JP2010204236A - Method of manufacturing electrooptical device, and electrooptical device - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 188
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims abstract description 110
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 41
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 62
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 48
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 32
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 22
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 18
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 14
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 14
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000382 optic material Substances 0.000 claims description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 49
- 230000008569 process Effects 0.000 description 46
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 25
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 18
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 18
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920006125 amorphous polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 229920001875 Ebonite Polymers 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 aluminum quinolinol Chemical compound 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012508 resin bead Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
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- Liquid Crystal (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
本発明は、電気光学装置の製造方法、および当該製造方法により製造された電気光学装置に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an electro-optical device and an electro-optical device manufactured by the manufacturing method.
液晶や、有機EL(Electro Luminescence)などの電気光学物質を用いた電気光学装置を製造する場合、製造効率を高めるために、当該電気光学装置が複数個面付けされた大判基板の状態で略完成状態まで製造し、その後、個別の電気光学装置を切り出す方法が採用されていた。 When manufacturing an electro-optical device using an electro-optical material such as liquid crystal or organic EL (Electro Luminescence), in order to increase manufacturing efficiency, the electro-optical device is substantially completed in the state of a large-sized substrate with a plurality of surfaces mounted. The method of manufacturing to a state and then cutting out individual electro-optical devices has been adopted.
図11(a),(b)は従来の電気光学装置における大判基板の平面図である。
図11(a)は、複数の液晶パネル(液晶表示装置)400が面付けされた大判基板450の拡大平面図であり、図面に正対して横方向(X軸方向)に液晶パネル400が2つ配列された様子が示されている。大判基板450は、略同じ大きさの2枚の基板を貼り合せて形成されており、表裏となる2枚の基板間には、シール材5で区画された領域内に液晶が封入された表示領域6が形成されていた。
例えば、図11(a)の大判基板450では、隣り合う液晶パネル400間には、シール材5が形成されていない間隙Gが設けられており、縦方向(Y軸方向)に液晶パネル400を切断する際には、間隙G間の中央の破線で示されたスクライブラインs1に沿って切断していた。また、横方向においても、シール材5が形成されていない間隙Gに形成されたスクライブラインs2に沿って切断していた。
FIGS. 11A and 11B are plan views of a large substrate in a conventional electro-optical device.
FIG. 11A is an enlarged plan view of a large-sized
For example, in the
つまり、切り出された液晶パネル400の周縁部にシール材が露出しない位置で、各パネルを切り分けていたが、この方法では、以下のような問題があった。
まず、間隙Gを設ける構成であるため、当該間隙分、表示領域6を囲む額縁のサイズが大きくなってしまい、液晶パネルの外形サイズが大きくなってしまうという問題があった。換言すれば、狭額縁化が困難であるという問題があった。
また、端子部8の両隣りに、シール材5が充填されておらず、かつ、2枚の基板で囲まれた空洞部405(ハッチングで示した部分)が形成されてしまうという問題があった。この空洞部405があると、例えば、液晶パネルの洗浄工程などで洗浄液が溜まり易く、滞留した洗浄液によって、端子部8が劣化してしまうという問題があった。さらに、空洞部405に浸入した洗浄液などは、乾燥し難いため、乾燥工程に時間を要してしまうという問題もあった。
That is, each panel is cut at a position where the sealing material is not exposed at the peripheral edge of the cut-out
First, since the gap G is provided, there is a problem that the frame size surrounding the
In addition, there is a problem in that the sealing
特許文献1には、上記問題を解決するための一つの技術的思想が開示されている。
図11(b)は、当該文献の製造方法に係る大判基板460の平面図であり、図11(a)に対応している。
この製造方法では、隣り合う液晶パネル410におけるシール材5を2つの表示領域6に跨って共通に形成した後、当該共通のシール材5に重なる位置にスクライブラインs1を形成している。換言すれば、隣り合う表示領域6間に間隙Gを設けずに、両者に跨る共通のシール材5の部分を切断するという方法である。当該文献では、これにより、液晶パネルの幅L2を、図11(a)の幅L1よりも短くすることが可能であり、さらに、空洞部405が形成されないとしている。
FIG.11 (b) is a top view of the large format board |
In this manufacturing method, the
しかしながら、特許文献1(従来)の製造方法では、以下の理由からシール材の部分を切断することは困難であると考察される。
まず、シール材を挟持した2枚のガラス基板をシール材の部分で切断する場合、シール材とガラス基板との硬度差が大きすぎると、ガラス基板が切断されても、シール材は切断されない状況が想定されるが、当該文献には、シール材の硬度に関する記載は元より、材質(種類)に関する記載すら見当たらない。特に、当該文献によれば、2枚のガラス基板のいずれか一方にスクライブラインを形成した後、ブレイク装置によって衝撃を加えて分断(切断)を行うと記載されているが、仮に、一般的な樹脂によるシール材が用いられていた場合には、上記硬度差からして、スクライブラインから成長したガラス基板の亀裂を、樹脂製のシール材に連続して生じさせることは困難であると考察される。
つまり、当該製造方法では、大判基板460からシール材5の部分を切断して液晶パネル410を切り出すことは困難であるという課題があった。換言すれば、上記問題を解決することは困難であるという課題があった。
However, in the manufacturing method of Patent Document 1 (conventional), it is considered that it is difficult to cut the sealing material portion for the following reason.
First, when two glass substrates sandwiching a sealing material are cut at a portion of the sealing material, if the hardness difference between the sealing material and the glass substrate is too large, the sealing material is not cut even if the glass substrate is cut. However, in this document, the description regarding the hardness of the sealing material is not found, and the description regarding the material (type) is not found. In particular, according to the document, it is described that after a scribe line is formed on one of two glass substrates, an impact is applied by a break device to perform cutting (cutting). When a sealing material made of resin is used, it is considered difficult to cause cracks in the glass substrate that has grown from the scribe line to occur continuously in the sealing material made of resin because of the above hardness difference. The
That is, the manufacturing method has a problem that it is difficult to cut out the
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。 SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following application examples or forms.
(適用例)
対向する2枚の基板と、2枚の基板間において電気光学物質を挟持した表示領域と、表示領域を区画するシール材とを含んで構成された電気光学装置を、1つ以上の電気光学装置が面付けされた大判基板から切り出すための製造方法であって、大判基板を冷却する冷却工程と、大判基板における2枚の基板のうち、少なくとも一方の基板にスクライブラインを形成する罫書き工程と、スクライブラインに沿って加圧することにより、大判基板を切断する切断工程と、を含み、スクライブラインの一部がシール材と重なって形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
(Application example)
One or more electro-optical devices including an electro-optical device including two opposing substrates, a display region in which an electro-optical material is sandwiched between the two substrates, and a seal material that partitions the display region Is a manufacturing method for cutting out a large-sized substrate having an imprinted surface, a cooling step for cooling the large-sized substrate, and a scribing step for forming a scribe line on at least one of the two substrates in the large-sized substrate; And a cutting step of cutting the large-sized substrate by applying pressure along the scribe line, and a part of the scribe line is formed so as to overlap the sealing material.
この製造方法によれば、冷却工程において大判基板を冷却した後に、シール材と重なった部分に形成されたスクライブラインに沿って電気光学装置を切り出すことになる。
よって、例えば、基板の材質が無機ガラスで、シール材の材質が樹脂であった場合において、冷却工程で冷却することにより、基板の硬度、およびシール材の硬度が常温下における硬度よりも高くなっているため、スクライブラインに沿って成長したガラス基板の亀裂を、シール材に連続して生じさせることが可能となる。換言すれば、低温になって硬くなるとともに脆くなった状態で、切断工程を行うことにより、常温下では困難であった切断を可能とすることができる。
従って、大判基板からシール材の部分を切断して表示パネルを切り出すことが可能な電気光学装置の製造方法を提供することができる。さらに、これによって、背景技術で説明した問題も解決することができる。
According to this manufacturing method, after the large substrate is cooled in the cooling step, the electro-optical device is cut out along the scribe line formed in the portion overlapping the sealing material.
Therefore, for example, when the substrate material is inorganic glass and the sealing material is resin, the substrate hardness and the sealing material hardness are higher than those at room temperature by cooling in the cooling step. Therefore, it becomes possible to cause the crack of the glass substrate grown along the scribe line to continuously occur in the sealing material. In other words, by performing the cutting process in a state of becoming hard and fragile at a low temperature, cutting that was difficult at room temperature can be performed.
Accordingly, it is possible to provide a method for manufacturing an electro-optical device that can cut a portion of a sealing material from a large-sized substrate and cut out a display panel. This also solves the problems described in the background art.
また、基板の材質は、無機ガラスであり、シール材は、一方の基板に液状のシール原料を塗布した後、シール原料を硬化して形成された樹脂からなり、冷却工程における冷却温度は、シール原料の融点以下の温度であることが好ましい。
また、電気光学物質は、有機発光物質を含む有機EL材料であり、表示領域において、有機EL材料は、充填材によって覆われてなり、充填材は、有機EL材料を覆うように液状の充填材原料を塗布した後、充填材原料を硬化して形成された樹脂からなり、冷却温度は、シール原料の融点以下の温度であり、かつ、充填材原料の融点よりも高い温度であることが好ましい。
また、冷却温度は、−10℃〜−35℃の範囲内の温度であることが好ましい。
また、罫書き工程において、スクライブラインは、他方の基板にも形成されてなり、他方の基板におけるスクライブラインは、平面視において一方の基板に形成されたスクライブラインと重なるように形成されることが好ましい。
In addition, the material of the substrate is inorganic glass, and the sealing material is made of a resin formed by applying a liquid sealing material to one of the substrates and then curing the sealing material. The temperature is preferably not higher than the melting point of the raw material.
The electro-optical material is an organic EL material containing an organic light emitting material. In the display region, the organic EL material is covered with a filler, and the filler is a liquid filler so as to cover the organic EL material. It consists of a resin formed by curing the filler material after applying the material, and the cooling temperature is preferably a temperature lower than the melting point of the seal material and higher than the melting point of the filler material. .
Moreover, it is preferable that cooling temperature is the temperature within the range of -10 degreeC--35 degreeC.
In the scoring process, the scribe line may be formed on the other substrate, and the scribe line on the other substrate may be formed so as to overlap with the scribe line formed on the one substrate in plan view. preferable.
また、切断工程において、大判基板がセットされるテーブルには、スクライブラインと重なる部分が間隙となり、スクライブラインを挟んだ両側が支点となるような、凹形状が形成されてなり、加圧は、大判基板に対して間隙の反対側の面から圧力を加えることが好ましい。
また、大判基板には、複数個の電気光学装置が面付けされてなり、隣り合う電気光学装置間には、2つの表示領域に跨る共通のシール材が設けられており、罫書き工程では、少なくともその一部が共通のシール材に重なるようにスクライブラインを形成することが好ましい。
また、冷却工程から、切断工程までの各工程が、冷却工程における温度環境と略同じ温度環境下で行われることが好ましい。
In the cutting process, the table on which the large-sized substrate is set is formed with a concave shape such that the portion overlapping the scribe line becomes a gap, and both sides sandwiching the scribe line become fulcrums. It is preferable to apply pressure to the large substrate from the surface opposite to the gap.
In addition, a large-sized substrate is provided with a plurality of electro-optical devices, and a common sealing material is provided between two adjacent electro-optical devices over two display areas. It is preferable to form the scribe line so that at least a part thereof overlaps the common sealing material.
Moreover, it is preferable that each process from a cooling process to a cutting process is performed under the temperature environment substantially the same as the temperature environment in a cooling process.
また、シール原料には、ビーズ状のスペーサーが添加されていることが好ましい。
また、基板は、無アルカリガラスであり、シール原料は、エポキシ樹脂を含有した紫外線硬化型の液状原料であり、充填材原料は、熱硬化型の透明な液状原料であることが好ましい。
また、表示領域は、略長方形をなし、長方形における一辺には、端子部が形成され、共通のシール材は、少なくとも一辺と隣り合う2つの辺に形成されていることが好ましい。
Moreover, it is preferable that a bead-like spacer is added to the sealing material.
Further, the substrate is preferably alkali-free glass, the sealing material is an ultraviolet curable liquid material containing an epoxy resin, and the filler material is preferably a thermosetting transparent liquid material.
In addition, the display area is preferably substantially rectangular, and a terminal portion is formed on one side of the rectangle, and the common sealing material is preferably formed on at least two sides adjacent to one side.
上記記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする電気光学装置。 An electro-optical device manufactured by the manufacturing method described above.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scales are different for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing.
(実施形態1)
「表示パネルの製造方法(概要)」
図1は、本実施形態に係る大判基板の一態様を示す平面図である。図2は、表示パネルの一態様を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態1に係る電気光学装置の製造方法の概要について、図1および図2を用いて説明する。なお、図11と同一の構成部位については、同一の番号を附している。
(Embodiment 1)
"Display Panel Manufacturing Method (Overview)"
FIG. 1 is a plan view showing an aspect of a large-sized substrate according to the present embodiment. FIG. 2 is a perspective view illustrating one embodiment of the display panel.
First, an outline of a method for manufacturing an electro-optical device according to
大判基板150には、電気光学装置としての表示パネル100が4つ面付けされている。長方形状をなした表示パネル100は、大判基板150においてX軸方向に2列、Y軸方向に2行の行列をなして配置されている。なお、ここでは説明を容易にするために、2行2列の事例を用いて説明するが、面付け数はいくつであっても良い。
大判基板150は、厚さ方向(Z軸方向)に2枚の大判基板を重ねた構成となっており、各表示パネル100は、シール材5で区画されている。詳しくは、各表示パネル100においてシール材5で囲まれた領域は、電気光学物質が封入された表示領域6となっている。
また、各表示パネル100には、外部との電気的接続を取るための複数の端子が形成された端子部8がそれぞれ形成されている。
Four
The large-
Further, each
図1の場合、紙面に向って上段(Y軸(+)側)の行における表示パネル100は上方に端子部8が形成されており、下段(Y軸(−)側)の行における表示パネル100は下方に端子部8が形成されている。
換言すれば、上段と下段の表示パネル100は、端子部8の反対側の辺同士を向い合わせて配置されている。また、当該間には、共通のシール材5cが配置されており、その幅は、例えば、端子部8に沿った辺におけるシール材5の幅wの約2倍(幅2w)に設定されている。また、上段において隣り合う2つの表示領域6の間にも、共通のシール材5cが配置されており、その幅は、約幅2wに設定されている。
つまり、隣り合う2つの表示領域6の間には共通のシール材5cが配置され、シール材5cの幅は、その他の部分(例えば、端子部8に沿った辺)におけるシール材5の幅よりも広く(概ね2倍に)設定されている。なお、シール材5の幅wは、好適例として約0.8〜1.6mmに設定されている。
In the case of FIG. 1, the
In other words, the upper and
That is, a
ここで、本実施形態における製造方法は、このような大判基板150から図2に示すような単品の表示パネル100を切り出す際に、大判基板150を冷却した状態で、共通のシール材5cと重なる部分を切断することを特徴の一つとしている。
図1には、この際の切断位置が示されている。縦方向(Y軸方向)における切断位置は、スクライブライン(切断線)B11〜B13となる。このうち、スクライブラインB12は、共通のシール材5cの略中央に形成される。
また、横方向(X軸方向)における切断位置は、スクライブラインB21〜B23となる。このうち、スクライブラインB22は、共通のシール材5cの略中央に形成される。
なお、図1の場合、縦横方向における共通のシール材5cはそれぞれ1本ずつであるが、表示パネル100の面取り数が増えれば、複数本形成されることになる。
仔細は後述するが、大判基板150から、各スクライブラインに沿って、表裏の2枚の基板、または表側の基板(CF基板)のみを切断することによって、図2の表示パネル100が切り出される。
Here, the manufacturing method according to the present embodiment overlaps the
FIG. 1 shows the cutting position at this time. Cutting positions in the vertical direction (Y-axis direction) are scribe lines (cutting lines) B11 to B13. Among these, scribe line B12 is formed in the approximate center of the
Further, the cutting positions in the lateral direction (X-axis direction) are scribe lines B21 to B23. Among these, scribe line B22 is formed in the approximate center of the
In the case of FIG. 1, there is one
As will be described later, the
「表示パネルの構成」
表示パネル100は、素子基板1、CF(Color Filter)基板30、シール材5などから構成されている。
表示パネル100は、素子基板1とCF基板30との間に、電気光学物質として有機EL材料を挟持した有機ELパネルである。また、有機EL材料は、平面的には、シール材5に囲まれた領域内に配置されており、当該領域が表示領域6となっている。
表示領域6には、複数の画素がマトリックス状に配置されている。詳しくは、赤色、緑色、青色の3色の画素が、周期的に配列されている。
表示パネル100は、これらの画素が放つ光をCF基板30側から出射するトップエミッション型の有機ELパネルである。
"Display Panel Configuration"
The
The
In the
The
素子基板1には、その一辺がCF基板30の外形から張出した張出し領域が形成されており、張出し領域には、端子部8が形成されている。このため、当該領域を切り出す際には、図1におけるスクライブラインB21,B23を大判のCF基板30側に形成し、張出し領域に被さる部分のCF基板30のみを切り取ることになる。
また、前述した通り、端子部8が形成された一辺に隣り合う2つの辺、および当該一辺の反対側の辺では、共通のシール材5c部と重なる部分を切断しているため、側面(切断面)にシール材5が露出した状態となっている。換言すれば、張出し領域におけるシール材以外の連続する3辺においては、平面視における表示パネル100の外形と、シール材5の形状とが略一致している。
In the
In addition, as described above, the two sides adjacent to one side where the
図3は、図2のp−p断面における表示パネルの断面図である。
表示パネル100は、素子基板1、素子層3、平坦化層9、画素電極10、EL層15、共通電極17、電極保護層19、緩衝層20、ガスバリア層22、充填材23、CF基板30などから構成されている。
素子基板1は、透明な無機ガラスから構成されている。好適には、厚さが0.3〜0.7mm程度の無アルカリガラスを用いる。
素子層3には、各画素をアクティブ駆動するための画素回路が形成されている。画素回路には、TFT(Thin Film Transistor)からなる画素を選択するための選択トランジスターや、EL層15に電流を流すための駆動トランジスターなどが含まれており、画素ごとに対応して形成されている。
3 is a cross-sectional view of the display panel taken along the line pp of FIG.
The
The
In the element layer 3, a pixel circuit for actively driving each pixel is formed. The pixel circuit includes a selection transistor for selecting a pixel made of a TFT (Thin Film Transistor), a driving transistor for flowing a current through the
素子層3の上層(Z軸(−)方向)には、平坦化層9と、画素電極10とがこの順番で積層されている。
画素電極10は、ITO(Indium Tin Oxide)や、ZnOなどの透明電極から構成されており、画素ごとに素子層3の駆動トランジスターTRのドレイン端子と平坦化層9を貫通するコンタクトホールにより接続されている。
また、樹脂などの透明な絶縁材料から構成される平坦化層9内には、画素電極10と重なるようにAlやAg、またはそれらの合金などから構成された薄膜の反射層26が形成されている。
隔壁12は、光硬化性の黒色樹脂などから構成され、各画素を格子状に区画している。
On the upper layer (the Z-axis (−) direction) of the element layer 3, the
The
Further, in the
The partition 12 is made of a photocurable black resin or the like, and partitions each pixel in a lattice shape.
EL層15は、図3においては一層の構成となっているが、実際は、正孔輸送層、発光層、電子注入層などから構成されており、画素電極10上にこの順番に積層されている。
正孔輸送層は、芳香族ジアミン(TPAB2Me−TPD,α−NPD)などの昇華性の材料から構成されており、電流が流れると白色光を放射する。
発光層は、RGBの画素ごとに組成は異なるが、Alq3(アルミキノリノール錯体)などの昇華性の材料から構成されている。
電子注入層は、LiF(フッ化リチウム)などから構成されている。
Although the
The hole transport layer is made of a sublimable material such as aromatic diamine (TPAB2Me-TPD, α-NPD), and emits white light when an electric current flows.
The light emitting layer is composed of a sublimable material such as Alq 3 (aluminum quinolinol complex), although the composition differs for each RGB pixel.
The electron injection layer is made of LiF (lithium fluoride) or the like.
共通電極17は、MgAgなどの金属を、光を透過するようにごく薄く成膜した金属薄膜層である。
電極保護層19は、SiO2や、Si3N4などの透明で、かつ、水分を遮断する機能を有する材質から構成されている。
緩衝層20は、熱硬化性のエポキシ樹脂などの透明な有機緩衝層である。
ガスバリア層22は、SiO2や、Si3N4などの透明で、かつ、水分を遮断する機能を有する封止層であり、EL層15への水分の浸入を防止する機能を担う。
充填材23は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂などからなる透明な接着層であり、ガスバリア層22とCF基板30との間の凹凸面に充填されるとともに、両者を接着する。また、外部から、EL層15への水分の浸入を防ぐ機能も果たす。
The
The electrode
The
The
The
CF基板30は、素子基板1と同様な無機ガラスから構成されており、EL層15側にはCF層24が形成されている。
CF層24には、赤色カラーフィルター25R、緑色カラーフィルター25G、青色カラーフィルター25Bが画素配置と同様に配置されている。詳しくは、各色のカラーフィルターは、画素電極10と重なるように配置されており、各カラーフィルター間には、ハッチングで示した遮光部が形成されている。平面視において遮光部は、隔壁12と重なるように格子状に形成されており、光学的には、ブラックマトリックスの機能を果たす。
このように構成された表示パネル100の一つの画素は、図3の左側において点線で囲まれた、反射層26から赤色カラーフィルター25Rまでの積層構造から構成される。
この赤色画素の場合、EL層15で放射された白色光のうち、赤色カラーフィルター25R側に進む光は、当該カラーフィルターを透過して赤色の光となってCF基板30から出射される。また、反射層26側へ進む光は、反射層26で反射された後、EL層15を透過し、赤色カラーフィルター25Rを透過して赤色の光となってCF基板30から出射される。なお、緑色、青色の画素においても同様である。
The
In the
One pixel of the
In the case of this red pixel, of the white light emitted from the
「シール材、および充填材の材質について」
ここで、後述する冷却工程において、重要な役割りを担うシール材5、および充填材23の特性について詳しく説明する。
なお、図3においては、EL層15を含む各層の積層構造を明確にするために、積層構造部を拡大して描写している。実際は、当該層の厚さは、合計でも5〜100μm程度である。換言すれば、シール材5の厚さも、当該寸法と同一となる。
シール材5としては、紫外線硬化型の接着剤が好ましい。詳しくは、後述の冷却工程における温度条件で、その硬度が常温下での硬度よりも高くなり、無機ガラスの硬度に近づく材料であれば良い。
“Seal materials and filler materials”
Here, the characteristics of the sealing
In FIG. 3, the laminated structure portion is illustrated in an enlarged manner in order to clarify the laminated structure of each layer including the
As the sealing
本実施形態では、好適例としてエポキシ樹脂系の紫外線硬化型の接着剤を用いている。当該接着剤は、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂、光重合開始剤、シランカップリング剤などを含んでおり、常温(20±15℃)下では、液体である。なお、このシール材5の液状原料のことを、シール原料という。
このようなシール原料は、シール原料の状態では結晶性ポリマーに近い特性を示し、例えば、約−10℃の融点を有する。また、紫外線照射によって硬化した後は、非晶性ポリマーに近い特性を示す。
本実施形態では、好適例として、積水化学工業(株)製のフォトレック(登録商標)をシール原料として用いている。
In this embodiment, an epoxy resin-based ultraviolet curable adhesive is used as a suitable example. The adhesive contains, for example, a bisphenol type epoxy resin, a photopolymerization initiator, a silane coupling agent, and the like, and is a liquid at normal temperature (20 ± 15 ° C.). The liquid raw material of the sealing
Such a sealing raw material exhibits characteristics close to a crystalline polymer in the state of the sealing raw material, and has a melting point of about −10 ° C., for example. In addition, after curing by ultraviolet irradiation, it exhibits characteristics close to an amorphous polymer.
In this embodiment, as a suitable example, Sekisui Chemical Co., Ltd. Photorec (registered trademark) is used as a sealing material.
充填材23は、表示領域6全域において、EL層15を含む各層を覆っているため、冷却工程の低温環境下における収縮により、表示パネル100を反らせてしまう恐れがある。このため、充填材23には、透明性および接着性に加えて、熱膨張係数が小さいことが要求される。
本実施形態では、好適例として熱硬化型のエポキシ系接着剤を用いている。また、当該接着剤は、常温下では液体であり、この液状原料のことを、充填材原料という。
このような充填材原料は、当該原料の状態では結晶性ポリマーに近い特性を示し、例えば、約−40℃の融点を有する。また、加熱によって硬化した後は、非晶性ポリマーに近い特性を示す。
Since the
In this embodiment, a thermosetting epoxy adhesive is used as a suitable example. Further, the adhesive is a liquid at normal temperature, and this liquid raw material is referred to as a filler raw material.
Such a filler material exhibits characteristics close to a crystalline polymer in the state of the material, and has a melting point of about −40 ° C., for example. Further, after being cured by heating, it exhibits characteristics close to an amorphous polymer.
「表示パネルの製造方法(詳細)」
図4は、表示パネルの製造方法の流れを示すフローチャートである。図5(a)はシール材の塗布工程を示す図であり、(b)は充填材の塗布工程、および基板貼り合せ工程を示す図である。
ここでは、表示パネルの製造方法について、図4のフローチャートに沿って詳細に説明する。
"Display Panel Manufacturing Method (Details)"
FIG. 4 is a flowchart showing the flow of the manufacturing method of the display panel. FIG. 5A is a diagram showing a sealing material application process, and FIG. 5B is a diagram showing a filler application process and a substrate bonding process.
Here, the manufacturing method of the display panel will be described in detail along the flowchart of FIG.
ステップS1では、大判のCF基板30aにシール原料を塗布した後、紫外線を照射してシール材5を半硬化する。
シール原料は、例えば、塗布位置、および塗布量の管理が可能なディスペンサー装置によって図5(a)に示すように格子状に塗布される。なお、塗布位置、および塗布量の制御が可能であれば、例えば、スクリーン印刷法などの他の塗布方法であっても良い。なお、共通のシール材5c部については、例えば、外周における幅wのシール材を塗布するノズルを用いて、平行に隣接させて2回塗布することにより形成する。
そして、シール原料を塗布した後、紫外線を所定の条件で照射する。この所定の条件は、シール材5自体が流れず、かつ、後述する充填材を保持可能な程度に硬化するための紫外線強度、および照射時間に設定されている。
In step S1, a sealing material is applied to a
The seal raw material is applied in a lattice shape as shown in FIG. 5A, for example, by a dispenser device capable of managing the application position and the application amount. In addition, as long as the application position and the application amount can be controlled, other application methods such as a screen printing method may be used. In addition, about the
And after apply | coating a sealing raw material, an ultraviolet-ray is irradiated on predetermined conditions. The predetermined conditions are set to an ultraviolet intensity and an irradiation time for curing the
ステップS2では、大判のCF基板30aに充填材原料23aを塗布した後、大判の素子基板1aを貼り合せる。なお、図5(b)では、充填材原料23aを液滴状に示しているが、シール材5によって区画された領域(表示領域)内において、略均一な厚さとなるように塗布される。また、ステップS1およびS2は、異物の付着や気泡の発生を低減するために減圧されたクリーン室環境下で行われることが好ましい。
また、大判の素子基板1aのシール材側の面には、この段階において図3で説明したEL層15を含む積層構造が既に形成されている。
ステップS3では、貼り合わされた大判基板を加熱し充填材を硬化させる。加熱条件は、例えば、80〜120℃の温度環境で約4時間に設定されている。なお、この加熱によってシール材5の硬化も促進されるが、同時に紫外線を照射しても良い。
ステップS1〜S3までの工程により、図1の大判基板150が完成する。
In step S2, after applying the
Further, at this stage, the laminated structure including the
In step S3, the bonded large substrate is heated to cure the filler. The heating conditions are set to about 4 hours in a temperature environment of 80 to 120 ° C., for example. In addition, although hardening of the sealing
The large-
図6(a)はスクライブ装置の概要図であり、(b)はカッター部の拡大図である。
ステップS4では、大判基板を常温まで一次冷却する。詳しくは、大判基板を冷却プレートの上に載せて約10分間冷却する。冷却プレートの内部には、水が巡回するための配管が設けられているため、約10分で大判基板を常温に戻すことができる。
ステップS5では、大判基板を所定の温度まで二次冷却する。なお、大判基板を二次冷却する必要がある工程は、ブレイク工程(S7,S9)のみであるが、本実施形態の工程フローでは、スクライブ工程とブレイク工程とが交互に行われるため、これらの4つの工程全てを所定の温度に設定された恒温室内にて行うことにより、ステップS5の二次冷却工程としている。
また、二次冷却における所定の温度は、常温よりも低い5℃以下に設定されている。詳しくは、5℃以下で、かつ−40℃以上の温度である。また、−10℃以下で、かつ−30℃以上の低温環境であることがより好ましい。本実施形態では、好適例として−10℃としている。
FIG. 6A is a schematic diagram of the scribe device, and FIG. 6B is an enlarged view of the cutter unit.
In step S4, the large substrate is primarily cooled to room temperature. Specifically, the large substrate is placed on a cooling plate and cooled for about 10 minutes. Since a pipe for circulating water is provided inside the cooling plate, the large-sized substrate can be returned to room temperature in about 10 minutes.
In step S5, the large substrate is secondarily cooled to a predetermined temperature. In addition, although the process which needs to carry out secondary cooling of the large-sized board | substrate is only a breaking process (S7, S9), in the process flow of this embodiment, since a scribe process and a breaking process are performed alternately, these processes are performed. By performing all four processes in a temperature-controlled room set at a predetermined temperature, the secondary cooling process in step S5 is performed.
Moreover, the predetermined temperature in secondary cooling is set to 5 degrees C or less lower than normal temperature. Specifically, the temperature is 5 ° C. or lower and −40 ° C. or higher. Moreover, it is more preferable that it is a low temperature environment of -10 degrees C or less and -30 degrees C or more. In this embodiment, it is set as -10 degreeC as a suitable example.
ステップS6では、図6(a)に示すように、大判基板150をスクライブ装置200に搭載し、大判の素子基板1a側にスクライブライン(罫書き線)を入れる(第1スクライブ工程)。
詳しくは、スクライブ装置200のテーブル210上に大判の素子基板1a側が上になるようにセットし、先端に回転刃221を備えた罫書き部220により押圧しながら、スクライブラインを形成する。テーブル210は、X軸方向、およびY軸方向に移動可能であり、さらに、回転矢印で示すように、その中央部を中心にして旋回可能に設けられている。罫書き部220は、Z軸方向に移動可能に設けられており、白抜きの矢印で示すように、大判基板にスクライブラインを入れるための押圧を加えることが可能に設けられている。つまり、テーブル210により、大判基板150を罫書き部220に対して相対移動させることにより、スクライブラインを形成する。
In step S6, as shown in FIG. 6A, the
Specifically, the
図6(a)は、図1におけるX軸方向のスクライブラインB22を形成している状態を示しており、当該ラインの形成後、テーブル210を90°回して、Y軸方向のスクライブラインB11〜B13を形成する。
図6(b)は、(a)において罫書き部220をX軸方向から観察した様子を示している。超鋼などの切削ホイールからなる回転刃221には、周縁部にエッヂが形成されていおり、その角度θは、例えば、115°〜125°に設定されている。
また、押圧は、例えば、0.05〜0.18Mpに設定されており、切り込み深さdが、例えば、0.09〜0.18mmとなるような条件設定がなされている。
FIG. 6A shows a state in which a scribe line B22 in the X-axis direction in FIG. 1 is formed. After the formation of the line, the table 210 is turned 90 ° to scribe lines B11 to B11 in the Y-axis direction. B13 is formed.
FIG. 6B shows a state in which the ruled
Further, the pressing is set to, for example, 0.05 to 0.18 Mp, and the condition is set such that the cutting depth d is, for example, 0.09 to 0.18 mm.
図7は、ブレイク装置の概要を示す斜視図である。図8(a)は、ブレイク時の拡大図である。
ステップS7では、図7に示すように、大判基板150をブレイク装置250に搭載し、大判の素子基板1a側のみを切断する(第1ブレイク工程)。
詳しくは、ブレイク装置250のテーブル260上に大判のCF基板30a側が上になるようにセットし、スクライブラインに沿って延在するブレイクバー270により押圧することにより、大判の素子基板1a側のみを分断する。
FIG. 7 is a perspective view showing an outline of the breaking device. FIG. 8A is an enlarged view at the time of a break.
In step S7, as shown in FIG. 7, the
Specifically, by setting the
テーブル260は、X軸方向、およびY軸方向に移動可能であり、さらに、回転矢印で示すように、その中央部を中心にして旋回可能に設けられている。また、ブレイクバー270は、ボールねじなどを含む伝達部275を介して、駆動モータ278と連結されており、当該モータの回転運動が伝達部275によりZ軸方向にブレイクバーを押し下げる力に変換され、当該押圧力により大判基板150を押付ける。
また、駆動モータとしては、サーボモータ、パルスモータ、リニアモータなどの回転速度を精密に制御可能なモータを使用しているため、例えば、エアシリンダーを用いて押圧を制御する装置に比べて、より押圧を精度良く制御することができる。さらに、エアシリンダーを用いた装置の場合、ブレイクバーの動きが急激(衝撃的)なものとなってしまうのに対し、駆動モータを用いた装置によれば、必要な押圧力を確保するとともに、下降速度を一定に保つ(安定させる)ことができる。
The table 260 is movable in the X-axis direction and the Y-axis direction, and is provided so as to be able to turn around its central portion as indicated by a rotation arrow. The
In addition, as the drive motor, since a motor capable of precisely controlling the rotation speed, such as a servo motor, a pulse motor, or a linear motor, is used, for example, compared to a device that controls the press using an air cylinder. The pressing can be controlled with high accuracy. Furthermore, in the case of a device using an air cylinder, the movement of the break bar becomes abrupt (impact), whereas the device using a drive motor ensures the necessary pressing force, The descending speed can be kept constant (stabilized).
図8(a)は、ブレイク装置250によりスクライブラインB22に沿って大判の素子基板1aを切断するときの様子を、図7のX軸方向から観察した拡大図である。
テーブル260は、ステンレスや、アルミなどの金属製の台座261上に、ゴムなどの弾性体262を貼り付けた構成となっている。また、弾性体262の上に、さらにステンレスなどの金属板を設けた構成であっても良い。
また、ブレイクバー270は、金属製の支持棒271の先端に硬質ゴムなどの弾性体からなる押圧体272を取り付けた構成となっている。図8(a)に示すように、押圧体272の断面は、略三角形をなしており、大判基板150側の頂点には丸み(先端R)が設けられている。
スクライブラインB22に沿って大判の素子基板1aを分断する場合には、当該ラインがブレイクバー270における押圧体272の先端Rの直下に位置するように、換言すれば、スクライブラインと先端Rの延在方向とが重なるようにテーブル260が移動する。
そして、ブレイクバー270が降下し、大判のCF基板30aを押圧することにより、押圧体272の先端Rを支点とした応力が発生し、スクライブラインB22の三角形の切れ込み形状から亀裂が生じ、破線で示すように、当該三角形の頂点から、先端Rに向って大判の素子基板1aが割れることになる。
FIG. 8A is an enlarged view of the state when the large-
The table 260 has a configuration in which an
Moreover, the
When the large-
Then, when the
ここで、大判の素子基板1aが分断されるのに伴い共通のシール材5cも分断される。詳しくは、破線に沿って生じた亀裂が、シール材にも伝播し、破線に沿って共通のシール材5cも分断される。これは、ブレイク工程が二次冷却環境下で行われているため、大判基板150の温度が下がり、常温下よりも硬度が増した状態となっているからである。
特に、常温下との硬度差という観点において、ガラス基板では若干硬度が増すものの、その割合は僅かなものであるが、シール材5の硬度は、ガラス基板よりも大きな割合で硬度が増加する。
つまり、二次冷却環境下においては、ガラス基板とシール材5との硬度差が常温下よりも小さくなるため、亀裂が伝わり易くなり、シール材5も一緒に切断されることになる。
Here, as the
In particular, in terms of the difference in hardness from room temperature, the glass substrate slightly increases in hardness, but the ratio is small, but the hardness of the sealing
That is, in the secondary cooling environment, the difference in hardness between the glass substrate and the sealing
特に、本実施形態では、好適な二次冷却の温度設定として−10℃としているが、これは、前述したようにシール原料の融点が約−10℃であるからである。
詳しくは、硬化後のシール材5は非晶性に近い特性となるため、結晶性ポリマーに近い特性を示すシール原料の融点との相関性は乏しいように考えられるが、発明者等の実験データーからの知見によれば、当該融点はシール材5の物性における一つの閾値となっているからである。
また、同様に二次冷却における下限温度設定を−40℃としているのも、充填材原料の融点が約−40℃であるからである。
詳しくは、硬化後の充填材23は非晶性に近い特性となるため、結晶性ポリマーに近い特性を示す充填材原料の融点との相関性は乏しいように考えられるが、発明者等の実験データーからの知見によれば、当該融点は充填材23の物性における一つの閾値となっているからである。
In particular, in this embodiment, the preferred secondary cooling temperature setting is −10 ° C., because the sealing material has a melting point of about −10 ° C. as described above.
Specifically, since the cured
Similarly, the lower limit temperature setting in the secondary cooling is set to −40 ° C. because the melting point of the filler material is about −40 ° C.
Specifically, since the
図8(b)は、ブレイク装置250によりスクライブラインB22に沿って大判のCF基板30aを切断するときの様子を、図7のX軸方向から観察した拡大図である。
ステップS8では、素子基板1a側が分断された状態の大判基板150の天地を反転し、大判のCF基板30a側にスクライブラインを入れる(第2スクライブ工程)。
詳しくは、スクライブ装置200のテーブル210上に大判のCF基板30a側が上になるようにセットし、罫書き部220により第1スクライブ工程と同じ条件で、スクライブラインを形成する。なお、素子基板1a側が平面的に分断された状態であっても、分断されていない1体のCF基板30aに対して表示領域6や、シール材5が厚さ方向で固定(接着)されているため、1つの大判基板150として反転するなどの取り扱いが可能である。
スクライブラインは、図1におけるX軸方向のスクライブラインB21〜B23を形成した後、テーブル210を90°回して、Y軸方向のスクライブラインB11〜B13を形成する。ここで、スクライブラインB22,B11〜B13は、素子基板1aに形成された当該ラインと厚さ方向(Z軸方向)で重なるように形成される。換言すれば、大判基板150の表裏両面において平面的に同じ部分にスクライブラインが形成される。また、スクライブラインB21,B23は、CF基板30a側のみに形成される。
FIG. 8B is an enlarged view of the state when the
In step S8, the top and bottom of the large-
Specifically, it is set on the table 210 of the
The scribe lines form scribe lines B21 to B23 in the X-axis direction in FIG. 1, and then turn the table 210 by 90 ° to form scribe lines B11 to B13 in the Y-axis direction. Here, the scribe lines B22, B11 to B13 are formed so as to overlap with the lines formed on the
ステップS9では、大判基板150をブレイク装置250に搭載し、大判のCF基板30a側を切断する(第2ブレイク工程)。
詳しくは、ブレイク装置250のテーブル260上に大判の素子基板1a側が上になるようにセットし、スクライブラインに沿ってブレイクバー270で押圧することにより、大判基板150を分断する。
図8(b)に示すように、スクライブラインB22に沿って大判のCF基板30aを分断する場合には、当該ラインがブレイクバー270における押圧体272の先端Rの直下に位置するように、換言すれば、スクライブラインと先端Rの延在方向とが重なるようにテーブル260が移動する。
そして、ブレイクバー270が降下し、大判の素子基板1a側を押圧することにより、押圧体272の先端Rを支点とした応力が発生し、スクライブラインB22の三角形の切れ込み形状から亀裂が生じ、破線で示すように、当該三角形の頂点から、素子基板1aの分断線(先端R側)に向って大判のCF基板30aが割れることになる。また、スクライブラインB21,B23においては、大判のCF基板30a側のみが切断され、端子部8が露出される。
これにより、大判基板150が図2に示す単品の表示パネル100の状態に切り分けられる。
In step S9, the large-
Specifically, the large-
As shown in FIG. 8B, when the
Then, the
Thereby, the large-
なお、第1ブレイク工程において共通のシール材5cが完全に切断されていない場合であっても、この第2ブレイク工程で、確実に分断されることになる。
また、切断時の押圧は、第1および第2ブレイク工程で同じ設定であるものとして説明したが、異ならせても良い。例えば、第1ブレイク工程の押圧を第2ブレイク工程の押圧よりも低くして、第2ブレイク工程において、共通のシール材5cを一緒に切断することであっても良い。
また、単品の表示パネル100の状態に切り分けられた後、複数の表示パネルは、恒温槽内に入れられ、結露しないように徐々に常温温度に戻される。
また、上記実施形態においては、ステップS6〜S9の4つの工程全てを二次冷却の温度設定とした恒温室内にて行うものとして説明したが、ステップS7,S9のブレイク工程において、大判基板150が当該温度となっていれば良い。例えば、ブレイク工程を行う前において、大判基板150を冷却し、常温下で素早くブレイク工程を行うことであっても良い。なお、この場合、大判基板150が結露しないような環境設定をすることが好ましい。
In addition, even if it is a case where the
Moreover, although the press at the time of a cutting | disconnection demonstrated as what was the same setting by the 1st and 2nd break process, you may make it different. For example, the pressure in the first breaking step may be lower than the pressure in the second breaking step, and the
In addition, after being divided into the state of a
Moreover, in the said embodiment, although demonstrated as what performs all four processes of step S6 to S9 in the temperature-controlled room which set the temperature of secondary cooling, in the breaking process of step S7, S9, the large-sized board |
上述した通り、本実施形態に係る表示パネル100、およびその製造方法によれば、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、ステップS7(S9)のブレイク工程において、二次冷却された状態の大判基板150を共通のシール材5cと重なった部分に形成されたスクライブラインB12,B22に沿って切断し、単品の表示パネル100を切り出す。
よって、低温になって硬くなるとともに脆くなった状態で、切断工程を行うことにより、常温下では困難であった切断を可能とすることができる。換言すれば、ガラス基板とシール材5との硬度差が常温下よりも小さくなった状態で、切断工程を行うことにより、亀裂が伝わり易く、ガラス基板とシール材5とを一緒に切断することができる。
従って、大判基板からシール材の部分を切断して表示パネルを切り出すことが可能な電気光学装置の製造方法を提供することができる。
As described above, according to the
According to this manufacturing method, in the breaking process of step S7 (S9), the large-
Therefore, by performing the cutting process in a state of becoming hard and fragile at a low temperature, cutting that was difficult at room temperature can be performed. In other words, by performing the cutting process in a state where the hardness difference between the glass substrate and the sealing
Accordingly, it is possible to provide a method for manufacturing an electro-optical device that can cut a portion of a sealing material from a large-sized substrate and cut out a display panel.
隣り合う表示領域6間にシール材が形成されていない間隙Gが設けられていた従来の表示パネル(図11(a))と異なり、表示パネル100によれば、図1に示すように、当該間には共通のシール材5cが形成されており、当該シール材上を切断する構成となっている。
従って、従来の表示パネルの外形サイズ(L1×H1)よりも、当該間隙分、表示パネル100の外形サイズ(L2×H2)を小さくすることができる。換言すれば、狭額縁化を図ることができる。
さらに、端子部8の両隣りに空洞部405が形成されていた従来の表示パネル(図11(a))と異なり、表示パネル100によれば、図2に示すように、端子部8が形成された一辺を除く3辺の端面はシール材5が露出しており、空洞部が形成されていない。
従って、従来の表示パネルに比べて、洗浄液溜りの発生や、滞留した洗浄液による端子部8の劣化の心配を低減することができる。さらに、端面の乾燥を速やかに行うことができる。
Unlike a conventional display panel (FIG. 11A) in which a gap G in which no sealing material is formed is provided between
Therefore, the outer size (L2 × H2) of the
Further, unlike the conventional display panel (FIG. 11A) in which the
Therefore, compared with the conventional display panel, it is possible to reduce the occurrence of cleaning liquid pool and the fear of deterioration of the
(実施形態2)
図9(a),(b)は、実施形態2に係る製造方法のブレイク工程における一態様を示す図であり、図8(a),(b)に対応している。
以下、本発明の実施形態2に係る製造方法について、図9を中心に説明する。
本実施形態における製造方法は、ブレイク工程におけるブレイク装置250(図7)のテーブルの構造が、実施形態1と異なる。
ここでは、実施形態1における説明と重複する部分は省略し、テーブルの構成を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。
(Embodiment 2)
FIGS. 9A and 9B are diagrams showing an aspect in the breaking step of the manufacturing method according to the second embodiment, and correspond to FIGS. 8A and 8B.
Hereinafter, the manufacturing method according to
The manufacturing method in the present embodiment is different from that in the first embodiment in the structure of the table of the break device 250 (FIG. 7) in the break process.
Here, the description overlapping with the description in the first embodiment is omitted, and the configuration of the table will be mainly described. The same constituent parts will be described with the same numbers.
本実施形態の製造方法は、てこの原理を利用してより効率的にブレイク工程における切断を行うものである。
図9(a)に示すように、ブレイク装置250(図7)は、テーブル265を備えている。テーブル265は、金属製の台座261上に、ゴムなどの弾性体266を貼り付けた構成となっている。
ここで、弾性体266には、スクライブラインB22と重なる部分に凹部267が形成されている。換言すれば、スクライブラインの直下が間隙となるような凹部267が形成されている。この点以外は、実施形態1のテーブル260と同様である。
The manufacturing method of the present embodiment performs cutting in the breaking process more efficiently by utilizing the principle of leverage.
As shown in FIG. 9A, the break device 250 (FIG. 7) includes a table 265. The table 265 has a configuration in which an
Here, a
また、製造工程も図4のフローチャートと同様である。
ステップS7においては、大判の素子基板1a側のみを切断することになるが、この際のテーブル265側の支点は、凹部267を形成する弾性体266における壁面上端(大判基板側)の支点e,fとなる。また、凹部267の幅j1は、例えば、約3〜20mmに設定されており、幅j1の真ん中にスクライブラインが来るように位置設定される。
ステップS9においても同様に、凹部267の真ん中にスクライブラインが来るように位置設定された状態で、換言すれば、スクライブラインを凹部267の間隙によって跨いだ状態で、ブレイクバー270が降下し、大判基板150を押圧することにより、大判基板を切断する。
また、上記では、スクライブラインB22について説明したが、ステップS7,S9における他のスクライブラインについても同様に、当該ラインを跨ぐように凹部267を配置した状態でブレイク工程が行われる。
The manufacturing process is also the same as the flowchart of FIG.
In step S7, only the
Similarly, in step S9, the
In the above description, the scribe line B22 has been described. Similarly, for the other scribe lines in steps S7 and S9, the break process is performed in a state in which the
上述した通り、本実施形態によれば、実施形態1における効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、スクライブラインを跨ぐ凹部267が形成されたことにより、ブレイク工程におけるテーブル265側の大判基板150の支点が、幅j1離れた支点e,fとなる。
よって、力点となる押圧体272の先端Rで押圧したときに、てこの原理によって大判基板150が支点e,fを支点として撓み易くなるため、小さい押圧であってもスクライブラインの三角形の頂点(作用点)からの亀裂が成長し易くなる。
また、押圧は、幅j1の長さと相関関係があるため、大判基板の大きさや厚さに応じて最適化を図ることができ、工程設計に幅を持たせることができる。
従って、大判基板からシール材の部分を切断して効率良く表示パネルを切り出すことが可能な電気光学装置の製造方法を提供することができる。
As described above, according to the present embodiment, in addition to the effects in the first embodiment, the following effects can be obtained.
According to this manufacturing method, since the
Therefore, when pressing with the tip R of the
In addition, since the pressing has a correlation with the length of the width j1, optimization can be achieved according to the size and thickness of the large-sized substrate, and the process design can have a width.
Therefore, it is possible to provide a method for manufacturing an electro-optical device that can cut out a portion of a sealing material from a large substrate and efficiently cut out a display panel.
(実施形態3)
図10は、実施形態3に係る製造方法のブレイク工程における一態様を示す図であり、図9(a)に対応している。
以下、本発明の実施形態3に係る製造方法について、図10を中心に説明する。
本実施形態における製造方法は、スクライブ工程およびブレイク工程が1回ずつであることと、スクライブ工程において、大判基板の表裏両面に全てのスクライブラインを入れてしまうことが、実施形態2と異なる。
ここでは、実施形態1および2における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。
(Embodiment 3)
FIG. 10 is a diagram illustrating an aspect in the breaking process of the manufacturing method according to the third embodiment, and corresponds to FIG.
Hereinafter, the manufacturing method according to Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to FIG.
The manufacturing method in the present embodiment is different from that in the second embodiment in that the scribing process and the breaking process are performed once, and in the scribing process, all the scribe lines are put on both the front and back surfaces of the large-sized substrate.
Here, the same parts as those in the first and second embodiments are omitted, and differences will be mainly described. The same constituent parts will be described with the same numbers.
本実施形態の製造方法は、てこの原理を利用してブレイク工程を行うことは実施形態2の製造方法と同様であるが、大判基板の切断を片面の基板ずつ行うのではなく、2枚の基板を一括して切断する点が実施形態2と異なる。
本実施形態の製造方法は、図4の工程フローにおけるステップS8,S9をなくした流れとなっている。
詳しくは、ステップS6において、ステップS8で入れていたスクライブラインも入れる。つまり、大判の素子基板1aにはスクライブラインB11〜B13,B22を入れ、大判のCF基板30aにはスクライブラインB11〜B13,B21〜B23を入れる。
そして、ステップS7において、テーブル265上に大判の素子基板1a側が上になるようにセットし、まず、スクライブラインB21,B23に沿って大判のCF基板30aのみを切断する。これにより、端子部8が露出した状態となる。
The manufacturing method of this embodiment is similar to the manufacturing method of
The manufacturing method of this embodiment is a flow in which steps S8 and S9 in the process flow of FIG. 4 are eliminated.
Specifically, in step S6, the scribe line that was entered in step S8 is also entered. That is, the scribe lines B11 to B13 and B22 are placed on the
In step S7, the
次に、スクライブラインB11〜B13,B22に沿って、順次、大判基板150を切断する。図10には、スクライブラインB22を切断するときの様子が示されており、大判基板150の表裏両面に当該ラインの三角形状が入っている。
ここで、凹部267の幅j2は、図9のW1より幅広に設定されている。幅j2は、例えば、約5〜30mmに設定されており、幅j2の真ん中にスクライブラインが来るように位置設定される。
この状態で、ブレイクバー270が降下し、大判基板150を押圧することにより、大判基板の基板2枚を一緒に切断する。
大判基板150の表裏の同じ位置にスクライブラインが形成されていることと、幅j2の凹部267によるてこの原理とにより、支点e,fを支点とした大判基板はより撓み易くなっている。このため、CF基板30aにおけるスクライブラインB22の三角形の頂点から発生した亀裂は、素子基板1a側のスクライブラインB22の三角形の頂点(先端R側)に向かって、一気に成長し、共通のシール材5cを含む2枚の基板を破線に示すラインで一緒に切断することができる。
Next, the
Here, the width j2 of the
In this state, the
Due to the fact that scribe lines are formed at the same position on the front and back of the
なお、ステップS7において、スクライブラインB21,B23に沿った切断時におけるブレイクバーの押圧は、その他のスクライブラインに沿った切断時の押圧よりも小さくすることが好ましい。これは、前者の場合は、基板1枚の切断に必要な押圧であれば良いからである。
また、本実施形態の製造方法の場合、二次冷却は、ステップS7のみ行うことであっても良い。
In step S7, it is preferable that the pressure of the break bar at the time of cutting along the scribe lines B21 and B23 is smaller than the pressure at the time of cutting along the other scribe lines. This is because in the former case, it is sufficient if the pressure is necessary for cutting one substrate.
In the case of the manufacturing method of the present embodiment, the secondary cooling may be performed only in step S7.
上述した通り、本実施形態によれば、実施形態1,2における効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
実施形態2の工程フローに比べて、2工程(ステップS8,9)省略することができるため、製造効率を向上させることができる。
従って、大判基板からシール材の部分を切断してより効率良く表示パネルを切り出すことが可能な電気光学装置の製造方法を提供することができる。
As described above, according to the present embodiment, in addition to the effects in the first and second embodiments, the following effects can be obtained.
Compared to the process flow of the second embodiment, two processes (steps S8 and S9) can be omitted, so that the manufacturing efficiency can be improved.
Accordingly, it is possible to provide a method for manufacturing an electro-optical device that can cut a display panel more efficiently by cutting a portion of a sealing material from a large-sized substrate.
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications and improvements can be added to the above-described embodiment. A modification will be described below.
(変形例1)
図12は、変形例1に係る大判基板の一態様を示す平面図であり、図1に対応している。実施形態1では、4枚の表示パネルが面付けされた大判基板150について説明したが、面付け数は1枚であっても良い。
以下、上記各実施形態における記載と重複する部分は省略して説明する。なお、同一の構成部位については、同一の番号を附して説明する。
(Modification 1)
FIG. 12 is a plan view showing an aspect of a large-sized substrate according to
Hereinafter, the description overlapping with the description in each of the above embodiments will be omitted. In addition, about the same component, it attaches | subjects and demonstrates the same number.
図12の大判基板160には、図1の表示パネル(幅L2)よりも大きな表示パネル110(幅L3)が1枚面付けされている。
大きな表示パネル110を製造する場合には、製造設備の都合上1枚取りという構成もあり得る。このような場合、表示パネル110の余白部(耳部)に、製造工程上必要な合わせマークMを入れることが多く、この場合においても、シール材5と重なる位置で、大判基板160を切断することができる。
詳しくは、端子部8が形成された一辺を除く3辺においてシール材5を幅広に形成し、当該部の真ん中で、上記各実施形態のいずれかの方法で、大判基板160を切断すれば良い。この方法であっても、上記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
One large display panel 110 (width L3) larger than the display panel (width L2) shown in FIG.
In the case of manufacturing a
Specifically, the sealing
(変形例2)
図13は、変形例2に係るブレイク装置の拡大図であり、図8(a)に対応している。
実施形態1のブレイク装置では、テーブル側に面した基板を切断する構成であったが、ブレイクバー側の基板を切断する構成であっても良い。
以下、上記各実施形態における記載と重複する部分は省略して説明する。なお、同一の構成部位については、同一の番号を附して説明する。
図13のブレイク装置290は、図8(a)のブレイク装置とは異なる構成のブレイクバー291、およびテーブル292を備えている。
詳しくは、ブレイクバー291の先端は、二股に分かれている。この二股に分かれた、それぞれの先端を先端Ra、Rbとする。また、大判基板150は、テーブル292上において、大判の素子基板1a側を上に(ブレイクバー側に)向けてセットされている。
つまり、スクライブラインB22を跨いでブレイクバー291の先端Ra、Rbが配置されている。
(Modification 2)
FIG. 13 is an enlarged view of the breaking device according to the second modification, and corresponds to FIG.
In the break device of the first embodiment, the substrate facing the table side is cut, but the break bar side substrate may be cut.
Hereinafter, the description overlapping with the description in each of the above embodiments will be omitted. In addition, about the same component, it attaches | subjects and demonstrates the same number.
The
Specifically, the tip of the
That is, the tips Ra and Rb of the
テーブル292は、金属製の台座261上に、ゴムなどの弾性体293を貼り付けた構成となっている。
ここで、弾性体293には、スクライブラインB22と重なる部分に凸部294が形成されている。
換言すれば、スクライブラインの直下を凸形状するための凸部294が形成されている。なお、図13では、1つの凸部のみが示されているが、大判基板150を略平行に支持するために、周期的に複数の凸部が形成されている。この点以外は、実施形態1のテーブル260と同様である。
この構成において、力点であるブレイクバー291が下降すると、てこの原理により凸部294を支点として大判基板が撓み、作用点となるスクライブラインB22の三角形状の頂点から、破線で示すように亀裂が成長し、大判の素子基板1aおよび共通のシール材5cが分断される。
上述した通り、本変形例に係るブレイク装置290は、各実施形態および変形例への適用が可能であるとともに、同様の作用効果を得ることができる。
The table 292 is configured by attaching an
Here, the
In other words, the
In this configuration, when the
As described above, the
(変形例3)
図14は、変形例3に係る表示パネルにおけるシール材の拡大図であり、図8(a)に対応している。
各実施形態および変形例におけるシール材にビーズ状のスペーサーを混入させる構成であっても良い。
以下、上記各実施形態における記載と重複する部分は省略して説明する。なお、同一の構成部位については、同一の番号を附して説明する。
図14は、図8(a)のブレイク工程において、スクライブラインB22から発生した亀裂BLが、共通のシール材5cに伝播して行く状態を示した拡大図である。
ここで、本変形例に係るシール原料には、ビーズ状のスペーサーjが混入されている。スペーサーjとしては、樹脂ビーズ、ガラスビーズ、シリカビーズ、ガラスファイバー等を用いることができる。本変形例では、好適例として、ガラス製のスペーサーjをシール原料に適量混入した。スペーサーjの直径は、セルギャップ(電気光学物質の積層)と略同じに設定した。詳しくは、EL層15(図3)を含む各層の積層の層厚(例えば、約5〜100μm)に合せている。
(Modification 3)
FIG. 14 is an enlarged view of the sealing material in the display panel according to the modified example 3, and corresponds to FIG.
A configuration in which a bead-shaped spacer is mixed in the sealing material in each embodiment and modification may be employed.
Hereinafter, the description overlapping with the description in each of the above embodiments will be omitted. In addition, about the same component, it attaches | subjects and demonstrates the same number.
FIG. 14 is an enlarged view showing a state in which the crack BL generated from the scribe line B22 propagates to the
Here, a bead-shaped spacer j is mixed in the sealing material according to this modification. As the spacer j, resin beads, glass beads, silica beads, glass fibers, or the like can be used. In the present modification, as a suitable example, an appropriate amount of glass spacer j is mixed into the sealing material. The diameter of the spacer j was set to be approximately the same as the cell gap (lamination of electro-optic materials). Specifically, the thickness is adjusted to the layer thickness (for example, about 5 to 100 μm) of each layer including the EL layer 15 (FIG. 3).
このため、図14に示すように、硬化後の共通のシール材5cにおいて、セルギャップと略同じ直径のスペーサーjが複数個観察されている。
ここで、ブレイク工程において、スクライブラインB22から発生した亀裂BLが共通のシール材5cに達すると、最寄りのスペーサーjの外周を伝わって伝播されることになる。なお、スペーサーjは球状であるため、亀裂が伝播される部分は略点状であるが、スクライブラインと重なる部分に複数のスペーサーjが散在しているため、共通のシール材5cにおける当該ラインに沿った亀裂の成長が促される。
よって、スペーサーが混入されていない場合よりも、シール材5cの切断を容易に行うことができる。
従って、シール材にビーズ状のスペーサーを混入させることによって、各実施形態および変形例での作用効果に加えて、よりシール材を効率良く切断することができる。
For this reason, as shown in FIG. 14, a plurality of spacers j having the same diameter as the cell gap are observed in the
Here, in the breaking process, when the crack BL generated from the scribe line B22 reaches the
Therefore, the sealing
Therefore, by mixing bead-shaped spacers in the sealing material, the sealing material can be cut more efficiently in addition to the effects of the embodiments and the modified examples.
(変形例4)
図3を用いて説明する。
前記各実施形態、および変形例において、表示パネルは、トップエミッション型の有機ELパネルであるとして説明したが、素子基板1側から光を出射するボトムエミッション方であっても良い。
また、有機ELパネルに限定するものではなく、2枚の基板間において、シール材に囲まれた表示領域内に、電気光学物質を挟持する表示パネルであれば良い。例えば、液晶パネル、プラズマパネル、無機ELパネルなどであっても良い。
これらの構成であっても、前記各実施形態、および変形例と略同様な作用効果を得ることができる。
(Modification 4)
This will be described with reference to FIG.
In each of the above-described embodiments and modifications, the display panel is described as a top emission type organic EL panel, but may be a bottom emission method in which light is emitted from the
The display panel is not limited to an organic EL panel, and any display panel may be used as long as an electro-optical material is sandwiched between display substrates surrounded by a sealing material between two substrates. For example, a liquid crystal panel, a plasma panel, an inorganic EL panel, or the like may be used.
Even if it is these structures, the effect substantially the same as said each embodiment and a modification can be acquired.
1…素子基板、5…シール材、5c…共通のシール材、6…表示領域、8…端子部、15…電気光学物質としてのEL層、23…充填材、100,110…電気光学装置としての表示パネル、150,160…大判基板、260,265,292…テーブル、267…凹形状としての凹部、j…スペーサー、B11〜13,B21〜23…スクライブライン。
DESCRIPTION OF
Claims (12)
2枚の前記基板間において電気光学物質を挟持した表示領域と、
前記表示領域を区画するシール材とを含んで構成された電気光学装置を、1つ以上の前記電気光学装置が面付けされた大判基板から切り出すための製造方法であって、
前記大判基板を冷却する冷却工程と、
前記大判基板における2枚の前記基板のうち、少なくとも一方の前記基板にスクライブラインを形成する罫書き工程と、
前記スクライブラインに沿って加圧することにより、前記大判基板を切断する切断工程と、を含み、
前記スクライブラインの一部が前記シール材と重なって形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 Two opposing substrates;
A display area in which an electro-optic material is sandwiched between the two substrates;
A manufacturing method for cutting out an electro-optical device configured to include a sealing material that partitions the display area from a large substrate on which one or more of the electro-optical devices are surfaced,
A cooling step for cooling the large format substrate;
A scoring step of forming a scribe line on at least one of the two substrates in the large substrate;
Cutting the large substrate by pressurizing along the scribe line, and
A method for manufacturing an electro-optical device, wherein a part of the scribe line is formed so as to overlap with the sealing material.
前記シール材は、前記一方の基板に液状のシール原料を塗布した後、前記シール原料を硬化して形成された樹脂からなり、
前記冷却工程における冷却温度は、前記シール原料の融点以下の温度であることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置の製造方法。 The material of the substrate is inorganic glass,
The sealing material is made of a resin formed by applying a liquid sealing material to the one substrate and then curing the sealing material.
The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein a cooling temperature in the cooling step is a temperature equal to or lower than a melting point of the sealing material.
前記表示領域において、前記有機EL材料は、充填材によって覆われてなり、
前記充填材は、前記有機EL材料を覆うように液状の充填材原料を塗布した後、前記充填材原料を硬化して形成された樹脂からなり、
前記冷却温度は、前記シール原料の融点以下の温度であり、かつ、前記充填材原料の融点よりも高い温度であることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置の製造方法。 The electro-optical material is an organic EL material containing an organic light emitting material,
In the display area, the organic EL material is covered with a filler,
The filler comprises a resin formed by applying a liquid filler material so as to cover the organic EL material, and then curing the filler material.
2. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the cooling temperature is a temperature equal to or lower than a melting point of the sealing material and higher than a melting point of the filler material.
前記他方の基板における前記スクライブラインは、平面視において前記一方の基板に形成された前記スクライブラインと重なるように形成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。 In the scoring step, the scribe line is also formed on the other substrate,
5. The electricity according to claim 1, wherein the scribe line on the other substrate is formed so as to overlap the scribe line formed on the one substrate in plan view. Manufacturing method of optical device.
前記加圧は、前記大判基板に対して前記間隙の反対側の面から圧力を加えることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。 In the cutting step, the table on which the large substrate is set is formed with a concave shape such that a portion overlapping the scribe line becomes a gap, and both sides sandwiching the scribe line become fulcrums,
The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the pressurizing is performed by applying pressure to the large-sized substrate from a surface opposite to the gap.
隣り合う前記電気光学装置間には、2つの前記表示領域に跨る共通の前記シール材が設けられており、
前記罫書き工程では、少なくともその一部が前記共通のシール材に重なるように前記スクライブラインを形成することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。 The large format substrate has a plurality of the electro-optical devices attached thereto,
Between the adjacent electro-optical devices, the common sealing material straddling the two display areas is provided,
The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein in the ruled writing step, the scribe line is formed so that at least a part thereof overlaps the common sealing material. .
前記シール原料は、エポキシ樹脂を含有した紫外線硬化型の液状原料であり、
前記充填材原料は、熱硬化型の透明な液状原料であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。 The substrate is alkali-free glass,
The sealing material is an ultraviolet curable liquid material containing an epoxy resin,
The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the filler material is a thermosetting transparent liquid material.
前記長方形における一辺には、端子部が形成され、
前記共通のシール材は、少なくとも前記一辺と隣り合う2つの辺に形成されていることを特徴とする請求項7〜10のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。 The display area is substantially rectangular,
A terminal portion is formed on one side of the rectangle,
The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 7, wherein the common sealing material is formed on at least two sides adjacent to the one side.
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Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
KR20150037482A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-08 | 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 | Method and apparatus for breaking brittle material substrate |
US9477109B2 (en) | 2014-05-08 | 2016-10-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of manufacturing a display panel having a desired shape |
US9753332B2 (en) | 2014-07-17 | 2017-09-05 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
CN108312621A (en) * | 2018-02-28 | 2018-07-24 | 嘉兴市鸿业包装有限公司 | A kind of carton die cutting impression integrated device |
-
2009
- 2009-03-02 JP JP2009047653A patent/JP2010204236A/en not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150037482A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-08 | 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 | Method and apparatus for breaking brittle material substrate |
KR102172681B1 (en) | 2013-09-30 | 2020-11-02 | 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 | Method and apparatus for breaking brittle material substrate |
US9477109B2 (en) | 2014-05-08 | 2016-10-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of manufacturing a display panel having a desired shape |
US9753332B2 (en) | 2014-07-17 | 2017-09-05 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
CN108312621A (en) * | 2018-02-28 | 2018-07-24 | 嘉兴市鸿业包装有限公司 | A kind of carton die cutting impression integrated device |
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