JP2013068450A - Physical quantity sensor element, physical quantity sensor and electronic apparatus - Google Patents

Physical quantity sensor element, physical quantity sensor and electronic apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2013068450A
JP2013068450A JP2011205672A JP2011205672A JP2013068450A JP 2013068450 A JP2013068450 A JP 2013068450A JP 2011205672 A JP2011205672 A JP 2011205672A JP 2011205672 A JP2011205672 A JP 2011205672A JP 2013068450 A JP2013068450 A JP 2013068450A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
physical quantity
fixed electrode
quantity sensor
electrode fingers
sensor element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011205672A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideyasu Kono
秀逸 河野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2011205672A priority Critical patent/JP2013068450A/en
Publication of JP2013068450A publication Critical patent/JP2013068450A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Micromachines (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a physical quantity sensor element realizing at least one of high sensitivity, manufacturing efficiency improvement, cost-reduction and high reliability, a physical quantity sensor equipped with the physical quantity sensor element, and an electronic apparatus equipped with the physical quantity sensor element.SOLUTION: A physical quantity sensor element 1 includes: an insulation substrate 2; a movable part 33 provided on an upper side of the insulation substrate 2; movable electrode fingers 361-365, 371-375 provided for the movable part 33; and fixed electrode fingers 381-388, 391-398 provided on the insulation substrate 2 and arranged countering the movable electrode fingers 361-365, 371-375, respectively. The insulation substrate 2 includes: recess portions 22, 23, 24 having wiring 41, 42, 43; protruding portions 471, 472, 481, 482, 50 formed on an element piece 3 at locations overlapping the wiring 41, 42, 43 in planer view. The wiring 41, 42, 43 and the protruding portions 471, 472, 481, 482, 50 are coupled.

Description

本発明は、物理量センサー素子、物理量センサー素子を備える物理量センサー、および物理量センサー素子を備える電子機器に関するものである。   The present invention relates to a physical quantity sensor element, a physical quantity sensor including a physical quantity sensor element, and an electronic device including the physical quantity sensor element.

従来、物理量センサー素子としては、固定配置された固定電極と、固定電極に対して間隔を隔てて対向するとともに変位可能に設けられた可動電極とを有し、固定電極と可動電極との間の静電容量に基づいて、加速度、角速度等の物理量を検出する形態の素子が知られている。
例えば、特許文献1に記載の物理量センサー素子は、単層の半導体基板、またはSOI(Silicon On Insulator)基板を用い、固定電極および可動電極が、それぞれ櫛歯状をなすように並ぶ複数の電極指を有し、互いに噛み合うように配置されている。
Conventionally, as a physical quantity sensor element, there is a fixed electrode that is fixedly arranged, and a movable electrode that is opposed to the fixed electrode with a space therebetween and that can be displaced, and is disposed between the fixed electrode and the movable electrode. An element that detects physical quantities such as acceleration and angular velocity based on capacitance is known.
For example, the physical quantity sensor element described in Patent Document 1 uses a single-layer semiconductor substrate or an SOI (Silicon On Insulator) substrate, and a plurality of electrode fingers arranged in a comb-tooth shape with a fixed electrode and a movable electrode, respectively. And are arranged to mesh with each other.

また、特許文献1に記載の物理量センサー素子では、可動電極の隣り合う2つの電極指間に、固定電極の2つの電極指が臨むように設けられていると共に、当該固定電極の2つの電極指が互いに電気的に絶縁されている。これにより、固定電極の当該2つの電極指の一方の電極指とそれに対向する可動電極の電極指との間の静電容量と、固定電極の当該2つの電極指の他方の電極指とそれに対向する可動電極の電極指との間の静電容量と、を別々に測定し、それらの測定結果に基づいて(いわゆる差動検出方式を用いて)、物理量を検出することができる。   In addition, in the physical quantity sensor element described in Patent Literature 1, two electrode fingers of the fixed electrode are provided between two adjacent electrode fingers of the movable electrode, and the two electrode fingers of the fixed electrode are provided. Are electrically isolated from each other. Thereby, the electrostatic capacitance between one electrode finger of the two electrode fingers of the fixed electrode and the electrode finger of the movable electrode opposed thereto, and the other electrode finger of the two electrode fingers of the fixed electrode opposed to the electrode finger The electrostatic capacitance between the movable electrode and the electrode finger can be measured separately, and the physical quantity can be detected based on the measurement results (using a so-called differential detection method).

特許第4238437号公報Japanese Patent No. 4238437

しかし、特許文献1に記載の物理量センサー素子では、固定電極および可動電極の各々が導通しないように電極指を個別に絶縁分離する必要があり製造効率が悪い。また、上述の差動検出方式において、固定電極および可動電極の厚みが大きい(アスペクト比が高い)と感度が高くなる。しかし、特許文献1の場合、基板の厚み方向に第1のエッチングを施してから、横方向に第2のエッチングを施す必要があり、固定電極および可動電極の厚みを大きくするには基板を予め厚くする必要があり、製造効率の観点から電極の厚みを大きくすることが困難であった。また、SOI基板は一般的に高価であり、製品コストが高くなる問題があった。   However, in the physical quantity sensor element described in Patent Document 1, it is necessary to insulate and separate the electrode fingers individually so that each of the fixed electrode and the movable electrode does not conduct, and the manufacturing efficiency is poor. In the above-described differential detection method, the sensitivity increases when the thickness of the fixed electrode and the movable electrode is large (the aspect ratio is high). However, in the case of Patent Document 1, it is necessary to perform the first etching in the thickness direction of the substrate and then perform the second etching in the lateral direction, and in order to increase the thickness of the fixed electrode and the movable electrode, It was necessary to increase the thickness, and it was difficult to increase the thickness of the electrode from the viewpoint of manufacturing efficiency. In addition, the SOI substrate is generally expensive, and there is a problem that the product cost increases.

本発明の目的は、高感度化、製造効率の改善、低コスト化、高信頼性化の少なくとも1つを実現した物理量センサー素子、この物理量センサー素子を備える物理量センサー、および、この物理量センサー素子を備える電子機器を提供することにある。
このような目的は、下記の適用例により達成される。
An object of the present invention is to provide a physical quantity sensor element that achieves at least one of high sensitivity, improvement in manufacturing efficiency, low cost, and high reliability, a physical quantity sensor including the physical quantity sensor element, and a physical quantity sensor element. It is to provide an electronic device provided.
Such an object is achieved by the following application examples.

[適用例1]本適用例に係る物理量センサー素子は、絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に設けられている可動部と、前記可動部に設けられている可動電極指と、前記絶縁基板上に設けられ、且つ、前記可動電極指に対向して配置されている固定電極指と、を含み、前記絶縁基板には、凹部が設けられ、前記凹部内には、配線が設けられ、前記固定電極指は、前記凹部を跨いで配置され、且つ、平面視で前記配線と重なる位置に凸部が設けられ、前記配線と前記凸部とが接続されていることを特徴とする。   [Application Example 1] A physical quantity sensor element according to this application example includes an insulating substrate, a movable portion provided above the insulating substrate, a movable electrode finger provided on the movable portion, and the insulating substrate. And a fixed electrode finger disposed opposite to the movable electrode finger, wherein the insulating substrate is provided with a recess, and a wiring is provided in the recess and the fixed The electrode finger is disposed across the concave portion, and a convex portion is provided at a position overlapping the wiring in a plan view, and the wiring and the convex portion are connected.

このような構成を有する物理量センサー素子によれば、絶縁基板上に固定電極指を形成しているので、可動電極指および固定電極指の各々に対し絶縁膜を埋め込んで絶縁分離する必要がなくなり製造効率が非常に良い。また、高価なSOI基板を用いる必要が無いので、製品コストを抑えることができる。
また、物理量センサー素子は、可動部、可動電極指および固定電極指を絶縁基板とは別体の基板から一括して形成することができるので製造効率が非常に良い。さらに、物理量センサー素子は、可動電極指および固定電極指の各々を、基板の厚み方向のエッチングだけで形成することができるので、特許文献1と比較して電極指を容易に厚くすること等ができ、例えば物理量センサー素子を物理量センサーとして用いた場合は、高感度化を図ることができる。
また、物理量センサー素子は、絶縁基板と固定電極指とを接触させる際に、絶縁基板に設けられた凹部と、固定電極指に設けられた凸部と、をはめ合わせることにより、絶縁基板と固定電極指との間のアライメント精度が向上するため、電気的接続の信頼性を向上させることができる。
また、固定電極指に凸部を設けない場合には、絶縁基板の凹部に設けた配線を厚くすることで可動部と接続させる必要があるが、物理量センサー素子では、固定電極指に凸部を設けることで配線を薄くでき、製品コストを抑えることができる。
According to the physical quantity sensor element having such a configuration, since the fixed electrode finger is formed on the insulating substrate, it is not necessary to embed an insulating film in each of the movable electrode finger and the fixed electrode finger to perform insulation separation. The efficiency is very good. Further, it is not necessary to use an expensive SOI substrate, so that the product cost can be suppressed.
In addition, the physical quantity sensor element has a very high manufacturing efficiency because the movable part, the movable electrode finger, and the fixed electrode finger can be formed collectively from a substrate separate from the insulating substrate. Furthermore, since the physical quantity sensor element can form each of the movable electrode finger and the fixed electrode finger only by etching in the thickness direction of the substrate, the electrode finger can be easily made thicker than in Patent Document 1. For example, when a physical quantity sensor element is used as a physical quantity sensor, high sensitivity can be achieved.
The physical quantity sensor element is fixed to the insulating substrate by fitting the concave portion provided on the insulating substrate and the convex portion provided on the fixed electrode finger when the insulating substrate and the fixed electrode finger are brought into contact with each other. Since the alignment accuracy between the electrode fingers is improved, the reliability of electrical connection can be improved.
If the fixed electrode finger is not provided with a convex portion, the wiring provided in the concave portion of the insulating substrate needs to be connected to the movable portion by increasing the thickness.However, in the physical quantity sensor element, the convex portion is provided on the fixed electrode finger. By providing the wiring, the wiring can be thinned and the product cost can be reduced.

[適用例2]上記適用例に係る物理量センサー素子において、前記凸部には、前記固定電極指より電気抵抗が小さい部分が含まれること、が好ましい。   Application Example 2 In the physical quantity sensor element according to the application example described above, it is preferable that the convex portion includes a portion having an electric resistance smaller than that of the fixed electrode finger.

これにより、固定電極指を構成する材料の電気抵抗が大きい場合でも、配線と接続される凸部の抵抗値が小さくなることで接触抵抗が小さくなり、信頼性に優れた物理量センサー素子を提供することができる。   As a result, even when the electric resistance of the material constituting the fixed electrode finger is large, the resistance value of the convex portion connected to the wiring is reduced, so that the contact resistance is reduced, and a physical quantity sensor element excellent in reliability is provided. be able to.

[適用例3]上記適用例に係る物理量センサー素子は、前記固定電極指が半導体材料で構成され、前記凸部の少なくとも一部には前記半導体材料とは異種の材料がドープされていること、が好ましい。   [Application Example 3] In the physical quantity sensor element according to the application example, the fixed electrode finger is made of a semiconductor material, and at least a part of the convex portion is doped with a material different from the semiconductor material, Is preferred.

これにより、固定電極指が半導体材料で構成された場合でも、異種の材料をドープすることで電気抵抗を小さくすることができ、接触抵抗が大幅に低下し信頼性に優れた物理量センサー素子を提供することができる。   As a result, even when the fixed electrode finger is made of a semiconductor material, the electrical resistance can be reduced by doping different types of materials, and the contact resistance is greatly reduced, thereby providing a physical quantity sensor element with excellent reliability. can do.

[適用例4]上記適用例に係る物理量センサー素子は、前記凸部の少なくとも一部が金属で構成されていること、が好ましい。   Application Example 4 In the physical quantity sensor element according to the application example described above, it is preferable that at least a part of the convex portion is made of metal.

これにより、電気抵抗が小さい金属材料により接触抵抗が大幅に低下し、信頼性に優れた物理量センサー素子を提供することができる。   Thereby, the contact resistance is significantly reduced by the metal material having a small electric resistance, and a physical quantity sensor element having excellent reliability can be provided.

[適用例5]上記適用例に係る物理量センサー素子は、前記凸部の前記金属と前記配線とが同一材料であること、が好ましい。   Application Example 5 In the physical quantity sensor element according to the application example described above, it is preferable that the metal of the convex portion and the wiring are made of the same material.

これにより、製造工程において複数の材料を用いる必要がなくなり、製造効率の優れた物理量センサー素子を提供することができる。   Thereby, it is not necessary to use a plurality of materials in the manufacturing process, and a physical quantity sensor element having excellent manufacturing efficiency can be provided.

[適用例6]上記適用例に係る物理量センサー素子は、前記凸部の少なくとも一部が、金、白金、銀、銅、アルミニウム、錫、チタン、ゲルマニウム、シリコン、亜鉛、インジウム、またはこれらの少なくとも1つを主成分とする化合物で構成されていること、が好ましい。   Application Example 6 In the physical quantity sensor element according to the application example described above, at least a part of the convex portion is gold, platinum, silver, copper, aluminum, tin, titanium, germanium, silicon, zinc, indium, or at least one of these. It is preferably composed of a compound having one as a main component.

これにより、比較的容易に入手可能な材料を使うことができるため、低コストで物理量センサー素子を製造することができる。   Thereby, since a material which can be obtained relatively easily can be used, a physical quantity sensor element can be manufactured at low cost.

[適用例7]本適用例に係る物理量センサーは、上記適用例のいずれかに記載の物理量センサー素子と、集積回路と、を備えていることを特徴とする。   Application Example 7 A physical quantity sensor according to this application example includes the physical quantity sensor element according to any one of the application examples described above and an integrated circuit.

これにより、上述の効果を備えている物理量センサーを実現できる。   Thereby, a physical quantity sensor having the above-described effects can be realized.

[適用例8]本適用例に係る電子機器は、上記適用例のいずれかに記載の物理量センサー素子を備えていることを特徴とする。   Application Example 8 An electronic apparatus according to this application example includes the physical quantity sensor element according to any one of the application examples described above.

これにより、上述の効果を備えている電子機器を実現できる。   Thereby, the electronic device provided with the above-mentioned effect is realizable.

本発明の第1実施形態に係る物理量センサー素子を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the physical quantity sensor element which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1に示す物理量センサー素子を示す平面図である。It is a top view which shows the physical quantity sensor element shown in FIG. 図2中のA−A線における断面図である。It is sectional drawing in the AA in FIG. 図3を部分拡大した断面図である。FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG. 3. 図2中のB−B線における断面図である。It is sectional drawing in the BB line in FIG. 図5を部分拡大した断面図である。FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG. 5. 物理量センサー素子の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of a physical quantity sensor element. 物理量センサー素子の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of a physical quantity sensor element. 物理量センサー素子の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of a physical quantity sensor element. 物理量センサー素子の製造工程(配線、接点、絶縁膜を形成する工程)を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing process (The process of forming a wiring, a contact, and an insulating film) of a physical quantity sensor element. 本発明の第2実施形態に係る物理量センサー素子を示す平面図である。It is a top view which shows the physical quantity sensor element which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の物理量センサーの一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the physical quantity sensor of this invention. 本発明の電子機器(ノート型パーソナルコンピューター)を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the electronic device (notebook-type personal computer) of this invention. 本発明の電子機器(携帯電話機)を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the electronic device (cellular phone) of this invention. 本発明の電子機器(ディジタルスチルカメラ)を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the electronic device (digital still camera) of this invention.

以下、本発明の物理量センサー素子、物理量センサーおよび電子機器の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
<第1実施形態>
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Preferred embodiments of a physical quantity sensor element, a physical quantity sensor, and an electronic apparatus according to the invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
<First Embodiment>

図1は、本発明の第1実施形態に係る物理量センサー素子を示す斜視図、図2は、図1に示す物理量センサー素子を示す平面図、図3は、図2中のA−A線における断面図、図4は、図3を部分拡大した断面図、図5は、図2中のB−B線における断面図、図6は、図5を部分拡大した断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図2中の紙面手前側を「上」、紙面奥側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。また、図1〜3、5では、互いに直交する3つの軸として、X軸、Y軸およびZ軸が図示されている。また、以下では、X軸に平行な方向(左右方向)を「X軸方向」、Y軸に平行な方向を「Y軸方向」、Z軸に平行な方向(上下方向)を「Z軸方向」と言う。また図1〜3、5、8、9では、説明の便宜上、後述する絶縁膜6(図4)およびそれに対応するもの(絶縁膜106、106A(図10(b)(c))の図示を省略している。なお、本実施形態では、物理量センサー素子を加速度、角速度等の物理量を測定するための素子として用いる場合の例について説明する。   1 is a perspective view showing a physical quantity sensor element according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view showing the physical quantity sensor element shown in FIG. 1, and FIG. 3 is taken along the line AA in FIG. 4 is a partially enlarged sectional view of FIG. 3, FIG. 5 is a sectional view taken along line BB in FIG. 2, and FIG. 6 is a partially enlarged sectional view of FIG. In the following, for convenience of explanation, the front side of the paper in FIG. 2 is referred to as “up”, the back side of the paper is referred to as “down”, the right side is referred to as “right”, and the left side is referred to as “left”. 1 to 3 and 5, the X axis, the Y axis, and the Z axis are illustrated as three axes orthogonal to each other. In the following, the direction parallel to the X axis (left-right direction) is the “X-axis direction”, the direction parallel to the Y-axis is “Y-axis direction”, and the direction parallel to the Z-axis (vertical direction) is “Z-axis direction”. " Also, in FIGS. 1 to 3, 5, 8, and 9, for convenience of explanation, illustration of an insulating film 6 (FIG. 4) described later and a corresponding film (insulating films 106, 106 </ b> A (FIGS. 10B and 10C)) In this embodiment, an example in which a physical quantity sensor element is used as an element for measuring a physical quantity such as acceleration and angular velocity will be described.

(物理量センサー素子)
図1に示す物理量センサー素子1は、絶縁基板2と、この絶縁基板2に接合・支持された素子片3と、素子片3に電気的に接続された導体パターン4と、素子片3を覆うように設けられた蓋部材5とを有する。
(Physical quantity sensor element)
A physical quantity sensor element 1 shown in FIG. 1 covers an insulating substrate 2, an element piece 3 bonded and supported to the insulating substrate 2, a conductor pattern 4 electrically connected to the element piece 3, and the element piece 3. The lid member 5 is provided.

以下、物理量センサー素子1を構成する各部を順次詳細に説明する。
(絶縁基板)
絶縁基板2は、素子片3を支持する機能を有する。
この絶縁基板2は、板状をなし、その上面(一方の面)には、空洞部21が設けられている。この空洞部21は、絶縁基板2を平面視したときに、後述する素子片3の可動部33、可動電極部36、37および連結部34、35を包含するように形成されていて、内底を有する。このような空洞部21は、素子片3の可動部33、可動電極部36、37および連結部34、35が絶縁基板2に接触するのを防止する逃げ部を構成する。これにより、素子片3の可動部33の変位を許容することができる。
なお、この逃げ部は、空洞部21(凹部)に代えて、絶縁基板2をその厚さ方向に貫通する開口部であってもよい。また、本実施形態では、空洞部21の平面視形状は、四角形(具体的には長方形)をなしているが、これに限定されるものではない。
Hereinafter, each part which comprises the physical quantity sensor element 1 is demonstrated in detail sequentially.
(Insulated substrate)
The insulating substrate 2 has a function of supporting the element piece 3.
The insulating substrate 2 has a plate shape, and a cavity 21 is provided on the upper surface (one surface). The cavity 21 is formed so as to include a movable portion 33, movable electrode portions 36 and 37, and connecting portions 34 and 35 of an element piece 3 to be described later when the insulating substrate 2 is viewed in plan view. Have Such a cavity 21 constitutes an escape portion that prevents the movable portion 33, the movable electrode portions 36 and 37, and the coupling portions 34 and 35 of the element piece 3 from contacting the insulating substrate 2. Thereby, the displacement of the movable part 33 of the element piece 3 can be permitted.
The escape portion may be an opening that penetrates the insulating substrate 2 in the thickness direction instead of the cavity portion 21 (concave portion). In the present embodiment, the shape of the cavity 21 in plan view is a quadrangle (specifically, a rectangle), but is not limited thereto.

また絶縁基板2の上面には、前述した空洞部21の外側に、その外周に沿って、凹部22、23、24が設けられている。この凹部22、23、24は、平面視で導体パターン4に対応した形状をなしている。具体的には、凹部22は、後述する導体パターン4の配線41および電極44に対応した形状をなし、凹部23は、後述する導体パターン4の配線42および電極45に対応した形状をなし、凹部24は、後述する導体パターン4の配線43および電極46に対応した形状をなす。   On the upper surface of the insulating substrate 2, recesses 22, 23, and 24 are provided along the outer periphery of the cavity portion 21 described above. The recesses 22, 23 and 24 have a shape corresponding to the conductor pattern 4 in plan view. Specifically, the recess 22 has a shape corresponding to a wiring 41 and an electrode 44 of a conductor pattern 4 described later, and the recess 23 has a shape corresponding to a wiring 42 and an electrode 45 of a conductor pattern 4 described later. 24 has a shape corresponding to the wiring 43 and the electrode 46 of the conductor pattern 4 to be described later.

また、凹部22の電極44が設けられた部位の深さは、凹部22の配線41が設けられた部位よりも深くなっている。同様に、凹部23の電極45が設けられた部位の深さは、凹部23の配線42が設けられた部位よりも深くなっている。また凹部24の電極46が設けられた部位の深さは、凹部24の配線43が設けられた部位よりも深くなっている。   The depth of the portion of the recess 22 where the electrode 44 is provided is deeper than the portion of the recess 22 where the wiring 41 is provided. Similarly, the depth of the portion of the recess 23 where the electrode 45 is provided is deeper than the portion of the recess 23 where the wiring 42 is provided. The depth of the portion of the recess 24 where the electrode 46 is provided is deeper than the portion of the recess 24 where the wiring 43 is provided.

このように凹部22、23、24の一部の深さを深くすることにより、後述する物理量センサー素子1の製造時において、素子片3を形成する前の基板103Aを基板102Aに接合したとき(図8(e)参照)、その基板103Aが電極44、45、46と接合してしまうのを防止することができる。
このような絶縁基板2の構成材料としては、具体的には、高抵抗なシリコン材料、ガラス材料を用いるのが好ましく、特に、素子片3がシリコン材料を主材料として構成されている場合、アルカリ金属イオン(可動イオン)を含むガラス材料(例えば、パイレックス(登録商標)ガラスのような珪素酸ガラス)を用いるのが好ましい。これにより、素子片3がシリコンを主材料として構成されている場合、絶縁基板2と素子片3とを陽極接合することができる。
In this way, by increasing the depth of some of the recesses 22, 23, and 24, when the physical quantity sensor element 1 described later is manufactured, the substrate 103A before the element piece 3 is formed is bonded to the substrate 102A ( 8E), the substrate 103A can be prevented from being bonded to the electrodes 44, 45, and 46.
Specifically, it is preferable to use a high-resistance silicon material or glass material as the constituent material of such an insulating substrate 2. In particular, when the element piece 3 is composed of a silicon material as a main material, an alkali is used. It is preferable to use a glass material containing metal ions (movable ions) (for example, silicon acid glass such as Pyrex (registered trademark) glass). Thereby, when the element piece 3 is composed of silicon as a main material, the insulating substrate 2 and the element piece 3 can be anodically bonded.

また絶縁基板2の構成材料は、素子片3の構成材料との熱膨張係数差ができるだけ小さいのが好ましく、具体的には、絶縁基板2の構成材料と素子片3の構成材料との熱膨張係数差が3ppm/℃以下であるのが好ましい。これにより、絶縁基板2と素子片3との接合時等に高温下に晒されても、絶縁基板2と素子片3との間の残留応力低減することができる。   Further, it is preferable that the constituent material of the insulating substrate 2 has as little difference in thermal expansion coefficient as that of the constituent material of the element piece 3. Specifically, the thermal expansion between the constituent material of the insulating substrate 2 and the constituent material of the element piece 3 is preferable. The coefficient difference is preferably 3 ppm / ° C. or less. As a result, even if the insulating substrate 2 and the element piece 3 are exposed to a high temperature during bonding, the residual stress between the insulating substrate 2 and the element piece 3 can be reduced.

(素子片)
素子片3は、固定部31、32と、可動部33と、連結部34、35と、可動電極部36、37と、固定電極部38、39とで構成されている。
このような素子片3は、例えば、加速度、角速度等の物理量の変化に応じて、可動部33および可動電極部36、37が、連結部34、35を弾性変形させながら、X軸方向(+X方向または−X方向)に変位する。このような変位に伴って、可動電極部36と固定電極部38との間の隙間、および、可動電極部37と固定電極部39との間の隙間の大きさがそれぞれ変化する。すなわち、このような変位に伴って、可動電極部36と固定電極部38との間の静電容量、および、可動電極部37と固定電極部39との間の静電容量の大きさがそれぞれ変化する。したがって、これらの静電容量に基づいて、加速度、角速度等の物理量を検出することができる。
(Element piece)
The element piece 3 includes fixed portions 31 and 32, a movable portion 33, connecting portions 34 and 35, movable electrode portions 36 and 37, and fixed electrode portions 38 and 39.
Such an element piece 3 has an X-axis direction (+ X) while the movable portion 33 and the movable electrode portions 36 and 37 elastically deform the connecting portions 34 and 35 according to changes in physical quantities such as acceleration and angular velocity. Direction or -X direction). With such displacement, the size of the gap between the movable electrode portion 36 and the fixed electrode portion 38 and the size of the gap between the movable electrode portion 37 and the fixed electrode portion 39 change. That is, with such a displacement, the capacitance between the movable electrode portion 36 and the fixed electrode portion 38 and the capacitance between the movable electrode portion 37 and the fixed electrode portion 39 are respectively reduced. Change. Therefore, physical quantities such as acceleration and angular velocity can be detected based on these capacitances.

この固定部31、32、可動部33、連結部34、35および可動電極部36、37は、一体的に形成されている。
固定部31、32は、それぞれ、前述した絶縁基板2の上面に接合されている。具体的には、固定部31は、絶縁基板2の上面の空洞部21に対して−X方向側(図中左側)の部分に接合され、また、固定部32は、絶縁基板2の上面の空洞部21に対して+X方向側(図中右側)の部分に接合されている。また、固定部31、32は、平面視したときに、それぞれ、空洞部21の外周縁を跨ぐように設けられている。
The fixed portions 31 and 32, the movable portion 33, the connecting portions 34 and 35, and the movable electrode portions 36 and 37 are integrally formed.
The fixing portions 31 and 32 are respectively joined to the upper surface of the insulating substrate 2 described above. Specifically, the fixing portion 31 is bonded to a portion on the −X direction side (left side in the drawing) with respect to the cavity portion 21 on the upper surface of the insulating substrate 2, and the fixing portion 32 is formed on the upper surface of the insulating substrate 2. It is joined to the portion on the + X direction side (right side in the figure) with respect to the cavity portion 21. Further, the fixing portions 31 and 32 are provided so as to straddle the outer peripheral edge of the cavity portion 21 when viewed in plan.

なお、固定部31、32の位置および形状等は、連結部34、35や導体パターン4等の位置および形状等に応じて決められるものであり、上述したものに限定されない。このような2つの固定部31、32の間には、可動部33が設けられている。本実施形態では、可動部33は、X軸方向に延びる長手形状をなしている。なお、可動部33の形状は、素子片3を構成する各部の形状、大きさ等に応じて決められるものであり、上述したものに限定されない。   The positions and shapes of the fixing portions 31 and 32 are determined according to the positions and shapes of the connecting portions 34 and 35, the conductor pattern 4, etc., and are not limited to those described above. A movable portion 33 is provided between the two fixed portions 31 and 32. In the present embodiment, the movable part 33 has a longitudinal shape extending in the X-axis direction. The shape of the movable portion 33 is determined according to the shape, size, etc. of each portion constituting the element piece 3 and is not limited to the above-described one.

このような可動部33は、固定部31に対して連結部34を介して連結されるとともに、固定部32に対して連結部35を介して連結されている。より具体的には、可動部33の左側の端部が連結部34を介して固定部31に連結されるとともに、可動部33の右側の端部が連結部35を介して固定部32に連結されている。
この連結部34、35は、可動部33を固定部31、32に対して変位可能に連結している。本実施形態では、連結部34、35は、図2にて矢印aで示すように、X軸方向(+X方向または−X方向)に可動部33を変位し得るように構成されている。
Such a movable portion 33 is connected to the fixed portion 31 via the connecting portion 34 and is connected to the fixed portion 32 via the connecting portion 35. More specifically, the left end portion of the movable portion 33 is connected to the fixed portion 31 via the connecting portion 34, and the right end portion of the movable portion 33 is connected to the fixed portion 32 via the connecting portion 35. Has been.
The connecting portions 34 and 35 connect the movable portion 33 to the fixed portions 31 and 32 so as to be displaceable. In the present embodiment, the connecting portions 34 and 35 are configured to be able to displace the movable portion 33 in the X-axis direction (+ X direction or −X direction) as indicated by an arrow a in FIG.

具体的に説明すると、連結部34は、2つの梁341、342で構成されている。そして、梁341、342はそれぞれ、Y軸方向に蛇行しながらX軸方向に延びる形状をなしている。言い換えると、梁341、342は、それぞれ、Y軸方向に複数回(本実施例では3回)折り返された形状をなしている。なお、各梁341、342の折り返し回数は、1回または2回であってもよいし、4回以上であってもよい。   Specifically, the connecting portion 34 includes two beams 341 and 342. Each of the beams 341 and 342 has a shape extending in the X-axis direction while meandering in the Y-axis direction. In other words, each of the beams 341 and 342 has a shape that is folded back a plurality of times (three times in the present embodiment) in the Y-axis direction. Note that the number of times the beams 341 and 342 are folded may be one or two times, or four or more times.

同様に、連結部35は、Y軸方向に蛇行しながらX軸方向に延びる形状をなす2つの梁351、352で構成されている。
なお、連結部34、35は、可動部33を絶縁基板2に対して変位可能に支持するものであれば、上述したものに限定されず、例えば、可動部33の両端部から+Y方向および−Y方向にそれぞれ延出する1対の梁で構成されていてもよい。
Similarly, the connecting portion 35 is composed of two beams 351 and 352 having a shape extending in the X-axis direction while meandering in the Y-axis direction.
The connecting portions 34 and 35 are not limited to those described above as long as they support the movable portion 33 so as to be displaceable with respect to the insulating substrate 2. For example, the connecting portions 34 and 35 are not limited to those described above from both ends of the movable portion 33. You may be comprised with a pair of beam each extended in a Y direction.

このように絶縁基板2に対してX軸方向に変位可能に支持された可動部33の幅方向での一方側(+Y方向側)には、可動電極部36が設けられ、他方側(−Y方向側)には、可動電極部37が設けられている。
可動電極部36は、可動部33から+Y方向に突出し、櫛歯状をなすように並ぶ複数の可動電極指361、362、363、364、365を備えている。これら可動電極指361〜365は、−X方向側から+X方向側へ、この順に並んでいる。同様に、可動電極部37は、可動部33から−Y方向に突出し、櫛歯状をなすように並ぶ複数の可動電極指371、372、373、374、375を備える。これら可動電極指371〜375は、−X方向側から+X方向側へ、この順で並んでいる。
Thus, the movable electrode portion 36 is provided on one side (+ Y direction side) in the width direction of the movable portion 33 supported so as to be displaceable in the X-axis direction with respect to the insulating substrate 2, and the other side (−Y On the direction side, a movable electrode portion 37 is provided.
The movable electrode portion 36 includes a plurality of movable electrode fingers 361, 362, 363, 364, 365 that protrude in the + Y direction from the movable portion 33 and are arranged in a comb-teeth shape. These movable electrode fingers 361 to 365 are arranged in this order from the −X direction side to the + X direction side. Similarly, the movable electrode portion 37 includes a plurality of movable electrode fingers 371, 372, 373, 374, and 375 that protrude in the −Y direction from the movable portion 33 and are arranged in a comb shape. These movable electrode fingers 371 to 375 are arranged in this order from the −X direction side to the + X direction side.

このように複数の可動電極指361〜365および複数の可動電極指371〜375は、それぞれ、可動部33の変位する方向(すなわちX軸方向)に並んで設けられている。これにより、後述する固定電極指382、384、386、388と可動電極部36との間の静電容量、および、固定電極指381、383、385、387と可動電極部36との静電容量、を可動部33の変位に応じて効率的に変化させることができる。同様に、後述する固定電極指392、394、396、398と可動電極部37との間の静電容量、および固定電極指391、393、395、397と可動電極部37との静電容量を可動部33の変位に応じて効率的に変化させることができる。そのため、物理量センサー素子1は、検出精度の優れたものとすることができる。
このような可動電極部36は、固定電極部38に対して間隔を隔てて対向する。また、可動電極部37は、固定電極部39に対して間隔を隔てて対向する。
Thus, the plurality of movable electrode fingers 361 to 365 and the plurality of movable electrode fingers 371 to 375 are provided side by side in the direction in which the movable portion 33 is displaced (that is, the X-axis direction). Thereby, the electrostatic capacitance between the fixed electrode fingers 382, 384, 386, and 388, which will be described later, and the movable electrode portion 36, and the electrostatic capacitance between the fixed electrode fingers 381, 383, 385, 387 and the movable electrode portion 36 are described. Can be efficiently changed according to the displacement of the movable portion 33. Similarly, the capacitance between the fixed electrode fingers 392, 394, 396, and 398 and the movable electrode portion 37, which will be described later, and the capacitance between the fixed electrode fingers 391, 393, 395, and 397 and the movable electrode portion 37 are as follows. It can be efficiently changed according to the displacement of the movable portion 33. Therefore, the physical quantity sensor element 1 can be excellent in detection accuracy.
Such a movable electrode part 36 is opposed to the fixed electrode part 38 with an interval. Further, the movable electrode portion 37 faces the fixed electrode portion 39 with a space therebetween.

固定電極部38は、前述した可動電極部36の複数の可動電極指361〜365に対して間隔を隔てて噛み合う櫛歯状をなすように並ぶ、複数の固定電極指381〜388を備える。このような複数の固定電極指381〜388の、可動部33とは反対側の端部は、それぞれ、絶縁基板2の上面の空洞部21に対して+Y方向側の部分に接合されている。このとき、固定電極指381〜388と絶縁基板2との上面が接合されると共に、固定電極指381〜388の絶縁基板2と接合される面側に形成された凸部471、481が、それぞれ、後述する導体パターン4の配線41、42と電気的に接続されている。そして、各固定電極指381〜388は、その固定された側の端を固定端とし、自由端が−Y方向へ延びている。   The fixed electrode unit 38 includes a plurality of fixed electrode fingers 381 to 388 arranged in a comb-like shape that meshes with the plurality of movable electrode fingers 361 to 365 of the movable electrode unit 36 described above at intervals. The end portions of the plurality of fixed electrode fingers 381 to 388 on the side opposite to the movable portion 33 are joined to the + Y direction side portion with respect to the cavity portion 21 on the upper surface of the insulating substrate 2. At this time, the upper surfaces of the fixed electrode fingers 381 to 388 and the insulating substrate 2 are bonded, and the convex portions 471 and 481 formed on the surface side of the fixed electrode fingers 381 to 388 bonded to the insulating substrate 2 are respectively These are electrically connected to wirings 41 and 42 of a conductor pattern 4 to be described later. The fixed electrode fingers 381 to 388 each have a fixed end as a fixed end and a free end extending in the −Y direction.

この固定電極指381〜388は、−X方向側から+X方向側へ、この順に並んでいる。そして、固定電極指381、382は、対をなし前述した可動電極指361と可動電極指362との間に、固定電極指383、384は、対をなし可動電極指362と可動電極指363との間に、固定電極指385、386は、対をなし可動電極指363と可動電極指364との間に、固定電極指387、388は、対をなし可動電極指364と可動電極指365との間に臨むように設けられている。   The fixed electrode fingers 381 to 388 are arranged in this order from the −X direction side to the + X direction side. The fixed electrode fingers 381 and 382 make a pair, and the fixed electrode fingers 383 and 384 make a pair between the movable electrode finger 361 and the movable electrode finger 362 described above, and the movable electrode finger 362 and the movable electrode finger 363 have a pair. Between the fixed electrode fingers 385 and 386, the movable electrode finger 363 and the movable electrode finger 364 are paired, and between the fixed electrode fingers 387 and 388, the movable electrode finger 364 and the movable electrode finger 365 are paired. It is provided to face between.

ここで、固定電極指382、384、386、388は、それぞれ、第1固定電極指であり、固定電極指381、383、385、387は、それぞれ、絶縁基板2上で当該第1固定電極指に対して空隙(間隙)を介して離間した第2固定電極指である。このように、複数の固定電極指381〜388は、交互に並ぶ複数の第1固定電極指および複数の第2固定電極指で構成されている。言い換えれば、可動電極指362、363、364、の一方の側に第1固定電極指が配置され、他方の側に第2固定電極指が配置されている。また、可動電極指361、365のいずれかの側に第1固定電極指または第2固定電極指が配置されている。   Here, the fixed electrode fingers 382, 384, 386, and 388 are first fixed electrode fingers, respectively, and the fixed electrode fingers 381, 383, 385, and 387 are the first fixed electrode fingers on the insulating substrate 2, respectively. The second fixed electrode fingers are spaced apart from each other via a gap (gap). As described above, the plurality of fixed electrode fingers 381 to 388 are composed of a plurality of first fixed electrode fingers and a plurality of second fixed electrode fingers arranged alternately. In other words, the first fixed electrode finger is disposed on one side of the movable electrode fingers 362, 363, 364, and the second fixed electrode finger is disposed on the other side. Further, the first fixed electrode finger or the second fixed electrode finger is arranged on either side of the movable electrode fingers 361 and 365.

このような第1固定電極指である固定電極指382、384、386、388と第2固定電極指である固定電極指381、383、385、387とは、絶縁基板2上で互いに分離している。言い換えると、固定電極指382、384、386、388、固定電極指381、383、385、387は、絶縁基板2上において、互いに連結されておらず、島状に孤立している。これにより、固定電極指382、384、386、388と固定電極指381、383、385、387とを電気的に絶縁することができる。そのため、固定電極指382、384、386、388と可動電極部36との間の静電容量、および、固定電極指381、383、385、387と可動電極部36との間の静電容量を別々に測定し、それらの測定結果に基づいて、高精度に物理量を検出することができる。   The fixed electrode fingers 382, 384, 386, and 388, which are the first fixed electrode fingers, and the fixed electrode fingers 381, 383, 385, and 387, which are the second fixed electrode fingers, are separated from each other on the insulating substrate 2. Yes. In other words, the fixed electrode fingers 382, 384, 386, 388 and the fixed electrode fingers 381, 383, 385, 387 are not connected to each other on the insulating substrate 2 and are isolated in an island shape. Thereby, the fixed electrode fingers 382, 384, 386, 388 and the fixed electrode fingers 381, 383, 385, 387 can be electrically insulated. Therefore, the electrostatic capacitance between the fixed electrode fingers 382, 384, 386, 388 and the movable electrode portion 36, and the electrostatic capacitance between the fixed electrode fingers 381, 383, 385, 387 and the movable electrode portion 36 are increased. It is possible to measure separately and detect physical quantities with high accuracy based on the measurement results.

本実施形態では、固定電極指381〜388が絶縁基板2上で互いに分離している。言い換えると、固定電極指381〜388は、それぞれ、絶縁基板2上において、互いに連結されておらず、島状に孤立している。これにより、固定電極指381〜388のY軸方向の長さを揃えることができる。そのため、各固定電極指381〜388と絶縁基板2との各接合部の十分な接合強度を得るのに必要な面積を確保しつつ、固定電極指381〜388の小型化を図ることができる。   In the present embodiment, the fixed electrode fingers 381 to 388 are separated from each other on the insulating substrate 2. In other words, the fixed electrode fingers 381 to 388 are not connected to each other on the insulating substrate 2 and are isolated in an island shape. Thereby, the length of the fixed electrode fingers 381 to 388 in the Y-axis direction can be made uniform. Therefore, it is possible to reduce the size of the fixed electrode fingers 381 to 388 while securing an area necessary for obtaining a sufficient bonding strength of each bonded portion between the fixed electrode fingers 381 to 388 and the insulating substrate 2.

同様に、固定電極部39は、前述した可動電極部37の複数の可動電極指371〜375に対して間隔を隔てて噛み合う櫛歯状をなすように並ぶ、複数の固定電極指391〜398を備える。このような複数の固定電極指391〜398の可動部33とは反対側の端部は、それぞれ、絶縁基板2の上面の空洞部21に対して−Y方向側の部分に接合されている。このとき、固定電極指391〜398と絶縁基板2との上面が接合されると共に、固定電極指391〜398の絶縁基板2と接合される面側に形成された凸部472、482が、それぞれ、後述する導体パターン4の配線41、42と電気的に接続されている。そして、各固定電極指391〜398は、その固定された側の端を固定端とし、自由端が+Y方向へ延びている。   Similarly, the fixed electrode unit 39 includes a plurality of fixed electrode fingers 391 to 398 arranged in a comb-teeth shape that meshes with the plurality of movable electrode fingers 371 to 375 of the movable electrode unit 37 described above at intervals. Prepare. The ends of the plurality of fixed electrode fingers 391 to 398 on the side opposite to the movable portion 33 are joined to the portion on the −Y direction side with respect to the cavity portion 21 on the upper surface of the insulating substrate 2. At this time, the upper surfaces of the fixed electrode fingers 391 to 398 and the insulating substrate 2 are bonded, and the convex portions 472 and 482 formed on the surface side of the fixed electrode fingers 391 to 398 bonded to the insulating substrate 2 are respectively These are electrically connected to wirings 41 and 42 of a conductor pattern 4 to be described later. Each fixed electrode finger 391 to 398 has a fixed end as a fixed end and a free end extending in the + Y direction.

この固定電極指391、392、393、394、395、396、397、398は、−X方向側から+X方向側へ、この順に並んでいる。そして、固定電極指391、392は、対をなし前述した可動電極指371と可動電極指372との間に、固定電極指393、394は、対をなし可動電極指372と可動電極指373との間に、固定電極指395、396は、対をなし可動電極指373と可動電極指374との間に、固定電極指397、398は、対をなし可動電極指374と可動電極指375との間に臨むように設けられている。   The fixed electrode fingers 391, 392, 393, 394, 395, 396, 397, 398 are arranged in this order from the −X direction side to the + X direction side. The fixed electrode fingers 391 and 392 make a pair, and the fixed electrode fingers 393 and 394 make a pair between the movable electrode finger 371 and the movable electrode finger 372 described above. Between the fixed electrode fingers 395 and 396, the movable electrode finger 373 and the movable electrode finger 374 are paired, and between the fixed electrode fingers 397 and 398, the movable electrode finger 374 and the movable electrode finger 375 are paired. It is provided to face between.

ここで、固定電極指392、394、396、398は、それぞれ、第1固定電極指であり、固定電極指391、393、395、397は、それぞれ、絶縁基板2上で当該第1固定電極指に対して空隙(間隙)を介して離間した第2固定電極指である。このように、複数の固定電極指391〜398は、交互に並ぶ複数の第1固定電極指および複数の第2固定電極指で構成されている。言い換えれば、可動電極指372、373、374の一方の側に第1固定電極指が配置され、他方の側に第2固定電極指が配置されている。また、可動電極指371、375のいずれかの側に第1固定電極指または第2固定電極指が配置されている。   Here, the fixed electrode fingers 392, 394, 396, and 398 are first fixed electrode fingers, respectively, and the fixed electrode fingers 391, 393, 395, and 397 are respectively the first fixed electrode fingers on the insulating substrate 2. The second fixed electrode fingers are spaced apart from each other via a gap (gap). As described above, the plurality of fixed electrode fingers 391 to 398 are composed of a plurality of first fixed electrode fingers and a plurality of second fixed electrode fingers arranged alternately. In other words, the first fixed electrode finger is disposed on one side of the movable electrode fingers 372, 373, and 374, and the second fixed electrode finger is disposed on the other side. Further, the first fixed electrode finger or the second fixed electrode finger is disposed on either side of the movable electrode fingers 371 and 375.

このような第1固定電極指である固定電極指392、394、396、398と第2固定電極指である固定電極指391、393、395、397とは、前述した固定電極部38と同様、絶縁基板2上で互いに分離している。これにより、固定電極指392、394、396、398と可動電極部37との間の静電容量、および、固定電極指391、393、395、397と可動電極部37との間の静電容量を別々に測定し、それらの測定結果に基づいて、高精度に物理量を検出することができる。   The fixed electrode fingers 392, 394, 396, and 398 as the first fixed electrode fingers and the fixed electrode fingers 391, 393, 395, and 397 as the second fixed electrode fingers are similar to the fixed electrode portion 38 described above. They are separated from each other on the insulating substrate 2. Thereby, the electrostatic capacitance between the fixed electrode fingers 392, 394, 396, 398 and the movable electrode portion 37, and the electrostatic capacitance between the fixed electrode fingers 391, 393, 395, 397 and the movable electrode portion 37 Can be measured separately, and based on the measurement results, the physical quantity can be detected with high accuracy.

本実施形態では、複数の固定電極指391〜398は、前述した固定電極部38と同様、絶縁基板2上で互いに分離している。これにより、各固定電極指391〜398と絶縁基板2との各接合部の面積を十分なものとしつつ、固定電極指391〜398の小型化を図ることができる。そのため、物理量センサー素子1の耐衝撃性を優れたものとしつつ、物理量センサー素子1の小型化を図ることができる。   In the present embodiment, the plurality of fixed electrode fingers 391 to 398 are separated from each other on the insulating substrate 2 in the same manner as the fixed electrode portion 38 described above. Accordingly, it is possible to reduce the size of the fixed electrode fingers 391 to 398 while making the area of each joint portion between the fixed electrode fingers 391 to 398 and the insulating substrate 2 sufficient. Therefore, the physical quantity sensor element 1 can be downsized while the impact resistance of the physical quantity sensor element 1 is excellent.

このような素子片3(すなわち、固定部31、32、可動部33、連結部34、35、複数の固定電極指381〜388、391〜398および複数の可動電極指361〜365、371〜375)は、後述する1つの基板103をエッチングすることにより形成されたものである。
これにより、固定部31、32、可動部33、連結部34、35、複数の固定電極指381〜388、391〜398および複数の可動電極指361〜365、371〜375の厚さを厚くすることができる。また、これらの厚さを簡単かつ高精度に揃えることができる。このようなことから、物理量センサー素子1の高感度化を図ることができると共に、物理量センサー素子1の耐衝撃性を向上させることができる。
Such an element piece 3 (that is, fixed portions 31, 32, movable portion 33, connecting portions 34, 35, a plurality of fixed electrode fingers 381-388, 391-398, and a plurality of movable electrode fingers 361-365, 371-375). ) Is formed by etching one substrate 103 to be described later.
Accordingly, the thicknesses of the fixed portions 31 and 32, the movable portion 33, the connecting portions 34 and 35, the plurality of fixed electrode fingers 381 to 388 and 391 to 398, and the plurality of movable electrode fingers 361 to 365 and 371 to 375 are increased. be able to. Also, these thicknesses can be easily and accurately aligned. For this reason, it is possible to increase the sensitivity of the physical quantity sensor element 1 and to improve the impact resistance of the physical quantity sensor element 1.

また、素子片3の構成材料としては、前述したような静電容量の変化に基づく物理量の検出が可能であれば、特に限定されないが、半導体(半導体材料)が好ましく、具体的には、例えば、単結晶シリコン、ポリシリコン等のシリコン材料を用いるのが好ましい。
すなわち、固定部31、32、可動部33、連結部34、35、複数の固定電極指381〜388、391〜398および複数の可動電極指361〜365、371〜375は、それぞれ、シリコンを主材料として構成されているのが好ましい。
In addition, the constituent material of the element piece 3 is not particularly limited as long as the physical quantity can be detected based on the change in capacitance as described above, but a semiconductor (semiconductor material) is preferable. It is preferable to use a silicon material such as single crystal silicon or polysilicon.
That is, the fixed portions 31 and 32, the movable portion 33, the connecting portions 34 and 35, the plurality of fixed electrode fingers 381 to 388 and 391 to 398, and the plurality of movable electrode fingers 361 to 365 and 371 to 375 are mainly made of silicon. It is preferable that it is constituted as a material.

シリコンはエッチングにより高精度に加工することができる。そのため、素子片3をシリコンを主材料として構成することにより、素子片3の寸法精度を優れたものとし、その結果、物理量センサー素子1の高感度化を図ることができる。また、シリコンは疲労が少ないため、物理量センサー素子1の耐久性を向上させることもできる。
また、素子片3を構成するシリコン材料には、リン、ボロン等の不純物(異種の材料)がドープされているのが好ましい。これにより、素子片3の導電性を優れたものとすることができる。
Silicon can be processed with high precision by etching. Therefore, by configuring the element piece 3 with silicon as a main material, the dimensional accuracy of the element piece 3 is excellent, and as a result, the physical quantity sensor element 1 can be highly sensitive. Further, since silicon is less fatigued, the durability of the physical quantity sensor element 1 can be improved.
Further, it is preferable that the silicon material constituting the element piece 3 is doped with impurities (different materials) such as phosphorus and boron. Thereby, the electroconductivity of the element piece 3 can be made excellent.

また、素子片3は、前述したように、絶縁基板2の上面に固定部31、32および固定電極部38、39が接合されることにより、絶縁基板2に支持されている。本実施形態では、後述する絶縁膜6を介して絶縁基板2と素子片3とが接合されている。
このような素子片3(具体的には、前述した固定部31、32および各固定電極指381〜388、391〜398)と絶縁基板2との接合方法は、特に限定されないが、陽極接合法を用いるのが好ましい。これにより、固定部31、32および固定電極部38、39(各固定電極指381〜388、391〜398)を絶縁基板2に強固に接合することができる。そのため、物理量センサー素子1の耐衝撃性を向上させることができる。また、固定部31、32および固定電極部38、39(各固定電極指381〜388、391〜398)を絶縁基板2の所望の位置に高精度に接合することができる。そのため、物理量センサー素子1の高感度化を図ることができる。この場合、前述したように、シリコンを主材料として素子片3を構成し、かつ、アルカリ金属イオンを含むガラス材料で絶縁基板2を構成する。
Further, as described above, the element piece 3 is supported by the insulating substrate 2 by bonding the fixed portions 31 and 32 and the fixed electrode portions 38 and 39 to the upper surface of the insulating substrate 2. In the present embodiment, the insulating substrate 2 and the element piece 3 are bonded via an insulating film 6 described later.
The bonding method of the element piece 3 (specifically, the fixing portions 31 and 32 and the fixed electrode fingers 381 to 388 and 391 to 398 described above) and the insulating substrate 2 is not particularly limited, but is an anodic bonding method. Is preferably used. Accordingly, the fixed portions 31 and 32 and the fixed electrode portions 38 and 39 (respective fixed electrode fingers 381 to 388 and 391 to 398) can be firmly bonded to the insulating substrate 2. Therefore, the impact resistance of the physical quantity sensor element 1 can be improved. Further, the fixed portions 31 and 32 and the fixed electrode portions 38 and 39 (the fixed electrode fingers 381 to 388 and 391 to 398) can be bonded to desired positions on the insulating substrate 2 with high accuracy. Therefore, it is possible to increase the sensitivity of the physical quantity sensor element 1. In this case, as described above, the element piece 3 is made of silicon as a main material, and the insulating substrate 2 is made of a glass material containing alkali metal ions.

(導体パターン)
導体パターン4は、前述した絶縁基板2の上面(固定電極部38、39側の面)上に設けられている。
この導体パターン4は、配線41、42、43と、電極44、45、46とで構成されている。
配線41は、前述した絶縁基板2の空洞部21の外側に設けられ、空洞部21の外周に沿うように形成されている。そして、配線41の一端部は、絶縁基板2の上面の外周部(絶縁基板2上の蓋部材5の外側の部分)上において、電極44に接続されている。
(Conductor pattern)
The conductor pattern 4 is provided on the upper surface (surface on the fixed electrode portions 38 and 39 side) of the insulating substrate 2 described above.
The conductor pattern 4 includes wirings 41, 42, 43 and electrodes 44, 45, 46.
The wiring 41 is provided outside the cavity 21 of the insulating substrate 2 described above, and is formed along the outer periphery of the cavity 21. One end of the wiring 41 is connected to the electrode 44 on the outer peripheral portion of the upper surface of the insulating substrate 2 (the portion outside the lid member 5 on the insulating substrate 2).

このような配線41は、前述した素子片3の第1固定電極指である各固定電極指382、384、386、388および各固定電極指392、394、396、398に電気的に接続されている。ここで、配線41は、第1固定電極指に電気的に接続された第1配線である。
また、配線42は、前述した配線41の内側、かつ、前述した絶縁基板2の空洞部21の外側でその外周縁に沿って設けられている。そして、配線42の一端部は、絶縁基板2の上面の外周部(絶縁基板2上の蓋部材5の外側の部分)上において、前述した電極44に対して間隔を隔てて並ぶように配置された電極45に接続されている。また、この配線42は、第2固定電極指に電気的に接続された第2配線である。
Such wiring 41 is electrically connected to the fixed electrode fingers 382, 384, 386, 388 and the fixed electrode fingers 392, 394, 396, 398, which are the first fixed electrode fingers of the element piece 3 described above. Yes. Here, the wiring 41 is a first wiring electrically connected to the first fixed electrode fingers.
Further, the wiring 42 is provided along the outer peripheral edge inside the wiring 41 described above and outside the hollow portion 21 of the insulating substrate 2 described above. One end portion of the wiring 42 is arranged on the outer peripheral portion of the upper surface of the insulating substrate 2 (the portion outside the lid member 5 on the insulating substrate 2) so as to be arranged with a space from the electrode 44 described above. Connected to the electrode 45. The wiring 42 is a second wiring electrically connected to the second fixed electrode finger.

配線43は、絶縁基板2上の固定部31との接合部から、絶縁基板2の上面の外周部(絶縁基板2上の蓋部材5の外側の部分)上に延びるように設けられている。そして、配線43の固定部31とは反対側の端部は、絶縁基板2の上面の外周部(絶縁基板2上の蓋部材5の外側の部分)上において、前述した電極44、45に対して間隔を隔てて並ぶように配置された電極46に接続されている。   The wiring 43 is provided so as to extend from the joint portion with the fixing portion 31 on the insulating substrate 2 to the outer peripheral portion (the outer portion of the lid member 5 on the insulating substrate 2) on the upper surface of the insulating substrate 2. The end of the wiring 43 opposite to the fixed portion 31 is on the outer peripheral portion of the upper surface of the insulating substrate 2 (the portion outside the lid member 5 on the insulating substrate 2) with respect to the electrodes 44 and 45 described above. The electrodes 46 are arranged so as to be arranged at intervals.

このような配線41〜43の構成材料としては、それぞれ、導電性を有するものであれば、特に限定されず、各種電極材料を用いることができるが、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、In33、SnO2、Sb含有SnO2、Al含有ZnO等の酸化物(透明電極材料)、Au、Pt、Ag、Cu、Alまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 The material of the wirings 41 to 43 is not particularly limited as long as it has conductivity, and various electrode materials can be used. For example, ITO (Indium Tin Oxide), IZO (IZO ( Indium Zinc Oxide), In 3 O 3 , SnO 2 , Sb-containing SnO 2 , oxides (transparent electrode materials) such as Al-containing ZnO, Au, Pt, Ag, Cu, Al or alloys containing these, etc. One or more of these can be used in combination.

中でも、配線41〜43の構成材料としては、透明電極材料(特にITO)を用いるのが好ましい。配線41、42がそれぞれ透明電極材料で構成されていると、絶縁基板2が透明基板である場合、絶縁基板2の固定電極部38、39側の面上に存在する異物等を絶縁基板2の固定電極部38、39とは反対の面側から容易に視認することができる。そのため、高感度な物理量センサー素子1をより確実に提供することができる。   Among these, it is preferable to use a transparent electrode material (particularly ITO) as a constituent material of the wirings 41 to 43. When the wirings 41 and 42 are each made of a transparent electrode material, when the insulating substrate 2 is a transparent substrate, foreign matter or the like existing on the surface of the insulating substrate 2 on the fixed electrode portions 38 and 39 side is removed. It can be easily visually recognized from the surface opposite to the fixed electrode portions 38 and 39. Therefore, the highly sensitive physical quantity sensor element 1 can be provided more reliably.

また、電極44〜46の構成材料としては、それぞれ、前述した配線41〜43と同様、導電性を有するものであれば、特に限定されず、各種電極材料を用いることができる。本実施形態では、電極44〜46の構成材料として、後述する凸部471、472、481、482の構成材料と同じものが用いられている。
このような配線41、42(第1配線および第2配線)が絶縁基板2の上面に設けられていることにより、配線41を介して、第1固定電極指である固定電極指382、384、386、388と可動電極部36との間の静電容量、および第1固定電極指である固定電極指392、394、396、398と可動電極部37との間の静電容量、を測定すると共に、配線42を介して、第2固定電極指である固定電極指381、383、385、387と可動電極部36との間の静電容量、および第2固定電極指である固定電極指391、393、395、397と可動電極部37との間の静電容量、を測定することができる。
In addition, the constituent materials of the electrodes 44 to 46 are not particularly limited as long as they have electrical conductivity as in the case of the wirings 41 to 43 described above, and various electrode materials can be used. In this embodiment, the same material as that of convex portions 471, 472, 481, and 482 described later is used as the constituent material of the electrodes 44 to 46.
By providing such wirings 41 and 42 (first wiring and second wiring) on the upper surface of the insulating substrate 2, the fixed electrode fingers 382, 384, which are first fixed electrode fingers, are provided via the wiring 41. The capacitance between the electrodes 386 and 388 and the movable electrode portion 36 and the capacitance between the fixed electrode fingers 392, 394, 396 and 398, which are the first fixed electrode fingers, and the movable electrode portion 37 are measured. At the same time, the capacitance between the fixed electrode fingers 381, 383, 385, 387, which are the second fixed electrode fingers, and the movable electrode portion 36, and the fixed electrode finger 391, which is the second fixed electrode finger, via the wiring 42. , 393, 395, 397 and the capacitance between the movable electrode part 37 can be measured.

本実施形態では、電極44および電極46を用いることにより、固定電極指382、384、386、388と可動電極部36との間の静電容量、および固定電極指392、394、396、398と可動電極部37との間の静電容量、を測定することができる。また、電極45および電極46を用いることにより、固定電極指381、383、385、387と可動電極部36との間の静電容量、および固定電極指391、393、395、397と可動電極部37との間の静電容量、を測定することができる。
また、このような配線41、42は、絶縁基板2の上面上(すなわち固定電極部38、39側の面上)に設けられているので、固定電極部38、39に対する電気的接続およびその位置決めが容易である。そのため、物理量センサー素子1の信頼性(特に、耐衝撃性および検出精度)を向上させることができる。
In the present embodiment, by using the electrode 44 and the electrode 46, the capacitance between the fixed electrode fingers 382, 384, 386, and 388 and the movable electrode portion 36, and the fixed electrode fingers 392, 394, 396, and 398, The capacitance between the movable electrode portion 37 and the movable electrode portion 37 can be measured. Further, by using the electrode 45 and the electrode 46, the capacitance between the fixed electrode fingers 381, 383, 385, 387 and the movable electrode portion 36, and the fixed electrode fingers 391, 393, 395, 397 and the movable electrode portion The electrostatic capacity between 37 can be measured.
Further, since such wirings 41 and 42 are provided on the upper surface of the insulating substrate 2 (that is, on the surface on the fixed electrode portions 38 and 39 side), electrical connection to the fixed electrode portions 38 and 39 and positioning thereof Is easy. Therefore, the reliability (especially impact resistance and detection accuracy) of the physical quantity sensor element 1 can be improved.

また、配線41および電極44は、前述した絶縁基板2の凹部(第1凹部)22内に設けられ、配線42および電極45は、前述した絶縁基板2の凹部(第2凹部)23内に設けられ、配線43および電極46は、前述した絶縁基板2の凹部(第3凹部)24内に設けられている。これにより、配線41〜43が絶縁基板2の板面から突出するのを防止することができる。そのため、各固定電極指381〜388、391〜398と絶縁基板2との接合(固定)を確実なものとしつつ、固定電極指382、384、386、388、392、394、396、398と配線41との電気的接続、および固定電極指381、383、385、387、391、393、395、397と配線42との電気的接続を行うことができる。同様に、固定部31と絶縁基板2との接合(固定)を確実なものとしつつ、固定部31と配線43との電気的接続を行うことができる。ここで、配線41〜43の厚さをそれぞれtとし、前述した凹部22〜24の配線41〜43が設けられた部分の深さをそれぞれdとしたとき、t<dなる関係を満たす。   In addition, the wiring 41 and the electrode 44 are provided in the concave portion (first concave portion) 22 of the insulating substrate 2 described above, and the wiring 42 and the electrode 45 are provided in the concave portion (second concave portion) 23 of the insulating substrate 2 described above. The wiring 43 and the electrode 46 are provided in the concave portion (third concave portion) 24 of the insulating substrate 2 described above. Thereby, it is possible to prevent the wirings 41 to 43 from protruding from the plate surface of the insulating substrate 2. Therefore, the fixed electrode fingers 382, 384, 386, 388, 392, 394, 396, 398 and the wiring are secured while ensuring the bonding (fixing) between the fixed electrode fingers 381-388, 391-398 and the insulating substrate 2. 41, and the fixed electrode fingers 381, 383, 385, 387, 391, 393, 395, 397 and the wiring 42 can be connected. Similarly, the electrical connection between the fixing part 31 and the wiring 43 can be performed while ensuring the bonding (fixing) between the fixing part 31 and the insulating substrate 2. Here, the relationship of t <d is satisfied, where t is the thickness of each of the wirings 41 to 43 and d is the depth of each of the recesses 22 to 24 where the wirings 41 to 43 are provided.

特に、第1配線である配線41上には、導電性を有する第1凸部である複数の凸部481および複数の凸部482が設けられている。複数の凸部481は、第1固定電極指である複数の固定電極指382、384、386、388に対応して設けられ、複数の凸部482は、第1固定電極指である複数の固定電極指392、394、396、398に対応して設けられている。   In particular, a plurality of convex portions 481 and a plurality of convex portions 482 which are first convex portions having conductivity are provided on the wiring 41 which is the first wiring. The plurality of convex portions 481 are provided corresponding to the plurality of fixed electrode fingers 382, 384, 386, and 388 that are first fixed electrode fingers, and the plurality of convex portions 482 are a plurality of fixed electrodes that are first fixed electrode fingers. The electrode fingers 392, 394, 396, and 398 are provided correspondingly.

そして、複数の凸部481を介して、固定電極指382、384、386、388と配線41とが電気的に接続されると共に、複数の凸部482を介して、固定電極指392、394、396、398と配線41とが電気的に接続されている。
これにより、配線41と他の部位との不本意な電気的接続(短絡)を防止しつつ、各固定電極指382、384、386、388、392、394、396、398と配線41との電気的接続を行うことができる。
The fixed electrode fingers 382, 384, 386 and 388 and the wiring 41 are electrically connected via the plurality of convex portions 481, and the fixed electrode fingers 392, 394, and the like are connected via the plurality of convex portions 482. 396 and 398 and the wiring 41 are electrically connected.
Thereby, the electrical connection between each fixed electrode finger 382, 384, 386, 388, 392, 394, 396, and 398 and the wiring 41 is prevented while preventing the unintentional electrical connection (short circuit) between the wiring 41 and other parts. Connection can be made.

同様に、第2配線である配線42上には、導電性を有する第2凸部である複数の凸部471および複数の凸部472が設けられている。複数の凸部471は、第2固定電極指である複数の固定電極指381、383、385、387に対応して設けられ、複数の凸部472は、第2固定電極指である複数の固定電極指391、393、395、397に対応して設けられている。   Similarly, a plurality of convex portions 471 and a plurality of convex portions 472 which are second convex portions having conductivity are provided on the wiring 42 which is the second wiring. The plurality of convex portions 471 are provided corresponding to the plurality of fixed electrode fingers 381, 383, 385, and 387 that are second fixed electrode fingers, and the plurality of convex portions 472 are a plurality of fixed electrodes that are second fixed electrode fingers. The electrode fingers 391, 393, 395, and 397 are provided.

そして、複数の凸部471を介して、固定電極指381、383、385、387と配線42とが電気的に接続されると共に、複数の凸部472を介して、固定電極指391、393、395、397と配線42とが電気的に接続されている。
これにより、配線42と他の部位との不本意な電気的接続(短絡)を防止しつつ、各固定電極指381、383、385、387、391、393、395、397と配線42との電気的接続を行うことができる。
The fixed electrode fingers 381, 383, 385, 387 and the wiring 42 are electrically connected via the plurality of convex portions 471, and the fixed electrode fingers 391, 393, 395 and 397 and the wiring 42 are electrically connected.
As a result, the electrical connection between the fixed electrode fingers 381, 383, 385, 387, 391, 393, 395, and 397 and the wiring 42 is prevented while preventing unintentional electrical connection (short circuit) between the wiring 42 and other parts. Connection can be made.

このような凸部471、472、481、482の構成材料としては、それぞれ、導電性を有するものであれば、特に限定されず、各種電極材料を用いることができるが、例えば、金、白金、銀、銅、アルミニウム、錫、チタン、ゲルマニウム、亜鉛、インジウム、またはこれらを主成分とする化合物が好適に用いられる。このような金属を用いて凸部471、472、481、482を構成することにより、配線41、42と固定電極部38、39との間の接点抵抗を小さくすることができる。即ち、凸部471、472、481、482には、第1固定電極指および第2固定電極指より電気抵抗が小さい部分が含まれていること、になる。さらに、この場合、既述したように、凸部471、472、481、482と配線41、42、43とが、同一の材料で形成されているため、製造工程において複数の材料を用いる必要等がなくなり、優れた製造効率で物理量センサー素子1を製造することができる。   The constituent materials of the convex portions 471, 472, 481, and 482 are not particularly limited as long as they have conductivity, and various electrode materials can be used. For example, gold, platinum, Silver, copper, aluminum, tin, titanium, germanium, zinc, indium, or a compound containing these as a main component is preferably used. By forming the convex portions 471, 472, 481, and 482 using such a metal, the contact resistance between the wirings 41 and 42 and the fixed electrode portions 38 and 39 can be reduced. That is, the convex portions 471, 472, 481, and 482 include portions having lower electrical resistance than the first fixed electrode fingers and the second fixed electrode fingers. Further, in this case, as described above, since the convex portions 471, 472, 481, 482 and the wirings 41, 42, 43 are formed of the same material, it is necessary to use a plurality of materials in the manufacturing process. The physical quantity sensor element 1 can be manufactured with excellent manufacturing efficiency.

また、配線41〜43の厚さをそれぞれtとし、前述した凹部22〜24の配線41〜43が設けられた部分の深さをそれぞれdとし、凸部471、472、481、482の高さをそれぞれhとしたとき、d≒t+hなる関係を満たす。
また、図4、6に示すように、配線41〜43上には、絶縁膜6が設けられている。この絶縁膜6は、導体パターン4と素子片3との不本意な電気的接続(短絡)を防止する機能を有する。そして、絶縁膜6は、前述した各凸部471、472、481、482、50と対向する部分には形成されていない。これにより、配線41、42と他の部位との不本意な電気的接続(短絡)をより確実に防止しつつ、第1固定電極指である固定電極指382、384、386、388、392、394、396、398と配線41との電気的接続、および第2固定電極指である固定電極指381、383、385、387、391、393、395、397と配線42との電気的接続を行うことができる。また、配線43と他の部位との不本意な電気的接続(短絡)をより確実に防止しつつ、固定部31と配線43との電気的接続を行うことができる。
Further, the thickness of each of the wirings 41 to 43 is t, the depth of each of the concave portions 22 to 24 where the wirings 41 to 43 are provided is d, and the heights of the convex portions 471, 472, 481, 482 are set. Satisfying the relation d≈t + h, where h is h.
As shown in FIGS. 4 and 6, an insulating film 6 is provided on the wirings 41 to 43. The insulating film 6 has a function of preventing unintentional electrical connection (short circuit) between the conductor pattern 4 and the element piece 3. The insulating film 6 is not formed on the portions facing the convex portions 471, 472, 481, 482, 50 described above. Thereby, the fixed electrode fingers 382, 384, 386, 388, 392, which are the first fixed electrode fingers, are more reliably prevented while preventing unintentional electrical connection (short circuit) between the wirings 41, 42 and other parts. 394, 396, and 398 are electrically connected to the wiring 41, and the fixed electrode fingers 381, 383, 385, 387, 391, 393, 395, and 397 that are the second fixed electrode fingers are electrically connected to the wiring 42. be able to. In addition, the electrical connection between the fixed portion 31 and the wiring 43 can be performed while more reliably preventing the unintentional electrical connection (short circuit) between the wiring 43 and other parts.

本実施形態では、絶縁膜6は、後述する凸部471、472、481、482、50および電極44〜46の形成領域を除いて、絶縁基板2の上面の略全域に亘って形成されている。なお、絶縁膜6の形成領域は、配線41〜43を覆うことができれば、これに限定されず、例えば、絶縁基板2の上面の素子片3との接合部位や蓋部材5との接合部位を除くような形状をなしていてもよい。   In the present embodiment, the insulating film 6 is formed over substantially the entire upper surface of the insulating substrate 2 except for the convex regions 471, 472, 481, 482, 50 and the electrodes 44 to 46 described later. . The formation region of the insulating film 6 is not limited to this as long as the wirings 41 to 43 can be covered. For example, a bonding portion with the element piece 3 on the upper surface of the insulating substrate 2 or a bonding portion with the lid member 5 is used. The shape may be excluded.

また、配線41〜43の厚さをそれぞれtとし、前述した凹部22〜24の配線41が設けられた部分の深さをそれぞれdとしたとき、d>tなる関係を満たす。これにより、例えば、図4に示すように、固定電極指391と配線41上の絶縁膜6との間には、隙間221が形成されている。図示しないが、この隙間221と同様の隙間が他の各固定電極指と配線41、42上の絶縁膜6との間にも形成されている。このような隙間は、後述する物理量センサー素子1の製造において、基板102Aと基板103Aとの間にも同様に形成され、陽極接合時に生じるガスを排出することができる。   Further, when the thicknesses of the wirings 41 to 43 are t and the depths of the portions where the wirings 41 of the recesses 22 to 24 are provided are d, the relationship d> t is satisfied. Thereby, for example, as shown in FIG. 4, a gap 221 is formed between the fixed electrode finger 391 and the insulating film 6 on the wiring 41. Although not shown, a gap similar to the gap 221 is also formed between the other fixed electrode fingers and the insulating film 6 on the wirings 41 and 42. Such a gap is similarly formed between the substrate 102A and the substrate 103A in the production of the physical quantity sensor element 1 to be described later, and gas generated during anodic bonding can be discharged.

また、図6に示すように、蓋部材5と配線43上の絶縁膜6との間には、隙間222が形成されている。図示しないが、この隙間222と同様の隙間が蓋部材5と配線41、42上の絶縁膜6との間にも形成されている。これらの隙間は、蓋部材5内を減圧したり、不活性ガスを充填したりするのを用いることができる。なお、これらの隙間は、蓋部材5と絶縁基板2とを接着剤により接合する際に、接着剤により塞いでもよい。   As shown in FIG. 6, a gap 222 is formed between the lid member 5 and the insulating film 6 on the wiring 43. Although not shown, a gap similar to the gap 222 is also formed between the lid member 5 and the insulating film 6 on the wirings 41 and 42. These gaps can be used to depressurize the inside of the lid member 5 or to fill with an inert gas. Note that these gaps may be closed with an adhesive when the lid member 5 and the insulating substrate 2 are joined with the adhesive.

このような絶縁膜6の構成材料としては、特に限定されず、絶縁性を有する各種材料を用いることができるが、絶縁基板2がガラス材料(特に、アルカリ金属イオンが添加されたガラス材料)で構成されている場合、二酸化珪素(SiO2)を用いるのが好ましい。これにより、前述したような不本意な電気的接続を防止するとともに、絶縁基板2の上面の素子片3との接合部位に絶縁膜6が存在していても、絶縁基板2と素子片3とを陽極接合することができる。 The constituent material of the insulating film 6 is not particularly limited, and various insulating materials can be used. The insulating substrate 2 is a glass material (particularly, a glass material to which alkali metal ions are added). If configured, silicon dioxide (SiO 2 ) is preferably used. As a result, unintentional electrical connection as described above is prevented, and the insulating substrate 2 and the element piece 3 can be connected to each other even if the insulating film 6 is present at the bonding portion with the element piece 3 on the upper surface of the insulating substrate 2. Can be anodically bonded.

また、絶縁膜6の厚さ(平均厚さ)は、特に限定されないが、10〜1000nm程度であるのが好ましく、10〜200nm程度であるのがより好ましい。このような厚さの範囲で絶縁膜6を形成すると、前述したような不本意な電気的接続を防止することができる。また、絶縁基板2がアルカリ金属イオンを含むガラス材料で構成され、かつ、素子片3がシリコンを主材料として構成されている場合、絶縁基板2の上面の素子片3との接合部位に絶縁膜6が存在していても、絶縁膜6を介して絶縁基板2と素子片3とを陽極接合することができる。   Moreover, the thickness (average thickness) of the insulating film 6 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 1000 nm, and more preferably about 10 to 200 nm. If the insulating film 6 is formed in such a thickness range, the unintentional electrical connection as described above can be prevented. Further, when the insulating substrate 2 is made of a glass material containing alkali metal ions and the element piece 3 is made of silicon as a main material, an insulating film is formed at a bonding portion with the element piece 3 on the upper surface of the insulating substrate 2. Even if 6 is present, the insulating substrate 2 and the element piece 3 can be anodically bonded via the insulating film 6.

(蓋部材)
蓋部材5は、前述した素子片3を保護する機能を有する。
この蓋部材5は、板状をなし、その一方の面(下面)に凹部51が設けられている。この凹部51は、素子片3の可動部33および可動電極部36、37等の変位を許容するように形成されている。
(Cover member)
The lid member 5 has a function of protecting the element piece 3 described above.
The lid member 5 has a plate shape, and a concave portion 51 is provided on one surface (lower surface) thereof. The recess 51 is formed to allow displacement of the movable portion 33 and the movable electrode portions 36 and 37 of the element piece 3.

そして、蓋部材5の下面の凹部51よりも外側の部分は、前述した絶縁基板2の上面に接合されている。本実施形態では、前述した絶縁膜6を介して絶縁基板2と蓋部材5とが接合されている。
蓋部材5と絶縁基板2との接合方法としては、特に限定されず、例えば、接着剤を用いた接合方法、陽極接合法、直接接合法等を用いることができる。
また、蓋部材5の構成材料としては、前述したような機能を発揮し得るものであれば、特に限定されないが、例えば、シリコン材料、ガラス材料等を好適に用いることができる。
And the part outside the recessed part 51 of the lower surface of the cover member 5 is joined to the upper surface of the insulating substrate 2 mentioned above. In the present embodiment, the insulating substrate 2 and the lid member 5 are bonded via the insulating film 6 described above.
The method for bonding the lid member 5 and the insulating substrate 2 is not particularly limited, and for example, a bonding method using an adhesive, an anodic bonding method, a direct bonding method, or the like can be used.
Further, the constituent material of the lid member 5 is not particularly limited as long as it can exhibit the functions as described above, and for example, a silicon material, a glass material, or the like can be suitably used.

(物理量センサー素子の製造方法)
次に、本発明の物理量センサー素子の製造方法を説明する。なお、以下では、前述した物理量センサー素子1を製造する場合の一例を説明する。
図7は、物理量センサー素子の製造方法を示すフローチャート、図8および図9は、それぞれ、物理量センサー素子の製造方法を説明するための断面図、図10は、物理量センサー素子の製造工程(配線、接点、絶縁膜を形成する工程)を説明するための断面図である。なお、図8および図9は、それぞれ、図1中のA−A線断面に対応する断面を示している。
以下では、絶縁基板2がアルカリ金属イオンを含むガラス材料で構成され、かつ、素子片3がシリコンで構成されている場合を例に説明する。
(Manufacturing method of physical quantity sensor element)
Next, the manufacturing method of the physical quantity sensor element of the present invention will be described. In the following, an example of manufacturing the above-described physical quantity sensor element 1 will be described.
FIG. 7 is a flowchart showing a manufacturing method of a physical quantity sensor element, FIGS. 8 and 9 are cross-sectional views for explaining the manufacturing method of the physical quantity sensor element, and FIG. 10 is a manufacturing process (wiring, It is sectional drawing for demonstrating the process of forming a contact and an insulating film. 8 and 9 each show a cross section corresponding to the cross section along the line AA in FIG.
Hereinafter, a case where the insulating substrate 2 is made of a glass material containing alkali metal ions and the element piece 3 is made of silicon will be described as an example.

[1]
まず、図7に示すフローチャートの最初の工程であるステップS1において、第1基板の用意をする。即ち、図8(a)に示すように、第1基板である基板102を用意する。
この基板102は、後述する工程を経て絶縁基板2となるものである。
また、基板102は、アルカリ金属を含むガラス材料で構成されている。
[1]
First, in step S1, which is the first step in the flowchart shown in FIG. 7, a first substrate is prepared. That is, as shown in FIG. 8A, a substrate 102 as a first substrate is prepared.
This substrate 102 becomes the insulating substrate 2 through the steps described later.
The substrate 102 is made of a glass material containing an alkali metal.

[2]
次に、ステップS2において、空洞部および凹部の形成をする。即ち、図8(b)に示すように、第1基板である基板102の上面をエッチングすることにより、空洞部21、と凹部22、23を形成する。このとき、図8(b)では図示しないが、上記エッチングにより凹部24も同時に形成する。これにより、空洞部21と凹部22〜24とが複数形成された基板102Aを得る。つまり、基板102Aには、複数の物理量センサー素子1が形成されることになる。
[2]
Next, in step S2, a cavity and a recess are formed. That is, as shown in FIG. 8B, the cavity 21 and the recesses 22 and 23 are formed by etching the upper surface of the substrate 102 which is the first substrate. At this time, although not shown in FIG. 8B, the recess 24 is also formed by the etching. As a result, a substrate 102A in which a plurality of hollow portions 21 and concave portions 22 to 24 are formed is obtained. That is, a plurality of physical quantity sensor elements 1 are formed on the substrate 102A.

このような空洞部21と凹部22〜24の形成方法(エッチング方法)としては、特に限定されないが、例えば、プラズマエッチング、リアクティブイオンエッチング、ビームエッチング、光アシストエッチング等の物理的エッチング法、ウェットエッチング等の化学的エッチング法等のうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、以下の各工程におけるエッチングにおいても、同様の方法を用いることができる。   The formation method (etching method) of the cavity 21 and the recesses 22 to 24 is not particularly limited. For example, physical etching methods such as plasma etching, reactive ion etching, beam etching, and light-assisted etching, wet One or a combination of two or more of chemical etching methods such as etching can be used. Note that the same method can be used for etching in the following steps.

また、上述したようなエッチングに際しては、例えば、フォトリソグラフィー法により形成されたマスクを好適に用いることができる。また、マスク形成、エッチング、マスク除去を複数繰り返し、空洞部21と凹部22〜24を順に形成することができる。そして、このマスクは、エッチング後に、除去される。このマスクの除去方法としては、例えば、マスクがレジスト材料で構成される場合には、レジスト剥離液、マスクが金属材料で構成される場合には、リン酸溶液のようなメタル剥離液等を用いることができる。
なお、マスクとして、例えば、グレースケールマスクを用いることにより、空洞部21と凹部22〜24(深さの異なる複数の凹部)を一括形成してもよい。
In the etching as described above, for example, a mask formed by a photolithography method can be preferably used. In addition, the cavity 21 and the recesses 22 to 24 can be formed in order by repeating mask formation, etching, and mask removal a plurality of times. The mask is removed after etching. As a method for removing the mask, for example, when the mask is made of a resist material, a resist stripping solution is used. When the mask is made of a metal material, a metal stripping solution such as a phosphoric acid solution is used. be able to.
In addition, as a mask, you may form the cavity part 21 and the recessed parts 22-24 (a several recessed part from which depth differs) collectively, for example by using a gray scale mask.

[3]
次に、ステップS3において、導体パターンの形成をする。即ち、図8(c)に示すように、基板102Aの上面上に、導体パターン4を形成する。その後、図8(c)では図示しないが、絶縁膜106A(図10(c))を形成する。
ここで、絶縁膜106Aは、後述する個片化を経て絶縁膜6となるものである。
[3]
Next, in step S3, a conductor pattern is formed. That is, as shown in FIG. 8C, the conductor pattern 4 is formed on the upper surface of the substrate 102A. Thereafter, although not shown in FIG. 8C, an insulating film 106A (FIG. 10C) is formed.
Here, the insulating film 106 </ b> A becomes the insulating film 6 through singulation described later.

以下、図10に基づき、導体パターン4および絶縁膜106Aの形成について詳述する。なお、図10では、基板102Aの固定電極指391との接合部近傍における導体パターン4および絶縁膜106Aの形成を代表的に図示している。   Hereinafter, the formation of the conductor pattern 4 and the insulating film 106A will be described in detail with reference to FIG. In FIG. 10, the formation of the conductor pattern 4 and the insulating film 106A in the vicinity of the joint portion between the substrate 102A and the fixed electrode finger 391 is representatively illustrated.

導体パターン4を形成するに際しては、まず、図10(a)に示すように、凹部22内に配線41を形成すると共に、凹部23内に配線42を形成する。このとき、図10では図示しないが、凹部24内に配線43を、配線41、42と同時に、形成する。
配線41、42、43の形成方法(成膜方法)としては、特に限定されないが、例えば、真空蒸着、スパッタリング(低温スパッタリング)、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、電解メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、薄膜の接合等が挙げられる。なお、以下の各工程における成膜においても、同様の方法を用いることができる。
When forming the conductor pattern 4, first, as shown in FIG. 10A, the wiring 41 is formed in the recess 22 and the wiring 42 is formed in the recess 23. At this time, although not shown in FIG. 10, the wiring 43 is formed in the recess 24 simultaneously with the wirings 41 and 42.
A method for forming the wirings 41, 42, and 43 (film forming method) is not particularly limited, and examples thereof include vacuum plating, sputtering (low temperature sputtering), dry plating methods such as ion plating, electrolytic plating, electroless plating, and the like. Examples include wet plating, thermal spraying, and thin film bonding. Note that the same method can be used for film formation in the following steps.

次に、図10(b)に示すように、配線41、42等を覆うように、基板102Aの上面に絶縁膜106を形成(成膜)する。
次に、図10(c)に示すように、後述する接合工程[5]で各凸部472と配線42とが接続される部分、に対応する絶縁膜106を除去する。また、図10(c)では図示しないが、絶縁膜106の各凸部471、凸部50および電極44〜46に対応する部分も除去する。これにより、電極44〜46を露出させると共に、各凸部471、472、50が貫通可能な構成となった、絶縁膜106Aが得られる。
以上のようにして、導体パターン4および絶縁膜106Aが得られる。
Next, as shown in FIG. 10B, an insulating film 106 is formed (deposited) on the upper surface of the substrate 102A so as to cover the wirings 41 and 42 and the like.
Next, as shown in FIG. 10C, the insulating film 106 corresponding to the portion where each convex portion 472 and the wiring 42 are connected is removed in a bonding step [5] described later. Although not shown in FIG. 10C, the portions corresponding to the convex portions 471, the convex portions 50, and the electrodes 44 to 46 of the insulating film 106 are also removed. As a result, the insulating film 106 </ b> A that exposes the electrodes 44 to 46 and is configured to allow the projections 471, 472, and 50 to penetrate is obtained.
As described above, the conductor pattern 4 and the insulating film 106A are obtained.

[4]
次に、図7に戻って、ステップS4において、第2基板の載置をする。このステップでは、まず、図8(d)に示すように、第2基板である基板103を用意する。
この基板103は、後述する工程を経て素子片3となるものである。
また、基板103は、シリコンを主材料とする材料で構成されている。
[4]
Next, returning to FIG. 7, in step S4, the second substrate is placed. In this step, first, as shown in FIG. 8D, a substrate 103 as a second substrate is prepared.
The substrate 103 becomes the element piece 3 through a process described later.
The substrate 103 is made of a material whose main material is silicon.

そして、図8(d)に示すように、基板103の下面に凸部471、472を形成する。凸部471、472の形成方法としては、特に限定されないが、例えばフォトリソグラフィー技術を用いて、凸部となる部分にレジストパターンを形成し、ドライエッチングやウェットエッチングを用いて凸部以外の部分を除去する。このとき、凸部の高さがhとなるようにエッチング時間を調整する。ステップS4では、このようにして、基板103Aを得る。
なお、後述する接合工程[5]において、凸部471、472、50と配線41、42、43の電気的接続をより確実なものとするために、凸部471、472、50の凸部上面に金属材料、例えば、金、白金、銀、銅、アルミニウム、錫、チタン、ゲルマニウム、亜鉛、インジウム、またはこれらを主成分とする化合物を形成してもよく、また、凸部に異種材料をドープしてもよい。
Then, as shown in FIG. 8D, convex portions 471 and 472 are formed on the lower surface of the substrate 103. The method for forming the convex portions 471 and 472 is not particularly limited. For example, a resist pattern is formed on the convex portion by using a photolithography technique, and a portion other than the convex portion is formed by dry etching or wet etching. Remove. At this time, the etching time is adjusted so that the height of the convex portion is h. In step S4, the substrate 103A is obtained in this way.
In addition, in the bonding step [5] described later, in order to ensure electrical connection between the convex portions 471, 472, 50 and the wirings 41, 42, 43, the upper surfaces of the convex portions of the convex portions 471, 472, 50. A metal material such as gold, platinum, silver, copper, aluminum, tin, titanium, germanium, zinc, indium, or a compound containing these as a main component may be formed, or a convex material may be doped with a different material. May be.

[5]
次に、ステップS5において、両基板の接合をする。即ち、図8(e)に示すように、基板102Aの上面に、基板103Aを陽極接合法により接合する。これにより、基板103Aの各凸部471、472、50と、基板102Aの配線41、42、43と、が接続される。
この基板103Aは、後述する薄肉化、パターニングおよび個片化を経て素子片3となるものである。
また、基板103Aの厚さは、素子片3の厚さよりも厚くなっている。これにより、基板103Aの取り扱い性を向上させることができる。なお、基板103Aの厚さが素子片3の厚さと同じであっても良く、この場合、後述する薄肉化工程[6]を省略すればよい。
[5]
Next, in step S5, both the substrates are bonded. That is, as shown in FIG. 8E, the substrate 103A is bonded to the upper surface of the substrate 102A by an anodic bonding method. Thereby, each convex part 471,472,50 of the board | substrate 103A and the wiring 41,42,43 of the board | substrate 102A are connected.
The substrate 103A becomes the element piece 3 through thinning, patterning, and individualization, which will be described later.
Further, the thickness of the substrate 103 </ b> A is thicker than the thickness of the element piece 3. Thereby, the handleability of the substrate 103A can be improved. Note that the thickness of the substrate 103A may be the same as the thickness of the element piece 3, and in this case, a thinning step [6] described later may be omitted.

[6]
次に、ステップS6において、素子片となる基板の薄肉化をする。即ち、基板103Aを薄肉化して、図9(f)に示すように、基板103Bを得る。
この薄肉化は、基板103Bの厚さが素子片3の厚さと同じになるように行われる。
また、基板103Aの薄肉化方法は、特に限定されないが、例えば、CMP法、ドライポリッシュ法を好適に用いることができる。
[6]
Next, in step S6, the substrate serving as the element piece is thinned. That is, the substrate 103A is thinned to obtain a substrate 103B as shown in FIG.
This thinning is performed so that the thickness of the substrate 103B is the same as the thickness of the element piece 3.
Further, a method for thinning the substrate 103A is not particularly limited, but for example, a CMP method or a dry polishing method can be preferably used.

[7]
次に、ステップS7において、素子片の形成をする。即ち、図9(g)に示すように、基板103Bをエッチングする。このエッチングによるパターニングによって、固定電極指381〜388、391〜398、および可動電極部36、37等を形成することができる。これにより、図9(g)に示すような素子片3を得る。
[7]
Next, in step S7, an element piece is formed. That is, as shown in FIG. 9G, the substrate 103B is etched. By this patterning by etching, the fixed electrode fingers 381 to 388 and 391 to 398, the movable electrode portions 36 and 37, and the like can be formed. Thereby, an element piece 3 as shown in FIG. 9G is obtained.

[8]
次に、ステップS8において、蓋部材の接合をする。即ち、図9(h)に示すように、基板102Aの上面に、凹部51を有する蓋部材105を接合する。これにより、基板102Aと蓋部材105とが素子片3を収納するようにして接合された接合体101が得られる。
この蓋部材105は、後述する個片化を経て蓋部材5となるものである。
[8]
Next, in step S8, the lid member is joined. That is, as shown in FIG. 9H, the lid member 105 having the recess 51 is joined to the upper surface of the substrate 102A. Thereby, the joined body 101 is obtained in which the substrate 102A and the lid member 105 are joined so as to accommodate the element piece 3.
The lid member 105 becomes the lid member 5 after being separated into individual pieces to be described later.

[9]
次に、ステップS9において、接合体の個片化をする。即ち、接合体101を個片化(ダイシング)することにより、図9(i)に示すような物理量センサー素子1が、複数得られる。
[9]
Next, in step S9, the joined body is separated into pieces. That is, by dividing the bonded body 101 into pieces (dicing), a plurality of physical quantity sensor elements 1 as shown in FIG. 9I are obtained.

以上説明した第1実施形態に係る物理量センサー素子1によれば、第1固定電極指(固定電極指382、384、386、388、392、394、396、398)と第2固定電極指(固定電極指381、383、385、387、391、393、395、397)とが互いに電気的に絶縁されているため、第1固定電極指と可動電極部36、37との間の静電容量、および、第2固定電極指と可動電極部36、37との静電容量を別々に測定し、それらの測定結果に基づいて、高精度に物理量を検出することができる。   According to the physical quantity sensor element 1 according to the first embodiment described above, the first fixed electrode fingers (fixed electrode fingers 382, 384, 386, 388, 392, 394, 396, 398) and the second fixed electrode fingers (fixed) Since the electrode fingers 381, 383, 385, 387, 391, 393, 395, 397) are electrically insulated from each other, the capacitance between the first fixed electrode fingers and the movable electrode portions 36, 37, And the electrostatic capacitance of a 2nd fixed electrode finger and the movable electrode parts 36 and 37 can be measured separately, and a physical quantity can be detected with high precision based on those measurement results.

また、固定部31、32、可動部33、連結部34、35、複数の固定電極指381〜388、391〜398および複数の可動電極指361〜365、371〜375を絶縁基板2とは別体の基板から形成(特に一括形成)することができるため、これらの各可動電極指および各固定電極指の厚さを厚くして、物理量センサー素子1の高感度化を図ることができる。また、固定部31、32、可動部33および連結部34、35の厚さを厚くして、物理量センサー素子1の耐衝撃性を優れたものとすることができる。
<第2実施形態>
Further, the fixed portions 31 and 32, the movable portion 33, the connecting portions 34 and 35, the plurality of fixed electrode fingers 381 to 388 and 391 to 398, and the plurality of movable electrode fingers 361 to 365 and 371 to 375 are separated from the insulating substrate 2. Since it can be formed from a body substrate (particularly in a lump), the thickness of each movable electrode finger and each fixed electrode finger can be increased to increase the sensitivity of the physical quantity sensor element 1. Moreover, the fixed parts 31 and 32, the movable part 33, and the connection parts 34 and 35 can be made thick so that the impact resistance of the physical quantity sensor element 1 can be made excellent.
Second Embodiment

次に、本発明の物理量センサー素子の第2実施形態について説明する。
図11は、本発明の第2実施形態に係る物理量センサー素子を示す平面図である。
本実施形態にかかる物理量センサー素子1Aは、固定電極部の構成が異なる以外は、前述した第1実施形態にかかる物理量センサー素子1と同様である。
なお、以下の説明では、第2実施形態の物理量センサー素子1Aに関し、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項に関してはその説明を省略する。また、図11では、前述した第1実施形態と同様の構成について、同一符号を付している。
本実施形態の物理量センサー素子1Aは、絶縁基板2の上面に、素子片3Aが接合されている。
Next, a second embodiment of the physical quantity sensor element of the present invention will be described.
FIG. 11 is a plan view showing a physical quantity sensor element according to the second embodiment of the present invention.
The physical quantity sensor element 1A according to the present embodiment is the same as the physical quantity sensor element 1 according to the first embodiment described above except that the configuration of the fixed electrode portion is different.
In the following description, the physical quantity sensor element 1A of the second embodiment will be described with a focus on differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted. Moreover, in FIG. 11, the same code | symbol is attached | subjected about the structure similar to 1st Embodiment mentioned above.
In the physical quantity sensor element 1 </ b> A of the present embodiment, an element piece 3 </ b> A is bonded to the upper surface of the insulating substrate 2.

素子片3Aは、固定部31、32と、可動部33と、連結部34、35と、可動電極部36、37と、固定電極部38A、39Aとで構成されている。
固定電極部38Aは、可動電極部36の複数の可動電極指361〜365に対して間隔を隔てて噛み合う櫛歯状をなすように並ぶ複数の固定電極指381A〜388Aと、固定電極指382A、384A、386A、388Aと一体的に形成された基部389とを備える。
The element piece 3A includes fixed portions 31, 32, a movable portion 33, connecting portions 34, 35, movable electrode portions 36, 37, and fixed electrode portions 38A, 39A.
The fixed electrode portion 38A includes a plurality of fixed electrode fingers 381A to 388A arranged in a comb-tooth shape that meshes with the plurality of movable electrode fingers 361 to 365 of the movable electrode portion 36 at intervals, and a fixed electrode finger 382A, 384A, 386A, 388A and a base 389 formed integrally.

このような複数の固定電極指381A〜388Aの可動部33とは反対側の端部および基部389は、それぞれ、絶縁基板2の上面の空洞部21に対して+Y方向側の部分に接合されている。そして、各固定電極指381A〜388Aは、その固定された側の端を固定端とし、自由端が−Y方向へ延びている。
この固定電極指381A、382A、383A、384A、385A、386A、387A、388Aは、−X方向側から+X方向側へ、この順に並んでいる。そして、固定電極指381A、382Aは、前述した可動電極指361と可動電極指362との間に、固定電極指383A、384Aは、可動電極指362と可動電極指363との間に、固定電極指385A、386Aは、可動電極指363と可動電極指364との間に、固定電極指387A、388Aは、可動電極指364と可動電極指365との間に臨むように設けられている。
The ends of the plurality of fixed electrode fingers 381 </ b> A to 388 </ b> A on the side opposite to the movable portion 33 and the base portion 389 are respectively joined to the + Y direction side portion with respect to the cavity portion 21 on the upper surface of the insulating substrate 2. Yes. Each fixed electrode finger 381A to 388A has a fixed end as a fixed end and a free end extending in the −Y direction.
The fixed electrode fingers 381A, 382A, 383A, 384A, 385A, 386A, 387A, and 388A are arranged in this order from the −X direction side to the + X direction side. The fixed electrode fingers 381A and 382A are disposed between the movable electrode finger 361 and the movable electrode finger 362, and the fixed electrode fingers 383A and 384A are disposed between the movable electrode finger 362 and the movable electrode finger 363. The fingers 385A and 386A are provided between the movable electrode finger 363 and the movable electrode finger 364, and the fixed electrode fingers 387A and 388A are provided between the movable electrode finger 364 and the movable electrode finger 365.

ここで、固定電極指382A、384A、386A、388Aは、それぞれ、第1固定電極指であり、固定電極指381A、383A、385A、387Aは、それぞれ、絶縁基板2上で当該第1固定電極指に対して空隙を介して離間した第2固定電極指である。このように、複数の固定電極指381A〜388Aは、交互に並ぶ複数の第1固定電極指および複数の第2固定電極指で構成されている。   Here, the fixed electrode fingers 382A, 384A, 386A, and 388A are the first fixed electrode fingers, respectively, and the fixed electrode fingers 381A, 383A, 385A, and 387A are the first fixed electrode fingers on the insulating substrate 2, respectively. The second fixed electrode fingers are spaced apart from each other via a gap. As described above, the plurality of fixed electrode fingers 381A to 388A are composed of a plurality of first fixed electrode fingers and a plurality of second fixed electrode fingers arranged alternately.

同様に、固定電極部39Aは、前述した可動電極部37の複数の可動電極指371〜375に対して間隔を隔てて噛み合う櫛歯状をなすように並ぶ複数の固定電極指391A〜398Aと、固定電極指392A、394A、396A、398Aと一体的に形成された基部399とを備える。このような複数の固定電極指391A〜398Aの可動部33とは反対側の端部および基部399は、それぞれ、絶縁基板2の上面の空洞部21に対して−Y方向側の部分に接合されている。そして、各固定電極指391A〜398Aは、その固定された側の端を固定端とし、自由端が+Y方向へ延びている。   Similarly, the fixed electrode portion 39A includes a plurality of fixed electrode fingers 391A to 398A arranged in a comb-teeth shape that meshes with the plurality of movable electrode fingers 371 to 375 of the movable electrode portion 37 described above at intervals. A fixed electrode finger 392A, 394A, 396A, 398A and a base 399 formed integrally with the fixed electrode finger 392A, 394A, 396A, 398A; The ends of the fixed electrode fingers 391 </ b> A to 398 </ b> A opposite to the movable portion 33 and the base portion 399 are respectively joined to the −Y direction side portion with respect to the cavity portion 21 on the upper surface of the insulating substrate 2. ing. Each fixed electrode finger 391A to 398A has a fixed end as a fixed end and a free end extending in the + Y direction.

この固定電極指391A、392A、393A、394A、395A、396A、397A、398Aは、−X方向側から+X方向側へ、この順に並んでいる。そして、固定電極指391A、392Aは、前述した可動電極指371と可動電極指372との間に、固定電極指393A、394Aは、可動電極指372と可動電極指373との間に、固定電極指395A、396Aは、可動電極指373と可動電極指374との間に、固定電極指397A、398Aは、可動電極指374と可動電極指375との間に臨むように設けられている。   The fixed electrode fingers 391A, 392A, 393A, 394A, 395A, 396A, 397A, and 398A are arranged in this order from the −X direction side to the + X direction side. The fixed electrode fingers 391A and 392A are disposed between the movable electrode finger 371 and the movable electrode finger 372, and the fixed electrode fingers 393A and 394A are disposed between the movable electrode finger 372 and the movable electrode finger 373. The fingers 395A and 396A are provided between the movable electrode finger 373 and the movable electrode finger 374, and the fixed electrode fingers 397A and 398A are provided so as to face between the movable electrode finger 374 and the movable electrode finger 375.

ここで、固定電極指392A、394A、396A、398Aは、それぞれ、第1固定電極指であり、固定電極指391A、393A、395A、397Aは、それぞれ、絶縁基板2上で当該第1固定電極指に対して空隙を介して離間した第2固定電極指である。このように、複数の固定電極指391A〜398Aは、交互に並ぶ複数の第1固定電極指および複数の第2固定電極指で構成されている。   Here, the fixed electrode fingers 392A, 394A, 396A, and 398A are first fixed electrode fingers, respectively, and the fixed electrode fingers 391A, 393A, 395A, and 397A are respectively the first fixed electrode fingers on the insulating substrate 2. The second fixed electrode fingers are spaced apart from each other via a gap. As described above, the plurality of fixed electrode fingers 391A to 398A are composed of a plurality of first fixed electrode fingers and a plurality of second fixed electrode fingers arranged alternately.

このような素子片3Aでは、第1固定電極指である固定電極指382A、384A、386A、388Aが基部389から突出して一体的に形成されている。これにより、固定電極指382A、384A、386A、388Aの間の電気抵抗を小さくすることができる。その結果、物理量センサー素子1Aの検出精度を高めることができる。同様に、第1固定電極指である固定電極指392A、394A、396A、398Aが基部399から突出して一体的に形成されている。これにより、固定電極指392A、394A、396A、398Aの間の電気抵抗を小さくすることができる。その結果、物理量センサー素子1Aの検出精度を高めることができる。
以上説明したような第2実施形態に係る物理量センサー素子1Aによっても、前述した第1実施形態に係る物理量センサー素子1と同様、高感度化を図るとともに、耐衝撃性を優れたものとすることができる。
In such an element piece 3A, fixed electrode fingers 382A, 384A, 386A, 388A, which are first fixed electrode fingers, protrude from the base 389 and are integrally formed. Thereby, the electrical resistance between the fixed electrode fingers 382A, 384A, 386A, 388A can be reduced. As a result, the detection accuracy of the physical quantity sensor element 1A can be increased. Similarly, fixed electrode fingers 392A, 394A, 396A, and 398A, which are first fixed electrode fingers, protrude from the base portion 399 and are integrally formed. Thereby, the electrical resistance between the fixed electrode fingers 392A, 394A, 396A, and 398A can be reduced. As a result, the detection accuracy of the physical quantity sensor element 1A can be increased.
As with the physical quantity sensor element 1 according to the first embodiment described above, the physical quantity sensor element 1A according to the second embodiment as described above also achieves high sensitivity and excellent impact resistance. Can do.

(物理量センサー)
次に、図12に基づいて、本発明の物理量センサー素子1を用いた物理量センサーを説明する。
図12は、本発明の物理量センサーの一例を示す模式図である。
図12に示す物理量センサー200は、前述した物理量センサー素子1と、物理量センサー素子1に電気的に接続された集積回路である電子部品201とを有する。
(Physical quantity sensor)
Next, based on FIG. 12, a physical quantity sensor using the physical quantity sensor element 1 of the present invention will be described.
FIG. 12 is a schematic diagram showing an example of the physical quantity sensor of the present invention.
A physical quantity sensor 200 illustrated in FIG. 12 includes the above-described physical quantity sensor element 1 and an electronic component 201 that is an integrated circuit electrically connected to the physical quantity sensor element 1.

電子部品201は、例えばIC(Integrated Circuit)チップであり、物理量センサー素子1を駆動する機能を有する。この電子部品201に角速度検出回路や加速度検出回路を形成することにより物理量センサー200をジャイロセンサーや加速度センサーとして構成することができる。
なお、図12では、物理量センサー200が1つの物理量センサー素子1を有する場合を図示しているが、物理量センサー200が複数の物理量センサー素子1を有していてもよい。また、物理量センサー200は、物理量センサー素子1と、物理量センサー素子1とは異なる構成の物理量センサー素子とを有していてもよい。
このような物理量センサー200は、感度および耐衝撃性の優れた物理量センサー素子1を備えるので、優れた信頼性を有する。
The electronic component 201 is an IC (Integrated Circuit) chip, for example, and has a function of driving the physical quantity sensor element 1. By forming an angular velocity detection circuit or an acceleration detection circuit in the electronic component 201, the physical quantity sensor 200 can be configured as a gyro sensor or an acceleration sensor.
FIG. 12 illustrates a case where the physical quantity sensor 200 includes one physical quantity sensor element 1, but the physical quantity sensor 200 may include a plurality of physical quantity sensor elements 1. The physical quantity sensor 200 may include the physical quantity sensor element 1 and a physical quantity sensor element having a configuration different from that of the physical quantity sensor element 1.
Since the physical quantity sensor 200 includes the physical quantity sensor element 1 having excellent sensitivity and impact resistance, the physical quantity sensor 200 has excellent reliability.

(電子機器)
次に、本発明の電子機器を説明する。
図13は、本発明の電子機器(ノート型パーソナルコンピューター)を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このようなパーソナルコンピューター1100には、物理量センサー素子1が内蔵されている。
(Electronics)
Next, the electronic apparatus of the present invention will be described.
FIG. 13 is a perspective view showing an electronic apparatus (notebook personal computer) of the present invention.
In this figure, a personal computer 1100 includes a main body 1104 having a keyboard 1102 and a display unit 1106. The display unit 1106 is supported by the main body 1104 via a hinge structure so as to be rotatable. Yes.
Such a personal computer 1100 incorporates a physical quantity sensor element 1.

図14は、本発明の電子機器(携帯電話機)を示す斜視図である。この携帯電話機には、PHSも含まれる。
この図において、携帯電話機1200は、アンテナ(図示せず)、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206を備え、操作ボタン1202と受話口1204との間には、表示部1207が配置されている。
このような携帯電話機1200には、物理量センサー素子1が内蔵されている。
FIG. 14 is a perspective view showing an electronic apparatus (mobile phone) according to the present invention. This mobile phone includes a PHS.
In this figure, a cellular phone 1200 includes an antenna (not shown), a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204 and a mouthpiece 1206, and a display unit 1207 is provided between the operation buttons 1202 and the earpiece 1204. Has been placed.
Such a cellular phone 1200 incorporates the physical quantity sensor element 1.

図15は、本発明の電子機器(ディジタルスチルカメラ)を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。   FIG. 15 is a perspective view showing an electronic apparatus (digital still camera) of the present invention. In this figure, connection with an external device is also simply shown. Here, an ordinary camera sensitizes a silver halide photographic film with a light image of a subject, whereas a digital still camera 1300 photoelectrically converts a light image of a subject with an imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device). An imaging signal (image signal) is generated.

ディジタルスチルカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部1303が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、表示部1303は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。
また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。
A display unit 1303 is provided on the back of a case (body) 1302 in the digital still camera 1300, and is configured to display based on an imaging signal from the CCD. The display unit 1303 displays the subject as an electronic image. Functions as a viewfinder.
A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side (the back side in the drawing) of the case 1302.

撮影者が表示部1303に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1308に転送・格納される。
また、このディジタルスチルカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示されるように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニター1430が、データ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピューター1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、メモリー1308に格納された撮像信号が、テレビモニター1430や、パーソナルコンピューター1440に出力される構成になっている。
When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit 1303 and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory 1308.
In the digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on the side surface of the case 1302. As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 and a personal computer 1440 is connected to the input / output terminal 1314 for data communication as necessary. Further, the imaging signal stored in the memory 1308 is output to the television monitor 1430 or the personal computer 1440 by a predetermined operation.

このようなディジタルスチルカメラ1300には、物理量センサー素子1が内蔵されている。
そして、既述した各種の電子機器は、感度および耐衝撃性に優れた物理量センサー素子1を備えるので、優れた信頼性を有する。
なお、本発明の電子機器は、図13のパーソナルコンピューター(ノート型(モバイル型)パーソナルコンピューター)1100、図14の携帯電話機1200、図15のディジタルスチルカメラ1300の他にも、例えば、インクジェット式吐出装置(例えばインクジェットプリンター)、ラップトップ型パーソナルコンピューター、テレビ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシュミレーター等に適用することができる。
Such a digital still camera 1300 incorporates a physical quantity sensor element 1.
Since the various electronic devices described above include the physical quantity sensor element 1 having excellent sensitivity and impact resistance, the electronic device has excellent reliability.
In addition to the personal computer (notebook (mobile type) personal computer) 1100 of FIG. 13, the mobile phone 1200 of FIG. 14, and the digital still camera 1300 of FIG. Device (for example, inkjet printer), laptop personal computer, TV, video camera, video tape recorder, car navigation device, pager, electronic notebook (including communication function), electronic dictionary, calculator, electronic game device, word processor, work Station, video phone, security TV monitor, electronic binoculars, POS terminal, medical equipment (eg electronic thermometer, blood pressure monitor, blood glucose meter, electrocardiogram measuring device, ultrasonic diagnostic device, electronic endoscope), fish detector, various measurements Equipment, instruments For example, gages for vehicles, aircraft, and ships), can be applied to a flight simulator or the like.

以上、本発明の物理量センサー素子、物理量センサーおよび電子機器について図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。
例えば、固定電極部は、櫛歯状をなすように並ぶ複数の固定電極指の少なくとも1つの固定電極指がその他の固定電極指に対して絶縁基板上で分離していれば、前述した実施形態に限定されない。
The physical quantity sensor element, the physical quantity sensor, and the electronic device of the present invention have been described based on the illustrated embodiments, but the present invention is not limited to these.
For example, if the fixed electrode portion is separated from the other fixed electrode fingers on the insulating substrate by at least one fixed electrode finger of the plurality of fixed electrode fingers arranged in a comb-teeth shape, the embodiment described above It is not limited to.

また、固定電極部の複数の固定電極指と、これに噛み合うように設けられた可動電極部の複数の可動電極指と、の本数、配置および大きさ等の形態は、前述した実施形態に限定されない。
また、可動部をY軸方向に変位させるように構成してもよいし、可動部をX軸に平行な軸線まわりに回動させるように構成してもよい。この場合、可動電極指と固定電極指との対向面積の変化による静電容量変化に基づいて物理量を検出すればよい。
また、上述の実施例では、物理量センサー素子1は、各実施形態による例示に限定されず、例えば、固定電極指と可動電極指に異なる電圧を加えてクーロン力により可動電極指を駆動させることにより固有周波数を発振する共振子として、本発明の物理量センサー素子を用いても良い。
In addition, the number, arrangement, size, and the like of the plurality of fixed electrode fingers of the fixed electrode portion and the plurality of movable electrode fingers of the movable electrode portion provided so as to mesh with the fixed electrode fingers are limited to the above-described embodiments. Not.
Further, the movable part may be configured to be displaced in the Y-axis direction, or the movable part may be configured to be rotated around an axis parallel to the X-axis. In this case, the physical quantity may be detected based on the change in capacitance due to the change in the facing area between the movable electrode finger and the fixed electrode finger.
Moreover, in the above-mentioned Example, the physical quantity sensor element 1 is not limited to the illustration by each embodiment, For example, by applying a different voltage to a fixed electrode finger and a movable electrode finger, and driving a movable electrode finger by Coulomb force The physical quantity sensor element of the present invention may be used as a resonator that oscillates the natural frequency.

1‥‥物理量センサー素子 1A‥‥物理量センサー素子 2‥‥絶縁基板 3‥‥素子片 3A‥‥素子片 4‥‥導体パターン 5‥‥蓋部材 6‥‥絶縁膜 21‥‥空洞部 22‥‥凹部(第1凹部) 23‥‥凹部(第2凹部) 24‥‥凹部(第3凹部) 31‥‥固定部 32‥‥固定部 33‥‥可動部 34‥‥連結部 35‥‥連結部 36‥‥可動電極部 37‥‥可動電極部 38‥‥固定電極部 38A‥‥固定電極部 39‥‥固定電極部 39A‥‥固定電極部 41‥‥配線(第1配線) 42‥‥配線(第2配線) 43‥‥配線 44‥‥電極 45‥‥電極 46‥‥電極 50‥‥凸部 51‥‥凹部 101‥‥接合体 102‥‥基板(第1基板) 102A‥‥基板 103‥‥基板(第2基板) 103A‥‥基板 103B‥‥基板 105‥‥蓋部材 106‥‥絶縁膜 106A‥‥絶縁膜 200‥‥物理量センサー 201‥‥電子部品 221‥‥隙間 222‥‥隙間 341、342‥‥梁 351、352‥‥梁 361〜365‥‥可動電極指 371〜375‥‥可動電極指 381〜388‥‥固定電極指 391〜398‥‥固定電極指 381A〜388A‥‥固定電極指 391A〜398A‥‥固定電極指 389、399‥‥基部 471‥‥凸部(第2凸部) 472‥‥凸部(第2凸部) 481…凸部(第1凸部) 482‥‥凸部(第1凸部) 1100‥‥パーソナルコンピューター 1102‥‥キーボード 1104‥‥本体部 1106‥‥表示ユニット 1200‥‥携帯電話機 1202‥‥操作ボタン 1204‥‥受話口 1206‥‥送話口 1300‥‥ディジタルスチルカメラ 1302‥‥ケース 1304‥‥受光ユニット 1306‥‥シャッターボタン 1308‥‥メモリー 1312‥‥ビデオ信号出力端子 1314‥‥入出力端子 1430‥‥テレビモニター 1440‥‥パーソナルコンピューター   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Physical quantity sensor element 1A ... Physical quantity sensor element 2 ... Insulation board 3 ... Element piece 3A ... Element piece 4 ... Conductor pattern 5 ... Lid member 6 ... Insulating film 21 ... Hollow part 22 ... Concave part (first concave part) 23 ... concave part (second concave part) 24 ... concave part (third concave part) 31 ... fixed part 32 ... fixed part 33 ... movable part 34 ... connecting part 35 ... connecting part 36 ············································································ Wiring (first wiring) 2 Wiring) 43 ... Wiring 44 ... Electrode 45 ... Electrode 46 ... Electrode 50 ... Convex part 51 ... Concave part 101 ... Bonded body 102 ... Substrate (first substrate) 102A ... Substrate 103 ... Substrate (Second substrate) 103A ... 103B ... Substrate 105 ... Lid member 106 ... Insulating film 106A ... Insulating film 200 ... Physical quantity sensor 201 ... Electronic components 221 ... Gap 222 ... Gap 341, 342 ... Beam 351, 352 ... Beam 361 ˜365... Movable electrode fingers 371 to 375... Movable electrode fingers 381 to 388... Fixed electrode fingers 391 to 398... Fixed electrode fingers 381A to 388A .. Fixed electrode fingers 391A to 398A. ... Base 471 ... Convex part (second convex part) 472 ... Convex part (second convex part) 481 ... Convex part (first convex part) 482 ... Convex part (first convex part) 1100 ... Personal Computer 1102 ... Keyboard 1104 ... Main body 1106 ... Display unit 1200 ... Mobile phone 1202 ... Operation buttons 1204 ... Earpiece 1206 ... Mouthpiece 1300 ... Digital still camera 1302 ... Case 1304 ... Light receiving unit 1306 ... Shutter button 1308 ... Memory 1312 ... Video signal output terminal 1314 ... Input / output terminal 1430 ... TV monitor 1440 Personal computer

Claims (8)

絶縁基板と、
前記絶縁基板の上方に設けられている可動部と、
前記可動部に設けられている可動電極指と、
前記絶縁基板上に設けられ、且つ、前記可動電極指に対向して配置されている固定電極指と、を含み、
前記絶縁基板には、凹部が設けられ、
前記凹部内には、配線が設けられ、
前記固定電極指は、前記凹部を跨いで配置され、且つ、平面視で前記配線と重なる位置に凸部が設けられ、前記配線と前記凸部とが接続されていることを特徴とする物理量センサー素子。
An insulating substrate;
A movable part provided above the insulating substrate;
A movable electrode finger provided in the movable part;
A fixed electrode finger provided on the insulating substrate and disposed to face the movable electrode finger,
The insulating substrate is provided with a recess,
In the recess, wiring is provided,
The fixed electrode finger is disposed across the concave portion, provided with a convex portion at a position overlapping the wiring in a plan view, and the wiring and the convex portion are connected to each other. element.
前記凸部には、前記固定電極指より電気抵抗が小さい部分が含まれることを特徴とする請求項1に記載の物理量センサー素子。   The physical quantity sensor element according to claim 1, wherein the convex portion includes a portion having an electric resistance smaller than that of the fixed electrode finger. 前記固定電極指が半導体材料で構成され、前記凸部の少なくとも一部には前記半導体材料とは異種の材料がドープされていることを特徴とする請求項2に記載の物理量センサー素子。   The physical quantity sensor element according to claim 2, wherein the fixed electrode finger is made of a semiconductor material, and at least a part of the convex portion is doped with a material different from the semiconductor material. 前記凸部の少なくとも一部が金属で構成されていることを特徴とする請求項2に記載の物理量センサー素子。   The physical quantity sensor element according to claim 2, wherein at least a part of the convex portion is made of metal. 前記凸部の前記金属と前記配線とが同一材料であることを特徴とする請求項4に記載の物理量センサー素子。   The physical quantity sensor element according to claim 4, wherein the metal of the convex portion and the wiring are made of the same material. 前記凸部の少なくとも一部が、金、白金、銀、銅、アルミニウム、錫、チタン、ゲルマニウム、シリコン、亜鉛、インジウム、またはこれらの少なくとも1つを主成分とする化合物で構成されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の物理量センサー素子。   At least a part of the convex portion is composed of gold, platinum, silver, copper, aluminum, tin, titanium, germanium, silicon, zinc, indium, or a compound mainly containing at least one of these. The physical quantity sensor element according to claim 1, wherein the physical quantity sensor element is characterized in that: 請求項1ないし6のいずれか一項に記載の物理量センサー素子と、
集積回路と、を備えていることを特徴とする物理量センサー。
The physical quantity sensor element according to any one of claims 1 to 6,
And a physical quantity sensor comprising an integrated circuit.
請求項1ないし6のいずれか一項に記載の物理量センサー素子を備えていることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the physical quantity sensor element according to any one of claims 1 to 6.
JP2011205672A 2011-09-21 2011-09-21 Physical quantity sensor element, physical quantity sensor and electronic apparatus Withdrawn JP2013068450A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011205672A JP2013068450A (en) 2011-09-21 2011-09-21 Physical quantity sensor element, physical quantity sensor and electronic apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011205672A JP2013068450A (en) 2011-09-21 2011-09-21 Physical quantity sensor element, physical quantity sensor and electronic apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013068450A true JP2013068450A (en) 2013-04-18

Family

ID=48474318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011205672A Withdrawn JP2013068450A (en) 2011-09-21 2011-09-21 Physical quantity sensor element, physical quantity sensor and electronic apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013068450A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115841994A (en) * 2023-02-21 2023-03-24 广东汇芯半导体有限公司 Semiconductor circuit and compressor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115841994A (en) * 2023-02-21 2023-03-24 广东汇芯半导体有限公司 Semiconductor circuit and compressor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5750867B2 (en) Functional element, method for manufacturing functional element, physical quantity sensor, and electronic device
JP5790297B2 (en) Physical quantity sensor and electronic equipment
US9383383B2 (en) Physical quantity sensor, manufacturing method thereof, and electronic apparatus
US9429589B2 (en) Physical quantity sensor and electronic apparatus
JP5790429B2 (en) Physical quantity sensor element, method for manufacturing physical quantity sensor element, and electronic apparatus
JP6245316B2 (en) Functional element, method for manufacturing functional element, physical quantity sensor, and electronic device
JP2016042074A (en) Physical quantity sensor, electronic apparatus and moving body
JP2015055476A (en) Physical quantity sensor, vibration device, electronic apparatus and movable unit
JP6089397B2 (en) PHYSICAL QUANTITY SENSOR, MANUFACTURING METHOD FOR PHYSICAL QUANTITY SENSOR, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5949965B2 (en) Functional element, method for manufacturing functional element, physical quantity sensor, and electronic device
JP5737454B2 (en) Functional element, method for manufacturing functional element, physical quantity sensor, and electronic device
JP6035733B2 (en) Manufacturing method of physical quantity sensor
JP2013068450A (en) Physical quantity sensor element, physical quantity sensor and electronic apparatus
JP6477836B2 (en) Physical quantity sensor element, physical quantity sensor and electronic device
JP2013015478A (en) Physical quantity sensor and electronic apparatus
JP2013140084A (en) Physical quantity sensor, method of manufacturing physical quantity sensor, and electronic apparatus
JP5935332B2 (en) PHYSICAL QUANTITY SENSOR, MANUFACTURING METHOD FOR PHYSICAL QUANTITY SENSOR, AND ELECTRONIC DEVICE
JP2016097454A (en) Manufacturing method of mems structure
JP2016023988A (en) Functional element, physical quantity sensor, and electronic equipment
JP2013140085A (en) Method of manufacturing physical quantity sensor, physical quantity sensor and electronic apparatus
JP2013130484A (en) Manufacturing method of sensor element, sensor element and electronic device
JP2019052989A (en) Physical quantity sensor manufacturing method and physical quantity sensor device manufacturing method
JP2017219459A (en) Physical-quantity sensor, electronic apparatus, and mobile body
JP2016099174A (en) Physical quantity sensor, manufacturing method of physical quantity sensor, electronic apparatus and moving body
JP2014173917A (en) Sensor, electronic apparatus, and moving body

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20141202