JP2010138251A - Dispersion composition, polymerizable composition, light shielding color filter, solid-state image sensor, and liquid crystal display device - Google Patents

Dispersion composition, polymerizable composition, light shielding color filter, solid-state image sensor, and liquid crystal display device Download PDF

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JP2010138251A JP2008314800A JP2008314800A JP2010138251A JP 2010138251 A JP2010138251 A JP 2010138251A JP 2008314800 A JP2008314800 A JP 2008314800A JP 2008314800 A JP2008314800 A JP 2008314800A JP 2010138251 A JP2010138251 A JP 2010138251A
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博美 神田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a dispersion composition with a high dispersion property and storage stability, of which dispersion of a light-shielding pigment is high and light shielding pigments, especially a titanium black pigment, is not precipitated with time; a polymerizable composition with good sensitivity from which a light-shielding molded product is formed even when pattern forming is performed; a light-shielding color filter with a highly light-shielding color pattern using the polymerizable composition; a solid-state image sensor with high image-quality; and a liquid crystal display device. <P>SOLUTION: The dispersion composition includes (A) the light-shielding pigment, (B) a dispersant having a radically polymerizable group on at least one end and a group that adsorbs to the light-shielding pigment on the other end, and (C) a solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、遮光顔料を含む分散組成物、これを含む重合性組成物、これを用いた遮光性カラーフィルタ、該遮光性カラーフィルタを備える固体撮像素子、及び、液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a dispersion composition containing a light-shielding pigment, a polymerizable composition containing the same, a light-shielding color filter using the same, a solid-state imaging device including the light-shielding color filter, and a liquid crystal display device.

液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには着色画素間の光を遮蔽し、コントラストを向上させる等の目的で、ブラックマトリクスと呼ばれる遮光膜が備えられている。また、固体撮像素子においてもノイズ発生防止、画質の向上等を目的としてブラックマトリックスが設けられている。ブラックマトリクスは、遮光性の黒色色材を分散させた分散組成物と、重合性化合物、重合開始剤、その他の成分とを含有して重合性組成物とし、これを用いてフォトリソ法などによりパターン形成することで製造されている。
液晶表示装置用や固体撮像素子用のブラックマトリクスを形成するための組成物としては、カーボンブラックやチタンブラック等の黒色色材である遮光顔料を含有する感光性樹脂組成物が知られている。
A color filter used in a liquid crystal display device includes a light shielding film called a black matrix for the purpose of shielding light between colored pixels and improving contrast. Also in the solid-state imaging device, a black matrix is provided for the purpose of preventing noise and improving image quality. The black matrix contains a dispersion composition in which a light-shielding black color material is dispersed, a polymerizable compound, a polymerization initiator, and other components to form a polymerizable composition, which is used to form a pattern by a photolithography method or the like. It is manufactured by forming.
As a composition for forming a black matrix for a liquid crystal display device or a solid-state imaging device, a photosensitive resin composition containing a light-shielding pigment that is a black color material such as carbon black or titanium black is known.

液晶表示装置用ブラックマトリクスとしては、コントラストを高め、視認性を向上させるため遮光性の高いブラックマトリクスが要求される。一方、固体撮像素子用ブラックマトリクスとしては、可視域における遮光性に加え、赤外域における遮光性をも備える必要がある。   As a black matrix for a liquid crystal display device, a black matrix having a high light shielding property is required in order to increase contrast and improve visibility. On the other hand, a black matrix for a solid-state imaging device needs to have light shielding properties in the infrared region in addition to light shielding properties in the visible region.

カラーフィルタが使用される液晶表示装置に要求される性能として、高コントラスト化がある。この要求に応えるため、ブラックマトリクスの光学濃度を上げる必要がある。一方で、セルギャップのバラツキ抑制の観点や高精細化の観点等からは、ブラックマトリクスの薄膜化も要求されている。
ブラックマトリクスの光学濃度を上げる方法としては、膜厚を厚くする方法と遮光顔料の濃度を高くする方法とがあるが、膜厚を厚くする方法は、ブラックマトリクスの薄膜化の要求には沿わない。
従って、ブラックマトリクスの膜厚を厚くすることなく光学濃度を上げる必要があり、ブラックマトリクス中の黒色色材の濃度を増加させる必要を生じている。
A performance required for a liquid crystal display device using a color filter is high contrast. In order to meet this requirement, it is necessary to increase the optical density of the black matrix. On the other hand, thinning of the black matrix is also required from the standpoint of suppressing variation in cell gap and high definition.
There are two methods for increasing the optical density of the black matrix: a method of increasing the film thickness and a method of increasing the concentration of the light-shielding pigment. However, the method of increasing the film thickness does not meet the demand for thinning the black matrix. .
Therefore, it is necessary to increase the optical density without increasing the thickness of the black matrix, and it is necessary to increase the density of the black color material in the black matrix.

また、遮光性の高いブラックマトリクスの品質要求に応えるため、遮光性の高いチタンブラックの有用性が高まり、チタンブラックの分散性を向上させることが種々提案されている(特許文献1参照)。しかしながらチタンブラックは比重が大きいため、分散することが難しく、分散しても時間が経つとチタンブラックが沈降してしまうなど、分散性、分散安定性の向上が望まれている。   Further, in order to meet the quality requirements of a black matrix having a high light shielding property, the usefulness of titanium black having a high light shielding property is enhanced, and various proposals have been made to improve the dispersibility of titanium black (see Patent Document 1). However, since titanium black has a large specific gravity, it is difficult to disperse, and improvement in dispersibility and dispersion stability is desired, for example, titanium black settles over time even after dispersion.

これらの問題に対し、高感度で、かつ、現像性、及び製膜性を併せ持つ化合物として、側鎖にエチレン性不飽和二重結合及びカルボキシ基を有する樹脂(例えば、特許文献2参照)や、モノマーを分散剤として使用する方法が開発されている(特許文献3参照)。   With respect to these problems, as a compound having high sensitivity and developability and film-forming properties, a resin having an ethylenically unsaturated double bond and a carboxy group in the side chain (for example, see Patent Document 2), A method of using a monomer as a dispersant has been developed (see Patent Document 3).

以上述べたように、カラーフィルタ製造用途の重合性組成物については、液晶ディスプレイ用、固体撮像素子用いずれの場合においても、当該重合性組成物を硬化させるために必要な成分である光重合開始剤及び光重合性モノマーの含有量が制限される上に、着色剤濃度が高くなっているため、感度が低く充分な硬化が得られない、基板との密着性が不充分であるなどの問題が生じていた。
特開2005−266189号公報 特開2003−29018号公報 特開2008−191224号公報
As described above, for the polymerizable composition for use in color filter production, in either case for a liquid crystal display or for a solid-state imaging device, photopolymerization is an essential component for curing the polymerizable composition. The content of the colorant and the photopolymerizable monomer is limited, and since the colorant concentration is high, the sensitivity is low and sufficient curing cannot be obtained, and the adhesion to the substrate is insufficient. Has occurred.
JP 2005-266189 A JP 2003-29018 A JP 2008-191224 A

本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち本発明は、遮光顔料の分散性が高く、経時後も遮光顔料、特にチタンブラック顔料が沈降せず、分散性、および保存安定性の高い分散組成物を提供することを目的とする。
本発明の更なる目的は、パターン成形した場合であっても、遮光性の硬化物を形成することができ、感度が良好な重合性組成物を提供することであり、それを用いて遮光性の高い着色パターンを有する遮光性カラーフィルタを提供し、それを用いて高画質の固体撮像素子、及び液晶表示装置を提供することにある。
This invention is made | formed in view of the above, and makes it a subject to achieve the following objectives.
That is, an object of the present invention is to provide a dispersion composition having a high dispersibility of a light-shielding pigment, a light-shielding pigment, particularly a titanium black pigment, which does not settle even after aging, and has a high dispersibility and storage stability.
A further object of the present invention is to provide a polymerizable composition having a good sensitivity and capable of forming a light-shielding cured product even in the case of pattern molding, and using the light-shielding property. An object of the present invention is to provide a light-shielding color filter having a highly colored pattern, and to provide a high-quality solid-state imaging device and a liquid crystal display device using the same.

上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
<1> (A)遮光顔料、(B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤、および、(C)溶媒を含む分散組成物。
<2> (B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤が、ポリエーテル連結基、およびポリエステル連結基の少なくとも一方の末端にラジカル重合可能な基を有する分散剤である<1>に記載の分散組成物。
Means for solving the above problems are as follows.
<1> (A) a light-shielding pigment, (B) a dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal, and (C) a solvent Dispersion composition.
<2> (B) A dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and having a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal is at least one of a polyether linking group and a polyester linking group. The dispersion composition according to <1>, which is a dispersant having a radically polymerizable group at the terminal.

<3> (B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤が、下記一般式(1)で表される化合物である<1>または<2>に記載の分散組成物。 <3> (B) A dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and having a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal is a compound represented by the following general formula (1). The dispersion composition according to <1> or <2>.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

一般式(1)中、Bはアリル基、または(メタ)アクリロイル基を表し、Q及びQはそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Qはアルキレン基を表し、Mはリン酸基、カルボン酸基、ウレタン基、ウレア基、アミド基、およびイミノ基から選ばれる1種以上を有する有機基を表す。aは0〜20の整数、bは0〜100の整数をそれぞれ表し、且つ、(a+b)が5〜100の範囲である。nは1〜4の整数を、pは2〜8の整数を、それぞれ表す。 In General Formula (1), B represents an allyl group or a (meth) acryloyl group, Q 1 and Q 3 each independently represent a single bond or a divalent linking group, Q 2 represents an alkylene group, M represents an organic group having at least one selected from a phosphoric acid group, a carboxylic acid group, a urethane group, a urea group, an amide group, and an imino group. a represents an integer of 0 to 20, b represents an integer of 0 to 100, and (a + b) is in the range of 5 to 100. n represents an integer of 1 to 4, and p represents an integer of 2 to 8, respectively.

<4> (B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤が、下記一般式(2)、または一般式(3)で表される化合物である<1>〜<3>のいずれか1項に記載の分散組成物。 <4> (B) A dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and having a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal is represented by the following general formula (2) or general formula (3): <1>-<3> which is a compound represented by any one of <1>-<3>.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

一般式(2)、および、一般式(3)中、B、およびBはそれぞれ独立にアリル基、または(メタ)アクリロイル基を表し、Q、Q、Q、およびQはそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Q、およびQはそれぞれ独立にアルキレン基を表し、Mは(n1+m1)価の有機基、Mは単結合、または(n2+m2)価の有機基を表す。a1、およびa2はそれぞれ独立に0〜20の整数を表し、b1、およびb2はそれぞれ独立に0〜100の整数を表し、且つ(a1+b1)が5〜100であり、(a2+b2)が5〜100の範囲である。m1、m2、n1、およびn2はそれぞれ独立に1〜4の整数を表し、q、およびrはそれぞれ独立に2〜8の整数を表す。 In General Formula (2) and General Formula (3), B 1 and B 2 each independently represent an allyl group or a (meth) acryloyl group, and Q 4 , Q 6 , Q 7 , and Q 9 are Each independently represents a single bond or a divalent linking group, Q 5 and Q 8 each independently represent an alkylene group, M 1 represents an (n1 + m1) -valent organic group, M 2 represents a single bond, or (n2 + m2) ) Represents a valent organic group. a1 and a2 each independently represent an integer of 0 to 20, b1 and b2 each independently represent an integer of 0 to 100, and (a1 + b1) is 5 to 100, and (a2 + b2) is 5 to 100. Range. m1, m2, n1, and n2 each independently represents an integer of 1 to 4, and q and r each independently represents an integer of 2 to 8.

<5> (B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤が、下記一般式(4)または一般式(5)で表される化合物である<1>〜<3>のいずれか1項に記載の分散組成物。 <5> (B) A dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and having a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal is represented by the following general formula (4) or general formula (5). The dispersion composition according to any one of <1> to <3>, which is a compound represented.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

一般式(4)、および、一般式(5)中、B、およびBはそれぞれ独立にアリル基、(メタ)アクリロイル基を表し、Q10、およびQ14はそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Q11、およびQ15はそれぞれ独立にアルキレン基を表し、Q12、、Q16、およびQ17はそれぞれ独立に二価の連結基を表す。Q13はn3価の連結基を表し、Q18は、n4価の連結基を表す。a3、およびa4はそれぞれ独立に0〜20の整数を表し、b3、およびb4はそれぞれ独立に0〜100の整数を表し、且つ(a3+b3)が5〜100、(a4+b4)が5〜100の範囲である。n3、およびn4はそれぞれ独立に2〜6の整数を表し、m4は0〜10の整数を表し、s、およびtはそれぞれ独立に2〜8の整数を表す。 In General Formula (4) and General Formula (5), B 3 and B 4 each independently represent an allyl group or a (meth) acryloyl group, and Q 10 and Q 14 each independently represent a single bond, or A divalent linking group is represented, Q 11 and Q 15 each independently represent an alkylene group, and Q 12 , Q 16 , and Q 17 each independently represent a divalent linking group. Q 13 represents an n3 valent linking group, and Q 18 represents an n4 valent linking group. a3 and a4 each independently represents an integer of 0 to 20, b3 and b4 each independently represents an integer of 0 to 100, and (a3 + b3) is in the range of 5 to 100, and (a4 + b4) is in the range of 5 to 100 It is. n3 and n4 each independently represents an integer of 2 to 6, m4 represents an integer of 0 to 10, and s and t each independently represents an integer of 2 to 8.

<6> (A)遮光顔料が、チタンブラックである<1>〜<5>のいずれか1項に記載の分散組成物。
<7> <1>〜<6>のいずれか1項に記載の分散組成物、および(D)重合開始剤を含む重合性組成物。
<8> (D)重合開始剤が、オキシム系重合開始剤である<7>に記載の重合性組成物。
<6> (A) The dispersion composition according to any one of <1> to <5>, wherein the light-shielding pigment is titanium black.
<7> A polymerizable composition comprising the dispersion composition according to any one of <1> to <6>, and (D) a polymerization initiator.
<8> The polymerizable composition according to <7>, wherein (D) the polymerization initiator is an oxime polymerization initiator.

<9> 基板上に、<7>または<8>に記載の重合性組成物を用いてなる着色パターンを有する遮光性カラーフィルタ。
<10> <9>に記載の遮光性カラーフィルタを備えた固体撮像素子。
<11> <9>に記載の遮光性カラーフィルタを備えた液晶表示装置。
<9> A light-shielding color filter having a colored pattern formed using the polymerizable composition according to <7> or <8> on a substrate.
<10> A solid-state imaging device including the light-shielding color filter according to <9>.
<11> A liquid crystal display device comprising the light-shielding color filter according to <9>.

<12> 下記一般式(2)、一般式(4)、または一般式(5)で表されることを特徴とする分散剤。 <12> A dispersant represented by the following general formula (2), general formula (4), or general formula (5).

Figure 2010138251
Figure 2010138251

Figure 2010138251
Figure 2010138251

一般式(2)、一般式(4)、および一般式(5)中、B、B、およびBはそれぞれ独立にアリル基、または(メタ)アクリロイル基を表す。Q、Q、Q10、およびQ14はそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Q、Q11、およびQ15はアルキレン基を表し、Q12、Q16、およびQ17はそれぞれ独立に二価の連結基を表す。Q13はn3価の連結基を表し、Q18は、n4価の連結基を表す。Mは(n1+m1)価の有機基を表し、a1は1〜20の整数を表し、a3、およびa4はそれぞれ独立に0〜20の整数を表す。b1、b3、およびb4はそれぞれ独立に0〜100の整数を表し、且つ(a1+b1)が5〜100の範囲であり、(a3+b3)が5〜100の範囲であり、(a4+b4)が5〜100の範囲である。m1は1〜4の整数、n1は1〜4の整数、m4は0〜10の整数、n3、およびn4はそれぞれ独立に2〜6の整数、q、s、およびtはそれぞれ独立に2〜8の整数をそれぞれ表す。 In General Formula (2), General Formula (4), and General Formula (5), B 1 , B 3 , and B 4 each independently represent an allyl group or a (meth) acryloyl group. Q 4 , Q 6 , Q 10 , and Q 14 each independently represent a single bond or a divalent linking group, Q 5 , Q 11 , and Q 15 represent an alkylene group, Q 12 , Q 16 , and Q 17 each independently represents a divalent linking group. Q 13 represents an n3 valent linking group, and Q 18 represents an n4 valent linking group. M 1 represents an (n1 + m1) -valent organic group, a1 represents an integer of 1 to 20, and a3 and a4 each independently represents an integer of 0 to 20. b1, b3, and b4 each independently represents an integer of 0-100, (a1 + b1) is in the range of 5-100, (a3 + b3) is in the range of 5-100, and (a4 + b4) is in the range of 5-100. Range. m1 is an integer of 1 to 4, n1 is an integer of 1 to 4, m4 is an integer of 0 to 10, n3 and n4 are each independently an integer of 2 to 6, q, s, and t are each independently 2 Each represents an integer of 8.

特に、本発明の分散組成物の好ましい態様においては、ポリエーテル連結基、またはポリエステル連結基を有する分散剤を用いるが、この態様では、より良好な分散性を発揮して遮光顔料を均一に分散することができ、室温で長期間保存した場合にも、遮光顔料の沈降を長期間に亘り抑制することができた。これは分散剤の分子内に存在するポリエーテル連結基、またはポリエステル連結基が立体反発基として機能することによるものと考えられる。
さらに後述する特定のグラフト化合物を分散剤として用いた場合には、さらに特定のグラフト化合物のグラフト鎖が溶媒と相互作用を行うことにより、さらに良好な分散性、分散安定性が得られたものと推測される。
In particular, in a preferable embodiment of the dispersion composition of the present invention, a dispersant having a polyether linking group or a polyester linking group is used. In this embodiment, the light-shielding pigment is uniformly dispersed by exhibiting better dispersibility. Even when stored at room temperature for a long period of time, sedimentation of the light-shielding pigment could be suppressed for a long period of time. This is considered to be because the polyether linking group or the polyester linking group present in the molecule of the dispersant functions as a steric repulsion group.
Furthermore, when a specific graft compound described later is used as a dispersant, the graft chain of the specific graft compound further interacts with the solvent, so that better dispersibility and dispersion stability are obtained. Guessed.

従来は、遮光顔料と分散剤とを含む分散組成物を用いた重合性組成物によって、パターン形成する場合には、重合性組成物中の硬化性成分が不足するので、現像工程でパターンが形成されにくいが、本発明の分散組成物を用いた重合性組成物では、ラジカル重合可能なアリル基、または(メタ)アクリロイル基を末端に有する分散剤を使用しているため、硬化時にラジカル架橋反応が十分に進み、パターン形成が可能になり、良好な感度が得られるものと考えられる。   Conventionally, when a pattern is formed by a polymerizable composition using a dispersion composition containing a light-shielding pigment and a dispersant, the pattern is formed in the development process because the curable component in the polymerizable composition is insufficient. However, in the polymerizable composition using the dispersion composition of the present invention, since a dispersant having an allyl group capable of radical polymerization or a (meth) acryloyl group at the terminal is used, a radical crosslinking reaction is performed at the time of curing. Is sufficiently advanced, pattern formation is possible, and good sensitivity can be obtained.

本発明によれば、遮光顔料の分散性が高く、経時後も遮光顔料、特にチタンブラック顔料が沈降せず、分散性、および保存安定性の高い分散組成物を提供することができる。
さらに、パターン成形した場合であっても、遮光性の硬化物を形成することができ、感度が良好な重合性組成物を提供することができ、それを用いて遮光性の高い着色パターンを有する遮光性カラーフィルタを提供することができ、それを用いて高画質の固体撮像素子、及び液晶表示装置を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a dispersion composition having a high dispersibility of a light-shielding pigment, a light-shielding pigment, particularly a titanium black pigment, which does not settle even after aging, and a high dispersibility and storage stability.
Furthermore, even when pattern molding is performed, a light-shielding cured product can be formed, and a polymerizable composition with good sensitivity can be provided, and a colored pattern with high light-shielding properties can be provided using the composition. A light-shielding color filter can be provided, and a high-quality solid-state imaging device and a liquid crystal display device can be provided using the light-shielding color filter.

以下において本発明を詳しく説明する。
本発明の分散組成物は、(A)遮光顔料、(B)特定構造の分散剤、及び(C)溶媒を含有する分散組成物である。
The present invention is described in detail below.
The dispersion composition of the present invention is a dispersion composition containing (A) a light-shielding pigment, (B) a dispersant having a specific structure, and (C) a solvent.

本発明の分散組成物は、遮光性を高めるために顔料濃度を濃くした場合や、遮光顔料を沈降させないために分散時に添加する分散剤の量を多くした重合性組成物に適用する場合には特に有用である。このような場合、従来の技術では、重合性組成物中の硬化成分が少なくなり感度が低下するが、本発明の分散組成物を用いると、分散剤が硬化に寄与する機能を有するので、良好な感度が得られ、また高顔料濃度が可能なため、遮光性を高めることもできる。   When the dispersion composition of the present invention is applied to a polymerizable composition in which the pigment concentration is increased in order to enhance the light-shielding property, or in which the amount of the dispersant added at the time of dispersion is increased so as not to precipitate the light-shielding pigment. It is particularly useful. In such a case, in the conventional technique, the curing component in the polymerizable composition is reduced and the sensitivity is lowered. However, when the dispersion composition of the present invention is used, the dispersant has a function of contributing to curing, so that it is good. High sensitivity and a high pigment concentration are possible, so that the light-shielding property can be enhanced.

なお、本発明において「遮光性カラーフィルタ」とは、遮光顔料を含む分散組成物、重合性化合物、及び、光重合開始剤を少なくとも含む感光性の重合性組成物を露光し、現像して得られた遮光性パターンをいう。本発明における「遮光性カラーフィルタ」の色は、黒、灰色等の無彩色であってもよいし、有彩色の色味が混ざった黒色、灰色等であってもよい。
本発明における「遮光性カラーフィルタ」は、本発明の特定成分である遮光顔料を含む黒色色材、多官能モノマーやその他の重合性化合物、重合開始剤及び溶剤を少なくとも含む感光性の重合性組成物を露光し、現像して得られるものであり、遮光膜又は遮光性フィルタと言い換えてもよい。
以下、本発明の分散組成物に含まれる各成分について説明する。
In the present invention, the “light-shielding color filter” is obtained by exposing and developing a photosensitive polymerizable composition containing at least a dispersion composition containing a light-shielding pigment, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator. This refers to the light-shielding pattern. The color of the “light-shielding color filter” in the present invention may be an achromatic color such as black or gray, or a black or gray color mixed with a chromatic color.
The “light-shielding color filter” in the present invention is a photosensitive polymerizable composition containing at least a black color material containing a light-shielding pigment as a specific component of the present invention, a polyfunctional monomer, other polymerizable compounds, a polymerization initiator, and a solvent. It is obtained by exposing and developing an object, and may be rephrased as a light shielding film or a light shielding filter.
Hereinafter, each component contained in the dispersion composition of the present invention will be described.

<(A)遮光顔料>
本発明において遮光顔料とは、400nm〜1300nmの光を吸収しうる顔料を指し、遮光しようとする波長域600〜1300nm、好ましくは900〜1300nmの光を実質遮光できる顔料が好ましい。具体的には、例えば、チタンブラック、カーボンブラックなどが挙げられ、本発明の分散組成物は特にチタンブラックに有用であり、遮光顔料としてはチタンブラックが好ましい。
チタンブラックとは、チタン原子を有する黒色粒子である。好ましくは低次酸化チタンや酸窒化チタン等である。チタンブラック粒子は、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、表面を修飾することが可能であり、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウムで被覆することが可能であり、また、特開2007−302836号公報に記載されているような撥水性物質による処理も可能である。
<(A) Light shielding pigment>
In the present invention, the light-shielding pigment refers to a pigment that can absorb light of 400 nm to 1300 nm, and is preferably a pigment that can substantially shield light having a wavelength range of 600 to 1300 nm, preferably 900 to 1300 nm. Specific examples include titanium black and carbon black. The dispersion composition of the present invention is particularly useful for titanium black, and titanium black is preferred as the light-shielding pigment.
Titanium black is black particles having titanium atoms. Preferred are low-order titanium oxide and titanium oxynitride. The surface of titanium black particles can be modified as necessary for the purpose of improving dispersibility and suppressing aggregation, and is coated with silicon oxide, titanium oxide, germanium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zirconium oxide. In addition, treatment with a water repellent material as described in JP-A-2007-302836 is also possible.

チタンブラックの製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法(特開昭49−5432号公報)、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細の二酸化チタンを水素を含む還元雰囲気中で還元する方法(特開昭57−205322号公報)、二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法(特開昭60−65069号公報、特開昭61−201610号公報)、二酸化チタンまたは水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法(特開昭61−201610号公報)などがあるが、これらに限定されるものではない。   As a method for producing titanium black, a method of heating and reducing a mixture of titanium dioxide and titanium metal in a reducing atmosphere (Japanese Patent Laid-Open No. 49-5432), an ultrafine obtained by high-temperature hydrolysis of titanium tetrachloride. A method of reducing titanium dioxide in a reducing atmosphere containing hydrogen (Japanese Patent Laid-Open No. 57-205322), a method of reducing titanium dioxide or titanium hydroxide at high temperature in the presence of ammonia (Japanese Patent Laid-Open No. 60-65069, No. 61-201610), and a method of attaching a vanadium compound to titanium dioxide or titanium hydroxide and reducing it at high temperature in the presence of ammonia (Japanese Patent Laid-Open No. 61-201610). It is not a thing.

チタンブラックの粒子の粒子径は特に制限は無いが、分散性、着色性の観点から、平均1次粒子径3nm以上1000nm以下の範囲であることが好ましく、より好ましくは平均1次粒子径10nm以上500nm以下の範囲であり、更に好ましくは、10nm以上100nm以下の範囲である。   The particle size of the titanium black particles is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility and colorability, the average primary particle size is preferably in the range of 3 nm to 1000 nm, more preferably the average primary particle size of 10 nm or more. It is the range of 500 nm or less, More preferably, it is the range of 10 nm or more and 100 nm or less.

チタンブラックの比表面積は、特に限定がないが、かかるチタンブラックを撥水化剤で表面処理した後の撥水性が所定の性能となるために、BET法にて測定した値が通常5m/g以上150m/g以下程度、特に20m/g以上100m/g以下であることが好ましい。 The specific surface area of titanium black is not particularly limited, but the water repellency after surface treatment of such titanium black with a water repellent agent has a predetermined performance, and therefore the value measured by the BET method is usually 5 m 2 / g to 150 m 2 / g or less, particularly preferably 20 m 2 / g to 100 m 2 / g.

チタンブラックの市販品の例としては例えば、三菱マテリアル(株)製チタンブラック10S、12S、13R、13M、13M−C、13R、13R−N、赤穂化成(株)製ティラック(Tilack)Dなどが挙げられるが、本発明はこれらに限定することなく使用することができる。   Examples of commercially available titanium black products include, for example, Titanium Black 10S, 12S, 13R, 13M, 13M-C, 13R, 13R-N manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, and Tilac D manufactured by Ako Kasei Co., Ltd. However, the present invention can be used without being limited thereto.

また、本発明におけるチタンブラックには、必要に応じて体質顔料を添加してもよい。このような体質顔料としては、例えば、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカ、塩基性炭酸マグネシウム、アルミナ白、グロス白、チタン白、ハイドロタルサイト等を挙げることができる。これらの体質顔料は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。体質顔料の使用量は、チタンブラック100質量部に対して、通常、0〜100質量部、好ましくは5〜50質量部、さらに好ましくは10〜40質量部である。本発明において、前記チタンブラックおよび体質顔料は、場合により、それらの表面をポリマーで改質して使用することができる。   Further, extender pigments may be added to the titanium black in the present invention as necessary. Examples of such extender pigments include barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, silica, basic magnesium carbonate, alumina white, gloss white, titanium white, and hydrotalcite. These extender pigments can be used alone or in admixture of two or more. The amount of the extender is usually 0 to 100 parts by mass, preferably 5 to 50 parts by mass, and more preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of titanium black. In the present invention, the titanium black and extender pigment can be used by modifying the surface with a polymer in some cases.

本発明の分散組成物中に添加する遮光顔料の含有量は、分散組成物中の遮光顔料の含有量が20質量%以上94質量%以下となるように調整される。分散組成物中の遮光顔料の含有量は、より好ましくは、40質量%以上92質量%以下の範囲であり、更に好ましくは40質量%以上80質量%以下の範囲である。
当該範囲とすることで、本発明の重合性組成物の硬化性が良好となり、かつ均一な膜を形成することができる。
また、チタンブラックを高濃度に含有することによって、充分な遮光性が得られ、チタンブラックを含有する重合性組成物を遮光性カラーフィルタの形成に好適に用いることができる。
The content of the light-shielding pigment added to the dispersion composition of the present invention is adjusted so that the content of the light-shielding pigment in the dispersion composition is 20% by mass or more and 94% by mass or less. The content of the light-shielding pigment in the dispersion composition is more preferably in the range of 40% by mass to 92% by mass, and still more preferably in the range of 40% by mass to 80% by mass.
By setting it as the said range, sclerosis | hardenability of the polymeric composition of this invention becomes favorable, and a uniform film | membrane can be formed.
Further, by containing titanium black at a high concentration, sufficient light shielding properties can be obtained, and a polymerizable composition containing titanium black can be suitably used for forming a light shielding color filter.

また、本発明の分散組成物には遮光顔料として、下記のものを混合して使用してもよい。
このような混合可能な遮光顔料としては、可視光領域に吸光度を有するものであれば特に限定はされず、上記した体質顔料、カーボンブラック、C.I.Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,60,64,66,79,80、C.I.Pigment Violet 1,19,23,27,32,37,42、C.I.Pigment Brown 25,28、C.I.Pigment Black 1等の有機顔料等を挙げることができる。
チタンブラック以外の遮光顔料を混合して使用する例として、チタンブラックとカーボンブラックを6:1で混合した物、チタンブラックと酸化チタンを3:1で混合した物などが挙げられる。
混合して使用するチタンブラック以外の遮光顔料は、チタンブラック100質量部に対して、0.01〜99.99質量部の範囲で用いることができる。好ましくは、20〜70質量部の範囲である。
Moreover, you may mix and use the following as a light-shielding pigment for the dispersion composition of this invention.
Such a light-shielding pigment that can be mixed is not particularly limited as long as it has absorbance in the visible light region, and the above-mentioned extender pigment, carbon black, C.I. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 66, 79, 80, C.I. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, C.I. I. Pigment Brown 25, 28, C.I. I. And organic pigments such as Pigment Black 1.
Examples of using a mixture of light-shielding pigments other than titanium black include a mixture of titanium black and carbon black in a ratio of 6: 1, a mixture of titanium black and titanium oxide in a ratio of 3: 1, and the like.
The light-shielding pigment other than titanium black used by mixing can be used in the range of 0.01 to 99.99 parts by mass with respect to 100 parts by mass of titanium black. Preferably, it is the range of 20-70 mass parts.

<(B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤>
本発明の分散組成物には、(B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤(以下、「特定分散剤」ともいう)を含むものである。分散組成物において、この特定分散剤は、遮光顔料に対する吸着性基を有しており、優れた分散性を付与することができるので、分散性、分散安定性に優れた分散組成物を得ることができる。またさらにラジカル重合性基をも有しており、感度が高く硬化性が良好であり、パターン成形性に優れた重合性組成物を得ることができる。
特に、本発明の分散組成物に用いる分散剤は、分散剤の末端部に重合可能な基を有するため、分散して分散剤が顔料に吸着し、顔料−分散剤コンプレックスを形成した際には、顔料−分散剤コンプレックス表面に重合可能な基が位置することになり、このため重合効率が高まり感度が向上するものと考えられる。
<(B) Dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal>
The dispersion composition of the present invention includes (B) a dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal (hereinafter referred to as “specific dispersant”). Say). In the dispersion composition, the specific dispersant has an adsorptive group for the light-shielding pigment and can impart excellent dispersibility, so that a dispersion composition having excellent dispersibility and dispersion stability can be obtained. Can do. Furthermore, it has a radically polymerizable group, has a high sensitivity and good curability, and a polymerizable composition having excellent pattern moldability can be obtained.
In particular, since the dispersant used in the dispersion composition of the present invention has a polymerizable group at the terminal portion of the dispersant, when the dispersant is dispersed and adsorbed on the pigment to form a pigment-dispersant complex, It is considered that a polymerizable group is located on the surface of the pigment-dispersant complex, which increases the polymerization efficiency and improves the sensitivity.

本発明の特定分散剤は、ポリエーテル連結基、およびポリエステル連結基の少なくとも一方の末端にラジカル重合可能な基を有することが好ましく、これによって特に分散性安定性を高めることができる。
ポリエーテル連結基、またはポリエステル連結基が立体反発基として機能することによるものと推測され、良好な分散性を発揮して遮光顔料を均一に分散することができ、室温で長期間保存した場合にも、これらの基が溶媒と相互作用を行うことにより、遮光顔料の沈降を長期間に亘り抑制することができる。
The specific dispersant of the present invention preferably has a radical-polymerizable group at at least one end of a polyether linking group and a polyester linking group, and this can particularly improve dispersibility stability.
It is presumed that the polyether linking group or the polyester linking group functions as a steric repulsion group, and can exhibit a good dispersibility and uniformly disperse the light-shielding pigment. However, when these groups interact with the solvent, precipitation of the light-shielding pigment can be suppressed for a long period of time.

ポリエーテル連結基としては、具体的には、ポリエチレングリコール連結基、ポリプロピレングリコール連結基が挙げられる。ポリエステル連結基としては、具体的には、ポリブチロラクトン連結基、ポリバレロラクトン連結基、ポリカプロラクトン連結基が挙げられる。このうちポリエチレングリコール連結基やポリカプロラクトン連結基などは、結晶化しやすく取り扱いにくいため、特定分散剤が、ポリプロピレングリコール連結基とポリカプロラクトン連結基を同時に有するなど、ポリエーテル連結基、ポリエステル連結基から選択される2種以上の連結基を同時に有することが好ましい。   Specific examples of the polyether linking group include a polyethylene glycol linking group and a polypropylene glycol linking group. Specific examples of the polyester linking group include a polybutyrolactone linking group, a polyvalerolactone linking group, and a polycaprolactone linking group. Of these, polyethylene glycol linking groups and polycaprolactone linking groups are easy to crystallize and are difficult to handle, so the specific dispersant has a polypropylene glycol linking group and a polycaprolactone linking group at the same time. It is preferable to have two or more kinds of linking groups to be simultaneously used.

本発明における特定分散剤は、下記一般式(1)で表されることが、さらに好ましい形態である。   The specific dispersant in the present invention is more preferably represented by the following general formula (1).

Figure 2010138251
Figure 2010138251

一般式(1)中、Bはアリル基、または(メタ)アクリロイル基を表し、Q及びQはそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Qはアルキレン基を表し、Mはリン酸基、カルボン酸基、ウレタン基、ウレア基、アミド基、およびイミノ基から選ばれる1種以上を有する有機基を表す。aは0〜20の整数、bは0〜100の整数をそれぞれ表し、且つ、(a+b)が5〜100の範囲である。nは1〜4の整数を、pは2〜8の整数を、それぞれ表す。 In General Formula (1), B represents an allyl group or a (meth) acryloyl group, Q 1 and Q 3 each independently represent a single bond or a divalent linking group, Q 2 represents an alkylene group, M represents an organic group having at least one selected from a phosphoric acid group, a carboxylic acid group, a urethane group, a urea group, an amide group, and an imino group. a represents an integer of 0 to 20, b represents an integer of 0 to 100, and (a + b) is in the range of 5 to 100. n represents an integer of 1 to 4, and p represents an integer of 2 to 8, respectively.

一般式(1)において、Mは顔料へ吸着する部位として機能し、M以外は顔料同士の凝集を妨げるための立体反発基として機能すると推定される。立体反発基の鎖長が長くなると立体反発効果が高くなり分散性は向上するが、一方で、分子量が大きくなるので、遮光顔料への吸着力が低下して分散性は低下してしまう。このため、本発明で使用される(B)特定分散剤としては、(a+b)は5〜100の範囲であることが好ましく、10〜40の範囲であることがさらに好ましい。   In the general formula (1), M functions as a site adsorbing to the pigment, and other than M is estimated to function as a steric repulsion group for preventing aggregation of the pigments. When the chain length of the steric repulsion group is increased, the steric repulsion effect is increased and the dispersibility is improved. However, since the molecular weight is increased, the adsorptive power to the light-shielding pigment is decreased and the dispersibility is decreased. For this reason, as (B) specific dispersing agent used by this invention, it is preferable that (a + b) is the range of 5-100, and it is more preferable that it is the range of 10-40.

Bであるアリル基、(メタ)アクリロイル基としては、具体的には下記構造が挙げられる。なおアクリロイル基、およびメタクリロイル基を総称して、本発明では「(メタ)アクリロイル基」と記載する。   Specific examples of the allyl group and the (meth) acryloyl group as B include the following structures. The acryloyl group and the methacryloyl group are collectively referred to as “(meth) acryloyl group” in the present invention.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

及びQで示される二価の連結基としては、2価の脂肪族基(例えば、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基)、2価の芳香族基(例えば、アリーレン基、置換アリーレン基)、2価の複素環基、及びそれらと酸素原子(−O−)、硫黄原子(−S−)、イミノ基(−NH−)、置換イミノ基(−NR31−、ここでR31は脂肪族基、芳香族基又は複素環基)、又はカルボニル基(−CO−)との組合せ等が挙げられる。
これらの中でも二価の連結基としてアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アルキルアリ−レン基、アルキルシクロアルキレン基、アルキレンオキシ基、オキシアルキレン基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、オキシアルキレンカルボニル基が好ましい。
これらの二価の連結基は2つ以上を有してもよい。
The divalent linking group represented by Q 1 and Q 3 is a divalent aliphatic group (for example, an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkynylene group, a substituted alkynylene group), a divalent group. Aromatic groups (eg, arylene groups, substituted arylene groups), divalent heterocyclic groups, and oxygen atoms (—O—), sulfur atoms (—S—), imino groups (—NH—), substituted imino groups Examples include a group (—NR 31 —, where R 31 is an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group), a combination with a carbonyl group (—CO—), and the like.
Among these, as a divalent linking group, an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group, an alkylarylene group, an alkylcycloalkylene group, an alkyleneoxy group, an oxyalkylene group, an alkylcarbonyl group, an alkylcarbonyloxy group, an oxyalkylenecarbonyl group Groups are preferred.
These divalent linking groups may have two or more.

前記2価の脂肪族基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。前記脂肪族基の炭素原子数は、1〜15が好ましく、1〜5がより好ましい。脂肪族基は不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、芳香族基および複素環基を挙げられる。   The divalent aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. 1-15 are preferable and, as for the carbon atom number of the said aliphatic group, 1-5 are more preferable. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. Further, the aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aromatic group, and a heterocyclic group.

前記2価の芳香族基の炭素原子数は、6〜20が好ましく、6〜15がさらに好ましく、6〜10が最も好ましい。また、前記芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基及び複素環基を挙げられる。   6-20 are preferable, as for the carbon atom number of the said bivalent aromatic group, 6-15 are more preferable, and 6-10 are the most preferable. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.

前記2価の複素環基は、複素環として5員環又は6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基(=O)、チオキソ基(=S)、イミノ基(=NH)、置換イミノ基(=N−R31、ここでR31は脂肪族基、芳香族基または複素環基)、脂肪族基、芳香族基及び複素環基を挙げられる。 The divalent heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered ring as a heterocycle. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, aliphatic ring or aromatic ring. Moreover, the heterocyclic group may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms, hydroxy groups, oxo groups (═O), thioxo groups (═S), imino groups (═NH), substituted imino groups (═N—R 31 , where R 31 is a fatty acid. Aromatic group, aromatic group or heterocyclic group), aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group.

がアルキレン基を表すときのアルキレン基としては、Q、Qにおける2価の脂肪族基と同義である。具体的には、エチレン基、イソプロピレン基が挙げられる。このうち、イソプロピレン基が結晶化しにくく、取り扱いやすいという点で好ましい。 The alkylene group when Q 2 represents an alkylene group has the same meaning as the divalent aliphatic group in Q 1 and Q 3 . Specific examples include an ethylene group and an isopropylene group. Of these, isopropylene groups are preferred because they are difficult to crystallize and are easy to handle.

−O−(C=O)−C2p−におけるpは、2〜8の整数を表す。このポリエステルを形成するエステル構造は、アルキルラクトンを開環重合することにより得られる。原料として使用するアルキルラクトンとしては、具体的には、β−ブチロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、δ−カプロラクトン、ε−カプロラクトンが挙げられ、このうちδ−バレロラクトン、ε−カプロラクトンを使用するのが開環重合しやすさの観点から好ましい。 P in —O— (C═O) —C p H 2p — represents an integer of 2 to 8. The ester structure forming this polyester can be obtained by ring-opening polymerization of an alkyl lactone. Specific examples of the alkyl lactone used as a raw material include β-butyrolactone, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, δ-caprolactone, and ε-caprolactone, of which δ-valerolactone, It is preferable to use ε-caprolactone from the viewpoint of easy ring-opening polymerization.

(a+b)は、5〜100の整数を表す。(a+b)は、顔料同士の凝集を防ぐ立体反発基の長さを意味しており、5以下では、立体反発機能が低下し分散性が向上しない。一方で、(a+b)が100を超えると、分子量が大きくなり、相対的に顔料への吸着性を示すMの割合が少なくなるので、分散剤が遮光顔料に吸着しにくくなり分散性が向上しない。(a+b)は、5〜40の範囲がより好ましく、8〜20の範囲がさらに好ましい。
aは0〜20の整数、bは0〜100の整数を表す。aはポリエーテル鎖長を、bはポリエステル鎖長を意味する。ポリエーテル鎖やポリエステル鎖は、種類や鎖長によっては、結晶化しやすく取り扱いにくいものもあるため、ポリエーテル連結基、ポリエステル連結基から選択される2種以上の連結基を同時に有することが好ましい。つまり、aは1〜20の範囲、bは1〜20の範囲がより好ましい。
(A + b) represents an integer of 5 to 100. (A + b) means the length of the steric repulsion group which prevents aggregation of pigments, and if it is 5 or less, the steric repulsion function is lowered and the dispersibility is not improved. On the other hand, when (a + b) exceeds 100, the molecular weight increases, and the proportion of M that exhibits relatively high adsorptivity to the pigment decreases, so that the dispersant is difficult to adsorb to the light-shielding pigment and dispersibility does not improve. . (A + b) is more preferably in the range of 5 to 40, and still more preferably in the range of 8 to 20.
a represents an integer of 0 to 20, and b represents an integer of 0 to 100. a means the polyether chain length, and b means the polyester chain length. Depending on the type and chain length, some polyether chains and polyester chains are easy to crystallize and are difficult to handle. Therefore, it is preferable to have two or more kinds of linking groups selected from polyether linking groups and polyester linking groups at the same time. That is, a is more preferably in the range of 1-20, and b is more preferably in the range of 1-20.

Mで表される有機基としては、リン酸基、カルボン酸基、ウレタン基、ウレア基、アミド基、イミノ基のうち少なくとも1つを有していれば特に限定されない。これらの酸性あるいは水素結合性の構造を有することで、遮光顔料に吸着しやすくなり、分散性が向上する。
Mで表される有機基は、酸性を示すリン酸基、またはカルボン酸基を有することが特に好ましい。分散剤に酸基を導入することで、重合性組成物としたときに、アルカリ現像によるパターン形成のために現像性を付与する樹脂としての機能をも付与することができる。
Mで表される有機基は、ウレア結合、またはウレタン結合を有することも好ましい。分散剤にウレア、ウレタン結合を導入することで、重合性組成物としたときに、アルカリ現像によるパターン形成のために親水性を付与する樹脂としての機能をも付与することができる。
The organic group represented by M is not particularly limited as long as it has at least one of a phosphoric acid group, a carboxylic acid group, a urethane group, a urea group, an amide group, and an imino group. By having such an acidic or hydrogen bonding structure, it becomes easy to adsorb to the light-shielding pigment and the dispersibility is improved.
The organic group represented by M particularly preferably has an acidic phosphoric acid group or carboxylic acid group. By introducing an acid group into the dispersant, it is possible to impart a function as a resin that imparts developability for pattern formation by alkali development when a polymerizable composition is obtained.
The organic group represented by M preferably has a urea bond or a urethane bond. By introducing a urea or urethane bond into the dispersant, when a polymerizable composition is formed, a function as a resin imparting hydrophilicity can be imparted for pattern formation by alkali development.

Mで表される有機基がリン酸、又は、カルボン酸の場合、本発明に使用される一般式(1)で表される分散剤は、一般式(2)または一般式(3)で表される化合物であることがさらに好ましい。   When the organic group represented by M is phosphoric acid or carboxylic acid, the dispersant represented by the general formula (1) used in the present invention is represented by the general formula (2) or the general formula (3). More preferably, it is a compound.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

一般式(2)、および、一般式(3)中、B、およびBはそれぞれ独立にアリル基、または(メタ)アクリロイル基を表し、Q、Q、Q、およびQはそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Q、およびQはそれぞれ独立にアルキレン基を表し、Mは(n1+m1)価の有機基、Mは単結合、または(n2+m2)価の有機基を表す。a1、およびa2はそれぞれ独立に0〜20の整数を表し、b1、およびb2はそれぞれ独立に0〜100の整数を表し、且つ(a1+b1)が5〜100であり、(a2+b2)が5〜100の範囲である。m1、m2、n1、およびn2はそれぞれ独立に1〜4の整数を表し、q、およびrはそれぞれ独立に2〜8の整数を表す。 In General Formula (2) and General Formula (3), B 1 and B 2 each independently represent an allyl group or a (meth) acryloyl group, and Q 4 , Q 6 , Q 7 , and Q 9 are Each independently represents a single bond or a divalent linking group, Q 5 and Q 8 each independently represent an alkylene group, M 1 represents an (n1 + m1) -valent organic group, M 2 represents a single bond, or (n2 + m2) ) Represents a valent organic group. a1 and a2 each independently represent an integer of 0 to 20, b1 and b2 each independently represent an integer of 0 to 100, and (a1 + b1) is 5 to 100, and (a2 + b2) is 5 to 100. Range. m1, m2, n1, and n2 each independently represents an integer of 1 to 4, and q and r each independently represents an integer of 2 to 8.

一般式(2)、および一般式(3)において、B、Bは一般式(1)のBと同義である。Q、Q、Q、およびQの二価の連結基は一般式(1)におけるQ、およびQと同義である。Q、およびQで表されるアルキレン基は一般式(1)のQと同義である。M、およびMで表される有機基は、一般式(1)におけるMと同義である。 In General Formula (2) and General Formula (3), B 1 and B 2 have the same meaning as B in General Formula (1). The divalent linking group of Q 4 , Q 6 , Q 7 , and Q 9 has the same meaning as Q 1 and Q 3 in the general formula (1). The alkylene group represented by Q 5 and Q 8 has the same meaning as Q 2 in formula (1). The organic group represented by M 1 and M 2 has the same meaning as M in the general formula (1).

一般式(2)における有機基−M−(COOH)m1の具体例を挙げる。 Specific examples of the organic group -M 1- (COOH) m 1 in the general formula (2) will be given.

Figure 2010138251
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Figure 2010138251
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一般式(2)で表される分散剤の合成方法としては、例えば、片末端にアリル基、または(メタ)アクリロイル基を有し、かつもう一方の片末端に水酸基を有するポリエーテル鎖および/またはポリエステル鎖を有する化合物と環状酸無水物とを反応させて得ることができる。   As a method for synthesizing the dispersant represented by the general formula (2), for example, a polyether chain having an allyl group or (meth) acryloyl group at one end and a hydroxyl group at the other end and / or Alternatively, it can be obtained by reacting a compound having a polyester chain with a cyclic acid anhydride.

一般式(2)の具体例を挙げる。RおよびRは、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。 Specific examples of the general formula (2) are given. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group.

Figure 2010138251
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一般式(3)の具体例を挙げる。R、Rは、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。 Specific examples of general formula (3) are given. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group.

Figure 2010138251
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Mの有機基が、ウレタン基、ウレア基、アミド基の場合、本発明に使用される一般式(1)で表される分散剤は、一般式(4)または(5)で表される化合物であることが好ましい。   When the organic group of M is a urethane group, a urea group or an amide group, the dispersant represented by the general formula (1) used in the present invention is a compound represented by the general formula (4) or (5). It is preferable that

Figure 2010138251
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一般式(4)、および、一般式(5)中、B、およびBはそれぞれ独立にアリル基、(メタ)アクリロイル基を表し、Q10、およびQ14はそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Q11、およびQ15はそれぞれ独立にアルキレン基を表し、Q12、Q16、およびQ17はそれぞれ独立に二価の連結基を表す。Q13はn3価の連結基を表し、Q18はn4価の連結基を表す。a3、およびa4はそれぞれ独立に0〜20の整数を表し、b3、およびb4はそれぞれ独立に0〜100の整数を表し、且つ(a3+b3)が5〜100、(a4+b4)が5〜100の範囲である。n3、およびn4はそれぞれ独立に2〜6の整数を表し、m4は0〜10の整数を表し、s、およびtはそれぞれ独立に2〜8の整数を表す。 In General Formula (4) and General Formula (5), B 3 and B 4 each independently represent an allyl group or a (meth) acryloyl group, and Q 10 and Q 14 each independently represent a single bond, or It represents a divalent linking group, Q 11 and Q 15 each independently represent an alkylene group, and Q 12 , Q 16 and Q 17 each independently represent a divalent linking group. Q 13 represents an n3 valent linking group, and Q 18 represents an n4 valent linking group. a3 and a4 each independently represents an integer of 0 to 20, b3 and b4 each independently represents an integer of 0 to 100, and (a3 + b3) is in the range of 5 to 100, and (a4 + b4) is in the range of 5 to 100 It is. n3 and n4 each independently represents an integer of 2 to 6, m4 represents an integer of 0 to 10, and s and t each independently represents an integer of 2 to 8.

一般式(4)、および(5)において、B、Bは一般式(1)のBと同義である。Q12、Q16、およびQ17の二価の連結基は一般式(1)のQ、およびQと同義である。Q11、およびQ15のアルキレン基は一般式(1)のQと同義である。
13は、n3価の連結基であり、好ましくは、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アルキルシクロアルキレン基、アルキルアリーレン基である。Q18は、n4価の連結基をであり、好ましくはアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アルキルシクロアルキレン基、アルキルアリーレン基である。Q10、およびQ14が二価の連結基であるときは、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アルキルアリーレン基、アルキルシクロアルキレン基、アルキレンオキシ基、オキシアルキレン基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、オキシアルキレンカルボニル基であり、好ましくはアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アルキルアリーレン基、アルキルシクロアルキレン基である。
In the general formulas (4) and (5), B 3 and B 4 have the same meaning as B in the general formula (1). The divalent linking group of Q 12 , Q 16 , and Q 17 has the same meaning as Q 1 and Q 3 in the general formula (1). The alkylene group of Q < 11 > and Q < 15 > is synonymous with Q < 2 > of General formula (1).
Q 13 is an n3 valent linking group, preferably an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group, an alkylcycloalkylene group, or an alkylarylene group. Q 18 represents an n4-valent linking group, preferably an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group, an alkylcycloalkylene group, or an alkylarylene group. When Q 10 and Q 14 are a divalent linking group, an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group, an alkylarylene group, an alkylcycloalkylene group, an alkyleneoxy group, an oxyalkylene group, an alkylcarbonyl group, an alkylcarbonyl group An oxy group and an oxyalkylenecarbonyl group, preferably an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group, an alkylarylene group, and an alkylcycloalkylene group.

一般式(4)におけるn3価の連結基−Q13−の具体例を下記に挙げる。 Specific examples of the n3-valent linking group -Q 13- in the general formula (4) are given below.

Figure 2010138251
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一般式(5)における二価の連結基−Q16−の具体例としては、一般式(4)におけるn3価の連結基有機基−Q13−のうち、二価のものと同様のものを挙げることができる。 Specific examples of the divalent linking group -Q 16- in the general formula (5) include those similar to the divalent ones among the n3 valent linking group organic groups -Q 13- in the general formula (4). Can be mentioned.

一般式(5)における二価の連結基−Q17−の具体例を下記に挙げる。 Specific examples of the divalent linking group —Q 17 — in the general formula (5) are given below.

Figure 2010138251
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以下、一般式(4)で表される化合物の具体例を挙げる。下記式中、R、およびRは、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。繰り返し構造の繰り返し数d1は9、d2は9、d3は6、d4は6、d5は13、d6は13である。 Specific examples of the compound represented by the general formula (4) are given below. In the following formulae, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. The number of repetitions d1 of the repeating structure is 9, d2 is 9, d3 is 6, d4 is 6, d5 is 13, and d6 is 13.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

以下、一般式(5)で表される化合物の具体例を挙げる。R、およびRは、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。繰り返し構造の繰り返し数d7は8、d8は2、d9は8、d10は13、d11は5、d12は13、d13は20、d14は2、d15は20、d16は13、d17は4、d18は13である。 Specific examples of the compound represented by the general formula (5) are given below. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. The number of repetitions d7 is 8, d8 is 2, d9 is 8, d10 is 13, d11 is 5, d12 is 13, d13 is 20, d14 is 2, d15 is 20, d16 is 13, d17 is 4, d18 Is 13.

Figure 2010138251
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本発明の分散組成物の全固形分中に対する特定分散剤の含有量は、分散性、分散安定性の観点から、0.1〜50質量%の範囲が好ましく、5〜40質量%の範囲がより好ましく、10〜30質量%の範囲がさらに好ましい。   From the viewpoint of dispersibility and dispersion stability, the content of the specific dispersant relative to the total solid content of the dispersion composition of the present invention is preferably in the range of 0.1 to 50% by mass, and in the range of 5 to 40% by mass. More preferably, the range of 10-30 mass% is further more preferable.

<(C)溶媒>
本発明の分散組成物は、溶媒として、種々の有機溶剤を用いる。
ここで使用する溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。
これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。溶剤に対する固形分の濃度は、2〜60質量%であることが好ましい。
<(C) Solvent>
The dispersion composition of the present invention uses various organic solvents as a solvent.
Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like.
These solvents can be used alone or in combination. It is preferable that the density | concentration of solid content with respect to a solvent is 2-60 mass%.

<分散組成物>
本発明の分散組成物は(A)遮光顔料、(B)特定分散剤、および(C)溶媒を混合し、分散して分散組成物を得る。
本発明の分散組成物には、上記必須成分に加えて、後述の汎用分散剤、その他の樹脂等を添加してもよい。また遮光顔料を顔料誘導体などで表面処理して分散を容易にすることも可能である。さらに、必要に応じて更に他の成分を含んで構成することができる。
<Dispersion composition>
In the dispersion composition of the present invention, (A) a light-shielding pigment, (B) a specific dispersant, and (C) a solvent are mixed and dispersed to obtain a dispersion composition.
In addition to the above essential components, a general-purpose dispersant described later, other resins, and the like may be added to the dispersion composition of the present invention. It is also possible to facilitate dispersion by surface-treating the light-shielding pigment with a pigment derivative or the like. Furthermore, it can be configured to contain other components as required.

−分散組成物の調製−
本発明の分散組成物の調製態様は、特に制限されないが、例えば、(A)遮光顔料、(B)特定分散剤、および(C)溶媒を、縦型もしくは横型のサンドグラインダー、ピンミル、スリットミル、超音波分散機等を用いて、0.01〜1mmの粒径のガラス、ジルコニア等でできたビーズで微分散処理を行なうことにより得ることができる。
-Preparation of dispersion composition-
The preparation mode of the dispersion composition of the present invention is not particularly limited. For example, (A) a light-shielding pigment, (B) a specific dispersant, and (C) a solvent are used as a vertical or horizontal sand grinder, pin mill, or slit mill. It can be obtained by carrying out fine dispersion treatment with beads made of glass, zirconia or the like having a particle diameter of 0.01 to 1 mm using an ultrasonic disperser or the like.

ビーズ分散を行なう前に予め、二本ロール、三本ロール、ボールミル、トロンミル、ディスパー、ニーダー、コニーダー、ホモジナイザー、ブレンダー、単軸もしくは2軸の押出機等を用いて、強い剪断力を与えながら混練分散処理を行なうことも可能である。   Prior to bead dispersion, knead using a two-roll, three-roll, ball mill, tron mill, disper, kneader, kneader, homogenizer, blender, single- or twin-screw extruder, etc. while applying a strong shearing force. It is also possible to perform distributed processing.

なお、混練、分散についての詳細は、T.C.Patton著”Paint Flow and Pigment Dispersion”(1964年 John Wiley and Sons社刊)等に記載されている。   For details on kneading and dispersing, see T.W. C. “Paint Flow and Pigment Dispersion” by Patton (published by John Wiley and Sons, 1964) and the like.

<汎用分散剤>
本発明に用いうる汎用分散剤の具体例としては、BYK Chemie社製「Disperbyk−101(ポリアミドアミン燐酸塩)、107(カルボン酸エステル)、110(酸基を含む共重合物)、130(ポリアミド)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共重合物)」、「BYK−P104、P105(高分子量不飽和ポリカルボン酸)、EFKA社製「EFKA4047、4050、4010、4165(ポリウレタン系)、EFKA4330、4340(ブロック共重合体)、4400、4402(変性ポリアクリレート)、5010(ポリエステルアミド)、5765(高分子量ポリカルボン酸塩)、6220(脂肪酸ポリエステル)、6745(フタロシアニン誘導体)、6750(アゾ顔料誘導体)」、味の素ファィンテクノ社製「アジスパーPB821、PB822」、共栄社化学社製「フローレンTG−710(ウレタンオリゴマー)」、「ポリフローNo.50E、No.300(アクリル系共重合体)」、楠本化成社製「ディスパロンKS−860、873SN、874、#2150(脂肪族多価カルボン酸)、#7004(ポリエーテルエステル)、DA−703−50、DA−705、DA−725」、花王社製「デモールRN、N(ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物)、MS、C、SN−B(芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物)」、「ホモゲノールL−18(高分子ポリカルボン酸)」、「エマルゲン920、930、935、985(ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル)」、「アセタミン86(ステアリルアミンアセテート)」、ルーブリゾール社製「ソルスパース5000(フタロシアニン誘導体)、22000(アゾ顔料誘導体)、13240(ポリエステルアミン)、3000、17000、27000(末端部に機能部を有する高分子)、24000、28000、32000、38500(グラフト型高分子)」、日光ケミカル者製「ニッコールT106(ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート)、MYS−IEX(ポリオキシエチレンモノステアレート)」等が挙げられる。
これらのその他の樹脂は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
<General-purpose dispersant>
Specific examples of the general-purpose dispersant usable in the present invention include “Disperbyk-101 (polyamidoamine phosphate), 107 (carboxylic acid ester), 110 (copolymer containing an acid group), 130 (polyamide) manufactured by BYK Chemie. ), 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170 (polymer copolymer) ”,“ BYK-P104, P105 (high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid) ”,“ EFKA 4047, 4050, 4010, manufactured by EFKA Corporation ” 4165 (polyurethane), EFKA4330, 4340 (block copolymer), 4400, 4402 (modified polyacrylate), 5010 (polyesteramide), 5765 (high molecular weight polycarboxylate), 6220 (fatty acid polyester), 6745 (phthalocyanine) Derivatives), 6750 (Azo face) "Ajimoto Fin Techno Co., Ltd.""Ajisper PB821, PB822", Kyoeisha Chemical Co., Ltd. "Floren TG-710 (urethane oligomer)", "Polyflow No. 50E, No. 300 (acrylic copolymer)", Enomoto “Disparon KS-860, 873SN, 874, # 2150 (aliphatic polycarboxylic acid), # 7004 (polyetherester), DA-703-50, DA-705, DA-725” manufactured by Kasei Corporation, manufactured by Kao “Demol RN, N (Naphthalenesulfonic acid formalin polycondensate), MS, C, SN-B (aromatic sulfonic acid formalin polycondensate)”, “Homogenol L-18 (polymer polycarboxylic acid)”, “Emulgen 920, 930, 935, 985 (polyoxyethylene nonylphenyl ether) "," Acetami 86 (stearylamine acetate) ", Lubrizol" Solsperse 5000 (phthalocyanine derivative), 22000 (azo pigment derivative), 13240 (polyesteramine), 3000, 17000, 27000 (polymer having a functional part at the end), 24000, 28000, 32000, 38500 (graft type polymer) ”,“ Nikkor T106 (polyoxyethylene sorbitan monooleate), MYS-IEX (polyoxyethylene monostearate) ”manufactured by Nikko Chemicals, and the like.
These other resins may be used alone or in combination of two or more.

<その他の樹脂>
本発明の分散組成物には、遮光顔料の分散性を調整する目的で、上記特定分散剤以外の樹脂(以下、「その他の樹脂」と称する場合がある)が含有されていてもよい。
本発明に用いることができるその他の樹脂としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。
その他の樹脂は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
<Other resins>
For the purpose of adjusting the dispersibility of the light-shielding pigment, the dispersion composition of the present invention may contain a resin other than the specific dispersant (hereinafter, may be referred to as “other resin”).
Other resins that can be used in the present invention include polymer dispersants [for example, polyamidoamine and its salt, polycarboxylic acid and its salt, high molecular weight unsaturated acid ester, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (meta ) Acrylate, (meth) acrylic copolymer, naphthalene sulfonic acid formalin condensate], polyoxyethylene alkyl phosphate ester, polyoxyethylene alkyl amine, alkanol amine, pigment derivative and the like.
Other resins can be further classified into linear polymers, terminal-modified polymers, graft polymers, and block polymers based on their structures.

その他の樹脂は、遮光顔料および所望により併用する顔料の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。
一方で、その他の樹脂は顔料表面を改質することで、特定分散剤の吸着を促進させる効果を有することもある。
Other resins are adsorbed on the surface of the light-shielding pigment and, if desired, the pigment used in combination, and act to prevent re-aggregation. Therefore, a terminal-modified polymer, a graft polymer and a block polymer having an anchor site to the pigment surface can be mentioned as preferred structures.
On the other hand, other resins may have an effect of promoting adsorption of the specific dispersant by modifying the pigment surface.

<顔料誘導体>
本発明の分散組成物は、さらに顔料誘導体を含有することもできる。
顔料誘導体は、有機顔料、アントラキノン類又はアクリドン類の一部分を酸性基、塩基性基又はフタルイミドメチル基で置換した構造が好ましい。顔料誘導体を構成する有機顔料としては、ジケトピロロピロール系顔料、アゾ、ジスアゾ、ポリアゾ等のアゾ系顔料、銅フタロシアニン、ハロゲン化銅フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アミノアントラキノン、ジアミノジアントラキノン、アントラピリミジン、フラバントロン、アントアントロン、インダントロン、ピラントロン、ビオラントロン等のアントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、ペリノン系顔料、ペリレン系顔料、チオインジゴ系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、スレン系顔料、金属錯体系顔料等が挙げられる。
<Pigment derivative>
The dispersion composition of the present invention can further contain a pigment derivative.
The pigment derivative preferably has a structure in which a part of an organic pigment, anthraquinones or acridones is substituted with an acidic group, a basic group or a phthalimidomethyl group. Examples of the organic pigment constituting the pigment derivative include diketopyrrolopyrrole pigments, azo pigments such as azo, disazo, polyazo, phthalocyanine pigments such as copper phthalocyanine, halogenated copper phthalocyanine, and metal-free phthalocyanine, aminoanthraquinone, diaminodi Anthraquinone pigments such as anthraquinone, anthrapyrimidine, flavantron, anthanthrone, indanthrone, pyranthrone, violanthrone, quinacridone pigment, dioxazine pigment, perinone pigment, perylene pigment, thioindigo pigment, isoindoline pigment, isoindoline Examples thereof include linone pigments, quinophthalone pigments, selenium pigments, and metal complex pigments.

顔料誘導体が有する酸性基としては、スルホン酸、カルボン酸及びその4級アンモニウム塩が好ましい。また、顔料誘導体が有する塩基性基としては、アミノ基が好ましく、三級アミノ基が最も好ましい。   As an acidic group which a pigment derivative has, a sulfonic acid, carboxylic acid, and its quaternary ammonium salt are preferable. Moreover, as a basic group which a pigment derivative has, an amino group is preferable and a tertiary amino group is the most preferable.

顔料誘導体の使用量は特に制限がないが、遮光顔料に対し5〜50質量%用いることが好ましく、10〜30質量%用いることがさらに好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a pigment derivative, It is preferable to use 5-50 mass% with respect to a light-shielding pigment, and it is more preferable to use 10-30 mass%.

また、更に分散組成物には後述するバインダーポリマー等の高分子化合物等を添加することも可能である。バインダーポリマーに含まれる酸基等の極性基は遮光顔料の分散にも有効と考えられ、分散組成物の分散安定性に有効であることが多い。   Further, a polymer compound such as a binder polymer described later can be added to the dispersion composition. Polar groups such as acid groups contained in the binder polymer are considered effective for dispersing the light-shielding pigment, and are often effective for the dispersion stability of the dispersion composition.

<重合性組成物>
本発明の分散組成物は、(D)重合開始剤を含有して、混合して重合性組成物として用いることができる。以下に(D)重合開始剤、および重合性組成物の詳細を述べる。
<Polymerizable composition>
The dispersion composition of the present invention contains (D) a polymerization initiator and can be mixed and used as a polymerizable composition. Details of (D) the polymerization initiator and the polymerizable composition will be described below.

<(D)重合開始剤>
本発明の重合性組成物に用いられる(D)重合開始剤は、光により分解し、本発明の特定分散剤、および必要によって重合性組成物に添加される後述の(E)重合性化合物の重合を開始、促進する化合物であり、波長300nm以上500nm以下の領域に吸収を有するものであることが好ましい。また、重合開始剤は、単独で、又は2種以上を併用して用いることができる。
<(D) Polymerization initiator>
The (D) polymerization initiator used in the polymerizable composition of the present invention is decomposed by light, and includes the specific dispersant of the present invention and (E) a polymerizable compound described later added to the polymerizable composition as necessary. It is a compound that initiates and promotes polymerization, and preferably has absorption in a wavelength region of 300 nm to 500 nm. Moreover, a polymerization initiator can be used individually or in combination of 2 or more types.

(D)重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン(オキシド)化合物が挙げられる。   (D) Examples of the polymerization initiator include organic halogenated compounds, oxydiazole compounds, carbonyl compounds, ketal compounds, benzoin compounds, acridine compounds, organic peroxide compounds, azo compounds, coumarin compounds, azide compounds, metallocene compounds, Examples include hexaarylbiimidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, and acylphosphine (oxide) compounds.

有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号公報、特開昭48−36281号公報、特開昭55−32070号公報、特開昭60−239736号公報、特開昭61−169835号公報、特開昭61−169837号公報、特開昭62−58241号公報、特開昭62−212401号公報、特開昭63−70243号公報、特開昭63−298339号公報、M.P.Hutt“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1(No3),(1970)」筆に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、s−トリアジン化合物が挙げられる。   Specific examples of the organic halogenated compounds include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605, Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-36281, Japanese Unexamined Patent Publication No. 55-3070, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-239736, Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-169835, Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-169837, Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-58241. JP, 62-21401, JP 63-70243, 63-298339, M.M. P. Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No 3), (1970) ”, and the oxazole compound and s-triazine compound substituted with a trihalomethyl group.

s−トリアジン化合物として、より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ナトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン等が挙げられる。   As the s-triazine compound, more preferably, an s-triazine derivative in which at least one mono-, di-, or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring, specifically, for example, 2,4,6- Tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloro) Methyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- [1- (p-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-natoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) ) -S-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6- Bis (tribromomethyl) -s-triazine and the like can be mentioned.

オキシジアゾール化合物としては、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(シアノスチリル)−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(ナフト−1−イル)−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(4−スチリル)スチリル−1,3,4−オキソジアゾールなどが挙げられる。   Examples of the oxydiazole compound include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (cyanostyryl) -1,3,4-oxodiazole, 2- Examples include trichloromethyl-5- (naphth-1-yl) -1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-styryl) styryl-1,3,4-oxodiazole, and the like. .

カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチル−(4’−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−4−モルホリノブチロフェノン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy-2 -Phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy -1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) , Acetophenone derivatives such as 2-benzyl-2-dimethylamino-4-morpholinobutyrophenone, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone Thioxanthone derivatives such as 2,4-diisopropylthioxanthone, and benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

ケタール化合物としては、ベンジルメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルエチルアセタールなどを挙げることができる。   Examples of the ketal compound include benzyl methyl ketal and benzyl-β-methoxyethyl ethyl acetal.

ベンゾイン化合物としてはm−ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルo−ベンゾイルベンゾエートなどを挙げることができる。   Examples of the benzoin compound include m-benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin methyl ether, methyl o-benzoylbenzoate and the like.

アクリジン化合物としては、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタンなどを挙げることができる。   Examples of the acridine compound include 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, and the like.

有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide compound include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxide). Oxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroper Oxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2 , -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4 '-Tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate) , Carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

アゾ化合物としては、例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を挙げることができる。   Examples of the azo compound include azo compounds described in JP-A-8-108621.

クマリン化合物としては、例えば、3−メチル−5−アミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン、3−クロロ−5−ジエチルアミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン、3−ブチル−5−ジメチルアミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン等を挙げることができる。   Examples of the coumarin compound include 3-methyl-5-amino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, 3-chloro-5-diethylamino-((s-triazin-2-yl). ) Amino) -3-phenylcoumarin, 3-butyl-5-dimethylamino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, and the like.

アジド化合物としては、米国特許第2848328号明細書、米国特許第2852379号明細書ならびに米国特許第2940853号明細書に記載の有機アジド化合物、2,6−ビス(4−アジドベンジリデン)−4−エチルシクロヘキサノン(BAC−E)等が挙げられる。   Examples of the azide compound include organic azide compounds described in U.S. Pat. No. 2,848,328, U.S. Pat. No. 2,852,379 and U.S. Pat. No. 2,940,553, 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-ethyl. And cyclohexanone (BAC-E).

メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentaful Lophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109, and the like.

ビイミダゾール系化合物としては、例えば、ヘキサアリールビイミダゾール化合物(ロフィンダイマー系化合物)等が好ましい。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公昭45−37377号公報、特公昭44−86516号公報記載のロフィンダイマー類、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の各明細書に記載の種々の化合物、具体的には、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル))4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
As the biimidazole compound, for example, a hexaarylbiimidazole compound (rophine dimer compound) is preferable.
Examples of the hexaarylbiimidazole compound include lophine dimers described in JP-B-45-37377 and JP-B-44-86516, JP-B-6-29285, U.S. Pat. No. 3,479,185, and the like. Various compounds described in each specification such as 4,311,783 and 4,622,286, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl)) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) ) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (m-methoxyphenyl) vididazole, 2, 2'-bis (o , O′-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5 Examples include '-tetraphenylbiimidazole.

有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837、特開2002−107916、特許第2764769号、特願2000−310808号、等の各公報、及び、Kunz,Martin“Rad Tech’98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。   Examples of the organic borate compound include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, JP-A-2000. -131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application No. 2000-310808, etc., and Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”. Organoboron salts described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, JP-A-6-175554 In Japanese Patent Laid-Open No. 6-175553 Organoboron iodonium complexes, organoboron phosphonium complexes described in JP-A-9-188710, JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7- Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes such as those described in Japanese Patent No. 306527 and Japanese Patent Laid-Open No. 7-292014.

ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号公報、特願2001−132318号明細書等に記載される化合物等が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A No. 61-166544 and Japanese Patent Application No. 2001-132318.

本発明に用いられる(E)重合開始剤としては、感度、経時安定性、後加熱時の着色の観点から、オキシム化合物が好ましい。
オキシム化合物としては、J.C.S.Perkin II(1979)1653−1660)、J.C.S.Perkin II(1979)156−162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202−232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報、特表2004−534797号公報記載の化合物等が挙げられる。
The (E) polymerization initiator used in the present invention is preferably an oxime compound from the viewpoints of sensitivity, stability over time, and coloring during post-heating.
Examples of oxime compounds include J.M. C. S. Perkin II (1979) 1653-1660), J. MoI. C. S. Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-66385, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-80068, Japanese Patent Application Publication No. 2004-534797 Compounds and the like.

本発明に用いられるオキシム化合物としては、感度、経時安定性の観点から、下記式(IV)で表される化合物がより好ましい。下記式(IV)でS原子をO原子、または-CO-に変更した化合物も好ましいが、より好ましくはS原子の化合物である。   The oxime compound used in the present invention is more preferably a compound represented by the following formula (IV) from the viewpoint of sensitivity and stability over time. A compound in which the S atom is changed to an O atom or —CO— in the following formula (IV) is also preferable, but a compound having an S atom is more preferable.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

式(IV)中、R、及びXは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表す。u3は1〜5の整数である。 In formula (IV), R 9 and X 3 each independently represent a monovalent substituent, A 0 represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group. u3 is an integer of 1-5.

前記Rで表される一価の置換基としては、以下に示す一価の非金属原子団であることが好ましい。
で表される一価の非金属原子団としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよいホスフィノイル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルキルチオカルボニル基、置換基を有してもよいアリールチオカルボニル基、置換基を有してもよいジアルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいジアルキルアミノチオカルボニル基等が挙げられる。
The monovalent substituent represented by R 9 is preferably a monovalent nonmetallic atomic group shown below.
Examples of the monovalent nonmetallic atomic group represented by R 9 include an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, an alkenyl group that may have a substituent, and a substituent. An alkynyl group which may have a group, an alkylsulfinyl group which may have a substituent, an arylsulfinyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, and a substituent. An arylsulfonyl group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, an alkoxycarbonyl group which may have a substituent, an aryloxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent May have a phosphinoyl group, a heterocyclic group which may have a substituent, an alkylthiocarbonyl group which may have a substituent, an arylthiocarbonyl group which may have a substituent, or a substituent. Dialkylaminoca Examples thereof include a sulfonyl group and a dialkylaminothiocarbonyl group which may have a substituent.

置換基を有してもよいアルキル基としては、炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、1−エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、2−エチルヘキシル基、フェナシル基、1−ナフトイルメチル基、2−ナフトイルメチル基、4−メチルスルファニルフェナシル基、4−フェニルスルファニルフェナシル基、4−ジメチルアミノフェナシル基、4−シアノフェナシル基、4−メチルフェナシル基、2−メチルフェナシル基、3−フルオロフェナシル基、3−トリフルオロメチルフェナシル基、3−ニトロフェナシル基等が挙げられる。   As the alkyl group which may have a substituent, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, Okudadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, 1-ethylpentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, 2-ethylhexyl group, phenacyl group, 1-naphthoylmethyl group 2-naphthoylmethyl group, 4-methylsulfanylphenacyl group, 4-phenylsulfanylphenacyl group, 4-dimethylaminophenacyl group, 4-cyanophenacyl group, 4-methylphenacyl group, 2-methylphenacyl group , 3-fluorophenacyl group, 3-trifluoromethylphenacyl group, 3-nitro Enashiru group, and the like.

置換基を有してもよいアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、フェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、9−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、o−、m−、及びp−トリル基、キシリル基、o−、m−、及びp−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等が挙げられる。   As the aryl group which may have a substituent, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms is preferable, and a phenyl group, a biphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, a 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 9-fluorenyl group, terphenyl group, quarterphenyl group, o-, m-, and p-tolyl group, xylyl group, o- , M-, and p-cumenyl group, mesityl group, pentarenyl group, binaphthalenyl group, turnaphthalenyl group, quarternaphthalenyl group, heptaenyl group, biphenylenyl group, indacenyl group, fluoranthenyl group, acenaphthylenyl group, aceanthrylenyl group, Phenalenyl, fluorenyl, anthryl, bianthracenyl, teranthraceni Group, quarter anthracenyl group, anthraquinolyl group, phenanthryl group, triphenylenyl group, pyrenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, preadenyl group, picenyl group, perylenyl group, pentaphenyl group, pentacenyl group, tetraphenylenyl group, hexa Examples thereof include a phenyl group, a hexacenyl group, a rubicenyl group, a coronenyl group, a trinaphthylenyl group, a heptaphenyl group, a heptacenyl group, a pyranthrenyl group, and an oberenyl group.

置換基を有してもよいアルケニル基としては、炭素数2以上10以下のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基等が挙げられる。   The alkenyl group which may have a substituent is preferably an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group, and a styryl group.

置換基を有してもよいアルキニル基としては、炭素数2以上10以下のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、プロピニル基、プロパルギル基等が挙げられる。   The alkynyl group which may have a substituent is preferably an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include an ethynyl group, a propynyl group, and a propargyl group.

置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基としては、炭素数1以上20以下のアルキルスルフィニル基が好ましく、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、デカノイルスルフィニル基、ドデカノイルスルフィニル基、オクタデカノイルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、メトキシメチルスルフィニル基等が挙げられる。   The alkylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, propylsulfinyl group, isopropylsulfinyl group, butylsulfinyl group, hexyl. Examples thereof include a sulfinyl group, a cyclohexylsulfinyl group, an octylsulfinyl group, a 2-ethylhexylsulfinyl group, a decanoylsulfinyl group, a dodecanoylsulfinyl group, an octadecanoylsulfinyl group, a cyanomethylsulfinyl group, and a methoxymethylsulfinyl group.

置換基を有してもよいアリールスルフィニル基としては、炭素数6以上30以下のアリールスルフィニル基が好ましく、例えば、フェニルスルフィニル基、1−ナフチルスルフィニル基、2−ナフチルスルフィニル基、2−クロロフェニルスルフィニル基、2−メチルフェニルスルフィニル基、2−メトキシフェニルスルフィニル基、2−ブトキシフェニルスルフィニル基、3−クロロフェニルスルフィニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、3−シアノフェニルスルフィニル基、3−ニトロフェニルスルフィニル基、4−フルオロフェニルスルフィニル基、4−シアノフェニルスルフィニル基、4−メトキシフェニルスルフィニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルフィニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルフィニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等が挙げられる。   The arylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, for example, phenylsulfinyl group, 1-naphthylsulfinyl group, 2-naphthylsulfinyl group, 2-chlorophenylsulfinyl group. 2-methylphenylsulfinyl group, 2-methoxyphenylsulfinyl group, 2-butoxyphenylsulfinyl group, 3-chlorophenylsulfinyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, 3-cyanophenylsulfinyl group, 3-nitrophenylsulfinyl group 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-cyanophenylsulfinyl group, 4-methoxyphenylsulfinyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfinyl group, 4-phenylsulfanylphenyl Sulfinyl group, 4-dimethylaminophenyl sulfinyl group and the like.

置換基を有してもよいアルキルスルホニル基としては、炭素数1以上20以下のアルキルスルホニル基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスルホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基、パーフルオロアルキルスルホニル基等が挙げられる。   The alkylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, butylsulfonyl group, hexyl. Sulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, octylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, decanoylsulfonyl group, dodecanoylsulfonyl group, octadecanoylsulfonyl group, cyanomethylsulfonyl group, methoxymethylsulfonyl group, perfluoroalkylsulfonyl group, etc. Can be mentioned.

置換基を有してもよいアリールスルホニル基としては、炭素数6以上30以下のアリールスルホニル基が好ましく、例えば、フェニルスルホニル基、1−ナフチルスルホニル基、2−ナフチルスルホニル基、2−クロロフェニルスルホニル基、2−メチルフェニルスルホニル基、2−メトキシフェニルスルホニル基、2−ブトキシフェニルスルホニル基、3−クロロフェニルスルホニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、3−シアノフェニルスルホニル基、3−ニトロフェニルスルホニル基、4−フルオロフェニルスルホニル基、4−シアノフェニルスルホニル基、4−メトキシフェニルスルホニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルホニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルホニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等が挙げられる。   The arylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, and a 2-chlorophenylsulfonyl group. 2-methylphenylsulfonyl group, 2-methoxyphenylsulfonyl group, 2-butoxyphenylsulfonyl group, 3-chlorophenylsulfonyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, 3-cyanophenylsulfonyl group, 3-nitrophenylsulfonyl group 4-fluorophenylsulfonyl group, 4-cyanophenylsulfonyl group, 4-methoxyphenylsulfonyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-dimethylamino Enirusuruhoniru group, and the like.

置換基を有してもよいアシル基としては、炭素数2以上20以下のアシル基が好ましく、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロメチルカルボニル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、4−メチルスルファニルベンゾイル基、4−フェニルスルファニルベンゾイル基、4−ジメチルアミノベンゾイル基、4−ジエチルアミノベンゾイル基、2−クロロベンゾイル基、2−メチルベンゾイル基、2−メトキシベンゾイル基、2−ブトキシベンゾイル基、3−クロロベンゾイル基、3−トリフルオロメチルベンゾイル基、3−シアノベンゾイル基、3−ニトロベンゾイル基、4−フルオロベンゾイル基、4−シアノベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基等が挙げられる。   The acyl group which may have a substituent is preferably an acyl group having 2 or more and 20 or less carbon atoms. For example, acetyl group, propanoyl group, butanoyl group, trifluoromethylcarbonyl group, pentanoyl group, benzoyl group, 1- Naphthoyl group, 2-naphthoyl group, 4-methylsulfanylbenzoyl group, 4-phenylsulfanylbenzoyl group, 4-dimethylaminobenzoyl group, 4-diethylaminobenzoyl group, 2-chlorobenzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 2-methoxy Benzoyl group, 2-butoxybenzoyl group, 3-chlorobenzoyl group, 3-trifluoromethylbenzoyl group, 3-cyanobenzoyl group, 3-nitrobenzoyl group, 4-fluorobenzoyl group, 4-cyanobenzoyl group, 4-methoxy A benzoyl group etc. are mentioned.

置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数2以上20以下のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基等が挙げられる。   The alkoxycarbonyl group which may have a substituent is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, Examples include octyloxycarbonyl group, decyloxycarbonyl group, octadecyloxycarbonyl group, trifluoromethyloxycarbonyl group, and the like.

置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル基、1−ナフチルオキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基、4−メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4−フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2−クロロフェニルオキシカルボニル基、2−メチルフェニルオキシカルボニル基、2−メトキシフェニルオキシカルボニル基、2−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3−クロロフェニルオキシカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3−シアノフェニルオキシカルボニル基、3−ニトロフェニルオキシカルボニル基、4−フルオロフェニルオキシカルボニル基、4−シアノフェニルオキシカルボニル基、4−メトキシフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。   The aryloxycarbonyl group which may have a substituent includes a phenoxycarbonyl group, a 1-naphthyloxycarbonyl group, a 2-naphthyloxycarbonyl group, a 4-methylsulfanylphenyloxycarbonyl group, and a 4-phenylsulfanylphenyloxycarbonyl group. 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl group, 2-methylphenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3 -Chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group, 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-fur B phenyloxycarbonyl group, 4-cyanophenyl oxycarbonyl group, and 4-methoxyphenyloxycarbonyl group.

置換基を有してもよいホスフィノイル基としては、総炭素数2以上50以下のホスフィノイル基が好ましく、例えば、ジメチルホスフィノイル基、ジエチルホスフィノイル基、ジプロピルホスフィノイル基、ジフェニルホスフィノイル基、ジメトキシホスフィノイル基、ジエトキシホスフィノイル基、ジベンゾイルホスフィノイル基、ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィノイル基等が挙げられる。   The phosphinoyl group which may have a substituent is preferably a phosphinoyl group having 2 to 50 carbon atoms in total, for example, dimethylphosphinoyl group, diethylphosphinoyl group, dipropylphosphinoyl group, diphenylphosphino group. Yl group, dimethoxyphosphinoyl group, diethoxyphosphinoyl group, dibenzoylphosphinoyl group, bis (2,4,6-trimethylphenyl) phosphinoyl group and the like.

置換基を有してもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、芳香族或いは脂肪族の複素環が好ましい。例えば、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基等が挙げられる。   The heterocyclic group that may have a substituent is preferably an aromatic or aliphatic heterocyclic ring containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. For example, thienyl group, benzo [b] thienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, thiantenyl group, furyl group, pyranyl group, isobenzofuranyl group, chromenyl group, xanthenyl group, phenoxathinyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, indolizinyl group, isoindolyl group, 3H-indolyl group, indolyl group, 1H-indazolyl group, purinyl group, 4H- Quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxanilyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, 4aH-carbazolyl group, carbazolyl group, β-carbolinyl group, phenanthridinyl group, acridinyl group, perimidinyl group Nyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenalsadinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, phenoxazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, pyrrolinyl group, imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group Group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, morpholinyl group, thioxanthryl group and the like.

置換基を有してもよいアルキルチオカルボニル基としては、例えば、メチルチオカルボニル基、プロピルチオカルボニル基、ブチルチオカルボニル基、ヘキシルチオカルボニル基、オクチルチオカルボニル基、デシルチオカルボニル基、オクタデシルチオカルボニル基、トリフルオロメチルチオカルボニル基等が挙げられる。   Examples of the alkylthiocarbonyl group which may have a substituent include, for example, methylthiocarbonyl group, propylthiocarbonyl group, butylthiocarbonyl group, hexylthiocarbonyl group, octylthiocarbonyl group, decylthiocarbonyl group, octadecylthiocarbonyl group, Examples thereof include a trifluoromethylthiocarbonyl group.

置換基を有してもよいアリールチオカルボニル基としては、1−ナフチルチオカルボニル基、2−ナフチルチオカルボニル基、4−メチルスルファニルフェニルチオカルボニル基、4−フェニルスルファニルフェニルチオカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルチオカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルチオカルボニル基、2−クロロフェニルチオカルボニル基、2−メチルフェニルチオカルボニル基、2−メトキシフェニルチオカルボニル基、2−ブトキシフェニルチオカルボニル基、3−クロロフェニルチオカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルチオカルボニル基、3−シアノフェニルチオカルボニル基、3−ニトロフェニルチオカルボニル基、4−フルオロフェニルチオカルボニル基、4−シアノフェニルチオカルボニル基、4−メトキシフェニルチオカルボニル基等が挙げられる。   Examples of the arylthiocarbonyl group which may have a substituent include 1-naphthylthiocarbonyl group, 2-naphthylthiocarbonyl group, 4-methylsulfanylphenylthiocarbonyl group, 4-phenylsulfanylphenylthiocarbonyl group, 4-dimethyl. Aminophenylthiocarbonyl group, 4-diethylaminophenylthiocarbonyl group, 2-chlorophenylthiocarbonyl group, 2-methylphenylthiocarbonyl group, 2-methoxyphenylthiocarbonyl group, 2-butoxyphenylthiocarbonyl group, 3-chlorophenylthiocarbonyl group Group, 3-trifluoromethylphenylthiocarbonyl group, 3-cyanophenylthiocarbonyl group, 3-nitrophenylthiocarbonyl group, 4-fluorophenylthiocarbonyl group, 4-cyanophenylthiocarbonyl group Boniru group, 4-methoxyphenyl thiocarbonyl group.

置換基を有してもよいジアルキルアミノカルボニル基としては、ジメチルアミノカルボニル基、ジメエルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカルボニル基、ジブチルアミノカルボニル基等が挙げられる。   Examples of the dialkylaminocarbonyl group that may have a substituent include a dimethylaminocarbonyl group, a dimethylaminocarbonyl group, a dipropylaminocarbonyl group, and a dibutylaminocarbonyl group.

置換基を有してもよいジアルキルアミノチオカルボニル基としては、ジメチルアミノチオカルボニル基、ジプロピルアミノチオカルボニル基、ジブチルアミノチオカルボニル基等が挙げられる。   Examples of the dialkylaminothiocarbonyl group which may have a substituent include a dimethylaminothiocarbonyl group, a dipropylaminothiocarbonyl group, and a dibutylaminothiocarbonyl group.

中でも、高感度化の点から、Rとしてはアシル基がより好ましく、具体的には、アセチル基、エチロイル基、プロピオイル基、ベンゾイル基、トルイル基が好ましい。 Among these, from the viewpoint of increasing sensitivity, R 9 is more preferably an acyl group, and specifically, an acetyl group, an ethyloyl group, a propioyl group, a benzoyl group, and a toluyl group are preferable.

式(IV)のAで表される二価の有機基としては、置換基を有してもよい炭素数1以上12以下のアルキレン基、置換基を有してもよいシクロヘキシレン基、置換基を有してもよいアルキニレン基が挙げられる。
これらの基に導入しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、tert−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、p−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、p−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、p−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。
中でも、Aとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基)で置換されたアルキレン基、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基)で置換されたアルキレン基、アリール基(例えば、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基)で置換されたアルキレン基が好ましい。
Examples of the divalent organic group represented by A 0 in the formula (IV) include an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, an optionally substituted cyclohexylene group, and a substituted group. An alkynylene group which may have a group is mentioned.
Examples of the substituent that can be introduced into these groups include halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group, phenoxy group, p- Aryloxy groups such as tolyloxy group, alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, acyloxy groups such as acetoxy group, propionyloxy group, benzoyloxy group, acetyl group, benzoyl group, isobutyryl group, acryloyl group Group, acyl group such as methacryloyl group, methoxalyl group, methylsulfanyl group, alkylsulfanyl group such as tert-butylsulfanyl group, arylsulfanyl group such as phenylsulfanyl group, p-tolylsulfanyl group, methylamino group, Alkylamino groups such as rohexylamino group, dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, morpholino group and piperidino group, arylamino groups such as phenylamino group and p-tolylamino group, methyl group, ethyl group, tert- In addition to alkyl groups such as butyl group and dodecyl group, phenyl groups, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group and the like, hydroxy group, carboxy group, formyl group, mercapto Group, sulfo group, mesyl group, p-toluenesulfonyl group, amino group, nitro group, cyano group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, trimethylsilyl group, phosphinico group, phosphono group, trimethylammonium group, dimethylsulfonyl group Group, triphenylphenacylphos Niumiru group, and the like.
Among them, A 0 is substituted with an unsubstituted alkylene group or an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group, or a dodecyl group) from the viewpoint of increasing sensitivity and suppressing coloration due to heating. An alkylene group, an alkylene group substituted with an alkenyl group (eg, vinyl group, allyl group), an aryl group (eg, phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, styryl) An alkylene group substituted with a group) is preferred.

式(IV)のArで表されるアリール基としては、炭素数6以上30以下のアリール基が好ましく、また、置換基を有していてもよい。
具体的には、フェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、9−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、o−、m−、及びp−トリル基、キシリル基、o−、m−、及びp−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等が挙げられる。中でも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。
The aryl group represented by Ar in the formula (IV) is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and may have a substituent.
Specifically, phenyl group, biphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 9-anthryl group, 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group 9-fluorenyl group, terphenyl group, quarterphenyl group, o-, m-, and p-tolyl group, xylyl group, o-, m-, and p-cumenyl group, mesityl group, pentalenyl group, binaphthalenyl group, Turnaphthalenyl group, Quarter naphthalenyl group, Heptaenyl group, Biphenylenyl group, Indacenyl group, Fluoranthenyl group, Acenaphthylenyl group, Aceantrirenyl group, Phenalenyl group, Fluorenyl group, Anthryl group, Bianthracenyl group, Teranthracenyl group, Quarter Anthracenyl group, anthraquinolyl group, phenanthri Group, triphenylenyl group, pyrenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, preadenyl group, picenyl group, perylenyl group, pentaphenyl group, pentacenyl group, tetraphenylenyl group, hexaphenyl group, hexacenyl group, rubicenyl group, coronenyl group, A trinaphthylenyl group, a heptaphenyl group, a heptacenyl group, a pyrantrenyl group, an obalenyl group, and the like can be given. Of these, a substituted or unsubstituted phenyl group is preferable from the viewpoint of increasing sensitivity and suppressing coloring due to heating.

上記フェニル基が置換基を有している場合、その置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メチルチオキシ基、エチルチオキシ基、tert−ブチルチオキシ基等のアルキルチオキシ基、フェニルチオキシ基、p−トリルチオキシ基等のアリールチオオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、tert−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、p−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、p−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、p−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。   When the phenyl group has a substituent, examples of the substituent include halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group. Group, aryloxy group such as phenoxy group, p-tolyloxy group, methylthioxy group, ethylthioxy group, alkylthioxy group such as tert-butylthioxy group, arylthiooxy group such as phenylthioxy group, p-tolyloxy group, methoxycarbonyl Groups, butoxycarbonyl groups, alkoxycarbonyl groups such as phenoxycarbonyl groups, acyloxy groups such as acetoxy groups, propionyloxy groups, benzoyloxy groups, acetyl groups, benzoyl groups, isobutyryl groups, acryloyl groups, methacryloyl groups, methoxalyl groups, etc. Group, Alkylsulfanyl groups such as tilsulfanyl group, tert-butylsulfanyl group, arylsulfanyl groups such as phenylsulfanyl group, p-tolylsulfanyl group, alkylamino groups such as methylamino group, cyclohexylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, Dialkylamino groups such as morpholino group and piperidino group, arylamino groups such as phenylamino group and p-tolylamino group, alkyl groups such as ethyl group, tert-butyl group and dodecyl group, hydroxy group, carboxy group, formyl group, mercapto Group, sulfo group, mesyl group, p-toluenesulfonyl group, amino group, nitro group, cyano group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, trimethylsilyl group, phosphinico group, phosphono group, trimethylammonium group, di Chill sulfo Niu mill group, triphenyl phenacyl phosphonium Niu mill group, and the like.

式(IV)においては、前記Arと隣接するSとで形成される「SAr」の構造が、以下に示す構造であることが感度の点で好ましい。   In the formula (IV), it is preferable from the viewpoint of sensitivity that the structure of “SAr” formed by Ar and adjacent S is the following structure.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

式(IV)のXで表される一価の置換基としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオキシ基、置換基を有してもよいアリールチオキシ基、置換基を有してもよいアシルオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルファニル基、置換基を有してもよいアリールスルファニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいカルバモイル基、置換基を有してもよいスルファモイル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいホスフィノイル基、置換基を有してもよい複素環基、ハロゲン基等が挙げられる。 Examples of the monovalent substituent represented by X 3 in the formula (IV) include an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and an alkenyl which may have a substituent. Group, an alkynyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylthioxy group which may have a substituent, a substituent An arylthioxy group that may have a substituent, an acyloxy group that may have a substituent, an alkylsulfanyl group that may have a substituent, an arylsulfanyl group that may have a substituent, and a substituent. An alkylsulfinyl group which may have a substituent, an arylsulfinyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and a substituent Has a good acyl group and substituent An alkoxycarbonyl group which may have a substituent, a carbamoyl group which may have a substituent, a sulfamoyl group which may have a substituent, an amino group which may have a substituent, a phosphinoyl group which may have a substituent And a heterocyclic group which may have a substituent, a halogen group and the like.

置換基を有してもよいアルキル基としては、炭素数1以上30以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、1−エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、2−エチルヘキシル基、フェナシル基、1−ナフトイルメチル基、2−ナフトイルメチル基、4−メチルスルファニルフェナシル基、4−フェニルスルファニルフェナシル基、4−ジメチルアミノフェナシル基、4−シアノフェナシル基4−メチルフェナシル基、2−メチルフェナシル基、3−フルオロフェナシル基、3−トリフルオロメチルフェナシル基、3−ニトロフェナシル基等が挙げられる。   The alkyl group which may have a substituent is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, or a dodecyl group. , Octadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 1-ethylpentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, 2-ethylhexyl group, phenacyl group, 1-naphthoylmethyl Group, 2-naphthoylmethyl group, 4-methylsulfanylphenacyl group, 4-phenylsulfanylphenacyl group, 4-dimethylaminophenacyl group, 4-cyanophenacyl group 4-methylphenacyl group, 2-methylphenacyl group , 3-fluorophenacyl group, 3-trifluoromethylphenacyl group, - Nitorofenashiru group and the like.

置換基を有してもよいアリール基としては、炭素数6以上30以下のアリール基が好ましく、フェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、9−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、o−、m−、及びp−トリル基、キシリル基、o−、m−、及びp−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等がある。   The aryl group which may have a substituent is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and includes a phenyl group, a biphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, and a 9-phenanthryl group. 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 9-fluorenyl group, terphenyl group, quarterphenyl group, o-, m-, and p-tolyl group, xylyl group, o -, M-, and p-cumenyl, mesityl, pentarenyl, binaphthalenyl, tarnaphthalenyl, quarternaphthalenyl, heptaenyl, biphenylenyl, indacenyl, fluoranthenyl, acenaphthylenyl, aceanthrylenyl , Phenalenyl group, fluorenyl group, anthryl group, bianthracenyl group, tarant Senyl group, quarteranthracenyl group, anthraquinolyl group, phenanthryl group, triphenylenyl group, pyrenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, preadenyl group, picenyl group, perylenyl group, pentaphenyl group, pentacenyl group, tetraphenylenyl group, Examples include a hexaphenyl group, a hexacenyl group, a ruvicenyl group, a coronenyl group, a trinaphthylenyl group, a heptaphenyl group, a heptacenyl group, a pyranthrenyl group, and an oberenyl group.

置換基を有してもよいアルケニル基としては、炭素数2以上10以下のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基等が挙げられる。   The alkenyl group which may have a substituent is preferably an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group, and a styryl group.

置換基を有してもよいアルキニル基としては、炭素数2以上10以下のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、プロピニル基、プロパルギル基等が挙げられる。   The alkynyl group which may have a substituent is preferably an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include an ethynyl group, a propynyl group, and a propargyl group.

置換基を有してもよいアルコキシ基としては、炭素数1以上30以下のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシキ、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、エトキシカルボニルメチル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニルメチルオキシ基、アミノカルボニルメチルオキシ基、N,N−ジブチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−メチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−エチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−オクチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−メチル−N−ベンジルアミノカルボニルメチルオキシ基、ベンジルオキシ基、シアノメチルオキシ基等が挙げられる。   The alkoxy group which may have a substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group. Group, tert-butoxy group, pentyloxy group, isopentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, ethoxycarbonylmethyl group, 2-ethylhexyloxycarbonylmethyloxy group, aminocarbonylmethyloxy group, N, N-dibutylaminocarbonylmethyloxy group, N-methylaminocarbonylmethyloxy group, N-ethylaminocarbonylmethyloxy group, N-octylami Carbonyl methyl group, N- methyl -N- benzylaminocarbonyl methyloxy group, a benzyloxy group, and a cyanomethyloxy group.

置換基を有してもよいアリールオキシ基としては、炭素数6以上30以下のアリールオキシ基が好ましく、例えば、フェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、2−クロロフェニルオキシ基、2−メチルフェニルオキシ基、2−メトキシフェニルオキシ基、2−ブトキシフェニルオキシ基、3−クロロフェニルオキシ基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシ基、3−シアノフェニルオキシ基、3−ニトロフェニルオキシ基、4−フルオロフェニルオキシ基、4−シアノフェニルオキシ基、4−メトキシフェニルオキシ基、4−ジメチルアミノフェニルオキシ基、4−メチルスルファニルフェニルオキシ基、4−フェニルスルファニルフェニルオキシ基等がある。   The aryloxy group which may have a substituent is preferably an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, for example, a phenyloxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, or a 2-chlorophenyloxy group. 2-methylphenyloxy group, 2-methoxyphenyloxy group, 2-butoxyphenyloxy group, 3-chlorophenyloxy group, 3-trifluoromethylphenyloxy group, 3-cyanophenyloxy group, 3-nitrophenyloxy group 4-fluorophenyloxy group, 4-cyanophenyloxy group, 4-methoxyphenyloxy group, 4-dimethylaminophenyloxy group, 4-methylsulfanylphenyloxy group, 4-phenylsulfanylphenyloxy group, and the like.

置換基を有してもよいアルキルチオキシ基としては、炭素数1以上30以下のチオアルコキシ基が好ましく、例えば、メチルチオキシ基、エチルチオキシ基、プロピルチオキシ基、イソプロピルチオキシ基、ブチルチオキシ基、イソブチルチオキシ基、sec−ブチルチオキシ基、tert−ブチルチオキシ基、ペンチルチオキシ基、イソペンチルチオキシ基、ヘキシルチオキシキ、ヘプチルチオキシ基、オクチルチオキシ基、2−エチルヘキシルチオキシ基、デシルチオキシ基、ドデシルチオキシ基、オクタデシルチオキシ基、ベンジルチオキシ基等が挙げられる。   The alkylthioxy group which may have a substituent is preferably a thioalkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, such as methylthioxy group, ethylthioxy group, propylthioxy group, isopropylthioxy group, butylthioxy group, isobutyl. Thioxy group, sec-butylthioxy group, tert-butylthioxy group, pentylthioxy group, isopentylthioxy group, hexylthioxy, heptylthioxy group, octylthioxy group, 2-ethylhexylthioxy group, decylthioxy group, dodecyl Examples include a thioxy group, an octadecyl thioxy group, and a benzyl thioxy group.

置換基を有してもよいアリールチオキシ基としては、炭素数6以上30以下のアリールチオキシ基が好ましく、例えば、フェニルチオキシ基、1−ナフチルチオキシ基、2−ナフチルチオキシ基、2−クロロフェニルチオキシ基、2−メチルフェニルチオキシ基、2−メトキシフェニルチオキシ基、2−ブトキシフェニルチオキシ基、3−クロロフェニルチオキシ基、3−トリフルオロメチルフェニルチオキシ基、3−シアノフェニルチオキシ基、3−ニトロフェニルチオキシ基、4−フルオロフェニルチオキシ基、4−シアノフェニルチオキシ基、4−メトキシフェニルチオキシ基、4−ジメチルアミノフェニルチオキシ基、4−メチルスルファニルフェニルチオキシ基、4−フェニルスルファニルフェニルチオキシ基等がある。   The arylthioxy group which may have a substituent is preferably an arylthioxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylthioxy group, a 1-naphthylthioxy group, a 2-naphthylthioxy group, 2-chlorophenylthioxy group, 2-methylphenylthioxy group, 2-methoxyphenylthioxy group, 2-butoxyphenylthioxy group, 3-chlorophenylthioxy group, 3-trifluoromethylphenylthioxy group, 3- Cyanophenylthioxy group, 3-nitrophenylthioxy group, 4-fluorophenylthioxy group, 4-cyanophenylthioxy group, 4-methoxyphenylthioxy group, 4-dimethylaminophenylthioxy group, 4-methyl Examples thereof include a sulfanylphenylthioxy group and a 4-phenylsulfanylphenylthioxy group.

置換基を有してもよいアシルオキシ基としては、炭素数2以上20以下のアシルオキシ基が好ましく、例えば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、トリフルオロメチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、1−ナフチルカルボニルオキシ基、2−ナフチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。   The acyloxy group which may have a substituent is preferably an acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, such as an acetyloxy group, a propanoyloxy group, a butanoyloxy group, a pentanoyloxy group, or trifluoromethylcarbonyl. Examples thereof include an oxy group, a benzoyloxy group, a 1-naphthylcarbonyloxy group, and a 2-naphthylcarbonyloxy group.

置換基を有してもよいアルキルスルファニル基としては、炭素数1以上20以下のアルキルスルファニル基が好ましく、例えば、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基、シクロヘキシルスルファニル基、オクチルスルファニル基、2−エチルヘキシルスルファニル基、デカノイルスルファニル基、ドデカノイルスルファニル基、オクタデカノイルスルファニル基、シアノメチルスルファニル基、メトキシメチルスルファニル基等が挙げられる。   The alkylsulfanyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfanyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as methylsulfanyl group, ethylsulfanyl group, propylsulfanyl group, isopropylsulfanyl group, butylsulfanyl group, hexyl. Examples thereof include a sulfanyl group, a cyclohexylsulfanyl group, an octylsulfanyl group, a 2-ethylhexylsulfanyl group, a decanoylsulfanyl group, a dodecanoylsulfanyl group, an octadecanoylsulfanyl group, a cyanomethylsulfanyl group, and a methoxymethylsulfanyl group.

置換基を有してもよいアリールスルファニル基としては、炭素数6以上30以下のアリールスルファニル基が好ましく、例えば、フェニルスルファニル基、1−ナフチルスルファニル基、2−ナフチルスルファニル基、2−クロロフェニルスルファニル基、2−メチルフェニルスルファニル基、2−メトキシフェニルスルファニル基、2−ブトキシフェニルスルファニル基、3−クロロフェニルスルファニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルファニル基、3−シアノフェニルスルファニル基、3−ニトロフェニルスルファニル基、4−フルオロフェニルスルファニル基、4−シアノフェニルスルファニル基、4−メトキシフェニルスルファニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルファニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルファニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルファニル基等が挙げられる。   The arylsulfanyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfanyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfanyl group, a 1-naphthylsulfanyl group, a 2-naphthylsulfanyl group, or a 2-chlorophenylsulfanyl group. 2-methylphenylsulfanyl group, 2-methoxyphenylsulfanyl group, 2-butoxyphenylsulfanyl group, 3-chlorophenylsulfanyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfanyl group, 3-cyanophenylsulfanyl group, 3-nitrophenylsulfanyl group 4-fluorophenylsulfanyl group, 4-cyanophenylsulfanyl group, 4-methoxyphenylsulfanyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfanyl group, 4-phenylsulfanylphenyl Sulfanyl group, 4-dimethylamino-phenylsulfanyl group and the like.

置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基としては、炭素数1以上20以下のアルキルスルフィニル基が好ましく、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、デカノイルスルフィニル基、ドデカノイルスルフィニル基、オクタデカノイルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、メトキシメチルスルフィニル基等が挙げられる。   The alkylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, propylsulfinyl group, isopropylsulfinyl group, butylsulfinyl group, hexyl. Examples thereof include a sulfinyl group, a cyclohexylsulfinyl group, an octylsulfinyl group, a 2-ethylhexylsulfinyl group, a decanoylsulfinyl group, a dodecanoylsulfinyl group, an octadecanoylsulfinyl group, a cyanomethylsulfinyl group, and a methoxymethylsulfinyl group.

置換基を有してもよいアリールスルフィニル基としては、炭素数6以上30以下のアリールスルフィニル基が好ましく、例えば、フェニルスルフィニル基、1−ナフチルスルフィニル基、2−ナフチルスルフィニル基、2−クロロフェニルスルフィニル基、2−メチルフェニルスルフィニル基、2−メトキシフェニルスルフィニル基、2−ブトキシフェニルスルフィニル基、3−クロロフェニルスルフィニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、3−シアノフェニルスルフィニル基、3−ニトロフェニルスルフィニル基、4−フルオロフェニルスルフィニル基、4−シアノフェニルスルフィニル基、4−メトキシフェニルスルフィニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルフィニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルフィニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等が挙げられる。   The arylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, for example, phenylsulfinyl group, 1-naphthylsulfinyl group, 2-naphthylsulfinyl group, 2-chlorophenylsulfinyl group. 2-methylphenylsulfinyl group, 2-methoxyphenylsulfinyl group, 2-butoxyphenylsulfinyl group, 3-chlorophenylsulfinyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, 3-cyanophenylsulfinyl group, 3-nitrophenylsulfinyl group 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-cyanophenylsulfinyl group, 4-methoxyphenylsulfinyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfinyl group, 4-phenylsulfanylphenyl Sulfinyl group, 4-dimethylaminophenyl sulfinyl group and the like.

置換基を有してもよいアルキルスルホニル基としては、炭素数1以上20以下のアルキルスルホニル基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスルホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基等が挙げられる。   The alkylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, butylsulfonyl group, hexyl. Examples include a sulfonyl group, a cyclohexylsulfonyl group, an octylsulfonyl group, a 2-ethylhexylsulfonyl group, a decanoylsulfonyl group, a dodecanoylsulfonyl group, an octadecanoylsulfonyl group, a cyanomethylsulfonyl group, and a methoxymethylsulfonyl group.

置換基を有してもよいアリールスルホニル基としては、炭素数6以上30以下のアリールスルホニル基が好ましく、例えば、フェニルスルホニル基、1−ナフチルスルホニル基、2−ナフチルスルホニル基、2−クロロフェニルスルホニル基、2−メチルフェニルスルホニル基、2−メトキシフェニルスルホニル基、2−ブトキシフェニルスルホニル基、3−クロロフェニルスルホニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、3−シアノフェニルスルホニル基、3−ニトロフェニルスルホニル基、4−フルオロフェニルスルホニル基、4−シアノフェニルスルホニル基、4−メトキシフェニルスルホニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルホニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルホニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等が挙げられる。   The arylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, and a 2-chlorophenylsulfonyl group. 2-methylphenylsulfonyl group, 2-methoxyphenylsulfonyl group, 2-butoxyphenylsulfonyl group, 3-chlorophenylsulfonyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, 3-cyanophenylsulfonyl group, 3-nitrophenylsulfonyl group 4-fluorophenylsulfonyl group, 4-cyanophenylsulfonyl group, 4-methoxyphenylsulfonyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-dimethylamino Enirusuruhoniru group, and the like.

置換基を有してもよいアシル基としては、炭素数2以上20以下のアシル基が好ましく、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロメチルカルボニル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、4−メチルスルファニルベンゾイル基、4−フェニルスルファニルベンゾイル基、4−ジメチルアミノベンゾイル基、4−ジエチルアミノベンゾイル基、2−クロロベンゾイル基、2−メチルベンゾイル基、2−メトキシベンゾイル基、2−ブトキシベンゾイル基、3−クロロベンゾイル基、3−トリフルオロメチルベンゾイル基、3−シアノベンゾイル基、3−ニトロベンゾイル基、4−フルオロベンゾイル基、4−シアノベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基等が挙げられる。   The acyl group which may have a substituent is preferably an acyl group having 2 or more and 20 or less carbon atoms. For example, acetyl group, propanoyl group, butanoyl group, trifluoromethylcarbonyl group, pentanoyl group, benzoyl group, 1- Naphthoyl group, 2-naphthoyl group, 4-methylsulfanylbenzoyl group, 4-phenylsulfanylbenzoyl group, 4-dimethylaminobenzoyl group, 4-diethylaminobenzoyl group, 2-chlorobenzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 2-methoxy Benzoyl group, 2-butoxybenzoyl group, 3-chlorobenzoyl group, 3-trifluoromethylbenzoyl group, 3-cyanobenzoyl group, 3-nitrobenzoyl group, 4-fluorobenzoyl group, 4-cyanobenzoyl group, 4-methoxy A benzoyl group etc. are mentioned.

置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数2以上20以下のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基、1−ナフチルオキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基、4−メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4−フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2−クロロフェニルオキシカルボニル基、2−メチルフェニルオキシカルボニル基、2−メトキシフェニルオキシカルボニル基、2−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3−クロロフェニルオキシカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3−シアノフェニルオキシカルボニル基、3−ニトロフェニルオキシカルボニル基、4−フルオロフェニルオキシカルボニル基、4−シアノフェニルオキシカルボニル基、4−メトキシフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。   The alkoxycarbonyl group which may have a substituent is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, Octyloxycarbonyl group, decyloxycarbonyl group, octadecyloxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, trifluoromethyloxycarbonyl group, 1-naphthyloxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl group, 4-methylsulfanylphenyloxycarbonyl group, 4 -Phenylsulfanylphenyloxycarbonyl group, 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl Bonyl group, 2-methylphenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl Group, 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-fluorophenyloxycarbonyl group, 4-cyanophenyloxycarbonyl group, 4-methoxyphenyloxycarbonyl group and the like.

置換基を有してもよいカルバモイル基としては、総炭素数1以上30以下のカルバモイル基が好ましく、例えば、N−メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N−プロピルカルバモイル基、N−ブチルカルバモイル基、N−ヘキシルカルバモイル基、N−シクロヘキシルカルバモイル基、N−オクチルカルバモイル基、N−デシルカルバモイル基、N−オクタデシルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N−2−メチルフェニルカルバモイル基、N−2−クロロフェニルカルバモイル基、N−2−イソプロポキシフェニルカルバモイル基、N−2−(2−エチルヘキシル)フェニルカルバモイル基、N−3−クロロフェニルカルバモイル基、N−3−ニトロフェニルカルバモイル基、N−3−シアノフェニルカルバモイル基、N−4−メトキシフェニルカルバモイル基、N−4−シアノフェニルカルバモイル基、N−4−メチルスルファニルフェニルカルバモイル基、N−4−フェニルスルファニルフェニルカルバモイル基、N−メチル−N−フェニルカルバモイル基、N、N−ジメチルカルバモイル基、N、N−ジブチルカルバモイル基、N、N−ジフェニルカルバモイル基等が挙げられる。   The carbamoyl group which may have a substituent is preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms in total, for example, N-methylcarbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, N-propylcarbamoyl group, N-butylcarbamoyl group. Group, N-hexylcarbamoyl group, N-cyclohexylcarbamoyl group, N-octylcarbamoyl group, N-decylcarbamoyl group, N-octadecylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N-2-methylphenylcarbamoyl group, N-2 -Chlorophenylcarbamoyl group, N-2-isopropoxyphenylcarbamoyl group, N-2- (2-ethylhexyl) phenylcarbamoyl group, N-3-chlorophenylcarbamoyl group, N-3-nitrophenylcarbamoyl group, N-3-cyano Phenylcarbamo Group, N-4-methoxyphenylcarbamoyl group, N-4-cyanophenylcarbamoyl group, N-4-methylsulfanylphenylcarbamoyl group, N-4-phenylsulfanylphenylcarbamoyl group, N-methyl-N-phenylcarbamoyl group N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-dibutylcarbamoyl group, N, N-diphenylcarbamoyl group and the like.

置換基を有してもよいスルファモイル基としては、総炭素数0以上30以下のスルファモイル基が好ましく、例えば、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N、N−ジアルキルスルファモイル基、N、N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモオイル基等が挙げられる。より具体的には、N−メチルスルファモイル基、N−エチルスルファモイル基、N−プロピルスルファモイル基、N−ブチルスルファモイル基、N−ヘキシルスルファモイル基、N−シクロヘキシルスルファモイル基、N−オクチルスルファモイル基、N−2−エチルヘキシルスルファモイル基、N−デシルスルファモイル基、N−オクタデシルスルファモイル基、N−フェニルスルファモイル基、N−2−メチルフェニルスルファモイル基、N−2−クロロフェニルスルファモイル基、N−2−メトキシフェニルスルファモイル基、N−2−イソプロポキシフェニルスルファモイル基、N−3−クロロフェニルスルファモイル基、N−3−ニトロフェニルスルファモイル基、N−3−シアノフェニルスルファモイル基、N−4−メトキシフェニルスルファモイル基、N−4−シアノフェニルスルファモイル基、N−4−ジメチルアミノフェニルスルファモイル基、N−4−メチルスルファニルフェニルスルファモイル基、N−4−フェニルスルファニルフェニルスルファモイル基、N−メチル−N−フェニルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N,N−ジブチルスルファモイル基、N,N−ジフェニルスルファモイル基等が挙げられる。   The sulfamoyl group which may have a substituent is preferably a sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms in total, for example, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N -Dialkylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group and the like can be mentioned. More specifically, N-methylsulfamoyl group, N-ethylsulfamoyl group, N-propylsulfamoyl group, N-butylsulfamoyl group, N-hexylsulfamoyl group, N-cyclohexylsulfur group. Famoyl group, N-octylsulfamoyl group, N-2-ethylhexylsulfamoyl group, N-decylsulfamoyl group, N-octadecylsulfamoyl group, N-phenylsulfamoyl group, N-2- Methylphenylsulfamoyl group, N-2-chlorophenylsulfamoyl group, N-2-methoxyphenylsulfamoyl group, N-2-isopropoxyphenylsulfamoyl group, N-3-chlorophenylsulfamoyl group, N-3-nitrophenylsulfamoyl group, N-3-cyanophenylsulfamoyl group, N-4-methoxyphenyl Nylsulfamoyl group, N-4-cyanophenylsulfamoyl group, N-4-dimethylaminophenylsulfamoyl group, N-4-methylsulfanylphenylsulfamoyl group, N-4-phenylsulfanylphenylsulfamoyl Group, N-methyl-N-phenylsulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N, N-dibutylsulfamoyl group, N, N-diphenylsulfamoyl group and the like.

置換基を有してもよいアミノ基としては、総炭素数0以上50以下のアミノ基が好ましく、例えば、−NH2、N−アルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N−アシルアミノ基、N−スルホニルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、N、N−ジスルホニルアミノ基等が挙げられる。より具体的には、N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N−プロピルアミノ基、N−イソプロピルアミノ基、N−ブチルアミノ基、N−tert―ブチルアミノ基、N−ヘキシルアミノ基、N−シクロヘキシルアミノ基、N−オクチルアミノ基、N−2−エチルヘキシルアミノ基、N−デシルアミノ基、N−オクタデシルアミノ基、N−ベンジルアミノ基、N−フェニルアミノ基、N−2−メチルフェニルアミノ基、N−2−クロロフェニルアミノ基、N−2−メトキシフェニルアミノ基、N−2−イソプロポキシフェニルアミノ基、N−2−(2−エチルヘキシル)フェニルアミノ基、N−3−クロロフェニルアミノ基、N−3−ニトロフェニルアミノ基、N−3−シアノフェニルアミノ基、N−3−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、N−4−メトキシフェニルアミノ基、N−4−シアノフェニルアミノ基、N−4−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、N−4−メチルスルファニルフェニルアミノ基、N−4−フェニルスルファニルフェニルアミノ基、N−4−ジメチルアミノフェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N、N−ジメチルアミノ基、N、N−ジエチルアミノ基、N、N−ジブチルアミノ基、N、N−ジフェニルアミノ基、N、N−ジアセチルアミノ基、N、N−ジベンゾイルアミノ基、N、N−(ジブチルカルボニル)アミノ基、N、N−(ジメチルスルホニル)アミノ基、N、N−(ジエチルスルホニル)アミノ基、N、N−(ジブチルスルホニル)アミノ基、N、N−(ジフェニルスルホニル)アミノ基、モルホリノ基、3,5−ジメチルモルホリノ基、カルバゾール基等が挙げられる。   The amino group which may have a substituent is preferably an amino group having 0 to 50 carbon atoms in total, for example, —NH 2, N-alkylamino group, N-arylamino group, N-acylamino group, N— Examples include sulfonylamino group, N, N-dialkylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, N, N-disulfonylamino group and the like. More specifically, N-methylamino group, N-ethylamino group, N-propylamino group, N-isopropylamino group, N-butylamino group, N-tert-butylamino group, N-hexylamino group, N-cyclohexylamino group, N-octylamino group, N-2-ethylhexylamino group, N-decylamino group, N-octadecylamino group, N-benzylamino group, N-phenylamino group, N-2-methylphenylamino Group, N-2-chlorophenylamino group, N-2-methoxyphenylamino group, N-2-isopropoxyphenylamino group, N-2- (2-ethylhexyl) phenylamino group, N-3-chlorophenylamino group, N-3-nitrophenylamino group, N-3-cyanophenylamino group, N-3-trifluoromethylphenyla Group, N-4-methoxyphenylamino group, N-4-cyanophenylamino group, N-4-trifluoromethylphenylamino group, N-4-methylsulfanylphenylamino group, N-4-phenylsulfanylphenylamino Group, N-4-dimethylaminophenylamino group, N-methyl-N-phenylamino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, N, N-dibutylamino group, N, N-diphenyl Amino group, N, N-diacetylamino group, N, N-dibenzoylamino group, N, N- (dibutylcarbonyl) amino group, N, N- (dimethylsulfonyl) amino group, N, N- (diethylsulfonyl) Amino group, N, N- (dibutylsulfonyl) amino group, N, N- (diphenylsulfonyl) amino group, morpholino group, 3, - dimethyl morpholino group, and a carbazolyl group.

置換基を有してもよいホスフィノイル基としては、総炭素数2以上50以下のホスフィノイル基が好ましく、例えば、ジメチルホスフィノイル基、ジエチルホスフィノイル基、ジプロピルホスフィノイル基、ジフェニルホスフィノイル基、ジメトキシホスフィノイル基、ジエトキシホスフィノイル基、ジベンゾイルホスフィノイル基、ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィノイル基等が挙げられる。   The phosphinoyl group which may have a substituent is preferably a phosphinoyl group having 2 to 50 carbon atoms in total, for example, dimethylphosphinoyl group, diethylphosphinoyl group, dipropylphosphinoyl group, diphenylphosphino group. Yl group, dimethoxyphosphinoyl group, diethoxyphosphinoyl group, dibenzoylphosphinoyl group, bis (2,4,6-trimethylphenyl) phosphinoyl group and the like.

置換基を有してもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、芳香族或いは脂肪族の複素環が好ましい。例えば、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基等がある。   The heterocyclic group that may have a substituent is preferably an aromatic or aliphatic heterocyclic ring containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. For example, thienyl group, benzo [b] thienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, thiantenyl group, furyl group, pyranyl group, isobenzofuranyl group, chromenyl group, xanthenyl group, phenoxathinyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, indolizinyl group, isoindolyl group, 3H-indolyl group, indolyl group, 1H-indazolyl group, purinyl group, 4H- Quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxanilyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, 4aH-carbazolyl group, carbazolyl group, β-carbolinyl group, phenanthridinyl group, acridinyl group, perimidinyl group Nyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenalsadinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, phenoxazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, pyrrolinyl group, imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group Group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, morpholinyl group, thioxanthryl group and the like.

ハロゲン基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等がある。   Examples of the halogen group include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

更に、前述した置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオキシ基、置換基を有してもよいアリールチオキシ基、置換基を有してもよいアシルオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルファニル基、置換基を有してもよいアリールスルファニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいカルバモイル基、置換基を有してもよいスルファモイル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよい複素環基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。   Furthermore, the alkyl group which may have a substituent mentioned above, the aryl group which may have a substituent, the alkenyl group which may have a substituent, the alkynyl group which may have a substituent, a substituent An alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylthioxy group that may have a substituent, an arylthioxy group that may have a substituent, and a substituent. An acyloxy group which may have a substituent, an alkylsulfanyl group which may have a substituent, an arylsulfanyl group which may have a substituent, an alkylsulfinyl group which may have a substituent, and a substituent. Good arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group which may have a substituent, arylsulfonyl group which may have a substituent, acyl group which may have a substituent, alkoxycarbonyl which may have a substituent Base The carbamoyl group which may have a substituent, the sulfamoyl group which may have a substituent, the amino group which may have a substituent, and the heterocyclic group which may have a substituent may be further substituted. It may be substituted with a group.

そのような置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、tert−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、p−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、p−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、p−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。   Examples of such a substituent include halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group, phenoxy group and p-tolyloxy group. Aryloxy group, alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, acyloxy group such as acetoxy group, propionyloxy group, benzoyloxy group, acetyl group, benzoyl group, isobutyryl group, acryloyl group, methacryloyl group , Acyl group such as methoxalyl group, alkylsulfanyl group such as methylsulfanyl group, tert-butylsulfanyl group, arylsulfanyl group such as phenylsulfanyl group, p-tolylsulfanyl group, methylamino group, cyclohexyl Alkylamino group such as mino group, dimethylamino group, diethylamino group, morpholino group, dialkylamino group such as piperidino group, arylamino group such as phenylamino group, p-tolylamino group, methyl group, ethyl group, tert-butyl group In addition to alkyl groups such as dodecyl group, phenyl groups, p-tolyl groups, xylyl groups, cumenyl groups, naphthyl groups, anthryl groups, phenanthryl groups, etc., hydroxy groups, carboxy groups, formyl groups, mercapto groups, Sulfo group, mesyl group, p-toluenesulfonyl group, amino group, nitro group, cyano group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, trimethylsilyl group, phosphinico group, phosphono group, trimethylammonium group, dimethylsulfonyl group, Triphenylphenacylphosphoniumyl group And the like.

これらの中でも、Xとしては、溶剤溶解性と長波長領域の吸収効率向上の点から、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオキシ基、置換基を有してもよいアリールチオキシ基、置換基を有してもよいアミノ基が好ましい。
また、式(IV)におけるu3は0〜5の整数を表すが、0〜2の整数が好ましい。
Among these, X 3 has an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and a substituent from the viewpoint of solvent solubility and improvement in absorption efficiency in the long wavelength region. An alkenyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylthio which may have a substituent A xyl group, an arylthioxy group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent are preferable.
Moreover, u3 in Formula (IV) represents an integer of 0 to 5, and an integer of 0 to 2 is preferable.

以下、式(IV)で表されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the oxime compound represented by the formula (IV) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

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式(IV)で表されるオキシム化合物は、光により分解し、光重合性化合物の重合を開始、促進する光重合開始剤としての機能を有する。特に、該オキシム化合物は365nmや405nmの光源に優れた感度を有する。   The oxime compound represented by the formula (IV) has a function as a photopolymerization initiator that is decomposed by light and initiates and accelerates polymerization of the photopolymerizable compound. In particular, the oxime compound has excellent sensitivity to a light source of 365 nm or 405 nm.

オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の各明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の各公報に記載のヨードニウム塩などが挙げられる。   Examples of onium salt compounds include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in U.S. Pat. No. 4,069,055, ammonium salts described in JP-A-4-365049, U.S. Pat. No. 4,069, No. 055, No. 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104 and 143, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,201, JP Examples include iodonium salts described in JP-A No. -150848 and JP-A-2-296514.

本発明に好適に用いることのできるヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウム塩であり、安定性の観点から、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基等の電子供与性基で2つ以上置換されていることが好ましい。また、その他の好ましいスルホニウム塩の形態として、トリアリールスルホニウム塩の1つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、300nm以上に吸収を有するヨードニウム塩などが好ましい。   The iodonium salt that can be suitably used in the present invention is a diaryl iodonium salt, and from the viewpoint of stability, it may be substituted with two or more electron donating groups such as an alkyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. preferable. In addition, as another preferable form of the sulfonium salt, an iodonium salt in which one substituent of the triarylsulfonium salt has a coumarin or an anthraquinone structure and absorption at 300 nm or more is preferable.

本発明に好適に用いることのできるスルホニウム塩としては、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩が挙げられ、安定性の感度点から好ましくは電子吸引性基で置換されていることが好ましい。電子吸引性基としては、ハメット値が0より大きいことが好ましい。好ましい電子吸引性基としては、ハロゲン原子、カルボン酸などが挙げられる。
また、その他の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩の1つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、300nm以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。別の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩が、アリールオキシ基、アリールチオ基を置換基に有する300nm以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。
Examples of the sulfonium salt that can be suitably used in the present invention include European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, 297,442, and U.S. Pat. 933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, Germany Examples thereof include sulfonium salts described in the specifications of Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, and 3,604,581, and are preferably electron withdrawing groups from the viewpoint of stability. It is preferably substituted. The electron withdrawing group preferably has a Hammett value greater than zero. Preferred electron-withdrawing groups include halogen atoms and carboxylic acids.
Other preferable sulfonium salts include sulfonium salts in which one substituent of the triarylsulfonium salt has a coumarin or anthraquinone structure and absorbs at 300 nm or more. As another preferable sulfonium salt, a sulfonium salt having a triarylsulfonium salt having an aryloxy group or an arylthio group as a substituent and having absorption at 300 nm or more can be mentioned.

また、オニウム塩化合物としては、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello
et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。
Moreover, as an onium salt compound, J.M. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello
et al, J. et al. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt, C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

アシルホスフィン(オキシド)化合物としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア819、ダロキュア4265、ダロキュアTPOなどが挙げられる。   Examples of the acylphosphine (oxide) compound include Irgacure 819, Darocur 4265, Darocur TPO and the like manufactured by Ciba Specialty Chemicals.

本発明の重合性組成物に用いられる(D)重合開始剤としては、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン系化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、メタロセン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム系化合物、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物およびその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体およびその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、3−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。   As the polymerization initiator (D) used in the polymerizable composition of the present invention, from the viewpoint of exposure sensitivity, a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethyl ketal compound, an α-hydroxyketone compound, an α-aminoketone compound, and an acylphosphine compound are used. Compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof And a compound selected from the group consisting of a halomethyloxadiazole compound and a 3-aryl-substituted coumarin compound.

さらに好ましくは、トリハロメチルトリアジン系化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物であり、トリハロメチルトリアジン系化合物、α−アミノケトン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が最も好ましい。   More preferred are trihalomethyltriazine compounds, α-aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, onium compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, and trihalo compounds. Most preferred is at least one compound selected from the group consisting of a methyltriazine compound, an α-aminoketone compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, and a benzophenone compound.

特に、本発明の重合性組成物を固体撮像素子のカラーフィルタの作製に使用する場合には、微細な画素をシャープな形状で形成する必要があるために、硬化性とともに未露光部に残渣がなく現像されることが重要である。このような観点からは、オキシム系化合物の重合開始剤が特に好ましい。特に、固体撮像素子において微細な画素を形成する場合、硬化用露光にステッパー露光を用いるが、この露光機はハロゲンにより損傷される場合があり、重合開始剤の添加量も低く抑える必要があるため、これらの点を考慮すれば、固体撮像素子の如き微細着色パターンを形成するには(D)重合開始剤としては、オキシム系重合開始剤を用いるのが最も好ましい。特にオキシム系重合開始剤としては前述の式(IV)で表される化合物が好ましい。   In particular, when the polymerizable composition of the present invention is used for the production of a color filter of a solid-state imaging device, it is necessary to form fine pixels with a sharp shape, and therefore, a residue is left in the unexposed area along with curability. It is important that it is developed without any problems. From such a viewpoint, a polymerization initiator of an oxime compound is particularly preferable. In particular, when fine pixels are formed in a solid-state imaging device, stepper exposure is used for curing exposure, but this exposure machine may be damaged by halogen, and it is necessary to keep the addition amount of a polymerization initiator low. Considering these points, it is most preferable to use an oxime polymerization initiator as the polymerization initiator (D) in order to form a finely colored pattern such as a solid-state imaging device. In particular, as the oxime polymerization initiator, the compound represented by the above formula (IV) is preferable.

本発明の重合性組成物に含有される(D)重合開始剤の含有量は、重合性組成物の全固形分に対し0.1質量%以上50質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5質量%以上30質量%以下、更に好ましくは1質量%以上20質量%以下である。この範囲で、良好な感度とパターン形成性が得られる。   The content of the polymerization initiator (D) contained in the polymerizable composition of the present invention is preferably 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably based on the total solid content of the polymerizable composition. Is 0.5 mass% or more and 30 mass% or less, More preferably, it is 1 mass% or more and 20 mass% or less. Within this range, good sensitivity and pattern formability can be obtained.

本発明の重合性組成物の全固形分中に対する遮光顔料の含有量は、必要な遮光性の発現、現像性の付与等の観点から、0.1〜60質量%の範囲が好ましく、5〜50質量%の範囲がより好ましい。   The content of the light-shielding pigment with respect to the total solid content of the polymerizable composition of the present invention is preferably in the range of 0.1 to 60% by mass from the viewpoint of necessary light-shielding expression, imparting developability, and the like. A range of 50% by mass is more preferred.

<(E)重合性化合物>
本発明の重合性組成物は、(E)重合性化合物を含むことによって、さらに高感度化が可能であり、(E)重合性化合物を重合性組成物に含有することが好ましい。
(E)重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。
<(E) Polymerizable compound>
The polymerizable composition of the present invention can be further enhanced in sensitivity by including (E) a polymerizable compound, and it is preferable that (E) the polymerizable compound is contained in the polymerizable composition.
(E) The polymerizable compound is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. Such compounds are widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention.

これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。   These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号公報、特開昭57−196231号公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号公報、特開昭59−5241号公報、特開平2−226149号公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, and JP-A-59-5241. And those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(V)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (V) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Etc.

Figure 2010138251

式(V)中、R、及びRは、それぞれ、H又はCHを示す。
Figure 2010138251

In formula (V), R 7 and R 8 each represent H or CH 3 .

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56- Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent No. 17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418 are also suitable. Furthermore, by using polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238. Can obtain a polymerizable composition having a very high photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号公報、特公平1−40337号公報、特公平1−40336号公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Also, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, the Japan Adhesion Association magazine vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、重合性組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、重合性組成物に含有される他の成分(例えば、重合開始剤、遮光顔料等の遮光材(顔料、染料)等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板などの硬質表面との密着性を向上させる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these polymeric compounds, the details of usage methods, such as the structure, single use, combined use, and addition amount, can be arbitrarily set according to the final performance design of polymeric composition. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether compound). A method of adjusting both sensitivity and intensity by using a combination of these materials is also effective.
In addition, selection of a polymerizable compound is also required for compatibility and dispersibility with other components contained in the polymerizable composition (for example, a polymerization initiator, a light shielding material such as a light shielding pigment (pigment, dye), etc.). The usage method is an important factor, and for example, compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a hard surface such as a substrate.

重合性組成物の全固形分中、(E)重合性化合物の含有量は、5質量%〜90質量%の範囲であることが好ましく、10質量%〜85質量の範囲であることがより好ましく、20質量%〜80質量の範囲であることが更に好ましい。
この範囲内であると、色相を薄めることなく、密着感度及び現像性が共に良好で好ましい。
In the total solid content of the polymerizable composition, the content of the polymerizable compound (E) is preferably in the range of 5% by mass to 90% by mass, and more preferably in the range of 10% by mass to 85% by mass. More preferably, it is in the range of 20% by mass to 80% by mass.
Within this range, both adhesion sensitivity and developability are favorable and preferable without diminishing the hue.

本発明の重合性組成物は、更に、必要に応じて、以下に詳述する任意成分を更に含有してもよい。以下、重合性組成物が含有しうる任意成分について説明する。
[増感剤]
本発明の重合性組成物は、ラジカル開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。
本発明に用いることができる増感剤としては、前記した(D)重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
The polymerizable composition of the present invention may further contain optional components described in detail below, if necessary. Hereinafter, optional components that the polymerizable composition may contain will be described.
[Sensitizer]
The polymerizable composition of the present invention may contain a sensitizer for the purpose of improving the radical generation efficiency of the radical initiator and increasing the photosensitive wavelength.
The sensitizer that can be used in the present invention is preferably a sensitizer that is sensitized by the electron transfer mechanism or the energy transfer mechanism with respect to the above-described (D) polymerization initiator.

増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ、300nm〜450nmの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
即ち、例えば、多核芳香族類(例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、9,10−ジアルコキシアントラセン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、チオキサントン類(イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、フタロシアニン類、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)、アクリジンオレンジ、クマリン類(例えば、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン)、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、N−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。
Examples of the sensitizer include those belonging to the compounds listed below and having an absorption wavelength in a wavelength region of 300 nm to 450 nm.
That is, for example, polynuclear aromatics (for example, phenanthrene, anthracene, pyrene, perylene, triphenylene, 9,10-dialkoxyanthracene), xanthenes (for example, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), Thioxanthones (isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, chlorothioxanthone), cyanines (eg thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg merocyanine, carbomerocyanine), phthalocyanines, thiazines (eg thionine, methylene blue, Toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), anthraquinones (eg, anthraquinone), squaryu (Eg, squalium), acridine orange, coumarins (eg, 7-diethylamino-4-methylcoumarin), ketocoumarins, phenothiazines, phenazines, styrylbenzenes, azo compounds, diphenylmethane, triphenylmethane, distyrylbenzenes Carbazoles, porphyrins, spiro compounds, quinacridone, indigo, styryl, pyrylium compounds, pyromethene compounds, pyrazolotriazole compounds, benzothiazole compounds, barbituric acid derivatives, thiobarbituric acid derivatives, acetophenone, benzophenone, thioxanthone, Michler's ketone, etc. Examples include aromatic ketone compounds and heterocyclic compounds such as N-aryloxazolidinones.

本発明に用いうる増感剤として、より好ましい例としては、下記一般式(e−1)〜(e−4)で表される化合物が挙げられる。   More preferred examples of the sensitizer that can be used in the present invention include compounds represented by the following general formulas (e-1) to (e-4).

Figure 2010138251
Figure 2010138251

式(e−1)中、Aは硫黄原子又はNR50を表し、R50はアルキル基又はアリール基を表し、Lは隣接するA及び隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R51およびR52はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、R51およびR52は互いに結合して、色素の酸性核を形成してもよい。Wは酸素原子又は硫黄原子を表す。 In formula (e-1), A 1 represents a sulfur atom or NR 50 , R 50 represents an alkyl group or an aryl group, and L 1 represents a basic nucleus of the dye in combination with adjacent A 1 and an adjacent carbon atom. R 51 and R 52 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, and R 51 and R 52 are bonded to each other to form an acidic nucleus of the dye. May be. W represents an oxygen atom or a sulfur atom.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

式(e−2)中、Ar及びArはそれぞれ独立に、アリール基を表し、−L−による結合を介して連結している。ここで−L−は−O−又は−S−を表す。また、Wは式(e−1)に示したものと同義である。 In formula (e-2), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group and are linked via a bond with —L 2 —. Here -L 2 - represents -O- or -S-. Moreover, W is synonymous with what was shown to Formula (e-1).

Figure 2010138251
Figure 2010138251

式(e−3)中、Aは硫黄原子又はNR59を表し、Lは隣接するA及び炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R53、R54、R55、R56、R57及びR58はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団の基を表し、R59はアルキル基又はアリール基を表す。 In the formula (e-3), A 2 represents a sulfur atom or NR 59 , L 3 represents a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus of the dye together with the adjacent A 2 and carbon atom, and R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 each independently represents a group of a monovalent nonmetallic atomic group, and R 59 represents an alkyl group or an aryl group.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

式(e−4)中、AおよびAはそれぞれ独立に、−S−又は−NR62を表し、R62は置換若しくは非置換のアルキル基、または、置換若しくは非置換のアリール基を表し、LおよびLはそれぞれ独立に、隣接するA、A及び隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R60およびR61はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、又は互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成することができる。 In formula (e-4), A 3 and A 4 each independently represent —S— or —NR 62 , and R 62 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. , L 4 and L 5 each independently represent a nonmetallic atomic group which forms a basic nucleus of a dye in cooperation with adjacent A 3 , A 4 and adjacent carbon atoms, and R 60 and R 61 each independently Represents a monovalent non-metallic atomic group, or can be bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring.

重合性組成物中における増感剤の含有量は、深部への光吸収効率と開始分解効率の観点から、固形分換算で、0.1質量%以上20質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上15質量%以下がより好ましい。
増感剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
The content of the sensitizer in the polymerizable composition is preferably 0.1% by mass or more and 20% by mass or less in terms of solid content from the viewpoint of light absorption efficiency to the deep part and initiation decomposition efficiency. It is more preferably 5% by mass or more and 15% by mass or less.
A sensitizer may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

また、重合性組成物に含有しうる好ましい増感剤としては、上記増感剤の他、下記一般式(II)で表される化合物、及び、一般式(III)で表される化合物から選択される少な
くとも一種が挙げられる。
これらは一種単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
Further, as a preferable sensitizer that can be contained in the polymerizable composition, in addition to the sensitizer, a compound represented by the following general formula (II) and a compound represented by the general formula (III) are selected. At least one kind.
These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

一般式(II)中、R11及びR12は、各々独立に一価の置換基を表し、R13、R14、R15及びR16は、各々独立に水素原子又は一価の置換基を表す。u1は0〜5の整数を表し、u2は0〜5の整数を表し、u1及びu2が両方とも0となることはない。u1が2以上である場合、複数存在するR11はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。u2が2以上である場合、複数存在するR12はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。なお、一般式(II)において二重結合による異性体については、どちらかに限定されるものではない In general formula (II), R 11 and R 12 each independently represents a monovalent substituent, and R 13 , R 14 , R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. To express. u1 represents an integer of 0 to 5, u2 represents an integer of 0 to 5, and u1 and u2 are not both 0. When u1 is 2 or more, a plurality of R 11 may be the same or different. When u2 is 2 or more, a plurality of R 12 may be the same or different. In the general formula (II), the isomer by the double bond is not limited to either.

一般式(II)で表される化合物としては、波長365nmにおけるモル吸光係数εが500mol−1・L・cm−1以上であることが好ましく、波長365nmにおけるεが3000mol−1・L・cm−1以上であることがより好ましく、波長365nmにおけるεが20000mol−1・L・cm−1以上であることが最も好ましい。各波長でのモル吸光係数εの値が上記範囲であると、光吸収効率の観点から感度向上効果が高く好ましい。 The compound represented by the general formula (II) preferably has a molar extinction coefficient ε at a wavelength of 365 nm of 500 mol −1 · L · cm −1 or more, and ε at a wavelength of 365 nm of 3000 mol −1 · L · cm −. 1 or more is more preferable, and ε at a wavelength of 365 nm is most preferably 20000 mol −1 · L · cm −1 or more. It is preferable that the value of the molar extinction coefficient ε at each wavelength is in the above range because the sensitivity improvement effect is high from the viewpoint of light absorption efficiency.

一般式(II)で表される化合物の好ましい具体例を以下に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、本明細書においては、化学式は簡略構造式により記載することもあり、特に元素や置換基の明示がない実線等は、炭化水素基を表す。
Although the preferable specific example of a compound represented by general formula (II) is illustrated below, this invention is not limited to these.
Note that in this specification, a chemical formula may be described by a simplified structural formula, and a solid line or the like that does not clearly indicate an element or a substituent particularly represents a hydrocarbon group.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

Figure 2010138251
Figure 2010138251

一般式(III)中、Aは置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、Xは酸素原子、硫黄原子、又は−N(R23)−を表し、Yは酸素原子、硫黄原子、又は−N(R23)−を表す。R21、R22、及びR23は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、A、R21、R22、及びR23は、それぞれ互いに結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよい。 In the general formula (III), A 5 represents an aromatic ring or a hetero ring which may have a substituent, X 4 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 23 ) —, and Y represents oxygen atom, a sulfur atom, or -N (R 23) - represents a. R 21 , R 22 , and R 23 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, and A 5 , R 21 , R 22 , and R 23 are bonded to each other to form an aliphatic group Or aromatic rings may be formed.

一般式(III)において、R21、R22、及びR23は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表す。R21、R22、及びR23が一価の非金属原子を表す場合、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のアルケニル基、置換若しくは非置換の芳香族複素環残基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、置換若しくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、または、ハロゲン原子であることが好ましい。 In the general formula (III), R 21 , R 22 , and R 23 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group. When R 21 , R 22 , and R 23 represent a monovalent nonmetallic atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted fragrance It is preferably a group heterocyclic residue, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxy group, or a halogen atom.

一般式(III)で表される化合物は、重合開始剤の分解効率向上の観点から、Yは酸素原子、又は−N(R23)−が好ましい。R23は、水素原子又は一価の非金属原子団を表す。更に、Yは−N(R23)−であることが最も好ましい。 In the compound represented by the general formula (III), Y is preferably an oxygen atom or —N (R 23 ) — from the viewpoint of improving the decomposition efficiency of the polymerization initiator. R 23 represents a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group. Further, Y is most preferably —N (R 23 ) —.

以下、一般式(III)で表される化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。また、酸性核と塩基性核を結ぶ2重結合による異性体については明らかでなく、本発明はどちらかの異性体に限定されるものでもない。   Hereinafter, although the preferable specific example of a compound represented by general formula (III) is shown, this invention is not limited to this. Further, it is not clear about an isomer by a double bond connecting an acidic nucleus and a basic nucleus, and the present invention is not limited to either isomer.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

[共増感剤]
本発明の重合性組成物は、更に共増感剤を含有することも好ましい。
本発明において共増感剤は、(D)重合開始剤や増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、或いは、酸素による重合阻害を抑制する等の作用を有する。
[Co-sensitizer]
The polymerizable composition of the present invention preferably further contains a co-sensitizer.
In the present invention, the co-sensitizer has an action such as (D) further improving the sensitivity of the polymerization initiator or sensitizer to actinic radiation or suppressing polymerization inhibition due to oxygen.

このような共増感剤の例としては、アミン類、例えば、M.R.Sanderら著「Journal of Polymer Society」第10巻3173頁(1972)、特公昭44−20189号公報、特開昭51−82102号公報、特開昭52−134692号公報、特開昭59−138205号公報、特開昭60−84305号公報、特開昭62−18537号公報、特開昭64−33104号公報、Research Disclosure 33825号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。   Examples of such cosensitizers include amines such as M.I. R. Sander et al., “Journal of Polymer Society”, Vol. 10, 3173 (1972), Japanese Patent Publication No. 44-20189, Japanese Patent Publication No. 51-82102, Japanese Patent Publication No. 52-134692, Japanese Patent Publication No. 59-138205. No. 60-84305, JP-A 62-18537, JP-A 64-33104, Research Disclosure 33825, and the like. Specific examples include triethanolamine. P-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-formyldimethylaniline, p-methylthiodimethylaniline and the like.

共増感剤の別の例としては、チオール及びスルフィド類、例えば、特開昭53−702号公報、特公昭55−500806号公報、特開平5−142772号公報記載のチオール化合物、特開昭56−75643号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等が挙げられる。   Other examples of co-sensitizers include thiols and sulfides such as thiol compounds described in JP-A-53-702, JP-B-55-500806, JP-A-5-142772, No. 56-75643, such as 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline, β-mercapto. And naphthalene.

また、共増感剤の別の例としては、アミノ酸化合物(例、N−フェニルグリシン等)、特公昭48−42965号公報記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテート等)、特公昭55−34414号公報記載の水素供与体、特開平6−308727号公報記載のイオウ化合物(例、トリチアン等)等が挙げられる。   Other examples of the co-sensitizer include amino acid compounds (eg, N-phenylglycine), organometallic compounds described in JP-B-48-42965 (eg, tributyltin acetate), JP-B 55- Examples include a hydrogen donor described in Japanese Patent No. 34414, a sulfur compound (eg, trithiane) described in Japanese Patent Laid-Open No. 6-308727, and the like.

これら共増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、重合性組成物の全固形分の質量に対し、0.1質量%以上30質量%以下の範囲が好ましく、1質量%以上25質量%以下の範囲がより好ましく、0.5質量%以上20質量%以下の範囲が更に好ましい。   The content of these co-sensitizers is 0.1% by mass or more and 30% by mass or less with respect to the mass of the total solid content of the polymerizable composition from the viewpoint of improving the curing rate due to the balance between polymerization growth rate and chain transfer. The range of 1 mass% or more and 25 mass% or less is more preferable, and the range of 0.5 mass% or more and 20 mass% or less is still more preferable.

[重合禁止剤]
本発明においては、分散組成物、および重合性組成物の製造中あるいは保存中において、(B)特定分散剤および(E)重合性化合物の不要な重合を阻止するために、重合禁止剤を添加することが好ましい。
本発明に用いうる重合禁止剤としては、フェノール系水酸基含有化合物、N−オキシド化合物類、ピペリジン1−オキシルフリーラジカル化合物類、ピロリジン1−オキシルフリーラジカル化合物類、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類、ジアゾニウム化合物類、及びカチオン染料類、スルフィド基含有化合物類、ニトロ基含有化合物類、FeCl3、CuCl2等の遷移金属化合物類が挙げられる。
[Polymerization inhibitor]
In the present invention, during the production or storage of the dispersion composition and the polymerizable composition, a polymerization inhibitor is added to prevent unnecessary polymerization of (B) the specific dispersant and (E) the polymerizable compound. It is preferable to do.
Examples of the polymerization inhibitor that can be used in the present invention include phenolic hydroxyl group-containing compounds, N-oxide compounds, piperidine 1-oxyl free radical compounds, pyrrolidine 1-oxyl free radical compounds, N-nitrosophenylhydroxylamines, diazonium. Examples include compounds, and transition dye compounds such as cationic dyes, sulfide group-containing compounds, nitro group-containing compounds, FeCl 3 and CuCl 2.

重合禁止剤の具体例としては、好ましくは、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)のフェノール系水酸基含有化合物、ピペリジン1−オキシルフリーラジカル化合物類若しくは、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−アセトアミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−マレイミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、及び4−ホスホノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカルのピペリジン1−オキシルフリーラジカル化合物、若しくはN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン化合物であり、より好ましくは、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−アセトアミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、4−マレイミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカル、及び4−ホスホノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシルフリーラジカルのピペリジン1−オキシルフリーラジカル化合物、若しくはN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン化合物であり、更に好ましくは、−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン化合物である。   Specific examples of the polymerization inhibitor are preferably hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4-thiobis (3-methyl-6- t-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) phenolic hydroxyl group-containing compounds, piperidine 1-oxyl free radical compounds, or 2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-oxo-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4- Acetamide-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-maleimide-2, , 6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, and piperidine 1-oxyl free radical compound of 4-phosphonoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, or N-nitrosophenyl hydroxyl N-nitrosophenylhydroxylamine compounds of amine cerium salt and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt, more preferably 2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-oxo- 2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-acetamido-2,2,6,6- Tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, Piperidine 1-oxyl free radical compound of 4-maleimido-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical and 4-phosphonoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical Or N-nitrosophenylhydroxylamine primary cerium salt and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt, more preferably -nitrosophenylhydroxylamine primary cerium salt and N-nitrosophenyl N-nitrosophenylhydroxylamine compound of hydroxylamine aluminum salt.

重合禁止剤の好ましい添加量としては、(D)重合開始剤100質量部に対して、0.01質量部以上10質量部以下であることが好ましく、さらに0.01質量部以上8質量部以下であることが好ましく、0.05質量部以上5質量部以下の範囲にあることが最も好ましい。
上記範囲とすることで、非画像部における硬化反応抑制および画像部における硬化反応促進が充分おこなわれ、画像形成性および感度が良好となる。
A preferable addition amount of the polymerization inhibitor is preferably 0.01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and more preferably 0.01 parts by mass or more and 8 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymerization initiator (D). It is preferable that it is in the range of 0.05 parts by mass or more and 5 parts by mass or less.
By setting it as the above range, the curing reaction in the non-image area is sufficiently suppressed and the curing reaction in the image area is sufficiently promoted, and the image formability and sensitivity are improved.

[バインダーポリマー]
重合性組成物においては、皮膜特性向上などの目的で、必要に応じて、更にバインダーポリマーを使用することができる。バインダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような線状有機ポリマーとしては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とするために、水或いは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或いは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭59−44615号公報、特公昭54−34327号公報、特公昭58−12577号公報、特公昭54−25957号公報、特開昭54−92723号公報公報、特開昭59−53836号公報、特開昭59−71048号公報に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独或いは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独或いは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解若しくはハーフエステル化若しくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、4−カルボキシルスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。
また、同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
[Binder polymer]
In the polymerizable composition, a binder polymer can be further used as necessary for the purpose of improving the film properties. It is preferable to use a linear organic polymer as the binder. As such a linear organic polymer, a well-known thing can be used arbitrarily. Preferably, a linear organic polymer that is soluble or swellable in water or weak alkaline water is selected in order to enable water development or weak alkaline water development. The linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent but also according to the use as water, weak alkaline water or an organic solvent developer. For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic polymer include radical polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, and JP-B-sho. 54-25957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, JP-A-59-71048, ie, a monomer having a carboxyl group alone or Resin copolymerized, acid anhydride monomer alone or copolymerized, acid anhydride unit hydrolyzed, half esterified or half amidated, epoxy resin unsaturated monocarboxylic acid and acid anhydride Examples include modified epoxy acrylate. Examples of the monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, 4-carboxylstyrene, and the monomer having an acid anhydride includes maleic anhydride. It is done.
Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group are useful.

本発明において、バインダーポリマーとして、共重合体を用いる場合、共重合させる化合物として、先にあげたモノマー以外の他のモノマーを用いることもできる。他のモノマーの例としては、下記(1)〜(12)の化合物が挙げられる。   In the present invention, when a copolymer is used as the binder polymer, a monomer other than the monomers listed above can also be used as the compound to be copolymerized. Examples of other monomers include the following compounds (1) to (12).

(1)2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、2−フェニルビニルアクリレート、1−プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、2−アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート。
(1) 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as
(2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, acrylic acid-2- Alkyl acrylates such as chloroethyl, glycidyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, vinyl acrylate, 2-phenylvinyl acrylate, 1-propenyl acrylate, allyl acrylate, 2-allyloxyethyl acrylate, propargyl acrylate;

(3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、2−フェニルビニルメタクリレート、1−プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、2−アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
(4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド、N,N−ジアリルアクリルアミド、N,N−ジアリルメタクリルアミド、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid-2- Alkyl methacrylates such as chloroethyl, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, vinyl methacrylate, 2-phenylvinyl methacrylate, 1-propenyl methacrylate, allyl methacrylate, 2-allyloxyethyl methacrylate, and propargyl methacrylate.
(4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide, vinylacrylamide, vinylmethacrylamide, N, N-diallylacrylamide, N, N-diallylmethacrylamide, allylacrylamide, allylmethacrylamide.

(5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン、p−アセトキシスチレン等のスチレン類。
(8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, and p-acetoxystyrene.
(8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene.

(10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(12)α位にヘテロ原子が結合したメタクリル酸系モノマー。例えば、特願2001−115595号明細書、特願2001−115598号明細書等に記載されている化合物を挙げる事ができる。
(10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(12) A methacrylic acid monomer having a hetero atom bonded to the α-position. For example, compounds described in Japanese Patent Application No. 2001-115595, Japanese Patent Application No. 2001-115598, and the like can be mentioned.

これらの中で、側鎖にアリル基やビニルエステル基とカルボキシル基を有する(メタ)アクリル樹脂及び特開2000−187322号公報、特開2002−62698号公報に記載されている側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂や、特開2001−242612号公報に記載されている側鎖にアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。   Among these, a (meth) acrylic resin having an allyl group, a vinyl ester group, and a carboxyl group in the side chain and a side chain described in JP-A Nos. 2000-187322 and 2002-62698 are doubled. An alkali-soluble resin having a bond and an alkali-soluble resin having an amide group in the side chain described in JP-A No. 2001-242612 are preferable because of excellent balance of film strength, sensitivity, and developability.

また、特公平7−12004号公報、特公平7−120041号公報、特公平7−120042号公報、特公平8−12424号公報、特開昭63−287944号公報、特開昭63−287947号公報、特開平1−271741号公報、特願平10−116232号公報等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーや、特開2002−107918号公報に記載される酸基と二重結合を側鎖に有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、欧州特許993966、欧州特許1204000、特開2001−318463号公報等に記載の酸基を有するアセタール変性ポリビニルアルコール系バインダーポリマーは、膜強度、現像性のバランスに優れており、好適である。
更にこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
Also, Japanese Patent Publication No. 7-12004, Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Publication No. 63-287944, Japanese Patent Publication No. 63-287947. Urethane-based binder polymers containing acid groups described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-271741, Japanese Patent Application No. 10-116232, and acid groups and double compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107918. A urethane-based binder polymer having a bond in the side chain is very excellent in strength, and is advantageous in terms of printing durability and suitability for low exposure.
In addition, an acetal-modified polyvinyl alcohol-based binder polymer having an acid group described in European Patent 993966, European Patent 1204000, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-318463, and the like is preferable because of its excellent balance of film strength and developability.
In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.

本発明の重合性組成物で使用しうるバインダーポリマーの重量平均分子量としては、好ましくは5、000以上であり、更に好ましくは1万以上30万以下の範囲であり、数平均分子量については好ましくは1、000以上であり、更に好ましくは2、000以上25万以下の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、更に好ましくは1.1以上10以下の範囲である。
これらのバインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。
The weight average molecular weight of the binder polymer that can be used in the polymerizable composition of the present invention is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably It is 1,000 or more, More preferably, it is the range of 2,000 or more and 250,000 or less. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably 1.1 or more and 10 or less.
These binder polymers may be any of random polymers, block polymers, graft polymers and the like.

本発明で用いうるバインダーポリマーは、従来公知の方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。
本発明の重合性組成物において用いうるバインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が挙げられる。
The binder polymer that can be used in the present invention can be synthesized by a conventionally known method. Solvents used in the synthesis include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These solvents are used alone or in combination of two or more.
Examples of the radical polymerization initiator used when synthesizing the binder polymer that can be used in the polymerizable composition of the present invention include known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator.

重合性組成物の全固形分中、バインダーポリマーの含有量は、1質量%以上40質量%以下であることが好ましく、3質量%以上30質量%以下であることがより好ましく、4質量%以上20質量%以下であることが更に好ましい。   In the total solid content of the polymerizable composition, the content of the binder polymer is preferably 1% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 30% by mass or less, and more preferably 4% by mass or more. More preferably, it is 20 mass% or less.

[密着向上剤]
本発明の重合性組成物においては、基板などの硬質表面との密着性を向上させるために、密着向上剤を添加することができる。密着向上剤としては、シラン系カップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。
[Adhesion improver]
In the polymerizable composition of the present invention, an adhesion improver can be added in order to improve adhesion with a hard surface such as a substrate. Examples of the adhesion improver include a silane coupling agent and a titanium coupling agent.

シラン系カップリング剤としては、例えば、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、アミノシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビスアリルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、フェニルトリメトキシシラン、N−(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、(メタクリロキシメチル)メチルジエトキシシラン、(アクリロキシメチル)メチルジメトキシシラン、等が挙げられる。   Examples of the silane coupling agent include γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy. Silane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyl Triethoxysilane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypro Pyrtrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, aminosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ- Chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl ] Ammonium chloride, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trimethyl Chlorosilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, bisallyltrimethoxysilane, tetraethoxysilane, bis (trimethoxysilyl) hexane, phenyltrimethoxysilane, N- (3-acryloxy-2-hydroxy Propyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, (methacryloxymethyl) methyldiethoxysilane, (acryloxymethyl) methyldimethoxysilane , Etc.

中でも、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが最も好ましい。   Among them, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyl Triethoxysilane and phenyltrimethoxysilane are preferable, and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane is most preferable.

密着向上剤の添加量は、重合性組成物の全固形分中0.5質量%以上30質量%以下が好ましく、0.7質量%以上20質量%以下がより好ましい。   The addition amount of the adhesion improver is preferably 0.5% by mass or more and 30% by mass or less, and more preferably 0.7% by mass or more and 20% by mass or less in the total solid content of the polymerizable composition.

[その他の添加剤]
更に、重合性組成物に対しては、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や、可塑剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、重合性化合物とバインダーポリマーとの合計質量に対し10質量%以下添加することができる。
[Other additives]
Furthermore, in order to improve the physical properties of the cured film, known additives such as inorganic fillers and plasticizers may be added to the polymerizable composition.
Examples of plasticizers include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, and triacetyl glycerin. , 10% by mass or less can be added with respect to the total mass of the polymerizable compound and the binder polymer.

なお本発明の重合性組成物は、遮光顔料分散時の分散性が高く、未露光部における残渣が抑制され、基板に塗布時の塗布性が良好なため、遮光性カラーフィルタの形成に好適に用いることができる。   The polymerizable composition of the present invention is suitable for forming a light-shielding color filter because it has high dispersibility when the light-shielding pigment is dispersed, the residue in the unexposed area is suppressed, and the applicability when applied to the substrate is good. Can be used.

<ブラックマトリックスを有するカラーフィルタ>
本発明のブラックマトリックスを有するカラーフィルタは、前述の本発明の重合性組成物を用いて形成されたものである。本発明の重合性組成物を用いて形成されたブラックマトリックスは、残渣が抑制され、平坦性が高く、ステップがなく形状の良化ができる。
<Color filter with black matrix>
The color filter having the black matrix of the present invention is formed using the above-described polymerizable composition of the present invention. The black matrix formed using the polymerizable composition of the present invention has a reduced residue, high flatness, and can be improved in shape without steps.

本発明においてステップとは、重合性組成物を塗布、露光、現像して形成した一辺200μm程度以上のブラックマトリックス中に観察される段差のことをいう。ブラックマトリックスを膜面上方から光学顕微鏡で観察すると、ステップがブラックマトリックスのパターンエッジとほぼ相似形の線として観察される場合がある。   In the present invention, the step means a step observed in a black matrix having a side of about 200 μm or more formed by applying, exposing and developing a polymerizable composition. When the black matrix is observed with an optical microscope from above the film surface, the step may be observed as a line substantially similar to the pattern edge of the black matrix.

図1は、ブラックマトリックス10中にステップが生じた様子を模式的に表した平面図であり、図2は断面図である。実線は遮光性カラーフィルタのパターンエッジ1を表し、破線はステップ2を表す。
ブラックマトリックスの膜厚は、ステップより外側の領域(図1中、パターンエッジ1とステップ2とにより挟まれた領域)では、ステップより内側の領域(図1中、ステップ2で囲まれた領域)よりも薄くなっている。即ち、ステップより外側の領域(以下、「ステップ領域」ともいう)では遮光能が低いため、固体撮像素子用のブラックマトリックスとして用いた際にノイズの原因となる等、固体撮像素子の性能に悪影響を及ぼす。
なお本発明の重合性組成物を用いてブラックマトリックスを形成した際、ブラックマトリックス周辺部に中央部よりも膜厚が薄くなる領域(ステップ領域)を生じる現象を抑制でき、周辺部における遮光能の低下を抑制できる。
FIG. 1 is a plan view schematically showing a state in which a step occurs in the black matrix 10, and FIG. 2 is a cross-sectional view. The solid line represents the pattern edge 1 of the light-shielding color filter, and the broken line represents step 2.
The film thickness of the black matrix is the area inside the step (area surrounded by step 2 in FIG. 1) in the area outside the step (area between the pattern edge 1 and step 2 in FIG. 1). It is thinner than. In other words, the area outside the step (hereinafter also referred to as “step area”) has a low light shielding ability, which causes noise when used as a black matrix for a solid-state image sensor. Effect.
In addition, when forming a black matrix using the polymerizable composition of the present invention, it is possible to suppress a phenomenon that a region (step region) in which the film thickness is thinner than the central portion is formed in the peripheral portion of the black matrix, and the light shielding ability in the peripheral portion is reduced. Reduction can be suppressed.

ブラックマトリックスの膜厚としては特に限定はないが、本発明による効果をより効果的に得る観点からは、乾燥後の膜厚で、0.2μm以上50μm以下が好ましく、0.5μm以上30μm以下がより好ましく、0.7μm以上10μm以下が更に好ましい。
ブラックマトリックスのサイズ(一辺の長さ)としては、本発明による効果をより効果的に得る観点からは、0.001mm以上5mm以下が好ましく、0.05mm以上4mm以下がより好ましく、0.05mm以上3.5mm以下が更に好ましい。
The film thickness of the black matrix is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining the effect of the present invention more effectively, the film thickness after drying is preferably 0.2 μm or more and 50 μm or less, and 0.5 μm or more and 30 μm or less. More preferably, it is 0.7 μm or more and 10 μm or less.
The size (length of one side) of the black matrix is preferably 0.001 mm or more and 5 mm or less, more preferably 0.05 mm or more and 4 mm or less, and more preferably 0.05 mm or more from the viewpoint of obtaining the effect of the present invention more effectively. More preferably, it is 3.5 mm or less.

<ブラックマトリックスを有する遮光性カラーフィルタ及びその製造方法>
次に、本発明のブラックマトリックスを有する遮光性カラーフィルタ及びその製造方法について説明する。
本発明のブラックマトリックスを有する遮光性カラーフィルタは、基板上に、本発明の重合性組成物を用いてなる着色パターンを有することを特徴とする。
以下、本発明のブラックマトリックスを有する遮光性カラーフィルタについて、その製造方法を通じて詳述する。
<Light-shielding color filter having black matrix and method for producing the same>
Next, the light-shielding color filter having the black matrix of the present invention and the manufacturing method thereof will be described.
The light-shielding color filter having a black matrix of the present invention is characterized by having a colored pattern formed using the polymerizable composition of the present invention on a substrate.
Hereinafter, the light-shielding color filter having the black matrix of the present invention will be described in detail through its manufacturing method.

本発明のブラックマトリックスを有する遮光性カラーフィルタの製造方法は、基板上に、本発明の重合性組成物を塗布して重合性組成物層を形成する工程(以下、適宜「重合性組成物層形成工程」と略称する。)と、前記重合性組成物層をマスクを介して露光する工程(以下、適宜「露光工程」と略称する。)と、露光後の前記重合性組成物層を現像して着色パターンを形成する工程(以下、適宜「現像工程」と略称する。)と、を含むことを特徴とする。   The method for producing a light-shielding color filter having a black matrix of the present invention comprises a step of applying a polymerizable composition of the present invention on a substrate to form a polymerizable composition layer (hereinafter referred to as “polymerizable composition layer as appropriate”). Abbreviated as “formation step”), a step of exposing the polymerizable composition layer through a mask (hereinafter abbreviated as “exposure step” as appropriate), and developing the polymerizable composition layer after exposure. And a step of forming a colored pattern (hereinafter abbreviated as “development step” as appropriate).

具体的には、本発明の重合性組成物を、直接又は他の層を介して基板上に塗布して、重合性組成物層を形成し(重合性組成物層形成工程)、所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させ(露光工程)、現像液で現像することによって(現像工程)、画素からなるパターン状皮膜を形成し、本発明の遮光性カラーフィルタを製造することができる。
以下、本発明のブラックマトリックスを有する遮光性カラーフィルタの製造方法における各工程について説明する。
Specifically, the polymerizable composition of the present invention is applied on a substrate directly or via another layer to form a polymerizable composition layer (polymerizable composition layer forming step), and a predetermined mask. By exposing only the coating film portion exposed through the pattern and curing the light (exposure process) and developing with a developer (development process), a pattern-like film composed of pixels is formed, and the light-shielding property of the present invention A color filter can be manufactured.
Hereinafter, each process in the manufacturing method of the light-shielding color filter which has the black matrix of this invention is demonstrated.

[重合性組成物層形成工程]
重合性組成物層形成工程では、基板上に、本発明の重合性組成物を塗布して重合性組成物層を形成する。
[Polymerizable composition layer forming step]
In the polymerizable composition layer forming step, the polymerizable composition layer of the present invention is coated on the substrate to form a polymerizable composition layer.

前記基板としては、例えば、液晶表示装置等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、石英ガラス、及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等や、相補性金属酸化膜半導体(CMOS)等が挙げられる。
また、これらの基板上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
Examples of the substrate include non-alkali glass, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass, and those obtained by attaching a transparent conductive film to these substrates, solid-state imaging devices, and the like. Examples thereof include a photoelectric conversion element substrate such as a silicon substrate and a complementary metal oxide semiconductor (CMOS).
Further, if necessary, an undercoat layer may be provided on these substrates in order to improve adhesion with an upper layer, prevent diffusion of substances, or planarize the substrate surface.

基板上への本発明の重合性組成物の塗布方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用することができる。   As a coating method of the polymerizable composition of the present invention on the substrate, various coating methods such as slit coating, inkjet method, spin coating, cast coating, roll coating, screen printing method and the like can be applied.

固体撮像素子用のブラックマトリックスを有するカラーフィルタを製造する際には、重合性組成物の塗布膜厚としては、解像度と現像性の観点から、0.35μm以上1.5μm以下が好ましく、0.40μm以上1.0μm以下がより好ましい。   When producing a color filter having a black matrix for a solid-state imaging device, the coating thickness of the polymerizable composition is preferably from 0.35 μm to 1.5 μm from the viewpoint of resolution and developability. More preferably, it is 40 μm or more and 1.0 μm or less.

基板上に塗布された重合性組成物は、通常、70℃以上110℃以下で2分以上4分以下程度の条件下で乾燥され、重合性組成物層が形成される。   The polymerizable composition applied on the substrate is usually dried at 70 ° C. or higher and 110 ° C. or lower for about 2 minutes or longer and 4 minutes or shorter to form a polymerizable composition layer.

〔露光工程〕
露光工程では、前記重合性組成物層形成工程において形成された重合性組成物層をマスクを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる。
露光は放射線の照射により行うことが好ましく、露光に際して用いることができる放射線としては、特に、g線、h線、i線等の紫外線が好ましく用いられ、高圧水銀灯がより好まれる。照射強度は5mJ/cm以上1500mJ/cm以下が好ましく10mJ/cm以上1000mJ/cm以下がより好ましく、10mJ/cm以上800mJ/cm以下が最も好ましい。
[Exposure process]
In the exposure step, the polymerizable composition layer formed in the polymerizable composition layer forming step is exposed through a mask, and only the coating film portion irradiated with light is cured.
The exposure is preferably performed by irradiation of radiation, and as radiation that can be used for exposure, ultraviolet rays such as g-line, h-line, and i-line are preferably used, and a high-pressure mercury lamp is more preferable. Irradiation intensity 5 mJ / cm 2 or more 1500 mJ / cm 2 or less is preferably 10 mJ / cm 2 or more 1000 mJ / cm 2 and more preferably less, 10 mJ / cm 2 or more 800 mJ / cm 2 or less is most preferable.

〔現像工程〕
露光工程に次いで、アルカリ現像処理(現像工程)を行い、露光工程における光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させる。これにより、光硬化した部分だけが残る。
現像液としては、固体撮像素子用のブラックマトリクスを有する遮光性カラーフィルタを作製する場合には、下地の回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常20℃以上30℃以下であり、現像時間は20秒以上90秒以下である。
[Development process]
Subsequent to the exposure step, an alkali development treatment (development step) is performed, and the light non-irradiated part in the exposure step is eluted in an alkaline aqueous solution. Thereby, only the photocured part remains.
As the developer, when producing a light-shielding color filter having a black matrix for a solid-state imaging device, an organic alkali developer that does not cause damage to the underlying circuit or the like is desirable. The development temperature is usually from 20 ° C. to 30 ° C., and the development time is from 20 seconds to 90 seconds.

前記アルカリ性の水溶液としては、例えば、無機系現像液としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、有機アルカリ現像液としては、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]−7−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が0.001〜10質量%、好ましくは0.01〜1質量%となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。アルカリ性水溶液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄(リンス)する。   Examples of the alkaline aqueous solution include, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate as an inorganic developer, ammonia water, ethylamine as an organic alkali developer. Alkaline compounds such as diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene, with a concentration of 0 An alkaline aqueous solution dissolved in an amount of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass. An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like can be added to the alkaline aqueous solution. In the case where a developer composed of such an alkaline aqueous solution is used, it is generally washed (rinsed) with pure water after development.

なお、本発明のブラックマトリクスを有するカラーフィルタの製造方法においては、上述した、重合性組成物層形成工程、露光工程、及び現像工程を行った後に、必要により、形成された着色パターンを加熱及び/又は露光により硬化する硬化工程を含んでいてもよい。   In the method for producing a color filter having a black matrix of the present invention, after the above-described polymerizable composition layer forming step, exposure step, and development step are performed, the formed colored pattern is heated and heated as necessary. A curing step of curing by exposure may be included.

本発明のブラックマトリクスを有するカラーフィルタは、本発明の重合性組成物を用いているため、形成された着色パターンが支持体基板との高い密着性を示し、硬化した組成物は耐現像性に優れるため、露光感度に優れ、露光部の基板との密着性が良好であり、かつ、所望の断面形状を与える高解像度のパターンを形成することができる。
従って、液晶表示装置やCCD等の固体撮像素子に好適に用いることができ、特に100万画素を超えるような高解像度のCCD素子やCMOS等に好適である。すなわち、本発明のブラックマトリクスを備えた遮光性カラーフィルタは、固体撮像素子に適用されることが好ましい。
本発明のブラックマトリックスを有するカラーフィルタは、例えば、CCDを構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置されるブラックマトリックスとして用いることができる。
Since the color filter having the black matrix of the present invention uses the polymerizable composition of the present invention, the formed colored pattern exhibits high adhesion to the support substrate, and the cured composition is resistant to development. Since it is excellent, it is possible to form a high-resolution pattern that has excellent exposure sensitivity, good adhesion to the substrate of the exposed portion, and gives a desired cross-sectional shape.
Therefore, it can be suitably used for a solid-state imaging device such as a liquid crystal display device or a CCD, and is particularly suitable for a high-resolution CCD device or CMOS that exceeds 1 million pixels. That is, the light-shielding color filter provided with the black matrix of the present invention is preferably applied to a solid-state image sensor.
The color filter having the black matrix of the present invention can be used as, for example, a black matrix disposed between a light receiving portion of each pixel constituting a CCD and a microlens for collecting light.

<固体撮像素子>
本発明の固体撮像素子は、既述の本発明のブラックマトリックスと、必要により他の色(3色あるいは4色)の画素からなるパターン状皮膜と、を有するカラーフィルタを備えて構成される。
本発明の固体撮像素子は、周辺部における遮光能の低下が抑制された本発明のブラックマトリックスが備えられているため、ノイズを低減でき、色再現性を向上させることができる。
本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明のブラックマトリックスが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、基板上に、固体撮像素子(CCDイメージセンサー、CMOSイメージセンサー、等)の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有し、基板の受光素子形成面の反対側の面に本発明のブラックマトリックスが備えられた構成等が挙げられる。
<Solid-state imaging device>
The solid-state imaging device of the present invention includes a color filter having the above-described black matrix of the present invention and a patterned film composed of pixels of other colors (three colors or four colors) as necessary.
Since the solid-state imaging device of the present invention is provided with the black matrix of the present invention in which a decrease in light shielding ability in the peripheral portion is suppressed, noise can be reduced and color reproducibility can be improved.
The configuration of the solid-state imaging device of the present invention is a configuration provided with the black matrix of the present invention and is not particularly limited as long as it is a configuration that functions as a solid-state imaging device. CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) having a plurality of photodiodes constituting a light receiving area and a light receiving element made of polysilicon, etc., and the black matrix of the present invention is formed on the surface opposite to the light receiving element forming surface of the substrate. The provided structure etc. are mentioned.

<液晶表示装置>
本発明の液晶表示装置の1つは、少なくとも1つが光透過性の1対の基板の間にカラーフィルタ、液晶層および液晶駆動手段(単純マトリックス駆動方式、及びアクティブマトリックス駆動方式を含む)を少なくとも備えたもので、カラーフィルタとして、前記のごとき複数の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素が、互いに本発明のブラックマトリックスにより離画されているカラーフィルタを用いるものである。前記ブラックマトリックスは平坦性が高いため、ブラックマトリックスを備える液晶表示装置は、カラーフィルタと基板との間にセルギャップムラが発生せず、色ムラ等の表示不良が発生することがない。
<Liquid crystal display device>
One of the liquid crystal display devices of the present invention includes at least a color filter, a liquid crystal layer, and a liquid crystal driving unit (including a simple matrix driving method and an active matrix driving method) between a pair of light-transmitting substrates. A color filter having a plurality of pixel groups as described above and having each pixel constituting the pixel group separated from each other by the black matrix of the present invention is used as the color filter. Since the black matrix has high flatness, the liquid crystal display device including the black matrix does not generate cell gap unevenness between the color filter and the substrate, and display defects such as color unevenness do not occur.

また、本発明の液晶表示装置の別の態様のものは、少なくとも1つが光透過性の1対の基板の間に、カラーフィルタ、液晶層および液晶駆動手段を少なくとも備え、前記液晶駆動手段がアクティブ素子(例えばTFT)を有し、かつ各アクティブ素子の間に本発明のブラックマトリックス作製用の重合性組成物である。   Another aspect of the liquid crystal display device of the present invention includes at least one color filter, a liquid crystal layer, and liquid crystal driving means between a pair of light-transmitting substrates, and the liquid crystal driving means is active. It is a polymerizable composition for producing a black matrix of the present invention having an element (for example, TFT) and between each active element.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、「部」「%」は質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

<特定分散剤1の合成>
500mL三口フラスコに、ε-カプロラクトン 114.1g、ヒドロキシエチルアクリレート 11.6gを導入し、窒素を吹き込みながら、攪拌溶解した。モノブチル錫オキシド 0.05gを加え、100℃に加熱した。6時間後、1H-NMRにて、原料が消失したのを確認後、80℃まで冷却した。2,6-ジt-ブチル−4−メチルフェノール 0.6gを添加した後、無水ピロメリット酸 11.1gを添加した。3時間後、H-NMRにて原料が消失したのを確認後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 136.9gで希釈し、室温まで冷却して固形分濃度30質量%の下記構造の式(2)の特定分散剤1を得た。
<Synthesis of Specific Dispersant 1>
Into a 500 mL three-necked flask, 114.1 g of ε-caprolactone and 11.6 g of hydroxyethyl acrylate were introduced and dissolved while stirring while blowing nitrogen. 0.05 g of monobutyltin oxide was added and heated to 100 ° C. After 6 hours, it was cooled to 80 ° C. after confirming disappearance of the raw material by 1H-NMR. After adding 0.6 g of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 11.1 g of pyromellitic anhydride was added. Three hours later, after confirming disappearance of the raw material by 1 H-NMR, the mixture was diluted with 136.9 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, cooled to room temperature, and the following formula (2) having a solid content concentration of 30% by mass Specific dispersant 1 was obtained.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

<特定分散剤2の合成>
500mL三口フラスコに、ブレンマーAP−550(日本油脂(株)製) 107g、2,6-ジt-ブチル−4−メチルフェノール 0.6gを混合したところに、無水トリメリット酸 34.5g、ジアザビシクロウンデセン 3滴を添加した後、120℃にて3時間反応させた。H-NMRにて原料が消失したのを確認後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 331.5gで希釈し、室温まで冷却して固形分濃度30質量%の下記構造(nが約9)である式(2)の特定分散剤2を得た。
<Synthesis of Specific Dispersant 2>
In a 500 mL three-necked flask, 107 g of Bremer AP-550 (manufactured by NOF Corporation) and 0.6 g of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol were mixed, and 34.5 g of trimellitic anhydride, dia After adding 3 drops of zabicycloundecene, the mixture was reacted at 120 ° C. for 3 hours. After confirming the disappearance of the raw material by 1 H-NMR, it was diluted with 331.5 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, cooled to room temperature, and the following structure (n is about 9) having a solid content concentration of 30% by mass The specific dispersant 2 of (2) was obtained.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

<特定分散剤3の合成>
500mL三口フラスコに、ブレンマーAP−550(日本油脂(株)製) 107g、ε-カプロラクトン 4.6gを導入し、窒素を吹き込みながら、攪拌溶解した。モノブチル錫オキシド 0.1gを加え、120℃に加熱した。6時間後、H-NMRにて原料が消失したのを確認後、80℃まで冷却した。2,6-ジt-ブチル−4−メチルフェノール 0.6gを添加した後、4,4-オキシジフタル酸無水物 27.9gを添加した。3時間後、H-NMRにて原料が消失したのを確認後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 327gで希釈し、室温まで冷却して固形分濃度30質量%の下記構造(nが約9)である式(2)の特定分散剤3を得た。
<Synthesis of Specific Dispersant 3>
In a 500 mL three-necked flask, 107 g of Blemmer AP-550 (manufactured by NOF Corporation) and 4.6 g of ε-caprolactone were introduced and stirred and dissolved while blowing nitrogen. Monobutyltin oxide 0.1g was added and it heated at 120 degreeC. After 6 hours, the raw material disappeared by 1 H-NMR, and then cooled to 80 ° C. After adding 0.6 g of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 27.9 g of 4,4-oxydiphthalic anhydride was added. After 3 hours, after confirming disappearance of the raw material by 1 H-NMR, it was diluted with 327 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, cooled to room temperature, and the following structure (n is about 9) having a solid content concentration of 30% by mass. A specific dispersant 3 of formula (2) was obtained.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

<特定分散剤4の合成>
500mL三口フラスコに、ブレンマーAP−550(日本油脂(株)製) 89.2g、ε-カプロラクタム 17.0g、2,6-ジt-ブチル−4−メチルフェノール 0.5gを投入し、窒素を吹き込みながら、攪拌溶解した。モノブチル錫オキシド 0.1gを加え、120℃に加熱した。6時間後、H-NMRにて原料が消失したのを確認後、80℃まで冷却した。トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート 15.8gを添加し、80℃にて4時間反応させた。H-NMRにて原料が消失したのを確認後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 285.8gで希釈し、室温まで冷却して固形分濃度30質量%の下記構造(nが約9)である式(4)の特定分散剤4を得た。
<Synthesis of Specific Dispersant 4>
Into a 500 mL three-necked flask, 89.2 g of Bremer AP-550 (manufactured by NOF Corporation), 17.0 g of ε-caprolactam, 0.5 g of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol was added and nitrogen was added. The solution was stirred and dissolved while blowing. Monobutyltin oxide 0.1g was added and it heated at 120 degreeC. After 6 hours, the raw material disappeared by 1 H-NMR, and then cooled to 80 ° C. 15.8 g of trimethylhexamethylene diisocyanate was added and reacted at 80 ° C. for 4 hours. After confirming the disappearance of the raw material by 1 H-NMR, it was diluted with 285.8 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, cooled to room temperature, and the following structure (n is about 9) having a solid content concentration of 30% by mass The specific dispersant 4 of (4) was obtained.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

<特定分散剤5の合成>
500mL三口フラスコに、2−エチル−2−カルボキシル−1,3−プロパンジオール3.7g、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート 10.5g、テトラヒドロフラン100mLを60℃にて6時間還流させる。その後、ブレンマーAP−550(日本油脂(株)製) 32.7g、2,6-ジt-ブチル−4−メチルフェノール 0.5gを投入し、窒素を吹き込みながら、80℃にて攪拌溶解した。4時間後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 109.4gで希釈し、室温まで冷却して固形分濃度30質量%の下記構造(nが約9)である式(5)の特定分散剤5を得た。
<Synthesis of Specific Dispersant 5>
In a 500 mL three-necked flask, 3.7 g of 2-ethyl-2-carboxyl-1,3-propanediol, 10.5 g of trimethylhexamethylene diisocyanate, and 100 mL of tetrahydrofuran are refluxed at 60 ° C. for 6 hours. Thereafter, 32.7 g of Bremer AP-550 (manufactured by NOF Corporation) and 0.5 g of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol were added and stirred and dissolved at 80 ° C. while blowing nitrogen. . After 4 hours, the mixture was diluted with 109.4 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and cooled to room temperature to obtain a specific dispersant 5 of the formula (5) having the following structure (n is about 9) with a solid content concentration of 30% by mass. .

Figure 2010138251
Figure 2010138251

<比較分散剤2の合成>
(1)前駆体の合成
N−フェニルマレイミド30g、メタクリル酸20g、スチレン20g、ベンジルメタクリレート30g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート233g、2,2'−アゾビスブチロニトリル3.0g、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン2.0gを混合させ、80℃で3時間反応させ、アルカリ可溶性樹脂の前駆体を得た。この樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量は15300であり、酸価は130(mgKOH/g)であった。
<Synthesis of Comparative Dispersant 2>
(1) Synthesis of precursor 30 g of N-phenylmaleimide, 20 g of methacrylic acid, 20 g of styrene, 30 g of benzyl methacrylate, 233 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 3.0 g of 2,2′-azobisbutyronitrile, 2,4-diphenyl 2.0 g of -4-methyl-1-pentene was mixed and reacted at 80 ° C. for 3 hours to obtain an alkali-soluble resin precursor. This resin had a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 15,300 and an acid value of 130 (mgKOH / g).

(2)比較分散剤2の合成
上記で合成したアルカリ可溶性樹脂の前駆体20g、p−メトキシフェノール0.2g、テトラエチルアンモニウムクロリド0.2g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート5gをフラスコに仕込み、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート2.1gを加え、90℃にて30時間反応させ、下記構造の比較分散剤2を得た。この樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量は15900であり、酸価は97(mgKOH/g)であった。
(2) Synthesis of Comparative Dispersant 2 20 g of the alkali-soluble resin precursor synthesized above, 0.2 g of p-methoxyphenol, 0.2 g of tetraethylammonium chloride, and 5 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were charged in a flask. -2.1 g of epoxy cyclohexyl methyl acrylate was added and reacted at 90 ° C for 30 hours to obtain Comparative Dispersant 2 having the following structure. The polystyrene-reduced weight average molecular weight of this resin was 15900, and the acid value was 97 (mgKOH / g).

Figure 2010138251
Figure 2010138251

(実施例1)
<チタンブラック分散物の調製>
下記組成1を二本ロールにて高粘度分散処理を施し、分散物を得た。なお、高粘度分散処理の前にニーダーで30分混練した。
(Example 1)
<Preparation of titanium black dispersion>
The following composition 1 was subjected to a high viscosity dispersion treatment with two rolls to obtain a dispersion. The kneader was kneaded for 30 minutes before the high viscosity dispersion treatment.

<組成1>
・平均一次粒径75nmのチタンブラック(三菱マテリアルズ(株)製13M−C) 39部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 60部
<Composition 1>
・ 39 parts of titanium black with an average primary particle size of 75 nm (Mitsubishi Materials Corporation 13M-C) 39 parts ・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 60 parts

得られた分散物に、下記組成3、および組成4をそれぞれ添加し、3000rpmの条件でホモジナイザーを用いて3時間攪拌した。得られた混合溶液を、0.3mm径のジルコニアビーズを用いて、分散機(商品名:ディスパーマット GETZMANN社製)にて4時間微分散処理を施して、チタンブラック分散液A(以下、TB分散液Aと表記する)、およびチタンブラック分散液B(以下、TB分散液Bと表記する。)をそれぞれ得た。   The following composition 3 and composition 4 were added to the resulting dispersion, and the mixture was stirred for 3 hours using a homogenizer under the condition of 3000 rpm. The obtained mixed solution was finely dispersed for 4 hours with a disperser (trade name: manufactured by Dispermat GETZMANN) using zirconia beads having a diameter of 0.3 mm to obtain a titanium black dispersion A (hereinafter referred to as TB). Dispersion A) and titanium black dispersion B (hereinafter referred to as TB dispersion B) were obtained.

<組成3>
・特定分散剤1のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート30wt%溶液 30部
<組成4>
・特定分散剤1のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート30wt%溶液 45部
<Composition 3>
-30 parts of 30% by weight propylene glycol monomethyl ether acetate solution of specific dispersant 1 <composition 4>
45 parts of 30% by weight propylene glycol monomethyl ether acetate solution of specific dispersant 1

下記成分を攪拌機で混合して、重合性組成物A、および重合性組成物Bをそれぞれ調製した。
(組成A:重合性組成物A)
・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(バインダーポリマー) 3.0部
(組成比:ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体=70/30(重量%)、重量平均分子量:25000)
・日本化薬製KAYARAD DPHA(重合性化合物) 2.0部
・TB分散液A 26.0部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶剤) 10部
・エチル−3−エトキシプロピオネート(溶剤) 8部
・重合開始剤:下記表2に記載の化合物 0.8部
・4−メトキシフェノール(重合禁止剤) 0.01部
The following components were mixed with a stirrer to prepare polymerizable composition A and polymerizable composition B, respectively.
(Composition A: Polymerizable composition A)
Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (binder polymer) 3.0 parts (composition ratio: benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer = 70/30 (wt%), weight average molecular weight: 25000)
-Nippon Kayaku KAYARAD DPHA (polymerizable compound) 2.0 parts-TB dispersion A 26.0 parts-Propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent) 10 parts-Ethyl-3-ethoxypropionate (solvent) 8 parts・ Polymerization initiator: 0.8 parts of the compounds described in Table 2 below ・ 4-methoxyphenol (polymerization inhibitor) 0.01 parts

(組成B:重合性組成物B)
・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(バインダーポリマー) 3.0部
(組成比:ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体=70/30(質量%)、重量平均分子量:25000)
・日本化薬製KAYARAD DPHA(重合性化合物) 2.0部
・TB分散液B 26.0部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶剤) 10部
・エチル−3−エトキシプロピオネート(溶剤) 8部
・重合開始剤:下記表1に記載の化合物 0.8部
・4−メトキシフェノール(重合禁止剤) 0.01部
(Composition B: Polymerizable composition B)
Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (binder polymer) 3.0 parts (composition ratio: benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer = 70/30 (mass%), weight average molecular weight: 25000)
-Nippon Kayaku KAYARAD DPHA (polymerizable compound) 2.0 parts-TB dispersion B 26.0 parts-Propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent) 10 parts-Ethyl-3-ethoxypropionate (solvent) 8 parts・ Polymerization initiator: 0.8 parts of the compounds shown in Table 1 below ・ 4-methoxyphenol (polymerization inhibitor) 0.01 parts

<固体撮像素子用ブラックマトリックスを有するカラーフィルタの露光感度>
上記重合性組成物をレジスト溶液として、この塗布膜の乾燥膜厚が1μmになるように、ソルダーレジストの下塗り層を設けたシリコンウエハの下塗り層上にスピーンコーター塗布した後、10分間そのままの状態で待機させ、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。
次いで、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を使用して365nmの波長で、露光量を10〜200mJ/cmの種々の露光量に変更して露光した。
<Exposure sensitivity of color filter with black matrix for solid-state image sensor>
Using the above polymerizable composition as a resist solution, a spine coater is applied on the undercoat layer of a silicon wafer provided with an undercoat layer of a solder resist so that the dry film thickness of the applied film is 1 μm, and is left as it is for 10 minutes. And a heat treatment (pre-baking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 ° C.
Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.), exposure was performed at a wavelength of 365 nm by changing the exposure dose to various exposure doses of 10 to 200 mJ / cm 2 .

その後、照射された塗布膜が形成されているシリコンウエハ基板をスピン・シャワー現像機(DW−30型、(株)ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、CD−2000(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて23℃で60秒間パドル現像を行なった。
次いで塗布膜が形成されているシリコンウエハを真空チャック方式で前記水平回転テーブルに固定し、回転装置によって該シリコンウエハ基板を回転数50rpmで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥し、ブラックマトリックスを有するウエハを形成した。
現像後のパターン線幅が20μmとなる露光量を露光感度として評価した。露光感度の値が小さいほど感度が高いことを示す。
Thereafter, the silicon wafer substrate on which the irradiated coating film is formed is placed on a horizontal rotary table of a spin shower developing machine (DW-30 type, manufactured by Chemitronics), and CD-2000 (FUJIFILM Corporation). Paddle development was performed at 23 ° C. for 60 seconds using Electronics Materials Co., Ltd.
Next, the silicon wafer on which the coating film is formed is fixed to the horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and the silicon wafer substrate is rotated at a rotation speed of 50 rpm by a rotating device, and pure water is ejected from above the rotation center. Then, the wafer was supplied in a shower form and rinsed, and then spray-dried to form a wafer having a black matrix.
The exposure amount at which the pattern line width after development was 20 μm was evaluated as exposure sensitivity. A smaller exposure sensitivity value indicates higher sensitivity.

(実施例2〜実施例14および比較例1〜比較例3)
実施例1の分散組成物の調整において、分散剤を表1に示す特定分散剤、あるいは比較分散剤に代え、また重合性組成物の重合開始剤を表1に示す重合開始剤に代えた以外は、実施例1と同様に操作を行った。
(Examples 2 to 14 and Comparative Examples 1 to 3)
In the preparation of the dispersion composition of Example 1, the dispersant was changed to the specific dispersant shown in Table 1 or the comparative dispersant, and the polymerization initiator of the polymerizable composition was changed to the polymerization initiator shown in Table 1. Were operated in the same manner as in Example 1.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

前記の合成例に示した以外の表1に用いた材料は、下記に示す。
比較分散剤1:ジメチルアミノエチルメタクリレート(共栄社化学(株)ライトエステルDM)
比較分散剤3:ポリウレタン分散剤(商品名:Disperbyk−167、ビックケミージャパン社製)
重合開始剤の化合物1〜4、および6を下記に示す。
The materials used in Table 1 other than those shown in the synthesis examples are shown below.
Comparative dispersant 1: Dimethylaminoethyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Light Ester DM)
Comparative dispersant 3: Polyurethane dispersant (trade name: Disperbyk-167, manufactured by Big Chemie Japan)
Polymerization initiator compounds 1-4 and 6 are shown below.

Figure 2010138251
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Figure 2010138251
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〔評価〕
上記のようにして得られた分散組成物、および重合性組成物を用いて、以下の評価を行った。その結果をまとめて前記した露光感度とともに表1に示した。
[Evaluation]
The following evaluation was performed using the dispersion composition and the polymerizable composition obtained as described above. The results are summarized in Table 1 together with the exposure sensitivity described above.

−分散組成物の粘度−
また、分散組成物の粘度をE型回転粘度計(東機産業社製)を用いて測定した。分散組成物の粘度が小さいほど分散性が高いことを示している。
-Viscosity of the dispersion composition-
Further, the viscosity of the dispersion composition was measured using an E-type rotational viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.). The smaller the viscosity of the dispersion composition, the higher the dispersibility.

−保存安定性(経時安定性)評価−
各重合性組成物を室温で1ケ月保存した後、チタンブラックの沈降の度合いを下記判定基準に従って評価した。数値化の方法は可視光吸光度計(Varian製CARY-5)により、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートにより千倍に希釈した重合性組成物の吸光度変化率から算出したものである。
−判定基準−
○:0%以上2%未満のチタンブラックの沈降が観測された
△:2%以上5%未満のチタンブラックの沈降が観測された
×:5%以上のチタンブラックの沈降が観測された
-Evaluation of storage stability (stability over time)-
After each polymerizable composition was stored at room temperature for 1 month, the degree of sedimentation of titanium black was evaluated according to the following criteria. The numerical method is calculated from the absorbance change rate of the polymerizable composition diluted 1000-fold with propylene glycol monomethyl ether acetate by a visible light absorptiometer (CARY-5 manufactured by Varian).
-Criteria-
○: Sedimentation of titanium black of 0% or more and less than 2% was observed Δ: Sedimentation of titanium black of 2% or more and less than 5% was observed ×: Sedimentation of titanium black of 5% or more was observed

表1から明らかなように、固体撮像素子用ブラックマトリックスとして、特定分散剤を用いた本発明の分散組成物による実施例1〜14は、分散組成物の粘度が小さく、分散性が良好であることがわかる。また、本発明の分散組成物を用いた重合性組成物は、良好な保存安定性を示し、露光感度が小さく感度が高いことがわかった。
また、重合開始剤としてオキシム系化合物を用いた実施例1〜12は、さらに感度が優れていることが分かる。
As is clear from Table 1, Examples 1 to 14 according to the dispersion composition of the present invention using a specific dispersant as a black matrix for a solid-state imaging device have a low viscosity of the dispersion composition and good dispersibility. I understand that. Moreover, it turned out that the polymeric composition using the dispersion composition of this invention showed favorable storage stability, and the exposure sensitivity was small and the sensitivity was high.
Moreover, it turns out that Examples 1-12 which used the oxime type compound as a polymerization initiator are further excellent in sensitivity.

<液晶表示装置用ブラックマトリックスの作成>
次に固体撮像素子用で用いた重合性組成物をそのまま用いて、液晶表示装置用ブラックマトリックスを有するカラーフィルタを作製し、評価を行った。
即ち、固体撮像素子用カラーフィルタの作製で用いたのと同一の各重合性組成物を用いて、250mm×350mmのガラス基板に下記条件でスリット塗布した後、真空乾燥とプリベーク(100℃、80秒)を施して重合性組成物塗膜を形成した。その後、全面に露光量を10〜200mJ/cmの種々の露光量に変更して露光した。
アルカリ現像液(商品名:CDK−1、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の1%水溶液にてシャワー現像した。その後、純水をシャワー状に散布して現像液を洗い流した。以上のように、露光処理および現像処理を施した塗布膜を220℃のオーブンで1時間加熱処理(ポストベーク)を施し、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成した。
<Creation of black matrix for liquid crystal display>
Next, using the polymerizable composition used for the solid-state imaging device as it was, a color filter having a black matrix for a liquid crystal display device was produced and evaluated.
That is, using the same polymerizable composition as that used in the production of the color filter for the solid-state imaging device, slit coating was performed on a 250 mm × 350 mm glass substrate under the following conditions, followed by vacuum drying and pre-baking (100 ° C., 80 Second) to form a polymerizable composition coating film. Then, the exposure amount was changed to various exposure amounts of 10 to 200 mJ / cm 2 and exposed on the entire surface.
Shower development was performed with a 1% aqueous solution of an alkali developer (trade name: CDK-1, manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.). Thereafter, pure water was sprayed in a shower to wash away the developer. As described above, the coating film subjected to the exposure process and the development process was heat-treated (post-baked) in an oven at 220 ° C. for 1 hour to form a black matrix on the glass substrate.

下記に示した評価を行い、その結果を表2に示す。
−塗布均一性−
上記感光性樹脂組成物をスリット塗布した後、10分間そのままの状態で待機させた後、さらにガラス基板に塗布し、ホットプレートで、90℃、60秒間プリベークした後、塗布面のスジ状のムラをナトリウム光源を用いて目視にてカウントし、以下の基準で評価した。
The evaluation shown below was performed and the results are shown in Table 2.
-Application uniformity-
After the photosensitive resin composition is slit-coated, after waiting for 10 minutes as it is, it is further coated on a glass substrate, pre-baked on a hot plate at 90 ° C. for 60 seconds, and then streaky unevenness on the coated surface Were visually counted using a sodium light source and evaluated according to the following criteria.

−塗布基板の面状評価の基準−
○:塗布面にスジ状のムラが全くないもの
△:スジ状のムラが1〜5本観察されたもの
×:スジ状のムラが6本以上、あるいは異物のいずれかが観察されたもの
-Criteria for surface evaluation of coated substrates-
○: No streak-like unevenness on the coated surface. Δ: 1-5 streaky unevennesses observed. X: 6 or more streaky unevennesses or any foreign matter observed.

−残渣の評価−
上記した露光工程で光が照射されなかった領域(未露光部)の残渣の有無をSEMで観察し、残渣を評価した。評価基準は以下の通りである。
−評価基準−
○:未露光部には、残渣がまったく確認されなかった
△:未露光部に、残渣がわずかに確認されたが、実用上問題のない程度であった
×:未露光部に、残渣が著しく確認された。
-Evaluation of residue-
The presence or absence of a residue in a region (unexposed portion) where light was not irradiated in the exposure process described above was observed with an SEM, and the residue was evaluated. The evaluation criteria are as follows.
-Evaluation criteria-
○: Residue was not confirmed at all in the unexposed area. Δ: Residue was slightly confirmed at the unexposed area, but there was no practical problem. confirmed.

−ステップの評価−
得られたブラックマトリクス(重合性組成物により形成されたパターン)を光学顕微鏡(倍率10倍)で撮影し、ステップ領域の幅を測定した。図1に示すように、ブラックマトリクス(ブラックマトリクスを有するカラーフィルタ)10において、重合性組成物により形成されたパターンの端部であるパターンエッジ1と、ステップ領域(ブラックマトリクス周辺部における中央部よりも膜厚の薄くなる領域)との境界線2との間の距離を測定した。この距離を形成されたパターンの1辺の長さで除して、表2には%で表示した。
-Step evaluation-
The obtained black matrix (pattern formed from the polymerizable composition) was photographed with an optical microscope (magnification 10 times), and the width of the step region was measured. As shown in FIG. 1, in a black matrix (a color filter having a black matrix) 10, a pattern edge 1 which is an end portion of a pattern formed from a polymerizable composition, and a step region (from a central portion in a black matrix peripheral portion). Also, the distance between the boundary line 2 and the region where the film thickness becomes thinner was measured. This distance is divided by the length of one side of the formed pattern and is shown in% in Table 2.

Figure 2010138251
Figure 2010138251

表2から明らかなように、液晶表示装置用のブラックマトリックスとして特定分散剤を用いた本発明の分散組成物を含む重合性組成物である実施例15〜26は、塗布均一性が良好で、残渣もなく、しかもステップ幅も小さく現像性に優れていることがわかった。
特に重合開始剤としてオキシム系化合物を用いた実施例15〜24は、ステップ幅が小さく現像性が良好であった。
As is apparent from Table 2, Examples 15 to 26, which are polymerizable compositions containing the dispersion composition of the present invention using a specific dispersant as a black matrix for a liquid crystal display device, have good coating uniformity. It was found that there was no residue, the step width was small, and the developability was excellent.
In particular, Examples 15 to 24 using an oxime compound as a polymerization initiator had a small step width and good developability.

<固体撮像素子の作製>
−有彩色着色重合性組成物の調製−
実施例1で調製した重合性組成物において、黒色顔料であるチタンブラックを、下記有彩色顔料に替えた他は同様にして、それぞれ赤色(R)用分散組成物、緑色(G)用分散組成物、及び青色(B)用分散組成物を調製した。
<Production of solid-state image sensor>
-Preparation of chromatic coloring polymerizable composition-
In the same manner as in the polymerizable composition prepared in Example 1, except that the black pigment, titanium black, was replaced with the following chromatic pigment, the red (R) dispersion composition and the green (G) dispersion composition, respectively. And a dispersion composition for blue (B) were prepared.

(RGB各色着色画素形成用有彩色顔料)
・赤色(R)用顔料
C.I.ピグメントレッド254
・緑色(G)用顔料
C.I.ピグメント グリーン36とC.I.ピグメント イエロー219との30/70〔質量比〕混合物
・青色(B)用顔料
C.I.ピグメント ブルー15:6とC.I.ピグメント バイオレット23との30/70〔質量比〕混合物
(Chromatic pigments for RGB colored pixel formation)
-Red (R) pigment C.I. I. Pigment Red 254
-Green (G) pigment C.I. I. Pigment Green 36 and C.I. I. Pigment Yellow 219 30/70 [mass ratio] mixture and blue (B) pigment C.I. I. Pigment Blue 15: 6 and C.I. I. 30/70 [mass ratio] mixture with pigment violet 23

<固体撮像素子用カラーフィルタの作製>
上記各顔料40部、分散剤としてDisperbyk−161(ビックケミー(BYK)社製、30%溶液)50部、および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル110部からなる混合液を、ビーズミルにより15時間混合・分散して、各顔料分散液を調製した。
得られた各顔料分散液を用いて下記組成比となるよう撹拌混合し、それぞれ赤色(R)用着色重合性組成物R−1、緑色(G)用着色重合性組成物G−1、及び青色(B)用着色重合性組成物B−1を調製した。
・着色剤(各顔料分散液) 350部
・重合開始剤(オキシム系重合開始剤)
(CGI−124、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 30部
・TO−1382(東亞合成(株)製) 25部
(重合性化合物 東亜合成化学(株)製 カルボキシル基含有5官能アクリレート)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 30部
・溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) 200部
・基板密着剤(3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン) 1部
<Preparation of color filter for solid-state image sensor>
A mixed solution consisting of 40 parts of the above pigments, 50 parts of Disperbyk-161 (manufactured by BYK), 30% solution) as a dispersant, and 110 parts of propylene glycol monomethyl ether as a solvent was mixed and dispersed for 15 hours by a bead mill. Thus, each pigment dispersion was prepared.
The obtained pigment dispersions were stirred and mixed so as to have the following composition ratios, respectively, red (R) colored polymerizable composition R-1, green (G) colored polymerizable composition G-1, and A colored polymerizable composition B-1 for blue (B) was prepared.
・ Coloring agent (each pigment dispersion) 350 parts ・ Polymerization initiator (oxime polymerization initiator)
(CGI-124, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 30 parts · TO-1382 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 25 parts (polymerizable compound, carboxyl group-containing pentafunctional acrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
・ Dipentaerythritol hexaacrylate 30 parts ・ Solvent (propylene glycol monomethyl ether acetate) 200 parts ・ Substrate adhesion agent (3-methacryloxypropyltrimethoxysilane) 1 part

前記実施例1で作製したブラックマトリックスを有する遮光性フィルタのウエハ上に、前記赤色(R)用着色重合性組成物R−1を用いて、1.6×1.6μmの赤色(R)の着色パターンを形成した。さらに、同様にして緑色(G)用着色重合性組成物G−1を用いて1.6×1.6μmの緑色(G)、及び青色(B)用着色重合性組成物B−1を用いて青色(B)の有彩色着色パターンを順次形成して固体撮像素子用のカラーフィルタを作製した。   Using the colored polymerizable composition R-1 for red (R) on the light-shielding filter wafer having the black matrix prepared in Example 1, 1.6 × 1.6 μm red (R) A colored pattern was formed. Further, using the colored polymerizable composition G-1 for green (G) in the same manner, the colored polymerizable composition B-1 for 1.6 × 1.6 μm green (G) and blue (B) is used. A blue (B) chromatic coloring pattern was sequentially formed to produce a color filter for a solid-state imaging device.

−評価−
フルカラーのカラーフィルタを固体撮像素子に組み込んだところ、該固体撮像素子は、ブラックマトリックスの遮光性が高く、高解像度で、色分離性に優れることが確認された。
-Evaluation-
When a full-color color filter was incorporated in a solid-state image sensor, it was confirmed that the solid-state image sensor has a high black matrix light-shielding property, high resolution, and excellent color separation.

<液晶表示装置の作製>
−有彩色着色重合性組成物の調製−
前記した固体撮像素子用カラーフィルタの作製のために調製した赤色、青前記分散処理した各色の顔料分散液を用いて下記組成比となるよう撹拌混合し、各色の重合性組成物の塗布液を調製した。
・着色剤(顔料分散液) 200部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶剤) 19.20部
・乳酸エチル(溶剤) 36.67部
・樹脂(メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸/メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル共重合体(モル比=60/22/18)の40%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液) 33.51部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(重合性化合物) 12.20部
・p−メトキシフェノール(重合禁止剤) 0.0061部
・フッ素系界面活性剤(F−475、大日本インキ化学工業(株)製)
0.83部
・光重合開始剤(トリハロメチルトリアジン系の光重合開始剤) 0.586部
<Production of liquid crystal display device>
-Preparation of chromatic coloring polymerizable composition-
The red and blue prepared for the production of the color filter for a solid-state imaging device described above were stirred and mixed using the pigment dispersion liquid for each color subjected to the dispersion treatment so that the composition ratio was as follows, and a coating liquid for the polymerizable composition of each color was prepared. Prepared.
Colorant (pigment dispersion) 200 parts Propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent) 19.20 parts Ethyl lactate (solvent) 36.67 parts Resin (benzyl methacrylate / methacrylic acid / -2-hydroxyethyl methacrylate) 40% propylene glycol monomethyl ether acetate solution of copolymer (molar ratio = 60/22/18) 33.51 parts dipentaerythritol hexaacrylate (polymerizable compound) 12.20 parts p-methoxyphenol (polymerization prohibited) Agent) 0.0061 parts Fluorosurfactant (F-475, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
0.83 parts, photopolymerization initiator (trihalomethyltriazine photopolymerization initiator) 0.586 parts

−液晶表示装置用カラーフィルタの作製−
前記実施例1で作製した遮光性フィルタをブラックマトリックスとし、該ブラックマトリックス上に、前記赤色(R)用着色重合性組成物R−1を用いて、実施例1に記載の方法と同じ要領で80μm×80μmの赤色(R)の着色パターンを形成した。さらに、同様にして緑色(G)用着色重合性組成物G−1を用いて緑色(G)、及び青色(B)用着色重合性組成物B−1を用いて青色(B)の有彩色着色パターンを順次形成して液晶表示装置用のブラックマトリクスを有するカラーフィルタを作製した。
-Production of color filters for liquid crystal display devices-
Using the light-shielding filter produced in Example 1 as a black matrix and using the colored polymerizable composition R-1 for red (R) on the black matrix, in the same manner as in the method described in Example 1. A red (R) coloring pattern of 80 μm × 80 μm was formed. Further, similarly, the chromatic color of green (G) using the colored polymerizable composition G-1 for green (G) and blue (B) using the colored polymerizable composition B-1 for blue (B). A color filter having a black matrix for a liquid crystal display device was formed by sequentially forming a colored pattern.

−評価−
得られたカラーフィルタにITO透明電極、配向膜等の加工を施し、液晶表示装置を設けた。本発明の重合性組成物を用いたカラーフィルタは塗布面の均一性が良好で、液晶表示装置は表示ムラも無く、画質は良好であった。
-Evaluation-
The obtained color filter was processed with an ITO transparent electrode, an alignment film, and the like to provide a liquid crystal display device. The color filter using the polymerizable composition of the present invention had good uniformity of the coated surface, the liquid crystal display device had no display unevenness, and the image quality was good.

ブラックマトリクスの平面図Black matrix top view ブラックマトリクスの断面図 1: パターンエッジ 2: ステップ 10: ブラックマトリクスCross section of black matrix 1: Pattern edge 2: Step 10: Black matrix

Claims (12)

(A)遮光顔料、(B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤、および、(C)溶媒を含む分散組成物。   A dispersion composition comprising (A) a light-shielding pigment, (B) a dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal, and (C) a solvent. . (B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤が、ポリエーテル連結基、およびポリエステル連結基の少なくとも一方の末端にラジカル重合可能な基を有する分散剤である請求項1に記載の分散組成物。   (B) A dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal is a radical at at least one terminal of the polyether linking group and the polyester linking group. The dispersion composition according to claim 1, which is a dispersant having a polymerizable group. (B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤が、下記一般式(1)で表される化合物である請求項1または請求項2に記載の分散組成物。
Figure 2010138251

一般式(1)中、Bはアリル基、または(メタ)アクリロイル基を表し、Q及びQはそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Qはアルキレン基を表し、Mはリン酸基、カルボン酸基、ウレタン基、ウレア基、アミド基、およびイミノ基から選ばれる1種以上を有する有機基を表す。aは0〜20の整数、bは0〜100の整数をそれぞれ表し、且つ、(a+b)が5〜100の範囲である。nは1〜4の整数を、pは2〜8の整数を、それぞれ表す。
(B) The dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and having a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal is a compound represented by the following general formula (1): Or the dispersion composition of Claim 2.
Figure 2010138251

In General Formula (1), B represents an allyl group or a (meth) acryloyl group, Q 1 and Q 3 each independently represent a single bond or a divalent linking group, Q 2 represents an alkylene group, M represents an organic group having at least one selected from a phosphoric acid group, a carboxylic acid group, a urethane group, a urea group, an amide group, and an imino group. a represents an integer of 0 to 20, b represents an integer of 0 to 100, and (a + b) is in the range of 5 to 100. n represents an integer of 1 to 4, and p represents an integer of 2 to 8, respectively.
(B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤が、下記一般式(2)、または一般式(3)で表される化合物である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の分散組成物。
Figure 2010138251

一般式(2)、および、一般式(3)中、B、およびBはそれぞれ独立にアリル基、または(メタ)アクリロイル基を表し、Q、Q、Q、およびQはそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Q、およびQはそれぞれ独立にアルキレン基を表し、Mは(n1+m1)価の有機基、Mは単結合、または(n2+m2)価の有機基を表す。a1、およびa2はそれぞれ独立に0〜20の整数を表し、b1、およびb2はそれぞれ独立に0〜100の整数を表し、且つ(a1+b1)が5〜100であり、(a2+b2)が5〜100の範囲である。m1、m2、n1、およびn2はそれぞれ独立に1〜4の整数を表し、q、およびrはそれぞれ独立に2〜8の整数を表す。
(B) A dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal is represented by the following general formula (2) or general formula (3). The dispersion composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the dispersion composition is a compound.
Figure 2010138251

In General Formula (2) and General Formula (3), B 1 and B 2 each independently represent an allyl group or a (meth) acryloyl group, and Q 4 , Q 6 , Q 7 , and Q 9 are Each independently represents a single bond or a divalent linking group, Q 5 and Q 8 each independently represent an alkylene group, M 1 represents an (n1 + m1) -valent organic group, M 2 represents a single bond, or (n2 + m2) ) Represents a valent organic group. a1 and a2 each independently represent an integer of 0 to 20, b1 and b2 each independently represent an integer of 0 to 100, and (a1 + b1) is 5 to 100, and (a2 + b2) is 5 to 100. Range. m1, m2, n1, and n2 each independently represents an integer of 1 to 4, and q and r each independently represents an integer of 2 to 8.
(B)ラジカル重合可能な基を少なくとも1つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤が、下記一般式(4)または一般式(5)で表される化合物である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の分散組成物。
Figure 2010138251

一般式(4)、および、一般式(5)中、B、およびBはそれぞれ独立にアリル基、(メタ)アクリロイル基を表し、Q10、およびQ14はそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Q11、およびQ15はそれぞれ独立にアルキレン基を表し、Q12、Q16、およびQ17はそれぞれ独立に二価の連結基を表す。Q13はn3価の連結基を表し、Q18は、n4価の連結基を表す。a3、およびa4はそれぞれ独立に0〜20の整数を表し、b3、およびb4はそれぞれ独立に0〜100の整数を表し、且つ(a3+b3)が5〜100、(a4+b4)が5〜100の範囲である。n3、およびn4はそれぞれ独立に2〜6の整数を表し、m4は0〜10の整数を表し、s、およびtはそれぞれ独立に2〜8の整数を表す。
(B) A dispersant having at least one terminal capable of radical polymerization and a group adsorbing to the light-shielding pigment at the other terminal is represented by the following general formula (4) or general formula (5). It is a compound, The dispersion composition of any one of Claims 1-3.
Figure 2010138251

In General Formula (4) and General Formula (5), B 3 and B 4 each independently represent an allyl group or a (meth) acryloyl group, and Q 10 and Q 14 each independently represent a single bond, or It represents a divalent linking group, Q 11 and Q 15 each independently represent an alkylene group, and Q 12 , Q 16 and Q 17 each independently represent a divalent linking group. Q 13 represents an n3 valent linking group, and Q 18 represents an n4 valent linking group. a3 and a4 each independently represents an integer of 0 to 20, b3 and b4 each independently represents an integer of 0 to 100, and (a3 + b3) is in the range of 5 to 100, and (a4 + b4) is in the range of 5 to 100 It is. n3 and n4 each independently represents an integer of 2 to 6, m4 represents an integer of 0 to 10, and s and t each independently represents an integer of 2 to 8.
(A)遮光顔料が、チタンブラックである請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の分散組成物。   The dispersion composition according to any one of claims 1 to 5, wherein (A) the light-shielding pigment is titanium black. 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の分散組成物、および(D)重合開始剤を含む重合性組成物。   A polymerizable composition comprising the dispersion composition according to any one of claims 1 to 6 and (D) a polymerization initiator. (D)重合開始剤が、オキシム系重合開始剤である請求項7に記載の重合性組成物。   The polymerizable composition according to claim 7, wherein (D) the polymerization initiator is an oxime polymerization initiator. 基板上に、請求項7または請求項8に記載の重合性組成物を用いてなる着色パターンを有する遮光性カラーフィルタ。   The light-shielding color filter which has a coloring pattern which uses the polymeric composition of Claim 7 or Claim 8 on a board | substrate. 請求項9に記載の遮光性カラーフィルタを備えた固体撮像素子。   A solid-state imaging device comprising the light-shielding color filter according to claim 9. 請求項9に記載の遮光性カラーフィルタを備えた液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the light-shielding color filter according to claim 9. 下記一般式(2)、一般式(4)、または一般式(5)で表されることを特徴とする分散剤。
Figure 2010138251

Figure 2010138251

一般式(2)、一般式(4)、および一般式(5)中、B、B、およびBはそれぞれ独立にアリル基、または(メタ)アクリロイル基を表す。Q、Q、Q10、およびQ14はそれぞれ独立に単結合、または二価の連結基を表し、Q、Q11、およびQ15はアルキレン基を表し、Q12、Q16、およびQ17はそれぞれ独立に二価の連結基を表す。Q13はn3価の連結基を表し、Q18は、n4価の連結基を表す。Mは(n1+m1)価の有機基を表し、a1は1〜20の整数を表し、a3、およびa4はそれぞれ独立に0〜20の整数を表す。b1、b3、およびb4はそれぞれ独立に0〜100の整数を表し、且つ(a1+b1)が5〜100の範囲であり、(a3+b3)が5〜100の範囲であり、(a4+b4)が5〜100の範囲である。m1は1〜4の整数、n1は1〜4の整数、m4は0〜10の整数、n3、およびn4はそれぞれ独立に2〜6の整数、q、s、およびtはそれぞれ独立に2〜8の整数をそれぞれ表す。
A dispersant represented by the following general formula (2), general formula (4), or general formula (5).
Figure 2010138251

Figure 2010138251

In General Formula (2), General Formula (4), and General Formula (5), B 1 , B 3 , and B 4 each independently represent an allyl group or a (meth) acryloyl group. Q 4 , Q 6 , Q 10 , and Q 14 each independently represent a single bond or a divalent linking group, Q 5 , Q 11 , and Q 15 represent an alkylene group, Q 12 , Q 16 , and Q 17 each independently represents a divalent linking group. Q 13 represents an n3 valent linking group, and Q 18 represents an n4 valent linking group. M 1 represents an (n1 + m1) -valent organic group, a1 represents an integer of 1 to 20, and a3 and a4 each independently represents an integer of 0 to 20. b1, b3, and b4 each independently represents an integer of 0-100, (a1 + b1) is in the range of 5-100, (a3 + b3) is in the range of 5-100, and (a4 + b4) is in the range of 5-100. Range. m1 is an integer of 1 to 4, n1 is an integer of 1 to 4, m4 is an integer of 0 to 10, n3 and n4 are each independently an integer of 2 to 6, q, s, and t are each independently 2 Each represents an integer of 8.
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