JP2012141407A - Manufacturing method of spectacle lens - Google Patents

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Naoki Uchida
直樹 内田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a spectacle lens which can manufacture a spectacle lens with a desired hue angle without preparing many kinds of dyeing agents.SOLUTION: There is provided a manufacturing method of a spectacle lens 1 in which a first organic film 51 with a high refractive index provided in a lens base material 2 and a second organic film 52 with a low refractive index provided in the first organic film 51 are included to constitute an antireflection layer 5, and the refractive index n of the first organic film 51 is made 2.00 or more and the film thickness of the first organic film 51 is made to change in a prescribed range to make a reflection color a color of a desired hue angle.

Description

本発明は基材に有機膜の反射防止層が設けられた眼鏡レンズを製造する方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a spectacle lens in which an organic film antireflection layer is provided on a base material.

一般に、眼鏡レンズの表面には反射防止層が設けられることが多い。
この反射防止層の従来例として、種々のものがあるが、例えば、低屈折率の薄膜と高屈折率の薄膜とを交互に複数積層してなるものの他、基材側の高屈折率層と大気側の低屈折率層との2層からなるものがある。
2層から構成される反射防止層として、ガラス等の基体の表面に設けられ酸化チタン等からなる高屈折率層と、この高屈折率層の上に設けられる低屈折率層とからなるもの(特許文献1)や、プラスチック基材上に設けられる高屈折率層と大気側に設けられる低屈折率層との2層からなる有機系反射防止層がある(特許文献2)。
In general, an antireflection layer is often provided on the surface of a spectacle lens.
There are various conventional examples of the antireflection layer. For example, the antireflective layer is formed by alternately laminating a plurality of thin films having a low refractive index and thin films having a high refractive index. There are some which consist of two layers with a low refractive index layer on the atmosphere side.
As an antireflection layer composed of two layers, a high refractive index layer made of titanium oxide or the like provided on the surface of a substrate such as glass and a low refractive index layer provided on the high refractive index layer ( Patent Document 1) and an organic antireflection layer composed of two layers of a high refractive index layer provided on a plastic substrate and a low refractive index layer provided on the atmosphere side (Patent Document 2).

特許文献1の従来例は、フッ素含有シラン化合物の防汚層を設けなくても、指紋が付着しにくくするために、基材側の高屈折率層の屈折率を1.70以上とし、大気側の低屈折率層を、酸化ケイ素を含有する親水性屈折率層とし、かつ、その屈折率を1.35〜1.45としたものである。
特許文献2の従来例は、屈折率が1.67以下の汎用性のあるプラスチック基材を用いても十分な反射防止特性をもたせるため、基材側の高屈折率層の屈折率を1.6〜2.0とし、大気側の低屈折率層の屈折率を1.3〜1.5とし、かつ、高屈折率層の屈折率が低屈折率層の屈折率よりも0.1以上高いものにしたものである。そして、高屈折率層の膜厚を100〜200nmとしている。
In the conventional example of Patent Document 1, the refractive index of the high refractive index layer on the substrate side is set to 1.70 or more in order to make it difficult for the fingerprint to adhere without providing the antifouling layer of the fluorine-containing silane compound. The low refractive index layer on the side is a hydrophilic refractive index layer containing silicon oxide, and the refractive index is 1.35 to 1.45.
Since the conventional example of Patent Document 2 has sufficient antireflection characteristics even when a general-purpose plastic substrate having a refractive index of 1.67 or less is used, the refractive index of the high refractive index layer on the substrate side is 1. 6 to 2.0, the refractive index of the low refractive index layer on the atmosphere side is 1.3 to 1.5, and the refractive index of the high refractive index layer is 0.1 or more than the refractive index of the low refractive index layer It is a high one. The film thickness of the high refractive index layer is 100 to 200 nm.

特開2010−167744号公報JP 2010-167744 A 特開2008−46264号公報JP 2008-46264 A

眼鏡レンズは、反射防止特性をより高いものにすることが望まれる一方で、基材を着色等して、外観上、他の眼鏡レンズとの差別化を図ることも望まれる。
特許文献1の従来例は、指紋が付着しにくくするためのものである。
特許文献2の従来例は、反射防止特性を高くするためのものである。
これらの特許文献1,2で示される眼鏡レンズにおいて、所望の色相角を得るには、それぞれの色相角に着色できるように、染色液または染色剤を準備しなければならない。
While it is desired that the spectacle lens has a higher antireflection property, it is also desired that the spectacle lens be colored to differentiate it from other spectacle lenses in appearance.
The conventional example of Patent Document 1 is for making it difficult for a fingerprint to adhere.
The conventional example of Patent Document 2 is for increasing the antireflection characteristic.
In the spectacle lenses shown in these Patent Documents 1 and 2, in order to obtain a desired hue angle, a staining solution or a dyeing agent must be prepared so that each hue angle can be colored.

本発明の目的は、多種類の染色剤等を準備しなくても、所望の色相角の眼鏡レンズを製造できる眼鏡レンズの製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a spectacle lens that can manufacture a spectacle lens having a desired hue angle without preparing various kinds of dyes and the like.

本発明は、より大きな反射防止機能を持たせるという従来の反射防止層の発想を転換し、反射防止機能をもたせつつ、積極的に眼鏡レンズから反射させて良好な外観を得るという発想の下に案出された。
つまり、本発明の眼鏡レンズの製造方法は、基材の表面に反射防止層が設けられ、この反射防止層が前記基材に設けられた高屈折率の第一有機膜と、この第一有機膜に設けられ前記第一有機膜より屈折率の低い第二有機膜とを含み構成される眼鏡レンズを製造する方法であって、前記第一有機膜の屈折率nを2.00以上とし、かつ、前記第一有機膜の厚さを変化させて反射色を所望の色相角の色にすることを特徴とする。
The present invention changes the idea of the conventional antireflection layer to give a larger antireflection function, and under the idea of obtaining a good appearance by actively reflecting from the spectacle lens while having the antireflection function. It was devised.
That is, in the method for producing a spectacle lens of the present invention, an antireflection layer is provided on the surface of a base material, the first organic film having a high refractive index provided on the base material, and the first organic film. A method for manufacturing a spectacle lens including a second organic film having a refractive index lower than that of the first organic film provided in the film, wherein the refractive index n of the first organic film is 2.00 or more, In addition, the thickness of the first organic film is changed so that the reflected color has a desired hue angle.

この構成の本発明では、基材に設けられる第一有機膜の厚さを所定の厚さに設定すると、第二有機膜を透過する入射光の一部が第一有機膜で反射され、この反射光により所望の反射色を得ることができる。そして、所望する反射光を得るために、個々の眼鏡レンズを製造するにあたり、第一有機膜の厚さを変えることで、外観上の特色のある眼鏡レンズを提供することができる。さらに、第一有機膜の厚さは成膜条件を変えることで容易に変えることができるので、基材自体を多種類の染色剤等で着色する場合に比べて簡単に外観上の特色のある眼鏡レンズを製造することができる。
ここで、第一有機膜の屈折率nを2.00以上としたのは、反射色として得られる色範囲を広くするためであり、基材側の第一有機膜の厚さを変更するとしたのは、大気側の第二有機膜が最表層である場合には、第二有機膜を薄くし過ぎることで、表面にキズがつきやすくなるからである。
In the present invention having this configuration, when the thickness of the first organic film provided on the substrate is set to a predetermined thickness, a part of the incident light transmitted through the second organic film is reflected by the first organic film, A desired reflected color can be obtained by the reflected light. And in order to obtain desired reflected light, when manufacturing each spectacle lens, the spectacle lens with the characteristic on an external appearance can be provided by changing the thickness of a 1st organic film. Furthermore, since the thickness of the first organic film can be easily changed by changing the film forming conditions, it has a feature in appearance that is easier than when the substrate itself is colored with various kinds of dyes. Eyeglass lenses can be manufactured.
Here, the refractive index n of the first organic film was set to 2.00 or more in order to widen the color range obtained as the reflected color, and the thickness of the first organic film on the substrate side was changed. This is because when the second organic film on the atmosphere side is the outermost layer, the surface is easily scratched by making the second organic film too thin.

本発明では、前記第一有機膜の膜厚を300nm以上400nm以下の範囲とする構成が好ましい。
この構成の本発明では、第一有機膜の膜厚を300nm以上400nm以下の範囲で変化させることで、広い範囲での色相角を得ることができる。
In this invention, the structure which makes the film thickness of said 1st organic film the range of 300 nm or more and 400 nm or less is preferable.
In the present invention having this configuration, the hue angle in a wide range can be obtained by changing the thickness of the first organic film in the range of 300 nm to 400 nm.

前記第一有機膜の屈折率nを2.05以下とする構成が好ましい。
第一有機膜の屈折率nが2.05を超えると、視感反射率が高くなるので、好ましくない。
A configuration in which the refractive index n of the first organic film is 2.05 or less is preferable.
If the refractive index n of the first organic film exceeds 2.05, the luminous reflectance increases, which is not preferable.

前記第二有機膜の膜厚を100nm以上160nm以下の範囲とする構成が好ましい。
この範囲で第二有機膜の膜厚を設定することで、耐擦傷性が良好となる。
A configuration in which the thickness of the second organic film is in the range of 100 nm to 160 nm is preferable.
By setting the film thickness of the second organic film within this range, the scratch resistance becomes good.

本発明の一実施形態で製造される眼鏡レンズの部分拡大断面図。The partial expanded sectional view of the spectacle lens manufactured by one Embodiment of this invention. (A)は実施例1におけるa−b図、(B)は、その波長と反射率との関係を示すグラフ。(A) is a * -b * figure in Example 1, (B) is a graph which shows the relationship between the wavelength and a reflectance. (A)は実施例2におけるa−b図、(B)は、その波長と反射率との関係を示すグラフ。(A) is a * -b * figure in Example 2, (B) is a graph which shows the relationship between the wavelength and a reflectance. (A)は実施例3におけるa−b図、(B)は、その波長と反射率との関係を示すグラフ。(A) is a * -b * figure in Example 3, (B) is a graph which shows the relationship between the wavelength and a reflectance. (A)は比較例1におけるa−b図、(B)は、その波長と反射率との関係を示すグラフ。(A) is a * -b * figure in the comparative example 1, (B) is a graph which shows the relationship between the wavelength and a reflectance. (A)は比較例2におけるa−b図、(B)は、その波長と反射率との関係を示すグラフ。(A) is a * -b * figure in the comparative example 2, (B) is a graph which shows the relationship between the wavelength and a reflectance. 比較例3におけるa−b図。A * -b * figure in the comparative example 3. FIG. 比較例3における波長と反射率との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the wavelength and the reflectance in the comparative example 3. 実施例1〜3、比較例1,2における膜厚と色相角との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the film thickness and the hue angle in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2.

本発明の眼鏡レンズの製造方法にかかる一実施形態を図面に基づいて説明する。
まず、本実施形態で製造される眼鏡レンズ1を図1に基づいて説明する。
図1には眼鏡レンズ1の部分拡大断面が示されている。
図1において、眼鏡レンズ1は、レンズ基材2と、このレンズ基材2の表面に形成されたプライマー層3と、このプライマー層3の表面に形成されたハードコート層4と、このハードコート層4の表面に形成された有機系反射防止層5とを有する。この有機系反射防止層5の上に必要に応じて防汚層6を設けてもよい。この防汚層6は、フッ素を含有する有機ケイ素化合物からなり、フッ素を含有する有機ケイ素化合物としては、例えば、含フッ素シラン化合物を好適に使用することができる。

防汚層6の膜厚は、特に限定されないが、0.001〜0.5μmが好ましい。
An embodiment of a method for manufacturing a spectacle lens according to the present invention will be described with reference to the drawings.
First, the spectacle lens 1 manufactured by this embodiment is demonstrated based on FIG.
FIG. 1 shows a partially enlarged cross section of the spectacle lens 1.
In FIG. 1, a spectacle lens 1 includes a lens base material 2, a primer layer 3 formed on the surface of the lens base material 2, a hard coat layer 4 formed on the surface of the primer layer 3, and the hard coat. And an organic antireflection layer 5 formed on the surface of the layer 4. An antifouling layer 6 may be provided on the organic antireflection layer 5 as necessary. The antifouling layer 6 is composed of an organic silicon compound containing fluorine. As the organic silicon compound containing fluorine, for example, a fluorine-containing silane compound can be preferably used.

The film thickness of the antifouling layer 6 is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 0.5 μm.

(1.レンズ基材)
レンズ基材2の材質としては、屈折率が特に限定されないが、1.67以下となれば好ましい。このようなレンズ素材としては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート(CR−39)やポリカーボネート、あるいは、イソシアネート基またはイソチオシアネート基を持つ化合物と、メルカプト基を持つ化合物を反応させることによって製造されるポリチオウレタン系プラスチックが挙げられる。
(1. Lens substrate)
The refractive index of the lens base material 2 is not particularly limited, but is preferably 1.67 or less. As such a lens material, polythiourethane type produced by reacting diethylene glycol bisallyl carbonate (CR-39), polycarbonate, or a compound having an isocyanate group or an isothiocyanate group with a compound having a mercapto group. Examples include plastic.

(2.プライマー層)
プライマー層3は、レンズ基材2の表面に形成され、表面処理膜全体の耐久性を向上させる役割を担う。
このようなプライマー層3としては、極性を有する有機樹脂ポリマーと、酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子とを含むコーティング組成物を用いて形成されることが好ましい。有機樹脂ポリマーとしては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂等の各種樹脂を使用することが可能である。
コーティング用組成物の塗布にあたっては、レンズ基材2とプライマー被膜の密着性の向上を目的として、レンズ基材2の表面を予めアルカリ処理、酸処理、界面活性剤処理、無機あるいは有機の微粒子による剥離/研磨処理、プラズマ処理を行うことが効果的である。コーティング用組成物の塗布/硬化方法としては、ディッピング法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法、あるいは、フローコート法等によりコーティング用組成物を塗布した後、40〜200℃の温度で数時間加熱/乾燥することにより、プライマー層を形成できる。
プライマー層3の膜厚は0.01μm〜50μmの範囲が好ましい。プライマー層3が薄すぎると耐水性や耐衝撃性などの基本性能が実現できず、逆に厚すぎると、表面の平滑性が損なわれ、あるいは、光学的歪や白濁、曇りなどの外観欠点を発生する場合がある。
(2. Primer layer)
The primer layer 3 is formed on the surface of the lens substrate 2 and plays a role of improving the durability of the entire surface treatment film.
Such a primer layer 3 is preferably formed using a coating composition containing an organic resin polymer having polarity and metal oxide fine particles containing titanium oxide. As the organic resin polymer, various resins such as a polyester resin, a polyurethane resin, an epoxy resin, a melamine resin, a polyolefin resin, a urethane acrylate resin, and an epoxy acrylate resin can be used.
In applying the coating composition, the surface of the lens substrate 2 is previously treated with alkali treatment, acid treatment, surfactant treatment, inorganic or organic fine particles for the purpose of improving the adhesion between the lens substrate 2 and the primer film. It is effective to perform peeling / polishing treatment and plasma treatment. As a coating / curing method of the coating composition, after coating the coating composition by dipping method, spin coating method, spray coating method, roll coating method, flow coating method or the like, at a temperature of 40 to 200 ° C. The primer layer can be formed by heating / drying for several hours.
The film thickness of the primer layer 3 is preferably in the range of 0.01 μm to 50 μm. If the primer layer 3 is too thin, basic performance such as water resistance and impact resistance cannot be realized. Conversely, if the primer layer 3 is too thick, surface smoothness is impaired, or appearance defects such as optical distortion, white turbidity, and cloudiness may occur. May occur.

(3.ハードコート層)
ハードコート層4は、酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子と、式(1)で示される有機ケイ素化合物とを含むコーティング組成物を用いて形成されることが好ましい。
SiX 3−n (1)
(式中、Rは、重合可能な反応基を有する有機基であり、Rは炭素数1〜6の炭化水素基であり、Xは加水分解基であり、nは0または1である。)
酸化チタンとしては、耐候性や耐光性の観点よりルチル型の結晶構造を有することが好ましい。
有機ケイ素化合物としては、例えば、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ(β−メトキシ−エトキシ)シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン等があげられる。
(3. Hard coat layer)
The hard coat layer 4 is preferably formed using a coating composition containing metal oxide fine particles containing titanium oxide and an organosilicon compound represented by the formula (1).
R 1 R 2 n SiX 1 3-n (1)
(In the formula, R 1 is an organic group having a polymerizable reactive group, R 2 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, X 1 is a hydrolytic group, and n is 0 or 1. is there.)
Titanium oxide preferably has a rutile crystal structure from the viewpoint of weather resistance and light resistance.
Examples of the organosilicon compound include vinyltrialkoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltri (β-methoxy-ethoxy) silane, allyltrialkoxysilane, acryloxypropyltrialkoxysilane, methacryloxypropyltrialkoxysilane, and γ-glycid. Examples include xylpropyltrialkoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyltrialkoxysilane, mercaptopropyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, and the like.

ハードコート液を製造する際には、金属酸化物微粒子が分散したゾルと、有機ケイ素化合物とを混合することが好ましい。金属酸化物微粒子の配合量は、ハードコート層の硬度や、屈折率等により決定されるものであるが、ハードコート液中の固形分の5〜80質量%、特に10〜60質量%であることが好ましい。
コーティング液の塗布・硬化方法としては、ディッピング法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法、あるいは、フローコート法によりコーティング用組成物を塗布した後、40〜200℃の温度で数時間加熱乾燥することにより、ハードコート被膜を形成する。なお、ハードコート層の膜厚は、0.05〜30μmであることが好ましい。膜厚が0.05μm未満では、基本性能が実現できない。また、膜厚が30μmを越えると表面の平滑性が損なわれ、あるいは、光学歪みが発生してしまう場合がある。
When producing a hard coat liquid, it is preferable to mix a sol in which metal oxide fine particles are dispersed with an organosilicon compound. The compounding amount of the metal oxide fine particles is determined by the hardness and refractive index of the hard coat layer, and is 5 to 80% by mass, particularly 10 to 60% by mass, based on the solid content in the hard coat liquid. It is preferable.
As a coating liquid application / curing method, a coating composition is applied by dipping, spin coating, spray coating, roll coating, or flow coating, and then heated at a temperature of 40 to 200 ° C. for several hours. A hard coat film is formed by drying. In addition, it is preferable that the film thickness of a hard-coat layer is 0.05-30 micrometers. If the film thickness is less than 0.05 μm, the basic performance cannot be realized. On the other hand, if the film thickness exceeds 30 μm, the surface smoothness may be impaired, or optical distortion may occur.

(4.有機系反射防止層)
本実施形態における有機系反射防止層5は、ハードコート層4の上に形成される高屈折率の第一有機膜51と、この第一有機膜51に設けられ第一有機膜51より屈折率の低い第二有機膜52とから構成される。
第一有機膜51はレンズ基材側に位置するものであり、第二有機膜52は大気側に位置する。
(4. Organic antireflection layer)
The organic antireflection layer 5 in the present embodiment includes a high refractive index first organic film 51 formed on the hard coat layer 4, and a refractive index that is provided on the first organic film 51 from the first organic film 51. And the second organic film 52 having a low thickness.
The first organic film 51 is located on the lens substrate side, and the second organic film 52 is located on the atmosphere side.

(4-1.高屈折率の第一有機膜)
高屈折率層である第一有機膜51は、酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子と有機ケイ素化合物とを含んだコーティング組成物、あるいは、有機チタン化合物を含んだコーティング組成物から好ましく形成される。
ここで、酸化チタンとしては、例えば、酸化チタンおよび酸化スズ、または酸化チタン、酸化スズおよび酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物を含む平均粒径1〜200nmの金属酸化物微粒子(複合微粒子)を挙げることができる。ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子を使用することで、耐候性や耐光性がより向上する。
酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子の種類や配合量は、目的とする硬度や屈折率等により決定されるものであるが、配合量は高屈折率層用コーティング組成物中の固形分の5〜80質量%、特に10〜50質量%の範囲であることが望ましい。配合量が少なすぎると、コーティング膜の耐摩耗性が不十分となる場合がある。一方、配合量が多すぎると、コーティング膜にクラックが生じ、染色性も不十分となる場合がある。
有機ケイ素化合物については、前記したハードコート層で用いられる有機ケイ素化合物が好適に用いられる。
(4-1. High refractive index first organic film)
The first organic film 51 which is a high refractive index layer is preferably formed from a coating composition containing metal oxide fine particles containing titanium oxide and an organic silicon compound, or a coating composition containing an organic titanium compound. .
Here, as the titanium oxide, for example, metal oxide fine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm including a composite oxide having a rutile type crystal structure composed of titanium oxide and tin oxide, or titanium oxide, tin oxide and silicon oxide. (Composite fine particles). By using metal oxide fine particles containing titanium oxide having a rutile-type crystal structure, weather resistance and light resistance are further improved.
The type and blending amount of the metal oxide fine particles containing titanium oxide are determined by the target hardness, refractive index, etc., but the blending amount is 5% of the solid content in the coating composition for the high refractive index layer. It is desirable to be in the range of ˜80 mass%, particularly 10˜50 mass%. If the amount is too small, the abrasion resistance of the coating film may be insufficient. On the other hand, when there are too many compounding quantities, a crack will arise in a coating film and dyeing | staining property may become inadequate.
As the organosilicon compound, the organosilicon compound used in the hard coat layer is preferably used.

有機チタン化合物としては、例えば、下記式(2)で示されるチタン系カップリング剤が好適に使用できる。
(RO)TiR (2)
(ここで、a+b+c=4であり、a、b、cは0〜4から選ばれる整数であり、R、R、Rは水素または、飽和、不飽和の炭化水素基であり、炭化水素基には官能基が導入されていても良い。)
炭化水素基としては、炭素数が1〜10であるものが好ましく、炭素数1〜6を有するものがより好ましい。特に好ましくは、例えば、Rとしては、イソプロポキシル、n−ブトキシ基をあげることができ、R、Rは、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、メルカプト基を有するアセトナト、アミナト基をあげることができる。
As the organic titanium compound, for example, a titanium coupling agent represented by the following formula (2) can be preferably used.
(R 4 O) a TiR 5 b R 6 c (2)
(Where a + b + c = 4, a, b and c are integers selected from 0 to 4 , R 4 , R 5 and R 6 are hydrogen or a saturated or unsaturated hydrocarbon group, A functional group may be introduced into the hydrogen group.)
As the hydrocarbon group, those having 1 to 10 carbon atoms are preferred, and those having 1 to 6 carbon atoms are more preferred. Particularly preferably, for example, as R 4 , isopropoxyl and n-butoxy group can be exemplified, and R 5 and R 6 are acetonato having a vinyl group, an epoxy group, a methacryl group, an amino group, and a mercapto group, Aminato group can be raised.

(4-2.低屈折率の第二有機膜)
低屈折率層を構成する第二有機膜52は、内部空洞を有するシリカ系微粒子(以下、「中空シリカ系微粒子」ともいう)と、有機ケイ素化合物とを含んだコーティング剤から好適に形成される。
ここで、中空シリカ系微粒子を用いるのは、内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶媒が包含されることによって、空洞のないシリカ系微粒子に比べてより屈折率が低減し、低屈折率層の低屈折率化が達成されるからである。本実施形態では、平均粒径が1〜150nmの範囲にあり、かつ屈折率が1.16〜1.39の範囲にあるものを使用することが望ましい。
また、有機ケイ素化合物は、前述の第一有機膜51を構成するために用いられる有機ケイ素化合物(式(1))と同じものを使用してもよい。
さらに、有機ケイ素化合物としては、下記式(3)に示すような含フッ素化合物を用いてもよい。
3−mSi−Y−SiR 3−m (3)
(式中Rは炭素数1〜6の一価炭化水素基。Yはフッ素原子を1個以上含有する二価有機基。Xは加水分解性基。mは1〜3の整数である。)
式(3)で示される含フッ素化合物も有機ケイ素化合物と同様に、最終的に有機系反射防止層におけるシリカ系微粒子のバインダー樹脂として働く。また、このような含フッ素化合物を用いると、含フッ素化合物が本来持つ低屈折率により有機系反射防止層の低屈折率化が一層容易となる。
は、炭素数1〜6の一価炭化水素基を表すが、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等のアルキル基、フェニル基等を例示することができる。良好な耐擦傷性を得るには、メチル基が好ましい。mは1〜3の整数であるが、好ましくは2又は3とするものであり、特に高硬度な被膜にするにはm=3とするのが好ましい。Xは、加水分解性基を表す。具体例としては、Clなどのハロゲン原子、OR(Rは炭素数1〜6の一価炭化水素基)で示されるオルガノオキシ基、特にメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、イソプロペノキシ基などのアルケノキシ基、アセトキシ基等のアシルオキシ基、メチルエチルケトキシム基等のケトオキシム基、メトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基などを挙げることができる。
(4-2. Second organic film with low refractive index)
The second organic film 52 constituting the low refractive index layer is preferably formed from a coating agent containing silica-based fine particles having internal cavities (hereinafter also referred to as “hollow silica-based fine particles”) and an organosilicon compound. .
Here, the hollow silica-based fine particles are used because the internal cavity contains a gas or solvent having a refractive index lower than that of silica, so that the refractive index is reduced compared with silica-based fine particles without cavities. This is because a lower refractive index of the refractive index layer is achieved. In the present embodiment, it is desirable to use one having an average particle diameter in the range of 1 to 150 nm and a refractive index in the range of 1.16 to 1.39.
Further, as the organosilicon compound, the same organosilicon compound (formula (1)) used for constituting the first organic film 51 described above may be used.
Further, as the organosilicon compound, a fluorine-containing compound as shown in the following formula (3) may be used.
X 2 m R 3 3-m Si-Y-SiR 3 3-m X 2 m (3)
(Wherein R 3 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, Y is a divalent organic group containing one or more fluorine atoms, X 2 is a hydrolyzable group, and m is an integer of 1 to 3). .)
Similarly to the organosilicon compound, the fluorine-containing compound represented by the formula (3) finally functions as a binder resin for the silica-based fine particles in the organic antireflection layer. In addition, when such a fluorine-containing compound is used, it is easier to lower the refractive index of the organic antireflection layer due to the low refractive index inherent in the fluorine-containing compound.
R 3 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, or a cyclohexyl group, a phenyl group, or the like. It can be illustrated. A methyl group is preferred for obtaining good scratch resistance. m is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, and m = 3 is particularly preferable for a highly hard film. X represents a hydrolyzable group. Specific examples thereof include halogen atoms such as Cl, organooxy groups represented by OR X (R X is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms), particularly methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, Examples include alkoxy groups such as butoxy groups, alkenoxy groups such as isopropenoxy groups, acyloxy groups such as acetoxy groups, ketoxime groups such as methylethyl ketoxime groups, and alkoxyalkoxy groups such as methoxyethoxy groups.

式(3)において、フッ素原子の個数は好ましくは4〜50個、特に好ましくは4〜24個である。反射防止性、防汚性、撥水性等の諸機能を良好に発現させるためには、フッ素原子を多量に含有していることが好ましいが、多すぎると、架橋密度が低下するため十分な耐擦傷性が得られない場合が生ずる。
なお、このコーティング組成物中には、有機系反射防止層5の耐擦傷性(耐摩耗性)向上のために、分子中に1個以上のエポキシ基を含有するエポキシ基含有有機化合物を含むことが好ましい。このようなエポキシ基含有有機化合物としては、例えば、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
In the formula (3), the number of fluorine atoms is preferably 4 to 50, particularly preferably 4 to 24. In order to develop various functions such as antireflection, antifouling, and water repellency, it is preferable to contain a large amount of fluorine atoms. In some cases, scratch resistance cannot be obtained.
This coating composition contains an epoxy group-containing organic compound containing one or more epoxy groups in the molecule in order to improve the scratch resistance (wear resistance) of the organic antireflection layer 5. Is preferred. Examples of such an epoxy group-containing organic compound include glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β -Glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylphenyldiethoxysilane, δ- (3,4 -Epoxycyclohexyl) butyltrie Toxisilane and the like can be mentioned.

高屈折率層を構成する第一有機膜51や低屈折率層を構成する第二有機膜52の形成に用いられるコーティング組成物には、シリコーン系、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、メラミン系などの樹脂を併用してもよい。このうち特に、プラスチックレンズとしての耐熱性、耐薬品性、耐擦傷性、などの諸特性を考慮した場合は、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂を含むことが好ましく、この際に、表面硬度の向上や、屈折率の調整のため、微粒子状無機物等を添加することも可能である。添加する微粒子状無機物としては、コロイド状に分散したゾルなどが挙げられる。なお、低屈折率層の低屈折率化という観点からは、フッ化マグネシウムゾル、フッ化カルシウムゾルなどが挙げられる。
このような第一有機膜51や第二有機膜52を形成するためのコーティング組成物には、必要に応じて、少量の硬化触媒や、光重合開始剤、酸発生剤、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ヒンダードアミン・ヒンダートフェノール等の光安定剤、分散染料・油溶染料・蛍光染料・顔料等を添加し、コーティング組成物の塗布性の向上や、重合硬化後の被膜性能を改良することができる。
The coating composition used for forming the first organic film 51 constituting the high refractive index layer and the second organic film 52 constituting the low refractive index layer includes silicone, acrylic, epoxy, urethane, and melamine. You may use together resin, such as. Among these, in consideration of various properties such as heat resistance, chemical resistance, and scratch resistance as a plastic lens, it is preferable to include a silicone resin and an epoxy resin. It is also possible to add a particulate inorganic substance or the like for adjusting the refractive index. Examples of the particulate inorganic substance to be added include colloidally dispersed sol. From the viewpoint of lowering the refractive index of the low refractive index layer, magnesium fluoride sol, calcium fluoride sol, and the like can be given.
The coating composition for forming the first organic film 51 and the second organic film 52 includes a small amount of a curing catalyst, a photopolymerization initiator, an acid generator, a surfactant, a charge as necessary. Addition of light stabilizers such as hindered amines and hindered phenols, disperse dyes, oil-soluble dyes, fluorescent dyes, pigments, etc. Later coating performance can be improved.

第一有機膜51及び第二有機膜52からなる有機系反射防止層5は、前述したコーティング組成物を用いて、湿式法によりハードコート層4の上に有機薄膜として好適に形成することができる。
湿式法による有機系反射防止層5の形成方法としては、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法などの公知の方法を用いることができる。なお、ハードコート層4の上に有機系反射防止層5を形成する際には、ハードコート層4の表面に前処理を行うことが好ましい。
有機系反射防止層5の具体的な形成方法は、第一有機膜51も第二有機膜52も基本的に同じであり、以下のような手順により行われる。
まず、有機ケイ素化合物を有機溶剤で希釈し、その後必要に応じて水または薄い塩酸、酢酸等を添加して加水分解を行う。さらに、金属酸化物微粒子あるいは中空シリカ系微粒子を有機溶剤中にコロイド状に分散した系を添加する。その後、必要に応じ、硬化触媒、光重合開始剤、酸発生剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを添加し、十分に撹拌した後にコーティング組成物として用いる。なお、高屈折率層において、有機チタン化合物を用いる場合は、金属酸化物微粒子の添加は不要である。
このとき、硬化後の固形分に対して、コーティング液の希釈する濃度は、好ましくは固形分濃度として0.5〜15質量%であり、より好ましくは1〜10質量%である。固形分濃度が15質量%を越えた場合には、ディッピング法で引き上げ速度を遅くし、あるいは、スピンナー法で回転数を高くしても、所定の膜厚を得ることが困難であり、膜厚が必要以上に厚くなってしまう。また、固形分濃度が0.5質量%に満たない場合には、ディッピング法で引き上げ速度を早く、あるいは、スピンナー法で回転数を遅くしても、膜厚が必要よりも薄くなってしまい所定の膜厚を得ることが困難である。また、速度を速くし過ぎたり、回転数を遅くし過ぎたりすると、レンズ上での塗りムラが大きくなりやすく、界面活性剤等の添加でも対応仕切れなくなってしまう。
コーティング液をレンズ基材に塗布後、熱または紫外線及びその併用によって硬化させ有機系反射防止層が得られるが、加熱処理によって硬化させることが好ましい。加熱処理の際の加熱温度は、コーティング液の組成、レンズ基材の耐熱性等を考慮して決定されるが、50〜200℃が好ましく、より好ましくは80〜140℃である。
The organic antireflection layer 5 composed of the first organic film 51 and the second organic film 52 can be suitably formed as an organic thin film on the hard coat layer 4 by a wet method using the coating composition described above. .
As a method for forming the organic antireflection layer 5 by a wet method, a known method such as a dipping method, a spinner method, a spray method, or a flow method can be used. When forming the organic antireflection layer 5 on the hard coat layer 4, it is preferable to perform a pretreatment on the surface of the hard coat layer 4.
The specific formation method of the organic antireflection layer 5 is basically the same for the first organic film 51 and the second organic film 52, and is performed by the following procedure.
First, the organosilicon compound is diluted with an organic solvent, and then hydrolyzed by adding water, dilute hydrochloric acid, acetic acid or the like as necessary. Further, a system in which metal oxide fine particles or hollow silica fine particles are colloidally dispersed in an organic solvent is added. Thereafter, if necessary, a curing catalyst, a photopolymerization initiator, an acid generator, a surfactant, an ultraviolet absorber, an antioxidant, and the like are added, and after sufficiently stirring, used as a coating composition. In the case of using an organic titanium compound in the high refractive index layer, it is not necessary to add metal oxide fine particles.
At this time, the concentration of the coating liquid diluted with respect to the solid content after curing is preferably 0.5 to 15% by mass, and more preferably 1 to 10% by mass as the solid content concentration. When the solid content concentration exceeds 15% by mass, it is difficult to obtain a predetermined film thickness even if the pulling speed is slowed by the dipping method or the rotational speed is increased by the spinner method. Will be thicker than necessary. If the solid content concentration is less than 0.5% by mass, the film thickness becomes thinner than necessary even if the pulling speed is increased by the dipping method or the rotation speed is decreased by the spinner method. It is difficult to obtain the film thickness. Also, if the speed is made too fast or the rotational speed is made too slow, the coating unevenness on the lens tends to increase, and even when a surfactant or the like is added, the corresponding partition cannot be made.
After the coating liquid is applied to the lens substrate, it is cured by heat or ultraviolet light and a combination thereof to obtain an organic antireflection layer, but it is preferably cured by heat treatment. The heating temperature in the heat treatment is determined in consideration of the composition of the coating liquid, the heat resistance of the lens substrate, and the like, but is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 80 to 140 ° C.

有機系反射防止層5の屈折率nとして好ましい値は、高屈折率層を構成する第一有機膜51では、2.00以上2.05以下であり、低屈折率層を構成する第二有機膜52では1.3以上1.5以下である。
両層の屈折率nの差は0.1以上であり、0.15以上が好ましく、0.20以上がより好ましい。両層の屈折率nの差が0.1より小さいと反射防止効果が低下する。
第一有機膜51の膜厚は300nm以上400nm以下の範囲であり、第二有機膜52の膜厚は100nm以上160nm以下の範囲である。
第一有機膜51と第二有機膜52とは、それぞれその部位、例えば、中央部や周縁部にかかわらず均一である。
本実施形態では、前述の条件の下、第一有機膜51の厚さを変化させて反射色を所望の色相角の色にする。
A preferable value as the refractive index n of the organic antireflection layer 5 is 2.00 or more and 2.05 or less in the first organic film 51 constituting the high refractive index layer, and the second organic constituting the low refractive index layer. In the film 52, it is 1.3 or more and 1.5 or less.
The difference in refractive index n between the two layers is 0.1 or more, preferably 0.15 or more, and more preferably 0.20 or more. When the difference in refractive index n between the two layers is smaller than 0.1, the antireflection effect is lowered.
The film thickness of the first organic film 51 is in the range of 300 nm to 400 nm, and the film thickness of the second organic film 52 is in the range of 100 nm to 160 nm.
The first organic film 51 and the second organic film 52 are uniform regardless of their parts, for example, the central part and the peripheral part.
In the present embodiment, under the above-described conditions, the thickness of the first organic film 51 is changed so that the reflected color has a desired hue angle.

次に、第一有機膜51の屈折率nと膜厚の関係を示す実施例について図2から図9に基づいて説明する。
図2から図6の(A)には、屈折率が1.67のレンズ基材2の上に第一有機膜51を設け、この第一有機膜51の上に屈折率が1.40で膜厚が100nmの第二有機膜52を設けた眼鏡レンズにおいて、第一有機膜51の屈折率を変化させた場合のa−b図が示され、(B)に波長と反射率との関係を示すグラフが示されている。なお、光源として、D65光源を用いた。
各図の(A)はa−b図(色度図)であり、横軸はaを示し、0に対して右側(+)に向かうに従って赤が強くなり、左側(−)に向かうに従って緑が強くなる。縦軸はbを示し、0に対して上(+)に向かうに従って黄色が強くなり、下(−)に向かうに従って青が強くなる。例えば、aで示される横軸のプラス側とbで示される縦軸のプラス側との間の領域は、赤と黄色との混合した色が反射するものであり、横軸に近寄るに従って赤みが深い黄色となり、縦軸に近寄るに従って赤みが薄い黄色となる。
各図の(A)には、第一有機膜51の膜厚を300nmとしたサンプルの色度がP1で示され、膜厚を350nmとしたサンプルの色度がP2で示され、400nmとしたサンプルの色度がP3で示されている。膜厚が300nmから400nmの間で細かく設定されたサンプルの色度は点P1,P2,P3を通る軌跡Sとして表示されている。
Next, an embodiment showing the relationship between the refractive index n and the film thickness of the first organic film 51 will be described with reference to FIGS.
2A to 6A, the first organic film 51 is provided on the lens substrate 2 having a refractive index of 1.67, and the refractive index is 1.40 on the first organic film 51. In the spectacle lens provided with the second organic film 52 having a film thickness of 100 nm, an a * -b * diagram in the case where the refractive index of the first organic film 51 is changed is shown. A graph showing the relationship is shown. A D65 light source was used as the light source.
(A) in each figure is an a * -b * figure (chromaticity diagram), the horizontal axis shows a * , red becomes stronger toward the right side (+) with respect to 0, and on the left side (-). The green becomes stronger as you go. The vertical axis indicates b *, and yellow increases as it goes upward (+) with respect to 0, and blue increases as it goes downward (−). For example, the region between the positive side of the horizontal axis indicated by a * and the positive side of the vertical axis indicated by b * reflects a mixed color of red and yellow, and as it approaches the horizontal axis Redness becomes deep yellow, and redness becomes light yellow as it approaches the vertical axis.
In (A) of each figure, the chromaticity of the sample in which the film thickness of the first organic film 51 is 300 nm is indicated by P1, and the chromaticity of the sample in which the film thickness is 350 nm is indicated by P2, and is 400 nm. The chromaticity of the sample is indicated by P3. The chromaticity of the sample whose film thickness is finely set between 300 nm and 400 nm is displayed as a locus S passing through the points P1, P2, and P3.

図2から図6の(B)には、サンプルとして第一有機膜51の膜厚を300nm、350nm、400nmとした場合の波長と反射率との関係が示されている。
ここで、反射率は既存の方法により定められるものであり、具体的には、次の式から求められる。
一般的に、基板上に1層の薄膜が形成されている場合の反射率Rは、膜のマトリックスMと基板のマトリックスMsの積で求められる。この結果は式(4)のように示される。式(4)において、nを屈折率実数部とし、kを屈折率虚数部とし、iを虚数とすると、複素屈折率Nは、N=n−ikの式から求められる。δは位相差膜厚であり、光の入射角度をθ、波長をλ、dを物理膜厚とすると、δ=2πNdcosθ/λとして求められる。
FIG. 2B to FIG. 6B show the relationship between the wavelength and the reflectance when the thickness of the first organic film 51 is set to 300 nm, 350 nm, and 400 nm as a sample.
Here, the reflectance is determined by an existing method, and is specifically obtained from the following equation.
In general, the reflectance R when a single thin film is formed on a substrate is obtained by the product of the matrix M of the film and the matrix Ms of the substrate. This result is shown as in equation (4). In equation (4), when n is the real part of the refractive index, k is the imaginary part of the refractive index, and i is the imaginary number, the complex refractive index N can be obtained from the equation N = n−ik. δ is a retardation film thickness, and is obtained as δ = 2πNd cos θ / λ, where θ is the incident angle of light, λ is the wavelength, and d is the physical film thickness.

Figure 2012141407
Figure 2012141407

ここで、光学アドミッタンスYは式(5)のように表される。   Here, the optical admittance Y is expressed as shown in Equation (5).

Figure 2012141407
Figure 2012141407

光学アドミッタンスYは、屈折率と同様に扱える数値であり、このことから、振幅反射係数、振幅透過係数を求めるために、式(6)を用いる。つまり、異なる2つ媒質で形成されている境界面では必ず光の反射が起こるので、境界面での振幅反射係数rを、式(6)で表すことができる。式(6)において、ρは屈折率の比である。   The optical admittance Y is a numerical value that can be handled in the same manner as the refractive index. From this, Equation (6) is used to obtain the amplitude reflection coefficient and the amplitude transmission coefficient. That is, since light is always reflected at the boundary surface formed by two different media, the amplitude reflection coefficient r at the boundary surface can be expressed by Expression (6). In equation (6), ρ is the ratio of the refractive indices.

Figure 2012141407
Figure 2012141407

基板上に薄膜が形成されている場合の空気/薄膜/基板系の反射率を求めるには、アドミッタンスη0を持つ入力媒質とアドミッタンスYの媒体との単純な境界面での反射率を求めるだけとなる。従って、式(6)から、振幅反射係数rは式(7)で示され、反射率Rは式(8)(9)で示される。rはrの共役複素数である。 To find the reflectivity of the air / thin film / substrate system when a thin film is formed on the substrate, simply find the reflectivity at the simple interface between the input medium with admittance η 0 and the medium with admittance Y. It becomes. Therefore, from equation (6), the amplitude reflection coefficient r is represented by equation (7), and the reflectance R is represented by equations (8) and (9). r * is a conjugate complex number of r.

Figure 2012141407
Figure 2012141407

[実施例1]
レンズ基材2の屈折率は1.67であり、第二有機膜52は、その屈折率が1.40であり、その膜厚が100nmである。
第一有機膜51の屈折率nは2.00である。
図2(A)では、膜厚が300nmから400nmの間で細かく設定された膜厚での色度は点P1,P2,P3を通る軌跡Sとして設定される。軌跡Sは、aが0から20の間、bが−25から+5の間で略楕円形状に表示される。
そして、図2(B)で示される通り、波長が480〜700nmのエリアでは、各膜厚において、反射率が4%を超えることがない。なお、反射率測定に関しては、反射率分光膜厚計(メーカー:大塚電子株式会社 型番:FE−3000)を用いた。
[実施例2]
第一有機膜51の屈折率nを2.05とした以外は実施例1と同じ条件である。
図3(A)の軌跡Sからわかるように、aが−5から25の間、bが−25から+10の間で一端部が開口された略楕円形状に表示される。
そして、図3(B)で示される通り、波長が480〜700nmのエリアでは、各膜厚において、反射率が4%を超えることがない。
[Example 1]
The refractive index of the lens substrate 2 is 1.67, the refractive index of the second organic film 52 is 1.40, and the film thickness is 100 nm.
The refractive index n of the first organic film 51 is 2.00.
In FIG. 2A, the chromaticity at the film thickness finely set between 300 nm and 400 nm is set as a locus S passing through the points P1, P2, and P3. The trajectory S is displayed in a substantially elliptical shape when a * is between 0 and 20 and b * is between −25 and +5.
Then, as shown in FIG. 2B, in the area where the wavelength is 480 to 700 nm, the reflectance does not exceed 4% in each film thickness. In addition, regarding the reflectance measurement, a reflectance spectral film thickness meter (manufacturer: Otsuka Electronics Co., Ltd., model number: FE-3000) was used.
[Example 2]
The conditions are the same as in Example 1 except that the refractive index n of the first organic film 51 is set to 2.05.
As can be seen from the locus S in FIG. 3A, the a * is displayed between -5 and 25, the b * is between -25 and +10, and is displayed in a substantially elliptical shape with one end opened.
As shown in FIG. 3B, the reflectance does not exceed 4% in each film thickness in the area where the wavelength is 480 to 700 nm.

[実施例3]
第一有機膜51の屈折率nを2.10とした以外は実施例1と同じ条件である。
図4(A)の軌跡Sからわかるように、屈折率nが2.10の場合には、aが−5から25の間、bが−15から+12の間で略楕円形状に表示される。
そして、図4(B)で示される通り、波長が500〜650nmのエリアでのみ各膜厚における反射率が4%を超えることがない。
[Example 3]
The conditions are the same as in Example 1 except that the refractive index n of the first organic film 51 is 2.10.
Figure 4 As can be seen from the trajectory S of (A), when the refractive index n is 2.10, a * is between -5 to 25, b * is displayed in a substantially elliptical shape between +12 -15 Is done.
Then, as shown in FIG. 4B, the reflectance at each film thickness does not exceed 4% only in an area with a wavelength of 500 to 650 nm.

[比較例1]
第一有機膜51の屈折率nを1.90とした以外は実施例1と同じ条件である。
図5(A)の軌跡Sからわかるように、屈折率nが1.90の場合には、aが8から15の間、bが−20から−10の間で直線状に表示されることになる。そして、図5(B)で示される通り、波長が450〜700nmのエリアでは、各膜厚において、反射率が4%を超えることがない。
[比較例2]
第一有機膜51の屈折率nを1.95とした以外は実施例1と同じ条件である。
図6(A)の軌跡Sからわかるように、屈折率nが1.95の場合には、aが1から18の間、bが0から−25の間で楕円形状に表示されることになる。そして、図6(B)で示される通り、波長が450〜700nmのエリアでは、各膜厚において、反射率が4%を超えることがない。
[Comparative Example 1]
The conditions are the same as in Example 1 except that the refractive index n of the first organic film 51 is set to 1.90.
As can be seen from the locus S in FIG. 5A, when the refractive index n is 1.90, the a * is linearly displayed between 8 and 15 and the b * is between −20 and −10. Will be. Then, as shown in FIG. 5B, in the area where the wavelength is 450 to 700 nm, the reflectance does not exceed 4% in each film thickness.
[Comparative Example 2]
The conditions are the same as in Example 1 except that the refractive index n of the first organic film 51 is set to 1.95.
As can be seen from the trajectory S of FIG. 6 (A), when the refractive index n is 1.95, a * is displayed in an oval shape between between 1 and 18, b * is between 0 and -25 It will be. Then, as shown in FIG. 6B, in the area where the wavelength is 450 to 700 nm, the reflectance does not exceed 4% in each film thickness.

[比較例3]
(サンプル1)
レンズ基材として、屈折率1.67のものを用いた。このレンズ基材の表面に第一有機膜に相当する高屈折率層を形成し、この高屈折率層の上に第二有機膜に相当する低屈折率層を形成した。高屈折率層の屈折率が1.80、膜厚が150nm、低屈折率層の屈折率が1.37、膜厚が100nmである。
(サンプル2)
サンプル2は、レンズ基材の上面にプライマー層及びハードコート層を形成し、その後、サンプル1と同様にして反射防止層を形成し、さらにその上に防汚層を形成した。プライマー層の膜厚は0.5μm、屈折率1.67、ハードコート層の膜厚は2.3μm、屈折率1.67である。反射防止層は、サンプル1と同じである。
[Comparative Example 3]
(Sample 1)
A lens substrate having a refractive index of 1.67 was used. A high refractive index layer corresponding to the first organic film was formed on the surface of the lens substrate, and a low refractive index layer corresponding to the second organic film was formed on the high refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is 1.80, the film thickness is 150 nm, the refractive index of the low refractive index layer is 1.37, and the film thickness is 100 nm.
(Sample 2)
In sample 2, a primer layer and a hard coat layer were formed on the upper surface of the lens substrate, and then an antireflection layer was formed in the same manner as in sample 1, and an antifouling layer was further formed thereon. The primer layer has a thickness of 0.5 μm and a refractive index of 1.67, and the hard coat layer has a thickness of 2.3 μm and a refractive index of 1.67. The antireflection layer is the same as Sample 1.

(サンプル3)
レンズ基材として、屈折率1.60のものを用いた以外はサンプル2と同じである。
(サンプル4)
レンズ基材として屈折率1.59のものを用いた以外は、サンプル2と同じである。
(Sample 3)
The lens substrate is the same as Sample 2 except that a lens base having a refractive index of 1.60 is used.
(Sample 4)
The same as Sample 2, except that a lens substrate having a refractive index of 1.59 was used.

(サンプル5)
レンズ基材として、屈折率1.60のものを用い、高屈折率層の屈折率を1.85、膜厚を148nmとした以外はサンプル2と同じである。
(サンプル6)
レンズ基材として、屈折率1.59のものを用いた以外は、サンプル5と同じである。
(Sample 5)
The same as sample 2 except that a lens substrate having a refractive index of 1.60 is used, the refractive index of the high refractive index layer is 1.85, and the film thickness is 148 nm.
(Sample 6)
The same as Sample 5 except that a lens substrate having a refractive index of 1.59 was used.

(サンプル7)
高屈折率層を形成せずにプライマー層、ハードコート層、低屈折率層及び防汚層を形成した以外は、サンプル2と同じである。
(サンプル8)
高屈折率層を形成せずにプライマー層、ハードコート層、低屈折率層及び防汚層を形成した以外は、サンプル3と同じである。
(サンプル9)
高屈折率層を形成せずにプライマー層、ハードコート層、低屈折率層及び防汚層を形成した以外は、サンプル4と同じである。
以上のサンプル1〜9の結果を図7及び図8に示す。
図7はサンプル1〜9のa−b図である。図7では、サンプル1〜9に対応する色度がS1〜S9として表示されている。図8はサンプル1〜9における波長と反射率との関係を示す。
(Sample 7)
The same as Sample 2, except that the primer layer, hard coat layer, low refractive index layer and antifouling layer were formed without forming the high refractive index layer.
(Sample 8)
The same as Sample 3, except that the primer layer, hard coat layer, low refractive index layer and antifouling layer were formed without forming the high refractive index layer.
(Sample 9)
It is the same as Sample 4 except that the primer layer, the hard coat layer, the low refractive index layer, and the antifouling layer are formed without forming the high refractive index layer.
The results of the above samples 1 to 9 are shown in FIGS.
FIG. 7 is an a * -b * diagram of Samples 1-9. In FIG. 7, the chromaticities corresponding to the samples 1 to 9 are displayed as S1 to S9. FIG. 8 shows the relationship between the wavelength and reflectance in Samples 1-9.

実施例1〜3と比較例1〜3とを対比すると、第一有機膜の屈折率nを2.00以上とすることで、反射色として利用できる色度の範囲が広くなることがわかる。
つまり、実施例1が示される図2(A)において、膜厚が300nm、350nm、400nmの色度の点P1,P2,P3を含む軌跡Sからわかるように、第一有機膜51の屈折率nが2.00の場合には、軌跡Sは、aが0から20の間、bが−25から+5の間で略楕円形状に表示されることになり、反射される色は、黄色や、赤みが強い青や、赤みが弱い青等、その範囲が広い。
実施例2が示される図3(A)において、膜厚が300nm、350nm、400nmの色度の点P1,P2,P3を含む軌跡Sからわかるように、第一有機膜51の屈折率nが2.05の場合には、aが−5から25の間、bが−25から+10の間で楕円形状に表示されることになり、反射される色の範囲が実施例1より広い。
実施例3が示される図4(A)において、膜厚が300nm、350nm、400nmの色度の点P1,P2,P3を含む軌跡Sからわかるように、aが−5から21の間、bが−15から+12の間で短軸が長い略楕円形状に表示されることになり、反射される色の範囲が実施例1,2より広い。
When Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 are compared, it can be seen that the range of chromaticity that can be used as a reflected color is widened by setting the refractive index n of the first organic film to 2.00 or more.
That is, in FIG. 2A in which Example 1 is shown, the refractive index of the first organic film 51 can be seen from the locus S including the chromaticity points P1, P2, and P3 having film thicknesses of 300 nm, 350 nm, and 400 nm. When n is 2.00, the trajectory S is displayed in an approximately elliptical shape when a * is between 0 and 20 and b * is between −25 and +5, and the reflected color is The range is wide, such as yellow, blue with strong redness, and blue with weak redness.
In FIG. 3A in which Example 2 is shown, the refractive index n of the first organic film 51 is, as can be seen from the locus S including chromaticity points P1, P2, and P3 having film thicknesses of 300 nm, 350 nm, and 400 nm. In the case of 2.05, an a * is between −5 and 25 and b * is between −25 and +10, and the reflected color range is wider than in the first embodiment. .
In FIG. 4A in which Example 3 is shown, as can be seen from the locus S including chromaticity points P1, P2, and P3 with film thicknesses of 300 nm, 350 nm, and 400 nm, a * is between −5 and 21, The b * is displayed in a substantially elliptical shape with a short axis between −15 and +12, and the reflected color range is wider than in the first and second embodiments.

これに対して、屈折率nが1.90の比較例1では、図5(A)に示したように、軌跡Sはaが8から15の間、bが−20から−10の間で短寸の直線状に表示されており、反射される色の範囲が極めて限定されることがわかる。
屈折率nが1.95の比較例2では、図6(A)に示したように、軌跡Sはaが1から18の間、bが0から−25の間で楕円形状に表示されることになり、屈折率nが1.90の場合ほどではないが、反射される色の範囲が限定される。
そして、比較例3では、図7に示される通り、サンプル1〜9は0を中心とした極めて狭いエリアに収まっており、深みのある色を反射色として得ることができない。さらに、本実施形態のように、第一有機膜に相当する高屈折率層をサンプル1〜6で選択したとしても、得られる反射色の色は極めて限定されることになる。
On the other hand, in Comparative Example 1 where the refractive index n is 1.90, as shown in FIG. 5A, the trajectory S has a * between 8 and 15 and b * between −20 and −10. It can be seen that the range of colors reflected is extremely limited.
In Comparative Example 2 having a refractive index n is 1.95, as shown in FIG. 6 (A), the trajectory S is displayed on the elliptical shape between the period from 1 a * 18, b * is between 0 and -25 Thus, although not as much as the refractive index n is 1.90, the range of reflected colors is limited.
And in the comparative example 3, as FIG. 7 shows, the samples 1-9 are settled in the very narrow area centering on 0, and cannot obtain a deep color as a reflected color. Furthermore, even if the high refractive index layer corresponding to the first organic film is selected in Samples 1 to 6 as in the present embodiment, the color of the obtained reflected color is extremely limited.

次に、第一有機膜51の膜厚と色相角との関係を説明する。
図9には実施例1〜3、比較例1,2における膜厚と色相角との関係が示されている。
図9において、屈折率nが1.95以上の場合において、第一有機膜51の膜厚は300nm以上400nm以下の範囲で大きな範囲の色相角を得ることができる。これに対して、膜厚が400nmを超えて500nm以下の場合では、色相角の範囲が小さいものとなる。
また、屈折率が1.95の場合は、350nmから400nmの間で、色相角が急激に変化するので、膜厚を変化させて所望の色相角を得ることは困難である。
Next, the relationship between the film thickness of the first organic film 51 and the hue angle will be described.
FIG. 9 shows the relationship between the film thickness and the hue angle in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2.
In FIG. 9, when the refractive index n is 1.95 or more, the film thickness of the first organic film 51 can obtain a large range of hue angles in the range of 300 nm to 400 nm. On the other hand, when the film thickness exceeds 400 nm and is 500 nm or less, the hue angle range is small.
Further, when the refractive index is 1.95, the hue angle changes abruptly between 350 nm and 400 nm, so it is difficult to obtain the desired hue angle by changing the film thickness.

次に、低屈折率層である第二有機膜52の膜厚に関する実施例について説明する。
第二有機膜52の膜厚を80nm、100nm、130nm、及び160nmの場合のサンプルを作製し、各サンプルにおいて擦傷試験を行った。なお、第一有機膜51及びレンズ基材の条件は実施例1と同じである。
擦傷試験は、レンズ表面に、スチールウール#0000を荷重1kgで印加し、3〜4cmの距離を10往復擦ったのち、目視でレンズ表面に入った傷の状態を下記のA〜Eの5水準の基準で評価した。
[評価基準]
A:全く傷がない
B:1〜5本の傷が確認される
C:6〜20本の傷が確認される
D:21本以上の傷があるが曇りには見えない状態
E:多数の傷があり曇りに近い状態
Next, an embodiment relating to the film thickness of the second organic film 52 which is a low refractive index layer will be described.
Samples were prepared when the thickness of the second organic film 52 was 80 nm, 100 nm, 130 nm, and 160 nm, and a scratch test was performed on each sample. The conditions for the first organic film 51 and the lens substrate are the same as those in the first embodiment.
In the abrasion test, steel wool # 0000 was applied to the lens surface with a load of 1 kg, and after rubbing a distance of 3 to 4 cm for 10 reciprocations, the condition of the scratches that entered the lens surface was visually evaluated according to the following five levels A to E. Evaluation based on the criteria.
[Evaluation criteria]
A: No scratches B: 1 to 5 scratches are confirmed C: 6 to 20 scratches are confirmed D: There are 21 or more scratches but it is not visible in cloudy E: Many Scratched and almost cloudy

[試験結果]
膜厚が80nm ランクB
膜厚が100nm ランクA
膜厚が130nm ランクA
膜厚が160nm ランクA
つまり、膜厚が100nm以上である場合には、耐擦傷性が極めて良好であり、膜厚が80nmであると、多少の傷が生じることになるので、好ましくはない。つまり、本実施形態では、耐擦傷性を考慮すると、第二有機膜52の膜厚は、100nm以上160nm以下の範囲がよい。
[Test results]
Film thickness is 80nm Rank B
Film thickness is 100nm Rank A
Film thickness is 130nm Rank A
Film thickness is 160nm Rank A
That is, when the film thickness is 100 nm or more, the scratch resistance is very good, and when the film thickness is 80 nm, some scratches are generated, which is not preferable. That is, in the present embodiment, considering the scratch resistance, the thickness of the second organic film 52 is preferably in the range of 100 nm to 160 nm.

従って、本実施形態では、次の作用効果を奏することができる。
(1)レンズ基材2に設けられた高屈折率の第一有機膜51と、この第一有機膜51に設けられた低屈折率の第二有機膜52とを含み反射防止層5が構成された眼鏡レンズ1を製造する方法であって、第一有機膜51の屈折率nを2.00以上とし、かつ、第一有機膜51の膜厚を所定の範囲で変化させて反射色を所望の色相角の色にする。つまり、反射光を所望の色とするために、レンズ基材2に設けられる第一有機膜51の厚さを所定値に設定することで、第二有機膜52を透過する入射光の一部を第一有機膜51で反射させて眼鏡レンズ1の外観を良好にする。入射光は、その一部が第一有機膜51で反射されることで、眼鏡使用者の眼に入射する光の量が低下するが、その量は少ないので不都合はない。そして、個々の眼鏡レンズ1を製造する際に、第一有機膜51の膜厚を変えることで、眼鏡レンズ毎に異なる反射色を得ることができ、外観上の特色のある眼鏡レンズを提供することができる。さらに、第一有機膜51の膜厚は成膜条件を変えることで容易に変えることができるので、レンズ基材自体を着色する場合に比べて外観上の特色のある眼鏡レンズを製造することができる。
Therefore, in the present embodiment, the following operational effects can be achieved.
(1) The antireflection layer 5 includes a first organic film 51 having a high refractive index provided on the lens substrate 2 and a second organic film 52 having a low refractive index provided on the first organic film 51. The spectacle lens 1 is manufactured by changing the refractive index n of the first organic film 51 to 2.00 or more and changing the film thickness of the first organic film 51 within a predetermined range. A desired hue angle is selected. That is, in order to make the reflected light have a desired color, a part of incident light that passes through the second organic film 52 is set by setting the thickness of the first organic film 51 provided on the lens substrate 2 to a predetermined value. Is reflected by the first organic film 51 to improve the appearance of the spectacle lens 1. A part of the incident light is reflected by the first organic film 51 to reduce the amount of light incident on the eye of the spectacle user, but there is no problem because the amount is small. And when manufacturing each spectacle lens 1, by changing the film thickness of the 1st organic film 51, a different reflective color can be obtained for every spectacle lens, and the spectacle lens with the characteristic in appearance is provided. be able to. Furthermore, since the film thickness of the first organic film 51 can be easily changed by changing the film formation conditions, it is possible to manufacture a spectacle lens having a characteristic in appearance as compared with the case where the lens substrate itself is colored. it can.

(2)第一有機膜の膜厚を300nm以上400nm以下の範囲としたので、広い範囲での色相角を得ることができる。これにより、製造される眼鏡レンズ1の外観の多様化を図ることができる。 (2) Since the thickness of the first organic film is in the range of 300 nm to 400 nm, a hue angle in a wide range can be obtained. Thereby, diversification of the external appearance of the spectacle lens 1 manufactured can be achieved.

(3)第一有機膜51の屈折率nを2.05以下としたので、視感反射率を低く抑えることができる。つまり、屈折率nを2.10とすると、反射率が大きくなり、不都合が生じる。
(4)第二有機膜52の膜厚を100nm以上160nm以下の範囲としたので、耐擦傷性が良好となる。
(3) Since the refractive index n of the first organic film 51 is 2.05 or less, the luminous reflectance can be kept low. In other words, when the refractive index n is 2.10, the reflectance increases and inconvenience arises.
(4) Since the thickness of the second organic film 52 is in the range of 100 nm or more and 160 nm or less, the scratch resistance is good.

なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的および効果を達成できる範囲内での変形や改良が、本発明の内容に含まれるものであることはいうまでもない。
例えば、眼鏡レンズ1はプライマー層3やハードコート層4を必ずしも設けることを要しない。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and it goes without saying that modifications and improvements within the scope of achieving the objects and effects of the present invention are included in the contents of the present invention. Absent.
For example, the spectacle lens 1 does not necessarily need to be provided with the primer layer 3 and the hard coat layer 4.

本発明は基材に有機膜の反射防止層が設けられた眼鏡レンズに利用することができる。   The present invention can be used for a spectacle lens in which an organic film antireflection layer is provided on a base material.

1…眼鏡レンズ、2…レンズ基材、3…プライマー層、4…ハードコート層、5…反射防止層、6…防汚層、51…第一有機膜、52…第二有機膜   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Eyeglass lens, 2 ... Lens base material, 3 ... Primer layer, 4 ... Hard-coat layer, 5 ... Antireflection layer, 6 ... Antifouling layer, 51 ... 1st organic film, 52 ... 2nd organic film

Claims (4)

基材の表面に反射防止層が設けられ、この反射防止層が前記基材に設けられた高屈折率の第一有機膜と、この第一有機膜に設けられ前記第一有機膜より屈折率の低い第二有機膜とを含み構成される眼鏡レンズを製造する方法であって、
前記第一有機膜の屈折率nを2.00以上とし、かつ、前記第一有機膜の厚さを変化させて反射色を所望の色相角の色にすることを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
An antireflection layer is provided on the surface of the base material, the first organic film having a high refractive index provided on the base material, and the refractive index of the first organic film from the first organic film. A method for producing a spectacle lens comprising a low second organic film,
Manufacturing a spectacle lens, characterized in that the refractive index n of the first organic film is 2.00 or more and the thickness of the first organic film is changed so that the reflected color has a desired hue angle. Method.
請求項1に記載された眼鏡レンズの製造方法において、
前記第一有機膜の膜厚を300nm以上400nm以下の範囲とすることを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the spectacle lens according to claim 1,
A method for manufacturing a spectacle lens, wherein the first organic film has a thickness in a range of 300 nm to 400 nm.
請求項2に記載された眼鏡レンズの製造方法において、
前記第一有機膜の屈折率nを2.05以下とすることを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the spectacle lens according to claim 2,
A method for manufacturing a spectacle lens, wherein the refractive index n of the first organic film is 2.05 or less.
請求項1から請求項3のいずれかに記載された眼鏡レンズの製造方法において、
前記第二有機膜の膜厚を100nm以上160nm以下の範囲とすることを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
In the manufacturing method of the spectacle lens in any one of Claims 1-3,
A method for manufacturing a spectacle lens, wherein the second organic film has a thickness in a range of 100 nm to 160 nm.
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