JP2010160989A - Method of manufacturing conductive film - Google Patents

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Mitsuo Umezawa
三雄 梅沢
Kinya Shiraishi
欣也 白石
Kaori Sakaguchi
香織 坂口
Mutsuko Sato
睦子 佐藤
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Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a conductive film excellent in adhesion with a base layer and capable of exhibiting a superb conductivity at low temperature and short-time heating. <P>SOLUTION: In the method of manufacturing the conductive film, a conductive layer (A) containing conductive fine particles, and an ion exchange layer (E) containing a copolymer (D) made by copolymerizing a monomer (B) containing a tertiary amino group and/or a quaternary ammonium group, and a monomer (C) capable of copolymerizing with the monomer (B) are laminated on a base layer. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、導電性インキを用いた導電性被膜の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a conductive film using a conductive ink.

導電性被膜は、ブラウン管、プラズマディスプレイパネル等の電磁波遮蔽、建材または自動車の赤外線遮蔽、電子機器や携帯電話の静電気帯電防止被膜、ガラスの曇り止め用熱線、回路基板等の配線、樹脂に導電性を付与するためのコーティング等の広い範囲の用途を有する。これらの導電性被膜を形成する方法としては、金属の真空蒸着、化学蒸着、イオンスパッタリング等による方法あるが、前記方法は真空処理が必要なため生産コストが高く、また導電性も低いという問題があった。
そこで安価な製造方法として銀ペースト(銀粒子の粒子径が1μm以上)を用いる方法が提案されているが、前記方法はスクリーン印刷により配線等の導電回路を作成することが必要とされ、実用上必要な導電性を得るためには、印刷後高温で加熱する必要があり、その体積抵抗値は、10-5Ω・cmオーダーが限界であり満足できる物ではなかった(非特許文献1、2参照)。
Conductive coating is conductive to electromagnetic wave shielding for cathode ray tubes, plasma display panels, etc., infrared shielding for building materials or automobiles, antistatic coating for electronic devices and mobile phones, anti-fogging hot wires for glass, wiring for circuit boards, etc. It has a wide range of uses such as coating for imparting. As a method for forming these conductive films, there are methods by metal vacuum deposition, chemical vapor deposition, ion sputtering, etc., but the above method requires a vacuum treatment, and therefore has a problem of high production cost and low conductivity. there were.
Therefore, a method using silver paste (silver particle diameter of 1 μm or more) has been proposed as an inexpensive manufacturing method. However, this method requires that a conductive circuit such as a wiring be created by screen printing, and is practically used. In order to obtain the required conductivity, it is necessary to heat at a high temperature after printing, and the volume resistance value is limited to the order of 10 −5 Ω · cm, which is not satisfactory (Non-Patent Documents 1 and 2). reference).

そこで銀ナノ粒子(粒子径が1〜100nm)を用いた銀ナノ分散体を用いることによって、導電性被膜が0.1〜5μm程度の膜厚であっても10-6Ω・cmオーダーの体積抵抗値が得られることが知られている(非特許文献1、2参照)。しかし、この体積抵抗値を発現させるためには、銀ナノ分散体を200℃程度の高温で数十分間加熱して焼結させる必要があり、銀ナノ分散体をコート紙などの通常の紙基材や、ポリエステル等のプラスチックフィルム基材に使用することは困難である。また、この方法は、さらに銀ナノ分散体を用いて形成した導電回路や導電性被膜は基材との密着性が劣り、クラックが入りやすい欠点があった。(特許文献1、2参照)。 Therefore, by using a silver nano-dispersion using silver nanoparticles (particle diameter is 1 to 100 nm), even if the conductive film has a film thickness of about 0.1 to 5 μm, the volume is on the order of 10 −6 Ω · cm. It is known that a resistance value can be obtained (see Non-Patent Documents 1 and 2). However, in order to develop this volume resistance value, it is necessary to heat and sinter the silver nanodispersion at a high temperature of about 200 ° C. for several tens of minutes. It is difficult to use it for a base material or a plastic film base material such as polyester. In addition, this method has a drawback that the conductive circuit and the conductive film formed using the silver nano-dispersion are poor in adhesion to the base material and easily crack. (See Patent Documents 1 and 2).

特開2004−273205号公報JP 2004-273205 A 特開2005−81501号公報JP 2005-81501 A

エレクトロニクス実装学会誌、Vol.5、No.6(2002年)、523〜528頁Journal of Japan Institute of Electronics Packaging, Vol. 5, no. 6 (2002), 523-528 日経ナノビジネス、Vol.22(2005.9.26)、2〜7頁Nikkei Nano Business, Vol. 22 (2005. 9.26), pages 2-7

本発明は、下地との密着に優れ、かつ低温・短時間の加熱により良好な導電性を発現することができる導電性被膜の製造方法を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the manufacturing method of the electroconductive film which is excellent in close_contact | adherence with a foundation | substrate and can express favorable electroconductivity by low temperature and short time heating.

本発明は、下地上に、導電性微粒子を含む導電層(A)と、
三級アミノ基および/または四級アンモニウム基を含有するモノマー(B)と、前記モノマー(B)と共重合し得るモノマー(C)とを共重合してなる共重合物(D)を含むイオン交換層(E)、とを積層することを特徴とする導電性被膜の製造方法に関する。
The present invention comprises a conductive layer (A) containing conductive fine particles on a base;
Ions including a copolymer (D) obtained by copolymerizing a monomer (B) containing a tertiary amino group and / or a quaternary ammonium group and a monomer (C) copolymerizable with the monomer (B). It is related with the manufacturing method of the electroconductive film characterized by laminating | stacking an exchange layer (E).

また本発明は、モノマー(C)が、炭素数6〜20の鎖状もしくは環構造を有するアルキル基およびフェニル基からなる群より選択された1種以上の有機基を含有するモノマーであることを特徴とする上記発明の導電性被膜の製造方法に関する。   In the present invention, the monomer (C) is a monomer containing one or more organic groups selected from the group consisting of an alkyl group having a chain or ring structure having 6 to 20 carbon atoms and a phenyl group. It is related with the manufacturing method of the conductive film of the said invention characterized by the above.

また、本発明は、モノマー(B)とモノマー(C)との合計100重量%中、モノマー(B)の割合が25〜75重量%、モノマー(C)の割合が25〜75重量%であることを特徴とする上記いずれかの発明の導電性被膜の製造方法に関する。   In the present invention, the proportion of the monomer (B) is 25 to 75% by weight and the proportion of the monomer (C) is 25 to 75% by weight in the total 100% by weight of the monomer (B) and the monomer (C). The present invention relates to a method for producing a conductive film according to any one of the above inventions.

また本発明は、共重合物(D)が、重合溶媒として、水および炭素数1〜3のアルコールを用いてなることを特徴とする上記いずれかの発明の導電性被膜の製造方法に関する。   The present invention also relates to the method for producing a conductive film according to any one of the above inventions, wherein the copolymer (D) comprises water and an alcohol having 1 to 3 carbon atoms as a polymerization solvent.

また本発明は、導電層(A)が、インクジェット法により形成されることを特徴とする上記いずれかの発明の導電性被膜の製造方法に関する。   The present invention also relates to the method for producing a conductive film according to any one of the above inventions, wherein the conductive layer (A) is formed by an ink jet method.

また本発明は、上記いずれかの発明の製造方法により得られる導電性被膜に関する。   Moreover, this invention relates to the electroconductive film obtained by the manufacturing method of one of the said inventions.

また本発明は、上記発明の導電性被膜を、導電性回路として有するプリント配線板に関する。   Moreover, this invention relates to the printed wiring board which has the electroconductive film of the said invention as an electroconductive circuit.

また本発明は、上記発明のプリント配線板を用いてなるタッチパネルに関する。   The present invention also relates to a touch panel using the printed wiring board of the above invention.

本発明により、下地との密着に優れ、かつ低温・短時間の加熱により良好な導電性を発現することができる導電性被膜を提供することができた。   According to the present invention, it was possible to provide a conductive film that is excellent in adhesion to a base and can exhibit good conductivity by low-temperature and short-time heating.

そのため本発明によって得られる導電性被膜は、非接触型ICメディアのアンテナ回路や、プリント基板の導電回路、印刷エレクトロニクス用導電材料、各種電極材、電磁波シールド用メッシュ形成、電磁波シールド用導電性薄膜、静電気帯電防止膜、非導電性物への導電性付与膜に使用できる。さらに本発明によって得られる導電性被膜は、膜の平滑性や色の均一性といった外観面および被膜強度の面でも優れており、ディスプレイの反射板等、鏡面性を必要とする用途にも使用できる。   Therefore, the conductive film obtained by the present invention includes a non-contact IC media antenna circuit, a printed circuit board conductive circuit, a printed electronics conductive material, various electrode materials, an electromagnetic shielding mesh formation, an electromagnetic shielding conductive thin film, It can be used as an antistatic film or a film for imparting conductivity to a nonconductive material. Furthermore, the conductive film obtained by the present invention is excellent in terms of appearance and film strength such as film smoothness and color uniformity, and can also be used for applications that require specularity, such as display reflectors. .

以下、本発明について説明する。しかし、本発明は、本発明の技術的思想を逸脱しない限り、以下の説明あるいは実施の形態に限定されるものではない。   The present invention will be described below. However, the present invention is not limited to the following description or embodiments without departing from the technical idea of the present invention.

まず、本発明の導電性微粒子を含む導電層(A)(以下、「導電層(A)」とも表記する)について説明する。導電層(A)は導電性インキにより形成されることが好ましい。   First, the conductive layer (A) containing the conductive fine particles of the present invention (hereinafter also referred to as “conductive layer (A)”) will be described. The conductive layer (A) is preferably formed of a conductive ink.

導電性インキは、導電性微粒子と樹脂と、液状媒体と、を含むことが好ましい。
前記導電性微粒子は、得られる導電性被膜に導電性を付与するためのものである。このような導電性微粒子としては、導電性の金属物質が挙げられる。具体的には、例えば、金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、鉄、コバルト、タングステン、チタン、インジウム、イリジウム、ロジウム、アモルファス銅等の金属。これら金属の合金、例えば銀−銅合金など。これら金属の金属複合体、例えば銀−銅複合体など。金属を更に他の導電性金属で被覆したもの、例えば、銀めっき銅などが挙げられる。そのなかでも、金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、鉄が好ましく、金、銀、銅、ニッケルがより好ましく、導電性、コストの点から銀が更に好ましい。その他の導電性微粒子としては、例えば、上記金属物質で被覆した無機物粉末、酸化銀、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、インジウム−スズ複合酸化物等の金属酸化物、カーボンブラック、グラファイト、金属錯体、有機導電性微粒子等を用いることもできる。導電性微粒子は、1種または2種類以上を組み合わせて用いてもよい。2種以上の導電性物質を組み合わせて用いる場合、これら複数の物質は、混合物、混融物、分散物、被覆物など任意の形態であってよい。
The conductive ink preferably contains conductive fine particles, a resin, and a liquid medium.
The conductive fine particles are for imparting conductivity to the obtained conductive film. Examples of such conductive fine particles include conductive metal substances. Specifically, for example, metals such as gold, silver, copper, nickel, platinum, palladium, iron, cobalt, tungsten, titanium, indium, iridium, rhodium, and amorphous copper. Alloys of these metals, such as silver-copper alloys. Metal composites of these metals, such as silver-copper composites. The thing which coat | covered the metal with another electroconductive metal, for example, silver plating copper, etc. are mentioned. Among these, gold, silver, copper, nickel, platinum, palladium, and iron are preferable, gold, silver, copper, and nickel are more preferable, and silver is still more preferable in terms of conductivity and cost. Other conductive fine particles include, for example, metal oxides such as inorganic powders coated with the above metal substances, silver oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide, and indium-tin composite oxide. Carbon black, graphite, metal complexes, organic conductive fine particles and the like can also be used. The conductive fine particles may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds of conductive materials are used in combination, the plurality of materials may be in any form such as a mixture, a melt, a dispersion, and a coating.

導電性微粒子を得る方法として、例えば、湿式法、アトマイズ法、電解法等の製造方法が挙げられる。その結果、フレーク状、鱗片状、板状、球状、略球状、凝集球状、樹枝状、箔状等種々の形状の導電性微粒子が得られる。本発明ではいずれの形状のものも使用することができる。   Examples of methods for obtaining conductive fine particles include production methods such as a wet method, an atomizing method, and an electrolytic method. As a result, conductive fine particles having various shapes such as flakes, scales, plates, spheres, substantially spheres, agglomerated spheres, dendrites and foils are obtained. Any shape can be used in the present invention.

また導電性微粒子の他の製造方法としては、例えば、ガス中蒸発法等の気相法、液相中で超音波、紫外線または還元剤を用いて金属化合物を還元する液相法(特開平11−80647号公報および特開昭61−276907号公報を参照)、あるいは溶融法、電解法等が挙げられる。本発明においては、製造コストが安く、製造工程が少ない、金属化合物を液相中で超音波、紫外線または還元剤を用いて還元する液相法を用いて製造することが好ましい。
得られた導電性微粒子は、平均粒子径0.001〜10μmが好ましく、0.001〜0.05μmがより好ましい。この範囲の導電性微粒子を用いることにより、低温かつ短時間の加熱により優れた導電性を有する導電性被膜の形成が可能となる。
Other methods for producing conductive fine particles include, for example, a gas phase method such as a gas evaporation method, and a liquid phase method in which a metal compound is reduced using ultrasonic waves, ultraviolet rays, or a reducing agent in a liquid phase (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 11). -80647 and JP-A-61-276907), a melting method, an electrolytic method, and the like. In the present invention, it is preferable to produce by using a liquid phase method in which the production cost is low and the production process is small and the metal compound is reduced in the liquid phase using ultrasonic waves, ultraviolet rays or a reducing agent.
The obtained conductive fine particles preferably have an average particle size of 0.001 to 10 μm, and more preferably 0.001 to 0.05 μm. By using conductive fine particles in this range, it becomes possible to form a conductive film having excellent conductivity by heating at a low temperature for a short time.

なお、本発明における導電性微粒子の平均粒子径は、動的光散乱法を利用した粒子径分布測定装置により測定を行い、おおむね1μm未満の粒子はナノトラック(日機装株式会社製)により、1μm以上の粒子はマイクロトラック(日機装株式会社製)により測定される。   The average particle size of the conductive fine particles in the present invention is measured by a particle size distribution measuring apparatus using a dynamic light scattering method, and particles less than 1 μm are generally 1 μm or more by Nanotrack (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.). These particles are measured with a microtrack (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).

また、本発明の導電性微粒子は、保護物質によって被覆されていることが好ましい。前記保護物質は、導電性微粒子を含む導電性インキなどへ調製した際に、導電性微粒子の凝集を防ぎ、導電性インキ中での導電性微粒子の分散安定性を向上させるため用いられる。このような保護物質として、例えば導電性微粒子に対する親和性基を化合物中に1個または複数個有する化合物が挙げられる。導電性微粒子に対する親和性基としては、導電性微粒子の種類によっても異なるが、一般的には、アミノ基、4級アンモニウム基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、チオール基、スルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基等の極性基が挙げられる。さらに極性基が、アニオン性のカルボキシル基であることが好ましい。   The conductive fine particles of the present invention are preferably coated with a protective substance. The protective substance is used for preventing aggregation of the conductive fine particles and improving the dispersion stability of the conductive fine particles in the conductive ink when prepared into a conductive ink containing the conductive fine particles. Examples of such a protective substance include compounds having one or more affinity groups in the compound for conductive fine particles. The affinity group for the conductive fine particles varies depending on the type of the conductive fine particles, but generally, an amino group, a quaternary ammonium group, a hydroxyl group, a cyano group, a carboxyl group, a thiol group, a sulfonic acid group, and phosphoric acid. And polar groups such as a phosphate group. Furthermore, the polar group is preferably an anionic carboxyl group.

本発明において、導電性微粒子は、保護物質としてさらに分散剤を含むことが好ましく、前記分散剤としては脂肪酸が好ましい。これは、脂肪酸を含んだ保護物質によって被覆された導電性微粒子が用いられると、より低温かつ短時間での導電性被膜の製造が可能となるからである。保護物質としては、顔料分散剤、界面活性剤、カップリング剤、脂肪酸等の分散剤を用いることができる。   In the present invention, the conductive fine particles preferably further contain a dispersant as a protective substance, and the dispersant is preferably a fatty acid. This is because the use of conductive fine particles coated with a protective substance containing a fatty acid makes it possible to produce a conductive film at a lower temperature and in a shorter time. As the protective substance, a dispersant such as a pigment dispersant, a surfactant, a coupling agent, or a fatty acid can be used.

これら保護物質を導電性微粒子に被覆する方法としては、予め製造された導電性微粒子と保護物質とを乾式、または湿式で混合するなどして導電性微粒子を保護物質により被覆する方法、導電性微粒子を製造する際、保護物質の存在下に導電性微粒子を形成して、保護物質で被覆された導電性微粒子を得る方法、脂肪酸金属塩など保護物質として機能する物質の金属塩を還元剤などを用いて還元することにより保護物質で被覆された導電性微粒子を得る方法などが知られている。これら方法はいずれも公知の方法であり、適宜の方法が用いられればよい。   As a method of coating these protective substances on conductive fine particles, a method of coating conductive fine particles with a protective substance by mixing conductive fine particles prepared in advance and a protective substance dry or wet, etc., conductive fine particles In the production of conductive fine particles in the presence of a protective substance to obtain conductive fine particles coated with the protective substance, a metal salt of a substance that functions as a protective substance, such as a fatty acid metal salt, with a reducing agent, etc. A method for obtaining conductive fine particles coated with a protective substance by reduction using the same is known. Any of these methods is a known method, and an appropriate method may be used.

本発明では、保護物質は、導電性微粒子100重量部に対して1〜2000重量部を用いることが好ましく、10〜100重量部がより好ましい。保護物質の使用量が1重量部未満の場合、分散安定性が得られず、導電性微粒子が凝集する恐れがある。また、2000重量部を超えると、分散安定性に寄与しない余剰の保護物質が、導電性被膜の導電性や、その他の物性に悪影響を与える恐れがある。
前記導電性インキは、導電性微粒子の他に、樹脂と、液状媒体と、を含むことが好ましい。
In the present invention, the protective substance is preferably used in an amount of 1 to 2000 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the conductive fine particles. When the amount of the protective substance used is less than 1 part by weight, dispersion stability cannot be obtained, and the conductive fine particles may aggregate. On the other hand, when the amount exceeds 2000 parts by weight, an excessive protective substance that does not contribute to dispersion stability may adversely affect the conductivity of the conductive film and other physical properties.
The conductive ink preferably contains a resin and a liquid medium in addition to the conductive fine particles.

前記導電性インキに含まれる前記樹脂は、下地への密着性や、イオン交換層(E)との密着性、さらに導電層(A)の形成しやすさも考慮して選択される。具体的には、例えば、ポリウレタン樹脂、(不飽和)ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、ポリアミド樹脂、(メタ)アクリル樹脂、スチレン/(メタ)アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ニトロセルロース、ベンジルセルロース、セルロース(トリ)アセテート、カゼイン、シェラック、ゼラチン、ギルソナイト、ロジン、ロジンエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロース、カルボキシメチルニトロセルロース、エチレン/ビニルアルコール樹脂、スチレン/無水マレイン酸樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、エチレン/酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル/マレイン酸樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ケトン樹脂、石油樹脂、塩素化ポリオレフィン樹脂、変性塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化ポリウレタン樹脂等が挙げられる。   The resin contained in the conductive ink is selected in consideration of adhesion to the base, adhesion to the ion exchange layer (E), and ease of formation of the conductive layer (A). Specifically, for example, polyurethane resin, (unsaturated) polyester resin, alkyd resin, butyral resin, acetal resin, polyamide resin, (meth) acrylic resin, styrene / (meth) acrylic resin, polystyrene resin, nitrocellulose, benzyl Cellulose, cellulose (tri) acetate, casein, shellac, gelatin, gilsonite, rosin, rosin ester, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, ethylcellulose, hydroxyethylmethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, carboxy Methylcellulose, carboxymethylethylcellulose, carboxymethylnitrocellulose, Rene / vinyl alcohol resin, styrene / maleic anhydride resin, polybutadiene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinylidene fluoride resin, polyvinyl acetate resin, ethylene / vinyl acetate resin, vinyl chloride / vinyl acetate resin, chloride Vinyl / vinyl acetate / maleic acid resin, fluorine resin, silicone resin, epoxy resin, phenoxy resin, phenol resin, maleic acid resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, ketone resin, petroleum resin, chlorinated polyolefin resin, modified chlorine Polyolefin resin, chlorinated polyurethane resin and the like.

また前記樹脂の代わりに、または樹脂と併用してエチレン性不飽和基含有化合物を用いることも好ましい。エチレン性不飽和基含有化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリレート化合物、ビニルエーテル化合物等の化合物が挙げられる。これらエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、単官能であっても、多官能であってもよい。これらの化合物は、1種を単独で用いることもできるし、2種以上を組み合わせて用いることもできる。なお、本発明において「(メタ)アクリル酸」という場合、アクリル酸およびメタクリル酸を含む意味で使用される。また「(メタ)アクリレート」という場合にも、同様に、アクリレートとメタクリレートを含む意味で用いられる。その他(メタ)アクリロイルなどでも、同様である。   It is also preferable to use an ethylenically unsaturated group-containing compound instead of the resin or in combination with the resin. Examples of the ethylenically unsaturated group-containing compound include compounds such as (meth) acrylic acid, (meth) acrylate compounds, and vinyl ether compounds. These compounds having an ethylenically unsaturated double bond may be monofunctional or polyfunctional. These compounds can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. In the present invention, “(meth) acrylic acid” is used to include acrylic acid and methacrylic acid. Similarly, the term “(meth) acrylate” is used to mean including acrylate and methacrylate. The same applies to other (meth) acryloyl.

これら樹脂やエチレン性不飽和基含有化合物は、導電性インキ100重量%のうち、0.01〜99重量%が好ましく、0.1〜95重量%がより好ましく用いることができる。上記範囲内で用いることで導電性被膜の導電性を阻害せず使用することができる。   These resins and ethylenically unsaturated group-containing compounds are preferably 0.01 to 99% by weight, more preferably 0.1 to 95% by weight, out of 100% by weight of the conductive ink. By using within the said range, it can be used, without inhibiting the electroconductivity of an electroconductive film.

前記導電性インキに含まれる液状媒体としては、例えば、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、水等が挙げられる。以下、これら各溶剤について、更に詳細に説明する。   Examples of the liquid medium contained in the conductive ink include ester solvents, ketone solvents, ether solvents, glycol ether solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic hydrocarbon solvents, water, and the like. . Hereinafter, each of these solvents will be described in more detail.

上記エステル系溶剤としては、例えば、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n‐プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n‐ブチル、酢酸イソブチル、酢酸sec‐ブチル、酢酸(イソ)アミル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、酢酸3‐メトキシブチル、酢酸sec‐ヘキシル、酢酸2‐エチルブチル、酢酸2‐エチルヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、モノクロロ酢酸メチル、モノクロロ酢酸エチル、モノクロロ酢酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソアミル、γ‐ブチロラクトン、ジヒドロターピネオールアセテート等が挙げられる。   Examples of the ester solvent include ethyl formate, propyl formate, butyl formate, isobutyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, sec-butyl acetate. , (Iso) amyl acetate, cyclohexyl acetate, ethyl lactate, 3-methoxybutyl acetate, sec-hexyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, benzyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl monochloroacetate, monochloro Examples thereof include ethyl acetate, butyl monochloroacetate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, butyl propionate, isoamyl propionate, γ-butyrolactone, dihydroterpineol acetate and the like.

ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、アセトフェノン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルn‐ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルアミルケトン、アセトニルアセトン、イソホロン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、2‐(1‐シクロヘキセニル)シクロヘキサノン等が挙げられる。   Examples of ketone solvents include acetone, acetophenone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, diethyl ketone, methyl n-butyl ketone, methyl isobutyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, methyl amyl ketone, acetonyl acetone, isophorone, cyclohexanone, methyl Examples include cyclohexanone and 2- (1-cyclohexenyl) cyclohexanone.

エーテル系溶剤としては、例えば、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、ジブチルエーテル、メチル‐t‐ブチルエーテル、ターピニルメチルエーテル、ジヒドロターピニルメチルエーテル、環状エーテル系溶剤として、例えば、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン等が挙げられる。   Examples of ether solvents include ethyl ether, isopropyl ether, dioxane, dibutyl ether, methyl-t-butyl ether, terpinyl methyl ether, dihydroterpinyl methyl ether, and cyclic ether solvents such as tetrahydrofuran, 1, Examples include 3-dioxolane.

グリコールエーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ‐n‐ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ‐n‐プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ‐n‐ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノn−プロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノn−ブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノn−プロピルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノ‐n‐ブチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノ‐n‐プロピルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノ‐n‐ブチルエーテルアセテート等のグリコールモノエーテルの酢酸エステル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のジアルキルエーテル類が挙げられる。   Examples of the glycol ether solvent include ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene Glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol mono-n-propyl ether acetate, propylene glycol mono-n-butyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol mono n-propyl ether acetate , Dipropylene glycol mono n-butyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, triethylene glycol mono n-propyl ether acetate, triethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, tripropylene glycol Acetic acid ester of glycol monoether such as monoethyl ether acetate, tripropylene glycol mono-n-propyl ether acetate, tripropylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl isobutyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether , Zip Dialkyl ethers such as propylene glycol diethyl ether.

脂肪族炭化水素系溶剤としては、例えば、ノルマルパラフィン系溶剤として、n‐ヘキサン、n‐ヘプタン、n‐オクタン、n‐ノナン、n‐デカン、n‐ドデカン、イソパラフィン系溶剤としては、イソヘキサン、2,2,3‐トリメチルペンタン、イソオクタン、2,2,5‐トリメチルヘキサン、シクロパラフィン系溶剤としては、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、
芳香族炭化水素系溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、スチレン、エチルベンゼン、ナフタレン、テトラリン、ソルベントナフサ、芳香族混合炭化水素等が挙げられる。
As the aliphatic hydrocarbon solvent, for example, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, n-dodecane as normal paraffin solvents, isohexane, , 2,3-trimethylpentane, isooctane, 2,2,5-trimethylhexane, cycloparaffinic solvents include cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, cycloheptane, cyclooctane,
Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include toluene, xylene, styrene, ethylbenzene, naphthalene, tetralin, solvent naphtha, aromatic mixed hydrocarbon, and the like.

また、その他の液状媒体として、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、ジ−n−ブチルカーボネート、フルフラールが挙げられる。上記液状媒体は、単独または2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   Other liquid media include dimethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, di-n-butyl carbonate, and furfural. You may use the said liquid medium individually or in combination of 2 or more types.

また上記液状媒体は、導電性インキ100重量%中、0.01〜99重量%用いることが好ましく、0.1〜95重量%用いることがより好ましい。   The liquid medium is preferably used in an amount of 0.01 to 99% by weight, more preferably 0.1 to 95% by weight, in 100% by weight of the conductive ink.

前記導電性インキは、液状媒体として1〜4個の水酸基を有する炭素数10〜18の化合物(F)(以下、単に「化合物(F)」とも表記する)をもちいることも好ましい。
導電性インキが化合物(F)を含むことによって、導電性被膜の導電性が大きく向上する。具体的には、従来の導電性被膜の体積抵抗値は10-5Ω・cm台かそれ以上であるのに対して、本発明の導電性被膜は、化合物(F)を含むことにより体積抵抗値10-6Ω・cm台といった低い抵抗値を達成することができる。抵抗値が低いということは高い導電性を有していることを示している。本発明の導電性被膜は、さらに下地との密着性が大きく向上している。これは従来に無い顕著な効果である。なお体積抵抗値と、下地との密着性の測定方法は、実施例で説明する。
It is also preferable that the conductive ink uses a compound (F) having 10 to 18 carbon atoms (hereinafter also simply referred to as “compound (F)”) having 1 to 4 hydroxyl groups as a liquid medium.
When the conductive ink contains the compound (F), the conductivity of the conductive film is greatly improved. Specifically, the volume resistance value of the conventional conductive film is on the order of 10 −5 Ω · cm or more, whereas the conductive film of the present invention contains the compound (F) to increase the volume resistance. A resistance value as low as 10 −6 Ω · cm can be achieved. A low resistance value indicates high conductivity. The conductive film of the present invention has greatly improved adhesion to the base. This is a remarkable effect not found in the past. In addition, the volume resistance value and the measuring method of the adhesiveness with the foundation | substrate are demonstrated in an Example.

化合物(F)は、具体的には、例えば炭素数10〜18の一価アルコール、多価アルコール、グリコールエーテル、アルカノールアミン等が挙げられる。   Specific examples of the compound (F) include C10-18 monohydric alcohols, polyhydric alcohols, glycol ethers, alkanolamines, and the like.

炭素数10〜18の一価アルコールとして、例えば
直鎖状の飽和アルキル基を有する一価アルコールとしては、1−デカノール、2−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカノール、2−ドデカノール、1−トリデカノール、1−テトラデカノール、2−テトラデカノール、1−ペンタデカノール、1−ヘキサデカノール、2−ヘキサデカノール、1−ヘプタデカノール、1−オクタデカノール、1−ノナデカノール、1−エイコサノール等が挙げられる。
As a monohydric alcohol having 10 to 18 carbon atoms, for example, a monohydric alcohol having a linear saturated alkyl group includes 1-decanol, 2-decanol, 1-undecanol, 1-dodecanol, 2-dodecanol, 1-tridecanol. 1-tetradecanol, 2-tetradecanol, 1-pentadecanol, 1-hexadecanol, 2-hexadecanol, 1-heptadecanol, 1-octadecanol, 1-nonadecanol, 1-eicosanol Etc.

また、分岐状の飽和アルキル基を有する一価アルコールとしては、3,7−ジメチル−1−オクタノール、3,7−ジメチル−3−オクタノール、2−ヘプチルウンデカノール、イソミリスチルアルコール、イソセチルアルコール、イソステアリルアルコールなどが挙げられる。また、ジシクロヘキシルメタノール、トリシクロデカンモノメチロール、水添加ロジンアルコール、ジヒドロターピネオールなどの環状アルコールも用いられる。   Examples of monohydric alcohols having a branched saturated alkyl group include 3,7-dimethyl-1-octanol, 3,7-dimethyl-3-octanol, 2-heptylundecanol, isomyristyl alcohol, and isocetyl alcohol. And isostearyl alcohol. In addition, cyclic alcohols such as dicyclohexylmethanol, tricyclodecane monomethylol, water-added rosin alcohol and dihydroterpineol are also used.

また、不飽和二重結合を分子内に有する1価アルコールとしては、不飽和二重結合を1つ有するアルケン基、不飽和二重結合を2つ有するアルカジエン基、不飽和二重結合を3つ有するアルカトリエン基、さらに不飽和二重結合を4つ以上有するアルカポリエン基を有する1価アルコールであり、オレイルアルコール、リノリルアルコール、11−ヘキサデセン−1−オール、7−テトラデセン−1−オール、9−テトラデセン−1−オール、11−テトラデセン−1−オール、7−ドデセン−1−オール、10−ウンデセン−1−オール、9−デセン−1−オール、シトロネロール、ドデカジエン−1−オール、フィトール、ゲラニオール、ロジノール、リナノール、ターピネオールC、α−ターピネオール、L−α−ターピネオールなどの直鎖状、分岐状または環状の不飽和基含有1価アルコールを挙げることが出来る。これら1価アルコールは単独または複数を任意の量比で組み合わせて使用することが可能である。   The monohydric alcohol having an unsaturated double bond in the molecule includes an alkene group having one unsaturated double bond, an alkadiene group having two unsaturated double bonds, and three unsaturated double bonds. A monohydric alcohol having an alkatriene group having four or more unsaturated double bonds, oleyl alcohol, linolyl alcohol, 11-hexadecene-1-ol, 7-tetradecene-1-ol, 9-tetradecen-1-ol, 11-tetradecen-1-ol, 7-dodesen-1-ol, 10-undecen-1-ol, 9-decene-1-ol, citronellol, dodecadien-1-ol, phytol, Geraniol, rosinol, linanol, terpineol C, α-terpineol, L-α-terpineol, etc. Examples include linear, branched or cyclic unsaturated group-containing monohydric alcohols. These monohydric alcohols can be used singly or in combination in any quantity ratio.

炭素数10〜18の多価アルコールとして、
例えば、1,2−デカンジオール、1,10−デカンジオール、1,2−デカンジオール、1,12−ドデカンジオール、1,2−ドデカンジオール、1,14−テトラデカンジオール、1,2−テトラデカンジオール、1,16−ヘキサデカンジオール、1,2−ヘキサデカンジオール、等のアルキレン二価アルコール、トリメチロールオクタン、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトールセルロース等の多価アルコール等が挙げられる。
As a polyhydric alcohol having 10 to 18 carbon atoms,
For example, 1,2-decanediol, 1,10-decanediol, 1,2-decanediol, 1,12-dodecanediol, 1,2-dodecanediol, 1,14-tetradecanediol, 1,2-tetradecanediol 1,16-hexadecanediol, 1,2-hexadecanediol and other alkylene dihydric alcohols, trimethylol octane, dipentaerythritol, tripentaerythritol cellulose and other polyhydric alcohols.

炭素数10〜18のグリコールエーテルとして、例えば、
ジプロピレングリコールn‐ブチルエーテル、トリエチレングリコール モノn‐ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールエチルエーテル、トリプロピレングリコールプロピルエーテル、トリプロピレングリコールブチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤が挙げられる。
As glycol ether having 10 to 18 carbon atoms, for example,
Examples include glycol ether solvents such as dipropylene glycol n-butyl ether, triethylene glycol mono n-butyl ether, tripropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol ethyl ether, tripropylene glycol propyl ether, and tripropylene glycol butyl ether.

本発明においては、導電性被膜の導電性および下地との密着性の点から、炭素数10〜18の一価アルコールまたは多価アルコールを用いることが好ましく、分岐状の飽和アルキル基を有する一価アルコール、環状アルコールを用いることがより好ましい。また本発明では、化合物(F)を1種または2種以上もちいることもできる。
これら、1〜4個の水酸基を有する炭素数10〜18の化合物(F)は、導電性インキ100重量部中、通常0.01〜99重量部用いることが好ましく、0.1〜95重量部用いる事がより好ましい。
In the present invention, it is preferable to use a monohydric alcohol or a polyhydric alcohol having 10 to 18 carbon atoms from the viewpoint of the conductivity of the conductive film and the adhesion to the ground, and the monovalent having a branched saturated alkyl group. More preferably, alcohol or cyclic alcohol is used. In the present invention, compound (F) may be used alone or in combination of two or more.
These compounds having 10 to 18 carbon atoms having 1 to 4 hydroxyl groups (F) are preferably used in an amount of usually 0.01 to 99 parts by weight, based on 100 parts by weight of the conductive ink, and 0.1 to 95 parts by weight. It is more preferable to use it.

前記導電性インキを製造するには、導電性微粒子とその他の原料とを混合し、従来公知の方法、例えばボールミル、アトライター、サンドミル、ジェットミル、3本ロールミル、ペイントシェーカー等を用いて分散するか、または、従来公知の方法、例えば、ミキサー、ディソルバーを用いて撹拌、混合すればよい。   In order to produce the conductive ink, conductive fine particles and other raw materials are mixed and dispersed using a conventionally known method such as a ball mill, an attritor, a sand mill, a jet mill, a three-roll mill, or a paint shaker. Alternatively, stirring and mixing may be performed using a conventionally known method such as a mixer or a dissolver.

得られた導電性インキは、下地上またはイオン交換層(E)へ印刷することで導電層(A)を形成することができる。前記印刷方法としては、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷などの公知の印刷方法を用いることができる。
次にイオン交換層(E)について説明する。
イオン交換層(E)は、下地上に導電層(A)と接して存在している。そして加熱をトリガーとして導電性微粒子を被覆している保護物質が、イオン交換層(E)に含まれている陰イオン交換物質により奪われるか、保護物質が他のイオンに交換されることによって活性エネルギーの高い導電性微粒子の表面が露出する。これにより導電性微粒子は、分散安定性を失い凝集して、密着することにより被膜化が速やかに進行する。この被膜化により被膜の体積抵抗値が低くて、高い導電性の実現が可能になる。
イオン交換層(E)は、共重合物(D)と、樹脂と、液状媒体と、を含む塗液(G)により形成される。
The obtained conductive ink can form a conductive layer (A) by printing on a foundation | substrate or an ion exchange layer (E). As the printing method, known printing methods such as gravure printing, flexographic printing, and ink jet printing can be used.
Next, the ion exchange layer (E) will be described.
The ion exchange layer (E) is in contact with the conductive layer (A) on the base. Then, the protective substance covering the conductive fine particles triggered by heating is deprived by the anion exchange substance contained in the ion exchange layer (E) or activated by the exchange of the protective substance with other ions. The surface of the conductive fine particles having high energy is exposed. As a result, the conductive fine particles lose their dispersion stability, aggregate and adhere to each other, whereby the coating progresses rapidly. By this coating, the volume resistance value of the coating is low, and high conductivity can be realized.
The ion exchange layer (E) is formed of a coating liquid (G) containing a copolymer (D), a resin, and a liquid medium.

共重合物(D)は、三級アミノ基および/または四級アンモニウム基を含有するモノマー(B)と、前記モノマー(B)と共重合し得るモノマー(C)とを共重合することで製造される。合成方法としては、溶液重合、乳化重合、懸濁重合、バルク重合などで行うことができる。前記重合はアニオン重合またはカチオン重合といったイオン重合法や、ラジカル重合法などによりできる。さらに共重合物(D)溶液の形態は、水系分散体またはエマルジョンであることも好ましい。   The copolymer (D) is produced by copolymerizing a monomer (B) containing a tertiary amino group and / or a quaternary ammonium group and a monomer (C) that can be copolymerized with the monomer (B). Is done. As the synthesis method, solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, bulk polymerization and the like can be performed. The polymerization can be performed by an ionic polymerization method such as anionic polymerization or cationic polymerization, or a radical polymerization method. Further, the form of the copolymer (D) solution is preferably an aqueous dispersion or an emulsion.

まず三級アミノ基および/または四級アンモニウム基を含有するモノマー(B)(以下モノマー(B)と表記する。)について説明する。
モノマー(B)の三級アミノ基または四級アンモニウム基は、イオン交換層(E)の形成後に導電層(A)とイオン交換反応をする目的で用いられるが、イオン交換効率の点で四級アンモニウム基が好ましい。そのため、三級アミノ基含有モノマーを用いるときは、共重合前のモノマーの状態で、カチオン化剤により四級アンモニウム塩とすることや、共重合後にカチオン化剤により四級アンモニウム塩とすることもできる。
First, a monomer (B) containing a tertiary amino group and / or a quaternary ammonium group (hereinafter referred to as monomer (B)) will be described.
The tertiary amino group or quaternary ammonium group of the monomer (B) is used for the purpose of an ion exchange reaction with the conductive layer (A) after the formation of the ion exchange layer (E). Ammonium groups are preferred. Therefore, when a tertiary amino group-containing monomer is used, it may be converted into a quaternary ammonium salt with a cationizing agent in the state of the monomer before copolymerization or with a cationizing agent after copolymerization. it can.

三級アミノ基含有モノマー(B−1)としては、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸ジエチルアミノエチルなどが挙げられる。
前記カチオン化剤としては、メチルクロライドやエチルクロライド、ベンジルクロライド、モノクロロ酢酸エチル、ジクロロ酢酸エチル、メチルサルフェート、エチルサルフェート、p−トルエンスルフォネートなどを用いることが出来る。
Examples of the tertiary amino group-containing monomer (B-1) include dimethylaminoethyl (meth) acrylate and diethylaminoethyl (meth) acrylate.
Examples of the cationizing agent include methyl chloride, ethyl chloride, benzyl chloride, ethyl monochloroacetate, ethyl dichloroacetate, methyl sulfate, ethyl sulfate, and p-toluene sulfonate.

四級アンモニウム基含有モノマー(B−2)は、モノマー全体としては四級アンモニウム塩化合物である。具体的には、例えば(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチルベンジルクロライド塩、(メタ)アクリル酸ジエチルアミノエチルメチルクロライド塩、(メタ)アクリル酸ジエチルアミノエチルベンジルクロライド塩、(メタ)アクリル酸アミノプロピルジメチルアンモニウムメチルクロライド塩、(メタ)アクリル酸アミノプロピルジメチルアンモニウムベンジルクロライド塩、(メタ)アクリル酸アミノプロピルジエチルアンモニウムメチルクロライド塩、(メタ)アクリル酸アミノプロピルジエチルアンモニウムベンジルクロライド塩、(メタ)アクリル酸トリメチルアンモニウムメチルサルフェート塩、(メタ)アクリル酸トリエチルアンモニウムメチルサルフェート塩、(メタ)アクリル酸アミノプロピルジメチルアンモニウムメチルサルフェート塩、(メタ)アクリル酸アミノプロピルジメチルアンモニウムエチルサルフェート塩、(メタ)アクリル酸トリメチルアミノエチルp−トルエンスルホネート塩、(メタ)アクリル酸アミノプロピルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート塩などが挙げられる。   The quaternary ammonium group-containing monomer (B-2) is a quaternary ammonium salt compound as a whole monomer. Specifically, for example, (meth) acrylic acid dimethylaminoethylmethyl chloride salt, (meth) acrylic acid dimethylaminoethylbenzyl chloride salt, (meth) acrylic acid diethylaminoethylmethyl chloride salt, (meth) acrylic acid diethylaminoethylbenzyl chloride salt Salt, (meth) acrylic acid aminopropyldimethylammonium methyl chloride salt, (meth) acrylic acid aminopropyldimethylammonium benzyl chloride salt, (meth) acrylic acid aminopropyldiethylammonium methyl chloride salt, (meth) acrylic acid aminopropyldiethylammonium salt Benzyl chloride salt, (meth) acrylic acid trimethylammonium methyl sulfate salt, (meth) acrylic acid triethylammonium methyl sulfate , (Meth) acrylic acid aminopropyldimethylammonium methyl sulfate salt, (meth) acrylic acid aminopropyldimethylammonium ethyl sulfate salt, (meth) acrylic acid trimethylaminoethyl p-toluenesulfonate salt, (meth) acrylic acid aminopropyldimethylethyl Examples thereof include ammonium ethyl sulfate salt.

共重合物(D)に用いるモノマー(C)は、モノマー(B)以外のモノマーでありモノマー(B)と共重合可能なエチレン性不飽和基含有モノマーを示している。
前記エチレン性不飽和基含有モノマーの中でも、イオン交換層(E)の耐水性を向上させるため疎水性モノマーを用いることが好ましい。具体的には、炭素数6〜20の鎖状もしくは環構造を有するアルキル基およびフェニル基からなる群より選択された1種以上の有機基を含有するモノマー(C−1)を用いることが好ましい。モノマー(B)は三級アミノ基や四級アンモニウム基を有するため親水性が強く、有機溶媒中より水系溶媒中で重合することが好ましいことから、導電性被膜に水分を呼び込みやすく、配線回路として用いられた場合に、水分の影響により回路に腐食が生じる恐れがあり、またイオンマイグレーションにより導通不良が発生する恐れがあるからである。
The monomer (C) used for the copolymer (D) is a monomer other than the monomer (B) and represents an ethylenically unsaturated group-containing monomer copolymerizable with the monomer (B).
Among the ethylenically unsaturated group-containing monomers, a hydrophobic monomer is preferably used in order to improve the water resistance of the ion exchange layer (E). Specifically, it is preferable to use a monomer (C-1) containing one or more organic groups selected from the group consisting of an alkyl group having a chain or ring structure of 6 to 20 carbon atoms and a phenyl group. . Since the monomer (B) has a tertiary amino group or a quaternary ammonium group, it is highly hydrophilic and is preferably polymerized in an aqueous solvent rather than in an organic solvent. This is because when used, the circuit may be corroded by the influence of moisture, and conduction failure may occur due to ion migration.

モノマー(C−1)のアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐していてもよく、さらには環構造を有していても良い。
モノマー(C−1)のうち直鎖または分岐鎖を有するアルキル基含有モノマーは、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸トリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸エイコシルなどが挙げられる。
The alkyl group of the monomer (C-1) may be linear, branched, or may have a ring structure.
Among the monomers (C-1), linear or branched alkyl group-containing monomers are hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate. , Nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, Tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, nonadecyl (meth) acrylate, ( (E.g., meta) eicosyl acrylate.

モノマー(C−1)のうち環構造を有するアルキル基含有モノマーは、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸t−ブチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリルなどが挙げられる。   Among the monomers (C-1), an alkyl group-containing monomer having a ring structure includes cyclohexyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate. Etc.

モノマー(C−1)のうちフェニル基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸フェノキシポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ノニルフェノールEO付加物、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルなどが挙げられる。   Among the monomers (C-1), as the monomer having a phenyl group, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, (meth) acrylate nonylphenol EO adduct, Examples thereof include tribromophenyl (meth) acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate.

上記モノマー(C−1)のなかでも、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸フェノキシエチルは、モノマー(B)との共重合のし易さ、入手のし易さや、低コストなどの点から好ましい。   Among the monomers (C-1), 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, (meth ) Benzyl acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate are preferred from the viewpoints of ease of copolymerization with the monomer (B), availability, and low cost.

上記モノマー(C)のうちモノマー(C−1)以外のモノマー(C−2)は、例えば、
(メタ)アクリレート化合物のうち、単官能(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノアクリレート、2−(ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、2−(ジエチルアミノ)エチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メチルフェノキシエチルアクリレート、ジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイロキシエチルサクシネート、2−(メタ)アクリロイロキシエチル2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、テトラメチルピペジリルメタクリレート、2−メタクリロイロキシエチルイソシアネート等が挙げられる。
Among the monomers (C), monomers (C-2) other than the monomer (C-1) are, for example,
Among the (meth) acrylate compounds, examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl ( (Meth) acrylate, butanediol monoacrylate, 2- (dimethylamino) ethyl (meth) acrylate, 2- (diethylamino) ethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxy Butyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenol Xyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxy Ethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methylphenoxyethyl acrylate, dipropylene glycol (meta ) Acrylate, (meth) acryloyloxyethyl succinate, 2- (meth) acryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate, tetramethylpiperidyl methacrylate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate Etc.

また、多官能の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチルイソシアヌレート)トリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、1,4−ブタンジオールオリゴアクリレート、1,6−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ロジン変性アクリレート等が挙げられる。   Examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and ethoxylated 1,6-hexanediol. Diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, propoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol diacrylate, 1, 4-butanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol Acrylate, dimethylol-tricyclodecane diacrylate, neopentyl glycol diacrylate hydroxypivalate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated bisphenol A di (meth) Acrylate, cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, propoxylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, tetramethylolpropane triacrylate Acrylate, tetramethylol methane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate Caprolactone-modified trimethylolpropane triacrylate, ethoxylated isocyanuric acid triacrylate, tri (2-hydroxyethyl isocyanurate) triacrylate, propoxylate glyceryl triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate , Ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, neopentyl glycol oligoacrylate, 1,4-butanediol oligoacrylate, 1,6-hexanediol oligoacrylate, trimethylolpropane oligoacrylate, pentaerythritol oligoacrylate, urethane Acrylate, epoxy Examples include acrylate, polyester acrylate, pentaerythritol diacrylate monostearate, polyethylene glycol dimethacrylate, and rosin-modified acrylate.

ビニルエーテル化合物のうち、単官能のビニルエーテル化合物として、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等が挙げられる。また、多官能のビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンジビニルエーテル、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサンジビニルエーテル、ビスフェノールAジエトキシジビニルエーテル、グリセロールトリビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル等が挙げられる。   Among the vinyl ether compounds, examples of the monofunctional vinyl ether compound include hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, cyclohexanedimethanol monovinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, and the like. Examples of the polyfunctional vinyl ether compound include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, neopentyl glycol divinyl ether, 1 , 4-butanediol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, 1,4-dihydroxycyclohexane divinyl ether, 1,4-dihydroxymethylcyclohexane divinyl ether, bisphenol A diethoxydivinyl ether, glycerol Trivinyl ether, sorbitol tetravinyl ether, Trimethylolpropane trivinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether, and ditrimethylolpropane tetra vinyl ether.

さらに、上記化合物以外のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、例えば、N−ビニルアセトアミド、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、2−メタリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート等が挙げられる。   Furthermore, examples of the compound having an ethylenically unsaturated double bond other than the above compounds include N-vinylacetamide, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, 2-methallyloyloxyethyl hexahydrophthalate, and the like.

共重合物(D)の重合時に、モノマー(B)として親水性の四級アンモニウム基含有モノマー(B−2)を用い、さらにモノマー(C)に疎水性モノマーを用いた場合、反応溶媒に有機溶媒を用いると両者が分離する可能性が高く、モノマー(B)とモノマー(C)のそれぞれがホモポリマーとなり共重合物が得られない恐れがある。そのため溶媒は水系溶媒を用いることが好ましい。具体的には水と炭素数1〜3のアルコールを用いることが好ましい。炭素数1〜3のアルコールとしては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2プロパノールなどが挙げられる。   When the copolymer (D) is polymerized, a hydrophilic quaternary ammonium group-containing monomer (B-2) is used as the monomer (B), and a hydrophobic monomer is used as the monomer (C). If a solvent is used, there is a high possibility that they will be separated, and each of the monomer (B) and the monomer (C) may become a homopolymer and a copolymer may not be obtained. Therefore, it is preferable to use an aqueous solvent as the solvent. Specifically, it is preferable to use water and an alcohol having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the alcohol having 1 to 3 carbon atoms include methanol, ethanol, 1-propanol, and 2-propanol.

モノマーの使用量については、モノマー(B)とモノマー(C)の合計100重量%中、モノマー(B)は25〜75重量%、モノマー(C)は25〜75%含有することが好ましい。モノマー(B)が25重量%未満のときは、イオン交換性が不足する恐れがあり、75重量%を超えるとイオン交換層(E)の被膜強度が不足する恐れがある。モノマー(C)が25重量%未満のときは、イオン交換層(E)の親水性が高く耐水性が低下する恐れがあり、75重量%を超えるとイオン交換層(E)中の三級アミノ基や四級アンモニウム基が少なく、イオン交換性が不足する恐れがある。   About the usage-amount of a monomer, it is preferable to contain 25-75 weight% of monomer (B) and 25-75% of monomer (C) in a total of 100 weight% of monomer (B) and monomer (C). When the monomer (B) is less than 25% by weight, the ion exchange property may be insufficient, and when it exceeds 75% by weight, the film strength of the ion exchange layer (E) may be insufficient. When the monomer (C) is less than 25% by weight, the hydrophilicity of the ion exchange layer (E) may be high and the water resistance may be lowered. When the monomer (C) exceeds 75% by weight, the tertiary amino in the ion exchange layer (E) There are few groups and quaternary ammonium groups, and there is a fear that ion exchange properties are insufficient.

塗液(G)には、共重合物(D)の他に、樹脂と、微粒子と、液状媒体と、を含むことができる。樹脂、液状媒体は、前記導電性インキと同様のものを用いることができる。
前記微粒子は、イオン交換層(F)が微粒子を含むことによって、(1)イオン交換能を有する共重合物(D)をイオン交換層(F)中に均一に分散させることが可能になること、(2)導電層(A)とイオン交換層(F)との接触面積が増大し、ひいてはそれぞれに含まれる導電性微粒子と共重合物(D)とのイオン交換の効率が向上すること、があるため好ましい。
The coating liquid (G) can contain a resin, fine particles, and a liquid medium in addition to the copolymer (D). As the resin and the liquid medium, those similar to the conductive ink can be used.
When the ion exchange layer (F) contains fine particles, the fine particles (1) can uniformly disperse the copolymer (D) having ion exchange ability in the ion exchange layer (F). (2) The contact area between the conductive layer (A) and the ion exchange layer (F) is increased, and the efficiency of ion exchange between the conductive fine particles and the copolymer (D) contained therein is improved. This is preferable.

前記微粒子の平均粒子径は、0.001〜20μmであることが好ましい。平均粒子径が20μmを超える微粒子を用いると、導電性が低下する恐れが生じる。前記微粒子は、塗液(G)100重量%中、1〜99重量%、好ましくは5〜95重量%用いることができる。   The average particle diameter of the fine particles is preferably 0.001 to 20 μm. If fine particles having an average particle diameter exceeding 20 μm are used, the conductivity may be lowered. The fine particles can be used in an amount of 1 to 99% by weight, preferably 5 to 95% by weight, in 100% by weight of the coating liquid (G).

前記微粒子は、有機微粒子やイオン交換能を有さない無機微粒子を用いることが好ましい。   As the fine particles, organic fine particles or inorganic fine particles having no ion exchange ability are preferably used.

有機微粒子としては、例えば、デンプン等の天然物、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン系、スチレン/アクリル系、ナイロン6、ナイロン12、ナイロン6−12等のナイロン系、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、4フッ化エチレン等のオレフィン系、ポリエステル系、フェノール系、ベンゾグアナミン系が挙げられる。   Examples of organic fine particles include natural products such as starch, acrylics such as polymethyl methacrylate, polystyrenes, styrene / acrylics, nylons such as nylon 6, nylon 12, and nylon 6-12, high density polyethylene, and low density. Examples include olefins such as polyethylene, polypropylene, and tetrafluoroethylene, polyesters, phenols, and benzoguanamines.

イオン交換能を有さない無機微粒子としては、例えば、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、硫酸鉄(II)、硫酸カルシウム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化鉛、リン酸マグネシウム、塩化アルミニウム、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、水酸化アルミニウム、リトポン、等が挙げられる。これらの無機微粒子のなかでも、非晶質シリカ、コロイダルシリカが好ましい。さらに無機微粒子は使用の目的に応じて、有機物による処理(例えばシランカップリング剤処理)などを行うことも好ましい。
これらの微粒子は、1種または2種以上を用いることができる。
Examples of inorganic fine particles having no ion exchange capacity include, for example, barium sulfate, magnesium sulfate, iron (II) sulfate, calcium sulfate, magnesium hydroxide, zinc oxide, zinc hydroxide, zinc sulfide, lead oxide, magnesium phosphate, Examples include aluminum chloride, synthetic amorphous silica, colloidal silica, aluminum hydroxide, lithopone, and the like. Among these inorganic fine particles, amorphous silica and colloidal silica are preferable. Further, the inorganic fine particles are preferably subjected to treatment with an organic substance (for example, silane coupling agent treatment) according to the purpose of use.
These fine particles can be used alone or in combination of two or more.

塗液(G)の原料の混合は、上述した導電性インキと同様の方法で行うことができる。   Mixing of the raw material of the coating liquid (G) can be performed by the same method as the conductive ink described above.

本発明の導電性被膜の製造方法は、導電層(A)と、イオン交換層(E)を接触させることを特徴としているため、導電性被膜を形成する方法や基材、導電性被膜の膜形状等は、特に限定されるものではない。導電層(A)と、イオン交換層(E)とを接触させる態様として、
(1)下地上に、イオン交換層(E)と、導電層(A)と、を順次形成し導電性被膜とする方法。
(2)下地上に、導電層(A)と、イオン交換層(E)と、を順次形成し導電性被膜とする方法。
を挙げることができる。なお導電層(A)とイオン交換層(E)とは、例えば導電層(A)用の導電性インキと、イオン交換層(E)用の塗液(G)と、をウエットオンウエットで塗工したのち、加熱し層が形成され導電性被膜とすることも好ましい。
Since the method for producing a conductive film of the present invention is characterized in that the conductive layer (A) and the ion exchange layer (E) are brought into contact with each other, a method for forming a conductive film, a substrate, and a film of a conductive film The shape and the like are not particularly limited. As an aspect of bringing the conductive layer (A) and the ion exchange layer (E) into contact,
(1) A method in which an ion exchange layer (E) and a conductive layer (A) are sequentially formed on a base to form a conductive film.
(2) A method in which a conductive layer (A) and an ion exchange layer (E) are sequentially formed on a base to form a conductive film.
Can be mentioned. The conductive layer (A) and the ion exchange layer (E) are prepared by, for example, applying a conductive ink for the conductive layer (A) and a coating liquid (G) for the ion exchange layer (E) by wet-on-wet. It is also preferable to heat and heat the layer to form a conductive film.

導電層(A)は、イオン交換層(E)とのイオン交換により導電性被膜へと変化する。
本発明においては、上記(1)〜(2)いずれの方法を用いても、低温かつ短時間の加熱で導電性被膜の所望の導電性を得ることができる。
また導電性被膜の保護を目的として、導電性被膜上にオーバープリントワニス、各種コーティング剤等を塗工してもよい。これらワニスやコーティング剤は通常の熱乾燥型、活性エネルギー線硬化型のいずれも使用できる。
The conductive layer (A) changes into a conductive film by ion exchange with the ion exchange layer (E).
In the present invention, even if any of the above methods (1) to (2) is used, desired conductivity of the conductive film can be obtained by heating at a low temperature for a short time.
Further, for the purpose of protecting the conductive film, an overprint varnish, various coating agents and the like may be applied on the conductive film. These varnishes and coating agents can be used in either normal heat drying type or active energy ray curable type.

本発明の導電性被膜には、その用途により各種機能層を積層することもできる。例えば導電性被膜の上に、保護層を形成する場合、下地の反対面に接着剤層を形成する場合等をあげることができる。   Various functional layers can be laminated on the conductive coating of the present invention depending on the application. For example, when forming a protective layer on a conductive film, the case where an adhesive layer is formed on the opposite surface of the base can be mentioned.

導電性被膜の保護する方法として、導電性被膜上に接着剤を介して紙やプラスチックフィルムを接着する方法や、導電性被膜の上にプラスチックの溶融押出し等によりラミネートする方法が挙げられる。さらに導電性被膜上にレジスト層を設けることで、保護することもできる。   Examples of the method for protecting the conductive coating include a method in which paper or a plastic film is bonded onto the conductive coating through an adhesive, and a method in which the conductive coating is laminated on the conductive coating by melt extrusion of plastic. Furthermore, it can also protect by providing a resist layer on a conductive film.

導電性被膜がより高い導電性を得るためには、加熱のみならず加熱加圧を行うことが好ましい。加熱加圧は、プレスロール機、プレス機、ラミネーター等で行うことができる。加熱や加熱加圧の条件は、下地に悪影響のない範囲で行えばよいが、加熱温度は50〜150℃、加圧条件は、0.5〜2.0MPa、加圧時間は10秒〜10分間の範囲で行うことが好ましい。例えばプレスロール機を用いる場合、ロールの線圧は1〜25kg/cmの範囲が好ましい。また、プレス時の搬送速度は0.1〜30m/分の範囲で行うことが好ましい。   In order for the conductive film to obtain higher conductivity, it is preferable to perform heating and pressurization as well as heating. Heating and pressing can be performed with a press roll machine, a press machine, a laminator, or the like. The conditions for heating and heating and pressurization may be performed in a range that does not adversely affect the substrate, but the heating temperature is 50 to 150 ° C., the pressing condition is 0.5 to 2.0 MPa, and the pressing time is 10 seconds to 10 seconds. It is preferable to carry out within a range of minutes. For example, when a press roll machine is used, the linear pressure of the roll is preferably in the range of 1 to 25 kg / cm. Moreover, it is preferable to carry out the conveyance speed at the time of a press in the range of 0.1-30 m / min.

前記下地としては、紙、プラスチック、ガラス、繊維等を使用することができる。下地はフィルム状、シート状または板材であってもよい。また、下地上に予め他の層が形成されたものを下地として使用してもよい。紙系としては、例えば、コート紙、非コート紙の他、合成紙、ポリエチレンコート紙、含浸紙、耐水加工紙、絶縁加工紙、伸縮加工紙等の各種加工紙が使用できる。これらの中では、導電性被膜として安定した導電性を得る観点からは、コート紙、加工紙が好ましい。コート紙の場合は、平滑度の高いものほど導電性被膜の体積抵抗値が安定して発現するため好ましい。   As the base, paper, plastic, glass, fiber, or the like can be used. The base may be a film, sheet or plate. In addition, a substrate in which another layer is previously formed on the substrate may be used as the substrate. As the paper system, for example, various processed papers such as synthetic paper, polyethylene coated paper, impregnated paper, water-resistant processed paper, insulating processed paper, and stretch processed paper can be used in addition to coated paper and uncoated paper. Among these, coated paper and processed paper are preferable from the viewpoint of obtaining stable conductivity as the conductive film. In the case of coated paper, the higher the smoothness, the more preferable because the volume resistance value of the conductive coating is stably expressed.

プラスチック系としては、例えば、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロハン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ナイロン、ポリイミド、ポリカーボネート等のプラスチックを使用することができる。プラスチックフィルムの表面には、形成される導電性被膜の密着性を高めたり、塗布、印刷される導電性回路等の印刷再現性等を高める目的で、必要に応じて、コロナ放電処理やプラズマ処理を施したり、ポリウレタン、ポリイソシアネート、有機チタネート、ポリエチレンイミン、ポリブタジエン等の樹脂コーティング剤を塗布したりすることができる。   Examples of plastics that can be used include plastics such as polyester, polyethylene, polypropylene, cellophane, vinyl chloride, vinylidene chloride, polystyrene, polyvinyl alcohol, ethylene / vinyl alcohol copolymer, nylon, polyimide, and polycarbonate. On the surface of the plastic film, corona discharge treatment or plasma treatment is performed as necessary for the purpose of improving the adhesion of the conductive film to be formed or improving the print reproducibility of the conductive circuit to be applied and printed. Or a resin coating agent such as polyurethane, polyisocyanate, organic titanate, polyethyleneimine, or polybutadiene can be applied.

ガラス系としては、一般に基板用ガラスとして使用されているものは、いずれも使用することができる。例えば、ソーダライムガラス、マイクロシートガラス、無アルカリガラス、耐熱ガラス、バイコールガラス、石英ガラス等が挙げられる。   As the glass system, any of those generally used as glass for substrates can be used. For example, soda lime glass, micro sheet glass, non-alkali glass, heat resistant glass, Vycor glass, quartz glass and the like can be mentioned.

繊維系としては、例えば、綿、麻等の植物繊維、絹、羊毛等の動物繊維、ポリエステル、アクリル、ナイロン、ビニロン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリウレタン等の化学繊維、レーヨン、ポリノジック、キュプラ等の再生繊維が挙げられる。また、繊維の構造体としては、例えば、織物、ニット、不織布等いずれのものも用いることができる。   Examples of the fiber system include plant fibers such as cotton and hemp, animal fibers such as silk and wool, polyester, acrylic, nylon, vinylon, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene, polyvinylidene chloride, polyurethane and other chemical fibers, rayon And recycled fibers such as polynosic and cupra. In addition, as the fiber structure, for example, any of woven fabric, knit, non-woven fabric and the like can be used.

上記下地は、導電性被膜との密着性を高めるため、例えばプリント配線回路の導電回路を印刷により形成するときに、微細な回路幅での印刷を可能とするために、コロナ放電処理やプラズマ処理などの乾式処理や、ポリウレタン、ポリイソシアネート、有機チタネート、ポリエチレンイミン、ポリブタジエン等の樹脂コーティング剤を塗布する湿式処理によるアンカー処理をすることも好ましい。   In order to improve the adhesion with the conductive film, for example, when forming a conductive circuit of a printed wiring circuit by printing, for example, in order to enable printing with a fine circuit width, corona discharge treatment or plasma treatment is performed. It is also preferable to carry out an anchor treatment by a dry treatment such as a wet treatment by applying a resin coating agent such as polyurethane, polyisocyanate, organic titanate, polyethyleneimine or polybutadiene.

本発明の導電性被膜の製造方法において形成される導電層(A)とイオン交換層(E)の形成は、印刷もしくは塗工により行うことが好ましい。例えばグラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、ディスペンサー印刷などの各種印刷方式や、スプレーコート、スピンコート、ダイコート、リップコート、ナイフコート、ディップコート、カーテンコート、ロールコート、バーコート等の各種塗工方式を用いることができる。また印刷形態もべた塗りであってもよいし、配線回路などのパターン印刷であってもよい。   The conductive layer (A) and the ion exchange layer (E) formed in the method for producing a conductive film of the present invention are preferably formed by printing or coating. For example, various printing methods such as gravure printing, flexographic printing, screen printing, inkjet printing, dispenser printing, spray coating, spin coating, die coating, lip coating, knife coating, dip coating, curtain coating, roll coating, bar coating, etc. A coating method can be used. Also, the printing form may be solid coating or pattern printing such as a wiring circuit.

導電性被膜の厚さは、0.01〜30μmが好ましく、0.05〜10μmがより好ましい。例えば、導電性被膜が電磁波シールド層として用いられる場合には、0.05〜10μmが好ましく、また、導電回路として用いられる場合には、0.5〜30μmが好ましい。導電性被膜の厚さが0.01μm未満のときは導電性が不足する恐れがあり、30μmを越えると低コスト化が難しくなる恐れがある。   The thickness of the conductive coating is preferably 0.01 to 30 μm, more preferably 0.05 to 10 μm. For example, when the conductive film is used as an electromagnetic wave shielding layer, it is preferably 0.05 to 10 μm, and when it is used as a conductive circuit, 0.5 to 30 μm is preferable. When the thickness of the conductive coating is less than 0.01 μm, the conductivity may be insufficient, and when it exceeds 30 μm, it may be difficult to reduce the cost.

本発明の導電性被膜は、プリント配線板の導電性回路として好ましく用いることができる。前記のプリント配線板の導電性回路は、タッチパネルの電極用途、メンブレンスイッチの電極用途、非接触型ICメディアのアンテナ回路や、電磁波シールド用メッシュ非導電性物への導電性付与膜、例えば導電布等、FPCの配線回路などに用いることもできる。   The conductive film of the present invention can be preferably used as a conductive circuit of a printed wiring board. The conductive circuit of the printed wiring board is used as an electrode for a touch panel, an electrode for a membrane switch, an antenna circuit for a non-contact type IC medium, or a film for imparting conductivity to a mesh non-conductive material for electromagnetic shielding, such as a conductive cloth. It can also be used for FPC wiring circuits.

以下、本発明を実施例に基づいて更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例中、「部」は「重量部」を、「%」は「重量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example, this invention is not limited to these. In the examples, “parts” represents “parts by weight” and “%” represents “% by weight”.

[導電性インキ製造例1]
セパラブル4口フラスコに冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付け、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながらトルエン200部およびオレイン酸銀38.9部を仕込み、分散剤としてジエチルアミノエタノール2.3部(金属1molに対し0.2molの割合)を添加し溶解させた。その後、20%コハク酸ジヒドラジド(以降SUDHと略記する)水溶液73.1部(金属1molに対しヒドラジド基2molの割合)を滴下すると液色が淡黄色から濃茶色に変化した。更に反応を促進させるために40℃に昇温し、反応を進行させた。反応終了後、溶液を静置すると、上層と下層に分離した。下層の水層を取り出すことで過剰の還元剤や不純物を除去した。そこで油層に蒸留水を加え、洗浄・分離を数回繰り返し導電性インキを得た。得られた導電性インキの、銀微粒子の平均粒子径は0.007μmであり、銀濃度は73%であり、40℃で一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。
[Conductive ink production example 1]
Attach 200 parts of toluene and 38.9 parts of silver oleate to a separable four-necked flask with a condenser, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube, and a stirrer, and stir at room temperature in a nitrogen atmosphere. 3 parts (a ratio of 0.2 mol to 1 mol of metal) were added and dissolved. Thereafter, when 73.1 parts of a 20% succinic acid dihydrazide (hereinafter abbreviated as SUDH) aqueous solution (a ratio of 2 mol of hydrazide group to 1 mol of metal) was dropped, the liquid color changed from pale yellow to dark brown. In order to further promote the reaction, the temperature was raised to 40 ° C. to advance the reaction. When the solution was allowed to stand after completion of the reaction, it was separated into an upper layer and a lower layer. The excess reducing agent and impurities were removed by removing the lower aqueous layer. Therefore, distilled water was added to the oil layer, and washing and separation were repeated several times to obtain a conductive ink. In the obtained conductive ink, the average particle diameter of silver fine particles was 0.007 μm, the silver concentration was 73%, and the particle diameter did not change even after being stored at 40 ° C. for one month and was stable.

[導電性インキ製造例2]
セパラブル4口フラスコに冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付け、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながらトルエン200部およびプロピオン酸銀18.1部を仕込み、分散剤としてジエチルアミノエタノール2.3部(金属1molに対し0.2molの割合)、オレイン酸2.8部(金属1molに対し0.1molの割合)を添加し溶解させた。その後、20%SUDH水溶液73.1部(金属1molに対しヒドラジド基2mol倍)を添加すると液色が淡黄色から濃茶色に変化した。更に反応を促進させるために40℃に昇温し、反応を進行させた。反応終了後、溶液を静置すると、上層と下層に分離した。下層の水層を取り出すことで過剰の還元剤や不純物を除去した。そこで油層に蒸留水を加え、洗浄・分離を数回繰り返し導電性インキを得た。得られた導電性インキの、銀微粒子の平均粒子径は0.005μmであり、銀濃度は75%であり、40℃で一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。
[Conductive ink production example 2]
A separable four-necked flask was equipped with a condenser, thermometer, nitrogen gas inlet tube, and stirring device. While stirring at room temperature in a nitrogen atmosphere, 200 parts of toluene and 18.1 parts of silver propionate were charged, and diethylaminoethanol 2 was used as a dispersant. .3 parts (0.2 mol / mol of metal) and 2.8 parts of oleic acid (0.1 mol / mol of metal) were added and dissolved. Thereafter, when 73.1 parts of 20% SUDH aqueous solution (2 mol times of hydrazide group with respect to 1 mol of metal) was added, the liquid color changed from light yellow to dark brown. In order to further promote the reaction, the temperature was raised to 40 ° C. to advance the reaction. When the solution was allowed to stand after completion of the reaction, it was separated into an upper layer and a lower layer. The excess reducing agent and impurities were removed by removing the lower aqueous layer. Therefore, distilled water was added to the oil layer, and washing and separation were repeated several times to obtain a conductive ink. In the obtained conductive ink, the average particle diameter of silver fine particles was 0.005 μm, the silver concentration was 75%, and the particle diameter did not change and was stable even after storage at 40 ° C. for one month.

[導電性インキ製造例3]
原料の金属塩をヘキサン酸銀22.3部に変更した以外は、合成例2と同様にして導電性インキを得た。得られた導電性インキの、銀微粒子の平均粒子径は0.005μmであり、銀濃度は80%であり、40℃で一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。
[Conductive ink production example 3]
A conductive ink was obtained in the same manner as in Synthesis Example 2 except that the starting metal salt was changed to 22.3 parts of silver hexanoate. In the obtained conductive ink, the average particle diameter of silver fine particles was 0.005 μm, the silver concentration was 80%, and the particle diameter did not change and was stable even after being stored at 40 ° C. for one month.

[導電性インキ製造例4]
原料の金属塩をステアリン酸銀39.1部に変更した以外は、合成例2と同様にして導電性インキを得た。得られた導電性インキの銀微粒子の平均粒子径は0.008μmあり、銀濃度は65%であり、40℃で一ヶ月保存した後でも粒子径に変化はなく安定であった。
[Conductive ink production example 4]
A conductive ink was obtained in the same manner as in Synthesis Example 2 except that the starting metal salt was changed to 39.1 parts of silver stearate. The average particle diameter of the silver fine particles of the obtained conductive ink was 0.008 μm, the silver concentration was 65%, and the particle diameter did not change and was stable even after storage at 40 ° C. for one month.

[導電性インキ製造例5]
導電性インキ製造例3で得られたインキ100部に対して、1〜4個の水酸基を有する炭素数10〜18の化合物(F)としてジヒドロターピネオール20部を加えて攪拌し導電性インキを得た。銀微粒子の平均粒子径は0.005μm、銀濃度は66.7%であり、40℃で一ヶ月保存した後でも粒子径に変化は無く安定であった。
[Conductive ink production example 5]
With respect to 100 parts of the ink obtained in Conductive Ink Production Example 3, 20 parts of dihydroterpineol is added as a compound of 10 to 18 carbon atoms (F) having 1 to 4 hydroxyl groups and stirred to obtain a conductive ink. It was. The average particle size of the silver fine particles was 0.005 μm, the silver concentration was 66.7%, and the particle size did not change even after storage at 40 ° C. for one month and was stable.

[導電性インキ製造例6]
導電性インキ製造例3で得られたインキ100部に対して、1〜4個の水酸基を有する炭素数10〜18の化合物(F)としてイソテトラデカノール20部を加えて攪拌し導電性インキを得た。銀微粒子の平均粒子径は0.005μm、銀濃度は66.7%であり、40℃で一ヶ月保存した後でも粒子径に変化は無く安定であった。
[Conductive ink production example 6]
To 100 parts of the ink obtained in Conductive Ink Production Example 3, 20 parts of isotetradecanol is added as a compound of 10 to 18 carbon atoms (F) having 1 to 4 hydroxyl groups and stirred, and the conductive ink is stirred. Got. The average particle size of the silver fine particles was 0.005 μm, the silver concentration was 66.7%, and the particle size did not change even after storage at 40 ° C. for one month and was stable.

[共重合物溶液製造例1]
還流冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けたセパラブル4口フラスコに、ジメチルアミノエチルメタクリレート(DM)25.0部、イオン交換水226.7部、メタノール340.0部、ベンジルクロライド20.1部を量り採り、室温で30分間攪拌した後、n−ブチルメタクリレート(n−BMA)75.0部を加えて60℃に昇温した。60℃になったら和光純薬工業社製水溶性アゾ系重合開始剤V−50を5.0部加えて3時間反応した。反応終了1時間と2時間後にV−50を0.5部づつ加えて、後反応を行った。その後、フラスコに真空ポンプを取り付けて、600torrの減圧度で脱溶剤を行い、メタノールと水の混合液370部を溜去したのち、水で希釈して不揮発分が20%となるように調整して共重合体(D)の溶液を得た。
[Copolymer solution production example 1]
In a separable four-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, nitrogen gas inlet tube, and stirring device, 25.0 parts of dimethylaminoethyl methacrylate (DM), 226.7 parts of ion-exchanged water, 340.0 parts of methanol, benzyl After weighing 20.1 parts of chloride and stirring at room temperature for 30 minutes, 75.0 parts of n-butyl methacrylate (n-BMA) was added and the temperature was raised to 60 ° C. When the temperature reached 60 ° C., 5.0 parts of water-soluble azo polymerization initiator V-50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was added and reacted for 3 hours. 1 hour and 2 hours after the end of the reaction, 0.5 parts of V-50 was added and a post reaction was performed. Then, a vacuum pump was attached to the flask, and the solvent was removed at a reduced pressure of 600 torr. After distilling 370 parts of a mixed solution of methanol and water, the mixture was diluted with water and adjusted so that the nonvolatile content became 20%. Thus, a solution of copolymer (D) was obtained.

[共重合物溶液製造例2]
還流冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けたセパラブル4口フラスコに、ジメチルアミノエチルメタクリレート(DM)35.0部、イオン交換水226.7部、エタノール340.0部を量り採り、室温で30分間攪拌した後、シクロヘキシルメタクリレート(CHMA)65.0部を加えて60℃に昇温した。60℃になったら和光純薬工業社製水溶性アゾ系重合開始剤V−50を5.0部加えて3時間反応した。反応終了1時間と2時間後にV−50を0.5部づつ加えて後反応を行い、ベンジルクロライド28.2部を加えて30分攪拌を続けた。その後、フラスコに真空ポンプを取り付けて、600torrの減圧度で脱溶剤を行い、エタノールと水の混合液350部を溜去したのち、水で希釈して不揮発分が20%となるように調整して共重合体(D)の溶液を得た。
[Copolymerization solution production example 2]
Weighed 35.0 parts of dimethylaminoethyl methacrylate (DM), 226.7 parts of ion-exchanged water, and 340.0 parts of ethanol in a separable four-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, nitrogen gas inlet tube, and stirring device. After being collected and stirred at room temperature for 30 minutes, 65.0 parts of cyclohexyl methacrylate (CHMA) was added and the temperature was raised to 60 ° C. When the temperature reached 60 ° C., 5.0 parts of water-soluble azo polymerization initiator V-50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was added and reacted for 3 hours. After 1 hour and 2 hours from the end of the reaction, 0.5 parts of V-50 was added in an amount of 0.5 parts, followed by a reaction. Then, a vacuum pump was attached to the flask, and the solvent was removed at a reduced pressure of 600 torr. After distilling 350 parts of the ethanol / water mixture, it was diluted with water and adjusted so that the non-volatile content was 20%. Thus, a solution of copolymer (D) was obtained.

[共重合物溶液製造例3]
還流冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けたセパラブル4口フラスコに、ジメチルアミノエチルメタクリレートのメチルクロライド塩(DMC)50.0部、イオン交換水226.7部、メタノール340.0部を量り採り、室温で30分間攪拌した後、2−エチルヘキシルメタクリレート(2−EHMA)50.0部を加えて60℃に昇温した。60℃になったら和光純薬工業社製水溶性アゾ系重合開始剤V−50を5.0部加えて3時間反応した。反応終了1時間と2時間後にV−50を0.5部づつ加えて後反応を行った。その後、フラスコに真空ポンプを取り付けて、600torrの減圧度で脱溶剤を行い、メタノールと水の混合液350部を溜去したのち、水で希釈して不揮発分が20%となるように調整して共重合体(D)の溶液を得た。
[Copolymerization solution production example 3]
In a separable four-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube, and a stirrer, 50.0 parts of methyl chloride salt (DMC) of dimethylaminoethyl methacrylate, 226.7 parts of ion-exchanged water, 340. After weighing out 0 parts and stirring at room temperature for 30 minutes, 50.0 parts of 2-ethylhexyl methacrylate (2-EHMA) was added and the temperature was raised to 60 ° C. When the temperature reached 60 ° C., 5.0 parts of water-soluble azo polymerization initiator V-50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was added and reacted for 3 hours. 1 hour and 2 hours after the completion of the reaction, 0.5 parts of V-50 was added and the post reaction was carried out. Then, a vacuum pump was attached to the flask, the solvent was removed at a reduced pressure of 600 torr, 350 parts of methanol / water mixture was distilled off, and then diluted with water to adjust the non-volatile content to 20%. Thus, a solution of copolymer (D) was obtained.

[共重合物溶液製造例4〜8]
製造例3と同様の方法で、表1の組成に従って合成を行い、共重合体(D)の溶液を得た。
[Copolymer solution production examples 4 to 8]
Synthesis was performed according to the composition shown in Table 1 in the same manner as in Production Example 3 to obtain a solution of copolymer (D).

[共重合物溶液製造例9]
還流冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けたセパラブル4口フラスコに、ジメチルアミノエチルメタクリレート(DM)100.0部、イオン交換水510.0部、メタノール56.7部、ベンジルクロライド80.5部を量り採り、室温で30分間攪拌した後、60℃に昇温した。60℃になったら和光純薬工業社製水溶性アゾ系重合開始剤V−50を5.0部加えて3時間反応した。反応終了1時間と2時間後にV−50を0.5部づつ加えて後反応を行った。その後、フラスコに真空ポンプを取り付けて、600torrの減圧度で脱溶剤を行い、メタノールと水の混合液363.7部を溜去したのち、水で希釈して不揮発分が20%となるように調整して共重合体の溶液を得た。
[Copolymerization solution production example 9]
In a separable four-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, nitrogen gas inlet tube, and stirring device, 100.0 parts of dimethylaminoethyl methacrylate (DM), 510.0 parts of ion-exchanged water, 56.7 parts of methanol, benzyl After weighing 80.5 parts of chloride and stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 60 ° C. When the temperature reached 60 ° C., 5.0 parts of water-soluble azo polymerization initiator V-50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was added and reacted for 3 hours. 1 hour and 2 hours after the completion of the reaction, 0.5 parts of V-50 was added and the post reaction was carried out. Then, a vacuum pump was attached to the flask, the solvent was removed at a reduced pressure of 600 torr, 363.7 parts of a methanol / water mixture was distilled off, and then diluted with water so that the non-volatile content was 20%. The solution of the copolymer was obtained by adjusting.

[共重合物溶液製造例10]
還流冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けたセパラブル4口フラスコに、ジメチルアミノエチルメタクリレートのメチルクロライド塩(DMC)100.0部、イオン交換水510.0部、メタノール56.7部を量り採り、室温で30分間攪拌した後、60℃に昇温した。60℃になったら水溶性アゾ系重合開始剤V−50(和光純薬工業社製)を10.0部加えて3時間反応した。反応終了1時間と2時間後にV−50を0.5部づつ加えて後反応を行った。その後、フラスコに真空ポンプを取り付けて、600torrの減圧度で脱溶剤を行い、メタノールと水の混合液359.0部を溜去したのち、水で希釈して不揮発分が20%となるように調整して共重合体の溶液を得た。
[Copolymerization solution production example 10]
In a separable four-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, nitrogen gas inlet tube, and stirrer, 100.0 parts of methyl chloride salt (DMC) of dimethylaminoethyl methacrylate, 510.0 parts of ion-exchanged water, 56. 7 parts were weighed and stirred at room temperature for 30 minutes, and then heated to 60 ° C. When the temperature reached 60 ° C., 10.0 parts of water-soluble azo polymerization initiator V-50 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and reacted for 3 hours. 1 hour and 2 hours after the completion of the reaction, 0.5 parts of V-50 was added and the post reaction was carried out. Then, a vacuum pump was attached to the flask, and the solvent was removed at a reduced pressure of 600 torr. After 359.0 parts of a methanol / water mixture was distilled off, the mixture was diluted with water so that the nonvolatile content was 20%. The solution of the copolymer was obtained by adjusting.

[共重合物溶液製造例11]
還流冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けたセパラブル4口フラスコに、シクロヘキシルメタクリレート(CHMA)60.0部、メタクリル酸(MAA)20.0部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(2−HEMA)20.0部、イオン交換水283.4部、エタノール283.3部を量り採り、室温で30分間攪拌した後、60℃に昇温した。60℃になったら和光純薬工業社製水溶性アゾ系重合開始剤V−50を5.0部加えて3時間反応した。反応終了1時間と2時間後にV−50を0.5部づつ加えて後反応を行った。その後、フラスコに真空ポンプを取り付けて、600torrの減圧度で脱溶剤を行い、メタノールと水の混合液360.0部を溜去したのち、水で希釈して不揮発分が20%となるように調整して共重合体の溶液を得た。
[Copolymerization solution production example 11]
In a separable four-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube, and a stirrer, 60.0 parts of cyclohexyl methacrylate (CHMA), 20.0 parts of methacrylic acid (MAA), 2-hydroxyethyl methacrylate (2 -HEMA) 20.0 parts, 283.4 parts of ion-exchanged water, and 283.3 parts of ethanol were weighed and stirred at room temperature for 30 minutes, and then heated to 60 ° C. When the temperature reached 60 ° C., 5.0 parts of water-soluble azo polymerization initiator V-50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was added and reacted for 3 hours. 1 hour and 2 hours after the completion of the reaction, 0.5 parts of V-50 was added and the post reaction was carried out. After that, a vacuum pump was attached to the flask, and the solvent was removed at a reduced pressure of 600 torr. After 360.0 parts of the methanol / water mixture was distilled off, it was diluted with water so that the nonvolatile content became 20%. The solution of the copolymer was obtained by adjusting.

[共重合物溶液製造例12]
還流冷却管、温度計、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けたセパラブル4口フラスコに、2−エチルヘキシルメタクリレート(2−EHMA)40.0部、メチルメタクリレート(MMA)20.0部、n−ブチルメタクリレート(n−BMA)40.0部、エタノール566.7部を量り採り、室温で30分間攪拌した後、60℃に昇温した。60℃になったら和光純薬工業社製水溶性アゾ系重合開始剤V−50を5.0部加えて3時間反応した。反応終了1時間と2時間後にV−50を0.5部づつ加えて後反応を行った。その後、フラスコに真空ポンプを取り付けて、600torrの減圧度で脱溶剤を行い、エタノール347.2部を溜去したのち、エタノールで希釈して不揮発分が20%となるように調整して共重合体の溶液を得た。
共重合体の性状について表1に示す。
[Copolymerization solution production example 12]
In a separable four-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube, and a stirrer, 40.0 parts of 2-ethylhexyl methacrylate (2-EHMA), 20.0 parts of methyl methacrylate (MMA), n-butyl 40.0 parts of methacrylate (n-BMA) and 566.7 parts of ethanol were weighed and stirred at room temperature for 30 minutes, and then heated to 60 ° C. When the temperature reached 60 ° C., 5.0 parts of water-soluble azo polymerization initiator V-50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was added and reacted for 3 hours. 1 hour and 2 hours after the completion of the reaction, 0.5 parts of V-50 was added and the post reaction was carried out. Then, a vacuum pump was attached to the flask, the solvent was removed at a reduced pressure of 600 torr, 347.2 parts of ethanol was distilled off, and then diluted with ethanol to adjust the non-volatile content to 20%. A combined solution was obtained.
The properties of the copolymer are shown in Table 1.

Figure 2010160989
Figure 2010160989

表中の記号の意味を以下に示す。
DM:メタクリル酸ジメチルアミノエチル、DMC:メタクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩、CHMA:メタクリル酸シクロヘキシル、2−EHMA:メタクリル酸2−エチルヘキシル、イソデシルMA:メタクリル酸イソデシル、ラウリルMA:メタクリル酸ラウリル、ステアリルMA:メタクリル酸ステアリル、BZMA:メタクリル酸ベンジル、PhEMA:メタクリル酸フェノキシエチル、MMA:メタクリル酸メチル、EA:アクリル酸エチル、n−BMA:メタクリル酸n−ブチル、MAA:メタクリル酸、2−HEMA:メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、V−50:2,2‘−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジヒドロクロライド、MeOH:メタノール、EtOH:エタノール、IPA:イソプロピルアルコール。
The meanings of the symbols in the table are shown below.
DM: dimethylaminoethyl methacrylate, DMC: dimethylaminoethyl methyl chloride salt, CHMA: cyclohexyl methacrylate, 2-EHMA: 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl MA: isodecyl methacrylate, lauryl MA: lauryl methacrylate, stearyl MA: stearyl methacrylate, BZMA: benzyl methacrylate, PhEMA: phenoxyethyl methacrylate, MMA: methyl methacrylate, EA: ethyl acrylate, n-BMA: n-butyl methacrylate, MAA: methacrylic acid, 2-HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate, V-50: 2,2′-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, MeOH: methanol, EtOH: ethanol, IPA: isopropyl alcohol.

「実施例1」
共重合物溶液製造例1で得られた共重合体(D)の溶液75部と水/イソプロピルアルコール=1/1(重量比)の混合溶液25部とを混合し、ディソルバーを用いて20分間攪拌して塗液(G)を得た。次いで、ポリエステルフィルム(東洋紡社製「エステルE5100」厚さ100μm)上にバーコーターを用いて塗工し、75℃で5分間乾燥して、乾燥後の塗膜厚さ6μmのイオン交換膜を得た。
次に、導電性インキ製造例1で得られた導電性インキを用いて、上記イオン交換膜の上に、インクジェット法によって幅3mmの導電層の回路パターンを印刷し、熱風乾燥オーブン中で150℃30分間乾燥させて導電性被膜を得た。
"Example 1"
75 parts of the copolymer (D) solution obtained in Copolymer solution production example 1 and 25 parts of a mixed solution of water / isopropyl alcohol = 1/1 (weight ratio) were mixed, and 20 parts were obtained using a dissolver. The mixture was stirred for a minute to obtain a coating liquid (G). Next, it was coated on a polyester film (“Ester E5100” manufactured by Toyobo Co., Ltd., 100 μm thick) using a bar coater and dried at 75 ° C. for 5 minutes to obtain an ion exchange membrane having a dried coating film thickness of 6 μm. It was.
Next, using the conductive ink obtained in Conductive Ink Production Example 1, a circuit pattern of a conductive layer having a width of 3 mm was printed on the ion exchange membrane by an ink jet method, and the temperature was 150 ° C. in a hot air drying oven. The film was dried for 30 minutes to obtain a conductive film.

「実施例2〜8」
実施例1と同様の方法で、表2に従って導電性被膜を得た。
"Examples 2 to 8"
In the same manner as in Example 1, a conductive film was obtained according to Table 2.

「実施例9」
共重合物溶液製造例1で得られた共重合体(D)の溶液を用いて、実施例1と同様の方法で、バーコーターによる塗工の替わりにインクジェット法で印刷してイオン交換層を得た。実施例1と同様の方法で、表2に従って導電性被膜を得た。
"Example 9"
Using the solution of the copolymer (D) obtained in Copolymer Solution Production Example 1, the same method as in Example 1 was used to print an ion exchange layer by an inkjet method instead of coating with a bar coater. Obtained. In the same manner as in Example 1, a conductive film was obtained according to Table 2.

「実施例10〜16」
実施例9と同様の方法で、表2に従って導電性被膜を得た。
"Examples 10 to 16"
In the same manner as in Example 9, a conductive film was obtained according to Table 2.

「実施例17」
ポリエステルフィルム(厚さ100μm)上に、導電性インキ製造例1で得られた導電性インキを用いて、インクジェット法によって幅3mmの回路パターンを印刷し、75℃で3分間乾燥させて導電層を形成した。次いで、導電層の回路パターン上に、共重合物溶液製造例1で得られた共重合物の溶液87.5部と、水/イソプロピルアルコール=1/1(重量比)の混合溶液12.5部とを混合し、ディソルバーを用いて20分間攪拌して塗液を得た。この塗液を上記導電層の上にバーコーターを用いて塗工し、熱風乾燥オーブン中で150℃30分間乾燥させてイオン交換層を形成し、導電性被膜を得た。
"Example 17"
On the polyester film (thickness 100 μm), using the conductive ink obtained in the conductive ink production example 1, a circuit pattern having a width of 3 mm is printed by an ink jet method and dried at 75 ° C. for 3 minutes to form a conductive layer. Formed. Next, on the circuit pattern of the conductive layer, 87.5 parts of the copolymer solution obtained in the copolymer solution production example 1 and a mixed solution 12.5 of water / isopropyl alcohol = 1/1 (weight ratio). Were mixed for 20 minutes using a dissolver to obtain a coating solution. This coating solution was applied onto the conductive layer using a bar coater and dried in a hot air drying oven at 150 ° C. for 30 minutes to form an ion exchange layer, thereby obtaining a conductive coating.

「実施例18〜24」
実施例17と同様の方法で、表3に従って導電性被膜を得た。
"Examples 18 to 24"
In the same manner as in Example 17, a conductive film was obtained according to Table 3.

「実施例25」
実施例17と同様の方法で導電層を形成した後に、幅3mmの回路パターンの上に、塗液をバーコーターの替わりにインクジェット法を用いて幅5mmに印刷し、熱風乾燥オーブン中で150℃30分間乾燥させてイオン交換層を形成し、導電性被膜を得た。
"Example 25"
After forming a conductive layer by the same method as in Example 17, a coating liquid was printed on a circuit pattern having a width of 3 mm to a width of 5 mm using an ink jet method instead of a bar coater, and was heated at 150 ° C. in a hot air drying oven. An ion exchange layer was formed by drying for 30 minutes to obtain a conductive film.

「実施例26〜32」
実施例25と同様の方法で、表3に従って導電性被膜を得た。
"Examples 26 to 32"
In the same manner as in Example 25, a conductive film was obtained according to Table 3.

「比較例1」
共重合物溶液製造例9で得られた共重合体の溶液50部と水/イソプロピルアルコール=1/1(重量比)の混合溶液50部とを混合し、ディソルバーを用いて20分間攪拌して塗液を得た。次いで、ポリエステルフィルム(厚さ100μm)上にバーコーターを用いて塗工し、75℃で5分間乾燥して、乾燥後の塗膜厚さ6μmのイオン交換層を得た。
次に、導電性インキ製造例1で得られた導電性インキを用いて、上記イオン交換層の上に、インクジェット法によって幅3mmの導電層の回路パターンを印刷し、熱風乾燥オーブン中で150℃30分間乾燥させて導電性被膜を得た。
“Comparative Example 1”
50 parts of the copolymer solution obtained in Copolymer solution production example 9 and 50 parts of a mixed solution of water / isopropyl alcohol = 1/1 (weight ratio) were mixed and stirred for 20 minutes using a dissolver. To obtain a coating solution. Then, it was coated on a polyester film (thickness: 100 μm) using a bar coater and dried at 75 ° C. for 5 minutes to obtain an ion exchange layer having a dried coating film thickness of 6 μm.
Next, using the conductive ink obtained in Conductive Ink Production Example 1, a circuit pattern of a conductive layer having a width of 3 mm was printed on the ion exchange layer by an inkjet method, and the temperature was 150 ° C. in a hot air drying oven. The film was dried for 30 minutes to obtain a conductive film.

「比較例2〜4」
比較例1と同様の方法で、表4に従って導電性被膜を得た。
"Comparative Examples 2-4"
In the same manner as in Comparative Example 1, a conductive film was obtained according to Table 4.

「比較例5」
ポリエステルフィルム(厚さ100μm)上に、導電性インキ製造例5で得られた導電性インキを用いて、インクジェット法によって幅3mmの導電層の回路パターンを印刷し、75℃で3分間乾燥させた。次いで、共重合物溶液製造例9で得られた共重合体の溶液50部と水/イソプロピルアルコール=1/1(重量比)の混合溶液50部とを混合し、ディソルバーを用いて20分間攪拌して塗液を得た。
次いで、導電層の回路パターン上に、上記塗液をバーコーターを用いて塗工し、熱風乾燥オーブン中で150℃30分間乾燥させてイオン交換層を形成し、導電性被膜を得た。
“Comparative Example 5”
A circuit pattern of a conductive layer having a width of 3 mm was printed on a polyester film (thickness: 100 μm) by the inkjet method using the conductive ink obtained in Conductive Ink Production Example 5 and dried at 75 ° C. for 3 minutes. . Next, 50 parts of the copolymer solution obtained in the copolymer solution production example 9 and 50 parts of a mixed solution of water / isopropyl alcohol = 1/1 (weight ratio) were mixed, and the mixture was used for 20 minutes using a dissolver. The coating liquid was obtained by stirring.
Next, the coating liquid was applied onto the circuit pattern of the conductive layer using a bar coater, and dried in a hot air drying oven at 150 ° C. for 30 minutes to form an ion exchange layer to obtain a conductive film.

「比較例6〜8」
比較例5と同様の方法で、表4に従って導電性被膜を得た。
"Comparative Examples 6-8"
A conductive film was obtained according to Table 4 in the same manner as in Comparative Example 5.

「比較例9」
ポリエステルフィルム(厚さ100μm)上に、導電性インキ製造例3で得られた導電性インキを用いて、インクジェット法によって幅3mmの導電層の回路パターンを印刷し、75℃で3分間乾燥させた。次いで、共重合物溶液製造例9で得られた共重合体の溶液50部と水/イソプロピルアルコール=1/1(重量比)の混合溶液50部とを混合し、ディソルバーを用いて20分間攪拌して塗液を得た。
次いで、導電層の回路パターン上に、上記塗液をインクジェット法で印刷したがノズルが詰まって印刷できなかった。
"Comparative Example 9"
A circuit pattern of a conductive layer having a width of 3 mm was printed on a polyester film (thickness: 100 μm) by the inkjet method using the conductive ink obtained in Conductive Ink Production Example 3, and dried at 75 ° C. for 3 minutes. . Next, 50 parts of the copolymer solution obtained in the copolymer solution production example 9 and 50 parts of a mixed solution of water / isopropyl alcohol = 1/1 (weight ratio) were mixed, and the mixture was used for 20 minutes using a dissolver. The coating liquid was obtained by stirring.
Next, the coating liquid was printed on the circuit pattern of the conductive layer by the ink jet method, but the nozzles were clogged and printing was not possible.

「比較例10〜12」
共重合物溶液製造例10〜12の共重合物溶液を用いて、比較例9と同様の方法でインクジェット法で印刷を試みたが、ノズルが詰まって印刷できなかった。
"Comparative Examples 10-12"
Using the copolymer solution of Production Examples 10 to 12 for the copolymer solution, printing was attempted by the inkjet method in the same manner as in Comparative Example 9, but printing was not possible because the nozzles were clogged.

なお実施例、比較例で得られた導電性被膜の層構成は、以下の2パターンである。
(1)下地/イオン交換層/導電性被膜
(2)下地/導電性被膜/イオン交換層
In addition, the layer structure of the electroconductive film obtained by the Example and the comparative example is the following two patterns.
(1) Base / ion exchange layer / conductive film (2) Base / conductive film / ion exchange layer

実施例および比較例で得られた導電性被膜について、下記の項目を評価した。   The following items were evaluated for the conductive films obtained in Examples and Comparative Examples.

〔膜厚〕
導電性皮膜およびイオン交換層の膜厚を仙台ニコン社製膜厚計「MH−15M型」で測定した。
[Film thickness]
The film thicknesses of the conductive film and the ion exchange layer were measured with a film thickness meter “MH-15M type” manufactured by Sendai Nikon Corporation.

〔下地密着性〕
下地上もしくはイオン交換層上に形成した導電性被膜に、セロハンテープを貼り付け、セロハンテープを急激に引き剥がした。その時の導電性被膜の剥離の程度を、下記評価基準により評価した。また層構成(2)の場合はイオン交換層上からセロハンテープを貼り付け評価を行った。
○:殆ど剥離しない。(剥離面積10%未満)
△:部分的に剥離した。(剥離面積10%以上50%未満)
×:殆ど剥離した。(剥離面積50%以上)
[Base adhesion]
A cellophane tape was affixed to the conductive film formed on the ground or the ion exchange layer, and the cellophane tape was abruptly peeled off. The degree of peeling of the conductive film at that time was evaluated according to the following evaluation criteria. In the case of the layer configuration (2), a cellophane tape was stuck on the ion exchange layer for evaluation.
○: Almost no peeling. (Peeling area less than 10%)
Δ: Partially peeled off. (Peeling area 10% or more and less than 50%)
X: Almost peeled. (Peeling area 50% or more)

〔体積抵抗値〕
得られた幅3mmの導電回路パターンを30mm間隔で4箇所はさみ、その回路の抵抗値を四探針抵抗測定器(三和電気計器社製「DR−1000CU型」で測定した。得られた抵抗値と膜厚から体積抵抗値を算出した。
なお、導電性被膜の製造で下地、導電性被膜(導電層)、イオン交換層の順に積層した〔層構成(2)に相当〕導電性被膜は、一部分イオン交換層を剥離し、導電性被膜を露出させて抵抗値、膜厚を測定して体積抵抗値を算出した。さらに導電層の上にオーバーコートしたものについては、オーバーコート層の一部を剥離して導電性被膜を露出させて抵抗値を測定した。
(Volume resistance value)
The obtained conductive circuit pattern having a width of 3 mm was sandwiched at four points at intervals of 30 mm, and the resistance value of the circuit was measured with a four-probe resistance measuring instrument (“DR-1000CU type” manufactured by Sanwa Denki Keiki Co., Ltd.). The volume resistance value was calculated from the value and the film thickness.
In addition, the base, the conductive film (conductive layer), and the ion exchange layer were laminated in this order in the production of the conductive film [corresponding to the layer structure (2)]. The conductive film partially peeled off the ion exchange layer, and the conductive film The volume resistance value was calculated by measuring the resistance value and the film thickness. Furthermore, about what overcoated on the conductive layer, a part of overcoat layer was peeled, the conductive film was exposed, and resistance value was measured.

〔耐折曲げ性〕
得られた導電性被膜の体積抵抗値を測定した後、導電性被膜側を内側にして180度折り曲げ、今度は導電性被膜側を外側にして180度折り曲げて、再び体積抵抗値を測定して、折り曲げ前後の抵抗値の変化を評価した。
○:体積抵抗値の変化が20%未満
△:体積抵抗値の変化が20%以上30%未満
×:体積抵抗値の変化が30%以上
[Bending resistance]
After measuring the volume resistance value of the obtained conductive film, bend it 180 degrees with the conductive film side inside, and then bend it 180 degrees with the conductive film side outside, and measure the volume resistance value again. The change in resistance value before and after bending was evaluated.
○: Change in volume resistance value is less than 20% Δ: Change in volume resistance value is 20% or more and less than 30% ×: Change in volume resistance value is 30% or more

〔耐水性〕
導電性被膜の表面を、水を含ませた脱脂綿で擦り、導電性被膜が剥離するまでの擦った回数を評価した。また層構成(2)の場合はイオン交換層上からセロハンテープを貼り付け評価を行った。
〔water resistant〕
The surface of the conductive coating was rubbed with absorbent cotton soaked in water, and the number of times of rubbing until the conductive coating was peeled was evaluated. In the case of the layer configuration (2), a cellophane tape was stuck on the ion exchange layer for evaluation.

Figure 2010160989
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Figure 2010160989
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Figure 2010160989
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Claims (8)

下地上に、導電性微粒子を含む導電層(A)と、
三級アミノ基および/または四級アンモニウム基を含有するモノマー(B)と、前記モノマー(B)と共重合し得るモノマー(C)とを共重合してなる共重合物(D)を含むイオン交換層(E)、とを積層することを特徴とする導電性被膜の製造方法。
On the ground, a conductive layer (A) containing conductive fine particles,
Ions including a copolymer (D) obtained by copolymerizing a monomer (B) containing a tertiary amino group and / or a quaternary ammonium group and a monomer (C) copolymerizable with the monomer (B). A method for producing a conductive coating, comprising laminating an exchange layer (E).
モノマー(C)が、炭素数6〜20の鎖状もしくは環構造を有するアルキル基およびフェニル基からなる群より選択された1種以上の有機基を含有するモノマーであることを特徴とする請求項1記載の導電性被膜の製造方法。   The monomer (C) is a monomer containing one or more organic groups selected from the group consisting of an alkyl group having a chain or ring structure of 6 to 20 carbon atoms and a phenyl group. 2. A method for producing a conductive film according to 1. モノマー(B)とモノマー(C)との合計100重量%中、モノマー(B)の割合が25〜75重量%、モノマー(C)の割合が25〜75重量%であることを特徴とする請求項1または2記載の導電性被膜の製造方法。   The ratio of the monomer (B) is 25 to 75% by weight and the ratio of the monomer (C) is 25 to 75% by weight in a total of 100% by weight of the monomer (B) and the monomer (C). Item 3. A method for producing a conductive coating according to Item 1 or 2. 共重合物(D)が、重合溶媒として、水および炭素数1〜3のアルコールを用いてなることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の導電性被膜の製造方法。   The method for producing a conductive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the copolymer (D) comprises water and an alcohol having 1 to 3 carbon atoms as a polymerization solvent. 導電層(A)が、インクジェット法により形成されることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の導電性被膜の製造方法。   The method for producing a conductive film according to any one of claims 1 to 4, wherein the conductive layer (A) is formed by an inkjet method. 請求項1〜5いずれか記載の製造方法により得られる導電性被膜。   The electroconductive film obtained by the manufacturing method in any one of Claims 1-5. 請求項6記載の導電性被膜を、導電性回路として有するプリント配線板。   A printed wiring board having the conductive film according to claim 6 as a conductive circuit. 請求項7記載のプリント配線板を用いてなるタッチパネル。   A touch panel using the printed wiring board according to claim 7.
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