JP2011230940A - Cutting method for brittle material substrate - Google Patents

Cutting method for brittle material substrate Download PDF

Info

Publication number
JP2011230940A
JP2011230940A JP2010100849A JP2010100849A JP2011230940A JP 2011230940 A JP2011230940 A JP 2011230940A JP 2010100849 A JP2010100849 A JP 2010100849A JP 2010100849 A JP2010100849 A JP 2010100849A JP 2011230940 A JP2011230940 A JP 2011230940A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scribe line
substrate
brittle material
material substrate
laser beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010100849A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuhang Su
宇航 蘇
Koji Yamamoto
山本  幸司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Original Assignee
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd filed Critical Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority to JP2010100849A priority Critical patent/JP2011230940A/en
Publication of JP2011230940A publication Critical patent/JP2011230940A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of cutting a brittle material substrate along two directions intersecting with each other, by an existing cutter using a laser beam.SOLUTION: This method includes a first process for irradiating the brittle material substrate 50 with the laser beam LB, while moved relatively each other, to heat the substrate 50 up to a temperature less than a melting temperature, for thereafter blowing a cooling medium to the substrate 50 to cool the substrate, and for forming a first scribe line 52a formed of a vertical crack 53a, by a thermal stress generated in the substrate, a second process for preheating an intersecting portion of the first scribe line 52a with a second scribe planned line 51b, up to the temperature less than the melting temperature of the substrate 50, a third process for forming the second scribe line 52b intersecting with the first scribe line 52a, and a fourth process for cutting the substrate 50 along the first scribe line 52a and the second scribe line 52b.

Description

本発明は、脆性材料基板にレーザビームを照射して、互いに交差する2方向に沿って脆性材料基板を割断する方法に関するものである。   The present invention relates to a method of irradiating a brittle material substrate with a laser beam and cleaving the brittle material substrate along two directions intersecting each other.

従来、ガラス基板などの脆性材料基板の割断方法としては、カッターホイール等を圧接転動させてスクライブラインを形成した後、スクライブラインに沿って基板に対して垂直方向から外力を加え基板を割断する方法が広く行われている。   Conventionally, as a method for cleaving a brittle material substrate such as a glass substrate, a scribe line is formed by pressing and rolling a cutter wheel or the like, and then the substrate is cleaved by applying external force from the direction perpendicular to the substrate along the scribe line. The method is widely practiced.

通常、カッターホイールを用いて脆性材料基板のスクライブを行った場合、カッターホイールによって脆性材料基板に付与される機械的な応力によって基板の欠陥が生じやすく、ブレイクを行った際に上記欠陥に起因する割れ等が発生する。   Usually, when a brittle material substrate is scribed using a cutter wheel, the substrate is likely to be defective due to mechanical stress imparted to the brittle material substrate by the cutter wheel, and is caused by the above-described defect when performing a break. Cracks occur.

そこで、近年、レーザを用いて脆性材料基板を割断する方法が実用化されている。この方法は、レーザビームを基板に照射して基板を溶融温度未満に加熱した後、冷却媒体により基板を冷却することによって基板に熱応力を生じさせ、この熱応力によって基板の表面から略垂直方向にクラックを形成させるというものである。このレーザビームを用いた脆性材料基板の割断方法では、熱応力を利用するため、工具を基板に直接接触させることがなく、割断面は欠け等の少ない平滑な面となり、基板の強度が維持される。   Therefore, in recent years, a method of cleaving a brittle material substrate using a laser has been put into practical use. In this method, the substrate is irradiated with a laser beam to heat the substrate to a temperature lower than the melting temperature, and then the substrate is cooled by a cooling medium, thereby generating thermal stress on the substrate. To form cracks. In this method of cleaving a brittle material substrate using a laser beam, since the thermal stress is used, the tool is not brought into direct contact with the substrate, the fractured surface becomes a smooth surface with few chips and the strength of the substrate is maintained. The

また、レーザを用いて、互いに交差する2方向で脆性材料基板を割断する方法も提案されている。しかし、第1の方向に脆性材料基板を切断した後、第1の方向と交差する第2の方向に脆性材料基板を切断する際、第1の方向との交差点から垂直クラックが進展しない、あるいは切断予定線から外れて垂直クラックが進展することがあった。特に、表面圧縮応力の高い強化ガラスの場合には、第1の方向に形成された垂直クラックが大きく開いた状態を維持するので、第2の方向に脆性材料基板を切断する際、第1の方向との交差点から先にクラックが進展しにくい。   In addition, a method of cleaving a brittle material substrate in two directions intersecting each other using a laser has been proposed. However, when cutting the brittle material substrate in the first direction and then cutting the brittle material substrate in the second direction that intersects the first direction, vertical cracks do not develop from the intersection with the first direction, or There was a case where a vertical crack developed from the planned cutting line. In particular, in the case of tempered glass having a high surface compressive stress, the vertical cracks formed in the first direction are maintained in a largely open state. Therefore, when cutting the brittle material substrate in the second direction, It is difficult for cracks to advance from the intersection with the direction.

このため、例えば特許文献1では、脆性材料基板にレーザビームを照射して第1の方向に脆性材料基板を切断した後、脆性材料基板を支承する支持台の上面を凹状に変化させて、脆性材料基板の切断された部分同士を圧接し、この状態でレーザビームを照射して、第1の方向に直交する第2の方向に脆性材料基板を切断する方法が提案されている。   For this reason, for example, in Patent Document 1, the brittle material substrate is irradiated with a laser beam to cut the brittle material substrate in the first direction, and then the upper surface of the support base that supports the brittle material substrate is changed into a concave shape. A method has been proposed in which the cut portions of the material substrate are pressed against each other, and a laser beam is irradiated in this state to cut the brittle material substrate in a second direction orthogonal to the first direction.

WO2006/90632WO2006 / 90632

しかしながら上記提案方法を実施するには、脆性材料基板を支承する支持台上面の形状を変化させるための複雑な機構を備えた特別の切断装置が必要となる。   However, in order to implement the proposed method, a special cutting device having a complicated mechanism for changing the shape of the upper surface of the support base for supporting the brittle material substrate is required.

本発明はこのような従来の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、レーザを用いた既存の切断装置で、互いに交差する2方向に脆性材料基板を割断できる方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of such conventional problems, and an object of the present invention is to provide a method capable of cleaving a brittle material substrate in two directions intersecting each other with an existing cutting device using a laser. is there.

前記目的を達成する本発明に係る脆性材料基板の割断方法は、脆性材料基板に対してレーザビームを相対移動させながら照射して、前記基板を溶融温度未満に加熱した後、前記基板に対して冷却媒体を吹き付けて冷却し、前記基板に生じた熱応力によって、垂直クラックからなる第1スクライブラインを形成する第1工程と、第1スクライブラインの、第2スクライブ予定ラインとの交差部分を前記基板の溶融温度未満に予備加熱する第2工程と、第1スクライブラインと同様にして、第1スクライブラインと交差する第2スクライブラインを形成する第3工程と、第1スクライブライン及び第2スクライブラインに沿って前記基板を割断する第4工程とを含むことを特徴とする。   The method for cleaving a brittle material substrate according to the present invention that achieves the above object is to irradiate the brittle material substrate while moving the laser beam relative to the brittle material substrate, heat the substrate to below the melting temperature, A cooling medium is sprayed to cool, and a crossing portion between the first scribe line and the second scribe line of the first scribe line is formed by the thermal stress generated on the substrate to form the first scribe line composed of vertical cracks. A second step of preheating below the melting temperature of the substrate, a third step of forming a second scribe line that intersects the first scribe line in the same manner as the first scribe line, and the first scribe line and the second scribe line And a fourth step of cleaving the substrate along the line.

ここで、生産性等の観点からは、前記予備加熱は、レーザビームの照射によって行うのが好ましい。   Here, from the viewpoint of productivity or the like, the preheating is preferably performed by laser beam irradiation.

また、前記予備加熱する部分の、第1スクライブラインに平行な方向の長さとしては1〜5mmの範囲であるのが好ましい。   Further, the length of the portion to be preheated in the direction parallel to the first scribe line is preferably in the range of 1 to 5 mm.

前記脆性材料基板としては強化ガラス基板が好ましい。   A tempered glass substrate is preferable as the brittle material substrate.

本発明に係る脆性材料基板の割断方法によれば、特別な機構を備えた切断装置を用いることなく、互いに交差する2方向に脆性材料基板を割断できる。   According to the method for cleaving a brittle material substrate according to the present invention, the brittle material substrate can be cleaved in two directions intersecting each other without using a cutting device having a special mechanism.

本発明に係る割断方法を実施できる割断装置の一例を示す概説図である。It is an outline figure showing an example of a cleaving device which can carry out a cleaving method concerning the present invention. レーザスクライブの操作状態を説明する図である。It is a figure explaining the operation state of a laser scribe. 本発明に係る割断方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the cleaving method which concerns on this invention. 本発明に係る割断方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the cleaving method which concerns on this invention. レーザビームの照射スポットの模式図である。It is a schematic diagram of the irradiation spot of a laser beam. 実施例1における、第1スクライブラインと第2スクライブラインの交差点部分の光学顕微鏡写真である。2 is an optical micrograph of an intersection portion of a first scribe line and a second scribe line in Example 1. 比較例1における、第2スクライブ予定ラインから外れて垂直クラックが進展した基板の写真である。6 is a photograph of a substrate in Comparative Example 1 where a vertical crack has progressed out of the second scribe line.

以下、本発明に係る脆性材料基板の割断方法について図に基づいて説明するが、本発明はこれらの実施形態に何ら限定されるものではない。   Hereinafter, although the cutting method of the brittle material substrate according to the present invention will be described with reference to the drawings, the present invention is not limited to these embodiments.

図1に、本発明に係る割断方法の実施に用いる割断装置の一例を示す概説図を示す。この図の割断装置は、架台11上に紙面に対して垂直方向(Y方向)に移動自在のスライドテーブル12と、スライドテーブル上に図の左右方向(X方向)に移動自在の台座19と、台座19上に設けられた回転機構25とを備え、この回転機構25上に設けられた回転テーブル26に載置・固定された脆性材料基板50はこれらの移動手段によって水平面内を自在に移動される。   FIG. 1 is a schematic view showing an example of a cleaving apparatus used for carrying out the cleaving method according to the present invention. The cleaving apparatus in this figure includes a slide table 12 that is movable on the gantry 11 in a direction perpendicular to the paper surface (Y direction), a pedestal 19 that is movable on the slide table in the left and right direction (X direction), and The brittle material substrate 50 provided with a rotating mechanism 25 provided on the pedestal 19 and placed and fixed on the rotating table 26 provided on the rotating mechanism 25 is freely moved in the horizontal plane by these moving means. The

スライドテーブル12は、架台11の上面に所定距離隔てて平行に配置された一対のガイドレール14,15上に移動自在に取り付けられている。そして、一対のガイドレール14,15の間には、ガイドレール14,15と平行にボールネジ13が、不図示のモータによって正・逆回転自在に設けられている。また、スライドテーブル12の底面にはボールナット16が設けられている。このボールナット16はボールネジ13に螺合している。ボールネジ13が正転又は逆転することによって、ボールナット16はY方向に移動し、これによってボールナット16が取り付けられたスライドテーブル12が、ガイドレール14,15上をY方向に移動する。   The slide table 12 is movably mounted on a pair of guide rails 14 and 15 arranged in parallel with a predetermined distance on the upper surface of the gantry 11. Between the pair of guide rails 14 and 15, a ball screw 13 is provided in parallel to the guide rails 14 and 15 so as to be rotatable forward and backward by a motor (not shown). A ball nut 16 is provided on the bottom surface of the slide table 12. The ball nut 16 is screwed into the ball screw 13. When the ball screw 13 rotates forward or backward, the ball nut 16 moves in the Y direction, whereby the slide table 12 to which the ball nut 16 is attached moves on the guide rails 14 and 15 in the Y direction.

また台座19は、スライドテーブル12上に所定距離隔てて平行に配置された一対のガイド部材21に移動可能に支持されている。そして、一対のガイド部材21間には、ガイド部材21と平行にボールネジ22が、モータ23によって正逆回転自在に設けられている。また、台座19の底面にはボールナット24が設けられ、ボールネジ22に螺合している。ボールネジ22が正転又は逆転することによって、ボールナット24はX方向に移動し、これによって、ボールナット24と共に台座19が、一対のガイド部材21に沿ってX方向に移動する。   The pedestal 19 is movably supported by a pair of guide members 21 disposed in parallel on the slide table 12 at a predetermined distance. Between the pair of guide members 21, a ball screw 22 is provided in parallel with the guide member 21 so as to be rotatable forward and backward by a motor 23. A ball nut 24 is provided on the bottom surface of the pedestal 19 and is screwed into the ball screw 22. When the ball screw 22 rotates forward or backward, the ball nut 24 moves in the X direction, whereby the pedestal 19 together with the ball nut 24 moves in the X direction along the pair of guide members 21.

台座19上には回転機構25が設けられている。そして、この回転機構25上に回転テーブル26が設けられている。割断対象である脆性材料基板50は、回転テーブル26上に真空吸着によって固定される。回転機構25は、回転テーブル26を垂直方向の中心軸の周りに回転させる。   A rotation mechanism 25 is provided on the pedestal 19. A rotating table 26 is provided on the rotating mechanism 25. The brittle material substrate 50 to be cleaved is fixed on the rotary table 26 by vacuum suction. The rotation mechanism 25 rotates the rotary table 26 around the central axis in the vertical direction.

回転テーブル26の上方には、回転テーブル26と離隔対向するように、支持台31が、取付台32から垂下する保持部材33によって支持されている。支持台31には、脆性材料基板50の表面にトリガークラックを形成するためのカッタホイール35と、脆性材料基板50にレーザビームを照射するための開口(不図示)と、脆性材料基板50の表面を冷却するための冷却ノズル37とが設けられている。   A support base 31 is supported above the rotary table 26 by a holding member 33 that hangs down from the mounting base 32 so as to face the rotary table 26 at a distance. The support base 31 includes a cutter wheel 35 for forming a trigger crack on the surface of the brittle material substrate 50, an opening (not shown) for irradiating the brittle material substrate 50 with a laser beam, and the surface of the brittle material substrate 50. And a cooling nozzle 37 for cooling.

カッタホイール35は、チップホルダー36によって、脆性材料基板50に圧接する位置と非接触な位置とに昇降可能に保持されており、スクライブラインの開始起点となるトリガークラックを形成するときのみ、脆性材料基板50に圧接する位置に下降する。トリガークラックの形成位置は、トリガークラックから予測不可能な方向にクラックが生じる先走り現象を抑制するために、脆性材料基板50の表面側端よりも内側に形成するのが好ましい。   The cutter wheel 35 is held by the chip holder 36 so as to be movable up and down between a position in pressure contact with the brittle material substrate 50 and a non-contact position, and the brittle material is formed only when a trigger crack is formed as a starting point of the scribe line. It descends to a position where it comes into pressure contact with the substrate 50. The trigger crack is preferably formed on the inner side of the edge of the brittle material substrate 50 in order to suppress a pre-cursor phenomenon in which the crack is generated in an unpredictable direction from the trigger crack.

取付台32上にはレーザ出力装置34が設けられている。レーザ出力装置34から出射されたレーザビームLBは、反射ミラー44で下方に反射され、保持部材33内に保持された光学系を介して支持台31に形成された開口から、回転テーブル26上に固定された脆性材料基板50に照射される。   A laser output device 34 is provided on the mounting base 32. The laser beam LB emitted from the laser output device 34 is reflected downward by the reflection mirror 44, and is formed on the rotary table 26 from the opening formed in the support base 31 through the optical system held in the holding member 33. The fixed brittle material substrate 50 is irradiated.

また、支持台31の、レーザビームLBが出射する開口近傍に設けられた冷却ノズル37からは、脆性材料基板50に向かって冷却媒体としての水が空気と共に噴出される。冷却媒体が噴出される脆性材料基板50上の位置は、割断予定ライン51上で且つレーザビームLBの照射領域の後側である(図2を参照)。   Further, water as a cooling medium is ejected together with air from the cooling nozzle 37 provided in the vicinity of the opening of the support base 31 where the laser beam LB is emitted toward the brittle material substrate 50. The position on the brittle material substrate 50 from which the cooling medium is ejected is on the planned cutting line 51 and behind the irradiation region of the laser beam LB (see FIG. 2).

取付台32には、脆性材料基板50に予め刻印されたアライメントマークを認識する一対のCCDカメラ38,39が設けられている。これらのCCDカメラ38,39により、脆性材料基板50のセット時の位置ずれが検出され、例えば脆性材料基板50が角度θずれていた場合は回転テーブル26が−θだけ回転され、脆性材料基板50がYずれていたときはスライドテーブル12が−Yだけ移動される。   The mounting base 32 is provided with a pair of CCD cameras 38 and 39 for recognizing alignment marks engraved in advance on the brittle material substrate 50. These CCD cameras 38 and 39 detect misalignment when the brittle material substrate 50 is set. For example, when the brittle material substrate 50 is deviated by an angle θ, the rotary table 26 is rotated by −θ. When Y is misaligned, the slide table 12 is moved by -Y.

このような構成の割断装置において脆性材料基板50を割断する場合には、まず、脆性材料基板50を回転テーブル26上に載置し吸引手段により固定する。そして、CCDカメラ38,39によって、脆性材料基板50に設けられたアライメントマークを撮像し、前述のように、撮像データに基づいて脆性材料基板50を所定の位置に位置決めする。   When the brittle material substrate 50 is cleaved in the cleaving apparatus having such a configuration, first, the brittle material substrate 50 is placed on the rotary table 26 and fixed by suction means. Then, the CCD camera 38, 39 images the alignment mark provided on the brittle material substrate 50, and positions the brittle material substrate 50 at a predetermined position based on the imaging data as described above.

次いで、前述のように、ホイールカッタ35によって脆性材料基板50にトリガークラックを形成する。そして、レーザ出力装置34からレーザビームLBを出射する。レーザビームLBは反射ミラー44よって、図2に示すように、脆性材料基板50表面に対して略垂直に照射する。また同時に、レーザビーム照射領域の後端近傍に冷却媒体としての水を冷却ノズル37から噴出させる。脆性材料基板50にレーザビームLBを照射することによって、脆性材料基板50は厚み方向に溶融温度未満で加熱され、脆性材料基板50は熱膨張しようとするが、局所加熱のため膨張できず照射点を中心に圧縮応力が発生する。そして加熱直後に、脆性材料基板50の表面が水により冷却されることによって、脆性材料基板50が今度は収縮して引張応力が発生する。この引張応力の作用によって、トリガークラックを開始点として割断予定ライン51に沿って垂直クラック53が脆性材料基板50に形成される。   Next, as described above, a trigger crack is formed in the brittle material substrate 50 by the wheel cutter 35. Then, a laser beam LB is emitted from the laser output device 34. The laser beam LB is irradiated by the reflecting mirror 44 substantially perpendicularly to the surface of the brittle material substrate 50 as shown in FIG. At the same time, water as a cooling medium is ejected from the cooling nozzle 37 in the vicinity of the rear end of the laser beam irradiation region. By irradiating the brittle material substrate 50 with the laser beam LB, the brittle material substrate 50 is heated below the melting temperature in the thickness direction, and the brittle material substrate 50 tries to thermally expand, but cannot expand due to local heating, and the irradiation point Compressive stress is generated around the center. Immediately after the heating, the surface of the brittle material substrate 50 is cooled by water, so that the brittle material substrate 50 is contracted and tensile stress is generated. Due to the action of the tensile stress, the vertical crack 53 is formed in the brittle material substrate 50 along the planned cutting line 51 with the trigger crack as a starting point.

そしてレーザビームLB及び冷却ノズル37を割断予定ライン51に従って相対的に移動させることによって、垂直クラック53が進展し脆性材料基板50にスクライブライン52が形成される。この実施形態の場合には、レーザビームLBと冷却ノズル37とは所定位置に固定された状態で、スライドテーブル12と台座19、回転テーブル26の回転機構25とによって脆性材料基板50が移動される。もちろん、脆性材料基板50を固定した状態で、レーザビームLBと冷却ノズル37とを移動させても構わない。あるいは脆性材料基板50及びレーザビームLB・冷却ノズル37の双方を移動させても構わない。   Then, by moving the laser beam LB and the cooling nozzle 37 relative to each other according to the planned cutting line 51, the vertical crack 53 is developed and the scribe line 52 is formed on the brittle material substrate 50. In the case of this embodiment, the brittle material substrate 50 is moved by the slide table 12, the pedestal 19, and the rotating mechanism 25 of the rotating table 26 while the laser beam LB and the cooling nozzle 37 are fixed at predetermined positions. . Of course, the laser beam LB and the cooling nozzle 37 may be moved while the brittle material substrate 50 is fixed. Alternatively, both the brittle material substrate 50 and the laser beam LB / cooling nozzle 37 may be moved.

次に、本発明に係る割断方法について説明する。図3に、本発明の割断方法の一例を示す工程図を示す。まず同図(a)に示すように、第1工程として前述のようにして、レーザビームLB及び冷却ノズル37を割断予定ライン51aに従って相対的に移動させることによって、不図示のトリガークラックを開始点とする垂直クラック53aを相対移動方向に進展させて、脆性材料基板50に第1スクライブライン52aを形成する。   Next, the cleaving method according to the present invention will be described. FIG. 3 is a process diagram showing an example of the cleaving method of the present invention. First, as shown in FIG. 5A, as described above as the first step, the laser beam LB and the cooling nozzle 37 are relatively moved according to the planned cutting line 51a, so that a trigger crack (not shown) is started. The first scribe line 52a is formed on the brittle material substrate 50 by causing the vertical crack 53a to propagate in the relative movement direction.

ここで使用するレーザビームLBとしては特に限定はなく、基板の材質や厚み、形成したい垂直クラックの深さなどから適宜決定すればよい。脆性材料基板がガラス基板の場合、ガラス基板表面での吸収が大きい波長9〜11μmのレーザビームが好適に使用される。このようなレーザビームとしてはCOレーザが挙げられる。図5に示すように、レーザビームの基板への照射形状としては、レーザビームの相対移動方向に細長い楕円形状が好ましく、相対移動方向の照射長さLは10〜60mmの範囲、照射幅Wは1〜5mmの範囲が好適である。 The laser beam LB used here is not particularly limited, and may be determined appropriately from the material and thickness of the substrate, the depth of the vertical crack to be formed, and the like. When the brittle material substrate is a glass substrate, a laser beam having a wavelength of 9 to 11 μm, which has a large absorption on the glass substrate surface, is preferably used. An example of such a laser beam is a CO 2 laser. As shown in FIG. 5, the irradiation shape of the laser beam on the substrate is preferably an elliptical shape elongated in the relative movement direction of the laser beam, the irradiation length L in the relative movement direction is in the range of 10 to 60 mm, and the irradiation width W is A range of 1-5 mm is preferred.

冷却ノズル37から噴出させる冷却媒体としては水やアルコールなどが挙げられる。また、割断後の脆性材料基板を使用する上で悪影響を与えない範囲において、界面活性剤等の添加剤が添加されていても構わない。冷却媒体の吹き付け量としては通常は数ml/min程度が好適である。冷却媒体による基板の冷却は、レーザービームによって加熱された基板を急冷する観点からは、気体(通常は空気)と共に水を噴射させるいわゆるウォータジェット方式が望ましい。冷却媒体による冷却領域は、長径1〜5mm程度の円形状又は楕円形状であることが好ましい。また、冷却領域は、レーザビームによる加熱領域の相対移動方向後方であって、冷却領域と加熱領域との中心点間の距離が数mm〜数十mm程度となるように形成するのが好ましい。   Examples of the cooling medium ejected from the cooling nozzle 37 include water and alcohol. Further, an additive such as a surfactant may be added within a range that does not adversely affect the use of the brittle material substrate after cleaving. Usually, the amount of cooling medium sprayed is preferably about several ml / min. The cooling of the substrate by the cooling medium is preferably a so-called water jet method in which water is injected together with gas (usually air) from the viewpoint of rapidly cooling the substrate heated by the laser beam. The cooling region with the cooling medium is preferably circular or elliptical with a major axis of about 1 to 5 mm. The cooling region is preferably formed so that the distance between the center points of the cooling region and the heating region is about several millimeters to several tens of millimeters behind the relative movement direction of the heating region by the laser beam.

レーザビームLB及び冷却ノズル37の相対移動速度としては特に限定はなく、得たい垂直クラックの深さなどから適宜決定すればよい。一般に相対移動速度を遅くするほど、形成される垂直クラックは深くなる。通常、相対移動速度は数百mm/sec程度である。   The relative moving speed of the laser beam LB and the cooling nozzle 37 is not particularly limited, and may be appropriately determined from the depth of the vertical crack to be obtained. In general, the slower the relative movement speed, the deeper the vertical cracks that are formed. Usually, the relative movement speed is about several hundred mm / sec.

スクライブライン52aを構成する垂直クラック53aの深さとしては、特に限定はないが、後工程における脆性材料基板の割断を円滑且つ確実に行うためには、基板厚み対して15%以上の深さとするのが望ましい。   The depth of the vertical crack 53a constituting the scribe line 52a is not particularly limited. However, in order to smoothly and reliably cut the brittle material substrate in the subsequent process, the depth is set to 15% or more with respect to the substrate thickness. Is desirable.

次いで図3(b)に示すように、第2工程として、第1スクライブライン52aに直交する第2スクライブ予定ライン51bに沿って、レーザビームLBを相対的に移動させることによって割断予定ライン51bを予備加熱する。脆性材料基板の予備加熱した部分は熱膨張して、第1スクライブライン52aの垂直クラック53aの向かい合う端面同士が圧接し、第1スクライブライン52aが見かけ上部分的に消失する。予備加熱におけるレーザビームLBの照射条件としては、脆性材料基板50が加熱により膨張して第1スクライブライン52aの向かい合う端面同士が圧接する範囲において限定はなく、脆性材料基板50の材質や第1スクライブライン52aの垂直クラック53aの深さなどから適宜決定すればよい。例えば、出力100〜200WのレーザビームLBを用いる場合には相対速度は200〜500mm/secの範囲が通常好ましい。また、予備加熱する部分の、第1スクライブライン52aに平行な方向の長さ、すなわちレーザビームLBの照射幅W(図5を参照)は1〜5mmの範囲が好適である。   Next, as shown in FIG. 3B, as a second step, the planned splitting line 51b is formed by relatively moving the laser beam LB along the second scribe planned line 51b orthogonal to the first scribe line 52a. Preheat. The preheated portion of the brittle material substrate is thermally expanded, the opposing end surfaces of the vertical cracks 53a of the first scribe line 52a are pressed against each other, and the first scribe line 52a apparently disappears partially. The irradiation condition of the laser beam LB in the preheating is not limited as long as the brittle material substrate 50 expands by heating and the opposite end faces of the first scribe line 52a are in pressure contact with each other, and the material of the brittle material substrate 50 and the first scribe line are not limited. What is necessary is just to determine suitably from the depth etc. of the vertical crack 53a of the line 52a. For example, when a laser beam LB with an output of 100 to 200 W is used, the relative speed is usually preferably in the range of 200 to 500 mm / sec. Further, the length of the portion to be preheated in the direction parallel to the first scribe line 52a, that is, the irradiation width W of the laser beam LB (see FIG. 5) is preferably in the range of 1 to 5 mm.

なお、レーザビームLBによる予備加熱は、第1スクライブライン52aと第2スクライブ予定ライン51bとの交差部分を少なくとも加熱すればよく、第2スクライブ予定ライン51bの全てにわたって加熱する必要はない。第1スクライブライン52aと第2スクライブ予定ライン51bとの交差部分のみを予備加熱する場合には、レーザビームの出力をオンオフ制御し、脆性材料基板50を相対移動させながら前記交差部分に達したときのみレーザビームLBの出力をオンすればよい。   The preliminary heating with the laser beam LB may be performed by heating at least the intersecting portion of the first scribe line 52a and the second scribe line 51b, and it is not necessary to heat the entire second scribe line 51b. When preheating only the intersection of the first scribe line 52a and the second scribe line 51b, the laser beam output is controlled to be turned on and off, and the brittle material substrate 50 is moved relative to the intersection. It is only necessary to turn on the output of the laser beam LB.

また、予備加熱の熱源としては、レーザビームLBに限定されるものではなく、赤外線など従来公知の加熱手段を用いることができるが、短時間で微小範囲を効率的に加熱できることからレーザビームLBによる加熱が好ましい。   Further, the heat source for the preheating is not limited to the laser beam LB, and conventionally known heating means such as infrared rays can be used. However, since the minute range can be efficiently heated in a short time, the laser beam LB is used. Heating is preferred.

次いで図3(c)に示すように、第3工程として、第1スクライブライン52aに直交する第2スクライブ予定ライン51bに沿って、レーザビームLB及び冷却ノズル37を相対的に移動させることによって第2スクライブライン52bを形成する。ここで、従来は、第2スクライブライン52bが、第1スクライブライン52aとの交差点から先に進展しないか、第2スクライブ予定ライン51bから外れて進展していたが、本発明の割断方法では、第2工程において交差部分を加熱し、脆性材料基板50を熱膨張させることによって第1スクライブライン52aの向かい合う端面同士を圧接させているので、第2スクライブライン52bは、第1スクライブライン52aとの交差点を越えて第2スクライブ予定ライン51bに沿って先に進展するようになる。第2スクライブライン52bの形成条件としては、第1スクライブライン52aの形成条件と同じ条件がここでも挙げられる。   Next, as shown in FIG. 3C, as the third step, the laser beam LB and the cooling nozzle 37 are relatively moved along the second scribe line 51b orthogonal to the first scribe line 52a. Two scribe lines 52b are formed. Here, conventionally, the second scribe line 52b has not advanced first from the intersection with the first scribe line 52a, or has progressed away from the second scribe planned line 51b, but in the cleaving method of the present invention, In the second step, since the crossing portion is heated and the brittle material substrate 50 is thermally expanded, the opposing end surfaces of the first scribe line 52a are brought into pressure contact with each other, so the second scribe line 52b is connected to the first scribe line 52a. It progresses ahead along the second scribe line 51b beyond the intersection. The conditions for forming the second scribe line 52b are the same as the conditions for forming the first scribe line 52a.

次に、図4(d)に示すように、第4工程として、第2スクライブライン52bに沿ってレーザビームLBを再度照射する。これによって垂直クラック53bが基板厚み方向に進展し、第2スクライブライン52bで基板50が割断される。なお、垂直クラック53bは、外力を加えることなく基板50が割断される深さにまで進展していればよく、必ずしも基板50の反対面側に到達している必要はない。   Next, as shown in FIG. 4D, as the fourth step, the laser beam LB is irradiated again along the second scribe line 52b. As a result, the vertical crack 53b develops in the substrate thickness direction, and the substrate 50 is cleaved by the second scribe line 52b. Note that the vertical crack 53 b only needs to extend to a depth at which the substrate 50 is cleaved without applying an external force, and does not necessarily have to reach the opposite surface side of the substrate 50.

垂直クラック53bを基板厚み方向に進展させるためのレーザビームLBの照射条件は、基板50の厚みや垂直クラック53bの深さなどから適宜決定すればよいが、通常は前述の第2スクライブライン52bを形成するときの照射条件がここでも例示される。また、レーザビームLBの相対移動方向は、第2スクライブライン52bを形成する場合と逆方向とするのが好ましい。   Irradiation conditions of the laser beam LB for causing the vertical crack 53b to propagate in the substrate thickness direction may be determined as appropriate from the thickness of the substrate 50, the depth of the vertical crack 53b, and the like. Usually, the second scribe line 52b described above is used. The irradiation conditions when forming are also exemplified here. The relative movement direction of the laser beam LB is preferably opposite to the direction in which the second scribe line 52b is formed.

次いで、同図(e)に示すように、第1スクライブライン52aに沿ってレーザビームLBを再度照射する。これによって垂直クラック53aが基板厚み方向に進展し、第1スクライブライン52aで基板50が割断される。進展後の垂直クラック53aの、基板厚み方向の深さは、垂直クラック53bの場合と同様に、外力を加えることなく基板50が割断される深さにまで進展していればよく、必ずしも基板50の反対面側に到達している必要はない。   Next, as shown in FIG. 5E, the laser beam LB is irradiated again along the first scribe line 52a. As a result, the vertical crack 53a develops in the substrate thickness direction, and the substrate 50 is cleaved by the first scribe line 52a. Similarly to the vertical crack 53b, the depth of the vertical crack 53a after the progress is not limited as long as the vertical crack 53a has progressed to a depth at which the substrate 50 is cleaved without applying an external force. It is not necessary to reach the opposite side of the.

垂直クラック53aを基板厚み方向に進展させるためのレーザビームLBの照射条件は、基板50の厚みや垂直クラック53aの深さなどから適宜決定すればよいが、通常は前述の第1スクライブライン52aを形成するときの照射条件がここでも例示される。また、レーザビームLBの相対移動方向は、第1スクライブライン52aを形成する場合と逆方向とするのが好ましい。   The irradiation condition of the laser beam LB for causing the vertical crack 53a to propagate in the substrate thickness direction may be determined as appropriate from the thickness of the substrate 50, the depth of the vertical crack 53a, and the like. The irradiation conditions when forming are also exemplified here. In addition, the relative movement direction of the laser beam LB is preferably opposite to the direction in which the first scribe line 52a is formed.

なお、図4(d),(e)に示した、第1スクライブライン52a及び第2スクライブライン52bに沿って脆性材料基板50の割断する第4工程は、第1スクライブライン52aを割断した後、第2スクライブライン52bを割断してもよいが、前記実施形態のように第2スクライブライン52bを割断した後、第1スクライブライン52aを割断するのが好ましい。また、第4工程における脆性材料基板の割断は、レーザビームLBの再照射による割断に限定されるものではなく、脆性材料基板50の表面に対して略垂直方向に外力を加えて機械的に割断する方法など従来公知の方法を用いることができる。   Note that the fourth step of cutting the brittle material substrate 50 along the first scribe line 52a and the second scribe line 52b shown in FIGS. 4D and 4E is performed after the first scribe line 52a is cut. The second scribe line 52b may be cleaved, but it is preferable to cleave the first scribe line 52a after the second scribe line 52b is cleaved as in the above embodiment. Further, the cleaving of the brittle material substrate in the fourth step is not limited to the cleaving by re-irradiation with the laser beam LB, but mechanically cleaves by applying an external force in a direction substantially perpendicular to the surface of the brittle material substrate 50. A conventionally known method such as a method for performing the method can be used.

本発明の割断方法を適用できる脆性材料基板50としては特に限定はなく、ガラス、セラミック、シリコン、サファイア等の従来公知の脆性材料基板が挙げられる。これらの中でも、表面圧縮応力が大きく、クロススクライブが困難とされている化学強化ガラスや風冷強化ガラスなどの強化ガラス基板に本発明の割断方法は好適に適用できる。また、本発明の割断方法を適用できる脆性材料基板50の厚みとしては、脆性材料基板50の材質等によって異なるが、脆性材料基板50がガラス基板の場合にはおおよそ2mm程度の厚さまでである。   The brittle material substrate 50 to which the cleaving method of the present invention can be applied is not particularly limited, and includes conventionally known brittle material substrates such as glass, ceramic, silicon, and sapphire. Among these, the cleaving method of the present invention can be suitably applied to tempered glass substrates such as chemically tempered glass and air-cooled tempered glass that have a large surface compressive stress and are difficult to cross-scribe. In addition, the thickness of the brittle material substrate 50 to which the cleaving method of the present invention can be applied varies depending on the material of the brittle material substrate 50 and the like, but is approximately 2 mm when the brittle material substrate 50 is a glass substrate.

以上、説明した各実施形態では第1スクライブライン52aと第2スクライブライン52bとを各1本形成して基板を割断していたが、大面積の基板50に第1スクライブライン52a及び第2スクライブライン52bをそれぞれ複数本の形成して、多数個の小面積基板に割断する場合も本発明の割断方法は当然ながら適用できる。また、本発明の割断方法は、2つのスクライブラインを直交させる場合の他、所望の角度で交差させる場合にももちろん適用できる。   As described above, in each of the embodiments described above, each of the first scribe line 52a and the second scribe line 52b is formed to cleave the substrate. However, the first scribe line 52a and the second scribe line 52a are formed on the substrate 50 having a large area. Of course, the cleaving method of the present invention can also be applied to a case where a plurality of lines 52b are formed and cleaved into a large number of small area substrates. In addition, the cleaving method of the present invention can be applied to a case where the two scribe lines are crossed at a desired angle in addition to the case where the two scribe lines are orthogonal.

実施例1
図1に示した割断装置を用いて、厚さ0.55mmの化学強化ガラス基板にレーザ照射及び冷却を行って第1スクライブラインを形成した(第1工程)。レーザ照射及び冷却の具体的条件は下記の通りである。次に、第1スクライブラインに直交する第2スクライブ予定ラインに沿ってレーザ照射を行い予備加熱を行った。予備加熱におけるレーザ照射条件は、第1スクライブラインを形成する際のレーザ照射条件と同じである。その後、第2スクライブ予定ラインに沿ってレーザ照射及び冷却を行って第2スクライブラインを形成した(第3工程)。第2スクライブライン形成におけるレーザ照射及び冷却の具体的条件は第1スクライブラインを形成する際のレーザ照射及び冷却の条件と同じである。
(第1スクライブライン及び第2スクライブラインのレーザ照射及び冷却条件)
レーザビーム:COレーザ
レーザ出力:200W〜250W
相対移動速度:130mm/sec〜150mm/sec
Example 1
A first scribe line was formed by performing laser irradiation and cooling on a chemically strengthened glass substrate having a thickness of 0.55 mm using the cleaving apparatus shown in FIG. 1 (first step). Specific conditions for laser irradiation and cooling are as follows. Next, laser irradiation was performed along a second scribe line orthogonal to the first scribe line to perform preheating. The laser irradiation conditions in the preheating are the same as the laser irradiation conditions when forming the first scribe line. Thereafter, laser irradiation and cooling were performed along the second scribe line to form a second scribe line (third step). The specific conditions of laser irradiation and cooling in forming the second scribe line are the same as the laser irradiation and cooling conditions in forming the first scribe line.
(Laser irradiation and cooling conditions for the first and second scribe lines)
Laser beam: CO 2 laser Laser output: 200 W to 250 W
Relative moving speed: 130mm / sec to 150mm / sec

(結果)
図6に、第1スクライブラインと第2スクライブラインの交差点部分の光学顕微鏡写真を示す。同図(a)は第1スクライブラインの形成後、同図(b)は予備加熱後、同図(c)は第2スクライブラインの形成後である。同図(b)から理解されるように、第1スクライブライン形成後、第2スクライブ予定ラインに沿って予備加熱を行うと、第1スクライブラインの予備加熱が行われた部分は、垂直クラックが見かけ上消失した。そして、同図(c)から明らかなように、第2スクライブ予定ラインに沿ってレーザ照射及び冷却を行うと、第2スクライブラインは、第1スクライブラインの交差点を越えて第2スクライブ予定ラインに沿って形成された。
(result)
FIG. 6 shows an optical micrograph of the intersection of the first scribe line and the second scribe line. FIG. 6A shows the first scribe line after formation, FIG. 6B shows the preheating, and FIG. 10C shows the second scribe line. As can be understood from FIG. 5B, when the pre-heating is performed along the second scribe line after the first scribe line is formed, a vertical crack is generated in the portion where the pre-heating of the first scribe line is performed. Apparently disappeared. As is clear from FIG. 6C, when laser irradiation and cooling are performed along the second scribe line, the second scribe line crosses the intersection of the first scribe lines and becomes the second scribe line. Formed along.

比較例1
予備加熱を行わなかった以外は実施例1と同様にして第1スクライブライン及び第2スクライブラインを形成しようとしたところ、第2スクライブラインの形成工程において、第1スクライブラインとの交差部分から垂直クラックが第2スクライブ予定ラインから外れて進展した。図7に、第2スクライブ予定ラインから外れて垂直クラックが進展した基板の写真を示す。
Comparative Example 1
The first scribe line and the second scribe line were formed in the same manner as in Example 1 except that no preheating was performed. In the second scribe line forming step, the first scribe line was perpendicular to the intersection with the first scribe line. The crack progressed off the second scribe line. FIG. 7 shows a photograph of the substrate on which the vertical crack has progressed out of the second scribe line.

本発明の割断方法によれば、特別な機構を備えた切断装置を用いることなく、互いに交差する2方向に脆性材料基板を割断できるようになる。   According to the cleaving method of the present invention, the brittle material substrate can be cleaved in two directions intersecting each other without using a cutting device having a special mechanism.

37 冷却ノズル
50 脆性材料基板
51,51a,51b 割断予定ライン
52 スクライブライン
52a 第1スクライブライン
52b 第2スクライブライン
53,53a,53b 垂直クラック
LB レーザビーム
37 Cooling nozzle 50 Brittle material substrate 51, 51a, 51b Planned cutting line 52 Scribe line 52a First scribe line 52b Second scribe line 53, 53a, 53b Vertical crack LB Laser beam

Claims (4)

脆性材料基板に対してレーザビームを相対移動させながら照射して、前記基板を溶融温度未満に加熱した後、前記基板に対して冷却媒体を吹き付けて冷却し、前記基板に生じた熱応力によって、垂直クラックからなる第1スクライブラインを形成する第1工程と、第1スクライブラインの、第2スクライブ予定ラインとの交差部分を前記基板の溶融温度未満に予備加熱する第2工程と、第1スクライブラインと同様にして、第1スクライブラインと交差する第2スクライブラインを形成する第3工程と、第1スクライブライン及び第2スクライブラインに沿って前記基板を割断する第4工程とを含むことを特徴とする脆性材料基板の割断方法。   Irradiating the brittle material substrate while relatively moving the laser beam, heating the substrate below the melting temperature, cooling the substrate by spraying a cooling medium, and by the thermal stress generated on the substrate, A first step of forming a first scribe line composed of vertical cracks; a second step of preheating the intersection of the first scribe line with the second scribe line to be below the melting temperature of the substrate; A third step of forming a second scribe line that intersects the first scribe line, and a fourth step of cleaving the substrate along the first scribe line and the second scribe line in the same manner as the line. A method for cleaving a brittle material substrate. 前記予備加熱をレーザビームの照射によって行う請求項1記載の割断方法。   The cleaving method according to claim 1, wherein the preliminary heating is performed by laser beam irradiation. 前記予備加熱する部分の、第1スクライブラインに平行な方向の長さが1〜5mmの範囲である請求項1又は2記載の割断方法。   The cleaving method according to claim 1 or 2, wherein a length of the portion to be preheated is in a range of 1 to 5 mm in a direction parallel to the first scribe line. 前記脆性材料基板が強化ガラス基板である請求項1〜3のいずれかに記載の割断方法。   The cleaving method according to claim 1, wherein the brittle material substrate is a tempered glass substrate.
JP2010100849A 2010-04-26 2010-04-26 Cutting method for brittle material substrate Pending JP2011230940A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010100849A JP2011230940A (en) 2010-04-26 2010-04-26 Cutting method for brittle material substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010100849A JP2011230940A (en) 2010-04-26 2010-04-26 Cutting method for brittle material substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011230940A true JP2011230940A (en) 2011-11-17

Family

ID=45320658

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010100849A Pending JP2011230940A (en) 2010-04-26 2010-04-26 Cutting method for brittle material substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011230940A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013154604A (en) * 2012-01-31 2013-08-15 Hamamatsu Photonics Kk Laser processing method
CN103282317A (en) * 2011-12-22 2013-09-04 三星钻石工业股份有限公司 Method for dividing brittle material substrate
CN103570232A (en) * 2012-08-08 2014-02-12 三星康宁精密素材株式会社 Cutting method and stage for cutting of tempered glass
WO2014024931A1 (en) * 2012-08-09 2014-02-13 日本電気硝子株式会社 Cutting method for tempered glass
WO2015190282A1 (en) * 2014-06-11 2015-12-17 株式会社Ihi Method for cutting reinforced glass plate and device for cutting reinforced glass plate
US9227868B2 (en) 2012-02-29 2016-01-05 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for machining strengthened glass and articles produced thereby
US9776906B2 (en) 2014-03-28 2017-10-03 Electro Scientific Industries, Inc. Laser machining strengthened glass
US9828278B2 (en) 2012-02-28 2017-11-28 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for separation of strengthened glass and articles produced thereby
US9828277B2 (en) 2012-02-28 2017-11-28 Electro Scientific Industries, Inc. Methods for separation of strengthened glass
US10357850B2 (en) 2012-09-24 2019-07-23 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for machining a workpiece
CN113955935A (en) * 2021-11-12 2022-01-21 安徽千辉节能玻璃科技有限公司 Full-automatic energy-conserving LOW-E glass-cutting machine

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103282317A (en) * 2011-12-22 2013-09-04 三星钻石工业股份有限公司 Method for dividing brittle material substrate
KR101442067B1 (en) 2011-12-22 2014-09-19 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 Method for dividing brittle material substrate
CN103282317B (en) * 2011-12-22 2015-12-16 三星钻石工业股份有限公司 The cut-off method of brittle substrate
JP2013154604A (en) * 2012-01-31 2013-08-15 Hamamatsu Photonics Kk Laser processing method
US9828277B2 (en) 2012-02-28 2017-11-28 Electro Scientific Industries, Inc. Methods for separation of strengthened glass
US9828278B2 (en) 2012-02-28 2017-11-28 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for separation of strengthened glass and articles produced thereby
US9227868B2 (en) 2012-02-29 2016-01-05 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for machining strengthened glass and articles produced thereby
CN103570232A (en) * 2012-08-08 2014-02-12 三星康宁精密素材株式会社 Cutting method and stage for cutting of tempered glass
WO2014024931A1 (en) * 2012-08-09 2014-02-13 日本電気硝子株式会社 Cutting method for tempered glass
CN104411646A (en) * 2012-08-09 2015-03-11 日本电气硝子株式会社 Cutting method for tempered glass
JP2014034498A (en) * 2012-08-09 2014-02-24 Nippon Electric Glass Co Ltd Method for cutting tempered glass
US10357850B2 (en) 2012-09-24 2019-07-23 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for machining a workpiece
US9776906B2 (en) 2014-03-28 2017-10-03 Electro Scientific Industries, Inc. Laser machining strengthened glass
WO2015190282A1 (en) * 2014-06-11 2015-12-17 株式会社Ihi Method for cutting reinforced glass plate and device for cutting reinforced glass plate
CN113955935A (en) * 2021-11-12 2022-01-21 安徽千辉节能玻璃科技有限公司 Full-automatic energy-conserving LOW-E glass-cutting machine

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011230940A (en) Cutting method for brittle material substrate
TWI380963B (en) Method for processing brittle material substrates
JP5194076B2 (en) Laser cleaving device
JP2010150068A (en) Method for breaking brittle material substrate
JP5011048B2 (en) Processing method of brittle material substrate
JP5314674B2 (en) Processing method of brittle material substrate
JP4080484B2 (en) Scribing method and scribing apparatus for brittle material substrate
JP4133812B2 (en) Scribing apparatus and scribing method for brittle material substrate
JP2012061681A (en) Laser cleaving apparatus
JP2010090010A (en) Method for cutting brittle material substrate and cutting device
JP5202595B2 (en) Laser cleaving device
JP2005212364A (en) Fracturing system of brittle material and method thereof
JP4134033B2 (en) Scribing apparatus and scribing method for brittle material substrate
JP2010089143A (en) Method and device for cutting brittle material substrate
WO2010092964A1 (en) Method for cutting brittle material substrate
WO2013094059A1 (en) Method for fracturing brittle material substrate
JP2004042423A (en) Scribing apparatus
JP2010173316A (en) Scribing device and scribing method
JP5554158B2 (en) Cleaving method of brittle material substrate
JP5444158B2 (en) Cleaving method of brittle material substrate
JP2009067618A (en) Apparatus and method for breaking substrate made of brittle material
JP2004035315A (en) Method and apparatus for dividing brittle material substrates
TWI461251B (en) Method for cutting brittle material substrates
KR101173851B1 (en) Cooling nozzle, cooling method using the same, and method for dividing brittle material substrate
JP2013006706A (en) Cleaving method and apparatus for glass substrate