JP2012234947A - Resin package for semiconductor light-emitting device, semiconductor light-emitting device having the resin package and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a package for a semiconductor light-emitting device, which is superior in heat/light resistance, has a high reflectance ratio in a wide wavelength range even though having a thin wall, and further is superior in formability, heat radiation properties and mass productivity.SOLUTION: The resin package for the semiconductor light-emitting device comprises: a first lead; a second lead; and a resin mold integrally molded with the first lead and the second lead. The resin package has a recess part having a bottom face and a side face formed therein. The first lead and the second lead are exposed from the bottom face of the recess part. The resin package has a base for mounting the semiconductor light-emitting device thereon. The resin mold comprises a composition containing: (A) polyorganosiloxane; (B) white pigment of which a primary particle has an aspect ratio of 1.2 or more and 4.0 or less and a particle diameter of 0.1 μm or more and 2.0 μm or less; and (C) a curing catalyst.

Description

本発明は、照明器具、ディスプレイ、携帯電話や液晶テレビなどのバックライト、デジタルサイネージ及びその他の光源などに用いられる半導体発光装置及びそれに適した半導体発光装置用樹脂パッケージ並びにそれらの製造方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor light-emitting device used for lighting fixtures, displays, backlights for mobile phones, liquid crystal televisions, etc., digital signage and other light sources, a resin package for semiconductor light-emitting devices suitable therefor, and a method for manufacturing the same.

発光素子を用いた表面実装型発光装置は、小型で電力効率がよくまた発光色も鮮やかである。また、この発光素子は半導体素子であるため球切れなどの心配がない。さらに初期駆動特性が優れ、振動や点灯のオン・オフの繰り返しに強いという特徴を有する。このような優れた特性を有するため、発光ダイオード(LED)、レーザーダイオード(LD)などの発光素子を用いる発光装置は、各種の光源として利用されている。   A surface-mounted light-emitting device using a light-emitting element is small in size, has high power efficiency, and has a bright emission color. In addition, since this light emitting element is a semiconductor element, there is no fear of a broken ball. Furthermore, it has excellent initial drive characteristics and is strong against repeated on / off of vibration and lighting. Because of such excellent characteristics, light-emitting devices using light-emitting elements such as light-emitting diodes (LEDs) and laser diodes (LDs) are used as various light sources.

このような半導体発光装置は、リードと樹脂組成物とを一体的に成形した樹脂成形体を有してなる半導体発光装置用パッケージに、リードと電気的に接続された発光素子を搭載し、該発光素子を封止材で被覆した構成を基本構成とする。
前記パッケージを構成する樹脂成形体の材料としてはポリアミド等の熱可塑性樹脂に光の反射効率を上げるための反射材料として白色顔料を配合した熱可塑性樹脂組成物が広く用いられているが、半導体発光装置とするためには、近年の鉛使用回避のための高融点の鉛フリーハンダを用いるリフロー条件では耐熱性が不十分となることがあった。
そこで、熱可塑性樹脂に代え耐熱性に優れたエポキシ樹脂やシリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂をパッケージに使用することが提案されている(特許文献1参照)。また、同特許文献1には、トランスファーモールド法により発光素子を載置する基台とリードと樹脂とを一体的に成形した量産性に優れた樹脂成形体および表面実装型発光装置の製造方法が記載されている。
また、特許文献2には基台を支持したリードフレームと上述のような熱硬化性樹脂組成物又は熱可塑性樹脂組成物を射出成形により一体成形した放熱性に優れるパッケージが開示されている。
しかしながら、半導体発光装置用パッケージに使用される樹脂の耐熱性、耐光性、密着性や量産性の面で更なる改良が求められており、また半導体発光装置用パッケージを構成するリードや樹脂成形体の構造及びその構造に適合した成形方法についても更なる改善が求められていた。
Such a semiconductor light-emitting device includes a light-emitting element electrically connected to a lead mounted on a package for a semiconductor light-emitting device having a resin molded body in which a lead and a resin composition are integrally molded. A basic structure is a structure in which a light-emitting element is covered with a sealing material.
As a material of the resin molded body constituting the package, a thermoplastic resin composition in which a white pigment is blended as a reflective material for increasing the light reflection efficiency to a thermoplastic resin such as polyamide is widely used. In order to obtain an apparatus, the heat resistance sometimes becomes insufficient under reflow conditions using a high melting point lead-free solder for avoiding the use of lead in recent years.
Therefore, it has been proposed to use a thermosetting resin such as an epoxy resin or a silicone resin excellent in heat resistance instead of the thermoplastic resin for the package (see Patent Document 1). Further, Patent Document 1 discloses a method for manufacturing a resin-molded body excellent in mass productivity and a surface-mounted light-emitting device, in which a base on which a light-emitting element is placed by a transfer molding method, a lead, and a resin are integrally molded. Have been described.
Patent Document 2 discloses a package having excellent heat dissipation, in which a lead frame supporting a base and the above-described thermosetting resin composition or thermoplastic resin composition are integrally formed by injection molding.
However, further improvements are required in terms of heat resistance, light resistance, adhesion and mass productivity of the resin used in the semiconductor light emitting device package, and leads and resin molded bodies constituting the semiconductor light emitting device package Further improvements have also been demanded for the structure of and the molding method adapted to that structure.

特開2007−329219号公報JP 2007-329219 A 特表2009−543329号公報Special table 2009-543329

従来より用いられている熱可塑性樹脂による射出成形法は生産性のよさが利点であったが、これを半導体発光装置用パッケージに適用しようとすると、樹脂が高粘度である上に、反射材料として白色顔料を配合すると組成物の粘度がさらに高くなって流動性が低下するため、白色顔料の添加量をあまり多くすることはできなかった。
また、従来この用途に用いられる熱可塑性樹脂は高いガラス転移温度(Tg)を確保するために紫外吸収があり耐熱耐光性に劣る芳香族成分を多く含むので、屈折率が高くなり、従って用いることができる白色顔料もバインダ樹脂との屈折率差が大きく少量添加にて高い反射率を得られるチタニア等に限られていた。チタニアは可視光領域において少量にて高い反射率が得られるが、紫外領域に吸収があるため青〜紫外領域においては反射率が低くなる。この結果、射出成形に用いるためには「芳香族基含有樹脂+チタニア」に代表される組成しか選択できず、結果的に耐熱・耐光性が劣り、反射率の低いパッケージしか得ることができなかった。
Conventionally, the injection molding method using thermoplastic resin has the advantage of good productivity, but when this is applied to the package for semiconductor light emitting device, the resin is highly viscous and as a reflective material When a white pigment is blended, the viscosity of the composition is further increased and the fluidity is lowered, so that the amount of white pigment added cannot be increased too much.
In addition, the thermoplastic resin conventionally used in this application contains a large amount of aromatic components that have ultraviolet absorption and inferior heat resistance and light resistance in order to ensure a high glass transition temperature (Tg), and therefore the refractive index becomes high, and therefore should be used. The white pigments that can be produced are also limited to titania and the like that have a large refractive index difference from the binder resin and can obtain a high reflectance when added in a small amount. Although titania has a high reflectance in a small amount in the visible light region, it has a low reflectance in the blue to ultraviolet region due to absorption in the ultraviolet region. As a result, only the composition represented by “aromatic group-containing resin + titania” can be selected for use in injection molding, and as a result, only a package with low heat resistance and light resistance and low reflectance can be obtained. It was.

一方で、特許文献1に開示されたトランスファー成形法では、室温で固形状の原料組成物が用いられるため、芳香族成分を用いることなく極性基や剛直な有機基を多く含む熱硬化性樹脂組成物や半硬化状のエポキシ化合物を用いることができる。しかしながら得られる硬化物は有機骨格主体の樹脂であるため耐熱性は十分とはいえなかった。またこれらの熱硬化性樹脂の屈折率も高いため、やはり反射材としてはチタニアを主体に使用する組成しか選択できず、広い波長域において高い反射率を有するパッケージを得ることは困難であった。また、トランスファー成形は射出成形と比較して成形サイクルが長く、大量生産には不向きで、成形品の形状選択の自由度にも課題があった。更に、多数個を1回のショットで製造するためには高価なダイサーを必要とするなど、設備投資面での問題もあった。
また、特許文献2のパッケージにおいても、樹脂そのものは従来と同様なものが用いられており、樹脂本体の性質に由来する前記と同様の問題が解決されたとは言い難い。
On the other hand, in the transfer molding method disclosed in Patent Document 1, since a solid raw material composition is used at room temperature, a thermosetting resin composition containing many polar groups and rigid organic groups without using an aromatic component. Or a semi-cured epoxy compound can be used. However, since the obtained cured product is a resin mainly composed of an organic skeleton, the heat resistance is not sufficient. Moreover, since the refractive index of these thermosetting resins is also high, it is difficult to obtain a package having a high reflectance in a wide wavelength range because only a composition mainly using titania can be selected as a reflecting material. In addition, transfer molding has a longer molding cycle than injection molding, is not suitable for mass production, and has a problem in the degree of freedom in selecting the shape of a molded product. Furthermore, in order to manufacture a large number of pieces in one shot, there is a problem in terms of capital investment, such as requiring an expensive dicer.
Also in the package of Patent Document 2, the resin itself is the same as the conventional one, and it cannot be said that the same problems as described above due to the properties of the resin main body have been solved.

本発明は、上述の従来技術の課題を解決し、耐熱・耐光性に優れ、広い波長範囲において薄肉でも高い反射率を有し、成形性、放熱性、量産性に優れた半導体発光装置用パッケージ、該パッケージを備えた半導体発光装置、及びそれらの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, has excellent heat resistance and light resistance, has a high reflectance even when thin in a wide wavelength range, and has excellent moldability, heat dissipation, and mass productivity. An object of the present invention is to provide a semiconductor light emitting device including the package and a method of manufacturing the same.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、下記の発明が上記目的に合致することを見出し、本発明に至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that the following inventions meet the above object, and have reached the present invention.

本発明の半導体発光装置用パッケージは、第1のリードと、第2のリードと、第1のリード及び第2のリードと一体的に成形されてなる樹脂成形体とを有してなる半導体発光装置用樹脂パッケージであって、
該樹脂パッケージは底面と側面とを有する凹部が形成されており、その凹部の底面から第1のリード及び第2のリードが露出しているとともに、該樹脂パッケージが半導体発光素子を載置するための基台を有しており、
かつ前記樹脂成形体は、(A)ポリオルガノシロキサン、(B)一次粒子のアスペクト比が1.2以上4.0以下、一次粒子径が0.1μm以上2.0μm以下の白色顔料、および(C)硬化触媒を含有する組成物から形成されていることを特徴とする。
A semiconductor light emitting device package according to the present invention includes a semiconductor light emitting device including a first lead, a second lead, and a resin molded body formed integrally with the first lead and the second lead. A resin package for the device,
The resin package is formed with a recess having a bottom surface and a side surface, and the first lead and the second lead are exposed from the bottom surface of the recess, and the resin package mounts the semiconductor light emitting element. Has a base of
And the resin molded body comprises (A) polyorganosiloxane, (B) a white pigment having an aspect ratio of primary particles of 1.2 to 4.0, a primary particle diameter of 0.1 to 2.0 μm, and ( C) It is formed from the composition containing a curing catalyst.

本発明において、「樹脂成形体」とは、半導体発光装置用樹脂組成物を成形して得られるものをいい、「半導体発光装置用パッケージ」(以下、単に「パッケージ」と記載する場合がある。)とは、導電性金属であるリードと樹脂成形体の原料である半導体発光装置用樹脂組成物とが一体的に成形されたものである。
また、「半導体発光装置」とは、上記半導体発光装置用パッケージと、半導体発光素子(以下、単に「発光素子」と記載する場合がある。)及び該半導体発光素子を被覆する封止材等を含む発光装置である。
また、本発明において「リード」は、いわゆる「リード線」、即ち、導電配線の他に、所謂「リードフレーム」といわれる、電気的な接続に用いられる板状その他の任意の形状に成形された導電体をも含むものである。
In the present invention, the “resin molded product” refers to a product obtained by molding a resin composition for a semiconductor light-emitting device, and may be referred to as “semiconductor light-emitting device package” (hereinafter simply referred to as “package”). ) Is obtained by integrally molding a lead, which is a conductive metal, and a resin composition for a semiconductor light emitting device, which is a raw material of a resin molded body.
The “semiconductor light-emitting device” refers to the package for a semiconductor light-emitting device, a semiconductor light-emitting element (hereinafter sometimes simply referred to as “light-emitting element”), a sealing material that covers the semiconductor light-emitting element, and the like. A light emitting device.
Further, in the present invention, the “lead” is formed into a so-called “lead wire”, that is, a so-called “lead frame” in addition to the conductive wiring, and is formed into any other shape such as a plate used for electrical connection. It also includes a conductor.

また、「インナーリード部」は、リードの中で樹脂成形体の内側に設置される部分をいう。インナーリード部は、樹脂成形体の凹部底面から少なくともその一部が露出しており、露出部において発光素子の電極と電気的に接続される。
「アウターリード部」は樹脂成形体の凹部が形成された面(以下「主面」ということがある)と反対の面(以下「裏面」ということがある)または樹脂成形体から外部に露出するリードの部分をいい、放熱効率の向上と外部電極との電気的接続に用いられ、このアウターリード部を所定の長さとして折り曲げて使用する等により、照明器具等にそのまま実装することも可能となる。
The “inner lead portion” refers to a portion of the lead that is installed inside the resin molded body. At least a part of the inner lead portion is exposed from the bottom surface of the concave portion of the resin molded body, and is electrically connected to the electrode of the light emitting element at the exposed portion.
The “outer lead portion” is exposed to the outside from the surface (hereinafter also referred to as “back surface”) opposite to the surface (hereinafter also referred to as “main surface”) on which the concave portion of the resin molded body is formed. The lead part is used for improving heat dissipation efficiency and electrical connection with external electrodes, and it can be mounted on lighting fixtures as it is by bending this outer lead part to a predetermined length. Become.

本発明の半導体発光装置用パッケージは、樹脂成形体部分に上記熱硬化性シリコーン樹脂組成物を用いていることにより、成形性、耐熱性、耐光性、密着性、反射率等に優れる。また、発光素子を載置しやすい構造とすることができる。
また、該樹脂パッケージは、半導体発光素子が基台に載置されているため、基台の材質を選ぶことで半導体発光素子から発生する熱を外部に効率よく放熱することができ、また、半導体発光素子の直下に剛直な基台を設けることにより、超音波熱圧着(サーモソニック)方式で半導体発光素子をワイヤボインディングする際に、超音波が樹脂成形体に吸収されることが少なく、半導体発光素子の電極とボインディングワイヤの接着強度が高くなるので、実装時の安定性も良好になる。
また、該樹脂パッケージは底面と側面とを有する凹部が形成されており、その凹部の底面から第1のリード及び第2のリードが露出しているため、発光素子から発生する熱を外部に効率よく放熱することができる。
The package for a semiconductor light-emitting device of the present invention is excellent in moldability, heat resistance, light resistance, adhesion, reflectivity, and the like by using the thermosetting silicone resin composition in the resin molded body portion. In addition, a structure in which the light emitting element can be easily placed can be obtained.
In addition, since the semiconductor light emitting element is mounted on the base, the resin package can efficiently dissipate heat generated from the semiconductor light emitting element to the outside by selecting the material of the base. By providing a rigid base directly under the light-emitting element, when the semiconductor light-emitting element is wire-bonded by the ultrasonic thermocompression bonding (thermosonic) method, the ultrasonic wave is less absorbed by the resin molding, and the semiconductor Since the adhesive strength between the electrode of the light emitting element and the binding wire is increased, the stability during mounting is also improved.
Further, the resin package has a recess having a bottom surface and a side surface, and the first lead and the second lead are exposed from the bottom surface of the recess. It can dissipate heat well.

なお、樹脂成形体を形成する熱硬化性シリコーン樹脂組成物に含まれる、(A)ポリオルガノシロキサン、(B)白色顔料、及び(C)硬化触媒の詳細ついては、実施形態の説明にて記載する。   The details of (A) polyorganosiloxane, (B) white pigment, and (C) curing catalyst contained in the thermosetting silicone resin composition forming the resin molding are described in the description of the embodiment. .

前記(B)白色顔料の二次粒子の中心粒径が、0.02μm以上5μm以下であることが好ましい。このような(B)白色顔料を使用することにより、反射特性及び液状射出成形時の成形性に優れ、かつ、成形に適した粘度に調整し易く、金型の摩耗が少ない樹脂組成物を得ることができる。
また、より反射特性に優れた半導体発光装置用パッケージを得るためには、前記(B)白色顔料が、アルミナ及び/又はチタニアであることが好ましい。
The center particle size of the secondary particles of the (B) white pigment is preferably 0.02 μm or more and 5 μm or less. By using such a white pigment (B), a resin composition is obtained which has excellent reflection characteristics and moldability during liquid injection molding, is easily adjusted to a viscosity suitable for molding, and has little mold wear. be able to.
Further, in order to obtain a package for a semiconductor light emitting device having more excellent reflection characteristics, it is preferable that the (B) white pigment is alumina and / or titania.

前記樹脂成形体に要求される性能に応じて前記樹脂成形体を形成する組成物には、種々の物質を添加することができる。
中でも、前記樹脂成形体を形成する組成物が、フィラー、拡散剤、蛍光物質、反射性物質、遮光性物質、紫外線吸収剤、及び酸化防止剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の材料を含む組成物であることが好ましい。
Various substances can be added to the composition forming the resin molded body according to the performance required for the resin molded body.
Among them, the composition forming the resin molded body contains at least one material selected from the group consisting of a filler, a diffusing agent, a fluorescent material, a reflective material, a light shielding material, an ultraviolet absorber, and an antioxidant. A composition is preferred.

また、前記樹脂パッケージは、液状射出成形(LIM)法により成形されたものであることが好ましい。液状射出成形(LIM)法による成形は連続的な成形が可能であることから大量生産に適し、無駄な硬化物が発生せず二次加工が不要(すなわちバリが発生しにくい)であり、樹脂成形体の成形工程の自動化、成形サイクルの短縮化、成形品のコスト削減が可能になる等大きなメリットがある。LIM成形とトランスファー成形とを比較すると、LIM成形は、成形体形状の自由度が高く、単位生産量あたりの成形機および金型価格が比較的安価であるというメリットがある。   The resin package is preferably formed by a liquid injection molding (LIM) method. Molding by liquid injection molding (LIM) method is suitable for mass production because it can be continuously molded, does not generate useless cured products, and does not require secondary processing (ie, hardly generates burrs), and is a resin There are significant advantages such as automation of the molding process of the molded body, shortening of the molding cycle, and cost reduction of the molded product. Comparing LIM molding and transfer molding, LIM molding has the advantage that the degree of freedom of the shape of the molded body is high, and the molding machine and mold price per unit production amount are relatively low.

半導体発光装置用樹脂パッケージ凹部の側面末端部分は、稜角部を有していないことが好ましい。このような構造とすることにより、硬化した成形体の金型からの脱離が容易になる。   It is preferable that the side end portion of the resin package recess for the semiconductor light emitting device does not have a ridge corner. With such a structure, the cured molded body can be easily detached from the mold.

また、基台の底面が、半導体発光装置用樹脂パッケージから露出されていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the bottom surface of the base is exposed from the resin package for a semiconductor light emitting device.

本発明の半導体発光装置は、上記半導体発光装置用樹脂パッケージの基台に半導体発光素子が載置され、該発光素子が第1及び第2のリードと電気的に接続されており、かつ前記発光素子が、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、アクリレート樹脂、ポリアミド樹脂、ウレタン樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂を主成分として含む組成物からなる樹脂層により封止されていることを特徴とする。   In the semiconductor light emitting device of the present invention, a semiconductor light emitting element is mounted on the base of the resin package for the semiconductor light emitting apparatus, the light emitting element is electrically connected to the first and second leads, and the light emission The element is sealed with a resin layer made of a composition containing at least one resin selected from the group consisting of epoxy resin, modified epoxy resin, silicone resin, modified silicone resin, acrylate resin, polyamide resin, and urethane resin as a main component. It is characterized by being.

前記樹脂層が、フィラー、拡散剤、蛍光物質、反射性物質、紫外線吸収剤、及び酸化防止剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の材料を含む組成物から形成されていることが好ましい。   The resin layer is preferably formed from a composition containing at least one material selected from the group consisting of a filler, a diffusing agent, a fluorescent material, a reflective material, an ultraviolet absorber, and an antioxidant.

また、前記第1のリード又は第2のリードに保護素子が載置されていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that a protective element is placed on the first lead or the second lead.

本発明の半導体発光装置用樹脂パッケージの製造方法は、第1のリードと第2のリードとを一体成形してなる、底面と側面とを持つ凹部が形成された基台を有する、液状射出成形法による半導体発光装置用樹脂パッケージの製造方法であって、
上金型及び/又は下金型が該樹脂パッケージの形状に対応する凹みを形成しており、第1のリード電極は第1のインナーリード部と第1のアウターリード部とを有しており、第2のリード電極は第2のインナーリード部と第2のアウターリード部を有しており、かつ樹脂パッケージの凹部の底面に相当する第1のインナーリード部と第2のインナーリード部並びに第1のアウターリード部と第2のアウターリード部を上金型と下金型とで挟み込む第1の工程と、
上金型と下金型の前記凹みで形成される空間部分に、(A)ポリオルガノシロキサン、(B)一次粒子のアスペクト比が1.2以上4.0以下、一次粒子径が0.1μm以上2.0μm以下の白色顔料、および(C)硬化触媒を含む液状熱硬化性樹脂組成物を射出して充填する第2の工程と、
充填された熱硬化性樹脂を加熱して硬化し、樹脂パッケージを成形する第3の工程と、を少なくとも有し、かつ、前記基台は下記(i),(ii)のいずれかの方法で形成されることを特徴とする。
(i)前記第1の工程にて、前記第1のリード及び第2のリードに加えて基台も金型内に挿入されて一体成形する方法
(ii)前記上金型及び/又は下金型が該基台の形状に対応する凸部を更に有しており、それにより形成された成形体の空洞部分に前記第3の工程後に基台を嵌入する方法
A method of manufacturing a resin package for a semiconductor light emitting device according to the present invention includes: a liquid injection molding having a base formed by integrally molding a first lead and a second lead and having a recess having a bottom surface and a side surface. A method of manufacturing a resin package for a semiconductor light emitting device by the method,
The upper die and / or the lower die form a recess corresponding to the shape of the resin package, and the first lead electrode has a first inner lead portion and a first outer lead portion. The second lead electrode has a second inner lead portion and a second outer lead portion, and the first inner lead portion, the second inner lead portion corresponding to the bottom surface of the concave portion of the resin package, and A first step of sandwiching the first outer lead portion and the second outer lead portion between the upper mold and the lower mold;
In the space formed by the depressions of the upper mold and the lower mold, (A) polyorganosiloxane, (B) the primary particles have an aspect ratio of 1.2 to 4.0, and the primary particle diameter is 0.1 μm. A second step of injecting and filling a liquid thermosetting resin composition containing a white pigment of 2.0 μm or less and (C) a curing catalyst;
And at least a third step of forming a resin package by heating and curing the filled thermosetting resin, and the base is any one of the following (i) and (ii) It is formed.
(I) A method in which, in the first step, a base is inserted into the mold in addition to the first lead and the second lead, and is integrally formed. (Ii) The upper mold and / or the lower mold A method in which the mold further has a convex portion corresponding to the shape of the base, and the base is inserted into the hollow portion of the molded body formed thereby after the third step.

これにより、液状熱硬化性シリコーン樹脂組成物を射出成形する第2及び第3の工程における、リードのばたつきを抑制することができ、バリの発生がない樹脂成形体を製造することができる。
また、液状射出成形法によって樹脂成形体を形成するため、複雑な形状の凹部を有す
る樹脂成形体を製造することができ、さらには連続的な成形が可能であることから大量生産に適し、バリが発生しにくいため二次加工が不要であり、樹脂成形体の成形工程の自動化、成形サイクルの短縮化、成形品のコスト削減が可能になるという利点がある。
また、発光素子を載置する部分に相当する第1のインナーリード部を露出することができ、また、凹部の底面にリードを露出させることで、放熱性を向上させることができる。
Thereby, flapping of the lead in the second and third steps of injection molding the liquid thermosetting silicone resin composition can be suppressed, and a resin molded body free from burrs can be manufactured.
Further, since the resin molded body is formed by the liquid injection molding method, it is possible to manufacture a resin molded body having a concave portion with a complicated shape, and furthermore, since continuous molding is possible, it is suitable for mass production, Therefore, there is an advantage that secondary processing is unnecessary, and it is possible to automate the molding process of the resin molded body, shorten the molding cycle, and reduce the cost of the molded product.
Moreover, the 1st inner lead part corresponded to the part which mounts a light emitting element can be exposed, and heat dissipation can be improved by exposing a lead to the bottom face of a recessed part.

本発明の製造方法において、第2の工程が、液状射出成形機を用いて行われ、かつ、射出成形圧力が10kg/cm2以上1200kg/cm2以下であることが好ましく、より好ましくは100kg/cm2以上2000kg/cm2以下、さらに好ましくは200kg/cm2以上1600kg/cm2以下、特に好ましくは370kg/cm2以上1200kg/cm2以下である。 In the production method of the present invention, the second step is preferably performed using a liquid injection molding machine, and the injection molding pressure is preferably 10 kg / cm 2 or more and 1200 kg / cm 2 or less, more preferably 100 kg / cm 2. It is from cm 2 to 2000 kg / cm 2 , more preferably from 200 kg / cm 2 to 1600 kg / cm 2 , and particularly preferably from 370 kg / cm 2 to 1200 kg / cm 2 .

本発明の製造方法において、第2の工程が、液状射出成形機を用いて行われ、かつ、液状射出成形機のシリンダー温度が0℃以上100℃以下であることが好ましい。   In the production method of the present invention, the second step is preferably performed using a liquid injection molding machine, and the cylinder temperature of the liquid injection molding machine is preferably 0 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

液状射出成形時の硬化温度及び時間がそれぞれ、120℃以上230℃以下及び3秒以上10分間以下であることが好ましい。   The curing temperature and time during liquid injection molding are preferably 120 ° C. or higher and 230 ° C. or lower and 3 seconds or longer and 10 minutes or shorter, respectively.

また、液状射出成形に用いる(A)ポリオルガノシロキサン、(B)一次粒子のアスペクト比が1.2以上4.0以下、一次粒子径が0.1μm以上2.0μm以下の白色顔料、および(C)硬化触媒を含有する液状熱硬化性樹脂組成物の粘度が、25℃、剪断速度100/sの条件で、10Pa・s以上10000Pa・s以下であることが好ましい。   (A) polyorganosiloxane used for liquid injection molding, (B) a white pigment having an aspect ratio of primary particles of 1.2 to 4.0, a primary particle diameter of 0.1 to 2.0 μm, and ( C) The viscosity of the liquid thermosetting resin composition containing the curing catalyst is preferably 10 Pa · s or more and 10,000 Pa · s or less under the conditions of 25 ° C. and a shear rate of 100 / s.

本発明の半導体発光装置の製造方法は、上記の樹脂パッケージを用いる半導体発光装置の製造方法であって、
前記樹脂パッケージの基台に半導体発光素子を載置し、該発光素子の第1の電極と第1のインナーリードとを電気的に接続し、かつ該発光素子の第2の電極と第2のインナーリードとを電気的に接続する第1の工程と、
該樹脂パッケージの凹部に、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂及びアクリレート樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂を主成分として含む組成物を装入する第2の工程と、
前記組成物を加熱して硬化し、発光素子を封止する第3の工程と、
を有することを特徴とする。
A manufacturing method of a semiconductor light emitting device of the present invention is a manufacturing method of a semiconductor light emitting device using the above resin package,
A semiconductor light emitting element is mounted on the base of the resin package, the first electrode of the light emitting element and the first inner lead are electrically connected, and the second electrode of the light emitting element and the second electrode A first step of electrically connecting the inner lead;
A second step of charging the concave portion of the resin package with a composition containing at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a modified epoxy resin, a silicone resin, a modified silicone resin and an acrylate resin as a main component; ,
A third step of heating and curing the composition to seal the light emitting element;
It is characterized by having.

また、本発明の半導体発光装置の製造方法において、前記第1のリード又は第2のリードに、保護素子を載置する工程を、前記第1の工程の前又は後に有することが好ましい。   In the method for manufacturing a semiconductor light emitting device of the present invention, it is preferable that a step of placing a protective element on the first lead or the second lead is included before or after the first step.

本発明によれば、耐久性(耐光性、耐熱性)が高く、かつ優れた反射率によりLED出力を向上させることが可能な半導体発光装置用パッケージ及び該パッケージを備えた半導体発光装置が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, durability (light resistance, heat resistance) is high, the package for semiconductor light-emitting devices which can improve LED output with the outstanding reflectance, and a semiconductor light-emitting device provided with the package are provided. The

本発明の実施形態に係る半導体発光装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the semiconductor light-emitting device concerning embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る半導体発光装置の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the semiconductor light-emitting device concerning embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る半導体発光装置を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the semiconductor light-emitting device concerning other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る半導体発光装置を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the semiconductor light-emitting device concerning other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る半導体発光装置を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the semiconductor light-emitting device concerning other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る半導体発光装置を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the semiconductor light-emitting device concerning other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る半導体発光装置を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the semiconductor light-emitting device concerning other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る半導体発光装置を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the semiconductor light-emitting device concerning other embodiment of this invention. 図1及び図2の実施形態に係る半導体発光装置の製造工程を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of the semiconductor light emitting device according to the embodiment of FIGS. 1 and 2. 本発明における各試験片の反射率の測定結果を示すグラフである。It is a graph which shows the measurement result of the reflectance of each test piece in the present invention. 実施例1における樹脂成形体用材料の粘度の測定結果を示すグラフである。3 is a graph showing measurement results of the viscosity of a resin molded body material in Example 1. FIG.

以下、本発明に係る半導体発光装置用樹脂パッケージ及び半導体発光装置並びそれらの製造方法を、実施形態及び実施例を用いて説明する。   Hereinafter, a resin package for a semiconductor light-emitting device, a semiconductor light-emitting device, and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described with reference to embodiments and examples.

<1.半導体発光装置の概要>
半導体発光装置の概要を図1を例にして説明する。図1は、半導体発光装置の一例を示す概略断面図である。図2は、その概略平面図である。なお、図1は、図2のA−Aの概略断面図である。
<1. Overview of Semiconductor Light Emitting Device>
An outline of the semiconductor light emitting device will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a semiconductor light emitting device. FIG. 2 is a schematic plan view thereof. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA in FIG.

図1の半導体発光装置1は、(樹脂)パッケージ10と、パッケージ10に載置される発光素子20と、発光素子20を被覆する封止材30とを有する。   The semiconductor light emitting device 1 in FIG. 1 includes a (resin) package 10, a light emitting element 20 placed on the package 10, and a sealing material 30 that covers the light emitting element 20.

パッケージ10は、基台10aと、第1のリード11及び第2のリード12と、半導体発光装置用樹脂成形体13を一体的に成形してなる。   The package 10 is formed by integrally molding a base 10a, a first lead 11 and a second lead 12, and a resin molded body 13 for a semiconductor light emitting device.

発光素子20は、同一面側に正負一対の第1の電極21と第2の電極22とを有しており、それぞれの電極が、第1のリード11及び第2のリード12と電気的に接続されている。
図1の半導体発光装置1においては、同一面側に正負一対の電極を有するものについて説明するが、発光素子と基台の間に導電性の表面を有するサブマウントを設け、このサブマウントと第1のリードとをワイヤボインディングしたり、又は金属製の基台と第1のリードをワイヤボインディングしたりすることにより発光素子の上面と下面とから正負一対の電極を有するものを用いることもできる。
The light emitting element 20 has a pair of positive and negative first electrodes 21 and second electrodes 22 on the same surface side, and each electrode is electrically connected to the first lead 11 and the second lead 12. It is connected.
The semiconductor light emitting device 1 of FIG. 1 will be described as having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side. A submount having a conductive surface is provided between the light emitting element and the base, It is also possible to use one having a pair of positive and negative electrodes from the upper surface and the lower surface of the light emitting element by wire-bonding one lead or wire-bonding a metal base and the first lead. it can.

封止材30は、発光素子20を被覆するようにパッケージ10の凹部14内に装入される。
封止材30は、熱硬化性樹脂あるいは熱硬化性樹脂を主成分とする組成物(以下、「封止材用熱硬化性樹脂組成物」と総称する。)を用いており、発光素子20の光を直接利用する場合には透明封止するが、発光素子20の光を任意の波長に変換する場合には、通常、蛍光体を含有している。
The sealing material 30 is inserted into the recess 14 of the package 10 so as to cover the light emitting element 20.
The sealing material 30 uses a thermosetting resin or a composition containing a thermosetting resin as a main component (hereinafter collectively referred to as “thermosetting resin composition for sealing material”), and the light emitting element 20. In the case of directly using the light, transparent sealing is performed. However, in the case where the light of the light emitting element 20 is converted into an arbitrary wavelength, a phosphor is usually contained.

以下、半導体発光装置の各構成部材について詳細に説明する。
<2.半導体発光装置用パッケージ>
<2.1.パッケージ概要>
上述のように半導体発光装置用パッケージ10は、基台10aと、第1のリード11及び第2のリード12と、樹脂成形体13とから構成されている。
Hereinafter, each component of the semiconductor light emitting device will be described in detail.
<2. Package for Semiconductor Light Emitting Device>
<2.1. Package Overview>
As described above, the semiconductor light emitting device package 10 includes the base 10 a, the first lead 11 and the second lead 12, and the resin molded body 13.

第1のリード11は第1のインナーリード部11aと第1のアウターリード部11bとを有している。第1のインナーリード部11aは、その一部が凹部14の底面14aから露出しており、発光素子20が持つ第1の電極21とワイヤ40を介して電気的に接続されている。第1のリード11は、樹脂成形体13の側面外側に露出する第1のアウターリード部11bを有しており、第1のアウターリード部11bは、外部電極(図示せず)と電気的に接続される。そのため、材質としては、金属等の導電性部材を用いる。   The first lead 11 has a first inner lead portion 11a and a first outer lead portion 11b. A portion of the first inner lead portion 11 a is exposed from the bottom surface 14 a of the recess 14, and is electrically connected to the first electrode 21 of the light emitting element 20 via the wire 40. The first lead 11 has a first outer lead portion 11b exposed outside the side surface of the resin molded body 13, and the first outer lead portion 11b is electrically connected to an external electrode (not shown). Connected. Therefore, a conductive member such as metal is used as the material.

第2のリード12は第2のインナーリード部12aと第2のアウターリード部12bとを有している。第2のインナーリード部12aは、その一部が凹部14の底面14aから露出しており、発光素子20が持つ第2の電極22とワイヤ40を介して電気的に接続されている。第2のリード12は、樹脂成形体13の側面外側に露出する第2のアウターリード部12bを有しており、第2のアウターリード部12bは、外部電極(図示せず)と電気的に接続されるため、材質としては、金属等の導電性部材を用いる。   The second lead 12 has a second inner lead portion 12a and a second outer lead portion 12b. A part of the second inner lead portion 12 a is exposed from the bottom surface 14 a of the recess 14, and is electrically connected to the second electrode 22 of the light emitting element 20 via the wire 40. The second lead 12 has a second outer lead portion 12b exposed to the outside of the side surface of the resin molded body 13, and the second outer lead portion 12b is electrically connected to an external electrode (not shown). In order to be connected, a conductive member such as metal is used as the material.

なお、基台10aと、第1のリード11及び第2のリード12とが短絡しないように、裏面側において基台10aと、第1のリード11及び第2のリード12との近接する部分の表面には、絶縁体50a,50bが設けられている。
また、第1のインナーリード部11aと第2のインナーリード部12aの裏面は露出せずパッケージの一部である樹脂成形体用樹脂組成物に覆われ一体的に成形されていてもよい。
In order to prevent the base 10a from being short-circuited with the first lead 11 and the second lead 12, a portion of the base 10a adjacent to the first lead 11 and the second lead 12 on the back surface side. Insulators 50a and 50b are provided on the surface.
Further, the back surfaces of the first inner lead part 11a and the second inner lead part 12a may not be exposed and may be covered with a resin composition for a resin molded body that is a part of the package and integrally molded.

パッケージ10には、底面14aと側面14bとを含む凹部14が形成されている。
図1、2に示すように底面14aは、基台10aの上面、第1のインナーリード部11a及び第2のインナーリード部12aのそれぞれ一部、及び、樹脂成形体13の連結部13a,13bからなり、また、側面14bは、樹脂成形体13に形成された開口した連通穴の壁面からなる。
なお、凹部14の開口部は、底面14aよりも広口になっており、樹脂成形体13で形成される側面14bには傾斜が設けられていることが好ましい。
The package 10 has a recess 14 including a bottom surface 14a and a side surface 14b.
As shown in FIGS. 1 and 2, the bottom surface 14 a includes the top surface of the base 10 a, a part of each of the first inner lead portion 11 a and the second inner lead portion 12 a, and the connecting portions 13 a and 13 b of the resin molded body 13. Further, the side surface 14b is formed of a wall surface of an open communication hole formed in the resin molded body 13.
In addition, it is preferable that the opening part of the recessed part 14 has a wide opening rather than the bottom face 14a, and the side surface 14b formed with the resin molding 13 is inclined.

凹部14は、開口方向に広口となるように傾斜を設けられている。これにより開口方向への光の取り出し効率を向上することができる。ただし、傾斜を設けず、円筒形状の凹部とすることもできる。また、傾斜面は平滑な方が好ましいが凹凸を設けることもできる。凹凸を設けることにより樹脂成形体13と封止材30との界面の密着性を向上することができる。凹部14の傾斜角度は、底面から95°以上150°以下が好ましいが、100°以上120°以下が特に好ましい。
また、側面14bの末端部分が、稜角部を有していないことが好ましい。このような構成とすることにより、硬化後の成形品の金型からの剥離(脱型)が容易になる。
The recess 14 is inclined so as to have a wide opening in the opening direction. Thereby, the light extraction efficiency in the opening direction can be improved. However, it is possible to form a cylindrical recess without providing an inclination. Further, the inclined surface is preferably smooth, but irregularities can be provided. By providing the unevenness, the adhesion at the interface between the resin molded body 13 and the sealing material 30 can be improved. The inclination angle of the recess 14 is preferably 95 ° or more and 150 ° or less from the bottom surface, and particularly preferably 100 ° or more and 120 ° or less.
Moreover, it is preferable that the terminal part of the side surface 14b does not have a ridge corner part. By setting it as such a structure, peeling (demolding) from the metal mold | die of the molded article after hardening becomes easy.

なお、パッケージ10の主面側の形状は矩形であるが、楕円、円形、五角形、六角形等とすることもできる。凹部14の主面側の形状は、円〜楕円であるが、矩形、五角形、六角形等とすることも可能である。必要に応じて、カソードマークを付けてもよい。   The shape of the main surface side of the package 10 is a rectangle, but may be an ellipse, a circle, a pentagon, a hexagon, or the like. The shape of the main surface side of the recess 14 is a circle to an ellipse, but may be a rectangle, a pentagon, a hexagon, or the like. You may attach a cathode mark as needed.

以下、パッケージ10の各構成要素につき、詳細に説明する。   Hereinafter, each component of the package 10 will be described in detail.

<2.2.基台>
基台10aは、発光素子20をパッケージ10に載置させるための台である。発光素子20は通常、ダイボンド部材を介して基台10aに載置されている。
基台10aは樹脂成形体を成形する際に、リードと共に金型内に挿入して一体的に成形されていてもよく、また、樹脂成形体とリードとを一体成形する際に基台を挿入すべき箇所が空洞になるように成形して、成形後に別途基台10aを該空洞部に嵌入してもよい。
前者の基台の例としては基台10aがリードの一部として、該リードと同じ素材で形成で形成されたもの、リードに別素材の基台が支持されるもの、配線基板のスルーホール(貫通孔)に熱伝導性ペーストが埋設されて基台10aが形成されたもの等が挙げられる。また、後者の例としては精密鋳造により、個片成形された金属製基台などが挙げられる。
基台10aをリードに設けられた支持部に結合して固定した後、インサート成形にて一体成形すると、それぞれ個別に挿入してインサート成形した場合に比べて、リードと基台との位置関係を安定に維持することができる。また、基台を空洞部に後から挿入する場合よりも基台のパッケージからの脱着を防ぐことができる。
さらに基台支持部を用いつつ、リードと基台との離隔距離の増加を防止することができて、パッケージの大きさの増加を防止できる。
なお、基台10aが金属等の導電性部材であり、発光素子が上下導通型である場合は、電気伝導性のあるダイボンド部材を用いて発光素子下部と基台10aとを電気的に接続し、基台10aを第1のリードとワイヤボインディングすればよい。
基台10aは樹脂成形体13の凹部14から露出されていることが好ましいが、埋没されていてもよい。また、基台10aは発光素子20を載置できればよく、好ましくは鉄、リン青銅、銅合金等の電気良導体を用いて構成されるが、高熱伝導性セラミックス等の絶縁体、さらには銀や高熱伝導性セラミックス等の粉末を樹脂基材に分散させた熱伝導性ペーストの硬化物などを用いることもできる。
また、発光素子20からの光の反射率を向上させるため、基台10aの表面に銀、アルミニウム、銅や金等の金属メッキを施すこともできる。
また、基台10aの表面の反射率を向上させるため、平滑にすることが好ましい。また、放熱性を向上させるため基台10aの面積を大きくすることができる。これにより発光素子20の温度上昇を効果的に抑えることができ、発光素子20に比較的多くの電気を流すことができる。また、基台10aを肉厚にすることにより放熱性を向上することができる。
また、基台10aを肉厚にすることにより、基台10aのたわみが少なくなり、発光素子20の実装をし易くすることができる。これとは逆に、基台10aを薄い平板状とすることにより半導体発光装置1を薄型にすることができる。基台10aの形状は特に問われず、平板状の円柱状、略直方体、略立方体などでもよく、発光素子を載置する面に凹部を成形していてもよい。また、樹脂成形体からの基台の脱離を防ぐために樹脂成形体と基台とが嵌合する面が凹凸形状やテーパを有していてもよい。
なお、樹脂成形体13を構成する樹脂組成物の反射率が基台10aより高く、発光素子の下面がサファイア基板等の絶縁体で基台10aと直接接する必要が無い場合には、反射効率を優先するため基台10aを高い反射率を有する前記樹脂組成物で被覆してその上に発光素子20が戴置されていてもよい。
<2.2. Base>
The base 10 a is a base for placing the light emitting element 20 on the package 10. The light emitting element 20 is usually placed on the base 10a via a die bond member.
The base 10a may be integrally formed by being inserted into the mold together with the lead when molding the resin molded body, and the base is inserted when integrally molding the resin molded body and the lead. The base 10a may be separately fitted into the cavity after molding so that the place to be formed is hollow.
As examples of the former base, the base 10a is formed of the same material as the lead as a part of the lead, the base of another material is supported by the lead, the through hole of the wiring board ( Examples thereof include those in which a base 10a is formed by embedding a heat conductive paste in a through-hole). Examples of the latter include a metal base that has been formed into pieces by precision casting.
After the base 10a is coupled and fixed to the support portion provided on the lead and then integrally formed by insert molding, the positional relationship between the lead and the base is compared with the case where each is individually inserted and insert molded. It can be kept stable. In addition, it is possible to prevent the base from being detached from the package as compared with the case where the base is inserted into the cavity later.
Furthermore, an increase in the separation distance between the lead and the base can be prevented while using the base support portion, and an increase in the size of the package can be prevented.
When the base 10a is a conductive member such as a metal and the light emitting element is a vertical conduction type, the lower part of the light emitting element and the base 10a are electrically connected using a die bond member having electrical conductivity. The base 10a may be wire-bonded with the first lead.
The base 10a is preferably exposed from the recess 14 of the resin molded body 13, but may be buried. Further, the base 10a only needs to be able to mount the light emitting element 20, and is preferably configured using a good electrical conductor such as iron, phosphor bronze, or copper alloy. However, the base 10a is made of an insulator such as high thermal conductive ceramic, silver, or high heat. A cured product of a heat conductive paste in which a powder of conductive ceramics or the like is dispersed in a resin base material can also be used.
Moreover, in order to improve the reflectance of the light from the light emitting element 20, metal plating, such as silver, aluminum, copper, and gold | metal | money, can also be given to the surface of the base 10a.
Moreover, in order to improve the reflectance of the surface of the base 10a, it is preferable to make it smooth. Moreover, in order to improve heat dissipation, the area of the base 10a can be enlarged. Thereby, the temperature rise of the light emitting element 20 can be effectively suppressed, and a relatively large amount of electricity can be passed through the light emitting element 20. Moreover, heat dissipation can be improved by making the base 10a thick.
Moreover, by making the base 10a thick, the deflection of the base 10a is reduced, and the light emitting element 20 can be easily mounted. On the contrary, the semiconductor light-emitting device 1 can be made thin by making the base 10a into a thin flat plate shape. The shape of the base 10a is not particularly limited, and may be a flat cylindrical shape, a substantially rectangular parallelepiped shape, a substantially cubic shape, or the like, and a recess may be formed on the surface on which the light emitting element is placed. Further, in order to prevent the base from being detached from the resin molded body, the surface on which the resin molded body and the base are fitted may have an uneven shape or a taper.
In addition, when the reflectance of the resin composition which comprises the resin molding 13 is higher than the base 10a, and it is not necessary for the lower surface of a light emitting element to contact | connect the base 10a directly with insulators, such as a sapphire substrate, reflection efficiency is improved. In order to give priority, the base 10a may be covered with the resin composition having a high reflectance, and the light emitting element 20 may be placed thereon.

<2.3.リード>
本発明の半導体発光装置は、通常、上述のように第1のリード及び第2のリードを有している。なお、第1のリード及び第2のリードは、熱伝導性、電気伝導性の観点からより面積が広い方が好ましい。
<2.3. Lead>
The semiconductor light emitting device of the present invention usually has a first lead and a second lead as described above. The first lead and the second lead preferably have a larger area from the viewpoint of thermal conductivity and electrical conductivity.

第1のリード11の第1のインナーリード部11aは、凹部14の底面14aの一部を形成しており、基台10aと(樹脂成形体の)連結部13aを介して所定の間隔離れている。第2のリード12の第2のインナーリード部12aは、凹部14の底面14aの一部を形成しており、基台10aと(樹脂成形体の)連結部13bを介して所定の間隔離れている。
これらのインナーリード部11a、12aの主面側及びアウターリード部11b,12bはそれぞれ樹脂成形体から露出しており、この部位からの電気的接続が可能となっている。
パッケージ10を他の配線基板上に表面実装する場合には、パッケージ10の裏面に当たる部分に基台10aや、各リード11,12を露出させることにより側面のみならず裏面側からも電気接続することができる。
また、放熱効率をより高くするために基台10a、インナーリード部11a,12aの裏面に当たる部分をパッケージ10から露出させることもできる。インナーリード部11a,12aの裏面露出部はアウターリード部11b,12bと同様に電気的接続が可能となる。
特に発光素子20由来の熱の放出を高める点で、発光素子20が載置される基台10aの底面がパッケージ10から露出されていることが好ましい。
The first inner lead portion 11a of the first lead 11 forms a part of the bottom surface 14a of the recess 14, and is separated from the base 10a by a connecting portion 13a (of a resin molded body) for a predetermined period. Yes. The second inner lead portion 12a of the second lead 12 forms a part of the bottom surface 14a of the recess 14 and is separated from the base 10a by a connecting portion 13b (of a resin molded body) for a predetermined period. Yes.
The main surface side of these inner lead parts 11a and 12a and the outer lead parts 11b and 12b are exposed from the resin molded body, respectively, and electrical connection from these parts is possible.
When the package 10 is surface-mounted on another wiring board, the base 10a and the leads 11 and 12 are exposed to the portion corresponding to the back surface of the package 10 to be electrically connected not only from the side surface but also from the back surface side. Can do.
In addition, in order to further increase the heat dissipation efficiency, portions corresponding to the back surfaces of the base 10a and the inner lead portions 11a and 12a can be exposed from the package 10. Similarly to the outer lead portions 11b and 12b, the back surface exposed portions of the inner lead portions 11a and 12a can be electrically connected.
In particular, it is preferable that the bottom surface of the base 10 a on which the light emitting element 20 is placed is exposed from the package 10 in order to increase the heat release from the light emitting element 20.

図1及び図2の実施形態において、第1のリード11は、第1のインナーリード部11aと第1のアウターリード部11bとを有する。第1のインナーリード部11aは、凹部14の底面14aから露出しており、発光素子20の第1の電極21とワイヤ40を介して電気的に接続されている。なお、第1のインナーリード部11aの露出部分は、発光素子20の第1の電極21と電気的に接続する面積を有していればよく、それ以外の部分をより反射率の高い樹脂にて被覆してもよい。
一方、上述のように第1のアウターリード部11bは、樹脂成形体13から露出している部分である。第1のアウターリード部11bは、外部電極と電気的に接続されるとともに熱伝達する作用も有する。
In the embodiment of FIGS. 1 and 2, the first lead 11 has a first inner lead portion 11a and a first outer lead portion 11b. The first inner lead portion 11 a is exposed from the bottom surface 14 a of the recess 14 and is electrically connected to the first electrode 21 of the light emitting element 20 via the wire 40. The exposed portion of the first inner lead portion 11a only needs to have an area that is electrically connected to the first electrode 21 of the light emitting element 20, and the other portion is made of a resin having higher reflectivity. May be coated.
On the other hand, as described above, the first outer lead portion 11 b is a portion exposed from the resin molded body 13. The first outer lead portion 11b is electrically connected to the external electrode and has a function of transferring heat.

第2のリード12は、第2のインナーリード部12aと第2のアウターリード部12bとを有する。第2のインナーリード部12aは、凹部14の底面14aから露出しており、発光素子20の第2の電極22とワイヤ40を介して電気的に接続されている。なお、第1のインナーリード部11aと同様に第2のインナーリード部12aの露出部分は、発光素子20の第2の電極22と電気的に接続する面積を有していればよく、それ以外の部分をより反射率の高い樹脂にて被覆してもよい。   The second lead 12 has a second inner lead portion 12a and a second outer lead portion 12b. The second inner lead portion 12 a is exposed from the bottom surface 14 a of the recess 14 and is electrically connected to the second electrode 22 of the light emitting element 20 via the wire 40. It should be noted that the exposed portion of the second inner lead portion 12a is required to have an area electrically connected to the second electrode 22 of the light emitting element 20 as in the case of the first inner lead portion 11a. These portions may be covered with a resin having higher reflectivity.

また、裏面側の第1のアウターリード部11bと第2のアウターリード部12bとは樹脂成形体13から露出しており、必要に応じ折り曲げ等の加工を行ってよいが、実装時に他の配線基板に接する部分は実質的に同一平面上にある。これにより半導体発光装置の実装安定性を向上することができる。
また、他の配線基板上に半田リフロー実装する際に、基台10aと第1のリードの裏面間、基台10aと第2のリードの裏面間が半田により短絡することを防止するため、それぞれ電気絶縁性の絶縁体50a,50bを薄くコーティングすることもできる。絶縁体50a,50bは樹脂などである。
Further, the first outer lead portion 11b and the second outer lead portion 12b on the back surface side are exposed from the resin molded body 13 and may be subjected to processing such as bending as necessary. The portion in contact with the substrate is substantially on the same plane. Thereby, the mounting stability of the semiconductor light emitting device can be improved.
Further, when solder reflow mounting is performed on another wiring board, in order to prevent short circuit between the base 10a and the back surface of the first lead and between the base 10a and the back surface of the second lead due to the solder, The electrically insulating insulators 50a and 50b can be thinly coated. The insulators 50a and 50b are resin or the like.

第1のリード11及び第2のリード12は、鉄、リン青銅、銅合金等の電気良導体を用いて構成することができる。また、発光素子20からの光の反射率を向上させるため、第1のリード11及び第2のリード12の表面に銀、アルミニウム、銅や金等の金属メッキを施すこともできる。また、第1のリード11及び第2のリード12の表面は、その反射率を向上させるため、平滑にすることが好ましい。また、放熱性を向上させるため第1のリード11及び第2のリード12の面積は大きくすることができる。これにより発光素子20の温度上昇を効果的に抑えることができ、発光素子20に比較的多くの電気を流すことができる。また、第1のリード11及び第2のリード12を肉厚にすることにより放熱性を向上することができる。   The 1st lead 11 and the 2nd lead 12 can be constituted using electric good conductors, such as iron, phosphor bronze, and a copper alloy. Further, in order to improve the reflectance of light from the light emitting element 20, the surface of the first lead 11 and the second lead 12 can be subjected to metal plating such as silver, aluminum, copper or gold. Further, the surfaces of the first lead 11 and the second lead 12 are preferably smoothed in order to improve the reflectance. Further, the area of the first lead 11 and the second lead 12 can be increased in order to improve heat dissipation. Thereby, the temperature rise of the light emitting element 20 can be effectively suppressed, and a relatively large amount of electricity can be passed through the light emitting element 20. Moreover, heat dissipation can be improved by making the first lead 11 and the second lead 12 thick.

なお、第1のリードの裏面側の露出部分と第2のリードの裏面側の露出部分は、実質的に同一平面上にあることが好ましい。これにより、半導体発光装置の実装時の安定性を向上することができる。また、露出部分が同一平面上にあることから、平板上の外部電極に半田を用いて半導体発光装置を載置して実装すればよく、半導体発光装置の実装性を向上させることができる。さらに、金型による成形がより容易となる。   It is preferable that the exposed portion on the back surface side of the first lead and the exposed portion on the back surface side of the second lead are substantially on the same plane. Thereby, the stability at the time of mounting of a semiconductor light-emitting device can be improved. In addition, since the exposed portion is on the same plane, the semiconductor light emitting device may be mounted and mounted on the external electrode on the flat plate using solder, and the mountability of the semiconductor light emitting device can be improved. Furthermore, molding with a mold becomes easier.

第1のリード11及び第2のリード12は、正負の電極となるので、それぞれ少なくとも1つずつあればよいが、複数設けることもできる。   Since the first lead 11 and the second lead 12 are positive and negative electrodes, at least one each is sufficient, but a plurality of them can be provided.

<2.4.(半導体発光装置用)樹脂成形体>
樹脂成形体13は、第1のリード11と第2のリード12と一体的に成形され、これと基台10aとでパッケージ10を構成する。図2のA−A線断面において、樹脂成形体13は、上部開口面において底面14aと比較して同等径又は広口に開口した連通口を有する。
樹脂成形体13は、液状射出成形(LIM)法により成形することができる。樹脂成形体13用の樹脂組成物としては、後述する熱硬化性シリコーン樹脂組成物が用いられる。
<2.4. Resin molded body (for semiconductor light emitting device)>
The resin molded body 13 is molded integrally with the first lead 11 and the second lead 12, and this and the base 10a constitute the package 10. In the cross section taken along the line AA in FIG. 2, the resin molded body 13 has a communication port having an opening having an equal diameter or a wide opening in the upper opening surface as compared with the bottom surface 14 a.
The resin molding 13 can be molded by a liquid injection molding (LIM) method. As the resin composition for the resin molded body 13, a thermosetting silicone resin composition described later is used.

また、本発明に用いる樹脂成形体は、熱伝導率が0.4W/(m・K)以上3.0W/(m・K)以下であることが好ましく、0.6W/(m・K)以上2.0W/(m・K)以下であることがより好ましい。熱伝導率は、例えばアイフェイズ・モバイル(アイフェイズ社製)を用いて測定することができる。
なお、この評価のため樹脂組成物から成形体を作製する場合の硬化条件は180℃×4分間とする。
The resin molded body used in the present invention preferably has a thermal conductivity of 0.4 W / (m · K) or more and 3.0 W / (m · K) or less, 0.6 W / (m · K). More preferably, it is 2.0 W / (m · K) or less. The thermal conductivity can be measured using, for example, Eye Phase Mobile (manufactured by Eye Phase).
For this evaluation, the curing condition for producing a molded body from the resin composition is 180 ° C. × 4 minutes.

熱硬化性シリコーン樹脂組成物について以下に詳述する。   The thermosetting silicone resin composition will be described in detail below.

<3.熱硬化性シリコーン樹脂組成物>
<3.1.熱硬化性シリコーン樹脂組成物の特性>
<3.1.1.熱硬化性シリコーン樹脂組成物の組成>
樹脂成形体13の材質である熱硬化性シリコーン樹脂組成物は、(A)ポリオルガノシロキサン、(B)一次粒子のアスペクト比が1.2以上4.0以下、一次粒子径が0.1μm以上2.0μm以下の白色顔料、および(C)硬化触媒を含有してなる。
上記(A)乃至(C)成分の、本発明に用いる半導体発光装置用樹脂成形体用の熱硬化性シリコーン樹脂組成物の好ましい組成は以下のとおりである。
本発明に用いる熱硬化性シリコーン樹脂組成物中における(A)ポリオルガノシロキサンの含有量は、通常樹脂成形体用材料として用いることができる範囲であれば限定されないが、通常材料全体の15重量%以上、50重量%以下であり、好ましくは20重量%以上、40重量%以下であり、より好ましくは25重量%以上、35重量%以下である。
また、上記組成物中の(B)白色顔料の含有量は、通常樹脂成形体用材料として用いることができる範囲であれば限定されないが、例えば組成物全体の30重量%以上、85重量%以下であり、好ましくは40重量%以上80重量%以下であり、より好ましくは45重量%以上、70重量%以下である。
<3. Thermosetting silicone resin composition>
<3.1. Characteristics of thermosetting silicone resin composition>
<3.1.1. Composition of thermosetting silicone resin composition>
The thermosetting silicone resin composition that is the material of the resin molded body 13 is (A) polyorganosiloxane, (B) the primary particles have an aspect ratio of 1.2 or more and 4.0 or less, and the primary particle diameter is 0.1 μm or more. It contains a white pigment of 2.0 μm or less and (C) a curing catalyst.
The preferable composition of the thermosetting silicone resin composition for the resin molded body for a semiconductor light-emitting device used in the present invention for the components (A) to (C) is as follows.
The content of (A) polyorganosiloxane in the thermosetting silicone resin composition used in the present invention is not limited as long as it can be normally used as a material for a resin molded article, but is usually 15% by weight of the whole material. The content is 50% by weight or less, preferably 20% by weight or more and 40% by weight or less, more preferably 25% by weight or more and 35% by weight or less.
Further, the content of the white pigment (B) in the composition is not limited as long as it can be used as a material for a resin molded body, but for example, 30% by weight or more and 85% by weight or less of the entire composition. It is preferably 40% by weight or more and 80% by weight or less, more preferably 45% by weight or more and 70% by weight or less.

<3.1.2.熱硬化性シリコーン樹脂組成物の粘度>
本発明に用いる熱硬化性シリコーン樹脂組成物は、25℃における剪断速度100s-1での粘度が10Pa・s以上10,000Pa・s以下であることが好ましい。上記粘度は、半導体装置用樹脂成形体を成形する際の成形効率の観点から、150Pa・s以上1,000Pa・s以下であることがより好ましい。
<3.1.2. Viscosity of thermosetting silicone resin composition>
The thermosetting silicone resin composition used in the present invention preferably has a viscosity of 10 Pa · s to 10,000 Pa · s at a shear rate of 100 s −1 at 25 ° C. The viscosity is more preferably 150 Pa · s or more and 1,000 Pa · s or less from the viewpoint of molding efficiency when molding a resin molded body for a semiconductor device.

加えて、チキソトロピー性の観点から、本発明に用いる熱硬化性シリコーン樹脂組成物は25℃での剪断速度100s-1での粘度に対する25℃での剪断速度1s-1での粘度の比(1s-1/100s-1)が15以上であることが好ましく、30以上であることが特に好ましい。一方、上限は、300以下であることがより好ましい。 In addition, from the viewpoint of thixotropy, the thermosetting silicone resin composition used in the present invention has a viscosity ratio (1 s at a shear rate of 1 s −1 at 25 ° C. to a viscosity at a shear rate of 100 s −1 at 25 ° C. preferably -1 / 100s -1) it is 15 or more, and particularly preferably 30 or more. On the other hand, the upper limit is more preferably 300 or less.

成形性のよい材料とするためには、材料に一定以上のチキソトロピー性を持たせることが必要であるが、上記のような条件を満たすことにより、バリやショートモールド(未充填)の発生が少なく、成形時の材料の計量時間や成形サイクルを短縮でき、成形も安定しやすく、成形効率の高い材料となる。   In order to make a material with good moldability, it is necessary to provide the material with a certain level of thixotropy. However, by satisfying the above conditions, there are few burrs and short molds (unfilled). The material measurement time and molding cycle during molding can be shortened, the molding is easy to stabilize, and the material has high molding efficiency.

特に液状樹脂材料を用いたLIM成形では、金型の微小隙間から材料が染み出すことに起因するバリが発生しやすく、通常、バリを除去する後処理工程が必要であり、一方、バリの発生を抑えるために金型の隙間を小さくするとショートモールド(未充填)が発生しやすくなる等の問題があるが、前記液状熱硬化性シリコーン樹脂組成物の粘度が上記範囲にある場合、このような問題を解決することができ、樹脂成形体のLIM成形を容易に、効率よく行うことができる。
剪断速度100s-1での粘度が10,000Pa・sより大きいと、樹脂の流れが悪いため金型への充填が不十分となったり、射出成形を行う際に前記液状樹脂組成物供給に時間がかかるため成形サイクルが長くなったりするなどして、成形効率が低下する傾向にある。
また、上記粘度が10Pa・sより小さいと、金型の隙間から前記液状樹脂組成物が漏れてバリが発生したり、金型の隙間に射出圧力が逃げやすくなるため成形が安定しにくくなったりして、やはり成形効率が低下する傾向にある。特に成形体が小さい場合にはバリを除去するための後処理も困難になるため、バリの発生を抑えることは成形性には重要である。
In particular, in LIM molding using a liquid resin material, burrs are likely to occur due to the material seeping out from the minute gaps of the mold, and usually a post-processing step for removing the burrs is required, while burrs are generated. If the gap between the molds is made small in order to suppress the problem, short mold (unfilled) is likely to occur. However, when the viscosity of the liquid thermosetting silicone resin composition is in the above range, The problem can be solved, and LIM molding of the resin molded body can be easily and efficiently performed.
If the viscosity at a shear rate of 100 s -1 is greater than 10,000 Pa · s, the resin flow is poor, so that filling of the mold becomes insufficient, or it takes time to supply the liquid resin composition when performing injection molding. Therefore, the molding efficiency tends to decrease, for example, the molding cycle becomes longer.
Further, if the viscosity is less than 10 Pa · s, the liquid resin composition leaks from the gap between the molds to generate burrs, or the injection pressure easily escapes into the gap between the molds, so that molding becomes difficult to stabilize. As a result, the molding efficiency tends to decrease. In particular, when the molded body is small, post-processing for removing burrs becomes difficult, so it is important for moldability to suppress the generation of burrs.

また、25℃における剪断速度100s-1での粘度に対する25℃における剪断速度1s-1での粘度の比が15未満の場合、つまり剪断速度1s-1での粘度が比較的小さい場合は、成形機や金型の隙間にも材料が入り込みやすくなり、バリが発生しやすくなったり、ノズル部で液ダレしやすくなったり、射出圧力が材料に伝わりにくく成形が安定しにくくなったりするなど、成形のコントロールが難しくなることがある。LIM成形ではスプルー部のパーティングラインの樹脂漏れが問題になりやすいが、上記の粘度範囲に調整することは樹脂漏れ抑制にも効果がある。
これらの25℃における剪断速度100s-1での粘度と剪断速度1s-1での粘度は、例えばARES−G2−歪制御型レオメータ(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社製)を用いて測定することができる。
When the ratio of the viscosity at a shear rate of 1 s −1 at 25 ° C. to the viscosity at a shear rate of 100 s −1 at 25 ° C. is less than 15, that is, when the viscosity at the shear rate of 1 s −1 is relatively small, molding is performed. Molding is easy because the material can easily enter the gaps between the machine and the mold, causing burrs, dripping easily at the nozzle part, and the injection pressure is not easily transmitted to the material, making molding difficult to stabilize. Can be difficult to control. In LIM molding, resin leakage in the parting line of the sprue part tends to be a problem, but adjusting to the above viscosity range is also effective in suppressing resin leakage.
The viscosity at a shear rate of 100 s −1 and the viscosity at a shear rate of 1 s −1 at 25 ° C. are measured using, for example, an ARES-G2-strain-controlled rheometer (manufactured by TA Instruments Japan Co., Ltd.). Can be measured.

<3.2.熱硬化性シリコーン樹脂組成物の構成成分>
<(A)ポリオルガノシロキサン>
本発明におけるポリオルガノシロキサンとは、ケイ素原子が酸素を介して他のケイ素原子と結合した部分を持つ構造に有機基が付加している高分子物質を指す。ここでポリオルガノシロキサンは、常温常圧下において液体であることが好ましい。これは、半導体発光装置用樹脂成形体を成形する際に、材料の扱いが容易となるからである。また、常温常圧下において固体のポリオルガノシロキサンは、一般的に硬化物としての硬度は比較的高いが、破壊に要するエネルギーが小さく靭性が低いものや、耐光性、耐熱性が不十分で光や熱により変色しやすいものが多い傾向にあるからである。
<3.2. Components of Thermosetting Silicone Resin Composition>
<(A) Polyorganosiloxane>
The polyorganosiloxane in the present invention refers to a polymer substance in which an organic group is added to a structure having a portion in which a silicon atom is bonded to another silicon atom through oxygen. Here, the polyorganosiloxane is preferably a liquid at normal temperature and pressure. This is because the material becomes easy to handle when molding the resin molded body for a semiconductor light emitting device. Polyorganosiloxane that is solid under normal temperature and normal pressure generally has a relatively high hardness as a cured product, but has low energy required for destruction and low toughness, light resistance and heat resistance are insufficient, This is because many products tend to discolor due to heat.

上記ポリオルガノシロキサンは、通常、シロキサン結合を主鎖とする有機重合体をいい、例えば以下に示す一般組成式(1)で表される化合物や、その混合物が挙げられる。
(R123SiO1/2M(R45SiO2/2D(R6SiO3/2T(SiO4/2Q ・・・(1)
ここで、上記式(1)において、R1からR6は独立して、有機官能基、水酸基、水素原子から選択される。またM、D、TおよびQは0以上1未満であり、M+D+T+Q=1を満足する数である。
主なポリオルガノシロキサンを構成する単位は、1官能型[R3SiO0.5](トリオルガノシルヘミオキサン)、2官能型[R2SiO](ジオルガノシロキサン)、3官能型[RSiO1.5](オルガノシルセスキオキサン)、4官能型[SiO2](シリケート)であり、これら4種の単位の構成比率を変えることにより、ポリオルガノシロキサンの性状の違いが出てくるので、所望の特性が得られるように適宜選択し、ポリオルガノシロキサンの合成を行う。
上記構成単位が1〜3官能型のポリオルガノシロキサンは、オルガノクロロシラン(一般式RnSiCl4-n(n=1〜3))と呼ばれる一連の有機ケイ素化合物をもとにして合成することができる。例えば、メチルクロロシランは塩化メチルとケイ素SiとをCu触媒下高温で直接反応させて合成することができ、また、ビニル基などの有機基を持つシラン類は、一般の有機合成化学の手法によって合成することができる。
単離されたオルガノクロロシランを、単独で、あるいは任意の割合で混合し、水により加水分解を行うとシラノールが生成し、このシラノールが脱水縮合するとシリコーンの基本骨格であるポリオルガノシロキサンが合成される。
The polyorganosiloxane usually refers to an organic polymer having a siloxane bond as the main chain, and examples thereof include compounds represented by the following general composition formula (1) and mixtures thereof.
(R 1 R 2 R 3 SiO 1/2 ) M (R 4 R 5 SiO 2/2 ) D (R 6 SiO 3/2 ) T (SiO 4/2 ) Q (1)
Here, in the above formula (1), R 1 to R 6 are independently selected from an organic functional group, a hydroxyl group, and a hydrogen atom. M, D, T, and Q are 0 or more and less than 1, and M + D + T + Q = 1.
The unit constituting the main polyorganosiloxane is monofunctional [R 3 SiO 0.5 ] (triorganosyl hemioxane), bifunctional [R 2 SiO] (diorganosiloxane), trifunctional [RSiO 1.5 ] (Organosilsesquioxane), tetrafunctional [SiO 2 ] (silicate), and by changing the composition ratio of these four types of units, the difference in the properties of polyorganosiloxane appears, so the desired properties Is selected as appropriate so that polyorganosiloxane is synthesized.
The polyorganosiloxane of the structural units 1 to 3 functional type, be synthesized based on a series of organic silicon compounds called organochlorosilanes (general formula R n SiCl 4-n (n = 1~3)) it can. For example, methylchlorosilane can be synthesized by directly reacting methyl chloride and silicon Si at a high temperature under a Cu catalyst, and silanes having an organic group such as a vinyl group can be synthesized by a general synthetic organic chemistry method. can do.
Silanol is produced when the isolated organochlorosilane is mixed alone or in an arbitrary ratio and hydrolyzed with water. When this silanol is dehydrated and condensed, polyorganosiloxane, which is the basic skeleton of silicone, is synthesized. .

ポリオルガノシロキサンは、硬化触媒の存在下で、熱エネルギーや光エネルギー等を与えることにより硬化させる事ができる。ここで硬化とは、流動性を示す状態から、流動性を示さない状態に変化することをいい、例えば、対象物を水平より45度傾けた状態で30分間静置しても流動性がある状態を未硬化状態といい、全く流動性がない状態を硬化状態として判断することができる。また、フィラー充填量が多い等の理由で、対象物が流動性を示さない場合には、該対象物が塑性変形せず、硬度をデュロメータタイプAにて測定でき、硬度測定値が少なくとも5以上であるか否かで未硬化状態、硬化状態を判断することもできる。
ポリオルガノシロキサンは、硬化のメカニズムにより分類すると、通常、付加重合硬化タイプ、縮重合硬化タイプ、紫外線硬化タイプ、パーオキサイド架硫タイプなどのポリオルガノシロキサンを挙げることができる。これらの中では、付加重合硬化タイプ(付加型ポリオルガノシロキサン)、および縮合硬化タイプ(縮合型ポリオルガノシロキサン)が好適である。中でも、副生物が無く、また、反応が非可逆性のヒドロシリル化(付加重合)によって硬化するポリオルガノシロキサンのタイプがより好適である。これは、成形加工時に副生成物が発生すると、成形容器内の圧を上昇させたり、硬化材料中に泡として残存したりする傾向にあるからである。
Polyorganosiloxane can be cured by applying heat energy, light energy, or the like in the presence of a curing catalyst. Here, curing refers to changing from a state showing fluidity to a state showing no fluidity. For example, even if the object is left at an angle of 45 degrees from the horizontal for 30 minutes, it is fluid. The state is referred to as an uncured state, and a state having no fluidity can be determined as a cured state. Further, when the object does not exhibit fluidity due to a large filler filling amount, the object is not plastically deformed, and the hardness can be measured with a durometer type A, and the measured hardness value is at least 5 or more. Whether it is uncured or cured can also be determined.
When the polyorganosiloxane is classified according to the curing mechanism, polyorganosiloxanes such as an addition polymerization curing type, a condensation polymerization curing type, an ultraviolet curing type, and a peroxide crosslinking type can be generally exemplified. Among these, addition polymerization curing type (addition type polyorganosiloxane) and condensation curing type (condensation type polyorganosiloxane) are preferable. Among these, a polyorganosiloxane type that has no by-products and cures by irreversible hydrosilylation (addition polymerization) is more preferable. This is because when a by-product is generated during the molding process, the pressure in the molded container tends to increase or it remains as foam in the cured material.

付加型ポリオルガノシロキサンは、ポリオルガノシロキサン鎖が、有機付加結合により架橋されたものをいう。代表的なものとしては、例えばビニルシラン等のアルケニル基を有するケイ素含有化合物と、例えばヒドロシラン等のヒドロシリル基を含有するケイ素化合物とを総アルケニル基量に対する総ヒドロシリル基量のモル比が0.5倍以上、2.0倍以下となる量比で混合し、Pt触媒などの付加縮合触媒の存在下反応させて得られるSi−C−C−Si結合を架橋点に有する化合物等を挙げることができる。   Addition type polyorganosiloxane refers to a polyorganosiloxane chain crosslinked by an organic addition bond. As a typical example, the molar ratio of the total hydrosilyl group amount to the total alkenyl group amount of a silicon-containing compound having an alkenyl group such as vinylsilane and a silicon compound containing a hydrosilyl group such as hydrosilane is 0.5 times. Examples thereof include compounds having Si—C—C—Si bonds at the cross-linking points obtained by mixing in an amount ratio of 2.0 times or less and reacting in the presence of an addition condensation catalyst such as a Pt catalyst. .

縮合型ポリオルガノシロキサンとしては、例えば、アルキルアルコキシシランの加水分解・重縮合で得られるSi−O−Si結合を架橋点に有する化合物を挙げることができる。   Examples of the condensed polyorganosiloxane include a compound having a Si—O—Si bond obtained by hydrolysis and polycondensation of an alkylalkoxysilane at a crosslinking point.

<(B)白色顔料>
本発明において用いる(B)白色顔料は、一次粒子のアスペクト比が1.2以上4.0以下、一次粒子径が0.1μm以上2.0μm以下である、樹脂の硬化を阻害しない公知の白色顔料を適宜選択する事ができる。白色顔料としては無機および/または有機の材料を用いる事ができる。ここで白色とは、無色であり透明ではない事をいう。すなわち可視光領域に特異な吸収波長を持たない物質により入射光を乱反射させる事ができる色をいう。
<(B) White pigment>
The white pigment (B) used in the present invention is a known white color having an aspect ratio of primary particles of 1.2 to 4.0 and a primary particle diameter of 0.1 μm to 2.0 μm that does not hinder the curing of the resin. A pigment can be appropriately selected. As the white pigment, inorganic and / or organic materials can be used. Here, white means colorless and not transparent. That is, it means a color that can diffusely reflect incident light by a substance that does not have a specific absorption wavelength in the visible light region.

白色顔料として用いることができる無機粒子としては、アルミナ(以下、「酸化アルミニウム」と称する場合がある。)、酸化ケイ素、酸化チタン(チタニア)、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム等の金属酸化物;炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム等の金属塩;窒化ホウ素、アルミナホワイト、コロイダルシリカ、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸ジルコニウム、ホウ酸アルミニウム、クレー、タルク、カオリン、雲母、合成雲母などが挙げられる。
また、白色顔料として用いることができる有機微粒子としては、フッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等の樹脂粒子などを挙げることができるが、いずれもこれらに限定されるものではない。
中でも白色度が高く少量でも光反射効果が高く変質しにくい点からは、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなどが特に好ましい。また、材料硬化時の熱伝導率向上の点からは、アルミナ、窒化ホウ素などが特に好ましい。また、近紫外線の光反射効果が高く、近紫外線による変質が小さい観点からも、アルミナが特に好ましい。
これらは、単独もしくは2種以上混合して用いる事ができる。
酸化チタンは、光触媒性、分散性、白色性等の問題が出ない程度に含有する事ができる。
Examples of inorganic particles that can be used as the white pigment include metal oxides such as alumina (hereinafter sometimes referred to as “aluminum oxide”), silicon oxide, titanium oxide (titania), zinc oxide, magnesium oxide, and zirconium oxide. Metal salts such as calcium carbonate, barium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate; boron nitride, alumina white, colloidal silica, aluminum silicate, zirconium silicate, aluminum borate, clay, talc, kaolin, mica, synthetic mica, etc. Can be mentioned.
Examples of the organic fine particles that can be used as the white pigment include resin particles such as fluororesin particles, guanamine resin particles, melamine resin particles, acrylic resin particles, and silicone resin particles. Is not to be done.
Of these, alumina, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and the like are particularly preferable from the viewpoint that the whiteness is high and the light reflection effect is high even with a small amount, and it is difficult to change quality. Also, alumina, boron nitride, and the like are particularly preferable from the viewpoint of improving the thermal conductivity when the material is cured. Alumina is particularly preferable from the viewpoint of high near-ultraviolet light reflection effect and small alteration due to near-ultraviolet light.
These can be used alone or in admixture of two or more.
Titanium oxide can be contained to such an extent that problems such as photocatalytic properties, dispersibility, and whiteness do not occur.

(A)ポリオルガノシロキサンの屈折率と(B)白色顔料の屈折率差が大きいほど、少量の白色顔料を添加しただけでも白色度がより高く、反射・散乱効率のよい半導体発光装置用樹脂成形体を得ることができる。(A)ポリオルガノシロキサンは屈折率が1.41程度のものが好ましく、屈折率が1.76のアルミナ粒子を(B)白色顔料として好適に用いることができる。   As the refractive index difference between (A) the polyorganosiloxane and (B) the white pigment is larger, the whiteness is higher just by adding a small amount of white pigment, and the resin molding for semiconductor light-emitting devices has better reflection and scattering efficiency. You can get a body. The polyorganosiloxane (A) preferably has a refractive index of about 1.41, and alumina particles having a refractive index of 1.76 can be suitably used as the (B) white pigment.

また、アルミナは、紫外線の吸収能が低いことから、特に、紫外〜近紫外発光の発光素子と共に用いる場合に好適に用いることができる。本発明において用いるアルミナとしてはその結晶形態は問わないが、化学的に安定、融点が高い、機械的強度が大きい、硬度が高い、電気絶縁抵抗が大きい等の特性を持つα−アルミナが好適に使用できる。   Alumina has a low ability to absorb ultraviolet rays, and therefore can be suitably used particularly when used with a light emitting element emitting ultraviolet to near ultraviolet light. The alumina used in the present invention is not limited in crystal form, but α-alumina having characteristics such as chemically stable, high melting point, high mechanical strength, high hardness, and high electric insulation resistance is preferable. Can be used.

また、本発明において(B)白色顔料としてアルミナを用いる場合、アルミナ結晶の結晶子サイズが500Å以上2,000Å以下であることが好ましく、700Å以上1,500Å以下であることがより好ましく、900Å以上1,300Å以下であることが特に好ましい。結晶子とは、単結晶とみなせる最大の集まりをいう。
アルミナ結晶の結晶子サイズが上記範囲であると、成形時の配管、スクリュー、金型などの磨耗が少なく、磨耗による不純物が混入しにくい点で、好ましい。
上記結晶子サイズは、X線回折測定により確認することができる。
In the present invention, when alumina is used as the white pigment (B), the crystallite size of the alumina crystal is preferably 500 to 2,000, more preferably 700 to 1,500, and more preferably 900 to It is particularly preferable that it is 1,300 mm or less. A crystallite is the largest group that can be regarded as a single crystal.
When the crystallite size of the alumina crystal is in the above range, it is preferable in that the pipes, screws, molds and the like at the time of molding are less worn and impurities due to wear are less likely to be mixed.
The crystallite size can be confirmed by X-ray diffraction measurement.

本発明の樹脂成形体用材料の硬化時の熱伝導率は、成形効率の点からも高い方が好ましいが、熱伝導率を高くするためには、純度が98%以上のアルミナを用いることが好ましく、純度99%以上のアルミナを用いることがより好ましく、特に低ソーダアルミナを用いることが好ましい。また、熱伝導率を高くするためには、窒化ホウ素を用いることも好ましく、純度が99%以上の窒化ホウ素を用いることが特に好ましい。   The heat conductivity at the time of curing of the resin molded material of the present invention is preferably higher from the viewpoint of molding efficiency, but in order to increase the heat conductivity, it is necessary to use alumina having a purity of 98% or more. It is preferable to use alumina having a purity of 99% or more, and it is particularly preferable to use low soda alumina. In order to increase the thermal conductivity, it is also preferable to use boron nitride, and it is particularly preferable to use boron nitride having a purity of 99% or more.

また、特に、発光ピーク波長が420nm以上の発光素子を使用する半導体発光装置では、白色顔料として酸化チタンも好適に使用することができる。酸化チタン(チタニア)は紫外線吸収能を持つが、屈折率が大きく光散乱性が強いため、420nm以上の波長の光の反射率が高く、少ない添加量でも高反射を発現しやすい。本発明の白色顔料としてチタニアを用いる場合は、紫外線吸収能や光触媒能が大きく高温で不安定なアナターゼ型よりも、高温で安定であり、屈折率が高く、比較的耐光性が高いルチル型が好ましく、光触媒活性を抑える目的で表面にシリカやアルミナの薄膜コートが施されたルチル型が特に好ましい。
酸化チタンは屈折率が高く、ポリオルガノシロキサンとの屈折率差が大きいため少ない添加量でも高反射となりやすいことから、アルミナと酸化チタンを50:50〜95:5(重量比)のような割合で併用してもよい。
In particular, in a semiconductor light emitting device using a light emitting element having an emission peak wavelength of 420 nm or more, titanium oxide can also be suitably used as a white pigment. Titanium oxide (titania) has an ultraviolet absorbing ability, but has a high refractive index and a strong light scattering property. Therefore, the reflectance of light having a wavelength of 420 nm or more is high, and high reflection is easily exhibited even with a small addition amount. When titania is used as the white pigment of the present invention, a rutile type that is stable at high temperature, has a high refractive index, and has a relatively high light resistance is more stable than an anatase type that has a large ultraviolet absorbing ability and photocatalytic ability and is unstable at high temperature. A rutile type in which a surface is coated with a thin film of silica or alumina for the purpose of suppressing photocatalytic activity is particularly preferable.
Titanium oxide has a high refractive index and a large difference in refractive index from polyorganosiloxane, so that even a small amount of addition tends to be highly reflective, so the ratio of alumina and titanium oxide is 50:50 to 95: 5 (weight ratio). You may use together.

本発明に用いる(B)白色顔料の一次粒子のアスペクト比は1.2以上4.0以下であることを特徴としている。
アスペクト比は、粒子等の形状を定量的に表現する簡便な方法として一般に用いられており、本発明ではSEMなどの電子顕微鏡観察により計測した粒子の長軸長さ(最大長径)を短軸長さ(長径に垂直方向で最も長い部分の長さ)で除して求めるものとする。軸長さにばらつきがある場合は、複数点(例えば10点)をSEMで計測し、その平均値から算出することができる。あるいは、30点、100点を計測しても同様の算出結果を得ることができる。
好ましいアスペクト比は、1.25以上であり、より好ましくは1.3以上、特に好ましくは1.4以上である。一方、上限は、3.0以下が好ましく、2.5以下がより好ましく、2.2以下が更に好ましく、2.0以下が特に好ましく、1.8以下であることが最も好ましい。
アスペクト比が上記範囲であると、散乱により高反射率を発現しやすく、特に近紫外領域の短波長の光の反射が大きい。これにより、この樹脂成形体を用いた半導体発光装置において、LED出力を向上させることができる。
また、アスペクト比が上記範囲の白色顔料を使用することは、金型の磨耗が少ないなど、成形上も好ましい。アスペクト比が上記範囲を超えて大きい場合、顔料粒子との接触により金型の磨耗が激しくなることがあり、逆に、アスペクト比が小さい白色顔料を使用する場合も材料中の顔料の充填密度を高くできるため金型と顔料との接触頻度が上がり、金型が磨耗しやすくなる。さらに、アスペクト比が上記範囲の白色顔料を使用すると、材料粘度の調整が容易で、成形に適した粘度に調整できるので、成形サイクルの短縮や、バリの防止が可能となる等、成形性に優れた材料となる。
The aspect ratio of the primary particles of the (B) white pigment used in the present invention is 1.2 or more and 4.0 or less.
The aspect ratio is generally used as a simple method for quantitatively expressing the shape of a particle. In the present invention, the major axis length (maximum major axis) of a particle measured by observation with an electron microscope such as SEM is the minor axis length. It is obtained by dividing by the length (the length of the longest part perpendicular to the major axis). When the axial length varies, a plurality of points (for example, 10 points) can be measured with an SEM and calculated from the average value. Alternatively, the same calculation result can be obtained by measuring 30 points and 100 points.
A preferred aspect ratio is 1.25 or more, more preferably 1.3 or more, and particularly preferably 1.4 or more. On the other hand, the upper limit is preferably 3.0 or less, more preferably 2.5 or less, still more preferably 2.2 or less, particularly preferably 2.0 or less, and most preferably 1.8 or less.
When the aspect ratio is in the above range, high reflectance is likely to be exhibited by scattering, and the reflection of light having a short wavelength in the near ultraviolet region is particularly large. Thereby, in the semiconductor light-emitting device using this resin molding, LED output can be improved.
In addition, the use of a white pigment having an aspect ratio in the above range is preferable in terms of molding because, for example, the mold is less worn. When the aspect ratio is larger than the above range, the mold may be worn by contact with the pigment particles. Conversely, when using a white pigment with a small aspect ratio, the packing density of the pigment in the material may be reduced. Since the height can be increased, the frequency of contact between the mold and the pigment increases, and the mold tends to wear. Furthermore, when white pigments with an aspect ratio in the above range are used, the material viscosity can be easily adjusted and adjusted to a viscosity suitable for molding, so that the molding cycle can be shortened and burrs can be prevented. An excellent material.

アスペクト比が上記範囲であることで、白色顔料が金型の隙間に充填され、バリが発生しにくいが、アスペクト比が1.2未満のように球状に近くなると金型の隙間を通り抜けてバリが発生しやすくなる。
本発明では、アスペクト比が上記範囲に含まれる粒子が(B)白色顔料全体の60体積%以上、より好ましくは70体積%以上、特に好ましくは80体積%以上を占めることが好ましく、必ずしも全ての(B)白色顔料が上記アスペクト比の範囲を満たさなければいけないわけではないことは当業者が当然に理解できる事項である。
When the aspect ratio is in the above range, the white pigment is filled in the gaps of the mold and burrs are less likely to occur, but when the aspect ratio is nearly spherical, such as less than 1.2, the burrs pass through the gaps of the mold. Is likely to occur.
In the present invention, the particles whose aspect ratio falls within the above range preferably occupies 60% by volume or more, more preferably 70% by volume or more, and particularly preferably 80% by volume or more of the entire white pigment (B). (B) It is a matter of course for those skilled in the art that the white pigment does not have to satisfy the above aspect ratio range.

アスペクト比を上記範囲とするためには、白色顔料の表面処理をしたり、研磨したりする等の一般的な方法を採ればよい。また、白色顔料を破砕(粉砕)して微細化することや、篩粉等により分級することによっても調整できる。   In order to set the aspect ratio within the above range, a general method such as surface treatment or polishing of the white pigment may be employed. It can also be adjusted by crushing (pulverizing) the white pigment to make it fine, or by classifying it with sieve powder or the like.

本発明に用いる(B)白色顔料は、形状が破砕形状であることが好ましく、破砕後の処理により結晶の角が少ない丸みを帯びた形状となったもの、焼成などによって生成した球状でない顔料の形状も含まれる。   The white pigment (B) used in the present invention is preferably a crushed shape, a rounded shape with few crystal corners by treatment after crushing, or a non-spherical pigment produced by firing or the like. Shape is also included.

また、本発明においては、(B)白色顔料の一次粒子径が、0.1μm以上2μm以下であるものを使用する。下限値については好ましくは0.15μm以上、より好ましくは0.2μm以上、特に好ましくは0.25μm以上であり、上限値については好ましくは1μm以下、更に好ましくは0.8μm以下、特に好ましくは0.5μm以下である。
一次粒子径が上記範囲である場合には、後方散乱傾向と散乱光強度を兼ね備えることで材料が高反射率を発現しやすく、特に近紫外領域等の短波長の光に対する反射が大きくなり、好ましい。
白色顔料は、一次粒子径が小さすぎると散乱光強度が小さいため反射率は低くなる傾向にあり、一次粒子径が大きすぎると散乱光強度は大きくなるが、前方散乱傾向になるため反射率は小さくなる傾向にある。
また、一次粒子径が上記範囲である場合には、成形に適した粘度への調整が容易である上、金型の磨耗が少ないなど、成形性の観点からも好ましい。一次粒子径が上記範囲よりも大きい場合、顔料粒子との接触による金型への衝撃が大きく金型の磨耗が激しくなる傾向があり、一次粒子径が上記範囲よりも小さい白色顔料を使用する場合には、材料が高粘度になりやすく、白色顔料の充填量を上げられないため、高反射等の材料特性と成形性との両立が難しくなる傾向にある。
特に、液状射出成形に好適に使用できる材料とするためには材料にある程度以上のチキソトロピー性を持たせることが必要である。一次粒子径が0.1μm以上2.0μm以下の白色顔料を組成物中に添加するとチキソトロピー性付与効果が大きく、バリやショートが少なく成形しやすい組成物とするために、粘度とチキソトロピー性を容易に調整することができる。
なお、樹脂組成物中の白色顔料の充填率を上げる等の目的で、一次粒子径が2μmよりも大きい白色顔料を併用することもできる。
In the present invention, (B) a primary pigment having a primary particle diameter of 0.1 μm or more and 2 μm or less is used. The lower limit is preferably 0.15 μm or more, more preferably 0.2 μm or more, particularly preferably 0.25 μm or more, and the upper limit is preferably 1 μm or less, more preferably 0.8 μm or less, particularly preferably 0. .5 μm or less.
When the primary particle size is in the above range, the material is easy to express high reflectivity by combining the backscattering tendency and the scattered light intensity, and the reflection with respect to light having a short wavelength particularly in the near ultraviolet region is increased, which is preferable. .
If the primary particle diameter is too small, the white pigment tends to have low reflectance because the scattered light intensity is low.If the primary particle diameter is too large, the scattered light intensity tends to increase, but the reflectance tends to be forward scattering. It tends to be smaller.
Further, when the primary particle diameter is in the above range, it is preferable from the viewpoint of moldability, such as easy adjustment to a viscosity suitable for molding and less wear of the mold. When the primary particle diameter is larger than the above range, the impact on the mold due to contact with the pigment particles tends to be large and the wear of the mold tends to be severe, and when using a white pigment whose primary particle diameter is smaller than the above range However, since the material tends to be highly viscous and the filling amount of the white pigment cannot be increased, it tends to be difficult to achieve compatibility between material properties such as high reflection and moldability.
In particular, in order to obtain a material that can be suitably used for liquid injection molding, it is necessary that the material has a thixotropic property of a certain level or more. Adding a white pigment with a primary particle size of 0.1 μm or more and 2.0 μm or less to the composition has a large thixotropy-imparting effect and makes it easy to mold with few burrs and shorts, so viscosity and thixotropy are easy. Can be adjusted.
A white pigment having a primary particle diameter larger than 2 μm can be used in combination for the purpose of increasing the filling rate of the white pigment in the resin composition.

本発明にいう一次粒子とは粉体を構成している粒子のうち、他と明確に区別できる最小単位をいい、一次粒子径はSEMなどの電子顕微鏡観察により計測することができる。一方、一次粒子が凝集してできる凝集粒子を二次粒子といい、二次粒子の中心粒径は粉体を適当な分散媒(例えばアルミナの場合は水)に分散させて粒度分析計等で測定することができる。一次粒子径にばらつきがある場合は、数点(例えば10点)をSEM観察し、その平均値を粒子径とすればよい。また、測定の際、個々の粒子が球状でない場合はもっとも長い、すなわち長軸の長さを粒子径とする。   The primary particle in the present invention refers to the smallest unit that can be clearly distinguished from other particles constituting the powder, and the primary particle diameter can be measured by observation with an electron microscope such as SEM. On the other hand, agglomerated particles formed by agglomeration of primary particles are called secondary particles. The center particle size of secondary particles is determined by dispersing the powder in a suitable dispersion medium (for example, water in the case of alumina) and using a particle size analyzer. Can be measured. When the primary particle size varies, several points (for example, 10 points) are observed with an SEM, and the average value may be set as the particle size. In the measurement, when each particle is not spherical, the longest length, that is, the length of the major axis is taken as the particle diameter.

一方、上記白色顔料は、二次粒子の中心粒径(以下、「二次粒径」と称する場合がある。)が、0.2μm以上であるものが好ましく、0.3μm以上であるものがより好ましい。上限は10μm以下であるものが好ましく、5μm以下であるものがより好ましく、2μm以下であるものが更に好ましい。
二次粒径が上記範囲であると、液状射出成形の成形性が良好となり、好ましい。また、成形に適した粘度への調整が容易で、金型の磨耗が少ない。加えて、白色顔料が金型の隙間を通過しにくいためバリが発生しにくく、かつ、金型のゲートに詰まりにくいため成形時のトラブルが起こりにくい。二次粒径が上記範囲よりも大きい場合には、白色顔料の沈降により材料が不均一となる傾向にあり、金型の磨耗やゲートの詰まりにより成形性が損なわれたり、成形品の反射の均一性が損なわれたりすることがある。
なお、樹脂組成物中の白色顔料の充填率を上げる等の目的で、二次粒径が10μmよりも大きい白色顔料を併用することもできる。なお、中心粒径とは体積基準粒度分布曲線の体積積算値が50%になる粒子径をいい、一般的に50%粒子径(D50)、メディアン径と呼ばれるものを指す。
On the other hand, the white pigment preferably has a secondary particle central particle size (hereinafter sometimes referred to as “secondary particle size”) of 0.2 μm or more, and 0.3 μm or more. More preferred. The upper limit is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less, and even more preferably 2 μm or less.
When the secondary particle size is in the above range, the moldability of liquid injection molding becomes good, which is preferable. In addition, it is easy to adjust to a viscosity suitable for molding, and there is little wear on the mold. In addition, since the white pigment does not easily pass through the gap between the molds, burrs are not easily generated, and the mold gate is not easily clogged, so that troubles during molding hardly occur. When the secondary particle size is larger than the above range, the material tends to become non-uniform due to the precipitation of the white pigment, the moldability is impaired due to mold wear and gate clogging, and the reflection of the molded product is Uniformity may be impaired.
In addition, for the purpose of increasing the filling rate of the white pigment in the resin composition, a white pigment having a secondary particle size larger than 10 μm can be used in combination. The central particle diameter means a particle diameter at which the volume integrated value of the volume-based particle size distribution curve becomes 50%, and generally refers to what is called 50% particle diameter (D 50 ) and median diameter.

本発明において半導体発光装置用樹脂成形体材料中の(B)白色顔料の含有量は、使用する顔料の粒径や種類、ポリオルガノシロキサンと顔料の屈折率差により適宜選択され特に限定されない。例えば、組成物中の含有割合として通常30重量%以上、好ましくは45重量%以上であり、通常85重量%以下、好ましくは70重量%以下である。
上記範囲内であると反射率、成形性等が良好である。上記下限未満である場合には光線が透過してしまい半導体発光装置の反射効率が低下する傾向にあり、上限よりも大きい場合には材料の流動性が悪化することにより成形性が低下する傾向にある。
また、後述する樹脂成形体用材料の熱伝導率を0.4以上3.0以下の範囲に制御するためには、(B)白色顔料としてアルミナを樹脂成形体用材料全体量に対して40重量部以上90重量部以下添加することが好ましい。あるいは、(B)白色顔料として窒化ホウ素を樹脂成形体用材料全体量に対して30重量部以上90重量部以下添加することが好ましい。なお、アルミナと窒化ホウ素を併用してもよい。
In the present invention, the content of the (B) white pigment in the resin molded body material for a semiconductor light emitting device is appropriately selected depending on the particle diameter and type of the pigment used and the difference in refractive index between the polyorganosiloxane and the pigment, and is not particularly limited. For example, the content in the composition is usually 30% by weight or more, preferably 45% by weight or more, and usually 85% by weight or less, preferably 70% by weight or less.
When it is within the above range, reflectivity, moldability and the like are good. If it is less than the above lower limit, light tends to be transmitted and the reflection efficiency of the semiconductor light emitting device tends to decrease, and if it is larger than the upper limit, the fluidity of the material tends to deteriorate and the moldability tends to decrease. is there.
In addition, in order to control the thermal conductivity of the resin molded body material to be described later in the range of 0.4 to 3.0, (B) alumina is used as the white pigment with respect to the total amount of the resin molded body material. It is preferable to add at least 90 parts by weight. Alternatively, (B) boron nitride is preferably added as a white pigment in an amount of 30 parts by weight or more and 90 parts by weight or less based on the total amount of the resin molding material. Alumina and boron nitride may be used in combination.

<3.2.3.(C)硬化触媒>
本発明における(C)硬化触媒とは、(A)のポリオルガノシロキサンを硬化させる触媒である。この触媒はポリオルガノシロキサンの硬化機構により付加重合用触媒、縮合重合用触媒がある。
<3.2.3. (C) Curing catalyst>
The (C) curing catalyst in the present invention is a catalyst for curing the polyorganosiloxane of (A). This catalyst includes an addition polymerization catalyst and a condensation polymerization catalyst depending on the curing mechanism of the polyorganosiloxane.

付加重合用触媒は、前記(A)成分中のアルケニル基とヒドロシリル基との付加反応を促進するための触媒であり、この付加重合触媒の例としては、白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などの白金族金属触媒が挙げられる。なお、この付加重合触媒の配合量は通常、白金族金属として(A)成分の重量に対して通常1ppm以上、好ましくは2ppm以上であり、通常100ppm以下、好ましくは50ppm以下、さらに好ましくは20ppm以下である。   The addition polymerization catalyst is a catalyst for promoting the addition reaction between the alkenyl group and the hydrosilyl group in the component (A). Examples of the addition polymerization catalyst include platinum black, second platinum chloride, platinum chloride. Examples include acids, reaction products of chloroplatinic acid and monohydric alcohol, complexes of chloroplatinic acid and olefins, platinum-based catalysts such as platinum bisacetoacetate, platinum-based catalysts such as palladium-based catalysts and rhodium-based catalysts. . The amount of addition polymerization catalyst is usually 1 ppm or more, preferably 2 ppm or more, usually 100 ppm or less, preferably 50 ppm or less, more preferably 20 ppm or less, based on the weight of component (A) as a platinum group metal. It is.

縮合重合用触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、有機酸などの酸、アンモニア、アミン類などのアルカリ、ホウ素のアルコキシド等の有機ホウ素化合物、金属キレート化合物などを用いることができ、好適なものとしてTi、Ta、Zr、Al、Hf、Zn、Sn、Ga、Ptのいずれか1以上を含む金属キレート化合物を用いることができる。なかでも、金属キレート化合物は、Ti、Al、Zn、Zr、Gaのいずれか1以上を含むものが好ましく、Zrを含むものがさらに好ましく用いられる。   As a catalyst for condensation polymerization, acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, organic acids, alkalis such as ammonia and amines, organic boron compounds such as boron alkoxides, metal chelate compounds, and the like can be used. A metal chelate compound containing any one or more of Ti, Ta, Zr, Al, Hf, Zn, Sn, Ga, and Pt can be used. Among them, the metal chelate compound preferably contains one or more of Ti, Al, Zn, Zr, and Ga, and more preferably contains Zr.

縮合重合用触媒の配合量は、上記(A)成分の合計重量に対して通常0.01重量%以上、好ましくは0.05重量%以上、一方上限は通常10重量%以下、好ましくは6重量%以下である。
触媒の添加量が上記範囲であると半導体発光装置用樹脂成形体材料の硬化性、保存安定性が良好であり、加えて成形した樹脂成形体の品質が良好である。添加量が上限値を超えると樹脂成形体材料の保存安定性に問題が生じる場合があり、下限値未満では硬化時間が長くなり樹脂成形体の生産性が低下し、未硬化成分により樹脂成形体の品質が低下する傾向にある。
これらの触媒は半導体発光装置用樹脂組成物の安定性、被膜の硬度、無黄変性、硬化性などを考慮して選択される。
The blending amount of the catalyst for condensation polymerization is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more, while the upper limit is usually 10% by weight or less, preferably 6% by weight based on the total weight of the component (A). % Or less.
When the addition amount of the catalyst is within the above range, the curability and storage stability of the resin molded body material for a semiconductor light emitting device are good, and the quality of the molded resin molded body is also good. If the added amount exceeds the upper limit value, there may be a problem in the storage stability of the resin molded body material. If it is less than the lower limit value, the curing time becomes longer and the productivity of the resin molded body decreases. There is a tendency for quality to decline.
These catalysts are selected in consideration of the stability of the resin composition for a semiconductor light emitting device, the hardness of the coating, non-yellowing, curability and the like.

<その他>
本発明の半導体発光装置用樹脂成形体用材料は、さらに硬化速度制御剤を含有することが好ましい。ここで硬化速度制御剤とは、樹脂成形体用材料を成形する際に、その成形効率を向上させるために硬化速度を制御するためのものであり、硬化遅延剤または硬化促進剤が挙げられる。
<Others>
It is preferable that the material for a resin molded body for a semiconductor light emitting device of the present invention further contains a curing rate control agent. Here, the curing rate control agent is for controlling the curing rate in order to improve the molding efficiency when molding the resin molding material, and includes a curing retarder or a curing accelerator.

硬化遅延剤は、特に、硬化速度が速い付加重合型ポリオルガノシロキサン組成物の液状射出成形において重要な成分である。
付加重合反応における硬化遅延剤としては、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられ、これらを併用してもかまわない。
脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、3−ヒドロキシ−3−メチル−1−ブチン、3−ヒドロキシ−3−フェニル−1−ブチン、3−(トリメチルシリルオキシ)−3−メチル−1−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、ジメチルマレート等のマレイン酸エステル類等が例示される。
縮合重合反応における硬化遅延剤としては、炭素数1〜5の低級アルコール、分子量500以下のアミン類、窒素や硫黄含有する有機化合物、エポキシ基含有化合物などシラノールと反応あるいは水素結合する化合物が挙げられる。
The curing retarder is an important component particularly in liquid injection molding of an addition polymerization type polyorganosiloxane composition having a high curing rate.
Examples of the curing retarder in the addition polymerization reaction include compounds containing an aliphatic unsaturated bond, organic phosphorus compounds, organic sulfur compounds, nitrogen-containing compounds, tin compounds, organic peroxides, and the like. It doesn't matter.
Examples of the compound containing an aliphatic unsaturated bond include 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne, 3-hydroxy-3-phenyl-1-butyne, and 3- (trimethylsilyloxy) -3-methyl-1-butyne. And propargyl alcohols such as 1-ethynyl-1-cyclohexanol, ene-yne compounds, and maleic acid esters such as dimethyl malate.
Examples of the curing retarder in the condensation polymerization reaction include compounds having a reaction with hydrogen or a hydrogen bond, such as lower alcohols having 1 to 5 carbon atoms, amines having a molecular weight of 500 or less, organic compounds containing nitrogen or sulfur, and epoxy group-containing compounds. .

硬化速度制御剤の種類や配合量を目的に応じて選択することにより、樹脂成形体用材料の成形が容易となる。例えば、金型への充填率が高くなったり、射出成形による成形時に金型からの漏れがなく、バリが発生しにくくなったりするメリットが得られる。   By selecting the type and blending amount of the curing rate control agent according to the purpose, molding of the resin molded body material becomes easy. For example, there is an advantage that the filling rate into the mold becomes high or there is no leakage from the mold when molding by injection molding, and burrs are hardly generated.

半導体発光装置用樹脂成形体用材料である熱硬化性シリコーン樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて他の成分を1種、または2種以上を任意の比率および組み合わせで含有させることができる。
例えば、熱硬化性シリコーン樹脂組成物の流動性コントロールや白色顔料の沈降抑制の目的で、流動性調整剤を含有させることができる。
流動性調整剤としては、添加により熱硬化性シリコーン樹脂組成物の粘度が高くなる常温から成形温度付近で固体の粒子であれば特に限定されないが、例えば、シリカ微粒子、石英ビーズ、ガラスビーズなどの無機粒子、ガラス繊維などの無機物繊維、窒化ホウ素、窒化アルミニウム等が挙げられる。
As long as the effects of the present invention are not impaired, the thermosetting silicone resin composition, which is a material for a resin molded body for a semiconductor light emitting device, contains one or two or more other components as required in any ratio. It can be contained in combination.
For example, a fluidity adjusting agent can be contained for the purpose of controlling fluidity of the thermosetting silicone resin composition and suppressing sedimentation of white pigment.
The fluidity modifier is not particularly limited as long as it is a solid particle from the normal temperature to the molding temperature where the viscosity of the thermosetting silicone resin composition is increased by addition, for example, silica fine particles, quartz beads, glass beads, etc. Examples thereof include inorganic particles, inorganic fibers such as glass fibers, boron nitride, and aluminum nitride.

また、熱硬化性シリコーン樹脂組成物の粘度を調整するため、液状増粘剤として非硬化性のポリオルガノシロキサンを(A)ポリオルガノシロキサンに一部配合することができる。
液状増粘剤としてのポリオルガノシロキサンの配合量は(A)ポリオルガノシロキサン全体を100重量部とした時、通常、0〜10重量部、好ましくは0.1〜5重量部、より好ましくは0.5〜3重量部程度を(A)と置き換えて使用することができる。
Further, in order to adjust the viscosity of the thermosetting silicone resin composition, a non-curable polyorganosiloxane can be partially blended with the (A) polyorganosiloxane as a liquid thickener.
The blending amount of the polyorganosiloxane as the liquid thickener is usually 0 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, more preferably 0, when the total amount of the polyorganosiloxane (A) is 100 parts by weight. About 5 to 3 parts by weight can be used in place of (A).

また、上記成分以外にも、上記熱硬化性シリコーン樹脂組成物には、熱硬化後の強度、靭性を高める目的で、ガラス繊維などの無機物繊維を含有させてもよく、また、熱伝導性を高めたるため、熱伝導率の高い窒化ホウ素、窒化アルミ、繊維状アルミナ等を前述の白色顔料とは別に含有させることができる。その他、硬化物の線膨張係数を下げる目的で、石英ビーズ、ガラスビーズ等を含有させることができる。
これらを添加する場合の含有量は、少なすぎると目的の効果か得られず、多すぎると熱硬化性シリコーン樹脂組成物の粘度が上がり、加工性に影響するので、十分な効果が発現し、材料の加工性を損なわない範囲で適宜選択できる。通常、ポリオルガノシロキサン100重量部に対し500重量部以下、好ましくは200重量部以下である。
In addition to the above components, the thermosetting silicone resin composition may contain inorganic fibers such as glass fibers for the purpose of increasing the strength and toughness after thermosetting, and has a thermal conductivity. Therefore, boron nitride, aluminum nitride, fibrous alumina or the like having high thermal conductivity can be contained separately from the aforementioned white pigment. In addition, for the purpose of lowering the linear expansion coefficient of the cured product, quartz beads, glass beads and the like can be contained.
If the content when adding these is too small, the desired effect can not be obtained, and if it is too large, the viscosity of the thermosetting silicone resin composition increases and affects the workability, so a sufficient effect is expressed. It can select suitably in the range which does not impair the workability of material. Usually, it is 500 parts by weight or less, preferably 200 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyorganosiloxane.

また、上記熱硬化性シリコーン樹脂組成物中には、その他、イオンマイグレーション(エレクトロケミカルマイグレーション)防止剤、老化防止剤、ラジカル禁止剤、紫外線吸収剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定改良剤、オゾン劣化防止剤、光安定剤、増粘剤、可塑剤、カップリング剤、酸化防止剤、熱安定剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線遮断剤、核剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤などを本発明の目的および効果を損なわない範囲において含有させることができる。   In addition, the thermosetting silicone resin composition includes an ion migration (electrochemical migration) inhibitor, an anti-aging agent, a radical inhibitor, an ultraviolet absorber, an adhesion improver, a flame retardant, a surfactant, Storage Stabilizer, Ozone Degradation Prevention Agent, Light Stabilizer, Thickener, Plasticizer, Coupling Agent, Antioxidant, Thermal Stabilizer, Conductivity Adder, Antistatic Agent, Radiation Blocker, Nucleating Agent, Phosphorus A system peroxide decomposer, a lubricant, a pigment, a metal deactivator, a physical property modifier, and the like can be contained within a range that does not impair the object and effect of the present invention.

<組成物の配合割合>
上記熱硬化性シリコーン樹脂組成物における(A)ポリオルガノシロキサンの含有量は、通常、樹脂組成物全体の15重量%以上、50重量%以下であり、好ましくは20重量%以上、40重量%以下であり、より好ましくは25重量%以上、35重量%以下である。なお、該樹脂組成物中に含まれる硬化速度制御剤やその他成分である液状増粘剤がポリオルガノシロキサンである場合は上記(A)の含有量に含まれるものとする。
上記熱硬化性シリコーン樹脂組成物における(B)白色顔料の含有量は、上述の通り該樹脂組成物が、樹脂成形体用材料として用いることができる範囲であれば限定されないが、通常樹脂組成物全体の30重量%以上85重量%以下であり、好ましくは40重量%以上80重量%以下であり、より好ましくは45重量%以上70重量%以下である。
上記熱硬化性シリコーン樹脂組成物における流動性調整剤の含有量は、本発明の効果を阻害しない範囲であれば限定されないが、通常樹脂組成物全体の55重量%以下であり、好ましくは2重量%以上50重量%以下であり、より好ましくは5重量%以上45重量%以下である。
<Composition ratio of composition>
The content of (A) polyorganosiloxane in the thermosetting silicone resin composition is usually 15% by weight or more and 50% by weight or less, preferably 20% by weight or more and 40% by weight or less of the entire resin composition. More preferably, it is 25% by weight or more and 35% by weight or less. In addition, when the hardening rate control agent contained in this resin composition and the liquid thickener which is another component are polyorganosiloxane, it shall be contained in content of said (A).
The content of the (B) white pigment in the thermosetting silicone resin composition is not limited as long as the resin composition can be used as a resin molding material as described above. It is 30 to 85 weight% of the whole, Preferably it is 40 to 80 weight%, More preferably, it is 45 to 70 weight%.
The content of the fluidity modifier in the thermosetting silicone resin composition is not limited as long as it does not impair the effects of the present invention, but is usually 55% by weight or less, preferably 2% by weight of the total resin composition. % To 50% by weight, more preferably 5% to 45% by weight.

<4.本発明の半導体発光装置>
以下、図1、図2を参照し、本発明の半導体発光装置における、パッケージ以外の構成要素について説明する。
<4. Semiconductor Light Emitting Device of the Present Invention>
Hereinafter, components other than the package in the semiconductor light emitting device of the present invention will be described with reference to FIGS.

<4.1.半導体発光素子>
発光素子20は、近紫外領域の波長を有する光を発する近紫外半導体発光素子、紫領域の波長の光を発する紫半導体発光素子、青領域の波長の光を発する青色半導体発光素子などを用いることが可能であり、通常、これらの発光素子は350nm以上520nm以下の波長を有する光を発する。
<4.1. Semiconductor light emitting device>
As the light emitting element 20, a near ultraviolet semiconductor light emitting element that emits light having a wavelength in the near ultraviolet region, a purple semiconductor light emitting element that emits light in a purple region, a blue semiconductor light emitting element that emits light in a blue region, or the like is used. In general, these light-emitting elements emit light having a wavelength of 350 nm to 520 nm.

発光素子20として具体的には、基板上にGaAlN、ZnS、ZnSe、SiC、GaP、GaAlAs、AlN、InN、AlInGaP、InGaN、GaN、AlInGaN等の半導体を発光層として形成させたものが用いられる。
半導体の構造としては、MIS接合、PIN接合やPN接合を有したホモ構造、ヘテロ構造あるいはダブルへテロ構成のものが挙げられる。半導体層の材料やその混晶度によって発光波長を紫外光から赤外光まで種々選択することができる。発光層は、量子効果が生ずる薄膜とした単一量子井戸構造や多重量子井戸構造としてもよい。
Specifically, the light emitting element 20 is formed by forming a semiconductor such as GaAlN, ZnS, ZnSe, SiC, GaP, GaAlAs, AlN, InN, AlInGaP, InGaN, GaN, AlInGaN on the substrate as a light emitting layer.
Examples of the semiconductor structure include a homo structure having a MIS junction, a PIN junction, and a PN junction, a hetero structure, and a double hetero structure. Various emission wavelengths can be selected from ultraviolet light to infrared light depending on the material of the semiconductor layer and the degree of mixed crystal. The light emitting layer may have a single quantum well structure or a multiple quantum well structure formed as a thin film in which a quantum effect is generated.

屋外などでの使用を考える場合、高輝度な発光素子20を形成可能な半導体材料として窒化ガリウム系化合物半導体を用いることが好ましく、また、赤色ではガリウム・アルミニウム・砒素系の半導体やアルミニウム・インジウム・ガリウム・燐系の半導体を用いることが好ましいが、用途によって種々利用することもできる。   When considering use outdoors, it is preferable to use a gallium nitride compound semiconductor as a semiconductor material capable of forming the light-emitting element 20 with high brightness. In red, a gallium / aluminum / arsenic semiconductor or aluminum / indium / semiconductor is used. Although it is preferable to use a gallium / phosphorus-based semiconductor, various semiconductors can be used depending on the application.

窒化ガリウム系化合物半導体を使用した場合、半導体基板にはサファイア、スピネル、SiC、Si、ZnOやGaN単結晶等の材料が用いられる。結晶性のよい窒化ガリウムを量産性よく形成させるためにはサファイア基板を用いることが好ましい。
窒化ガリウム系化合物半導体は、不純物をドープしない状態でN型導電性を示す。なお、発光効率を向上させる等所望のN型窒化ガリウム半導体を形成させる場合は、N型ドーパントとしてSi、Ge、Se、Te、C等を適宜導入することが好ましい。
When a gallium nitride compound semiconductor is used, a material such as sapphire, spinel, SiC, Si, ZnO or GaN single crystal is used for the semiconductor substrate. In order to form gallium nitride with good crystallinity with high productivity, it is preferable to use a sapphire substrate.
Gallium nitride-based compound semiconductors exhibit N-type conductivity without being doped with impurities. When forming a desired N-type gallium nitride semiconductor such as improving luminous efficiency, Si, Ge, Se, Te, C, etc. are preferably introduced as appropriate as N-type dopants.

一方、P型窒化ガリウム半導体を形成させる場合は、P型ドーパンドであるZn、Mg、Be、Ca、Sr、Ba等をドープさせる。窒化ガリウム系半導体は、P型ドーパントをドープしただけではP型化しにくいためP型ドーパント導入後に、炉による加熱、低電子線照射やプラズマ照射等によりアニールすることでP型化させる必要がある。こうして形成された半導体ウエハーを部分的にエッチングなどさせ正負の各電極を形成させる。その後半導体ウエハーを所望の大きさに切断することによって発光素子を形成させることができる。   On the other hand, when a P-type gallium nitride semiconductor is formed, a P-type dopant such as Zn, Mg, Be, Ca, Sr, or Ba is doped. Since a gallium nitride based semiconductor is difficult to be converted into a P-type simply by doping with a P-type dopant, it is necessary to make it P-type by annealing it by heating in a furnace, low electron beam irradiation, plasma irradiation or the like after introducing the P-type dopant. The semiconductor wafer thus formed is partially etched to form positive and negative electrodes. After that, the light emitting element can be formed by cutting the semiconductor wafer into a desired size.

こうした発光素子20は、必要に応じて複数個用いることができ、その組み合わせによって白色表示における混色性を向上させることもできる。
なお、発光効率を向上させるために、発光層直下に蒸着等により金属反射膜を設けサファイア等の基板を剥離除去し、新たな支持基板となるGeやSiなどのウエハーに貼り替えた裏面メタル反射層付き発光素子を用いることもできる。
A plurality of such light emitting elements 20 can be used as necessary, and the color mixing property in white display can be improved by the combination thereof.
In order to improve the luminous efficiency, a metal reflective film is provided directly under the light emitting layer by vapor deposition, etc., and the substrate such as sapphire is peeled and removed, and the rear surface metal reflection is replaced with a new support substrate such as Ge or Si. A light-emitting element with a layer can also be used.

<4.2.封止材>
封止材30は、発光素子20が載置されたパッケージ10における凹部14内に装入され、これにより発光素子20を被覆する。
封止材30は、外部環境からの外力や埃、水分などから発光素子20を保護すると共に発光素子20から出射される光を効率よく外部に放出することを可能とする。
また、発光素子20の屈折率と空気の屈折率とは大きく異なるため、発光素子20から出射された光は効率よく外部に出力されてこないのに対し、封止材30で発光素子20を被覆することにより、発光素子20から出射された光を効率よく外部に出力することができる。また、発光素子20から出射された光の一部は凹部14の底面14a及び側面14bに照射され、反射して、発光素子20が載置されている主面側に出射される。これにより主面側の発光出力の向上を図ることができる。
<4.2. Sealing material>
The sealing material 30 is inserted into the recess 14 in the package 10 on which the light emitting element 20 is placed, thereby covering the light emitting element 20.
The sealing material 30 can protect the light emitting element 20 from external force, dust, moisture, and the like from the external environment and can efficiently emit light emitted from the light emitting element 20 to the outside.
In addition, since the refractive index of the light emitting element 20 and the refractive index of air are greatly different, the light emitted from the light emitting element 20 is not efficiently output to the outside, but the light emitting element 20 is covered with the sealing material 30. By doing so, the light emitted from the light emitting element 20 can be efficiently output to the outside. Further, part of the light emitted from the light emitting element 20 is irradiated on the bottom surface 14 a and the side surface 14 b of the recess 14, reflected, and emitted to the main surface on which the light emitting element 20 is placed. Thereby, the light emission output on the main surface side can be improved.

封止材30を構成する封止材用樹脂組成物として熱硬化性樹脂組成物を使用することが好ましい。これによって、半導体発光装置用パッケージにおける樹脂成形体を構成する熱硬化性シリコーン樹脂組成物と封止材を構成する封止材用熱硬化性樹脂組成物とはそれぞれ熱硬化性樹脂である点で共通するため、化学的性質や膨張係数などの物理的性質が近似していることから密着性がよく、樹脂成形体と封止材との界面での剥離を防止することができる。   It is preferable to use a thermosetting resin composition as the resin composition for a sealing material constituting the sealing material 30. As a result, the thermosetting silicone resin composition constituting the resin molding in the package for semiconductor light emitting device and the thermosetting resin composition for sealing material constituting the sealing material are each a thermosetting resin. Since they are common, physical properties such as chemical properties and expansion coefficients are close, so that the adhesion is good, and peeling at the interface between the resin molded body and the sealing material can be prevented.

封止材の主成分の熱硬化性樹脂としては、透明性、耐光性、耐熱性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光装置を封止することができる樹脂が用いられる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、アクリレート樹脂、ウレタン樹脂等が例示され、その一種又は二種以上が使用できる。この中でもエポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂が透明性、電気絶縁性に優れ、化学的に安定な点で好ましく、特にシリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂は耐光性、耐熱性に優れ前記樹脂成形体と同種類の樹脂であることから密着性等に優れ好適に使用される。
封止材30は、発光素子20を保護するため硬質のものが好ましい。封止材30は、所望の機能を持たせるため、フィラー、拡散剤、顔料、蛍光体、反射性物質からなる群から選択される少なくとも1種を混合することもできる。ここで用いることができる拡散剤としては、チタン酸バリウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ケイ素等が好ましい。また、所望外の波長の光をカットする目的で有機や無機の染料や顔料を含有させることができる。さらに、封止材30に、発光素子20からの光の波長を変換する蛍光体の一種又は二種以上を含有させることも好ましい。
また、封止材30は上記の助剤以外に紫外線吸収剤、及び酸化防止剤を含んでいてもよい。
The thermosetting resin as the main component of the sealing material is a resin that is excellent in transparency, light resistance, and heat resistance, and can seal a semiconductor light emitting device without cracking or peeling even after long-term use. Used.
Examples of the thermosetting resin include an epoxy resin, a modified epoxy resin, a silicone resin, a modified silicone resin, an acrylate resin, and a urethane resin, and one or more of them can be used. Among these, epoxy resins, modified epoxy resins, silicone resins, and modified silicone resins are preferable in terms of transparency, electrical insulation, and chemical stability. Particularly, silicone resins and modified silicone resins are excellent in light resistance and heat resistance. Since it is the same kind of resin as the resin molding, it is excellent in adhesion and is preferably used.
The sealing material 30 is preferably hard so as to protect the light emitting element 20. The sealing material 30 may be mixed with at least one selected from the group consisting of a filler, a diffusing agent, a pigment, a phosphor, and a reflective material in order to have a desired function. As the diffusing agent that can be used here, barium titanate, titanium oxide, aluminum oxide, silicon oxide and the like are preferable. In addition, organic or inorganic dyes or pigments can be included for the purpose of cutting light with an undesired wavelength. Furthermore, it is also preferable that the sealing material 30 contains one or more phosphors that convert the wavelength of light from the light emitting element 20.
Moreover, the sealing material 30 may contain the ultraviolet absorber and antioxidant other than said auxiliary agent.

<2.6.蛍光体>
以下に説明する蛍光体と、封止材との組成物を、半導体発光デバイスのカップ内に注入して成型したり、適当な透明支持体に薄膜上に塗布したりすることにより、波長変換部材として用いることができる。
蛍光体としては、上述の半導体発光素子の発する光に直接的または間接的に励起され、異なる波長の光を発する物質であれば特に制限はなく、無機系蛍光体であっても有機系蛍光体であっても用いることができる。例えば、以下に例示するような青色蛍光体、緑色蛍光体、黄色蛍光体、橙色ないし赤色蛍光体の1種または2種以上を用いることができる。所望の発光色を得られるよう、用いる蛍光体の種類や含有量を適宜調整することが好ましい。
<2.6. Phosphor>
A wavelength conversion member can be obtained by injecting and molding a composition of a phosphor and a sealing material described below into a cup of a semiconductor light-emitting device, or coating the thin film on a suitable transparent support. Can be used as
The phosphor is not particularly limited as long as it is a substance that is directly or indirectly excited by the light emitted from the semiconductor light-emitting element and emits light of a different wavelength. Even if it is an inorganic phosphor, an organic phosphor Can be used. For example, one or more of blue phosphor, green phosphor, yellow phosphor, orange to red phosphor as exemplified below can be used. It is preferable to appropriately adjust the type and content of the phosphor used so that a desired emission color can be obtained.

<青色蛍光体>
青色蛍光体としては、発光ピーク波長が、通常420nm以上、中でも430nm以上、更には440nm以上、また、通常490nm以下、中でも480nm以下、更には470nm以下の範囲にあるものが好ましい。
具体的には、(Ca,Sr,Ba)MgAl1017:Eu、(Sr,Ca,Ba,Mg)10(PO46(Cl,F)2:Eu、(Ba,Ca,Mg,Sr)2SiO4:Eu、(Sr,Ca,Ba,Mg)10(PO46(Cl,F)2:Eu、(Ba,Ca,Sr)3MgSi28:Euが好ましく、(Ba,Sr)MgAl1017:Eu、(Ca,Sr,Ba)10(PO46(Cl,F)2:Eu、Ba3MgSi28:Euがより好ましい。
<Blue phosphor>
As the blue phosphor, those having an emission peak wavelength of usually 420 nm or more, particularly 430 nm or more, more preferably 440 nm or more, and usually 490 nm or less, especially 480 nm or less, and further 470 nm or less are preferable.
Specifically, (Ca, Sr, Ba) MgAl 10 O 17 : Eu, (Sr, Ca, Ba, Mg) 10 (PO 4 ) 6 (Cl, F) 2 : Eu, (Ba, Ca, Mg, Sr) 2 SiO 4 : Eu, (Sr, Ca, Ba, Mg) 10 (PO 4 ) 6 (Cl, F) 2 : Eu, (Ba, Ca, Sr) 3 MgSi 2 O 8 : Eu are preferred, Ba, Sr) MgAl 10 O 17 : Eu, (Ca, Sr, Ba) 10 (PO 4 ) 6 (Cl, F) 2 : Eu, Ba 3 MgSi 2 O 8 : Eu are more preferable.

<緑色蛍光体>
緑色蛍光体としては、発光ピーク波長が、通常500nm以上、中でも510nm以上、更には515nm以上、また、通常550nm以下、中でも542nm以下、更には535nm以下の範囲にあるものが好ましい。
具体的には、Y3(Al,Ga)512:Ce、CaSc24:Ce、Ca3(Sc,Mg)2Si312:Ce、(Sr,Ba)2SiO4:Eu、β型サイアロン、(Ba,Sr)3Si612:N2:Eu、SrGa24:Eu、BaMgAl1017:Eu,Mnが好ましい。
<Green phosphor>
The green phosphor preferably has an emission peak wavelength in the range of usually 500 nm or more, particularly 510 nm or more, more preferably 515 nm or more, and usually 550 nm or less, especially 542 nm or less, and even 535 nm or less.
Specifically, Y 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Ce, CaSc 2 O 4 : Ce, Ca 3 (Sc, Mg) 2 Si 3 O 12 : Ce, (Sr, Ba) 2 SiO 4 : Eu Β-type sialon, (Ba, Sr) 3 Si 6 O 12 : N 2 : Eu, SrGa 2 S 4 : Eu, BaMgAl 10 O 17 : Eu, Mn are preferable.

<黄色蛍光体>
黄色蛍光体としては、発光ピーク波長が、通常530nm以上、中でも540nm以上、更には550nm以上、また、通常620nm以下、中でも600nm以下、更には580nm以下の範囲にあるものが好適である。
黄色蛍光体としては、Y3Al512:Ce、(Y,Gd)3Al512:Ce、(Sr,Ca,Ba,Mg)2SiO4:Eu、(Ca,Sr)Si222:Eu、(La,Y,Gd,Lu)3(Si,Ge)611:Ceが好ましい。
<Yellow phosphor>
As the yellow phosphor, those having an emission peak wavelength of usually 530 nm or more, particularly 540 nm or more, more preferably 550 nm or more, and usually 620 nm or less, especially 600 nm or less, further 580 nm or less are suitable.
The yellow phosphor, Y 3 Al 5 O 12: Ce, (Y, Gd) 3 Al 5 O 12: Ce, (Sr, Ca, Ba, Mg) 2 SiO 4: Eu, (Ca, Sr) Si 2 N 2 O 2 : Eu, (La, Y, Gd, Lu) 3 (Si, Ge) 6 N 11 : Ce are preferable.

<橙色ないし赤色蛍光体>
橙色ないし赤色蛍光体としては、発光ピーク波長が、通常570nm以上、中でも580nm以上、更には585nm以上、また、通常780nm以下、中でも700nm以下、更には680nm以下の範囲にあるものが好ましい。
具体的には、(Ca,Sr,Ba)2Si5(N,O)8:Eu、(Ca,Sr,Ba)Si(N,O)2:Eu、(Ca,Sr,Ba)AlSi(N,O)3:Eu、(Sr,Ba)3SiO5:Eu、(Ca,Sr)S:Eu、(La,Y)22S:Eu、Eu(ジベンゾイルメタン)3・1,10−フェナントロリン錯体等のβ−ジケトン系Eu錯体、カルボン酸系Eu錯体、K2SiF6:Mnが好ましく、(Ca,Sr,Ba)2Si5(N,O)8:Eu、(Sr,Ca)AlSi(N,O):Eu、(La,Y)22S:Eu、K2SiF6:Mnがより好ましい。
また、橙色蛍光体としては、(Sr,Ba)3SiO5:Eu、(Sr,Ba)2SiO4:Eu、(Ca,Sr,Ba)2Si5(N,O)8:Eu、(Ca,Sr,Ba)AlSi(N,O)3:Ceが好ましい。
<Orange to red phosphor>
As the orange to red phosphor, those having an emission peak wavelength in the range of usually 570 nm or more, particularly 580 nm or more, more preferably 585 nm or more, and usually 780 nm or less, particularly 700 nm or less, further 680 nm or less are preferable.
Specifically, (Ca, Sr, Ba) 2 Si 5 (N, O) 8 : Eu, (Ca, Sr, Ba) Si (N, O) 2 : Eu, (Ca, Sr, Ba) AlSi ( N, O) 3 : Eu, (Sr, Ba) 3 SiO 5 : Eu, (Ca, Sr) S: Eu, (La, Y) 2 O 2 S: Eu, Eu (dibenzoylmethane) 3 . Β-diketone Eu complex such as 10-phenanthroline complex, carboxylic acid Eu complex, K 2 SiF 6 : Mn is preferred, (Ca, Sr, Ba) 2 Si 5 (N, O) 8 : Eu, (Sr, Ca) AlSi (N, O): Eu, (La, Y) 2 O 2 S: Eu, and K 2 SiF 6 : Mn are more preferable.
As the orange phosphor, (Sr, Ba) 3 SiO 5 : Eu, (Sr, Ba) 2 SiO 4 : Eu, (Ca, Sr, Ba) 2 Si 5 (N, O) 8 : Eu, ( Ca, Sr, Ba) AlSi (N, O) 3 : Ce is preferred.

<4.4.保護素子>
半導体発光装置1には、さらに保護素子としてツェナーダイオードを設けることもできる。ツェナーダイオードは、発光素子20と同様、基台10aに載置することができる他、発光素子20から離れて凹部14の底面14aの第1のリード11に載置することもできる。また、保護素子は第1のリード又は第2のリードの表面若しくは裏面に載置し、透光性封止材で被覆することもできる他、樹脂成形体13で被覆することもできる。
<4.4. Protective element>
The semiconductor light emitting device 1 may further be provided with a Zener diode as a protective element. The Zener diode can be placed on the base 10 a as well as the light emitting element 20, and can be placed on the first lead 11 on the bottom surface 14 a of the recess 14 away from the light emitting element 20. Further, the protective element can be placed on the front or back surface of the first lead or the second lead and covered with a light-transmitting sealing material, or can be covered with the resin molded body 13.

<4.5.ヒートシンク(外部放熱部材)>
半導体発光装置1の裏面側に放熱接着剤を介してヒートシンクを設けることができる。この放熱接着剤は、樹脂成形体13の材質よりも熱伝導性が高いものが好ましい。放熱接着剤の材質は、電気絶縁性のエポキシ樹脂、シリコーン樹脂などを用いることができる。ヒートシンクの材質は熱伝導性の良好なアルミ、銅、タングステン、金などが好ましい。このほか、基台10aのみに接触するように放熱接着剤を介してヒートシンクを設けることもできる。これにより、放熱接着剤として更に熱伝導性の良い半田を含む共晶金属を用いることができる。半導体発光装置1の裏面側は平坦とすることにより、ヒートシンクの実装時の安定性を保持することができる。特に、発光素子20と最短距離をとるように基台10a及びヒートシンクを設けることにより、さらに放熱性を高めることができる。
<4.5. Heat sink (external heat dissipation member)>
A heat sink can be provided on the back side of the semiconductor light emitting device 1 via a heat radiation adhesive. This heat radiation adhesive preferably has higher thermal conductivity than the material of the resin molded body 13. As the material of the heat radiation adhesive, an electrically insulating epoxy resin, silicone resin, or the like can be used. The material of the heat sink is preferably aluminum, copper, tungsten, gold or the like having good thermal conductivity. In addition, a heat sink can be provided via a heat radiation adhesive so as to contact only the base 10a. Thereby, the eutectic metal containing solder with better thermal conductivity can be used as the heat radiation adhesive. By making the back side of the semiconductor light emitting device 1 flat, it is possible to maintain stability when the heat sink is mounted. In particular, by providing the base 10a and the heat sink so as to take the shortest distance from the light emitting element 20, heat dissipation can be further improved.

<4.6.他の実施形態>
以下、既に図1及び図2に例をとって説明した実施態様以外の本発明の半導体発光装置用パッケージ及びそれを用いた半導体発光装置の具体的な実施形態を図を用いて説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変形して実施することができる。
<4.6. Other embodiments>
Hereinafter, specific embodiments of the package for a semiconductor light emitting device of the present invention and the semiconductor light emitting device using the same other than the embodiment already described with reference to FIGS. 1 and 2 will be described with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, In the range which does not deviate from the summary of this invention, it can change arbitrarily and can implement.

<4.6.1.図3の実施形態>
図3の実施形態に係る半導体発光装置について説明する。
図3として概略断面図が示される半導体発光装置1Aは、第1のリード11、第2のリード12の各インナーリード部の露出を少なくし、樹脂成形体による光の反射効率の向上を図ったものである。インナーリード部が着色劣化しやすい銀メッキ表面である場合や反射率に劣る金メッキ表面である場合には特に、長期にわたり高い反射率を維持し、高効率の半導体発光装置を得ることができる。
<4.6.1. Embodiment of FIG. 3>
A semiconductor light emitting device according to the embodiment of FIG. 3 will be described.
In the semiconductor light emitting device 1A shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 3, the exposure of the inner lead portions of the first lead 11 and the second lead 12 is reduced, and the light reflection efficiency is improved by the resin molding. Is. In particular, when the inner lead portion is a silver-plated surface that easily deteriorates in color or a gold-plated surface that is inferior in reflectance, a high-efficiency semiconductor light-emitting device can be obtained while maintaining a high reflectance over a long period of time.

<4.6.2.図4の実施形態>
図4の半導体発光装置について説明する。
図4として概略断面図が示される半導体発光装置1Bは、発光素子20からの光や熱、電界による蛍光体の劣化を防止するため、発光物質を含む蛍光体層60を発光素子20から離して設置した、リモートフォスファー態様の例である。
インナーリード部11a,12aの面積を確保しつつ電気的接続をする部分のみが底面に露出した構造とすることにより、高い反射率と熱伝導率を両立したパッケージ10とすることができる。樹脂成形体13を構成する熱硬化性シリコーン樹脂組成物は熱伝導率が高く薄層でも高い反射率を有するのでこのような態様に適している。
蛍光体層60は、封止材30が蛍光体を含有しない場合に必要に応じて設けることができる。ポッティングや印刷、一括成形により透明封止層の上に直接塗布しても、ポリカーボネートやPET・ガラスなどガス透過性が低い透明基体に蛍光体層60を塗布した窓材や蛍光体含有樹脂成形物などを別途準備しパッケージ開口部に貼り付けてもよい。図4での蛍光体層60は平板状となっているが、必要に応じ凸レンズ状や中空ドーム状の成形物であってもよい。蛍光体を発光素子20から離すことにより蛍光体の光劣化に起因する輝度低下を抑制することが可能であり、蛍光体層60の厚みを一定にできることで発光装置の発光の面内分布を抑え、色のばらつきの少ない高輝度の発光装置を得ることができる。
<4.6.2. Embodiment of FIG. 4>
The semiconductor light emitting device of FIG. 4 will be described.
In the semiconductor light emitting device 1B shown in a schematic cross-sectional view as FIG. 4, the phosphor layer 60 containing a light emitting substance is separated from the light emitting element 20 in order to prevent deterioration of the phosphor due to light, heat, and electric field from the light emitting element 20. It is an example of the installed remote phosphor mode.
By adopting a structure in which only the portion to be electrically connected is exposed on the bottom surface while ensuring the area of the inner lead portions 11a and 12a, the package 10 having both high reflectivity and thermal conductivity can be obtained. The thermosetting silicone resin composition constituting the resin molded body 13 is suitable for such a mode because it has high thermal conductivity and high reflectance even in a thin layer.
The phosphor layer 60 can be provided as necessary when the sealing material 30 does not contain a phosphor. Window materials and phosphor-containing resin moldings in which the phosphor layer 60 is coated on a transparent substrate with low gas permeability, such as polycarbonate, PET, or glass, even when directly applied onto the transparent sealing layer by potting, printing, or batch molding Or the like may be prepared separately and attached to the package opening. The phosphor layer 60 in FIG. 4 has a flat plate shape, but may be a convex lens-shaped or hollow dome-shaped molded product if necessary. By separating the phosphor from the light emitting element 20, it is possible to suppress a decrease in luminance due to light degradation of the phosphor, and by suppressing the in-plane distribution of light emission of the light emitting device by making the thickness of the phosphor layer 60 constant. Thus, a high-luminance light emitting device with little color variation can be obtained.

<4.6.3.図5の実施形態>
図5の半導体発光装置について説明する。図5の概略断面図は、カップ型のリフレクタを設けていないチップオンボード実装型の実施態様に関する例である。
<4.6.3. Embodiment of FIG. 5>
The semiconductor light emitting device of FIG. 5 will be described. The schematic cross-sectional view of FIG. 5 is an example relating to a chip-on-board mounting type embodiment in which a cup-type reflector is not provided.

図5の半導体発光装置1Cは、チップオンボード(COB)用基板上に設けられたものであり、リードの代わりに、リードを含む配線基板70を用いて反射材となる樹脂成形体13と一体的に成形するものである。なお、図示する半導体発光装置1Cはカップ型のリフレクタを設けていないが、図1〜4と同様のカップ型のリフレクタを設けることもできる。
これらの態様でも、リード11,12は、ワイヤ40を介して発光素子20と接続部で接続している。リード11,12のうち、封止材30の中にあり発光素子20とダイボンド材又はワイヤ、バンプなどにより直接電気的接続をとる部位がインナーリード部11a,12a、封止材30の外に露出し、外部配線基板等の電極と電気的接続を取る部位がアウターリード部11b,12bに相当する。また、これらの態様では、リード11,12の一部が樹脂成形体13により被覆されている。樹脂成形体13は、白色の絶縁層としての機能も有しており、この厚さを大きくすることもできる。
なお、発光素子20は複数存在してもよい。封止材により、複数の実装部を一括に封止してもよい。
封止材30は使用目的により透明であっても、蛍光体を含有していてもよく、リフレクタや堰部を用いない場合には金型成形により一括封止されていてもよい。チップオンボード型では配線基板70上に直接発光装置部を設けることができるので、表面実装の手間が省け発光素子から配線基板70への放熱をとりやすいメリットがある。アウターリード部は配線基板70の発光素子搭載側と同じ面に露出していてもよいが、実装後のパッケージを配線基板ごと分割し個片化して用いる場合など、他の配線基板上に表面実装する必要がある場合にはパッケージを構成する配線基板にスルーホールなどを設けて裏面に電気的導通を取り、発光装置裏面にアウターリード部を設けることができる。
また、図5は、配線基板70を構成するベース基板80としてセラミックス(AlN、Al23)や本発明に用いられる熱硬化性シリコーン樹脂組成物を始めとした樹脂組成物などの絶縁体から構成された絶縁性基板を用いる態様である。
基台10aは、金属や熱伝導性ペーストの硬化物などのベース基板80に用いる基材よりも熱伝導率が高い部材からなり、ヒートシンク部としても作用するため、使用する発光素子の発熱量が大きくても十分に放熱することができる。
A semiconductor light emitting device 1C of FIG. 5 is provided on a chip-on-board (COB) substrate, and is integrated with a resin molded body 13 serving as a reflective material using a wiring substrate 70 including leads instead of leads. Is molded. Although the illustrated semiconductor light emitting device 1C is not provided with a cup-type reflector, a cup-type reflector similar to that shown in FIGS.
Also in these embodiments, the leads 11 and 12 are connected to the light emitting element 20 through the wire 40 at the connection portion. Of the leads 11, 12, a portion that is in the sealing material 30 and is directly connected to the light emitting element 20 by a die bond material, a wire, a bump, or the like is exposed outside the inner lead portions 11 a, 12 a and the sealing material 30. And the site | part which takes an electrical connection with electrodes, such as an external wiring board, corresponds to the outer lead parts 11b and 12b. In these embodiments, a part of the leads 11 and 12 is covered with the resin molded body 13. The resin molded body 13 also has a function as a white insulating layer, and this thickness can be increased.
A plurality of light emitting elements 20 may exist. A plurality of mounting portions may be collectively sealed with a sealing material.
The sealing material 30 may be transparent depending on the purpose of use, may contain a phosphor, and may be collectively sealed by molding when a reflector or a dam portion is not used. In the chip-on-board type, since the light emitting device portion can be provided directly on the wiring board 70, there is an advantage that it is easy to remove heat from the light emitting element to the wiring board 70 by eliminating the trouble of surface mounting. The outer lead portion may be exposed on the same surface as the light emitting element mounting side of the wiring board 70. However, when the package after mounting is divided and used as a single piece, the surface mounting is performed on another wiring board. When it is necessary to do so, a through hole or the like can be provided in the wiring board constituting the package to provide electrical continuity on the back surface, and an outer lead portion can be provided on the back surface of the light emitting device.
FIG. 5 shows an insulating material such as ceramics (AlN, Al 2 O 3 ) or a thermosetting silicone resin composition used in the present invention as a base substrate 80 constituting the wiring substrate 70. In this embodiment, a configured insulating substrate is used.
The base 10a is made of a member having a higher thermal conductivity than the base material used for the base substrate 80, such as a hardened material of metal or a heat conductive paste, and also acts as a heat sink, so that the heat generation amount of the light emitting element used is small. Even if it is large, it can sufficiently dissipate heat.

<4.6.4.図6の実施形態>
図6の実施形態に係る半導体発光装置について説明する。
図6として概略断面図が示される半導体発光装置1Dは、図3の半導体発光装置1Aに比べ、発光素子20と第1のリード11、第2のリード12の電気的接続部を離した構造を有する。このことにより、発光素子20からの電界、熱、光などの影響により発光素子20直近の電極の金属(銀等)メッキの着色による輝度低下を抑えることができる。
<4.6.4. Embodiment of FIG. 6>
A semiconductor light emitting device according to the embodiment of FIG. 6 will be described.
The semiconductor light emitting device 1D, whose schematic cross-sectional view is shown in FIG. 6, has a structure in which the electrical connection portions of the light emitting element 20, the first lead 11, and the second lead 12 are separated from the semiconductor light emitting device 1A of FIG. Have. Accordingly, it is possible to suppress a decrease in luminance due to coloring of a metal (such as silver) plating on an electrode in the immediate vicinity of the light emitting element 20 due to the influence of an electric field, heat, light, or the like from the light emitting element 20.

<4.6.5.図7の実施形態>
図7の実施形態に係る半導体発光装置について説明する。
図7として概略断面図が示される半導体発光装置1Eは、リード11,12と樹脂成形体13とから構成されるパッケージ10の構造が液状射出成形(LIM)法に適しており、また、放熱が良好な構成となっている。
本発明のパッケージ成形においてはパッケージ材バインダとなるシリコーン樹脂が従来のエンプラ樹脂と比較して柔らかくタックがあるため型離れしにくかったり、成形体の薄肉部が離型時に千切れて型内に残ったりして連続成形を妨げる要因となりやすい。そのため、側面リフレクタ部の上縁やパッケージの角は角部を無くし曲面に近い形状とすることが好ましい。また、リフレクタの内壁面及び外壁面はパッケージ底面から離れるほどリフレクタが肉薄となるように、パッケージ底面に対して垂直に立ち上げた線から3±1度程度の傾斜を有することが好ましい。また、成形・型抜け時、パーツフィーダー・ロボットアーム等によるパッケージ個片移送時、また発光素子実装時などにパッケージへのねじり外力がかかりリードが成形体から剥離・脱落することがあるので、正負のインナーリードは例えばパッケージ上から見て凸型と凹型のようにパッケージ底面において相互に入りこみ、ねじり応力やワイヤボンディング時の局部応力に対して強い構造となっていることが好ましい。さらに、リードは上下から成形体に挟まれた部分の面積が多い構造であることが好ましく、図7の実施態様では側面部と底面部の樹脂成形体がアウターリードを挟む構造になっている。
リードがあらかじめ折り曲げてあると図3等のように成形後に折り曲げ加工するよりパッケージとリードの界面に応力がかからず破損しにくいため好ましい。本実施態様においてはアウターリードは完成形状に予め折り曲げてあり、かつアウターリード裏面はパッケージ実装面と同一平面上にあり、実装安定性が高く放熱が良好である。
<4.6.5. Embodiment of FIG. 7>
A semiconductor light emitting device according to the embodiment of FIG. 7 will be described.
In the semiconductor light emitting device 1E shown in a schematic cross-sectional view as FIG. 7, the structure of the package 10 composed of the leads 11 and 12 and the resin molded body 13 is suitable for the liquid injection molding (LIM) method, and heat dissipation is possible. It has a good configuration.
In the package molding of the present invention, the silicone resin used as the package material binder is soft and tacky compared to the conventional engineering plastic resin, so that it is difficult to separate the mold, or the thin part of the molded body is cut off at the time of mold release and remains in the mold. It tends to be a factor that hinders continuous molding. For this reason, it is preferable that the upper edge of the side reflector part and the corner of the package have a shape close to a curved surface with no corners. In addition, it is preferable that the inner wall surface and the outer wall surface of the reflector have an inclination of about 3 ± 1 degrees from a line raised perpendicularly to the package bottom surface so that the reflector becomes thinner as the distance from the package bottom surface increases. In addition, the lead may be peeled off or dropped from the molded body due to the torsional external force applied to the package during molding, mold removal, parts feeding with a parts feeder, robot arm, etc., or when mounting a light emitting element. The inner leads preferably have a structure that is strong against a torsional stress and a local stress during wire bonding, for example, as seen from the top of the package. Furthermore, it is preferable that the lead has a structure with a large area between the upper and lower portions of the molded body. In the embodiment of FIG. 7, the resin molded body on the side surface portion and the bottom surface portion sandwiches the outer lead.
It is preferable that the lead be bent in advance because stress is not applied to the interface between the package and the lead, and the lead is less likely to break than bending after forming as shown in FIG. In this embodiment, the outer lead is bent in advance into a completed shape, and the back surface of the outer lead is on the same plane as the package mounting surface, so that mounting stability is high and heat dissipation is good.

<4.6.6.図8の実施形態>
図8の実施形態に係る半導体発光装置について説明する。
図8として概略平面図が示される半導体発光装置1Fは、第1のリード又は第2のリードに保護素子が載置されていることを特徴とする実施形態であり、保護素子20aを有することにより、発光素子20を過電流から保護することができる。基台10aには発光素子20が載置されている。本実施形態において、樹脂成形体13には上方から見て略正方形であるが、他の形状としてもよい。また、樹脂成形体13の凹部14は上方から見て略円形であるが、他の形状としてもよい。この凹部14には基台10aが露出している。図示するように第1のリード11には、保護素子20aを載置する。なお、本実施形態では保護素子20aは第1のリードと共に樹脂成形体13の凹部14に露出しているが、反射率を考慮する必要がある場合には、保護素子20aとこれを載置する第1のリード11及びそれらを電気的に接続するワイヤ40は樹脂成形体13内部に埋設されていてもよい。なお、第1のアウターリード11bと第2のアウターリード12b、及び基台10aの裏面は図7の実施形態と同様の構造となってパッケージ10の裏面に露出して、他の配線や基板と電気的に接続して表面実装することができる。
<4.6.6. Embodiment of FIG. 8>
A semiconductor light emitting device according to the embodiment of FIG. 8 will be described.
A semiconductor light emitting device 1F shown in a schematic plan view as FIG. 8 is an embodiment in which a protective element is placed on the first lead or the second lead, and includes the protective element 20a. The light emitting element 20 can be protected from overcurrent. The light emitting element 20 is mounted on the base 10a. In the present embodiment, the resin molded body 13 is substantially square when viewed from above, but may have other shapes. Moreover, although the recessed part 14 of the resin molding 13 is substantially circular seeing from upper direction, it is good also as another shape. The base 10 a is exposed in the recess 14. As shown in the drawing, the protective element 20 a is placed on the first lead 11. In the present embodiment, the protection element 20a is exposed to the concave portion 14 of the resin molded body 13 together with the first lead. However, when it is necessary to consider the reflectance, the protection element 20a and the protection element 20a are placed. The first lead 11 and the wire 40 that electrically connects them may be embedded in the resin molded body 13. The first outer lead 11b, the second outer lead 12b, and the back surface of the base 10a are exposed to the back surface of the package 10 in the same structure as the embodiment of FIG. It can be electrically connected and surface mounted.

<5.半導体発光装置用パッケージ及び半導体発光装置の製造方法>
本発明の半導体発光装置用パッケージを有してなる半導体発光装置の製造方法について説明する。
図9(a)〜(e)は、第1の実施形態に係る半導体発光装置の製造工程を示す概略断面図である。
<5. Semiconductor Light Emitting Device Package and Semiconductor Light Emitting Device Manufacturing Method>
A method for manufacturing a semiconductor light emitting device having the package for a semiconductor light emitting device of the present invention will be described.
FIGS. 9A to 9E are schematic cross-sectional views illustrating the manufacturing steps of the semiconductor light emitting device according to the first embodiment.

まず、第1の工程として、パッケージ10の凹部14の底面14aに対応する第1のリード11及び第2のリード12を、下金型100と上金型110とで挟み込む(図9(a)及び(b))。
ここで基台10aが第1のリード11及び第2のリード12と共に樹脂成形体13と一体成形される場合には、図9(a)及び(b)に示すように基台10aは第1のリード11及び第2のリード12と共に金型内に挿入され、下金型100と上金型110とで挟み込まれる。 なお、基台10aがパッケージに形成された空洞部に、成形後挿入される場合には、上金型及び/又は下金型として空洞部の形状に対応した凸部が存在するものが使用される。
First, as a first step, the first lead 11 and the second lead 12 corresponding to the bottom surface 14a of the recess 14 of the package 10 are sandwiched between the lower mold 100 and the upper mold 110 (FIG. 9A). And (b)).
Here, when the base 10a is integrally formed with the resin molding 13 together with the first lead 11 and the second lead 12, the base 10a is the first as shown in FIGS. 9 (a) and 9 (b). The lead 11 and the second lead 12 are inserted into the mold and sandwiched between the lower mold 100 and the upper mold 110. When the base 10a is inserted into the cavity formed in the package after molding, an upper mold and / or a lower mold having protrusions corresponding to the shape of the cavity is used. The

下金型100には、パッケージ10の樹脂成形体13の形状に対応する凹部100b及び前記パッケージにおける凹部14の形状に対応する凸部100aが形成されている。
ここで、凹部14の底面14aに対応する凸部100aの平坦面100cは、第1のインナーリード部11a及び第2のインナーリード部12aと接触するように形成されている。
The lower mold 100 is formed with a concave portion 100b corresponding to the shape of the resin molded body 13 of the package 10 and a convex portion 100a corresponding to the shape of the concave portion 14 in the package.
Here, the flat surface 100c of the convex portion 100a corresponding to the bottom surface 14a of the concave portion 14 is formed so as to be in contact with the first inner lead portion 11a and the second inner lead portion 12a.

次いで、第2の工程として、下金型100と上金型110との凹みにより形成される空間部分に射出成形機を用いて前述した液状の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を注入・成形する(図9(c))。   Next, as a second step, the liquid thermosetting silicone resin composition described above is injected and molded into the space formed by the recesses of the lower mold 100 and the upper mold 110 using an injection molding machine ( FIG. 9 (c)).

この工程では、液状の上記熱硬化性シリコーン樹脂組成物の供給はペール缶などの所定の容器から圧送する等の方法により行われる。熱硬化性シリコーン樹脂組成物は一液型、二液型を問わず、ペールポンプ(ドラムポンプ)を用いて計量プランジャ又は、計量スクリュー部へ組成物をいったん圧送し、次に予熱された金型内に計量プランジャ(又は計量スクリュー)から所定量射出される。二液型の場合には、一液型用のペールポンプ(ドラムポンプ)2台を同軸にしてプランジャを同時に操作させる方式や、油圧機構によってリンクさせ同時に操作させる方式などにより二成分を同時に計量し、混合装置を経由して計量プランジャ(又は計量スクリュー)より射出すればよい。計量誤差を低減させるため、二つの成分は容量比で1:1に近いことが好ましく、均一に混合するためにはそれぞれの粘度も同じ程度にすることが好ましい。続いて下金型100と上金型110とを所定の温度に加熱し、射出された第1の熱硬化性樹脂を硬化させる。   In this step, the liquid thermosetting silicone resin composition is supplied by a method such as pressure feeding from a predetermined container such as a pail can. The thermosetting silicone resin composition is either a one-pack type or a two-pack type, and once the composition is pumped to a metering plunger or metering screw part using a pail pump (drum pump), then a preheated mold A predetermined amount is injected from the measuring plunger (or measuring screw). In the case of the two-component type, the two components are measured simultaneously by a method in which two single-component pail pumps (drum pumps) are coaxially operated and the plunger is operated simultaneously, or by a method linked and operated by a hydraulic mechanism. Then, it may be injected from the measuring plunger (or measuring screw) via the mixing device. In order to reduce measurement errors, the two components are preferably close to a volume ratio of 1: 1, and in order to mix uniformly, the respective viscosities are preferably set to the same level. Subsequently, the lower mold 100 and the upper mold 110 are heated to a predetermined temperature to cure the injected first thermosetting resin.

第1のインナーリード部11a及び第2のインナーリード部12a(インナーリード部11a、12aの裏面に樹脂成形体が接する場合には、第1のアウターリード部11bと第2のアウターリード部12b)を金型で挟み込むため、上記熱硬化性シリコーン樹脂組成物を射出する際にこれらのリードがばたつくことがなく、バリの発生を抑制できる。なお、必要に応じ、インナーリード部11a,12aの裏面を支えるための支持ピンを用いることができる。   1st inner lead part 11a and 2nd inner lead part 12a (When a resin molding contacts the back of inner lead parts 11a and 12a, the 1st outer lead part 11b and the 2nd outer lead part 12b) Is sandwiched between the molds, so that these leads do not flutter when the thermosetting silicone resin composition is injected, and the generation of burrs can be suppressed. Note that support pins for supporting the back surfaces of the inner lead portions 11a and 12a can be used as necessary.

ここで、第2の工程の射出成形圧力は10〜1200kg/cm2とすることが好ましい。射出成形圧力が10kg/cm2未満では、液状硬化性組成物の金型内での流れが遅く、硬化が先行して未充填(ショート)が発生する恐れがあり、1200kg/cm2を超えると液状硬化性組成物の流れが速すぎて薄肉部などに未充填が生じる充填むらが発生したり、残留応力により成形品が膨張し型離れが悪くなる恐れがある。
さらに液状射出成形機のシリンダー温度は0℃〜100℃であることが好ましい。シリンダー温度が0℃未満では、液状熱硬化性組成物に結露水が混入、凍結し除去できなくなる可能性があり、100℃を超えると液状熱硬化性組成物の硬化反応が過度に進行し、増粘する可能性がある。
Here, the injection molding pressure in the second step is preferably 10 to 1200 kg / cm 2 . In the injection molding pressure is less than 10 kg / cm 2, slow flow in the mold of the liquid curable composition, curing may cause unfilled (short) occurs prior, exceeds 1200 kg / cm 2 There is a possibility that the flow of the liquid curable composition is too fast and filling unevenness in which the thin portion or the like is unfilled occurs, or the molded product expands due to residual stress, resulting in poor mold release.
Furthermore, the cylinder temperature of the liquid injection molding machine is preferably 0 ° C to 100 ° C. If the cylinder temperature is less than 0 ° C., the condensed water may be mixed into the liquid thermosetting composition and may be frozen and cannot be removed. If the temperature exceeds 100 ° C., the curing reaction of the liquid thermosetting composition proceeds excessively, There is a possibility of thickening.

次いで、第3の工程として、射出・注入された上記熱硬化性シリコーン樹脂組成物を加熱・硬化して、底面14aと側面14bとを持つ凹部14を有する樹脂成形体13が得られる。
この加熱・硬化工程の温度や時間等の条件は、バリやショートモールドを低減し、離型をよくする観点からは、液状射出成形時の硬化温度及び時間がそれぞれ、120℃〜230℃及び3秒〜10分間であることが好ましい。必要に応じてポストキュアを行ってもよい。
液状射出成形時の硬化温度がこの範囲より高いと、樹脂の分解劣化や、硬化速度が速すぎることに起因する未充填を引き起こす可能性がある。また硬化温度がこの範囲より低いと、硬化に時間がかかり生産性が低下したり硬化不足により型離れが悪化したりする可能性がある。また、硬化時間は熱硬化性シリコーン樹脂組成物のゲル化速度や硬化速度に応じて適宜選択すればよいが、3秒以上10分以下が好ましく、より好ましくは5秒以上200秒以下、さらに好ましくは10秒以上60秒以下である。硬化時間が上記範囲より短いと硬化不足が生じ型離れが悪化する可能性がある。また、硬化時間が上記範囲より長いと生産性が低下し、液状射出成形の利点を生かせなくなる。
Next, as a third step, the injected and injected thermosetting silicone resin composition is heated and cured to obtain a resin molded body 13 having a recess 14 having a bottom surface 14a and a side surface 14b.
From the viewpoint of reducing burrs and short molds and improving mold release, the conditions such as the temperature and time of the heating / curing process are 120 ° C. to 230 ° C. and 3 ° C., respectively. It is preferable that it is for 10 seconds. You may post-cure as needed.
If the curing temperature at the time of liquid injection molding is higher than this range, there is a possibility of causing degradation of the resin and unfilling due to the too high curing rate. On the other hand, when the curing temperature is lower than this range, it takes a long time to cure and the productivity may be lowered, or the mold release may be deteriorated due to insufficient curing. The curing time may be appropriately selected according to the gelation rate and curing rate of the thermosetting silicone resin composition, but is preferably 3 seconds to 10 minutes, more preferably 5 seconds to 200 seconds, and still more preferably Is 10 seconds or more and 60 seconds or less. If the curing time is shorter than the above range, insufficient curing may occur and mold release may deteriorate. Further, if the curing time is longer than the above range, the productivity is lowered and the advantages of liquid injection molding cannot be utilized.

これにより第1のリード11、第2のリード12、及び、樹脂成形体13が一体的に成形された、底面14aと側面14bとを持つ凹部14を有する、本発明の半導体発光装置用パッケージを提供することができる。   Thus, the package for the semiconductor light emitting device of the present invention having the recess 14 having the bottom surface 14a and the side surface 14b, in which the first lead 11, the second lead 12, and the resin molded body 13 are integrally formed. Can be provided.

次いで、第4の工程として、発光素子20を載置するため、下金型100及び上金型110を取り外す(図9(d))。
なお、基台10aがパッケージに形成された空洞部に成形後挿入される場合は、成形体を金型から取り出した後に基台10aを空洞に挿入し、基台を有するパッケージとする。
Next, as a fourth step, the lower mold 100 and the upper mold 110 are removed in order to place the light emitting element 20 (FIG. 9D).
In addition, when the base 10a is inserted into the cavity formed in the package after being molded, the base 10a is inserted into the cavity after the molded body is taken out from the mold to obtain a package having the base.

次いで、第5の工程として、以下を行う。
発光素子20を基台10aに載置し、ワイヤ40を介して発光素子20が持つ第1の電極21と第1のインナーリード部11aとを電気的に接続する。
以上の工程により、図9(d)の形状のパッケージが形成される。
Next, the following is performed as the fifth step.
The light emitting element 20 is mounted on the base 10a, and the first electrode 21 of the light emitting element 20 and the first inner lead portion 11a are electrically connected via the wire 40.
Through the above steps, a package having the shape of FIG. 9D is formed.

なお、発光素子20が上面と下面に電極を持つ場合は、発光素子20の下面にある第1の電極21に関してはワイヤを用いず、ダイボンディングにて基台10aと電気的接続を取り、基台10aと第1のインナーリード部11aとを接続する。基台10aが絶縁性の素材から構成される場合には、基台10aと発光素子20との間に導電性のサブマウントを使用し、このサブマウントと第1のインナーリード部11aとを電気的に接続してもよい。次に発光素子20の第2の電極22と第2のインナーリード部12aとをワイヤ40を介して電気的に接続する。ここで、第1のリード11又は第2のリード12に保護素子20aを載置する場合には、該載置工程を上記第5の工程の前又は後に行えばよい。   When the light emitting element 20 has electrodes on the upper surface and the lower surface, the first electrode 21 on the lower surface of the light emitting element 20 is electrically connected to the base 10a by die bonding without using a wire. The base 10a and the first inner lead portion 11a are connected. When the base 10a is made of an insulating material, a conductive submount is used between the base 10a and the light emitting element 20, and the submount and the first inner lead portion 11a are electrically connected. May be connected. Next, the second electrode 22 of the light emitting element 20 and the second inner lead portion 12 a are electrically connected via the wire 40. Here, when the protective element 20a is mounted on the first lead 11 or the second lead 12, the mounting step may be performed before or after the fifth step.

次いで、第6の工程として、発光素子20が載置された凹部14内に封止材用熱硬化性樹脂組成物を装入する。   Next, as a sixth step, a thermosetting resin composition for a sealing material is inserted into the recess 14 where the light emitting element 20 is placed.

この封止材用熱硬化性樹脂組成物の装入は、滴下法や射出法、押出法などを用いることができるが、滴下法によることが好ましい。滴下することにより凹部14内に残存する空気を効率的に排出することができるからである。封止材用熱硬化性樹脂組成物は、蛍光体を含むものが好ましい。これにより半導体発光装置の色調調整を容易にすることができる。   The thermosetting resin composition for a sealing material can be charged by a dropping method, an injection method, an extrusion method, or the like, preferably by a dropping method. This is because the air remaining in the recess 14 can be efficiently discharged by dropping. The thermosetting resin composition for a sealing material preferably contains a phosphor. Thereby, the color tone adjustment of the semiconductor light emitting device can be facilitated.

次いで、第7の工程として、封止材用熱硬化性樹脂組成物を加熱・硬化して、封止材30を成形する(図9(e))。   Next, as a seventh step, the sealing material 30 is molded by heating and curing the thermosetting resin composition for the sealing material (FIG. 9E).

このような手順により、量産性よく、耐熱性、耐光性、密着性等に優れた半導体発光装置を製造することができる。また、樹脂成形体を製造する際、樹脂組成物の流動性が良好なためバリ発生が問題となるが上金型と下金型でこれらリードをしっかり挟み込むためバリが発生しにくい。そして、挟み込んだリードは露出するので、この露出部分に発光素子を載置したり、発光素子が持つ電極とリードとをワイヤ等で接続したりすることができる。
特に、半導体発光装置用樹脂成形体13の材質である熱硬化性シリコーン樹脂組成物と封止材30の材料である封止材用熱硬化性樹脂組成物とは、共に熱硬化性樹脂をベースとするため、密着性が良好で半導体発光装置用樹脂成形体13と封止材30との界面の剥離が生じにくく、耐熱性、耐光性、密着性等に優れた半導体発光装置を提供することができる。
By such a procedure, a semiconductor light emitting device excellent in heat resistance, light resistance, adhesion and the like can be manufactured with high productivity. Further, when the resin molded body is manufactured, burrs are a problem because the flowability of the resin composition is good, but burrs are hardly generated because these leads are firmly sandwiched between the upper mold and the lower mold. Since the sandwiched lead is exposed, the light emitting element can be placed on the exposed portion, or the electrode and the lead of the light emitting element can be connected with a wire or the like.
In particular, the thermosetting silicone resin composition that is the material of the resin molded body 13 for the semiconductor light emitting device and the thermosetting resin composition for the sealing material that is the material of the sealing material 30 are both based on the thermosetting resin. Therefore, it is possible to provide a semiconductor light emitting device that has excellent adhesion, is less likely to cause peeling at the interface between the resin molded body 13 for a semiconductor light emitting device and the sealing material 30, and is excellent in heat resistance, light resistance, adhesion, and the like. Can do.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を変更しない限り以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is changed.

実施例1として、樹脂成形体用樹脂として後述する液状熱硬化性ポリオルガノシロキサン(1)を用いた熱硬化性シリコーン樹脂組成物を使用し、半導体発光装置用パッケージに対応する評価を実施するため各試験片を成形した。
また、比較例1として、ポリフタルアミド樹脂組成物(チタニア系顔料、ガラス繊維を含有)である、ソルベイアドバンストポリマーズ株式会社製アモデルA4122を用いて製造された市販品のパッケージ及び試験片を使用した。
それぞれの材料及び得られた組成物の物性を測定すると共に各試験片を用いて、反射率を比較した。
In Example 1, a thermosetting silicone resin composition using a liquid thermosetting polyorganosiloxane (1), which will be described later, is used as a resin for a resin molded body, and evaluation corresponding to a package for a semiconductor light emitting device is performed. Each specimen was molded.
In addition, as Comparative Example 1, a commercially available package and test piece manufactured using Amodel A4122 manufactured by Solvay Advanced Polymers Co., Ltd., which is a polyphthalamide resin composition (containing a titania pigment and glass fiber), were used. .
The physical properties of each material and the obtained composition were measured, and the reflectance was compared using each test piece.

[1.液状熱硬化性ポリオルガノシロキサン(1)の製造]
ビニル基含有ポリジメチルシロキサン組成物(ビニル基:0.3mmol/g含有、粘度3500mPa・s、白金錯体触媒8ppm含有)と、ヒドロシリル基含有ポリジメチルシロキサン組成物(ビニル基:0.1mmol/g含有、ヒドロシリル基:4.6mmol/g含有、粘度600mPa・s)と、硬化遅延成分((D)硬化速度制御剤)含有ポリジメチルシロキサン(ビニル基:0.2mmol/g含有、ヒドロシリル基:0.1mmol/g含有、アルキニル基:0.2mmol/g含有、500mPa・s)とを、100:10:5で混合し、(C)硬化触媒として白金濃度7ppmを含有する液状熱硬化性ポリオルガノシロキサン(1)を得た。
なお、この液状熱硬化性ポリオルガノシロキサン(1)の屈折率は、1.41であった。
[1. Production of liquid thermosetting polyorganosiloxane (1)]
Vinyl group-containing polydimethylsiloxane composition (vinyl group: 0.3 mmol / g contained, viscosity 3500 mPa · s, platinum complex catalyst 8 ppm contained) and hydrosilyl group-containing polydimethylsiloxane composition (vinyl group: 0.1 mmol / g contained) , Hydrosilyl group: 4.6 mmol / g contained, viscosity: 600 mPa · s) and polydimethylsiloxane (vinyl group: 0.2 mmol / g contained, hydrosilyl group: 0. Liquid thermosetting polyorganosiloxane containing 1 mmol / g, alkynyl group: 0.2 mmol / g, 500 mPa · s) at a ratio of 100: 10: 5 and containing (C) a platinum concentration of 7 ppm as a curing catalyst. (1) was obtained.
The liquid thermosetting polyorganosiloxane (1) had a refractive index of 1.41.

[2.樹脂成形体用材料の調製、反射率測定用試験片の作製]
(A)上記で得られた液状熱硬化性ポリオルガノシロキサン(1)60重量部、(B)白色顔料として一次粒子径0.3μm、二次粒子の中心粒径D501.2μm、アスペクト比1.48のα結晶形破砕状アルミナを35重量部、(E)流動性調整剤としてシリカ微粒子「AEROSIL RX200」(比表面積140m2/g)を5重量部の割合で配合し、自転公転式ミキサーを用いた攪拌により白色顔料とシリカ微粒子を前記(1)に分散させ、白色の樹脂成形体用材料を得た。これらの材料を、熱プレス機にて180℃、10kg/cm2、硬化時間240秒の条件で硬化させ、直径13mm、厚さ410μmの実施例1の円形の試験片(テストピース)を得た。
比較例1のポリフタルアミド樹脂については、ソルベイアドバンストポリマーズ株式会社製アモデルA4122の2mm厚のテストパネルを約10mm角の大きさに切り出したものを、試験片(テストピース)とした。
[2. Preparation of resin molding material, production of reflectance measurement specimen]
(A) Liquid thermosetting polyorganosiloxane obtained above (1) 60 parts by weight, (B) White pigment as primary particle diameter 0.3 μm, secondary particle diameter D 50 1.2 μm, aspect ratio 35 parts by weight of 1.48 α crystal form crushed alumina and (E) 5 parts by weight of silica fine particles “AEROSIL RX200” (specific surface area 140 m 2 / g) as a fluidity adjusting agent are blended. The white pigment and silica fine particles were dispersed in the above (1) by stirring with a mixer to obtain a white resin molded material. These materials were cured by a hot press machine at 180 ° C., 10 kg / cm 2 , and a curing time of 240 seconds to obtain a circular test piece (test piece) of Example 1 having a diameter of 13 mm and a thickness of 410 μm. .
About the polyphthalamide resin of the comparative example 1, what cut out the 2 mm thickness test panel of Amodel A4122 by Solvay Advanced Polymers Co., Ltd. to the magnitude | size of about 10 square mm was made into the test piece (test piece).

[3.白色顔料の一次粒子径、および一次粒子のアスペクト比の測定方法]
実施例で用いた白色顔料(アルミナ粉体)のSEM観察により一次粒子径を計測した。粒子径にばらつきがある場合は、数点(例えば10点)をSEM観察し、その平均値を粒子径としてもとめた。特にばらつきが大きく、例えば、極微量含まれる微小粒子や粗大粒子を除き、小粒径と大粒径の差が5倍程度以上あるような場合には、その最大値および最小値を記録した。また、長軸長さ(最大長径)と短軸長さ(長径に垂直方向で最も長い部分の長さ)も計測し、一次粒子径については長軸の長さを採用し、長軸長さ(最大長径)を短軸長さ(長径に垂直方向で最も長い部分の長さ)で除した値をアスペクト比とした。
[3. Measuring method of primary particle diameter of white pigment and aspect ratio of primary particles]
The primary particle diameter was measured by SEM observation of the white pigment (alumina powder) used in the examples. When there was variation in the particle diameter, several points (for example, 10 points) were observed with an SEM, and the average value was obtained as the particle diameter. In particular, when the difference between the small particle size and the large particle size is about 5 times or more except for fine particles and coarse particles contained in a very small amount, the maximum and minimum values are recorded. The major axis length (maximum major axis) and minor axis length (the length of the longest part perpendicular to the major axis) are also measured, and the major axis length is adopted as the primary particle diameter. The value obtained by dividing (maximum major axis) by the minor axis length (the length of the longest portion perpendicular to the major axis) was taken as the aspect ratio.

[4.白色顔料の二次粒子の中心粒径D50の測定方法]
10〜20mgの白色顔料(アルミナ粉体)に0.2%のポリリン酸ナトリウム水溶液10gを加え、超音波振動でアルミナを分散させた。この分散液を用いて白色顔料の二次粒子の体積基準の中心粒径D50を日機装株式会社製 マイクロトラックMT3000IIにて測定した。なお、中心粒径D50は、積算%の体積基準粒度分布曲線が50%の横軸と交差するポイントの粒子径をいう。
[4. Method of measuring the mean particle diameter D 50 of the white pigment secondary particles]
10 g of 0.2% sodium polyphosphate aqueous solution was added to 10 to 20 mg of white pigment (alumina powder), and alumina was dispersed by ultrasonic vibration. Using this dispersion, the volume-based center particle diameter D 50 of the secondary particles of the white pigment was measured with a Microtrac MT3000II manufactured by Nikkiso Co., Ltd. The central particle size D 50 is the particle size at the point where the volume-based particle size distribution curve of cumulative% intersects the horizontal axis of 50%.

[5.試験片の反射率測定]
上記実施例1および比較例1の各試験片について、コニカミノルタ社製SPECTROPHOTOMETER CM−2600dを用いて測定径6mmにて360nmから740nmの波長における反射率を測定した。リード電極単独の反射率の値と合わせて、測定結果を図10、表1に示す。本発明の樹脂成形体用材料は、従来のパッケージ材であるポリフタルアミド樹脂やLED用に多用される銀メッキ銅リードフレーム(リード)よりもバインダとして用いている樹脂及び反射材フィラーの種類・粒子径に由来し反射率高いため、長期使用時に着色劣化しやすい銀メッキ表面の電極露出面積を少なくすることが可能である。
前記の試験片を液体窒素で凍結した状態でミクロトームにより切削し、パッケージ断面のSEM観察を行った。断面に露出したアルミナの一次粒子径は0.3μm、一次粒子のアスペクト比は1.48であった。
[5. Specimen reflectance measurement]
About each test piece of the said Example 1 and the comparative example 1, the reflectance in the wavelength of 360 nm to 740 nm was measured with the measurement diameter of 6 mm using SPECTROTOPOMETER CM-2600d by Konica Minolta. The measurement results are shown in FIG. 10 and Table 1 together with the reflectance value of the lead electrode alone. The resin molded body material of the present invention is a type of resin and reflector filler used as a binder rather than polyphthalamide resin, which is a conventional package material, and silver-plated copper lead frames (leads) frequently used for LEDs. Since the reflectance is high due to the particle diameter, it is possible to reduce the exposed area of the electrode on the surface of the silver plating which is likely to be colored and deteriorated during long-term use.
The test piece was cut with a microtome while frozen in liquid nitrogen, and SEM observation of the package cross section was performed. The primary particle diameter of the alumina exposed in the cross section was 0.3 μm, and the aspect ratio of the primary particles was 1.48.

Figure 2012234947
Figure 2012234947

[6.樹脂成形体用材料の粘度測定]
実施例1の樹脂成形体用材料について、レオメトリクス社製RMS−800にてパラレルプレートを用い、測定温度25℃で粘度測定を行った。
その結果を表2、および図11に示す。実施例1の材料は、25℃における剪断速度1s-1および100s-1での粘度、並びにその傾きが樹脂成形体の液状射出成形に適していることがわかる。
[6. Viscosity measurement of resin molding materials]
About the material for resin moldings of Example 1, viscosity measurement was performed at a measurement temperature of 25 ° C. using a parallel plate in RMS-800 manufactured by Rheometrics.
The results are shown in Table 2 and FIG. It can be seen that the material of Example 1 is suitable for the liquid injection molding of a resin molded body in terms of the viscosity at a shear rate of 1 s −1 and 100 s −1 at 25 ° C. and the inclination thereof.

Figure 2012234947
Figure 2012234947

[7.パッケージの液状射出成形]
実施例1の樹脂成形体用材料を用いて、全面銀メッキした銅リードフレームと共に液状射出成形により図1及び図2の実施形態の形状を有する半導体発光装置用パッケージを成形する。なお、成形は金型温度170℃、硬化時間20秒の条件で行う。
[7. Liquid injection molding of packages]
Using the resin molded body material of Example 1, a package for a semiconductor light emitting device having the shape of the embodiment of FIGS. 1 and 2 is formed by liquid injection molding together with a copper lead frame plated with silver on the entire surface. Molding is performed under conditions of a mold temperature of 170 ° C. and a curing time of 20 seconds.

[8.封止材の製造]
モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製両末端シラノールジメチルシリコーンオイルXC96−723を385g、メチルトリメトキシシランを10.28g、及び、触媒としてジルコニウムテトラアセチルアセトネート粉末0.791gを、攪拌翼と、分留管、ジムロートコンデンサ及びリービッヒコンデンサとを取り付けた500ml三つ口フラスコ中に計量し、室温にて15分間触媒の粗大粒子が溶解するまで攪拌した。この後、反応液を100℃まで昇温して触媒を完全溶解し、ジムロートコンデンサを用いて100℃全還流下で30分間500rpmで攪拌しつつ初期加水分解を行った。
[8. Manufacturing of sealing material]
Momentive Performance Materials Japan G.K. both ends silanol dimethyl silicone oil XC96-723 385g, methyltrimethoxysilane 10.28g, and zirconium tetraacetylacetonate powder 0.791g as a catalyst, , Weighed into a 500 ml three-necked flask equipped with a fractionating tube, Dimroth condenser and Liebig condenser, and stirred at room temperature for 15 minutes until the coarse particles of the catalyst were dissolved. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 100 ° C. to completely dissolve the catalyst, and initial hydrolysis was performed while stirring at 500 rpm for 30 minutes under 100 ° C. total reflux using a Dimroth condenser.

続いて留出ラインをリービッヒコンデンサ側に切り替えて、窒素をSV20で液中に吹き込み生成メタノール及び水分、副生する低沸点ケイ素化合物を窒素に随伴させて留去しつつ100℃、500rpmにて1時間攪拌した。窒素をSV20で液中に吹き込みながらさらに130℃に昇温、保持しつつ5時間重合反応を継続し、粘度120mPa・sの反応液を得た。なお、「SV」は「Space Velocity」の略称であり、単位時間当たりの窒素吹き込み体積比(対反応液体積)を指す。
窒素の吹き込みを停止し反応液をいったん室温まで冷却した後、ナス型フラスコに反応液を移し、ロータリーエバポレーターを用いてオイルバス上120℃、圧力1kPaで50分間、微量に残留しているメタノール及び水分、低沸点ケイ素化合物を留去し、粘度230mPa・s、屈折率1.41の無溶剤の封止材液を得た。
Subsequently, the distillation line was switched to the Liebig condenser side, nitrogen was blown into the liquid with SV20, and methanol, water, and by-product low-boiling silicon compounds were distilled off accompanied by nitrogen at 100 ° C. and 500 rpm. Stir for hours. The polymerization reaction was continued for 5 hours while raising and maintaining the temperature at 130 ° C. while blowing nitrogen into the liquid with SV20 to obtain a reaction liquid having a viscosity of 120 mPa · s. “SV” is an abbreviation for “Space Velocity” and refers to a nitrogen blowing volume ratio per unit time (vs. reaction solution volume).
Nitrogen blowing was stopped and the reaction solution was once cooled to room temperature. Then, the reaction solution was transferred to an eggplant-shaped flask, and a methanol remaining in a minute amount at 120 ° C. and a pressure of 1 kPa on an oil bath using a rotary evaporator. Water and a low-boiling silicon compound were distilled off to obtain a solvent-free sealing material liquid having a viscosity of 230 mPa · s and a refractive index of 1.41.

[9.発光装置の製造]
[9−1.発光装置の組み立て]
実施例1及び比較例1のパッケージを用い、次のようにして各々3種の発光装置を組み立てる。360nm、406nm、460nmの発光波長を有する半導体発光素子1個(定格電流20mA)をパッケージの凹部に露出しているインナーリード上の所定位置にシリコーンダイボンド材(信越化学工業(株)製 KER−3000−M2)を介して設置した後、該シリコーンダイボンド材を100℃で1時間、さらに150℃で2時間硬化させる。こうして半導体発光素子をパッケージ上に搭載した後、金線で該パッケージのリード電極と半導体発光素子を接続する。
[9. Manufacturing of light-emitting device]
[9-1. Assembly of light emitting device]
Using the packages of Example 1 and Comparative Example 1, three types of light emitting devices are each assembled as follows. Silicone die-bonding material (Ker-3000 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is placed at a predetermined position on the inner lead where one semiconductor light emitting element (rated current 20 mA) having emission wavelengths of 360 nm, 406 nm, and 460 nm is exposed in the recess of the package. After installation via -M2), the silicone die bond material is cured at 100 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours. After mounting the semiconductor light emitting element on the package in this way, the lead electrode of the package and the semiconductor light emitting element are connected with a gold wire.

[9−2.半導体発光素子の封止]
9−1にて製造した発光装置のパッケージ凹部へ、開口部上縁と同じ高さになるように前述の封止材を滴下した後、恒温器にて90℃×2時間、次いで110℃×1時間、150℃×3時間の加熱硬化を行い半導体発光素子を透明(クリア)封止し、実施例1、比較例1のパッケージ各々について360nm、406nm、460nmの発光素子を有する3種の半導体発光装置を得る。
[9-2. Semiconductor light emitting device sealing]
After dripping the above-mentioned sealing material into the package recess of the light emitting device manufactured in 9-1 so as to be the same height as the upper edge of the opening, 90 ° C. × 2 hours, and then 110 ° C. × Three types of semiconductors having a light emitting element of 360 nm, 406 nm, and 460 nm for each of the packages of Example 1 and Comparative Example 1 are cured by heating and curing for 1 hour at 150 ° C. for 3 hours to transparently seal the semiconductor light emitting element. A light emitting device is obtained.

本発明によれば、屋内外の照明器具、ディスプレイ、携帯電話や液晶テレビ、デジタルサイネージなどのバックライト、カメラのフラッシュライト、前照灯などの車載照明、検査用や医療用の照明、植物工場などの各種照明用光源として好適に利用することができる、半導体発光装置が提供される。   According to the present invention, indoor and outdoor lighting fixtures, displays, backlights for mobile phones, liquid crystal televisions, digital signage, etc., in-vehicle lighting such as camera flashlights, headlights, inspection and medical lighting, plant factories A semiconductor light-emitting device that can be suitably used as a light source for various illuminations is provided.

1,1A〜1F 半導体発光装置
10 (半導体発光装置用樹脂)パッケージ
10a 基台
11 第1のリード
11a 第1のインナーリード部
11b 第1のアウターリード部
12 第2のリード
12a 第2のインナーリード部
12b 第2のアウターリード部
13 (半導体発光装置用)樹脂成形体
13a (樹脂成形体の)連結部
14 凹部
14a 底面
14b 側面
20 発光素子
20a 保護素子
21 第1の電極
22 第2の電極
30 封止材
40 ワイヤ
50a,50b 絶縁体
60 蛍光体層
70 配線基板
80 ベース基板
100 下金型
110 上金型
1, 1A to 1F Semiconductor light emitting device 10 (resin for semiconductor light emitting device) package 10a base 11 first lead 11a first inner lead portion 11b first outer lead portion 12 second lead 12a second inner lead Portion 12b Second outer lead portion 13 (for semiconductor light emitting device) resin molded body 13a (resin molded body) connecting portion 14 recess 14a bottom surface 14b side surface 20 light emitting element 20a protective element 21 first electrode 22 second electrode 30 Sealing material 40 Wire 50a, 50b Insulator 60 Phosphor layer 70 Wiring substrate 80 Base substrate 100 Lower mold 110 Upper mold

Claims (17)

第1のリードと、第2のリードと、第1のリード及び第2のリードと一体的に成形されてなる樹脂成形体とを有してなる半導体発光装置用樹脂パッケージであって、
該樹脂パッケージは底面と側面とを有する凹部が形成されており、その凹部の底面から第1のリード及び第2のリードが露出しているとともに、該樹脂パッケージが半導体発光素子を載置するための基台を有しており、
かつ前記樹脂成形体は、(A)ポリオルガノシロキサン、(B)一次粒子のアスペクト比が1.2以上4.0以下、一次粒子径が0.1μm以上2.0μm以下の白色顔料、および(C)硬化触媒を含有する組成物から形成されていることを特徴とする半導体発光装置用樹脂パッケージ。
A resin package for a semiconductor light emitting device, comprising: a first lead; a second lead; and a resin molded body formed integrally with the first lead and the second lead;
The resin package is formed with a recess having a bottom surface and a side surface, and the first lead and the second lead are exposed from the bottom surface of the recess, and the resin package mounts the semiconductor light emitting element. Has a base of
And the resin molded body comprises (A) polyorganosiloxane, (B) a white pigment having an aspect ratio of primary particles of 1.2 to 4.0, a primary particle diameter of 0.1 to 2.0 μm, and ( C) A resin package for a semiconductor light-emitting device, which is formed from a composition containing a curing catalyst.
前記(B)白色顔料の二次粒子の中心粒径が、0.02μm以上5μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光装置用樹脂パッケージ。   2. The resin package for a semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein a central particle size of secondary particles of the (B) white pigment is 0.02 μm or more and 5 μm or less. 前記(B)白色顔料が、アルミナ及び/又はチタニアであることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体発光装置用樹脂パッケージ。   The resin package for a semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein the white pigment (B) is alumina and / or titania. 前記樹脂成形体を形成する組成物が、フィラー、拡散剤、蛍光物質、反射性物質、遮光性物質、紫外線吸収剤、及び酸化防止剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の材料を含む組成物であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体発光装置用樹脂パッケージ。   The composition forming the resin molded body contains at least one material selected from the group consisting of a filler, a diffusing agent, a fluorescent material, a reflective material, a light shielding material, an ultraviolet absorber, and an antioxidant. The resin package for a semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein the resin package is a semiconductor package for a semiconductor light-emitting device. 前記樹脂成形体が、液状射出成形(LIM)法により成形されたものであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体発光装置用樹脂パッケージ。   5. The resin package for a semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein the resin molded body is molded by a liquid injection molding (LIM) method. 半導体発光装置用樹脂パッケージ凹部の側面末端部分が、稜角部を有していないことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の半導体発光装置用樹脂パッケージ。   6. The resin package for a semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the side end portion of the resin package concave portion for the semiconductor light emitting device does not have a ridge corner. 前記基台の底面が、半導体発光装置用樹脂パッケージから露出されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の半導体発光装置用樹脂パッケージ。   The resin package for a semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein a bottom surface of the base is exposed from the resin package for a semiconductor light-emitting device. 請求項1から7のいずれか1項に記載の半導体発光装置用樹脂パッケージの基台に半導体発光素子が載置され、該発光素子が第1及び第2のリードと電気的に接続されており、かつ前記発光素子が、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂及びアクリレート樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂を主成分として含む組成物からなる封止材により封止されていることを特徴とする半導体発光装置。   A semiconductor light emitting element is mounted on the base of the resin package for a semiconductor light emitting device according to claim 1, and the light emitting element is electrically connected to the first and second leads. The light-emitting element is sealed with a sealing material made of a composition containing as a main component at least one resin selected from the group consisting of epoxy resins, modified epoxy resins, silicone resins, modified silicone resins, and acrylate resins. A semiconductor light-emitting device. 前記封止材が、フィラー、拡散剤、蛍光物質、反射性物質、紫外線吸収剤及び酸化防止剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の材料を含む組成物から形成されていることを特徴とする請求項8に記載の半導体発光装置。   The sealing material is formed of a composition containing at least one material selected from the group consisting of a filler, a diffusing agent, a fluorescent material, a reflective material, an ultraviolet absorber, and an antioxidant. The semiconductor light-emitting device according to claim 8. 前記第1のリード又は第2のリードに保護素子が載置されていることを特徴とする請求項8又は9に記載の半導体発光装置。   The semiconductor light-emitting device according to claim 8, wherein a protective element is placed on the first lead or the second lead. 第1のリードと第2のリードとを一体成形してなる、底面と側面とを持つ凹部が形成された、基台を有する半導体発光装置用樹脂パッケージの製造方法であって、
上金型及び/又は下金型が該樹脂パッケージの形状に対応する凹みを形成しており、第1のリード電極は第1のインナーリード部と第1のアウターリード部とを有しており、第2のリード電極は第2のインナーリード部と第2のアウターリード部を有しており、かつ樹脂パッケージの凹部の底面に相当する第1のインナーリード部と第2のインナーリード部並びに第1のアウターリード部と第2のアウターリード部を上金型と下金型とで挟み込む第1の工程と、
上金型と下金型の前記凹みで形成される空間部分に、(A)ポリオルガノシロキサン、(B)一次粒子のアスペクト比が1.2以上4.0以下、一次粒子径が0.1μm以上2.0μm以下の白色顔料、および(C)硬化触媒を含む液状熱硬化性樹脂組成物を射出して充填する第2の工程と、
充填された熱硬化性樹脂を加熱して硬化し、樹脂パッケージを成形する第3の工程と、を少なくとも有し、かつ、前記基台は下記(i),(ii)のいずれかの方法で形成されることを特徴とする、液状射出成形法による半導体発光装置用樹脂パッケージの製造方法。
(i)前記第1の工程にて、前記第1のリード及び第2のリードに加えて基台も金型内に挿入されて一体成形する方法
(ii)前記上金型及び/又は下金型が該基台の形状に対応する凸部を更に有しており、それにより形成された成形体の空洞部分に前記第3の工程後に基台を嵌入する方法
A method of manufacturing a resin package for a semiconductor light emitting device having a base, in which a recess having a bottom surface and a side surface is formed by integrally molding a first lead and a second lead,
The upper die and / or the lower die form a recess corresponding to the shape of the resin package, and the first lead electrode has a first inner lead portion and a first outer lead portion. The second lead electrode has a second inner lead portion and a second outer lead portion, and the first inner lead portion, the second inner lead portion corresponding to the bottom surface of the concave portion of the resin package, and A first step of sandwiching the first outer lead portion and the second outer lead portion between the upper mold and the lower mold;
In the space formed by the depressions of the upper mold and the lower mold, (A) polyorganosiloxane, (B) the primary particles have an aspect ratio of 1.2 to 4.0, and the primary particle diameter is 0.1 μm. A second step of injecting and filling a liquid thermosetting resin composition containing a white pigment of 2.0 μm or less and (C) a curing catalyst;
And at least a third step of forming a resin package by heating and curing the filled thermosetting resin, and the base is any one of the following (i) and (ii) A method for producing a resin package for a semiconductor light-emitting device by a liquid injection molding method.
(I) A method in which, in the first step, a base is inserted into the mold in addition to the first lead and the second lead, and is integrally formed. (Ii) The upper mold and / or the lower mold A method in which the mold further has a convex portion corresponding to the shape of the base, and the base is inserted into the hollow portion of the molded body formed thereby after the third step.
第2の工程が、液状射出成形機を用いて行われ、かつ、射出成形圧力が10kg/cm2以上1200kg/cm2以下であることを特徴とする請求項11に記載の樹脂パッケージの製造方法。 The method for producing a resin package according to claim 11, wherein the second step is performed using a liquid injection molding machine, and the injection molding pressure is 10 kg / cm 2 or more and 1200 kg / cm 2 or less. . 第2の工程が、液状射出成形機を用いて行われ、かつ、液状射出成形機のシリンダー温度が0℃以上100℃以下であることを特徴とする請求項11又は12に記載の樹脂パッケージの製造方法。   13. The resin package according to claim 11, wherein the second step is performed using a liquid injection molding machine, and the cylinder temperature of the liquid injection molding machine is 0 ° C. or more and 100 ° C. or less. Production method. 液状射出成形時の硬化温度及び時間がそれぞれ、120℃以上230℃以下及び3秒以上10分間以下であることを特徴とする請求項11から13のいずれか1項に記載の樹脂パッケージの製造方法。   The method for producing a resin package according to any one of claims 11 to 13, wherein the curing temperature and time at the time of liquid injection molding are 120 ° C or higher and 230 ° C or lower and 3 seconds or longer and 10 minutes or shorter, respectively. . 液状射出成形に用いる(A)ポリオルガノシロキサン、(B)一次粒子のアスペクト比が1.2以上4.0以下、一次粒子径が0.1μm以上2.0μm以下の白色顔料、および(C)硬化触媒を含有する液状熱硬化性樹脂組成物の粘度が、25℃、剪断速度100/sの条件で、10Pa・s以上10000Pa・s以下である請求項11から14のいずれか1項に記載の樹脂パッケージの製造方法。   (A) a polyorganosiloxane used for liquid injection molding, (B) a white pigment having a primary particle aspect ratio of 1.2 to 4.0, a primary particle diameter of 0.1 to 2.0 μm, and (C) The viscosity of the liquid thermosetting resin composition containing a curing catalyst is 10 Pa · s or more and 10,000 Pa · s or less under the conditions of 25 ° C and a shear rate of 100 / s. Resin package manufacturing method. 請求項1から7のいずれか1項に記載の樹脂パッケージを用いる半導体発光装置の製造方法であって、
前記樹脂パッケージの基台に半導体発光素子を載置し、該発光素子の第1の電極と第1のインナーリードとを電気的に接続し、かつ該発光素子の第2の電極と第2のインナーリードとを電気的に接続する第1の工程と、
該樹脂パッケージの凹部に、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂及びアクリレート樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂を主成分として含む組成物を装入する第2の工程と、
前記組成物を加熱して硬化し、発光素子を封止する第3の工程と、
を有することを特徴とする、半導体発光装置の製造方法。
A method for manufacturing a semiconductor light-emitting device using the resin package according to claim 1,
A semiconductor light emitting element is mounted on the base of the resin package, the first electrode of the light emitting element and the first inner lead are electrically connected, and the second electrode of the light emitting element and the second electrode A first step of electrically connecting the inner lead;
A second step of charging the concave portion of the resin package with a composition containing at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a modified epoxy resin, a silicone resin, a modified silicone resin and an acrylate resin as a main component; ,
A third step of heating and curing the composition to seal the light emitting element;
A method of manufacturing a semiconductor light emitting device, comprising:
前記第1のリード又は第2のリードに、保護素子を載置する工程を、前記第1の工程の前又は後に有することを特徴とする請求項16に記載の半導体発光装置の製造方法。   The method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to claim 16, further comprising a step of placing a protective element on the first lead or the second lead before or after the first step.
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