JP2010181540A - Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and image forming apparatus - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and image forming apparatus Download PDF

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JP2010181540A JP2009023638A JP2009023638A JP2010181540A JP 2010181540 A JP2010181540 A JP 2010181540A JP 2009023638 A JP2009023638 A JP 2009023638A JP 2009023638 A JP2009023638 A JP 2009023638A JP 2010181540 A JP2010181540 A JP 2010181540A
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acid
toner
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Hiroichi Sakashita
博一 坂下
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Fujifilm Business Innovation Corp
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic photoreceptor capable of obtaining an image over a long term, the image having a surface hardly scratched and prevented from lowering resistance, thereby preventing the occurrence of density unevenness and image defects. <P>SOLUTION: The electrophotographic photoreceptor has a conductive base body and a photosensitive layer provided on the surface of the conductive base body. The outermost surface layer of the photosensitive layer is structured so as to include a crosslinked material using at least one selected from a guanamine compound and a melamine compound and at least one charge transport material having at least two substituents selected from -OH, -OCH<SB>3</SB>, -NH<SB>2</SB>, -SH and -COOH and the content of the charge transport material is ≥90 mass% to ≤99 mass% and the relation between the composition ratio A (atm%) of oxygen on the surface and the composition ratio B (atm%) of oxygen in a depth 20 nm from the surface measured by an X-ray photoelectric spectroscopy satisfies formula (1): B×2<A<B×4. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge, and an image forming apparatus.

電子写真方式の画像形成装置は、一般的には次の如く構成、及びプロセスを有するものである。すなわち、電子写真感光体表面を帯電手段で所定の極性及び電位に帯電させ、帯電後の電子写真感光体表面を、像露光により選択的に除電することにより静電潜像を形成させた後、現像手段で該静電潜像にトナーを付着させることにより、潜像をトナー像として現像し、トナー像を転写手段で被転写媒体に転写させることにより、画像形成物として排出させる。   An electrophotographic image forming apparatus generally has the following configuration and process. That is, the surface of the electrophotographic photosensitive member is charged to a predetermined polarity and potential by a charging unit, and the surface of the electrophotographic photosensitive member after charging is selectively discharged by image exposure to form an electrostatic latent image. The latent image is developed as a toner image by attaching toner to the electrostatic latent image by the developing unit, and the toner image is transferred to a transfer medium by the transfer unit, and discharged as an image formed product.

近年、電子写真感光体は、高速、かつ高印字品質が得られるという利点を有するため、複写機及びレーザービームプリンター等の分野において著しく利用されている。これら画像形成装置において用いられる電子写真感光体として、従来からのセレン、セレンーテルル合金、セレンーヒ素合金、硫化カドミウム等無機光導電材料を用いた電子写真感光体に比べ、安価で製造性及び廃棄性の点で優れた利点を有する有機光導電材料を用いた有機感光体が主流を占める様になってきている。   In recent years, electrophotographic photoreceptors have the advantage of being able to obtain high speed and high print quality, and thus have been remarkably used in fields such as copying machines and laser beam printers. As an electrophotographic photosensitive member used in these image forming apparatuses, it is inexpensive, manufacturable and disposable compared to conventional electrophotographic photosensitive members using inorganic photoconductive materials such as selenium, selenium-tellurium alloy, selenium-arsenic alloy, cadmium sulfide. Organic photoreceptors using organic photoconductive materials that have advantages in terms of the point have come to dominate.

一方、電子写真感光体の表面層として保護層を設けることが提案されている。該保護層を形成する材料系としては、例えば、導電粉をフェノール樹脂に分散したもの(例えば、特許文献1参照)、連鎖重合性材料によるもの(例えば、特許文献2参照)がそれぞれ提案されている。また、保護層中に電荷輸送材を含有させた感光体を用いた画像形成装置が提案されている(例えば、特許文献3参照)。また、感光層に酸化防止剤を含有させた感光体(例えば、特許文献4参照)、表面層の酸素ガス透過係数を特定した感光体(例えば、特許文献5参照)がそれぞれ提案されている。
特許第3287678号公報 特開2005−234546号公報 特開2006−85033公報 特開平6−332216号公報 特許第3939775号公報
On the other hand, it has been proposed to provide a protective layer as a surface layer of the electrophotographic photosensitive member. As a material system for forming the protective layer, for example, a material in which conductive powder is dispersed in a phenol resin (for example, see Patent Document 1) and a material using a chain polymerizable material (for example, see Patent Document 2) have been proposed. Yes. In addition, an image forming apparatus using a photoreceptor in which a charge transport material is contained in a protective layer has been proposed (see, for example, Patent Document 3). Further, there have been proposed a photoreceptor in which an antioxidant is contained in a photosensitive layer (for example, see Patent Document 4) and a photoreceptor in which an oxygen gas permeability coefficient of a surface layer is specified (for example, see Patent Document 5).
Japanese Patent No. 3287678 JP 2005-234546 A JP 2006-85033 A JP-A-6-332216 Japanese Patent No. 3939775

本発明は、表面に傷が付きにくく、抵抗の低下が抑制されることにより、濃度ムラや画像欠陥の発生が抑制された画像が長期に渡り得られる電子写真感光体を提供することを課題とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor in which an image in which occurrence of density unevenness and image defects is suppressed can be obtained over a long period of time by preventing scratches on the surface and suppressing a decrease in resistance. To do.

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項1に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体表面に設けた感光層と、
を有し、
前記感光層の最表面層は、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも1種と、−OH、−OCH、−NH、−SH、及び−COOHから選択される置換基を少なくとも2つ持つ電荷輸送性材料の少なくとも1種とを用いた架橋物を含んで構成され、該電荷輸送性材料の含有量が90質量%以上99質量%以下であり、X線光電子分光法により測定した、表面における酸素の組成比A(atm%)と表面から20nmの深さにおける酸素の組成比B(atm%)とが、下記式(1)の関係を満たすことを特徴とする電子写真感光体である。
式(1)
B×2 < A < B×4
The above problem is solved by the following means. That is,
The invention according to claim 1
A conductive substrate;
A photosensitive layer provided on the surface of the conductive substrate;
Have
The outermost surface layer of the photosensitive layer has at least one selected from guanamine compounds and melamine compounds and at least two substituents selected from —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, and —COOH. A cross-linked product using at least one kind of charge transporting material possessed, the content of the charge transporting material is 90% by mass or more and 99% by mass or less, and was measured by X-ray photoelectron spectroscopy. An electrophotographic photosensitive member characterized in that a composition ratio A (atm%) of oxygen at the surface and a composition ratio B (atm%) of oxygen at a depth of 20 nm from the surface satisfy the relationship of the following formula (1): is there.
Formula (1)
B × 2 <A <B × 4

請求項2に係る発明は、
請求項1に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存するトナーを除去するトナー除去手段からなる群より選ばれる少なくとも一種と、を備えることを特徴とするプロセスカートリッジである。
The invention according to claim 2
An electrophotographic photoreceptor according to claim 1;
Charging means for charging the electrophotographic photosensitive member, developing means for developing the electrostatic latent image formed on the electrophotographic photosensitive member with toner to form a toner image, and remaining on the surface of the electrophotographic photosensitive member At least one selected from the group consisting of toner removing means for removing toner.

請求項3に係る発明は、
請求項1に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に残存するトナーを除去するトナー除去手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置である。
The invention according to claim 3
An electrophotographic photoreceptor according to claim 1;
Charging means for charging the electrophotographic photoreceptor;
Electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the charged electrophotographic photosensitive member;
Developing means for developing the electrostatic latent image formed on the electrophotographic photosensitive member with toner to form a toner image;
Transfer means for transferring the toner image to a transfer object;
Toner removing means for removing toner remaining on the surface of the electrophotographic photosensitive member;
An image forming apparatus comprising:

請求項1に係る発明によれば、表面の酸素比率が制御されていない場合に比べ、表面に傷が付きにくく、抵抗の低下が抑制されることにより、濃度ムラや画像欠陥の発生が抑制された画像が長期に渡り得られる電子写真感光体が提供される。
請求項2に係る発明によれば、表面の酸素比率が制御されている感光体を備えていない場合に比べ、濃度ムラや画像欠陥の発生が抑制された画像が長期に渡り得られる。
請求項3に係る発明によれば、表面の酸素比率が制御されている感光体を備えていない場合に比べ、濃度ムラや画像欠陥の発生が抑制された画像が長期に渡り得られる。
According to the first aspect of the present invention, compared to the case where the oxygen ratio on the surface is not controlled, the surface is less likely to be scratched, and the decrease in resistance is suppressed, thereby suppressing the occurrence of density unevenness and image defects. An electrophotographic photosensitive member capable of obtaining a long image can be provided.
According to the second aspect of the present invention, an image in which the occurrence of density unevenness and image defects is suppressed can be obtained over a long period of time as compared with the case where no photoconductor whose surface oxygen ratio is controlled is provided.
According to the third aspect of the present invention, an image in which the occurrence of density unevenness and image defects is suppressed can be obtained over a long period of time as compared with the case where no photoconductor whose surface oxygen ratio is controlled is provided.

(電子写真感光体)
本実施形態に係る電子写真感光体(以下、「本実施形態に係る感光体」という場合がある。)は、導電性基体と、前記導電性基体表面に設けた感光層と、を有し、前記感光層の最表面層は、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも1種と、−OH、−OCH、−NH、−SH、及び−COOHから選択される置換基を少なくとも2つ持つ電荷輸送性材料の少なくとも1種とを用いた架橋物を含んで構成され、該電荷輸送性材料の含有量が90質量%以上99質量%以下であり、X線光電子分光法により測定した、表面における酸素の組成比A(atm%)と表面から20nmの深さにおける酸素の組成比B(atm%)とが、下記式(1)の関係を満たすことを特徴とする。
式(1)
B×2 < A < B×4
(Electrophotographic photoreceptor)
The electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment (hereinafter sometimes referred to as “photosensitive member according to the present embodiment”) includes a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the surface of the conductive substrate. The outermost surface layer of the photosensitive layer has at least one selected from guanamine compounds and melamine compounds and at least two substituents selected from —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, and —COOH. A cross-linked product using at least one kind of charge transporting material possessed, the content of the charge transporting material is 90% by mass or more and 99% by mass or less, and was measured by X-ray photoelectron spectroscopy. The oxygen composition ratio A (atm%) on the surface and the oxygen composition ratio B (atm%) at a depth of 20 nm from the surface satisfy the relationship of the following formula (1).
Formula (1)
B × 2 <A <B × 4

本実施形態に係る電子写真感光体では、上記構成とすることで、グアナミン化合物やメラミン化合物と、特定の官能基(−OH、−OCH、−NH、−SH、及び−COOHから選択される置換基)を複数有する電荷輸送性材料(以下、「特定の電荷輸送性材料」という場合がある。)とにより、架橋部位(架橋サイト)が多官能化でき、高度に架橋され、機械的強度が増すと共に、電荷輸送性材料の量を従来の最表面層に比べて多くなり、この高度に架橋させた状態を維持しつつ電気特性(感度)が良好に保たれる。
また、最表面層のごく表面の酸素量を制御することにより、最表面層に電荷輸送性材料が多く含まれる場合でも高酸化性ガスによる画質欠陥の発生が抑制される。この理由は明確ではないが、以下のように考えられる。高酸化性ガスは電荷輸送性材料と接触すると酸化物を生成するのではなく、電子のみを引き抜き電荷輸送性材料を劣化(低抵抗化)させるのに対して、表面の電荷輸送物質が適度に酸素を含有することにより、酸化物を形成し安定化(多少の高抵抗化)する。このためその後に高酸化性ガスが接触しても電子が引き抜かれにくくなり、画質欠陥の発生が抑制される。
従って、本実施形態に係る電子写真感光体では、上記効果を奏されるものと推測される。
In the electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment, the above-described configuration allows selection from a guanamine compound, a melamine compound, and a specific functional group (—OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, and —COOH). The cross-linking site (cross-linking site) can be polyfunctionalized and highly cross-linked by a charge transporting material having a plurality of substituents (hereinafter referred to as “specific charge transporting material”). As the strength increases, the amount of the charge transporting material increases as compared with the conventional outermost surface layer, and the electric characteristics (sensitivity) are kept good while maintaining this highly crosslinked state.
Further, by controlling the amount of oxygen on the very outermost surface layer, even when the outermost surface layer contains a large amount of charge transporting material, the occurrence of image quality defects due to highly oxidizing gas is suppressed. The reason for this is not clear, but is considered as follows. Highly oxidizing gas does not generate oxide when it comes into contact with charge transporting material, but only draws out electrons and degrades (lowers resistance) charge transporting material. By containing oxygen, an oxide is formed and stabilized (slightly increased in resistance). For this reason, even if a highly oxidizing gas subsequently contacts, electrons are not easily extracted, and the occurrence of image quality defects is suppressed.
Therefore, the electrophotographic photosensitive member according to this embodiment is presumed to have the above effect.

以下、図面を参照しつつ本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

(電子写真感光体)
以下、本実施形態に係る電子写真感光体について説明する。
図1は、本実施形態に係る電子写真用感光体の一例を示す模式断面図である。図2及び図3はそれぞれ本実施形態に係る電子写真用感光体の他の例を示す模式断面図である。
(Electrophotographic photoreceptor)
Hereinafter, the electrophotographic photosensitive member according to the exemplary embodiment will be described.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrophotographic photoreceptor according to this embodiment. 2 and 3 are schematic cross-sectional views showing other examples of the electrophotographic photoreceptor according to this embodiment.

図1に示す電子写真感光体7は、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に電荷発生層2、電荷輸送層3、保護層5が順次形成された感光層が設けられている。   The electrophotographic photoreceptor 7 shown in FIG. 1 is provided with a subbing layer 1 on a conductive substrate 4, and a photosensitive layer in which a charge generation layer 2, a charge transport layer 3, and a protective layer 5 are sequentially formed thereon. It has been.

図2に示す電子写真感光体7は、図1に示す電子写真感光体7と同様に電荷発生層2と電荷輸送層3とに機能が分離された感光層を備えるものである。また、図3に示す電子写真感光体7は、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層(単層型感光層6(電荷発生/電荷輸送層))に含有するものである。   The electrophotographic photosensitive member 7 shown in FIG. 2 includes a photosensitive layer in which the functions are separated into the charge generation layer 2 and the charge transport layer 3 as in the electrophotographic photosensitive member 7 shown in FIG. The electrophotographic photoreceptor 7 shown in FIG. 3 contains the charge generation material and the charge transport material in the same layer (single-layer type photosensitive layer 6 (charge generation / charge transport layer)).

図2に示す電子写真感光体7においては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に電荷輸送層3、電荷発生層2、保護層5が順次形成された感光層が設けられている。また、図3に示す電子写真感光体7においては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に単層型感光層6、保護層5が順次形成された感光層が設けられている。   In the electrophotographic photosensitive member 7 shown in FIG. 2, an undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, and a photosensitive layer in which a charge transport layer 3, a charge generation layer 2, and a protective layer 5 are sequentially formed thereon. Is provided. In the electrophotographic photoreceptor 7 shown in FIG. 3, the undercoat layer 1 is provided on the conductive substrate 4, and the photosensitive layer in which the single-layer type photosensitive layer 6 and the protective layer 5 are sequentially formed thereon is provided. It has been.

そして、上記図1、図2及び図3に示す電子写真感光体7において、保護層5が本実施形態における最表面層に相当する。なお、図1、図2及び図3に示す電子写真感光体において、下引層は設けても設けなくてもよい。   In the electrophotographic photoreceptor 7 shown in FIGS. 1, 2 and 3, the protective layer 5 corresponds to the outermost surface layer in the present embodiment. In the electrophotographic photosensitive member shown in FIGS. 1, 2, and 3, the undercoat layer may or may not be provided.

以下、代表例として図1に示す電子写真感光体7に基づいて、各要素について説明する。   Hereinafter, each element will be described based on the electrophotographic photoreceptor 7 shown in FIG. 1 as a representative example.

<導電性基体>
導電性基体4としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、及び金属ベルト、又は、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。尚、本明細書における体積抵抗率は25℃における体積抵抗率である。
<Conductive substrate>
Examples of the conductive substrate 4 include a metal plate, a metal drum, and a metal belt formed using a metal or an alloy such as aluminum, copper, zinc, stainless steel, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, or platinum. Alternatively, a paper, a plastic film, a belt, or the like on which a conductive compound such as a conductive polymer or indium oxide, or a metal or alloy such as aluminum, palladium, or gold is applied, vapor-deposited, or laminated can be given. Here, “conductive” means that the volume resistivity is less than 10 13 Ωcm. In addition, the volume resistivity in this specification is a volume resistivity in 25 degreeC.

電子写真感光体7がレーザープリンターに使用される場合、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性基体4の表面は、中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化することが望ましい。Raが0.04μm未満であると、鏡面に近くなるので干渉防止効果が不十分となる場合があり、Raが0.5μmを越えると、被膜を形成しても画質が粗くなる場合がある。なお、非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、導電性基体4表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。   When the electrophotographic photoreceptor 7 is used in a laser printer, the surface of the conductive substrate 4 has a center line average roughness Ra of 0.04 μm or more and 0 in order to prevent interference fringes generated when laser light is irradiated. It is desirable to roughen the surface to 5 μm or less. If Ra is less than 0.04 [mu] m, the effect of preventing interference may be insufficient because it is close to a mirror surface, and if Ra exceeds 0.5 [mu] m, the image quality may be rough even if a film is formed. When non-interfering light is used for the light source, it is not particularly necessary to roughen the interference fringes, and it is possible to prevent the occurrence of defects due to the irregularities on the surface of the conductive substrate 4, and thus it is suitable for longer life.

粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、又は回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。   Surface roughening methods include wet honing by suspending the abrasive in water and spraying it on the support, or centerless grinding and anodic oxidation in which the support is pressed against a rotating grindstone and continuously ground. Processing is desirable.

ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。   Here, the roughening treatment by anodic oxidation is to form an oxide film on the aluminum surface by anodizing in an electrolyte solution using aluminum as an anode. Examples of the electrolyte solution include a sulfuric acid solution and an oxalic acid solution. However, the porous anodic oxide film formed by anodic oxidation is chemically active as it is, easily contaminated, and has a large resistance fluctuation due to the environment. Therefore, the pores of the anodic oxide film are sealed with pressurized water vapor or boiling water (a metal salt such as nickel may be added) by volume expansion due to a hydration reaction, and a sealing process is performed to change to a more stable hydrated oxide. It is desirable.

陽極酸化膜の膜厚については、0.3μm以上15μm以下が望ましい。この膜厚が0.3μm未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる場合がある。一方、15μmを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く場合がある。   The thickness of the anodic oxide film is desirably 0.3 μm or more and 15 μm or less. If the film thickness is less than 0.3 μm, the barrier property against implantation may be poor and the effect may be insufficient. On the other hand, if it exceeds 15 μm, the residual potential may increase due to repeated use.

また、導電性基体4には、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性水溶液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲が望ましく、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲が望ましい。処理温度は42℃以上48℃以下が望ましいが、処理温度を高く保つことにより、当該処理温度の範囲よりも低い場合に比べ一層速く、かつ厚い被膜が形成される。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が望ましい。0.3μm未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる場合がある。他方、15μmを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く場合がある。   The conductive substrate 4 may be treated with an acidic aqueous solution containing phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid, or boehmite treatment. The treatment with an acidic treatment liquid containing phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid is carried out as follows. First, an acidic treatment liquid is prepared. The mixing ratio of phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid in the acidic treatment liquid is such that phosphoric acid is in the range of 10% by mass to 11% by mass, chromic acid is in the range of 3% by mass to 5% by mass, and hydrofluoric acid is 0.00%. The range of 5% by mass or more and 2% by mass or less is desirable, and the concentration of these acids as a whole is desirably 13.5% by mass or more and 18% by mass or less. The treatment temperature is preferably 42 ° C. or more and 48 ° C. or less, but by keeping the treatment temperature high, a thicker film can be formed faster than when the treatment temperature is lower than the range. The film thickness is preferably from 0.3 μm to 15 μm. If it is less than 0.3 μm, the barrier property against injection may be poor and the effect may be insufficient. On the other hand, if the thickness exceeds 15 μm, the residual potential may increase due to repeated use.

ベーマイト処理は、90℃以上100℃以下の純水中に5分間以上60分間以下浸漬すること、又は90℃以上120℃以下の加熱水蒸気に5分間以上60分間以下接触させることにより行われることが望ましい。被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が望ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の他種に比べ被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。   The boehmite treatment may be performed by immersing in pure water at 90 ° C. or more and 100 ° C. or less for 5 minutes or more and 60 minutes or less, or by contacting with heated steam at 90 ° C. or more and 120 ° C. or less for 5 minutes or more and 60 minutes or less. desirable. The film thickness is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. This is further anodized using an electrolyte solution with lower film solubility than other types such as adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, citrate, etc. It may be processed.

<下引層>
下引層1は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有して構成される。
無機粒子としては、粉体抵抗(体積抵抗率)が102Ω・cm以上1011Ω・cm以下のものが望ましく用いられる。これは下引層1がリーク耐性、キャリアブロック性獲得のために適切な抵抗を有していることが望ましいためである。なお、上記無機粒子の粉体抵抗が102Ω・cmよりも低いと、十分なリーク耐性が得られない場合があり、1011Ω・cmよりも高いと、残留電位上昇を引き起こしてしまう場合がある。
<Underlayer>
The undercoat layer 1 is configured by containing inorganic particles in a binder resin, for example.
As the inorganic particles, those having a powder resistance (volume resistivity) of 10 2 Ω · cm to 10 11 Ω · cm are desirably used. This is because it is desirable that the undercoat layer 1 has an appropriate resistance for leak resistance and carrier block property acquisition. If the powder resistance of the inorganic particles is lower than 10 2 Ω · cm, sufficient leakage resistance may not be obtained. If the powder resistance is higher than 10 11 Ω · cm, the residual potential may be increased. There is.

上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子(導電性金属酸化物)を用いるのが望ましく、特に酸化亜鉛は望ましく用いられる。   As the inorganic particles having the resistance value, it is desirable to use inorganic particles (conductive metal oxide) such as tin oxide, titanium oxide, zinc oxide, and zirconium oxide, and zinc oxide is particularly desirable.

また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものなど2種以上混合して用いてもよい。無機粒子の体積平均粒径は50nm以上2000nm以下(望ましくは60以上1000以下)の範囲であることが望ましい。   Further, the inorganic particles may be subjected to a surface treatment, or may be used by mixing two or more kinds such as those having different surface treatments or particles having different particle diameters. The volume average particle size of the inorganic particles is desirably in the range of 50 nm to 2000 nm (desirably 60 to 1000).

また、無機粒子としては、BET法による比表面積が10m2/g以上のものが望ましく用いられる。比表面積値が10m2/g未満のものは帯電性低下を招きやすく、良好な電子写真特性を得にくい場合がある。 As the inorganic particles, those having a specific surface area of 10 m 2 / g or more by the BET method are desirably used. Those having a specific surface area of less than 10 m 2 / g are liable to cause a decrease in chargeability, and it may be difficult to obtain good electrophotographic characteristics.

さらに無機粒子とアクセプター性化合物を含有させることで電気特性の長期安定性、キャリアブロック性に優れたものが得られる。アクセプター性化合物としては所望の特性が得られるものならばいかなるものでも使用可能であるが、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールや2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3’,5,5’テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。さらに、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。   Further, by incorporating inorganic particles and an acceptor compound, a product having excellent electrical properties for a long period of time and carrier blockability can be obtained. As the acceptor compound, any compound can be used as long as the desired characteristics can be obtained. However, quinone compounds such as chloranil and bromoanil, tetracyanoquinodimethane compounds, 2,4,7-trinitrofluorenone, Fluorenone compounds such as 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2- (4-biphenyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, and 2,5 Oxadiazole compounds such as -bis (4-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) 1,3,4-oxadiazole, xanthone compounds, Desirable are electron transport materials such as thiophene compounds and diphenoquinone compounds such as 3,3 ′, 5,5′tetra-t-butyldiphenoquinone. In particular compounds having an anthraquinone structure are preferable. Furthermore, acceptor compounds having an anthraquinone structure such as hydroxyanthraquinone compounds, aminoanthraquinone compounds, aminohydroxyanthraquinone compounds, and the like are desirably used, and specific examples include anthraquinone, alizarin, quinizarin, anthralfin, and purpurin.

これらのアクセプター性化合物の含有量は所望の特性が得られる範囲であれば任意に設定してもよいが、無機粒子に対して0.01質量%以上20質量%以下の範囲で含有することが望ましい。さらに電荷蓄積防止と無機粒子の凝集を防止する観点から0.05質量%以上10質量%以下の範囲で含有することが望ましい。無機粒子の凝集は、導電路形成にバラツキが生じやすくなり、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を招きやすくなるだけでなく、黒点などの画質欠陥を引き起こす原因となる場合がある。   The content of these acceptor compounds may be arbitrarily set as long as the desired properties are obtained, but may be contained in the range of 0.01% by mass to 20% by mass with respect to the inorganic particles. desirable. Furthermore, from the viewpoint of preventing charge accumulation and preventing aggregation of inorganic particles, it is desirable to contain in the range of 0.05 mass% to 10 mass%. Aggregation of the inorganic particles tends to cause variations in the formation of the conductive path, which not only tends to cause deterioration in sustainability such as an increase in residual potential during repeated use, but may cause image quality defects such as black spots.

アクセプター化合物は、下引層1の塗布時に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。   The acceptor compound may be added only when the undercoat layer 1 is applied, or may be previously attached to the surface of the inorganic particles. Examples of the method for imparting the acceptor compound to the surface of the inorganic particles include a dry method or a wet method.

乾式法にて表面処理を施す場合には無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによってバラツキが生じることなく処理される。添加又は噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、バラツキが生じることなく攪拌される前に溶剤が蒸発し、アクセプター化合物が局部的にかたまってしまいバラツキのない処理ができにくくなる場合がある。添加又は噴霧した後、さらに100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施される。   When surface treatment is performed by a dry method, dispersion is caused by dropping an acceptor compound dissolved in an organic solvent directly or with dry air or nitrogen gas while stirring inorganic particles with a mixer having a large shearing force. Processed without occurring. The addition or spraying is preferably performed at a temperature below the boiling point of the solvent. When spraying at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent, the solvent evaporates before stirring without causing variation, and the acceptor compound is locally concentrated, making it difficult to perform processing without variation. After addition or spraying, baking may be performed at 100 ° C. or higher. Baking is carried out in an arbitrary range as long as the temperature and time allow the desired electrophotographic characteristics to be obtained.

湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌又は分散したのち、溶剤除去することでバラツキが生じることなく処理される。溶剤除去方法はろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施される。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去することもでき、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。   As a wet method, the inorganic particles are dispersed in a solvent using stirring, ultrasonic waves, a sand mill, an attritor, a ball mill, etc., added with an acceptor compound, stirred or dispersed, and then the solvent is removed without causing variations. It is processed. The solvent removal method is distilled off by filtration or distillation. After removing the solvent, baking may be performed at 100 ° C. or higher. Baking is carried out in an arbitrary range as long as the temperature and time allow the desired electrophotographic characteristics to be obtained. In the wet method, water containing inorganic particles can also be removed before adding the surface treatment agent. For example, a method of removing with stirring and heating in a solvent used for the surface treatment, a method of removing by azeotropic distillation with the solvent May be used.

また、無機粒子はアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては所望の特性が得られるものであればよく、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤は良好な電子写真特性を与えるため望ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤は下引層1に良好なブロッキング性を与えるため望ましく用いられる。   In addition, the inorganic particles may be subjected to a surface treatment before the acceptor compound is provided. The surface treatment agent is not particularly limited as long as it has desired characteristics and is selected from known materials. For example, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, a surfactant, and the like can be given. In particular, silane coupling agents are desirably used because they provide good electrophotographic properties. Further, a silane coupling agent having an amino group is desirably used because it gives the undercoat layer 1 good blocking properties.

アミノ基を有するシランカップリング剤としては所望の電子写真感光体特性を得られるものであればいかなる物でも用いてもよいが、具体的例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Any silane coupling agent having an amino group may be used as long as the desired electrophotographic photoreceptor characteristics can be obtained. Specific examples include γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β-. (Aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, etc. However, it is not limited to these.

また、シランカップリング剤は2種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Two or more silane coupling agents may be mixed and used. Examples of the silane coupling agent that may be used in combination with the silane coupling agent having an amino group include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3, 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl)- γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltri Examples include methoxysilane, etc. Not intended to be constant.

表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法又は湿式法を用いることがよい。また、アクセプター付与とカップリング剤等による表面処理を同時に行ってもよい。   As the surface treatment method, any known method can be used, but a dry method or a wet method is preferably used. Moreover, you may perform surface treatment by acceptor provision and a coupling agent etc. simultaneously.

下引層1中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は所望の電子写真特性が得られる量であれば任意に設定されるが分散性向上の観点から、無機粒子に対して0.5質量%以上10質量%以下が望ましい。   The amount of the silane coupling agent relative to the inorganic particles in the undercoat layer 1 is arbitrarily set as long as the desired electrophotographic characteristics can be obtained, but from the viewpoint of improving dispersibility, 0.5 mass with respect to the inorganic particles. % To 10% by mass is desirable.

下引層1に含有される結着樹脂としては、良好な膜が形成されるもので、かつ所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用可能であるが、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いられる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が望ましく用いられる。これらを2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。   As the binder resin contained in the undercoat layer 1, any known resin can be used as long as it can form a good film and can obtain desired characteristics. For example, polyvinyl butyral, etc. Acetal resin, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, Known polymer resin compounds such as silicone resins, silicone-alkyd resins, phenol resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, charge transport resins having charge transport groups, and conductive resins such as polyaniline, etc. Used. Among these, resins that are insoluble in the upper coating solvent are preferably used, and phenol resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, epoxy resins, and the like are particularly preferable. When these are used in combination of two or more, the mixing ratio is set as necessary.

下引層形成用塗布液中のアクセプター性を付与した金属酸化物とバインダー樹脂、又は無機粒子とバインダー樹脂との比率は所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定される。   The ratio of the metal oxide to which the acceptor property is imparted in the coating solution for forming the undercoat layer and the binder resin, or the inorganic particles and the binder resin is arbitrarily set within a range in which desired electrophotographic photoreceptor characteristics can be obtained.

下引層1中には電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いてもよい。添加物としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いられる。シランカップリング剤は金属酸化物の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いてもよい。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。   Various additives may be used in the undercoat layer 1 in order to improve electrical characteristics, environmental stability, and image quality. As additives, known materials such as polycyclic condensation type, azo type electron transporting pigments, zirconium chelate compounds, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, silane coupling agents, and the like are used. It is done. The silane coupling agent is used for the surface treatment of the metal oxide, but may be further added to the coating solution as an additive. Specific examples of the silane coupling agent used here include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (Aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane and the like. Examples of zirconium chelate compounds include zirconium butoxide, zirconium zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl zirconium acetoacetate, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, naphthene. Zirconate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.

チタニウムキレート化合物の例としてはテトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。   Examples of titanium chelate compounds include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate ammonium salt, Examples thereof include titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamate, and polyhydroxytitanium stearate.

アルミニウムキレート化合物の例としてはアルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。
これらの化合物は単独に若しくは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いてもよい。
Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like.
These compounds may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.

下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択される。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いられる。   The solvent for preparing the coating solution for forming the undercoat layer is arbitrarily selected from known organic solvents such as alcohols, aromatics, halogenated hydrocarbons, ketones, ketone alcohols, ethers, esters, etc. Selected. Examples of the solvent include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, Usual organic solvents such as dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene and toluene are used.

また、これらの分散に用いる溶剤は単独又は2種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。   Moreover, you may use the solvent used for these dispersion | distribution individually or in mixture of 2 or more types. When mixing, any solvent can be used as long as it can dissolve the binder resin as the mixed solvent.

分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法を用いられる。さらにこの下引層1を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、導電性基体4上に下引層1が成膜される。
As a dispersion method, known methods such as a roll mill, a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill, and a paint shaker can be used. Further, as the coating method used when the undercoat layer 1 is provided, conventional methods such as blade coating method, wire bar coating method, spray coating method, dip coating method, bead coating method, air knife coating method, curtain coating method, etc. Is used.
The undercoat layer 1 is formed on the conductive substrate 4 using the undercoat layer-forming coating solution thus obtained.

また、下引層1は、ビッカース硬度が35以上とされていることが望ましい。
さらに、下引層1は、所望の特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定されるが、厚さが15μm以上が望ましく、さらに望ましくは15μm以上50μm以下とされていることが望ましい。
The undercoat layer 1 preferably has a Vickers hardness of 35 or more.
Furthermore, the undercoat layer 1 is set to any thickness as long as desired characteristics can be obtained. The thickness is preferably 15 μm or more, and more preferably 15 μm or more and 50 μm or less.

下引層1の厚さが15μm未満であるときには、充分な耐リーク性能を得ることができず、また50μm以上であるときには長期使用した場合に残留電位が残りやすくなるため画像濃度異常を招きやすい欠点がある。   When the thickness of the undercoat layer 1 is less than 15 μm, sufficient leakage resistance cannot be obtained, and when it is 50 μm or more, residual potential tends to remain when used for a long period of time, so that it tends to cause an abnormal image density. There are drawbacks.

また、下引層1の表面粗さ(十点平均粗さ)はモアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの1/4n(nは上層の屈折率)から1/2λまでに調整される。表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。   Further, the surface roughness (ten-point average roughness) of the undercoat layer 1 is from 1 / 4n (n is the refractive index of the upper layer) to 1 / 2λ of the exposure laser wavelength λ used to prevent moire images. Adjusted to In order to adjust the surface roughness, particles such as a resin may be added to the undercoat layer. As the resin particles, silicone resin particles, cross-linked polymethyl methacrylate resin particles and the like are used.

また、表面粗さ調整のために下引層を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等を用いられる。
塗布したものを乾燥させて下引層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜可能な温度で行われる。
Further, the undercoat layer may be polished for adjusting the surface roughness. As a polishing method, buffing, sandblasting, wet honing, grinding, or the like can be used.
The applied layer is dried to obtain an undercoat layer. Usually, the drying is performed at a temperature at which the solvent can be evaporated to form a film.

<電荷発生層>
電荷発生層2は電荷発生材料及び結着樹脂を含有する層である。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対しては、金属及又は無金属フタロシアニン顔料が望ましく、特に、特開平5−263007号公報、特開平5−279591号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平5−98181号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平5−140472号公報、特開平5−140473号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平4−189873号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対してはジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン等がより望ましい。
<Charge generation layer>
The charge generation layer 2 is a layer containing a charge generation material and a binder resin.
Examples of the charge generation material include azo pigments such as bisazo and trisazo, condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone, perylene pigments, pyrrolopyrrole pigments, phthalocyanine pigments, zinc oxide, and trigonal selenium. Among these, metal and metal-free phthalocyanine pigments are desirable for near-infrared laser exposure. In particular, hydroxygallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-263007, JP-A-5-279591, and the like. Chlorogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-98181, dichlorotin phthalocyanine disclosed in JP-A-5-140472, JP-A-5-140473, etc., JP-A-4-189873, etc. The disclosed titanyl phthalocyanine is more desirable. For near-ultraviolet laser exposure, condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone, thioindigo pigments, porphyrazine compounds, zinc oxide, and trigonal selenium are more desirable.

電荷発生層2に使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で10:1から1:10までの範囲内であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは体積抵抗率が1013Ωcm以上であることをいう。 The binder resin used for the charge generation layer 2 is selected from a wide range of insulating resins, and selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinylanthracene, polyvinylpyrene, and polysilane. Also good. Desirable binder resins include polyvinyl butyral resins, polyarylate resins (polycondensates of bisphenols and aromatic divalent carboxylic acids, etc.), polycarbonate resins, polyester resins, phenoxy resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, polyamides. Resins, acrylic resins, polyacrylamide resins, polyvinyl pyridine resins, cellulose resins, urethane resins, epoxy resins, caseins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl pyrrolidone resins, and the like. These binder resins are used singly or in combination of two or more. The blending ratio of the charge generation material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10 by mass ratio. Here, “insulating” means that the volume resistivity is 10 13 Ωcm or more.

電荷発生層2は、上記電荷発生材料及び結着樹脂を所定の溶剤中に分散した塗布液を用いて形成される。
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。
The charge generation layer 2 is formed using a coating solution in which the charge generation material and the binder resin are dispersed in a predetermined solvent.
Solvents used for dispersion include methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, and methylene chloride. , Chloroform, chlorobenzene, toluene and the like. These may be used alone or in admixture of two or more.

また、電荷発生材料及び結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いられる。これらの分散方法により、分散による電荷発生材料の結晶型の変化が防止される。さらにこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、望ましくは0.3μm以下、さらに望ましくは0.15μm以下にすることが有効である。   In addition, as a method for dispersing the charge generating material and the binder resin in the solvent, usual methods such as a ball mill dispersion method, an attritor dispersion method, and a sand mill dispersion method can be used. By these dispersion methods, changes in the crystal form of the charge generation material due to dispersion are prevented. Further, at the time of dispersion, it is effective that the average particle size of the charge generating material is 0.5 μm or less, desirably 0.3 μm or less, and more desirably 0.15 μm or less.

また、電荷発生層2を形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
このようにして得られる電荷発生層2の膜厚は、望ましくは0.1μm以上5.0μm以下、さらに望ましくは0.2μm以上2.0μm以下である。
Further, when forming the charge generation layer 2, a usual method such as a blade coating method, a Meyer bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, or a curtain coating method is used. .
The film thickness of the charge generation layer 2 obtained in this way is desirably 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, and more desirably 0.2 μm or more and 2.0 μm or less.

<電荷輸送層>
電荷輸送層3は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材料を含有して形成される。
電荷輸送材料としては、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物があげられる。これらの電荷輸送材料は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。
<Charge transport layer>
The charge transport layer 3 is formed containing a charge transport material and a binder resin, or containing a polymer charge transport material.
Examples of charge transport materials include quinone compounds such as p-benzoquinone, chloranil, bromanyl, anthraquinone, tetracyanoquinodimethane compounds, fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone, xanthone compounds, benzophenone compounds , Electron transport compounds such as cyanovinyl compounds and ethylene compounds, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, etc. Examples thereof include pore-transporting compounds. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more, but are not limited thereto.

電荷輸送材料としては電荷移動度の観点から、下記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体が望ましい。   As the charge transport material, from the viewpoint of charge mobility, a triarylamine derivative represented by the following structural formula (a-1) and a benzidine derivative represented by the following structural formula (a-2) are desirable.

(構造式(a−1)中、Rは、水素原子又はメチル基を示す。nは1又は2を示す。Ar及びArは各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−C−C(R)=C(R10)(R11)、又は−C−CH=CH−CH=C(R12)(R13)を示し、R乃至R13はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、又は炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。) (In Structural Formula (a-1), R 8 represents a hydrogen atom or a methyl group. N represents 1 or 2. Ar 6 and Ar 7 are each independently a substituted or unsubstituted aryl group, —C 6. H 4 -C (R 9) = C (R 10) (R 11), or -C 6 H 4 -CH = CH- CH = C (R 12) shows the (R 13), R 9 to R 13 are Each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, including a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms; A substituted amino group substituted with a group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.)

(構造式(a−2)中、R14及びR14’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、を示す。R15、R15’、R16、及びR16’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数1以上2以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−C(R17)=C(R18)(R19)、又は−CH=CH−CH=C(R20)(R21)を示し、R17乃至R21は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。m及びnは各々独立に0以上2以下の整数を示す。) (In Structural Formula (a-2), R 14 and R 14 ′ may be the same or different, and each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms. .R 15, R 15 to an alkoxy group, ', R 16, and R 16' may be the same or different, each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, 1 to 4 carbon atoms Or more, an alkoxy group having 5 or less, an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, -C (R 17 ) = C (R 18 ) (R 19 ), or- CH = CH—CH═C (R 20 ) (R 21 ), wherein R 17 to R 21 each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. And n are each independently 0 or more and 2 It represents an integer of below.)

ここで、上記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び上記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−C−CH=CH−CH=C(R12)(R13)」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−CH=CH−CH=C(R20)(R21)」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度、保護層との接着性、前画像の履歴が残ることで生じる残像(以下、「ゴースト」という場合がある)などの観点で優れ望ましい。 Here, among the triarylamine derivatives represented by the structural formula (a-1) and the benzidine derivatives represented by the structural formula (a-2), in particular, “—C 6 H 4 —CH═CH—CH ═C (R 12 ) (R 13 ) ”and a benzidine derivative having“ —CH═CH—CH═C (R 20 ) (R 21 ) ”have charge mobility, protective layer and It is excellent and desirable from the standpoints of adhesiveness and afterimage (hereinafter sometimes referred to as “ghost”) caused by the history of the previous image remaining.

電荷輸送層3に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。また、上述のように、特開平8−176293号公報、特開平8−208820号公報に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材等高分子電荷輸送材を用いてもよい。これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で10:1から1:5までが望ましい。   The binder resin used for the charge transport layer 3 is polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer. , Vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly- N-vinyl carbazole, polysilane, etc. are mentioned. Further, as described above, polymer charge transport materials such as polyester-based polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293 and JP-A-8-208820 may be used. These binder resins are used singly or in combination of two or more. The blending ratio of the charge transport material and the binder resin is desirably 10: 1 to 1: 5 by mass ratio.

特に、結着樹脂としては、特に限定しないが、粘度平均分子量50000以上80000以下のポリカーボネート樹脂、及び粘度平均分子量50000以上80000以下のポリアリレート樹脂の少なくとも1種が良好な成膜が得やすいことから望ましい。   In particular, the binder resin is not particularly limited, but at least one of a polycarbonate resin having a viscosity average molecular weight of 50,000 to 80,000 and a polyarylate resin having a viscosity average molecular weight of 50,000 to 80,000 can be easily obtained. desirable.

また、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。高分子電荷輸送材としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いられる。特に、特開平8−176293号公報、特開平8−208820号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、他種に比べ高い電荷輸送性を有しており、特に望ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜可能であるが、後述する結着樹脂と混合して成膜してもよい。   In addition, a polymer charge transport material may be used as the charge transport material. As the polymer charge transporting material, known materials having charge transporting properties such as poly-N-vinylcarbazole and polysilane are used. In particular, polyester polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293, JP-A-8-208820 and the like have a higher charge transportability than other types, and are particularly desirable. is there. The polymer charge transport material can be formed by itself, but may be formed by mixing with a binder resin described later.

電荷輸送層3は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独又は2種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法が使用される。   The charge transport layer 3 is formed using a charge transport layer forming coating solution containing the above-described constituent materials. Solvents used in the coating solution for forming the charge transport layer include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, ketones such as acetone and 2-butanone, and halogenation such as methylene chloride, chloroform and ethylene chloride. Ordinary organic solvents such as aliphatic hydrocarbons, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and ethyl ether or linear ethers may be used alone or in combination of two or more. Moreover, a well-known method is used as a dispersion method of each said constituent material.

電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層2の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。   The coating method for applying the charge transport layer forming coating solution onto the charge generation layer 2 includes blade coating method, Mayer bar coating method, spray coating method, dip coating method, bead coating method, air knife coating method, A usual method such as a curtain coating method is used.

電荷輸送層3の膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上30μm以下である。   The film thickness of the charge transport layer 3 is desirably 5 μm or more and 50 μm or less, and more desirably 10 μm or more and 30 μm or less.

<保護層>
保護層5は、電子写真感光体7における最表面層であり、最表面の磨耗、傷などに対する耐性を持たせ、且つ、トナーの転写効率を上げるために設けられる層である。
<Protective layer>
The protective layer 5 is the outermost surface layer in the electrophotographic photosensitive member 7 and is a layer provided in order to give resistance to abrasion and scratches on the outermost surface and to increase toner transfer efficiency.

保護層5は、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも1種と、−OH、−OCH、−NH、−SH、及び−COOHから選択される置換基の少なくとも2つ持つ電荷輸送性材料の少なくとも1種と、を含む塗布液を用いた架橋物を含んで構成される。 The protective layer 5 has a charge transport property having at least one selected from a guanamine compound and a melamine compound and a substituent selected from —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, and —COOH. It is comprised including the crosslinked material using the coating liquid containing at least 1 sort (s) of material.

まず、グアナミン化合物について説明する。
グアナミン化合物は、グアナミン骨格(構造)を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。
First, the guanamine compound will be described.
The guanamine compound is a compound having a guanamine skeleton (structure), and examples thereof include acetoguanamine, benzoguanamine, formoguanamine, steroguanamine, spiroguanamine, and cyclohexylguanamine.

グアナミン化合物としては、特に下記一般式(A)で示される化合物及びその多量体の少なくとも1種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式(A)で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば2以上200以下(望ましくは2以上100以下)である。なお、一般式(A)で示される化合物は、一種単独で用いもよりが、2種以上を併用してもよい。特に、一般式(A)で示される化合物は、2種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体(オリゴマー)として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上される。   The guanamine compound is particularly preferably at least one of a compound represented by the following general formula (A) and a multimer thereof. Here, the multimer is an oligomer polymerized using the compound represented by the general formula (A) as a structural unit, and the degree of polymerization thereof is, for example, 2 or more and 200 or less (preferably 2 or more and 100 or less). The compound represented by the general formula (A) may be used alone or in combination of two or more. In particular, when the compound represented by the general formula (A) is used as a mixture of two or more kinds, or used as a multimer (oligomer) having the structural unit as a structural unit, the solubility in a solvent is improved.

一般式(A)中、Rは、炭素数1以上10以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基、炭素数6以上10以下の置換若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数4以上10以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。R乃至Rは、それぞれ独立に水素、−CH−OH、又は−CH−O−Rを示す。Rは、水素、又は炭素数1以上10以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示す。 In general formula (A), R 1 is a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 10 carbon atoms, or 4 to 10 carbon atoms. The following substituted or unsubstituted alicyclic hydrocarbon groups are shown. R 2 to R 5 each independently represent hydrogen, —CH 2 —OH, or —CH 2 —O—R 6 . R 6 represents hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

一般式(A)において、Rを示すアルキル基は、炭素数が1以上10以下であるが、望ましくは炭素数が1以下8以上であり、より望ましくは炭素数が1以上5以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。 In the general formula (A), the alkyl group representing R 1 has 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms. . The alkyl group may be linear or branched.

一般式(A)中、Rを示すフェニル基は、炭素数6以上10以下であるが、より望ましくは6以上8以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。 In general formula (A), the phenyl group represented by R 1 has 6 to 10 carbon atoms, and more preferably 6 to 8 carbon atoms. Examples of the substituent substituted with the phenyl group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.

一般式(A)中、Rを示す脂環式炭化水素基は、炭素数4以上10以下であるが、より望ましくは5以上8以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。 In general formula (A), the alicyclic hydrocarbon group representing R 1 has 4 to 10 carbon atoms, and more preferably 5 to 8 carbon atoms. Examples of the substituent substituted with the alicyclic hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.

一般式(A)中、R乃至Rを示す「−CH−O−R」において、Rを示すアルキル基は、炭素数が1以上10以下であるが、望ましくは炭素数が1以下8以上であり、より望ましくは炭素数が1以上6以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。望ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。 In the general formula (A), in “—CH 2 —O—R 6 ” representing R 2 to R 5 , the alkyl group representing R 6 has 1 to 10 carbon atoms, and desirably has carbon atoms. 1 or less and 8 or more, and more preferably 1 or more and 6 or less. The alkyl group may be linear or branched. Desirably, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, etc. are mentioned.

一般式(A)で示される化合物としては、特に望ましくは、Rが炭素数6以上10以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、R乃至Rがそれぞれ独立に−CH−O−Rを示される化合物である。また、Rは、メチル基又はn-ブチル基から選ばれることが望ましい。 As the compound represented by the general formula (A), it is particularly desirable that R 1 represents a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 10 carbon atoms, and R 2 to R 5 are each independently —CH 2 —O. It is a compound represented by —R 6 . R 6 is preferably selected from a methyl group and an n-butyl group.

一般式(A)で示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法(例えば、実験化学講座第4版、28巻、430ページ)で合成される。   The compound represented by the general formula (A) is synthesized by, for example, a known method using guanamine and formaldehyde (for example, Experimental Chemistry Course 4th Edition, Volume 28, page 430).

以下、一般式(A)で示される化合物の具体例として例示化合物:(A)−1乃至例示化合物:(A)−42を示すが、本実施形態はこれらに限られるわけではない。また、以下の具体例は単量体であるが、これら単量体を構造単位とする多量体(オリゴマー)であってもよい。尚、以下の例示化合物において、「Me」はメチル基を、「Bu」はブチル基を、「Ph」はフェニル基をそれぞれ示す。   Hereinafter, exemplary compounds: (A) -1 to exemplary compounds: (A) -42 are shown as specific examples of the compound represented by the general formula (A), but this embodiment is not limited thereto. The following specific examples are monomers, but multimers (oligomers) having these monomers as structural units may also be used. In the following exemplary compounds, “Me” represents a methyl group, “Bu” represents a butyl group, and “Ph” represents a phenyl group.

また、一般式(A)で示される化合物の市販品としては、例えば、”スーパーベッカミン(R)L−148−55、スーパーベッカミン(R)13−535、スーパーベッカミン(R)L−145−60、スーパーベッカミン(R)TD−126”以上大日本インキ社製、”ニカラックBL−60、ニカラックBX−4000”以上日本カーバイド社製、などが挙げられる。   Moreover, as a commercial item of the compound shown by general formula (A), for example, "super becamine (R) L-148-55, super becamine (R) 13-535, super becamine (R) L-- 145-60, Super Becamine (R) TD-126 "manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.," Nicarak BL-60, Nicarak BX-4000 "manufactured by Nippon Carbide Co., and the like.

また、一般式(A)で示される化合物(多量体を含む)は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。   In addition, the compound represented by the general formula (A) (including multimers) can be used in a suitable solvent such as toluene, xylene, ethyl acetate, etc., in order to remove the influence of residual catalyst after synthesis or after purchasing a commercial product. It may be dissolved and washed with distilled water, ion exchange water or the like, or may be removed by treatment with an ion exchange resin.

次に、メラミン化合物について説明する。
メラミン化合物としては、メラミン骨格(構造)であり、特に下記一般式(B)で示される化合物及びその多量体の少なくとも1種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式(A)と同様に、一般式(B)で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば2以上200以下(望ましくは2以上100以下)である。なお、一般式(B)で示される化合物又はその多量体は、一種単独で用いもよりが、2種以上を併用してもよい。また、前記一般式(A)で示される化合物又はその多量体と併用してもよい。特に、一般式(B)で示される化合物は、2種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体(オリゴマー)として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。
Next, the melamine compound will be described.
The melamine compound is a melamine skeleton (structure), and is particularly preferably at least one of a compound represented by the following general formula (B) and a multimer thereof. Here, the multimer is an oligomer polymerized using the compound represented by the general formula (B) as a structural unit in the same manner as the general formula (A), and the degree of polymerization thereof is, for example, 2 or more and 200 or less (preferably 2 or more). 100 or less). In addition, the compound shown by the general formula (B) or the multimer thereof may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use together with the compound shown by the said general formula (A), or its multimer. In particular, when the compound represented by the general formula (B) is used as a mixture of two or more kinds or used as a multimer (oligomer) having the same as a structural unit, the solubility in a solvent is improved.

一般式(B)中、R乃至R11はそれぞれ独立に、水素原子、−CH−OH、−CH−O−R12を示し、R12は炭素数1以上5以下の分岐してもよいアルキル基を示す。当該アルキル基としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。 In general formula (B), R 6 to R 11 each independently represent a hydrogen atom, —CH 2 —OH, —CH 2 —O—R 12 , and R 12 is branched from 1 to 5 carbon atoms. Or a good alkyl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a butyl group.

一般式(B)で示される化合物は、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法(例えば、実験化学講座第4版、28巻、430ページのメラミン樹脂と同様に合成される)で合成される。   The compound represented by the general formula (B) is synthesized by, for example, a known method using melamine and formaldehyde (for example, synthesized in the same manner as the melamine resin in Experimental Chemistry Course 4th edition, Volume 28, page 430). Is done.

以下、一般式(B)で示される化合物の具体例として例示化合物:(B)−1乃至例示化合物:(B)−7を示すが、本実施形態はこれらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体(オリゴマー)であってもよい。   Hereinafter, as specific examples of the compound represented by the general formula (B), exemplary compounds: (B) -1 to exemplary compounds: (B) -7 are shown, but this embodiment is not limited thereto. Moreover, although the following specific examples show the thing of a monomer, the multimer (oligomer) which uses these as a structural unit may be sufficient.

一般式(B)で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミNo.90(日本油脂社製)、スーパーベッカミン(R)TD−139−60(大日本インキ社製)、ユーバン2020(三井化学)、スミテックスレジンM−3(住友化学工業)、ニカラックMW−30(日本カーバイド社製)、などが挙げられる。   As a commercial item of the compound represented by the general formula (B), for example, Super Melami No. 90 (Nippon Yushi Co., Ltd.), Super Becamine (R) TD-139-60 (Dainippon Ink Co., Ltd.), Uban 2020 (Mitsui Chemicals), Smitex Resin M-3 (Sumitomo Chemical), Nicarak MW-30 (Made by Nippon Carbide).

また、一般式(B)で示される化合物(多量体を含む)は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。   In addition, the compound represented by the general formula (B) (including multimers) can be used in an appropriate solvent such as toluene, xylene, ethyl acetate, etc., in order to remove the influence of residual catalyst after synthesis or after purchasing a commercial product. It may be dissolved and washed with distilled water, ion exchange water or the like, or may be removed by treatment with an ion exchange resin.

次に、特定の電荷輸送性材料について説明する。特定の電荷輸送性材料は、−OH、−OCH、−NH、−SH、及び−COOHから選択される置換基の少なくとも2つ(さらには3つ)を持つものである。かくの如く、特定の電荷輸送性材料に反応性官能基(当該置換基)を2つ以上有することで、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、特にブレードクリーナーを用いた際の電子写真感光体の回転トルクが低減され、ブレードへのダメージの抑制や、電子写真感光体の磨耗が抑制される。この詳細は不明であるが、反応性官能基の数が増すことで、架橋密度の高い硬化膜が得られることから、電子写真感光体の極表面の分子運動が抑制されてブレード部材表面分子との相互作用が弱まるためと推測される。 Next, a specific charge transport material will be described. The specific charge transporting material has at least two (or three) substituents selected from —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, and —COOH. As described above, by having two or more reactive functional groups (substituents) in a specific charge transporting material, the crosslink density is increased and a cross-linked film having higher strength can be obtained, particularly when using a blade cleaner. The rotational torque of the electrophotographic photosensitive member is reduced, and damage to the blade is suppressed and wear of the electrophotographic photosensitive member is suppressed. Although details of this are unknown, since a cured film having a high crosslinking density can be obtained by increasing the number of reactive functional groups, the molecular motion on the extreme surface of the electrophotographic photoreceptor is suppressed, and the surface molecules of the blade member It is presumed that this interaction weakens.

特定の電荷輸送性材料としては、下記一般式(I)で示される化合物であることが望ましい。
F−((−R−X)n1−Y)n2 (I)
The specific charge transporting material is preferably a compound represented by the following general formula (I).
F - ((- R 1 -X ) n1 R 2 -Y) n2 (I)

一般式(I)中、Fは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、R及びRはそれぞれ独立に炭素数1以上5以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、n1は0又は1を示し、n2は2以上4以下の整数を示す。Xは酸素、NH、又は硫黄原子を示し、Yは−OH、−OCH、−NH、−SH、又は−COOHを示す。 In general formula (I), F is an organic group derived from a compound having a hole transporting ability, R 1 and R 2 are each independently a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms. N1 represents 0 or 1, and n2 represents an integer of 2 or more and 4 or less. X represents an oxygen, NH, or sulfur atom, and Y represents —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, or —COOH.

一般式(I)中、Fを示す正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。   In general formula (I), an arylamine derivative is preferably used as the compound having a hole transporting ability in an organic group derived from a compound having a hole transporting ability represented by F. Preferred examples of the arylamine derivative include a triphenylamine derivative and a tetraphenylbenzidine derivative.

そして、一般式(I)で示される化合物は、下記一般式(II)で示される化合物であることが望ましい。一般式(II)で示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れる。また、一般式(II)において、下記Dを一分子中に2以上、好ましくは3以上有することで、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られる。   The compound represented by the general formula (I) is preferably a compound represented by the following general formula (II). The compound represented by the general formula (II) is particularly excellent in charge mobility, stability against oxidation and the like. Moreover, in General Formula (II), by having 2 or more, preferably 3 or more in the following D in one molecule, a crosslinking density increases and a crosslinked film with higher strength can be obtained.

一般式(II)中、Ar乃至Arは、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Arは置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは−(−R−X)n1−Yを示し、cはそれぞれ独立に0又は1を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は2以上4以下である。また、R及びRはそれぞれ独立に炭素数1以上5以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、n1は0又は1を示し、Xは酸素、NH、又は硫黄原子を示し、Yは−OH、−OCH、−NH、−SH、又は−COOHを示す。 In general formula (II), Ar 1 to Ar 4 may be the same or different and each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or substituted or unsubstituted. D represents — (— R 1 —X) n1 R 2 —Y, c represents 0 or 1 independently, k represents 0 or 1, and the total number of D is 2 or more 4 It is as follows. R 1 and R 2 each independently represent a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, n1 represents 0 or 1, X represents an oxygen, NH, or sulfur atom. , Y represents —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, or —COOH.

一般式(II)中、Dを示す「−(−R−X)n1−Y」は、一般式(I)と同様であり、R及びRはそれぞれ独立に炭素数1以上5以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基である。また、n1として望ましくは、1である。また、Xとして望ましくは、酸素である。また、Yとして望ましくは水酸基である。
なお、一般式(II)におけるDの総数は、一般式(I)におけるn2に相当し、望ましくは、3以上4以下である。つまり、一般式(I)や一般式(II)において、Dの総数を一分子中に2以上4以下、望ましくは3以上4以下とすると、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、特にブレードクリーナーを用いた際の電子写真感光体の回転トルクが低減され、ブレードへのダメージの抑制や、電子写真感光体の磨耗が抑制される。この詳細は不明であるが、反応性官能基の数が増すことで、架橋密度の高い硬化膜が得られ、電子写真感光体の極表面の分子運動が抑制されてブレード部材表面分子との相互作用が弱まるためと推測される。
In the general formula (II), “— (— R 1 —X) n1 R 2 —Y” representing D is the same as in the general formula (I), and R 1 and R 2 each independently have 1 or more carbon atoms. 5 or less linear or branched alkylene group. N1 is preferably 1. X is preferably oxygen. Y is preferably a hydroxyl group.
The total number of D in the general formula (II) corresponds to n2 in the general formula (I), and is preferably 3 or more and 4 or less. That is, in the general formula (I) or general formula (II), when the total number of D is 2 or more and 4 or less, preferably 3 or more and 4 or less in one molecule, the crosslinking density increases and a crosslinked film with higher strength is obtained. In particular, the rotational torque of the electrophotographic photosensitive member when using a blade cleaner is reduced, so that damage to the blade and wear of the electrophotographic photosensitive member are suppressed. Although the details are unknown, increasing the number of reactive functional groups results in a cured film having a high crosslink density, which suppresses molecular motion on the extreme surface of the electrophotographic photosensitive member and interacts with the blade member surface molecules. It is presumed that the action is weakened.

一般式(II)中、Ar乃至Arとしては、下記式(1)乃至(7)のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式(1)乃至(7)は、各Ar乃至Arに連結され得る「−(D)」と共に示す。 In general formula (II), Ar 1 to Ar 4 are preferably any of the following formulas (1) to (7). Incidentally, the following equation (1) to (7) can be coupled to each Ar 1 to Ar 4 - shown with "(D) C".

式(1)乃至(7)中、Rは水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基もしくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を表し、R10乃至R12はそれぞれ水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Arは置換又は未置換のアリーレン基を表し、D及びcは一般式(II)における「D」、「c」と同様であり、sはそれぞれ0又は1を表し、tは1以上3以下の整数を表す。] In the formulas (1) to (7), R 9 is phenyl substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Represents a group selected from the group consisting of a group, an unsubstituted phenyl group, and an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, wherein R 10 to R 12 are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a carbon number, respectively. One selected from the group consisting of an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom Ar represents a substituted or unsubstituted arylene group, D and c are the same as “D” and “c” in formula (II), s represents 0 or 1, and t represents 1 or more, respectively. Integer less than 3 Represent. ]

ここで、式(7)中のArとしては、下記式(8)又は(9)で表されるものが望ましい。   Here, as Ar in Formula (7), what is represented by following formula (8) or (9) is desirable.

[式(8)、(9)中、R13及びR14はそれぞれ水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、tは1以上3以下の整数を表す。] [In the formulas (8) and (9), R 13 and R 14 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. 1 represents one selected from the group consisting of a phenyl group substituted with, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom, and t represents an integer of 1 to 3. ]

また、式(7)中のZ’としては、下記式(10)乃至(17)のうちのいずれかで表されるものが望ましい。   Further, Z ′ in the formula (7) is preferably represented by any one of the following formulas (10) to (17).

[式(10)乃至(17)中、R15及びR16はそれぞれ水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基もしくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Wは2価の基を表し、q及びrはそれぞれ1以上10以下の整数を表し、tはそれぞれ1以上3以下の整数を表す。] [In the formulas (10) to (17), R 15 and R 16 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Represents a phenyl group substituted with, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom, W represents a divalent group, q and r each represent Represents an integer of 1 to 10, and t represents an integer of 1 to 3. ]

上記式(16)乃至(17)中のWとしては、下記(18)乃至(26)で表される2価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式(25)中、uは0以上3以下の整数を表す。   W in the formulas (16) to (17) is preferably any one of divalent groups represented by the following (18) to (26). However, in formula (25), u represents an integer of 0 or more and 3 or less.

また、一般式(II)中、Arは、kが0のときはAr乃至Arの説明で例示された上記(1)乃至(7)のアリール基であり、kが1のときはかかる上記(1)乃至(7)のアリール基から所定の水素原子を除いたアリーレン基である。 In general formula (II), Ar 5 is the aryl group of the above (1) to (7) exemplified in the description of Ar 1 to Ar 4 when k is 0, and when k is 1, An arylene group obtained by removing a predetermined hydrogen atom from the aryl groups of (1) to (7).

一般式(I)で示される化合物の具体例としては、以下に示す例示化合物(I−1)乃至例示化合物(I−22)が挙げられる。なお、上記一般式(I)で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (I) include the exemplified compounds (I-1) to (I-22) shown below. In addition, the compound shown by the said general formula (I) is not limited at all by these.

ここで、保護層5におけるグアナミン化合物(例えば、一般式(A)で示される化合物)及びメラミン化合物(例えば、一般式(B)で示される化合物)の合計含有量は、0.1質量%以上5質量%以下であることが望ましく、より望ましくは0.5質量%以上2質量%以下である。この固形分濃度が、0.1質量%未満であると、緻密な膜となりにくいため十分な強度が得られない場合があり、5質量%を超えると電気特性や耐ゴースト性が悪化する場合がある。   Here, the total content of the guanamine compound (for example, the compound represented by the general formula (A)) and the melamine compound (for example, the compound represented by the general formula (B)) in the protective layer 5 is 0.1% by mass or more. The content is desirably 5% by mass or less, and more desirably 0.5% by mass or more and 2% by mass or less. If the solid content concentration is less than 0.1% by mass, it may be difficult to obtain a dense film, so that sufficient strength may not be obtained. If it exceeds 5% by mass, electrical characteristics and ghost resistance may be deteriorated. is there.

一方、上記特定の電荷輸送性材料の少なくとも1種の前記塗布液における固形分濃度は、90質量%以上99質量%以下であるが、望ましくは94質量%以上99質量%以下である。この固形分濃度が、90質量%未満であると、電気特性が悪化する。一方、99質量%を超えると、グアナミン化合物及びメラミン化合物の含有率が少なくなり、緻密な膜となりにくいため十分な強度が得られなくなる。   On the other hand, the solid content concentration in at least one of the coating liquids of the specific charge transporting material is 90% by mass or more and 99% by mass or less, and desirably 94% by mass or more and 99% by mass or less. When this solid content concentration is less than 90% by mass, the electrical characteristics deteriorate. On the other hand, if it exceeds 99% by mass, the content of the guanamine compound and the melamine compound is reduced, and it is difficult to obtain a dense film, so that sufficient strength cannot be obtained.

また、保護層5は、X線光電子分光法により測定した、表面における酸素の組成比A(atm%)と、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比B(atm%)とが、下記式(1)の関係を満たすことを特徴とする。
式(1)
B×2 < A < B×4
Further, the protective layer 5 has an oxygen composition ratio A (atm%) on the surface and an oxygen composition ratio B (atm%) at a depth of 20 nm from the surface, as measured by X-ray photoelectron spectroscopy. It satisfies the relationship (1).
Formula (1)
B × 2 <A <B × 4

ここで、前記酸素の組成比A及びBは、X線光電子分光法により測定した。X線光電子分光法は、測定面のごく表面の元素組成が半定量的に測定される。本実施形態では、保護層5(最表面層)の表面の酸素の組成比率をA(atm%)とし、更にC60イオンスパッタリングにより、20nmの深さまで削り、削った面の酸素の組成比率をB(atm%)とした。尚、通常10nm程度削った当たりから酸素の組成比率はほぼ一定になる。   Here, the oxygen composition ratios A and B were measured by X-ray photoelectron spectroscopy. In X-ray photoelectron spectroscopy, the elemental composition of the very surface of the measurement surface is measured semi-quantitatively. In the present embodiment, the composition ratio of oxygen on the surface of the protective layer 5 (outermost surface layer) is A (atm%), and is further etched to a depth of 20 nm by C60 ion sputtering. (Atm%). Incidentally, the composition ratio of oxygen is generally constant from the point of being cut by about 10 nm.

上記のように、前記Aが前記Bの2倍の値(B×2)より大きいと、高酸化性ガス耐性が向上し、それに伴う濃度ムラが抑制される。前記Aが前記Bの2倍の値(B×2)以下であると、高酸化性ガス耐性が得られない。また、前記Aが前記Bの4倍の値(B×4)以上であると、高湿下での濃度ムラが発生してしまう。これは酸化で生成した−COOHなどの極性基によりイオン性物質との付着力が高まり、表面クリーニング性が劣化したためと考えられる。
前記Aは、前記Bの2.2倍の値より大きいことが好ましく、2.4倍の値より大きいことがより好ましい。一方、前記Aは、前記Bの3.9倍の値より小さいことが好ましく、3.8倍の値より小さいことがより好ましい。
As described above, when A is larger than twice the value of B (B × 2), resistance to highly oxidizing gas is improved, and density unevenness associated therewith is suppressed. When the A is not more than twice the value of B (B × 2), high oxidizing gas resistance cannot be obtained. Further, when A is 4 times the value of B (B × 4) or more, density unevenness occurs under high humidity. This is presumably because the adhesion with an ionic substance is increased by a polar group such as -COOH generated by oxidation, and the surface cleaning property is deteriorated.
The A is preferably larger than 2.2 times the B and more preferably 2.4 times. On the other hand, the A is preferably smaller than the value of 3.9 times the B, and more preferably smaller than the value of 3.8 times.

また、本実施形態の効果が発揮される点で、前記Aは8atm%以上20atm%以下であることが好ましく、10atm%以上18atm%以下であることがより好ましい。一方、前記Bは3atm%以上10atm%以下であることが好ましく、4atm%以上8atm%以下であることがより好ましい。   In view of the effects of the present embodiment, A is preferably 8 atm% or more and 20 atm% or less, more preferably 10 atm% or more and 18 atm% or less. On the other hand, the B is preferably 3 atm% or more and 10 atm% or less, more preferably 4 atm% or more and 8 atm% or less.

前記式(1)の関係を満たす方法としては、感光体を酸素濃度の高い雰囲気中での保管する方法が挙げられる。
感光体を酸素濃度の高い雰囲気中での保管する方法における酸素濃度は、25体積%以上80体積%以下であることが好ましく、30体積%以上50体積%以下であることがより好ましい。また、保管時間は、3日以上25日以下が好ましく、7日以上25日以下がより好ましい。更に、保管温度は、20℃以上60℃以下が好ましく、30℃以上60℃以下がより好ましい。
As a method of satisfying the relationship of the formula (1), a method of storing the photoconductor in an atmosphere having a high oxygen concentration can be mentioned.
The oxygen concentration in the method of storing the photoreceptor in an atmosphere having a high oxygen concentration is preferably 25% by volume or more and 80% by volume or less, and more preferably 30% by volume or more and 50% by volume or less. The storage time is preferably 3 days or more and 25 days or less, more preferably 7 days or more and 25 days or less. Furthermore, the storage temperature is preferably 20 ° C. or higher and 60 ° C. or lower, and more preferably 30 ° C. or higher and 60 ° C. or lower.

以下、保護層5についてさらに詳細に説明する。
保護層5には、グアナミン化合物(一般式(A)で示される化合物)及びメラミン化合物(一般式(B)で示される化合物)から選択される少なくとも1種と特定の電荷輸送性材料(一般式(I)で示される化合物)との架橋物と共に、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂などを混合して用いてもよい。また、強度を向上させるために、スピロアセタール系グアナミン樹脂(例えば「CTU−グアナミン」(味の素ファインテクノ(株)))など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させることも効果的である。
Hereinafter, the protective layer 5 will be described in more detail.
The protective layer 5 includes at least one selected from a guanamine compound (a compound represented by the general formula (A)) and a melamine compound (a compound represented by the general formula (B)) and a specific charge transporting material (general formula). A phenol resin, a melamine resin, a urea resin, an alkyd resin, or the like may be mixed and used together with a crosslinked product with the compound (I). Further, in order to improve the strength, a compound having more functional groups in one molecule such as spiroacetal guanamine resin (for example, “CTU-guanamine” (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.)) is used as the material in the crosslinked product. Copolymerization is also effective.

また、保護層5には、放電生成ガスを吸着しすぎないように、添加することで放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的から、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を混合して用いてもよい。   In addition, other heat such as phenol resin, melamine resin, and benzoguanamine resin is added to the protective layer 5 for the purpose of effectively suppressing oxidation by the discharge generated gas by adding so as not to absorb the discharge generated gas excessively. A curable resin may be mixed and used.

また、保護層5には界面活性剤を添加することが望ましく、用いる界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも一種類以上の構造を含む界面活性剤であれば特に制限はないが、上記構造を複数有するものが電荷輸送性有機化合物との親和性・相溶性が高く保護層用塗布液の成膜性が向上し、保護層5のシワ・ムラが抑制されるため、好適に挙げられる。   In addition, it is desirable to add a surfactant to the protective layer 5, and the surfactant to be used is particularly a surfactant that includes at least one type of structure among a fluorine atom, an alkylene oxide structure, and a silicone structure. Although there is no limitation, those having a plurality of the above structures have high affinity and compatibility with the charge transporting organic compound, and the film forming property of the coating liquid for the protective layer is improved, and wrinkles and unevenness of the protective layer 5 are suppressed. Therefore, it is preferable.

フッ素原子を有する界面活性剤としては、様々なものがあげるられる。フッ素原子およびアクリル構造を有する界面活性剤として具体的は、ポリフローKL600(共栄社化学社製)、エフトップEF−351、EF−352、EF−801、EF−802、EF−601(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。アクリル構造を有する界面活性剤とは、アクリルもしくはメタクリル化合物などのモノマーを重合もしくは共重合したものが主に挙げられる。   There are various surfactants having a fluorine atom. Specific examples of the surfactant having a fluorine atom and an acrylic structure include Polyflow KL600 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-top EF-351, EF-352, EF-801, EF-802, EF-601 (above, JEMCO Manufactured). The surfactant having an acrylic structure mainly includes those obtained by polymerizing or copolymerizing monomers such as acrylic or methacrylic compounds.

また、フッ素原子として、パーフルオロアルキル基を持つ界面活性剤として具体的には、パーフルオロアルキルスルホン酸類(例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など)、パーフルオロアルキルカルボン酸類(例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など)、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、及びパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩及びそのアミド変性体であってもよい。
パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えばメガファックF−114(大日本インキ化学工業株式会社製)、エフトップEF−101、EF102、EF−103、EF−104、EF−105、EF−112、EF−121、EF−122A、EF−122B、EF−122C、EF−123A(以上、JEMCO社製)、A−K、501(以上、ネオス社製)などが挙げられる。
Specific examples of the surfactant having a perfluoroalkyl group as a fluorine atom include perfluoroalkyl sulfonic acids (for example, perfluorobutane sulfonic acid, perfluorooctane sulfonic acid), and perfluoroalkyl carboxylic acids (for example, , Perfluorobutanecarboxylic acid, perfluorooctanecarboxylic acid, etc.) and perfluoroalkyl group-containing phosphates. Perfluoroalkylsulfonic acids and perfluoroalkylcarboxylic acids may be salts thereof and amide-modified products thereof.
Examples of commercially available perfluoroalkyl sulfonic acids include MegaFuck F-114 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), F-top EF-101, EF102, EF-103, EF-104, EF-105, and EF-. 112, EF-121, EF-122A, EF-122B, EF-122C, EF-123A (manufactured by JEMCO), AK, 501 (manufactured by Neos) and the like.

パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えばメガファックF−410(大日本インキ化学工業株式会社製)、エフトップ EF−201、EF−204(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。
パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックF−493、F−494(以上、大日本インキ化学工業株式会社製)エフトップ EF−123A、EF−123B、EF−125M、EF−132、(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。
Examples of commercially available perfluoroalkyl carboxylic acids include Megafac F-410 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), Ftop EF-201, EF-204 (and above, manufactured by JEMCO).
As commercial products of perfluoroalkyl group-containing phosphates, MegaFac F-493, F-494 (above, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) F-top EF-123A, EF-123B, EF-125M, EF -132 (above, manufactured by JEMCO).

アルキレンオキサイド構造を持つ界面活性剤としてはポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。ポリエチレングリコールとしては数平均分子量が2000以下のものが望ましく、数平均分子量が2000以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール2000(数平均分子量2000)、ポリエチレングリコール600(数平均分子量600)、ポリエチレングリコール400(数平均分子量400)、ポリエチレングリコール200(数平均分子量200)等が挙げられる。   Examples of the surfactant having an alkylene oxide structure include polyethylene glycol, polyether antifoaming agent, and polyether-modified silicone oil. The polyethylene glycol preferably has a number average molecular weight of 2000 or less, and the polyethylene glycol having a number average molecular weight of 2000 or less includes polyethylene glycol 2000 (number average molecular weight 2000), polyethylene glycol 600 (number average molecular weight 600), polyethylene glycol 400. (Number average molecular weight 400), polyethylene glycol 200 (number average molecular weight 200) and the like.

また、ポリエーテル消泡剤としては、PE−M、PE−L(以上、和光純薬工業社製)、消泡剤No.1、消泡剤No.5(以上、花王社製)等が挙げられる。
シリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーンやそれらの誘導体のような一般的なシリコーンオイルがあげられる。
Moreover, as a polyether antifoamer, PE-M, PE-L (above, Wako Pure Chemical Industries Ltd. make), antifoam No. 1. Antifoaming agent No. 1 5 (above, manufactured by Kao Corporation).
Examples of the surfactant having a silicone structure include general silicone oils such as dimethyl silicone, methylphenyl silicone, diphenyl silicone and derivatives thereof.

さらに、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造の両方を有する界面活性剤としてはアルキレンオキサイド構造、もしくはポリアルキレン構造を側鎖に有するものや、アルキレンオキサイドもしくはポリアルキレンオキサイド構造の末端がフッ素を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。アルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤として、具体的には、例えば、メガファックF−443、F−444、F−445、F−446(以上、大日本インキ化学工業株式会社製)、POLY FOX PF636、PF6320、PF6520、PF656(以上、北村化学社製)などが挙げられる。   Furthermore, surfactants having both a fluorine atom and an alkylene oxide structure include those having an alkylene oxide structure or a polyalkylene structure in the side chain, and the end of the alkylene oxide or polyalkylene oxide structure substituted with a substituent containing fluorine. And the like. Specific examples of the surfactant having an alkylene oxide structure include, for example, Megafac F-443, F-444, F-445, and F-446 (above, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), POLY FOX PF636. , PF6320, PF6520, PF656 (above, manufactured by Kitamura Chemical Co., Ltd.).

また、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造の両方を有する界面活性剤としてはKF351(A)、KF352(A)、KF353(A)、KF354(A)、KF355(A)、KF615(A)、KF618、KF945(A)、KF6004(以上、信越化学工業社製)、TSF4440、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4452、TSF4453、TSF4460(以上、GE東芝シリコン社製)、BYK−300、302、306、307、310、315、320、322、323、325、330、331、333、337、341、344、345、346、347、348、370、375、377,378、UV3500、UV3510、UV3570等(以上、ビックケミー・ジャパン株式会社社製)が挙げられる。   As surfactants having both an alkylene oxide structure and a silicone structure, KF351 (A), KF352 (A), KF353 (A), KF354 (A), KF355 (A), KF615 (A), KF618, KF945 (A), KF6004 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4445, TSF4450, TSF4446, TSF4452, TSF4453, TSF4460 (above, manufactured by GE Toshiba Silicon), BYK-300, 302, 306, 307, 310, 315, 320, 322, 323, 325, 330, 331, 333, 337, 341, 344, 345, 346, 347, 348, 370, 375, 377, 378, UV3500, UV3510, UV3570, etc. (above, Big Chemie Ja Emissions Co., Ltd.) and the like.

界面活性剤の含有量は、保護層7の固形分全量に対して、望ましくは0.01質量%以上1質量%以下、より望ましくは0.02質量%以上0.5質量%以下である。フッ素原子を有する界面活性剤の含有量が0.01質量%以上とすることでシワ・ムラが抑制などの塗膜欠陥防止効果がより大きくなる傾向にある。また、フッ素原子を有する界面活性剤の含有量が1質量%以下とすることで、当該フッ素原子を有する界面活性剤と硬化樹脂の分離しにくくなり、得られる硬化物の強度が維持される傾向にある。   The content of the surfactant is desirably 0.01% by mass or more and 1% by mass or less, and more desirably 0.02% by mass or more and 0.5% by mass or less with respect to the total solid content of the protective layer 7. When the content of the surfactant having a fluorine atom is 0.01% by mass or more, the effect of preventing coating film defects such as suppression of wrinkles and unevenness tends to increase. Further, when the content of the surfactant having a fluorine atom is 1% by mass or less, it becomes difficult to separate the surfactant having the fluorine atom from the cured resin, and the strength of the obtained cured product tends to be maintained. It is in.

また、保護層5には、さらに、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、フッ素化合物と混合して用いても良い。この化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。   Further, the protective layer 5 may be used in combination with another coupling agent or a fluorine compound for the purpose of adjusting the film formability, flexibility, lubricity, and adhesiveness of the film. As this compound, various silane coupling agents and commercially available silicone hard coat agents are used.

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が用いられる。市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−8239(以上、信越シリコーン社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が用いられる。また、撥水性等の付与のために、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えても良い。シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で0.25倍以下とすることが望ましい。この使用量を超えると、架橋膜の成膜性に問題が生じる場合がある。   As the silane coupling agent, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, and the like are used. As a commercially available hard coat agent, KP-85, X-40-9740, X-8239 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), AY42-440, AY42-441, AY49-208 (manufactured by Toray Dow Corning) Etc. are used. In addition, (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl) triethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, 3- (hepta) for imparting water repellency and the like. Fluoroisopropoxy) propyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluoroalkyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl Fluorine-containing compounds such as triethoxysilane may be added. Although the silane coupling agent is used in an arbitrary amount, the amount of the fluorine-containing compound is desirably 0.25 times or less by mass with respect to the compound not containing fluorine. If this amount is exceeded, there may be a problem with the film formability of the crosslinked film.

保護層5には、帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を添加することが望ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長い時間接触することになるため、従来より強い酸化耐性が要求される。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては20質量%以下が望ましく、10質量%以下がより望ましい。   It is desirable to add an antioxidant to the protective layer 5 for the purpose of preventing deterioration due to an oxidizing gas such as ozone generated in the charging device. When the mechanical strength of the surface of the photoconductor is increased and the photoconductor has a long life, the photoconductor is in contact with the oxidizing gas for a long time, and therefore, stronger oxidation resistance is required than before. Antioxidants are preferably hindered phenols or hindered amines, organic sulfur antioxidants, phosphite antioxidants, dithiocarbamate antioxidants, thiourea antioxidants, benzimidazole antioxidants. , Etc., may be used. The addition amount of the antioxidant is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナマイド、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、2−t−ブチル−6−(3−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)等が挙げられる。   Examples of the hindered phenol antioxidant include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,5-di-t-butylhydroquinone, N, N′-hexamethylene bis (3,5-di). -T-butyl-4-hydroxyhydrocinnamide, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzylphosphonate-diethyl ester, 2,4-bis [(octylthio) methyl] -o-cresol, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol) 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,5-di-t-amylhydroquinone, 2-t-butyl-6- (3-butyl-2- Dorokishi-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 4,4'-butylidene bis (3-methyl -6-t-butylphenol) and the like.

更に、保護層5には、残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径1nm以上100nm以下、望ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、又はエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。保護層5中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、保護層5の全固形分全量を基準として、0.1質量%以上50質量%以下、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下の範囲で用いられる。   Furthermore, various particles may be added to the protective layer 5 for the purpose of lowering the residual potential or improving the strength. An example of the particles is silicon-containing particles. The silicon-containing particles are particles containing silicon as a constituent element, and specific examples include colloidal silica and silicone particles. Colloidal silica used as silicon-containing particles is prepared by dispersing silica having an average particle size of 1 nm to 100 nm, preferably 10 nm to 30 nm in an organic solvent such as an acidic or alkaline aqueous dispersion, alcohol, ketone, or ester. A commercially available product may be used. The solid content of colloidal silica in the protective layer 5 is not particularly limited, but 0.1% based on the total solid content of the protective layer 5 in terms of film forming properties, electrical characteristics, and strength. It is used in the range of mass% to 50 mass%, desirably 0.1 mass% to 30 mass%.

ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは1nm以上500nm以下、より望ましくは10nm以上100nm以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中にバラツキが生じることなくに取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。保護層5中のシリコーン粒子の含有量は、保護層5の全固形分全量を基準として、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下、より望ましくは0.5質量%以上10質量%以下である。   The silicone particles used as the silicon-containing particles are selected from silicone resin particles, silicone rubber particles, and silicone surface-treated silica particles, and those commercially available are generally used. These silicone particles are spherical, and the average particle size is desirably 1 nm or more and 500 nm or less, and more desirably 10 nm or more and 100 nm or less. Silicone particles are small particles that are chemically inert and excellent in dispersibility in resins, and since the content required to obtain more sufficient properties is low, the crosslinking reaction is not hindered. The surface properties of the photographic photoreceptor are improved. In other words, it is improved in lubricity and water repellency on the surface of the electrophotographic photosensitive member in a state of being taken in without a variation in a strong cross-linked structure, and has good wear resistance and contamination resistance adhesion over a long period of time. Maintained. The content of the silicone particles in the protective layer 5 is desirably 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, more desirably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, based on the total amount of the total solid content of the protective layer 5. It is.

また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集 p89”に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ZnO−Al、SnO−Sb、In−SnO、ZnO−TiO、ZnO−TiO、MgO−Al、FeO−TiO、TiO、SnO、In、ZnO、MgO等の半導電性(体積抵抗値が10Ωcm以上1011Ωcm以下)金属酸化物が挙げられる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5−トリメチル−1.3.5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。 Other particles include fluorine-based particles such as ethylene tetrafluoride, ethylene trifluoride, propylene hexafluoride, vinyl fluoride, vinylidene fluoride, and “8th Polymer Material Forum Lecture Proceedings p89”. As shown, particles made of a resin obtained by copolymerizing a fluororesin and a monomer having a hydroxyl group, ZnO—Al 2 O 3 , SnO 2 —Sb 2 O 3 , In 2 O 3 —SnO 2 , ZnO 2 —TiO 2 , ZnO -TiO 2 , MgO—Al 2 O 3 , FeO—TiO 2 , TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnO, MgO, etc., semiconductive (volume resistance value is 10 2 Ωcm or more and 10 11 Ωcm or less) metal An oxide is mentioned. For the same purpose, an oil such as silicone oil may be added. Silicone oils include silicone oils such as dimethylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane, and phenylmethylsiloxane; amino-modified polysiloxane, epoxy-modified polysiloxane, carboxyl-modified polysiloxane, carbinol-modified polysiloxane, methacryl-modified polysiloxane, mercapto-modified poly Reactive silicone oils such as siloxane and phenol-modified polysiloxane; cyclic dimethylcyclosiloxanes such as hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane and dodecamethylcyclohexasiloxane; 1,3,5- Trimethyl-1.3.5-triphenylcyclotrisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenylcyclo Cyclic methylphenylcyclosiloxanes such as trasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethyl-1,3,5,7,9-pentaphenylcyclopentasiloxane; cyclic phenylcyclosiloxanes such as hexaphenylcyclotrisiloxane Fluorine-containing cyclosiloxanes such as (3,3,3-trifluoropropyl) methylcyclotrisiloxane; hydrosilyl group-containing cyclosiloxanes such as methylhydrosiloxane mixtures, pentamethylcyclopentasiloxane, and phenylhydrocyclosiloxane; penta And vinyl group-containing cyclosiloxanes such as vinylpentamethylcyclopentasiloxane.

また、保護層5には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の点で0.3μm以下、特に0.1μm以下が望ましい。   Further, a metal, metal oxide, carbon black, or the like may be added to the protective layer 5. Examples of the metal include aluminum, zinc, copper, chromium, nickel, silver, and stainless steel, or those obtained by depositing these metals on the surface of plastic particles. Examples of the metal oxide include zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, bismuth oxide, indium oxide doped with tin, tin oxide doped with antimony and tantalum, and zirconium oxide doped with antimony. . These may be used alone or in combination of two or more. When two or more types are used in combination, they may be simply mixed, or may be in the form of a solid solution or fusion. The average particle diameter of the conductive particles is preferably 0.3 μm or less, particularly preferably 0.1 μm or less, from the viewpoint of the transparency of the protective layer.

保護層5には、グアナミン化合物及びメラミン化合物や電荷輸送性材料の硬化を促進するために硬化触媒を使用してもよい。硬化触媒として酸系の触媒を望ましく用いられる。酸系の触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸、安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、などの脂肪族、及び芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料を用いることが望ましい。   In the protective layer 5, a curing catalyst may be used in order to accelerate curing of the guanamine compound, the melamine compound and the charge transporting material. An acid catalyst is preferably used as the curing catalyst. Acid-based catalysts include acetic acid, chloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, maleic acid, malonic acid, lactic acid and other aliphatic carboxylic acids, benzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, etc. Aromatic carboxylic acids, methane sulfonic acids, dodecyl sulfonic acids, benzene sulfonic acids, aliphatics such as dodecyl benzene sulfonic acids, naphthalene sulfonic acids, and aromatic sulfonic acids are used, but sulfur-containing materials should be used. desirable.

硬化触媒として含硫黄系材料を用いることにより、この含硫黄系材料がグアナミン化合物及びメラミン化合物や電荷輸送性材料の硬化触媒として優れた機能を発揮し、硬化反応を促進して得られる保護層5の機械的強度がより向上される。更に、電荷輸送性材料として上記一般式(I)(一般式(II)を含む)で表される化合物を用いる場合、含硫黄系材料は、これら電荷輸送性材料に対するドーパントとしても優れた機能を発揮し、得られる機能層の電気特性がより向上される。その結果、電子写真感光体を形成した場合に、機械強度、成膜性及び電気特性の全てが高水準で達成される。   By using a sulfur-containing material as a curing catalyst, the sulfur-containing material exhibits an excellent function as a curing catalyst for a guanamine compound, a melamine compound or a charge transporting material, and a protective layer 5 obtained by accelerating the curing reaction. The mechanical strength of is improved. Furthermore, when the compound represented by the above general formula (I) (including the general formula (II)) is used as the charge transport material, the sulfur-containing material has an excellent function as a dopant for these charge transport materials. The electrical characteristics of the obtained functional layer are further improved. As a result, when an electrophotographic photosensitive member is formed, all of mechanical strength, film formability, and electrical characteristics are achieved at a high level.

硬化触媒としての含硫黄系材料は、常温(例えば25℃)、又は、加熱後に酸性を示すものが望ましく、接着性、ゴースト、電気特性の観点で有機スルホン酸及びその誘導体の少なくとも1種が最も望ましい。保護層5中にこれら触媒の存在は、XPS等により容易に確認される。   The sulfur-containing material as a curing catalyst is preferably at room temperature (for example, 25 ° C.) or exhibits acidity after heating, and at least one of organic sulfonic acid and its derivatives is most preferable from the viewpoint of adhesiveness, ghost, and electrical characteristics. desirable. The presence of these catalysts in the protective layer 5 is easily confirmed by XPS or the like.

有機スルホン酸及び/又はその誘導体としては、例えば、パラトルエンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸(DNNSA)、ジノニルナフタレンジスルホン酸(DNNDSA)、ドデシルベンゼンスルホン酸、フェノールスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、触媒能、成膜性の観点から、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸が望ましい。また、硬化性樹脂組成物中で、ある程度解離可能であれば、有機スルホン酸塩を用いてもよい。   Examples of the organic sulfonic acid and / or a derivative thereof include p-toluenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid (DNNSA), dinonylnaphthalenedisulfonic acid (DNNDSA), dodecylbenzenesulfonic acid, and phenolsulfonic acid. Among these, paratoluenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid are desirable from the viewpoint of catalytic ability and film formability. Further, an organic sulfonate may be used as long as it can be dissociated to some extent in the curable resin composition.

また、一定以上の温度をかけたときに触媒能力が高くなる、所謂、熱潜在性触媒を用いることで、液保管温度では触媒能が低く、硬化時に触媒能が高くなるため、硬化温度の低下と、保存安定性が両立される。   In addition, by using a so-called thermal latent catalyst that increases the catalytic ability when a temperature above a certain level is applied, the catalytic ability is low at the liquid storage temperature and the catalytic ability is high at the time of curing. And storage stability.

熱潜在性触媒として、たとえば有機スルホン化合物等をポリマーで粒子状に包んだマイクロカプセル、ゼオライトの如く空孔化合物に酸等を吸着させたもの、プロトン酸及び/又はプロトン酸誘導体を塩基でブロックした熱潜在性プロトン酸触媒や、プロトン酸及び/又はプロトン酸誘導体を一級もしくは二級のアルコールでエステル化したもの、プロトン酸及び/又はプロトン酸誘導体をビニルエーテル類及び/又はビニルチオエーテル類でブロックしたもの、三フッ化ホウ素のモノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素のピリジン錯体などがあげられる。   As a heat latent catalyst, for example, a microcapsule in which an organic sulfone compound or the like is encapsulated in a polymer form, an adsorbed acid or the like on a pore compound such as zeolite, and a proton acid and / or proton acid derivative is blocked with a base Thermal latent proton acid catalyst, proton acid and / or proton acid derivative esterified with primary or secondary alcohol, proton acid and / or proton acid derivative blocked with vinyl ethers and / or vinyl thioethers And boron trifluoride monoethylamine complex, boron trifluoride pyridine complex, and the like.

中でも、触媒能、保管安定性、入手性、コストの面でプロトン酸及び/又はプロトン酸誘導体を塩基でブロックしたものが望ましい。   Among them, a product obtained by blocking a protonic acid and / or a protonic acid derivative with a base in terms of catalytic ability, storage stability, availability, and cost is desirable.

熱潜在性プロトン酸触媒のプロトン酸として、硫酸、塩酸、酢酸、ギ酸、硝酸、リン酸、スルホン酸、モノカルボン酸、ポリカルボン酸類、プロピオン酸、シュウ酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フタル酸、マレイン酸、ベンゼンスルホン酸、o、m、p−トルエンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。また、プロトン酸誘導体として、スルホン酸、リン酸等のプロトン酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属円などの中和物、プロトン酸骨格が高分子鎖中に導入された高分子化合物(ポリビニルスルホン酸等)等が挙げられる。プロトン酸をブロックする塩基として、アミン類が挙げられる。   As the protonic acid of the heat latent protonic acid catalyst, sulfuric acid, hydrochloric acid, acetic acid, formic acid, nitric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, monocarboxylic acid, polycarboxylic acids, propionic acid, oxalic acid, benzoic acid, acrylic acid, methacrylic acid, Itaconic acid, phthalic acid, maleic acid, benzenesulfonic acid, o, m, p-toluenesulfonic acid, styrenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, dinonylnaphthalenedisulfonic acid, decylbenzenesulfonic acid, undecylbenzenesulfonic acid, Examples include tridecylbenzenesulfonic acid, tetradecylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid and the like. In addition, as a proton acid derivative, a neutral compound such as an alkali metal salt or alkaline earth metal circle of a proton acid such as sulfonic acid or phosphoric acid, a polymer compound in which a proton acid skeleton is introduced into a polymer chain (polyvinylsulfone) Acid, etc.). Examples of the base that blocks the protonic acid include amines.

アミン類として、1級、2級又は3級アミンに分類される。特に制限はなく、いずれも使用してもよい。   The amines are classified as primary, secondary or tertiary amines. There is no restriction in particular and any of them may be used.

1級アミンとして、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、t−ブチルアミン、ヘキシルアミン、2−エチルヘキシルアミン、セカンダリーブチルアミン、アリルアミン、メチルヘキシルアミン等が挙げられる。   Examples of the primary amine include methylamine, ethylamine, propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, t-butylamine, hexylamine, 2-ethylhexylamine, secondary butylamine, allylamine, and methylhexylamine.

2級アミンとして、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジn−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジn−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジt−ブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジ(2−エチルヘキシル)アミン、N−イソプロピルN−イソブチルアミン、ジ(2−エチルヘキシル)アミン、ジセカンダリーブチルアミン、ジアリルアミン、N−メチルヘキシルアミン、3−ピペコリン、4−ピペコリン、2,4−ルペチジン、2,6−ルペチジン、3,5−ルペチジン、モルホリン、N−メチルベンジルアミン等が挙げられる。   As secondary amines, dimethylamine, diethylamine, di-n-propylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, diisobutylamine, di-t-butylamine, dihexylamine, di (2-ethylhexyl) amine, N-isopropyl N-isobutylamine , Di (2-ethylhexyl) amine, disecondary butylamine, diallylamine, N-methylhexylamine, 3-pipecoline, 4-pipecoline, 2,4-lupetidine, 2,6-lupetidine, 3,5-lupetidine, morpholine, N -Methylbenzylamine and the like.

3級アミンとして、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリn−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリn−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリt−ブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリ(2−エチルヘキシル)アミン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアリルアミン、N−メチルジアリルアミン、トリアリルアミン、N,N−ジメチルアリルアミン、N,N,N’,N’ーテトラメチルー1,2ージアミノエタン、N,N,N’,N’ーテトラメチルー1,3ージアミノプロパン、N,N,N’,N’ーテトラアリルー1,4ージアミノブタン、Nーメチルピペリジン、ピリジン、4ーエチルピリジン、Nープロピルジアリルアミン、3−ジメチルアミノプロパノ−ル、2−エチルピラジン、2,3−ジメチルピラジン、2,5−ジメチルピラジン、2,4−ルチジン、2,5−ルチジン、3,4−ルチジン、3,5−ルチジン、2,4,6−コリジン、2−メチル−4−エチルピリジン、2−メチル−5−エチルピリジン、N,N,N’,N’ −テトラメチルヘキサメチレンジアミン、N−エチル−3−ヒドロキシピペリジン、3−メチル−4−エチルピリジン、3−エチル−4−メチルピリジン、4−(5−ノニル)ピリジン、イミダゾ−ル、N−メチルピペラジン等が挙げられる。   As tertiary amines, trimethylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, triisobutylamine, tri-t-butylamine, trihexylamine, tri (2-ethylhexyl) amine, N-methylmorpholine, N, N-dimethylallylamine, N-methyldiallylamine, triallylamine, N, N-dimethylallylamine, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,2-diaminoethane, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,3 -Diaminopropane, N, N, N ', N'-tetraallyl-1,4-diaminobutane, N-methylpiperidine, pyridine, 4-ethylpyridine, N-propyldiallylamine, 3-dimethylaminopropanol, 2-ethylpyrazine, 2, 3-di Tilpyrazine, 2,5-dimethylpyrazine, 2,4-lutidine, 2,5-lutidine, 3,4-lutidine, 3,5-lutidine, 2,4,6-collidine, 2-methyl-4-ethylpyridine, 2-methyl-5-ethylpyridine, N, N, N ′, N′-tetramethylhexamethylenediamine, N-ethyl-3-hydroxypiperidine, 3-methyl-4-ethylpyridine, 3-ethyl-4-methyl Pyridine, 4- (5-nonyl) pyridine, imidazole, N-methylpiperazine and the like can be mentioned.

市販品としては、キングインダストリーズ社製の「NACURE2501」(トルエンスルホン酸解離、メタノール/イソプロパノール溶媒、pH6.0以上pH7.2以下、解離温度80℃)、「NACURE2107」(p−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、pH8.0以上pH9.0以下、解離温度90℃)、「NACURE2500」(p−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、pH6.0以上pH7.0以下、解離温度65℃)、「NACURE2530」(p−トルエンスルホン酸解離、メタノール/イソプロパノール溶媒、pH5.7以上pH6.5以下、解離温度65℃)、「NACURE2547」(p−トルエンスルホン酸解離、水溶液、pH8.0以上pH9.0以下、解離温度107℃)、「NACURE2558」(p−トルエンスルホン酸解離、エチレングリコール溶媒、pH3.5以上pH4.5以下、解離温度80℃)、「NACUREXP−357」(p−トルエンスルホン酸解離、メタノール溶媒、pH2.0以上pH4.0以下、解離温度65℃)、「NACUREXP−386」(p−トルエンスルホン酸解離、水溶液、pH6.1以上pH6.4以下、解離温度80℃)、「NACUREXC―2211」(p−トルエンスルホン酸解離、pH7.2以上pH8.5以下、解離温度80℃)、「NACURE5225」(ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、pH6.0以上pH7.0以下、解離温度120℃)、「NACURE5414」(ドデシルベンゼンスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度120℃)、「NACURE5528」(ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、pH7.0以上pH8.0以下、解離温度120℃)、「NACURE5925」(ドデシルベンゼンスルホン酸解離、pH7.0以上pH7.5以下、解離温度130℃)、「NACURE1323」(ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン溶媒、pH6.8以上pH7.5以下、解離温度150℃)、「NACURE1419」(ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン/メチルイソブチルケトン溶媒、解離温度150℃)、「NACURE1557」(ジノニルナフタレンスルホン酸解離、ブタノール/2−ブトキシエタノール溶媒、pH6.5以上pH7.5以下、解離温度150℃)、「NACUREX49−110」(ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール/イソプロパノール溶媒、pH6.5以上pH7.5以下、解離温度90℃)、「NACURE3525」(ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール/イソプロパノール溶媒、pH7.0以上pH8.5以下、解離温度120℃)、「NACUREXP−383」(ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度120℃)、「NACURE3327」(ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール/イソプロパノール溶媒、pH6.5以上pH7.5以下、解離温度150℃)、「NACURE4167」(リン酸解離、イソプロパノール/イソブタノール溶媒、pH6.8以上pH7.3以下、解離温度80℃)、「NACUREXP−297」(リン酸解離、水/イソプロパノール溶媒、pH6.5以上pH7.5以下、解離温度90℃、「NACURE4575」(リン酸解離、pH7.0以上pH8.0以下、解離温度110℃)等が挙げられる。
これらの熱潜在性触媒は単独又は二種類以上組み合わせても使用される。
Commercially available products include “NACURE2501” (toluenesulfonic acid dissociation, methanol / isopropanol solvent, pH 6.0 to pH 7.2, dissociation temperature 80 ° C.), “NACURE2107” (p-toluenesulfonic acid dissociation, manufactured by King Industries, Inc. Isopropanol solvent, pH 8.0 to pH 9.0, dissociation temperature 90 ° C.) “NACURE 2500” (p-toluenesulfonic acid dissociation, isopropanol solvent, pH 6.0 to pH 7.0, dissociation temperature 65 ° C.), “NACURE 2530” (P-toluenesulfonic acid dissociation, methanol / isopropanol solvent, pH 5.7 to pH 6.5, dissociation temperature 65 ° C.), “NACURE2547” (p-toluenesulfonic acid dissociation, aqueous solution, pH 8.0 to pH 9.0, Dissociation temperature 107 ), “NACURE2558” (p-toluenesulfonic acid dissociation, ethylene glycol solvent, pH 3.5 to pH4.5, dissociation temperature 80 ° C.), “NACUREXP-357” (p-toluenesulfonic acid dissociation, methanol solvent, pH 2. 0 to pH 4.0, dissociation temperature 65 ° C.) “NACUREXP-386” (p-toluenesulfonic acid dissociation, aqueous solution, pH 6.1 to pH 6.4, dissociation temperature 80 ° C.), “NACUREX C-2211” (p -Toluenesulfonic acid dissociation, pH 7.2 to pH 8.5, dissociation temperature 80 ° C.), “NACURE 5225” (dodecylbenzenesulfonic acid dissociation, isopropanol solvent, pH 6.0 to pH 7.0, dissociation temperature 120 ° C.), “ NACURE 5414 "(dodecylbenzenesulfonic acid dissociation, key Ren solvent, dissociation temperature 120 ° C.), “NACURE 5528” (dodecylbenzenesulfonic acid dissociation, isopropanol solvent, pH 7.0 to pH 8.0, dissociation temperature 120 ° C.), “NACURE 5925” (dodecylbenzenesulfonic acid dissociation, pH 7.0) PH 7.5 or less, dissociation temperature 130 ° C., “NACURE 1323” (disinyl naphthalene sulfonic acid dissociation, xylene solvent, pH 6.8 to pH 7.5, dissociation temperature 150 ° C.), “NACURE 1419” (dinonyl naphthalene sulfonic acid Dissociation, xylene / methyl isobutyl ketone solvent, dissociation temperature 150 ° C.), “NACURE1557” (dinonylnaphthalenesulfonic acid dissociation, butanol / 2-butoxyethanol solvent, pH 6.5 to pH 7.5, dissociation temperature 150 ° C.), “ NA CUREX 49-110 ”(dinonyl naphthalene disulfonic acid dissociation, isobutanol / isopropanol solvent, pH 6.5 to pH 7.5, dissociation temperature 90 ° C.),“ NACURE 3525 ”(dinonyl naphthalene disulfonic acid dissociation, isobutanol / isopropanol solvent, pH 7.0 to pH 8.5, dissociation temperature 120 ° C., “NACUREXP-383” (dinonyl naphthalene disulfonic acid dissociation, xylene solvent, dissociation temperature 120 ° C.), “NACURE 3327” (dinonyl naphthalene disulfonic acid dissociation, isobutanol / Isopropanol solvent, pH 6.5 to pH 7.5, dissociation temperature 150 ° C.), “NACURE4167” (phosphoric acid dissociation, isopropanol / isobutanol solvent, pH 6.8 to pH 7.3, dissociation temperature 80 ), “NACUREXP-297” (phosphoric acid dissociation, water / isopropanol solvent, pH 6.5 to pH 7.5, dissociation temperature 90 ° C., “NACURE 4575” (phosphoric acid dissociation, pH 7.0 to pH 8.0, dissociation temperature) 110 ° C.).
These thermal latent catalysts may be used alone or in combination of two or more.

ここで、触媒の配合量は、上記グアナミン化合物(一般式(A)で示される化合物)及びメラミン化合物(一般式(B)で示される化合物)から選択される少なくとも1種の量(塗布液における固形分濃度)に対し、0.1質量%以上50質量%以下の範囲であることが望ましく、とくに10質量%以上30質量%以下が望ましい。この配合量が上記範囲未満であると、触媒活性が低すぎることがあり、上記範囲を超えると耐光性が悪くなることがある。なお、耐光性とは、感光層が室内光などの外界からの光にさらされたときに、照射された部分が濃度低下を起こす現象のことを言う。原因は、明らかではないが、特開平5−099737号公報にあるように、光メモリー効果と同様の現象が起こっているためであると推定される。   Here, the compounding amount of the catalyst is at least one amount selected from the guanamine compound (the compound represented by the general formula (A)) and the melamine compound (the compound represented by the general formula (B)) (in the coating solution). The solid content concentration is preferably in the range of 0.1% by mass to 50% by mass, and more preferably 10% by mass to 30% by mass. When the amount is less than the above range, the catalytic activity may be too low, and when it exceeds the above range, the light resistance may be deteriorated. The light resistance refers to a phenomenon in which the irradiated portion causes a decrease in density when the photosensitive layer is exposed to light from the outside such as room light. The cause is not clear, but it is presumed that this is because a phenomenon similar to the optical memory effect occurs as disclosed in JP-A-5-099737.

以上の構成の保護層5は、上記グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも1種と上記特定の電荷輸送性材料の少なくとも1種とを少なくとも含む皮膜形成用塗布液を用いて形成される。この皮膜形成用塗布液は、必要に応じて、上記保護層5の構成成分が添加される。   The protective layer 5 having the above-described configuration is formed using a coating liquid for film formation containing at least one selected from the above guanamine compounds and melamine compounds and at least one of the specific charge transport materials. In the coating liquid for film formation, the constituent components of the protective layer 5 are added as necessary.

当該皮膜形成用塗布液の調整は、無溶媒で行うか、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を用いて行ってもよい。かかる溶剤は1種を単独で又は2種以上を混合して使用可能であるが、望ましくは沸点が100℃以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも1種以上の水酸基を持つ溶剤(例えば、アルコール類等)を用いることがよい。   The coating solution for film formation is prepared without a solvent or, if necessary, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers such as tetrahydrofuran, diethyl ether and dioxane. You may carry out using solvents, such as. Such solvents can be used singly or in combination of two or more, and preferably have a boiling point of 100 ° C. or lower. As the solvent, it is particularly preferable to use a solvent having at least one hydroxyl group (for example, alcohol).

溶剤量は任意に設定されるが、少なすぎるとグアナミン化合物(一般式(A)で示される化合物)及びメラミン化合物(一般式(B)で示される化合物)が析出しやすくなるため、グアナミン化合物(一般式(A)で示される化合物)及びメラミン化合物(一般式(B)で示される化合物)から選択される少なくとも1種の1質量部に対し0.5質量部以上30質量部以下、望ましくは、1質量部以上20質量部以下で使用される。   The amount of the solvent is arbitrarily set, but if it is too small, the guanamine compound (the compound represented by the general formula (A)) and the melamine compound (the compound represented by the general formula (B)) are likely to be precipitated. 0.5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, preferably 1 part by mass of at least one kind selected from a compound represented by formula (A) and a melamine compound (compound represented by formula (B)) 1 to 20 parts by mass is used.

また、上記成分を反応させて塗布液を得るときには、単純に混合、溶解させるだけでもよいが、室温(例えば25℃)以上100℃以下、望ましくは、30℃以上80℃以下で10分以上100時間以下、望ましくは1時間以上50時間以下加温しても良い。また、この際に超音波を照射することも望ましい。これにより、恐らく部分的な反応が進行し、塗膜欠陥のなく膜厚のバラツキが少ない膜が得られやすくなる。   In addition, when the coating liquid is obtained by reacting the above components, it may be simply mixed and dissolved, but it is room temperature (for example, 25 ° C.) to 100 ° C., preferably 30 ° C. to 80 ° C. for 10 minutes to 100 Heating may be performed for a period of time or less, preferably 1 hour or more and 50 hours or less. It is also desirable to irradiate ultrasonic waves at this time. Thereby, it is likely that a partial reaction proceeds, and it is easy to obtain a film having no coating film defects and little variation in film thickness.

そして、皮膜形成用塗布液を電荷輸送層3の上に、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布し、必要に応じて例えば温度100℃以上170以下で加熱することで、硬化させることで、保護層5が得られる。   Then, a coating solution for forming a film is formed on the charge transport layer 3 by a usual method such as a blade coating method, a Mayer bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, or a curtain coating method. The protective layer 5 can be obtained by curing by applying at a temperature of, for example, 100 ° C. or more and 170 or less if necessary.

なお、皮膜形成用塗布液は、感光体用途以外にも、例えば、蛍光発色性塗料、ガラス表面、プラスチック表面などの帯電防止膜等に利用される。この皮膜形成用塗布液を用いると、下層に対する密着性に優れた皮膜が形成され、長期にわたる繰り返し使用による性能劣化が抑制される。   The coating liquid for forming a film is used for, for example, an antistatic film on a fluorescent coloring paint, a glass surface, a plastic surface, etc., in addition to the use as a photoreceptor. When this coating liquid for forming a film is used, a film having excellent adhesion to the lower layer is formed, and performance deterioration due to repeated use over a long period is suppressed.

ここで、上記電子写真感光体は、機能分離型の例を説明したが、単層型感光層6(電荷発生/電荷輸送層)中の電荷発生材料の含有量は、10質量%以上85質量%以下程度、望ましくは20質量%以上50質量%以下である。また、電荷輸送材料の含有量は5質量%以上50質量%以下とすることが望ましい。単層型感光層6(電荷発生/電荷輸送層)の形成方法は、電荷発生層2や電荷輸送層3の形成方法と同様である。単層型感光層(電荷発生/電荷輸送層)6の膜厚は5μm以上50μm以下程度が望ましく、10μm以上40μm以下とするのがさらに望ましい。   Here, the electrophotographic photoreceptor has been described as an example of the function separation type, but the content of the charge generation material in the single-layer type photosensitive layer 6 (charge generation / charge transport layer) is 10% by mass or more and 85% by mass. % Or less, desirably 20 mass% or more and 50 mass% or less. In addition, the content of the charge transport material is desirably 5% by mass or more and 50% by mass or less. The method for forming the single-layer type photosensitive layer 6 (charge generation / charge transport layer) is the same as the method for forming the charge generation layer 2 and the charge transport layer 3. The film thickness of the single-layer type photosensitive layer (charge generation / charge transport layer) 6 is preferably about 5 μm to 50 μm, and more preferably 10 μm to 40 μm.

なお、以上の説明は、感光層の最表面層が保護層5であり、保護層5がグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも1種と、特定の電荷輸送性材料(例えば、一般式(I)で示される化合物)との架橋物を含有し、前記式(1)の関係を満たす層である形態を説明したが、保護層5がない層構成の場合、例えば、その最表面層に位置する電荷輸送層が上記構成(グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも1種と、特定の電荷輸送性材料(一般式(I)で示される化合物)との架橋物を含有し、前記式(1)の関係を満たす)であってもよい。   In the above description, the outermost surface layer of the photosensitive layer is the protective layer 5, and the protective layer 5 is at least one selected from a guanamine compound and a melamine compound, and a specific charge transporting material (for example, the general formula ( In the case of a layer structure containing a cross-linked product with the compound represented by I) and satisfying the relationship of the formula (1), but in the case of a layer configuration without the protective layer 5, for example, in the outermost surface layer The charge transport layer located contains a cross-linked product of the above structure (at least one selected from guanamine compounds and melamine compounds and a specific charge transport material (compound represented by the general formula (I)), (The relationship of (1) may be satisfied).

(画像形成装置/プロセスカートリッジ)
図4は、実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置100は、図4に示すように。電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9と、転写装置40と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置(静電潜像形成手段)9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光可能な位置に配置されており、転写装置(転写手段)40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。
(Image forming device / process cartridge)
FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating the image forming apparatus according to the embodiment. The image forming apparatus 100 is as shown in FIG. A process cartridge 300 including the electrophotographic photosensitive member 7, an exposure device 9, a transfer device 40, and an intermediate transfer member 50 are provided. In the image forming apparatus 100, the exposure device (electrostatic latent image forming unit) 9 is disposed at a position where the electrophotographic photoreceptor 7 can be exposed from the opening of the process cartridge 300, and the transfer device (transfer unit) 40. Is disposed at a position facing the electrophotographic photosensitive member 7 through the intermediate transfer member 50, and a part of the intermediate transfer member 50 is disposed in contact with the electrophotographic photosensitive member 7.

図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8、現像装置(現像手段)11及びクリーニング装置13を一体に支持している。クリーニング装置(トナー除去手段)13は、クリーニングブレード(クリーニング部材)を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。   A process cartridge 300 in FIG. 4 integrally supports an electrophotographic photosensitive member 7, a charging device 8, a developing device (developing means) 11, and a cleaning device 13 in a housing. The cleaning device (toner removing means) 13 has a cleaning blade (cleaning member), and the cleaning blade 131 is disposed so as to contact the surface of the electrophotographic photosensitive member 7.

また、潤滑材14を感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、クリーニングをアシストする繊維状部材133(平ブラシ状)を用いた例を示してあるが、これらは必要に応じて使用してもよい。   Further, an example is shown in which a fibrous member 132 (roll shape) for supplying the lubricant 14 to the surface of the photoreceptor 7 and a fibrous member 133 (flat brush shape) for assisting cleaning are used. It may be used accordingly.

帯電装置8としては、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等が好ましく使用される。   As the charging device 8, a non-contact type roller charger, a known charger such as a scorotron charger using a corona discharge or a corotron charger is preferably used.

なお、図示しないが、画像の安定性を高める目的で、電子写真感光体7の周囲には、電子写真感光体7の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。   Although not shown, a photosensitive member heating member for increasing the temperature of the electrophotographic photosensitive member 7 and reducing the relative temperature is provided around the electrophotographic photosensitive member 7 for the purpose of improving the stability of the image. Also good.

露光装置9としては、例えば、感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザーや青色レーザーとして400nm以上450nm以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビーム出力が可能なタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。   Examples of the exposure apparatus 9 include optical system devices that expose the surface of the photoconductor 7 with light such as semiconductor laser light, LED light, and liquid crystal shutter light in a desired image-like manner. The wavelength of the light source is in the spectral sensitivity region of the photoreceptor. As the wavelength of the semiconductor laser, near infrared having an oscillation wavelength near 780 nm is the mainstream. However, the present invention is not limited to this wavelength, and an oscillation wavelength laser in the 600 nm range or a laser having an oscillation wavelength in the vicinity of 400 nm to 450 nm as a blue laser may be used. For color image formation, a surface-emitting laser light source capable of multi-beam output is also effective.

現像装置11としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。   As the developing device 11, for example, a general developing device that performs development by bringing a magnetic or non-magnetic one-component developer or a two-component developer into contact or non-contact may be used. The developing device is not particularly limited as long as it has the functions described above, and is selected according to the purpose. For example, a known developing device having a function of attaching the one-component developer or the two-component developer to the photoreceptor 7 using a brush, a roller, or the like can be used. Among these, those using a developing roller holding the developer on the surface are desirable.

以下、現像装置11に使用されるトナーについて説明する。
本実施形態の画像形成装置に用いられるトナーは、高い現像性及び転写性並びに高画質を得る観点から、平均形状係数(形状係数:(ML/A)×(π/4)×100の個数平均、ここでMLは粒子の最大長を表し、Aは粒子の投影面積を表す)が100以上150以下であることが望ましく、105以上145以下であることがより望ましく、110以上140以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が3μm以上12μm以下であることが望ましく、3.5μm以上10μm以下であることがより望ましく、4μm以上9μm以下であることがさらに望ましい。この平均形状係数及び体積平均粒子径を満たすトナーを用いることにより、現像性及び転写性が高まり、いわゆる写真画質と呼ばれる高画質の画像が得られる。
Hereinafter, the toner used in the developing device 11 will be described.
The toner used in the image forming apparatus of the present embodiment has an average shape factor (shape factor: (ML 2 / A) × (π / 4) × 100) from the viewpoint of obtaining high developability and transferability and high image quality. Average, where ML represents the maximum length of the particle, and A represents the projected area of the particle) is preferably 100 or more and 150 or less, more preferably 105 or more and 145 or less, and 110 or more and 140 or less. More desirable. Further, the toner preferably has a volume average particle diameter of 3 μm or more and 12 μm or less, more preferably 3.5 μm or more and 10 μm or less, and further preferably 4 μm or more and 9 μm or less. By using a toner that satisfies this average shape factor and volume average particle diameter, the developability and transferability are improved, and a so-called high-quality image called photographic image quality is obtained.

トナーは、上記平均形状係数及び体積平均粒子径を満足する範囲のものであれば特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法;混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法;結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法;結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法;結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。   The toner is not particularly limited by the production method as long as it satisfies the above average shape factor and volume average particle diameter. For example, the toner may include a binder resin, a colorant, a release agent, and the like. A kneading and pulverizing method in which a charge control agent is added, kneading, pulverizing, and classifying; a method in which the shape of particles obtained by the kneading and pulverizing method is changed by mechanical impact force or thermal energy; Emulsion polymerization of the body, and the resulting dispersion is mixed with a dispersion of a colorant, a release agent and, if necessary, a charge control agent, and then agglomerated and heat-fused to obtain toner particles. Suspension polymerization method in which a polymerizable monomer for obtaining a binder resin, a colorant, a release agent, and a charge control agent, if necessary, are suspended in an aqueous solvent and polymerized; A water-based solution of a resin, a colorant, a release agent, and a solution such as a charge control agent as necessary. Toner is used which is suspended in and produced by a dissolution suspension method in which granulated.

また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。   Further, a known method such as a production method in which the toner obtained by the above method is used as a core, and agglomerated particles are further adhered and heat-fused to give a core-shell structure is used. The toner production method is preferably a suspension polymerization method, an emulsion polymerization aggregation method, or a dissolution suspension method in which an aqueous solvent is used from the viewpoint of shape control and particle size distribution control, and an emulsion polymerization aggregation method is particularly desirable.

トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤及び離型剤からなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を含有して構成される。   The toner base particles are composed of a binder resin, a colorant, and a release agent, and include silica and a charge control agent as necessary.

トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体及び共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。   Binder resins used for toner base particles include styrenes such as styrene and chlorostyrene, monoolefins such as ethylene, propylene, butylene and isoprene, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, vinyl butyrate, etc. Α-methylene aliphatics such as vinyl esters, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, dodecyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, dodecyl methacrylate Homopolymers and copolymers of monocarboxylic acid esters, vinyl ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and vinyl butyl ether, vinyl ketones such as vinyl methyl ketone, vinyl hexyl ketone and vinyl isopropenyl ketone Polyester resins by copolymerization of dicarboxylic acids and diols.

特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。   Particularly representative binder resins include polystyrene, styrene-alkyl acrylate copolymer, styrene-alkyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, and styrene-maleic anhydride copolymer. A polymer, polyethylene, a polypropylene, a polyester resin etc. are mentioned. Further, polyurethane, epoxy resin, silicone resin, polyamide, modified rosin, paraffin wax and the like can be mentioned.

また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、C.I.ピグメント・レッド48:1、C.I.ピグメント・レッド122、C.I.ピグメント・レッド57:1、C.I.ピグメント・イエロー97、C.I.ピグメント・イエロー17、C.I.ピグメント・ブルー15:1、C.I.ピグメント・ブルー15:3等を代表的なものとして例示される。   In addition, as colorants, magnetic powders such as magnetite and ferrite, carbon black, aniline blue, caryl blue, chrome yellow, ultramarine blue, Dupont oil red, quinoline yellow, methylene blue chloride, phthalocyanine blue, malachite green oxalate, Lamp Black, Rose Bengal, C.I. I. Pigment red 48: 1, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 57: 1, C.I. I. Pigment yellow 97, C.I. I. Pigment yellow 17, C.I. I. Pigment blue 15: 1, C.I. I. Pigment Blue 15: 3 is exemplified as a representative example.

離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示される。   Typical examples of the release agent include low molecular weight polyethylene, low molecular weight polypropylene, Fischer tropical wax, montan wax, carnauba wax, rice wax, and candelilla wax.

また、帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が用いられる。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナー及び磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。   As the charge control agent, known ones are used, and azo metal complex compounds, metal complex compounds of salicylic acid, and resin type charge control agents containing polar groups are used. When the toner is manufactured by a wet manufacturing method, it is desirable to use a material that is difficult to dissolve in water in terms of controlling ionic strength and reducing wastewater contamination. The toner may be either a magnetic toner containing a magnetic material or a non-magnetic toner containing no magnetic material.

現像装置11に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はVブレンダー等で   As the toner used in the developing device 11, the toner base particles and the external additive are mixed with a Henschel mixer or a V blender.

混合することによって製造される。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。 Manufactured by mixing. In addition, when the toner base particles are produced by a wet method, external addition can also be performed by a wet method.

現像装置11に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類やカルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス、ミツロウの動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用される。これらは、1種を単独で、又は2種以上を併用して使用される。但し、平均粒径としては0.1μm以上10μm以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は望ましくは0.05質量%以上2.0質量%以下、より望ましくは0.1質量%以上1.5質量%以下の範囲である。   Lubricating particles may be added to the toner used in the developing device 11. Lubricating particles include solid lubricants such as graphite, molybdenum disulfide, talc, fatty acids and fatty acid metal salts, low molecular weight polyolefins such as polypropylene, polyethylene and polybutene, silicones having a softening point upon heating, oleic amides , Erucic acid amide, ricinoleic acid amide, stearic acid amide and other aliphatic amides, carnauba wax, rice wax, candelilla wax, tree wax, jojoba oil and other plant waxes, beeswax animal wax, montan wax, ozokerite , Ceresin, paraffin wax, microcrystalline wax, mineral such as Fischer-Tropsch wax, petroleum wax, and modified products thereof. These are used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. However, the average particle size is preferably in the range of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and those having the above chemical structure may be pulverized to make the particle sizes uniform. The amount added to the toner is desirably in the range of 0.05% by mass to 2.0% by mass, and more desirably in the range of 0.1% by mass to 1.5% by mass.

現像装置11に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。   To the toner used in the developing device 11, inorganic particles, organic particles, composite particles obtained by attaching inorganic particles to the organic particles, and the like may be added for the purpose of removing deposits and deteriorated materials on the surface of the electrophotographic photosensitive member. .

無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。   Inorganic particles include silica, alumina, titania, zirconia, barium titanate, aluminum titanate, strontium titanate, magnesium titanate, zinc oxide, chromium oxide, cerium oxide, antimony oxide, tungsten oxide, tin oxide, tellurium oxide, Various inorganic oxides such as manganese oxide, boron oxide, silicon carbide, boron carbide, titanium carbide, silicon nitride, titanium nitride, and boron nitride, nitrides, borides, and the like are preferably used.

また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス(ジオクチルパイロフォスフェート)オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、o−メチルフェニルトリメトキシシラン、p−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。   In addition, the inorganic particles may be mixed with titanium coupling agents such as tetrabutyl titanate, tetraoctyl titanate, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tridecylbenzenesulfonyl titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate, γ- (2- Aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxy Silane hydrochloride, hexamethyldisilazane, methyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane The treatment may be performed with a silane coupling agent such as run, decyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, o-methylphenyltrimethoxysilane, and p-methylphenyltrimethoxysilane. In addition, those hydrophobized with higher fatty acid metal salts such as silicone oil, aluminum stearate, zinc stearate, calcium stearate and the like are also desirably used.

有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等が挙げられる。   Examples of the organic particles include styrene resin particles, styrene acrylic resin particles, polyester resin particles, and urethane resin particles.

粒子径としては、個数平均粒子径で望ましくは5nm以上1000nm以下、より望ましくは5nm以上800nm以下、さらに望ましくは5nm以上700nm以下でのものが使用される。平均粒子径が、上記下限値未満であると、研磨能力に欠ける場合があり、他方、上記上限値を超えると、電子写真感光体表面に傷を発生しやすくなる場合がある。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が0.6質量%以上であることが望ましい。   The particle diameter is preferably 5 nm to 1000 nm, more preferably 5 nm to 800 nm, and even more preferably 5 nm to 700 nm in terms of number average particle diameter. If the average particle size is less than the lower limit, the polishing ability may be insufficient. On the other hand, if the average particle size exceeds the upper limit, the surface of the electrophotographic photosensitive member may be easily damaged. Moreover, it is desirable that the sum of the addition amounts of the above-described particles and the lubricating particles is 0.6% by mass or more.

トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等の為、1次粒径が40nm以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御の為、それより大径の無機酸化物を添加することが望ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものが使用されるが、精密な帯電制御を行う為にはシリカと酸化チタンを併用することが望ましい。   Other inorganic oxides added to the toner are small-diameter inorganic oxides with a primary particle size of 40 nm or less for powder flowability, charge control, etc. It is desirable to add a larger diameter inorganic oxide. Known inorganic oxide particles are used, but it is desirable to use silica and titanium oxide in combination for precise charge control.

また、小径無機粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも放電精製物を除去するために望ましい。 Further, the surface treatment of the small-diameter inorganic particles increases the dispersibility and increases the effect of increasing the powder fluidity. Furthermore, it is desirable to add carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate and inorganic minerals such as hydrotalcite in order to remove the discharge purified product.

また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉又はそれ等の表面に樹脂を被覆したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、設定される。   In addition, the color toner for electrophotography is used by mixing with a carrier. As the carrier, iron powder, glass beads, ferrite powder, nickel powder, or those coated with a resin are used. The mixing ratio with the carrier is set.

転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。   As the transfer device 40, for example, a contact transfer charger using a belt, a roller, a film, a rubber blade, etc., a known transfer charger such as a scorotron transfer charger using a corona discharge or a corotron transfer charger is used. Can be mentioned.

中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体50の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いられる。   As the intermediate transfer member 50, a belt-like member (intermediate transfer belt) made of polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber or the like having semiconductivity is used. Further, as the form of the intermediate transfer member 50, a drum-like one is used in addition to the belt shape.

画像形成装置100は、上述した各装置の他に、例えば、感光体7に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。   In addition to the above-described devices, the image forming apparatus 100 may include, for example, a light neutralizing device that performs light neutralization on the photoconductor 7.

図5は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略断面図である。画像形成装置120は、図5に示すように、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an image forming apparatus according to another embodiment. As shown in FIG. 5, the image forming apparatus 120 is a tandem-type full-color image forming apparatus equipped with four process cartridges 300. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photosensitive member is used for one color. The image forming apparatus 120 has the same configuration as that of the image forming apparatus 100 except that it is a tandem system.

タンデム型の画像形成装置に本発明の電子写真感光体を用いた場合、4本の感光体の電気特性が安定することから、より長期に渡ってカラーバランスの優れた画質が得られる。   When the electrophotographic photosensitive member of the present invention is used in a tandem type image forming apparatus, the electric characteristics of the four photosensitive members are stabilized, so that an image quality with excellent color balance can be obtained over a longer period.

また、本実施形態に係る画像形成装置(プロセスカートリッジ)において、現像装置(現像手段)は、電子写真感光体の移動方向(回転方向)に対して逆方向に移動(回転)する現像剤保持体である現像ローラを有することが望ましい。ここで、現像ローラは表面に現像剤を保持する円筒状の現像スリーブを有しており、また、現像装置はこの現像スリーブに供給する現像剤の量を規制する規制部材を有する構成のものが挙げられる。現像装置の現像ローラを電子写真感光体の回転方向に対して逆方向に移動(回転)させることで、現像ローラと電子写真感光体との間に留まるトナーで電子写真感光体表面が摺擦される。そして、この摺擦と、グアナミン化合物(一般式(A)で示される化合物)及びメラミン化合物(一般式(B)で示される化合物)から選択される少なくとも1種と特定の電荷輸送性材料(特に、上記如く反応性官能基の数を増やして架橋密度の高い硬化膜が得られる材料)との架橋物によって高められた付着物除去性とにより、電子写真感光体表面に付着した放電生成物(特には、オゾン、NOxに起因する低抵抗物質)の掻き取り性が向上され、かかる放電生成物の堆積が極めて長期間抑制されると考えられる。その結果、解像度低下やスジ、画像ボケなどの高耐摩耗性感光体特有の画質欠陥の発生が抑制され、高画質化及び高寿命化が更に高水準で達成されたものと推察される。また、放電生成物の堆積が抑制されることで、電子写真感光体表面の優れた滑り性が長期に亘って維持されると考えられる。その結果、クリーニングブレードのめくれや異音などの発生が十分防止され、高水準のクリーニング性能が長期間持続される。
また、本実施形態の画像形成装置においては、放電生成物の堆積をより長期に亘って抑制する観点から、現像スリーブと感光体との間隔を200μm以上600μm以下とすることが望ましく、300μm以上500μm以下とすることがより望ましい。また、同様の観点から、現像スリーブと上述の現像剤量を規制する規制部材である規制ブレードとの間隔を300μm以上1000μm以下とすることが望ましく、400μm以上750μm以下とすることがより望ましい。
更に、放電生成物の堆積をより長期に亘って抑制する観点から、現像ロール表面の移動速度の絶対値を、感光体表面の移動速度の絶対値(プロセススピード)の1.5倍以上2.5倍以下とすることが望ましく、1.7倍以上2.0倍以下とすることがより望ましい。
Further, in the image forming apparatus (process cartridge) according to the present embodiment, the developing device (developing means) is a developer holder that moves (rotates) in the opposite direction to the moving direction (rotating direction) of the electrophotographic photosensitive member. It is desirable to have a developing roller that is Here, the developing roller has a cylindrical developing sleeve that holds developer on the surface, and the developing device has a configuration that includes a regulating member that regulates the amount of developer supplied to the developing sleeve. Can be mentioned. By moving (rotating) the developing roller of the developing device in a direction opposite to the rotation direction of the electrophotographic photosensitive member, the surface of the electrophotographic photosensitive member is rubbed with toner remaining between the developing roller and the electrophotographic photosensitive member. The And this rubbing, at least one selected from a guanamine compound (compound represented by the general formula (A)) and a melamine compound (compound represented by the general formula (B)) and a specific charge transporting material (particularly The discharge product adhered to the surface of the electrophotographic photosensitive member due to the deposit removability enhanced by the cross-linked product with the material that increases the number of reactive functional groups to obtain a cured film having a high cross-linking density as described above. In particular, it is considered that the scraping property of the low-resistance substance due to ozone and NOx is improved, and the accumulation of such discharge products is suppressed for a very long time. As a result, the occurrence of image quality defects peculiar to a high wear resistance photoconductor such as resolution reduction, streaks, and image blurring is suppressed, and it is assumed that higher image quality and longer life have been achieved at a higher level. Moreover, it is considered that excellent slipperiness of the electrophotographic photosensitive member surface is maintained over a long period of time by suppressing the accumulation of discharge products. As a result, the cleaning blade can be prevented from turning over or generating abnormal noise, and a high level of cleaning performance can be maintained for a long time.
In the image forming apparatus of the present embodiment, the distance between the developing sleeve and the photosensitive member is preferably 200 μm or more and 600 μm or less, and more preferably 300 μm or more and 500 μm, from the viewpoint of suppressing the accumulation of discharge products over a longer period. The following is more desirable. From the same point of view, the distance between the developing sleeve and the regulating blade, which is a regulating member that regulates the developer amount, is desirably 300 μm or more and 1000 μm or less, and more desirably 400 μm or more and 750 μm or less.
Further, from the viewpoint of suppressing the accumulation of discharge products over a longer period, the absolute value of the moving speed of the developing roll surface is 1.5 times or more the absolute value (process speed) of the moving speed of the photoreceptor surface. Desirably, it is 5 times or less, and more desirably 1.7 times or more and 2.0 times or less.

また、本実施形態に係る画像形成装置(プロセスカートリッジ)において、現像装置(現像手段)は、磁性体を有する現像剤保持体を備え、磁性キャリア及びトナーを含む2成分系現像剤で静電潜像を現像するものであることが望ましい。この構成では、一成分系現像剤、特に非磁性一成分現像剤の場合に比べ、カラー画像でよりきれいな画質が得られ、更に高水準で高画質化及び高寿命化が実現される。   Further, in the image forming apparatus (process cartridge) according to the present embodiment, the developing device (developing unit) includes a developer holding body having a magnetic material, and is a two-component developer containing a magnetic carrier and toner. It is desirable to develop an image. In this configuration, a clearer image quality can be obtained with a color image, and higher image quality and longer life can be achieved compared to the case of a one-component developer, particularly a non-magnetic one-component developer.

以下実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが,本発明はこれらに限定されるものではない。     Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

<実施例1>
(下引層の作製)
酸化亜鉛:(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m/g)100質量部をテトラヒドロフラン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学社製)1.3質量部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛110質量部を500質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン0.6質量部を50質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに60℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
<Example 1>
(Preparation of undercoat layer)
Zinc oxide: (average particle size 70 nm: manufactured by Teica Co., Ltd .: specific surface area value 15 m 2 / g) 100 parts by mass is stirred and mixed with 500 parts by mass of tetrahydrofuran, and silane coupling agent (KBM503: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1.3 parts by mass Part was added and stirred for 2 hours. Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at 120 ° C. for 3 hours to obtain a silane coupling agent surface-treated zinc oxide.
110 parts by mass of the surface-treated zinc oxide was stirred and mixed with 500 parts by mass of tetrahydrofuran, a solution prepared by dissolving 0.6 parts by mass of alizarin in 50 parts by mass of tetrahydrofuran was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours. did. Then, the zinc oxide to which alizarin was imparted by filtration under reduced pressure was filtered off, and further dried at 60 ° C. under reduced pressure to obtain alizarin imparted zinc oxide.

このアリザリン付与酸化亜鉛60質量部と硬化剤(ブロック化イソシアネート スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製):13.5質量部とブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学社製)15質量部をメチルエチルケトン85質量部に溶解した溶液38質量部とメチルエチルケトン :25質量部とを混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005質量部、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、GE東芝シリコーン社製):40質量部を添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径60mm、長さ357mm、肉厚1mmのアルミニウム基材上に塗布し、170℃、40分の乾燥硬化を行い厚さ19μmの下引層を得た。
60 parts by mass of this alizarin-provided zinc oxide and a curing agent (blocked isocyanate Sumijoule 3175, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.): 13.5 parts by mass and 15 parts by mass of butyral resin (ESREC BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 38 parts by mass of the solution dissolved in 85 parts by mass and 25 parts by mass of methyl ethyl ketone were mixed, and dispersion was performed for 2 hours with a sand mill using 1 mmφ glass beads.
Dioctyltin dilaurate: 0.005 parts by mass and silicone resin particles (Tospearl 145, manufactured by GE Toshiba Silicone): 40 parts by mass were added as catalysts to the resulting dispersion to obtain an undercoat layer coating solution. This coating solution was applied on an aluminum substrate having a diameter of 60 mm, a length of 357 mm, and a thickness of 1 mm by a dip coating method, followed by drying and curing at 170 ° C. for 40 minutes to obtain an undercoat layer having a thickness of 19 μm.

(電荷発生層の作製)
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜,16.0゜,24.9゜,28.0゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニカー社製)10質量部、n−酢酸ブチル200質量部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn−酢酸ブチル175質量部、メチルエチルケトン180質量部を添加し、攪拌して電荷発生層用の塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を前記下引層上に浸漬塗布し、常温(25℃)で乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
(Preparation of charge generation layer)
Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of X-ray diffraction spectrum using Cukα characteristic X-ray as a charge generating material are at least 7.3 °, 16.0 °, 24.9 °, 28.0 ° A mixture consisting of 15 parts by mass of hydroxygallium phthalocyanine having a diffraction peak, 10 parts by mass of vinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin (VMCH, manufactured by Nihon Unicar) as a binder resin, and 200 parts by mass of n-butyl acetate, The glass beads having a diameter of 1 mmφ were dispersed for 4 hours by a sand mill. To the obtained dispersion, 175 parts by mass of n-butyl acetate and 180 parts by mass of methyl ethyl ketone were added and stirred to obtain a coating solution for a charge generation layer. This charge generation layer coating solution was dip coated on the undercoat layer and dried at room temperature (25 ° C.) to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.

(電荷輸送層の作製)
N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン45質量部及びビスフェノールZポリカーボネート樹脂(粘度平均分子量:5万)55質量部をクロルベンゼン800質量部に加えて溶解し,電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、130℃、45分の乾燥を行って膜厚が20μmの前記電荷輸送層を形成した。
(Preparation of charge transport layer)
N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1 ′] biphenyl-4,4′-diamine 45 parts by mass and bisphenol Z polycarbonate resin (viscosity average molecular weight: 50,000) 55 parts by mass was added to 800 parts by mass of chlorobenzene and dissolved to obtain a charge transport layer coating solution. This coating solution was applied onto the charge generation layer and dried at 130 ° C. for 45 minutes to form the charge transport layer having a thickness of 20 μm.

(保護層の作製)
グアナミン樹脂(前記例示化合物:(A)−14):5質量部、電荷輸送性材料として前記一般式(I)で示される化合物(前記例示化合物:(I−1)):92質量部、酸化防止剤として3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT):4.4質量部、ドデシルベンゼンスルホン酸:0.5質量部、レベリング剤BYK−302(ビックケミー・ジャパン(株)製):0.1質量部、シクロペンタノール:160質量部を加えて保護層用塗布液を調製した。この塗布液を電荷輸送層の上に浸漬塗布法により塗布し、室温で30分風乾した後、150℃で1時間加熱処理して硬化させ、膜厚約6μmの保護層を形成して感光体αを作製した。
(Preparation of protective layer)
Guanamine resin (previously exemplified compound: (A) -14): 5 parts by mass, compound represented by general formula (I) as charge transport material (previously exemplified compound: (I-1)): 92 parts by mass, oxidized As an inhibitor, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxytoluene (BHT): 4.4 parts by mass, dodecylbenzenesulfonic acid: 0.5 parts by mass, leveling agent BYK-302 (BIC Chemie Japan Co., Ltd.) Manufactured): 0.1 parts by mass and cyclopentanol: 160 parts by mass were added to prepare a coating solution for a protective layer. This coating solution is applied onto the charge transport layer by a dip coating method, air-dried at room temperature for 30 minutes, and then heated and cured at 150 ° C. for 1 hour to form a protective layer having a thickness of about 6 μm. α was produced.

(表面処理)
得られた感光体αを、酸素濃度50体積%の気体が充満している容器に挿入して密閉し、更に容器内の温度を40度℃に調整し、この状態で感光体αを3日間保管した。3日間保管して表面処理をして、得られた感光体を実施例1の感光体α1とした。
感光体α1の表面における酸素の組成比Aと、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比Bとを既述の方法で測定した。その結果、Aは10.6atm%、Bは4.8atm%であり、AとBとの比率(A/B)は約2.2であった。
(surface treatment)
The obtained photoreceptor α is inserted and sealed in a container filled with gas having an oxygen concentration of 50% by volume, and the temperature in the container is adjusted to 40 ° C., and the photoreceptor α is kept in this state for 3 days. Stored. The photoconductor obtained by storing for 3 days and surface-treating was designated as photoconductor α1 of Example 1.
The composition ratio A of oxygen on the surface of the photoreceptor α1 and the composition ratio B of oxygen at a depth of 20 nm from the surface were measured by the method described above. As a result, A was 10.6 atm%, B was 4.8 atm%, and the ratio of A to B (A / B) was about 2.2.

<評価>
得られた感光体α1をFUJI XEROX製Docu Centre C7550 Iの黒色位置に設置し、高温高湿下(28℃、85%)において、20%ハーフトーン画像でA3サイズ(富士ゼロックス製、C2紙)5000枚の連続画像形成を行い、5000枚目の画像、および同一環境で12h放置後に再出力した最初の20%ハーフトーン画像について、以下の評価を実施した。その結果を表1に示す。尚、表1の「電荷輸送性材料における特定置換基の数」における「特定置換基」は、−OH、−OCH、−NH、−SH、及び−COOHから選択される基を示す。
<Evaluation>
The obtained photoreceptor α1 was placed at the black position of Docu Center C75550 I manufactured by FUJI XEROX, and A2 size (Fuji Xerox, C2 paper) with a 20% halftone image under high temperature and high humidity (28 ° C., 85%). The following evaluation was carried out on the 5000th image and the first 20% halftone image that was re-output after leaving in the same environment for 12 hours after forming 5000 continuous images. The results are shown in Table 1. The “specific substituent” in “Number of specific substituents in charge transport material” in Table 1 represents a group selected from —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, and —COOH.

[濃度変化]
上記連続画像形成により得られた、1枚目の画像の画像濃度と5000枚目の画像の画像濃度とを分光濃度計(X−Rite938)により測定し、以下の基準で評価した。
○:1枚目と5000枚目の画像濃度差ΔDが0.1未満。
△:1枚目と5000枚目の画像濃度差ΔDが0.1以上0.15未満。
×:1枚目と5000枚目の画像濃度差ΔDが0.15以上。
[Density change]
The image density of the first image and the image density of the 5000th image obtained by the continuous image formation were measured with a spectral densitometer (X-Rite 938) and evaluated according to the following criteria.
○: The image density difference ΔD between the first sheet and the 5000th sheet is less than 0.1.
Δ: The image density difference ΔD between the first sheet and the 5000th sheet is 0.1 or more and less than 0.15.
×: The image density difference ΔD between the first sheet and the 5000th sheet is 0.15 or more.

[画質欠陥]
上記連続画像形成により得られた、5000枚目の画像について、目視により画質欠陥を以下の基準で評価した。
○:感光体表面の傷、膜剥れによる画質欠陥なし。
×:感光体表面の傷、膜剥れによる画質欠陥あり。
[Image quality defect]
The image quality defect of the 5000th image obtained by the continuous image formation was visually evaluated according to the following criteria.
○: No image quality defect due to scratches or film peeling on the surface of the photoreceptor.
×: Image quality defects due to scratches on the surface of the photoreceptor and film peeling.

[濃度ムラ]
上記12h放置後に再出力した最初の20%ハーフトーン画像について、目視により濃度ムラを以下の基準で評価した。
○:感光体周期での濃度ムラなし。
△:感光体周期でのわずかな濃度ムラあり(画質許容範囲内)。
×:感光体周期での明らかな濃度ムラあり(画質許容範囲外)。
[Density unevenness]
The first 20% halftone image re-output after being left for 12 hours was visually evaluated for density unevenness according to the following criteria.
○: No density unevenness in the photoconductor cycle.
Δ: Slight density unevenness in the photoconductor cycle (within image quality tolerance).
X: Clear density unevenness in the photoconductor cycle (outside image quality tolerance).

<実施例2>
実施例1における保護層の作製において、グアナミン樹脂(前記例示化合物:(A)−14):5質量部をメラミン樹脂(前記例示化合物:(B)−2):5質量部に、前記例示化合物:(I−1):92質量部を前記例示化合物:(I−9):92質量部に変更したこと以外、実施例1と同様にして感光体βを作製した。更に感光体βに対して実施例1と同様の表面処理をして感光体β1を得た。感光体β1に対して実施例1と同様の評価を実施した。その結果を表1に示す。尚、既述の方法で測定した、感光体β1の表面における酸素の組成比Aは10.9atm%、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比Bは4.5atm%でありAとBとの比率(A/B)は約2.4であった。
<Example 2>
In the production of the protective layer in Example 1, the guanamine resin (previously exemplified compound: (A) -14): 5 parts by mass was added to 5 parts by mass of the melamine resin (previously exemplified compound: (B) -2): 5 parts by mass. : (I-1): Photoconductor β was prepared in the same manner as in Example 1 except that 92 parts by mass was changed to 92 parts by mass of the exemplified compound (I-9). Furthermore, the surface treatment similar to that in Example 1 was performed on the photoreceptor β to obtain a photoreceptor β1. The same evaluation as in Example 1 was performed on the photoreceptor β1. The results are shown in Table 1. The oxygen composition ratio A on the surface of the photoreceptor β1 measured by the above-described method is 10.9 atm%, and the oxygen composition ratio B at a depth of 20 nm from the surface is 4.5 atm%. The ratio (A / B) was about 2.4.

<実施例3>
実施例2における保護層の作製において、メラミン樹脂(前記例示化合物:(B)−2)の使用量を1質量部に、前記例示化合物:(I−9)の使用量を99質量部に、ドデシルベンゼンスルホン酸の使用量を0.1質量部に変更し、さらに3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT):4.4質量部を1質量部に変更したこと以外、実施例2と同様にして感光体γを作製した。更に感光体γに対して実施例2と同様の表面処理をして感光体γ1を得た。感光体γ1に対して実施例1と同様の評価を実施した。その結果を表1に示す。尚、既述の方法で測定した、感光体γ1の表面における酸素の組成比Aは10.6atm%、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比Bは4.6atm%でありAとBとの比率(A/B)は約2.3であった。
<Example 3>
In preparation of the protective layer in Example 2, the usage-amount of a melamine resin (the said exemplary compound: (B) -2) is 1 mass part, and the usage-amount of the said exemplary compound: (I-9) is 99 mass parts, Except for changing the amount of dodecylbenzenesulfonic acid used to 0.1 parts by mass, and further changing 3,5-di-t-butyl-4-hydroxytoluene (BHT): 4.4 parts by mass to 1 part by mass In the same manner as in Example 2, a photoreceptor γ was produced. Further, the photoreceptor γ was subjected to the same surface treatment as in Example 2 to obtain a photoreceptor γ1. Evaluation similar to Example 1 was implemented with respect to the photoreceptor γ1. The results are shown in Table 1. The oxygen composition ratio A measured on the surface of the photoreceptor γ1 was 10.6 atm% and the oxygen composition ratio B at a depth of 20 nm from the surface was 4.6 atm%, which was measured by the method described above. The ratio (A / B) was about 2.3.

<実施例4>
実施例3における表面処理において、保管期間を10日に変更したこと以外、実施例3と同様にして感光体γ2を得た。感光体γ2に対して実施例1と同様の評価を実施した。その結果を表1に示す。尚、既述の方法で測定した、感光体γ2の表面における酸素の組成比Aは17.4atm%、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比Bは4.6atm%でありAとBとの比率(A/B)は約3.8であった。
<Example 4>
In the surface treatment in Example 3, a photoconductor γ2 was obtained in the same manner as in Example 3 except that the storage period was changed to 10 days. Evaluation similar to Example 1 was implemented with respect to the photoreceptor γ2. The results are shown in Table 1. The oxygen composition ratio A on the surface of the photoreceptor γ2 measured by the above-described method is 17.4 atm%, and the oxygen composition ratio B at a depth of 20 nm from the surface is 4.6 atm%. The ratio (A / B) was about 3.8.

<比較例1>
実施例1における保護層の作製において、グアナミン樹脂を用いなかったこと以外、実施例1と同様にして感光体δを作製した。更に感光体δに対して実施例1と同様の表面処理をして感光体δ1を得た。感光体δ1に対して実施例1と同様の評価を実施した。その結果を表1に示す。尚、既述の方法で測定した、感光体δ1の表面における酸素の組成比Aは11.0atm%、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比Bは4.5atm%でありAとBとの比率(A/B)は約2.4であった。
<Comparative Example 1>
A photoreceptor δ was produced in the same manner as in Example 1 except that the guanamine resin was not used in the production of the protective layer in Example 1. Further, the photoreceptor δ was subjected to the same surface treatment as in Example 1 to obtain a photoreceptor δ1. The same evaluation as in Example 1 was performed on the photoreceptor δ1. The results are shown in Table 1. The oxygen composition ratio A measured on the surface of the photoreceptor δ1 was 11.0 atm% and the oxygen composition ratio B at a depth of 20 nm from the surface was 4.5 atm%, which was measured by the method described above. The ratio (A / B) was about 2.4.

<比較例2>
実施例1における保護層の作製において、前記例示化合物:(I−1):92質量部を下記構造の化合物:92質量部に変更したこと以外、実施例1と同様にして感光体εを作製した。更に感光体εに対して実施例1と同様の表面処理をして感光体ε1を得た。感光体ε1に対して実施例1と同様の評価を実施した。その結果を表1に示す。尚、既述の方法で測定した、感光体ε1の表面における酸素の組成比Aは9.1atm%、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比Bは4.1atm%でありAとBとの比率(A/B)は約2.2であった。
<Comparative example 2>
In the production of the protective layer in Example 1, the photoreceptor ε was produced in the same manner as in Example 1 except that 92 parts by mass of the exemplified compound (I-1) was changed to 92 parts by mass of the compound having the following structure. did. Further, the photoreceptor ε was subjected to the same surface treatment as in Example 1 to obtain a photoreceptor ε1. Evaluation similar to Example 1 was implemented with respect to the photoreceptor ε1. The results are shown in Table 1. The oxygen composition ratio A on the surface of the photoreceptor ε1 measured by the method described above was 9.1 atm%, and the oxygen composition ratio B at a depth of 20 nm from the surface was 4.1 atm%. The ratio (A / B) was about 2.2.

<比較例3>
実施例1における保護層の作製において、前記例示化合物:(I−1)の使用量を88質量部に、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)の使用量を6.4質量部に変更したこと以外、実施例1と同様にして感光体ζを作製した。更に感光体ζに対して実施例1と同様の表面処理をして感光体ζ1を得た。感光体ζ1に対して実施例1と同様の評価を実施した。その結果を表1に示す。尚、既述の方法で測定した、感光体ζ1の表面における酸素の組成比Aは10.6atm%、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比Bは4.9atm%でありAとBとの比率(A/B)は約2.2であった。
<Comparative Example 3>
In the production of the protective layer in Example 1, the amount of the exemplified compound (I-1) used is 88 parts by mass, and the amount of 3,5-di-t-butyl-4-hydroxytoluene (BHT) used is 6. A photoreceptor ζ was produced in the same manner as in Example 1 except that the content was changed to 4 parts by mass. Further, the photoconductor ζ1 was subjected to the same surface treatment as in Example 1 to obtain a photoconductor ζ1. Evaluation similar to Example 1 was implemented with respect to the photoreceptor ζ1. The results are shown in Table 1. The oxygen composition ratio A measured on the surface of the photoreceptor ζ1 was 10.6 atm% and the oxygen composition ratio B at a depth of 20 nm from the surface was 4.9 atm%, which was measured by the method described above. The ratio (A / B) was about 2.2.

<比較例4>
実施例1における表面処理において、保管期間を1日に変更したこと以外、実施例1と同様にして感光体α2を得た。感光体α2に対して実施例1と同様の評価を実施した。その結果を表1に示す。尚、既述の方法で測定した、感光体α2の表面における酸素の組成比Aは8.1atm%、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比Bは4.6atm%でありAとBとの比率(A/B)は約1.8であった。
<Comparative example 4>
In the surface treatment in Example 1, a photoreceptor α2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the storage period was changed to 1 day. The same evaluation as in Example 1 was performed on the photoreceptor α2. The results are shown in Table 1. The oxygen composition ratio A on the surface of the photoreceptor α2 measured by the above-described method was 8.1 atm%, and the oxygen composition ratio B at a depth of 20 nm from the surface was 4.6 atm%. The ratio (A / B) was about 1.8.

<比較例5>
実施例1における表面処理において、保管期間を30日に変更したこと以外、実施例1と同様にして感光体α3を得た。感光体α3に対して実施例1と同様の評価を実施した。その結果を表1に示す。尚、既述の方法で測定した、感光体α3の表面における酸素の組成比Aは18.9atm%、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比Bは4.6atm%でありAとBとの比率(A/B)は約4.1であった。
<Comparative Example 5>
In the surface treatment in Example 1, a photoreceptor α3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the storage period was changed to 30 days. The same evaluation as in Example 1 was performed on the photoreceptor α3. The results are shown in Table 1. The oxygen composition ratio A on the surface of the photoreceptor α3 measured by the method described above was 18.9 atm%, and the oxygen composition ratio B at a depth of 20 nm from the surface was 4.6 atm%. The ratio (A / B) was about 4.1.

実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。1 is a schematic partial cross-sectional view showing an electrophotographic photosensitive member according to an embodiment. 実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。1 is a schematic partial cross-sectional view showing an electrophotographic photosensitive member according to an embodiment. 実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。1 is a schematic partial cross-sectional view showing an electrophotographic photosensitive member according to an embodiment. 実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram illustrating an image forming apparatus according to an embodiment. 他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the image forming apparatus which concerns on other embodiment.

1 下引層
2 電荷発生層
3 電荷輸送層
4 導電性基体
5 保護層
6 単層型感光層
7 電子写真感光体
8 帯電装置
9 露光装置
11 現像装置
13 クリーニング装置
14 潤滑材
40 転写装置
50 中間転写体
100 画像形成装置
120 画像形成装置
132 繊維状部材(ロール状)
133 繊維状部材(平ブラシ状)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Undercoat layer 2 Charge generation layer 3 Charge transport layer 4 Conductive substrate 5 Protective layer 6 Single layer type photosensitive layer 7 Electrophotographic photoreceptor 8 Charging device 9 Exposure device 11 Development device 13 Cleaning device 14 Lubricant 40 Transfer device 50 Intermediate Transfer body 100 Image forming apparatus 120 Image forming apparatus 132 Fibrous member (roll shape)
133 Fibrous member (flat brush shape)

Claims (3)

導電性基体と、
前記導電性基体表面に設けた感光層と、
を有し、
前記感光層の最表面層は、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも1種と、−OH、−OCH、−NH、−SH、及び−COOHから選択される置換基を少なくとも2つ持つ電荷輸送性材料の少なくとも1種とを用いた架橋物を含んで構成され、該電荷輸送性材料の含有量が90質量%以上99質量%以下であり、X線光電子分光法により測定した、表面における酸素の組成比A(atm%)と、表面から20nmの深さにおける酸素の組成比B(atm%)とが、下記式(1)の関係を満たすことを特徴とする電子写真感光体。
式(1)
B×2 < A < B×4
A conductive substrate;
A photosensitive layer provided on the surface of the conductive substrate;
Have
The outermost surface layer of the photosensitive layer has at least one selected from guanamine compounds and melamine compounds and at least two substituents selected from —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, and —COOH. A cross-linked product using at least one kind of charge transporting material possessed, the content of the charge transporting material is 90% by mass or more and 99% by mass or less, and was measured by X-ray photoelectron spectroscopy. An electrophotographic photosensitive member, wherein the oxygen composition ratio A (atm%) on the surface and the oxygen composition ratio B (atm%) at a depth of 20 nm from the surface satisfy the relationship of the following formula (1): .
Formula (1)
B × 2 <A <B × 4
請求項1に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存するトナーを除去するトナー除去手段からなる群より選ばれる少なくとも一種と、を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
An electrophotographic photoreceptor according to claim 1;
Charging means for charging the electrophotographic photosensitive member, developing means for developing the electrostatic latent image formed on the electrophotographic photosensitive member with toner to form a toner image, and remaining on the surface of the electrophotographic photosensitive member At least one selected from the group consisting of toner removing means for removing toner.
請求項1に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に残存するトナーを除去するトナー除去手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
An electrophotographic photoreceptor according to claim 1;
Charging means for charging the electrophotographic photoreceptor;
Electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the charged electrophotographic photosensitive member;
Developing means for developing the electrostatic latent image formed on the electrophotographic photosensitive member with toner to form a toner image;
Transfer means for transferring the toner image to a transfer object;
Toner removing means for removing toner remaining on the surface of the electrophotographic photosensitive member;
An image forming apparatus comprising:
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