JP2011124341A - Semiconductor device and semiconductor module equipped with the same, method of manufacturing semiconductor device, and method of manufacturing semiconductor module - Google Patents

Semiconductor device and semiconductor module equipped with the same, method of manufacturing semiconductor device, and method of manufacturing semiconductor module Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which can be made more compact and thinner than a conventional semiconductor device requiring an output material for outputting a signal to the outside, and to provide a semiconductor module equipped with the semiconductor device, a method of manufacturing a semiconductor device, and a method of manufacturing a semiconductor module. <P>SOLUTION: The semiconductor device 8 includes a semiconductor chip 1 and a bonding wire 2 wherein the semiconductor chip 1 is sealed with a sealing resin 5 for packaging, and the cross section 7 of the bonding wire 2 is exposed on the side surface of the semiconductor device 8. Since the bonding wire 2 serves as an external output terminal, a signal can be output from the semiconductor chip 1 to the outside without passing through an output material for outputting a signal to the outside. Since the output material is not required, the semiconductor device can be made more compact and thinner than a conventional semiconductor device requiring an output material. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体チップ備えた半導体装置に関する。また、そのような半導体装置を備えた半導体モジュールに関する。さらに、上述した半導体装置、半導体モジュールの製造方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor device including a semiconductor chip. Moreover, it is related with the semiconductor module provided with such a semiconductor device. Furthermore, the present invention relates to a method for manufacturing the semiconductor device and the semiconductor module described above.

従来、パッケージ化された半導体装置が実装された半導体モジュールが幅広く利用されている。半導体装置のパッケージ化は、半導体チップをパッケージングすることにより行われている。   Conventionally, semiconductor modules on which packaged semiconductor devices are mounted are widely used. The packaging of a semiconductor device is performed by packaging a semiconductor chip.

図13は、実装基板であるモジュール基板(モジュール用基板)114に直接半導体チップ101を実装するCОB(chip on board)構造を有する従来の半導体モジュール100の断面図である。   FIG. 13 is a cross-sectional view of a conventional semiconductor module 100 having a COB (chip on board) structure in which the semiconductor chip 101 is directly mounted on a module substrate (module substrate) 114 which is a mounting substrate.

図14は、半導体チップ101をTSОP(thin small out-line package)構造でパッケージングした半導体装置を、半田128を用いて実装した構造を有する従来の半導体モジュール110の断面図である。   FIG. 14 is a cross-sectional view of a conventional semiconductor module 110 having a structure in which a semiconductor device in which a semiconductor chip 101 is packaged with a TSOP (thin small out-line package) structure is mounted using solder 128.

図15は、半導体チップ101をCSP(chip size package)でパッケージングした半導体装置を、半田128を用いて実装した構造を有する従来の半導体モジュール120の断面図である。   FIG. 15 is a cross-sectional view of a conventional semiconductor module 120 having a structure in which a semiconductor device in which a semiconductor chip 101 is packaged by CSP (chip size package) is mounted using solder 128.

図16は、半導体チップをリードレスキャリア構造で(即ちリードレスキャリア129を用いて)パッケージングした半導体装置を、半田128を用いて実装した構造を有する従来の半導体モジュール130の断面図である。   FIG. 16 is a cross-sectional view of a conventional semiconductor module 130 having a structure in which a semiconductor device in which a semiconductor chip is packaged in a leadless carrier structure (that is, using a leadless carrier 129) is mounted using solder 128.

図17の半導体モジュール140は、特許文献1の第4図に対応しており、半導体モジュール110,120,130における課題に対策を施した半導体モジュールである。図18の半導体モジュール150は、特許文献1の第2図に対応しており、半導体モジュール110,120,130における課題に対策を施した半導体モジュールである。   The semiconductor module 140 of FIG. 17 corresponds to FIG. 4 of Patent Document 1, and is a semiconductor module that takes measures against the problems in the semiconductor modules 110, 120, and 130. A semiconductor module 150 in FIG. 18 corresponds to FIG. 2 of Patent Document 1, and is a semiconductor module in which measures for the problems in the semiconductor modules 110, 120, and 130 are taken.

図17は、図16のリードレスキャリア構造でパッケージングした半導体装置を、導電性ゴムコネクター131でパッケージ底面から導通させて実装した構造を有する従来の半導体モジュール140の断面図である。   FIG. 17 is a cross-sectional view of a conventional semiconductor module 140 having a structure in which a semiconductor device packaged with the leadless carrier structure of FIG.

図18は、図16のリードレスキャリア構造でパッケージングした半導体装置において、実装基板であるくり抜きモジュール基板133の側面とパッケージ側面とを導電性ゴムコネクター132で導通させて実装した構造を有する従来の半導体モジュール150の断面図である。   FIG. 18 shows a conventional semiconductor device packaged with the leadless carrier structure shown in FIG. 16 having a structure in which the side surface of the cut-out module substrate 133 which is a mounting substrate and the side surface of the package are electrically connected by a conductive rubber connector 132. 2 is a cross-sectional view of a semiconductor module 150. FIG.

特開平4−165692号公報(平成4年6月11日公開)Japanese Patent Laid-Open No. 4-165692 (published on June 11, 1992)

最近の半導体モジュール(半導体装置用モジュール)では、小型・薄型化への傾向が顕著である。従来技術のなかで、最も薄型化の効果がある図13のCOB構造では、モジュール基板114上へ、ダイレクトに半導体チップ101を搭載した後に封止樹脂105で封止されており、薄型化が可能である。   In recent semiconductor modules (modules for semiconductor devices), the trend toward miniaturization and thinning is remarkable. In the COB structure of FIG. 13 which has the most thinning effect among the prior arts, the semiconductor chip 101 is directly mounted on the module substrate 114 and then sealed with the sealing resin 105, so that the thinning is possible. It is.

しかし、半導体チップ101搭載後の動作保障検査は、モジュール基板114へ実装した状態後で実施されなければならない。この為、半導体チップ101の実装時に不良が発生した場合は、半導体チップ101を実装したモジュール基板114を破棄しなければならないので経済的に不利である。   However, the operation security inspection after mounting the semiconductor chip 101 must be performed after the semiconductor chip 101 is mounted on the module substrate 114. For this reason, when a defect occurs when the semiconductor chip 101 is mounted, the module substrate 114 on which the semiconductor chip 101 is mounted must be discarded, which is economically disadvantageous.

また、モジュール基板114に半導体チップ101以外のその他の電子部品が搭載されている場合は、その他の電子部品も併せて破棄しなければならないので、経済的にさらに不利である。   Further, when other electronic components other than the semiconductor chip 101 are mounted on the module substrate 114, the other electronic components must be discarded together, which is further disadvantageous economically.

従って、半導体チップ101のパッケージングを行い、半導体装置として完成させ、動作保障検査の後に動作保障されたものを実装するという方式(即ち図14〜図16の方式)が主流である。   Therefore, a method of packaging the semiconductor chip 101, completing the semiconductor device 101, and mounting a device whose operation is guaranteed after the operation security inspection (that is, the method of FIGS. 14 to 16) is the mainstream.

図14は、半導体チップをTSOP構造で半導体装置としたものを、半田128を用いた実装によりモジュール基板114と接続した半導体モジュール110を示す。半導体モジュール110は、2つの課題を有している。   FIG. 14 shows a semiconductor module 110 in which a semiconductor device having a TSOP structure as a semiconductor chip is connected to a module substrate 114 by mounting using solder 128. The semiconductor module 110 has two problems.

第1の課題に関して、半導体モジュール110は、半導体チップ101の信号線を、リードフレーム127を介して外部に出力する半導体モジュールである。このため、リードフレーム127の設計制約により外形サイズが拡大してしまうという課題が生じる。   Regarding the first problem, the semiconductor module 110 is a semiconductor module that outputs a signal line of the semiconductor chip 101 to the outside via the lead frame 127. For this reason, the subject that an external size enlarges by the design restrictions of the lead frame 127 arises.

第2の課題に関して、半導体モジュール110では、半導体チップ101の厚みに、半導体チップ101の下に位置する半導体チップ接着剤126の厚み、リードフレーム127の厚み、封止樹脂105の厚み、及び半田128の厚みが加算され、モジュールトータルの厚みTdが厚くなるという課題が生じる。   Regarding the second problem, in the semiconductor module 110, the thickness of the semiconductor chip 101, the thickness of the semiconductor chip adhesive 126 positioned under the semiconductor chip 101, the thickness of the lead frame 127, the thickness of the sealing resin 105, and the solder 128. The thickness of the module is added, and the total module thickness Td is increased.

以上のように、図14の半導体モジュール110は、第1及び第2の課題を有しているので、小型・薄型化の点で不利である。また、半導体モジュール110において半導体装置の実装不良が発生した場合、半田128を用いて実装されている為、リペアが困難であるという課題も生じる。   As described above, since the semiconductor module 110 of FIG. 14 has the first and second problems, it is disadvantageous in terms of miniaturization and thickness reduction. In addition, when a mounting failure of the semiconductor device occurs in the semiconductor module 110, the mounting is performed using the solder 128, so that there is a problem that repair is difficult.

図15は、図14よりさらに小型・薄型化を目的としたCSP構造で半導体装置としたものを、図14と同じく半田128を用いた実装によりモジュール基板114と接続した半導体モジュール120を示す。半導体モジュール120における半導体装置では、図14のTSOPパッケージ構造を有する半導体装置と比較して、外形サイズとモジュールトータルの厚みTeとが、かなり縮小されている。   FIG. 15 shows a semiconductor module 120 in which a semiconductor device having a CSP structure intended to be further reduced in size and thickness than that in FIG. 14 is connected to a module substrate 114 by mounting using solder 128 as in FIG. In the semiconductor device in the semiconductor module 120, the outer size and the total thickness Te of the module are considerably reduced as compared with the semiconductor device having the TSOP package structure of FIG.

しかしながら、半導体モジュール120は、2つの課題を有している。第1の課題は、半導体チップ101の外部出力手段として用いているプリント基板107の設計制約により外形サイズが制限されるという課題である。また、第2の課題に関して、厚みの面では、半導体チップ101の厚みに、半導体チップ101の下に位置する半導体チップ接着剤126の厚み、プリント基板107の厚み、及び半田128の厚みが加算され、モジュールトータルの厚みTeが厚くなるという課題が生じる。   However, the semiconductor module 120 has two problems. The first problem is that the outer size is limited due to the design constraints of the printed circuit board 107 used as the external output means of the semiconductor chip 101. Regarding the second problem, in terms of thickness, the thickness of the semiconductor chip 101, the thickness of the printed circuit board 107, and the thickness of the solder 128 are added to the thickness of the semiconductor chip 101. There arises a problem that the total thickness Te of the module is increased.

また、半導体モジュール120は、半田128により実装が行われる部分は、半導体装置の底面である。このため、実装状態の目視での確認ができないので、実装不良の発見が困難であるという課題も有している。そして、半導体モジュール110と同様に、半導体装置の実装不良が発生した場合のリペアが困難であるという課題もある。   In the semiconductor module 120, the portion where the solder 128 is mounted is the bottom surface of the semiconductor device. For this reason, since the mounting state cannot be visually confirmed, there is a problem that it is difficult to find mounting defects. As with the semiconductor module 110, there is a problem that repair is difficult when a mounting failure of the semiconductor device occurs.

図16の半導体モジュール130は、2つの課題を有している。第1の課題は、半導体装置の側面にもリードレスキャリア129が存在する為、外形サイズは、図15のCSP構造を有する半導体装置よりも大きくなるという課題である。第2の課題は、半導体チップ101の厚みに、半導体チップ101の下に位置する半導体チップ接着剤126の厚み、及びリードレスキャリア129の厚みが加算されるという課題である。   The semiconductor module 130 of FIG. 16 has two problems. The first problem is that since the leadless carrier 129 exists also on the side surface of the semiconductor device, the outer size becomes larger than that of the semiconductor device having the CSP structure of FIG. The second problem is that the thickness of the semiconductor chip adhesive 126 positioned under the semiconductor chip 101 and the thickness of the leadless carrier 129 are added to the thickness of the semiconductor chip 101.

また、半田128は、半導体装置の側面に位置するので、目視による実装状態の確認は容易ではあるが、実装不良が発生した場合のリペアは、図14,15の半導体モジュール110,120と同様に困難であるという課題もある。   Further, since the solder 128 is located on the side surface of the semiconductor device, it is easy to visually confirm the mounting state, but repair when a mounting failure occurs is the same as the semiconductor modules 110 and 120 in FIGS. There is also a problem that it is difficult.

図17の半導体モジュール140では、以下の課題が生じる。即ち、半導体モジュール140では、半導体チップ101の厚みに、半導体装置の下部に必要な導電性ゴムコネクター131の厚み、及び半導体装置を固定する固定治具135の厚みが加算される。この為、モジュールトータルの厚みTgは、図16の半導体モジュール130におけるモジュールトータルの厚みTfよりも厚くなってしまうという課題が生じる。   The semiconductor module 140 in FIG. 17 has the following problems. That is, in the semiconductor module 140, the thickness of the conductive rubber connector 131 necessary for the lower part of the semiconductor device and the thickness of the fixing jig 135 for fixing the semiconductor device are added to the thickness of the semiconductor chip 101. For this reason, the problem that the module total thickness Tg will become thicker than the module total thickness Tf in the semiconductor module 130 of FIG.

図18の半導体モジュール150は、図17の半導体モジュール140において生じている厚みの課題は解決している。また、図18の半導体モジュール150において実装されるリードレスキャリア構造の半導体装置の厚みは、図16〜図18に記載の半導体装置の中で最も薄い。しかし、モジュールトータルの厚みは、モジュールに用いる半導体装置の厚みに左右される。このため、モジュールをさらに薄型化するためには、半導体装置自体をさらに薄型化する必要がある。   The semiconductor module 150 in FIG. 18 solves the problem of thickness that occurs in the semiconductor module 140 in FIG. The leadless carrier structure semiconductor device mounted in the semiconductor module 150 of FIG. 18 is the thinnest among the semiconductor devices shown in FIGS. However, the total thickness of the module depends on the thickness of the semiconductor device used for the module. For this reason, in order to further reduce the thickness of the module, it is necessary to further reduce the thickness of the semiconductor device itself.

しかし、最近はモジュール基板自体の薄型化への傾向が顕著である。この為、図18の半導体モジュール150は、薄型のモジュール基板を矩形状にくり抜き、内部側面に導電性ゴムコネクター132を配置するのは困難であるという課題を有している。   However, recently, the trend toward thinning of the module substrate itself is remarkable. Therefore, the semiconductor module 150 in FIG. 18 has a problem that it is difficult to cut out a thin module substrate into a rectangular shape and dispose the conductive rubber connector 132 on the inner side surface.

また、上述した従来の半導体装置は全て、半導体チップ101の信号線を外部に出力する為に半導体チップ101にボンディングされたボンディングワイヤ102を、リードフレーム127やプリント基板107などの出力材料にボンディングによって接続する方式を採用している。このため、上述した従来の半導体装置は全て、図19に示すように、半導体チップ101の端子数量が多くなる程(半導体チップ101’)、半導体装置170の外形サイズも大きくなるという課題を有している。   Further, all the above-described conventional semiconductor devices are bonded by bonding the bonding wire 102 bonded to the semiconductor chip 101 to the output material such as the lead frame 127 or the printed circuit board 107 in order to output the signal line of the semiconductor chip 101 to the outside. A connection method is adopted. For this reason, all the conventional semiconductor devices described above have a problem that, as the number of terminals of the semiconductor chip 101 increases (semiconductor chip 101 ′), the outer size of the semiconductor device 170 increases as shown in FIG. ing.

本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、外部へ信号を出力する為の出力材料を必要とする従来の半導体装置よりも小型・薄型化が可能となる半導体装置、及びこれを備える半導体モジュール、並びに半導体装置の製造方法及び半導体モジュールの製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to enable a reduction in size and thickness as compared with a conventional semiconductor device that requires an output material for outputting a signal to the outside. An object of the present invention is to provide a semiconductor device, a semiconductor module including the semiconductor device, a semiconductor device manufacturing method, and a semiconductor module manufacturing method.

本発明の半導体装置は、上記課題を解決するために、半導体チップとボンディングワイヤとを備え、上記半導体チップを樹脂で封止してパッケージングされている半導体装置であって、上記半導体装置の側面で上記ボンディングワイヤの断面が露出していることを特徴とする。   In order to solve the above problems, a semiconductor device of the present invention is a semiconductor device that includes a semiconductor chip and a bonding wire, and is packaged by sealing the semiconductor chip with a resin. And a cross section of the bonding wire is exposed.

上記発明によれば、上記ボンディングワイヤを外部出力端子とすることで、外部へ信号を出力する為の出力材料を介さずに、上記半導体チップから外部に信号を出力出来る。出力材料を必要としないので、出力材料を必要とする従来の半導体装置よりも小型・薄型化が可能となる。   According to the invention, by using the bonding wire as an external output terminal, a signal can be output from the semiconductor chip to the outside without using an output material for outputting a signal to the outside. Since no output material is required, it is possible to reduce the size and thickness of a conventional semiconductor device that requires an output material.

また、出力材料が不要であることで、半導体装置のコストダウンも図れ、なおかつ出力材料の開発も不要となる。従って、上記半導体装置の開発期間と、上記半導体装置を搭載する半導体モジュールの開発期間とを短縮出来る。   Further, since no output material is required, the cost of the semiconductor device can be reduced, and development of the output material is also unnecessary. Therefore, the development period of the semiconductor device and the development period of the semiconductor module on which the semiconductor device is mounted can be shortened.

上記半導体装置では、上記ボンディングワイヤの斜めに立ち上がっている部分が切断され、上記断面の形状が楕円であってもよい。   In the semiconductor device, an obliquely rising portion of the bonding wire may be cut, and the shape of the cross section may be an ellipse.

これにより、切断後の半導体装置の側面において露出され、端子として使用する上記断面の面積を、“ボンディングワイヤの断面”の面積よりも広く確保することが可能である。ここでいう“ボンディングワイヤの断面”とは、真っ直ぐに延伸させた上記ボンディングワイヤを延伸方向に対して垂直に切断したときの、上記ボンディングワイヤの断面である。“ボンディングワイヤの断面”が円であれば、上記断面の形状は楕円となる。上記断面の面積を、“ボンディングワイヤの断面”の面積よりも広くできるので、より確実な電気的接続が可能となる。   As a result, the area of the cross-section exposed as a side surface of the semiconductor device after cutting and used as a terminal can be secured larger than the area of the “cross-section of the bonding wire”. The “cross section of the bonding wire” here is a cross section of the bonding wire when the bonding wire that has been straightly stretched is cut perpendicularly to the stretching direction. If the “cross section of the bonding wire” is a circle, the shape of the cross section is an ellipse. Since the area of the cross section can be made larger than the area of the “cross section of the bonding wire”, more reliable electrical connection is possible.

上記半導体装置では、上記ボンディングワイヤは、金またはアルミを含んでもよい。   In the semiconductor device, the bonding wire may include gold or aluminum.

本発明の半導体モジュールは、上記いずれかの半導体装置と、モジュール基板と、上記ボンディングワイヤと上記モジュール基板とを接続する導電性ゴムコネクターと、上記モジュール基板上に固定された導電性ゴムコネクター固定手段とを備え、上記半導体装置は、上記導電性ゴムコネクター固定手段により固定された上記導電性ゴムコネクターにより圧接される。よって、上記いずれかの半導体装置を備える上記半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みは、従来の半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みよりもさらに薄い厚みとすることが出来、小型・薄型化が可能となる。   A semiconductor module according to the present invention includes any one of the above semiconductor devices, a module substrate, a conductive rubber connector for connecting the bonding wire and the module substrate, and a conductive rubber connector fixing means fixed on the module substrate. The semiconductor device is pressed by the conductive rubber connector fixed by the conductive rubber connector fixing means. Therefore, the total module thickness in the semiconductor module including any one of the semiconductor devices can be made thinner than the total module thickness in the conventional semiconductor module, and can be reduced in size and thickness.

また、上記半導体モジュールでは、上記導電性ゴムコネクターが上記半導体装置を圧接することにより接続及び固定が行われている。この為、上記半導体装置の不良(不具合)が発生した場合でも、上記半導体装置のみを容易にリペア(修理)する事が可能である。   Further, in the semiconductor module, the conductive rubber connector is connected and fixed by pressing the semiconductor device. Therefore, even when a defect (failure) of the semiconductor device occurs, it is possible to easily repair (repair) only the semiconductor device.

上記半導体モジュールでは、上記導電性ゴムコネクターは、絶縁層と導電層とが交互に積層された導電性ゴムコネクターであり、上記導電層と上記ボンディングワイヤとが電気的に接続されてもよい。これにより、連続して隣り合う2つの端子の間における絶縁状態を維持した状態で、上記断面と、上記モジュール基板の端子とを接続する事が可能である。   In the semiconductor module, the conductive rubber connector may be a conductive rubber connector in which insulating layers and conductive layers are alternately stacked, and the conductive layer and the bonding wire may be electrically connected. Thereby, it is possible to connect the said cross section and the terminal of the said module board | substrate in the state which maintained the insulation state between two adjacent terminals.

上記半導体モジュールでは、上記導電層の、上記ボンディングワイヤと接する面の幅は、連続して隣り合う2本の上記ボンディングワイヤ間の間隔よりも短い。これにより、上記間隔として、少なくとも上記幅以上の距離を確保すれば、上記断面と上記モジュール基板上の端子(またはくり抜きモジュール基板上の端子)とを、隣接端子との絶縁状態を確保した状態で接続することが可能である。   In the semiconductor module, the width of the surface of the conductive layer in contact with the bonding wire is shorter than the interval between the two adjacent bonding wires. As a result, if the distance of at least the width is secured as the distance, the cross section and the terminal on the module board (or the terminal on the hollow module board) are in a state of ensuring insulation between adjacent terminals. It is possible to connect.

上記半導体モジュールでは、上記絶縁層の幅は、上記断面の幅よりも短い。これにより、使用する上記ボンディングワイヤとして、その直径が上記断面の幅よりも太いものを使用することにより、上記絶縁層の断面と上記断面とが重なった場合でも、上記半導体装置と上記導電性ゴムコネクターとの導通を保つことが出来る。   In the semiconductor module, the width of the insulating layer is shorter than the width of the cross section. As a result, even if the cross section of the insulating layer overlaps the cross section of the insulating layer by using a bonding wire having a diameter larger than the width of the cross section, the semiconductor device and the conductive rubber are used. Conductivity with the connector can be maintained.

上記半導体モジュールでは、上記導電層及び上記絶縁層は、積層する面の形状が等しい直方体であり、上記導電性ゴムコネクター固定手段と上記モジュール基板とが形成する空間の、上記積層する面と平行な面の形状は、上記導電性ゴムコネクターの形状に合わせた形状であり、上記積層する面の形状が長方形であるとともに、上記空間の上記積層する面と平行な面の形状も長方形であってもよい。   In the semiconductor module, the conductive layer and the insulating layer are rectangular parallelepipeds having the same shape of the surfaces to be stacked, and are parallel to the surface to be stacked in the space formed by the conductive rubber connector fixing means and the module substrate. The shape of the surface is a shape that matches the shape of the conductive rubber connector, the shape of the surface to be laminated is a rectangle, and the shape of the surface parallel to the surface to be laminated of the space is also a rectangle. Good.

これにより、安定して上記導電性ゴムコネクターを上記モジュール基板上に固定出来る。従って、半導体モジュールの信頼性を向上出来る。   Thereby, the conductive rubber connector can be stably fixed on the module substrate. Therefore, the reliability of the semiconductor module can be improved.

上記半導体モジュールでは、上記導電層及び上記絶縁層は、積層する面の形状が等しい三角柱であり、上記導電性ゴムコネクター固定手段と上記モジュール基板とが形成する空間の、上記積層する面と平行な面の形状は、上記導電性ゴムコネクターの形状に合わせた形状であり、上記積層する面の形状が三角形であるとともに、上記空間の上記積層する面と平行な面の形状も三角形であってもよい。   In the semiconductor module, the conductive layer and the insulating layer are triangular prisms having the same shape of the surfaces to be stacked, and are parallel to the surfaces to be stacked in the space formed by the conductive rubber connector fixing means and the module substrate. The shape of the surface is a shape that matches the shape of the conductive rubber connector, the shape of the surface to be laminated is a triangle, and the shape of the surface parallel to the surface to be laminated of the space is also a triangle. Good.

これにより、上記固定手段の肉厚も十分に確保出来、より強固に安定して上記導電性ゴムコネクターを上記モジュール基板上に固定出来る。従って、半導体モジュールの信頼性をさらに向上出来る。   Thereby, the thickness of the fixing means can be sufficiently secured, and the conductive rubber connector can be fixed on the module substrate more firmly and stably. Therefore, the reliability of the semiconductor module can be further improved.

上記いずれかの半導体モジュールでは、上記モジュール基板は、上記半導体装置の外形サイズに予めくり抜いたモジュール基板であってもよい。これにより、くり抜いた箇所に上記半導体装置の一部を埋め込むことが可能となる。   In any one of the above semiconductor modules, the module substrate may be a module substrate that has been cut out in advance to the outer size of the semiconductor device. As a result, a part of the semiconductor device can be embedded in the hollowed out portion.

本発明の半導体装置の製造方法は、上記いずれかの半導体装置の製造方法であって、上記半導体チップを一時的に固定する半導体チップ固定材料上に、上記ボンディングワイヤを一時的に固定するワイヤ固定フレームを搭載する工程と、上記半導体チップ固定材料上に、上記半導体チップを搭載する工程と、上記半導体チップと、上記ワイヤ固定フレームとを、上記ボンディングワイヤにて接続する工程と、封止樹脂にて封止する工程と、上記半導体装置になる部分と除去部とを切り分ける工程と、上記半導体装置になる部分において上記半導体チップの底面に貼り付いている上記チップ固定材料を除去する工程とを含む。   The semiconductor device manufacturing method of the present invention is any one of the above semiconductor device manufacturing methods, wherein the bonding wire is temporarily fixed on the semiconductor chip fixing material for temporarily fixing the semiconductor chip. A step of mounting a frame, a step of mounting the semiconductor chip on the semiconductor chip fixing material, a step of connecting the semiconductor chip and the wire fixing frame with the bonding wires, and a sealing resin Sealing, a step of separating the portion to be the semiconductor device and a removal portion, and a step of removing the chip fixing material attached to the bottom surface of the semiconductor chip in the portion to be the semiconductor device .

上記発明により、本発明の半導体装置を製造出来る。また、上記発明によれば、上記ワイヤ固定フレームは、最終的に除去する。この為、上記ワイヤ固定フレームへのワイヤボンディングは、隣接するワイヤやワイヤボールと接触しても、半導体装置になる部分と除去部とを切り分ける境界で接触していなければよい。従って、従来技術における出力材料の設計制約にとらわれず、従来よりも狭い範囲でのワイヤボンディングが可能である。   According to the above invention, the semiconductor device of the present invention can be manufactured. According to the invention, the wire fixing frame is finally removed. For this reason, even if the wire bonding to the wire fixing frame is in contact with the adjacent wire or wire ball, it does not have to be in contact with the boundary that separates the portion that becomes the semiconductor device and the removal portion. Therefore, wire bonding in a narrower range than before is possible without being limited by the design constraints of the output material in the prior art.

上記半導体装置の製造方法では、上記ワイヤ固定フレームは、格子状であり、上記半導体チップは、上記格子の中に収まるように上記半導体チップ固定材料上に搭載されてもよい。これにより、効率的に半導体チップ1を搭載出来る。   In the manufacturing method of the semiconductor device, the wire fixing frame may have a lattice shape, and the semiconductor chip may be mounted on the semiconductor chip fixing material so as to fit in the lattice. Thereby, the semiconductor chip 1 can be mounted efficiently.

上記半導体装置の製造方法では、上記半導体チップ固定材料は、カプトンテープであってもよい。上記ボンディングワイヤにて接続する工程、及び上記封止樹脂にて封止する工程では、一般的に熱処理が行われる。このため、上記半導体チップ固定材料としては、耐熱性がある事と、製造の最終段階でを除去し易い事とを考慮すると、耐熱性のテープ等が好ましい。従って、カプトンテープが好適に用いられる。   In the semiconductor device manufacturing method, the semiconductor chip fixing material may be a Kapton tape. In the step of connecting with the bonding wire and the step of sealing with the sealing resin, heat treatment is generally performed. For this reason, the semiconductor chip fixing material is preferably a heat-resistant tape in consideration of heat resistance and easy removal at the final stage of production. Therefore, Kapton tape is preferably used.

上記半導体装置の製造方法では、上記ワイヤ固定フレームは、金またはアルミを含んでもよい。   In the semiconductor device manufacturing method, the wire fixing frame may include gold or aluminum.

本発明の半導体モジュールの製造方法は、上記いずれかの半導体モジュールの製造方法であって、上記モジュール基板上に上記導電性ゴムコネクター固定手段を固定する工程と、上記モジュール基板上と上記導電性ゴムコネクター固定手段との間に形成される空間に上記導電性ゴムコネクターを嵌め込み、導電性ゴムコネクター露出部を形成する工程と、上記半導体装置が搭載される空間へ向かって上記半導体装置を押し込む工程とを含む。   The semiconductor module manufacturing method of the present invention is any one of the above semiconductor module manufacturing methods, the step of fixing the conductive rubber connector fixing means on the module substrate, the module substrate and the conductive rubber. A step of fitting the conductive rubber connector into a space formed between the connector fixing means and forming an exposed portion of the conductive rubber connector; and a step of pushing the semiconductor device toward the space where the semiconductor device is mounted; including.

上記発明により、本発明の半導体モジュールを製造出来る。また、上記発明によれば、上記導電性ゴムコネクター露出部は、上記形成される空間の中へ向かって押し込まれ、上記導電性ゴムコネクター露出部が押し潰された状態で上記半導体装置を搭載される。これにより、搭載後の上記半導体装置を、押し込まれた上記導電性ゴムコネクター露出部による圧接で固定出来る。   According to the above invention, the semiconductor module of the present invention can be manufactured. According to the invention, the exposed portion of the conductive rubber connector is pushed into the space to be formed, and the semiconductor device is mounted in a state where the exposed portion of the conductive rubber connector is crushed. The Thereby, the semiconductor device after mounting can be fixed by pressure contact with the exposed conductive rubber connector exposed portion.

本発明の半導体装置は、以上のように、半導体チップとボンディングワイヤとを備え、上記半導体チップを樹脂で封止してパッケージングされている半導体装置であって、上記半導体装置の側面で上記ボンディングワイヤの断面が露出しているものである。   As described above, the semiconductor device of the present invention includes a semiconductor chip and a bonding wire, and is packaged by sealing the semiconductor chip with a resin, and the bonding is performed on the side surface of the semiconductor device. The cross section of the wire is exposed.

それゆえ、外部へ信号を出力する為の出力材料を必要とする従来の半導体装置よりも小型・薄型化が可能となる半導体装置、及びこれを備える半導体モジュール、並びに半導体装置の製造方法及び半導体モジュールの製造方法を提供するという効果を奏する。   Therefore, a semiconductor device that can be made smaller and thinner than a conventional semiconductor device that requires an output material for outputting a signal to the outside, a semiconductor module including the semiconductor device, a method for manufacturing the semiconductor device, and a semiconductor module There is an effect of providing the manufacturing method.

本発明の実施形態に係る半導体装置の説明図であり、(a)は本発明の実施形態に係る半導体装置の断面図であり、(b)は(a)に示す半導体装置において破線で示される部分の拡大図であり、(c)は本発明の実施形態に係る半導体装置の平面図であり、(d)は(c)の半導体装置と外形サイズを比較される従来の半導体装置の平面図であり、(e)は(c)の半導体チップに対してピン数を増やした半導体チップを備える半導体装置の平面図であり、(f)は(e)の半導体装置と外形サイズを比較される従来の半導体装置の平面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing of the semiconductor device which concerns on embodiment of this invention, (a) is sectional drawing of the semiconductor device which concerns on embodiment of this invention, (b) is shown with the broken line in the semiconductor device shown to (a). It is a partial enlarged view, (c) is a plan view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, (d) is a plan view of a conventional semiconductor device whose external size is compared with the semiconductor device of (c). (E) is a plan view of a semiconductor device provided with a semiconductor chip having an increased number of pins with respect to the semiconductor chip of (c), and (f) is compared with the semiconductor device of (e) in external size. It is a top view of the conventional semiconductor device. (a)は本発明の実施形態に係る半導体モジュールの断面図であり、(b)は本発明の実施形態に係る、導電層と絶縁層とが交互に積層された導電性ゴムコネクターの斜視図である。(A) is sectional drawing of the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention, (b) is a perspective view of the conductive rubber connector which laminated | stacked the conductive layer and the insulating layer based on embodiment of this invention alternately. It is. (a)は本発明の実施形態に係る他の半導体モジュールの断面図であり、(b)は(a)に示す半導体モジュールにおいて破線で示される部分の拡大図であり、(c)は(a)に示す半導体モジュールにおいて破線で示される部分を上方から見た透視図であり、(d)は導電層の断面の幅、連続して隣り合う2本のボンディングワイヤ間の間隔、絶縁層の幅、及びワイヤ断面の幅の関係を示す図である。(A) is sectional drawing of the other semiconductor module which concerns on embodiment of this invention, (b) is an enlarged view of the part shown with a broken line in the semiconductor module shown to (a), (c) is (a) FIG. 4 is a perspective view of a portion indicated by a broken line in the semiconductor module shown in FIG. 4B when viewed from above, and (d) is a cross-sectional width of the conductive layer, a distance between two adjacent bonding wires, and a width of the insulating layer It is a figure which shows the relationship between the width of a wire cross section. (a)は図3(a)に示す半導体モジュールにおいて破線で示される部分の変形例を示す断面拡大図であり、(b)は本発明の実施形態に係る他の導電性ゴムコネクターの斜視図である。(A) is a cross-sectional enlarged view which shows the modification of the part shown with a broken line in the semiconductor module shown to Fig.3 (a), (b) is a perspective view of the other conductive rubber connector which concerns on embodiment of this invention. It is. 本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法の説明図であり、(a)〜(g)は本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法を示す断面図であり、(h)は格子状のワイヤ固定フレームを示す平面図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the semiconductor device which concerns on embodiment of this invention, (a)-(g) is sectional drawing which shows the manufacturing method of the semiconductor device which concerns on embodiment of this invention, (h) is a grating | lattice It is a top view which shows a shape wire fixing frame. 本発明の実施形態に係る半導体モジュールの製造方法の説明図であり、(a)〜(f)は本発明の実施形態に係る半導体モジュールの製造方法を示す断面図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention, (a)-(f) is sectional drawing which shows the manufacturing method of the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みが、図13の従来の半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みよりも薄いことを示す断面図である。It is sectional drawing which shows that the module total thickness in the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention is thinner than the module total thickness in the conventional semiconductor module of FIG. 本発明の実施形態に係る半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みが、図14の従来の半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みよりも薄いことを示す断面図である。It is sectional drawing which shows that the module total thickness in the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention is thinner than the module total thickness in the conventional semiconductor module of FIG. 本発明の実施形態に係る半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みが、図15の従来の半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みよりも薄いことを示す断面図である。It is sectional drawing which shows that the module total thickness in the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention is thinner than the module total thickness in the conventional semiconductor module of FIG. 本発明の実施形態に係る半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みが、図16の従来の半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みよりも薄いことを示す断面図である。It is sectional drawing which shows that the module total thickness in the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention is thinner than the module total thickness in the conventional semiconductor module of FIG. 本発明の実施形態に係る半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みが、図17の従来の半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みよりも薄いことを示す断面図である。It is sectional drawing which shows that the module total thickness in the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention is thinner than the module total thickness in the conventional semiconductor module of FIG. 本発明の実施形態に係る他の半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みが、図18の従来の半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みよりも薄いことを示す断面図である。It is sectional drawing which shows that the module total thickness in the other semiconductor module which concerns on embodiment of this invention is thinner than the module total thickness in the conventional semiconductor module of FIG. 実装基板であるモジュール基板に直接半導体チップを実装するCОB(chip on board)構造を有する従来の半導体モジュール100の断面図である。1 is a cross-sectional view of a conventional semiconductor module 100 having a COB (chip on board) structure in which a semiconductor chip is directly mounted on a module substrate which is a mounting substrate. 半導体チップをTSОP(thin small out-line package)構造でパッケージングした半導体装置を、半田を用いて実装した構造を有する従来の半導体モジュールの断面図である。It is sectional drawing of the conventional semiconductor module which has the structure which mounted the semiconductor device which packaged the semiconductor chip by TSOP (thin small out-line package) structure using solder. 半導体チップをCSP(chip sized package)構造でパッケージングした半導体装置を、半田を用いて実装した構造を有する従来の半導体モジュールの断面図である。It is sectional drawing of the conventional semiconductor module which has the structure which mounted the semiconductor device which packaged the semiconductor chip by CSP (chip sized package) using solder. 半導体チップをリードレスキャリア構造でパッケージングした半導体装置を、半田を用いて実装した構造を有する従来の半導体モジュールの断面図である。It is sectional drawing of the conventional semiconductor module which has the structure which mounted the semiconductor device which packaged the semiconductor chip with the leadless carrier structure using solder. 図16のリードレスキャリア構造でパッケージングした半導体装置を、導電性ゴムコネクターでパッケージ底面から導通させて実装した構造を有する従来の半導体モジュールの断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view of a conventional semiconductor module having a structure in which a semiconductor device packaged with the leadless carrier structure of FIG. 16 is mounted by conduction from the bottom surface of the package with a conductive rubber connector. 図16のリードレスキャリア構造でパッケージングした半導体装置において、実装基板であるくり抜きモジュール基板の側面とパッケージ側面とを導電性ゴムコネクターで導通させて実装した構造を有する従来の半導体モジュールの断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view of a conventional semiconductor module having a structure in which a side surface of a cut-out module substrate that is a mounting substrate and a side surface of a package are connected by a conductive rubber connector in the semiconductor device packaged with the leadless carrier structure of FIG. is there. 半導体チップの端子数量が多くなる程半導体装置の外形サイズも大きくなることを示す平面図である。It is a top view which shows that the external size of a semiconductor device becomes large, so that the terminal quantity of a semiconductor chip increases.

本発明の一実施形態について図1〜図12に基づいて説明すれば、以下の通りである。   An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

図1は、本実施形態に係る半導体装置8の説明図である。図1(a)は、本実施形態に係る半導体装置8の断面図であり、図1(b)は、図1(a)に示す半導体装置8において破線Bで示される部分の拡大図である。図1(c)は、本実施形態に係る半導体装置8の平面図である。図1(d)は、図1(c)の半導体装置8と外形サイズを比較される従来の半導体装置160の平面図である。図1(e)は、図1(c)の半導体チップ1に対してピン数を増やした半導体チップ1’を備える半導体装置8’の平面図である。図1(f)は、図1(e)の半導体装置8’と外形サイズを比較される従来の半導体装置170の平面図である。   FIG. 1 is an explanatory diagram of the semiconductor device 8 according to the present embodiment. FIG. 1A is a cross-sectional view of the semiconductor device 8 according to the present embodiment, and FIG. 1B is an enlarged view of a portion indicated by a broken line B in the semiconductor device 8 shown in FIG. . FIG. 1C is a plan view of the semiconductor device 8 according to the present embodiment. FIG. 1D is a plan view of a conventional semiconductor device 160 whose outer size is compared with that of the semiconductor device 8 of FIG. FIG. 1E is a plan view of a semiconductor device 8 ′ including a semiconductor chip 1 ′ having a larger number of pins than the semiconductor chip 1 of FIG. FIG. 1F is a plan view of a conventional semiconductor device 170 whose outer size is compared with that of the semiconductor device 8 ′ of FIG.

図1(d)の従来の半導体装置160は、図15の半導体モジュール120で使用している半導体装置160であり、半導体チップ101は、プリント基板107上の端子領域pLとボンディングワイヤ102で接続されている。   The conventional semiconductor device 160 in FIG. 1D is the semiconductor device 160 used in the semiconductor module 120 in FIG. 15, and the semiconductor chip 101 is connected to the terminal region pL on the printed circuit board 107 by the bonding wire 102. ing.

図1(f)の従来の半導体装置170は、図19の半導体装置170であり、半導体チップ101’は、多ピン用プリント基板111上の端子領域pとボンディングワイヤ102で接続されている。符号sで示す間隔は、隣接端子との接触不良を回避するための端子間スペースである。   The conventional semiconductor device 170 in FIG. 1F is the semiconductor device 170 in FIG. 19, and the semiconductor chip 101 ′ is connected to the terminal region p on the multi-pin printed circuit board 111 by the bonding wire 102. The space | interval shown by the code | symbol is the space between terminals for avoiding the poor contact with an adjacent terminal.

半導体装置8は、半導体チップ1とボンディングワイヤ2とを備え、半導体チップ1を封止樹脂(樹脂)5で封止してパッケージングされている半導体装置である。   The semiconductor device 8 includes a semiconductor chip 1 and bonding wires 2 and is packaged by sealing the semiconductor chip 1 with a sealing resin (resin) 5.

まず、半導体装置8の外形サイズを、従来の半導体装置で外形サイズが最小である図15の半導体装置が優位しているCSP構造よりもさらに縮小するために、半導体装置8は以下に示す構造を有している。即ち、半導体装置8では、半導体チップ1の端子にボンディングにより接続されたボンディングワイヤ2のワイヤ断面(ボンディングワイヤの断面)7を、半導体装置8の側面に露出させている。ボンディングワイヤ2は、金またはアルミを含んでもよい。   First, in order to further reduce the outer size of the semiconductor device 8 as compared with the CSP structure in which the semiconductor device of FIG. 15 that has the smallest outer size in the conventional semiconductor device is superior, the semiconductor device 8 has the following structure. Have. In other words, in the semiconductor device 8, the wire cross section (bonding wire cross section) 7 of the bonding wire 2 connected to the terminal of the semiconductor chip 1 by bonding is exposed to the side surface of the semiconductor device 8. The bonding wire 2 may include gold or aluminum.

このような構成を有しているボンディングワイヤ2を外部出力端子とすることで、外部へ信号を出力する為の出力材料を介さずに、半導体チップ1から外部に信号を出力出来る。出力材料を必要としないので、出力材料を必要とする従来の半導体装置よりも小型・薄型化が可能となる。   By using the bonding wire 2 having such a configuration as an external output terminal, it is possible to output a signal from the semiconductor chip 1 to the outside without using an output material for outputting a signal to the outside. Since no output material is required, it is possible to reduce the size and thickness of a conventional semiconductor device that requires an output material.

また、出力材料が不要であることで、半導体装置8のコストダウンも図れ、なおかつ出力材料の開発も不要となる。従って、半導体装置8の開発期間と、半導体装置8を搭載する半導体モジュールの開発期間とを短縮出来る。   Further, since the output material is unnecessary, the cost of the semiconductor device 8 can be reduced, and the development of the output material becomes unnecessary. Therefore, the development period of the semiconductor device 8 and the development period of the semiconductor module on which the semiconductor device 8 is mounted can be shortened.

上記構成を有している半導体装置8の外形において、最も長い部分の長さは、図1(c)に示すようにLaとなる。この長さLaは、図1(d)の従来の半導体装置160の外形において、最も長い部分の長さであるLbよりも短く出来る。   In the outer shape of the semiconductor device 8 having the above configuration, the length of the longest portion is La as shown in FIG. This length La can be made shorter than Lb which is the length of the longest portion in the external shape of the conventional semiconductor device 160 of FIG.

また、図1(f)の半導体装置170のように、半導体装置の端子数量がいかに多くなっても、本実施形態に係る半導体装置は、出力材料(例えばプリント基板)の設計制約にとらわれないので、半導体装置8の端子数量を多くした半導体装置である図1(e)に示す半導体装置8’についても、出力材料の設計制約にとらわれない。   Further, as with the semiconductor device 170 in FIG. 1F, the semiconductor device according to the present embodiment is not limited by the design constraints of the output material (for example, a printed circuit board), no matter how many terminals of the semiconductor device are increased. The semiconductor device 8 ′ shown in FIG. 1E, which is a semiconductor device in which the number of terminals of the semiconductor device 8 is increased, is not limited by the output material design constraints.

半導体装置8’の外形において最も長い部分の長さLcは、図1(f)の従来の半導体装置170の外形において、最も長い部分の長さであるLdよりも短く出来る。   The length Lc of the longest portion in the outer shape of the semiconductor device 8 ′ can be shorter than Ld which is the length of the longest portion in the outer shape of the conventional semiconductor device 170 of FIG.

このように、半導体装置8,8’は、半導体チップ1,1’のサイズに対して一定のサイズで半導体装置化する事が可能となる。   As described above, the semiconductor devices 8 and 8 ′ can be formed into a semiconductor device having a constant size with respect to the size of the semiconductor chips 1 and 1 ′.

次に、後述する図2(a)に示す本実施形態に係る半導体モジュール30を、従来の半導体モジュールよりもさらに薄型化するために、半導体装置8は、半導体チップを固定するための材料を一切使用しない半導体装置とする。ここで言う半導体チップを固定するための材料とは、例えば以下の材料である。即ち、従来の半導体モジュールで使用していた、図14のTSOP構造を有している半導体装置を搭載するリードフレーム127や、図15のCSP構造を有している半導体装置を搭載するプリント基板107や、図16のリードレスキャリア構造を有している半導体装置を搭載するリードレスキャリア129などの材料である。   Next, in order to further reduce the thickness of the semiconductor module 30 according to this embodiment shown in FIG. 2A, which will be described later, as compared with the conventional semiconductor module, the semiconductor device 8 does not use any material for fixing the semiconductor chip. The semiconductor device is not used. The material for fixing the semiconductor chip here is, for example, the following material. That is, the lead frame 127 for mounting the semiconductor device having the TSOP structure of FIG. 14 and the printed circuit board 107 for mounting the semiconductor device having the CSP structure of FIG. Or a material such as a leadless carrier 129 on which a semiconductor device having the leadless carrier structure of FIG. 16 is mounted.

半導体装置8では、半導体チップ1を固定するための材料を一切使用しないことで、従来の半導体装置よりもさらに薄い厚みとすることができる。また、これにより、半導体装置8を備える半導体モジュール30におけるモジュールトータルの厚みTaは、従来の半導体モジュールにおけるモジュールトータルの厚みTc,Td,Te,Tfよりもさらに薄い厚みとすることが出来、小型・薄型化が可能となる(図7〜図10)。   The semiconductor device 8 can be made thinner than the conventional semiconductor device by not using any material for fixing the semiconductor chip 1. In addition, the module total thickness Ta in the semiconductor module 30 including the semiconductor device 8 can be made thinner than the module total thickness Tc, Td, Te, Tf in the conventional semiconductor module. Thinning is possible (FIGS. 7 to 10).

半導体装置8を備える半導体モジュール30におけるモジュールトータルの厚みTaは、半導体チップ1の厚みと、半導体チップ1を覆うように封止する封止樹脂(樹脂)5の厚みと、後述するように半導体チップ1を実装するモジュール基板14の厚みとを足し合わせた厚みである。   The total module thickness Ta in the semiconductor module 30 including the semiconductor device 8 is the thickness of the semiconductor chip 1, the thickness of the sealing resin (resin) 5 that seals the semiconductor chip 1, and the semiconductor chip as described later. 1 is the sum of the thickness of the module substrate 14 on which 1 is mounted.

図2(a)は、本実施形態に係る半導体モジュール30、即ち本実施形態に係る半導体装置8をモジュール基板(モジュール用基板)14へ実装した半導体モジュール30の断面図である。半導体モジュール30では、半導体装置8に側面に位置するワイヤ断面7(端子)と、モジュール基板14の端子とを接続する手段として導電性ゴムコネクター12を使用する。柔軟性がある導電性ゴムコネクター12は、図2(b)の斜視図に示すように、絶縁層19と導電層20とが交互に積層されたものを使用する。導電層20とボンディングワイヤ2とが電気的に接続される。これにより、連続して隣り合う2つの端子の間における絶縁状態を維持した状態で、半導体装置8の側面に位置するワイヤ断面7と、モジュール基板14の端子とを接続する事が可能である。   FIG. 2A is a cross-sectional view of the semiconductor module 30 according to the present embodiment, that is, the semiconductor module 30 in which the semiconductor device 8 according to the present embodiment is mounted on the module substrate (module substrate) 14. In the semiconductor module 30, the conductive rubber connector 12 is used as means for connecting the wire cross section 7 (terminal) located on the side surface to the semiconductor device 8 and the terminal of the module substrate 14. As the flexible conductive rubber connector 12, as shown in the perspective view of FIG. 2B, a structure in which insulating layers 19 and conductive layers 20 are alternately stacked is used. The conductive layer 20 and the bonding wire 2 are electrically connected. As a result, it is possible to connect the wire cross section 7 located on the side surface of the semiconductor device 8 and the terminal of the module substrate 14 in a state in which the insulation state between two adjacent terminals is maintained.

半導体モジュール30では、導電性ゴムコネクター12が半導体装置8を圧接することにより接続及び固定が行われている。この為、半導体装置8の不良(不具合)が発生した場合でも、半導体装置8のみを容易にリペア(修理)する事が可能である。   In the semiconductor module 30, the conductive rubber connector 12 is connected and fixed by press-contacting the semiconductor device 8. Therefore, even when a defect (failure) of the semiconductor device 8 occurs, it is possible to easily repair (repair) only the semiconductor device 8.

また、図2(a)の半導体モジュール30は、実装する半導体装置8自体が、従来の半導体装置よりも薄いという特徴と、モジュール基板14の上に導電性ゴムコネクター12を配置し、導電性ゴムコネクター12のみを固定治具(導電性ゴムコネクター固定手段)13により固定させ、半導体装置8の側面に位置するワイヤ断面7との接続を行うという特徴とを備えている。従って、半導体モジュール30におけるモジュールトータルの厚みTaは、図17の、導電性ゴムコネクター131を使用する半導体モジュール140におけるモジュールトータルの厚みTgよりもさらに薄くすることが出来る(図11)。   In addition, the semiconductor module 30 in FIG. 2A is characterized in that the semiconductor device 8 itself to be mounted is thinner than the conventional semiconductor device, and the conductive rubber connector 12 is disposed on the module substrate 14 so that the conductive rubber is provided. Only the connector 12 is fixed by a fixing jig (conductive rubber connector fixing means) 13 and is connected to the wire cross section 7 located on the side surface of the semiconductor device 8. Therefore, the module total thickness Ta in the semiconductor module 30 can be made thinner than the module total thickness Tg in the semiconductor module 140 using the conductive rubber connector 131 in FIG. 17 (FIG. 11).

図3(a)は、本実施形態に係る半導体モジュール40の断面図である。半導体モジュール40では、半導体装置8の外形サイズに予め繰り抜いたくり抜きモジュール基板15へ、従来の半導体装置よりも薄い半導体装置8の一部を埋め込むことにより実装を行う。これにより、半導体モジュール40におけるモジュールトータルの厚みTbは、実現が困難である半導体モジュール150におけるモジュールトータルの厚みTh、即ち導電性ゴムコネクター132を使用し、くり抜きモジュール基板133に半導体装置を埋め込む図18の半導体モジュール150におけるモジュールトータルの厚みThよりも薄くすることが出来る(図12)。   FIG. 3A is a cross-sectional view of the semiconductor module 40 according to the present embodiment. In the semiconductor module 40, mounting is performed by embedding a part of the semiconductor device 8 thinner than the conventional semiconductor device in the punched module substrate 15 that has been punched out in advance to the outer size of the semiconductor device 8. Thus, the total module thickness Tb in the semiconductor module 40 is the module total thickness Th in the semiconductor module 150, which is difficult to realize, that is, the conductive rubber connector 132 is used, and the semiconductor device is embedded in the hollow module substrate 133. FIG. The total thickness Th of the module in the semiconductor module 150 can be made thinner (FIG. 12).

図3(b)は、図3(a)に示す半導体モジュール40において破線Cで示される部分の拡大図(断面拡大図)である。くり抜きモジュール基板15の表面には、モジュール基板配線17が形成されているとともに、モジュール基板配線17と、モジュール基板配線17の表面に形成されたモジュール基板電極パッド16とが、電気的に接続されている。そして、モジュール基板電極パッド16及び導電性ゴムコネクター12は、モジュール基板配線17とモジュール基板電極パッド16とを覆う保護部材44の開口部51において、電気的に接続されている。   FIG. 3B is an enlarged view (cross-sectional enlarged view) of a portion indicated by a broken line C in the semiconductor module 40 shown in FIG. A module substrate wiring 17 is formed on the surface of the cut-out module substrate 15, and the module substrate wiring 17 and the module substrate electrode pad 16 formed on the surface of the module substrate wiring 17 are electrically connected. Yes. The module substrate electrode pad 16 and the conductive rubber connector 12 are electrically connected at the opening 51 of the protective member 44 that covers the module substrate wiring 17 and the module substrate electrode pad 16.

くり抜きモジュール基板15において、導電性ゴムコネクター12が接続されない部分は、保護部材44(絶縁保護部材)で覆われる。保護部材44としては、ソルダレジストを用いるのが一般的である。   A portion of the hollow module substrate 15 to which the conductive rubber connector 12 is not connected is covered with a protection member 44 (insulation protection member). As the protective member 44, a solder resist is generally used.

導電性ゴムコネクター12を固定する固定治具13は、くり抜きモジュール基板15上に塗布された接着剤18等を用いてくり抜きモジュール基板15に接着されることにより、くり抜きモジュール基板15上に固定される。   The fixing jig 13 for fixing the conductive rubber connector 12 is fixed on the cut-out module substrate 15 by being bonded to the cut-out module substrate 15 using an adhesive 18 or the like applied on the cut-out module substrate 15. .

図3(c)は、図3(a)に示す半導体モジュール40において破線Cで示される部分を上方から見た透視図である。図3(c)の透視図において、固定治具13の右側では、実際にはモジュール基板電極パッド16があるが、これを透かしてモジュール基板配線17が示されている。半導体チップ1とボンディングワイヤ2との電気的接続は、半導体チップ1の表面に形成されたボンディングパッド21により行われる。   FIG.3 (c) is the perspective view which looked at the part shown with the broken line C in the semiconductor module 40 shown to Fig.3 (a) from upper direction. In the perspective view of FIG. 3C, on the right side of the fixing jig 13, there is actually the module substrate electrode pad 16, but the module substrate wiring 17 is shown through this. Electrical connection between the semiconductor chip 1 and the bonding wire 2 is performed by a bonding pad 21 formed on the surface of the semiconductor chip 1.

以上の記載では、図3の半導体モジュール40を用いて導電性ゴムコネクターの接続について説明している。ここで、半導体モジュール40ではくり抜きモジュール基板15を用いているが、モジュール基板14を用いる半導体モジュール(例えば図2の半導体モジュール30)においても、半導体モジュール40と同様に導電性ゴムコネクターが接続される。   In the above description, the connection of the conductive rubber connector is described using the semiconductor module 40 of FIG. Here, the hollow module substrate 15 is used in the semiconductor module 40, but a conductive rubber connector is also connected to the semiconductor module using the module substrate 14 (for example, the semiconductor module 30 in FIG. 2) as in the semiconductor module 40. .

導電性ゴムコネクター12の形状は、一般的には図2(b)に示す通り、直方体の導電層20、及び直方体の絶縁層19(即ち積層する面の形状が導電層20と等しい)が積層されて構成された四角柱状の形状である。   As shown in FIG. 2B, the conductive rubber connector 12 is generally formed of a rectangular parallelepiped conductive layer 20 and a rectangular parallelepiped insulating layer 19 (that is, the laminated surface has the same shape as the conductive layer 20). It is a quadrangular prism shape formed.

固定治具13及びモジュール基板14(または、固定治具13及びくり抜きモジュール基板15)は、後述する空間(形成される空間)45を形成する。空間45の上記積層する面と平行な面の形状は、導電性ゴムコネクター12の形状に合わせた形状である。即ち、上記積層する面の形状が長方形であるとともに、空間45の上記積層する面と平行な面の形状も長方形である。従って、安定して導電性ゴムコネクター12をモジュール基板14上に固定出来る。従って、半導体モジュールの信頼性を向上出来る。   The fixing jig 13 and the module substrate 14 (or the fixing jig 13 and the hollow module substrate 15) form a space (space to be formed) 45 described later. The shape of the surface of the space 45 parallel to the surface to be laminated is a shape that matches the shape of the conductive rubber connector 12. That is, the shape of the surface to be stacked is a rectangle, and the shape of a surface parallel to the surface to be stacked in the space 45 is also a rectangle. Therefore, the conductive rubber connector 12 can be stably fixed on the module substrate 14. Therefore, the reliability of the semiconductor module can be improved.

しかし、図4(b)に示すように、三角柱の導電層25、及び三角柱の絶縁層24(即ち積層する面の形状が導電層25と等しい)が積層されて構成された三角柱状の導電性ゴムコネクター22を、導電性ゴムコネクター12の代わりに使用してもよい。三角柱状の導電性ゴムコネクター22を使用することにより、図4(a)に示す固定治具(導電性ゴムコネクター固定手段)23のように、固定治具23の肉厚も十分に確保出来、より強固に安定して導電性ゴムコネクター22をモジュール基板14上に固定出来る。従って、半導体モジュールの信頼性をさらに向上出来る。   However, as shown in FIG. 4B, a triangular prism-shaped conductive layer 25 is formed by stacking a triangular prism conductive layer 25 and a triangular prism insulating layer 24 (that is, the shape of the laminated surface is equal to the conductive layer 25). The rubber connector 22 may be used instead of the conductive rubber connector 12. By using the conductive rubber connector 22 having a triangular prism shape, the thickness of the fixing jig 23 can be sufficiently secured as in the fixing jig (conductive rubber connector fixing means) 23 shown in FIG. The conductive rubber connector 22 can be fixed on the module substrate 14 more firmly and stably. Therefore, the reliability of the semiconductor module can be further improved.

固定治具23とくり抜きモジュール基板15とは、空間45’を形成する。空間45’の上記積層する面と平行な面の形状は、導電性ゴムコネクター22の形状に合わせた形状である。即ち、上記積層する面の形状が三角形であるとともに、空間45’の上記積層する面と平行な面の形状も三角形である。   The fixing jig 23 and the cut-out module substrate 15 form a space 45 ′. The shape of the surface of the space 45 ′ parallel to the surface to be laminated is a shape that matches the shape of the conductive rubber connector 22. That is, the shape of the surface to be stacked is a triangle, and the shape of the surface of the space 45 ′ parallel to the surface to be stacked is also a triangle.

ここで、導電性ゴムコネクター12,22の導電層20,25の断面20’,25’の幅(幅の長さ)Wが、連続して隣り合う2本のボンディングワイヤ2間の間隔D1(図3(d)に図示)よりも長い(厚い)と、導電層20,25は、本来接続されるべきワイヤ断面7の隣に位置するワイヤ断面7と接触してしまう。この為、導電層20,25として、導電層20,25の幅Wが間隔D1よりも短い(薄い)ものを使用すればよい。これにより、間隔D1として、少なくとも幅W以上の距離を確保すれば、半導体装置8のワイヤ断面7とモジュール基板14上の端子(またはくり抜きモジュール基板15上の端子)とを、隣接端子との絶縁状態を確保した状態で接続することが可能である。   Here, the width (width length) W of the cross-sections 20 ′ and 25 ′ of the conductive layers 20 and 25 of the conductive rubber connectors 12 and 22 is the distance D1 between the two adjacent bonding wires 2 ( If it is longer (thick) than that shown in FIG. 3D, the conductive layers 20 and 25 come into contact with the wire cross section 7 located next to the wire cross section 7 to be originally connected. For this reason, as the conductive layers 20 and 25, the conductive layers 20 and 25 having a width W shorter (thinner) than the distance D1 may be used. As a result, as long as the distance D1 is at least a distance W or more, the wire cross section 7 of the semiconductor device 8 and the terminals on the module substrate 14 (or the terminals on the hollow module substrate 15) are insulated from adjacent terminals. It is possible to connect in a state where the state is secured.

断面20’,25’は、導電性ゴムコネクターの導電層の、ボンディングワイヤと接する面を示す。   Cross sections 20 ′ and 25 ′ show the surface of the conductive layer of the conductive rubber connector that contacts the bonding wire.

さらに、導電性ゴムコネクター12,22の絶縁層19,24の断面19’,24’の幅W’が、ワイヤ断面7の幅(Y方向の距離)D’(図3(d)に図示)よりも長い(広い)と、絶縁層19,24の断面19’,24’とワイヤ断面7とが重なった場合、半導体装置8と導電性ゴムコネクター12,22との導通が無くなる。この為、幅W’がワイヤ断面7の幅D’よりも短い(狭い)絶縁層19,24を使用すればよい。これにより、使用するボンディングワイヤ2として、その直径がワイヤ断面7の幅D’よりも太いものを使用することにより、絶縁層19,24の断面19’,24’とワイヤ断面7とが重なった場合でも、半導体装置8と導電性ゴムコネクター12,22との導通(電気的接続)を保つことが出来る。   Furthermore, the width W ′ of the cross sections 19 ′ and 24 ′ of the insulating layers 19 and 24 of the conductive rubber connectors 12 and 22 is the width (distance in the Y direction) D ′ of the wire cross section 7 (shown in FIG. 3D). If the cross section 19 ′, 24 ′ of the insulating layers 19, 24 and the wire cross section 7 overlap with each other, the electrical connection between the semiconductor device 8 and the conductive rubber connectors 12, 22 is lost. For this reason, the insulating layers 19 and 24 having a width W ′ shorter (narrower) than the width D ′ of the wire cross section 7 may be used. Thereby, as the bonding wire 2 to be used, a wire having a diameter larger than the width D ′ of the wire cross section 7 was used, so that the cross sections 19 ′ and 24 ′ of the insulating layers 19 and 24 overlapped with the wire cross section 7. Even in this case, the continuity (electrical connection) between the semiconductor device 8 and the conductive rubber connectors 12 and 22 can be maintained.

断面19’は、断面20’の隣の面を示す。同様に、断面24’は、断面25’の隣の面を示す。   Cross section 19 'shows the face next to cross section 20'. Similarly, the cross section 24 'shows the surface adjacent to the cross section 25'.

後述する半導体装置製造工程において除去部6を切断して切断面50を形成した時、図1(b)示すように、ワイヤ角度9が垂直(即ちワイヤ角度9が90°であり、ボンディングワイヤ2はX方向に延伸する)であればワイヤ断面7は円形となり、ワイヤ断面7の面積は最小サイズとなる。   When the removal portion 6 is cut and the cut surface 50 is formed in the semiconductor device manufacturing process described later, as shown in FIG. 1B, the wire angle 9 is vertical (that is, the wire angle 9 is 90 °, and the bonding wire 2 The wire cross section 7 is circular, and the area of the wire cross section 7 is the minimum size.

ここで、ワイヤ角度9は、YZ平面(一方の平面)と平行である切断面50からXZ平面(一方の平面に対して垂直である他方の平面)に沿って延伸するボンディングワイヤ2と、切断面50とがなす、XZ平面(上記他方の平面)における角度である。   Here, the wire angle 9 includes the bonding wire 2 extending along the XZ plane (the other plane perpendicular to the one plane) from the cutting plane 50 parallel to the YZ plane (one plane), and the cutting. This is an angle in the XZ plane (the other plane) formed by the surface 50.

これに対して、ワイヤ角度9が90度よりも小さく0度よりも大きければ、ワイヤ断面7は楕円形となり、ワイヤ断面7の面積をより大きくすることができる。   On the other hand, if the wire angle 9 is smaller than 90 degrees and larger than 0 degrees, the wire cross section 7 becomes elliptical, and the area of the wire cross section 7 can be increased.

このように、ワイヤ角度9が小さければ小さい程、即ち、ボンディングワイヤ2が切断面50に対して水平に近ければ近い程、ワイヤ断面7の面積を拡大することができ、電気的接続の信頼性に対して有利となる。   Thus, the smaller the wire angle 9 is, that is, the closer the bonding wire 2 is to the horizontal with respect to the cut surface 50, the larger the area of the wire cross section 7, and the reliability of electrical connection. Is advantageous to.

なお、ボンディングワイヤ2は、図1(b)に示すワイヤ角度9が90度となるように切断すると、断面が円になる。また、ボンディングワイヤ2の斜めに立ち上がっている部分が切断され、ワイヤ角度9が90度ではない場合は、ボンディングワイヤ2をのワイヤ断面7の形状は楕円となる。この場合、上述した距離D’は、上記楕円の長径(長軸の長さ)となる。   When the bonding wire 2 is cut so that the wire angle 9 shown in FIG. 1B is 90 degrees, the cross section becomes a circle. When the diagonally rising portion of the bonding wire 2 is cut and the wire angle 9 is not 90 degrees, the shape of the wire cross section 7 of the bonding wire 2 is an ellipse. In this case, the above-described distance D ′ is the major axis (length of major axis) of the ellipse.

〔半導体装置8の製造方法〕
図5は、本実施形態に係る半導体装置8の製造方法の説明図であり、図5(a)〜図5(g)は、本実施形態に係る半導体装置8の製造方法を示す断面図である。
[Method of Manufacturing Semiconductor Device 8]
FIG. 5 is an explanatory diagram of the method for manufacturing the semiconductor device 8 according to the present embodiment, and FIGS. 5A to 5G are cross-sectional views illustrating the method for manufacturing the semiconductor device 8 according to the present embodiment. is there.

まず、図5(a)に示す通り、半導体チップ1を一時的に固定するチップ固定材料(半導体チップ固定材料)3を準備し、チップ固定材料3の上に、ボンディングワイヤ2を一時的に固定するワイヤ固定フレーム4を搭載する。ワイヤ固定フレーム4として、図5(h)に示す通り格子状の物を使用し、上記格子の中に収まるように半導体チップ1をチップ固定材料3の上に搭載すると効率的である。また、ワイヤ固定フレーム4は、金またはアルミを含んでもよい。   First, as shown in FIG. 5A, a chip fixing material (semiconductor chip fixing material) 3 for temporarily fixing the semiconductor chip 1 is prepared, and the bonding wire 2 is temporarily fixed on the chip fixing material 3. The wire fixing frame 4 to be mounted is mounted. As the wire fixing frame 4, it is efficient to use a lattice-like object as shown in FIG. 5 (h) and mount the semiconductor chip 1 on the chip fixing material 3 so as to fit in the lattice. The wire fixing frame 4 may contain gold or aluminum.

なお、チップ固定材料3としては、例えばカプトンテープが用いられる。後述する、ワイヤボンディング工程(ボンディングワイヤにて接続する工程、図5(c))及び樹脂封止工程(封止樹脂にて封止する工程、図5(d))では、一般的に熱処理が行われる。このため、チップ固定材料3としては、耐熱性がある事と、製造の最終段階でを除去し易い事とを考慮すると、耐熱性のテープ等が好ましい。従って、例えばカプトンテープが好適に用いられる。   For example, a Kapton tape is used as the chip fixing material 3. In a wire bonding step (step of connecting with a bonding wire, FIG. 5C) and a resin sealing step (step of sealing with a sealing resin, FIG. 5D), which will be described later, heat treatment is generally performed. Done. Therefore, the chip fixing material 3 is preferably a heat-resistant tape in consideration of heat resistance and easy removal at the final stage of production. Therefore, for example, Kapton tape is preferably used.

次に、図5(b)に示す通り、チップ固定材料3上に、半導体チップ1を搭載する。半導体チップ1は、例えばワイヤ固定フレーム4内に収まるように搭載される。   Next, as shown in FIG. 5B, the semiconductor chip 1 is mounted on the chip fixing material 3. The semiconductor chip 1 is mounted so as to fit within the wire fixing frame 4, for example.

次に、図5(c)に示す通り、半導体チップ1と、ワイヤ固定フレーム4とを、ボンディングワイヤ2にて接続する。従来技術では、出力材料側へのワイヤボンディングは、図1(f)に示すように確実にボンディングするための端子領域pと、隣接端子との接触不良を回避するための端子間スペースsとが設計上の制約としてある。この制約のために、半導体チップの信号線が多くなるほど図1(f)に示すようにボンディングワイヤが占める範囲を広く確保しなければならない。   Next, as shown in FIG. 5C, the semiconductor chip 1 and the wire fixing frame 4 are connected by the bonding wire 2. In the prior art, the wire bonding to the output material side includes a terminal region p for reliable bonding and an inter-terminal space s for avoiding poor contact with adjacent terminals as shown in FIG. This is a design constraint. Due to this restriction, the larger the number of signal lines of the semiconductor chip, the wider the area occupied by the bonding wires as shown in FIG.

しかし、本発明では、ワイヤ固定フレーム4は、最終的に除去する。この為、ワイヤ固定フレーム4へのワイヤボンディングは、隣接するワイヤやワイヤボールと接触しても、後述する図5(e)の破線(ライン)L(半導体装置になる部分と除去部とを切り分ける境界)で接触していなければよい。従って、従来技術における出力材料の設計制約にとらわれず、従来よりも狭い範囲でのワイヤボンディングが可能である。   However, in the present invention, the wire fixing frame 4 is finally removed. For this reason, even when the wire bonding to the wire fixing frame 4 is in contact with an adjacent wire or wire ball, a broken line (line) L in FIG. It doesn't have to touch at the boundary. Therefore, wire bonding in a narrower range than before is possible without being limited by the design constraints of the output material in the prior art.

次に、図5(d)に示す通り、封止樹脂5にて封止する。図5(d)は、図5(h)のA−A’線断面図であり、封止した状態の上方からの透視図は、図5(h)の通りである。   Next, as shown in FIG. 5D, sealing is performed with a sealing resin 5. FIG. 5D is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 5H, and a perspective view from above in a sealed state is as shown in FIG.

次に、図5(e)に示す通り、破線Lで示す部分をダイシング等の方法を用い切断し、半導体装置8になる部分8aと除去部6とを切り分ける。上記切断により切断面50が形成される。除去部6を除去した状態が、図5(f)に示す通りである。   Next, as shown in FIG. 5E, the portion indicated by the broken line L is cut using a method such as dicing, so that the portion 8a to be the semiconductor device 8 and the removal portion 6 are separated. A cut surface 50 is formed by the cutting. The state where the removing unit 6 is removed is as shown in FIG.

切断する位置は、図1(b)に示すようにワイヤ角度9が90°以下でボンディングワイヤ2が斜めにたち上がっている部分を切断する。これにより、切断後の半導体装置8の側面において露出され、端子として使用するワイヤ断面7の面積を、“ボンディングワイヤ2の断面”の面積よりも広く確保することが可能である。ここでいう“ボンディングワイヤ2の断面”とは、ワイヤ角度9が90度となるようにボンディングワイヤ2を切断したとき(即ち、真っ直ぐに延伸させたボンディングワイヤ2を延伸方向に対して垂直に切断したとき)の、ボンディングワイヤ2の断面である。“ボンディングワイヤ2の断面”が円であれば、ワイヤ断面7の形状は楕円となる。ワイヤ断面7の面積を、“ボンディングワイヤ2の断面”の面積よりも広くできるので、より確実な電気的接続が可能となる。   As shown in FIG. 1B, the cutting position is a portion where the wire angle 9 is 90 ° or less and the bonding wire 2 is obliquely raised. As a result, the area of the wire cross section 7 exposed on the side surface of the semiconductor device 8 after cutting and used as a terminal can be secured larger than the area of the “cross section of the bonding wire 2”. The “cross section of the bonding wire 2” as used herein means that the bonding wire 2 is cut so that the wire angle 9 is 90 degrees (that is, the bonding wire 2 that has been straightened is cut perpendicularly to the drawing direction). This is a cross section of the bonding wire 2. If “the cross section of the bonding wire 2” is a circle, the shape of the wire cross section 7 is an ellipse. Since the area of the wire cross section 7 can be made larger than the area of the “cross section of the bonding wire 2”, more reliable electrical connection is possible.

図1(b)に示すワイヤ角度9は、0度より大きく90度未満であればよく、より小さい角度の方が好ましい。より小さい角度の方が、ワイヤ断面7の面積をより大きく確保できるためである。   The wire angle 9 shown in FIG. 1B may be larger than 0 degree and smaller than 90 degrees, and a smaller angle is preferable. This is because a smaller angle can secure a larger area of the wire cross section 7.

次に、チップ固定材料3は、半導体チップ1の一時固定用に使用していたので、半導体装置8になる部分8aにおいて半導体チップ1の底面に貼り付いているチップ固定材料3を除去する。これにより、本実施形態に係る半導体装置8が完成する。   Next, since the chip fixing material 3 was used for temporarily fixing the semiconductor chip 1, the chip fixing material 3 attached to the bottom surface of the semiconductor chip 1 in the portion 8 a that becomes the semiconductor device 8 is removed. Thereby, the semiconductor device 8 according to the present embodiment is completed.

〔半導体モジュール30の製造方法〕
図6は、本実施形態に係る半導体モジュール30の製造方法の説明図であり、図6(a)〜図6(f)は、本実施形態に係る半導体モジュール30の製造方法を示す断面図である。
[Method for Manufacturing Semiconductor Module 30]
FIG. 6 is an explanatory diagram of the method for manufacturing the semiconductor module 30 according to the present embodiment, and FIGS. 6A to 6F are cross-sectional views illustrating the method for manufacturing the semiconductor module 30 according to the present embodiment. is there.

まず、図6(a)に示す通り、モジュール基板14を準備する。次に、図6(b)に示す通り、モジュール基板14上に接着剤18を塗布し、接着剤18により固定治具13をモジュール基板14に接着することにより、モジュール基板14上に固定治具13を固定する。固定治具13の断面の形状は、例えばLの字型とし、モジュール基板14と、固定治具13との間には空間45が形成される。   First, as shown in FIG. 6A, a module substrate 14 is prepared. Next, as shown in FIG. 6B, an adhesive 18 is applied onto the module substrate 14, and the fixing jig 13 is adhered to the module substrate 14 with the adhesive 18, thereby fixing the fixing jig onto the module substrate 14. 13 is fixed. The cross-sectional shape of the fixing jig 13 is, for example, an L shape, and a space 45 is formed between the module substrate 14 and the fixing jig 13.

次に、図6(c)に示す通り、モジュール基板14と、固定治具13との間に形成される空間45に、導電性ゴムコネクター12を嵌め込む。図6(d)は、図6(c)において破線Dで示される部分の断面図(拡大断面図)である。図6(d)に示されるように、嵌め込まれた導電性ゴムコネクター12は、その一部が空間45に収まらず露出している(即ち、露出部(導電性ゴムコネクター露出部)46を形成している)。   Next, as shown in FIG. 6C, the conductive rubber connector 12 is fitted into a space 45 formed between the module substrate 14 and the fixing jig 13. FIG. 6D is a cross-sectional view (enlarged cross-sectional view) of a portion indicated by a broken line D in FIG. As shown in FIG. 6D, a part of the fitted conductive rubber connector 12 is not contained in the space 45 and is exposed (that is, an exposed portion (conductive rubber connector exposed portion) 46 is formed). is doing).

次に、半導体装置8が搭載される空間(搭載される空間)47へ向かって(図6(c))へ(Z方向に)半導体装置8を押し込む。これにより、露出部46がX方向へ(空間45の中へ向かって)押し込まれ、露出部46が押し潰された状態で半導体装置8が搭載される(図6(e))。これにより、搭載後の半導体装置8を、X方向に押し込まれた露出部46による圧接で固定出来る(図6(f))。図6(f)は、図6(e)において破線Eで示される部分の断面図(拡大断面図)である。   Next, the semiconductor device 8 is pushed into the space (mounting space) 47 in which the semiconductor device 8 is mounted (FIG. 6C) (in the Z direction). As a result, the exposed portion 46 is pushed in the X direction (into the space 45), and the semiconductor device 8 is mounted with the exposed portion 46 being crushed (FIG. 6E). Thereby, the mounted semiconductor device 8 can be fixed by pressure contact with the exposed portion 46 pushed in the X direction (FIG. 6F). FIG.6 (f) is sectional drawing (enlarged sectional drawing) of the part shown with the broken line E in FIG.6 (e).

以上の示す工程により、モジュール基板14に半導体装置8が搭載され、本実施形態に係る半導体モジュール30が完成する。   Through the steps shown above, the semiconductor device 8 is mounted on the module substrate 14, and the semiconductor module 30 according to the present embodiment is completed.

なお、上記記載では、図2(a)の半導体モジュール30の製造方法を説明したが、図3(a)の半導体モジュール40も同様に製造出来る。即ち、くり抜きモジュール基板15に接着剤18により固定治具13を接着し、導電性ゴムコネクター12を嵌め込み、半導体装置8を押し込む。これにより、くり抜きモジュール基板15に搭載後の半導体装置8も、圧接で固定出来る。   In the above description, the method for manufacturing the semiconductor module 30 of FIG. 2A has been described. However, the semiconductor module 40 of FIG. That is, the fixing jig 13 is adhered to the hollow module substrate 15 with the adhesive 18, the conductive rubber connector 12 is fitted, and the semiconductor device 8 is pushed. Thereby, the semiconductor device 8 after being mounted on the hollow module substrate 15 can also be fixed by pressure contact.

また、本実施形態において、図2(a)の半導体モジュール30から半導体装置8を除いたもの、及び図3(a)の半導体モジュール40から半導体装置8を除いたものは、半導体装置8の動作検査装置(動作検査手段)としても利用可能である。   In this embodiment, the semiconductor module 30 in FIG. 2A excluding the semiconductor device 8 and the semiconductor module 40 in FIG. 3A excluding the semiconductor device 8 are the operations of the semiconductor device 8. It can also be used as an inspection device (operation inspection means).

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope shown in the claims, and embodiments obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. Is also included in the technical scope of the present invention.

本発明の半導体装置は、外部へ信号を出力する為の出力材料を必要としないので、小型・薄型化を目的とした高密度実装の電子機器に好適に用いることが出来る。   Since the semiconductor device of the present invention does not require an output material for outputting a signal to the outside, the semiconductor device can be suitably used for a high-density mounting electronic device for the purpose of downsizing and thinning.

1,1’ 半導体チップ
2 ボンディングワイヤ
3 チップ固定材料(半導体チップ固定材料)
4 ワイヤ固定フレーム
5 封止樹脂(樹脂)
6 除去部
7 ワイヤ断面(ボンディングワイヤの断面)
8,8’ 半導体装置
8a 部分
9 ワイヤ角度
12,22 導電性ゴムコネクター
13,23 固定治具(導電性ゴムコネクター固定手段)
14 モジュール基板
15 くり抜きモジュール基板
16 モジュール基板電極パッド
17 モジュール基板配線
18 接着剤
19,24 絶縁層
20,25 導電層
21 ボンディングパッド
30,40 半導体モジュール
44 保護部材
45 空間(形成される空間)
46 露出部(導電性ゴムコネクター露出部)
47 空間(搭載される空間)
50 切断面
51 開口部
B,C,D,E 破線
D1 間隔
L 破線
W 幅
W’ 幅
p,pL 端子領域
s 端子間スペース
1,1 'semiconductor chip 2 bonding wire 3 chip fixing material (semiconductor chip fixing material)
4 Wire fixing frame 5 Sealing resin (resin)
6 Removal part 7 Wire cross section (cross section of bonding wire)
8, 8 'Semiconductor device 8a Part 9 Wire angle 12, 22 Conductive rubber connector 13, 23 Fixing jig (conductive rubber connector fixing means)
Reference Signs List 14 module board 15 hollow module board 16 module board electrode pad 17 module board wiring 18 adhesive 19, 24 insulating layer 20, 25 conductive layer 21 bonding pad 30, 40 semiconductor module 44 protective member 45 space (space formed)
46 Exposed part (Exposed part of conductive rubber connector)
47 space (space to be installed)
50 Cut surface 51 Opening B, C, D, E Broken line D1 Interval L Broken line W Width W 'Width p, pL Terminal area s Space between terminals

Claims (15)

半導体チップとボンディングワイヤとを備え、上記半導体チップを樹脂で封止してパッケージングされている半導体装置であって、
上記半導体装置の側面で上記ボンディングワイヤの断面が露出していることを特徴とする半導体装置。
A semiconductor device comprising a semiconductor chip and a bonding wire, wherein the semiconductor chip is packaged by sealing with a resin,
A semiconductor device, wherein a cross section of the bonding wire is exposed on a side surface of the semiconductor device.
上記ボンディングワイヤの斜めに立ち上がっている部分が切断され、上記断面の形状が楕円であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a portion of the bonding wire rising obliquely is cut, and the cross-sectional shape is an ellipse. 上記ボンディングワイヤは、金またはアルミを含むことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the bonding wire includes gold or aluminum. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置と、
モジュール基板と、
上記ボンディングワイヤと上記モジュール基板とを接続する導電性ゴムコネクターと、
上記モジュール基板上に固定された導電性ゴムコネクター固定手段とを備え、
上記半導体装置は、上記導電性ゴムコネクター固定手段により固定された上記導電性ゴムコネクターにより圧接されることを特徴とする半導体モジュール。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 3,
A module board;
A conductive rubber connector for connecting the bonding wire and the module substrate;
A conductive rubber connector fixing means fixed on the module substrate,
The semiconductor module, wherein the semiconductor device is pressed by the conductive rubber connector fixed by the conductive rubber connector fixing means.
上記導電性ゴムコネクターは、絶縁層と導電層とが交互に積層された導電性ゴムコネクターであり、
上記導電層と上記ボンディングワイヤとが電気的に接続されることを特徴とする請求項4に記載の半導体モジュール。
The conductive rubber connector is a conductive rubber connector in which insulating layers and conductive layers are alternately laminated,
The semiconductor module according to claim 4, wherein the conductive layer and the bonding wire are electrically connected.
上記導電層の、上記ボンディングワイヤと接する面の幅は、連続して隣り合う2本の上記ボンディングワイヤ間の間隔よりも短いことを特徴とする請求項5に記載の半導体モジュール。   6. The semiconductor module according to claim 5, wherein a width of a surface of the conductive layer in contact with the bonding wire is shorter than an interval between two adjacent bonding wires. 上記絶縁層の幅は、上記断面の幅よりも短いことを特徴とする請求項5に記載の半導体モジュール。   6. The semiconductor module according to claim 5, wherein a width of the insulating layer is shorter than a width of the cross section. 上記導電層及び上記絶縁層は、積層する面の形状が等しい直方体であり、
上記導電性ゴムコネクター固定手段と上記モジュール基板とが形成する空間の、上記積層する面と平行な面の形状は、上記導電性ゴムコネクターの形状に合わせた形状であり、
上記積層する面の形状が長方形であるとともに、上記空間の上記積層する面と平行な面の形状も長方形であることを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
The conductive layer and the insulating layer are cuboids having the same shape of the surface to be laminated,
The shape of the space formed by the conductive rubber connector fixing means and the module substrate and parallel to the surface to be laminated is a shape that matches the shape of the conductive rubber connector,
8. The semiconductor module according to claim 5, wherein a shape of the surface to be stacked is a rectangle, and a shape of a surface parallel to the surface to be stacked in the space is also a rectangle.
上記導電層及び上記絶縁層は、積層する面の形状が等しい三角柱であり、
上記導電性ゴムコネクター固定手段と上記モジュール基板とが形成する空間の、上記積層する面と平行な面の形状は、上記導電性ゴムコネクターの形状に合わせた形状であり、
上記積層する面の形状が三角形であるとともに、上記空間の上記積層する面と平行な面の形状も三角形であることを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
The conductive layer and the insulating layer are triangular prisms having the same shape of the surface to be laminated,
The shape of the space formed by the conductive rubber connector fixing means and the module substrate in a plane parallel to the surface to be laminated is a shape that matches the shape of the conductive rubber connector,
8. The semiconductor module according to claim 5, wherein a shape of the surface to be stacked is a triangle, and a shape of a surface parallel to the surface to be stacked in the space is also a triangle.
上記モジュール基板は、上記半導体装置の外形サイズに予めくり抜いたモジュール基板であることを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に記載の半導体モジュール。   The semiconductor module according to claim 5, wherein the module substrate is a module substrate hollowed out in advance to an outer size of the semiconductor device. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法であって、
上記半導体チップを一時的に固定する半導体チップ固定材料上に、上記ボンディングワイヤを一時的に固定するワイヤ固定フレームを搭載する工程と、
上記半導体チップ固定材料上に、上記半導体チップを搭載する工程と、
上記半導体チップと、上記ワイヤ固定フレームとを、上記ボンディングワイヤにて接続する工程と、
封止樹脂にて封止する工程と、
上記半導体装置になる部分と除去部とを切り分ける工程と、
上記半導体装置になる部分において上記半導体チップの底面に貼り付いている上記チップ固定材料を除去する工程とを含む半導体装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the semiconductor device according to any one of claims 1 to 3,
Mounting a wire fixing frame for temporarily fixing the bonding wire on a semiconductor chip fixing material for temporarily fixing the semiconductor chip;
Mounting the semiconductor chip on the semiconductor chip fixing material;
Connecting the semiconductor chip and the wire fixing frame with the bonding wires;
A step of sealing with a sealing resin;
Separating the portion to be the semiconductor device and the removal portion;
Removing the chip fixing material attached to the bottom surface of the semiconductor chip at a portion to become the semiconductor device.
上記ワイヤ固定フレームは、格子状であり、
上記半導体チップは、上記格子の中に収められて上記半導体チップ固定材料上に搭載されることを特徴とする請求項11に記載の半導体装置の製造方法。
The wire fixing frame has a lattice shape,
12. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 11, wherein the semiconductor chip is housed in the lattice and mounted on the semiconductor chip fixing material.
上記半導体チップ固定材料は、カプトンテープであることを特徴とする請求項11または12に記載の半導体装置の製造方法。   The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 11, wherein the semiconductor chip fixing material is a Kapton tape. 上記ワイヤ固定フレームは、金またはアルミを含むことを特徴とする請求項11〜13のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。   The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 11, wherein the wire fixing frame includes gold or aluminum. 請求項4〜10のいずれか1項に記載の半導体モジュールの製造方法であって、
上記モジュール基板上に上記導電性ゴムコネクター固定手段を固定する工程と、
上記モジュール基板上と上記導電性ゴムコネクター固定手段との間に形成される空間に上記導電性ゴムコネクターを嵌め込み、導電性ゴムコネクター露出部を形成する工程と、
上記半導体装置が搭載される空間へ向かって上記半導体装置を押し込む工程とを含むことを特徴とする半導体モジュールの製造方法。
It is a manufacturing method of the semiconductor module of any one of Claims 4-10,
Fixing the conductive rubber connector fixing means on the module substrate;
Fitting the conductive rubber connector into a space formed between the module substrate and the conductive rubber connector fixing means to form a conductive rubber connector exposed portion;
And a step of pushing the semiconductor device into a space in which the semiconductor device is mounted.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2017038913A1 (en) * 2015-09-01 2017-03-09 リンテック株式会社 Adhesive sheet and method for producing semiconductor device
JP7414878B2 (en) 2022-04-04 2024-01-16 三菱電機株式会社 power converter

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