JP2009272415A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体装置に関し、特に、DC−DCコンバータの少なくとも一部を構成する半導体装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device constituting at least a part of a DC-DC converter.
近年、コンピュータ等のCPU(Central Processing Unit:中央処理装置)に使用される電源の低電圧化に伴い、同期整流方式によるスイッチング電源回路、例えば、降圧型DC−DCコンバータが多用されている。このDC−DCコンバータのスイッチング素子には、入力電圧に応じて数Vから数十Vの耐圧を持つパワーMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor:金属酸化物半導体電界効果トランジスタ)が用いられている。また、これらのパワーMOSFETを高速に動作させるために、オン・オフ信号を増幅するゲートドライバ回路が用いられている(例えば、特許文献1参照。)。 In recent years, switching power supply circuits using a synchronous rectification method, for example, step-down DC-DC converters, are frequently used with the reduction in the voltage of a power supply used in a CPU (Central Processing Unit) such as a computer. As the switching element of the DC-DC converter, a power MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) having a withstand voltage of several V to several tens V according to the input voltage is used. Further, in order to operate these power MOSFETs at high speed, a gate driver circuit that amplifies an on / off signal is used (see, for example, Patent Document 1).
上述のDC−DCコンバータは、ノート型パーソナルコンピュータや携帯電話などの電池を電力供給源とする携帯機器にも設けられているが、このような携帯機器においては、電池の長寿命化のためにDC−DCコンバータの高効率化、すなわち、DC−DCコンバータにおける電力損失の削減が求められている。特に、軽負荷時、すなわち、DC−DCコンバータが直流電流を供給するCPU等の負荷において、電力消費が小さいときの電力変換効率が重要である。軽負荷時には負荷へ流れる電流が小さいので、パワーMOSFETなどの抵抗による導通損失は小さくなるが、スイッチング周波数は変わらないのでスイッチングに伴う損失の割合が大きくなる。特に、パワーMOSFETのゲートを駆動するためのドライブ損失は軽負荷時も高負荷時も同じであるため、軽負荷時には、全電流損失に占めるパワーMOSFETのドライブ損失の割合が大きくなり、電力変換効率を向上させることが困難であるという問題がある。このようなドライブ損失の割合は、DC−DCコンバータの電源電圧が低いほど顕著になる。 The above-described DC-DC converter is also provided in a portable device using a battery as a power supply source, such as a notebook personal computer or a cellular phone. In such a portable device, the battery life is extended. There is a demand for higher efficiency of the DC-DC converter, that is, reduction of power loss in the DC-DC converter. In particular, power conversion efficiency when the power consumption is small is important at a light load, that is, in a load such as a CPU to which a DC-DC converter supplies a direct current. Since the current flowing to the load is small when the load is light, the conduction loss due to the resistance of the power MOSFET or the like is small. However, since the switching frequency does not change, the ratio of the loss accompanying switching increases. In particular, since the drive loss for driving the gate of the power MOSFET is the same at light load and high load, the power MOSFET drive loss ratio in the total current loss increases at light load, and the power conversion efficiency There is a problem that it is difficult to improve. Such a drive loss ratio becomes more prominent as the power supply voltage of the DC-DC converter is lower.
本発明の目的は、スイッチングに伴う電流損失が小さい半導体装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a semiconductor device in which current loss due to switching is small.
本発明の一態様によれば、高電位電源配線と低電位電源配線との間に直列に接続されたハイサイド電界効果トランジスタ及びローサイド電界効果トランジスタを備え、前記ハイサイド電界効果トランジスタ及び前記ローサイド電界効果トランジスタのうち少なくとも一方は、チャネル方向に対して垂直に切った断面において、ソース側のLDD層の長さとドレイン側のLDD層の長さが等しく、前記ハイサイド電界効果トランジスタのゲートに印加される電位の範囲及び前記ローサイド電界効果トランジスタのゲートに印加される電位の範囲は、前記ハイサイド電界効果トランジスタ及び前記ローサイド電界効果トランジスタからなる回路の両端に印加される電位間の範囲の内側にあることを特徴とする半導体装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, a high-side field effect transistor and a low-side field effect transistor, which are connected in series between a high-potential power line and a low-potential power line, the high-side field effect transistor and the low-side field field are provided. In at least one of the effect transistors, the length of the LDD layer on the source side is equal to the length of the LDD layer on the drain side in a section cut perpendicular to the channel direction, and is applied to the gate of the high-side field effect transistor. And the potential range applied to the gate of the low-side field effect transistor is inside the range between potentials applied to both ends of the circuit composed of the high-side field-effect transistor and the low-side field-effect transistor. A semiconductor device is provided.
本発明の他の一態様によれば、高電位電源配線と低電位電源配線との間に直列に接続されたハイサイド電界効果トランジスタ及びローサイド電界効果トランジスタと、少なくとも1段のCMOSインバータを有し、制御信号の電流駆動能力を増大させて前記ハイサイド電界効果トランジスタのゲートに印加するハイサイド・ドライバ回路と、少なくとも1段のCMOSインバータを有し、制御信号の電流駆動能力を増大させて前記ローサイド電界効果トランジスタのゲートに印加するローサイド・ドライバ回路と、出力電流が相対的に大きい場合には、前記ハイサイド・ドライバ回路及び前記ローサイド・ドライバ回路に印加する電源電位間の範囲を相対的に広くし、前記出力電流が相対的に小さい場合には、前記ハイサイド・ドライバ回路及び前記ローサイド・ドライバ回路に印加する電源電位間の範囲を相対的に狭くし、少なくとも出力電流が相対的に小さい場合には、前記ハイサイド・ドライバ回路に印加される電源電位間の範囲及び前記ローサイド・ドライバ回路に印加される電源電位間の範囲を、それぞれ、前記ハイサイド電界効果トランジスタ及び前記ローサイド電界効果トランジスタからなる回路の両端に印加される電位間の範囲の内側に位置させる電源供給手段と、を備えたことを特徴とする半導体装置が提供される。 According to another aspect of the present invention, a high-side field-effect transistor and a low-side field-effect transistor connected in series between a high-potential power line and a low-potential power line, and at least one CMOS inverter A high-side driver circuit that increases the current drive capability of the control signal and applies it to the gate of the high-side field effect transistor, and at least one CMOS inverter, and increases the current drive capability of the control signal to increase the current drive capability of the control signal When the output current is relatively large with the low side driver circuit applied to the gate of the low side field effect transistor, the range between the power supply potential applied to the high side driver circuit and the low side driver circuit is relatively If the output current is relatively small, the high-side driver circuit And the range between the power supply potentials applied to the low-side driver circuit is relatively narrow, and at least when the output current is relatively small, the range between the power supply potentials applied to the high-side driver circuit and the Power supply means for positioning a range between power supply potentials applied to a low-side driver circuit inside a range between potentials applied to both ends of a circuit composed of the high-side field effect transistor and the low-side field effect transistor, respectively. A semiconductor device is provided.
本発明によれば、スイッチングに伴う電流損失が小さい半導体装置を実現することができる。 According to the present invention, it is possible to realize a semiconductor device with a small current loss due to switching.
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。
先ず、本発明の第1の実施形態について説明する。
本実施形態に係る半導体装置は、DC−DCコンバータである。
図1は、本実施形態に係るDC−DCコンバータを例示するブロック図であり、
図2は、ハイサイド・ドライバ回路を例示するブロック図であり、
図3(a)は、ハイサイド・パワートランジスタを例示する断面図であり、(b)は、ハイサイド・ドライバ回路及びローサイド・ドライバ回路を構成するNチャネル型MOSFETを例示する断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
First, a first embodiment of the present invention will be described.
The semiconductor device according to this embodiment is a DC-DC converter.
FIG. 1 is a block diagram illustrating a DC-DC converter according to this embodiment.
FIG. 2 is a block diagram illustrating a high side driver circuit,
FIG. 3A is a cross-sectional view illustrating a high-side power transistor, and FIG. 3B is a cross-sectional view illustrating an N-channel MOSFET that constitutes a high-side driver circuit and a low-side driver circuit.
図1に示すように、本実施形態に係るDC−DCコンバータ1は、チョッパー方式の同期整流型非絶縁DC−DCコンバータである。DC−DCコンバータ1には、高電位電源配線PH、低電位電源配線PL及び中間電位電源配線PMが引き込まれている。高電位電源配線PHの電位Vin1は例えば5V(ボルト)であり、低電位電源配線PLの電位は例えば接地電位GND、すなわち、0Vであり、中間電位電源配線PMの電位Vin2は、高電位電源配線PHの電位Vin1と低電位電源配線PLの電位との間の電位であり、例えば3.3Vである。また、DC−DCコンバータ1には出力端子Toutが設けられており、この出力端子Toutの出力電位Voutは、例えば1Vである。
As shown in FIG. 1, the DC-
DC−DCコンバータ1には、ハイサイド・パワートランジスタQ1及びローサイド・パワートランジスタQ2(以下、総称して「パワートランジスタ」ともいう)が形成されている。パワートランジスタQ1及びQ2は、いずれもNチャネル型MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor:金属酸化物半導体電界効果トランジスタ)であり、高電位電源配線PHと低電位電源配線PLとの間に直列に接続されることにより、出力バッファ回路19を構成している。すなわち、ハイサイド・パワートランジスタQ1のドレインは高電位電源配線PHに接続されており、ハイサイド・パワートランジスタQ1のソースはローサイド・パワートランジスタQ2のドレインに接続されており、ローサイド・パワートランジスタQ2のソースは低電位電源配線PLに接続されている。
In the DC-
ローサイド・パワートランジスタQ2のソース・ドレイン間には、ダイオードD1が接続されている。ダイオードD1の接続方向は、ローサイド・パワートランジスタQ2のソースからドレインに向かう方向、すなわち、低電位電源配線PLからハイサイド・パワートランジスタQ1に向かう方向が順方向となっている。ダイオードD1は、ローサイド・パワートランジスタQ2に寄生的に形成されるボディダイオード又はショットキーダイオードによって構成されている。 A diode D1 is connected between the source and drain of the low-side power transistor Q2. The direction of connection of the diode D1 is the direction from the source to the drain of the low-side power transistor Q2, that is, the direction from the low-potential power line PL to the high-side power transistor Q1. The diode D1 is constituted by a body diode or a Schottky diode formed parasitically on the low-side power transistor Q2.
また、DC−DCコンバータ1には、ハイサイド・パワートランジスタQ1のゲートに電圧を印加するハイサイド・ドライバ回路11と、ローサイド・パワートランジスタQ2のゲートに電圧を印加するローサイド・ドライバ回路12とが設けられている。
The DC-
ハイサイド・ドライバ回路11の高電位側電源端子は、ダイオードD2を介して中間電位電源配線PMに接続されている。ダイオードD2は、中間電位電源配線PMからハイサイド・ドライバ回路11に向かう方向が順方向となっている。また、ハイサイド・ドライバ回路11の低電位側電源端子は、ハイサイド・パワートランジスタQ1とローサイド・パワートランジスタQ2との接続点LXに接続されている。更に、ハイサイド・ドライバ回路11の高電位側電源端子と低電位側電源端子との間には、キャパシタC2がハイサイド・ドライバ回路11に対して並列に接続されている。
The high potential side power supply terminal of the high
一方、ローサイド・ドライバ回路12の高電位側電源端子は、中間電位電源配線PMに接続されている。なお、中間電位電源配線PMとローサイド・ドライバ回路12との間には、ダイオードD2は介在していない。また、ローサイド・ドライバ回路12の低電位側電源端子は、低電位電源配線PLに接続されている。
On the other hand, the high potential side power supply terminal of the low
更に、DC−DCコンバータ1には、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12(以下、総称して「ドライバ回路」ともいう。)にそれぞれ制御信号Sを供給するPWM(Pulse Width Modulation:パルス幅変調)制御回路13が設けられている。また、PWM制御回路13とハイサイド・ドライバ回路11との間には、制御信号Sの電位レベルを変換するレベルシフト回路14が設けられている。
Further, the DC-
更にまた、DC−DCコンバータ1においては、接続点LXと出力端子Toutとの間には、インダクタLが接続されており、出力端子Toutと低電位電源配線PLとの間には、キャパシタC1が接続されている。これにより、接続点LXと出力端子Toutとの間に、LCフィルタ15が接続されている。
Furthermore, in the DC-
更にまた、DC−DCコンバータ1には、1枚の半導体基板20が設けられており、上述のハイサイド・パワートランジスタQ1、ローサイド・パワートランジスタQ2、ハイサイド・ドライバ回路11、ローサイド・ドライバ回路12、ダイオードD1及びレベルシフト回路14は、この半導体基板20の表面に形成されている。すなわち、これらの各素子及び各回路は、1チップ上に集積されている。一方、ダイオードD2、キャパシタC2、PWM制御回路13、インダクタL、キャパシタC1及び出力端子Toutは、半導体基板20の外部に設けられている。但し、PWM制御回路13は、半導体基板20の表面に形成してもよい。
Furthermore, the DC-
次に、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12の詳細な構成について説明する。
図2に示すように、ハイサイド・ドライバ回路11においては、中間電位電源配線PMと低電位電源配線PLとの間に、複数個のCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor:相補型金属酸化膜半導体)16が相互に並列に接続されている。各CMOS16においては、ソースが中間電位電源配線PMに接続されたPチャネル型MOSFET(PMOS)17と、ソースが低電位電源配線PLに接続されドレインがPMOS17のドレインに接続されたNチャネル型MOSFET(NMOS)18とが設けられている。
Next, detailed configurations of the high-
As shown in FIG. 2, in the high
そして、各CMOS16の出力端子、すなわち、PMOS17とNMOS18との接続点は、より後段のCMOS16の入力端子、すなわち、PMOS17のゲート及びNMOS18のゲートに接続されている。これにより、複数段のCMOSインバータが接続されている。また、最前段のCMOS16の入力端子がハイサイド・ドライバ回路11の入力端子となっており、最後段のCMOS16の出力端子がハイサイド・ドライバ回路11の出力端子となっている。そして、後段に配置されたCMOSほど面積が大きく、より大きな電流を流せるようになっている。これにより、ハイサイド・ドライバ回路11の入力端子に入力された制御信号の駆動力を段階的に増加させて、ハイサイド・ドライバ回路11の出力端子からハイサイド・パワートランジスタQ1のゲートに対して出力することができる。
An output terminal of each
ローサイド・ドライバ回路12の構成も、上述のハイサイド・ドライバ回路11の構成と同様である。なお、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12において、CMOSインバータの段数は1段でもよい。
The configuration of the low
そして、図3(a)に示すように、ハイサイド・パワートランジスタQ1は、以下のように構成されている。すなわち、半導体基板20(図1参照)の上層部分に、導電型がP−型のPウェル21が形成されており、Pウェル21の上層部分に、導電型がN+型のソース層22及びドレイン層23が相互に離隔して形成されている。また、ソース層22におけるドレイン層23に対向する部分、及びドレイン層23におけるソース層22に対向する部分には、それぞれ、導電型がN型のLDD(Lightly Doped Drain:低不純物濃度ドレイン)層24及び25が形成されている。そして、LDD層24とLDD層25との間の部分には、導電型がP型のチャネル領域26が形成されている。更に、ソース層22から見てドレイン層23の反対側には、P+コンタクト層(図示せず)が形成されている。
And as shown to Fig.3 (a), the high side power transistor Q1 is comprised as follows. That is, a P well 21 having a P − type conductivity is formed in an upper layer portion of the semiconductor substrate 20 (see FIG. 1), and an N +
一方、半導体基板20上には層間絶縁膜30が設けられており、層間絶縁膜30内におけるソース層22の直上域にはソースコンタクト31が設けられており、ソース層22に接続されている。また、層間絶縁膜30内におけるドレイン層23の直上域にはドレインコンタクト32が設けられており、ドレイン層23に接続されている。ソースコンタクト31は層間絶縁膜30内に設けられたソース配線37に接続されており、ドレインコンタクト32は層間絶縁膜30内に設けられたドレイン配線38に接続されている。更に、層間絶縁膜30内におけるチャネル領域26の直上域には、ゲート電極34が設けられており、ゲート電極34の両側面上、すなわち、LDD領域24及び25の直上域には、絶縁性の側壁35が設けられている。そして、層間絶縁膜30における半導体基板20とゲート電極34との間に位置する部分が、ゲート絶縁膜36となっている。なお、図示しない領域において、チャネル領域26と連続的に形成されたP型領域の表面に、P+コンタクト層が形成されている。このP+コンタクト層は、ソース配線37をP型領域に接続するためのものである。このように構成されたハイサイド・パワートランジスタQ1の形状は、ソースコンタクト31からドレインコンタクト32までの領域において、ソース側とドレイン側とで対称な形状である。すなわち、図3(a)において、ゲート電極34及びチャネル領域26を通過する中心線に関して、左右対称であり、チャネル幅方向に対して垂直に切った断面、すなわち、図3(a)に示す断面において、ソース側のLDD層24の長さと、ドレイン側のLDD層25の長さは、相互に等しい。
On the other hand, an
ローサイド・パワートランジスタQ2の構成も、図3(a)に示すハイサイド・パワートランジスタQ1の構成と同様である。また、図3(b)に示すように、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12を構成するNMOS18の構成も、パワートランジスタQ1及びQ2と同様である。更に、ハイサイド・ドライバ回路11及びハイサイド・ドライバ回路12を構成するPMOS17の構成は、NMOS18と同じ形状で各層の導電型を逆にした構成である。
The configuration of the low-side power transistor Q2 is the same as that of the high-side power transistor Q1 shown in FIG. As shown in FIG. 3B, the configuration of the
そして、ハイサイド・パワートランジスタQ1及びローサイド・パワートランジスタQ2並びにPMOS17及びNMOS18におけるゲート絶縁膜36の厚さは、相互に等しい。従って、これらのトランジスタの耐圧は相互に等しい。例えば、これらのトランジスタの定格は6Vである。また、これらのトランジスタのしきい値は、例えば0.8Vである。
The thicknesses of the
次に、上述の如く構成された本実施形態に係るDC−DCコンバータ1の動作について説明する。
図4は、本実施形態に係るDC−DCコンバータの動作を例示する回路図であり、
図5は、横軸に時間をとって本実施形態に係るDC−DCコンバータの動作を例示するタイミングチャートであり、(a)の縦軸はハイサイド・パワートランジスタのゲート電位を表し、(b)の縦軸はローサイド・パワートランジスタのゲート電位を表し、(c)の縦軸は接続点及び出力端子の電位を表し、(d)の縦軸はインダクタ又は出力端子を流れる電流を表す。
なお、図4においては、ドライバ回路等は図示を省略されている。また、図5の横軸は(a)〜(d)で共通である。
Next, the operation of the DC-
FIG. 4 is a circuit diagram illustrating the operation of the DC-DC converter according to this embodiment.
FIG. 5 is a timing chart illustrating the operation of the DC-DC converter according to this embodiment with time on the horizontal axis. The vertical axis of (a) represents the gate potential of the high-side power transistor, and (b) The vertical axis of () represents the gate potential of the low-side power transistor, the vertical axis of (c) represents the potential of the connection point and the output terminal, and the vertical axis of (d) represents the current flowing through the inductor or the output terminal.
In FIG. 4, the driver circuit and the like are not shown. Further, the horizontal axis of FIG. 5 is common to (a) to (d).
図1及び図4に示すように、DC−DCコンバータ1の出力端子Toutと接地電位GNDとの間に、電位Voutを供給する対象である負荷100を接続する。負荷100は、電位Voutによって動作する電子部品であり、例えばCPUである。そして、本実施形態においては、ハイサイド・ドライバ回路11の電源はブートストラップ方式によって供給される。すなわち、ローサイド・パワートランジスタQ2がオンして接続点LXが低電位(0V)になっている期間には、キャパシタC2がダイオードD2を通して電位Vin2によって充電される。また、ハイサイド・パワートランジスタQ1がオンして接続点LXが高電位(5V)になっている期間には、ダイオードD2によって逆流が阻止される。一方、ローサイド・ドライバ回路12の電源は、中間電位電源配線PMと低電位電源配線PLとにより、直接的に供給される。
As shown in FIGS. 1 and 4, a
この状態で、先ず、PWM制御回路13が、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12に対して制御信号Sを出力する。この制御信号Sは2水準の電位間を振動する方形波である。制御信号Sは、ローサイド・ドライバ回路12に対しては直接入力される。一方、ハイサイド・ドライバ回路11に対しては、レベルシフト回路14によって電位水準が逆転された後、入力される。
In this state, first, the
図1及び図2に示すように、ハイサイド・ドライバ回路11においては、入力された制御信号の電流駆動力がCMOS16によって段階的に増加され、ハイサイド・パワートランジスタQ1のゲートに対して出力される。同様に、ローサイド・ドライバ回路12においても、多段に配列されたCMOS16によって制御信号Sの電流駆動力が強化されて、ローサイド・パワートランジスタQ2のゲートに対して出力される。
As shown in FIGS. 1 and 2, in the high-
このとき、図5(a)及び(b)に示すように、ハイサイド・パワートランジスタQ1のゲートに印加される電位VGHとローサイド・パワートランジスタQ2のゲートに印加される電位VGLとは略相補的な関係にあり、電位VGHがハイレベルにあるときは、電位VGLはローレベルにあり、電位VGHがローレベルにあるときは、電位VGLはハイレベルにある。但し、電位VGH及び電位VGLが同時にハイレベルになることにより、トランジスタQ1及びQ2が同時にオンになって無効な貫通電流が流れ、損失が大きくなることがないように、トランジスタQ1がオンになる期間とトランジスタQ2がオンになる期間との間には、若干のデッドタイムが設けられている。そして、例えば、高電位電源配線PHの電位Vin1が5Vであり、出力電位Voutを1Vとするとき、ハイサイド・パワートランジスタQ1のゲート電位VGHがハイレベルにある期間THの長さと、ローサイド・パワートランジスタQ2のゲート電位VGLがハイレベルにある期間TLの長さとの比を、(TH:TL)=(1:4)とする。 At this time, as shown in FIGS. 5A and 5B, the potential V GH applied to the gate of the high-side power transistor Q1 and the potential V GL applied to the gate of the low-side power transistor Q2 are substantially the same. In a complementary relationship, when the potential V GH is at a high level, the potential V GL is at a low level, and when the potential V GH is at a low level, the potential V GL is at a high level. However, since the potential V GH and the potential V GL are simultaneously set to the high level, the transistors Q1 and Q2 are turned on at the same time so that an invalid through current flows and loss does not increase so that the transistor Q1 is turned on. There is a slight dead time between the period during which the transistor Q2 is turned on. Then, for example, the potential Vin1 high-potential power supply line PH is 5V, when the output potential Vout and 1V, and the length of the period T H of the gate potential V GH of the high-side power transistor Q1 is at a high level, low A ratio with the length of the period TL in which the gate potential V GL of the power transistor Q2 is at the high level is ( TH : TL ) = (1: 4).
図5(a)〜(c)に示すように、電位VGHがハイレベルであり、電位VGLがローレベルである期間THにおいては、ハイサイド・パワートランジスタQ1がオンになり、ローサイド・パワートランジスタQ2がオフになり、接続点LXの電位Vswは電位Vin1と等しくなる。このとき、電源電位Vin1からインダクタLを介して負荷100に電流が供給されると共に、インダクタLに電荷が蓄えられる。なお、実際には、ハイサイド・パワートランジスタQ1のオン抵抗が存在するため、接続点LXの電位Vswは電位Vin1よりも若干低い値となるが、本明細書の説明においては、便宜上、このような誤差は無視することとする。
As shown in FIG. 5 (a) ~ (c) , the potential V GH is high, in a period T H potential V GL is at the low level, the high-side power transistor Q1 is turned on, the low-side The power transistor Q2 is turned off, and the potential Vsw at the connection point LX becomes equal to the potential Vin1. At this time, a current is supplied from the power supply potential Vin1 to the
一方、電位VGHがローレベルであり、ハイサイド・パワートランジスタQ1がオフである期間TLにおいては、接続点LXの電位Vswは接地電位GNDに等しくなる。このとき、ダイオードD1に電流が流れるが、これと同期して、電位VGLがハイレベルになり、ローサイド・パワートランジスタQ2がオンになることにより、ローサイド・パワートランジスタQ2にも電流が流れる。これにより、オン抵抗を低減し、スイッチング損失を低減することができる。そして、このとき、インダクタLに蓄えられた電荷が、負荷100に対して放出される。
On the other hand, in the period TL in which the potential V GH is at a low level and the high-side power transistor Q1 is off, the potential Vsw at the connection point LX is equal to the ground potential GND. At this time, a current flows through the diode D1, but in synchronization with this, the potential VGL becomes a high level and the low-side power transistor Q2 is turned on, whereby a current also flows through the low-side power transistor Q2. Thereby, on-resistance can be reduced and switching loss can be reduced. At this time, the electric charge stored in the inductor L is released to the
そして、上述の動作を周期的に繰り返すことにより、接続点LXの電位Vswは、電位Vin1と接地電位GNDとの間を変動する。この電位変動は、上述の如くLCフィルタ15によって平滑化され、出力端子Toutにおける電位Voutは約1Vとなる。定常状態では、入力電圧、すなわち、電位Vin1と電位GNDとの間の電圧と出力電位Voutとの比は、周期に対するハイサイド・パワートランジスタQ1のオン期間の割合(デューティー)で決まる。このため、電位Vin1が5Vであり、出力電位Voutを1Vとしたい場合には、トランジスタQ1がオンしている期間THを、周期の20%にすることが必要である。正確には、DC−DCコンバータにおける損失があるので、その分を補うためにデューティーは20%ちょうどよりも少し大きくする必要がある。電位Voutの中心値は、下記数式によって与えられる。但し、電位Voutには、±10〜50mV程度のリップルが残る。
Vout≒TH/(TH+TL)×Vin1
Then, by periodically repeating the above-described operation, the potential Vsw at the connection point LX varies between the potential Vin1 and the ground potential GND. This potential fluctuation is smoothed by the
Vout ≒ T H / (T H + T L) × Vin1
また、図5(d)に示すように、期間THにおいては、インダクタLにおいて接続点LXから出力端子Toutに向かって流れる電流iLは増加する。一方、期間TLにおいては、電流iLは減少する。しかし、LCフィルタ15の作用により、出力端子Toutから出力される出力電流ioutは、略一定値となる。
Further, as shown in FIG. 5 (d), in a period T H, the current i L flowing toward the output terminal Tout from the connection point LX in the inductor L increases. On the other hand, in a period T L, the current i L decreases. However, due to the action of the
次に、DC−DCコンバータ1が上述の動作を行う際の電流の損失について説明する。
DC−DCコンバータ1における主な電流損失には、ドライブ損失及びスイッチング損失がある。ドライブ損失は、各トランジスタを駆動する際に、トランジスタのゲートとソース・ドレインとの間に形成されるゲート容量を充放電することによって生じる損失であり、このゲート容量の大きさC及び印加される電圧(ゲート電圧)Vに依存する。すなわち、ゲート容量Cが大きく、ゲート電圧Vが高いほど、ドライブ損失は大きくなる。また、スイッチング損失は、各トランジスタのソース・ドレイン間を流れる電流による損失である。スイッチング損失は、ソース・ドレイン間の電圧等に依存するが、上述の如く、デッドタイムを設ける等の工夫により、ある程度抑制することができる。
Next, current loss when the DC-
The main current loss in the DC-
以下、ドライブ損失について説明する。
パワートランジスタQ1及びQ2からなる出力バッファ回路19の両端には、電源電位として電位Vin1及び接地電位GNDが印加されている。このため、パワートランジスタQ1及びQ2のソース及びドレインには、接地電位GNDから電位Vin1までの範囲内で電位が印加される。一方、パワートランジスタQ1及びQ2のゲートには、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12に印加される電源電位の範囲内で、ゲート電位が印加される。
Hereinafter, drive loss will be described.
A potential Vin1 and a ground potential GND are applied as power supply potentials to both ends of the
通常、ドライバ回路には、出力バッファ回路19と同じ電源電位が印加される。そこで、仮に、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12にも、電源電位として電位Vin1及び接地電位GNDが印加されるとすると、これらのドライバ回路の出力電位、すなわち、パワートランジスタQ1及びQ2のゲートに印加される電位は、接地電位GNDから電位Vin1までの範囲内の電位となる。従って、パワートランジスタQ1及びQ2において、ゲートとソース・ドレインとの間に印加されるゲート電圧Vの最大値は、Vin1(=Vin1−GND)となる。
Normally, the same power supply potential as that of the
これに対して、本実施形態のように、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12に、電源電位として電位Vin2及び接地電位GNDを印加すると、これらのドライバ回路の出力電位は、接地電位GNDから電位Vin2までの範囲内の電位となり、パワートランジスタQ1及びQ2におけるゲート電圧の最大値はVin2(=Vin2−GND)となる。電位Vin2は電位Vin1よりも低いため、本実施形態によれば、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート電圧を低減することができる。但し、この場合、ゲート電圧を低減することにより、パワートランジスタQ1及びQ2における単位面積当たりのオン抵抗が増大するため、その分、パワートランジスタQ1及びQ2の面積を増加させることが必要となる。
In contrast, when the potential Vin2 and the ground potential GND are applied as the power supply potential to the high-
例えば、Vin1が5Vであり、Vin2が3.3Vである場合について検討する。本実施形態のように、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート電圧を3.3Vとする場合、ゲート電圧を5Vとする場合と比較して、パワートランジスタQ1及びQ2のオン抵抗は、約1.26倍になる。従って、同じ電流駆動力を確保するためには、パワートランジスタQ1及びQ2の面積を1.26倍にする必要がある。これにより、仮に単位面積当たりのドライブ損失が同じであれば、全体のドライブ損失は1.26倍となる。一方、ゲート電圧を3.3Vとすれば、ゲート電圧を5Vとする場合と比較して、単位面積当たりのドライブ損失は、0.44倍になる。従って、全体のドライブ損失は、(1.26×0.44=)0.55倍となり、約半分に低減することができる。 For example, consider the case where Vin1 is 5V and Vin2 is 3.3V. When the gate voltage of the power transistors Q1 and Q2 is 3.3V as in the present embodiment, the on-resistance of the power transistors Q1 and Q2 is about 1.26 times that when the gate voltage is 5V. become. Therefore, in order to ensure the same current driving capability, it is necessary to increase the area of the power transistors Q1 and Q2 by 1.26 times. Thus, if the drive loss per unit area is the same, the overall drive loss is 1.26 times. On the other hand, if the gate voltage is 3.3 V, the drive loss per unit area is 0.44 times that in the case where the gate voltage is 5 V. Therefore, the overall drive loss is (1.26 × 0.44 =) 0.55 times, and can be reduced to about half.
次に、本実施形態の効果について説明する。
上述の如く、本実施形態によれば、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12に印加される電源電位間の範囲(GND〜Vin2)を、パワートランジスタQ1及びQ2からなる出力バッファ回路19の両端に印加される電位間の範囲(GND〜Vin1)の内側に位置させることにより、ハイサイド・パワートランジスタQ1のゲート及びローサイド・パワートランジスタQ2のゲートに印加される電位の範囲を、出力バッファ回路19の両端に印加される電位間の範囲の内側とすることができる。これにより、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート電圧を低減し、ドライブ損失を低減することができる。この結果、本実施形態によれば、スイッチングに伴う電流損失が小さいDC−DCコンバータを実現することができる。
Next, the effect of this embodiment will be described.
As described above, according to the present embodiment, the range (GND to Vin2) between the power supply potentials applied to the high-
また、本実施形態によれば、ハイサイド・パワートランジスタQ1、ローサイド・パワートランジスタQ2、ハイサイド・ドライバ回路11、ローサイド・ドライバ回路12及びレベルシフト回路14が単一の半導体基板20の表面に形成されているため、これらの素子及び回路を1チップ上に集積することができる。この結果、全体をコンパクトに構成することができる。
Further, according to the present embodiment, the high-side power transistor Q1, the low-side power transistor Q2, the high-
更に、本実施形態によれば、ハイサイド・パワートランジスタQ1及びローサイド・パワートランジスタQ2の形状が、ソース側とドレイン側とで対称な形状となっているため、これらのパワートランジスタを小面積に形成することができる。 Furthermore, according to the present embodiment, since the shapes of the high-side power transistor Q1 and the low-side power transistor Q2 are symmetrical on the source side and the drain side, these power transistors are formed in a small area. can do.
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
図6は、本実施形態に係るDC−DCコンバータを例示するブロック図であり、
図7は、リニアレギュレータを例示する回路図である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
FIG. 6 is a block diagram illustrating a DC-DC converter according to this embodiment.
FIG. 7 is a circuit diagram illustrating a linear regulator.
図6に示すように、本実施形態に係るDC−DCコンバータ2においては、電源配線として、高電位電源配線PH及び低電位電源配線PLのみが引き込まれており、中間電位電源配線PM(図1参照)は引き込まれていない。高電位電源配線PHの電位Vinは例えば5Vであり、低電位電源配線PLの電位は例えば0V(GND)である。
As shown in FIG. 6, in the DC-
また、DC−DCコンバータ2においては、ハイサイド・パワートランジスタQ1が、Pチャネル型MOSFETにより構成されている。なお、ローサイド・パワートランジスタQ2は、前述の第1の実施形態と同様に、Nチャネル型MOSFETにより構成されている。
In the DC-
更に、DC−DCコンバータ2においては、高電位電源配線PHと低電位電源配線PLとの間に接続され、GNDとVin1との間の電位を生成するリニアレギュレータ41及び42が設けられている。リニアレギュレータ41及び42は相互に並列に接続されている。リニアレギュレータ41は、例えば1.7Vの電位を生成し、ハイサイド・ドライバ回路11に対して供給する。また、リニアレギュレータ42は、例えば3.3Vの電位を生成し、ローサイド・ドライバ回路12に対して供給する。
Further, the DC-
図7に示すように、リニアレギュレータ41においては、高電位電源配線PHと低電位電源配線PLとの間に可変抵抗R1及び抵抗R2が直列に接続されており、抵抗分割により、可変抵抗R1と抵抗R2との接続点Nから、{R2/(R1+R2)×Vin}の大きさの電位を出力する。そして、接続点Nの電位が所定の値になるように、可変抵抗R1の抵抗値を調節する。リニアレギュレータ42の構成も同様である。なお、抵抗R1及びR2には、例えば、MOSFET又はバイポーラトランジスタを用いることができる。
As shown in FIG. 7, in the
そして、図6に示すように、ハイサイド・ドライバ回路11には、電源電位として、高電位電源配線PHから5Vの電位が印加され、リニアレギュレータ41から1.7Vの電位が印加される。従って、ハイサイド・ドライバ回路11からハイサイド・パワートランジスタQ1のゲートに対して出力される電位の範囲は、1.7〜5Vとなる。一方、ローサイド・ドライバ回路12には、電源電位として、リニアレギュレータ42から3.3Vの電位が印加され、低電位電源配線PLから0V(GND)の電位が印加される。従って、ローサイド・ドライバ回路12からローサイド・パワートランジスタQ2のゲートに対して出力される電位の範囲は、0〜3.3Vとなる。なお、DC−DCコンバータ2においては、ダイオードD2(図1参照)及びキャパシタC2(図1参照)は設けられていない。
As shown in FIG. 6, the high
本実施形態における上記以外の構成は、前述の第1の実施形態と同様である。すなわち、本実施形態においても、前述の第1の実施形態と同様に、ハイサイド・パワートランジスタQ1及びローサイド・パワートランジスタQ2からなる出力バッファ回路19の両端に印加させる電源電位は、0V及び5Vである。また、パワートランジスタQ1及びQ2、ハイサイド・ドライバ回路11を構成するPMOS17及びNMOS18、ローサイド・ドライバ回路12を構成するPMOS17及びNMOS18の形状は相互に同一であり、定格はいずれも6Vである。
Other configurations in the present embodiment are the same as those in the first embodiment. That is, also in this embodiment, the power supply potential applied to both ends of the
本実施形態においては、上述の如く、リニアレギュレータ41が1.7Vの電位を供給することにより、ハイサイド・ドライバ回路11がハイサイド・パワートランジスタQ1のゲートに対して1.7〜5Vの範囲の電位を出力し、ハイサイド・パワートランジスタQ1のソース電位(5V)に対して−3.3〜0Vのゲート電位を印加する。一方、リニアレギュレータ42が3.3Vの電位を供給することにより、ローサイド・ドライバ回路12がローサイド・パワートランジスタQ2のゲートに対して0〜3.3Vの範囲の電位を出力し、ローサイド・パワートランジスタQ2のソース電位(0V)に対して0〜3.3Vのゲート電位を印加する。
In the present embodiment, as described above, the
このとき、前述の第1の実施形態と同様に、パワートランジスタQ1及びQ2のオン抵抗は、ゲート電圧を5Vとする場合と比較して、約1.26倍になる。従って、パワートランジスタQ1及びQ2の面積は1.26倍とする必要がある。一方、単位面積当たりのドライブ損失は、ゲート電圧を5Vとする場合と比較して、0.66倍になる。従って、全体のドライブ損失は(1.26×0.66=)0.83倍となり、ドライブ損失を低減することができる。 At this time, as in the first embodiment described above, the on-resistances of the power transistors Q1 and Q2 are about 1.26 times that in the case where the gate voltage is 5V. Therefore, the area of the power transistors Q1 and Q2 needs to be 1.26 times. On the other hand, the drive loss per unit area is 0.66 times that in the case where the gate voltage is 5V. Therefore, the total drive loss is (1.26 × 0.66 =) 0.83 times, and the drive loss can be reduced.
このように、本実施形態によれば、入力電圧が5Vの1系統であり、電源電位が接地電位も含めて2水準しか導入されていない場合であっても、リニアレギュレータを設けることにより、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート電位の範囲を、出力バッファ回路19に印加される電源電位間の範囲の内側に設定することができる。この結果、前述の第1の実施形態と同様に、ドライブ損失を抑制することができる。本実施形態における上記以外の動作及び効果は、前述の第1の実施形態と同様である。
As described above, according to the present embodiment, even when the input voltage is one system of 5V and the power supply potential is only two levels including the ground potential, the linear regulator is provided to The range of the gate potential of the transistors Q1 and Q2 can be set inside the range between the power supply potentials applied to the
なお、本実施形態においては、ハイサイド・パワートランジスタQ1をPMOSにより構成しているため、制御信号を反転させる必要がない。このため、PWM制御回路13から出力される制御信号が5Vの振幅を持つ場合、すなわち、ハイレベルが5Vでローレベルが0Vである場合は、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12において扱う電位範囲を全てカバーできるため、レベルシフト回路14を省略することができる。
In this embodiment, since the high-side power transistor Q1 is composed of PMOS, it is not necessary to invert the control signal. Therefore, when the control signal output from the
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。
図8は、本実施形態に係るDC−DCコンバータを例示するブロック図である。
図8に示すように、本実施形態に係るDC−DCコンバータ3においては、前述の第2の実施形態に係るDC−DCコンバータ2(図6参照)と比較して、ハイサイド・パワートランジスタQ1がNチャネル型MOSFETにより構成されている点が異なっている。このため、リニアレギュレータ41(図6参照)が設けられておらず、リニアレギュレータ42から出力された3.3Vの電位を、前述の第1の実施形態と同様に、キャパシタC2及びダイオードD2を用いたブートストラップ方式により調整して、ハイサイド・ドライバ回路11に対して供給している。これにより、本実施形態においても、前述の第2の実施形態と同程度にドライブ損失を低減することができる。本実施形態における上記以外の構成、動作及び効果は、前述の第2の実施形態と同様である。
Next, a third embodiment of the present invention will be described.
FIG. 8 is a block diagram illustrating a DC-DC converter according to this embodiment.
As shown in FIG. 8, in the DC-
次に、本発明の第4の実施形態について説明する。
図9は、本実施形態に係るDC−DCコンバータを例示するブロック図であり、
図10(a)は、ハイサイド・パワートランジスタを例示する断面図であり、(b)は、ハイサイド・ドライバ回路及びローサイド・ドライバ回路を構成するNチャネル型MOSFETを例示する断面図である。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.
FIG. 9 is a block diagram illustrating a DC-DC converter according to this embodiment.
FIG. 10A is a cross-sectional view illustrating a high-side power transistor, and FIG. 10B is a cross-sectional view illustrating an N-channel MOSFET that constitutes a high-side driver circuit and a low-side driver circuit.
図9及び図10に示すように、本実施形態に係るDC−DCコンバータ4においては、前述の第1の実施形態に係るDC−DCコンバータ1(図1参照)と比較して、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12を構成するPMOS17(図2参照)及びNMOS18の構成が異なっている。例えば、パワートランジスタQ1及びQ2の定格は第1の実施形態と同様に6Vであるが、PMOS17及びNMOS18の定格は3.3Vである。これにより、図10(a)及び(b)に示すように、PMOS17及びNMOS18のサイズは、パワートランジスタQ1及びQ2のサイズよりも小さく、PMOS17及びNMOS18のゲート絶縁膜44は、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート絶縁膜36よりも薄い。
As shown in FIGS. 9 and 10, in the DC-
また、本実施形態においては、PWM制御回路13とローサイド・ドライバ回路12との間にも、レベルシフト回路45が設けられている。レベルシフト回路45は、振幅が5Vの制御信号を、振幅が3.3Vの制御信号に変換する回路である。すなわち、レベルシフト回路45は、ハイレベルが5Vでローレベルが0Vの制御信号を、ハイレベルが3.3でローレベルが0Vの制御信号に変換する。
In the present embodiment, a
本実施形態においても、前述の第1の実施形態と同様に、パワートランジスタQ1及びQ2のドライブ損失を抑えることができる。また、本実施形態においては、これに加えて、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12の面積を縮小することができる。更に、本実施形態においては、PMOS17及びNMOS18のゲート絶縁膜44を薄くすることにより、これらのトランジスタのゲート容量を低減し、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12を駆動する際のドライブ損失を低減することができる。
Also in this embodiment, the drive loss of the power transistors Q1 and Q2 can be suppressed as in the first embodiment described above. In this embodiment, in addition to this, the areas of the high-
本実施形態における上記以外の構成、動作及び効果は、前述の第1の実施形態と同様である。なお、PWM制御回路13から出力される制御信号の振幅が3.3Vである場合、すなわち、ハイレベルが3.3Vでローレベルが0Vである場合には、この制御信号をそのままローサイド・ドライバ回路12に入力することができるため、レベルシフト回路45は不要である。
Other configurations, operations, and effects of the present embodiment are the same as those of the first embodiment. When the amplitude of the control signal output from the
次に、本発明の第5の実施形態について説明する。
図11は、本実施形態に係るDC−DCコンバータを例示するブロック図である。
図11に示すように、本実施形態は、前述の第2の実施形態(図6参照)と第4の実施形態(図9参照)とを組み合わせた実施形態である。すなわち、本実施形態に係るDC−DCコンバータ5においては、前述の第2の実施形態と同様に、電源配線として2水準の電源配線、すなわち、高電位電源配線PH及び低電位電源配線PLのみが引き込まれており、リニアレギュレータ41及び42により、中間電位が生成されている。また、ハイサイド・パワートランジスタQ1はPチャネル型のMOSFETである。更に、前述の第4の実施形態と同様に、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12を構成するPMOS17(図2参照)及びNMOS18(図2参照)の定格は3.3Vである。すなわち、図10(a)及び(b)に示すように、PMOS17及びNMOS18のゲート絶縁膜44は、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート絶縁膜36よりも薄く形成されている。また、PWM制御回路13とローサイド・ドライバ回路12との間に、レベルシフト回路45が設けられている。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.
FIG. 11 is a block diagram illustrating a DC-DC converter according to this embodiment.
As shown in FIG. 11, the present embodiment is an embodiment in which the second embodiment (see FIG. 6) and the fourth embodiment (see FIG. 9) are combined. That is, in the DC-DC converter 5 according to the present embodiment, as in the second embodiment described above, only two levels of power wiring, that is, the high potential power wiring PH and the low potential power wiring PL are used as the power wiring. The intermediate potential is generated by the
本実施形態によれば、前述の第2の実施形態と同様に、電源電位が2水準しか導入されない場合においても、パワートランジスタQ1及びQ2のドライブ損失を抑えることができる。また、前述の第4の実施形態と同様に、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12の面積を縮小することができると共に、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12を駆動する際のドライブ損失を低減することができる。本実施形態における上記以外の構成、動作及び効果は、前述の第2の実施形態又は第4の実施形態と同様である。なお、PWM制御回路13から出力される制御信号の振幅が3.3Vである場合には、レベルシフト回路45は不要である。
According to the present embodiment, similarly to the second embodiment described above, the drive loss of the power transistors Q1 and Q2 can be suppressed even when only two power supply potentials are introduced. As in the fourth embodiment, the areas of the high-
次に、本発明の第6の実施形態について説明する。
図12は、本実施形態に係るDC−DCコンバータを例示するブロック図である。
図12に示すように、本実施形態は、前述の第3の実施形態(図8参照)と第4の実施形態(図9参照)とを組み合わせた実施形態である。すなわち、本実施形態に係るDC−DCコンバータ6においては、前述の第3の実施形態と同様に、電源電位が2水準であり、ハイサイド・パワートランジスタQ1はNチャネル型のMOSFETである。このため、リニアレギュレータ41(図6参照)が設けられておらず、リニアレギュレータ42から出力された3.3Vの電位を、キャパシタC2及びダイオードD2を用いたブートストラップ方式により調整して、ハイサイド・ドライバ回路11に対して供給している。また、前述の第4の実施形態と同様に、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12を構成するPMOS17(図2参照)及びNMOS18(図2参照)の定格は3.3Vである。更に、PWM制御回路13とローサイド・ドライバ回路12との間に、レベルシフト回路45が設けられている。
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described.
FIG. 12 is a block diagram illustrating a DC-DC converter according to this embodiment.
As shown in FIG. 12, the present embodiment is an embodiment in which the third embodiment (see FIG. 8) and the fourth embodiment (see FIG. 9) are combined. That is, in the DC-
本実施形態によっても、前述の第4の実施形態と同様な効果を得ることができる。本実施形態における上記以外の構成は、前述の第3の実施形態又は第4の実施形態と同様である。 Also according to this embodiment, the same effect as that of the above-described fourth embodiment can be obtained. The configuration other than the above in the present embodiment is the same as that in the third embodiment or the fourth embodiment described above.
次に、本発明の第7の実施形態について説明する。
図13は、本実施形態に係るDC−DCコンバータを例示するブロック図である。
図13に示すように、本実施形態に係るDC−DCコンバータ7は、前述の第2の実施形態に係るDC−DCコンバータ2(図6参照)と比較して、半導体基板20の表面に高電位電源配線PH及び低電位電源配線PLが配設されており、それぞれ、電圧Vin及び接地電位GNDが印加されている点、ハイサイド・パワートランジスタQ1及びローサイド・パワートランジスタQ2が形成されており、高電位電源配線PHと低電位電源配線PLとの間に直列に接続され、出力バッファ回路19を構成している点、CMOSインバータからなるハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12が設けられている点、ドライバ回路11及び12を構成するPMOS及びNMOSの耐圧が、パワートランジスタQ1及びQ2の耐圧と等しい点、並びに、半導体基板20の外部に、PWM制御回路13(図6参照)、LCフィルタ15及び出力端子Toutが設けられている点は同様である。
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described.
FIG. 13 is a block diagram illustrating a DC-DC converter according to this embodiment.
As shown in FIG. 13, the DC-
一方、DC−DCコンバータ7においては、前述の第2の実施形態に係るDC−DCコンバータ2(図6参照)とは異なり、ハイサイド・ドライバ回路11は高電位電源配線PHと配線46との間に接続されており、ローサイド・ドライバ回路12は配線47と低電位電源配線PLとの間に接続されている。
On the other hand, in the DC-
また、半導体基板20の表面に1つのリニアレギュレータ48が形成されており、高電位電源配線PHと低電位電源配線PLとの間に接続されている。そして、リニアレギュレータ48から中間電位電源配線PMが引き出されている。リニアレギュレータ48は、中間電位電源配線PMに電位Vinと電位GNDとの間の電位Vxを印加する回路であり、その構成は、図7に示すリニアレギュレータ41の構成と同様である。また、中間電位電源配線PMと接地電位GNDとの間には、キャパシタC3が設けられている。
Further, one
更に、高電位電源配線PHと配線47との間にはトランジスタQ11が接続されており、配線46と中間電位電源配線PMとの間にはトランジスタQ12が接続されており、中間電位電源配線PMと配線47との間にはトランジスタQ13が接続されており、配線46と低電位電源配線PLとの間にはトランジスタQ14が接続されている。トランジスタQ11〜Q14は、例えば、いずれもNチャネル型MOSFETである。
Further, a transistor Q11 is connected between the high potential power wiring PH and the
更にまた、半導体基板20の表面には、トランジスタQ11及びQ14のゲートに対して制御信号S1を出力すると共に、トランジスタQ12及びQ13のゲートに対して制御信号S2を出力するコントローラ49が設けられている。そして、リニアレギュレータ48、中間電位電源配線PM、配線46及び47、トランジスタQ11〜Q14、コントローラ49により、電源供給手段が構成されている。
Furthermore, a
更にまた、DC−DCコンバータ7には、レベルシフト回路14(図6参照)は設けられていない。
Furthermore, the DC-
次に、上述の如く構成された本実施形態に係るDC−DCコンバータ7の動作について説明する。
図14は、横軸に時間をとって本実施形態に係るDC−DCコンバータの動作を例示するタイミングチャートであり、(a)の縦軸は制御信号S1を表し、(b)の縦軸は制御信号S2を表し、(c)の縦軸はハイサイド・パワートランジスタQ1のゲート電位を表し、(d)の縦軸はローサイド・パワートランジスタQ2のゲート電位を表す。
なお、図14の横軸は(a)〜(d)で共通である。
Next, the operation of the DC-
FIG. 14 is a timing chart illustrating the operation of the DC-DC converter according to this embodiment with time on the horizontal axis. The vertical axis in (a) represents the control signal S1, and the vertical axis in (b). The vertical axis of (c) represents the gate potential of the high-side power transistor Q1, and the vertical axis of (d) represents the gate potential of the low-side power transistor Q2.
In addition, the horizontal axis of FIG. 14 is common to (a) to (d).
本実施形態に係るDC−DCコンバータ7においては、コントローラ49がDC−DCコンバータ7の出力電流、すなわち、負荷100が消費する電流の大きさに基づいて、負荷が通常の状態(通常負荷時)にあるか、負荷が軽い状態(軽負荷時)にあるかを判断する。この判断は、例えば、出力電流の大きさを計測し、出力電流が相対的に大きければ通常負荷時であると判断し、出力電流が相対的に小さければ軽負荷時であると判断する。例えば、負荷がCPUである場合には、演算動作中であれば消費電流は相対的に大きくなり、休止中であれば消費電流は相対的に小さくなる。
In the DC-
そして、図14(a)及び(b)に示すように、通常負荷時には、制御信号S1をハイレベルとし、制御信号S2をローレベルとする。これにより、トランジスタQ11及びQ14がオン状態となり、トランジスタQ12及びQ13がオフ状態となる。この結果、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12の双方が、高電位電源配線PHと低電位電源配線PLとの間に並列に接続される。このため、図14(c)及び(d)に示すように、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート電位は、電位Vinと接地電位GNDとの間で振動する。すなわち、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート電位の範囲は、電位Vinと接地電位GNDとの間の範囲となり、パワートランジスタQ1及びQ2からなる出力バッファ回路19の両端に印加される電位間の範囲と一致する。この結果、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート電圧が高くなり、ドレイン電流が増大し、オン抵抗が低減する。
Then, as shown in FIGS. 14A and 14B, during a normal load, the control signal S1 is set to the high level and the control signal S2 is set to the low level. Thereby, the transistors Q11 and Q14 are turned on, and the transistors Q12 and Q13 are turned off. As a result, both the high-
一方、軽負荷時には、図14(a)及び(b)に示すように、制御信号S1をローレベルとし、制御信号S2をハイレベルとする。これにより、トランジスタQ11及びQ14がオフ状態となり、トランジスタQ12及びQ13がオン状態となる。この結果、ハイサイド・ドライバ回路11は、高電位電源配線PHと中間電位電源配線PMとの間に接続され、ローサイド・ドライバ回路12は、中間電位電源配線PMと低電位電源配線PLとの間に接続される。これにより、図14(c)及び(d)に示すように、ハイサイド・パワートランジスタQ1のゲート電位は、電位Vinと電位Vxとの間で振動し、ローサイド・パワートランジスタQ2のゲート電位は、電位Vxと接地電位GNDとの間で振動する。すなわち、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート電位の範囲は、パワートランジスタQ1及びQ2からなる出力バッファ回路19の両端に印加される電位間の範囲の内側に位置する。この結果、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート電圧が低くなり、オン抵抗は増加するものの、パワートランジスタQ1及びQ2のゲートとソース・ドレインとの間に蓄積される電荷が減少するため、ドライブ損失は減少する。
On the other hand, at the time of light load, as shown in FIGS. 14A and 14B, the control signal S1 is set to the low level and the control signal S2 is set to the high level. Thereby, the transistors Q11 and Q14 are turned off, and the transistors Q12 and Q13 are turned on. As a result, the high
このように、上述の電源供給手段は、リニアレギュレータ48が中間電位Vxを生成して中間電位電源配線PMに供給し、コントローラ49がトランジスタQ11〜Q14を駆動することにより、DC−DCコンバータ7の出力電流が相対的に大きい場合(通常負荷時)には、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12に印加する電源電位間の範囲を相対的に広くし、出力電流が相対的に小さい場合(軽負荷時)には、ハイサイド・ドライバ回路11及びローサイド・ドライバ回路12に印加する電源電位間の範囲を相対的に狭くし、且つ、これらの電源電位間の範囲を、それぞれ、ハイサイド・パワートランジスタQ1及びローサイド・パワートランジスタQ2からなる出力バッファ回路19の両端に印加される電位間の範囲、すなわち、接地電位GND〜電位Vinの範囲の内側に位置させる。
As described above, in the power supply means described above, the
通常負荷時には、パワートランジスタQ1及びQ2を流れるドレイン電流が相対的に大きくなるため、パワートランジスタQ1及びQ2のオン抵抗を低減することが、全体的な電流損失の低減に効果的である。一方、軽負荷時には、パワートランジスタQ1及びQ2を流れるドレイン電流は相対的に小さくなるため、パワートランジスタQ1及びQ2のオン抵抗を低減するよりも、パワートランジスタQ1及びQ2のゲートに蓄積される電荷を低減することが、全体的な電流損失の低減に効果的である。従って、上述の如く、出力電流の大きさに応じてパワートランジスタQ1及びQ2のゲート電位を切替えることにより、全体的な電流損失を効果的に抑制することができる。 During normal load, the drain current flowing through the power transistors Q1 and Q2 becomes relatively large, so reducing the on-resistance of the power transistors Q1 and Q2 is effective in reducing the overall current loss. On the other hand, when the load is light, the drain current flowing through the power transistors Q1 and Q2 is relatively small, so that the charge accumulated in the gates of the power transistors Q1 and Q2 is reduced rather than reducing the on-resistance of the power transistors Q1 and Q2. Reduction is effective in reducing the overall current loss. Therefore, as described above, the overall current loss can be effectively suppressed by switching the gate potentials of the power transistors Q1 and Q2 in accordance with the magnitude of the output current.
なお、リニアレギュレータ48が生成する電位Vxの最適値は、負荷100の種類及びDC−DCコンバータ7の出力電位Voutなどに依存する。例えば、電位Vinが5Vであり、電位Voutが1Vである場合には、前述の如く、ローサイド・パワートランジスタQ2がオン状態になる期間TLが、ハイサイド・パワートランジスタQ1がオン状態になる期間THよりも長くなるため、電位Vxを(Vin/2)よりも高い値に設定して、ローサイド・パワートランジスタQ2のオン抵抗をハイサイド・パワートランジスタQ1のオン抵抗よりも低くした方が、全体の電流損失が小さくなることが多い。
Note that the optimum value of the potential Vx generated by the
また、本実施形態においては、ハイサイド・ドライバ回路11の駆動に伴って生じた損失電流の電荷がキャパシタC3に蓄積され、この電荷がローサイド・ドライバ回路12の駆動に利用される。これによっても、電流損失を低減することができる。なお、本実施形態においては、中間電位電源配線PMと高電位電源配線PHとの間にも、キャパシタを設けてもよい。これにより、ローサイド・ドライバ回路12の駆動に伴って生じた損失電流の電荷をハイサイド・ドライバ回路11の駆動に利用することができる。
In this embodiment, the charge of the loss current generated by driving the high
次に、本実施形態の効果について説明する。
上述の如く、本実施形態によれば、負荷100に流れる電流が相対的に大きい通常負荷時には、パワートランジスタQ1及びQ2に十分なゲート電圧を印加し、パワートランジスタQ1及びQ2のオン抵抗を低減することにより、電流の損失を抑えることができる。一方、負荷100に流れる電流が相対的に小さい軽負荷時には、パワートランジスタQ1及びQ2のゲート電圧を小さくすることにより、パワートランジスタQ1及びQ2のスイッチングに伴う電流損失を抑えることができる。このように、本実施形態によれば、負荷の状態に応じてドライバ回路11及び12に供給する電源電位を異ならせることにより、電流損失をより効果的に抑制することができる。本実施形態における上記以外の構成、動作及び効果は、前述の第2の実施形態と同様である。
Next, the effect of this embodiment will be described.
As described above, according to the present embodiment, a sufficient gate voltage is applied to the power transistors Q1 and Q2 and the on-resistance of the power transistors Q1 and Q2 is reduced during a normal load where the current flowing through the
以上、実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含有される。例えば、上述の各実施形態においては、入力電位が0V及び5VであるDC−DCコンバータを例に挙げて説明したが、入力電圧の値はこれに限定されない。 While the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited to these embodiments. For example, those in which those skilled in the art appropriately added, deleted, and changed the design of the above-described embodiments are also included in the scope of the present invention as long as they have the gist of the present invention. For example, in each of the above-described embodiments, the DC-DC converter having the input potentials of 0 V and 5 V has been described as an example, but the value of the input voltage is not limited to this.
1、2、3、4、5、6、7 DC−DCコンバータ、11 ハイサイド・ドライバ回路、12 ローサイド・ドライバ回路、13 PWM制御回路、14 レベルシフト回路、15 LCフィルタ、16 CMOS、17 PMOS、18 NMOS、19 出力バッファ回路、20 半導体基板、21 Pウェル、22 ソース層、23 ドレイン層、24、25 LDD層、26 チャネル領域、30 層間絶縁膜、31 ソースコンタクト、32 ドレインコンタクト、34 ゲート電極、35 側壁、36 ゲート絶縁膜、37 ソース配線、38 ドレイン配線、41、42 リニアレギュレータ、44 ゲート絶縁膜、45 レベルシフト回路、46、47 配線、48 リニアレギュレータ、49 コントローラ、100 負荷、C1、C2、C3 キャパシタ、D1、D2 ダイオード、L インダクタ、LX、N 接続点、PH 高電位電源配線、PL 低電位電源配線、PM 中間電位電源配線、Q1 ハイサイド・パワートランジスタ、Q2 ローサイド・パワートランジスタ、R1 可変抵抗、R2 抵抗、S、S1、S2 制御信号、Tout 出力端子 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 DC-DC converter, 11 high side driver circuit, 12 low side driver circuit, 13 PWM control circuit, 14 level shift circuit, 15 LC filter, 16 CMOS, 17 PMOS , 18 NMOS, 19 Output buffer circuit, 20 Semiconductor substrate, 21 P well, 22 Source layer, 23 Drain layer, 24, 25 LDD layer, 26 Channel region, 30 Interlayer insulating film, 31 Source contact, 32 Drain contact, 34 Gate Electrode, 35 side wall, 36 gate insulating film, 37 source wiring, 38 drain wiring, 41, 42 linear regulator, 44 gate insulating film, 45 level shift circuit, 46, 47 wiring, 48 linear regulator, 49 controller, 100 load, C1 , C2, C Capacitor, D1, D2 diode, L inductor, LX, N connection point, PH high potential power wiring, PL low potential power wiring, PM intermediate potential power wiring, Q1 high side power transistor, Q2 low side power transistor, R1 variable resistance , R2 resistance, S, S1, S2 control signal, Tout output terminal
Claims (5)
前記ハイサイド電界効果トランジスタ及び前記ローサイド電界効果トランジスタのうち少なくとも一方は、チャネル幅方向に対して垂直に切った断面において、ソース側のLDD層の長さとドレイン側のLDD層の長さが等しく、
前記ハイサイド電界効果トランジスタのゲートに印加される電位の範囲及び前記ローサイド電界効果トランジスタのゲートに印加される電位の範囲は、前記ハイサイド電界効果トランジスタ及び前記ローサイド電界効果トランジスタからなる回路の両端に印加される電位間の範囲の内側にあることを特徴とする半導体装置。 A high-side field effect transistor and a low-side field effect transistor connected in series between the high-potential power line and the low-potential power line;
At least one of the high-side field effect transistor and the low-side field effect transistor has the same length of the LDD layer on the source side and the length of the LDD layer on the drain side in a cross section cut perpendicular to the channel width direction.
The range of the potential applied to the gate of the high side field effect transistor and the range of the potential applied to the gate of the low side field effect transistor are at both ends of the circuit composed of the high side field effect transistor and the low side field effect transistor. A semiconductor device characterized by being inside a range between applied potentials.
少なくとも1段のCMOSインバータを有し、制御信号の電流駆動能力を増大させて前記ローサイド電界効果トランジスタのゲートに印加するローサイド・ドライバ回路と、
をさらに備え、
前記ハイサイド・ドライバ回路に印加される電源電位間の範囲及び前記ローサイド・ドライバ回路に印加される電源電位間の範囲は、前記ハイサイド電界効果トランジスタ及び前記ローサイド電界効果トランジスタからなる回路の両端に印加される電位間の範囲の内側にあることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 A high-side driver circuit having at least one stage of CMOS inverter and increasing a current driving capability of a control signal to be applied to a gate of the high-side field effect transistor;
A low-side driver circuit having at least one stage of CMOS inverter and increasing a current driving capability of a control signal to be applied to a gate of the low-side field effect transistor;
Further comprising
The range between the power supply potentials applied to the high side driver circuit and the range between the power supply potentials applied to the low side driver circuit are at both ends of the circuit composed of the high side field effect transistor and the low side field effect transistor. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is inside a range between applied potentials.
少なくとも1段のCMOSインバータを有し、制御信号の電流駆動能力を増大させて前記ハイサイド電界効果トランジスタのゲートに印加するハイサイド・ドライバ回路と、
少なくとも1段のCMOSインバータを有し、制御信号の電流駆動能力を増大させて前記ローサイド電界効果トランジスタのゲートに印加するローサイド・ドライバ回路と、
出力電流が相対的に大きい場合には、前記ハイサイド・ドライバ回路及び前記ローサイド・ドライバ回路に印加する電源電位間の範囲を相対的に広くし、前記出力電流が相対的に小さい場合には、前記ハイサイド・ドライバ回路及び前記ローサイド・ドライバ回路に印加する電源電位間の範囲を相対的に狭くし、少なくとも出力電流が相対的に小さい場合には、前記ハイサイド・ドライバ回路に印加される電源電位間の範囲及び前記ローサイド・ドライバ回路に印加される電源電位間の範囲を、それぞれ、前記ハイサイド電界効果トランジスタ及び前記ローサイド電界効果トランジスタからなる回路の両端に印加される電位間の範囲の内側に位置させる電源供給手段と、
を備えたことを特徴とする半導体装置。 A high-side field effect transistor and a low-side field effect transistor connected in series between the high-potential power line and the low-potential power line;
A high-side driver circuit having at least one stage of CMOS inverter and increasing a current driving capability of a control signal to be applied to a gate of the high-side field effect transistor;
A low-side driver circuit having at least one stage of CMOS inverter and increasing a current driving capability of a control signal to be applied to a gate of the low-side field effect transistor;
When the output current is relatively large, the range between the power supply potentials applied to the high-side driver circuit and the low-side driver circuit is relatively wide, and when the output current is relatively small, When the range between the power supply potentials applied to the high-side driver circuit and the low-side driver circuit is relatively narrow and at least the output current is relatively small, the power supply applied to the high-side driver circuit The range between the potentials and the range between the power supply potentials applied to the low-side driver circuit are inside the range between the potentials applied to both ends of the circuit composed of the high-side field effect transistor and the low-side field effect transistor, respectively. Power supply means to be located in
A semiconductor device comprising:
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