JP2012039039A - Processing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、保持テーブルで吸引保持した半導体ウェーハ等の被加工物に、研削、研磨、切削等の加工を施す加工方法に関する。 The present invention relates to a processing method for performing processing such as grinding, polishing, and cutting on a workpiece such as a semiconductor wafer sucked and held by a holding table.
半導体デバイス製造工程においては、まず、シリコンや化合物半導体等からなるウェーハの表面に分割予定ラインが格子状に形成され、次いで、分割予定ラインで区画された多数の矩形状のデバイス領域に、ICやLSI等による複数の回路素子が形成される。この後、該ウェーハは研削装置や研磨装置により裏面が研削、研磨されて所定の厚さに薄化されてから、切削装置により分割予定ラインに沿って切断して個々のデバイス領域に分割するダイシングが行われて、1枚のウェーハから多数のデバイス(半導体チップ)が製造される。 In the semiconductor device manufacturing process, first, dividing lines are formed in a lattice shape on the surface of a wafer made of silicon, compound semiconductor, or the like, and then ICs or semiconductor devices are formed on a number of rectangular device regions partitioned by the dividing lines. A plurality of circuit elements such as LSIs are formed. After that, the back surface of the wafer is ground and polished by a grinding device or a polishing device and thinned to a predetermined thickness, and then cut along a predetermined division line by a cutting device and divided into individual device regions. Are performed, and a large number of devices (semiconductor chips) are manufactured from one wafer.
ところで、近年、半導体デバイスの軽薄短小化を実現させるための技術として、デバイス表面にバンプと呼ばれる金属突起物を複数形成し、これらバンプを配線基板に形成された電極に対向させて直接接合するフリップチップボンディングと呼ばれる実装方法が実用化されている。バンプは、メッキやスタッドバンプといった方法により形成されるため個々のバンプの高さ位置は不均一であり、そのままでは複数のバンプを配線基板の電極に全て一様に接合するのは困難である。 By the way, in recent years, as a technique for realizing lighter, thinner, and smaller semiconductor devices, a plurality of metal protrusions called bumps are formed on the device surface, and a flip is performed in which these bumps are directly bonded to the electrodes formed on the wiring board. A mounting method called chip bonding has been put into practical use. Since the bumps are formed by a method such as plating or stud bumps, the height positions of the individual bumps are not uniform, and it is difficult to uniformly bond the plurality of bumps to the electrodes of the wiring board as they are.
そこで、バンプの先端をバイトで切削して高さ位置を均一に揃えるための切削装置が提案されている(特許文献1参照)。このようなバイト切削装置を含む各種加工装置(例えば研削装置、研磨装置、切削ブレードによる切削装置を含む)は、通常、被加工物を負圧作用で吸引保持する真空チャック式の保持テーブルと、該保持テーブルで保持した被加工物に加工を施す加工手段とを備えている。そして、被加工物を保持テーブルで保持する際には、被加工物のハンドリング性を向上させること等を目的として、被加工物には被加工面と反対側の面に粘着シートが貼着される場合がある。粘着シートが貼着された被加工物は、被加工面が露出するように粘着シートを介して保持テーブルで吸引保持される。 In view of this, a cutting apparatus has been proposed for cutting the tip of the bump with a cutting tool so as to make the height position uniform (see Patent Document 1). Various processing devices including such a cutting tool (including a grinding device, a polishing device, and a cutting device using a cutting blade) usually have a vacuum chuck type holding table that sucks and holds a workpiece by negative pressure action, And processing means for processing the workpiece held by the holding table. And when holding a work piece with a holding table, for the purpose of improving the handleability of the work piece and the like, an adhesive sheet is stuck to the work piece on the surface opposite to the work surface. There is a case. The workpiece to which the adhesive sheet is attached is sucked and held by the holding table through the adhesive sheet so that the processing surface is exposed.
一方、研削や研磨による被加工面の平坦度や、被加工面に対する切削の切り込み深さ、あるいはバイト切削での切削高さ位置が高精度に要求される場合には、被加工物に粘着シートを貼着すると、粘着シートの厚さのばらつきによって高精度な加工が施すことができないという不都合が起こる。そこでこのような場合には、被加工物を保持テーブルに直接載置して吸引保持し、その状態で加工を施す方法が採られる。被加工物を直接載置する場合の保持テーブルは、空気を吸引する多数の吸引孔が表面に露出する吸引領域が被加工物の外形に対応する形状に形成されており、被加工物は該吸引領域に外形を適合させて載置される。これにより、空気漏れが生じず十分な負圧作用で被加工物が保持テーブル上に吸引保持される。 On the other hand, if high accuracy is required for the flatness of the work surface by grinding or polishing, the cutting depth of the cutting to the work surface, or the cutting height position by bite cutting, an adhesive sheet is attached to the work piece. When sticking, the inconvenience that high-precision processing cannot be performed due to variations in the thickness of the pressure-sensitive adhesive sheet occurs. Therefore, in such a case, a method is adopted in which the workpiece is directly placed on the holding table and sucked and held, and the workpiece is processed in that state. The holding table when the workpiece is directly placed has a suction area in which a number of suction holes for sucking air are exposed on the surface in a shape corresponding to the outer shape of the workpiece. The outer shape is placed in conformity with the suction area. As a result, the workpiece is sucked and held on the holding table with a sufficient negative pressure without air leakage.
上記シリコンからなるウェーハの外形は円形状であるが、被加工物の外形はこのような円形状とは限られない。したがって様々な外形の被加工物を保持テーブルで直接吸引保持して加工するためには、被加工物の外形に応じた吸引領域を有する複数の保持テーブルが必要になってくる。しかしながら、被加工物の外形に対応した複数の保持テーブルを用意した場合には、外形が異なる被加工物を加工するたびに保持テーブルを交換する手間がかかる上、複数の保持テーブルを管理する必要があって作業者の負担となる。 The outer shape of the wafer made of silicon is circular, but the outer shape of the workpiece is not limited to such a circular shape. Therefore, in order to process a workpiece having various outer shapes by directly sucking and holding the workpiece with the holding table, a plurality of holding tables having suction areas corresponding to the outer shape of the workpiece are required. However, when a plurality of holding tables corresponding to the outer shape of the workpiece are prepared, it takes time to replace the holding table every time a workpiece having a different outer shape is processed, and it is necessary to manage the plurality of holding tables. There is a burden on the operator.
また、例えばガリウム砒素(GaAs)やガリウム燐(GaP)からなるウェーハのように破損し易いウェーハや、サファイア(Al2O3)や窒化ガリウム(GaN)からなるウェーハのように高価なウェーハは、破損して不定形となったものでも加工を施す場合がある。ところが、破損したウェーハの外形に対応する吸引領域を有する保持テーブルをその都度作成することは現実的に不可能であり、したがってこれら不定形のウェーハを粘着シートを介さずに保持テーブルに直接吸引保持することは難しかった。 Further, wafers that are easily damaged, such as wafers made of gallium arsenide (GaAs) or gallium phosphide (GaP), and expensive wafers such as wafers made of sapphire (Al 2 O 3 ) or gallium nitride (GaN), Even those that are damaged and become irregularly shaped may be processed. However, it is practically impossible to create a holding table having a suction area corresponding to the outer shape of the damaged wafer. Therefore, these irregular wafers are directly sucked and held on the holding table without using an adhesive sheet. It was difficult to do.
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その主たる目的は、如何なる外形の被加工物でも保持テーブルに直接吸引保持して加工を施すことができる加工方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and a main object of the present invention is to provide a processing method capable of processing a workpiece having any outer shape by directly sucking and holding the workpiece on a holding table.
本発明の加工方法は、保持テーブルで吸引保持した被加工物に加工を施す加工方法であって、被加工物を保持する保持面を有する保持テーブルの該保持面に粘着シートを貼着する粘着シート貼着工程と、前記保持面に貼着された前記粘着シートを、加工を施す被加工物の外形縁に沿って切断して、該保持面における被加工物に対応した被加工物対応領域に対応する部分と、該保持面における被加工物の外形縁の外側である外側領域に対応する部分とに分離する粘着シート分離工程と、分離した前記被加工物対応領域に対応する部分の前記粘着シートを前記保持面上から除去する粘着シート除去工程と、前記保持面における前記被加工物対応領域に対応させて被加工物を載置するとともに、該被加工物を前記保持テーブルで吸引保持する被加工物保持工程と、前記保持テーブルで吸引保持した被加工物に加工手段で加工を施す加工工程と、を備えることを特徴とする。 The processing method of the present invention is a processing method for processing a workpiece sucked and held by a holding table, wherein the pressure-sensitive adhesive sheet is attached to the holding surface of a holding table having a holding surface for holding the workpiece. Workpiece-corresponding region corresponding to the work piece on the holding surface by cutting the adhesive sheet attached to the holding surface and the outer edge of the work piece to be processed. And an adhesive sheet separating step for separating the portion corresponding to the outer region that is outside the outer edge of the workpiece on the holding surface, and the portion corresponding to the separated workpiece corresponding region A pressure-sensitive adhesive sheet removing step for removing the pressure-sensitive adhesive sheet from the holding surface, and placing the workpiece in correspondence with the workpiece-corresponding region on the holding surface, and sucking and holding the workpiece by the holding table To be processed A holding step, characterized in that it comprises a processing step of performing processing by the processing means to the workpiece is suction-held by the holding table.
本発明によれば、被加工物は保持テーブルの保持面における被加工物対応領域に直接載置され、保持面における被加工物の周囲の外側領域は貼着された粘着シートで覆われることにより、保持面全面が被加工物もしくは粘着シートによって覆われる。このため、保持面に空気漏れは生じず十分な負圧作用が発生し、被加工物は保持面に十分な吸引力で吸引保持される。本発明では、粘着シート分離工程で、粘着シートを保持面における被加工物に対応した被加工物対応領域に対応する部分と、保持面における被加工物の外形縁の外側である外側領域に対応する部分とに分離し、被加工物対応領域に対応する部分の粘着シートを除去した保持面上の被加工物対応領域に被加工物を対応させて載置することにより、如何なる外形の被加工物でも、保持面が露出して空気漏れを招くようなことなく被加工物を保持面に載置することができる。 According to the present invention, the workpiece is placed directly on the workpiece corresponding region on the holding surface of the holding table, and the outer region around the workpiece on the holding surface is covered with the adhered adhesive sheet. The entire holding surface is covered with a workpiece or an adhesive sheet. For this reason, air leakage does not occur on the holding surface and a sufficient negative pressure action occurs, and the workpiece is sucked and held by the holding surface with a sufficient suction force. In the present invention, in the pressure-sensitive adhesive sheet separating step, the pressure-sensitive adhesive sheet corresponds to a part corresponding to the workpiece corresponding region on the holding surface and an outer region which is outside the outer edge of the workpiece on the holding surface. Any outer shape of the workpiece can be processed by placing the workpiece in correspondence with the workpiece corresponding area on the holding surface from which the adhesive sheet of the portion corresponding to the workpiece corresponding area is removed. Even with an object, the workpiece can be placed on the holding surface without exposing the holding surface and causing air leakage.
本発明においては、前記加工手段は、研削砥石または切削バイトを含むことを特徴とする。このように加工手段が研削砥石または切削バイトを含む形態では、本発明は、前記加工工程を実施した後、前記外側領域に対応する部分の前記粘着シートを前記保持面上から除去し、該加工手段で該保持面を研削または切削して平坦化する平坦化工程を有する方法を含む。この平坦化工程を行うことにより、粘着シート分離工程で保持面に傷等が生じた場合、その傷等を除去することができる。 In the present invention, the processing means includes a grinding wheel or a cutting tool. Thus, in a form in which the processing means includes a grinding wheel or a cutting tool, the present invention removes the adhesive sheet in a portion corresponding to the outer region from the holding surface after performing the processing step. Including a planarizing step of planarizing the holding surface by grinding or cutting with a means. By performing this flattening step, if a scratch or the like is generated on the holding surface in the pressure-sensitive adhesive sheet separating step, the scratch or the like can be removed.
本発明で言う被加工物は特に限定はされないが、例えば研削装置や研磨装置で加工するものとして、上記のシリコン、ガリウム砒素(GaAs)、ガリウム燐(GaP)、サファイア(Al2O3)、窒化ガリウム(GaN)の他、セラミック、ガラス等からなる種々のウェーハや基板、板状金属や樹脂の延性材料、ミクロンオーダーからサブミクロンオーダーの平坦度(TTV:total thickness variation−被加工物の被研削面を基準として厚さ方向に測定した高さの被加工物の被研削面全面における最大値と最小値の差)が要求される各種加工材料等が挙げられる。 The workpiece to be referred to in the present invention is not particularly limited. For example, as the workpiece to be processed by a grinding apparatus or a polishing apparatus, the above-described silicon, gallium arsenide (GaAs), gallium phosphide (GaP), sapphire (Al 2 O 3 ), In addition to gallium nitride (GaN), various wafers and substrates made of ceramic, glass, etc., ductile materials of plate metal and resin, flatness on the order of micron to submicron (TTV: total thickness variation) Examples include various processing materials that require a difference between the maximum value and the minimum value of the entire surface to be ground of the workpiece measured in the thickness direction with respect to the ground surface.
また、例えば被加工物をダイシングする切削装置で加工する被加工物として、各種半導体ウェーハ、チップ実装用としてウェーハの裏面に設けられるDAF(Die Attach Film)等の粘着部材、半導体製品のパッケージ、セラミック、ガラス、サファイア(Al2O3)系の無機材料基板、液晶表示装置を制御駆動するLCDドライバ等の各種電子部品、ミクロンオーダーの加工位置精度が要求される各種加工材料等が挙げられる。さらに、複数の上記バンプが形成されており、バイト切削装置で該バンプが切削されて高さ位置が均一にされる各種半導体ウェーハ等が挙げられる。 Also, for example, various semiconductor wafers, adhesive members such as DAF (Die Attach Film) provided on the back side of the wafer for chip mounting, semiconductor product packages, ceramics as workpieces to be processed by a cutting device for dicing the workpiece Glass, sapphire (Al 2 O 3 ) -based inorganic material substrates, various electronic components such as LCD drivers for controlling and driving liquid crystal display devices, and various processing materials that require micron-order processing position accuracy. Furthermore, various semiconductor wafers etc. in which a plurality of the bumps are formed and the bumps are cut by a cutting tool to make the height position uniform.
本発明によれば、如何なる外形の被加工物でも保持テーブルに直接吸引保持して加工を施すことができる加工方法が提供されるといった効果を奏する。 According to the present invention, it is possible to provide a processing method capable of processing a workpiece having any outer shape by directly sucking and holding the workpiece on the holding table.
以下、図面を参照して本発明を上記バンプの切削に適用した一実施形態を説明する。
図1は、バンプの切削に好適なバイト切削装置10を示している。はじめに、このバイト切削装置10の構成を説明する。
Hereinafter, an embodiment in which the present invention is applied to the bump cutting will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a
[1]バイト切削装置の構成
図1で符号11は、装置台である。装置台11の長手方向一端部(図1の奥側の端部)には、壁部12が立設されている。図1では、装置台11の長手方向、幅方向および鉛直方向を、それぞれY方向、X方向およびZ方向としている。
[1] Configuration of Tool Cutting
装置台11上は、長手方向のほぼ中間部分から壁部12側が加工エリア11Aとされ、反対側が、加工エリア11Aに加工前の被加工物を搬入し、かつ、加工後の被加工物を搬出する搬入・搬出エリア11Bとされている。
On the
(a)加工エリアの機構
加工エリア11Aには矩形状の凹所13が形成されており、この凹所13内には、移動台14を介して、真空チャック式の円板状の保持テーブル70がY方向に移動自在に設けられている。移動台14は、装置台11内に配されたY方向に延びるガイドレールに摺動自在に取り付けられ、移動機構(いずれも図示略)によってY方向を往復移動させられる。
(A) Mechanism of processing area A
移動台14の移動方向両端部には、蛇腹15,16の一端が、それぞれ取り付けられており、これら蛇腹15,16の他端は、壁部12の内面と、壁部12に対向する凹所13の内壁面に、それぞれ取り付けられている。これら、蛇腹15,16は、移動台14の移動路を覆い、その移動路に切削屑等が落下することを防ぐもので、移動台14の移動に伴って伸縮する。
One end of the
保持テーブル70は、図2(a)および図3に示すように、ステンレス等からなる円板状の枠体71と、内部に無数の気孔を有する多孔質部72とを備えている。枠体71の上面の大部分には、外周縁部71aを残して円形の凹所71bが同心状に形成されており、この凹所71bに円板状の多孔質部72が嵌合されている。多孔質部72の上面は水平で枠体71の外周縁部71aの上面と面一となっており、多孔質部72の円形状の上面が、被加工物を吸引して保持する保持面73として構成されている。なお、保持テーブル70の保持面73は、多孔質部22で形成されているものの他に、多数の空気吸引孔が形成されて構成されたものであってもよい。
As shown in FIGS. 2A and 3, the holding table 70 includes a disc-shaped
保持テーブル70は、移動台14が壁部12側に移動することにより、所定の加工位置に位置付けられる。その加工位置の上方には、図1に示すように切削手段(加工手段)20が配されている。切削手段20は、装置台11の壁部12に、スライダ32およびガイドレール31を介して昇降自在に取り付けられ、送り機構30によって昇降させられる。送り機構30は、スライダ32に螺合して連結されたボールねじ33をモータ34で回転させる構成であり、ボールねじ33の回転がスライダ32を上下に駆動させるようになっている。
The holding table 70 is positioned at a predetermined processing position when the movable table 14 moves to the
切削手段20は、軸方向がZ方向に延びる円筒状のスピンドルハウジング22と、スピンドルハウジング22内に同軸的、かつ回転自在に支持されたスピンドルシャフト23と、スピンドルシャフト23を回転駆動するサーボモータ24と、スピンドルシャフト23の下端に同軸的に固定された円板状のホイールマウント25と、ホイールマウント25に着脱可能に取り付けられたバイト26とから構成されている。
The cutting means 20 includes a
切削手段20は、スピンドルハウジング22がホルダ34を介してスライダ32に固定されることにより、スライダ32と一体に昇降する。ホイールマウント25は、サーボモータ24によって図1の矢印(ホイールマウント25の上面に記載)方向に回転させられる。バイト26は、被加工物を切削するダイヤモンド等からなる刃部を、下端に有している。
The cutting means 20 moves up and down integrally with the
(b)搬入・搬出エリアの機構
図1に示すように、搬入・搬出エリア11Bには矩形状の凹所18が形成されており、この凹所18の底部には、昇降自在とされた2節リンク式の水平旋回アーム60aの先端にフォーク60bが装着されたピックアップ機構60が設置されている。
(B) Mechanism of carry-in / carry-out area As shown in FIG. 1, a
そして、凹所18の周囲には、上から見た状態で、反時計回りに、カセット61、位置合わせ台62、水平旋回アーム63aの先端に吸着パッド63bが取り付けられた搬入アーム63、搬入アーム63と同じ構造で、水平旋回アーム64aおよび吸着パッド64bを有する搬出アーム64、スピンナ式の洗浄装置65、カセット66が、それぞれ配置されている。
Then, around the
カセット61、位置合わせ台62および搬入アーム63は、被加工物を保持テーブル70に搬入する系統の手段であり、搬出アーム64、洗浄装置65およびカセット66は、加工後の被加工物を保持テーブル70から搬出する系統の手段である。2つのカセット61,66は同一の構造であるが、ここでは用途別に、搬入カセット61、搬出カセット66と称する。これらカセット61,66は、複数の被加工物を収容して運搬可能とするもので、装置台11の所定位置にセットされる。
The
搬入カセット61には、加工前の複数の被加工物が積層された状態で収容される。ピックアップ機構60は、アーム60aの昇降・旋回とフォーク60bの把持動作によって搬入カセット61内から1枚の被加工物を取り出し、さらにその被加工物を、バンプが形成されている被加工面を上に向けた状態で、位置合わせ台62上に載置する機能を有する。
In the carry-in
位置合わせ台62上に載置された被加工物は、一定の搬入位置に位置決めされる。搬入アーム63は、位置合わせ台62上の被加工物を吸着パッド63bに吸着し、アーム63aを旋回させて、保持テーブル70上に被加工物を配し、水平旋回アーム63aを下降させた後、吸着動作を停止することにより、保持テーブル70上に被加工物を載置する機能を有する。
The workpiece placed on the alignment table 62 is positioned at a certain carry-in position. The carry-in
搬出アーム64は、加工後の被加工物を、保持テーブル70上から吸着パッド64bに吸着し、アーム64aを旋回させて被加工物を洗浄装置65内に移送する機能を有する。洗浄装置65は、被加工物を水洗した後、被加工物を回転させて水分を振り飛ばし除去する機能を有する。そして、洗浄装置65によって洗浄された被加工物は、ピックアップ機構60によって搬出カセット66内に移送、収容される。
The carry-out
搬入アーム63および搬出アーム64により、保持テーブル70に対して被加工物を着脱させる際には、移動台14を搬入・搬出エリア11B側に移動させて所定の搬入・搬出位置で停止させる。
When the work piece is attached to or detached from the holding table 70 by the carry-in
切削手段20による被加工物の加工位置は、搬入・搬出位置よりも壁部12側に所定距離移動した範囲とされ、保持テーブル70は、移動台14の移動によって、これら加工位置と搬入・搬出位置との間を行き来させられる。
The processing position of the workpiece by the cutting means 20 is a range moved by a predetermined distance from the loading / unloading position to the
[2]加工方法
続いて、以上の構成からなるバンプ加工装置10を用いて、表面に複数のバンプが形成された被加工物の該バンプの先端を切削して高さ位置を均一に揃える方法を説明する。
[2] Processing Method Next, using the
オペレータにより、複数の被加工物を収容した搬入カセット61と、空の搬出カセット66を、搬入・搬出エリア11Bの所定位置にそれぞれセットする。図4の符号1は、本実施形態での被加工物の例を示している。この被加工物1は、半導体ウェーハ等の薄板状であって、元々の形状が不定形か、あるいは破損によって不定形になったものである。被加工物1の表面には、図10(a)に示すように高さ位置の異なる複数のバンプ2が形成されている。この場合、被加工物1の表面には、バンプ2を覆うアンダーフィル材3が充填されている。
The operator sets a carry-in
また、オペレータにより、図2(b)および図3に示すように、保持テーブル70の保持面73を含む上面全面に粘着シート5を貼着する(粘着シート貼着工程)。粘着シート5は、例えば半導体ウェーハをダイシングする際に半導体ウェーハの裏面に貼着するダイシングテープ等が好適に用いられる。ちなみにダイシングテープは、例えば厚さ100μm程度のポリ塩化ビニルからなる基材の片面に厚さ5μm程度の樹脂粘着剤が塗布された構成である。粘着シート5は、例えば図3に示すように、ローラ9を粘着シート5に押圧しながら保持面73で矢印方向に転動させることにより、保持面73に貼着される。
Moreover, as shown in FIG.2 (b) and FIG. 3, the operator sticks the
続いて、ピックアップ機構60によって、搬入カセット61内から1枚の被加工物が取り出され、位置合わせ台62上に載置されて所定の搬入位置に位置付けられる。次いで、搬入アーム63により、位置合わせ台62上の被加工物が、搬入・搬出位置に位置付けられた保持テーブル70の保持面73に、粘着シート5を介して載置される。被加工物1は、バンプ2が形成された表面を上に向けて保持面73に載置される。
Subsequently, a single workpiece is taken out from the carry-in
保持テーブル70の保持面73上に粘着シート5を介して被加工物1が載置されたら、オペレータにより、図4(a)〜(b)に示すように粘着シート5を被加工物1の外形縁に沿って切断する。これにより保持面73は、図5に示すように、被加工物1に対応する被加工物対応領域73Aと、被加工物1の外形縁の外側に対応する外側領域73Bとに区画されるとともに、粘着シート5は、被加工物対応領域73Aに対応する部分5Aと、外側領域73Bに対応する部分5Bとに分離される(粘着シート分離工程)。このように粘着シート5を切断するには、図5に示すように、粘着シート5に切り込ませたカッター80を被加工物1の外形縁に沿って移動させることにより行うことができる。
When the
次いで、図6に示すように、分離した粘着シート5の被加工物対応領域73Aに対応する部分5Aを、保持面73の被加工物対応領域73Aから矢印のように剥離して除去する(粘着シート除去工程)。これにより粘着シート5には被加工物1の形状の孔が形成され、その孔に保持面73の被加工物対応領域73Aが露出する。次いで、図7および図8に示すように、その孔すなわち被加工物対応領域73Aに被加工物1をぴったり対応させて、被加工物1のバンプ2が形成されていない裏面側を保持面73に合わせて直接載置する。
Next, as shown in FIG. 6, the
続いて保持テーブル70の真空運転を開始し、被加工物1を保持面73の被加工物対応領域73Aにて直接吸引保持する(被加工物保持工程)。なお、保持面73に貼着した粘着シート5上への被加工物1の載置、および被加工物対応領域73Aへの被加工物1の載置は、オペレータが行ってもよく、また、搬入アーム63によって行ってもよい。
Subsequently, the vacuum operation of the holding table 70 is started, and the
以上で、被加工物1は保持テーブル70に吸引保持され、引き続き被加工物1のバンプ2の切削(加工工程)が次のようにして行われる。
Thus, the
切削手段20の上下方向の位置を、バイト26がバンプ2を所定の高さに切削し得る位置になるよう送り機構30によって調整し、サーボモータ24によってホイールマウント25を回転させる。この状態から、図9に示すように移動台14を介して保持テーブル70を矢印Y1方向(壁部12方向)に移動させて、保持テーブル70上に保持した被加工物1を所定速度で切削手段20の下方、すなわち矢印Rのように回転するバイト26の下方である加工位置に送り込んでいく。これにより、図10(b)に示すようにバンプ2の先端がバイト26の刃部によって切削され、高さ位置が揃えられる。
The vertical position of the cutting means 20 is adjusted by the
全てのバンプ2の先端が切削されて高さ位置が揃えられたら、切削手段20の運転を停止して上方に退避させる。この後、保持テーブル70を搬入・搬出位置まで移動させるとともに真空運転を停止させ、被加工物1の吸引保持を解除する。次に、被加工物1は搬出アーム64によって保持テーブル70から取り上げられて洗浄装置65内に移送され、洗浄装置65内で水洗、乾燥処理される。そして、ピックアップ機構60によって搬出カセット66内に移送、収容される。
When the tips of all the
以上が1枚の被加工物1に対してバンプ2の先端を切削加工し、この後、洗浄して回収するサイクルであり、このサイクルが繰り返し行われる。そして搬入カセット61内の全ての被加工物に対して処理が終わったら、被加工物は搬出カセット66ごと次の工程に移される。
The above is a cycle in which the tip of the
[3]効果
上記本実施形態の加工方法によれば、被加工物1は保持テーブル70の保持面73における被加工物対応領域73Aに直接載置され、保持面73における被加工物の周囲の外側領域73Bは貼着された粘着シート5で覆われることにより、保持面73全面が被加工物1もしくは粘着シート5によって覆われる。このため、十分な負圧作用が発生して被加工物1は保持面73に十分な吸引力で吸引保持される。
[3] Effect According to the processing method of the present embodiment, the
そしてこの加工方法では、粘着シート分離工程で、被加工物1の外形縁に沿って粘着シート5を切断することにより、粘着シート5を保持面73における被加工物1に対応した被加工物対応領域73Aに対応する部分5Aと、保持面73における被加工物1の外形縁の外側である外側領域73Bに対応する部分5Bとに分離し、次いで、粘着シート5の被加工物対応領域73Aに対応する部分5Aを除去した被加工物対応領域73A上に被加工物1を対応させて載置することにより、如何なる外形の被加工物でも、保持面が露出して空気漏れを招くようなことなく被加工物を保持面に載置することができる。
In this processing method, the pressure-
なお、粘着シート分離工程で粘着シート5を被加工物1の外形縁に沿って切断するには、上記のようにカッター80を用いる方法以外にも、適切な方法があればその方法を採用することができる。本実施形態のようにカッター80を用いた場合には、切り込んだカッター80の先端により保持面73に溝状の傷が残る場合がある。このような傷が保持面73に残ったままだと吸引保持の機能に支障が生じるおそれがあるが、本実施形態では、図11に示すように、被加工物1の加工時と同じように保持テーブル70を矢印Y1方向に移動させ、矢印Rのように回転する切削手段20のバイト26で保持面73の全面を切削して保持面73を平坦化するセルフカットを行う(平坦化工程)。これにより、本実施形態では保持面73にできたカッター80による傷を速やか、かつ容易に除去することができる。
In addition, in order to cut | disconnect the
[4]本発明の他の形態
本発明は、上記実施形態のように被加工物1のバンプ2をバイト26で切削する加工方法以外にも、任意の被加工物の研削や研磨、あるいは被加工物を切断して複数に分割するダイシングといった種々の加工にも適用することができる。バイトでの切削や研削では、カッターで保持テーブルの保持面に付く傷を上記のようにセルフカットで除去することができるが、研磨やダイシングの場合にはセルフカットはできないため、保持面を例えば油砥石等の砥石で研削して平坦化するとよい。
[4] Other Embodiments of the Invention In addition to the machining method of cutting the
1…被加工物
5…粘着シート
5A…粘着シートの被加工物対応領域に対応する部分
5B…粘着シートの外側領域に対応する部分
20…切削手段(加工手段)
26…バイト(切削バイト)
70…保持テーブル
73…保持面
73A…保持面の被加工物対応領域
73B…保持面の外側領域
DESCRIPTION OF
26 ... Bite (cutting bite)
70 ... Holding table 73 ... Holding
Claims (3)
被加工物を保持する保持面を有する保持テーブルの該保持面に粘着シートを貼着する粘着シート貼着工程と、
前記保持面に貼着された前記粘着シートを、加工を施す被加工物の外形縁に沿って切断して、該保持面における被加工物に対応した被加工物対応領域に対応する部分と、該保持面における被加工物の外形縁の外側である外側領域に対応する部分とに分離する粘着シート分離工程と、
分離した前記被加工物対応領域に対応する部分の前記粘着シートを前記保持面上から除去する粘着シート除去工程と、
前記保持面における前記被加工物対応領域に対応させて被加工物を載置するとともに、該被加工物を前記保持テーブルで吸引保持する被加工物保持工程と、
前記保持テーブルで吸引保持した被加工物に加工手段で加工を施す加工工程と、
を備えることを特徴とする加工方法。 A processing method for processing a workpiece sucked and held by a holding table,
An adhesive sheet attaching step of attaching an adhesive sheet to the holding surface of the holding table having a holding surface for holding the workpiece;
The adhesive sheet attached to the holding surface is cut along the outer edge of the workpiece to be processed, and the portion corresponding to the workpiece corresponding region corresponding to the workpiece on the holding surface; A pressure-sensitive adhesive sheet separating step for separating the holding surface into a portion corresponding to an outer region that is outside the outer edge of the workpiece;
A pressure-sensitive adhesive sheet removing step for removing the part of the pressure-sensitive adhesive sheet corresponding to the separated workpiece-corresponding region from the holding surface;
A workpiece holding step of placing the workpiece in correspondence with the workpiece corresponding region on the holding surface and sucking and holding the workpiece by the holding table;
A processing step of processing the workpiece sucked and held by the holding table with a processing means;
A processing method characterized by comprising:
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- 2010-08-11 JP JP2010180464A patent/JP2012039039A/en active Pending
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