JP2009295811A - Interposer bonding method - Google Patents

Interposer bonding method Download PDF

Info

Publication number
JP2009295811A
JP2009295811A JP2008148264A JP2008148264A JP2009295811A JP 2009295811 A JP2009295811 A JP 2009295811A JP 2008148264 A JP2008148264 A JP 2008148264A JP 2008148264 A JP2008148264 A JP 2008148264A JP 2009295811 A JP2009295811 A JP 2009295811A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
interposer
base
side terminal
adhesive
circuit sheet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008148264A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5171405B2 (en
Inventor
Ryoichi Nishikawa
良一 西川
Hiroshi Aoyama
博司 青山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hallys Corp
Original Assignee
Hallys Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hallys Corp filed Critical Hallys Corp
Priority to JP2008148264A priority Critical patent/JP5171405B2/en
Publication of JP2009295811A publication Critical patent/JP2009295811A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5171405B2 publication Critical patent/JP5171405B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83192Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an interposer bonding method capable of physically, electrically and highly surely bonding an interposer and a base circuit sheet to each other. <P>SOLUTION: The interposer bonding method includes: an adhesive applying step of providing an adhesive arrangement layer 25 made of an electrically insulating adhesive, on a surface of a base-side terminal 22 out of a surface of a base circuit sheet 20; an interposer disposing step of disposing an interposer 10 on the surface of the base circuit sheet 20; and a pressure bonding step of applying a pressure to the base circuit sheet 20 and the interposer 10. The base-side terminal 22 of the base circuit sheet 20 before bonding of the interposer 10 is formed with a concave recess 220 where a bump electrode 26 is stored. In the pressure bonding step, the bump electrode 26 stored in the recess 220 is pushed up into press contact with an interposer-side terminal 12 by deforming the recess 220 so as to push up it from the bottom. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子部品としてのインターポーザをベース回路シートに接合する接合方法に関する。   The present invention relates to a joining method for joining an interposer as an electronic component to a base circuit sheet.

従来、電子部品としてのインターポーザをベース回路シートに接合するためのインターポーザ接合方法として、例えば、ベース回路シートの接続端子の表面に塗付した絶縁性接着剤によりインターポーザの接続端子を接着する方法が知られている。例えば、絶縁性接着剤の塗布領域と未塗布領域とが形成されたベース回路シートの接続端子に対して、インターポーザの接続端子を接着する接合方法がある。このインターポーザ接合方法では、絶縁性接着剤を介して当接する部分における接続端子相互の物理的な接合と、絶縁性接着剤を介在せずに当接する部分における接続端子相互の電気的な接合とを同時に実現しようとしている(例えば、特許文献1参照。)。   Conventionally, as an interposer bonding method for bonding an interposer as an electronic component to a base circuit sheet, for example, a method of bonding an interposer connection terminal with an insulating adhesive applied to the surface of the connection terminal of the base circuit sheet is known. It has been. For example, there is a bonding method in which the connection terminal of the interposer is bonded to the connection terminal of the base circuit sheet in which the application region and the non-application region of the insulating adhesive are formed. In this interposer joining method, the physical connection between the connection terminals in the part that abuts with the insulating adhesive and the electrical connection between the connection terminals in the part that abuts without interposing the insulating adhesive. It is going to be realized simultaneously (for example, refer to Patent Document 1).

しかしながら、上記従来のインターポーザ接合方法には、次のような問題がある。すなわち、上記のインターポーザ接合方法では、絶縁性接着剤の塗付パターンや、その塗付量によっては、接続端子相互の物理的な接合と電気的な接合とを両立できなくなるおそれがある。接続端子の表面のうち絶縁性接着剤の塗布領域の割合が増えると、物理的な接合が十分になるものの電気的な接合が不十分になるおそれがある。一方、絶縁性接着剤の未塗布領域の割合が増えると、物理的な接合が不十分となり、それに起因して電気的な接合の信頼性を高く維持できなくなるおそれがある。   However, the conventional interposer joining method has the following problems. That is, in the above interposer bonding method, depending on the coating pattern of the insulating adhesive and the amount of coating, there is a possibility that it is impossible to achieve both physical bonding and electrical bonding between the connection terminals. If the ratio of the application area | region of an insulating adhesive agent increases in the surface of a connection terminal, there exists a possibility that electrical joining may become inadequate although physical joining is enough. On the other hand, when the ratio of the unapplied region of the insulating adhesive increases, physical bonding becomes insufficient, which may result in failure to maintain high reliability of electrical bonding.

特開2003−69216号公報JP 2003-69216 A

本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり、インターポーザをベース回路シートに接合する接合方法であって、インターポーザとベース回路シートとを物理的、電気的に確実性高く接合し得るインターポーザ接合方法を提供しようとするものである。   The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and is a joining method for joining an interposer to a base circuit sheet, which joins the interposer and the base circuit sheet with high physical and electrical certainty. It is an object of the present invention to provide an obtained interposer joining method.

本発明は、シート状のベース基材の表面にベース側端子を設けたベース回路シートに対して、インターポーザ側端子を有する電子部品であるインターポーザを接合するインターポーザ接合方法において、
上記ベース回路シートの表面のうち少なくとも上記ベース側端子の表面に電気絶縁性接着剤よりなる接着剤配設層を設ける接着剤塗付工程と、
上記ベース側端子と上記インターポーザ側端子とが上記接着剤配設層を介して対面するように、上記ベース回路シートの表面に上記インターポーザを配置するインターポーザ配置工程と、
上記ベース回路シートと上記インターポーザとを加圧して接合する加圧接合工程と、を含み、
上記インターポーザを接合する前の上記ベース回路シートのベース側端子には、電極部材が収容された凹状の窪み部が形成されており、
上記加圧接合工程は、上記窪み部を底側から押し上げるように変形させることにより該窪み部に収容された上記電極部材を押し上げ、上記インターポーザ側端子に押し当てる工程であることを特徴とするインターポーザ接合方法にある(請求項1)。
The present invention provides an interposer joining method for joining an interposer, which is an electronic component having an interposer side terminal, to a base circuit sheet provided with a base side terminal on the surface of a sheet-like base substrate.
An adhesive application step of providing an adhesive disposition layer made of an electrically insulating adhesive on at least the surface of the base-side terminal of the surface of the base circuit sheet;
An interposer placement step of placing the interposer on the surface of the base circuit sheet so that the base side terminal and the interposer side terminal face each other via the adhesive placement layer;
A pressure bonding step of pressing and bonding the base circuit sheet and the interposer,
The base side terminal of the base circuit sheet before joining the interposer is formed with a concave recess that accommodates the electrode member,
The pressure bonding step is a step of pushing up the electrode member accommodated in the depression by deforming the depression so that the depression is pushed up from the bottom side and pressing the electrode member against the interposer side terminal. It exists in the joining method (Claim 1).

本発明のインターポーザ接合方法で取り扱う上記ベース回路シート(接合前)は、上記電極部材が収容された上記窪み部を含む上記ベース側端子を備えたシート状の電子基板である。そして、上記インターポーザ接合方法は、このベース回路シートの表面に上記インターポーザを配置する上記インターポーザ配置工程と、上記ベース回路シートと上記インターポーザとを加圧して接合する上記加圧接合工程と、を含む接合方法である。   The base circuit sheet (before bonding) handled by the interposer bonding method of the present invention is a sheet-like electronic substrate including the base-side terminal including the hollow portion in which the electrode member is accommodated. And the said interposer joining method is the joining containing the said interposer arrangement | positioning process which arrange | positions the said interposer on the surface of this base circuit sheet, and the said pressurization joining process of pressurizing and joining the said base circuit sheet and the said interposer. Is the method.

上記インターポーザ配置工程では、上記窪み部を含むベース側端子と上記インターポーザ側端子とが上記接着剤配設層を介して対面するように、上記ベース回路シートの表面に上記インターポーザが配置される。上記加圧接合工程では、上記窪み部を底側から押し上げるように変形させることにより、該窪み部に収容された上記電極部材が押し上げられ上記インターポーザ側端子に押し当てられる。   In the interposer arrangement step, the interposer is arranged on the surface of the base circuit sheet so that the base-side terminal including the depression and the interposer-side terminal face each other through the adhesive-disposing layer. In the pressure bonding step, by deforming the depression so as to be pushed up from the bottom side, the electrode member accommodated in the depression is pushed up and pressed against the interposer side terminal.

上記インターポーザ側端子に対して上記電極部材が押し当てられると、上記ベース側端子と上記インターポーザ側端子との電気的な接合が確実性高く実現される。一方、上記電極部材が押し当てられていない部分では、上記インターポーザ側端子と上記ベース側端子との間に存在する上記電気絶縁性接着剤により上記インターポーザ側端子と上記ベース側端子との物理的な接合が確実性高く実現される。   When the electrode member is pressed against the interposer side terminal, the electrical connection between the base side terminal and the interposer side terminal is realized with high reliability. On the other hand, in the part where the electrode member is not pressed, the interposer side terminal and the base side terminal are physically separated by the electrically insulating adhesive existing between the interposer side terminal and the base side terminal. Bonding is realized with high reliability.

以上のように、本発明のインターポーザ接合方法では、上記インターポーザ側端子と上記ベース側端子との接合箇所において、上記電気絶縁性接着剤を介した物理的な接合と、上記電極部材を介した電気的な接合とを同時に確実性高く実現することができる。   As described above, in the interposer bonding method according to the present invention, physical bonding via the electrically insulating adhesive and electrical connection via the electrode member are performed at the bonding location between the interposer side terminal and the base side terminal. Can be realized at the same time with high certainty.

本発明の上記ベース基材は、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、PPS(ポリフェニレンサルファイド)樹脂、PLA(ポリ乳酸)樹脂、汎用エンプラ等の合成樹脂や、紙や、不織布や、アルミ箔、銅箔等の金属材料や、ガラス等の材料により形成することができる。さらに、上記電気絶縁性接着剤としては、ホットメルト接着剤、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、弾性接着剤等を用いることができる。   The base substrate of the present invention includes PET (polyethylene terephthalate) film, PPS (polyphenylene sulfide) resin, PLA (polylactic acid) resin, synthetic resin such as general-purpose engineering plastic, paper, nonwoven fabric, aluminum foil, copper foil, etc. It can be formed of a metal material or a material such as glass. Furthermore, as the electrical insulating adhesive, a hot melt adhesive, an epoxy adhesive, an acrylic adhesive, an elastic adhesive, or the like can be used.

なお、上記窪み部を底側から押し上げるように変形させるとは、当該窪み部の底側から上記インターポーザ側に向けて上記窪み部を押し上げるように変形させることを意味している。押し上げ方向としては、鉛直方向の上方側に限定されない。   Note that the deformation of the depression so as to push up from the bottom means that the depression is pushed up from the bottom of the depression toward the interposer. The push-up direction is not limited to the upper side in the vertical direction.

また、上記インターポーザとしては、シート状のチップ保持基材にICチップ等の半導体チップを実装した電子部品、電子回路を印刷したシート状の電子部品、電子回路を形成したフィルム状の電子基板、金属シートの表面に電子回路を印刷した電子部品等がある。 The interposer includes an electronic component in which a semiconductor chip such as an IC chip is mounted on a sheet-shaped chip holding substrate, a sheet-shaped electronic component on which an electronic circuit is printed, a film-shaped electronic substrate on which an electronic circuit is formed, a metal There is an electronic component having an electronic circuit printed on the surface of the sheet.

また、上記ベース基材の平滑表面に形成された上記ベース側端子に上記窪み部を設ける窪み部形成工程と、
上記窪み部に上記電極部材を配設するバンプ形成工程と、を含むことが好ましい(請求項2)。
この場合には、上記ベース側端子を形成した後の上記ベース基材に対して、上記窪み部成形工程を施すことで上記窪み部を形成することができる。その後、さらに上記バンプ形成工程を施すことにより上記窪み部に上記電極部材を収容できる。
Moreover, the hollow part formation process which provides the said hollow part in the said base side terminal formed in the smooth surface of the said base base material,
And a bump forming step of disposing the electrode member in the recess (claim 2).
In this case, the said hollow part can be formed by performing the said hollow part shaping | molding process with respect to the said base base material after forming the said base side terminal. Then, the said electrode member can be accommodated in the said hollow part by performing the said bump formation process further.

また、予め凹部を設けた上記ベース基材の表面に導電性材料の配設層を形成することで上記窪み部を含む上記ベース側端子を形成する端子形成工程と、
上記窪み部に上記電極部材を配設するバンプ形成工程と、を含むことが好ましい(請求項3)。
この場合には、予め上記凹部を設けた上記ベース基材に対して上記端子形成工程を施すことで上記窪み部を備えた上記ベース側端子を形成できる。その後、上記バンプ形成工程を施せば、上記窪み部に上記電極部材を収容させることができる。
In addition, a terminal forming step of forming the base-side terminal including the recessed portion by forming a conductive material arrangement layer on the surface of the base substrate provided with a recess in advance;
And a bump forming step of disposing the electrode member in the recess.
In this case, the base-side terminal provided with the depression can be formed by performing the terminal forming step on the base substrate on which the recess is provided in advance. Then, if the said bump formation process is given, the said electrode member can be accommodated in the said hollow part.

また、上記電気絶縁性接着剤は熱可塑性を呈する接着剤であり、
上記加圧接合工程は、一対のプレス型を用いて上記ベース回路シートと上記インターポーザを加圧する工程であり、上記一対のプレス型のうちの少なくともいずれか一方は、その加圧表面を加熱するための加熱ヒータを備えていることが好ましい(請求項4)。
この場合には、上記加熱ヒータにより上記電気絶縁性接着剤を加熱して流動性を高めることができる。上記電気絶縁性接着剤の流動性が高くなれば、当該電気絶縁性接着剤を押し退けながら上記電極部材を押し上げることが容易になり、上記インターポーザ側端子に対して上記電極部材を比較的容易に押し当てることができるようになる。
Further, the electrically insulating adhesive is an adhesive exhibiting thermoplasticity,
The pressure bonding step is a step of pressing the base circuit sheet and the interposer using a pair of press dies, and at least one of the pair of press dies heats the pressing surface. It is preferable that the heater is provided (claim 4).
In this case, the fluidity can be increased by heating the electrically insulating adhesive with the heater. If the fluidity of the electrical insulating adhesive is increased, it becomes easy to push up the electrode member while pushing away the electrical insulating adhesive, and the electrode member is pushed relatively easily against the interposer side terminal. You will be able to guess.

また、上記ベース基材を熱可塑性材料により形成することも良い。この場合には、上記加熱ヒータによる加熱により上記ベース基材の変形を容易にできる。熱可塑性材料としてPS(ポリスチレン)、PC(ポリカーボネイト)、PA(ポリアミド)、PP(ポリプロピレン)、PPE(ポリフェニレンエーテル)、PET等の材料を利用できる。さらに、上記電気絶縁性接着剤としては、ホットメルト接着剤、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、弾性接着剤等を用いることができる。   The base substrate may be formed of a thermoplastic material. In this case, the base substrate can be easily deformed by heating with the heater. Materials such as PS (polystyrene), PC (polycarbonate), PA (polyamide), PP (polypropylene), PPE (polyphenylene ether), and PET can be used as the thermoplastic material. Furthermore, as the electrical insulating adhesive, a hot melt adhesive, an epoxy adhesive, an acrylic adhesive, an elastic adhesive, or the like can be used.

また、上記接着剤塗付工程において上記接着剤配設層を形成する接着剤配設領域は、上記インターポーザ配置工程において上記インターポーザを配置するインターポーザ配置領域を包含していることが好ましい(請求項5)。
この場合には、上記インターポーザの外周側面と上記ベース回路シートの表面との間に、上記電気絶縁性接着剤よりなる法(のり)面を形成できる。それ故、上記インターポーザの表面だけでなく外周側面に付着した上記電気絶縁性接着剤により、上記インターポーザと上記ベース回路シートとの物理的な接合を一層、確実性高く実現できる。
Moreover, it is preferable that the adhesive arrangement | positioning area | region which forms the said adhesive arrangement | positioning layer in the said adhesive coating process includes the interposer arrangement | positioning area | region which arrange | positions the said interposer in the said interposer arrangement | positioning process. ).
In this case, a method (paste) surface made of the electrically insulating adhesive can be formed between the outer peripheral side surface of the interposer and the surface of the base circuit sheet. Therefore, physical bonding between the interposer and the base circuit sheet can be realized with higher reliability by the electrically insulating adhesive attached not only to the surface of the interposer but also to the outer peripheral side surface.

また、上記ベース回路シートは、電波を送信あるいは受信するためのアンテナパターンが上記ベース基材の表面に形成された電子部品であり、上記インターポーザは、シート状のチップ保持基材の表面にRF−ID用のICチップが実装された電子部品であることが好ましい(請求項6)。
ここで、RF−IDとは、Radio Frequency IDentificationの略である。そして、本発明のインターポーザ接合方法により上記ベース回路シートに上記インターポーザを接合したRF−IDメディアを作製する場合には、上記インターポーザと上記ベース回路シートとが物理的、電気的に確実性高く接合された信頼性の高い優れた品質の製品を効率良く製造することができる。なお、上記インターポーザ接合方法を利用して接触ID用のIDメディアを作製することも可能である。
Further, the base circuit sheet is an electronic component in which an antenna pattern for transmitting or receiving radio waves is formed on the surface of the base substrate, and the interposer is formed on the surface of the sheet-like chip holding substrate with RF- An electronic component on which an IC chip for ID is mounted is preferable.
Here, RF-ID is an abbreviation for Radio Frequency IDentification. And when producing the RF-ID media which joined the said interposer to the said base circuit sheet by the interposer joining method of this invention, the said interposer and the said base circuit sheet are joined with high physical and electrical certainty. Highly reliable and excellent quality products can be manufactured efficiently. In addition, it is also possible to produce ID media for contact ID using the said interposer joining method.

上記シート状のチップ保持基材は、ステンレス、アルミ箔、銅箔等の金属材料や、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、PPS(ポリフェニレンサルファイド)樹脂、PLA(ポリ乳酸)樹脂、汎用エンプラ等の合成樹脂や、紙や、不織布や、ガラス等の材料により形成することができる。なお、上記チップ保持基材の材質と、上記ベース基材の材質とは、同じ材質の組み合わせでも良く、異なる材質の組み合わせであっても良い。   The sheet-like chip holding substrate is made of metal materials such as stainless steel, aluminum foil, copper foil, synthetic resin such as PET (polyethylene terephthalate) film, PPS (polyphenylene sulfide) resin, PLA (polylactic acid) resin, general-purpose engineering plastics, etc. Alternatively, it can be formed of a material such as paper, non-woven fabric, or glass. The material of the chip holding substrate and the material of the base substrate may be the same material combination or different material combinations.

本発明の実施の形態につき、以下の実施例を用いて具体的に説明する。
(実施例1)
本例は、ベース回路シート20にインターポーザ10を接合した電子部品の製造方法、特に、ベース回路シート20に対するインターポーザ接合方法に関する例である。この内容について、図1〜図9を用いて説明する。
本例は、ベース回路シート20に対してインターポーザ10を接合するインターポーザ接合方法に関する例である。インターポーザ10は、シート状のチップ保持基材13の表面にRF−ID用のICチップ11を実装してなると共に該ICチップ11から延設された接続端子であるインターポーザ側端子12を有する電子部品である。ベース回路シート20は、シート状のベース基材21の表面にベース側端子22を設けた電子部品である。
このインターポーザ接合方法は、ベース回路シート20の表面のうちベース側端子22の表面に電気絶縁性接着剤よりなる接着剤配設層25を設ける接着剤塗付工程と、ベース側端子22とインターポーザ側端子12とが接着剤配設層25を介して対面するように、ベース回路シート20の表面にインターポーザ10を配置するインターポーザ配置工程と、ベース回路シート20とインターポーザ10とを加圧する加圧接合工程と、を含む方法である。
インターポーザ10を接合する前のベース回路シート20のベース側端子22には、電極部材26(以下、バンプ電極26という。)が収容された凹状の窪み部220が形成されている。
加圧接合工程は、窪み部220を底側から押し上げるように変形させることにより窪み部220に収容されたバンプ電極26を押し上げてインターポーザ側端子12に押し当てる工程である。
以下に、この内容について詳しく説明する。
The embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the following examples.
(Example 1)
This example is an example of a method for manufacturing an electronic component in which the interposer 10 is bonded to the base circuit sheet 20, particularly an interposer bonding method for the base circuit sheet 20. The contents will be described with reference to FIGS.
This example relates to an interposer joining method for joining the interposer 10 to the base circuit sheet 20. The interposer 10 includes an RF-ID IC chip 11 mounted on the surface of a sheet-like chip holding base material 13 and has an interposer-side terminal 12 that is a connection terminal extending from the IC chip 11. It is. The base circuit sheet 20 is an electronic component in which a base-side terminal 22 is provided on the surface of a sheet-like base substrate 21.
This interposer joining method includes an adhesive application step in which an adhesive disposing layer 25 made of an electrically insulating adhesive is provided on the surface of the base side terminal 22 in the surface of the base circuit sheet 20, and the base side terminal 22 and the interposer side. An interposer placement step for placing the interposer 10 on the surface of the base circuit sheet 20 so that the terminals 12 face each other via the adhesive placement layer 25, and a pressure bonding step for pressurizing the base circuit sheet 20 and the interposer 10 And a method including:
The base-side terminal 22 of the base circuit sheet 20 before joining the interposer 10 is formed with a concave recess 220 in which an electrode member 26 (hereinafter referred to as a bump electrode 26) is accommodated.
The pressure bonding process is a process in which the bump electrode 26 accommodated in the depression 220 is pushed up and pressed against the interposer side terminal 12 by deforming the depression 220 so as to push up from the bottom side.
This content will be described in detail below.

本例のインターポーザ接合方法を用いて作製する電子部品1は、図1〜図3に示すごとく、非接触ID用のRF−ID(Radio-Frequency IDentification)メディアである(以下、適宜RF−IDメディア1と記載する。)。このRF−IDメディア1は、RF−ID用のICチップ11を実装したインターポーザ10と、アンテナパターン24を設けたベース回路シート20(以下、適宜アンテナシート20と記載する。)とを組み合わせた電子部品である。なお、本例のインターポーザ接合方法を利用して、接触ID用のIDメディアを作製することもできる。   The electronic component 1 manufactured using the interposer joining method of this example is a RF-ID (Radio-Frequency IDentification) medium for non-contact ID as shown in FIGS. 1). The RF-ID medium 1 is an electronic device in which an interposer 10 on which an IC chip 11 for RF-ID is mounted and a base circuit sheet 20 provided with an antenna pattern 24 (hereinafter referred to as an antenna sheet 20 as appropriate). It is a part. In addition, ID media for contact ID can also be produced using the interposer joining method of this example.

インターポーザ10は、図1〜図3に示すごとく、厚さ177μmのPSF(ポリサルホン)フィルムよりなるチップ保持基材13の表面にICチップ11を実装した電子部品である。チップ保持基材13の大きさは、アンテナシート20の一対のベース側端子22の形成領域を包含する大きさに設定されている。チップ保持基材13の表面には、ICチップ11の電極パッド(図示略)と電気的に接合される導電パッド(図示略)と、この導電パッドから延設されたインターポーザ側端子12とを含む一対の導電パターンが形成されている。この導電パターンは、導電性インクよりなる印刷パターンである。   As shown in FIGS. 1 to 3, the interposer 10 is an electronic component in which the IC chip 11 is mounted on the surface of a chip holding base material 13 made of a PSF (polysulfone) film having a thickness of 177 μm. The size of the chip holding substrate 13 is set to a size that includes the formation region of the pair of base-side terminals 22 of the antenna sheet 20. The surface of the chip holding base 13 includes a conductive pad (not shown) that is electrically joined to an electrode pad (not shown) of the IC chip 11 and an interposer side terminal 12 extending from the conductive pad. A pair of conductive patterns is formed. This conductive pattern is a printed pattern made of conductive ink.

ここで、チップ保持基材13の材質としては、本例のPSFのほか、PC、加工紙等を採用することができる。また、導電パッドと電極パッドとの電気的な接合箇所を保護するため、アンダーフィル材やポッティング材等を利用することも良い。また、チップ保持基材13の導電パターンの形成方法としては、本例の導電性インクを印刷する方法に代えて、銅エッチング、ディスペンス、金属箔貼り付け、金属の直接蒸着、金属蒸着膜転写、導電性高分子層形成などの方法を採用しても良い。   Here, as a material of the chip holding base material 13, PC, processed paper, etc. can be adopted in addition to the PSF of this example. Further, an underfill material, a potting material, or the like may be used in order to protect the electrical joint portion between the conductive pad and the electrode pad. Moreover, as a method of forming the conductive pattern of the chip holding substrate 13, instead of the method of printing the conductive ink of this example, copper etching, dispensing, metal foil pasting, metal direct vapor deposition, metal vapor deposition film transfer, A method such as formation of a conductive polymer layer may be employed.

アンテナシート20は、図1〜図3に示すごとく、PETよりなる厚さ50μmの熱可塑性のベース基材21の表面に、導電性インクにより印刷したアンテナパターン24を設けたシート状の部品である。アンテナパターン24の両端部には、インターポーザ側端子12と電気的に接合するベース側端子22が形成されている。ベース側端子22の表面には、3行2列に配列された6箇所の凹状の窪み部220が形成され、これら凹状の窪み部220の少なくとも一部には、銀ペーストよりなるバンプ電極26が収容されている。なお、図2、図3及び図9中の符号221は、窪み部220が高さ方向に座屈した部分を示している。座屈前の窪み部220の断面形状は、図7及び図8に示す通りである。   As shown in FIGS. 1 to 3, the antenna sheet 20 is a sheet-like component in which an antenna pattern 24 printed with conductive ink is provided on the surface of a thermoplastic base substrate 21 made of PET and having a thickness of 50 μm. . Base-side terminals 22 that are electrically joined to the interposer-side terminals 12 are formed at both ends of the antenna pattern 24. Six concave depressions 220 arranged in three rows and two columns are formed on the surface of the base-side terminal 22, and a bump electrode 26 made of a silver paste is formed on at least a part of the concave depressions 220. Contained. In addition, the code | symbol 221 in FIG.2, FIG3 and FIG.9 has shown the part which the hollow part 220 buckled in the height direction. The cross-sectional shape of the recess 220 before buckling is as shown in FIGS.

なお、上記チップ保持基材13に形成した導電パターンと同様、銅エッチング、ディスペンス、金属箔貼り付け、金属の直接蒸着、金属蒸着膜転写、導電性高分子層形成などの方法によりアンテナパターン24を形成することもできる。またなお、ベース基材21の材質としては、本例のPETのほか、PET−G、PC、PP、ナイロン、紙等を用いることができる。また、導電性インクのインク材料としては、銀、黒鉛、塩化銀、銅、ニッケル等を用いることができる。さらになお、バンプ電極26の形成材料としては本例の銀ペーストに代えて、銅ペースト、アルミペースト、ハンダ部材、ロウ材、銀粉体、カーボン等、各種の導電性材料を採用できる。   As with the conductive pattern formed on the chip holding substrate 13, the antenna pattern 24 is formed by a method such as copper etching, dispensing, metal foil pasting, direct metal vapor deposition, metal vapor deposition film transfer, or conductive polymer layer formation. It can also be formed. In addition to the PET of this example, PET-G, PC, PP, nylon, paper, etc. can be used as the material of the base substrate 21. As the ink material for the conductive ink, silver, graphite, silver chloride, copper, nickel, or the like can be used. Furthermore, as a material for forming the bump electrode 26, various conductive materials such as a copper paste, an aluminum paste, a solder member, a brazing material, silver powder, and carbon can be used instead of the silver paste of this example.

次に、インターポーザ10をアンテナシート20に接合する方法について説明する。本例のインターポーザ接合方法は、ベース側端子22の表面に窪み部220を形成する窪み部形成工程、窪み部220の内部にバンプ電極26を配設するバンプ形成工程、アンテナシート20の表面に接着剤配設層25を設ける接着剤塗付工程、アンテナシート20の表面にインターポーザ10を配置するインターポーザ配置工程、及びインターポーザ10とアンテナシート20とを加圧して接合する加圧接合工程を含む接合方法である。   Next, a method for joining the interposer 10 to the antenna sheet 20 will be described. The interposer joining method of this example includes a recess forming step for forming the recess 220 on the surface of the base-side terminal 22, a bump forming step for disposing the bump electrode 26 inside the recess 220, and bonding to the surface of the antenna sheet 20. A bonding method including an adhesive application step for providing the agent arrangement layer 25, an interposer arrangement step for arranging the interposer 10 on the surface of the antenna sheet 20, and a pressure bonding step for pressurizing and bonding the interposer 10 and the antenna sheet 20 to each other. It is.

窪み部形成工程は、図4及び図5に示すごとく、ベース側端子22の表面に凹状の窪み部220を形成する工程である。窪み部形成工程では、相互に対面するプレス型40を用いてベース側端子22に窪み部220を形成する。プレス型40のうちベース側端子22の表面と当接するパンチ41(上型)の加圧面は、ベース側端子22に対応する位置に3行2列に配列された6箇所の凸部410を有している。ベース側端子22の裏面と当接するダイ(図示略)の加圧面には、凸部410に対応する図示しない凹部が形成されている。本例では、ベース側端子22に深さ100μmの凹状の窪み部220を形成できるよう、断面略矩形状の凸部410の突出高さを150μmに設定してある。   As shown in FIGS. 4 and 5, the dent forming step is a step of forming a concave dent 220 on the surface of the base-side terminal 22. In the recess forming step, the recess 220 is formed in the base-side terminal 22 using the press dies 40 facing each other. The pressing surface of the punch 41 (upper die) that contacts the surface of the base-side terminal 22 in the press die 40 has six convex portions 410 arranged in three rows and two columns at a position corresponding to the base-side terminal 22. is doing. A concave portion (not shown) corresponding to the convex portion 410 is formed on the pressing surface of a die (not shown) that contacts the back surface of the base side terminal 22. In this example, the protrusion height of the convex portion 410 having a substantially rectangular cross section is set to 150 μm so that a concave recess 220 having a depth of 100 μm can be formed in the base side terminal 22.

なお、窪み部220の深さとしては、30〜300μmの範囲が好ましく、そのためには、上記凸部410の突出高さを50〜500μmの範囲に設定することが良い。
さらになお、パンチ41に設ける凸部410の形状としては、本例の断面略矩形状に代えて、円柱形状、十字形状、櫛形状等、様々な形状の凸部を形成することができ、凸部410の形状に応じて様々な形状の窪み部を形成できる。
In addition, as the depth of the hollow part 220, the range of 30-300 micrometers is preferable, and it is good to set the protrusion height of the said convex part 410 in the range of 50-500 micrometers for that purpose.
Furthermore, as the shape of the convex portion 410 provided on the punch 41, convex portions having various shapes such as a columnar shape, a cross shape, and a comb shape can be formed instead of the substantially rectangular shape in this example. Depending on the shape of the portion 410, various shapes of recessed portions can be formed.

バンプ形成工程は、図6及び図7に示すごとく、上記窪み部220にバンプ電極26を形成する工程である。本例のバンプ形成工程で形成するバンプ電極26は、銀ペーストが凝固して塊状となった部分である。本例のバンプ形成工程では、インクジェット装置により液状の銀ペーストを窪み部220に向けて噴射し、上記バンプ電極26を形成している。図6中の領域261は、銀ペーストの噴射領域を表している。領域261としては、少なくとも1箇所の窪み部220を包含する領域であれば良く、全ての窪み部220を包含する領域であることは必須ではない。6箇所の窪み部220のうち、少なくともいずれかにバンプ電極26を形成できれば本発明の目的を実現し得るからである。   As shown in FIGS. 6 and 7, the bump forming step is a step of forming the bump electrode 26 in the recess 220. The bump electrode 26 formed in the bump forming process of this example is a portion where the silver paste is solidified to be a lump. In the bump forming process of this example, a liquid silver paste is sprayed toward the recessed portion 220 by an ink jet device to form the bump electrode 26. A region 261 in FIG. 6 represents a silver paste spraying region. The region 261 may be a region including at least one recess 220, and is not essential to include all the recesses 220. This is because the object of the present invention can be realized if the bump electrode 26 can be formed in at least one of the six recessed portions 220.

接着剤塗付工程は、図6及び図7に示すごとく、アンテナシート20の一対のベース側端子22を包含する接着剤配設領域250に電気絶縁性接着剤を塗付する工程である。接着剤配設領域250は、インターポーザ10を配置するインターポーザ配置領域150を包含する領域である。本例では、図7に示すごとく、厚さt=40μmの接着剤配設層25を接着剤配設領域250に設けた。   As shown in FIGS. 6 and 7, the adhesive application step is a step of applying an electrically insulating adhesive to the adhesive arrangement region 250 including the pair of base-side terminals 22 of the antenna sheet 20. The adhesive placement area 250 is an area that includes the interposer placement area 150 in which the interposer 10 is placed. In this example, as shown in FIG. 7, the adhesive disposing layer 25 having a thickness t = 40 μm is provided in the adhesive disposing region 250.

本例では、電気絶縁性接着剤として、熱可塑性であって、かつ、湿気硬化型のホットメルト接着剤(スリーエム社製の型番TE−031)を用いた。なお、電気絶縁性接着剤としては、上記に代えて、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、弾性接着剤、ウレタン系接着剤等を利用することができる。さらになお、湿気硬化型の電気絶縁性接着剤に代えて、熱硬化型、紫外線硬化型、電子線硬化型等の電気絶縁性接着剤を利用することもできる。   In this example, as the electrically insulating adhesive, a thermoplastic and moisture-curable hot melt adhesive (model number TE-031 manufactured by 3M) was used. In addition, as an electrically insulating adhesive, it can replace with the above and can utilize an epoxy adhesive, an acrylic adhesive, an elastic adhesive, a urethane adhesive, etc. Furthermore, instead of the moisture curable electrical insulating adhesive, an electrical insulating adhesive such as a thermosetting, ultraviolet curable, or electron beam curable adhesive may be used.

インターポーザ配置工程は、図6〜図8に示すごとく、アンテナシート20の表面にインターポーザ10を配置する工程である。このインターポーザ配置工程では、ベース側端子22(アンテナシート20)とインターポーザ側端子12(インターポーザ10)とがそれぞれ対面するよう、アンテナシート20の表面にインターポーザ10が配置される。ここで、上記のようにインターポーザ配置領域150は、接着剤配設領域250に包含される領域である。そのため、インターポーザ配置工程により配置されたインターポーザ10は、その全面に渡って、接着剤配設層25を介してアンテナシート20と対面する。   The interposer arrangement step is a step of arranging the interposer 10 on the surface of the antenna sheet 20 as shown in FIGS. In this interposer arrangement step, the interposer 10 is arranged on the surface of the antenna sheet 20 so that the base side terminal 22 (antenna sheet 20) and the interposer side terminal 12 (interposer 10) face each other. Here, as described above, the interposer arrangement area 150 is an area included in the adhesive arrangement area 250. Therefore, the interposer 10 arranged by the interposer arrangement process faces the antenna sheet 20 through the adhesive arrangement layer 25 over the entire surface.

加圧接合工程は、図8及び図9に示すごとく、アンテナシート20とインターポーザ10とを加圧して接合する工程である。加圧接合工程では、アンテナシート20の窪み部220を底側から押し上げるように変形させることにより、バンプ電極26をインターポーザ側端子12に押し当てる。   The pressure bonding step is a step of pressing and bonding the antenna sheet 20 and the interposer 10 as shown in FIGS. In the pressure bonding step, the bump electrode 26 is pressed against the interposer-side terminal 12 by deforming the recessed portion 220 of the antenna sheet 20 so as to be pushed up from the bottom side.

加圧接合工程を実施するプレス型30は、相互に対面するプレスアンビル32(上型)とダイ31(下型)とを有している。プレスアンビル32及びダイ31の加圧面は、共に略平坦面となっている。アンテナシート20に当接するダイ31には、加熱ヒータ(図示略)が配設されている。この加熱ヒータによれば、熱可塑性材料よりなるアンテナシート20の変形をし易くすると共に、熱可塑性を呈する電気絶縁性接着剤の流動性を高めることができる。なお、本例では、ダイ31の加圧面の温度を200℃に設定した。   The press die 30 for performing the pressure bonding process has a press anvil 32 (upper die) and a die 31 (lower die) facing each other. The pressing surfaces of the press anvil 32 and the die 31 are both substantially flat surfaces. A heater (not shown) is disposed on the die 31 that contacts the antenna sheet 20. According to this heater, the antenna sheet 20 made of a thermoplastic material can be easily deformed, and the fluidity of the electrically insulating adhesive exhibiting thermoplasticity can be increased. In this example, the temperature of the pressing surface of the die 31 was set to 200 ° C.

ここで、本例の加圧接合工程でのベース側端子22とインターポーザ側端子12の加圧接合過程を具体的に説明する。図8及び図9に示すごとく、プレスアンビル32とダイ31とによりアンテナシート20とインターポーザ10とを加圧すると、ベース側端子22(アンテナシート20)の窪み部220が押し上げられるように変形する。このように、窪み部220が変形すると、窪み部220内のバンプ電極26(塊状の銀ペースト)が押し上げられ、ベース側端子22の表面を覆う電気絶縁性接着剤を押し退けてインターポーザ側端子12に押し当たる。   Here, the pressure bonding process of the base side terminal 22 and the interposer side terminal 12 in the pressure bonding process of the present example will be specifically described. As shown in FIGS. 8 and 9, when the antenna sheet 20 and the interposer 10 are pressed by the press anvil 32 and the die 31, the depression 220 of the base side terminal 22 (antenna sheet 20) is deformed so as to be pushed up. As described above, when the recess 220 is deformed, the bump electrode 26 (lumped silver paste) in the recess 220 is pushed up, and the electric insulating adhesive covering the surface of the base terminal 22 is pushed away to the interposer terminal 12. Push it.

本例では、上記のごとく熱可塑性材料によりアンテナシート20を形成すると共に、熱可塑性を備えた電気絶縁性接着剤を採用している。ダイ31により加熱されたアンテナシート20は、ベース側端子22の窪み部220が変形し易くなり、インターポーザ側端子12に向けてバンプ電極26を効率良く押し上げることができる。ダイ31により加熱され流動性が向上した電気絶縁性接着剤は、バンプ電極26の押し上げに応じて押し退けられる。これにより、バンプ電極26とインターポーザ側端子12との対面箇所から電気絶縁性接着剤が流出し、バンプ電極26がインターポーザ側端子12に直接的に押し当たることになる。   In this example, the antenna sheet 20 is formed of a thermoplastic material as described above, and an electrically insulating adhesive having thermoplasticity is employed. In the antenna sheet 20 heated by the die 31, the recess 220 of the base-side terminal 22 is easily deformed, and the bump electrode 26 can be efficiently pushed up toward the interposer-side terminal 12. The electrically insulating adhesive heated by the die 31 and improved in fluidity is pushed away in response to the bump electrode 26 being pushed up. As a result, the electrically insulating adhesive flows out from the facing portion between the bump electrode 26 and the interposer side terminal 12, and the bump electrode 26 directly presses against the interposer side terminal 12.

図2、図3及び図9に示すごとく、上記の加圧接合工程により接合されたインターポーザ側端子12とベース側端子22との接合箇所のうち、インターポーザ側端子12にバンプ電極26が押し当たっている部分では、両者の電気的な接合が確実性高く実現される。一方、インターポーザ側端子12に対してバンプ電極26が押し当たっていない部分では、ベース側端子22の表面を覆う電気絶縁性接着剤を介してインターポーザ側端子12とベース側端子22との物理的な接合が確実性高く実現される。   As shown in FIGS. 2, 3, and 9, the bump electrode 26 is pressed against the interposer-side terminal 12 among the joining positions of the interposer-side terminal 12 and the base-side terminal 22 joined by the pressure joining process. In the part where the two are connected, electrical connection between the two is realized with high reliability. On the other hand, in the portion where the bump electrode 26 is not pressed against the interposer side terminal 12, the physical connection between the interposer side terminal 12 and the base side terminal 22 is performed via an electrically insulating adhesive that covers the surface of the base side terminal 22. Bonding is realized with high reliability.

なお、本例の加圧接合工程では、ダイ31とプレスアンビル32との間におよそ500Nの加圧力をかけておよそ0.1秒間加圧することで、インターポーザ10とアンテナシート20とを加圧して接合した。本例では、ダイ31とプレスアンビル32との間に上記の加圧力による加圧を実施するために、ダイ31とプレスアンビル32との間隙が、およそ237μmとなるまで両者を近付けた。   In the pressure bonding process of this example, the interposer 10 and the antenna sheet 20 are pressurized by applying a pressure of about 500 N between the die 31 and the press anvil 32 and pressing for about 0.1 second. Joined. In this example, in order to perform the pressurization by the above-described pressure between the die 31 and the press anvil 32, the two are brought close to each other until the gap between the die 31 and the press anvil 32 becomes approximately 237 μm.

以上のように、本例のインターポーザ接合方法によれば、インターポーザ側端子12とベース側端子22とを加圧して接合することにより、バンプ電極26を介した電気的な接合、及び電気絶縁性接着剤を介した物理的な接合を確実性高く実現できる。このインターポーザ接合方法によれば、インターポーザ10をベース回路シート20の表面に確実性高く接合して信頼性の高いRF−IDメディア1を製造できる。   As described above, according to the interposer bonding method of this example, the interposer-side terminal 12 and the base-side terminal 22 are pressed and bonded to each other, so that the electric bonding and the electric insulating bonding via the bump electrode 26 are performed. Physical joining through the agent can be realized with high certainty. According to this interposer joining method, the interposer 10 can be joined to the surface of the base circuit sheet 20 with high reliability, and the RF-ID media 1 with high reliability can be manufactured.

特に、本例では、上記のようにインターポーザ配置領域150が接着剤配設領域250に包含されるように形成されている。そのため、インターポーザ10の外周側面とアンテナシート20の表面との間に電気絶縁性接着剤よりなる法(のり)面を形成でき、インターポーザ10とアンテナシート20との物理的な接合を一層、確実性高く実現できる。   In particular, in this example, the interposer arrangement area 150 is formed to be included in the adhesive arrangement area 250 as described above. Therefore, a method (paste) surface made of an electrically insulating adhesive can be formed between the outer peripheral side surface of the interposer 10 and the surface of the antenna sheet 20, and physical bonding between the interposer 10 and the antenna sheet 20 is further ensured. Highly realizable.

なお、本例では、ベース側端子22を設けたベース基材21に対してプレス加工を施すことで凹状の窪み部220を形成している。これに代えて、予め凹部を設けたベース基材21の表面に導電性材料の配設層を形成することで、凹状の窪み部220を含むベース側端子22を形成しても良い。   In this example, the concave depression 220 is formed by pressing the base substrate 21 provided with the base-side terminals 22. Instead of this, the base-side terminal 22 including the concave recess 220 may be formed by forming a conductive material arrangement layer on the surface of the base substrate 21 provided with a recess in advance.

さらになお、インターポーザ側端子12の表面に凹状の窪み部を形成すると共に、この窪み部にバンプ電極26を配設しても良い。この場合には、チップ保持基材13を熱可塑性材料により形成すると共に、インターポーザ10に当接するプレスアンビル32に加熱ヒータを装備することも良い。加熱ヒータを備えたプレスアンビル32を用いて上記加圧接合工程を実施すれば、インターポーザ側端子12の凹状の窪み部を変形し易くして効率良くバンプ電極26を押し上げることができる。   Furthermore, a concave recess may be formed on the surface of the interposer side terminal 12, and the bump electrode 26 may be disposed in the recess. In this case, the chip holding substrate 13 may be formed of a thermoplastic material, and a heater may be provided on the press anvil 32 that contacts the interposer 10. If the pressure bonding step is performed using a press anvil 32 provided with a heater, the concave depressions of the interposer-side terminal 12 can be easily deformed and the bump electrode 26 can be pushed up efficiently.

なお、本例のインターポーザ接合方法は、RF−IDメディア1の製造に限定されるものでなく、インターポーザ10を用いた各種の電子部品の作製において有効である。例えば、FPC(フレキシブルプリント基板)、ペーパーコンピュータ、使い捨て電気製品など様々な電子部品の製造工程において活用することができる。インターポーザ10としては、ICチップ等の半導体チップを実装した電子部品のほか、電子回路を形成した電子部品であっても良い。   In addition, the interposer joining method of this example is not limited to the manufacture of the RF-ID media 1, but is effective in the production of various electronic components using the interposer 10. For example, it can be utilized in the manufacturing process of various electronic components such as FPC (flexible printed circuit board), paper computer, and disposable electrical products. The interposer 10 may be an electronic component on which an electronic circuit is formed in addition to an electronic component on which a semiconductor chip such as an IC chip is mounted.

さらに、超音波加振ユニットを備えたプレス型を用いて上記加圧接合工程を実施するのも良い。インターポーザ側端子12とベース側端子22とがバンプ電極26を介して接合する箇所において、超音波接合により両者を融着でき、電気的な接合状態の信頼性をさらに向上することができる。   Furthermore, the pressure bonding process may be performed using a press die provided with an ultrasonic vibration unit. At the location where the interposer side terminal 12 and the base side terminal 22 are joined via the bump electrode 26, both can be fused by ultrasonic joining, and the reliability of the electrical joining state can be further improved.

さらになお、本例では、インターポーザ配置領域150を包含するように接着剤配設領域250を形成した。この包含関係を逆にして、インターポーザ配置領域150よりも接着剤配設領域250を小さくすることもできる。また、2箇所のベース側端子22に対して、それぞれ独立して接着剤配設領域を形成することも可能である。   Furthermore, in this example, the adhesive arrangement area 250 is formed so as to include the interposer arrangement area 150. By reversing this inclusion relationship, the adhesive placement area 250 can be made smaller than the interposer placement area 150. Also, it is possible to form an adhesive disposition region independently for each of the two base side terminals 22.

本例のごとく本発明の具体例を詳細に説明したが、これらの具体例は、特許請求の範囲に包含される技術の一例を開示しているにすぎない。言うまでもなく、具体例の構成や数値等によって、特許請求の範囲が限定的に解釈されるべきではない。特許請求の範囲は、公知技術や当業者の知識等を利用して上記具体例を多様に変形あるいは変更した技術を包含している。   Although the specific example of this invention was described in detail like this example, these specific examples are only disclosing the example of the technique included in a claim. Needless to say, the scope of the claims should not be construed as limited by the configuration, numerical values, or the like of the specific examples. The scope of the claims includes techniques obtained by variously modifying or changing the above specific examples using known techniques, knowledge of those skilled in the art, and the like.

実施例1における、RF−IDメディアの構造を示す構造図。FIG. 3 is a structural diagram showing the structure of an RF-ID medium in the first embodiment. 実施例1における、RF−IDメディアの断面構造を示す断面図(図1におけるA−A線矢視断面図。)。Sectional drawing which shows the cross-sectional structure of RF-ID media in Example 1 (AA arrow directional cross-sectional view in FIG. 1). 実施例1における、RF−IDメディアの断面構造を示す断面図(図2におけるB−B線矢視断面図。)。Sectional drawing which shows the cross-section of RF-ID media in Example 1 (BB sectional view taken on the line in FIG. 2). 実施例1における、窪み部形成工程の内容を説明する説明図。Explanatory drawing explaining the content of the hollow part formation process in Example 1. FIG. 実施例1における、窪み部が形成されたアンテナシートを示す正面図。The front view which shows the antenna sheet | seat in which the hollow part in Example 1 was formed. 実施例1における、銀ペーストを噴射したアンテナシートを示す正面図。The front view which shows the antenna sheet which ejected the silver paste in Example 1. FIG. 実施例1における、インターポーザ及びアンテナシートの断面構造を示す断面図(図1におけるA−A線矢視断面に相当する断面図。)。Sectional drawing which shows the cross-section of an interposer and an antenna sheet | seat in Example 1 (sectional drawing corresponded in the AA arrow cross section in FIG. 1). 実施例1における、加圧接合前のインターポーザ及びアンテナシートの断面構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the cross-sectional structure of the interposer and antenna sheet before pressure joining in Example 1. FIG. 実施例1における、加圧接合工程の内容を説明する説明図。Explanatory drawing explaining the content of the pressure bonding process in Example 1. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 電子部品(RF−IDメディア)
10 インターポーザ
11 ICチップ
12 インターポーザ側端子
13 チップ保持基材
20 ベース回路シート(アンテナシート)
21 ベース基材
22 ベース側端子
220 窪み部
24 アンテナパターン
25 接着剤配設層
26 電極部材(バンプ電極)
30 プレス型
31 ダイ(下型)
32 プレスアンビル(上型)
40 プレス型
41 パンチ(上型)
1 Electronic components (RF-ID media)
10 Interposer 11 IC chip 12 Interposer side terminal 13 Chip holding substrate 20 Base circuit sheet (antenna sheet)
21 Base substrate 22 Base side terminal 220 Recessed portion 24 Antenna pattern 25 Adhesive arrangement layer 26 Electrode member (bump electrode)
30 Press mold 31 Die (lower mold)
32 Press anvil (upper mold)
40 Press mold 41 Punch (upper mold)

Claims (6)

シート状のベース基材の表面にベース側端子を設けたベース回路シートに対して、インターポーザ側端子を有する電子部品であるインターポーザを接合するインターポーザ接合方法において、
上記ベース回路シートの表面のうち少なくとも上記ベース側端子の表面に電気絶縁性接着剤よりなる接着剤配設層を設ける接着剤塗付工程と、
上記ベース側端子と上記インターポーザ側端子とが上記接着剤配設層を介して対面するように、上記ベース回路シートの表面に上記インターポーザを配置するインターポーザ配置工程と、
上記ベース回路シートと上記インターポーザとを加圧して接合する加圧接合工程と、を含み、
上記インターポーザを接合する前の上記ベース回路シートのベース側端子には、電極部材が収容された凹状の窪み部が形成されており、
上記加圧接合工程は、上記窪み部を底側から押し上げるように変形させることにより該窪み部に収容された上記電極部材を押し上げ、上記インターポーザ側端子に押し当てる工程であることを特徴とするインターポーザ接合方法。
In an interposer joining method for joining an interposer, which is an electronic component having an interposer side terminal, to a base circuit sheet having base side terminals provided on the surface of a sheet-like base substrate,
An adhesive application step of providing an adhesive disposition layer made of an electrically insulating adhesive on at least the surface of the base-side terminal of the surface of the base circuit sheet;
An interposer placement step of placing the interposer on the surface of the base circuit sheet so that the base side terminal and the interposer side terminal face each other via the adhesive placement layer;
A pressure bonding step of pressing and bonding the base circuit sheet and the interposer,
The base side terminal of the base circuit sheet before joining the interposer is formed with a concave recess that accommodates the electrode member,
The pressure bonding step is a step of pushing up the electrode member accommodated in the depression by deforming the depression so that the depression is pushed up from the bottom side and pressing the electrode member against the interposer side terminal. Joining method.
請求項1において、上記ベース基材の平滑表面に形成された上記ベース側端子に上記窪み部を設ける窪み部形成工程と、
上記窪み部に上記電極部材を配設するバンプ形成工程と、を含むことを特徴とするインターポーザ接合方法。
In Claim 1, The hollow part formation process which provides the said hollow part in the said base side terminal formed in the smooth surface of the said base base material,
A bump forming step of disposing the electrode member in the recess.
請求項1において、予め凹部を設けた上記ベース基材の表面に導電性材料の配設層を形成することで上記窪み部を含む上記ベース側端子を形成する端子形成工程と、
上記窪み部に上記電極部材を配設するバンプ形成工程と、を含むことを特徴とするインターポーザ接合方法。
In Claim 1, the terminal formation process which forms the base side terminal containing the hollow part by forming the arrangement layer of a conductive material in the surface of the base substrate which provided the concave part beforehand.
A bump forming step of disposing the electrode member in the recess.
請求項1〜3のいずれか1項において、上記電気絶縁性接着剤は熱可塑性を呈する接着剤であり、
上記加圧接合工程は、一対のプレス型を用いて上記ベース回路シートと上記インターポーザを加圧する工程であり、上記一対のプレス型のうちの少なくともいずれか一方は、その加圧表面を加熱するための加熱ヒータを備えていることを特徴とするインターポーザ接合方法。
In any one of Claims 1-3, the said electrically insulating adhesive agent is an adhesive agent which exhibits thermoplasticity,
The pressure bonding step is a step of pressing the base circuit sheet and the interposer using a pair of press dies, and at least one of the pair of press dies heats the pressing surface. An interposer joining method characterized by comprising a heater.
請求項1〜4のいずれか1項において、上記接着剤塗付工程において上記接着剤配設層を形成する接着剤配設領域は、上記インターポーザ配置工程において上記インターポーザを配置するインターポーザ配置領域を包含していることを特徴とするインターポーザ接合方法。   5. The adhesive disposing region for forming the adhesive disposing layer in the adhesive applying step in any one of claims 1 to 4 includes an interposer disposing region for disposing the interposer in the interposer disposing step. An interposer joining method characterized by comprising: 請求項1〜5のいずれか1項において、上記ベース回路シートは、電波を送信あるいは受信するためのアンテナパターンが上記ベース基材の表面に形成された電子部品であり、上記インターポーザは、シート状のチップ保持基材の表面にRF−ID用のICチップが実装された電子部品であることを特徴とするインターポーザ接合方法。   6. The base circuit sheet according to claim 1, wherein the base circuit sheet is an electronic component in which an antenna pattern for transmitting or receiving radio waves is formed on a surface of the base substrate, and the interposer is in a sheet form. An interposer joining method comprising: an electronic component having an RF-ID IC chip mounted on the surface of the chip holding substrate.
JP2008148264A 2008-06-05 2008-06-05 Interposer joining method Active JP5171405B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008148264A JP5171405B2 (en) 2008-06-05 2008-06-05 Interposer joining method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008148264A JP5171405B2 (en) 2008-06-05 2008-06-05 Interposer joining method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009295811A true JP2009295811A (en) 2009-12-17
JP5171405B2 JP5171405B2 (en) 2013-03-27

Family

ID=41543733

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008148264A Active JP5171405B2 (en) 2008-06-05 2008-06-05 Interposer joining method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5171405B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT201800003127A1 (en) * 2018-02-28 2019-08-28 St Microelectronics Srl RADIOFREQUENCY LABEL DEVICE, GROUP CORRESPONDING AND PROCEDURE

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001007511A (en) * 1999-06-22 2001-01-12 Omron Corp Method for joining wiring boards, production of data carrier, and device for mounting module of electronic part
JP2001144141A (en) * 1999-11-15 2001-05-25 Matsushita Electric Works Ltd Mounting method for semiconductor chip
JP2002343828A (en) * 2001-05-11 2002-11-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Package of electronic component and method of packaging it
JP2006140359A (en) * 2004-11-12 2006-06-01 Hallys Corp Interposer bonding method and electronic component manufactured using the same
WO2006059732A1 (en) * 2004-12-03 2006-06-08 Hallys Corporation Interposer bonding device
JP2007090420A (en) * 2005-09-30 2007-04-12 Misuzu Kogyo:Kk Method for joining conductive thin film deposited on a pair of resin substrates
JP2010067687A (en) * 2008-09-09 2010-03-25 Dainippon Printing Co Ltd Method for manufacturing multilayer printed wiring board and method for manufacturing substrate sheet with conductive bump

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001007511A (en) * 1999-06-22 2001-01-12 Omron Corp Method for joining wiring boards, production of data carrier, and device for mounting module of electronic part
JP2001144141A (en) * 1999-11-15 2001-05-25 Matsushita Electric Works Ltd Mounting method for semiconductor chip
JP2002343828A (en) * 2001-05-11 2002-11-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Package of electronic component and method of packaging it
JP2006140359A (en) * 2004-11-12 2006-06-01 Hallys Corp Interposer bonding method and electronic component manufactured using the same
WO2006059732A1 (en) * 2004-12-03 2006-06-08 Hallys Corporation Interposer bonding device
JP2007090420A (en) * 2005-09-30 2007-04-12 Misuzu Kogyo:Kk Method for joining conductive thin film deposited on a pair of resin substrates
JP2010067687A (en) * 2008-09-09 2010-03-25 Dainippon Printing Co Ltd Method for manufacturing multilayer printed wiring board and method for manufacturing substrate sheet with conductive bump

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT201800003127A1 (en) * 2018-02-28 2019-08-28 St Microelectronics Srl RADIOFREQUENCY LABEL DEVICE, GROUP CORRESPONDING AND PROCEDURE
US10839177B2 (en) 2018-02-28 2020-11-17 Stmicroelectronics S.R.L. Radiofrequency tag device, corresponding assembly and method

Also Published As

Publication number Publication date
JP5171405B2 (en) 2013-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5036541B2 (en) Electronic component and method of manufacturing the electronic component
JP4091096B2 (en) Interposer joining device
US7851258B2 (en) Method of manufacturing an RFID tag
KR20050045911A (en) A method for manufacturing rfid tag
JP2007042087A (en) Rfid tag and production method therefor
WO2006051885A1 (en) Bonding method of interposer, and electronic component manufactured by utilizing such method
JP5171405B2 (en) Interposer joining method
JP2006295485A (en) Manufacturing method of radio tag antenna and die cutting adhering tool used for the method
EP1947917B1 (en) Manufacturing method of electronic device
JP4629535B2 (en) Non-contact data carrier member manufacturing method and mold
CN210469869U (en) Circuit board of low-cost aluminium preparation circuit
JP4209574B2 (en) Manufacturing method of semiconductor component mounted parts
CN106502480A (en) A kind of manufacture method of oversize capacitive touch screen
JP2006140359A5 (en)
JP2012137895A (en) Method for manufacturing radio communication device
JP5029026B2 (en) Manufacturing method of electronic device
JP5040551B2 (en) Non-contact type data carrier conductive member and method and apparatus for manufacturing the same
JP3894541B2 (en) IC chip mounting interposer manufacturing method and IC chip mounting media manufacturing method using the same
JP5146224B2 (en) Non-contact IC card manufacturing method
JP5293394B2 (en) Non-contact IC card manufacturing equipment
JP2009295708A (en) Production process of ic module, production process of ic tag inlet, ic tag inlet, and non-contact ic medium
JP2009031958A (en) Production method and device of conductive member for non-contact type data carrier
JP2002304607A (en) Manufacturing method for non-contact ic inlet
JP2007164229A (en) Sheet with interposer, manufacturing method for non-contact communication medium, and non-contact communication medium
JP2008287694A (en) Manufacturing method and device of conductive member for contactless type data carrier

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110520

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120703

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121211

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121213

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121225

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5171405

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250