JP2010040877A - Bonding method, junction structure, droplet discharge head and droplet discharging device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、接合方法、接合体、液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置に関するものである。 The present invention relates to a bonding method, a bonded body, a droplet discharge head, and a droplet discharge device.
2つの部材(基材)同士を接合(接着)する際には、従来、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤等の接着剤を用いて行う方法が多く用いられている。
接着剤は、部材の材質によらず、接着性を示すことができる。このため、種々の材料で構成された部材同士を、様々な組み合わせで接着することができる。
例えば、インクジェットプリンタが備える液滴吐出ヘッド(インクジェット式記録ヘッド)は、樹脂材料、金属材料、シリコン系材料等の異種材料で構成された部品同士を、接着剤を用いて接着することにより構成されている。
When joining (adhering) two members (base materials), conventionally, a method of using an adhesive such as an epoxy adhesive, a urethane adhesive, or a silicone adhesive is often used.
The adhesive can exhibit adhesiveness regardless of the material of the member. For this reason, members composed of various materials can be bonded in various combinations.
For example, a droplet discharge head (inkjet recording head) provided in an inkjet printer is configured by bonding parts made of different materials such as a resin material, a metal material, and a silicon material using an adhesive. ing.
このように接着剤を用いて部材同士を接着する際には、液状またはペースト状の接着剤を接着面に塗布し、塗布された接着剤を介して部材同士を貼り合わせる。その後、熱または光の作用により接着剤が硬化して接着される。
ところが、部材の接着面に接着剤を塗布する際には、印刷法等の煩雑な方法を用いる必要がある。
When the members are bonded together using the adhesive as described above, a liquid or paste adhesive is applied to the bonding surface, and the members are bonded together via the applied adhesive. Thereafter, the adhesive is cured and bonded by the action of heat or light.
However, when applying an adhesive to the bonding surface of the member, it is necessary to use a complicated method such as a printing method.
また、接着面の一部の領域に対して選択的に接着剤を塗布する場合、塗布された接着剤の位置精度や厚さを制御することは、極めて困難である。このため、接着剤では、例えば、前述の液滴吐出ヘッドにおいて、部品の接着面の一部を選択的に、高い寸法精度で接着することができないという問題がある。その結果、プリンタの印字結果に悪影響を及ぼす等の問題を引き起こすおそれがある。
また、接着剤の硬化時間が非常に長くなるため、接着に長時間を要するという問題もある。
In addition, when an adhesive is selectively applied to a partial region of the adhesive surface, it is extremely difficult to control the positional accuracy and thickness of the applied adhesive. For this reason, the adhesive has a problem that, for example, in the above-described droplet discharge head, a part of the adhesion surface of the component cannot be selectively adhered with high dimensional accuracy. As a result, there is a possibility of causing problems such as adversely affecting the printing result of the printer.
Moreover, since the hardening time of an adhesive agent becomes very long, there also exists a problem that adhesion requires a long time.
さらに、多くの場合、接着強度を高めるためにプライマーを用いる必要があり、そのためのコストと手間が接着工程を複雑化している。
また、接着剤のような接合膜を正確にパターニングするためには、フォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを組み合わせたパターニング方法を用いる。すなわち、接合に供される部材の表面に接着剤を塗布した後、フォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを用いて不要部分の接着剤をパターニングする。しかしながら、接合に供される部材の用途によっては、部材表面の接合に寄与しない領域に接着剤の成分が付着するのを避けなければならない。ところが、上述したようなパターニング方法では、部材表面の接合に寄与しない領域が接着剤の成分で汚染されてしまうという問題がある。
Furthermore, in many cases, it is necessary to use a primer in order to increase the bonding strength, and the cost and labor for that purpose complicate the bonding process.
Further, in order to accurately pattern a bonding film such as an adhesive, a patterning method combining a photolithography technique and an etching technique is used. That is, after an adhesive is applied to the surface of a member to be joined, unnecessary portions of the adhesive are patterned using a photolithography technique and an etching technique. However, depending on the use of the member used for joining, it is necessary to avoid adhesion of an adhesive component to a region that does not contribute to joining on the member surface. However, in the patterning method as described above, there is a problem that a region that does not contribute to the bonding of the member surfaces is contaminated with an adhesive component.
一方、接着剤を用いない接合方法として、固体接合による方法がある。
固体接合は、接着剤等の中間層が介在することなく、部材同士を直接接合する方法である(例えば、特許文献1参照)。
このような固体接合によれば、接着剤のような中間層を用いないので、寸法精度の高い接合体を得ることができる。
On the other hand, there is a solid bonding method as a bonding method that does not use an adhesive.
Solid bonding is a method of directly bonding members without an intermediate layer such as an adhesive (see, for example, Patent Document 1).
According to such solid bonding, since an intermediate layer such as an adhesive is not used, a bonded body with high dimensional accuracy can be obtained.
しかしながら、部材の材質に制約があるという問題がある。具体的には、一般に、固体接合は、同種材料同士の接合しか行うことができない。また、接合可能な材料は、シリコン系材料や一部の金属材料等に限られている。
また、固体接合を行う雰囲気が減圧雰囲気に限られる上、高温(700〜800℃程度)の熱処理を必要とする等、接合プロセスにおける問題もある。
However, there is a problem that the material of the member is limited. Specifically, in general, solid bonding can only be performed between the same kind of materials. In addition, materials that can be joined are limited to silicon-based materials and some metal materials.
There are also problems in the bonding process, such as the fact that the atmosphere in which solid bonding is performed is limited to a reduced-pressure atmosphere and that high-temperature (about 700 to 800 ° C.) heat treatment is required.
さらに、固体接合では、2つの部材の各接合面のうち、互いに接触している面全体が接合してしまい、一部を選択的に接合するといった制御ができない。このため、熱膨張率の異なる異種材料同士を接合する場合には、熱膨張率差に伴って接合界面に大きな応力が発生し、接合体の反りや剥離等の問題を引き起こすおそれがある。
このような問題を受け、2つの部材同士を、接合面の一部の領域において選択的に、高い寸法精度で強固に接合する方法が求められている。
Furthermore, in the solid bonding, the entire surfaces that are in contact with each other among the bonding surfaces of the two members are bonded, and it is impossible to control such that a part is selectively bonded. For this reason, when dissimilar materials having different coefficients of thermal expansion are bonded, a large stress is generated at the bonding interface due to the difference in coefficient of thermal expansion, which may cause problems such as warpage and peeling of the bonded body.
In response to such a problem, a method for selectively joining two members firmly with high dimensional accuracy selectively in a partial region of the joining surface is required.
本発明の目的は、2つの部材同士を、接合面の一部の領域において選択的に高い寸法精度で強固に接合可能であるとともに、非接合領域が接合膜の成分で汚染されるのを防止し得る接合方法、2つの部材同士を、接合面の一部の領域において選択的に、高い寸法精度で強固に接合してなる接合体、かかる接合体を備えた信頼性の高い液滴吐出ヘッド、およびかかる液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置を提供することにある。 The object of the present invention is to be able to selectively join two members with high dimensional accuracy selectively in a partial region of the joining surface, and to prevent the non-joining region from being contaminated with the components of the joining film. Bonding method in which two members are selectively bonded together with high dimensional accuracy selectively in a partial region of the bonding surface, and a highly reliable liquid droplet ejection head including such a bonding body Another object of the present invention is to provide a droplet discharge device provided with such a droplet discharge head.
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の接合方法は、基材の表面上の一部の所定領域に、シロキサン(Si−O)結合を含むランダムな原子構造を有するSi骨格と、該Si骨格に結合する脱離基とを含む接合膜を形成する第1の工程と、
前記接合膜にエネルギーを付与し、前記接合膜の少なくとも表面付近に存在する前記脱離基が前記Si骨格から脱離することにより、接着性を発現させる第2の工程と、
前記基材との接合に供される被着体を用意し、前記接合膜を介して前記基材と前記被着体とを部分的に接合する第3の工程とを有し、
前記第1の工程において、前記基材の表面上の前記所定領域を包含する領域に、シラン系ガスを原料とするプラズマ重合膜を成膜した後、リフトオフ法により前記プラズマ重合膜をパターニングすることにより、前記接合膜を形成することを特徴とする。
これにより、2つの部材同士を、接合面の一部の領域において選択的に、高い寸法精度で強固に接合することができる。また、部材表面の接合に寄与しない領域が接合膜の成分で汚染されるのを防止することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
In the bonding method of the present invention, an Si skeleton having a random atomic structure including a siloxane (Si—O) bond and a leaving group bonded to the Si skeleton are formed in a predetermined region on the surface of the substrate. A first step of forming a bonding film including:
A second step in which energy is imparted to the bonding film, and the leaving group present at least near the surface of the bonding film is released from the Si skeleton, thereby exhibiting adhesiveness;
Preparing an adherend to be joined to the base material, and having a third step of partially joining the base material and the adherend through the joining film;
In the first step, after forming a plasma polymerized film using a silane-based gas as a raw material in a region including the predetermined region on the surface of the base material, patterning the plasma polymerized film by a lift-off method Thus, the bonding film is formed.
Thereby, two members can be selectively joined firmly with high dimensional accuracy in a partial region of the joining surface. Moreover, it can prevent that the area | region which does not contribute to joining of the member surface is contaminated with the component of a joining film.
本発明の接合方法では、前記リフトオフ法は、前記基材の表面上の前記所定領域以外の領域にレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、
前記基材の表面上の前記レジスト膜を包含する領域に前記プラズマ重合膜を成膜する接合膜形成工程と、
前記レジスト膜を除去することにより、前記レジスト膜とともに、前記レジスト膜上に位置する前記プラズマ重合膜を選択的に除去し、前記接合膜を得るレジスト膜除去工程とを有するパターニング方法であることが好ましい。
これにより、前記基材表面のレジスト膜で覆われた領域が、シリコン成分によって汚染されるのを防止することができる。また、フォトリソグラフィ法と異なり、接合膜表面がレジスト材料で汚染されるのを防止することができるので、接合膜の接着性が低下するのを防止することができる。
In the bonding method of the present invention, the lift-off method includes a resist film forming step of forming a resist film in a region other than the predetermined region on the surface of the substrate;
A bonding film forming step of forming the plasma polymerized film in a region including the resist film on the surface of the substrate;
And a resist film removing step of selectively removing the plasma polymerized film located on the resist film together with the resist film by removing the resist film to obtain the bonding film. preferable.
Thereby, it can prevent that the area | region covered with the resist film of the said base-material surface is contaminated with a silicon component. Further, unlike the photolithography method, the surface of the bonding film can be prevented from being contaminated with the resist material, so that the adhesiveness of the bonding film can be prevented from being lowered.
本発明の接合方法では、前記レジスト膜形成工程において、前記基材の表面のうち、前記レジスト膜を形成する領域は、前記被着体との接合に供されない領域であり、かつ、当該領域は、それ自体が変位することにより動作する素子の一部として用いられるものであることが好ましい。
これにより、前記基材表面の前記被着体との接合に供されない領域にシリコン成分が付着するのを防止することができ、接合の前後で前記領域の変位量が変化するのを防止することができる。その結果、当該領域において設計値通りの変位量を実現することができる。
In the bonding method of the present invention, in the resist film forming step, a region where the resist film is formed on the surface of the base material is a region that is not used for bonding with the adherend, and the region is It is preferable that it is used as a part of an element that operates by displacing itself.
Thereby, it is possible to prevent the silicon component from adhering to a region of the base material surface that is not used for bonding with the adherend, and to prevent the displacement of the region from changing before and after the bonding. Can do. As a result, it is possible to realize a displacement amount as designed in the region.
本発明の接合方法では、前記素子は、前記基材が一定の振動数または一定の振幅で変位することを利用したものであることが好ましい。
これにより、設計値通りの振動数または振幅で変位する部位を有する信頼性の高い素子が得られる。
本発明の接合方法では、前記レジスト膜は、樹脂膜または金属膜であり、
前記レジスト膜の除去は、前記レジスト膜を溶媒に溶解することにより行うことが好ましい。
これにより、レジスト膜を除去する際に、プラズマ重合膜が侵されることなく、レジスト膜のみを選択的に効率よく除去することができる。その結果、プラズマ重合膜を確実にパターニングすることができる。
In the bonding method of the present invention, it is preferable that the element utilizes the displacement of the base material at a constant frequency or a constant amplitude.
As a result, a highly reliable element having a portion that is displaced at the frequency or amplitude as designed is obtained.
In the bonding method of the present invention, the resist film is a resin film or a metal film,
The removal of the resist film is preferably performed by dissolving the resist film in a solvent.
Thus, when removing the resist film, only the resist film can be selectively and efficiently removed without being affected by the plasma polymerization film. As a result, the plasma polymerized film can be reliably patterned.
本発明の接合方法では、前記レジスト膜の平均厚さは、前記プラズマ重合膜の平均厚さの0.3〜5倍であることが好ましい。
これにより、レジスト膜の形成領域と非形成領域との間で、プラズマ重合膜を確実に分断することができ、プラズマ重合膜を高い寸法精度でパターニングすることができる。
本発明の接合方法では、前記接合膜を構成する全原子からH原子を除いた原子のうち、Si原子の含有率とO原子の含有率の合計が、10〜90原子%であることが好ましい。
これにより、接合膜は、Si原子とO原子とが強固なネットワークを形成し、接合膜自体が強固なものとなる。また、かかる接合膜は、基材および他の被着体に対して、特に高い接合強度を示すものとなる。
In the bonding method of the present invention, the average thickness of the resist film is preferably 0.3 to 5 times the average thickness of the plasma polymerized film.
Thereby, the plasma polymerization film can be reliably divided between the resist film formation region and the non-formation region, and the plasma polymerization film can be patterned with high dimensional accuracy.
In the bonding method of the present invention, it is preferable that the total of the Si atom content and the O atom content is 10 to 90 atomic% among atoms obtained by removing H atoms from all atoms constituting the bonding film. .
Thereby, in the bonding film, Si atoms and O atoms form a strong network, and the bonding film itself becomes strong. Further, such a bonding film exhibits particularly high bonding strength with respect to the base material and other adherends.
本発明の接合方法では、前記接合膜中のSi原子とO原子の存在比は、3:7〜7:3であることが好ましい。
これにより、接合膜の安定性が高くなり、基材と他の被着体とをより強固に接合することができるようになる。
本発明の接合方法では、前記Si骨格の結晶化度は、45%以下であることが好ましい。
これにより、Si骨格は特にランダムな原子構造を含むものとなる。そして、寸法精度および接着性に優れた接合膜が得られる。
In the bonding method of the present invention, the abundance ratio of Si atoms and O atoms in the bonding film is preferably 3: 7 to 7: 3.
Thereby, stability of a joining film becomes high and it becomes possible to join a substrate and other adherends more firmly.
In the bonding method of the present invention, the crystallinity of the Si skeleton is preferably 45% or less.
As a result, the Si skeleton particularly includes a random atomic structure. And the joining film excellent in dimensional accuracy and adhesiveness is obtained.
本発明の接合方法では、前記接合膜は、Si−H結合を含んでいることが好ましい。
Si−H結合は、シロキサン結合の生成が規則的に行われるのを阻害すると考えられる。このため、シロキサン結合は、Si−H結合を避けるように形成されることとなり、Si骨格の規則性が低下する。このようにして、接合膜中にSi−H結合が含まれることにより、結晶化度の低いSi骨格を効率よく形成することができる。
In the bonding method of the present invention, it is preferable that the bonding film includes a Si—H bond.
Si-H bonds are thought to inhibit the regular formation of siloxane bonds. For this reason, the siloxane bond is formed so as to avoid the Si—H bond, and the regularity of the Si skeleton is lowered. In this manner, the Si skeleton having a low degree of crystallinity can be efficiently formed by including Si—H bonds in the bonding film.
本発明の接合方法では、前記Si−H結合を含む接合膜についての赤外光吸収スペクトルにおいて、シロキサン結合に帰属するピーク強度を1としたとき、Si−H結合に帰属するピーク強度が0.001〜0.2であることが好ましい。
これにより、接合膜中の原子構造は、相対的に最もランダムなものとなる。このため、接合膜は、接合強度、耐薬品性および寸法精度において特に優れたものとなる。
In the bonding method of the present invention, when the peak intensity attributed to the siloxane bond is 1 in the infrared absorption spectrum of the bonding film containing the Si—H bond, the peak intensity attributed to the Si—H bond is 0. It is preferable that it is 001-0.2.
As a result, the atomic structure in the bonding film becomes relatively random. For this reason, the bonding film is particularly excellent in bonding strength, chemical resistance and dimensional accuracy.
本発明の接合方法では、前記脱離基は、H原子、B原子、C原子、N原子、O原子、P原子、S原子およびハロゲン系原子、またはこれらの各原子が前記Si骨格に結合するよう配置された原子団からなる群から選択される少なくとも1種で構成されたものであることが好ましい。
これらの脱離基は、エネルギーの付与による結合/脱離の選択性に比較的優れている。このため、エネルギーを付与することによって比較的簡単に、かつ均一に脱離する脱離基が得られることとなり、接合膜付き基材の接着性をより高度化することができる。
In the bonding method of the present invention, the leaving group includes an H atom, a B atom, a C atom, an N atom, an O atom, a P atom, an S atom, and a halogen atom, or each of these atoms bonded to the Si skeleton. It is preferably composed of at least one selected from the group consisting of atomic groups arranged in such a manner.
These leaving groups are relatively excellent in binding / leaving selectivity by applying energy. For this reason, the leaving group which leaves | separates comparatively easily and uniformly by providing energy will be obtained, and the adhesiveness of the base material with a bonding film can be further enhanced.
本発明の接合方法では、前記脱離基は、アルキル基であることが好ましい。
これにより、耐候性および耐薬品性に優れた接合膜が得られる。
本発明の接合方法では、前記脱離基としてメチル基を含む接合膜についての赤外光吸収スペクトルにおいて、シロキサン結合に帰属するピーク強度を1としたとき、メチル基に帰属するピーク強度が0.05〜0.45であることが好ましい。
これにより、メチル基の含有率が最適化され、メチル基がシロキサン結合の生成を必要以上に阻害するのを防止しつつ、接合膜中に必要かつ十分な数の活性手が生じるため、接合膜に十分な接着性が生じる。また、接合膜には、メチル基に起因する十分な耐候性および耐薬品性が発現する。
In the bonding method of the present invention, the leaving group is preferably an alkyl group.
Thereby, a bonding film excellent in weather resistance and chemical resistance can be obtained.
In the bonding method of the present invention, in the infrared absorption spectrum of the bonding film containing a methyl group as the leaving group, when the peak intensity attributed to the siloxane bond is 1, the peak intensity attributed to the methyl group is 0. It is preferable that it is 05-0.45.
As a result, the content ratio of the methyl group is optimized, and a necessary and sufficient number of active hands are generated in the bonding film while preventing the methyl group from unnecessarily inhibiting the formation of the siloxane bond. Adhesiveness is sufficient. Further, the bonding film exhibits sufficient weather resistance and chemical resistance due to the methyl group.
本発明の接合方法では、前記接合膜は、その少なくとも表面付近に存在する前記脱離基が前記Si骨格から脱離した後に、活性手を有することが好ましい。
これにより、接合膜は、他の被着体に対して、化学的結合に基づいて強固に接合可能なものとなる。
本発明の接合方法では、前記活性手は、未結合手または水酸基であることが好ましい。
これにより、他の被着体に対して、特に強固な接合が可能となる。
In the bonding method of the present invention, it is preferable that the bonding film has an active hand after the leaving group existing at least near the surface thereof is released from the Si skeleton.
Thereby, the bonding film can be strongly bonded to other adherends based on chemical bonds.
In the bonding method of the present invention, the active hand is preferably a dangling bond or a hydroxyl group.
Thereby, especially strong joining is possible with respect to other adherends.
本発明の接合方法では、前記接合膜は、ポリオルガノシロキサンを主材料として構成されていることが好ましい。
これにより、接着性により優れた接合膜が得られる。また、この接合膜は、耐候性および耐薬品性に優れたものとなり、例えば、薬品類等に長期にわたって曝されるような基材の接合に際して、有効に用いられるものとなる。
In the bonding method of the present invention, the bonding film is preferably composed of polyorganosiloxane as a main material.
As a result, a bonding film superior in adhesiveness can be obtained. In addition, the bonding film has excellent weather resistance and chemical resistance, and is effectively used for bonding substrates that are exposed to chemicals and the like for a long time.
本発明の接合方法では、前記ポリオルガノシロキサンは、オクタメチルトリシロキサンの重合物を主成分とするものであることが好ましい。
これにより、接着性に特に優れた接合膜が得られる。
本発明の接合方法では、前記プラズマ重合法において、プラズマを発生させる際の高周波の出力密度は、0.01〜100W/cm2であることが好ましい。
これにより、高周波の出力密度が高過ぎて原料ガスに必要以上のプラズマエネルギーが付加されるのを防止しつつ、ランダムな原子構造を有するSi骨格を確実に形成することができる。
In the bonding method of the present invention, it is preferable that the polyorganosiloxane is mainly composed of a polymer of octamethyltrisiloxane.
Thereby, a bonding film having particularly excellent adhesiveness can be obtained.
In the bonding method of the present invention, in the plasma polymerization method, the high-frequency power density when generating plasma is preferably 0.01 to 100 W / cm 2 .
Accordingly, it is possible to reliably form a Si skeleton having a random atomic structure while preventing the plasma gas from being added to the source gas more than necessary due to the high frequency power density.
本発明の接合方法では、前記接合膜の平均厚さは、1〜1000nmであることが好ましい。
これにより、基材と他の被着体とを接合した接合体の寸法精度が著しく低下するのを防止しつつ、これらをより強固に接合することができる。
本発明の接合方法では、前記接合膜は、流動性を有しない固体状のものであることが好ましい。
これにより、接合膜付き基材を用いて得られた接合体の寸法精度は、従来に比べて格段に高いものとなる。また、従来に比べ、短時間で強固な接合が可能になる。
In the bonding method of the present invention, the average thickness of the bonding film is preferably 1 to 1000 nm.
Thereby, these can be joined more firmly, preventing the dimensional accuracy of the joined body which joined the base material and the other to-be-adhered body falling remarkably.
In the bonding method of the present invention, the bonding film is preferably a solid having no fluidity.
Thereby, the dimensional accuracy of the joined body obtained using the base material with a joining film becomes remarkably high compared with the past. In addition, stronger bonding can be achieved in a shorter time than in the past.
本発明の接合方法では、前記接合膜の屈折率は、1.35〜1.6であることが好ましい。
このような接合膜は、その屈折率が水晶や石英ガラスの屈折率に比較的近いため、例えば、接合膜を貫通するような構造の光学部品を製造する際に好適に用いられる。
本発明の接合方法では、前記エネルギーの付与は、前記接合膜にエネルギー線を照射する方法、前記接合膜を加熱する方法、および前記接合膜に圧縮力を付与する方法のうちの少なくとも1つの方法により行われることが好ましい。
これにより、接合膜に対して比較的簡単に効率よくエネルギーを付与することができる。
In the bonding method of the present invention, the refractive index of the bonding film is preferably 1.35 to 1.6.
Since such a bonding film has a refractive index relatively close to that of quartz or quartz glass, it is preferably used, for example, when manufacturing an optical component having a structure that penetrates the bonding film.
In the bonding method of the present invention, the energy is applied by at least one of a method of irradiating the bonding film with energy rays, a method of heating the bonding film, and a method of applying a compressive force to the bonding film. Is preferably carried out by
Thereby, energy can be imparted to the bonding film relatively easily and efficiently.
本発明の接合方法では、前記エネルギー線は、波長126〜300nmの紫外線であることが好ましい。
これにより、接合膜に付与されるエネルギー量が最適化されるので、接合膜中のSi骨格が必要以上に破壊されるのを防止しつつ、Si骨格と脱離基との間の結合を選択的に切断することができる。その結果、接合膜の特性(機械的特性、化学的特性等)が低下するのを防止しつつ、接合膜に接着性を発現させることができる。
In the bonding method of the present invention, the energy beam is preferably ultraviolet light having a wavelength of 126 to 300 nm.
This optimizes the amount of energy imparted to the bonding film, so that the bond between the Si skeleton and the leaving group is selected while preventing the Si skeleton in the bonding film from being destroyed more than necessary. Can be cut. As a result, the bonding film can exhibit adhesiveness while preventing the characteristics (mechanical characteristics, chemical characteristics, etc.) of the bonding film from deteriorating.
本発明の接合方法では、前記加熱の温度は、25〜100℃であることが好ましい。
これにより、接合体が熱によって変質・劣化するのを確実に防止しつつ、接合強度を確実に高めることができる。
本発明の接合方法では、前記圧縮力は、0.2〜10MPaであることが好ましい。
これにより、圧力が高すぎて基板や被着体に損傷等が生じるのを防止しつつ、接合体の接合強度を確実に高めることができる。
In the bonding method of the present invention, the heating temperature is preferably 25 to 100 ° C.
Thereby, it is possible to reliably increase the bonding strength while reliably preventing the bonded body from being deteriorated and deteriorated by heat.
In the joining method of the present invention, the compressive force is preferably 0.2 to 10 MPa.
Thereby, it is possible to reliably increase the bonding strength of the bonded body while preventing the substrate and the adherend from being damaged due to the pressure being too high.
本発明の接合方法では、前記エネルギーの付与は、大気雰囲気中で行われることが好ましい。
これにより、雰囲気を制御することに手間やコストをかける必要がなくなり、エネルギーの付与をより簡単に行うことができる。
本発明の接合方法では、前記被着体は、前記接合膜と同様の接合膜を有しており、
前記第2の工程において、前記各接合膜にエネルギーを付与した後、前記第3の工程において、前記各接合膜同士が密着するようにして、前記基材と前記被着体とを接合することが好ましい。
これにより、接合強度のさらなる向上を図ることができる。
In the bonding method of the present invention, it is preferable that the application of energy is performed in an air atmosphere.
Thereby, it is not necessary to spend time and cost to control the atmosphere, and energy can be applied more easily.
In the bonding method of the present invention, the adherend has a bonding film similar to the bonding film,
In the second step, after applying energy to the bonding films, in the third step, the bonding films are bonded to each other so that the bonding films are in close contact with each other. Is preferred.
Thereby, the joint strength can be further improved.
本発明の接合体は、2つの基材を有し、これらが本発明の接合方法により接合されていることを特徴とする。
これにより、2つの部材(基材)同士を、接合面の一部の領域において選択的に、高い寸法精度で強固に接合してなる接合体が得られる。
本発明の液滴吐出ヘッドは、本発明の接合体を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い液滴吐出ヘッドが得られる。
本発明の液滴吐出装置は、本発明の液滴吐出ヘッドを備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い液滴吐出装置が得られる。
The joined body of the present invention has two base materials, and these are joined by the joining method of the present invention.
Thereby, the joined body formed by joining two members (base materials) selectively with high dimensional accuracy selectively in a partial region of the joining surface is obtained.
A droplet discharge head according to the present invention includes the joined body according to the present invention.
Thereby, a highly reliable droplet discharge head can be obtained.
The liquid droplet ejection apparatus of the present invention includes the liquid droplet ejection head of the present invention.
Thereby, a highly reliable droplet discharge device can be obtained.
以下、本発明の接合方法、接合体、液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置を、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
<接合方法>
本発明の接合方法は、2つの基材(第1の基材2および第2の基材5)を、接合膜3を介して、接合面の一部の領域において位置選択的に接合する方法である。かかる方法によれば、2つの基材2、5を、接合面の一部の領域において、位置選択的に、高い寸法精度で強固に接合することができる。
Hereinafter, a bonding method, a bonded body, a droplet discharge head, and a droplet discharge device according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
<Join method>
The bonding method of the present invention is a method in which two base materials (the
また、接合膜3は、プラズマ重合法により形成されたものであり、シロキサン(Si−O)結合を含むランダムな原子構造を有するSi骨格と、このSi骨格に結合する脱離基とを含むものである。
このような接合膜3は、エネルギーを付与することにより、接合膜3の少なくとも表面付近に存在する脱離基がSi骨格から脱離するものである。そして、この接合膜3は、脱離基の脱離によって、その表面のエネルギーを付与した領域に、他の被着体との接着性が発現するという特徴を有するものである。
このような特徴を有する接合膜3は、2つの基材2、5間を、高い寸法精度で強固に、かつ低温下で効率よく接合可能なものである。そして、かかる接合膜3を用いることにより、2つの基材2、5間が強固に接合してなる信頼性の高い接合体6が得られる。
The
Such a
The
ここでは、本発明の接合方法を説明するのに先立って、まず、前述のプラズマ重合膜を形成するのに用いられるプラズマ重合装置について説明する。
図1は、本発明の接合方法に用いられるプラズマ重合装置を模式的に示す縦断面図である。なお、以下の説明では、図1中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
図1に示すプラズマ重合装置100は、チャンバー101と、第1の基材2を支持する第1の電極130と、第2の電極140と、各電極130、140間に高周波電圧を印加する電源回路180と、チャンバー101内にガスを供給するガス供給部190と、チャンバー101内のガスを排気する排気ポンプ170とを備えている。これらの各部のうち、第1の電極130および第2の電極140がチャンバー101内に設けられている。以下、各部について詳細に説明する。
Here, prior to describing the bonding method of the present invention, first, a plasma polymerization apparatus used to form the above-described plasma polymerization film will be described.
FIG. 1 is a longitudinal sectional view schematically showing a plasma polymerization apparatus used in the bonding method of the present invention. In the following description, the upper side in FIG. 1 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
A
チャンバー101は、内部の気密を保持し得る容器であり、内部を減圧(真空)状態にして使用されるため、内部と外部との圧力差に耐え得る耐圧性能を有するものとされる。
図1に示すチャンバー101は、軸線が水平方向に沿って配置されたほぼ円筒形をなすチャンバー本体と、チャンバー本体の左側開口部を封止する円形の側壁と、右側開口部を封止する円形の側壁とで構成されている。
The
A
チャンバー101の上方には供給口103が、下方には排気口104が、それぞれ設けられている。そして、供給口103にはガス供給部190が接続され、排気口104には排気ポンプ170が接続されている。
なお、本実施形態では、チャンバー101は、導電性の高い金属材料で構成されており、接地線102を介して電気的に接地されている。
A
In this embodiment, the
第1の電極130は、板状をなしており、第1の基材2を支持している。
この第1の電極130は、チャンバー101の側壁の内壁面に、鉛直方向に沿って設けられており、これにより、第1の電極130は、チャンバー101を介して電気的に接地されている。なお、第1の電極130は、図1に示すように、チャンバー本体と同心状に設けられている。
The
The
第1の電極130の第1の基材2を支持する面には、静電チャック(吸着機構)139が設けられている。
この静電チャック139により、図1に示すように、第1の基材2を鉛直方向に沿って支持することができる。また、第1の基材2に多少の反りがあっても、静電チャック139に吸着させることにより、その反りを矯正した状態で第1の基材2をプラズマ処理に供することができる。
An electrostatic chuck (suction mechanism) 139 is provided on the surface of the
As shown in FIG. 1, the
第2の電極140は、第1の基材2を介して、第1の電極130と対向して設けられている。なお、第2の電極140は、チャンバー101の側壁の内壁面から離間した(絶縁された)状態で設けられている。
この第2の電極140には、配線184を介して高周波電源182が接続されている。また、配線184の途中には、マッチングボックス(整合器)183が設けられている。これらの配線184、高周波電源182およびマッチングボックス183により、電源回路180が構成されている。
このような電源回路180によれば、第1の電極130は接地されているので、第1の電極130と第2の電極140との間に高周波電圧が印加される。これにより、第1の電極130と第2の電極140との間隙には、高い周波数で向きが反転する電界が誘起される。
The
A high
According to such a
ガス供給部190は、チャンバー101内に所定のガスを供給するものである。
図1に示すガス供給部190は、液状の膜材料(原料液)を貯留する貯液部191と、液状の膜材料を気化してガス状に変化させる気化装置192と、キャリアガスを貯留するガスボンベ193とを有している。また、これらの各部とチャンバー101の供給口103とが、それぞれ配管194で接続されており、ガス状の膜材料(原料ガス)とキャリアガスとの混合ガスを、供給口103からチャンバー101内に供給するように構成されている。
The
A
貯液部191に貯留される液状の膜材料は、プラズマ重合装置100により、重合して第1の基材2の表面に重合膜を形成する原材料となるものである。
このような液状の膜材料は、気化装置192により気化され、ガス状の膜材料(原料ガス)となってチャンバー101内に供給される。なお、原料ガスについては、後に詳述する。
The liquid film material stored in the
Such a liquid film material is vaporized by the
ガスボンベ193に貯留されるキャリアガスは、電界の作用により放電し、およびこの放電を維持するために導入するガスである。このようなキャリアガスとしては、例えば、Arガス、Heガス等が挙げられる。
また、チャンバー101内の供給口103の近傍には、拡散板195が設けられている。
The carrier gas stored in the
A
拡散板195は、チャンバー101内に供給される混合ガスの拡散を促進する機能を有する。これにより、混合ガスは、チャンバー101内に、ほぼ均一の濃度で分散することができる。
排気ポンプ170は、チャンバー101内を排気するものであり、例えば、油回転ポンプ、ターボ分子ポンプ等で構成される。このようにチャンバー101内を排気して減圧することにより、ガスを容易にプラズマ化することができる。また、大気雰囲気との接触による第1の基材2の汚染・酸化等を防止するとともに、プラズマ処理による反応生成物をチャンバー101内から効果的に除去することができる。
また、排気口104には、チャンバー101内の圧力を調整する圧力制御機構171が設けられている。これにより、チャンバー101内の圧力が、ガス供給部190の動作状況に応じて、適宜設定される。
The
The
The
≪第1実施形態≫
次に、本発明の接合方法の第1実施形態について、上記のプラズマ重合装置100を用いた場合を例に説明する。
図2および図3は、本発明の接合方法の第1実施形態を説明するための図(縦断面図)である。なお、以下の説明では、図2および図3中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
<< First Embodiment >>
Next, the first embodiment of the bonding method of the present invention will be described by taking the case of using the
2 and 3 are views (longitudinal sectional views) for explaining the first embodiment of the joining method of the present invention. In the following description, the upper side in FIGS. 2 and 3 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
本実施形態にかかる接合方法は、第1の基材2を用意し、第1の基材2の接合面200上の一部の領域にレジスト膜4を形成する工程と、接合面200全体に、プラズマ重合法によりプラズマ重合膜3’を成膜する工程と、レジスト膜4を除去し、リフトオフ法によりプラズマ重合膜3’をパターニングして接合膜3を得る工程(第1の工程)と、接合膜3にエネルギーを付与する工程(第2の工程)と、第2の基材5(被着体)を用意し、接合膜3と第2の基材5とが密着するように、第1の基材2と第2の基材5とを接合し、接合体6を得る工程(第3の工程)とを有する。以下、各工程について順次説明する。
In the bonding method according to the present embodiment, the
[1]まず、第1の基材2を用意する。
このような第1の基材2の構成材料は、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アラミド系樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の樹脂系材料、Fe、Ni、Co、Cr、Mn、Zn、Pt、Au、Ag、Cu、Pd、Al、W、Ti、V、Mo、Nb、Zr、Pr、Nd、Smのような金属、またはこれらの金属を含む合金、炭素鋼、ステンレス鋼、酸化インジウムスズ(ITO)、ガリウムヒ素のような金属系材料、単結晶シリコン、多結晶シリコン、非晶質シリコンのようなシリコン系材料、ケイ酸ガラス(石英ガラス)、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリ石灰ガラス、鉛(アルカリ)ガラス、バリウムガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス系材料、アルミナ、ジルコニア、フェライト、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化チタン、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、炭化タングステンのようなセラミックス系材料、グラファイトのような炭素系材料、またはこれらの各材料の1種または2種以上を組み合わせた複合材料等が挙げられる。
[1] First, the
The constituent material of the first base 2 is made of polyolefin such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), cyclic polyolefin, modified polyolefin, polyvinyl chloride, poly Vinylidene chloride, polystyrene, polyamide, polyimide, polyamideimide, polycarbonate, poly- (4-methylpentene-1), ionomer, acrylic resin, polymethyl methacrylate, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), acrylonitrile Styrene copolymer (AS resin), butadiene-styrene copolymer, polyoxymethylene, polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyethylene terephthalate (PE ), Polyester such as polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate (PBT), polycyclohexane terephthalate (PCT), polyether, polyether ketone (PEK), polyether ether ketone (PEEK), polyether imide, polyacetal (POM), Polyphenylene oxide, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, aromatic polyester (liquid crystal polymer), polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, other fluororesins, styrene, polyolefin, polychlorination Vinyl, polyurethane, polyester, polyamide, polybutadiene, trans polyisoprene, fluoro rubber, chlorinated polyester Various thermoplastic elastomers such as len, epoxy resins, phenol resins, urea resins, melamine resins, aramid resins, unsaturated polyesters, silicone resins, polyurethanes, etc., or copolymers, blends, polymer alloys mainly containing these Such as Fe, Ni, Co, Cr, Mn, Zn, Pt, Au, Ag, Cu, Pd, Al, W, Ti, V, Mo, Nb, Zr, Pr, Nd, Sm, etc. Metals or alloys containing these metals, carbon steel, stainless steel, indium tin oxide (ITO), metal materials such as gallium arsenide, silicon materials such as single crystal silicon, polycrystalline silicon, amorphous silicon , Silicate glass (quartz glass), alkali silicate glass, soda lime glass, potash lime glass, lead (alkali) glass, barium Glass, glass materials such as borosilicate glass, ceramic materials such as alumina, zirconia, ferrite, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, titanium nitride, silicon carbide, boron carbide, titanium carbide, tungsten carbide, graphite Such a carbon-based material, or a composite material obtained by combining one or more of these materials.
また、第1の基材2は、その表面に、Niめっきのようなめっき処理、クロメート処理のような不働態化処理、または窒化処理等を施したものであってもよい。
また、第1の基材2の形状は、接合膜3を支持する面を有するような形状であればよく、板状のものに限定されない。すなわち、基材の形状は、例えば、塊状(ブロック状)、棒状等であってもよい。
Moreover, the
Moreover, the shape of the
次に、必要に応じて、第1の基材2の接合面200に表面処理を施す。これにより、接合面200を清浄化および活性化する。その結果、後述する工程において、接合面200上に接合膜3を形成したとき、接合面200と接合膜3との接合強度を高めることができる。
かかる表面処理としては、例えば、スパッタリング処理、ブラスト処理のような物理的表面処理、酸素プラズマ、窒素プラズマ等を用いたプラズマ処理、コロナ放電処理、エッチング処理、電子線照射処理、紫外線照射処理、オゾン暴露処理のような化学的表面処理、または、これらを組み合わせた処理等が挙げられる。このような処理を施すことにより、第1の基材2の接合膜3を形成すべき領域を清浄化するとともに、該領域を活性化させることができる。これにより、第1の基材2に対する接合膜3の密着強度を高めることができる。
Next, a surface treatment is performed on the
Examples of the surface treatment include physical surface treatment such as sputtering treatment and blast treatment, plasma treatment using oxygen plasma, nitrogen plasma, etc., corona discharge treatment, etching treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet irradiation treatment, ozone Examples include chemical surface treatment such as exposure treatment, or a combination of these. By performing such treatment, the region where the
また、これらの各表面処理の中でもプラズマ処理を用いることにより、接合膜3を形成するために、第1の基材2の表面を特に最適化することができる。
なお、表面処理を施す第1の基材2が、樹脂材料(高分子材料)で構成されている場合には、特に、コロナ放電処理、窒素プラズマ処理等が好適に用いられる。
また、第1の基材2の構成材料によっては、上記のような表面処理を施さなくても、接合膜3の接合強度が十分に高くなるものがある。このような効果が得られる第1の基材2の構成材料としては、例えば、前述したような各種金属系材料、各種シリコン系材料、各種ガラス系材料等を主材料とするものが挙げられる。
In addition, by using plasma treatment among these surface treatments, the surface of the
In addition, when the
Further, depending on the constituent material of the
このような材料で構成された第1の基材2は、その表面が酸化膜で覆われており、この酸化膜の表面には、比較的活性の高い水酸基が結合している。したがって、このような材料で構成された第1の基材2を用いると、上記のような表面処理を施さなくても、第1の基材2に対する接合膜3の密着強度を高めることができる。
なお、この場合、第1の基材2の全体が上記のような材料で構成されていなくてもよく、少なくとも接合膜3を形成すべき領域の表面付近が上記のような材料で構成されていればよい。
The surface of the
In this case, the entire
また、表面処理に代えて、第1の基材2の少なくとも接合膜3を形成すべき領域には、あらかじめ、中間層を形成しておくのが好ましい。
この中間層は、いかなる機能を有するものであってもよく、例えば、接合膜3との密着性を高める機能、クッション性(緩衝機能)、応力集中を緩和する機能等を有するものが好ましい。このような中間層を介して第1の基材2と接合膜3とが密着することにより、信頼性の高い接合体を得ることができる。
In place of the surface treatment, it is preferable to form an intermediate layer in advance in at least a region where the
The intermediate layer may have any function. For example, a layer having a function of improving adhesion to the
かかる中間層の構成材料としては、例えば、アルミニウム、チタンのような金属系材料、金属酸化物、シリコン酸化物のような酸化物系材料、金属窒化物、シリコン窒化物のような窒化物系材料、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボンのような炭素系材料、シランカップリング剤、チオール系化合物、金属アルコキシド、金属−ハロゲン化合物のような自己組織化膜材料、樹脂系接着剤、樹脂フィルム、樹脂コーティング材、各種ゴム材料、各種エラストマーのような樹脂系材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、これらの各材料で構成された中間層の中でも、酸化物系材料で構成された中間層によれば、第1の基材2に対する接合膜3の密着強度を特に高めることができる。
Examples of the constituent material of the intermediate layer include metal materials such as aluminum and titanium, metal oxides, oxide materials such as silicon oxide, metal nitrides, and nitride materials such as silicon nitride. Carbon materials such as graphite and diamond-like carbon, silane coupling agents, thiol compounds, metal alkoxides, self-assembled film materials such as metal-halogen compounds, resin adhesives, resin films, resin coating materials, Various rubber materials, resin materials such as various elastomers, and the like can be used, and one or more of these can be used in combination.
Further, among the intermediate layers made of these materials, the intermediate layer made of an oxide-based material can particularly increase the adhesion strength of the
[2]次に、図2(a)に示すように、第1の基材2の接合面200上の一部の領域201のみにレジスト膜4を形成する。
このレジスト膜4は、後述する工程で除去し得るものであれば特に限定されないが、好ましくは樹脂膜または金属膜とされる。これらの膜をレジスト膜4として用いることにより、後述する工程でこのレジスト膜4上に成膜されるプラズマ重合膜3’(接合膜3)を侵すことなく、後述するレジスト膜除去工程において、レジスト膜4のみを選択的に除去することができる。その結果、プラズマ重合膜3’を確実にパターニングすることができる。
[2] Next, as shown in FIG. 2A, the resist
The resist
なお、領域201のみにレジスト膜4を形成するためには、以下のようにすればよい。ここでは、レジスト膜4が熱硬化性または光硬化性の樹脂膜である場合を例に説明する。
まず、接合面200上の全面にレジスト材料を供給し、レジスト膜を得る。レジスト材料の供給方法は、特に限定されないが、液滴吐出法(インクジェット法)を用いることにより、微細な形状の領域にも正確にレジスト材料を供給することができるので、寸法精度の高いレジスト膜を得ることができる。
In order to form the resist
First, a resist material is supplied over the
次いで、得られたレジスト膜の一部に光や熱を付与することにより、図2(a)に示す一部の領域201に位置するレジスト膜のみを固化させて残存させ、残る領域202に位置するレジスト膜を固化させずに除去する(パターニング)。なお、このレジスト膜は、ポジ型およびネガ型のいずれでもよい。
なお、レジスト膜4の平均厚さは、後述する工程で成膜するプラズマ重合膜3’の厚さや、レジスト膜4の厚さに応じてプラズマ重合膜3’の表面に生じる段差の許容高さ等に応じて適宜設定されるが、好ましくは1〜5000μm程度、より好ましくは5〜3000μm程度とされる。レジスト膜4の平均厚さをこのような範囲に設定することにより、レジスト膜4を溶解する溶媒の浸入性が十分に確保され、レジスト膜4を速やかに除去することができ、かつ、プラズマ重合膜3’に著しい段差が生じるのを防止することができる。
Next, by applying light or heat to a part of the obtained resist film, only the resist film located in a part of the
Note that the average thickness of the resist
また、レジスト膜4の平均厚さは、プラズマ重合膜3’の平均厚さを1としたとき、0.3〜5程度であるのが好ましく、0.5〜2程度であるのがより好ましい。これにより、レジスト膜4の形成領域と非形成領域との間で、プラズマ重合膜3’を確実に分断することができ、プラズマ重合膜3’を高い寸法精度でパターニングすることができる。
以上のようにして、領域201に選択的に設けられたレジスト膜4が得られる(図2(a)参照)。
The average thickness of the resist
As described above, the resist
[3]次に、図2(b)に示すように、第1の基材2の接合面200上の全面(レジスト膜4を包含する領域)にシラン系ガスを原料ガスとしてプラズマ重合法により成膜する。これにより、図2(c)に示すプラズマ重合膜3’を得る。
かかるプラズマ重合膜3’は、強電界中に、原料ガスとキャリアガスとの混合ガスを供給することにより、原料ガス中の分子を重合して得ることができる。
[3] Next, as shown in FIG. 2B, the entire surface (region including the resist film 4) on the
The plasma polymerized
具体的には、まず、チャンバー101内に第1の基材2を収納して封止状態とした後、排気ポンプ170の作動により、チャンバー101内を減圧状態とする。
次に、ガス供給部190を作動させ、チャンバー101内に原料ガスとキャリアガスの混合ガスを供給する。供給された混合ガスは、チャンバー101内に充填される。
混合ガス中における原料ガスの占める割合(混合比)は、原料ガスやキャリアガスの種類や目的とする成膜速度等によって若干異なるが、例えば、混合ガス中の原料ガスの割合を20〜70%程度に設定するのが好ましく、30〜60%程度に設定するのがより好ましい。これにより、重合膜の形成(成膜)の条件の最適化を図ることができる。
Specifically, first, the
Next, the
The ratio (mixing ratio) of the raw material gas in the mixed gas is slightly different depending on the kind of the raw material gas and the carrier gas, the target film forming speed, and the like. It is preferable to set it to a degree, and it is more preferable to set it to about 30 to 60%. As a result, it is possible to optimize the conditions for formation (film formation) of the polymer film.
また、供給するガスの流量は、ガスの種類や目的とする成膜速度、膜厚等によって適宜決定され、特に限定されるものではないが、通常は、原料ガスおよびキャリアガスの流量を、それぞれ、1〜100ccm程度に設定するのが好ましく、10〜60ccm程度に設定するのがより好ましい。
次いで、電源回路180を作動させ、一対の電極130、140間に高周波電圧を印加する。これにより、一対の電極130、140間に存在するガスの分子が電離し、プラズマが発生する。このプラズマのエネルギーにより原料ガス中の分子が重合し、図2(b)に示すように、重合物が第1の基材2上に付着・堆積する。これにより、第1の基材2上にプラズマ重合膜3’が形成される(図2(c)参照)。
Further, the flow rate of the gas to be supplied is appropriately determined depending on the type of gas, the target film formation rate, the film thickness, etc., and is not particularly limited, but usually the flow rates of the source gas and the carrier gas are respectively , Preferably about 1 to 100 ccm, more preferably about 10 to 60 ccm.
Next, the
また、プラズマの作用により、第1の基材2の表面が活性化・清浄化される。このため、原料ガスの重合物が第1の基材2の表面に堆積し易くなり、プラズマ重合膜3’の安定した成膜が可能になる。このようにプラズマ重合法によれば、第1の基材2の構成材料によらず、第1の基材2とプラズマ重合膜3’との密着強度をより高めることができる。
原料ガスとしては、例えば、メチルシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、メチルフェニルシロキサンのようなオルガノシロキサン等が挙げられる。
このような原料ガスを用いて得られるプラズマ重合膜、すなわちプラズマ重合膜3’は、これらの原料が重合してなるもの(重合物)、すなわちポリオルガノシロキサンで構成されることとなる。これにより、プラズマ重合膜3’は、最終的に第1の基材2と第2の基材5とをより強固に接合することができる。
Moreover, the surface of the
Examples of the source gas include organosiloxanes such as methylsiloxane, octamethyltrisiloxane, decamethyltetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, and methylphenylsiloxane.
The plasma polymerized film obtained by using such a raw material gas, that is, the plasma polymerized
[4]次に、図2(d)に示すように、レジスト膜4を除去する。
レジスト膜4の除去は、レジスト膜4を溶媒等に浸漬し、レジスト膜4を溶解する等して行われる。溶媒に溶解したレジスト膜4は、プラズマ重合膜3’と第1の基材2との隙間から漏れ出し、レジスト膜4が存在していた部分は空洞になる。
また、レジスト膜4が除去されると、レジスト膜4とともにその上に設けられていたプラズマ重合膜3’も図2(e)に示すように第1の基材2から剥離し、除去されることとなる。これにより、領域202に位置するプラズマ重合膜3’のみが残存し、領域201には穴部32が形成される。その結果、図3(f)に示すように、領域202のみに形成された接合膜3が得られる。以上のようにしてプラズマ重合膜3’をパターニングする方法を「リフトオフ法」と言う。
ここで、プラズマ重合膜3’のような被膜をパターニングする場合、従来は、フォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを組み合わせる方法が一般的であった。
[4] Next, as shown in FIG. 2D, the resist
The removal of the resist
Further, when the resist
Here, in the case of patterning a film such as the plasma polymerized
図12には、基材802上に成膜したプラズマ重合膜803を、フォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを組み合わせてパターニングする方法(従来技術)を示す。
この方法では、まず、図12(a)に示すように、基材802上にプラズマ重合膜803を成膜する。次いで、図12(b)に示すように、プラズマ重合膜803上にレジスト膜804を形成する。このレジスト膜804は、後述する工程でプラズマ重合膜803をエッチングする領域に対応した窓部807を有するものである。次に、図12(c)に示すように、プラズマ重合膜803にエッチング処理を施すことにより、窓部807から露出した部分のプラズマ重合膜803がエッチングされる(図12(d)参照)。その後、レジスト膜804を除去することにより、図12(e)に示すように、プラズマ重合膜803が所定の形状にパターニングされる。
FIG. 12 shows a method (prior art) of patterning a
In this method, first, a
ところが、このような従来の方法では、一旦、基材802上の全面にプラズマ重合膜803を形成した後、このプラズマ重合膜803を部分的に除去する方法でパターニングするが、このとき、プラズマ重合膜803を完全には除去することが不可能である。すなわち、プラズマ重合膜803中のシリコン成分が基材802上に残存してしまう。このように残存したシリコン成分は、基材802の比重に意図しない変化をもたらすおそれがある。このため、例えば基材802が振動子を構成している場合、残存したシリコン成分により、基材802の振動数が設計値から逸脱することが懸念される。また、プラズマ重合膜803を除去した後、その部分に別の膜を成膜する場合、シリコン成分の影響で膜の密着性が低下するおそれがある。
However, in such a conventional method, a
また、上記の方法では、先にプラズマ重合膜803を成膜した後、その上にレジスト膜804を形成する。このため、プラズマ重合膜803の上面にレジスト材料が付着し、汚染されることとなる。このようにしてプラズマ重合膜803の上面が汚染されると、エネルギーを付与してもプラズマ重合膜803に十分な接着性が発現しなくなる。その結果、パターニングされたプラズマ重合膜803は、接合膜としての機能を失うおそれがある。
In the above method, the
このような従来の方法に対し、本発明では、第1の基材2の接合面200のうち、プラズマ重合膜3’を成膜しない領域(領域201)に、プラズマ重合膜3’の成膜に先立ってレジスト膜4を形成する。このため、領域201はレジスト膜4によって保護されることになり、領域201にシリコン成分が付着するのを防止することができる。
また、本発明では、第1の基材2とプラズマ重合膜3’との間にレジスト膜4を形成するので、プラズマ重合膜3’の上面にレジスト材料が付着するのを防止することができる。
In contrast to such a conventional method, in the present invention, the plasma polymerized
In the present invention, since the resist
以上のようなことから、本発明の接合方法によれば、第1の基材2に対してシリコン成分が残存するのを防止するとともに、プラズマ重合膜3’の上面にレジスト材料が付着するのを防止することができるので、第1の基材2の比重の予期せぬ変化を防止するとともに、プラズマ重合膜3’の接着性が損なわれるのを防止することができる。
このようにして得られた接合膜3は、前述したようにポリオルガノシロキサンで構成されたものとなる。このポリオルガノシロキサンは、通常、撥水性を示すが、各種の活性化処理を施すことにより、容易に有機基等の脱離基を脱離させることができ、親水性に変化することができる。すなわち、接合膜3の撥水性と親水性の制御を容易に行えるという利点がある。
As described above, according to the bonding method of the present invention, it is possible to prevent the silicon component from remaining on the
The
また、撥水性を示すポリオルガノシロキサンで構成された接合膜3は、後述する工程において、第2の基材5と接触させても、接合膜3の表面にある有機基等の脱離基によって接着が阻害されることとなり、極めて接着し難い。一方、親水性を示すポリオルガノシロキサンで構成された接合膜3は、第2の基材に接触させると、両者の接着が可能になる。すなわち、撥水性と親水性の制御を容易に行えるという利点は、接着性の制御を容易に行えるという利点に繋がるため、ポリオルガノシロキサンで構成された接合膜3は、本発明の接合方法において好適に用いられるものとなる。
Further, even when the
また、ポリオルガノシロキサンは、比較的柔軟性に富んでいるので、例えば、第1の基材2と第2の基材5との各構成材料が互いに異なる場合でも、各基材2、5間に生じる熱膨張に伴う応力を緩和することができる。これにより、最終的に得られる接合体6において、剥離を確実に防止することができる。
さらに、ポリオルガノシロキサンは、耐薬品性に優れているため、薬品類等に長期にわたって曝されるような部材の接合に際して効果的に用いることができる。具体的には、例えば、樹脂材料を浸食し易い有機系インクが用いられる工業用インクジェットプリンタの液滴吐出ヘッドを製造する際に、ポリオルガノシロキサンを主材料とする接合膜3を用いることにより、その耐久性を向上させることができる。
In addition, since polyorganosiloxane is relatively flexible, for example, even when the constituent materials of the
Furthermore, since polyorganosiloxane is excellent in chemical resistance, it can be effectively used for joining members that are exposed to chemicals for a long time. Specifically, for example, when manufacturing a droplet discharge head of an industrial inkjet printer in which an organic ink that easily erodes a resin material is used, by using the
また、ポリオルガノシロキサンの中でも、特に、オクタメチルトリシロキサンの重合物を主成分とするものが好ましい。オクタメチルトリシロキサンの重合物を主成分とするプラズマ重合膜は、接着性に特に優れることから、本発明の接合方法において、特に好適に用いられるものである。また、オクタメチルトリシロキサンを主成分とする原料は、常温で液状をなし、適度な粘度を有するため、取り扱いが容易であるという利点もある。 Further, among polyorganosiloxanes, those mainly composed of a polymer of octamethyltrisiloxane are preferred. A plasma polymerized film containing a polymer of octamethyltrisiloxane as a main component is particularly excellent in adhesiveness, and therefore is particularly preferably used in the bonding method of the present invention. Moreover, since the raw material which has octamethyltrisiloxane as a main component is liquid at normal temperature and has an appropriate viscosity, there is also an advantage that it is easy to handle.
また、ポリオルガノシロキサンは、Si−H結合を含んでいるのが好ましい。このSi−H結合を適度に含んだポリオルガノシロキサンにおいては、Si−H結合がシロキサン結合の生成が規則的に行われるのを阻害すると考えられる。これにより、シロキサン結合は、Si−H結合を避けるように形成されることとなり、ポリオルガノシロキサン中のSi骨格の規則性が低下する。その結果、ポリオルガノシロキサンを主材料とする接合膜3は、結晶性が低いものとなる。
このような結晶性の低いプラズマ重合膜は、結晶材料特有の結晶粒界における転位やズレ等の欠陥が生じ難くなる。このため、接合膜3自体が接合強度、耐薬品性および寸法精度の高いものとなり、最終的に得られる接合体においても、接合強度、耐薬品性および寸法精度の高いものが得られる。
The polyorganosiloxane preferably contains Si-H bonds. In the polyorganosiloxane that appropriately contains Si—H bonds, it is considered that the Si—H bonds inhibit the generation of siloxane bonds regularly. As a result, the siloxane bond is formed so as to avoid the Si—H bond, and the regularity of the Si skeleton in the polyorganosiloxane is lowered. As a result, the
Such a plasma polymerized film having low crystallinity is less likely to cause defects such as dislocations and deviations at crystal grain boundaries peculiar to the crystal material. For this reason, the
一方、ポリオルガノシロキサン中のSi−H結合の含有率が多ければ多いほど前述した接合膜3の特性が向上するわけではなく、Si−H結合の含有率は所定の範囲内にあるのが好ましい。すなわち、ポリオルガノシロキサンの赤外光吸収スペクトルにおいて、シロキサン結合に帰属するピークの強度を1としたとき、Si−H結合に帰属するピークの強度は、0.001〜0.2程度であるのが好ましく、0.002〜0.05程度であるのがより好ましく、0.005〜0.02程度であるのがさらに好ましい。Si−H結合のシロキサン結合に対する割合が前記範囲内であることにより、シロキサン結合によって接合膜3の骨格部分が構築され、これにより膜強度が高くなる作用と、Si−H結合によるポリオルガノシロキサンの結晶性低下の作用とを、高度に両立することができる。その結果、接合膜3は、接合強度、耐薬品性および寸法精度において特に優れたものとなる。
On the other hand, the greater the Si—H bond content in the polyorganosiloxane, the better the characteristics of the
また、このような接合膜3は、流動性を有しない固体状のものとなる。このため、従来、流動性を有する液状または粘液状の接着剤に比べて、接着層(接合膜3)の厚さや形状がほとんど変化しない。これにより、本発明の接合方法により得られた接合体6の寸法精度は、従来に比べて格段に高いものとなる。さらに、接着剤の硬化に要する時間が不要になるため、短時間で強固な接合が可能となる。
Further, such a
このような接合膜3としては、特に、接合膜3を構成する全原子からH原子を除いた原子のうち、Si原子の含有率とO原子の含有率の合計が、10〜90原子%程度であるのが好ましく、20〜80原子%程度であるのがより好ましい。Si原子とO原子とが、前記範囲の含有率で含まれていれば、接合膜3は、Si原子とO原子とが強固なネットワークを形成し、接合膜3自体が強固なものとなる。また、かかる接合膜3は、第1の基材2と第2の基材5とを特に高い接合強度で接合することができる。
As such a
また、接合膜3中のSi原子とO原子の存在比は、3:7〜7:3程度であるのが好ましく、4:6〜6:4程度であるのがより好ましい。Si原子とO原子の存在比を前記範囲内になるよう設定することにより、接合膜3の安定性が高くなり、第1の基材2と第2の基材5とをより強固に接合することができるようになる。
なお、接合膜3中のSi骨格の結晶化度は、45%以下であるのが好ましく、40%以下であるのがより好ましい。これにより、Si骨格は十分にランダムな原子構造を含むものとなる。このため、前述したSi骨格の特性が顕在化し、接合膜3の寸法精度および接着性がより優れたものとなる。
The abundance ratio of Si atoms and O atoms in the
Note that the crystallinity of the Si skeleton in the
また、ポリオルガノシロキサンに活性化処理を施すことによって、接合膜3から脱離する前述の脱離基は、ポリオルガノシロキサン中のSi骨格から脱離することによって、接合膜3に活性手を生じさせるよう振る舞うものである。したがって、脱離基には、エネルギーを付与されることによって、比較的簡単に、かつ均一に脱離するものの、エネルギーが付与されないときには、脱離しないようSi骨格に確実に結合しているものである必要がある。
In addition, when the polyorganosiloxane is activated, the above-described leaving group that is released from the
このような脱離基としては、例えば、H原子、B原子、C原子、N原子、O原子、P原子、S原子およびハロゲン系原子、またはこれらの各原子を含み、これらの各原子がポリオルガノシロキサン中のSi骨格に結合するよう配置された原子団からなる群から選択される少なくとも1種で構成されたものが好ましく用いられる。かかる脱離基は、エネルギーの付与による結合/脱離の選択性に比較的優れている。このため、このような脱離基は、上記のような必要性を十分に満足し得るものとなり、接合膜3の接着性をより高度なものとすることができる。
Examples of such a leaving group include an H atom, a B atom, a C atom, an N atom, an O atom, a P atom, an S atom, and a halogen atom, or each of these atoms. What consists of at least 1 sort (s) selected from the group which consists of an atomic group arrange | positioned so that it may couple | bond with Si skeleton in organosiloxane is used preferably. Such a leaving group is relatively excellent in bond / elimination selectivity by energy application. For this reason, such a leaving group can sufficiently satisfy the above-described necessity, and the adhesiveness of the
また、上記のような各原子がポリオルガノシロキサン中のSi骨格に結合するように配置された原子団(基)としては、例えば、メチル基、エチル基のようなアルキル基、ビニル基、アリル基のようなアルケニル基、アルデヒド基、ケトン基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、ニトロ基、ハロゲン化アルキル基、メルカプト基、スルホン酸基、シアノ基、イソシアネート基等が挙げられる。 Examples of the atomic group (group) arranged so that each atom as described above is bonded to the Si skeleton in the polyorganosiloxane include, for example, an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, a vinyl group, and an allyl group. Alkenyl group, aldehyde group, ketone group, carboxyl group, amino group, amide group, nitro group, halogenated alkyl group, mercapto group, sulfonic acid group, cyano group, isocyanate group and the like.
これらの各基の中でも、前述の有機基は、特にアルキル基であるのが好ましい。アルキル基は化学的な安定性が高いため、アルキル基を含む接合膜3は、耐候性および耐薬品性に優れたものとなる。
ここで、前述の有機基がメチル基(−CH3)である場合、その好ましい含有率は、赤外光吸収スペクトルにおけるピーク強度から以下のように規定される。
Among these groups, the aforementioned organic group is particularly preferably an alkyl group. Since the alkyl group has high chemical stability, the
Here, when the organic group described above is a methyl group (-CH 3), the preferred content is defined as follows from the peak intensity in the infrared light absorption spectrum.
すなわち、ポリオルガノシロキサンの赤外光吸収スペクトルにおいて、シロキサン結合に帰属するピークの強度を1としたとき、メチル基に帰属するピークの強度は、0.05〜0.45程度であるのが好ましく、0.1〜0.4程度であるのがより好ましく、0.2〜0.3程度であるのがさらに好ましい。メチル基のピーク強度がシロキサン結合のピーク強度に対する割合が前記範囲内であることにより、メチル基がシロキサン結合の生成を必要以上に阻害してしまうのを防止しつつ、ポリオルガノシロキサン中に必要かつ十分な数の活性手が生じるため、接合膜3に十分な接着性が生じる。また、接合膜3には、メチル基に起因する十分な耐候性および耐薬品性が発現する。
That is, in the infrared absorption spectrum of polyorganosiloxane, when the intensity of the peak attributed to the siloxane bond is 1, the intensity of the peak attributed to the methyl group is preferably about 0.05 to 0.45. More preferably, it is about 0.1 to 0.4, and more preferably about 0.2 to 0.3. When the ratio of the peak intensity of the methyl group to the peak intensity of the siloxane bond is within the above range, it is necessary in the polyorganosiloxane while preventing the methyl group from unnecessarily inhibiting the formation of the siloxane bond. Since a sufficient number of active hands are generated, sufficient adhesiveness is generated in the
プラズマ重合の際、一対の電極130、140間に印加する高周波の周波数は、特に限定されないが、1kHz〜100MHz程度であるのが好ましく、10〜60MHz程度であるのがより好ましい。
また、高周波の出力密度は、特に限定されないが、0.01〜100W/cm2程度であるのが好ましく、0.1〜50W/cm2程度であるのがより好ましく、1〜40W/cm2程度であるのがさらに好ましい。高周波の出力密度を前記範囲内とすることにより、高周波の出力密度が高過ぎて原料ガスに必要以上のプラズマエネルギーが付加されるのを防止しつつ、接合膜3を確実に形成することができる。すなわち、高周波の出力密度が前記下限値を下回った場合、原料ガス中の分子に重合反応を生じさせることができず、接合膜3を形成することができないおそれがある。一方、高周波の出力密度が前記上限値を上回った場合、原料ガスが分解する等して、脱離基となり得る構造がポリオルガノシロキサン中のSi骨格から分離してしまい、得られる接合膜3において脱離基の含有率が著しく低くなるため、接合膜3の接合強度が低下するおそれがある。
In the plasma polymerization, the frequency of the high frequency applied between the pair of
Further, the power density of the high frequency is not particularly limited, and is preferably about 0.01~100W / cm 2, more preferably about 0.1~50W / cm 2, 1~40W / cm 2 More preferably, it is about. By setting the high-frequency power density within the above range, the
また、成膜時のチャンバー101内の圧力は、133.3×10−5〜1333Pa(1×10−5〜10Torr)程度であるのが好ましく、133.3×10−4〜133.3Pa(1×10−4〜1Torr)程度であるのがより好ましい。
原料ガス流量は、0.5〜200sccm程度であるのが好ましく、1〜100sccm程度であるのがより好ましい。一方、キャリアガス流量は、5〜750sccm程度であるのが好ましく、10〜500sccm程度であるのがより好ましい。
Further, the pressure in the
The raw material gas flow rate is preferably about 0.5 to 200 sccm, and more preferably about 1 to 100 sccm. On the other hand, the carrier gas flow rate is preferably about 5 to 750 sccm, and more preferably about 10 to 500 sccm.
処理時間は、1〜10分程度であるのが好ましく、4〜7分程度であるのがより好ましい。
また、第1の基材2の温度は、25℃以上であるのが好ましく、25〜100℃程度であるのがより好ましい。
このような条件を適宜設定することにより、緻密な接合膜3をムラなく形成することができる。
The treatment time is preferably about 1 to 10 minutes, more preferably about 4 to 7 minutes.
Moreover, it is preferable that the temperature of the
By appropriately setting such conditions, the
また、接合膜3の平均厚さは、10〜10000nm程度であるのが好ましく、50〜5000nm程度であるのがより好ましい。接合膜3の平均厚さを前記範囲内とすることにより、第1の基材2と第2の基材5とを接合した接合体の寸法精度が著しく低下するのを防止しつつ、より強固に接合することができる。
すなわち、接合膜3の平均厚さが前記下限値を下回った場合は、十分な接合強度が得られないおそれがある。一方、接合膜3の平均厚さが前記上限値を上回った場合は、接合体の寸法精度が著しく低下するおそれがある。
The average thickness of the
That is, when the average thickness of the
さらに、接合膜3の平均厚さが前記範囲内であれば、接合膜3にある程度の形状追従性が確保される。このため、例えば、第1の基材2の接合面(接合膜3に隣接する面)に凹凸が存在している場合でも、その凹凸の高さにもよるが、凹凸の形状に追従するように接合膜3を被着させることができる。その結果、接合膜3は、凹凸を吸収して、その表面に生じる凹凸の高さを緩和することができる。
なお、上記のような形状追従性の程度は、接合膜3の厚さが厚いほど顕著になる。したがって、形状追従性を十分に確保するためには、接合膜3の厚さをできるだけ厚くすればよい。
Furthermore, if the average thickness of the
Note that the degree of the shape followability as described above becomes more significant as the thickness of the
[5]次に、図3(g)に示すように、得られた接合膜3に対してエネルギーを付与する。これにより、接合膜3の表面31付近の結合の一部が切断され、表面31を活性化させる(第2の工程)。
接合膜3の表面31にエネルギーを付与する方法としては、表面31を活性化し得る方法であれば、いかなる方法であってもよいが、エネルギー線を照射する方法が好ましい。かかる方法によれば、接合膜3の表面31を効率よく活性化させる。また、この方法によれば、接合膜3中の分子構造を必要以上に(例えば、第1の基材2との界面に至るまで)切断しないので、接合膜3の特性が低下してしまうのを避けることができる。
[5] Next, as shown in FIG. 3G, energy is applied to the obtained
As a method of applying energy to the
エネルギー線としては、例えば、紫外光、レーザー光のような光、電子線、粒子線等が挙げられる。
また、エネルギー線には、特に、図3(g)に示すように、波長126〜300nm程度の紫外光を照射する方法を用いるのが好ましい。かかる紫外光によれば、接合膜3の特性の著しい低下を防止しつつ、広い範囲をムラなく、より短時間に処理することができる。このため、接合膜3の表面31の活性化をより効率よく行うことができる。また、紫外光には、紫外ランプ等の簡単な設備で発生させることができるという利点もある。
Examples of energy rays include light such as ultraviolet light and laser light, electron beams, and particle beams.
In addition, it is preferable to use a method of irradiating ultraviolet rays having a wavelength of about 126 to 300 nm, particularly as shown in FIG. According to such ultraviolet light, a wide range can be processed in a shorter time without unevenness while preventing a significant deterioration in the characteristics of the
なお、紫外光の波長は、より好ましくは、160〜200nm程度とされる。
また、紫外光を照射する時間は、接合膜3の表面31付近の結合を切断し得る程度の時間であればよく、特に限定されないが、0.5〜30分程度であるのが好ましく、1〜10分程度であるのがより好ましい。
また、接合膜3に対するエネルギー線の照射は、いかなる雰囲気中で行うようにしてもよいが、大気雰囲気中で行われるのが好ましい。これにより、雰囲気を制御することに手間やコストをかける必要がなくなり、活性化処理をより簡単に行うことができる。
The wavelength of the ultraviolet light is more preferably about 160 to 200 nm.
Further, the time of irradiation with ultraviolet light is not particularly limited as long as it is a time that can break the bond in the vicinity of the
Further, the irradiation of the energy beam to the
なお、接合膜3の全面ではなく、一部の領域に対してエネルギー線を照射するようにしてもよい。この場合、レーザー光、電子線のような指向性の高いエネルギー線であれば、目的の方向に向けて照射することにより、所定領域に対してエネルギー線を選択的にかつ簡単に照射することができる。
また、指向性の低いエネルギー線であっても、所定領域以外の領域を覆うようにして照射すれば、所定領域に対してエネルギー線を選択的に照射することができる。
Note that, instead of the entire surface of the
Moreover, even if it is an energy ray with low directivity, if it irradiates so that areas other than a predetermined area may be covered, an energy ray can be selectively irradiated with respect to a predetermined area.
このようにして活性化された接合膜3の表面31には、周囲の水分が接触することにより、水酸基(OH基)が自然に結合する。なお、前述の「活性化させる」とは、表面31付近および内部の結合が切断されて、終端化されていない結合手(ダングリングボンド)が生じた状態や、その切断された結合手に水酸基が結合した状態のいずれか一方、または、これらの状態が混在した状態のことを言う。
A hydroxyl group (OH group) is naturally bonded to the
[6]次に、第2の基材5を用意し、この第2の基材5と、前記工程で活性化させた接合膜3の表面31とが接触するように、2つの基材2、5を貼り合わせる(図3(h)参照)。
これにより、第1の基材2の接合膜3と第2の基材5とが接合膜3を介して接合される。その結果、図3(i)に示す接合体6を得る(第3の工程)。
[6] Next, the
Thereby, the
ここで、用意する第2の基材5の構成材料は、第1の基材2と異なっていても同じでもよい。
なお、2つの基材2、5の熱膨張率は、ほぼ等しいのが好ましいが、互いに異なっていてもよい。各基材2、5の熱膨張率がほぼ等しければ、2つの基材2、5を接合した際に、その接合界面に熱膨張に伴う応力が発生し難くなる。その結果、最終的に得られる接合体6において、剥離を確実に防止することができる。また、後に詳述するが、各基材2、5の熱膨張率が互いに異なる場合でも、後述する工程において、2つの基材2、5同士を貼り合わせる際の条件を最適化することにより、2つの基材2、5同士を高い寸法精度で強固に接合することができる。
Here, the constituent material of the
The thermal expansion coefficients of the two
また、2つの基材2、5のうち、少なくとも一方の構成材料は、樹脂材料で構成されているのが好ましい。樹脂材料は、その柔軟性により、2つの基材2、5を接合した際に、その接合界面に発生する応力(例えば、熱膨張に伴う応力等)を緩和することができる。このため、接合界面が破壊し難くなり、結果的に、接合強度の高い接合体6を得ることができる。
Moreover, it is preferable that at least one of the two
このようにして得られた接合体6では、従来の接合方法で用いられていた接着剤のように、アンカー効果のような物理的結合に基づく接着ではなく、共有結合のように短時間で起こる強固な化学的結合に基づいて、第1の基材2と第2の基材5とが接合されている。このため、接合体6は、極めて剥離し難く、接合ムラ等も生じ難いものとなる。
また、本発明の接合方法によれば、従来の固体接合のように、高温(700〜800℃程度)での熱処理を必要としないことから、耐熱性の低い材料で構成された基材をも、接合に供することができる。これにより、基材の構成材料の選択の幅を広げることができる。
In the bonded body 6 obtained in this way, the bonding occurs in a short time like a covalent bond, not an adhesive based on a physical bond such as an anchor effect, like an adhesive used in a conventional bonding method. Based on a strong chemical bond, the
Further, according to the bonding method of the present invention, unlike the conventional solid bonding, a heat treatment at a high temperature (about 700 to 800 ° C.) is not required. Can be used for joining. Thereby, the range of selection of the constituent material of a base material can be expanded.
また、本発明の接合方法によれば、第1の基材2と第2の基材5とを接合する際に、これらの接合面全体を接合するのではなく、一部の領域のみを選択的に接合することができる。これにより、例えば、接合膜3の面積を制御することにより、接合体6の接合強度を容易に調整することができる。その結果、例えば、接合部を容易に分離可能な接合体6が得られる。
Moreover, according to the joining method of the present invention, when joining the
また、接合膜3の形状や面積を制御することにより、接合部に生じる応力の局所集中を緩和することができる。これにより、例えば、第1の基材2と第2の基材5との間で熱膨張率差が大きい場合でも、各基材2、5を確実に接合することができる。
さらに、本発明の接合方法によれば、第1の基材2と第2の基材5との間の前述した穴部32に対応する位置に、接合膜3の厚さに相当する厚さ(高さ)の隙間3cが生じる。このため、接合膜3の形状を適宜調整することにより、隙間3cを閉空間や流路として利用することができる。
In addition, by controlling the shape and area of the
Furthermore, according to the bonding method of the present invention, the thickness corresponding to the thickness of the
ここで、第2の基材5のうち、少なくとも、本工程において接合膜3と接触する領域の表面には、水酸基(OH基)が結合している状態になっているのが好ましい。第2の基材5の表面がこのような状態になっていると、第2の基材5と接合膜3との接合強度が向上することとなり、2つの基材2、5をより強固に接合することができる。なお、かかる効果は、以下のような現象によるものと推察される。
Here, it is preferable that a hydroxyl group (OH group) is bonded to at least the surface of the region of the
本工程において、第2の基材5と接合膜3とを接触(密着)させたときに、第2の基材5の表面に存在する水酸基と、接合膜3の活性化させた表面に存在する水酸基とが、水素結合によって互いに引き合い、水酸基同士の間に引力が発生する。
また、この水素結合によって互いに引き合う水酸基同士は、温度条件等によって、脱水縮合する。その結果、接合膜3と第2の基材5との接触界面では、脱離したOH基が結合していた結合手同士が酸素原子を介して結合する。これにより、接合膜3と第2の基材5とが化学的に強固に接合される。
In this step, when the
Further, the hydroxyl groups attracting each other by this hydrogen bond are dehydrated and condensed depending on the temperature condition or the like. As a result, at the contact interface between the
なお、第2の基材5のうち、接合膜3を密着させるべき領域の表面に、水酸基が結合している状態を形成するためには、いかなる方法を用いてもよい。具体例を挙げれば、第2の基材5に酸素プラズマ等のプラズマ処理を施す方法、エッチング処理を施す方法、電子線を照射する方法、紫外光を照射する方法、オゾンに曝す方法、またはこれらを組み合わせた方法等がある。このような方法を用いることにより、第2の基材5の表面を清浄化するとともに、表面付近の結合の一部を切断して、表面を活性化することができる。このような状態の表面には、周囲の水分が接触することにより、水酸基(OH基)が自然に結合する。このようにして、水酸基が結合している状態を形成することができる。
Any method may be used to form a state in which the hydroxyl group is bonded to the surface of the region of the
また、第2の基材5の構成材料によっては、上記のような処理を施さなくても、表面に水酸基が結合しているものもある。かかる構成材料としては、例えば、ステンレス鋼、アルミニウムのような各種金属材料、シリコン、石英ガラスのようなシリコン系材料、アルミナのような酸化物系セラミックス材料等が挙げられる。なお、第2の基材5は、その全体が上記のような材料で構成されていなくてもよく、少なくとも表面付近が上記のような材料で構成されていればよい。
Further, depending on the constituent material of the
このような材料で構成された第2の基材5は、その表面が酸化膜で覆われており、この酸化膜の表面には、水酸基が結合している。したがって、このような材料で構成された第2の基材5を用いると、水酸基を露出させる処理を施さなくても、第1の基材2と第2の基材5とを強固に接合することができる。
また、第2の基材5の表面および内部には、第2の基材5の結合が切断されて、終端化されていない活性な結合手(ダングリングボンド)が含まれていてもよい。さらに、水酸基とダングリングボンドとが混在した状態であってもよい。第2の基材5の表面および内部にダングリングボンドが含まれていると、接合膜3の表面に露出したダングリングボンドとの間で、ネットワーク状に構築された共有結合に由来するより強固な接合がなされる。その結果、接合膜3を介して第1の基材2と第2の基材5とをより強固に接合することができる。
The surface of the
Further, the surface of the
なお、前記工程で活性化された接合膜3の表面は、その活性状態が経時的に緩和してしまう。このため、前記工程の終了後、できるだけ早く本工程を行うようにする。具体的には、前記工程の終了後、60分以内に本工程を行うようにするのが好ましく、5分以内に行うのがより好ましい。かかる時間内であれば、接合膜3の表面が十分な活性状態を維持しているので、貼り合せたときに十分な接合強度を得ることができる。
Note that the active state of the surface of the
換言すれば、活性化させる前の接合膜3は、化学的に安定であり、耐候性に優れている。このため、活性化させる前の接合膜3は、長期にわたる保存に適したものである。したがって、そのような接合膜3を備えた第1の基材2を多量に製造または購入して保存しておき、本工程の貼り合わせを行う直前に、必要な個数のみに前記工程を行うようにすれば、接合体の製造効率の観点から有効である。
In other words, the
なお、従来のシリコン直接接合のような固体接合では、表面を活性化させても、その活性状態は、大気中では数秒〜数十秒程度の極めて短時間しか維持されない。このため、表面の活性化を行った後、接合する2つの部材を貼り合わせる等の作業を行う時間を十分に確保することができないという問題があった。
これに対し、本発明によれば、プラズマ重合膜の作用により、数分以上の比較的長時間にわたって活性状態を維持することができる。このため、作業に要する時間を十分に確保することができ、接合作業の効率化を高めることができる。
In the conventional solid bonding such as silicon direct bonding, even if the surface is activated, the active state is maintained for only a very short time of several seconds to several tens of seconds in the atmosphere. For this reason, after the surface was activated, there was a problem that it was not possible to ensure sufficient time for performing operations such as bonding the two members to be joined together.
On the other hand, according to the present invention, the active state can be maintained for a relatively long time of several minutes or more by the action of the plasma polymerized film. For this reason, the time required for the work can be sufficiently secured, and the efficiency of the joining work can be increased.
以上のようにして接合体(本発明の接合体)6を得ることができる。
このようにして得られた接合体6は、第1の基材2と第2の基材5との間の接合膜3における接合強度が5MPa(50kgf/cm2)以上であるのが好ましく、10MPa(100kgf/cm2)以上であるのがより好ましい。このような接合強度を有する接合体6は、その剥離を十分に防止し得るものとなる。そして、後述のように、接合体6を用いて液滴吐出ヘッドを構成した場合、耐久性に優れた液滴吐出ヘッドが得られる。また、本発明の接合方法によれば、第1の基材2と第2の基材5とが上記のような大きな接合強度で接合された接合体6を効率よく作製することができる。
The joined body (joined body of the present invention) 6 can be obtained as described above.
The bonded body 6 thus obtained preferably has a bonding strength of 5 MPa (50 kgf / cm 2 ) or more in the
また、前述したように、第1の基材2と第2の基材5との接合部の面積を制御することができるので、これにより、接合体6の接合強度を調整可能であると同時に、接合体6を分離する際の強度(割裂強度)を調整可能である。
かかる観点から、分離可能な接合体6を作製する場合、接合体6の接合強度は、人の手で接合体6を分離可能な程度の大きさであるのが好ましい。これにより、接合体6を分離する際に、装置等を用いることなく、簡単に行うことができる。
Moreover, since the area of the junction part of the
From this point of view, when the separable joined body 6 is produced, the joining strength of the joined body 6 is preferably large enough to allow the joined body 6 to be separated by a human hand. Thereby, when isolate | separating the joined body 6, it can carry out easily, without using an apparatus etc.
また、接合膜3は、その厚さにもよるが比較的高い透光性を有したものとなる。そして、接合膜3の形成条件(プラズマ重合の際の条件や原料ガスの組成等)を適宜設定することにより、接合膜3の屈折率を調整することができる。具体的には、プラズマ重合の際の高周波の出力密度を高めることにより、接合膜3の屈折率を高めることができ、反対に、プラズマ重合の際の高周波の出力密度を低くすることにより、接合膜3の屈折率を低くすることができる。
Further, the
具体的には、シラン系ガスを原料とするプラズマ重合法によれば、屈折率の範囲が1.35〜1.6程度の接合膜3が得られる。このような接合膜3は、その屈折率が、水晶や石英ガラスの屈折率に近いため、例えば接合膜3を光路が貫通するような構造の光学部品を製造する際に好適に用いられる。また、接合膜3の屈折率を調整することができるので、所望の屈折率の接合膜3を作製することができる。
なお、接合体6を得た後、この接合体6に対して、必要に応じ、以下の2つの工程[7A]、[7B]のうちのいずれか一方または双方を行うようにしてもよい。
Specifically, according to the plasma polymerization method using a silane-based gas as a raw material, the
In addition, after obtaining the joined body 6, you may make it perform either one or both of the following two processes [7A] and [7B] with respect to this joined body 6 as needed.
[7A]得られた接合体6を、第1の基材2と第2の基材5とが互いに近づく方向に加圧する。
これにより、第2の基材5の表面に接合膜3の表面がより近接し、接合体6における接合強度をより高めることができる。
このとき、接合体6を加圧する際の圧力は、できるだけ高い方が好ましい。これにより、この圧力に比例して接合体6における接合強度を高めることができる。
[7A] The obtained bonded body 6 is pressed in a direction in which the
Thereby, the surface of the
At this time, the pressure at the time of pressurizing the joined body 6 is preferably as high as possible. Thereby, the joint strength in the joined body 6 can be increased in proportion to the pressure.
なお、この圧力は、各基材2、5の構成材料や厚さ、接合装置等の条件に応じて、適宜調整すればよい。具体的には、基材2、5の構成材料や厚さ等に応じて若干異なるものの、1〜10MPa程度であるのが好ましく、1〜5MPa程度であるのがより好ましい。これにより、接合体6の接合強度を確実に高めることができる。なお、この圧力が前記上限値を上回っても構わないが、各基材2、5の構成材料によっては、各基材2、5に損傷等が生じるおそれがある。
また、加圧する時間は、特に限定されないが、10秒〜30分程度であるのが好ましい。なお、加圧する時間は、加圧する際の圧力に応じて適宜変更すればよい。具体的には、接合体6を加圧する際の圧力が高いほど、加圧する時間を短くすることができる。
In addition, what is necessary is just to adjust this pressure suitably according to conditions, such as a constituent material and thickness of each
The time for pressurization is not particularly limited, but is preferably about 10 seconds to 30 minutes. In addition, what is necessary is just to change suitably the time to pressurize according to the pressure at the time of pressurizing. Specifically, the higher the pressure at which the bonded body 6 is pressed, the shorter the pressurizing time.
[7B]得られた接合体6を加熱する。
これにより、接合体6における接合強度をより高めることができる。
このとき、接合体6を加熱する際の温度は、室温より高く、接合体6の耐熱温度未満であれば、特に限定されないが、好ましくは25〜100℃程度とされ、より好ましくは50〜100℃程度とされる。かかる範囲の温度で加熱すれば、接合体6が熱によって変質・劣化するのを確実に防止しつつ、接合強度を確実に高めることができる。
[7B] The obtained bonded body 6 is heated.
Thereby, the joint strength in the joined body 6 can be further increased.
At this time, the temperature at the time of heating the joined body 6 is not particularly limited as long as it is higher than room temperature and lower than the heat resistance temperature of the joined body 6, but is preferably about 25 to 100 ° C., more preferably 50 to 100 ° C. About ℃. By heating at a temperature in such a range, it is possible to reliably increase the bonding strength while reliably preventing the bonded body 6 from being altered or deteriorated by heat.
また、加熱時間は、特に限定されないが、1〜30分程度であるのが好ましい。
また、前記工程[7A]、[7B]の双方を行う場合、これらを同時に行うのが好ましい。すなわち、接合体6を加圧しつつ、加熱するのが好ましい。これにより、加圧による効果と、加熱による効果とが相乗的に発揮され、接合体6の接合強度を特に高めることができる。
The heating time is not particularly limited, but is preferably about 1 to 30 minutes.
Moreover, when performing both said process [7A] and [7B], it is preferable to perform these simultaneously. That is, it is preferable to heat the bonded body 6 while applying pressure. Thereby, the effect by pressurization and the effect by heating are exhibited synergistically, and the joint strength of the joined body 6 can be particularly increased.
なお、2つの基材2、5の熱膨張率がほぼ等しい場合には、上記のようにして接合体6を加熱するのが好ましいが、2つの基材2、5の熱膨張率が互いに異なっている場合には、できるだけ低温下で接合を行うのが好ましい。接合を低温下で行うことにより、接合界面に発生する熱応力のさらなる低減を図ることができる。
具体的には、2つの基材2、5の熱膨張率差にもよるが、25〜50℃程度の温度で接合を行うのが好ましく、25〜40℃程度の温度で接合を行うのがより好ましい。このような温度範囲であれば、2つの基材2、5の熱膨張率差がある程度大きくても、接合界面に発生する熱応力を十分に低減することができる。その結果、接合体6における反りや剥離等の発生を確実に防止することができる。
この場合、2つの基材2、5の熱膨張係数の差が、5×10−5/K以上あるような場合には、上記のようにして、できるだけ低温下で接合を行うことが強く推奨される。
以上のような工程[7A]、[7B]を行うことにより、接合体6における接合強度のさらなる向上を図ることができる。
In addition, when the thermal expansion coefficients of the two
Specifically, although it depends on the difference in thermal expansion coefficient between the two
In this case, when the difference in thermal expansion coefficient between the two
By performing the steps [7A] and [7B] as described above, the bonding strength of the bonded body 6 can be further improved.
≪第2実施形態≫
次に、本発明の接合方法の第2実施形態について説明する。
図4は、本発明の接合方法の第2実施形態を説明するための図(縦断面図)である。なお、以下の説明では、図4中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
以下、接合方法の第2実施形態について説明するが、前記第1実施形態にかかる接合方法との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
<< Second Embodiment >>
Next, a second embodiment of the joining method of the present invention will be described.
FIG. 4 is a view (longitudinal sectional view) for explaining a second embodiment of the joining method of the present invention. In the following description, the upper side in FIG. 4 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
Hereinafter, although 2nd Embodiment of the joining method is described, it demonstrates centering around difference with the joining method concerning the said 1st Embodiment, and the description is abbreviate | omitted about the same matter.
本実施形態にかかる接合方法では、第2の基材5の接合面500にも、前記第1実施形態における接合膜3と同様の接合膜を設け、これらの接合膜同士を密着させるようにして第1の基材2と第2の基材5とを接合するようにした以外は、前記第1実施形態と同様である。
すなわち、本実施形態にかかる接合方法は、第1の基材2および第2の基材5を用意し、第1の基材2の接合面200および第2の基材5の接合面500にそれぞれリフトオフ法により接合膜301および接合膜302を形成する工程(第1の工程)と、各接合膜301、302にエネルギーを付与する工程(第2の工程)と、接合膜301と接合膜302とが接触するように、第1の基材2と第2の基材5とを貼り合わせ、接合体6を得る工程(第3の工程)とを有する。以下、各工程について順次説明する。
In the bonding method according to the present embodiment, a bonding film similar to the
That is, in the bonding method according to the present embodiment, the
[1]まず、前記第1実施形態と同様にして、図4(a)に示すように、第1の基材2の接合面200に接合膜301を形成するとともに、第2の基材5の接合面500に接合膜302を形成する(第1の工程)。
[2]次に、得られた接合膜301および接合膜302に対して、前記第1実施形態と同様にしてエネルギーを付与する(図4(b)参照)。これにより、各接合膜301、302の表面を活性化させる(第2の工程)。
[1] First, as in the first embodiment, as shown in FIG. 4A, a
[2] Next, energy is applied to the obtained
[3]次に、接合膜301と接合膜302とが密着するように、第1の基材2と第2の基材5とを貼り合わせる(図4(c)参照)。これにより、接合膜301と接合膜302とが接合され、2つの基材2、5同士が接合される。
ここで、この接合は、以下のような2つのメカニズム(i)、(ii)の双方または一方に基づくものであると推測される。
[3] Next, the
Here, this joining is presumed to be based on both or one of the following two mechanisms (i) and (ii).
(i)2つの基材2、5同士を貼り合わせると、各接合膜301、302にそれぞれ存在するOH基同士が隣接することとなる。この隣接したOH基同士は、水素結合によって互いに引き合い、OH基同士の間に引力が発生する。
また、この水素結合によって互いに引き合うOH基同士は、温度条件等によって、脱水縮合する。その結果、2つの接合膜301、302同士の接触界面では、脱離したOH基が結合していた結合手同士が酸素原子を介して結合する。すなわち、各接合膜301、302を構成するそれぞれの母材同士が、直接結合して一体化される。
(I) When the two
In addition, OH groups attracting each other by this hydrogen bond are dehydrated and condensed depending on temperature conditions and the like. As a result, at the contact interface between the two
(ii)2つの基材2、5同士を貼り合わせると、各接合膜301、302の表面や内部に生じた終端化されていない結合手(ダングリングボンド)同士が再結合する。この再結合は、互いに重なり合う(絡み合う)ように複雑に生じることから、接合界面にネットワーク状の結合が形成される。これにより、各接合膜301、302を構成するそれぞれの母材同士が、所定領域202において直接接合して一体化される。
(Ii) When the two
以上のようなメカニズムにより、図4(d)に示すように、第1の基材2と第2の基材5とが部分的に接合された接合体6’(本発明の接合体)が得られる(第3の工程)。
このようにして得られた接合体6’では、前記第1実施形態にかかる接合体6と同様の作用・効果が得られる。
また、各基材に、それぞれあらかじめプラズマ重合膜を形成し、これらのプラズマ重合膜同士を接合するようにしたので、前記第1実施形態と比べて接合体6’における接合強度の向上を図ることができる。
Due to the mechanism as described above, as shown in FIG. 4D, a joined body 6 ′ (joined body of the present invention) in which the
In the joined body 6 ′ thus obtained, the same functions and effects as those of the joined body 6 according to the first embodiment can be obtained.
In addition, since plasma polymerized films are formed in advance on each base material and these plasma polymerized films are bonded to each other, the bonding strength of the bonded body 6 ′ can be improved as compared with the first embodiment. Can do.
また、前記第1実施形態と比較した場合、第2の基材上にあらかじめプラズマ重合膜を形成するので、第2の基材の構成材料によって接合体6’における接合強度が影響を受けることがない。このため、例えば、前記第1実施形態にかかる接合方法では、接合強度が低下してしまうような材料で構成された第2の基材であっても、本実施形態にかかる接合方法によれば、第1の基材と第2の基材とをより強固に接合することができる。 In addition, when compared with the first embodiment, since the plasma polymerized film is formed on the second base material in advance, the bonding strength of the joined body 6 ′ may be affected by the constituent material of the second base material. Absent. For this reason, for example, in the bonding method according to the first embodiment, even the second base material made of a material that decreases the bonding strength, according to the bonding method according to the present embodiment. The first substrate and the second substrate can be bonded more firmly.
以上のような前記各実施形態にかかる接合方法は、種々の複数の部材同士を接合するのに用いることができる。
このような接合に供される部材としては、例えば、トランジスタ、ダイオード、メモリのような半導体素子、水晶発振子のような圧電素子、反射鏡、光学レンズ、回折格子、光学フィルターのような光学素子、太陽電池のような光電変換素子、半導体基板とそれに搭載される半導体素子、絶縁性基板と配線または電極、インクジェット式記録ヘッド、マイクロリアクタ、マイクロミラーのようなMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)部品、圧力センサ、加速度センサのようなセンサ部品、半導体素子や電子部品のパッケージ部品、磁気記録媒体、光磁気記録媒体、光記録媒体のような記録媒体、液晶表示素子、有機EL素子、電気泳動表示素子のような表示素子用部品、燃料電池用部品等が挙げられる。
The joining method according to each of the embodiments as described above can be used to join various members.
Examples of members used for such bonding include semiconductor elements such as transistors, diodes, and memories, piezoelectric elements such as crystal oscillators, optical elements such as reflectors, optical lenses, diffraction gratings, and optical filters. , Photoelectric conversion elements such as solar cells, semiconductor substrates and semiconductor elements mounted thereon, insulating substrates and wiring or electrodes, inkjet recording heads, microreactors, microelectromechanical system (MEMS) components such as micromirrors, pressure Sensor parts such as sensors, acceleration sensors, package parts for semiconductor elements and electronic parts, magnetic recording media, magneto-optical recording media, recording media such as optical recording media, liquid crystal display elements, organic EL elements, electrophoretic display elements Such display element parts, fuel cell parts, and the like.
<液滴吐出ヘッド>
次に、本発明の接合体をインクジェット式記録ヘッド(液滴吐出ヘッド)に適用した場合の実施形態について説明する。
図5は、本発明の接合体を適用して得られたインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図、図6は、図5に示すインクジェット式記録ヘッドの主要部の構成を示す断面図、図7は、図5に示すインクジェット式記録ヘッドを備えるインクジェットプリンタの実施形態を示す概略図である。なお、以下の説明では、図5および図6中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
<Droplet ejection head>
Next, an embodiment in which the joined body of the present invention is applied to an ink jet recording head (droplet ejection head) will be described.
FIG. 5 is an exploded perspective view showing an ink jet recording head obtained by applying the joined body of the present invention, FIG. 6 is a cross-sectional view showing the configuration of the main part of the ink jet recording head shown in FIG. FIG. 6 is a schematic diagram showing an embodiment of an ink jet printer including the ink jet recording head shown in FIG. 5. In the following description, the upper side in FIGS. 5 and 6 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
図5に示すインクジェット式記録ヘッド1(以下、単に「ヘッド1」という。)は、図7に示すようなインクジェットプリンタ(本発明の液滴吐出装置)9に搭載されている。
図7に示すインクジェットプリンタ9は、装置本体92を備えており、上部後方に記録用紙Pを設置するトレイ921と、下部前方に記録用紙Pを排出する排紙口922と、上部面に操作パネル97とが設けられている。
An ink jet recording head 1 (hereinafter simply referred to as “
The
操作パネル97は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、LEDランプ等で構成され、エラーメッセージ等を表示する表示部(図示せず)と、各種スイッチ等で構成される操作部(図示せず)とを備えている。
また、装置本体92の内部には、主に、往復動するヘッドユニット93を備える印刷装置(印刷手段)94と、記録用紙Pを1枚ずつ印刷装置94に送り込む給紙装置(給紙手段)95と、印刷装置94および給紙装置95を制御する制御部(制御手段)96とを有している。
The
Further, inside the apparatus
制御部96の制御により、給紙装置95は、記録用紙Pを一枚ずつ間欠送りする。この記録用紙Pは、ヘッドユニット93の下部近傍を通過する。このとき、ヘッドユニット93が記録用紙Pの送り方向とほぼ直交する方向に往復移動して、記録用紙Pへの印刷が行なわれる。すなわち、ヘッドユニット93の往復動と記録用紙Pの間欠送りとが、印刷における主走査および副走査となって、インクジェット方式の印刷が行なわれる。
Under the control of the
印刷装置94は、ヘッドユニット93と、ヘッドユニット93の駆動源となるキャリッジモータ941と、キャリッジモータ941の回転を受けて、ヘッドユニット93を往復動させる往復動機構942とを備えている。
ヘッドユニット93は、その下部に、多数のノズル孔11を備えるヘッド1と、ヘッド1にインクを供給するインクカートリッジ931と、ヘッド1およびインクカートリッジ931を搭載したキャリッジ932とを有している。
The
The
なお、インクカートリッジ931として、イエロー、シアン、マゼンタ、ブラック(黒)の4色のインクを充填したものを用いることにより、フルカラー印刷が可能となる。
往復動機構942は、その両端をフレーム(図示せず)に支持されたキャリッジガイド軸943と、キャリッジガイド軸943と平行に延在するタイミングベルト944とを有している。
The
キャリッジ932は、キャリッジガイド軸943に往復動自在に支持されるとともに、タイミングベルト944の一部に固定されている。
キャリッジモータ941の作動により、プーリを介してタイミングベルト944を正逆走行させると、キャリッジガイド軸943に案内されて、ヘッドユニット93が往復動する。そして、この往復動の際に、ヘッド1から適宜インクが吐出され、記録用紙Pへの印刷が行われる。
The
When the
給紙装置95は、その駆動源となる給紙モータ951と、給紙モータ951の作動により回転する給紙ローラ952とを有している。
給紙ローラ952は、記録用紙Pの送り経路(記録用紙P)を挟んで上下に対向する従動ローラ952aと駆動ローラ952bとで構成され、駆動ローラ952bは給紙モータ951に連結されている。これにより、給紙ローラ952は、トレイ921に設置した多数枚の記録用紙Pを、印刷装置94に向かって1枚ずつ送り込めるようになっている。なお、トレイ921に代えて、記録用紙Pを収容する給紙カセットを着脱自在に装着し得るような構成であってもよい。
The
The
制御部96は、例えばパーソナルコンピュータやディジタルカメラ等のホストコンピュータから入力された印刷データに基づいて、印刷装置94や給紙装置95等を制御することにより印刷を行うものである。
制御部96は、いずれも図示しないが、主に、各部を制御する制御プログラム等を記憶するメモリ、印刷装置94(キャリッジモータ941)を駆動する駆動回路、給紙装置95(給紙モータ951)を駆動する駆動回路、および、ホストコンピュータからの印刷データを入手する通信回路と、これらに電気的に接続され、各部での各種制御を行うCPUとを備えている。
The
Although not shown, the
また、CPUには、例えば、インクカートリッジ931のインク残量、ヘッドユニット93の位置等を検出可能な各種センサ等が、それぞれ電気的に接続されている。
制御部96は、通信回路を介して、印刷データを入手してメモリに格納する。CPUは、この印刷データを処理して、この処理データおよび各種センサからの入力データに基づいて、各駆動回路に駆動信号を出力する。この駆動信号により印刷装置94および給紙装置95は、それぞれ作動する。これにより、記録用紙Pに印刷が行われる。
Further, for example, various sensors that can detect the remaining ink amount of the
The
以下、ヘッド1について、図5および図6を参照しつつ詳述する。
図5および図6に示すように、ヘッド1は、ノズルプレート10と、吐出液貯留室形成基板(基板)20と、封止シート30と、封止シート30上に設けられた振動板40と、振動板40上に設けられた圧電素子(振動手段)50およびケースヘッド60とを有する。また、本実施形態では、封止シート30と振動板40との積層体により、封止板を構成している。なお、このヘッド1は、ピエゾジェット式ヘッドを構成する。
Hereinafter, the
As shown in FIGS. 5 and 6, the
吐出液貯留室形成基板20(以下、省略して「基板20」と言う。)には、インクを貯留する複数の吐出液貯留室(圧力室)21と、各吐出液貯留室21に連通し、各吐出液貯留室21にインクを供給する吐出液供給室22とが形成されている。
図5および図6に示すように、各吐出液貯留室21および吐出液供給室22は、それぞれ、平面視において、ほぼ長方形状をなし、各吐出液貯留室21の幅(短辺)は、吐出液供給室22の幅(短辺)より細幅となっている。
A discharge liquid storage chamber forming substrate 20 (hereinafter referred to as “
As shown in FIGS. 5 and 6, each of the discharge
また、各吐出液貯留室21は、吐出液供給室22に対して、ほぼ垂直をなすように配置されており、各吐出液貯留室21および吐出液供給室22は、平面視において全体として、櫛状をなしている。
なお、吐出液供給室22は、平面視において、本実施形態のように長方形状のものの他、例えば、台形状、三角形状または俵形状(カプセル形状)のものであってもよい。
In addition, each discharge
In addition, the discharge
基板20を構成する材料としては、例えば、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコンのようなシリコン材料、ステンレス鋼、チタン、アルミニウムのような金属材料、石英ガラス、ケイ酸ガラス(石英ガラス)、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリ石灰ガラス、鉛(アルカリ)ガラス、バリウムガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス材料、アルミナ、ジルコニア、フェライト、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化チタン、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、炭化タングステンのようなセラミックス材料、グラファイトのような炭素材料、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンエーテル樹脂(PBO)、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アラミド系樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の樹脂材料、またはこれらの各材料の1種または2種以上を組み合わせた複合材料等が挙げられる。 Examples of the material constituting the substrate 20 include silicon materials such as single crystal silicon, polycrystalline silicon, and amorphous silicon, metal materials such as stainless steel, titanium, and aluminum, quartz glass, silicate glass (quartz glass), Glass materials such as alkali silicate glass, soda lime glass, potash lime glass, lead (alkali) glass, barium glass, borosilicate glass, alumina, zirconia, ferrite, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, titanium nitride, carbonized Ceramic materials such as silicon, boron carbide, titanium carbide, tungsten carbide, carbon materials such as graphite, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), cyclic polyolefin , Modified polyolefin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polyamide, polyimide, polyamideimide, polycarbonate, poly- (4-methylpentene-1), ionomer, acrylic resin, polymethyl methacrylate, acrylonitrile-butadiene-styrene Polymer (ABS resin), acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), butadiene-styrene copolymer, polyoxymethylene, polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyethylene terephthalate (PET) ), Polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate (PBT), polycyclohexane terephthalate (PCT) and other polyesters, polyethers, polyether ketones (PEK) , Polyether ether ketone (PEEK), polyether imide, polyacetal (POM), polyphenylene oxide, modified polyphenylene oxide, modified polyphenylene ether resin (PBO), polysulfone, polyether sulfone, polyphenylene sulfide (PPS), polyarylate, fragrance Group polyester (liquid crystal polymer), polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, other fluorine resins, styrene, polyolefin, polyvinyl chloride, polyurethane, polyester, polyamide, polybutadiene, trans polyisoprene, fluorine Various thermoplastic elastomers such as rubber and chlorinated polyethylene, epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, aramid resin, unsaturated poly Examples thereof include ester, silicone resin, polyurethane and the like, or resin materials such as copolymers, blends and polymer alloys mainly composed of these, or composite materials obtained by combining one or more of these materials.
また、上記のような材料に、酸化処理(酸化膜形成)、めっき処理、不働態化処理、窒化処理等の各処理を施した材料でもよい。
これらの中でも、基板20の構成材料は、シリコン材料またはステンレス鋼であるのが好ましい。このような材料は、耐薬品性に優れることから、長時間にわたってインクに曝されたとしても、基板20が変質・劣化するのを確実に防止することができる。また、これらの材料は、加工性に優れるため、寸法精度の高い基板20が得られる。このため、吐出液貯留室21や吐出液供給室22の容積の精度が高くなり、高品位の印字が可能なヘッド1が得られる。
Moreover, the material which gave each process, such as an oxidation process (oxide film formation), a plating process, a passivation process, a nitriding process, to the above materials may be used.
Among these, the constituent material of the
また、吐出液供給室22は、後述するケースヘッド60に設けられた吐出液供給路61と連通して複数の吐出液貯留室21にインクを供給する共通のインク室として機能するリザーバ70の一部を構成する。
また、吐出液貯留室21と吐出液供給室22との内面に、あらかじめ、親水処理を施しておいてもよい。これにより、吐出液貯留室21および吐出液供給室22に貯留されたインク中に気泡が含まれるのを防止することができる。
また、基板20の下面(封止シート30と反対側の面)には、接合膜15を介して、ノズルプレート10が接合(接着)されている。
Further, the discharge
Further, the inner surfaces of the discharge
The
本発明の液滴吐出ヘッドは、この接合膜15、および、接合膜15を用いて基板20とノズルプレート10とを接合する方法に特徴を有するものである。
この接合膜15は、プラズマ重合膜で構成され、シロキサン(Si−O)結合を含みランダムな原子構造を有するSi骨格と、このSi骨格に結合する脱離基とを含むものである。
The droplet discharge head of the present invention is characterized by the
The
そして、この接合膜15は、エネルギーを付与したことにより、脱離基がSi骨格から脱離し、接合膜15の表面に発現した接着性によって、基板20とノズルプレート10とを接合している。
なお、接合膜15については、後に詳述する。
ノズルプレート10には、各吐出液貯留室21に対応するように、それぞれノズル孔11が形成(穿設)されている。このノズル孔11に、吐出液貯留室21に貯留されたインクを押し出させることにより、インクを液滴として吐出することができる。
The
The
Nozzle holes 11 are formed (perforated) in the
また、ノズルプレート10は、各吐出液貯留室21や吐出液供給室22の内壁面の下面を構成している。すなわち、ノズルプレート10と、基板20および封止シート30とにより、各吐出液貯留室21や吐出液供給室22を画成している。
このようなノズルプレート10を構成する材料としては、例えば、前述したようなシリコン材料、金属材料、ガラス材料、セラミックス材料、炭素材料、樹脂材料、またはこれらの各材料の1種または2種以上を組み合わせた複合材料等が挙げられる。
Further, the
Examples of the material constituting the
これらの中でも、ノズルプレート10の構成材料は、シリコン材料またはステンレス鋼であるのが好ましい。このような材料は、耐薬品性に優れることから、長時間にわたってインクに曝されたとしても、ノズルプレート10が変質・劣化するのを確実に防止することができる。また、これらの材料は、加工性に優れるため、寸法精度の高いノズルプレート10が得られる。このため、信頼性の高いヘッド1が得られる。
Among these, it is preferable that the constituent material of the
なお、ノズルプレート10の構成材料は、線膨張係数が300℃以下で2.5〜4.5[×10-6/℃]程度であるものが好ましい。
また、ノズルプレート10の厚さは、特に限定されないが、0.01〜1mm程度であるのが好ましい。
また、ノズルプレート10の下面には、必要に応じて、撥液膜(図示せず)が設けられる。これにより、ノズル孔から吐出されるインク滴が意図しない方向に吐出されるのを防止することができる。
The constituent material of the
The thickness of the
Further, a liquid repellent film (not shown) is provided on the lower surface of the
このような撥液膜の構成材料としては、例えば、撥液性を示す官能基を有するカップリング剤や、撥液性の樹脂材料等が挙げられる。
カップリング剤としては、例えば、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコニウム系カップリング剤、有機リン酸系カップリング剤、シリルパーオキサイド系カップリング剤等を用いることができる。
Examples of the constituent material of the liquid repellent film include a coupling agent having a functional group exhibiting liquid repellency, a liquid repellant resin material, and the like.
As the coupling agent, for example, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an aluminum coupling agent, a zirconium coupling agent, an organic phosphate coupling agent, a silyl peroxide coupling agent, or the like is used. be able to.
撥液性を示す官能基としては、例えば、フルオロアルキル基、アルキル基、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、メタクリロキシ基等が挙げられる。
また、撥液性の樹脂材料としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、パーフルオロエチレン−プロペン共重合体(FEP)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)のようなフッ素系樹脂等が挙げられる。
Examples of the functional group exhibiting liquid repellency include a fluoroalkyl group, an alkyl group, a vinyl group, an epoxy group, a styryl group, and a methacryloxy group.
Examples of the liquid repellent resin material include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), and perfluoro. Examples thereof include fluorine-based resins such as ethylene-propene copolymer (FEP) and ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE).
一方、基板20の上面には、接合膜25を介して、封止シート30が接合(接着)されている。
また、封止シート30は、各吐出液貯留室21や吐出液供給室22の内壁面の上面を構成している。すなわち、封止シート30と、基板20およびノズルプレート10とにより、各吐出液貯留室21や吐出液供給室22を画成している。そして、封止シート30が基板20と確実に接合されていることにより、各吐出液貯留室21や吐出液供給室22の液密性を確保している。
On the other hand, the sealing
Further, the sealing
封止シート30を構成する材料としては、例えば、前述したようなシリコン材料、金属材料、ガラス材料、セラミックス材料、炭素材料、樹脂材料、またはこれらの各材料の1種または2種以上を組み合わせた複合材料等が挙げられる。
これらの中でも、封止シート30の構成材料は、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、アラミド樹脂のような樹脂材料、シリコン材料またはステンレス鋼であるのが好ましい。このような材料は、耐薬品性に優れることから、長時間にわたってインクに曝されたとしても、封止シート30が変質・劣化するのを確実に防止することができる。このため、吐出液貯留室21内および吐出液供給室22内に、長期間にわたってインクを貯留することができる。
As a material constituting the sealing
Among these, the constituent material of the sealing
このような封止シート30と基板20とを接合する接合膜25は、前述の接合膜15と同じ接合機能(接着性)を有するものである。
すなわち、接合膜25は、プラズマ重合膜で構成され、シロキサン(Si−O)結合を含みランダムな原子構造を有するSi骨格と、このSi骨格に結合する脱離基とを含むものである。
The
That is, the
そして、接合膜25は、エネルギーを付与したことにより、脱離基がSi骨格から脱離し、接合膜25の表面に発現した接着性によって、基板20と封止シート30とを接合している。
なお、接合膜25については、前述した接合膜15とともに、後に詳述する。
封止シート30の上面には、接合膜35を介して、振動板40が接合(接着)されている。
The
The
The
振動板40を構成する材料としては、例えば、前述したようなシリコン材料、金属材料、ガラス材料、セラミックス材料、炭素材料、樹脂材料、またはこれらの各材料の1種または2種以上を組み合わせた複合材料等が挙げられる。そして、振動板40が封止シート30と確実に接合されていることにより、圧電素子50に発生した歪みを、封止シート30の変位、すなわち各吐出液貯留室21の容積変化に確実に変換している。
As a material constituting the
これらの中でも、振動板40の構成材料は、シリコン材料またはステンレス鋼であるのが好ましい。このような材料は、高速で弾性変形することが可能である。このため、圧電素子50が振動板40を変位させることによって、吐出液貯留室21の容積を高速に変化させることができる。その結果、インクを高精度に吐出することができる。
このような振動板40と封止シート30とを接合する接合膜35は、前述の接合膜15と同じ接合機能(接着性)を有するものとである。
Among these, it is preferable that the constituent material of the
The
すなわち、接合膜35は、プラズマ重合膜で構成され、シロキサン(Si−O)結合を含みランダムな原子構造を有するSi骨格と、このSi骨格に結合する脱離基とを含むものである。
そして、接合膜35は、エネルギーを付与したことにより、脱離基がSi骨格から脱離し、接合膜35の表面に発現した接着性によって、封止シート30と振動板40とを接合している。
That is, the
The
なお、接合膜35については、前述した接合膜15および接合膜25とともに、後に詳述する。
また、本実施形態では、封止シート30と振動板40とを積層してなる積層体により封止板を構成しているが、この封止板は、1層であってもよく、3層以上の層が積層してなる積層体で構成されていてもよい。
The
Moreover, in this embodiment, although the sealing board is comprised by the laminated body formed by laminating | stacking the sealing
なお、3層以上の層が積層してなる積層体によって封止板が構成されている場合、積層体中の層のうち、隣接する少なくとも1組の層間が接合膜35で接合されたものであれば、積層体の寸法精度が高くなり、ひいては、ヘッド1の寸法精度を高めることができる。
振動板40の上面の一部(図6では、振動板40の上面の中央部付近)に、接合膜45aを介して、圧電素子(振動手段)50が接合(接着)されている。
In the case where the sealing plate is constituted by a laminate in which three or more layers are laminated, at least one pair of adjacent layers among the layers in the laminate is joined by the
A piezoelectric element (vibrating means) 50 is bonded (adhered) to a part of the upper surface of the vibration plate 40 (in FIG. 6, near the center of the upper surface of the vibration plate 40) via a
圧電素子50は、圧電材料で構成された圧電体層51と、この圧電体層51に電圧を印加する電極膜52との積層体で構成されている。このような圧電素子50では、電極膜52を介して圧電体層51に電圧を印加することにより、圧電体層51に電圧に応じた歪みが発生する(逆圧電効果)。この歪みが振動板40および封止シート30に撓み(振動)をもたらし、吐出液貯留室21の容積を変化させる。このように、圧電素子50が振動板40と確実に接合されていることにより、圧電素子50に発生した歪みを、振動板40および封止シート30の変位、ひいては、各吐出液貯留室21の容積変化へと確実に変換することができる。
The
また、圧電体層51と電極膜52との積層方向は、特に限定されず、振動板40に対して平行な方向であっても、直交する方向であってもよい。なお、圧電体層51と電極膜52との積層方向が、振動板40に対して直交する方向である場合、このように配置された圧電素子50を特にMLP(Multi Layer Piezo)と言う。圧電素子50がMLPであれば、振動板40の変位量を大きくとることができるので、インクの吐出量の調整幅が大きいという利点がある。
In addition, the stacking direction of the piezoelectric layer 51 and the
圧電素子50のうち、接合膜45aに隣接する(接触する)面は、圧電素子50の配置方法によって異なるが、圧電体層が露出した面、電極膜が露出した面、または圧電体層と電極膜の双方が露出した面のいずれかである。
圧電素子50のうち、圧電体層51を構成する材料としては、例えば、チタン酸バリウム、ジルコン酸鉛、チタン酸ジルコン酸鉛、酸化亜鉛、窒化アルミニウム、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、水晶等が挙げられる。
The surface of the
As a material constituting the piezoelectric layer 51 in the
一方、電極膜52を構成する材料としては、例えば、Fe、Ni、Co、Zn、Pt、Au、Ag、Cu、Pd、Al、W、Ti、Mo、またはこれらを含む合金等の各種金属材料が挙げられる。
このような圧電素子50と振動板40とを接合する接合膜45aは、前述の接合膜15と同じ接合機能(接着性)を有するものである。
On the other hand, as a material constituting the
Such a
すなわち、接合膜45aは、プラズマ重合膜で構成され、シロキサン(Si−O)結合を含みランダムな原子構造を有するSi骨格と、このSi骨格に結合する脱離基とを含むものである。
そして、接合膜45aは、エネルギーを付与したことにより、脱離基がSi骨格から脱離し、接合膜45aの表面に発現した接着性によって、振動板40と圧電素子50とを接合している。
That is, the
The
なお、接合膜45aについては、前述した接合膜15、接合膜25および接合膜35とともに、後に詳述する。
ここで、前述した振動板40は、圧電素子50に対応する位置を取り囲むように環状に形成された凹部53を有している。すなわち、圧電素子50に対応する位置では、振動板40の一部が、この環状の凹部53を隔てて島状に孤立している。
The
Here, the
なお、接合膜45aは、環状の凹部53の内側に設けられている。
また、圧電素子50の電極膜52は、図示しない駆動ICと電気的に接続されている。これにより、圧電素子50の動作を駆動ICによって制御することができる。
また、振動板40の上面の一部には、接合膜45bを介して、ケースヘッド60が接合(接着)されている。このように、ケースヘッド60が振動板40と確実に接合されていることにより、ノズルプレート10、基板20、封止シート30および振動板40の積層体で構成された、いわゆるキャビティ部分を補強し、キャビティ部分のよじれや反り等を確実に抑制することができる。
Note that the
The
Further, the
ケースヘッド60を構成する材料としては、例えば、前述したようなシリコン材料、金属材料、ガラス材料、セラミックス材料、炭素材料、樹脂材料、またはこれらの各材料の1種または2種以上を組み合わせた複合材料等が挙げられる。
これらの中でも、ケースヘッド60の構成材料は、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ザイロンのような変性ポリフェニレンエーテル樹脂(「ザイロン」は登録商標)またはステンレス鋼であるのが好ましい。これらの材料は、十分な剛性を備えていることから、ヘッド1を支持するケースヘッド60の構成材料として好適である。
Examples of the material constituting the
Among these, the constituent material of the
このようなケースヘッド60と振動板40とを接合する接合膜45bは、前述の接合膜15と同じ接合機能(接着性)を有するものである。
すなわち、接合膜45bは、プラズマ重合膜で構成され、シロキサン(Si−O)結合を含みランダムな原子構造を有するSi骨格と、このSi骨格に結合する脱離基とを含むものである。
The
That is, the
そして、接合膜45bは、エネルギーを付与したことにより、脱離基がSi骨格から脱離し、接合膜45bの表面に発現した接着性によって、振動板40とケースヘッド60とを接合している。
なお、接合膜45bについては、前述した接合膜15、接合膜25、接合膜35および接合膜45aとともに、後に詳述する。
The
The
また、接合膜25、封止シート30、接合膜35、振動板40および接合膜45bは、吐出液供給室22に対応する位置に貫通孔23を有する。この貫通孔23により、ケースヘッド60に設けられた吐出液供給路61と吐出液供給室22とが連通している。なお、吐出液供給路61と吐出液供給室22とにより、複数の吐出液貯留室21にインクを供給する共通のインク室として機能するリザーバ70の一部を構成する。
Further, the
このようなヘッド1では、図示しない外部吐出液供給手段からインクを取り込み、リザーバ70からノズル孔11に至るまで内部をインクで満たした後、駆動ICからの記録信号により、各吐出液貯留室21に対応するそれぞれの圧電素子50を動作させる。これにより、圧電素子50の逆圧電効果によって振動板40および封止シート30に撓み(振動)が生じる。その結果、例えば、各吐出液貯留室21内の容積が収縮すると、各吐出液貯留室21内の圧力が瞬間的に高まり、ノズル孔11からインクが液滴として押し出される(吐出される)。
In such a
このようにして、ヘッド1において、印刷したい位置の圧電素子50に、駆動ICを介して電圧を印加すること、すなわち、吐出信号を順次入力することにより、任意の文字が図形等を印刷することができる。
なお、ヘッド1は、前述したような構成のものに限らず、例えば、振動手段として圧電素子50をヒータで代替した構成(サーマル方式)のヘッドであってもよい。このようなヘッドは、ヒータでインクを加熱して沸騰させ、それによって吐出液貯留室内の圧力を高めることにより、インクをノズル孔11から液滴として吐出するよう構成されているものである。
さらに、振動手段のその他の例としては、静電アクチュエータ方式等が挙げられる。
なお、本実施形態のように、振動手段が圧電素子で構成されていることにより、振動板40および封止シート30に発生する撓みの程度を容易に制御することができる。これにより、インク滴の大きさを容易に制御することができる。
In this way, in the
The
Furthermore, other examples of the vibration means include an electrostatic actuator system.
Note that, as in the present embodiment, since the vibration means is configured by a piezoelectric element, the degree of bending generated in the
次に、ヘッド1を製造する方法について説明する。
図8ないし図11は、図6に示すインクジェット式記録ヘッドの製造方法を説明するための図(縦断面図)である。なお、以下の説明では、図8ないし図11中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
本実施形態にかかるヘッド1の製造方法は、封止シート30上に接合膜25を形成し、この接合膜25を介して母材20’と封止シート30とを接合する工程と、封止シート30の接合膜25と反対側の面上に接合膜35を形成し、この接合膜35を介して封止シート30と振動板40とを接合する工程と、接合膜25、封止シート30、接合膜35および振動板40の一部に貫通孔23を形成するとともに、振動板40および接合膜35の一部に凹部53を形成する工程と、振動板40上に接合膜45aを形成し、この接合膜45aを介して振動板40と圧電素子50とを接合する工程と、振動板40上に接合膜45bを形成し、この接合膜45bを介して振動板40とケースヘッド60とを接合する工程と、母材20’に対して加工を施し、基板20を形成する工程と、基板20の封止シート30と反対側の面上に接合膜15を形成し、この接合膜15を介して基板20とノズルプレート10とを接合する工程とを有する。
Next, a method for manufacturing the
8 to 11 are views (longitudinal sectional views) for explaining a method of manufacturing the ink jet recording head shown in FIG. In the following description, the upper side in FIGS. 8 to 11 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
The manufacturing method of the
以下、各工程について順次説明する。
[1]まず、封止シート30を用意する。次いで、図8(a)に示すように、封止シート30の下面のうち、最終的に吐出液貯留室21および吐出液供給室22の内面となる部分にレジスト膜251を形成する。
このレジスト膜251は、まず、封止シート30の下面全体にレジスト材料を供給した後、フォトリソグラフィ技術により、所定部分のレジスト膜のみを残すことにより形成される。
Hereinafter, each process will be described sequentially.
[1] First, the sealing
The resist
[2]次に、図8(b)に示すように、レジスト膜251を覆うように、封止シート30の下面全体に接合膜25を形成する。この接合膜25は、前述した接合膜3と同様、シラン系ガスを原料ガスとしてプラズマ重合法により作製することができる。
[3]次に、接合膜25に対してエネルギーを付与する。これにより、接合膜25に母材20’との接着性が発現する。なお、接合膜25に対するエネルギーの付与は、前述した方法と同様である。
[2] Next, as shown in FIG. 8B, the
[3] Next, energy is applied to the
[4]次に、基板20を作製するための母材として、母材20’を用意する。母材20’は、後述する工程において加工を施すことにより、基板20になり得るものである。そして、接着性が発現した接合膜25と母材20’とが密着するように、封止シート30と母材20’とを貼り合わせる(図8(c)参照)。これにより、図8(d)に示すように、封止シート30と母材20’とが、接合膜25を介して接合(接着)される。
[4] Next, a
[5]次に、図8(e)に示すように、封止シート30の上面のうち、最終的に凹部53に対応する部分にレジスト膜351を形成する。
[6]次に、図8(f)に示すように、レジスト膜351を覆うように、封止シート30の上面全体に接合膜35を形成する。この接合膜35は、前述した接合膜3と同様、シラン系ガスを原料ガスとしてプラズマ重合法により作製することができる。
[5] Next, as shown in FIG. 8E, a resist
[6] Next, as shown in FIG. 8F, a
[7]次に、接合膜35に対してエネルギーを付与する。これにより、接合膜35に振動板40との接着性が発現する。なお、接合膜35に対するエネルギーの付与は、前述した方法と同様である。
[8]次に、振動板40を用意する。そして、接着性が発現した接合膜35と振動板40とが密着するように、封止シート30と振動板40とを貼り合わせる(図9(g)参照)。これにより、図9(h)に示すように、封止シート30と振動板40とが、接合膜35を介して接合(接着)される。
[7] Next, energy is applied to the
[8] Next, the
[9]次に、図9(i)に示すように、接合膜25、封止シート30、接合膜35および振動板40のうち、ヘッド1の吐出液供給室22に対応する位置に、貫通孔23を形成する。
また、振動板40のうち、圧電素子50が組み立てられる位置を取り囲む環状の領域に、凹部53’を形成する。
貫通孔23および凹部53’の形成は、ドライエッチング、リアクティブイオンエッチング、ビームエッチング、光アシストエッチング等の物理的エッチング法、ウエットエッチング等の化学的エッチング法等のうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
[9] Next, as shown in FIG. 9 (i), the
Further, a
The through-
[10]次に、レジスト膜251およびレジスト膜351を除去する(図9(j)参照)。各レジスト膜251、351の除去は、前述したレジスト膜4の除去と同様の方法で行うことができる。
また、各レジスト膜251、351が除去されると、それらを覆うように形成されていた接合膜25および接合膜35のうち、各レジスト膜251、351に接していた部分が剥離し、除去されることとなる。これにより、接合膜25は、最終的に吐出液貯留室21および吐出液供給室22の内面となる部分が選択的に除去される。また、接合膜35は、凹部53’に対応する部分が選択的に除去され、凹部53が形成される(図9(k)参照)。
[10] Next, the resist
Further, when the resist
[11]次に、図9(L)に示すように、振動板40上の圧電素子50が組み立てられる位置に、接合膜45aを形成する。この接合膜45aは、前述した接合膜3と同様、シラン系ガスを原料ガスとしてプラズマ重合法により作製することができる。
なお、振動板40上の一部の領域に部分的に接合膜45aを形成する場合、例えば、接合膜45aを形成すべき領域に対応する形状の窓部を有するマスクを介して、接合膜45aを成膜する方法でもよく、また、本発明のようにリフトオフ法を用いて成膜する方法でもよい。
[11] Next, as shown in FIG. 9L, a
When the
[12]次に、接合膜45aに対してエネルギーを付与する。これにより、接合膜45aに、圧電素子50との接着性が発現する。なお、接合膜45aに対するエネルギーの付与は、前述した方法と同様の方法で行うことができる。
[13]次に、圧電素子50を用意する。そして、接着性が発現した接合膜45aと圧電素子50とが密着するように、振動板40と圧電素子50とを貼り合わせる。これにより、振動板40と圧電素子50とが、接合膜45aを介して接合(接着)される。その結果、図10(m)に示すように、母材20’、封止シート30、振動板40および圧電素子50が接合される。
[12] Next, energy is applied to the
[13] Next, the
[14]次に、図10(n)に示すように、振動板40上のケースヘッド60が組み立てられる位置に、接合膜45bを形成する。この接合膜45bの形成方法は、前述した接合膜3と同様、シラン系ガスを原料ガスとしてプラズマ重合法により作製することができる。
なお、振動板40上の一部の領域に部分的に接合膜45bを形成する場合、例えば、接合膜45bを形成すべき領域に対応する形状の窓部を有するマスクを介して、接合膜45bを成膜するようにすればよい。
[14] Next, as shown in FIG. 10 (n), a
When the
[15]次に、接合膜45bに対してエネルギーを付与する。これにより、接合膜45bに、ケースヘッド60との接着性が発現する。なお、接合膜45bに対するエネルギーの付与は、前述した方法と同様の方法で行うことができる。
[16]次に、ケースヘッド60を用意する。そして、接着性が発現した接合膜45bとケースヘッド60とが密着するように、振動板40とケースヘッド60とを貼り合わせる。これにより、振動板40とケースヘッド60とが、接合膜45bを介して接合(接着)される。その結果、図10(o)に示すように、母材20’、封止シート30、振動板40、圧電素子50およびケースヘッド60が接合される。
[15] Next, energy is applied to the
[16] Next, the
[17]次に、封止シート30、振動板40、圧電素子50およびケースヘッド60が接合された母材20’の上下を反転させる。そして、母材20’の封止シート30と反対側の面に対して加工を施し、各吐出液貯留室21および吐出液供給室22を形成する。これにより、母材20’から基板20を得る(図11(p)参照)。また、吐出液供給室22は、接合膜25、封止シート30、接合膜35および振動板40に形成された貫通孔23、および、ケースヘッド60に設けられた吐出液供給路61と連通し、リザーバ70が形成される。
[17] Next, the
母材20’の加工方法には、例えば、前述したような各種エッチング法を用いることができる。
なお、ここでは、封止シート30、振動板40、圧電素子50およびケースヘッド60が接合された母材20’に対して加工を施すことにより、各吐出液貯留室21および吐出液供給室22を形成する場合について説明したが、あらかじめ母材20’に各吐出液貯留室21および吐出液供給室22を設けておいてもよい。
As the processing method of the
Here, each of the discharge
[18]次に、図11(q)に示すように、基板20上のノズルプレート10が組み立てられる位置に、接合膜15を形成する。この接合膜15の形成方法は、前述した接合膜3と同様、シラン系ガスを原料ガスとしてプラズマ重合法により作製することができる。
[19]次に、接合膜15に対してエネルギーを付与する。これにより、接合膜15に、ノズルプレート10との接着性が発現する。なお、接合膜15に対するエネルギーの付与は、前述した方法と同様の方法で行うことができる。
[18] Next, as shown in FIG. 11 (q), a
[19] Next, energy is applied to the
[20]次に、ノズルプレート10を用意する。そして、接着性が発現した接合膜15とノズルプレート10とが密着するように、基板20とノズルプレート10とを貼り合わせる。これにより、基板20とノズルプレート10とが、接合膜15を介して接合(接着)される。その結果、図11(r)に示すように、ヘッド1が得られる。
ここで、インクジェットプリンタ9では、前述したように圧電素子50に発生した歪みを、封止シート30の変位、最終的には各吐出液貯留室21の容積変化に変換することにより、インクを吐出して印刷することができる。この際、インクの吐出量は、封止シート30の変位量により制御されるため、圧電素子50の歪みと封止シート30の変位量との相関関係は、あらかじめ厳密に設計される。
[20] Next, the
Here, in the
ところが、ヘッド1の製造過程において、封止シート30の表面に意図しない異物等が残留すると、封止シート30の材料特性が変化し、前述の相関関係が設計値から外れてしまうおそれがある。
これに対し、上述したような本発明の接合方法を用いて製造されたヘッド1は、封止シート30の各吐出液貯留室21および吐出液供給室22に臨む面、および、凹部53に臨む面(凹部53の底面)に対して、プラズマ重合膜を成膜する際、あらかじめレジスト膜を成膜した後、その上からプラズマ重合膜を成膜するようにしたため、封止シート30の表面に、プラズマ重合膜中のシリコン成分が付着するのを避けることができる。これにより、シリコン成分の付着によって封止シート30の材料特性が変化するのを防止し、前述の相関関係を設計値に維持することができる。その結果、インクジェットプリンタ9の印字品位が低下するのを防止することができる。
However, if unintended foreign matter or the like remains on the surface of the sealing
On the other hand, the
すなわち、封止シート30の各吐出液貯留室21および吐出液供給室22に臨む面、および、凹部53に臨む面は、他の部材(被着体)との接合に供されない領域であり、かつ、この領域がレジスト膜で保護されることによって材料特性の変化を防止される。これにより、当該領域が所定の変位量で変位することができ、その結果、所定の吐出量のインクを吐出可能なヘッド1が得られる。
That is, the surface facing each discharge
また、上記方法によれば、特に凹部53の底面に接着剤やプラズマ重合膜が成膜されないため、封止シート30の剛性をより小さく設計することが可能になる。これにより、封止シート30の変位量をより大きく確保することができ、インクジェットプリンタ9におけるインク吐出量の調整幅をさらに拡大することができる。また、リフトオフ法によれば、プラズマ重合膜の剥離量を厳密に制御することができるので、封止シート30の剛性を設計値に対してより近付けることができる。
Further, according to the above method, since the adhesive or the plasma polymerized film is not particularly formed on the bottom surface of the
このような各接合膜15、25、35、45aおよび45bは、シロキサン結合を含みランダムな原子構造を有するSi骨格の影響によって、変形し難い強固な膜となる。これは、Si骨格の結晶性が低くなるため、結晶粒界における転位やズレ等の欠陥が生じ難いためであると考えられる。このため、各部材間の距離を高い寸法精度で制御することができ、各吐出液貯留室21や吐出液供給室22の各容積を厳密に制御することができる。その結果、ヘッド1内に複数個設けられた各吐出液貯留室21同士の容積を均一にすることができ、各ノズル孔11から吐出されるインク滴の大きさを揃えることができる。また、ノズルプレート10の固定角度を厳密に制御することができるため、インク滴の吐出方向を一定に維持することができる。これらのことから、インクジェットプリンタ9による印字の品位を高めることができる。また、複数のヘッド1を作製する場合には、ヘッド1毎の印字品位のバラツキを抑制することができるので、インクジェットプリンタ9の印字品位の個体差を抑制することができる。
Each of the
また、各接合膜15、25、35、45aおよび45bを用いて基板20とノズルプレート10とを接合したことにより、従来、接着剤を用いて接合した場合と比較して、接着剤がはみ出すといった問題が生じることがない。したがって、はみ出した接着剤がヘッド1内のインクの流路を塞いでしまうのを避けることができる。また、はみ出した接着剤を除去する手間も省略できるという利点もある。
In addition, since the
また、各接合膜15、25、35、45aおよび45bは、前述したような強固なSi骨格の作用により、耐薬品性に優れる。このため、各接合膜15、25、35、45aおよび45bは長期にわたってインクに曝されたとしても、変質・劣化することが防止され、各部材間の接合(接着)を長期にわたって確保することができる。すなわち、本発明の接合方法によれば、ヘッド1の液密性を十分に確保することができるため、信頼性の高いヘッド1を提供することができる。
Further, each
さらに、接合膜15は、化学的に安定なSi骨格の作用により、耐熱性に優れている。このため、ヘッド1が高温下に曝されたとしても、各接合膜15、25、35、45aおよび45bの変質・劣化を確実に防止することができる。
以上、本発明の接合方法、接合体、液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Furthermore, the
As described above, the bonding method, the bonded body, the droplet discharge head, and the droplet discharge apparatus of the present invention have been described based on the illustrated embodiments, but the present invention is not limited thereto.
例えば、前記実施形態は、本発明の接合方法を液滴吐出ヘッドの製造方法に適用した場合であるが、本発明の接合方法は、例えば水晶振動子等の基材が一定の振動数または一定の振幅で変位するような圧電素子の組み立てに対して好適に適用される。具体的には、水晶振動子は、水晶基板の一部を接合膜を介して筺体等に固定することにより組み立てられるが、水晶基板の接合膜を形成しない残りの領域は、その厚さや比重等が水晶振動子の振動数に影響を及ぼしてしまう。そこで、この接合膜を形成しない領域をあらかじめレジスト膜で保護してから水晶基板に接合膜(プラズマ重合膜)を形成するようにすれば、異物であるシリコン成分の付着が防止され、前記領域の厚さや比重等が変化するのを防止することができる。これにより、設計値通りの振動数で振動する信頼性の高い水晶振動子を効率よく製造することができる。 For example, the above embodiment is a case where the bonding method of the present invention is applied to a method for manufacturing a droplet discharge head. It is suitably applied to the assembly of piezoelectric elements that are displaced with an amplitude of. Specifically, the crystal resonator is assembled by fixing a part of the crystal substrate to a housing or the like via a bonding film, but the remaining area where the bonding film of the crystal substrate is not formed has its thickness, specific gravity, etc. Affects the frequency of the quartz crystal. Therefore, if the bonding film (plasma polymerization film) is formed on the quartz substrate after protecting the region where the bonding film is not formed with a resist film in advance, the adhesion of the silicon component, which is a foreign substance, is prevented. It is possible to prevent changes in thickness, specific gravity and the like. Thereby, it is possible to efficiently manufacture a highly reliable crystal resonator that vibrates at a frequency as designed.
なお、前述したような基材が一定の振動数または一定の振幅で変位するような部位を有するデバイス(素子)としては、前述した水晶振動子の他、光スキャナ、加速度センサのようなMEMSデバイス、弾性表面波デバイス等が挙げられる。
また、本発明の接合方法では、前記実施形態の構成に限定されず、工程の順序が前後していてもよい。また、任意の目的の工程が1または2以上追加されていてもよい。
In addition, as a device (element) having a portion where the base material is displaced at a constant frequency or a constant amplitude as described above, a MEMS device such as an optical scanner or an acceleration sensor in addition to the above-described crystal resonator. And surface acoustic wave devices.
Moreover, in the joining method of this invention, it is not limited to the structure of the said embodiment, The order of a process may be back and forth. In addition, one or two or more optional steps may be added.
2……第1の基材 200……接合面 201、202……領域 3’……プラズマ重合膜 3、301、302……接合膜 31……表面 32……穴部 3c……隙間 4……レジスト膜 5……第2の基材 500……接合面 6、6’……接合体 1……インクジェット式記録ヘッド 10……ノズルプレート 11……ノズル孔 15、25、35、45a、45b……接合膜 251、351……レジスト膜 20……吐出液貯留室形成基板 20’……母材 21……吐出液貯留室 22……吐出液供給室 23……貫通孔 30……封止シート 40……振動板 50……圧電素子 51……圧電体層 52……電極膜 53、53’……凹部 60……ケースヘッド 61……吐出液供給路 70……リザーバ 100……プラズマ重合装置 101……チャンバー 102……接地線 103……供給口 104……排気口 130……第1の電極 139……静電チャック 140……第2の電極 170……ポンプ 171……圧力制御機構 180……電源回路 182……高周波電源 183……マッチングボックス 184……配線 190……ガス供給部 191……貯液部 192……気化装置 193……ガスボンベ 194……配管 195……拡散板 802……基材 803……プラズマ重合膜 804……レジスト膜 807……窓部 9……インクジェットプリンタ 92……装置本体 921……トレイ 922……排紙口 93……ヘッドユニット 931……インクカートリッジ 932……キャリッジ 94……印刷装置 941……キャリッジモータ 942……往復動機構 943……キャリッジガイド軸 944……タイミングベルト 95……給紙装置 951……給紙モータ 952……給紙ローラ 952a……従動ローラ 952b……駆動ローラ 96……制御部 97……操作パネル P……記録用紙
2...
Claims (31)
前記接合膜にエネルギーを付与し、前記接合膜の少なくとも表面付近に存在する前記脱離基が前記Si骨格から脱離することにより、接着性を発現させる第2の工程と、
前記基材との接合に供される被着体を用意し、前記接合膜を介して前記基材と前記被着体とを部分的に接合する第3の工程とを有し、
前記第1の工程において、前記基材の表面上の前記所定領域を包含する領域に、シラン系ガスを原料とするプラズマ重合膜を成膜した後、リフトオフ法により前記プラズマ重合膜をパターニングすることにより、前記接合膜を形成することを特徴とする接合方法。 Forming a bonding film including a Si skeleton having a random atomic structure including a siloxane (Si—O) bond and a leaving group bonded to the Si skeleton in a predetermined region on a surface of the substrate; 1 process,
A second step in which energy is imparted to the bonding film, and the leaving group present at least near the surface of the bonding film is released from the Si skeleton, thereby exhibiting adhesiveness;
Preparing an adherend to be joined to the base material, and having a third step of partially joining the base material and the adherend through the joining film;
In the first step, after forming a plasma polymerized film using a silane-based gas as a raw material in a region including the predetermined region on the surface of the base material, patterning the plasma polymerized film by a lift-off method To form the bonding film.
前記基材の表面上の前記レジスト膜を包含する領域に前記プラズマ重合膜を成膜する接合膜形成工程と、
前記レジスト膜を除去することにより、前記レジスト膜とともに、前記レジスト膜上に位置する前記プラズマ重合膜を選択的に除去し、前記接合膜を得るレジスト膜除去工程とを有するパターニング方法である請求項1に記載の接合方法。 The lift-off method includes a resist film forming step of forming a resist film in a region other than the predetermined region on the surface of the base material;
A bonding film forming step of forming the plasma polymerized film in a region including the resist film on the surface of the substrate;
The resist film removing step of selectively removing the plasma polymerized film located on the resist film together with the resist film by removing the resist film to obtain the bonding film. 2. The joining method according to 1.
前記レジスト膜の除去は、前記レジスト膜を溶媒に溶解することにより行う請求項2ないし4のいずれかに記載の接合方法。 The resist film is a resin film or a metal film,
The bonding method according to claim 2, wherein the removal of the resist film is performed by dissolving the resist film in a solvent.
前記第2の工程において、前記各接合膜にエネルギーを付与した後、前記第3の工程において、前記各接合膜同士が密着するようにして、前記基材と前記被着体とを接合する請求項1ないし27のいずれかに記載の接合方法。 The adherend has a bonding film similar to the bonding film,
In the second step, after applying energy to each bonding film, in the third step, the bonding film is bonded to the adherend so that the bonding films are in close contact with each other. Item 28. The joining method according to any one of Items 1 to 27.
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