置用の基板を把持する把持機構と、
レーザーマイクロプローブ分光方式分析ユニットを搭載した検査ヘッドと、
予め得られた異物の位置座標の情報をもとに当該異物の位置に位置合わせした後、前記当該異物がある場所付近の画像を取得するカメラユニットと、
前記カメラユニットにより得られた前記当該異物がある場所付近の画像から、前記当該異物の座標を詳細に決定する詳細位置合わせ機構と、
前記詳細位置合わせ機構により詳細に決定された前記当該異物の位置に前記レーザーマイクロプローブ分光方式分析ユニットを位置合わせする移動機構と、
レーザーマイクロプローブ分光方式分析ユニットの結果に基づいて前記当該異物に含有される金属元素を検査する検査手段と、
前記当該異物が金属元素を含有していた場合には、その異物が付着した基板を不良品とする選別手段と、レーザー照射と分光分析もしくは画像取得を繰り返し、修正が完了したことを判断する判定手段と、
これら把持機構、検査ヘッド、移動機構及び検査手段を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする検査装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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